JP2015125290A - Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same - Google Patents

Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2015125290A
JP2015125290A JP2013269810A JP2013269810A JP2015125290A JP 2015125290 A JP2015125290 A JP 2015125290A JP 2013269810 A JP2013269810 A JP 2013269810A JP 2013269810 A JP2013269810 A JP 2013269810A JP 2015125290 A JP2015125290 A JP 2015125290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photosensitive composition
photosensitive
mass
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013269810A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
欣也 北見
Kinya Kitami
欣也 北見
雅郎 中塚
Masao Nakatsuka
雅郎 中塚
美廣 小屋
Yoshihiro Koya
美廣 小屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okamoto Chemical Industry Co Ltd filed Critical Okamoto Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP2013269810A priority Critical patent/JP2015125290A/en
Publication of JP2015125290A publication Critical patent/JP2015125290A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate precursor for a thermal negative plate having a photosensitive layer that has high sensitivity and excellent reproducibility in FM screening, and excels in print durability and chemical resistance in a minute image part, safe light property in UV and visible ray regions, and storage stability, and to provide a photosensitive composition for the photosensitive layer.SOLUTION: The photosensitive composition comprises at least: an alkali-soluble resin having a monomer unit expressed by formula (I); at least one silane coupling agent selected from a group represented by the general formulae (II-1) to (II-5); an infrared absorbent; a tetraphenyl borate in which a phenyl group may be substituted; a radical polymerizable initiator excluding a tetraphenyl borate; and a polymerizable compound having an ethylenic double bond.

Description

本発明は平版印刷版用原版に関するものであり、特にコンピューター等のデジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用のネガ型の平版印刷版用原版に関するものである。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a so-called negative lithographic printing plate precursor for direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like.

従来、平版印刷版原版としては親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するものが広く用いられている。その製版方法として、通常は、リスフイルムを介してマスク露光後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得る方法が用いられていた。   Conventionally, as a lithographic printing plate precursor, one having a constitution in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support is widely used. As the plate making method, usually, a method of obtaining a desired printing plate by dissolving and removing a non-image portion after mask exposure through a lith film has been used.

最近では、画像情報をコンピューターを用いて電子的に処理、蓄積、出力するデジタル化技術が広く普及している。そして、その様なデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきた。その結果、レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフイルムを介すること無く、直接印刷版を製造するコンピューター・トゥ・プレート(CTP)技術が切望されており、これに適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題となっている。   Recently, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread. Various new image output methods corresponding to such digitization technology have come into practical use. As a result, computer-to-plate (CTP) technology that scans highly directional light such as laser light according to digitized image information and directly produces a printing plate without going through a lithographic film is eagerly desired. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to this is an important technical issue.

このような走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザー露光によりラジカルなどの活性種を発生しうる感光性組成物を含有した感光層を設けた構成が提案され、上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザー走査露光し活性種を発生させ、その作用によって感光層を物理的、或いは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。   As such a lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure, a configuration in which a photosensitive layer containing a photosensitive composition capable of generating active species such as radicals by laser exposure on a hydrophilic support has been proposed and marketed. Has been. This lithographic printing plate precursor is subjected to laser scanning exposure based on digital information to generate active species, which causes the photosensitive layer to undergo physical or chemical changes to insolubilize it, and subsequently develop the negative lithographic printing. You can get a version.

最近になってCTP技術の革新的な進歩によって高精細なFMスクリーニングの利用頻度が増え、より優れた紙面品質を求められるようになった。しかしながら、FMスクリーニングは微小な画像の集合体で画像形成されるため、微小画像の耐刷性及び耐薬品性向上は非常に困難であった。例えば、耐刷性の向上方法として一般的に従来から知られているのは、特許文献1である。特許文献1によると、紫外・可視光線領域に反応する光重合性組成物に不飽和二重結合を有するシランカップリング剤を極少量添加することによってアルミニウム基盤とその上層に設けられた感光層との接着性が向上し結果、耐刷性が向上すると述べられている。しかしながら、このような感光層では、65〜110線相当の非常に大きい画像部の耐刷性は確かに改善が見られたが、FMスクリーニングで使用される微小画像の耐刷性、耐薬品性は確かめられていない。また、近年、赤外線領域に反応するサーマルネガ型感光性組成物の耐刷性の向上方法として知られているのは、特許文献2、3、4である。これら特許文献によると、特定アルカリ可溶性高分子を利用することによって高密度且つ強固な架橋構造が速やかに形成され、高感度、且つ、優れた耐刷性が実現されると述べられている。しかしながら、これら特許文献もまた微小画像の耐刷性、耐薬品性は確かめられていない。特に、サーマルネガ型平版印刷版は、上記紫外・可視光線領域に反応する光重合性組成物とは異なり、プレヒートと呼ばれる重合促進工程を省略するため、低露光量では画像硬化が不十分になり微小画像ほど耐刷不足となることから、結果的に耐薬品性も劣化する傾向にあった。以上から、FMスクリーニングを利用した高品質な印刷をするためには、微小画像部の耐刷性、及び耐薬品性の向上は必須条件となり早期改良の余地があった。さらに紫外・可視領域でのセーフライト適性、保存安定性についても早期改良の余地があった。   Recently, due to the innovative progress of CTP technology, the frequency of use of high-definition FM screening has increased, and better paper quality has been demanded. However, since FM screening forms an image with a collection of minute images, it is very difficult to improve the printing durability and chemical resistance of the minute images. For example, Patent Document 1 is generally known as a method for improving printing durability. According to Patent Document 1, an aluminum substrate and a photosensitive layer provided thereon are added by adding a very small amount of a silane coupling agent having an unsaturated double bond to a photopolymerizable composition that reacts in the ultraviolet / visible light region. It is stated that the adhesiveness of the ink is improved and the printing durability is improved as a result. However, in such a photosensitive layer, the printing durability of an extremely large image portion corresponding to 65 to 110 lines was certainly improved, but the printing durability and chemical resistance of a micro image used in FM screening were improved. Has not been confirmed. In recent years, Patent Documents 2, 3, and 4 are known as methods for improving the printing durability of a thermal negative photosensitive composition that reacts in the infrared region. According to these patent documents, it is stated that by using a specific alkali-soluble polymer, a high-density and strong cross-linked structure is quickly formed, and high sensitivity and excellent printing durability are realized. However, these patent documents also have not confirmed the printing durability and chemical resistance of micro-images. In particular, unlike a photopolymerizable composition that reacts in the ultraviolet / visible light region, a thermal negative lithographic printing plate omits a polymerization acceleration step called preheating, and therefore, image curing becomes insufficient at a low exposure and becomes minute. As the image becomes insufficient in printing durability, chemical resistance tends to deteriorate as a result. From the above, in order to perform high-quality printing using FM screening, improvement in the printing durability and chemical resistance of the minute image portion is an essential condition, and there is room for early improvement. Furthermore, there was room for early improvement in safelight suitability and storage stability in the ultraviolet and visible regions.

特開平04−161957号公報Japanese Patent Laid-Open No. 04-161957 特開2004−109851号公報JP 2004-109851 A 特開2007−272079号公報JP 2007-272079 A 特開2007−272134号公報JP 2007-272134 A

従って、本発明の目的は、高感度でFMスクリーニング再現性に優れ、微小画像部の耐刷性や耐薬品性、紫外・可視領域でのセーフライト適性、保存安定性に優れた感光層が設けられたサーマルネガ版用平版印刷版原版及び、その感光層のための感光性組成物を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive layer having high sensitivity and excellent FM screening reproducibility, printing durability and chemical resistance of a minute image area, safelight suitability in the ultraviolet / visible region, and storage stability. It is to provide a lithographic printing plate precursor for a thermal negative plate and a photosensitive composition for the photosensitive layer thereof.

本発明は、下記式(I)

Figure 2015125290
(上式中、R及びRは水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基を示し、L及びLは置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、又は置換基を有してもよい炭素数6〜15のアリーレン基を示す。)
で表わされる単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、下記一般式(II−1)〜(II−5)
Figure 2015125290
(上式中、Rは独立して水素原子又はメチル基を示し、Xは独立して炭素数1〜4のアルコキシ基を示し、nは独立して1〜3の整数である。)
で表わされる群から選択される少なくとも1種のシランカップリング剤と、赤外線吸収剤と、フェニル基が置換されていてもよいテトラフェニルホウ酸塩と、テトラフェニルホウ酸塩ではないラジカル重合開始剤と、エチレン性二重結合を有する重合性化合物とを少なくとも含有する感光性組成物を提供する。
また、本発明は、支持体と、該支持体の上に当該感光性組成物を用いて形成された感光層とを備えるネガ型平版印刷版原版を提供する。 The present invention relates to the following formula (I)
Figure 2015125290
(In the above formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and L 1 and L 2 may have 1 substituent. Represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an arylene group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent.)
An alkali-soluble resin having a monomer unit represented by the following general formulas (II-1) to (II-5):
Figure 2015125290
(In the above formula, R 3 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, X independently represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and n is independently an integer of 1 to 3).
And at least one silane coupling agent selected from the group represented by the formula: And a photosensitive composition containing at least a polymerizable compound having an ethylenic double bond.
The present invention also provides a negative lithographic printing plate precursor comprising a support and a photosensitive layer formed on the support using the photosensitive composition.

本発明の感光性組成物を用いて形成された感光層を備えるネガ型平版印刷版用原版によると、赤外線レーザーの照射時に、シランカップリング剤中の不飽和二重結合部位と上記アルカリ可溶性樹脂中の特定不飽和二重結合部位との高速重合によって非常に高密度な架橋構造となる。一方、シランカップリング剤中のシリル基部位は、感光膜塗布時に自己縮合し、複雑な構造変化を起こし、感光膜中でこれら無機化合物同士の相互作用によってより強固な感光膜を生じると考えられる。さらに本発明の感光性組成物はフェニル基が置換されていてもよいテトラフェニルホウ酸塩を含有することにより、理由は不明だが感光層の赤外線吸収剤及びラジカル重合開始剤等を安定化させる。以上から、本発明の感光性組成物を用いて形成された感光層は、微小画像部の耐刷性及び耐薬品性に優れ、さらに紫外・可視領域でのセーフライト適性及び保存安定性にも優れた高品質な印刷版を得ることができる。   According to the negative lithographic printing plate precursor provided with the photosensitive layer formed using the photosensitive composition of the present invention, the unsaturated double bond site in the silane coupling agent and the alkali-soluble resin upon irradiation with an infrared laser. A very high-density cross-linked structure is obtained by high-speed polymerization with a specific unsaturated double bond site therein. On the other hand, the silyl group portion in the silane coupling agent is self-condensed during coating of the photosensitive film, causing a complicated structural change, and it is considered that a stronger photosensitive film is generated by the interaction between these inorganic compounds in the photosensitive film. . Furthermore, the photosensitive composition of the present invention contains tetraphenylborate, which may have a phenyl group substituted, thereby stabilizing the infrared absorber, radical polymerization initiator and the like of the photosensitive layer for unknown reasons. From the above, the photosensitive layer formed using the photosensitive composition of the present invention is excellent in the printing durability and chemical resistance of the minute image area, and also in the safelight suitability and storage stability in the ultraviolet and visible regions. An excellent high-quality printing plate can be obtained.

本発明の感光性組成物において、一般式(I)の単量体単位を生じる重合性化合物は、例えば、アルコール性水酸基を有する重合性化合物と不飽和二重結合を有するイソシアネート化合物との付加反応から得ることができる。一般式(I)中、L及びLは、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、又は置換基を有してもよい炭素数6〜15のアリーレン基を示す。R、R、L及びLが有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、特に塩素もしくは臭素原子、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、又は硫酸基が挙げられ、L及びLがアリーレン基の場合は、単環構造又は縮合構造のいずれであってもよく、置換基としてメチル基等の炭素数1〜4のアルキル基を有してもよい。
及びRは、特に好ましくは水素原子又はメチル基である。L及びLは、特に好ましいアルキレン基としてエチル、プロピル、イソプロピル、ブチル及びイソブチルが挙げられ、特に好ましいアリーレン基としてフェニル及びナフチルが挙げられ、アリーレン基が有しても良い特に好ましい置換基としてはメチル基、塩素、臭素が挙げられる。
In the photosensitive composition of the present invention, the polymerizable compound producing the monomer unit of the general formula (I) is, for example, an addition reaction between a polymerizable compound having an alcoholic hydroxyl group and an isocyanate compound having an unsaturated double bond. Can be obtained from In General Formula (I), L 1 and L 2 represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, or an arylene group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent. . Examples of the substituent that R 1 , R 2 , L 1 and L 2 may have include a halogen atom, particularly a chlorine or bromine atom, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, or a sulfate group. In the case where L 1 and L 2 are an arylene group, it may be either a monocyclic structure or a condensed structure, and may have an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group as a substituent.
R 1 and R 2 are particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 1 and L 2 are particularly preferred alkylene groups such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl and isobutyl, particularly preferred arylene groups include phenyl and naphthyl, and particularly preferred substituents that the arylene group may have. Includes a methyl group, chlorine and bromine.

一般式(I)の単量体単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂中、好ましくは5〜70モル%、より好ましくは10〜60モル%である。5モル%以上、特に10モル%以上の場合では、画像形成した場合に強靭で柔軟性の高い画像が得られる。70モル%以下、特に60モル%以下では、アルカリ水溶液に溶解しやすくなり、現像速度を早くし、感度を遅くするようなことは無くなるので好ましい。   The content of the monomer unit of the general formula (I) is preferably 5 to 70 mol%, more preferably 10 to 60 mol% in the alkali-soluble resin. In the case of 5 mol% or more, particularly 10 mol% or more, a tough and highly flexible image can be obtained when an image is formed. 70 mol% or less, particularly 60 mol% or less, is preferable because it is easy to dissolve in an alkaline aqueous solution and the development speed is not increased and the sensitivity is not decreased.

また、本発明の感光性組成物において、アルカリ可溶性樹脂が、さらに下記一般式(III)又は一般式(IV)の単量体単位を含有することが好ましい。一般式(III)又は(IV)の単量体単位を含有することによってアルカリ可溶性樹脂全体のガラス転移点(Tg)が大幅に上昇し、強靭な画像を形成することができるからである。

Figure 2015125290
(上式中、R及びRは水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基を示し、Mは置換基を有してもよい炭素数1〜10、好ましくは炭素数2〜3のアルキレン基を示す。) Moreover, in the photosensitive composition of this invention, it is preferable that alkali-soluble resin contains the monomer unit of the following general formula (III) or general formula (IV) further. This is because the glass transition point (Tg) of the entire alkali-soluble resin is significantly increased by containing the monomer unit of the general formula (III) or (IV), and a tough image can be formed.
Figure 2015125290
(In the above formula, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms which may have a substituent, and M may have a substituent. A good C1-C10, Preferably C2-C3 alkylene group is shown.)

一般式(III)又は(IV)の単量体単位を生じる化合物は、例えば、特定脂環構造をもつアルコール化合物と不飽和二重結合を有するアクリル酸エステルとの反応から得ることができる。一般式(III)又は(IV)の単量体単位を生じる化合物は、例えば日立化成工業社より市販されている。R及びRにおいて、アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれであってもよく、アルキル基が有しうる置換基としては、ハロゲン原子、特に塩素もしくは臭素原子、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、又は硫酸基が挙げられる。 The compound which produces the monomer unit of the general formula (III) or (IV) can be obtained, for example, from the reaction between an alcohol compound having a specific alicyclic structure and an acrylate ester having an unsaturated double bond. The compound which produces the monomer unit of the general formula (III) or (IV) is commercially available from, for example, Hitachi Chemical Co., Ltd. In R 4 and R 5 , the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and examples of the substituent that the alkyl group may have include a halogen atom, particularly a chlorine or bromine atom, a hydroxyl group, a nitro group, A carboxyl group, an amino group, a cyano group, or a sulfate group is mentioned.

一般式(III)又は(IV)の単量体単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂中、好ましくは1〜55モル%、より好ましくは5〜40モル%、さらに好ましくは10〜30モル%である。5モル%以上、特に10モル%以上の場合では、現像液として用いるアルカリ水溶液に対して安定になり、画像形成した場合に耐薬品性の高い画像が得られる。40モル%以下、特に30モル%以下では、逆にアルカリ水溶液に溶解しやすくなり、現像速度を早くし、感度を遅くするようなことは無くなるので好ましい。   The content of the monomer unit of the general formula (III) or (IV) is preferably 1 to 55 mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 10 to 30 mol% in the alkali-soluble resin. is there. When the amount is 5 mol% or more, particularly 10 mol% or more, the solution is stable with respect to an aqueous alkali solution used as a developer, and an image having high chemical resistance is obtained when an image is formed. 40 mol% or less, particularly 30 mol% or less, is preferable because it easily dissolves in an alkaline aqueous solution, and does not increase the development speed and decrease the sensitivity.

これら成分に必要に応じて加えられる重合可能な不飽和結合基を有する他のモノマーとして、例えば下記(1)〜(10)に挙げるモノマーが望ましい。
(1)フェノール性水酸基を有するモノマー。例えば、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、p−イソプロペニルフェノール、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレートである。
(2)スルホンアミド基を有するモノマー。例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミドである。
(3)活性イミド基を有するモノマー。例えばN−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミドである。
(4)脂肪族水酸基を有するモノマー。例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルメタクリレートである。
(5)α,β−不飽和カルボン酸。例えばアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸である。
(6)アリル基を有するモノマー。例えば、アリルメタクリレート、N−アリルメタクリルアミドである。
(7)アルキルアクリレート類又はアルキルメタクリレート類。例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸へキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ラウリル、グリシジルアクリレート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸へキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ラウリル、グリシジルメタクリレートである。
(8)アクリルアミド類又はメタクリルアミド類。例えば、アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルアクリルアミド、N−シクロへキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−へキシルメタクリルアミド、N−シクロへキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミドである。
(9)スチレン類。例えば、スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン等である。
(10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ−ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
これらは、1種の化合物単独で用いてもよいし、(1)〜(10)の同じグループの化合物を2種類以上組み合わせて、又は異なるグループの化合物を2種類以上組み合わせて用いてもよい。
アルカリ可溶性樹脂を形成するために必要に応じて加えられる他のモノマーから生じる単量体単位の含有量は、アルカリ可溶性樹脂中、好ましくは1〜40モル%、より好ましくは5〜40モル%である。
As other monomers having a polymerizable unsaturated bond group added to these components as necessary, for example, monomers listed in the following (1) to (10) are desirable.
(1) A monomer having a phenolic hydroxyl group. For example, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, p-isopropenylphenol, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxy Phenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, and p-hydroxyphenyl methacrylate.
(2) A monomer having a sulfonamide group. For example, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide.
(3) A monomer having an active imide group. For example, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide.
(4) A monomer having an aliphatic hydroxyl group. For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acid. For example, acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride.
(6) A monomer having an allyl group. For example, allyl methacrylate and N-allyl methacrylamide.
(7) Alkyl acrylates or alkyl methacrylates. For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, lauryl acrylate, glycidyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, They are butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, octyl methacrylate, lauryl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(8) Acrylamides or methacrylamides. For example, acrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, methacrylamide, N-methylol methacrylamide, N-ethyl Methacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N-phenylmethacrylamide.
(9) Styrenes. For example, styrene, α-methylstyrene, chloromethylstyrene and the like.
(10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
One of these compounds may be used alone, or two or more of the same group of compounds (1) to (10) may be combined, or two or more of the different groups of compounds may be used in combination.
The content of monomer units generated from other monomers added as necessary to form the alkali-soluble resin is preferably 1 to 40 mol%, more preferably 5 to 40 mol% in the alkali-soluble resin. is there.

アルカリ可溶性樹脂の製造方法については、特に制限はなく、通常のビニル系又はアクリル系共重合体の製造方法と同様にして製造することができる。例えば、各モノマー成分を適当な溶媒に溶解し、従来慣用されているラジカル重合開始剤を添加し、必要に応じ加熱して重合を行うことにより所望の共重合体を得ることができる。このようにして得られた共重合体は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン検算重量平均分子量が1万〜20万、好ましくは2万〜10万の範囲にあるものが用いられる。この重量平均分子量が1万未満では画像部の膨潤が起こりやすく、機械的強度が不足してくる。20万を超えると現像不良による汚れが発生しやすくなるため好ましくない。   There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of alkali-soluble resin, It can manufacture similarly to the manufacturing method of a normal vinyl type or acrylic type copolymer. For example, a desired copolymer can be obtained by dissolving each monomer component in an appropriate solvent, adding a conventionally used radical polymerization initiator, and performing polymerization by heating as necessary. The copolymer thus obtained has a polystyrene calculated weight average molecular weight of 10,000 to 200,000, preferably 20,000 to 100,000, as measured by gel permeation chromatography (GPC). If the weight average molecular weight is less than 10,000, the image portion is likely to swell and the mechanical strength is insufficient. If it exceeds 200,000, it is not preferable because stains due to poor development are likely to occur.

アルカリ可溶性樹脂を形成するために用いられる溶媒としては、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。また、前記共重合体の重合のために用いられるラジカル重合開始剤としては、2,2´−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。添加量としては、モノマーの全量に対して0.1〜1.0質量%である。   Examples of the solvent used for forming the alkali-soluble resin include methyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, dioxane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like. Examples of the radical polymerization initiator used for the polymerization of the copolymer include 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), benzoyl peroxide, and the like. As addition amount, it is 0.1-1.0 mass% with respect to the whole quantity of a monomer.

本発明によれば、必要に応じて一般式(III)又は(IV)の単量体単位や他のモノマーから生じる単量体単位を有する、一般式(I)で表される単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂は、単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよい。アルカリ可溶性樹脂は、画像形成の点において、感光性組成物の固形分中に、好ましくは10〜40質量%である。
一般式(I)で表される単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂の好ましい例として、以下の(I−1)〜(I−4)が挙げられる。括弧の横に書き添えられた数字はモル百分率の範囲を示す。
According to the present invention, the monomer unit represented by the general formula (I) having a monomer unit of the general formula (III) or (IV) or a monomer unit derived from another monomer as necessary. Alkali-soluble resins having the above may be used alone or in combination of two or more. In terms of image formation, the alkali-soluble resin is preferably 10 to 40% by mass in the solid content of the photosensitive composition.
Preferable examples of the alkali-soluble resin having a monomer unit represented by the general formula (I) include the following (I-1) to (I-4). The number written next to the parenthesis indicates the range of mole percentage.

Figure 2015125290
Figure 2015125290

一般式(I)で表される単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂は、他のアルカリ可溶性樹脂と併用してもよい。他のアルカリ可溶性樹脂としては、好ましくはメタクリル酸又はアクリル酸誘導体の共重合体又はポリウレタン樹脂が挙げられる。他のアルカリ可溶性樹脂は、感光性組成物の固形分中に、好ましくは5〜30質量%である。   The alkali-soluble resin having a monomer unit represented by the general formula (I) may be used in combination with other alkali-soluble resins. Other alkali-soluble resins are preferably methacrylic acid or acrylic acid derivative copolymers or polyurethane resins. The other alkali-soluble resin is preferably 5 to 30% by mass in the solid content of the photosensitive composition.

メタクリル酸又はアクリル酸誘導体の共重合体は、側鎖カルボキシル基を有するメタクリル酸又はアクリル酸共重合体であって、当該カルボキシル基にグリシジルメタクリレート、4−ヒドロキシルブチルアクリレートグリシジルエーテル、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、又はメタクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル等を付加反応させて、末端に重合性の二重結合を有するアルカリ可溶性共重合体が特に好ましい。
グリシジルメタクリレート等の導入率としては、共重合体中のカルボキシル基に対して、好ましくは20〜70モル%、より好ましくは30〜60モル%である。20モル%未満の導入率では、感度が著しく低下する場合があり、70モル%超の導入率では、現像性が悪くなる場合がある。
The copolymer of methacrylic acid or acrylic acid derivative is a methacrylic acid or acrylic acid copolymer having a side chain carboxyl group, and glycidyl methacrylate, 4-hydroxylbutyl acrylate glycidyl ether, acrylic acid 2- ( An alkali-soluble copolymer having a polymerizable double bond at the terminal by addition reaction of 2-vinyloxyethoxy) ethyl, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate or the like is particularly preferable.
The introduction ratio of glycidyl methacrylate and the like is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 30 to 60 mol%, based on the carboxyl group in the copolymer. When the introduction ratio is less than 20 mol%, the sensitivity may be remarkably lowered. When the introduction ratio exceeds 70 mol%, the developability may be deteriorated.

メタクリル酸又はアクリル酸誘導体の共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン検算重量平均分子量は、好ましくは1,000〜500,000、特に好ましくは1,500〜300,000である。重量平均分子量が1,000以上、特に1,500以上では、特に十分な塗膜が得られ、500,000以下、特に300,000以下では、露光部分のアルカリ現像液に対する溶解性が良くなり、特に良好に現像できる。   The polystyrene calculated weight average molecular weight of the copolymer of methacrylic acid or acrylic acid derivative by gel permeation chromatography (GPC) measurement is preferably 1,000 to 500,000, particularly preferably 1,500 to 300,000. . When the weight average molecular weight is 1,000 or more, particularly 1,500 or more, a particularly sufficient coating film can be obtained. When the weight average molecular weight is 500,000 or less, particularly 300,000 or less, the solubility of the exposed portion in an alkaline developer is improved. It can be developed particularly well.

特に限定されるものではないが、本発明の感光性組成物に、更に含有されると好ましいポリウレタン樹脂としては、ポリマーのガラス転移温度(Tg)が50℃〜180℃、さらに好ましくは70℃〜150℃の範囲にあり、フィルム形成性、つまり均一な感光層表面が形成しづらくなる場合があり、また、表面のべたつきも発生しやすくなる場合があるので好ましくない。また、Tgが180℃超の場合には、アルカリ可溶性が悪くなり、現像不良が起き易くなる場合があるので好ましくないためである。ここで、本明細書において、ガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量計DSC−60(島津製作所製)を用いて測定した。なお、上記ポリウレタン樹脂の平均分子量(Mw)は、特に限定されるものではなく、従来用いられた任意ポリウレタン樹脂を用いることができる。   Although it is not particularly limited, as a polyurethane resin that is preferably contained in the photosensitive composition of the present invention, the glass transition temperature (Tg) of the polymer is 50 ° C to 180 ° C, more preferably 70 ° C to The temperature is in the range of 150 ° C., which is not preferable because film formability, that is, a uniform photosensitive layer surface may be difficult to form, and surface stickiness may easily occur. Further, when Tg is higher than 180 ° C., alkali solubility is deteriorated, and development failure may occur easily. Here, in this specification, the glass transition temperature (Tg) was measured using a differential scanning calorimeter DSC-60 (manufactured by Shimadzu Corporation). In addition, the average molecular weight (Mw) of the said polyurethane resin is not specifically limited, The conventionally used arbitrary polyurethane resin can be used.

一般的に、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂は、特開平2002−311579号に記載されているような側鎖カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂であって、当該カルボキシル基にグリシジルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル、アクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル、又はメタクリル酸2−(2−ビニロキシエトキシ)エチル等を付加反応させて、末端に重合性の二重結合を有するアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂などが特に望ましい。   Generally, the alkali-soluble polyurethane resin is a polyurethane resin having a side chain carboxyl group as described in JP-A No. 2002-311579, wherein the carboxyl group has glycidyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, Particularly, an alkali-soluble polyurethane resin having a polymerizable double bond at the terminal by addition reaction of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl methacrylate, or the like desirable.

末端に重合性の二重結合を有するアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂を合成するにあたり、好ましく使用されるジイソシアネート化合物として、具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、ジイソシアネート化合物として、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3−ジメチルビフェニル−4,4−ジイソシアネート、へキサンメチレンジイソシアネート、トリメチルへキサンメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4−メチレンビス(シクロへキシルイソシアネート)、メチルシクロへキシル−2,4−(又は2,6−)ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサンなどが挙げられる。   Specific examples of the diisocyanate compound preferably used in synthesizing an alkali-soluble polyurethane resin having a polymerizable double bond at the terminal include those shown below. That is, as the diisocyanate compound, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3- Dimethylbiphenyl-4,4-diisocyanate, hexanemethylene diisocyanate, trimethylhexanemethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexyl-2,4- (or 2, 6-) Diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane and the like.

また、上記アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂のカルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的には以下に示すものが含まれる。すなわち、カルボキシル基を有するジオール化合物として、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、N,N−2,2−ジヒドロキシエチルグリシン、ビス(ヒドロキシメチル)酢酸、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、酒石酸等が挙げられる。   Specific examples of the diol compound having a carboxyl group of the alkali-soluble polyurethane resin include those shown below. That is, as a diol compound having a carboxyl group, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxypropyl) propionic acid, N, N-2,2- Examples include dihydroxyethyl glycine, bis (hydroxymethyl) acetic acid, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid and the like.

上記カルボキシル基を有するジオール化合物のアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂中における含有率は、好ましくは20〜50モル%、より好ましくは25〜45モル%である。20モル%未満では、現像性が悪くなる場合があり、グリシジルメタクリレートの付加割合も狭くなり、50モル%を超えると現像時の画像強度が悪くなるのと同時にその他のジオール成分を含有できなくなる場合がある。   The content of the diol compound having a carboxyl group in the alkali-soluble polyurethane resin is preferably 20 to 50 mol%, more preferably 25 to 45 mol%. If it is less than 20 mol%, the developability may be deteriorated, and the addition ratio of glycidyl methacrylate is also narrowed. If it exceeds 50 mol%, the image strength during development is deteriorated and at the same time other diol components cannot be contained. There is.

また、カルボキシル基を有せず、イソシアネートと反応しない他の置換基を有していてもよいジオール化合物も使用することができ具体的には以下に示すものが含まれる。即ち、ジオール化合物として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブチレングリコール、1,6−へキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジヒドロキシエチルエーテル、p−キシレングリコール、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス−(2−ヒドロキシエチル)−2,4−トリレンジカルバメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート等が挙げられる。   Moreover, the diol compound which does not have a carboxyl group and may have the other substituent which does not react with isocyanate can also be used, Specifically, what is shown below is included. That is, as a diol compound, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyester polyol, polycarbonate diol, neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, 1 , 6-hexanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecane dimethanol, hydrogenated bisphenol A, water Bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide of bisphenol F Side adduct, propylene oxide adduct of bisphenol F, ethylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylene glycol, dihydroxyethyl sulfone, bis- (2 -Hydroxyethyl) -2,4-tolylene dicarbamate, bis (2-hydroxyethyl) isophthalate, and the like.

上記の側鎖カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂であって、当該カルボキシル基にグリシジルメタクリレートを付加反応させて、末端に重合性の二重結合基を有するアルカリ可溶性ポリウレタン樹脂は、2段階反応で合成することができる。まず、基本骨格となるポリウレタン樹脂は上記ジイソシアネート化合物と上記カルボキシル基を有するジオール化合物及びカルボキシル基を有しないジオール化合物とを非プロトン性溶媒中において、それぞれの反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱することにより合成することができる。次いで、得られた基本骨格となるポリウレタンにグリシジルメタクリレートを付加反応させることにより、当該アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂を合成することがで
きる。使用するジイソシアネート化合物とジオール化合物のモル比は、好ましくは0.8:1〜1.2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存した場合、アルコール類又は、アミン類などで処理することにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合成される。
A polyurethane resin having a side chain carboxyl group, wherein an alkali-soluble polyurethane resin having a polymerizable double bond group at the end is synthesized by a two-step reaction by adding glycidyl methacrylate to the carboxyl group. Can do. First, a polyurethane resin as a basic skeleton is obtained by using a known catalyst having an activity corresponding to the reactivity of the diisocyanate compound, the diol compound having a carboxyl group and the diol compound not having a carboxyl group in an aprotic solvent. It can be synthesized by adding and heating. Next, the alkali-soluble polyurethane resin can be synthesized by addition reaction of glycidyl methacrylate with the obtained polyurethane as the basic skeleton. The molar ratio of the diisocyanate compound and diol compound to be used is preferably 0.8: 1 to 1.2: 1. When an isocyanate group remains at the end of the polymer, it is treated with an alcohol or an amine. Finally, it is synthesized in a form in which no isocyanate group remains.

また、グリシジルメタクリレートの導入率としては、1段階目の基本骨格となるポリウレタン中のカルボキシル基に対して20〜70%、より好ましくは30〜60%である。20%未満の導入率では、高耐刷性の効果が難しくなる場合があり、70%以上の導入率では、現像性が悪くなる場合がある。   The introduction rate of glycidyl methacrylate is 20 to 70%, more preferably 30 to 60%, based on the carboxyl group in the polyurethane that is the basic skeleton in the first stage. When the introduction rate is less than 20%, the effect of high printing durability may be difficult, and when the introduction rate is 70% or more, developability may be deteriorated.

本発明の感光性組成物で使用されるシランカップリング剤は、一般式(II−1)〜(II−5)で表される群から選択される少なく1種以上である。
シランカップリング剤は、イソシアネート基を有するシランカップリング剤とヒドロキシル基を有するメタクリレート又はアクリレートとのウレタン結合反応により製造することができる。
The silane coupling agent used in the photosensitive composition of the present invention is at least one selected from the group represented by formulas (II-1) to (II-5).
The silane coupling agent can be produced by a urethane bond reaction between a silane coupling agent having an isocyanate group and a methacrylate or acrylate having a hydroxyl group.

イソシアネート基を有するシランカップリング剤としてはイソシアネートプロピルトリエトキシシラン、イソシアネートプロピルメチルジエトキシシラン、イソシアネートプロピルジメチルエトキシシラン、イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、イソシアネートプロピルメチルジメトキシシラン、イソシアネートプロピルジメチルメトキシシラン、イソシアネートプロピルトリプロポキシシラン、イソシアネートプロピルメチルジプロポキシシラン、イソシアネートプロピルジメチルプロポキシシラン、イソシアネートプロピルトリブトキシシラン、イソシアネートプロピルメチルジブトキシシラン、イソシアネートプロピルジメチルブトキシシランなどが挙げられ、工業的に入手が容易である点よりイソシアネートプロピルトリエトキシシラン、イソシアネートプロピルトリメトキシシランが特に好ましい。   Examples of silane coupling agents having an isocyanate group include isocyanate propyltriethoxysilane, isocyanatepropylmethyldiethoxysilane, isocyanatepropyldimethylethoxysilane, isocyanatepropyltrimethoxysilane, isocyanatepropylmethyldimethoxysilane, isocyanatepropyldimethylmethoxysilane, and isocyanatepropyltrisilane. Propoxy silane, isocyanate propyl methyl dipropoxy silane, isocyanate propyl dimethyl propoxy silane, isocyanate propyl tributoxy silane, isocyanate propyl methyl dibutoxy silane, isocyanate propyl dimethyl butoxy silane, etc. Propyltrie Kishishiran, isocyanate propyl trimethoxysilane is particularly preferred.

ヒドロキシル基を有するメタクリレート又はアクリレートとしては、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートなどが挙げられる。上記メタクリレート又はアクリレートは、何れも工業品の入手が容易であるため好適である。   As the methacrylate or acrylate having a hydroxyl group, hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, glycerol dimethacrylate, glycerol acrylate methacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipenta Examples include erythritol pentamethacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate. Any of the above methacrylates or acrylates is suitable because industrial products are easily available.

ウレタン結合形成反応を行うにあたり反応温度は、好ましくは30〜150℃、より好ましくは50〜100℃である。30℃未満では、反応が遅くなり非効率となる場合があり、150℃を超えると、メタクリル基又はアクリル基の重合が生じる恐れがある。   In performing the urethane bond forming reaction, the reaction temperature is preferably 30 to 150 ° C, more preferably 50 to 100 ° C. If it is less than 30 degreeC, reaction may become slow and it may become inefficient, and when it exceeds 150 degreeC, there exists a possibility that superposition | polymerization of a methacryl group or an acryl group may arise.

ウレタン結合形成反応を行うにあたり必要に応じて溶媒、反応触媒を使用してもよい。溶媒はイソシアネート基並びに、加水分解性シリル基と反応性を有さないものであれば特に限定されず、好ましくは炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒が挙げられる。反応触媒としはウレタン化触媒として公知である化合物であればよく、一般的には3級アミン、スズ化合物などが挙げられる。   In performing the urethane bond forming reaction, a solvent and a reaction catalyst may be used as necessary. A solvent will not be specifically limited if it does not have an isocyanate group and a hydrolyzable silyl group, and Preferably a hydrocarbon type solvent and an aromatic solvent are mentioned. The reaction catalyst may be any compound known as a urethanization catalyst, and generally includes tertiary amines, tin compounds and the like.

一般式(II)の新規シランカップリング剤の含有量は、感光層を形成することとなる感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.5〜8.0質量%、より好ましくは1.0〜7.0質量%である。1.0質量%以上では、特に耐刷性、耐薬品性が良くなる。一方、0.5質量%未満では、耐刷性、耐薬品性が悪くる場合があり、8.0質量%超では、現像不良になる場合がある。   The content of the novel silane coupling agent of the general formula (II) is preferably 0.5 to 8.0% by mass, more preferably in the total mass of the solid content of the photosensitive composition that will form the photosensitive layer. Is 1.0-7.0 mass%. When the content is 1.0% by mass or more, printing durability and chemical resistance are particularly improved. On the other hand, if it is less than 0.5% by mass, the printing durability and chemical resistance may be deteriorated, and if it exceeds 8.0% by mass, the development may be poor.

本発明の感光性組成物で使用される赤外線吸収剤は、画像露光光源の光を吸収して、そのエネルギーを熱に変換し得る化合物であれば特に限定されないが、好ましくは波長域650〜1300nmの範囲に吸収極大を有し、吸収極大でモル吸光係数εが好ましくは10以上である赤外線吸収色素が特に有効である。赤外線吸収剤は、光の照射によって赤外線吸収剤から発生する熱、又は光電子移動を引き起こしラジカル発生を促進させるために用いられる。このため、本発明の感光性組成物は、さらに赤外線吸収剤を含有することにより、レーザー露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が減少するネガ型感光層となる。 The infrared absorber used in the photosensitive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that can absorb light from an image exposure light source and convert the energy into heat, but preferably has a wavelength range of 650 to 1300 nm. In particular, an infrared absorbing dye having an absorption maximum in the above range and an absorption maximum having a molar extinction coefficient ε of preferably 10 5 or more is particularly effective. The infrared absorbent is used to promote the generation of radicals by causing heat or photoelectron transfer generated from the infrared absorbent upon irradiation with light. For this reason, the photosensitive composition of this invention becomes a negative photosensitive layer by which the solubility with respect to alkaline aqueous solution reduces by laser exposure by containing an infrared absorber further.

赤外線吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チオピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アントラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分子間CT色素等が好ましい。   Examples of infrared absorbing dyes include cyanine dyes, squalium dyes, croconium dyes, azurenium dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, polymethine dyes, naphthoquinone dyes, thiopyrylium dyes, dithiol metal complex dyes, anthraquinones Of these, dyes based on dyes, indoaniline metal complex dyes, and intermolecular CT dyes are preferred.

これらの色素は、公知の方法によって合成することができるが、以下のような市販品を用いることもできる。
日本化薬株式会社:IR750(アントラキノン系)、IR002,IR003(アルミニウム系)、IR820(ポリメチン系)、IRG022,IRG033(ジインモニウム系)、CY−2,CY−4,CY−9,CY−10,CY−20大日本インキ化学工業株式会社:Fastogen blue 8120みどり化学株式会社:MIR−101,1011,1021、その他、株式会社林原、三井化学株式会社、昭和電工株式会社、富士フィルム株式会社等の各社からも、上記色素は市販されている。
Although these pigment | dyes can be synthesize | combined by a well-known method, the following commercial items can also be used.
Nippon Kayaku Co., Ltd .: IR750 (anthraquinone), IR002, IR003 (aluminum), IR820 (polymethine), IRG022, IRG033 (diimmonium), CY-2, CY-4, CY-9, CY-10, CY-20 Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd .: Fastogen blue 8120 Midori Chemical Co., Ltd .: MIR-101, 1011, 1021, and other companies such as Hayashibara Co., Ltd., Mitsui Chemicals, Showa Denko Co., Ltd. and Fuji Film Co., Ltd. Also, the above dyes are commercially available.

上記赤外線吸収色素の中で、特に下記一般式(V)で表される赤外線吸収剤が好ましい。

Figure 2015125290
(上式中、R及びRは水素原子又は置換基を有してもよい好ましくは炭素数1〜12 のアルキル基又はアルコキシ基を示し、R及びRは置換基を有してもよい好ましくは炭素数1〜20のアルキル基又はアルコキシ基を示し、Zは電荷中和イオンを示し、mは1〜7の整数を表す。R〜Rが有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、特に塩素もしくは臭素原子、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、又は硫酸基が挙げられる。) Among the infrared absorbing dyes, an infrared absorber represented by the following general formula (V) is particularly preferable.
Figure 2015125290
(In the above formula, R 6 and R 7 may have a hydrogen atom or a substituent, preferably an alkyl group or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and R 8 and R 9 have a substituent. Or preferably an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, Z represents a charge neutralization ion, and m represents an integer of 1 to 7. R 6 to R 9 may have a substituent. And a halogen atom, particularly a chlorine or bromine atom, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, or a sulfuric acid group.

上記一般式(V)で表される赤外線吸収剤の好ましい具体例を下記に示すが、その化合物の範囲はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the infrared absorber represented by the said general formula (V) is shown below, the range of the compound is not limited to these.

Figure 2015125290
Figure 2015125290

上記赤外線吸収剤の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.5〜10質量%、より好ましくは0.6〜8.0質量%である。含有量が0.5質量%以上、特に0.6質量%以上では、感度が特に高くなり、10質量%以下、特に8.0質量%以下では、非画像部(未露光部)の現像性が特に向上するので好ましい。   The content of the infrared absorber is preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 0.6 to 8.0% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition. When the content is 0.5% by mass or more, particularly 0.6% by mass or more, the sensitivity is particularly high, and when the content is 10% by mass or less, particularly 8.0% by mass or less, the developability of the non-image area (unexposed area). Is particularly preferable since it improves.

本発明の感光性組成物で使用されるフェニル基が置換されていてもよいテトラフェニルホウ酸塩は、特に限定されず、公知の化合物を用いることができる。フェニル基が置換されたテトラフェニルホウ酸塩(以下、置換テトラフェニルホウ酸塩とも称する。)は、1、2、3、または4個のフェニル基が置換基を少なくとも1つ有する。置換基は、例えば、炭素数1〜3のアルキル基、好ましくはメチル基である。置換基はフェニル基の2、3、4、または5位に結合していてよく、4位の炭素に結合していることが特に好ましい。置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩を構成するカチオンとしては、例えば三級または四級ホスホニウムイオン、及び二級または三級アミンなどの有機カチオンが挙げられるが、これらに限定されない。置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩としては、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート(2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate)(CAS 53831-70-2)(商品名 EMZ-K、北興化学工業株式会社製)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0] −5−ノネンテトラフェニルボレート(1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ene (DBN) tetraphenylborate)(CAS 627543-58-2)(商品名 DBNK、北興化学工業株式会社製)、テトラフェニルホスホニウムテトラキス(4−メチルフェニル)ボレート(tetraphenylphosphonium tetrakis(4-methylphenyl)borate)(CAS 181259-35-8)(商品名 TPP-MK、北興化学工業株式会社製)、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(tetraphenylphosphonium tetraphenylborate)(CAS 15525-15-2)(商品名 TPP-K、北興化学工業株式会社製)、及びトリ−ターシャル−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート(tri-tert-butylphosphonium tetraphenylborate)(CAS 131322-08-2)(商品名 TTBuP-K、北興化学工業株式会社製)等が挙げられる。   The tetraphenylborate salt in which the phenyl group used in the photosensitive composition of the present invention may be substituted is not particularly limited, and a known compound can be used. In the tetraphenylborate having a phenyl group substituted (hereinafter also referred to as a substituted tetraphenylborate), 1, 2, 3, or 4 phenyl groups have at least one substituent. The substituent is, for example, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group. The substituent may be bonded to the 2, 3, 4, or 5 position of the phenyl group, and it is particularly preferable that the substituent is bonded to the carbon at the 4 position. Examples of the cation constituting the substituted or unsubstituted tetraphenylborate include, but are not limited to, tertiary or quaternary phosphonium ions and organic cations such as secondary or tertiary amines. Examples of the substituted or unsubstituted tetraphenylborate include 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate (CAS 53831-70-2) (trade name EMZ- K, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonenetetraphenylborate (1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN) tetraphenylborate) (CAS 627543-58-2) (trade name DBNK, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.), tetraphenylphosphonium tetrakis (4-methylphenyl) borate (CAS 181259-35-8) (Trade name TPP-MK, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.), tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (CAS 15525-15-2) (trade name TPP-K, manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.), and - Tasharu - butyl phosphonium tetraphenylborate (tri-tert-butylphosphonium tetraphenylborate) (CAS 131322-08-2) (trade name TTBuP-K, Hokko Chemical Industry Co., Ltd.).

置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩は、感光層中の赤外線吸収剤及びラジカル重合開始剤を安定化させる作用を有し、感光層の温度や経時に対する安定性を高める。置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは3.0〜6.0質量%、より好ましくは4.0〜5.0質量%である。含有量が3.0質量%以上、特に4.0質量%以上では、紫外・可視領域でのセーフライト適性及び保存安定性が良くなり、6.0質量%以下、特に5.0質量%以下では、画像部の耐薬品性及び画像部の耐刷性が特に向上するので好ましい。   The substituted or unsubstituted tetraphenylborate has an action of stabilizing the infrared absorber and the radical polymerization initiator in the photosensitive layer, and increases the stability of the photosensitive layer with respect to temperature and time. The content of the substituted or unsubstituted tetraphenylborate is preferably 3.0 to 6.0% by mass, more preferably 4.0 to 5.0% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition. %. When the content is 3.0% by mass or more, particularly 4.0% by mass or more, safelight suitability and storage stability in the ultraviolet / visible region are improved, and 6.0% by mass or less, particularly 5.0% by mass or less. Then, the chemical resistance of the image area and the printing durability of the image area are particularly improved, which is preferable.

本発明の感光性組成物で使用されるラジカル重合性開始剤は、特に限定されず、公知の化合物を用いることができる。例えば、有機ホウ酸塩、トリハロアルキル置換された化合物、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機過酸化物、オニウム塩(特開2003−114532号公報に記載のヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩)等が挙げられる。これらのラジカル重合性開始剤の中でも、特に有機ホウ酸塩、トリハロアルキル置換化合物が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ酸塩とトリハロアルキル置換化合物を組み合わせて用いることである。   The radically polymerizable initiator used in the photosensitive composition of the present invention is not particularly limited, and a known compound can be used. For example, organic borate, trihaloalkyl-substituted compound, hexaarylbisimidazole, titanocene compound, ketoxime compound, thio compound, organic peroxide, onium salt (iodonium salt, diazonium described in JP-A-2003-114532) Salt, sulfonium salt) and the like. Among these radical polymerizable initiators, organic borate and trihaloalkyl-substituted compounds are particularly preferably used. More preferably, an organic borate and a trihaloalkyl-substituted compound are used in combination.

有機ホウ酸塩を構成する有機ホウ酸アニオンは、下記一般式(VI)で表される。

Figure 2015125290
(式中、R11、R12、R13及びR14は各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。但し、R11、R12、R13及びR14が全てフェニル基である場合を除く。)
一般式(VI)は、R11、R12、R13及びR14のうち一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基であるもの、例えばトリフェニルブチルボレート等が、ラジカル形成の観点から特に好ましい。R11、R12、R13及びR14の全てがフェニル基であるものを除いているのは、トリフェニルブチルボレート等と比べてラジカルの発生が弱いことが知られており(特開昭62-143044)、感度が低すぎて十分な画像が得られない場合があるためである。 The organic borate anion constituting the organic borate is represented by the following general formula (VI).
Figure 2015125290
(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 may be the same or different, and an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, heterocyclic group Except that R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are all phenyl groups.)
In general formula (VI), one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group, for example, triphenylbutyl borate, etc. Is particularly preferred. Except for the case where all of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are phenyl groups, it is known that the generation of radicals is weaker than that of triphenylbutyl borate or the like (JP-A-62). -143044), because the sensitivity is too low to obtain a sufficient image.

有機ホウ酸塩を構成するカチオンとしては、アルカリ金属イオン及びオニウム化合物が挙げられるが、好ましくは、オニウム塩であり、例えばテトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ酸塩の例を下記に示す。   Examples of the cation constituting the organic borate include alkali metal ions and onium compounds. Preferred are onium salts such as ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, Examples include a reel alkylphosphonium salt. Examples of particularly preferred organic borates are shown below.

Figure 2015125290
Figure 2015125290

他の好ましいラジカル重合性開始剤として、トリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   Other preferred radical polymerizable initiators include trihaloalkyl substituted compounds. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group.

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を以下に示す。   Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2015125290
Figure 2015125290

Figure 2015125290
Figure 2015125290

上述したようなラジカル重合性開始剤の含有量は、アルカリ可溶性樹脂に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは1〜20質量%の範囲である。   The content of the radical polymerizable initiator as described above is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 1 to 20% by mass with respect to the alkali-soluble resin.

本発明の感光性組成物で使用されるエチレン性二重結合を有する重合性化合物は、特に限定されず、公知の化合物を用いることができる。上記重合性化合物を含有することによって皮膜強度が向上し、高感度で支持体との密着性に優れ、耐刷性も向上すると考えられる。   The polymerizable compound having an ethylenic double bond used in the photosensitive composition of the present invention is not particularly limited, and a known compound can be used. By containing the polymerizable compound, it is considered that the film strength is improved, the sensitivity is high, the adhesiveness with the support is excellent, and the printing durability is also improved.

エチレン性二重結合を有する重合可能な化合物としては分子量1000以下のモノマーから分子量1000以上のオリゴマー、ポリマー領域のものまで種々のものを用いることができる。このような化合物として不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等、不飽和アルコールとイソシアネート化合物とのウレタン、不飽和カルボン酸とエポキシ化合物とのエステル等を挙げることができる。   As the polymerizable compound having an ethylenic double bond, various compounds from monomers having a molecular weight of 1000 or less to oligomers having a molecular weight of 1000 or more and those having a polymer region can be used. Examples of such compounds include esters of unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric compounds. Examples thereof include amides with polyvalent amine compounds, urethanes with unsaturated alcohols and isocyanate compounds, esters with unsaturated carboxylic acids and epoxy compounds, and the like.

より具体的には、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルジオールジアクリレート、ネオペンチルジオールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート、メトキ
シポリエチレングリコールメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。
More specifically, for example, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, butylene glycol. Dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, neopentyldiol diacrylate, neopentyldiol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytetraethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate Relate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol hexaacrylate.

上記エチレン性二重結合を有する重合性化合物は、公知の方法で合成できるほか、市販のものを用いることができる。例えば、東亜合成株式会社製、日本油脂株式会社製、共栄社化学株式会社製、新中村化学株式会社製、三菱化学株式会社製、日本化薬株式会社製、大阪有機化学工業株式会社製等がある。   The polymerizable compound having an ethylenic double bond can be synthesized by a known method, or a commercially available compound can be used. For example, Toa Gosei Co., Ltd., Nippon Oil & Fat Co., Ltd., Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd., Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., etc. .

上記エチレン性二重結合を有する重合性化合物の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは1〜80質量%、さらに好ましくは2〜70質量%である。添加量が、1質量%以上の場合は、感度がより早くなり、80質量%以下では、画像部(露光部)の耐キズ性がより向上するので好ましい。   The content of the polymerizable compound having an ethylenic double bond is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 2 to 70% by mass, based on the total mass of the solid content of the photosensitive composition. When the addition amount is 1% by mass or more, the sensitivity becomes faster, and when it is 80% by mass or less, scratch resistance of the image portion (exposed portion) is further improved, which is preferable.

本発明の感光性組成物は、前記の成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要応じて、着色剤、ロイコ色素、感脂性樹脂、重合禁止剤、ピペリジン誘導体化合物、界面活性剤、可塑剤等を含有することができる。   The photosensitive composition of the present invention, in addition to the above-mentioned components, as long as the effects of the present invention are not impaired, further, as necessary, colorant, leuco dye, grease-sensitive resin, polymerization inhibitor, piperidine derivative compound, surface activity An agent, a plasticizer, etc. can be contained.

本発明の感光性組成物は、画像を見やすくするために、着色剤を用いることができる。着色剤としては、油溶性染料及び塩基性染料が好ましい。具体的には、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーン、ビクトリアブルー、メチレンブルー、エチルバイオレット、ローダミンB、ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学工業社製)、オイルブルー613(オリエント化学工業社製)、オイルグリーン等を挙げることができる。これらの染料の含有量は、好ましくは感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.05〜5.0質量%であり、より好ましくは0.1〜4.0質量%である。0.05質量%以上、特に0.1質量%以上では、感光層の着色が十分で画像が特に見やすくなり、5.0質量%以下、特に4.0質量%以下では、現像後の非画像部に染料の残りが残りにくくなり好ましい。   In the photosensitive composition of the present invention, a colorant can be used in order to make the image easy to see. As the colorant, oil-soluble dyes and basic dyes are preferable. Specifically, Crystal Violet, Malachite Green, Victoria Blue, Methylene Blue, Ethyl Violet, Rhodamine B, Victoria Pure Blue BOH (Hodogaya Chemical Industries), Oil Blue 613 (Orient Chemical Industries), Oil Green, etc. Can be mentioned. The content of these dyes is preferably 0.05 to 5.0% by mass, more preferably 0.1 to 4.0% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition. . If it is 0.05% by mass or more, particularly 0.1% by mass or more, the photosensitive layer is sufficiently colored and the image is particularly easy to see. If it is 5.0% by mass or less, particularly 4.0% by mass or less, a non-image after development. The remainder of the dye is difficult to remain in the part, which is preferable.

本発明の感光性組成物は、感光層の着色効果と現像液に対する溶解抑制効果を目的として、ロイコ色素を含有できる。ロイコ色素としては、従来の感熱記録材料に用いられているラクトン環を含む色素が好ましい。好ましい具体例としては、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド(別名クリスタルバイオレットラクトン)、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジエチルアミノフタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−クロルフタリド、3,3−ビス(p−ジブチルアミノフェニル)フタリド、3,3−ビス(p−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−4−アザフタリド、3、6−ジメトキシフルオラン、3−シクロヘキシルアミノ−6−クロルフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)フルオラン、3−ジメチルアミノ−5、7−ジメチルフルオラン、3−ジメチルアミノ−7−メチルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7、8−ベンズフルオラン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロルフルオラン、3−ジエチルアミノ−7−クロロアミノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジメチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、2−(N−(3’−トリフルオロメチルフェニル)アミノ)−6−ジエチルアミノフルオラン、2−(3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−(o−クロルアニリノ)キサンチル安息香酸ラクタム等を挙げることができる。   The photosensitive composition of the present invention can contain a leuco dye for the purpose of coloring the photosensitive layer and suppressing dissolution in the developer. As the leuco dye, a dye containing a lactone ring used in conventional heat-sensitive recording materials is preferable. Preferred examples include 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide (also known as crystal violet lactone), 3,3- Bis (p-dimethylaminophenyl) -6-diethylaminophthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-chlorophthalide, 3,3-bis (p-dibutylaminophenyl) phthalide, 3,3- Bis (p-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -4-azaphthalide, 3,6-dimethoxyfluorane, 3-cyclohexylamino-6-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7 -(N, N-dibenzylamino) fluorane, 3-dimethylamino-5, 7-dimethylfluorane, 3 Dimethylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7, 8-benzfluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3-diethylamino-7-chloroaminofluorane, 3-pyrrolidino- 6-methyl-7-anilinofluorane, 3-dimethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-dibutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 2- (N- (3 And '-trifluoromethylphenyl) amino) -6-diethylaminofluorane, 2- (3,6-bis (diethylamino) -9- (o-chloroanilino) xanthyl benzoate lactam, and the like.

ロイコ色素の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.05〜5質量%である。含有量が0.01質量%以上、特に0.05質量%以上では、感光層の着色が十分となり、可視性が優れ、10質量%以下、特に5質量%以下では、非画像部(露光部)の現像性が特に向上するので好ましい。   The content of the leuco dye is preferably 0.01 to 10% by mass and more preferably 0.05 to 5% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition. When the content is 0.01% by mass or more, particularly 0.05% by mass or more, the photosensitive layer is sufficiently colored, and the visibility is excellent. When the content is 10% by mass or less, particularly 5% by mass or less, the non-image part (exposed part). ) Is particularly preferred since the developability is particularly improved.

さらに、本発明の感光性組成物は、感光層の感脂性(親油性)を向上させるために感脂性樹脂を含有することができる。感脂性樹脂としては、例えば、特開昭50−125806号公報に記載されているような、炭素数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類とアルデヒドの縮合物、又はt−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
感脂性樹脂の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.05〜10質量%である。
Furthermore, the photosensitive composition of the present invention can contain a grease sensitive resin in order to improve the grease sensitivity (lipophilicity) of the photosensitive layer. Examples of the fat-sensitive resin include condensates of phenols and aldehydes substituted with an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, or t-butylphenol formaldehyde resin as described in JP-A No. 50-125806. Etc. can be used.
The content of the fat-sensitive resin is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, in the total mass of the solid content of the photosensitive composition.

本発明の感光性組成物は、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、即ち、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を含有することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、0.01〜5質量%が好ましい。また、必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を含有させて、塗布後の乾燥の過程で層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の含有量は、感光性組成物中の固形分の総質量中、0.5〜10質量%が好ましい。 The photosensitive composition of the present invention, polymerizable ethylenically unsaturated compound having a double bond, i.e., it is desirable to include a small amount of thermal polymerization inhibitor for inhibiting unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound . Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The content of the thermal polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 5% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be included to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the layer in the course of drying after coating. . As for content of a higher fatty acid derivative, 0.5-10 mass% is preferable in the total mass of the solid content in a photosensitive composition.

本発明の感光性組成物は、経時保存性を改善する目的からピペリジン誘導体化合物を含有することができる。ピペリジン誘導体化合物として、ビス(1,2,2,6,6)ペンタメチル−4−ピペリジル[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエーテル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート、1,2−エタン−ビス(N´−3,3,5,5−テトラメチル−2−ピペラジノン)が挙げられる。
これらの化合物は、BASF社からTINUVIN 144、TINUVIN 292として市販されている。
ピペリジン誘導体の含有量は、感光性組成物の固形分の総質量中、好ましくは0.05〜6.0質量%、より好ましくは1.0〜5.0質量%である。
The photosensitive composition of the present invention can contain a piperidine derivative compound for the purpose of improving storage stability with time. As piperidine derivative compounds, bis (1,2,2,6,6) pentamethyl-4-piperidyl [[3,5-bis (1,1-dimethylether) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate, bis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, 1,2-ethane-bis (N′-3, 3,5,5-tetramethyl-2-piperazinone).
These compounds are commercially available from BASF as TINUVIN 144, TINUVIN 292.
The content of the piperidine derivative is preferably 0.05 to 6.0% by mass, more preferably 1.0 to 5.0% by mass in the total mass of the solid content of the photosensitive composition.

本発明の感光性組成物は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報、特開平3−208514号公報、特願2006−241033号明細書に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤を含有することができる。非イオン界面活性剤の好適例としては、ソルビタントリステアレ−ト、ソルビタンモノパルミテ−ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。両性界面活性剤の好適例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグ
リシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、第一工業株式会社製商品名「アモーゲンK」)等が挙げられる。非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の含有量、感光性組成物の固形分中、好ましくは0.01〜15質量%、より好ましくは、0.01〜10質量%である。0.01質量%以上では、現像性が特に良好であり、また、15質量%を超えると、画像部の強度が弱くなる場合がある。
The photosensitive composition of the present invention is described in JP-A-62-251740, JP-A-3-208514, and Japanese Patent Application No. 2006-241033 in order to broaden the processing stability against development conditions. Such nonionic surfactants, amphoteric surfactants described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be contained. Preferable examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether, fluorine surfactant and the like. Preferred examples of the amphoteric surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, and N-tetradecyl-N, N- Betaine type (for example, trade name “Amorgen K” manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The content of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass in the solid content of the photosensitive composition. When the content is 0.01% by mass or more, developability is particularly good. When the content exceeds 15% by mass, the strength of the image area may be weakened.

本発明の感光性組成物は、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を含有することもできる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル等が用いられる。
上記可塑剤の含有量は、感光性組成物の固形分中、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.05〜10質量%である。
The photosensitive composition of this invention can also contain a plasticizer in order to provide the softness | flexibility etc. of a coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate and the like are used.
The content of the plasticizer is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, in the solid content of the photosensitive composition.

支持体の上に、この感光性組成物を用いて形成された感光層を備えるネガ型平版印刷版を提供することができる。平版印刷版原版は、通常、感光性組成物の成分として上述したものを溶媒に溶かして感光液とし、適当な支持体上に感光液を塗布することにより製造することができる。ここで使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノ−ル、メチレンクロライド、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン、γ−ブチルラクトン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。これら溶媒は単独あるいは2種以上混合して使用される。感光液中の感光性組成物の固形分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。   A negative lithographic printing plate comprising a photosensitive layer formed using this photosensitive composition on a support can be provided. The lithographic printing plate precursor can usually be produced by dissolving the above-described components of the photosensitive composition in a solvent to form a photosensitive solution, and coating the photosensitive solution on an appropriate support. Solvents used here include methanol, ethanol, propanol, methylene chloride, ethyl acetate, tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, dimethyl Examples include, but are not limited to, formamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, dioxolane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, methyl ethyl ketone, and γ-butyl lactone. These solvents are used alone or in combination of two or more. The concentration of the solid content (total solid content including additives) of the photosensitive composition in the photosensitive solution is preferably 1 to 50% by mass.

塗布する方法はとしては、種々の方法を用いることができるが、例えば、回転塗布、押し出し塗布、バーコーター塗布、ロール塗布、エアーナイフ塗布、ディップ塗布、カーテン塗布等を挙げることができる。感光性組成物の塗布量は、用途により異なるが、乾燥時、すなわち感光性組成物の固形分に関して0.5〜5.0g/mが好ましい。 Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include spin coating, extrusion coating, bar coater coating, roll coating, air knife coating, dip coating, and curtain coating. The coating amount of the photosensitive composition varies depending on the use, but is preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 at the time of drying, that is, with respect to the solid content of the photosensitive composition.

支持体としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、もしくは鋼等の金属板や、クロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキもしくは蒸着された金属板、紙、プラスチックフィルム、もしくはガラス板や、樹脂が塗布された紙や、親水化処理されたプラスチックフィルム等が挙げられる。
支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものでなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みは、好ましくはおおよそ0.1〜0.5mm、より好ましくは0.12〜0.4mmである。
As the support, for example, a metal plate such as aluminum, zinc, copper, or steel, a metal plate plated or vapor-deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, or the like, paper, plastic film, or glass plate And paper coated with a resin, a plastic film subjected to a hydrophilic treatment, and the like.
As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and used aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is preferably about 0.1 to 0.5 mm, more preferably 0.12 to 0.4 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ブラシ研磨、ボール研磨、ブラスト研磨、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化方法としては、塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭53−123204号公報に開示されている機械的方法と電気化学的な方法を組み合わせた方法も利用することができる。このように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、一般的に硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically roughening the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. By the method. As the mechanical method, known methods such as brush polishing, ball polishing, blast polishing, and buff polishing can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, a method combining a mechanical method and an electrochemical method disclosed in JP-A-53-123204 can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodization treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As the electrolyte used for anodizing the aluminum plate, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is generally used.

陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜60重量%溶液、液温は5〜60℃、電流密度2〜50A/dm、電圧1〜100V、電解時間5秒〜3分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は0.5〜5.0g/mが適当で、0.5g/m以上では耐摩耗性が特に良くなり、5.0g/m以下では、陽極酸化の孔に染料などが特に染み込みにくくなるので好ましい。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used and cannot be specified. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 60% by weight, the liquid temperature is 5 to 60 ° C., and the current density is 2 to 50 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 5 seconds to 3 minutes are suitable. If the amount of anodic oxide film is 0.5 to 5.0 g / m 2 is suitable, wear resistance is especially good at 0.5 g / m 2 or more, the 5.0 g / m 2 or less, the pores of the anodic oxidation Dyes and the like are particularly preferred because they are difficult to penetrate.

陽極酸化を施された後、アルミニウム板は、さらに、例えばケイ酸アルカリ、リン酸ソーダ、弗化ナトリウム、弗化ジルコニウム、アルキルチタネート、トリヒドロキシ安息香酸などの単独あるいは混合液による化成処理や、熱水溶液への浸漬もしくは水蒸気浴などによる封孔処理や、酢酸ストロンチウム、酢酸亜鉛、酢酸マグネシウム、もしくは安息香酸カルシウム等の水溶液による被覆処理や、ポリビニルピロリドン、ポリアミンスルホン酸、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、もしくはポリメタクリル酸等による表面もしくは裏面の化成あるいは被覆処理を後処理として行うこともできる。   After the anodization, the aluminum plate is further subjected to a chemical conversion treatment with, for example, an alkali silicate, sodium phosphate, sodium fluoride, zirconium fluoride, alkyl titanate, trihydroxybenzoic acid alone or in a mixed solution, Sealing treatment by immersion in an aqueous solution or steam bath, coating treatment with an aqueous solution such as strontium acetate, zinc acetate, magnesium acetate, or calcium benzoate, polyvinylpyrrolidone, polyaminesulfonic acid, polyvinylphosphonic acid, polyacrylic acid, Alternatively, chemical conversion or coating treatment of the front or back surface with polymethacrylic acid or the like can be performed as a post-treatment.

さらに、上記支持体として、特開平10−297130号公報に記載の表面処理を施したアルミニウム支持体等も使用することができる。   Furthermore, as the above-mentioned support, an aluminum support subjected to the surface treatment described in JP-A-10-297130 can be used.

平版印刷版原版は、支持体の上に、前記感光性組成物を用いて形成された感光層と、感光層の上に形成された保護層とを備えるものがより好ましい。
平版印刷版原版の感光層は、光重合又は熱重合性ネガ型感光層であり、通常、露光を大気中で行うために、画像記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止する目的で、画像記録層の上に、水溶性の保護層を設ける。本発明における水溶性保護層は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことを要し、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、画像記録層との密着に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。このような、保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3458311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的結晶性に優れた水溶性化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
More preferably, the lithographic printing plate precursor includes a photosensitive layer formed using the photosensitive composition on a support and a protective layer formed on the photosensitive layer.
The photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor is a photopolymerization or heat-polymerizable negative photosensitive layer, and is usually exposed to the air in the atmosphere. A water-soluble protective layer is provided on the image recording layer for the purpose of preventing low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances from entering the image recording layer. The water-soluble protective layer in the present invention requires low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and further does not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, has excellent adhesion with the image recording layer, and It is desirable that it can be easily removed in the development process after exposure. Such a device relating to the protective layer has been conventionally made, and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid Among these, water-soluble polymers such as those described above are known, but among these, the use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、分子量が200〜3000の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8、日本酢ビ・ポバール株式会社製のJT−05、JP−05、JF−17、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールNL−05、NM−11、NM−14、AL−06、P−610、
C−500等が挙げられる。
The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those that are 71-100% hydrolyzed and have a molecular weight in the range of 200-3000. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8, JT-05, JP-05, JF-17, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd., Gohsenol NL-05, NM-11, NM-, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. 14, AL-06, P-610,
C-500 etc. are mentioned.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐キズ性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高いほど(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高いほど)、膜厚が厚いほど酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また、画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐キズ性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素
の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。例えば、米国特許出願番号第292501号明細書、米国特許出願番号第44563号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60重量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明の感光層組成物に対しては、これら公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3458311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。本発明の感光性組成物には、接着力、感度、不要なカブリの観点から、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンを併用することが好ましい。添加量比(質量比)は、ポリビニルアルコール:ポリビニルピロリドンの比率が3:1以下、即ち、PVAに対するPVPの混合比が1/3以下であることが好ましい。水溶性保護層の乾燥後の塗布重量としては、1.0〜3.0g/mであることが好ましい。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the higher the film thickness, the higher the oxygen barrier property and the more advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesive force is likely to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, US Patent Application No. 292501 and US Patent Application No. 44563 include an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by weight and the like and laminating on the photosensitive layer. Any of these known techniques can be applied to the photosensitive layer composition of the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729. In the photosensitive composition of the present invention, polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone are preferably used in combination from the viewpoints of adhesive strength, sensitivity, and unnecessary fog. The addition ratio (mass ratio) is preferably such that the ratio of polyvinyl alcohol: polyvinylpyrrolidone is 3: 1 or less, that is, the mixing ratio of PVP to PVA is 1/3 or less. The coating weight after drying of the water-soluble protective layer is preferably 1.0 to 3.0 g / m 2 .

本発明の平版印刷版原版は、感光層とその上層に保護層とを有するものであれば、感光層と保護層とが隣接している必要は必ずしもなく、感光層と保護層との間に、両者を接着させる目的で中間層を有していてもよい。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is not necessarily required to be adjacent to the photosensitive layer and the protective layer as long as it has a photosensitive layer and a protective layer thereon. An intermediate layer may be provided for the purpose of bonding the two.

本発明の平版印刷原版を合紙なしで多数枚積み重ねた時の版同士の離脱性をよくし、また、合紙を間に入れて積み重ねた場合でも合紙と版との離脱性をよくするために、平版印刷原版の保護層表面をマット化する場合がある。保護層表面をマット化する方法としては、保護層中にマット剤などを添加する方法、保護層表面に水溶性樹脂あるいは水溶性樹脂とマット剤などを溶解、分散させた溶液をスプレー塗布する方法などがある。マット剤としては、例えば二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン、アルミナ粉末、澱粉、コンスターチ、重合体粒子(例えばポリアクリル酸、ポリスチレンなどの粒子)などが挙げられる。   Improves detachability between plates when a large number of lithographic printing original plates of the present invention are stacked without interleaving paper, and also improves detachability between interleaving paper and plate even when interleaving interleaving paper Therefore, the surface of the protective layer of the lithographic printing original plate may be matted. As a method of matting the surface of the protective layer, a method of adding a matting agent or the like in the protective layer, a method of spray-coating a solution in which a water-soluble resin or a water-soluble resin and a matting agent are dissolved and dispersed on the surface of the protective layer and so on. Examples of the matting agent include silicon dioxide, zinc oxide, titanium oxide, alumina powder, starch, starch, polymer particles (for example, particles such as polyacrylic acid and polystyrene), and the like.

さらに、保護層に他の機能を付与することができる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、且つ画像形成に寄与しない波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすことなく、紫外・可視領域でのセーフライト適性をさらに高めることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, the addition of a colorant (such as a water-soluble dye) that excels in the transmission of light of the wavelength used for exposure and can efficiently absorb light of a wavelength that does not contribute to image formation, without causing a decrease in sensitivity. -The safelight suitability in the visible region can be further enhanced.

本発明の平版印刷版用原版に、照射するためのレーザー光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、半導体レーザーが好ましい。発光波長としては760〜1300nmが好ましい。また、UV露光用の光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。発光波長としては、300〜500nmが好ましい。   As a laser light source for irradiating the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is preferable. The emission wavelength is preferably 760 to 1300 nm. Examples of the light source for UV exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and a chemical lamp. The emission wavelength is preferably 300 to 500 nm.

本発明の平版印刷原版の現像に用いられる現像液及び現像補充液としては、水系アルカリ現像液が好適である。アルカリ剤としては、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤及び、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、オクタン酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等の有機アルカリ剤等が挙げられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合せて混合して用いてもよい。
As the developer and developer replenisher used for the development of the lithographic printing original plate of the present invention, an aqueous alkaline developer is suitable. Alkaline agents include sodium hydroxide, potassium, ammonium, lithium, sodium silicate, potassium, ammonium, lithium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, Inorganic alkaline agents such as ammonium and sodium carbonate, and organic alkalis such as monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, sodium octoate, and tetramethylammonium hydroxide Agents and the like.
These alkali agents may be used alone or in combination of two or more.

上記のアルカリ水溶液には、さらに活性剤を添加することができる。上記活性剤としては、陰イオン界面活性剤あるいは両性界面活性剤を使用することができる。
陰イオン界面活性剤として、例えば炭素数が8〜22のアルコールの硫酸エステル類(例えばポリオキシエチレンアルキルサルフェートソーダ塩)、アルキルアリールスルホン酸塩類(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、ポリオキシエチレンドデシルフェニルサルフェートソーダ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ソーダ、ナフタレンスルホンソーダ、ナフタレンスルホンソーダのホルマリン縮合物)、ソジウムジアルキルスルホクシネート、アルキルエーテルリン酸エステル、アルキルリン酸エステルなどを用いることができる。また、両性界面活性剤として、例えばアルキルベタイン型、アルキルイミダ
ゾリン型活性剤が好ましい。さらに上記のアルカリ水溶液中には、例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等の水溶性亜硫酸塩を添加することもできる。
An activator can be further added to the alkaline aqueous solution. As the activator, an anionic surfactant or an amphoteric surfactant can be used.
Examples of the anionic surfactant include sulfates of alcohols having 8 to 22 carbon atoms (for example, polyoxyethylene alkyl sulfate soda salt), alkylaryl sulfonates (for example, sodium dodecylbenzenesulfonate, polyoxyethylene dodecylphenyl sulfate). Soda salt, alkyl naphthalene sulfonic acid soda, naphthalene sulfone soda, formalin condensate of naphthalene sulfone soda), sodium dialkyl sulfonate, alkyl ether phosphate, alkyl phosphate, and the like can be used. In addition, as the amphoteric surfactant, for example, alkylbetaine type and alkylimidazoline type surfactants are preferable. Furthermore, for example, water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, and magnesium sulfite can be added to the alkaline aqueous solution.

以下に、シランカップリング剤の合成例、感光性組成物を用いる実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでない。
<合成例1:一般式II−1に属するシランカップリング剤Aの製造>
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた1Lセパラブルフラスコに、ヒドロキシエチルアクリレートを116g仕込み、80℃に加熱した。その中に3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン205gを滴下投入し、80℃にて4時間加熱撹拌した。その後、IR測定により原料のイソシアネート基由来の吸収ピークが完全に消失し、代わりにウレタン結合由来の吸収ピークが生成したことを確認し、反応終了とした。得られた反応生成物は無色液体であり、粘度33mm/sであった。この化合物の1H−NMRスペクトルデータとIRスペクトルは以下の通りである。
1H NMR(300MHz,CDCl3,δ(ppm):
0.52(t,2H)、1.49(m,2H)、3.01(m,2H)、3.43(s,9H)、4.09〜4.31(m,4H)、5.73(d,1H)、6.02(m,1H)、6.30(d,1H)
IRスペクトル(cm−1):
2945、1727、1532、1410、1246、1192、1084、810
Although the synthesis example of a silane coupling agent and the Example using a photosensitive composition are shown below, this invention is not limited to these.
<Synthesis Example 1: Production of Silane Coupling Agent A belonging to General Formula II-1>
116 g of hydroxyethyl acrylate was charged into a 1 L separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and heated to 80 ° C. Into this, 205 g of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise and stirred at 80 ° C. for 4 hours. Thereafter, it was confirmed by IR measurement that the absorption peak derived from the isocyanate group of the raw material had completely disappeared and an absorption peak derived from the urethane bond was generated instead, and the reaction was terminated. The obtained reaction product was a colorless liquid and had a viscosity of 33 mm 2 / s. The 1H-NMR spectrum data and IR spectrum of this compound are as follows.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ (ppm):
0.52 (t, 2H), 1.49 (m, 2H), 3.01 (m, 2H), 3.43 (s, 9H), 4.09 to 4.31 (m, 4H), 5 .73 (d, 1H), 6.02 (m, 1H), 6.30 (d, 1H)
IR spectrum (cm −1 ):
2945, 1727, 1532, 1410, 1246, 1192, 1084, 810

<合成例2:一般式II−5に属するシランカップリング剤Bの製造>
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた1Lセパラブルフラスコに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートを524g仕込み、80℃に加熱した。その中に3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン205gを滴下投入し、80℃にて4時間加熱撹拌した。その後、IR測定により原料のイソシアネート基由来の吸収ピークが完全に消失し、代わりにウレタン結合由来の吸収ピークが生成したことを確認し、反応終了とした。得られた反応生成物は淡黄色液体であり、粘度6270mm/sであった。この化合物の1H−NMRスペクトルデータとIRスペクトルは以下の通りである。
1H NMR(300MHz,CDCl3,δ(ppm):
0.57(t,2H)、1.56(m,2H)、3.08(m,2H)、3.28〜3.46(m,4H)、3.52(s,9H)、3.98〜4.26(m,12H)、5.80(m,5H)、6.05(m,5H)、6.34(m,5H)
IRスペクトル(cm−1):
2944、1728、1634、1408、1268、1188、1062、984、808
<Synthesis Example 2: Production of Silane Coupling Agent B belonging to General Formula II-5>
Into a 1 L separable flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, 524 g of dipentaerythritol pentaacrylate was charged and heated to 80 ° C. Into this, 205 g of 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane was added dropwise and stirred at 80 ° C. for 4 hours. Thereafter, it was confirmed by IR measurement that the absorption peak derived from the isocyanate group of the raw material had completely disappeared and an absorption peak derived from the urethane bond was generated instead, and the reaction was terminated. The obtained reaction product was a pale yellow liquid and had a viscosity of 6270 mm 2 / s. The 1H-NMR spectrum data and IR spectrum of this compound are as follows.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 , δ (ppm):
0.57 (t, 2H), 1.56 (m, 2H), 3.08 (m, 2H), 3.28 to 3.46 (m, 4H), 3.52 (s, 9H), 3 .98 to 4.26 (m, 12H), 5.80 (m, 5H), 6.05 (m, 5H), 6.34 (m, 5H)
IR spectrum (cm −1 ):
2944, 1728, 1634, 1408, 1268, 1188, 1062, 984, 808

<支持体の準備>
厚さ0.24mmのアルミニウム(材質1050)をアルカリ脱脂した後、パーミストンの水懸濁液をかけながらナイロンブラシで表面を研磨し、よく水洗した。次いで、70℃、15重量%水酸化ナトリウム水溶液を5秒間かけ流し、表面を3g/mエッチングした後、さらに水洗を行ない、次いで、1N塩酸浴中で200クーロン/dmで電解粗面化処理を行った。引き続き水洗した後、15重量%水酸化ナトリウム水溶液で表面を再度エッチングし、水洗を行った後、20重量%の硝酸水溶液に浸漬して、デスマットした。次いで、15重量%硫酸水溶液中で陽極酸化処理を行って、2.0g/mの酸化皮膜を形成し、水洗の後、50℃の1重量%のフッ化カリウムと10重量%のリン酸一ナトリ
ウムの混合溶液で後処理し、水洗・乾燥した。
<Preparation of support>
After 0.24 mm thick aluminum (material 1050) was alkali degreased, the surface was polished with a nylon brush while applying a water suspension of permiston and washed thoroughly with water. Next, a 15 wt% sodium hydroxide aqueous solution was poured for 5 seconds at 70 ° C., the surface was etched by 3 g / m 2 , then further washed with water, and then electro-roughened at 200 coulomb / dm 2 in a 1N hydrochloric acid bath. Processed. Subsequently, after washing with water, the surface was etched again with a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, then immersed in a 20% by weight aqueous nitric acid solution and desmutted. Next, anodization was performed in a 15% by weight sulfuric acid aqueous solution to form a 2.0 g / m 2 oxide film. After washing with water, 1% by weight potassium fluoride at 50 ° C. and 10% by weight phosphoric acid. It was post-treated with a mixed solution of monosodium, washed with water and dried.

<実施例1>
下記シランカップリング剤Aを用いて、下記組成の感光液を調製した。この感光液を上記支持体であるアルミニウム板上に乾燥後の膜厚が1.5g/mになるように塗布し、90℃で3分間乾燥して感光層を形成した。得られた感光層の表面に、下記組成の水溶性保護層塗布液をワイヤーバーで塗布し、乾燥装置にて90℃で3分間乾燥させて保護膜層を形成し(塗布量は、2.0g/m)、平版印刷版原版を得た。
(感光液の組成)
シランカップリング剤A(0.1g)
重合性化合物(E−1)(0.6g)
特定アルカリ可溶性樹脂(A−1)(2.0g)
赤外線吸収剤:赤外線吸収剤(1)(0.05g)
置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩:2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート(0.1g)
ラジカル重合性開始剤:トリアジン化合物(T−7)(0.1g)
染料:オイルブルー613(オリエント化学工業株式会社製)(0.05g)
溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテル20mlとテトラヒドロフラン20mlの混合液
(水溶性保護層塗布液の組成)
ポリビニルアルコール(日本合成化学工業株式会社製、ケン化度89モル%、重合度500) 100g
界面活性剤(日本乳化剤、エマレックス710) 0.03g
蒸留水 50g
<Example 1>
Using the following silane coupling agent A, a photosensitive solution having the following composition was prepared. This photosensitive solution was applied on the aluminum plate as the support so that the film thickness after drying was 1.5 g / m 2 and dried at 90 ° C. for 3 minutes to form a photosensitive layer. A water-soluble protective layer coating solution having the following composition is applied to the surface of the obtained photosensitive layer with a wire bar and dried at 90 ° C. for 3 minutes with a drying apparatus to form a protective film layer (the coating amount is 2. 0 g / m 2 ), a lithographic printing plate precursor was obtained.
(Composition of photosensitive solution)
Silane coupling agent A (0.1 g)
Polymerizable compound (E-1) (0.6 g)
Specific alkali-soluble resin (A-1) (2.0 g)
Infrared absorber: Infrared absorber (1) (0.05 g)
Substituted or unsubstituted tetraphenylborate: 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate (0.1 g)
Radical polymerizable initiator: Triazine compound (T-7) (0.1 g)
Dye: Oil Blue 613 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) (0.05 g)
Solvent: Mixture of 20 ml of propylene glycol monomethyl ether and 20 ml of tetrahydrofuran (composition of water-soluble protective layer coating solution)
Polyvinyl alcohol (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., saponification degree 89 mol%, polymerization degree 500) 100 g
Surfactant (Japanese emulsifier, EMALEX 710) 0.03g
Distilled water 50g

Figure 2015125290
Figure 2015125290

<実施例2>
シランカップリグ剤A(0.1g)に換えて上記シランカップリング剤B(0.1g)を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。
<Example 2>
A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent B (0.1 g) was used instead of the silane coupling agent A (0.1 g).

<実施例3>
置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩として、2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート(0.1g)に換えて、テトラフェニルホスホニウムテトラキス(4−メチルフェニル)ボレート(0.1g)を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。
(感光液ハ)
<Example 3>
As substituted or unsubstituted tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetrakis (4-methylphenyl) borate (0.1 g) is used instead of 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate (0.1 g). A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used.
(Photosensitive solution C)

<実施例4>
置換または非置換のテトラフェニルホウ酸塩として、2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート(0.1g)に換えて、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネンテトラフェニルボレート(0.1g)を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。
<Example 4>
As a substituted or unsubstituted tetraphenylborate, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonenetetra instead of 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate (0.1 g) A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that phenyl borate (0.1 g) was used.

<比較例1>
シランカップリグ剤A(0.1g)に換えて一般式IIに属さない下記比較シランカップリング剤(0.1g)を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。

Figure 2015125290
<Comparative Example 1>
A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following comparative silane coupling agent (0.1 g) not belonging to the general formula II was used instead of the silane coupling agent A (0.1 g). .
Figure 2015125290

<比較例2>
アルカリ可溶性樹脂(A−1)(2.0g)に換えて下記比較アルカリ可溶性樹脂(2.0g)を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。

Figure 2015125290
<Comparative Example 2>
A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following comparative alkali-soluble resin (2.0 g) was used instead of the alkali-soluble resin (A-1) (2.0 g).
Figure 2015125290

<比較例3>
テトラフェニルホウ酸塩である2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート(0.1g)に換えて、有機ホウ酸塩(B−6)(0.1g)を用いた以外は実施例1と同様にして平版印刷版原版を得た。
<Comparative Example 3>
Example 1 except that the organic borate (B-6) (0.1 g) was used instead of the tetraphenylborate 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate (0.1 g). In the same manner, a lithographic printing plate precursor was obtained.

<評価方法>
得られた平版印刷版原版を以下のように評価した。
(1.感度評価)
得られた平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter 800QTMにて、解像度2400dpi、外面ドラム回転数360rpmで照射エネルギーを変化させて露光した。露光後、富士フィルム社製現像液(HN−D)を4倍希釈し、PK−910II自動現像機を用いて30℃ 12秒で現像処理した。この際、網点濃度計iCplateII(グレタグマクベス社製)を用いてFMモードで設定値50%平網が50.5(±0.5)%を再現しているところを露光感度とした。
<Evaluation method>
The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated as follows.
(1. Sensitivity evaluation)
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed with a Trendsetter 800QTM manufactured by Creo at a resolution of 2400 dpi and an outer drum rotating speed of 360 rpm while changing the irradiation energy. After the exposure, a developer (HN-D) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was diluted 4 times and developed at 30 ° C. for 12 seconds using a PK-910II automatic developing machine. At this time, a halftone dot concentration meter iCplate II (manufactured by Gretag Macbeth Co., Ltd.) was used as the exposure sensitivity when the set value 50% flat screen reproduced 50.5 (± 0.5)% in the FM mode.

(2.FMスクリーニングテスト(画像再現性))
また、上記同様にCreo社製Trendsetter 800QTMにて、露光エネルギー50mj/cmでFM Staccato36で露光した。露光後、富士フィルム社製現像液(HN−D)を4希釈し、PK−910II自動現像機を用いて30℃ 12秒で現像処理した。この際、網点濃度計 iCplateII(グレタグマクベス社製)を用いてFMモードで設定値50%平網が50.5(±0.5)%を再現していることを確認した。
(2. FM screening test (image reproducibility))
Moreover, it exposed with FM Staccato36 by exposure energy 50mj / cm < 2 > with the Trendsetter 800QTM by Creo company similarly to the above. After the exposure, a developer (HN-D) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was diluted by 4 and developed at 30 ° C. for 12 seconds using a PK-910II automatic developing machine. At this time, using a halftone dot concentration meter iCplate II (manufactured by Gretag Macbeth Co.), it was confirmed that the set value 50% flat screen reproduced 50.5 (± 0.5)% in FM mode.

(3.耐刷性テスト)
上記同様にして露光エネルギー50mj/cmで得られた1%〜100%まで1%刻みの網点画像を、リョービ製印刷機で市販オフセット用インキにて、上質紙に印刷した。10000枚印刷するごとに止めて、電子顕微鏡写真にて画像部を拡大し、20μm四方角の1ドットの網点画像が欠落するまでの枚数を数えて判断した。
(3. Printing durability test)
In the same manner as described above, a halftone dot image in 1% increments from 1% to 100% obtained at an exposure energy of 50 mj / cm 2 was printed on high-quality paper with a commercially available offset ink using a Ryobi printer. The printing was stopped each time 10,000 sheets were printed, and the image portion was enlarged with an electron micrograph, and the number of sheets until a dot image of one dot having a 20 μm square was missing was determined.

(4.耐薬品テスト)
上記同様にして露光エネルギー50mj/cmで得られた50%網点画像を、サイバー10(日研化学研究所)を30分間滴下し、脱脂綿で拭取った後、滴下部位をセロテープ(登録商標)(ニチバン社製)で完全に固定する。その後勢いよくはがす。画像部位の侵されかたで評価した。表1において、全く剥離しないものを「◎」、若干剥離するものを「△」、完全に剥離するものを「×」とした。
(4. Chemical resistance test)
In the same manner as above, a 50% halftone dot image obtained with an exposure energy of 50 mj / cm 2 was dropped on Cyber 10 (Nikken Chemical Laboratories) for 30 minutes and wiped with absorbent cotton. ) (Made by Nichiban). Then peel off vigorously. Evaluation was based on how the image area was affected. In Table 1, a sample that did not peel at all was indicated by “◎”, a sample that peeled slightly, “Δ”, and a sample that completely peeled “×”.

(5. 紫外・可視領域でのセーフライト適性テスト)
得られた平版印刷原版の露光部を照度400lux蛍光灯またはUVカット蛍光灯下で5分毎に60分間被曝させた。照射部をずらし平版印刷原版を最大60分被曝させた。次にKodak社Trendsetter 800 Quantumにて、解像度2400dpi、外面ドラム回転数360rpm、FM25にて50%網点画像を露光した。この時の露光エネルギーは感度評価にてFMモード設定値50%平網が50.5(±0.5)%を再現しているところとする。その後、PK−1310 II自動現像機を用いて上記現像処理液にて30℃で25秒間現像処理した。評価は、蛍光灯による被曝部位がFM網点濃度計で、FMスクリーニングテストで得られた網点濃度と比較して0.5%以内までなら合格とした。
(5. Safelight aptitude test in the ultraviolet and visible regions)
The exposed portion of the resulting lithographic printing plate precursor was exposed for 60 minutes every 5 minutes under an illuminance of 400 lux fluorescent lamp or UV cut fluorescent lamp. The irradiation part was shifted and the lithographic printing original plate was exposed for a maximum of 60 minutes. Next, a 50% halftone image was exposed at a resolution of 2400 dpi, an outer drum rotation speed of 360 rpm, and FM25 with a Kodak Trendsetter 800 Quantum. The exposure energy at this time is assumed to be 50.5 (± 0.5)% when the FM mode set value 50% flat screen is reproduced in sensitivity evaluation. Thereafter, development was performed at 30 ° C. for 25 seconds with the above developing solution using a PK-1310 II automatic developing machine. In the evaluation, if the exposure site by the fluorescent lamp was an FM halftone densitometer and the halftone dot concentration obtained by the FM screening test was within 0.5%, the evaluation was accepted.

(6. 保存安定性テスト)
得られた平版印刷原版を60℃、5%湿度下の強制保存条件に16日間、合紙を挟まないで平版印刷原版を重ね保存した。その後、平版印刷版原版を、Kodak社製Trendsetter 800 Quantumにて、解像度2400dpi、外面ドラム回転数360rpm、上記感度評価でFMモード設定値50%平網が50.5(±0.5)%を再現しているところと同じ照射エネルギーで露光した。その後、PK−1310 II自現機を用いて上記現像処理液にて30℃で25秒間現像処理した。評価は50%平網部がAM網点濃度計で保存前と比較して0.5%以内までならば合格とした。
(6. Storage stability test)
The obtained lithographic printing original plate was stored in an overlapping manner under forced storage conditions at 60 ° C. and 5% humidity for 16 days without sandwiching the slip sheet. Thereafter, the lithographic printing plate precursor was converted to a resolution of 2400 dpi, outer drum rotation speed 360 rpm, FM mode setting value 50% by the above-mentioned sensitivity evaluation, and 50.5 (± 0.5)% of the flat screen by a Kodak Trendsetter 800 Quantum. The exposure was performed with the same irradiation energy as that reproduced. Then, it developed with the said developing solution at 30 degreeC for 25 second using PK-1310 II self-supporting machine. The evaluation was deemed acceptable if the 50% flat screen portion was within 0.5% of the AM halftone densitometer compared to before storage.

Figure 2015125290
Figure 2015125290

表1から明らかなように、本発明の感光性組成物において新規シランカップリング剤と特定アルカリ可溶性樹脂を含有する感光層を設けたサーマルネガ型印刷版によると、いずれも高感度で、FMスクリーニング画像再現性に優れ、微小画像部の耐刷性や耐薬品性に加え、紫外・可視領域でのセーフライト適性及び保存安定性に優れた平版印刷版原版が提供された。
As is apparent from Table 1, according to the thermal negative printing plate provided with a photosensitive layer containing a novel silane coupling agent and a specific alkali-soluble resin in the photosensitive composition of the present invention, both are highly sensitive and FM screening images. A lithographic printing plate precursor excellent in reproducibility, in addition to printing durability and chemical resistance in a minute image area, as well as safelight suitability and storage stability in the ultraviolet / visible region was provided.

Claims (7)

下記式(I)
Figure 2015125290
(上式中、R及びRは水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基を示し、L及びLは置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基、又は置換基を有してもよい炭素数6〜15のアリーレン基を示す。)
で表わされる単量体単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、下記一般式(II−1)〜(II−5)
Figure 2015125290
(上式中、Rは独立して水素原子又はメチル基を示し、Xは独立して炭素数1〜4のアルコキシ基を示し、nは独立して1〜3の整数である。)
で表わされる群から選択される少なくとも1種のシランカップリング剤と、赤外線吸収剤と、フェニル基が置換されていてもよいテトラフェニルホウ酸塩と、テトラフェニルホウ酸塩ではないラジカル重合性開始剤と、エチレン性二重結合を有する重合性化合物とを少なくとも含有する感光性組成物。
Formula (I)
Figure 2015125290
(In the above formula, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and L 1 and L 2 may have 1 substituent. Represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an arylene group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent.)
An alkali-soluble resin having a monomer unit represented by the following general formulas (II-1) to (II-5):
Figure 2015125290
(In the above formula, R 3 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, X independently represents an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and n is independently an integer of 1 to 3).
At least one silane coupling agent selected from the group represented by: an infrared absorber; tetraphenylborate in which the phenyl group may be substituted; and radical polymerization initiation that is not tetraphenylborate A photosensitive composition containing at least an agent and a polymerizable compound having an ethylenic double bond.
前記シランカップリング剤が、感光層を形成することとなる前記感光性組成物の固形分中に0.5〜8.0質量%の範囲で含まれる請求項1に記載の感光性組成物。   The photosensitive composition of Claim 1 contained in the range of 0.5-8.0 mass% in the solid content of the said photosensitive composition from which the said silane coupling agent will form a photosensitive layer. 前記アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式(III)又は下記一般式(IV)
Figure 2015125290
(上式中、R及びRは水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基を示し、Mは置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキレン基を示す。)
で表わされる単量体単位をさらに含有する請求項1又2に記載の感光性組成物。
The alkali-soluble resin is represented by the following general formula (III) or the following general formula (IV):
Figure 2015125290
(In the above formula, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and M represents an alkylene having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. Group.)
The photosensitive composition of Claim 1 or 2 which further contains the monomer unit represented by these.
前記テトラフェニルホウ酸塩が、2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレート、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネンテトラフェニルボレート、及びテトラフェニルホスホニウムテトラキス(4−メチルフェニル)ボレートから選択される少なくとも1種である請求項1〜3のいずれかに記載の感光性組成物。   The tetraphenylborate is 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonenetetraphenylborate, and tetraphenylphosphonium tetrakis (4-methyl). The photosensitive composition according to claim 1, which is at least one selected from phenyl) borate. 前記テトラフェニルホウ酸塩が、感光層を形成することとなる前記感光性組成物の固形分中に3.0〜6.0質量%の範囲で含まれる請求項1〜4のいずれかに記載の感光性組成物。   The said tetraphenyl borate is contained in the range of 3.0-6.0 mass% in solid content of the said photosensitive composition which will form a photosensitive layer. Photosensitive composition. 支持体と、該支持体の上に請求項1〜5のいずれかに記載の感光性組成物を用いて形成された感光層とを備えるネガ型平版印刷版原版。   A negative lithographic printing plate precursor comprising a support and a photosensitive layer formed on the support using the photosensitive composition according to any one of claims 1 to 5. 前記感光層の上に形成された保護層をさらに備える請求項6に記載のネガ型平版印刷版原版。


The negative lithographic printing plate precursor according to claim 6, further comprising a protective layer formed on the photosensitive layer.


JP2013269810A 2013-12-26 2013-12-26 Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same Pending JP2015125290A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013269810A JP2015125290A (en) 2013-12-26 2013-12-26 Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013269810A JP2015125290A (en) 2013-12-26 2013-12-26 Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2015125290A true JP2015125290A (en) 2015-07-06

Family

ID=53536022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013269810A Pending JP2015125290A (en) 2013-12-26 2013-12-26 Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015125290A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018199316A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 富士フイルム株式会社 Curable composition, planographic printing master plate, method for manufacturing planographic printing plate, and salt compound
JP2020003819A (en) * 2019-09-20 2020-01-09 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive resin composition, cured product obtained by curing the same, black matrix and image display device
CN112188963A (en) * 2018-05-14 2021-01-05 爱克发有限公司 Lithographic printing plate precursor

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018199316A1 (en) * 2017-04-28 2018-11-01 富士フイルム株式会社 Curable composition, planographic printing master plate, method for manufacturing planographic printing plate, and salt compound
CN112188963A (en) * 2018-05-14 2021-01-05 爱克发有限公司 Lithographic printing plate precursor
JP2020003819A (en) * 2019-09-20 2020-01-09 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive resin composition, cured product obtained by curing the same, black matrix and image display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1669194B1 (en) Lithographic printing plate precursor and method of producing printing plate
JP5089422B2 (en) Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same
JP5301015B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate precursor and method for preparing lithographic printing plate
JP6017894B2 (en) Photosensitive composition for negative lithographic printing plate precursor and negative lithographic printing original plate using the same
JP6518767B2 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method
JP2005329708A (en) Original plate of lithographic plate
JP4684264B2 (en) Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same
JP2012230194A (en) Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor
JP4675719B2 (en) Planographic printing method and planographic printing plate precursor
JP5757732B2 (en) Planographic printing plate precursor and plate making method using microcapsules
JP4637644B2 (en) Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using a crosslinked hydrophilic film
JP2015125290A (en) Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same
JP5165327B2 (en) Water-soluble composition and planographic printing plate precursor using the same
JP2005271576A (en) Lithographic printing plate original form and lithographic printing method using that
JP5513221B2 (en) Protective layer forming composition and photosensitive lithographic printing plate using the same
JP5208679B2 (en) Photosensitive composition and negative lithographic printing plate precursor using the same
CN109752921B (en) Negative-working lithographic printing plate precursor and method for preparing lithographic printing plate therefrom
JP2007007905A (en) Original lithographic printing plate and lithographic printing method using this original plate
JP2016155271A (en) Lithographic printing plate
JP2014063108A (en) Photosensitive composition and lithographic printing plate precursor using the same
JP2005262755A (en) Lithographic printing original plate, and lithographic printing method
JP4054244B2 (en) Image recording material
JP5513041B2 (en) Protective layer forming composition and planographic printing plate precursor using the same
JP2003107751A (en) Method for making up original plate for planographic printing plate and planographic printing plate
JP4606749B2 (en) Planographic printing method and planographic printing plate precursor used therefor