JP2015111193A - Method for manufacturing optical waveguide device - Google Patents

Method for manufacturing optical waveguide device Download PDF

Info

Publication number
JP2015111193A
JP2015111193A JP2013252992A JP2013252992A JP2015111193A JP 2015111193 A JP2015111193 A JP 2015111193A JP 2013252992 A JP2013252992 A JP 2013252992A JP 2013252992 A JP2013252992 A JP 2013252992A JP 2015111193 A JP2015111193 A JP 2015111193A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
optical waveguide
mach
slab
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013252992A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6237180B2 (en
Inventor
基弘 竹村
Motohiro Takemura
基弘 竹村
藤野 哲也
Tetsuya Fujino
哲也 藤野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority to JP2013252992A priority Critical patent/JP6237180B2/en
Publication of JP2015111193A publication Critical patent/JP2015111193A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6237180B2 publication Critical patent/JP6237180B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical waveguide device, by which damages on an optical waveguide by discharge induced by a pyroelectric effect can be inhibited in a thermal diffusion process upon forming an optical waveguide, even when a slab waveguide is to be disposed in an inner region of a Mach Zehnder waveguide.SOLUTION: The method for manufacturing an optical waveguide device comprises: forming a metal conductive pattern on a substrate having a pyroelectric effect; and heating the substrate to thermally diffuse the metal to form an optical waveguide pattern. The optical waveguide pattern includes at least one Mach-Zehnder waveguide WG and a slab waveguide SG formed in a region enclosed by a branch part constituting the Mach-Zehnder waveguide, two branched waveguides, and a multiplexing part. A distance G between the Mach-Zehnder waveguide and the slab waveguide is set to be approximately constant over the whole circumference of the slab waveguide.

Description

本発明は、光導波路デバイスの製造方法に関するものであり、特に、焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical waveguide device, and in particular, by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and subjecting the metal to thermal diffusion treatment, thereby producing an optical waveguide. The present invention relates to a method for manufacturing an optical waveguide device for forming a waveguide pattern.

光通信分野や光計測分野において、光変調器などの光導波路デバイスが多用されている。光導波路デバイスの中には、ニオブ酸リチウムなどの焦電効果を有する基板上に、Tiなどの金属を熱拡散して光導波路を形成するものがある。   Optical waveguide devices such as optical modulators are frequently used in the optical communication field and the optical measurement field. Some optical waveguide devices form an optical waveguide by thermally diffusing a metal such as Ti on a substrate having a pyroelectric effect such as lithium niobate.

特許文献1又は2に示すように、このような光導波路を形成する際には、熱拡散処理時に基板上に焦電現象が発生し、焦電した電荷が放電し、光導波路に損傷を与えることが指摘されている。   As shown in Patent Document 1 or 2, when such an optical waveguide is formed, a pyroelectric phenomenon occurs on the substrate during the thermal diffusion process, and the pyroelectric charge is discharged to damage the optical waveguide. It has been pointed out.

他方、光導波路デバイスでは、伝送特性などの光学特性の向上のため、光導波路から漏れた漏れ光を処理することが重要な課題となっている。特に、複数のマッハツェンダー型導波路を並列又は入れ子状に配置した光導波路デバイスでは、多くの漏れ光が発生し易く、光学特性に大きな影響を与えている。   On the other hand, in an optical waveguide device, in order to improve optical characteristics such as transmission characteristics, it is an important issue to process leaked light leaking from the optical waveguide. In particular, in an optical waveguide device in which a plurality of Mach-Zehnder type waveguides are arranged in parallel or in a nested manner, a large amount of leakage light is likely to occur, which greatly affects optical characteristics.

図1に示すように、このような漏れ光が光導波路と結合しないようにするため、漏れ光をガイドするスラブ型導波路(SG)を、信号光などの光波を伝搬する光導波路(WG)とは別に設けることが行われている。   As shown in FIG. 1, in order to prevent such leakage light from being coupled to the optical waveguide, a slab waveguide (SG) for guiding the leakage light is used as an optical waveguide (WG) for propagating light waves such as signal light. It is made separately.

しかしながら、このようなスラブ型導波路を設けることにより、熱拡散処理時の焦電効果で生ずる電荷量も増大し、例えば、点線Aの部分などで、スラブ型導波路とマッハツェンダー型導波路との間で放電が生ずる危険性が増大している。   However, the provision of such a slab type waveguide also increases the amount of charge generated by the pyroelectric effect during the thermal diffusion process. For example, in the portion indicated by the dotted line A, the slab type waveguide and the Mach-Zehnder type waveguide There is an increased risk of electrical discharge between the two.

しかも、マッハツェンダー型導波路(WG)の内部領域にスラブ型導波路(SG)を配置する場合には、スラブ型導波路が孤立した状態となり、焦電効果で生じた電荷を逃がすことがより難しくなる。   Moreover, when the slab type waveguide (SG) is disposed in the inner region of the Mach-Zehnder type waveguide (WG), the slab type waveguide is in an isolated state, and the charge generated by the pyroelectric effect may be released. It becomes difficult.

特開平7−140340号公報JP-A-7-140340 特開2010−8887号公報JP 2010-8887 A

本発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を解決し、マッハツェンダー型導波路の内部領域にスラブ型導波路を配置する場合でも、光導波路を形成する際の熱拡散処理において、焦電効果による放電で光導波路が損傷することを抑制することが可能な光導波路デバイスの製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to solve the problems as described above, even in the case of disposing a slab type waveguide in the inner region of the Mach-Zehnder type waveguide, in the thermal diffusion process when forming the optical waveguide, An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical waveguide device capable of suppressing damage to the optical waveguide due to discharge due to the pyroelectric effect.

上記課題を解決するため、本発明の光学素子モジュールは、以下のような技術的特徴を有する。
(1) 焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路とを備え、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離が、該スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the optical element module of the present invention has the following technical features.
(1) In a method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide pattern is formed by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and thermally diffusing the metal. An optical waveguide pattern includes at least one Mach-Zehnder type waveguide, and a slab type waveguide formed in a region surrounded by the branching portion, the two branching waveguides, and the multiplexing portion constituting the Mach-Zehnder type waveguide. The distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide is set so as to be substantially equidistant over the entire circumference of the slab waveguide.

(2) 上記(1)に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離は、10μm以上であることを特徴とする。 (2) In the method for manufacturing an optical waveguide device according to (1), a distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide is 10 μm or more.

(3) 焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路と、該スラブ型導波路に近接して配置される放電誘発用パターンとを備えることを特徴とする。 (3) In a method of manufacturing an optical waveguide device in which an optical waveguide pattern is formed by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and thermally diffusing the metal. An optical waveguide pattern includes at least one Mach-Zehnder type waveguide, and a slab type waveguide formed in a region surrounded by the branching portion, the two branching waveguides, and the multiplexing portion constituting the Mach-Zehnder type waveguide. And a discharge inducing pattern disposed in the vicinity of the slab type waveguide.

(4) 上記(3)に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該スラブ導波路の面積が1mm以上であることを特徴とする。 (4) In the method for manufacturing an optical waveguide device according to (3), the area of the slab waveguide is 1 mm 2 or more.

(5) 上記(3)又は(4)に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該放電誘発用パターンと該スラブ型導波路とが最も近接した距離は、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ導波路とが最も近接した距離よりも短いことを特徴とする。 (5) In the method for manufacturing an optical waveguide device according to the above (3) or (4), the distance between the discharge inducing pattern and the slab waveguide is the closest to the Mach-Zehnder waveguide and the slab It is characterized by being shorter than the closest distance to the waveguide.

本発明により、焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路とを備え、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離が、該スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定されているため、光導波路を形成する際の熱拡散処理時に、マッハツェンダー型導波路とスラブ型導波路との間で放電を生じることを効果的に抑制することが可能となる。   According to the present invention, in a method of manufacturing an optical waveguide device, an optical waveguide pattern is formed by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and thermally diffusing the metal. The optical waveguide pattern is a slab type waveguide formed in an area surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide, a branching part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, two branching waveguides, and a multiplexing part. An optical waveguide is formed since the distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab waveguide is set to be substantially equal over the entire circumference of the slab waveguide. It is possible to effectively suppress the occurrence of discharge between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide during the thermal diffusion process.

さらに、本発明により、焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路と、該スラブ型導波路に近接して配置される放電誘発用パターンとを備えるため、光導波路を形成する際の熱拡散処理時に、スラブ型導波路と放電誘発用パターンとの間で放電を発生し易くすることで、マッハツェンダー型導波路とスラブ型導波路との間で放電を生じることを効果的に抑制することが可能となる。   Furthermore, according to the present invention, an optical waveguide device manufacturing method for forming an optical waveguide pattern by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and subjecting the metal to thermal diffusion treatment The optical waveguide pattern is formed in an area surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide, a branch part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, the two branch waveguides, and the multiplexing part. Between the slab type waveguide and the discharge inducing pattern during the thermal diffusion process when forming the optical waveguide. It is possible to effectively suppress the occurrence of a discharge between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide by facilitating the generation of the discharge.

従来の光導波路デバイスに光導波路パターンの概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of an optical waveguide pattern in the conventional optical waveguide device. 本発明の光導波路デバイスに係る第1の実施例を示す図である。It is a figure which shows the 1st Example which concerns on the optical waveguide device of this invention. 本発明の光導波路デバイスに係る第2の実施例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd Example which concerns on the optical waveguide device of this invention. 本発明の光導波路デバイスに係る第3の実施例を示す図である。It is a figure which shows the 3rd Example which concerns on the optical waveguide device of this invention. 本発明の光導波路デバイスに係る第4の実施例を示す図である。It is a figure which shows the 4th Example which concerns on the optical waveguide device of this invention.

以下、本発明を好適例を用いて詳細に説明する。
本発明の特徴は、光導波路を形成する際の熱拡散処理時に、マッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域(内部領域)内に形成されるスラブ型導波路との間で、放電が発生するのを抑制するため、次の2つの方法の少なくともいずれか採用している。
(1)マッハツェンダー型導波路とスラブ型導波路との間の距離が局所的に短くなっている部分を排除すること。
(2)スラブ型導波路に蓄積した電荷を放出するため、放電誘発用のパターンを追加すること。
Hereinafter, the present invention will be described in detail using preferred examples.
The feature of the present invention is that the thermal diffusion process at the time of forming the optical waveguide is surrounded by the Mach-Zehnder type waveguide, the branching part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, the two branching waveguides, and the multiplexing part. At least one of the following two methods is employed in order to suppress the occurrence of discharge between the slab type waveguide formed in the region (inner region).
(1) Eliminating a portion where the distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide is locally shortened.
(2) A discharge inducing pattern is added to discharge the charge accumulated in the slab waveguide.

図2及び図3は、本発明の光導波路デバイスの製造方法に係る第1及び第2の実施例を説明する図である。この実施例では、焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路(WG)と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路(SG)とを備え、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離(G)が、該スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定されていることを特徴とする。   2 and 3 are diagrams for explaining first and second embodiments according to the method of manufacturing an optical waveguide device of the present invention. In this embodiment, in a method for manufacturing an optical waveguide device, an optical waveguide pattern is formed by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and subjecting the metal to thermal diffusion treatment. The optical waveguide pattern is formed in a region surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide (WG), a branch part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, two branch waveguides, and a multiplexing part. Slab waveguide (SG), and the distance (G) between the Mach-Zehnder waveguide and the slab waveguide is set to be substantially equal over the entire circumference of the slab waveguide. It is characterized by being.

本発明における「ほぼ等距離」の意味は、本発明の効果である焦電効果による放電が発生しない範囲であれば、特に制限されるものではないが、例えば、マッハツェンダー型導波路とスラブ型導波路との距離(G)の変動幅が、45μm以下となる場合には、局所的に発生する放電が効果的に抑制される。なお、当該変動幅は、より好ましくは30μm以下、更に好ましくは15μm以下とすることで、より高い効果が期待できる。   The meaning of “substantially equidistant” in the present invention is not particularly limited as long as the discharge due to the pyroelectric effect which is the effect of the present invention is not generated. For example, a Mach-Zehnder type waveguide and a slab type When the fluctuation range of the distance (G) from the waveguide is 45 μm or less, the locally generated discharge is effectively suppressed. In addition, a higher effect can be expected when the fluctuation range is more preferably 30 μm or less, and further preferably 15 μm or less.

焦電効果を有する基板としては、例えばニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、PLZT(ジルコン酸チタン酸鉛ランタン)等の単結晶材料やこれらの固溶体結晶材料が該当する。   Examples of the substrate having a pyroelectric effect include single crystal materials such as lithium niobate, lithium tantalate, and PLZT (lead lanthanum zirconate titanate), and solid solution crystal materials thereof.

光導波路パターンを形成する金属としては、Tiなどが好適に利用可能である。   Ti or the like can be suitably used as the metal for forming the optical waveguide pattern.

図2の実施例では、マッハツェンダー型導波路(WG)とスラブ型導波路(SG)との距離(G)を、スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定しており、図1に示すように、局所的に両者が近接する部分が形成されないようにしている。特に、当該距離(G)は、10μm以上を確保することで、基板材料や熱拡散処理条件(処理温度、処理時間)等にも依存するが、両者間の放電をほぼ完全に抑制することが可能となる。   In the embodiment of FIG. 2, the distance (G) between the Mach-Zehnder type waveguide (WG) and the slab type waveguide (SG) is set so as to be substantially equidistant over the entire circumference of the slab waveguide. Therefore, as shown in FIG. 1, a portion where both are close to each other is not formed locally. In particular, the distance (G) is 10 μm or more, and depending on the substrate material and thermal diffusion processing conditions (processing temperature, processing time), etc., the discharge between the two can be suppressed almost completely. It becomes possible.

図3の実施例では、図2の実施例をさらに改善したものであり、矢印Bで示す位置のように、スラブ型導波路の角部を丸く形成することで、スラブ型導波路からマッハツェンダー型導波路に向かって放電が発生するのを、一層抑制することが可能となる。   In the embodiment of FIG. 3, the embodiment of FIG. 2 is further improved, and the corner of the slab waveguide is rounded as indicated by the arrow B, so that the Mach-Zehnder is formed from the slab waveguide. It is possible to further suppress the occurrence of discharge toward the mold waveguide.

次に、図4及び図5を用いて、本発明の光導波路デバイスの製造方法に係る第3及び第4の実施例について説明する。この実施例では、焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路(WG)と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路(SG)と、該スラブ型導波路に近接して配置される放電誘発用パターン(DP)とを備えることを特徴とする。   Next, with reference to FIGS. 4 and 5, third and fourth embodiments relating to the method for manufacturing an optical waveguide device of the present invention will be described. In this embodiment, in a method for manufacturing an optical waveguide device, an optical waveguide pattern is formed by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and subjecting the metal to thermal diffusion treatment. The optical waveguide pattern is formed in a region surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide (WG), a branch part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, two branch waveguides, and a multiplexing part. Slab type waveguide (SG), and a discharge inducing pattern (DP) disposed in proximity to the slab type waveguide.

本発明における「放電誘発用パターン」とは、図4に示すように、スラブ型導波路(SG)とは別に設けるだけでなく、図5に示すように、放電誘発用パターン(DP)をスラブ型導波路の一部(SG1)とを兼用させることも可能である。図4では点線Cで示した部分で、図5では点線Dで示した部分で放電が発生し易くなっている。   The “discharge-inducing pattern” in the present invention is not only provided separately from the slab type waveguide (SG) as shown in FIG. 4, but also the discharge-inducing pattern (DP) as shown in FIG. It is also possible to share a part of the type waveguide (SG1). In FIG. 4, a discharge is easily generated at a portion indicated by a dotted line C, and at a portion indicated by a dotted line D in FIG.

また、図5の放電誘発用パターンがスラブ型導波路全体(SG1,SG2)の内部の方に配置されているように、放電誘発用パターンは、マッハツェンダー型導波路から離して配置することが好ましい。これは、仮に放電が発生した場合にでも、マッハツェンダー型導波路への損傷を抑制するためである。   Further, the discharge inducing pattern may be arranged away from the Mach-Zehnder type waveguide so that the discharge inducing pattern in FIG. 5 is arranged toward the inside of the entire slab type waveguide (SG1, SG2). preferable. This is to prevent damage to the Mach-Zehnder type waveguide even if a discharge occurs.

スラブ導波路(SG,SG1又はSG2)の面積が1mm以上である場合には、特に、蓄積された電荷量が多く、放電が発生し易くなるため、本発明のような放電誘発用パターンを設けることが効果的である。 When the area of the slab waveguide (SG, SG1, or SG2) is 1 mm 2 or more, the accumulated charge amount is large and discharge is likely to occur. It is effective to provide.

また、放電誘発用パターンとスラブ型導波路とが最も近接した距離は、マッハツェンダー型導波路とスラブ導波路とが最も近接した距離よりも短いことが好ましい。これにより、マッハツェンダー型導波路とスラブ型導波路との間に放電が発生する前に、放電誘発用パターンとスラブ型導波路との間で放電を発生させることができ、マッハツェンダー型導波路への損傷を抑制することが可能となる。   Moreover, it is preferable that the distance that the discharge inducing pattern and the slab waveguide are closest to each other is shorter than the distance that the Mach-Zehnder waveguide and slab waveguide are closest to each other. As a result, before a discharge is generated between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide, a discharge can be generated between the discharge inducing pattern and the slab type waveguide. It becomes possible to suppress damage to the skin.

図5に示すように、図2又は図3で説明した、マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離が、スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定されている構成と、図4で説明した、スラブ型導波路に近接して配置される放電誘発用パターンとを備える構成とを、共に用いることも可能である。   As shown in FIG. 5, the distance between the Mach-Zehnder type waveguide described in FIG. 2 or FIG. 3 and the slab type waveguide is set so as to be substantially equidistant over the entire circumference of the slab waveguide. It is also possible to use both the configuration including the above-described configuration and the configuration including the discharge inducing pattern disposed in proximity to the slab type waveguide described in FIG.

本発明は、図2乃至図5に示すように、一つのマッハツェンダー型導波路を用いて説明したが、これに限られるものでは無く、複数のマッハツェンダー型導波路を配置したものや、入れ子型にマッハツェンダー型導波路を組み込んだものなど、種々の形態の光導波路デバイスに適用可能であることは言うまでも無い。   Although the present invention has been described using one Mach-Zehnder type waveguide as shown in FIGS. 2 to 5, the present invention is not limited to this, and a structure in which a plurality of Mach-Zehnder type waveguides are arranged, Needless to say, the present invention can be applied to various types of optical waveguide devices such as a mold incorporating a Mach-Zehnder type waveguide.

以上のように、本発明に係る光導波路デバイスの製造方法によれば、マッハツェンダー型導波路の内部領域にスラブ型導波路を配置する場合でも、光導波路を形成する際の熱拡散処理において、焦電効果による放電で光導波路が損傷することを抑制することが可能な光導波路デバイスの製造方法を提供することが可能となる。   As described above, according to the method for manufacturing an optical waveguide device according to the present invention, even when the slab type waveguide is disposed in the inner region of the Mach-Zehnder type waveguide, in the thermal diffusion process when forming the optical waveguide, It is possible to provide a method for manufacturing an optical waveguide device capable of suppressing the optical waveguide from being damaged by the discharge due to the pyroelectric effect.

WG 光導波路(信号光等の光波を伝搬する導波路,マッハツェンダー型導波路)
SG 光導波路(漏れ光などを案内する導波路,スラブ型導波路)
DP 放電誘発用パターン
WG optical waveguide (waveguide that propagates light waves such as signal light, Mach-Zehnder type waveguide)
SG optical waveguide (waveguide that guides leaked light, slab waveguide)
DP discharge trigger pattern

Claims (5)

焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、
該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路とを備え、
該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離が、該スラブ導波路の全周に渡ってほぼ等距離になるように設定されていることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
In a method of manufacturing an optical waveguide device that forms an optical waveguide pattern by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and thermally diffusing the metal,
The optical waveguide pattern is a slab type waveguide formed in an area surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide, a branching part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, two branching waveguides, and a multiplexing part. With a waveguide,
A method of manufacturing an optical waveguide device, characterized in that the distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide is set to be substantially equal over the entire circumference of the slab waveguide.
請求項1に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ型導波路との距離は、10μm以上であることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。   2. The method of manufacturing an optical waveguide device according to claim 1, wherein a distance between the Mach-Zehnder type waveguide and the slab type waveguide is 10 [mu] m or more. 焦電効果を有する基板上に、金属の導体パターンを形成し、該基板を加熱し該金属を熱拡散処理することにより、光導波路パターンを形成する光導波路デバイスの製造方法において、
該光導波路パターンが、少なくとも一つのマッハツェンダー型導波路と、該マッハツェンダー型導波路を構成する分岐部と2つの分岐導波路及び合波部で囲まれた領域内に形成されるスラブ型導波路と、該スラブ型導波路に近接して配置される放電誘発用パターンとを備えることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
In a method of manufacturing an optical waveguide device that forms an optical waveguide pattern by forming a metal conductor pattern on a substrate having a pyroelectric effect, heating the substrate, and thermally diffusing the metal,
The optical waveguide pattern is a slab type waveguide formed in an area surrounded by at least one Mach-Zehnder type waveguide, a branching part constituting the Mach-Zehnder type waveguide, two branching waveguides, and a multiplexing part. A method of manufacturing an optical waveguide device, comprising: a waveguide; and a discharge inducing pattern disposed in proximity to the slab waveguide.
請求項3に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該スラブ導波路の面積が1mm以上であることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。 The method for manufacturing an optical waveguide device according to claim 3, wherein the area of the slab waveguide is 1 mm 2 or more. 請求項3又は4に記載の光導波路デバイスの製造方法において、該放電誘発用パターンと該スラブ型導波路とが最も近接した距離は、該マッハツェンダー型導波路と該スラブ導波路とが最も近接した距離よりも短いことを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。   5. The method of manufacturing an optical waveguide device according to claim 3, wherein the distance at which the discharge inducing pattern and the slab waveguide are closest is the closest to the Mach-Zehnder waveguide and the slab waveguide. A method for manufacturing an optical waveguide device, characterized in that the optical waveguide device is shorter than the measured distance.
JP2013252992A 2013-12-06 2013-12-06 Manufacturing method of optical waveguide device Active JP6237180B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013252992A JP6237180B2 (en) 2013-12-06 2013-12-06 Manufacturing method of optical waveguide device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013252992A JP6237180B2 (en) 2013-12-06 2013-12-06 Manufacturing method of optical waveguide device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015111193A true JP2015111193A (en) 2015-06-18
JP6237180B2 JP6237180B2 (en) 2017-11-29

Family

ID=53526046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013252992A Active JP6237180B2 (en) 2013-12-06 2013-12-06 Manufacturing method of optical waveguide device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6237180B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10281748B2 (en) 2016-11-09 2019-05-07 Fujitsu Optical Components Limited Optical modulator and optical module

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994010592A1 (en) * 1992-10-28 1994-05-11 Fujitsu Limited Method of producing waveguide device
JPH07120631A (en) * 1993-09-06 1995-05-12 Ngk Insulators Ltd Optical waveguide type part
JP2000241645A (en) * 1998-12-25 2000-09-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Optical wave guide circuit and its manufacture
US20020006246A1 (en) * 2000-02-01 2002-01-17 Green Malcolm Rory Packaged integrated optical components
JP2002023123A (en) * 2000-07-11 2002-01-23 Fujitsu Ltd Optical circuit provided with optical waveguide for guiding minor light

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994010592A1 (en) * 1992-10-28 1994-05-11 Fujitsu Limited Method of producing waveguide device
JPH07120631A (en) * 1993-09-06 1995-05-12 Ngk Insulators Ltd Optical waveguide type part
JP2000241645A (en) * 1998-12-25 2000-09-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Optical wave guide circuit and its manufacture
US20020006246A1 (en) * 2000-02-01 2002-01-17 Green Malcolm Rory Packaged integrated optical components
JP2002023123A (en) * 2000-07-11 2002-01-23 Fujitsu Ltd Optical circuit provided with optical waveguide for guiding minor light

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10281748B2 (en) 2016-11-09 2019-05-07 Fujitsu Optical Components Limited Optical modulator and optical module

Also Published As

Publication number Publication date
JP6237180B2 (en) 2017-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4388987B2 (en) Mach-Zehnder waveguide type optical modulator
US9081214B2 (en) Optical control element
JP5369883B2 (en) Light control element
JP5742382B2 (en) Traveling wave type light modulator
US7801400B2 (en) Manufacturing method of optical device and optical device
JP2013254224A5 (en)
JP2010237376A (en) Optical modulator
JP2009244812A (en) Optical waveguide element
US10591670B2 (en) Optical waveguide element
JP2007293215A (en) Optical device
JP6237180B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide device
JP6464886B2 (en) Optical waveguide device
JP2015096886A (en) Optical waveguide device
JP2011081195A (en) Optical modulator and optical transmitter
JP7306198B2 (en) optical waveguide element
JP6911329B2 (en) Optical modulators and optical modules
US20230152539A1 (en) Optical waveguide element, and optical modulation device and optical transmission device using same
JP2013242592A (en) Optical waveguide device
CN108693599B (en) Optical waveguide element
US20200292757A1 (en) Optical waveguide device
Le et al. Study on self-imaging properties for line-tapered multimode interference couplers
JP5691747B2 (en) Traveling wave type light modulator
JP5229261B2 (en) Light control device
JP2003075788A (en) Optical device
JPS63147112A (en) Optical waveguide circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170704

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170901

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171003

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171016

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6237180

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150