JP2015030122A - Flexographic printing plate and method for plate-making the same, laser engraving type flexographic printing plate rinse liquid, and laser engraving type flexographic printing plate plate-making kit - Google Patents

Flexographic printing plate and method for plate-making the same, laser engraving type flexographic printing plate rinse liquid, and laser engraving type flexographic printing plate plate-making kit Download PDF

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JP2015030122A JP2013159252A JP2013159252A JP2015030122A JP 2015030122 A JP2015030122 A JP 2015030122A JP 2013159252 A JP2013159252 A JP 2013159252A JP 2013159252 A JP2013159252 A JP 2013159252A JP 2015030122 A JP2015030122 A JP 2015030122A
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浩二 園川
Koji Sonokawa
浩二 園川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser engraving flexographic printing plate and a method for plate-making the same having an excellent rinsing property for engrave-residue generated by the laser engraving and having an excellent UV ink printing durability, and to provide a laser engraving flexographic printing plate rinse liquid as well as a laser engraving flexographic printing plate plate-making kit.SOLUTION: The method for plate-making flexographic printing plate is characterized in comprising: a step of preparing a laser engraving flexographic printing plate original plate having a crosslinked relief-formation layer; a step of imagewise-laser engraving the printing plate original plate; and a step of rinsing the engraved surface using an aqueous rinse liquid containing (component 1) organic solvent having a particular structure, (component 2) ampholytic surfactant and/or anionic surfactant, and (component 3) water.

Description

本発明は、フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットに関する。   The present invention relates to a flexographic printing plate and a plate making method thereof, a rinse liquid for a laser engraving type flexographic printing plate, and a laser engraving type flexographic printing plate making kit.

レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。この方式では、フレキソ印刷版原版に直接レーザーを照射し、光熱変換により熱分解及び揮発を生じさせ、凹部を形成する。このような直彫りCTP方式では、従来の製版工程、すなわち、ネガフィルム又はレリーフ形成層上に備えられたブラックレイヤーをレーザーで画像様にアブレーションして作製したマスクを介して紫外線照射し画像部を硬化させる「露光工程」、及び非画像部となる未露光部を除去する「現像工程」、その後の「乾燥工程」「後露光工程」などが不要となるので、製版工程を大幅に簡略化できるメリットは大きい。
従来のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版としては、例えば、特許文献1〜8に記載のものが知られている。
Many so-called “direct engraving CTP methods” have been proposed in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate. In this method, the flexographic printing plate precursor is directly irradiated with a laser to cause thermal decomposition and volatilization by photothermal conversion, thereby forming recesses. In such a direct engraving CTP method, the image portion is irradiated with ultraviolet rays through a mask made by imagewise ablation of a black layer provided on a negative film or a relief forming layer in a conventional plate making process, that is, an image portion. Since the “exposure process” for curing, the “development process” for removing unexposed areas that become non-image areas, and the subsequent “drying process” and “post-exposure process” are unnecessary, the plate making process can be greatly simplified. The benefits are great.
As conventional flexographic printing plate precursors for laser engraving, for example, those described in Patent Documents 1 to 8 are known.

特許文献1〜4には、レリーフ層バインダーとして疎水性のエラストマー(ゴム)を用いたフレキソ印刷版原版が開示されており、特許文献5には親水性のポリビニルアルコール誘導体を用いたフレキソ印刷版原版が開示されている。
特許文献6には、疎水性エラストマーを用いた版材のリンス性を向上させる技術として、レリーフ形成層に多孔質無機微粒子を含有させ、上記粒子に液状の彫刻カスを吸着させることにより除去性を向上させる技術が開示されている。
特許文献7には、レリーフ形成層に加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を有する化合物を含有させることにより、特にアルカリ性リンス液での彫刻カスのリンス性を向上させる技術が開示されている。
特許文献8には、レーザー彫刻可能な感光性樹脂組成物中に、有機ケイ素化合物を含有させることで彫刻後のカス残率が減り(カスが付きにくくなり)、有機溶剤を含浸させた布で彫刻カスを拭き取りやすくなるという技術が開示されている。
Patent Documents 1 to 4 disclose a flexographic printing plate precursor using a hydrophobic elastomer (rubber) as a relief layer binder, and Patent Document 5 discloses a flexographic printing plate precursor using a hydrophilic polyvinyl alcohol derivative. Is disclosed.
In Patent Document 6, as a technique for improving the rinsing property of a plate material using a hydrophobic elastomer, the relief forming layer contains porous inorganic fine particles, and the liquid engraving residue is adsorbed on the particles to improve the removability. Techniques for improving are disclosed.
Patent Document 7 discloses a technique for improving the rinsing property of engraving residue particularly in an alkaline rinsing liquid by containing a compound having a hydrolyzable silyl group and / or silanol group in a relief forming layer.
In Patent Document 8, a photosensitive resin composition capable of laser engraving contains an organosilicon compound to reduce the residue rate after engraving (because it is difficult to attach residue), and a cloth impregnated with an organic solvent. A technique that facilitates wiping off engraving residue is disclosed.

米国特許第5798202号明細書US Pat. No. 5,798,202 特開2002−3665号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3665 特開2004−262135号公報JP 2004-262135 A 特開2001−121833号公報JP 2001-121833 A 特開2006−2061号公報JP 2006-2061 A 特開2004−174758号公報JP 2004-174758 A 特開2011−148299号公報JP2011-148299A 国際公開第2005/070691号パンフレットInternational Publication No. 2005/070691 Pamphlet

本発明が解決しようとする課題は、レーザー彫刻により発生した彫刻カスのリンス性及びUVインキ耐刷性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット、を提供することである。   Problems to be solved by the present invention include a laser engraving-type flexographic printing plate excellent in rinsing property of engraving residue generated by laser engraving and UV ink printing durability, a plate-making method thereof, a rinsing liquid for laser engraving-type flexographic printing plate, and It is to provide a laser engraving type flexographic printing plate making kit.

本発明の上記課題は、以下の解決手段<1>、<8>、<9>及び<13>により解決された。好ましい実施形態である<2>〜<7>、及び、<10>〜<12>と共に列記する。
<1>架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、上記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、彫刻された表面を、(成分1)下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、並びに、(成分3)水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、上記架橋したレリーフ形成層が、(成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋した層であり、成分1の含有量が水性リンス液の全質量に対して0.5〜45質量%であることを特徴とする、フレキソ印刷版の製版方法、
The above-described problems of the present invention have been solved by the following means <1>, <8>, <9> and <13>. They are listed together with <2> to <7> and <10> to <12>, which are preferred embodiments.
<1> A step of preparing a flexographic printing plate precursor for laser engraving having a crosslinked relief-forming layer, a step of laser engraving the printing plate precursor imagewise, and an engraved surface (component 1) represented by the following formula (I An organic solvent selected from the group consisting of an alcohol represented by formula (II), an ethylene glycol ether represented by formula (II) below, and a ketone represented by formula (III) below (component 2) The step of rinsing with an aqueous rinsing solution containing an amphoteric surfactant and / or an anionic surfactant and (component 3) water, wherein the crosslinked relief-forming layer comprises (component A A layer obtained by crosslinking a resin composition for laser engraving containing a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator by heat and / or light; Content is Characterized in that it is a 0.5 to 45% by weight, based on the total weight of sexual rinsing liquid, a method for making a flexographic printing plate,

Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4 to 5, and in formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and when both X and Y are hydrogen atoms, R 4 Represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and one of X and Y is a hydrogen atom, When the other is a methyl group, R 4 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, and has the formula (III during) represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in R 6 and R 7 are independently, R 6 and R The total carbon number of 7 is 4-6. ]

<2>成分1が、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、2−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、<1>に記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<3>成分1が、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、<2>に記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<4>成分1の20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlである、<1>〜<3>のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<5>成分2が、下記式(IV)又は下記式(V)で表される両性界面活性剤である、<1>〜<4>のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<2> Component 1 is 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 4-methyl-2 -A method for making a flexographic printing plate according to <1>, which is a compound selected from the group consisting of pentanol, ethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, diethyl ketone, and 2-pentanone,
<3> Component 1 is propylene glycol mono n-butyl ether or diethyl ketone, The plate making method of the flexographic printing plate as described in <2>,
<4> The method for making a flexographic printing plate according to any one of <1> to <3>, wherein the solubility of component 1 in water at 20 ° C. is 1.5 to 10.0 g / 100 ml,
<5> The method for making a flexographic printing plate according to any one of <1> to <4>, wherein Component 2 is an amphoteric surfactant represented by the following formula (IV) or the following formula (V): ,

Figure 2015030122
〔式(IV)中、R8〜R10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、式(V)中、R11〜R13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Lは二価の連結基を表し、AはCOO又はSO3を表す。〕
Figure 2015030122
[In Formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a monovalent organic group, and in Formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a monovalent organic group; Represents a divalent linking group, and A represents COO or SO 3 . ]

<6>成分2が、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩である、<1>〜<4>のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<7>成分Aが、スチレン系熱可塑性エラストマーである、<1>〜<6>のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法、
<8><1>〜<7>のいずれか一つに記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版、
<9>(成分1)下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、並びに、(成分3)水、を含有し、成分1の含有量が水性リンス液の全質量に対して0.5〜45質量%であることを特徴とする、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
<6> The method for making a flexographic printing plate according to any one of <1> to <4>, wherein Component 2 is benzenesulfonate, naphthalenesulfonate, or sulfate ester salt,
<7> Component A is a styrenic thermoplastic elastomer, The plate making method of the flexographic printing plate as described in any one of <1>-<6>,
<8> A flexographic printing plate obtained by the plate making method of a flexographic printing plate according to any one of <1> to <7>,
<9> (Component 1) A group consisting of alcohols represented by the following formula (I), ethylene glycol ethers represented by the following formula (II), and ketones represented by the following formula (III) An organic solvent selected from (Component 2) an amphoteric surfactant and / or an anionic surfactant, and (Component 3) water, and the content of Component 1 is the total mass of the aqueous rinse liquid. Rinsing liquid for laser engraving-type flexographic printing plate, characterized by being 0.5 to 45% by mass based on

Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4 to 5, and in formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and when both X and Y are hydrogen atoms, R 4 Represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and one of X and Y is a hydrogen atom, When the other is a methyl group, R 4 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, and has the formula (III during) represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in R 6 and R 7 are independently, R 6 and R The total carbon number of 7 is 4-6. ]

<10>成分1が、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、2−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、<9>に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
<11>成分1が、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、<10>に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
<12>成分1の20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlである、<9>〜<11>のいずれか一つに記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、
<13>(成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、並びに、<9>〜<12>のいずれか一つに記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液を含有することを特徴とする、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット。
<10> Component 1 is 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 4-methyl-2 -Laser engraving-type flexographic printing plate according to <9>, which is a compound selected from the group consisting of pentanol, ethylene glycol mono t-butyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethyl ketone, and 2-pentanone Rinse solution,
<11> Component 1 is propylene glycol mono n-butyl ether or diethyl ketone, The rinse solution for laser engraving-type flexographic printing plates according to <10>,
The rinsing liquid for laser engraving-type flexographic printing plate according to any one of <9> to <11>, wherein the solubility of <12> component 1 in water at 20 ° C. is 1.5 to 10.0 g / 100 ml. ,
<13> A relief in which a resin composition for laser engraving containing (Component A) a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator is crosslinked by heat and / or light. A laser engraving mold comprising: a flexographic printing plate precursor for laser engraving having a forming layer; and a rinse liquid for a laser engraving flexographic printing plate according to any one of <9> to <12> Flexographic printing plate making kit.

本発明によれば、レーザー彫刻により発生した彫刻カスのリンス性及びUVインキ耐刷性に優れるレーザー彫刻型フレキソ印刷版及びその製版方法、レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液、並びに、レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットを提供することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a laser engraving-type flexographic printing plate excellent in rinsing property of engraving residue generated by laser engraving and UV ink printing durability, a plate-making method thereof, a rinse solution for a laser engraving-type flexographic printing plate, and a laser engraving A flexographic printing plate making kit can be provided.

(フレキソ印刷版の製版方法)
本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法は、架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、上記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、彫刻された表面を、(成分1)下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、並びに、(成分3)水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、上記架橋したレリーフ形成層が、(成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋した層であり、成分1の含有量が水性リンス液の全質量に対して0.5〜45質量%であることを特徴とする。
(Method for making flexographic printing plates)
The plate making method of the flexographic printing plate in the present invention includes a step of preparing a flexographic printing plate precursor for laser engraving having a crosslinked relief forming layer, a step of laser engraving the printing plate precursor in an image-like manner, an engraved surface, (Component 1) selected from the group consisting of alcohols represented by the following formula (I), ethylene glycol ethers represented by the following formula (II), and ketones represented by the following formula (III) A step of rinsing with an aqueous rinsing solution containing an organic solvent, (Component 2) an amphoteric surfactant, and / or an anionic surfactant, and (Component 3) water. A resin composition for laser engraving, wherein the relief forming layer contains (Component A) a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator, is heated and / or light-induced. A crosslinked layer, and the content of component 1 is 0.5 to 45% by weight, based on the total weight of the aqueous rinse solution.

Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4 to 5, and in formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and when both X and Y are hydrogen atoms, R 4 Represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and one of X and Y is a hydrogen atom, When the other is a methyl group, R 4 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, and has the formula (III during) represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in R 6 and R 7 are independently, R 6 and R The total carbon number of 7 is 4-6. ]

なお、本明細書では、フレキソ印刷版原版の説明に関し、上記成分A、成分B及び成分Cを含有し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層といい、上記レリーフ形成層を架橋後にレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層という。また、UVインキとは、紫外線硬化性のインキである。   In this specification, regarding the description of the flexographic printing plate precursor, the component A, the component B and the component C are contained, and the surface is a flat layer as an image forming layer to be subjected to laser engraving, and is uncrosslinked. The crosslinkable layer is referred to as a relief forming layer, and a layer in which the relief forming layer is subjected to laser engraving after crosslinking to form irregularities on the surface is referred to as a relief layer. Further, the UV ink is an ultraviolet curable ink.

また、本発明において、数値範囲を表す「下限〜上限」の記載は、「下限以上、上限以下」を表し、「上限〜下限」の記載は、「上限以下、下限以上」を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、本発明において、「(成分A)熱可塑性エラストマー」等を単に「成分A」等ともいう。
以下、レーザー彫刻型フレキソ印刷版の製版方法に関する必須又は任意の構成要件について説明する。
In the present invention, the description of “lower limit to upper limit” representing a numerical range represents “more than the lower limit and less than or equal to the upper limit”, and the description of “upper limit to lower limit” represents “the upper limit or less and less than the lower limit”. That is, it represents a numerical range including an upper limit and a lower limit. In the present invention, “(component A) thermoplastic elastomer” or the like is also simply referred to as “component A” or the like.
Hereinafter, the essential or optional constituent requirements regarding the plate making method of the laser engraving type flexographic printing plate will be described.

<レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程>
本発明に用いられるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版(以下、単に「フレキソ印刷版原版」ともいう。)は、後述するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋したレリーフ形成層を有する。
レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することにより「フレキソ印刷版」が作製される。
また、本発明において「レリーフ層」とは、レーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の上記レリーフ形成層をいう。
<Process for preparing a flexographic printing plate precursor for laser engraving>
The flexographic printing plate precursor for laser engraving used in the present invention (hereinafter also simply referred to as “flexographic printing plate precursor”) comprises a relief-forming layer obtained by crosslinking a resin composition for laser engraving described later with heat and / or light. Have.
A “flexographic printing plate” is produced by laser engraving a printing plate precursor having a relief forming layer.
In the present invention, the “relief layer” refers to a layer engraved by laser, that is, the relief forming layer after laser engraving.

本発明に用いられるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、上記のレリーフ形成層と、必要により、支持体、支持体とレリーフ形成層との間の接着層、レリーフ形成層上にカバーフィルムやスリップコート層を有していてもよい。   The flexographic printing plate precursor for laser engraving used in the present invention comprises the above relief forming layer and, if necessary, a support, an adhesive layer between the support and the relief forming layer, a cover film or slip coat on the relief forming layer. It may have a layer.

〔レリーフ形成層〕
レリーフ形成層は、後述のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋される前の状態の層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。
[Relief forming layer]
The relief forming layer is a layer in a state before cross-linking made of a resin composition for laser engraving described later, and may be dried if necessary.

レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版によるフレキソ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してフレキソ印刷版を作製する態様である。レリーフ形成層は架橋されていることにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するフレキソ印刷版を得ることができる。   As a production mode of a flexographic printing plate using a flexographic printing plate precursor for laser engraving, a relief layer is formed by laser engraving a relief forming layer to produce a flexographic printing plate. Since the relief forming layer is crosslinked, wear of the relief layer during printing can be prevented, and a flexographic printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.

レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の後述の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。
以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。
The relief forming layer can be formed by molding a resin composition for laser engraving having the following components for the relief forming layer into a sheet shape or a sleeve shape. The relief forming layer is usually provided on a support which will be described later. However, the relief forming layer can be directly formed on the surface of a member such as a cylinder provided in an apparatus for plate making and printing, or can be arranged and fixed there. It does not necessarily require a support.
Hereinafter, the case where the relief forming layer is formed into a sheet shape will be mainly described as an example.

〔支持体〕
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴム、二トリル−ブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、ブチルゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
[Support]
The material used for the support of the flexographic printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited, but materials having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel, aluminum, polyester (for example, PET (polyethylene terephthalate)) , PEN (polyethylene naphthalate), PBT (polybutylene terephthalate), PAN (polyacrylonitrile)), polyvinyl chloride and other plastic resins, styrene-butadiene rubber, nitrile-butadiene rubber, ethylene propylene rubber, butyl rubber and other synthetic rubbers And plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins). As the support, a PET film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.

〔接着層〕
レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、直接積層してもよいが、両者の間に層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
接着層に使用しうる材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。
(Adhesive layer)
When the relief forming layer is formed on the support, it may be directly laminated, but an adhesive layer may be provided between them for the purpose of enhancing the adhesive strength between the layers.
Examples of materials (adhesives) that can be used for the adhesive layer include: Those described in the edition of Skeist, “Handbook of Adhesives”, the second edition (1977) can be used.

〔カバーフィルム、スリップコート層〕
レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層上にカバーフィルムを設けてもよい。カバーフィルムの厚さは、25〜500μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。カバーフィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またカバーフィルムの表面はマット化されていてもよい。カバーフィルムは、彫刻前又は印刷前に剥離除去される。
カバーフィルムが剥離困難な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。
[Cover film, slip coat layer]
A cover film may be provided on the relief forming layer for the purpose of preventing scratches and dents on the surface of the relief forming layer. The thickness of the cover film is preferably 25 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. As the cover film, for example, a polyester film such as PET, or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the cover film may be matted. The cover film is peeled off before engraving or printing.
If the cover film is difficult to peel off, or conversely difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers. The material used for the slip coat layer is a resin that can be dissolved or dispersed in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that

〔レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法〕
本発明におけるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、後述する本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を層として形成する層形成工程、並びに、樹脂組成物を架橋しレリーフ形成層とする架橋工程、を含む製造方法であることが好ましい。
[Method of manufacturing flexographic printing plate precursor for laser engraving]
The method for producing a flexographic printing plate precursor for laser engraving in the present invention includes a layer forming step of forming a resin composition for laser engraving in the present invention as a layer described later, and a crosslinking step of crosslinking the resin composition to form a relief forming layer. It is preferable that it is a manufacturing method containing these.

その後、必要に応じてレリーフ形成層の上にカバーフィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどでカバーフィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層にカバーフィルムを密着させることによって行うことができる。
カバーフィルムを用いる場合には、まずカバーフィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布したカバーフィルムを用いることで対応できる。
Thereafter, a cover film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the cover film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the cover film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When a cover film is used, a method of first laminating a relief forming layer on the cover film and then laminating the support may be employed.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When the slip coat layer is provided, it can be dealt with by using a cover film coated with the slip coat layer.

〔層形成工程〕
本発明のレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版の製造方法は、後述のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。
レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶媒を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶媒を除去する方法が好ましく例示できる。
[Layer formation process]
The method for producing a laser engraving-type flexographic printing plate precursor according to the present invention preferably includes a layer forming step of forming a relief forming layer comprising a resin composition for laser engraving described later.
As a method for forming the relief forming layer, the resin composition for laser engraving of the present invention is prepared, and if necessary, after removing the solvent from the resin composition for laser engraving, a method of melt extrusion on a support, A method of preparing the resin composition for laser engraving of the present invention, casting the resin composition for laser engraving of the present invention on a support and drying it in an oven to remove the solvent is preferably exemplified.

レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版におけるレリーフ形成層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05〜10mmが好ましく、0.1〜5mmがより好ましく、0.3〜2mmが更に好ましい。   The thickness of the relief forming layer in the flexographic printing plate precursor for laser engraving is preferably 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 5 mm, from the viewpoint of satisfying various printability such as abrasion resistance and ink transferability. Is more preferable, and 0.3-2 mm is still more preferable.

〔架橋工程〕
本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法は、上記レリーフ形成層を熱及び/又は光により架橋したレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましく、上記レリーフ形成層を熱により架橋したレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることがより好ましい。
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる(熱架橋工程)。熱により架橋を行うための加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
レリーフ形成層を熱架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
[Crosslinking process]
The method for producing a flexographic printing plate precursor for laser engraving of the present invention is preferably a production method including a crosslinking step for obtaining a flexographic printing plate precursor having a relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer with heat and / or light. More preferably, the production method includes a crosslinking step of obtaining a flexographic printing plate precursor having a relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer with heat.
The relief forming layer can be crosslinked by heating the flexographic printing plate precursor for laser engraving (thermal crosslinking step). Examples of the heating means for crosslinking by heat include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting a heated roll for a predetermined time.
By thermally crosslinking the relief forming layer, there is an advantage that, firstly, the relief formed after laser engraving becomes sharp, and secondly, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed.

また、光重合開始剤等を使用し、重合性化合物を重合し架橋を形成するため、光による架橋を更に行ってもよい。
レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる光(「活性光線」ともいう。)をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。
光は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。光としては可視光、紫外光、及び電子線などが挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層にポリ塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。
Moreover, in order to form a bridge | crosslinking by polymerizing a polymeric compound using a photoinitiator etc., you may further perform bridge | crosslinking by light.
When the relief-forming layer contains a photopolymerization initiator, the relief-forming layer is crosslinked by irradiating the relief-forming layer with light that triggers the photopolymerization initiator (also referred to as “active light”). Can do.
In general, light is applied to the entire surface of the relief forming layer. Examples of light include visible light, ultraviolet light, and electron beam, but ultraviolet light is the most common. If the substrate side for immobilizing the relief forming layer, such as the support of the relief forming layer, is the back side, the surface may only be irradiated with light, but the support should be a transparent film that transmits actinic rays. For example, it is preferable to irradiate light from the back side. When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. Since polymerization inhibition may occur in the presence of oxygen, irradiation with actinic rays may be performed after the relief forming layer is covered with a polyvinyl chloride sheet and evacuated.

<フレキソ印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程>
本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法は、上記レリーフ形成層を有するフレキソ印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程(以下、単に「彫刻工程」ともいう。)を含む。
彫刻工程は、上記レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度でレリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
<Process of laser engraving flexographic printing plate precursor imagewise>
The plate making method of the flexographic printing plate in the present invention includes a step of laser-engraving the flexographic printing plate precursor having the relief forming layer imagewise (hereinafter also simply referred to as “engraving step”).
The engraving step is a step of forming a relief layer by laser engraving the relief forming layer. Specifically, it is preferable to form the relief layer by engraving the relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to a desired image. Further, a step of controlling the laser head with a computer based on digital data of a desired image and performing scanning irradiation on the relief forming layer is preferable.
In this engraving process, an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or a YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation portion, and molecules in the relief forming layer are selectively cut by molecular cutting or ionization, that is, Sculpture is made. The advantage of laser engraving is that since the engraving depth can be set arbitrarily, the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a portion of a groove that prints fine punched characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained.

彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザー(FC−LD)が好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率かつ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
As the infrared laser used in the engraving process, a carbon dioxide laser (CO 2 laser) or a semiconductor laser is preferable from the viewpoints of productivity and cost. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber (FC-LD) is preferably used. In general, a semiconductor laser can be downsized with high efficiency and low cost of laser oscillation compared to a CO 2 laser. Moreover, since it is small, it is easy to form an array. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber.
The semiconductor laser preferably has a wavelength of 700 to 1,300 nm, more preferably 800 to 1,200 nm, still more preferably 860 to 1,200 nm, and particularly preferably 900 to 1,100 nm.

ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、実用レーザー技術 電子通信学会等に記載されている。
また、本発明におけるフレキソ印刷版の製版方法に好適に使用しうるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るフレキソ印刷版の製版に使用することができる。
Since a semiconductor laser with a fiber can output a laser beam efficiently by attaching an optical fiber, it is effective for the engraving process in the present invention. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber. For example, the beam profile can have a top hat shape, and energy can be stably given to the plate surface. Details of the semiconductor laser are described in “Laser Handbook 2nd Edition” edited by the Laser Society, practical laser technology, and the Institute of Electronics and Communication Engineers of Japan.
In addition, a plate making apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser that can be suitably used for the plate making method of a flexographic printing plate according to the present invention is described in detail in JP-A-2009-172658 and JP-A-2009-214334. Can be used for making a flexographic printing plate according to the present invention.

<彫刻された表面をリンスする工程>
本発明では、上記のようにレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を画像様にレーザー彫刻する工程の後、彫刻された表面をリンスする工程(以下、単に「リンス工程」ともいう。)が必須である。
彫刻からリンス工程までの時間間隔(レリーフ形成層のある一点が彫刻された時点から、同一箇所がリンス液に接触するまでの時間)は特に制限されないが、短い方が好ましい。これは、彫刻後リンスしないまま時間が経つと、版上に残存した彫刻カスが徐々に凝集するためか、リンス性が低下する傾向があるためである。彫刻した日と同日にリンスすることが好ましく、彫刻後2時間以内にリンスすることがより好ましく、1時間以内にリンスすることが更に好ましい。
<Rinsing the engraved surface>
In the present invention, after the step of laser-engraving the flexographic printing plate precursor for laser engraving as described above, the step of rinsing the engraved surface (hereinafter also simply referred to as “rinsing step”) is essential. .
The time interval from the engraving to the rinsing step (the time from when a certain point of the relief forming layer is engraved until the same portion comes into contact with the rinsing liquid) is not particularly limited, but is preferably shorter. This is because the engraving residue remaining on the plate gradually aggregates or the rinsing property tends to be lowered when time passes without rinsing after engraving. It is preferable to rinse on the same day as the engraving, more preferably within 2 hours after engraving, and even more preferably within 1 hour.

〔レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液〕
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液(以降、「本発明のリンス液」と称する。)は、(成分1)特定構造の有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、及び、(成分3)水、を含有する水性リンス液であり、成分1が、成分3の水に相溶又は成分2によって可溶化されている単相の(分離していない)水溶液又は水分散液である。
成分1は、彫刻カスの除去作用を担う主剤であるが、リンス液として成分1を単独で使用した場合は溶剤臭が極めて強く製版現場の環境が悪くなるため、使用量が削減可能でかつ液表面での溶剤露出を低減できるように、本発明のリンス液では(成分3)水と混合、又は(成分2)界面活性剤によって可溶化させて用いる。
このとき、水と極めて相溶性が高い有機溶剤を用いると、水中で安定に存在し得るので彫刻カスにリンス液を接触させても有機溶剤が彫刻カスに浸透していきにくくリンス性が不十分となる。そのため、成分1としては、本発明の構造が必要となり、更には20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlであることがより好ましい態様となる。これによって、溶剤臭を大幅に低減でき、かつ彫刻カスに接触した場合にはoil in waterのミセルを破壊させることによって現像主剤である(成分1)有機溶剤が彫刻カス中に浸透しカス除去が可能となる。また、本発明における成分2自体も、彫刻カス中へのリンス液の浸透促進、及びカス除去促進の機能を有していると考えている。
以下、本発明のリンス液の構成成分について説明する。
[Rinsing solution for laser engraving flexographic printing plates]
The rinsing liquid for laser engraving-type flexographic printing plate in the present invention (hereinafter referred to as “the rinsing liquid of the present invention”) includes (Component 1) an organic solvent having a specific structure, (Component 2) an amphoteric surfactant, and / or , An anionic surfactant, and an aqueous rinse liquid containing (Component 3) water, and the component 1 is dissolved in the water of the component 3 or is dissolved in the single phase (solubilized by the component 2). Not aqueous solution or aqueous dispersion.
Component 1 is the main agent responsible for the removal of engraving residue. However, when component 1 is used alone as a rinsing liquid, the solvent odor is very strong and the environment at the plate making site is deteriorated. In order to reduce the exposure of the solvent on the surface, the rinsing liquid of the present invention is used by being mixed with (Component 3) water or solubilized with (Component 2) a surfactant.
At this time, if an organic solvent that is extremely compatible with water is used, it can exist stably in water, so even if the rinsing liquid is brought into contact with the engraving residue, the organic solvent does not easily penetrate into the engraving residue and the rinsing property is insufficient. It becomes. Therefore, as the component 1, the structure of the present invention is required, and it is more preferable that the solubility in water at 20 ° C. is 1.5 to 10.0 g / 100 ml. As a result, the solvent odor can be greatly reduced, and when it comes into contact with the engraving residue, the oil-in-water micelles are destroyed, so that the organic solvent that is the developing agent penetrates into the engraving residue and removes the residue. It becomes possible. In addition, it is considered that the component 2 itself in the present invention also has a function of promoting the penetration of the rinse liquid into the engraving residue and promoting the removal of residue.
Hereinafter, the components of the rinse liquid of the present invention will be described.

(成分1)特定構造の有機溶剤
本発明のリンス液は、成分1として、下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤を含有する。
(Component 1) Organic solvent having a specific structure The rinsing liquid of the present invention contains, as Component 1, an alcohol represented by the following formula (I), an ethylene glycol ether represented by the following formula (II), and the following formula: It contains an organic solvent selected from the group consisting of ketones represented by (III).

Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4 to 5, and in formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and when both X and Y are hydrogen atoms, R 4 Represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and one of X and Y is a hydrogen atom, When the other is a methyl group, R 4 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms, and has the formula (III during) represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in R 6 and R 7 are independently, R 6 and R The total carbon number of 7 is 4-6. ]

式(I)で表されるアルコール類としては、2,2−ジメチル−1−プロパノール(ネオペンチルアルコール)、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノール、3、3−ジメチル−2−ブタノール、2−ペンタノール、2−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−3−ペンタノール、3−メチル−3−ペンタノール、3−ヘキサノールが挙げられる。
このうち、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコールがより好ましい。
Examples of the alcohol represented by the formula (I) include 2,2-dimethyl-1-propanol (neopentyl alcohol), 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, and 2-methyl-2- Butanol, 3-methyl-2-butanol, 2,3-dimethyl-2-butanol, 3,3-dimethyl-2-butanol, 2-pentanol, 2-methyl-2-pentanol, 3-methyl-2- Examples include pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-3-pentanol, 3-methyl-3-pentanol, and 3-hexanol. .
Among these, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, and neopentyl alcohol are more preferable.

式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノn−プロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノsec−ブチルエーテル、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノsec−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノt−ブチルエーテル、のモノエーテル類、エチレングリコールジn−プロピルエーテル、エチレングリコールジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジイソブチルエーテル、エチレングリコールジsec−ブチルエーテル、エチレングリコールジt−ブチルエーテル、プロピレングリコールジn−プロピルエーテル、プロピレングリコールジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールジn−ブチルエーテル、プロピレングリコールジイソブチルエーテル、プロピレングリコールジsec−ブチルエーテル、プロピレングリコールジt−ブチルエーテル、のジエーテル類が挙げられる。
このうち、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノt−ブチルエーテルがより好ましく、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテルが更に好ましい。
Examples of the ethylene glycol ether represented by the formula (II) include ethylene glycol mono n-propyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether, ethylene glycol mono sec-butyl ether, ethylene glycol mono t-butyl ether, propylene Glycol mono n-propyl ether, propylene glycol mono isopropyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, propylene glycol mono isobutyl ether, propylene glycol mono sec-butyl ether, propylene glycol mono t-butyl ether monoethers, ethylene glycol di n- Propyl ether, ethylene glycol diisopropyl ether, ethylene glycol Diisobutyl ether, ethylene glycol di sec-butyl ether, ethylene glycol di t-butyl ether, propylene glycol di n-propyl ether, propylene glycol diisopropyl ether, propylene glycol di n-butyl ether, propylene glycol diisobutyl ether, propylene glycol di sec-butyl ether, propylene And diethers of glycol di-t-butyl ether.
Among these, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol mono t-butyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, and propylene glycol mono t-butyl ether are more preferable, and ethylene glycol mono t-butyl ether and propylene glycol mono n-butyl ether are still more preferable.

式(III)で表されるケトン類としては、3−メチル−2−ブタノン、2−ペンタノン、ジエチルケトン、2−メチル−3−ペンタノン、2,4−ジメチル−3−ペンタノン、3−ヘキサノン、2−メチル−3−ヘキサノン、4−ヘプタノンが挙げられる。
このうち、2−ペンタノン、ジエチルケトンがより好ましく、ジエチルケトンが更に好ましい。
Examples of the ketones represented by the formula (III) include 3-methyl-2-butanone, 2-pentanone, diethyl ketone, 2-methyl-3-pentanone, 2,4-dimethyl-3-pentanone, 3-hexanone, Examples include 2-methyl-3-hexanone and 4-heptanone.
Among these, 2-pentanone and diethyl ketone are more preferable, and diethyl ketone is still more preferable.

本発明のリンス液に用いられる成分1は、20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlの範囲にあることが好ましい。これら有機溶剤の水への溶解度は一般に温度により変動するが、リンス液の液温が外部環境などで変化する可能性のある5〜40℃の温度領域では、劇的に変動するものではなく、かつこの温度領域中の温度であれば効果はほぼ同等であったため、本出願では一般的に用いられる20℃での溶解度で好ましい範囲を規定した。
以下、成分1として好ましい有機溶剤を例示する。有機溶剤名の後のかっこ書きは、20℃における水への溶解度を表している。
例えば、2,2−ジメチル−1−プロパノール(3.5g/100ml)、2−メチル−1−ブタノール(3.0g/100ml)、3−メチル−1−ブタノール(2.7g/100ml)、3−メチル−2−ブタノール(5.6g/100ml)、2−ペンタノール(4.5g/100ml)、3−ペンタノール(5.2g/100ml)、4−メチル−2−ペンタノール(2.0g/100ml)、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル(4.4g/100ml)、2−ペンタノン(4.0g/100ml)、ジエチルケトン(1.7g/100ml)が挙げられる。
本発明のリンス液に用いられる成分1と同様の構造を有しつつも効果が認められなかったエチレングリコールモノn−ブチルエーテル(水に混和)やエチレングリコールモノn−ヘキシルエーテル(1.0g/100ml)はこの物性的特徴が影響しているものと推察している。ただし、本発明の効果が認められたエチレングリコールモノt−ブチルエーテル(水に混和)や効果が認められない4−メチル−2−ペンタノン(1.9g/100ml)の例外もあり、この物性的特徴のみが本発明の効果に寄与しているものではない。
Component 1 used in the rinsing solution of the present invention preferably has a water solubility at 20 ° C. in the range of 1.5 to 10.0 g / 100 ml. The solubility of these organic solvents in water generally varies depending on the temperature, but in the temperature range of 5 to 40 ° C. where the liquid temperature of the rinsing liquid may vary depending on the external environment, it does not vary dramatically. In addition, since the effect is almost the same as long as the temperature is within this temperature range, a preferable range is defined by the solubility at 20 ° C. generally used in the present application.
Hereinafter, preferred organic solvents as component 1 are exemplified. The parentheses after the name of the organic solvent represent the solubility in water at 20 ° C.
For example, 2,2-dimethyl-1-propanol (3.5 g / 100 ml), 2-methyl-1-butanol (3.0 g / 100 ml), 3-methyl-1-butanol (2.7 g / 100 ml), 3 -Methyl-2-butanol (5.6 g / 100 ml), 2-pentanol (4.5 g / 100 ml), 3-pentanol (5.2 g / 100 ml), 4-methyl-2-pentanol (2.0 g) / 100 ml), propylene glycol mono n-butyl ether (4.4 g / 100 ml), 2-pentanone (4.0 g / 100 ml), diethyl ketone (1.7 g / 100 ml).
Ethylene glycol mono n-butyl ether (miscible with water) or ethylene glycol mono n-hexyl ether (1.0 g / 100 ml), which has the same structure as component 1 used in the rinsing liquid of the present invention but has not been effective. ) Is presumed to be affected by this physical property. However, there are exceptions of ethylene glycol mono-t-butyl ether (mixed in water) in which the effect of the present invention was recognized and 4-methyl-2-pentanone (1.9 g / 100 ml) in which the effect was not recognized. Only does not contribute to the effect of the present invention.

成分1としては、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、2−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物であることが好ましく、3−ペンタノール、3−メチル−2−ブタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、及び、ジエチルケトンよりなる群から選ばれた化合物であることがより好ましく、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンで有ることが更に好ましい。   Component 1 includes 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 4-methyl-2-pent It is preferably a compound selected from the group consisting of tanol, ethylene glycol mono t-butyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethyl ketone, and 2-pentanone, and 3-pentanol, 3-methyl-2-butanol More preferably a compound selected from the group consisting of ethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, and diethyl ketone, and further being propylene glycol mono-n-butyl ether or diethyl ketone. preferable.

本発明のリンス液に用いられる成分1としては、上記の有機溶剤を1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
本発明における成分1の使用量は、リンス液の全質量に対し、0.5〜45質量%である。0.5質量%未満になると本発明の効果が認められず、45質量%を超えると作業環境における溶剤臭が悪くなり、かつUVインキ耐性も低下する。1〜35質量%であることがより好ましく、3〜25質量%であることが更に好ましい。
また、リンス液中の成分1の(成分3)水に対する含有量が、成分1の20℃における水への溶解度を超えていることが好ましい。本発明のリンス液は、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤を含有することにより、2相に分離することなく成分1をリンス液中に、溶解度を超えて含有されることができる。上記態様であれば、リンス液が彫刻カスに接触した場合に、oil in waterのミセルを破壊させることによって現像主剤である成分1が彫刻カス中に浸透するため、良好なリンス性が得られると推測される。
As component 1 used in the rinse liquid of the present invention, the above organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
The usage-amount of the component 1 in this invention is 0.5-45 mass% with respect to the total mass of a rinse liquid. When the amount is less than 0.5% by mass, the effect of the present invention is not recognized. It is more preferably 1 to 35% by mass, and further preferably 3 to 25% by mass.
Moreover, it is preferable that content with respect to the (component 3) water of the component 1 in a rinse liquid exceeds the solubility to the water of the component 1 in 20 degreeC. The rinse liquid of the present invention contains (Component 2) an amphoteric surfactant and / or an anionic surfactant, so that the component 1 exceeds the solubility in the rinse liquid without being separated into two phases. Can be contained. In the case of the above aspect, when the rinsing liquid comes into contact with the engraving residue, the developing agent component 1 permeates into the engraving residue by destroying the oil in water micelles. Guessed.

(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤
本発明のリンス液は、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、を含有する。これにより、成分1と水とが安定に相溶することが可能となり、かつ彫刻カスの除去性向上、及び除去されたカスのリンス液中での分散安定性が向上する。
(Component 2) Amphoteric surfactant and / or anionic surfactant The rinse liquid of the present invention contains (Component 2) an amphoteric surfactant and / or an anionic surfactant. Thereby, it becomes possible for the component 1 and water to be stably mixed, and the removability improvement of the engraving residue and the dispersion stability of the removed residue in the rinse liquid are improved.

成分2に用いられる両性界面活性剤としては、公知のものを制限なく使用することが出来るが、ベタイン系界面活性剤、アミンオキシド系界面活性剤、ホスフィンオキシド系界面活性剤、又は、アミノ酸系界面活性剤が好ましく、カルボキシベタイン系界面活性剤、スルホベタイン系界面活性剤、ホスホベタイン系界面活性剤、アミンオキシド系界面活性剤、ホスフィンオキシド系界面活性剤がより好ましく、下記式(IV)及び/又は下記式(V)で表される化合物が更に好ましい。   As the amphoteric surfactant used in Component 2, known ones can be used without limitation, but betaine surfactants, amine oxide surfactants, phosphine oxide surfactants, or amino acid surfactants Activators are preferred, carboxybetaine surfactants, sulfobetaine surfactants, phosphobetaine surfactants, amine oxide surfactants, and phosphine oxide surfactants, more preferred are the following formulas (IV) and / or Or the compound represented by following formula (V) is still more preferable.

Figure 2015030122
〔式(IV)中、R8〜R10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、式(V)中、R11〜R13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Lは二価の連結基を表し、AはCOO又はSO3を表す。〕、
Figure 2015030122
[In Formula (IV), R 8 to R 10 each independently represents a monovalent organic group, and in Formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a monovalent organic group; Represents a divalent linking group, and A represents COO or SO 3 . ],

式(IV)及び(V)中のR8〜R10、R11〜R13における一価の有機基としては、特に制限はないが、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にエーテル結合を有するアルキル基であることが好ましく、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基であることがより好ましい。
また、上記一価の有機基におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、R8〜R10のうちの2つ、及びR11〜R13のうちの2つがメチル基である、すなわち、式(IV)及び(V)で表される化合物がN,N−ジメチル構造を有することが特に好ましい。
Although there is no restriction | limiting in particular as a monovalent organic group in R < 8 > -R < 10 >, R < 11 > -R < 13 > in Formula (IV) and (V), In an alkyl group, the alkyl group which has a hydroxy group, and an alkyl chain It is preferably an alkyl group having an amide bond, or an alkyl group having an ether bond in the alkyl chain, and is an alkyl group, an alkyl group having a hydroxy group, or an alkyl group having an amide bond in the alkyl chain. Is more preferable.
In addition, the alkyl group in the monovalent organic group may be linear, branched, or have a ring structure.
Two of R 8 to R 10 and two of R 11 to R 13 are methyl groups, that is, the compounds represented by the formulas (IV) and (V) are N, N-dimethyl. It is particularly preferable to have a structure.

上記式(V)におけるLは、二価の連結基であり、特に制限はないが、アルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜3のアルキレン基であることが更に好ましい。
上記式(V)におけるAは、カルボン酸イオンであることがより好ましい。
L in the above formula (V) is a divalent linking group and is not particularly limited, but is preferably an alkylene group or an alkylene group having a hydroxy group, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, or And more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms having a hydroxy group, and further preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms having a hydroxy group.
A in Formula (V) is more preferably a carboxylate ion.

上記式(IV)で表される化合物の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the above formula (IV) include the following.

Figure 2015030122
Figure 2015030122

Figure 2015030122
Figure 2015030122

上記式(V)で表される化合物の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (V) include the following.

Figure 2015030122
Figure 2015030122

Figure 2015030122
Figure 2015030122

Figure 2015030122
Figure 2015030122

Figure 2015030122
Figure 2015030122

成分2に用いられるアニオン性界面活性剤としては、公知のものを制限無く使用することができるが、スルホン酸塩化合物、又は、硫酸エステル塩化合物が好ましく、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩化合物がより好ましく、ベンゼンスルホン酸塩、又は、ナフタレンスルホン酸塩、が更に好ましい。   As the anionic surfactant used for Component 2, a known one can be used without limitation, but a sulfonate compound or a sulfate ester compound is preferable, and a benzenesulfonate, naphthalenesulfonate, Or a sulfate ester compound is more preferable, and a benzenesulfonate or naphthalenesulfonate is still more preferable.

また、上記ベンゼンスルホン酸塩、及び、ナフタレンスルホン酸塩は、ベンゼン環上に置換基を有していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、直鎖、分岐又は環状のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基など)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基などが挙げられる。また、これらの置換基は、上記置換基によって更に置換されていてもよい。好ましくは、アルキル基、アルキルオキシ基、又はアリールオキシ基であり、より好ましくはアルキル基である。   The benzene sulfonate and naphthalene sulfonate may have a substituent on the benzene ring. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear, branched or cyclic alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group), an alkenyl group, an alkynyl group, Aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, And heterocyclic groups. Moreover, these substituents may be further substituted with the above substituents. Preferably, it is an alkyl group, an alkyloxy group, or an aryloxy group, and more preferably an alkyl group.

上記硫酸エステル塩化合物としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル硫酸エステル塩、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩が例示でき、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩、又は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩が好ましく、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩がより好ましい。また、ポリオキシエチレンアリールエーテル硫酸エステル塩のアリール基としてはナフチル基が好ましい。   Examples of the sulfate ester compounds include alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfate esters, polyoxyethylene aryl ether sulfate esters, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate esters, polyoxyethylene polycyclic phenyl ether sulfate esters. Salt, fatty acid monoglyceride sulfate, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene aryl ether sulfate, or polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate A salt is preferable, and a polyoxyethylene aryl ether sulfate salt is more preferable. The aryl group of the polyoxyethylene aryl ether sulfate ester salt is preferably a naphthyl group.

上記硫酸エステル塩化合物は、アルキル基又はアリール基の芳香環上に上記置換基を有していてもよい。また、これらの置換基は、上記置換基により更に置換されていてもよい。上記置換基のうち、アルキル基、アルキルオキシ基、又はアリールオキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。   The sulfate ester compound may have the above substituent on the aromatic ring of the alkyl group or aryl group. Moreover, these substituents may be further substituted with the above substituents. Of the above substituents, an alkyl group, an alkyloxy group, or an aryloxy group is preferable, and an alkyl group is more preferable.

ベンゼンスルホン酸塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。   Specific examples of the benzene sulfonate include the following.

Figure 2015030122
Figure 2015030122

ナフタレンスルホン酸塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。   Specific examples of naphthalene sulfonate include the following.

Figure 2015030122
Figure 2015030122

硫酸エステル塩の具体的な例としては、以下のものが挙げられる。   Specific examples of the sulfate ester salt include the following.

Figure 2015030122
Figure 2015030122

本発明のリンス液に用いられる成分2としては、上記界面活性剤を1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。成分2の使用量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、0.03〜25質量%であることが好ましく0.05〜20であることがより好ましく、0.2〜15質量%であることが更に好ましく、1〜12質量%であることが特に好ましい。   As component 2 used in the rinse liquid of the present invention, the above surfactants may be used alone or in combination of two or more. The amount of component 2 used is not particularly limited, but is preferably 0.03 to 25% by mass, more preferably 0.05 to 20%, based on the total mass of the rinsing liquid. More preferably, it is -15 mass%, and it is especially preferable that it is 1-12 mass%.

成分2の分子量は、100〜3,000が好ましく、150〜2,000がより好ましく、200〜1,500が更に好ましい。   The molecular weight of Component 2 is preferably 100 to 3,000, more preferably 150 to 2,000, and still more preferably 200 to 1,500.

(成分3)水
本発明のリンス液は、必須成分として(成分3)水を含有する。
水としては、水道水、地下水、工業用水、イオン交換水、蒸留水、逆浸透水、活性炭又は一般家庭用浄水器で処理した水等あらゆる水を使用できる。
成分3の含有量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、45〜99質量%であることが好ましく、60〜97質量%であることがより好ましく、70〜95質量%であることが更に好ましい。
(Component 3) Water The rinse liquid of the present invention contains (Component 3) water as an essential component.
As the water, any water such as tap water, ground water, industrial water, ion exchange water, distilled water, reverse osmosis water, activated carbon or water treated with a general household water purifier can be used.
The content of Component 3 is not particularly limited, but is preferably 45 to 99% by mass, more preferably 60 to 97% by mass, and 70 to 95% by mass with respect to the total mass of the rinse liquid. % Is more preferable.

成分1、成分2及び成分3の含有量の合計値は、70〜100質量%であることが好ましく、80〜100質量%であることがより好ましく、90〜100質量%であることが更に好ましい。   The total content of component 1, component 2 and component 3 is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, and still more preferably 90 to 100% by mass. .

≪その他の添加剤≫
本発明のリンス液には、上記成分以外にも本発明の効果を損なわない限りにおいて目的に応じて種々の化合物を添加することができる。例えば、pH調整剤、消泡剤、防腐剤、香料、着色剤等が挙げられる。
≪Other additives≫
As long as the effects of the present invention are not impaired, various compounds can be added to the rinsing liquid of the present invention in accordance with the purpose. For example, a pH adjuster, an antifoaming agent, an antiseptic, a fragrance, a coloring agent, and the like can be given.

≪pH調整剤≫
本発明に用いることができるリンス液のpHは特に限定されないが、6以上であることが好ましく、6.5以上であることがより好ましく、7.0以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13以下であることがより好ましく、12.5以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のpH範囲とするために、pH調整剤として適宜酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用するpH調整剤は特に限定されない。
≪pH adjuster≫
The pH of the rinsing solution that can be used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 6 or more, more preferably 6.5 or more, and still more preferably 7.0 or more. Moreover, it is preferable that the pH of a rinse liquid is 14 or less, It is more preferable that it is 13 or less, It is still more preferable that it is 12.5 or less. Handling is easy in the said range. What is necessary is just to adjust pH using an acid and / or a base suitably as a pH adjuster in order to make a rinse solution into said pH range, and the pH adjuster to be used is not specifically limited.

≪消泡剤≫
本発明のリンス液は、消泡剤を含有してもよい。
消泡剤としては、成分2に該当しない界面活性剤を使用することができる。例えば、一般的なシリコーン系消泡剤、HLB(Hydrophile-Lipophile Balance)値が5以下のノニオン系界面活性剤等の化合物等を使用することができ、シリコーン系の消泡剤が好ましい。シリコーン系の消泡剤であれば、乳化分散型及び可溶化型等のいずれを使用してもよい。
消泡剤として具体的には、例えば、TSA731、TSA739(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)が挙げられる。
消泡剤の含有量は、リンス液全量に対して、0.001〜1.0質量%であることが好ましい。
また、消泡剤の、成分2に対する含有量は、0.1〜30質量%であることが好ましく、0.2〜10質量%であることがより好ましく、0.2〜5質量%であることが更に好ましい。
≪Defoamer≫
The rinse liquid of the present invention may contain an antifoaming agent.
As the antifoaming agent, a surfactant that does not correspond to Component 2 can be used. For example, a general silicone-based antifoaming agent, a compound such as a nonionic surfactant having an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 5 or less can be used, and a silicone-based antifoaming agent is preferable. As long as it is a silicone type antifoaming agent, any of an emulsified dispersion type and a solubilized type may be used.
Specific examples of the antifoaming agent include TSA 731 and TSA 739 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.).
The content of the antifoaming agent is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the total amount of the rinsing liquid.
Moreover, it is preferable that it is 0.1-30 mass%, as for content with respect to the component 2 of an antifoamer, it is more preferable that it is 0.2-10 mass%, and it is 0.2-5 mass%. More preferably.

≪防腐剤≫
本発明のリンス液は、防腐剤を含有してもよい。
防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、第四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。
防腐剤の含有量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、リンス液全量に対して、0.01〜4質量%の範囲が好ましい。
≪Preservatives≫
The rinse liquid of the present invention may contain a preservative.
Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives such as pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used. It is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization.
The content of the preservative is an amount that exerts stability against bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the type of bacteria, molds, yeasts, but 0.01% with respect to the total amount of the rinse solution. A range of ˜4 mass% is preferred.

本発明のリンス液の作製は、リンス工程で使用する液濃度で作製してもよいし、濃縮液として作製しておき、使用時に規定の濃度となるように(成分3)水で希釈してもよい。後者の方が、リンス液の運搬や保管の点で好ましい。   The rinsing liquid of the present invention may be prepared at the liquid concentration used in the rinsing step, or prepared as a concentrated liquid and diluted with water (component 3) so as to have a prescribed concentration during use. Also good. The latter is preferable in terms of transportation and storage of the rinse liquid.

本発明のリンス液を用いて、彫刻されたフレキソ印刷版をリンスする方法としては、手作業でリンス液をレリーフ層表面に適用し馬毛ブラシや不織布などを用いて手で擦る方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機を用いる方法、リンス液を高圧スプレー噴射する方法、リンス液にフレキソ印刷版を浸した状態で超音波洗浄する方法、などが挙げられるが、これらに制限されるものではない。   As a method of rinsing an engraved flexographic printing plate using the rinsing liquid of the present invention, a method of manually applying a rinsing liquid to the surface of the relief layer and rubbing it manually with a horse hair brush or nonwoven fabric, photosensitivity A method using a known batch type or conveying type brush type washing machine as a resin letterpress developing machine, a method of spraying a rinsing liquid at a high pressure, a method of ultrasonic cleaning with a flexographic printing plate immersed in a rinsing liquid, etc. Although it is mentioned, it is not limited to these.

<その他の工程>
上記リンス工程の後、彫刻・リンスされたレリーフ層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋である本工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
<Other processes>
After the rinsing step, it is preferable to add a drying step for drying the engraved and rinsed relief layer to volatilize the rinsing liquid.
Furthermore, you may add the post-crosslinking process which further bridge | crosslinks a relief layer as needed. By performing this step, which is additional crosslinking, the relief formed by engraving can be strengthened.

以上のようにして、所望の画像様にレリーフを有するフレキソ印刷版が得られる。
フレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50〜90°であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点がフレキソ印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であるとベタ部での印刷かすれ(インキ着肉不良)を防止することができる。ショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定することが出来る。
As described above, a flexographic printing plate having a desired image-like relief can be obtained.
The Shore A hardness of the relief layer of the flexographic printing plate is preferably 50 to 90 °. When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, the fine halftone dots formed by engraving will not collapse even if subjected to the strong printing pressure of the flexographic printing machine, and normal printing can be performed. Further, if the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent print fading (imperfect ink deposition) at the solid portion. Shore A hardness is measured with a durometer (spring type rubber hardness tester) that measures the amount of deformation (indentation depth) by pressing an indenter (called a push needle or indenter) into the surface of the object to be measured. I can do it.

以下、本発明におけるレリーフ層を形成する、レーザー彫刻用樹脂組成物について説明する。   Hereinafter, the resin composition for laser engraving forming the relief layer in the present invention will be described.

本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤とを含有することを特徴とする。   The resin composition for laser engraving in the present invention comprises (Component A) a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator.

(レーザー彫刻用樹脂組成物)
(成分A)熱可塑性エラストマー
本発明における樹脂組成物は、必須成分として、(成分A)熱可塑性エラストマーを含有する。熱可塑性エラストマーは、高温時では可塑化、流動し、常温ではゴム弾性を示す材料である。熱可塑性エラストマーは常温において、微細に分散した多相構造を形成する。大部分の熱可塑性エラストマーでは、各相はブロック共重合又はグラフト共重合で化学的に結合している。化学的結合がない場合には十分に微細な分散状態を形成している。成分Aとしては、各相が化学的に結合した熱可塑性エラストマーが好ましく、ブロック共重合体がより好ましい。ブロック共重合体の分子構造は、ポリエーテル又はゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を示さないハードセグメントからなる。そして、上記ハードセグメントの相とソフトセグメントの相とが微細に分散した多相構造を形成する。ハードセグメントが形成する相としては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。
(Resin composition for laser engraving)
(Component A) Thermoplastic Elastomer The resin composition in the present invention contains (Component A) a thermoplastic elastomer as an essential component. A thermoplastic elastomer is a material that plasticizes and flows at high temperatures and exhibits rubber elasticity at normal temperatures. Thermoplastic elastomers form a finely dispersed multiphase structure at room temperature. In most thermoplastic elastomers, the phases are chemically bonded by block copolymerization or graft copolymerization. When there is no chemical bond, a sufficiently fine dispersion state is formed. Component A is preferably a thermoplastic elastomer in which the phases are chemically bonded, and more preferably a block copolymer. The molecular structure of the block copolymer is composed of a soft segment such as polyether or rubber molecule and a hard segment that does not show plastic deformation at around room temperature like vulcanized rubber. Then, a multiphase structure in which the hard segment phase and the soft segment phase are finely dispersed is formed. There are various types of phases formed by the hard segment, such as a frozen phase, a crystalline phase, hydrogen bonding, and ionic crosslinking.

このような熱可塑性エラストマーは、常温でゴム弾性を示す。そのため、印刷時に被印刷物の凹凸に応じて変形可能なためインキ着肉性に優れ、かつ被印刷物から離れた後は元の形状が復元されるため耐刷性に優れる。更に、熱可塑性エラストマーは、加熱によって流動性が発現することから、素材の混合など取り扱いが容易である。以上の理由から、熱可塑性エラストマーは、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を、例えば、フレキソ版などの可撓性を必要とするレリーフ印刷版の製造に適用する場合に好適である。   Such a thermoplastic elastomer exhibits rubber elasticity at room temperature. Therefore, the ink can be deformed according to the unevenness of the printed material at the time of printing, so that the ink deposition property is excellent, and after leaving the printed material, the original shape is restored, so that the printing durability is excellent. Furthermore, since the thermoplastic elastomer exhibits fluidity when heated, handling such as mixing of materials is easy. For the above reasons, the thermoplastic elastomer is suitable when the resin composition for laser engraving in the present invention is applied to the production of relief printing plates that require flexibility such as flexographic plates.

レリーフ印刷版の耐刷性及び硬度の観点から、熱可塑性エラストマー中におけるハード
セグメントの割合は、10〜70質量%が好ましく、15〜60質量%が好ましい。
熱可塑性エラストマーは、柔軟性とゴム弾性発現の観点から、ガラス転移温度(Tg)
が20℃以下のポリマーであることが好ましく、0℃以下のポリマーであることがより好
ましい。熱可塑性エラストマーは、耐刷性の観点から、融点(Tm)が70℃以上のポリ
マーであることが好ましく、100℃以上のポリマーであることがより好ましい。
From the viewpoint of printing durability and hardness of the relief printing plate, the proportion of the hard segment in the thermoplastic elastomer is preferably 10 to 70% by mass, and preferably 15 to 60% by mass.
Thermoplastic elastomer has a glass transition temperature (Tg) from the viewpoint of flexibility and rubber elasticity.
Is preferably a polymer having a temperature of 20 ° C. or lower, more preferably a polymer having a temperature of 0 ° C. or lower. From the viewpoint of printing durability, the thermoplastic elastomer is preferably a polymer having a melting point (Tm) of 70 ° C. or higher, and more preferably a polymer of 100 ° C. or higher.

熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、ニトリル系熱可塑性エラストマー、フッ素系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン架橋体等を挙げることができ、中でも、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマーが好ましく、スチレン系熱可塑性エラストマーが最もUVインキ耐性と後述する本発明のリンス液による彫刻カスのリンス性とが良好となるため好ましい。   Thermoplastic elastomers include styrene thermoplastic elastomers, olefin thermoplastic elastomers, urethane thermoplastic elastomers, ester thermoplastic elastomers, amide thermoplastic elastomers, ethylene- (meth) acrylate thermoplastic elastomers, silicones -Based thermoplastic elastomers, PVC-based thermoplastic elastomers, nitrile-based thermoplastic elastomers, fluorine-based thermoplastic elastomers, chlorinated polyethylene cross-linked bodies, etc., among others, styrene-based thermoplastic elastomers, olefin-based thermoplastic elastomers, urethanes -Based thermoplastic elastomers and ester-based thermoplastic elastomers are preferred, and styrene-based thermoplastic elastomers are the most resistant to UV inks and rinse engraving residue with the rinsing liquid of the present invention described later. Preferred for bets becomes excellent.

スチレン系熱可塑性エラストマーが最も好ましい理由は、ソフトセグメントの疎水性が高いほどUVインキ耐性が良好となり、一方でハードセグメントの凝集力が比較的弱いほどリンス性が良好となるためと考えている。後者のメカニズムとしては、彫刻カスの主成分はハードセグメントの分解凝集物と考えており、この凝集力が弱いほど、本発明のリンス液が浸透しやすく、かつ溶解、分散しやすくなるためであると推定される。   The reason why the styrenic thermoplastic elastomer is most preferable is that the higher the hydrophobicity of the soft segment, the better the UV ink resistance, while the relatively weak the cohesion of the hard segment, the better the rinsing property. As the latter mechanism, it is considered that the main component of engraving residue is a decomposition aggregate of hard segments, and the weaker this cohesion, the easier the rinsing liquid of the present invention penetrates and the easier it is to dissolve and disperse. It is estimated to be.

(成分A−1)スチレン系熱可塑性エラストマー
スチレン系熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系モノマーに由来するモノマー単位を主体とする重合体ブロック(ハードセグメント)と、共役ジエン化合物に由来するモノマー単位を主体とするブロック(ソフトセグメント)とのブロック共重合体、及び、上記ブロック共重合体の共役ジエン化合物に由来するモノマー単位を水素添加したものを例示することができる。
スチレン系モノマーとしては、スチレン及び少なくとも1つの置換基(ハロゲン原子(
F、Cl、Br、I)、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基)
により任意の位置で置換されたスチレン誘導体が挙げられる。具体的には、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン又はt−ブチルスチレンが挙げられ、中でもスチレン
が好ましい。
共役ジエン化合物としては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、2,3−ジメチ
ルブタジエンが挙げられ、中でもブタジエン、イソプレンが好ましい。
これらは1種類のみを使用してもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
スチレン系熱可塑性エラストマーとして、具体的には、スチレン−ブタジエン−スチレ
ン共重合体(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体(SIS)、スチレン
−エチレン/ブチレン−スチレン共重合体(SEBS)、スチレン−エチレン/プロピレ
ン−スチレン共重合体(SEPS)又はスチレン−エチレン−エチレン/プロピレン−ス
チレン共重合体(SEEPS)等が挙げられ、中でも、SIS、SBS、SEBSが好ま
しい。
(Component A-1) Styrenic Thermoplastic Elastomer As the styrene thermoplastic elastomer, a polymer block (hard segment) mainly composed of monomer units derived from styrene monomers and a monomer unit derived from conjugated diene compounds are mainly used. And a block copolymer with a block (soft segment) and a hydrogenated monomer unit derived from a conjugated diene compound of the block copolymer.
Styrene monomers include styrene and at least one substituent (halogen atom (
F, Cl, Br, I), an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms)
The styrene derivative substituted by arbitrary positions by is mentioned. Specifically, styrene, α
-Methylstyrene, vinyltoluene or t-butylstyrene are mentioned, and among them, styrene is preferable.
Examples of the conjugated diene compound include butadiene, isoprene, chloroprene, and 2,3-dimethylbutadiene. Of these, butadiene and isoprene are preferable.
These may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more type.
Specific examples of the styrenic thermoplastic elastomer include styrene-butadiene-styrene copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS), styrene-ethylene / butylene-styrene copolymer (SEBS), Examples thereof include styrene-ethylene / propylene-styrene copolymer (SEPS) and styrene-ethylene-ethylene / propylene-styrene copolymer (SEEPS), among which SIS, SBS, and SEBS are preferable.

(成分A−2)オレフィン系熱可塑性エラストマー
オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントであるポリオレフィン樹脂と、ソフトセグメントであるオレフィン系エラストマーとが多相を形成したものである。
ハードセグメントであるポリオレフィンとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンが好ましい。
ソフトセグメントであるオレフィン系エラストマーとしては、エチレンに由来するモノマー単位と、炭素数が3以上のα−オレフィン単位に由来する構成単位、からなる共重合体がより好ましい。
炭素数が3以上のα−オレフィンとしては、プロピレン、1−ブテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−オクタデセンなどのα−オレフィンから誘導される構成単位が挙げられる。
オレフィン系エラストマーの具体例として、エチレン−プロピレンランダム共重合体、エチレン−ブテンランダム共重合体、エチレン−ヘキセンランダム共重合体、エチレン−オクテンランダム共重合体、エチレン−デセンランダム共重合体、エチレン−4−メチルペンテンランダム共重合体等が挙げられ、中でもエチレン−プロピレンランダム共重合体、エチレン−ブテンランダム共重合体が好ましい。
オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントとなる熱可塑性樹脂とソフトセグメントとなるエラストマーとを溶融混合して架橋させる、いわゆる動的架橋により製造されたものが好ましい。これは、熱可塑性樹脂の連続相中にゴムの不連続相が存在するミクロ相分離構造において、動的架橋ではゴムの不連続相のドメインサイズを小さくすることが可能で、これにより引張強さや伸びが大きい熱可塑性エラストマーとなるためである。
(Component A-2) Olefin-based thermoplastic elastomer The olefin-based thermoplastic elastomer is one in which a polyolefin resin that is a hard segment and an olefin-based elastomer that is a soft segment form multiple phases.
As the polyolefin which is a hard segment, polyethylene and polypropylene are preferable.
As the olefin elastomer that is a soft segment, a copolymer composed of a monomer unit derived from ethylene and a structural unit derived from an α-olefin unit having 3 or more carbon atoms is more preferable.
Examples of the α-olefin having 3 or more carbon atoms include propylene, 1-butene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, 1-pentene, 4-methyl-1-pentene, 1-hexene, Examples thereof include structural units derived from α-olefins such as 1-octene, 1-decene and 1-octadecene.
Specific examples of olefin elastomers include ethylene-propylene random copolymer, ethylene-butene random copolymer, ethylene-hexene random copolymer, ethylene-octene random copolymer, ethylene-decene random copolymer, ethylene- Examples include 4-methylpentene random copolymers, and ethylene-propylene random copolymers and ethylene-butene random copolymers are particularly preferable.
The olefin-based thermoplastic elastomer is preferably produced by so-called dynamic crosslinking in which a thermoplastic resin serving as a hard segment and an elastomer serving as a soft segment are melt-mixed and crosslinked. This is because, in a microphase-separated structure in which a discontinuous phase of rubber exists in the continuous phase of thermoplastic resin, dynamic crosslinking can reduce the domain size of the discontinuous phase of rubber. This is because it becomes a thermoplastic elastomer having a large elongation.

(成分A−3)ウレタン系熱可塑性エラストマー
ウレタン系熱可塑性エラストマーは、ジイソシアネートと短鎖グリコールとからなるハードセグメントと、ジイソシアネートと長鎖ポリオールから成るソフトセグメントを有するものである。
短鎖グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ビスフェノールA等を例示することが出来る。
長鎖ポリオールとしては、分子量が400〜6,000のポリ(アルキレンオキシド)グリコール(例えば、ポリエチレングリコール、ポリ(1,2及び1,3プロピレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ポリ(ヘキサメチレンオキシド)グリコールなど)のようなポリエーテル系のもの、あるいはポリアルキレンアジペート、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート等のようなポリエステル系のものが使われる。
また、ジイソシアネート化合物としては、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート(TDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、イソホロンジイソシアネート(IpDI)など公知のものが用いられる。
(Component A-3) Urethane-based thermoplastic elastomer The urethane-based thermoplastic elastomer has a hard segment composed of diisocyanate and short-chain glycol and a soft segment composed of diisocyanate and long-chain polyol.
Examples of the short chain glycol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, bisphenol A, and the like.
Long chain polyols include poly (alkylene oxide) glycols (e.g., polyethylene glycol, poly (1, 2 and 1,3 propylene oxide) glycol, poly (tetramethylene oxide) glycol, poly ( Polyethers such as hexamethylene oxide) glycol) or polyesters such as polyalkylene adipate, polycaprolactone, polycarbonate, etc. are used.
Examples of the diisocyanate compound include phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI), xylylene diisocyanate (XDI), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), and isophorone diisocyanate (IpDI). Things are used.

(成分A−4)エステル系熱可塑性エラストマー
エステル系熱可塑性エラストマーとしては、(1)炭素数2〜12の脂肪族及び/又は脂環族ジオールと、(2)芳香族ジカルボン酸又はそのアルキルエステル、及び(3)重量平均分子量が400〜6,000のポリアルキレンエーテルグリコールとを原料とし、エステル化反応、又は、エステル交換反応により得られたオリゴマーを重縮合させて得たものである。
(Component A-4) Ester Thermoplastic Elastomer As the ester thermoplastic elastomer, (1) an aliphatic and / or alicyclic diol having 2 to 12 carbon atoms, and (2) an aromatic dicarboxylic acid or an alkyl ester thereof. And (3) Polyalkylene ether glycol having a weight average molecular weight of 400 to 6,000 as a raw material, and obtained by polycondensation of an oligomer obtained by esterification reaction or transesterification reaction.

本発明で用いる炭素数2〜12の脂肪族及び/又は脂環族ジオールとしては、ポリエステルの原料、特にポリエステルエラストマーの原料として公知のものを用いることができ、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられ、好ましくは、1,4−ブタンジオール、エチレングリコール、特に好ましくは1,4−ブタンジオールを主成分とするものであり、1種又は2種以上を使用することができる。   As aliphatic and / or alicyclic diols having 2 to 12 carbon atoms used in the present invention, those known as raw materials for polyesters, particularly polyester elastomers, can be used, such as ethylene glycol, propylene glycol, Examples include methylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and the like, preferably 1,4-butanediol, ethylene glycol, particularly preferably 1,4-butane. A diol is the main component, and one or more can be used.

芳香族ジカルボン酸としては、ポリエステルの原料、特にポリエステルエラストマーの原料として公知のものが使用でき、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができ、好ましくは、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、特に好ましくは、テレフタル酸を主成分とするものであり、これらの2種以上を併用してもよい。また、芳香族ジカルボン酸のアルキルエステルとしては、ジメチルテレフタレート、ジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、2,6−ジメチルナフタレート等のジメチルエステルが挙げられ、好ましくはジメチルテレフタレート、2,6−ジメチルナフタレートであり、特に好ましくは、ジメチルテレフタレートであり、これらは2種以上を併用することができる。また、上記以外に3官能のジオール、その他のジオールや他のジカルボン酸及びそのエステルを少量共重合してもよく、更に、アジピン酸等の脂肪族又は脂環族のジカルボン酸、又は、そのアルキルエステル等も共重合成分として使用してもよい。   As the aromatic dicarboxylic acid, known raw materials for polyester, particularly polyester elastomer, can be used, and examples thereof include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and the like. Terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, particularly preferably terephthalic acid is the main component, and two or more of these may be used in combination. Examples of the alkyl ester of aromatic dicarboxylic acid include dimethyl esters such as dimethyl terephthalate, dimethyl isophthalate, dimethyl phthalate, and 2,6-dimethyl naphthalate, preferably dimethyl terephthalate and 2,6-dimethyl naphthalate. In particular, dimethyl terephthalate is preferable, and two or more of these can be used in combination. In addition to the above, trifunctional diols, other diols and other dicarboxylic acids and esters thereof may be copolymerized in small amounts, and aliphatic or alicyclic dicarboxylic acids such as adipic acid, or alkyls thereof. Esters may also be used as copolymerization components.

ポリアルキレンエーテルグリコールとしては、重量平均分子量が400〜6,000のものが使用されるが、好ましくは500〜4,000、特に好ましくは600〜3,000のものである。分子量が400未満では、共重合体のブロック性が不足し、重量平均分子量が6,000を超えるものは、系内での相分離によりポリマーの物性が低下する。ここで、ポリアルキレンエーテルグリコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリ(1,2及び1,3プロピレンエーテル)グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリヘキサメチレンエーテルグリコール、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロック又はランダム共重合体、エチレンオキシドとテトラヒドロフランのブロック又はランダム共重合体等が挙げられる。特に好ましくはポリテトラメチレンエーテルグリコールである。   As the polyalkylene ether glycol, those having a weight average molecular weight of 400 to 6,000 are used, preferably 500 to 4,000, particularly preferably 600 to 3,000. If the molecular weight is less than 400, the block property of the copolymer is insufficient, and if the weight average molecular weight exceeds 6,000, the physical properties of the polymer are lowered due to phase separation in the system. Here, as polyalkylene ether glycol, polyethylene glycol, poly (1,2 and 1,3 propylene ether) glycol, polytetramethylene ether glycol, polyhexamethylene ether glycol, block or random copolymer of ethylene oxide and propylene oxide And a block or random copolymer of ethylene oxide and tetrahydrofuran. Particularly preferred is polytetramethylene ether glycol.

ポリアルキレンエーテルグリコールの含有量は、生成するブロック共重合体に対し、5〜95質量%であることが好ましく、10〜85質量%であることがより好ましく、20〜80質量%であることが更に好ましい。含有量が上記範囲であれば、縮重合によりポリマーを得ることが容易となるため好ましい。また、本発明におけるポリエステル系共重合体は、(3)重量平均分子量が400〜6,000のポリアルキレンエーテルグリコールのかわりに、(4)脂肪族又は脂環式ジカルボン酸と脂肪族ジオールと縮合したポリエステルオリゴマー、(5)脂肪族ラクトン又は脂肪族モノオールカルボン酸から合成されたポリエステルオリゴマーでもよい。   The content of the polyalkylene ether glycol is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 85% by mass, and more preferably 20 to 80% by mass with respect to the block copolymer to be produced. Further preferred. If the content is in the above range, it is preferable because a polymer can be easily obtained by condensation polymerization. Further, the polyester copolymer in the present invention is (3) condensed with an aliphatic or alicyclic dicarboxylic acid and an aliphatic diol in place of the polyalkylene ether glycol having a weight average molecular weight of 400 to 6,000. Polyester oligomer synthesized from (5) aliphatic lactone or aliphatic monool carboxylic acid.

(4)の例としては、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸又はコハク酸、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸のうちの一種以上とエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール等のジオールのうちの一種以上とを縮合した構造のポリエステルオリゴマーが挙げられ、(5)の例としてε−カプロラクトン、ω−オキシカプロン酸等から合成されたポリカプロラクトン系ポリエステルオリゴマーが挙げられる。   Examples of (4) include 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acids such as dicyclohexyl-4,4′-dicarboxylic acid or succinic acid, oxalic acid, adipic acid, And polyester oligomers having a structure in which one or more aliphatic dicarboxylic acids such as sebacic acid are condensed with one or more diols such as ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, and pentamethylene glycol. (5) Examples thereof include polycaprolactone-based polyester oligomers synthesized from ε-caprolactone, ω-oxycaproic acid, and the like.

(成分A−5)アミド系熱可塑性エラストマー
アミド系熱可塑性エラストマーとしては、ポリアミドをハードセグメントに、ガラス転移温度の低いポリエステルジオール又はポリエーテルジオールをソフトセグメントに用いたマルチブロックコポリマーが例示される。
ここで、ポリアミド成分としては、ナイロン−6、−66、−610、−11、−12などが挙げられ、中でもナイロン−6、ナイロン−12が好ましい。
ポリエーテルジオールとしては、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリ(オキシプロピレン)グリコールなどが挙げられる。
ポリエステルジオールとしては、ポリ(エチレン−1,4−アジペート)グリコール、ポリ(ブチレン−1,4−アジペート)グリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。ポリアミド系エラストマーの具体例として、ナイロン12/ポリテトラメチレングリコールブロック共重合体などが挙げられる。
(Component A-5) Amide-type thermoplastic elastomer Examples of the amide-type thermoplastic elastomer include multi-block copolymers using polyamide as a hard segment and polyester diol or polyether diol having a low glass transition temperature as a soft segment.
Here, examples of the polyamide component include nylon-6, -66, -610, -11, and -12. Among them, nylon-6 and nylon-12 are preferable.
Examples of the polyether diol include poly (oxytetramethylene) glycol and poly (oxypropylene) glycol.
Examples of the polyester diol include poly (ethylene-1,4-adipate) glycol, poly (butylene-1,4-adipate) glycol, and polytetramethylene glycol. Specific examples of the polyamide-based elastomer include nylon 12 / polytetramethylene glycol block copolymer.

(成分A−6)エチレン−(メタ)アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマー
エチレン−(メタ)アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーは、エチレンを主体とする重合体ブロック(ハードセグメント)と、(メタ)アクリル酸エステルに由来する重合体ブロック(ソフトセグメント)とのブロック共重合体を例示することができる。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸n−デシル、(メタ)アクリル酸イソデシルなどが挙げられる。これらの構成単位は、単独で含有されていてもよく、少なくとも2種が含有されていてもよい。
また、上記エチレン及び(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位の他に、一酸化炭素に由来する構成単位を含むターポリマーもエチレン−(メタ)アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーとして好ましい。
エチレン−(メタ)アクリル酸エステル系熱可塑性エラストマーの具体例として、エチレン/アクリル酸n−ブチル/一酸化炭素共重合体、エチレン/アクリル酸デシル/一酸化炭素共重合体等が挙げられ、中でもエチレン/アクリル酸n−ブチル/一酸化炭素共重合体が好ましい。
(Component A-6) Ethylene- (meth) acrylic ester thermoplastic elastomer The ethylene- (meth) acrylic ester thermoplastic elastomer is composed of a polymer block (hard segment) mainly composed of ethylene and (meth) acrylic. A block copolymer with a polymer block (soft segment) derived from an acid ester can be exemplified.
(Meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, (meth) acrylic N-hexyl acid, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Examples include isodecyl acid. These structural units may be contained independently and at least 2 types may be contained.
In addition to the structural units derived from ethylene and (meth) acrylic acid esters, terpolymers containing structural units derived from carbon monoxide are also preferred as the ethylene- (meth) acrylic acid ester-based thermoplastic elastomer.
Specific examples of the ethylene- (meth) acrylate ester-based thermoplastic elastomer include ethylene / n-butyl acrylate / carbon monoxide copolymer, ethylene / decyl acrylate / carbon monoxide copolymer, and the like. An ethylene / n-butyl acrylate / carbon monoxide copolymer is preferred.

本発明において、成分Aは、1種のみ用いてもよく、2種以上を併用してもよい。成分Aの含有量は、塗膜の形態保持性と彫刻感度のバランスから、全固形分中、10〜95質量%であることが好ましく、50〜90質量%であることがより好ましい。なお、「固形分」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物において、溶媒等の揮発性成分を除いた成分を意味する。   In the present invention, component A may be used alone or in combination of two or more. The content of Component A is preferably 10 to 95% by mass and more preferably 50 to 90% by mass in the total solid content from the balance between the form retention of the coating film and the engraving sensitivity. The “solid content” means a component excluding volatile components such as a solvent in the resin composition for laser engraving.

また、レリーフ形成層のレーザー彫刻感度を向上させる目的で、これらの熱可塑性エラストマーの主鎖に、カルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を導入したものを用いることもできる。   Further, for the purpose of improving the laser engraving sensitivity of the relief forming layer, those obtained by introducing an easily decomposable functional group such as a carbamoyl group or a carbonate group into the main chain of these thermoplastic elastomers can also be used.

また、成分Aとしては上市されている製品を使用することもでき、Kraton D1102JSZ(Kraton Polymers社製)、Kraton D1161JSP(Kraton Polymers社製)、Kraton G1650MU(Kraton Polymers社製)、Kraton G1730(Kraton Polymers社製)、サーモラン3555N(三菱化学(株)製)、サーモラン5800B(三菱化学(株)製)、ミラクトランE190PNAT(日本ミラクトラン(株)製)、ミラクトランE390PNAT(日本ミラクトラン(株)製)、プリマロイA1600N(三菱化学(株)製)、UBESTA XPA 9055F1(宇部興産(株)製)、Elvaloy HP441(DuPont社製)が例示できる。   Moreover, the product marketed can also be used as a component A, Kraton D1102JSZ (made by Kraton Polymers), Kraton D1161JSP (made by Kraton Polymers), Kraton G1650MU (made by Kraton Polymers), Kraton Polymers 17 ), Thermoran 3555N (Mitsubishi Chemical Corporation), Thermoran 5800B (Mitsubishi Chemical Corporation), Miractolan E190PNAT (Nihon Miraclan Corporation), Miractolan E390PNAT (Nihon Miractoran Corporation), Primalloy A1600N (Mitsubishi Chemical Corporation), UBESTA XPA 9055F1 (Ube Industries, Ltd.), Elvaloy HP441 (DuPont) Manufactured).

形態保持性、レリーフ形成層を調製する際の溶媒への溶解性の観点から、熱可塑性エラ
ストマーの重量平均分子量は、5,000〜500,000が好ましく、10,000〜
400,000がより好ましく、15,000〜300,000が更に好ましい。
なお、本発明における樹脂等の重量平均分子量(Mw)は、例えばゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定し、測定値を分子量既知のポリスチレンで検量し換算することにより求めることができる。
具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー(株)製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μl、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー(株)製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
The weight average molecular weight of the thermoplastic elastomer is preferably 5,000 to 500,000, preferably 10,000 to 10,000, from the viewpoint of shape retention and solubility in a solvent when preparing the relief forming layer.
400,000 is more preferred, and 15,000 to 300,000 is even more preferred.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) of resin etc. in this invention can be calculated | required by measuring using gel permeation chromatography (GPC), for example, and measuring and converting with a polystyrene with known molecular weight.
Specifically, for example, GPC uses HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corporation), and TSKgeL SuperHZM-H, TSKgeL SuperHZ4000, TSKgeL SuperHZ2000 (4.6 mm ID × 15 cm, manufactured by Tosoh Corporation) are used as columns. Three are used and THF (tetrahydrofuran) is used as an eluent. As conditions, the sample concentration is 0.35% by mass, the flow rate is 0.35 ml / min, the sample injection amount is 10 μl, the measurement temperature is 40 ° C., and an IR detector is used. In addition, the calibration curve is “standard sample TSK standard, polystyrene” manufactured by Tosoh Corporation: “F-40”, “F-20”, “F-4”, “F-1”, “A-5000”, It is prepared from 8 samples of “A-2500”, “A-1000”, “n-propylbenzene”.

(成分B)重合性化合物
レリーフ形成層中に架橋構造を形成する観点から、本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分B)重合性化合物を含有する。
重合性化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜6個、更に好ましくは2個有する化合物の中から任意に選択することができる。重合性化合物としては、特開2009−255510号公報、特開2009−204962号公報の段落0098〜0124に記載の重合性化合物を例示できる。
(Component B) Polymerizable Compound From the viewpoint of forming a crosslinked structure in the relief forming layer, the resin composition for laser engraving used in the present invention contains (Component B) a polymerizable compound.
The polymerizable compound can be arbitrarily selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated group, preferably 2 or more, more preferably 2 to 6, and still more preferably 2. Examples of the polymerizable compound include the polymerizable compounds described in paragraphs 0098 to 0124 of JP2009-255510A and JP2009-204962A.

以下、エチレン性不飽和基を分子内に1つ有する単官能モノマー、及び、エチレン性不飽和基を分子内に2個以上有する多官能モノマーについて説明する。
本発明におけるレリーフ形成層中には、架橋構造を形成することが必要であることから、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、120〜3,000であることが好ましく、200〜2,000であることがより好ましい。
単官能モノマー及び多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
本発明においては、炭素数1〜20のアルキレン基を有するジ(メタ)アクリレートが好ましく、直鎖又は分岐を有する炭素数2〜10のアルキレン基を有するジ(メタ)アクリレートがより好ましく、直鎖の炭素数3〜6のアルキレン基を有するジ(メタ)アクリレートが更に好ましい。上記アルキレン基は置換基を有していてもよく、上記置換基としては、ヒドロキシ基が挙げられる。
Hereinafter, a monofunctional monomer having one ethylenically unsaturated group in the molecule and a polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule will be described.
In the relief forming layer in the present invention, a polyfunctional monomer is preferably used since it is necessary to form a crosslinked structure. The molecular weight of these polyfunctional monomers is preferably 120 to 3,000, and more preferably 200 to 2,000.
Examples of monofunctional monomers and polyfunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters of polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids, Examples include amides with polyvalent amine compounds.
In the present invention, a di (meth) acrylate having an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and a di (meth) acrylate having a linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms is more preferable. Di (meth) acrylate having an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms is more preferable. The alkylene group may have a substituent, and examples of the substituent include a hydroxy group.

本発明における樹脂組成物に、重合性化合物を用いることにより、レリーフ形成層における膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物中の重合性化合物の含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、固形分換算で、5〜60質量%が好ましく、8〜30質量%の範囲がより好ましい。
By using a polymerizable compound in the resin composition of the present invention, film physical properties such as brittleness and flexibility in the relief forming layer can be adjusted.
In addition, the content of the polymerizable compound in the resin composition for laser engraving in the present invention is preferably 5 to 60% by mass, 8 to 30% by mass in terms of solid content, from the viewpoint of flexibility and brittleness of the crosslinked film. The range of is more preferable.

(成分C)重合開始剤
本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、更に(成分C)重合開始剤を含有する。
重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤が例示され、熱による架橋が好ましい観点から、熱重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。
成分Cは、成分Bの付加重合を促進するラジカル重合開始剤が好ましく、特開2008−63554号公報の段落0074〜0118に記載されている化合物を好ましく例示できる。
ラジカル重合開始剤としては、芳香族ケトン類、オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、アゾ系化合物等が挙げられる。中でも彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、有機過酸化物又はアゾ系化合物がより好ましく、有機過酸化物が特に好ましい。
有機過酸化物としては、特開2008−63554号公報、特開2008−233244号公報に記載のものが好ましく、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエートがより好ましい。
(Component C) Polymerization initiator The resin composition for laser engraving used in the present invention further contains (Component C) a polymerization initiator.
Examples of the polymerization initiator include a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator, and a thermal polymerization initiator is preferable from the viewpoint of preferable crosslinking by heat. As the polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation.
Component C is preferably a radical polymerization initiator that promotes the addition polymerization of component B, and preferred examples thereof include compounds described in paragraphs 0074 to 0118 of JP-A-2008-63554.
As radical polymerization initiators, aromatic ketones, onium salt compounds, organic peroxides, thio compounds, hexaarylbiimidazole compounds, ketoxime ester compounds, borate compounds, azinium compounds, metallocene compounds, active ester compounds, carbon halogens Examples thereof include a compound having a bond and an azo compound. Among these, organic peroxides or azo compounds are more preferable, and organic peroxides are particularly preferable from the viewpoint of engraving sensitivity and a favorable relief edge shape when applied to the relief forming layer of the relief printing plate precursor.
As the organic peroxide, those described in JP-A-2008-63554 and JP-A-2008-233244 are preferable, and dicumyl peroxide and t-butylperoxybenzoate are more preferable.

また、有機過酸化物の併用成分として、後述する光熱変換剤を組み合わせて用いることで彫刻感度が高くなるので好ましい。これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物はレーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなると推定される。
この効果は光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱し、成分A等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
Moreover, since the engraving sensitivity becomes high by using together the photothermal conversion agent mentioned later as a combined component of an organic peroxide, it is preferable. This is because when an organic peroxide is used to cure the relief forming layer by thermal crosslinking, unreacted organic peroxide that does not participate in radical generation remains, but the remaining organic peroxide is exothermic during laser engraving. Disassembled into As a result, the amount of heat generated is added to the irradiated laser energy, so that the engraving sensitivity is estimated to increase.
This effect is remarkable when carbon black is used as the photothermal conversion agent. This is because the heat generated from carbon black is also transferred to the organic peroxide. As a result, not only carbon black but also organic peroxide generates heat, and the generation of thermal energy to be used for decomposition of component A and the like is generated. This is because it is generated synergistically.

重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。本発明における樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、耐刷性の観点から、樹脂組成物の固形分全質量に対し0.01〜10質量%が好ましく、0.1〜3質量%がより好ましい。   A polymerization initiator may be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together. The content of the polymerization initiator in the resin composition in the present invention is preferably 0.01 to 10% by mass, and preferably 0.1 to 3% by mass with respect to the total mass of the solid content of the resin composition, from the viewpoint of printing durability. Is more preferable.

(成分D)光熱変換剤
本発明に用いられるレーザー彫刻用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を用いて製造したレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を、700〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤として、700〜1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
(Component D) Photothermal Conversion Agent The resin composition for laser engraving used in the present invention preferably further contains a photothermal conversion agent. It is considered that the photothermal conversion agent promotes thermal decomposition of the cured product during laser engraving by absorbing laser light and generating heat. For this reason, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.
A flexographic printing plate precursor for laser engraving manufactured using the resin composition for laser engraving in the present invention is a light source that emits an infrared ray of 700 to 1,300 nm (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) As a photothermal conversion agent, it is preferable to use a compound having a maximum absorption wavelength at 700 to 1,300 nm. Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include those having a maximum absorption wavelength at 700 to 1,300 nm, such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, and quinoneimine dyes. Preferred are dyes such as methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes. Dyes preferably used in the present invention include cyanine dyes such as heptamethine cyanine dyes, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dyes, phthalocyanine dyes, and paragraphs 0124 to 0137 of JP-A-2008-63554. Mention may be made of dyes.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開2009−178869号公報の段落0122〜0125に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開2009−178869号公報の段落0130〜0134に記載されたものが例示できる。
Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used. Examples of the pigment include pigments described in paragraphs 0122 to 0125 of JP-A-2009-178869.
Of these pigments, carbon black is preferred. As long as the dispersibility in the composition is stable, any carbon black can be used regardless of the application, in addition to the classification based on ASTM. Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In order to facilitate dispersion, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or a binder, if necessary. Such chips and pastes can be easily obtained as commercial products. Examples of carbon black include those described in paragraphs 0130 to 0134 of JP2009-178869A.

レーザー彫刻用樹脂組成物中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、上記樹脂組成物の固形分全質量の0.01〜30質量%の範囲が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。   The content of the photothermal conversion agent in the resin composition for laser engraving varies greatly depending on the molecular extinction coefficient inherent to the molecule, but is in the range of 0.01 to 30% by mass of the total solid content of the resin composition. Is preferable, 0.05-20 mass% is more preferable, and 0.1-10 mass% is especially preferable.

<その他の成分>
本発明における樹脂組成物は、成分A〜成分Dの他に、本発明の効果を損なわない限りにおいて目的に応じて種々の化合物を併用することができる。本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物には、上記成分Aに加え、成分Aに包含されない公知のバインダーポリマーを併用することができる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光又は加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂が選択される。更に、レリーフ形成層用組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。これらの成分は、特開2008−163081号公報に記載されている。
このように、レリーフ印刷版の適用用途に応じた物性を考慮し、目的に応じたバインダーポリマーを選択し、上記バインダーポリマーの1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Other ingredients>
In addition to Component A to Component D, the resin composition in the present invention can be used in combination with various compounds depending on the purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. In the resin composition for laser engraving in the present invention, a known binder polymer not included in Component A can be used in combination with Component A. For example, from the viewpoint of laser engraving sensitivity, a polymer containing a partial structure that is thermally decomposed by exposure or heating is preferable. In addition, for example, when a soft and flexible film formation is intended, a soft resin is selected. Furthermore, it is preferable to use a hydrophilic or alcoholic polymer from the viewpoint of easy preparation of the composition for a relief forming layer and improvement in resistance to oil-based ink in the obtained relief printing plate. These components are described in JP2008-163081A.
Thus, in consideration of the physical properties according to the application application of the relief printing plate, a binder polymer can be selected according to the purpose, and one or more of the above binder polymers can be used in combination.

本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に用いることの出来る溶媒は、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成成分を溶解・分散可能なものであればいかなるものでもよい。
例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオール、ジエチルケトン、シクロヘキサノンが挙げられる。
The solvent that can be used in preparing the resin composition for laser engraving in the present invention may be any solvent that can dissolve and disperse the constituents of the resin composition for laser engraving.
For example, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, methanol, Examples include ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propanediol, diethyl ketone, and cyclohexanone.

更には、本発明におけるレーザー彫刻用樹脂組成物には、ゴムの分野で通常用いられている各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、加硫剤、充填剤、可塑剤、ワックス、プロセス油、有機酸、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、熱重合防止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Furthermore, the resin composition for laser engraving in the present invention can be appropriately blended with various additives usually used in the field of rubber as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples include vulcanizing agents, fillers, plasticizers, waxes, process oils, organic acids, metal oxides, antiozonants, antiaging agents, thermal polymerization inhibitors, colorants, etc. You may use individually and may use 2 or more types together.

プロセス油を使用する場合、例えば芳香族系プロセス油、ナフテン系プロセス油、パラ
フィン系プロセス油を挙げることができる。その添加量は、成分A100質量部あたり1〜70質量部が好ましい。
有機酸は金属塩として、常套の加硫剤と組み合わせて、加硫促進のための助剤として使用することができる。有機酸としては例えば、ステアリン酸、オレイン酸、ムラスチン酸を挙げることができる。併用される金属源としては酸化亜鉛(亜鉛華)、酸化マグネシウム等の金属酸化物を挙げることができる。これらは加硫工程において、ゴム中で有機酸と金属酸化物が金属塩を形成し、硫黄等の加硫剤の活性化を促すとされている。このような金属塩を系中で形成させるための金属酸化物の添加量は、成分A100質量部あたり0.1〜10質量部が好ましく、2〜10質量部がより好ましい。
有機酸の添加量は、成分A100質量部あたり0.1〜5質量部が好ましく、0.1〜3質量部がより好ましい。
When process oil is used, for example, aromatic process oil, naphthenic process oil, and paraffinic process oil can be mentioned. The amount added is preferably 1 to 70 parts by mass per 100 parts by mass of component A.
The organic acid can be used as an auxiliary agent for vulcanization acceleration in combination with a conventional vulcanizing agent as a metal salt. Examples of the organic acid include stearic acid, oleic acid, and murastic acid. Examples of the metal source used in combination include metal oxides such as zinc oxide (zinc white) and magnesium oxide. In these vulcanization processes, organic acids and metal oxides form metal salts in the rubber, and the activation of vulcanizing agents such as sulfur is promoted. The amount of the metal oxide added to form such a metal salt in the system is preferably 0.1 to 10 parts by mass and more preferably 2 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of Component A.
0.1-5 mass parts is preferable per 100 mass parts of component A, and, as for the addition amount of an organic acid, 0.1-3 mass parts is more preferable.

(レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット)
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットは、本発明におけるフレキソ印刷版原版と、本発明のリンス液とを含む。
本発明におけるレーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キットに含まれる本発明におけるフレキソ印刷版原版と、本発明のリンス液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明におけるフレキソ印刷版製版キットは、上記印刷版原版及びリンス液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、リンス用のブラシや不織布、リンス液のスプレー容器等が挙げられるが、これらに制限されない。
(Laser engraving type flexographic printing plate making kit)
The laser engraving-type flexographic printing plate making kit according to the present invention includes the flexographic printing plate precursor according to the present invention and the rinsing liquid of the present invention.
The preferred embodiments of the flexographic printing plate precursor in the present invention and the rinsing liquid of the present invention contained in the laser engraving type flexographic printing plate making kit in the present invention are the same as those described above.
Further, the flexographic printing plate making kit in the present invention may contain any product other than the printing plate precursor and the rinsing liquid.
For example, a rinsing brush, a non-woven fabric, a rinsing liquid spray container, and the like can be used, but the invention is not limited thereto.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、実施例におけるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、特に断りのない限り、GPC法で測定した値を表示している。また、特に断りのない限り「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer in an Example is displaying the value measured by GPC method unless there is particular notice. Unless otherwise specified, “part” means “part by mass” and “%” means “% by mass”.

以下に、実施例及び比較例のフレキソ印刷版原版に用いた成分A〜成分D、及び実施例及び比較例のリンス液に用いた成分1〜成分3の化合物名を示す。
<(成分A)熱可塑性エラストマー>
A−1:Kraton D1102JSZ(スチレン系、SBS、Kraton Polymers社製)
A−2:Kraton D1161JSP(スチレン系、SIS、Kraton Polymers社製)
A−3:Kraton G1650MU(スチレン系、SEBS、Kraton Polymers社製)
A−4:Kraton G1730(スチレン系、SEPS、Kraton Polymers社製)
A−5:サーモラン3555N(オレフィン系、動的架橋、三菱化学(株)製)
A−6:サーモラン5800B(オレフィン系、非架橋、黒色、三菱化学(株)製)
A−7:ミラクトランE190PNAT(ウレタン系、アジピン酸ポリエステル、日本ミラクトラン(株)製)
A−8:ミラクトランE390PNAT(ウレタン系、ポリエーテル、日本ミラクトラン(株)製)
A−9:プリマロイA1600N(エステル系、ポリエーテル、三菱化学(株)製)
A−10:UBESTA XPA 9055F1(アミド系、宇部興産(株)製)
A−11:Elvaloy HP441(エチレン−(メタ)アクリル酸エステル系、エチレン/n−ブチルアクリレート/一酸化炭素の共重合体、DuPont社製)
The compound names of Component A to Component D used in the flexographic printing plate precursors of Examples and Comparative Examples and Component 1 to Component 3 used in the rinse solutions of Examples and Comparative Examples are shown below.
<(Component A) Thermoplastic Elastomer>
A-1: Kraton D1102JSZ (styrene, SBS, manufactured by Kraton Polymers)
A-2: Kraton D1161 JSP (styrene, SIS, manufactured by Kraton Polymers)
A-3: Kraton G1650MU (styrene, SEBS, manufactured by Kraton Polymers)
A-4: Kraton G1730 (styrene-based, SEPS, manufactured by Kraton Polymers)
A-5: Thermolane 3555N (olefin-based, dynamic crosslinking, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
A-6: Thermoran 5800B (olefin-based, non-crosslinked, black, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
A-7: Milactolan E190PNAT (urethane, adipic acid polyester, manufactured by Nihon Milactolan Co., Ltd.)
A-8: Milactolan E390PNAT (urethane, polyether, manufactured by Nihon Milactolan)
A-9: Primalloy A1600N (ester, polyether, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
A-10: UBESTA XPA 9055F1 (amide type, manufactured by Ube Industries, Ltd.)
A-11: Elvaloy HP441 (ethylene- (meth) acrylic ester, ethylene / n-butyl acrylate / carbon monoxide copolymer, manufactured by DuPont)

<成分A以外のバインダーポリマー>
A’−1:Nipol 1502(スチレンブタジエンゴム、日本ゼオン(株)製)
<Binder polymer other than Component A>
A'-1: Nipol 1502 (styrene butadiene rubber, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)

<(成分B)重合性化合物>
B−1:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(NKエステル A−HD−N、新中村化学工業(株)製)
<(Component B) polymerizable compound>
B-1: 1,6-hexanediol diacrylate (NK ester A-HD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

<(成分C)重合開始剤>
C−1:ジクミルパーオキサイド(パークミルD、日本油脂(株)製)
C−2:Irgacure651(BASF社製)
<(Component C) Polymerization initiator>
C-1: Dicumyl peroxide (Park Mill D, manufactured by NOF Corporation)
C-2: Irgacure 651 (BASF)

<(成分D)光熱変換剤>
D−1:カーボンブラック(MA100、三菱化学(株)製)
<(Component D) Photothermal Conversion Agent>
D-1: Carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

<(成分1)特定構造の有機溶剤>
1−1:3−ペンタノール(5.2g/100ml)
1−2:3−メチル−2−ブタノール(5.2g/100ml)
1−3:エチレングリコールモノt−ブチルエーテル(水に混和)
1−4:プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル(4.4g/100ml)
1−5:ジエチルケトン(1.7g/100ml)
<(Component 1) Organic solvent with specific structure>
1-1: 3-Pentanol (5.2 g / 100 ml)
1-2: 3-methyl-2-butanol (5.2 g / 100 ml)
1-3: Ethylene glycol mono t-butyl ether (mixed in water)
1-4: Propylene glycol mono-n-butyl ether (4.4 g / 100 ml)
1-5: Diethyl ketone (1.7 g / 100 ml)

<成分1以外の有機溶剤>
1’−1:イソプロピルアルコール(水に混和)
1’−2:n−ブタノール(6.4g/100ml)
1’−3:ベンジルアルコール(4.0g/100ml)
1’−4:エチレングリコールモノn−ブチルエーテル(水に混和)
1’−5:エチレングリコールモノn−ヘキシルエーテル(1.0g/100ml)
1’−6:プロピレングリコールモノメチルエーテル(水に混和)
1’−7:ジエチレングリコールモノn−ブチルエーテル(水に混和)
1’−8:ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル(0.3g/100ml)
1’−9:2−ブタノン(22g/100ml)
1’−10:4−メチル−2−ペンタノン(1.9g/100ml)
1’−11:n−ヘプタン(0.01g/100ml)
<Organic solvents other than component 1>
1'-1: Isopropyl alcohol (mixed in water)
1′-2: n-butanol (6.4 g / 100 ml)
1′-3: benzyl alcohol (4.0 g / 100 ml)
1′-4: Ethylene glycol mono n-butyl ether (mixed in water)
1′-5: Ethylene glycol mono n-hexyl ether (1.0 g / 100 ml)
1'-6: Propylene glycol monomethyl ether (mixed in water)
1′-7: Diethylene glycol mono n-butyl ether (mixed in water)
1′-8: Diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (0.3 g / 100 ml)
1′-9: 2-butanone (22 g / 100 ml)
1′-10: 4-methyl-2-pentanone (1.9 g / 100 ml)
1′-11: n-heptane (0.01 g / 100 ml)

<(成分2)両性、アニオン性界面活性剤>
成分2としては、段落0051〜0067に例示した化合物の中から、下記の化合物を使用した。
BO−5: ソフタゾリンLAO (川研ファインケミカル(株)製)
BC−2: タケサーフC−157 (竹本油脂(株)製)
BC−5: レボン2000L (三洋化成工業(株)製)
BS−5: ソフタゾリンLSB−R (川研ファインケミカル(株)製)
AP−3: ネオペレックスG−65 (花王(株)製)
AP−7: エレミノールMON−7 (三洋化成工業(株)製)
AN−2: ペレックスNBL (花王(株)製)
AN−6: ニューコールB−13SN (竹本油脂(株)製)
<(Component 2) Amphoteric, Anionic Surfactant>
As component 2, the following compounds were used from among the compounds exemplified in paragraphs 0051 to 0067.
BO-5: Softazolin LAO (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)
BC-2: Takesurf C-157 (Takemoto Yushi Co., Ltd.)
BC-5: Levon 2000L (manufactured by Sanyo Chemical Industries)
BS-5: Softazolin LSB-R (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.)
AP-3: Neoperex G-65 (manufactured by Kao Corporation)
AP-7: Eleminor MON-7 (manufactured by Sanyo Chemical Industries)
AN-2: Perex NBL (manufactured by Kao Corporation)
AN-6: New Call B-13SN (Takemoto Yushi Co., Ltd.)

<成分2以外の界面活性剤>
W−1:エマレックス710(エチレンオキシドアルキルエーテル、ノニオン系界面活性剤、日本乳化剤(株)製)
W−2:ニューコールB−13(エチレンオキシドナフタレンエーテル、ノニオン系界面活性剤、竹本油脂(株)製)
W−3:パイオニンB111(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、カチオン系界面活性剤、竹本油脂(株)製)
<Surfactants other than Component 2>
W-1: Emalex 710 (ethylene oxide alkyl ether, nonionic surfactant, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
W-2: New Coal B-13 (ethylene oxide naphthalene ether, nonionic surfactant, Takemoto Yushi Co., Ltd.)
W-3: Pionein B111 (lauryltrimethylammonium chloride, cationic surfactant, manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)

(実施例1)
<1.レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の作製>
(株)モリヤマ製の混練機に、(成分A)熱可塑性エラストマーとしてA−1を84部、(成分B)重合性化合物としてB−1を9部、(成分D)光熱変換剤としてD−1を4部、を投入して200℃で180分間混練した。その後、160℃まで冷却した後、(成分C)重合開始剤としてC−1を3部、投入し5分間混練し、レーザー彫刻用樹脂組成物1を得た。その後すぐに、(株)モリヤマ製の押出機で0.9mmの厚さに押出成型し、120℃のオーブン中で3時間加熱し、レリーフ形成層1を得た。
このレリーフ形成層の片方の面にカバーフィルムとして15μm厚ポリプロピレン(PP)フィルムを貼り付け、レリーフ形成層の反対の面に、UV硬化性接着剤を用いて、厚さ0.19mmのPETフィルムをラミネート成型した。このときUV硬化性接着剤の厚さが0.05mmとなるようにラミネートのクリアランスを調整し、カバーフィルム以外の版材厚さが1.14mmのレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版1を作製した。レリーフ形成層のショアA硬度を前述の測定方法により測定したところ、82°であった。
Example 1
<1. Preparation of flexographic printing plate precursor for laser engraving>
In a kneader manufactured by Moriyama Co., Ltd., (Component A) 84 parts of A-1 as a thermoplastic elastomer, (Component B) 9 parts of B-1 as a polymerizable compound, (Component D) D- 4 parts of 1 was added and kneaded at 200 ° C. for 180 minutes. Thereafter, after cooling to 160 ° C., 3 parts of C-1 as (Component C) polymerization initiator was added and kneaded for 5 minutes to obtain a resin composition 1 for laser engraving. Immediately thereafter, it was extruded to a thickness of 0.9 mm with an extruder manufactured by Moriyama Co., Ltd. and heated in an oven at 120 ° C. for 3 hours to obtain a relief forming layer 1.
A 15 μm-thick polypropylene (PP) film is attached as a cover film to one side of the relief forming layer, and a PET film having a thickness of 0.19 mm is applied to the opposite side of the relief forming layer using a UV curable adhesive. Laminated. At this time, the clearance of the laminate was adjusted so that the thickness of the UV curable adhesive was 0.05 mm, and the flexographic printing plate precursor 1 for laser engraving having a plate material thickness other than the cover film of 1.14 mm was produced. The Shore A hardness of the relief forming layer was measured by the above-described measuring method and found to be 82 °.

<2.フレキソ印刷版の製版>
得られた原版1のレリーフ形成層に対し、以下のレーザーにより彫刻した。
(FC−LDによる彫刻)
半導体レーザー彫刻機として、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザー(FC−LD)SDL−6390(JDSU社製、波長 915nm)を装備したレーザー記録装置を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:7.5W、ヘッド速度:409mm/秒、ピッチ設定:2,540DPIの条件で、30μmの凸細線を彫刻した。半導体レーザーで彫刻した場合は、元データをほぼ忠実に版上で再現することが可能で、レリーフ層に形成された凸細線は30μm幅であった。
<2. Flexographic printing plate making>
The relief forming layer of the obtained master 1 was engraved with the following laser.
(Sculpture by FC-LD)
As a semiconductor laser engraving machine, a laser recording apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser (FC-LD) SDL-6390 (JDSU, wavelength 915 nm) having a maximum output of 8.0 W was used. A 30 μm convex fine wire was engraved with a semiconductor laser engraving machine under the conditions of laser output: 7.5 W, head speed: 409 mm / second, pitch setting: 2,540 DPI. When engraving with a semiconductor laser, the original data could be reproduced on the plate almost faithfully, and the convex fine line formed on the relief layer was 30 μm wide.

<3.リンス液の作製>
本発明のリンス液は、以下の処方で調液した。
(成分1) 1−1 0.7質量部
(成分2) BC−5 固形分として、5質量部
シリコーン系消泡剤:TSA739(東レ・ダウコーニング(株)製) 0.01質量部
防腐剤:バイオホープ(イソチアゾリン系/ニトロブロモアルコール系、(株)理研グリーン製) 0.01質量部
(成分3)水道水 上記成分を含む液全量が100質量部になるように調整
<3. Preparation of rinse solution>
The rinse solution of the present invention was prepared according to the following formulation.
(Component 1) 1-1 0.7 parts by mass (Component 2) BC-5 As solids, 5 parts by mass silicone-based antifoaming agent: TSA739 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.01 parts by mass preservative : Biohope (isothiazoline / nitrobromoalcohol, manufactured by Riken Green Co., Ltd.) 0.01 parts by mass (component 3) tap water Adjusted so that the total amount of the liquid containing the above components is 100 parts by mass

<4.リンス工程>
以下の項目でフレキソ印刷版の性能評価を行い、結果を表1に示した。
上記方法にて彫刻したレリーフ層上に上記リンス液を版表面が均一に濡れるようにスポイトで滴下(約100ml/m2)し、2分静置後、馬毛ブラシを用いて荷重200gf(1.96N)で版を縦方向に20回(30秒)擦り、引き続き版を横方向に20回(30秒)擦った。リンス時の室温及びリンス液の温度は、共に25℃であった。
その後、流水にて版面を洗浄、版面の水分を除去し、1時間ほど自然乾燥した。
<4. Rinse process>
The performance of the flexographic printing plate was evaluated with the following items, and the results are shown in Table 1.
The rinsing liquid is dropped onto the relief layer engraved by the above method with a dropper (about 100 ml / m 2 ) so that the plate surface is evenly wet, and after standing for 2 minutes, a load of 200 gf (1 96 N), the plate was rubbed 20 times (30 seconds) in the vertical direction, and then the plate was rubbed 20 times (30 seconds) in the horizontal direction. Both the room temperature during rinsing and the temperature of the rinsing liquid were 25 ° C.
Thereafter, the plate surface was washed with running water, the water on the plate surface was removed, and air-dried for about 1 hour.

<5.フレキソ印刷版の評価>
〔リンス性〕
リンス済みのフレキソ印刷版の表面を倍率100倍のマイクロスコープ(キーエンス(株)製)で観察し、版上の取れ残りカスを評価した。評価基準は以下の通りである。
1:版全面にカスが付着している。
2:版画像凸部に僅かにカスが残っており、また、画像底部(凹部)にカスが残っている。
3:版画像凸部に僅かにカスが残っており、また、画像底部(凹部)に僅かにカスが
残っている。
4:画像底部(凹部)に僅かにカスが残っているのみである。
5:まったく版上にカスが残っていない。
評価4以上であれば、実用上許容できるレベルである。
なお、表中のリンス性の項目における「評価不可」とは、リンス液中の有機溶剤と水とが2相に分離したため、リンス液として使用することができず、リンス性の評価ができなかったことを意味している。
<5. Evaluation of flexographic printing plates>
[Rinse]
The surface of the rinsed flexographic printing plate was observed with a microscope (manufactured by Keyence Co., Ltd.) with a magnification of 100 times, and the remaining residue on the plate was evaluated. The evaluation criteria are as follows.
1: Waste is attached to the entire surface of the plate.
2: Slight residue remains on the convex portion of the plate image, and residue remains on the bottom (recess portion) of the image.
3: A slight amount of residue remains on the convex portion of the plate image, and a small amount of residue remains on the bottom (recess portion) of the image.
4: Only a slight residue remains on the bottom (recess) of the image.
5: No residue remains on the plate.
If the evaluation is 4 or more, it is a practically acceptable level.
In the table, the “rinsing ability” in the rinsing property item cannot be used as a rinsing solution because the organic solvent and water in the rinsing solution are separated into two phases, and the rinsing property cannot be evaluated. It means that.

〔UVインキ耐刷性〕
得られたフレキソ印刷版を印刷機((株)太陽機械製作所製)に、クッションテープとしてLohmann5.1+を用いてセットし、インクとしてUVフレキソ500藍(UVインキ、(株)T&K TOKA製)を用い、900lpiのアニロックスローラを用いて、印刷紙としてフルカラーフォームM 70(日本製紙(株)製、厚さ100μm)に印刷を行った。フレキソ印刷版とアニロックスローラとのタッチ圧はキスタッチから100μm押込み、フレキソ印刷版と印刷紙とのタッチ圧はキスタッチから160μm押込んだ条件で、部数50万部まで印刷した。
得られた印刷物の細線画像をルーペで観察し、細線が途切れたり、よれたりした時点を刷了とし、刷了までに印刷することができた部数を耐刷性の指標とした。数値が大きいほど耐刷性に優れる。
なお、表中のUVインキ耐刷性の項目における「評価不可」とは、リンス性が非常に低いレベルであったため、印刷物の細線画像が60μm幅以上の太線になったか、又は、リンス性が「評価不可」であり、リンス工程を行うことができなかったため、UVインキ耐刷性を評価できなかったことを意味している。
[UV ink printing durability]
The obtained flexographic printing plate is set on a printing press (manufactured by Taiyo Machinery Co., Ltd.) using Lohmann 5.1+ as a cushion tape, and UV flexo 500 indigo (UV ink, manufactured by T & K TOKA) is used as ink. Using a 900 lpi anilox roller, printing was performed on full-color form M70 (manufactured by Nippon Paper Industries Co., Ltd., thickness: 100 μm) as printing paper. Printing was performed up to 500,000 copies under the condition that the touch pressure between the flexographic printing plate and the anilox roller was 100 μm indentation from the kiss touch, and the touch pressure between the flexographic printing plate and the printing paper was indented 160 μm from the kiss touch.
The thin line image of the obtained printed matter was observed with a magnifying glass, and when the fine line was interrupted or twisted, the printing was completed, and the number of copies that could be printed before the printing was used as an index of printing durability. The larger the value, the better the printing durability.
In the table, “not evaluated” in the UV ink printing durability item indicates that the rinsing property is at a very low level, so that the fine line image of the printed material has become a thick line of 60 μm width or more, or the rinsing property is “Evaluation not possible” means that the rinsing process could not be performed, and thus the UV ink printing durability could not be evaluated.

(実施例2〜120、比較例1〜26)
実施例1で用いた成分A、成分1、成分2の化合物種、及び、成分1、成分2の処方量、彫刻に用いたレーザー種を表1〜5又は7に示すように変更し、更には、リンス液のpHが表1の値となるように水酸化ナトリウム適当量をリンス液に添加した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例1と同様にして評価した。
(Examples 2-120, Comparative Examples 1-26)
The component A, component 1 and component 2 compound types used in Example 1, and the prescription amounts of component 1 and component 2 and the laser species used for engraving were changed as shown in Tables 1 to 5 or 7, and Prepared a flexographic printing plate precursor for laser engraving and a rinsing solution in the same manner as in Example 1 except that an appropriate amount of sodium hydroxide was added to the rinsing solution so that the pH of the rinsing solution was the value shown in Table 1. Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1.

(CO2レーザーによる彫刻)
実施例99〜120では、炭酸ガスレーザーによる彫刻を行った。
炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)彫刻機として、高品位CO2レーザーマーカML−9100シリーズ((株)キーエンス製)を用いた。レーザー彫刻用印刷版原版1からカバーフィルムを剥離後、炭酸ガスレーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,540DPIの条件で、30μm幅の凸細線を彫刻した。炭酸ガスレーザーで彫刻した場合、元データに対する版上の画像再現性は、半導体レーザーを使用した場合よりも劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均24μm幅であった。
(Engraving with CO 2 laser)
In Examples 99 to 120, engraving with a carbon dioxide laser was performed.
As a carbon dioxide laser (CO 2 laser) engraving machine, a high quality CO 2 laser marker ML-9100 series (manufactured by Keyence Corporation) was used. After peeling the cover film from the printing plate precursor 1 for laser engraving, a carbon dioxide laser engraving machine was used to engrave a 30 μm wide convex fine line under the conditions of output: 12 W, head speed: 200 mm / second, pitch setting: 2,540 DPI . When engraving with a carbon dioxide laser, the image reproducibility on the plate with respect to the original data was inferior to that when using a semiconductor laser, and the convex fine lines formed in the relief layer had an average width of 24 μm.

(実施例121〜142)
実施例1に記載の(成分D)光熱変換剤を用いず、実施例1で用いた成分A、成分1、成分2の化合物種、及び、成分1、成分2の処方量を表5に示すように変更し、更には彫刻に用いたレーザーをCO2レーザーとした以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例1と同様にして評価した。このときの元データに対する版上の画像再現性は、半導体レーザーを使用した場合よりもやや劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均27μm幅であった。
(Examples 121-142)
Table 5 shows the component A, component 1 and component 2 compound types used in Example 1, and component 1 and component 2 prescription amounts without using the (component D) photothermal conversion agent described in Example 1. In addition, except that the laser used for engraving was changed to CO 2 laser, a flexographic printing plate precursor for laser engraving and a rinsing solution were prepared in the same manner as in Example 1, except that the laser used for engraving was changed to CO 2 laser. evaluated. The image reproducibility on the plate with respect to the original data at this time was slightly inferior to that when a semiconductor laser was used, and the convex fine lines formed on the relief layer had an average width of 27 μm.

(実施例143〜164)
実施例1に記載の(成分D)光熱変換剤を用いず、(成分C)を光重合開始剤であるIrgacure651(2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、BASF社製)に置き換え、成型されたレリーフ形成層に対し、架橋工程として光化学的補強とデタックの工程(長波のUVライト(UVA)を使用し約12J/cm2の光量を照射、次いで短波のUVライト(UVC)照射)を追加し、実施例1で用いた成分A、成分1、成分2の化合物種、及び、成分1、成分2の処方量を表6に示すように変更し、更には彫刻に用いたレーザーをCO2レーザーとした以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とリンス液を作製し、実施例1と同様にして評価した。このときの元データに対する版上の画像再現性は半導体レーザーを使用した場合よりも少し劣り、レリーフ層に形成された凸細線は平均36μm幅であった。
(Examples 143 to 164)
Irgacure 651 (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one as a photopolymerization initiator, manufactured by BASF, without using the (component D) photothermal conversion agent described in Example 1, ) And the molded relief forming layer is subjected to photochemical reinforcement and detacking as a crosslinking process (using a long wave UV light (UVA) to irradiate about 12 J / cm 2 , followed by a short wave UV light ( UVC) irradiation) was added, and the compound A, component 1, and component 2 types used in Example 1 and the prescription amounts of component 1 and component 2 were changed as shown in Table 6, and further to engraving A flexographic printing plate precursor and a rinsing liquid for laser engraving were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the laser used was a CO 2 laser. At this time, the image reproducibility on the plate with respect to the original data was slightly inferior to that when a semiconductor laser was used, and the convex fine lines formed in the relief layer had an average width of 36 μm.

(比較例27)
実施例1に記載のリンス液を、Purple Power Industrial Strength Cleaner/Degreaser
(AIKEN Chemical社製、pH11.2、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル含有、希釈せず原液で使用)に変更した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を作製し、実施例1と同様にして評価した。
(Comparative Example 27)
The rinsing solution described in Example 1 was used as a Purple Power Industrial Strength Cleaner / Degreaser
A flexographic printing plate precursor for laser engraving was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was changed to (manufactured by AIKEN Chemical, pH 11.2, containing ethylene glycol mono n-butyl ether, undiluted and used in the stock solution). Evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

Figure 2015030122
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Claims (13)

架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を準備する工程、
前記印刷版原版を、画像様にレーザー彫刻する工程、
彫刻された表面を、(成分1)下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、並びに、(成分3)水、を含有する水性リンス液を用いてリンスする工程を含有し、
前記架橋したレリーフ形成層が、(成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋した層であり、
成分1の含有量が水性リンス液の全質量に対して0.5〜45質量%であることを特徴とする、
フレキソ印刷版の製版方法。
Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、
式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、
式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
Preparing a flexographic printing plate precursor for laser engraving having a crosslinked relief-forming layer;
A step of laser engraving the printing plate precursor into an image,
The engraved surface (component 1) alcohols represented by the following formula (I), ethylene glycol ethers represented by the following formula (II), and ketones represented by the following formula (III), Rinsing with an aqueous rinsing liquid containing an organic solvent selected from the group consisting of: (Component 2) an amphoteric surfactant and / or an anionic surfactant; and (Component 3) water. Contains,
The crosslinked relief-forming layer comprises a resin composition for laser engraving containing (Component A) a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator. A layer crosslinked by light,
The content of component 1 is 0.5 to 45% by mass with respect to the total mass of the aqueous rinse liquid,
How to make flexographic printing plates.
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4-5,
In formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. When X and Y are both hydrogen atoms, R 4 represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group. , R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and when one of X and Y is a hydrogen atom and the other is a methyl group, R 4 has 3 to 4 carbon atoms. Represents a linear or branched alkyl group, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms,
In formula (III), R 6 and R 7 each independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of R 6 and R 7 is 4 to 6. ]
成分1が、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、2−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、請求項1に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   Component 1 is 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 4-methyl-2-pentanol The method for making a flexographic printing plate according to claim 1, which is a compound selected from the group consisting of ethylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, diethyl ketone, and 2-pentanone. 成分1が、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、請求項2に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   The plate making method of a flexographic printing plate according to claim 2, wherein component 1 is propylene glycol mono n-butyl ether or diethyl ketone. 成分1の20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   The plate making method of a flexographic printing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the solubility of component 1 in water at 20 ° C is 1.5 to 10.0 g / 100 ml. 成分2が、下記式(IV)又は下記式(V)で表される両性界面活性剤である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。
Figure 2015030122
〔式(IV)中、R8〜R10は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、
式(V)中、R11〜R13は、それぞれ独立に一価の有機基を表し、Lは二価の連結基を表し、AはCOO又はSO3を表す。〕
The plate making method of the flexographic printing plate as described in any one of Claims 1-4 whose component 2 is an amphoteric surfactant represented by following formula (IV) or following formula (V).
Figure 2015030122
Wherein (IV), R 8 ~R 10 independently denotes a monovalent organic group,
In the formula (V), R 11 to R 13 each independently represents a monovalent organic group, L represents a divalent linking group, and A represents COO or SO 3 . ]
成分2が、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、又は、硫酸エステル塩である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   The plate making method of the flexographic printing plate as described in any one of Claims 1-4 whose component 2 is a benzenesulfonate, naphthalenesulfonate, or a sulfate ester salt. 成分Aが、スチレン系熱可塑性エラストマーである、請求項1〜6のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法。   The plate making method of the flexographic printing plate as described in any one of Claims 1-6 whose component A is a styrene-type thermoplastic elastomer. 請求項1〜7のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版の製版方法により得られたフレキソ印刷版。   The flexographic printing plate obtained by the plate-making method of the flexographic printing plate as described in any one of Claims 1-7. (成分1)下記式(I)で表されるアルコール類、下記式(II)で表されるエチレングリコールエーテル類、及び、下記式(III)で表されるケトン類、よりなる群から選ばれた有機溶剤、(成分2)両性界面活性剤、及び/又は、アニオン性界面活性剤、並びに、(成分3)水、を含有し、
成分1の含有量が水性リンス液の全質量に対して0.5〜45質量%であることを特徴とする、
レーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。
Figure 2015030122
〔式(I)中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3の直鎖アルキル基、又は、炭素数3〜4の分岐アルキル基を表し、R1、R2及びR3の炭素数の合計は4〜5であり、
式(II)中、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X及びYが共に水素原子のとき、R4はn−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、R5は水素原子、n−プロピル基、イソプロピル基、又は、分岐したブチル基を表し、X及びYの一方が水素原子、もう一方がメチル基のとき、R4は炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、R5は水素原子若しくは炭素数3〜4の直鎖又は分岐アルキル基を表し、
式(III)中、R6及びR7はそれぞれ独立に炭素数1〜3のアルキル基を表し、R6及びR7の炭素数の合計は4〜6である。〕
(Component 1) selected from the group consisting of alcohols represented by the following formula (I), ethylene glycol ethers represented by the following formula (II), and ketones represented by the following formula (III) An organic solvent, (Component 2) an amphoteric surfactant, and / or an anionic surfactant, and (Component 3) water,
The content of component 1 is 0.5 to 45% by mass with respect to the total mass of the aqueous rinse liquid,
Rinsing solution for laser engraving flexographic printing plates.
Figure 2015030122
[Expressed in formula (I), R 1, R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a branched alkyl group of 3-4 carbon atoms, R 1, The total number of carbon atoms of R 2 and R 3 is 4-5,
In formula (II), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. When X and Y are both hydrogen atoms, R 4 represents an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group. , R 5 represents a hydrogen atom, an n-propyl group, an isopropyl group, or a branched butyl group, and when one of X and Y is a hydrogen atom and the other is a methyl group, R 4 has 3 to 4 carbon atoms. Represents a linear or branched alkyl group, R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 3 to 4 carbon atoms,
In formula (III), R 6 and R 7 each independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and the total number of carbon atoms of R 6 and R 7 is 4 to 6. ]
成分1が、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノt−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチルケトン、及び、2−ペンタノンよりなる群から選ばれた化合物である、請求項9に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。   Component 1 is 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 4-methyl-2-pentanol The rinse solution for laser engraving-type flexographic printing plates according to claim 9, which is a compound selected from the group consisting of ethylene glycol mono t-butyl ether, propylene glycol mono n-butyl ether, diethyl ketone, and 2-pentanone. 成分1が、プロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、又は、ジエチルケトンである、請求項10に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。   The rinse liquid for laser engraving-type flexographic printing plates according to claim 10, wherein Component 1 is propylene glycol mono n-butyl ether or diethyl ketone. 成分1の20℃における水への溶解度が1.5〜10.0g/100mlである、請求項9〜11のいずれか一項に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液。   The rinse liquid for laser engraving-type flexographic printing plates according to any one of claims 9 to 11, wherein the solubility of component 1 in water at 20 ° C is 1.5 to 10.0 g / 100 ml. (成分A)熱可塑性エラストマーと、(成分B)重合性化合物と、(成分C)重合開始剤と、を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、熱及び/又は光により架橋したレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、並びに、
請求項9〜12のいずれか一項に記載のレーザー彫刻型フレキソ印刷版用リンス液を含有することを特徴とする、
レーザー彫刻型フレキソ印刷版製版キット。
A relief forming layer obtained by crosslinking a resin composition for laser engraving containing (Component A) a thermoplastic elastomer, (Component B) a polymerizable compound, and (Component C) a polymerization initiator by heat and / or light. A flexographic printing plate precursor for laser engraving, and
It contains the rinse liquid for laser engraving-type flexographic printing plates according to any one of claims 9 to 12,
Laser engraving flexographic printing plate making kit.
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