JP2015092559A - Electric charge transportation type varnish, electric charge transportation type thin film and organic electroluminescent element - Google Patents

Electric charge transportation type varnish, electric charge transportation type thin film and organic electroluminescent element Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electric charge transportation type varnish which provides a thin film capable of achieving excellent luminance characteristics when the electric charge transportation type varnish is applied to a hole injection layer of an organic EL element, an electric charge transportation type thin film and an organic EL element.SOLUTION: An electric charge transportation type varnish contains an electric charge transportation type material consisting of thiophene derivative represented by a formula (1), a dopant, and an organic solvent.

Description

本発明は、電荷輸送性ワニス、電荷輸送性薄膜及び有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという。)素子に関する。   The present invention relates to a charge transport varnish, a charge transport thin film, and an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) device.

有機EL素子には、発光層や電荷注入層として、有機化合物からなる電荷輸送性薄膜が用いられる。特に、正孔注入層は、陽極と、正孔輸送層あるいは発光層との電荷の授受を担い、有機EL素子の低電圧駆動及び高輝度を達成するために重要な機能を果たす。   In an organic EL element, a charge transporting thin film made of an organic compound is used as a light emitting layer or a charge injection layer. In particular, the hole injection layer is responsible for charge transfer between the anode and the hole transport layer or the light emitting layer, and plays an important function to achieve low voltage driving and high luminance of the organic EL element.

正孔注入層の形成方法は、蒸着法に代表されるドライプロセスとスピンコート法に代表されるウェットプロセスとに大別され、これら各プロセスを比べると、ウェットプロセスの方が大面積に平坦性の高い薄膜を効率的に製造できる。それゆえ、有機ELディスプレイの大面積化が進められている現在、ウェットプロセスで形成可能な正孔注入層が望まれている。   The method of forming the hole injection layer is roughly divided into a dry process typified by vapor deposition and a wet process typified by spin coating. When these processes are compared, the wet process is more flat in a larger area. Can be manufactured efficiently. Therefore, at the present time when the area of the organic EL display is being increased, a hole injection layer that can be formed by a wet process is desired.

このような事情に鑑み、本発明者らは、各種ウェットプロセスに適用可能であるとともに、有機EL素子の正孔注入層に適用した場合に優れたEL素子特性を実現できる薄膜を与える電荷輸送性材料や、それに用いる有機溶媒に対する溶解性の良好な化合物を開発してきている(例えば特許文献1〜4参照)。   In view of such circumstances, the present inventors are applicable to various wet processes and have a charge transport property that provides a thin film that can realize excellent EL element characteristics when applied to a hole injection layer of an organic EL element. Compounds having good solubility in materials and organic solvents used therefor have been developed (see, for example, Patent Documents 1 to 4).

国際公開第2008/032616号International Publication No. 2008/032616 国際公開第2008/129947号International Publication No. 2008/129947 国際公開第2006/025342号International Publication No. 2006/025342 国際公開第2010/058777号International Publication No. 2010/058777

本発明は、これまでに開発してきた上記特許文献の技術と同様に、有機EL素子の正孔注入層に適用した場合に優れた特性を実現できる薄膜を与える電荷輸送性ワニスを提供することを目的とする。   The present invention provides a charge transporting varnish that provides a thin film capable of realizing excellent characteristics when applied to a hole injection layer of an organic EL element, as in the technology of the above-mentioned patent document that has been developed so far. Objective.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、所定のチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントと、有機溶媒とを含むワニスから得られる薄膜が高い電荷輸送性を有し、当該薄膜を有機EL素子の正孔注入層に適用した場合に、優れた輝度特性及び優れた耐久性を実現できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a thin film obtained from a varnish containing a predetermined thiophene derivative, a dopant, and an organic solvent has a high charge transport property. When the thin film is applied to a hole injection layer of an organic EL device, it has been found that excellent luminance characteristics and excellent durability can be realized, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、下記電荷輸送性ワニス、電荷輸送性薄膜及び有機EL素子を提供する。
1.式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントと、有機溶媒とを含むことを特徴とする電荷輸送性ワニス。

Figure 2015092559
(式中、Arは、式(2−1)〜(2−10)
Figure 2015092559
のいずれかで表される2価の基を表し、
1〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボン酸基、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基を表し、R3〜R6がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基である場合、R3とR4と及び/又はR5とR6とは、互いに結合して2価の基を形成していてもよく、
1〜Y8は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基又はZ2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表し、
3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。)
2.上記ドーパントが、ヘテロポリ酸を含む1の電荷輸送性ワニス。
3.更に、有機シラン化合物を含む1又は2の電荷輸送性ワニス。
4.更に、下記式(5)で表されるテトラシアノキノジメタン化合物を含む1〜3のいずれかの電荷輸送性ワニス。
Figure 2015092559
(式中、R101〜R104は、それぞれ独立に、水素原子又はハロゲン原子を表すが、少なくとも1つはハロゲン原子である。)
5.1〜4のいずれかの電荷輸送性ワニスを用いて作製される電荷輸送性薄膜。
6.5の電荷輸送性薄膜を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
7.上記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層又は正孔輸送層である6の有機エレクトロルミネッセンス素子。
8.1〜4のいずれかの電荷輸送性ワニスを基材上に塗布して焼成することを特徴とする電荷輸送性薄膜の製造方法。
9.5の電荷輸送性薄膜を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
10.式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントとを含むことを特徴とする電荷輸送性材料。
Figure 2015092559
(式中、Arは、式(2−1)〜(2−10)
Figure 2015092559
のいずれかで表される2価の基を表し、
1〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボン酸基、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基を表し、R3〜R6がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基である場合、R3とR4と及び/又はR5とR6とは、互いに結合して2価の基を形成していてもよく、
1〜Y8は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基又はZ2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表し、
3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。) That is, the present invention provides the following charge transporting varnish, charge transporting thin film, and organic EL device.
1. A charge transporting varnish comprising a charge transporting material comprising a thiophene derivative represented by the formula (1), a dopant, and an organic solvent.
Figure 2015092559
(In the formula, Ar represents the formulas (2-1) to (2-10).
Figure 2015092559
A divalent group represented by any of the following:
R 1 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a carboxylic acid group, or a carbon number of 1 to 20 that may be substituted with Z 1. alkyl group, Z 1 in an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, the carbon may be substituted with Z 2 Formula 6-20 aryl group, -C (O) Y 1 group, -OY 2 group, -SY 3 group, -C (O) OY 4 group, -OC (O) Y 5 group, -C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group is represented, and R 3 to R 6 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, —C (O) Y 1 groups, —OY 2 groups, — In the case of SY 3 group, —C (O) OY 4 group, —OC (O) Y 5 group, —C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group, R 3 and R 4 And / Is R 5 and R 6, may form a divalent group bonded to each other,
Y 1 to Y 8 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 1, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, in Z 1 Represents an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 ;
Z 1 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group of Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, Z 3 Represents an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 3 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group. )
2. One charge transporting varnish in which the dopant contains a heteropolyacid.
3. Furthermore, the 1 or 2 charge transportable varnish containing an organosilane compound.
4). Furthermore, the charge transportable varnish according to any one of 1 to 3, comprising a tetracyanoquinodimethane compound represented by the following formula (5).
Figure 2015092559
(In the formula, R 101 to R 104 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom, but at least one is a halogen atom.)
5. A charge transporting thin film produced using any one of the charge transporting varnishes of 1-4.
An organic electroluminescence device having a charge transporting thin film of 6.5.
7). 6. The organic electroluminescence device according to 6, wherein the charge transporting thin film is a hole injection layer or a hole transport layer.
8. A method for producing a charge-transporting thin film, comprising applying the charge-transporting varnish of any one of 1 to 4 onto a substrate and baking.
A method for producing an organic electroluminescent device, comprising using the charge transporting thin film of 9.5.
10. A charge transport material comprising a charge transport material comprising a thiophene derivative represented by the formula (1) and a dopant.
Figure 2015092559
(In the formula, Ar represents the formulas (2-1) to (2-10).
Figure 2015092559
A divalent group represented by any of the following:
R 1 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a carboxylic acid group, or a carbon number of 1 to 20 that may be substituted with Z 1. alkyl group, Z 1 in an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, the carbon may be substituted with Z 2 Formula 6-20 aryl group, -C (O) Y 1 group, -OY 2 group, -SY 3 group, -C (O) OY 4 group, -OC (O) Y 5 group, -C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group is represented, and R 3 to R 6 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, —C (O) Y 1 groups, —OY 2 groups, — In the case of SY 3 group, —C (O) OY 4 group, —OC (O) Y 5 group, —C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group, R 3 and R 4 And / Is R 5 and R 6, may form a divalent group bonded to each other,
Y 1 to Y 8 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 1, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, in Z 1 Represents an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 ;
Z 1 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group of Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, Z 3 Represents an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 3 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group. )

本発明で用いるチオフェン誘導体は有機溶媒に溶けやすく、これをドーパントとともに有機溶媒へ溶解させて容易に電荷輸送性ワニスを調製することができる。
本発明の電荷輸送性ワニスから作製した薄膜は高い電荷輸送性を示すため、有機EL素子をはじめとした電子デバイス用薄膜として好適に用いることができる。特に、この薄膜を有機EL素子の正孔注入層に適用することで、輝度特性と耐久性に優れた有機EL素子を得ることができる。
更に、本発明の電荷輸送性ワニスは有機シラン化合物やテトラシアノキノジメタン化合物を含むことによって、従来のものよりも低温で焼成することができ、その場合でも作製した薄膜が高平坦性及び高電荷輸送性を有する。
また、本発明の電荷輸送性ワニスは、スピンコート法やスリットコート法等、大面積に成膜可能な各種ウェットプロセスを用いた場合でも電荷輸送性に優れた薄膜を再現性よく製造できるため、近年の有機EL素子の分野における進展にも十分対応できる。
そして、本発明の電荷輸送性ワニスから得られる薄膜は、帯電防止膜や有機薄膜太陽電池の陽極バッファ層等としても使用できる。
The thiophene derivative used in the present invention is easily soluble in an organic solvent, and the charge transporting varnish can be easily prepared by dissolving it in an organic solvent together with a dopant.
Since the thin film produced from the charge transport varnish of the present invention exhibits high charge transport properties, it can be suitably used as a thin film for electronic devices including organic EL elements. In particular, by applying this thin film to a hole injection layer of an organic EL element, an organic EL element having excellent luminance characteristics and durability can be obtained.
Furthermore, the charge transporting varnish of the present invention contains an organosilane compound or a tetracyanoquinodimethane compound, so that it can be fired at a lower temperature than conventional ones. Has charge transport properties.
In addition, since the charge transporting varnish of the present invention can produce a thin film excellent in charge transporting properties with good reproducibility even when using various wet processes capable of forming a large area such as a spin coating method and a slit coating method, It can sufficiently cope with recent progress in the field of organic EL elements.
The thin film obtained from the charge transporting varnish of the present invention can also be used as an antistatic film, an anode buffer layer of an organic thin film solar cell, or the like.

[電荷輸送性物質]
本発明の電荷輸送性ワニスは、下記式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質を含む。
[Charge transport material]
The charge transporting varnish of the present invention contains a charge transporting material composed of a thiophene derivative represented by the following formula (1).

なお、本発明において、電荷輸送性とは、導電性と同義であり、正孔輸送性と同義である。電荷輸送性物質は、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、電子受容性物質と共に用いた際に電荷輸送性があるものでもよい。電荷輸送性ワニスは、それ自体に電荷輸送性があるものでもよく、それにより得られる固形膜が電荷輸送性を有するものでもよい。   In the present invention, charge transportability is synonymous with conductivity, and is synonymous with hole transportability. The charge transporting substance itself may be charge transporting, or may be charge transporting when used with an electron accepting substance. The charge transporting varnish may itself have a charge transporting property, and the resulting solid film may have a charge transporting property.

Figure 2015092559
Figure 2015092559

式中、Arは、式(2−1)〜(2−10)のいずれかで表される2価の基を表す。

Figure 2015092559
In the formula, Ar represents a divalent group represented by any one of formulas (2-1) to (2-10).
Figure 2015092559

1〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボン酸基、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基を表す。R3〜R6がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基である場合、R3とR4と及び/又はR5とR6とは、互いに結合して2価の基を形成してもよい。 R 1 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a carboxylic acid group, or a carbon number of 1 to 20 that may be substituted with Z 1. alkyl group, Z 1 in an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, the carbon may be substituted with Z 2 Formula 6-20 aryl group, -C (O) Y 1 group, -OY 2 group, -SY 3 group, -C (O) OY 4 group, -OC (O) Y 5 group, -C (O) NHY represents a six or -C (O) NY 7 Y 8 groups. R 3 to R 6 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, —C (O) Y 1 groups, —OY 2 groups, —SY 3 groups, —C (O) OY 4 groups, —OC (O ) Y 5 group, —C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group, R 3 and R 4 and / or R 5 and R 6 are bonded to each other to form 2 A valent group may be formed.

1〜Y8は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基又はZ2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。 Y 1 to Y 8 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 1, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, in Z 1 An alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 is represented.

1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。 Z 1 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 .

2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表す。 Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group of Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, Z 3 Represents an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 .

3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。 Z 3 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group.

ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子等が挙げられる。   Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.

炭素数1〜20のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等の炭素数1〜20の直鎖又は分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数3〜20の環状アルキル基などが挙げられる。   The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched, or cyclic. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s -C1-C20 linear or branched such as -butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group Alkyl group; cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, bicyclobutyl group, bicyclopentyl group, bicyclohexyl group, bicycloheptyl group, bicyclooctyl group And cyclic alkyl groups having 3 to 20 carbon atoms such as a bicyclononyl group and a bicyclodecyl group.

炭素数2〜20のアルケニル基の具体例としては、エテニル基、n−1−プロペニル基、n−2−プロペニル基、1−メチルエテニル基、n−1−ブテニル基、n−2−ブテニル基、n−3−ブテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−エチルエテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、n−1−ペンテニル基、n−1−デセニル基、n−1−エイコセニル基等が挙げられる。   Specific examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethenyl group, n-1-propenyl group, n-2-propenyl group, 1-methylethenyl group, n-1-butenyl group, n-2-butenyl group, n-3-butenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 1-ethylethenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-methyl-2-propenyl group, n- Examples include 1-pentenyl group, n-1-decenyl group, n-1-eicocenyl group and the like.

炭素数2〜20のアルキニル基の具体例としては、エチニル基、n−1−プロピニル基、n−2−プロピニル基、n−1−ブチニル基、n−2−ブチニル基、n−3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニル基、n−1−ペンチニル基、n−2−ペンチニル基、n−3−ペンチニル基、n−4−ペンチニル基、1−メチル−n−ブチニル基、2−メチル−n−ブチニル基、3−メチル−n−ブチニル基、1,1−ジメチル−n−プロピニル基、n−1−ヘキシニル基、n−1−デシニル基、n−1−ペンタデシニル基、n−1−エイコシニル基等が挙げられる。   Specific examples of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethynyl group, n-1-propynyl group, n-2-propynyl group, n-1-butynyl group, n-2-butynyl group, and n-3-butynyl. Group, 1-methyl-2-propynyl group, n-1-pentynyl group, n-2-pentynyl group, n-3-pentynyl group, n-4-pentynyl group, 1-methyl-n-butynyl group, 2- Methyl-n-butynyl group, 3-methyl-n-butynyl group, 1,1-dimethyl-n-propynyl group, n-1-hexynyl group, n-1-decynyl group, n-1-pentadecynyl group, n- 1-eicosinyl group etc. are mentioned.

炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、9−アントリル基、1−フェナントリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、4−フェナントリル基、9−フェナントリル基等が挙げられる。   Specific examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group. Group, 3-phenanthryl group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group and the like.

3とR4と及び/又はR5とR6とが互いに結合して2価の基を形成する場合、該2価の基としては、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、メチレンジオキシ基、1,2−エチレンジオキシ基、1,3−トリメチレンジオキシ基等が挙げられる。 When R 3 and R 4 and / or R 5 and R 6 are bonded to each other to form a divalent group, the divalent group includes an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a methylenedioxy group. Group, 1,2-ethylenedioxy group, 1,3-trimethylenedioxy group and the like.

1〜R6としては、水素原子、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、−OY2基、−SY3基が好ましく、水素原子、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、−OY2基がより好ましく、水素原子又はZ1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基がより一層好ましく、R1〜R3及びR6が水素原子であり、かつ、R4及びR5がともにZ1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、−OY2基又は−SY3基であること、あるいは、R1及びR2が水素原子であり、かつ、R3とR4と及びR5とR6とがともに1,2−エチレンジオキシ基を形成していることが更に好ましい。 R 1 to R 6 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 1 , a —OY 2 group or a —SY 3 group, and is substituted with a hydrogen atom or Z 1. More preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and —OY 2 group, and still more preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or Z 1 , R 1 to R 3. And R 6 is a hydrogen atom, and R 4 and R 5 are both an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, —OY 2 group, or —SY 3 group, which may be substituted with Z 1 , or More preferably, R 1 and R 2 are hydrogen atoms, and R 3 and R 4 and R 5 and R 6 together form a 1,2-ethylenedioxy group.

7〜R36としては、水素原子又はZ1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、水素原子が最適である。 R 7 to R 36 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 1 , and a hydrogen atom is optimal.

なお、R1〜R36及びY1〜Y8がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基である場合、Z1としては、ハロゲン原子又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が好ましく、Z3で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
2としては、ハロゲン原子又はZ3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキル基がより一層好ましく、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基が更に好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
3は、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
Incidentally, R 1 to R 36 and Y 1 to Y 8 are an alkyl group, an alkenyl group, if an alkynyl group or an aryl group, the Z 1, halogen atom or Z 3 carbon atoms, which may be substituted with 6 Twenty aryl groups are preferred, more preferably a phenyl group that may be substituted with Z 3 , and optimally absent (ie, unsubstituted).
The Z 2, a halogen atom or an alkyl group Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms optionally substituted by Z 3, Z more preferably more alkyl group which may C1-8 be substituted with 3, more preferably an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-6 substituted with Z 3, that does not exist (i.e., unsubstituted Is optimal).
Z 3 is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom, and most preferably not (ie, unsubstituted).

以下、式(1)で表されるチオフェン誘導体の具体例を挙げるが、これらに限定されるわけではない。なお、式中、「Me」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「n−Pr」はn−プロピル基を、「n−Bu」はn−ブチル基を、「n−Pen」はn−ペンチル基を、「n−Hex」はn−ヘキシル基を、それぞれ示す。   Hereinafter, although the specific example of the thiophene derivative represented by Formula (1) is given, it is not necessarily limited to these. In the formula, “Me” represents a methyl group, “Et” represents an ethyl group, “n-Pr” represents an n-propyl group, “n-Bu” represents an n-butyl group, and “n-Pen”. Represents an n-pentyl group, and “n-Hex” represents an n-hexyl group.

Figure 2015092559
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[チオフェン誘導体の製造方法]
本発明で用いるチオフェン誘導体は、例えば、Chemistry of Materials 2010, 22, pp. 5314-5318、Chemistry of Materials 2012, 24, pp. 3964-3971、Tetrahedron Letters 2005, 46, pp. 8153-8157、Journal of American Chemical Society 2007, 129, pp. 12386-12387等に記載の方法に従って合成することができるが、これらの方法に限定されない。
[Method for producing thiophene derivative]
Thiophene derivatives used in the present invention include, for example, Chemistry of Materials 2010, 22, pp. 5314-5318, Chemistry of Materials 2012, 24, pp. 3964-3971, Tetrahedron Letters 2005, 46, pp. 8153-8157, Journal of Although it can synthesize | combine according to the method as described in American Chemical Society 2007, 129, pp. 12386-12387 etc., it is not limited to these methods.

具体的には、本発明で用いるチオフェン誘導体は、例えば、下記式(2'−1)〜(2'−10)で表される化合物及びチオフェン又はその誘導体を出発原料として、熊田カップリング、右田・小杉・スティルカップリング、根岸カップリング、鈴木・宮浦カップリング、檜山カップリング等のカップリング反応によって合成することができる。

Figure 2015092559
(式中、R7〜R36は上記と同じ。) Specifically, the thiophene derivative used in the present invention includes, for example, compounds represented by the following formulas (2′-1) to (2′-10) and thiophene or a derivative thereof as a starting material, Kumada coupling, -It can be synthesized by a coupling reaction such as Kosugi / Still coupling, Negishi coupling, Suzuki / Miyaura coupling, Hiyama coupling.
Figure 2015092559
(In the formula, R 7 to R 36 are the same as above.)

式(2'−1)〜(2'−10)で表される化合物としては、市販品を用いてもよく、公知の方法(Synthetic Communications, 1991, 21(1), pp. 145-9、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1993, 66(7), pp. 2033-41、Heterocycles, 2000, 52(2), pp. 761-774、Tetrahedron Letters, 1997, 38(26), pp. 4581-4582、Zhurnal Obshchei Khimii, 1986, 56(9), pp. 2087-91、Chemistry of Materials, 2010, 22(18), pp. 5314-5318、ARKIVOC (Gainesville, FL, United States), 2008, (5), 90-101、Organic Reactions (Hoboken, NJ, United States), 1984, 30, No pp. given、Chemica Scripta, 1977, 12(2-3), pp. 57-67、Journal of Heterocyclic Chemistry, 1990, 27(7), pp. 1867-71、Journal of Organic Chemistry, 2005, 70, pp. 10569-10571、Journal of Organic Chemistry, 1994, 59, pp. 3077-3081、Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions 1983, pp. 2813-2819等に記載の方法)に従って合成したものを用いてもよい。   As the compounds represented by the formulas (2′-1) to (2′-10), commercially available products may be used, and known methods (Synthetic Communications, 1991, 21 (1), pp. 145-9, Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1993, 66 (7), pp. 2033-41, Heterocycles, 2000, 52 (2), pp. 761-774, Tetrahedron Letters, 1997, 38 (26), pp. 4581- 4582, Zhurnal Obshchei Khimii, 1986, 56 (9), pp. 2087-91, Chemistry of Materials, 2010, 22 (18), pp. 5314-5318, ARKIVOC (Gainesville, FL, United States), 2008, (5 ), 90-101, Organic Reactions (Hoboken, NJ, United States), 1984, 30, No pp. Given, Chemica Scripta, 1977, 12 (2-3), pp. 57-67, Journal of Heterocyclic Chemistry, 1990 , 27 (7), pp. 1867-71, Journal of Organic Chemistry, 2005, 70, pp. 10569-10571, Journal of Organic Chemistry, 1994, 59, pp. 3077-3081, Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions 1983, pp. 2813-2819 etc.) may be used.

一例を挙げると、式(2'−1)で表される化合物をハロゲン化又はスタニル化等し、これとクロスカップリング反応をさせるために、式(3)及び(4)で表されるチオフェン又はその誘導体をスタニル化等又はハロゲン化し、カップリング反応をさせればよい。式(2'−1)で表される化合物の代わりに、式(2'−2)〜(2'−10)で表される化合物を用いた場合も同様である。

Figure 2015092559
(式中、R1〜R8は上記と同じ。) For example, in order to halogenate or stannylate a compound represented by the formula (2′-1) and cause a cross-coupling reaction with the compound, the thiophene represented by the formula (3) and (4) Alternatively, the derivative thereof may be subjected to a coupling reaction by stannylation or the like or halogenation. The same applies when compounds represented by formulas (2′-2) to (2′-10) are used instead of the compounds represented by formula (2′-1).
Figure 2015092559
(In the formula, R 1 to R 8 are the same as above.)

この場合、式(3)及び(4)で表されるチオフェン又はその誘導体の仕込み比は、通常、式(2'−1)〜(2'−10)で表されるトリフェニルアミン又はその誘導体に対し、それぞれ0.5〜1.5当量程度であるが、0.6〜1.0当量程度が好適である。   In this case, the charging ratio of the thiophene represented by the formulas (3) and (4) or the derivative thereof is usually triphenylamine represented by the formulas (2′-1) to (2′-10) or a derivative thereof. On the other hand, it is about 0.5 to 1.5 equivalents, preferably about 0.6 to 1.0 equivalents.

なお、式(3)及び(4)で表される化合物としては、市販品を使用してもよく、又は公知の方法で合成してもよい。   In addition, as a compound represented by Formula (3) and (4), a commercial item may be used or you may synthesize | combine by a well-known method.

[ドーパント]
本発明の電荷輸送性ワニスは、ドーパントを含む。ドーパントとしては、特に限定されるものではなく、有機系のドーパント、無機系のドーパントのいずれも用いることができる。
[Dopant]
The charge transporting varnish of the present invention contains a dopant. The dopant is not particularly limited, and both organic dopants and inorganic dopants can be used.

中でも、最も好ましい態様としては、本発明の電荷輸送性ワニスは、ドーパントとしてヘテロポリ酸を含み、それゆえ、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)に代表される透明電極からの高正孔受容能のみならず、アルミニウムに代表される金属陽極からの高正孔受容能を示す電荷輸送性に優れた薄膜を得ることができる。   Among these, as the most preferred embodiment, the charge transporting varnish of the present invention contains a heteropolyacid as a dopant, and therefore, from a transparent electrode typified by indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO) It is possible to obtain a thin film excellent not only in high hole acceptability but also in charge transportability that exhibits high hole acceptability from a metal anode typified by aluminum.

ヘテロポリ酸とは、代表的に式(A1)で示されるKeggin型あるいは式(A2)で示されるDawson型の化学構造で示される、ヘテロ原子が分子の中心に位置する構造を有し、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等のオキソ酸であるイソポリ酸と、異種元素のオキソ酸とが縮合してなるポリ酸である。このような異種元素のオキソ酸としては、主にケイ素(Si)、リン(P)、ヒ素(As)のオキソ酸が挙げられる。   The heteropolyacid is typically a Keggin type represented by the formula (A1) or a Dawson type chemical structure represented by the formula (A2), and has a structure in which a hetero atom is located at the center of the molecule. V), molybdenum (Mo), tungsten (W) and other oxoacids such as isopolyacids, and polyacids formed by condensation of oxoacids of different elements. Examples of such oxo acids of different elements mainly include silicon (Si), phosphorus (P), and arsenic (As) oxo acids.

Figure 2015092559
Figure 2015092559

ヘテロポリ酸の具体例としては、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンタングストモリブデン酸等が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。なお、本発明で用いるヘテロポリ酸は、市販品として入手可能であり、また、公知の方法により合成することもできる。   Specific examples of the heteropolyacid include phosphomolybdic acid, silicomolybdic acid, phosphotungstic acid, silicotungstic acid, and phosphotungstomolybdic acid. You may use these individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In addition, the heteropolyacid used by this invention is available as a commercial item, and can also be synthesize | combined by a well-known method.

特に、ドーパントが1種類のヘテロポリ酸からなる場合、その1種類のヘテロポリ酸はリンタングステン酸又はリンモリブデン酸であることが好ましく、リンタングステン酸であることがより好ましい。また、ドーパントが2種類以上のヘテロポリ酸からなる場合、その2種類以上のヘテロポリ酸のうち少なくとも1つはリンタングステン酸又はリンモリブデン酸であることが好ましく、リンタングステン酸であることがより好ましい。   In particular, when the dopant is composed of one type of heteropolyacid, the one type of heteropolyacid is preferably phosphotungstic acid or phosphomolybdic acid, and more preferably phosphotungstic acid. Moreover, when a dopant consists of 2 or more types of heteropolyacids, it is preferable that at least 1 is the phosphotungstic acid or phosphomolybdic acid among the 2 or more types of heteropolyacid, and it is more preferable that it is phosphotungstic acid.

なお、ヘテロポリ酸は、元素分析等の定量分析において、一般式で示される構造から元素の数が多いもの又は少ないものであっても、それが市販品として入手したもの、あるいは、公知の合成方法にしたがって適切に合成したものである限り、本発明において用いることができる。   In addition, in the quantitative analysis such as elemental analysis, the heteropolyacid may be a commercially available product obtained from a structure represented by the general formula or a small number of elements, or a known synthesis method. As long as it is appropriately synthesized according to the above, it can be used in the present invention.

すなわち、例えば、一般的にリンタングステン酸は化学式H3(PW1240)・nH2Oで、リンモリブデン酸は化学式H3(PMo1240)・nH2Oでそれぞれ表されるが、定量分析において、この式中のP(リン)、O(酸素)又はW(タングステン)若しくはMo(モリブデン)の数が多いもの又は少ないものであっても、それが市販品として入手したもの、あるいは公知の合成方法にしたがって適切に合成したものである限り、本発明において用いることができる。この場合、本発明に規定されるヘテロポリ酸の質量とは、合成物や市販品中における純粋なリンタングステン酸の質量(リンタングステン酸含量)ではなく、市販品として入手可能な形態及び公知の合成法にて単離可能な形態において、水和水やその他の不純物等を含んだ状態での全質量を意味する。 That is, for example, phosphotungstic acid is generally represented by the chemical formula H 3 (PW 12 O 40 ) · nH 2 O, and phosphomolybdic acid is represented by the chemical formula H 3 (PMo 12 O 40 ) · nH 2 O. In quantitative analysis, even if the number of P (phosphorus), O (oxygen), W (tungsten) or Mo (molybdenum) in this formula is large or small, it is obtained as a commercial product, or As long as it is appropriately synthesized according to a known synthesis method, it can be used in the present invention. In this case, the mass of the heteropolyacid defined in the present invention is not the mass of pure phosphotungstic acid (phosphotungstic acid content) in the synthesized product or commercially available product, but a commercially available form and a known synthesis. In a form that can be isolated by the method, it means the total mass in a state containing hydration water and other impurities.

本発明の電荷輸送性ワニスに含まれるヘテロポリ酸は、質量比で、電荷輸送性物質1に対して1.0〜70.0程度とすることができるが、好ましくは2.0〜60.0程度、より好ましくは2.5〜55.0程度、より一層好ましくは2.5〜25.0程度である。   The heteropolyacid contained in the charge transporting varnish of the present invention can be about 1.0 to 70.0 in terms of mass ratio with respect to the charge transporting material 1, but preferably 2.0 to 60.0. The degree is more preferably about 2.5 to 55.0, and still more preferably about 2.5 to 25.0.

[有機溶媒]
電荷輸送性ワニスを調製する際に用いられる有機溶媒としては、電荷輸送性物質及びドーパントを良好に溶解し得る高溶解性溶媒を用いることができる。
このような高溶解性溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等の有機溶媒を用いることができる。これらの溶媒は1種単独で又は2種以上混合して用いることができ、その使用量は、ワニスに使用する溶媒全体に対して5〜100質量%とすることができる。
なお、電荷輸送性物質及びドーパントは、いずれも上記溶媒に完全に溶解していることが好ましい。
[Organic solvent]
As the organic solvent used when preparing the charge transporting varnish, a highly soluble solvent that can dissolve the charge transporting substance and the dopant well can be used.
Examples of such highly soluble solvents include organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and diethylene glycol monomethyl ether. Can be used. These solvents can be used alone or in combination of two or more, and the amount used can be 5 to 100% by mass with respect to the total solvent used in the varnish.
Note that both the charge transporting substance and the dopant are preferably completely dissolved in the solvent.

また、本発明においては、ワニスに、25℃で10〜200mPa・s、特に35〜150mPa・sの粘度を有し、常圧(大気圧)で沸点50〜300℃、特に150〜250℃の高粘度有機溶媒を少なくとも1種類含有させることで、ワニスの粘度の調整が容易になり、その結果、平坦性の高い薄膜を再現性よく与える、用いる塗布方法に応じたワニス調製が可能となる。
高粘度有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、シクロヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,3−オクチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコール、へキシレングリコール等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。
本発明のワニスに用いられる溶媒全体に対する高粘度有機溶媒の添加割合は、固体が析出しない範囲内であることが好ましく、固体が析出しない限りにおいて、添加割合は、5〜80質量%が好ましい。
In the present invention, the varnish has a viscosity of 10 to 200 mPa · s, particularly 35 to 150 mPa · s at 25 ° C., and a boiling point of 50 to 300 ° C., particularly 150 to 250 ° C. at normal pressure (atmospheric pressure). By containing at least one high-viscosity organic solvent, it becomes easy to adjust the viscosity of the varnish, and as a result, it is possible to prepare a varnish according to the coating method to be used, which gives a thin film with high flatness with good reproducibility.
The high-viscosity organic solvent is not particularly limited. For example, cyclohexanol, ethylene glycol, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,3-octylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,4-butanediol, propylene glycol, hexylene glycol and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
The addition ratio of the high-viscosity organic solvent to the entire solvent used in the varnish of the present invention is preferably in the range where no solid precipitates, and the addition ratio is preferably 5 to 80% by mass as long as no solid precipitates.

更に、基板に対する濡れ性の向上、溶媒の表面張力の調整、極性の調整、沸点の調整等の目的で、その他の溶媒を、ワニスに使用する溶媒全体に対して1〜90質量%、好ましくは1〜50質量%の割合で混合することもできる。
このような溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジアセトンアルコール、γ−ブチロラクトン、エチルラクテート、n−ヘキシルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶媒は1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。
Furthermore, for the purpose of improving the wettability to the substrate, adjusting the surface tension of the solvent, adjusting the polarity, adjusting the boiling point, etc., other solvents are used in an amount of 1 to 90% by mass, preferably It can also be mixed at a ratio of 1 to 50% by mass.
Examples of such solvents include ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol Examples include, but are not limited to, acetone alcohol, γ-butyrolactone, ethyl lactate, n-hexyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明のワニスの粘度は、作製する薄膜の厚み等や固形分濃度に応じて適宜設定されるものではあるが、通常、25℃で1〜50mPa・sである。
また、本発明における電荷輸送性ワニスの固形分濃度は、ワニスの粘度及び表面張力等や、作製する薄膜の厚み等を勘案して適宜設定されるものではあるが、通常、0.1〜10.0質量%程度であり、ワニスの塗布性を向上させることを考慮すると、好ましくは0.5〜5.0質量%程度、より好ましくは1.0〜3.0質量%程度である。
The viscosity of the varnish of the present invention is appropriately set according to the thickness of the thin film to be produced and the solid content concentration, but is usually 1 to 50 mPa · s at 25 ° C.
The solid content concentration of the charge transporting varnish in the present invention is appropriately set in consideration of the viscosity and surface tension of the varnish, the thickness of the thin film to be produced, etc. In consideration of improving the coatability of the varnish, it is preferably about 0.5 to 5.0% by mass, and more preferably about 1.0 to 3.0% by mass.

[有機シラン化合物]
本発明の電荷輸送性ワニスは、有機シラン化合物を含むことが好ましい。有機シラン化合物としては、ジアルコキシシラン化合物、トリアルコキシシラン化合物又はテトラアルコキシシラン化合物が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上組み合わせて用いてもよい。
[Organic Silane Compound]
The charge transport varnish of the present invention preferably contains an organosilane compound. Examples of the organosilane compound include dialkoxysilane compounds, trialkoxysilane compounds, and tetraalkoxysilane compounds. You may use these individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

とりわけ、有機シラン化合物は、ジアルコキシシラン化合物及びトリアルコキシシラン化合物から選ばれる1種を含むことが好ましく、トリアルコキシシラン化合物を含むことがより好ましい。   In particular, the organic silane compound preferably includes one selected from dialkoxysilane compounds and trialkoxysilane compounds, and more preferably includes trialkoxysilane compounds.

ジアルコキシシラン化合物、トリアルコキシシラン化合物及びテトラアルコキシシラン化合物としては、例えば、式(B1)〜(B3)で示されるものが挙げられる。
SiR'2(OR)2 (B1)
SiR'(OR)3 (B2)
Si(OR)4 (B3)
Examples of the dialkoxysilane compound, trialkoxysilane compound, and tetraalkoxysilane compound include those represented by the formulas (B1) to (B3).
SiR ' 2 (OR) 2 (B1)
SiR '(OR) 3 (B2)
Si (OR) 4 (B3)

式中、Rは、それぞれ独立に、Z101で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z101で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z101で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z102で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ102で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。R'は、それぞれ独立に、Z103で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z103で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z103で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z104で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ104で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。 In the formula, R is a substituted each independently, Z 101 with an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 101, with Z 101 is an alkynyl group having a carbon number of 2 to 20 even if, heteroaryl aryl or Z 102 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by from 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 102 Represents. R 'is independently, Z 103 alkyl group carbon atoms which may be have 1 to 20 substituted by an alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 103, substituted by Z 103 an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms also represents a heteroaryl group the aryl group or Z 104 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by from 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 104 .

101は、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ105で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。
102は、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表す。
Z 101 represents a halogen atom, the heteroaryl group of the aryl group or Z 105 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by from 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 105.
Z 102 is a halogen atom, optionally substituted alkenyl group, or Z 105 of is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms also be good 2-20 carbon atoms substituted with Z 105 substituted with Z 105 Or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms.

103は、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基、エポキシシクロヘキシル基、グリシドキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、ウレイド基(−NHCONH2)、チオール基、イソシアネート基(−NCO)、アミノ基、−NHY101基又は−NY102103基を表す。
104は、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、エポキシシクロヘキシル基、グリシドキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、ウレイド基(−NHCONH2)、チオール基、イソシアネート基(−NCO)、アミノ基、−NHY101基又は−NY102103基を表す。
Z 103 is a halogen atom, Z 105 with an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group which may C2-20 optionally substituted by Z 105, epoxycyclohexyl group, a glycidoxy group , Methacryloxy group, acryloxy group, ureido group (—NHCONH 2 ), thiol group, isocyanate group (—NCO), amino group, —NHY 101 group or —NY 102 Y 103 group.
Z 104 is a halogen atom, Z 105 alkyl group carbon atoms which may be have 1 to 20 substituted by an alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 105, be substituted with Z 105 alkynyl group which may having 2 to 20 carbon atoms, an epoxycyclohexyl group, a glycidoxy group, a methacryloxy group, an acryloxy group, a ureido group (-NHCONH 2), thiol group, isocyanate group (-NCO), amino group, -NHY 101 group or —NY 102 represents a Y 103 group.

101〜Y103は、それぞれ独立に、Z105で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z105で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z105で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ105で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。
105は、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基又はチオール基を表す。
Y 101 to Y 103 each independently, an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 105, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 105, with Z 105 an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, heteroaryl aryl or Z 105 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by from 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 105 Represents a group.
Z 105 represents a halogen atom, an amino group, a nitro group, a cyano group or a thiol group.

式(B1)〜(B3)におけるハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数2〜20のアルキニル基及び炭素数6〜20のアリール基としては、上記と同様のものが挙げられる。   As the halogen atom, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 20 carbon atoms in formulas (B1) to (B3), The thing similar to the above is mentioned.

Rとしては、Z101で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z101で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ102で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が好ましく、Z101で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、Z101で置換されていてもよい炭素数2〜6のアルケニル基又はZ102で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、Z101で置換されていてもよい炭素数1〜4のアルキル基又はZ102で置換されていてもよいフェニル基がより一層好ましく、Z101で置換されていてもよいメチル基又はエチル基が更に好ましい。 The R, which may be substituted with an alkyl group, an alkenyl group, or Z 102 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by Z 101 of carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 101 carbon preferably an aryl group having 6 to 20, substituted with an alkyl group, an alkenyl group, or Z 102 2-6 carbon atoms which may be substituted with Z 101 of carbon atoms which may be have 1-6 substituted with Z 101 more preferably a phenyl group which is, more preferably more even a phenyl group substituted with an alkyl group or Z 102 of 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with Z 101, is substituted with Z 101 An optionally substituted methyl group or ethyl group is more preferable.

また、R'としては、Z103で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基又はZ104で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が好ましく、Z103で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基又はZ104で置換されていてもよい炭素数6〜14のアリール基がより好ましく、Z103で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基又はZ104で置換されていてもよい炭素数6〜10のアリール基がより一層好ましく、Z103で置換されていてもよい炭素数1〜4のアルキル基又はZ104で置換されていてもよいフェニル基が更に好ましい。 R ′ is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 103 or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 104 , and is substituted with Z 103. More preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms which may be substituted with Z 104 , and an alkyl having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with Z 103 more preferably more aryl group which may having 6 to 10 carbon atoms optionally substituted by a group or Z 104, which may be substituted with an alkyl group or Z 104 of 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with Z 103 A good phenyl group is more preferred.

なお、複数のRは全て同一でも異なっていてもよく、複数のR'も全て同一でも異なっていてもよい。   A plurality of R may be the same or different, and a plurality of R ′ may all be the same or different.

101としては、ハロゲン原子又はZ105で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が好ましく、フッ素原子又はZ105で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。 Z 101 is preferably a halogen atom or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 105 , more preferably a fluorine atom or a phenyl group which may be substituted with Z 105 , and not present ( That is, it is optimal to be unsubstituted.

また、Z102としては、ハロゲン原子又はZ105で置換されていてもよい炭素数6〜20のアルキル基が好ましく、フッ素原子又はZ105で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。 As the Z 102, a halogen atom or Z is preferably an alkyl group which may having 6 to 20 carbon atoms optionally substituted by 105, a fluorine atom or Z 105 of carbon atoms which may be have 1 to 10 substituted by an alkyl group Is more preferred and not present (ie, unsubstituted).

一方、Z103としては、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよいフェニル基、Z105で置換されていてもよいフラニル基、エポキシシクロヘキシル基、グリシドキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、ウレイド基、チオール基、イソシアネート基、アミノ基、Z105で置換されていてもよいフェニルアミノ基又はZ104で置換されていてもよいジフェニルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子がより好ましく、フッ素原子又は存在しないこと(すなわち、非置換であること)がより一層好ましい。 On the other hand, the Z 103, a halogen atom, Z 105 phenyl group which may be substituted by, may furanyl group optionally substituted by Z 105, epoxycyclohexyl group, a glycidoxy group, a methacryloxy group, an acryloxy group, a ureido group, thiol group, isocyanate group, amino group, good diphenylamino group optionally substituted by a phenyl amino group, or Z 104 may be substituted with Z 105 preferably that more preferably a halogen atom, no fluorine atom or presence ( That is, it is even more preferable that it is unsubstituted.

また、Z104としては、ハロゲン原子、Z105で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z105で置換されていてもよいフラニル基、エポキシシクロヘキシル基、グリシドキシ基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、ウレイド基、チオール基、イソシアネート基、アミノ基、Z105で置換されていてもよいフェニルアミノ基又はZ105で置換されていてもよいジフェニルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子がより好ましく、フッ素原子又は存在しないこと(すなわち、非置換であること)がより一層好ましい。 As the Z 104, a halogen atom, Z 105 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20 alkyl group, which may be furanyl substituted with Z 105, epoxycyclohexyl group, a glycidoxy group, a methacryloxy group, acryloxy group, ureido group, a thiol group, isocyanate group, amino group, good diphenylamino group optionally substituted by a phenyl amino group, or Z 105 may be substituted with Z 105 preferably, more preferably a halogen atom, fluorine Even more preferred is an atom or absence (ie, unsubstituted).

そして、Z105としては、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子又は存在しないこと(すなわち、非置換であること)がより好ましい。 Z 105 is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom or not (that is, unsubstituted).

以下、本発明で使用可能な有機シラン化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
ジアルコキシシラン化合物の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
Specific examples of the organosilane compound that can be used in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.
Specific examples of dialkoxysilane compounds include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylethyldimethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, methylpropyldimethoxysilane, methylpropyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, and phenylmethyl. Dimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxy Propylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylmethyl Diethoxy silane, N- (2- aminoethyl) aminopropyl methyl dimethoxy silane, 3,3,3-trifluoropropyl methyl dimethoxy silane, and the like.

トリアルコキシシラン化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、トリエトキシ(4−(トリフルオロメチル)フェニル)シラン、ドデシルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、(トリエトキシシリル)シクロヘキサン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、トリエトキシフルオロシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、トリエトキシ−2−チエニルシラン、3−(トリエトキシシリル)フラン等が挙げられる。   Specific examples of trialkoxysilane compounds include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, Pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltriethoxy Silane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyl Rutrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, triethoxy (4- (trifluoromethyl) phenyl) silane, dodecyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, (triethoxysilyl) cyclohexane Perfluorooctylethyltriethoxysilane, triethoxyfluorosilane, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane, pentafluorophenyltrimethoxysilane, pentaful Orophenyltriethoxysilane, 3- (heptafluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyltriethoxysilane, triethoxy-2-thienylsilane, 3- (triethoxysilyl) ) Franc etc. are mentioned.

テトラアルコキシシラン化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the tetraalkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetrapropoxysilane.

これらの中でも、3,3,3−トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリエトキシ(4−(トリフルオロメチル)フェニル)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン等が好ましい。   Among these, 3,3,3-trifluoropropylmethyldimethoxysilane, triethoxy (4- (trifluoromethyl) phenyl) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane , Pentafluorophenyltrimethoxysilane, pentafluorophenyltriethoxysilane, and the like are preferable.

本発明の電荷輸送性ワニスにおける有機シラン化合物の含有量は、電荷輸送性物質及びドーパントの総質量に対して、通常0.1〜50質量%程度であるが、得られる薄膜の電荷輸送性の低下を抑制し、かつ、正孔輸送層や発光層といった陽極とは反対側に正孔注入層に接するように積層される層への正孔注入能を高めることを考慮すると、好ましくは0.5〜40質量%程度、より好ましくは0.8〜30質量%程度、より一層好ましくは1〜20質量%程度である。   The content of the organosilane compound in the charge transporting varnish of the present invention is usually about 0.1 to 50% by mass with respect to the total mass of the charge transporting substance and the dopant, but the charge transporting property of the thin film obtained is In consideration of suppressing the decrease and increasing the hole injecting ability to a layer laminated so as to be in contact with the hole injecting layer on the side opposite to the anode, such as a hole transporting layer and a light emitting layer, it is preferably 0. It is about 5-40 mass%, More preferably, it is about 0.8-30 mass%, More preferably, it is about 1-20 mass%.

[テトラシアノキノジメタン化合物]
本発明の電荷輸送性ワニスは、式(5)で表されるテトラシアノキノジメタン化合物を含むことが好ましい。テトラシアノキノジメタン化合物を含むことで、得られる薄膜を有機EL素子の正孔注入層として用いた場合に、その輝度等の特性が更に向上する。また、ワニスを低温焼成した場合においても、高平坦性及び高電荷輸送性の薄膜を再現性よく製造できる。

Figure 2015092559
[Tetracyanoquinodimethane compound]
The charge transporting varnish of the present invention preferably contains a tetracyanoquinodimethane compound represented by the formula (5). By including the tetracyanoquinodimethane compound, when the obtained thin film is used as a hole injection layer of an organic EL device, characteristics such as luminance are further improved. Further, even when the varnish is fired at a low temperature, a thin film having high flatness and high charge transportability can be produced with good reproducibility.
Figure 2015092559

式中、R101〜R104は、それぞれ独立に、水素原子又はハロゲン原子を表すが、少なくとも1つはハロゲン原子である。ハロゲン原子としては上記と同じものが挙げられ、フッ素原子又は塩素原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。また、R101〜R104の少なくとも2つがハロゲン原子であることが好ましく、少なくとも3つがハロゲン原子であることがより好ましく、全てがハロゲン原子であることが最も好ましい。 In the formula, R 101 to R 104 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, but at least one is a halogen atom. The same thing as the above is mentioned as a halogen atom, A fluorine atom or a chlorine atom is preferable, and a fluorine atom is more preferable. Further, at least two of R 101 to R 104 are preferably halogen atoms, more preferably at least three are halogen atoms, and most preferably all are halogen atoms.

テトラシアノキノジメタン化合物として具体的には、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン(F4TCNQ)、テトラクロロテトラシアノキノジメタン、2−フルオロテトラシアノキノジメタン、2−クロロテトラシアノキノジメタン、2,5−ジフルオロテトラシアノキノジメタン、2,5−ジクロロテトラシアノキノジメタン等が挙げられる。テトラシアノキノジメタン化合物として特に好ましくは、F4TCNQである。   Specific examples of the tetracyanoquinodimethane compound include tetrafluorotetracyanoquinodimethane (F4TCNQ), tetrachlorotetracyanoquinodimethane, 2-fluorotetracyanoquinodimethane, 2-chlorotetracyanoquinodimethane, 2 , 5-difluorotetracyanoquinodimethane, 2,5-dichlorotetracyanoquinodimethane, and the like. As the tetracyanoquinodimethane compound, F4TCNQ is particularly preferable.

本発明の電荷輸送性ワニスにおけるテトラシアノキノジメタン化合物の含有量は、チオフェン誘導体に対して、好ましくは0.0001〜1当量、より好ましくは0.001〜0.5当量、更に好ましくは0.01〜0.2当量である。   The content of the tetracyanoquinodimethane compound in the charge transporting varnish of the present invention is preferably 0.0001 to 1 equivalent, more preferably 0.001 to 0.5 equivalent, still more preferably 0 with respect to the thiophene derivative. 0.01 to 0.2 equivalents.

[その他の成分]
本発明の電荷輸送性ワニスは、上述したチオフェン誘導体のほかに、本発明の効果を妨げない限り、その他の電荷輸送性物質を含んでもよい。また、本発明の電荷輸送性ワニスは、ドーパントとして、上述したヘテロポリ酸の代わりに、その他の物質を含んでもよい。
[Other ingredients]
The charge transporting varnish of the present invention may contain other charge transporting substances in addition to the above-described thiophene derivatives as long as the effects of the present invention are not hindered. Moreover, the charge transport varnish of the present invention may contain other substances as a dopant instead of the above-described heteropolyacid.

その他の電荷輸送性物質としては、例えば、特開2002−151272号公報記載のオリゴアニリン誘導体、国際公開第2004/105446号記載のオリゴアニリン化合物、国際公開第2005/043962号記載の1,4−ジチイン環を有する化合物、国際公開第2008/032617号記載のオリゴアニリン化合物、国際公開第2008/032616号記載のオリゴアニリン化合物、国際公開第2013/042623号記載のアリールジアミン化合物等が挙げられる。   Examples of other charge transporting substances include oligoaniline derivatives described in JP-A No. 2002-151272, oligoaniline compounds described in International Publication No. 2004/105446, and 1,4-elements described in International Publication No. 2005/043962. Examples thereof include compounds having a dithiine ring, oligoaniline compounds described in International Publication No. 2008/032617, oligoaniline compounds described in International Publication No. 2008/032616, aryldiamine compounds described in International Publication No. 2013/042623, and the like.

とりわけ、その他の電荷輸送性物質としては、アニリン誘導体が好ましく、有機溶媒への溶解性を考慮すると、その分子量は、好ましく4,000以下、より好ましくは3,000以下、より一層好ましくは2,000以下である。   In particular, the other charge transporting material is preferably an aniline derivative, and considering the solubility in an organic solvent, the molecular weight is preferably 4,000 or less, more preferably 3,000 or less, and even more preferably 2, 000 or less.

本発明において、その他の電荷輸送性物質として好適に用い得るアニリン誘導体としては、例えば、式(6)で表されるものが挙げられる。

Figure 2015092559
In the present invention, examples of aniline derivatives that can be suitably used as other charge transporting materials include those represented by the formula (6).
Figure 2015092559

1は、単結合、−NH−、−CH2−、−S−又は−O−を表すが、単結合又は−NH−が好ましい。 B 1 represents a single bond, —NH—, —CH 2 —, —S— or —O—, and is preferably a single bond or —NH—.

201〜R206は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z201で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z201で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、Z202で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基、−OY201基、−SY202基、−NHY203、−NY204205基、又は−NHC(O)Y206基を表す。Y201〜Y206は、それぞれ独立に、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z201で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z201で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ202で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。このようなハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルケニル基、アリール基及びヘテロアリール基の具体例としては、上記と同様のものが挙げられる。 R 201 to R 206 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 201, which may be 2-20 carbons substituted with Z 201 alkenyl group, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 201, which may be substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms in Z 202, carbon atoms, which may be substituted with Z 202 2-20 heteroaryl group, -OY 201 group, -SY 202 group, -NHY 203, representing the -NY 204 Y 205 groups, or -NHC (O) Y 206 groups. Y 201 to Y 206 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 201, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 201, with Z 201 an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, heteroaryl aryl or Z 202 good 2 to 20 carbon atoms optionally substituted by from 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 202 Represents a group. Specific examples of such a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkenyl group, an aryl group and a heteroaryl group are the same as those described above.

201は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z203で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基又はZ203で置換されていてもよい炭素数2〜20のヘテロアリール基を表す。
202は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z203で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z203で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ203で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表す。
203は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。
Z 201 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 203 , or Z 203 The C2-C20 heteroaryl group which may be substituted by is represented.
Z 202 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 203, Z 203 in represents a substituted good 2-20 carbon atoms which may have an alkenyl group or an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 203.
Z 203 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group.

201〜R204としては、水素原子、ハロゲン原子、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基(すなわち、Y201がZ201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基である−OY201基)が好ましく、水素原子、フッ素原子、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基、Z202で置換されていてもよい炭素数6〜14のアリール基、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルコキシ基がより好ましく、水素原子、フッ素原子、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、Z202で置換されていてもよい6〜10のアリール基、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基がより一層好ましく、水素原子、フッ素原子、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水素原子が最適である。 The R 201 to R 204, a hydrogen atom, a halogen atom, Z 201 substituted by having 1 to 20 carbon atoms that may have an alkyl group, an aryl group of carbon atoms which may be have 6-20 substituted with Z 202, alkoxy group with carbon atoms which may have from 1 to 20 substituted by Z 201 (i.e., Y 201 is -OY 201 groups are alkyl groups of carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 201) are preferred, hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group having carbon atoms which may be have 1 to 10 substituted by Z 201, which may be substituted aryl group having 6 to 14 carbon atoms in Z 202, which may be substituted with Z 201 more preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a hydrogen atom, a fluorine atom, the carbon atoms which may be have 1-6 substitution at Z 201 alkyl group, having 6 to 10 which may be substituted with Z 202 aryl group, optionally carbon substituted with Z 201 More preferably more an alkoxy group having 1 to 6, a hydrogen atom, a fluorine atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in Z 201, Z 201 carbon atoms which may be substituted with 1-6 Are more preferable, and a hydrogen atom is most preferable.

一方、R205及びR206としては、水素原子、ハロゲン原子、各々のアルキル基がZ201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であるジアルキルアミノ基(すなわち、Y204及びY205がZ201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基である−NY204205基)、又は各々のアリール基がZ202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基であるジアリールアミノ基(すなわち、Y204及びY205がZ201で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基である−NY204205基)が好ましく、水素原子、フッ素原子、各々のアルキル基がZ201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であるジアルキルアミノ基、又は各々のアリール基がZ202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基であるジアリールアミノ基がより好ましく、水素原子、各々のアリール基がZ202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基であるジアリールアミノ基がより一層好ましく、同時に水素原子又は各々のアリール基がZ202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基であるジアリールアミノ基が更に好ましい。 On the other hand, as R 205 and R 206 , a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylamino group that is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in which each alkyl group may be substituted with Z 201 (that is, Y 204 and Y 205 -NY 204 Y 205 groups optionally substituted alkyl group which may having 1 to 20 carbon atoms in Z 201), or each aryl group which may have a number 6-20 carbon substituted with Z 202 of A diarylamino group which is an aryl group (that is, —NY 204 Y 205 group which is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which Y 204 and Y 205 may be substituted with Z 201 ) is preferable, a hydrogen atom, a fluorine atom A dialkylamino group that is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in which each alkyl group may be substituted with Z 201 , or a C 6 to 20 carbon atom in which each aryl group may be substituted with Z 202 . An aryl group More preferably a diarylamino group, a hydrogen atom, more preferably a diarylamino group substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may in each aryl group Z 202, at the same time hydrogen atoms or each aryl group There diarylamino group is more preferably a substituted having 6 to 20 carbon atoms which may have an aryl group Z 202.

式(6)において、p及びqは、それぞれ独立に0以上の整数を表し、2≦p+q≦20を満たすが、好ましくは2≦p+q≦8、より好ましくは2≦p+q≦6、より一層好ましくは2≦p+q≦4を満たす。   In the formula (6), p and q each independently represent an integer of 0 or more and satisfy 2 ≦ p + q ≦ 20, preferably 2 ≦ p + q ≦ 8, more preferably 2 ≦ p + q ≦ 6, and even more preferably. Satisfies 2 ≦ p + q ≦ 4.

特に、R201〜R206及びY201〜Y206において、Z201は、Z202で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基が好ましく、Z202で置換されていてもよいフェニル基がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
また、Z202は、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキル基がより一層好ましく、Z201で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキル基が更に好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
203は、ハロゲン原子が好ましく、フッ素がより好ましく、存在しないこと(すなわち、非置換であること)が最適である。
In particular, the R 201 to R 206 and Y 201 ~Y 206, Z 201 is an aryl group having 6 to 20 carbon atoms are preferable optionally substituted by Z 202, a phenyl group which may be substituted with Z 202 Is more preferred and not present (ie, unsubstituted).
Further, Z 202 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may be substituted with Z 201, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms optionally substituted by Z 201, with Z 201 An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms that may be substituted is even more preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may be substituted with Z201 is more preferable, and is not present (that is, unsubstituted). Is optimal).
Z 203 is preferably a halogen atom, more preferably fluorine, and most preferably not (ie, unsubstituted).

以下、本発明において、その他の電荷輸送性物質として好適なアニリン誘導体の具体例を挙げるが、これらに限定されない。

Figure 2015092559
Hereinafter, specific examples of aniline derivatives suitable as other charge transport materials in the present invention will be given, but the present invention is not limited thereto.
Figure 2015092559

一方、ドーパントとなるその他の物質としては、例えば、ベンゼンスルホン酸、トシル酸、p−スチレンスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、4−ヒドロキシベンゼンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、p−ドデシルベンゼンスルホン酸、ジヘキシルベンゼンスルホン酸、2,5−ジヘキシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、6,7−ジブチル−2−ナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、3−ドデシル−2−ナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、4−ヘキシル−1−ナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、2−オクチル−1−ナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、7−へキシル−1−ナフタレンスルホン酸、6−ヘキシル−2−ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、2,7−ジノニル−4−ナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、2,7−ジノニル−4,5−ナフタレンジスルホン酸、国際公開第2005/000832号に記載されている1,4−ベンゾジオキサンジスルホン酸化合物、国際公開第2006/025342号に記載されているアリールスルホン酸化合物、国際公開第2009/096352号に記載されているアリールスルホン酸化合物、ポリスチレンスルホン酸等のアリールスルホン化合物;10−カンファースルホン酸等の非アリールスルホン化合物;7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)等の有機酸化剤が挙げられる。   On the other hand, examples of other substances that serve as dopants include benzenesulfonic acid, tosylic acid, p-styrenesulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, 4-hydroxybenzenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, and p-dodecylbenzenesulfonic acid. , Dihexylbenzenesulfonic acid, 2,5-dihexylbenzenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, 6,7-dibutyl-2-naphthalenesulfonic acid, dodecylnaphthalenesulfonic acid, 3-dodecyl-2-naphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalenesulfone Acid, 4-hexyl-1-naphthalenesulfonic acid, octylnaphthalenesulfonic acid, 2-octyl-1-naphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalenesulfonic acid, 7-hexyl-1-naphthalenesulfonic acid, 6-hexyl-2-naphthalene Sulfonic acid, dinonylnaphthalenesulfonic acid, 2,7-dinonyl-4-naphthalenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, 2,7-dinonyl-4,5-naphthalenedisulfonic acid, described in International Publication No. 2005/000832 1,4-benzodioxane disulfonic acid compound, aryl sulfonic acid compound described in WO 2006/025342, aryl sulfonic acid compound described in WO 2009/096352, polystyrene sulfonic acid Non-aryl sulfone compounds such as 10-camphorsulfonic acid; 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane (TCNQ), 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4 -Organic oxidants such as benzoquinone (DDQ).

とりわけ、その他のドーパントとしては、アリールスルホン酸化合物が好ましく、有機溶媒への溶解性を考慮すると、その分子量は、好ましく3,000以下、より好ましくは2,000以下、より一層好ましくは1,000以下である。   In particular, as the other dopant, an aryl sulfonic acid compound is preferable, and considering the solubility in an organic solvent, the molecular weight is preferably 3,000 or less, more preferably 2,000 or less, and still more preferably 1,000. It is as follows.

これらの中でも、ドーパントとなるその他の物質として好適に用い得るアリールスルホン酸化合物としては、例えば、式(7)又は(8)で表されるものが挙げられる。

Figure 2015092559
Among these, examples of the aryl sulfonic acid compound that can be suitably used as another substance serving as a dopant include those represented by the formula (7) or (8).
Figure 2015092559

式(7)中、A1は−O−又は−S−を表すが、−O−が好ましい。A2はナフタレン環又はアントラセン環を表すが、ナフタレン環が好ましい。A3は2〜4価のパーフルオロビフェニル基を表し、jはA1とA3との結合数を示し、2≦j≦4を満たす整数であるが、A3が2価のパーフルオロビフェニル基、好ましくはパーフルオロビフェニル−4,4−ジイルであり、かつ、jが2であることが好ましい。mはA2に結合するスルホン酸基数を表し、1≦m≦4を満たす整数であるが、2が好適である。 In formula (7), A 1 represents —O— or —S—, and —O— is preferable. A 2 represents a naphthalene ring or an anthracene ring, and a naphthalene ring is preferable. A 3 represents a divalent to tetravalent perfluorobiphenyl group, j represents the number of bonds between A 1 and A 3, and is an integer satisfying 2 ≦ j ≦ 4, and A 3 is a divalent perfluorobiphenyl group. A group, preferably perfluorobiphenyl-4,4-diyl, and j is preferably 2. m represents the number of sulfonic acid groups bonded to A 2 , and is an integer satisfying 1 ≦ m ≦ 4, but 2 is preferable.

式(8)中、A4〜A8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基又は炭素数2〜20のハロゲン化アルケニル基を表すが、A4〜A8のうち少なくとも3つはハロゲン原子である。kはナフタレン環に結合するスルホン酸基数を表し、1≦k≦4を満たす整数であるが、2〜4が好ましく、2がより好ましい。 In formula (8), A 4 to A 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 2 to 20 carbon atoms. Wherein at least three of A 4 to A 8 are halogen atoms. k represents the number of sulfonic acid groups bonded to the naphthalene ring, and is an integer satisfying 1 ≦ k ≦ 4, preferably 2 to 4, and more preferably 2.

炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブチル基等が挙げられる。炭素数2〜20のハロゲン化アルケニル基としては、パーフルオロビニル基、1−パーフルオロプロペニル基、パーフルオロアリル基、パーフルオロブテニル基等が挙げられる。   Examples of the halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl group, 3,3,3- Trifluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4, 4-nonafluorobutyl group etc. are mentioned. Examples of the halogenated alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms include a perfluorovinyl group, a 1-perfluoropropenyl group, a perfluoroallyl group, and a perfluorobutenyl group.

ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基の例としては上記と同様のものが挙げられるが、ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。   Examples of the halogen atom and the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include the same ones as described above, and the halogen atom is preferably a fluorine atom.

これらの中でも、A4〜A8は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基又は炭素数2〜10のハロゲン化アルケニル基であり、かつA4〜A8のうち少なくとも3つはフッ素原子であることが好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のフッ化アルキル基又は炭素数2〜5のフッ化アルケニル基であり、かつA4〜A8のうち少なくとも3つはフッ素原子であることがより好ましく、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基又は炭素数1〜5のパーフルオロアルケニル基であり、かつA4、A5及びA8がフッ素原子であることより一層好ましい。 Among these, A 4 to A 8 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group or a halogenated alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms having 1 to 10 carbon atoms And at least three of A 4 to A 8 are preferably fluorine atoms, a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a fluorinated alkyl having 1 to 5 carbon atoms. Or a alkenyl fluoride group having 2 to 5 carbon atoms, and at least three of A 4 to A 8 are preferably fluorine atoms, a hydrogen atom, a fluorine atom, a cyano group, or 1 to 5 carbon atoms. And a perfluoroalkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, and A 4 , A 5 and A 8 are more preferably fluorine atoms.

なお、パーフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子全てがフッ素原子に置換された基であり、パーフルオロアルケニル基とは、アルケニル基の水素原子全てがフッ素原子に置換された基である。   The perfluoroalkyl group is a group in which all hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms, and the perfluoroalkenyl group is a group in which all hydrogen atoms of the alkenyl group are substituted with fluorine atoms.

本発明におけるドーパントとして好適なアリールスルホン酸化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。

Figure 2015092559
Specific examples of the aryl sulfonic acid compound suitable as a dopant in the present invention will be given, but the invention is not limited thereto.
Figure 2015092559

[電荷輸送性材料]
本発明の電荷輸送性材料は、式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントとを含む。このような電荷輸送性材料は、有機溶媒への良好な溶解性を示し、上述のとおりに、当該電荷輸送性材料を有機溶媒に溶解させることで、容易に電荷輸送性ワニスを製造することができる。
[Charge transport materials]
The charge transporting material of the present invention contains a charge transporting material composed of a thiophene derivative represented by the formula (1) and a dopant. Such a charge transporting material exhibits good solubility in an organic solvent, and as described above, the charge transporting varnish can be easily produced by dissolving the charge transporting material in an organic solvent. it can.

[電荷輸送性薄膜]
本発明の電荷輸送性ワニスを基材上に塗布して焼成することで、基材上に電荷輸送性薄膜を形成させることができる。
[Charge transport thin film]
A charge transporting thin film can be formed on a base material by applying the charge transporting varnish of the present invention on the base material and baking it.

ワニスの塗布方法としては、特に限定されるものではなく、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り、インクジェット法、スプレー法等が挙げられ、塗布方法に応じてワニスの粘度及び表面張力を調節することが好ましい。   The method for applying the varnish is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method, a spin coating method, a transfer printing method, a roll coating method, a brush coating, an ink jet method, and a spray method. It is preferable to adjust the viscosity and the surface tension.

また、本発明のワニスを用いる場合、焼成雰囲気も特に限定されるものではなく、大気雰囲気だけでなく、窒素等の不活性ガスや真空中でも均一な成膜面及び高い電荷輸送性を有する薄膜を得ることができる。   Further, when the varnish of the present invention is used, the firing atmosphere is not particularly limited, and a thin film having a uniform film formation surface and a high charge transport property not only in the air atmosphere but also in an inert gas such as nitrogen or in a vacuum. Can be obtained.

焼成温度は、得られる薄膜の用途、得られる薄膜に付与する電荷輸送性の程度等を勘案して、100〜260℃程度の範囲内で適宜設定されるものではあるが、得られる薄膜を有機EL素子の正孔注入層として用いる場合、140〜250℃程度が好ましく、145〜240℃程度がより好ましい。   The firing temperature is appropriately set within a range of about 100 to 260 ° C. in consideration of the use of the obtained thin film, the degree of charge transportability imparted to the obtained thin film, and the like. When used as a hole injection layer of an EL element, about 140 to 250 ° C is preferable, and about 145 to 240 ° C is more preferable.

本発明のワニスの特徴の一つに、200℃未満の低温で焼成可能であるという特徴があり、そのような焼成条件下で作製した薄膜でも、高平坦性及び高電荷輸送性を有する。   One of the characteristics of the varnish of the present invention is that it can be fired at a low temperature of less than 200 ° C. Even a thin film produced under such a firing condition has high flatness and high charge transportability.

なお、焼成の際、より高い均一成膜性を発現させたり、基材上で反応を進行させたりする目的で、2段階以上の温度変化をつけてもよい。加熱は、例えば、ホットプレートやオーブン等適当な機器を用いて行えばよい。   In firing, two or more steps of temperature change may be applied for the purpose of expressing higher uniform film forming property or allowing the reaction to proceed on the substrate. The heating may be performed using an appropriate device such as a hot plate or an oven.

電荷輸送性薄膜の膜厚は、特に限定されないが、有機EL素子内の正孔注入層として用いる場合、5〜200nmが好ましい。膜厚を変化させる方法としては、ワニス中の固形分濃度を変化させたり、塗布時の基板上の溶液量を変化させたりする等の方法がある。   The thickness of the charge transporting thin film is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 nm when used as a hole injection layer in an organic EL device. As a method of changing the film thickness, there are methods such as changing the solid content concentration in the varnish and changing the amount of the solution on the substrate during coating.

[有機EL素子]
本発明の電荷輸送性ワニスを用いてOLED素子を作製する場合の使用材料や、作製方法としては、下記のようなものが挙げられるが、これらに限定されない。
[Organic EL device]
Examples of materials used and methods for producing an OLED element using the charge transporting varnish of the present invention include, but are not limited to, the following.

使用する電極基板は、洗剤、アルコール、純水等による液体洗浄を予め行って浄化しておくことが好ましく、例えば、陽極基板では使用直前にUVオゾン処理、酸素−プラズマ処理等の表面処理を行うことが好ましい。ただし陽極材料が有機物を主成分とする場合、表面処理を行わなくともよい。   The electrode substrate to be used is preferably cleaned in advance by cleaning with a liquid such as a detergent, alcohol, or pure water. For example, the anode substrate is subjected to surface treatment such as UV ozone treatment or oxygen-plasma treatment immediately before use. It is preferable. However, when the anode material is mainly composed of an organic material, the surface treatment may not be performed.

本発明の電荷輸送性ワニスから得られる薄膜からなる正孔注入層を有するOLED素子の作製方法の例は、以下のとおりである。   The example of the manufacturing method of the OLED element which has a positive hole injection layer which consists of a thin film obtained from the charge transportable varnish of this invention is as follows.

上記の方法により、陽極基板上に本発明の電荷輸送性ワニスを塗布して焼成し、電極上に正孔注入層を作製する。これを真空蒸着装置内に導入し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子輸送層/ホールブロック層、電子注入層、陰極金属を順次蒸着してOLED素子とする。なお、必要に応じて、発光層と正孔輸送層との間に電子ブロック層を設けてよい。   By the above method, the charge transporting varnish of the present invention is applied onto the anode substrate and baked to produce a hole injection layer on the electrode. This is introduced into a vacuum deposition apparatus, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron transport layer / hole block layer, an electron injection layer, and a cathode metal are sequentially deposited to form an OLED element. If necessary, an electron blocking layer may be provided between the light emitting layer and the hole transport layer.

陽極材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)に代表される透明電極や、アルミニウムに代表される金属やこれらの合金等から構成される金属陽極が挙げられ、平坦化処理を行ったものが好ましい。高電荷輸送性を有するポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体を用いることもできる。   Examples of the anode material include transparent electrodes typified by indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO), metal anodes typified by aluminum, alloys thereof, and the like. What performed the chemical conversion process is preferable. Polythiophene derivatives and polyaniline derivatives having high charge transporting properties can also be used.

なお、金属陽極を構成するその他の金属としては、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、インジウム、スカンジウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ハフニウム、タリウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、プラチナ、金、チタン、鉛、ビスマスやこれらの合金等が挙げられるが、これらに限定されない。   Other metals constituting the metal anode include scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, gallium, yttrium, zirconium, niobium, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, cadmium. , Indium, scandium, lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, hafnium, thallium, tungsten, rhenium, osmium, iridium, platinum, gold, titanium Lead, bismuth, and alloys thereof, but are not limited thereto.

正孔輸送層を形成する材料としては、(トリフェニルアミン)ダイマー誘導体、[(トリフェニルアミン)ダイマー]スピロダイマー、N,N'−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−ベンジジン(α−NPD)、N,N'−ビス(ナフタレン−2−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−ベンジジン、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ビス(フェニル)−ベンジジン、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−スピロビフルオレン、N,N'−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−スピロビフルオレン、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−ジメチル−フルオレン、N,N'−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−ジメチル−フルオレン、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−ジフェニル−フルオレン、N,N'−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−9,9−ジフェニル−フルオレン、N,N'−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−2,2'−ジメチルベンジジン、2,2',7,7'−テトラキス(N,N−ジフェニルアミノ)−9,9−スピロビフルオレン、9,9−ビス[4−(N,N−ビス−ビフェニル−4−イル−アミノ)フェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−(N,N−ビス−ナフタレン−2−イル−アミノ)フェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−(N−ナフタレン−1−イル−N−フェニルアミノ)−フェニル]−9H−フルオレン、2,2',7,7'−テトラキス[N−ナフタレニル(フェニル)−アミノ]−9,9−スピロビフルオレン、N,N'−ビス(フェナントレン−9−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−ベンジジン、2,2'−ビス[N,N−ビス(ビフェニル−4−イル)アミノ]−9,9−スピロビフルオレン、2,2'−ビス(N,N−ジフェニルアミノ)−9,9−スピロビフルオレン、ジ−[4−(N,N−ジ(p−トリル)アミノ)−フェニル]シクロヘキサン、2,2',7,7'−テトラ(N,N−ジ(p−トリル)アミノ)−9,9−スピロビフルオレン、N,N,N',N'−テトラ−ナフタレン−2−イル−ベンジジン、N,N,N',N'−テトラ−(3−メチルフェニル)−3,3'−ジメチルベンジジン、N,N'−ジ(ナフタレニル)−N,N'−ジ(ナフタレン−2−イル)−ベンジジン、N,N,N',N'−テトラ(ナフタレニル)−ベンジジン、N,N'−ジ(ナフタレン−2−イル)−N,N'−ジフェニルベンジジン−1,4−ジアミン、N1,N4−ジフェニル−N1,N4−ジ(m−トリル)ベンゼン−1,4−ジアミン、N2,N2,N6,N6−テトラフェニルナフタレン−2,6−ジアミン、トリス(4−(キノリン−8−イル)フェニル)アミン、2,2'−ビス(3−(N,N−ジ(p−トリル)アミノ)フェニル)ビフェニル、4,4',4''−トリス[3−メチルフェニル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(m−MTDATA)、4,4',4''−トリス[1−ナフチル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン(1−TNATA)等のトリアリールアミン類、5,5''−ビス−{4−[ビス(4−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−2,2':5',2''−ターチオフェン(BMA−3T)等のオリゴチオフェン類等が挙げられる。 As a material for forming the hole transport layer, (triphenylamine) dimer derivative, [(triphenylamine) dimer] spiro dimer, N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N′-bis (Phenyl) -benzidine (α-NPD), N, N′-bis (naphthalen-2-yl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine, N, N′-bis (3-methylphenyl)- N, N′-bis (phenyl) -benzidine, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -9,9-spirobifluorene, N, N′-bis ( Naphthalen-1-yl) -N, N′-bis (phenyl) -9,9-spirobifluorene, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -9, 9-Dimethyl-fluorene, N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N′-bis (phenyl) -9,9-dimethyl-fluorene N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene, N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N ′ -Bis (phenyl) -9,9-diphenyl-fluorene, N, N'-bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) -2,2'-dimethylbenzidine, 2,2 ' , 7,7'-Tetrakis (N, N-diphenylamino) -9,9-spirobifluorene, 9,9-bis [4- (N, N-bis-biphenyl-4-yl-amino) phenyl]- 9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N, N-bis-naphthalen-2-yl-amino) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (N-naphthalen-1-yl) -N-phenylamino) -phenyl] -9H-fluorene, 2,2 ', 7,7'-tetrakis [N-naphthalenyl (phenyl) -amino] -9,9 Spirobifluorene, N, N′-bis (phenanthren-9-yl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine, 2,2′-bis [N, N-bis (biphenyl-4-yl) amino ] -9,9-spirobifluorene, 2,2′-bis (N, N-diphenylamino) -9,9-spirobifluorene, di- [4- (N, N-di (p-tolyl) amino] ) -Phenyl] cyclohexane, 2,2 ′, 7,7′-tetra (N, N-di (p-tolyl) amino) -9,9-spirobifluorene, N, N, N ′, N′-tetra -Naphthalen-2-yl-benzidine, N, N, N ', N'-tetra- (3-methylphenyl) -3,3'-dimethylbenzidine, N, N'-di (naphthalenyl) -N, N' -Di (naphthalen-2-yl) -benzidine, N, N, N ', N'-tetra (naphthalenyl) -benzidine, N, N'-di (naphthalen-2-yl) -N, N'-diphenyl Benzidine-1,4-diamine, N 1, N 4 - diphenyl--N 1, N 4 - di (m-tolyl) benzene-1,4-diamine, N 2, N 2, N 6, N 6 - tetraphenyl Naphthalene-2,6-diamine, tris (4- (quinolin-8-yl) phenyl) amine, 2,2′-bis (3- (N, N-di (p-tolyl) amino) phenyl) biphenyl, 4 , 4 ′, 4 ″ -tris [3-methylphenyl (phenyl) amino] triphenylamine (m-MTDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [1-naphthyl (phenyl) amino] triphenylamine Triarylamines such as (1-TNATA), 5,5 ″ -bis- {4- [bis (4-methylphenyl) amino] phenyl} -2,2 ′: 5 ′, 2 ″ -terthiophene And oligothiophenes such as (BMA-3T).

発光層を形成する材料としては、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム(III)(Alq3)、ビス(8−キノリノラート)亜鉛(II)(Znq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)−4−(p−フェニルフェノラート)アルミニウム(III)(BAlq)、4,4'−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル、9,10−ジ(ナフタレン−2−イル)アントラセン、2−t−ブチル−9,10−ジ(ナフタレン−2−イル)アントラセン、2,7−ビス[9,9−ジ(4−メチルフェニル)−フルオレン−2−イル]−9,9−ジ(4−メチルフェニル)フルオレン、2−メチル−9,10−ビス(ナフタレン−2−イル)アントラセン、2−(9,9−スピロビフルオレン−2−イル)−9,9−スピロビフルオレン、2,7−ビス(9,9−スピロビフルオレン−2−イル)−9,9−スピロビフルオレン、2−[9,9−ジ(4−メチルフェニル)−フルオレン−2−イル]−9,9−ジ(4−メチルフェニル)フルオレン、2,2'−ジピレニル−9,9−スピロビフルオレン、1,3,5−トリス(ピレン−1−イル)ベンゼン、9,9−ビス[4−(ピレニル)フェニル]−9H−フルオレン、2,2'−ビ(9,10−ジフェニルアントラセン)、2,7−ジピレニル−9,9−スピロビフルオレン、1,4−ジ(ピレン−1−イル)ベンゼン、1,3−ジ(ピレン−1−イル)ベンゼン、6,13−ジ(ビフェニル−4−イル)ペンタセン、3,9−ジ(ナフタレン−2−イル)ペリレン、3,10−ジ(ナフタレン−2−イル)ペリレン、トリス[4−(ピレニル)−フェニル]アミン、10,10'−ジ(ビフェニル−4−イル)−9,9'−ビアントラセン、N,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニル−[1,1':4',1'':4'',1'''−クォーターフェニル]−4,4'''−ジアミン、4,4'−ジ[10−(ナフタレン−1−イル)アントラセン−9−イル]ビフェニル、ジベンゾ{[f,f']−4,4',7,7'−テトラフェニル}ジインデノ[1,2,3−cd:1',2',3'−lm]ペリレン、1−(7−(9,9'−ビアントラセン−10−イル)−9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)ピレン、1−(7−(9,9'−ビアントラセン−10−イル)−9,9−ジヘキシル−9H−フルオレン−2−イル)ピレン、1,3−ビス(カルバゾール−9−イル)ベンゼン、1,3,5−トリス(カルバゾール−9−イル)ベンゼン、4,4',4''−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン、4,4'−ビス(カルバゾール−9−イル)ビフェニル(CBP)、4,4'−ビス(カルバゾール−9−イル)−2,2'−ジメチルビフェニル、2,7−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジメチルフルオレン、2,2',7,7'−テトラキス(カルバゾール−9−イル)−9,9−スピロビフルオレン、2,7−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジ(p−トリル)フルオレン、9,9−ビス[4−(カルバゾール−9−イル)−フェニル]フルオレン、2,7−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−スピロビフルオレン、1,4−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン、1,3−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン、ビス(4−N,N−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−4−メチルフェニルメタン、2,7−ビス(カルバゾール−9−イル)−9,9−ジオクチルフルオレン、4,4''−ジ(トリフェニルシリル)−p−ターフェニル、4,4'−ジ(トリフェニルシリル)ビフェニル、9−(4−t−ブチルフェニル)−3,6−ビス(トリフェニルシリル)−9H−カルバゾール、9−(4−t−ブチルフェニル)−3,6−ジトリチル−9H−カルバゾール、9−(4−t−ブチルフェニル)−3,6−ビス(9−(4−メトキシフェニル)−9H−フルオレン−9−イル)−9H−カルバゾール、2,6−ビス(3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)ピリジン、トリフェニル(4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル)シラン、9,9−ジメチル−N,N−ジフェニル−7−(4−(1−フェニル−1H−ベンゾ[d]イミダゾール−2−イル)フェニル)−9H−フルオレン−2−アミン、3,5−ビス(3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)ピリジン、9,9−スピロビフルオレン−2−イル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、9,9'−(5−(トリフェニルシリル)−1,3−フェニレン)ビス(9H−カルバゾール)、3−(2,7−ビス(ジフェニルホスホリル)−9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)−9−フェニル−9H−カルバゾール、4,4,8,8,12,12−ヘキサ(p−トリル)−4H−8H−12H−12C−アザジベンゾ[cd,mn]ピレン、4,7−ジ(9H−カルバゾール−9−イル)−1,10−フェナントロリン、2,2'−ビス(4−(カルバゾール−9−イル)フェニル)ビフェニル、2,8−ビス(ジフェニルホスホリル)ジベンゾ[b,d]チオフェン、ビス(2−メチルフェニル)ジフェニルシラン、ビス[3,5−ジ(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ジフェニルシラン、3,6−ビス(カルバゾール−9−イル)−9−(2−エチル−ヘキシル)−9H−カルバゾール、3−(ジフェニルホスホリル)−9−(4−(ジフェニルホスホリル)フェニル)−9H−カルバゾール、3,6−ビス[(3,5−ジフェニル)フェニル]−9−フェニルカルバゾール等が挙げられ、発光性ドーパントと共蒸着することによって、発光層を形成してもよい。 As a material for forming the light emitting layer, tris (8-quinolinolato) aluminum (III) (Alq 3 ), bis (8-quinolinolato) zinc (II) (Znq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato)- 4- (p-phenylphenolate) aluminum (III) (BAlq), 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl, 9,10-di (naphthalen-2-yl) anthracene, 2-t -Butyl-9,10-di (naphthalen-2-yl) anthracene, 2,7-bis [9,9-di (4-methylphenyl) -fluoren-2-yl] -9,9-di (4- Methylphenyl) fluorene, 2-methyl-9,10-bis (naphthalen-2-yl) anthracene, 2- (9,9-spirobifluoren-2-yl) -9,9-spirobifluorene, 2,7 -Bis (9,9-spirobifluoren-2-yl) -9,9 Spirobifluorene, 2- [9,9-di (4-methylphenyl) -fluoren-2-yl] -9,9-di (4-methylphenyl) fluorene, 2,2'-dipyrenyl-9,9- Spirobifluorene, 1,3,5-tris (pyren-1-yl) benzene, 9,9-bis [4- (pyrenyl) phenyl] -9H-fluorene, 2,2′-bi (9,10-diphenyl) Anthracene), 2,7-dipyrenyl-9,9-spirobifluorene, 1,4-di (pyren-1-yl) benzene, 1,3-di (pyren-1-yl) benzene, 6,13-di (Biphenyl-4-yl) pentacene, 3,9-di (naphthalen-2-yl) perylene, 3,10-di (naphthalen-2-yl) perylene, tris [4- (pyrenyl) -phenyl] amine, 10 , 10′-di (biphenyl-4-yl) -9,9′-bianthracene, N, N′-di (naphthalene) 1-yl) -N, N′-diphenyl- [1,1 ′: 4 ′, 1 ″: 4 ″, 1 ′ ″-quarterphenyl] -4,4 ′ ″-diamine, 4,4 '-Di [10- (naphthalen-1-yl) anthracen-9-yl] biphenyl, dibenzo {[f, f']-4,4 ', 7,7'-tetraphenyl} diindeno [1,2,3 -Cd: 1 ', 2', 3'-lm] perylene, 1- (7- (9,9'-bianthracen-10-yl) -9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-yl) pyrene 1- (7- (9,9′-bianthracen-10-yl) -9,9-dihexyl-9H-fluoren-2-yl) pyrene, 1,3-bis (carbazol-9-yl) benzene, 1,3,5-tris (carbazol-9-yl) benzene, 4,4 ′, 4 ″ -tris (carbazol-9-yl) triphenylamine, 4,4′-bis (carbazol-9-yl) Biphenyl (CBP) 4,4′-bis (carbazol-9-yl) -2,2′-dimethylbiphenyl, 2,7-bis (carbazol-9-yl) -9,9-dimethylfluorene, 2,2 ′, 7,7 '-Tetrakis (carbazol-9-yl) -9,9-spirobifluorene, 2,7-bis (carbazol-9-yl) -9,9-di (p-tolyl) fluorene, 9,9-bis [ 4- (carbazol-9-yl) -phenyl] fluorene, 2,7-bis (carbazol-9-yl) -9,9-spirobifluorene, 1,4-bis (triphenylsilyl) benzene, 1,3 -Bis (triphenylsilyl) benzene, bis (4-N, N-diethylamino-2-methylphenyl) -4-methylphenylmethane, 2,7-bis (carbazol-9-yl) -9,9-dioctylfluorene 4,4 ''-di (triphenylsilyl) -p-terphenyl 4,4'-di (triphenylsilyl) biphenyl, 9- (4-t-butylphenyl) -3,6-bis (triphenylsilyl) -9H-carbazole, 9- (4-t-butylphenyl)- 3,6-ditrityl-9H-carbazole, 9- (4-t-butylphenyl) -3,6-bis (9- (4-methoxyphenyl) -9H-fluoren-9-yl) -9H-carbazole, 2 , 6-bis (3- (9H-carbazol-9-yl) phenyl) pyridine, triphenyl (4- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phenyl) silane, 9,9-dimethyl-N, N-diphenyl-7- (4- (1-phenyl-1H-benzo [d] imidazol-2-yl) phenyl) -9H-fluoren-2-amine, 3,5-bis (3- (9H-carbazole- 9-yl) phenyl) pyridine, 9,9-spirobifluo Len-2-yl-diphenyl-phosphine oxide, 9,9 '-(5- (triphenylsilyl) -1,3-phenylene) bis (9H-carbazole), 3- (2,7-bis (diphenylphosphoryl) -9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) -9-phenyl-9H-carbazole, 4,4,8,8,12,12-hexa (p-tolyl) -4H-8H-12H-12C-azadibenzo [cd, mn] pyrene, 4,7-di (9H-carbazol-9-yl) -1,10-phenanthroline, 2,2′-bis (4- (carbazol-9-yl) phenyl) biphenyl, 2, 8-bis (diphenylphosphoryl) dibenzo [b, d] thiophene, bis (2-methylphenyl) diphenylsilane, bis [3,5-di (9H-carbazol-9-yl) phenyl] diphenylsilane, 3,6- Bis (carbazole-9-a ) -9- (2-ethyl-hexyl) -9H-carbazole, 3- (diphenylphosphoryl) -9- (4- (diphenylphosphoryl) phenyl) -9H-carbazole, 3,6-bis [(3,5 -Diphenyl) phenyl] -9-phenylcarbazole and the like, and a light-emitting layer may be formed by co-evaporation with a light-emitting dopant.

発光性ドーパントとしては、3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、2,3,6,7−テトラヒドロ−1,1,7,7−テトラメチル−1H,5H,11H−10−(2−ベンゾチアゾリル)キノリジノ[9,9a,1gh]クマリン、キナクリドン、N,N'−ジメチル−キナクリドン、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(III)(Ir(ppy)3)、ビス(2−フェニルピリジン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)(Ir(ppy)2(acac))、トリス[2−(p−トリル)ピリジン]イリジウム(III)(Ir(mppy)3)、9,10−ビス[N,N−ジ(p−トリル)アミノ]アントラセン、9,10−ビス[フェニル(m−トリル)アミノ]アントラセン、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(II)、N10,N10,N10,N10−テトラ(p−トリル)−9,9'−ビアントラセン−10,10'−ジアミン、N10,N10,N10,N10−テトラフェニル−9,9'−ビアントラセン−10,10'−ジアミン、N10,N10−ジフェニル−N10,N10−ジナフタレニル−9,9'−ビアントラセン−10,10'−ジアミン、4,4'−ビス(9−エチル−3−カルバゾビニレン)−1,1'−ビフェニル、ペリレン、2,5,8,11−テトラ−t−ブチルペリレン、1,4−ビス[2−(3−N−エチルカルバゾリル)ビニル]ベンゼン、4,4'−ビス[4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]ビフェニル、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4'−[(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベン、ビス[3,5−ジフルオロ−2−(2−ピリジル)フェニル−(2−カルボキシピリジル)]イリジウム(III)、4,4'−ビス[4−(ジフェニルアミノ)スチリル]ビフェニル、ビス(2,4−ジフルオロフェニルピリジナト)テトラキス(1−ピラゾリル)ボレートイリジウム(III)、N,N'−ビス(ナフタレン−2−イル)−N,N'−ビス(フェニル)−トリス(9,9−ジメチルフルオレニレン)、2,7−ビス{2−[フェニル(m−トリル)アミノ]−9,9−ジメチル−フルオレン−7−イル}−9,9−ジメチル−フルオレン、N−(4−((E)−2−(6((E)−4−(ジフェニルアミノ)スチリル)ナフタレン−2−イル)ビニル)フェニル)−N−フェニルベンゼンアミン、fac−イリジウム(III)トリス(1−フェニル−3−メチルベンズイミダゾリン−2−イリデン−C,C2)、mer−イリジウム(III)トリス(1−フェニル−3−メチルベンズイミダゾリン−2−イリデン−C,C2)、2,7−ビス[4−(ジフェニルアミノ)スチリル]−9,9−スピロビフルオレン、6−メチル−2−(4−(9−(4−(6−メチルベンゾ[d]チアゾール−2−イル)フェニル)アントラセン−10−イル)フェニル)ベンゾ[d]チアゾール、1,4−ジ[4−(N,N−ジフェニル)アミノ]スチリルベンゼン、1,4−ビス(4−(9H−カルバゾール−9−イル)スチリル)ベンゼン、(E)−6−(4−(ジフェニルアミノ)スチリル)−N,N−ジフェニルナフタレン−2−アミン、ビス(2,4−ジフルオロフェニルピリジナト)(5−(ピリジン−2−イル)−1H−テトラゾレート)イリジウム(III)、ビス(3−トリフルオロメチル−5−(2−ピリジル)ピラゾール)((2,4−ジフルオロベンジル)ジフェニルホスフィネート)イリジウム(III)、ビス(3−トリフルオロメチル−5−(2−ピリジル)ピラゾレート)(ベンジルジフェニルホスフィネート)イリジウム(III)、ビス(1−(2,4−ジフルオロベンジル)−3−メチルベンズイミダゾリウム)(3−(トリフルオロメチル)−5−(2−ピリジル)−1,2,4−トリアゾレート)イリジウム(III)、ビス(3−トリフルオロメチル−5−(2−ピリジル)ピラゾレート)(4',6'−ジフルオロフェニルピリジネート)イリジウム(III)、ビス(4',6'−ジフルオロフェニルピリジナト)(3,5−ビス(トリフルオロメチル)−2−(2'−ピリジル)ピロレート)イリジウム(III)、ビス(4',6'−ジフルオロフェニルピリジナト)(3−(トリフルオロメチル)−5−(2−ピリジル)−1,2,4−トリアゾレート)イリジウム(III)、(Z)−6−メシチル−N−(6−メシチルキノリン−2(1H)−イリデン)キノリン−2−アミン−BF2、(E)−2−(2−(4−(ジメチルアミノ)スチリル)−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)マロノニトリル、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−ジュロリジル−9−エニル−4H−ピラン、4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)−4H−ピラン、4−(ジシアノメチレン)−2−t−ブチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−4−イル−ビニル)−4H−ピラン、トリス(ジベンゾイルメタン)フェナントロリンユーロピウム(III)、5,6,11,12−テトラフェニルナフタセン、ビス(2−ベンゾ[b]チオフェン−2−イル−ピリジン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム(III)、ビス(1−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、ビス[1−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−イソキノリン](アセチルアセトネート)イリジウム(III)、ビス[2−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)キノリン](アセチルアセトネート)イリジウム(III)、トリス[4,4'−ジ−t−ブチル−(2,2')−ビピリジン]ルテニウム(III)・ビス(ヘキサフルオロホスフェート)、トリス(2−フェニルキノリン)イリジウム(III)、ビス(2−フェニルキノリン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、2,8−ジ−t−ブチル−5,11−ビス(4−t−ブチルフェニル)−6,12−ジフェニルテトラセン、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、5,10,15,20−テトラフェニルテトラベンゾポルフィリン白金、オスミウム(II)ビス(3−トリフルオロメチル−5−(2−ピリジン)−ピラゾレート)ジメチルフェニルホスフィン、オスミウム(II)ビス(3−(トリフルオロメチル)−5−(4−t−ブチルピリジル)−1,2,4−トリアゾレート)ジフェニルメチルホスフィン、オスミウム(II)ビス(3−(トリフルオロメチル)−5−(2−ピリジル)−1,2,4−トリアゾール)ジメチルフェニルホスフィン、オスミウム(II)ビス(3−(トリフルオロメチル)−5−(4−t−ブチルピリジル)−1,2,4−トリアゾレート)ジメチルフェニルホスフィン、ビス[2−(4−n−ヘキシルフェニル)キノリン](アセチルアセトネート)イリジウム(III)、トリス[2−(4−n−ヘキシルフェニル)キノリン]イリジウム(III)、トリス[2−フェニル−4−メチルキノリン]イリジウム(III)、ビス(2−フェニルキノリン)(2−(3−メチルフェニル)ピリジネート)イリジウム(III)、ビス(2−(9,9−ジエチル−フルオレン−2−イル)−1−フェニル−1H−ベンゾ[d]イミダゾラト)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、ビス(2−フェニルピリジン)(3−(ピリジン−2−イル)−2H−クロメン−2−オネート)イリジウム(III)、ビス(2−フェニルキノリン)(2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−3,5−ジオネート)イリジウム(III)、ビス(フェニルイソキノリン)(2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−3,5−ジオネート)イリジウム(III)、イリジウム(III)ビス(4−フェニルチエノ[3,2−c]ピリジナト−N,C2)アセチルアセトネート、(E)−2−(2−t−ブチル−6−(2−(2,6,6−トリメチル−2,4,5,6−テトラヒドロ−1H−ピローロ[3,2,1−ij]キノリン−8−イル)ビニル)−4H−ピラン−4−イリデン)マロノニトリル、ビス(3−トリフルオロメチル−5−(1−イソキノリル)ピラゾレート)(メチルジフェニルホスフィン)ルテニウム、ビス[(4−n−ヘキシルフェニル)イソキノリン](アセチルアセトネート)イリジウム(III)、白金(II)オクタエチルポルフィン、ビス(2−メチルジベンゾ[f,h]キノキサリン)(アセチルアセトネート)イリジウム(III)、トリス[(4−n−ヘキシルフェニル)キソキノリン]イリジウム(III)等が挙げられる。 As the luminescent dopant, 3- (2-benzothiazolyl) -7- (diethylamino) coumarin, 2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H, 5H, 11H-10- (2-Benzothiazolyl) quinolidino [9,9a, 1gh] coumarin, quinacridone, N, N′-dimethyl-quinacridone, tris (2-phenylpyridine) iridium (III) (Ir (ppy) 3 ), bis (2-phenyl) Pyridine) (acetylacetonate) iridium (III) (Ir (ppy) 2 (acac)), tris [2- (p-tolyl) pyridine] iridium (III) (Ir (mppy) 3 ), 9,10-bis [N, N-di (p-tolyl) amino] anthracene, 9,10-bis [phenyl (m-tolyl) amino] anthracene, bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzothiazolato] zinc (II), N 10 , N 10 , N 10 , N 10 -tetra (p-tolyl) -9,9′-bian Tracene-10,10′-diamine, N 10 , N 10 , N 10 , N 10 -tetraphenyl-9,9′-bianthracene-10,10′-diamine, N 10 , N 10 -diphenyl-N 10 , N 10 -Dinaphthalenyl-9,9′-bianthracene-10,10′-diamine, 4,4′-bis (9-ethyl-3-carbazovinylene) -1,1′-biphenyl, perylene, 2,5,8 , 11-Tetra-t-butylperylene, 1,4-bis [2- (3-N-ethylcarbazolyl) vinyl] benzene, 4,4′-bis [4- (di-p-tolylamino) styryl] Biphenyl, 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[(di-p-tolylamino) styryl] stilbene, bis [3,5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) Iridium (III), 4,4′-bis [4- (diphenylamino) styryl] biphenyl, (2,4-difluorophenylpyridinato) tetrakis (1-pyrazolyl) borateiridium (III), N, N′-bis (naphthalen-2-yl) -N, N′-bis (phenyl) -tris ( 9,9-dimethylfluorenylene), 2,7-bis {2- [phenyl (m-tolyl) amino] -9,9-dimethyl-fluoren-7-yl} -9,9-dimethyl-fluorene, N -(4-((E) -2- (6 ((E) -4- (diphenylamino) styryl) naphthalen-2-yl) vinyl) phenyl) -N-phenylbenzenamine, fac-iridium (III) tris (1-phenyl-3-methylbenzamide 2-ylidene -C, C 2), mer- iridium (III) tris (1-phenyl-3-methylbenzamide 2-ylidene -C, C 2), 2 , 7-bis [4- (diphenylamino) styryl] -9,9-spirobi Fluorene, 6-methyl-2- (4- (9- (4- (6-methylbenzo [d] thiazol-2-yl) phenyl) anthracen-10-yl) phenyl) benzo [d] thiazole, 1,4- Di [4- (N, N-diphenyl) amino] styrylbenzene, 1,4-bis (4- (9H-carbazol-9-yl) styryl) benzene, (E) -6- (4- (diphenylamino) Styryl) -N, N-diphenylnaphthalen-2-amine, bis (2,4-difluorophenylpyridinato) (5- (pyridin-2-yl) -1H-tetrazolate) iridium (III), bis (3- Trifluoromethyl-5- (2-pyridyl) pyrazole) ((2,4-difluorobenzyl) diphenylphosphinate) iridium (III), bis (3-trifluoromethyl-5- (2-pyridyl) pyrazolate) (benzyl Diphenylphosphinate) Lidium (III), bis (1- (2,4-difluorobenzyl) -3-methylbenzimidazolium) (3- (trifluoromethyl) -5- (2-pyridyl) -1,2,4-triazolate) Iridium (III), bis (3-trifluoromethyl-5- (2-pyridyl) pyrazolate) (4 ′, 6′-difluorophenylpyridinate) iridium (III), bis (4 ′, 6′-difluorophenyl) Pyridinato) (3,5-bis (trifluoromethyl) -2- (2'-pyridyl) pyrrolate) iridium (III), bis (4 ', 6'-difluorophenylpyridinato) (3- (tri Fluoromethyl) -5- (2-pyridyl) -1,2,4-triazolate) iridium (III), (Z) -6-mesityl-N- (6-mesitylquinoline-2 (1H) -ylidene) quinoline 2-amine -BF 2, (E) -2- ( 2- (4- ( dimethylamino) styryl) -6- Til-4H-pyran-4-ylidene) malononitrile, 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran, 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (1 , 1,7,7-Tetramethyljulolidyl-9-enyl) -4H-pyran, 4- (dicyanomethylene) -2-tert-butyl-6- (1,1,7,7-tetramethyljulolidine -4-yl-vinyl) -4H-pyran, tris (dibenzoylmethane) phenanthroline europium (III), 5,6,11,12-tetraphenylnaphthacene, bis (2-benzo [b] thiophen-2-yl -Pyridine) (acetylacetonate) iridium (III), tris (1-phenylisoquinoline) iridium (III), bis (1-phenylisoquinoline) (acetylacetonate) iridium (III), bis [1- (9,9 - Til-9H-fluoren-2-yl) -isoquinoline] (acetylacetonate) iridium (III), bis [2- (9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-yl) quinoline] (acetylacetonate) iridium (III), tris [4,4′-di-t-butyl- (2,2 ′)-bipyridine] ruthenium (III) bis (hexafluorophosphate), tris (2-phenylquinoline) iridium (III), Bis (2-phenylquinoline) (acetylacetonate) iridium (III), 2,8-di-t-butyl-5,11-bis (4-t-butylphenyl) -6,12-diphenyltetracene, bis ( 2-Phenylbenzothiazolate) (acetylacetonate) iridium (III), 5,10,15,20-tetraphenyltetrabenzoporphyrin platinum, osmium (II) bis (3-trifluoromethyl-5- (2- Pyridine ) -Pyrazolate) dimethylphenylphosphine, osmium (II) bis (3- (trifluoromethyl) -5- (4-tert-butylpyridyl) -1,2,4-triazolate) diphenylmethylphosphine, osmium (II) bis (3- (trifluoromethyl) -5- (2-pyridyl) -1,2,4-triazole) dimethylphenylphosphine, osmium (II) bis (3- (trifluoromethyl) -5- (4-t- Butylpyridyl) -1,2,4-triazolate) dimethylphenylphosphine, bis [2- (4-n-hexylphenyl) quinoline] (acetylacetonate) iridium (III), tris [2- (4-n-hexyl) Phenyl) quinoline] iridium (III), tris [2-phenyl-4-methylquinoline] iridium (III), bis (2-phenylquinoline) (2- (3-methylphenyl) pyridinate) irid (III), bis (2- (9,9-diethyl-fluoren-2-yl) -1-phenyl-1H-benzo [d] imidazolato) (acetylacetonate) iridium (III), bis (2-phenyl) Pyridine) (3- (pyridin-2-yl) -2H-chromen-2-onate) iridium (III), bis (2-phenylquinoline) (2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5- Diate) iridium (III), bis (phenylisoquinoline) (2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dionate) iridium (III), iridium (III) bis (4-phenylthieno [3,2 -c] pyridinato -N, C 2) acetylacetonate, (E) -2- (2- t- butyl-6- (2- (2,6,6-trimethyl-2,4,5,6-tetrahydro -1H-pyrrolo [3,2,1-ij] quinolin-8-yl) vinyl) -4H-pyran-4-ylide ) Malononitrile, bis (3-trifluoromethyl-5- (1-isoquinolyl) pyrazolate) (methyldiphenylphosphine) ruthenium, bis [(4-n-hexylphenyl) isoquinoline] (acetylacetonate) iridium (III), platinum (II) octaethylporphine, bis (2-methyldibenzo [f, h] quinoxaline) (acetylacetonate) iridium (III), tris [(4-n-hexylphenyl) xoquinoline] iridium (III), etc. .

電子輸送層/ホールブロック層を形成する材料としては、8−ヒドロキシキノリノレート−リチウム、2,2',2''−(1,3,5−ベンジントリル)−トリス(1−フェニル−1−H−ベンズイミダゾール)、2−(4−ビフェニル)5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、ビス(2−メチル−8−キノリノレート)−4−(フェニルフェノラト)アルミニウム、1,3−ビス[2−(2,2'−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]ベンゼン、6,6'−ビス[5−(ビフェニル−4−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−2−イル]−2,2'−ビピリジン、3−(4−ビフェニル)−4−フェニル−5−t−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール、4−(ナフタレン−1−イル)−3,5−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾール、2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、2,7−ビス[2−(2,2'−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン、1,3−ビス[2−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]ベンゼン、トリス(2,4,6−トリメチル−3−(ピリジン−3−イル)フェニル)ボラン、1−メチル−2−(4−(ナフタレン−2−イル)フェニル)−1H−イミダゾ[4,5f][1,10]フェナントロリン、2−(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、フェニル−ジピレニルホスフィンオキサイド、3,3',5,5'−テトラ[(m−ピリジル)−フェン−3−イル]ビフェニル、1,3,5−トリス[(3−ピリジル)−フェン−3−イル]ベンゼン、4,4'−ビス(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)ビフェニル、1,3−ビス[3,5−ジ(ピリジン−3−イル)フェニル]ベンゼン、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム、ジフェニルビス(4−(ピリジン−3−イル)フェニル)シラン、3,5−ジ(ピレン−1−イル)ピリジン等が挙げられる。   As a material for forming the electron transport layer / hole blocking layer, 8-hydroxyquinolinolate-lithium, 2,2 ′, 2 ″-(1,3,5-benztolyl) -tris (1-phenyl-1 -H-benzimidazole), 2- (4-biphenyl) 5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10 -Phenanthroline, 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, bis (2-methyl-8-quinolinolate) -4- (phenylphenolato) aluminum, 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridine) -6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene, 6,6′-bis [5- (biphenyl-4-yl) -1,3,4-oxadiazo-2-yl]- 2,2'-bipyridine, 3- (4-biphenyl) -4-phenyl-5-t-butyl Phenyl-1,2,4-triazole, 4- (naphthalen-1-yl) -3,5-diphenyl-4H-1,2,4-triazole, 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4 , 7-Diphenyl-1,10-phenanthroline, 2,7-bis [2- (2,2′-bipyridin-6-yl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] -9,9-dimethyl Fluorene, 1,3-bis [2- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazo-5-yl] benzene, tris (2,4,6-trimethyl-3- (pyridine-3- Yl) phenyl) borane, 1-methyl-2- (4- (naphthalen-2-yl) phenyl) -1H-imidazo [4,5f] [1,10] phenanthroline, 2- (naphthalen-2-yl)- 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, phenyl-dipyrenylphosphine oxide, 3,3 ′ , 5,5′-Tetra [(m-pyridyl) -phen-3-yl] biphenyl, 1,3,5-tris [(3-pyridyl) -phen-3-yl] benzene, 4,4′-bis (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) biphenyl, 1,3-bis [3,5-di (pyridin-3-yl) phenyl] benzene, bis (10-hydroxybenzo [ h] quinolinato) beryllium, diphenylbis (4- (pyridin-3-yl) phenyl) silane, 3,5-di (pyren-1-yl) pyridine and the like.

電子注入層を形成する材料としては、酸化リチウム(Li2O)、酸化マグネシウム(MgO)、アルミナ(Al2O3)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化ストロンチウム(SrF2)、三酸化モリブデン(MoO3)、アルミニウム、Li(acac)、酢酸リチウム、安息香酸リチウム等が挙げられる。 Materials for forming the electron injection layer include lithium oxide (Li 2 O), magnesium oxide (MgO), alumina (Al 2 O 3 ), lithium fluoride (LiF), sodium fluoride (NaF), magnesium fluoride ( MgF 2 ), cesium fluoride (CsF), strontium fluoride (SrF 2 ), molybdenum trioxide (MoO 3 ), aluminum, Li (acac), lithium acetate, lithium benzoate and the like.

陰極材料としては、アルミニウム、マグネシウム−銀合金、アルミニウム−リチウム合金、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。   Examples of the cathode material include aluminum, magnesium-silver alloy, aluminum-lithium alloy, lithium, sodium, potassium, cesium and the like.

電子ブロック層を形成する材料としては、トリス(フェニルピラゾール)イリジウム等が挙げられる。   Examples of the material for forming the electron blocking layer include tris (phenylpyrazole) iridium.

本発明の電荷輸送性ワニスを用いたPLED素子の作製方法は、特に限定されないが、以下の方法が挙げられる。   Although the manufacturing method of the PLED element using the charge transportable varnish of this invention is not specifically limited, The following methods are mentioned.

上記OLED素子作製において、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の真空蒸着操作を行う代わりに、正孔輸送性高分子層、発光性高分子層を順次形成することによって本発明の電荷輸送性ワニスによって形成される電荷輸送性薄膜を有するPLED素子を作製することができる。   In the preparation of the OLED element, instead of performing the vacuum deposition operation of the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer, the hole transport polymer layer and the light emitting polymer layer are sequentially formed. A PLED element having a charge transporting thin film formed by the charge transporting varnish of the invention can be produced.

具体的には、陽極基板上に本発明の電荷輸送性ワニスを塗布して上記の方法により正孔注入層を作製し、その上に正孔輸送性高分子層、発光性高分子層を順次形成し、更に陰極電極を蒸着してPLED素子とする。   Specifically, the charge transporting varnish of the present invention is applied on the anode substrate to prepare a hole injection layer by the above method, and a hole transporting polymer layer and a light emitting polymer layer are sequentially formed thereon. Then, a cathode electrode is vapor-deposited to obtain a PLED element.

使用する陰極及び陽極材料としては、上記OLED素子作製時と同様のものが使用でき、同様の洗浄処理、表面処理を行うことができる。   As the cathode and anode material to be used, the same materials as those used in the production of the OLED element can be used, and the same cleaning treatment and surface treatment can be performed.

正孔輸送性高分子層及び発光性高分子層の形成法としては、正孔輸送性高分子材料若しくは発光性高分子材料、又はこれらにドーパントを加えた材料に溶媒を加えて溶解するか、均一に分散し、正孔注入層又は正孔輸送性高分子層の上に塗布した後、それぞれ焼成することで成膜する方法が挙げられる。   As a method for forming the hole transporting polymer layer and the light emitting polymer layer, a hole transporting polymer material or a light emitting polymer material, or a material in which a dopant is added to these materials are added and dissolved, The method of forming into a film by disperse | distributing uniformly and apply | coating on a positive hole injection layer or a positive hole transportable polymer layer, and baking each is mentioned.

正孔輸送性高分子材料としては、ポリ[(9,9−ジヘキシルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(N,N'−ビス{p−ブチルフェニル}−1,4−ジアミノフェニレン)]、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(N,N'−ビス{p−ブチルフェニル}−1,1'−ビフェニレン−4,4−ジアミン)]、ポリ[(9,9−ビス{1'−ペンテン−5'−イル}フルオレニル−2,7−ジイル)−co−(N,N'−ビス{p−ブチルフェニル}−1,4−ジアミノフェニレン)]、ポリ[N,N'−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N'−ビス(フェニル)−ベンジジン]−エンドキャップド ウィズ ポリシルセスキオキサン、ポリ[(9,9−ジジオクチルフルオレニル−2,7−ジイル)−co−(4,4'−(N−(p−ブチルフェニル))ジフェニルアミン)]等が挙げられる。   As the hole transporting polymer material, poly [(9,9-dihexylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (N, N′-bis {p-butylphenyl} -1,4-diamino Phenylene)], poly [(9,9-dioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (N, N′-bis {p-butylphenyl} -1,1′-biphenylene-4,4- Diamine)], poly [(9,9-bis {1'-penten-5'-yl} fluorenyl-2,7-diyl) -co- (N, N'-bis {p-butylphenyl} -1, 4-diaminophenylene)], poly [N, N′-bis (4-butylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine] -endcapped with polysilsesquioxane, poly [(9, 9-didioctylfluorenyl-2,7-diyl) -co- (4,4 ′-(N- (p-butylphenyl)) diphenylamine)] and the like.

発光性高分子材料としては、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)等のポリフルオレン誘導体、ポリ(2−メトキシ−5−(2'−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)等のポリフェニレンビニレン誘導体、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)等のポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVCz)等が挙げられる。   Examples of the light emitting polymer material include polyfluorene derivatives such as poly (9,9-dialkylfluorene) (PDAF), poly (2-methoxy-5- (2′-ethylhexoxy) -1,4-phenylenevinylene) (MEH). -PPV) and the like, polythiophene derivatives such as poly (3-alkylthiophene) (PAT), and polyvinylcarbazole (PVCz).

溶媒としては、トルエン、キシレン、クロロホルム等を挙げることができる。溶解又は均一分散法としては攪拌、加熱攪拌、超音波分散等の方法が挙げられる。   Examples of the solvent include toluene, xylene, chloroform and the like. Examples of the dissolution or uniform dispersion method include methods such as stirring, heating and stirring, and ultrasonic dispersion.

塗布方法としては、特に限定されるものではなく、インクジェット法、スプレー法、ディップ法、スピンコート法、転写印刷法、ロールコート法、刷毛塗り等が挙げられる。なお、塗布は、窒素、アルゴン等の不活性ガス下で行うことが好ましい。   The application method is not particularly limited, and examples thereof include an inkjet method, a spray method, a dipping method, a spin coating method, a transfer printing method, a roll coating method, and a brush coating method. The application is preferably performed under an inert gas such as nitrogen or argon.

焼成方法としては、不活性ガス下又は真空中、オーブン又はホットプレートで加熱する方法が挙げられる。   Examples of the firing method include a method of heating in an oven or a hot plate under an inert gas or in a vacuum.

以下、合成例及び実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、使用した装置は以下のとおりである。
(1)基板洗浄:長州産業(株)製 基板洗浄装置(減圧プラズマ方式)
(2)ワニスの塗布:ミカサ(株)製 スピンコーターMS-A100
(3)膜厚測定:(株)小坂研究所製 微細形状測定機サーフコーダET-4000
(4)EL素子の作製:長州産業(株)製 多機能蒸着装置システムC-E2L1G1-N
(5)EL素子の輝度等の測定:(有)テック・ワールド製 I-V-L測定システム
(6)EL素子の寿命測定(耐久性試験):(株)イーエッチシー製 有機EL輝度寿命評価システムPEL-105S
(7)NMR測定:日本電子(株)製 JNM-ECX300 FT NMR SYSTEM
(8)MS測定:ブルカー(株)製 autoflex III smartbem
EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to the following Example. In addition, the apparatus used is as follows.
(1) Substrate cleaning: Choshu Sangyo Co., Ltd. substrate cleaning equipment (decompressed plasma method)
(2) Varnish application: Mikasa Co., Ltd. spin coater MS-A100
(3) Film thickness measurement: Kosaka Laboratory Co., Ltd. Fine shape measuring machine Surfcorder ET-4000
(4) Production of EL element: Choshu Sangyo Co., Ltd. Multifunctional deposition system C-E2L1G1-N
(5) Measurement of luminance of EL element: (Yes) Tech World IVL measurement system (6) EL element lifetime measurement (durability test): Organic EL luminance lifetime evaluation system PEL- 105S
(7) NMR measurement: JNM-ECX300 FT NMR SYSTEM manufactured by JEOL Ltd.
(8) MS measurement: Bruker autoflex III smartbem

[合成例1]チオフェン誘導体1(式(1−1))の合成
下記反応式に基づき、チオフェン誘導体1を合成した。

Figure 2015092559
Synthesis Example 1 Synthesis of Thiophene Derivative 1 (Formula (1-1)) Based on the following reaction formula, thiophene derivative 1 was synthesized.
Figure 2015092559

チエノチオフェン(東京化成工業(株)製)2.00g及びジメチルホルムアミド(DMF)30mLを反応容器に入れ、室温下で攪拌し溶解を確認後、N−ブロモスクシンイミド(NBS)6.10g(2.4eq)を粉体で投入した。原料の消失を確認後、反応液にn−ヘキサン及びイオン交換水を加え、分液を行った。有機層をイオン交換水及び飽和食塩水でそれぞれ1回洗浄した後、Na2SO4で乾燥を行った。溶媒を減圧留去、乾燥を行い目的とするチエノチオフェンジブロモ体を4.21g得た(収量99%)。
次いで、窒素雰囲気下、チエノチオフェンジブロモ体1.93g、Pd(PPh3)4 0.75g(10mol%)、3−ヘキシルチオフェンボロン酸ピナコールエステル(アルドリッチ社製)4.00g、ジメトキシエタン(DME)43mL及び2mol/L K2CO3水溶液16.2mL(5eq)を入れ、加熱還流条件下5時間攪拌し反応させた。反応終了後、n−ヘキサンを加え、室温で30分攪拌した後、不溶物をろ過にて除去し、ろ液をイオン交換水で2回、飽和食塩水で1回洗浄した。Na2SO4で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーにて分離、精製し、目的とするチオフェン誘導体1を得た(収率85%)。1H−NMRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR (300MHz, CDCl3) δ[ppm]: 7.24(s, 2H), 7.21(d, J=5.1Hz, 2H), 6.96(d, J=5.3Hz, 2H), 2.79(t, J=7.4Hz, 4H), 1.60-1.70(m, 4H), 1.27-1.42(m, 12H), 0.88(t, J=6.9Hz, 6H).
Thienothiophene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (2.00 g) and dimethylformamide (DMF) (30 mL) were placed in a reaction vessel and stirred at room temperature to confirm dissolution. 4 eq) was charged as powder. After confirming disappearance of the raw materials, n-hexane and ion-exchanged water were added to the reaction solution to carry out liquid separation. The organic layer was washed once with ion-exchanged water and saturated brine, and then dried over Na 2 SO 4 . The solvent was distilled off under reduced pressure and dried to obtain 4.21 g of the desired thienothiophene dibromo compound (yield 99%).
Next, under a nitrogen atmosphere, 1.93 g of thienothiophene dibromo compound, 0.75 g (10 mol%) of Pd (PPh 3 ) 4 , 4.00 g of 3-hexylthiopheneboronic acid pinacol ester (manufactured by Aldrich), dimethoxyethane (DME) 43 mL and 16.2 mL (5 eq) of 2 mol / L K 2 CO 3 aqueous solution were added, and the reaction was allowed to stir for 5 hours under heating and refluxing conditions. After completion of the reaction, n-hexane was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. Insoluble matters were removed by filtration, and the filtrate was washed twice with ion-exchanged water and once with saturated brine. After drying over Na 2 SO 4 , the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was separated and purified by column chromatography to obtain the desired thiophene derivative 1 (yield 85%). The measurement result of 1 H-NMR is shown below.
1 H-NMR (300MHz, CDCl 3 ) δ [ppm]: 7.24 (s, 2H), 7.21 (d, J = 5.1Hz, 2H), 6.96 (d, J = 5.3Hz, 2H), 2.79 (t, J = 7.4Hz, 4H), 1.60-1.70 (m, 4H), 1.27-1.42 (m, 12H), 0.88 (t, J = 6.9Hz, 6H).

[合成例2]チオフェン誘導体2(式(1−2))の合成
下記反応式に基づき、チオフェン誘導体2を合成した。

Figure 2015092559
Synthesis Example 2 Synthesis of Thiophene Derivative 2 (Formula (1-2)) Based on the following reaction formula, thiophene derivative 2 was synthesized.
Figure 2015092559

窒素雰囲気下、ベンゾジチオフェン(東京化成工業(株)製)1.50gを反応容器に入れ、テトラヒドロフラン(THF)50mLを加えた後、−78℃に冷却した。そこへ、n−ブチルリチウムのn−ヘキサン溶液19.2mL(濃度1.64mol/L、4eq)を滴下した後、1.5時間攪拌した。更にそこへ、トリ−n−ブチルクロロスタナン8.6mL(4eq)を滴下し、更に1時間、−78℃にて反応させた後、冷却バスを外して、室温まで昇温させた。室温到達後、溶媒を減圧留去し得られたスラリー中の析出物をろ別し、乾燥を行い、目的とするベンゾジチオフェンビススタニル体を含む混合物を11.84g得た。なお、精製はこれ以上行わず、本工程の収率を100%(理論収量:6.07g)として、純度を算出し(6.07/11.84×100=51.3%)、次工程の原料として使用した。
次いで、窒素雰囲気下、得られたベンゾジチオフェンビススタニル体を含む混合物5.92g、2−ブロモ−3−n−ヘキシルチオフェン(東京化成工業(株)製)2.15g(2.2eq)、トルエン25mL及びPd(PPh3)4 0.230g(5mol%)を反応容器に入れ、加熱還流条件下、4.5時間攪拌し反応させた。室温まで放冷した後、クロロホルム及びイオン交換水を加え分液した。得られた有機層の溶媒を減圧留去し、得られた黄色スラリーにメタノールを加えた後、不溶物をろ別した。ろ液に対して活性炭処理を行った後、溶媒を減圧留去し、残渣にエタノールとトルエンを加え加熱還流条件下攪拌し、完全に溶解したことを確認後、室温まで放冷した。そのまま室温で一晩攪拌した後、ろ取、乾燥を行い、目的とするチオフェン誘導体2を1.40g得た(2段階収率68%)。1H−NMR及びTOF−MSの測定結果を以下に示す。
1H-NMR (300MHz, CDCl3) δ[ppm]: 8.16(s, 2H), 7.34(s, 2H), 7.26(d, J=5.1Hz, 2H), 6.98(d, J=5.1Hz. 2H) 2.87(t, J=8.0Hz, 4H), 1.63-1.74(m, 4H), 1.30-1.42(m, 12H), 0.88(t, J=6.6Hz, 6H).
MALDI-TOF-MS m/Z found:521.87 ([M]+ calcd:522.15)
Under a nitrogen atmosphere, 1.50 g of benzodithiophene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was placed in a reaction vessel, 50 mL of tetrahydrofuran (THF) was added, and then cooled to -78 ° C. Thereto, 19.2 mL of n-butyllithium n-hexane solution (concentration 1.64 mol / L, 4 eq) was added dropwise, followed by stirring for 1.5 hours. Further, 8.6 mL (4 eq) of tri-n-butylchlorostannane was added dropwise thereto, and after further reaction at −78 ° C. for 1 hour, the cooling bath was removed and the temperature was raised to room temperature. After reaching room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the precipitate in the resulting slurry was filtered and dried to obtain 11.84 g of a mixture containing the desired benzodithiophene bisstannyl compound. Further purification is not performed, and the yield is calculated as 100% (theoretical yield: 6.07 g), and the purity is calculated (6.07 / 11.84 × 100 = 51.3%). Used as raw material.
Subsequently, under a nitrogen atmosphere, 5.92 g of the mixture containing the obtained benzodithiophene bisstannyl compound, 2.15 g (2.2 eq) of 2-bromo-3-n-hexylthiophene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) , 25 mL of toluene and 0.230 g (5 mol%) of Pd (PPh 3 ) 4 were placed in a reaction vessel and stirred for 4.5 hours under heating and refluxing conditions. After allowing to cool to room temperature, chloroform and ion-exchanged water were added for liquid separation. The solvent of the obtained organic layer was distilled off under reduced pressure, methanol was added to the obtained yellow slurry, and insoluble matter was filtered off. The filtrate was subjected to activated carbon treatment, the solvent was distilled off under reduced pressure, ethanol and toluene were added to the residue, and the mixture was stirred under heating under reflux. After confirming complete dissolution, the mixture was allowed to cool to room temperature. After stirring overnight at room temperature, the mixture was collected by filtration and dried to obtain 1.40 g of the desired thiophene derivative 2 (two-stage yield 68%). The measurement results of 1 H-NMR and TOF-MS are shown below.
1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ [ppm]: 8.16 (s, 2H), 7.34 (s, 2H), 7.26 (d, J = 5.1Hz, 2H), 6.98 (d, J = 5.1Hz. 2H) 2.87 (t, J = 8.0Hz, 4H), 1.63-1.74 (m, 4H), 1.30-1.42 (m, 12H), 0.88 (t, J = 6.6Hz, 6H).
MALDI-TOF-MS m / Z found: 521.87 ([M] + calcd: 522.15)

[実施例1−1]
チオフェン誘導体1 0.034g、リンタングステン酸(PTA、関東化学(株)製)0.17g及びF4TCNQ(東京化成工業(株)製)0.020gを、窒素雰囲気下で、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)2gに溶解させた。得られた溶液にジエチレングリコールモノメチルエーテル(DEGME)1g及びプロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)7gを加えて攪拌し、そこへトリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.007g及びフェニルトリメトキシシラン0.014gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した。
[Example 1-1]
Thiophene derivative 1 0.034 g, phosphotungstic acid (PTA, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 0.17 g and F4TCNQ (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.020 g in 1,3-dimethyl- It was dissolved in 2 g of 2-imidazolidinone (DMI). To the obtained solution, 1 g of diethylene glycol monomethyl ether (DEGME) and 7 g of propylene glycol monoethyl ether (PGME) were added and stirred, and 0.007 g of trifluoropropyltrimethoxysilane and 0.014 g of phenyltrimethoxysilane were added thereto. Stirring to prepare a charge transporting varnish.

[実施例1−2]
チオフェン誘導体2 0.034g、PTA0.17g及びF4TCNQ0.031gを、窒素雰囲気下で、DMI2gに溶解させた。得られた溶液にDEGME1g及びPGME7gを加えて攪拌し、そこへトリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.007g及びフェニルトリメトキシシラン0.014gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した。
[Example 1-2]
Thiophene derivative 2 0.034 g, PTA 0.17 g and F4TCNQ 0.031 g were dissolved in 2 g of DMI under nitrogen atmosphere. To the resulting solution, 1 g of DEGME and 7 g of PGME were added and stirred, and 0.007 g of trifluoropropyltrimethoxysilane and 0.014 g of phenyltrimethoxysilane were added and stirred to prepare a charge transporting varnish.

[実施例1−3]
チオフェン誘導体1 0.034g及びPTA0.17gを、窒素雰囲気下で、DMI2gに溶解させた。得られた溶液にDEGME1g及びPGME7gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した。
[実施例1−4]
[Example 1-3]
0.034 g of thiophene derivative 1 and 0.17 g of PTA were dissolved in 2 g of DMI under a nitrogen atmosphere. 1 g of DEGME and 7 g of PGME were added to the resulting solution and stirred to prepare a charge transporting varnish.
[Example 1-4]

チオフェン誘導体1 0.034g及びPTA0.17gを、窒素雰囲気下で、DMI2gに溶解させた。得られた溶液にDEGME1g及びPGME7gを加えて攪拌し、そこへトリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.007g及びフェニルトリメトキシシラン0.014gを加えて攪拌し、電荷輸送性ワニスを調製した。   0.034 g of thiophene derivative 1 and 0.17 g of PTA were dissolved in 2 g of DMI under a nitrogen atmosphere. To the resulting solution, 1 g of DEGME and 7 g of PGME were added and stirred, and 0.007 g of trifluoropropyltrimethoxysilane and 0.014 g of phenyltrimethoxysilane were added and stirred to prepare a charge transporting varnish.

[実施例2−1]
実施例1−1で得られたワニスを、スピンコーターを用いてITO基板に塗布した後、50℃で5分間乾燥し、更に、大気雰囲気下、160℃で10分間焼成し、ITO基板上に30nmの均一な薄膜を形成した。ITO基板として、インジウム錫酸化物(ITO)が表面上に膜厚150nmでパターニングされた25mm×25mm×0.7tのガラス基板を用い、使用前にO2プラズマ洗浄装置(150W、30秒間)によって表面上の不純物を除却した。
次いで、薄膜を形成したITO基板に対し、蒸着装置(真空度1.0×10-5Pa)を用いてN,N'−ジ(1−ナフチル)−N,N'−ジフェニルベンジジン(α−NPD)、トリス(8−キノリノラート)アルミニウム(III)(Alq3)、フッ化リチウム、及びアルミニウムの薄膜を順次積層し、有機EL素子を得た。この際、蒸着レートは、α−NPD、Alq3及びアルミニウムについては0.2nm/秒、フッ化リチウムについては0.02nm/秒の条件でそれぞれ行い、膜厚は、それぞれ30nm、40nm、0.5nm及び120nmとした。
なお、空気中の酸素、水等の影響による特性劣化を防止するため、有機EL素子は封止基板により封止した後、その特性を評価した。封止は、以下の手順で行った。
酸素濃度2ppm以下、露点−85℃以下の窒素雰囲気中で、有機EL素子を封止基板の間に収め、封止基板を接着材(ナガセケムテックス(株)製、XNR5516Z-B1)により貼り合わせた。この際、捕水剤(ダイニック(株)製、HD-071010W-40)を有機EL素子と共に封止基板内に収めた。
貼り合わせた封止基板に対し、UV光を照射(波長:365nm、照射量:6,000mJ/cm2)した後、80℃で1時間、アニーリング処理して接着材を硬化させた。
[Example 2-1]
The varnish obtained in Example 1-1 was applied to an ITO substrate using a spin coater, then dried at 50 ° C. for 5 minutes, and further baked at 160 ° C. for 10 minutes in an air atmosphere. A uniform thin film of 30 nm was formed. As the ITO substrate, a glass substrate of 25 mm × 25 mm × 0.7 t, in which indium tin oxide (ITO) is patterned on the surface with a film thickness of 150 nm, is used by an O 2 plasma cleaning apparatus (150 W, 30 seconds) before use. Impurities on the surface were removed.
Next, N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenylbenzidine (α-) was applied to the ITO substrate on which the thin film was formed using a vapor deposition apparatus (vacuum degree 1.0 × 10 −5 Pa). NPD), tris (8-quinolinolato) aluminum (III) (Alq 3 ), lithium fluoride, and aluminum thin films were sequentially laminated to obtain an organic EL device. At this time, the deposition rate is 0.2 nm / second for α-NPD, Alq 3 and aluminum, and 0.02 nm / second for lithium fluoride, and the film thickness is 30 nm, 40 nm, and 0.0 nm, respectively. It was 5 nm and 120 nm.
In addition, in order to prevent the characteristic deterioration by the influence of oxygen in the air, water, etc., after sealing the organic EL element with the sealing substrate, the characteristic was evaluated. Sealing was performed according to the following procedure.
In a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 2 ppm or less and a dew point of -85 ° C or less, the organic EL element is placed between the sealing substrates, and the sealing substrate is bonded with an adhesive (XNR5516Z-B1 manufactured by Nagase ChemteX Corporation). It was. At this time, a water catching agent (manufactured by Dynic Co., Ltd., HD-071010W-40) was placed in a sealing substrate together with the organic EL element.
The bonded sealing substrate was irradiated with UV light (wavelength: 365 nm, irradiation amount: 6,000 mJ / cm 2 ), and then annealed at 80 ° C. for 1 hour to cure the adhesive.

[実施例2−2〜2−4]
実施例1−1で得られたワニスの代わりに、それぞれ実施例1−2〜1−4で得られたワニスを用いた以外は、実施例2−1と同様の方法で有機EL素子を作製した。
[Examples 2-2 to 2-4]
An organic EL device was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the varnish obtained in Examples 1-2 to 1-4 was used instead of the varnish obtained in Example 1-1. did.

各素子の駆動電圧5Vにおける電流密度及び輝度を測定した。結果を表1に示す。   The current density and luminance at a driving voltage of 5 V of each element were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2015092559
Figure 2015092559

表1に示したように、本発明のワニスによって、優れた輝度特性を有する有機EL素子を実現することができた。   As shown in Table 1, an organic EL device having excellent luminance characteristics could be realized by the varnish of the present invention.

実施例2−1で作製した素子の耐久性試験を行った。輝度の半減期(初期輝度5,000cd/m2)を表2に示す。 The durability test of the element produced in Example 2-1 was performed. The luminance half-life (initial luminance 5,000 cd / m 2 ) is shown in Table 2.

Figure 2015092559
Figure 2015092559

表2に示したように、本発明のワニスによって、優れた耐久性を有する有機EL素子を実現することができた。   As shown in Table 2, an organic EL device having excellent durability could be realized by the varnish of the present invention.

Claims (10)

式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントと、有機溶媒とを含むことを特徴とする電荷輸送性ワニス。
Figure 2015092559
(式中、Arは、式(2−1)〜(2−10)
Figure 2015092559
のいずれかで表される2価の基を表し、
1〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボン酸基、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基を表し、R3〜R6がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基である場合、R3とR4と及び/又はR5とR6とは、互いに結合して2価の基を形成していてもよく、
1〜Y8は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基又はZ2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表し、
3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。)
A charge transporting varnish comprising a charge transporting material comprising a thiophene derivative represented by the formula (1), a dopant, and an organic solvent.
Figure 2015092559
(In the formula, Ar represents the formulas (2-1) to (2-10).
Figure 2015092559
A divalent group represented by any of the following:
R 1 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a carboxylic acid group, or a carbon number of 1 to 20 that may be substituted with Z 1. alkyl group, Z 1 in an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, the carbon may be substituted with Z 2 Formula 6-20 aryl group, -C (O) Y 1 group, -OY 2 group, -SY 3 group, -C (O) OY 4 group, -OC (O) Y 5 group, -C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group is represented, and R 3 to R 6 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, —C (O) Y 1 groups, —OY 2 groups, — In the case of SY 3 group, —C (O) OY 4 group, —OC (O) Y 5 group, —C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group, R 3 and R 4 And / Is R 5 and R 6, may form a divalent group bonded to each other,
Y 1 to Y 8 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 1, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, in Z 1 Represents an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 ;
Z 1 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group of Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, Z 3 Represents an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 3 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group. )
上記ドーパントが、ヘテロポリ酸を含む請求項1記載の電荷輸送性ワニス。   The charge transporting varnish according to claim 1, wherein the dopant contains a heteropolyacid. 更に、有機シラン化合物を含む請求項1又は2記載の電荷輸送性ワニス。   The charge transporting varnish according to claim 1 or 2, further comprising an organosilane compound. 更に、下記式(5)で表されるテトラシアノキノジメタン化合物を含む請求項1〜3のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニス。
Figure 2015092559
(式中、R101〜R104は、それぞれ独立に、水素原子又はハロゲン原子を表すが、少なくとも1つはハロゲン原子である。)
Furthermore, the charge transportable varnish of any one of Claims 1-3 containing the tetracyano quinodimethane compound represented by following formula (5).
Figure 2015092559
(In the formula, R 101 to R 104 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom, but at least one is a halogen atom.)
請求項1〜4のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニスを用いて作製される電荷輸送性薄膜。   A charge transporting thin film produced using the charge transporting varnish according to claim 1. 請求項5記載の電荷輸送性薄膜を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。   An organic electroluminescence device comprising the charge transporting thin film according to claim 5. 上記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層又は正孔輸送層である請求項6記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to claim 6, wherein the charge transporting thin film is a hole injection layer or a hole transport layer. 請求項1〜4のいずれか1項記載の電荷輸送性ワニスを基材上に塗布して焼成することを特徴とする電荷輸送性薄膜の製造方法。   A method for producing a charge-transporting thin film, comprising applying the charge-transporting varnish according to any one of claims 1 to 4 onto a base material and baking. 請求項5記載の電荷輸送性薄膜を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。   A method for producing an organic electroluminescent device, comprising using the charge transporting thin film according to claim 5. 式(1)で表されるチオフェン誘導体からなる電荷輸送性物質と、ドーパントとを含むことを特徴とする電荷輸送性材料。
Figure 2015092559
(式中、Arは、式(2−1)〜(2−10)
Figure 2015092559
のいずれかで表される2価の基を表し、
1〜R36は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボン酸基、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基、Z2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基を表し、R3〜R6がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、−C(O)Y1基、−OY2基、−SY3基、−C(O)OY4基、−OC(O)Y5基、−C(O)NHY6基又は−C(O)NY78基である場合、R3とR4と及び/又はR5とR6とは、互いに結合して2価の基を形成していてもよく、
1〜Y8は、それぞれ独立に、Z1で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基、Z1で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基又はZ2で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
1は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基又はZ3で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、
2は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基、カルボン酸基、Z3で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、Z3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルケニル基又はZ3で置換されていてもよい炭素数2〜20のアルキニル基を表し、
3は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ヒドロキシ基、チオール基、スルホン酸基又はカルボン酸基を表す。)
A charge transport material comprising a charge transport material comprising a thiophene derivative represented by the formula (1) and a dopant.
Figure 2015092559
(In the formula, Ar represents the formulas (2-1) to (2-10).
Figure 2015092559
A divalent group represented by any of the following:
R 1 to R 36 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a carboxylic acid group, or a carbon number of 1 to 20 that may be substituted with Z 1. alkyl group, Z 1 in an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, the carbon may be substituted with Z 2 Formula 6-20 aryl group, -C (O) Y 1 group, -OY 2 group, -SY 3 group, -C (O) OY 4 group, -OC (O) Y 5 group, -C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group is represented, and R 3 to R 6 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, —C (O) Y 1 groups, —OY 2 groups, — In the case of SY 3 group, —C (O) OY 4 group, —OC (O) Y 5 group, —C (O) NHY 6 group or —C (O) NY 7 Y 8 group, R 3 and R 4 And / Is R 5 and R 6, may form a divalent group bonded to each other,
Y 1 to Y 8 each independently represent an alkyl group having carbon atoms which may be have 1-20 substituted with Z 1, alkenyl group which may C2-20 optionally substituted by Z 1, in Z 1 Represents an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 2 ;
Z 1 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 2 is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, hydroxy group, thiol group, sulfonic acid group, a carboxylic acid group, an alkyl group of Z 3 carbon atoms which may be substituted with 1 to 20, Z 3 Represents an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with or an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted with Z 3 ;
Z 3 represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an aldehyde group, a hydroxy group, a thiol group, a sulfonic acid group, or a carboxylic acid group. )
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