JP2015056881A - 音響トランスデューサ、およびマイクロホン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】振動膜に設けられた振動電極と固定膜に設けられた固定電極との間の静電容量の変化により、音波を検出して電気信号に変換し出力する、少なくとも第一センシング部と第二センシング部を有する音響トランスデューサにおいて、第一センシング部と第二センシング部は、固定膜を共通とし、且つ振動電極が各センシング部に対応する第一センシング領域および第二センシング領域に分割されている。そして、第一センシング部は、いわゆるフローティング形式の固定手法により固定膜に対して第一センシング領域が相対的に固定され、第二センシング部は、第二センシング領域の振動膜が、固定電極と振動電極の間に空隙が形成された状態で、基板又は固定膜に固定されている。
【選択図】図2
Description
レットでの電荷保持は、マイクロホンの製造時における熱雰囲気の影響を受けやすいため、十分な品質維持が困難となる場合があった。そこで、音波を検出して電気信号(検出信号)に変換するコンデンサ型の音響トランスデューサを利用したMEMSマイクロホンの優位性が理解されるようになってきている。なお、この音響トランスデューサは、MEMS技術を利用して製造されることから、MEMSマイクロホンとも称されている。
て制限される最大対応音圧(Acoustic Overload Point、以下「AOP」と称する。)と
、信号雑音比で制限される最小対応音圧とで規定される。そして、最大対応音圧近辺の音圧の大きい音をマイクロホンで検出しようとすると、出力信号に高調波ひずみが発生し、音質を損ねてしまうことによる。そこで、例えば、特許文献1に示す技術では、固定電極と振動電極を対向させた音響トランスデューサにおいて、振動電極をスリットによってその大部分を分断して、該音響トランスデューサにおけるコンデンサ構成を高感度可変コンデンサと低感度可変コンデンサとに分割することで、マイクロホンのダイナミックレンジを拡張する技術が開示されている。
シング部が、音圧に対して感度が高く形成されることで、比較的小さい音圧の音波を好適に検出することが可能となる一方で、比較的大きい音圧の音波に対しては歪みが大きくなる。その結果、第一センシング部は、相対的に音圧の小さい音波検出に好適に利用し得る。また、第一センシング部に対して感度が低く形成される第二検出部は、比較的大きい音圧の音波に対しても歪みを抑えた検出が可能である。しかし、第二検出部は音圧に対する感度が低い故に、比較的小さい音圧の音波を検出するのは困難とされ、そこで、第二センシング部は相対的に音圧の大きい音波検出に好適に利用し得る。このように、上記音響トランスデューサには、音圧に対する感度が異なる少なくとも第一センシング部と第二センシング部が設けられることで、いわゆるマルチチャネル化が図られ、音響トランスデューサのダイナミックレンジの拡大が図られる。
ことはできない。更に、電極間の印可電圧を増大させる手段では、電圧を供給する電気回路のチップ面積増加や消費電流の増大のデメリットが、電極間距離を縮小する手段では距離が小さくなることでチップ作成上の生産バラツキの影響をうけやすくなるなどのデメリットがある。これらのことより、フローティング形式でAOPを拡大するのは困難と考えられる。
て近接することが可能となるように形成されてもよい。このように分離溝空間を挟んで第一センシング領域と第二センシング領域が互いに独立して分割されることで、各センシング部の音圧に対する感度の調整が容易となり、また、各センシング部における振動電極の各領域の形状や配置が容易となる。
ーサから検出される音波に対応した電気信号を増幅する回路部と、を備える、マイクロホンも、本願発明の範疇に属するものである。
きる。また、配線基板13には、外部と電気的に接続するための接続端子16が設けられている。接続端子16は、外部からの電源供給、外部への信号出力などに利用される。配線基板13は、典型的には表面リフロー実装によって、種々の機器に取り付けられ、接続端子16により電気的に接続される。
(1)固定膜23に到達した音波が音孔部32を通過していくので、固定膜23に印加される音圧が軽減される。
(2)振動膜22および固定膜23の間の空気が、音孔部32を介して出入りするので、
熱雑音(空気の揺らぎ)が軽減される。また、上記空気による振動膜22のダンピングが軽減されるので、該ダンピングによる高周波特性の劣化が軽減される。
(3)表面マイクロマシニング技術を利用して振動電極220および固定電極230の間に空隙を形成する場合に、エッチングホールとして利用することができる。
30の高感度側領域230aよりも振動電極220側に突出しているため、その突起部232の突出高さが、上記高感度コンデンサの電極間隔となる。
膜231とからなる。固定電極230は、厚さが約0.5μmであり、多結晶シリコンなどから生成される導電体である。一方、保護膜231は、厚さが約2μmであり、窒化シリコンなどから生成される絶縁体である。また、振動電極220と固定電極230との間隔は、上記高感度コンデンサと上記低感度コンデンサのそれぞれの音圧に対する感度等を考慮して適宜設定される。なお、高感度コンデンサの電極間隔と低感度コンデンサの電極間隔を同じ距離に設定した場合、MEMS製造工程において同一のプロセスで、各コンデンサに対応する振動膜(振動電極)側の部分を作成することが可能となる。これにより、製造時のプロセスバラツキによる生産バラツキを軽減することが可能となる。
その結果、電圧印加時において第一センシング領域220aの固定膜23側への変位が、より円滑に行われることになり、以て上記高感度コンデンサの音響特性をより好適なものとすることができる。
上記の実施例では、振動電極220の第一センシング領域220aと第二センシング領域220bは、電気的にも分離された状態となっているため、振動電極220側の接続端子も固定電極230側と同じように二つ設けられている。そこで、分離溝24によって分離されている第一センシング領域220aと第二センシング領域220bを、開口内基板部21bを介して電気的に接続してもよい。このような構成により、第一実施例と同じように、振動電極220側の接続端子の数を一つにまとめることができる。
領域220bの振幅変位がより抑えられることになるため、上記低感度コンデンサの感度をより低くしやすくなり、音響トランスデューサ11のダイナミックレンジの拡大にも寄与するものと考えられる。
11・・・・音響トランスデューサ
12・・・・ASIC
13・・・・配線基板
14・・・・筐体
17・・・・貫通孔
21・・・・半導体基板
21b・・・・開口内基板
22・・・・振動膜
23・・・・固定膜
23b・・・・延出部
24・・・・スリット
24a・・・・接続部
24b・・・・分離溝
26、26a、26b、28a、28b・・・・接続端子
31・・・・開口部(バックチャンバ)
32・・・・音孔部
220・・・・振動電極
220a・・・・第一センシング領域
220b・・・・第二センシング領域
230・・・・固定電極
230a・・・・・高感度側領域
230b・・・・・低感度側領域
231・・・・保護膜
232・・・・突起部
233、234・・・・支持部
Claims (14)
- 基板の開口部の上方に振動膜および固定膜が形成され、該振動膜に設けられた振動電極と該固定膜に設けられた固定電極との間の静電容量の変化により、音波を検出して電気信号に変換し出力する、少なくとも第一センシング部と第二センシング部を有する音響トランスデューサにおいて、
前記第一センシング部と前記第二センシング部は、前記固定膜を共通とし、且つ前記振動電極が各センシング部に対応する第一センシング領域および第二センシング領域にそれぞれ分割され、
前記第一センシング部は、前記第一センシング領域に対向する前記固定膜上に前記振動電極側に突出した突起部が設けられ、且つ、前記固定電極と前記振動電極との間に電圧が印加されると、前記振動膜が前記突起部に接することで、該固定電極と該振動電極との間に第一所定間隔の空隙が形成された状態で該固定膜に対して該振動電極の前記第一センシング領域が相対的に固定された状態となり、該電圧印加が解消されると該第一センシング領域の相対的な固定状態も解消されるように構成され、
前記第二センシング部は、前記第二センシング領域の前記振動膜が、前記固定電極と前記振動電極の間に第二所定間隔の空隙が形成された状態で、前記基板又は前記固定膜に固定されている、
音響トランスデューサ。 - 前記第一センシング部における音圧に対する感度は、前記第二センシング部における音圧に対する感度より高くなるように構成される、
請求項1に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第二センシング部は、前記固定電極と前記振動電極との間の電圧印加にかかわらず、前記第二所定間隔の空隙が形成された状態で前記基板又は前記固定膜に前記第二センシング領域の前記振動膜が常時結合された状態で固定されている、
請求項1又は請求項2に記載の音響トランスデューサ。 - 前記振動電極上に設けられたスリットによって、前記第一センシング領域と前記第二センシング領域に、両領域が接続部を介して接続された状態で分割され、
前記スリットは、前記固定電極と前記振動電極との間の電圧印加により、前記第一センシング領域が前記固定膜に対して近接することを可能とする、
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第一センシング領域と前記第二センシング領域は、電気的に短絡されている、
請求項4に記載の音響トランスデューサ。 - 前記振動電極は、前記第一センシング領域と前記第二センシング領域との間に形成された分離溝空間によって、両領域が互いに独立して分割されることで、前記固定電極と前記振動電極との間に電圧印加されると、前記第一センシング領域が、前記第二センシング領域に関係なく前記固定膜に対して近接することが可能となるように形成される、
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 前記開口部内であって前記分離溝空間に対向する位置に、前記基板の一部である開口内基板部が、該分離溝空間を覆うように配置される、
請求項6に記載の音響トランスデューサ。 - 前記開口内基板部と、前記第一センシング領域および前記第二センシング領域は、電気的に短絡されている、
請求項7に記載の音響トランスデューサ。 - 前記開口部の上方において前記振動膜、前記固定膜の順に配置され、
前記固定膜は、前記振動電極を分割する前記分離溝空間を介して、前記開口内基板部に対して常時結合された状態で固定されている、
請求項7又は請求項8に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第一センシング領域および前記第二センシング領域のうち少なくとも一方は、円形状に形成されている、
請求項1から請求項9の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第一センシング領域および前記第二センシング領域のうち少なくとも一方は、矩形状に形成されている、
請求項1から請求項9の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第一センシング領域の面積は、前記第二センシング領域の面積よりも広く形成される、
請求項1から請求項11の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 前記第一所定間隔は、前記第二所定間隔と同じ距離を有する、
請求項1から請求項12の何れか1項に記載の音響トランスデューサ。 - 請求項1から請求項13の何れか1項に記載の音響トランスデューサと、
前記固定電極と前記振動電極との間の電圧印加のために前記音響トランスデューサに電力を供給するとともに、該音響トランスデューサから検出される音波に対応した電気信号を増幅する回路部と、
を備える、マイクロホン。
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