JP2015055681A - Sticking apparatus - Google Patents

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哲 友枝
由起 喜多
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由起 喜多
豊治 寺田
Toyoji Terada
豊治 寺田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sticking apparatus capable of accurately sticking even a base material having distortion.SOLUTION: There is provided a sticking apparatus which sticks a first base material having a plurality of straight patterns extending at least in a specific direction and flexibility, and a second base material having a plurality of straight patterns extending at least in a specific direction. The apparatus comprises a base material holding part which has a plurality of gripping units which have a base material mount surface on which a part of the first base material is mounted and grip the first base material, and a plurality of gripping unit moving means for moving a part or all of the gripping units in a direction parallel with the base material mount surface, and holds the first base material by gripping the first base material by each gripping unit. The sticking apparatus has a correction mode in which the gripping unit moves while gripping the first base material and thereby the base material holding part corrects the first base material by pulling and deforming. By the correction mode, an extending direction and an arrangement interval of the straight pattern of the first base material in sticking base materials are corrected to the same state as an extending direction and an arrangement interval of the straight pattern of the second base material to stick the base materials.

Description

本発明は、互いにパターンが設けられた２つの基材を貼り付ける貼り付け装置に関するものである。   The present invention relates to a pasting device for pasting two substrates each having a pattern.

たとえばフィルムのような基材を用いてディスプレイを製造する際には、基材上に設けられた素材を保護するため、または製品の視認性を高めるため、または、新たな機能を付加するためにラミネートを行うことがある。   For example, when manufacturing a display using a substrate such as a film, in order to protect the material provided on the substrate, to increase the visibility of the product, or to add a new function May be laminated.

このように新たな機能を付加するためにラミネートを行う例として、レンチキュラーレンズフィルムの貼り付けがある。図１１（ａ）に示すように、表面に微細な細長いカマボコ状の凸レンズ（レンチキュラーレンズ９１）が無数に並んだレンチキュラーレンズフィルム９２を基材Ｗの上に貼り付け、基材Ｗにレンチキュラー画像と呼ばれる画像を表示売る画素９３を設けることにより、見る角度によって絵柄が変わる画像、３Ｄ効果のある画像などを得ることができる。   As an example of performing lamination in order to add a new function in this way, there is a pasting of a lenticular lens film. As shown in FIG. 11 (a), a lenticular lens film 92 in which countless fine long and narrow convex lenses (lenticular lenses 91) are arranged on the surface is attached on the substrate W, and the lenticular image and By providing the pixel 93 for displaying and selling an image called an image, an image whose design changes depending on the viewing angle, an image having a 3D effect, and the like can be obtained.

このような基材同士の貼り付けは、従来たとえば下記特許文献１に示すような貼り付け装置が用いられて片方の基材にもう片方の基材を転写することにより行われる。   The pasting of such base materials is performed by transferring the other base material to one base material by using a pasting apparatus as shown in Patent Document 1 below, for example.

特開平８−１６０２１５号公報JP-A-8-160215

しかし、上記特許文献１に記載された貼り付け装置などでただ単に片方の基材にもう片方の基材を転写するだけでは、製品が期待する機能を有しないおそれがあった。具体的には、貼り付けが実施される前にフィルムなどの基材Ｗに熱処理が行われていた場合、その基材Ｗが収縮している場合があり、このように片方の基材が収縮した状態のまま貼り付けが行われると、図１１（ｂ）に示すように基材上に設けられた画素９３とレンチキュラーレンズ９１との位置関係にずれが生じてしまい、このようなディスプレイではいわゆるクロストークが発生し、３Ｄ効果などが満足に得られない状態となってしまう。   However, there is a possibility that the product does not have the function expected by simply transferring the other base material to one base material with the attaching device described in Patent Document 1 above. Specifically, when heat treatment is performed on the substrate W such as a film before the pasting is performed, the substrate W may be contracted, and one of the substrates is thus contracted. If pasting is performed in this state, the positional relationship between the pixel 93 and the lenticular lens 91 provided on the base material is shifted as shown in FIG. Crosstalk occurs and the 3D effect cannot be obtained satisfactorily.

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、歪みが生じた基材に対しても、精度良く貼り付けを行うことが可能な貼り付け装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and provides a pasting apparatus capable of performing pasting with high accuracy even on a substrate having distortion. It is an object.

上記課題を解決するために本発明の貼り付け装置は、少なくとも特定方向に延びる複数のストレートパターンを有し可撓性を有する第１の基材と、少なくとも特定方向に延びる複数のストレートパターンを有する第２の基材とを貼り付ける貼り付け装置であって、前記第１の基材の一部を載置する基材載置面を有して前記第１の基材を把持する複数の把持ユニットと、一部もしくは全ての前記把持ユニットを前記基材載置面と平行な方向に移動させる複数の把持ユニット移動手段とを有し、それぞれの前記把持ユニットが前記第１の基材を把持することで前記第１の基材を保持する基材保持部を備え、前記把持ユニットが前記第１の基材を把持しながら移動することにより、前記基材保持部が前記第１の基材を引っ張り変形させて矯正する矯正モードを有し、前記矯正モードによって、貼り付けの際の前記第１の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔を前記第２の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔と同じになるように矯正して、貼り付けることを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, a sticking apparatus of the present invention has a first base material having a plurality of straight patterns extending at least in a specific direction and having flexibility, and a plurality of straight patterns extending at least in a specific direction. A pasting device for pasting a second base material, wherein the gripping device has a base material placement surface on which a part of the first base material is placed and grips the first base material. A unit and a plurality of gripping unit moving means for moving part or all of the gripping units in a direction parallel to the substrate mounting surface, and each gripping unit grips the first base material. A base material holding part for holding the first base material, and the gripping unit moves while gripping the first base material so that the base material holding part moves to the first base material. To correct by pulling and deforming And the straightening direction and the arrangement interval of the straight pattern of the first substrate at the time of pasting are the same as the extending direction and the arrangement interval of the straight pattern of the second substrate. It is characterized by being corrected and pasted.

上記貼り付け装置によれば、把持ユニットが前記第１の基材を把持しながら移動することにより、基材保持部が第１の基材を引っ張り変形させて矯正する矯正モードを有し、矯正モードによって、貼り付けの際の第１の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔を第２の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔と同じになるように矯正して、貼り付けることにより、歪みが生じた基材に対しても、それを矯正して精度良く貼り付けを行うことができる。   According to the above-mentioned pasting device, the substrate holding unit has a correction mode in which the first substrate is pulled and deformed to correct by moving the grasping unit while grasping the first substrate. Depending on the mode, the direction and arrangement interval of the straight pattern of the first base material during pasting are corrected so as to be the same as the direction and arrangement interval of the straight pattern of the second base material, and then pasted. Thus, even a base material in which distortion has occurred can be corrected and pasted with high accuracy.

また、前記矯正モードにおいて、前記第１の基材上に配置された４つのアライメント対象が形成する四辺形の１組の対辺が前記第２の基材のストレートパターンの延びる方向と平行となる状態に矯正すると良い。   In the correction mode, a pair of opposite sides of the quadrilateral formed by the four alignment objects arranged on the first base is parallel to the direction in which the straight pattern of the second base extends. It is good to correct it.

このようにすることにより、基材面内の一方向において第１の基材のストレートパターンの配列方向と第２の基材のストレートパターンの配列方向とを同じとすることができるため、細長いパターン同士の位置を合わせて貼り付けを行う場合など、少なくとも一方向の位置合わせが必要な場合に精度良く貼り付けを行うことができる。   By doing in this way, since the arrangement direction of the straight pattern of the first substrate and the arrangement direction of the straight pattern of the second substrate can be made the same in one direction in the substrate surface, the elongated pattern For example, when affixing is performed by aligning the positions of each other, it is possible to perform affixing with high accuracy when alignment in at least one direction is required.

また、複数の前記把持ユニット移動手段は、一対の前記把持ユニット移動手段を複数対組み合わせたものであり、対となる前記把持ユニット移動手段は、それぞれ同一の前記把持ユニットを同一の方向に移動させるようにすると良い。   The plurality of gripping unit moving means is a combination of a plurality of pairs of gripping unit moving means, and the paired gripping unit moving means respectively move the same gripping unit in the same direction. It is good to do so.

このようにすることにより、少ない個数の把持ユニット移動手段で様々な方向に基材を変形させることが可能である。すなわち、一対の把持ユニット移動手段による把持ユニットの移動距離に差異を持たせることによって、把持ユニットは回転方向にも移動することができ、基材を直線方向だけでなく回転方向にも変形させることが可能である。また、対となる把持ユニット移動手段の設置間隔を大きくするほど、把持ユニットの回転の分解能を細かくすることができ、精密な回転動作をさせることが可能となる。   By doing so, it is possible to deform the substrate in various directions with a small number of gripping unit moving means. That is, by providing a difference in the distance of movement of the gripping unit by the pair of gripping unit moving means, the gripping unit can move in the rotational direction, and the base material can be deformed not only in the linear direction but also in the rotational direction. Is possible. Further, as the installation interval of the gripping unit moving means to be paired is increased, the resolution of rotation of the gripping unit can be made finer and a precise rotation operation can be performed.

本発明の貼り付け装置によれば、歪みが生じた基材に対しても、精度良く貼り付けを行うことが可能である。   According to the pasting apparatus of the present invention, it is possible to perform pasting with high accuracy even on a base material in which distortion has occurred.

本発明の一実施形態における貼り付け装置の概略図である。It is the schematic of the sticking apparatus in one Embodiment of this invention. 本実施形態における基材の貼り付け方法の概略図である。It is the schematic of the sticking method of the base material in this embodiment. 本実施形態における基材保持部の概略図である。It is the schematic of the base material holding | maintenance part in this embodiment. 基材上のパターンの配列を表す概略図である。It is the schematic showing the arrangement | sequence of the pattern on a base material. パターンの配列の矯正過程の一部を表す概略図である。It is the schematic showing a part of correction process of the arrangement | sequence of a pattern. パターンの配列の矯正過程の一部を表す概略図である。It is the schematic showing a part of correction process of the arrangement | sequence of a pattern. パターンの配列の矯正過程の一部を表す概略図である。It is the schematic showing a part of correction process of the arrangement | sequence of a pattern. 矯正した後のパターンの配列を表す概略図である。It is the schematic showing the arrangement | sequence of the pattern after correcting. 他の実施形態における基材保持部の概略図である。It is the schematic of the base material holding | maintenance part in other embodiment. 貼り付け方法を説明するフロー図である。It is a flowchart explaining the sticking method. レンチキュラーレンズの貼り付け例を表す概略図である。It is the schematic showing the example of affixing a lenticular lens.

本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。   Embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の一実施形態における貼り付け装置を図１に示す。   FIG. 1 shows a pasting apparatus according to an embodiment of the present invention.

貼り付け装置１は、矯正部２、転写部３を有しており、矯正部２に載置された可撓性を有する第１の基材Ｗ１を引っ張って矯正した後、転写部３によって第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２を転写して貼り付ける。なお、貼り付け装置１が第１の基材Ｗ１を引っ張って矯正する動作行うことを矯正モード、貼り付け装置１が第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２を貼り付ける動作を行うことを貼り付けモードと呼び、貼り付け装置１は、矯正モードの実施後、貼り付けモードが行われるように図示しない制御装置により制御されている。   The affixing device 1 includes a correction unit 2 and a transfer unit 3. After the first substrate W 1 having flexibility placed on the correction unit 2 is pulled and corrected, the transfer unit 3 performs the first correction. The 2nd base material W2 is transcribe | transferred and affixed on 1 base material W1. Note that the bonding device 1 performs an operation of pulling and correcting the first base material W1, and the bonding device 1 performs an operation of attaching the second base material W2 to the first base material W1. Is called a pasting mode, and the pasting apparatus 1 is controlled by a control device (not shown) so that the pasting mode is performed after the correction mode is performed.

ここで、本実施形態では、第１の基材Ｗ１は所定の大きさに切断されたフィルム基板であり、熱処理などの影響により歪みが生じている。また、第２の基材Ｗ２は、両端部がロール状に巻かれている帯状のフィルムであり、歪みは生じていない。   Here, in this embodiment, the 1st base material W1 is a film substrate cut | disconnected by the predetermined magnitude | size, and distortion has arisen by the influence of heat processing. Moreover, the 2nd base material W2 is a strip | belt-shaped film by which both ends are wound by roll shape, and the distortion has not arisen.

また、第１の基材Ｗ１および第２の基材Ｗ２には、特定方向に延びる複数のストレートパターンを有しており、貼り付け装置１は、貼り付けの際の第１の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔を第２の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔と同じになるように第１の基材Ｗ１を矯正して、貼り付ける。ここで、ストレートパターンとは、図１に示したような特定方向に長い１個のパターンであっても良く、小さなパターンが特定方向に連なった集合体であっても構わない。また、以降の説明では、第１の基材に設けられたストレートパターンを第１のパターン、第２の基材に設けられたストレートパターンを第２のパターンと呼ぶ。   Further, the first base material W1 and the second base material W2 have a plurality of straight patterns extending in a specific direction, and the sticking device 1 is a straight of the first base material at the time of sticking. The first substrate W1 is corrected and pasted so that the pattern extending direction and the arrangement interval are the same as the straight pattern extending direction and the arrangement interval of the second substrate. Here, the straight pattern may be one pattern long in a specific direction as shown in FIG. 1, or may be an aggregate in which small patterns are continuous in a specific direction. In the following description, the straight pattern provided on the first substrate is referred to as a first pattern, and the straight pattern provided on the second substrate is referred to as a second pattern.

また、図１では第２のパターンＰ２は上下方向に立っているが、転写部３のロール８に沿って向きが変化し、第１の基材Ｗ１と第２の基材Ｗ２との貼り付けの際は、第２のパターンＰ２は第１のパターンＰ１と同じように横方向に寝た状態となる。なお、以降の説明では、貼り付けの際の第２のパターンの延びる方向をＸ軸方向、水平面上でＸ軸方向と直交する方向（すなわち、第２のパターンの配列方向）をＹ軸方向、Ｘ軸方向とＹ軸方向の両方と直交する方向（すなわち、鉛直方向）をＺ軸方向とする。   Further, in FIG. 1, the second pattern P2 stands in the vertical direction, but the direction changes along the roll 8 of the transfer unit 3, and the first base material W1 and the second base material W2 are attached. In this case, the second pattern P2 is in a state of lying in the horizontal direction in the same manner as the first pattern P1. In the following description, the extending direction of the second pattern at the time of pasting is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction on the horizontal plane (that is, the arrangement direction of the second pattern) is the Y-axis direction, A direction (that is, a vertical direction) orthogonal to both the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as a Z-axis direction.

矯正部２は、基材保持部６と認識部７とを有し、基材保持部６が載置した第１の基材Ｗ１を引っ張って矯正する。このように基材保持部６が第１の基材Ｗ１の矯正を行うにあたり、あらかじめ認識部７が第１の基材に設けられたアライメントマークの座標を認識し、図示しない制御装置がこの座標値をもとに、どのように第１の基材を矯正するのかを判断する。また、基材保持部６を移動させる図示しない移動機構を有し、矯正モードの際は第１の基材Ｗ１が認識部７の直下にあるように、また、貼り付けモードの際は第１の基材Ｗ１が後述する転写部３のロール８の直下にあるように、基材保持部６の位置を制御している。   The correction unit 2 includes a base material holding unit 6 and a recognition unit 7, and pulls the first base material W1 on which the base material holding unit 6 is placed to correct it. Thus, when the base material holding part 6 corrects the first base material W1, the recognition part 7 recognizes the coordinates of the alignment mark provided on the first base material in advance, and a control device (not shown) Based on the value, it is determined how to correct the first substrate. Further, it has a movement mechanism (not shown) for moving the base material holding unit 6 so that the first base material W1 is directly below the recognition unit 7 in the correction mode, and the first in the pasting mode. The position of the base material holding part 6 is controlled so that the base material W1 is directly below the roll 8 of the transfer part 3 described later.

なお、基材保持部６の構成は後述する。   In addition, the structure of the base material holding | maintenance part 6 is mentioned later.

認識部７は、カメラガントリ１２に搭載されたカメラ１１と、カメラ１１をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させる図示しない駆動装置とを有している。   The recognition unit 7 includes a camera 11 mounted on the camera gantry 12 and a drive device (not shown) that moves the camera 11 in the X-axis direction and the Y-axis direction.

カメラ１１は、例えばＣＣＤカメラであり、第１の基材Ｗ１に設けられてる第１のパターンＰ１および後述のアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４を撮像する。駆動装置は、カメラガントリ１２をＸ軸方向に移動させる機能と、カメラ１１をカメラガントリ１２に沿ってＹ軸方向に移動させる機能とを有し、例えばリニアガイドおよびモータ等によって構成される。また、認識部７の下方には、基材保持部６が設けられており、この基材保持部６が第１の基材Ｗ１を保持した状態において、第１のパターンＰ１およびアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の撮像が行われる。   The camera 11 is, for example, a CCD camera and images a first pattern P1 provided on the first base material W1 and alignment marks AM1 to AM4 described later. The drive device has a function of moving the camera gantry 12 in the X-axis direction and a function of moving the camera 11 along the camera gantry 12 in the Y-axis direction, and is configured by, for example, a linear guide and a motor. In addition, a substrate holding unit 6 is provided below the recognition unit 7, and the first pattern P1 and the alignment marks AM1 to AM1 in a state where the substrate holding unit 6 holds the first substrate W1. Imaging of the alignment mark AM4 is performed.

また、認識部７は、駆動装置およびカメラ１１と関連して機能する図示しない座標取得部を備えており、この座標取得部は、カメラ１１が撮像した画像を処理する機能を有するほか、駆動装置によって移動したカメラ１１のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置（座標）を制御（管理）する。このため、カメラ１１によって取得された画像に基づいて、座標取得部は第１のパターンＰ１およびアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の座標を取得することができ、その座標値をもとに、後述の通り基材保持部６によって第１のパターンＰ１の配列の矯正を行うことができる。なお、座標取得部の機能は、前記制御装置のコンピュータプログラムが実行されることで発揮される。   The recognition unit 7 includes a coordinate acquisition unit (not shown) that functions in association with the drive device and the camera 11. The coordinate acquisition unit has a function of processing an image captured by the camera 11, and includes a drive device. The position (coordinates) of the camera 11 moved in the X-axis direction and the Y-axis direction is controlled (managed). Therefore, based on the image acquired by the camera 11, the coordinate acquisition unit can acquire the coordinates of the first pattern P1 and the alignment marks AM1 to AM4. The arrangement of the first pattern P1 can be corrected by the passage base material holding unit 6. In addition, the function of a coordinate acquisition part is exhibited by running the computer program of the said control apparatus.

転写部３は、ロール８および認識部９を有しており、貼り付けモードにおいて第１の基材Ｗ１を載置した基材載置部６がロール８の直下に移動した後、ロール８が回転して第２の基材Ｗ２を第１の基材Ｗ１に転写する。また、ロール８が第２の基材Ｗ２の貼り付けを行うにあたり、矯正モードによって矯正された第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とのＹ軸方向の位置合わせを行うために、あらかじめ認識部９が第２の基材に設けられたアライメントマークの座標を認識する。   The transfer unit 3 includes a roll 8 and a recognition unit 9, and after the base material placement unit 6 on which the first base material W <b> 1 is placed moves immediately below the roll 8 in the pasting mode, the roll 8 Rotate to transfer the second substrate W2 to the first substrate W1. Further, when the roll 8 attaches the second base material W2, the first pattern P1 corrected by the correction mode and the second pattern P2 are recognized in advance in order to perform alignment in the Y-axis direction. The unit 9 recognizes the coordinates of the alignment mark provided on the second base material.

ロール８は、Ｙ軸方向に中心軸を有する樹脂製の円柱状のロールであり、この中心軸を回転軸として回転動作する。第２の基材Ｗ２はこのロール８の外周部の一部に巻き付くように接しており、ロール８が回転するのに従って、滑ることなく送り出される。本実施形態では、図１においてロール８が右回転することにより、第２の基材Ｗ２は上から巻きとられて左へ送り出される。また、基材保持部６がロール８の直下に位置し、第１の基材Ｗ１とロール８の下端に接する第２の基材Ｗ２とが当接する状態においてロール８が回転することにより、ロール８が第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２を押しつけて転写する。すなわち、第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２を貼り付ける。   The roll 8 is a resin-made cylindrical roll having a central axis in the Y-axis direction, and rotates about the central axis as a rotation axis. The second base material W2 is in contact with a part of the outer peripheral portion of the roll 8 and is fed out without slipping as the roll 8 rotates. In the present embodiment, when the roll 8 rotates to the right in FIG. 1, the second base material W2 is wound from above and sent out to the left. In addition, the roll 8 rotates in a state where the base material holding portion 6 is positioned immediately below the roll 8 and the first base material W1 and the second base material W2 in contact with the lower end of the roll 8 are in contact with each other. 8 presses and transfers the second substrate W2 to the first substrate W1. That is, the 2nd base material W2 is affixed on the 1st base material W1.

認識部９は、カメラガントリ１４に搭載されたカメラ１３と、カメラ１３をＹ軸方向およびＺ軸方向に移動させる図示しない駆動装置とを有している。   The recognition unit 9 includes a camera 13 mounted on the camera gantry 14 and a driving device (not shown) that moves the camera 13 in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

カメラ１３は、例えばＣＣＤカメラであり、第２の基材Ｗ２のアライメントマークを撮像する。駆動装置は、カメラガントリ１４をＺ軸方向に移動させる機能と、カメラ１３をカメラガントリ１４に沿ってＹ軸方向に移動させる機能とを有し、例えばリニアガイドおよびモータ等によって構成される。   The camera 13 is a CCD camera, for example, and images the alignment mark of the second base material W2. The driving device has a function of moving the camera gantry 14 in the Z-axis direction and a function of moving the camera 13 along the camera gantry 14 in the Y-axis direction, and is configured by, for example, a linear guide and a motor.

また、認識部９は、駆動装置およびカメラ１３と関連して機能する図示しない座標取得部を備えており、この座標取得部は、カメラ１３が撮像した画像を処理する機能を有するほか、駆動装置によって移動したカメラ１３のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置（座標）を制御（管理）する。このため、カメラ１３によって取得された画像に基づいて、座標取得部は第２の基材Ｗ２のアライメントマークの座標を取得することができ、その座標値をもとに、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２の位置合わせを行うことができる。なお、座標取得部の機能は、前記制御装置のコンピュータプログラムが実行されることで発揮される。   The recognition unit 9 includes a coordinate acquisition unit (not shown) that functions in association with the drive device and the camera 13, and the coordinate acquisition unit has a function of processing an image captured by the camera 13, and the drive device. The position (coordinates) of the camera 13 moved in the X-axis direction and the Y-axis direction is controlled (managed). For this reason, based on the image acquired by the camera 13, the coordinate acquisition unit can acquire the coordinates of the alignment mark of the second base material W2, and based on the coordinate values, the first pattern P1 and The alignment of the second pattern P2 can be performed. In addition, the function of a coordinate acquisition part is exhibited by running the computer program of the said control apparatus.

次に、本実施形態における基材の貼り付け方法を図２に概略的に示す。なお、本実施形態では、第１の基材Ｗ１は熱処理などの影響により収縮し、後述する矯正モードによる矯正が必要であるのに対し、第２の基材Ｗ２には歪みが無く、第２の基材Ｗ２に設けられた第２のパターンＰ２は、貼り付け前は図１に示すようにＺ方向に延びているが、ローラ８により方向が変わり、貼り付けの際はＸ軸方向に延びているものとする。   Next, a method for attaching a substrate in the present embodiment is schematically shown in FIG. In the present embodiment, the first base material W1 contracts due to the influence of heat treatment or the like and needs to be corrected in a correction mode described later, whereas the second base material W2 has no distortion and the second base material W2 The second pattern P2 provided on the base material W2 extends in the Z direction as shown in FIG. 1 before being attached, but the direction is changed by the roller 8 and extends in the X-axis direction when being attached. It shall be.

図２（ａ）は、矯正モードにおける矯正部２および転写部３の様子である。基材保持部６は認識部７の直下にあり、認識部７が基材保持部６に載置された第１の基材Ｗ１のアライメントマークの座標値を認識した後、その座標値に基づいて第１の基材Ｗ１の矯正を行って、貼り付けの際の第１のパターンＷ１の延びる方向および配列間隔を第２のパターンＰ２の延びる方向および配列間隔と同じになるようにする。   FIG. 2A shows the state of the correction unit 2 and the transfer unit 3 in the correction mode. The base material holding part 6 is directly under the recognition part 7, and after the recognition part 7 recognizes the coordinate value of the alignment mark of the first base material W1 placed on the base material holding part 6, it is based on the coordinate value. Then, the first substrate W1 is corrected so that the extending direction and the arrangement interval of the first pattern W1 at the time of attachment are the same as the extending direction and the arrangement interval of the second pattern P2.

矯正モードの完了後、図２（ｂ）に示すように、第１の基材Ｗ１の端部がロール８の下端に差し掛かるように第１の基材Ｗ１を載置した基材保持部６はＸ軸方向に移動する。ここで、矯正モード完了後の第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２との間にＹ軸方向の位置ずれがあった場合、このように基材保持部６がＸ軸方向に移動している間に基材保持部６もしくはローラ８がＹ軸方向に移動し、上記位置ずれを修正する。   After completion of the straightening mode, as shown in FIG. 2 (b), the base material holder 6 on which the first base material W 1 is placed so that the end of the first base material W 1 reaches the lower end of the roll 8. Moves in the X-axis direction. Here, when there is a position shift in the Y-axis direction between the first pattern P1 and the second pattern P2 after completion of the correction mode, the base material holder 6 moves in the X-axis direction in this way. During this time, the base material holding part 6 or the roller 8 moves in the Y-axis direction, and corrects the positional deviation.

図２（ｃ）は、貼り付けモードにおける矯正部２および転写部３の様子である。ローラ８の下に第１の基材Ｗ１がある状態においてローラ８が右回転し、それと同時に基材保持部６がＸ軸方向に移動することにより、第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２をしわなど無く転写することができる。   FIG. 2C shows the correction unit 2 and the transfer unit 3 in the pasting mode. The roller 8 rotates clockwise while the first base material W1 is under the roller 8, and at the same time, the base material holder 6 moves in the X-axis direction, so that the second base material is attached to the first base material W1. The material W2 can be transferred without wrinkles.

次に、本実施形態における基材保持部６を図３に示す。図３（ａ）は、基材保持部６の上面図、図３（ｂ）は、正面図、図３（ｃ）は、側面図である。   Next, the base material holding part 6 in this embodiment is shown in FIG. 3A is a top view of the base material holding portion 6, FIG. 3B is a front view, and FIG. 3C is a side view.

基材保持部６は、複数の把持ユニットと、これら把持ユニットの一部もしくは全部を把持ユニットの基材載置面と平行な方向に移動させる把持ユニット移動手段を有しており、これら把持ユニットが第１の基材Ｗ１を把持した状態で第１の基材Ｗ１を保持し、また、把持ユニット移動手段によって把持ユニットが移動することにより、第１の基材Ｗ１を引っ張り、変形させる。   The base material holding part 6 has a plurality of gripping units and gripping unit moving means for moving part or all of these gripping units in a direction parallel to the base material placement surface of the gripping unit. Holds the first base material W1 in a state of gripping the first base material W1, and the gripping unit is moved by the gripping unit moving means, whereby the first base material W1 is pulled and deformed.

本実施形態では、複数の把持ユニットとして、矩形平板状の中央把持ユニット３１と、この中央把持ユニット３１に対してＸ軸方向に互いに対向する位置に近接して設けられている矩形平板状のＸ１把持ユニット３３およびＸ２把持ユニット３５と、中央把持ユニット３１に対してＹ軸方向に互いに対向する位置に近接して設けられている矩形平板状のＹ１把持ユニット３２およびＹ２把持ユニット３４とを有している。なお、本実施形態では、中央把持ユニット３１とＸ１把持ユニット３３とは連結されている。   In the present embodiment, as a plurality of gripping units, a rectangular flat plate-shaped central gripping unit 31 and a rectangular flat plate-shaped X1 provided in proximity to the central gripping unit 31 in positions facing each other in the X-axis direction. The gripping unit 33 and the X2 gripping unit 35, and the rectangular plate-like Y1 gripping unit 32 and the Y2 gripping unit 34 that are provided close to the center gripping unit 31 at positions facing each other in the Y-axis direction. ing. In the present embodiment, the central gripping unit 31 and the X1 gripping unit 33 are connected.

中央把持ユニット３１は、第１の基材Ｗ１と対向し、第１の基材Ｗ１を載置する面である基材載置面の面積がパターン領域Ｓの面積とほぼ等しくなるように形成されている。したがって、基材保持部６に第１の基材Ｗ１が載置されると、パターン領域Ｓは中央把持ユニット３１に載置され、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５には、パターン領域Ｓを形成する各辺の近傍部が載置される。   The central gripping unit 31 is formed so as to face the first base material W1 and have an area of the base material placement surface that is a surface on which the first base material W1 is placed substantially equal to the area of the pattern region S. ing. Therefore, when the first base material W1 is placed on the base material holder 6, the pattern region S is placed on the central gripping unit 31, and the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and In the X2 gripping unit 35, the vicinity of each side forming the pattern region S is placed.

また、中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５には、吸着部が設けられている。すなわち、それらの基材載置面にはそれぞれ複数の図示しない吸引孔が設けられており、これら吸引孔が図示しない真空源と配管を通じて接続されている。したがって、真空源を作動させることによりそれぞれの基材載置面において吸引力が発生し、第１の基材Ｗ１が中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５に吸着されて把持されるようになっている。また、図示しないバルブなどの制御により、中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸引のオンオフが個別で切り替わることが可能となっている。   Further, the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 are provided with suction portions. That is, a plurality of suction holes (not shown) are provided on the respective substrate mounting surfaces, and these suction holes are connected to a vacuum source (not shown) through a pipe. Therefore, by operating the vacuum source, a suction force is generated on each substrate mounting surface, and the first substrate W1 is moved to the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, And it is attracted and gripped by the X2 gripping unit 35. Further, the suction of the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 can be individually switched on and off by control of a valve (not shown). .

また、第１の基材Ｗ１を平坦に把持できるよう、中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の上面は、面一となっている。   Further, the upper surfaces of the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 are flush with each other so that the first substrate W1 can be gripped flatly. .

ここで、本実施形態では、中央把持ユニット３１をＸ軸方向に移動させることができるよう、把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７が中央把持ユニット３１の下面に設けられており、また、Ｙ１把持ユニット３２をＹ軸方向に移動させることができるよう、把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９がＹ１把持ユニット３２の下面に設けられている。   Here, in the present embodiment, the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 are provided on the lower surface of the central gripping unit 31 so that the central gripping unit 31 can be moved in the X-axis direction. A gripping unit moving means 38 and a gripping unit moving means 39 are provided on the lower surface of the Y1 gripping unit 32 so that the Y1 gripping unit 32 can be moved in the Y-axis direction.

把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７は、たとえばリニアガイドおよびモータ等によって構成され、それぞれ中央把持ユニット３１および中央把持ユニット３１に連結されたＸ１把持ユニット３３のＸ軸方向の移動量を制御することができる。   The gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 are constituted by, for example, a linear guide and a motor, and control the amount of movement in the X-axis direction of the central gripping unit 31 and the X1 gripping unit 33 connected to the central gripping unit 31, respectively. can do.

また、把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７は中央把持ユニット３１との間にＺ軸方向に回転軸を有するベアリング４０が設けられており、中央把持ユニット３１は把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７に対してそれぞれのベアリング４０の回転軸を中心とした回転動作をすることが許容されている。   The gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 are provided with a bearing 40 having a rotation axis in the Z-axis direction between the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37. The unit moving means 37 is allowed to rotate around the rotation axis of each bearing 40.

また、中央把持ユニット３１と把持ユニット移動手段３７との間には、載置物をＹ軸方向に移動させることが可能なスライダ４１が設けられており、中央把持ユニット３１は把持ユニット移動手段３７に対してＹ軸方向へ移動することが許容されている。   A slider 41 is provided between the central gripping unit 31 and the gripping unit moving means 37 so that the object can be moved in the Y-axis direction. The central gripping unit 31 is connected to the gripping unit moving means 37. On the other hand, it is allowed to move in the Y-axis direction.

ここで、把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７による移動量が等しい場合、中央把持ユニット３１およびＸ１把持ユニット３３はＸ軸方向にのみ移動するが、把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７による移動量が異なる場合、中央把持ユニット３１およびＸ１把持ユニット３３は、この移動量の差に基づき、Ｚ軸を回転軸とする回転方向の移動も伴う。   Here, when the movement amounts by the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 are equal, the central gripping unit 31 and the X1 gripping unit 33 move only in the X-axis direction, but the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means When the amount of movement by 37 is different, the central gripping unit 31 and the X1 gripping unit 33 are also accompanied by movement in the rotational direction with the Z axis as the rotation axis based on the difference in the amount of movement.

このように、同一の把持ユニット（中央把持ユニット３１）を同一の方向（Ｘ軸方向）に移動させる一対の把持ユニット移動手段（把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７）が設けられていることにより、少ない個数の把持ユニット移動手段で様々な方向に第１の基材Ｗ１を変形させることが可能である。また、把持ユニット移動手段３６と把持ユニット移動手段３７との間隔を大きくするほど、中央把持ユニット３１およびＸ１把持ユニット３３の回転の分解能を細かくすることができ、精密な回転動作をさせることが可能となる。   Thus, a pair of gripping unit moving means (a gripping unit moving means 36 and a gripping unit moving means 37) for moving the same gripping unit (the central gripping unit 31) in the same direction (X-axis direction) is provided. Thus, the first base material W1 can be deformed in various directions with a small number of gripping unit moving means. Further, as the distance between the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 is increased, the resolution of rotation of the central gripping unit 31 and the X1 gripping unit 33 can be made finer, and a precise rotation operation can be performed. It becomes.

ここで、中央把持ユニット３１が回転方向に移動した場合であっても、上記の通りベアリング４０が設けられていることにより、中央把持ユニット３１と把持ユニット移動手段３６および把持ユニット移動手段３７との間にねじれの負荷がかからないようになっている。   Here, even when the central gripping unit 31 moves in the rotational direction, the bearing 40 is provided as described above, so that the central gripping unit 31, the gripping unit moving means 36, and the gripping unit moving means 37 There is no twisting load between them.

また、中央把持ユニット３１における把持ユニット移動手段３６への取付け位置と把持ユニット移動手段３７への取付け位置とを結ぶ線分は、中央把持ユニット３１が回転方向に移動するにしたがって傾く。したがって、把持ユニット移動手段３６と把持ユニット移動手段３７の間隔は不変であるのに対して、中央把持ユニット３１における両取付け位置のＹ軸方向の間隔は中央把持ユニット３１が回転方向に移動するにしたがって変化する。これに対し、上記の通り片方の把持ユニット移動手段（本実施形態では把持ユニット移動手段３７）にはスライダ４１が設けられており、中央把持ユニット３１の回転方向の移動にしたがってスライダ４１が作用し、上記取付け位置のＹ軸方向の座標が変化することが許容されている。   Further, the line segment connecting the attachment position to the gripping unit moving means 36 and the attachment position to the gripping unit moving means 37 in the central gripping unit 31 is inclined as the central gripping unit 31 moves in the rotation direction. Therefore, while the distance between the gripping unit moving means 36 and the gripping unit moving means 37 is unchanged, the distance in the Y-axis direction between the mounting positions of the central gripping unit 31 is that the central gripping unit 31 moves in the rotational direction. Therefore it changes. On the other hand, as described above, one of the gripping unit moving means (the gripping unit moving means 37 in this embodiment) is provided with the slider 41, and the slider 41 acts as the central gripping unit 31 moves in the rotational direction. The coordinates of the mounting position in the Y-axis direction are allowed to change.

把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９はたとえばリニアガイドおよびモータ等によって構成され、それぞれＹ１把持ユニット３２のＹ軸方向の移動量を制御することができる。   The gripping unit moving unit 38 and the gripping unit moving unit 39 are configured by, for example, a linear guide and a motor, and can control the amount of movement of the Y1 gripping unit 32 in the Y-axis direction.

また、把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９はＹ１把持ユニット３２との間にＺ軸方向に回転軸を有するベアリング４０が設けられており、Ｙ１把持ユニット３２は把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９に対してそれぞれのベアリング４０の回転軸を中心とした回転動作をすることが許容されている。   The gripping unit moving means 38 and the gripping unit moving means 39 are provided with a bearing 40 having a rotation axis in the Z-axis direction between the gripping unit moving means 38 and the gripping unit moving means 39. The unit moving means 39 is allowed to rotate around the rotation axis of each bearing 40.

また、Ｙ１把持ユニット３２と把持ユニット移動手段３９との間には、載置物をＸ軸方向に移動させることが可能なスライダ４１が設けられており、Ｙ１把持ユニット３２は把持ユニット移動手段３９に対してＸ軸方向へ移動することが許容されている。   A slider 41 is provided between the Y1 gripping unit 32 and the gripping unit moving means 39 so that the object can be moved in the X-axis direction. The Y1 gripping unit 32 is connected to the gripping unit moving means 39. On the other hand, it is allowed to move in the X-axis direction.

ここで、把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９による移動量が等しい場合、Ｙ１把持ユニット３２はＹ軸方向にのみ移動するが、把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９による移動量が異なる場合、Ｙ１把持ユニット３２は、この移動量の差に基づき、Ｚ軸を回転軸とする回転方向の移動も伴う。   Here, when the movement amounts by the gripping unit moving means 38 and the gripping unit moving means 39 are equal, the Y1 gripping unit 32 moves only in the Y-axis direction, but the movement amounts by the gripping unit moving means 38 and the gripping unit moving means 39 are the same. If they are different, the Y1 gripping unit 32 is also accompanied by movement in the rotation direction with the Z axis as the rotation axis based on the difference in the movement amount.

ここで、Ｙ１把持ユニット３２が回転方向に移動した場合であっても、上記の通りベアリング４０が設けられていることにより、Ｙ１把持ユニット３２と把持ユニット移動手段３８および把持ユニット移動手段３９との間にねじれの負荷がかからないようになっている。   Here, even when the Y1 gripping unit 32 moves in the rotational direction, the bearing 40 is provided as described above, so that the Y1 gripping unit 32, the gripping unit moving means 38, and the gripping unit moving means 39 There is no twisting load between them.

また、Ｙ１把持ユニット３２における把持ユニット移動手段３８への取付け位置と把持ユニット移動手段３９への取付け位置とを結ぶ線分は、Ｙ１把持ユニット３２が回転方向に移動するにしたがって傾く。したがって、把持ユニット移動手段３８と把持ユニット移動手段３９の間隔は不変であるのに対して、Ｙ１把持ユニット３２における両取付け位置のＸ軸方向の間隔はＹ１把持ユニット３２が回転方向に移動するにしたがって変化する。これに対し、上記の通り片方の把持ユニット移動手段（本実施形態では把持ユニット移動手段３９）にはスライダ４１が設けられており、Ｙ１把持ユニット３２の回転方向の移動にしたがってスライダ４１が作用し、上記取付け位置のＸ軸方向の座標が変化することが許容されている。   In addition, a line segment connecting the attachment position of the Y1 gripping unit 32 to the gripping unit moving means 38 and the attachment position to the gripping unit moving means 39 is inclined as the Y1 gripping unit 32 moves in the rotation direction. Therefore, while the interval between the gripping unit moving means 38 and the gripping unit moving means 39 is unchanged, the distance in the X-axis direction between the mounting positions of the Y1 gripping unit 32 is that the Y1 gripping unit 32 moves in the rotation direction. Therefore it changes. On the other hand, as described above, one of the gripping unit moving means (the gripping unit moving means 39 in this embodiment) is provided with the slider 41, and the slider 41 acts as the Y1 gripping unit 32 moves in the rotational direction. The coordinates of the mounting position in the X-axis direction are allowed to change.

このような基材保持部６によって第１の基材Ｗ１を変形させることで、第１の基材Ｗ１上の第１のパターンＰの配列を矯正させることが可能である。そして、認識部７によりアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の座標を確認しながら基材保持部６が第１の基材Ｗ１を変形させることにより、歪み傾いていた第１のパターンＰ１の配列を、第２のパターンＰ２を有する第２の基材Ｗ２の貼り付けに適した配列に矯正することが可能である。たとえば、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２の配列およびアライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４が第１のパターンＰ１の配列と平行であるようにアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４が設計上配置されている場合、後述の通り、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２とを結ぶ線分およびアライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４とを結ぶ線分が、貼り付けの際の第２の基材Ｗ２上に配置された４つのアライメントマークが形成する四辺形の１組の対辺（本実施形態ではＸ軸方向と同一）と平行となるように第１の基材Ｗ１を変形させることにより、第１のパターンＰ１の配列を第２のパターンＰ２の配列方向と同じにすることができる。   It is possible to correct the arrangement of the first patterns P on the first base material W1 by deforming the first base material W1 by the base material holding part 6 as described above. Then, the substrate holder 6 deforms the first substrate W1 while confirming the coordinates of the alignment marks AM1 to AM4 by the recognizing unit 7, so that the arrangement of the first pattern P1 that is skewed is changed. It is possible to correct to an arrangement suitable for attaching the second base material W2 having the second pattern P2. For example, when the alignment marks AM1 to AM4 are designed so that the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 and the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are parallel to the arrangement of the first pattern P1, they will be described later. As described above, the four alignment marks in which the line segment connecting the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 and the line segment connecting the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are arranged on the second base material W2 at the time of pasting are arranged. By deforming the first base material W1 so as to be parallel to a pair of opposite sides of the quadrilateral formed by (in this embodiment, the same as the X-axis direction), the arrangement of the first pattern P1 is changed to the second It can be the same as the arrangement direction of the pattern P2.

次に、上記の構成を有する基材保持部６による矯正モード（第１のパターンＰ１の配列の矯正）の過程について、図４乃至図７を用いて説明する。なお、本実施形態では、前述の通り第１の基材Ｗ１は熱処理などの影響により収縮し、以下に説明する矯正モードによる矯正が必要であるのに対し、第２の基材Ｗ２には歪みが無く、第２の基材Ｗ２に設けられた第２のパターンＰ２は、貼り付けの際Ｘ軸方向に延びているものとする。   Next, the process of the correction mode (correction of the arrangement of the first pattern P1) by the base material holder 6 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, as described above, the first base material W1 contracts due to the influence of heat treatment or the like, and correction in the correction mode described below is necessary, whereas the second base material W2 is distorted. It is assumed that the second pattern P2 provided on the second base material W2 extends in the X-axis direction when pasting.

図４は、第１の基材Ｗ１上の第１のパターンＰ１の配列について示している。図４（ａ）は、設計上の第１のパターンＰ１の配列である。ここでは、図示し易いよう、第１のパターンＰ１は実際より大きく示している。本説明で示す第１のパターンＰ１は、Ｙ軸方向に並んでおり、これら第１のパターンＰ１の集合であるパターン領域Ｓは、図４（ａ）で鎖線で示している通り、２組の対辺がそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向を向いた長方形となっている。   FIG. 4 shows the arrangement of the first pattern P1 on the first substrate W1. FIG. 4A shows an arrangement of the first designed pattern P1. Here, for easy illustration, the first pattern P1 is shown larger than the actual pattern. The first patterns P1 shown in the present description are arranged in the Y-axis direction, and the pattern region S that is a set of the first patterns P1 includes two sets as shown by a chain line in FIG. The opposite sides are rectangles facing the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively.

しかし、樹脂などで形成された第１の基材Ｗ１に実際に設けられた第１のパターンＰ１は、形成の過程における熱や圧力等の影響で配置が歪み、図４（ｂ）に示す通り、一部において配列間隔が変化して形成されているおそれがある。この場合、パターン領域Ｓが形成する四辺形は、もはや長方形ではなくなっている。   However, the arrangement of the first pattern P1 actually provided on the first base material W1 formed of resin or the like is distorted due to the influence of heat, pressure, or the like in the formation process, as shown in FIG. In some cases, the arrangement interval may be changed. In this case, the quadrilateral formed by the pattern region S is no longer a rectangle.

このように第１のパターンＰ１の配列が歪み、図４（ｂ）に距離ｌで示したように第１のパターンＰ１の両端のＹ軸方向の位置にずれが生じると、第１の基材Ｗ１を第２の基材Ｗ２と貼り合わせたとき、本来第１のパターンＰ１が第２のパターンＰ２と対向するべきものが、位置ずれを起こしてしまうおそれがある。   When the arrangement of the first pattern P1 is distorted in this way and the positions in the Y-axis direction at both ends of the first pattern P1 are shifted as shown by the distance l in FIG. When W1 is bonded to the second base material W2, the first pattern P1 that should originally face the second pattern P2 may be displaced.

そこで、本発明では、以下の過程を経て第１のパターンＰ１の配列の矯正を基材保持部６が行い、全ての第１のパターンＰ１が第２のパターンＰ２に対向して貼り付けられるようにしている。なお、矯正の条件は、第１の基材Ｗ１上に配置されたアライメント対象の座標により、決定される。   Therefore, in the present invention, the substrate holder 6 corrects the arrangement of the first pattern P1 through the following process so that all the first patterns P1 are attached to face the second pattern P2. I have to. The correction condition is determined by the coordinates of the alignment target placed on the first base material W1.

このアライメント対象として、本実施形態では、アライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４がパターン領域Ｓの四隅近傍に設けられている。これらアライメントマークは、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２とが第１のパターンＰ１の配列方向と平行に設計上配置されており、また、アライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４は、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２の配列方向と平行に設計上配置されている。   In this embodiment, alignment marks AM1 to AM4 are provided in the vicinity of the four corners of the pattern region S as alignment targets. As for these alignment marks, the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 are designed and arranged in parallel with the arrangement direction of the first pattern P1, and the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2. Are arranged in parallel with the direction of arrangement.

これらアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の座標を認識部７のカメラ１１で撮像した画像から確認することにより、第１のパターンＰ１の配列の矯正を実施している。   The alignment of the first pattern P1 is corrected by checking the coordinates of the alignment marks AM1 to AM4 from the image captured by the camera 11 of the recognition unit 7.

なお、別途アライメントマークを設けることなく、たとえばパターン領域Ｓ内の端の第１のパターンＰ１の両端部をアライメント対象とする、といったように第１のパターンＰ１自身をアライメント対象としても良い。   Note that the first pattern P1 itself may be set as an alignment target, for example, both ends of the first pattern P1 at the end in the pattern region S are set as alignment targets without providing an alignment mark separately.

第１のパターンＰ１の配列、すなわちパターン領域Ｓの形状の矯正を行うにあたり、まずは、図５に示すアライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２とを結ぶ線分である辺Ｌ１とＸ軸との角度を求める。   In correcting the arrangement of the first pattern P1, that is, the shape of the pattern region S, first, an angle between the side L1 that is a line segment connecting the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 shown in FIG. .

具体的には、第１の基材Ｗ１上のパターン領域Ｓが基材保持部６の上方に位置している状態において、まずは中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着をオンにし、第１の基材Ｗ１を固定する。次に、認識部７のカメラ１１にてアライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２の画像を取得し、そこから認識部７の画像取得部がそれぞれの座標を算出する。   Specifically, in a state where the pattern region S on the first base material W1 is positioned above the base material holding unit 6, first, the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, and the Y2 gripping The suction of the unit 34 and the X2 gripping unit 35 is turned on, and the first base material W1 is fixed. Next, the image of alignment mark AM1 and alignment mark AM2 is acquired with the camera 11 of the recognition part 7, and the image acquisition part of the recognition part 7 calculates each coordinate from there.

ここで、アライメントマークＡＭ１の座標が（Ｘ１、Ｙ１）であり、アライメントマークＡＭ２の座標が（Ｘ２、Ｙ２）であったとする。このとき、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２とを結ぶ線分とＸ軸との角度θ１は、以下の式（１）を満たしている。
ｔａｎθ１＝（Ｙ１−Ｙ２）／（Ｘ１−Ｘ２） ・・・（１）
次に、辺Ｌ１の向きをＸ軸方向と平行にする。具体的には、把持ユニット移動手段３６（以降、ＴＸ１軸３６と呼ぶ）および把持ユニット移動手段３７（以降、ＴＸ２軸３７と呼ぶ）を駆動させることにより、Ｘ軸に対して式（１）の通りの角度θ１を有する辺Ｌ１を回転方向に移動させ、Ｘ軸方向と平行にする。 Here, it is assumed that the coordinates of the alignment mark AM1 are (X1, Y1) and the coordinates of the alignment mark AM2 are (X2, Y2). At this time, the angle θ1 between the line segment connecting the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 and the X axis satisfies the following expression (1).
tan θ1 = (Y1−Y2) / (X1−X2) (1)
Next, the direction of the side L1 is made parallel to the X-axis direction. Specifically, by driving the gripping unit moving means 36 (hereinafter referred to as the TX1 axis 36) and the gripping unit moving means 37 (hereinafter referred to as the TX2 axis 37), the equation (1) is expressed with respect to the X axis. The side L1 having the street angle θ1 is moved in the rotation direction so as to be parallel to the X-axis direction.

このとき、Ｙ２把持ユニット３４の吸着をオフにし、辺Ｌ１の固定を解除しておく。本実施形態では、中央把持ユニット３１以外の把持ユニットの吸着をオフにし、中央把持ユニット３１のみで第１の基材Ｗ１を把持するようにしている。こうすることにより、パターン領域Ｓが形状を維持したまま回転する。   At this time, the suction of the Y2 gripping unit 34 is turned off, and the fixing of the side L1 is released. In the present embodiment, the suction of gripping units other than the central gripping unit 31 is turned off, and the first base material W1 is gripped only by the central gripping unit 31. By doing so, the pattern region S rotates while maintaining its shape.

なお、Ｙ１とＹ２とが等しかった場合、辺Ｌ１はすでにＸ軸方向と平行であると考えられるため、この動作は不要である。   Note that when Y1 and Y2 are equal, the side L1 is already considered to be parallel to the X-axis direction, so this operation is not necessary.

ここで、ＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７との間隔がｄＴＸであるとすると、パターン領域Ｓをθ１だけ回転させるために必要な、ＴＸ１軸３６の移動量とＴＸ２軸３７の移動量との差ｄ１は、次の式（２）で表される。
ｄ１＝ｄＴＸ×ｔａｎθ１ ・・・（２）
式（１）を式（２）に代入することで、ｄ１は、アライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２の座標から次の式（３）により求められる。
ｄ１＝ｄＴＸ×｛（Ｙ１−Ｙ２）／（Ｘ１−Ｘ２）｝ ・・・（３）
式（３）で求められたｄ１の値にしたがって移動量に差を持たせて、ＴＸ１軸３６およびＴＸ２軸３７を移動させた後の様子を図６に示す。アライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２のＹ座標が等しくなり、辺Ｌ１の向きがＸ軸と平行になる。これにより、辺Ｌ１近傍の第１のパターンＰ１の配列がＸ軸と平行になる。 Here, assuming that the distance between the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 is dTX, the difference d1 between the movement amount of the TX1 axis 36 and the movement amount of the TX2 axis 37 necessary to rotate the pattern region S by θ1. Is represented by the following equation (2).
d1 = dTX × tan θ1 (2)
By substituting equation (1) into equation (2), d1 can be obtained from the coordinates of alignment mark AM1 and alignment mark AM2 by the following equation (3).
d1 = dTX × {(Y1-Y2) / (X1-X2)} (3)
FIG. 6 shows a state after the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 are moved with a difference in the amount of movement according to the value of d1 obtained by Expression (3). The Y coordinate of alignment mark AM1 and alignment mark AM2 are equal, and the direction of side L1 is parallel to the X axis. Thereby, the arrangement of the first patterns P1 in the vicinity of the side L1 is parallel to the X axis.

ここで、ＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７との移動量にｄ１の差を持たせるにあたり、片方のＴＸ軸のみを移動させても良く、また、両方のＴＸ軸を移動させても良い。   Here, in order to give a difference of d1 to the movement amount between the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37, only one TX axis may be moved, or both TX axes may be moved.

なお、上記の式（２）において、ｄ１が同じ値であった場合、ｄＴＸの値、すなわちＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７との間隔が大きいほど、得られる角度θ１の値は小さくなる。すなわち、先述の通り、ＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７の移動量の差によって得られる回転移動の分解能が細かくなる。ここで、たとえば、ＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７とをそれぞれ中央把持ユニット３１のＹ軸方向の両端に設けた場合、ｄＴＸが大きく、回転移動の分解能が細かくなるため、精密な回転制御が可能となる。この場合、通常用いられる回転ステージよりも精密な回転制御が可能となることもある。   In the above formula (2), when d1 is the same value, the greater the value of dTX, that is, the distance between the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37, the smaller the value of the obtained angle θ1. That is, as described above, the resolution of the rotational movement obtained by the difference in the movement amount of the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 becomes fine. Here, for example, when the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 are provided at both ends in the Y-axis direction of the center gripping unit 31, respectively, dTX is large and the resolution of the rotational movement is small, so that precise rotation control is possible. Become. In this case, it may be possible to perform more precise rotation control than a normally used rotary stage.

次に、アライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４とを結ぶ線分である辺Ｌ２とＸ軸との角度を求める。   Next, an angle between the side L2 that is a line segment connecting the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 and the X axis is obtained.

具体的には、まずは中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着が全てオンになるようにし、第１の基材Ｗ１を固定する。次に、認識部７のカメラ１１にてアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の画像を取得し、そこから認識部７の画像取得部がそれぞれの座標を算出する。   Specifically, first, the suction of the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 is all turned on, and the first substrate W1 is fixed. . Next, the image of alignment mark AM3 and alignment mark AM4 is acquired with the camera 11 of the recognition part 7, and the image acquisition part of the recognition part 7 calculates each coordinate from there.

このとき、先の矯正動作によってアライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２の座標を調節することにより、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の位置も変動している。この移動量が大きければ、第１の基材Ｗ１を変形させない場合にアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４が存在していたであろう位置から大きく外れ、各アライメントマークがカメラ１１の視野から外れるおそれがある。   At this time, by adjusting the coordinates of the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 by the previous correction operation, the positions of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are also changed. If the amount of movement is large, the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 may be greatly deviated from the positions where the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 would exist when the first base material W1 is not deformed, and each alignment mark may be out of the field of view of the camera 11. is there.

そこで、本実施形態では、辺Ｌ１の矯正を行う際にアライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２の座標を取得するときに、そのときのアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標もあらかじめ取得している。そして、辺Ｌ１の矯正を行った後、上記の式（３）に基づく第１の基材Ｗ１の変形によりアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標がどの程度変化するかを計算し、その座標の変化分を加味してカメラ１１を移動させ、あらためてアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４座標取得を行うようにしている。また、このときに、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４だけでなくアライメントマークＡＭ１およびアライメントマークＡＭ２の座標も取得し、辺Ｌ１の向きがＸ軸方向と平行になっていることを確認しても良い。   Therefore, in this embodiment, when the coordinates of the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 are acquired when the side L1 is corrected, the coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 at that time are also acquired in advance. Then, after correcting the side L1, the extent to which the coordinates of the alignment mark AM3 and alignment mark AM4 change due to the deformation of the first base material W1 based on the above formula (3) is calculated. The camera 11 is moved in consideration of the change, and the alignment mark AM3 and alignment mark AM4 coordinates are obtained again. At this time, not only the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 but also the coordinates of the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 may be acquired to confirm that the direction of the side L1 is parallel to the X-axis direction. .

こうすることによって得られた、辺Ｌ１の矯正後のアライメントマークＡＭ３の座標が（Ｘ３、Ｙ３）であり、アライメントマークＡＭ４の座標が（Ｘ４、Ｙ４）であったとする。このとき、アライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４とを結ぶ線分とＸ軸との角度θ２は、以下の式（４）を満たしている。
ｔａｎθ２＝（Ｙ３−Ｙ４）／（Ｘ３−Ｘ４） ・・・（４）
次に、辺Ｌ２の向きをＸ軸方向と平行にする。具体的には、把持ユニット移動手段３８（以降、ＴＹ１軸３８と呼ぶ）および把持ユニット移動手段３９（以降、ＴＹ２軸３９と呼ぶ）を駆動させることにより、Ｘ軸に対して式（４）の通りの角度θ２を有する辺Ｌ２を回転方向に移動させ、Ｘ軸方向と平行にする。 It is assumed that the coordinates of the alignment mark AM3 after correction of the side L1 obtained in this way are (X3, Y3) and the coordinates of the alignment mark AM4 are (X4, Y4). At this time, the angle θ2 between the line connecting the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 and the X axis satisfies the following expression (4).
tan θ2 = (Y3−Y4) / (X3−X4) (4)
Next, the direction of the side L2 is made parallel to the X-axis direction. Specifically, by driving the gripping unit moving means 38 (hereinafter referred to as TY1 axis 38) and the gripping unit moving means 39 (hereinafter referred to as TY2 axis 39), the equation (4) is expressed with respect to the X axis. The side L2 having the street angle θ2 is moved in the rotation direction so as to be parallel to the X-axis direction.

このとき、Ｙ２把持ユニット３４の吸着はオンの状態を維持し、辺Ｌ１の向きは変わらないように固定しておく。本実施形態では、Ｙ１把持ユニット３２およびＹ２把持ユニット３４の吸着のみをオンとし、その他の吸着をオフにしている。こうすることにより、辺Ｌ１の向きは変わらないように固定されたまま、辺Ｌ２の向きおよびパターン領域Ｓの形状が矯正される。   At this time, the suction of the Y2 gripping unit 34 is kept on and fixed so that the direction of the side L1 does not change. In this embodiment, only the suction of the Y1 gripping unit 32 and the Y2 gripping unit 34 is turned on, and the other suctions are turned off. By doing so, the direction of the side L2 and the shape of the pattern region S are corrected while the direction of the side L1 is fixed so as not to change.

なお、Ｙ３とＹ４とが等しかった場合、辺Ｌ２はすでにＸ軸方向と平行であると考えられるため、この動作は不要である。   If Y3 and Y4 are equal, the side L2 is already considered to be parallel to the X-axis direction, so this operation is not necessary.

ここで、ＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９との間隔がｄＴＹであるとすると、辺Ｌ２をθ２だけ回転させるために必要な、ＴＹ１軸３８の移動量とＴＹ２軸３９の移動量との差ｄ２は、次の式（５）で表される。
ｄ２＝ｄＴＹ×ｔａｎθ２ ・・・（５）
式（４）を式（５）に代入することで、ｄ２は、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標から次の式（６）により求められる。
ｄ２＝ｄＴＹ×｛（Ｙ３−Ｙ４）／（Ｘ３−Ｘ４）｝ ・・・（６）
ここで、図６においてアライメントマークＡＭ３のＸ座標であるＸ３は、アライメントマークＡＭ４のＸ座標であるＸ４より大きく、式（６）中の（Ｘ３−Ｘ４）の値は正である。したがって、アライメントマークＡＭ３のＹ座標であるＹ３がアライメントマークＡＭ４のＹ座標であるＹ４より大きければ、ｄ２の値は正であり、このとき、ＴＹ１軸３８の方がＴＹ２軸３９よりｄ２の値だけ多くＹ軸の正の方向に移動することにより、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４のＹ座標が等しくなる。逆に、Ｙ３がＹ４より小さければ、ｄ２の値は負であり、このとき、ＴＹ２軸３９の方がＴＹ１軸３８より（−ｄ２）の値だけ多くＹ軸の正の方向に移動することにより、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４のＹ座標が等しくなる。 Here, assuming that the distance between the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 is dTY, the difference d2 between the movement amount of the TY1 axis 38 and the movement amount of the TY2 axis 39 necessary for rotating the side L2 by θ2 is Is expressed by the following equation (5).
d2 = dTY × tan θ2 (5)
By substituting equation (4) into equation (5), d2 can be obtained from the coordinates of alignment mark AM3 and alignment mark AM4 by the following equation (6).
d2 = dTY × {(Y3-Y4) / (X3-X4)} (6)
Here, X3 which is the X coordinate of the alignment mark AM3 in FIG. 6 is larger than X4 which is the X coordinate of the alignment mark AM4, and the value of (X3−X4) in the equation (6) is positive. Therefore, if Y3, which is the Y coordinate of alignment mark AM3, is larger than Y4, which is the Y coordinate of alignment mark AM4, the value of d2 is positive. At this time, TY1 axis 38 is only d2 than TY2 axis 39. By moving in many positive directions of the Y axis, the Y coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 become equal. Conversely, if Y3 is smaller than Y4, the value of d2 is negative. At this time, the TY2 axis 39 moves more in the positive direction of the Y axis than the TY1 axis 38 by (−d2). The Y coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are equal.

ここで、ＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９との移動量にｄ２の差を持たせるにあたり、片方のＴＹ軸のみを移動させることを想定すると、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４は、移動させない方のＴＹ軸を回転中心として枢動することとなるため、一方のアライメントマークは、Ｙ軸の負の方向に移動する。このとき、第１の基材Ｗ１がたわんでしまい、平坦に保持することができなくなる。したがって、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４ともにＹ軸の負の方向に移動しないよう、ＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とをＹ軸の正の方向にシフトさせ、引っ張る必要がある。   Here, assuming that only one TY axis is moved in order to give a difference of d2 in the amount of movement between the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39, the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 are not moved. Since the axis pivots about the axis of rotation, one alignment mark moves in the negative direction of the Y axis. At this time, the first base material W1 is bent and cannot be held flat. Therefore, it is necessary to shift and pull the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 in the positive direction of the Y axis so that neither the alignment mark AM3 nor the alignment mark AM4 moves in the negative direction of the Y axis.

上記枢動によってアライメントマークがＹ軸の負の方向に移動する距離を求める。ここで、ＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９の中央のＸ座標をＸｃとし、ＴＹ１軸３８のＸ座標を（Ｘｃ−ｄＴＹ／２）、ＴＹ２軸３９のＸ座標を（Ｘｃ＋ｄＴＹ／２）と表す。   The distance by which the alignment mark moves in the negative direction of the Y axis by the pivot is obtained. Here, the X coordinate of the center of the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 is expressed as Xc, the X coordinate of the TY1 axis 38 is expressed as (Xc−dTY / 2), and the X coordinate of the TY2 axis 39 is expressed as (Xc + dTY / 2).

まず、Ｙ３＜Ｙ４であった場合、ＴＹ１軸３８を中心に枢動し、アライメントマークＡＭ４がＹ軸の負の方向に移動する。このときのアライメントマークＡＭ４のＹ軸方向の移動量ｄ２’は、上記式（４）の角度θ２を用いて式（７）で表される。
ｄ２’＝｛（Ｘｃ−ｄＴＹ／２）−Ｘ４｝×ｔａｎθ２ ・・・（７）
このｄ２’の距離だけＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とをＹ軸の正の方向にシフトさせることにより、第１の基材Ｗ１のたわみを防ぐことができる。したがって、Ｙ軸の正の方向のＴＹ１軸３８の移動量をｄ２’、ＴＹ２軸３９の移動量を（ｄ２＋ｄ２’）として移動させることにより、第１の基材Ｗ１がたわむことなく、辺Ｌ２の向きがＸ軸と平行になるよう矯正される。なお、この移動量は、上記式（４）乃至式（７）より、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標より計算することが可能である。 First, when Y3 <Y4, it pivots about the TY1 axis 38, and the alignment mark AM4 moves in the negative direction of the Y axis. The movement amount d2 ′ of the alignment mark AM4 in the Y-axis direction at this time is expressed by Expression (7) using the angle θ2 of Expression (4).
d2 ′ = {(Xc−dTY / 2) −X4} × tan θ2 (7)
By shifting the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 in the positive direction of the Y axis by the distance of d2 ′, it is possible to prevent the first base material W1 from being bent. Therefore, by moving the movement amount of the TY1 axis 38 in the positive direction of the Y axis as d2 ′ and the movement amount of the TY2 axis 39 as (d2 + d2 ′), the first base material W1 does not bend and the side L2 The orientation is corrected to be parallel to the X axis. The amount of movement can be calculated from the coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 from the above equations (4) to (7).

次に、Ｙ３＞Ｙ４であった場合、ＴＹ２軸３９を中心に枢動し、アライメントマークＡＭ３がＹ軸の負の方向に移動する。このときのアライメントマークＡＭ３のＹ軸方向の移動量ｄ２’’は、上記式（４）の角度θ２を用いて式（８）で表される。
ｄ２’’＝｛Ｘ３−（Ｘｃ＋ｄＴＹ／２）｝×ｔａｎθ２ ・・・（８）
このｄ２’’の距離だけＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とをＹ軸の正の方向にシフトさせることにより、第１の基材Ｗ１のたわみを防ぐことができる。したがって、Ｙ軸の正の方向のＴＹ１軸３８の移動量を（ｄ２＋ｄ２’’）、ＴＹ２軸３９の移動量をｄ２’’として移動させることにより、第１の基材Ｗ１がたわむことなく、辺Ｌ２の向きがＸ軸と平行になるよう矯正される。なお、この移動量は、上記式（４）、式（５）、式（６）、および式（８）より、アライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標より計算することが可能である。 Next, when Y3> Y4, it pivots about the TY2 axis 39, and the alignment mark AM3 moves in the negative direction of the Y axis. The amount of movement d2 ″ in the Y-axis direction of the alignment mark AM3 at this time is expressed by Expression (8) using the angle θ2 of Expression (4).
d2 ″ = {X3− (Xc + dTY / 2)} × tan θ2 (8)
By shifting the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 in the positive direction of the Y axis by the distance of d2 ″, the deflection of the first base material W1 can be prevented. Therefore, by moving the movement amount of the TY1 axis 38 in the positive direction of the Y axis as (d2 + d2 ″) and the movement amount of the TY2 axis 39 as d2 ″, the first base material W1 is not bent, and the side The direction of L2 is corrected so as to be parallel to the X axis. The amount of movement can be calculated from the coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 from the above equations (4), (5), (6), and (8).

上記の移動量だけＴＹ１軸３８およびＴＹ２軸３９を移動させた後の様子を図７に示す。辺Ｌ１および辺Ｌ２の向きを矯正した結果、辺Ｌ１に続いて辺Ｌ２もＸ軸方向と平行となり、アライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４を結んでできる四辺形およびパターン領域Ｓの形状は、台形の形状となる。そして、先述の辺Ｌ１近傍だけでなく、辺Ｌ２近傍の第１のパターンＰ１の配列もＸ軸と平行になる。   FIG. 7 shows a state after the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 are moved by the above movement amount. As a result of correcting the directions of the side L1 and the side L2, the side L2 is also parallel to the X-axis direction following the side L1, and the shape of the quadrilateral and the pattern region S formed by connecting the alignment marks AM1 to AM4 is trapezoidal. It becomes a shape. The arrangement of the first pattern P1 in the vicinity of the side L2 as well as the vicinity of the side L1 is parallel to the X axis.

最後に、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２のＹ軸方向の配列間隔とが等しくなるようにＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とをＹ軸の正の方向にシフトさせる。具体的には、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ３のＹ軸方向の距離が、図４（ａ）に示したように第１の基材Ｗ１に歪みが無く、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とをずれがなく対向させることができる場合のアライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ３のＹ軸方向の距離と同じになるようにＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とをＹ軸方向にシフトさせる。   Finally, the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 are shifted in the positive direction of the Y axis so that the arrangement intervals in the Y axis direction of the first pattern P1 and the second pattern P2 are equal. Specifically, the distance between the alignment mark AM1 and the alignment mark AM3 in the Y-axis direction is such that the first substrate W1 is not distorted as shown in FIG. 4A, and the first pattern P1 and the second pattern The TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 are shifted in the Y-axis direction so as to be the same as the distance in the Y-axis direction between the alignment mark AM1 and the alignment mark AM3 when the pattern P2 can be opposed to the pattern P2.

この動作が完了することをもって、基材保持部６による矯正が完了する。   When this operation is completed, the correction by the base material holder 6 is completed.

以上の過程を経て、基材保持部６がアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４を結んでできる四辺形およびパターン領域Ｓの形状を矯正した後の第１のパターンＰ１の配列を図８に示す。辺Ｌ１と辺Ｌ２とが平行になり、かつ、これらの向きがＸ軸方向と平行となることによって、第１のパターンＰ１の配列方向と第２のパターンＰ２の配列方向が同じとなる。また、第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２のＹ軸方向の配列間隔とが等しくなっているため、それぞれの第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２とを対向させて第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２を貼り付けることが可能となる。   FIG. 8 shows the arrangement of the first pattern P1 after correcting the shape of the quadrilateral formed by the base material holding unit 6 connecting the alignment marks AM1 to AM4 and the shape of the pattern region S through the above process. Since the side L1 and the side L2 are parallel and their directions are parallel to the X-axis direction, the arrangement direction of the first pattern P1 and the arrangement direction of the second pattern P2 are the same. Further, since the arrangement intervals in the Y-axis direction of the first pattern P1 and the second pattern P2 are equal, the first pattern P1 and the second pattern P2 are opposed to each other, and the first base P1 and the second pattern P2 are opposed to each other. The second base material W2 can be attached to the material W1.

一方、本実施形態による矯正では、辺Ｌ１および辺Ｌ２の向きのみ調節するよう矯正を行い、その他の２辺である辺Ｌ３および辺Ｌ４に関しては、何ら手を加えていない。したがって、図８で示したΔＸのように、第１のパターンＰ１同士の端部のＸ軸方向の位置にずれは生じたままである。   On the other hand, in the correction according to the present embodiment, correction is performed so that only the directions of the side L1 and the side L2 are adjusted, and the other two sides, the side L3 and the side L4, are not modified. Therefore, as shown by ΔX shown in FIG. 8, the position of the end portions of the first patterns P1 in the X-axis direction remains displaced.

ここで、たとえばレンチキュラーレンズフィルムの貼り付けにおいては、いわゆるクロストークが生じることが無いようにレンズと画素との短辺方向の位置精度に精密性を必要とするが、短辺方向の位置精度さえ十分であれば長辺方向にずれが生じていても製品の品質に大きな影響は無い。すなわち、本実施形態のように第１のパターンＰ１同士の端部のＸ軸方向の位置にずれは生じたままであっても品質を維持した製品を製造することができる。なお、時間はかかるが、さらに辺Ｌ３および辺Ｌ４に関しても矯正を行い、アライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４を結んでできる四辺形およびパターン領域Ｓの形状を平行四辺形や長方形にして、第１のパターンＰ１同士の端部のＸ軸方向の位置をそろえても構わない。   Here, for example, in attaching a lenticular lens film, precision is required for the positional accuracy in the short side direction between the lens and the pixel so that so-called crosstalk does not occur. If it is sufficient, even if a deviation occurs in the long side direction, the quality of the product is not greatly affected. That is, as in this embodiment, it is possible to manufacture a product that maintains the quality even when the X-axis direction position of the ends of the first patterns P1 remains displaced. Although it takes time, the side L3 and the side L4 are further corrected, and the shape of the quadrilateral formed by connecting the alignment marks AM1 to AM4 and the pattern region S is changed to a parallelogram or a rectangle. The positions of the ends of the patterns P1 may be aligned in the X-axis direction.

図９は、他の実施形態における基材保持部６であり、図９（ａ）は、基材保持部６の上面図、図９（ｂ）は、正面図、図９（ｃ）は、側面図である。図３に示した基材保持部６では、ＴＸ１軸３６とＴＸ２軸３７とを設け、その移動量に差を持たせたときにパターン領域Ｓが回転するようにしていたが、これを回転ステージ４２に置き換えても構わない。また、辺Ｌ１と辺Ｌ２の角度のみ矯正させ、辺Ｌ３および辺Ｌ４の角度の矯正は行わないのであれば、中央把持ユニット３１のＸ軸方向の両側にあるＸ１把持ユニット３３およびＸ２把持ユニット３５が中央把持ユニット３１と独立して吸着オンオフの切り替えを行う必要は無く、これらをまとめて中央把持ユニット３１のみとしても良い。   FIG. 9 is a substrate holding unit 6 according to another embodiment, FIG. 9A is a top view of the substrate holding unit 6, FIG. 9B is a front view, and FIG. It is a side view. In the base material holding unit 6 shown in FIG. 3, the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 are provided, and the pattern region S is rotated when the movement amount is different. It may be replaced with 42. If only the angles of the sides L1 and L2 are corrected and the angles of the sides L3 and L4 are not corrected, the X1 gripping unit 33 and the X2 gripping unit 35 on both sides of the central gripping unit 31 in the X-axis direction. However, it is not necessary to switch the suction on / off independently of the central gripping unit 31, and these may be integrated into the central gripping unit 31 alone.

図９のような簡素化された構成であっても、中央把持ユニット３１の吸着をオンにした状態で回転ユニット４２で第１の基材Ｗ１を回転させて辺Ｌ１をＸ軸方向と平行にし、そしてＹ２把持ユニット３４の吸着をオンにして辺Ｌ１を固定した状態でＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とで辺Ｌ２の角度を矯正することにより、先述と同様に辺Ｌ１および辺Ｌ２の角度をＸ軸方向に平行にすることができ、第１のパターンＰ１の長辺方向をＸ軸方向にすることができる。   Even in the simplified configuration as shown in FIG. 9, the first base member W1 is rotated by the rotating unit 42 with the suction of the central gripping unit 31 turned on so that the side L1 is parallel to the X-axis direction. Then, by correcting the angle of the side L2 between the TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 in a state where the suction of the Y2 gripping unit 34 is turned on and the side L1 is fixed, the angles of the side L1 and the side L2 are set as described above. It can be parallel to the X-axis direction, and the long side direction of the first pattern P1 can be the X-axis direction.

次に、本発明における貼り付け装置１において貼り付けを行う際の動作フローを、図１０に示す。   Next, FIG. 10 shows an operation flow when performing the pasting in the pasting apparatus 1 according to the present invention.

まず、矯正部２の基材保持部６が第１の基材Ｗ１を受け取る位置（これを初期位置と呼ぶ）にある状態において、図示しない搬送装置によって貼り付け装置１に第１の基材Ｗ１が搬入されると、基材保持部６が上昇して基材保持部６上に第１の基材Ｗ１を載置する。（ステップＳ１）。そして、中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着を全てオンとし、第１の基材Ｗ１を吸着する（ステップＳ２）。   First, in a state where the base material holding part 6 of the correction part 2 is in a position (referred to as an initial position) for receiving the first base material W1, the first base material W1 is attached to the pasting device 1 by a transport device (not shown). Is carried in, the base material holding part 6 rises and the first base material W1 is placed on the base material holding part 6. (Step S1). Then, the suction of the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 is all turned on, and the first base material W1 is suctioned (step S2).

次に、矯正部２の認識部７が第１の基材Ｗ１上のアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の座標を取得する（ステップＳ３）。具体的には、各アライメントマークが存在するであろう位置へ認識部７のカメラ１１が移動し、撮像する。その画像より、座標取得部が各アライメントマークの座標を取得する。   Next, the recognition unit 7 of the correction unit 2 acquires the coordinates of the alignment marks AM1 to AM4 on the first substrate W1 (step S3). Specifically, the camera 11 of the recognition unit 7 moves to a position where each alignment mark will be present and takes an image. From the image, the coordinate acquisition unit acquires the coordinates of each alignment mark.

次に、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着をオフとし、中央把持ユニット３１のみが第１の基材Ｗ１を吸着把持した状態とした後（ステップＳ４）、ＴＸ１軸３６およびＴＸ２軸３７が移動することにより、パターン領域Ｓを回転させ、アライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ２とを結ぶ辺Ｌ１の向きがＸ軸方向（走査方向）と平行になるようにする（ステップＳ５）。
次に、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着を再びオンとし、全ての把持ユニットが第１の基材Ｗ１を吸着把持している状態とする（ステップＳ６）。そして、あらためてアライメントマークＡＭ１乃至アライメントマークＡＭ４の座標を取得する（ステップＳ７）。具体的には、ステップＳ４で矯正を行った後に各アライメントマークが存在するであろう位置へ認識部７のカメラ１１が移動し、撮像する。その画像より、座標取得部が各アライメントマークの座標を取得する。 Next, after the suction of the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 is turned off and only the central gripping unit 31 is in the state of sucking and gripping the first substrate W1 ( Step S4) When the TX1 axis 36 and the TX2 axis 37 move, the pattern region S is rotated, and the direction of the side L1 connecting the alignment mark AM1 and the alignment mark AM2 is parallel to the X-axis direction (scanning direction). (Step S5).
Next, the suction of the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 is turned on again so that all the gripping units are suctioning and gripping the first substrate W1. (Step S6). Then, the coordinates of the alignment marks AM1 to AM4 are acquired again (step S7). Specifically, the camera 11 of the recognizing unit 7 moves to a position where each alignment mark will be present after correction is performed in step S4, and takes an image. From the image, the coordinate acquisition unit acquires the coordinates of each alignment mark.

次に、中央把持ユニット３１、Ｘ１把持ユニット３３、およびＸ２把持ユニット３５の吸着をオフとする（ステップＳ８）。これにより、Ｙ２把持ユニット３４は第１の基材Ｗ１を吸着把持した状態となっており、辺Ｌ１は固定されている。そして、Ｙ１把持ユニット３２でアライメントマークＡＭ３とアライメントマークＡＭ４とを結ぶ辺Ｌ２の部分を吸着把持した状態でステップＳ７で得られたアライメントマークＡＭ３およびアライメントマークＡＭ４の座標に基づきＴＹ１軸３８およびＴＹ２軸３９が移動することにより、辺Ｌ２の向きがＸ軸方向（走査方向）と平行になるようにする（ステップＳ９）。   Next, the suction of the central gripping unit 31, the X1 gripping unit 33, and the X2 gripping unit 35 is turned off (step S8). Thereby, the Y2 gripping unit 34 is in a state of gripping and gripping the first base material W1, and the side L1 is fixed. The TY1 axis 38 and the TY2 axis are based on the coordinates of the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 obtained in step S7 in a state where the portion of the side L2 connecting the alignment mark AM3 and the alignment mark AM4 is sucked and held by the Y1 holding unit 32. By moving 39, the direction of the side L2 is made parallel to the X-axis direction (scanning direction) (step S9).

このステップＳ２からステップＳ９までの工程により、辺Ｌ１および辺Ｌ２の向きがＸ軸方向と平行となる。すなわち、第１のパターンＰ１の延びる方向が貼り付けの際の第２のパターンＰ２の延びる方向と同じになる。   By the processes from step S2 to step S9, the directions of the side L1 and the side L2 become parallel to the X-axis direction. That is, the extending direction of the first pattern P1 is the same as the extending direction of the second pattern P2 at the time of pasting.

次に、ステップＳ９を行った後のアライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ３の距離を基準に第１のパターンＰ１の配列間隔を第２のパターンの配列間隔と同じにする（ステップＳ１０）。具体的には、第１のパターンＰ１の配列間隔が第２のパターンの配列間隔と同じになる場合のアライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ３の距離の情報があらかじめ図示しない制御装置に与えられており、実際のアライメントマークＡＭ１とアライメントマークＡＭ３の距離がその距離となるようにＴＹ１軸３８とＴＹ２軸３９とを同じ距離だけ移動させる。   Next, the arrangement interval of the first pattern P1 is made the same as the arrangement interval of the second pattern with reference to the distance between the alignment mark AM1 and the alignment mark AM3 after step S9 (step S10). Specifically, information on the distance between the alignment mark AM1 and the alignment mark AM3 when the arrangement interval of the first pattern P1 is the same as the arrangement interval of the second pattern is given in advance to a control device (not shown), The TY1 axis 38 and the TY2 axis 39 are moved by the same distance so that the actual distance between the alignment mark AM1 and the alignment mark AM3 becomes the distance.

次に、中央把持ユニット３１、Ｘ１把持ユニット３３、およびＸ２把持ユニット３５の吸着をオンとし、全ての把持ユニットが第１の基材Ｗ１を吸着した状態とする（ステップＳ１１）。これで、第１の基材Ｗ１の矯正は完了する。   Next, the suction of the central gripping unit 31, the X1 gripping unit 33, and the X2 gripping unit 35 is turned on, and all the gripping units are in a state of sucking the first base material W1 (step S11). This completes the correction of the first base material W1.

上記のように第１の基材Ｗ１の矯正が行われるのと同時に、転写部３の認識部９が第２の基材上Ｗ２上のアライメントマークの座標を取得する（ステップＳ１２）。具体的には、各アライメントマークが存在するであろう位置へ認識部９のカメラ１３が移動し、撮像する。その画像より、座標取得部が各アライメントマークの座標を取得する。このように第２の基材上Ｗ２上のアライメントマークの座標を取得することにより、第２のパターンＰ２と矯正後の第１のパターンＰ１とのＹ軸方向の位置ずれ量を把握することができる。   Simultaneously with the correction of the first base material W1 as described above, the recognition unit 9 of the transfer unit 3 acquires the coordinates of the alignment mark on the second base material W2 (step S12). Specifically, the camera 13 of the recognition unit 9 moves to a position where each alignment mark will be present and takes an image. From the image, the coordinate acquisition unit acquires the coordinates of each alignment mark. Thus, by acquiring the coordinates of the alignment mark on the second substrate W2, it is possible to grasp the amount of positional deviation in the Y-axis direction between the second pattern P2 and the corrected first pattern P1. it can.

ステップＳ１１およびステップＳ１２の動作が両方とも完了したら、基材保持部６が貼り付け開始位置へ移動する（ステップＳ１３）。すなわち、第１の基材Ｗ１の端部がロール８の下端に接する第２の基材Ｗ２と当接する位置まで基材保持部６が移動する。そして、ステップＳ１２で把握した第２のパターンＰ２と第１のパターンＰ１とのＹ軸方向の位置ずれ量分ロール８がＹ軸方向に移動し、第２のパターンＰ２と第１のパターンＰ１との位置合わせが行われる（ステップＳ１４）。なお、この位置合わせ動作は、ロール８でなく基材保持部６がＹ軸方向に移動することにより行われても構わない。   When both the operations of step S11 and step S12 are completed, the base material holder 6 moves to the pasting start position (step S13). That is, the base material holding part 6 moves to a position where the end of the first base material W1 comes into contact with the second base material W2 in contact with the lower end of the roll 8. Then, the roll 8 moves in the Y-axis direction by the amount of positional deviation in the Y-axis direction between the second pattern P2 and the first pattern P1 grasped in step S12, and the second pattern P2, the first pattern P1, Are aligned (step S14). This positioning operation may be performed not by the roll 8 but by moving the base material holder 6 in the Y-axis direction.

次に、基材保持部６がＸ軸方向に移動し、それと同時にロール８が回転することより、第１の基材Ｗ１に第２の基材Ｗ２が転写される（ステップＳ１５）。すなわち、貼り付けられる。このとき、基材保持部６の移動速度とロール８の回転による第２の基材Ｗ２の送り出し速度とを同じにすることにより、しわ無く転写を行うことができる。   Next, the second substrate W2 is transferred to the first substrate W1 by moving the substrate holder 6 in the X-axis direction and simultaneously rotating the roll 8 (step S15). That is, it is pasted. At this time, transfer can be performed without wrinkles by making the moving speed of the base material holding part 6 and the feeding speed of the second base material W2 by the rotation of the roll 8 the same.

第１の基材Ｗ１の全面への貼り付けが完了したら、中央把持ユニット３１、Ｙ１把持ユニット３２、Ｘ１把持ユニット３３、Ｙ２把持ユニット３４、およびＸ２把持ユニット３５の吸着を全てオフとし（ステップＳ１５）、基材保持部６が下降する（ステップＳ１６）。これにより第１の基材Ｗ１は基材保持部６と離間し、第２の基材Ｗ２に貼り付いた状態となる。   When the application of the first base material W1 to the entire surface is completed, the suction of the central gripping unit 31, the Y1 gripping unit 32, the X1 gripping unit 33, the Y2 gripping unit 34, and the X2 gripping unit 35 is all turned off (step S15). ), The base material holding part 6 is lowered (step S16). Accordingly, the first base material W1 is separated from the base material holding part 6 and is in a state of being attached to the second base material W2.

最後に、基材保持部６が上記初期位置へ移動することにより、一連の貼り付け動作が完了する。   Finally, the base material holding unit 6 moves to the initial position, whereby a series of pasting operations are completed.

以上の貼り付け装置により、歪みが生じた基材に対しても、精度良く貼り付けを行うことが可能である。   With the above-described pasting apparatus, it is possible to perform pasting with high accuracy even on a base material in which distortion has occurred.

なお、上記の説明は、レンチキュラーレンズフィルムの貼り付けを例にとって行っているが、レンチキュラーレンズフィルムの貼り付けの場合に限らず、一方向に精度良く貼り付けることを必要とする場合であれば、あらゆる場合において本発明を使用することが可能である。   In addition, although the above description has been made by taking as an example the pasting of the lenticular lens film, not only the pasting of the lenticular lens film, but if it is necessary to paste in one direction with high accuracy, It is possible to use the invention in all cases.

また、上記の説明では第１の基材Ｗ１への第２の基材Ｗ２の貼り付け方法を転写部３による転写としているが、転写に限らず、その他一般的な貼り付け方法を用いても構わない。   In the above description, the method of attaching the second base material W2 to the first base material W1 is the transfer by the transfer unit 3, but not limited to the transfer, other general attaching methods may be used. I do not care.

また、上記の説明では第２の基材Ｗ２は歪みがないこととしているが、第２の基材Ｗ２に歪みがあっても構わない。この場合、第１の基材Ｗ１の矯正は、たとえば第１の基材Ｗ１に配列されている両端の第１のパターンＰ１の平行度が第２の基材Ｗ２に配列されている両端の第２のパターンＰ２の平行度と同じとなるように行われる。   In the above description, the second base material W2 is not distorted. However, the second base material W2 may be distorted. In this case, the correction of the first base material W1 is, for example, that the parallelism of the first patterns P1 at both ends arranged on the first base material W1 is the first at the both ends arranged on the second base material W2. The parallelism of the second pattern P2 is the same.

１ 貼り付け装置
２ 矯正部
３ 転写部
６ 基材保持部
７ 認識部
８ ロール
９ 認識部
１１ カメラ
１２ カメラガントリ
１３ カメラ
１４ カメラガントリ
３１ 中央把持ユニット（把持ユニット）
３２ Ｙ１把持ユニット（把持ユニット）
３３ Ｘ１把持ユニット（把持ユニット）
３４ Ｙ２把持ユニット（把持ユニット）
３５ Ｘ２把持ユニット（把持ユニット）
３６ 把持ユニット移動手段（ＴＸ１軸）
３７ 把持ユニット移動手段（ＴＸ２軸）
３８ 把持ユニット移動手段（ＴＹ１軸）
３９ 把持ユニット移動手段（ＴＹ２軸）
４０ ベアリング
４１ スライダ
４２ 回転ステージ
９１ レンチキュラーレンズ
９２ レンチキュラーレンズフィルム
９３ 画素
ＡＭ１〜ＡＭ４ アライメントマーク（アライメント対象）
Ｌ１〜Ｌ４ 辺
Ｐ１ 第１のパターン（ストレートパターン）
Ｐ２ 第２のパターン（ストレートパターン）
Ｓ パターン領域
Ｗ基材
Ｗ１ 第１の基材
Ｗ２ 第２の基材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pasting apparatus 2 Correction | amendment part 3 Transfer part 6 Base material holding | maintenance part 7 Recognition part 8 Roll 9 Recognition part 11 Camera 12 Camera gantry 13 Camera 14 Camera gantry 31 Central gripping unit (grip unit)
32 Y1 gripping unit (gripping unit)
33 X1 gripping unit (gripping unit)
34 Y2 gripping unit (gripping unit)
35 X2 gripping unit (grip unit)
36 Grasping unit moving means (TX1 axis)
37 Grasping unit moving means (TX2 axis)
38 Grasping unit moving means (TY1 axis)
39 Grasping unit moving means (TY2 axis)
40 Bearing 41 Slider 42 Rotating stage 91 Lenticular lens 92 Lenticular lens film 93 Pixels AM1 to AM4 Alignment mark (target for alignment)
L1 to L4 side P1 first pattern (straight pattern)
P2 Second pattern (straight pattern)
S pattern region W base material W1 first base material W2 second base material

Claims (3)

少なくとも特定方向に延びる複数のストレートパターンを有し可撓性を有する第１の基材と、少なくとも特定方向に延びる複数のストレートパターンを有する第２の基材とを貼り付ける貼り付け装置であって、
前記第１の基材の一部を載置する基材載置面を有して前記第１の基材を把持する複数の把持ユニットと、一部もしくは全ての前記把持ユニットを前記基材載置面と平行な方向に移動させる複数の把持ユニット移動手段とを有し、それぞれの前記把持ユニットが前記第１の基材を把持することで前記第１の基材を保持する基材保持部を備え、
前記把持ユニットが前記第１の基材を把持しながら移動することにより、前記基材保持部が前記第１の基材を引っ張り変形させて矯正する矯正モードを有し、
前記矯正モードによって、貼り付けの際の前記第１の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔を前記第２の基材のストレートパターンの延びる方向および配列間隔と同じになるように矯正して、貼り付けることを特徴とする、貼り付け装置。 An affixing device for affixing a flexible first substrate having a plurality of straight patterns extending in a specific direction and a second substrate having a plurality of straight patterns extending at least in a specific direction. ,
A plurality of gripping units that have a base material mounting surface on which a part of the first base material is placed and grip the first base material, and a part or all of the gripping units are mounted on the base material. A plurality of gripping unit moving means that move in a direction parallel to the placement surface, and each of the gripping units grips the first base material to hold the first base material. With
When the gripping unit moves while gripping the first base material, the base material holding unit has a correction mode in which the first base material is stretched and deformed to correct it.
According to the correction mode, the straight pattern extending direction and the arrangement interval of the first base material at the time of pasting are corrected to be the same as the straight pattern extending direction and the arrangement interval of the second base material. An affixing device characterized in that affixing is performed. 前記矯正モードにおいて、前記第１の基材上に配置された４つのアライメント対象が形成する四辺形の１組の対辺が前記第２の基材のストレートパターンの延びる方向と平行となる状態に矯正することを特徴とする、請求項１に記載の貼り付け装置。   In the correction mode, correction is performed so that a pair of opposite sides of a quadrilateral formed by the four alignment objects arranged on the first base is parallel to the direction in which the straight pattern of the second base extends. The pasting apparatus according to claim 1, wherein 前記複数の把持ユニット移動手段は、一対の前記把持ユニット移動手段を複数対組み合わせたものであり、対となる前記把持ユニット移動手段は、それぞれ同一の前記把持ユニットを同一の方向に移動させることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の貼り付け装置。   The plurality of gripping unit moving means is a combination of a plurality of pairs of gripping unit moving means, and the paired gripping unit moving means moves the same gripping unit in the same direction. The pasting apparatus according to claim 1, wherein the pasting apparatus is characterized in that
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