JP2015064267A - 放射線検出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】簡単な構成で低線量の測定も可能な放射線検出装置を提供することを目的とする。【解決手段】第1電極を覆う第1絶縁体層と、第2電極を覆う第2絶縁体層とが形成されて放射線センサが構成され、第1電極を陽極とし第2電極を陰極として、第1電極と第2電極の間に所定の電圧が印加されて、入射する放射線によりガスが電離して生成されるイオンおよび/または電子によって第1絶縁体層および/または第2絶縁体層上に電荷が蓄積される放射線検知期間において放射線を検知し、放射線検知期間後に、放射線検知期間に第1電極と第2電極に印加された電圧とは逆バイアスの電圧を印加することにより発生する放電の開始電圧を測定する放射線測定期間において放射線を測定し、第1電極を陽極とし第2電極を陰極としたときの放電開始電圧が、第2電極を陽極とし第1電極を陰極としたときの放電開始電圧よりも高い。【選択図】図1

Description

本発明は、放射線により電離したガスの電子、イオンを収集することにより放射線を検出する放射線検出装置に関するものである。
放射線により電離したガスの電子やイオンを収集することにより放射線量を検出する放射線検出装置は、ガスを封入した容器内に陰極と陽極との2つの電極を持ち、この2つの電極間に電圧を印加して、放射線により電離したガスの電子やイオンを電極に収集することにより放射線量の検出を行っている。
このような放射線検出装置として、陰極−陽極間に印加される電圧では放射線によるガス電離信号が増幅されない範囲の電圧・電極構成を持つものを、電離箱方式と称し、陽極周辺に高い電場をかけて電子がなだれを起こして信号を増幅させる電圧・電極構成を持つものを、比例係数方式と称している。
従来の放射線検出装置として、陰極となる密閉された円筒状の容器の中心に、細い線状の陽極を配置するとともに、容器内に、例えばアルゴン(Ar)ガスに有機ガスを添加した電離ガスを封入することにより構成されているものがある。この放射線検出装置は、容器内において、放射線が電離ガスを電離し、生成された電子とイオンが陰極−陽極間にかかる電界により移動する。このとき、特に電子が陽極近傍で電子なだれを起こし、放射線は大きなパルス信号として計数される。
また、X線、γ線のように、測定される放射線のエネルギーによって放射線検出装置に用いられる電離ガスの種類を変えて、放射線量の検出が行われるものがある。例えば、低エネルギーのX線を検出する場合には、吸収係数の大きな原子番号が大きい元素のガスが用いられる。一方、中性子線を検出する場合には、中性子線はガスを電離しないため、電離ガスに中性子線と核反応を起こして荷電粒子を発生する、ヘリウム(He3)や3フッ化ボロン(BF3)等のガスを用いるものがある。また、陰極として用いられる容器内に、ボロン10(B10)やウラン235(U235)等を塗布し、そこで荷電粒子に変換して同様の電離作用を起こさせることで、中性子線を検出する構成のものがある(特許文献1、特許文献2、特許文献3参照)。
特開平07−169438号公報 特開2002−181948号公報 特開2002−14171号公報
しかし、上記従来の放射線検出装置は、低線量の放射線を効率よく検出するという観点では、いずれも十分なものとは言えなかった。
本願はこのような現状の課題を解決し、簡単な構成で低線量の放射線の測定が可能な放射線検出装置を提供することを目的とする。
このような課題を解決するために本発明は、放射線検知用のガスを封入した密閉空間内に、第1電極と第2電極と、第1電極を覆う第1絶縁体層と、第2電極を覆う第2絶縁体層と、を具備する放射線センサが構成され、放射線センサは、第1電極を陽極とし第2電極を陰極として、第1電極と第2電極の間に所定の電圧が印加されて、入射する放射線によりガスが電離して生成されるイオンおよび/または電子によって第1絶縁体層および/または第2絶縁体層上に電荷が蓄積される放射線検知期間において放射線を検知し、放射線検知期間後に、放射線検知期間に第1電極と第2電極に印加された電圧とは逆バイアスの電圧を印加することにより発生する放電の開始電圧を測定する放射線測定期間において放射線を測定し、第1電極を陽極とし第2電極を陰極としたときの放電開始電圧が、第2電極を陽極とし第1電極を陰極としたときの放電開始電圧よりも高いように構成される。
本発明によれば、放射線検知期間における陽極側の誘電体表面をMgOなどの二族酸化物、放射線検知期間における陰極側表面を無鉛ガラスなどの誘電体にすることにより、より低線量の測定が可能な放射線検出装置を提供することができる。
本実施形態にかかる放射線検出装置の放射線センサを示す断面図 本実施形態にかかる放射線検出装置の動作原理を説明するための図 本実施形態にかかる放射線検出装置において、放射線検知期間と測定期間における印加電圧の関係を示す電圧波形図 本実施形態の放射線検出装置において、放射線の測定サイクルを説明するための電圧波形図 本実施形態の放射線検出装置において、放射線の測定サイクルを説明するための図 本実施形態の放射線検出装置において、放射線の測定サイクルを説明するための図 本実施形態の放射線検出装置において、X線管電流及びX線管電圧に対する蓄積電圧を示す図 本実施形態の放射線検出装置において、一定量のX線(X線源入力:30kV,20mA)を照射したときの印加電圧と蓄積電圧を表す図 本実施形態にかかる放射線検出装置の放射線センサの他の構成例を示す分解斜視図
以下、本願で開示する放射線検出装置の一実施の形態について、図面を用いて説明する。
図1は、本実施形態にかかる放射線検出装置の、放射線センサ部分の概略構成を示す断面図である。
図1に示すように、本実施形態の放射線検出装置の放射線センサ部では、第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2とが、間にガラスからなる接続部材としてのスペーサ3を介在させることで所定の間隔をあけて対向配置されている。また、第1のセンサ基板1および第2のセンサ基板2とスペーサ3との間を、シール材4で封止することにより密閉空間5が形成されている。
この密閉空間5には、第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2を透過してくるX線、γ線のような放射線Aにより電離する放射線検知ガスとして、He、Ne、Ar、Kr、Xeの中から選ばれた1つ以上のガスが封入され、これにより放射線センサが構成されている。なお、放射線により電離するガス中には、必要に応じて有機ガスなどを含有させることもできる。
第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2は、それぞれソーダガラスからなる放射線を透過可能な絶縁性基板6、7上に、Agからなる電極8、9が形成されるとともに、電極8、9を覆うように絶縁性基板6、7上に無鉛の誘電体材料からなる第1絶縁体層10、第2絶縁体層11がそれぞれ形成されている。第1絶縁体層10は表面層10Aと本体部10Bとから構成される。本体部10Bはその表面の少なくとも一部が表面層10Aで覆われていればよい。
本実施形態の放射線検出装置において、第1絶縁体層10の表面層10Aを構成する鉛を含まない無鉛の誘電体材料は、アルカリ土類金属酸化物を含む周期表第2族元素の酸化物からなる。より具体的には、酸化マグネシウム(MgO)、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)の少なくとも一種類が含まれていることが好ましい。他の周期表第2族元素の酸化物である酸化バリウム(BaO)、その他、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)などを含有してもよい。
本実施形態の放射線検出装置では、第1絶縁体層10の本体部10Bを構成する鉛を含まない無鉛の誘電体材料、及び、第2絶縁体層11を構成する鉛を含まない無鉛の誘電体材料は、ガラス、酸化ケイ素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al23)、またはそれらの組み合わせから構成される。又は、その他の材料として無機酸化物、無機窒化物であればよい。
ここで、第1絶縁体層10の表面層10Aに比べて、第2絶縁体層11の二次電子放出係数は低い。第1絶縁体層10の表面層10Aに酸化マグネシウム(MgO)を用いた場合、放電ガスがネオン(Ne)の場合で、二次電子放出係数γが0.1〜0.5程度となるのに対し、第2絶縁体層11にガラスを用いた場合はこれらより低くなる。ここで、二次電子放出係数(γ)とは、絶縁体表面に 入射するイオンに対して放出される電子(二次電子)の割合である。つまり、二次電子放出係数(γ)=(二次電子数/入射イオン数)となる。
第1絶縁体層10の本体部B及び第2絶縁体層11は、より具体的には、これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで、平均粒径が0.5μm〜2.5μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製し、次にこの誘電体材料粉末とバインダ成分とを三本ロールでよく混練して、ダイコート用あるいは印刷用の誘電体層用ペーストを作製している。なお、バインダ成分としては、エチルセルロース、あるいは、アクリル樹脂1重量%〜20重量%を含むターピネオール、あるいは、ブチルカルビトールアセテートを用いることができる。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤として、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤として、グリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール(Kaoコーポレーション社製品名)、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して、印刷性を向上させてもよい。
このようにして作製した誘電体ペーストを、スクリーン印刷法で、あるいは、ダイコート法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の550℃〜590℃で焼成することにより、第1絶縁体層10の本体部10B及び第2絶縁体層11を形成している。なお、第1絶縁体層10の本体部10B及び第2絶縁体層11の膜厚については、約40μm程度が好ましい。
第1絶縁体層10の表面層10Aは、2〜5mm程度の単結晶MgOを原材料として、電子ビーム蒸着により基板温度250℃で本体部10B上に200nmに成膜することにより形成した。第1絶縁体層10の表面層10AとしてのMgOの膜厚は200〜500nm程度が望ましい。なお、表面層10Aとして、MgOをスパッタ、プラズマCVD等の方法で成膜してもよい。なお、この表面層10Aは第1絶縁体層10にのみ成膜され、第2絶縁体層11には成膜されない。
次に、本実施形態にかかる放射線検出装置の放射線量の検出動作原理について、図2を用いて説明する。
まず、図2(a)に示すように、図1に示す放射線センサに、第1のセンサ基板1の電極8側がプラス、第2のセンサ基板2の電極9側がマイナスとなる数100Vの電圧Vを印加する。つまり、放射線検知期間においては、電極8が陽極として、電極9が陰極として働く。この状態で、放射線Aが密閉空間5に入ってくると、放射線センサの密閉空間5内のガスが電離し、電子(−)・イオン(+)対が生成される。
この生成された電子・イオンは、図2(b)に示すように、放射線センサの第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9との間に印加されている電界により、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10A側にマイナスの電荷が蓄積されるとともに、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11側にプラスの電荷が蓄積される。このとき、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aと、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に電荷が蓄積されるのみで、電流は流れない。
この図2(a)、図2(b)に示す期間が放射線検知期間で、密閉空間5内に入ってくる放射線量に応じて、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aと第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積される電荷の量に、差が発生することとなる。
次に、放射線測定時において、検知した放射線量を測定する場合は、図2(c)に示すように、図2(a)とは逆に、第1のセンサ基板1の電極8側がマイナス、第2のセンサ基板2の電極9側がプラスとなる数100Vの逆バイアス電圧V’を印加し、第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2との間で放電を発生させる。つまり、このとき、電極8が陰極として、電極9が陽極として働く。このとき、第1のセンサ基板1の絶縁体層10と第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積される電荷の量、すなわち放射線検知期間で検知した放射線量に応じて、低い電圧で放電を開始することとなる。この放電開始時の電圧低下分を測定することにより、放射線検知期間で検知した放射線量を測定することができる。
より詳細に説明すると、放射線検知期間である蓄積期間終了時は、第1絶縁体層10の表面層10A及び第2絶縁体層11表面には、放射線量に比例した印加電圧と逆極性の電荷が一定量蓄積している。この電荷を測定するために、電極8、9間に蓄積期間と逆のバイアスの電圧V’を印加すると、印加電圧+蓄積電圧(蓄積電荷による電圧)分の電界が、ガス空間(密閉空間)中にかかることになる。蓄積電圧がない場合と比較して低い電圧で放電が起こるため、この電圧差を測定することにより蓄積電圧を測定することができる。
例えば、放射線測定時における第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9とに印加する電圧を印加電圧V0、蓄積電圧V、放電開始電圧をVfとすると、Vf=V0+Vとなる。このとき、放射線測定時を所定の期間を有する放射線測定期間として、この放射線測定期間における印加電圧V0を階段状やパルス状に上げることにより、放電が起こったタイミングを放電発光や電流信号などで観測すれば、V0を測定することができる。Vfは、放射線測定装置の構造やガスの組成で決まる値であるため、蓄積電圧Vを求めることができる。
また、蓄積電圧Vは、第1絶縁体層10及び第2絶縁体層11の容量Cと蓄積電荷Qとから、Q=CVの関係により、第1絶縁体層10及び第2絶縁体層11を形成する誘電体材料、厚み、電極形状が分かっていれば、容量は計算できるため、放射線量と比例する蓄積電荷Qを求めることができる。第1絶縁体層10の表面層10Aの厚みは第1絶縁体層10の本体部10Bの厚みに比べて100分の1程度の大きさであるため、第1絶縁体層10の厚み、材料としては、第1絶縁体層10の本体部10Bのみを用いて近似的に求めることができる。
以上のように、本実施形態にかかる放射線検出装置においては、第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2とを所定の間隔をあけて対向配置して形成した密閉空間5内に、放射線検知用のガスを封入して構成した放射線センサを有する。放射線センサの第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2とは、それぞれ放射線を透過可能な絶縁性基板6、7(図2では図示を省略)上に一対の電極8、9を形成するとともに、電極8、9を覆うように絶縁性基板6、7上に誘電体材料からなる第1絶縁体層10、第2絶縁体層11を形成することにより構成したものである。さらに、第1の絶縁体層10は表面層10Aと本体部10Bとから構成される。そして、放射線検知期間において、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10と第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積される電荷量が、放射線量に応じて変化することを利用して、第1のセンサ基板1と第2のセンサ基板2との間で放電を発生させる放射線測定期間において、放電開始時の電圧低下分を測定することにより、放射線検知期間で検知した放射線量を測定することができるものである。
図3は、本実施の形態にかかる放射線検出装置において、放射線検知期間と放射線測定期間における印加電圧を示す電圧波形図である。
図3において、点線の枠線で囲んだように、本実施の形態の放射線検出装置は、放射線測定期間T2において、第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9に、放射線測定期間T1とは逆バイアスの電圧を印加する際に、この期間において電圧が徐々に変化する傾斜電圧波形21a、22aを印加するように構成したものである。
すなわち、放射線測定期間T2において、第1のセンサ基板1の電極8側に印加する電圧波形21については、電圧が徐々に減少してマイナス電位となる傾斜電圧波形21aを印加し、放射線Aの入射側である第2のセンサ基板2の電極9側に印加する電圧波形22については、電圧が徐々に上昇してプラス電位となる傾斜電圧波形22aを印加している。
このように、本実施形態の放射線測定装置では、放射線測定期間T2において、第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9に、放射線測定期間T1とは逆バイアスの電圧を印加する際に、電圧が徐々に変化する傾斜電圧波形21a、22aを印加する。このようにすることで、図2において説明したように、放電が発生したときの電圧を測定することにより蓄積された放射線量を測定する場合に、急峻なパルス波形の電圧を印加して測定する場合に比べ、傾斜電圧波形の傾きを制御することによって、放電発生電圧の測定を簡単に高精度で行うことが可能となる。また、傾斜電圧波形であれば、印加時間とともに電圧値が変化する波形であるため、放電が発生する電圧を印加時間に変換して測定することもでき、検出結果をデジタル的に表示する場合の回路構成も簡単に実現することが可能となる。
図4、図5、図6は本実施形態にかかる放射線検出装置の、測定サイクルを説明するための図である。図4は、本実施形態の放射線検出装置の測定サイクルにおける印加電圧を示す電圧波形図、図5、図6は、図4に示したそれぞれの測定サイクルにおける、放射線検出装置の動作を説明するための概略図である。図5の(1)〜(4)、図6の(5)〜(9)は、それぞれ、図4中に(1)〜(9)として示した状態に対応した動作を示している。
図4に示すように、本実施形態にかかる放射線検出装置において、放射線測定の1サイクルは、放射線検知期間T1、放射線測定期間T2、リセット期間T3から構成されている。
放射線検知期間T1の検知期間初期(1)においては、第1のセンサ基板1の電極8側がプラス、第2のセンサ基板2の電極9側がマイナスとなる数100Vの電圧が印加されているのみで、放射線センサに放射線が入射して来ていない状態であるため、第1のセンサ基板1、第2のセンサ基板2の第1絶縁体層10の表面層10A及び第2絶縁体層11には、放射線による電荷が蓄積されていない状態である。
放射線検知期間T1の検出期間中期(2)において、放射線Aが入射してくると、放射線センサの密閉空間5内のガスが電離し、電子・イオン対が生成され、第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9との間に印加されている電界により、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10A側にマイナスの電荷が徐々に蓄積されるとともに、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11側にプラスの電荷が徐々に蓄積される。さらに、放射線検知期間T1の検知期間中期(3)において、放射線Aが入射してくると、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aと、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に電荷が追加されて蓄積される。
放射線検知期間T1の検知期間終了(4)においては、入射した放射線量に比例する電荷が第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aと、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積された状態となる。
次に、検知した放射線量を測定する放射線測定期間T2の測定期間初期(5)において、第1のセンサ基板1の電極8側がマイナス、第2のセンサ基板2の電極9側がプラスとなる数100Vの逆バイアス電圧を印加する。このとき、図4に示すように、傾斜電圧波形21a、22aを印加する。
その後、放射線測定期間T2の測定期間中期(6)においては、印加電圧+蓄積電圧(蓄積電荷による電圧)による電界により放電が発生する。上述したように、このとき蓄積電圧がない場合と比べると、低い電圧で放電が起こるため、電圧差を測定することにより、蓄積された放射線量に応じた蓄積電圧を測定することができる。この測定が終了した放射線測定期間T2の測定期間後期(7)においては、測定期間中期(6)において発生した放電により、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10A側にプラスの電荷が蓄積されるとともに、第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11側にマイナスの電荷が蓄積される。
そこで、放射線測定期間T2が終了した後、リセット期間T3を設けて放射線センサ内の電荷を放射線検知期間T1の初期の状態に戻す。リセット期間T3のリセット時(8)においては、第1のセンサ基板1の電極8と第2のセンサ基板2の電極9をグランド電位とすることにより、第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aと第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積された電荷に応じた微小放電が発生し、リセット後(9)において、放射線センサの第1のセンサ基板1の第1絶縁体層10の表面層10Aおよび第2のセンサ基板2の第2絶縁体層11に蓄積された電荷が消去され、初期状態に戻る。すなわち、リセット期間T3は、第1のセンサ基板1、第2のセンサ基板2の第1絶縁体層10の表面層10A及び第2絶縁体層11の電荷を、放射線が入射してくる前の状態に調整するための電荷調整の放電を発生させる期間である。
以上の動作が測定サイクルの1サイクルとなる。
ここで、この測定サイクルにおいて、放射線を測定する1サイクル中の放射線検知期間T1は、放射線量応じて可変とするのが望ましく、放射線量が多い場合は、蓄積期間を短くして溜まる電荷量を減らことがより好ましい。逆に、放射線量が低線量の場合は、できるだけ蓄積期間を長くすることにより入射する放射線が増え、感度を向上させることができる。可変する蓄積期間としては、例えば数100μs〜数100s程度が望ましい。また、放射線測定期間T2は、数10μs〜数ms程度が望ましい。
次に、本実施の形態における放射線センサに対して、外部のX線源(図示せず)よりX線を入射した場合の、放電電圧変化を表した結果について、図7を用いて説明する。下記説明において、特に説明がある場合を除き、陽極とは放射線検知期間に陽極として動作する電極(本実施の形態では電極8)、陰極とは放射線検知期間に陰極として動作する電極(本実施の形態では電極9)、とする。
X線源から入射されるX線の強度(放射線量)は、X線源の電圧及び電流により定まる。X線の強度は、電圧が高いほど強くなり、電流が大きいほど強くなる。本実施の形態では、X線源の電圧を20kV〜50kV、電流を0から140mAまで変化させ、上述した原理に基づき、上記測定サイクルにおける放電電圧の電圧を測定し、放射線量に応じた蓄積電圧(測定サイクルにおいて放射線センサの誘電体表面にたまった電荷による電圧)を算出した。本実施の形態では放射線検知期間T1=400msecとした。
図7に示すグラフの横軸は、X線管電流(X線源の電流)値を表し、縦軸は、蓄積電圧値を表す。図7に示される結果から、X線管電流に対して蓄積電圧が単調増加していることがわかる。また、X線源の電圧に対しても蓄積電圧が単調増加していることがわかる。測定サイクルにおいて放電電圧を測定し、蓄積電圧を算出することにより、放射線強度が測定できるので、放射線センサとして利用することが可能である。
なお、図7において、一定の電流値または電圧値以上では放電電圧に飽和傾向がみられるが、より好ましくは、電流値または電圧値にほぼ比例した出力が得られている範囲で放射線強度センサとして利用する。電流値または電圧値が上昇するにしたがい飽和傾向がみられるのは、徐々にたまった電荷によって電極8、電極9間の電界が弱まるためと考えられる。飽和傾向を避けるためには、放射線検知期間T1を短くすることで、飽和の影響を小さくすることができる。
次に、図8について説明する。図8は一定量のX線(X線源入力:30kV,20mA)を照射したときの電極8、電極9間に印加した印加電圧と蓄積電圧を表す図である。図8の横軸は本実施の形態の放射線検知期間において電極8、電極9間に印加した電圧(V)を表し、縦軸は蓄積電圧(V)である。この結果から蓄積電圧が電極8、電極9間の印加電圧によって大きく変わることがわかった。
例えば、700V印加した場合は、蓄積電圧67Vの出力が得られたが、550V印加した場合は蓄積電圧4.1Vしか得られなかった。すなわち、700V印加した場合は、550V印加した場合に比べて、10倍以上の感度が良好であった。ここで、感度の差は、測定下限を決める要因となるので、測定下限値を下げるには印加電圧を高くすればよい。
この印加電圧は、放射線検知期間で放電が発生しない電圧まで印加することが可能であるが、この放電が発生する電圧は、陽極と陰極を覆う誘電体の表面の材料に大きく依存する。言い換えると、陽極と陰極を覆う誘電体(すなわち第1絶縁体層10の表面層10Aと第2絶縁体層11)の表面の二次電子放出係数(γ)に大きく依存する。
ここで、前述した通り、二次電子放出係数(γ)とは、絶縁体表面に入射するイオンに対して放出される電子(二次電子)の割合である。つまり、二次電子放出係数(γ)=(二次電子数/入射イオン数)となる。陰極に入射する入射イオン数は正イオンであるので、陰極側に高い二次電子放出係数(γ)を持つ材料で誘電体表面を覆うと、放電開始電圧が低くなる。陰極側表面を無鉛ガラスにした場合は、陰極側の誘電体表面が酸化マグネシウム(高い二次電子放出係数(γ)を持つ材料)の場合に比べて、放電開始電圧が高くなる。
例えば、陽極側表面が無鉛ガラス、陰極側の誘電体表面が酸化マグネシウムの場合、360Vで放電した。しかし、陽極側の誘電体表面が酸化マグネシウム、陰極側表面を無鉛ガラスにした場合、放電開始電圧が710Vとなった。印加電圧は放電開始電圧以下でなければならないが、電圧は前者の場合は例えば350Vまでしか印加できず、蓄積電圧としては、0.5V以下となった。これに対し、後者の場合は、700V程度まで印加可能で67Vという出力が得られる。
以上から、陽極側の誘電体表面が酸化マグネシウム、陰極側表面を無鉛ガラスにした場合、陽極側表面が無鉛ガラス、陰極側の誘電体表面が酸化マグネシウムの場合より、感度で100倍以上良くなり、測定下限も2桁以上、下げることが可能となった。
つまり、本実施の形態においては、電極8を放射線検知期間における陽極とし電極9を放射線検知期間における陰極としたときの放電開始電圧が、電極9を放射線検知期間における陽極とし電極8を放射線検知期間における陰極としたときの放電開始電圧よりも高いようにしたことにより、上記効果が奏されることがわかった。
陽極・陰極両方の誘電体表面が酸化マグネシウムの場合、陰極側の誘電体表面が酸化マグネシウムであるために、印加できる電圧が上記と同様350V程度までとなり、高い蓄積電圧が得られない。
陽極・陰極両方の表面が無鉛ガラス(低い二次電子放出係数(γ)を持つ材料)の場合は、測定期間において、放電が起こるタイミングがばらつく問題がある。測定期間における放電電圧があがってしまうので動作が不安定となる。したがって、陽極・陰極両方の表面が無鉛ガラスを用いることは好ましくない。
図9は、本実施形態にかかる放射線検出装置において、センサ部分の他の構成例を示す分解斜視図である。
この図9に示す他の構成例の放射線検出装置は、複数個のセンサ部を形成し、そのセンサ部をm列n行でマトリクス状に2次元配置した構成としたものである。
図9に示すように、第1のセンサ基板31と第2のセンサ基板32とは、間にガラスからなる井桁形状のスペーサ33を介在させて、所定の間隔をあけて対向配置するとともに、第1のセンサ基板31および第2のセンサ基板32とスペーサ33との間を、シール材(図示せず)で封止することにより、複数個の密閉空間34を形成している。
この密閉空間34には、第1のセンサ基板31と第2のセンサ基板32を透過してくるX線、γ線のような放射線Aにより電離する、He、Ne、Ar、Kr、Xeの中から選ばれた1つ以上のガスが封入され、これにより複数個のセンサ部35が構成されている。
第1のセンサ基板31と第2のセンサ基板32は、それぞれソーダガラスからなる放射線を透過可能な絶縁性基板36、37上に、Agからなる複数本の線上の電極38、39が前記センサ部35を形成する密閉空間34において直交するように形成されているとともに、電極38、39を覆うように、絶縁性基板36、37上に無鉛の誘電体材料からなる第1絶縁体層40、第2絶縁体層41が形成されている。第1の絶縁体層40は表面層40Aと本体部40Bとから構成される。なお、第1絶縁体層40(表面層40Aと本体部40B、第2絶縁体層41)を形成する誘電体材料、形成方法については、図1に示した、本実施形態の放射線検出装置の場合と同様な材料、形成方法を用いることができる。
このように、2次元に複数個のセンサ部35を配列して構成した放射線センサを用いて放射線を測定する場合は、図4に示す測定サイクルで、各センサ部35に順次電圧波形を印加することにより、それぞれのセンサ部35において図1に示したセンサ部と同様に、放射線量を測定することが可能である。
また、図9に示した、変形例にかかる放射線測定装置のように、複数個のセンサ部35をマトリクス状に2次元配置してセンサを構成することにより、センサ部35の位置の違いによる放射線量差分の測定が可能となるため、放射線が入射してくる方向の測定も可能となる。
さらには、複数個のセンサ部35で検出した放射線量を加算することにより、放射線検出装置としての感度を向上させることも可能となる。
なお、上記説明においては、前記第1のセンサ基板と第2のセンサ基板は、それぞれソーダガラスからなる放射線を透過可能な絶縁性基板を用いた例について示したが、センサ基板の構成例は、これに限らない。例えば、金属製基板の表面に、ガラスや樹脂などの絶縁体材料を形成して絶縁性基板としたものを用いることができ、また少なくとも一方の絶縁性基板を、金属製基板の表面にガラスや樹脂などの絶縁体材料を形成した絶縁性基板としてもよい。
以上のように、本実施形態にかかる放射線検出装置においては、放射線検知用のガスを封入した密閉空間5内に、一対の電極8、9と、この一対の電極8、9を覆う無鉛の誘電体材料からなる第1絶縁体層10及び第2絶縁体層11が形成されており、第1絶縁体層10の表面層10Aを構成する鉛を含まない無鉛の誘電体材料は、アルカリ土類金属酸化物を含む周期表第2族元素の酸化物、より具体的には、酸化マグネシウム(MgO)、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)の少なくとも一種類が含まれる。そして、この放射線センサは、放射線検知期間において一対8、9の電極間に所定の電圧が印加されて、入射する放射線によりガスが電離して生成されるイオンおよび/または電子によって第1絶縁体層10の表面層10A及び第2絶縁体層11上に電荷が蓄積されるとともに、放射線測定時において、放射線検知期間に一対の電極8、9に印加された電圧とは逆バイアスの電圧を印加することにより発生する放電の開始電圧を測定するものである。このため、放射線検知期間において、絶縁体層に放射線量に応じて蓄積される電荷量を利用し、放電開始の電圧低下分を測定することにより、放射線検知期間で検知した放射線量を測定することができ、簡単な構成でより低線量の測定も可能な放射線検出装置を実現することができる。
以上のように本発明は、新規な放射線検出装置を提供できる有用な発明である。
1、31 第1のセンサ基板
2、32 第2のセンサ基板
3、33 スペーサ
5、34 密閉空間
6、7、36、37 絶縁性基板
8、9、38、39 電極
10、40 第1絶縁体層
10A 第1絶縁体層の表面層
10B 第1絶縁体層の本体部
11、41 第2絶縁体層
21、22 電圧波形
21a、22a 傾斜電圧波形
T1 放射線検知期間
T2 放射線測定期間
T3 リセット期間

Claims (11)

  1. 放射線検知用のガスを封入した密閉空間内に、
    第1電極と第2電極と、
    前記第1電極を覆う第1絶縁体層と、
    前記第2電極を覆う第2絶縁体層と、
    を具備する放射線センサが構成され、
    前記放射線センサは、
    前記第1電極を陽極とし前記第2電極を陰極として、前記第1電極と前記第2電極の間に所定の電圧が印加されて、入射する放射線により前記ガスが電離して生成されるイオンおよび/または電子によって前記第1絶縁体層および/または前記第2絶縁体層上に電荷が蓄積される放射線検知期間において放射線を検知し、
    前記放射線検知期間後に、前記放射線検知期間に前記第1電極と前記第2電極に印加された電圧とは逆バイアスの電圧を印加することにより発生する放電の開始電圧を測定する放射線測定期間において放射線を測定し、
    前記第1電極を陽極とし前記第2電極を陰極としたときの放電開始電圧が、前記第2電極を陽極とし前記第1電極を陰極としたときの放電開始電圧よりも高い、
    放射線検出装置。
  2. 前記第1絶縁体層は周期表第2族元素の酸化物が含まれる、請求項1に記載の放射線検出装置。
  3. 前記第1絶縁体層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムの少なくとも1つである、請求項1記載の放射線検出装置。
  4. 前記第2絶縁体層は、酸化ケイ素又は酸化アルミニウムを含む、請求項1乃至請求項3記載の放射線検出装置。
  5. 前記第2絶縁体層は、無機窒化物を含む、請求項1乃至請求項3記載の放射線検出装置。
  6. 前記第1絶縁体層と前記第2絶縁体層は異なる二次電子放出係数を有する、請求項1乃至請求項5記載の放射線検出装置。
  7. 前記第1絶縁体層の二次電子放出係数は前記第2絶縁体層の二次電子放出係数よりも大きい、請求項1乃至請求項5記載の放射線検出装置。
  8. 前記放射線測定期間に印加する逆バイアスの電圧は、傾斜電圧波形とする請求項1乃至請求項7記載の放射線検出装置。
  9. 前記放射線測定期間後に、前記第1絶縁体層および/または前記第2絶縁体層上の電荷を調整するための放電を発生させるリセット期間を有する請求項1乃至請求項8記載の放射線検出装置。
  10. 放射線検知用のガスを封入した密閉空間内に、
    第1電極と第2電極と、
    前記第1電極を覆う第1絶縁体層と、
    前記第2電極を覆う第2絶縁体層と、
    を具備する放射線センサを用いた放射線検出方法であって、
    前記放射線検出方法は、
    前記第1電極を陽極とし前記第2電極を陰極として、前記第1電極と前記第2電極の間に所定の電圧が印加されて、入射する放射線により前記ガスが電離して生成されるイオンおよび/または電子によって前記第1絶縁体層および/または前記第2絶縁体層上に電荷が蓄積される放射線検知期間と、
    前記放射線検知期間後に、前記放射線検知期間に前記第1電極と前記第2電極に印加された電圧とは逆バイアスの電圧を印加することにより発生する放電の開始電圧を測定する放射線測定期間とを有し、
    前記第1電極を陽極とし前記第2電極を陰極としたときの放電開始電圧が、前記第2電極を陽極とし前記第1電極を陰極としたときの放電開始電圧よりも高い、
    放射線検出方法。
  11. 前記放射線測定期間後に、前記第1絶縁体層および/または前記第2絶縁体層上の電荷を調整するための放電を発生させるリセット期間を有する請求項10記載の放射線検出方法。
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