JP2015110204A - Fluid bed apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、医薬品製造、食品製造、農薬製造等の各種分野において、粉粒体の造粒、コーティング、乾燥を行う流動層装置に関する。 The present invention relates to a fluidized bed apparatus for granulating, coating, and drying a granular material in various fields such as pharmaceutical production, food production, and agricultural chemical production.
流動層装置は、一般に、流動層容器の処理室の底部から導入した気体(流動化気体)によって、処理室内で粉粒体を浮遊流動させて流動層を形成しつつ、造粒、コーティング、乾燥を粉粒体に行なうものである。この種の流動層装置には、処理室の底部に配設された気体分散板を介して、流動化気体が、処理室内に導入される構造のものがある(例えば特許文献1〜3参照)。 Fluidized bed equipment is generally granulated, coated, and dried while forming a fluidized bed by floating and flowing powder particles in the processing chamber with gas (fluidized gas) introduced from the bottom of the processing chamber of the fluidized bed container. Is performed on the granular material. This type of fluidized bed apparatus has a structure in which fluidized gas is introduced into a processing chamber via a gas dispersion plate disposed at the bottom of the processing chamber (see, for example, Patent Documents 1 to 3). .
ところで、近年、暴露を防ぐ観点から、製剤設備等の流動層装置において、クローズド状態で粉粒体を投入及び排出することが増えている。流動層装置には、気体分散板に使用されるメッシュに指向性を持たせ側面から粉粒体を排出させる仕様(側面排出)があるが、この仕様では粉粒体の排出に非常に時間が掛かる。そのため、気体分散板を回転することにより、処理室から下部ケーシングに粉粒体を移送して排出する仕様が採用されるケースも少なくない。しかし、この場合には、下部ケーシングに粉粒体が付着するため、繰り返し製造する場合など、気体分散板の裏側に粉粒体が付着し、目詰まりを起こすことがある。 By the way, in recent years, from the viewpoint of preventing exposure, in a fluidized bed apparatus such as a preparation facility, the number of powders in and out in a closed state is increasing. Fluidized bed equipment has a specification (side discharge) in which the mesh used for the gas dispersion plate has directivity and discharges particles from the side (side discharge). In this specification, it takes a very long time to discharge the particles. It takes. Therefore, in many cases, a specification is adopted in which the granular material is transferred and discharged from the processing chamber to the lower casing by rotating the gas dispersion plate. However, in this case, since the granular material adheres to the lower casing, the granular material may adhere to the back side of the gas dispersion plate and clogging may occur in the case of repeated production.
一方、気体分散板には、広く使用されているボンメッシュ以外に、洗浄性向上のためにウェッジワイヤが広く使用されている。しかし、このウェッジワイヤを使用した気体分散板においても同様の現象が認められる。 On the other hand, in addition to the widely used bon mesh, a wedge wire is widely used for the gas dispersion plate in order to improve cleanability. However, the same phenomenon is observed in the gas dispersion plate using this wedge wire.
本発明は、上記事情に鑑み、流動層装置における気体分散板の目詰まりを抑制することを課題とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to suppress clogging of a gas dispersion plate in a fluidized bed apparatus.
上記課題を解決するため、本発明の流動層装置は、粉粒体を収容する処理室と、該処理室の底部に配設された気体分散板とを備え、該気体分散板を介して前記処理室内に導入された気体によって粉粒体を浮遊流動させながら、造粒、コーティング、及び乾燥のうち少なくとも一の処理を粉粒体に行なう流動層装置において、前記気体分散板が、所定の間隔で配設された複数の第1部材と、該第1部材との間に隙間を形成するように配設された複数の第2部材とを備え、前記第1部材と前記第2部材のうち少なくとも一方を可動とし、前記隙間を調整可能としたことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a fluidized bed apparatus according to the present invention includes a processing chamber for storing powder particles, and a gas dispersion plate disposed at the bottom of the processing chamber, and the gas dispersion plate is arranged through the gas dispersion plate. In the fluidized bed apparatus that performs at least one of granulation, coating, and drying on the granular material while the granular material is suspended and flowed by the gas introduced into the processing chamber, the gas dispersion plate has a predetermined interval. And a plurality of second members disposed so as to form a gap between the first member and the first member. At least one of them is movable, and the gap can be adjusted.
この構成であれば、第1部材と第2部材の間の隙間に粉粒体が詰まった場合でも、隙間を調整して、この詰まった粉粒体を排出することが可能である。従って、本発明の流動層装置では、気体分散板の目詰まりを抑制することが可能である。更には、これにより、下部ケーシング排出仕様において、連続生産が可能となる。 If it is this structure, even when a granular material is clogged in the clearance gap between a 1st member and a 2nd member, it is possible to adjust a clearance gap and to discharge this clogged granular material. Therefore, in the fluidized bed apparatus of the present invention, clogging of the gas dispersion plate can be suppressed. Furthermore, this enables continuous production in the lower casing discharge specification.
また、第1部材と第2部材の間の隙間を調整して粉粒体が隙間を通過できるようにすれば、気体分散板を回転させることなく、処理室から下部ケーシングへ粉粒体を移送することができる。このため、気体分散板を回転させるための大掛かりな機構を不要とすることができ、製造コストを低減できる。 If the gap between the first member and the second member is adjusted so that the powder can pass through the gap, the powder is transferred from the processing chamber to the lower casing without rotating the gas dispersion plate. can do. For this reason, a large-scale mechanism for rotating the gas dispersion plate can be eliminated, and the manufacturing cost can be reduced.
また、隙間を調整することによって気体分散板の開口率を大きくすることができ、これにより、洗浄性を向上することが可能となる。 In addition, the opening ratio of the gas dispersion plate can be increased by adjusting the gap, thereby improving the cleanability.
また、隙間を調整することにより粉粒体の種類に適した気体分散板の開口率に任意に変更することができる。そして、この開口率の変更は、粉粒体の処理中でも可能である。 Moreover, it can change arbitrarily to the aperture ratio of the gas distribution board suitable for the kind of granular material by adjusting a clearance gap. The change in the aperture ratio is possible even during the processing of the granular material.
上記構成において、前記第1部材と前記第2部材のうち少なくとも一方を、上下方向に可動としてもよい。 In the above configuration, at least one of the first member and the second member may be movable in the vertical direction.
この構成であれば、隙間の調整範囲を大きくすることが可能である。 With this configuration, it is possible to increase the adjustment range of the gap.
上記構成において、前記第1部材と前記第2部材のうち少なくとも一方を、回転可能としてもよい。 In the above configuration, at least one of the first member and the second member may be rotatable.
この構成であれば、第1部材又は第2部材の回転の角度の調整で、第1部材と第2部材の間の隙間を調整でき、気体分散板の開口率を変更することができる。また、気体分散板を介して処理室に導入される流動気体に指向性を持たせることができる。これにより、粉粒体の流動状態に変化を与えることができので、粉粒体の処理効率を向上でき、例えば重質な造粒物を製造することができる。また、この流動気体の指向性を、粉粒体を側面排出させる場合に利用することができる。 With this configuration, the gap between the first member and the second member can be adjusted by adjusting the rotation angle of the first member or the second member, and the aperture ratio of the gas dispersion plate can be changed. Moreover, directivity can be given to the flowing gas introduced into the processing chamber through the gas dispersion plate. Thereby, since a change can be given to the flow state of a granular material, the processing efficiency of a granular material can be improved, for example, a heavy granulated material can be manufactured. Moreover, the directivity of this flowing gas can be utilized when discharging the granular material to the side.
また、この構成で、第1部材又は第2部材の回転の角度を大きくすることによって開口率を大きく変えれば、粉粒体を処理室から隙間を介して下部ケーシングに落下させたり、第1部材又は第2部材の間の隙間に詰まった粉粒体を洗浄したりすることが容易となる。 Further, in this configuration, if the opening ratio is greatly changed by increasing the rotation angle of the first member or the second member, the granular material can be dropped from the processing chamber to the lower casing through the gap, or the first member Or it becomes easy to wash the granular material jammed in the crevice between the 2nd members.
上記何れかの構成において、前記流動層装置が、前記処理室内にドラフトチューブを備えたワースター式流動層装置であって、前記気体分散板が、ドラフトチューブの下端開口と対向する中央領域と、該中央領域の周辺の周辺領域とを備え、前記隙間の調整によって、前記中央領域と前記周辺領域の開口率あるいは指向性を個別に制御可能としてもよい。 In any one of the configurations described above, the fluidized bed apparatus is a Wurster fluidized bed apparatus including a draft tube in the processing chamber, wherein the gas dispersion plate has a central region facing a lower end opening of the draft tube, A peripheral region around the central region, and the aperture ratio or directivity of the central region and the peripheral region may be individually controlled by adjusting the gap.
この構成であれば、ワースター式流動層装置の運転中に、粉粒体の状態変化に対応して、中央領域と周辺領域の開口率や指向性を適切なものとすることができる。 If it is this structure, the opening rate and directivity of a center area | region and a peripheral area | region can be made appropriate according to the state change of a granular material during a driving | operation of a Wurster type fluidized bed apparatus.
上記何れかの構成において、前記隙間の調整によって、前記気体分散板を介して前記処理室内に導入される気体の流量又は圧力を調節してもよい。 In any of the above configurations, the flow rate or pressure of the gas introduced into the processing chamber through the gas dispersion plate may be adjusted by adjusting the gap.
この構成であれば、気体分散板を流動層装置の給気用のダンパの代用とすることができる。 If it is this structure, a gas dispersion plate can be substituted for the damper for the air supply of a fluidized-bed apparatus.
更に、この構成において、前記隙間の調整によって、前記気体分散板を介して前記処理室内に導入される気体を脈動波としてもよい。 Further, in this configuration, the gas introduced into the processing chamber through the gas dispersion plate by adjusting the gap may be a pulsating wave.
この構成であれば、処理室内の粉粒体の流動を促進することができ、例えば製品の歩留りや処理効率等を向上することができる。 If it is this structure, the flow of the granular material in a processing chamber can be accelerated | stimulated, for example, the yield of a product, processing efficiency, etc. can be improved.
上記何れかの構成において、前記第1部材と前記第2部材をウェッジワイヤとしてもよい。 In any one of the configurations described above, the first member and the second member may be wedge wires.
本発明によれば、流動層装置における気体分散板の目詰まりを抑制することができる。 According to the present invention, clogging of the gas dispersion plate in the fluidized bed apparatus can be suppressed.
以下、本発明の実施形態を、図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、第1の実施形態に係る流動層装置を示している。この実施形態の流動層装置の流動層容器1は、粉粒体Mの処理、例えば粉粒体Mの造粒又はコーティングを行う処理室2と、処理室2の上方に位置し、固気分離用のフィルター部3が配されるフィルター室4と、フィルター室4の上方に位置する上部室5と、フィルター室4と上部室5とを仕切る上部壁6と、フィルター部3の上部に設けられた排気室7とを備えている。
FIG. 1 shows a fluidized bed apparatus according to the first embodiment. The fluidized-bed container 1 of the fluidized-bed apparatus of this embodiment is located above the
処理室2の底部には、後述のように第1及び第2部材としてのウェッジワイヤを使用した円板状の気体分散板8が配設されている。給気ダクトから給気チャンバ(気体分散板8の下側に位置する下部ケーシング9)に供給された熱風等の気体A(流動化気体)は、気体分散板8を介して流動層容器1内に導入される。また、処理室2の上部にはスプレー液(膜剤液、結合剤液等)を噴霧するスプレーノズル10が設置されている。
A disc-shaped
流動層容器1の処理室2に収容された粉粒体Mは、気体分散板8を介して流動層容器1内に導入される気体Aによって浮遊流動され、流動層を形成する。そして、この粉粒体Mの流動層に向けてスプレーノズル10からスプレー液(膜剤液、結合剤液等)が噴霧される。スプレーノズル10から噴霧されるスプレー液、例えば膜剤液のミストによって粉粒体Mが湿潤を受けると同時に、膜剤液中に含まれる固形成分が粉粒体Mの表面に付着し、乾燥固化されて、粉粒体Mの表面に被覆層が形成される(コーティング)。あるいは、スプレーノズル10から噴霧されるスプレー液、例えば結合剤液のミストによって粉粒体Mが湿潤を受けて付着凝集し、乾燥されて、所定径の粒子に成長する(造粒)。
The granular material M accommodated in the
粉粒体Mを浮遊流動させた気体Aは、処理室2を上昇してフィルター室4に入り、フィルター部3によって固気分離されて排気室7に流入する。そして、排気室7に接続された排気ダクト11を通って流動層容器1の外部に排気される。
The gas A in which the powder M is suspended and flowed rises in the
この実施形態において、処理が完了した粉粒体は、気体分散板8を介して下部ケーシング9に移送され、下部ケーシング9から不図示の排出口を介して、流動層装置から排出される。
In this embodiment, the processed granular material is transferred to the
次に、気体分散板8について詳述する。
Next, the
図2(A)に示すように、気体分散板8は、所定の間隔で配設された複数の第1部材としてのウェッジワイヤ12と、各ウェッジワイヤ12との間に隙間を形成するように配設された複数の第2部材としてのウェッジワイヤ13とを備える。本実施形態のウェッジワイヤ12,13は、相互に断面形状が同じで、また、相互に断面の面積が同じである。また、本実施形態のウェッジワイヤ12,13は、ウェッジの先端が、相互に逆向きとなっており、ウェッジワイヤ12のウェッジの先端が下向きで、ウェッジワイヤ13のウェッジの先端が上向きである。
As shown in FIG. 2A, the
本実施形態では、図3(A)に示すように、ウェッジワイヤ12,13は、直線状をなす。そして、ウェッジワイヤ12は、その長さ方向の端部の上側が、周壁14の内周に沿って形成されたワイヤ連結部材15に固定されている。また、図示は省略するが、本実施形態では、ウェッジワイヤ13も、その長さ方向の端部の下側が、周壁14の内周に沿って形成されたワイヤ連結部材に固定されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 3A, the
なお、ウェッジワイヤ12,13の長さ方向の形状は、直線状に限られるものではなく、例えば、図3(B)に示すように、ウェッジワイヤ12,13は、円環状でもよい。図示例では、ウェッジワイヤ12,13は、同心円状に配設されている。そして、ウェッジワイヤ12は、その周方向の所定位置の上側が、気体分散板8の中央部から外周方向に延びるワイヤ連結部材16に固定されている。また、図示は省略するが、本実施形態では、ウェッジワイヤ13も、その周方向の所定位置の下側が、内外周方向に延びるワイヤ連結部材に固定されている。
In addition, the shape of the
本実施形態では、ウェッジワイヤ12が、不図示の駆動機構によってワイヤ連結部材15を介して駆動され、上下方向に移動する。
In the present embodiment, the
図2(A)の状態では、ウェッジワイヤ12,13は、上下方向で同じ位置に配置されている。この状態で、ウェッジワイヤ12,13の間の隙間(クリアランス)は、例えば50〜100μmである。この状態で、下部ケーシング9(図で下側)からウェッジワイヤ12,13の間の隙間を介して気体Aを処理室2(図で上側)に導入し、粉粒体Mを浮遊流動させながら、造粒、コーティング、及び乾燥のうち少なくとも一の処理を粉粒体Mに行なう。
In the state of FIG. 2A, the
そして、粉粒体Mの処理が完了した後、本実施形態では、不図示の駆動機構によって、ウェッジワイヤ12を上方向に移動し、ウェッジワイヤ12,13の間の隙間を広くして図2(B)の状態にする。図2(B)の状態のウェッジワイヤ12,13の間の隙間は、粉粒体Mが通過可能な大きさである。従って、粉粒体Mは、自重によって、処理室2(図で上側)からウェッジワイヤ12,13の間の隙間を介して下部ケーシング9(図で下側)に落下し、これによって、粉粒体Mは、処理室2から下部ケーシング9に移送される。その後、粉粒体Mは、下部ケーシング9から不図示の排出口を介して、流動層装置から排出される。
Then, after the processing of the granular material M is completed, in the present embodiment, the
このような構成の本実施形態の流動層装置では、次のような効果を享受できる。 The fluidized bed apparatus of the present embodiment having such a configuration can enjoy the following effects.
ウェッジワイヤ12,13の間の隙間に粉粒体Mが詰まった場合でも、隙間を調整して、この詰まった粉粒体Mを排出することが可能である。従って、本実施形態の流動層装置では、気体分散板8の目詰まりを抑制することが可能である。更には、これにより、本実施形態の流動層装置では、連続生産が可能となる。
Even when the granular material M is clogged in the gap between the
また、気体分散板8を回転させることなく、処理室2から下部ケーシング9へ粉粒体Mを移送することができる。このため、気体分散板8を回転させるための大掛かりな機構を不要とすることができ、製造コストを低減できる。
Further, the granular material M can be transferred from the
また、隙間を調整することによって気体分散板8の開口率を大きくすることができ、これにより、洗浄性を向上することが可能となる。
In addition, the opening ratio of the
また、隙間を調整することにより粉粒体Mの種類に適した気体分散板8の開口率に任意に変更することができる。そして、この開口率の変更は、粉粒体Mの処理中でも可能である。
Moreover, it can change arbitrarily to the aperture ratio of the gas dispersion |
次に、第2実施形態の気体分散板8について説明する。
Next, the
第2実施形態が第1実施形態と異なる点は、ウェッジワイヤ12を、長さ方向に沿った軸を中心として回転可能としたことである。例えば図4(A)の状態では、ウェッジワイヤ12,13のウェッジの先端の向きは同じ(下向き)である。この状態から、ウェッジワイヤ12を所定の角度で所定の軸を中心にして時計回りに回転させると、図4(B)に示すように、ウェッジワイヤ12は傾斜する。なお、本実施形態では、図5に示すように、ウェッジワイヤ12,13は円弧状(同心円の円弧)である。
The second embodiment is different from the first embodiment in that the
ウェッジワイヤ12を所定の角度で回転させるための機構の一例を図5〜7に示す。気体分散板8の下方には、平面視でウェッジワイヤ12,13に直行し、横方向に延びる往復軸17が配設されている。往復軸17の一端は、周壁14の外側に配置されたアクチュエータ18の駆動軸18aに取り付けられている。駆動軸18aは、アクチュエータ18から周壁14をスライド自在に貫通して周壁14の内部に延びている。往復軸17は、アクチュエータ18の駆動軸18aの駆動によって横方向に往復動作をさせられる。往復軸17には、所定間隔で、上下方向に延びる案内板17aが複数設けられている。案内板17aには、上下方向に延びる長穴17bが形成されている。
An example of a mechanism for rotating the
一方、ウェッジワイヤ12は、ウェッジワイヤ12の長さ方向に延びる搖動軸19に回転自在に取り付けられている。搖動軸19の長さ方向の両端は、周壁14の内側を扇形状に複数(図示例は4つ)に分割する分割部材20に固定されている。そして、ウェッジワイヤ12の長さ方向中央のウェッジの先端には、切欠き12aが設けられており、その切欠き12aの両側壁には、被案内軸12bが固定されている。この被案内軸12bは、往復軸17の案内板17aの長穴17bにスライド自在に挿通されている。なお、搖動軸19は、図6(A)で、ウェッジワイヤ12の左斜め上方に位置する。
On the other hand, the
アクチュエータ18により往復軸17を横方向に往復動させると、これに伴い、ウェッジワイヤ12の切欠き12a内の被案内軸12bが、案内板17aの長穴17bに案内され、これにより、ウェッジワイヤ12が、搖動軸19を中心として搖動(回動)する。
When the reciprocating
第2実施形態の気体分散板8では、気体分散板8を介して処理室2に導入される気体Aに指向性を持たせることができる。例えば図4(A)の状態では、矢印で示すように、処理室2内で気体Aは上方に噴出するが、図4(B)の状態では、矢印で示すように、処理室2内で気体Aは斜め上方に噴出する。これにより、粉粒体Mの流動状態に変化を与えることができるので、粉粒体Mの処理効率を向上でき、例えば重質な造粒物を製造することができる。例えば、本実施形態(図5の図示例)であれば、処理室2内で、気体分散板8の中央の上方に向かう(集まる)ように気体Aに指向性を持たせることができる。また、粉粒体Mを側面排出できるように、気体Aに指向性を持たせることも可能である。
In the
なお、気体分散板8のウェッジワイヤ12,13は円弧状に限定されるものではなく、図8に例示するような直線状であってもよい。この場合、搖動軸19は、周壁14に固定される。
The
次に、第3実施形態の気体分散板8について説明する。
Next, the
第3実施形態が第2実施形態と異なる点は、ウェッジワイヤ12について、搖動(回動)のような1回転未満の回転ではなく、1回転以上の回転を可能としたことである。例えば図9(A)の状態では、ウェッジワイヤ12,13のウェッジの先端の向きは同じである。この状態から、ウェッジワイヤ12を所定の角度で時計回りに回転させると、図9(B)に示す状態となり、更にウェッジワイヤ12を所定の角度で時計回りに回転させると図9(C)に示す状態となり、更にウェッジワイヤ12を所定の角度で時計回りに回転させると図9(D)に示す状態となる。
The third embodiment is different from the second embodiment in that the
ウェッジワイヤ12を1回転以上回転させるための機構の一例を図10に示す。ウェッジワイヤ12の長さ方向の両端面のそれぞれには、周壁14に対して回転自在に挿通されたピン21の一端が固定されている。ピン21の回転軸は、ウェッジワイヤ12の長さ方向に沿っている。ピン21の他端面21aには、ドライバと係合する係合穴21bが設けられている。そして、ウェッジワイヤ12を回転させる場合には、ピン21の他端面21aの係合穴21bにドライバを係合させて回転させる。そして、ウェッジワイヤ12を所定の回転角度で固定する場合には、ピン21の他端面21aを周壁14に対して、例えば膨張シール等の固定手段で固定する。本実施形態では、ピン21の他端面21aと周壁14の外周面は、略同一面上である。
An example of a mechanism for rotating the
勿論、ウェッジワイヤ12を回転させる機構は、これに限定されず、例えば、ピン21の他端部を周壁14から突出させ、この突出した他端部を、チェーン等を介してアクチュエータにより回転及び固定させることも可能である。この場合には、複数のウェッジワイヤ12を同期して回転及び停止させることができる。
Of course, the mechanism for rotating the
第3実施形態の気体分散板8では、ウェッジワイヤ12の回転を1回転以上とすることによって開口率を大きく変えられるので、粉粒体Mを処理室2から隙間を介して下部ケーシング9に落下させたり、ウェッジワイヤ12,13間の隙間に詰まった粉粒体Mを洗浄したりすることが容易となる。
In the
上記実施形態では、ウェッジワイヤ12,13のうち、ウェッジワイヤ12を可動としていたが、ウェッジワイヤ13を可動としてもよく、また、ウェッジワイヤ12,13の双方を可動としてもよい。
In the above-described embodiment, the
また、上記実施形態では、気体分散板8に使用する第1及び第2部材をウェッジワイヤとしていたが、本発明は、これに限定されるものではない。例えば、断面の形状が、矩形状、三角形状、円形状、楕円形状、卵形状等の線材や棒材であってもよく、また、板材であってもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the 1st and 2nd member used for the
本発明は、上記実施形態に限定されず、例えば、次のような態様でも使用可能である。通常、流動層装置では、下部ケーシング9の上流に給気用のダンパを設け、この給気用ダンパによって、気体分散板8を介して処理室2内に導入される気体Aの流量又は圧力を調節している。本発明では、この給気用ダンパの代用として、ウェッジワイヤ12とウェッジワイヤ13の間の隙間の調整で気体分散板8の開口率を変化させることによって、気体分散板8を介して処理室2内に導入される気体Aの流量又は圧力を調節することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and can be used in the following aspects, for example. Usually, in a fluidized bed apparatus, a damper for supplying air is provided upstream of the
更に、本発明では、ウェッジワイヤ12とウェッジワイヤ13の間の隙間の調整で気体分散板8の開口率を連続的に変化させることによって、気体分散板8を介して処理室2内に導入される気体Aの流量又は圧力を周期的に変化させ、この気体Aをいわゆる脈動波(脈動流)としてもよい。これにより、処理室2内の粉粒体の流動を促進することができ、例えば製品の歩留りや処理効率等を向上することができる。
Further, in the present invention, the opening ratio of the
また、上記実施形態では、一般的な流動層装置を例にして説明したが、本発明は、これに限定されず、処理室の底部に気体を導入するための気体分散板を備えた流動層装置であればよい。例えば、ワースター式流動層装置等の複合型流動層装置であってもよい。 In the above embodiment, a general fluidized bed apparatus has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the fluidized bed includes a gas dispersion plate for introducing gas to the bottom of the processing chamber. Any device may be used. For example, a composite fluidized bed apparatus such as a Wurster fluidized bed apparatus may be used.
次に、ワースター式流動層装置への本発明の適用例を説明する。ワースター式流動層装置が、上記実施形態の流動層装置と大きく異なる点は、図11に示すように、処理室2の内部にドラフトチューブ22(内筒)が設置されており、その内部に、上方にスプレー液を噴霧するスプレーノズル23が設置されている点である。そして、粉粒体は、ドラフトチューブ22の内部を上昇し、流動層容器1の内壁とドラフトチューブ22の外側との間の空間を下降する循環流動を行う。
Next, an application example of the present invention to a Wurster fluidized bed apparatus will be described. The Worster fluidized bed apparatus is greatly different from the fluidized bed apparatus of the above embodiment in that a draft tube 22 (inner cylinder) is installed inside the
図12に模式的に示すように、ワースター式流動層装置では、気体分散板8は、ドラフトチューブ22の下端開口と対向する中央領域R1と、中央領域R1の周辺(外周側)の周辺領域R2とを備える。中央領域R1と周辺領域R2は、上記実施形態と同様に、ウェッジワイヤ12とウェッジワイヤ13で構成されている。
As schematically shown in FIG. 12, in the Wurster-type fluidized bed apparatus, the
そして、ウェッジワイヤ12とウェッジワイヤ13の間の隙間の調整によって、中央領域R1と周辺領域R2の開口率あるいは指向性を個別に制御する。これにより、ワースター式流動層装置の運転中に、粉粒体の状態変化に対応して、中央領域R1と周辺領域R2の開口率や指向性を適切なものとすることができる。
Then, by adjusting the gap between the
更に、ウェッジワイヤ12とウェッジワイヤ13の間の隙間の調整で中央領域R1と周辺領域R2のそれぞれの開口率を連続的に変化させることによって、中央領域R1と周辺領域R2のそれぞれを介して処理室2内に導入される気体Aを脈動波(脈動流)としてもよい。これにより、ドラフトチューブ22の内外の粉粒体の流動を促進することができ、例えば製品の歩留まりや処理効率等を向上することができる。
Further, by adjusting the gap between the
1 流動層容器
2 処理室
8 気体分散板
12,13 ウェッジワイヤ
19 搖動軸
21 ピン
A 気体
M 粉粒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (7)
前記気体分散板が、所定の間隔で配設された複数の第1部材と、該第1部材との間に隙間を形成するように配設された複数の第2部材とを備え、
前記第1部材と前記第2部材のうち少なくとも一方を可動とし、前記隙間を調整可能としたことを特徴とする流動層装置。 A processing chamber containing the powder and a gas dispersion plate disposed at the bottom of the processing chamber, and floating the powder by the gas introduced into the processing chamber through the gas dispersion plate However, in a fluidized bed apparatus that performs at least one treatment of granulation, coating, and drying on a granular material,
The gas dispersion plate includes a plurality of first members disposed at a predetermined interval, and a plurality of second members disposed so as to form a gap between the first members,
A fluidized bed apparatus, wherein at least one of the first member and the second member is movable and the gap is adjustable.
前記気体分散板が、ドラフトチューブの下端開口と対向する中央領域と、該中央領域の周辺の周辺領域とを備え、
前記隙間の調整によって、前記中央領域と前記周辺領域の開口率あるいは指向性を個別に制御可能としたことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の流動層装置。 The fluidized bed apparatus is a Wurster fluidized bed apparatus equipped with a draft tube in the processing chamber,
The gas dispersion plate comprises a central region facing the lower end opening of the draft tube, and a peripheral region around the central region,
The fluidized bed apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein an aperture ratio or directivity of the central region and the peripheral region can be individually controlled by adjusting the gap.
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5666639U (en) * | 1979-10-19 | 1981-06-03 | ||
JPS57140836U (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | ||
JPS607930A (en) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Okawara Mfg Co Ltd | Fluidized bed capable of causing swirl-fluidization |
JPS6382431U (en) * | 1986-11-18 | 1988-05-30 | ||
JPS6457071A (en) * | 1987-06-05 | 1989-03-03 | Heeren Tefuniiku Bv | Device for cooling and/or drying bulk cargo |
JPS6467250A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-13 | Sumitomo Pharma | Gas rectifier |
JP2009056434A (en) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Teruhisa Hasegawa | Fluidized bed apparatus |
-
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- 2013-12-06 JP JP2013253228A patent/JP6162035B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5666639U (en) * | 1979-10-19 | 1981-06-03 | ||
JPS57140836U (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | ||
JPS607930A (en) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Okawara Mfg Co Ltd | Fluidized bed capable of causing swirl-fluidization |
JPS6382431U (en) * | 1986-11-18 | 1988-05-30 | ||
JPS6457071A (en) * | 1987-06-05 | 1989-03-03 | Heeren Tefuniiku Bv | Device for cooling and/or drying bulk cargo |
JPS6467250A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-13 | Sumitomo Pharma | Gas rectifier |
JP2009056434A (en) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Teruhisa Hasegawa | Fluidized bed apparatus |
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