JP2015031955A - 有効光強度分布を最適化する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】a)z方向に、第一の強度分布2aの光ビーム1を放出する光源を提供するステップと、b)x−y平面内に配置され、標的面内で使用される第二の強度分布を生成するビーム成形光学ユニット3とビーム合焦光学ユニット4を提供するステップであって、標的面がビーム合焦光学ユニットによって決定される焦点面5に関して角度アルファだけ傾斜されているようなステップと、c)使用される第二の強度分布の第一の地点P1における第一の強度と第二の地点P2における第二の強度を測定するステップであって、地点P1とP2は後焦点面5の異なる側に配置されているようなステップと、d)ビーム成形光学ユニットをy軸に沿って移動させて、2つの強度の差が所定の限度内となるようにするステップ、により有効光強度分布を最適化する
【選択図】図1
Description
I(x,y,z)∝|u(x,y,z)|2 (4)
と座標点P1=(0,y1,f−dz)とP2=(0,y2,f+dz)に関して、相対的強度差|I1−I2|を計算し、最適化プロセスに導入することができる。
2a 第一の強度分布
2b 第二の強度分布
3 ビーム成形光学ユニット
4 ビーム合焦光学ユニット
5 後焦点面
6 照明面
Claims (4)
- 有効光強度分布を最適化する方法において、
a)光軸を定義するz方向に、第一の強度分布(2a)の光ビーム(1)を放出する光源を提供するステップと、
b)前記z方向に実質的に垂直に、x方向とy方向によって画定されるx−y平面内に配置され、標的面(6)内で使用される第二の強度分布(2b)を生成するビーム成形光学ユニット(3)とビーム合焦光学ユニット(4)を提供するステップであって、前記標的面が前記ビーム合焦光学ユニットによって決定される焦点面(5)に関して角度アルファだけ傾斜されているようなステップと、
c)使用される前記第二の強度分布の第一の地点P1における第一の強度I1と第二の地点P2における第二の強度I2を測定するステップであって、前記地点P1とP2は前記後焦点面(5)の異なる側に配置されているようなステップと、
d)前記ビーム成形光学ユニットを前記y軸に沿って移動させて、2つの前記強度I1とI2の差が所定の限度内となるようにするステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ビーム成形光学ユニットが回折又は屈折光学ユニットとして実施されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 測定するステップc)がモデル関数によって行われることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記第一の強度分布がガウシアン分布として実施され、使用される前記第二の強度分布がトップハット分布として実施されることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
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