JP2015055873A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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常 求 李
乘 範 朴
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乘 範 朴
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Naei Shin
娜 英 申
正 勳 李
Jung-Hoon Lee
正 勳 李
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孝 性 洪
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, particularly, a liquid crystal display device including a retardation compensation film having improved hardness and a method for manufacturing the liquid crystal display device.SOLUTION: A liquid crystal display device includes a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer, and a retardation compensation film. The second substrate is arranged opposite to the first substrate. The liquid crystal layer is arranged between the first substrate and the second substrate. The retardation compensation film is formed on one surface of the first substrate and includes a fluorine resin. The inclusion of the fluorine resin in the retardation compensation film improves hardness, antifouling property, and scratch resistance, and thereby preventing damage of the retardation compensation film.

Description

本発明は、液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法に関し、詳細には、硬度が向上した位相差補償フィルムを含む液晶表示装置及びその液晶表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device including a retardation compensation film with improved hardness and a method for manufacturing the liquid crystal display device.

最近、対面積が容易に薄型及び軽量化することができる平板ディスプレイ(flat panel display、FPD)が表示装置として広く利用され、このような平板ディスプレイでは、液晶表示装置(liquid crystal display、LCD)、プラズマディスプレイパネル(plasma display panel、PDP)、有機発光表示装置(organic light emitting display、OLED)等が使われている。 Recently, a flat panel display (FPD) that can be easily reduced in thickness and weight is widely used as a display device. In such a flat panel display, a liquid crystal display (LCD), A plasma display panel (PDP), an organic light emitting display (OLED), or the like is used.

液晶表示装置は、現在最も広く使われている平板表示装置の中の一つとして、液晶の特定の分子配列に電圧を印加し、分子配列を変換させ、このような分子配列の変換によって発光する液晶セルの複屈折性、旋光性、2色性及び光散乱特性などの光学的性質の変化を視覚変化で変換し、画像を表示するディスプレイ装置である。 The liquid crystal display device is one of the most widely used flat panel display devices at present. A voltage is applied to a specific molecular arrangement of the liquid crystal, the molecular arrangement is changed, and light is emitted by the conversion of the molecular arrangement. This is a display device that displays an image by converting changes in optical properties such as birefringence, optical rotation, dichroism, and light scattering characteristics of a liquid crystal cell with visual changes.

前記表示装置の中の一つである液晶表示装置(liquid crystal display)は、液晶(liquid crystal)を用い、画像を表示する。前記液晶表示装置は、他の表示装置に比べて厚さが薄く、重さが軽く、消費電力が少なく、低い駆動電圧を有するメリットがある。 A liquid crystal display, which is one of the display devices, uses a liquid crystal to display an image. The liquid crystal display device is advantageous in that it is thinner and lighter in weight, consumes less power, and has a lower driving voltage than other display devices.

前記液晶表示装置は、一般的に液晶の光透過率を用い、画像を表示する液晶表示パネル(liquid crystal display panel)と、前記液晶表示パネルの下部に配置され、前記液晶表示パネルで光を提供するバックライトアセンブリ(back−light assembly)を含む。この際、前記バックライトアセンブリは、一般的に非偏光された光(non polarized light、偏向されていない光)を発生する。 The liquid crystal display device is generally disposed at a lower part of the liquid crystal display panel using the light transmittance of the liquid crystal to display an image, and provides light through the liquid crystal display panel. Back-light assembly. At this time, the backlight assembly generally generates non-polarized light.

したがって、前記液晶表示装置は、前記非偏光された光を用い、画像を実現することが難しいため、前記液晶表示パネルの上部及び下部に配置されて光を偏光させる偏光板をさらに含む。しかしながら、偏光板は、厚さが比較的に厚く、液晶表示装置の製造費用のうち、相当部分を占め、前記液晶表示装置の厚さ及び製造費用が増加する問題点が発生する。 Therefore, the liquid crystal display device further includes a polarizing plate disposed on the upper and lower portions of the liquid crystal display panel to polarize light because it is difficult to realize an image using the non-polarized light. However, the polarizing plate has a relatively large thickness, and occupies a considerable portion of the manufacturing cost of the liquid crystal display device, which increases the thickness and manufacturing cost of the liquid crystal display device.

公開特許第2012−173609号公報Japanese Patent Publication No. 2012-173609 韓国公開特許第2012−007969号公報Korean Published Patent No. 2012-007969 公開特許第2012−155308号公報Japanese Patent Publication No. 2012-155308

それに対し、本発明の技術的課題は、このような点で着眼され、本発明の目的は、硬度が向上した位相差補償フィルムを含む液晶表示装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、前記液晶表示装置の製造方法を提供することにある。 On the other hand, the technical problem of the present invention is focused on such points, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device including a retardation compensation film with improved hardness. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing the liquid crystal display device.

上記した本発明の目的を実現するための一実施例に係る液晶表示装置は、第1基板、第2基板、液晶層及び位相差補償フィルムを含む。
前記第2基板は、前記第1基板に対向する。前記液晶層は、前記第1基板及び前記第2基板の間に配置される。前記位相差補償フィルムは、前記第1基板の一面に形成され、フルオリン樹脂を含む。
A liquid crystal display device according to an embodiment for realizing the object of the present invention includes a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer, and a retardation compensation film.
The second substrate faces the first substrate. The liquid crystal layer is disposed between the first substrate and the second substrate. The retardation compensation film is formed on one surface of the first substrate and includes a fluorin resin.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し20原子%〜30原子%でもよい。 In an embodiment of the present invention, the fluorin element ratio in the surface portion of the retardation compensation film may be 20 atomic% to 30 atomic% with respect to the total element ratio.

本発明の一実施例において、前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(PolyTetraFluoro Ethylene;PTFE)、フルオリンエチレンプロピレン(fluorinated ethylene propylene;FEP)、ペルフルオロアルコキシ(perfluoro alkoxy;PFA)、エチレンテトラフルオロエチレン(ethylene−Tetrafluoro ethylene;ETFE)、ポリフッ化ビニリデン(polyvinyliden fluoride;PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ethylene−chlorotrifluoro ethylene;ECTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(polychlorotrifluoro ethylene;PCTFE)及びこれらの組合からなったグループから1つ以上選択されることができる。 In one embodiment of the present invention, the fluorin resin may be polytetrafluoroethylene (PTFE), fluorinated ethylene propylene (FEP), perfluoroalkoxy (PFA), ethylene tetrafluoroethylene (PFA), or polytetrafluoroethylene (PTFE). Ethylene-Tetrafluoroethylene (ETFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), ethylene-chlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (ECTFE) ylene; PCTFE) and can be selected one or more from a group consisted these unions.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第1基板の下部に配置されてもよい。 In one embodiment of the present invention, the retardation compensation film may be disposed under the first substrate.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第2基板の上部に配置されてもよい。 In one embodiment of the present invention, the retardation compensation film may be disposed on the second substrate.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、前記第1基板の下部及び前記第2基板の上部に配置されてもよい。 In one embodiment of the present invention, the retardation compensation film may be disposed on a lower portion of the first substrate and an upper portion of the second substrate.

本発明の一実施例において、前記第2基板上に配置されたブラックマトリックスをさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記第2基板及び前記ブラックマトリックスの間に配置されることができる。 The phase difference compensation film may be disposed between the second substrate and the black matrix. The black matrix may be further disposed on the second substrate.

本発明の一実施例において、前記第2基板上に配置されたブラックマトリックスをさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記第2基板及び前記ブラックマトリックス上に配置されることができる。 The phase difference compensation film may be disposed on the second substrate and the black matrix. The black matrix may further include a black matrix disposed on the second substrate.

本発明の一実施例において、前記第2基板上に配置されたオーバーコーティング層をさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記オーバーコーティング層上に配置されることができる。 In example embodiments, the liquid crystal display device may further include an overcoating layer disposed on the second substrate, and the retardation compensation film may be disposed on the overcoating layer.

本発明の一実施例において、前記第2基板上に配置された共通電極をさらに含み、前記位相差補償フィルムは、前記共通電極上に配置されることができる。 The phase difference compensation film may be disposed on the common electrode, further including a common electrode disposed on the second substrate.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 In an embodiment of the present invention, the retardation compensation film may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの厚さは、10um以下でもよい。 In one embodiment of the present invention, the retardation compensation film may have a thickness of 10 μm or less.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの硬度は、2H以上でもよい。 In one embodiment of the present invention, the retardation compensation film may have a hardness of 2H or more.

本発明の一実施例において、前記位相差補償フィルムの表面エネルギーは、25mN/m以下でもよい。 In an embodiment of the present invention, the surface energy of the retardation compensation film may be 25 mN / m or less.

上記した本発明の目的を実現するための他の実施例に係る液晶表示装置の製造方法は、基板上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物(retarder composition)を塗布し、リターダコーティング層(retarder coating layer)を形成する段階、前記リターダコーティング層を加熱する段階、前記リターダコーティング層が光学的異方性を有するように前記リターダコーティング層を紫外線UVに露光する段階及び前記リターダコーティング層を熱処理し、位相差補償フィルムを形成する段階を含む。 A method of manufacturing a liquid crystal display according to another embodiment for realizing the above-described object of the present invention is to apply a retarder composition containing a fluorin resin on a substrate, and to form a retarder coating layer. ), Heating the retarder coating layer, exposing the retarder coating layer to ultraviolet UV so that the retarder coating layer has optical anisotropy, and heat-treating the retarder coating layer. Forming a phase difference compensation film.

本発明の一実施例において、前記基板は、第1基板及び前記第1基板に対向する第2基板を含んでもよい。 In one embodiment of the present invention, the substrate may include a first substrate and a second substrate facing the first substrate.

本発明の一実施例において、前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂10重量%〜30重量%、反応性メソゲン20重量%〜40重量%、光硬化性モノマ1重量%〜10重量%、熱硬化剤1重量%〜10重量%及び溶媒10重量%〜30重量%でもよい。 In one embodiment of the present invention, the retarder composition comprises 10% to 30% by weight of a fluorin resin, 20% to 40% by weight of a reactive mesogen, 1% to 10% by weight of a photocurable monomer, and a thermosetting agent. It may be 1 to 10% by weight and 10 to 30% by weight of solvent.

本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第1基板の下部に塗布してもよい。 In an embodiment of the present invention, the retarder composition may be applied to a lower portion of the first substrate.

本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第2基板の上部に塗布してもよい。 In an embodiment of the present invention, the retarder composition may be applied on the second substrate.

本発明の一実施例において、前記リターダ組成物を前記第1基板の下部及び前記第2基板の上部に塗布してもよい。 In an embodiment of the present invention, the retarder composition may be applied to a lower portion of the first substrate and an upper portion of the second substrate.

本発明の実施例に係ると、位相差補償フィルムがフルオリン樹脂を含み、硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上され、位相差補償フィルムの損傷を防止することができる。 According to the embodiment of the present invention, the retardation compensation film contains a fluorin resin, and the hardness, antifouling property and scratch resistance are improved, and damage to the retardation compensation film can be prevented.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の平面図である。1 is a plan view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 図1の第1画素の平面図である。It is a top view of the 1st pixel of FIG. 図1のI−I’線の沿った本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention taken along line I-I ′ of FIG. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

以下、図面を参照し、本発明の望ましい実施例を詳細に説明することにする。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本明細書において、特定の構造的乃至機能的説明は、単に本発明の実施例を説明するための目的として例示され、本発明の実施例は、多様な形態で実施され、本明細書に説明された実施例に限定されると解釈されず、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変更、均等物乃至代替物を含むこととして理解されなければならない。 In the present specification, specific structural or functional descriptions are given merely for the purpose of illustrating embodiments of the present invention, and the embodiments of the present invention may be implemented in various forms and described herein. The present invention should not be construed as being limited to the described embodiments but should be construed as including all modifications, equivalents and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

ある構成要素が異なる構成要素に「連絡され」あるいは「接触され」と記載された場合、その他の構成要素に直接的に連絡されるが、または接触していることもあり得るが、間にまた他の構成要素が存在してもよいと、理解されなければならないだろう。反面、ある構成要素が異なる構成要素に「直接連絡され」あるいは「直接接触され」と記載された場合には、間にその他の構成要素が存在しないと理解されることができる。構成要素の間の関係を説明する他の表現、例えば、「〜間に」と「直接〜間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同様に解釈されることができる。 When one component is listed as “contacted” or “contacted” with a different component, it may be in direct contact with, or in contact with, another component, It will be understood that other components may be present. On the other hand, when a component is described as “directly contacted” or “directly contacted” with a different component, it can be understood that there are no other components in between. Other expressions describing the relationship between the components, such as “between” and “directly between” or “adjacent to” and “adjacent to” are to be interpreted similarly. Can do.

本明細書で使われる用語は単に例示的な実施例を説明するために使われたことで、本発明を限定しようとする意図はない。単数の表現は文脈上、明白に異なることを意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書において、「含む」または「有する」等の用語は実施された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであって、一つまたは、それ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これらを組み合わせたものなどの存在または、付加の可能性をあらかじめ排除しないものとして理解されなければならない。異なるように定義されない限り、技術的や科学的な用語を含め、本明細書で使われるすべての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を持った者によって一般的に理解されるのと同様の意味を有している。一般的に使われる事前に定義されているような用語は関連技術の文脈上有する意味と一致する意味を有すると解釈されるべきで、本出願において明白に定義しない限り、理想的や過度に形式的な意味と解釈されない。 The terminology used herein is for the purpose of describing example embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular form includes the plural form unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, terms such as “including” or “having” are intended to indicate the presence of implemented features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof. Must be understood as not excluding in advance the existence or additional possibilities of one or more other features or numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof. . Unless defined differently, all terms used herein, including technical and scientific terms, are generally understood by those with ordinary skill in the art to which this invention belongs. It has the same meaning. Terms as commonly used and pre-defined should be construed to have a meaning consistent with the meaning possessed by the context of the related art and, unless explicitly defined in this application, are ideally or overly formal. It is not interpreted as a typical meaning.

第1、第2及び第3等の用語は、多様な構成要素を説明するために使うことができるが、これらの構成要素は前記用語によって限定されるのではない。前記用語は一つの構成要素をその他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに、第1構成要素が第2構成要素または、第3構成要素などと命名され、同様に第2構成要素または、第3構成要素も交互的に命名することができる。 Terms such as first, second, and third can be used to describe various components, but these components are not limited by the terms. The terms are used to distinguish one component from other components. For example, the first component is named as the second component or the third component without departing from the scope of the present invention, and the second component or the third component is also alternately named. can do.

図1は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の平面図である。図2は、図1の第1画素の平面図である。図3は、図1のI−I’線の沿った本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the first pixel of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention taken along line I-I ′ of FIG. 1.

図1を参照すれば、前記液晶表示装置は、複数のゲートラインGL、複数のデータラインDL及び複数の画素を含む。 Referring to FIG. 1, the liquid crystal display device includes a plurality of gate lines GL, a plurality of data lines DL, and a plurality of pixels.

前記ゲートラインGLは、第1方向D1に延びることができる。前記データラインDLは、前記第1方向D1と交差する第2方向D2に延びることができる。これとは異なり、前記ゲートラインGLは前記第2方向D2に延びることができ、前記データラインDLは前記第1方向D1に延びることができる。 The gate line GL may extend in the first direction D1. The data line DL may extend in a second direction D2 that intersects the first direction D1. In contrast, the gate line GL may extend in the second direction D2, and the data line DL may extend in the first direction D1.

前記画素は、マトリックス形態に配置される。前記画素は、前記ゲートラインGL及び前記データラインDLにより定義される領域に配置されることができる。 The pixels are arranged in a matrix form. The pixel may be disposed in a region defined by the gate line GL and the data line DL.

各画素は、隣接したゲートラインGL及び隣接したデータラインDLに連絡されることができる。 Each pixel can be connected to an adjacent gate line GL and an adjacent data line DL.

前記画素は、前記第2方向D2に長く延びる長方形状を有することができる。前記画素領域は、平面から見た際、一方向に長く延びた長方形状、V字状及びZ字状など多様なこともある。V字状の場合、例えば、画素領域の第2方向の中央部分において第1方向に沿って屈曲している。また、Z字状の場合、例えば、画素領域がジグザグ状に屈曲している。 The pixel may have a rectangular shape extending in the second direction D2. The pixel region may have various shapes such as a rectangular shape, a V shape, and a Z shape extending in one direction when viewed from a plane. In the case of the V shape, for example, the pixel region is bent along the first direction at the center portion in the second direction. In the case of the Z shape, for example, the pixel region is bent in a zigzag shape.

図2及び図3を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第1基板100、第2基板200、液晶層300、位相差補償フィルム400A、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIGS. 2 and 3, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, a retardation compensation film 400A, and a first polarizing plate. 500 and the second polarizing plate 600.

前記第1基板100は、透明な絶縁基板である。例えば、ガラス基盤または、透明なプラスチック基板でもよい。前記第1基板100は、画像を表示する複数の画素領域を有する。前記画素領域は、複数の列と複数の行を有するマトリックス形態で配列される。 The first substrate 100 is a transparent insulating substrate. For example, a glass substrate or a transparent plastic substrate may be used. The first substrate 100 has a plurality of pixel regions for displaying an image. The pixel regions are arranged in a matrix having a plurality of columns and a plurality of rows.

前記画素は、スイッチング素子(switching element)をさらに含む。例えば、前記スイッチング素子は、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;TFT)でもよい。前記スイッチング素子は、隣接したゲートラインGL及び隣接したデータラインDLに連絡されることができる。前記スイッチング素子は、前記ゲートラインGL及び前記データラインDLが交差する領域に配置されることができる。 The pixel further includes a switching element. For example, the switching element may be a thin film transistor (TFT). The switching element may be connected to an adjacent gate line GL and an adjacent data line DL. The switching element may be disposed in a region where the gate line GL and the data line DL intersect.

前記第1基板100上にゲート電極GE及びゲートラインGLを含むゲートパターンが配置される。前記ゲートラインGLは、前記ゲート電極GEと電気的に連絡される。 A gate pattern including a gate electrode GE and a gate line GL is disposed on the first substrate 100. The gate line GL is electrically connected to the gate electrode GE.

前記第1基板100上にゲート電極GE及びゲートラインGLを含むゲートパターン(未図示)が配置される。前記ゲートラインGLは、前記ゲート電極GEと電気的に連絡される。 A gate pattern (not shown) including a gate electrode GE and a gate line GL is disposed on the first substrate 100. The gate line GL is electrically connected to the gate electrode GE.

ゲート絶縁層110は、前記ゲートパターンが配置された前記第1基板100上に配置され、前記ゲートパターンを絶縁する。 The gate insulating layer 110 is disposed on the first substrate 100 on which the gate pattern is disposed, and insulates the gate pattern.

前記ゲート絶縁層110上に半導体パターンSMを形成する。前記半導体パターンSMは、前記ゲート電極GEと重複して配置される。 A semiconductor pattern SM is formed on the gate insulating layer 110. The semiconductor pattern SM is overlapped with the gate electrode GE.

前記半導体パターンSMが形成された前記ゲート絶縁層110上にデータラインDL、ソース電極SE及びドレーン電極DEを含むデータパターンが配置される。前記ソース電極SEは、前記半導体パターンSMと重複し、前記データラインDLに電気的に連絡される。 A data pattern including a data line DL, a source electrode SE, and a drain electrode DE is disposed on the gate insulating layer 110 on which the semiconductor pattern SM is formed. The source electrode SE overlaps the semiconductor pattern SM and is electrically connected to the data line DL.

前記ドレーン電極DEは、前記半導体パターンSM上に前記ソース電極SEから離隔する。前記半導体パターンSMは、前記ソース電極SE及び前記ドレーン電極DEの間に伝導チャネル(conductive channel)を成し遂げる。 The drain electrode DE is separated from the source electrode SE on the semiconductor pattern SM. The semiconductor pattern SM achieves a conductive channel between the source electrode SE and the drain electrode DE.

前記ゲート電極GE、前記ソース電極SE、前記ドレーン電極DE及び前記半導体パターンSMは、前記薄膜トランジスタTFTを構成する。 The gate electrode GE, the source electrode SE, the drain electrode DE, and the semiconductor pattern SM constitute the thin film transistor TFT.

前記ゲート絶縁層110上には、前記データラインDLが配置される。前記ゲート絶縁層110は、前記第1基板100の全面積に配置されることができる。 The data line DL is disposed on the gate insulating layer 110. The gate insulating layer 110 may be disposed on the entire area of the first substrate 100.

前記ゲート絶縁層110は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記ゲート絶縁層110は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(olefin)系樹脂、ポリイミド(polyimide)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(polyvinyl)系樹脂、シロキサン(siloxane)系樹脂、シリコン(silicon)系樹脂などを含むことができる。 The gate insulating layer 110 may include an organic or inorganic insulating material. For example, the gate insulating layer 110 may include a benzocyclobutene resin, an olefin resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a polyvinyl resin, a siloxane resin, and a silicon. ) Based resin and the like.

データ絶縁層120は、前記データパターンが配置された前記ゲート絶縁層110上に配置され、前記データパターンを絶縁する。 The data insulating layer 120 is disposed on the gate insulating layer 110 where the data pattern is disposed, and insulates the data pattern.

前記データ絶縁層120は、前記ゲートラインGL、前記データラインDL及び前記スイッチング素子上に配置される。前記データ絶縁層120は、前記第1基板100の全面積に配置されることができる。前記データ絶縁層120は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記データ絶縁層120は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(olefin)系樹脂、ポリイミド(polyimide)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(polyvinyl)系樹脂、シロキサン(siloxane)系樹脂、シリコン(silicon)系樹脂などを含むことができる。 The data insulating layer 120 is disposed on the gate line GL, the data line DL, and the switching element. The data insulating layer 120 may be disposed on the entire area of the first substrate 100. The data insulating layer 120 may include an organic or inorganic insulating material. For example, the data insulating layer 120 may include a benzocyclobutene resin, an olefin resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a polyvinyl resin, a siloxane resin, silicon. ) Based resin and the like.

前記カラーフィルタ層CFは、前記データ絶縁層120上に配置されることができる。 The color filter layer CF may be disposed on the data insulating layer 120.

前記カラーフィルタ層CFは、前記液晶層300を透過する光に色を提供するためである。前記カラーフィルタ層CFは、赤色カラーフィルタ(red)、緑色カラーフィルタ(green)、及び青色カラーフィルタ(blue)でもよい。 The color filter layer CF provides color to the light transmitted through the liquid crystal layer 300. The color filter layer CF may be a red color filter (red), a green color filter (green), and a blue color filter (blue).

各カラーフィルタは、前記各画素領域に対応して提供される。互いに隣接した画素の間にそれぞれ異なる色を有するように配置されることができる。 Each color filter is provided corresponding to each pixel region. The pixels adjacent to each other may have different colors.

本実施例では、前記カラーフィルタは、互いに隣接した画素領域の境界において一部が隣接したカラーフィルタによって重なることができる。それとは異なり、前記カラーフィルタは、第1方向D1に互いに隣接した画素領域の境界で離隔して形成されることができる。すなわち、前記カラーフィルタは、第1方向D1にゲートラインを境界にし、島(island)の形態で形成されることができる。 In the present embodiment, the color filters may be overlapped by color filters that are partially adjacent to each other at the boundary between adjacent pixel regions. In contrast, the color filters may be formed apart from each other at the boundary between pixel regions adjacent to each other in the first direction D1. That is, the color filter may be formed in an island shape with a gate line as a boundary in the first direction D1.

前記カラーフィルタ層CF上に第1オーバーコーティング層130を含むことができる。 A first overcoating layer 130 may be included on the color filter layer CF.

前記第1オーバーコーティング層130は、前記カラーフィルタ層CF上に形成されて前記第1基板100の表面を平坦化することができる。 The first overcoating layer 130 may be formed on the color filter layer CF to planarize the surface of the first substrate 100.

前記第1オーバーコーティング層130は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記第1オーバーコーティング層130は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(olefin)系樹脂、ポリイミド(polyimide)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(polyvinyl)系樹脂、シロキサン(siloxane)系樹脂、シリコン(silicon)系樹脂などを含むことができる。 The first overcoating layer 130 may include an organic or inorganic insulating material. For example, the first overcoating layer 130 may be a benzocyclobutene resin, an olefin resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a polyvinyl resin, a siloxane resin, silicon. (silicon) resin can be included.

前記第1オーバーコーティング層130上に画素電極(pixel electrode;PE)を形成することができる。 A pixel electrode (PE) may be formed on the first overcoating layer 130.

前記画素電極PEは、コンタクトホールCHを通じ、前記薄膜トランジスタと電気的に連絡される。前記画素電極PEは、前記画素領域内に配置されることができる。前記画素電極PEには、前記薄膜トランジスタTFTを通じ、階調電圧が印加される。例えば、前記画素電極PEは、インジウムチンオキサイドITO、インジウムジンクオキサイドIZO、アルミニウムジンクオキサイドAZOのような透明導電体を含むことができる。例えば、前記画素電極PEは、スリットパターンを含むことができる。 The pixel electrode PE is in electrical communication with the thin film transistor through a contact hole CH. The pixel electrode PE may be disposed in the pixel region. A gradation voltage is applied to the pixel electrode PE through the thin film transistor TFT. For example, the pixel electrode PE may include a transparent conductor such as indium tin oxide ITO, indium zinc oxide IZO, and aluminum zinc oxide AZO. For example, the pixel electrode PE may include a slit pattern.

前記第2基板200は、ガラス基盤または透明な絶縁基板である。例えば、ガラス基盤または透明なプラスチック基板でもよい。前記第2基板200上には前記薄膜トランジスタと連絡された信号配線及び前記信号配線と重複して光を遮断するブラックマトリックスBMを含むことができる。 The second substrate 200 is a glass substrate or a transparent insulating substrate. For example, a glass substrate or a transparent plastic substrate may be used. The second substrate 200 may include a signal line connected to the thin film transistor and a black matrix BM that overlaps the signal line and blocks light.

前記ブラックマトリックスBMは、前記第1基板100上に配置された前記ゲートラインGL、前記データラインDL及び前記スイッチング素子が配置される領域に対応して配置されることができる。前記ブラックマトリックスBMはクロムCrまたは、クロム酸化物を含むことができる。 The black matrix BM may be disposed corresponding to a region where the gate line GL, the data line DL, and the switching element are disposed on the first substrate 100. The black matrix BM may include chromium Cr or chromium oxide.

前記ブラックマトリックスBMは、第1方向に延びた複数のゲートラインと重複して光を遮断する。前記ブラックマトリックスBMは、画素の非表示領域(non−display area)に形成される。 The black matrix BM blocks light by overlapping with a plurality of gate lines extending in the first direction. The black matrix BM is formed in a non-display area of pixels.

前記ブラックマトリックスBMが形成された前記第2基板200上に第2オーバーコーティング層210が形成されることができる。 A second overcoating layer 210 may be formed on the second substrate 200 on which the black matrix BM is formed.

前記第2オーバーコーティング層210は、前記ブラックマトリックスBMが形成された前記第2基板200上に形成され、前記第2基板200の表面を平坦化することができる。 The second overcoating layer 210 may be formed on the second substrate 200 on which the black matrix BM is formed, and the surface of the second substrate 200 may be planarized.

前記第2オーバーコーティング層210は、有機乃至無機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記第2オーバーコーティング層210は、ベンゾシクロブテン系樹脂、オレフィン(olefin)系樹脂、ポリイミド(polyimide)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニル(polyvinyl)系樹脂、シロキサン(siloxane)系樹脂、シリコン(silicon)系樹脂などを含むことができる。 The second overcoating layer 210 may include an organic or inorganic insulating material. For example, the second overcoating layer 210 includes a benzocyclobutene resin, an olefin resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a polyvinyl resin, a siloxane resin, silicon (silicon) resin can be included.

前記第2オーバーコーティング層210上に共通電極CEを形成することができる。 A common electrode CE may be formed on the second overcoating layer 210.

前記画素電極PE及び前記共通電極CEに階調電圧が印加され、電界を形成する。例えば、前記共通電極CEは、インジウムティンオキサイドITO、インジウムジンクオキサイドIZO、アルミニウムジンクオキサイドAZOのような透明導電体を含むことができる。例えば、前記共通電極CEは、スリットパターンを含むことができる。 A gray scale voltage is applied to the pixel electrode PE and the common electrode CE to form an electric field. For example, the common electrode CE may include a transparent conductor such as indium tin oxide ITO, indium zinc oxide IZO, and aluminum zinc oxide AZO. For example, the common electrode CE may include a slit pattern.

前記液晶層300は、前記第1基板100及び前記第2基板200の間に配置される。 The liquid crystal layer 300 is disposed between the first substrate 100 and the second substrate 200.

前記液晶層300は、液晶分子(liquid crystal molecule)を含むことができる。前記液晶層は、前記第1電極及び前記第2電極の間に印加される電界によって液晶分子の配列を調節して前記画素の光透過率が調節される。 The liquid crystal layer 300 may include liquid crystal molecules. The liquid crystal layer adjusts the light transmittance of the pixel by adjusting the arrangement of liquid crystal molecules by an electric field applied between the first electrode and the second electrode.

本実施例では前記液晶表示装置は、前記カラーフィルタ層CFが液晶層300の下部に形成され、前記ブラックマトリックスBMが前記液晶層300の上部に形成されるCOA(color filter on array)構造を有するが、それに限定されない。これと異なり、前記液晶表示装置は、前記ブラックマトリックスBMが前記液晶層300の上部に形成されるCOA(color filter on array)構造を有することができる。例えば、前記カラーフィルタ層CF及びブラックマトリックスBMは、前記液晶層300の上部に配置されることができる。 In the present embodiment, the liquid crystal display device has a COA (color filter on array) structure in which the color filter layer CF is formed below the liquid crystal layer 300 and the black matrix BM is formed above the liquid crystal layer 300. However, it is not limited to that. In contrast, the liquid crystal display device may have a COA (color filter on array) structure in which the black matrix BM is formed on the liquid crystal layer 300. For example, the color filter layer CF and the black matrix BM may be disposed on the liquid crystal layer 300.

未図示であるが、前記液晶表示装置は、前記液晶層300の前記液晶分子を配向するための配向膜(未図示)を含むことができる。 Although not shown, the liquid crystal display device may include an alignment film (not shown) for aligning the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 300.

前記配向膜(未図示)は、前記液晶層300と前記第1オーバーコーティング層130との間、及び前記液晶層300と第2オーバーコーティング層210との間に配置されることができる。 The alignment layer (not shown) may be disposed between the liquid crystal layer 300 and the first overcoating layer 130 and between the liquid crystal layer 300 and the second overcoating layer 210.

前記配向膜は、前記液晶層300の前記液晶分子をフリーチルト(pre−tilt)させるためである。前記配向膜は、配向液を用い、形成される。配向液を前記第1基板100及び前記第2基板200上に塗布した後、前記配向液を除去する。前記配向液は、スリットコーティング、スピンコーティングなど多様な方法で塗布されることができる。前記配向液を除去するために室温に置いたり熱を加えることができる。前記配向液は、ポリイミド(polyimide;PI)のような配向物質を適切な溶媒に混合したものである。 The alignment layer is for pre-tilting the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 300. The alignment film is formed using an alignment liquid. After the alignment liquid is applied on the first substrate 100 and the second substrate 200, the alignment liquid is removed. The alignment liquid can be applied by various methods such as slit coating and spin coating. In order to remove the alignment liquid, it can be placed at room temperature or heated. The alignment liquid is obtained by mixing an alignment material such as polyimide (PI) in an appropriate solvent.

それとは異なり、前記配向膜は、前記液晶層300の種類によって、または、前記画素電極PE及び前記共通電極CEの構造により省略されることができる。例えば、前記画素電極PEがマイクロスリットを有し、別途の配向膜なしで前記液晶の初期配向が可能な場合に、前記配向膜が省略されることができる。または、前記液晶層300の初期配向陽反応性メソゲン層が形成される場合にも前記配向膜が省略されることができる。 In contrast, the alignment layer may be omitted depending on the type of the liquid crystal layer 300 or the structure of the pixel electrode PE and the common electrode CE. For example, when the pixel electrode PE has a micro slit and the liquid crystal can be initially aligned without an additional alignment film, the alignment film can be omitted. Alternatively, the alignment layer may be omitted when an initial alignment positive reactive mesogen layer of the liquid crystal layer 300 is formed.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第1基板100の下部に配置される位相差補償フィルム400Aを含む。 The liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400 </ b> A disposed under the first substrate 100.

前記位相差補償フィルム400Aは、フルオリン樹脂を含むことができる。
前記第1基板100の下部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物(retarder composition)を塗布(coating)し、リターダコーティング層(retarder coating layer)を形成する。
前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤、溶媒を含む。
The retardation compensation film 400A may include a fluorin resin.
A retarder composition including a fluorin resin is coated on the lower portion of the first substrate 100 to form a retarder coating layer.
The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂10重量%〜30重量%、反応性メソゲン20重量%〜40重量%、光硬化性モノマ1重量%〜10重量%、熱硬化剤1重量%〜10重量%及び溶媒10重量%〜30重量%でもよい。 The retarder composition comprises 10% to 30% by weight of a fluorin resin, 20% to 40% by weight of a reactive mesogen, 1% to 10% by weight of a photocurable monomer, 1% to 10% by weight of a thermosetting agent, and The solvent may be 10 wt% to 30 wt%.

[フルオリン樹脂]
前記位相差補償フィルム400Aは、硬度を向上させ、防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。
[Fluorine resin]
The retardation compensation film 400A may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、水素の位置がフルオリンで置換されている形態の化合物を使うことができる。 As the fluorin resin, a compound in which the hydrogen position is substituted with fluorin can be used.

例えば、前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(PolyTetraFluoro Ethylene;PTFE)、フルオリンエチレンプロピレン(fluorinated ethylene propylene;FEP)、ペルフルオロアルコキシ(perfluoro alkoxy;PFA)、エチレンテトラフルオロエチレン(ethylene−Tetrafluoro ethylene;ETFE)、ポリフッ化ビニリデン(polyvinyliden fluoride;PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ethylene−chlorotrifluoro ethylene;ECTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(polychlorotrifluoro ethylene;PCTFE)及びこれらの組合からなったグループで1つ以上選択されるが、それらに限定されない。 For example, the fluorin resin may be polytetrafluoroethylene (PTFE), fluorinated ethylene propylene (FEP), perfluoroalkoxy (PFA), ethylene tetrafluoroethylene (ETF), or the like. ), Poly vinylidene fluoride (PVDF), ethylene-chlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (PCT) E) and is selected one or more groups that have changed from these unions, but not limited to.

前記フルオリン樹脂を含むリターダ組成物を前記第1基板100の下部に塗布して形成された前記位相差補償フィルム400Aの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し20元素%〜30元素%の範囲でもよい。 The fluorin element ratio of the surface portion of the retardation compensation film 400A formed by applying the retarder composition containing the fluorin resin to the lower portion of the first substrate 100 is 20 element% to 30 element% with respect to the total element ratio. It may be a range.

前記フルオリン元素比率が20元素%未満である場合、前記位相差補償フィルム400Aをスクラッチなどから保護するための十分な硬度を得難い。前記フルオリン元素比率が30元素%超過である場合、位相遅延がほとんど起きなくなる問題点がある。 When the fluorin element ratio is less than 20 element%, it is difficult to obtain a sufficient hardness for protecting the retardation compensation film 400A from scratches and the like. When the fluorin element ratio exceeds 30%, there is a problem that phase delay hardly occurs.

前記フルオリン樹脂の含有量は、10重量%〜30重量%でもよい。前記フルオリン樹脂の含有量が全体組成物に対し10重量%未満である場合、硬度が2H以下を有し、前記位相差補償フィルム400Aの硬度、防汚性が低下し、30重量%超過である場合、位相遅延特性が低下することがある。 The content of the fluorin resin may be 10% by weight to 30% by weight. When the content of the fluorin resin is less than 10% by weight with respect to the entire composition, the hardness is 2H or less, the hardness and antifouling property of the retardation compensation film 400A are reduced, and the amount exceeds 30% by weight. In this case, the phase delay characteristic may be deteriorated.

[反応性メソゲン]
前記反応性メソゲンは、特定位相を有する。前記反応性メソゲンは、光硬化性反応性メソゲンである。前記反応性メソゲンは、脂肪族環(aliphatic ring)、芳香族環(aromatic ring)等が含まれ、末端に複数の官能基を有することができる。
[Reactive mesogens]
The reactive mesogen has a specific phase. The reactive mesogen is a photocurable reactive mesogen. The reactive mesogen includes an aliphatic ring, an aromatic ring, and the like, and may have a plurality of functional groups at the terminal.

前記反応性メソゲンは、紫外線などの光に露出すれば、複数の反応性メソゲンは、開始剤(initiator)等と共に反応し、オリゴマー(oligomer)、ポリマー(polymer)または、これらの混合物が形成されることができる。 When the reactive mesogen is exposed to light such as ultraviolet rays, the plurality of reactive mesogens react with an initiator or the like to form an oligomer, a polymer, or a mixture thereof. be able to.

したがって、一つ以上の前記官能基に光反応基を含むことができる。例えば、前記光反応基は、アクリレート(acrylate)、メタクリレート(methacrylate)、エポキシ(epoxy)、オキセタン(oxethane)、ビニルエーテル(vinyl−ether)、スチレン(styrene)またはチオレン(thiolene)反応期などを上げられる。 Accordingly, one or more of the functional groups may include a photoreactive group. For example, the photoreactive group may have an acrylate, methacrylate, epoxy, oxetane, vinyl-ether, styrene, thiolene reaction period, etc. .

前記反応性メソゲンの含有量は、20重量%〜40重量%でもよい。前記反応性メソゲンの含有量が全体組成物に対し20重量%未満である場合、位相遅延特性が低下し、40重量%超過である場合、位相差補償フィルム400Aの柔軟性が低下することがある。 The content of the reactive mesogen may be 20% by weight to 40% by weight. When the content of the reactive mesogen is less than 20% by weight with respect to the entire composition, the phase retardation characteristic is lowered, and when it is more than 40% by weight, the flexibility of the retardation compensation film 400A may be lowered. .

[光硬化性モノマ]
前記光硬化性モノマは、アクリレートモノマでもよい。前記アクリレートモノマは紫外線露光によって前記反応性メソゲンと反応することによって、前記リターダコーティング層を硬化させる。
[Photocurable monomer]
The photocurable monomer may be an acrylate monomer. The acrylate monomer reacts with the reactive mesogen by UV exposure to cure the retarder coating layer.

例えば、前記アクリレートモノマは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(dipentaerythritol hexaacrylate)、ジシクロペンタジエンアクリレート(dicyclopentadiene acrylate)、ジシクロペンタジエンメタクリレート(dicyclopentadiene methacrylate)、トリメチロールプロパントリアクリレート(trimethylpropane triacrylate)、グリシジルメタクリレート(glycidyl methacrylate)、ジエチレングリコールジメタクリレート(diethylene glycol dimethacrylate)、エチレングリコールアクリレート(ethylene glycol acrylate)、エチレングリコールジメタクリレート(ethylene glycol dimethacrylate)等が使われ、これらはそれぞれ単独または混合して使われることができる。 For example, the acrylate monomer may be dipentaerythritol hexaacrylate, dicyclopentadiene acrylate, dicyclopentadiene methacrylate, trimethylol acrylate, or trimethylol acrylate. ), Diethylene glycol dimethacrylate (ethylene glycol acrylate), ethylene glycol acrylate (ethylene glycol acrylate) Such as ethylene glycol dimethacrylate (ethylene glycol dimethacrylate) are used, it may be respectively used alone or in combination.

前記光硬化性モノマの含有量は、1重量%〜10重量%でもよい。前記光硬化性モノマの含有量が全体組成物に対し1重量%未満である場合、光硬化が十分に進行されず、塗膜の安定性が低下し、10重量%を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。 The content of the photocurable monomer may be 1% by weight to 10% by weight. When the content of the photocurable monomer is less than 1% by weight with respect to the entire composition, the photocuring is not sufficiently progressed, and the stability of the coating film is reduced. When the content exceeds 10% by weight, the coating film Flexibility may be reduced.

[熱硬化剤]
前記熱硬化剤は熱によって前記反応性メソゲンと反応し、前記リターダコーティング層を硬化させる。
[Thermosetting agent]
The thermosetting agent reacts with the reactive mesogen by heat to cure the retarder coating layer.

例えば、前記熱硬化剤はアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤などを含めるし、工程温度により適切に選択され、使われることができる。 For example, the thermosetting agent includes an amine-based curing agent, an acid anhydride-based curing agent, an imidazole-based curing agent, and the like, and can be appropriately selected and used depending on the process temperature.

具体的に、前記熱硬化剤では、ジアミノジフェニルメタン(DDM、diaminodiphenylmethane)、ジアミノジフェニルスルホン(DDS、diaminodiphenylsulfone)、テトラヒドロフタル酸無水物(THPA、tetrahydrophthalic anhydride)、ヘキサヒドロフタル酸無水物(HHPA、hexahydrophthalic anhydride)、メチルテトラヒドロフタル酸無水物(MeTHPA、methyltetrahydrophthalic anhydride)、ナジックメチル無水物(NMA、nadic methylanhydride)、加水分解メチルナジック無水物(HNMA、hydrolized methylnadic anhydride)、フタル酸無水物(PA、phthalic anhydride)、2−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチルイミダゾール(2−phenyl−4−methyl−hydroxymethylimidazole)、3−(3、4−ジクロロフェニル)−1、1−ジメチル尿素(DCMU、3−(3、4−dichlorophenyl)−1、1−dimethylurea)、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ビフェニルエーテルブロックカルボン酸、多価カルボン酸の活性エステル、1−シアノエチル2−フェニルイミダゾール(TCI、1−cyanoethyl 2−phenyl imidazole)、1、1−ジメトキシ−N、N−ジメチルメタンアミン(1、1−dimethoxy−N、N−dimethyl methanamine)、1−フェニルエチルアミン(1−phenylethylamine)、2−(ジエトキシルアミノ)エチルアミン(2−(diethoxylamino)ethylamine)、2−フェニルエチルアミン(2−phenylethylamine)、3−メトキシプロピルアミン(3−methoxypropylamine)、ブチルアミン(butylamine)、シクロヘキシルアミン(cyclohexylamine)、1−フェニルプロピルアミン(1−phenylpropylamine)、ジ(2−エチルヘキシル)アミン(di(2−ethylhexyl)amine)、ジブチルアミン(dibutylamine)、ジエチルアミン(diethylamine)、ジエチレントリアミン(diethylenetriamine)、ジメチルエチルアミン(dimethylethylamine)、ジプロピルアミン(dipropylamine)、ジプロピレントリアミン(dipropylene triamine)、イソプロピルアミン(isopropylamine)、N、N−ビス(3−アミンプロピル)メチルアミン(N、N−bis−(3−aminepropyl)methylamine)、N、N−ジメチルイソプロピルアミン(N、N−dimethylisopropylamine)、N−エチルジイソプロピルアミン(N−ethyldiisopropylamine)、N−オクチルアミン(N−octylamine)、N3−アミン3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルアミン(N3−amine3−(2−aminoethylamino)propylamine)、プロピルアミン(propylamine)、トリブチルアミン(tributylamine)、トリプロピルアミンン(tripropylamine)、トリス−(2−エチルヘキシル)アミン(Tris−(2−ethylhexyl)amine)、tert−ブチルアミン(tert−butylamine、ジイソプロパノールアミン(diisopropanolamine)、メチルジエタノールアミン(methyldiethanolamine)、N、N-ジメチルイソプロパノールアミン(N、N−dimethylisopropanolamine)、N−メチルエタノールアミン(N−methylethanolamine)、2、6−キシリジン(2、6−xylidine)、N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリン(N−ethyl−N−(2−hydroxyethyl)aniline)、エチレンジアミン(ethylenediamine)、イソホロンジアミン(isophorone diamine)、エチルエタノールアミン(ethylethanolamine)、N−(2−アミノエチル)エタノールアミン(N−(2−aminoethyl)ethanolamine)、トリイソプロパノールアミン(triisopropanolamine)、ジエチレントリアミン(diethylenetriamine)、エチレンジアミン(ethylenediamine)、N−(2−アミンエチル)エタノールアミン(N−(2−aminethyl)ethanolamine)、1−メトキシルイミダゾール(1−methoxylimidazole)、1−ビニルイミダゾール(1−vinylimidazole)、N、N-ジメチルイソプロパノールアミン(N、N−dimethylisopropanolamine)、N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アニリン(N−ethyl−N−(2−hydroxyethyl)aniline)、1−メチルイミダゾール(1−methylimidazole)、N、N−ジメチルシクロヘキシルアミン(N、N−dimethylcyclohexylamine)、トリメチルアミノエチルエタノールアミン(trimethylaminoethylethanolamine)等を例にあげることができる。これらはそれぞれ単独または混合して使われることができる。 Specifically, the thermosetting agent includes diaminodiphenylmethane (DDM, diaminodiphenylmethane), diaminodiphenylsulfone (DDS, diaminodiphenylsulfone), tetrahydrophthalic anhydride (THPA), hexahydrophthalic anhydride (HPA), ), Methyltetrahydrophthalic anhydride (MeTHPA, methylhydrophthalic anhydride), nadic methyl anhydride (NMA), hydrolyzed methylnaphthyl anhydride (HNMA, hydrolyzed methylhydridic) Phthalic anhydride (PA), 2-phenyl-4-methyl-hydroxymethylimidazole, 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea (DCMU, 3- (3,4-dichlorophenyl) -1, 1-dimethylurea), sulfonium salt, phosphonium salt, biphenyl ether block carboxylic acid, active ester of polyvalent carboxylic acid, 1-cyanoethyl 2-phenylimidazole (TCI, 1-cyanoethyl 2-phenyl imidazole), 1,1-dimethoxy-N, N-dimethylmethanamine (1,1-dimethyl-N, N-dimethyl methanoli) ne), 1-phenylethylamine (2-phenylethylamine), 2- (diethoxylamino) ethylamine (2- (diethylylamino) ethylamine), 2-phenylethylamine (2-phenylethylamine), 3-methoxypropylamine (3-methoxypropylamine) , Butylamine, cyclohexylamine, 1-phenylpropylamine, di (2-ethylhexyl) amine, dibutylamine, diethylamine, diethylamine Diethylenetriamine, dimethyl Dimethylethylamine, dipropylamine, dipropylenetriamine, isopropylamine, N, N-bis (3-aminepropyl) methylamine (N, N-bis- (3- aminepropylyl) methylamine), N, N-dimethylisopropylamine (N, N-dimethylisopropylamine), N-ethyldiisopropylamine, N-octylamine, N3-amine 3- (2-amino) Ethylamino) propylamine (N3-amine3- (2-aminoethylamino) propylam ne), propylamine, tributylamine, tripropylamine, tris- (2-ethylhexyl) amine (Tris- (2-ethylhexyl) amine), tert-butylamine, Diisopropanolamine, methyldiethanolamine, N, N-dimethylisopropanolamine (N, N-dimethylisopropanolamine), N-methylethanolamine, 2,6-xylidine (2,6-xylidine) ), N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) anily N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) aniline, ethylenediamine, isophoronediamine, ethylethanolamine, N- (2-aminoethyl) ethanolamine (N- (2) -Aminoethyl) ethanolamine), triisopropanolamine, diethylenetriamine, ethylenediamine, N- (2-amineethyl) ethanolamine (N- (2-amineethyl) 1- (1-aminomethoxylamine), methylimidazole), 1- Vinylimidazole (1-vinylimidozole), N, N-dimethylisopropanolamine (N, N-dimethylisopropanamine), N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) aniline (N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) aniline) Examples thereof include 1-methylimidazole, N, N-dimethylcyclohexylamine (N, N-dimethylcyclohexylamine), trimethylaminoethylethanolamine, and the like. These can be used alone or in combination.

前記熱硬化剤の含有量は1重量%〜10重量%でもよい。前記熱硬化剤の含有量が全体組成物に対し、1重量%未満である場合、熱硬化が十分に進行されず、塗膜の安定性が低下し、10重量%を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。 The content of the thermosetting agent may be 1% by weight to 10% by weight. When the content of the thermosetting agent is less than 1% by weight with respect to the entire composition, when the thermosetting does not proceed sufficiently, the stability of the coating film decreases and exceeds 10% by weight. Flexibility may be reduced.

[溶媒]
前記溶媒はケトン系、炭化水素系または、アルコール系溶剤を使うことができる。例えば、ケトン系溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが例に挙げれるが、それに限定されない。例えば、炭化水素系溶媒は、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソールなどが例に挙げれるが、それに限定されない。例えば、アルコール系溶剤は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノールなどであることもあるが、それに限定されない。
[solvent]
The solvent may be a ketone, hydrocarbon or alcohol solvent. Examples of the ketone solvent include, but are not limited to, acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and cycloheptanone. Examples of the hydrocarbon solvent include hexane, benzene, toluene, xylene, anisole and the like, but are not limited thereto. For example, the alcohol solvent may be methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol or the like, but is not limited thereto.

前記溶媒の含有量は、10重量%〜30重量%でもよい。前記溶媒の含有量が全体組成物に対し10重量%未満である場合、前記リターダ組成物の粘度が過度に増加し、前記位相差補償フィルム400Aの均一性が低下される可能性があり、30重量%を超過する場合、希望する前記位相差補償フィルム400Aの厚さを得難い。 The content of the solvent may be 10% by weight to 30% by weight. When the content of the solvent is less than 10% by weight based on the entire composition, the viscosity of the retarder composition may increase excessively, and the uniformity of the retardation compensation film 400A may be reduced. When the weight percentage is exceeded, it is difficult to obtain the desired thickness of the retardation compensation film 400A.

前記リターダ組成物は、光重合開始剤をさらに含むことができる。前記光重合開始剤は光によって分解され、ラジカルを生成することにより、前記光硬化性モノマの光重合を活性化する。 The retarder composition may further include a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is decomposed by light to generate radicals, thereby activating photopolymerization of the photocurable monomer.

例えば、前記光重合開始剤では、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ジエトキシアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラキノン系化合物、α−アシルオキシムエステル系化合物、フェニルグリオキシル酸系化合物、ベンジル系化合物、アゾ系化合物、ジフェニルサルファイド系化合物、アシルホスフィンオキシル系化合物、有機色素系化合物、鉄−フタロシアニン系化合物などが使われることができる。これらはそれぞれ単独でまたは混合して使われることができる。 For example, in the photopolymerization initiator, a benzoin compound, an acetophenone compound, a diethoxyacetophenone compound, a hydroxyacetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, an anthraquinone compound, an α-acyloxime ester compound, phenylglyoxyl Acid compounds, benzyl compounds, azo compounds, diphenyl sulfide compounds, acylphosphine oxyl compounds, organic dye compounds, iron-phthalocyanine compounds, and the like can be used. Each of these can be used alone or in combination.

具体的に、前記光重合開始剤では、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン(1−phenyl−2−hydroxy−2−methyl propane−1−one)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(1−hydroxy cyclohexyl phenyl ketone)、アミノアセトフェノン(amino acetophenone)、ベンジルジメチルケタール(benzyl dimethyl ketal)、安息香エーテル(benzoin ether)、チオキサントン(thioxanthone)、2−エチルアントラキノン(2−ethylanthraquinone、2−ETAQ)、カンファーキノン(camphorquinone)、アルファ−ナフトール(α−naphtol)、2、4−ジエチルチオキサントン(2、4−diethylthioxanthone)、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(trimethylbenzoil diphenylphosphine oxide)、ベンゾフェノン(benzophenone)、2、2−ジエトキシアセトフェノン(2、2−diethoxyacetophenone)、ベンゾイルイソプロピルエーテル(benzoilisopropylether)等が使われることができる。 Specifically, the photopolymerization initiator includes 1-phenyl-2-hydroxy-2-methyl propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl. 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone, amino acetophenone, benzyl dimethyl ketal, benzoin ether, thioxanthone (thioxanthone) ETAQ), camphorquinone, alpha-naphthol, 2, 4 -Diethylthioxanthone (2,4-diethylthioxanthone), trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, benzophenone, benzophenone, 2,2-diethoxyacetophenyl (2,2-diethylacetophenoyl) benzoyl ether Can be used.

前記光重合開始剤の含有量は、1重量%〜10重量%でもよい。前記光重合開始剤の含有量が全体組成物に対し1重量%未満である場合、硬化が十分に進行されず、10重量%を超過する場合、塗膜の柔軟性が低下することがある。 The content of the photopolymerization initiator may be 1% by weight to 10% by weight. When the content of the photopolymerization initiator is less than 1% by weight based on the entire composition, curing does not proceed sufficiently, and when it exceeds 10% by weight, the flexibility of the coating film may be lowered.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第1基板100に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and is applied to the first substrate 100. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Therefore, phase separation of the fluorin resin and the reactive mesogen can occur in the process of UV exposure, drying and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム400Aの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Aの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400A may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400A may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Aの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Aの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400A may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400A may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法では、スリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第1基板100を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第1基板100を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The first substrate 100 coated with the retarder coating layer can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. The first substrate 100 coated with the retarder coating layer is heated to cause a curing reaction such as a thermosetting agent and a reactive mesogen, thereby removing the solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげ、説明したがそれに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed of one layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming the retarder coating layer which consists of several layers, each retarder coating layer can be exposed to ultraviolet-ray UV of a different wavelength, respectively.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第1基板100を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現し得る。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The first substrate 100 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, the retardation coating layer may have retardation in a direction perpendicular to a direction in which ultraviolet rays are irradiated. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記第1基板100の下部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Aが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation film 400A that is disposed under the first substrate 100 and includes a fluorin resin may be formed.

前記位相差補償フィルム400Aの厚さは、10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Aの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation film 400A may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation film 400A may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Aは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400A may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記リターダ組成物の相分離が起き得る。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin may undergo phase separation of the retarder composition in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べて低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム400Aの外郭に移動することができる。すなわち、前記第1基板100の下部に隣接し、前記リターダ組成物が配置され、前記リターダ組成物の下部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム400Aの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。 Through such phase separation, the reactive mesogen containing a fluorine functional group has a lower surface energy than the reactive mesogen, and can move to the outline of the retardation compensation film 400A. That is, the retarder composition is disposed adjacent to the lower portion of the first substrate 100, and the reactive mesogen including the fluorin resin and the fluorin functional group is disposed under the retarder composition. Can do. Therefore, the hardness, antifouling property and scratch resistance of the retardation compensation film 400A can be improved.

前記液晶表示装置は、前記第1基板100の下部に配置される第1偏光板500及び前記第2基板200上に配置される第2偏光板600をさらに含むことができる。 The liquid crystal display device may further include a first polarizing plate 500 disposed under the first substrate 100 and a second polarizing plate 600 disposed on the second substrate 200.

例えば、前記第1偏光板500は、前記第1基板100の下面に付着することができる。前記第1偏光板500は、バックライトアセンブリ(未図示)から提供される光を偏光させることができる。前記第1偏光板500は、第1偏光軸を有することができる。前記第1偏光板500は、前記バックライトアセンブリから提供される光の中、前記第1偏光軸方向の光を通過させることができる。 For example, the first polarizing plate 500 may be attached to the lower surface of the first substrate 100. The first polarizer 500 can polarize light provided from a backlight assembly (not shown). The first polarizing plate 500 may have a first polarization axis. The first polarizing plate 500 may allow light in the first polarization axis direction to pass among light provided from the backlight assembly.

例えば、前記第2偏光板600は、前記第2基板500の表面に付着することができる。前記第2偏光板600は、前記カラーフィルタ層CFを通過した光を偏光させることができる。前記第2偏光板600は、第2偏光軸を有することができる。前記第2偏光軸は、前記第1偏光軸と垂直でもよい。前記第2偏光板600は、前記カラーフィルタ層CFを通過した光の中、前記第2偏光軸方向の光を通過させることができる。 For example, the second polarizing plate 600 may be attached to the surface of the second substrate 500. The second polarizing plate 600 can polarize light that has passed through the color filter layer CF. The second polarizing plate 600 may have a second polarization axis. The second polarization axis may be perpendicular to the first polarization axis. The second polarizing plate 600 can pass light in the second polarization axis direction among the light that has passed through the color filter layer CF.

本実施例に係る液晶表示装置は、前記第1偏光板500が前記第1基板100の下部に配置され、前記第2偏光板600が前記第2基板200の上部に配置されるオン−セル型(on−cell type)で説明したが、それに限定されない。それとは異なり、第1偏光板及び第2偏光板は、液晶表示装置の第1基板及び第2基板の間に配置されるイン−セル型(in−cell type)で形成されることができる。 In the liquid crystal display device according to this embodiment, the first polarizing plate 500 is disposed below the first substrate 100, and the second polarizing plate 600 is disposed above the second substrate 200. Although described in (on-cell type), it is not limited thereto. In contrast, the first polarizing plate and the second polarizing plate may be formed in an in-cell type disposed between the first substrate and the second substrate of the liquid crystal display device.

図4は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図4を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は第1基板100、第2基板200、液晶層300、位相差補償フィルム400B、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 4, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, a retardation compensation film 400B, a first polarizing plate 500, and a second polarizing plate. A polarizing plate 600 is included.

図4に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400Bの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 The liquid crystal display device according to FIG. 4 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the retardation compensation film 400B, and therefore, redundant description is omitted or simplified.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第2基板200の上部に配置される位相差補償フィルム400Bを含む。 The liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400 </ b> B disposed on the second substrate 200.

前記位相差補償フィルム400Bは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400B may include a fluorin resin.

前記第2基板200の上部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated on the second substrate 200 to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤、溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400Bは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400B may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and applied to the second substrate 200. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム400Bの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Bの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400B may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400B may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Bの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Bの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400B may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400B may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層は、表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, in the heating device, the retarder coating layer can be set to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied is heated to cause a curing reaction such as a thermosetting agent and a reactive mesogen, thereby removing the solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy.

本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed of one layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming the retarder coating layer which consists of several layers, each retarder coating layer can be exposed to ultraviolet-ray UV of a different wavelength, respectively.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The second substrate 200 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, the retarder coating layer may have retardation in a direction perpendicular to a direction in which ultraviolet rays are irradiated. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記第2基板200の上部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Bが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation film 400B disposed on the second substrate 200 and including a fluorin resin may be formed.

前記位相差補償フィルム400Bの厚さは10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Bの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation film 400B may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation film 400B may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Bは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400B may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin may undergo phase separation from the reactive mesogen in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム400Bの外郭に移動することができる。すなわち、前記第2基板200の上部に隣接し、前記反応性メソゲンが配置され、前記反応性メソゲンの上部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム400Bの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。 Through such phase separation, the reactive mesogen containing a fluorin functional group has a lower surface energy than the reactive mesogen, and can move to the outline of the retardation compensation film 400B. That is, the reactive mesogen is disposed adjacent to the top of the second substrate 200, and the reactive mesogen including the fluorin resin and the fluorin functional group is disposed on the reactive mesogen. Can do. Therefore, the hardness, antifouling property and scratch resistance of the retardation compensation film 400B can be improved.

図5は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図5を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第1基板100、第2基板200、液晶層300、位相差補償フィルム400A及び400B、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 5, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, retardation compensation films 400A and 400B, a first polarizing plate 500. And the second polarizing plate 600.

図5に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 The liquid crystal display device according to FIG. 5 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the phase difference compensation films 400A and 400B.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第1基板100の下部に配置される位相差補償フィルム400A及び前記第2基板200の上部に配置される位相差補償フィルム400Bを含む。 A liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400A disposed on a lower portion of the first substrate 100 and a retardation compensation film 400B disposed on an upper portion of the second substrate 200. .

前記位相差補償フィルム400A及び400Bは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation films 400A and 400B may include a fluorin resin.

前記第1基板100の下部及び前記第2基板200の上部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated on the lower portion of the first substrate 100 and the upper portion of the second substrate 200 to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400A及び400Bは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation films 400A and 400B may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第1基板100及び前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and is applied to the first substrate 100 and the second substrate 200. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation films 400A and 400B may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation films 400A and 400B may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400A及び400Bの硬度は2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの硬度は2H〜5Hでもよい。 The retardation compensation films 400A and 400B may have a hardness of 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation films 400A and 400B may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第1基板100及び前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第1基板100及び前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤などの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれる溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The first substrate 100 and the second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. By heating the first substrate 100 and the second substrate 200 to which the retarder coating layer is applied, a curing reaction such as a thermosetting agent is caused to remove a solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ、反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed as a single layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層はそれぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming a retarder coating layer composed of a plurality of layers, each of the retarder coating layers can be exposed to ultraviolet rays UV having different wavelengths.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第1基板100及び前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置はオーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The first substrate 100 and the second substrate 200 in which the retarder coating layer is exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, the retarder coating layer may have retardation in a direction perpendicular to a direction in which ultraviolet rays are irradiated. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記第1基板100の下部及び前記第2基板200の上部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400A及び400Bが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation films 400 </ b> A and 400 </ b> B disposed on the lower portion of the first substrate 100 and the upper portion of the second substrate 200 and including a fluorin resin may be formed.

前記位相差補償フィルム400A及び400Bの厚さは、10um以下でもよい。望ましくは前記位相差補償フィルム400A及び400Bの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation films 400A and 400B may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation films 400A and 400B may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400A及び400Bは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation films 400A and 400B may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin may undergo phase separation from the reactive mesogen in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、フルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの外郭に移動することができる。フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記第1基板100及びフルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンの間に配置される。また、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記第2基板200及びフルオリン官能基を含まない前記反応性メソゲンの間に配置される。したがって、前記位相差補償フィルム400A及び400Bの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。 Through such phase separation, the reactive mesogen containing a fluorine functional group has a lower surface energy than the reactive mesogen not containing a fluorine functional group, and moves to the outline of the retardation compensation films 400A and 400B. can do. The reactive mesogen including a fluorin functional group is disposed between the first substrate 100 and the reactive mesogen not including a fluorin functional group. In addition, the reactive mesogen including a fluorin functional group is disposed between the second substrate 200 and the reactive mesogen not including a fluorin functional group. Therefore, the hardness, antifouling property and scratch resistance of the retardation compensation films 400A and 400B can be improved.

図6は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図6を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第1基板100、第2基板200、液晶層300、ブラックマトリックスBM、前記第2基板200及び前記ブラックマトリックスBMの間に配置された位相差補償フィルム400C、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 6, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, a black matrix BM, the second substrate 200, and the black matrix. A retardation compensation film 400C, a first polarizing plate 500, and a second polarizing plate 600 are disposed between the BMs.

図6に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400Cの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 The liquid crystal display device according to FIG. 6 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the retardation compensation film 400C, and therefore, redundant description is omitted or simplified.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第2基板200及びブラックマトリックスBMの間に配置される位相差補償フィルム400Cを含む。 The liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400C disposed between the second substrate 200 and the black matrix BM.

前記位相差補償フィルム400Cは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400C may include a fluorin resin.

前記第2基板200の下部にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated under the second substrate 200 to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400Cは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400C may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and applied to the second substrate 200. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム400Cの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Cの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400C may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400C may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Cの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Cの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400C may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400C may be 2H to 5H.

このような相分離を通じ、フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンは、前記反応性メソゲンに比べ、低い表面エネルギーを有し、前記位相差補償フィルム400Cの外郭に移動することができる。すなわち、前記第2基板200の下部に隣接し、前記反応性メソゲンが配置され、前記反応性メソゲンの下部に前記フルオリン樹脂及び前記フルオリン官能基を含む前記反応性メソゲンが配置される構造を有することができる。したがって、前記位相差補償フィルム400Cの硬度、防汚性及び耐スクラッチ性が向上することができる。 Through such phase separation, the reactive mesogen containing a fluorine functional group has a lower surface energy than the reactive mesogen, and can move to the outline of the retardation compensation film 400C. That is, the reactive mesogen is disposed adjacent to the lower portion of the second substrate 200, and the reactive mesogen including the fluorin resin and the fluorin functional group is disposed under the reactive mesogen. Can do. Therefore, the hardness, antifouling property and scratch resistance of the retardation compensation film 400C can be improved.

前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際に粘性は、1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤などの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれる溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. By heating the second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied, a curing reaction such as a thermosetting agent can be caused, and the solvent contained in the retarder coating layer can be removed.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed as a single layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層はそれぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming a retarder coating layer composed of a plurality of layers, each of the retarder coating layers can be exposed to ultraviolet rays UV having different wavelengths.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じて前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The second substrate 200 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, retardation can be generated in the retarder coating layer in a direction perpendicular to a direction irradiated with ultraviolet rays. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記第2基板200の下部に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Cが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation film 400C including a fluorin resin disposed under the second substrate 200 may be formed.

前記位相差補償フィルム400Cの厚さは、10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Cの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation film 400C may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation film 400C may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Cは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400C may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で相分離が起きることができる。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin can undergo phase separation in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

図7は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図7を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は第1基板100、第2基板200、液晶層300、ブラックマトリックスBM上に配置された位相差補償フィルム400D、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 7, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, a retardation compensation film 400D disposed on a black matrix BM, A first polarizing plate 500 and a second polarizing plate 600 are included.

図7に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400Dの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 Since the liquid crystal display device according to FIG. 7 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the retardation compensation film 400D, the redundant description is omitted or simplified.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記ブラックマトリックスBM上に配置される位相差補償フィルム400Dを含む。前記ブラックマトリックスBMは、前記第2基板200の上に配置され、前記位相差補償フィルム400Dは、前記第2基板200の上に配置された前記ブラックマトリックスBM上に配置される。 A liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400D disposed on the black matrix BM. The black matrix BM is disposed on the second substrate 200, and the retardation compensation film 400D is disposed on the black matrix BM disposed on the second substrate 200.

前記位相差補償フィルム400Dは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400D may include a fluorin resin.

前記ブラックマトリックスBM上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated on the black matrix BM to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400Dは、硬度を向上させ、防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400D may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and applied to the second substrate 200. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に、前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。これに対し、前記位相差補償フィルム400Dの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Dの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400D may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400D may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Dの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Dの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400D may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400D may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法では、スリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied is heated to cause a curing reaction such as a thermosetting agent and a reactive mesogen, thereby removing the solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed as a single layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

これとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast to this, the retarder coating layer may be formed in a structure composed of a plurality of layers. When forming the retarder coating layer which consists of several layers, each retarder coating layer can be exposed to ultraviolet-ray UV of a different wavelength, respectively.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The second substrate 200 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, a retardation can be developed in the direction perpendicular to the direction irradiated with ultraviolet rays in the retarder coating layer. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記ブラックマトリックスBM上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Dが形成されることができる。
前記位相差補償フィルム400Dの厚さは10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Dの厚さは5um以下でもよい。
Through the heat treatment, the retardation compensation film 400D that is disposed on the black matrix BM and includes a fluorin resin may be formed.
The thickness of the retardation compensation film 400D may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation film 400D may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Dは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400D may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起きることができる。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin can undergo phase separation from the reactive mesogen in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

図8は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 8 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図8を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置は、第1基板100、第2基板200、液晶層300、第2オーバーコーティング層210上に配置された位相差補償フィルム400E、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 8, the liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a phase difference disposed on a first substrate 100, a second substrate 200, a liquid crystal layer 300, and a second overcoating layer 210. A compensation film 400E, a first polarizing plate 500, and a second polarizing plate 600 are included.

図8に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400Eの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 The liquid crystal display device according to FIG. 8 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the retardation compensation film 400E, and therefore, redundant description is omitted or simplified.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記第2オーバーコーティング層210上に配置される位相差補償フィルム400Eを含む。前記第2オーバーコーティング層210は、前記第2基板200の上に配置され、前記位相差補償フィルム400Eは、前記第2基板200の上に配置された第2オーバーコーティング層210上に配置される。 The liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400E disposed on the second overcoating layer 210. The second overcoating layer 210 is disposed on the second substrate 200, and the retardation compensation film 400E is disposed on the second overcoating layer 210 disposed on the second substrate 200. .

前記位相差補償フィルム400Eは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400E may include a fluorin resin.

前記第2オーバーコーティング層210上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated on the second overcoating layer 210 to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400Eは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400E may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれ、前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is included in the retarder composition and applied to the second substrate 200. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム400Eの表面エネルギーは、25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Eの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400E may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400E may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Eの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Eの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400E may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400E may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied is heated to cause a curing reaction such as a thermosetting agent and a reactive mesogen, thereby removing the solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed as a single layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming the retarder coating layer which consists of several layers, each retarder coating layer can be exposed to ultraviolet-ray UV of a different wavelength, respectively.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置は、オーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には、紫外線が照射された方向に対し、垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The second substrate 200 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, retardation can be generated in the retarder coating layer in a direction perpendicular to the direction irradiated with ultraviolet rays. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記第2オーバーコーティング層210上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Eが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation film 400E including the fluorin resin disposed on the second overcoating layer 210 may be formed.

前記位相差補償フィルム400Eの厚さは、10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Eの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation film 400E may be 10 μm or less. Preferably, the thickness of the retardation compensation film 400E may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Eは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400E may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin may undergo phase separation from the reactive mesogen in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

図9は、本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置の断面図である。 FIG. 9 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図9を参照すれば、本発明の例示的な実施例に係る前記液晶表示装置銀第1基板100、第2基板200、液晶層300、共通電極CE上に配置された位相差補償フィルム400F、第1偏光板500及び第2偏光板600を含む。 Referring to FIG. 9, the liquid crystal display device silver first substrate 100, the second substrate 200, the liquid crystal layer 300, the retardation compensation film 400F disposed on the common electrode CE according to an exemplary embodiment of the present invention, A first polarizing plate 500 and a second polarizing plate 600 are included.

図9に係る前記液晶表示装置は、前記位相差補償フィルム400Fの構成を除いては図3に係る液晶表示装置と実質的に同一なので、重複する説明は省略したり簡略する。 The liquid crystal display device according to FIG. 9 is substantially the same as the liquid crystal display device according to FIG. 3 except for the configuration of the retardation compensation film 400F.

本発明の例示的な実施例に係る液晶表示装置は、前記共通電極CE上に配置される位相差補償フィルム400Fを含む。前記共通電極CEは、前記第2基板200上に配置され、前記位相差補償フィルム400Fは、前記第2基板200の上に配置された前記共通電極CE上に配置される。 The liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a retardation compensation film 400F disposed on the common electrode CE. The common electrode CE is disposed on the second substrate 200, and the retardation compensation film 400F is disposed on the common electrode CE disposed on the second substrate 200.

前記位相差補償フィルム400Fは、フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400F may include a fluorin resin.

前記共通電極CE上にフルオリン樹脂を含むリターダ組成物を塗布(coating)し、リターダコーティング層を形成する。 A retarder composition including a fluorin resin is coated on the common electrode CE to form a retarder coating layer.

前記リターダ組成物は、フルオリン樹脂、反応性メソゲン、光硬化性モノマ、熱硬化剤及び溶媒を含む。 The retarder composition includes a fluorin resin, a reactive mesogen, a photocurable monomer, a thermosetting agent, and a solvent.

前記位相差補償フィルム400Fは、硬度を向上させて防汚性及び耐スクラッチ性を向上させるために前記フルオリン樹脂を含むことができる。 The retardation compensation film 400F may include the fluorin resin in order to improve hardness and improve antifouling properties and scratch resistance.

前記フルオリン樹脂は、前記リターダ組成物に含まれて前記第2基板200に塗布される。前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンは、表面エネルギーの差が存在する。したがって、紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記フルオリン樹脂と前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The fluorin resin is applied to the second substrate 200 by being included in the retarder composition. There is a difference in surface energy between the fluorin resin and the reactive mesogen. Accordingly, phase separation between the fluorin resin and the reactive mesogen may occur in the process of UV exposure, drying, and heat treatment.

一般的に前記反応性メソゲンの表面エネルギーは、30〜45mN/mで大きい表面エネルギーを有する。それに対し、前記位相差補償フィルム400Fの表面エネルギーは25mN/m以下でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Fの表面エネルギーは10〜25mN/mでもよい。 Generally, the surface energy of the reactive mesogen is 30 to 45 mN / m and has a large surface energy. On the other hand, the surface energy of the retardation compensation film 400F may be 25 mN / m or less. For example, the surface energy of the retardation compensation film 400F may be 10 to 25 mN / m.

前記位相差補償フィルム400Fの硬度は、2H以上でもよい。例えば、前記位相差補償フィルム400Fの硬度は2H〜5Hでもよい。 The hardness of the retardation compensation film 400F may be 2H or more. For example, the hardness of the retardation compensation film 400F may be 2H to 5H.

前記リターダ組成物を塗布する方法ではスリット、インクジェット、ロール樹脂または、スピンコーティングなどの方法が使われることができる。前記リターダ組成物は、溶液状態を成し、この際、粘性は1mPas〜50mPasの範囲を有することができる。 In the method of applying the retarder composition, a method such as slit, ink jet, roll resin, or spin coating can be used. The retarder composition is in a solution state, and the viscosity may be in the range of 1 mPas to 50 mPas.

前記リターダコーティング層を加熱する。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱装置を用い、乾燥することができる。例えば、前記加熱装置は、ホットプレートでもよい。この際、前記加熱装置は、前記リターダコーティング層を表面温度70℃〜110℃範囲の温度に設定することができる。前記リターダコーティング層が塗布された前記第2基板200を加熱することによって、熱硬化剤及び反応性メソゲンなどの硬化反応を起こし、前記リターダコーティング層の内部に含まれている溶媒を除去することができる。 The retarder coating layer is heated. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied can be dried using a heating device. For example, the heating device may be a hot plate. At this time, the heating device can set the retarder coating layer to a surface temperature in the range of 70 ° C. to 110 ° C. The second substrate 200 on which the retarder coating layer is applied is heated to cause a curing reaction such as a thermosetting agent and a reactive mesogen, thereby removing the solvent contained in the retarder coating layer. it can.

前記リターダコーティング層を紫外線UVに露出する。前記リターダコーティング層が紫外線UVに露出し、光硬化性モノマ及び反応性メソゲンの硬化反応を起こし、光学的異方性を有する。本実施例では、前記リターダコーティング層が一つの層で形成される場合を例をあげて説明したが、それに限定されない。 The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV. The retarder coating layer is exposed to ultraviolet UV, causes a curing reaction of a photocurable monomer and a reactive mesogen, and has optical anisotropy. In the present embodiment, the case where the retarder coating layer is formed of one layer has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.

それとは異なり、リターダコーティング層は、複数の層からなった構造で形成されることができる。複数の層からなったリターダコーティング層を形成する場合、それぞれのリターダコーティング層は、それぞれ異なる波長の紫外線UVに露出することができる。 In contrast, the retarder coating layer can be formed in a multi-layer structure. When forming the retarder coating layer which consists of several layers, each retarder coating layer can be exposed to ultraviolet-ray UV of a different wavelength, respectively.

前記リターダコーティング層を熱処理する。前記リターダコーティング層が紫外線に露出させた前記第2基板200を燒成装置を用い、熱処理することができる。例えば、前記燒成装置はオーブンでもよい。この際、前記燒成装置の内部温度を110℃〜130℃範囲温度に設定することができる。前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層の内部には、紫外線が照射された方向に対して垂直な方向にリタデイションが発現することができる。また、前記熱処理を通じ、前記リターダコーティング層が完全に硬化し、前記光学的異方性が増幅される。 The retarder coating layer is heat treated. The second substrate 200 having the retarder coating layer exposed to ultraviolet rays can be heat-treated using a deposition apparatus. For example, the generating apparatus may be an oven. At this time, the internal temperature of the generating apparatus can be set to a temperature ranging from 110 ° C to 130 ° C. Through the heat treatment, retardation can be generated in the retarder coating layer in a direction perpendicular to a direction irradiated with ultraviolet rays. Further, through the heat treatment, the retarder coating layer is completely cured and the optical anisotropy is amplified.

前記熱処理を通じ、前記共通電極CE上に配置され、フルオリン樹脂を含む前記位相差補償フィルム400Fが形成されることができる。 Through the heat treatment, the retardation compensation film 400 </ b> F disposed on the common electrode CE and including a fluorin resin may be formed.

前記位相差補償フィルム400Fの厚さは10um以下でもよい。望ましく、前記位相差補償フィルム400Fの厚さは5um以下でもよい。 The thickness of the retardation compensation film 400F may be 10 μm or less. The thickness of the retardation compensation film 400F may be 5 um or less.

前記位相差補償フィルム400Fは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことができる。 The retardation compensation film 400F may further include a reactive mesogen having a fluorin functional group.

前記反応性メソゲンは、一つ以上の前記官能基にフルオリンを含むことができる。前記フルオリンを含む前記反応性メソゲンは、前記フルオリン樹脂と同様に紫外線露出、乾燥及び熱処理を経る過程で前記反応性メソゲンとの相分離が起き得る。 The reactive mesogen may include fluorin in one or more of the functional groups. The reactive mesogen containing the fluorin may undergo phase separation from the reactive mesogen in the process of being exposed to ultraviolet light, dried and heat-treated in the same manner as the fluorin resin.

基板上に直接位相差補償フィルムを形成するので偏光板の製造費用を減らせ、補償フィルムの厚さを薄く形成でき、セルの厚さを減らすための基板のエッチング工程を省略することができる。したがって、製造費用が減少し、生産性が向上することができる。液晶注入の前に位相差補償フィルムを硬化し、液晶の損傷を防止することができ、液晶表示装置の表示品質が向上することができる。 Since the retardation compensation film is directly formed on the substrate, the manufacturing cost of the polarizing plate can be reduced, the thickness of the compensation film can be reduced, and the substrate etching process for reducing the thickness of the cell can be omitted. Therefore, manufacturing cost can be reduced and productivity can be improved. The retardation compensation film can be cured before liquid crystal injection to prevent the liquid crystal from being damaged, and the display quality of the liquid crystal display device can be improved.

以上では実施例を参照して説明したが、当該技術分野の熟練した通常の技術者は下記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から抜け出さない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させる可能性があることを理解できるはずである。 Although the above description has been made with reference to the embodiments, ordinary engineers skilled in the art can make various modifications of the present invention within the scope and spirit of the present invention described in the following claims. It should be understood that modifications and changes are possible.

本発明の実施例に係る液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法は、多様な形態の液晶表示装置、有機発光表示装置などに適用されることができる。 The liquid crystal display device and the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the embodiments of the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices, organic light emitting display devices, and the like.

100第1基板
110ゲート絶縁層
120データ絶縁層
130第1オーバーコーティング層
200第2基板
210第2オーバーコーティング層
300液晶層
400A、400B、400C、400D、400E、400F 位相差補償フィルム
500、600 第1偏光板、第2偏光板
PE 画素電極
CE 共通電極
BM ブラックマトリックス
CF カラーフィルタ層
D1、D2 第1方向、第2方向
100 first substrate 110 gate insulating layer 120 data insulating layer 130 first overcoating layer 200 second substrate 210 second overcoating layer 300 liquid crystal layer 400A, 400B, 400C, 400D, 400E, 400F retardation compensation film 500, 600 first 1 polarizing plate, 2nd polarizing plate PE pixel electrode CE common electrode BM black matrix CF color filter layer D1, D2 1st direction, 2nd direction

Claims (10)

第1基板と、
前記第1基板に対向する第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に配置される液晶層と、
前記第1基板の一面に形成され、フルオリン樹脂を含む位相差補償フィルムを含む液晶表示装置。
A first substrate;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate;
A liquid crystal display device comprising a retardation compensation film formed on one surface of the first substrate and containing a fluorin resin.
前記位相差補償フィルムの表面部のフルオリン元素比率が全体元素比率に対し20原子%〜30原子%であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the fluorin element ratio in the surface portion of the retardation compensation film is 20 atomic% to 30 atomic% with respect to the total element ratio. 前記フルオリン樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン(PolyTetraFluoro Ethylene;PTFE)、フルオリンエチレンプロピレン(fluorinated ethylene propylene;FEP)、ペルフルオロアルコキシ(perfluoro alkoxy;PFA)、エチレン−テトラフルオロエチレン(ethylene−Tetrafluoro ethylene;ETFE)、ポリフッ化ビニリデン(polyvinyliden fluoride;PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン(ethylene−chlorotrifluoro ethylene;ECTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(polychlorotrifluoro ethylene;PCTFE)及びこれらの組合からなったグループで1つ以上選択されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The fluorin resin may be polytetrafluoroethylene (PTFE), fluorinated ethylene propylene (FEP), perfluoroalkoxy (PFA), ethylene-tetrafluoroethylene (ethylene ET), or the like. , Polyvinylidene fluoride (PVDF), ethylene-chlorotrifluoroethylene (ECTFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) The liquid crystal display device according to claim 1, wherein at least one selected from a group consisting of these and combinations thereof is selected. 前記位相差補償フィルムは、前記第1基板の下部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation compensation film is disposed under the first substrate. 前記位相差補償フィルムは、前記第2基板の上部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation compensation film is disposed on an upper portion of the second substrate. 前記位相差補償フィルムは、前記第1基板の下部及び前記第2基板の上部に配置されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation compensation film is disposed on a lower portion of the first substrate and an upper portion of the second substrate. 前記位相差補償フィルムは、フルオリン官能基を有する反応性メソゲンをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation compensation film further includes a reactive mesogen having a fluorin functional group. 前記位相差補償フィルムの厚さは、10um以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a thickness of the retardation compensation film is 10 μm or less. 前記位相差補償フィルムの硬度は、2H以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the retardation compensation film has a hardness of 2H or more. 前記位相差補償フィルムの表面エネルギーは、25mN/m以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。


The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a surface energy of the retardation compensation film is 25 mN / m or less.


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