JP2015107516A - Cutting device and method - Google Patents

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輝夫 瀬川
Teruo Segawa
輝夫 瀬川
学 大道
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学 大道
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cutting device and method, which can prevent adhering of cut dust to a formed part when cutting a base material to form the formed part.SOLUTION: A cutting device has a cutting member, a first shield member, a second shield member, a seal member, a collection part and a control part. The first shield member encloses the circumference between the cutting member and a cut part of a base material and shields them in a state of freely taking in outside air. The second shield member encloses a distant side from the cut part of the base material with respect to the cutting member and shields the same in a state of freely taking in outside air. The seal member is arranged to freely approach to and separate from the first shield member or the second shield member and seals between the first shield member and the cut part or between the cut part and the second shield member. The collection part sucks in and collects cut dust of the base material via the insides of the first shield member and the second shield member, respectively, and sucks in and collects cut pieces via the inside of the first shield member or the second shield member.

Description

本発明は、切断装置および切断方法に関する。   The present invention relates to a cutting device and a cutting method.

従来から、例えば電気デバイスの構成部材に相当する成形品を、長尺状の基材を連続的に切断して成形する装置がある。このような装置には、基材の切断時に発生する塵を集塵して、その塵が成形品に付着することを防ぐものがある。例えば、切断部位の周囲をシャッターで囲い、そのシャッターを回転させて上昇気流を形成し塵を吸引する構成が開示されている(特許文献1参照。)。   2. Description of the Related Art Conventionally, there is an apparatus for forming a molded product corresponding to, for example, a constituent member of an electric device by continuously cutting a long base material. Some of these apparatuses collect dust generated when a substrate is cut and prevent the dust from adhering to a molded product. For example, a configuration is disclosed in which the periphery of a cutting site is surrounded by a shutter, and the shutter is rotated to form an ascending air current and suck dust (see Patent Document 1).

特開2007−301716号公報JP 2007-301716 A

しかしながら、上記特許文献1の構成では、基材を切断して成形品を成形するときに、成形品に対する切断塵の付着を十分に防止することが困難である。すなわち、基材の切断部位の近傍と、基材の切断部位よりも切断部材に対して遠位側は、外部に露出していることから、十分に集塵を行うことが困難である。切断塵が付着した成形品を他の構成部材と積層すると、切断塵が成形品または構成部材を押圧して損傷させてしまう虞がある。   However, in the configuration of Patent Document 1, it is difficult to sufficiently prevent cutting dust from adhering to the molded product when the molded product is molded by cutting the base material. That is, it is difficult to sufficiently collect dust because the vicinity of the cutting site of the base material and the distal side of the cutting member relative to the cutting member are exposed to the outside. When a molded product to which cutting dust adheres is laminated with another constituent member, the cutting dust may press the molded product or the constituent member to cause damage.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、基材を切断して成形品を成形するときに、成形品に切断塵が付着することを防止できる切断装置および切断方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and includes a cutting apparatus and a cutting method that can prevent cutting dust from adhering to a molded product when the molded product is molded by cutting the substrate. For the purpose of provision.

上記目的を達成する本発明に係る切断装置は、長尺状の基材を切断して成形品を成形する装置である。切断装置は、切断部材、第1遮蔽部材、第2遮蔽部材、封止部材、回収部、および制御部を有している。切断部材は、隣り合う成形品との間に切断片を発生させるように基材を切断する。第1遮蔽部材は、切断部材と基材の切断部位との間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。第2遮蔽部材は、基材の切断部位よりも切断部材に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。封止部材は、第1遮蔽部材または第2遮蔽部材に対して接近離間自在に配設し、第1遮蔽部材と切断部位との間または切断部位と第2遮蔽部材との間を封止する。回収部は、基材の切断塵を第1遮蔽部材および第2遮蔽部材の内部を介してそれぞれ吸引して回収しつつ、切断片を第1遮蔽部材または第2遮蔽部材の内部を介して吸引して回収する。制御部は、切断部材に基材を切断させ、封止部材に第1遮蔽部材と切断部位との間または切断部位と第2遮蔽部材との間を封止させ、回収部に第1遮蔽部材および第2遮蔽部材の内部を吸引させる。   The cutting device according to the present invention that achieves the above object is a device that cuts a long base material to form a molded product. The cutting device includes a cutting member, a first shielding member, a second shielding member, a sealing member, a recovery unit, and a control unit. A cutting member cut | disconnects a base material so that a cut piece may be generated between adjacent molded articles. A 1st shielding member surrounds the circumference | surroundings between a cutting member and the cutting site | part of a base material, and shields it in the state which can take in external air. The second shielding member surrounds the distal side relative to the cutting member with respect to the cutting portion of the base material and shields the air in a state in which outside air can be taken in. The sealing member is disposed so as to be close to and away from the first shielding member or the second shielding member, and seals between the first shielding member and the cutting site or between the cutting site and the second shielding member. . The collecting unit sucks and collects the cut dust of the base material through the inside of the first shielding member and the second shielding member, and sucks the cut piece through the inside of the first shielding member or the second shielding member. And collect. The control unit causes the cutting member to cut the base material, causes the sealing member to seal between the first shielding member and the cutting site, or between the cutting site and the second shielding member, and causes the recovery unit to perform the first shielding member. The inside of the second shielding member is sucked.

上記目的を達成する本発明に係る切断方法は、長尺状の基材を切断して成形品を成形する方法である。切断方法は、遮蔽工程、切断工程、封止工程、および回収工程を有している。遮蔽工程は、基材の切断部位を一面の側から囲って遮蔽する第1遮蔽領域と、切断部位を一面と対向した他面の側から囲って遮蔽する第2遮蔽領域とを、それぞれ外気を取り込み自在な状態において形成する。切断工程は、隣り合う成形品との間に切断片を発生させるように切断部位を切断する。封止工程は、第1遮蔽領域と切断部位との間または切断部位と第2遮蔽領域との間を封止する。回収工程は、第1遮蔽領域および第2遮蔽領域にそれぞれ存在する基材の切断塵を異なる流路によって吸引して回収しつつ、第1遮蔽領域または第2遮蔽領域に存在する切断片を吸引して回収する。   The cutting method according to the present invention that achieves the above object is a method of forming a molded product by cutting a long substrate. The cutting method has a shielding process, a cutting process, a sealing process, and a recovery process. In the shielding step, the first shielding region that shields the cutting portion of the base material from one side and the second shielding region that shields and surrounds the cutting portion from the side of the other surface facing the one surface, respectively. It is formed in a state where it can be taken in freely. A cutting process cut | disconnects a cutting | disconnection site | part so that a cutting piece may be generated between adjacent molded articles. The sealing step seals between the first shielding region and the cutting site or between the cutting site and the second shielding region. The collecting step sucks the cut pieces present in the first shielding region or the second shielding region while sucking and collecting the cutting dust of the base material present in each of the first shielding region and the second shielding region through different flow paths. And collect.

本発明の切断装置および切断方法では、基材を両面から別個に遮蔽し、その基材を切断してから切断部位を封止して、切断部位の両側から別個に切断塵を吸引しつつ、いずれか一方の側から切断片を吸引する。すなわち、切断部位の両側を独立してそれぞれ吸引することによって、切断部位の両側からそれぞれ切断塵を除去する。したがって、基材を切断して成形品を成形するときに、切断片を除去した上で成形品に切断塵が付着することを防止できる。   In the cutting apparatus and the cutting method of the present invention, the base material is shielded separately from both sides, the base material is cut and then the cutting part is sealed, and the cutting dust is sucked separately from both sides of the cutting part, Suction the piece from either side. That is, cutting dust is removed from both sides of the cutting site by suctioning both sides of the cutting site independently. Therefore, when cutting a base material and shape | molding a molded product, after removing a cut piece, it can prevent that cutting dust adheres to a molded product.

切断装置によってセラミックセパレータ用基材を切断する状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state which cut | disconnects the base material for ceramic separators with a cutting device. 第1実施形態に係る切断装置を示す斜視図である。It is a perspective view showing the cutting device concerning a 1st embodiment. 図2の要部を分解して示す斜視図である。It is a perspective view which decomposes | disassembles and shows the principal part of FIG. 図2の要部をA−A’線に沿って分解して示しつつセラミックセパレータ用基材の図示を省略した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view in which the main part of FIG. 2 is shown exploded and taken along the line A-A ′ while the ceramic separator substrate is not shown. 第1実施形態に係る遮蔽工程および切断工程を示す図である。It is a figure which shows the shielding process and cutting process which concern on 1st Embodiment. 遮蔽工程および切断工程の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of a shielding process and a cutting process. 封止工程および回収工程を示す図である。It is a figure which shows a sealing process and a collection process. 搬送工程と封止工程および回収工程を示す図である。It is a figure which shows a conveyance process, a sealing process, and a collection | recovery process. 除電工程を示す図である。It is a figure which shows a static elimination process. 第1実施形態の変形例1に係る一の切断装置の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of the one cutting device which concerns on the modification 1 of 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例1に係る他の切断装置の要部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the principal part of the other cutting device which concerns on the modification 1 of 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例2に係る切断装置の要部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of the cutting device which concerns on the modification 2 of 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例3に係る切断装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the cutting device which concerns on the modification 3 of 1st Embodiment. 第2実施形態に係る切断装置の要部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of the cutting device which concerns on 2nd Embodiment.

以下、添付した図面を参照しながら、本発明に係る第1および第2実施形態について説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図面における部材の大きさや比率は、説明の都合上誇張され実際の大きさや比率とは異なる場合がある。図2〜図14において、X、Y、およびZで表す矢印を用いて、方位を示している。Xで表す矢印の方向は、セラミックセパレータ用基材10の搬送方向Xを示している。Yで表す矢印の方向は、搬送方向Xと交差した交差方向Yを示している。Zで表す矢印の方向は、移載部180におけるセラミックセパレータ11の積層方向Zを示している。   Hereinafter, first and second embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. The sizes and ratios of the members in the drawings are exaggerated for convenience of explanation and may be different from the actual sizes and ratios. In FIGS. 2 to 14, the azimuth is indicated by using arrows represented by X, Y, and Z. The direction of the arrow represented by X indicates the conveyance direction X of the ceramic separator substrate 10. The direction of the arrow represented by Y indicates the crossing direction Y that intersects the transport direction X. The direction of the arrow represented by Z indicates the stacking direction Z of the ceramic separator 11 in the transfer unit 180.

(第1実施形態)
長尺状の基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形する切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置100について、図1〜図9を参照しながら説明する。
(First embodiment)
1 to FIG. 1 show a cutting method for cutting a long base material (for example, ceramic separator base material 10) to form a molded product (for example, ceramic separator 11), and a cutting apparatus 100 that embodies the cutting method. This will be described with reference to FIG.

先ず、切断装置100の要部について、図1を参照しながら説明する。   First, the principal part of the cutting device 100 will be described with reference to FIG.

図1は、切断装置100によってセラミックセパレータ用基材10を切断する状態を示す模式図である。   FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a state in which the ceramic separator substrate 10 is cut by the cutting device 100.

切断装置100は、長尺状の基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形する装置である。切断装置100は、切断部材(レーザー発振器111に相当)、第1遮蔽部材(カバー121に相当)、第2遮蔽部材(箱状ダクト131に相当)、封止部材(シャッター141に相当)、回収部150、および制御部190を有している。   The cutting device 100 is a device that cuts a long base material (for example, the ceramic separator base material 10) to form a molded product (for example, the ceramic separator 11). The cutting device 100 includes a cutting member (corresponding to the laser oscillator 111), a first shielding member (corresponding to the cover 121), a second shielding member (corresponding to the box-shaped duct 131), a sealing member (corresponding to the shutter 141), a recovery Part 150 and control part 190.

レーザー発振器111は、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるようにセラミックセパレータ用基材10を切断する。   The laser oscillator 111 cuts the ceramic separator substrate 10 so as to generate the end material 12 between the adjacent ceramic separators 11.

カバー121は、レーザー発振器111とセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sとの間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。   The cover 121 surrounds the periphery between the laser oscillator 111 and the cut portion 10s of the ceramic separator substrate 10 and shields the air in a state in which outside air can be taken in.

箱状ダクト131は、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sよりもレーザー発振器111に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。   The box-shaped duct 131 surrounds the distal side with respect to the laser oscillator 111 with respect to the cutting portion 10s of the ceramic separator substrate 10 and shields it in a state in which outside air can be taken in.

シャッター141は、図1(A)に示す構成において、カバー121に対して接近離間自在に配設し、カバー121と切断部位10sの間を封止する。一方、シャッター141は、図1(B)に示す構成において、箱状ダクト131に対して接近離間自在に配設し、切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止する。   In the configuration shown in FIG. 1A, the shutter 141 is disposed so as to be close to and away from the cover 121, and seals between the cover 121 and the cut portion 10s. On the other hand, in the configuration shown in FIG. 1B, the shutter 141 is disposed so as to be able to approach and separate from the box-shaped duct 131 and seals between the cutting site 10 s and the box-shaped duct 131.

回収部150は、セラミックセパレータ用基材10の切断粉13をカバー121および箱状ダクト131の内部を介してそれぞれ吸引して回収する。さらに、回収部150は、図1(A)に示す構成において、端材12を箱状ダクト131の内部を介して吸引して回収する。一方、回収部150は、図1(B)に示す構成において、端材12をカバー121の内部を介して吸引して回収する。   The collection unit 150 collects the cut powder 13 of the ceramic separator substrate 10 by suction through the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131. Furthermore, the collection | recovery part 150 attracts | sucks and collects the end material 12 through the inside of the box-shaped duct 131 in the structure shown to FIG. 1 (A). On the other hand, in the configuration shown in FIG. 1B, the collection unit 150 collects the end material 12 by sucking it through the inside of the cover 121.

制御部190は、レーザー発振器111、シャッター141、および回収部150の作動を制御する。ここで、制御部190は、図1(A)に示す構成において、レーザー発振器111にセラミックセパレータ用基材10を切断させ、シャッター141にカバー121と切断部位10sとの間を封止させ、回収部150にカバー121および箱状ダクト131の内部を吸引させる。一方、制御部190は、図1(B)に示す構成において、レーザー発振器111にセラミックセパレータ用基材10を切断させ、シャッター141に切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止させ、回収部150にカバー121および箱状ダクト131の内部を吸引させる。   The control unit 190 controls the operations of the laser oscillator 111, the shutter 141, and the recovery unit 150. Here, in the configuration shown in FIG. 1A, the control unit 190 causes the laser oscillator 111 to cut the ceramic separator base material 10 and causes the shutter 141 to seal between the cover 121 and the cutting site 10s for recovery. The part 150 sucks the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131. On the other hand, in the configuration shown in FIG. 1B, the control unit 190 causes the laser oscillator 111 to cut the ceramic separator base material 10 and causes the shutter 141 to seal between the cut portion 10s and the box-shaped duct 131. The collection unit 150 sucks the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131.

次に、切断装置100の構成について、図2〜図4を参照しながら説明する。   Next, the configuration of the cutting device 100 will be described with reference to FIGS.

図2は、切断装置100を示す斜視図である。図3は、図2の要部を分解して示す斜視図である。図4は、図2の要部をA−A’線に沿って分解して示しつつセラミックセパレータ用基材10の図示を省略した断面図である。   FIG. 2 is a perspective view showing the cutting device 100. FIG. 3 is an exploded perspective view showing a main part of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view in which the main part of FIG. 2 is shown exploded along the line A-A ′ while the ceramic separator substrate 10 is not shown.

切断装置100は、切断部110、第1遮蔽部120、第2遮蔽部130、封止部140、回収部150、および制御部190に加えて、除電部160、搬送部170、および移載部180を設けている。   In addition to the cutting unit 110, the first shielding unit 120, the second shielding unit 130, the sealing unit 140, the recovery unit 150, and the control unit 190, the cutting device 100 includes a static elimination unit 160, a transport unit 170, and a transfer unit. 180 is provided.

切断部110は、図2〜図4に示し、レーザー発振器111によって、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるようにセラミックセパレータ用基材10を切断する。   2 to 4, the cutting unit 110 cuts the ceramic separator substrate 10 by the laser oscillator 111 so that the end material 12 is generated between the adjacent ceramic separators 11.

切断部110は、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10と対向し、第1遮蔽部120と積層方向Zに沿って隣接するように配設している。切断部110は、レーザー発振器111を備えている。   The cutting part 110 is disposed so as to face the ceramic separator substrate 10 conveyed by the conveying part 170 and to be adjacent to the first shielding part 120 along the stacking direction Z. The cutting unit 110 includes a laser oscillator 111.

レーザー発振器111は、セラミックセパレータ用基材10に集光したレーザー光L1を照射して切断する。レーザー発振器111は、例えば炭酸ガスレーザー発振器に相当する。レーザー発振器111は、第1遮蔽部120の筺体123に接合している。レーザー発振器111は、内部に設けたガルバノミラーによって、レーザー光L1を搬送方向Xおよび交差方向Yに走査する。レーザー発振器111は、図4に示す出射口111aから導出させたレーザー光L1を、筺体123に一端123aに開口した長尺状の開口123cを介して、図3に示すセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sに照射する。セラミックセパレータ用基材10を通過したレーザー光L1は、第2遮蔽部130の箱状ダクト131に入射して減衰する。   The laser oscillator 111 irradiates and cuts the laser beam L1 condensed on the ceramic separator substrate 10. The laser oscillator 111 corresponds to, for example, a carbon dioxide laser oscillator. The laser oscillator 111 is bonded to the housing 123 of the first shielding unit 120. The laser oscillator 111 scans the laser light L1 in the transport direction X and the cross direction Y by a galvanometer mirror provided inside. The laser oscillator 111 transmits the laser light L1 derived from the emission port 111a shown in FIG. 4 to the ceramic separator substrate 10 shown in FIG. 3 through a long opening 123c opened in the housing 123 at one end 123a. Irradiate the cut site 10s. The laser light L1 that has passed through the ceramic separator substrate 10 is incident on the box-shaped duct 131 of the second shielding part 130 and attenuates.

第1遮蔽部120は、図2〜図4に示し、カバー121等によって、レーザー発振器111とセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sとの間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。   The first shielding part 120 is shown in FIGS. 2 to 4, and surrounds the periphery between the laser oscillator 111 and the cutting part 10 s of the ceramic separator base material 10 by the cover 121 and the like, and shields in a state in which outside air can be taken in. To do.

第1遮蔽部120において、外気を取り込み自在とは、それらの領域が完全な密閉状態ではなく、外部から内部に流体の流通が可能であることを示す。すなわち、第1遮蔽部120は、回収部150によって吸引されることによって内部が減圧等されると、外部から内部に向かって空気を流入させることができる。   In the first shielding part 120, being able to take in outside air means that these regions are not completely sealed and fluid can flow from the outside to the inside. That is, when the inside of the first shielding part 120 is depressurized by being sucked by the collecting part 150, air can flow from the outside toward the inside.

第1遮蔽部120は、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10を挟持するように、積層方向Zに沿って第2遮蔽部130と対向して配設している。第1遮蔽部120は、カバー121、密閉リング122、筺体123、支持板124、支柱125、およびZ軸直動ステージ126を備えている。   The first shielding unit 120 is disposed facing the second shielding unit 130 along the stacking direction Z so as to sandwich the ceramic separator substrate 10 conveyed by the conveying unit 170. The first shielding unit 120 includes a cover 121, a sealing ring 122, a housing 123, a support plate 124, a column 125, and a Z-axis linear motion stage 126.

カバー121は、切断部110による切断部位10sの切断時に発生した切断粉13が飛散してセラミックセパレータ用基材10やセラミックセパレータ11に付着することを防止する。カバー121は、枠形状からなり、積層方向Zに沿った一端121aから他端121bまで貫通している。カバー121は、搬送方向Xの上流側に臨む側面にスリット状の挿通口121cを備え、封止部140のシャッター141を搬送方向Xに沿って挿通自在にしている。挿通口121cは、交差方向Yに沿って長尺状に延在し、シャッター141の側面よりも若干大きく形成している。   The cover 121 prevents the cutting powder 13 generated at the time of cutting the cutting site 10 s by the cutting part 110 from scattering and adhering to the ceramic separator substrate 10 or the ceramic separator 11. The cover 121 has a frame shape and penetrates from one end 121a along the stacking direction Z to the other end 121b. The cover 121 includes a slit-shaped insertion port 121c on the side facing the upstream side in the transport direction X, and allows the shutter 141 of the sealing unit 140 to be inserted along the transport direction X. The insertion port 121 c extends in a long shape along the intersecting direction Y and is formed to be slightly larger than the side surface of the shutter 141.

密閉リング122は、カバー121とセラミックセパレータ用基材10の間の隙間を密閉する。さらに、密閉リング122は、切断部110によってセラミックセパレータ用基材10を切断するときに切断部位10sが位置ずれしないように、切断部位10sの周囲を押圧する。密閉リング122は、伸縮性を備えたテフロンからなる。密閉リング122は、無端形状に形成し、切り欠きを備えている。密閉リング122は、その切り欠き部分に接着剤を塗布した上で、カバー121の一端121aの外周縁に挿入して、カバー121と接合している。   The sealing ring 122 seals the gap between the cover 121 and the ceramic separator substrate 10. Furthermore, the sealing ring 122 presses the periphery of the cutting part 10s so that the cutting part 10s is not displaced when the ceramic separator substrate 10 is cut by the cutting part 110. The sealing ring 122 is made of Teflon having elasticity. The sealing ring 122 is formed in an endless shape and includes a notch. The sealing ring 122 is bonded to the cover 121 by applying an adhesive to the cutout portion and then inserting it into the outer peripheral edge of one end 121 a of the cover 121.

筺体123は、切断部110のレーザー発振器111とカバー121との間を遮蔽しつつ、積層方向Zに沿って移動するカバー121を支持する。筺体123は、積層方向Zの一端123aを封止した枠形状からなる。筺体123の一端123aにレーザー発振器111を接合し、筺体123の他端123bにカバー121の他端121bを挿通している。筺体123の内周面に、カバー121の外周面を当接させている。筺体123の一端123aに、レーザー発振器111のレーザー光L1を通す長尺状の開口123cを備えている。開口123cは、交差方向Yに沿って長尺状に延在している。筺体123は、搬送方向Xの下流側に臨む側面に円形状の廃棄口123dを備え、回収部150の第1円筒状ダクト151の一端を連通している。   The casing 123 supports the cover 121 that moves along the stacking direction Z while shielding the space between the laser oscillator 111 and the cover 121 of the cutting unit 110. The casing 123 has a frame shape in which one end 123a in the stacking direction Z is sealed. The laser oscillator 111 is joined to one end 123 a of the casing 123, and the other end 121 b of the cover 121 is inserted into the other end 123 b of the casing 123. The outer peripheral surface of the cover 121 is brought into contact with the inner peripheral surface of the casing 123. A long opening 123c through which the laser beam L1 of the laser oscillator 111 passes is provided at one end 123a of the casing 123. The opening 123c extends in a long shape along the intersecting direction Y. The casing 123 includes a circular disposal port 123d on the side surface facing the downstream side in the transport direction X, and communicates with one end of the first cylindrical duct 151 of the collection unit 150.

筺体123、カバー121、および密閉リング122は、積層方向Zに沿って一体の遮蔽部材を構成する。すなわち、筺体123、カバー121、および密閉リング122は、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射によって切断部位10sから全方位に飛散した切断粉13のうち、レーザー発振器111の側に反射するように飛散した切断粉13を捉える。切断粉13は、回収部150の廃棄口123dから第1円筒状ダクト151を介して吸引されて除去される。筺体123は、カバー121をベローズの構成を用いて連結することによって、カバー121がセラミックセパレータ用基材10の傾斜等に依存せずに十分に接触するように構成してもよい。   The casing 123, the cover 121, and the sealing ring 122 constitute an integral shielding member along the stacking direction Z. That is, the casing 123, the cover 121, and the sealing ring 122 are scattered so as to be reflected toward the laser oscillator 111 out of the cutting powder 13 scattered in all directions from the cutting site 10 s by irradiation of the laser light L 1 from the laser oscillator 111. The cut powder 13 is captured. The cutting powder 13 is sucked and removed through the first cylindrical duct 151 from the waste outlet 123d of the recovery unit 150. The casing 123 may be configured such that the cover 121 is sufficiently in contact without depending on the inclination of the ceramic separator substrate 10 by connecting the cover 121 using a bellows configuration.

支持板124および支柱125は、カバー121を積層方向Zに沿って移動させるための補助部材である。支持板124は、板状に形成している。支持板124は、カバー121の一端121aの側であって、カバー121の交差方向Yに沿った両側にそれぞれ接合している。支柱125は、円柱形状に形成している。支柱125は、一対の支持板124から積層方向Zであって筺体123の側に向かって突出するように、一対の支持板124にそれぞれ接合している。Z軸直動ステージ126は、カバー121を積層方向Zに沿って移動させる。Z軸直動ステージ126は、筺体123の交差方向Yに沿った両側にそれぞれ接合している。Z軸直動ステージ126は、支持板124を介してカバー121に連結している支柱125を積層方向Zに沿って駆動する。   The support plate 124 and the column 125 are auxiliary members for moving the cover 121 along the stacking direction Z. The support plate 124 is formed in a plate shape. The support plate 124 is joined to both ends of the cover 121 along the crossing direction Y on the one end 121a side of the cover 121. The support | pillar 125 is formed in the column shape. The struts 125 are respectively joined to the pair of support plates 124 so as to protrude from the pair of support plates 124 in the stacking direction Z toward the housing 123 side. The Z-axis linear movement stage 126 moves the cover 121 along the stacking direction Z. The Z-axis linear motion stage 126 is joined to both sides along the intersecting direction Y of the casing 123. The Z-axis linear motion stage 126 drives the support column 125 connected to the cover 121 via the support plate 124 along the stacking direction Z.

第2遮蔽部130は、図2〜図4に示し、箱状ダクト131によって、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sよりもレーザー発振器111に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。   The second shielding part 130 is shown in FIGS. 2 to 4, and the box-shaped duct 131 surrounds the distal side with respect to the laser oscillator 111 with respect to the cutting part 10 s of the ceramic separator substrate 10, and can take in outside air. Shield in state.

第2遮蔽部130において、外気を取り込み自在とは、それらの領域が完全な密閉状態ではなく、外部から内部に流体の流通が可能であることを示す。すなわち、第2遮蔽部130は、回収部150によって吸引されることによって内部が減圧等されると、外部から内部に向かって空気を流入させることができる。   In the second shielding part 130, being able to take in outside air means that these regions are not completely sealed, and fluid can flow from the outside to the inside. In other words, when the inside of the second shielding part 130 is sucked by the collecting part 150 and is depressurized, air can flow from the outside toward the inside.

第2遮蔽部130は、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10を挟持するように、積層方向Zに沿って第1遮蔽部120と対向して配設している。また、第2遮蔽部130は、搬送部170に備えられ搬送方向Xに沿って並列した一対の搬送ベルト173の間に配設している。第2遮蔽部130は、箱状ダクト131を備えている。   The second shielding unit 130 is disposed facing the first shielding unit 120 along the stacking direction Z so as to sandwich the ceramic separator substrate 10 conveyed by the conveying unit 170. The second shielding unit 130 is provided between the pair of conveyance belts 173 provided in the conveyance unit 170 and arranged in parallel along the conveyance direction X. The second shielding part 130 includes a box-shaped duct 131.

箱状ダクト131は、開口131aを介して、端材12および切断粉13を一時的に収納する。特に、箱状ダクト131は、切断部110による切断時に切断粉13が飛散してセラミックセパレータ用基材10やセラミックセパレータ11に付着することを防止する。箱状ダクト131は、長方体形状からなり、内部に空間を備えている。箱状ダクト131は、セラミックセパレータ用基材10に対向した面に矩形状からなる開口131aを備えている。開口131aの形状は、セラミックセパレータ11の端部の形状に対応している。箱状ダクト131は、交差方向Yにおける一方の側面に円形状の廃棄口131bを備え、回収部150の第2円筒状ダクト153の一端を連通している。   The box-shaped duct 131 temporarily stores the end material 12 and the cutting powder 13 through the opening 131a. In particular, the box-shaped duct 131 prevents the cutting powder 13 from scattering and adhering to the ceramic separator substrate 10 and the ceramic separator 11 when being cut by the cutting portion 110. The box-shaped duct 131 has a rectangular shape and has a space inside. The box-shaped duct 131 includes a rectangular opening 131 a on the surface facing the ceramic separator substrate 10. The shape of the opening 131 a corresponds to the shape of the end portion of the ceramic separator 11. The box-shaped duct 131 includes a circular disposal port 131b on one side surface in the intersecting direction Y, and communicates with one end of the second cylindrical duct 153 of the collection unit 150.

箱状ダクト131は、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射によって切断部位10sから離間した端材12を捉える。同様に、箱状ダクト131は、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射によって切断部位10sから全方位に飛散した切断粉13のうち、レーザー発振器111に対して切断部位10sよりも遠位側に飛散した切断粉13を捉える。さらに、箱状ダクト131は、切断部位10sを通過したレーザー光L1を、内周面で拡散反射させたり多重反射させたりすることによって十分に減衰させる。箱状ダクト131の内部に収納された端材12および切断粉13は、回収部150の廃棄口131bから第2円筒状ダクト153を介して吸引されて除去される。   The box-shaped duct 131 captures the end material 12 that is separated from the cut portion 10 s by the irradiation of the laser beam L <b> 1 by the laser oscillator 111. Similarly, the box-shaped duct 131 scatters further to the distal side than the cutting site 10 s with respect to the laser oscillator 111 out of the cutting powder 13 scattered in all directions from the cutting site 10 s by irradiation of the laser beam L <b> 1 by the laser oscillator 111. The cut powder 13 is captured. Furthermore, the box-shaped duct 131 sufficiently attenuates the laser light L1 that has passed through the cutting site 10s by causing it to diffusely reflect or multiply reflect on the inner peripheral surface. The end material 12 and the cutting powder 13 accommodated in the box-shaped duct 131 are sucked and removed from the waste outlet 131b of the recovery unit 150 through the second cylindrical duct 153.

封止部140は、図2〜図4に示し、カバー121に対してシャッター141を接近離間自在に配設し、カバー121とセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sとの間をシャッター141によって封止する。   The sealing part 140 is shown in FIGS. 2 to 4, and the shutter 141 is disposed so as to be close to and away from the cover 121, and the space between the cover 121 and the cutting part 10 s of the ceramic separator substrate 10 is provided by the shutter 141. Seal.

封止部140は、第1遮蔽部120に接合して配設している。封止部140は、シャッター141およびX軸直動ステージ142を備えている。   The sealing unit 140 is disposed so as to be bonded to the first shielding unit 120. The sealing unit 140 includes a shutter 141 and an X-axis linear motion stage 142.

シャッター141は、第1遮蔽部120の開放部分を封止する。開放部分は、第1遮蔽部120のカバー121の一端121aに相当し、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sに対面している。すなわち、シャッター141は、回収部150によって第1遮蔽部120の内部が吸引されたときに、その第1遮蔽部120の内部が減圧等されるようにする。シャッター141は、薄板状に形成している。シャッター141は、カバー121の挿通口121cに挿通し、搬送方向Xに沿って移動自在である。シャッター141が、搬送方向Xの下流側に移動すると、カバー121の下部が封止される。一方、シャッター141が、搬送方向Xの上流側に移動すると、カバー121の下部が開放される。   The shutter 141 seals the open part of the first shielding part 120. The open part corresponds to one end 121a of the cover 121 of the first shielding part 120, and faces the cutting part 10s of the ceramic separator substrate 10. That is, the shutter 141 causes the inside of the first shielding unit 120 to be depressurized when the inside of the first shielding unit 120 is sucked by the collection unit 150. The shutter 141 is formed in a thin plate shape. The shutter 141 is inserted through the insertion port 121 c of the cover 121 and is movable along the transport direction X. When the shutter 141 moves downstream in the transport direction X, the lower portion of the cover 121 is sealed. On the other hand, when the shutter 141 moves to the upstream side in the transport direction X, the lower portion of the cover 121 is opened.

X軸直動ステージ142は、シャッター141を搬送方向Xに沿って移動させる。X軸直動ステージ142は、カバー121の挿通口121cの積層方向Zに沿った図2中の上方であって、交差方向Yの両側にそれぞれ接合している。X軸直動ステージ142は、制御部190のコントローラ191に基づき、シャッター141を搬送方向Xに沿って往復させる。   The X-axis linear movement stage 142 moves the shutter 141 along the conveyance direction X. The X-axis linear movement stage 142 is joined to both sides in the intersecting direction Y above in FIG. 2 along the stacking direction Z of the insertion port 121c of the cover 121. The X axis linear movement stage 142 reciprocates the shutter 141 along the transport direction X based on the controller 191 of the control unit 190.

回収部150は、図2〜図4に示し、セラミックセパレータ用基材10の切断粉13をカバー121および箱状ダクト131の内部を介してそれぞれ吸引して回収しつつ、端材12を箱状ダクト131の内部を介して吸引して回収する。   2 to 4, the collecting unit 150 sucks and collects the cut powder 13 of the ceramic separator base material 10 through the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131 and collects the end material 12 in a box shape. The suction is collected through the inside of the duct 131.

回収部150は、第1遮蔽部120の筺体123と接続し、かつ、第2遮蔽部130の箱状ダクト131と接続して配設している。回収部150は、第1円筒状ダクト151、第1吸引器152、第2円筒状ダクト153、および第2吸引器154を備えている。   The collection unit 150 is connected to the housing 123 of the first shielding unit 120 and is connected to the box-shaped duct 131 of the second shielding unit 130. The collection unit 150 includes a first cylindrical duct 151, a first suction unit 152, a second cylindrical duct 153, and a second suction unit 154.

第1円筒状ダクト151は、セラミックセパレータ用基材10の切断に伴って発生した切断粉13を第1吸引器152に流通させる。第1円筒状ダクト151は、内部に空間を備えた直管からなる。第1円筒状ダクト151は、一端を筺体123の廃棄口123dに接続し、他端を第1吸引器152の開口に接続している。   The first cylindrical duct 151 causes the cutting powder 13 generated along with the cutting of the ceramic separator substrate 10 to flow through the first suction device 152. The first cylindrical duct 151 is a straight pipe having a space inside. The first cylindrical duct 151 has one end connected to the disposal port 123 d of the housing 123 and the other end connected to the opening of the first suction device 152.

第1吸引器152は、第1遮蔽部120の内部を吸引することによって減圧等し、その内部に存在している切断粉13を回収する。第1吸引器152は、真空ポンプおよび回収箱から構成している。第1吸引器152は、真空ポンプで吸引した切断粉13をフィルタによって除去しつつ、回収箱に廃棄する。回収箱に回収された切断粉13は、セラミックセパレータ用基材10の切断量に応じて定期的に外部に廃棄する。   The 1st suction device 152 decompresses etc. by attracting | sucking the inside of the 1st shielding part 120, and collect | recovers the cutting powder 13 which exists in the inside. The first suction device 152 is composed of a vacuum pump and a collection box. The first suction device 152 discards the cutting powder 13 sucked by the vacuum pump into the collection box while removing it with a filter. The cutting powder 13 collected in the collection box is periodically discarded to the outside according to the cutting amount of the ceramic separator substrate 10.

第2円筒状ダクト153は、セラミックセパレータ用基材10の切断に伴って発生した端材12および切断粉13を第2吸引器154に流通させる。第2円筒状ダクト153は、第1円筒状ダクト151と同様に、内部に空間を備えた直管からなる。第2円筒状ダクト153は、一端を箱状ダクト131の廃棄口131bに接続し、他端を第2吸引器154の開口に接続している。   The second cylindrical duct 153 distributes the end material 12 and the cutting powder 13 generated along with the cutting of the ceramic separator substrate 10 to the second suction device 154. Similar to the first cylindrical duct 151, the second cylindrical duct 153 is a straight pipe having a space inside. The second cylindrical duct 153 has one end connected to the disposal port 131 b of the box-shaped duct 131 and the other end connected to the opening of the second suction device 154.

第2吸引器154は、第2遮蔽部130の内部を吸引することによって減圧等し、その内部に存在している端材12および切断粉13を回収する。第2吸引器154は、第1吸引器152と同様に、真空ポンプおよび回収箱から構成している。第2吸引器154は、真空ポンプで吸引した端材12および切断粉13をフィルタによって除去しつつ、回収箱に廃棄する。回収箱に回収された端材12および切断粉13は、セラミックセパレータ用基材10の切断量や端材12の大きさに応じて定期的に外部に廃棄する。   The second suction unit 154 reduces the pressure by sucking the inside of the second shielding part 130 and collects the end material 12 and the cutting powder 13 existing in the inside. Similar to the first suction unit 152, the second suction unit 154 includes a vacuum pump and a collection box. The second suction device 154 discards the end material 12 and the cutting powder 13 sucked by the vacuum pump into a collection box while removing them with a filter. The end material 12 and the cutting powder 13 collected in the collection box are periodically discarded to the outside according to the cutting amount of the ceramic separator substrate 10 and the size of the end material 12.

除電部160は、図2〜図4に示し、セラミックセパレータ用基材10等に帯電した静電気をイオナイザー161によって除去する。   2 to 4, the static elimination unit 160 removes static electricity charged on the ceramic separator substrate 10 and the like by the ionizer 161.

除電部160は、第1遮蔽部120と第2遮蔽部130の間であって、搬送方向Xに沿って並行に配設している。除電部160は、イオナイザー161を備えている。   The charge removal unit 160 is disposed between the first shielding unit 120 and the second shielding unit 130 in parallel along the transport direction X. The static elimination unit 160 includes an ionizer 161.

イオナイザー161は、セラミックセパレータ用基材10の切断に起因してセラミックセパレータ用基材10等に帯電した静電気を除去する。イオナイザー161は、放電針の先端に印加した高電圧によってコロナ放電を発生させる。コロナ放電によって空気中に発生させたイオンは、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sに向かって送風する。送風されたイオンは、レーザー光L1の照射によって帯電したセラミックセパレータ用基材10の静電気、およびレーザー光L1の光路中の静電気を中和して除去する。帯電したセラミックセパレータ用基材10は、セラミックセパレータ11、端材12、および切断粉13を含む。イオナイザー161によって、静電気に起因した静電破壊や電子機器の誤作動を防止する。   The ionizer 161 removes static electricity charged in the ceramic separator substrate 10 and the like due to the cutting of the ceramic separator substrate 10. The ionizer 161 generates corona discharge by a high voltage applied to the tip of the discharge needle. Ions generated in the air by corona discharge are blown toward the cut portion 10 s of the ceramic separator substrate 10. The blown ions neutralize and remove the static electricity of the ceramic separator substrate 10 charged by the irradiation of the laser light L1 and the static electricity in the optical path of the laser light L1. The charged ceramic separator substrate 10 includes a ceramic separator 11, an end material 12, and cutting powder 13. The ionizer 161 prevents electrostatic breakdown and malfunction of electronic equipment due to static electricity.

搬送部170は、図2に示し、長尺状のセラミックセパレータ用基材10を搬送しつつ、切断部110によって矩形状に切断されたセラミックセパレータ11を搬送する。   The transport unit 170 transports the ceramic separator 11 cut into a rectangular shape by the cutting unit 110 while transporting the long ceramic separator substrate 10 shown in FIG.

搬送部170は、第1遮蔽部120と第2遮蔽部130の間を通って移載部180まで延在するように配設している。搬送部170は、供給ローラ171、搬送ローラ172、搬送ベルト173、および駆動ローラ174を備えている。   The transport unit 170 is disposed so as to extend between the first shielding unit 120 and the second shielding unit 130 to the transfer unit 180. The conveyance unit 170 includes a supply roller 171, a conveyance roller 172, a conveyance belt 173, and a driving roller 174.

供給ローラ171は、セラミックセパレータ用基材10を搬送ベルト173の側に供給する。供給ローラ171は、セラミックセパレータ用基材10の横幅よりも長い円柱形状に形成している。供給ローラ171は、交差方向Yに沿って配設している。供給ローラ171は、搬送ベルト173によって長尺状のセラミックセパレータ用基材10が引っ張られると従動して回転し、巻き付けていたセラミックセパレータ用基材10を引き出す。   The supply roller 171 supplies the ceramic separator substrate 10 to the conveying belt 173 side. The supply roller 171 is formed in a cylindrical shape longer than the lateral width of the ceramic separator substrate 10. The supply roller 171 is disposed along the cross direction Y. When the elongated ceramic separator substrate 10 is pulled by the conveyor belt 173, the supply roller 171 rotates following the rotation, and pulls out the wound ceramic separator substrate 10.

搬送ローラ172は、供給ローラ171から引き出されたセラミックセパレータ用基材10に対して一定の張力を掛けた状態で搬送ベルト173に導く。搬送ローラ172は、供給ローラ171よりも径が小さく、セラミックセパレータ用基材10の横幅よりも長い円柱形状に形成している。搬送ローラ172は、交差方向Yに沿って配設している。搬送ローラ172は、セラミックセパレータ用基材10を押圧した状態で、搬送ベルト173によって引っ張られたセラミックセパレータ用基材10に従動して回転する。   The conveyance roller 172 guides the ceramic separator substrate 10 drawn from the supply roller 171 to the conveyance belt 173 in a state where a certain tension is applied. The conveying roller 172 is formed in a cylindrical shape having a smaller diameter than the supply roller 171 and longer than the lateral width of the ceramic separator substrate 10. The conveyance roller 172 is disposed along the cross direction Y. The transport roller 172 rotates following the ceramic separator substrate 10 pulled by the transport belt 173 while pressing the ceramic separator substrate 10.

搬送ベルト173は、セラミックセパレータ用基材10を吸引した状態で搬送方向Xに沿って搬送する。搬送ベルト173は、無端状であって、その幅をセラミックセパレータ用基材10の横幅よりも長く形成している。搬送ベルト173は、積層方向Zに沿って対向して配設した第1遮蔽部120と第2遮蔽部130に対して、搬送方向Xに沿った上流側と下流側にそれぞれ1個ずつ配設している。   The transport belt 173 transports the ceramic separator substrate 10 along the transport direction X while sucking the ceramic separator substrate 10. The conveyor belt 173 is endless and has a width longer than the lateral width of the ceramic separator substrate 10. One conveyance belt 173 is provided on each of the upstream side and the downstream side in the conveyance direction X with respect to the first shielding unit 120 and the second shielding unit 130 arranged to face each other in the stacking direction Z. doing.

駆動ローラ174は、搬送ベルト173を内周面の側から支持しつつ回転させる。駆動ローラ174は、交差方向Yに沿って、搬送ベルト173の内周面から外方に向かって押圧するように複数配設している。複数の駆動ローラ174は、一つが動力を設けた駆動ローラであり、その他が動力を設けていない従動ローラである。駆動ローラを回転させると、駆動ローラに押圧された搬送ベルト173が回転しつつ、搬送ベルト173を押圧している従動ローラが従動して回転する。   The driving roller 174 rotates the support belt 173 while supporting it from the inner peripheral surface side. A plurality of drive rollers 174 are arranged along the cross direction Y so as to press outward from the inner peripheral surface of the conveyor belt 173. One of the plurality of drive rollers 174 is a drive roller provided with power, and the other is a driven roller provided with no power. When the driving roller is rotated, the driven roller that presses the conveying belt 173 is rotated while the conveying belt 173 pressed by the driving roller rotates.

移載部180は、図2に示し、搬送部170によって搬送されたセラミックセパレータ11を、載置台185に対して一時的に保管する。   The transfer unit 180 temporarily stores the ceramic separator 11 transported by the transport unit 170 in the mounting table 185 shown in FIG.

移載部180は、搬送部170に対して、セラミックセパレータ11の搬送方向Xに沿った下流側に配設している。移載部180は、吸着パッド181、伸縮部材182、X軸搬送ステージ183、X軸補助レール184、および載置台185を備えている。   The transfer unit 180 is disposed downstream of the transport unit 170 along the transport direction X of the ceramic separator 11. The transfer unit 180 includes a suction pad 181, a telescopic member 182, an X-axis transport stage 183, an X-axis auxiliary rail 184, and a mounting table 185.

吸着パッド181は、セラミックセパレータ11を吸引する。吸着パッド181は、セラミックセパレータ11よりも若干小さい長方体形状に形成している。吸着パッド181は、セラミックセパレータ11と当接する面に、吸引口をマトリクス状に複数設けている。吸着パッド181は、エアーコンプレッサー等を動力として、吸引口からセラミックセパレータ11を吸引して吸着する。   The suction pad 181 sucks the ceramic separator 11. The suction pad 181 is formed in a rectangular shape that is slightly smaller than the ceramic separator 11. The suction pad 181 is provided with a plurality of suction ports in a matrix on the surface in contact with the ceramic separator 11. The suction pad 181 sucks and adsorbs the ceramic separator 11 from the suction port using an air compressor or the like as power.

伸縮部材182は、吸着パッド181を積層方向Zに沿って移動させる。伸縮部材182は、径が異なる円筒形状を組み合わせて形成している。伸縮部材182の下部は、吸着パッド181に接合している。伸縮部材182は、エアーコンプレッサー等を動力として、積層方向Zに沿って伸縮自在としている。   The elastic member 182 moves the suction pad 181 along the stacking direction Z. The elastic member 182 is formed by combining cylindrical shapes having different diameters. The lower part of the elastic member 182 is joined to the suction pad 181. The expansion / contraction member 182 can be expanded and contracted along the stacking direction Z by using an air compressor or the like as power.

X軸搬送ステージ183およびX軸補助レール184は、伸縮部材182を搬送方向Xに沿って往復させる。X軸搬送ステージ183は、長尺状に形成している。X軸搬送ステージ183は、搬送部170よりも積層方向Zに沿った図2中の上方であって、搬送方向Xに沿って配設している。X軸搬送ステージ183は、駆動モータを内蔵している。X軸補助レール184は、X軸搬送ステージ183と同様に、長尺状に形成している。X軸補助レール184は、X軸搬送ステージ183と並行に配設している。X軸補助レール184は、X軸搬送ステージ183に取り付けられた伸縮部材182が傾斜することを防止し、X軸搬送ステージ183による伸縮部材182の移動を補助する。   The X-axis transport stage 183 and the X-axis auxiliary rail 184 reciprocate the extendable member 182 along the transport direction X. The X-axis transfer stage 183 is formed in a long shape. The X-axis transport stage 183 is disposed along the transport direction X above the transport unit 170 in FIG. 2 along the stacking direction Z. The X-axis transfer stage 183 has a built-in drive motor. The X-axis auxiliary rail 184 is formed in a long shape like the X-axis transfer stage 183. The X-axis auxiliary rail 184 is disposed in parallel with the X-axis transport stage 183. The X-axis auxiliary rail 184 prevents the telescopic member 182 attached to the X-axis transport stage 183 from being inclined, and assists the movement of the telescopic member 182 by the X-axis transport stage 183.

載置台185は、搬送部170によって搬送されたセラミックセパレータ11を一時的に保管する。載置台185は、セラミックセパレータ11よりも大きい長方体形状に形成している。移載部180は、搬送部170によって搬送されたセラミックセパレータ11を、伸縮部材182を伸長させつつ、吸着パッド181によって吸着させる。X軸搬送ステージ183およびX軸補助レール184は、伸縮部材182を介し、セラミックセパレータ11を吸着した吸着パッド181を載置台185の図2中の上方まで搬送する。搬送中に縮小していた伸縮部材182を伸長させた後、吸着パッド181がセラミックセパレータ11の吸引を停止する。載置台185は、吸着パッド181から離脱したセラミックセパレータ11を載置する。   The mounting table 185 temporarily stores the ceramic separator 11 transported by the transport unit 170. The mounting table 185 is formed in a rectangular shape larger than the ceramic separator 11. The transfer unit 180 sucks the ceramic separator 11 transported by the transport unit 170 by the suction pad 181 while extending the elastic member 182. The X-axis transport stage 183 and the X-axis auxiliary rail 184 transport the suction pad 181 that sucks the ceramic separator 11 to the upper side of the mounting table 185 in FIG. After the expansion / contraction member 182 that has been reduced during conveyance is extended, the suction pad 181 stops the suction of the ceramic separator 11. The mounting table 185 mounts the ceramic separator 11 separated from the suction pad 181.

制御部190は、図2に示すように、少なくとも切断部材(レーザー発振器111)、封止部材(シャッター141)、および回収部150の作動を制御する。   As shown in FIG. 2, the control unit 190 controls at least the operations of the cutting member (laser oscillator 111), the sealing member (shutter 141), and the recovery unit 150.

制御部190は、具体的には、切断部材(レーザー発振器111)に基材(セラミックセパレータ用基材10)を切断させ、封止部材(シャッター141)にカバー121と切断部位10sとの間を封止させ、回収部150にカバー121および第2遮蔽部材(箱状ダクト131)の内部を吸引させる。   Specifically, the control unit 190 causes the cutting member (laser oscillator 111) to cut the base material (the ceramic separator base material 10), and causes the sealing member (shutter 141) to move between the cover 121 and the cutting portion 10s. Sealing is performed, and the collection unit 150 sucks the inside of the cover 121 and the second shielding member (box-shaped duct 131).

制御部190は、第1実施形態において、切断部110、第1遮蔽部120、封止部140、回収部150、除電部160、搬送部170、および移載部180の各構成部材を制御する。制御部190は、コントローラ191を備えている。   In the first embodiment, the control unit 190 controls the constituent members of the cutting unit 110, the first shielding unit 120, the sealing unit 140, the recovery unit 150, the charge removal unit 160, the transport unit 170, and the transfer unit 180. . The control unit 190 includes a controller 191.

コントローラ191は、ROM、CPU、およびRAMを含んでいる。ROM(Read Only Memory)は、切断装置100の制御プログラムを格納している。制御プログラムは、切断部110のレーザー発振器111、第1遮蔽部120のZ軸直動ステージ126、封止部140のX軸直動ステージ142、および回収部150の第1吸引器152と第2吸引器154を作動させる。制御プログラムは、除電部160のイオナイザー161、搬送部170の駆動ローラ174、および移載部180の伸縮部材182とX軸搬送ステージ183も作動させる。   The controller 191 includes a ROM, a CPU, and a RAM. A ROM (Read Only Memory) stores a control program for the cutting apparatus 100. The control program includes the laser oscillator 111 of the cutting unit 110, the Z-axis translation stage 126 of the first shielding unit 120, the X-axis translation stage 142 of the sealing unit 140, and the first aspirator 152 and the second of the recovery unit 150. The aspirator 154 is activated. The control program also operates the ionizer 161 of the static elimination unit 160, the drive roller 174 of the transport unit 170, the telescopic member 182 of the transfer unit 180, and the X-axis transport stage 183.

CPU(Central Processing Unit)は、制御プログラムに基づいて切断装置100の各構成部材の作動を制御する。RAM(Random Access Memory)は、CPUによって制御されている切断装置100の各構成部材に係る様々なデータを一時的に記憶する。データは、例えば、切断部110のレーザー発振器111の出力や、第1遮蔽部120のZ軸直動ステージ126の駆動距離に関するものである。   A CPU (Central Processing Unit) controls the operation of each component of the cutting device 100 based on a control program. A RAM (Random Access Memory) temporarily stores various data related to each component of the cutting device 100 controlled by the CPU. The data relates to, for example, the output of the laser oscillator 111 of the cutting unit 110 and the driving distance of the Z-axis linear motion stage 126 of the first shielding unit 120.

次に、切断装置100によって具現化した切断方法について、図5〜図9を参照しながら説明する。   Next, the cutting method embodied by the cutting device 100 will be described with reference to FIGS.

図5は、遮蔽工程および切断工程を示す図である。図6は、遮蔽工程および切断工程の要部を示す図である。図7は、封止工程および回収工程を示す図である。図8は、搬送工程と封止工程および回収工程を示す図である。図9は、除電工程を示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating a shielding process and a cutting process. FIG. 6 is a diagram showing a main part of the shielding step and the cutting step. FIG. 7 is a diagram illustrating a sealing process and a recovery process. FIG. 8 is a diagram illustrating a transport process, a sealing process, and a recovery process. FIG. 9 is a diagram illustrating a static elimination process.

遮蔽工程は、第1遮蔽部120および第2遮蔽部130に対応している。遮蔽工程は、図5に示すように、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sを一面の側から囲って遮蔽する第1遮蔽領域と、切断部位10sを一面と対向した他面の側から囲って遮蔽する第2遮蔽領域とを、それぞれ外気を取り込み自在な状態において形成する。   The shielding process corresponds to the first shielding part 120 and the second shielding part 130. As shown in FIG. 5, the shielding step encloses the first shielding region that shields and cuts the cut portion 10s of the ceramic separator substrate 10 from the one surface side, and the cut portion 10s from the other surface side facing the one surface. And the second shielding region to be shielded are formed in a state in which outside air can be taken in.

第1遮蔽領域および第2遮蔽領域において、外気を取り込み自在とは、それらの領域が完全な密閉状態ではなく、外部から内部に対して流体の流入が可能であることを示す。すなわち、第1遮蔽領域および第2遮蔽領域は、回収部150によって吸引されることによって内部が減圧等されると、外部から内部に向かって空気を流入させることができる。   In the first shielding region and the second shielding region, being able to take in outside air means that these regions are not completely sealed, and fluid can flow into the inside from the outside. In other words, when the inside of the first shielding area and the second shielding area is sucked by the recovery unit 150 and the inside is depressurized, air can flow from the outside toward the inside.

第1遮蔽領域は、図5に示すように、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射に伴い切断部位10sから全方位に飛散した切断粉13のうち、レーザー発振器111の側に反射するように飛散した切断粉13を遮蔽する。第1遮蔽領域は、第1遮蔽部120のカバー121に加え、密閉リング122および筺体123から構成し、切断粉13を遮蔽する。   As shown in FIG. 5, the first shielding region is scattered so as to be reflected toward the laser oscillator 111 out of the cutting powder 13 scattered in all directions from the cutting site 10 s with the irradiation of the laser beam L <b> 1 by the laser oscillator 111. The cut powder 13 is shielded. The first shielding area includes a sealing ring 122 and a casing 123 in addition to the cover 121 of the first shielding part 120, and shields the cutting powder 13.

第2遮蔽領域は、図5に示すように、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sよりもレーザー発振器111に対して遠位側を囲い、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射によって切断部位10sから離間する端材12を捉える。さらに、第2遮蔽領域は、レーザー発振器111によるレーザー光L1の照射によって切断部位10sから全方位に飛散した切断粉13のうち、レーザー発振器111に対して切断部位10sよりも遠位側に飛散した切断粉13を捉える。第2遮蔽領域は、箱状ダクト131から構成し、端材12および切断粉13を遮蔽する。   As shown in FIG. 5, the second shielding region surrounds the distal side with respect to the laser oscillator 111 with respect to the cutting portion 10 s of the ceramic separator substrate 10, and the cutting portion 10 s is irradiated by the laser light L <b> 1 by the laser oscillator 111. The end material 12 that is spaced apart from is captured. Furthermore, the 2nd shielding area | region was disperse | distributed with respect to the laser oscillator 111 in the distal side rather than the cutting | disconnection site | part 10s among the cutting powders 13 which scattered in all directions from the cutting | disconnection part 10s by irradiation of the laser beam L1 by the laser oscillator 111. The cutting powder 13 is caught. The second shielding area is constituted by a box-shaped duct 131 and shields the end material 12 and the cutting powder 13.

切断工程は、図5に示すように、切断部110に対応している。切断工程は、図5に示すように、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるように切断部位10sを切断する。具体的には、切断工程は、レーザー発振器111によって、セラミックセパレータ用基材10に対してレーザー光L1を照射し、その切断部位10sを切断する。レーザー発振器111は、レーザー光L1を搬送方向Xおよび交差方向Yに走査する。セラミックセパレータ用基材10を通過したレーザー光L1は、箱状ダクト131に入射して減衰する。   The cutting process corresponds to the cutting part 110 as shown in FIG. In the cutting step, as shown in FIG. 5, the cutting part 10 s is cut so as to generate the end material 12 between the adjacent ceramic separators 11. Specifically, in the cutting step, the laser oscillator 111 irradiates the ceramic separator substrate 10 with the laser light L1, and cuts the cutting portion 10s. The laser oscillator 111 scans the laser beam L1 in the transport direction X and the cross direction Y. The laser beam L1 that has passed through the ceramic separator substrate 10 enters the box-shaped duct 131 and is attenuated.

切断工程において、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるように切断部位10sを切断することによって、セラミックセパレータ11は少なくとも一端に突出部位を形成することになる。このような突出部位は、例えば二次電池のような電気デバイスにおいて、電極とセパレータとを交互に積層して形成した発電要素を外装材で封止する構成において有効である。すなわち、外装材に相当するラミネートシートの外周部を溶着して、発電要素を密封するときに、セラミックセパレータ11の突出部分も固定することができる。したがって、二次電池が使用時に振動したりしても、発電要素の各構成部材の位置がずれることを防止できる。   In the cutting step, the ceramic separator 11 forms a protruding portion at least at one end by cutting the cutting portion 10 s so as to generate the end material 12 between the adjacent ceramic separators 11. Such a protruding portion is effective in a configuration in which, for example, in an electric device such as a secondary battery, a power generation element formed by alternately stacking electrodes and separators is sealed with an exterior material. That is, when the outer peripheral portion of the laminate sheet corresponding to the exterior material is welded to seal the power generation element, the protruding portion of the ceramic separator 11 can also be fixed. Therefore, even if the secondary battery vibrates during use, it is possible to prevent the positions of the constituent members of the power generation element from shifting.

切断工程では、図6に示すように、密閉リング122によってカバー121とセラミックセパレータ用基材10の間を密閉した状態で、レーザー発振器111によってセラミックセパレータ用基材10に対してレーザー光L1を照射する。切断粉13は、いわゆるスパッタに相当し周囲に飛散するものであることから、密閉リング122によって第1遮蔽領域の遮蔽効果を高める。さらに、密閉リング122は、切断部110によってセラミックセパレータ用基材10を切断するときに切断部位10sが位置ずれしないように、切断部位10sの周囲を押圧する。   In the cutting step, as shown in FIG. 6, the laser beam L <b> 1 is applied to the ceramic separator substrate 10 by the laser oscillator 111 in a state where the space between the cover 121 and the ceramic separator substrate 10 is sealed by the sealing ring 122. To do. Since the cutting powder 13 corresponds to so-called spatter and scatters around, the sealing ring 122 enhances the shielding effect of the first shielding region. Furthermore, the sealing ring 122 presses the periphery of the cutting part 10s so that the cutting part 10s is not displaced when the ceramic separator substrate 10 is cut by the cutting part 110.

封止工程は、図7に示すように、第1遮蔽領域と切断部位10sの間を封止する。具体的には、封止工程は、封止部140のシャッター141によって、カバー121と切断部位10sの間を封止する。   As shown in FIG. 7, the sealing step seals between the first shielding region and the cut portion 10s. Specifically, in the sealing step, the space between the cover 121 and the cut site 10s is sealed by the shutter 141 of the sealing unit 140.

回収工程は、図7に示すように、第1遮蔽領域および第2遮蔽領域にそれぞれ存在するセラミックセパレータ用基材10の切断粉13を異なる流路によって吸引して回収しつつ、第2遮蔽領域に存在する端材12を吸引して回収する。具体的には、回収工程は、回収部150によって、カバー121および箱状ダクト131の内部を吸引する。   As shown in FIG. 7, the collecting step is performed by sucking and collecting the cutting powder 13 of the ceramic separator substrate 10 present in each of the first shielding region and the second shielding region through different flow paths. The end material 12 present in the container is sucked and collected. Specifically, in the collection process, the collection unit 150 sucks the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131.

ここで、回収工程は、図8に示すように、遮蔽工程がカバー121をセラミックセパレータ用基材10から退避させつつ、搬送工程がセラミックセパレータ用基材10およびセラミックセパレータ11を搬送している間において、カバー121および箱状ダクト131の内部の吸引を継続する。同様に、封止工程も、シャッター141によってカバー121と切断部位10sの間を封止し続けている。   Here, as shown in FIG. 8, the recovery process is performed while the transport process transports the ceramic separator substrate 10 and the ceramic separator 11 while the shielding process retracts the cover 121 from the ceramic separator substrate 10. Then, the suction inside the cover 121 and the box-shaped duct 131 is continued. Similarly, also in the sealing step, the shutter 141 keeps sealing between the cover 121 and the cut portion 10s.

除電工程は、図9に示すように、切断装置100の切断部110によるセラミックセパレータ用基材10の切断時に帯電した静電気を除電する。除電工程において、イオナイザー161は、コロナ放電によって空気中に発生させたイオンを、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sに向かって図中T1に示すように送風する。送風されたイオンは、セラミックセパレータ11、端材12、および切断粉13に帯電した静電気を除去する。   As shown in FIG. 9, the static elimination process neutralizes static electricity charged when the ceramic separator substrate 10 is cut by the cutting unit 110 of the cutting device 100. In the static elimination process, the ionizer 161 blows ions generated in the air by corona discharge toward the cutting portion 10s of the ceramic separator substrate 10 as indicated by T1 in the figure. The blown ions remove static electricity charged in the ceramic separator 11, the end material 12, and the cutting powder 13.

上述した第1実施形態に係る長尺状の基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形する切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置100によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。   The cutting method which cut | disconnects the elongate base material (for example, the base material 10 for ceramic separators) which concerns on 1st Embodiment mentioned above, and shape | molds a molded article (for example, ceramic separator 11), and the cutting which embodied the cutting method According to the apparatus 100, there exists an effect by the following structures.

切断方法は、長尺状の基材(セラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(セラミックセパレータ11)を成形する方法である。切断方法は、遮蔽工程、切断工程、封止工程、および回収工程を有している。遮蔽工程は、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sを一面の側から囲って遮蔽する第1遮蔽領域と、切断部位10sを一面と対向した他面の側から囲って遮蔽する第2遮蔽領域とを、それぞれ外気を取り込み自在な状態において形成する。切断工程は、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるように切断部位10sを切断する。封止工程は、第1遮蔽領域と切断部位10sとの間または切断部位10sと第2遮蔽領域との間を封止する。回収工程は、第1遮蔽領域および第2遮蔽領域にそれぞれ存在するセラミックセパレータ用基材10の切断粉13を異なる流路によって吸引して回収しつつ、第1遮蔽領域または第2遮蔽領域に存在する端材12を吸引して回収する。   The cutting method is a method of cutting a long substrate (ceramic separator substrate 10) to form a molded product (ceramic separator 11). The cutting method has a shielding process, a cutting process, a sealing process, and a recovery process. The shielding step includes a first shielding region that shields and cuts the cut portion 10s of the ceramic separator substrate 10 from one surface side, and a second shielding region that surrounds and shields the cutting portion 10s from the other surface side facing the one surface. Are formed in a state in which outside air can be taken in freely. In the cutting step, the cutting part 10 s is cut so as to generate the end material 12 between the adjacent ceramic separators 11. The sealing step seals between the first shielding region and the cutting site 10s or between the cutting site 10s and the second shielding region. The collecting step is present in the first shielding region or the second shielding region while sucking and collecting the cutting powder 13 of the ceramic separator substrate 10 present in each of the first shielding region and the second shielding region through different flow paths. The end material 12 to be collected is sucked and collected.

切断装置100は、長尺状の基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形する装置である。切断装置100は、切断部材(レーザー発振器111に相当)、第1遮蔽部材(カバー121に相当)、第2遮蔽部材(箱状ダクト131に相当)、封止部材(シャッター141に相当)、回収部150、および制御部190を有している。   The cutting device 100 is a device that cuts a long base material (for example, the ceramic separator base material 10) to form a molded product (for example, the ceramic separator 11). The cutting device 100 includes a cutting member (corresponding to the laser oscillator 111), a first shielding member (corresponding to the cover 121), a second shielding member (corresponding to the box-shaped duct 131), a sealing member (corresponding to the shutter 141), a recovery Part 150 and control part 190.

切断装置100において、レーザー発振器111は、隣り合うセラミックセパレータ11との間に端材12を発生させるようにセラミックセパレータ用基材10を切断する。カバー121は、レーザー発振器111とセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sとの間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。箱状ダクト131は、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sよりもレーザー発振器111に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。シャッター141は、カバー121または箱状ダクト131に対して接近離間自在に配設し、カバー121と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止する回収部150は、セラミックセパレータ用基材10の切断粉13をカバー121および箱状ダクト131の内部を介してそれぞれ吸引して回収しつつ、端材12をカバー121または箱状ダクト131の内部を介して吸引して回収する。制御部190は、レーザー発振器111、シャッター141、および回収部150の作動を制御する。   In the cutting device 100, the laser oscillator 111 cuts the ceramic separator substrate 10 so as to generate the end material 12 between the adjacent ceramic separators 11. The cover 121 surrounds the periphery between the laser oscillator 111 and the cut portion 10s of the ceramic separator substrate 10 and shields the air in a state in which outside air can be taken in. The box-shaped duct 131 surrounds the distal side with respect to the laser oscillator 111 with respect to the cutting portion 10s of the ceramic separator substrate 10 and shields it in a state in which outside air can be taken in. The shutter 141 is disposed so as to be close to and away from the cover 121 or the box-shaped duct 131, and the collection unit 150 seals between the cover 121 and the cutting site 10 s or between the cutting site 10 s and the box-shaped duct 131. Sucks and collects the cutting powder 13 of the ceramic separator substrate 10 through the cover 121 and the box-shaped duct 131 and sucks the end material 12 through the cover 121 or the box-shaped duct 131. And collect. The control unit 190 controls the operations of the laser oscillator 111, the shutter 141, and the recovery unit 150.

ここで、切断装置100において、制御部190は、レーザー発振器111にセラミックセパレータ用基材10を切断させ、シャッター141にカバー121と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止させ、回収部150にカバー121および箱状ダクト131の内部を吸引させる。   Here, in the cutting device 100, the control unit 190 causes the laser oscillator 111 to cut the ceramic separator substrate 10, and causes the shutter 141 to connect the cover 121 and the cutting portion 10s or between the cutting portion 10s and the box-shaped duct 131. The gap is sealed, and the collection unit 150 sucks the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131.

このような切断装置100および切断方法によれば、セラミックセパレータ用基材10を両面から別個に遮蔽し、そのセラミックセパレータ用基材10を切断してから切断部位10sを封止して、切断部位10sの両側から別個に切断粉13を吸引しつつ、いずれか一方の側から端材12を吸引する。すなわち、切断部位10sの両側を独立してそれぞれ吸引することによって、切断部位10sの両側からそれぞれ切断粉13を除去する。したがって、セラミックセパレータ用基材10を切断してセラミックセパレータ11を成形するときに、端材12を除去した上でセラミックセパレータ11に切断粉13が付着することを防止できる。さらに、切断部位10sの一方の側と他方の側とを互いに独立して吸引していることから、各々の領域において整流された気流によって切断粉13を除去できる。すなわち、例えば切断部位10sの一方の側から他方の側に切断粉13が混入してセラミックセパレータ11に付着するようなことを十分に防止できる。   According to such a cutting device 100 and a cutting method, the ceramic separator base material 10 is separately shielded from both sides, the ceramic separator base material 10 is cut, and then the cutting part 10s is sealed, and the cutting part While the cutting powder 13 is sucked separately from both sides of 10s, the end material 12 is sucked from either side. That is, the cutting powder 13 is removed from both sides of the cutting site 10s by sucking both sides of the cutting site 10s independently. Therefore, when cutting the ceramic separator substrate 10 to form the ceramic separator 11, it is possible to prevent the cutting powder 13 from adhering to the ceramic separator 11 after removing the end material 12. Furthermore, since the one side and the other side of the cutting site 10s are sucked independently from each other, the cutting powder 13 can be removed by the rectified airflow in each region. That is, for example, the cutting powder 13 can be sufficiently prevented from adhering to the ceramic separator 11 from one side of the cutting site 10s to the other side.

さらに、切断装置100において、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、レーザー発振器111がセラミックセパレータ用基材10を切断しているときに、セラミックセパレータ用基材10に対して密着させることができる。   Furthermore, in the cutting device 100, at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 is brought into close contact with the ceramic separator substrate 10 when the laser oscillator 111 is cutting the ceramic separator substrate 10. it can.

このような構成によれば、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、切断部位10sの周囲の遮蔽効果を高め、切断粉13が外部に飛散することを防止できる。さらに、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、レーザー発振器111によってセラミックセパレータ用基材10を切断するときに、切断部位10sの位置がずれることを防止できる。   According to such a configuration, at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 can enhance the shielding effect around the cutting site 10s and prevent the cutting powder 13 from being scattered outside. Furthermore, when at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 cuts the ceramic separator substrate 10 by the laser oscillator 111, the position of the cut portion 10s can be prevented from shifting.

さらに、切断装置100において、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、セラミックセパレータ用基材10に対向する開口の外周縁に沿って備えた伸縮性を有する密閉リング122を介し、セラミックセパレータ用基材10に対して密着させることができる。   Furthermore, in the cutting apparatus 100, at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 is for a ceramic separator via an elastic sealing ring 122 provided along the outer peripheral edge of the opening facing the ceramic separator substrate 10. It can be adhered to the substrate 10.

このような構成によれば、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、伸縮性を有する密閉リング122によって、切断部位10sの周囲の遮蔽効果をさらに高め、切断粉13が外部に飛散することを十分に防止できる。さらに、カバー121または箱状ダクト131の少なくとも一方は、レーザー発振器111によってセラミックセパレータ用基材10を切断するときに、切断部位10sの位置がずれることを十分に防止できる。特に、セラミックセパレータ用基材10の積層方向Zの層厚に誤差がある場合に、その誤差を密閉リング122の伸縮によって解消し、外周縁の全周に沿って密閉することができる。   According to such a configuration, at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 further enhances the shielding effect around the cutting site 10s by the elastic sealing ring 122 having elasticity, and the cutting powder 13 is scattered outside. Can be sufficiently prevented. Furthermore, at least one of the cover 121 or the box-shaped duct 131 can sufficiently prevent the position of the cutting portion 10 s from shifting when the ceramic separator substrate 10 is cut by the laser oscillator 111. In particular, when there is an error in the layer thickness in the stacking direction Z of the ceramic separator substrate 10, the error can be eliminated by expansion and contraction of the sealing ring 122, and sealing can be performed along the entire circumference of the outer peripheral edge.

さらに、切断装置100において、除電部材(イオナイザー161)をさらに有する構成とすることができる。除電部材(イオナイザー161)は、少なくともセラミックセパレータ用基材10に帯電した静電気を除去する。   Further, the cutting device 100 may further include a static elimination member (ionizer 161). The static elimination member (ionizer 161) removes at least static electricity charged on the ceramic separator substrate 10.

このような構成によれば、イオナイザー161によって、静電気に起因した静電破壊を防止できる。また、静電気によって吸引された塵がセラミックセパレータ11に付着することを防止できる。さらに、静電気に起因する切断装置100の誤作動を防止できる。また、帯電した切断粉13等が他の部材と電気的に短絡することを防止できる。   According to such a configuration, electrostatic breakdown due to static electricity can be prevented by the ionizer 161. Moreover, it is possible to prevent dust sucked by static electricity from adhering to the ceramic separator 11. Furthermore, malfunction of the cutting device 100 due to static electricity can be prevented. Further, it is possible to prevent the charged cutting powder 13 and the like from being electrically short-circuited with other members.

さらに、切断装置100において、シャッター141は、カバー121または箱状ダクト131に開口した挿入口から内部に挿通させることができる。   Furthermore, in the cutting device 100, the shutter 141 can be inserted through the insertion opening opened in the cover 121 or the box-shaped duct 131.

このような構成によれば、シャッター141は、例えばカバー121の挿通口121cによって位置決めを行うことができる。したがって、シャッター141は、往復させるように複数回移動させても、基準位置から累積してずれてしまうことを防止できる。さらに、シャッター141は、例えばカバー121の内部が回収部150によって減圧等されても、挿通口121cによって支持されていることから、傾斜したり湾曲したりすることを防止できる。   According to such a configuration, the shutter 141 can be positioned by the insertion port 121 c of the cover 121, for example. Therefore, even if the shutter 141 is moved a plurality of times so as to reciprocate, it can be prevented that the shutter 141 accumulates and deviates from the reference position. Furthermore, since the shutter 141 is supported by the insertion port 121c even if the inside of the cover 121 is decompressed by the collection unit 150, for example, the shutter 141 can be prevented from being inclined or curved.

さらに、切断装置100において、シャッター141は、カバー121および箱状ダクト131のいずれか一方と共に切断部位10sに近接または離間し、カバー121と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止する構成とすることができる。   Further, in the cutting apparatus 100, the shutter 141 is close to or separated from the cutting site 10s together with one of the cover 121 and the box-shaped duct 131, and between the cover 121 and the cutting site 10s or between the cutting site 10s and the box-shaped duct 131. It can be set as the structure which seals between.

このような構成によれば、カバー121をセラミックセパレータ用基材10から退避させている間や、搬送部170がセラミックセパレータ用基材10等を搬送している間において、切断粉13の付着を防止することができる。具体的には、第1円筒状ダクト151から切断粉13が逆流したり、カバー121の内周面に付着した切断粉13が落下したり、カバー121の上面に切断粉13が堆積して脱落したりすることを防止できる。したがって、切断部位10sから一旦離れた切断粉13が、セラミックセパレータ用基材10やセラミックセパレータ11に近接して付着することを防止できる。   According to such a configuration, the cutting powder 13 is adhered while the cover 121 is retracted from the ceramic separator substrate 10 or while the transport unit 170 is transporting the ceramic separator substrate 10 or the like. Can be prevented. Specifically, the cutting powder 13 flows backward from the first cylindrical duct 151, the cutting powder 13 attached to the inner peripheral surface of the cover 121 falls, or the cutting powder 13 accumulates on the upper surface of the cover 121 and falls off. Can be prevented. Therefore, it is possible to prevent the cutting powder 13 once separated from the cutting site 10 s from adhering to the ceramic separator substrate 10 or the ceramic separator 11 in the vicinity.

さらに、切断装置100において、切断部材は、レーザー光L1をセラミックセパレータ用基材10に照射して切断するレーザー発振器111、超音波を印加した刃をセラミックセパレータ用基材10に押圧して切断する切断刃、または回転させた円形状の刃をセラミックセパレータ用基材10に押圧して切断する切削刃からなる構成とすることができる。   Further, in the cutting device 100, the cutting member irradiates the laser beam L1 to the ceramic separator substrate 10 and cuts it, and the blade to which the ultrasonic wave is applied is pressed against the ceramic separator substrate 10 for cutting. It can be set as the structure which consists of a cutting blade which presses and cut | disconnects the cutting blade or the rotated circular blade to the base material 10 for ceramic separators.

このように、切断部材による切断は、レーザー切断、カットフォーミング、ダイシング等が含まれる。切断部材は、基材の切断に伴って切断片および切断塵が発生する様々な基材に応じて、それらに最適なものを適用することができる。   Thus, the cutting by the cutting member includes laser cutting, cut forming, dicing and the like. As the cutting member, an optimum member can be applied to various base materials in which cut pieces and cutting dust are generated when the base material is cut.

さらに、切断方法において、セラミックセパレータ用基材10およびセラミックセパレータ11を搬送する搬送工程を備える構成とすることができる。ここで、回収工程は、搬送工程によってセラミックセパレータ用基材10およびセラミックセパレータ11が搬送されている間、吸引を継続することができる。   Furthermore, in the cutting method, it can be set as the structure provided with the conveyance process which conveys the base material 10 for ceramic separators, and the ceramic separator 11. FIG. Here, in the collection step, the suction can be continued while the ceramic separator substrate 10 and the ceramic separator 11 are being conveyed in the conveyance step.

このような構成によれば、搬送工程がセラミックセパレータ用基材10およびセラミックセパレータ11を搬送している間、切断部位10sから一旦離れた切断粉13が、セラミックセパレータ用基材10やセラミックセパレータ11に近接して付着することを防止できる。   According to such a configuration, while the transporting process transports the ceramic separator substrate 10 and the ceramic separator 11, the cutting powder 13 once separated from the cutting site 10 s becomes the ceramic separator substrate 10 and the ceramic separator 11. It can prevent adhering to the vicinity.

さらに、切断方法において、基材は、シート状の溶融材(例えばポリプロピレン)と、溶融材に積層し溶融材よりも溶融温度が高い耐熱材(例えばセラミック)を積層して形成したものを用いることができる。このような基板は、例えばセラミックセパレータ用基材10に相当する。   Further, in the cutting method, the base material is formed by laminating a sheet-like molten material (for example, polypropylene) and a heat-resistant material (for example, ceramic) laminated on the molten material and having a higher melting temperature than the molten material. Can do. Such a substrate corresponds to, for example, the ceramic separator substrate 10.

このように、切断に用いる基材は、一例として、耐熱性に優れセパレータとして有効である一方、切断時に切断粉を生じやすいセラミックをシート状のポリプロピレンにコーティングして形成したセラミックセパレータ用基材が好適である。   Thus, as an example, the base material used for cutting is excellent in heat resistance and effective as a separator. On the other hand, a base material for a ceramic separator formed by coating a sheet-like polypropylene with a ceramic that easily generates cutting powder at the time of cutting. Is preferred.

(第1実施形態の変形例1)
第1実施形態の変形例1に係る切断装置200および300について、図10および図11を参照しながら説明する。
(Modification 1 of the first embodiment)
Cutting devices 200 and 300 according to Modification 1 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 10 and 11.

第1実施形態の変形例1に係る切断装置200および300は、前述した第1実施形態に係る切断装置100と異なり、封止部240および340を第1遮蔽部220および320からそれぞれ独立して配設している。   Unlike the cutting device 100 according to the first embodiment described above, the cutting devices 200 and 300 according to the first modification of the first embodiment are configured so that the sealing portions 240 and 340 are independent of the first shielding portions 220 and 320, respectively. It is arranged.

第1実施形態の変形例1においては、前述した第1実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。   In the modification 1 of 1st Embodiment, about the thing which consists of a structure similar to 1st Embodiment mentioned above, the same code | symbol is used and the description mentioned above is abbreviate | omitted.

先ず、切断装置200の構成について、図10を参照しながら説明する。   First, the configuration of the cutting device 200 will be described with reference to FIG.

図10は、切断装置200の要部を示す斜視図である。   FIG. 10 is a perspective view showing a main part of the cutting device 200.

封止部240は、第1遮蔽部120と独立して配設し、シャッター241を搬送方向Xに沿って移動させる。封止部240は、シャッター241およびX軸直動ステージ242を備えている。   The sealing unit 240 is disposed independently of the first shielding unit 120 and moves the shutter 241 along the transport direction X. The sealing unit 240 includes a shutter 241 and an X-axis linear movement stage 242.

シャッター241は、カバー121の一端121aを封止する。シャッター241は、薄板状に形成している。シャッター241は、カバー121の挿通口121cに挿通し、搬送方向Xに沿って移動自在である。X軸直動ステージ242は、シャッター241を搬送方向Xに沿って移動させる。X軸直動ステージ242は、第1遮蔽部120よりも搬送方向Xに沿った上流側であって、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10よりも積層方向Zに沿った図中上方に配設している。X軸直動ステージ242は、一対からなり、交差方向Yにおいて互いに離間して設けている。一対のX軸直動ステージ242は、カバー121と離間して配設している。一対のX軸直動ステージ242は、カバー121が積層方向Zの図中上方に移動する前に、シャッター241を搬送方向Xに沿った上流側に移動させて、シャッター241を挿通口121cから抜き出す。   The shutter 241 seals one end 121 a of the cover 121. The shutter 241 is formed in a thin plate shape. The shutter 241 is inserted through the insertion port 121 c of the cover 121 and is movable along the transport direction X. The X-axis linear movement stage 242 moves the shutter 241 along the transport direction X. The X-axis linear motion stage 242 is upstream of the first shielding unit 120 in the transport direction X and in the drawing along the stacking direction Z than the ceramic separator substrate 10 transported by the transport unit 170. Arranged above. The X-axis linearly moving stage 242 is a pair and is separated from each other in the cross direction Y. The pair of X-axis linear motion stages 242 are disposed away from the cover 121. The pair of X-axis linearly moving stages 242 moves the shutter 241 upstream in the transport direction X before the cover 121 moves upward in the stacking direction Z in the drawing, and extracts the shutter 241 from the insertion port 121c. .

次に、切断装置300の構成について、図11を参照しながら説明する。   Next, the configuration of the cutting device 300 will be described with reference to FIG.

図11は、切断装置300の要部を示す斜視図である。   FIG. 11 is a perspective view showing a main part of the cutting device 300.

第1遮蔽部320は、カバー321を除いて、第1遮蔽部120と同様の構成からなる。カバー321は、挿通口321cの位置と形状を除いて、カバー121と同様の構成からなる。   The first shielding unit 320 has the same configuration as the first shielding unit 120 except for the cover 321. The cover 321 has the same configuration as the cover 121 except for the position and shape of the insertion port 321c.

カバー321は、交差方向Yに沿った両側面にスリット状の挿通口321cを対面同一に備え、一対のシャッター341を交差方向Yに沿って挿通自在にしている。挿通口321cは、搬送方向Xに沿って長尺状に延在し、シャッター341の側面よりも若干大きく形成している。   The cover 321 is provided with slit-like insertion ports 321 c on both side surfaces along the intersecting direction Y so as to face each other, and allows a pair of shutters 341 to be inserted along the intersecting direction Y. The insertion port 321 c extends in a long shape along the transport direction X and is formed to be slightly larger than the side surface of the shutter 341.

封止部340は、第1遮蔽部320から独立させて配設し、一対のシャッター341を交差方向Yに沿って対面同一に配置して移動させる。封止部340は、シャッター341およびY軸直動ステージ342を備えている。   The sealing unit 340 is disposed independently of the first shielding unit 320 and moves the pair of shutters 341 in the same direction facing the crossing direction Y. The sealing unit 340 includes a shutter 341 and a Y-axis linear movement stage 342.

シャッター341は、一対からなり、カバー321の一端321aを封止する。一対のシャッター341は、互いに当接して一つのシャッターを構成する。一対のシャッター341は、それぞれ薄板状に形成している。一対のシャッター341は、カバー321の一対の挿通口321cから対向するように挿通し、交差方向Yに沿って移動自在である。Y軸直動ステージ342は、一対からなり、一対のシャッター341を交差方向Yに沿って互いに近接および離間するように移動させる。一対のY軸直動ステージ342は、カバー321を介して交差方向Yの両端に対向して配設している。一対のY軸直動ステージ342は、カバー121と離間して配設している。一対のY軸直動ステージ342は、カバー321が積層方向Zの図中上方に移動する前に、一対のシャッター341を交差方向Yに沿って互いに離間するように移動させて、その一対のシャッター341を挿通口121cから抜き出す。   The shutter 341 includes a pair and seals one end 321a of the cover 321. The pair of shutters 341 make contact with each other to form one shutter. The pair of shutters 341 are each formed in a thin plate shape. The pair of shutters 341 are inserted so as to face each other from the pair of insertion ports 321 c of the cover 321, and are movable along the intersecting direction Y. The Y-axis linearly moving stage 342 includes a pair, and moves the pair of shutters 341 so as to approach and separate from each other along the cross direction Y. The pair of Y-axis linear motion stages 342 are disposed to face both ends in the cross direction Y with the cover 321 interposed therebetween. The pair of Y-axis linear motion stages 342 are disposed away from the cover 121. The pair of Y-axis linearly moving stages 342 moves the pair of shutters 341 away from each other along the crossing direction Y before the cover 321 moves upward in the drawing in the stacking direction Z. 341 is extracted from the insertion port 121c.

除電部160は、イオナイザー161を、第1遮蔽部120よりも搬送方向Xに沿った上流側であって、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10よりも積層方向Zに沿った図中上方に配設している。イオナイザー161は、上記の位置に配設することによって、封止部340との干渉を防止している。ここで、イオナイザー161を、交差方向Yに延在した切断部位10sに沿って配設していることから、セラミックセパレータ用基材10の切断時に帯電した静電気を効果的に除電する。   The static eliminator 160 is a view of the ionizer 161 on the upstream side in the transport direction X from the first shielding unit 120 and along the stacking direction Z from the ceramic separator substrate 10 transported by the transport unit 170. It is arranged in the middle upper part. The ionizer 161 prevents interference with the sealing portion 340 by being disposed at the above position. Here, since the ionizer 161 is disposed along the cutting site 10s extending in the intersecting direction Y, the static electricity charged during the cutting of the ceramic separator substrate 10 is effectively neutralized.

上述した第1実施形態の変形例1に係る切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置200および300によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。   According to the cutting method according to the first modification of the first embodiment described above, and the cutting devices 200 and 300 that embody the cutting method, the following effects are obtained.

切断装置200および300において、シャッター241および341は、カバー321および321とは別個に切断部位10sに近接または離間し、カバー321および321と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止する。   In the cutting devices 200 and 300, the shutters 241 and 341 are close to or separated from the cutting site 10s separately from the covers 321 and 321, and between the covers 321 and 321 and the cutting site 10s or between the cutting site 10s and the box-shaped duct 131. Seal between.

このような構成によれば、切断装置200および300において、第1遮蔽部220および230の駆動系の構成を簡素化できる。すなわち、カバー221および321は、シャッター241および341等を搭載していないことから、そのシャッター241および341等を積層方向Zに沿って移動させるZ軸直動ステージ126の耐荷重に係る仕様を下げることができる。   According to such a configuration, in the cutting devices 200 and 300, the configuration of the drive system of the first shielding portions 220 and 230 can be simplified. That is, since the covers 221 and 321 are not equipped with the shutters 241 and 341 and the like, the specifications relating to the load resistance of the Z-axis linear motion stage 126 that moves the shutters 241 and 341 and the like along the stacking direction Z are lowered. be able to.

(第1実施形態の変形例2)
第1実施形態の変形例2に係る切断装置400について、図12を参照しながら説明する。
(Modification 2 of the first embodiment)
A cutting device 400 according to Modification 2 of the first embodiment will be described with reference to FIG.

第1実施形態の変形例2に係る切断装置400は、前述した第1実施形態に係る切断装置100と異なり、シャッター441をカバー121の外周面に沿って移動させる。   Unlike the cutting device 100 according to the first embodiment described above, the cutting device 400 according to the second modification of the first embodiment moves the shutter 441 along the outer peripheral surface of the cover 121.

第1実施形態の変形例2においては、前述した第1実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。   In the second modification of the first embodiment, the same reference numerals are used for components having the same configuration as in the first embodiment described above, and the above description is omitted.

切断装置400の構成について、図12を参照しながら説明する。   The configuration of the cutting device 400 will be described with reference to FIG.

図12は、切断装置400の要部を示す断面図である。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing a main part of the cutting device 400.

封止部440は、第1遮蔽部120に隣接して配設し、開口板442をカバー121の外周面に沿って移動させる。封止部440は、シャッター441、開口板442、ローラ443、第1直動ステージ444、および第2直動ステージ445を備えている。   The sealing unit 440 is disposed adjacent to the first shielding unit 120 and moves the opening plate 442 along the outer peripheral surface of the cover 121. The sealing unit 440 includes a shutter 441, an opening plate 442, a roller 443, a first linear motion stage 444, and a second linear motion stage 445.

開口板442は、カバー121の一端121aを開口する。開口板442は、薄板状に形成し、屈曲自在である。開口板442は、外周縁を除いた内部を開口している。シャッター441は、一対からなり、開口板442の両端に取り付けて支持している。シャッター441を長尺状のステンレス板から形成し、そのステンレス板に開口を設け、開口板442としてもよい。シャッター441は、長尺状の薄板状に形成し、屈曲自在である。シャッター441は、カバー121の外周面に沿って移動する。具体的には、シャッター441は、カバー121の搬送方向Xの上流側に対向した面、カバー121の開口に相当する一端121a、およびカバー121の搬送方向Xの下流側に対向した面に沿って往復するように移動する。   The opening plate 442 opens the one end 121 a of the cover 121. The opening plate 442 is formed in a thin plate shape and is freely bendable. The opening plate 442 opens inside the outer peripheral edge. The shutter 441 includes a pair, and is attached to and supported by both ends of the opening plate 442. The shutter 441 may be formed from a long stainless plate, and an opening may be provided in the stainless plate to form the opening plate 442. The shutter 441 is formed in a long thin plate shape and is freely bendable. The shutter 441 moves along the outer peripheral surface of the cover 121. Specifically, the shutter 441 extends along a surface facing the upstream side of the cover 121 in the transport direction X, one end 121a corresponding to the opening of the cover 121, and a surface facing the downstream side of the cover 121 in the transport direction X. Move back and forth.

ローラ443は、開口板442を取り付けたシャッター441の移動を円滑にする。ローラ443は、カバー121の一端121aであって、搬送方向Xに沿った上流側と下流側にそれぞれ配設している。第1直動ステージ444および第2直動ステージ445は、開口板442を取り付けたシャッター441を、カバー121の外周面に沿って往復運動するように移動させる。第1直動ステージ444は、カバー121の搬送方向Xの下流側に対向した面に接合し、シャッター441の一端441aを把持している。第2直動ステージ445は、カバー121の搬送方向Xの上流側に対向した面に接合し、シャッター441の他端441bを把持している。   The roller 443 facilitates the movement of the shutter 441 to which the aperture plate 442 is attached. The rollers 443 are disposed at one end 121 a of the cover 121 and on the upstream side and the downstream side along the transport direction X, respectively. The first translation stage 444 and the second translation stage 445 move the shutter 441 to which the aperture plate 442 is attached so as to reciprocate along the outer peripheral surface of the cover 121. The first linear motion stage 444 is bonded to a surface of the cover 121 that faces the downstream side in the transport direction X, and holds the one end 441a of the shutter 441. The second linear motion stage 445 is bonded to the surface of the cover 121 facing the upstream side in the transport direction X, and holds the other end 441b of the shutter 441.

開口板442は、図12(A)に示す構成では、第1直動ステージ444の把持部を前進させつつ、第2直動ステージ445の把持部を後退させることによって、カバー121の側面に位置している。ここで、シャッター441によってカバー121の一端121aを封止し、回収部150による吸引に伴って、カバー121および箱状ダクト131の内部を減圧等して吸引する。一方、開口板442は、図12(B)に示す構成では、第1直動ステージ444の把持部を後退させつつ、第2直動ステージ445の把持部を前進させることによって、カバー121の一端121aに位置している。また、カバー121は、図12(B)に示す構成では、セラミックセパレータ用基材10に向かって移動して当接している。ここで、開口板442によってカバー121の一端121aは開口し、レーザー発振器111はレーザー光L1をセラミックセパレータ用基材10に照射する。   In the configuration shown in FIG. 12A, the opening plate 442 is positioned on the side surface of the cover 121 by moving the gripping portion of the second linear motion stage 445 backward while moving the gripping portion of the first linear motion stage 444 forward. doing. Here, one end 121 a of the cover 121 is sealed by the shutter 441, and the inside of the cover 121 and the box-shaped duct 131 is sucked by decompression or the like with the suction by the collection unit 150. On the other hand, in the configuration shown in FIG. 12B, the opening plate 442 moves one end of the cover 121 by advancing the gripping portion of the second linear motion stage 445 while retracting the gripping portion of the first linear motion stage 444. 121a. In the configuration shown in FIG. 12B, the cover 121 moves toward and contacts the ceramic separator substrate 10. Here, one end 121a of the cover 121 is opened by the opening plate 442, and the laser oscillator 111 irradiates the ceramic separator substrate 10 with the laser light L1.

上述した第1実施形態の変形例2に係る切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置400によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。   According to the cutting method according to the second modification of the first embodiment described above and the cutting device 400 that embodies the cutting method, the following effects can be obtained.

切断装置400において、シャッター441は、カバー121または箱状ダクト131と共に切断部位10sに近接または離間する。さらに、シャッター441は、カバー121または箱状ダクト131の外周面に沿って移動しつつカバー121と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止する。   In the cutting device 400, the shutter 441 moves close to or away from the cutting site 10s together with the cover 121 or the box-shaped duct 131. Furthermore, the shutter 441 seals between the cover 121 and the cutting site 10 s or between the cutting site 10 s and the box-shaped duct 131 while moving along the outer peripheral surface of the cover 121 or the box-shaped duct 131.

このような構成によれば、封止部440を小型化することができる。また、シャッター441は、第1遮蔽部120の近傍に配設された回収部150や除電部160等の構成部材との干渉を容易に防止することができる。したがって、回収部150や除電部160等は、それらの配置の自由度が増す。   According to such a structure, the sealing part 440 can be reduced in size. Further, the shutter 441 can easily prevent interference with components such as the collection unit 150 and the charge removal unit 160 disposed in the vicinity of the first shielding unit 120. Therefore, the collection unit 150, the charge removal unit 160, and the like have an increased degree of freedom in their arrangement.

(第1実施形態の変形例3)
第1実施形態の変形例3に係る切断装置500について、図13を参照しながら説明する。
(Modification 3 of the first embodiment)
A cutting apparatus 500 according to Modification 3 of the first embodiment will be described with reference to FIG.

第1実施形態の変形例3に係る切断装置500は、前述した第1実施形態に係る切断装置100における第1遮蔽部120と第2遮蔽部130を、搬送部170によって搬送されるセラミックセパレータ用基材10を基準にして反転させている。すなわち、切断装置500は、切断装置100の第1遮蔽部120と第2遮蔽部130の天地を、セラミックセパレータ用基材10を境にして逆転させている。同様に、切断部110および封止部140は、第1遮蔽部120に隣接していることから、セラミックセパレータ用基材10を介し積層方向Zに沿って反転させている。   The cutting device 500 according to the third modification of the first embodiment is for a ceramic separator in which the first shielding unit 120 and the second shielding unit 130 in the cutting device 100 according to the first embodiment described above are conveyed by the conveying unit 170. The substrate 10 is reversed with respect to the reference. That is, the cutting device 500 reverses the top and bottom of the first shielding portion 120 and the second shielding portion 130 of the cutting device 100 with the ceramic separator substrate 10 as a boundary. Similarly, since the cutting part 110 and the sealing part 140 are adjacent to the first shielding part 120, the cutting part 110 and the sealing part 140 are reversed along the stacking direction Z via the ceramic separator substrate 10.

第1実施形態の変形例3においては、前述した第1実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。   In the modification 3 of 1st Embodiment, about the thing which consists of the structure similar to 1st Embodiment mentioned above, the same code | symbol is used and the description mentioned above is abbreviate | omitted.

切断装置500の構成について、図13を参照しながら説明する。   The configuration of the cutting device 500 will be described with reference to FIG.

図13は、切断装置500を示す斜視図である。   FIG. 13 is a perspective view showing the cutting device 500.

第1遮蔽部120は、セラミックセパレータ用基材10よりも積層方向Zに沿った図中の下方に配設し、レーザー発振器111とセラミックセパレータ用基材10の切断部位10sとの間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。第2遮蔽部130は、セラミックセパレータ用基材10よりも積層方向Zに沿った図中の上方に配設し、セラミックセパレータ用基材10の切断部位10sよりもレーザー発振器111に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する。第1遮蔽部120に隣接した切断部110および封止部140は、セラミックセパレータ用基材10よりも積層方向Zに沿った図中の下方に配設している。   The first shielding part 120 is disposed below the ceramic separator base material 10 in the drawing direction along the stacking direction Z, and surrounds the area between the laser oscillator 111 and the cut portion 10s of the ceramic separator base material 10. Enclosure and shield in a state in which outside air can be taken in freely. The second shield 130 is disposed above the ceramic separator substrate 10 in the drawing direction along the stacking direction Z, and is more distant from the laser oscillator 111 than the cutting portion 10 s of the ceramic separator substrate 10. Enclose the side and shield it in a state where outside air can be taken in freely. The cutting part 110 and the sealing part 140 adjacent to the first shielding part 120 are arranged below the ceramic separator substrate 10 in the drawing along the stacking direction Z.

上述した第1実施形態の変形例3に係る切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置500によれば、定期的なメンテナンスを必要とし、かつ相当な重量があるレーザー発振器111を、切断装置500の下部に配設することによって、取り扱いを容易にして作業性を向上させることができる。同様に、第1遮蔽部120は、第2遮蔽部130と比較して、構成部材の数が多く、かつ構成部材に移動するものも複数含まれることから、切断装置500の下部に配設することによって、メンテナンスや不具合が発生したときに対応し易くできる。さらに、第2遮蔽部130が第1遮蔽部120よりも構成が簡易で小さいことから、移載部180は、第2遮蔽部130との干渉を防止し易い。   According to the cutting method according to the third modification of the first embodiment described above and the cutting device 500 embodying the cutting method, the laser oscillator 111 that requires regular maintenance and has a considerable weight is cut. By disposing at the lower part of the apparatus 500, handling can be facilitated and workability can be improved. Similarly, the first shielding part 120 has a larger number of constituent members than the second shielding part 130 and includes a plurality of constituent members that move to the constituent members. Thus, it is possible to easily cope with maintenance or malfunction. Furthermore, since the second shielding unit 130 is simpler and smaller in configuration than the first shielding unit 120, the transfer unit 180 can easily prevent interference with the second shielding unit 130.

(第2実施形態)
第2実施形態に係る切断装置600について、図14を参照しながら説明する。
(Second Embodiment)
A cutting apparatus 600 according to the second embodiment will be described with reference to FIG.

第2実施形態に係る切断装置600は、前述した第1実施形態に係る切断装置100と異なり、第1遮蔽部620の内部に端材12を回収する機構を配設している。   Unlike the cutting device 100 according to the first embodiment, the cutting device 600 according to the second embodiment has a mechanism for collecting the end material 12 inside the first shielding part 620.

第2実施形態においては、前述した第1実施形態と同様の構成からなるものについて、同一の符号を使用し、前述した説明を省略する。   In the second embodiment, the same reference numerals are used for components having the same configuration as in the first embodiment described above, and the above description is omitted.

切断装置600の構成について、図14を参照しながら説明する。   The configuration of the cutting device 600 will be described with reference to FIG.

図14は、切断装置600の要部を示す断面図である。   FIG. 14 is a cross-sectional view showing a main part of the cutting device 600.

第1遮蔽部620は、筺体623を除いて、第1遮蔽部120と同様の構成からなる。筺体623は、廃棄口623dの形状や位置を除いて、筺体123と同様の構成からなる。   The first shielding part 620 has the same configuration as the first shielding part 120 except for the housing 623. The housing 623 has the same configuration as that of the housing 123 except for the shape and position of the disposal port 623d.

筺体623は、搬送方向Xに沿った下流側の側面の上部に長尺状の廃棄口623dを備えている。廃棄口623dは、交差方向Yに沿って延在している。廃棄口623dは、カバー121が積層方向Zに沿って図中の上方に移動しても、閉塞されない。廃棄口623dは、回収部650の第1角筒状ダクト651に接続している。   The housing 623 includes a long waste port 623d at the upper part of the downstream side surface along the transport direction X. The discard port 623d extends along the intersecting direction Y. Even if the cover 121 moves upward in the drawing along the stacking direction Z, the discard port 623d is not blocked. The disposal port 623d is connected to the first rectangular tubular duct 651 of the collection unit 650.

回収部650は、第1角筒状ダクト651、バキュームパッド655、支持台656、および移動ステージ657に加えて、回収部150と同様の構成部材である第1吸引器152、第2円筒状ダクト153、および第2吸引器154を備えている。   In addition to the first rectangular tube duct 651, the vacuum pad 655, the support base 656, and the moving stage 657, the collection unit 650 includes the first suction unit 152 and the second cylindrical duct that are the same components as the collection unit 150. 153 and a second suction device 154.

第1角筒状ダクト651は、セラミックセパレータ用基材10の切断に伴って発生した端材12および切断粉13を第1吸引器152に流通させる。第1角筒状ダクト651は、内部に空間を備え断面が長方形の直管からなる。第1角筒状ダクト651は、その長手方向が交差方向Yに沿うように設けている。第1角筒状ダクト651は、一端を筺体623の廃棄口623dに接続し、他端を第1吸引器152の開口に接続している。   The first rectangular tubular duct 651 causes the end material 12 and the cutting powder 13 generated along with the cutting of the ceramic separator substrate 10 to flow through the first suction device 152. The first rectangular tubular duct 651 is a straight pipe having a space inside and a rectangular cross section. The first rectangular tubular duct 651 is provided such that its longitudinal direction is along the crossing direction Y. The first rectangular tubular duct 651 has one end connected to the disposal port 623 d of the housing 623 and the other end connected to the opening of the first suction device 152.

バキュームパッド655は、端材12を一時的に保持する。バキュームパッド655は、カバー121の内部において、交差方向Yの両側に1つずつ配設している。バキュームパッド655は、伸縮性を備えた部材からなり、円筒形状に形成している。バキュームパッド655は、吸引ポンプ等に接続し、切断された端材12を吸引して保持する。支持台656は、バキュームパッド655を支持している。支持台656は、L字状に形成している。支持台656は、移動ステージ657に連結している。移動ステージ657は、バキュームパッド655を切断部位10sに対して接近および離間させる。移動ステージ657は、カバー121の交差方向Yの両側面に、一つずつ接合している。移動ステージ657は、バキュームパッド655を支持した支持台656を、積層方向Zに沿って往復させる。   The vacuum pad 655 temporarily holds the end material 12. One vacuum pad 655 is disposed on each side of the cross direction Y inside the cover 121. The vacuum pad 655 is made of a member having elasticity and is formed in a cylindrical shape. The vacuum pad 655 is connected to a suction pump or the like, and sucks and holds the cut end material 12. The support base 656 supports the vacuum pad 655. The support base 656 is formed in an L shape. The support base 656 is connected to the moving stage 657. The moving stage 657 moves the vacuum pad 655 closer to and away from the cutting site 10s. The moving stage 657 is joined to each side surface of the cover 121 in the intersecting direction Y one by one. The moving stage 657 reciprocates the support base 656 supporting the vacuum pad 655 along the stacking direction Z.

切断装置600の作用について、図14を参照しながら説明する。レーザー発振器111によってセラミックセパレータ用基材10が切断されると、隣り合うセラミックセパレータの間に端材12が発生する。バキュームパッド655は、切断部位10sから離間しておくことによって、レーザー発振器111によるセラミックセパレータ用基材10の切断を妨げない。すなわち、バキュームパッド655は、切断部位10sから離間した状態ではレーザー光L1と干渉しない。次に、移動ステージ657は、バキュームパッド655を積層方向Zに沿って降下させ、切断部位10sに近接させる。バキュームパッド655は、切断された端材12を吸引して保持する。次に、移動ステージ657は、バキュームパッド655を積層方向Zに沿って上昇させ、筺体623の廃棄口623dに近接させる。回収部650は、バキュームパッド655が保持している端材12を、第1角筒状ダクト651を介して吸引して回収する。   The operation of the cutting device 600 will be described with reference to FIG. When the ceramic separator substrate 10 is cut by the laser oscillator 111, the end material 12 is generated between adjacent ceramic separators. The vacuum pad 655 does not hinder the cutting of the ceramic separator substrate 10 by the laser oscillator 111 by being separated from the cutting site 10s. That is, the vacuum pad 655 does not interfere with the laser beam L1 in a state where the vacuum pad 655 is separated from the cutting site 10s. Next, the moving stage 657 lowers the vacuum pad 655 along the stacking direction Z and brings it close to the cutting site 10s. The vacuum pad 655 sucks and holds the cut end material 12. Next, the moving stage 657 raises the vacuum pad 655 along the stacking direction Z and brings it close to the waste outlet 623d of the housing 623. The collecting unit 650 sucks and collects the end material 12 held by the vacuum pad 655 through the first rectangular tubular duct 651.

上述した第2実施形態に係る長尺状の基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形する切断方法、およびその切断方法を具現化した切断装置600によれば、以下の構成によって作用効果を奏する。   The cutting method which cut | disconnects the elongate base material (for example, the base material 10 for ceramic separators) which concerns on 2nd Embodiment mentioned above, and shape | molds a molded article (for example, ceramic separator 11), and the cutting which embodied the cutting method According to the apparatus 600, there exists an effect by the following structures.

回収部650は、回収部材(バキュームパッド655)および移動部材(移動ステージ657)をさらに備えている。バキュームパッド655は、カバー121または箱状ダクト131の内部に配設し端材12を一時的に保持する。移動ステージ657は、バキュームパッド655を切断部位10sから離間させる。制御部190は、レーザー発振器111にセラミックセパレータ用基材10を切断させ、バキュームパッド655に端材12を保持させつつ移動ステージ657にバキュームパッド655を切断部位10sから離間させ、シャッター141にカバー121と切断部位10sとの間または切断部位10sと箱状ダクト131との間を封止させる。   The collection unit 650 further includes a collection member (vacuum pad 655) and a moving member (moving stage 657). The vacuum pad 655 is disposed inside the cover 121 or the box-shaped duct 131 and temporarily holds the end material 12. The moving stage 657 moves the vacuum pad 655 away from the cutting site 10s. The control unit 190 causes the laser oscillator 111 to cut the ceramic separator substrate 10, holds the end material 12 on the vacuum pad 655, moves the vacuum pad 655 away from the cutting site 10 s on the moving stage 657, and covers the shutter 121 with the cover 121. Between the cutting portion 10s and the cutting portion 10s and the box-shaped duct 131 is sealed.

このような構成によれば、端材12は、切断粉13と比較して大きく重量が有るものの、第1角筒状ダクト651の近傍まで強制的に移動させて、確実に吸引して回収することができる。ここで、端材12は、切断粉13と比較して大きいことから、切断粉13を吸引する場合と比較して相対的に大きな吸引力が必要となる。しかしながら、回収部650によって吸引する端材12を切断部位10sから十分に離間させていることから、例えばセラミックセパレータ11の端部が吸引により捲れ上がってしまうことを防止できる。さらに、回収部650は、バキュームパッド655を、例えばカバー121の内部において移動させることから、バキュームパッド655と他の構成部材との干渉を容易に回避することができる。   According to such a structure, although the end material 12 has large weight compared with the cutting powder 13, it is forcedly moved to the vicinity of the 1st square cylindrical duct 651, and is reliably attracted | sucked and collect | recovered. be able to. Here, since the end material 12 is larger than the cutting powder 13, a relatively large suction force is required as compared with the case where the cutting powder 13 is sucked. However, since the end material 12 sucked by the collection unit 650 is sufficiently separated from the cutting site 10s, for example, it is possible to prevent the end portion of the ceramic separator 11 from rolling up due to suction. Furthermore, since the collection unit 650 moves the vacuum pad 655 within the cover 121, for example, interference between the vacuum pad 655 and other components can be easily avoided.

そのほか、本発明は、特許請求の範囲に記載された構成に基づき様々な改変が可能であり、それらについても本発明の範疇である。   In addition, the present invention can be variously modified based on the configurations described in the claims, and these are also within the scope of the present invention.

第1および第2実施形態において、長尺状のセラミックセパレータ用基材10を切断してセラミックセパレータ11を成形する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、長尺状のセラミックがコーティングされていないセパレータ用基材を切断してセラミックセパレータを成形する構成や、長尺状の電極用基材を切断して電極を成形する構成等、切断によって電気または機械デバイスを成形する構成に適用することができる。   In 1st and 2nd embodiment, although the elongate ceramic separator base material 10 was demonstrated as a structure which shape | molds the ceramic separator 11, it is not limited to such a structure. For example, a structure in which a separator substrate that is not coated with a long ceramic is cut to form a ceramic separator, or a structure in which a long electrode substrate is cut to form an electrode, etc. Or it can apply to the structure which shape | molds a mechanical device.

また、第1および第2実施形態において、第1遮蔽部材(カバー121に相当)は、セラミックセパレータ用基材10に対して接近離間するする構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、第1遮蔽部材(カバー121に相当)は、セラミックセパレータ用基材10に対して近接した状態で、移動しない構成としてもよい。   In the first and second embodiments, the first shielding member (corresponding to the cover 121) has been described as being configured to approach and separate from the ceramic separator substrate 10, but is limited to such a configuration. There is nothing. For example, the first shielding member (corresponding to the cover 121) may be configured not to move in the state of being close to the ceramic separator substrate 10.

また、第1および第2実施形態において、封止部材(シャッター141に相当)は、第1遮蔽部材(カバー121に相当)の挿通口121cに挿通しつつ移動する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、封止部材(シャッター141に相当)は、第1遮蔽部材(カバー121に相当)の一端121aに当接しつつ移動するように構成してもよい。   In the first and second embodiments, the sealing member (corresponding to the shutter 141) has been described as moving while being inserted through the insertion port 121c of the first shielding member (corresponding to the cover 121). It is not limited to a simple configuration. For example, the sealing member (corresponding to the shutter 141) may be configured to move while contacting the one end 121a of the first shielding member (corresponding to the cover 121).

また、第1および第2実施形態において、基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を切断して成形品(例えばセラミックセパレータ11)を成形した後、成形品(例えばセラミックセパレータ11)を一時的に載置台185に載置する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、アノード側セパレータ、電極、およびカソード側セパレータの順で積層することによって、袋詰電極を形成する構成にも適用できる。すなわち、長尺状の電極用基材を搬送しながら電極を切断して形成しつつ、その電極の両面から長尺状のアノードおよびカソード側セパレータ用基材をそれぞれ搬送しながらアノードおよびカソード側セパレータを切断して形成しつつ、それらを積層する。このような構成においては、長尺状のアノード側セパレータ用基材の搬送ドラムに対面するように第1遮蔽部材に相当する構成を近接して設け、搬送ドラムの外周面に第2遮蔽部材に相当する構成を埋設して設けた上で、アノード側セパレータを切断して形成する。カソード側セパレータ用基材についても同様の構成とする。   In the first and second embodiments, after the base material (for example, the ceramic separator base material 10) is cut to form a molded product (for example, the ceramic separator 11), the molded product (for example, the ceramic separator 11) is temporarily used. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, the present invention can be applied to a configuration in which a packed electrode is formed by stacking an anode side separator, an electrode, and a cathode side separator in this order. That is, an anode and a cathode side separator are formed while cutting and forming an electrode while conveying a long electrode substrate, and conveying a long anode and cathode side separator substrate from both sides of the electrode, respectively. These are laminated while being cut. In such a configuration, a configuration corresponding to the first shielding member is provided close to the long anode-side separator base material so as to face the conveyance drum, and the second shielding member is provided on the outer circumferential surface of the conveyance drum. The anode side separator is cut and formed after the corresponding structure is embedded and provided. The cathode side separator base material has the same configuration.

また、第1および第2実施形態において、第1遮蔽部材(カバー121に相当)と第2遮蔽部材(箱状ダクト131に相当)を積層方向Zに沿って対向して配設した構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)を積層方向Zに沿って搬送し、第1遮蔽部材(カバー121に相当)と第2遮蔽部材(箱状ダクト131に相当)を搬送方向Xに沿って対向して配設した構成としてもよい。   Further, in the first and second embodiments, the first shielding member (corresponding to the cover 121) and the second shielding member (corresponding to the box-shaped duct 131) are arranged to face each other along the stacking direction Z. However, it is not limited to such a configuration. For example, the base material (for example, the ceramic separator base material 10) is transported along the stacking direction Z, and the first shielding member (corresponding to the cover 121) and the second shielding member (corresponding to the box-shaped duct 131) are transported in the transporting direction X. It is good also as a structure arrange | positioned facing each other.

また、第1および第2実施形態において、除電部材(イオナイザー161に相当)は、第1遮蔽部材(カバー121に相当)の外部に配設する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、除電部材(イオナイザー161に相当)は、第1遮蔽部材(カバー121に相当)または筺体123の内部に配設する構成としてもよい。このような構成では、切断部材(レーザー発振器111に相当)による基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)の切断中に発生する静電気を速やかに除去する。   In the first and second embodiments, the static elimination member (corresponding to the ionizer 161) has been described as being disposed outside the first shielding member (corresponding to the cover 121), but is limited to such a configuration. Never happen. For example, the static elimination member (corresponding to the ionizer 161) may be arranged inside the first shielding member (corresponding to the cover 121) or the casing 123. In such a configuration, static electricity generated during cutting of the base material (for example, the ceramic separator base material 10) by the cutting member (corresponding to the laser oscillator 111) is quickly removed.

また、第1および第2実施形態において、搬送部170が、基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)および成形品(例えばセラミックセパレータ11)を自動で搬送する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)または成形品(例えばセラミックセパレータ11)のいずれか一方を人手によって搬送する構成としてもよい。同様に、基材(例えばセラミックセパレータ用基材10)および成形品(例えばセラミックセパレータ11)を人手によってそれぞれ搬送する構成としてもよい。   Moreover, in 1st and 2nd embodiment, although the conveyance part 170 demonstrated as a structure which conveys a base material (for example, the base material 10 for ceramic separators) and a molded article (for example, the ceramic separator 11) automatically, such a structure is demonstrated. The configuration is not limited. For example, it is good also as a structure which conveys any one of a base material (for example, the base material 10 for ceramic separators) or a molded article (for example, the ceramic separator 11) manually. Similarly, it is good also as a structure which each conveys a base material (for example, the ceramic separator base material 10) and a molded article (for example, the ceramic separator 11) manually.

また、第2実施形態において、第1遮蔽部620の内部に移動ステージ657を配設する構成として説明したが、このような構成に限定されることはない。例えば、筺体623に設けたZ軸直動ステージ126によって、カバー121と共にバキュームパッド655を支持する支持台656を移動させてもよい。   Moreover, in 2nd Embodiment, although demonstrated as a structure which arrange | positions the movement stage 657 inside the 1st shielding part 620, it is not limited to such a structure. For example, the support base 656 that supports the vacuum pad 655 together with the cover 121 may be moved by the Z-axis linear motion stage 126 provided in the housing 623.

なお、例えば第1実施形態の変形例1に係る切断装置300の構成と第2実施形態に係る切断装置600の構成を組み合わせるように、任意の実施形態を組み合わせて切断装置を構成してもよい。   In addition, for example, the cutting device may be configured by combining arbitrary embodiments such that the configuration of the cutting device 300 according to the first modification of the first embodiment is combined with the configuration of the cutting device 600 according to the second embodiment. .

10 セラミックセパレータ用基材(基材)、
10s 切断部位、
11 セラミックセパレータ(成形品)、
12 端材(切断片)、
13 切断粉(切断塵)、
100,200,300,400,500,600 切断装置、
110 切断部、
111 レーザー発振器、
111a 出射口、
120,320,620 第1遮蔽部、
121,321,620 カバー(第1遮蔽部材)、
121a,321a 一端、
121b 他端、
121c,321c 挿通口、
122 密閉リング(密閉部材)、
123,623 筺体、
123a 一端、
123b 他端、
123c,623c 開口、
123d,623d 廃棄口、
124 支持板
125 支柱、
126 Z軸直動ステージ、
130 第2遮蔽部、
131 箱状ダクト(第2遮蔽部材)、
131a 開口、
131b 廃棄口、
140,240,340,440 封止部、
141,241,341,441 シャッター、
142,242,342 X軸直動ステージ、
441a 一端、
441b 他端、
442 開口板、
443 ローラ、
444 第1直動ステージ、
445 第2直動ステージ、
150,650 回収部、
151 第1円筒状ダクト、
152 第1吸引器、
153 第2円筒状ダクト、
154 第2吸引器、
651 第1角筒状ダクト、
655 バキュームパッド(回収部材)、
656 支持台、
657 移動ステージ(移動部材)、
160 除電部、
161 イオナイザー(除電部材)、
170 搬送部、
171 供給ローラ、
172 搬送ローラ、
173 搬送ベルト、
174 駆動ローラ、
180 移載部、
181 吸着パッド、
182 伸縮部材、
183 X軸搬送ステージ、
184 X軸補助レール、
185 載置台、
190 制御部、
191 コントローラ、
L1 レーザー光、
X 搬送方向、
Y (搬送方向Xと交差する)交差方向、
Z 積層方向。
10 Substrate for ceramic separator (base material),
10s cleavage site,
11 Ceramic separator (molded product),
12 End material (cut piece),
13 Cutting powder (cutting dust),
100, 200, 300, 400, 500, 600 cutting device,
110 cutting part,
111 laser oscillator,
111a outlet,
120, 320, 620 first shielding part,
121,321,620 cover (first shielding member),
121a, 321a one end,
121b the other end,
121c, 321c insertion port,
122 sealing ring (sealing member),
123,623 housing,
123a one end,
123b the other end,
123c, 623c opening,
123d, 623d Waste port,
124 support plate 125 strut,
126 Z-axis linear motion stage,
130 second shielding part,
131 Box-shaped duct (second shielding member),
131a opening,
131b Waste port,
140, 240, 340, 440 sealing part,
141, 241, 341, 441 shutter,
142, 242, 342 X-axis linear motion stage,
441a one end,
441b the other end,
442 aperture plate,
443 Laura,
444 1st linear motion stage,
445 Second linear motion stage,
150,650 collection unit,
151 the first cylindrical duct,
152 first aspirator,
153 second cylindrical duct,
154 second suction device,
651 1st square cylindrical duct,
655 vacuum pad (collection member),
656 support,
657 moving stage (moving member),
160 Static neutralizer,
161 Ionizer (static elimination member),
170 transport section,
171 supply roller,
172 transport roller,
173 Conveyor belt,
174 driving roller,
180 transfer section,
181 suction pad,
182 elastic member,
183 X-axis transfer stage,
184 X-axis auxiliary rail,
185 mounting table,
190 control unit,
191 controller,
L1 laser light,
X transport direction,
Y crossing direction (crossing the transport direction X),
Z Stacking direction.

Claims (12)

長尺状の基材を切断して成形品を成形する切断装置であって、
隣り合う前記成形品との間に切断片を発生させるように前記基材を切断する切断部材と、
前記切断部材と前記基材の切断部位との間の周囲を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する第1遮蔽部材と、
前記基材の切断部位よりも前記切断部材に対して遠位側を囲い、外気を取り込み自在な状態において遮蔽する第2遮蔽部材と、
前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材に対して接近離間自在に配設し、前記第1遮蔽部材と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽部材との間を封止する封止部材と、
前記基材の切断塵を前記第1遮蔽部材および前記第2遮蔽部材の内部を介してそれぞれ吸引して回収しつつ、前記切断片を前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材の内部を介して吸引して回収する回収部と、
前記切断部材、前記封止部材、および前記回収部の作動を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記切断部材に前記基材を切断させ、前記封止部材に前記第1遮蔽部材と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽部材との間を封止させ、前記回収部に前記第1遮蔽部材および前記第2遮蔽部材の内部を吸引させる切断装置。
A cutting device for cutting a long base material to form a molded product,
A cutting member for cutting the base material so as to generate a cut piece between the adjacent molded products;
A first shielding member that surrounds a periphery between the cutting member and the cutting portion of the base material and shields the surrounding air in a state in which outside air can be taken in;
A second shielding member that surrounds the distal side relative to the cutting member with respect to the cutting portion of the base material and shields in a state in which outside air can be taken in;
The first shielding member or the second shielding member is disposed so as to be close to and away from the first shielding member and seals between the first shielding member and the cutting portion or between the cutting portion and the second shielding member. A sealing member to be
While cutting and collecting the cut dust of the base material through the insides of the first shielding member and the second shielding member, the cut pieces are taken through the inside of the first shielding member or the second shielding member. A collecting part for sucking and collecting;
A control unit that controls the operation of the cutting member, the sealing member, and the recovery unit,
The control unit causes the cutting member to cut the base material and causes the sealing member to seal between the first shielding member and the cutting site or between the cutting site and the second shielding member. A cutting device that causes the collection unit to suck the inside of the first shielding member and the second shielding member.
前記回収部は、
前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材の内部に配設し前記切断片を一時的に保持する回収部材と、
前記回収部材を前記切断部位から離間させる移動部材と、をさらに備え、
前記制御部は、前記切断部材に前記基材を切断させ、前記回収部材に前記切断片を保持させつつ前記移動部材に前記端材回収部材を切断部位から離間させ、前記封止部材に前記第1遮蔽部材と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽部材との間を封止させる請求項1に記載の切断装置。
The collection unit
A collecting member that is disposed inside the first shielding member or the second shielding member and temporarily holds the cut piece;
A moving member that separates the recovery member from the cutting site;
The control unit causes the cutting member to cut the base material, causes the recovery member to hold the cutting piece, causes the moving member to separate the end material recovery member from the cutting site, and causes the sealing member to The cutting apparatus according to claim 1, wherein a gap between one shielding member and the cutting part or a part between the cutting part and the second shielding member is sealed.
前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材の少なくとも一方は、前記切断部材が前記基材を切断しているときに、前記基材に対して密着する請求項1または2に記載の切断装置。   The cutting apparatus according to claim 1 or 2, wherein at least one of the first shielding member and the second shielding member is in close contact with the base material when the cutting member is cutting the base material. 前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材の少なくとも一方は、前記基材に対向する開口の外周縁に沿って備えた伸縮性を有する密閉部材を介し、前記基材に対して密着する請求項3に記載の切断装置。   The at least one of the first shielding member or the second shielding member is in close contact with the base material via an elastic sealing member provided along an outer peripheral edge of an opening facing the base material. 4. The cutting device according to 3. 少なくとも前記基材に帯電した静電気を除去する除電部材を、さらに有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の切断装置。   The cutting device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a static elimination member that removes at least static electricity charged on the substrate. 前記封止部材は、前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材に開口した挿入口から内部に挿通する請求項1〜5のいずれか1項に記載の切断装置。   The cutting device according to any one of claims 1 to 5, wherein the sealing member is inserted through an insertion opening opened in the first shielding member or the second shielding member. 前記封止部材は、
前記第1遮蔽部材および前記第2遮蔽部材のいずれか一方と共に前記切断部位に近接または離間し、または前記第1遮蔽部材および前記第2遮蔽部材とは別個に前記切断部位に近接または離間し、
前記第1遮蔽部材と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽部材との間を封止する請求項1〜6のいずれか1項に記載の切断装置。
The sealing member is
Either close to or separate from the cutting site together with either the first shielding member or the second shielding member, or close to or separate from the cutting site separately from the first shielding member and the second shielding member,
The cutting device according to any one of claims 1 to 6, which seals between the first shielding member and the cutting portion or between the cutting portion and the second shielding member.
前記封止部材は、前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材と共に切断部位に近接または離間し、かつ前記第1遮蔽部材または前記第2遮蔽部材の外周面に沿って移動しつつ前記第1遮蔽部材と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽部材との間を封止する請求項1〜6のいずれか1項に記載の切断装置。   The first sealing member or the second shielding member is close to or away from the cutting site, and the sealing member moves along the outer peripheral surface of the first shielding member or the second shielding member, while the first shielding member or the second shielding member moves. The cutting device according to any one of claims 1 to 6, which seals between a shielding member and the cutting site or between the cutting site and the second shielding member. 切断部材は、レーザー光を前記基材に照射して切断するレーザー発振器、超音波を印加した刃を前記基材に押圧して切断する切断刃、または回転させた円形状の刃を前記基材に押圧して切断する切削刃からなる請求項1〜8のいずれか1項に記載の切断装置。   The cutting member is a laser oscillator that irradiates and cuts the base material with a laser beam, a cutting blade that presses and cuts a blade to which ultrasonic waves are applied to the base material, or a rotated circular blade. The cutting device according to claim 1, comprising a cutting blade that presses and cuts the blade. 長尺状の基材を切断して成形品を成形する切断方法であって、
前記基材の切断部位を一面の側から囲って遮蔽する第1遮蔽領域と、前記切断部位を前記一面と対向した他面の側から囲って遮蔽する第2遮蔽領域とを、それぞれ外気を取り込み自在な状態において形成する遮蔽工程と、
隣り合う前記成形品との間に切断片を発生させるように前記切断部位を切断する切断工程と、
前記第1遮蔽領域と前記切断部位との間または前記切断部位と前記第2遮蔽領域との間を封止する封止工程と、
前記第1遮蔽領域および前記第2遮蔽領域にそれぞれ存在する前記基材の前記切断塵を異なる流路によって吸引して回収しつつ、前記第1遮蔽領域または前記第2遮蔽領域に存在する前記切断片を吸引して回収する回収工程と、を有する切断方法。
A cutting method for forming a molded product by cutting a long substrate,
A first shielding region that surrounds and shields the cutting portion of the base material from one side and a second shielding region that shields and surrounds the cutting portion from the other surface side opposite to the one surface respectively capture outside air. A shielding process to be formed in a free state;
A cutting step of cutting the cutting portion so as to generate a cutting piece between the adjacent molded products;
A sealing step for sealing between the first shielding region and the cutting portion or between the cutting portion and the second shielding region;
The cutting existing in the first shielding region or the second shielding region while sucking and collecting the cutting dust of the base material existing in the first shielding region and the second shielding region, respectively, through different flow paths. A recovery step of sucking and recovering the pieces.
前記基材および前記成形品を搬送する搬送工程を備え、
前記回収工程は、前記搬送工程によって前記基材および前記成形品が搬送されている間、吸引を継続する請求項10に記載の切断方法。
A transporting step for transporting the base material and the molded product;
The cutting method according to claim 10, wherein the collecting step continues the suction while the base material and the molded product are conveyed by the conveying step.
前記基材は、シート状の溶融材と、前記溶融材に積層し前記溶融材よりも溶融温度が高い耐熱材と、を積層して形成したものを用いる請求項10または11に記載の切断方法。   The cutting method according to claim 10 or 11, wherein the base material is formed by laminating a sheet-like molten material and a heat-resistant material laminated on the molten material and having a higher melting temperature than the molten material. .
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105397287A (en) * 2015-12-17 2016-03-16 东莞市秦智工业设计有限公司 Dust collection device of carbon dioxide laser drilling machine
JP2017042805A (en) * 2015-08-28 2017-03-02 株式会社ディスコ Laser processing device
CN114800785A (en) * 2022-03-31 2022-07-29 湖南省醴陵市湘瑞电力电器有限公司 Ceramic insulator excess material recycling, mixing and forming line
WO2023002868A1 (en) * 2021-07-19 2023-01-26 コマツ産機株式会社 Laser blanking device

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