JP2011068031A - Resin composition for laser engraving, relief printing plate original plate for laser engraving, manufacturing method of the same, relief printing plate, and plate making method of the same - Google Patents

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敦司 菅▲崎▼
Seiichi Hitomi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for laser engraving by which a relief printing plate excellent in a rinsing property of engraving waste generated during laser engraving and excellent in the elasticity and ink transferring property of the formed relief layer can be obtained. <P>SOLUTION: The resin composition for laser engraving includes (a) a compound represented by one of formulae (1) to (4) and (b) a binder polymer. Here, R<SP>1</SP>represents a bonding group, R<SP>2</SP>to R<SP>6</SP>independently represent monovalent organic groups respectively, A represents a (m+n)valent organic bonding group, k represents an integer of 0 to 4, m represents an integer of 1 to 4, n represents an integer of 1 to 4. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a resin composition for laser engraving, a relief printing plate precursor for laser engraving and a production method thereof, and a relief printing plate and a plate making method thereof.

支持体表面積に積層された感光性樹脂層に凹凸を形成して印刷版を形成する方法としては、感光性組成物を用いて形成したレリーフ形成層に、原画フィルムを介して紫外光により露光し、画像部分を選択的に硬化させて、未硬化部を現像液により除去する方法、いわゆる「アナログ製版」が良く知られている。
レリーフ印刷版は、凹凸を有するレリーフ層を有する凸版印刷版であり、このような凹凸を有するレリーフ層は、主成分として、例えば、合成ゴムのようなエラストマー性ポリマー、熱可塑性樹脂などの樹脂、或いは、樹脂と可塑剤との混合物を含有する感光性組成物を含有するレリーフ形成層をパターニングし、凹凸を形成することにより得られる。このようなレリーフ印刷版うち、軟質なレリーフ層を有するものをフレキソ版と称することがある。
As a method for forming a printing plate by forming irregularities on a photosensitive resin layer laminated on a surface area of a support, a relief forming layer formed using a photosensitive composition is exposed to ultraviolet light through an original film. A method of selectively curing an image portion and removing an uncured portion with a developer, so-called “analog plate making” is well known.
The relief printing plate is a relief printing plate having a relief layer having irregularities, and the relief layer having such irregularities includes, for example, an elastomeric polymer such as synthetic rubber, a resin such as a thermoplastic resin, Alternatively, it is obtained by patterning a relief forming layer containing a photosensitive composition containing a mixture of a resin and a plasticizer to form irregularities. Among such relief printing plates, those having a soft relief layer are sometimes referred to as flexographic plates.

レリーフ印刷版をアナログ製版により作製する場合、一般に銀塩材料を用いた原画フィルムを必要とするため、原画フィルムの製造時間及びコストを要する。さらに、原画フィルムの現像に化学的な処理が必要で、かつ現像廃液の処理をも必要とすることから、さらに簡易な版の作製方法、例えば、原画フィルムを用いない方法、現像処理を必要としない方法などが検討されている。
現像工程を必要としない製版方法として、レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が知られている。直彫りCTP方式は、文字通りレーザーで彫刻することにより、レリーフとなる凹凸を形成する方法で、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができるという利点がある。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、あるいは、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をする、なども可能である。
これまで直彫りCTP方式で用いられた版材は、版材の特性を決定するバインダーとして、疎水性のエラストマー(ゴム)を用いたもの(例えば、特許文献1参照。)や、親水性のポリビニルアルコール誘導体を用いたもの(例えば、特許文献2参照。)などが多数提案されている。
When producing a relief printing plate by analog plate making, since an original image film using a silver salt material is generally required, the production time and cost of the original image film are required. Furthermore, since chemical processing is required for development of the original image film and processing of the development waste liquid is also required, a simpler plate preparation method, for example, a method that does not use the original image film, and development processing are required. The method of not doing is examined.
As a plate making method that does not require a development step, a so-called “direct engraving CTP method” is known in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate. The direct engraving CTP method literally engraves with a laser to form reliefs, and has the advantage that the relief shape can be freely controlled, unlike the relief formation using the original film. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure, etc. Is also possible.
The plate material used in the direct engraving CTP method so far uses a hydrophobic elastomer (rubber) as a binder for determining the properties of the plate material (see, for example, Patent Document 1) or hydrophilic polyvinyl. Many things using an alcohol derivative (for example, refer to patent documents 2) etc. are proposed.

また、直彫りCTP方式でのレリーフ印刷版において、レーザー彫刻で生じた彫刻カスを容易に除去する方法としては、特許文献3〜5が知られている。
特許文献3には、無機多孔質体微粒子を含有する感光性樹脂組成物の光硬化物からなるレーザー彫刻可能な印刷原版において、該印刷原版を窒素雰囲気中、昇温速度10℃/分の条件で室温から昇温して熱重量分析(TGA)した場合に、重量減少率が50%の温度が150℃以上400℃以下であることを特徴とするレーザー彫刻印刷原版が記載されている。
特許文献4には、(A)下記式(1)で示される構造単位及び下記式(2)で示される構造単位の少なくともいずれかを主鎖中に有する高分子化合物、及び(B)バインダーポリマーを含有することを特徴とするレーザー分解性樹脂組成物が記載されている。
Patent Documents 3 to 5 are known as methods for easily removing engraving debris generated by laser engraving in a relief printing plate using the direct engraving CTP method.
In Patent Document 3, in a printing original plate capable of laser engraving made of a photocured product of a photosensitive resin composition containing inorganic porous fine particles, the printing original plate is subjected to a temperature increase rate of 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere. The laser engraving printing original plate is characterized in that when the temperature is increased from room temperature and thermogravimetric analysis (TGA) is performed, the temperature at which the weight reduction rate is 50% is 150 ° C. or more and 400 ° C. or less.
Patent Document 4 includes (A) a polymer compound having at least one of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2) in the main chain, and (B) a binder polymer. A laser-decomposable resin composition is described, which contains

Figure 2011068031
Figure 2011068031

一方、平版印刷版原版としては、特許文献5が知られている。
特許文献5には、親水性表面を有する支持体の上に、(a)側鎖に熱により疎水性から親水性に変化する官能基と親水性官能基を有する疎水性高分子化合物と(b)レーザー光を吸収して熱に変換しうる光吸収剤を含有する層を有する平版印刷版用原版が記載されている。
On the other hand, Patent Document 5 is known as a lithographic printing plate precursor.
In Patent Document 5, on a support having a hydrophilic surface, (a) a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic on the side chain by heat and a hydrophobic polymer compound having a hydrophilic functional group (b) ) A lithographic printing plate precursor having a layer containing a light absorber capable of absorbing laser light and converting it into heat is described.

米国特許第5798202号明細書US Pat. No. 5,798,202 特開2006−2061号公報JP 2006-2061 A 特開2004−174758号公報JP 2004-174758 A 特開2008−45102号公報JP 2008-45102 A 特開2000−39708号公報JP 2000-39708 A

本発明の目的は、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を使用したレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition for laser engraving, which is excellent in rinsing property of engraving residue generated during laser engraving, and can provide a relief printing plate excellent in elasticity and ink transferability of a formed relief layer, It is to provide a relief printing plate precursor for laser engraving using a resin composition for engraving and a production method thereof, and a relief printing plate and a plate making method thereof.

本発明の上記課題は、以下の<1>、<9>、<10>、<12>、<14>又は<16>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<8>、<11>、<13>及び<15>とともに以下に記載する。
<1> (a)下記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物、及び、(b)バインダーポリマーを含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、
The above-mentioned problems of the present invention have been solved by means described in the following <1>, <9>, <10>, <12>, <14> or <16>. It is described below together with <2> to <8>, <11>, <13> and <15> which are preferred embodiments.
<1> (a) a resin composition for laser engraving, comprising a compound represented by any one of the following formulas (1) to (4), and (b) a binder polymer;

Figure 2011068031
(式(1)〜(4)中、R1は結合性基を表し、R2〜R6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Aは(m+n)価の有機連結基を表し、kは0〜4の整数を表し、mは1〜4の整数を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 2011068031
(In formulas (1) to (4), R 1 represents a binding group, R 2 to R 6 each independently represents a monovalent organic group, and A represents an (m + n) -valent organic linking group. , K represents an integer of 0 to 4, m represents an integer of 1 to 4, and n represents an integer of 1 to 4.)

<2>前記結合性基が、−SiR789、酸無水物残基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシ基、−C(=O)−R10、エポキシ基、及び、メルカプト基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、上記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
(上記−SiR789におけるR7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表し、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子であり、上記−C(=O)−R10におけるR10は、水素原子、又は、アルキル基を表す。)
<3>前記mが1である、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<4>(c)架橋剤をさらに含有する、上記<1>〜<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<5>(d)架橋促進剤をさらに含有する、上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<6>(e)光熱変換剤をさらに含有する、上記<1>〜<5>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<7>(f)重合開始剤及び(g)重合性化合物をさらに含有する、上記<1>〜<6>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<8>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<9>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<10>前記架橋レリーフ形成層のショアA硬度が、50°以上90°以下である、上記<9>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<11>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<12>前記架橋工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋する工程である、上記<11>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<13>上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、並びに、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程、を含むレリーフ印刷版の製版方法、
<14>前記レリーフ層の厚さが、0.05mm以上10mm以下である、上記<13>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、
<15>上記<13>又は<14>に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ印刷版。
<2> The binding group is —SiR 7 R 8 R 9 , acid anhydride residue, methacryloyl group, acryloyl group, styryl group, vinyloxy group, isocyanate group, blocked isocyanate group, amino group, hydroxy group, —C (= O) -R 10 , the resin composition for laser engraving according to <1>, which is at least one group selected from the group consisting of an epoxy group and a mercapto group,
(In each of R 7 to R 9 independently of the -SiR 7 R 8 R 9, a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a monovalent organic group, at least one of R 7 to R 9 is an alkyl group , an alkoxy group, or a halogen atom, R 10 in the -C (= O) -R 10 represents a hydrogen atom, or an alkyl group.)
<3> The resin composition for laser engraving according to <1> or <2>, wherein m is 1.
<4> (c) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <3>, further containing a crosslinking agent,
<5> (d) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <4>, further containing a crosslinking accelerator,
<6> (e) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <5>, further containing a photothermal conversion agent,
<7> The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <6>, further comprising (f) a polymerization initiator and (g) a polymerizable compound,
<8> A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <7> above,
<9> A relief printing plate precursor for laser engraving having a crosslinked relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <7> above,
<10> The relief printing plate precursor for laser engraving according to <9>, wherein the Shore A hardness of the crosslinked relief forming layer is 50 ° or more and 90 ° or less,
<11> A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <7>, and the relief forming layer with heat and / or light A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinking step of obtaining a relief printing plate precursor that is crosslinked and has a crosslinked relief-forming layer,
<12> The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to <11>, wherein the crosslinking step is a step of crosslinking the relief forming layer with heat,
<13> A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <7>, and crosslinking the relief forming layer with heat and / or light. A method for making a relief printing plate comprising a crosslinking step for obtaining a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer, and a engraving step for laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer to form a relief layer,
<14> The plate-making method of the relief printing plate according to <13>, wherein the relief layer has a thickness of 0.05 mm or more and 10 mm or less,
<15> A relief printing plate made by the plate making method of a relief printing plate according to <13> or <14> above.

本発明によれば、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、形成されるレリーフ層の弾性及びインキ転移性に優れたレリーフ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を使用したレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法を提供することができた。   According to the present invention, the resin composition for laser engraving capable of obtaining a relief printing plate excellent in rinsing property of engraving residue generated during laser engraving and excellent in elasticity and ink transferability of the formed relief layer, the laser It was possible to provide a relief printing plate precursor for laser engraving using a resin composition for engraving and a production method thereof, and a relief printing plate and a plate making method thereof.

本発明に用いることができるファイバー付き半導体レーザー記録装置を備える製版装置を示す概略構成図(斜視図)である。It is a schematic block diagram (perspective view) which shows a plate making apparatus provided with the semiconductor laser recording apparatus with a fiber which can be used for this invention.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(レーザー彫刻用樹脂組成物)
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物(以下、単に「本発明の樹脂組成物」ともいう。)は、(a)下記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物(以下、「特定化合物」ともいう。)、及び、(b)バインダーポリマーを含有することを特徴とする。
(Resin composition for laser engraving)
The resin composition for laser engraving of the present invention (hereinafter also simply referred to as “resin composition of the present invention”) is a compound represented by (a) any of the following formulas (1) to (4) (hereinafter, It is also called “specific compound”) and (b) a binder polymer.

Figure 2011068031
(式(1)〜(4)中、R1は結合性基を表し、R2〜R6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Aは(m+n)価の有機連結基を表し、kは0〜4の整数を表し、mは1〜4の整数を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 2011068031
(In formulas (1) to (4), R 1 represents a binding group, R 2 to R 6 each independently represents a monovalent organic group, and A represents an (m + n) -valent organic linking group. , K represents an integer of 0 to 4, m represents an integer of 1 to 4, and n represents an integer of 1 to 4.)

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、前記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物を含有することにより、レーザー露光での熱によりエステル部分が熱的に分解し、スルホン酸基やホスホン酸基、カルボン酸基、フェノール性水酸基などの酸性官能基が生成し、彫刻カスの親水性が向上していると推定される。
さらに、前記式(1)〜(4)で表される化合物は、結合性基を有することにより、混合時、加熱時及び/又はレーザー彫刻時などにおいて、(b)バインダーポリマーや(c)架橋剤と結合し、レーザー彫刻後の彫刻カス中に酸性官能基を生成した状態にある特定化合物由来の部位が残存しやすくなり、彫刻カス自体が親水性になることを促していると推定される。
これらの結果として、彫刻カスの水溶性や水分散性が向上し、彫刻カスのリンス性に優れると推定される。
また、特許文献4に記載されたポリマーは、リンス性改良効果はあるものの、スルホン酸エステル基を主鎖に有するため剛直な化学構造となり、フレキソ印刷版として使用する場合に膜の柔軟性が不足傾向となる。その結果、該フレキソ印刷版はインキ転移性(版材から被印刷物へのインキの転写)が不十分となることがある。本発明の樹脂組成物は、前記(a)下記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物を用いることで、リンス性だけでなくインキ転移性も良好となる。
The resin composition for laser engraving of the present invention contains a compound represented by any one of the above formulas (1) to (4), whereby the ester moiety is thermally decomposed by heat in laser exposure, and sulfone It is presumed that acidic functional groups such as acid groups, phosphonic acid groups, carboxylic acid groups, and phenolic hydroxyl groups are generated, and the hydrophilicity of the engraving residue is improved.
Furthermore, the compounds represented by the formulas (1) to (4) have a binding group, so that during mixing, heating and / or laser engraving, (b) binder polymer and (c) crosslinking It is presumed that a part derived from a specific compound in a state where an acidic functional group is generated in the engraving residue after laser engraving is likely to remain in the engraving residue after laser engraving, and that the engraving residue itself is promoted to be hydrophilic. .
As a result of these, it is presumed that the water solubility and water dispersibility of the engraving residue are improved, and the rinse property of the engraving residue is excellent.
Moreover, although the polymer described in Patent Document 4 has an effect of improving rinsing properties, it has a rigid chemical structure because it has a sulfonic acid ester group in the main chain, and the flexibility of the film is insufficient when used as a flexographic printing plate. It becomes a trend. As a result, the flexographic printing plate may have insufficient ink transfer properties (transfer of ink from the plate material to the printing material). In the resin composition of the present invention, by using the compound represented by any one of the following formulas (1) to (4), not only rinse properties but also ink transfer properties are improved.

本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻が施される樹脂造形物の形成用途に、特に限定なく広範囲に適用することができる。例えば、本発明の樹脂組成物の適用態様として、具体的には、レーザー彫刻により画像形成を行う画像形成材料の画像形成層、凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版のレリーフ形成層、凹版、孔版、スタンプ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻により画像形成を行う画像形成材料の画像形成層、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層に、特に好適に用いることができる。
以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成要素について説明する。
The resin composition of the present invention can be applied to a wide range of applications for forming a resin shaped article subjected to laser engraving without any particular limitation. For example, as an application mode of the resin composition of the present invention, specifically, an image forming layer of an image forming material that forms an image by laser engraving, a relief forming layer of a printing plate precursor that forms a convex relief by laser engraving , Intaglio, stencil, stamp and the like, but are not limited thereto. The resin composition of the present invention can be particularly suitably used for an image forming layer of an image forming material for forming an image by laser engraving and a relief forming layer in a relief printing plate precursor for laser engraving.
Hereinafter, the components of the resin composition for laser engraving will be described.

(a)式(1)〜(4)で表される化合物(特定化合物)
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(a)式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物を含有する。
前記式(1)〜(4)で表される化合物におけるR1は、結合性基を表し、−SiR789、酸無水物残基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシ基、−C(=O)−R10、エポキシ基、及び、メルカプト基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることが好ましく、−SiR789、メタクリロイル基、及び、アクリロイル基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基であることがより好ましく、−SiR789であることが更に好ましい。
前記−SiR789におけるR7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表し、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子である。
前記−SiR789におけるR7〜R9のうち少なくとも1つはアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることが好ましく、R7〜R9のうち少なくとも2つはアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることがより好ましく、R7〜R9の全てがアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることが更に好ましく、R7〜R9の全てがアルコキシ基であることが最も好ましい。
前記−C(=O)−R10におけるR10は、水素原子、又は、アルキル基を表す。
前記式(1)〜(4)で表される化合物における結合性基の数mとしては、1〜4の整数であり、1〜3の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
(A) Compounds represented by formulas (1) to (4) (specific compounds)
The resin composition for laser engraving of the present invention contains (a) a compound represented by any one of formulas (1) to (4).
R 1 in the compounds represented by the formulas (1) to (4) represents a binding group, —SiR 7 R 8 R 9 , an acid anhydride residue, a methacryloyl group, an acryloyl group, a styryl group, a vinyloxy group. , An isocyanate group, a blocked isocyanate group, an amino group, a hydroxy group, —C (═O) —R 10 , an epoxy group, and a mercapto group, and preferably at least one group selected from the group consisting of — It is more preferably at least one group selected from the group consisting of SiR 7 R 8 R 9 , methacryloyl group, and acryloyl group, and more preferably —SiR 7 R 8 R 9 .
Wherein the -SiR 7 R 7 ~R 9 in R 8 R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a monovalent organic group, at least one of R 7 to R 9 is an alkyl group, An alkoxy group or a halogen atom.
In the —SiR 7 R 8 R 9, at least one of R 7 to R 9 is preferably an alkoxy group or a halogen atom, and at least two of R 7 to R 9 are an alkoxy group or halogen. It is more preferably an atom, all of R 7 to R 9 are more preferably an alkoxy group or a halogen atom, and most preferably all of R 7 to R 9 are an alkoxy group.
R 10 in the -C (= O) -R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The number m of the binding groups in the compounds represented by the formulas (1) to (4) is an integer of 1 to 4, preferably an integer of 1 to 3, and preferably 1 or 2. More preferably, 1 is even more preferable.

前記式(1)〜(4)で表される化合物におけるR2〜R6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表す。
前記R2〜R5における一価の有機基としては、特に制限はないが、アルキル基であることが好ましく、第二級アルキル基、第三級アルキル基、又は、1−アルコキシ置換第一級アルキル基であることがより好ましく、第二級アルキル基、又は、第三級アルキル基であることが更に好ましい。
前記一価の有機基におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状であってもよく、また、置換基を有していても、アルキル基の炭素原子の一部がエーテル結合性酸素原子で置換されていてもよい。
前記一価の有機基におけるアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基を好ましく挙げることができる。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基等を挙げることができる。これらの中では、炭素数1〜12の直鎖状のアルキル基、炭素数3〜12の分岐状のアルキル基、及び、炭素数5〜10の環状のアルキル基がより好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、特に制限はないが、アルコキシ基であることが好ましい。
上記アルコキシ基としては、熱分解性と皮膜性との観点から、炭素数1〜10のものが好ましく、炭素数1〜8のものがより好ましく、炭素数1〜5のものが特に好ましい。
また、前記一価の有機基においては、アルコキシ基とアルキル基とが結合して環構造を形成していてもよい。
R 2 to R 6 in the compounds represented by the formulas (1) to (4) each independently represent a monovalent organic group.
The monovalent organic group in R 2 to R 5 is not particularly limited, but is preferably an alkyl group, and is a secondary alkyl group, a tertiary alkyl group, or a 1-alkoxy substituted primary group. It is more preferably an alkyl group, and further preferably a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group.
The alkyl group in the monovalent organic group may be linear, branched or cyclic, and even if it has a substituent, some of the carbon atoms of the alkyl group are ether-bonded oxygen atoms. May be substituted.
Preferred examples of the alkyl group in the monovalent organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group. , Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group , 2-norbornyl group and the like. Among these, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited, but is preferably an alkoxy group.
As the alkoxy group, those having 1 to 10 carbon atoms are preferable, those having 1 to 8 carbon atoms are more preferable, and those having 1 to 5 carbon atoms are particularly preferable from the viewpoints of thermal decomposability and film property.
In the monovalent organic group, an alkoxy group and an alkyl group may be bonded to form a ring structure.

前記式(1)におけるR2及びR3としては、第二級アルキル基、又は、1−アルコキシ置換第一級アルキル基であることが好ましく、1−メトキシ−2−プロピル基、又は、シクロヘキシル基であることがより好ましく、1−メトキシ−2−プロピル基であることが更に好ましい。
また、前記式(3)におけるR4としては、リンス性の点から、第三級アルキル基であることが好ましく、t−ブチル基であることがより好ましい。
また、前記式(4)におけるR5としては、第三級アルキル基、又は、1−アルコキシ置換第一級アルキル基であることが好ましく、1−アルコキシ置換第一級アルキル基であることがより好ましく、1−メトキシ−2−プロピル基、又は、2−テトラヒドロピラニル基であることが更に好ましい。
前記式(1)〜(4)で表される化合物における酸性官能基を生成する基の数nは、1〜4の整数を表し、1〜3の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
前記式(4)で表される化合物におけるR6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく挙げられる。
R 2 and R 3 in the formula (1) are preferably a secondary alkyl group or a 1-alkoxy substituted primary alkyl group, and a 1-methoxy-2-propyl group or a cyclohexyl group. It is more preferable that it is 1-methoxy-2-propyl group.
In addition, R 4 in the formula (3) is preferably a tertiary alkyl group and more preferably a t-butyl group from the viewpoint of rinsing properties.
R 5 in the formula (4) is preferably a tertiary alkyl group or a 1-alkoxy substituted primary alkyl group, more preferably a 1-alkoxy substituted primary alkyl group. preferably, 1-methoxy-2-propyl group, or, more preferably a 2-tetrahydropyranyl group.
The number n of groups that form an acidic functional group in the compounds represented by the formulas (1) to (4) represents an integer of 1 to 4, and is preferably an integer of 1 to 2. More preferably, it is more preferably 1.
R 6 in the compound represented by the formula (4) independently represents a monovalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom. .

前記式(1)〜(4)で表される化合物におけるAは、(m+n)価の有機連結基を表し、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合、エーテル結合、チオエーテル結合、ウレタン結合、チオウレタン結合、ウレア結合、チオウレア結合、及び、アミノ結合(−N(H)−、−N(R11)−;R11は一価の有機基を表す。)よりなる群から選ばれた少なくとも1つの結合を含む(m+n)価の有機連結基であることが好ましく、彫刻感度の点で、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、及び、アミノ結合よりなる群から選ばれた少なくとも1つの結合を含む(m+n)価の有機連結基であることがより好ましく、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、及び、アミノ結合よりなる群から選ばれた少なくとも1つの結合を含む(m+n)価の有機連結基であることが更に好ましい。また、前記(m+n)価の有機連結基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよく、また、置換基を有していてもよい。更に、前記(m+n)価の有機連結基は、ポリマー構造を含む基であってもよい。
また、前記Aの分子量(又は重量平均分子量(Mw))は、14以上100,000以下であることが好ましく、14以上20,000以下であることがより好ましく、14以上800以下であることが更に好ましく、24以上500以下であることが特に好ましい。
また、前記Aに含まれる炭素原子の数は、1〜8,000であることが好ましく、1〜1,000であることがより好ましく、1〜50であることが更に好ましく、2〜30であることが特に好ましい。
A in the compounds represented by the formulas (1) to (4) represents an (m + n) -valent organic linking group, and includes an ester bond, a thioester bond, an amide bond, an ether bond, a thioether bond, a urethane bond, and a thiourethane bond. , A urea bond, a thiourea bond, and an amino bond (—N (H) —, —N (R 11 ) —; R 11 represents a monovalent organic group), at least one bond selected from the group consisting of In terms of engraving sensitivity, at least one selected from the group consisting of an ester bond, an ether bond, a thioether bond, a urethane bond, a urea bond, and an amino bond is preferable. More preferably, it is an (m + n) -valent organic linking group containing one bond, and is selected from the group consisting of an ester bond, an ether bond, a thioether bond, and an amino bond. More preferably, it is an (m + n) -valent organic linking group containing at least one selected bond. In addition, the (m + n) -valent organic linking group may be linear, branched, or have a ring structure, and may have a substituent. . Further, the (m + n) -valent organic linking group may be a group including a polymer structure.
The molecular weight (or weight average molecular weight (Mw)) of A is preferably 14 or more and 100,000 or less, more preferably 14 or more and 20,000 or less, and more preferably 14 or more and 800 or less. More preferably, it is 24 or more and 500 or less.
The number of carbon atoms contained in A is preferably 1 to 8,000, more preferably 1 to 1,000, still more preferably 1 to 50, and 2 to 30. It is particularly preferred.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、前記式(1)〜(4)で表される化合物のうち、リンス性の観点から、式(1)〜(3)で表される化合物を含有することが好ましく、式(1)で表される化合物、及び/又は、式(3)で表される化合物を含有することが好ましく、式(1)で表される化合物を含有することが特に好ましい。
前記式(1)〜(4)で表される化合物として具体例には、下記のA−1〜A−11、(1)−1〜(1)−56、(2)−1〜(2)−29、(3)−1〜(3)−37、及び、(4)−1〜(4)−26が好ましく挙げられるが、本発明に用いることができる式(1)〜(4)で表される化合物はこれらに限定されるものでないことは、言うまでもない。なお、本発明では、化学式において、炭化水素鎖を炭素(C)及び水素(H)の記号を省略した簡略構造式で記載する場合もある。また、下記化学式中、Meはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、下記の具体例における各モノマー単位の含有比は、式(1)〜(4)を満たす限り、任意の比であればよい。
The resin composition for laser engraving of the present invention contains compounds represented by formulas (1) to (3) from the viewpoint of rinsing properties among the compounds represented by formulas (1) to (4). It is preferable to contain the compound represented by the formula (1) and / or the compound represented by the formula (3), and it is particularly preferable to contain the compound represented by the formula (1). .
Specific examples of the compounds represented by the formulas (1) to (4) include the following A-1 to A-11, (1) -1 to (1) -56, and (2) -1 to (2). ) -29, (3) -1 to (3) -37, and (4) -1 to (4) -26 are preferred, but the formulas (1) to (4) that can be used in the present invention. It goes without saying that the compound represented by is not limited thereto. In the present invention, in the chemical formula, the hydrocarbon chain may be described by a simplified structural formula in which symbols of carbon (C) and hydrogen (H) are omitted. In the following chemical formula, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, and the content ratio of each monomer unit in the following specific examples may be any ratio as long as the formulas (1) to (4) are satisfied. That's fine.

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本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物への前記式(1)〜(4)で表される化合物の総添加量は、膜強度と膜の柔軟性とのバランスの点で、溶媒を除く全固形分量を100重量%とした際に、0.1〜70重量%であることが好ましく、1〜40重量%であることがより好ましく、5〜20重量%であることが更に好ましい。   The total addition amount of the compounds represented by the formulas (1) to (4) to the resin composition for laser engraving of the present invention is the total solid excluding the solvent in terms of the balance between film strength and film flexibility. When the amount is 100% by weight, it is preferably 0.1 to 70% by weight, more preferably 1 to 40% by weight, and still more preferably 5 to 20% by weight.

(b)バインダーポリマー
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(b)バインダーポリマーを含有する。
(b)バインダーポリマーは、レーザー彫刻用樹脂組成物に含有される高分子成分(結着樹脂)であり、一般的な高分子化合物を適宜選択し、1種又は2種以上を併用して用いることができる。特に、レーザー彫刻用樹脂組成物を印刷版原版に用いる際は、レーザー彫刻性、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮して選択することができる。
また、本発明に用いることができる(b)バインダーポリマーの重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、1,500以上であることがより好ましく、3,000以上であることが特に好ましい。
(B) Binder polymer The resin composition for laser engraving of the present invention contains (b) a binder polymer.
(B) The binder polymer is a polymer component (binder resin) contained in the resin composition for laser engraving, and a general polymer compound is appropriately selected and used alone or in combination of two or more. be able to. In particular, when the resin composition for laser engraving is used for a printing plate precursor, it can be selected in consideration of various performances such as laser engraving property, ink acceptability, and engraving residue dispersibility.
The weight average molecular weight of the (b) binder polymer that can be used in the present invention is preferably 1,000 or more, more preferably 1,500 or more, and particularly preferably 3,000 or more. preferable.

本発明に用いることができるバインダーポリマーは、前記式(1)〜(4)で表される化合物が有する結合性基と反応可能な反応性基を有することが好ましい。
バインダーポリマーにおける反応性基としては、−SiR789、酸無水物残基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシ基、−C(=O)−R10、エポキシ基、及び、メルカプト基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基が好ましく挙げられ、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基及び/又はヒドロキシ基がより好ましく挙げられ、ヒドロキシ基が特に好ましく挙げられる。
−SiR789におけるR7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表し、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子である。また、上記−C(=O)−R10におけるR10は、水素原子、又は、アルキル基を表す。
また、前記ブロックイソシアネート基とは、イソシアネート基とブロッキング剤とを反応させた基であり、かつ、熱により分解してイソシアネート基を再生可能な基である。
前記ブロッキング剤としては、アルコール化合物、環状アミド化合物、ケトオキシム化合物、フェノール化合物、及び、第二級アミン化合物が挙げられる。また、ブロックイソシアネート基としては、特許第3095227号公報を参照することもできる。
ブロックイソシアネート基からイソシアネート基を再生する温度としては、特に制限はなく、ブロックイソシアネート基の構造により選択すればよい。
また、バインダーポリマーがブロックイソシアネート基を有する場合は、本発明の樹脂組成物により形成されたレリーフ形成層は、熱により架橋することが好ましい。
The binder polymer that can be used in the present invention preferably has a reactive group capable of reacting with the binding group of the compounds represented by the formulas (1) to (4).
The reactive groups in the binder polymer, -SiR 7 R 8 R 9, acid anhydride residue, a methacryloyl group, an acryloyl group, a styryl group, a vinyloxy group, an isocyanate group, blocked isocyanate group, an amino group, hydroxy group, -C Preferred examples include at least one group selected from the group consisting of (═O) —R 10 , an epoxy group, and a mercapto group. Preferred examples include hydroxy groups.
A -SiR 7 R 7 ~R 9 in R 8 R 9 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a monovalent organic group, at least one of R 7 to R 9 is an alkyl group, an alkoxy A group or a halogen atom. Further, R 10 in the -C (= O) -R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The blocked isocyanate group is a group obtained by reacting an isocyanate group with a blocking agent, and is a group that can be decomposed by heat to regenerate the isocyanate group.
Examples of the blocking agent include alcohol compounds, cyclic amide compounds, ketoxime compounds, phenol compounds, and secondary amine compounds. Japanese Patent No. 3095227 can also be referred to as the blocked isocyanate group.
The temperature at which the isocyanate group is regenerated from the blocked isocyanate group is not particularly limited, and may be selected depending on the structure of the blocked isocyanate group.
When the binder polymer has a blocked isocyanate group, it is preferable that the relief forming layer formed from the resin composition of the present invention is crosslinked by heat.

バインダーポリマーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマー、セルロースなどから選択して用いることができる。   As the binder polymer, polystyrene resin, polyester resin, polyamide resin, polyurea resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, hydrophilic polymer containing hydroxyethylene units, acrylic resin, Acetal resin, epoxy resin, polycarbonate resin, rubber, thermoplastic elastomer, cellulose and the like can be selected and used.

バインダーポリマーは、彫刻感度が向上するため、ガラス転移温度(Tg)が20℃以上のものとすることが好ましく、後述する光熱変換剤と組み合わせた場合に、ガラス転移温度(Tg)が20℃以上のものとすることが特に好ましい。ガラス転移温度が20℃以上であるポリマーを以下、非エラストマーともいう。すなわち、エラストマーとは、一般的に、ガラス転移温度が常温以下のポリマーであるとして学術的に定義されている(科学大辞典 第2版、国際科学振興財団編、丸善(株)発行、P154参照)。したがって、非エラストマーとはガラス転移温度が常温を超える温度であるポリマーを指す。前記ポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200℃以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25℃以上120℃以下であることがより好ましい。
ガラス転移温度が室温(20℃)以上のポリマーを用いる場合、バインダーポリマーは常温でガラス状態をとるが、このためゴム状態をとる場合に比較して、熱的な分子運動はかなり抑制された状態にある。レーザー彫刻においては、レーザー照射時にレーザーが付与する熱に加え、所望により併用される光熱変換剤の機能により発生した熱が、周囲に存在するバインダーポリマーやその架橋体に伝達され、これが熱分解、消散して、結果的に彫刻されて凹部が形成される。バインダーポリマーやその架橋体の熱的な分子運動が抑制された状態の中に光熱変換剤が存在すると、バインダーポリマーやその架橋体への熱伝達と熱分解が効果的に起こるものと考えられ、このような効果によって彫刻感度がさらに増大したものと推定される。
The binder polymer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C. or higher in order to improve engraving sensitivity. When combined with a photothermal conversion agent described later, the glass transition temperature (Tg) is 20 ° C. or higher. It is particularly preferable that Hereinafter, a polymer having a glass transition temperature of 20 ° C. or higher is also referred to as a non-elastomer. In other words, an elastomer is generally defined academically as a polymer having a glass transition temperature of room temperature or lower (see Science Univ. 2nd edition, edited by International Science Promotion Foundation, published by Maruzen Co., Ltd., page 154). ). Therefore, the non-elastomer refers to a polymer having a glass transition temperature exceeding normal temperature. Although there is no restriction | limiting in the upper limit of the glass transition temperature of the said polymer, it is preferable from a viewpoint of handleability that it is 200 degrees C or less, and it is more preferable that it is 25 degreeC or more and 120 degrees C or less.
When a polymer having a glass transition temperature of room temperature (20 ° C) or higher is used, the binder polymer takes a glass state at room temperature, and therefore, thermal molecular motion is considerably suppressed as compared with a rubber state. It is in. In laser engraving, in addition to the heat imparted by the laser during laser irradiation, the heat generated by the function of the photothermal conversion agent used in combination is transmitted to the binder polymer and its cross-linked body present in the surroundings, which is thermally decomposed, Dissipates and results in engraving to form a recess. When the photothermal conversion agent is present in a state where thermal molecular motion of the binder polymer or its crosslinked product is suppressed, it is considered that heat transfer and thermal decomposition to the binder polymer or its crosslinked product occur effectively, It is presumed that the engraving sensitivity is further increased by such an effect.

バインダーポリマーが前記反応性基を有する場合、バインダーポリマーに含まれる反応性基の含有量は、0.1〜15mmol/gであることが好ましく、0.5〜7mmol/gであることがより好ましい。
バインダーポリマーの重量平均分子量(GPC測定によるポリスチレン換算)は、0.5万〜50万が好ましく、1万〜40万であることがより好ましく、1.5万〜30万であることが更に好ましい。重量平均分子量が0.5万以上であると、単体樹脂としての形態保持性に優れ、50万以下であると、水など溶媒に溶解しやすくレーザー彫刻用樹脂組成物を調製するのに好都合である。
When the binder polymer has the reactive group, the content of the reactive group contained in the binder polymer is preferably 0.1 to 15 mmol / g, and more preferably 0.5 to 7 mmol / g. .
The weight average molecular weight (polystyrene conversion by GPC measurement) of the binder polymer is preferably from 50,000 to 500,000, more preferably from 10,000 to 400,000, and further preferably from 15,000 to 300,000. . When the weight average molecular weight is 50,000 or more, the form retainability as a single resin is excellent, and when it is 500,000 or less, it is easy to dissolve in a solvent such as water, which is convenient for preparing a resin composition for laser engraving. is there.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物におけるバインダーポリマーの総含有量は、レーザー彫刻用樹脂組成物の固形分全重量に対し、5〜80重量%が好ましく、15〜75重量%がより好ましく、20〜65重量%が更に好ましい。バインダーポリマーの含有量を5重量%以上とすることで、得られたレリーフ印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、80重量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、レリーフ印刷版をフレキソ印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。   The total content of the binder polymer in the resin composition for laser engraving of the present invention is preferably from 5 to 80% by weight, more preferably from 15 to 75% by weight, based on the total solid content of the resin composition for laser engraving. More preferred is ˜65% by weight. By making the content of the binder polymer 5% by weight or more, printing durability sufficient to use the obtained relief printing plate as a printing plate can be obtained, and by making the content 80% by weight or less, other components can be contained. There is no shortage, and even when the relief printing plate is a flexographic printing plate, flexibility sufficient for use as a printing plate can be obtained.

<ヒドロキシ基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、ヒドロキシ基を有するポリマーを含有することが好ましい。
ヒドロキシ基を有するポリマーの骨格としては、特に限定されないが、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、ポリビニルアセタール、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロースが好ましい。
ヒドロキシ基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類であって、分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。この様な単量体の具体例としては例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらと公知の(メタ)アクリル系モノマーやビニル系モノマーとを重合した共重合体が好ましく用いることができる。
ヒドロキシ基を有するポリマーとして、ヒドロキシ基を側鎖に有するエポキシ樹脂を用いることも可能である。好ましい具体例としては、ビスフェノールAとエピクロロヒドリンとの付加物を原料モノマーとして重合して得られるエポキシ樹脂が好ましい。
ヒドロキシ基を有するポリエステル樹脂としては、ポリ乳酸などのヒドロキシルカルボン酸ユニットを含むポリエステル樹脂を好ましく用いることができる。このようなポリエステル樹脂としては、具体的には、ポリヒドロキシアルカノエート(PHA)、乳酸系ポリマー、ポリグリコール酸(PGA)、ポリカプロラクトン(PCL)、ポリ(ブチレンコハク酸)、これらの誘導体、及び、これらの混合物よりなる群から選択されたものが好ましい。
<Polymer having hydroxy group>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains a polymer having a hydroxy group as a binder polymer.
The skeleton of the polymer having a hydroxy group is not particularly limited, but an acrylic resin, an epoxy resin, a hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit, a polyvinyl acetal, a polyester resin, a polyurethane resin, and cellulose are preferable.
Examples of acrylic monomers used for the synthesis of acrylic resins having a hydroxy group include (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, and (meth) acrylamides that have a hydroxyl group in the molecule. Is preferred. Specific examples of such a monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. A copolymer obtained by polymerizing these and a known (meth) acrylic monomer or vinyl monomer can be preferably used.
It is also possible to use an epoxy resin having a hydroxy group in the side chain as the polymer having a hydroxy group. As a preferred specific example, an epoxy resin obtained by polymerizing an adduct of bisphenol A and epichlorohydrin as a raw material monomer is preferable.
As the polyester resin having a hydroxy group, a polyester resin containing a hydroxylcarboxylic acid unit such as polylactic acid can be preferably used. Specific examples of the polyester resin include polyhydroxyalkanoate (PHA), lactic acid-based polymer, polyglycolic acid (PGA), polycaprolactone (PCL), poly (butylene succinic acid), derivatives thereof, and Preferred are those selected from the group consisting of these mixtures.

さらに、ヒドロキシ基を有するポリマーとしては、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマーを好ましく用いることもできる。ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール(PVA)及びその誘導体が好ましく用いられる。
PVA誘導体の例としては、ヒドロキシエチレン単位のヒドロキシ基の少なくとも一部をカルボキシル基(「カルボン酸基」ともいう。)等の酸基に変性した酸変性PVA、当該ヒドロキシ基の一部を(メタ)アクリロイル基に変性した変性PVA、当該ヒドロキシ基の少なくとも一部をアミノ基に変性した変性PVA、当該ヒドロキシ基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの多量体を導入した変性PVA、ポリビニルアルコールをアルデヒド類で処理することによって得られるポリビニルアセタール等が挙げられる。これらの中でも、特にポリビニルアセタールが好ましく用いられる。アセタール処理に用いるアルデヒド類としては、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒドは、取り扱いが容易であるため好ましく用いられる。特に、ポリビニルブチラール(PVB)は好ましく用いられるPVA誘導体である。
Furthermore, as the polymer having a hydroxy group, a hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit can be preferably used. As the hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit, polyvinyl alcohol (PVA) and its derivatives are preferably used.
Examples of PVA derivatives include acid-modified PVA obtained by modifying at least a part of the hydroxy group of a hydroxyethylene unit to an acid group such as a carboxyl group (also referred to as “carboxylic acid group”), and a part of the hydroxy group (meta ) Modified PVA modified to acryloyl group, modified PVA modified with at least part of said hydroxy group to amino group, modified PVA introduced with ethylene glycol, propylene glycol and multimers thereof into at least part of said hydroxy group, polyvinyl Examples thereof include polyvinyl acetal obtained by treating alcohol with aldehydes. Among these, polyvinyl acetal is particularly preferably used. As aldehydes used for the acetal treatment, acetaldehyde and butyraldehyde are preferably used because they are easy to handle. In particular, polyvinyl butyral (PVB) is a PVA derivative that is preferably used.

また、ヒドロキシ基を有するポリマーとしては、セルロース、及び、セルロース誘導体を好ましく用いることができ、セルロース誘導体をより好ましく用いることができる。
通常のセルロースは、水やアルコールなどには非常に溶けにくいが、グルコピラノース単位の残存OHを特定の官能基で修飾することにより水あるいは溶剤溶解性を制御可能であり、このようにして水に不溶ではあるが、炭素数1〜4のアルコールには可溶としたセルロース誘導体もまた本発明に用いることができるバインダーポリマーとして好適である。
セルロース誘導体としては、例えば、エチルセルロースやメチルセルロースのようなアルキルセルロース、ヒドロキシエチレンセルロース、ヒドロキシプロピレンセルロース、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。さらに、具体的な例として、信越化学工業(株)製のメトローズシリーズが挙げられる。このシリーズの中身は、セルロースのヒドロキシ基の水素原子の一部をメチル基(−CH3)、ヒドロキシプロピル基(−CH2CHOHCH3)あるいはヒドロキシエチル基(−CH2CH2OH)で置換したものである。
これらの中でも、アルキルセルロースが好ましく、エチルセルロース、及び/又は、メチルセルロースがより好ましい。
Moreover, as a polymer which has a hydroxyl group, a cellulose and a cellulose derivative can be used preferably, and a cellulose derivative can be used more preferably.
Ordinary cellulose is very difficult to dissolve in water or alcohol, but the solubility of water or solvent can be controlled by modifying the residual OH of the glucopyranose unit with a specific functional group. Cellulose derivatives that are insoluble but soluble in alcohols having 1 to 4 carbon atoms are also suitable as binder polymers that can be used in the present invention.
Examples of the cellulose derivative include alkyl celluloses such as ethyl cellulose and methyl cellulose, hydroxyethylene cellulose, hydroxypropylene cellulose, cellulose acetate butyrate, and the like. Furthermore, as a specific example, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Metro's series is mentioned. The content of this series is that part of the hydrogen atom of the hydroxy group of cellulose is substituted with a methyl group (—CH 3 ), a hydroxypropyl group (—CH 2 CHOHCH 3 ) or a hydroxyethyl group (—CH 2 CH 2 OH). Is.
Among these, alkyl cellulose is preferable, and ethyl cellulose and / or methyl cellulose are more preferable.

<エチレン性不飽和基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、エチレン性不飽和基を有するポリマーを含有することが好ましい。
エチレン性不飽和基を有するポリマーとして、主鎖にエチレン性不飽和結合を含むポリマーとしては、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。
側鎖にエチレン性不飽和基をもつポリマーとしては、バインダーポリマーの骨格に、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基のようなエチレン性不飽和基を側鎖に導入することで得られる。
エチレン性不飽和基を有するポリマーの骨格としては、特に限定されないが、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが好ましい。
バインダーポリマー側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は、(1)エチレン性不飽和基の前駆体構造を有する構造単位をポリマーに共重合させ、その後エチレン性不飽和基の前駆体構造をエチレン性不飽和基に変換する方法、(2)ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基などの基を複数有する高分子化合物を作製し、これらの基と反応する基及びエチレン性不飽和基を有する化合物を高分子反応させて導入する方法など、公知の方法をとることができる。これらの方法によれば、高分子化合物中へのエチレン性不飽和基の導入量を制御することができる。
これらの中でも、エチレン性不飽和基を有するポリマーとしては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、及び/又は、ビニルエーテル基を有するポリマーが好ましい。
<Polymer having ethylenically unsaturated group>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains a polymer having an ethylenically unsaturated group as a binder polymer.
As the polymer having an ethylenically unsaturated group, the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain includes, for example, SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene). ), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene) and the like.
As a polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain, an ethylenically unsaturated group such as an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group or a vinyl ether group is introduced into the side chain of the binder polymer. can get.
The skeleton of the polymer having an ethylenically unsaturated group is not particularly limited, but polystyrene resin, polyester resin, polyamide resin, polyurea resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin Hydrophilic polymers containing hydroxyethylene units, acrylic resins, acetal resins, epoxy resins, polycarbonate resins, rubbers, thermoplastic elastomers and the like are preferable.
The method for introducing an ethylenically unsaturated group into the side chain of the binder polymer is as follows: (1) a structural unit having a precursor structure of an ethylenically unsaturated group is copolymerized with the polymer, and then the precursor structure of the ethylenically unsaturated group is converted. Method of converting to ethylenically unsaturated group, (2) Preparation of polymer compound having plural groups such as hydroxy group, amino group, epoxy group, carboxyl group, group reacting with these groups and ethylenically unsaturated group A known method such as a method of introducing a compound having a polymer by a polymer reaction can be employed. According to these methods, the amount of ethylenically unsaturated groups introduced into the polymer compound can be controlled.
Among these, the polymer having an ethylenically unsaturated group is preferably a polymer having an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, and / or a vinyl ether group.

<カルボキシル基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、カルボキシル基を有するポリマーを含有してもよい。
カルボキシル基を有するポリマーとしては、特に制限はないが、カルボキシル基を有するアクリル樹脂、カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂、及び、カルボキシル基を有するポリエステル樹脂等が好ましく例示できる。
カルボキシル基を有するアクリル樹脂としては、アクリル酸やメタクリル酸を共重合したアクリル樹脂や、アクリル樹脂の(メタ)アクリレート由来のエステル化合物を加水分解しカルボキシル基としたものなどが挙げられる。
カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂としては、1以上のカルボキシル基を有する多価アルコールと多価イソシアネートとを重合して得られるポリウレタン樹脂などが挙げられる。
カルボキシル基を有するポリエステル樹脂としては、三価以上の多価カルボン酸とジオールとを重縮合したポリエステル樹脂や、多価カルボン酸のカルボキシル基量を多価アルコールのヒドロキシ基量に対して多く使用したポリエステル樹脂などが挙げられる。
<Polymer having carboxyl group>
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having a carboxyl group as a binder polymer.
Although there is no restriction | limiting in particular as a polymer which has a carboxyl group, The acrylic resin which has a carboxyl group, the polyurethane resin which has a carboxyl group, the polyester resin which has a carboxyl group, etc. can illustrate preferably.
Examples of the acrylic resin having a carboxyl group include an acrylic resin obtained by copolymerizing acrylic acid and methacrylic acid, and an ester compound derived from a (meth) acrylate of the acrylic resin that has been converted to a carboxyl group.
Examples of the polyurethane resin having a carboxyl group include a polyurethane resin obtained by polymerizing a polyhydric alcohol having one or more carboxyl groups and a polyvalent isocyanate.
As the polyester resin having a carboxyl group, a polyester resin obtained by polycondensation of a trivalent or higher polyvalent carboxylic acid and a diol, or the amount of the carboxyl group of the polyvalent carboxylic acid was used more than the amount of the hydroxy group of the polyvalent alcohol. A polyester resin etc. are mentioned.

<イソシアネート基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、イソシアネート基を有するポリマーを含有してもよい。
イソシアネート基を有するポリマーとしては、特に制限はないが、イソシアネート基を有するポリウレタン樹脂、及び、イソシアネート基を有するポリエステル樹脂等が好ましく例示できる。
イソシアネート基を有するポリウレタン樹脂としては、多価イソシアネート化合物のイソシアネート基量を多価アルコールのヒドロキシ基量に対して多く使用したポリウレタン樹脂などが挙げられる。
イソシアネート基を有するポリエステル樹脂としては、ポリエステルジオール等の2以上のヒドロキシ基を有するポリエステル樹脂と多価イソシアネート化合物とを反応させたポリエステル樹脂などが挙げられる。2以上のヒドロキシ基を有するポリエステル樹脂としては、前記ヒドロキシ基を有するポリマーにおいて記載したものを好適に用いることができる。
イソシアネート基を有するポリマーとして具体的には、日本ポリウレタン工業(株)製のコロネートL、コロネートHL、コロネート2030、アクアネート100、アクアネート105、アクアネート120などが例示できる。
<Polymer having isocyanate group>
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having an isocyanate group as a binder polymer.
Although there is no restriction | limiting in particular as a polymer which has an isocyanate group, The polyurethane resin which has an isocyanate group, the polyester resin which has an isocyanate group, etc. can illustrate preferably.
Examples of the polyurethane resin having an isocyanate group include a polyurethane resin in which the amount of isocyanate group of the polyvalent isocyanate compound is larger than the amount of hydroxy group of the polyhydric alcohol.
Examples of the polyester resin having an isocyanate group include a polyester resin obtained by reacting a polyester resin having two or more hydroxy groups such as polyester diol and a polyvalent isocyanate compound. As the polyester resin having two or more hydroxy groups, those described in the polymer having a hydroxy group can be suitably used.
Specific examples of the polymer having an isocyanate group include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Aquanate 100, Aquanate 105, and Aquanate 120 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.

<エポキシ基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、エポキシ基を有するポリマーを含有してもよい。
エポキシ基を有するポリマーとしては、特に制限はないが、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール系エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、及び、ヒダントイン型エポキシ樹脂、エポキシ基を有するポリウレタン樹脂、エポキシ基を有するポリエステル樹脂等が好ましく例示でき、ビスフェノール系エポキシ樹脂がより好ましく例示でき、ビスフェノールA系エポキシ樹脂が更に好ましく例示できる。
<Polymer having epoxy group>
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having an epoxy group as a binder polymer.
Although there is no restriction | limiting in particular as a polymer which has an epoxy group, A novolak-type epoxy resin, a bisphenol-type epoxy resin, a cycloaliphatic epoxy resin, a hydantoin type epoxy resin, a polyurethane resin which has an epoxy group, a polyester resin which has an epoxy group Etc. can be preferably exemplified, bisphenol-based epoxy resins can be illustrated more preferably, and bisphenol A-based epoxy resins can be illustrated more preferably.

<酸無水物残基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、酸無水物残基を有するポリマーを含有してもよい。
酸無水物残基を有するポリマーとしては、特に制限はないが、カルボン酸無水物残基を有するポリマーであることが好ましく、5又は6員環構造のカルボン酸無水物残基を有するポリマーであることがより好ましい。
酸無水物残基を有するポリマーとしては、前記イソシアネート基を有するポリマーとヒドロキシ基及び酸無水物残基を有する化合物とを反応させて得られる酸無水物残基を有するポリマーや、アクリル酸やメタクリル酸を共重合したアクリル樹脂の一部のカルボキシル基を脱水して得られた酸無水物残基を有するポリマーなどが例示できる。
<Polymer having acid anhydride residue>
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having an acid anhydride residue as a binder polymer.
The polymer having an acid anhydride residue is not particularly limited, but a polymer having a carboxylic acid anhydride residue is preferable, and a polymer having a carboxylic acid anhydride residue having a 5- or 6-membered ring structure is preferable. It is more preferable.
Examples of the polymer having an acid anhydride residue include a polymer having an acid anhydride residue obtained by reacting the above polymer having an isocyanate group with a compound having a hydroxy group and an acid anhydride residue, acrylic acid and methacrylic acid. Examples thereof include a polymer having an acid anhydride residue obtained by dehydrating a part of carboxyl groups of an acrylic resin copolymerized with an acid.

<アミノ基を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、アミノ基を有するポリマーを含有してもよい。
アミノ基を有するポリマーとしては、特に制限はないが、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、アミノアルキル基を側鎖に有するアクリル樹脂が好ましく例示できる。
アミノアルキル基を側鎖に有するアクリル樹脂の合成に使用する単量体としては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、及び、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。
<Polymer having amino group>
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having an amino group as a binder polymer.
Although there is no restriction | limiting in particular as a polymer which has an amino group, The acrylic resin which has a polyalkyleneimine, a polyallylamine, and an aminoalkyl group in a side chain can illustrate preferably.
As monomers used for the synthesis of an acrylic resin having an aminoalkyl group in the side chain, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, and N, N- Preferred is dimethylaminopropyl (meth) acrylate.

<−SiR789を有するポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、バインダーポリマーとして、−SiR789を有するポリマーを含有してもよい。
7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表す。ただし、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、ハロゲン原子である。
−SiR789を有するポリマーとしては、特に制限はないが、シラノール基を有するポリマーや、トリアルコキシシリル基を有するポリマー等が好ましく例示できる。
前記R7〜R9におけるアルコキシ基としては、リンス性と耐刷性の観点から、炭素数1〜30のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数1〜15のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数1〜5のアルコキシ基であることが更に好ましい。
また、前記R7〜R9におけるハロゲン原子としては、F原子、Cl原子、Br原子、I原子が挙げられ、合成のしやすさ及び安定性の観点で、Cl原子及びBr原子が好ましく挙げられ、Cl原子がより好ましく挙げられる。
前記−SiR789としては、R7〜R9のうちの少なくとも1つがヒドロキシ基、メトキシ基又はエトキシ基であることが好ましい。
<Polymer having —SiR 7 R 8 R 9 >
The resin composition for laser engraving of the present invention may contain a polymer having —SiR 7 R 8 R 9 as a binder polymer.
R 7 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, at least one of R 7 to R 9 is an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, or a halogen atom.
The polymer having a -SiR 7 R 8 R 9, is not particularly limited, and a polymer having a silanol group, polymers having a trialkoxysilyl group can be preferably exemplified.
The alkoxy group in R 7 to R 9 is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, from the viewpoint of rinsing properties and printing durability. And more preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
Examples of the halogen atom in R 7 to R 9 include an F atom, a Cl atom, a Br atom, and an I atom, and a Cl atom and a Br atom are preferable from the viewpoint of ease of synthesis and stability. And Cl atoms are more preferable.
As the -SiR 7 R 8 R 9, at least one hydroxy group of R 7 to R 9, is preferably a methoxy group or an ethoxy group.

<前記結合性基と前記反応性基との組み合わせ>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物において、バインダーポリマーが反応性基を有する場合、バインダーポリマーにおける反応性基と、式(1)〜(4)で表される化合物における結合性基との組み合わせとしては、反応性基と、前記反応性基と反応可能な結合性基との組み合わせであれば、特に制限はないが、下記(ab−1)〜(ab−21)よりなる群から選ばれた組み合わせであることが好ましく、下記(ab−1)〜(ab−13)よりなる群から選ばれた組み合わせであることがより好ましく、下記(ab−1)〜(ab−4)よりなる群から選ばれた組み合わせであることが更に好ましく、下記(ab−1)の組み合わせが特に好ましい。
<Combination of the binding group and the reactive group>
In the resin composition for laser engraving of the present invention, when the binder polymer has a reactive group, the combination of the reactive group in the binder polymer and the binding group in the compounds represented by formulas (1) to (4) Is not particularly limited as long as it is a combination of a reactive group and a binding group capable of reacting with the reactive group, but is selected from the group consisting of the following (ab-1) to (ab-21) It is preferably a combination, more preferably a combination selected from the group consisting of the following (ab-1) to (ab-13), and from a group consisting of the following (ab-1) to (ab-4) The selected combination is more preferable, and the following combination (ab-1) is particularly preferable.

Figure 2011068031
Figure 2011068031

(c)架橋剤
本発明の樹脂組成物は、レリーフ形成層中に架橋構造を形成し架橋レリーフ形成層とするために、架橋剤を含有することが好ましい。ただし、本発明における架橋剤には、前記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物に該当する化合物は含まないものとする。
本発明に用いることができる架橋剤は、バインダーポリマーと反応可能な架橋性基を2以上有する化合物である。架橋剤が有する架橋性基と、バインダーポリマーが有する前記架橋性基と反応可能な基とが反応し、架橋構造を形成することができる。
このような化合物としては、−SiR789(R7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表す。ただし、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子である。)、イソシアネート基、ブロックイソシアナート基、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エポキシ基、及び、メルカプト基よりなる群から選ばれた架橋性基を2以上有する化合物が好ましく挙げられる。
なお、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基等のエチレン性不飽和基を2以上有する化合物は、本発明においては後述する重合性化合物に該当するものとする。
(C) Crosslinking agent The resin composition of the present invention preferably contains a crosslinking agent in order to form a crosslinked structure in the relief forming layer to form a crosslinked relief forming layer. However, the crosslinking agent in the present invention does not include a compound corresponding to the compound represented by any one of the formulas (1) to (4).
The crosslinking agent that can be used in the present invention is a compound having two or more crosslinking groups capable of reacting with the binder polymer. A crosslinkable group possessed by the crosslinking agent and a group capable of reacting with the crosslinkable group possessed by the binder polymer react to form a crosslinked structure.
As such a compound, —SiR 7 R 8 R 9 (R 7 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. However, among R 7 to R 9 , At least one is an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.), An isocyanate group, a block isocyanate group, an amino group, a hydroxy group, a carboxyl group, an epoxy group, and a mercapto group. A compound having two or more crosslinkable groups is preferred.
In addition, the compound which has 2 or more of ethylenically unsaturated groups, such as a methacryloyl group, an acryloyl group, a styryl group, a vinyl ether group, shall correspond to the polymeric compound mentioned later in this invention.

前記架橋性基は、架橋した膜の強度の点で、−SiR789(R7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表す。ただし、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子である。)、イソシアネート基、カルボキシル基、エポキシ基、又は、アミノ基であることが好ましく、−SiR789、カルボキシル基、エポキシ基、又は、アミノ基であることがより好ましく、−SiR789であることが特に好ましい。
上記−SiR789におけるR7〜R9のうち少なくとも1つはアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることが好ましく、R7〜R9のうち少なくとも2つはアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることがより好ましく、R7〜R9の全てがアルコキシ基、又は、ハロゲン原子であることが更に好ましく、R7〜R9の全てがアルコキシ基であることが最も好ましい。
本発明に用いることができる架橋剤における架橋性基の数としては、2以上であり、2〜10であることが好ましく、2〜6であることがより好ましく、2又は3であることが更に好ましい。
The crosslinkable group is —SiR 7 R 8 R 9 (R 7 to R 9 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group in terms of the strength of the crosslinked film. , R 7 to R 9 are preferably an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.), An isocyanate group, a carboxyl group, an epoxy group, or an amino group, and —SiR 7 R 8 R 9 , a carboxyl group, an epoxy group, or an amino group is more preferable, and —SiR 7 R 8 R 9 is particularly preferable.
In the -SiR 7 R 8 R 9, at least one of R 7 to R 9 is preferably an alkoxy group or a halogen atom, and at least two of R 7 to R 9 are an alkoxy group or a halogen. It is more preferably an atom, all of R 7 to R 9 are more preferably an alkoxy group or a halogen atom, and most preferably all of R 7 to R 9 are an alkoxy group.
The number of crosslinkable groups in the crosslinking agent that can be used in the present invention is 2 or more, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, and further preferably 2 or 3. preferable.

本発明に用いることができる架橋剤としては、特に限定されないが、いわゆるシランカップリング剤が好ましく用いられる。
シランカップリング剤においては、Si原子に直接結合している官能基として、アルコキシ基又はハロゲン原子の少なくとも1つ以上の官能基を有することが必須であり(このようなシリル基を以下、「シランカップリング基」ともいう。)、化合物の取り扱いやすさの観点からは、アルコキシ基を有するものが好ましい。
シランカップリング基におけるアルコキシ基としては、リンス性と耐刷性の観点から炭素数1〜30のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜15のアルコキシ基がより好ましく、炭素数1〜5のアルコキシ基が特に好ましい。
また、シランカップリング基におけるハロゲン原子としては、F原子、Cl原子、Br原子、I原子が挙げられ、合成のしやすさ及び安定性の観点から、Cl原子及びBr原子が好ましく挙げられ、Cl原子がより好ましく挙げられる。
Although it does not specifically limit as a crosslinking agent which can be used for this invention, A so-called silane coupling agent is used preferably.
In the silane coupling agent, it is essential that the functional group directly bonded to the Si atom has at least one functional group of an alkoxy group or a halogen atom (such a silyl group is hereinafter referred to as “silane”). From the viewpoint of easy handling of the compound, those having an alkoxy group are preferred.
As an alkoxy group in a silane coupling group, a C1-C30 alkoxy group is preferable from a viewpoint of rinse property and printing durability, A C1-C15 alkoxy group is more preferable, A C1-C5 alkoxy group Is particularly preferred.
Examples of the halogen atom in the silane coupling group include F atom, Cl atom, Br atom, and I atom. From the viewpoint of ease of synthesis and stability, Cl atom and Br atom are preferably exemplified. More preferred are atoms.

本発明に用いることができるシランカップリング剤は、膜の架橋度と柔軟性のバランスを良好に保つ観点から、前記シランカップリング基を分子内に1個以上10個以下含むことが好ましく、2個以上5個以下含むことがより好ましく、2個以上4個以下含むことが特に好ましい。
シランカップリング剤における2つ以上あるシランカップリング基は、連結基で連結されていることが好ましい。連結基としては、ヘテロ原子や炭化水素などの置換基を有してもよい二価以上の有機基が挙げられ、彫刻感度が高い点ではヘテロ原子(N、S、O)を含む二価以上の有機基であることが好ましく、S原子を含む二価以上の有機基であることが特に好ましい。
このような観点からは、本発明におけるシランカップリング剤として、アルコキシ基として、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。中でも、メトキシ基がSi原子に結合したシランカップリング基を分子内に2個有し、かつ、これらシランカップリング基が、ヘテロ原子、特に好ましくはS原子を含む、アルキレン基を介して結合している化合物であることがより好ましい。
The silane coupling agent that can be used in the present invention preferably contains 1 to 10 silane coupling groups in the molecule from the viewpoint of maintaining a good balance between the degree of crosslinking and flexibility of the film. More preferably, it is more preferably 5 or more and more preferably 2 or more and 4 or less.
The two or more silane coupling groups in the silane coupling agent are preferably linked by a linking group. Examples of the linking group include a divalent or higher-valent organic group that may have a substituent such as a heteroatom or a hydrocarbon. In terms of high engraving sensitivity, a divalent or higher-valent containing a heteroatom (N, S, O) is used. The organic group is preferably a divalent or higher-valent organic group containing an S atom.
From such a viewpoint, as the silane coupling agent in the present invention, an alkoxy group is preferably a methoxy group or an ethoxy group. Among them, the methoxy group has two silane coupling groups bonded to the Si atom in the molecule, and these silane coupling groups are bonded via an alkylene group containing a hetero atom, particularly preferably an S atom. More preferably, the compound is

本発明に用いることができるシランカップリング剤の具体例としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。   Specific examples of the silane coupling agent that can be used in the present invention include, for example, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and γ-glycol. Sidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxy Propylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltri Examples include methoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, and γ-ureidopropyltriethoxysilane.

また、本発明に用いることができる架橋剤としては、前記−SiR789を2以上有する架橋剤が好ましく例示できる。
前記−SiR789を2以上有する架橋剤における2つ以上の−SiR789を連結する基としては、二価以上の有機基が挙げられ、彫刻感度が高い観点から、ヘテロ原子(N、S、O)を含む二価以上の有機基であることが好ましく、S原子を含む二価以上の有機基であることがより好ましい。
前記−SiR789を少なくとも有する架橋剤としては、メトキシ基又はエトキシ基がSi原子に結合した基を分子内に2個有し、かつ、これらの基が、ヘテロ原子、特に好ましくはS原子を含む、アルキレン基を介して結合している化合物が好適である。
As the crosslinking agent that can be used in the present invention, the -SiR 7 R 8 R 9 2 or more having crosslinking agent can be preferably exemplified.
The group linking two or more -SiR 7 R 8 R 9 in the cross-linking agent having a -SiR 7 R 8 R 9 2 or more, include divalent or higher organic group, from the high engraving sensitivity standpoint, A divalent or higher organic group containing a hetero atom (N, S, O) is preferred, and a divalent or higher organic group containing an S atom is more preferred.
The crosslinking agent having at least -SiR 7 R 8 R 9 has two groups in which a methoxy group or an ethoxy group is bonded to an Si atom in the molecule, and these groups are preferably heteroatoms, particularly preferably A compound containing an S atom and bonded via an alkylene group is preferred.

本発明に用いることができる−SiR789を2以上有する架橋剤の具体例としては、下記式で示す化合物が好ましいものとして挙げられるが、本発明はこれらの化合物に制限されるものではない。なお、下記式中、Etはエチル基を表し、Meはメチル基を表す。 Specific examples of the crosslinking agent having two or more —SiR 7 R 8 R 9 that can be used in the present invention include compounds represented by the following formulas, but the present invention is limited to these compounds. is not. In the following formulae, Et represents an ethyl group, and Me represents a methyl group.

Figure 2011068031
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前記各式中、Rは以下の構造から選択される部分構造を表す。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。 In the above formulas, R represents a partial structure selected from the following structures. When a plurality of R and R 1 are present in the molecule, these may be the same or different from each other, and are preferably the same in terms of synthesis suitability.

Figure 2011068031
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前記各式中、Rは以下に示す部分構造を表す。R1は前記したものと同義である。分子内に複数のR及びR1が存在する場合、これらは互いに同じでも異なっていてもよく、合成適性上は、同一であることが好ましい。 In the above formulas, R represents a partial structure shown below. R 1 has the same meaning as described above. When a plurality of R and R 1 are present in the molecule, these may be the same or different from each other, and are preferably the same in terms of synthesis suitability.

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本発明においては、レリーフ形成層中に架橋構造を形成する観点から、これを形成するために、レリーフ形成層用塗布液には、重合性化合物を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる重合性化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜6個有する化合物の中から任意に選択することができる。
また、本発明においては、架橋構造を形成する目的以外に、柔軟性や脆性等の膜物性の観点などから、エチレン性不飽和基を1つのみ有する化合物(単官能重合性化合物、単官能モノマー)を用いてもよい。
In the present invention, from the viewpoint of forming a crosslinked structure in the relief forming layer, the relief forming layer coating liquid preferably contains a polymerizable compound in order to form the crosslinked structure.
The polymerizable compound that can be used in the present invention can be arbitrarily selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated group, preferably two or more, and more preferably 2 to 6.
Further, in the present invention, a compound having only one ethylenically unsaturated group (monofunctional polymerizable compound, monofunctional monomer) from the viewpoint of film physical properties such as flexibility and brittleness in addition to the purpose of forming a crosslinked structure. ) May be used.

以下、重合性化合物として用いられる、エチレン性不飽和基を分子内に1つ有する化合物(単官能モノマー)、及び、エチレン性不飽和基を分子内に2個以上有する化合物(多官能モノマー)について説明する。
レリーフ形成層は、膜中に架橋構造を有することが必要であることから、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、200〜2,000であることが好ましい。
単官能モノマー及び多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
Hereinafter, a compound (monofunctional monomer) having one ethylenically unsaturated group in the molecule and a compound (polyfunctional monomer) having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule used as a polymerizable compound explain.
Since the relief forming layer is required to have a crosslinked structure in the film, a polyfunctional monomer is preferably used. The molecular weight of these polyfunctional monomers is preferably 200 to 2,000.
Examples of monofunctional monomers and polyfunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters of polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids, Examples include amides with polyvalent amine compounds.

本発明においては、重合性化合物として、彫刻感度向上の観点から、分子内に硫黄原子を有する化合物を用いることが好ましい。
このように分子内に硫黄原子を有する重合性化合物としては、彫刻感度向上の観点から、特に、2つ以上のエチレン性不飽和基を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和基間を連結する部位に硫黄原子を有する重合性化合物(以下、適宜、「含硫黄多官能モノマー」ともいう。)を用いることが好ましい。
In the present invention, from the viewpoint of improving engraving sensitivity, a compound having a sulfur atom in the molecule is preferably used as the polymerizable compound.
Thus, as a polymeric compound which has a sulfur atom in a molecule | numerator, from a viewpoint of engraving sensitivity improvement, it has two or more ethylenically unsaturated groups especially, and connects between two ethylenically unsaturated groups among them. It is preferable to use a polymerizable compound having a sulfur atom at the site (hereinafter also referred to as “sulfur-containing polyfunctional monomer” as appropriate).

本発明における含硫黄多官能モノマー中の硫黄原子を有する官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又は、チオ尿素などの構造を含む官能基が挙げられる。
また、含硫黄多官能モノマーにおける硫黄原子を有する連結基における硫黄原子を含む構造としては、−S−、−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び、−SO2−よりなる群から選択された少なくとも1つの構造であることが好ましい。
The functional group having a sulfur atom in the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, thiocarbamate, dithiocarbamate. Or a functional group containing a structure such as thiourea.
Moreover, as a structure containing the sulfur atom in the coupling group which has a sulfur atom in a sulfur-containing polyfunctional monomer, -S-, -SS-, -NH (C = S) O-, -NH (C = O) S- , —NH (C═S) S—, and —SO 2 — are preferably at least one structure selected from the group consisting of —SO 2 —.

また、含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1〜10個が好ましく、1〜5個がより好ましく、1又は2個が更に好ましい。
一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和基の数は2つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2〜10個が好ましく、2〜6個がより好ましく、2〜4個が更に好ましい。
In addition, the number of sulfur atoms contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of balance, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 or 2 is more preferable.
On the other hand, the number of ethylenically unsaturated groups contained in the molecule is not particularly limited as long as it is 2 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. 10 is preferable, 2-6 is more preferable, and 2-4 is still more preferable.

本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、120〜3,000であることが好ましく、120〜1,500であることがより好ましい。
また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。
彫刻感度の観点からは、含硫黄多官能モノマー単独で用いる態様、又は、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様が好ましく、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様がより好ましい。
The molecular weight of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is preferably 120 to 3,000, more preferably 120 to 1,500, from the viewpoint of the flexibility of the formed film.
Moreover, although the sulfur-containing polyfunctional monomer in this invention may be used independently, you may use it as a mixture with the polyfunctional polymerizable compound and monofunctional polymerizable compound which do not have a sulfur atom in a molecule | numerator.
From the viewpoint of engraving sensitivity, an embodiment using a sulfur-containing polyfunctional monomer alone or an embodiment using a mixture of a sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional ethylenic monomer is preferable. A sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional ethylenic monomer are preferred. The embodiment used as a mixture with is more preferable.

レリーフ形成層においては、含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、本発明の樹脂組成物における含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物の総含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、固形分の全重量に対して、10〜60重量%が好ましく、15〜45重量%の範囲がより好ましい。
なお、含硫黄多官能モノマーと他の重合性化合物とを併用する場合、全重合性化合物中の含硫黄多官能モノマーの量は、5重量%以上が好ましく、10重量%以上がより好ましい。
In the relief forming layer, film properties such as brittleness and flexibility can be adjusted by using a polymerizable compound such as a sulfur-containing polyfunctional monomer.
Moreover, the total content of the polymerizable compound including the sulfur-containing polyfunctional monomer in the resin composition of the present invention is 10 to 60 based on the total weight of the solid content from the viewpoint of flexibility and brittleness of the crosslinked film. % By weight is preferred, and a range of 15 to 45% by weight is more preferred.
In addition, when using together a sulfur-containing polyfunctional monomer and another polymeric compound, 5 weight% or more is preferable and, as for the quantity of the sulfur-containing polyfunctional monomer in all the polymeric compounds, 10 weight% or more is more preferable.

本発明の樹脂組成物に用いることができる架橋剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物中に含まれる架橋剤の含有量は、固形分換算で、0.1〜80重量%の範囲であることが好ましく、1〜40重量%の範囲であることがより好ましく、5〜30重量%の範囲であることが特に好ましい。
Only 1 type may be used for the crosslinking agent which can be used for the resin composition of this invention, and 2 or more types may be used together.
The content of the crosslinking agent contained in the resin composition of the present invention is preferably in the range of 0.1 to 80% by weight, more preferably in the range of 1 to 40% by weight in terms of solid content. The range of 5 to 30% by weight is particularly preferable.

(d)架橋促進剤
本発明の樹脂組成物は、(d)架橋促進剤(以下、「触媒」ともいう。)を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる架橋促進剤は、架橋剤とバインダーポリマーとの反応、及び/又は、特定化合物とバインダーポリマーとの反応を促進することが可能な化合物であれば、特に制限はないが、(1)酸性触媒又は塩基性触媒、(2)金属錯体触媒が用いられる。
架橋促進剤としては、(1)酸性触媒又は塩基性触媒が好ましい。また、ヒドロキシ基が反応に関与する場合は、ヒドロキシ基の架橋速度の観点から、塩基性触媒が特に好ましい。
(D) Crosslinking accelerator The resin composition of the present invention preferably contains (d) a crosslinking accelerator (hereinafter also referred to as “catalyst”).
The crosslinking accelerator that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of promoting the reaction between the crosslinking agent and the binder polymer and / or the reaction between the specific compound and the binder polymer. (1) An acidic catalyst or a basic catalyst, and (2) a metal complex catalyst are used.
As the crosslinking accelerator, (1) an acidic catalyst or a basic catalyst is preferable. When a hydroxy group is involved in the reaction, a basic catalyst is particularly preferable from the viewpoint of the crosslinking rate of the hydroxy group.

(1)酸性触媒又は塩基性触媒
触媒としては、酸性化合物若しくは塩基性化合物をそのまま用いるか、又は、水若しくは有機溶剤などの溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触媒、塩基性触媒ともいう。)を用いる。溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸性化合物又は塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適宜選択すればよい。
酸性触媒又は塩基性触媒の種類は特に限定されないが、具体的には、酸性触媒としては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式のRを他元素又は置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸、ヘテロポリ酸、無機固体酸などが挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類酸化物、第四級アンモニウム塩化合物、第四級ホスホニウム塩化合物などが挙げられる。
(1) Acidic catalyst or basic catalyst As the catalyst, an acidic compound or basic compound is used as it is or dissolved in a solvent such as water or an organic solvent (hereinafter referred to as acidic catalyst or basic catalyst, respectively). Also called). The concentration at the time of dissolving in the solvent is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the characteristics of the acidic compound or basic compound used, the desired content of the catalyst, and the like.
The type of acidic catalyst or basic catalyst is not particularly limited. Specifically, examples of the acidic catalyst include hydrogen halides such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, Carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, substituted carboxylic acids in which R in the structural formula represented by RCOOH is substituted with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, phosphoric acid, heteropolyacids, inorganic solid acids, etc. Examples of basic catalysts include ammoniacal bases such as aqueous ammonia, amines such as ethylamine and aniline, alkali metal hydroxides, alkali metal alkoxides, alkaline earth oxides, quaternary ammonium salt compounds, fourth compounds. Grade phosphonium salt compounds.

アミン類の例を以下に示す。アミン類とは、
(A−a)ヒドラジン等の水素化窒素化合物;
(A−b)脂肪族、芳香族若しくは脂環式の第一級、第二級若しくは第三級のモノアミン、ジアミン、又は、トリアミン等のポリアミン;
(A−c)縮合環を含む環状アミンであり少なくとも1つの窒素原子が環骨格に含まれるモノアミン又はポリアミン;
(A−d)アミノ酸類、アミド類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、イミド類またはラクタム類等の含酸素アミン;
(A−e)O、S、Se等のヘテロ原子を有する含ヘテロ元素アミン;
等であり、第二級又は第三級アミンの場合には、Nに対する各々の置換基が同一か各々異なるか、又は、1以上が異なるかのいずれの置換基を有していても構わない。
具体的には、ヒドラジン、第一級アミンとしては;モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミン類、モノブチルアミン類、モノペンチルアミン類、モノヘキシルアミン類、モノヘプチルアミン類、ビニルアミン、アリルアミン、ブテニルアミン類、ペンテニルアミン類、ヘキセニルアミン類、ペンタジエニルアミン類、ヘキサジエニルアミン類、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロオクチルアミン、p−メンチルアミン、シクロペンテニルアミン類、シクロヘキセニルアミン類、シクロヘキサジエニルアミン類、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ナフチルメチルアミン、トルイジン、トリレンジアミン類、エチレンジアミン、エチレントリアミン、モノエタノールアミン、アミノチオフェン、グリシン、アラニン、フェニルアラニン、アミノアセトンなどが挙げられる。
Examples of amines are shown below. What are amines?
(Aa) Nitrogen hydride compounds such as hydrazine;
(Ab) aliphatic, aromatic or alicyclic primary, secondary or tertiary monoamines, diamines or polyamines such as triamines;
(Ac) a monoamine or polyamine which is a cyclic amine containing a condensed ring and in which at least one nitrogen atom is contained in the ring skeleton;
(Ad) oxygen-containing amines such as amino acids, amides, alcohol amines, ether amines, imides or lactams;
(Ae) a hetero-containing amine having a hetero atom such as O, S, Se;
In the case of a secondary or tertiary amine, each substituent for N may be the same or different, or may have one or more different substituents. .
Specific examples include hydrazine and primary amines; monomethylamine, monoethylamine, monopropylamines, monobutylamines, monopentylamines, monohexylamines, monoheptylamines, vinylamine, allylamine, butenylamines , Pentenylamines, hexenylamines, pentadienylamines, hexadienylamines, cyclopentylamine, cyclohexylamine, cyclooctylamine, p-menthylamine, cyclopentenylamines, cyclohexenylamines, cyclohexadienylamine Aniline, benzylamine, naphthylamine, naphthylmethylamine, toluidine, tolylenediamine, ethylenediamine, ethylenetriamine, monoethanolamine, aminothiophene, Lysine, alanine, phenylalanine, and an amino acetone.

また、第二級アミンとしては;ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン類、ジブチルアミン類、ジペンチルアミン類、ジヘキシルアミン類、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン類、メチルブチルアミン類、メチルペンチルアミン類、メチルヘキシルアミン類、エチルプロピルアミン類、エチルブチルアミン類、エチルペンチルアミン類、プロピルブチルアミン類、プロピルペンチルアミン類、プロピルヘキシルアミン類、ブチルペンチルアミン類、ペンチルヘキシルアミン類、ジビニルアミン、ジアリルアミン、ジブテニルアミン類、ジペンテニルアミン類、ジヘキセニルアミン類、メチルビニルアミン、メチルアリルアミン、メチルブテニルアミン類、メチルペンテニルアミン類、メチルヘキセニルアミン類、エチルビニルアミン、エチルアリルアミン、エチルブテニルアミン、エチルペンテニルアミン類、エチルヘキセニルアミン類、プロピルビニルアミン類、プロピルアリルアミン類、プロピルブテニルアミン類、プロピルペンテニルアミン類、プロピルヘキセニルアミン類、ブチルビニルアミン類、ブチルアリルアミン類、ブチルブテニルアミン類、ブチルペンテニルアミン類、ブチルヘキセニルアミン類、ビニルアリルアミン、ビニルブテニルアミン類、ビニルペンテニルアミン類、ビニルヘキセニルアミン類、アリルブテニルアミン類、アリルペンテニルアミン類、アリルヘキセニルアミン類、ブテニルペンテニルアミン類、ブテニルヘキセニルアミン類、ジシクロペンチルアミン、ジシクロヘキシル、メチルシクロペンチルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、メチルシクロオクチルアミン、エチルシクロペンチルアミン、エチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロオクチルアミン、プロピルシクロペンチルアミン類、プロピルシクロヘキシルアミン類、ブチルシクロペンチルアミン類、ブチルシクロヘキシルアミン類、ヘキシルシクロペンチルアミン類、ヘキシルシクロヘキシルアミン類、ヘキシルシクロオクチルアミン類、ビニルシクロペンチルアミン、ビニルシクロヘキシルアミン、ビニルシクロオクチルアミン、アリルシクロペンチルアミン、アリルシクロヘキシルアミン、アリルシクロオクチルアミン、ブテニルシクロペンチルアミン類、ブテニルシクロヘキシルアミン類、ブテニルシクロオクチルアミン類、ジシクロペンテニルアミン類、ジシクロヘキセニルアミン類、ジシクロオクテニルアミン類、メチルシクロペンテニルアミン類、メチルシクロヘキセニルアミン類、メチルシクロオクテニルアミン類、エチルシクロペンテニルアミン類、エチルシクロヘキセニルアミン類、エチルシクロオクテニルアミン類、プロピルシクロペンテニルアミン類、プロピルシクロヘキセニルアミン類、ブチルシクロペンテニルアミン類、ブチルシクロヘキセニルアミン類、ビニルシクロペンテニルアミン類、ビニルシクロヘキセニルアミン類、ビニルシクロオクテニルアミン類、アリルシクロペンテニルアミン類、アリルシクロヘキセニルアミン類、ブテニルシクロペンテニルアミン類、ブテニルシクロヘキセニルアミン類、   Secondary amines include: dimethylamine, diethylamine, dipropylamines, dibutylamines, dipentylamines, dihexylamines, methylethylamine, methylpropylamines, methylbutylamines, methylpentylamines, methylhexyl Amines, ethylpropylamines, ethylbutylamines, ethylpentylamines, propylbutylamines, propylpentylamines, propylhexylamines, butylpentylamines, pentylhexylamines, divinylamine, diallylamine, dibutenylamines, dibutylamine Pentenylamines, dihexenylamines, methylvinylamine, methylallylamine, methylbutenylamines, methylpentenylamines, methylhexenylamines, ethyl Nilamine, ethylallylamine, ethylbutenylamine, ethylpentenylamines, ethylhexenylamines, propylvinylamines, propylallylamines, propylbutenylamines, propylpentenylamines, propylhexenylamines, butylvinylamines, Butylallylamines, butylbutenylamines, butylpentenylamines, butylhexenylamines, vinylallylamine, vinylbutenylamines, vinylpentenylamines, vinylhexenylamines, allylbutenylamines, allylpentenylamines, Allylhexenylamines, butenylpentenylamines, butenylhexenylamines, dicyclopentylamine, dicyclohexyl, methylcyclopentylamine, methyl Hexylamine, methylcyclooctylamine, ethylcyclopentylamine, ethylcyclohexylamine, ethylcyclooctylamine, propylcyclopentylamines, propylcyclohexylamines, butylcyclopentylamines, butylcyclohexylamines, hexylcyclopentylamines, hexylcyclohexylamines , Hexylcyclooctylamines, vinylcyclopentylamine, vinylcyclohexylamine, vinylcyclooctylamine, allylcyclopentylamine, allylcyclohexylamine, allylcyclooctylamine, butenylcyclopentylamines, butenylcyclohexylamines, butenylcyclooctylamine , Dicyclopentenylamines, dicyclohexenylamines , Dicyclooctenylamines, methylcyclopentenylamines, methylcyclohexenylamines, methylcyclooctenylamines, ethylcyclopentenylamines, ethylcyclohexenylamines, ethylcyclooctenylamines, propylcyclopentenylamine Propylcyclohexenylamines, butylcyclopentenylamines, butylcyclohexenylamines, vinylcyclopentenylamines, vinylcyclohexenylamines, vinylcyclooctenylamines, allylcyclopentenylamines, allylcyclohexenylamines , Butenylcyclopentenylamines, butenylcyclohexenylamines,

ジシクロペンタジエニルアミン、ジシクロヘキサジエニルアミン類、ジシクロオクタジエニルアミン類、メチルシクロペンタジエニルアミン、メチルシクロヘキサジエニルアミン類、エチルシクロペンタジエニルアミン、エチルシクロヘキサジエニルアミン類、プロピルシクロペンタジエニルアミン類、プロピルシクロヘキサジエニルアミン類、ジシクロオクタトリエニルアミン類、メチルシクロオクタトリエニルアミン類、エチルシクロオクタトリエニルアミン類、ビニルシクロペンタジエニルアミン、ビニルシクロヘキサジエニルアミン類、アリルシクロペンタジエニルアミン、アリルシクロヘキサジエニルアミン類、ジフェニルアミン、ジトリルアミン類、ジベンジルアミン、ジナフチルアミン類、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−プロピルアニリン類、N−ブチルアニリン類、N−メチルトルイジン、N−エチルトルイジン、N−プロピルトルイジン類、N−ブチルトルイジン類、N−メチルベンジルアミン、N−エチルベンジルアミン類、N−プロピルベンジルアミン類、N−ブチルベンジルアミン類、N−メチルナフチルアミン類、N−エチルナフチルアミン類、N−プロピルナフチルアミン類、N−ビニルアニリン、N−アリルアニリン、N−ビニルベンジルアミン、N−アリルベンジルアミン、N−ビニルトルイジン、N−アリルトルイジン、フェニルシクロペンチルアミン、フェニルシクロヘキシルアミン、フェニルシクロオクチルアミン、フェニルシクロペンテニルアミン、フェニルシクロヘキセニルアミン、フェニルシクロペンタジエニルアミン、N−メチルアニゾール、N−エチルアニソール、N−ビニルアニソール、N−アリルアニソール、N−メチルエチレンジアミン、N,N’ジメチルエチレンジアミン、N−エチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,N’−ジメチルトリレンジアミン類、N,N’−ジエチルトリレンジアミン類、N−メチルエチレントリアミン、N,N’−ジメチルエチレントリアミン、ピロール、ピロリジン、イミダゾール、ピペリジン、ピペラジン、メチルピロール類、メチルピロリジン類、メチルイミダーゾール類、メチルピペリジン類、メチルピペラジン類、エチルピロール類、エチルピロリジン類、エチルイミダゾール類、エチルピペリジン類、エチルピペラジン類、フタルイミド、マレインイミド、カプロラクタム、ピロリドン、モルホリン、N−メチルグリシン、N−エチルグリシン、N−メチルアラニン、N−エチルアラニン、N−メチル−アミノチオフェン、N−エチルアミノチオフェン、2,5−ピペラジンジオン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、プリンなどが挙げられる。   Dicyclopentadienylamine, dicyclohexadienylamines, dicyclooctadienylamines, methylcyclopentadienylamine, methylcyclohexadienylamines, ethylcyclopentadienylamine, ethylcyclohexadienylamines, Propylcyclopentadienylamines, propylcyclohexadienylamines, dicyclooctatrienylamines, methylcyclooctatrienylamines, ethylcyclooctatrienylamines, vinylcyclopentadienylamine, vinylcyclohexadienyl Amines, allylcyclopentadienylamine, allylcyclohexadienylamines, diphenylamine, ditolylamines, dibenzylamine, dinaphthylamines, N-methylaniline, N-ethylamine Phosphorus, N-propylanilines, N-butylanilines, N-methyltoluidine, N-ethyltoluidine, N-propyltoluidines, N-butyltoluidines, N-methylbenzylamine, N-ethylbenzylamines, N -Propylbenzylamines, N-butylbenzylamines, N-methylnaphthylamines, N-ethylnaphthylamines, N-propylnaphthylamines, N-vinylaniline, N-allylaniline, N-vinylbenzylamine, N-allyl Benzylamine, N-vinyltoluidine, N-allyltoluidine, phenylcyclopentylamine, phenylcyclohexylamine, phenylcyclooctylamine, phenylcyclopentenylamine, phenylcyclohexenylamine, phenylcyclopentadienyl amine N-methylanisole, N-ethylanisole, N-vinylanisole, N-allylanisole, N-methylethylenediamine, N, N′dimethylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, N, N′-diethylethylenediamine, N, N'-dimethyltolylenediamine, N, N'-diethyltolylenediamine, N-methylethylenetriamine, N, N'-dimethylethylenetriamine, pyrrole, pyrrolidine, imidazole, piperidine, piperazine, methylpyrroles, methyl Pyrrolidines, methylimidazoles, methylpiperidines, methylpiperazines, ethylpyrroles, ethylpyrrolidines, ethylimidazoles, ethylpiperidines, ethylpiperazines, phthalimide, maleimide, caprolacta , Pyrrolidone, morpholine, N-methylglycine, N-ethylglycine, N-methylalanine, N-ethylalanine, N-methyl-aminothiophene, N-ethylaminothiophene, 2,5-piperazinedione, N-methylethanol Examples include amines, N-ethylethanolamine, and purines.

また、第三級アミンとしては;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン類、トリブチルアミン類、トリペンチルアミン類、トリヘキシルアミン類、ジメチルエチルアミン、ジメチルプロピルアミン類、ジメチルブチルアミン類、ジメチルペンチルアミン類、ジメチルヘキシルアミン類、ジエチルプロピルアミン類、ジエチルブチルアミン類、ジエチルペンチルアミン類、ジエチルヘキシルアミン類、ジプロピルブチルアミン類、ジプロピルペンチルアミン類、ジプロピルヘキシルアミン類、ジブチルペンチルアミン類、ジブチルヘキシルアミン類、ジペンチルヘキシルアミン類、メチルジエチルアミン、メチルジプロピルアミン類、メチルジブチルアミン類、メチルジペンチルアミン類、メチルジヘキシルアミン類、エチルジプロピルアミン類、エチルジブチルアミン類、エチルジペンチルアミン類、エチルジヘキシルアミン類、プロピルジブチルアミン類、プロピルジペンチルアミン類、プロピルジヘキシルアミン類、ブチルジペンチルアミン類、ブチルジヘキシルアミン類、ペンチルジヘキシルアミン類、メチルエチルプロピルアミン類、メチルエチルブチルアミン類、メチルエチルヘキシルアミン類、メチルプロピルブチルアミン類、メチルプロピルヘキシルアミン類、エチルプロピルブチルアミン、エチルブチルペンチルアミン類、エチルブチルヘキシルアミン類、プロピルブチルペンチルアミン類、プロピルブチルヘキシルアミン類、ブチルペンチルヘキシルアミン類、トリビニルアミン、トリアリルアミン、トリブテニルアミン類、トリペンテニルアミン類、トリヘキセニルアミン類、   Tertiary amines include: trimethylamine, triethylamine, tripropylamines, tributylamines, tripentylamines, trihexylamines, dimethylethylamine, dimethylpropylamines, dimethylbutylamines, dimethylpentylamines, dimethyl Hexylamines, diethylpropylamines, diethylbutylamines, diethylpentylamines, diethylhexylamines, dipropylbutylamines, dipropylpentylamines, dipropylhexylamines, dibutylpentylamines, dibutylhexylamines, Dipentylhexylamines, methyldiethylamine, methyldipropylamines, methyldibutylamines, methyldipentylamines, methyldihexylamines, ethyl Dipropylamines, ethyldibutylamines, ethyldipentylamines, ethyldihexylamines, propyldibutylamines, propyldipentylamines, propyldihexylamines, butyldipentylamines, butyldihexylamines, pentyldihexylamines, Methylethylpropylamines, methylethylbutylamines, methylethylhexylamines, methylpropylbutylamines, methylpropylhexylamines, ethylpropylbutylamine, ethylbutylpentylamines, ethylbutylhexylamines, propylbutylpentylamines, propyl Butylhexylamines, butylpentylhexylamines, trivinylamine, triallylamine, tributenylamines, tripentenyl Min acids, tri-hexenyl amine,

ジメチルビニルアミン、ジメチルアリルアミン、ジメチルブテニルアミン類、ジメチルペンテニルアミン類、ジエチルビニルアミン、ジエチルアリルアミン、ジエチルブテニルアミン類、ジエチルペンテニルアミン類、ジエチルヘキセニルアミン類、ジプロピルビニルアミン類、ジプロピルアリルアミン類、ジプロピルブテニルアミン類、メチルジビニルアミン、メチルジアリルアミン、メチルジブテニルアミン類、エチルジビニルアミン、エチルジアリルアミン、トリシクロペンチルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリシクロオクチルアミン、トリシクロペンテニルアミン、トリシクロヘキセニルアミン、トリシクロペンタジエニルアミン、トリシクロヘキサジエニルアミン類、ジメチルシクロペンチルアミン、ジエチルシクロペンチルアミン、ジプロピルシクロペンチルアミン類、ジブチルシクロペンチルアミン類、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、ジプロピルシクロヘキシルアミン類、ジメチルシクロペンテニルアミン類、ジエチルシクロペンテニルアミン類、ジプロピルシクロペンテニルアミン類、ジメチルシクロヘキセニルアミン類、ジエチルシクロヘキセニルアミン類、ジプロピルシクロヘキセニルアミン類、メチルジシクロペンチルアミン、エチルジシクロペンチルアミン、プロピルシクロペンチルアミン類、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、プロピルシクロヘキシルアミン類、メチルジシクロペンテニルアミン類、エチルジシクロペンテニルアミン類、プロピルジシクロペンテニルアミン類、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジメチルトルイジン類、N,N−ジメチルナフチルアミン類、N,N−ジエチルアニリン、N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジエチルトルイジン類、N,N−ジエチルナフチルアミン類、N,N−ジプロピルアニリン類、N,N−ジプロピルベンジルアミン類、N,N−ジプロピルトルイジン類、N,N−ジプロピルナフチルアミン類、   Dimethylvinylamine, dimethylallylamine, dimethylbutenylamines, dimethylpentenylamines, diethylvinylamine, diethylallylamine, diethylbutenylamines, diethylpentenylamines, diethylhexenylamines, dipropylvinylamines, dipropylallylamine , Dipropylbutenylamines, methyldivinylamine, methyldiallylamine, methyldibutenylamines, ethyldivinylamine, ethyldiallylamine, tricyclopentylamine, tricyclohexylamine, tricyclooctylamine, tricyclopentenylamine, tricyclohexenyl Amine, tricyclopentadienylamine, tricyclohexadienylamines, dimethylcyclopentylamine, diethylcyclopent Ruamine, dipropylcyclopentylamine, dibutylcyclopentylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, dipropylcyclohexylamine, dimethylcyclopentenylamine, diethylcyclopentenylamine, dipropylcyclopentenylamine, dimethylcyclohexenylamine , Diethylcyclohexenylamines, dipropylcyclohexenylamines, methyldicyclopentylamine, ethyldicyclopentylamine, propylcyclopentylamines, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, propylcyclohexylamines, methyldicyclopentenylamines, Ethyl dicyclopentenyl amines, propyl dicyclopentenyl amines N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-dimethyltoluidines, N, N-dimethylnaphthylamines, N, N-diethylaniline, N, N-diethylbenzylamine, N, N- Diethyltoluidines, N, N-diethylnaphthylamines, N, N-dipropylanilines, N, N-dipropylbenzylamines, N, N-dipropyltoluidines, N, N-dipropylnaphthylamines,

N,N−ジビニルアニリン、N,N−ジアリルアニリン、N,N−ジビニルトルイジン類、N,N−ジアリルアニリン、ジフェニルメチルアミン、ジフェニルエチルアミン、ジフェニルプロピルアミン類、ジベンジルメチルアミン、ジベンジルエチルアミン、ジベンジルシクロヘキシルアミン、ジベンジルビニルアミン、ジベンジルアリルアミン、ジトリルメチルアミン類、ジトリルエチルアミン類、ジトリルシクロヘキシルアミン類、ジトリルビニルアミン類、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、トリ(トリル)アミン類、トリナフチルアミン類、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルトリレンジアミン類、N,N,N’,N’−テトラエチルトリレンジアミン類、N−メチルピロール,N−メチルピロリジン、N−メチルイミダゾール、N,N’−ジメチルピペラジン、N−メチルピペリジン、N−エチルピロール、N−メチルピロリジン、N−エチルイミダゾール、N,N’−ジエチルピペラジン、N−エチルピペリジン、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、キノリン、キナゾリン、キヌクリジン、N−メチルピロリドン、N−メチルモルホリン、N−エチルピロリドン、N−エチルモルホリン、N,N−ジメチルアニソール、N,N−ジエチルアニソール、N,N−ジメチルグリシン、N,N−ジエチルグリシン、N,N−ジメチルアラニン、N,N−ジエチルアラニン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジメチルアミノチオフェン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ヘキサメチレンテトラミンなどが挙げられる。   N, N-divinylaniline, N, N-diallylaniline, N, N-divinyltoluidines, N, N-diallylaniline, diphenylmethylamine, diphenylethylamine, diphenylpropylamines, dibenzylmethylamine, dibenzylethylamine, Dibenzylcyclohexylamine, dibenzylvinylamine, dibenzylallylamine, ditolylmethylamines, ditolylethylamines, ditolylcyclohexylamines, ditolylvinylamines, triphenylamine, tribenzylamine, tri (tolyl) amine , Trinaphthylamines, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetraethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethyltolylenediamines, N, N, N ' N′-tetraethyltolylenediamine, N-methylpyrrole, N-methylpyrrolidine, N-methylimidazole, N, N′-dimethylpiperazine, N-methylpiperidine, N-ethylpyrrole, N-methylpyrrolidine, N-ethyl Imidazole, N, N′-diethylpiperazine, N-ethylpiperidine, pyridine, pyridazine, pyrazine, quinoline, quinazoline, quinuclidine, N-methylpyrrolidone, N-methylmorpholine, N-ethylpyrrolidone, N-ethylmorpholine, N, N -Dimethylanisole, N, N-diethylanisole, N, N-dimethylglycine, N, N-diethylglycine, N, N-dimethylalanine, N, N-diethylalanine, N, N-dimethylethanolamine, N, N -Dimethylaminothiophene, 1,1 3,3-tetramethylguanidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [ 2.2.2] octane, hexamethylenetetramine and the like.

したがって、上記アミン類とは、脂肪族若しくは脂環式、飽和又は不飽和の炭化水素基;芳香族炭化水素基;含酸素、含イオウ及び/又は含セレン炭化水素基等が1以上の窒素原子と結合した化合物である。熱架橋後の膜強度の観点から、アミンのpKa(共役酸の酸解離定数)の範囲としては、7以上が好ましく、10以上がより好ましい。   Therefore, the above amines are aliphatic or alicyclic, saturated or unsaturated hydrocarbon groups; aromatic hydrocarbon groups; oxygen-containing, sulfur-containing and / or selenium-containing hydrocarbon groups having one or more nitrogen atoms. Is a compound bound to. From the viewpoint of film strength after thermal crosslinking, the range of amine pKa (acid dissociation constant of conjugate acid) is preferably 7 or more, and more preferably 10 or more.

膜中でのアルコール交換反応を速やかに進行させる観点で、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウム p−トルエンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホン酸、リン酸、ホスホン酸、酢酸、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジンが好ましく、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エンが特に好ましい。   From the viewpoint of rapidly proceeding the alcohol exchange reaction in the membrane, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonate, dodecylbenzenesulfonic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, acetic acid, 1,8-diazabicyclo [ 5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene, 1,1,3,3-tetramethylguanidine are preferred, methanesulfonic acid, p- Toluenesulfonic acid, phosphoric acid, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene are particularly preferred.

(2)金属錯体触媒
本発明で用いることができる金属錯体触媒は、周期律表の2、4、5、13族よりなる群から選ばれた金属元素と、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸及びそのエステル、アミノアルコール、並びに、エノール性活性水素化合物よりなる群から選ばれたオキソ又はヒドロキシ酸素化合物とから構成される金属錯体触媒であることが好ましい。
更に、構成金属元素の中では、Mg,Ca,St,Baなどの2族元素、Ti,Zrなどの4族元素、V,Nb,Taなどの5族元素、及び、Al,Gaなどの13族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でもZr、Al及びTiから得られる錯体が優れており、好ましい(オルトチタン酸エチルなど)。
(2) Metal Complex Catalyst The metal complex catalyst that can be used in the present invention is a metal element selected from the group consisting of groups 2, 4, 5, and 13 of the periodic table, and β-diketone, ketoester, hydroxycarboxylic acid. And an ester thereof, an amino alcohol, and an oxo or hydroxy oxygen compound selected from the group consisting of enolic active hydrogen compounds.
Furthermore, among the constituent metal elements, group 2 elements such as Mg, Ca, St, and Ba, group 4 elements such as Ti and Zr, group 5 elements such as V, Nb, and Ta, and 13 such as Al and Ga. Group elements are preferred and each form a complex with an excellent catalytic effect. Among them, complexes obtained from Zr, Al, and Ti are excellent and preferable (such as ethyl orthotitanate).

上記金属錯体の配位子を構成するオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物としては、アセチルアセトン、アセチルアセトン(2,4−ペンタンジオン)、2,4−ヘプタンジオンなどのβジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチルなどのケトエステル類、乳酸、乳酸メチル、サリチル酸、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸,酒石酸、酒石酸メチルなどのヒドロキシカルボン酸およびそのエステル、4−ヒドロキシー4−メチル−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ヘプタノンなどのケトアルコール類、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N−メチル−モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミノアルコール類、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド、マロン酸ジエチルエステルなどのエノール性活性化合物、アセチルアセトン(2,4−ペンタンジオン)のメチル基、メチレン基又はカルボニル炭素に置換基を有する化合物が挙げられる。   Examples of the oxo or hydroxy oxygen-containing compound constituting the ligand of the metal complex include acetylacetone, acetylacetone (2,4-pentanedione), β-diketones such as 2,4-heptanedione, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, Ketoesters such as butyl acetoacetate, hydroxycarboxylic acids and esters such as lactic acid, methyl lactate, salicylic acid, ethyl salicylate, phenyl salicylate, malic acid, tartaric acid, methyl tartrate, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 4- Ketoalcohols such as hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 4-hydroxy-2-heptanone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-methyl-monoethanolamine , Gietano Amino alcohols such as ruamine, triethanolamine, enol active compounds such as methylol melamine, methylol urea, methylol acrylamide, diethyl malonate, methyl group, methylene group or carbonyl carbon of acetylacetone (2,4-pentanedione) The compound which has a substituent is mentioned.

好ましい配位子は、アセチルアセトン又はアセチルアセトン誘導体である。
アセチルアセトン誘導体は、本発明においては、アセチルアセトンのメチル基、メチレン基又はカルボニル炭素に置換基を有する化合物を指す。アセチルアセトンのメチル基に置換する置換基としては、いずれも炭素数が1〜3の直鎖又は分岐のアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基である。
アセチルアセトンのメチレン基に置換する置換基としては、カルボキシル基、いずれも炭素数が1〜3の直鎖又は分岐のカルボキシアルキル基及びヒドロキシアルキル基であり、アセチルアセトンのカルボニル炭素に置換する置換基としては炭素数が1〜3のアルキル基であって、この場合はカルボニル酸素には水素原子が付加して水酸基となる。
好ましいアセチルアセトン誘導体の具体例としては、エチルカルボニルアセトン、n−プロピルカルボニルアセトン、i−プロピルカルボニルアセトン、ジアセチルアセトン、1―アセチル−1−プロピオニルアセチルアセトン、ヒドロキシエチルカルボニルアセトン、ヒドロキシプロピルカルボニルアセトン、アセト酢酸、アセトプロピオン酸、ジアセト酢酸、3,3−ジアセトプロピオン酸、4,4−ジアセト酪酸、カルボキシエチルカルボニルアセトン、カルボキシプロピルカルボニルアセトン、ジアセトンアルコールが挙げられる。
中でも、配位子としては、アセチルアセトン及びジアセチルアセトンが特に好ましい。
上記のアセチルアセトン又はアセチルアセトン誘導体と上記金属元素の錯体は、金属元素1個当たりにアセチルアセトン又はアセチルアセトン誘導体が1〜4分子配位する単核錯体であることが好ましく、金属元素の配位可能の手がアセチルアセトン又はアセチルアセトン誘導体の配位可能結合手の数の総和よりも多い場合には、水分子、ハロゲンイオン、ニトロ基、アンモニオ基など通常の錯体に汎用される配位子が配位してもよい。
A preferred ligand is acetylacetone or an acetylacetone derivative.
In the present invention, an acetylacetone derivative refers to a compound having a substituent on the methyl group, methylene group or carbonyl carbon of acetylacetone. As a substituent which substitutes for the methyl group of acetylacetone, all are a C1-C3 linear or branched alkyl group, an acyl group, a hydroxyalkyl group, a carboxyalkyl group, an alkoxy group, and an alkoxyalkyl group.
Substituents for substitution on the methylene group of acetylacetone are carboxyl groups, both linear or branched carboxyalkyl groups and hydroxyalkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and substituents for substitution on the carbonyl carbon of acetylacetone. An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. In this case, a hydrogen atom is added to carbonyl oxygen to form a hydroxyl group.
Specific examples of preferred acetylacetone derivatives include ethylcarbonylacetone, n-propylcarbonylacetone, i-propylcarbonylacetone, diacetylacetone, 1-acetyl-1-propionylacetylacetone, hydroxyethylcarbonylacetone, hydroxypropylcarbonylacetone, acetoacetic acid, Examples include acetopropionic acid, diacetacetic acid, 3,3-diacetpropionic acid, 4,4-diacetbutyric acid, carboxyethylcarbonylacetone, carboxypropylcarbonylacetone, and diacetone alcohol.
Among these, acetylacetone and diacetylacetone are particularly preferable as the ligand.
The complex of the above acetylacetone or acetylacetone derivative and the above metal element is preferably a mononuclear complex in which 1 to 4 molecules of acetylacetone or an acetylacetone derivative are coordinated per metal element, and the metal element can be coordinated. When the number of bonds capable of coordination of acetylacetone or acetylacetone derivatives is larger than the total number of bonds that can be coordinated, ligands commonly used for ordinary complexes such as water molecules, halogen ions, nitro groups, and ammonio groups may coordinate. .

好ましい金属錯体の例としては、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム錯塩、ジ(アセチルアセトナト)アルミニウム・アクア錯塩、モノ(アセチルアセトナト)アルミニウム・クロロ錯塩、ジ(ジアセチルアセトナト)アルミニウム錯塩、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、トリス(アセチルアセトナト)バリウム錯塩、ジ(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、トリス(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウムトリス(安息香酸)錯塩等が挙げられる。これらは水系塗布液での安定性、及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、特にエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、ジ(アセチルアセトナト)チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス(エチルアセトアセテート)が好ましい。   Examples of preferred metal complexes include tris (acetylacetonato) aluminum complex, di (acetylacetonato) aluminum / aqua complex, mono (acetylacetonato) aluminum / chloro complex, di (diacetylacetonato) aluminum complex, ethylacetate Acetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), cyclic aluminum oxide isopropylate, tris (acetylacetonato) barium complex, di (acetylacetonato) titanium complex, tris (acetylacetonato) titanium complex, di-i -Propoxy bis (acetylacetonato) titanium complex salt, zirconium tris (ethyl acetoacetate), zirconium tris (benzoic acid) complex salt, etc. are mentioned. These are excellent in stability in water-based coating solutions and in gelation promotion effect in sol-gel reaction during heat drying, but in particular, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), diester (Acetyl acetonato) titanium complex salt and zirconium tris (ethyl acetoacetate) are preferable.

(e)光熱変換剤
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(e)光熱変換剤を含有することが好ましい。
光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。ゆえに、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
(E) Photothermal Conversion Agent The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains (e) a photothermal conversion agent.
The photothermal conversion agent is considered to promote thermal decomposition of the cured product of the resin composition for laser engraving of the present invention by absorbing laser light and generating heat. Therefore, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

波長700nm〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合には、本発明におけるレリーフ形成層は、700nm〜1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を含有することが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
When a laser (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) emitting an infrared ray having a wavelength of 700 nm to 1,300 nm is used as a light source for laser engraving, the relief forming layer in the present invention has a thickness of 700 nm to 1,300 nm. It is preferable to contain the photothermal conversion agent which can absorb the light of this wavelength.
Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent in the present invention.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700nm〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。特に、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素が好ましく用いられる。例えば、特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include those having a maximum absorption wavelength at 700 nm to 1,300 nm. Azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, quinone imine dyes , Methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. In particular, cyanine dyes such as heptamethine cyanine dye, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dye, and phthalocyanine dyes are preferably used. Examples thereof include the dyes described in paragraphs 0124 to 0137 of JP-A-2008-63554.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何にかかわらずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。   As long as the dispersibility in the composition is stable, carbon black can be used regardless of the classification according to ASTM and the use (for example, for color, for rubber, for dry battery, etc.). Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In order to facilitate dispersion, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or a binder, if necessary. Such chips and pastes can be easily obtained as commercial products.

本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP吸収を有するカーボンブラックや比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの例は、Printex(登録商標)U、Printex(登録商標)A、又はSpezialschwarz(登録商標)4(Degussaより)を含む。   In the present invention, it is also possible to use carbon black having a relatively low specific surface area and relatively low DBP absorption and even finer carbon black having a large specific surface area. Examples of suitable carbon blacks include Printex® U, Printex® A, or Specialschwarz® 4 (from Degussa).

本発明に用いることができるカーボンブラックとしては、光熱変換により発生した熱を周囲のポリマー等に効率よく伝えることで彫刻感度が向上するという観点で、比表面積が150m2/g以上、かつ、DBP数が150ml/100g以上である、伝導性カーボンブラックが好ましい。 The carbon black that can be used in the present invention has a specific surface area of 150 m 2 / g or more and DBP from the viewpoint of improving engraving sensitivity by efficiently transferring heat generated by photothermal conversion to surrounding polymers. Conductive carbon black having a number of 150 ml / 100 g or more is preferred.

この比表面積は、250m2/g以上であることが好ましく、500m2/g以上であることがより好ましい。DBP数は、200m2/g以上であることが好ましく、250ml/100g以上であることがより好ましい。上述したカーボンブラックは、酸性の又は塩基性のカーボンブラックであってよい。カーボンブラックは、塩基性のカーボンブラックであることが好ましい。異なるバインダーの混合物も当然に、使用され得る。 The specific surface area is preferably 250 m 2 / g or more, and more preferably 500 m 2 / g or more. The number of DBPs is preferably 200 m 2 / g or more, and more preferably 250 ml / 100 g or more. The carbon black described above may be acidic or basic carbon black. The carbon black is preferably basic carbon black. Of course, mixtures of different binders can also be used.

比表面積が150〜約1,500m2/gであり、かつ、DBP数が150〜約550ml/100gである伝導性カーボンブラックが、例えば、Ketjenblack(登録商標)EC300J、Ketjenblack(登録商標)EC600J(Akzo社より)、Prinrex(登録商標)XE(Degussa社より)又はBlack Pearls(登録商標)2000(Cabot社より)、ケッチェンブラック(ライオン(株)製)の名称で、商業的に入手可能である。 Conductive carbon black having a specific surface area of 150 to about 1,500 m 2 / g and a DBP number of 150 to about 550 ml / 100 g are, for example, Ketjenblack (registered trademark) EC300J, Ketjenblack (registered trademark) EC600J ( (From Akzo), Princex (registered trademark) XE (from Degussa) or Black Pearls (registered trademark) 2000 (from Cabot), Ketjen Black (manufactured by Lion Corporation), and commercially available is there.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物中おける光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、該樹脂組成物の固形分全重量に対し、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜10重量%であることがより好ましく、0.1〜5重量%であることが更に好ましい。   The content of the photothermal conversion agent in the resin composition for laser engraving of the present invention varies greatly depending on the size of the molecular extinction coefficient inherent to the molecule, but is 0.01 to the total solid weight of the resin composition. It is preferably 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, and still more preferably 0.1 to 5% by weight.

(f)重合開始剤
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物をレリーフ形成層作製に用いる場合には、さらに(f)重合開始剤を含有することが好ましく、エチレン性不飽和基を有する化合物と重合開始剤とを併用することがより好ましい。
重合開始剤は、公知のものを制限なく使用することができる。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
(F) Polymerization initiator When the resin composition for laser engraving of the present invention is used for producing a relief forming layer, it preferably further contains (f) a polymerization initiator, and is polymerized with a compound having an ethylenically unsaturated group. More preferably, an initiator is used in combination.
A well-known thing can be used for a polymerization initiator without a restriction | limiting. Hereinafter, although the radical polymerization initiator which is a preferable polymerization initiator is explained in full detail, this invention is not restrict | limited by these description.

本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、(I−a)芳香族ケトン類、(I−b)オニウム塩化合物、(I−c)有機過酸化物、(I−d)チオ化合物、(I−I−e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(I−f)ケトオキシムエステル化合物、(I−g)ボレート化合物、(I−h)アジニウム化合物、(I−i)メタロセン化合物、(I−j)活性エステル化合物、(I−k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(I−l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(I−a)〜(I−l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred radical polymerization initiators include (Ia) aromatic ketones, (Ib) onium salt compounds, (Ic) organic peroxides, (Id) thio compounds, ( I-e) hexaarylbiimidazole compound, (If) ketoxime ester compound, (Ig) borate compound, (Ih) azinium compound, (Ii) metallocene compound, (I-j) ) Active ester compounds, (Ik) compounds having a carbon halogen bond, (I-1) azo compounds, and the like. Specific examples of the above (Ia) to (I-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

本発明においては、彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、(I−c)有機過酸化物及び(I−l)アゾ系化合物がより好ましく、(I−c)有機過酸化物が特に好ましい。   In the present invention, (Ic) organic peroxide and (Il) azo are used from the viewpoint of engraving sensitivity and a good relief edge shape when applied to the relief forming layer of the relief printing plate precursor. Type compounds are more preferred, and (Ic) organic peroxides are particularly preferred.

前記(I−a)芳香族ケトン類、(I−b)オニウム塩化合物、(I−d)チオ化合物、(I−e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(I−f)ケトオキシムエステル化合物、(I−g)ボレート化合物、(I−h)アジニウム化合物、(I−i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び(I−k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落0074〜0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。
また、(I−c)有機過酸化物及び(I−l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(Ia) aromatic ketones, (Ib) onium salt compounds, (Id) thio compounds, (Ie) hexaarylbiimidazole compounds, (If) ketoxime ester compounds, Ig) borate compounds, (Ih) azinium compounds, (Ii) metallocene compounds, (j) active ester compounds, and (Ik) compounds having a carbon halogen bond are disclosed in JP-A-2008-63554. The compounds listed in paragraphs 0074 to 0118 of the publication can be preferably used.
In addition, as the (Ic) organic peroxide and the (I-1) azo compound, the following compounds are preferable.

(I−c)有機過酸化物
本発明に用いることができる(I−c)有機過酸化物としては、3,3’4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
(Ic) Organic peroxide The (Ic) organic peroxide that can be used in the present invention includes 3,3′4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3, 3'4,4'-tetra (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra (t -Octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t -Peroxide esters such as butyl diperoxyisophthalate are preferred.

(I−l)アゾ系化合物
本発明に用いることができる(I−l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(I-l) Azo-Based Compound Examples of (I-l) azo-based compounds that can be used in the present invention include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobispropionitrile, , 1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′- Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) Oxime), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2- Hydroxyethyl] Pro Onamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane) Etc.

なお、本発明においては、前記(I−c)有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、膜(レリーフ形成層)の架橋性の観点から好ましく、さらに、予想外の効果として、彫刻感度向上の観点で特に好ましいことを見出した。   In the present invention, the (Ic) organic peroxide is preferably used as a polymerization initiator in the present invention from the viewpoint of the crosslinkability of the film (relief-forming layer), and as an unexpected effect, engraving sensitivity. It was found that it is particularly preferable from the viewpoint of improvement.

彫刻感度の観点からは、この(I−c)有機過酸化物と、バインダーポリマーとしてガラス転移温度が常温以上のポリマーとを組み合わせた態様が特に好ましい。
これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
特に、バインダーポリマーのガラス転移温度が室温以上の場合、有機過酸化物の分解に由来して発生した熱が、バインダーポリマーに効率よく伝達され、かつバインダーポリマー自体の熱分解に有効に利用されるためより高感度化されるものと推定している。
なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が(I−c)有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、バインダーポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
From the viewpoint of engraving sensitivity, an embodiment in which the (Ic) organic peroxide and a polymer having a glass transition temperature of room temperature or higher as a binder polymer is particularly preferable.
This is because when an organic peroxide is used to cure the relief forming layer by thermal crosslinking, unreacted organic peroxide that does not participate in radical generation remains, but the remaining organic peroxide is self-reactive. Works as an additive and decomposes exothermically during laser engraving. As a result, it is presumed that the engraving sensitivity is increased because the heat generated is added to the irradiated laser energy.
In particular, when the glass transition temperature of the binder polymer is above room temperature, the heat generated from the decomposition of the organic peroxide is efficiently transferred to the binder polymer and is effectively used for the thermal decomposition of the binder polymer itself. Therefore, it is estimated that the sensitivity will be higher.
In addition, although explained in full detail in description of a photothermal conversion agent, this effect is remarkable when using carbon black as a photothermal conversion agent. This is because heat generated from carbon black is transferred to (Ic) organic peroxide, and heat is generated not only from carbon black but also from organic peroxide. This is thought to be due to the synergistic generation of heat energy.

本発明における(f)重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。
レリーフ形成層中の(f)重合開始剤の含有量は、レリーフ形成層の固形分全重量に対し、0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜重量%がより好ましい。重合開始剤の含有量を0.01重量%以上とすることで、これを添加した効果が得られ、架橋性レリーフ形成層の架橋が速やかに行われる。また、含有量を10重量%以下とすることで他成分が不足することがなく、レリーフ印刷版として使用するに足る耐刷性が得られるためである。
The (f) polymerization initiator in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator (f) in the relief forming layer is preferably from 0.01 to 10% by weight, more preferably from 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the relief forming layer. By making the content of the polymerization initiator 0.01% by weight or more, the effect of adding this is obtained, and the crosslinkable relief forming layer is rapidly crosslinked. Further, when the content is 10% by weight or less, other components are not deficient, and printing durability sufficient for use as a relief printing plate can be obtained.

(g)溶媒
本発明の樹脂組成物は、バインダーポリマーと特定化合物との反応やバインダーポリマーと架橋剤との反応の促進や、樹脂組成物の粘度の調整、塗布や流延などのレリーフ形成層の形成を容易にするため、溶媒を含有していてもよい。なお、樹脂組成物の固形分量とは、溶剤などの揮発性成分を除いた量である。
溶媒としては、バインダーポリマーと特定化合物との反応やバインダーポリマーと架橋剤との反応を速やかに進行させる観点で、非プロトン性の有機溶媒/プロトン性有機溶媒=100/0〜50/50(重量比)で用いることが好ましく、100/0〜70/30で用いることがより好ましく、100/0〜90/10で用いることが更に好ましい。
非プロトン性の有機溶媒の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが例示できる。
プロトン性有機溶媒の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールが例示できる。
(G) Solvent The resin composition of the present invention is a relief-forming layer that promotes the reaction between the binder polymer and the specific compound, the reaction between the binder polymer and the crosslinking agent, the adjustment of the viscosity of the resin composition, coating and casting, etc. In order to facilitate the formation of, a solvent may be contained. The solid content of the resin composition is an amount excluding volatile components such as a solvent.
As the solvent, aprotic organic solvent / protic organic solvent = 100/0 to 50/50 (weight) from the viewpoint of promptly proceeding the reaction between the binder polymer and the specific compound and the reaction between the binder polymer and the crosslinking agent. Ratio), preferably 100/0 to 70/30, more preferably 100/0 to 90/10.
Preferred specific examples of the aprotic organic solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, Examples thereof include N-methylpyrrolidone and dimethyl sulfoxide.
Preferable specific examples of the protic organic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol and 1,3-propanediol.

(h)その他の添加剤
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物により形成された膜を柔軟化する作用を有するものであり、バインダーポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。
可塑剤としては、例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート等や、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)好ましく用いられる。
(H) Other additives The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains a plasticizer.
The plasticizer has a function of softening a film formed of the resin composition for laser engraving, and needs to be compatible with the binder polymer.
As the plasticizer, for example, dioctyl phthalate, didodecyl phthalate or the like, polyethylene glycols, polypropylene glycol (monool type or diol type), polypropylene glycol (monool type or diol type) are preferably used.

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、彫刻感度向上のための添加剤として、ニトロセルロースや高熱伝導性物質を加えることがより好ましい。ニトロセルロースは自己反応性化合物であるため、レーザー彫刻時、自身が発熱し、共存する親水性ポリマー等のバインダーポリマーの熱分解をアシストする。その結果、彫刻感度が向上すると推定される。高熱伝導性物質は、熱伝達を補助する目的で添加され、熱伝導性物質としては、金属粒子等の無機化合物、導電性ポリマー等の有機化合物が挙げられる。金属粒子としては、粒径がマイクロメートルオーダーから数ナノメートルオーダーの、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子が好ましい導電性ポリマーとしては、特に共役ポリマーが好ましく、具体的には、ポリアニリン、ポリチオフェンが挙げられる。
レーザー彫刻用樹脂組成物の着色を目的として染料又は顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させることができる。
更に、レーザー彫刻用樹脂組成物の硬化皮膜の物性を改良するために充填剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
In the resin composition for laser engraving of the present invention, it is more preferable to add nitrocellulose or a highly thermally conductive substance as an additive for improving engraving sensitivity. Since nitrocellulose is a self-reactive compound, it generates heat during laser engraving and assists in thermal decomposition of a binder polymer such as a hydrophilic polymer. As a result, it is estimated that the engraving sensitivity is improved. The high thermal conductive material is added for the purpose of assisting heat transfer, and examples of the thermal conductive material include inorganic compounds such as metal particles and organic compounds such as conductive polymers. As the metal particles, the conductive polymer is preferably a gold fine particle, a silver fine particle, or a copper fine particle having a particle size of micrometer order to several nanometer order. Particularly, a conjugated polymer is preferable, and specifically, polyaniline and polythiophene are mentioned. It is done.
Colorants such as dyes or pigments may be added for the purpose of coloring the resin composition for laser engraving. Thereby, properties such as the visibility of the image portion and the suitability of the image density measuring device can be improved.
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film of the resin composition for laser engraving, a known additive such as a filler may be added.

[レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版]
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第1の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。
また、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第2の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。
本発明において「レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、架橋される前の状態、及び、光又は熱により硬化された状態の両方又はいずれか一方のものをいう。
本発明において「レリーフ形成層」とは、架橋される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。
本発明において「架橋レリーフ形成層」とは、前記レリーフ形成層を架橋した層をいう。前記架橋は、熱及び/又は光により行われることが好ましい。また、前記架橋は樹脂組成物中の前記架橋剤と前記ポリマーとが反応して形成する架橋構造であることは言うまでもない。
架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することにより「レリーフ印刷版」が作製される。
また、本発明において「レリーフ層」とは、レリーフ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の前記架橋レリーフ形成層をいう。
[Relief printing plate precursor for laser engraving]
The first embodiment of the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
In addition, the second embodiment of the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a crosslinked relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
In the present invention, the “relief printing plate precursor for laser engraving” means a state in which a relief-forming layer having a crosslinkability made of a resin composition for laser engraving is in a state before being crosslinked and cured by light or heat. Both or either one.
In the present invention, the “relief-forming layer” refers to a layer in a state before being crosslinked, that is, a layer composed of the resin composition for laser engraving of the present invention, and if necessary, may be dried. Good.
In the present invention, the “crosslinked relief forming layer” refers to a layer obtained by crosslinking the relief forming layer. The crosslinking is preferably performed by heat and / or light. Needless to say, the crosslinking is a crosslinked structure formed by the reaction of the crosslinking agent in the resin composition and the polymer.
A “relief printing plate” is produced by laser engraving a printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
In the present invention, the “relief layer” refers to a layer engraved with a laser in a relief printing plate, that is, the crosslinked relief-forming layer after laser engraving.

前記レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、必要により更に、支持体とレリーフ形成層との間に接着層を、また、レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。
The relief forming layer is preferably provided on a support.
If necessary, the relief printing plate precursor for laser engraving may further have an adhesive layer between the support and the relief forming layer, and a slip coat layer and a protective film on the relief forming layer.

<レリーフ形成層>
レリーフ形成層は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、光及び熱の少なくとも一方により硬化する層、すなわち、架橋性を有する層であることが好ましい。
本発明のレリーフ印刷版原版によるレリーフ印刷版の製造方法としては、レリーフ形成層を架橋させ、次いでレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成することでレリーフ印刷版を製造する製造方法であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するレリーフ印刷版を得ることができる。
なお、レリーフ形成層は、レリーフ形成層用塗布液組成物を用い、これをシート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。
<Relief forming layer>
The relief forming layer is a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and is preferably a layer that is cured by at least one of light and heat, that is, a layer having crosslinkability.
The method for producing a relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention is preferably a production method for producing a relief printing plate by forming a relief layer by crosslinking a relief forming layer and then laser engraving. . By crosslinking the relief forming layer, wear of the relief layer during printing can be prevented, and a relief printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.
In addition, a relief forming layer can be formed by using the coating liquid composition for relief forming layers, and shape | molding this to a sheet form or a sleeve form.

<支持体>
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版に用いることができる支持体について説明する。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版に支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリアクリロニトリル(PAN))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
また、架橋性のレーザー彫刻用樹脂組成物を塗布し、裏面(レーザー彫刻を行う面と反対面であり、円筒状のものも含む。)から熱及び/又は光などで硬化させて作製されたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版においては、硬化したレーザー彫刻用樹脂組成物の裏面側が支持体として機能するため、必ずしも支持体は必須ではない。
<Support>
The support that can be used for the relief printing plate precursor for laser engraving will be described.
The material used for the support for the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited, but materials having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel, aluminum, polyester (for example, polyethylene terephthalate (PET) ), Polybutylene terephthalate (PBT), polyacrylonitrile (PAN)), plastic resins such as polyvinyl chloride, synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins) Can be mentioned. As the support, a PET film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.
Moreover, it was prepared by applying a crosslinkable resin composition for laser engraving and curing from the back surface (opposite surface to which laser engraving is performed, including a cylindrical one) with heat and / or light. In the relief printing plate precursor for laser engraving, since the back side of the cured resin composition for laser engraving functions as a support, the support is not necessarily essential.

<接着層>
レリーフ形成層と支持体の間には、両層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。接着層に用いることができる材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。
<Adhesive layer>
An adhesive layer may be provided between the relief forming layer and the support for the purpose of enhancing the adhesive force between the two layers. Examples of the material (adhesive) that can be used for the adhesive layer include: Those described in Skeist ed., “Handbook of Adhesives”, 2nd edition (1977) can be used.

<保護フィルム、スリップコート層>
レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25〜500μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。
<Protective film, slip coat layer>
A protective film may be provided on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer for the purpose of preventing scratches or dents on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer. The thickness of the protective film is preferably 25 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. As the protective film, for example, a polyester film such as PET, or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the film may be matted. The protective film is preferably peelable.

保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。   When the protective film cannot be peeled or when it is difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers. The material used for the slip coat layer is a resin that can be dissolved or dispersed in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that

(レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法)
次に、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法について説明する。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レリーフ形成層用塗布液組成物(レーザー彫刻用樹脂組成物を含有)を調製し、このレリーフ形成層用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。あるいは、レリーフ形成層用塗布液組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して塗布液組成物から溶媒を除去する方法でもよい。
中でも、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることが好ましい。
(Manufacturing method of relief printing plate precursor for laser engraving)
Next, a method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving will be described.
Formation of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited. For example, a relief forming layer coating liquid composition (containing a resin composition for laser engraving) is prepared, and this relief is formed. The method of melt-extruding on a support body after removing a solvent from the coating liquid composition for forming layers is mentioned. Or the method of casting the coating liquid composition for relief forming layers on a support body, drying this in oven, and removing a solvent from a coating liquid composition may be sufficient.
Among these, the method for producing a relief printing plate for laser engraving of the present invention comprises a layer forming step for forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, and the relief forming layer by heat and / or light. It is preferable that the production method includes a crosslinking step of obtaining a relief printing plate precursor that is crosslinked and has a crosslinked relief forming layer.

その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることよって行うことができる。
保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。
Thereafter, a protective film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the protective film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the protective film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When using a protective film, you may take the method of laminating | stacking a relief forming layer on a protective film first, and laminating a support body then.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When providing a slip coat layer, it can respond by using the protective film which apply | coated the slip coat layer.

<層形成工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。
レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶媒を除去する方法が好ましく例示できる。
レリーフ形成層用塗布液組成物は、例えば、前記架橋剤、前記ポリマー、及び、任意成分として、光熱変換剤、可塑剤を適当な溶媒に溶解させ、次いで、重合性化合物及び重合開始剤を溶解させることによって製造できる。溶媒成分のほとんどは、レリーフ印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶媒としては、揮発しやすい低分子アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコ−ルモノメチルエーテル)等を用い、かつ温度を調整するなどして溶媒の全添加量をできるだけ少なく抑えることが好ましい。
<Layer formation process>
The method for producing a relief printing plate for laser engraving of the present invention preferably includes a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
As a method for forming a relief forming layer, the resin composition for laser engraving of the present invention is prepared. A method of preparing the resin composition for laser engraving of the present invention, casting the resin composition for laser engraving of the present invention on a support and drying it in an oven to remove the solvent is preferably exemplified.
For example, the coating composition for the relief forming layer is prepared by dissolving the cross-linking agent, the polymer, and, as an optional component, a photothermal conversion agent and a plasticizer in an appropriate solvent, and then dissolving the polymerizable compound and the polymerization initiator. Can be manufactured. Since most of the solvent components need to be removed at the stage of producing the relief printing plate precursor, the solvent may be a low-molecular alcohol that easily volatilizes (for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, propylene glycol monomethyl). It is preferable to keep the total amount of solvent added as small as possible by adjusting the temperature.

レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が更に好ましい。   The thickness of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is preferably from 0.05 mm to 10 mm, more preferably from 0.05 mm to 7 mm, and still more preferably from 0.05 mm to 3 mm before and after crosslinking.

<架橋工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製造方法は、前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましい。
また、ここでいう「架橋」とは、レリーフ形成層が硬化すれば特に限定されず、式(1)〜(4)で表される化合物同士の反応による硬化、式(1)〜(4)で表される化合物とバインダーポリマーとの反応による硬化、更に架橋剤とが加わって硬化し、架橋構造を形成することなどを表す。
<Crosslinking process>
The method for producing a relief printing plate for laser engraving of the present invention is preferably a production method including a crosslinking step of obtaining a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer by crosslinking the relief forming layer with heat and / or light. .
The term “crosslinking” as used herein is not particularly limited as long as the relief forming layer is cured. Curing by the reaction between compounds represented by formulas (1) to (4), formulas (1) to (4) It represents curing by reaction of the compound represented by the above and a binder polymer, and further curing by adding a crosslinking agent to form a crosslinked structure.

光の照射は、レリーフ形成層全面に行うことが好ましい。
光としては、可視光、紫外光又は電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。レリーフ形成層の支持体側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が光を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下において架橋反応が阻害される恐れがある場合は、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、光の照射を行ってもよい。
レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。)、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる(熱により架橋する工程)。熱により架橋を行うための加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
The light irradiation is preferably performed on the entire surface of the relief forming layer.
Examples of light include visible light, ultraviolet light, and electron beam, but ultraviolet light is most preferable. If the support side of the relief forming layer is the back side, the surface may only be irradiated with light, but if the support is a transparent film that transmits light, it is preferable that the back side is further irradiated with light. When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. If there is a possibility that the crosslinking reaction may be inhibited in the presence of oxygen, the relief forming layer may be covered with a vinyl chloride sheet and evacuated and then irradiated with light.
When the relief-forming layer contains a thermal polymerization initiator (the above-mentioned photopolymerization initiator can also be a thermal polymerization initiator), the relief-forming layer is heated by heating the relief printing plate precursor for laser engraving. It can be crosslinked (step of crosslinking by heat). Examples of the heating means for crosslinking by heat include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting a heated roll for a predetermined time.

前記架橋工程におけるレリーフ形成層の架橋方法としは、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
As a crosslinking method of the relief forming layer in the crosslinking step, crosslinking by heat is preferable from the viewpoint that the relief forming layer can be uniformly cured (crosslinked) from the surface to the inside.
By crosslinking the relief forming layer, there is an advantage that the relief formed first after laser engraving becomes sharp, and secondly, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed.

(レリーフ印刷版及びその製造方法)
本発明のレリーフ印刷版の製造方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、並びに、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含む。
本発明のレリーフ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋及びレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するレリーフ印刷版であり、本発明のレリーフ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ印刷版であることが好ましい。
本発明のレリーフ印刷版の製造方法における層形成工程及び架橋工程は、前記レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法における層形成工程及び架橋工程と同義であり、好ましい範囲も同様である。
(Relief printing plate and manufacturing method thereof)
The method for producing a relief printing plate of the present invention comprises a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, and the crosslinked relief forming layer is formed by crosslinking the relief forming layer with heat and / or light. A crosslinking step for obtaining the relief printing plate precursor having the above-mentioned structure, and a engraving step for laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief-forming layer.
The relief printing plate of the present invention is a relief printing plate having a relief layer obtained by crosslinking and laser engraving a layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention. It is preferably a relief printing plate that has been made.
The layer forming step and the crosslinking step in the method for producing a relief printing plate of the present invention are synonymous with the layer forming step and the crosslinking step in the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, and the preferred range is also the same.

<彫刻工程>
本発明のレリーフ印刷版の製造方法は、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程を含むことが好ましい。
彫刻工程は、前記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。好ましくは、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
<Engraving process>
The method for producing a relief printing plate of the present invention preferably includes an engraving step of laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer.
The engraving step is a step of forming a relief layer by laser engraving the crosslinked relief forming layer crosslinked in the crosslinking step. Specifically, it is preferable to form a relief layer by engraving a crosslinked crosslinked relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to a desired image. Preferably, a step of controlling the laser head with a computer based on the digital data of a desired image and irradiating the crosslinked relief forming layer with scanning is exemplified.
In this engraving process, an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the crosslinked relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation part, and molecules in the crosslinked relief forming layer are selectively cut by molecular cutting or ionization. That is, engraving is performed. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a portion of a groove that prints fine punched characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the crosslinked relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained.

彫刻工程に用いられる赤外レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザーが好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものであれば利用可能であるが、800〜1,200nmのものが好ましく、860〜1,200nmのものがより好ましく、900〜1,100nmであるものが特に好ましい。
The infrared laser used in the engraving process is preferably a carbon dioxide laser or a semiconductor laser from the viewpoint of productivity, cost, and the like. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber is preferably used. In general, a semiconductor laser can be downsized with high efficiency and low cost in laser oscillation as compared with a CO 2 laser. Moreover, since it is small, it is easy to form an array. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber.
The semiconductor laser can be used if it has a wavelength of 700 to 1,300 nm, preferably 800 to 1,200 nm, more preferably 860 to 1,200 nm, and 900 to 1,100 nm. Some are particularly preferred.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, after the engraving step, the following rinsing step, drying step, and / or post-crosslinking step may be included as necessary.
Rinsing step: a step of rinsing the engraved surface of the relief layer after engraving with water or a liquid containing water as a main component.
Drying step: a step of drying the engraved relief layer.
Post-crosslinking step: a step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer.

彫刻表面に彫刻カスが付着している場合は、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式或いは搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
When the engraving residue is attached to the engraving surface, a rinsing step of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, a known batch type or conveying type brush type washing machine as a developing device for photosensitive resin relief printing, the surface of engraving is mainly present For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing solution to which a surfactant is added may be used.
When the rinsing process for rinsing the engraving surface is performed, it is preferable to add a drying process for drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinsing liquid.
Furthermore, you may add the post-crosslinking process which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing a post-crosslinking step, which is an additional cross-linking step, the relief formed by engraving can be further strengthened.

本発明に用いることができるリンス液としては、水、又は、水を主成分とする液体であることが好ましい。
リンス液のpHは、9以上であることが好ましく、pH10以上であることがより好ましく、pH11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13以下であることがより好ましく、12.5以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、十分なリンス性(洗浄性)を得られ、また、取扱いが容易である。
リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜酸及び塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。pH調整用の塩基としては、無機塩基が好ましく、例えば、KOH、NaOH等が例示される。また、pHの調整に酸を使用する場合、無機酸が好ましく、例えば、HCl、H2SO3、リン酸、HNO3が例示される。
The rinsing liquid that can be used in the present invention is preferably water or a liquid containing water as a main component.
The pH of the rinsing liquid is preferably 9 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 11 or more. Moreover, it is preferable that the pH of a rinse liquid is 14 or less, It is more preferable that it is 13 or less, It is still more preferable that it is 12.5 or less. Within the above range, sufficient rinsing properties (cleaning properties) can be obtained, and handling is easy.
What is necessary is just to adjust pH using an acid and a base suitably in order to make a rinse liquid into said pH range, and the acid and base to be used are not specifically limited. As the base for adjusting pH, an inorganic base is preferable, and examples thereof include KOH and NaOH. Further, when an acid is used for adjusting the pH, inorganic acids are preferred, for example, HCl, H 2 SO 3, phosphoric acid, HNO 3 is illustrated.

本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。
また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
リンス液のpHは、9以上であることが好ましく、9〜14であることがより好ましく、9〜12.5であることが更に好ましい。
本発明のレリーフ印刷版製版用リンス液は、塩基性化合物を含有することが好ましく、水溶性の塩基性化合物を含有することがより好ましい。
塩基性化合物としては、特に制限はなく、公知の塩基性化合物を用いることができるが、無機の塩基性化合物であることが好ましく、アルカリ金属塩化合物、及び、アルカリ土類金属塩化合物であることがより好ましく、アルカリ金属水酸化物であることが更に好ましい。
塩基性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム、同リチウム、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム及び同アンモニウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。
また、pHの調整に酸を使用する場合、無機酸が好ましく、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、及び、硝酸が例示される。
The rinsing liquid that can be used in the present invention preferably contains water as a main component.
Moreover, the rinse liquid may contain water miscible solvents, such as alcohol, acetone, tetrahydrofuran, etc. as solvents other than water.
The pH of the rinse liquid is preferably 9 or more, more preferably 9 to 14, and still more preferably 9 to 12.5.
The rinsing liquid for relief printing plate making of the present invention preferably contains a basic compound, and more preferably contains a water-soluble basic compound.
There is no restriction | limiting in particular as a basic compound, Although a well-known basic compound can be used, It is preferable that it is an inorganic basic compound, and it is an alkali metal salt compound and an alkaline-earth metal salt compound Is more preferable, and an alkali metal hydroxide is more preferable.
Examples of basic compounds include sodium hydroxide, ammonium, potassium, lithium, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogen carbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, and ammonium.
Moreover, when using an acid for adjustment of pH, an inorganic acid is preferable, for example, hydrochloric acid, a sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid are illustrated.

リンス液には、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、特に制限はなく、公知の界面活性剤を用いることができ、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤などが例示できる。
アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、α−オレフィンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。
The rinsing liquid preferably contains a surfactant.
There is no restriction | limiting in particular as surfactant, A well-known surfactant can be used, Anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, a nonionic surfactant etc. can be illustrated.
Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, α-olefin sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl diphenyl ether disulfonates, linear alkyl benzene sulfonates, Branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamides Sodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polio Siethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styrylphenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxy Examples thereof include ethylene alkylphenyl ether phosphate esters, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, and the like.

カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、アルキルカルボキシベタイン類、アルキルイミダゾリン類、アルキルアミノカルボン酸類等が挙げられる。
ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリプロピレングリコールの分子量200〜5,000、トリメチロールプロパン、グリセリン又はソルビトールのポリオキシエチレン又はポリオキシプロピレンの付加物、アセチレングリコール系等が挙げられる。
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts and quaternary ammonium salts.
Examples of amphoteric surfactants include alkyl carboxybetaines, alkyl imidazolines, and alkylaminocarboxylic acids.
Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters , Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkyl Min, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, molecular weight of polypropylene glycol 200 to 5,000, trimethylolpropane, adduct of glycerin or sorbitol polyoxyethylene or polyoxypropylene, acetylene glycol, and the like.

また、本発明に用いることができる界面活性剤は、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物が好ましい。   The surfactant that can be used in the present invention is preferably a carboxybetaine compound, a sulfobetaine compound, a phosphobetaine compound, an amine oxide compound, or a phosphine oxide compound.

本発明に用いることができるリンス液は、特に、下記式(1)で表される両性界面活性剤(式(1)で表される化合物)及び/又は式(2)で表される両性界面活性剤(式(2)で表される化合物)を含むことが好ましい。これらの中でも、少なくとも式(1)で表される両性界面活性剤(式(1)で表される化合物)を含有することがより好ましい。   The rinsing liquid that can be used in the present invention is, in particular, an amphoteric surfactant represented by the following formula (1) (compound represented by formula (1)) and / or an amphoteric interface represented by formula (2). It is preferable that an activator (compound represented by Formula (2)) is included. Among these, it is more preferable to contain at least an amphoteric surfactant represented by the formula (1) (a compound represented by the formula (1)).

Figure 2011068031
(式(1)中、R1〜R3はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、R4は単結合、又は、二価の連結基を表し、AはPO(OR5)O-、OPO(OR5)O-、O-、COO-、又は、SO3 -を表し、R5は、水素原子、又は、一価の有機基を表し、R1〜R3のうち2つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよい。)
Figure 2011068031
(In formula (1), R 1 to R 3 each independently represents a monovalent organic group, R 4 represents a single bond or a divalent linking group, and A represents PO (OR 5 ) O −. , OPO (OR 5 ) O , O , COO , or SO 3 , R 5 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and two or more of R 1 to R 3 May be bonded to each other to form a ring.)

Figure 2011068031
(式(2)中、R6〜R8はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、R9は単結合、又は、二価の連結基を表し、BはPO(OR10)O-、OPO(OR10)O-、O-、COO-、又は、SO3 -を表し、R10は、水素原子、又は、一価の有機基を表し、R6〜R8のうち2つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよい。)
Figure 2011068031
(In formula (2), R 6 to R 8 each independently represents a monovalent organic group, R 9 represents a single bond or a divalent linking group, and B represents PO (OR 10 ) O −. , OPO (OR 10 ) O , O , COO , or SO 3 , R 10 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and two or more of R 6 to R 8 May be bonded to each other to form a ring.)

本発明に用いることができるリンス液は、前記式(1)で表される化合物及び/又は前記式(2)で表される化合物を、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよいが、前記式(1)で表される化合物を少なくとも含有することが好ましい。
前記式(1)で表される化合物又は前記式(2)で表される化合物は、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物であることが好ましい。なお、本発明において、アミンオキシド化合物のN=O、及び、ホスフィンオキシド化合物P=Oの構造はそれぞれ、N+−O-、P+−O-と見なすものとする。
前記式(1)におけるR1〜R3はそれぞれ独立に、一価の有機基を表す。また、R1〜R3のうち2つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
1〜R3における一価の有機基としては、特に制限はないが、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にエーテル結合を有するアルキル基であることが好ましく、アルキル基、ヒドロキシ基を有するアルキル基、又は、アルキル鎖中にアミド結合を有するアルキル基であることがより好ましい。
また、前記一価の有機基におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、R1〜R3のうちの2つがメチル基である、すなわち、式(1)で表される化合物がN,N−ジメチル構造を有することが特に好ましい。上記構造であると、特に良好なリンス性を示す。
The rinsing liquid that can be used in the present invention is a compound represented by the formula (1) and / or a compound represented by the formula (2), which may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable to contain at least the compound represented by the formula (1).
The compound represented by the formula (1) or the compound represented by the formula (2) is preferably a carboxybetaine compound, a sulfobetaine compound, a phosphobetaine compound, an amine oxide compound, or a phosphine oxide compound. In the present invention, N = O amine oxide compound, and, each structure of the phosphine oxide compound P = O is, N + -O -, P + -O - shall be regarded as.
R 1 to R 3 in the formula (1) each independently represent a monovalent organic group. Moreover, although two or more groups among R 1 to R 3 may be bonded to each other to form a ring, it is preferable that no ring is formed.
The monovalent organic group in R 1 to R 3 is not particularly limited, but an alkyl group, an alkyl group having a hydroxy group, an alkyl group having an amide bond in the alkyl chain, or an ether bond in the alkyl chain. The alkyl group is preferably an alkyl group, an alkyl group having a hydroxy group, or an alkyl group having an amide bond in the alkyl chain.
In addition, the alkyl group in the monovalent organic group may be linear, branched or have a ring structure.
Further, it is particularly preferable that two of R 1 to R 3 are methyl groups, that is, the compound represented by the formula (1) has an N, N-dimethyl structure. With the above structure, particularly good rinsing properties are exhibited.

前記式(1)におけるR4は、単結合、又は、二価の連結基を表し、式(1)で表される化合物がアミンオキシド化合物である場合は単結合である。
4における二価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜3のアルキレン基であることが更に好ましい。
前記式(1)におけるAは、PO(OR5)O-、OPO(OR5)O-、O-、COO-、又は、SO3 -を表し、O-、COO-、又は、SO3 -であることが好ましく、COO-であることがより好ましい。
-がO-である場合、R4は単結合であることが好ましい。
PO(OR5)O-及びOPO(OR5)O-におけるR5は、水素原子、又は、一価の有機基を表し、水素原子、又は、1以上の不飽和脂肪酸エステル構造を有するアルキル基であることが好ましい。
また、R4は、PO(OR5)O-、OPO(OR5)O-、O-、COO-、及び、SO3 -を有していない基であることが好ましい。
R 4 in the formula (1) represents a single bond or a divalent linking group, and is a single bond when the compound represented by the formula (1) is an amine oxide compound.
The divalent linking group in R 4 is not particularly limited, but is preferably an alkylene group or an alkylene group having a hydroxy group, and is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or a carbon having a hydroxy group. It is more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and further preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms having a hydroxy group.
A in the formula (1) represents PO (OR 5 ) O , OPO (OR 5 ) O , O , COO , or SO 3 −, and represents O , COO , or SO 3 −. is preferably, COO - is more preferable.
When A is O , R 4 is preferably a single bond.
R 5 in PO (OR 5 ) O and OPO (OR 5 ) O represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and is a hydrogen atom or an alkyl group having one or more unsaturated fatty acid ester structures. It is preferable that
R 4 is preferably a group having no PO (OR 5 ) O , OPO (OR 5 ) O , O , COO , and SO 3 .

前記式(2)におけるR6〜R8はそれぞれ独立に、一価の有機基を表す。また、R6〜R8のうち2つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
6〜R8における一価の有機基としては、特に制限はないが、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましく、アルケニル基、アリール基、又は、ヒドロキシ基であることがより好ましい。
また、前記一価の有機基におけるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、R6〜R8のうちの2つがアリール基であることが特に好ましい。
R 6 to R 8 in the formula (2) each independently represent a monovalent organic group. Moreover, although two or more groups among R 6 to R 8 may be bonded to each other to form a ring, it is preferable that no ring is formed.
The monovalent organic group in R 6 to R 8 is not particularly limited, but is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a hydroxy group, and is preferably an alkenyl group, an aryl group, or a hydroxy group. More preferably.
In addition, the alkyl group in the monovalent organic group may be linear, branched or have a ring structure.
Moreover, it is particularly preferable that two of R 6 to R 8 are aryl groups.

前記式(2)におけるR9は、単結合、又は、二価の連結基を表し、式(2)で表される化合物がホスフィンオキシド化合物である場合は単結合である。
9における二価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を有する炭素数1〜3のアルキレン基であることが更に好ましい。
前記式(2)におけるBは、PO(OR10)O-、OPO(OR10)O-、O-、COO-、又は、SO3 -を表し、O-であることが好ましい。
-がO-である場合、R9は単結合であることが好ましい。
PO(OR10)O-及びOPO(OR10)O-おけるR10は、水素原子、又は、一価の有機基を表し、水素原子、又は、1以上の不飽和脂肪酸エステル構造を有するアルキル基であることが好ましい。
また、R9は、PO(OR10)O-、OPO(OR10)O-、O-、COO-、及び、SO3 -を有していない基であることが好ましい。
R 9 in the formula (2) represents a single bond or a divalent linking group, and is a single bond when the compound represented by the formula (2) is a phosphine oxide compound.
The divalent linking group for R 9 is not particularly limited, but is preferably an alkylene group or an alkylene group having a hydroxy group, and is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or a carbon having a hydroxy group. It is more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and further preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms having a hydroxy group.
B in the formula (2) represents PO (OR 10 ) O , OPO (OR 10 ) O , O , COO , or SO 3 −, and is preferably O .
When B is O , R 9 is preferably a single bond.
R 10 in PO (OR 10 ) O 2 and OPO (OR 10 ) O 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and represents a hydrogen atom or an alkyl group having one or more unsaturated fatty acid ester structures. It is preferable that
R 9 is preferably a group having no PO (OR 10 ) O , OPO (OR 10 ) O , O , COO , and SO 3 .

式(1)で表される化合物としては、下記式(3)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (3).

Figure 2011068031
(式(3)中、R1は一価の有機基を表し、R4は単結合、又は、二価の連結基を表し、AはPO(OR5)O-、OPO(OR5)O-、O-、COO-、又は、SO3 -を表し、R5は、水素原子、又は、一価の有機基を表す。)
Figure 2011068031
(In Formula (3), R 1 represents a monovalent organic group, R 4 represents a single bond or a divalent linking group, and A represents PO (OR 5 ) O , OPO (OR 5 ) O. -, O -, COO -, or SO 3 - represents, R 5 represents a hydrogen atom, or a monovalent organic group).

式(3)におけるR1、A、及び、R5は、前記式(1)におけるR1、A、及び、R5と同義であり、好ましい範囲も同様である。 Equation (3) in R 1, A and, R 5 is, R 1, A in Formula (1), and has the same meaning as R 5, a preferred range is also the same.

式(2)で表される化合物としては、下記式(4)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the formula (2) is preferably a compound represented by the following formula (4).

Figure 2011068031
(式(4)中、R6〜R8はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は、ヒドロキシ基を表す。ただし、R6〜R8の全てが同じ基となることはない。)
Figure 2011068031
(In the formula (4), R 6 to R 8 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a hydroxy group. However, all of R 6 to R 8 do not become the same group. .)

前記式(4)におけるR6〜R8はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は、ヒドロキシ基を表し、アルケニル基、アリール基、又は、ヒドロキシ基であることが好ましい。 R 6 to R 8 in the formula (4) each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a hydroxy group, and preferably an alkenyl group, an aryl group, or a hydroxy group.

式(1)で表される化合物又は式(2)で表される化合物として具体的には、下記の化合物が好ましく例示できる。   Specific examples of the compound represented by the formula (1) or the compound represented by the formula (2) include the following compounds.

Figure 2011068031
Figure 2011068031

Figure 2011068031
Figure 2011068031

Figure 2011068031
Figure 2011068031

リンス液に式(1)で表される化合物及び/又は式(2)で表される化合物を使用する場合、リンス液における式(1)で表される化合物及び/又は式(2)で表される化合物の総含有量は、0.1〜20重量%であることが好ましく、0.3〜10重量%であることがより好ましく、0.5〜7重量%であることが更に好ましい。   When the compound represented by the formula (1) and / or the compound represented by the formula (2) is used in the rinse liquid, the compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) in the rinse liquid is used. The total content of the compound to be formed is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.3 to 10% by weight, and further preferably 0.5 to 7% by weight.

また、リンス液は、式(1)で表される化合物及び式(2)で表される化合物以外の界面活性剤を併用してもよい。
リンス液において、式(1)で表される化合物及び式(2)で表される化合物以外の界面活性剤を使用する場合、その添加量は、式(1)で表される化合物及び式(2)で表される化合物の総重量:式(1)で表される化合物及び式(2)で表される化合物以外の界面活性剤の総重量=1:1.2〜1:0.1であることが好ましく、1:1〜1:0.1であることがより好ましい。
Moreover, you may use surfactant other than the compound represented by the compound represented by Formula (1), and Formula (2) for a rinse liquid.
In the rinsing solution, when a surfactant other than the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (2) is used, the addition amount thereof is the compound represented by the formula (1) and the formula ( 2) Total weight of compound represented by: Total weight of surfactant other than compound represented by formula (1) and compound represented by formula (2) = 1: 1.2 to 1: 0.1 Is preferable, and 1: 1 to 1: 0.1 is more preferable.

また、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は、特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜10重量%であることがより好ましい。
Fluorine-based and silicone-based nonionic surfactants can also be used in the same manner.
Surfactant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The amount of the surfactant used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on the total weight of the rinse liquid. .

リンス液には、消泡剤を含有することが好ましい。
消泡剤としては、一般的なシリコーン系の自己乳化型タイプ、乳化タイプ、界面活性剤ノニオン系のHLB(Hydrophile-Lipophile Balance)値の5以下等の化合物を使用することができる。シリコーン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型及び可溶化型等がいずれも使用できる。
消泡剤として具体的には、例えば、TSA731、TSA739(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)が挙げられる。
消泡剤の含有量は、レリーフ印刷版製版用リンス液中に、0.001〜1.0重量%であることが好ましい。
The rinse liquid preferably contains an antifoaming agent.
As the antifoaming agent, a general silicone-based self-emulsifying type, emulsifying type, surfactant nonionic HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 5 or less can be used. Silicone defoamers are preferred. Among them, an emulsified dispersion type and a solubilized type can be used.
Specific examples of the antifoaming agent include TSA 731 and TSA 739 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.).
The content of the antifoaming agent is preferably 0.001 to 1.0% by weight in the rinsing liquid for relief printing plate making.

以下、本発明のレリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の作製に用いることができるファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11の一態様について、図1を参照して、その構成について説明する。
本発明に用いることができるファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11は、外周面に、本発明のレリーフ印刷版原版F(記録媒体)が装着されたドラム50を主走査方向に回転させると共に、レリーフ印刷版原版Fに彫刻(記録)すべき画像の画像データに応じた複数のレーザービームを同時に射出しつつ、所定ピッチで露光ヘッド30を主走査方向と直交する副走査方向に走査させることで、2次元画像をレリーフ印刷版原版Fに高速で彫刻(記録)する。また、狭い領域を彫刻(細線や網点などの精密彫刻)する場合などはレリーフ印刷版原版Fを浅彫りし、広い領域を彫刻する場合などはレリーフ印刷版原版Fを深彫りする。
Hereinafter, with reference to FIG. 1, the configuration of a plate making apparatus 11 including a fiber-coupled semiconductor laser recording apparatus 10 that can be used for producing a relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention will be described. To do.
A plate making apparatus 11 including a fiber-coupled semiconductor laser recording apparatus 10 that can be used in the present invention rotates a drum 50 having a relief printing plate precursor F (recording medium) of the present invention mounted on its outer peripheral surface in the main scanning direction. At the same time, a plurality of laser beams corresponding to the image data of the image to be engraved (recorded) are simultaneously emitted onto the relief printing plate precursor F, and the exposure head 30 is scanned in the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction at a predetermined pitch. Thus, the two-dimensional image is engraved (recorded) on the relief printing plate precursor F at high speed. Further, when engraving a narrow area (precision engraving such as fine lines or halftone dots), the relief printing plate precursor F is shallowly engraved, and when engraving a wide area, the relief printing plate precursor F is deeply engraved.

図1に示すように、製版装置11は、レーザービームによって彫刻され画像が記録されるレリーフ印刷版原版Fが装着され且つレリーフ印刷版原版Fが主走査方向に移動するように図1矢印R方向に回転駆動されるドラム50と、レーザー記録装置10と、を含んで構成されている。レーザー記録装置10は、複数のレーザービームを生成する光源ユニット20と、光源ユニット20で生成された複数のレーザービームをレリーフ印刷版原版Fに露光する露光ヘッド30と、露光ヘッド30を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部40と、を含んで構成されている。   As shown in FIG. 1, the plate making apparatus 11 has a relief printing plate precursor F on which an image is recorded by engraving with a laser beam, and the relief printing plate precursor F moves in the main scanning direction in the direction of arrow R in FIG. A drum 50 that is rotationally driven and a laser recording device 10 are included. The laser recording apparatus 10 includes a light source unit 20 that generates a plurality of laser beams, an exposure head 30 that exposes the plurality of laser beams generated by the light source unit 20 onto a relief printing plate precursor F, and the exposure head 30 in a sub-scanning direction. And an exposure head moving unit 40 that is moved along the direction.

光源ユニット20には、各々光ファイバー22A,22Bの一端部が個別にカップリングされたブロードエリア半導体レーザーによって構成された半導体レーザー21A,21Bと、半導体レーザー21A,21Bが表面に配置された光源基板24A,24Bと、光源基板24A,24Bの一端部に垂直に取り付けられると共にSC型光コネクタ25A,25Bのアダプタが複数(半導体レーザー21A,21Bと同数)設けられたアダプタ基板23A,23Bと、光源基板24A,24Bの他端部に水平に取り付けられると共にレリーフ印刷版原版Fに彫刻(記録)する画像の画像データに応じて半導体レーザー21A,21Bを駆動するLDドライバー回路(不図示)が設けられたLDドライバー基板27A,27Bと、が備えられている。   The light source unit 20 includes semiconductor lasers 21A and 21B each composed of a broad area semiconductor laser in which one ends of the optical fibers 22A and 22B are individually coupled, and a light source substrate 24A on which the semiconductor lasers 21A and 21B are arranged. , 24B, adapter boards 23A, 23B that are vertically attached to one end of the light source boards 24A, 24B and that are provided with a plurality of adapters of the SC type optical connectors 25A, 25B (the same number as the semiconductor lasers 21A, 21B), and light source boards LD driver circuits (not shown) for driving the semiconductor lasers 21A and 21B according to the image data of the image engraved (recorded) on the relief printing plate precursor F are provided at the other ends of the 24A and 24B horizontally. LD driver boards 27A and 27B are provided. .

露光ヘッド30には、複数の半導体レーザー21A,21Bから射出された各レーザービームを取り纏めて射出するファイバーアレイ部300が備えられている。このファイバーアレイ部300には、各々アダプタ基板23A,23Bに接続されたSC型光コネクタ25A,25Bに接続された複数の光ファイバー70A,70Bによって、各半導体レーザー21A,21Bから射出されたレーザービームが伝送される。   The exposure head 30 includes a fiber array unit 300 that collects and emits laser beams emitted from the plurality of semiconductor lasers 21A and 21B. In this fiber array section 300, laser beams emitted from the respective semiconductor lasers 21A and 21B are received by a plurality of optical fibers 70A and 70B connected to SC type optical connectors 25A and 25B connected to adapter boards 23A and 23B, respectively. Is transmitted.

図1に示すように、露光ヘッド30には、ファイバーアレイ部300側より、コリメータレンズ32、開口部材33、及び、結像レンズ34が、順番に並んで配列されている。なお、開口部材33は、ファイバーアレイ部300側から見て、開口がファーフィールド(far field)の位置となるように配置されている。これによって、ファイバーアレイ部300における複数の光ファイバー70A,70Bの光ファイバー端部(不図示)から射出された全てのレーザービームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。   As shown in FIG. 1, in the exposure head 30, a collimator lens 32, an aperture member 33, and an imaging lens 34 are arranged in order from the fiber array unit 300 side. The opening member 33 is arranged so that the opening is positioned at the far field as viewed from the fiber array unit 300 side. As a result, the same light quantity limiting effect can be given to all laser beams emitted from the optical fiber end portions (not shown) of the plurality of optical fibers 70A and 70B in the fiber array section 300.

コリメータレンズ32及び結像レンズ34で構成される結像手段によって、レーザービームはレリーフ印刷版原版Fの露光面(表面)FAの近傍に結像される。
前記ファイバー付き半導体レーザーではビーム形状を変化させることが可能であるため、本発明においては、結像位置は、露光面FAから内部側(レーザービームの進行方向側)の範囲とすることで、露光面(レリーフ形成層表面)FAのビーム径を10μm〜80μmの範囲に制御することが、効率のよい彫刻を行う、細線再現性が良好となる等の観点から好ましい。
The laser beam is imaged in the vicinity of the exposure surface (front surface) FA of the relief printing plate precursor F by the imaging means composed of the collimator lens 32 and the imaging lens 34.
In the present invention, since the beam shape can be changed in the semiconductor laser with a fiber, in the present invention, the imaging position is set within the range from the exposure surface FA to the inner side (laser beam traveling direction side). It is preferable to control the beam diameter of the surface (relief-forming layer surface) FA in the range of 10 μm to 80 μm from the viewpoints of performing efficient engraving and improving fine line reproducibility.

露光ヘッド移動部40には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ41及び2本のレール42が備えられており、ボールネジ41を回転駆動する副走査モーター(不図示)を作動させることによって、露光ヘッド30が設けられた台座部310をレール42に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム50は主走査モーター(不図示)を作動させることによって、図1の矢印R方向に回転させることができ、これによって主走査がなされる。   The exposure head moving unit 40 includes a ball screw 41 and two rails 42 arranged so that the longitudinal direction thereof is along the sub-scanning direction, and operates a sub-scanning motor (not shown) that rotationally drives the ball screw 41. By doing so, the pedestal portion 310 provided with the exposure head 30 can be moved in the sub-scanning direction while being guided by the rail 42. Further, the drum 50 can be rotated in the direction of arrow R in FIG. 1 by operating a main scanning motor (not shown), thereby performing main scanning.

また、彫刻したい形状の制御において、ファイバー付き半導体レーザーのビーム形状を変化させず、レーザーに供給するエネルギー量を変化させることで彫刻領域の形状を変化させることも可能である。
具体的には、半導体レーザーの出力を変えて制御する方法、レーザー照射時間を変えて制御する方法がある。
In the control of the shape to be engraved, it is also possible to change the shape of the engraving region by changing the amount of energy supplied to the laser without changing the beam shape of the semiconductor laser with fiber.
Specifically, there are a method of controlling by changing the output of the semiconductor laser, and a method of controlling by changing the laser irradiation time.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, after the engraving step, the following rinsing step, drying step, and / or post-crosslinking step may be included as necessary.
Rinsing step: a step of rinsing the engraved surface of the relief layer after engraving with water or a liquid containing water as a main component.
Drying step: a step of drying the engraved relief layer.
Post-crosslinking step: a step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer.

彫刻表面に彫刻カスが付着している場合は、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式或いは搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
When the engraving residue is attached to the engraving surface, a rinsing step of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, a known batch type or conveying type brush type washing machine as a developing device for photosensitive resin relief printing, the surface of engraving is mainly present For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing solution to which a surfactant is added may be used.
When the rinsing process for rinsing the engraving surface is performed, it is preferable to add a drying process for drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinsing liquid.
Furthermore, you may add the post-crosslinking process which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing a post-crosslinking step, which is an additional cross-linking step, the relief formed by engraving can be further strengthened.

以上のようにして、レリーフ層を有する、本発明のレリーフ印刷版を製造することができる。
レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々のフレキソ印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上0.3mm以下が更に好ましい。
As described above, the relief printing plate of the present invention having a relief layer can be produced.
The thickness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, and preferably 0.05 mm or more and 7 mm or less from the viewpoint of satisfying various flexographic printing aptitudes such as abrasion resistance and ink transferability. More preferably, it is 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.

また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、25℃50%RHの条件において、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる。)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
The Shore A hardness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 50 ° or more and 90 ° or less. When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a printing pressure of kiss touch.
The Shore A hardness in this specification is measured by measuring the amount of deformation (indentation depth) by indenting and deforming an indenter (called a push needle or indenter) on the surface of the object to be measured under the condition of 25 ° C. and 50% RH. And a value measured by a durometer (spring type rubber hardness meter) to be digitized.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法で製造されたレリーフ印刷版は、凸版用印刷機による油性インキやUVインキでの印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。   The relief printing plate produced by the method for producing a relief printing plate of the present invention can be printed with oil-based ink or UV ink by a relief printing press, and can also be printed with UV ink by a flexographic printing press. is there.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例におけるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、特に断らない限りにおいて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定した値を表示している。
また、実施例で使用したA−1〜A−11は、前記式(1)〜(4)で表される化合物の具体例として記載したA−1〜A−11とそれぞれ同じである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer in an Example is displaying the value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method unless there is particular notice.
A-1 to A-11 used in Examples are the same as A-1 to A-11 described as specific examples of the compounds represented by the formulas (1) to (4).

<合成例1:A−1の合成>
1−メトキシ−2−プロパノール:121.2重量部、ピリジン:141.6重量部を三口フラスコに入れて、氷冷下30分撹拌した。この溶液に3−メタクリロイルオキシプロピルクロライド:181.7重量部を氷冷下滴下して、滴下終了後そのまま6時間撹拌した。反応混合物を500重量部の氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して油状物が得られた。この油状物を、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィにより精製し、化合物Aが無色油状物として得られた。
撹拌装置とコンデンサーを取り付けた三口フラスコに、化合物A26.4重量部、KBM−803(18.7重量部、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製)、V−65(0.2重量部、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、和光純薬工業(株)製)、2−ブタノン(105重量部、和光純薬工業(株)製)を入れて、窒素気流下75℃で7時間撹拌した。その後室温まで放冷し、淡黄色オイル状液体の化合物A−1を得た。
<Synthesis Example 1: Synthesis of A-1>
1-Methoxy-2-propanol: 121.2 parts by weight and pyridine: 141.6 parts by weight were placed in a three-necked flask and stirred for 30 minutes under ice cooling. To this solution, 181.7 parts by weight of 3-methacryloyloxypropyl chloride was added dropwise under ice-cooling, and the mixture was stirred for 6 hours after the completion of the addition. The reaction mixture was poured into 500 parts by weight of ice water, extracted with ethyl acetate, and washed with saturated brine. The organic layer was dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oily substance. This oily substance was purified by column chromatography using silica gel to obtain Compound A as a colorless oily substance.
To a three-necked flask equipped with a stirrer and a condenser, 26.4 parts by weight of Compound A, KBM-803 (18.7 parts by weight, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), V-65 (0 .2 parts by weight, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 2-butanone (105 parts by weight, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The mixture was stirred at 75 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature to obtain a light yellow oily liquid compound A-1.

<合成例2〜11:A−2〜A−11の合成>
A−2〜A−11は、原料を代えた以外は、前記A−1の合成と同様の方法により合成した。
<Synthesis Examples 2 to 11: Synthesis of A-2 to A-11>
A-2 to A-11 were synthesized by the same method as the synthesis of A-1, except that the raw materials were changed.

(実施例1〜26、及び、比較例1〜5)
表2に記載の(A)特定化合物、(B)バインダー、(C)架橋剤を使用して、下記に示す方法により、実施例1〜26、及び、比較例1〜5のレーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び、レリーフ印刷版をそれぞれ作製した。得られた各レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは約1mmであった。
(Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5)
Resins for laser engraving of Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5 by using the (A) specific compound, (B) binder, and (C) cross-linking agent described in Table 2 by the method shown below. A composition, a relief printing plate precursor for laser engraving, and a relief printing plate were prepared. Each relief printing plate obtained had a relief layer thickness of about 1 mm.

<レーザー彫刻用樹脂組成物1の調製>
撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、(B)バインダーを50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート47重量部を入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱し(B)バインダーを溶解させた。その後、溶液を40℃にし、さらに可塑剤としてクエン酸トリブチル(和光純薬工業(株)製)20重量部、(G)光熱変換剤としてケッチェンブラックEC600JD(カーボンブラック、ライオン(株)製)を1重量部、を添加して30分間撹拌した。その後、(A)特定化合物を10重量部、(C)架橋剤を15重量部(ただし、実施例1では使用しなかった。)及び(D)1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU、和光純薬工業(株)製)0.4重量部を添加し40℃で10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレリーフ形成層用塗布液1(レーザー彫刻用樹脂組成物)を得た。
なお、(A)特定化合物、(B)バインダー、及び、(C)架橋剤は、表2に記載のものを使用した。
<Preparation of resin composition 1 for laser engraving>
In a three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser tube, (B) 50 parts by weight of a binder and 47 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were added and heated at 70 ° C. for 120 minutes with stirring (B) The binder was dissolved. Thereafter, the solution is brought to 40 ° C., 20 parts by weight of tributyl citrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a plasticizer, and (G) ketjen black EC600JD (carbon black, manufactured by Lion Corporation) as a photothermal conversion agent. 1 part by weight was added and stirred for 30 minutes. Thereafter, (A) 10 parts by weight of the specific compound, (C) 15 parts by weight of the crosslinking agent (but not used in Example 1) and (D) 1,8-diazabicyclo [5.4.0] 0.4 parts by weight of undec-7-ene (DBU, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred at 40 ° C. for 10 minutes. By this operation, a fluid relief-forming layer coating solution 1 (laser engraving resin composition) was obtained.
In addition, the thing of Table 2 was used for (A) specific compound, (B) binder, and (C) crosslinking agent.

<レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製>
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、上記より得られた架橋性レリーフ形成層用塗布液1をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、70℃のオーブン中で3時間乾燥させて、厚さが約1mmのレリーフ形成層を設け、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Preparation of relief printing plate precursor for laser engraving>
A spacer (frame) having a predetermined thickness is placed on the PET substrate, and the coating solution 1 for the crosslinkable relief forming layer obtained above is gently cast to such an extent that it does not flow out of the spacer (frame). Then, a relief forming layer having a thickness of about 1 mm was provided to prepare a relief printing plate precursor for laser engraving.

<レリーフ印刷版の作製>
得られた原版のレリーフ形成層を80℃で3時間、さらに100℃で3時間加熱してレリーフ形成層を熱架橋した。
架橋後のレリーフ形成層に対し、表2に示す、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又はファイバー付き半導体レーザーにより彫刻し、レリーフ印刷版を得た。
<炭酸ガスレーザー彫刻>
・炭酸ガスレーザー彫刻機として、レーザー照射による彫刻を、高品位CO2レーザーマーカML−9100シリーズ((株)キーエンス製)を用いた。レーザー彫刻用印刷版原版1から保護フィルムを剥離後、炭酸ガスレーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻した。
<半導体レーザー彫刻>
・半導体レーザー彫刻機として、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザー(FC−LD)SDL−6390(JDSU社製、波長915nm)を装備した、図1に示すレーザー記録装置を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:7.5W、ヘッド速度:409mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、1cm四方のベタ部分をラスター彫刻した。
<Preparation of relief printing plate>
The relief forming layer of the obtained original plate was heated at 80 ° C. for 3 hours and further at 100 ° C. for 3 hours to thermally crosslink the relief forming layer.
The relief forming layer after crosslinking was engraved with a carbon dioxide laser (CO 2 laser) or a semiconductor laser with a fiber as shown in Table 2 to obtain a relief printing plate.
<Carbon dioxide laser engraving>
-As a carbon dioxide laser engraving machine, engraving by laser irradiation was performed using a high-quality CO 2 laser marker ML-9100 series (manufactured by Keyence Corporation). After peeling off the protective film from the printing plate precursor 1 for laser engraving, a carbon dioxide laser engraving machine is used to raster engrave a 1 cm square solid part under the conditions of output: 12 W, head speed: 200 mm / sec, pitch setting: 2,400 DPI did.
<Semiconductor laser engraving>
As the semiconductor laser engraving machine, the laser recording apparatus shown in FIG. 1 equipped with a fiber-coupled semiconductor laser (FC-LD) SDL-6390 (JDSU, wavelength 915 nm) with a maximum output of 8.0 W was used. A 1 cm square solid part was raster engraved with a semiconductor laser engraving machine under conditions of laser output: 7.5 W, head speed: 409 mm / second, pitch setting: 2,400 DPI.

実施例1〜26、及び、比較例1〜5で得られたレリーフ印刷版原版、及び、レリーフ印刷版を使用し、以下の評価を行った。評価結果はまとめて表2に示す。   The following evaluation was performed using the relief printing plate precursors and relief printing plates obtained in Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5. The evaluation results are collectively shown in Table 2.

<彫刻カスのリンス性の評価方法>
レーザー彫刻したレリーフ印刷版を表2に記載の水又はアルカリ水に浸漬し、彫刻部を歯ブラシ(ライオン(株)製、クリニカハブラシ フラット)で10回こすった。なお、前記アルカリ水は、蒸留水と水酸化ナトリウム(和光純薬工業(株)製)とを混合し、pHが12.5になるようにpHメーターで調節して作製した。
その後、光学顕微鏡でカスの有無を確認した。カスが全くないものを◎、カスがほとんどないものを○、カスが少し残存しているものを△、カスが除去できていないものを×とした。
<Evaluation method for rinse performance of engraving residue>
The relief printing plate engraved with laser was immersed in water or alkaline water listed in Table 2, and the engraved part was rubbed 10 times with a toothbrush (Lion Corporation, Clinica Habrush Flat). The alkaline water was prepared by mixing distilled water and sodium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and adjusting the pH with a pH meter so that the pH was 12.5.
Thereafter, the presence or absence of residue was confirmed with an optical microscope. The case where there was no residue was marked with ◎, the case where there was almost no residue, ○, the residue with a little residue left, and the case where the residue was not removed was marked with ×.

<膜弾性>
微小硬度計((株)島津製作所製超微小硬度計DUHシリーズ)により、得られたレリーフ印刷版の非彫刻部において、押し込み荷重300mNで押し込みを行い、10秒後緩和した非彫刻部における押し込み前後の下記に示す塑性変形率(%)を測定した。
塑性変形率(%)=(荷重を除いた際に塑性変形して完全には元に戻らない変形量×100)÷荷重をかけた時の押し込み深さ(の最大値)
<Membrane elasticity>
Indentation in the non-engraving part of the relief printing plate obtained with a microhardness meter (Shimazu Seisakusho Co., Ltd. DUH series) was pushed at an indentation load of 300 mN and relaxed after 10 seconds. The plastic deformation rate (%) shown below before and after was measured.
Plastic deformation rate (%) = (deformation amount that does not completely return to plastic deformation when the load is removed x 100) ÷ indentation depth when a load is applied (maximum value)

<インキ転移性>
得られたレリーフ印刷版を印刷機(ITM−4型、(株)伊予機械製作所製)にセットし、インクとして、水性インキ アクアSPZ16紅(東洋インキ製造(株)製)を希釈せずに用いて、印刷紙として、フルカラーフォームM 70(日本製紙(株)製、厚さ100μm)を用いて印刷を継続した。印刷開始から500mにおける印刷物上のベタ部におけるインキの付着度合いを目視で比較した。濃度ムラがなく均一なものを○、濃度ムラがあるものを×、○と×との中間の程度を△とした。
<Ink transfer properties>
The obtained relief printing plate is set in a printing machine (ITM-4 type, manufactured by Iyo Machinery Co., Ltd.), and water-based ink Aqua SPZ16 Beni (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) is used as the ink without dilution. Then, printing was continued using full-color foam M70 (manufactured by Nippon Paper Industries Co., Ltd., thickness: 100 μm) as printing paper. The degree of ink adhesion in the solid part on the printed matter at 500 m from the start of printing was compared visually. The case where there was no density unevenness was indicated as ◯, the case where there was density unevenness as x, and the intermediate degree between ○ and x as Δ.

Figure 2011068031
Figure 2011068031

なお、表2におけ略記の詳細は、以下の通りである。
B−1:ポリビニルブチラール(デンカブチラール#3000−2、電気化学工業(株)製)
B−2:アクリル樹脂(シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル=70/30(モル%)の共重合体であり、重量平均分子量:5万であるアクリル樹脂)
B−3:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EPCLON 2050、DIC(株)製)
B−4:スチレン−ブタジエンゴム(SBR、TR2000、JSR(株)製)
B−5:バイロエコールBE−450(東洋紡績(株)製)
B−6:ポリウレタン樹脂(トリレンジイソシアネート/ポリプロピレングリコール(平均分子量2,000)=50/50(モル%)で重縮合した重縮合体の主鎖末端のイソシアネート基を2−ヒドロキシエチルアクリレートで封止したポリウレタン樹脂(重量平均分子量:9万))
C−1:Z−6940((H52O)3Si−C36−S4−C36−Si(OC253、東レ・ダウコーニング(株)製)
C−2:X−12−965(トリス−(3−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、信越化学工業(株)製)
P−1:下記に示す樹脂
The details of the abbreviations in Table 2 are as follows.
B-1: Polyvinyl butyral (Denka butyral # 3000-2, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
B-2: Acrylic resin (Acrylic resin having a weight average molecular weight of 50,000, which is a copolymer of cyclohexyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate = 70/30 (mol%))
B-3: Bisphenol A type epoxy resin (EPCLON 2050, manufactured by DIC Corporation)
B-4: Styrene-butadiene rubber (SBR, TR2000, manufactured by JSR Corporation)
B-5: Viro Ecole BE-450 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
B-6: Polyurethane resin (tolylene diisocyanate / polypropylene glycol (average molecular weight 2,000) = 50/50 (mol%) polycondensate polycondensate with isocyanate group at the main chain end sealed with 2-hydroxyethyl acrylate Stopped polyurethane resin (weight average molecular weight: 90,000))
C-1: Z-6940 ( (H 5 C 2 O) 3 Si-C 3 H 6 -S 4 -C 3 H 6 -Si (OC 2 H 5) 3, manufactured by Dow Corning Toray Co.)
C-2: X-12-965 (Tris- (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
P-1: Resin shown below

Figure 2011068031
Figure 2011068031

10:レーザー記録装置(露光装置)
11:製版装置
20:光源ユニット
21A,21B:半導体レーザー
22A,22B:光ファイバー
23A,23B:アダプタ基板
24A,24B:光源基板
25A,25B:SC型光コネクタ
27A,27B:LDドライバー基板
30:露光ヘッド
32:コリメータレンズ(結像手段)
33:開口部材
34:結像レンズ(結像手段)
40:露光ヘッド移動部
41:ボールネジ
42:レール
50:ドラム
70A,70B:光ファイバー
300:ファイバーアレイ部
310:台座部
F:レリーフ印刷版原版
FA:露光面(レリーフ印刷版原版の表面)
R:回転方向
10: Laser recording device (exposure device)
11: Plate making apparatus 20: Light source unit 21A, 21B: Semiconductor laser 22A, 22B: Optical fiber 23A, 23B: Adapter substrate 24A, 24B: Light source substrate 25A, 25B: SC type optical connector 27A, 27B: LD driver substrate 30: Exposure head 32: Collimator lens (imaging means)
33: Aperture member 34: Imaging lens (imaging means)
40: exposure head moving part 41: ball screw 42: rail 50: drum 70A, 70B: optical fiber 300: fiber array part 310: pedestal part F: relief printing plate precursor FA: exposure surface (surface of relief printing plate precursor)
R: Direction of rotation

Claims (15)

(a)下記式(1)〜(4)のいずれかで表される化合物、及び、
(b)バインダーポリマーを含有することを特徴とする
レーザー彫刻用樹脂組成物。
Figure 2011068031
(式(1)〜(4)中、R1は結合性基を表し、R2〜R6はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Aは(m+n)価の有機連結基を表し、kは0〜4の整数を表し、mは1〜4の整数を表し、nは1〜4の整数を表す。)
(A) a compound represented by any one of the following formulas (1) to (4), and
(B) A resin composition for laser engraving, comprising a binder polymer.
Figure 2011068031
(In formulas (1) to (4), R 1 represents a binding group, R 2 to R 6 each independently represents a monovalent organic group, and A represents an (m + n) -valent organic linking group. , K represents an integer of 0 to 4, m represents an integer of 1 to 4, and n represents an integer of 1 to 4.)
前記結合性基が、−SiR789、酸無水物残基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチリル基、ビニルオキシ基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、アミノ基、ヒドロキシ基、−C(=O)−R10、エポキシ基、及び、メルカプト基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基である、請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
(上記−SiR789におけるR7〜R9はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、一価の有機基を表し、R7〜R9のうち少なくとも1つは、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子であり、上記−C(=O)−R10におけるR10は、水素原子、又は、アルキル基を表す。)
The bonding group is —SiR 7 R 8 R 9 , acid anhydride residue, methacryloyl group, acryloyl group, styryl group, vinyloxy group, isocyanate group, blocked isocyanate group, amino group, hydroxy group, —C (═O The resin composition for laser engraving according to claim 1, which is at least one group selected from the group consisting of —R 10 , an epoxy group, and a mercapto group.
(In each of R 7 to R 9 independently of the -SiR 7 R 8 R 9, a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a monovalent organic group, at least one of R 7 to R 9 is an alkyl group , an alkoxy group, or a halogen atom, R 10 in the -C (= O) -R 10 represents a hydrogen atom, or an alkyl group.)
前記mが1である、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1 or 2, wherein m is 1. (c)架橋剤をさらに含有する、請求項1〜3のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (C) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 3, further comprising a crosslinking agent. (d)架橋促進剤をさらに含有する、請求項1〜4のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (D) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 4, further comprising a crosslinking accelerator. (e)光熱変換剤をさらに含有する、請求項1〜5のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (E) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 5, further comprising a photothermal conversion agent. (f)重合開始剤をさらに含有する、請求項1〜6のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (F) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 6, further comprising a polymerization initiator. 請求項1〜7のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7. 請求項1〜7のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   A relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinked relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7. 前記架橋レリーフ形成層のショアA硬度が、50°以上90°以下である、請求項9に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 9, wherein the Shore A hardness of the crosslinked relief forming layer is from 50 ° to 90 °. 請求項1〜7のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、
前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。
A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7, and
A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinking step of crosslinking the relief forming layer with heat and / or light to obtain a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
前記架橋工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋する工程である、請求項11に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 11, wherein the crosslinking step is a step of crosslinking the relief forming layer with heat. 請求項1〜7のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、
前記レリーフ形成層を熱及び/又は光で架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、並びに、
前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻しレリーフ層を形成する彫刻工程、を含むレリーフ印刷版の製版方法。
A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7,
A crosslinking step of crosslinking the relief forming layer with heat and / or light to obtain a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer; and
A method for making a relief printing plate, comprising: engraving a relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer by laser engraving to form a relief layer.
前記レリーフ層の厚さが、0.05mm以上10mm以下である、請求項13に記載のレリーフ印刷版の製版方法。   The plate making method of the relief printing plate of Claim 13 whose thickness of the said relief layer is 0.05 mm or more and 10 mm or less. 請求項13又は14に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ印刷版。   A relief printing plate made by the plate making method of a relief printing plate according to claim 13 or 14.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229180A (en) * 2011-04-27 2012-11-22 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Phosphorylcholine-silane compound surface modifying material
JP2013052562A (en) * 2011-09-02 2013-03-21 Fujifilm Corp Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and plate making method of the same
WO2013180051A1 (en) * 2012-05-31 2013-12-05 富士フイルム株式会社 Resin composition for laser engraving, method of manufacturing relief printing plate original for laser engraving, relief printing plate original, method of making relief printing plate and relief printing plate
JP2013242724A (en) * 2012-05-21 2013-12-05 Showa Denko Kk Photosetting composition for transparent adhesive sheet and transparent adhesive sheet
WO2019142890A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社大阪ソーダ Organosilicon compound and rubber composition including same
US11634609B2 (en) 2017-06-02 2023-04-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Polymers, coating compositions containing such polymers, and anti-fingerprint coatings formed therefrom

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012229180A (en) * 2011-04-27 2012-11-22 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Phosphorylcholine-silane compound surface modifying material
JP2013052562A (en) * 2011-09-02 2013-03-21 Fujifilm Corp Relief printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and plate making method of the same
JP2013242724A (en) * 2012-05-21 2013-12-05 Showa Denko Kk Photosetting composition for transparent adhesive sheet and transparent adhesive sheet
WO2013180051A1 (en) * 2012-05-31 2013-12-05 富士フイルム株式会社 Resin composition for laser engraving, method of manufacturing relief printing plate original for laser engraving, relief printing plate original, method of making relief printing plate and relief printing plate
US11634609B2 (en) 2017-06-02 2023-04-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Polymers, coating compositions containing such polymers, and anti-fingerprint coatings formed therefrom
WO2019142890A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社大阪ソーダ Organosilicon compound and rubber composition including same
CN111601813A (en) * 2018-01-19 2020-08-28 株式会社大阪曹达 Organic silicon compound and rubber composition using same

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