JP2015123671A - Laminate and metal-clad laminate - Google Patents

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橋本 昌和
Masakazu Hashimoto
昌和 橋本
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Zeon Corp
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Nippon Zeon Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate which has no degradation such as discoloration due to the oxidation of a surface of the laminate even if placed under a high temperature over a long period of time and has excellent insulation strength, a small dielectric constant and excellent transmission characteristics, and a metal-clad laminate.SOLUTION: There is provided a laminate having a thickness of 2 mm or less which is obtained by laminating at least three layers in this order: a layer composed of a crosslinkable resin molded body (A) having resin layers on both surfaces of a fibrous support, a layer composed of a crosslinkable resin molded body (B) having a resin layer containing an inorganic filler and a layer composed of the crosslinkable resin molded body (A). The layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is disposed on both outermost surface layers of the laminate, the thickness (TA) of the layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is smaller than the thickness (TB) of the layer (B) composed of the crosslinkable resin molded body (B) and the ratio (TpB/TB) between the total thickness (TpB) of the resin layer constituting the crosslinkable resin molded body (B) and the thickness (TB) of the layer composed of the crosslinkable resin molded body (B) is 0.4 to 1.0.

Description

本発明は、高温下に長時間置かれた場合であっても、表面が劣化することなく、絶縁強度に優れ、かつ、比誘電率が小さく伝送特性に優れる積層体、及び金属張積層体に関する。   The present invention relates to a laminate and a metal-clad laminate excellent in insulation strength, having a low relative dielectric constant and excellent transmission characteristics even when left at high temperatures for a long time. .

近年の電子部品・電子機器等の小型化・薄膜化に伴って、これらに用いられる回路基板等にも小型化・薄膜化が要求されている。そのため、回路基板には、より高密度の回路配線パターンを形成することが必要となっている。   With recent downsizing and thinning of electronic parts and electronic devices, circuit boards and the like used for these are also required to be downsized and thinned. Therefore, it is necessary to form a higher-density circuit wiring pattern on the circuit board.

従来、このような高密度の回路配線パターンを形成するために、多層構造の回路基板を用い、回路基板を構成する各層の厚みを薄くすることが行われている。このような多層構造の回路基板の薄膜化において、薄膜化した場合でも回路基板の機械強度を維持できるという観点より、多層構造の回路基板の層間絶縁層を形成する材料として、ガラス繊維等の繊維基材を含有するプリプレグを用いる方法が検討されている。   Conventionally, in order to form such a high-density circuit wiring pattern, a multilayer circuit board is used and the thickness of each layer constituting the circuit board is reduced. From the viewpoint of maintaining the mechanical strength of the circuit board even when the circuit board is thinned, a material such as glass fiber is used as a material for forming the interlayer insulating layer of the multilayer circuit board. A method using a prepreg containing a substrate has been studied.

しかしながら、高温下に長時間置かれた場合、プリプレグの表層が変色し、熱劣化するという問題があった。
この問題を解決すべく、特許文献1には、酸化防止樹脂層として厚み2μmのエポキシ樹脂層が積層された積層体が開示されている。しかし、この文献中の実施例では、比較的低温(125℃)での評価を行っているだけで、高温下に置かれた場合の試験は行われていない。
特許文献2には、積層体中の、複数の繊維基材層が、特定の位置に配置された積層体が開示されている。しかし、この文献に記載の積層体は、積層体の厚みに対する、繊維基材の厚みの割合が高く、樹脂分が少ないため、比誘電率が高くなる(伝送特性が悪くなる)おそれがある。
However, when placed at a high temperature for a long time, there is a problem that the surface layer of the prepreg discolors and heat deteriorates.
In order to solve this problem, Patent Document 1 discloses a laminate in which an epoxy resin layer having a thickness of 2 μm is laminated as an antioxidant resin layer. However, in the examples in this document, only an evaluation at a relatively low temperature (125 ° C.) is performed, and a test when placed under a high temperature is not performed.
Patent Document 2 discloses a laminate in which a plurality of fiber base layers in a laminate are arranged at specific positions. However, the laminate described in this document has a high ratio of the thickness of the fiber base material to the thickness of the laminate and the resin content is small, so that the relative dielectric constant may be increased (transmission characteristics may be deteriorated).

また、特許文献3には、第1樹脂層、繊維基材、及び、第2樹脂層がこの順に積層され、第2樹脂層が第1樹脂層より厚みの大きい積層体が開示されている。
しかし、この文献に記載の積層体は埋め込み性の改善を目的とするものであり、高温下に長時間置かれた場合の信頼性は不十分である。
Patent Document 3 discloses a laminate in which a first resin layer, a fiber base material, and a second resin layer are laminated in this order, and the second resin layer is thicker than the first resin layer.
However, the laminate described in this document is intended to improve the embedding property, and the reliability when it is placed at a high temperature for a long time is insufficient.

特開2009−277693号公報JP 2009-277893 A 特開2012−228879号公報JP 2012-228879 A 特開2011−068907号公報JP 2011-068907 A

本発明は、上記した従来技術に鑑みてなされたものであり、高温下に長時間置かれた場合であっても、積層体の表面が酸化されて変色する等の劣化がなく、絶縁強度に優れ、かつ、誘電率が小さく、伝送特性に優れる積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described conventional technology, and even when it is placed at a high temperature for a long time, the surface of the laminate is not deteriorated due to oxidation or discoloration, and the insulation strength is improved. An object of the present invention is to provide a laminate that is excellent and has a low dielectric constant and excellent transmission characteristics.

積層体中の樹脂分は、一般的に高温で酸化されやすく、樹脂が酸化されるとクラックが発生するという問題がある。この問題を解決するため、積層体中の樹脂量を減らすことが考えられるが、そうすると、酸化を抑える効果は出るものの、誘電率が上昇し、伝送特性が低下するという新たな問題が生じる。
そこで、本発明者らは、複数のプリプレグ(架橋性樹脂成形体の層)からなる積層体において、内部には、樹脂量の多い厚みのあるプリプレグを配置し、その表面には、繊維状支持体の両面に樹脂層を有するプリプレグであって、厚みの薄いものを配置した。その結果、表面に配置した薄いプリプレグにおいては樹脂層の厚みも薄いため、高温下に長時間置かれ、表面の樹脂が酸化されても、その酸化の進行がすぐに繊維状支持体に到達して止まり、クラックが深くならないことを見出し、本発明を完成するに至った。
The resin component in the laminate is generally easily oxidized at a high temperature, and there is a problem that cracks occur when the resin is oxidized. In order to solve this problem, it is conceivable to reduce the amount of resin in the laminated body. However, if this is done, the effect of suppressing oxidation is exhibited, but a new problem arises in that the dielectric constant increases and the transmission characteristics deteriorate.
Accordingly, the present inventors have arranged a prepreg having a large amount of resin and having a fibrous support on the surface thereof in a laminated body composed of a plurality of prepregs (layers of a crosslinkable resin molded body). A thin prepreg having resin layers on both sides of the body was disposed. As a result, the thin prepreg placed on the surface has a thin resin layer, so even if the resin on the surface is oxidized for a long time and the surface resin is oxidized, the progress of the oxidation immediately reaches the fibrous support. As a result, it was found that cracks did not deepen, and the present invention was completed.

かくして本発明によれば、(1)〜(6)の積層体、及び(7)の金属張積層体が提供される。
(1)繊維状支持体の両面に樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(A)からなる層、無機充填剤を含有する樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(B)からなる層、及び、前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層の順で、少なくとも3層が積層されてなる、厚みが2mm以下の積層体であって、
前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層が、積層体の両方の最表層に配置され、
架橋性樹脂成形体(A)からなる層の厚み(TA)が、架橋性樹脂成形体(B)からなる層(B)の厚み(TB)より小さく、かつ、
架橋性樹脂成形体(B)を構成する樹脂層の合計厚み(TpB)と、架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)との比(TpB/TB)が0.4以上1.0以下であること
を特徴とする積層体。
Thus, according to the present invention, the laminates (1) to (6) and the metal-clad laminate (7) are provided.
(1) A layer composed of a crosslinkable resin molded body (A) having a resin layer on both surfaces of a fibrous support, a layer composed of a crosslinkable resin molded body (B) having a resin layer containing an inorganic filler, and In the order of the layer made of the crosslinkable resin molded body (A), at least 3 layers are laminated, and the laminate has a thickness of 2 mm or less,
The layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is disposed on both outermost layers of the laminate,
The thickness (TA) of the layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is smaller than the thickness (TB) of the layer (B) composed of the crosslinkable resin molded body (B), and
The ratio (TpB / TB) of the total thickness (TpB) of the resin layer constituting the crosslinkable resin molded body (B) and the thickness (TB) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (B) is 0.4 or more. A laminate having a thickness of 1.0 or less.

(2)前記架橋性樹脂成形体の層(A)中の樹脂層、及び、架橋性樹脂成形体の層(B)中の樹脂層が、シクロオレフィン樹脂を含有する層である、(1)に記載の積層体。
(3)前記架橋性樹脂成形体(A)を構成する樹脂層の合計厚み(TpA)と、架橋性樹脂成形体(A)からなる層の厚み(TA)との比(TpA/TA)が、0.3以上1.0未満である、(1)又は(2)に記載の積層体。
(4)前記繊維状支持体の厚みが、10〜50μmである、(1)〜(3)のいずれかに記載の積層体。
(2) The resin layer in the layer (A) of the crosslinkable resin molded body and the resin layer in the layer (B) of the crosslinkable resin molded body are layers containing a cycloolefin resin. (1) The laminated body as described in.
(3) The ratio (TpA / TA) between the total thickness (TpA) of the resin layers constituting the crosslinkable resin molded body (A) and the thickness (TA) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (A). The laminate according to (1) or (2), which is 0.3 or more and less than 1.0.
(4) The laminate according to any one of (1) to (3), wherein the fibrous support has a thickness of 10 to 50 μm.

(5)インピーダンスアナライザーを用いて、温度20℃、周波数1GHzにおいて測定した誘電率から算出される比誘電率が、3.5以下である、(1)〜(4)のいずれかに記載の積層体。
(6)前記架橋性樹脂成形体(A)が、メタセシス重合性モノマーを含む重合性組成物を、繊維状支持体に塗布又は含浸させた後、前記重合性組成物を重合して得られるものである、(1)〜(5)のいずれかに記載の積層体。
(7)(1)〜(6)に記載の積層体の少なくとも一方の表面に、金属箔が積層されてなる金属張積層体。
(5) The laminate according to any one of (1) to (4), wherein a relative dielectric constant calculated from a dielectric constant measured at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 1 GHz using an impedance analyzer is 3.5 or less. body.
(6) The crosslinkable resin molded product (A) obtained by polymerizing the polymerizable composition after applying or impregnating a polymerizable support containing a metathesis polymerizable monomer to a fibrous support. The laminate according to any one of (1) to (5).
(7) A metal-clad laminate in which a metal foil is laminated on at least one surface of the laminate according to (1) to (6).

本発明によれば、高温下に長時間置かれた場合であっても、表面が酸化されて変色する等の劣化がなく、絶縁強度に優れ、かつ、誘電率が小さく、伝送特性に優れる積層体及び金属張積層体が提供される。
本発明の積層体及び金属張積層体は、プリント配線板用に好適に使用することができる。
According to the present invention, even when it is placed at a high temperature for a long time, there is no deterioration such as the surface being oxidized and discoloring, excellent insulation strength, low dielectric constant, and excellent transmission characteristics. Body and metal-clad laminates are provided.
The laminate and metal-clad laminate of the present invention can be suitably used for printed wiring boards.

架橋性樹脂成形体(A)からなる層の断面図及び繊維状支持体の中心線を示す図である。It is a figure which shows sectional drawing of the layer which consists of a crosslinkable resin molding (A), and the centerline of a fibrous support body. 本発明の積層体の一例の積層状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lamination | stacking state of an example of the laminated body of this invention.

以下、本発明を、1)積層体、及び、2)金属張積層体に項分けして詳細に説明する。
1)積層体
本発明の積層体は、繊維状支持体の両面に樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(A)からなる層、無機充填剤を含む樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(B)からなる層、及び、前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層の順で、少なくとも3層が積層されてなる、厚みが2mm以下の積層体であって、前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層が、積層体の両方の最表層に配置され、架橋性樹脂成形体(A)からなる層の厚み(TA)が、架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)より小さく、かつ、架橋性樹脂成形体(B)を構成する樹脂層の合計厚み(TpB)と、架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)との比(TpB/TB)が0.4以上1.0以下であることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) a laminate and 2) a metal-clad laminate.
1) Laminate The laminate of the present invention comprises a crosslinkable resin molded body (B) having a layer composed of a crosslinkable resin molded body (A) having resin layers on both sides of a fibrous support and a resin layer containing an inorganic filler. ) And a layer made of the crosslinkable resin molded body (A) in this order, and a laminate having a thickness of 2 mm or less, wherein the crosslinkable resin molded body ( The layer made of A) is arranged on both outermost layers of the laminate, and the thickness (TA) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (A) is the thickness of the layer made of the crosslinkable resin molded body (B) ( TB) and the ratio (TpB /) of the total thickness (TpB) of the resin layer constituting the crosslinkable resin molded body (B) and the thickness (TB) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (B). TB) is 0.4 or more and 1.0 or less.

(1)架橋性樹脂成形体(A)からなる層
本発明の積層体は、その最表層(積層体の両表面に位置する層)に、「繊維状支持体の両面に樹脂層(以下、「樹脂層(a)」ということがある。)を有する架橋性樹脂成形体(A)からなる層(以下、「架橋性樹脂成形体(A)層」ということがある。)を有する。
(1) Layer composed of crosslinkable resin molded body (A) The laminate of the present invention has “resin layers (hereinafter referred to as“ fiber layers ”on both sides of the fibrous support”) on its outermost layer (layers located on both surfaces of the laminate). A layer made of a crosslinkable resin molded body (A) having a “resin layer (a)” (hereinafter also referred to as “crosslinkable resin molded body (A) layer”).

〈繊維状支持体〉
繊維状支持体は、架橋性樹脂成形体(A)層の中心部に位置する繊維状材料からなるシート状物である。
用いる繊維状支持体を構成する繊維としては、無機系及び/又は有機系の繊維が使用でき、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)繊維、アラミド繊維、超高分子ポリエチレン繊維、ポリアミド(ナイロン)繊維、及び液晶ポリエステル繊維等の有機繊維;ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、タングステン繊維、モリブデン繊維、ブデン繊維、チタン繊維、スチール繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイド繊維、及びシリカ繊維等の無機繊維;等が挙げられる。これらの中でも、ガラス繊維が好ましい。ガラス繊維としては、Eガラス、NEガラス、Sガラス、Dガラス、及びHガラス等の繊維を好適に用いることができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組合せて用いることができる。
<Fibrous support>
The fibrous support is a sheet-like product made of a fibrous material located at the center of the crosslinkable resin molded body (A) layer.
As the fiber constituting the fibrous support to be used, inorganic and / or organic fibers can be used. For example, PET (polyethylene terephthalate) fiber, aramid fiber, ultrahigh molecular polyethylene fiber, polyamide (nylon) fiber, and Organic fibers such as liquid crystal polyester fibers; inorganic fibers such as glass fibers, carbon fibers, alumina fibers, tungsten fibers, molybdenum fibers, butene fibers, titanium fibers, steel fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, and silica fibers; It is done. Among these, glass fiber is preferable. As the glass fiber, fibers such as E glass, NE glass, S glass, D glass, and H glass can be suitably used. These can be used alone or in combination of two or more.

ガラス繊維から構成される繊維状支持体としては、プリント配線基板用のガラスクロスとして公知のものを用いることができる。ガラスクロスの織り組織としては、平織り、ななこ織り、綾織り、朱子織り、模紗織り、からみ織り等が好ましい。   As the fibrous support composed of glass fibers, those known as glass cloths for printed wiring boards can be used. As the weave structure of glass cloth, plain weave, Nanako weave, twill weave, satin weave, imitation weave, leash weave and the like are preferable.

繊維状支持体の厚みは、通常、5〜150μmであり、好ましくは10〜100μm、より好ましくは10〜50μmである。   The thickness of the fibrous support is usually 5 to 150 μm, preferably 10 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm.

また、繊維状支持体は、誘電率の面内バラツキを抑える観点から、開繊処理がなされていることが好ましい。開繊度は、特に限定されないが、JIS規格 R 3420に定める通気度において、通常、10cm/cm/s以下、好ましくは、5cm/cm/s以下である。 The fibrous support is preferably subjected to a fiber opening treatment from the viewpoint of suppressing in-plane variation in dielectric constant. The degree of opening is not particularly limited, but is usually 10 cm 3 / cm 2 / s or less, preferably 5 cm 3 / cm 2 / s or less, in terms of the air permeability defined in JIS standard R 3420.

〈樹脂層(a)〉
樹脂層(a)に用いる樹脂としては、プリプレグ製造用に用いられる従来公知の熱硬化性樹脂を使用することができる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シクロオレフィン樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、回路基板としての優れた効果が得られる観点から、シクロオレフィン樹脂であるのが好ましい。
<Resin layer (a)>
As the resin used for the resin layer (a), a conventionally known thermosetting resin used for prepreg production can be used. Examples of the thermosetting resin include epoxy resins, polyimide resins, phenol resins, melamine resins, bismaleimide triazine resins, and cycloolefin resins.
Among these, a cycloolefin resin is preferable from the viewpoint of obtaining an excellent effect as a circuit board.

樹脂層(a)は、上述した熱硬化性樹脂の溶液(塗工液)を繊維状支持体に含浸させ、溶媒を乾燥除去することにより形成することができる。
また、シクロオレフィン樹脂からなる樹脂層(a)は、シクロオレフィンモノマー、メタセシス重合触媒、架橋剤等を含む重合性組成物を塊状重合することによって得ることもできる。この方法によれば、シクロオレフィン樹脂からなる樹脂層を簡便に効率よく作成することができる。
The resin layer (a) can be formed by impregnating the fibrous support with the above-described thermosetting resin solution (coating solution) and drying and removing the solvent.
The resin layer (a) made of cycloolefin resin can also be obtained by bulk polymerization of a polymerizable composition containing a cycloolefin monomer, a metathesis polymerization catalyst, a crosslinking agent and the like. According to this method, a resin layer made of cycloolefin resin can be easily and efficiently produced.

〈重合性組成物〉
(i)シクロオレフィンモノマー
シクロオレフィンモノマーは、炭素原子で構成される脂環式構造を有し、かつ該脂環式構造中に重合性の炭素−炭素二重結合を少なくとも1つ有する化合物である。
<Polymerizable composition>
(I) Cycloolefin monomer The cycloolefin monomer is a compound having an alicyclic structure composed of carbon atoms and having at least one polymerizable carbon-carbon double bond in the alicyclic structure. .

本明細書において、「重合性の炭素−炭素二重結合」とは、開環重合可能な炭素−炭素二重結合をいう。開環重合には、イオン重合、ラジカル重合、及びメタセシス重合等、種々の形態のものが存在するが、本発明においては、メタセシス重合であるのが好ましい。   In the present specification, the “polymerizable carbon-carbon double bond” refers to a carbon-carbon double bond capable of ring-opening polymerization. There are various types of ring-opening polymerization such as ionic polymerization, radical polymerization, and metathesis polymerization. In the present invention, metathesis polymerization is preferable.

シクロオレフィンモノマーが有する脂環式構造としては、単環、多環、縮合多環、橋かけ環及びこれらの組み合わせ多環等が挙げられる。各脂環式構造を構成する炭素数に特に限定はないが、通常、4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個である。なかでも、得られる積層体の誘電特性と耐熱性とを高度にバランスさせる観点から、多環構造が好ましい。
多環構造を有するシクロオレフィンモノマーとしては、特にノルボルネン系モノマーが好ましい。ここで、「ノルボルネン系モノマー」とは、ノルボルネン環構造を分子内に有するシクロオレフィンモノマーをいう。例えば、ノルボルネン類、ジシクロペンタジエン類、及びテトラシクロドデセン類等が挙げられる。
Examples of the alicyclic structure possessed by the cycloolefin monomer include monocyclic, polycyclic, condensed polycyclic, bridged ring, and combination polycyclic thereof. Although there is no limitation in particular in carbon number which comprises each alicyclic structure, Usually, 4-30 pieces, Preferably it is 5-20 pieces, More preferably, it is 5-15 pieces. Among these, a polycyclic structure is preferable from the viewpoint of highly balancing the dielectric properties and heat resistance of the obtained laminate.
As the cycloolefin monomer having a polycyclic structure, a norbornene-based monomer is particularly preferable. Here, the “norbornene monomer” refers to a cycloolefin monomer having a norbornene ring structure in the molecule. For example, norbornenes, dicyclopentadiene, tetracyclododecenes and the like can be mentioned.

シクロオレフィンモノマーは、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキリデン基、及びアリール基等の炭素数1〜30の炭化水素基;カルボキシル基、酸無水物基等の極性基;等が挙げられる。
シクロオレフィンモノマーは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
The cycloolefin monomer may have a substituent at any position. Examples of the substituent include hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms such as an alkyl group, an alkenyl group, an alkylidene group, and an aryl group; polar groups such as a carboxyl group and an acid anhydride group;
A cycloolefin monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

これらの中でも、本発明においては、シクロオレフィンモノマーとして、分子内に脂環構造を有し、かつ、該脂環構造内に、架橋性の炭素−炭素不飽和結合を有するシクロオレフィンモノマー(a)と、分子内に、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキリデン基、及び、ビニリデン基から選ばれる少なくとも1つの基と、脂環構造を有し、かつ、脂環構造内に、炭素−炭素二重結合を有するシクロオレフィンモノマー(b)(シクロオレフィンモノマー(a)を除く。)とからなるモノマー混合物、又は、シクロオレフィンモノマー(b)であるのが好ましい。   Among these, in the present invention, as the cycloolefin monomer, the cycloolefin monomer (a) having an alicyclic structure in the molecule and having a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond in the alicyclic structure. And having in the molecule at least one group selected from an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkylidene group having 1 to 6 carbon atoms, and a vinylidene group, and an alicyclic structure, And a cycloolefin monomer (b) having a carbon-carbon double bond (excluding the cycloolefin monomer (a)) or a cycloolefin monomer (b).

シクロオレフィンモノマー(a)とシクロオレフィンモノマー(b)とを混合して用いる場合、モノマー混合物中における、シクロオレフィンモノマー(a)の含有割合は、モノマー混合物を構成する全単量体中、5〜99.9質量%であることが好ましく、20〜95質量%であることがより好ましく、40〜90質量%であることが更に好ましく、50〜80質量%であることが特に好ましい。モノマー混合物中における、シクロオレフィンモノマー(b)の含有割合は、モノマー混合物を構成する全単量体中、0.1〜95質量%であることが好ましく、5〜80質量%であることがより好ましく、10〜60質量%であることが更に好ましく、20〜50質量%であることが特に好ましい。
シクロオレフィンモノマー(a)の含有割合が少なすぎると、得られる積層体のピール強度が低下する場合があり、一方、多すぎると、得られる積層体の耐熱性が低下する場合がある。
When the cycloolefin monomer (a) and the cycloolefin monomer (b) are mixed and used, the content ratio of the cycloolefin monomer (a) in the monomer mixture is 5 to 5 in all monomers constituting the monomer mixture. It is preferably 99.9% by mass, more preferably 20 to 95% by mass, still more preferably 40 to 90% by mass, and particularly preferably 50 to 80% by mass. The content ratio of the cycloolefin monomer (b) in the monomer mixture is preferably 0.1 to 95% by mass and more preferably 5 to 80% by mass in the total monomer constituting the monomer mixture. Preferably, it is 10-60 mass%, More preferably, it is 20-50 mass%.
If the content of the cycloolefin monomer (a) is too small, the peel strength of the resulting laminate may be reduced. On the other hand, if the content is too high, the heat resistance of the resulting laminate may be reduced.

シクロオレフィンモノマー(a)において、「架橋性の炭素−炭素不飽和結合」とは、開環重合には関与せず、架橋反応に関与可能な炭素−炭素不飽和結合をいう。架橋反応とは橋架け構造を形成する反応であり、縮合反応、付加反応、ラジカル反応、メタセシス反応等種々の形態のものが存在するが、本発明においては、通常、ラジカル架橋反応またはメタセシス架橋反応、特にラジカル架橋反応をいう。架橋性の炭素−炭素不飽和結合としては、芳香族炭素−炭素不飽和結合を除く炭素−炭素不飽和結合、すなわち、脂肪族炭素−炭素二重結合または脂肪族炭素−炭素三重結合が挙げられ、本発明においては、通常、脂肪族炭素−炭素二重結合をいう。そして、本発明で用いるシクロオレフィンモノマー(b)は、このような架橋性の炭素−炭素不飽和結合を構成する全ての炭素原子が、脂環構造の一部を構成するものからなるものである。   In the cycloolefin monomer (a), the “crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond” refers to a carbon-carbon unsaturated bond that does not participate in ring-opening polymerization and can participate in a crosslinking reaction. The crosslinking reaction is a reaction that forms a bridge structure, and there are various forms such as a condensation reaction, an addition reaction, a radical reaction, and a metathesis reaction. In the present invention, usually, a radical crosslinking reaction or a metathesis crosslinking reaction. In particular, it refers to a radical crosslinking reaction. Crosslinkable carbon-carbon unsaturated bonds include carbon-carbon unsaturated bonds other than aromatic carbon-carbon unsaturated bonds, that is, aliphatic carbon-carbon double bonds or aliphatic carbon-carbon triple bonds. In the present invention, it usually means an aliphatic carbon-carbon double bond. And the cycloolefin monomer (b) used by this invention consists of what all carbon atoms which comprise such a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond comprise a part of alicyclic structure. .

このようなシクロオレフィンモノマー(a)としては、脂環構造内に架橋性の炭素−炭素不飽和結合を有する単環シクロオレフィンモノマー、脂環構造内に架橋性の炭素−炭素不飽和結合を有するノルボルネン系モノマー等が挙げられ、脂環構造内に架橋性の炭素−炭素不飽和結合を有するノルボルネン系モノマーが好ましい。   As such a cycloolefin monomer (a), a monocyclic cycloolefin monomer having a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond in the alicyclic structure, and a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond in the alicyclic structure. Examples include norbornene-based monomers, and norbornene-based monomers having a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond in the alicyclic structure are preferable.

シクロオレフィンモノマー(a)の具体例としては、ジシクロペンタジエン、メチル−ジシクロペンタジエン、ジメチルジシクロペンタジエン、エチルジシクロペンタジエン、2,5−ノルボルナジエン、5−メチル−2,5−ノルボルナジエン、5−フェニル−2,5−ノルボルナジエン、5,6−ジメチル−2,5−ノルボルナジエン等の脂環構造内に炭素−炭素不飽和結合を2つ有する化合物が挙げられる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて、用いることができる。これらのなかでも、本発明の作用効果がより顕著なものとなる点より、ジシクロペンタジエンが好ましい。   Specific examples of the cycloolefin monomer (a) include dicyclopentadiene, methyl-dicyclopentadiene, dimethyldicyclopentadiene, ethyldicyclopentadiene, 2,5-norbornadiene, 5-methyl-2,5-norbornadiene, 5- Examples thereof include compounds having two carbon-carbon unsaturated bonds in the alicyclic structure such as phenyl-2,5-norbornadiene and 5,6-dimethyl-2,5-norbornadiene. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, dicyclopentadiene is preferable from the viewpoint that the effects of the present invention become more remarkable.

シクロオレフィンモノマー(b)は、分子内に、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数1〜6のアルキリデン基、及び、ビニリデン基から選ばれる少なくとも1つの基と、脂環構造を有し、かつ、脂環構造内に、炭素−炭素二重結合を有する脂環式オレフィンモノマーである。ただし、前記シクロオレフィンモノマー(a)は除かれる。   The cycloolefin monomer (b) has at least one group selected from an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkylidene group having 1 to 6 carbon atoms, and a vinylidene group in the molecule, and an alicyclic structure. And it is an alicyclic olefin monomer which has a carbon-carbon double bond in an alicyclic structure. However, the cycloolefin monomer (a) is excluded.

前記炭素数2〜6のアルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられ、ビニル基、1−プロペニル基が好ましい。
炭素数1〜6のアルキリデン基としては、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基、ブチリデン基等が挙げられる。
シクロオレフィンモノマー(b)が有する脂環構造は、前記シクロオレフィンモノマー(a)が有する脂環構造と同様のものが挙げられる。
As said C2-C6 alkenyl group, a vinyl group, 1-propenyl group, an allyl group, a butenyl group etc. are mentioned, A vinyl group and 1-propenyl group are preferable.
Examples of the alkylidene group having 1 to 6 carbon atoms include a methylidene group, an ethylidene group, a propylidene group, and a butylidene group.
As for the alicyclic structure which a cycloolefin monomer (b) has, the thing similar to the alicyclic structure which the said cycloolefin monomer (a) has is mentioned.

シクロオレフィンモノマー(b)の具体例としては、9−メチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチリデン−10−メチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチリデン−10−エチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチリデン−10−イソプロピルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−メチリデン−10−ブチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−エチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチリデン−10−メチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチリデン−10−エチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチリデン−10−イソプロピルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−エチリデン−10−ブチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−n−プロピリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−n−プロピリデン−10−メチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−n−プロピリデン−10−エチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−n−プロピリデン−10−イソプロピルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−n−プロピリデン−10−ブチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−イソプロピリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−イソプロピリデン−10−メチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−イソプロピリデン−10−エチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−イソプロピリデン−10−イソプロピルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン、9−イソプロピリデン−10−ブチルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−ビニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−イソプロペニルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−アリルテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;
9−(1−プロペニル)テトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン;等のテトラシクロドデセン類;
5−メチリデン−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5,6−ジエチリデン−2−ノルボルネン、n−プロピリデン−2−ノルボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボルネン、5−ビニル−2−ノルボルネン、5−イソプロペニル−2−ノルボルネン、5−(1−プロペニル)−2−ノルボルネン、5−アリル−2−ノルボルネン;等のノルボルネン類;等が挙げられる。
Specific examples of the cycloolefin monomer (b) include 9-methylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-10-methyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-10-ethyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-10-isopropyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-methylidene-10-butyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-ethylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-10-methyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-10-ethyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-10-isopropyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-ethylidene-10-butyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-n-propylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-n-propylidene-10-methyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-n-propylidene-10-ethyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-n-propylidene-10-isopropyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-n-propylidene-10-butyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-Isopropylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-isopropylidene-10-methyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-isopropylidene-10-ethyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-isopropylidene-10-isopropyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene, 9-isopropylidene-10-butyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-Vinyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-isopropenyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9-allyltetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene;
9- (1-propenyl) tetracyclo [6.2.1.1 3,6 . Tetracyclododecenes such as 0 2,7 ] dodec-4-ene;
5-methylidene-2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, 5,6-diethylidene-2-norbornene, n-propylidene-2-norbornene, 5-isopropylidene-2-norbornene, 5-vinyl-2-norbornene And norbornenes such as 5-isopropenyl-2-norbornene, 5- (1-propenyl) -2-norbornene, 5-allyl-2-norbornene; and the like.

これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、本発明の作用効果がより顕著なものとなるという点より、テトラシクロドデセン類が好ましく、9−エチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン(ETD)が特に好ましい。
These can be used alone or in combination of two or more.
Among these, tetracyclododecenes are preferable from the viewpoint that the effects of the present invention become more prominent, and 9-ethylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodec-4-ene (ETD) is particularly preferred.

重合性組成物には、前記シクロオレフィンモノマー(a)、シクロオレフィンモノマー(b)以外に、その他のシクロオレフィンモノマー(c)を含有していてもよい。   In addition to the cycloolefin monomer (a) and the cycloolefin monomer (b), the polymerizable composition may contain another cycloolefin monomer (c).

その他のシクロオレフィンモノマー(c)としては、ノルボルネン、5−メチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−プロピル−2−ノルボルネン、5,6−ジメチル−2−ノルボルネン、1−メチル−2−ノルボルネン、7−メチル−2−ノルボルネン、5,5,6−トリメチル−2−ノルボルネン、5−フェニル−2−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−エチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2,3−ジメチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−ヘキシル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−エチリデン−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−フルオロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、1,5−ジメチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−シクロへキシル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2,3−ジクロロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−イソブチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、1,2−ジヒドロジシクロペンタジエン、5−クロロ−2−ノルボルネン、5,5−ジクロロ−2−ノルボルネン、5−フルオロ−2−ノルボルネン、5,5,6−トリフルオロ−6−トリフルオロメチル−2−ノルボルネン、5−クロロメチル−2−ノルボルネン、5−メトキシ−2−ノルボルネン、5,6−ジカルボキシル−2−ノルボルネンアンハイドレート、5−ジメチルアミノ−2−ノルボルネン、5−シアノ−2−ノルボルネン等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて、用いることができる。   Examples of other cycloolefin monomers (c) include norbornene, 5-methyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, 5-propyl-2-norbornene, 5,6-dimethyl-2-norbornene, and 1-methyl. 2-norbornene, 7-methyl-2-norbornene, 5,5,6-trimethyl-2-norbornene, 5-phenyl-2-norbornene, tetracyclododecene, 1,4,5,8-dimethano-1, 2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-methyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydro Naphthalene, 2-ethyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2,3-dimethyl-1,4,5,8- Jime -1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-hexyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8, 8a-octahydronaphthalene, 2-ethylidene-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-fluoro-1,4,5 8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 1,5-dimethyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2-cyclohexyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 2,3- Dichloro-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahi Lonaphthalene, 2-isobutyl-1,4,5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-octahydronaphthalene, 1,2-dihydrodicyclopentadiene, 5-chloro- 2-norbornene, 5,5-dichloro-2-norbornene, 5-fluoro-2-norbornene, 5,5,6-trifluoro-6-trifluoromethyl-2-norbornene, 5-chloromethyl-2-norbornene, Examples include 5-methoxy-2-norbornene, 5,6-dicarboxyl-2-norbornene anhydrate, 5-dimethylamino-2-norbornene, and 5-cyano-2-norbornene. These can be used alone or in combination of two or more.

シクロオレフィンモノマー(c)を用いる場合における、シクロオレフィンモノマー(c)の含有割合は、全単量体中、通常30質量%以下、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下である。   In the case of using the cycloolefin monomer (c), the content ratio of the cycloolefin monomer (c) is usually 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less in all monomers. .

(ii)メタセシス重合触媒
前記重合性組成物は、上述したシクロオレフィンモノマーをメタセシス開環(共)重合させるためのメタセシス重合触媒を含有するのが好ましい。
用いるメタセシス重合触媒としては、通常、遷移金属原子を中心原子として、複数のイオン、原子、多原子イオン及び/又は化合物が結合してなる錯体が挙げられる。遷移金属原子としては、5族、6族及び8族(長周期型周期表、以下同じ)の原子が使用される。それぞれの族の原子は特に限定されないが、5族の原子としては、例えば、タンタルが挙げられ、6族の原子としては、例えば、モリブデンやタングステンが挙げられ、8族の原子としては、例えば、ルテニウムやオスミウムが挙げられる。これらの中でも、8族のルテニウムやオスミウムの錯体をメタセシス重合触媒として用いることが好ましく、ルテニウムカルベン錯体が特に好ましい。ルテニウムカルベン錯体は、塊状重合時の触媒活性に優れるため、架橋性樹脂成形体の生産性に優れ、得られる架橋性樹脂成形体は、未反応のモノマーに由来する臭気が少なく、作業性に優れる。ルテニウムカルベン錯体は、酸素や空気中の水分に対して比較的安定であって、失活し難いので、これを用いることにより、大気下での生産を可能とすることができる。
(Ii) Metathesis polymerization catalyst The polymerizable composition preferably contains a metathesis polymerization catalyst for metathesis ring-opening (co) polymerization of the above-described cycloolefin monomer.
As the metathesis polymerization catalyst to be used, a complex formed by bonding a plurality of ions, atoms, polyatomic ions and / or compounds with a transition metal atom as a central atom is usually mentioned. As transition metal atoms, atoms of Group 5, Group 6, and Group 8 (long period periodic table, the same applies hereinafter) are used. Although the atoms of each group are not particularly limited, examples of the Group 5 atom include tantalum, examples of the Group 6 atom include molybdenum and tungsten, and examples of the Group 8 atom include: Examples include ruthenium and osmium. Among these, a group 8 ruthenium or osmium complex is preferably used as a metathesis polymerization catalyst, and a ruthenium carbene complex is particularly preferable. The ruthenium carbene complex is excellent in catalytic activity during bulk polymerization, so it is excellent in productivity of the crosslinkable resin molded product, and the resulting crosslinkable resin molded product has less odor derived from unreacted monomers and is excellent in workability. . The ruthenium carbene complex is relatively stable to oxygen and moisture in the air and is not easily deactivated, so that it can be used for production in the atmosphere.

ルテニウムカルベン錯体としては、下記一般式(i)又は(ii)で表されるものが挙げられる。   Examples of the ruthenium carbene complex include those represented by the following general formula (i) or (ii).

Figure 2015123671
Figure 2015123671

上記一般式(i)及び(ii)において、R11及びR12は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子若しくは珪素原子を含んでもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。 In the general formulas (i) and (ii), R 11 and R 12 may each independently contain a hydrogen atom, a halogen atom, or a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, or a silicon atom. A good C1-C20 hydrocarbon group is represented.

11及びX12は、それぞれ独立して任意のアニオン性配位子を示す。アニオン性配位子とは、中心金属原子から引き離されたときに負の電荷を持つ配位子であり、例えば、ハロゲン原子、ジケトネート基、置換シクロペンタジエニル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、カルボキシル基等を挙げることができる。これらの中でもハロゲン原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。 X 11 and X 12 each independently represent an arbitrary anionic ligand. An anionic ligand is a ligand having a negative charge when pulled away from a central metal atom, such as a halogen atom, a diketonate group, a substituted cyclopentadienyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, A carboxyl group etc. can be mentioned. Among these, a halogen atom is preferable and a chlorine atom is more preferable.

及びLはそれぞれ独立して、ヘテロ原子含有カルベン化合物又はヘテロ原子含有カルベン化合物以外の中性電子供与性化合物を表す。ヘテロ原子とは、周期律表15族及び16族の原子を意味し、具体的には、N、O、P、S、As、及びSe原子等を挙げることができる。これらの中でも、安定なカルベン化合物が得られる観点から、N、O、P、及びS原子等が好ましく、N原子が特に好ましい。 L 1 and L 2 each independently represent a hetero atom-containing carbene compound or a neutral electron donating compound other than the hetero atom-containing carbene compound. A heteroatom means an atom of Groups 15 and 16 of the Periodic Table, and specific examples include N, O, P, S, As, and Se atoms. Among these, from the viewpoint of obtaining a stable carbene compound, N, O, P, and S atoms are preferable, and N atom is particularly preferable.

中性電子供与性化合物は、中心金属から引き離されたときに中性の電荷を持つ配位子であればいかなるものでもよい。その具体例としては、ホスフィン類、エーテル類及びピリジン類等が挙げられ、ホスフィン類が好ましく、トリアルキルホスフィンがより好ましい。   The neutral electron donating compound may be any ligand as long as it has a neutral charge when pulled away from the central metal. Specific examples thereof include phosphines, ethers and pyridines, phosphines are preferable, and trialkylphosphine is more preferable.

なお、上記一般式(i)及び(ii)において、R11とR12は互いに結合して環を形成してもよく、さらに、R11、R12、X11、X12、L及びLは、任意の組合せで互いに結合して、多座キレート化配位子を形成してもよい。 In the general formulas (i) and (ii), R 11 and R 12 may be bonded to each other to form a ring, and further R 11 , R 12 , X 11 , X 12 , L 1 and L 2 may be bonded together in any combination to form a multidentate chelating ligand.

本発明においては、架橋性樹脂成形体等の生産効率を高める観点から、前記ヘテロ原子含有カルベン化合物としてはヘテロ環構造を有する化合物が好ましい。ヘテロ環構造を構成するヘテロ原子としては、例えば、O原子やN原子等が挙げられ、好ましくはN原子である。また、ヘテロ環構造としては、イミダゾリン構造やイミダゾリジン構造が好ましい。
かかるヘテロ環構造を有する化合物としては、下記一般式(iii)又は一般式(iv)で示される化合物が挙げられる。
In the present invention, a compound having a heterocyclic structure is preferred as the heteroatom-containing carbene compound from the viewpoint of increasing production efficiency of a crosslinkable resin molded article and the like. As a hetero atom which comprises a heterocyclic structure, an O atom, an N atom, etc. are mentioned, for example, Preferably it is an N atom. Moreover, as a heterocyclic structure, an imidazoline structure and an imidazolidine structure are preferable.
Examples of the compound having a heterocyclic structure include compounds represented by the following general formula (iii) or general formula (iv).

Figure 2015123671
Figure 2015123671

式中、R13〜R16は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子若しくは珪素原子を含んでもよい炭素数1〜20個の炭化水素基を表す。また、R13〜R16は任意の組合せで互いに結合して環を形成していてもよい。
ヘテロ環構造を有する化合物の具体例としては、1,3−ジ(1−アダマンチル)イミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジメシチルオクタヒドロベンズイミダゾール−2−イリデン、1,3−ジ(1−フェニルエチル)−4−イミダゾリン−2−イリデン、ベンジリデン(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)、1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジシクロヘキシルイミダゾリジン−2−イリデン、1,3−ジイソプロピル−4−イミダゾリン−2−イリデン、1,3−ジメシチル−2,3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−イリデン等が挙げられる。
In the formula, R 13 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms that may contain a halogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, or a silicon atom. Represents a hydrogen group. R 13 to R 16 may be bonded to each other in any combination to form a ring.
Specific examples of the compound having a heterocyclic structure include 1,3-di (1-adamantyl) imidazolidin-2-ylidene, 1,3-dimesityloctahydrobenzimidazol-2-ylidene, 1,3-diidene. (1-phenylethyl) -4-imidazoline-2-ylidene, benzylidene (1,3-dimesitylimidazolidin-2-ylidene), 1,3-dimesitylimidazolidin-2-ylidene, 1,3- Examples include dicyclohexylimidazolidine-2-ylidene, 1,3-diisopropyl-4-imidazoline-2-ylidene, 1,3-dimesityl-2,3-dihydrobenzimidazol-2-ylidene, and the like.

このようなヘテロ環構造を有する化合物を配位子として有するルテニウムカルベン錯体としては、上記一般式(i)又は(ii)で表され、L又はLとしてヘテロ環構造を有する化合物からなる配位子を有するルテニウムカルベン錯体が挙げられる。 The ruthenium carbene complex having such a compound having a heterocyclic structure as a ligand is represented by the above general formula (i) or (ii), and is composed of a compound having a heterocyclic structure as L 1 or L 2. Examples thereof include a ruthenium carbene complex having a ligand.

ヘテロ環構造を有する化合物からなる配位子を有するルテニウムカルベン錯体の具体例としては、ベンジリデン(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)(3−メチル−2−ブテン−1−イリデン)(トリシクロペンチルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ベンジリデン(1,3−ジメシチル−オクタヒドロベンズイミダゾール−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ベンジリデン[1,3−ジ(1−フェニルエチル)−4−イミダゾリン−2−イリデン](トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ベンジリデン(1,3−ジメシチル−2,3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ベンジリデン(トリシクロヘキシルホスフィン)(1,3,4−トリフェニル−2,3,4,5−テトラヒドロ−1H−1,2,4−トリアゾール−5−イリデン)ルテニウムジクロリド、(1,3−ジイソプロピルヘキサヒドロピリミジン−2−イリデン)(エトキシメチレン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド、ベンジリデン(1,3−ジメシチルイミダゾリジン−2−イリデン)ピリジンルテニウムジクロリド等の、配位子としてヘテロ環構造を有する化合物と当該化合物以外の中性電子供与性化合物とが結合したルテニウムカルベン錯体が挙げられる。   Specific examples of the ruthenium carbene complex having a ligand composed of a compound having a heterocyclic structure include benzylidene (1,3-dimesityrylimidazolidine-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, (1,3 -Dimesitylimidazolidin-2-ylidene) (3-methyl-2-buten-1-ylidene) (tricyclopentylphosphine) ruthenium dichloride, benzylidene (1,3-dimesityl-octahydrobenzimidazol-2-ylidene) Tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, benzylidene [1,3-di (1-phenylethyl) -4-imidazoline-2-ylidene] (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, benzylidene (1,3-dimesityl-2,3-dihydro Imidazole-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, benzylidene (tricyclohexylphosphine) (1,3,4-triphenyl-2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,2,4-triazole -5-ylidene) ruthenium dichloride, (1,3-diisopropylhexahydropyrimidin-2-ylidene) (ethoxymethylene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride, benzylidene (1,3-dimesityloimidazolidine-2-ylidene) Examples thereof include a ruthenium carbene complex in which a compound having a heterocyclic structure as a ligand such as pyridine ruthenium dichloride and a neutral electron donating compound other than the compound are bonded.

これらのメタセシス重合触媒は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。メタセシス重合触媒の使用量は、(触媒中の金属原子:全単量体)のモル比で、通常1:2,000〜1:2,000,000、好ましくは1:5,000〜1:1,000,000、より好ましくは1:10,000〜1:500,000の範囲である。   These metathesis polymerization catalysts are used alone or in combination of two or more. The use amount of the metathesis polymerization catalyst is usually 1: 2,000 to 1: 2,000,000, preferably 1: 5,000 to 1: in a molar ratio of (metal atoms in the catalyst: total monomers). The range is 1,000,000, more preferably 1: 10,000 to 1: 500,000.

メタセシス重合触媒は、所望により、少量の不活性溶剤に溶解又は懸濁して使用することができる。このような溶媒としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、流動パラフィン、ミネラルスピリット等の鎖状脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジエチルシクロヘキサン、デカヒドロナフタレン、ジシクロヘプタン、トリシクロデカン、ヘキサヒドロインデン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;インデン、テトラヒドロナフタレン等の脂環と芳香環とを有する炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン、アセトニトリル等の含窒素炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の含酸素炭化水素;等が挙げられる。これらの中では芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、及び脂環と芳香環とを有する炭化水素の使用が好ましい。   If desired, the metathesis polymerization catalyst can be used by dissolving or suspending in a small amount of an inert solvent. Examples of such solvents include chain aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, liquid paraffin, and mineral spirits; cyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, dimethylcyclohexane, trimethylcyclohexane, ethylcyclohexane, Alicyclic hydrocarbons such as diethylcyclohexane, decahydronaphthalene, dicycloheptane, tricyclodecane, hexahydroindene and cyclooctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; and alicyclic rings such as indene and tetrahydronaphthalene Hydrocarbons having an aromatic ring; nitrogen-containing hydrocarbons such as nitromethane, nitrobenzene and acetonitrile; oxygen-containing hydrocarbons such as diethyl ether and tetrahydrofuran; Among these, it is preferable to use aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and hydrocarbons having an alicyclic ring and an aromatic ring.

(iii)架橋剤
前記重合性組成物は、重合性組成物を塊状重合することにより得られる架橋性樹脂成形体において、架橋反応を誘起する目的で、架橋剤を含有するのが好ましい。
得られる架橋性樹脂成形体は後架橋可能な熱可塑性樹脂となりうる。ここで「後架橋可能な」とは、該樹脂を加熱することにより架橋反応を進行させて架橋樹脂になし得ることを意味する。
(Iii) Crosslinking agent The polymerizable composition preferably contains a crosslinking agent for the purpose of inducing a crosslinking reaction in the crosslinkable resin molded article obtained by bulk polymerization of the polymerizable composition.
The resulting crosslinkable resin molded article can be a postcrosslinkable thermoplastic resin. Here, “after-crosslinking is possible” means that the resin can be heated to advance a crosslinking reaction to form a crosslinked resin.

架橋剤としては、ラジカル発生剤が好適に用いられる。ラジカル発生剤としては、例えば、有機過酸化物、ジアゾ化合物、及び非極性ラジカル発生剤等が挙げられ、好ましくは有機過酸化物である。   As the crosslinking agent, a radical generator is preferably used. Examples of the radical generator include organic peroxides, diazo compounds, and nonpolar radical generators, with organic peroxides being preferred.

有機過酸化物としては、例えば、t−ブチルヒドロペルオキシド、p−メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド等のヒドロペルオキシド類;ジクミルペルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルペルオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、ジ−t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)−3−ヘキシン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン等のジアルキルペルオキシド類;ジプロピオニルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド等のジアシルペルオキシド類;2,2−ジ(t−ブチルペルオキシ)ブタン、1,1−ジ(t−ヘキシルペルオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等のペルオキシケタール類;t−ブチルペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシベンゾエート等のペルオキシエステル類;t−ブチルペルオキシイソプロピルカルボナート、ジ(イソプロピルペルオキシ)ジカルボナート等のペルオキシカルボナート類;t−ブチルトリメチルシリルペルオキシド等のアルキルシリルペルオキシド類;3,3,5,7,7−ペンタメチル−1,2,4−トリオキセパン、3,6,9−トリエチル−3,6,9−トリメチル−1,4,7−トリパーオキソナン、3,6−ジエチル−3,6−ジメチル−1,2,4,5−テトロキサン等の環状パーオキサイド類;が挙げられる。これらのなかでも、重合反応に対する障害が少ない点で、ジアルキルペルオキシド類、ペルオキシケタール類、及び環状パーオキサイド類が好ましい。   Examples of the organic peroxide include hydroperoxides such as t-butyl hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, cumene hydroperoxide; dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, α, α′-bis (t- Butylperoxy-m-isopropyl) benzene, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne, 2,5-dimethyl-2,5-di ( dialkyl peroxides such as t-butylperoxy) hexane; diacyl peroxides such as dipropionyl peroxide and benzoyl peroxide; 2,2-di (t-butylperoxy) butane, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2-methylcycl Peroxyketals such as rhohexane and 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane; peroxyesters such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; t-butylperoxyisopropylcarbonate, di (isopropylperoxy) Peroxycarbonates such as dicarbonate; alkylsilyl peroxides such as t-butyltrimethylsilyl peroxide; 3,3,5,7,7-pentamethyl-1,2,4-trioxepane, 3,6,9-triethyl-3, And cyclic peroxides such as 6,9-trimethyl-1,4,7-triperoxonane and 3,6-diethyl-3,6-dimethyl-1,2,4,5-tetroxane. Among these, dialkyl peroxides, peroxyketals, and cyclic peroxides are preferable in that there are few obstacles to the polymerization reaction.

ジアゾ化合物としては、例えば、4,4’−ビスアジドベンザル(4−メチル)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4’−アジドベンザル)シクロヘキサノン等が挙げられる。   Examples of the diazo compound include 4,4'-bisazidobenzal (4-methyl) cyclohexanone, 2,6-bis (4'-azidobenzal) cyclohexanone, and the like.

非極性ラジカル発生剤としては、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン、3,4−ジメチル−3,4−ジフェニルヘキサン、1,1,2−トリフェニルエタン、1,1,1−トリフェニル−2−フェニルエタン等が挙げられる。   Nonpolar radical generators include 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane, 3,4-dimethyl-3,4-diphenylhexane, 1,1,2-triphenylethane, 1,1,1- And triphenyl-2-phenylethane.

架橋剤として、ラジカル発生剤を使用する場合、ラジカル発生剤の1分間半減期温度は、架橋の条件により適宜選択されるが、通常、100〜300℃、好ましくは150〜250℃、より好ましくは160〜230℃の範囲である。ラジカル発生剤の1分間半減期温度は、例えば、各ラジカル発生剤メーカー(例えば、日本油脂社)のカタログやホームページを参照すればよい。   When a radical generator is used as the crosslinking agent, the 1 minute half-life temperature of the radical generator is appropriately selected depending on the crosslinking conditions, but is usually 100 to 300 ° C, preferably 150 to 250 ° C, more preferably. It is the range of 160-230 degreeC. The 1-minute half-life temperature of the radical generator may be referred to, for example, a catalog or homepage of each radical generator manufacturer (for example, NOF Corporation).

架橋剤は、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。本発明に用いる重合性組成物中の架橋剤の含有量としては、全単量体100重量部に対して、通常、0.01〜10重量部、好ましくは0.1〜10重量部、より好ましくは0.5〜5重量部の範囲である。   A crosslinking agent can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As content of the crosslinking agent in the polymeric composition used for this invention, it is 0.01-10 weight part normally with respect to 100 weight part of all the monomers, Preferably it is 0.1-10 weight part, More Preferably it is the range of 0.5-5 weight part.

(iv)連鎖移動剤
重合性組成物は、さらに連鎖移動剤を含有するのが好ましい。重合性組成物に連鎖移動剤を配合した場合、該組成物を塊状重合して得られる架橋性樹脂成形体の表面では、加熱溶融時の追従性がより向上し得る。それゆえ、連鎖移動剤を配合してなる重合性組成物を用いて得られた架橋性樹脂成形体を積層し、加熱して溶融、架橋して得られる積層体では、層間の密着性が一層高まり、ピール強度がより向上するので、好ましい。連鎖移動剤は、架橋性炭素−炭素不飽和結合をさらに1以上有していてもよい。かかる架橋性炭素−炭素不飽和結合としては、ビニル基又はビニリデン基として存在するのが好ましい。
(Iv) Chain transfer agent The polymerizable composition preferably further contains a chain transfer agent. When a chain transfer agent is blended in the polymerizable composition, the followability at the time of heating and melting can be further improved on the surface of the crosslinkable resin molded body obtained by bulk polymerization of the composition. Therefore, in a laminate obtained by laminating a crosslinkable resin molded article obtained by using a polymerizable composition containing a chain transfer agent, heating and melting, and crosslinking, the interlayer adhesion is further improved. This is preferable because the peel strength is further improved. The chain transfer agent may further have one or more crosslinkable carbon-carbon unsaturated bonds. Such a crosslinkable carbon-carbon unsaturated bond is preferably present as a vinyl group or a vinylidene group.

連鎖移動剤の具体例としては、1−ヘキセン、2−ヘキセン、スチレン、ビニルシクロヘキサン、ジビニルベンゼン等のヘテロ原子を持たない炭化水素化合物;アリルアミン、アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルビニルエーテル、メチルビニルケトン、2−(ジエチルアミノ)エチルアクリレート、4−ビニルアニリン、メタクリル酸ビニル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸スチリル、アクリル酸アリル、メタクリル酸ウンデセニル、アクリル酸スチリル、エチレングリコールジアクリレート、アリルトリビニルシラン、テトラアリルシラン等のヘテロ原子を有する炭化水素化合物;等が挙げられる。これらは、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて、用いることができる。これらの中でも、得られる積層体を、ピール強度、耐クラック性により優れたものとすることができるという点より、ヘテロ原子を持たない炭化水素化合物が好ましく、スチレン、ジビニルベンゼンがより好ましい。   Specific examples of the chain transfer agent include hydrocarbon compounds having no hetero atom such as 1-hexene, 2-hexene, styrene, vinylcyclohexane, divinylbenzene; allylamine, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, ethyl vinyl ether, methyl vinyl. Ketone, 2- (diethylamino) ethyl acrylate, 4-vinylaniline, vinyl methacrylate, allyl methacrylate, styryl methacrylate, allyl acrylate, undecenyl methacrylate, styryl acrylate, ethylene glycol diacrylate, allyltrivinylsilane, tetraallylsilane Hydrocarbon compounds having a heteroatom such as; These can be used alone or in combination of two or more. Among these, a hydrocarbon compound having no hetero atom is preferable, and styrene and divinylbenzene are more preferable from the viewpoint that the obtained laminate can be excellent in peel strength and crack resistance.

連鎖移動剤の配合量としては、シクロオレフィンモノマー1モルに対して、好ましくは0.2〜10モルであり、より好ましくは0.5〜6モルである。連鎖移動剤の配合比が少なすぎると、得られる架橋性樹脂成形体の積層性が低下する傾向にあり、一方、多すぎると、得られる積層体のピール強度が低下する傾向にある。   As a compounding quantity of a chain transfer agent, Preferably it is 0.2-10 mol with respect to 1 mol of cycloolefin monomers, More preferably, it is 0.5-6 mol. When the blending ratio of the chain transfer agent is too small, the laminate property of the resulting crosslinkable resin molded product tends to be lowered. On the other hand, when it is too much, the peel strength of the obtained laminate tends to be lowered.

(v)他の添加剤
重合性組成物は、上記成分の他、所望により、他の添加剤として、充填剤、難燃剤、重合調整剤、重合反応遅延剤、酸化防止剤、架橋助剤又はその他の配合剤をさらに含有していてもよい。
いずれの成分も、それぞれ単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。その添加量は、本発明の効果を損ねない範囲で適宜選択すればよい。
(V) Other additives The polymerizable composition may contain, as desired, other additives in addition to the above components, such as a filler, a flame retardant, a polymerization regulator, a polymerization reaction retarder, an antioxidant, a crosslinking aid, It may further contain other compounding agents.
Any of these components can be used alone or in combination of two or more. The addition amount may be appropriately selected within a range that does not impair the effects of the present invention.

充填剤としては、工業的に一般に使用されるものであれば格別な限定はなく、無機充填剤及び有機充填剤のいずれも用いることができるが、無機充填剤が好ましい。本発明の重合性組成物に充填剤を配合することにより、得られる架橋樹脂成形体及び積層体の機械強度と耐熱性との向上が可能となる。   The filler is not particularly limited as long as it is generally used industrially, and both inorganic fillers and organic fillers can be used, but inorganic fillers are preferred. By mix | blending a filler with the polymeric composition of this invention, the improvement of the mechanical strength and heat resistance of the crosslinked resin molding and laminated body which are obtained becomes possible.

無機充填剤としては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物系充填剤;シリカバルーン、アルミナ、酸化鉄、酸化スズ、酸化ベリリウム、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、酸化マグネシウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化ケイ素(シリカ)等の金属酸化物系充填剤;塩化ナトリウム、塩化カルシウム等の金属塩化物系充填剤;硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム等の金属硫酸塩系充填剤;硝酸ナトリウム、硝酸カルシウム等の金属硝酸塩系充填剤;リン酸水素ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム等の金属リン酸塩系充填剤;チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等の金属チタン酸塩系充填剤;炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素ナトリウム等の金属炭酸塩系充填剤;炭化硼素、炭化ケイ素等の炭化物系充填剤;窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の窒化物系充填剤;アルミニウム、ニッケル、マグネシウム、銅、亜鉛、鉄、金、銀、鉛、タングステン等の金属粒子系充填剤;タルク、クレー、モンモリロナイト、ケイ酸カルシウム、ガラス、ガラスバルーンマイカ、カオリン、フライアッシュ等のケイ酸塩系充填剤;ガラス粉末;カーボンブラック、グラファイト、活性炭、炭素バルーン等の炭素粒子;等が挙げられる。
有機充填剤としては、例えば、木粉、デンプン、有機顔料、ポリスチレン、ナイロン、ポリエチレンやポリプロピレンのようなポリオレフィン、塩化ビニル、廃プラスチック等の化合物粒子が挙げられる。
充填剤の配合量は、全単量体100重量部に対して、通常1〜1000重量部、好ましくは10〜500重量部の範囲である。
As inorganic fillers, metal hydroxide fillers such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, aluminum hydroxide; silica balloon, alumina, iron oxide, tin oxide, beryllium oxide, barium ferrite, strontium ferrite, magnesium oxide, Metal oxide fillers such as titanium dioxide, zinc oxide and silicon dioxide (silica); Metal chloride fillers such as sodium chloride and calcium chloride; Metal sulfate fillers such as sodium sulfate and sodium hydrogen sulfate; Nitric acid Metal nitrate fillers such as sodium and calcium nitrate; Metal phosphate fillers such as sodium hydrogen phosphate and sodium dihydrogen phosphate; Metal titanates such as calcium titanate, strontium titanate and barium titanate Filler; sodium carbonate, calcium carbonate, magnesium carbonate Metal carbonate fillers such as sodium hydrogen carbonate; Carbide fillers such as boron carbide and silicon carbide; Nitride fillers such as boron nitride, aluminum nitride and silicon nitride; Aluminum, nickel, magnesium, copper, zinc Metal particle fillers such as iron, gold, silver, lead, tungsten; silicate fillers such as talc, clay, montmorillonite, calcium silicate, glass, glass balloon mica, kaolin, fly ash; glass powder; And carbon particles such as carbon black, graphite, activated carbon, and carbon balloon.
Examples of the organic filler include compound particles such as wood flour, starch, organic pigments, polystyrene, nylon, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, vinyl chloride, and waste plastics.
The blending amount of the filler is usually 1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all monomers.

難燃剤としては、工業的に使用されるものであれば格別な限定なく用いることができる。例えば、トリス(2−クロロエチル)ホスフェート、トリス(クロロプロピル)ホスフェート、トリス(ジクロロプロピル)ホスフェート、塩素化ポリスチレン、塩素化ポリエチレン、高塩素化ポリプロピレン、クロロスルホン化ポリエチレン、ヘキサブロモベンゼン、デカブロモジフェニルオキシド、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、1,2−ビス(ペンタブロモフェニル)エタン、テトラブロモビスフェノールS、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニルプロパン)、ペンタブロモトルエン等のハロゲン系難燃剤;水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物系難燃剤;含リン難燃剤;含窒素難燃剤;三酸化アンチモン等のアンチモン化合物等の非ハロゲン系難燃剤;等が挙げられる。
難燃剤の配合量は、全単量体100重量部に対して、通常1〜1000重量部、好ましくは10〜500重量部の範囲である。
As the flame retardant, any industrially used flame retardant can be used without any particular limitation. For example, tris (2-chloroethyl) phosphate, tris (chloropropyl) phosphate, tris (dichloropropyl) phosphate, chlorinated polystyrene, chlorinated polyethylene, highly chlorinated polypropylene, chlorosulfonated polyethylene, hexabromobenzene, decabromodiphenyl oxide Bis (tribromophenoxy) ethane, 1,2-bis (pentabromophenyl) ethane, tetrabromobisphenol S, tetradecabromodiphenoxybenzene, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenylpropane) ), Halogenated flame retardants such as pentabromotoluene; metal hydroxide flame retardants such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide; phosphorus-containing flame retardants; nitrogen-containing flame retardants; non-halogens such as antimony compounds such as antimony trioxide Emissions-based flame retardant; and the like.
The blending amount of the flame retardant is usually in the range of 1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomers.

重合調整剤は、重合活性を制御したり、重合反応率を向上させたりする目的で配合されるものである。重合調整剤としては、例えば、トリアルコキシアルミニウム、トリフェノキシアルミニウム、ジアルコキシアルキルアルミニウム、アルコキシジアルキルアルミニウム、トリアルキルアルミニウム、ジアルコキシアルミニウムクロリド、アルコキシアルキルアルミニウムクロリド、ジアルキルアルミニウムクロリド、トリアルコキシスカンジウム、テトラアルコキシチタン、テトラアルコキシスズ、テトラアルコキシジルコニウム等が挙げられる。これらの重合調整剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。重合調整剤を用いる場合における、重合調整剤の配合量は、モル比(メタセシス重合触媒中の金属原子:重合調整剤)で、好ましくは1:0.05〜1:100、より好ましくは1:0.2〜1:20、さらに好ましくは1:0.5〜1:10の範囲である。   The polymerization regulator is blended for the purpose of controlling the polymerization activity or improving the polymerization reaction rate. Examples of the polymerization regulator include trialkoxyaluminum, triphenoxyaluminum, dialkoxyalkylaluminum, alkoxydialkylaluminum, trialkylaluminum, dialkoxyaluminum chloride, alkoxyalkylaluminum chloride, dialkylaluminum chloride, trialkoxyscandium, tetraalkoxytitanium. , Tetraalkoxytin, tetraalkoxyzirconium and the like. These polymerization regulators can be used alone or in combination of two or more. In the case of using a polymerization regulator, the blending amount of the polymerization regulator is a molar ratio (metal atom in the metathesis polymerization catalyst: polymerization regulator), preferably 1: 0.05 to 1: 100, more preferably 1: It is in the range of 0.2 to 1:20, more preferably 1: 0.5 to 1:10.

重合反応遅延剤は、本発明に用いる重合性組成物の粘度増加を抑制し、該組成物の強化繊維へのより均一な含浸を図る目的で使用される。重合反応遅延剤としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ビニルジフェニルホスフィン、アリルジフェニルホスフィン、トリアリルホスフィン、スチリルジフェニルホスフィン等のホスフィン化合物;アニリンやピリジン等のルイス塩基;等が挙げられる。   The polymerization reaction retarder is used for the purpose of suppressing an increase in viscosity of the polymerizable composition used in the present invention and more uniformly impregnating the reinforcing fiber of the composition. Polymerization reaction retarders include phosphine compounds such as triphenylphosphine, tributylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, dicyclohexylphosphine, vinyldiphenylphosphine, allyldiphenylphosphine, triallylphosphine, styryldiphenylphosphine; Lewis bases such as aniline and pyridine And the like.

酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられ、これらの酸化防止剤を配合することにより、架橋反応を阻害しないで、得られる架橋樹脂成形体及び積層体の耐熱性を高度に向上させることができるため、好適である。これらの中でも、フェノール系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤がより好ましい。   Examples of antioxidants include phenolic antioxidants, amine antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and the like. By blending these antioxidants, a crosslinking reaction It is preferable because the heat resistance of the obtained crosslinked resin molded product and laminate can be improved to a high degree without hindering. Among these, a phenolic antioxidant and an amine antioxidant are preferable, and a phenolic antioxidant is more preferable.

本発明において、架橋剤としてラジカル発生剤を用いる場合、その架橋反応を促進させるために、架橋助剤を併用するのが好ましい。架橋助剤としては、例えば、p−キノンジオキシム等のジオキシム化合物;ラウリルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクレート等のメタクリレート化合物;ジアリルフマレート等のフマル酸化合物:ジアリルフタレート等のフタル酸化合物、トリアリルシアヌレート等のシアヌル酸化合物;マレイミド等のイミド化合物;等が挙げられる。
架橋助剤の使用量は特に制限されないが、全単量体100質量部に対して、通常0〜100質量部、好ましくは0〜50質量部である。
In the present invention, when a radical generator is used as the crosslinking agent, it is preferable to use a crosslinking aid in combination in order to promote the crosslinking reaction. Examples of the crosslinking aid include dioxime compounds such as p-quinonedioxime; methacrylate compounds such as lauryl methacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate; fumaric acid compounds such as diallyl fumarate: phthalic acid compounds such as diallyl phthalate; And cyanuric acid compounds such as allyl cyanurate; imide compounds such as maleimide; and the like.
Although the usage-amount of a crosslinking adjuvant is not restrict | limited in particular, It is 0-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of all monomers, Preferably it is 0-50 mass parts.

その他の配合剤としては、着色剤、光安定剤、及び発泡剤等を用いることができる。着色剤としては、染料や顔料等が用いられる。染料の種類は多様であり、公知のものを適宜選択して使用すればよい。   As other compounding agents, colorants, light stabilizers, foaming agents and the like can be used. As the colorant, a dye or a pigment is used. There are various kinds of dyes, and known ones may be appropriately selected and used.

重合性組成物は、上記成分を混合して得ることができる。混合方法としては、常法に従えばよく、例えば、メタセシス重合触媒を適当な溶媒に溶解若しくは分散させた液(触媒液)を調製し、別にノルボルネン系モノマー、及び架橋剤等の必須の成分、ならびに所望によりその他の配合剤等を配合した液(モノマー液)を調製し、該モノマー液に触媒液を添加し、攪拌することによって調製することができる。   The polymerizable composition can be obtained by mixing the above components. As a mixing method, a conventional method may be followed. For example, a liquid (catalyst liquid) in which a metathesis polymerization catalyst is dissolved or dispersed in an appropriate solvent is prepared, and separately, an essential component such as a norbornene monomer and a crosslinking agent, In addition, it can be prepared by preparing a liquid (monomer liquid) containing other compounding agents and the like, if desired, adding a catalyst liquid to the monomer liquid, and stirring.

〈架橋性樹脂成形体(A)層〉
架橋性樹脂成形体(A)層は、繊維状支持体の両面に樹脂層(a)を有する層である。
架橋性樹脂成形体(A)層は、例えば、前記重合性組成物を繊維状支持体の両面に塗布し、含浸させ、次いで、塗布面をローラー等で押圧し、その後に塊状重合させる方法、又は、シート状支持体上に重合性組成物を流延(塗布)し、その上に繊維状支持体を重ね、さらにその上に重合性組成物を塗布し、次いで塗布面を押圧し、その後に塊状重合させる方法、によって得ることができる。
これらの中でも、前者の重合性組成物を塗布・含浸させた後に塊状重合させる方法が好ましい。
押圧する際には、ローラーと塗布面との間に保護フィルムを挟んでもよい。
<Crosslinkable resin molded product (A) layer>
A crosslinkable resin molding (A) layer is a layer which has a resin layer (a) on both surfaces of a fibrous support body.
The crosslinkable resin molded body (A) layer is, for example, a method in which the polymerizable composition is applied to and impregnated on both surfaces of the fibrous support, and then the application surface is pressed with a roller or the like, and then bulk polymerization is performed. Alternatively, the polymerizable composition is cast (applied) on a sheet-like support, the fibrous support is overlaid thereon, the polymerizable composition is further applied thereon, and then the application surface is pressed, Can be obtained by a bulk polymerization method.
Among these, the former method in which the polymerizable composition is applied and impregnated and then bulk polymerization is preferable.
When pressing, a protective film may be sandwiched between the roller and the coating surface.

前記シート状支持体としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、及びナイロン等からなる樹脂フィルム;鉄、ステンレス、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、金、及び銀等の金属材料からなる金属箔;等が挙げられる。   Examples of the sheet-like support include resin films made of polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polyarylate, nylon, and the like; iron, stainless steel, copper, aluminum, nickel, chromium, gold And metal foil made of a metal material such as silver.

前記保護フィルムとしては、シート状支持体として例示した樹脂フィルム等が挙げられる。これらの表面には剥離処理を施してもよい。   Examples of the protective film include the resin film exemplified as the sheet-like support. These surfaces may be subjected to a peeling treatment.

重合性組成物を塗布(流延)する方法としては特に限定されず、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、及びスリットコート法等を用いることができる。   A method for applying (casting) the polymerizable composition is not particularly limited, and a spray coating method, a dip coating method, a roll coating method, a curtain coating method, a die coating method, a slit coating method, and the like can be used.

重合性組成物を繊維状支持体に含浸等させた後は、所望により乾燥させ、次いで塊状重合させる。塊状重合は、通常、重合性組成物を所定の温度に加熱することで行われる。重合性組成物の加熱方法としては特に制約されず、加熱プレート上に載せて加熱する方法、プレス機を用いて加圧しながら加熱(熱プレス)する方法、加熱したローラーで押圧する方法、加熱炉内で加熱する方法等が挙げられる。   After the fibrous composition is impregnated with the polymerizable composition, it is dried if desired, and then bulk polymerized. Bulk polymerization is usually performed by heating the polymerizable composition to a predetermined temperature. The method for heating the polymerizable composition is not particularly limited, a method of heating on a heating plate, a method of heating while applying pressure using a press (hot pressing), a method of pressing with a heated roller, a heating furnace The method of heating inside is mentioned.

重合性組成物を塊状重合させる温度は、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは90〜150℃であって、かつ架橋剤、通常、ラジカル発生剤の1分間半減期温度以下、好ましくは1分間半減期温度の10℃以下、より好ましくは1分間半減期温度の20℃以下である。また、重合時間は適宜選択すればよいが、通常、1秒間から20分間、好ましくは10秒間から5分間である。重合性組成物をかかる条件で加熱することにより未反応モノマーの少ない架橋性樹脂成形体の層(A)を得ることができる。   The temperature for bulk polymerization of the polymerizable composition is usually 30 to 250 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 90 to 150 ° C., and the crosslinking agent, usually a one minute half-life of the radical generator. The temperature is preferably 10 ° C. or less, more preferably 1 minute half-life temperature of 20 ° C. or less. The polymerization time may be appropriately selected, but is usually 1 second to 20 minutes, preferably 10 seconds to 5 minutes. By heating the polymerizable composition under such conditions, a layer (A) of the crosslinkable resin molded body with less unreacted monomer can be obtained.

以上のようにして重合性組成物を塊状重合して得られる架橋性樹脂成形体(A)を構成する重合体は、実質的に架橋構造を有さず、例えば、トルエンに可溶である。当該重合体の分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(溶離液:テトラヒドロフラン)で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、1,000〜1,000,000、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは10,000〜100,000の範囲である。   The polymer constituting the crosslinkable resin molded article (A) obtained by bulk polymerization of the polymerizable composition as described above has substantially no crosslink structure and is soluble in, for example, toluene. The molecular weight of the polymer is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (eluent: tetrahydrofuran), and is usually 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 to It is in the range of 500,000, more preferably 10,000 to 100,000.

得られる架橋性樹脂成形体(A)を構成する重合体は、後架橋可能な樹脂成形体であるが、その構成樹脂の一部分が架橋されたものであってもよい。   Although the polymer which comprises the crosslinkable resin molding (A) obtained is a resin molding which can be post-crosslinked, a part of the constituent resin may be crosslinked.

架橋性樹脂成形体(A)を構成する重合体は、塊状重合を完結させて得られるものであり、保管中にさらに重合反応が進行するというおそれがない。また、架橋性樹脂成形体(A)は架橋剤を含有してなるが、架橋反応を起す温度以上に加熱しない限り、表面硬度が変化する等の不具合を生じず、保存安定性に優れる。   The polymer constituting the crosslinkable resin molded product (A) is obtained by completing bulk polymerization, and there is no possibility that the polymerization reaction further proceeds during storage. In addition, the crosslinkable resin molded article (A) contains a crosslinking agent, but unless it is heated to a temperature higher than that causing a crosslinking reaction, it does not cause a problem such as a change in surface hardness and is excellent in storage stability.

得られる架橋性樹脂成形体(A)層は、図1に示す層構成を有するもの、すなわち、繊維状支持体の両面に樹脂層(a)を有する構成となる。図1中、a1、a2は樹脂層を、sは繊維状支持体の層を示す。
架橋性樹脂成形体(A)層の厚み(TA)は、後述する架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)より小さければよい。架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚みにもよるが、通常、15〜200μmであり、好ましくは10〜100μmであり、より好ましくは10〜50μmである。
The resulting crosslinkable resin molded body (A) layer has the layer structure shown in FIG. 1, that is, the resin layer (a) on both sides of the fibrous support. In FIG. 1, a1 and a2 are resin layers, and s is a fibrous support layer.
The thickness (TA) of the crosslinkable resin molded body (A) layer only needs to be smaller than the thickness (TB) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (B) described later. Although it depends on the thickness of the layer composed of the crosslinkable resin molded product (B), it is usually 15 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm, and more preferably 10 to 50 μm.

樹脂層(a)の合計厚み(TpA、図1において、樹脂層a1の厚みと樹脂層a2の厚みの和)は、好ましくは5〜50μmであり、より好ましくは5〜30μmである。この範囲未満には厚み制御が難しく、この範囲を超えると、本発明の効果が得にくくなる。   The total thickness of the resin layer (a) (TpA, in FIG. 1, the sum of the thickness of the resin layer a1 and the thickness of the resin layer a2) is preferably 5 to 50 μm, more preferably 5 to 30 μm. If it is less than this range, it is difficult to control the thickness, and if it exceeds this range, the effect of the present invention is difficult to obtain.

さらに、樹脂層(a)の厚み(TpA)と、架橋性樹脂成形体(A)層の厚み(TA)との比(TpA/TA)は、通常0.3以上1.0未満であり、0.5以上であるのが好ましく、0.8以上であるのがより好ましい。   Furthermore, the ratio (TpA / TA) between the thickness (TpA) of the resin layer (a) and the thickness (TA) of the crosslinkable resin molded product (A) layer is usually 0.3 or more and less than 1.0, It is preferably 0.5 or more, and more preferably 0.8 or more.

TpA/TAの値が大きい程、スキューの発生をより効果的に防止することができる。スキューとは、次のような場合に発生するものである。層中に、縦糸も横糸も存在しない空間(バスケットホール)があると、誘電率が局所的に低くなり、ミクロンオーダーで面内に誘電率のバラツキが発生する。誘電率は伝送速度に影響するため、場所によって伝送速度に違いが生ずる。高速伝送では、ノイズを低減する観点で、通常、差動方式と呼ばれる伝送形態が採られる。この方式は、二本の線路をペアにして信号を送るが、この二本の伝送速度が異なると、出口で信号波形が一致しなくなる。このような不具合が発生することを、スキューが発生するという。   The larger the value of TpA / TA, the more effectively the occurrence of skew can be prevented. Skew is generated in the following cases. If there is a space (basket hole) in which no warp or weft exists in the layer, the dielectric constant is locally lowered, and variation in the dielectric constant occurs in the order of microns. Since the dielectric constant affects the transmission speed, the transmission speed varies depending on the location. In high-speed transmission, from the viewpoint of reducing noise, a transmission form called a differential system is usually adopted. In this system, signals are sent with a pair of two lines, but if the transmission rates of the two lines are different, the signal waveforms do not match at the exit. The occurrence of such a problem is called skew.

本発明に用いる架橋性樹脂成形体(A)層においては、架橋性樹脂成形体(A)層の厚み(TA)に対して、繊維状支持体の層の中心線C(図1参照)が、架橋性樹脂成形体(A)層の表面から0.2〜0.8の位置にあることが好ましく、0.3〜0.7の位置にあることがより好ましく、0.4〜0.6の位置にあることが更に好ましく、0.45〜0.55の位置にあることが特に好ましい(図1の架橋性樹脂成形体(A)層においては、Cは0.5である。)。
繊維状支持体の中心線は、プリプレグの断面をSEM写真で観察して、その最上点と最低点との中間をいう。
In the crosslinkable resin molded body (A) layer used in the present invention, the center line C (see FIG. 1) of the fibrous support layer is relative to the thickness (TA) of the crosslinkable resin molded body (A) layer. The cross-linkable resin molded body (A) layer is preferably located at a position of 0.2 to 0.8, more preferably at a position of 0.3 to 0.7, and 0.4 to 0.00. 6 is more preferable, and a position of 0.45 to 0.55 is particularly preferable (in the crosslinkable resin molded product (A) layer in FIG. 1, C is 0.5). .
The center line of the fibrous support refers to the midpoint between the highest point and the lowest point of the cross section of the prepreg observed with an SEM photograph.

架橋性樹脂成形体(A)の誘電率は、4.0以下が好ましく、3.5以下がより好まし。また、架橋性樹脂成形体(A)の誘電正接は、0.01以下が好ましく、0.005以下がより好ましい。
樹脂層の誘電率、誘電正接は、小さいのが好ましい。
誘電率と誘電正接が小さくなることで、信号伝送時の損失を抑えることができる。特に
高周波帯域で使用される基板や配線長の長い基板では損失の影響が大きく、誘電率、誘電正接の小さい基板材料を用いることで、出力を上げることなく遠くまで効率よく信号を伝えることが可能となり、送信時の省エネルギーにも大きく貢献できる。
The dielectric constant of the crosslinkable resin molded product (A) is preferably 4.0 or less, and more preferably 3.5 or less. Further, the dielectric loss tangent of the crosslinkable resin molded body (A) is preferably 0.01 or less, and more preferably 0.005 or less.
The resin layer preferably has a small dielectric constant and dielectric loss tangent.
By reducing the dielectric constant and the dielectric loss tangent, loss during signal transmission can be suppressed. Especially for substrates used in high-frequency bands and substrates with long wiring lengths, the effect of loss is large. By using a substrate material with a low dielectric constant and dielectric loss tangent, it is possible to transmit signals efficiently far away without increasing the output. This can greatly contribute to energy saving during transmission.

(2)架橋性樹脂成形体(B)からなる層
本発明の積層体は、前記架橋性樹脂成形体(A)層以外に、少なくとも一層の、架橋性樹脂成形体(A)層の厚みより大きい、「無機充填剤を含有する樹脂層(以下、「樹脂層(b)」ということがある。)を有する架橋性樹脂成形体(B)からなる層(以下、架橋性樹脂成形体(B)層」ということがある。)を有する。
(2) Layer Consisting of Crosslinkable Resin Molded Body (B) The laminate of the present invention has a thickness of at least one crosslinkable resin molded body (A) layer other than the crosslinkable resin molded body (A) layer. A layer made of a crosslinkable resin molded body (B) having a large “resin layer containing an inorganic filler (hereinafter sometimes referred to as“ resin layer (b) ”) (hereinafter, crosslinkable resin molded body (B) ) Layer ”).

樹脂層(b)に用いる樹脂としては、プリプレグ製造用に用いられる従来公知の熱硬化性樹脂を使用することができる。具体的には、前記樹脂層(a)を構成する樹脂として列記したものが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより顕著に得られる観点から、シクロオレフィン樹脂であるのが好ましい。   As the resin used for the resin layer (b), a conventionally known thermosetting resin used for prepreg production can be used. Specific examples include those listed as resins constituting the resin layer (a). Especially, it is preferable that it is a cycloolefin resin from a viewpoint from which the effect of this invention is acquired more notably.

無機充填剤としては、前記架橋性樹脂成形体(A)層の項で、重合性組成物の他の添加剤として例示した無機充填剤と同様のものが挙げられる。
なかでも、高い弾性率を有する積層体が得られやすいことから、金属酸化物系充填剤が好ましく、二酸化ケイ素(シリカ)がより好ましい。
無機充填剤は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
また、無機充填剤は、公知の、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等で表面処理されたものであってもよい。
As an inorganic filler, the thing similar to the inorganic filler illustrated as another additive of the polymerizable composition by the term of the said crosslinkable resin molding (A) layer is mentioned.
Among these, a metal oxide filler is preferable and silicon dioxide (silica) is more preferable because a laminate having a high elastic modulus is easily obtained.
An inorganic filler can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
Further, the inorganic filler may be a surface treated with a known silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agent or the like.

樹脂層(b)は、前述した樹脂層(a)を形成する方法として列記した方法と同様の方法により得ることができる。
また、シクロオレフィン樹脂からなる樹脂層(b)は、シクロオレフィンモノマー、メタセシス重合触媒、無機充填剤、及び架橋剤等を含む重合性組成物を塊状重合することによって得ることができる。
無機充填剤の配合量は、樹脂層(b)を形成する全単量体100重量部に対して、通常1〜1000重量部、好ましくは10〜500重量部の範囲である。
The resin layer (b) can be obtained by a method similar to the method listed as the method for forming the resin layer (a) described above.
The resin layer (b) made of cycloolefin resin can be obtained by bulk polymerization of a polymerizable composition containing a cycloolefin monomer, a metathesis polymerization catalyst, an inorganic filler, a crosslinking agent, and the like.
The compounding amount of the inorganic filler is usually in the range of 1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomers forming the resin layer (b).

架橋性樹脂成形体(B)層は、繊維状支持体を含有するものであっても含有しないものであってもよいが、スキュー低減の観点から、含有しないものが好ましい。
架橋性樹脂成形体(B)層が繊維状支持体を含有するものである場合には、架橋性樹脂成形体(A)層と同様の方法で製造することができる。
The crosslinkable resin molded body (B) layer may or may not contain a fibrous support, but from the viewpoint of reducing skew, it is preferable not to contain it.
When the crosslinkable resin molded body (B) layer contains a fibrous support, it can be produced by the same method as the crosslinkable resin molded body (A) layer.

架橋性樹脂成形体(B)層が繊維状支持体を含有しないものである場合には、シート状支持体上に、樹脂層(b)の形成用重合性組成物を流延(塗布)し、次いで塗工面にシート状支持体を貼り合わせた後に、重合性塊状重合させて製造することができる。シート状支持体上に前記重合性組成物を塗布(流延)する方法、塊状重合の方法、加熱温度等は、前記架橋性樹脂成形体(A)層を形成する方法と同様である。
架橋性樹脂成形体(B)層は、シート状支持体から剥離されて積層される。
When the crosslinkable resin molded body (B) layer does not contain a fibrous support, the polymerizable composition for forming the resin layer (b) is cast (applied) on the sheet-like support. Then, after a sheet-like support is bonded to the coated surface, it can be produced by polymerizing bulk polymerization. The method of coating (casting) the polymerizable composition on the sheet-like support, the method of bulk polymerization, the heating temperature, etc. are the same as the method of forming the crosslinkable resin molded product (A) layer.
The crosslinkable resin molded body (B) layer is peeled off and laminated from the sheet-like support.

架橋性樹脂成形体(B)の樹脂層(b)の厚み(TpB)と、架橋性樹脂成形体(B)層の厚み(TB)との比(TpB/TB)は、0.4以上1.0以下であり、0.5以上であるのが好ましく、0.8以上であるのがより好ましい。この値が大きいほど、スキューが小さくなる。架橋性樹脂成形体(B)層が繊維状支持体を含有しない場合、TpB/TBは、1となる。   The ratio (TpB / TB) between the thickness (TpB) of the resin layer (b) of the crosslinkable resin molded body (B) and the thickness (TB) of the crosslinkable resin molded body (B) layer is 0.4 or more and 1 0.0 or less, preferably 0.5 or more, more preferably 0.8 or more. The larger the value, the smaller the skew. When the crosslinkable resin molded body (B) layer does not contain a fibrous support, TpB / TB is 1.

架橋性樹脂成形体(B)の厚みは、架橋性樹脂成形体(A)の厚みより大きければよい。架橋性樹脂成形体(A)の厚みによるが、通常、30〜300μmであり、好ましくは50〜200μmであり、より好ましくは50〜100μmである。   The thickness of the crosslinkable resin molded body (B) may be larger than the thickness of the crosslinkable resin molded body (A). Although it depends on the thickness of the crosslinkable resin molded product (A), it is usually 30 to 300 μm, preferably 50 to 200 μm, more preferably 50 to 100 μm.

架橋性樹脂成形体(B)の誘電率は、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.5以下であり、架橋性樹脂成形体(B)の誘電正接は、好ましくは0.01以下、より好ましくは0.005以下である。
理由
The dielectric constant of the crosslinkable resin molded product (B) is preferably 4.0 or less, more preferably 3.5 or less, and the dielectric loss tangent of the crosslinkable resin molded product (B) is preferably 0.01 or less. More preferably, it is 0.005 or less.
the reason

(3)積層体
本発明の積層体は、架橋性樹脂成形体(A)層、架橋性樹脂成形体(B)層、及び、架橋性樹脂成形体(A)層の少なくとも3層が、この順で積層されてなり、架橋性樹脂成形体(A)層が、積層体の両方の最表層に配置されてなるものである。
すなわち、架橋性樹脂成形体(A)層−架橋樹脂成形体(B)層−架橋樹脂成形体(A)層の順で積層され、架橋樹脂成形体(A)層と架橋樹脂成形体(B)層の間には、さらに他の層((C)層)が存在していてもよい。
(3) Laminate The laminate of the present invention comprises at least three layers of a crosslinkable resin molded body (A) layer, a crosslinkable resin molded body (B) layer, and a crosslinkable resin molded body (A) layer. It is laminated | stacked in order and a crosslinkable resin molded object (A) layer is arrange | positioned at both outermost layers of a laminated body.
That is, the crosslinkable resin molded body (A) layer-crosslinked resin molded body (B) layer-crosslinked resin molded body (A) layer are laminated in this order, and the crosslinked resin molded body (A) layer and the crosslinked resin molded body (B Further layers ((C) layer) may exist between the layers.

(C)層は、本発明の効果を阻害しない層であれば、樹脂材料等に特に制限されない。また、繊維状支持体を含むものでも含まないものであってもよいが、誘電率、誘電正接が小さいものであるのが好ましい。さらに、(C)層は、架橋性樹脂成形体(A)層又は架橋性樹脂成形体(B)層と同じものであってもよい。   The layer (C) is not particularly limited to a resin material or the like as long as the layer does not hinder the effects of the present invention. Further, it may or may not contain a fibrous support, but preferably has a small dielectric constant and dielectric loss tangent. Furthermore, the (C) layer may be the same as the crosslinkable resin molded body (A) layer or the crosslinkable resin molded body (B) layer.

層構成の具体例としては、以下のものが挙げられる。ただし、本発明の積層体は下記の層構成を有するものに限定されるものではない。
なお、下記においては、架橋性樹脂成形体(A)層を(A)層、架橋性樹脂成形体(B)層を(B)層と略記する。
(i)(A)層/(B)層/(A)層
(ii)(A)層/(B)層/(C)層/(A)層
(iii)(A)層/(B)層/(C)層/(C)層/(A)層
(iv)(A)層/(C)層/(B)層/(C)層/(A)層
(v)(A)層/(C)層/(B)層/(C)層/(C)層/(A)層
(vi)(A)層/(C)層/(C)層/(B)層/(C)層/(C)層/(A)層
Specific examples of the layer configuration include the following. However, the laminate of the present invention is not limited to one having the following layer structure.
In the following, the crosslinkable resin molded product (A) layer is abbreviated as (A) layer, and the crosslinkable resin molded product (B) layer is abbreviated as (B) layer.
(I) (A) layer / (B) layer / (A) layer (ii) (A) layer / (B) layer / (C) layer / (A) layer (iii) (A) layer / (B) Layer / (C) layer / (C) layer / (A) layer (iv) (A) layer / (C) layer / (B) layer / (C) layer / (A) layer (v) (A) layer / (C) layer / (B) layer / (C) layer / (C) layer / (A) layer (vi) (A) layer / (C) layer / (C) layer / (B) layer / (C ) Layer / (C) layer / (A) layer

本発明の積層体の厚みは、2mm以下、好ましくは1mm以下、より好ましくは0.4mm以下である。
理由
The thickness of the laminate of the present invention is 2 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 0.4 mm or less.
the reason

積層体の製造方法は、特に制約されないが、通常、架橋性樹脂成形体(A)、架橋性樹脂成形体(B)、及び、所望により(C)層を構成する成形体を好ましい順序に積層し、熱プレスする方法が挙げられる。   The production method of the laminate is not particularly limited, but usually, the crosslinkable resin molded body (A), the crosslinkable resin molded body (B), and optionally the molded body constituting the (C) layer are laminated in a preferred order. And a method of hot pressing.

熱プレスするときの加熱温度は、通常100〜300℃、好ましくは150〜280℃、より好ましくは180〜250℃である。
熱プレスするときの圧力は、通常、0.5〜20MPa、好ましくは2〜10MPaである。熱プレスは、真空又は減圧雰囲気下で行ってもよい。熱プレスは、平板成形用のプレス枠型を有する公知のプレス機、シートモールドコンパウンド(SMC)やバルクモールドコンパウンド(BMC)などのプレス成形機を用いて行なうことができる。
The heating temperature at the time of hot pressing is usually 100 to 300 ° C, preferably 150 to 280 ° C, more preferably 180 to 250 ° C.
The pressure at the time of hot pressing is usually 0.5 to 20 MPa, preferably 2 to 10 MPa. The hot pressing may be performed in a vacuum or a reduced pressure atmosphere. The hot pressing can be performed using a known press having a press frame mold for flat plate forming, a press molding machine such as a sheet mold compound (SMC) or a bulk mold compound (BMC).

本発明の積層体の一例の断面図を図2に示す。図2中、(A1)及び(A2)は架橋性樹脂成形体(A)層を、(B)は架橋性樹脂成形体(B)層を示し、Lは、(A)層/(B)層/(A)層からなる積層体を示す。   A cross-sectional view of an example of the laminate of the present invention is shown in FIG. In FIG. 2, (A1) and (A2) indicate a crosslinkable resin molded body (A) layer, (B) indicates a crosslinkable resin molded body (B) layer, and L indicates (A) layer / (B). The laminated body which consists of a layer / (A) layer is shown.

本発明の積層体においては、最表層に、厚みの薄い架橋性樹脂成形体(A)層が配置されているため、表面から繊維状支持体までの距離が短くなっている。そのため、高温下に長時間置かれ、表面の樹脂層が酸化されても、その酸化反応は架橋性樹脂成形体(A)層の繊維状支持体の層に届いたところで停止するため、クラックが深くなることがない。このため、本発明の積層体は、高温下に長時間置かれた場合であっても、表面が酸化されて変色する等の劣化がなく、絶縁強度に優れ、かつ、誘電率が小さく、伝送特性に優れる。   In the laminated body of this invention, since the thin crosslinkable resin molding (A) layer is arrange | positioned in the outermost layer, the distance from the surface to a fibrous support body is short. Therefore, even if the resin layer on the surface is oxidized for a long time under high temperature, the oxidation reaction stops when it reaches the fibrous support of the crosslinkable resin molded product (A) layer, so that cracks are not generated. It will never be deep. For this reason, the laminate of the present invention has no deterioration such as discoloration due to oxidation of the surface even when it is placed at a high temperature for a long time, has excellent insulation strength, has a low dielectric constant, and is transmitted. Excellent characteristics.

本発明の積層体がこのような特性を有することは、例えば、本発明の積層体を、200℃の高温下で400時間置いた後、光学顕微鏡を用いた断面観察により、両表面からの酸化深度(変色部の厚み)をそれぞれ測定し、下記式から酸化浸食度を算出し、この値が小さいことで確認することができる。   The laminated body of the present invention has such characteristics. For example, after the laminated body of the present invention is placed at a high temperature of 200 ° C. for 400 hours, it is oxidized from both surfaces by cross-sectional observation using an optical microscope. The depth (thickness of the discolored portion) is measured, and the degree of oxidation erosion is calculated from the following formula.

Figure 2015123671
Figure 2015123671

この値は、本発明の積層体においては、通常0.4以下、好ましくは0.38以下である。   This value is usually 0.4 or less, preferably 0.38 or less in the laminate of the present invention.

また、本発明の積層体は絶縁強度に優れる。絶縁強度に優れることは、例えば、200℃の高温下で400時間置き、その前後の絶縁破壊電圧の保持率を測定することによって、確認することができる。
本発明の積層体は、保持率が通常0.7以上、好ましくは0.8以上である。絶縁破壊電圧の保持率の測定は、実施例に示す方法で実施することができる。
Moreover, the laminated body of this invention is excellent in insulation strength. It can be confirmed that the insulation strength is excellent by, for example, placing it at a high temperature of 200 ° C. for 400 hours and measuring the dielectric breakdown voltage holding ratio before and after that.
The laminate of the present invention has a retention rate of usually 0.7 or more, preferably 0.8 or more. The measurement of the dielectric breakdown voltage retention rate can be performed by the method shown in the examples.

本発明の積層体を、含まれる架橋剤が活性を示す温度以上に加熱することにより、架橋性樹脂成形体が架橋反応して、架橋樹脂成形体の積層体を得ることができる。   When the laminate of the present invention is heated to a temperature at which the included crosslinking agent is active or higher, the crosslinkable resin molded product undergoes a crosslinking reaction to obtain a laminate of the crosslinked resin molded product.

2)金属張積層体
本発明の金属張積層体は、本発明の積層体の少なくとも一方の表面に金属箔が積層されたものである。
本発明の金属張積層体は、(α)本発明の積層体の片面又は両面に金属箔を積層し、このものをステンレス板の間に載置し、加熱プレスする方法や、(β)本発明の積層体を製造する際に、架橋性樹脂成形体(A)層及び架橋性樹脂成形体(B)層等を所定の順序で積層し、さらにその上下に金属箔を積層したものを加熱プレスする方法、によって製造することができる。
加熱プレスは、前記積層体を製造する際と同様の方法で行うことができる。
2) Metal-clad laminate The metal-clad laminate of the present invention is obtained by laminating a metal foil on at least one surface of the laminate of the present invention.
The metal-clad laminate of the present invention comprises (α) a method of laminating a metal foil on one or both sides of the laminate of the present invention, placing this between stainless steel plates, and heating and pressing; When the laminate is manufactured, the crosslinkable resin molded body (A) layer, the crosslinkable resin molded body (B) layer, and the like are laminated in a predetermined order, and the metal foil laminated on the upper and lower sides thereof is hot-pressed. Method.
The hot pressing can be performed by the same method as that for manufacturing the laminate.

本発明の金属箔積層体は、本発明の積層体を用いるものであるため、高温下に長時間置かれた場合であっても、表面が劣化することなく、絶縁強度に優れ、かつ、比誘電率が小さく伝送特性に優れる。   Since the metal foil laminate of the present invention uses the laminate of the present invention, even when it is placed at a high temperature for a long time, the surface does not deteriorate, it has excellent insulation strength, and the ratio Low dielectric constant and excellent transmission characteristics.

本発明の金属張積層体が伝送特性に優れることは、例えば、銅箔を積層体の両面に積層して得た両面銅張積層体について、リソグラフィ法を用いて、一方の銅箔に、所定のパターンでドライフィルムを被覆して、露光等によって、所望のエッチング部分のみを露出させた後、エッチングすることによって、一対の伝送線路(一対のマイクロストリップライン、差動線路)を含む導体パターンを有するテスト基板を作成する。そして、テスト基板に形成された一対の伝送線路の入力端に差動信号を入力し、出力端における信号波形を比較し、ピーク位置のずれが生じないことで、確認することができる。   The metal-clad laminate of the present invention is excellent in transmission characteristics. For example, with respect to a double-sided copper-clad laminate obtained by laminating copper foil on both sides of the laminate, a predetermined amount is applied to one copper foil using a lithography method. A conductive pattern including a pair of transmission lines (a pair of microstrip lines and a differential line) is formed by covering the dry film with the pattern, exposing only a desired etching portion by exposure or the like, and then etching. Create a test board with. Then, a differential signal is input to the input ends of a pair of transmission lines formed on the test board, and the signal waveforms at the output ends are compared.

本発明の金属張積層体は、比誘電率が小さいものである。比誘電率は、例えば、前記両面銅張積層体の銅箔をエッチング除去したものを、インピーダンスアナライザーを用いて、誘電率(ε)を容量法で測定することで、算出することができる。
本発明の金属張積層体の比誘電率は、通常3.5以下である。
The metal-clad laminate of the present invention has a small relative dielectric constant. The relative dielectric constant can be calculated, for example, by measuring the dielectric constant (ε) by a capacitance method using an impedance analyzer after removing the copper foil of the double-sided copper-clad laminate by etching.
The relative dielectric constant of the metal-clad laminate of the present invention is usually 3.5 or less.

上記のような特性を有する本発明の金属張積層体は、電気・電子機器の回路基板材料として好適に使用することができる。より具体的には、片面、両面もしくは多層用の基板材料、パッケージ基板のコア材に適している。   The metal-clad laminate of the present invention having the above characteristics can be suitably used as a circuit board material for electric / electronic devices. More specifically, it is suitable for single-sided, double-sided or multilayered substrate materials, and core materials for package substrates.

以下、本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例により何ら制限されるものではない。
なお、絶縁強度、クラック(酸化浸食度)、伝送特性及び比誘電率の、評価又は測定は、以下に示す方法で行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples.
In addition, evaluation or measurement of insulation strength, crack (oxidation erosion degree), transmission characteristics, and relative dielectric constant was performed by the method shown below.

(絶縁強度)
銅張積層板(金属張積層体)から銅箔をエッチング除去したものを試験片とし、200℃のオーブンに投入し、400時間置き、オーブン投入前の絶縁破壊電圧Vb、放置後の絶縁破壊電圧Vaから、保持率(Va/Vb)を測定した。
絶縁破壊電圧は、温度23℃、空気中で、φ24mmの電極を用いて、試料に50Hzの交流を印加し、0.5kV/secで電圧を上昇させ、絶縁破壊に達したときの電圧である(ASTM D149に基づく)。
通常、保持率が0.7以上であれば、絶縁強度が高いといえる。
(Insulation strength)
A copper-clad laminate (metal-clad laminate) from which copper foil has been removed by etching is used as a test piece, which is put into an oven at 200 ° C. and left for 400 hours. From Va, the retention (Va / Vb) was measured.
The dielectric breakdown voltage is a voltage when dielectric breakdown is reached by applying 50 Hz alternating current to the sample using a φ24 mm electrode in air at a temperature of 23 ° C. and increasing the voltage at 0.5 kV / sec. (Based on ASTM D149).
Usually, if the retention is 0.7 or more, it can be said that the insulation strength is high.

(クラック(酸化浸食度))
銅張積層板(金属張積層体)の銅箔をエッチング除去したものを、200℃のオーブンに投入し、400時間置いた後、光学顕微鏡を用いた断面観察により、両表面からの酸化深度(変色部の厚み)をそれぞれ測定し、下記式から酸化浸食度を算出した。
(Crack (oxidation erosion degree))
After removing the copper foil of the copper clad laminate (metal clad laminate) by etching into an oven at 200 ° C. and placing it for 400 hours, the oxidation depth from both surfaces (by cross-sectional observation using an optical microscope) The thickness of the discolored part) was measured, and the oxidation erosion degree was calculated from the following formula.

Figure 2015123671
Figure 2015123671

(伝送特性)
リソグラフィ法を用いて、両面銅貼積層体の一方の銅箔に、所定のパターンでドライフィルムを被覆して、露光および現像プロセスによって、所望のエッチング部分のみを露出させた後、エッチング液でエッチングすることによって、配線幅100μm、配線間隔100μmの一対の伝送線路(一対のマイクロストリップライン、差動線路)を含む導体パターンを有するテスト基板を得た。
テスト基板に形成された一対の伝送線路(一対のマイクロストリップライン、差動線路)の入力端に10GHzの差動信号を入力し、出力端(伝送長20cm)における信号波形を比較し、ピーク位置のずれから遅延特性を以下の基準で評価した。
○:ピーク位置が一致している
×:ピーク位置が一致しない
(Transmission characteristics)
Using a lithography method, one copper foil of a double-sided copper-clad laminate is coated with a dry film in a predetermined pattern, and only the desired etching portion is exposed by an exposure and development process, followed by etching with an etching solution. Thus, a test substrate having a conductor pattern including a pair of transmission lines (a pair of microstrip lines and a differential line) having a wiring width of 100 μm and a wiring interval of 100 μm was obtained.
A 10 GHz differential signal is input to the input ends of a pair of transmission lines (a pair of microstrip lines and differential lines) formed on the test substrate, and the signal waveforms at the output end (transmission length 20 cm) are compared, and the peak position The delay characteristics were evaluated based on the following criteria.
○: Peak position is matched ×: Peak position is not matched

(比誘電率)
銅張積層体(積層体)の銅箔をエッチング除去したものを、インピーダンスアナライザー(型番号E4991A、アジレントテクノロジー社製)を用いて、周波数1GHzで、20℃における誘電率(ε)を容量法で測定し、比誘電率(εr)を算出した。
(Relative permittivity)
A copper-clad laminate (laminated body) from which copper foil has been removed by etching is measured using an impedance analyzer (model number E4991A, manufactured by Agilent Technologies) at a frequency of 1 GHz and a dielectric constant (ε) at 20 ° C. The relative dielectric constant (εr) was calculated.

(製造例1) 重合性組成物1の調製
ベンジリデン(1,3−ジメシチル−4−イミダゾリジン−2−イリデン)(トリシクロヘキシルホスフィン)ルテニウムジクロリド0.6部と、トリフェニルホスフィン0.12部とを、インデン18.1部に溶解させて触媒液を調製した。
これとは別に、シクロオレフィンモノマーとして、9−エチリデンテトラシクロ[6.2.1.13,6.02,7]ドデカ−4−エン(ETD)40部、ジシクロペンタジエン60部、及び、酸化防止剤としての2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−メチルフェノール0.28部を添加した混合物をガラス容器に入れ、ここに無機充填剤としてのシリカ(シランカップリング剤処理品、平均粒径0.5μm)100部、架橋助剤としてトリメチロールプロパントリメタクリレート31部、及び、難燃剤としてジメチルホスフィン酸アルミニウム60部を入れ、均一に混合した。
次いで、ここに、連鎖移動剤としてのスチレン2部、及び、架橋剤としてのジ−t−ブチルパーオキサイド2部を投入してモノマー液を得た。
得られたモノマー液に、上記メタセシス触媒液を全量投入して攪拌し、重合性組成物1を得た。
(Production Example 1) Preparation of polymerizable composition 1 Benzylidene (1,3-dimesityl-4-imidazolidin-2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) ruthenium dichloride 0.6 part, triphenylphosphine 0.12 part, Was dissolved in 18.1 parts of indene to prepare a catalyst solution.
Apart from this, as cycloolefin monomer, 9-ethylidenetetracyclo [6.2.1.1 3,6 . 0 2,7 ] dodeca-4-ene (ETD) 40 parts, dicyclopentadiene 60 parts, and 2,6-bis (1,1-dimethylethyl) -4-methylphenol 0.28 as an antioxidant Into a glass container, 100 parts of silica (silane coupling agent-treated product, average particle size 0.5 μm) as an inorganic filler, 31 parts of trimethylolpropane trimethacrylate as a crosslinking aid, and Then, 60 parts of aluminum dimethylphosphinate was added as a flame retardant and mixed uniformly.
Next, 2 parts of styrene as a chain transfer agent and 2 parts of di-t-butyl peroxide as a crosslinking agent were added thereto to obtain a monomer liquid.
The entire amount of the metathesis catalyst solution was added to the obtained monomer solution and stirred to obtain a polymerizable composition 1.

(製造例2) 架橋性樹脂成形体の層(プリプレグ)1の製造
製造例1で得られた重合性組成物1を、厚み20μmの繊維状支持体1(IPC 品番#1027、開繊処理有、日東紡社製)の両面に塗工し、更に支持フィルムとして両面に厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)を貼り合わせた。このものを3.5分間120℃に加熱して重合反応を行った後、支持フィルムを剥離して、厚み50μmの架橋性樹脂成形体1(PP1)を得た。得られたPP1の、PP1を構成する樹脂層の総厚みTpAと、PP1の厚みTAとの比(TpA/TA)は、0.6である。
(Manufacture example 2) Manufacture of layer (prepreg) 1 of a crosslinkable resin molded object The polymeric composition 1 obtained by manufacture example 1 was used for the fibrous support 1 (IPC product number # 1027, fiber-opening treatment) with a thickness of 20 micrometers. , Manufactured by Nittobo Co., Ltd.), and a polyethylene terephthalate film (PET film) having a thickness of 50 μm was bonded to both surfaces as a support film. This was heated at 120 ° C. for 3.5 minutes for a polymerization reaction, and then the support film was peeled off to obtain a crosslinkable resin molded product 1 (PP1) having a thickness of 50 μm. The ratio (TpA / TA) of the total thickness TpA of the resin layer constituting PP1 and the thickness TA of PP1 of the obtained PP1 is 0.6.

(製造例3) 架橋性樹脂成形体の層(プリプレグ)2の製造
製造例1で得られた重合性組成物1を、厚み43μmの繊維状支持体2(IPC 品番#1078、開繊処理有、日東紡社製)の両面に塗工し、更に支持フィルムとして両面に厚み50μmのPETフィルムを貼り合わせた。このものを3.5分間120℃に加熱し、重合反応を行った後、支持フィルムを剥離して、厚み100μmの架橋性樹脂成形体2(PP2)を得た。得られたPP2のTpB/TBの値は、0.57である。
Production Example 3 Production of Crosslinkable Resin Molded Body Layer (Prepreg) 2 Polymerizable composition 1 obtained in Production Example 1 was used to form a fibrous support 2 having a thickness of 43 μm (IPC product number # 1078, with fiber opening treatment) , Manufactured by Nittobo Co., Ltd.), and a PET film having a thickness of 50 μm was bonded to both sides as a support film. This was heated at 120 ° C. for 3.5 minutes to conduct a polymerization reaction, and then the support film was peeled off to obtain a crosslinkable resin molded product 2 (PP2) having a thickness of 100 μm. The value of TpB / TB of PP2 obtained is 0.57.

(製造例4) 架橋性樹脂成形体の層(プリプレグ)3の製造
製造例3において、繊維状支持体2を繊維状支持体1に変更した以外は、製造例3と同様にして、厚み100μmの架橋性樹脂成形体3(PP3)を得た。得られたPP3のTpB/TBの値は、0.80である。
(Manufacture example 4) Manufacture of layer (prepreg) 3 of a crosslinkable resin molded object In manufacture example 3, except changing fibrous support 2 into fibrous support 1, it is the same as manufacture example 3, and thickness is 100 micrometers. The crosslinkable resin molding 3 (PP3) was obtained. The value of TpB / TB of the obtained PP3 is 0.80.

(製造例5) 架橋性樹脂成形体の層4の製造
厚み50μmのPETフィルム(支持フィルム)の片面に、重合性組成物1を塗工し、塗工面に、厚み50μmの別のPETフィルムを貼り合わせた。このものを3.5分間120℃に加熱して重合反応を行った後、支持フィルムを剥離し、厚み100μmの架橋性樹脂成形体4(PP4)を得た。得られたPP4の、PP4を構成する樹脂層の総厚みTpBと、PP4の厚みTBとの比(TpB/TB)は、1.00である。
(Manufacture example 5) Manufacture of the layer 4 of a crosslinkable resin molding The polymeric composition 1 is applied to one side of a 50-micrometer-thick PET film (support film), and another 50-micrometer-thick PET film is applied to the coating surface. Pasted together. This was heated at 120 ° C. for 3.5 minutes for a polymerization reaction, and then the support film was peeled off to obtain a crosslinkable resin molded product 4 (PP4) having a thickness of 100 μm. The ratio (TpB / TB) of the total thickness TpB of the resin layer constituting PP4 and the thickness TB of PP4 of the obtained PP4 is 1.00.

(製造例6) 架橋性樹脂成形体の層(プリプレグ)5の製造
製造例3において、繊維状支持体2を、厚み70μmの繊維状支持体3(IPC品番#2013、開繊処理有、日東紡社製)に変更した以外は、製造例3と同様にして、厚み100μmの架橋性樹脂成形体5(PP5)を得た。得られたPP5のTpB/TBの値は、0.30である。
製造例2〜6で得られたPP1〜PP5のTp/Tの値をまとめて下記表1に示す。
(Manufacture example 6) Manufacture of the layer (prepreg) 5 of a crosslinkable resin molded object In manufacture example 3, the fibrous support body 2 is made into the fibrous support body 3 (IPC product number # 2013, opening process existence, Nitto, 70 micrometers in thickness. A cross-linkable resin molded product 5 (PP5) having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Production Example 3 except that the product was changed to “Spun”. The value of TpB / TB of the obtained PP5 is 0.30.
The Tp / T values of PP1 to PP5 obtained in Production Examples 2 to 6 are summarized in Table 1 below.

Figure 2015123671
Figure 2015123671

(実施例1)
製造例2、3で得られたPP1、PP2を、PP1/PP1/PP2/PP2/PP1/PP1の順に重ね、このものを厚み18μmの銅箔で挟み、220℃で2時間、3MPaにて加熱プレスして銅張積層体1を得た。得られた銅張積層体1につき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。それらの結果を下記表2に示す。
Example 1
PP1 and PP2 obtained in Production Examples 2 and 3 are stacked in the order of PP1 / PP1 / PP2 / PP2 / PP1 / PP1, and this is sandwiched between 18 μm-thick copper foils and heated at 220 ° C. for 2 hours at 3 MPa. The copper-clad laminate 1 was obtained by pressing. The obtained copper-clad laminate 1 was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

(実施例2)
実施例1において、プリプレグの積層構成を、PP1/PP1/PP3/PP3/PP1/PP1に変更した以外は、実施例1と同様にして銅張積層体2を得た。得られた銅張積層体2につき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。その結果を下記表2に示す。
(Example 2)
In Example 1, a copper clad laminate 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the laminated structure of the prepreg was changed to PP1 / PP1 / PP3 / PP3 / PP1 / PP1. The obtained copper-clad laminate 2 was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

(実施例3)
実施例1において、プリプレグの積層構成を、PP1/PP1/PP4/PP4/PP1/PP1に変更した以外は、実施例1と同様にして銅張積層体3を得た。得られた銅張積層体3につき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。その結果を下記表2に示す。
(Example 3)
In Example 1, the copper clad laminated body 3 was obtained like Example 1 except having changed the laminated structure of the prepreg into PP1 / PP1 / PP4 / PP4 / PP1 / PP1. The obtained copper-clad laminate 3 was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

(比較例1)
実施例1において、プリプレグの積層構成をPP1/PP1/PP4/PP4/PP1/PP1に変更した以外は、実施例1と同様にして銅張積層体1rを得た。得られた銅張積層体1rにつき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。その結果を下記表2に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a copper clad laminate 1r was obtained in the same manner as in Example 1 except that the laminated structure of the prepreg was changed to PP1 / PP1 / PP4 / PP4 / PP1 / PP1. The obtained copper-clad laminate 1r was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

(比較例2)
実施例1において、プリプレグの積層構成を、PP2/PP1/PP1/PP1/PP1/PP2に変更した以外は、実施例1と同様にして銅張積層体2rを得た。得られた銅張積層体2rにつき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。それらの結果を下記表2に示す。
(Comparative Example 2)
In Example 1, a copper clad laminate 2r was obtained in the same manner as in Example 1 except that the laminated structure of the prepreg was changed to PP2 / PP1 / PP1 / PP1 / PP1 / PP2. The obtained copper-clad laminate 2r was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

(比較例3)
製造例3で得られたプリプレグを4枚重ね、それを厚み18μmの銅箔で挟み、220℃で2時間、3MPaにて加熱プレスして銅張積層体3rを得た。得られた銅張積層体3rにつき、絶縁強度、クラック、伝送特性、及び誘電率を評価した。それらの結果を下記表2に示す。
(Comparative Example 3)
Four prepregs obtained in Production Example 3 were stacked, sandwiched between 18 μm thick copper foils, and heated and pressed at 3 MPa for 2 hours at 220 ° C. to obtain a copper-clad laminate 3r. The obtained copper-clad laminate 3r was evaluated for insulation strength, cracks, transmission characteristics, and dielectric constant. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2015123671
Figure 2015123671

表2より、実施例で得られた銅張積層体1〜3は、200℃の高温下に400時間置かれた場合であっても、比較例の銅張積層体1r〜3rに比して酸化侵食度が小さく、絶縁強度に優れ、誘電率が小さく、及び伝送特性にも優れるものであることがわかる。
一方、中心部に、TpB/TBが0.4以下の架橋性樹脂成形体を用いた比較例1の銅張積層体1rは、伝送特性に劣っている。最表層の架橋性樹脂成形体の厚みが、中心部の架橋性樹脂成形体の厚みより大きい又は同じである比較例2、3の銅張積層体2r、3rは、絶縁強度に劣り、クラックの発生が大きいものである。
From Table 2, the copper-clad laminates 1 to 3 obtained in the examples are compared with the copper-clad laminates 1r to 3r of the comparative example even when placed at a high temperature of 200 ° C. for 400 hours. It can be seen that the degree of oxidative erosion is small, the insulation strength is excellent, the dielectric constant is small, and the transmission characteristics are also excellent.
On the other hand, the copper-clad laminate 1r of Comparative Example 1 using a crosslinkable resin molded product having a TpB / TB of 0.4 or less at the center is inferior in transmission characteristics. The copper clad laminates 2r and 3r of Comparative Examples 2 and 3 in which the thickness of the crosslinkable resin molded body of the outermost layer is larger than or the same as the thickness of the crosslinkable resin molded body of the central portion are inferior in insulation strength and cracks. The occurrence is large.

a1、a2・・・樹脂層
s・・・繊維状支持体
TpA・・・樹脂層(a)の厚み
TA・・・架橋性樹脂成形体(A)の厚み
(A1)、(A2)・・・架橋性樹脂成形体(A)層
(B)・・・架橋性樹脂成形体(B)層
L・・・積層体
a1, a2 ... resin layer s ... fibrous support TpA ... thickness TA of resin layer (a) ... thickness (A1) of crosslinkable resin molded product (A), (A2) ... Crosslinkable resin molded body (A) layer (B) ... crosslinkable resin molded body (B) layer L ... laminate

Claims (7)

繊維状支持体の両面に樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(A)からなる層、無機充填剤を含む樹脂層を有する架橋性樹脂成形体(B)からなる層、及び、前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層の順で、少なくとも3層が積層されてなる、厚みが2mm以下の積層体であって、
前記架橋性樹脂成形体(A)からなる層が、積層体の両方の最表層に配置され、
架橋性樹脂成形体(A)からなる層の厚み(TA)が、架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)より小さく、かつ、
架橋性樹脂成形体(B)を構成する樹脂層の合計厚み(TpB)と、架橋性樹脂成形体(B)からなる層の厚み(TB)との比(TpB/TB)が0.4以上1.0以下であることを特徴とする積層体。
A layer made of a crosslinkable resin molded body (A) having a resin layer on both sides of a fibrous support, a layer made of a crosslinkable resin molded body (B) having a resin layer containing an inorganic filler, and the crosslinkable resin A laminated body having a thickness of 2 mm or less, in which at least three layers are laminated in the order of the layer comprising the molded body (A),
The layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is disposed on both outermost layers of the laminate,
The thickness (TA) of the layer composed of the crosslinkable resin molded body (A) is smaller than the thickness (TB) of the layer composed of the crosslinkable resin molded body (B), and
The ratio (TpB / TB) of the total thickness (TpB) of the resin layer constituting the crosslinkable resin molded body (B) and the thickness (TB) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (B) is 0.4 or more. A laminate having a thickness of 1.0 or less.
前記架橋性樹脂成形体(A)及び架橋性樹脂成形体(B)の樹脂層が、ともにシクロオレフィン樹脂を含有する層である、請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the resin layers of the crosslinkable resin molded body (A) and the crosslinkable resin molded body (B) are layers containing a cycloolefin resin. 前記架橋性樹脂成形体(A)を構成する樹脂層の合計厚み(TpA)と、架橋性樹脂成形体(A)からなる層の厚み(TA)との比(TpA/TA)が、0.3以上1.0未満である、請求項1又は2に記載の積層体。   The ratio (TpA / TA) of the total thickness (TpA) of the resin layers constituting the crosslinkable resin molded body (A) and the thickness (TA) of the layer made of the crosslinkable resin molded body (A) is 0.00. The laminate according to claim 1 or 2, which is 3 or more and less than 1.0. 前記繊維状支持体の厚みが、10〜50μmである、請求項1〜3のいずれかに記載の積層体。   The laminated body in any one of Claims 1-3 whose thickness of the said fibrous support body is 10-50 micrometers. インピーダンスアナライザーを用いて、温度20℃、周波数1GHzにおいて測定した誘電率から算出される比誘電率が、3.5以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein a relative dielectric constant calculated from a dielectric constant measured at a temperature of 20 ° C and a frequency of 1 GHz using an impedance analyzer is 3.5 or less. 前記架橋性樹脂成形体(A)が、メタセシス重合性モノマーを含む重合性組成物を、繊維状支持体に塗布又は含浸させた後、前記重合性組成物を重合して得られるものである、請求項1〜5のいずれかに記載の積層体。   The crosslinkable resin molded article (A) is obtained by polymerizing the polymerizable composition after coating or impregnating a fibrous support with a polymerizable composition containing a metathesis polymerizable monomer. The laminated body in any one of Claims 1-5. 請求項1〜6に記載の積層体の少なくとも一方の表面に、金属箔が積層されてなる金属張積層体。   A metal-clad laminate in which a metal foil is laminated on at least one surface of the laminate according to claim 1.
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