JP2015025110A - (meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function - Google Patents
(meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015025110A JP2015025110A JP2013198375A JP2013198375A JP2015025110A JP 2015025110 A JP2015025110 A JP 2015025110A JP 2013198375 A JP2013198375 A JP 2013198375A JP 2013198375 A JP2013198375 A JP 2013198375A JP 2015025110 A JP2015025110 A JP 2015025110A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- group
- formula
- compound
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
本発明は、新規な(メタ)アクリレート化合物、その製造方法及び微生物付着防止機能を有する高分子化合物に関する。さらに詳しくは、本発明はフルオロフェニレン基を有する新規な(メタ)アクリレート等の化合物、その製造方法及びそれを原料として用いることによって得られる微生物付着防止機能を有する高分子化合物に関する。本発明の製造方法は、簡便な方法でフルオロフェニレン基を有する新規な(メタ)アクリレート等の化合物を高純度・高収率で得ることができる。また、本発明の高分子化合物を用いることにより、水処理施設、工場などの送水管または排水管の内表面、浴室、空調設備に備えられた循環配管の内表面などへの微生物の付着を抑制することができ、メインテナンスコストの大幅な削減をすることができる。 The present invention relates to a novel (meth) acrylate compound, a production method thereof, and a polymer compound having a function of preventing microbial adhesion. More specifically, the present invention relates to a novel compound such as (meth) acrylate having a fluorophenylene group, a production method thereof, and a polymer compound having a function of preventing microbial adhesion obtained by using it as a raw material. According to the production method of the present invention, a novel compound such as (meth) acrylate having a fluorophenylene group can be obtained with high purity and high yield by a simple method. In addition, by using the polymer compound of the present invention, microorganisms can be prevented from adhering to the inner surface of a water pipe or drain pipe in a water treatment facility or factory, the inner surface of a circulation pipe provided in a bathroom or air conditioning equipment, etc. And can significantly reduce maintenance costs.
ヒドロキシスチレン、(メタ)アクリロイル基を有するフェノール化合物に代表される分子内にフェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物は、該化合物をラジカル共重合して得られた重合物にアルカリ溶解性を付与することができることにより、フォトレジスト分野で好ましく使用されてきた。また、フェノール性水酸基は架橋点として利用できることより、フォトレジストに限定されることなく、その他のコーティング材用樹脂の原料モノマーとしても使用できる。 A radically polymerizable compound having a phenolic hydroxyl group in a molecule represented by hydroxystyrene and a phenol compound having a (meth) acryloyl group imparts alkali solubility to a polymer obtained by radical copolymerization of the compound. Since it can be used, it has been preferably used in the field of photoresist. In addition, since the phenolic hydroxyl group can be used as a crosslinking point, it is not limited to a photoresist, and can be used as a raw material monomer for other coating material resins.
特許文献1には、フェノール性水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物が記載されているが、この化合物では十分な耐熱性、耐薬品性、耐候性等の機能を付与することができない。 Patent Document 1 describes a (meth) acrylate compound having a phenolic hydroxyl group, but this compound cannot provide sufficient functions such as heat resistance, chemical resistance, and weather resistance.
また、特許文献2には、フェノール性水酸基を有するヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートの製造方法が記載されているが、この方法では、フェニレンジ(メタ)アクリレートが副生されるため、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートを含む粗結晶を貧溶媒にて複数回洗浄しない限り、粗結晶に含まれる副生のフェニレンジ(メタ)アクリレートを除くことができず、また、フェニレンジ(メタ)アクリレートがゲル化するなど品質低下の原因となる。 Patent Document 2 describes a method for producing a hydroxyphenyl (meth) acrylate having a phenolic hydroxyl group. In this method, phenylene di (meth) acrylate is by-produced, and therefore hydroxyphenyl (meta) ) The by-product phenylene di (meth) acrylate contained in the crude crystal cannot be removed unless the crude crystal containing acrylate is washed several times with a poor solvent, and the phenylene di (meth) acrylate is gelled. It causes quality degradation.
水処理施設、工場などの送水管または排水管の内表面、浴室、空調設備に備えられた循環配管の内表面などの水が接触する構造物では、細菌、真菌、糸状菌、藻類等のある種の微生物が、基材(担体)の表面に付着してコロニーを形成し、一定の細胞数に達すると、多糖類や糖タンパク質等の有機物質を生成、分泌してバイオフィルム(生物膜)を形成する。バイオフィルムが形成された結果、それらの構造物では、熱効率の低下、流量低下、管の閉塞などを誘発する場合がある。また、建築物の内外装、水周り設備、冷蔵・冷凍設備、空調装置などの結露が起こりやすい部分にもバイオフィルムは形成され、材質の劣化、美観の低下、周囲の人の健康悪化を引き起こすこともある。 There are bacteria, fungi, filamentous fungi, algae, etc. in structures that contact water such as the inner surface of water pipes or drainage pipes in water treatment facilities, factories, etc., the inner surface of circulation pipes provided in bathrooms and air conditioning equipment, etc. Species microorganisms adhere to the surface of the substrate (carrier) to form colonies. When a certain number of cells are reached, organic substances such as polysaccharides and glycoproteins are produced and secreted to biofilms (biofilms). Form. As a result of the formation of biofilms, these structures may induce a decrease in thermal efficiency, a decrease in flow rate, blockage of tubes, and the like. Biofilms are also formed in areas where condensation is likely to occur, such as inside and outside buildings, water facilities, refrigeration / refrigeration facilities, and air conditioners, causing deterioration of materials, loss of aesthetics, and deterioration of the health of surrounding people. Sometimes.
このようにバイオフィルムの形成は、その一部または全部が水分と接触する部材において顕著に認められる。微生物等の付着に起因する問題の防止方法としては、防汚剤や抗菌剤等の薬剤を基材に塗布したり、含浸させたりする方法がある。ところが、このように塗布や含浸により付与された薬剤は、徐々に環境中に放出され、周辺の生物に悪影響を与える場合がある。また、継続的に放出される薬剤に曝されるうちに、薬剤に対する耐性をもった微生物が周辺に出現する可能性もある。そこで、環境に配慮された方法として、例えば特許文献3には、基材に生分解性樹脂などを含む分散液を塗布して被膜を形成することにより、水棲生物の付着を防止するとともに、付着した生物の除去を容易にする技術が開示されている。 Thus, the formation of a biofilm is remarkably recognized in a member in which part or all of the biofilm is in contact with moisture. As a method for preventing problems caused by adhesion of microorganisms or the like, there is a method of applying or impregnating a base material with a drug such as an antifouling agent or an antibacterial agent. However, the drug applied by application or impregnation in this way is gradually released into the environment and may adversely affect surrounding organisms. Further, microorganisms having resistance to the drug may appear in the vicinity while being exposed to the continuously released drug. Therefore, as an environmentally friendly method, for example, in Patent Document 3, a coating film is formed by applying a dispersion containing a biodegradable resin or the like to a base material to prevent adhesion of aquatic organisms and adhesion. A technique for facilitating removal of living organisms is disclosed.
特許文献4などには、基材中に光触媒である酸化チタンを練り込んで防汚性を持たせる技術が開示されている。
その他の技術として、特許文献5などには、電流を利用して海水と接触する構造物(基材)への生物付着を防止する技術などが開示されている
Patent Document 4 and the like disclose a technique for imparting antifouling property by kneading titanium oxide as a photocatalyst into a base material.
As other techniques, Patent Document 5 and the like disclose a technique for preventing adhesion of organisms to a structure (base material) that contacts seawater using an electric current.
本発明は、アルカリ溶解性、架橋性、耐熱性、耐薬品性、耐候性等の機能を該化合物のラジカル重合体に付与することができる、新規な(メタ)アクリレート化合物および該化合物を簡便で高純度・高収率で製造しうる方法を提供することを目的とするものである。
また、本発明は新規な(メタ)アクリレート化合物を原料とすることによって得られる微生物付着防止機能を有する高分子化合物を提供することも目的とするものである。
The present invention provides a novel (meth) acrylate compound that can impart functions such as alkali solubility, crosslinkability, heat resistance, chemical resistance, and weather resistance to the radical polymer of the compound and the compound in a simple manner. An object of the present invention is to provide a method that can be produced with high purity and high yield.
Another object of the present invention is to provide a polymer compound having a function of preventing microbial adhesion obtained by using a novel (meth) acrylate compound as a raw material.
2,3,5,6−テトラフルオロ−p−フェニレンジメタノール(以下、「TFDM」と略称する。)のような、フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物は、分子中に2個の水酸基を有しているが、分子内のフッ素原子のために水酸基の酸性度が高い特徴がある。また、C−F結合エネルギーの高さゆえに重合体に対して耐熱性、耐薬品性、耐候性等を付与することができると同時に、フッ素原子が重合体の低屈折率化、低誘電率化に寄与し、さらに低表面張力、撥水性を付与することができる。 A dihydroxy compound having a fluorophenylene group, such as 2,3,5,6-tetrafluoro-p-phenylenedimethanol (hereinafter abbreviated as “TFDM”) has two hydroxyl groups in the molecule. However, there is a feature that the acidity of the hydroxyl group is high due to the fluorine atom in the molecule. In addition, because of the high C—F bond energy, heat resistance, chemical resistance, weather resistance, etc. can be imparted to the polymer, and at the same time, the fluorine atoms reduce the refractive index and dielectric constant of the polymer. In addition, low surface tension and water repellency can be imparted.
また、フルオロフェニレン基を有する高分子化合物は、高い微生物付着防止機能を有することを本発明者らは見出していたが、TFDMをそのまま原料として用いる場合、その水酸基を利用した縮合型あるいは付加型の反応しか利用できないため、樹脂構造設計の自由度に乏しく、特に溶剤可溶性の塗布型の高分子化合物の合成や物性制御の点で制限が大きかった。 Further, the present inventors have found that a polymer compound having a fluorophenylene group has a high antimicrobial adhesion function. However, when TFDM is used as a raw material as it is, a condensed type or an addition type using the hydroxyl group is used. Since only the reaction can be used, the degree of freedom in designing the resin structure is poor, and there are particularly large restrictions in terms of synthesis and control of physical properties of solvent-soluble coating type polymer compounds.
そこで、本発明者らはフルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物の一方の水酸基を残したままラジカル重合性官能基である(メタ)アクリロイル基を導入することにより、分子中に反応性の水酸基を有するラジカル重合性モノマーとした。特にTFDMやテトラフルオロヒドロキノンなどは水酸基の酸性度が高いためにアルカリ現像性を付与できること、C−F結合に起因する上記特性により、これらの(メタ)アクリレート化合物はフォトレジスト材料に新しい機能を付与することが期待され、該用途への展開が期待できる。 Therefore, the present inventors introduced a (meth) acryloyl group, which is a radical polymerizable functional group, while leaving one hydroxyl group of a dihydroxy compound having a fluorophenylene group, thereby allowing a radical having a reactive hydroxyl group in the molecule. A polymerizable monomer was used. In particular, TFDM and tetrafluorohydroquinone can impart alkali developability due to the high acidity of the hydroxyl group, and these (meth) acrylate compounds impart new functions to the photoresist material due to the above-mentioned characteristics resulting from the C—F bond. It is expected to be developed, and development to the application can be expected.
また、フルオロフェニレン基を有する(メタ)アクリレート化合物と他のモノマーとをラジカル共重合することにより、微生物付着防止機能を有する高分子化合物を得ることができ、水処理施設、工場などの送水管や排水管の内表面、浴室、空調設備に備えられた循環配管の内表面など水が接触する構造物のコーティング材への展開が期待できる。 In addition, by radical copolymerization of a (meth) acrylate compound having a fluorophenylene group and another monomer, a polymer compound having a function of preventing microbial adhesion can be obtained, and water pipes such as water treatment facilities and factories can be obtained. Development of coating materials for structures that come into contact with water, such as the inner surface of drain pipes, the inner surface of circulation pipes provided in bathrooms and air conditioning equipment, can be expected.
フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物の一方の水酸基を残したまま重合性官能基である(メタ)アクリロイル基を導入した化合物、及びフルオロフェニレン基と重合性官能基である(メタ)アクリロイル基とを有する特定の化合物は、本発明者らが初めて見出したものである。 A compound in which a (meth) acryloyl group which is a polymerizable functional group is introduced while leaving one hydroxyl group of a dihydroxy compound having a fluorophenylene group, and a fluorophenylene group and a (meth) acryloyl group which is a polymerizable functional group The specific compound has been found for the first time by the present inventors.
また、本発明者らは、フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物が有する2個の水酸基のうちの1個を、ジヒドロピランを用いて選択的に反応することにより、テトラヒドロピラニル基およびフロオロフェニレン基を有するヒドロキシ化合物となし、さらに種々の(メタ)アクリロイル含有化合物とを反応させ、得られた化合物のテトラヒドロピラニル基を脱保護して水酸基とするか、または、前記2個の水酸基のうちの1個が有する水素をアルキル基で置換したヒドロキシ化合物と種々の(メタ)アクリロイル含有化合物とを反応させることで、新規な(メタ)アクリレート化合物を簡便に高純度・高収率で製造することができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成されたものである。 In addition, the present inventors selectively react one of two hydroxyl groups of a dihydroxy compound having a fluorophenylene group using dihydropyran, thereby producing a tetrahydropyranyl group and a fluorophenylene group. Or a hydroxy compound having various kinds of (meth) acryloyl-containing compounds, and the tetrahydropyranyl group of the resulting compound is deprotected to form a hydroxyl group, or of the two hydroxyl groups. A novel (meth) acrylate compound can be easily produced with high purity and high yield by reacting a hydroxy compound in which one hydrogen is substituted with an alkyl group and various (meth) acryloyl-containing compounds. I found out that I can do it. The present invention has been completed based on these findings.
また、本発明者らは、上述した新規なフルオロフェニレン基を有する(メタ)アクリレート化合物を原料に、必要に応じて他のラジカル重合性モノマーとラジカル重合することにより、微生物付着防止機能を有する高分子化合物が得られることを見出した。 Further, the inventors of the present invention have a high antimicrobial adhesion function by radical polymerization of the above-described novel (meth) acrylate compound having a fluorophenylene group with other radical polymerizable monomers as necessary. It has been found that molecular compounds can be obtained.
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[23]の新規な(メタ)アクリレート化合物、その製造方法及び微生物付着防止機能を有する高分子化合物に関する。
[1] 下記式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物。
式(1)
That is, the present invention relates to the following (1) to [23] novel (meth) acrylate compounds, production methods thereof, and polymer compounds having a function of preventing microbial adhesion.
[1] A (meth) acrylate compound represented by the following formula (1).
Formula (1)
[2] R4が2,3,5,6−テトラフルオロ−p−キシリレン基である、[1]の(メタ)アクリレート化合物。 [2] The (meth) acrylate compound according to [1], wherein R 4 is a 2,3,5,6-tetrafluoro-p-xylylene group.
[3] R2が単結合または−R3NHCOO−であり、R3が−(CH2)2−である、[1]または[2]の(メタ)アクリレート化合物。 [3] The (meth) acrylate compound of [1] or [2], wherein R 2 is a single bond or —R 3 NHCOO—, and R 3 is — (CH 2 ) 2 —.
[4] 下記式(2)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(2)
[4] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (2).
Formula (2)
[5] 下記式(3)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(3)
[5] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (3).
Formula (3)
[6] 下記式(4)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(4)
[6] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (4).
Formula (4)
[7] 下記式(5)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(5)
[7] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (5).
Formula (5)
[8] 下記式(6)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(6)
[8] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (6).
Formula (6)
[9] 下記式(7)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(7)
[9] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (7).
Formula (7)
[10] 下記式(8)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(8)
[10] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (8).
Formula (8)
[11] 下記式(9)で示される化合物である[1]の(メタ)アクリレート化合物。
式(9)
[11] The (meth) acrylate compound of [1], which is a compound represented by the following formula (9).
Formula (9)
[12] 下記式(10)で表されるヒドロキシ化合物と、式(11)で示される(メタ)アクリロイル基含有化合物を反応させた後に、反応で得られた化合物からテトラヒドロピラニル基を脱保護する、[1]〜[7]のいずれかの(メタ)アクリレート化合物の製造方法。
式(10)
[12] After reacting the hydroxy compound represented by the following formula (10) with the (meth) acryloyl group-containing compound represented by the formula (11), the tetrahydropyranyl group is deprotected from the compound obtained by the reaction. The manufacturing method of the (meth) acrylate compound in any one of [1]-[7].
Formula (10)
式(11)
Formula (11)
[13] [1]〜[11]のいずれか一項に記載の(メタ)アクリレート化合物を単独で重合して得られる高分子化合物。 [13] A polymer compound obtained by polymerizing the (meth) acrylate compound according to any one of [1] to [11] alone.
[14] [1]〜[11]のいずれか一項に記載の(メタ)アクリレート化合物を含むモノマーを重合して得られる高分子化合物。 [14] A polymer compound obtained by polymerizing a monomer containing the (meth) acrylate compound according to any one of [1] to [11].
[15] 下記(A)、(B)及び(C)を共重合して得られる[14]の高分子化合物。
(A)下記式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物
式(1)
[15] The polymer compound according to [14] obtained by copolymerizing the following (A), (B) and (C).
(A) (Meth) acrylate compound represented by the following formula (1) (1)
(B)4員環以上の環状エーテル構造を有する有機基を有するラジカル重合性モノマー(C)カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー
(B) Radical polymerizable monomer having an organic group having a cyclic ether structure of 4 or more members (C) Radical polymerizable monomer having a carboxyl group
[16] 上記(A),(B)および(C)の質量総和を100とした場合、(A):(B):(C)の質量比が30〜80:10〜40:5〜20であることを特徴とする[15]の高分子化合物。 [16] When the mass sum of (A), (B) and (C) is 100, the mass ratio of (A) :( B) :( C) is 30-80: 10-40: 5-20. [15] The polymer compound according to [15].
[17] 前記(B)のラジカル重合性モノマーが下記式(12)で表されることを特徴とする[15]または[16]の高分子化合物。
式(12)
[17] The polymer compound according to [15] or [16], wherein the radical polymerizable monomer (B) is represented by the following formula (12):
Formula (12)
[18] 前記(C)のラジカル重合性モノマーが下記式(13)で表されることを特徴とする[15]〜[17]のいずれかの高分子化合物。
式(13)
[18] The polymer compound according to any one of [15] to [17], wherein the radically polymerizable monomer (C) is represented by the following formula (13).
Formula (13)
[19] [13]〜[18]のいずれかの高分子化合物を溶剤に溶解または分散した塗料組成物。 [19] A coating composition in which the polymer compound according to any one of [13] to [18] is dissolved or dispersed in a solvent.
[20] さらに硬化剤を含むことを特徴とする[19]の塗料組成物。 [20] The coating composition according to [19], further comprising a curing agent.
[21] [19]の塗料組成物を基材に塗布し、溶剤を乾燥することによって得られた微生物付着防止材料。 [21] A microorganism adhesion preventing material obtained by applying the coating composition of [19] to a substrate and drying the solvent.
[22] [20]に記載の塗料組成物を基材に塗布して溶剤乾燥、さらに硬化して得られた微生物付着防止材料。 [22] A microorganism adhesion preventing material obtained by applying the coating composition according to [20] to a substrate, drying the solvent, and further curing.
本発明によれば、アルカリ溶解性、架橋性、耐熱性および耐候性等の機能を該化合物のラジカル重合体に付与することができる(メタ)アクリレート化合物を簡便に高純度・高収率で製造できる。また、上記(メタ)アクリレート化合物と必要に応じて他のラジカル重合性モノマーとラジカル重合を行うことにより、微生物付着防止機能を有する新規な高分子化合物を得ることができる。 According to the present invention, a (meth) acrylate compound capable of imparting functions such as alkali solubility, crosslinkability, heat resistance and weather resistance to the radical polymer of the compound is easily produced in high purity and high yield. it can. Moreover, the novel polymer compound which has a microorganisms adhesion prevention function can be obtained by performing radical polymerization with the said (meth) acrylate compound and another radically polymerizable monomer as needed.
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本願明細書において、「(メタ)アクリレート化合物」という表記は、アクリレート化合物および/またはメタクリレート化合物を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, the expression “(meth) acrylate compound” means an acrylate compound and / or a methacrylate compound.
1.(メタ)アクリレート化合物
本発明に係る(メタ)アクリレート化合物は、下記式(1)で表される。以下、「(メタ)アクリレート化合物(1)」と呼称する。
式(1)
1. (Meth) acrylate compound The (meth) acrylate compound according to the present invention is represented by the following formula (1). Hereinafter, it is referred to as “(meth) acrylate compound (1)”.
Formula (1)
R1が水素原子の場合はラジカル重合速度が速い。一方、R1がメチル基の場合は水素原子の場合より化合物の安定性が増し、取り扱いが容易となる。これらの中で、R1がメチル基のものは好ましい一態様である。 When R 1 is a hydrogen atom, the radical polymerization rate is fast. On the other hand, when R 1 is a methyl group, the stability of the compound is increased compared to the case of a hydrogen atom, and handling is facilitated. Among these, one in which R 1 is a methyl group is a preferred embodiment.
R2は−R3NHCOO−または単結合を表す。R3は酸素を有していてもよい2価の直鎖状の炭化水素基を表す。ただし、R3において、酸素原子は連続して結合することはなく、R3の両端に酸素原子がくることはない。R3としては、炭素数2〜12のアルキレン基、炭素数2〜12のオキシアルキレン基、炭素数6〜12のアリーレン基等が挙げられる。 R 2 represents —R 3 NHCOO— or a single bond. R 3 represents a divalent linear hydrocarbon group which may have oxygen. However, in R 3 , oxygen atoms are not continuously bonded, and oxygen atoms are not attached to both ends of R 3 . Examples of R 3 include an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, an oxyalkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and an arylene group having 6 to 12 carbon atoms.
炭素数2〜12のアルキレン基の具体例としては、−(CH2)2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−、−(CH2)5−および−CH−(CH3)CH2−等が挙げられる。
炭素数2〜12のオキシアルキレン基の具体例としては、例えば、−CH2CH2OCH2CH2−、−(CH2CH2O)2CH2CH2−、−(CH2CH2O)3CH2CH2−、−CH2CH−(CH3)OCH2CH−(CH3)−、−(CH2CH−(CH3)O)2CH2CH−(CH3)−、−(CH2CH−(CH3)O)3CH2CH−(CH3)−、−CH2CH2CH2CH2OCH2CH2CH2CH2−、−(CH2CH2CH2CH2O)2CH2CH2CH2CH2−および−(CH2C H2CH2CH2 O)3CH2CH2CH2CH2−等が挙げられる。
Specific examples of the alkylene group having 2 to 12 carbon atoms include — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 5 — and —CH— ( CH 3 ) CH 2 — and the like.
Specific examples of the oxyalkylene group having 2 to 12 carbon atoms include, for example, —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —, — (CH 2 CH 2 O) 2 CH 2 CH 2 —, — (CH 2 CH 2 O ) 3 CH 2 CH 2- , -CH 2 CH- (CH 3 ) OCH 2 CH- (CH 3 )-,-(CH 2 CH- (CH 3 ) O) 2 CH 2 CH- (CH 3 )-, -(CH 2 CH- (CH 3 ) O) 3 CH 2 CH- (CH 3 )-, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -,-(CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O) 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — and — (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O) 3 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — and the like.
炭素数6〜12のアリーレン基の具体例としては、例えば、p−フェニレン基およびm−フェニレン基などが挙げられる。R4のフッ素による上記特性を低減させないためにも、これらの中では、R3が−(CH2)2−であることが好ましく、R2が単結合または−(CH2)2−NHCOO−であることが好ましい。 Specific examples of the arylene group having 6 to 12 carbon atoms include a p-phenylene group and an m-phenylene group. Among these, R 3 is preferably — (CH 2 ) 2 —, and R 2 is a single bond or — (CH 2 ) 2 —NHCOO—, in order not to reduce the above-described characteristics of R 4 due to fluorine. It is preferable that
R4は、フッ素原子が1〜4個結合したフルオロフェニレン基またはフッ素原子が1〜4個結合したフルオロフェニレン基を有する酸素を有していてもよい2価の炭化水素基を表す。 R 4 represents a divalent hydrocarbon group which may have oxygen having a fluorophenylene group having 1 to 4 fluorine atoms bonded thereto or a fluorophenylene group having 1 to 4 fluorine atoms bonded thereto.
フルオロフェニレン基の具体例としては、−C6F4−、−C6F3H−、−C6F2H2−および−C6FH3−、を挙げることができ、フッ素原子が1〜4個結合したフルオロフェニレン基を有する酸素を有していてもよい2価の炭化水素基の具体例としては、−CH2C6F4CH2−、−CH2C6F3HCH2−、−CH2C6F2H2CH2−、−CH2C6FH3CH2−、−CH2CH2 C6F4CH2CH2−、−CH2CH2C6F3HCH2CH2−、−CH2CH2C6F2H2CH2CH2−、−CH2CH2 C6FH3CH2CH2−、−C6F4−O−C6F4−、−CH2C6F4CH2−O−CH2C6F4CH2−等が例示される。これらの中でも特に入手性、経済性、フッ素含量の観点から−C6F4−及び−CH2C6F4CH2−が好ましく、特に、(2,3,5,6−テトラフルオロ−p−フェニレン基)および(2,3,5,6−テトラフルオロ−p−キシリレン基)がより好ましい。 Specific examples of the fluorophenylene group include —C 6 F 4 —, —C 6 F 3 H—, —C 6 F 2 H 2 —, and —C 6 FH 3 —, and the fluorine atom is 1 Specific examples of the divalent hydrocarbon group which may have oxygen having -4 bonded fluorophenylene groups include —CH 2 C 6 F 4 CH 2 —, —CH 2 C 6 F 3 HCH 2 -, --CH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2- , --CH 2 C 6 FH 3 CH 2- , --CH 2 CH 2 C 6 F 4 CH 2 CH 2- , --CH 2 CH 2 C 6 F 3 HCH 2 CH 2- , --CH 2 CH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 CH 2- , --CH 2 CH 2 C 6 FH 3 CH 2 CH 2- , --C 6 F 4 --O-C 6 F 4 -, - CH 2 C 6 F 4 CH 2 -O-CH 2 C 6 F 4 CH 2 - and the like. Among these, -C 6 F 4 -and -CH 2 C 6 F 4 CH 2 -are particularly preferable from the viewpoints of availability, economy, and fluorine content, and in particular, (2,3,5,6-tetrafluoro-p -Phenylene group) and (2,3,5,6-tetrafluoro-p-xylylene group) are more preferable.
R6は水素原子または炭素数1〜4個のアルキル基を表す。炭素数1〜4のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等を挙げることができる。R6として、アルカリ現像性を付与する場合には水素原子が好ましく、微生物付着防止機能を重視する場合は水素原子またはメチル基が好ましい。 R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a t-butyl group. R 6 is preferably a hydrogen atom when imparting alkali developability, and is preferably a hydrogen atom or a methyl group when importance is attached to the function of preventing microbial adhesion.
(メタ)アクリレート化合物(1)に含まれる化合物の中でも、原料の入手性、経済性、R4のフッ素の上記特性を低減させない観点から、好ましい化合物としては、式(2)、式(3)、式(4)、式(5)、式(6)、式(7)、式(8)及び式(9)で示される化合物が挙げられる。式(2)、式(3)、式(4)、式(5)、式(6)、式(7)、式(8)及び式(9)で示される化合物を、以降、それぞれ化合物(2)、化合物(3)、化合物(4)、化合物(5)、化合物(6)、化合物(7)、化合物(8)及び化合物(9)と称することがある。 Among the compounds contained in the (meth) acrylate compound (1), from the viewpoint of availability of raw materials, economy, and the above-described properties of R 4 fluorine are not reduced, preferred compounds are those represented by formula (2) and formula (3). , Formula (4), formula (5), formula (6), formula (7), formula (8), and compounds represented by formula (9). The compounds represented by formula (2), formula (3), formula (4), formula (5), formula (6), formula (7), formula (8) and formula (9) are hereinafter referred to as compounds ( 2), compound (3), compound (4), compound (5), compound (6), compound (7), compound (8) and compound (9).
2.(メタ)アクリレート化合物(1)の製造方法
2−1.(メタ)アクリレート化合物(1):R6が水素原子の場合
(メタ)アクリレート化合物(1)は、R6が水素原子の場合、
(i)式(10)に示すテトラヒドロピラニル基およびフルオロフェニレン基を有するヒドロキシ化合物(以下、「ヒドロキシ化合物(10)」という。)と、式(11)に示す(メタ)アクリロイル基含有化合物(以下、「(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)」という。)を反応させた後に、保護基であるテトラヒドロピラニル基を脱保護することにより得る方法(下記[化24]の式(a)、式(b)、式(c)を参照)、
(ii)フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物(以下、「ジヒドロキシ化合物(14)」という。)の一方の水酸基に直接(メタ)アクリル基含有化合物を反応させる方法(下記[化25]の式(d)を参照)のいずれかの方法で製造することができるが、(i)の製造方法の方が、(ii)の製造方法より高収率・高純度で(メタ)アクリレート化合物(1)が得られるので好ましい。
2. 2. Method for producing (meth) acrylate compound (1) 2-1. (Meth) acrylate compound (1): When R 6 is a hydrogen atom (Meth) acrylate compound (1), when R 6 is a hydrogen atom,
(I) a hydroxy compound having a tetrahydropyranyl group and a fluorophenylene group represented by formula (10) (hereinafter referred to as “hydroxy compound (10)”), and a (meth) acryloyl group-containing compound represented by formula (11) ( Hereinafter, a method obtained by reacting a “(meth) acryloyl group-containing compound (11)” and then deprotecting a tetrahydropyranyl group as a protecting group (formula (a) of the following [Chemical Formula 24]) , See formula (b), formula (c)),
(Ii) A method in which a (meth) acryl group-containing compound is directly reacted with one hydroxyl group of a dihydroxy compound having a fluorophenylene group (hereinafter referred to as “dihydroxy compound (14)”). )), But the production method (i) is higher in the yield and purity of the (meth) acrylate compound (1) than the production method (ii). Since it is obtained, it is preferable.
2−1−1.ヒドロキシ化合物(10)と(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)とを反応させた後に、保護基であるテトラヒドロピラニル基を脱保護することにより製造する方法 2-1-1. Process for producing by reacting a hydroxy compound (10) with a (meth) acryloyl group-containing compound (11) and then deprotecting a tetrahydropyranyl group as a protecting group
[1]ヒドロキシ化合物(10)
本製造方法に用いられるヒドロキシ化合物(10)は、上記式(a)のようにジヒドロキシ化合物(14)の一方の水酸基にジヒドロピラン(DHP)を選択的に反応させてテトラヒドロピラニル基を保護基とすることにより得られる。通常一方の水酸基のみを保護するのは困難であるが、ヒドロキシ化合物(10)が優先的に生成する。
[1] Hydroxy compound (10)
The hydroxy compound (10) used in this production method has a tetrahydropyranyl group as a protecting group by selectively reacting one hydroxyl group of the dihydroxy compound (14) with dihydropyran (DHP) as in the above formula (a). Is obtained. Usually, it is difficult to protect only one hydroxyl group, but the hydroxy compound (10) is preferentially produced.
[2]フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物
本発明に用いられるフルオロフェニレン構造および/またはオキシフルオロフェニレン構造基を有するジヒドロキシ化合物は、
式(14)
[2] Dihydroxy compound having fluorophenylene group The dihydroxy compound having a fluorophenylene structure and / or oxyfluorophenylene structure group used in the present invention is:
Formula (14)
また、テトラヒドロピラニル基をTHPと略記し、式(15)で示される化合物の具体例を以下に挙げる。ヒドロキシ化合物(15)の具体例としては、HOC6F4OTHP、HOC6F3HOTHP、HOC6F2H2OTHP、HOC6FH3OTHP、HOCH2C6F4CH2OTHP、HOCH2C6F3HCH2OTHP、HOCH2C6F2H2CH2OTHP、HOCH2C6FH3CH2OTHP、HOCH2CH2C6F4CH2CH2OTHP、HOCH2CH2C6F3HCH2CH2OTHP、HOCH2CH2C6F2H2CH2CH2OTHP、HOCH2CH2C6FH3CH2CH2OTHP、HOC6F4OC6F4OTHPおよびHOCH2C6F4CH2OCH2C6F4CH2OTHPが例示される。上に示したヒドロキシ化合物(14)に含まれるフェニレン基はp−フェニレン基が好ましく、上に示した化合物(14)に含まれるキシリレン基はp−キシリレン基が好ましい。 A tetrahydropyranyl group is abbreviated as THP, and specific examples of the compound represented by the formula (15) are shown below. Specific examples of the hydroxy compound (15) include HOC 6 F 4 OTHP, HOC 6 F 3 HOTHP, HOC 6 F 2 H 2 OTHP, HOC 6 FH 3 OTHP, HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OTHP, and HOCH 2 C. 6 F 3 HCH 2 OTHP, HOCH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 OTHP, HOCH 2 C 6 FH 3 CH 2 OTHP, HOCH 2 CH 2 C 6 F 4 CH 2 CH 2 OTHP, HOCH 2 CH 2 C 6 F 3 HCH 2 CH 2 OTHP, HOCH 2 CH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 CH 2 OTHP, HOCH 2 CH 2 C 6 FH 3 CH 2 CH 2 OTHP, HOC 6 F 4 OC 6 F 4 OTHP and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OCH 2 C 6 F 4 CH 2 OTHP is exemplified. The phenylene group contained in the hydroxy compound (14) shown above is preferably a p-phenylene group, and the xylylene group contained in the compound (14) shown above is preferably a p-xylylene group.
これらの中でもHOC6F4OTHP及びHOCH2C6F4CH2OTHPが、原料の入手性、フルオロフェニレン基を有する点で、(メタ)アクリレート化合物(1)のフッ素含有量を低下させない観点から好ましい。 Among these, HOC 6 F 4 OTHP and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OTHP are from the viewpoint of not reducing the fluorine content of the (meth) acrylate compound (1) in terms of availability of raw materials and having a fluorophenylene group. preferable.
[3](メタ)アクリロイル基含有化合物(11) [3] (Meth) acryloyl group-containing compound (11)
(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)の具体例としては(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリロイルクロライド、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、1−(メタ)アクリロイルオキシメチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルイソシアネート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−メチル−エチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−1−メチル−エチルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−1,1−ジメチル−エチルイソシアネート、4−(メタ)アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、3−(メタ)アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート等が挙げられる。 Specific examples of the (meth) acryloyl group-containing compound (11) include (meth) acrylic anhydride, (meth) acryloyl chloride, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid n-. Propyl, n-butyl (meth) acrylate, 1- (meth) acryloyloxymethyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 3- (meth) acryloyloxypropyl isocyanate, 4- (meth) acryloyloxybutyl isocyanate 6- (meth) acryloyloxyhexyl isocyanate, 10- (meth) acryloyloxydecyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxy-2-methyl-ethyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxy-1-methyl-ethyliso Aneto, 2- (meth) acryloyloxy-1,1-dimethyl - ethyl isocyanate, 4- (meth) acryloyloxy phenyl isocyanate, 3- (meth) acryloyloxy phenyl isocyanate, and (meth) acryloyl isocyanate and the like.
[4]ヒドロキシ化合物(10)の製造方法
ヒドロキシ化合物(10)は、フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物(14)とジヒドロピラン(DHP)を反応させて得られる。
[4] Method for Producing Hydroxy Compound (10) The hydroxy compound (10) is obtained by reacting a dihydroxy compound (14) having a fluorophenylene group with dihydropyran (DHP).
反応の触媒として、公知の酸性触媒が使用できる。具体例としては、硫酸水素ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、p−トルエンスルホン酸等が挙げられ、特に硫酸水素ナトリウムが好ましい。 A known acidic catalyst can be used as a catalyst for the reaction. Specific examples include sodium hydrogen sulfate, sodium dihydrogen phosphate, p-toluenesulfonic acid and the like, and sodium hydrogen sulfate is particularly preferable.
反応の溶媒としては、無極性溶媒が使用できる。具体的には、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジブチルエーテル、ジエチルエーテル等を挙げられる。 A nonpolar solvent can be used as a solvent for the reaction. Specific examples include hexane, heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, dibutyl ether, diethyl ether and the like.
反応温度としては、0〜100℃が好ましく、0〜40℃がより好ましい。0℃未満では反応が遅くなり、また100℃を超えると両側保護体が増加するため好ましくない。
反応時のモル比としては、ジヒドロキシ化合物(14):ジヒドロピラン=1:1.0〜10.0であり、より好ましくは1:1.0〜4.0である。ジヒドロ化合物(14)に対するジヒドロピランのモル比が1.0未満ではフルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物が過剰に残存し、また10.0より多いとジヒドロピランが過剰に残存し、経済的ではないため好ましくない。
As reaction temperature, 0-100 degreeC is preferable and 0-40 degreeC is more preferable. If it is less than 0 ° C., the reaction is slow, and if it exceeds 100 ° C., the two-sided protectors increase, such being undesirable.
The molar ratio during the reaction is dihydroxy compound (14): dihydropyran = 1: 1.0 to 10.0, more preferably 1: 1.0 to 4.0. If the molar ratio of dihydropyran to dihydro compound (14) is less than 1.0, the dihydroxy compound having a fluorophenylene group remains excessively, and if it exceeds 10.0, the dihydropyran excessively remains, which is not economical. It is not preferable.
[5]R6が水素原子の場合の(メタ)アクリレート化合物(1)の製造方法
(メタ)アクリレート化合物(1)は、ヒドロキシ化合物(10)と(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)を反応させて得られる式(15)の化合物をさらに脱保護することにより得られる。
[5] Method for producing (meth) acrylate compound (1) when R 6 is a hydrogen atom (meth) acrylate compound (1) is obtained by reacting hydroxy compound (10) with (meth) acryloyl group-containing compound (11). It is obtained by further deprotecting the compound of formula (15) obtained by the reaction.
ヒドロキシ化合物(10)と(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)の反応触媒として、式(11)で示される化合物が、イソシアネート以外である場合には、反応の触媒として、公知の塩基性触媒が使用できる。式(11)で示される化合物が、イソシアネートである場合には、反応触媒として、塩基性触媒またはウレタン結合形成用触媒が使用できる。 As a reaction catalyst of the hydroxy compound (10) and the (meth) acryloyl group-containing compound (11), when the compound represented by the formula (11) is other than isocyanate, a known basic catalyst is used as a reaction catalyst. Can be used. When the compound represented by the formula (11) is an isocyanate, a basic catalyst or a urethane bond forming catalyst can be used as a reaction catalyst.
塩基性触媒としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、t−ブトキシカリウム、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、DBU、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等の3級アミンなどが挙げられる。 Examples of the basic catalyst include tertiary amines such as potassium carbonate, sodium carbonate, t-butoxypotassium, sodium hydride, triethylamine, triethylenediamine, DBU, pyridine, N, N-dimethyl-4-aminopyridine, and the like. It is done.
ウレタン結合形成用触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ等の有機スズ化合物などが挙げられる。
反応溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。
Examples of the urethane bond forming catalyst include organotin compounds such as dibutyltin dilaurate and tin octylate.
Examples of the reaction solvent include hexane, heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, and the like. be able to.
反応温度としては、0〜120℃が好ましい。0℃未満では反応が遅くなり、また120℃を超えると重合を引き起こすため好ましくない。
反応時のモル比としては、ヒドロキシ化合物(10):(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)=1:0.90〜5.0であり、より好ましくは1:1.0〜3.0である。ヒドロキシ化合物(10)に対する(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)のモル比が0.9未満ではヒドロキシ化合物(10)が過剰に残存するため、アクリル共重合体の原料としたときに重合性を低下させるので好ましくない。また、(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)のモル比が5.0を超えると、(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)が残存し後処理が困難となるため好ましくない。
As reaction temperature, 0-120 degreeC is preferable. If it is less than 0 ° C, the reaction is slow, and if it exceeds 120 ° C, polymerization is caused, which is not preferable.
The molar ratio during the reaction is hydroxy compound (10) :( meth) acryloyl group-containing compound (11) = 1: 0.90 to 5.0, more preferably 1: 1.0 to 3.0. is there. When the molar ratio of the (meth) acryloyl group-containing compound (11) to the hydroxy compound (10) is less than 0.9, the hydroxy compound (10) remains excessively. Since it lowers, it is not preferable. On the other hand, when the molar ratio of the (meth) acryloyl group-containing compound (11) exceeds 5.0, the (meth) acryloyl group-containing compound (11) remains and post-treatment becomes difficult, which is not preferable.
反応時間としては、1〜20時間が好ましく、より好ましくは2〜10時間である。1時間以上であると未反応物が残存せず、20時間以下であると反応時間が短いため経済的である。反応後の反応液は脱イオン水で洗浄後、有機溶媒層を乾燥し、エバポレーター、真空ポンプ等を用いて反応溶媒、反応触媒を除いて式(15)に示す化合物(15)を含む粗精製物を得ることができる。得られた粗精製物をメタノールに溶解させ、塩酸を加えて脱保護することにより、(メタ)アクリレート化合物(1)を得ることができる。 The reaction time is preferably 1 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours. If it is 1 hour or longer, no unreacted substance remains, and if it is 20 hours or shorter, the reaction time is short, which is economical. The reaction solution after the reaction is washed with deionized water, the organic solvent layer is dried, and the crude solvent containing the compound (15) represented by the formula (15) is removed by using an evaporator, a vacuum pump or the like to remove the reaction solvent and the reaction catalyst. You can get things. The (meth) acrylate compound (1) can be obtained by dissolving the obtained crude product in methanol and adding hydrochloric acid for deprotection.
式(15) Formula (15)
メタノールの当量は、上述の化合物(15)1.0当量に対し、1.0〜10当量が好ましく、さらに好ましくは3.0〜5.0当量である。塩酸は0.1N〜12Nが好ましい。反応時間は1〜10時間が好ましく、より好ましくは2〜8時間である。 The equivalent of methanol is preferably 1.0 to 10 equivalents, more preferably 3.0 to 5.0 equivalents, relative to 1.0 equivalent of the above compound (15). The hydrochloric acid is preferably 0.1N to 12N. The reaction time is preferably 1 to 10 hours, more preferably 2 to 8 hours.
2−1−2.ジヒドロキシ化合物(14)の一方の水酸基に直接(メタ)アクリル基含有化合物(11)を反応させる方法
(メタ)アクリレート化合物(1)は、式(d)のように、フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物(14)と(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)を反応させることによっても得ることができる。
2-1-2. Method of directly reacting (meth) acryl group-containing compound (11) with one hydroxyl group of dihydroxy compound (14) (Meth) acrylate compound (1) is a dihydroxy compound having a fluorophenylene group as shown in formula (d) It can also be obtained by reacting (14) with a (meth) acryloyl group-containing compound (11).
式(14)で示されるジヒドロキシ化合物の具体例としては、HOC6F4OH、HOC6F3HOH、HOC6F2H2OH、HOC6FH3OH、HOCH2C6F4CH2OH、HOCH2C6F3HCH2OH、HOCH2C6F2H2CH2OH、HOCH2C6FH3CH2OH、HOCH2CH2C6F4CH2CH2OH、HOCH2CH2C6F3HCH2CH2OH、HOCH2CH2C6F2H2CH2CH2OH、HOCH2CH2 C6FH3CH2CH2OH、HOC6F4OC6F4OH、HOCH2C6F4CH2OCH2C6F4CH2OHが例示される。これらの中でも特にHOC6F4OH及びHOCH2C6F4CH2OHが原料の入手性や(メタ)アクリレート化合物(1)のフッ素含有量を低下させない観点から好ましい。 Specific examples of the dihydroxy compound represented by the formula (14) include HOC 6 F 4 OH, HOC 6 F 3 HOH, HOC 6 F 2 H 2 OH, HOC 6 FH 3 OH, and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OH. , HOCH 2 C 6 F 3 HCH 2 OH, HOCH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 OH, HOCH 2 C 6 FH 3 CH 2 OH, HOCH 2 CH 2 C 6 F 4 CH 2 CH 2 OH, HOCH 2 CH 2 C 6 F 3 HCH 2 CH 2 OH, HOCH 2 CH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 CH 2 OH, HOCH 2 CH 2 C 6 FH 3 CH 2 CH 2 OH, HOC 6 F 4 OC 6 F 4 OH HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OCH 2 C 6 F 4 CH 2 OH is exemplified. Among these, HOC 6 F 4 OH and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OH are particularly preferable from the viewpoint of availability of raw materials and a decrease in fluorine content of the (meth) acrylate compound (1).
式(11)で示される化合物が、イソシアナト基含有化合物以外である場合には、反応の触媒として、公知の酸性触媒または塩基性触媒が使用できる。式(11)で示される化合物が、イソシアナト基含有化合物である場合には、反応触媒として、塩基性触媒またはウレタン結合形成用触媒が使用できる。 When the compound represented by the formula (11) is other than an isocyanato group-containing compound, a known acidic catalyst or basic catalyst can be used as a reaction catalyst. When the compound represented by the formula (11) is an isocyanato group-containing compound, a basic catalyst or a urethane bond forming catalyst can be used as a reaction catalyst.
酸性触媒としては、例えば、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸などが挙げられる。
塩基性触媒としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、t−ブトキシカリウム、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、DBU、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等の3級アミンなどが挙げられる。
Examples of the acidic catalyst include sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, and the like.
Examples of the basic catalyst include tertiary amines such as potassium carbonate, sodium carbonate, t-butoxypotassium, sodium hydride, triethylamine, triethylenediamine, DBU, pyridine, N, N-dimethyl-4-aminopyridine, and the like. It is done.
ウレタン結合形成用触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ等の有機スズ化合物などが挙げられる。
反応溶媒としては、(メタ)アクリル酸あるいは化合物(11)と化合物(14)ともに不活性な溶媒であればいずれも使用できる。具体例として、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。
Examples of the urethane bond forming catalyst include organotin compounds such as dibutyltin dilaurate and tin octylate.
As the reaction solvent, any solvent can be used as long as it is an inert solvent for both (meth) acrylic acid or compound (11) and compound (14). Specific examples include hexane, heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, and the like. Can do.
反応温度としては、0〜120℃が好ましい。0℃未満では反応が遅くなり、また120℃を超えると重合を引き起こすため好ましくない。
反応時のモル比としては、ジヒドロキシ化合物(14):(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)は、好ましくは1:0.40〜2.0であり、より好ましくは1:0.45〜1.0である。ジヒドロキシ化合物(14)に対する(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)のモル比が0.40未満では、フルオロフェニレン基を有するジヒドロキシ化合物(14)が過剰に残存するため経済的ではない。また、(メタ)アクリロイル基含有化合物(11)のモル比が2.0を超えると、両末端の水酸基が(メタ)アクリレートとなった2官能モノマーが多く生成してくるため好ましくない。
As reaction temperature, 0-120 degreeC is preferable. If it is less than 0 ° C, the reaction is slow, and if it exceeds 120 ° C, polymerization is caused, which is not preferable.
As a molar ratio during the reaction, the dihydroxy compound (14) :( meth) acryloyl group-containing compound (11) is preferably 1: 0.40 to 2.0, more preferably 1: 0.45 to 1. .0. When the molar ratio of the (meth) acryloyl group-containing compound (11) to the dihydroxy compound (14) is less than 0.40, the dihydroxy compound (14) having a fluorophenylene group remains excessively, which is not economical. On the other hand, when the molar ratio of the (meth) acryloyl group-containing compound (11) exceeds 2.0, a large amount of bifunctional monomers in which the hydroxyl groups at both ends are (meth) acrylates are generated, such being undesirable.
反応時間としては、1〜20時間が好ましく、より好ましくは2〜10時間である。1時間以上であると未反応物が残存せず、20時間以下であると反応時間が短いため経済的である。 The reaction time is preferably 1 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours. If it is 1 hour or longer, no unreacted substance remains, and if it is 20 hours or shorter, the reaction time is short, which is economical.
反応後の反応液は脱イオン水で洗浄後、有機溶媒層を乾燥し、エバポレーター、真空ポンプ等を用いて有機溶媒を除いて化合物(1)を含む粗精製物を得、必要によりシリカゲルカラムクロマトグラフィー等の常法により化合物(1)を精製することができる。 The reaction solution after the reaction is washed with deionized water, the organic solvent layer is dried, the organic solvent is removed using an evaporator, a vacuum pump or the like to obtain a crude product containing compound (1), and if necessary, silica gel column chromatography. Compound (1) can be purified by a conventional method such as chromatography.
2−2.(メタ)アクリレート化合物(1):R6が炭素数1〜4のアルキル基の場合
(メタ)アクリレート化合物(1)のR6が炭素数1〜4のアルキル基の場合は、前記2−1−2の方法をそのまま適用することができる。その場合、式(14)のジヒドロキシ化合物の代わりに、下記式(17)のフルオロフェニレン基を有するヒドロキシ化合物を使用する。
2-2. (Meth) acrylate compound (1): If R 6 where R 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (meth) acrylate compound (1) is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, said 2-1 The method -2 can be applied as it is. In that case, a hydroxy compound having a fluorophenylene group of the following formula (17) is used instead of the dihydroxy compound of the formula (14).
式(17)で示されるヒドロキシ化合物の具体例としては、HOC6F4OCH3、HOC6F3HOCH3、HOC6F2H2OCH3、HOC6FH3OCH3、HOCH2C6F4CH2OCH3、HOCH2C6F4CH2OC2H5、HOCH2C6F4CH2OC3H7、HOCH2C6F4CH2OC4H9、HOCH2C6F3HCH2OCH3、HOCH2C6F2H2CH2OCH3、HOCH2C6FH3CH2OCH3、HOCH2CH2C6F3HCH2CH2OCH3、HOC6F4OC6F4OCH3、HOCH2C6F4CH2OCH2C6F4CH2OCH3が例示される。これらの中でも特にHOC6F4OCH3及びHOCH2C6F4CH2OCH3が原料の入手性や(メタ)アクリレート化合物(1)のフッ素含有量を低下させない観点から好ましい。 Specific examples of the hydroxy compound represented by the formula (17) include HOC 6 F 4 OCH 3 , HOC 6 F 3 HOCH 3 , HOC 6 F 2 H 2 OCH 3 , HOC 6 FH 3 OCH 3 , and HOCH 2 C 6 F. 4 CH 2 OCH 3 , HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OC 2 H 5 , HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OC 3 H 7 , HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OC 4 H 9 , HOCH 2 C 6 F 3 HCH 2 OCH 3 , HOCH 2 C 6 F 2 H 2 CH 2 OCH 3 , HOCH 2 C 6 FH 3 CH 2 OCH 3 , HOCH 2 CH 2 C 6 F 3 HCH 2 CH 2 OCH 3 , HOC 6 F 4 OC Examples are 6 F 4 OCH 3 and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OCH 2 C 6 F 4 CH 2 OCH 3 . Among these, HOC 6 F 4 OCH 3 and HOCH 2 C 6 F 4 CH 2 OCH 3 are particularly preferable from the viewpoint of reducing the availability of raw materials and the fluorine content of the (meth) acrylate compound (1).
3.(メタ)アクリレート化合物(1)の重合
(メタ)アクリレート化合物(1)は、常温では固体であり、熱や光に対して比較的安定であるにもかかわらず、重合性は一般的な(メタ)アクリル酸エステルと同等であるという特長を有する。
3. Polymerization of (meth) acrylate compound (1) The (meth) acrylate compound (1) is solid at room temperature and is relatively stable against heat and light, but the polymerization property is general (meta). ) Equivalent to acrylic ester.
(メタ)アクリレート化合物(1)を単独あるいは他のモノマーと共重合してポリマーを合成すると、アルカリ溶解性、架橋性、耐熱性、耐薬品性、耐候性、低屈折率、低誘電率、低表面張力、撥水性等の機能を付与することができる。従って、半導体製造用、ディスプレイ部材、印刷製版材料等に使用するアルカリ現像型のフォトレジスト、耐熱変色性が要求される保護膜等に応用することができる。また、各種コーティング材料、防汚材料、グラフト重合用などの原料モノマーとしても使用できる。 When the polymer is synthesized by copolymerizing the (meth) acrylate compound (1) alone or with other monomers, alkali solubility, crosslinkability, heat resistance, chemical resistance, weather resistance, low refractive index, low dielectric constant, low Functions such as surface tension and water repellency can be imparted. Therefore, it can be applied to an alkali development type photoresist used for semiconductor production, display members, printing plate making materials, and the like, and a protective film that requires heat discoloration. It can also be used as a raw material monomer for various coating materials, antifouling materials, and graft polymerization.
特に半導体製造用、ディスプレイ部材、印刷製版材料等に使用するポジ型のアルカリ現像型のフォトレジスト用樹脂の原料として使用する場合は、(メタ)アクリレート化合物(1)が有する水酸基に酸で脱離する保護基を導入する必要があり、その場合の保護基としては例えば、t−ブトキシカルボニル基、t−ブチル基、1−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。保護基を導入した(メタ)アクリレート化合物(1)はさらに他のラジカル重合性モノマーと共重合し、フォトレジスト用樹脂とする。 In particular, when used as a raw material for a positive alkali development type photoresist resin used for semiconductor manufacturing, display members, printing plate making materials, etc., the hydroxyl group of the (meth) acrylate compound (1) is desorbed with an acid. In this case, examples of the protecting group include a t-butoxycarbonyl group, a t-butyl group, a 1-ethoxyethyl group, and a tetrahydropyranyl group. The (meth) acrylate compound (1) having a protective group introduced is further copolymerized with another radical polymerizable monomer to obtain a photoresist resin.
また、フルオロフェニレン基を有する高分子化合物は微生物付着防止機能を有しており、(A)下記式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物
式(1)
The polymer compound having a fluorophenylene group has a function of preventing microbial adhesion, and (A) a (meth) acrylate compound formula (1) represented by the following formula (1):
(B)4員環以上の環状エーテル構造を有するラジカル重合性モノマー
(C)カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー
を含むモノマー組成物をラジカル共重合して得られた高分子化合物は微生物付着防止機能が特に優れている。
(B) A radically polymerizable monomer having a cyclic ether structure of 4 or more members (C) A polymer compound obtained by radical copolymerization of a monomer composition containing a radically polymerizable monomer having a carboxyl group has a function of preventing microbial adhesion Is particularly good.
ここで、(B)4員環以上の環状エーテル構造を有するラジカル重合性モノマーとしては下記式(12)で表される化合物が好ましい。
式(12)
Here, as the radically polymerizable monomer (B) having a cyclic ether structure having four or more members, a compound represented by the following formula (12) is preferable.
Formula (12)
ここで、R7は水素原子またはメチル基を示す。またR8は4員環以上の環状エーテル構造を有する1価の有機基を示し、具体的には、オキセタニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキサニル基、ジオキソラニル基等を挙げることができる。 Here, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 8 represents a monovalent organic group having a cyclic ether structure of 4 or more members, and specific examples include an oxetanyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, a dioxanyl group, and a dioxolanyl group. .
このような化合物の具体例としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)(メタ)アクリレート、[シクロヘキサンスピロ−2−(1,3−ジオキソラン−4−イル)]メチル(メタ)アクリレート、(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル(メタ)アクリレートを挙げることができ、特にテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートが好ましい。 Specific examples of such compounds include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl) (meth) Acrylate, [cyclohexanespiro-2- (1,3-dioxolan-4-yl)] methyl (meth) acrylate, (3-ethyloxetane-3-yl) methyl (meth) acrylate, and in particular tetrahydrofur Furyl (meth) acrylate is preferred.
また、(C)カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、シトラコン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等が例示できるが特に下記式(13)で表される化合物が好ましい。
式(13)
Examples of the radical polymerizable monomer (C) having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, citraconic acid, itaconic acid, vinyl benzoic acid, and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Particularly preferred is a compound represented by the following formula (13).
Formula (13)
R10としては具体的には−(CH2)2−、−(CH2)3−、−(CH2)4−、−(CH2)5−および−CH−(CH3)CH2−等を挙げることができる。またR11としては具体的には−(CH2)2− 、−(CH2)3− 、−(CH2)4− 、−(CH2)5−、−CH−(CH3)CH2−、フェニレン基、シクロヘキサニレン基、シクロヘキセニレン基、メチルシクロヘキサニレン基等を挙げることができる。 Specific examples of R 10 include-(CH 2 ) 2 -,-(CH 2 ) 3 -,-(CH 2 ) 4 -,-(CH 2 ) 5 -and -CH- (CH 3 ) CH 2-. Etc. Further, as R 11 , specifically, — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 5 —, —CH— (CH 3 ) CH 2 -, Phenylene group, cyclohexanylene group, cyclohexenylene group, methylcyclohexanylene group and the like.
このような式(13)で示される化合物の具体例としては、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸が例示されるが、特に2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸が好ましい。 Specific examples of such a compound represented by the formula (13) include 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl. Examples include phthalic acid and 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, and 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid is particularly preferable.
微生物付着防止機能は式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物(1)を単独で重合した高分子化合物でも発現するが、より高い微生物付着防止機能を発現するためには、
(A)式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物、
(B)4員環以上の環状エーテル構造を有する有機基を有するラジカル重合性モノマー、
(C)カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーを共重合して得られた高分子化合物が特に好ましい。
The microbial adhesion preventing function is expressed even in a polymer compound obtained by polymerizing the (meth) acrylate compound (1) represented by the formula (1) alone, but in order to develop a higher microbial adhesion preventing function,
(A) a (meth) acrylate compound represented by formula (1),
(B) a radically polymerizable monomer having an organic group having a cyclic ether structure of 4 or more members,
(C) A polymer compound obtained by copolymerizing a radically polymerizable monomer having a carboxyl group is particularly preferred.
上記(A),(B)および(C)の質量総和を100とした場合、その共重合比率(質量比)は、好ましくは(A):(B):(C)=30〜80:10〜40:5〜20の範囲であり、より好ましくは、(A):(B):(C)=35〜75:15〜35:8〜15である。(A):(B):(C)=30〜80:10〜40:5〜20の範囲を外れると微生物付着防止機能が低下する。 When the mass sum of the above (A), (B) and (C) is 100, the copolymerization ratio (mass ratio) is preferably (A) :( B) :( C) = 30-80: 10 It is the range of -40: 5-20, More preferably, it is (A) :( B) :( C) = 35-75: 15-35: 8-15. (A): (B): (C) = When it is out of the range of 30-80: 10-40: 5-20, the microorganisms adhesion prevention function falls.
また、本発明の高分子化合物は、硬化性を付与したり、その他塗膜の物性を調整する目的で、上記(A)〜(C)以外の他のラジカル重合性のモノマー(D)とラジカル共重合したものであってもよい。 In addition, the polymer compound of the present invention is a radical polymerizable monomer (D) other than the above (A) to (C) and a radical for the purpose of imparting curability or adjusting the physical properties of other coating films. It may be copolymerized.
(A)(メタ)アクリレート化合物(1)と共重合するラジカル重合性モノマーの具体例としては、例えば、上述した4員環以上の環状エーテル構造を有するラジカル重合性モノマー(B)および(メタ)アクリル酸、クロトン酸、シトラコン酸、イタコン酸、ビニル安息香酸、コハク酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等のカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー(C)に加え、無水シトラコン酸、無水イタコン酸、トリシクロデカン(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸グリシジル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等の(A)、(B)および(C)以外のラジカル重合性モノマー(D)などを挙げることができる。 (A) Specific examples of the radical polymerizable monomer copolymerized with the (meth) acrylate compound (1) include, for example, the above-mentioned radical polymerizable monomers (B) and (meth) having a cyclic ether structure having four or more members. Acrylic acid, crotonic acid, citraconic acid, itaconic acid, vinylbenzoic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypoly In addition to radically polymerizable monomers (C) having a carboxyl group such as caprolactone mono (meth) acrylate, citraconic anhydride, itaconic anhydride, tricyclodecane (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, phenyl (meth) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxys (A) such as tylene, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, trifluoromethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, (B ) And (C) other than the radical polymerizable monomer (D).
(A)〜(D)のラジカル重合性モノマー全体の重合時の溶媒中における濃度は、重合する反応液全体に対して10〜70質量%、好ましくは20〜60質量%である。10質量%未満では重合反応が完結しなかったり、分子量が小さくなりすぎたりする。70質量%を超えると、重合反応時の発熱量が大きく、重合反応の制御が困難となる。 The density | concentration in the solvent at the time of superposition | polymerization of the whole radically polymerizable monomer of (A)-(D) is 10-70 mass% with respect to the whole reaction liquid to superpose | polymerize, Preferably it is 20-60 mass%. If it is less than 10% by mass, the polymerization reaction is not completed, or the molecular weight becomes too small. When it exceeds 70% by mass, the amount of heat generated during the polymerization reaction is large, and it becomes difficult to control the polymerization reaction.
[1]ラジカル重合開始剤
重合時には、アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2'−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1'−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を代表とするアゾ系開始剤、ベンゾイルパーオキシド、ジラウロイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、tert−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートを代表とする有機過酸化物等の熱ラジカル重合開始剤を使用できる。
[1] Radical polymerization initiator During polymerization, azobisisobutyronitrile, dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane- 1-carbonitrile), azo initiators typified by 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), benzoyl peroxide, dilauroyl peroxide, dibenzoyl peroxide, tert-amylperoxy- 2-ethylhexanoate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxyisobutyrate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate Thermal radical polymerization initiators such as representative organic peroxides can be used.
熱ラジカル重合開始剤の使用量は、特に限定されるものではないが、全てのラジカル重合性モノマーに対して、好ましくは0.5〜10質量%、より好ましくは1〜5質量%である。0.5質量%未満では未反応の残存モノマーが増える傾向があるため好ましくない。10質量%を超えると急激に反応が進行して温度を一定に保つのが難しくなることがある。 Although the usage-amount of a thermal radical polymerization initiator is not specifically limited, Preferably it is 0.5-10 mass% with respect to all the radically polymerizable monomers, More preferably, it is 1-5 mass%. If it is less than 0.5% by mass, the unreacted residual monomer tends to increase, such being undesirable. If it exceeds 10% by mass, the reaction proceeds rapidly and it may be difficult to keep the temperature constant.
[2]重合溶媒
また、重合時には、1−プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ノルマルプロピルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸3−メトキシブチル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、3−メトキシブタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、乳酸エチルなどの有機溶媒中で行なうことができる。
[2] Polymerization solvent During polymerization, 1-propanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate, isopropyl acetate, normal propyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate , Propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 3- Methoxy pig Nord, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dimethylacetamide, ethyl lactate and the like.
[3]連鎖移動剤
重合時には本発明の高分子化合物の分子量を調整する目的で連鎖移動剤を添加することができるそのような連鎖移動剤の具体例としては、1−ドデカンチオール、1−デカンチオール、メルカプトプロピオン酸等のチオール化合物を挙げることができる。
[3] Chain Transfer Agent Specific examples of such chain transfer agents to which a chain transfer agent can be added for the purpose of adjusting the molecular weight of the polymer compound of the present invention during polymerization include 1-dodecanethiol, 1-decane Mention may be made of thiol compounds such as thiol and mercaptopropionic acid.
本発明の高分子化合物の数平均分子量は3000〜200000が好ましく、5000〜100000が特に好ましい。ここで、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値である。数平均分子量が3000未満では、塗膜の強度が低下する。200000を超えると溶媒への溶解性が低くなる上に、溶解しても粘度が高くなりすぎるために、使用面で制約が大きくなる。 The number average molecular weight of the polymer compound of the present invention is preferably 3000 to 200000, particularly preferably 5000 to 100,000. Here, the number average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. When the number average molecular weight is less than 3000, the strength of the coating film is lowered. If it exceeds 200,000, the solubility in a solvent will be low, and the viscosity will become too high even if it is dissolved.
4.使用方法
また、本発明の高分子化合物は、例えば、溶剤等に溶解または分散した組成物を基材に塗布したのち、加熱等により溶剤を除去して使用することができる。上記組成物に使用する溶剤としては、本発明の高分子化合物を溶解または分散できるものであれば特に制限はないが、例えば、本発明の重合溶媒として使用したものをそのまま使用できる。
4). Method of Use The polymer compound of the present invention can be used by, for example, applying a composition dissolved or dispersed in a solvent or the like to a substrate and then removing the solvent by heating or the like. The solvent used in the composition is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the polymer compound of the present invention. For example, the solvent used as the polymerization solvent of the present invention can be used as it is.
[1]硬化剤・硬化促進剤
塗膜強度を高める、硬度を高める等する場合には組成物にさらに硬化剤を加えて使用してもよい。硬化剤としては、ポリエポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物を挙げることができる。ポリエポキシ化合物は本発明の高分子化合物のカルボキシル基と反応して架橋・硬化が行われ、ポリイソシアネート化合物は、本発明の高分子化合物の水酸基あるいはカルボキシル基と反応して架橋・硬化することができる。
[1] Curing Agent / Curing Accelerator In order to increase the strength of the coating film or increase the hardness, a curing agent may be further added to the composition. Examples of the curing agent include polyepoxy compounds and polyisocyanate compounds. The polyepoxy compound reacts with the carboxyl group of the polymer compound of the present invention to be crosslinked and cured, and the polyisocyanate compound reacts with the hydroxyl group or carboxyl group of the polymer compound of the present invention to be crosslinked and cured. it can.
ポリエポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフタレンアラルキル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル及びペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等のグリシジエルエーテル型エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル、トリグリシジルイソシアヌレート及びテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン及びエポキシ化大豆油等の線状脂肪族エポキシ樹脂、及び、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有するラジカル重合性モノマーの(共)重合体等を例示することができる。上記ポリエポキシ化合物は、単独または2種以上を混合して使用することができる。上記ポリエポキシ化合物の配合量は、組成物中の樹脂成分合計100質量部に対して5〜100質量部が好ましい。 Polyepoxy compounds include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl. Aralkyl-type epoxy resins, naphthalene-type epoxy resins, naphthalene-aralkyl-type epoxy resins, triphenylmethane-type epoxy resins, trimethylolpropane triglycidyl ether and pentaerythritol polyglycidyl ether and other glycidyl ether-type epoxy resins, hexahydrophthalic acid glycidyl ester , Dimer acid glycidyl ester, triglycidyl isocyanurate, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, etc. Examples include linear aliphatic epoxy resins such as glycidylamine epoxy resins, epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil, and (co) polymers of radical polymerizable monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate. be able to. The said polyepoxy compound can be used individually or in mixture of 2 or more types. As for the compounding quantity of the said polyepoxy compound, 5-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin components total in a composition.
また、本発明の高分子化合物のラジカル重合性モノマーとして(メタ)アクリル酸グリシジル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートのようにエポキシ基を有する化合物を使用すれば、硬化剤としてポリエポキシ化合物を使用しなくても良い。 If a compound having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is used as a radical polymerizable monomer of the polymer compound of the present invention, a polyepoxy is used as a curing agent. It is not necessary to use a compound.
ポリエポキシ化合物を硬化剤として用いる場合は硬化促進剤を使用しても良い。硬化促進剤の具体例としては、イミダゾール類、第3級アミン類、フェノール類、ルイス酸塩などが挙げられ、これらのうち1種以上を使用できることができる。上記硬化促進剤の配合量は、組成物中の樹脂成分合計100質量部に対して、0.01〜5.0質量部が好ましい。0.01質量部未満では、硬化促進剤の添加効果が得られない可能性があり、5.0質量部を超えると、ゲル化を起こしたり、硬化促進剤が未反応で残存することに起因して着色が生じたりするなど、性能低下の懸念がでてくる。 When using a polyepoxy compound as a curing agent, a curing accelerator may be used. Specific examples of the curing accelerator include imidazoles, tertiary amines, phenols, Lewis acid salts and the like, and one or more of these can be used. As for the compounding quantity of the said hardening accelerator, 0.01-5.0 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of resin components in a composition total. If the amount is less than 0.01 parts by mass, the effect of adding a curing accelerator may not be obtained. If the amount exceeds 5.0 parts by mass, gelation occurs or the curing accelerator remains unreacted. As a result, there are concerns about performance degradation such as coloring.
またポリイソシアネート化合物の具体例としては、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、(o,m,またはp)−キシレンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレンジイソシアネート、3,3'−メチレンジトリレン−4,4'−ジイソシアネート、4,4'−ジフェニルエーテルジイソシアネート等のジイソシアネート化合物やそれらのイソシアヌレート体やビュレット体等が挙げられる。これらのポリイソシアネート化合物は1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。上記ポリイソシアネート化合物の配合量は、組成物中の樹脂成分合計100質量部に対して3〜50質量部が好ましい。 Specific examples of the polyisocyanate compound include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4 4-trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, (o, m, or p) -xylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, 3, Diisocyanate compounds such as 3′-methyleneditolylene-4,4′-diisocyanate and 4,4′-diphenyl ether diisocyanate and their isocyanurs Over door body and the bullet body, and the like. These polyisocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more. As for the compounding quantity of the said polyisocyanate compound, 3-50 mass parts is preferable with respect to the resin component total 100 mass parts in a composition.
ポリイソシアネート化合物を硬化剤として用いる場合は無触媒でも良いが、硬化促進剤を加えても良い。そのような硬化触媒としてはジブチルスズジラウレート、オクチル酸スズ等の有機スズ化合物が挙げられ、その配合量は樹脂成分100質量部に対して0.001〜1質量部である。0.001質量部未満では硬化が進まず、1質量部を超えると可使時間が不足する。 When a polyisocyanate compound is used as a curing agent, no catalyst may be used, but a curing accelerator may be added. Examples of such a curing catalyst include organic tin compounds such as dibutyltin dilaurate and tin octylate, and the blending amount is 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. If it is less than 0.001 part by mass, curing does not proceed, and if it exceeds 1 part by mass, the pot life is insufficient.
[2]添加剤
本発明の高分子化合物を含む組成物には、その本来の機能を損なわない限り、例えば、可塑剤、充填材、顔料、劣化防止剤、紫外線吸収剤、忌避剤などの各種添加剤が含まれてもよい。
[2] Additives In the composition containing the polymer compound of the present invention, various additives such as plasticizers, fillers, pigments, deterioration inhibitors, ultraviolet absorbers, repellents, etc. Additives may be included.
[3]硬化方法
本発明の高分子化合物と硬化剤さらに硬化促進剤を配合した組成物は、基材に塗布、溶剤を加熱等により除去した後、常温あるいは加熱にすることにより硬化し、強靭な塗膜とすることができる。加熱硬化するのに場合の好ましい温度の範囲としては40〜180℃、より好ましくは60〜150℃である。40℃より低ければ硬化に時間がかかりすぎる。180℃を超えると塗膜に着色が起こる可能性がある。なお、上記基材としては、無機基材、有機基材等種々の基材を使用できる。本発明の高分子化合物を含む組成物は、例えば塗料として好適に用いることができる。
[3] Curing method A composition comprising the polymer compound of the present invention, a curing agent, and a curing accelerator is applied to a substrate, and after the solvent is removed by heating or the like, the composition is cured at room temperature or by heating to toughness It can be set as a simple coating film. The preferred temperature range for heat curing is 40 to 180 ° C, more preferably 60 to 150 ° C. If it is lower than 40 ° C., curing takes too much time. If it exceeds 180 ° C, the coating film may be colored. In addition, as said base material, various base materials, such as an inorganic base material and an organic base material, can be used. The composition containing the polymer compound of the present invention can be suitably used, for example, as a paint.
5.用途
また、ラジカル重合によりそのようにして得られた高分子化合物は、光酸発生剤等やその他必要な添加剤と配合された後、基材に塗布、溶剤乾燥後、エキシマレーザー等の紫外領域の光でパターン露光を行う。露光部は酸が発生することで、樹脂中に含有している(メタ)アクリレート化合物(1)単位の水酸基に結合していた上記保護基が脱離し、アルカリ現像性が発現する。使用するアルカリ現像液としては炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が挙げられるが、フォトレジスト用途の場合は、水酸化テトラメチルアンモニウムのようにアルカリ金属イオンあるいはアルカリ土類金属イオンを含まないアルカリ現像液が好ましい。
5. In addition, the polymer compound thus obtained by radical polymerization is blended with a photoacid generator and other necessary additives, then applied to a substrate, dried in a solvent, and then in an ultraviolet region such as an excimer laser. Pattern exposure is performed with the light. When the acid is generated in the exposed portion, the protective group bonded to the hydroxyl group of the (meth) acrylate compound (1) unit contained in the resin is eliminated, and alkali developability is exhibited. Examples of the alkaline developer to be used include aqueous solutions of sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc., but in the case of photoresist applications, alkali metal ions or alkaline earth metal ions such as tetramethylammonium hydroxide are used. An alkaline developer not contained is preferred.
また、本発明の高分子化合物のもう一つの重要な機能である微生物付着防止機能を活用するには、処理施設、工場などの送水管や排水管の内表面、浴室、空調設備に備えられた循環配管の内表面、建築物の内外装、水周り設備、冷蔵・冷凍設備、空調装置などの結露が起こりやすい部材・部品・構造に塗装・被膜を形成することにより達成される。 In addition, in order to utilize the microbe adhesion prevention function, which is another important function of the polymer compound of the present invention, it was provided in the inner surface of water pipes and drain pipes in treatment facilities, factories, bathrooms, and air conditioning equipment. This is achieved by forming a coating / coating on members / parts / structures that tend to cause condensation such as the inner surface of the circulation pipe, the interior / exterior of the building, the water supply facility, the refrigeration / refrigeration facility, and the air conditioner.
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
[分析方法]
(1)重合体の分子量の測定
GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:Shodex GPC-101
カラム:Shodex KF-802、KF-803、KF-805
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/min
検出器:Shodex RI-71
温度:40℃
前記の測定条件で、ポリスチレンの標準物質を使用して作成した検量線を用いて重量平均分子量を算出した。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[Analysis method]
(1) Measurement of molecular weight of polymer The measurement conditions of GPC are as follows.
Device name: Shodex GPC-101
Column: Shodex KF-802, KF-803, KF-805
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 ml / min
Detector: Shodex RI-71
Temperature: 40 ° C
Under the above measurement conditions, the weight average molecular weight was calculated using a calibration curve prepared using a polystyrene standard.
(2)GC(ガスクロマトグラフィー):カラムはジーエルサイエンス株式会社製の「InertCap 1」を用い、以下の条件で測定を行った。
カラム温度と温度上昇速度:100℃で0分保持、20℃/分で昇温し300℃で5分保持
検出器:FID
検出器温度:330℃
注入口温度:330℃
(2) GC (gas chromatography): The column was “InertCap 1” manufactured by GL Sciences Inc., and measurement was performed under the following conditions.
Column temperature and rate of temperature rise: held at 100 ° C. for 0 minute, heated at 20 ° C./minute and held at 300 ° C. for 5 minutes Detector: FID
Detector temperature: 330 ° C
Inlet temperature: 330 ° C
(3)1H−NMR:テトラメチルシランを内部標準物質として、日本電子株式会社製「JNM−AL400」を用いて測定した。 (3) 1 H-NMR: Measured using “JNM-AL400” manufactured by JEOL Ltd. using tetramethylsilane as an internal standard substance.
(4)HPLC(高速液体クロマトグラフィー):カラムは昭和電工株式会社製の「Shodex 5C8 4E」を用い、以下の条件で測定を行った。
カラム温度:40℃移動相:アセトニトリル/水=2/1(容積比)、2mmol/リットル過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム
溶出速度:1ml/分
検出波長:254nm
(4) HPLC (High Performance Liquid Chromatography): The column was measured using the “Shodex 5C8 4E” manufactured by Showa Denko KK under the following conditions.
Column temperature: 40 ° C. Mobile phase: Acetonitrile / water = 2/1 (volume ratio), 2 mmol / liter tetra-n-butylammonium perchlorate elution rate: 1 ml / min Detection wavelength: 254 nm
(5)酸価:JIS K0070に準拠して測定を行った。
[化合物(2)の合成]
(5) Acid value: measured in accordance with JIS K0070.
[Synthesis of Compound (2)]
製造例1(化合物(10)−1の合成)
窒素ガス導入管、撹拌翼を装備した2000mL容のセパラブルフラスコに、TFDM(2,3,5,6−テトラフルオロ−p−フェニレンジメタノール、SHANG YU FINECHEM CHEMICAL(株)製)157.5g(0.750mol)、トルエン 500ml、ジメチルスルホキド 20ml、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン140g(1.658mol、東京化成工業(株)製)、5M 硫酸水素ナトリウム水溶液150mlを加え、窒素気流下で撹拌しながら室温で5時間反応させた。反応後、トルエンで反応液を希釈し、脱イオン水、5% 水酸化ナトリウム水溶液、脱イオン水の順で有機層を洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。さらに、エバポレーター、真空ポンプを用いてトルエンを除き、GC純度69.4%の化合物(10)−1の粗精製物を得た。得られた化合物(10)−1の粗精製物は精製せずこのまま次の反応に用いた。
Production Example 1 (Synthesis of Compound (10) -1)
In a 2000 mL separable flask equipped with a nitrogen gas inlet tube and a stirring blade, 157.5 g of TFDM (2,3,5,6-tetrafluoro-p-phenylenedimethanol, manufactured by SHANG YU FINECHEM CHEMICAL Co., Ltd.) 0.750 mol), toluene 500 ml, dimethyl sulfoxide 20 ml, 3,4-dihydro-2H-pyran 140 g (1.658 mol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 5M sodium hydrogensulfate aqueous solution 150 ml was added, and under a nitrogen stream The reaction was allowed to proceed for 5 hours at room temperature with stirring. After the reaction, the reaction solution was diluted with toluene, the organic layer was washed with deionized water, a 5% aqueous sodium hydroxide solution, and deionized water in this order, and the organic layer was dried over magnesium sulfate. Furthermore, toluene was removed using an evaporator and a vacuum pump to obtain a crude product of compound (10) -1 having a GC purity of 69.4%. The obtained crude product of compound (10) -1 was used in the next reaction without purification.
実施例1(化合物(2)の合成)
窒素ガス導入管、撹拌翼を装備した2000mL容のセパラブルフラスコに、上述のように合成した化合物(10)−1 150.0g(0.354mol、GC純度:69.4%)、トルエン 750ml、48%水酸化ナトリウム水溶液 85gを加え、15分撹拌した。次いでメタクリル酸クロライド 81.0g(0.775mol、東京化成工業(株))を滴下し、室温で3時間撹拌した。さらにメタクリル酸クロライド 10.8g(0.103mol)を追加し、室温で3時間撹拌した。反応後、トルエンで希釈し、有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。ヒドロキノン 0.075gを加え、エバポレーター、真空ポンプを用いてトルエンを除き、GC純度73.5%の化合物(15)−1の粗精製物を得た。
Example 1 (Synthesis of Compound (2))
In a 2000 mL separable flask equipped with a nitrogen gas introduction tube and a stirring blade, 150.0 g (0.354 mol, GC purity: 69.4%) of the compound (10) -1 synthesized as described above, 750 ml of toluene, A 48% aqueous sodium hydroxide solution (85 g) was added, and the mixture was stirred for 15 minutes. Next, 81.0 g of methacrylic acid chloride (0.775 mol, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise and stirred at room temperature for 3 hours. Further, 10.8 g (0.103 mol) of methacrylic acid chloride was added and stirred at room temperature for 3 hours. After the reaction, the reaction mixture was diluted with toluene, and the organic layer was washed 3 times with water and dried over magnesium sulfate. 0.075 g of hydroquinone was added, and toluene was removed using an evaporator and a vacuum pump to obtain a crude product of compound (15) -1 having a GC purity of 73.5%.
この化合物(15)−1の粗精製物に、メタノール250ml、濃塩酸20mlを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で5時間撹拌した。反応後、トルエンで希釈し、有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーター、真空ポンプを用いてトルエンを除き、粗精製物を得た。この粗精製物をトルエン/ヘキサン=1/5の溶媒で洗浄し、白色固体の化合物(2)71.5g(2段階収率:72.6%、GC純度:99.0%)を得た。1H−NMR(400MHz、DMSO、TMS、ppm) δ:6.03(1H)、δ:5.73(1H)、δ:5.62(1H)、δ:5.31(2H)、δ:4.57(2H)、δ:1.87(3H)
[化合物(4)の合成]
To the crude product of compound (15) -1, 250 ml of methanol and 20 ml of concentrated hydrochloric acid were added and stirred at room temperature for 5 hours using a magnetic stirrer. After the reaction, the reaction mixture was diluted with toluene, and the organic layer was washed 3 times with water and dried over magnesium sulfate. Toluene was removed using an evaporator and a vacuum pump to obtain a crude product. This crude product was washed with a solvent of toluene / hexane = 1/5 to obtain 71.5 g of a white solid compound (2) (two-stage yield: 72.6%, GC purity: 99.0%). . 1 H-NMR (400 MHz, DMSO, TMS, ppm) δ: 6.03 (1H), δ: 5.73 (1H), δ: 5.62 (1H), δ: 5.31 (2H), δ : 4.57 (2H), δ: 1.87 (3H)
[Synthesis of Compound (4)]
実施例2(化合物(4)の合成)
100mL容のナスフラスコに、上述のように合成した化合物(10)−1 10.0g(0.022mol、GC純度:64.0%)、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート 4.0g(0.026mol、昭和電工(株)製)、ジブチルスズジラウレート 0.014g(共同薬品(株)製)を加え、マグネチックスターラーを用いて室温で8時間撹拌した。反応後、メタノール 20ml、濃塩酸 1.0mlを加え、マグネチックスターラーを用いて室温で4時間撹拌した。反応後、トルエンで希釈し、有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーター、真空ポンプを用いてトルエンを除き、粗精製物を得た。この粗精製物をTHF/ヘキサン=1/5の溶媒で洗浄し、白色固体の化合物(4)7.23g(2段階収率:収率90.8%、GC純度:95.5%)を得た。1H−NMR(400MHz、CDCl3、TMS、ppm) δ:6.08(1H)、δ:5.57(1H)、δ:5.39(2H)、δ:5.21(1H)、δ:5.01(2H)、δ:4.81(2H)、δ:4.21(2H)、δ:3.49(2H)
実施例3(化合物(6)の合成)
Example 2 (Synthesis of Compound (4))
In a 100 mL eggplant flask, 10.0 g (0.022 mol, GC purity: 64.0%) of compound (10) -1 synthesized as described above, 4.0 g (0.026 mol, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate) Showa Denko Co., Ltd.) and dibutyltin dilaurate 0.014 g (manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 8 hours using a magnetic stirrer. After the reaction, 20 ml of methanol and 1.0 ml of concentrated hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours using a magnetic stirrer. After the reaction, the reaction mixture was diluted with toluene, and the organic layer was washed 3 times with water and dried over magnesium sulfate. Toluene was removed using an evaporator and a vacuum pump to obtain a crude product. This crude product was washed with a solvent of THF / hexane = 1/5, and 7.23 g of a white solid compound (4) (two-stage yield: yield 90.8%, GC purity: 95.5%) was obtained. Obtained. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 , TMS, ppm) δ: 6.08 (1H), δ: 5.57 (1H), δ: 5.39 (2H), δ: 5.21 (1H), δ: 5.01 (2H), δ: 4.81 (2H), δ: 4.21 (2H), δ: 3.49 (2H)
Example 3 (Synthesis of Compound (6))
実施例4(化合物(8)の合成例) Example 4 (Synthesis Example of Compound (8))
実施例5(化合物(2)の重合)
50mL容のナスフラスコに、上述のように合成した化合物(2) 3.0g(0.011mol)、過酸化ベンゾイル 0.060g(0.25mmol、関東化学(株)製)、酢酸ブチル 7.0g(関東化学(株)製)を加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 2.50g(収率:83%、Mn/Mw=9700/60000)を得た。
Example 5 (polymerization of compound (2))
In a 50 mL eggplant flask, 3.0 g (0.011 mol) of the compound (2) synthesized as described above, 0.060 g of benzoyl peroxide (0.25 mmol, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 7.0 g of butyl acetate (Manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was added, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 3 hours using a magnetic stirrer and oil bath. After the reaction, the mixture was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 2.50 g of a white solid polymer compound (yield: 83%, Mn / Mw = 9700/60000).
実施例6(化合物(2)の共重合)
50mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(2) 2.22g(0.0080mol)、テトラヒドロフルフリルアクリレート 1.25g(東京化成工業(株)製、0.0080mol)、ライトエステルHO‐MS 0.47g(商品名 共栄社化学(株)製、 2−メタクリロイルオキシエチルコハク酸 0.0020mol)、過酸化ベンゾイル 0.037g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル13.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 3.90g(収率:99.0%、Mn/Mw=18600/114000、酸価:36.5mgKOH/g)を得た。
Example 6 (Copolymerization of Compound (2))
In a 50 mL two-necked eggplant flask, the compound (2) synthesized as described above 2.22 g (0.0080 mol), tetrahydrofurfuryl acrylate 1.25 g (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 0.0080 mol), Light ester HO-MS 0.47 g (trade name, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 2-methacryloyloxyethyl succinic acid 0.0020 mol), benzoyl peroxide 0.037 g (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), butyl acetate 13.0 g And stirred at 90 ° C. for 3 hours using a magnetic stirrer and oil bath. After the reaction, reprecipitation with hexane, and the resulting solid was filtered and dried, and 3.90 g of a white solid polymer compound (yield: 99.0%, Mn / Mw = 18600/114000, acid value: 36.5 mg KOH) / G).
実施例7(化合物(2)の共重合)
50mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(2) 2.78g(0.01mol)、テトラヒドロフルフリルアクリレート 1.56g(東京化成工業(株)製、0.01mol)、ライトエステルHO‐MS 0.58g(共栄社化学(株)製、0.0025mol)、メタクリル酸グリシジル 0.20g(和光純薬工業(株)製、0.0013mol)、アゾビス(イソ酪酸)ジメチル 0.055g(和光純薬工業(株)製)、エタノール20.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて5時間還流した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 4.73g(収率:97.0%、Mn/Mw=10000/44000)を得た。
Example 7 (Copolymerization of Compound (2))
In a 50 mL two-necked eggplant flask, 2.78 g (0.01 mol) of compound (2) synthesized as described above, 1.56 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 0.01 mol), 0.58 g of light ester HO-MS (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 0.0025 mol), 0.20 g of glycidyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 0.0013 mol), dimethyl azobis (isobutyrate) 055 g (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 20.0 g of ethanol were added, and the mixture was refluxed for 5 hours using a magnetic stirrer and oil bath. After the reaction, it was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 4.73 g of a white solid polymer compound (yield: 97.0%, Mn / Mw = 10000/44000).
実施例8(化合物(6)の重合)
50mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(6) 4.00g(0.014mol)、過酸化ベンゾイル 0.040g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル16.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 3.40g(収率:85.0%、Mn/Mw=6500/22500)を得た。
Example 8 (polymerization of compound (6))
In a 50 mL two-necked eggplant flask, 4.00 g (0.014 mol) of the compound (6) synthesized as described above, 0.040 g of benzoyl peroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), and 16.0 g of butyl acetate were added. In addition, the mixture was stirred at 90 ° C. for 3 hours using a magnetic stirrer and an oil bath. After the reaction, it was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 3.40 g of a white solid polymer compound (yield: 85.0%, Mn / Mw = 6500/22500).
実施例9(化合物(6)の共重合)
50mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(6) 2.34g(0.080mol) 、テトラヒドロフルフリルアクリレート 1.25g(東京化成工業(株)製、0.0080mol)、ライトエステルHO‐MS 0.46g(共栄社化学製、0.0020mol)、過酸化ベンゾイル 0.033g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル15.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 3.80g(収率:93.8%、Mn/Mw=13200/67100)を得た。
Example 9 (copolymerization of compound (6))
In a 50 mL two-necked eggplant flask, compound (6) synthesized as described above 2.34 g (0.080 mol), tetrahydrofurfuryl acrylate 1.25 g (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 0.0080 mol), Add 0.46 g of light ester HO-MS (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 0.0020 mol), 0.033 g of benzoyl peroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), 15.0 g of butyl acetate, and use a magnetic stirrer and oil bath. Stir at 90 ° C. for 3 hours. After the reaction, the mixture was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 3.80 g (yield: 93.8%, Mn / Mw = 13200/67100) of a white solid polymer compound.
実施例10(化合物(8)の共重合)
50mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(8) 3.03g(0.080mol)、テトラヒドロフルフリルアクリレート 1.25g(東京化成工業(株)製、0.0080mol)、ライトエステルHO‐MS 0.46g(共栄社化学製、0.0020mol)、過酸化ベンゾイル 0.040g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル16.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 4.45g(収率:93.7%、Mn/Mw=11400/71200)を得た。
Example 10 (Copolymerization of Compound (8))
In a 50 mL two-necked eggplant flask, 3.03 g (0.080 mol) of the compound (8) synthesized as described above, 1.25 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 0.0080 mol), Add 0.46 g of light ester HO-MS (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 0.0020 mol), 0.040 g of benzoyl peroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), 16.0 g of butyl acetate, and use a magnetic stirrer and oil bath. Stir at 90 ° C. for 3 hours. After the reaction, it was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 4.45 g of a white solid polymer compound (yield: 93.7%, Mn / Mw = 11400/71200).
実施例11(化合物(2)の共重合)
100mL容の2つ口ナスフラスコに、上述のように合成した化合物(2) 7.00g(0.0256mol)、メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)3.00g(東京化成工業(株)製、0.030mol)、過酸化ベンゾイル 0.10g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル40.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、白色固体の高分子化合物 9.50g(収率:95.0%、Mn/Mw=19600/88500)を得た。
Example 11 (Copolymerization of Compound (2))
In a 100 mL two-necked eggplant flask, 7.00 g (0.0256 mol) of the compound (2) synthesized as described above, 3.00 g of methyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) , 0.030 mol), benzoyl peroxide 0.10 g (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) and butyl acetate 40.0 g were added, and the mixture was stirred at 90 ° C. for 3 hours using a magnetic stirrer and oil bath. After the reaction, the mixture was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 9.50 g (yield: 95.0%, Mn / Mw = 19600/88500) of a white solid polymer compound.
比較例1
50mL容の2つ口ナスフラスコに、メタクリル酸メチル0.80g(関東化学製、0.080mol)、テトラヒドロフルフリルアクリレート1.25g(東京化成工業(株)製、0.0080mol)、ライトエステルHO‐MS 0.46g(共栄社化学製、0.0020mol)、過酸化ベンゾイル 0.023g(関東化学(株)製)、酢酸ブチル12.0gを加え、マグネチックスターラーとオイルバスを用いて90℃で3時間撹拌した。反応後、ヘキサンで再沈殿し、生じた固体を濾過・乾燥し、高分子化合物 2.40g(収率:94.9%、Mn/Mw=24400/70100)を得た。
Comparative Example 1
In a 50 mL two-necked eggplant flask, 0.80 g of methyl methacrylate (manufactured by Kanto Chemical Co., 0.080 mol), 1.25 g of tetrahydrofurfuryl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 0.0080 mol), light ester HO -MS 0.46 g (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 0.0020 mol), 0.023 g of benzoyl peroxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), 12.0 g of butyl acetate were added, and at 90 ° C. using a magnetic stirrer and oil bath. Stir for 3 hours. After the reaction, it was reprecipitated with hexane, and the resulting solid was filtered and dried to obtain 2.40 g of polymer compound (yield: 94.9%, Mn / Mw = 24400/70100).
[試験片の作製]
実施例6−1
実施例6の高分子化合物を1,3−ジオキソランに溶解した後、シムボックスBXS10−005(SUS、(株)岩田製作所社製)(以下、SUS)に塗布し、120℃×1時間乾燥させることにより、微生物付着防止膜付き試験片を得た。これを実施例6−1とした。
[Preparation of specimen]
Example 6-1
After the polymer compound of Example 6 was dissolved in 1,3-dioxolane, it was applied to Shimbox BXS10-005 (SUS, manufactured by Iwata Manufacturing Co., Ltd.) (hereinafter, SUS) and dried at 120 ° C. for 1 hour. As a result, a test piece with a microorganism adhesion preventing film was obtained. This was designated Example 6-1.
実施例6−2
実施例6で得た高分子化合物3.1gとビスフェノールA型エポキシ樹脂 エポトートYD−128(新日鐵化学(株)製)0.38g、触媒としてトリフェニルホスフィン(北興化学工業(株)製)17mgを1,3−ジオキソランに溶解した後、SUSに塗布し120℃×3時間硬化させることにより、微生物付着防止膜付き試験片を得た。これを実施例6−2とした。
Example 6-2
3.1 g of the polymer compound obtained in Example 6 and bisphenol A type epoxy resin Epototo YD-128 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) 0.38 g, triphenylphosphine as a catalyst (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) After dissolving 17 mg in 1,3-dioxolane, it was applied to SUS and cured at 120 ° C. for 3 hours to obtain a test piece with a microorganism adhesion preventing film. This was designated Example 6-2.
実施例7−1
実施例7得た高分子化合物1.00g、触媒としてトリフェニルホスフィン10mg(北興化学工業(株)製)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、SUSに塗布し120℃×2時間硬化させることにより、微生物付着防止膜付き試験片を得た。
Example 7-1
Example 7 After dissolving 1.00 g of the obtained polymer compound and 10 mg of triphenylphosphine (made by Hokuko Chemical Co., Ltd.) as a catalyst in propylene glycol monomethyl ether acetate, it is applied to SUS and cured at 120 ° C. for 2 hours. Thus, a test piece with a microorganism adhesion preventing film was obtained.
実施例8−1
実施例8の高分子化合物を用いて実施例6−1と同様の方法にて微生物付着防止膜付き試験片を得た。
Example 8-1
Using the polymer compound of Example 8, a test piece with a microorganism adhesion preventing film was obtained in the same manner as in Example 6-1.
実施例9−1
実施例9の高分子化合物を用いて実施例6−1と同様の方法にて微生物付着防止膜付き試験片を得た。
Example 9-1
Using the polymer compound of Example 9, a test piece with a microorganism adhesion preventing film was obtained in the same manner as in Example 6-1.
実施例10−1
実施例10の高分子化合物を用いて実施例6−1と同様の方法にて微生物付着防止膜付き試験片を得た。
Example 10-1
Using the polymer compound of Example 10, a test piece with a microorganism adhesion preventing film was obtained in the same manner as in Example 6-1.
比較例1−1
比較例1の高分子化合物を実施例6−1と同様の方法にて塗膜を作製したものを比較例1−1とした。
Comparative Example 1-1
Comparative Example 1-1 was obtained by preparing a coating film of the polymer compound of Comparative Example 1 in the same manner as in Example 6-1.
比較例2
比較試験片として、未処理のSUSを使用した。これを比較例2とした。
Comparative Example 2
Untreated SUS was used as a comparative test piece. This was designated as Comparative Example 2.
[微生物付着防止性能評価]
得られた試験片について、下記の大腸菌暴露試験により、微生物付着防止機能の評価を実施した。
[Evaluation of antimicrobial adhesion performance]
About the obtained test piece, the microorganisms adhesion prevention function was evaluated by the following E. coli exposure test.
(1)大腸菌懸濁液調製
大腸菌JM109株をLBplate(ペプトン1%、酵母エキス0.5%、塩化ナトリウム0.5%、寒天2%を121℃/20分滅菌後平板化)上で37℃で一晩培養した。生育したコロニーを5mLのLBbroth(ペプトン1%、酵母エキス0.5%、塩化ナトリウム0.5%を121℃/20分滅菌)に一白金耳植菌し、37℃で一晩振とう培養した。濁度は約3(対数増殖期後期)であった。この懸濁液を生理食塩水(0.2μmフィルターろ過滅菌)で10倍に希釈し直ちに使用した。
(1) Escherichia coli suspension preparation The E. coli JM109 strain was incubated at 37 ° C on LBplate (1% peptone, 0.5% yeast extract, 0.5% sodium chloride, 2% agar sterilized after 121 ° C / 20 minutes sterilization). Incubated overnight. The grown colonies were inoculated with 5 ml of LBbroth (1% peptone, 0.5% yeast extract, 0.5% sodium chloride, sterilized at 121 ° C / 20 minutes), and cultured with shaking at 37 ° C overnight. . Turbidity was about 3 (late logarithmic phase). This suspension was diluted 10-fold with physiological saline (0.2 μm filter sterilized by filtration) and immediately used.
(2)大腸菌暴露・計測
実施例、比較例の試験片を約10mm角に切断し、12穴マイクロプレートに入れた。そこに前述の大腸菌懸濁液3mLを添加した。80rpmで3時間振とう後、試験片を取り出し、3mlの純水を入れた12穴マイクロプレートに移して洗浄を行った(3回洗浄)。次いで試験片を24穴マイクロプレートに入れ、そこへ5%アラマーブルー(登録商標、和光純薬工業(株)社製)の水溶液を0.5mL添加した。
(2) Escherichia coli exposure and measurement The test pieces of Examples and Comparative Examples were cut into about 10 mm squares and placed in 12-well microplates. 3 mL of the aforementioned E. coli suspension was added thereto. After shaking for 3 hours at 80 rpm, the test piece was taken out and transferred to a 12-well microplate containing 3 ml of pure water for washing (washing 3 times). Next, the test piece was placed in a 24-well microplate, and 0.5 mL of an aqueous solution of 5% Alamar Blue (registered trademark, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added thereto.
ここで、ブランクとして未暴露の試験片を別の24穴マイクロプレートに入れ、同様に5%アラマーブルーの水溶液を0.5ml添加したものも用意した。
2時間静置後、液の一部を96穴のマイクロプレートに100μL移し、560nmの波長で励起させ590nmの蛍光強度を測定した。測定される蛍光強度と微生物量には相関性があり、蛍光強度は微生物量の指標となることを事前に確認しておいた。そして、サンプルとブランクとの蛍光強度の差をとり、後述の比較例2で測定された蛍光強度を100とした場合の実施例、比較例3の蛍光強度の相対値を図5のグラフに示した。
Here, an unexposed test piece as a blank was placed in another 24-well microplate, and a solution in which 0.5 ml of 5% Alamar Blue aqueous solution was similarly added was also prepared.
After standing for 2 hours, 100 μL of a part of the solution was transferred to a 96-well microplate and excited at a wavelength of 560 nm, and the fluorescence intensity at 590 nm was measured. It has been confirmed in advance that there is a correlation between the measured fluorescence intensity and the amount of microorganisms, and that the fluorescence intensity is an indicator of the amount of microorganisms. And the difference of the fluorescence intensity of a sample and a blank is taken and the relative value of the fluorescence intensity of the Example and the comparative example 3 when the fluorescence intensity measured by the below-mentioned comparative example 2 is set to 100 is shown in the graph of FIG. It was.
図5から明らかなように、実施例の試験片は、比較例の試験片に比べて微生物量(蛍光強度)が極めて少なく、微生物付着防止材料として好適に使用できることが示された。 As is clear from FIG. 5, the test piece of the example has an extremely small amount of microorganisms (fluorescence intensity) compared to the test piece of the comparative example, and it was shown that the test piece can be suitably used as a microorganism adhesion preventing material.
Claims (22)
式(1)
Formula (1)
式(2)
Formula (2)
式(3)
Formula (3)
式(4)
Formula (4)
式(5)
Formula (5)
式(6)
Formula (6)
式(7)
Formula (7)
式(8)
Formula (8)
式(9)
Formula (9)
式(10)
式(11)
Formula (10)
Formula (11)
(A)下記式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物
式(1)
(B)4員環以上の環状エーテル構造を有する有機基を有するラジカル重合性モノマー(C)カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー The polymer compound according to claim 14, obtained by copolymerizing the following (A), (B) and (C).
(A) (Meth) acrylate compound represented by the following formula (1) (1)
(B) Radical polymerizable monomer having an organic group having a cyclic ether structure of 4 or more members (C) Radical polymerizable monomer having a carboxyl group
式(12)
Formula (12)
式(13)
Formula (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013198375A JP2015025110A (en) | 2013-05-27 | 2013-09-25 | (meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013110709 | 2013-05-27 | ||
JP2013110709 | 2013-05-27 | ||
JP2013129875 | 2013-06-20 | ||
JP2013129875 | 2013-06-20 | ||
JP2013198375A JP2015025110A (en) | 2013-05-27 | 2013-09-25 | (meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015025110A true JP2015025110A (en) | 2015-02-05 |
Family
ID=52490032
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013198375A Pending JP2015025110A (en) | 2013-05-27 | 2013-09-25 | (meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function |
JP2013198374A Pending JP2015025109A (en) | 2013-05-27 | 2013-09-25 | (meth)acrylate compound and polymeric compound using the (meth)acrylate compound |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013198374A Pending JP2015025109A (en) | 2013-05-27 | 2013-09-25 | (meth)acrylate compound and polymeric compound using the (meth)acrylate compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2015025110A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018162454A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
CN109796580A (en) * | 2018-12-26 | 2019-05-24 | 万华化学集团股份有限公司 | Macromonomer, preparation method with oxinane structure and method, the polymer polyatomic alcohol that polymer polyatomic alcohol is prepared by it |
WO2020048946A1 (en) * | 2018-09-06 | 2020-03-12 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016200698A (en) * | 2015-04-09 | 2016-12-01 | Jsr株式会社 | Liquid crystal display element, radiation-sensitive resin composition, interlayer insulation film, method for producing interlayer insulation film, and method for manufacturing liquid crystal display element |
-
2013
- 2013-09-25 JP JP2013198375A patent/JP2015025110A/en active Pending
- 2013-09-25 JP JP2013198374A patent/JP2015025109A/en active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018162454A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
CN110382666A (en) * | 2017-03-09 | 2019-10-25 | 默克专利股份有限公司 | Polymerizable compound and its purposes in liquid crystal display |
JP2020511446A (en) * | 2017-03-09 | 2020-04-16 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | Polymerizable compounds and their use in liquid crystal displays |
CN110382666B (en) * | 2017-03-09 | 2023-05-26 | 默克专利股份有限公司 | Polymerizable compounds and their use in liquid crystal displays |
US11718791B2 (en) | 2017-03-09 | 2023-08-08 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
WO2020048946A1 (en) * | 2018-09-06 | 2020-03-12 | Merck Patent Gmbh | Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays |
CN112639054A (en) * | 2018-09-06 | 2021-04-09 | 默克专利股份有限公司 | Polymerizable compounds and their use in liquid crystal displays |
CN109796580A (en) * | 2018-12-26 | 2019-05-24 | 万华化学集团股份有限公司 | Macromonomer, preparation method with oxinane structure and method, the polymer polyatomic alcohol that polymer polyatomic alcohol is prepared by it |
CN109796580B (en) * | 2018-12-26 | 2021-04-20 | 万华化学集团股份有限公司 | Macromonomer having tetrahydropyran structure, method for producing the same, method for producing polymer polyol from the macromonomer, and polymer polyol |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015025109A (en) | 2015-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10642155B2 (en) | Mixed-type photosensitive resin and preparation method therefor | |
US9034464B2 (en) | Single layer film and hydrophilic material comprising the same | |
US8507625B2 (en) | Michael acceptor having multiple hydroxyl groups, and Michael addition product derived therefrom | |
US20110112266A1 (en) | Curable copolymer and curable resin composition | |
WO2010114077A1 (en) | α-(UNSATURATED ALKOXYALKYL)ACRYLATE COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF | |
TW201235399A (en) | Curable resin composition | |
JP2015025110A (en) | (meth)acrylate compound, production method of the same, and polymeric compound having microbial adhesion preventing function | |
TWI745555B (en) | Fluorine-containing acetophenone derivatives, fluorine-based additives, and curable compositions containing them and their hardened products | |
TW201302898A (en) | Radical-polymerizable composition, cured article and plastic lens | |
WO2015083360A1 (en) | Novel copolymer with cyclic halamine structure | |
KR101611935B1 (en) | Resin composition for trasparent plastic substrate | |
JP6401529B2 (en) | Photosensitive composition | |
JP4054967B2 (en) | Vinyl polymerizable monomer having tertiary hydroxyl group and polymer thereof | |
JP5471579B2 (en) | (Meth) acrylate derivative composition and method for producing the same | |
JP6381140B2 (en) | Composition, curable composition, method for producing the same, and cured product | |
JP6187847B1 (en) | Active energy ray-curable composition and plastic lens | |
TW201610028A (en) | Active-energy-ray-curable composition | |
JP2019210248A (en) | Calixarene compound, water-sliding surface modifier, curable resin composition and water-sliding coating film | |
JP6797354B2 (en) | Acid group-containing (meth) acrylate resin, curable resin composition, cured product, insulating material, resin material for solder resist and resist member | |
JP2006290999A (en) | Base agent for photosensitive resin composition | |
JP2008081579A (en) | Component for improving adhesiveness | |
JPWO2020129667A1 (en) | Acid group-containing (meth) acrylate resin, curable resin composition, cured product, insulating material, resin material for solder resist and resist member | |
CN108587416B (en) | Fluorine-containing prepolymer modified waterborne epoxy (methyl) acrylate composite UV (ultraviolet) curing coating and preparation and application thereof | |
TWI425060B (en) | A photopolymerizable composition and a functional panel using the same | |
TWI294884B (en) | Vinyl-polymerizable monomer having tertiary hydroxyl group and polymer |