JP2015024503A - Printer, printing method and printed matter - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide highly definite, high-quality printed matter by completely and easily removing an unnecessary ink causing the quality deterioration of a product from a relief printing plate without generating foreign materials or dust in a reverse offset printing method.SOLUTION: A printer is provided with: a transfer plate (300) having an outermost surface configured by a silicone rubber or fluororubber; a transfer cylinder (140) in which the transfer plate (300) is retained; a coating machine (130) set to face the transfer plate (300); a relief printing plate (302) having a groove structure equivalent of an image line section and a protrusion equivalent of a non-image section; a plate stage (120) retaining the relief printing plate (302); a substrate stage (121) retaining a base material (301) to be printed; and a washing machine (000) installable to overhang the relief printing plate (302). The washing machine (000) comprises an ultrasonic transducer facing the relief printing plate (302) and a chamber holding the ultrasonic transducer.

Description

本発明は、微細なパターンを印刷する必要がある分野、具体的には液晶表示装置、有機EL表示装置、電気泳動表示装置、電子分流体表示装置、マイクロカプセル式表示装置、エレクトロウェッティング式表示装置、エレクトロクロミック式表示装置などの表示装置やセンサ、RFID、ロジック回路、電力伝送シート、タッチパネル、電磁波シールド部材の製造においてパターンを形成する場合の技術に関する。   The present invention relates to a field in which a fine pattern needs to be printed, specifically, a liquid crystal display device, an organic EL display device, an electrophoretic display device, an electronic fluid separation display device, a microcapsule display device, and an electrowetting display. The present invention relates to a technique for forming a pattern in manufacturing a display device such as a device, an electrochromic display device, a sensor, an RFID, a logic circuit, a power transmission sheet, a touch panel, and an electromagnetic shielding member.

従来、回路基材、表示装置などの電子部品の形成にはフォトリソグラフィーと真空プロセスが用いられてきた。近年、電子技術の進歩に伴って、素子類のサイズは益々小さくなっており、それにつれて素子を形成するパターンも微細化することが要求されている一方で、マザー基材のサイズは大型化している。そこで、従来のフォトレジストを用いた製造方法に比べ、生産性、コスト、高精度、大面積化などの面や更なる微細化のため、フォトリソグラフィー法に代えて各種印刷方法を用いた微細パターンの製造方法が提案されている。   Conventionally, photolithography and vacuum processes have been used to form electronic components such as circuit substrates and display devices. In recent years, with the advancement of electronic technology, the size of elements has become smaller and the pattern forming the element has been required to be miniaturized, while the size of the mother substrate has increased. Yes. Therefore, compared with the manufacturing method using a conventional photoresist, a fine pattern using various printing methods in place of the photolithography method for productivity, cost, high accuracy, large area, and further miniaturization. The manufacturing method of this is proposed.

印刷法には凸版印刷や凹版印刷、平版印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷などの印刷方法がある。これらの方法は解像限界が30μm程度と半導体装置や表示装置を形成するには低解像である。   Printing methods include printing methods such as letterpress printing, intaglio printing, planographic printing, screen printing, and ink jet printing. These methods have a resolution limit of about 30 μm, which is a low resolution for forming a semiconductor device or a display device.

反転オフセット印刷法はカラーフィルタ、配線パターン、電極パターンなどの形成に使用されることがある。反転オフセット印刷法は、シリンダーに巻き付けたインク剥離性の高いブランケットの全面にインク膜を形成し、予備乾燥して予備乾燥インク膜を形成し、つぎに、そのブランケットとインク凸版に接触させて予備乾燥したインク膜のうち不要な部分をインク凸版の凸部へ転移する。すると、ブランケット上には、インク凸版の凹部に相対する所望のパターンのインクが残る。さらにブランケットと被印刷基材を接触させて所望のインクパターンを被印刷基材上へ転写する方法である。   The reverse offset printing method may be used for forming color filters, wiring patterns, electrode patterns, and the like. In the reverse offset printing method, an ink film is formed on the entire surface of a blanket with high ink peelability wound around a cylinder, preliminarily dried to form a preliminarily dried ink film, and then contacted with the blanket and the ink relief printing plate. An unnecessary portion of the dried ink film is transferred to the convex portion of the ink relief printing plate. As a result, a desired pattern of ink corresponding to the concave portions of the ink relief printing plate remains on the blanket. Further, the blanket and the substrate to be printed are brought into contact with each other to transfer a desired ink pattern onto the substrate to be printed.

反転オフセット印刷法は、インク膜厚を調整することが容易であり、また、インク剥離性のブランケット上に画像パターンを形成するので、被印刷基材へのインク転写性が良好である。さらに、薄膜での微細パターン形成が可能であるという特徴がある。   In the reverse offset printing method, it is easy to adjust the ink film thickness, and since the image pattern is formed on the ink-peeling blanket, the ink transfer property to the substrate to be printed is good. Furthermore, there is a feature that a fine pattern can be formed with a thin film.

しかし、品質の安定したエレクトロニクス関連製品を製造するためには、インク凸版の上に残った不要なインクの除去が必要不可欠になる。そのため、版洗浄装置が必要となるが従来の版洗浄装置では版上の不要なインクを除去するため有機溶剤などを凸版上に散布してインクを溶解させ、それをゴムなどのブレードまたはドクターで掻きとるといった手法をとっていた。   However, in order to manufacture electronic products with stable quality, it is indispensable to remove unnecessary ink remaining on the ink relief printing plate. Therefore, a plate cleaning device is required, but in the conventional plate cleaning device, in order to remove unnecessary ink on the plate, an organic solvent or the like is sprayed on the relief plate to dissolve the ink, which is then removed with a blade or doctor such as rubber. The technique of scraping was taken.

しかし、この手法を用いた装置を使用した場合、一度有機溶剤に溶解したインクをブレードなどで掻ききれず、有機溶剤の蒸発によって再乾燥し前記凸版面の一部または洗浄装置周囲に再付着し、除去残りになることがあった。さらにはブレードの一部が欠損して異物になることもあった。   However, when an apparatus using this method is used, the ink once dissolved in the organic solvent cannot be scraped off with a blade or the like, re-dried by evaporation of the organic solvent, and reattached to a part of the relief surface or around the cleaning apparatus. The removal could be left behind. Further, a part of the blade may be lost and become a foreign object.

さらに、インク凸版は表面に凹凸があり、凸版上の不要なインクを布などでふき取るタイプの凸版洗浄装置を使用した場合、凸版の凹凸と布などの接触によって繊維ゴミが生じ、それによって異物が発生する場合がある。その場合は、その異物が製品へ移行し、画素内に残り品質の低下が引き起こされるといった問題があった。   In addition, the ink letterpress has irregularities on the surface, and when using a letterpress cleaning device that wipes unnecessary ink on the letterpress with a cloth, fiber dust is generated due to the contact between the letterpress irregularities and the cloth, and foreign matter is thereby removed. May occur. In that case, there is a problem that the foreign matter is transferred to the product and the remaining quality is deteriorated in the pixel.

一方、製品であるエレクトロニクス関連製品では各パターンに必要十分なインクおよびそのインクの量、形状が決められていて、その画素内に不要なインク以外の異物がある場合、求められる性能を出すことができず、品質の低下につながると言う問題があった。また、配線パターンや電極では、抵抗値が高い部分や、断線した場所が発生するという問題があった。   On the other hand, the electronics-related products, which are products, have the necessary and sufficient amount of ink for each pattern and the amount and shape of the ink. If there are foreign objects other than unnecessary ink in the pixel, the required performance can be obtained. There was a problem that it could not be done, leading to quality degradation. In addition, the wiring pattern and the electrode have a problem that a portion having a high resistance value or a disconnected place occurs.

また、前記問題を解決する版洗浄方法として、粘着剤を具備するフィルム状の粘着基材を使用する方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。   As a plate cleaning method for solving the above problem, a method using a film-like pressure-sensitive adhesive substrate having a pressure-sensitive adhesive has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

また、反転オフセット印刷法では、何かの折に版凹部や版凸部の側面部に付着したインクやインクカスなどがブランケットへ逆転移して、被印刷基材へ転写されてしまうことがあった。そのような場合、前記の粘着基材を用いた版洗浄をするためには、粘着基材を凸版の凸部だけでなく凹部にも追従させ、圧着させる必要がある。   Further, in the reverse offset printing method, ink or ink residue adhering to the side surface portion of the plate concave portion or plate convex portion is reversely transferred to the blanket and transferred to the substrate to be printed. In such a case, in order to perform plate cleaning using the above-mentioned pressure-sensitive adhesive substrate, it is necessary to cause the pressure-sensitive adhesive substrate to follow not only the convex portion of the relief plate but also the concave portion, and be pressure-bonded.

そのためには凸版の凹部分の形状にあわせて変形ができる程の柔軟性を具備した押し込みロールが必要であるが、そのようなロールは存在せず、結果前記基材を、前記凸版の凹部分に十分に圧着させることはできなかった。その結果、前記の版凹部や版凸部の側面部に付着したインクを洗浄することは非常に困難であった。   For this purpose, an indentation roll having such flexibility that it can be deformed in accordance with the shape of the concave portion of the relief plate is necessary, but such a roll does not exist, and as a result, the base material is divided into the concave portion of the relief plate. It was not possible to make it sufficiently crimped. As a result, it has been very difficult to clean the ink adhering to the side portions of the plate concave portions and the plate convex portions.

版の洗浄方法として超音波洗浄を用いることも考えられる。従来の超音波洗浄機は洗浄槽に基板を浸漬するタイプが一般的なので、版を印刷機に取り付けたまま洗浄する機上洗浄に対応していない。超音波洗浄を機上洗浄に適応した例が提案されている(例えば特許文献2参照)。振動版を介して超音波振動子が基板に近接して配置されているが、超音波振動子と基板の距離が100mm以下だと超音波振動子が反射波により破損する問題が有る。一方で超音波振動子を基板から100mm以上離すと、洗浄液を多量に使用し、注水と排水の時間が長くなる問題が有る。   It is also conceivable to use ultrasonic cleaning as a plate cleaning method. Conventional ultrasonic cleaning machines are generally of a type in which a substrate is immersed in a cleaning tank, and therefore do not support on-machine cleaning in which a plate is cleaned while attached to a printing press. An example in which ultrasonic cleaning is applied to on-machine cleaning has been proposed (see, for example, Patent Document 2). Although the ultrasonic transducer is disposed close to the substrate via the vibration plate, there is a problem that the ultrasonic transducer is damaged by the reflected wave when the distance between the ultrasonic transducer and the substrate is 100 mm or less. On the other hand, when the ultrasonic vibrator is separated from the substrate by 100 mm or more, there is a problem that a large amount of cleaning liquid is used and the time for water injection and drainage becomes long.

特に機上で版洗浄を行う場合、印刷機内のスペースの制約から簡易的な洗浄機の設置にとどまり不十分な洗浄になる問題や、タクトが長くなる問題、洗浄時に発塵して印刷物へ付着する問題がある。   In particular, when performing plate cleaning on the machine, there is a problem of insufficient cleaning due to space limitations in the printing machine, a problem of insufficient cleaning, a problem of longer tact, and dust generated during cleaning and adhering to the printed matter. There is a problem to do.

特開2006−255998号公報JP 2006-255998 A 特開2012−91414号公報JP 2012-91414 A

本発明は、反転オフセット印刷法において、製品の品質の低下を招く不要なインクを、凸版から、完全にかつ容易に異物、ゴミを発生させずに除去し、高精細かつ高品質な印刷物を提供することを課題とする。   The present invention provides a high-definition and high-quality printed matter by removing unnecessary ink that causes a decrease in product quality from a letterpress plate completely and easily without generating foreign matter and dust in the reverse offset printing method. The task is to do.

本発明において上記課題を解決するために、まず請求項1の発明では、最表面がシリコーンゴムもしくはフッ素ゴムで構成される転写版と、転写版が保持される転写シリンダーと、転写版に対向するように設置された塗工機と、画線部に相当する溝構造部と非画像部に相当する凸部を有する凸版と、凸版が保持される版ステージと、被印刷基材を保持する基材ステージと、凸版上に覆い被さるように設置できる洗浄機とを備え、
洗浄機は、凸版に対向する超音波振動子と、超音波振動子を保持するチャンバとを備え
ることを特徴とする印刷機としたものである。
In order to solve the above-mentioned problems in the present invention, first, in the invention of claim 1, the transfer plate having the outermost surface made of silicone rubber or fluororubber, the transfer cylinder holding the transfer plate, and the transfer plate are opposed to each other. Coating machine installed in such a manner, a relief plate having a groove structure part corresponding to an image line part and a convex part corresponding to a non-image part, a plate stage on which the relief plate is held, and a substrate holding a substrate to be printed A material stage and a washer that can be installed to cover the letterpress,
The cleaning machine is a printing machine including an ultrasonic vibrator facing the relief plate and a chamber for holding the ultrasonic vibrator.

また請求項2の発明では、前記チャンバは、凸版と超音波振動子間の隔壁を備えていることを特徴とする請求項1記載の印刷機としたものである。   According to a second aspect of the present invention, in the printing machine according to the first aspect, the chamber includes a partition wall between the relief plate and the ultrasonic transducer.

また請求項3の発明では、前記隔壁は、傾斜角15°以下の傾斜が設けられていることを特徴とする請求項2記載の印刷機としたものである。   According to a third aspect of the present invention, in the printing machine according to the second aspect, the partition is provided with an inclination of an inclination angle of 15 ° or less.

また請求項4に係る発明は、超音波振動子が搖動もしくは回転することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の印刷機としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the printing machine according to any one of the first to third aspects, wherein the ultrasonic vibrator is swung or rotated.

また請求項5に係る発明は、請求項1〜4のいずれか1項に記載の印刷機でなされる印刷方法であって、
塗工機で転写版上にインク膜を形成する第1工程と、インク膜の溶媒を揮発させて乾燥インク膜を作製する第2工程と、乾燥インク膜を凸版に押し当てて転写版上の非画像部の乾燥インク膜を凸版の凸部に転写する第3工程と、転写版と被印刷基材とを接触させて画像部の乾燥インク膜を被印刷基材へ転写する第4工程と、を順次行う印刷工程と、
第3工程の後に、凸版の上に洗浄機をかぶせて超音波洗浄を行う工程と、リンスを行う工程と、乾燥を行う工程と、を順次行う初期化工程とを含み、
印刷工程では初期化工程を経た凸版を用いて印刷物を製造することを特徴とする印刷方法としたものである。
The invention according to claim 5 is a printing method performed by the printing machine according to any one of claims 1 to 4,
A first step of forming an ink film on the transfer plate with a coating machine; a second step of producing a dry ink film by volatilizing the solvent of the ink film; and pressing the dry ink film against the relief plate to A third step of transferring the dry ink film of the non-image portion to the convex portion of the relief plate, and a fourth step of transferring the dry ink film of the image portion to the printing substrate by bringing the transfer plate and the printing substrate into contact with each other. A printing process for sequentially performing
After the third step, an initializing step of sequentially performing a step of performing ultrasonic cleaning by covering the letterpress with a washing machine, a step of rinsing, and a step of drying,
In the printing process, a printing method is characterized in that a printed matter is manufactured using a relief printing plate that has undergone an initialization process.

また請求項6に係る発明は、請求項1〜4のいずれか1項に記載の印刷機で製造される印刷物であって、
塗工機で転写版上にインク膜を形成する第1工程と、インク膜の溶媒を揮発させて乾燥インク膜を作製する第2工程と、乾燥インク膜を凸版に押し当てて転写版上の非画像部の乾燥インク膜を凸版の凸部に転写する第3工程と、転写版と被印刷基材とを接触させて画像部の乾燥インク膜を被印刷基材へ転写する第4工程と、を順次行う印刷工程にて、
第3工程の後に、凸版の上に洗浄機をかぶせて超音波洗浄を行う工程と、リンスを行う工程と、乾燥を行う工程と、を順次行う初期化工程を経た凸版を用いて製造されたことを特徴とする印刷物としたものである。
The invention according to claim 6 is a printed matter manufactured by the printing machine according to any one of claims 1 to 4,
A first step of forming an ink film on the transfer plate with a coating machine; a second step of producing a dry ink film by volatilizing the solvent of the ink film; and pressing the dry ink film against the relief plate to A third step of transferring the dry ink film of the non-image portion to the convex portion of the relief plate, and a fourth step of transferring the dry ink film of the image portion to the printing substrate by bringing the transfer plate and the printing substrate into contact with each other. In the printing process,
Produced using a relief printing plate that has undergone an initialization step that sequentially performs a step of performing ultrasonic cleaning by covering the relief plate with a washing machine, a rinsing step, and a drying step after the third step. The printed matter is characterized by this.

請求項1及び請求項5並び請求項6に係る発明は、反転オフセット印刷法において、製品の品質の低下を招く不要なインクを、凸版から、完全にかつ容易に異物、ゴミを発生させずに除去し、高精細かつ高品質な印刷物を提供できるという効果がある。   The invention according to claim 1 and claim 5 and claim 6 is the reverse offset printing method, in which unnecessary ink that causes a reduction in product quality is completely and easily generated from a relief plate without generating foreign matter and dust. There is an effect that it can be removed to provide a high-definition and high-quality printed matter.

また請求項2に係る発明は、請求項1に係る発明の効果に加えて、機上で凸版洗浄を行う際に、超音波振動子が反射波で破損する問題を解決し、洗浄液の省液化と注排水時間の低減化といった効果が得られる。   In addition to the effect of the invention according to claim 1, the invention according to claim 2 solves the problem that the ultrasonic vibrator is damaged by the reflected wave when performing relief printing on the machine, and the cleaning liquid is saved. And the effect of reducing the drainage time can be obtained.

また請求項3に係る発明は、請求項2に係る発明の効果に加えて、洗浄液中の気泡と、排水時に隔壁に残る液滴との除去が行えるという効果がある。   In addition to the effect of the invention according to claim 2, the invention according to claim 3 has an effect of removing bubbles in the cleaning liquid and droplets remaining on the partition wall during drainage.

また請求項4に係る発明は、請求項1〜3の何れかの1項に係る発明の効果に加えて、定存波の低音圧の節による洗浄性に対する悪影響を防止できるという効果がある。   In addition to the effect of the invention according to any one of claims 1 to 3, the invention according to claim 4 has an effect of preventing an adverse effect on the cleanability due to the low sound pressure node of the standing wave.

本発明の一実施の形態による印刷機を示す側面模式図。1 is a schematic side view showing a printing press according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態による洗浄機を示す側面模式図。The side surface schematic diagram which shows the washing machine by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による洗浄中の洗浄機と版ステージを示す側面模式図。The side surface schematic diagram which shows the washing machine and plate | version | printing stage in washing | cleaning by one embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態による洗浄中の洗浄機と版ステージを示す側面模式図。The side surface schematic diagram which shows the washing machine and plate | version | printing stage in washing | cleaning by other embodiment of this invention.

以下に、本発明の一実施の形態を、図面を参照しながら説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は本発明の一実施の形態による印刷機を示す側面模式図である。図1において、最表面がシリコーンゴムもしくはフッ素ゴムで構成される転写版300と、転写版300が保持される転写シリンダー140と、転写版300に対向するように設置された塗工機130と、画線部に相当する溝構造部と非画像部に相当する凸部を有する凸版302と、凸版302が保持される版ステージ120と、被印刷基材301を保持する基材ステージ121と、凸版302上に覆い被さるように設置できる洗浄機000が設置されている。また、架台110と、基材ステージ121と版ステージ120の軌道111と、被印刷基材301のアライメントマークを観察する光学式の基材アライメントカメラ204と、凸版302のアライメントマークを観察する版アライメントカメラ203と、光学式カメラで読み取ったアライメントマークの情報を基にアライメントを行う基材又は凸版のアライメント調整機構と、転写シリンダー140に対向して設置された送風機202と、転写シリンダー140に対向して設置された粘着ロール201と、版乾燥機010とが設置されていてもよい。   FIG. 1 is a schematic side view showing a printing press according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a transfer plate 300 whose outermost surface is made of silicone rubber or fluorine rubber, a transfer cylinder 140 that holds the transfer plate 300, a coating machine 130 that is placed so as to face the transfer plate 300, A relief plate 302 having a groove structure portion corresponding to an image line portion and a projection portion corresponding to a non-image portion, a plate stage 120 on which the relief plate 302 is held, a substrate stage 121 holding the substrate to be printed 301, and a relief plate A cleaning machine 000 that can be installed so as to cover 302 is installed. Further, the gantry 110, the trajectory 111 of the substrate stage 121 and the plate stage 120, the optical substrate alignment camera 204 for observing the alignment mark of the printing substrate 301, and the plate alignment for observing the alignment mark of the relief plate 302 An alignment adjustment mechanism for a substrate or letterpress that performs alignment based on the information of the alignment mark read by the camera 203, the optical camera, the blower 202 installed facing the transfer cylinder 140, and the transfer cylinder 140. The pressure-sensitive adhesive roll 201 and the plate dryer 010 may be installed.

基材ステージ121と版ステージ120は軌道111に沿って移動可能にされており、転写シリンダー140は回転動作と図の上下動作が可能、塗工機130は図の上下方向に往復可能、洗浄機000と版乾燥機010は図の上下方向に往復可能にされている。図1では版ステージ120を洗浄機側に移動する構成であるが、これには限定されず、洗浄機が版ステージ側に移動する構成でもよい。   The substrate stage 121 and the plate stage 120 are movable along the track 111. The transfer cylinder 140 can rotate and move up and down in the figure. The coating machine 130 can reciprocate up and down in the figure. 000 and the plate dryer 010 can be reciprocated in the vertical direction of the figure. In FIG. 1, the plate stage 120 is moved to the washing machine side, but the present invention is not limited to this, and the washing machine may move to the plate stage side.

図2は本発明の一実施の形態による洗浄機を示す側面模式図である。洗浄機000は凸版に対向する超音波振動子001と、超音波振動子を保持するチャンバ002とで構成されている。   FIG. 2 is a schematic side view showing a washing machine according to an embodiment of the present invention. The cleaning machine 000 includes an ultrasonic vibrator 001 that faces the relief plate and a chamber 002 that holds the ultrasonic vibrator.

図3は本発明の一実施の形態による洗浄中の洗浄機と版ステージを示す側面模式図である。チャンバ002内に隔壁003を設け、超音波伝達部009と洗浄室011に仕切ることができる。超音波伝達部009には水などの超音波を伝達する媒体を入れて使用する。超音波振動子001と洗浄対象物の間隔が近いと反射波で超音波振動子001を破損するため、100mm程度以上の間隔をあける必要がある。隔壁003を設けることでチャンバ002と凸版302で囲まれる洗浄室011の容量を少なくすることができ、洗浄液やリンス液の注入時間と排水時間を短縮することができ、洗浄時間を短縮できる。また、使用する洗浄液とリンス液の使用量を低減することができる。注水口はチャンバ002側面などに設けることができ、排水口は残留する溜り水を極力減らすために洗浄室011の底面に相当する版ステージ120に設けることも可能である。   FIG. 3 is a schematic side view showing a cleaning machine and a plate stage during cleaning according to an embodiment of the present invention. A partition wall 003 is provided in the chamber 002 and can be partitioned into an ultrasonic transmission unit 009 and a cleaning chamber 011. The ultrasonic transmission unit 009 is used by inserting a medium for transmitting ultrasonic waves such as water. When the distance between the ultrasonic vibrator 001 and the object to be cleaned is close, the ultrasonic vibrator 001 is damaged by the reflected wave, and therefore, it is necessary to leave an interval of about 100 mm or more. By providing the partition wall 003, the capacity of the cleaning chamber 011 surrounded by the chamber 002 and the relief plate 302 can be reduced, the cleaning liquid and rinsing liquid injection time and drainage time can be shortened, and the cleaning time can be shortened. Moreover, the usage-amount of the washing | cleaning liquid and rinse liquid to be used can be reduced. The water injection port can be provided on the side of the chamber 002 or the like, and the drain port can be provided on the plate stage 120 corresponding to the bottom surface of the cleaning chamber 011 in order to reduce the remaining accumulated water as much as possible.

チャンバ002最下部はオーリングが設けられ、液体の漏出防止がなされている。チャンバ002最下部の接触箇所は凸版302でも凸版302外周の版ステージ120でもよい。また、凸版302の外周に当て板を設置してチャンバ002最下部を接触させてもよい。チャンバ002は図4のように隔壁003より下部が開放され、洗浄液やリンス液が第2のチャンバ004で保持される形態でもよい。当て板は凸版302と版ステージ12
0の段差をなくすことで、洗浄液とリンス液が洗浄室011内の凸版302上を通りやすくする作用も期待できる。
An O-ring is provided at the lowermost portion of the chamber 002 to prevent liquid leakage. The contact portion at the bottom of the chamber 002 may be the relief plate 302 or the plate stage 120 around the relief plate 302. Further, a backing plate may be installed on the outer periphery of the relief plate 302 to bring the lowest part of the chamber 002 into contact. As shown in FIG. 4, the chamber 002 may have a configuration in which a lower part is opened from the partition wall 003 and the cleaning liquid and the rinse liquid are held in the second chamber 004. The backing plate is the relief plate 302 and the plate stage 12.
By eliminating the step of 0, it can be expected that the cleaning liquid and the rinse liquid can easily pass over the relief plate 302 in the cleaning chamber 011.

洗浄室011に気泡が残る場合、超音波の伝達を阻害する問題がある。洗浄室011内の洗浄液やリンス液の流速を調整して気泡を除く方法や、隔壁003に傾斜を設けることで気泡の除去を効率的に行うことができる。また、チャンバ002を版ステージ120の上方向に移動する際に傾斜して持ち上げる方法や、隔壁003に傾斜をつけることで、排水時に隔壁003に残る液滴の除去を効率的に行うことができる。隔壁003の傾斜は緩すぎる場合には気泡と液滴の除去が行えず、急すぎる場合には洗浄室011の容量が多くなり、注水と排水時間が長くなる。このため、隔壁の傾斜は15度以下が望ましい。洗浄室011の最狭部の高さは0.1から5.0mmを選択することができる。   When bubbles remain in the cleaning chamber 011, there is a problem that obstructs transmission of ultrasonic waves. Bubbles can be efficiently removed by adjusting the flow rate of the cleaning liquid or rinse liquid in the cleaning chamber 011 to remove the bubbles, or by providing an inclination in the partition wall 003. In addition, the method of lifting the chamber 002 while tilting the plate stage 120 upwards, or by tilting the partition wall 003 makes it possible to efficiently remove droplets remaining on the partition wall 003 during drainage. . If the slope of the partition wall 003 is too gentle, bubbles and droplets cannot be removed, and if it is too steep, the capacity of the cleaning chamber 011 increases, and water injection and drainage time becomes long. For this reason, the inclination of the partition wall is desirably 15 degrees or less. The height of the narrowest part of the cleaning chamber 011 can be selected from 0.1 to 5.0 mm.

隔壁003は鉄やアルミニウム、銅、ニッケル、スズ、タングステンなどの金属や、ポリエチレンやポリプロピレン、塩化ビニル、ポリカーボネート、フッ素樹脂などのプラスチックや、ジルコニアやアルミナ、酸化ケイ素などのセラミックや、金属繊維や炭素繊維、ガラス繊維とプラスチックの複合材料などでもよい。隔壁003の厚さは、媒体の重量を保持する強度を有する厚さが必要で、超音波が洗浄室011へ良好に伝達する程度に薄いことが求められる。   The partition wall 003 is made of metal such as iron, aluminum, copper, nickel, tin, and tungsten, plastic such as polyethylene, polypropylene, vinyl chloride, polycarbonate, and fluororesin, ceramic such as zirconia, alumina, and silicon oxide, metal fiber, and carbon. Fiber, a composite material of glass fiber and plastic may be used. The thickness of the partition wall 003 needs to be strong enough to hold the weight of the medium, and is required to be thin enough to transmit ultrasonic waves to the cleaning chamber 011 satisfactorily.

超音波振動子001を固定した場合、定在波の低音圧の節の影響で洗浄性に悪影響を及ぼすことがある。その場合は超音波振動子001を搖動もしくは自転や公転の回転をさせることで、洗浄性が向上する。   When the ultrasonic vibrator 001 is fixed, the cleaning performance may be adversely affected by the influence of the low sound pressure node of the standing wave. In that case, the cleaning performance is improved by swinging or rotating the ultrasonic vibrator 001 in rotation or revolution.

超音波振動子001はケーブルを介して超音波発振器に接続されている。超音波振動子001はニッケル振動子やフェライト振動子などの磁歪型振動子や、BaTiO・PZT・PbTiO・(Bi,Na)TiOなどの圧電セラミック素子、水晶振動子、圧電高分子膜素子、ZnO圧電薄膜素子などの電歪型振動子を用いることができる。電歪型振動子のなかでボルト締めランジュバン型振動子を用いることもできる。 The ultrasonic vibrator 001 is connected to the ultrasonic oscillator via a cable. The ultrasonic vibrator 001 includes a magnetostrictive vibrator such as a nickel vibrator and a ferrite vibrator, a piezoelectric ceramic element such as BaTiO 3 , PZT, PbTiO 3 , (Bi, Na) TiO 3 , a crystal vibrator, and a piezoelectric polymer film. An electrostrictive vibrator such as an element or a ZnO piezoelectric thin film element can be used. Among the electrostrictive vibrators, bolted Langevin vibrators can be used.

洗浄機000の超音波周波数は20kHzから1MHzを選択できるがこれに限定されない。除去対象の粒径や付着力に応じて適宜選択すればよい。複数周波数の同時発振や複数周波数の自動切り替えを行ってもよい。超音波出力は500Wから20000W、超音波強度は1W/cmから10W/cmの物を適宜選択することができる。 The ultrasonic frequency of the cleaning machine 000 can be selected from 20 kHz to 1 MHz, but is not limited thereto. What is necessary is just to select suitably according to the particle size and adhesive force of the removal object. Simultaneous oscillation of multiple frequencies or automatic switching of multiple frequencies may be performed. An ultrasonic output of 500 W to 20000 W and an ultrasonic intensity of 1 W / cm 2 to 10 W / cm 2 can be appropriately selected.

リンス後の凸版302の乾燥はチャンバ002の内部に熱風を送り込み乾燥させる熱風乾燥や、IPAやフッ素系溶剤などの速乾性溶剤に置換して乾燥させる方法を用いることができるが、凸版302上のリンス液を液切りして乾燥させることが望ましい。版乾燥機010がエアナイフノズルもしくは吸引ノズルで構成され、版乾燥機010の下を凸版302が通過することで液切りと乾燥ができる。エアナイフノズルと吸引ノズルを組み合わせて、液切りと飛沫吸引を同時に行ってもよい。   Drying of the relief printing plate 302 after rinsing can be performed by hot air drying in which hot air is sent into the chamber 002 and drying, or by replacing with a fast drying solvent such as IPA or a fluorine-based solvent, and drying. It is desirable to drain the rinse solution and dry it. The plate dryer 010 is composed of an air knife nozzle or a suction nozzle, and the relief plate 302 passes under the plate dryer 010, so that liquid removal and drying can be performed. The air knife nozzle and the suction nozzle may be combined to perform liquid draining and droplet suction simultaneously.

洗浄液は、炭化水素系、芳香族系、石油系、アルコール系、ケトン系、エーテル系、塩素系溶剤、フッ素系溶剤などの有機溶剤や、中性洗剤、アルカリ性洗剤、酸性洗剤、純水などの水系洗浄液を用いることができる。水系洗浄液は窒素や酸素、オゾンのマイクロバブルやナノバブルを含有してもよく、オゾンが溶解した水を用いてもよい。金属フィラーや金属ナノ粒子を除去する場合には除去する金属を腐蝕するエッチャントを用いることもできる。   Cleaning fluids include hydrocarbons, aromatics, petroleum-based, alcohol-based, ketone-based, ether-based, chlorine-based solvents, fluorine-based solvents, neutral detergents, alkaline detergents, acidic detergents, pure water, etc. An aqueous cleaning solution can be used. The aqueous cleaning solution may contain nitrogen, oxygen, ozone microbubbles or nanobubbles, or water in which ozone is dissolved. In the case of removing the metal filler or metal nanoparticles, an etchant that corrodes the metal to be removed can also be used.

リンス液は炭化水素系、芳香族系、石油系、アルコール系、ケトン系、エーテル系、塩素系溶剤、フッ素系溶剤などの有機溶剤や純水などを用いることができる。純水は窒素や
酸素、オゾンのマイクロバブルやナノバブルを含有してもよく、オゾンが溶解した水を用いてもよい。
As the rinsing liquid, an organic solvent such as hydrocarbon, aromatic, petroleum, alcohol, ketone, ether, chlorine, fluorine, or pure water can be used. Pure water may contain nitrogen, oxygen, ozone microbubbles or nanobubbles, or water in which ozone is dissolved.

洗浄液とリンス液は新液供給、循環、オーバーフローを組み合わせて、供給と排出をすることができる。洗浄性が好適でかつ廃液量を最小にするためには、1次洗浄は循環、2次洗浄は新液供給し循環系のタンクに入れ、リンスは新液を供給しオーバーフローなどの組み合わせを行うことができる。洗浄とリンスはそれぞれ、1回でも複数回でもよい。   Cleaning liquid and rinsing liquid can be supplied and discharged by combining new liquid supply, circulation, and overflow. In order to achieve good cleaning performance and minimize the amount of waste liquid, the primary cleaning is circulated, the secondary cleaning is supplied with a new liquid and put into a tank of the circulation system, and the rinse is supplied with a new liquid and combined with overflow. be able to. Each of the washing and rinsing may be performed once or a plurality of times.

洗浄機000は給液系や廃液系、循環系の配管と接続されてよく、洗浄液タンクやリンス液タンク、循環液タンク、圧送ポンプ、吸引ポンプ、ミストセパレータなどと接続することができる。   The cleaning machine 000 may be connected to a liquid supply system, a waste liquid system, and a circulation system pipe, and can be connected to a cleaning liquid tank, a rinse liquid tank, a circulating liquid tank, a pressure pump, a suction pump, a mist separator, and the like.

本発明の一実施の形態における転写版300について説明する。転写版300の最表面はPDMSを主体とするシリコーンゴムやフッ素ゴムを用いることができる。これらは低表面エネルギーを特徴とする材料であり、インクなどの液体が濡れ広がりにくい。エラストマーの表面はUVやオゾン、アッシングなどで表面改質を適切強度で行ってもよいが、過剰に表面改質を行うと、転写性が悪化する。また、エラストマーは複数の層で構成されても良いが、インクの良好な転写性のために最表層はシリコーンゴムやフッ素ゴムである必要がある。   A transfer plate 300 according to an embodiment of the present invention will be described. Silicone rubber or fluorine rubber mainly composed of PDMS can be used for the outermost surface of the transfer plate 300. These are materials characterized by low surface energy, and liquids such as ink are difficult to spread. The surface of the elastomer may be surface-modified with UV, ozone, ashing or the like with an appropriate strength. However, if the surface is excessively modified, the transferability deteriorates. Further, the elastomer may be composed of a plurality of layers, but the outermost layer needs to be silicone rubber or fluororubber for good transferability of the ink.

転写版300はシリコンウェハーや石英ガラス、フォトレジストパターン、エレクトロフォーミングなどで作製したモールドから平滑面を模る方法や、ナイフコートやロールコート、スピンコート、バーコート、リップコートなどで形成する方法が使用できるがこれらの方法に限定されない。   The transfer plate 300 includes a method of imitating a smooth surface from a mold made of silicon wafer, quartz glass, photoresist pattern, electroforming, or a method of forming by knife coating, roll coating, spin coating, bar coating, lip coating, or the like. Although it can be used, it is not limited to these methods.

本発明の一実施の形態における凸版302はシリコンウェハーや石英ガラス、無アルカリガラス、青板ガラス、SUSや銅、ニッケルなどの金属や樹脂により構成される。凸版302の表面はクロムなどの金属をメッキしてもよく、シリカやダイヤモンドライクカーボンなどの気相製膜をしても良い。凸版302の溝部の形成は、モールディングやエレクトロフォーミング、フォトリソによるウェットエッチング/ドライエッチング、サンドブラスト、レーザー描画などで形成することができる。   The relief plate 302 in one embodiment of the present invention is made of a silicon wafer, quartz glass, non-alkali glass, blue plate glass, metal such as SUS, copper, nickel, or resin. The surface of the relief plate 302 may be plated with a metal such as chromium, or may be formed by vapor deposition such as silica or diamond-like carbon. The grooves of the relief 302 can be formed by molding, electroforming, wet / dry etching using photolithography, sand blasting, laser drawing, or the like.

基材ステージ121は、X方向、Y方向、θ方向に移動可能なアクチュエーターを備え、基材ステージ121上に取り付けられた被印刷基材301の位置を転写版300に対して調整することができる。なおθ方向とは水平回転動作を意味している。   The substrate stage 121 includes an actuator movable in the X direction, the Y direction, and the θ direction, and can adjust the position of the substrate to be printed 301 attached on the substrate stage 121 with respect to the transfer plate 300. . The θ direction means a horizontal rotation operation.

塗工機130は、例えば、スプレーコーティング、グラビアコーティング、リバースグラビアコーティング、ロールコーティング、フレキソプリンティング、インクジェットプリンティング、スロットダイコーティング、キャップコーティング、バーコーティングなどを用いることができるが、本発明はこれらに限定されるわけでは無い。   The coating machine 130 can use, for example, spray coating, gravure coating, reverse gravure coating, roll coating, flexographic printing, inkjet printing, slot die coating, cap coating, bar coating, etc., but the present invention is not limited to these. It is not done.

被印刷基材301はガラスもしくはプラスチックフィルム状である。プラスチックフィルムの樹脂材料として例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、シクロオレフィンポリマー、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂などの材料を用いることができ、これらの樹脂を組み合わせたポリマーアロイや、1種または2種以上の上記樹脂材料を組み合わせて積層した多層構造の積層プラスチックフィルムとして構成されることもある。   The substrate to be printed 301 is in the form of glass or plastic film. Examples of resin materials for plastic films include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherketone, polyphenylene sulfide, polyarylate, polyimide, polycarbonate, and cellulose triacetate. , Cycloolefin polymer, polyolefin, polyvinyl chloride, liquid crystal polymer, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, silicone resin, and the like can be used. It may be configured as a laminated plastic film having a multilayer structure in which two or more kinds of the resin materials are combined and laminated.

本発明の一実施の形態におけるインクには導電インクや絶縁インク、半導体インク、光学インクなどを用いることができる。   As the ink in one embodiment of the present invention, conductive ink, insulating ink, semiconductor ink, optical ink, or the like can be used.

導電インクに金属ナノ粒子を用いることができる。金属ナノ粒子は、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マンガンの金属からなるナノ粒子、または、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マンガン、モリブデンの金属から選択される2種類以上の金属からなる合金のナノ粒子や、酸化銀などの金属酸化物や有機銀などの有機金属化合物も用いることができる。用いる金属の平均粒径はインクへの分散性の点から50nm以下の平均粒径が好ましく、粒子の安定した製造の点から10から30nmの平均粒径が好ましいが、これに限定しない。PEDOTやPANIなどの導電性高分子の導電インクを用いることもできる。   Metal nanoparticles can be used for the conductive ink. Metal nanoparticles are nanoparticles made of gold, silver, copper, platinum, palladium, nickel, cobalt, iron, aluminum, manganese metals, or gold, silver, copper, platinum, palladium, nickel, cobalt, iron, aluminum Further, nanoparticles of an alloy made of two or more metals selected from metals such as manganese and molybdenum, metal oxides such as silver oxide, and organometallic compounds such as organic silver can also be used. The average particle diameter of the metal to be used is preferably 50 nm or less from the viewpoint of dispersibility in the ink, and preferably from 10 to 30 nm from the viewpoint of stable production of the particles, but is not limited thereto. A conductive ink of a conductive polymer such as PEDOT or PANI can also be used.

エレクトロニクス用途の電気回路を印刷法で形成する場合には、前記のような金属ナノ粒子を用いることが多い。数μmから数100μmの液滴を基板に打ち当てるスプレー洗浄や、ミクロンオーダーの構造体で基板を擦るブラシ洗浄やスポンジ洗浄と比較して、本発明の洗浄方法である超音波洗浄は、ナノ粒子などの微細な粒子の除去に適している。   When forming an electric circuit for electronics use by a printing method, the metal nanoparticles as described above are often used. Compared with spray cleaning, in which droplets of several μm to several hundred μm are applied to the substrate, or brush cleaning or sponge cleaning in which the substrate is rubbed with a micron-order structure, ultrasonic cleaning, which is the cleaning method of the present invention, is Suitable for removing fine particles such as

絶縁インクはポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリ弗化ビニリデン、シアノエチルプルラン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、フッ素樹脂、シリコーン樹脂やこれらの樹脂のポリマーアロイや共重合体を用いることができる。また、ゲート絶縁膜と層間絶縁膜は有機無機のフィラーなどを含むコンポジット材料で構成されても良い。   Insulating ink is polyimide, polyamide, polyester, polyvinylphenol, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyurethane, polysulfone, polyvinylidene fluoride, cyanoethyl pullulan, epoxy resin, phenol resin, benzocyclobutene resin, acrylic resin, polystyrene, polycarbonate, cyclic Polyolefin, fluororesin, silicone resin, and polymer alloys and copolymers of these resins can be used. Further, the gate insulating film and the interlayer insulating film may be made of a composite material including an organic / inorganic filler.

半導体インクとしてはπ共役ポリマーが用いられ、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアリルアミン類、フルオレン類、ポリカルバゾール類、ポリインドール類、ポリ(P−フェニレンビニレン)類などを用いることができる。また、有機溶媒への溶解性を有する低分子物質、例えば、ペンタセンなどの多環芳香族の誘導体、チオフェン系オリゴマー、フタロシアニン誘導体、ペリレン誘導体、テトラチアフルバレン誘導体、テトラシアノキノジメタン誘導体などを用いることができる。フラーレンやカーボンナノチューブ、グラフェンからなる炭素半導体を用いることができる。無機系半導体インクとしてシリコンナノ粒子やIGZO前駆体を用いることができる。   As the semiconductor ink, a π-conjugated polymer is used. For example, polypyrroles, polythiophenes, polyanilines, polyallylamines, fluorenes, polycarbazoles, polyindoles, poly (P-phenylene vinylene) s, etc. may be used. it can. In addition, low molecular weight substances having solubility in organic solvents, for example, polycyclic aromatic derivatives such as pentacene, thiophene oligomers, phthalocyanine derivatives, perylene derivatives, tetrathiafulvalene derivatives, tetracyanoquinodimethane derivatives, and the like are used. be able to. A carbon semiconductor made of fullerene, carbon nanotube, or graphene can be used. Silicon inorganic particles or IGZO precursors can be used as the inorganic semiconductor ink.

光学インクはカラーフィルタなどに用いる、赤色、緑色、青色インクや遮光インク、有機ELインク、無機ELインクを用いることができる。   As the optical ink, it is possible to use red, green, blue ink, light-shielding ink, organic EL ink, and inorganic EL ink used for color filters.

本発明の一実施の形態の印刷機による印刷方法は、反転オフセット印刷方法を行う印刷工程と、反転オフセット印刷方法に用いられた凸版を印刷前の状態に戻す初期化工程とを含む。   A printing method by a printing machine according to an embodiment of the present invention includes a printing process for performing a reverse offset printing method and an initialization process for returning a relief plate used in the reverse offset printing method to a state before printing.

以下に、印刷工程を、印刷工程1〜4の順に説明する。   Below, a printing process is demonstrated in order of the printing processes 1-4.

<印刷工程1>
塗工機130で転写版300上にインク膜を形成する。
<Printing process 1>
An ink film is formed on the transfer plate 300 by the coating machine 130.

<印刷工程2>
インク膜の溶媒を揮発させて乾燥インク膜を作製する。
<Printing process 2>
The solvent of the ink film is volatilized to produce a dry ink film.

<印刷工程3>
乾燥インク膜を凸版302に押し当てて転写版300上の非画像部の乾燥インク膜を凸版302の凸部に転写する。
<Printing process 3>
The dry ink film is pressed against the relief plate 302 to transfer the non-image portion dry ink film on the transfer plate 300 to the relief portion of the relief plate 302.

<印刷工程4>
転写版300と被印刷基材301とを接触させて画像部の乾燥インク膜を被印刷基材301へ転写する。
<Printing process 4>
The transfer plate 300 and the substrate to be printed 301 are brought into contact with each other to transfer the dry ink film of the image portion to the substrate to be printed 301.

以下に、初期化工程を、初期化工程1〜3の順に説明する。   Below, the initialization process is demonstrated in order of the initialization processes 1-3.

<初期化工程1>
版ステージ120上に洗浄機000を移動した後に、洗浄機000を凸版302上に覆い被せる。超音波を発振させ、洗浄液を注水して凸版302の洗浄を行う。洗浄液を循環させながら洗浄した後に、洗浄液の排水を行う。
<Initialization step 1>
After the cleaning machine 000 is moved onto the plate stage 120, the cleaning machine 000 is covered on the relief plate 302. The relief plate 302 is cleaned by oscillating ultrasonic waves and pouring a cleaning solution. After cleaning with circulating cleaning liquid, drain the cleaning liquid.

<初期化工程2>
超音波を発振させたまま、リンス液を注水して凸版302のリンスを行う。リンス液を循環させながらリンスした後に、リンス液の排水を行う。排水後、洗浄機000を移動する。洗浄機000からの液だれがある場合には、液ダレ受けを洗浄機000の下に移動させてから、洗浄機000と液ダレ受けを移動させる。
<Initialization step 2>
With the ultrasonic wave oscillated, the rinsing liquid is poured to rinse the relief plate 302. After rinsing while circulating the rinse liquid, the rinse liquid is drained. After draining, the washing machine 000 is moved. When there is liquid dripping from the washing machine 000, the liquid dripping receptacle is moved below the washing machine 000, and then the washing machine 000 and the liquid dripping receptacle are moved.

<初期化工程3>
エアナイフノズルと吸引ノズルで構成される版乾燥機010を移動させ、エアナイフで凸版302上の残留リンス液の液切りと乾燥を行い、吸引ノズルで飛沫の除去を行う。
<Initialization step 3>
The plate dryer 010 composed of an air knife nozzle and a suction nozzle is moved, the residual rinsing liquid on the relief plate 302 is drained and dried with an air knife, and splashes are removed with a suction nozzle.

初期化工程は印刷工程と並行して進めることができるために、タクトを犠牲にすることなく清浄な凸版で連続的に印刷物を製造することができる。   Since the initialization process can proceed in parallel with the printing process, printed matter can be continuously produced with a clean letterpress without sacrificing tact.

以下、具体的な実施例によって本発明を詳細に説明するが、これらの実施例は説明を目的としたもので、本発明はこれに限定されるものでは無い。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of specific examples. However, these examples are for the purpose of explanation, and the present invention is not limited thereto.

印刷パターンとして、6インチ、電気泳動表示素子用の薄膜トランジスタ(TFT)アレイ、2×2面付け、各層の周囲にアライメントマークを配置したものを使用した。本実施例では基材上にゲート電極とキャパシタ、バスラインで構成されるゲート層が形成され、ゲート層上に絶縁膜が形成された被印刷基材上にソース・ドレイン電極とバスラインで構成されるソース・ドレイン層をパターニングする。   As a printing pattern, a 6-inch thin film transistor (TFT) array for an electrophoretic display element, 2 × 2 side-by-side, and an alignment mark arranged around each layer were used. In this embodiment, a gate layer composed of a gate electrode, a capacitor, and a bus line is formed on a base material, and a source / drain electrode and a bus line are composed on a substrate to be printed on which an insulating film is formed on the gate layer. The source / drain layer to be formed is patterned.

転写版として約120μm厚のPET基材に500μm厚のシリコーンゴムを積層したものを用いた。インクとしては銀ナノ粒子分散液を用いた。また、パターンの凸版としては、350×350mm上に、5インチTFTアレイパターンを2×2面配置した硝子製凸版を使用した。更に、被印刷基材としてフィルム厚125μmの光透過性PEN基材を使用した。上記基材を使用して下記(1)〜(4)の手順に従い、被印刷基材上に印刷パターンを形成した。   As a transfer plate, a PET substrate having a thickness of about 120 μm and a 500 μm-thick silicone rubber laminated thereon was used. As the ink, a silver nanoparticle dispersion was used. Further, as the relief of the pattern, a relief made of glass in which a 2 × 2 surface of a 5-inch TFT array pattern was arranged on 350 × 350 mm was used. Further, a light-transmitting PEN substrate having a film thickness of 125 μm was used as a substrate to be printed. Using the substrate, a printing pattern was formed on the substrate to be printed according to the following procedures (1) to (4).

(1)転写版上に300mm幅のヘッドを用いたダイコーターにより、塗工長さ430mmでインクを塗工した。   (1) The ink was applied on the transfer plate with a coating length of 430 mm by a die coater using a 300 mm wide head.

(2)インク塗工膜を乾燥させた後、凸版を設置した凸版支持機構まで搬送を行った。   (2) After drying the ink coating film, the film was transported to a relief support mechanism on which the relief plate was installed.

(3)凸版にインク塗工膜を接触させ、非画線部を凸版に転写した。   (3) The ink coating film was brought into contact with the relief plate, and the non-image area was transferred to the relief plate.

(4)転写版を基材に接触させて、転写版上に残ったインク膜の画線部を転写した。   (4) The transfer plate was brought into contact with the substrate to transfer the image line portion of the ink film remaining on the transfer plate.

印刷パターンを形成した後に、版ステージ上に洗浄機を移動して洗浄機を凸版上に覆い被せる。超音波を発振させ、洗浄液を注水して凸版の洗浄を行った。洗浄液を循環させながら洗浄した後に、洗浄液の排水を行った。超音波を発振させたまま、リンス液を注水して凸版のリンスを行った。洗浄機を移動させた後に、エアナイフノズルと吸引ノズルで構成される版乾燥機で凸版の乾燥を行った。   After the printing pattern is formed, the cleaning machine is moved onto the plate stage to cover the cleaning machine on the relief plate. An ultrasonic wave was oscillated, and the relief liquid was poured to wash the relief plate. After washing while circulating the washing liquid, the washing liquid was drained. With the ultrasonic wave oscillated, the rinse solution was poured to rinse the relief printing plate. After moving the washing machine, the relief printing plate was dried with a plate drier comprising an air knife nozzle and a suction nozzle.

洗浄機のチャンバ内寸は450mm(W)×320mm(D)×300mm(H)のものを用いた。チャンバ内に隔壁がない場合の容量は36Lの洗浄液が必要である。一方、本実施例では洗浄室の最狭部高さ0.3mm、傾斜1.5°の隔壁を設けたために、1Lの少量の洗浄液で洗浄できて注水排水時間も短縮できた。隔壁に傾斜を設けたため、注水時の気泡の除去と排水時に隔壁に残る液滴の除去を効率的に行えた。また、洗浄中に超音波振動子を搖動させたことで、定在波のあたりムラのない良好な洗浄が行えた。   The chamber size of the cleaning machine was 450 mm (W) × 320 mm (D) × 300 mm (H). When there is no partition in the chamber, 36 L of cleaning liquid is required. On the other hand, in this example, since the partition with a height of the narrowest part of the cleaning chamber of 0.3 mm and an inclination of 1.5 ° was provided, it was possible to clean with a small amount of 1 L of cleaning liquid and to shorten the time of water injection and drainage. Since the partition wall is inclined, the removal of bubbles during water injection and the removal of droplets remaining on the partition wall during drainage can be performed efficiently. In addition, since the ultrasonic vibrator was swung during cleaning, good cleaning without unevenness around the standing wave could be performed.

印刷パターンが形成された被印刷基材を加熱装置でアニールし、TFTアレイのソース・ドレイン層を形成した。本発明の印刷方法を用いることで、面内のゲート層とソース・ドレイン層のアライメントマークの位置精度を±2μmで制御することができ、高詳細で位置精度の良好なTFTアレイが得られた。   The substrate to be printed on which the printing pattern was formed was annealed with a heating device to form the source / drain layers of the TFT array. By using the printing method of the present invention, the positional accuracy of the alignment marks of the in-plane gate layer and the source / drain layer can be controlled within ± 2 μm, and a TFT array with high details and good positional accuracy was obtained. .

また、本件の実施例は機上で版洗浄を行ったため、凸版を取り外して洗浄する機側洗浄と比較して、下記の(1)〜(4)のメリットが得られた。   Moreover, since the Example of this example performed plate washing on the machine, the following merits (1) to (4) were obtained as compared with machine-side washing in which the relief plate was removed and washed.

(1)印刷後すぐに洗浄するので洗浄しやすい。   (1) Since it is washed immediately after printing, it is easy to wash.

(2)毎回同じ凸版を用いるので版のバラつきがなく、ライン/スペースの寸法精度が良い。   (2) Since the same relief printing plate is used every time, there is no plate variation and the line / space dimensional accuracy is good.

(3)1枚の凸版で印刷できるので製版コストが低い。   (3) Since printing can be performed with one letterpress, the plate making cost is low.

(4)凸版をステージから取り外さないため、印刷精度(長寸法精度)が良い。   (4) Since the relief printing plate is not removed from the stage, the printing accuracy (long dimension accuracy) is good.

本発明の印刷機は、液晶表示素子のカラーフィルタやTFTアレイ、有機EL、電子ペーパーなどの画像表示体や、メモリ、RFID、ロジック回路、電力伝送シート、タッチパネル、電磁波シールド部材、光もしくは熱、応力、磁気などの物理センサ、生物センサ、化学センサの製造に利用される。特に、耐衝撃性に優れ、軽量で曲面加工が可能なフレキシブル電気装置の製造に利用される。   The printer of the present invention is a liquid crystal display element color filter, TFT array, organic EL, electronic paper or other image display body, memory, RFID, logic circuit, power transmission sheet, touch panel, electromagnetic shielding member, light or heat, It is used to manufacture physical sensors such as stress and magnetism, biological sensors, and chemical sensors. In particular, it is used for the manufacture of flexible electrical devices that are excellent in impact resistance, lightweight and capable of curved surface processing.

000…洗浄機
001…超音波振動子
002…チャンバ
003…隔壁
004…第2のチャンバ
009…超音波伝達部
010…版乾燥機
011…洗浄室
110…架台
111…軌道
120…版ステージ
121…基材ステージ
130…塗工機
140…転写シリンダー
201…粘着ロール
202…送風機
203…版アライメントカメラ
204…基材アライメントカメラ
300…転写版
301…被印刷基材
302…凸版
000 ... washing machine 001 ... ultrasonic vibrator 002 ... chamber 003 ... partition wall 004 ... second chamber 009 ... ultrasonic transmission part 010 ... plate dryer 011 ... washing chamber 110 ... base 111 ... orbit 120 ... plate stage 121 ... base Material stage 130 ... coating machine 140 ... transfer cylinder 201 ... adhesive roll 202 ... blower 203 ... plate alignment camera 204 ... substrate alignment camera 300 ... transfer plate 301 ... substrate to be printed 302 ... letterpress

Claims (6)

最表面がシリコーンゴムもしくはフッ素ゴムで構成される転写版と、転写版が保持される転写シリンダーと、転写版に対向するように設置された塗工機と、画線部に相当する溝構造部と非画像部に相当する凸部を有する凸版と、凸版が保持される版ステージと、被印刷基材を保持する基材ステージと、凸版上に覆い被さるように設置できる洗浄機とを備え、
洗浄機は、凸版に対向する超音波振動子と、超音波振動子を保持するチャンバとを備えることを特徴とする印刷機。
A transfer plate composed of silicone rubber or fluoro rubber on the outermost surface, a transfer cylinder for holding the transfer plate, a coating machine installed so as to face the transfer plate, and a groove structure portion corresponding to the image line portion And a relief plate having a projection corresponding to a non-image portion, a plate stage on which the relief plate is held, a substrate stage holding a substrate to be printed, and a washing machine that can be installed so as to cover the relief plate,
The cleaning machine includes an ultrasonic vibrator that faces the relief plate and a chamber that holds the ultrasonic vibrator.
前記チャンバは、凸版と超音波振動子間の隔壁を備えていることを特徴とする請求項1記載の印刷機。   The printing machine according to claim 1, wherein the chamber includes a partition wall between the relief plate and the ultrasonic transducer. 前記隔壁は、傾斜角15°以下の傾斜が設けられていることを特徴とする請求項2記載の印刷機。   The printing press according to claim 2, wherein the partition wall is provided with an inclination of an inclination angle of 15 ° or less. 超音波振動子が搖動もしくは回転することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の印刷機。   The printing press according to any one of claims 1 to 3, wherein the ultrasonic vibrator is oscillated or rotated. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の印刷機でなされる印刷方法であって、
塗工機で転写版上にインク膜を形成する第1工程と、インク膜の溶媒を揮発させて乾燥インク膜を作製する第2工程と、乾燥インク膜を凸版に押し当てて転写版上の非画像部の乾燥インク膜を凸版の凸部に転写する第3工程と、転写版と被印刷基材とを接触させて画像部の乾燥インク膜を被印刷基材へ転写する第4工程と、を順次行う印刷工程と、
第3工程の後に、凸版の上に洗浄機をかぶせて超音波洗浄を行う工程と、リンスを行う工程と、乾燥を行う工程と、を順次行う初期化工程とを含み、
印刷工程では初期化工程を経た凸版を用いて印刷物を製造することを特徴とする印刷方法。
A printing method performed by the printing machine according to any one of claims 1 to 4,
A first step of forming an ink film on the transfer plate with a coating machine; a second step of producing a dry ink film by volatilizing the solvent of the ink film; and pressing the dry ink film against the relief plate to A third step of transferring the dry ink film of the non-image portion to the convex portion of the relief plate, and a fourth step of transferring the dry ink film of the image portion to the printing substrate by bringing the transfer plate and the printing substrate into contact with each other. A printing process for sequentially performing
After the third step, an initializing step of sequentially performing a step of performing ultrasonic cleaning by covering the letterpress with a washing machine, a step of rinsing, and a step of drying,
In the printing process, a printed material is manufactured using a relief printing plate that has undergone an initialization process.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の印刷機で製造される印刷物であって、
塗工機で転写版上にインク膜を形成する第1工程と、インク膜の溶媒を揮発させて乾燥インク膜を作製する第2工程と、乾燥インク膜を凸版に押し当てて転写版上の非画像部の乾燥インク膜を凸版の凸部に転写する第3工程と、転写版と被印刷基材とを接触させて画像部の乾燥インク膜を被印刷基材へ転写する第4工程と、を順次行う印刷工程にて、
第3工程の後に、凸版の上に洗浄機をかぶせて超音波洗浄を行う工程と、リンスを行う工程と、乾燥を行う工程と、を順次行う初期化工程を経た凸版を用いて製造されたことを特徴とする印刷物。
It is a printed matter manufactured with the printing machine of any one of Claims 1-4,
A first step of forming an ink film on the transfer plate with a coating machine; a second step of producing a dry ink film by volatilizing the solvent of the ink film; and pressing the dry ink film against the relief plate to A third step of transferring the dry ink film of the non-image portion to the convex portion of the relief plate, and a fourth step of transferring the dry ink film of the image portion to the printing substrate by bringing the transfer plate and the printing substrate into contact with each other. In the printing process,
Produced using a relief printing plate that has undergone an initialization step that sequentially performs a step of performing ultrasonic cleaning by covering the relief plate with a washing machine, a rinsing step, and a drying step after the third step. Printed matter characterized by that.
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