JP2015107451A - Electrospray device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、エレクトロスプレー装置に関し、特に、ノズルから噴霧された溶液材料を、基板に薄膜として堆積するエレクトロスプレー装置に関する。 The present invention relates to an electrospray apparatus, and more particularly to an electrospray apparatus that deposits a solution material sprayed from a nozzle as a thin film on a substrate.
従来、ノズルから噴霧された溶液材料を基板に薄膜として堆積するエレクトロスプレー装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。 Conventionally, an electrospray apparatus that deposits a solution material sprayed from a nozzle as a thin film on a substrate is known (see, for example, Patent Document 1).
上記特許文献1には、基板が載置される平板状の基板載置部と、電圧が印加された状態の溶液材料を基板に噴霧するノズルとを備えるエレクトロスプレー装置が開示されている。このエレクトロスプレー装置では、基板載置部に載置された基板に電圧が印加されるように構成されている。そして、基板とノズルとの間に生じた電界により、ノズルから基板に溶液材料が飛行することによって、基板に溶液材料が薄膜として堆積される。なお、平板状の基板載置部の表面は、平坦面状に形成されている。 Patent Document 1 discloses an electrospray apparatus including a flat substrate mounting portion on which a substrate is mounted and a nozzle that sprays a solution material in a state where a voltage is applied to the substrate. This electrospray apparatus is configured such that a voltage is applied to a substrate placed on the substrate placing portion. Then, the solution material flies from the nozzle to the substrate by the electric field generated between the substrate and the nozzle, so that the solution material is deposited on the substrate as a thin film. Note that the surface of the flat substrate mounting portion is formed into a flat surface.
しかしながら、上記特許文献1に記載されるような従来のエレクトロスプレー装置では、薄膜の形成後も基板に電荷が蓄積されている場合があり、基板と、平坦面状の表面を有する基板載置部との間の静電気力により、基板が基板載置部に吸着した状態(静電チャックの状態)となる。この場合に、基板と基板載置部(アースプレート)とを引き離すことが困難である場合があるという問題点がある。 However, in the conventional electrospray apparatus as described in Patent Document 1, charges may be accumulated on the substrate even after the thin film is formed, and the substrate and the substrate mounting portion having a flat surface. Due to the electrostatic force between the substrate and the substrate, the substrate is attracted to the substrate mounting portion (state of the electrostatic chuck). In this case, there is a problem that it may be difficult to separate the substrate and the substrate mounting portion (earth plate).
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、基板とアースプレートとを容易に引き離すことが可能なエレクトロスプレー装置を提供することである。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and one object of the present invention is to provide an electrospray apparatus capable of easily separating a substrate and a ground plate. .
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面によるエレクトロスプレー装置は、ノズルから噴霧された溶液材料を、基板に薄膜として堆積するエレクトロスプレー装置であって、薄膜の形成時に基板に接触して基板を接地するアースプレートを備え、アースプレートの基板が接触する面上には、複数の凸部が設けられている。 In order to achieve the above object, an electrospray apparatus according to a first aspect of the present invention is an electrospray apparatus that deposits a solution material sprayed from a nozzle as a thin film on a substrate, and contacts the substrate when the thin film is formed. An earth plate for grounding the substrate is provided, and a plurality of convex portions are provided on the surface of the earth plate that contacts the substrate.
この第1の局面によるエレクトロスプレー装置では、上記のように、アースプレートの基板が接触する面上に、複数の凸部を設けることによって、アースプレートの基板が接触する面が平坦面状である場合と異なり、アースプレートと基板(複数の凸部)との接触面積を小さくすることができるので、基板に電荷が帯電している場合でも、基板とアースプレートとの間の静電気力を小さくすることができる。これにより、基板とアースプレートとを容易に引き離すことができる。 In the electrospray apparatus according to the first aspect, as described above, the surface on which the substrate of the ground plate contacts is flat by providing a plurality of convex portions on the surface of the ground plate on which the substrate contacts. Unlike the case, since the contact area between the ground plate and the substrate (plural protrusions) can be reduced, the electrostatic force between the substrate and the ground plate is reduced even when the substrate is charged. be able to. Thereby, a board | substrate and an earth plate can be pulled apart easily.
上記第1の局面によるエレクトロスプレー装置において、好ましくは、複数の凸部と基板とが接触する接触面積は、アースプレートの基板とオーバラップする領域の面積の1%以上5%以下である。ここで、接触面積が、アースプレートの基板とオーバラップする領域の面積の1%よりも小さい場合では、1つの凸部と基板との接触面積が小さくなりすぎるため、凸部に接触する基板の部分に応力が集中し、その結果、基板が損傷する場合がある。また、接触面積が、アースプレートの基板とオーバラップする領域の面積の5%よりも大きい場合では、基板とアースプレートとの間の静電気力が大きくなるため、基板とアースプレートとを容易に引き離せない場合がある。そこで、本発明では、複数の凸部と基板とが接触する接触面積を、アースプレートの基板とオーバラップする領域の面積の1%以上5%以下にすることによって、基板が破損することを抑制しながら、基板とアースプレートとを容易に引き離すことができる。 In the electrospray apparatus according to the first aspect, preferably, the contact area where the plurality of convex portions and the substrate are in contact is 1% or more and 5% or less of the area of the region overlapping the substrate of the ground plate. Here, when the contact area is smaller than 1% of the area of the region overlapping the substrate of the earth plate, the contact area between one convex portion and the substrate becomes too small, and therefore the substrate in contact with the convex portion Stress may concentrate on the part, and as a result, the substrate may be damaged. Also, if the contact area is larger than 5% of the area of the ground plate that overlaps the substrate, the electrostatic force between the substrate and the ground plate increases, so the substrate and the ground plate can be pulled easily. There are cases where it cannot be separated. Therefore, in the present invention, the contact area where the plurality of convex portions and the substrate contact each other is set to be 1% or more and 5% or less of the area of the ground plate that overlaps the substrate, thereby suppressing the substrate from being damaged. However, the substrate and the ground plate can be easily separated.
上記第1の局面によるエレクトロスプレー装置において、好ましくは、複数の凸部のアースプレートの表面からの高さは、100μm以上500μm以下である。ここで、複数の凸部のアースプレートの表面からの高さが、100μmよりも小さい場合では、基板が撓んで隣接する凸部の間の凹部に基板が接触する場合がある。この場合、アースプレートと基板との接触面積が大きくなるので、基板とアースプレートとを引き離すことが困難になる場合がある。また、複数の凸部のアースプレートの表面からの高さが、500μmよりも大きい場合では、基板とアースプレート(凸部の間の凹部)との間の距離が大きいことに起因して、局所的にノズルと基板(アースプレートの凹部に対応する部分)との間に電界が生じない場合(電界が弱い場合)がある。このため、基板に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じる場合がある。そこで、本発明では、複数の凸部のアースプレートの表面からの高さを、100μm以上500μm以下にすることによって、基板に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じることを抑制しながら、基板とアースプレートとを容易に引き離すことができる。 In the electrospray device according to the first aspect, preferably, the height of the plurality of convex portions from the surface of the ground plate is not less than 100 μm and not more than 500 μm. Here, when the height of the plurality of convex portions from the surface of the ground plate is smaller than 100 μm, the substrate may be bent and the substrate may come into contact with the concave portions between the adjacent convex portions. In this case, since the contact area between the ground plate and the substrate becomes large, it may be difficult to separate the substrate and the ground plate. Further, when the height of the plurality of convex portions from the surface of the ground plate is larger than 500 μm, the distance between the substrate and the ground plate (the concave portion between the convex portions) is large, resulting in local In particular, there is a case where an electric field is not generated between the nozzle and the substrate (portion corresponding to the concave portion of the ground plate) (the electric field is weak). For this reason, variation (coating unevenness) may occur in the thickness of the thin film formed on the substrate. Therefore, in the present invention, by setting the height of the plurality of convex portions from the surface of the earth plate to 100 μm or more and 500 μm or less, it is possible to suppress the occurrence of variation (unevenness in coating) in the thickness of the thin film formed on the substrate. However, the substrate and the ground plate can be easily separated.
上記第1の局面によるエレクトロスプレー装置において、好ましくは、複数の凸部は、アースプレートの基板とオーバラップする領域の全体に分散するように設けられている。このように構成すれば、複数の凸部がアースプレートの基板とオーバラップする領域の一部分に偏って設けられる場合と異なり、ノズルと基板との間の電界の強さに偏りが生じるのを抑制することができる。これにより、基板に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じることを効果的に抑制することができる。 In the electrospray device according to the first aspect described above, preferably, the plurality of convex portions are provided so as to be distributed over the entire region overlapping the substrate of the ground plate. With this configuration, unlike the case where a plurality of convex portions are provided in a part of the region of the ground plate that overlaps the substrate, the occurrence of bias in the strength of the electric field between the nozzle and the substrate is suppressed. can do. Thereby, it can suppress effectively that dispersion | variation (coating unevenness) arises in the thickness of the thin film formed in a board | substrate.
上記第1の局面によるエレクトロスプレー装置において、好ましくは、アースプレートの基板に接触する側の面は、凸状に湾曲しており、アースプレートは、薄膜の形成時に、基板がアースプレートの湾曲した面に倣うように凸状に湾曲した状態で、アースプレートの複数の凸部に接触するように構成されている。このように構成すれば、薄膜の形成後、基板が湾曲した状態を解消して平坦な状態に戻る復元力によって、基板とアースプレートとをより容易に引き離すことができる。 In the electrospray apparatus according to the first aspect, preferably, the surface of the ground plate that contacts the substrate is curved in a convex shape, and the ground plate is curved when the thin film is formed. It is configured to come into contact with a plurality of convex portions of the ground plate in a state curved in a convex shape so as to follow the surface. If comprised in this way, after a thin film is formed, the board | substrate and an earth plate can be pulled apart more easily by the restoring force which eliminates the state which the board | substrate curved and returns to a flat state.
上記第1の局面によるエレクトロスプレー装置において、好ましくは、アースプレートと基板との間に生じる静電気を除電する除電部をさらに備える。このように構成すれば、薄膜の形成後、除電部によってアースプレートと基板との間に生じる静電気を除電することにより、基板とアースプレートとをさらに容易に引き離すことができる。 The electrospray apparatus according to the first aspect preferably further includes a static elimination unit that neutralizes static electricity generated between the ground plate and the substrate. According to this structure, after the thin film is formed, the substrate and the ground plate can be more easily separated by removing static electricity generated between the ground plate and the substrate by the static eliminating unit.
この発明の第2の局面によるエレクトロスプレー装置は、薄膜の形成時に基板に接触して基板を接地するアースプレートを備え、アースプレートの基板に接触する側の面は、凸状に湾曲しており、アースプレートは、薄膜の形成時に、基板がアースプレートの湾曲した面に倣うように凸状に湾曲した状態で、アースプレートに接触するように構成されている。このように構成すれば、薄膜の形成後、基板が湾曲した状態を解消して平坦な状態に戻る力によって、基板とアースプレートとを容易に引き離すことができる。 An electrospray apparatus according to a second aspect of the present invention includes an earth plate that contacts a substrate when the thin film is formed and grounds the substrate, and a surface of the earth plate that contacts the substrate is curved in a convex shape. The earth plate is configured to come into contact with the earth plate when the thin film is formed in a state where the substrate is curved in a convex shape so as to follow the curved surface of the earth plate. If comprised in this way, after formation of a thin film, a board | substrate and an earth plate can be easily pulled apart by the force which eliminates the state which the board | substrate curved and returns to a flat state.
本発明によれば、上記のように、基板とアースプレートとを容易に引き離すことができる。 According to the present invention, the substrate and the ground plate can be easily separated as described above.
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments embodying the present invention will be described below with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1〜図4を参照して、第1実施形態によるエレクトロスプレー装置100の構成について説明する。
(First embodiment)
With reference to FIGS. 1-4, the structure of the
図1に示すように、エレクトロスプレー装置100は、ノズル1と、アースプレート2と、マスク3と、昇降ユニット4とを備えている。また、アースプレート2とマスク3との間には、基板200が配置されている。なお、図1は、エレクトロスプレー装置100の概略的な構成を示す図であり、後述するアースプレート2の凸部2bは、簡略化のため実際の数よりも少なく記載されている。
As shown in FIG. 1, the
ノズル1は、溶液材料に電圧を印加した状態で、溶液材料を下方(Z2方向)から上方(Z1方向)に向かって噴霧するように構成されている。そして、ノズル1から噴霧された溶液材料が、基板200に薄膜(図示せず)として堆積されるように構成されている。
The nozzle 1 is configured to spray the solution material from below (Z2 direction) to above (Z1 direction) while a voltage is applied to the solution material. The solution material sprayed from the nozzle 1 is configured to be deposited on the
アースプレート2は、たとえば金属板から構成されており、平板状を有する。アースプレート2は、薄膜の形成時(図1に示す状態)に、基板200に接触して基板200を接地するように構成されている。ここで、第1実施形態では、図2に示すように、アースプレート2の基板200が接触する面2a上(Z2方向側の面2a上)には、複数の凸部2bが設けられている。複数の凸部2bは、たとえば平板状のアースプレート2の表面が切削加工されることにより形成されている。図3に示すように、凸部2bは、平面視において、1辺が1mmの長さLを有する略正方形形状(1mm×1mm)に形成されている。そして、複数の凸部2bと基板200とが接触する接触面積は、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域(図2の点線で囲まれた領域A)の面積の1%以上5%以下である。具体的には、第1実施形態では、複数の凸部2b(凸部2bの上面)と基板200とが接触する接触面積は、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの面積の4%である。
The
また、図4に示すように、凸部2bのアースプレート2の表面からの高さh(隣接する凸部2bの間の凹部2cからの高さh)は、100μm以上500μm以下である。具体的には、第1実施形態では、凸部2bは、300μmの高さhを有する。
As shown in FIG. 4, the height h of the
また、図3に示すように、複数の凸部2bは、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域(図2の点線で囲まれた領域A)の全体に分散するように設けられている。具体的には、複数の凸部2bは、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aにマトリクス状(略均一)に配置されている。また、複数の凸部2bは、平面視において、X方向およびY方向において、それぞれ、5mm以上10mm以下の間隔dを隔てた状態で、互いに隣接するように配置されている。なお、第1実施形態では、複数の凸部2bは、5mmの間隔dを隔てた状態で、互いに隣接するように配置されている。
As shown in FIG. 3, the plurality of
また、図1に示すように、マスク3は、基板200とノズル1との間に配置されている。また、マスク3は、マスク3の両端部が昇降ユニット4に支持されており、昇降ユニット4の昇降とともに昇降するように構成されている。そして、また、マスク3は、基板200とともに、昇降ユニット4によりアースプレート2側(Z1方向側)に押圧されるように構成されている。また、マスク3には、開口部3aが設けられており、開口部3aから露出する基板200の部分に薄膜が堆積されるように構成されている。
Further, as shown in FIG. 1, the
次に、図1を参照して、エレクトロスプレー装置100の薄膜の堆積時の動作について説明する。
Next, with reference to FIG. 1, the operation | movement at the time of deposition of the thin film of the
まず、基板200が上面に載置された状態のマスク3が、昇降ユニット4によって上昇されることにより、基板200がアースプレート2に接触される(図1に示す状態になる)。次に、基板200がアースプレート2に接触した状態で、マスク3を介して、ノズル1から溶液材料が噴霧されて、基板200に薄膜が形成される。そして、薄膜の形成後、昇降ユニット4が下降することにより、マスク3とともに基板200がアースプレート2から引き離される。なお、アースプレート2の基板200が接触する面2a上に複数の凸部2bが設けられているので、その分接触面積が小さくなり、アースプレート2と基板200との間の静電気力が小さくなる。その結果、基板200がアースプレート2から容易に引き離される。
First, the
次に、第1実施形態の効果について説明する。 Next, effects of the first embodiment will be described.
第1実施形態では、上記のように、アースプレート2の基板200が接触する面2a上に、複数の凸部2bを設けることによって、アースプレート2の基板200が接触する面2aが平坦面状である場合と異なり、アースプレート2(複数の凸部2b)と基板200との接触面積を小さくすることができるので、基板200に電荷が帯電している場合でも、基板200とアースプレート2との間の静電気力を小さくすることができる。これにより、基板200とアースプレート2とを容易に引き離すことができる。
In the first embodiment, as described above, by providing the plurality of
また、第1実施形態では、上記のように、複数の凸部2bと基板200とが接触する接触面積を、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの面積の1%以上5%以下にする。ここで、接触面積が、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの面積の1%よりも小さい場合では、1つの凸部2bと基板200との接触面積が小さくなりすぎるため、凸部2bに接触する基板200の部分に応力が集中し、その結果、基板200が損傷する場合がある。また、接触面積が、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの面積の5%よりも大きい場合では、基板200とアースプレート2との間の静電気力が大きくなるため、基板200とアースプレート2とを容易に引き離せない場合がある。そこで、第1実施形態では、複数の凸部2bと基板200とが接触する接触面積を、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの面積の1%以上5%以下にすることによって、基板200が破損することを抑制しながら、基板200とアースプレート2とを容易に引き離すことができる。
In the first embodiment, as described above, the contact area where the plurality of
また、第1実施形態では、上記のように、複数の凸部2bのアースプレート2の表面からの高さhを、100μm以上500μm以下にする。ここで、複数の凸部2bのアースプレート2の表面からの高さhが、100μmよりも小さい場合では、基板200が撓んで隣接する凸部2bの間の凹部2cに基板200が接触する場合がある。この場合、アースプレート2と基板200との接触面積が大きくなるので、基板200とアースプレート2とを引き離すことが困難になる場合がある。また、複数の凸部2bのアースプレート2の表面からの高さhが、500μmよりも大きい場合では、基板200とアースプレート2(凸部2bの間の凹部2c)との間の距離が大きいことに起因して、局所的にノズル1と基板200(アースプレート2の凹部2cに対応する部分)との間に電界が生じない場合(電界が弱い場合)がある。このため、基板200に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じる場合がある。そこで、第1実施形態では、複数の凸部2bのアースプレート2の表面からの高さhを、100μm以上500μm以下にすることによって、基板200に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じることを抑制しながら、基板200とアースプレート2とを容易に引き離すことができる。
In the first embodiment, as described above, the height h of the plurality of
また、第1実施形態では、上記のように、複数の凸部2bを、アースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの全体に分散するように設ける。これにより、複数の凸部2bがアースプレート2の基板200とオーバラップする領域Aの一部分に偏って設けられる場合と異なり、ノズル1と基板200との間の電界の強さに偏りが生じるのを抑制することができる。その結果、基板200に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じることを効果的に抑制することができる。
In the first embodiment, as described above, the plurality of
(第2実施形態)
次に、図5を参照して、第2実施形態によるエレクトロスプレー装置101の構成について説明する。第2実施形態では、上記アースプレートが平板状を有していた第1実施形態と異なり、アースプレートが凸状に湾曲している。
(Second Embodiment)
Next, the configuration of the
図5に示すように、エレクトロスプレー装置101は、ノズル1と、アースプレート21と、マスク3と、昇降ユニット4とを備えている。ここで、第2実施形態では、アースプレート21の基板200に接触する側の面21aは、下方(矢印Z2方向)に向かって凸状に湾曲している。具体的には、アースプレート21の面21aは、Y方向(紙面に垂直な方向)から見て、カテナリー曲線状(ロープなどの両端を持って垂らした時にできる曲線状)に形成されている。
As shown in FIG. 5, the
また、アースプレート21の基板200に接触する側の面21aは、R3000mm以上R30000mm以下の曲率半径を有するように構成されている。具体的には、アースプレート21の面21aが平坦な状態から、アースプレート21の面21aの中央部が0.5mm以上5mm以下の範囲Wで、下方に凸状に湾曲した状態になるように構成されている。第2実施形態では、アースプレート21のX方向の幅が350mmであり、この場合、R3000mmでの湾曲量(W)は、約5mmとなり、R30000mmでの湾曲量(W)は、約0.5mmとなる。
Further, the
また、アースプレート21の基板200が接触する面21a上にも、上記第1実施形態(図2参照)と同様に、複数の凸部21bが設けられている。そして、アースプレート21は、薄膜の形成時に、基板200がアースプレート21の湾曲した面21aに倣うように凸状に湾曲した状態で、アースプレート21の複数の凸部21bに接触するように構成されている。なお、第2実施形態の凸部21bの大きさ、形状および配置状態は、上記第1実施形態(図2参照)と同様である。また、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
Also, a plurality of
次に、第2実施形態の効果について説明する。 Next, effects of the second embodiment will be described.
第2実施形態では、上記のように、アースプレート21の基板200に接触する側の面21aは、凸状に湾曲しており、アースプレート21を、薄膜の形成時に、基板200がアースプレート21の湾曲した面21aに倣うように凸状に湾曲した状態で、アースプレート21の複数の凸部21bに接触するように構成する。これにより、薄膜の形成後、マスク3の下降とともに、基板200が湾曲した状態を解消して平坦な状態に戻る復元力によって、基板200とアースプレート21とをより容易に引き離すことができる。
In the second embodiment, as described above, the
(第2実施形態の変形例)
次に、図6を参照して、第2実施形態の変形例によるエレクトロスプレー装置101aの構成について説明する。第2実施形態の変形例では、凸状に湾曲しているアースプレートの基板が接触する面上に複数の凸部が設けられていた上記第2実施形態と異なり、アースプレートの基板が接触する面上に凸部が設けられていない。
(Modification of the second embodiment)
Next, a configuration of an
図6に示すように、エレクトロスプレー装置101aは、ノズル1と、アースプレート31と、マスク3と、昇降ユニット4とを備えている。アースプレート31の基板200に接触する側の面31aは、下方(矢印Z2方向)に向かって凸状に湾曲している。また、第2実施形態の変形例では、アースプレート31の基板200が接触する面31a上は、凸部は設けられずに、平坦面状に形成されている。そして、薄膜の形成時に、基板200は、アースプレート31の湾曲した面31aに倣うように、凸状に湾曲した状態で、アースプレート31の面31aに接触するように構成されている。なお、第2実施形態の変形例のその他の構成および効果は、上記第2実施形態と同様である。
As shown in FIG. 6, the
(第3実施形態)
次に、図7を参照して、第3実施形態によるエレクトロスプレー装置102の構成について説明する。第3実施形態では、上記第1実施形態の構成に加えて、イオナイザが設けられている。なお、イオナイザは、空気をイオン化させて、生成されたイオンにより静電気を中和する機能を有する。
(Third embodiment)
Next, the configuration of the
図7に示すように、エレクトロスプレー装置102は、ノズル1と、アースプレート2と、マスク3と、昇降ユニット4とを備えている。ここで、第3実施形態では、アースプレート2(基板200、マスク3)の下方には、アースプレート2と基板200との間に生じる静電気を除電するイオナイザ5が設けられている。なお、イオナイザ5は、本発明の「除電部」の一例である。イオナイザ5は、薄膜の形成後に駆動されて、アースプレート2と基板200との間に生じる静電気を除電するように構成されている。なお、第3実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
As shown in FIG. 7, the
次に、第3実施形態の効果について説明する。 Next, effects of the third embodiment will be described.
第3実施形態では、上記のように、アースプレート2と基板200との間に生じる静電気を除電するイオナイザ5を設ける。これにより、薄膜の形成後、イオナイザ5によってアースプレート2と基板200との間に生じる静電気を除電することにより、基板200とアースプレート2とをさらに容易に引き離すことができる。
In the third embodiment, as described above, the
なお、今回開示された実施形態および実施例は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態および実施例の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。 The embodiments and examples disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments and examples but by the scope of claims for patent, and includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent.
たとえば、上記第1〜第3実施形態では、凸部が、平面視において、1辺の長さが1mmの長さを有する略正方形形状(1mm×1mm)に形成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、凸部が、平面視において、1辺の長さが1mm以外の長さ(たとえば、0.3mm)を有する略正方形形状に形成されていてもよい。この場合、複数の凸部と基板とが接触する接触面積は、アースプレートの基板とオーバラップする領域の面積の約0.36%になる。 For example, in the first to third embodiments, an example in which the convex portion is formed in a substantially square shape (1 mm × 1 mm) having a length of one side in a plan view is shown. The present invention is not limited to this. For example, the convex portion may be formed in a substantially square shape having a length of one side other than 1 mm (for example, 0.3 mm) in plan view. In this case, the contact area where the plurality of protrusions and the substrate come into contact is about 0.36% of the area of the region of the earth plate that overlaps the substrate.
また、上記第1〜第3実施形態では、複数の凸部が、平面視において、5mm以上10mm以下の間隔を隔てた状態で互いに隣接するように配置されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、隣接する凸部の間の間隔は、ノズルから噴霧された溶液材料が基板上に塗布される領域(略円状の領域)の直径の1/2未満であればよい。なお、隣接する凸部の間の間隔が、直径の1/2以上の場合、ノズルと基板との間に生じる電界の強さに局所的に強弱が生じる場合があり、この場合、基板に形成される薄膜の厚みにばらつき(塗布ムラ)が生じる。 In the first to third embodiments, the example in which the plurality of convex portions are arranged so as to be adjacent to each other with a space of 5 mm or more and 10 mm or less in plan view is shown. Is not limited to this. For example, the interval between adjacent convex portions may be less than ½ of the diameter of a region (substantially circular region) where the solution material sprayed from the nozzle is applied onto the substrate. In addition, when the space | interval between adjacent convex parts is 1/2 or more of a diameter, the strength of the electric field produced between a nozzle and a board | substrate may arise locally, and in this case, it forms in a board | substrate. Variation (coating unevenness) occurs in the thickness of the thin film.
また、上記第1〜第3実施形態では、アースプレートの基板が接触する面上に、平面視において、略正方形形状の凸部が設けられる例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、凸部は、平面視において、略正方形形状以外の形状(たとえば、円形状など)を有していてもよい。 Moreover, in the said 1st-3rd embodiment, although the substantially square-shaped convex part was shown in planar view on the surface which the board | substrate of an earth plate contacts, this invention is not limited to this. . For example, the convex portion may have a shape (for example, a circular shape) other than a substantially square shape in plan view.
また、上記第1〜第3実施形態では、複数の凸部が、アースプレートの基板が接触する面上に、マトリクス状に配置されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、凸部を、マトリクス状以外の千鳥格子状に配置してもよい。 Moreover, in the said 1st-3rd embodiment, although the several convex part showed the example arrange | positioned in the matrix form on the surface which the board | substrate of an earth plate contacts, this invention is not limited to this. . For example, the convex portions may be arranged in a staggered pattern other than a matrix.
また、上記第1〜第3実施形態では、複数の凸部は、アースプレートの基板とオーバラップする領域の全体に略均一に(マトリクス状に)分散するように設けられている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、複数の凸部を、薄膜の塗布ムラが生じない程度に、略均一ではない状態(不均一な状態)で配置してもよい。 Moreover, in the said 1st-3rd embodiment, the several convex part showed the example provided so that it might be distributed substantially uniformly (matrix form) in the whole area | region which overlaps with the board | substrate of a ground plate. However, the present invention is not limited to this. For example, you may arrange | position a some convex part in the state which is not substantially uniform (non-uniform | heterogenous state) to such an extent that the coating nonuniformity of a thin film does not arise.
また、上記第1〜第3実施形態では、複数の凸部が、アースプレートの表面を切削加工することにより形成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、アースプレートの表面をサンドブラスト加工、または、ショットピーニング加工することにより、複数の凸部を形成してもよい。 Moreover, although the said 1st-3rd embodiment showed the example in which the some convex part was formed by cutting the surface of an earth plate, this invention is not limited to this. For example, the plurality of convex portions may be formed by sandblasting or shot peening the surface of the earth plate.
また、上記第1〜第3実施形態では、溶液材料が下方から上方に向かってノズルから噴霧される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、溶液材料が上方から下方に向かってノズルから噴霧されるようにしてもよい。また、溶液材料が横方に向かってノズルから噴霧されるようにしてもよい。 Moreover, in the said 1st-3rd embodiment, although the solution material was sprayed from the nozzle toward the upper direction from the downward direction, this invention is not limited to this. For example, the solution material may be sprayed from a nozzle from above to below. Alternatively, the solution material may be sprayed from the nozzle in the lateral direction.
また、上記第3実施形態では、上記第1実施形態のエレクトロスプレー装置の構成に加えて、アースプレートと基板との間に生じる静電気を除電するイオナイザが設けられている例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、上記第2実施形態のエレクトロスプレー装置の構成に加えて、イオナイザを設けてもよい。 In the third embodiment, in addition to the configuration of the electrospray device of the first embodiment, an example is shown in which an ionizer for removing static electricity generated between the ground plate and the substrate is provided. The invention is not limited to this. For example, an ionizer may be provided in addition to the configuration of the electrospray apparatus of the second embodiment.
1 ノズル
2、21、31 アースプレート
2a、21a 面
2b、21b 凸部
5 イオナイザ(除電部)
100、101、101a、102 エレクトロスプレー装置
200 基板
A 領域
h 高さ
1
100, 101, 101a, 102
Claims (7)
前記薄膜の形成時に前記基板に接触して前記基板を接地するアースプレートを備え、
前記アースプレートの前記基板が接触する面上には、複数の凸部が設けられている、エレクトロスプレー装置。 An electrospray apparatus for depositing a solution material sprayed from a nozzle as a thin film on a substrate,
An earth plate for contacting the substrate and grounding the substrate during the formation of the thin film;
An electrospray apparatus, wherein a plurality of convex portions are provided on a surface of the ground plate that contacts the substrate.
前記アースプレートは、前記薄膜の形成時に、前記基板が前記アースプレートの湾曲した面に倣うように凸状に湾曲した状態で、前記アースプレートの前記複数の凸部に接触するように構成されている、請求項1〜4のいずれか1項に記載のエレクトロスプレー装置。 The surface of the earth plate that contacts the substrate is curved in a convex shape,
The ground plate is configured to contact the plurality of convex portions of the ground plate in a state where the substrate is curved in a convex shape so as to follow the curved surface of the ground plate when the thin film is formed. The electrospray apparatus according to any one of claims 1 to 4.
前記薄膜の形成時に前記基板に接触して前記基板を接地するアースプレートを備え、
前記アースプレートの前記基板に接触する側の面は、凸状に湾曲しており、
前記アースプレートは、前記薄膜の形成時に、前記基板が前記アースプレートの湾曲した面に倣うように凸状に湾曲した状態で、前記アースプレートに接触するように構成されている、エレクトロスプレー装置。 An electrospray apparatus for depositing a solution material sprayed from a nozzle as a thin film on a substrate,
An earth plate for contacting the substrate and grounding the substrate during the formation of the thin film;
The surface of the earth plate that contacts the substrate is curved in a convex shape,
The electrospray apparatus is configured such that, when the thin film is formed, the ground plate is in contact with the ground plate in a state in which the substrate is curved in a convex shape so as to follow the curved surface of the ground plate.
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- 2013-12-04 JP JP2013251097A patent/JP2015107451A/en active Pending
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