JP2015072294A - Illumination device, electricity removing device, and image forming apparatus - Google Patents

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川本 博司
Hiroshi Kawamoto
博司 川本
西光 英二
Eiji Nishimitsu
英二 西光
貴司 徳田
Takashi Tokuda
貴司 徳田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce unevenness in the light intensity in an arrangement direction of a plurality of light-emitting elements with a simple configuration in an illumination optical system having the light-emitting elements arranged on a substrate.SOLUTION: A plurality of LED chips 61 are arranged on a substrate 60, and light buffering parts 62 are arranged respectively on the front side in the light irradiation direction (optical axis) 61a of the respective LED chips 61. The LED chips 61 each have the light irradiation direction 61a inclined with respect to the arrangement direction of the substrate 60.

Description

本発明は、複数の発光素子が基板上に配列された照明装置、その照明装置を備えた除電装置、及びその除電装置を備えた画像形成装置に関する。   The present invention relates to an illuminating device in which a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate, a neutralizing device including the illuminating device, and an image forming apparatus including the neutralizing device.

従来、電子写真方式の画像形成装置では、感光体ドラム(静電潜像担持体)の表面上の電荷を除去するために、感光体ドラムの周囲に除電装置が配置されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, in an electrophotographic image forming apparatus, a static eliminator is disposed around a photosensitive drum in order to remove charges on the surface of the photosensitive drum (electrostatic latent image carrier).

図12は、従来の除電装置の一構成例を感光体ドラムと共に示している。   FIG. 12 shows a configuration example of a conventional static eliminator together with a photosensitive drum.

この除電装置100は、感光体ドラム101に照射する光源としての発光素子(LEDチップ)102を複数個搭載した基板103を備えている。   The static eliminator 100 includes a substrate 103 on which a plurality of light emitting elements (LED chips) 102 as light sources for irradiating the photosensitive drum 101 are mounted.

基板103は、円筒状の感光体ドラム101の外周面に沿って平行に配置されるように長尺の板状体に形成されており、この基板103の一方の面(主面)103aに、長手方向Xに沿って所定の間隔でLEDチップ102が1列に配列(実装)されている。これらLEDチップ102は、光照射方向(以下、「光軸」ともいう。)102aが、LEDチップ102の長手方向(配列方向)Xに対して直交するように(すなわち、LEDチップ102の光軸102aが感光体ドラム101の外周面である光照射面101aに対して直角となるように)配置されている。また、光照射方向は、基板103の主面103aに対して平行な方向となるように構成されている。すなわち、図12に示すLEDチップ102は、サイド発光型のLEDチップとなっている。なお、光軸とは、光学系から照射される光束の代表となる仮想的な光線のことであり、照射光の光束のピーク成分の方向と一致する。   The substrate 103 is formed in a long plate-like body so as to be arranged in parallel along the outer peripheral surface of the cylindrical photosensitive drum 101, and on one surface (main surface) 103a of the substrate 103, The LED chips 102 are arranged (mounted) in a line at a predetermined interval along the longitudinal direction X. These LED chips 102 have a light irradiation direction (hereinafter also referred to as “optical axis”) 102 a orthogonal to the longitudinal direction (arrangement direction) X of the LED chips 102 (that is, the optical axis of the LED chip 102). 102 a is arranged so as to be perpendicular to the light irradiation surface 101 a which is the outer peripheral surface of the photosensitive drum 101. The light irradiation direction is configured to be parallel to the main surface 103 a of the substrate 103. That is, the LED chip 102 shown in FIG. 12 is a side-emitting LED chip. The optical axis is a virtual light beam that is representative of the light beam emitted from the optical system, and coincides with the direction of the peak component of the light beam of the irradiated light.

このような構成の除電装置100では、各LEDチップ102の配置間隔を密にすることで、感光体ドラム101の光照射面101aに照射される光の配列方向Xの光量ムラを平坦化することができる。しかし、LEDチップの使用個数が多くなるため、低価格化が困難になるといった問題があった。   In the static eliminator 100 having such a configuration, the light quantity unevenness in the arrangement direction X of the light irradiated on the light irradiation surface 101a of the photosensitive drum 101 is flattened by increasing the arrangement interval of the LED chips 102. Can do. However, since the number of LED chips used increases, there is a problem that it is difficult to reduce the price.

そこで、低価格化のために各LEDチップ102を所定の間隔で配置することが行われている。ここで、所定の間隔とは、LEDチップ102の指向性や配光角を考慮し、LEDチップ102からの照射光が感光体ドラム101の光照射面101aに到達したときの光の広がり(照射領域)が、隣接するLEDチップ間で若干重複する程度の間隔である。   Therefore, the LED chips 102 are arranged at a predetermined interval in order to reduce the price. Here, the predetermined interval takes into consideration the directivity and light distribution angle of the LED chip 102, and the light spread (irradiation) when the irradiation light from the LED chip 102 reaches the light irradiation surface 101a of the photosensitive drum 101. The area) is an interval that slightly overlaps between adjacent LED chips.

この場合、所定の間隔で配置された各LEDチップ102から感光体ドラム101の光照射面101aに光を照射すると、各LEDチップ102の光軸102aに対向する感光体ドラム101の照射面101a上での光量が多くなり、光軸102a間での光量(照射領域の重複部分での光量)がどうしても少なくなって光量ムラが発生するといった問題があった。   In this case, when light is irradiated onto the light irradiation surface 101a of the photosensitive drum 101 from each LED chip 102 arranged at a predetermined interval, the irradiation surface 101a of the photosensitive drum 101 facing the optical axis 102a of each LED chip 102 is irradiated. There is a problem in that the amount of light at the optical axis 102a increases, and the amount of light between the optical axes 102a (the amount of light at the overlapping portion of the irradiation area) inevitably decreases, causing unevenness in the amount of light.

そこで、このような問題を解決する手段として、特許文献1には、発光体であるLEDチップの前に光拡散レンズを配置し、光拡散レンズを介して感光体ドラムの光照射面に光を照射することで、配列方向での光量ムラを低減させる構成が記載されている。   Therefore, as means for solving such a problem, Patent Document 1 discloses that a light diffusion lens is disposed in front of an LED chip that is a light emitter, and light is applied to the light irradiation surface of the photosensitive drum via the light diffusion lens. A configuration for reducing unevenness in the amount of light in the arrangement direction by irradiation is described.

しかし、この場合には、光拡散レンズという新たな構成部材が必要となり、低価格化が困難になるとともに、装置も複雑化することから構造的にも小型化が困難になるといった問題があった。   However, in this case, a new component member called a light diffusing lens is required, which makes it difficult to reduce the price and also complicates the apparatus, which makes it difficult to reduce the size structurally. .

一方、除電装置ではないが、特許文献2,3には、照明光学系として、照射対象物の光照射面に対して複数のLEDチップを平行に配置し、かつ、各LEDチップの光軸を光照射面に対して傾斜させて配置する構成が記載されている。   On the other hand, although it is not a static eliminator, Patent Documents 2 and 3 disclose that, as an illumination optical system, a plurality of LED chips are arranged in parallel with respect to the light irradiation surface of an irradiation object, and the optical axis of each LED chip is set. A configuration is described in which it is inclined with respect to the light irradiation surface.

この構成によると、LEDチップを傾斜させることにより、LEDチップの光軸が光照射面に到達するまでの距離を長くして、光照射面への照射領域を傾斜方向に沿って広げることで、光量ムラを低減することができる。   According to this configuration, by tilting the LED chip, the distance until the optical axis of the LED chip reaches the light irradiation surface is lengthened, and the irradiation region to the light irradiation surface is expanded along the inclination direction. Unevenness in the amount of light can be reduced.

特開2013−171274号公報JP 2013-171274 A 特開2012−142847号公報JP 2012-142847 A 特開2011−23968号公報JP 2011-23968 A

そこで、本発明者らは、図12に示した配置構成の照明光学系と、図12に示した配置構成からLEDチップを配列方向Xに対して所定角度(この例では30度)傾斜させた照明光学系(図13参照)とを作製し、その配列方向Xにおける光量変化をそれぞれ測定した。その測定結果を図14に示す。   Accordingly, the inventors inclined the LED chip with respect to the arrangement direction X from the illumination optical system having the arrangement configuration shown in FIG. 12 and the arrangement configuration shown in FIG. 12 (30 degrees in this example). An illumination optical system (see FIG. 13) was prepared, and the change in the amount of light in the arrangement direction X was measured. The measurement results are shown in FIG.

図14に示すように、LEDチップの光軸を感光体ドラムの光照射面に対して垂直に照射した場合(図12の場合)には、図14に細線の折れ線グラフで示すように、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ60μW、最小値がほぼ20μWとなり、最大で40μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅の大きな光量ムラが発生している。これに対し、LEDチップを所定角度傾斜させた場合(図13の場合)には、図14に太線の折れ線グラフで示すように、光量変化は、最大値がほぼ50μW、最小値がほぼ20μW近傍となり、光量ムラは最大で30μWと10μW程度改善されている。また、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅は、図12の場合より改善されていることが分かる。   As shown in FIG. 14, when the optical axis of the LED chip is irradiated perpendicularly to the light irradiation surface of the photosensitive drum (in the case of FIG. 12), as shown by a thin line graph in FIG. Regarding the change in the amount of light in the direction, the maximum value is about 60 μW and the minimum value is about 20 μW. The maximum amount of light unevenness is 40 μW, and the amount of light unevenness with a large vertical fluctuation is also generated between adjacent LED chips. On the other hand, when the LED chip is tilted at a predetermined angle (in the case of FIG. 13), as shown by a thick line graph in FIG. 14, the maximum change is about 50 μW and the minimum value is about 20 μW. Thus, the unevenness in the amount of light is improved by about 30 μW and 10 μW at the maximum. It can also be seen that the vertical fluctuation range between adjacent LED chips is improved as compared with the case of FIG.

しかし、図13に示した配置構成の場合でも、依然として光量ムラは30μWあり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が十分に改善されている(平坦化されている)とは言えない。   However, even in the arrangement shown in FIG. 13, the light amount unevenness is still 30 μW, and it cannot be said that the fluctuation range between the upper and lower LED chips is sufficiently improved (flattened).

従って、このような照明光学系を使用した除電装置で感光体ドラムの光照射面を除電した場合には、除電後の残留電位が不均一になり、その後の帯電電位に影響を与えることになる。そして、帯電電位が不均一になることで、画像濃度が均一な原稿であっても、印字する際に画像ムラが生じる場合があるといった問題が発生する。   Accordingly, when the light irradiation surface of the photosensitive drum is neutralized by a static eliminator using such an illumination optical system, the residual potential after neutralization becomes non-uniform and affects the subsequent charging potential. . Further, since the charged potential becomes non-uniform, there arises a problem that even if the document has a uniform image density, image unevenness may occur during printing.

本発明はかかる問題点を解決すべく創案されたもので、その目的は、複数の発光素子が基板上に配列された照明光学系において、簡単な構造で発光素子の配列方向での光量ムラを低減することのできる照明装置、その照明装置を備えた除電装置、及びその除電装置を備えた画像形成装置を提供することにある。   The present invention was devised to solve such problems, and an object thereof is to reduce unevenness in the amount of light in the arrangement direction of light emitting elements with a simple structure in an illumination optical system in which a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate. An object of the present invention is to provide an illuminating device that can be reduced, a static eliminator including the illuminator, and an image forming apparatus including the static eliminator.

上記課題を解決するため、本発明の照明装置は、複数の発光素子が基板上に配列され、前記各発光素子の光照射方向の前方側にそれぞれ光緩衝部が配列されていることを特徴としている。すなわち、発光素子から光緩衝部に到達する光を、完全に遮断するのではなく、一部を透過させることで、その部分を透過する光を低減して、全体としての光量ムラを平坦化する構成としている。   In order to solve the above-described problem, the illumination device of the present invention is characterized in that a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate, and a light buffering portion is arranged on the front side in the light irradiation direction of each light emitting element. Yes. That is, the light reaching the light buffering portion from the light emitting element is not completely blocked, but partially transmitted, thereby reducing the light transmitted through the portion and flattening the light amount unevenness as a whole. It is configured.

また、本発明の照明装置では、前記発光素子は、光照射方向が前記基板の配列方向に対して傾斜して設けられた構成としている。この構成によると、配列方向に直交する方向に対して光軸が傾斜することになり、その結果、光照射方向前方側の基板縁部に到達する光の照射領域が広がる。   Moreover, in the illuminating device of this invention, the said light emitting element is set as the structure by which the light irradiation direction inclined with respect to the arrangement direction of the said board | substrate. According to this configuration, the optical axis is inclined with respect to the direction orthogonal to the arrangement direction, and as a result, the irradiation region of the light reaching the substrate edge on the front side in the light irradiation direction is expanded.

また、本発明の照明装置では、前記光緩衝部は、光を透過する半透明の部材である。光緩衝部を半透明の部材で形成することで、光緩衝部を透過する光を低減する。   Moreover, in the illuminating device of this invention, the said light buffer part is a translucent member which permeate | transmits light. By forming the light buffer portion with a translucent member, light transmitted through the light buffer portion is reduced.

また、本発明の照明装置は、前記複数の発光素子と前記複数の光緩衝部とは平行に配列されている。すなわち、各発光素子とこれに対向する各光緩衝部との距離を等しくしている。   In the illumination device of the present invention, the plurality of light emitting elements and the plurality of light buffering portions are arranged in parallel. That is, the distance between each light emitting element and each light buffering portion facing this is made equal.

また、本発明の照明装置では、前記発光素子及び前記光緩衝部は、照射対象物の光照射面に対してその配列方向が平行に配置され、前記発光素子からの照射光の一部は、前記光緩衝部を透過して前記光照射面に照射される構成とすることができる。すなわち、光を完全に遮断するのではなく、光量を緩やかに低減させる構成としている。   Further, in the illumination device of the present invention, the light emitting element and the light buffering unit are arranged in parallel in the arrangement direction with respect to the light irradiation surface of the irradiation object, and a part of the irradiation light from the light emitting element is: It can be set as the structure which permeate | transmits the said light buffer part and is irradiated to the said light irradiation surface. That is, the light amount is gently reduced instead of completely blocking light.

また、本発明の照明装置では、前記光緩衝部は、前記発光素子と前記照射対象物の前記光照射面との間の最短距離位置に設けられた構成としている。すなわち、照射対象物の光照射面において、最も光量の多い照射領域の光量を低減する構成とてしいる。   Moreover, in the illuminating device of this invention, the said light buffer part is set as the structure provided in the shortest distance position between the said light emitting element and the said light irradiation surface of the said irradiation target object. That is, the light amount of the irradiation region with the largest amount of light is reduced on the light irradiation surface of the irradiation object.

また、本発明の照明装置では、前記光緩衝部は前記基板上に配列されており、前記発光素子の光照射方向は、前記発光素子を実装した前記基板の実装面に対して平行としている。すなわち、照明装置をサイド発光型の照明装置としている。   In the illumination device of the present invention, the light buffering portion is arranged on the substrate, and the light irradiation direction of the light emitting element is parallel to the mounting surface of the substrate on which the light emitting element is mounted. That is, the lighting device is a side light emitting type lighting device.

また、本発明の除電装置は、上記各構成の照明装置が、前記照射対象物である静電潜像担持体の光照射面に平行に配置された構成としている。この構成によると、静電潜像担持体の光照射面に照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化できる。   Further, the static eliminator of the present invention has a configuration in which the illumination devices having the above-described configurations are arranged in parallel to the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier that is the irradiation object. According to this configuration, it is possible to flatten unevenness in the amount of light irradiated on the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier and to uniformize the amount of charge removal.

また、本発明の画像形成装置は、上記構成の除電装置を備えた構成としている。この構成によると、静電潜像担持体の光照射面に照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化できるので、印字品質が向上する。   Further, the image forming apparatus of the present invention is configured to include the static eliminator configured as described above. According to this configuration, unevenness in the amount of light applied to the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier can be flattened and the amount of charge removed can be made uniform, so that the print quality is improved.

また、本発明の画像形成装置では、前記除電装置は、前記静電潜像担持体の前記光照射面の周囲に配置された帯電装置に対し、前記発光素子が配列された前記基板の一方の面が前記帯電装置とは反対側に位置するように配置された構成としている。すなわち、除電装置からの照射光が帯電装置側に回り込まない配置構成としている。   In the image forming apparatus according to the aspect of the invention, the static eliminator may be one of the substrates on which the light emitting elements are arranged with respect to the charging device disposed around the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier. It is set as the structure arrange | positioned so that a surface may be located on the opposite side to the said charging device. That is, the arrangement configuration is such that irradiation light from the static eliminator does not enter the charging device side.

本発明の照明装置によれば、発光素子から照射された光のうち光緩衝部に到達する光を透過させることで、その部分を透過する光の光量を低減することができる。従って、光量が多くなる照射領域に対応する位置に光緩衝部を配置して光量を低減することで、全体としての光量ムラを平坦化することができる。   According to the illuminating device of the present invention, by transmitting the light that reaches the light buffering portion of the light emitted from the light emitting element, the amount of the light that passes through the portion can be reduced. Therefore, the light amount unevenness as a whole can be flattened by disposing the light buffer portion at a position corresponding to the irradiation region where the light amount increases to reduce the light amount.

また、本発明の除電装置によれば、静電潜像担持体の光照射面に照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化することができる。   In addition, according to the static eliminator of the present invention, it is possible to flatten unevenness in the amount of light applied to the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier, and make the amount of static elimination uniform.

また、本発明の画像形成装置によれば、静電潜像担持体の光照射面に照射される光の光量ムラを平坦化して除電光量を均一化することで、その後の帯電電位に影響を与えることがない。従って、印字品質の向上を図ることができる。   In addition, according to the image forming apparatus of the present invention, the unevenness of the amount of light irradiated on the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier is flattened to make the amount of charge neutralized uniform, thereby affecting the subsequent charging potential. Never give. Therefore, the print quality can be improved.

本発明に係る照明装置を用いた除電装置を搭載した画像形成装置を正面より見た概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which looked at the image forming apparatus carrying the static elimination apparatus using the illuminating device which concerns on this invention from the front. 画像形成部の1つの画像形成ステーションを拡大して示す断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view of one image forming station of the image forming unit. FIG. 実施形態1に係る照明装置を用いた除電装置を模式的に示した概略斜視図である。It is the schematic perspective view which showed typically the static elimination apparatus using the illuminating device which concerns on Embodiment 1. FIG. 感光体ドラムと除電装置との配置関係を示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement | positioning relationship between a photoconductor drum and a static elimination apparatus. 光緩衝部の幅を種々変えて光照射面での光量変化を測定した結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the result of having changed the width | variety of the light buffer part variously and measuring the light quantity change in a light irradiation surface. 光緩衝部の厚みを種々変えて光照射面での光量変化を測定した結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the result of having changed the thickness of the light buffer part variously and measuring the light quantity change in a light irradiation surface. 実施形態1に係る除電装置を用いて感光体ドラムの光照射面での光量変化を測定したグラフ図である。FIG. 5 is a graph showing a change in the amount of light on the light irradiation surface of the photosensitive drum using the static eliminator according to the first embodiment. 実施形態2に係る照明装置を用いた除電装置と、感光体ドラムとの配置関係を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a positional relationship between a static eliminator using the illumination device according to Embodiment 2 and a photosensitive drum. 実施形態2に係る除電装置を用いて感光体ドラムの光照射面での光量変化を測定したグラフ図である。FIG. 10 is a graph showing a change in the amount of light on the light irradiation surface of the photosensitive drum using the static eliminator according to the second embodiment. 実施形態3に係る照明装置を用いた除電装置と、感光体ドラムとの配置関係を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a positional relationship between a static eliminator using an illumination device according to Embodiment 3 and a photosensitive drum. 実施形態3に係る除電装置を用いて感光体ドラムの光照射面での光量変化を測定したグラフ図である。FIG. 6 is a graph showing a change in the amount of light on the light irradiation surface of a photosensitive drum using the static eliminator according to Embodiment 3. 従来の除電装置の一構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of 1 structure of the conventional static elimination apparatus. 従来の除電装置の他の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the other structural example of the conventional static elimination apparatus. 図12に示した配置構成の照明光学系と、図13に示した配置構成の照明光学系とを作製して、その光量変化をそれぞれ測定したグラフ図である。FIG. 14 is a graph showing the illumination optical system having the arrangement configuration shown in FIG. 12 and the illumination optical system having the arrangement configuration shown in FIG.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

−画像形成装置の全体構成の説明−
図1は、本発明に係る照明装置を用いた除電装置を搭載した画像形成装置を正面より見た概略断面図である。
-Description of overall configuration of image forming apparatus-
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an image forming apparatus equipped with a static eliminator using an illumination device according to the present invention as seen from the front.

図1に示す画像形成装置1は、複写機能、ファクシミリ機能、プリンタ機能、スキャナ機能等を有する複合機であり、画像形成部10を有する装置本体と、原稿の画像読取部20を有する画像読取筐体との間に断面コ字状に形成された胴内排紙空間部50が形成された胴内排紙型の画像形成装置である。   An image forming apparatus 1 shown in FIG. 1 is a multifunction machine having a copying function, a facsimile function, a printer function, a scanner function, and the like. The image forming apparatus 1 has an image forming unit 10 and an image reading unit 20 having a document image reading unit 20. This is a cylinder discharge type image forming apparatus in which a cylinder discharge space portion 50 having a U-shaped cross section is formed between the body and the body.

胴内排紙空間部50の内部底面50aは排紙トレイ17となっており、内部背面50bには後述する排紙ローラ36が配置されている。   The inner bottom surface 50a of the in-body discharge space 50 is a discharge tray 17, and a discharge roller 36, which will be described later, is disposed on the inner back surface 50b.

画像読取部20の上部には原稿送り装置(ADF)40が設けられており、この原稿送り装置40は、画像読取部20の上面奥側の縁部に設けられたヒンジ(図示省略)を回動中心として手前側が上下方向に開閉自在(すなわち、画像読取部20に対して開閉自在)に設けられている。   A document feeder (ADF) 40 is provided on the upper part of the image reading unit 20, and this document feeder 40 rotates a hinge (not shown) provided at an edge on the back side of the upper surface of the image reading unit 20. The front side is provided as a moving center so that it can be opened and closed in the vertical direction (that is, it can be opened and closed with respect to the image reading unit 20).

このような構成の画像形成装置1では、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の各色を用いたカラー画像、または単色(例えば、ブラック)を用いたモノクロ画像に応じた画像データが扱われる。このため、画像形成部10には、4種類のトナー像を形成するための現像装置12、感光体ドラム13、クリーニング装置14、帯電装置15及び除電装置16が4つずつ設けられ、それぞれがブラック、シアン、マゼンタ、及びイエローに対応付けられて、4つの画像ステーションPa,Pb,Pc,Pdが構成されている。   In the image forming apparatus 1 having such a configuration, a color image using each color of black (K), cyan (C), magenta (M), and yellow (Y), or a monochrome image using a single color (for example, black). The image data corresponding to is handled. For this reason, the image forming unit 10 is provided with four developing devices 12, photoconductor drums 13, cleaning devices 14, charging devices 15 and neutralizing devices 16 for forming four types of toner images, each of which is black. , Cyan, magenta, and yellow are associated with four image stations Pa, Pb, Pc, and Pd.

図2は、画像形成部10の1つの画像形成ステーションを拡大して示す断面図である。図2に示すように画像ステーションPa,Pb,Pc,Pdのいずれにおいても、感光体ドラム13の周囲に、ドラムクリーニング装置14、除電装置16、帯電装置15、及び現像装置12が配置されており、感光体ドラム13の回転に伴い、各装置14,16,15,12による処理が順次行われる。ドラムクリーニング装置14は、感光体ドラム13表面の残留トナーを除去及び回収する。除電装置16は、感光体ドラム13表面の電荷を除去する。帯電装置15は、感光体ドラム13の表面を所定の電位に均一に帯電させる。この後、光走査装置11(図1参照)により感光体ドラム13表面に静電潜像が形成される。光走査装置11は、レーザダイオード及び反射ミラーを備えたレーザスキャニングユニット(LSU)であり、帯電された各感光体ドラム13表面を画像データに応じて露光して、それらの表面に画像データに対応する静電潜像を形成する。現像装置12は、感光体ドラム13表面の静電潜像を現像して、感光体ドラム13表面にトナー像を形成する。これにより、各画像ステーションPa,Pb,Pc,Pdの感光体ドラム13表面に各色のトナー像が形成される。   FIG. 2 is an enlarged sectional view showing one image forming station of the image forming unit 10. As shown in FIG. 2, in any of the image stations Pa, Pb, Pc, and Pd, a drum cleaning device 14, a charge eliminating device 16, a charging device 15, and a developing device 12 are disposed around the photosensitive drum 13. As the photosensitive drum 13 rotates, processing by the devices 14, 16, 15, and 12 is sequentially performed. The drum cleaning device 14 removes and collects residual toner on the surface of the photosensitive drum 13. The static eliminator 16 removes the charge on the surface of the photosensitive drum 13. The charging device 15 uniformly charges the surface of the photosensitive drum 13 to a predetermined potential. Thereafter, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive drum 13 by the optical scanning device 11 (see FIG. 1). The optical scanning device 11 is a laser scanning unit (LSU) provided with a laser diode and a reflection mirror, and exposes the surface of each charged photosensitive drum 13 according to image data and corresponds to the image data on those surfaces. An electrostatic latent image is formed. The developing device 12 develops the electrostatic latent image on the surface of the photosensitive drum 13 to form a toner image on the surface of the photosensitive drum 13. As a result, toner images of the respective colors are formed on the surface of the photosensitive drum 13 of each image station Pa, Pb, Pc, Pd.

感光体ドラム13の上側には、中間転写ベルト19が配置されている。中間転写ベルト19は、矢印Cの方向へ周回移動し、ベルトクリーニング装置25によって残留トナーを除去及び回収され、各感光体ドラム13の表面に形成された各色のトナー像が順次転写して重ね合わされて、中間転写ベルト19の表面にカラーのトナー像が形成される。   An intermediate transfer belt 19 is disposed on the upper side of the photosensitive drum 13. The intermediate transfer belt 19 circulates in the direction of arrow C, the residual toner is removed and collected by the belt cleaning device 25, and the toner images of the respective colors formed on the surfaces of the photosensitive drums 13 are sequentially transferred and superimposed. Thus, a color toner image is formed on the surface of the intermediate transfer belt 19.

図1に戻って、2次転写装置26の転写ローラ26aは、中間転写ベルト19との間にニップが形成されており、用紙搬送路R1を搬送されて来た用紙をニップに挟み込んで搬送する。用紙は、ニップを通過する際に、中間転写ベルト19の表面のトナー像が転写されて定着装置30に搬送される。   Returning to FIG. 1, a nip is formed between the transfer roller 26a of the secondary transfer device 26 and the intermediate transfer belt 19, and the sheet conveyed through the sheet conveyance path R1 is sandwiched and conveyed. . When the sheet passes through the nip, the toner image on the surface of the intermediate transfer belt 19 is transferred and conveyed to the fixing device 30.

定着装置30は、定着ローラ31及び加圧ローラ32の間にトナー像が転写された用紙を挟み込んで加熱及び加圧し、トナー像を用紙に定着させる。   The fixing device 30 sandwiches the sheet with the toner image transferred between the fixing roller 31 and the pressure roller 32 and heats and presses the sheet to fix the toner image on the sheet.

給紙カセット55は、光走査装置11の下側に設けられている。用紙は、ピックアップローラ56a及びサバキローラ56bによって給紙カセット55から引き出されて用紙搬送路R1に搬送され、2次転写装置26や定着装置30を経由し、用紙排出部38に設けられた排紙ローラ36を介して排紙トレイ17へと搬出される。用紙搬送路R1には、レジストローラ34、搬送ローラ35、及び排紙ローラ36が配置されている。   The paper feed cassette 55 is provided below the optical scanning device 11. The paper is pulled out from the paper feed cassette 55 by the pickup roller 56a and the suction roller 56b, and is transported to the paper transport path R1. The paper discharge roller provided in the paper discharge unit 38 via the secondary transfer device 26 and the fixing device 30. It is carried out to the paper discharge tray 17 via 36. A registration roller 34, a conveyance roller 35, and a paper discharge roller 36 are arranged in the paper conveyance path R1.

また、裏面に画像形成を行う場合は、用紙を排紙ローラ36から反転搬送路Rrへと逆方向に搬送して、用紙の表裏を反転させ、用紙をレジストローラ34へと再度導き、表面と同様にして裏面に画像形成を行い、用紙を排紙トレイ17へと搬出する。   When image formation is performed on the back side, the paper is conveyed in the reverse direction from the paper discharge roller 36 to the reverse conveyance path Rr, the front and back sides of the paper are reversed, the paper is guided again to the registration roller 34, and the front surface Similarly, image formation is performed on the back surface, and the paper is carried out to the paper discharge tray 17.

−原稿送り装置40の説明−
原稿送り装置40は、原稿Mが載置される原稿トレイ41と、原稿Mが排出される排出トレイ42と、原稿トレイ41に載置される原稿Mが読取位置P1へ搬送される第1搬送路43aと、読取位置P1に搬送された原稿Mが排出トレイ42へ搬送される第2搬送路43bと、読取位置P1を通過した原稿Mが第1搬送路43aへと戻される反転搬送路43cとを含んでいる。読取位置P1は、後述する原稿読取ガラス22を介して光源23aから光が照射される位置である。
-Description of Document Feeder 40-
The document feeder 40 includes a document tray 41 on which the document M is placed, a discharge tray 42 on which the document M is discharged, and a first transport in which the document M placed on the document tray 41 is transported to the reading position P1. A path 43a, a second transport path 43b in which the document M transported to the reading position P1 is transported to the discharge tray 42, and a reverse transport path 43c in which the document M that has passed the reading position P1 is returned to the first transport path 43a. Including. The reading position P1 is a position where light is emitted from the light source 23a through the document reading glass 22 described later.

原稿トレイ41の近傍には、ピックアップローラ44が設けられ、ピックアップローラ44の近傍には、サバキローラ45が設けられている。   A pickup roller 44 is provided in the vicinity of the document tray 41, and a suction roller 45 is provided in the vicinity of the pickup roller 44.

第1搬送路43aには、搬送ローラ対46aと搬送ローラ対46bとが設けられ、第2搬送路43bには、搬送ローラ対46cと搬送ローラ対47と排出ローラ対48とが設けられている。   The first conveyance path 43a is provided with a conveyance roller pair 46a and a conveyance roller pair 46b, and the second conveyance path 43b is provided with a conveyance roller pair 46c, a conveyance roller pair 47, and a discharge roller pair 48. .

搬送ローラ対47及び排出ローラ対48は、合流点P3と排出トレイ42との間に配置されている。また、排出ローラ対48は、第2搬送路43bの原稿排出部(用紙排出部)43b1に設けられている。   The transport roller pair 47 and the discharge roller pair 48 are disposed between the junction P3 and the discharge tray 42. Further, the discharge roller pair 48 is provided in a document discharge portion (paper discharge portion) 43b1 of the second transport path 43b.

搬送ローラ対47は、駆動ローラ47a及び従動ローラ47bを有する。排出ローラ対48は、駆動ローラ48a及び従動ローラ48bを有する。   The conveyance roller pair 47 includes a driving roller 47a and a driven roller 47b. The discharge roller pair 48 includes a driving roller 48a and a driven roller 48b.

合流点P3の近傍には、爪部材49が設けられている。この爪部材49は、原稿Mが搬送方向(用紙搬送方向)Zに搬送される際に、原稿Mにより押し上げられることにより、第2搬送路43bを開放するように構成されている。   A claw member 49 is provided in the vicinity of the junction P3. The claw member 49 is configured to open the second transport path 43b by being pushed up by the document M when the document M is transported in the transport direction (paper transport direction) Z.

−画像読取部20の説明−
画像読取部20は、原稿台ガラス21と、原稿読取ガラス22と、光源ユニット23と、ミラーユニット24と、撮像部25とを有する。
-Description of Image Reading Unit 20-
The image reading unit 20 includes a document table glass 21, a document reading glass 22, a light source unit 23, a mirror unit 24, and an imaging unit 25.

光源ユニット23は、原稿Mへ向けて光を照射する光源23aと、原稿Mからの反射光をミラーユニット24へ導くミラー23bとを有する。ミラーユニット24は、ミラー24aとミラー24bとを有する。撮像部25は、集光レンズやCCD(Charge Coupled Device:電荷結合素子)などを有する。   The light source unit 23 includes a light source 23 a that irradiates light toward the document M, and a mirror 23 b that guides reflected light from the document M to the mirror unit 24. The mirror unit 24 includes a mirror 24a and a mirror 24b. The imaging unit 25 includes a condenser lens, a CCD (Charge Coupled Device), and the like.

詳細は省略するが、画像読取部20は、原稿固定方式による読み取りと、原稿移動方式による読み取りとを行うことが可能な構成となっている。   Although details are omitted, the image reading unit 20 is configured to be able to perform reading by the document fixing method and reading by the document moving method.

以上が、画像形成装置1の全体構成の説明である。   The above is the description of the overall configuration of the image forming apparatus 1.

次に、本発明に係る照明装置を用いた除電装置の実施形態について説明する。   Next, an embodiment of a static eliminator using the illumination device according to the present invention will be described.

<実施形態1>
図3は、実施形態1に係る照明装置を用いた除電装置を模式的に示した概略斜視図、図4は、感光体ドラムと除電装置との配置関係を示す平面図である。
<Embodiment 1>
FIG. 3 is a schematic perspective view schematically showing a static eliminator using the illumination device according to the first embodiment, and FIG. 4 is a plan view showing a positional relationship between the photosensitive drum and the static eliminator.

実施形態1に係る除電装置16Aは、複数のLEDチップ(発光素子)61が基板60上に配列され、各発光素子61の光照射方向(光軸61a)の前方側にそれぞれ光緩衝部62が配列された構成となっている。   In the static eliminator 16 </ b> A according to the first embodiment, a plurality of LED chips (light emitting elements) 61 are arranged on the substrate 60, and the light buffering portions 62 are respectively provided on the front side of the light irradiation direction (optical axis 61 a) of each light emitting element 61. It has an arranged configuration.

光緩衝部62は、半透明の部材で形成されており、例えばポリエチレンテレフタレート(Polyethylene terephthalate:PET)樹脂等を用いて形成することができる。ただし、半透明であればよく、PETに限定されるものではない。   The light buffer 62 is formed of a translucent member, and can be formed using, for example, polyethylene terephthalate (PET) resin. However, it may be semi-transparent and is not limited to PET.

この構成によれば、LEDチップ61から光緩衝部62に到達する光を、完全に遮断するのではなく、一部を透過させることで、その部分を透過する光の光量を低減することができる。また、半透明とすることで、光を完全に遮断する場合に比べて、光量を緩やかに低減させることができる。   According to this configuration, the light reaching the light buffer unit 62 from the LED chip 61 is not completely blocked, but partially transmitted, thereby reducing the amount of light transmitted through the portion. . Further, by making it translucent, the amount of light can be gradually reduced as compared with the case where light is completely blocked.

基板60は、円筒状の感光体ドラム13の外周面である光照射面13aに沿って、光照射面13aの走査方向(すなわち、感光体ドラム13の回転軸芯方向)と平行に配置されるように長尺の板状体に形成されており、この基板60の一方の面(主面)60aの一方の側縁部60a1上に、長手方向(光照射面13aの走査方向と同じ)Xに沿って所定の間隔PでLEDチップ61が1列に配列(実装)されている。   The substrate 60 is arranged along the light irradiation surface 13a that is the outer peripheral surface of the cylindrical photosensitive drum 13 in parallel with the scanning direction of the light irradiation surface 13a (that is, the rotation axis direction of the photosensitive drum 13). Long side (same as the scanning direction of the light irradiation surface 13a) X on one side edge 60a1 of one surface (main surface) 60a of the substrate 60 X LED chips 61 are arranged (mounted) in a row at a predetermined interval P.

また、基板60の主面60aの他方の側縁部60a2上には、同じく長手方向Xに沿って所定の間隔Pで光緩衝部62が1列に配列(配置)されている。   Further, on the other side edge portion 60a2 of the main surface 60a of the substrate 60, the light buffer portions 62 are arranged (arranged) in a row at a predetermined interval P along the longitudinal direction X.

従って、複数のLEDチップ61と複数の光緩衝部62とは、基板60の主面(実装面)60a上で平行に配列されており、各LEDチップ61とこれに対向する各光緩衝部62との間の距離(LEDチップ61の発光点a(図4参照)から光緩衝部62の対向面までの距離)Tは全て等しくなっている。すなわち、LEDチップ61及び光緩衝部62は、その配列方向が、感光体ドラム13の光照射面13aに沿って、光照射面13aの走査方向に平行に配置されている。   Therefore, the plurality of LED chips 61 and the plurality of light buffering portions 62 are arranged in parallel on the main surface (mounting surface) 60a of the substrate 60, and each LED chip 61 and each of the light buffering portions 62 facing the LED chip 61 are arranged. (The distance from the light emitting point a of the LED chip 61 (see FIG. 4) to the opposing surface of the light buffering portion 62) T is all equal. That is, the LED chip 61 and the light buffer 62 are arranged along the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13 in parallel with the scanning direction of the light irradiation surface 13a.

なお、LEDチップ61の光照射方向(光軸61a)は、基板60の主面(実装面)60aに対して平行である。すなわち、実施形態1のLEDチップ61は、サイド発光型のLEDチップである。   The light irradiation direction (optical axis 61a) of the LED chip 61 is parallel to the main surface (mounting surface) 60a of the substrate 60. That is, the LED chip 61 of Embodiment 1 is a side light emission type LED chip.

上記構成において、実施形態1では、各LEDチップ61は、光照射方向(光軸61a)が基板60上での配列方向Xに対して所定角度θだけ傾斜して設けられている。   In the above configuration, in the first embodiment, each LED chip 61 is provided such that the light irradiation direction (optical axis 61 a) is inclined with respect to the arrangement direction X on the substrate 60 by a predetermined angle θ.

この構成によれば、配列方向Xに直交する方向Yに対して光軸61aが所定角度θだけ傾斜することになり、その結果、感光体ドラム13の光照射面13aに到達する光の照射領域を、走査方向Xに広げることができる。また、上記従来技術と同様、LEDチップ61を傾斜させることで、傾斜させない場合より、光照射面13aの走査方向Xに対する光量ムラを低減することができる。実施形態1では、このような構成において、LEDチップ61の光照射方向(光軸61a)の前方側に光緩衝部62を配置した点に特徴を有している。   According to this configuration, the optical axis 61 a is inclined by the predetermined angle θ with respect to the direction Y orthogonal to the arrangement direction X, and as a result, the irradiation region of the light reaching the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13. Can be expanded in the scanning direction X. In addition, as in the prior art, by tilting the LED chip 61, it is possible to reduce unevenness in the amount of light with respect to the scanning direction X of the light irradiation surface 13a compared to when the LED chip 61 is not tilted. The first embodiment is characterized in that, in such a configuration, the light buffer 62 is disposed on the front side of the light irradiation direction (optical axis 61a) of the LED chip 61.

また、光緩衝部62は、LEDチップ61と感光体ドラム13の光照射面13aとの間の最短距離位置に設けられている。   The light buffer 62 is provided at the shortest distance between the LED chip 61 and the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13.

この構成によれば、感光体ドラム13の光照射面13aにおいて、最も光量の多い照射領域の光量を低減できるので、照射領域全体としての光量ムラをLEDチップ61の配列方向において平坦化することができる。   According to this configuration, the amount of light in the irradiation region with the largest amount of light can be reduced on the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13, so that unevenness in the amount of light as the entire irradiation region can be flattened in the arrangement direction of the LED chips 61. it can.

さらに、図1に示すように、実施形態1の除電装置16Aは、感光体ドラム13の光照射面13aの周囲に配置された帯電装置15に対し、基板60の主面60aが帯電装置15とは反対側に位置するように(すなわち、感光体ドラム13の移動方向Cの上流側に位置するように)配置されている。   Further, as shown in FIG. 1, the static eliminator 16 </ b> A according to the first embodiment is different from the charging device 15 arranged around the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13 in that the main surface 60 a of the substrate 60 is the same as the charging device 15. Are arranged on the opposite side (that is, on the upstream side in the moving direction C of the photosensitive drum 13).

この構成によれば、除電装置16Aからの照射光を帯電装置15側に回り込まないように構成することができる。   According to this configuration, it is possible to configure so that the irradiation light from the static eliminator 16A does not enter the charging device 15 side.

ここで、本発明者らは、光緩衝部62の幅と厚みについて、各種寸法の試作品を作製して光量ムラについての実験を行った。   Here, the present inventors made prototypes of various dimensions with respect to the width and thickness of the light buffer portion 62 and conducted experiments on the light amount unevenness.

まず、光緩衝部62の幅について実験を行った。   First, an experiment was performed on the width of the light buffer 62.

この実験では、各LEDチップ61の配置間隔Pを27mm、LEDチップ61とこれに対向する光緩衝部62との間の距離Tを4.5mm、LEDチップ61の傾斜角度θを30度にそれぞれ設定した。また、感光体ドラム13の光照射面13aに直交する方向Yでの、光緩衝部62とLEDチップ61との配置位置の関係については、LEDチップ61の発光点aから感光体ドラム13の光照射面13aに垂直に延ばした線に対し、対向する光緩衝部62の幅方向の中心がLEDチップ61の傾斜方向(図4では左方向)に0.5mmズレた位置としている。   In this experiment, the arrangement interval P of each LED chip 61 is 27 mm, the distance T between the LED chip 61 and the light buffering portion 62 facing the LED chip 61 is 4.5 mm, and the inclination angle θ of the LED chip 61 is 30 degrees. Set. Further, regarding the positional relationship between the light buffer 62 and the LED chip 61 in the direction Y orthogonal to the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13, the light from the light emitting point a of the LED chip 61 to the light of the photosensitive drum 13. The center in the width direction of the light buffering section 62 facing the line extending perpendicularly to the irradiation surface 13a is shifted by 0.5 mm in the tilt direction of the LED chip 61 (leftward in FIG. 4).

これらの設定条件で、光緩衝部62の幅を種々変えて光照射面13aでの光量変化を測定した。その測定結果を図5に示す。   Under these setting conditions, the change in the amount of light on the light irradiation surface 13a was measured by changing the width of the light buffer 62 in various ways. The measurement results are shown in FIG.

図5では、幅が2mm、3mm、4mm、5mm、6mmの5種類の光緩衝部62を作製し、これに光緩衝部62を配置しない従来構造のもの(図13に示す構造でかつ傾斜角度が30度のもの)を加えて、全6種類について光量変化を測定した。なお、光緩衝部62の奥行き方向(光の透過方向)の寸法については、全ての種類の光緩衝部62について2.5mmとした。   In FIG. 5, five types of light buffer portions 62 having a width of 2 mm, 3 mm, 4 mm, 5 mm, and 6 mm are manufactured, and the light buffer portion 62 is not disposed thereon (the structure shown in FIG. 13 and the inclination angle). The change in the amount of light was measured for all six types. In addition, about the dimension of the depth direction (light transmission direction) of the light buffer part 62, it was 2.5 mm about the light buffer part 62 of all kinds.

その結果、図5から明らかなように、従来構造のものの配列方向での光量変化(符号70により示すグラフ)は、最大値がほぼ50μW、最小値がほぼ36μWとなり、最大で14μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が大きな光量ムラが発生している。   As a result, as is apparent from FIG. 5, the change in the amount of light in the arrangement direction of the conventional structure (graph indicated by reference numeral 70) has a maximum value of about 50 μW, a minimum value of about 36 μW, and a light amount unevenness of up to 14 μW. Occurrence of the light amount unevenness having a large fluctuation range between the adjacent LED chips is generated.

これに対し、幅が2mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号71により示すグラフ)は、最大値がほぼ45μW、最小値がほぼ34μWとなり、最大で11μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が比較的大きな光量ムラが発生している。   On the other hand, the change in the amount of light in the arrangement direction of the optical buffer 62 having a width of 2 mm (graph indicated by reference numeral 71) has a maximum value of approximately 45 μW and a minimum value of approximately 34 μW, and unevenness in the amount of light of 11 μW at maximum occurs. Even between adjacent LED chips, unevenness in the amount of light with a relatively large fluctuation range is generated.

また、幅が3mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号72により示すグラフ)は、最大値がほぼ40μW、最小値がほぼ34μWとなり、最大で6μWの光量ムラに留まり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が比較的小さな光量ムラとなっている。   In addition, the light quantity change in the direction of arrangement of the light buffer sections 62 having a width of 3 mm (graph indicated by reference numeral 72) has a maximum value of approximately 40 μW and a minimum value of approximately 34 μW, and remains at a maximum unevenness of 6 μW. Even between LED chips, the amount of fluctuation in the vertical direction is relatively small.

また、幅が4mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号73により示すグラフ)は、最大値がほぼ39μW、最小値がほぼ33μWとなり、最大で6μWの光量ムラに留まり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が比較的小さな光量ムラとなっている。   In addition, the light amount change (graph indicated by reference numeral 73) in the arrangement direction of the light buffer portions 62 having a width of 4 mm has a maximum value of approximately 39 μW and a minimum value of approximately 33 μW, and the maximum amount of light unevenness is 6 μW. Even between LED chips, the amount of fluctuation in the vertical direction is relatively small.

また、幅が5mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号74により示すグラフ)は、最大値がほぼ40μW、最小値がほぼ31μWとなり、最大で9μWの光量ムラに留まり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が、3mmや4mmの光緩衝部62に比べて少し大きな光量ムラとなっている。   The light amount change (graph indicated by reference numeral 74) in the arrangement direction of the light buffer portions 62 having a width of 5 mm has a maximum value of about 40 μW and a minimum value of about 31 μW. Even between the LED chips, the fluctuation range in the vertical direction is slightly larger than that of the light buffer 62 having a thickness of 3 mm or 4 mm.

また、幅が6mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号75により示すグラフ)は、最大値がほぼ40μW、最小値がほぼ31μWとなり、最大で9μWの光量ムラに留まり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が、3mmや4mmの光緩衝部62に比べて少し大きな光量ムラとなっている。   In addition, the change in the amount of light in the arrangement direction of the light buffer sections 62 having a width of 6 mm (graph indicated by reference numeral 75) has a maximum value of approximately 40 μW and a minimum value of approximately 31 μW, and remains at a maximum unevenness of 9 μW. Even between the LED chips, the fluctuation range in the vertical direction is slightly larger than that of the light buffer 62 having a thickness of 3 mm or 4 mm.

上記実験の結果、光緩衝部62の幅としては3mmから4mmの幅のものが光量ムラの改善に好適であることが分かる。   As a result of the above experiment, it can be seen that a width of 3 mm to 4 mm as the width of the light buffer portion 62 is suitable for improving the light amount unevenness.

次に、光緩衝部62の厚みについて実験を行った。   Next, an experiment was conducted on the thickness of the light buffer 62.

すなわち、上記と同じ設定条件で、光緩衝部62の厚みを種々変えて光照射面13aでの光量変化を測定した。ただし、ここでは光緩衝部62の幅を上記検討結果から3mmとした。その測定結果を図6に示す。   In other words, under the same setting conditions as described above, the light amount change on the light irradiation surface 13a was measured by changing the thickness of the light buffer 62 in various ways. However, here, the width of the light buffer 62 is set to 3 mm from the above examination result. The measurement results are shown in FIG.

図6では、厚みtが0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mmの4種類の光緩衝部62を作製し、これに光緩衝部62を配置しない従来構造のもの(図13に示す構造でかつ傾斜角度が30度のもの)を加えた、全5種類について光量変化を測定した。ここで、光緩衝部62の厚みtについては、光緩衝部62を基板60の主面60a上に接着するための接着材の厚みを含めた厚みとしている。この実験では、接着材として両面テープを用いており、その厚みは0.12mmである。従って、実際の光緩衝部62自体の厚みは、テープの厚み分の0.12mmを引いた、0.18mm、0.28mm、0.38mm、0.48mmの4種類である。   In FIG. 6, four types of light buffer portions 62 having thicknesses t of 0.3 mm, 0.4 mm, 0.5 mm, and 0.6 mm are manufactured, and a conventional structure in which the light buffer portion 62 is not disposed thereon (FIG. 13). The change in the amount of light was measured for all five types, including the structure shown in FIG. Here, the thickness t of the light buffer portion 62 is set to a thickness including the thickness of the adhesive for bonding the light buffer portion 62 onto the main surface 60 a of the substrate 60. In this experiment, a double-sided tape is used as the adhesive, and its thickness is 0.12 mm. Therefore, the actual thickness of the optical buffer 62 itself is four types of 0.18 mm, 0.28 mm, 0.38 mm, and 0.48 mm obtained by subtracting 0.12 mm corresponding to the thickness of the tape.

その結果、図6から明らかなように、厚みtが0.3mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号81により示すグラフ)は、最大値がほぼ45μW、最小値がほぼ34μWとなり、最大で11μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が比較的大きな光量ムラが発生している。   As a result, as is apparent from FIG. 6, the change in the amount of light in the arrangement direction of the optical buffer 62 having a thickness t of 0.3 mm (graph indicated by reference numeral 81) has a maximum value of approximately 45 μW and a minimum value of approximately 34 μW. A maximum of 11 μW of light amount unevenness occurs, and a light amount unevenness with a relatively large fluctuation width between adjacent LED chips is also generated.

また、厚みtが0.4mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号82により示すグラフ)は、最大値がほぼ40μW、最小値がほぼ35μWとなり、最大で5μWの光量ムラに留まり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が、0.3mmの光緩衝部62に比べて小さな光量ムラとなっている。   Further, the change in the amount of light in the arrangement direction of the optical buffer 62 having a thickness t of 0.4 mm (graph indicated by reference numeral 82) has a maximum value of about 40 μW and a minimum value of about 35 μW, and the light amount unevenness of 5 μW at the maximum remains. Even in the adjacent LED chips, the vertical fluctuation width is smaller than that of the light buffer 62 having a thickness of 0.3 mm.

また、厚みtが0.5mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号83により示すグラフ)は、最大値がほぼ39μW、最小値がほぼ31μWとなり、最大で8μWの光量ムラとなり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が、0.4mmの光緩衝部62に比べて若干大きな光量ムラとなっている。また、厚みtが0.5mmの光緩衝部62では、全体の光量レベルが0.4mmの光緩衝部62に比べて低下している。   The light amount change (graph indicated by reference numeral 83) in the arrangement direction of the light buffer portions 62 having a thickness t of 0.5 mm has a maximum value of approximately 39 μW, a minimum value of approximately 31 μW, and a maximum light amount unevenness of 8 μW. Even between adjacent LED chips, the vertical fluctuation width is slightly larger than that of the 0.4 mm light buffer 62. Further, in the light buffer 62 having a thickness t of 0.5 mm, the overall light amount level is lower than that of the light buffer 62 having a thickness of 0.4 mm.

また、厚みtが0.6mmの光緩衝部62の配列方向での光量変化(符号84により示すグラフ)は、最大値がほぼ35μW、最小値がほぼ25μWとなり、最大で10μWの光量ムラとなり、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が、0.5mmの光緩衝部62に比べてさらに大きな光量ムラとなっている。また、厚みtが0.6mmの光緩衝部62では、全体の光量レベルが0.5mmの光緩衝部62に比べてさらに低下している。   The light amount change (graph indicated by reference numeral 84) in the arrangement direction of the optical buffer 62 having a thickness t of 0.6 mm has a maximum value of about 35 μW, a minimum value of about 25 μW, and a maximum amount of light unevenness of 10 μW. Even between adjacent LED chips, the fluctuation range in the vertical direction is larger than that of the light buffer 62 having a thickness of 0.5 mm. Moreover, in the optical buffer part 62 with the thickness t of 0.6 mm, the entire light quantity level is further reduced compared to the optical buffer part 62 with a thickness of 0.5 mm.

上記実験の結果、光緩衝部62の厚み(接着材の厚みも含む)tとしては、全体の光量レベルが維持でき、かつ光量ムラが小さい0.4mmのものが好適であることが分かる。ただし、上記実験結果からも分かる通り、光緩衝部62の厚みtは、厳密に0.4mmである必要はなく、0.35〜0.45mmの間の厚みであれば、光量ムラは十分に改善されるものと推察される。   As a result of the above experiment, it is understood that the thickness t (including the thickness of the adhesive) t of the light buffering portion 62 is preferably 0.4 mm that can maintain the entire light amount level and has small light amount unevenness. However, as can be seen from the above experimental results, the thickness t of the light buffer portion 62 does not have to be strictly 0.4 mm, and if the thickness is between 0.35 and 0.45 mm, the unevenness in the amount of light is sufficient. Inferred to be improved.

次に、本発明者らは、上記実験結果を踏まえ、幅3mm、厚み0.4mmの光緩衝部62を作製し、これを搭載した除電装置(照明装置)16Aを作製(これを資料1とする。)した。そして、この作製した除電装置16Aを感光体ドラム13の光照射面13aに沿って平行に配置し、実際に光照射面13aに光を照射して、光照射面13aの走査方向(LEDチップ61の配列方向X)に沿った光量ムラを測定した。その測定結果を図7に示す。   Next, the present inventors made a light buffer 62 having a width of 3 mm and a thickness of 0.4 mm based on the above experimental results, and made a static eliminator (illuminating device) 16A equipped with this (this is referred to as document 1). ). Then, the manufactured static eliminator 16A is arranged in parallel along the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13, and the light irradiation surface 13a is actually irradiated with light to scan the light irradiation surface 13a (LED chip 61). The light amount unevenness along the arrangement direction X) was measured. The measurement results are shown in FIG.

図7では、比較のため、資料1の他に、図13に示す従来構造のもの(これを資料2とする。)についても光量ムラの測定を行った。また、LEDチップ61についても、その照度を最大とした場合(資料1−1,資料2−1)と、最小とした場合(資料1−2,資料2−2)の2種類についてそれぞれ測定を行った。   In FIG. 7, for comparison, in addition to the material 1, the light amount unevenness was also measured for the conventional structure shown in FIG. 13 (this material is referred to as the material 2). In addition, the LED chip 61 is also measured for each of two types of cases where the illuminance is maximized (Document 1-1, Document 2-1) and when the illuminance is minimized (Document 1-2, Document 2-2). went.

その結果、図7から明らかなように、照度を最大とした場合の資料1−1と資料2−1とを比較すると、資料2−1では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ60μW、最小値がほぼ35μWとなり、最大で25μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が大きな光量ムラが発生している。これに対し資料1−1では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ49μW、最小値がほぼ35μWとなり、最大でも14μWの光量ムラに留まっている。また、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が資料2−1のものに比べて大幅に改善されており、全体として光量レベルが平坦化(均一化)されていることが分かる。   As a result, as is clear from FIG. 7, when the data 1-1 and the data 2-1 when the illuminance is maximized are compared, in the data 2-1, the light amount change in the arrangement direction is almost the maximum value. 60 μW, the minimum value is about 35 μW, and a maximum of 25 μW of light intensity unevenness occurs, and light intensity unevenness with a large vertical fluctuation width also occurs between adjacent LED chips. On the other hand, in the document 1-1, the change in the amount of light in the arrangement direction has a maximum value of about 49 μW and a minimum value of about 35 μW, and the maximum light amount unevenness of 14 μW remains. In addition, the vertical fluctuation range between adjacent LED chips is significantly improved compared to that of the document 2-1, and it is understood that the light amount level is flattened (uniformized) as a whole.

また、照度を最小とした場合の資料1−2と資料2−2とを比較すると、資料2−2では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ37μW、最小値がほぼ23μWとなり、最大で14μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が比較的大きな光量ムラが発生している。これに対し資料1−2では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ31μW、最小値がほぼ19μWとなり、最大でも12μWの光量ムラに留まっている。また、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が資料2−2のものに比べて大幅に改善されており、全体として光量レベルが平坦化(均一化)されていることが分かる。   Further, when comparing the document 1-2 and the document 2-2 when the illuminance is minimized, in the document 2-2, the light amount change in the arrangement direction is approximately 37 μW at the maximum value and approximately 23 μW at the minimum value. A maximum of 14 μW of light amount unevenness occurs, and a light amount unevenness with a relatively large fluctuation width between the adjacent LED chips occurs. On the other hand, in Document 1-2, the change in the amount of light in the arrangement direction has a maximum value of approximately 31 μW and a minimum value of approximately 19 μW. In addition, the vertical fluctuation range between adjacent LED chips is greatly improved as compared with that of Document 2-2, and it is understood that the light amount level is flattened (uniformized) as a whole.

<実施形態2>
図8は、実施形態2に係る照明装置を用いた除電装置と、感光体ドラムとの配置関係を示す平面図である。
<Embodiment 2>
FIG. 8 is a plan view showing a positional relationship between a static eliminator using the illumination device according to the second embodiment and a photosensitive drum.

実施形態2に係る除電装置16Bは、複数のLEDチップ61が基板60の他方の側縁部60a2に沿って所定の角度θ傾斜して配列され、各発光素子61の光照射方向(光軸61a)の前方側である基板60の一方の側縁部60a1に沿って光反射板63が配置された構成としている。   In the static eliminator 16B according to the second embodiment, a plurality of LED chips 61 are arranged at a predetermined angle θ along the other side edge 60a2 of the substrate 60, and the light irradiation direction (optical axis 61a) of each light emitting element 61 is arranged. The light reflecting plate 63 is disposed along one side edge 60a1 of the substrate 60 which is the front side of the substrate 60).

すなわち、実施形態1の除電装置16Aでは、LEDチップ61は感光体ドラム13から遠い基板60の一方の側縁部60a1に配置されているのに対し、実施形態2では、LEDチップ61は感光体ドラム13に近い基板60の他方の側縁部60a2に配置されており、かつ、その光照射方向が、感光体ドラム13の光照射面13aとは反対側となるように配置されている。そのため、実施形態2では、実施形態1には無かった光反射板63が追加されている。一方、実施形態1では配置されている光緩衝部62が実施形態2では配置されていないが、図面からも分かるように、実施形態2では、LEDチップ61そのものが、光反射板63で反射された光の一部の光量を低減する光緩衝部として作用する。ここで、実施形態2では、所定の角度を20度としている。   That is, in the static eliminator 16A of the first embodiment, the LED chip 61 is disposed on one side edge 60a1 of the substrate 60 far from the photosensitive drum 13, whereas in the second embodiment, the LED chip 61 is a photosensitive member. It is disposed on the other side edge 60 a 2 of the substrate 60 close to the drum 13, and the light irradiation direction is disposed on the opposite side to the light irradiation surface 13 a of the photosensitive drum 13. Therefore, in the second embodiment, a light reflecting plate 63 that is not in the first embodiment is added. On the other hand, the light buffer 62 arranged in the first embodiment is not arranged in the second embodiment, but as can be seen from the drawing, in the second embodiment, the LED chip 61 itself is reflected by the light reflecting plate 63. It acts as a light buffer that reduces the amount of light in part. Here, in the second embodiment, the predetermined angle is set to 20 degrees.

本発明者らは、実施形態2に係る除電装置(照明装置)16Bを作製(これを資料4とする。)した。そして、この作製した除電装置16Bを感光体ドラム13の光照射面13aに沿って平行に配置し、実際に光照射面13aに光を照射して、光照射面13aの走査方向(LEDチップ61の配列方向X)に沿った光量ムラを測定した。その測定結果を図9に示す。   The present inventors produced a static eliminator (illumination device) 16B according to Embodiment 2 (this is referred to as Document 4). Then, the manufactured static eliminator 16B is arranged in parallel along the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13, and the light irradiation surface 13a is actually irradiated with light to scan the light irradiation surface 13a (LED chip 61). The light amount unevenness along the arrangement direction X) was measured. The measurement results are shown in FIG.

図9では、比較のため、図13に示す従来構造のもの(これを資料3とする。)についても光量ムラを測定し、その測定結果を併せて示している。   In FIG. 9, for comparison, the light amount unevenness is also measured for the conventional structure shown in FIG. 13 (this is referred to as “Document 3”), and the measurement results are also shown.

その結果、図9から明らかなように、資料3では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ60μW、最小値がほぼ35μWとなり、最大で25μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が大きな光量ムラが発生している。これに対し、実施形態2の除電装置16B(資料4)では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ35μW、最小値がほぼ28μWとなり、最大でも7μWの光量ムラに留まっている。また、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が資料3のものに比べて大幅に改善されており、全体として光量レベルが平坦化(均一化)されていることが分かる。   As a result, as can be seen from FIG. 9, in document 3, the light quantity change in the arrangement direction has a maximum value of approximately 60 μW and a minimum value of approximately 35 μW, and a maximum of 25 μW of light intensity unevenness occurs. Even in the middle, there is unevenness in the amount of light with a large fluctuation range. On the other hand, in the static eliminator 16B (Document 4) of the second embodiment, the change in the light amount in the arrangement direction has a maximum value of approximately 35 μW and a minimum value of approximately 28 μW, and the light amount unevenness of 7 μW at the maximum remains. In addition, the vertical fluctuation range between adjacent LED chips is greatly improved as compared with that of Document 3, and it is understood that the light amount level is flattened (uniformized) as a whole.

<実施形態3>
図10は、実施形態3に係る照明装置を用いた除電装置と、感光体ドラムとの配置関係を示す平面図である。
<Embodiment 3>
FIG. 10 is a plan view showing a positional relationship between a static eliminator using the illumination device according to the third embodiment and a photosensitive drum.

実施形態3に係る除電装置16Cは、実施形態2に係る除電装置16Bにおいて、LEDチップ61の近傍に光緩衝部62が配置された構成としている。ただし、光緩衝部62については、実施形態1で用いた寸法の光緩衝部62を用いている。また、所定の角度θは、実施形態2の場合と同様、20度としている。   The static eliminator 16C according to the third embodiment has a configuration in which the light buffering portion 62 is disposed in the vicinity of the LED chip 61 in the static eliminator 16B according to the second embodiment. However, as the light buffering part 62, the light buffering part 62 having the dimensions used in the first embodiment is used. Further, the predetermined angle θ is set to 20 degrees as in the case of the second embodiment.

本発明者らは、実施形態3に係る除電装置(照明装置)16Cを作製(これを資料5とする。)した。そして、この作製した除電装置16Cを感光体ドラム13の光照射面13aに沿って平行に配置し、実際に光照射面13aに光を照射して、光照射面13aの走査方向(LEDチップ61の配列方向X)に沿った光量ムラを測定した。その測定結果を図11に示す。   The inventors produced a static eliminator (illumination device) 16C according to Embodiment 3 (this is referred to as Document 5). Then, the manufactured static eliminator 16C is arranged in parallel along the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13, and the light irradiation surface 13a is actually irradiated with light to scan the light irradiation surface 13a (LED chip 61). The light amount unevenness along the arrangement direction X) was measured. The measurement results are shown in FIG.

図11では、比較のため、図13に示す従来構造のもの(これを資料3とする。)についても光量ムラを測定し、その測定結果を併せて示している。   In FIG. 11, for comparison, the light amount unevenness is also measured for the conventional structure shown in FIG. 13 (this is referred to as Document 3), and the measurement results are also shown.

その結果、図11から明らかなように、資料3では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ60μW、最小値がほぼ35μWとなり、最大で25μWの光量ムラが発生し、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が大きな光量ムラが発生している。これに対し、実施形態3の除電装置16C(資料5)では、配列方向での光量変化は、最大値がほぼ33μW、最小値がほぼ28μWとなり、最大でも5μWの光量ムラに留まっている。また、隣接するLEDチップ間でも上下の変動幅が資料3のものに比べて大幅に改善されており、全体として光量レベルが平坦化(均一化)されていることが分かる。   As a result, as is clear from FIG. 11, in document 3, the change in the amount of light in the arrangement direction has a maximum value of approximately 60 μW and a minimum value of approximately 35 μW. Even in the middle, there is unevenness in the amount of light with a large fluctuation range. On the other hand, in the static eliminator 16C (Document 5) of the third embodiment, the change in the light amount in the arrangement direction has a maximum value of approximately 33 μW and a minimum value of approximately 28 μW, and the light amount unevenness of 5 μW at the maximum remains. In addition, the vertical fluctuation range between adjacent LED chips is greatly improved as compared with that of Document 3, and it is understood that the light amount level is flattened (uniformized) as a whole.

上記測定結果から明らかなように、実施形態1〜3に係る除電装置16A,16B,16Cを用いることで、感光体ドラム13の光照射面13aに照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化することができる。従って、この除電装置16A,16B,16Cを画像形成装置に搭載することで、感光体ドラム13の光照射面13aに照射される除電光量を均一化できるので、印字品質の向上を図ることができる。   As is clear from the measurement results, by using the static eliminators 16A, 16B, and 16C according to the first to third embodiments, the light amount unevenness of the light irradiated on the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13 is flattened. The amount of charge removed can be made uniform. Accordingly, by mounting the static eliminating devices 16A, 16B, and 16C on the image forming apparatus, the amount of static eliminating light irradiated onto the light irradiation surface 13a of the photosensitive drum 13 can be made uniform, so that the print quality can be improved. .

以下に、本発明の実施の形態に係る照明装置、除電装置及び画像形成装置のまとめについて説明する。   Below, the summary of the illuminating device, static elimination apparatus, and image forming apparatus which concern on embodiment of this invention is demonstrated.

実施の形態に係る照明装置は、複数の発光素子61が基板60上に配列され、各発光素子61の光照射方向の前方側にそれぞれ光緩衝部62が配列されている構成としている。   The illuminating device according to the embodiment is configured such that a plurality of light emitting elements 61 are arranged on the substrate 60 and the light buffering portions 62 are arranged on the front side of the light emitting direction of each light emitting element 61.

この構成によると、発光素子61から光緩衝部62に到達する光を、完全に遮断するのではなく、一部を透過させることで、その部分を透過する光を低減して、全体としての光量ムラを平坦化することができる。これにより、光量が多くなる領域に光緩衝部を配置することで、全体としての光量ムラを平坦化することができる。   According to this configuration, the light reaching the light buffer unit 62 from the light emitting element 61 is not completely blocked, but is partially transmitted, so that the light transmitted through the portion is reduced and the light quantity as a whole is reduced. Unevenness can be flattened. Thereby, the light amount unevenness as a whole can be flattened by arranging the light buffer portion in the region where the light amount increases.

また、実施の形態に係る照明装置では、発光素子61は、光照射方向が基板60の配列方向に対して傾斜して設けられた構成としている。   Further, in the illumination device according to the embodiment, the light emitting element 61 has a configuration in which the light irradiation direction is inclined with respect to the arrangement direction of the substrates 60.

この構成によると、配列方向に直交する方向に対して光軸が傾斜することになり、その結果、光照射方向前方側の基板の側縁部に到達する光の照射領域を広げることができる。   According to this configuration, the optical axis is inclined with respect to the direction orthogonal to the arrangement direction, and as a result, the irradiation region of the light reaching the side edge portion of the substrate on the front side in the light irradiation direction can be widened.

また、実施の形態に係る照明装置では、光緩衝部62は、光を透過する半透明の部材である。光緩衝部62を半透明の部材で形成することで、光緩衝部を透過する光を低減することができる。   Moreover, in the illuminating device which concerns on embodiment, the light buffer part 62 is a translucent member which permeate | transmits light. By forming the light buffering part 62 with a translucent member, the light transmitted through the light buffering part can be reduced.

また、実施の形態に係る照明装置では、複数の発光素子61と複数の光緩衝部62とは平行に配列されている。すなわち、各発光素子61とこれに対向する各光緩衝部62との距離を等しくしている。   Moreover, in the illuminating device which concerns on embodiment, the some light emitting element 61 and the some light buffer part 62 are arranged in parallel. That is, the distance between each light emitting element 61 and each light buffering part 62 facing this is made equal.

また、実施の形態に係る照明装置では、発光素子61及び光緩衝部62は、照射対象物13の光照射面13aに対してその配列方向が平行に配置され、発光素子61からの照射光の一部は、光緩衝部62を透過して光照射面13aに照射される構成としている。すなわち、光を完全に遮断するのではなく、光量を緩やかに低減させる構成としている。   Moreover, in the illuminating device which concerns on embodiment, the light emitting element 61 and the light buffer part 62 are arrange | positioned in parallel with the light irradiation surface 13a of the irradiation target object 13, and the irradiation light of the light emitting element 61 is irradiated. A part of the light is applied to the light irradiation surface 13 a through the light buffer 62. That is, the light amount is gently reduced instead of completely blocking light.

また、実施の形態に係る照明装置では、光緩衝部62は、発光素子61と照射対象物13の光照射面13aとの間の最短距離位置に設けられた構成としている。   Moreover, in the illuminating device which concerns on embodiment, the light buffer part 62 is set as the structure provided in the shortest distance position between the light emitting element 61 and the light irradiation surface 13a of the irradiation target object 13. FIG.

この構成によると、照射対象物13の光照射面13aにおいて、最も光量の多い照射領域の光量を低減できるので、照射領域全体としての光量ムラを低減することができる。   According to this configuration, the amount of light in the irradiation region with the largest amount of light can be reduced on the light irradiation surface 13a of the irradiation target 13, so that unevenness in the amount of light in the entire irradiation region can be reduced.

また、実施の形態に係る照明装置では、光緩衝部62は基板60上に配列されており、発光素子61の光照射方向は、発光素子61を実装した基板60の実装面60aに対して平行としている。   Further, in the illumination device according to the embodiment, the light buffering portions 62 are arranged on the substrate 60, and the light irradiation direction of the light emitting elements 61 is parallel to the mounting surface 60 a of the substrate 60 on which the light emitting elements 61 are mounted. It is said.

この構成によると、照明装置をサイド発光型の照明装置として用いることができる。   According to this configuration, the lighting device can be used as a side light emission type lighting device.

また、実施の形態に係る除電装置16は、上記各構成の照明装置が、照射対象物である静電潜像担持体13の光照射面13aに平行に配置された構成としている。   Further, the static eliminator 16 according to the embodiment is configured such that the illumination devices having the above-described configurations are arranged in parallel to the light irradiation surface 13a of the electrostatic latent image carrier 13 that is an irradiation target.

この構成によると、静電潜像担持体13の光照射面13aに照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化することができる。   According to this configuration, it is possible to flatten unevenness in the amount of light applied to the light irradiation surface 13a of the electrostatic latent image carrier 13 and to uniformize the amount of charge removal.

また、実施の形態に係る画像形成装置1は、上記構成の除電装置16を備えた構成としている。   Further, the image forming apparatus 1 according to the embodiment is configured to include the static elimination device 16 having the above-described configuration.

この構成によると、静電潜像担持体13の光照射面13aに照射される光の光量ムラを平坦化して、除電光量を均一化できるので、印字品質の向上を図ることができる。   According to this configuration, the unevenness of the amount of light irradiated on the light irradiation surface 13a of the electrostatic latent image carrier 13 can be flattened and the amount of charge removed can be made uniform, so that the print quality can be improved.

また、実施の形態に係る画像形成装置1では、除電装置16は、静電潜像担持体13の光照射面13aの周囲に配置された帯電装置15に対し、発光素子61が配列された基板60の一方の面(主面)60aが帯電装置15とは反対側に位置するように配置された構成としている。この構成によると、除電装置からの照射光が帯電装置側に回り込まない配置構成とすることができる。   In the image forming apparatus 1 according to the embodiment, the static eliminator 16 is a substrate on which the light emitting elements 61 are arranged with respect to the charging device 15 arranged around the light irradiation surface 13 a of the electrostatic latent image carrier 13. The one surface (main surface) 60 a of 60 is arranged so as to be located on the side opposite to the charging device 15. According to this structure, it can be set as the arrangement structure which the irradiation light from a static elimination apparatus does not wrap around to the charging device side.

本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上述の実施の形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲に示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。   The present invention can be implemented in various other forms without departing from the spirit or main features thereof. Therefore, the above-described embodiment is merely an example in all respects and should not be interpreted in a limited manner. The scope of the present invention is set forth in the claims, and is not restricted by the text of the specification. Further, all modifications and changes belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

本発明は、複数の発光素子が基板上に配列された照明装置を備えた除電装置を、画像形成部に搭載した画像形成装置全般に寄与するところは大きい。   The present invention greatly contributes to all image forming apparatuses in which a static eliminator including a lighting device in which a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate is mounted on an image forming unit.

1 画像形成装置
10 画像形成部
11 光走査装置
12 現像装置
13 感光体ドラム(静電潜像担持体:照射対象物)
13a 光照射面
14 ドラムクリーニング装置
15 帯電装置
16(16A,16B,16C) 除電装置
20 画像読取部
40 原稿送り装置(ADF)
50 胴内排紙空間部
60 基板
60a 主面(実装面)
60a1 一方の側縁部
60a2 他方の側縁部
61 LEDチップ(発光素子)
61a 光軸
62 光緩衝部
63 光反射板
Pa,Pb,Pc,Pd 画像ステーション
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image forming apparatus 10 Image forming part 11 Optical scanning apparatus 12 Developing apparatus 13 Photosensitive drum (electrostatic latent image carrier: irradiation object)
13a Light irradiation surface 14 Drum cleaning device 15 Charging device 16 (16A, 16B, 16C) Static elimination device 20 Image reading unit 40 Document feeding device (ADF)
50 In-body discharge space 60 Substrate 60a Main surface (mounting surface)
60a1 One side edge 60a2 The other side edge 61 LED chip (light emitting element)
61a Optical axis 62 Optical buffer 63 Light reflector Pa, Pb, Pc, Pd Image station

Claims (10)

複数の発光素子が基板上に配列され、前記各発光素子の光照射方向の前方側にそれぞれ光緩衝部が配列されていることを特徴とする照明装置。   A lighting device, wherein a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate, and light buffering portions are arranged on the front side of the light emitting direction of each light emitting element. 請求項1に記載の照明装置であって、
前記発光素子は、光照射方向が前記基板の配列方向に対して傾斜して設けられていることを特徴とする照明装置。
The lighting device according to claim 1,
The lighting device is characterized in that the light emitting element is provided such that a light irradiation direction is inclined with respect to an arrangement direction of the substrates.
請求項1または請求項2に記載の照明装置であって、
前記光緩衝部は、光を透過する半透明の部材であることを特徴とする照明装置。
The lighting device according to claim 1 or 2,
The lighting device, wherein the light buffering part is a translucent member that transmits light.
請求項1から請求項3までのいずれか一つに記載の照明装置であって、
前記複数の発光素子と前記複数の光緩衝部とは平行に配列されていることを特徴とする照明装置。
It is an illuminating device as described in any one of Claim 1- Claim 3, Comprising:
The lighting device, wherein the plurality of light emitting elements and the plurality of light buffering portions are arranged in parallel.
請求項2から請求項4までのいずれか一つに記載の照明装置であって、
前記発光素子及び前記光緩衝部は、照射対象物の光照射面に対してその配列方向が平行に配置され、前記発光素子からの照射光の一部は、前記光緩衝部を透過して前記光照射面に照射されることを特徴とする照明装置。
It is an illuminating device as described in any one of Claim 2- Claim 4, Comprising:
The light emitting element and the light buffer unit are arranged in parallel to the light irradiation surface of the irradiation object, and a part of the irradiation light from the light emitting element passes through the light buffer unit and is An illumination device that irradiates a light irradiation surface.
請求項5に記載の照明装置であって、
前記光緩衝部は、前記発光素子と前記照射対象物の前記光照射面との間の最短距離位置に設けられていることを特徴とする照明装置。
The lighting device according to claim 5,
The lighting device, wherein the light buffer is provided at a shortest distance between the light emitting element and the light irradiation surface of the irradiation object.
請求項5または請求項6に記載の照明装置であって、
前記光緩衝部は前記基板上に配列されており、前記発光素子の光照射方向は、前記発光素子を実装した前記基板の実装面に対して平行であることを特徴とする照明装置。
The lighting device according to claim 5 or 6,
The light buffer unit is arranged on the substrate, and a light irradiation direction of the light emitting element is parallel to a mounting surface of the substrate on which the light emitting element is mounted.
請求項5から請求項7までのいずれか一つに記載の照明装置が、前記照射対象物である静電潜像担持体の光照射面に平行に配置されていることを特徴とする除電装置。   The static eliminator characterized in that the illumination device according to any one of claims 5 to 7 is arranged in parallel to a light irradiation surface of an electrostatic latent image carrier that is the irradiation object. . 請求項8に記載の除電装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising the static eliminator according to claim 8. 請求項9に記載の画像形成装置であって、
前記除電装置は、前記静電潜像担持体の前記光照射面の周囲に配置された帯電装置に対し、前記発光素子が配列された前記基板の一方の面が前記帯電装置とは反対側に位置するように配置されていることを特徴とする画像形成装置。
The image forming apparatus according to claim 9, wherein
The static eliminator is configured such that one surface of the substrate on which the light emitting elements are arranged is opposite to the charging device with respect to the charging device arranged around the light irradiation surface of the electrostatic latent image carrier. An image forming apparatus, wherein the image forming apparatus is disposed so as to be positioned.
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