JP2015049982A - Method for manufacturing top-emission type organic electroluminescent display device and lid material for temporary sealing - Google Patents

Method for manufacturing top-emission type organic electroluminescent display device and lid material for temporary sealing Download PDF

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隆佳 二連木
Takayoshi Nireki
隆佳 二連木
武田 利彦
Toshihiko Takeda
利彦 武田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a top-emission type organic EL display device capable of preventing an increase in manufacturing costs and a decrease in manufacturing efficiency by using a member such as a jig.SOLUTION: A method for manufacturing a top-emission type organic EL display device comprises the steps of: preparing an organic EL layer side substrate 1 which includes a substrate 2, a pixel electrode 3, an auxiliary electrode 4, a spacer part 5, and an organic EL layer and in which at least one organic layer 6 is formed on the whole surface of the auxiliary electrode 4 (organic EL layer side substrate preparing step); sealing a surface of the organic EL layer side substrate 1 with a lid material 8 for temporary sealing under a first pressure (pressure reducing and sealing step); bringing the organic EL layer side substrate 1 and the lid material 8 for temporary sealing into close contact by adjusting the spaces in the outer peripheries of the organic EL layer side substrate 1 and the lid material 8 for temporary sealing to a second pressure (close contacting step); and forming a contact part 9 by irradiating the organic layer with a laser beam via the lid material 8 for temporary sealing (contact part forming step).

Description

本発明は、補助電極を有するトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a top emission type organic electroluminescence display device having an auxiliary electrode.

有機エレクトロルミネッセンス素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が広いこと等の利点が注目されている。なお、以下、有機エレクトロルミネッセンスを有機ELと略す場合がある。   The organic electroluminescence element has high visibility due to self-coloring, is an all-solid-state display unlike a liquid crystal display device, has excellent impact resistance, has a fast response speed, is less affected by temperature changes, and Advantages such as a wide viewing angle are attracting attention. Hereinafter, organic electroluminescence may be abbreviated as organic EL.

有機EL素子の構成は、陽極と陰極との間に有機EL層が狭持された積層構造を基本としている。このような有機EL素子を有する有機EL表示装置の駆動方式には、パッシブマトリクス駆動およびアクティブマトリクス駆動があるが、大型ディスプレイを製造するにあたっては、低電圧による駆動が可能であるという観点から、アクティブマトリクス駆動が有利である。なお、アクティブマトリクス駆動とは、有機EL素子が形成された基板にTFT等の回路を形成し、上記TFT等の回路により駆動する方式をいう。   The configuration of the organic EL element is based on a laminated structure in which an organic EL layer is sandwiched between an anode and a cathode. There are passive matrix driving and active matrix driving as a driving method of an organic EL display device having such an organic EL element. However, when manufacturing a large display, it is active from the viewpoint that driving with a low voltage is possible. Matrix driving is advantageous. Note that active matrix driving refers to a system in which a circuit such as a TFT is formed on a substrate on which an organic EL element is formed and the circuit is driven by the circuit such as the TFT.

このような有機EL表示装置には、有機EL素子が形成された基板側から光を取り出すボトムエミッション型と、有機EL素子が形成された基板とは反対側から光を取り出すトップエミッション型とがある。ここで、アクティブマトリクス駆動の有機EL表示装置の場合、ボトムエミッション型では、光の取り出し面である基板に形成されたTFT等の回路により開口率が制限され、光取り出し効率が低下してしまうという問題がある。これに対し、トップエミッション型では、基板とは反対側の面から光を取り出すため、ボトムエミッション型に比べて優れた光取り出し効率が得られる。なお、トップエミッション型の場合には、光取り出し面となる側の電極層として透明電極層が用いられる。   Such organic EL display devices include a bottom emission type in which light is extracted from the substrate side on which the organic EL element is formed, and a top emission type in which light is extracted from the side opposite to the substrate on which the organic EL element is formed. . Here, in the case of an organic EL display device driven by an active matrix, in the bottom emission type, the aperture ratio is limited by a circuit such as a TFT formed on a substrate which is a light extraction surface, and the light extraction efficiency is reduced. There's a problem. On the other hand, in the top emission type, since light is extracted from the surface opposite to the substrate, light extraction efficiency superior to that of the bottom emission type is obtained. In the case of the top emission type, a transparent electrode layer is used as the electrode layer on the side that becomes the light extraction surface.

ところで、一般的な透明電極層は、AlやCu等の金属から構成される電極層に比べて抵抗が大きい。そのため、透明電極層を有する有機EL表示装置においては、透明電極層の抵抗によって電圧降下が生じ、結果として有機EL層の輝度の均一性が低下する、いわゆる輝度ムラの発生が問題になっている。また、透明電極層の面積が大きくなるほどその抵抗はより大きくなることから、上述した輝度ムラの問題は大型ディスプレイを製造する場合に顕著になる。   By the way, a general transparent electrode layer has a larger resistance than an electrode layer made of a metal such as Al or Cu. Therefore, in an organic EL display device having a transparent electrode layer, a voltage drop occurs due to the resistance of the transparent electrode layer, and as a result, the occurrence of so-called luminance unevenness in which the luminance uniformity of the organic EL layer is lowered is a problem. . In addition, since the resistance increases as the area of the transparent electrode layer increases, the above-described problem of luminance unevenness becomes prominent when a large display is manufactured.

上記課題に対しては、抵抗値の低い補助電極を形成し、これを透明電極層と電気的に接続させることにより電圧降下を抑制する方法が知られている。ここで、補助電極は、通常、金属層を成膜した後にウェットプロセスによるエッチング処理を施し、パターン状に形成される。そのため、例えばトップエミッション型の有機EL表示装置において、有機EL層形成後に補助電極を形成する場合には、補助電極を形成する際に用いられるエッチング液により有機EL層が侵されるという問題があった。そこで、特許文献1〜3に記載されているように、有機EL層を形成する前に補助電極を形成する方法が知られている。   In order to solve the above problem, a method is known in which a voltage drop is suppressed by forming an auxiliary electrode having a low resistance value and electrically connecting the auxiliary electrode to a transparent electrode layer. Here, the auxiliary electrode is usually formed in a pattern by performing a wet process etching after forming a metal layer. Therefore, for example, in the top emission type organic EL display device, when the auxiliary electrode is formed after the organic EL layer is formed, there is a problem that the organic EL layer is eroded by the etching solution used when the auxiliary electrode is formed. . Therefore, as described in Patent Documents 1 to 3, a method of forming an auxiliary electrode before forming an organic EL layer is known.

しかしながら、通常、有機EL層を形成する前に補助電極を形成すると、有機EL層を全面に形成する場合や有機EL層を構成する少なくとも1層の有機層を全面に形成する場合に、補助電極上に有機EL層や少なくとも1層の有機層が形成されることになる。そのため、補助電極と透明電極層との電気的な接続が、補助電極上の有機EL層や有機層によって妨げられてしまうという問題があった。   However, usually, when the auxiliary electrode is formed before forming the organic EL layer, the auxiliary electrode is formed when the organic EL layer is formed on the entire surface or when at least one organic layer constituting the organic EL layer is formed on the entire surface. An organic EL layer and at least one organic layer are formed thereon. Therefore, there has been a problem that the electrical connection between the auxiliary electrode and the transparent electrode layer is hindered by the organic EL layer or the organic layer on the auxiliary electrode.

このような問題に対して特許文献1では、レーザー光により補助電極上の有機EL層を除去して、補助電極と透明電極層とが電気的に接続された有機EL表示装置を作製する方法が提案されている。しかしながら、この場合、レーザー光により除去された有機EL層が飛散して有機EL表示装置における画素領域が汚染され、表示特性が低下してしまうという問題がある。   With respect to such a problem, Patent Document 1 discloses a method of manufacturing an organic EL display device in which an organic EL layer on an auxiliary electrode is removed by laser light and the auxiliary electrode and the transparent electrode layer are electrically connected. Proposed. However, in this case, there is a problem that the organic EL layer removed by the laser light is scattered, the pixel region in the organic EL display device is contaminated, and the display characteristics are deteriorated.

また、上記問題を解決する方法として、例えば特許文献2では、レーザー光による有機EL層の除去を行う前に、有機EL層で被覆された補助電極全面に透光性を有する第1の電極を形成し、その後、第1の電極を介してレーザー光により有機EL層を除去し、最後に第2の電極を形成する方法が提案されている。この場合、上述のような有機EL表示装置の表示特性の低下は抑制することができるものの、透明電極層として第1の電極および第2の電極を形成することにより、製造工程が増加してしまうという問題がある。   As a method for solving the above problem, for example, in Patent Document 2, before the organic EL layer is removed by laser light, the first electrode having translucency is applied to the entire surface of the auxiliary electrode covered with the organic EL layer. A method is proposed in which the organic EL layer is removed by laser light through the first electrode and then the second electrode is formed. In this case, although the deterioration of the display characteristics of the organic EL display device as described above can be suppressed, the manufacturing process increases by forming the first electrode and the second electrode as the transparent electrode layer. There is a problem.

特許第4959119号Patent No. 4959119 特表2010−538440号公報Special table 2010-538440 gazette 特許第4340982号Japanese Patent No. 4340982

ところで、特許文献3には、次のような方法が開示されている。すなわち、図16(a)に示すように、基板20上に画素電極30および補助電極40が形成され、上記画素電極30および補助電極40の間に絶縁層50が形成されており、その全面を覆うように有機層60が形成された有機EL層側基板と、蓋材80’とを真空雰囲気のチャンバーC内にて対向させる。次に、図16(b)に示すように、有機EL層側基板と蓋材80’とを対向させて重ね合わせた重ね合わせ基板10’をチャンバーC内から大気中に取り出して、有機EL層側基板に蓋材80’を密着させる。その後、重ね合わせ基板10’の蓋材80’側からレーザー光Lを照射して補助電極40上の有機EL層60を除去する方法である。図16(a)〜(b)に示す方法では、有機EL層側基板および蓋材80’の間の空間の圧力と重ね合わせ基板10’の外周の空間の圧力との間の差、すなわち両空間における差圧により、有機EL層側基板と蓋材80’との密着性を上げることができ、この状態にてレーザー光による有機層の除去を行うことができる。しかしながら、図16(a)〜(b)に示す方法の場合には、有機EL層側基板と蓋材80’との間の空間を真空にした重ね合わせ基板10’を搬送する際に、蓋部80’が有機EL層側基板から剥がれやすくなり、有機EL層側基板と蓋材80’との間の空間の真空状態を維持するのが困難になるという問題がある。また、図16(a)〜(b)に示す方法においては、有機EL層側基板と蓋材80’との間の空間Vについては真空にすることができるものの、重ね合わせ基板10’をチャンバーC内から取り出した際に重ね合わせ基板10’の両端にある空間Nは外部の空間と連通してしまうため、有機EL層側基板と蓋材80’との密着性を十分に確保するのが困難になるという問題がある。   By the way, Patent Document 3 discloses the following method. That is, as shown in FIG. 16A, the pixel electrode 30 and the auxiliary electrode 40 are formed on the substrate 20, and the insulating layer 50 is formed between the pixel electrode 30 and the auxiliary electrode 40. The organic EL layer side substrate on which the organic layer 60 is formed so as to cover the cover member 80 'is opposed to the chamber C in a vacuum atmosphere. Next, as shown in FIG. 16B, the overlapping substrate 10 ′, in which the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ are opposed to each other, is taken out from the chamber C to the atmosphere, and the organic EL layer The lid member 80 'is brought into close contact with the side substrate. Thereafter, the organic EL layer 60 on the auxiliary electrode 40 is removed by irradiating a laser beam L from the lid 80 'side of the overlapping substrate 10'. In the method shown in FIGS. 16A to 16B, the difference between the pressure in the space between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ and the pressure in the outer space of the overlapping substrate 10 ′, that is, both Due to the differential pressure in the space, the adhesion between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ can be improved, and in this state, the organic layer can be removed by laser light. However, in the case of the method shown in FIGS. 16A to 16B, the lid is transported when transporting the overlapping substrate 10 ′ in which the space between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ is evacuated. There is a problem that the part 80 ′ is easily peeled off from the organic EL layer side substrate, and it is difficult to maintain the vacuum state of the space between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′. Further, in the method shown in FIGS. 16A to 16B, although the space V between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ can be evacuated, the overlapping substrate 10 ′ is placed in the chamber. Since the space N at both ends of the overlapped substrate 10 ′ communicates with the external space when taken out from the inside of C, it is necessary to ensure sufficient adhesion between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′. There is a problem that it becomes difficult.

さらに、特許文献3には、その他の方法として次のような方法が開示されている。すなわち、図17(a)に示すように、チャンバーC内にて、治具本体81’に重ね合わせ基板10’を配置し、上記治具本体81’および重ね合わせ基板10’における蓋材80’に気密シール82’を貼付して治具蓋体83’を用いて密封する。次に、重ね合わせ基板10’をチャンバーC内から大気中に取り出して、有機EL層側基板に蓋材80’を密着させる。その後、重ね合わせ基板10’の蓋材80’側からレーザー光Lを照射して補助電極40上の有機EL層60を除去する方法が開示されている。このように図17(a)〜(b)に示す方法の場合には、上記図16(a)〜(b)に示す方法とは異なり、有機EL層側基板と蓋材80’との間の空間を全体的に真空にすることができる。しかしながら、図17(a)〜(b)に示す方法においては、有機EL層側基板および蓋材の他にも治具本体81’や治具蓋体83’等、減圧密封工程にて用いられる部材が増えることにより、製造コストの増大や製造効率の低下を招くという問題がある。   Furthermore, Patent Document 3 discloses the following method as another method. That is, as shown in FIG. 17A, in the chamber C, the overlapping substrate 10 ′ is disposed on the jig main body 81 ′, and the lid member 80 ′ on the jig main body 81 ′ and the overlapping substrate 10 ′. A hermetic seal 82 'is affixed to and sealed with a jig lid 83'. Next, the overlapping substrate 10 ′ is taken out from the chamber C into the atmosphere, and the lid member 80 ′ is adhered to the organic EL layer side substrate. Thereafter, a method is disclosed in which the organic EL layer 60 on the auxiliary electrode 40 is removed by irradiating laser light L from the lid 80 'side of the overlapping substrate 10'. Thus, in the case of the method shown in FIGS. 17A to 17B, unlike the method shown in FIGS. 16A to 16B, the space between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ is different. The entire space can be evacuated. However, in the method shown in FIGS. 17A to 17B, in addition to the organic EL layer side substrate and the lid member, the jig body 81 ′, the jig lid body 83 ′, etc. are used in the vacuum sealing step. When the number of members increases, there is a problem that the manufacturing cost increases and the manufacturing efficiency decreases.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、レーザー光を照射して補助電極上の有機層を除去する際に有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を十分に減圧密封し、その後、有機EL層側基板および蓋材の外周の圧力を調整して有機EL層側基板と蓋材とを密着させることにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで表示特性の低下を抑制することができ、さらには、従来のように治具等の部材を用いることによる製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことが可能なトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法を提供することを主目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and when irradiating a laser beam and removing the organic layer on an auxiliary electrode, the space between the organic electroluminescent layer side board | substrate and the lid material for temporary sealing is made. Then, the organic EL layer side substrate and the cover material are adjusted to adjust the pressure around the organic EL layer side substrate and the cover material so that the organic EL layer side substrate and the cover material adhere to each other. Prevents layers from scattering into the pixel area and suppresses deterioration in display characteristics. Further, as in the past, using a member such as a jig prevents an increase in manufacturing cost and a decrease in manufacturing efficiency. The main object of the present invention is to provide a method for manufacturing a top emission type organic EL display device that can be used.

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成された複数の画素電極と、上記画素電極の間に形成された補助電極と、上記基板上に形成されたスペーサ部と、上記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機EL層と、上記補助電極上に形成された少なくとも1層の上記有機層と、上記補助電極上に形成された上記有機層の開口部である接触部と、上記有機EL層および上記接触部上に形成された透明電極層とを有し、上記スペーサ部は、上記接触部および上記接触部に隣接する上記画素電極の間に形成されており、また、上記透明電極層は、上記補助電極と上記接触部で電気的に接続されているトップエミッション型有機EL表示装置を製造するトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、上記基板、上記画素電極、上記補助電極、上記スペーサ部、および上記有機EL層を有し、上記補助電極上の全面に少なくとも1層の上記有機層が形成された有機EL層側基板を準備する有機EL層側基板準備工程と、第1圧力下で、上記有機EL層側基板準備工程で得られた上記有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させて上記スペーサ部の頂部に上記仮封止用蓋材が上記有機層を介して接触するように配置し、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の空間を密封して上記有機EL層側基板表面を上記仮封止用蓋材で封止する減圧密封工程と、上記減圧密封工程で密封された上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整して上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材を密着させる密着工程と、上記仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射して、上記補助電極上に形成された上記有機層を除去して上記接触部を形成する接触部形成工程とを有し、上記仮封止用蓋材は、蓋基板と上記蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材とを有することを特徴とするトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate, a plurality of pixel electrodes formed on the substrate, an auxiliary electrode formed between the pixel electrodes, and a spacer portion formed on the substrate. And an organic EL layer which is formed on the pixel electrode and is composed of a plurality of organic layers and has at least a light emitting layer, at least one organic layer formed on the auxiliary electrode, and the auxiliary electrode A contact portion which is an opening portion of the organic layer formed on the surface, a transparent electrode layer formed on the organic EL layer and the contact portion, and the spacer portion includes the contact portion and the contact portion. A top emission type that produces a top emission type organic EL display device that is formed between the pixel electrodes adjacent to each other and the transparent electrode layer is electrically connected to the auxiliary electrode at the contact portion. Organic A method for manufacturing an L display device, comprising the substrate, the pixel electrode, the auxiliary electrode, the spacer portion, and the organic EL layer, wherein at least one organic layer is formed on the entire surface of the auxiliary electrode. An organic EL layer side substrate preparing step for preparing the organic EL layer side substrate, and a temporary sealing lid material on the organic EL layer side substrate obtained in the organic EL layer side substrate preparing step under a first pressure Are arranged so that the lid for temporary sealing is in contact with the top of the spacer portion via the organic layer, and a space between the organic EL layer side substrate and the lid for temporary sealing is formed. A reduced pressure sealing step of sealing and sealing the surface of the organic EL layer side substrate with the temporary sealing lid material, and the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material sealed in the reduced pressure sealing step Adjust the outer space to the second pressure to adjust the organic EL layer side substrate and the top An adhesion process for closely attaching the temporary sealing lid material, and irradiating laser light through the temporary sealing lid material to remove the organic layer formed on the auxiliary electrode to form the contact portion. A top emission type organic EL, wherein the lid for temporary sealing includes a lid substrate and a temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate. A method for manufacturing a display device is provided.

本発明によれば、減圧密封工程において用いられる仮封止用蓋材が、蓋基板および仮封止部材から構成されたものであることにより、減圧密封工程において有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を十分に密封することができる。これにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができる。また、本発明によれば、蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材によって仮封止用蓋材と有機EL層側基板とが直接貼り合わされるため、従来のように治具等の部材を用いる必要がなく、製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことができる。   According to the present invention, the temporary sealing lid material used in the vacuum sealing step is composed of the lid substrate and the temporary sealing member, so that the organic EL layer side substrate and the temporary sealing are temporarily sealed in the vacuum sealing step. The space between the lid member can be sufficiently sealed. Thereby, it is possible to prevent the organic layer on the auxiliary electrode removed by the laser light from being scattered in the pixel region, and to suppress deterioration in display characteristics. In addition, according to the present invention, the temporary sealing lid member and the organic EL layer side substrate are directly bonded to each other by the temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate. It is not necessary to use this member, and an increase in manufacturing cost and a decrease in manufacturing efficiency can be prevented.

本発明においては、上記仮封止用蓋材は、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状の上記仮封止部材が形成されており、上記仮封止部材は、磁性材料から構成されており、上記基板において、上記画素電極および上記補助電極が形成された側とは反対側の面に、金属板が配置されていることが好ましい。仮封止部材が磁性材料から構成されており、基板において画素電極および補助電極が形成された側とは反対側の面に金属板が配置されていることにより、有機EL層側基板を介して仮封止部材と金属板とを磁力により密着させ、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間を十分に密封することができる。これにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができる。また、磁性材料から構成された仮封止部材と金属板とは磁力により密着するものであるため、接触部形成工程後に有機EL層側基板から仮封止用蓋材を剥離するのが容易になる。したがって、仮封止用蓋材を剥離することによる製造効率の低下を防ぐことができる。   In the present invention, the temporary sealing lid material has the frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of a magnetic material. In the substrate, a metal plate is preferably disposed on the surface opposite to the side on which the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed. The temporary sealing member is made of a magnetic material, and the metal plate is disposed on the surface of the substrate opposite to the side where the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed, so that the organic EL layer side substrate is interposed therebetween. The temporary sealing member and the metal plate are brought into close contact with each other by magnetic force, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently sealed. Thereby, it is possible to prevent the organic layer on the auxiliary electrode removed by the laser light from being scattered in the pixel region, and to suppress deterioration in display characteristics. In addition, since the temporary sealing member made of a magnetic material and the metal plate are in close contact with each other by magnetic force, it is easy to peel the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate after the contact portion forming step. Become. Therefore, it is possible to prevent a decrease in manufacturing efficiency due to peeling of the temporary sealing lid.

さらに、本発明においては、上記仮封止用蓋材は、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状の上記仮封止部材が形成されており、上記仮封止部材は、金属材料から構成されており、上記基板のいずれか一方の面に、磁性板が配置されていることが好ましい。仮封止部材が金属材料から構成されており、基板において画素電極および補助電極が形成された側とは反対側の面に磁性板が配置されていることにより、有機EL層側基板を介して仮封止部材と磁性板とを磁力により密着させ、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間を十分に密封することができる。これにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができる。また、金属材料から構成された仮封止部材と磁性板とが磁力により密着するものであるため、接触部形成工程後に有機EL層側基板から仮封止用蓋材を剥離するのが容易になる。したがって、仮封止用蓋材を剥離することによる製造効率の低下を防ぐことができる。   Further, in the present invention, the lid for temporary sealing has the frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of a metal material. It is preferable that a magnetic plate is disposed on one surface of the substrate. The temporary sealing member is made of a metal material, and the magnetic plate is disposed on the surface of the substrate opposite to the side where the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed, so that the organic EL layer side substrate is interposed therebetween. The temporary sealing member and the magnetic plate are brought into close contact with each other by magnetic force, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently sealed. Thereby, it is possible to prevent the organic layer on the auxiliary electrode removed by the laser light from being scattered in the pixel region, and to suppress deterioration in display characteristics. In addition, since the temporary sealing member made of a metal material and the magnetic plate are in close contact with each other by magnetic force, it is easy to peel the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate after the contact portion forming step. Become. Therefore, it is possible to prevent a decrease in manufacturing efficiency due to peeling of the temporary sealing lid.

本発明においては、上記仮封止用蓋材は、上記蓋基板の上記有機EL層側基板に対向する側の面に枠状の上記仮封止部材が形成されており、上記仮封止部材が、粘着材料から構成されていることが好ましい。仮封止部材が粘着材料から構成されていることにより、仮封止部材を有機EL層側基板に密着させて、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間を十分に密封することができる。これにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができる。   In the present invention, the temporary sealing lid material has the frame-shaped temporary sealing member formed on the surface of the lid substrate facing the organic EL layer side substrate, and the temporary sealing member However, it is preferable that it is comprised from the adhesive material. Since the temporary sealing member is made of an adhesive material, the temporary sealing member is brought into close contact with the organic EL layer side substrate, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid is sufficiently sealed. can do. Thereby, it is possible to prevent the organic layer on the auxiliary electrode removed by the laser light from being scattered in the pixel region, and to suppress deterioration in display characteristics.

本発明は、蓋基板と、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、磁性材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材を提供する。   The present invention has a lid substrate and a frame-like temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of a magnetic material. A temporary sealing lid material is provided.

また、本発明は、蓋基板と、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、金属材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材を提供する。   The present invention also includes a lid substrate and a frame-like temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of a metal material. A temporary sealing lid member is provided.

さらに、本発明は、蓋基板と、上記蓋基板のいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、粘着材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材を提供する。   Furthermore, the present invention has a lid substrate and a frame-like temporary sealing member formed on one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of an adhesive material. A temporary sealing lid material is provided.

本発明の仮封止用蓋材は、上述のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法に用いることができるため、表示特性の低下を抑制することができ、さらに、製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことが可能なトップエミッション型有機EL表示装置を得ることができる。   Since the temporary sealing lid material of the present invention can be used in the above-described method for manufacturing the top emission organic EL display device, it is possible to suppress a decrease in display characteristics, and further increase in manufacturing cost and manufacturing efficiency. It is possible to obtain a top emission type organic EL display device capable of preventing the deterioration of the above.

本発明においては、レーザー光を照射して補助電極上の有機層を除去する際に有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を十分に減圧密封することにより、レーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで表示特性の低下を抑制することができ、さらには、従来のように治具等の部材を用いることによる製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことが可能なトップエミッション型有機EL表示装置を得ることができるという効果を奏する。   In the present invention, when the organic layer on the auxiliary electrode is removed by irradiating the laser beam, the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid is sufficiently sealed under reduced pressure, so that the laser beam It is possible to prevent the organic layer on the auxiliary electrode removed by the scattering from scattering into the pixel region and suppress the deterioration of the display characteristics, and furthermore, the manufacturing cost can be reduced by using a member such as a jig as in the past. There is an effect that a top emission type organic EL display device capable of preventing an increase and a decrease in manufacturing efficiency can be obtained.

本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the top emission type organic electroluminescence display of this invention. 本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the manufacturing method of the top emission type organic electroluminescence display of this invention. 本発明における仮封止用蓋材を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the lid | cover material for temporary sealing in this invention. 本発明におけるスペーサ部を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the spacer part in this invention. 本発明におけるスペーサ部形成工程および絶縁層形成工程の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the spacer part formation process and insulating layer formation process in this invention. 本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the top emission type organic EL display device of this invention. 本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other example of the top emission type organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の他の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other example of the top emission type organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明におけるスペーサ部を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the spacer part in this invention. 第1態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing at the time of bonding the lid | cover for temporary sealing using the temporary sealing member of a 1st aspect on the surface of the organic electroluminescent layer side board | substrate. 第2態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing at the time of bonding the lid | cover material for temporary sealing using the temporary sealing member of a 2nd aspect on the surface of the organic electroluminescent layer side board | substrate. 第2態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing at the time of bonding the lid | cover material for temporary sealing using the temporary sealing member of a 2nd aspect on the surface of the organic electroluminescent layer side board | substrate. 第3態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing when the lid | cover for temporary sealing using the temporary sealing member of a 3rd aspect is bonded together on the surface of an organic electroluminescent layer side board | substrate. 本発明における接触部形成工程の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the contact part formation process in this invention. 本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus used for the manufacturing method of the organic electroluminescence display of this invention. 従来のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法における減圧密封工程の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the pressure reduction sealing process in the manufacturing method of the conventional top emission type organic electroluminescence display. 従来のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法における減圧密封工程の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the pressure reduction sealing process in the manufacturing method of the conventional top emission type organic electroluminescence display.

以下、本発明のトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法、および仮封止用蓋材について詳細に説明する。なお、以下、トップエミッション型有機EL表示装置を有機EL表示装置と略す場合がある。   Hereinafter, the manufacturing method of the top emission type organic EL display device of the present invention and the lid material for temporary sealing will be described in detail. Hereinafter, the top emission type organic EL display device may be abbreviated as an organic EL display device.

A.有機EL表示装置の製造方法
本発明の有機EL表示装置の製造方法は、基板と、上記基板上に形成された複数の画素電極と、上記画素電極の間に形成された補助電極と、上記基板上に形成されたスペーサ部と、上記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機EL層と、上記補助電極上に形成された少なくとも1層の上記有機層と、上記補助電極上に形成された上記有機層の開口部である接触部と、上記有機EL層および上記接触部上に形成された透明電極層とを有し、上記スペーサ部は、上記接触部および上記接触部に隣接する上記画素電極の間に形成されており、また、上記透明電極層は、上記補助電極と上記接触部で電気的に接続されている有機EL表示装置を製造する有機EL表示装置の製造方法であって、上記基板、上記画素電極、上記補助電極、上記スペーサ部、および上記有機EL層を有し、上記補助電極上の全面に少なくとも1層の上記有機層が形成された有機EL層側基板を準備する有機EL層側基板準備工程と、第1圧力下で、上記有機EL層側基板準備工程で得られた上記有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させて上記スペーサ部の頂部に上記仮封止用蓋材が上記有機層を介して接触するように配置し、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の空間を密封して上記有機EL層側基板表面を上記仮封止用蓋材で封止する減圧密封工程と、上記減圧密封工程で密封された上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整して上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材を密着させる密着工程と、上記仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射して、上記補助電極上に形成された上記有機層を除去して上記接触部を形成する接触部形成工程とを有し、上記仮封止用蓋材は、蓋基板と上記蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材とを有することを特徴とするものである。
A. Manufacturing method of organic EL display device The manufacturing method of the organic EL display device of the present invention includes a substrate, a plurality of pixel electrodes formed on the substrate, an auxiliary electrode formed between the pixel electrodes, and the substrate. The spacer portion formed above, the organic EL layer formed on the pixel electrode and composed of a plurality of organic layers, having at least a light emitting layer, and at least one layer of the above-described auxiliary electrode An organic layer, a contact portion that is an opening of the organic layer formed on the auxiliary electrode, a transparent electrode layer formed on the organic EL layer and the contact portion, and the spacer portion includes: An organic EL display device is formed between the contact portion and the pixel electrode adjacent to the contact portion, and the transparent electrode layer is electrically connected to the auxiliary electrode at the contact portion. Organic EL display A method of manufacturing an organic material comprising the substrate, the pixel electrode, the auxiliary electrode, the spacer portion, and the organic EL layer, wherein at least one organic layer is formed on the entire surface of the auxiliary electrode. An organic EL layer side substrate preparing step for preparing an EL layer side substrate, and a temporary sealing lid material facing the organic EL layer side substrate obtained in the organic EL layer side substrate preparing step under a first pressure The temporary sealing lid material is arranged to contact the top of the spacer portion via the organic layer, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material is sealed. A vacuum sealing step for sealing the surface of the organic EL layer side substrate with the temporary sealing lid material, and a space around the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material sealed in the vacuum sealing step. The organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid by adjusting the pressure to the second pressure And a contact part forming step of forming the contact part by removing the organic layer formed on the auxiliary electrode by irradiating a laser beam through the temporary sealing lid member. The temporary sealing lid member has a lid substrate and a temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate.

ここで、上記「第1圧力」および上記「第2圧力」とは、第1圧力が第2圧力よりも低い圧力であれば特に限定されるものではない。また、有機EL層側基板の表面に仮封止用蓋材を配置したときの上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の空間の圧力を第1圧力に調整し、さらに上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の外周の空間の圧力を第2圧力に調整した際に、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の圧力と上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の外周の圧力との差圧により、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材を密着させることができる程度の圧力であれば特に限定されるものではない。なお、通常は、上記「第1圧力」が常圧よりも低い圧力となり、上記「第2圧力」が上記「第1圧力」よりも高い圧力となる。また、具体的な上記「第1圧力」および上記「第2圧力」については、後述する「2.減圧密封工程」および「3.密着工程」の項に記載するため、ここでの説明は省略する。   Here, the “first pressure” and the “second pressure” are not particularly limited as long as the first pressure is lower than the second pressure. Further, the pressure in the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member when the temporary sealing lid member is disposed on the surface of the organic EL layer side substrate is adjusted to a first pressure, When the pressure in the outer space of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member is adjusted to the second pressure, the pressure between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member and the above Especially if the pressure is such that the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material can be brought into close contact with each other by the pressure difference between the organic EL layer side substrate and the outer peripheral pressure of the temporary sealing lid material. It is not limited. Normally, the “first pressure” is lower than the normal pressure, and the “second pressure” is higher than the “first pressure”. The specific “first pressure” and “second pressure” will be described in the sections of “2. Pressure reducing sealing step” and “3. Adhesion step”, which will be described later. To do.

図1(a)〜(f)は、本発明の有機EL表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図1(a)に例示するように、基板2上に、画素電極3と上記画素電極3の間に補助電極4とを形成する画素電極および補助電極形成工程を行う。次に、図1(b)に例示するように、基板2上にスペーサ部5を形成するスペーサ部形成工程を行う。その後、図1(c)に例示するように、複数の有機層から構成され、少なくとも発光層を有する有機EL層6を形成する有機EL層形成工程を行う。このようにして、有機EL層側基板1を準備する有機EL層側基板準備工程を行う。次いで、図1(d)に例示するように、第1圧力下で、上記スペーサ部5の頂部に蓋基板83が上記有機層を介して接触するように有機EL層側基板1の表面に仮封止用蓋材8を配置し、上記有機EL層側基板1を上記仮封止用蓋材8および金属板20で挟持する。このようにして、有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8との間の空間Vを密封して有機EL層側基板1表面を仮封止用蓋材8で封止する減圧密封工程を行う。なお、ここでの仮封止部材80は、磁性材料から構成された仮封止部材81であるため、上記仮封止部材81と上記金属板20とが有機EL層側基板1を介して磁力により密着する。その後、減圧密封工程で密封された上記有機EL層側基板1および上記仮封止用蓋材8の外周の空間を第2圧力に調整して上記有機EL層側基板1および上記仮封止用蓋材8を密着させる密着工程を行う。次に、上記仮封止用蓋材8を介して、補助電極4上に形成された有機EL層6にレーザー光Lを照射して、上記補助電極4上の上記有機EL層6を除去し、その後、有機EL層側基板1から仮封止用蓋材8および金属板20を外して図1(e)に例示するように、補助電極4を露出させて接触部9を形成する接触部形成工程を行う。最後に、図1(f)に例示するように、接触部9において補助電極4と電気的に接続されるように、有機EL層側基板上に透明電極層7を形成する透明電極層形成工程を行う。これにより、本発明における有機EL表示装置100が得られる。   1A to 1F are process diagrams showing an example of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention. First, as illustrated in FIG. 1A, a pixel electrode and auxiliary electrode forming process for forming the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 between the pixel electrode 3 is performed on the substrate 2. Next, as illustrated in FIG. 1B, a spacer part forming step for forming the spacer part 5 on the substrate 2 is performed. Thereafter, as illustrated in FIG. 1C, an organic EL layer forming step is performed in which an organic EL layer 6 including a plurality of organic layers and having at least a light emitting layer is formed. In this way, an organic EL layer side substrate preparation step for preparing the organic EL layer side substrate 1 is performed. Next, as illustrated in FIG. 1D, the surface of the organic EL layer side substrate 1 is temporarily placed so that the lid substrate 83 is in contact with the top of the spacer portion 5 via the organic layer under the first pressure. The sealing lid 8 is disposed, and the organic EL layer side substrate 1 is sandwiched between the temporary sealing lid 8 and the metal plate 20. Thus, the space V between the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid member 8 is sealed, and the surface of the organic EL layer side substrate 1 is sealed with the temporary sealing lid member 8 under reduced pressure. Perform the process. Since the temporary sealing member 80 here is a temporary sealing member 81 made of a magnetic material, the temporary sealing member 81 and the metal plate 20 are magnetically coupled via the organic EL layer side substrate 1. Adhere closely. Thereafter, the space on the outer periphery of the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid 8 sealed in the reduced pressure sealing step is adjusted to a second pressure to adjust the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing. An adhesion process for bringing the lid material 8 into close contact is performed. Next, the organic EL layer 6 formed on the auxiliary electrode 4 is irradiated with laser light L through the temporary sealing lid member 8 to remove the organic EL layer 6 on the auxiliary electrode 4. Thereafter, the temporary sealing lid 8 and the metal plate 20 are removed from the organic EL layer side substrate 1 to expose the auxiliary electrode 4 to form the contact portion 9 as illustrated in FIG. A formation process is performed. Finally, as illustrated in FIG. 1 (f), a transparent electrode layer forming step of forming the transparent electrode layer 7 on the organic EL layer side substrate so as to be electrically connected to the auxiliary electrode 4 at the contact portion 9. I do. Thereby, the organic EL display device 100 according to the present invention is obtained.

図2(a)〜(f)は本発明の有機EL表示装置の製造方法の他の例を示す工程図である。なお、図2(a)〜(c)は上記図1(a)〜(c)と同様であるので省略する。次に、図2(d)に例示するように、第1圧力下で、上記スペーサ部5の頂部に蓋基板83が上記有機層を介して接触するように有機EL層側基板1の表面に仮封止用蓋材8を配置し、上記有機EL層側基板1を上記仮封止用蓋材8および金属板20で挟持する。このようにして、有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8との間の空間Vを密封して有機EL層側基板1表面を仮封止用蓋材8で封止する減圧密封工程を行う。なお、ここでの仮封止部材80は、図1(d)と同様に磁性材料から構成された仮封止部材81であるため、上記仮封止部材81と上記金属板20とが有機EL層側基板1を介して磁力により密着する。その後、減圧密封工程で密封された上記有機EL層側基板1および上記仮封止用蓋材8の外周の空間を第2圧力に調整して上記有機EL層側基板1および上記仮封止用蓋材8を密着させる密着工程を行う。次いで、上記仮封止用蓋材8側から、補助電極4が形成された領域に開口部を有するマスクMを介してレーザー光Lを照射して、補助電極4上に形成された有機EL層6を除去し、その後、有機EL層側基板1から仮封止用蓋材8および金属板20を外して図2(e)に例示するように、補助電極4を露出させて接触部9を形成する接触部形成工程を行う。最後に、図2(f)に例示するように、接触部9において補助電極4と電気的に接続されるように、有機EL層側基板上に透明電極層7を形成する透明電極層形成工程を行う。これにより、本発明における有機EL表示装置100が得られる。   2A to 2F are process diagrams illustrating another example of the method for manufacturing the organic EL display device of the present invention. 2A to 2C are the same as FIGS. 1A to 1C, and will be omitted. Next, as illustrated in FIG. 2D, under the first pressure, the surface of the organic EL layer side substrate 1 is placed so that the lid substrate 83 is in contact with the top of the spacer portion 5 via the organic layer. The temporary sealing lid member 8 is disposed, and the organic EL layer side substrate 1 is sandwiched between the temporary sealing lid member 8 and the metal plate 20. Thus, the space V between the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid member 8 is sealed, and the surface of the organic EL layer side substrate 1 is sealed with the temporary sealing lid member 8 under reduced pressure. Perform the process. Since the temporary sealing member 80 here is a temporary sealing member 81 made of a magnetic material as in FIG. 1D, the temporary sealing member 81 and the metal plate 20 are organic EL. It adheres by the magnetic force through the layer side substrate 1. Thereafter, the space on the outer periphery of the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid 8 sealed in the reduced pressure sealing step is adjusted to a second pressure to adjust the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing. An adhesion process for bringing the lid material 8 into close contact is performed. Next, an organic EL layer formed on the auxiliary electrode 4 by irradiating the region where the auxiliary electrode 4 is formed through the mask M having an opening from the temporary sealing lid material 8 side. 6 is removed, and thereafter, the temporary sealing lid 8 and the metal plate 20 are removed from the organic EL layer side substrate 1, and the auxiliary electrode 4 is exposed to expose the contact portion 9 as illustrated in FIG. The contact part formation process to form is performed. Finally, as illustrated in FIG. 2 (f), a transparent electrode layer forming step of forming the transparent electrode layer 7 on the organic EL layer side substrate so as to be electrically connected to the auxiliary electrode 4 at the contact portion 9. I do. Thereby, the organic EL display device 100 according to the present invention is obtained.

本発明によれば、減圧密封工程において用いられる仮封止用蓋材が、蓋基板および仮封止部材から構成されたものであることにより、減圧密封工程において有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を十分に密封することができ、接触部形成工程においてレーザー光により除去された補助電極上の有機層が画素領域に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができる。
この理由については、次のようなことが考えられる。すなわち、従来においては、図16(b)に例示するように、減圧密封工程により重ね合わせ基板10’の両端における有機EL層側基板と蓋材80’との間の空間Nを減圧空間とすることができず、密着工程にて有機EL層側基板と蓋材80’の外周の空間を第2圧力に調整した際に有機EL層側基板と蓋材80’とを十分に密着させることができないといった問題があった。しかしながら、本発明においては、減圧密封工程において用いられる仮封止用蓋材が、図3(a)〜(c)に示すように、蓋基板83と上記蓋基板83上に枠状に形成された仮封止部材80とを有するものであるので、例えば図1(d)に例示するように、仮封止用蓋材8を有機EL層側基板1に対向させて配置し、有機EL層側基板1の基板2側に金属板20を配置することにより、有機EL層側基板1を介して対向する仮封止用蓋材8の仮封止部材80と金属板20とが密着する。したがって、有機EL層側基板1表面に、仮封止部材80が形成された領域に対応して仮封止用蓋材8が枠状に接触することになる。そのため、減圧密封工程により有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8との間の空間を全体的に減圧密封することができ、その後の密着工程により有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8とを十分に密着させることができる。したがって、本発明においては、接触部形成工程においてレーザー光Lにより除去された補助電極4上の有機層6が画素領域3に飛散するのを防いで、表示特性の低下を抑制することができるものと推量される。
According to the present invention, the temporary sealing lid material used in the vacuum sealing step is composed of the lid substrate and the temporary sealing member, so that the organic EL layer side substrate and the temporary sealing are temporarily sealed in the vacuum sealing step. The space between the lid and the cover material can be sufficiently sealed, and the organic layer on the auxiliary electrode removed by the laser beam in the contact formation process is prevented from scattering into the pixel area, thereby reducing the display characteristics. Can be suppressed.
About this reason, the following can be considered. That is, in the related art, as illustrated in FIG. 16B, the space N between the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ at both ends of the overlapping substrate 10 ′ is set as the reduced pressure space by the reduced pressure sealing process. And the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ can be sufficiently brought into close contact with each other when the outer peripheral space of the organic EL layer side substrate and the lid member 80 ′ is adjusted to the second pressure in the adhesion step. There was a problem that I couldn't. However, in the present invention, the temporary sealing lid member used in the vacuum sealing step is formed in a frame shape on the lid substrate 83 and the lid substrate 83 as shown in FIGS. Since the temporary sealing member 80 is included, for example, as illustrated in FIG. 1 (d), the temporary sealing lid member 8 is disposed to face the organic EL layer side substrate 1, and the organic EL layer By disposing the metal plate 20 on the substrate 2 side of the side substrate 1, the temporary sealing member 80 of the temporary sealing lid member 8 and the metal plate 20 facing each other through the organic EL layer side substrate 1 are in close contact with each other. Accordingly, the temporary sealing lid member 8 comes into contact with the surface of the organic EL layer side substrate 1 in a frame shape corresponding to the region where the temporary sealing member 80 is formed. Therefore, the space between the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid 8 can be sealed under reduced pressure as a whole by the reduced pressure sealing step, and the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing can be performed by the subsequent adhesion step. The stopper cover 8 can be sufficiently adhered. Therefore, in the present invention, it is possible to prevent the organic layer 6 on the auxiliary electrode 4 removed by the laser light L in the contact portion forming step from scattering into the pixel region 3 and to suppress deterioration in display characteristics. It is guessed.

また、本発明によれば、蓋基板上に形成された仮封止部材により仮封止用蓋材を有機EL層側基板に貼り付けることができる。そのため、例えば、治具等により蓋基板を有機EL層側基板に圧着させて貼り付ける場合には、治具等により蓋基板が圧着された状態の有機EL層側基板をステージスキャンさせて搬送することがその構成上困難であったが、本発明においては、仮封止用蓋材が貼り付いた状態の有機EL層側基板をステージスキャンさせて搬送することが可能になる。したがって、本発明においては製造効率の向上を図ることができる。   Further, according to the present invention, the temporary sealing lid member can be attached to the organic EL layer side substrate by the temporary sealing member formed on the lid substrate. Therefore, for example, when the lid substrate is bonded to the organic EL layer side substrate by using a jig or the like, the organic EL layer side substrate in a state where the lid substrate is bonded by the jig or the like is stage-scanned and conveyed. However, in the present invention, the organic EL layer side substrate with the temporary sealing lid attached thereto can be stage-scanned and transported. Accordingly, the manufacturing efficiency can be improved in the present invention.

さらに、本発明によれば、上述のように有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを接触させて、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を減圧密封し、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができるため、例えば図14に例示する従来の方法のように、複数の治具等の部材を用いる必要がなくなる。したがって、本発明においては、複数の治具等の部材を用いることによる製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことができる。   Furthermore, according to the present invention, as described above, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member are brought into contact with each other, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member is sealed under reduced pressure. In addition, since the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently adhered, there is no need to use a plurality of members such as a jig as in the conventional method illustrated in FIG. . Therefore, in the present invention, an increase in manufacturing cost and a decrease in manufacturing efficiency due to the use of a plurality of members such as jigs can be prevented.

ここで、本発明において「上記補助電極上の全面に少なくとも1層の上記有機層が形成された」とは、例えば図1(c)および図2(c)に例示するように、有機EL層6を構成する全ての層が、画素電極3が形成された画素領域p内および補助電極4を覆うように全面に形成された態様、また、この他にも、仮に有機EL層が、正孔注入層、正孔輸送層、発光層および電子注入層の4層から構成されている場合においては、上記4層のうち3層が画素領域内にパターン状に形成され、残りの1層が画素領域内および補助電極を覆うように全面に形成されている態様や、上記4層のうち2層が画素領域内にパターン状に形成され、残りの2層が画素領域内および補助電極を覆うように全面に形成されている態様や、さらには上記4層のうち1層が画素領域内にパターン状に形成され、残りの3層が画素領域内および補助電極を覆うように全面に形成されている態様等を含む。   Here, in the present invention, “at least one organic layer is formed on the entire surface of the auxiliary electrode” means, for example, an organic EL layer as illustrated in FIG. 1 (c) and FIG. 2 (c). 6 is formed on the entire surface so as to cover the pixel region p in which the pixel electrode 3 is formed and the auxiliary electrode 4, and in addition to this, the organic EL layer is assumed to be a hole. In the case of four layers including an injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron injection layer, three of the four layers are formed in a pattern in the pixel region, and the remaining one layer is a pixel. A mode in which the entire surface is formed so as to cover the region and the auxiliary electrode, or two of the four layers are formed in a pattern in the pixel region, and the remaining two layers cover the pixel region and the auxiliary electrode Formed on the entire surface, and further, one of the above four layers. There are formed in a pattern in the pixel region, including the aspects remaining three layers are formed on the entire surface so as to cover the pixel region and the auxiliary electrode and the like.

また、本発明において「スペーサ部の頂部」とは、例えば図4に例示するように、スペーサ部5が台形である場合にはスペーサ部5の上底面Hを指す。また、スペーサ部が台形以外の形状である場合には、スペーサ部の最上部を指し、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを接触させて減圧密封させた際に、スペーサ部において仮封止用蓋材が先に接触する部分を指す。   Further, in the present invention, the “top portion of the spacer portion” refers to the upper bottom surface H of the spacer portion 5 when the spacer portion 5 is trapezoidal as illustrated in FIG. 4, for example. When the spacer portion has a shape other than the trapezoid, it refers to the uppermost portion of the spacer portion, and when the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are brought into contact with each other and sealed under reduced pressure, The part which the lid | cover material for temporary sealing contacts previously is pointed out.

また、本発明において「仮封止用蓋材は、蓋基板と上記蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材とを有する」とは、例えば図3(a)〜(c)に例示するように、仮封止用蓋材8が、蓋基板83と、上記蓋基板83上に開口部を有するように形成された仮封止部材80とを有することを指す。   Further, in the present invention, “the temporary sealing lid member has a lid substrate and a temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate” means, for example, in FIGS. 3 (a) to 3 (c). As illustrated, the temporary sealing lid member 8 includes a lid substrate 83 and a temporary sealing member 80 formed on the lid substrate 83 so as to have an opening.

以下、本発明の有機EL表示装置の製造方法における各工程、および本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置について説明する。   Hereinafter, each process in the manufacturing method of the organic EL display device of this invention and the manufacturing apparatus used for the manufacturing method of the organic EL display device of this invention are demonstrated.

1.有機EL層側基板準備工程
本発明においては、まず、基板と、上記基板上に形成された複数の画素電極と、上記画素電極の間に形成された補助電極と、上記基板上に形成されたスペーサ部と、上記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機EL層と、上記補助電極上に形成された少なくとも1層の上記有機層と、上記補助電極上に形成された上記有機層の開口部である接触部と、上記有機EL層および上記接触部上に形成された透明電極層とを有し、上記スペーサ部は、上記接触部および上記接触部に隣接する上記画素電極の間に形成されており、また、上記透明電極層は、上記補助電極と上記接触部で電気的に接続されているトップエミッション型有機EL表示装置の製造方法であって、上記基板、上記画素電極、上記補助電極、上記スペーサ部、および上記有機EL層を有し、上記補助電極上の全面に少なくとも1層の上記有機層が形成された有機EL層側基板を準備する有機EL層側基板準備工程を行う。
以下、本工程において形成される各部材の形成工程について説明する。
1. Organic EL layer side substrate preparation step In the present invention, first, a substrate, a plurality of pixel electrodes formed on the substrate, an auxiliary electrode formed between the pixel electrodes, and the substrate were formed. A spacer part, an organic EL layer formed on the pixel electrode and composed of a plurality of organic layers, having at least a light emitting layer, at least one organic layer formed on the auxiliary electrode, and A contact portion that is an opening portion of the organic layer formed on the auxiliary electrode; and a transparent electrode layer formed on the organic EL layer and the contact portion. The spacer portion includes the contact portion and the contact portion. It is formed between the pixel electrodes adjacent to the contact portion, and the transparent electrode layer is a method for manufacturing a top emission type organic EL display device electrically connected to the auxiliary electrode at the contact portion. Over there An organic EL layer side substrate having a substrate, the pixel electrode, the auxiliary electrode, the spacer portion, and the organic EL layer and having at least one organic layer formed on the entire surface of the auxiliary electrode is prepared. An organic EL layer side substrate preparation step is performed.
Hereinafter, the formation process of each member formed in this process will be described.

(1)画素電極および補助電極形成工程
本工程は、基板上に画素電極と補助電極とを形成する工程である。
以下、本工程において用いられる各部材、および具体的な画素電極および補助電極形成工程について説明する。
(1) Pixel electrode and auxiliary electrode formation process This process is a process of forming a pixel electrode and an auxiliary electrode on a substrate.
Hereinafter, each member used in this step, and specific pixel electrode and auxiliary electrode forming steps will be described.

(a)基板
本工程における基板は、後述する画素電極、補助電極、スペーサ部、有機EL層および透明電極層を支持するものである。
(A) Substrate The substrate in this step supports a pixel electrode, an auxiliary electrode, a spacer portion, an organic EL layer, and a transparent electrode layer, which will be described later.

本発明において製造される有機EL表示装置はトップエミッション型であるため、基板は光透過性を有していてもよく有さなくてもよい。   Since the organic EL display device manufactured in the present invention is a top emission type, the substrate may or may not have light transmittance.

また、基板は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよく、有機EL表示装置の用途により適宜選択される。このような基板の材料としては、例えば、ガラスや樹脂が挙げられる。なお、基板の表面にはガスバリア層が形成されていてもよい。   The substrate may or may not have flexibility, and is appropriately selected depending on the use of the organic EL display device. Examples of such a substrate material include glass and resin. A gas barrier layer may be formed on the surface of the substrate.

基板の厚みとしては、基板の材料および有機EL表示装置の用途により適宜選択され、具体的には0.005mm〜5mm程度である。   The thickness of the substrate is appropriately selected depending on the material of the substrate and the use of the organic EL display device, and is specifically about 0.005 mm to 5 mm.

(b)画素電極
本工程における画素電極は、基板上にパターン状に形成されるものである。
画素電極は、光透過性を有していてもよく、有さなくてもよいが、本発明により製造される有機EL表示装置はトップエミッション型であり、透明電極層側から光を取り出すため、通常は光透過性を有さないものとされる。
(B) Pixel electrode The pixel electrode in this step is formed in a pattern on the substrate.
The pixel electrode may or may not have optical transparency, but the organic EL display device manufactured according to the present invention is a top emission type and takes out light from the transparent electrode layer side. Usually, it does not have optical transparency.

画素電極は、陽極および陰極のいずれであってもよい。
画素電極が陽極である場合には、抵抗が小さいことが好ましく、一般的には導電性材料である金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
陽極には、正孔が注入しやすいように仕事関数の大きい導電性材料を用いることが好ましい。例えば、Au、Cr、Mo等の金属;酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化亜鉛、酸化インジウム等の無機酸化物;金属ドープされたポリチオフェン等の導電性高分子等が挙げられる。これらの導電性材料は、単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。2種類以上を用いる場合には、各材料からなる層を積層してもよい。
The pixel electrode may be either an anode or a cathode.
When the pixel electrode is an anode, it is preferable that the resistance is small, and generally a metal material that is a conductive material is used, but an organic compound or an inorganic compound may be used.
For the anode, a conductive material having a large work function is preferably used so that holes can be easily injected. Examples thereof include metals such as Au, Cr, and Mo; inorganic oxides such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide, and indium oxide; and conductive polymers such as metal-doped polythiophene. It is done. These conductive materials may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used, layers made of each material may be stacked.

また、画素電極が陰極である場合には、一般的には導電性材料である金属材料が用いられるが、有機化合物または無機化合物を用いてもよい。
陰極には、電子が注入しやすいように仕事関数の小さい導電性材料を用いることが好ましい。例えば、MgAg等のマグネシウム合金、AlLi、AlCa、AlMg等のアルミニウム合金、Li、Cs、Ba、Sr、Ca等のアルカリ金属類およびアルカリ土類金属類の合金等が挙げられる。
When the pixel electrode is a cathode, a metal material that is a conductive material is generally used, but an organic compound or an inorganic compound may be used.
For the cathode, it is preferable to use a conductive material having a low work function so that electrons can be easily injected. Examples thereof include magnesium alloys such as MgAg, aluminum alloys such as AlLi, AlCa, and AlMg, and alloys of alkali metals and alkaline earth metals such as Li, Cs, Ba, Sr, and Ca.

画素電極の厚みとしては、画素電極のエッジ部分からのリーク電流の有無等に応じて適宜調整され、例えば、10nm〜1000nm程度にすることができ、好ましくは20nm〜500nm程度である。なお、画素電極の厚みとしては、後述する補助電極の厚みと同じであってもよく異なっていてもよい。なお、画素電極を、後述する補助電極と一括して形成する場合には、画素電極および補助電極の厚みは等しくなる。   The thickness of the pixel electrode is appropriately adjusted according to the presence or absence of leakage current from the edge portion of the pixel electrode, and can be set to, for example, about 10 nm to 1000 nm, and preferably about 20 nm to 500 nm. Note that the thickness of the pixel electrode may be the same as or different from the thickness of the auxiliary electrode described later. Note that when the pixel electrode is formed together with an auxiliary electrode described later, the pixel electrode and the auxiliary electrode have the same thickness.

(c)補助電極
本工程における補助電極は、画素電極の間に形成されるものである。
補助電極は、光透過性を有していてもよく有さなくてもよい。
(C) Auxiliary electrode The auxiliary electrode in this process is formed between pixel electrodes.
The auxiliary electrode may or may not have optical transparency.

補助電極には、一般的には導電性材料である金属材料が用いられる。なお、補助電極に用いられる材料については、上記画素電極に用いられる材料と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、補助電極に用いられる材料は、画素電極に用いられる材料と同じであってもよく異なってもよい。中でも、画素電極および補助電極は同一の材料であることが好ましい。画素電極および補助電極を一括して形成することができ、製造工程を簡略化することができるからである。
A metal material that is a conductive material is generally used for the auxiliary electrode. Note that the material used for the auxiliary electrode can be the same as the material used for the pixel electrode, and thus the description thereof is omitted here.
The material used for the auxiliary electrode may be the same as or different from the material used for the pixel electrode. Among these, the pixel electrode and the auxiliary electrode are preferably made of the same material. This is because the pixel electrode and the auxiliary electrode can be formed collectively, and the manufacturing process can be simplified.

補助電極の厚みとしては、補助電極のエッジ部分からのリーク電流の有無等に応じて適宜調整され、例えば、10nm〜1000nmの範囲内であることが好ましく、中でも20nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。なお、補助電極を、上述した画素電極と一括して形成する場合には、画素電極および補助電極の厚みは等しくなる。   The thickness of the auxiliary electrode is appropriately adjusted according to the presence or absence of leakage current from the edge portion of the auxiliary electrode, and is preferably in the range of 10 nm to 1000 nm, for example, in particular in the range of 20 nm to 500 nm. Is preferred. Note that when the auxiliary electrode is formed together with the above-described pixel electrode, the pixel electrode and the auxiliary electrode have the same thickness.

このような補助電極を、補助電極の厚み方向に観察した際の形状、すなわち平面形状としては、透明電極層の抵抗による電圧降下を抑制するという補助電極の機能を発揮することができる形状であれば特に限定されるものではないが、有機EL表示装置の光取り出し効率を低下させないような形状であることが好ましい。例えば、ストライプ状や格子状等が挙げられる。   The shape when such an auxiliary electrode is observed in the thickness direction of the auxiliary electrode, that is, a planar shape, is a shape that can exhibit the function of the auxiliary electrode to suppress a voltage drop due to the resistance of the transparent electrode layer. The shape is not particularly limited, but is preferably a shape that does not reduce the light extraction efficiency of the organic EL display device. For example, a stripe shape or a lattice shape can be used.

(d)画素電極および補助電極
隣り合う画素電極および補助電極の間隔としては、後述するスペーサ部を形成することができる程度であれば特に限定されるものではない。具体的には、1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、中でも2μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。なお、隣り合う画素電極および補助電極の間隔とは、図1(a)に示した距離dを指す。
(D) Pixel Electrode and Auxiliary Electrode The distance between the adjacent pixel electrode and auxiliary electrode is not particularly limited as long as a spacer portion described later can be formed. Specifically, it is preferably in the range of 1 μm to 50 μm, and more preferably in the range of 2 μm to 30 μm. Note that the interval between adjacent pixel electrodes and auxiliary electrodes refers to the distance d shown in FIG.

(e)画素電極および補助電極形成工程
本発明における画素電極および補助電極形成工程は、まず基板上に画素電極を形成する工程を有する。画素電極の形成方法としては、基板上に画素電極をパターン状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な電極の形成方法を採用することができる。例えば、マスクを用いた蒸着法、フォトリソグラフィー法等が挙げられる。また、蒸着法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等が挙げられる。
(E) Pixel Electrode and Auxiliary Electrode Forming Step The pixel electrode and auxiliary electrode forming step in the present invention includes a step of first forming a pixel electrode on a substrate. The method for forming the pixel electrode is not particularly limited as long as the pixel electrode can be formed in a pattern on the substrate, and a general electrode forming method can be employed. For example, the vapor deposition method using a mask, the photolithographic method, etc. are mentioned. Examples of the vapor deposition method include a sputtering method and a vacuum vapor deposition method.

次に本工程は、画素電極の間に補助電極を形成する工程を有する。補助電極の形成方法としては、基板上に補助電極をパターン状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な電極の形成方法を採用することができる。具体的な補助電極の形成方法については、上記画素電極の形成方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。なお、本工程においては、補助電極を画素電極と一括して形成することが好ましい。製造工程を簡略化することができるからである。   Next, this step includes a step of forming an auxiliary electrode between the pixel electrodes. The method for forming the auxiliary electrode is not particularly limited as long as the auxiliary electrode can be formed in a pattern on the substrate, and a general electrode forming method can be employed. A specific method for forming the auxiliary electrode can be the same as the method for forming the pixel electrode, and thus description thereof is omitted here. In this step, it is preferable to form the auxiliary electrode together with the pixel electrode. This is because the manufacturing process can be simplified.

(2)スペーサ部形成工程
本工程は、上記基板上にスペーサ部を形成する工程である。
以下、本工程において形成されるスペーサ部および具体的なスペーサ部形成工程について説明する。
(2) Spacer part formation process This process is a process of forming a spacer part on the substrate.
Hereinafter, the spacer part formed in this process and the concrete spacer part formation process are demonstrated.

(a)スペーサ部
本工程において形成されるスペーサ部は、画素電極と後述する接触部との間に形成されるものであり、後述する接触部形成工程においてレーザー光により除去された有機層が飛散するのを防止するというスペーサ部の機能を有するものである。また、スペーサ部が画素電極に接触している場合には、スペーサ部は絶縁層としての機能を有する。
(A) Spacer portion The spacer portion formed in this step is formed between the pixel electrode and a contact portion described later, and the organic layer removed by the laser beam in the contact portion forming step described later is scattered. It has the function of the spacer part to prevent this. In addition, when the spacer portion is in contact with the pixel electrode, the spacer portion functions as an insulating layer.

なお、スペーサ部が絶縁層としての機能を有する場合には、スペーサ部を形成する本工程とともに絶縁層を形成する絶縁層形成工程を同時に行い、スペーサ部と絶縁層とを一括して形成してもよい。スペーサ部と絶縁層とを一括して形成することにより、製造効率の向上を図ることができる。図5(a)〜(b)は、本工程と同時に絶縁層形成工程を行い、スペーサ部および絶縁層を一括して形成する場合の一例を示した概略工程図であり、図5(c)は図5(b)のA−A線断面図である。まず、図5(a)に例示するように、基板2上に画素電極3および枠状に補助電極4を形成する。次に、図5(b)、(c)に例示するように、画素電極3上および接触部9を形成する補助電極4上が露出するように、スペーサ部5および絶縁層13を一括して形成する。スペーサ部および絶縁層が一括して形成される場合には、スペーサ部および絶縁層は同じ材料から構成され、また図5(b)に例示するように、スペーサ部5および絶縁層13は連続して形成されていてもよい。   When the spacer portion has a function as an insulating layer, the insulating layer forming step for forming the insulating layer is simultaneously performed with the main step for forming the spacer portion, and the spacer portion and the insulating layer are collectively formed. Also good. By forming the spacer portion and the insulating layer together, the manufacturing efficiency can be improved. FIGS. 5A to 5B are schematic process diagrams showing an example in which an insulating layer forming process is performed simultaneously with the present process, and a spacer portion and an insulating layer are formed in a lump. FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. First, as illustrated in FIG. 5A, the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed in a frame shape on the substrate 2. Next, as illustrated in FIGS. 5B and 5C, the spacer portion 5 and the insulating layer 13 are collectively arranged so that the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 forming the contact portion 9 are exposed. Form. When the spacer part and the insulating layer are formed in a lump, the spacer part and the insulating layer are made of the same material, and the spacer part 5 and the insulating layer 13 are continuous as illustrated in FIG. It may be formed.

本工程において、画素電極と後述する接触部との間に形成されるスペーサ部の数としては、画素電極が形成された画素領域と接触部とを隔てることにより、上述したスペーサ部の機能を十分に発揮することができれば特に限定されるものではなく、1つであってもよく2つ以上であってもよい。
ここで、画素電極と後述する接触部との間に形成されるスペーサ部の数とは、隣接する画素電極と接触部との間に長手方向にストライプ状のスペーサ部が形成されており、このときに画素電極と接触部との間に形成されたストライプの数を指す。したがって、例えば、図6(a)、(b)に例示するスペーサ部5の数は1つである。なお、図6は、本工程において形成されるスペーサ部の一例を示す概略図である。また、図6(a)は画素電極と補助電極との間にスペーサ部が形成された際の概略平面図であり、図6(b)は図6(a)のB−B線断面図である。図6において説明していない符号については、図1と同様であるためここでの説明は省略する。
In this step, as the number of spacer portions formed between the pixel electrode and a contact portion described later, the function of the spacer portion described above is sufficiently achieved by separating the pixel region where the pixel electrode is formed from the contact portion. If it can be exhibited, it will not be specifically limited, One may be sufficient and two or more may be sufficient.
Here, the number of spacer portions formed between the pixel electrode and a contact portion to be described later is that a stripe-shaped spacer portion is formed in the longitudinal direction between the adjacent pixel electrode and the contact portion. Sometimes refers to the number of stripes formed between the pixel electrode and the contact portion. Therefore, for example, the number of the spacer portions 5 illustrated in FIGS. 6A and 6B is one. FIG. 6 is a schematic view showing an example of the spacer portion formed in this step. FIG. 6A is a schematic plan view when a spacer portion is formed between the pixel electrode and the auxiliary electrode, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. is there. Since the reference numerals not described in FIG. 6 are the same as those in FIG. 1, the description thereof is omitted here.

本工程において形成されるスペーサ部の平面形状としては、画素電極と後述する接触部とを隔てるように形成されていれば特に限定されるものではないが、例えば、上述した図6(a)に例示するように、画素電極3と補助電極4における接触部9との間にスペーサ部5がストライプ状に形成されていてもよく、図7(a)に例示するように、補助電極4における接触部9を囲うようにスペーサ部5が枠状に形成されていてもよく、あるいは図8(a)に例示するように、補助電極4における接触部9と隣接する画素電極3を囲うようにスペーサ部5が枠状に形成されていてもよい。なお、図7および図8は、本工程において形成されるスペーサ部の他の例を示す概略図である。また、図7(a)および図8(a)は画素電極が形成された画素領域と補助電極における接触部との間にスペーサ部が形成された際の概略平面図であり、図7(b)は図7(a)のC−C線断面図であり、図8(b)は図8(a)のD−D線断面図である。図7および図8において説明していない符号については、図1と同様であるためここでの説明は省略する。   The planar shape of the spacer portion formed in this step is not particularly limited as long as it is formed so as to separate the pixel electrode from a contact portion described later. For example, as shown in FIG. As illustrated, the spacer portion 5 may be formed in a stripe shape between the pixel electrode 3 and the contact portion 9 in the auxiliary electrode 4, and as illustrated in FIG. 7A, the contact in the auxiliary electrode 4. The spacer portion 5 may be formed in a frame shape so as to surround the portion 9, or, as illustrated in FIG. 8A, the spacer so as to surround the pixel electrode 3 adjacent to the contact portion 9 in the auxiliary electrode 4. The part 5 may be formed in a frame shape. 7 and 8 are schematic views showing other examples of the spacer portion formed in this step. FIGS. 7A and 8A are schematic plan views when a spacer portion is formed between the pixel region where the pixel electrode is formed and the contact portion of the auxiliary electrode, and FIG. ) Is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. 7A, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line DD in FIG. 8A. The reference numerals not described in FIGS. 7 and 8 are the same as those in FIG.

また、本工程において形成されるスペーサ部の縦断面形状としては、上述したスペーサ部の機能を発揮することができるものであれば特に限定されない。例えば、順テーパー形状、逆テーパー形状、矩形等が挙げられるが、中でも、順テーパー形状であることが好ましい。図7(a)や図8(a)に例示するように、画素電極または補助電極を囲うようにスペーサ部が形成されている場合であっても、後述する透明電極層を全面に均一に形成することができ、十分な導通を得ることができるからである。   In addition, the vertical cross-sectional shape of the spacer portion formed in this step is not particularly limited as long as the function of the spacer portion described above can be exhibited. For example, a forward taper shape, a reverse taper shape, a rectangle and the like can be mentioned, and among them, a forward taper shape is preferable. As illustrated in FIG. 7A and FIG. 8A, a transparent electrode layer described later is uniformly formed on the entire surface even when the spacer portion is formed so as to surround the pixel electrode or the auxiliary electrode. This is because sufficient conduction can be obtained.

本工程において形成されるスペーサ部の高さとしては、後述する減圧密封工程において、有機EL層側基板および仮封止用蓋材を対向させた際に、スペーサ部の頂部と仮封止用蓋材とが有機層を介して接触するように配置することができる程度であれば特に限定されるものではないが、具体的には、0.1μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm〜3μmの範囲内であることが好ましい。スペーサ部の高さが上記範囲内であることにより、後述する減圧密封工程において有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させて減圧密封した際に、仮封止用蓋材が撓んで画素電極上に形成された有機EL層と接触し、有機EL表示装置の表示特性に悪影響を及ぼすという問題を防ぐことができる。
なお、スペーサ部の高さとは、図4に示すように、スペーサ部5の下底面から頂部Hまでの高さhを指す。
As for the height of the spacer portion formed in this step, when the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are opposed to each other in the vacuum sealing step described later, the top portion of the spacer portion and the temporary sealing lid Although it will not specifically limit if it is a grade which can arrange | position so that a material may contact through an organic layer, Specifically, it is preferable to exist in the range of 0.1 micrometer-10 micrometers, It is preferably within a range of 0.5 μm to 5 μm, and particularly preferably within a range of 1 μm to 3 μm. When the height of the spacer portion is within the above range, the temporary sealing lid material is bent when the temporary sealing lid material is opposed to the organic EL layer side substrate and sealed under reduced pressure in the vacuum sealing process described later. Thus, it is possible to prevent the problem that the organic EL layer formed on the pixel electrode comes into contact with the organic EL display device and adversely affects the display characteristics of the organic EL display device.
The height of the spacer portion refers to a height h from the bottom surface of the spacer portion 5 to the top portion H as shown in FIG.

このようなスペーサ部に用いられる材料としては、本発明により得られる有機EL表示装置の特性に悪影響を及ぼさないような材料であれば特に限定されるものではないが、例えばスペーサ部が画素電極と接触する場合には、スペーサ部の材料として絶縁性材料を用いることが好ましい。画素電極のエッジ部分からのリーク電流による不具合を防ぐことができる。具体的な材料としては、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。   The material used for such a spacer portion is not particularly limited as long as it does not adversely affect the characteristics of the organic EL display device obtained by the present invention. For example, the spacer portion is a pixel electrode. In the case of contact, an insulating material is preferably used as the material of the spacer portion. Problems due to leakage current from the edge portion of the pixel electrode can be prevented. Specific examples of the material include photo-curable resins such as photosensitive polyimide resins and acrylic resins, thermosetting resins, and inorganic materials.

さらに、本工程において形成されるスペーサ部は、台座部と台座部上に形成された密着部とから構成されていてもよい。具体的には、図9に例示するように、基板2上に形成された台座部11と、上記台座部11上に形成された密着部12とから構成されていてもよい。   Furthermore, the spacer part formed in this process may be comprised from the base part and the contact | adherence part formed on the base part. Specifically, as illustrated in FIG. 9, the pedestal portion 11 formed on the substrate 2 and the contact portion 12 formed on the pedestal portion 11 may be configured.

スペーサ部が台座部と密着部とから構成されていることにより、スペーサ部の高さの調整が容易になる。例えば、基板上に何らかの配線層が形成されており、上記配線層上に絶縁層が形成されている場合、上記配線層の厚みに相当する分だけ上記絶縁層の高さが高くなる。このような場合には、上記絶縁層を台座部とし、上記台座部としての絶縁層上に密着部を形成してこれをスペーサ部とすることにより、配線層上に形成された絶縁層の高さよりも、台座部としての絶縁層および絶縁層上に形成された密着部から構成されたスペーサ部の高さを容易に高くすることが可能になる。また、後述する減圧密封工程において有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させた際に、スペーサ部と仮封止用蓋材とを有機層を介して接触させることができる。これにより、スペーサ部としての上述した機能を十分に発揮することが可能になる。   Since the spacer portion is composed of the pedestal portion and the close contact portion, the height of the spacer portion can be easily adjusted. For example, when a certain wiring layer is formed on the substrate and an insulating layer is formed on the wiring layer, the height of the insulating layer is increased by an amount corresponding to the thickness of the wiring layer. In such a case, the insulating layer is used as a pedestal portion, and a close contact portion is formed on the insulating layer as the pedestal portion, and this is used as a spacer portion, thereby increasing the height of the insulating layer formed on the wiring layer. In addition, it is possible to easily increase the height of the spacer portion constituted by the insulating layer as the pedestal portion and the close contact portion formed on the insulating layer. Further, when the temporary sealing lid member is made to face the organic EL layer side substrate in the vacuum sealing step described later, the spacer portion and the temporary sealing lid member can be brought into contact with each other through the organic layer. Thereby, it is possible to sufficiently exhibit the above-described function as the spacer portion.

スペーサ部が台座部と密着部とから構成されている場合において、台座部の大きさとしては、画素領域と接触部との間の大きさや、台座部上に形成される密着部の大きさや数に応じて適宜調整されるものである。台座部の高さとしては、例えば、0.1μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5μm〜3μmの範囲内であることが好ましく、特に1μm〜2μmの範囲内であることが好ましい。台座部の高さが上記範囲内であることにより、台座部を形成することによる上述の効果を得ることができる。なお、台座部の高さとは、図9に示すように、台座部11の下底面から頂部までの高さhを指す。 When the spacer portion is composed of a pedestal portion and a close contact portion, the size of the pedestal portion is the size between the pixel region and the contact portion, the size and number of close contact portions formed on the pedestal portion. Is appropriately adjusted according to the above. For example, the height of the pedestal is preferably in the range of 0.1 μm to 5 μm, more preferably in the range of 0.5 μm to 3 μm, and particularly in the range of 1 μm to 2 μm. preferable. When the height of the pedestal portion is within the above range, the above-described effect by forming the pedestal portion can be obtained. Note that the height of the pedestal, as shown in FIG. 9 refers to the height h d from the bottom surface of the base portion 11 to the top.

また、台座部の縦断面形状としては、台座部上に密着部を形成することが可能であれば特に限定されない。例えば、順テーパー形状、逆テーパー形状、矩形等が挙げられるが、中でも、順テーパー形状であることが好ましい。画素電極または補助電極を囲うように台座部および密着部が形成されている場合であっても、後述する透明電極層を全面に均一に形成することができ、十分な導通を得ることができるからである。   In addition, the vertical cross-sectional shape of the pedestal portion is not particularly limited as long as the contact portion can be formed on the pedestal portion. For example, a forward taper shape, a reverse taper shape, a rectangle and the like can be mentioned, and among them, a forward taper shape is preferable. Even when the pedestal portion and the close contact portion are formed so as to surround the pixel electrode or the auxiliary electrode, the transparent electrode layer described later can be uniformly formed on the entire surface, and sufficient conduction can be obtained. It is.

さらに、台座部に用いられる材料としては、上述したスペーサ部の材料と同様であるため、ここでの記載は省略する。   Furthermore, the material used for the pedestal portion is the same as the material for the spacer portion described above, so description thereof is omitted here.

一方、密着部に用いられる材料としては、上述したスペーサ部の材料と同様とすることができるが、その他にも、上記台座部が絶縁性材料から形成される場合には、密着部の材料として導電性材料を用いることができる。   On the other hand, the material used for the contact portion can be the same as the material for the spacer portion described above, but in addition, when the pedestal portion is formed of an insulating material, A conductive material can be used.

密着部の大きさおよび数については、上述したスペーサ部の大きさおよび数と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   About the magnitude | size and number of contact parts, since it can be made to be the same as that of the spacer part mentioned above, description is abbreviate | omitted here.

(b)スペーサ部形成工程
本発明におけるスペーサ部形成工程は、画素電極が形成された画素領域と後述する接触部との間にスペーサ部を形成する工程を有する。スペーサ部の形成方法としては、ラミネーション法、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができる。また、鋳型等を用いてスペーサ部を別途形成し、画素領域と接触部との間に接着剤等を用いて貼り合わせる方法を挙げることができる。
(B) Spacer part formation process The spacer part formation process in this invention has the process of forming a spacer part between the pixel area | region in which the pixel electrode was formed, and the contact part mentioned later. As a method for forming the spacer portion, a general method such as a lamination method, a photolithography method, or a printing method can be used. Another example is a method in which a spacer portion is separately formed using a mold or the like, and is bonded using an adhesive or the like between the pixel region and the contact portion.

また、スペーサ部が台座部および密着部から構成される場合、本発明におけるスペーサ部形成工程は、画素電極が形成された画素領域と後述する接触部との間に台座部を形成し、その後、台座部上に密着部を形成する工程を有する。台座部および密着部の形成方法としては、上述したスペーサ部の形成方法と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。なお、台座部および密着部が同じ材料から構成される場合には、台座部および密着部を一括して形成してもよい。   Further, when the spacer portion is composed of a pedestal portion and a close contact portion, the spacer portion forming step in the present invention forms a pedestal portion between a pixel region where the pixel electrode is formed and a contact portion described later, Forming a contact portion on the pedestal portion; Since the method for forming the pedestal portion and the close contact portion can be the same as the method for forming the spacer portion described above, description thereof is omitted here. In addition, when a base part and a contact | adherence part are comprised from the same material, you may form a base part and a contact | adherence part collectively.

(3)有機EL層形成工程
本工程は、複数の有機層から構成され、少なくとも発光層を有する有機EL層を、上記画素電極上に形成する工程である。また、本工程では、有機EL層側基板における上記補助電極の全面に少なくとも1層の有機層が形成される。
以下、本工程において形成される有機EL層および具体的な有機EL層形成工程について説明する。
(3) Organic EL layer forming step This step is a step of forming an organic EL layer including a plurality of organic layers and having at least a light emitting layer on the pixel electrode. In this step, at least one organic layer is formed on the entire surface of the auxiliary electrode in the organic EL layer side substrate.
Hereinafter, the organic EL layer formed in this step and a specific organic EL layer forming step will be described.

(a)有機EL層
有機EL層を構成する有機層としては、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等が挙げられる。
以下、有機EL層を構成する各有機層について説明する。
(A) Organic EL layer As an organic layer which comprises an organic EL layer, a positive hole injection layer, a positive hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, etc. other than a light emitting layer are mentioned.
Hereinafter, each organic layer constituting the organic EL layer will be described.

(i)発光層
本工程において形成される発光層は、単色の発光層であってもよく、複数色の発光層であってもよく、有機EL装置の用途に応じて適宜選択される。有機EL装置が表示装置である場合には、通常、複数色の発光層が形成される。
(I) Light-Emitting Layer The light-emitting layer formed in this step may be a monochromatic light-emitting layer or a multi-color light-emitting layer, and is appropriately selected according to the use of the organic EL device. When the organic EL device is a display device, a plurality of color light emitting layers are usually formed.

発光層に用いられる発光材料としては、蛍光もしくは燐光を発するものであればよく例えば、色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料等を挙げることができる。なお、具体的な色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料については、一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   The light emitting material used for the light emitting layer may be any material that emits fluorescence or phosphorescence, and examples thereof include dye materials, metal complex materials, and polymer materials. Note that specific pigment materials, metal complex materials, and polymer materials can be the same as those generally used, and thus description thereof is omitted here.

発光層の厚みとしては、電子および正孔の再結合の場を提供して発光する機能を発現することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば10nm〜500nm程度にすることができる。   The thickness of the light-emitting layer is not particularly limited as long as it can provide a function of emitting light by providing a recombination field of electrons and holes, and may be, for example, about 10 nm to 500 nm. it can.

(ii)正孔注入輸送層
本工程において形成される有機EL層としては、発光層と陽極との間に正孔注入輸送層が形成されていてもよい。
正孔注入輸送層は、正孔注入機能を有する正孔注入層であってもよく、正孔輸送機能を有する正孔輸送層であってもよく、正孔注入層および正孔輸送層が積層されたものであってもよく、正孔注入機能および正孔輸送機能の両機能を有するものであってもよい。
(Ii) Hole Injecting and Transporting Layer As the organic EL layer formed in this step, a hole injecting and transporting layer may be formed between the light emitting layer and the anode.
The hole injection transport layer may be a hole injection layer having a hole injection function, or a hole transport layer having a hole transport function, and the hole injection layer and the hole transport layer are laminated. And may have both a hole injection function and a hole transport function.

正孔注入輸送層に用いられる材料としては、発光層への正孔の注入、輸送を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、一般的な材料を用いることができる。   The material used for the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as it can stabilize the injection and transportation of holes to the light emitting layer, and a general material can be used. .

正孔注入輸送層の厚みとしては、正孔注入機能や正孔輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されないが、具体的には0.5nm〜1000nmの範囲内、中でも10nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as the hole injecting function and the hole transporting function are sufficiently exhibited. Specifically, the thickness is in the range of 0.5 nm to 1000 nm, particularly 10 nm to It is preferable to be in the range of 500 nm.

(iii)電子注入輸送層
本工程において形成される有機EL層としては、発光層と陰極との間に電子注入輸送層が形成されていてもよい。
電子注入輸送層は、電子注入機能を有する電子注入層であってもよく、電子輸送機能を有する電子輸送層であってもよく、電子注入層および電子輸送層が積層されたものであってもよく、電子注入機能および電子輸送機能の両機能を有するものであってもよい。
(Iii) Electron Injecting and Transporting Layer As the organic EL layer formed in this step, an electron injecting and transporting layer may be formed between the light emitting layer and the cathode.
The electron injection / transport layer may be an electron injection layer having an electron injection function, may be an electron transport layer having an electron transport function, or may be a laminate of an electron injection layer and an electron transport layer. It may have both an electron injection function and an electron transport function.

電子注入層に用いられる材料としては、発光層への電子の注入を安定化させることができる材料であれば特に限定されるものではなく、また、電子輸送層に用いられる材料としては、陰極から注入された電子を発光層へ輸送することが可能な材料であれば特に限定されるものではない。
電子注入層および電子輸送層に用いられる具体的な材料としては、一般的な材料を用いることができる。
The material used for the electron injection layer is not particularly limited as long as it can stabilize the injection of electrons into the light emitting layer, and the material used for the electron transport layer is from the cathode. The material is not particularly limited as long as the injected electrons can be transported to the light emitting layer.
A general material can be used as a specific material used for the electron injection layer and the electron transport layer.

電子注入輸送層の厚みとしては、電子注入機能や電子輸送機能が十分に発揮される厚みであれば特に限定されない。   The thickness of the electron injection / transport layer is not particularly limited as long as the electron injection function and the electron transport function are sufficiently exhibited.

(b)有機EL層形成工程
本発明における有機EL層形成工程は、上述した有機EL層を画素電極上に形成する工程を有する。なお、ここでは有機EL層が、正孔注入輸送層、発光層および電子注入輸送層の順で積層される場合について説明する。
正孔注入輸送層の形成方法としては、少なくとも画素電極上に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、材料の種類等に応じて適宜選択される。例えば、材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた正孔注入輸送層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスや、真空蒸着法等のドライプロセス等が挙げられる。
次に、発光層の形成方法としては、上記正孔注入輸送層上に形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、発光材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた発光層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスや、真空蒸着法等のドライプロセス等が挙げられる。中でも、有機EL表示装置の発光効率および寿命への影響からドライプロセスが好ましい。
次に、電子注入輸送層の形成方法としては、上記発光層上に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、材料の種類等に応じて適宜選択される。例えば、材料等を溶媒に溶解もしくは分散させた電子注入輸送層形成用塗工液を塗布するウェットプロセスや、真空蒸着法等のドライプロセスが挙げられる。
(B) Organic EL layer formation process The organic EL layer formation process in this invention has the process of forming the organic EL layer mentioned above on a pixel electrode. Here, a case where the organic EL layer is laminated in the order of the hole injection transport layer, the light emitting layer, and the electron injection transport layer will be described.
The method for forming the hole injecting and transporting layer is not particularly limited as long as it can be formed on at least the pixel electrode, and is appropriately selected according to the kind of material. For example, a wet process in which a coating solution for forming a hole injection transport layer in which a material or the like is dissolved or dispersed in a solvent is applied, a dry process such as a vacuum deposition method, or the like can be given.
Next, the method for forming the light emitting layer is not particularly limited as long as it can be formed on the hole injecting and transporting layer. For example, a light emitting material or the like is dissolved or dispersed in a solvent. Examples thereof include a wet process for applying a light emitting layer forming coating solution and a dry process such as a vacuum deposition method. Among these, a dry process is preferable because of the influence on the light emission efficiency and life of the organic EL display device.
Next, the method for forming the electron injecting and transporting layer is not particularly limited as long as it can be formed on the light emitting layer, and is appropriately selected according to the type of material. For example, a wet process in which a coating solution for forming an electron injecting and transporting layer in which a material or the like is dissolved or dispersed in a solvent is applied, and a dry process such as a vacuum deposition method is used.

また、有機EL層形成工程では、有機EL層を形成するとともに、上記有機EL層を構成する少なくとも1層の有機層が補助電極を覆うように形成される。例えば、有機EL表示装置の画素毎に発光層を塗り分ける場合には、正孔注入輸送層や電子注入輸送層が画素電極上および補助電極上に形成され、発光層が画素電極上にパターン状に形成される。なお、有機層が画素電極上および補助電極上に形成される場合には、有機層は画素電極上および補助電極上に連続して形成されることが一般的である。   In the organic EL layer forming step, the organic EL layer is formed, and at least one organic layer constituting the organic EL layer is formed so as to cover the auxiliary electrode. For example, when a light emitting layer is separately applied to each pixel of an organic EL display device, a hole injection transport layer and an electron injection transport layer are formed on the pixel electrode and the auxiliary electrode, and the light emitting layer is patterned on the pixel electrode. Formed. In the case where the organic layer is formed on the pixel electrode and the auxiliary electrode, the organic layer is generally formed continuously on the pixel electrode and the auxiliary electrode.

なお、本発明においては、例えば、本工程で正孔注入輸送層、発光層および電子輸送層を形成し、その後、後述する減圧密封工程および接触部形成工程後に電子注入層を形成してもよい。減圧密封工程および接触部形成工程後に形成される電子注入層が、画素電極上のみならず補助電極における接触部上に形成された場合であっても、電子注入層の厚みが極めて薄い場合には、接触部において補助電極と後述する透明電極層形成工程により形成される透明電極層とを電気的に接続させることができるからである。このように、減圧密封工程および接触部形成工程後に電子注入層を形成する場合には、減圧密封工程や接触部形成工程による電子注入層の劣化を防ぐことができるため、比較的不安定とされるフッ化リチウム等の材料を電子注入層の材料として用いることが可能になる。   In the present invention, for example, a hole injection transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer may be formed in this step, and then an electron injection layer may be formed after a vacuum sealing step and a contact portion formation step described later. . Even if the electron injection layer formed after the vacuum sealing step and the contact portion forming step is formed not only on the pixel electrode but also on the contact portion in the auxiliary electrode, the thickness of the electron injection layer is very thin. This is because the auxiliary electrode and the transparent electrode layer formed by the transparent electrode layer forming step described later can be electrically connected at the contact portion. As described above, when the electron injection layer is formed after the reduced pressure sealing step and the contact portion forming step, deterioration of the electron injection layer due to the reduced pressure sealing step and the contact portion forming step can be prevented, so that it is relatively unstable. It is possible to use a material such as lithium fluoride as a material for the electron injection layer.

2.減圧密封工程
本発明においては、第1圧力下で、上記有機EL層側基板準備工程で得られた上記有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させて上記スペーサ部の頂部に上記仮封止用蓋材が上記有機層を介して接触するように配置し、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の空間を密封して上記有機EL層側基板表面を上記仮封止用蓋材で封止する減圧密封工程を行う。
以下、本工程において用いられる仮封止用蓋材および具体的な減圧密封工程について説明する。
2. In the present invention, under the first pressure, the temporary sealing lid material is opposed to the organic EL layer side substrate obtained in the organic EL layer side substrate preparation step, and the top of the spacer portion is the first pressure. It arrange | positions so that the lid | cover material for temporary sealing may contact through the said organic layer, seals the space between the said organic EL layer side board | substrate and the said temporary sealing lid | cover material, and the said organic EL layer side board | substrate surface A reduced-pressure sealing step of sealing with the temporary sealing lid material is performed.
Hereinafter, the temporary sealing lid material used in this step and a specific reduced pressure sealing step will be described.

(1)仮封止用蓋材
本工程において用いられる仮封止用蓋材は、蓋基板と上記蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材とを有するものである。
以下、図を参照しながら説明する。
(1) Temporary sealing lid material The temporary sealing lid material used in this step has a lid substrate and a temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate.
Hereinafter, description will be given with reference to the drawings.

図3(a)〜(c)は、本工程において用いられる仮封止用蓋材を説明する模式図である。本工程において用いられる仮封止用蓋材8は、蓋基板83と、上記蓋基板83上に枠状に形成された仮封止部材80とを有するものである。   FIGS. 3A to 3C are schematic views for explaining a temporary sealing lid member used in this step. The temporary sealing lid member 8 used in this step has a lid substrate 83 and a temporary sealing member 80 formed in a frame shape on the lid substrate 83.

ここで、上記仮封止用蓋材において、蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材としては、本工程において有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させてスペーサ部の頂部に有機層を介して仮封止用蓋材が接触するように配置した際に、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を全体的に密封することができるように枠状に形成されたものであれば特に限定されるものではない。具体的には、例えば図3(a)に例示するように、蓋基板83の縁に沿って、蓋基板83の外周と大きさが同等の仮封止部材80を枠状に形成したものであってもよく、図3(b)に例示するように、縁基板83の縁に沿って、蓋基板83の外周よりも大きさが小さい仮封止部材80を枠状に形成したものであってもよい。また、有機EL層側基板が多面付けされている場合には、図3(c)に例示するように、多面付けされた各有機EL層側基板の外周に対応させて格子状に仮封止部材80を形成したものであってもよい。中でも、図3(a)に例示するように、蓋基板83の縁に沿って、蓋基板83の外周と大きさが同等の仮封止部材80を枠状に形成したものであることが好ましい。このように、蓋基板に、より大きな枠状で仮封止部材が形成されることにより、仮封止部材の枠内に相当する領域の面積が広がり、仮封止用蓋材において仮封止部材により画定される枠内の面積が広がると、仮封止用蓋材を有機EL層側基板に接触させた際に、仮封止部材の枠内に対応する有機EL素子の形成領域も広がることになる。
以下、上記仮封止用蓋材を構成する各部材について説明する。
Here, in the above-mentioned temporary sealing lid material, the temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate is a spacer portion in which the temporary sealing lid material is opposed to the organic EL layer side substrate in this step. The space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material can be entirely sealed when the temporary sealing lid material is placed in contact with the top of the organic EL layer via the organic layer. As long as it is formed in a frame shape, it is not particularly limited. Specifically, as illustrated in FIG. 3A, for example, a temporary sealing member 80 having the same size as the outer periphery of the lid substrate 83 is formed in a frame shape along the edge of the lid substrate 83. As illustrated in FIG. 3B, a temporary sealing member 80 having a size smaller than the outer periphery of the lid substrate 83 is formed in a frame shape along the edge of the edge substrate 83. May be. In addition, when the organic EL layer side substrate is multifaceted, as illustrated in FIG. 3C, temporary sealing is performed in a lattice shape corresponding to the outer periphery of each of the multifaceted organic EL layer side substrates. The member 80 may be formed. In particular, as illustrated in FIG. 3A, it is preferable that the temporary sealing member 80 having the same size as the outer periphery of the lid substrate 83 is formed in a frame shape along the edge of the lid substrate 83. . Thus, by forming the temporary sealing member in a larger frame shape on the lid substrate, the area of the region corresponding to the frame of the temporary sealing member is expanded, and the temporary sealing lid material is temporarily sealed. When the area within the frame defined by the member increases, when the temporary sealing lid is brought into contact with the organic EL layer side substrate, the region where the organic EL element corresponding to the temporary sealing member is formed also increases. It will be.
Hereinafter, each member constituting the temporary sealing lid member will be described.

(a)蓋基板
仮封止用蓋材に用いられる蓋基板としては、後述する接触部形成工程において用いられるレーザー光を透過する材料であればよい。接触部形成工程において仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射することにより、有機EL層側基板における補助電極上の有機層を除去することができるからである。また、蓋基板としては、可撓性を有するものであってもよく、あるいは可撓性を有さないものであってもよい。具体的な蓋基板としては、ガラスフィルム、シクロオレフィンポリマー、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。なお、蓋基板が可撓性を有する場合には、仮封止用蓋材のロール・ツー・ロール製造技術への適用が可能になるため、製造効率の観点から好ましい。
(A) Lid substrate The lid substrate used for the temporary sealing lid member may be any material that transmits laser light used in the contact portion forming step described later. This is because the organic layer on the auxiliary electrode in the organic EL layer side substrate can be removed by irradiating laser light through the temporary sealing lid member in the contact portion forming step. Further, the lid substrate may be flexible or may not be flexible. Specific examples of the lid substrate include glass film, cycloolefin polymer, polypropylene, polycarbonate, and polyethylene terephthalate. When the lid substrate has flexibility, it is possible to apply the temporary sealing lid material to a roll-to-roll manufacturing technique, which is preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency.

仮封止用蓋材に用いられる蓋基板としては、気体に対して所定のバリア性を有することが好ましい。蓋基板が気体に対して所定のバリア性を有することにより、本工程にて仮封止用蓋材と有機EL層側基板との間の空間を減圧密封して、その後、後述する密着工程および接触部形成工程を行うまでの間、仮封止用蓋材と有機EL層側基板との間の空間を減圧された状態に維持することが可能になる。そのため、接触部形成工程において補助電極上の有機層をレーザー光により除去する際にも仮封止用蓋材と有機EL層側基板との密着性を十分に維持することができ、除去された有機層が画素領域に飛散するのを防止することができるからである。蓋基板の気体に対するバリア性としては、蓋基板が上述した効果を発揮することができる程度のバリア性を有していれば特に限定されるものではないが、例えば、蓋基板の酸素透過度が100cc/m・day以下であることが好ましく、中でも30cc/m・day以下であることが好ましく、特に15cc/m・day以下であることが好ましい。 The lid substrate used for the temporary sealing lid member preferably has a predetermined barrier property against gas. Since the lid substrate has a predetermined barrier property against the gas, the space between the temporary sealing lid material and the organic EL layer side substrate is sealed under reduced pressure in this step, and then an adhesion step described later and Until the contact portion forming step is performed, the space between the temporary sealing lid member and the organic EL layer side substrate can be maintained in a decompressed state. Therefore, even when the organic layer on the auxiliary electrode is removed by laser light in the contact portion forming step, the adhesion between the temporary sealing lid material and the organic EL layer side substrate can be sufficiently maintained and removed. This is because the organic layer can be prevented from scattering into the pixel region. The barrier property against the gas of the lid substrate is not particularly limited as long as the lid substrate has a barrier property that can exhibit the above-described effects. For example, the oxygen permeability of the lid substrate is It is preferably 100 cc / m 2 · day or less, more preferably 30 cc / m 2 · day or less, and particularly preferably 15 cc / m 2 · day or less.

蓋基板の厚みとしては、減圧密封工程において有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを貼り合わせることにより、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間の真空状態を維持することができる程度の厚みであれば特に限定されるものではない。また、例えば図1(d)に例示するように、有機EL層側基板1に対向する側と反対側の面に仮封止部材80が形成された仮封止用蓋材8を、有機EL層側基板1に貼り合わせる場合には、蓋基板83を介して仮封止部材80により有機EL層側基板1の表面に仮封止用蓋材8を密着させることができる程度の厚みであることが好ましい。具体的には、10μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、中でも20μm〜200μmの範囲内であることが好ましく、特に30μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。   As the thickness of the lid substrate, the vacuum state of the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material is obtained by bonding the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material in the reduced pressure sealing step. The thickness is not particularly limited as long as the thickness can be maintained. For example, as illustrated in FIG. 1D, a temporary sealing lid member 8 having a temporary sealing member 80 formed on a surface opposite to the side facing the organic EL layer side substrate 1 is used as an organic EL. In the case of bonding to the layer side substrate 1, the thickness is such that the temporary sealing lid 8 can be brought into close contact with the surface of the organic EL layer side substrate 1 by the temporary sealing member 80 through the lid substrate 83. It is preferable. Specifically, it is preferably within the range of 10 μm to 1000 μm, more preferably within the range of 20 μm to 200 μm, and particularly preferably within the range of 30 μm to 100 μm.

(b)仮封止部材
上記仮封止用蓋材に用いられる仮封止部材としては、材料に応じて次のような態様に分けることができる。すなわち、仮封止部材が磁性材料から構成された第1態様、仮封止部材が金属材料から構成された第2態様、また、仮封止部材が粘着材料から構成された第3態様である。
以下、仮封止部材について第1態様〜第3態様に分けて説明する。
(B) Temporary sealing member As a temporary sealing member used for the said lid | cover material for temporary sealing, it can divide into the following aspects according to material. That is, the first aspect in which the temporary sealing member is made of a magnetic material, the second aspect in which the temporary sealing member is made of a metal material, and the third aspect in which the temporary sealing member is made of an adhesive material. .
Hereinafter, the temporary sealing member will be described by dividing it into a first mode to a third mode.

(i)第1態様
本態様の仮封止用蓋材は、磁性材料から構成されるものである。また、本態様の仮封止部材を用いる場合には、上記仮封止部材は上述した蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状に形成される。さらに、本態様の仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いる場合には、有機EL層側基板における基板の、画素電極および補助電極が形成された側とは反対側の面に金属板が配置される。
本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材の使用態様について、図を参照しながら説明する。
(I) 1st aspect The temporary sealing lid | cover material of this aspect is comprised from a magnetic material. Moreover, when using the temporary sealing member of this aspect, the temporary sealing member is formed in a frame shape on at least one surface of the lid substrate described above. Furthermore, when the temporary sealing lid member having the temporary sealing member of this aspect is used, a metal is provided on the surface of the substrate on the organic EL layer side substrate opposite to the side on which the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed. A board is placed.
A usage mode of the temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this mode will be described with reference to the drawings.

図10(a)〜(c)は、本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。図10(a)〜(c)に例示するように、本態様の仮封止部材81を用いた仮封止用蓋材8を有機EL層側基板1の表面に貼り合わせて、有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8とを密着させる場合には、基板2の画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に金属板20を配置する。このように、基板2の画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に金属板20を配置することにより、磁性材料から構成された仮封止部材81と金属板20とが有機EL層側基板1を介して磁力により密着し、結果として有機EL層側基板1と仮封用蓋材8とを十分に密着させることができる。なお、図10(a)〜(c)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、上記金属板については、後述する「(d)金属板」の項にて説明する。   10A to 10C are schematic cross-sectional views when a temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this embodiment is bonded to the surface of the organic EL layer side substrate. As illustrated in FIGS. 10A to 10C, a temporary sealing lid member 8 using the temporary sealing member 81 of this aspect is bonded to the surface of the organic EL layer side substrate 1 to form an organic EL layer. When the side substrate 1 and the temporary sealing lid 8 are brought into close contact with each other, the metal plate 20 is disposed on the surface of the substrate 2 opposite to the side on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed. In this way, by disposing the metal plate 20 on the surface of the substrate 2 opposite to the side on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed, the temporary sealing member 81 made of a magnetic material and the metal plate 20 are arranged. Are adhered by magnetic force through the organic EL layer side substrate 1, and as a result, the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid material 8 can be sufficiently adhered. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG. 10 (a)-(c), since it can be made the same as that of FIG. 1 mentioned above, description here is abbreviate | omitted. The metal plate will be described later in the section “(d) Metal plate”.

また、従来の減圧密封工程の場合には、図17(a)〜(b)に示すように、レーザー光Lにより補助電極40上の有機EL層60を除去した後に有機EL層側基板から蓋材80’を取り外す手段として、治具本体81’または治具蓋体83’を切断する方法が考えられる。しかしながら、治具本体や治具蓋体等を切断して有機EL層側基板から仮封止用蓋材を取り外す方法は、製造効率上、有利な方法であるとは言えない。これに対し、本態様の仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いる場合には、有機EL層側基板を介して仮封止部材と金属板とが磁力により密着するため、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができるとともに、有機EL層側基板から容易に仮封止用蓋材を剥離することが可能になる。   In the case of the conventional vacuum sealing process, as shown in FIGS. 17A to 17B, the organic EL layer 60 on the auxiliary electrode 40 is removed by the laser light L and then the organic EL layer side substrate is covered with the lid. As a means for removing the material 80 ′, a method of cutting the jig body 81 ′ or the jig lid 83 ′ can be considered. However, it can not be said that the method of removing the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate by cutting the jig body, the jig lid, etc. is an advantageous method in terms of production efficiency. On the other hand, when using the temporary sealing lid member having the temporary sealing member of this aspect, the temporary sealing member and the metal plate are brought into close contact with each other by magnetic force through the organic EL layer side substrate. The layer side substrate and the temporary sealing lid material can be sufficiently adhered, and the temporary sealing lid material can be easily peeled from the organic EL layer side substrate.

なお、本態様の仮封止部材81を有する仮封止用蓋材8を用いる場合には、図10(a)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材81が形成された側とは反対側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置してもよく、図10(b)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材81が形成された側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置してもよい。中でも、図10(a)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材81が形成された側とは反対側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置して用いることが好ましい。図10(b)に例示する場合には、仮封止部材81が、仮封止用蓋材8において有機EL層側基板1に対向する側の面に形成されるため、仮封止部材81の厚みを有機EL層側基板1表面の下底面から上底面までの高さより厚く形成することが、仮封止用蓋材8と有機EL層側基板1との密着性の観点から困難である。これに対し、図10(a)に例示する場合には、仮封止部材81が、仮封止用蓋材8において有機EL層側基板1に対向する側とは反対側の面に形成されるため、仮封止部材81の厚みを有機EL層側基板1表面の下底面から上底面までの高さより厚く形成することが可能である。すなわち、仮封止部材の厚みに相当する分だけ強い磁力で有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを密着させることができることになる。なお、有機EL層側基板表面の下底面から上底面までの高さとは、例えば図10(b)に示すtを指す。 When the temporary sealing lid member 8 having the temporary sealing member 81 of this aspect is used, the temporary sealing member 81 in the temporary sealing lid member 8 is used as illustrated in FIG. The surface opposite to the formed side may be disposed so as to face the organic EL layer side substrate 1, and temporarily sealed in the temporary sealing lid member 8 as illustrated in FIG. You may arrange | position so that the surface of the side in which the member 81 was formed may oppose the organic electroluminescent layer side board | substrate 1. FIG. In particular, as illustrated in FIG. 10A, the temporary sealing lid 8 is disposed such that the surface opposite to the side on which the temporary sealing member 81 is formed faces the organic EL layer side substrate 1. And preferably used. In the case illustrated in FIG. 10B, the temporary sealing member 81 is formed on the surface on the side facing the organic EL layer side substrate 1 in the temporary sealing lid member 8. Is thicker than the height from the bottom surface to the top surface of the surface of the organic EL layer side substrate 1 from the viewpoint of adhesion between the temporary sealing lid 8 and the organic EL layer side substrate 1. . On the other hand, in the case illustrated in FIG. 10A, the temporary sealing member 81 is formed on the surface opposite to the side facing the organic EL layer side substrate 1 in the temporary sealing lid member 8. Therefore, the temporary sealing member 81 can be formed thicker than the height from the lower bottom surface to the upper bottom surface of the surface of the organic EL layer side substrate 1. That is, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be brought into close contact with each other with a strong magnetic force corresponding to the thickness of the temporary sealing member. Note that the height of the upper bottom surface from the bottom surface of the organic EL layer side substrate surface refers to t 2 shown in Fig. 10 (b), for example.

また、本態様の仮封止部材81を有する仮封止用蓋材8を用いる場合には、図10(c)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材81が形成された側とは反対側の面、すなわち有機EL層側基板1に対向する側の面に凸部材85を有していてもよい。仮封止用蓋材8が凸部材85を有し、上記凸部材85の高さを有機EL層側基板1表面の下底面から上底面までの高さと同程度にする場合には、図10(b)の場合と同様に、蓋基板83として可撓性を有さないガラスフィルム等を好適に用いることができる。なお、上記凸部材については、後述する「(c)凸部材」の項にて説明する。   Further, when the temporary sealing lid member 8 having the temporary sealing member 81 of this aspect is used, the temporary sealing member 81 is provided in the temporary sealing lid member 8 as illustrated in FIG. The convex member 85 may be provided on the surface opposite to the formed side, that is, the surface facing the organic EL layer side substrate 1. In the case where the temporary sealing lid member 8 has a convex member 85 and the height of the convex member 85 is approximately the same as the height from the lower bottom surface to the upper bottom surface of the surface of the organic EL layer side substrate 1, FIG. As in the case of (b), a glass film having no flexibility can be suitably used as the lid substrate 83. The convex member will be described in the section “(c) convex member” described later.

さらに、図10(a)〜(c)に例示する仮封止用蓋材8は、いずれも蓋基板83のいずれか一方の面に仮封止部材81が形成されたものであるが、本態様の仮封止部材を用いる場合には、図示はしないが、蓋基板の両面に枠状に仮封止部材が形成されていてもよい。蓋基板の両面に枠状に仮封止部材が形成されていることにより、有機EL層側基板を介して仮封止部材と金属板とをより強い磁力で密着させることが可能になる。   Furthermore, the temporary sealing lid member 8 illustrated in FIGS. 10A to 10C has a temporary sealing member 81 formed on any one surface of the lid substrate 83. When the temporary sealing member of the aspect is used, although not illustrated, the temporary sealing member may be formed in a frame shape on both surfaces of the lid substrate. By forming the temporary sealing member in a frame shape on both sides of the lid substrate, the temporary sealing member and the metal plate can be brought into close contact with each other with a stronger magnetic force via the organic EL layer side substrate.

本態様の仮封止部材に用いられる材料としては、一般的に永久磁石として用いられる磁性材料であれば特に限定されるものではないが、例えば、ネオジウム磁石、フェライト磁石、サマコバ磁石、アルニコ磁石、またはこれらの磁性材料が練りこまれた樹脂等が挙げられる。   The material used for the temporary sealing member of the present embodiment is not particularly limited as long as it is a magnetic material generally used as a permanent magnet. For example, a neodymium magnet, a ferrite magnet, a Samacoba magnet, an alnico magnet, Or resin etc. which these magnetic materials were kneaded are mentioned.

本態様の仮封止部材の大きさとしては、有機EL層側基板を介して金属板と密着し、結果として有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができる程度の大きさであれば特に限定されるものではない。例えば、仮封止部材の厚みとしては、仮封止部材に用いられる磁性材料の磁力等に応じて適宜調整されるものであるが、例えば、仮封止用蓋材において仮封止部材が形成された側の面が有機EL層側基板に対向するように配置して用いる場合には、仮封止部材の厚みと有機EL層側基板表面の下底面から上底面までの高さとが同程度であることが好ましい。具体的には、1μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、中でも10μm〜700μmの範囲内であることが好ましく、特に50μm〜500μmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの仮封止部材の厚みとは図3(a)に示すtを指す。また、仮封止部材の幅としては、仮封止部材の厚みと同様に、仮封止部材に用いられる磁性材料の磁力等に応じて適宜調整されるものであるが、具体的には、0.1mm〜300mmの範囲内であることが好ましく、中でも5mm〜100mmの範囲内であることが好ましく、特に10mm〜50mmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの仮封止部材の幅とは図3(a)に示すwを指す。 As the size of the temporary sealing member of this embodiment, the organic EL layer side substrate is in close contact with the metal plate, and as a result, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently in close contact with each other. If it is a magnitude | size of a grade, it will not specifically limit. For example, the thickness of the temporary sealing member is appropriately adjusted according to the magnetic force of the magnetic material used for the temporary sealing member. For example, the temporary sealing member is formed in the temporary sealing lid material. In the case where it is disposed and used so that the surface on the side facing the organic EL layer side substrate, the thickness of the temporary sealing member and the height from the lower bottom surface to the upper bottom surface of the organic EL layer side substrate surface are approximately the same. It is preferable that Specifically, it is preferably in the range of 1 μm to 1000 μm, more preferably in the range of 10 μm to 700 μm, and particularly preferably in the range of 50 μm to 500 μm. Incidentally, refer to t 1 shown in FIG. 3 (a) and the thickness of the temporary sealing members here. Further, as the width of the temporary sealing member, as with the thickness of the temporary sealing member, it is appropriately adjusted according to the magnetic force or the like of the magnetic material used for the temporary sealing member. It is preferably within a range of 0.1 mm to 300 mm, more preferably within a range of 5 mm to 100 mm, and particularly preferably within a range of 10 mm to 50 mm. Incidentally, refer to w 1 shown in FIG. 3 (a) and the width of the temporary sealing members here.

本態様の仮封止部材の形成方法としては、上述した蓋基板上に仮封止部材を枠状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、レーザーパターニング法、フォトリソグラフィー法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法、ラミネート法等が挙げられる。   The method for forming the temporary sealing member of this aspect is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the temporary sealing member in a frame shape on the lid substrate described above. For example, a laser patterning method is used. Photolithography method, screen printing method, flexographic printing method, ink jet printing method, offset printing method, gravure printing method, laminating method and the like.

また、蓋基板上に仮封止部材を枠状に形成する際に、蓋基板と仮封止部材との間に粘着層が形成されていてもよい。なお、上記粘着層については、一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   Further, when the temporary sealing member is formed in a frame shape on the lid substrate, an adhesive layer may be formed between the lid substrate and the temporary sealing member. In addition, about the said adhesion layer, since it can be set as the thing used generally, description here is abbreviate | omitted.

なお、本態様の仮封止部材は、一度仮封止用蓋材に用いられた後に再利用することができる。本態様の仮封止部材を再利用する方法については、後述する「6.有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置」の項にて説明する。   In addition, the temporary sealing member of this aspect can be reused, after once being used for the lid | cover material for temporary sealing. A method of reusing the temporary sealing member of this aspect will be described in the section of “6. Manufacturing apparatus used for manufacturing method of organic EL display device” described later.

(ii)第2態様
本態様の仮封止用蓋材は、金属材料から構成されるものである。また、本態様の仮封止部材を用いる場合には、上記仮封止部材は上述した蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状に形成される。さらに、本態様の仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いる場合には、有機EL層側基板における基板のいずれか一方の面に磁性板が配置される。
本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材の使用態様について、図を参照しながら説明する。
(Ii) Second Aspect The temporary sealing lid member of this aspect is composed of a metal material. Moreover, when using the temporary sealing member of this aspect, the temporary sealing member is formed in a frame shape on at least one surface of the lid substrate described above. Furthermore, when using the temporary sealing lid member having the temporary sealing member of this aspect, a magnetic plate is disposed on one surface of the substrate in the organic EL layer side substrate.
A usage mode of the temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this mode will be described with reference to the drawings.

図11(a)〜(c)および図12(a)〜(c)は、本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。本態様の仮封止部材82を用いた仮封止用蓋材8を有機EL層側基板1の表面に貼り合わせて、有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8とを密着させる場合には、図11(a)〜(c)に例示するように、基板2の画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に磁性板21を配置してもよく、あるいは図12(a)〜(c)に例示するように、基板2の画素電極3および補助電極4が形成された側の面に磁性板21を配置してもよい。このように、基板2のいずれか一方の面に磁性板21を配置することにより、金属材料から構成された仮封止部材82と磁性板21とが有機EL層側基板1を介して磁力により密着し、結果として有機EL層側基板1と仮封止用蓋材8とを十分に密着させることができる。なお、図11(a)〜(c)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、上記磁性板については、後述する「(e)磁性板」の項にて説明する。   11 (a) to 11 (c) and FIGS. 12 (a) to 12 (c), when a temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this embodiment is bonded to the surface of the organic EL layer side substrate. FIG. The temporary sealing lid member 8 using the temporary sealing member 82 of this aspect is bonded to the surface of the organic EL layer side substrate 1 so that the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid material 8 are adhered to each other. In this case, as illustrated in FIGS. 11A to 11C, the magnetic plate 21 may be disposed on the surface of the substrate 2 opposite to the side on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed. Alternatively, as illustrated in FIGS. 12A to 12C, the magnetic plate 21 may be disposed on the surface of the substrate 2 on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed. As described above, by disposing the magnetic plate 21 on one surface of the substrate 2, the temporary sealing member 82 made of a metal material and the magnetic plate 21 are magnetically transmitted through the organic EL layer side substrate 1. As a result, the organic EL layer side substrate 1 and the temporary sealing lid member 8 can be sufficiently adhered. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG.11 (a)-(c), since it can be made the same as that of FIG. 1 mentioned above, description here is abbreviate | omitted. The magnetic plate will be described later in the section “(e) Magnetic plate”.

また、従来の減圧密封工程の場合には、上記「(i)第1態様」の項で記載したように、有機EL層側基板から仮封止用蓋材を取り外す手段として、治具本体または治具蓋体を切断する方法が考えられるが、上記方法は製造効率上、不利である。これに対し、本態様の仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いる場合には、有機EL層側基板を介して仮封止部材と磁性板とが磁力により密着するため、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができるとともに、有機EL層側基板から容易に仮封止用蓋材を剥離することが可能になる。   Further, in the case of the conventional vacuum sealing step, as described in the section “(i) First aspect”, as a means for removing the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate, a jig body or Although a method of cutting the jig lid can be considered, the above method is disadvantageous in terms of manufacturing efficiency. On the other hand, when using the temporary sealing lid member having the temporary sealing member of this aspect, the temporary sealing member and the magnetic plate are brought into close contact by magnetic force through the organic EL layer side substrate. The layer side substrate and the temporary sealing lid material can be sufficiently adhered, and the temporary sealing lid material can be easily peeled from the organic EL layer side substrate.

なお、本態様の仮封止部材82を有する仮封止用蓋材8を用いる場合には、図11(a)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材82が形成された側とは反対側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置してもよく、図11(b)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材82が形成された側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置してもよい。中でも、図11(a)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材82が形成された側とは反対側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置して用いることが好ましい。なお、詳しい理由については、上述した「(i)第1態様」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの記載は省略する。   When the temporary sealing lid member 8 having the temporary sealing member 82 of this aspect is used, the temporary sealing member 82 in the temporary sealing lid member 8 is used as illustrated in FIG. The surface opposite to the formed side may be disposed so as to face the organic EL layer side substrate 1, and as illustrated in FIG. You may arrange | position so that the surface by which the member 82 was formed may oppose the organic electroluminescent layer side board | substrate 1. FIG. Among them, as illustrated in FIG. 11A, the temporary sealing lid member 8 is disposed so that the surface opposite to the side on which the temporary sealing member 82 is formed faces the organic EL layer side substrate 1. And preferably used. In addition, since it is the same as that of the content described in the above-mentioned "(i) 1st aspect" about a detailed reason, description here is abbreviate | omitted.

また、本態様の仮封止部材82を有する仮封止用蓋材8を用いる場合には、図11(c)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材82が形成された側とは反対側の面、すなわち有機EL層側基板1に対向する側の面に凸部材85を有していてもよい。仮封止用蓋材8が凸部材85を有し、上記凸部材85の高さを有機EL層側基板1表面の下底面から上底面までの高さと同程度にする場合には、図11(b)の場合と同様に、蓋基板83として可撓性を有さないガラスフィルム等を好適に用いることができる。   Further, when the temporary sealing lid member 8 having the temporary sealing member 82 of this aspect is used, the temporary sealing member 82 is provided in the temporary sealing lid member 8 as illustrated in FIG. The convex member 85 may be provided on the surface opposite to the formed side, that is, the surface facing the organic EL layer side substrate 1. In the case where the temporary sealing lid member 8 has a convex member 85 and the height of the convex member 85 is approximately the same as the height from the lower bottom surface to the upper bottom surface of the surface of the organic EL layer side substrate 1, FIG. As in the case of (b), a glass film having no flexibility can be suitably used as the lid substrate 83.

さらに、図11(a)〜(c)および図12(a)〜(c)に例示する仮封止用蓋材8は、いずれも蓋基板83のいずれか一方の面に仮封止部材82が形成されたものであるが、本態様の仮封止部材を用いる場合には、図示はしないが、蓋基板の両面に枠状に仮封止部材が形成されていてもよい。蓋基板の両面に枠状に仮封止部材が形成されていることにより、有機EL層側基板を介して仮封止部材と磁性板とをより強い磁力で密着させることが可能になる。   Furthermore, the temporary sealing lid member 8 illustrated in FIGS. 11A to 11C and FIGS. 12A to 12C are all provided on either side of the lid substrate 83 with the temporary sealing member 82. However, when using the temporary sealing member of this aspect, although not illustrated, the temporary sealing member may be formed in a frame shape on both surfaces of the lid substrate. By forming the temporary sealing member in a frame shape on both surfaces of the lid substrate, the temporary sealing member and the magnetic plate can be brought into close contact with each other with a stronger magnetic force via the organic EL layer side substrate.

本態様の仮封止部材に用いられる材料としては、磁性板に用いられる磁性材料が接着する金属材料であれば特に限定されるものではなく、例えば一般的な強磁性体材料が挙げられる。具体的には、鉄、鉄合金、ニッケル、コバルト等が挙げられる。   The material used for the temporary sealing member of this embodiment is not particularly limited as long as it is a metal material to which the magnetic material used for the magnetic plate adheres. For example, a general ferromagnetic material can be mentioned. Specifically, iron, an iron alloy, nickel, cobalt, etc. are mentioned.

本態様の仮封止部材の大きさとしては、有機EL層側基板を介して磁性板と密着し、結果として有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができる程度の大きさであれば特に限定されるものではない。なお、具体的な大きさについては、上述した「(i)第1態様」の項に記載した内容と同様であるため、ここでの記載は省略する。   As the size of the temporary sealing member of this aspect, the organic EL layer side substrate is in close contact with the magnetic plate, and as a result, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently in close contact with each other. If it is a magnitude | size of a grade, it will not specifically limit. The specific size is the same as the content described in the above-mentioned section “(i) First mode”, and thus the description thereof is omitted here.

また、本態様の仮封止部材の形成方法としては、上述した蓋基板上に仮封止部材を枠状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、メッキ法が挙げられる。メッキ法としては一般的に用いられるメッキ法を用いることができ、具体的には、湿式メッキ法である電解メッキ法や無電解メッキ法、乾式メッキ法である真空蒸着法、スパッタリング法、メタリコン法等が挙げられる。   In addition, the method for forming the temporary sealing member of the present embodiment is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the temporary sealing member in a frame shape on the lid substrate described above. Law. As a plating method, a commonly used plating method can be used, and specifically, an electrolytic plating method or an electroless plating method that is a wet plating method, a vacuum evaporation method that is a dry plating method, a sputtering method, or a metallicon method. Etc.

なお、本態様の仮封止部材は、一度仮封止用蓋材に用いられた後に再利用することができる。本態様の仮封止部材を再利用する方法については、後述する「6.有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置」の項にて説明する。   In addition, the temporary sealing member of this aspect can be reused, after once being used for the lid | cover material for temporary sealing. A method of reusing the temporary sealing member of this aspect will be described in the section of “6. Manufacturing apparatus used for manufacturing method of organic EL display device” described later.

(iii)第3態様
本態様の仮封止用蓋材は、粘着材料から構成されるものである。また、本態様の仮封止部材を用いる場合には、上記仮封止部材は上述した蓋基板の有機EL層側基板に対向する側の面に枠状に形成される。
本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材の使用態様について、図を参照しながら説明する。
(Iii) Third Aspect The temporary sealing lid member of this aspect is composed of an adhesive material. When the temporary sealing member of this aspect is used, the temporary sealing member is formed in a frame shape on the surface of the lid substrate that faces the organic EL layer side substrate.
A usage mode of the temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this mode will be described with reference to the drawings.

図13(a)〜(c)は、本態様の仮封止部材を用いた仮封止用蓋材を有機EL層側基板の表面に貼り合わせた際の概略断面図である。本態様の仮封止部材84を有する仮封止用蓋材8を用いる場合には、図13(a)〜(c)に例示するように、仮封止用蓋材8において仮封止部材84が形成された側の面が有機EL層側基板1に対向するように配置される。なお、図13(a)〜(c)において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   FIGS. 13A to 13C are schematic cross-sectional views when a temporary sealing lid member using the temporary sealing member of this aspect is bonded to the surface of the organic EL layer side substrate. When the temporary sealing lid member 8 having the temporary sealing member 84 of this aspect is used, the temporary sealing member in the temporary sealing lid member 8 is exemplified as shown in FIGS. The surface on which 84 is formed is disposed so as to face the organic EL layer side substrate 1. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG. 13 (a)-(c), since it can be made the same as that of FIG. 1 mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

本態様の仮封止用蓋材は、図13(b)、(c)に例示するように、仮封止用蓋材8において有機EL層側基板1に対向する側とは反対側の面、すなわち仮封止部材84が形成された側とは反対側の面に、磁性材料からなる磁性部材86または金属材料からなる金属部材87が形成されていても良い。本態様の仮封止用蓋材が上記磁性部材を有する場合には、仮封止用蓋材と有機EL層側基板との密着性を向上させることができる。また、有機EL層側基板から仮封止用蓋材を取り外す際に、仮封止用蓋材の表面に金属材料からなる金属板等を近づけて、金属板と仮封止用蓋材における磁性部材と磁力により接着させることで、仮封止用蓋材を有機EL層側基板から容易に取り外すことが可能になる。さらに、本態様の仮封止用蓋材が上記金属部材を有する場合にも、仮封止用蓋材と有機EL層側基板との密着性を向上させることができる。また、有機EL層側基板から仮封止用蓋材を取り外す際に、仮封止用蓋材の表面に磁性材料からなる磁性板等を近づけて仮封止用蓋材における金属部材と磁力により接着させることで、仮封止用蓋材を有機EL層側基板から容易に取り外すことが可能になる。
なお、本態様の仮封止用蓋材に用いられる磁性部材の材料、大きさ、形成方法等については、上記「(i)第1態様」の項に記載した仮封止部材と同様とすることができ、また、本態様の仮封止用蓋材に用いられる金属部材の材料、大きさ、形成方法等については、上記「(ii)第2態様」の項に記載した仮封止用部材と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。
As illustrated in FIGS. 13B and 13C, the temporary sealing lid material of this aspect is a surface on the opposite side to the side facing the organic EL layer side substrate 1 in the temporary sealing lid material 8. That is, a magnetic member 86 made of a magnetic material or a metal member 87 made of a metal material may be formed on the surface opposite to the side on which the temporary sealing member 84 is formed. In the case where the temporary sealing lid member of the present aspect includes the magnetic member, adhesion between the temporary sealing lid material and the organic EL layer side substrate can be improved. Also, when removing the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate, a metal plate made of a metal material is brought close to the surface of the temporary sealing lid so that the magnetic properties of the metal plate and the temporary sealing lid By adhering to the member by magnetic force, the temporary sealing lid member can be easily detached from the organic EL layer side substrate. Furthermore, even when the temporary sealing lid member of the present aspect includes the metal member, adhesion between the temporary sealing lid material and the organic EL layer side substrate can be improved. Also, when removing the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate, a magnetic plate made of a magnetic material is brought close to the surface of the temporary sealing lid so that the metal member and magnetic force in the temporary sealing lid By adhering, the temporary sealing lid member can be easily removed from the organic EL layer side substrate.
Note that the material, size, formation method, and the like of the magnetic member used for the temporary sealing lid material of this aspect are the same as those of the temporary sealing member described in the section “(i) First aspect”. In addition, the material, size, formation method, and the like of the metal member used for the temporary sealing lid material according to this aspect can be used for temporary sealing described in the section “(ii) Second aspect”. Since it can be the same as that of a member, description here is abbreviate | omitted.

本態様の仮封止部材に用いられる材料としては、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを仮封止することができる程度の粘着性を有する粘着材料であれば特に限定されるものではない。例えば、0.01N/25mm〜5N/25mmの範囲内の粘着力を有する材料であることが好ましく、中でも0.1N/25mm〜1.0N/25mmの範囲内の粘着力を有する材料であることが好ましく、特に0.1N/25mm〜0.5N/25mmの範囲内の粘着力を有する材料であることが好ましい。このような粘着力を有する材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。   As a material used for the temporary sealing member of this aspect, if it is an adhesive material which has adhesiveness of the grade which can carry out temporary sealing of the organic electroluminescent layer side board | substrate and the lid | cover for temporary sealing, it will specifically limit. It is not a thing. For example, a material having an adhesive force in the range of 0.01 N / 25 mm to 5 N / 25 mm is preferable, and in particular, a material having an adhesive force in the range of 0.1 N / 25 mm to 1.0 N / 25 mm. In particular, a material having an adhesive force in the range of 0.1 N / 25 mm to 0.5 N / 25 mm is preferable. Examples of the material having such adhesive strength include polycarbonate resins, polyolefin resins, acrylic resins, urethane resins, silicone resins, polyester resins, and epoxy resins.

本態様の仮封止部材の大きさとしては、仮封止部材を有機EL層側基板に密着させることができ、結果として有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができる程度の大きさであれば特に限定されるものではない。仮封止部材の厚みとしては、具体的には、0.5μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、中でも1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、特に2μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの仮封止部材の厚みとは図13(a)に示すtを指す。また、仮封止部材の幅としては、具体的には、0.1mm〜300mmの範囲内であることが好ましく、中でも5mm〜100mmの範囲内であることが好ましく、特に10mm〜50mmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの仮封止部材の幅とは図13(a)に示すwを指す。 As the size of the temporary sealing member of this aspect, the temporary sealing member can be brought into close contact with the organic EL layer side substrate, and as a result, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member are sufficiently brought into close contact with each other. The size is not particularly limited as long as the size can be adjusted. Specifically, the thickness of the temporary sealing member is preferably within a range of 0.5 μm to 100 μm, more preferably within a range of 1 μm to 50 μm, and particularly within a range of 2 μm to 20 μm. It is preferable. Incidentally, it refers to t 3 when shown in FIG. 13 (a) and the thickness of the temporary sealing members here. In addition, the width of the temporary sealing member is specifically preferably within a range of 0.1 mm to 300 mm, more preferably within a range of 5 mm to 100 mm, and particularly within a range of 10 mm to 50 mm. It is preferable that Incidentally, refer to w 2 shown in FIG. 13 (a) and the width of the temporary sealing members here.

また、本態様の仮封止部材の形成方法としては、上述した蓋基板上に仮封止部材を枠状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、レーザーパターニング法、フォトリソグラフィー法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。   In addition, the method for forming the temporary sealing member according to this aspect is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the temporary sealing member in a frame shape on the lid substrate described above. Examples include a patterning method, a photolithography method, a screen printing method, a flexographic printing method, an ink jet printing method, an offset printing method, and a gravure printing method.

(c)凸部材
本工程において用いられる仮封止用蓋材は、磁性材料から構成された第1態様の仮封止部材、または金属材料から構成された第2態様の仮封止部材が用いられる場合、図10(c)および図11(c)に例示するように、蓋基板83において仮封止部材80が形成された側とは反対側の面に枠状に凸部材85が形成されていてもよい。
以下、凸部材について説明する。
(C) Convex member The temporary sealing lid material used in this step is the temporary sealing member of the first aspect made of a magnetic material or the temporary sealing member of the second aspect made of a metal material. 10 (c) and 11 (c), a convex member 85 is formed in a frame shape on the surface of the lid substrate 83 opposite to the side on which the temporary sealing member 80 is formed. It may be.
Hereinafter, the convex member will be described.

凸部材に用いられる材料としては、蓋基板上に枠状に形成することができ、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との密着に悪影響を及ぼさない材料であれば特に限定されるものではない。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマー、コポリマー、アイオノマー、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂等が挙げられる。また、凸部材の材料としては、上述した樹脂の他にも粘着材料を用いることができる。具体的な粘着材料については、上記「(iii)第3態様」の項に記載した仮封止部材に用いられる粘着材料と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   The material used for the convex member is not particularly limited as long as it can be formed in a frame shape on the lid substrate and does not adversely affect the adhesion between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material. It is not a thing. Examples thereof include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an elastomer, a copolymer, an ionomer, a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and the like. In addition to the above-described resin, an adhesive material can be used as the material for the convex member. The specific pressure-sensitive adhesive material can be the same as the pressure-sensitive adhesive material used for the temporary sealing member described in the section “(iii) Third aspect”, and thus description thereof is omitted here.

凸部材の大きさとしては、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを十分に密着させることができる程度の大きさであれば特に限定されるものではない。例えば、凸部材の厚みとしては、有機EL層側基板表面の下底面から上底面までの高さと同程度であることが好ましく、具体的には、0.5μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、中でも1μm〜50μmの範囲内であることが好ましく、特に2μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの凸部材の厚みとは、例えば図10(c)に示すtを指す。また、凸部材の幅としては、具体的には、0.1mm〜300mmの範囲内であることが好ましく、中でも5mm〜100mmの範囲内であることが好ましく、特に10mm〜50mmの範囲内であることが好ましい。なお、ここでの凸部材の幅とは図10(c)に示すwを指す。 The size of the convex member is not particularly limited as long as the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are sufficiently close to each other. For example, the thickness of the convex member is preferably about the same as the height from the lower bottom surface to the upper bottom surface of the organic EL layer side substrate surface, and specifically, within the range of 0.5 μm to 100 μm. In particular, it is preferably in the range of 1 μm to 50 μm, and particularly preferably in the range of 2 μm to 20 μm. Note that the thickness of the projecting member here refers to t 4 when shown in FIG. 10 (c), for example. Further, specifically, the width of the convex member is preferably within a range of 0.1 mm to 300 mm, more preferably within a range of 5 mm to 100 mm, and particularly within a range of 10 mm to 50 mm. It is preferable. Incidentally, refer to w 3 shown in FIG. 10 (c) the width of the projecting member here.

上記凸部材の形成方法としては、凸部材を蓋基板上に枠状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等の印刷法、フォトリソグラフィー法、レーザー描画法等が挙げられる。   The method for forming the convex member is not particularly limited as long as the convex member can be formed in a frame shape on the lid substrate. For example, a screen printing method, a gravure printing method, a flexographic printing method is used. And a printing method such as an inkjet method, a photolithography method, and a laser drawing method.

(d)金属板
本工程において用いられる仮封止用蓋材は、磁性材料から構成された第1態様の仮封止部材が用いられる場合、図10(a)〜(c)に例示するように、基板2において画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に金属板20が配置される。
以下、金属板について説明する。
(D) Metal plate The temporary sealing lid member used in this step is exemplified in FIGS. 10A to 10C when the temporary sealing member of the first aspect made of a magnetic material is used. In addition, the metal plate 20 is disposed on the surface of the substrate 2 opposite to the side on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed.
Hereinafter, the metal plate will be described.

金属板に用いられる材料としては、磁性材料から構成された第1態様の仮封止部材と所定の磁力により接着する材料であれば特に限定されるものではなく、例えば一般的な強磁性体材料が挙げられる。例えば、鉄、鉄合金、ニッケル、コバルト等が挙げられる。なお、上述した材料以外にも、第1態様の仮封止部材に用いられる磁性材料と対極する磁性材料等も用いることができる。   The material used for the metal plate is not particularly limited as long as it is a material that adheres to the temporary sealing member of the first aspect made of a magnetic material by a predetermined magnetic force. For example, a general ferromagnetic material Is mentioned. For example, iron, an iron alloy, nickel, cobalt, etc. are mentioned. In addition to the materials described above, a magnetic material or the like opposite to the magnetic material used for the temporary sealing member of the first aspect can also be used.

金属板の厚みとしては、磁性材料から構成された第1態様の仮封止部材と所定の磁力により密着する程度の厚みであれば特に限定されるものではない。例えば、10μm〜2000μmの範囲内であることが好ましく、中でも20μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、特に50μm〜700μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the metal plate is not particularly limited as long as the thickness is such that the metal plate is in close contact with the temporary sealing member of the first aspect made of a magnetic material by a predetermined magnetic force. For example, it is preferably in the range of 10 μm to 2000 μm, more preferably in the range of 20 μm to 1000 μm, and particularly preferably in the range of 50 μm to 700 μm.

上記金属板は、基板において画素電極および補助電極が形成された側とは反対側の全面に形成されたものであってもよく、あるいは、有機EL層側基板を介して対向する仮封止用蓋材において枠状に形成された仮封止部材に対応して枠状またはパターン状に形成されたものであってもよい。   The metal plate may be formed on the entire surface of the substrate opposite to the side on which the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed, or for temporary sealing facing the organic EL layer side substrate. The cover member may be formed in a frame shape or a pattern shape corresponding to the temporary sealing member formed in a frame shape.

金属板の形成方法としては、有機EL層側基板における基板の表面に形成してもよく、あるいは有機EL層側基板とは別体として形成してもよい。金属板を有機EL層側基板における基板の表面に形成する場合の金属板の形成方法としては、金属板の材料や金属板の形状に応じて適宜選択されるものであり特に限定されるものではないが、例えばメッキ法が挙げられる。メッキ法としては一般的に用いられるメッキ法を用いることができ、具体的には、湿式メッキ法である電解メッキ法や無電解メッキ法、乾式メッキ法である真空蒸着法、スパッタリング法、メタリコン法等が挙げられる。また、金属板を有機EL層側基板とは別体として形成する場合の金属板の形成方法としては、金属板の材料や金属板の形状に応じて適宜選択されるものであり、一般的な方法を用いることができる。例えば、市販の金属板を所定の大きさや形状に切断して金属板を形成してもよい。   As a method for forming the metal plate, the metal plate may be formed on the surface of the organic EL layer side substrate, or may be formed separately from the organic EL layer side substrate. The method of forming the metal plate when forming the metal plate on the surface of the substrate in the organic EL layer side substrate is appropriately selected according to the material of the metal plate and the shape of the metal plate, and is not particularly limited. For example, there is a plating method. As a plating method, a commonly used plating method can be used, and specifically, an electrolytic plating method or an electroless plating method that is a wet plating method, a vacuum evaporation method that is a dry plating method, a sputtering method, or a metallicon method. Etc. In addition, as a method for forming a metal plate in the case where the metal plate is formed separately from the organic EL layer side substrate, the method is appropriately selected according to the material of the metal plate and the shape of the metal plate. The method can be used. For example, a metal plate may be formed by cutting a commercially available metal plate into a predetermined size or shape.

(e)磁性板
本工程において用いられる仮封止用蓋材は、金属材料から構成された第2態様の仮封止部材が用いられる場合、図11(a)〜(c)および図12に例示するように、基板2のいずれか一方の面に磁性板21が配置される。なお、図12において説明していない符号については、上述した図1と同様とすることができるためここでの説明は省略する。
以下、磁性板について説明する。
(E) Magnetic plate The temporary sealing lid material used in this step is shown in FIGS. 11 (a) to 11 (c) and FIG. 12 when the temporary sealing member of the second aspect made of a metal material is used. As illustrated, the magnetic plate 21 is disposed on one surface of the substrate 2. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG. 12, since it can be the same as that of FIG. 1 mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
Hereinafter, the magnetic plate will be described.

磁性板に用いられる材料としては、金属材料から構成された第2態様の封止部材と所定の磁力により密着する材料であれば特に限定されるものではないが、例えば、ネオジウム磁石、フェライト磁石、サマコバ磁石、アルニコ磁石、またはこれらの磁性材料が練りこまれた樹脂等が挙げられる。   The material used for the magnetic plate is not particularly limited as long as it is a material that is in close contact with the sealing member of the second aspect made of a metal material by a predetermined magnetic force. For example, a neodymium magnet, a ferrite magnet, Examples of the magnet include magnets, alnico magnets, and resins in which these magnetic materials are kneaded.

また、磁性板に用いられる上記材料のうち、導電性を有する磁性材料を用いる場合、磁性板は図11(a)〜(c)に例示するように、基板2において画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に配置される。これにより、磁性板により画素電極と補助電極との間で短絡が生じるのを防止することができる。一方、磁性板に用いられる材料が導電性を有さない磁性材料である場合には、図11(a)〜(c)に例示するように、基板2において画素電極3および補助電極4が形成された側とは反対側の面に配置されていてもよく、あるいは、図12に例示するように、基板2において画素電極3および補助電極4が形成された側の面に配置されていてもよい。   Further, when a magnetic material having conductivity is used among the above materials used for the magnetic plate, the magnetic plate is the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 on the substrate 2 as illustrated in FIGS. 11A to 11C. It is arrange | positioned on the surface on the opposite side to the side in which was formed. Thereby, it is possible to prevent a short circuit from occurring between the pixel electrode and the auxiliary electrode due to the magnetic plate. On the other hand, when the material used for the magnetic plate is a magnetic material having no electrical conductivity, the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed on the substrate 2 as illustrated in FIGS. It may be disposed on the surface opposite to the formed side, or may be disposed on the surface of the substrate 2 on which the pixel electrode 3 and the auxiliary electrode 4 are formed, as illustrated in FIG. Good.

磁性板の厚みとしては、金属材料から構成された第2態様の仮封止部材と所定の磁力により接着することができる程度の厚みであれば特に限定されるものではない。なお、磁性板の具体的な厚みについては、上述した金属板の厚みと同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   The thickness of the magnetic plate is not particularly limited as long as the magnetic plate can be bonded to the temporary sealing member of the second aspect made of a metal material by a predetermined magnetic force. In addition, about the specific thickness of a magnetic board, since it can be made to be the same as that of the metal plate mentioned above, description here is abbreviate | omitted.

上記磁性板は、基板において画素電極および補助電極が形成された側とは反対側の全面に形成されたものであってもよく、あるいは、有機EL層側基板を介して対向する仮封止用蓋材において枠状に形成された仮封止部材に対応して枠状またはパターン状に形成されたものであってもよい。   The magnetic plate may be formed on the entire surface of the substrate opposite to the side on which the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed, or for temporary sealing facing the organic EL layer side substrate. The cover member may be formed in a frame shape or a pattern shape corresponding to the temporary sealing member formed in a frame shape.

磁性板の形成方法としては、有機EL層側基板における基板の表面に形成してもよく、あるいは有機EL層側基板とは別体として形成してもよい。磁性板を有機EL層側基板における基板の表面に形成する場合の金属板の形成方法としては、磁性板に用いられる材料や磁性板の形状に応じて適宜選択されるものである。具体的な形成方法としては、金属板の形成方法と同様の方法を用いることができるためここでの記載は省略する。   As a method for forming the magnetic plate, the magnetic plate may be formed on the surface of the organic EL layer side substrate, or may be formed separately from the organic EL layer side substrate. The method of forming the metal plate when forming the magnetic plate on the surface of the substrate in the organic EL layer side substrate is appropriately selected according to the material used for the magnetic plate and the shape of the magnetic plate. As a specific forming method, a method similar to the forming method of the metal plate can be used, and description thereof is omitted here.

(2)減圧密封工程
本発明における減圧密封工程は、第1圧力下で、上記有機EL層側基板準備工程で得られた上記有機EL層側基板に仮封止用蓋材を対向させて上記スペーサ部の頂部に上記仮封止用蓋材が上記有機層を介して接触するように配置し、上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の間の空間を密封して上記有機EL層側基板表面を上記仮封止用蓋材で封止する工程である。
(2) Depressurization sealing process The depressurization sealing process in this invention is the above-mentioned, with the first sealing member facing the organic EL layer side substrate obtained in the organic EL layer side substrate preparation process with the temporary sealing lid material facing. It arrange | positions so that the said lid | cover for temporary sealing may contact via the said organic layer on the top part of a spacer part, the space between the said organic EL layer side board | substrate and the said lid | cover for temporary sealing is sealed, and the said organic In this step, the surface of the EL layer side substrate is sealed with the temporary sealing lid material.

このような工程を行う方法としては、具体的には、次のような方法が挙げられる。すなわち、まず、第1圧力である所定の真空度に設定された真空チャンバー内において、外周部にシール剤が形成された有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを対向させて配置し、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを接触させて、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を密封する方法や、第1圧力に設定された真空チャンバー内において、治具等を用いて有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を密封する方法が挙げられる。   Specific examples of a method for performing such a process include the following methods. That is, first, in a vacuum chamber set to a predetermined degree of vacuum that is the first pressure, an organic EL layer side substrate having a sealant formed on the outer peripheral portion and a temporary sealing lid member are arranged to face each other. A method of sealing the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member by bringing the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member into contact with each other, or a vacuum set to the first pressure In the chamber, a method of sealing the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member using a jig or the like can be mentioned.

このような本工程により減圧密封された有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間は、第1圧力である所定の真空度となる。具体的には、後述する密着工程にて有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整することにより、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間と有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間との間に差圧を生じさせて、上記有機EL層側基板と上記仮封止用蓋材とを十分に密着させることができ、後述する接触部形成工程においてレーザー光により除去される有機層の粉塵が画素領域に飛散するのを防ぐことができれば特に限定されるものではないが、真空度の値ができるだけ大きいこと、すなわち、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間の圧力の値ができるだけ小さいことが好ましい。中でも、本工程においては、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間が真空空間であることが好ましい。具体的な真空度としては、1×10−5Pa〜1×10Paの範囲内であることが好ましく、中でも1×10−5Pa〜1×10Paの範囲内であることが好ましく、特に1×10−5Pa〜1×10Paの範囲内であることが好ましい。 The space between the organic EL layer side substrate sealed under reduced pressure and the temporary sealing lid material in this step has a predetermined degree of vacuum that is the first pressure. Specifically, by adjusting the outer peripheral space of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material to the second pressure in the adhesion step described later, the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are adjusted. A pressure difference is generated between the space between the organic EL layer side substrate and the outer peripheral space of the temporary sealing lid material, and the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are sufficiently adhered to each other. Although it is not particularly limited as long as it can prevent the dust of the organic layer removed by the laser light in the contact portion forming step, which will be described later, from scattering into the pixel region, the value of the degree of vacuum is as large as possible That is, it is preferable that the pressure value of the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member is as small as possible. Especially, in this process, it is preferable that the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member is a vacuum space. The specific degree of vacuum is preferably in the range of 1 × 10 −5 Pa to 1 × 10 4 Pa, and more preferably in the range of 1 × 10 −5 Pa to 1 × 10 3 Pa. In particular, it is preferably in the range of 1 × 10 −5 Pa to 1 × 10 2 Pa.

3.密着工程
本発明においては、上記減圧密封工程で密封された上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整して上記有機EL層側基板および上記仮封止用蓋材を密着させる密着工程を行う。
以下、具体的な密着工程について説明する。
3. Adhering Step In the present invention, the space on the outer periphery of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member sealed in the reduced pressure sealing step is adjusted to a second pressure to adjust the organic EL layer side substrate and the temporary substrate. An adhesion process is performed in which the sealing lid is adhered.
Hereinafter, a specific adhesion process will be described.

本工程は、上述した減圧密封工程において、第1圧力下で密封された有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整することにより、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間と有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間との間に差圧を生じさせ、有機EL層側基板および仮封止用蓋材を密着させる工程である。   In this step, the organic EL layer side substrate is adjusted by adjusting the space on the outer periphery of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member sealed under the first pressure to the second pressure in the above-described reduced pressure sealing step. And the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material by generating a differential pressure between the space between the temporary sealing lid material and the outer space of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material. Is a step of closely adhering.

有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整する方法としては、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間と有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間との間に差圧を生じさせ、有機EL層側基板および仮封止用蓋材を密着させることができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、以下のような方法が挙げられる。すなわち、真空チャンバー内にて密封された有機EL層側基板および仮封止用蓋材を、常圧空間にさらすことにより有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間を常圧に戻す方法や、真空チャンバー内にて有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間を密封した後に、真空チャンバー内に気体を流入させて加圧する方法等が挙げられる。なお、有機EL層側基板および仮封止用蓋材を常圧空間にさらす方法により密着工程を行う場合における上記「常圧空間」としては、有機EL表示素子の劣化を抑制するという観点から、例えば酸素濃度および水分濃度が少なくとも1ppm以下であり、窒素やアルゴン等の不活性ガスで充填された空間であることが好ましい。   As a method of adjusting the outer peripheral space of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material to the second pressure, the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material, the organic EL layer side substrate, Although it is not particularly limited as long as it is a method capable of generating a differential pressure between the space around the temporary sealing lid material and bringing the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material into close contact with each other. For example, the following methods are mentioned. That is, by exposing the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material sealed in the vacuum chamber to the normal pressure space, the outer peripheral space of the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material is normal pressure. And a method of sealing the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member in the vacuum chamber and then injecting a gas into the vacuum chamber for pressurization. In addition, as said "normal pressure space" in the case of performing an adhesion process by exposing the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material to a normal pressure space, from the viewpoint of suppressing deterioration of the organic EL display element, For example, the space is preferably a space filled with an inert gas such as nitrogen or argon having an oxygen concentration and a water concentration of at least 1 ppm or less.

上記「第2圧力」としては、減圧密封工程における第1圧力よりも高い圧力であり、また第1圧力と第2圧力との差圧により有機EL層側基板に仮封止用蓋材を密着させることができる程度の圧力であれば特に限定されるものではないが、例えば第2圧力が第1圧力よりも100Pa以上高いことが好ましく、中でも1000Pa以上高いことが好ましく、特に10000Pa以上高いことが好ましい。第2圧力と第1圧力との差圧が上記数値以上であることにより、有機EL層側基板に仮封止用蓋材を十分に密着させることができる。   The “second pressure” is a pressure higher than the first pressure in the vacuum sealing step, and the temporary sealing lid material is brought into close contact with the organic EL layer side substrate by the differential pressure between the first pressure and the second pressure. For example, the second pressure is preferably 100 Pa or higher than the first pressure, more preferably 1000 Pa or higher, and particularly preferably 10,000 Pa or higher. preferable. When the differential pressure between the second pressure and the first pressure is greater than or equal to the above numerical value, the temporary sealing lid member can be sufficiently adhered to the organic EL layer side substrate.

4.接触部形成工程
本発明においては、上記仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射して、上記補助電極上に形成された上記有機層を除去して上記接触部を形成する接触部形成工程を行う。
以下、本工程において形成される接触部および具体的な接触部形成工程について説明する。
4). Contact part forming step In the present invention, contact part formation for forming the contact part by removing the organic layer formed on the auxiliary electrode by irradiating laser light through the temporary sealing lid material. Perform the process.
Hereinafter, the contact part formed in this process and the specific contact part formation process are demonstrated.

(1)接触部
本工程において形成される接触部は、補助電極と後述する透明電極層とが接触する領域である。
(1) Contact part The contact part formed in this process is an area | region where an auxiliary electrode and the transparent electrode layer mentioned later contact.

本工程において形成される接触部の平面形状としては、後述する透明電極層と補助電極とを電気的に十分に接続することができるような平面形状であれば特に限定されるものではなく、例えば、矩形や円形等が挙げられる。   The planar shape of the contact portion formed in this step is not particularly limited as long as it is a planar shape capable of sufficiently sufficiently connecting a transparent electrode layer and an auxiliary electrode described later. , Rectangular and circular.

また、上記接触部の態様としては、後述する透明電極層と補助電極とを電気的に十分に接続することができるものであれば特に限定されるものではない。図14(a)〜(c)は、本工程において形成される接触部の態様を説明する模式図である。上記接触部9の具体的な態様としては、図14(a)に示すように、補助電極4上に形成された少なくとも1層の有機層6をストライプ状に除去して形成された態様であってもよく、図14(b)に示すように、補助電極4上に形成された少なくとも1層の有機層6に開口部を設けて形成された態様であってもよく、図14(c)に示すように、補助電極4上に形成された少なくとも1層の有機層6に複数の開口部を設けて形成された態様であってもよい。   Moreover, the aspect of the contact portion is not particularly limited as long as it can electrically connect a transparent electrode layer and an auxiliary electrode described later sufficiently. FIGS. 14A to 14C are schematic views for explaining an aspect of the contact portion formed in this step. A specific mode of the contact portion 9 is a mode in which at least one organic layer 6 formed on the auxiliary electrode 4 is removed in a stripe shape as shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 14B, an embodiment in which an opening is provided in at least one organic layer 6 formed on the auxiliary electrode 4 may be used. As shown in FIG. 3, the organic layer 6 formed on the auxiliary electrode 4 may be provided with a plurality of openings.

(2)接触部形成工程
本発明における接触部形成工程は、仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射して補助電極を覆う有機層を除去することにより、上述した接触部を形成する工程を有する。なお、上述した密着工程として真空チャンバー内に気体を流入させて加圧する方法を用いる場合には、例えば次のような方法により本工程を行うことができる。すなわち、ガラス等の透光性基材から構成される真空チャンバーに設置されたレーザー光透過窓等を介してレーザー光を照射し、補助電極を覆う有機層を除去することにより接触部を形成する方法である。
(2) Contact part formation process The contact part formation process in this invention forms a contact part mentioned above by removing the organic layer which irradiates a laser beam via the cover material for temporary sealing, and covers an auxiliary electrode. Process. In addition, when using the method of making gas flow into a vacuum chamber and pressurizing as the contact | adherence process mentioned above, this process can be performed by the following methods, for example. That is, a contact portion is formed by irradiating a laser beam through a laser beam transmitting window or the like installed in a vacuum chamber composed of a transparent substrate such as glass and removing the organic layer covering the auxiliary electrode. Is the method.

本工程に用いられるレーザー光としては、仮封止用蓋材を介して照射した際に仮封止用蓋材を透過して補助電極を覆う有機層を除去することが可能なものであれば特に限定されるものではなく、有機層のレーザー光による除去方法において一般的に用いられるレーザー光を採用することができる。レーザー光としては、例えば、YAG、Arイオン、He−Ne、KrF、炭素レーザー(COレーザー)等が挙げられる。 As the laser beam used in this step, any laser light that can pass through the temporary sealing lid material and cover the auxiliary electrode when irradiated through the temporary sealing lid material can be used. There is no particular limitation, and laser light generally used in a method for removing an organic layer by laser light can be employed. Examples of the laser light include YAG, Ar ions, He—Ne, KrF, and a carbon laser (CO 2 laser).

5.透明電極層形成工程
本発明においては、上記補助電極と上記接触部で電気的に接続されるように、上記有機EL層および上記接触部上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程を行う。
以下、本工程において形成される透明電極層および具体的な透明電極層形成工程について説明する。
5. Transparent electrode layer forming step In the present invention, a transparent electrode layer forming step of forming a transparent electrode layer on the organic EL layer and the contact portion is performed so as to be electrically connected to the auxiliary electrode at the contact portion. .
Hereinafter, the transparent electrode layer formed in this step and a specific transparent electrode layer forming step will be described.

(1)透明電極層
本工程における透明電極層は、有機EL層側基板上に形成されるものである。
(1) Transparent electrode layer The transparent electrode layer in this process is formed on the organic EL layer side substrate.

上記透明電極層は、透明性および導電性を有するものであればよく、例えば金属酸化物が挙げられる。具体的な金属酸化物としては、酸化インジウム錫、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。また、マグネシウム−銀合金、アルミニウム、およびカルシウム等の金属材料についても、光透過性を有する程度に薄く成膜する場合には用いることができる。   The said transparent electrode layer should just have transparency and electroconductivity, for example, a metal oxide is mentioned. Specific examples of the metal oxide include indium tin oxide, indium oxide, indium zinc oxide, zinc oxide, and stannic oxide. In addition, metal materials such as magnesium-silver alloy, aluminum, and calcium can also be used when forming a film thin enough to have light transmittance.

(2)透明電極層形成工程
本発明における透明電極層形成工程は、上記密着工程にて有機EL層側基板に密着させた仮封止用蓋材を剥離して、上記補助電極と上記接触部で電気的に接続されるように、上記有機EL層および上記接触部上に透明電極層を形成する工程を有する。
(2) Transparent electrode layer formation process The transparent electrode layer formation process in this invention peels off the temporary sealing lid | cover material closely_contact | adhered to the organic EL layer side board | substrate in the said contact | adherence process, and the said auxiliary electrode and the said contact part And forming a transparent electrode layer on the organic EL layer and the contact portion so as to be electrically connected.

有機EL層側基板表面から仮封止用蓋材を剥離する方法としては、仮封止用蓋材の構成に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではない。例えば、仮封止用蓋材の有機EL層側基板に対向する面と反対側の面に磁性材料または金属材料からなる仮封止部材が形成されている場合には、仮封止用蓋材に金属板または磁性板を近づけて磁力により仮封止用蓋材を有機EL層側基板から剥離する方法が挙げられる。また、この他にも、ピーラー等を用いた物理的手法により仮封止用蓋材を有機EL層側基板から剥離する方法が挙げられる。   The method for peeling the temporary sealing lid material from the surface of the organic EL layer side substrate is appropriately selected according to the configuration of the temporary sealing lid material, and is not particularly limited. For example, when a temporary sealing member made of a magnetic material or a metal material is formed on the surface opposite to the surface facing the organic EL layer side substrate of the temporary sealing lid material, the temporary sealing lid material There is a method in which a metal plate or a magnetic plate is brought close to and the temporary sealing lid member is peeled off from the organic EL layer side substrate by magnetic force. In addition to this, there is a method of peeling the temporary sealing lid member from the organic EL layer side substrate by a physical method using a peeler or the like.

透明電極層の形成方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、EB蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法、またはCVD法等を挙げることができる。   As a method for forming the transparent electrode layer, a general electrode forming method can be used, for example, a PVD method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an EB deposition method, an ion plating method, or a CVD method. be able to.

6.その他の工程
本発明においては、上述した工程を有していれば特に限定されるものではなく、その他の工程を有していてもよい。その他の工程としては、例えば、有機EL表示装置を封止基板により封止する封止工程が挙げられる。
以下、封止基板について説明する。
6). Other Steps The present invention is not particularly limited as long as it has the steps described above, and may have other steps. As another process, the sealing process which seals an organic EL display device with a sealing substrate is mentioned, for example.
Hereinafter, the sealing substrate will be described.

本発明における有機EL表示装置はトップエミッション型であるため、封止基板は光透過性を有している。封止基板の光透過性としては、可視光領域の波長に対して透過性を有していればよく、具体的には、可視光領域の全波長範囲に対する光透過率が80%以上であることが好ましく、中でも85%以上、特に90%以上であることが好ましい。
ここで、光透過率は、例えば島津製作所製紫外可視光分光光度計UV−3600により測定することができる。
Since the organic EL display device in the present invention is a top emission type, the sealing substrate has light transmittance. The light transmittance of the sealing substrate only needs to be transparent to the wavelength in the visible light region. Specifically, the light transmittance for the entire wavelength range in the visible light region is 80% or more. Of these, 85% or more, particularly 90% or more is preferable.
Here, the light transmittance can be measured by, for example, an ultraviolet-visible light spectrophotometer UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation.

また、封止基板は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよく、有機EL表示装置の用途により適宜選択される。   Further, the sealing substrate may or may not have flexibility, and is appropriately selected depending on the use of the organic EL display device.

封止基板の材料としては、光透過性を有する封止基板が得られるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、石英、ガラス等の無機材料や、アクリル樹脂、COPと称されるシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン等の樹脂が挙げられる。
また、樹脂製の封止基板の表面にはガスバリア層が形成されていてもよい。
The material of the sealing substrate is not particularly limited as long as a light-transmitting sealing substrate can be obtained. For example, inorganic materials such as quartz and glass, acrylic resin, and COP are used. Examples thereof include resins such as cycloolefin polymer, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyimide, polyamideimide, polyethersulfone, polyetherimide, and polyetheretherketone.
A gas barrier layer may be formed on the surface of the resin sealing substrate.

封止基板の厚みとしては、封止基板の材料および有機EL装置の用途により適宜選択される。具体的に、封止基板の厚みは0.001mm〜5mm程度である。   The thickness of the sealing substrate is appropriately selected depending on the material of the sealing substrate and the use of the organic EL device. Specifically, the thickness of the sealing substrate is about 0.001 mm to 5 mm.

7.有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置
本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置としては、有機EL層側基板準備工程、減圧密封工程、密着工程、および接触部形成工程を行うことが可能な製造装置であれば特に限定されるものではない。
以下、本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置について図を参照しながら説明する。
7). Manufacturing device used for manufacturing method of organic EL display device As a manufacturing device used for the manufacturing method of the organic EL display device of the present invention, an organic EL layer side substrate preparing step, a vacuum sealing step, an adhesion step, and a contact portion forming step If it is a manufacturing apparatus which can perform, it will not specifically limit.
Hereinafter, a manufacturing apparatus used in the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention will be described with reference to the drawings.

図15は、本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置の一例を示す構成図である。図15に例示するように、本発明の有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置は、次のような構成を有するものである。すなわち、まず、有機EL層側基板を形成する有機EL層側基板形成装置を有する。次に、仮封止用蓋材を形成する仮封止用蓋材形成装置を有し、本装置にて有機EL層側基板と仮封止用蓋材とが貼り合わされる。なお、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との貼り合せは、チャンバー内にて行われる。続いて、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を減圧密封する減圧密封装置を有する。本装置では、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とが配置されたチャンバー内が第1圧力に調整され、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間が密封される。次に、仮封止用蓋材側から有機EL層側基板における補助電極上の有機層にレーザー光を照射するレーザー光照射装置を有する。本装置では、仮封止用蓋材により減圧密封された有機EL層側基板がチャンバー内から取り出されるか、あるいはチャンバー内が常圧雰囲気に調整されることにより有機EL層側基板および仮封止用蓋材の外周の空間が第2圧力へと調整され、有機EL層側基板および仮封止用蓋材の間の空間の圧力とその外周の空間の圧力との間に差が設けられる。最後に、有機EL層側基板から仮封止用蓋材を剥離して、有機EL層側基板表面に透明電極層を形成する透明電極層形成装置を有する。このように、有機EL表示装置の製造方法に用いられる製造装置は、図15の実線矢印で示される順に各構成を有するものである。   FIG. 15 is a configuration diagram showing an example of a manufacturing apparatus used in the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention. As illustrated in FIG. 15, the manufacturing apparatus used in the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention has the following configuration. That is, first, an organic EL layer side substrate forming apparatus for forming an organic EL layer side substrate is provided. Next, a temporary sealing lid material forming apparatus for forming a temporary sealing lid material is provided, and the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are bonded together in this apparatus. The organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member are bonded together in a chamber. Then, it has the reduced pressure sealing device which carries out the pressure reduction sealing of the space between the organic EL layer side board | substrate and the lid | cover for temporary sealing. In this apparatus, the inside of the chamber in which the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member are arranged is adjusted to the first pressure, and the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member is sealed. Is done. Next, it has a laser beam irradiation apparatus which irradiates a laser beam to the organic layer on the auxiliary electrode in the organic EL layer side substrate from the temporary sealing lid material side. In this apparatus, the organic EL layer side substrate sealed under reduced pressure by the temporary sealing lid member is taken out from the chamber, or the chamber is adjusted to a normal pressure atmosphere to thereby provide the organic EL layer side substrate and the temporary sealing. The outer space of the cover material is adjusted to the second pressure, and a difference is provided between the pressure of the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing cover material and the pressure of the outer space. Finally, it has a transparent electrode layer forming apparatus that peels the temporary sealing lid from the organic EL layer side substrate and forms a transparent electrode layer on the surface of the organic EL layer side substrate. Thus, the manufacturing apparatus used for the manufacturing method of an organic EL display device has each structure in the order shown by the solid line arrow in FIG.

また、有機EL表示装置の製造に用いられる仮封止用蓋材が、磁性材料からなる第1態様の仮封止部材である場合、または金属材料からなる第2態様の仮封止部材である場合には、上記仮封止部材を再利用することができる。この場合には、次のような構成を更に有する。すなわち、例えば図15の破線矢印で示されるように、レーザー光照射装置から透明電極層形成装置に有機EL層側基板が搬送される際、有機EL層側基板から剥離された仮封止用蓋材を蓋基板と仮封止部材とに分離して仮封止部材を回収する仮封止部材回収装置を有する。なお、本装置にて回収された仮封止部材は、図15の破線矢印に示されるように仮封止用蓋材形成装置へと搬送され、再度、仮封止用蓋材の形成に用いられる。   Moreover, when the lid | cover for temporary sealing used for manufacture of an organic electroluminescence display is the temporary sealing member of the 1st aspect which consists of magnetic materials, or it is the temporary sealing member of the 2nd aspect which consists of metal materials. In such a case, the temporary sealing member can be reused. In this case, it further has the following configuration. That is, for example, as indicated by a broken line arrow in FIG. 15, when the organic EL layer side substrate is transported from the laser light irradiation device to the transparent electrode layer forming device, the temporary sealing lid peeled off from the organic EL layer side substrate A temporary sealing member collecting device for separating the material into a lid substrate and a temporary sealing member and collecting the temporary sealing member; The temporary sealing member recovered by this apparatus is transported to the temporary sealing lid member forming apparatus as indicated by the broken line arrow in FIG. 15, and is used again to form the temporary sealing lid member. It is done.

ここで、仮封止用蓋材を蓋基板と仮封止部材とに分離して仮封止部材を回収する方法としては、例えば、蓋基板と仮封止部材とを剥離して仮封止部材を回収する方法や、蓋基板を洗浄により除去して仮封止部材を回収する方法等が挙げられる。   Here, as a method of separating the temporary sealing lid material into the lid substrate and the temporary sealing member and recovering the temporary sealing member, for example, the lid substrate and the temporary sealing member are separated and temporarily sealed. Examples thereof include a method for collecting the member, a method for removing the lid substrate by washing, and a method for collecting the temporary sealing member.

B.仮封止用蓋材
本発明の仮封止用蓋材は、上述のような製造方法に用いられるものである。
このような仮封止用蓋材としては、次のような第4態様〜第6態様が挙げられる。
B. Temporary sealing lid material The temporary sealing lid material of the present invention is used in the manufacturing method as described above.
Examples of such a temporary sealing lid member include the following fourth to sixth aspects.

まず、第4態様の仮封止用蓋材は、蓋基板と、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、磁性材料から構成されていることを特徴とするものである。なお、第4態様の仮封止用蓋材については、上記「A.有機EL表示装置の製造方法 2.減圧密封工程 (1)仮封止用蓋材」の項に記載の、第1態様の仮封止部材を用いた場合と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   First, the temporary sealing lid member according to the fourth aspect includes a lid substrate and a frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate. It is characterized by comprising a magnetic material. In addition, about the lid | cover for temporary sealing of a 4th aspect, the 1st aspect as described in the above-mentioned item of "A. Manufacturing method of an organic EL display device 2. Vacuum sealing step (1) Temporary sealing lid". Therefore, the description is omitted here.

次に、第5態様の仮封止用蓋材は、蓋基板と、上記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、金属材料から構成されていることを特徴とするものである。なお、第5態様の仮封止用蓋材については、上記「A.有機EL表示装置の製造方法 2.減圧密封工程 (1)仮封止用蓋材」の項に記載の、第2態様の仮封止部材を用いた場合と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   Next, the temporary sealing lid member according to the fifth aspect includes a lid substrate and a frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member Is made of a metal material. In addition, about the lid | cover for temporary sealing of a 5th aspect, the 2nd aspect as described in the above-mentioned item of "A. Manufacturing method of an organic EL display device 2. Vacuum sealing step (1) Temporary sealing lid". Therefore, the description is omitted here.

さらに、第6態様の仮封止用蓋材は、蓋基板と、上記蓋基板のいずれか一方の面に枠状の仮封止部材とを有し、上記仮封止部材が、粘着材料から構成されていることを特徴とするものである。なお、第6態様の仮封止用蓋材については、上記「A.有機EL表示装置の製造方法 2.減圧密封工程 (1)仮封止用蓋材」の項に記載の、第3態様の仮封止部材を用いた場合と同様とすることができるため、ここでの記載は省略する。   Furthermore, the lid material for temporary sealing of the sixth aspect includes a lid substrate and a frame-shaped temporary sealing member on one surface of the lid substrate, and the temporary sealing member is made of an adhesive material. It is characterized by being comprised. In addition, about the lid | cover material for temporary sealing of a 6th aspect, the 3rd aspect as described in the term of the said "A. Manufacturing method of an organic EL display device 2. Pressure reduction sealing process (1) Temporary sealing lid material". Therefore, the description is omitted here.

本発明の仮封止用蓋材は、上述の有機EL表示装置の製造方法に用いることができるため、表示特性の低下を抑制することができ、さらに、製造コストの増大や製造効率の低下を防ぐことが可能な有機EL表示装置を得ることができる。   Since the temporary sealing lid material of the present invention can be used in the above-described method for manufacturing an organic EL display device, it is possible to suppress a decrease in display characteristics, and further, an increase in manufacturing cost and a decrease in manufacturing efficiency. An organic EL display device that can be prevented can be obtained.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

(画素電極および補助電極形成工程)
膜厚0.7mmの無アルカリガラスからなる基板上に、膜厚150nmのクロム膜をパターン状に成膜して画素電極を形成した。その後、上記画素電極の間に膜厚150nmのクロム膜をストライプ状に成膜して補助電極を形成した。
(Pixel electrode and auxiliary electrode formation process)
A pixel electrode was formed by forming a chromium film with a thickness of 150 nm in a pattern on a substrate made of alkali-free glass with a thickness of 0.7 mm. Thereafter, a chromium film having a thickness of 150 nm was formed between the pixel electrodes in a stripe shape to form an auxiliary electrode.

(スペーサ部形成工程)
次に、画素電極と補助電極において接触部を形成する領域との間に、フォトリソグラフィー法によりスペーサ部を形成した。なお、スペーサ部の平面形状は枠状であり、縦断面形状は順テーパー形状であった。また、スペーサ部の高さは1.5μmであった。
(Spacer formation process)
Next, a spacer portion was formed by a photolithography method between the pixel electrode and the region where the contact portion is formed in the auxiliary electrode. The planar shape of the spacer portion was a frame shape, and the vertical cross-sectional shape was a forward tapered shape. The height of the spacer portion was 1.5 μm.

(有機EL層形成工程)
次に、画素電極上に0.1μmの正孔注入層を形成した。次いで、正孔注入層上に、0.3μmの発光層を形成した。その後、発光層上に、0.3μmの電子輸送層を形成し、有機EL層とした。なお、本工程においては、画素電極上に有機EL層を形成するとともに、補助電極上にも形成した。
(Organic EL layer formation process)
Next, a 0.1 μm hole injection layer was formed on the pixel electrode. Next, a 0.3 μm light emitting layer was formed on the hole injection layer. Thereafter, an electron transport layer having a thickness of 0.3 μm was formed on the light emitting layer to obtain an organic EL layer. In this step, an organic EL layer was formed on the pixel electrode and also formed on the auxiliary electrode.

このようにして、有機EL層側基板を形成した。   In this way, an organic EL layer side substrate was formed.

(減圧密封工程および密着工程)
続いて、真空度を50Paに設定した真空チャンバー内に、上記工程により得られた有機EL層側基板を配置し、上記有機EL層側基板表面に仮封止用蓋材を対向させて接着させた。このとき用いた仮封止用蓋材は下記表1に示す条件を満たす。
(Reduced pressure sealing process and adhesion process)
Subsequently, the organic EL layer side substrate obtained by the above process is placed in a vacuum chamber having a degree of vacuum set to 50 Pa, and a temporary sealing lid is adhered to the surface of the organic EL layer side substrate. It was. The temporary sealing lid material used at this time satisfies the conditions shown in Table 1 below.

Figure 2015049982
Figure 2015049982

表1に示した実施例1、実施例3〜9のように、磁性材料からなる仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いたときには、有機EL層側基板の基板側に厚みが50μmのFe−Ni合金からなる金属板を配置した。また、実施例2、実施例10〜16のように、金属材料からなる仮封止部材を有する仮封止用蓋材を用いたときには、有機EL層側基板の基板側に磁力が200mTのネオジウム磁石からなる磁性板を配置した。   As in Example 1 and Examples 3 to 9 shown in Table 1, when a temporary sealing lid member having a temporary sealing member made of a magnetic material is used, the thickness of the organic EL layer side substrate is on the substrate side. A metal plate made of a 50 μm Fe—Ni alloy was disposed. Further, when a temporary sealing lid member having a temporary sealing member made of a metal material is used as in Example 2 and Examples 10 to 16, neodymium having a magnetic force of 200 mT on the substrate side of the organic EL layer side substrate. A magnetic plate made of a magnet was disposed.

このようにして、真空チャンバー内にて有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを減圧密封した後、真空チャンバー内に窒素ガスを流入させてチャンバー内を常圧の状態にし、有機EL層側基板と仮封止用蓋材とを密着させた。   Thus, after the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material are sealed under reduced pressure in the vacuum chamber, nitrogen gas is allowed to flow into the vacuum chamber to bring the chamber into a normal pressure state. The layer side substrate and the lid for temporary sealing were adhered.

なお、上記表1において、仮封止用蓋材における部材IIIにはアクリル系の粘着材料を用いた。上記粘着材料の粘着力は、オリエンテック社製 テンシロンSTA-1150を用いた。測定は、温度24℃、湿度35%の条件下にて、剥離速度300mm/secで90度剥離を行うことにより実施した。   In Table 1 above, an acrylic adhesive material was used for the member III in the temporary sealing lid member. Tensilon STA-1150 manufactured by Orientec was used for the adhesive strength of the adhesive material. The measurement was carried out by performing 90 ° peeling at a peeling speed of 300 mm / sec under the conditions of a temperature of 24 ° C. and a humidity of 35%.

(接触部形成工程)
次に、仮封止用蓋材を介してエネルギー密度が500mJ/cm、スポット径が10μmφ、波長355nm、パルス幅が5nsecのYAGレーザー光を1ショット照射して、補助電極を覆う有機EL層を除去し、補助電極を露出させて接触部を形成した。
(Contact part formation process)
Next, an organic EL layer that covers the auxiliary electrode by irradiating one shot of YAG laser light having an energy density of 500 mJ / cm 2 , a spot diameter of 10 μmφ, a wavelength of 355 nm, and a pulse width of 5 nsec through a temporary sealing lid Then, the auxiliary electrode was exposed to form a contact portion.

(電子注入層形成工程)
接触部を形成後、有機EL層側基板表面から仮封止用蓋材を取り外し、有機EL層側基板上にフッ化リチウムを膜厚0.5nmとなるように真空蒸着法により成膜し、電子注入層を形成した。
(Electron injection layer forming process)
After forming the contact portion, the temporary sealing lid material is removed from the surface of the organic EL layer side substrate, and lithium fluoride is formed on the organic EL layer side substrate by a vacuum deposition method so as to have a film thickness of 0.5 nm. An electron injection layer was formed.

(透明電極層形成工程)
その後、仮封止用蓋材を剥離して、接触部において上記電子注入層を介して露出した補助電極に電気的に接続されるようにカルシウムを膜厚10nm、アルミニウムを膜厚5nmとなるように真空蒸着法により成膜し、透明電極層を形成した。
(Transparent electrode layer forming process)
Then, the lid for temporary sealing is peeled off, and calcium is formed to a thickness of 10 nm and aluminum is formed to a thickness of 5 nm so as to be electrically connected to the auxiliary electrode exposed through the electron injection layer at the contact portion. A film was formed by vacuum evaporation to form a transparent electrode layer.

このようにして有機EL表示装置を作製した。   In this way, an organic EL display device was produced.

(評価)
1.密着性
減圧密封工程において有機EL層側基板と密着した仮封止用蓋材が、接触部形成工程にてどの程度の密着性を有していたかについて評価した。具体的には、表面に仮封止用蓋材が密着した有機EL層側基板を傾けた際に、上記仮封止用蓋材が有機EL層側基板からずれることなく密着した場合には「A」、仮封止用蓋材が有機EL層側基板からずれた場合には「B」と評価した。
(Evaluation)
1. Adhesiveness It evaluated about what adhesiveness the temporary sealing lid | cover material closely_contact | adhered with the organic electroluminescent layer side board | substrate in the pressure reduction sealing process had in the contact part formation process. Specifically, when the organic EL layer side substrate with the temporary sealing lid material adhered to the surface is tilted, the temporary sealing lid material adheres without being displaced from the organic EL layer side substrate. A ”, when the temporary sealing lid material was displaced from the organic EL layer side substrate, it was evaluated as“ B ”.

2.封止性
次に、減圧密封工程により減圧密封された有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間が、接触部形成工程にてどの程度の封止性を有しているかについて評価した。具体的には、接触部形成工程でレーザー光により除去された有機層が画素領域に飛散するのを防止し、表示特性の低下を防止することができた場合には「A」、接触部形成工程でレーザー光により除去された有機層が画素領域に僅かに飛散したものの、表示特性の低下を防止することができた場合には「B」、接触部形成工程でレーザー光により除去された有機層が画素領域に飛散し、表示特性が低下した場合には「C」と評価した。
評価結果を表2に示す。
2. Sealing property Next, how much sealing property the space between the organic EL layer side substrate sealed under reduced pressure in the reduced pressure sealing step and the temporary sealing lid material has in the contact portion forming step. Was evaluated. Specifically, when the organic layer removed by the laser beam in the contact portion forming step is prevented from scattering to the pixel region and the deterioration of display characteristics can be prevented, “A” is formed. If the organic layer removed by the laser beam in the process is slightly scattered in the pixel area, but the deterioration of the display characteristics can be prevented, “B”, the organic removed by the laser beam in the contact part forming step When the layer was scattered in the pixel area and the display characteristics deteriorated, it was evaluated as “C”.
The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2015049982
Figure 2015049982

減圧密封工程において用いられる仮封止用蓋材が蓋基板および仮封止部材から構成された実施例1〜23では、密着性の評価がいずれも「A」であった。一方、仮封止部材を有さない蓋材を用いた比較例では、密着性の評価が「B」であった。以上のことから、蓋基板および仮封止部材から構成された仮封止用蓋材を用いることにより、有機EL層側基板と仮封止用蓋材との密着性を向上させ、接触部形成工程の際に有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間を十分に減圧密封することが可能であることが分かった。   In Examples 1 to 23 in which the temporary sealing lid member used in the reduced pressure sealing step was constituted by the lid substrate and the temporary sealing member, the evaluation of adhesion was “A”. On the other hand, in the comparative example using the lid member having no temporary sealing member, the adhesion evaluation was “B”. From the above, by using the temporary sealing lid material composed of the lid substrate and the temporary sealing member, the adhesion between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material is improved, and the contact portion is formed. It was found that the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member can be sufficiently sealed under reduced pressure during the process.

また、仮封止用蓋材が蓋基板および仮封止部材から構成された実施例1〜23では、封止性の評価がいずれも「A」または「B」であった。一方、仮封止部材を有さない蓋材を用いた比較例では、封止性の評価が「C」であった。以上のことから、蓋基板および仮封止部材から構成された仮封止用蓋材を用いることにより、接触部形成工程において有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間の封止性を高め、レーザー光により除去された有機層が画素領域に飛散することによる表示特性の低下を防止することができることが分かった。
さらに、実施例1および実施例3、または実施例2および実施例10を比較すると、仮封止用蓋材が部材IIのみを有する場合に比べて、仮封止用蓋材が部材IIおよび部材IIIのいずれもを有する場合の方が、接触部形成工程において有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間の封止性をより高めることができることが分かった。以上のことから本発明においては、蓋基板、仮封止部材および凸部材から構成された仮封止用蓋材を用いることがより好ましいことが分かった。
さらにまた、仮封止用蓋材が粘着材料からなる部材IIIを有する場合には、粘着材料の粘着力が0.01Nである実施例17に比べて、粘着材料の粘着力が0.1N以上である実施例18〜23の方が、接触部形成工程における有機EL層側基板と仮封止用蓋材との間の空間の封止性を高めることができた。以上のことから、仮封止用蓋材が粘着材料から構成された仮封止部材を有する場合には、所定の粘着力を用する粘着材料を用いることにより、接触部形成工程における有機EL層側基板と仮封止用蓋材との封止性を高め、レーザー光により除去された有機層が画素領域に飛散することによる表示特性の低下を防止することができることが分かった。
Further, in Examples 1 to 23 in which the temporary sealing lid member was constituted by the lid substrate and the temporary sealing member, the evaluation of the sealing performance was “A” or “B”. On the other hand, in the comparative example using the lid member having no temporary sealing member, the evaluation of the sealing property was “C”. From the above, by using the temporary sealing lid material composed of the lid substrate and the temporary sealing member, the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid material in the contact portion forming step. It has been found that the sealing properties can be improved, and deterioration of display characteristics due to scattering of the organic layer removed by the laser light to the pixel region can be prevented.
Furthermore, when Example 1 and Example 3 or Example 2 and Example 10 are compared, compared with the case where the lid | cover for temporary sealing has only the member II, the lid | cover for temporary sealing is the member II and member. It turned out that the case where it has all of III can improve the sealing performance of the space between the organic EL layer side board | substrate and the lid | cover for temporary sealing in a contact part formation process more. From the above, it has been found that in the present invention, it is more preferable to use a temporary sealing lid member composed of a lid substrate, a temporary sealing member, and a convex member.
Furthermore, when the temporary sealing lid member has the member III made of an adhesive material, the adhesive material has an adhesive force of 0.1 N or more compared to Example 17 in which the adhesive force of the adhesive material is 0.01 N. In Examples 18 to 23, the sealing property of the space between the organic EL layer side substrate and the temporary sealing lid member in the contact portion forming step could be improved. From the above, when the temporary sealing lid member has a temporary sealing member made of an adhesive material, an organic EL layer in the contact portion forming step can be obtained by using an adhesive material that uses a predetermined adhesive force. It has been found that the sealing property between the side substrate and the temporary sealing lid material can be improved, and the display characteristics can be prevented from being deteriorated due to the organic layer removed by the laser light scattered in the pixel region.

1 … 有機EL層側基板
2 … 基板
3 … 画素電極
4 … 補助電極
5 … スペーサ部
6 … 有機層
7 … 透明電極層
8 … 仮封止用蓋材
80… 仮封止部材
83… 蓋基板
9 … 接触部
100… トップエミッション型有機EL表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL layer side board | substrate 2 ... Board | substrate 3 ... Pixel electrode 4 ... Auxiliary electrode 5 ... Spacer part 6 ... Organic layer 7 ... Transparent electrode layer 8 ... Temporary sealing lid | cover material 80 ... Temporary sealing member 83 ... Cover substrate 9 ... Contact part 100 ... Top emission type organic EL display device

Claims (7)

基板と、前記基板上に形成された複数の画素電極と、前記画素電極の間に形成された補助電極と、前記基板上に形成されたスペーサ部と、前記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、前記補助電極上に形成された少なくとも1層の前記有機層と、前記補助電極上に形成された前記有機層の開口部である接触部と、前記有機エレクトロルミネッセンス層および前記接触部上に形成された透明電極層とを有し、前記スペーサ部は、前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間に形成されており、また、前記透明電極層は、前記補助電極と前記接触部で電気的に接続されているトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造するトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記基板、前記画素電極、前記補助電極、前記スペーサ部、および前記有機エレクトロルミネッセンス層を有し、前記補助電極上の全面に少なくとも1層の前記有機層が形成された有機エレクトロルミネッセンス層側基板を準備する有機エレクトロルミネッセンス層側基板準備工程と、
第1圧力下で、前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板準備工程で得られた前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板に仮封止用蓋材を対向させて前記スペーサ部の頂部に前記仮封止用蓋材が前記有機層を介して接触するように配置し、前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板および前記仮封止用蓋材の間の空間を密封して前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板表面を前記仮封止用蓋材で封止する減圧密封工程と、
前記減圧密封工程で密封された前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板および前記仮封止用蓋材の外周の空間を第2圧力に調整して前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板および前記仮封止用蓋材を密着させる密着工程と、
前記仮封止用蓋材を介してレーザー光を照射して、前記補助電極上に形成された前記有機層を除去して前記接触部を形成する接触部形成工程とを有し、
前記仮封止用蓋材は、蓋基板と前記蓋基板上に枠状に形成された仮封止部材とを有することを特徴とするトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
A substrate, a plurality of pixel electrodes formed on the substrate, an auxiliary electrode formed between the pixel electrodes, a spacer portion formed on the substrate, and a plurality of pixel electrodes formed on the pixel electrode, An organic electroluminescence layer composed of an organic layer and having at least a light emitting layer, at least one organic layer formed on the auxiliary electrode, and an opening of the organic layer formed on the auxiliary electrode A contact portion, and the organic electroluminescence layer and a transparent electrode layer formed on the contact portion, and the spacer portion is formed between the contact portion and the pixel electrode adjacent to the contact portion. In addition, the transparent electrode layer manufactures a top emission type organic electroluminescence display device that is electrically connected to the auxiliary electrode at the contact portion. Tsu A method of manufacturing a flop emission organic electroluminescent display device,
An organic electroluminescence layer side substrate having the substrate, the pixel electrode, the auxiliary electrode, the spacer portion, and the organic electroluminescence layer, wherein at least one organic layer is formed on the entire surface of the auxiliary electrode. An organic electroluminescence layer side substrate preparation step to be prepared;
Under the first pressure, the temporary sealing lid is placed on the top of the spacer portion with the temporary sealing lid facing the organic electroluminescence layer side substrate obtained in the organic electroluminescence layer side substrate preparation step. Is arranged so as to be in contact with each other through the organic layer, and the space between the organic electroluminescence layer side substrate and the temporary sealing lid member is sealed, and the surface of the organic electroluminescence layer side substrate is temporarily sealed. A reduced-pressure sealing process for sealing with a cover material;
The organic electroluminescence layer side substrate and the temporary sealing lid material are adjusted by adjusting the space around the organic electroluminescence layer side substrate and the temporary sealing lid material sealed in the reduced pressure sealing step to a second pressure. An adhesion process for adhering
A contact part forming step of forming the contact part by irradiating a laser beam through the temporary sealing lid member, removing the organic layer formed on the auxiliary electrode, and
The method of manufacturing a top emission type organic electroluminescence display device, wherein the temporary sealing lid member includes a lid substrate and a temporary sealing member formed in a frame shape on the lid substrate.
前記仮封止用蓋材は、前記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状の前記仮封止部材が形成されており、
前記仮封止部材は、磁性材料から構成されており、
前記基板において、前記画素電極および前記補助電極が形成された側とは反対側の面に、金属板を配置することを特徴とする請求項1に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The temporary sealing lid material has the frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate,
The temporary sealing member is made of a magnetic material,
2. The top emission organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein a metal plate is disposed on a surface of the substrate opposite to the side on which the pixel electrode and the auxiliary electrode are formed. 3. Method.
前記仮封止用蓋材は、前記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に枠状の前記仮封止部材が形成されており、
前記仮封止部材は、金属材料から構成されており、
前記基板のいずれか一方の面に磁性板を配置することを特徴とする請求項1に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The temporary sealing lid material has the frame-shaped temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate,
The temporary sealing member is made of a metal material,
2. The method of manufacturing a top emission type organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein a magnetic plate is disposed on any one surface of the substrate.
前記仮封止用蓋材は、前記蓋基板の前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板に対向する側の面に枠状の前記仮封止部材が形成されており、
前記仮封止部材が、粘着材料から構成されていることを特徴とする請求項1に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The temporary sealing lid material has a frame-shaped temporary sealing member formed on the surface of the lid substrate on the side facing the organic electroluminescence layer side substrate,
The method of manufacturing a top emission type organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the temporary sealing member is made of an adhesive material.
蓋基板と、
前記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、
前記仮封止部材が、磁性材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材。
A lid substrate;
A frame-like temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate;
The temporary sealing member is made of a magnetic material.
蓋基板と、
前記蓋基板の少なくともいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、
前記仮封止部材が、金属材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材。
A lid substrate;
A frame-like temporary sealing member formed on at least one surface of the lid substrate;
The said temporary sealing member is comprised from the metal material, The lid | cover material for temporary sealing characterized by the above-mentioned.
蓋基板と、
前記蓋基板のいずれか一方の面に形成された枠状の仮封止部材とを有し、
前記仮封止部材が、粘着材料から構成されていることを特徴とする仮封止用蓋材。
A lid substrate;
A frame-like temporary sealing member formed on any one surface of the lid substrate;
The temporary sealing member is made of a pressure-sensitive adhesive material.
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