JP2015018117A - Driving method of reflection type display device - Google Patents

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多 浩 之 本
Hiroyuki Honda
多 浩 之 本
梅 谷 雅 規
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谷 雅 規 梅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a driving method of a reflection type display device which suppresses a voltage load to a TFT and allows a longer life TFT.SOLUTION: A driving method of a reflection type display device is provided. The reflection type display device comprises a plurality of pixel electrodes. Each of the pixel electrodes is electrically connected to a TFT having a gate electrode, a source electrode and a drain electrode, via the drain electrode. The plurality of gate electrodes are connected by row or by column by a plurality of scan lines, and the plurality of source electrodes are connected by row or by column by a plurality of signal lines. The driving method includes: an image writing step; and a drive stopping step of, after the completion of the image writing step, switching all of the plurality of gate electrodes to a GND potential state, and also switching all of the plurality of source electrodes to the GND potential state.

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置の駆動方法に関する。   The present invention relates to a driving method of a reflective display device applied to electronic paper or the like.

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体(通常は電気泳動する粒子)の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、2枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。   Recently, as a reflective display device, an electrophoretic display device using an electrophoretic material as an electroresponsive material contained in a display medium has been widely used. An electrophoretic display device is a device that displays information by using electrophoretic migration, that is, particle movement, of an electrophoretic body (usually electrophoretic particles) in air or in a solvent. In general, an electrophoretic state is controlled by applying an electric field between two substrates, thereby realizing a desired display. As the electrophoretic body, charged powder as well as charged particles can be used. In that case, the charged powder electrophoreses in the gas.

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性(目にやさしい)、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。   In recent years, the electrophoretic display device has attracted attention especially as an electronic paper. When applied as an electronic paper, it is possible to enjoy advantages such as visibility at the printed matter level (easy for eyes), ease of information rewriting, low power consumption, and light weight.

電気泳動装置として、画素毎に画素電極を配置し、当該画素電極にTFT(Thin Film Transistor)電極構造を配置して、アクティブマトリックス形式で画素電極に電圧を印加する方式が採用されている。例えば特許文献1(特開2009−222901号公報)及び特許文献2(特開2010−2932号公報)には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の駆動方法の従来例が開示されている。   As an electrophoretic device, a method is adopted in which a pixel electrode is disposed for each pixel, a TFT (Thin Film Transistor) electrode structure is disposed on the pixel electrode, and a voltage is applied to the pixel electrode in an active matrix format. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-222901) and Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-2932) disclose conventional examples of driving methods of such types of electrophoretic display devices.

特開2009−222901号公報JP 2009-222901 A 特開2010−2932号公報JP 2010-2932 A

ところで、画素電極に接続されたTFTを長寿命化させるためには、TFTへの電圧負荷を抑制する必要がある。   Incidentally, in order to extend the life of the TFT connected to the pixel electrode, it is necessary to suppress the voltage load on the TFT.

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、TFTへの電圧負荷を抑制し、TFTを長寿命化させる反射型表示装置の駆動方法を提供することにある。   The present invention has been made based on such circumstances, and an object of the present invention is to provide a driving method of a reflective display device that suppresses voltage load on the TFT and extends the lifetime of the TFT. .

本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通電極と、前記表示媒体が配置された表示媒体層と、マトリクス状に配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記画素電極の各々は、ゲート電極とソース電極とドレイン電極とを有するTFTと、当該ドレイン電極を介して電気的に接続されており、前記複数のゲート電極は、マトリクス状に配列されており、当該複数のゲート電極の配列の行又は列方向に延びる複数の平行な走査線によって行又は列毎に接続され、当該行又は列毎に前記TFTのON状態に対応するON電位、前記TFTのOFF状態に対応するOFF電位、またはGND電位のいずれかの状態に選択的に切り替えられるようになっており、前記複数のソース電極は、マトリクス状に配列されており、当該複数のソース電極の配列の列又は行方向に延びる複数の平行な信号線によって列又は行毎に接続され、当該列又は行毎にGND電位、相対的にGND電位より低い電位である第1電位、相対的にGND電位より高い電位である第2電位のいずれかの状態に選択的に切り替えられるようになっており、前記ゲート電極がON電位の状態であって前記ソース電極が第1電位又は第2電位の状態の場合に、前記表示媒体層内の前記表示媒体に電圧を印加するようになっていることを特徴とする反射型表示装置を駆動する方法であって、各走査線をON電位の状態としている間に各信号線を第1電位または第2電位とすることで、各画素電極毎に前記セル内の表示媒体へ画像情報に応じた電圧を印加する画像書き込み工程と、前記画像書き込み工程の終了後に、前記複数の画素電極の複数のゲート電極の全てをGND電位の状態に切り替えると共に、前記複数の画素電極の複数のソース電極の全てをもGND電位の状態に切り替える駆動休止工程と、を備えたことを特徴とする方法である。   In the present invention, a display medium including at least one kind of electrically responsive material is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each has electrodes formed thereon, A reflective display device that performs desired display when a predetermined electric field is applied between two substrates, the common electrode covering at least a display region between one substrate and the other substrate, A display medium layer in which a display medium is arranged and a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix are provided in this order when viewed from the one substrate side toward the other substrate side. Each of the pixel electrodes is electrically connected to a TFT having a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode via the drain electrode, and the plurality of gate electrodes are arranged in a matrix. The multiple Connected to each row or column by a plurality of parallel scanning lines extending in the row or column direction of the gate electrode array, and the ON potential corresponding to the ON state of the TFT and the OFF state of the TFT for each row or column. The state can be selectively switched to the corresponding OFF potential or GND potential state, and the plurality of source electrodes are arranged in a matrix, and the plurality of source electrode arrangement columns or Connected to each column or row by a plurality of parallel signal lines extending in the row direction, and a GND potential, a first potential that is relatively lower than the GND potential, and a potential that is relatively higher than the GND potential for each column or row. The gate electrode is in an ON potential state and the source electrode is in a first or second potential state. A method of driving a reflective display device, wherein a voltage is applied to the display medium in the display medium layer, wherein each scanning line is in an ON potential state. By setting each signal line to the first potential or the second potential, an image writing process for applying a voltage corresponding to image information to the display medium in the cell for each pixel electrode, and after the image writing process is completed And a drive suspension step of switching all of the plurality of gate electrodes of the plurality of pixel electrodes to the GND potential state and switching all of the plurality of source electrodes of the plurality of pixel electrodes to the GND potential state. It is the method characterized by this.

好ましくは、前記駆動休止工程において、前記共通電極もGNDに接続される。   Preferably, in the driving suspension step, the common electrode is also connected to GND.

また、好ましくは、当該方法は、前記画像書き込み工程の前に、所定のTFT先行準備時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に切り替えるTFT−ON先行工程と、前記TFT−ON先行工程の後に、所定の第1時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態に切り替え、その後、所定の第2時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態から第2電位または第1電位の状態に切り替える画像消去工程と、を更に備えている。例えば前記TFT先行準備時間は、0.1〜10msecである。   Preferably, the method includes a TFT-ON preceding step of switching all of the plurality of gate electrodes to an ON potential state for a predetermined TFT preceding preparation time before the image writing step, and the TFT-ON After the preceding step, all of the plurality of source electrodes are switched to the first potential or second potential state while maintaining all of the plurality of gate electrodes at the ON potential state for a predetermined first time, and thereafter All of the plurality of source electrodes are changed from the first potential or the second potential state to the second potential or the first potential while maintaining all of the plurality of gate electrodes at the ON potential state for a predetermined second time. And an image erasing step for switching to this state. For example, the TFT advance preparation time is 0.1 to 10 msec.

また、例えば、前記画像消去工程は、前記TFT−ON先行工程と前記画像書き込み工程との間に、2回以上が繰り返される。   In addition, for example, the image erasing process is repeated twice or more between the TFT-ON preceding process and the image writing process.

好ましくは、当該方法は、前記画像消去工程と前記画像書き込み工程との間に、所定の第3時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態とし、その後、所定のTFT−OFF先行時間だけ、前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態に維持したままで前記複数のゲート電極の全てをOFF電位の状態とし、その後、前記複数のゲート電極の全てをOFF電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てがGND電位の状態に切り換えられるTFT−OFF先行工程を更に備えている。例えば、前記TFT−OFF時間は、1〜500msecである。   Preferably, in the method, the plurality of source electrodes are maintained in an ON potential state for a predetermined third time between the image erasing step and the image writing step. Are all set to the first potential or the second potential, and then the plurality of source electrodes are maintained at the first potential or the second potential for the predetermined TFT-OFF preceding time. TFT-OFF preceding process in which all of the plurality of source electrodes are switched to the GND potential state while all of the plurality of gate electrodes are maintained in the OFF potential state after all of the gate electrodes are set to the OFF potential state. Is further provided. For example, the TFT-OFF time is 1 to 500 msec.

本発明によれば、画像書き込み工程後の画像の書き換えに関与しない時間において、全てのゲート電極と全てのソース電極とがGND電位の状態に切り替えられ、同電位とされる。このため、TFTへの電圧負荷が抑制され、TFTの長寿命化を実現し得る。   According to the present invention, all the gate electrodes and all the source electrodes are switched to the GND potential state in the time not involved in the image rewriting after the image writing process, and are set to the same potential. For this reason, the voltage load on the TFT is suppressed, and the life of the TFT can be extended.

図1は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す反射型表示装置の他方の基板上に形成された画素電極を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a pixel electrode formed on the other substrate of the reflective display device shown in FIG. 図3は、図1に示す反射型表示装置の回路構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of the reflective display device shown in FIG. 図4は、本発明の一実施の形態による画像書き換え処理を示すフロー図である。FIG. 4 is a flowchart showing image rewriting processing according to an embodiment of the present invention. 図5は、TFT−ON先行工程、画像消去工程及びTFT−OFF先行工程における走査線に印加される電位及び信号線に印加される電位を示すタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart showing the potential applied to the scanning line and the potential applied to the signal line in the TFT-ON preceding process, the image erasing process, and the TFT-OFF preceding process. 図6は、画像書き込み工程のS回目の走査及び駆動休止工程における走査線に印加される電位及び信号線に印加される電位を示すタイミングチャートである。FIG. 6 is a timing chart showing the potential applied to the scanning line and the potential applied to the signal line in the S-th scanning and driving suspension process of the image writing process.

図1は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極111,161が形成されている対向する2枚の基板間11,16に、少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体13が封入されていて、2枚の基板11,16間に所定の電界が与えられる際に表示媒体13が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板(一方の基板11)は、全光透過率が50%以上、好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上となるような透光性を有している。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. In the reflective display device according to the present embodiment, at least one kind of electricity is provided between two opposing substrates 11 and 16 on which at least one has translucency and electrodes 111 and 161 are respectively formed. A display medium 13 containing a responsive material is sealed, and the display medium 13 displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates 11 and 16. Here, in the specification and claims of the present application, “translucent” means a property of transmitting light. In the present embodiment, the substrate (one substrate 11) arranged on the viewing side has a light-transmitting property such that the total light transmittance is 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more. have.

本実施の形態においては、一方の基板11と他方の基板16との間に、少なくとも表示領域を覆う共通電極111と、表示媒体13が配置された表示媒体層15と、マトリクス状に配列された複数の電極161とが、一方の基板11の側から他方の基板16の側に向かう方向に見て当該順序で設けられている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「表示領域」とは、反射型表示装置において所望の表示に利用される領域、という意味である。   In the present embodiment, a common electrode 111 covering at least the display region, a display medium layer 15 in which the display medium 13 is disposed, and a matrix are arranged between one substrate 11 and the other substrate 16. A plurality of electrodes 161 are provided in this order when viewed from the one substrate 11 side toward the other substrate 16 side. Here, in the specification and claims of the present application, the “display area” means an area used for desired display in the reflective display device.

本実施の形態では、一方の基板11が視認側に配置され、他方の基板16が非視認側に配置される。   In the present embodiment, one substrate 11 is disposed on the viewing side, and the other substrate 16 is disposed on the non-viewing side.

一方の基板11としては、ポリエチレン(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の透光性フィルムや透光性ガラスに、共通電極111として、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等の透光性電極を付したものが、典型的に用いられ得る。本実施の形態の共通電極111は、アクティブマトリクス駆動の共通電極として形成されている。   As one substrate 11, a transparent electrode such as polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), or transparent glass, as the common electrode 111, What attached | subjected translucent electrodes, such as an indium tin oxide (ITO), a zinc oxide (ZnO), and a tin oxide (SnO), can typically be used. The common electrode 111 of this embodiment is formed as a common electrode for active matrix driving.

共通電極111は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、CVD法等によって、少なくとも一方の基板11の表示領域を覆うように形成される。共通電極111は、必ずしもパターンが形成されている必要は無く、基板全面が電極であってもよい。   The common electrode 111 is formed so as to cover at least the display region of the substrate 11 by a coating method, sputtering, vacuum deposition method, CVD method or the like. The common electrode 111 is not necessarily formed with a pattern, and the entire surface of the substrate may be an electrode.

一方の基板11の厚みは、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of one substrate 11 is preferably 10 μm to 1 mm. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

一方の基板11上には、バリア層が設けられてもよい。バリア層の機能は、セル内に水分が浸入することによる表示劣化を防止することである。バリア層は、一方の基板11の表示媒体13が配置される側の面(表示媒体側の面)に配置されてもよいし、当該表示媒体側の面とは反対側の面に設けられてもよい。また、バリア層は、一方の基板11と共通電極111との間に設けられてもよい。本実施の形態では、一方の基板は視認側に配置されるため、バリア層は、透光性である必要がある。バリア層は、無機膜が一方の基板11上に蒸着されることにより得られてもよいし、予めバリア層が形成されたフィルムが一方の基板11上に貼り合わせられることにより得られてもよい。   A barrier layer may be provided on one substrate 11. The function of the barrier layer is to prevent display deterioration due to moisture entering the cells. The barrier layer may be disposed on the surface of one substrate 11 on which the display medium 13 is disposed (the surface on the display medium side), or provided on the surface opposite to the surface on the display medium side. Also good. Further, the barrier layer may be provided between the one substrate 11 and the common electrode 111. In this embodiment, since one substrate is disposed on the viewing side, the barrier layer needs to be light-transmitting. The barrier layer may be obtained by depositing an inorganic film on one substrate 11, or may be obtained by pasting a film on which a barrier layer has been previously formed on one substrate 11. .

また、一方の基板11の表示媒体側の面とは反対側の面に、紫外線カットフィルムまたは紫外線吸収層が設けられ得る。あるいは、一方の基板11自体に紫外線吸収機能を持たせてもよい。   Further, an ultraviolet cut film or an ultraviolet absorption layer may be provided on the surface of one substrate 11 opposite to the display medium side surface. Alternatively, one substrate 11 itself may have an ultraviolet absorbing function.

また、一方の基板11の表示媒体側の面とは反対側の面に、その他の表面コート層として、防眩層(AG層)、傷防止層(HC層)、反射防止層(AR層)などが付加され得る。   In addition, on the surface opposite to the display medium side surface of one of the substrates 11, as other surface coating layers, an antiglare layer (AG layer), a scratch prevention layer (HC layer), an antireflection layer (AR layer) Etc. may be added.

一方の基板11は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。   One substrate 11 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

他方の基板16としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等の表示媒体側の面に金属等の導電性材料によって画素電極161が形成されたものが用いられ得る。画素電極161としては、アクティブマトリクス駆動用のTFT(Thin Film Transistor)に電気的に接続された画素電極が用いられる。   As the other substrate 16, a substrate in which a pixel electrode 161 is formed of a conductive material such as a metal on a display medium side surface such as a resin film, a resin plate, glass, epoxy glass (glass epoxy), or the like can be used. As the pixel electrode 161, a pixel electrode electrically connected to a TFT (Thin Film Transistor) for driving an active matrix is used.

また他方の基板16は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス(ガラエポ)等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板16は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板11と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板11と同様の透光性の部材が使用され得る。   The other substrate 16 may be a translucent base material. Furthermore, it may be an opaque base material that is translucent, but an opaque glass base material, resin film, resin plate, glass, epoxy glass with the other surface different from the electrode surface roughened. (Garaepo) or the like can be used. In the present embodiment, since the other substrate 16 is disposed at a position opposite to the viewing side, there is no necessity of having translucency. However, when the same physical properties as the one substrate 11 such as thermal expansion characteristics are required, a light-transmitting member similar to the one substrate 11 can be used.

他方の基板16の厚みも、一方の基板11の厚みと同様に、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

他方の基板16の厚みも、一方の基板11の厚みと同様に、10μm〜1mmが好適である。10μmよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、1mmよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、50μm〜300μm程度である。   The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

他方の基板16には、更なる機能層が付加され得る。例えば、他方の基板16上に、バリアフィルムが貼付され得る。予め透明無機膜のバリア層が蒸着等で形成された透明フィルムや、金属膜などの透光性のないバリア層が形成されたフィルムが、他方の基板16として採用されても、これと同様の機能を発揮できる。バリアフィルムないしバリア層は、他方の基板16の表示媒体側の面(画素電極161上)に設けられてもよいし、当該表示媒体側の面とは反対側の面に設けられてもよい。   Further functional layers can be added to the other substrate 16. For example, a barrier film can be attached on the other substrate 16. Even if a transparent film in which a barrier layer of a transparent inorganic film is formed in advance by vapor deposition or a film in which a non-transparent barrier layer such as a metal film is formed is used as the other substrate 16, the same as this The function can be demonstrated. The barrier film or barrier layer may be provided on the display medium side surface of the other substrate 16 (on the pixel electrode 161), or may be provided on the surface opposite to the display medium side surface.

また、他方の基板16の表示媒体側の面とは反対側の面に、紫外線カットフィルムまたは紫外線吸収層が設けられ得る。あるいは、他方の基板16自体に紫外線吸収機能を持たせてもよい。   Further, an ultraviolet cut film or an ultraviolet absorption layer may be provided on the surface of the other substrate 16 opposite to the surface on the display medium side. Alternatively, the other substrate 16 itself may have an ultraviolet absorbing function.

他方の基板16も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。   The other substrate 16 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

ここで、本実施の形態の反射型表示装置の表示領域の回路構成について、図2及び図3を参照して説明する。図2は、他方の基板16上に形成された画素電極161を示す平面図であり、図3は、図1に示す反射型表示装置の表示領域の回路構成を示す図である。   Here, the circuit configuration of the display region of the reflective display device of this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a plan view showing the pixel electrode 161 formed on the other substrate 16, and FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of the display area of the reflective display device shown in FIG.

図2に示すように、本実施の形態では、m×n個の画素電極161が、他方の基板16の表示領域を網羅するように、マトリクス状に配置されている。画素電極161の各々は、ゲート電極164とソース電極165とドレイン電極166とを有するTFT163と、当該ドレイン電極166を介して電気的に接続されている。   As shown in FIG. 2, in the present embodiment, m × n pixel electrodes 161 are arranged in a matrix so as to cover the display area of the other substrate 16. Each of the pixel electrodes 161 is electrically connected to the TFT 163 including the gate electrode 164, the source electrode 165, and the drain electrode 166 through the drain electrode 166.

具体的には、本実施の形態では、図3に示すように、ゲート電極164は、マトリクス状に配置されたm×n個の画素電極161に対応して、m×n個がマトリクス状に配列されている。m×n個のゲート電極164は、複数のゲート電極164の配列の行方向(図3の横方向)に延びるm本の平行な走査線であって一方の端部が走査線ドライバ17に接続された走査線Y1ないしYmによって、行毎に接続されている。また、ソース電極165も、マトリクス状に配置されたm×n個の画素電極161に対応して、m×n個がマトリクス状に配列されている。m×n個のソース電極165は、複数のソース電極165の配列の列方向(図3の縦方向)に延びるn本の平行な信号線であって一方の端部が信号線ドライバ18に接続された信号線X1ないしXnによって、列毎に接続されている。共通電極111は、本実施の形態では、駆動装置100のGND(以下「GND」という。)に接続されている。そして、走査線ドライバ17と信号線ドライバ18とは、コントローラ19に接続されている。   Specifically, in the present embodiment, as shown in FIG. 3, the gate electrodes 164 correspond to m × n pixel electrodes 161 arranged in a matrix, and m × n in a matrix. It is arranged. The m × n gate electrodes 164 are m parallel scanning lines extending in the row direction (lateral direction in FIG. 3) of the arrangement of the plurality of gate electrodes 164, and one end portion is connected to the scanning line driver 17. The scanning lines Y1 to Ym are connected for each row. In addition, m × n source electrodes 165 are arranged in a matrix corresponding to m × n pixel electrodes 161 arranged in a matrix. The m × n source electrodes 165 are n parallel signal lines extending in the column direction (vertical direction in FIG. 3) of the array of the plurality of source electrodes 165, and one end thereof is connected to the signal line driver 18. The signal lines X1 to Xn are connected for each column. In the present embodiment, the common electrode 111 is connected to the GND (hereinafter referred to as “GND”) of the driving device 100. The scanning line driver 17 and the signal line driver 18 are connected to the controller 19.

コントローラ19は、不図示の入力部から入力された入力信号に基づいて、走査線ドライバ17及び信号線ドライバ18に制御信号を出力するようになっている。   The controller 19 outputs a control signal to the scanning line driver 17 and the signal line driver 18 based on an input signal input from an input unit (not shown).

走査線ドライバ17は、コントローラ19から入力された制御信号に基づいて、所望のタイミングで、m本の走査線Y1ないしYmに接続されたゲート電極164に対しTFT163のON状態に対応するON電位またはTFT163のOFF状態に対応するOFF電位を印加するようになっている。また、走査線ドライバ17にコントローラ19から制御信号が入力されない場合には、走査線Y1ないしYmに接続されたゲート電極164は、GND電位の状態となるようになっている。   Based on the control signal input from the controller 19, the scanning line driver 17 applies an ON potential corresponding to the ON state of the TFT 163 to the gate electrode 164 connected to the m scanning lines Y 1 to Ym at a desired timing. An OFF potential corresponding to the OFF state of the TFT 163 is applied. When no control signal is input from the controller 19 to the scanning line driver 17, the gate electrode 164 connected to the scanning lines Y1 to Ym is in the GND potential state.

信号線ドライバ18は、コントローラ19から入力された制御信号に基づいて、n本の信号線X1ないしXnに、相対的にGND電位よりも低い第1電位または相対的にGND電位よりも高い第2電位を印加するようになっている。また、信号線ドライバ18にコントローラ19から制御信号が入力されない場合には、信号線X1ないしXnは、GND電位の状態となるようになっている。   Based on the control signal input from the controller 19, the signal line driver 18 applies a second potential that is relatively lower than the GND potential or relatively higher than the GND potential to the n signal lines X <b> 1 to Xn. An electric potential is applied. When no control signal is input from the controller 19 to the signal line driver 18, the signal lines X1 to Xn are set to the GND potential state.

ソース電極165は、当該ソース電極165に対応するゲート電極がON電位の状態の間に当該ソース電極165に接続された信号線に第1電位が印加されると、第1電位の状態となり、当該ソース電極165に対応するゲート電極がON電位状態の間に当該ソース電極165に接続された信号線に第2電位が印加されると、第2電位の状態となるようになっている。また、ソース電極165は、当該ソース電極165に接続されている信号線がGNDに接続されている場合には、GND電位の状態となるようになっている。   When the first potential is applied to the signal line connected to the source electrode 165 while the gate electrode corresponding to the source electrode 165 is in the ON potential state, the source electrode 165 is in the first potential state. When the second potential is applied to the signal line connected to the source electrode 165 while the gate electrode corresponding to the source electrode 165 is in the ON potential state, the second electrode is in the second potential state. Further, the source electrode 165 is in a GND potential state when the signal line connected to the source electrode 165 is connected to GND.

そして、TFT163のゲート電極164がON電位の状態であって当該TFT163のソース電極165が第1電位又は第2電位の状態の場合に、表示媒体層15内の表示媒体13に電圧を印加するようになっている。   When the gate electrode 164 of the TFT 163 is in the ON potential state and the source electrode 165 of the TFT 163 is in the first potential or the second potential state, a voltage is applied to the display medium 13 in the display medium layer 15. It has become.

図1に戻って、本実施の形態の表示媒体層15は、一方の基板11と他方の基板16との間において複数のセルを区画する隔壁12を有している。ここで、「セル」とは、電気応答性材料の沈降や偏在に起因して表示の不良、特にコントラストの低下を防止するべく上下の電極基板11,16間において分割された、電気泳動する電気応答性材料の微小な泳動空間、すなわち移動空間を意味する。なお、当該移動空間は、マイクロカプセル等、他の構造物によって分割されてもよい。また、電気応答性材料の沈降や偏在の虞が低い場合には、上下の電極基板11,16間の空間は、このような構造物によって分割されていなくてもよい。   Returning to FIG. 1, the display medium layer 15 of the present exemplary embodiment includes a partition wall 12 that partitions a plurality of cells between one substrate 11 and the other substrate 16. Here, the “cell” is an electrophoretic electrophoretic divided between the upper and lower electrode substrates 11 and 16 in order to prevent a display defect, particularly a decrease in contrast, due to sedimentation or uneven distribution of the electroresponsive material. It means a minute migration space of a responsive material, that is, a movement space. In addition, the said movement space may be divided | segmented by other structures, such as a microcapsule. In addition, when the risk of sedimentation or uneven distribution of the electrically responsive material is low, the space between the upper and lower electrode substrates 11 and 16 may not be divided by such a structure.

隔壁12は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁12の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板11に貼り付けるという方法も採用され得る。開口率は、70%以上が好ましく、特に90%以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。   The partition wall 12 can be composed of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, or the like. As a method for forming the partition wall 12, a mold transfer method such as embossing can be adopted in addition to the photolithography method. Further, a method of manufacturing a structure having a desired pattern as a partition and sticking the structure to one substrate 11 may be employed. The aperture ratio is preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. The higher the aperture ratio, the wider the displayable area, so that high contrast can be obtained.

隔壁12の単位パターンの形状は、円、格子、六角形、その他の多角形など、基本的に任意である。また、セルのサイズ(ピッチ)は、表示パネルの大きさにもよるが、0.05mm〜1mmピッチ、好ましくは0.1mm〜0.5mmピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点の距離を意味している。   The shape of the unit pattern of the partition wall 12 is basically arbitrary, such as a circle, a lattice, a hexagon, and other polygons. The cell size (pitch) is 0.05 mm to 1 mm, preferably 0.1 mm to 0.5 mm, although it depends on the size of the display panel. Here, the pitch means the distance between the center points of adjacent cells.

隔壁12の高さは、5〜50μm、好ましくは10〜50μmである。5μm以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、50μm以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、10〜50μmの範囲の高さが好適である。   The height of the partition wall 12 is 5 to 50 μm, preferably 10 to 50 μm. If the thickness is 5 μm or less, the amount of ink to be filled is small and sufficient display characteristics, particularly contrast, cannot be obtained. From the viewpoint that good display characteristics can be obtained at a low driving voltage, a height in the range of 10 to 50 μm is preferable.

隔壁12の頂面と、他方の基板16上の画素電極161または他方の基板16上の他の要素または他方の基板16と、の間には、隔壁12の頂面と、他方の基板16上の画素電極161または他方の基板16上の他の要素または他方の基板16と、を接着させるための接着層(不図示)が設けられていてもよい。   Between the top surface of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 on the other substrate 16 or another element on the other substrate 16 or the other substrate 16, the top surface of the partition wall 12 and the other substrate 16 An adhesive layer (not shown) for adhering the pixel electrode 161 or the other element on the other substrate 16 or the other substrate 16 may be provided.

接着層は、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、1μm〜100μmの厚みで形成される。好ましくは、1μm〜50μmの厚みで形成され、特に好ましくは、1μm〜20μmの厚みで形成される。   The adhesive layer is formed of a thermoplastic resin such as a polyester-based thermoplastic adhesive with a thickness of 1 μm to 100 μm by, for example, a transfer method or a printing method. Preferably, it is formed with a thickness of 1 μm to 50 μm, particularly preferably with a thickness of 1 μm to 20 μm.

接着層を形成するための接着剤としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。   As an adhesive for forming the adhesive layer, an adhesive using a thermoplastic material is preferable. It has a property of softening by heating and solidifying when cooled, and plasticity is reversible when repeated cooling and heating. It is a material that is kept in a safe manner.

熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材上の固化している接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁上面のみに確実に接着剤を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体13が接着剤と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁頂面の接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板16に確実に接着される。他方の基板16との接着後の接着剤は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体13が接着剤と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。   When an adhesive made of a thermoplastic material is used as the adhesive layer, the adhesive solidified on the transfer sheet substrate is softened by heating to a temperature exceeding the softening temperature, and only on the upper surface of the partition wall. The adhesive can be reliably thermally transferred. Moreover, since the adhesive after thermal transfer is cooled to room temperature and solidified again, tackiness, that is, stickiness, is eliminated. Further, since there is no tack or stickiness, the display medium 13 filled in the cell does not adhere to the adhesive. Then, the adhesive on the top surface of the partition wall is heated again to a temperature exceeding the softening temperature to be softened, so that it has tackiness, that is, stickiness, so that it is securely bonded to the other substrate 16. Since the adhesive after being bonded to the other substrate 16 is not tacked again at room temperature, i.e., there is no stickiness, the display medium 13 does not adhere to the adhesive, and the display quality is not deteriorated. .

具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。   Specifically, thermoplastic base polymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, polyamide, polyolefin, polyurethane, natural rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene. A resin mainly composed of a thermoplastic elastomer such as a butylene-styrene block copolymer or a styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer, and a tackifier resin or a plasticizer is mainly used.

隔壁12と接着剤との密着性を上げるために、隔壁12に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤221の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。   In order to increase the adhesion between the partition wall 12 and the adhesive, the partition wall 12 may be subjected to surface treatment by ultraviolet irradiation, plasma treatment, or the like, or a primer may be formed. Alternatively, a silane coupling agent may be added to the adhesive 221.

表示媒体13は、少なくとも1種以上の電気応答性材料を含んでいる。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。   The display medium 13 includes at least one kind of electrically responsive material. Examples of the electroresponsive material include a charged particle material and a liquid crystal material, and the charged particle material includes a so-called electrophoretic material in which colored particles such as white, black, and color move in response to an electric field, or two particles. There are materials typified by twist balls that are color-coded and rotated by an electric field, or nanoparticle materials that move by an electric field. On the other hand, the liquid crystal material includes a material for electrically controlling transmission and scattering known as PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal), a material in which a liquid crystal is mixed with a dye, a cholesteric liquid crystal material, and the like.

本実施の形態においては、表示媒体13は、白の電気応答性材料と黒の電気応答性材料を含んでおり、白の電気応答性材料は、負に帯電されており、黒の電気応答性材料は、正に帯電されている。これにより、画素電極161に共通電極111よりも低い電位が印加されると、負に帯電した白の電気応答性材料が共通電極111の側に引き寄せられ、表示媒体13中の正に帯電した黒の電気応答性材料が画素電極161の側に引き寄せられるようになっている。また、画素電極161に共通電極111よりも高い電位が印加されると、負に帯電した白の電気応答性材料が画素電極161の側に引き寄せられ、表示媒体13中の正に帯電した黒の電気応答性材料が共通電極111の側に引き寄せられるようになっている。   In the present embodiment, the display medium 13 includes a white electrical responsive material and a black electrical responsive material, and the white electrical responsive material is negatively charged and has a black electrical responsiveness. The material is positively charged. As a result, when a potential lower than that of the common electrode 111 is applied to the pixel electrode 161, the negatively charged white electroresponsive material is drawn toward the common electrode 111, and the positively charged black in the display medium 13. The electrically responsive material is drawn toward the pixel electrode 161 side. When a higher potential than the common electrode 111 is applied to the pixel electrode 161, the negatively charged white electroresponsive material is drawn toward the pixel electrode 161, and the positively charged black in the display medium 13 is drawn. The electrically responsive material is drawn toward the common electrode 111 side.

次に、このような構成からなる反射型表示装置の駆動方法について、図4乃至図6を参照して説明する。   Next, a driving method of the reflective display device having such a configuration will be described with reference to FIGS.

図4は、本発明の一実施の形態による画像書き換え処理を示すフロー図である。また、図5は、TFT−ON先行工程、画像消去工程及びTFT−OFF先行工程における走査線Y1ないしYmに印加される電位及び信号線X1ないしXnに印加される電位を示すタイミングチャートであり、図6は、画像書き込み工程のS回目の走査及び駆動休止工程における走査線Y1ないしYmに印加される電位及び信号線X1ないしXnに印加される電位を示すタイミングチャートである。本実施の形態においては、共通電極111は、GNDに接続されているが、少なくとも後述するTFT−ON先行工程が開始されてから画像書き込み工程が終了するまでの間は、GNDに接続されていなくてもよい。また、本実施の形態においては、画像書き換え処理が開始される前は、全ての走査線Y1ないしYm及び全ての信号線X1ないしXmは、GNDに接続されている。   FIG. 4 is a flowchart showing image rewriting processing according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a timing chart showing potentials applied to the scanning lines Y1 to Ym and potentials applied to the signal lines X1 to Xn in the TFT-ON preceding process, the image erasing process, and the TFT-OFF preceding process. FIG. 6 is a timing chart showing potentials applied to the scanning lines Y1 to Ym and potentials applied to the signal lines X1 to Xn in the S-th scanning and driving suspension process of the image writing process. In the present embodiment, the common electrode 111 is connected to GND, but is not connected to GND at least from the start of the TFT-ON preceding process described later to the end of the image writing process. May be. In the present embodiment, before the image rewriting process is started, all the scanning lines Y1 to Ym and all the signal lines X1 to Xm are connected to GND.

先ず、コントローラ19に画像書き換え処理を開始するための信号が入力されると、当該入力信号に対応する制御信号が、コントローラ19から走査線ドライバ17に入力される。当該制御信号の入力は、後述する画像消去工程の開始よりもTFT先行準備時間TONだけ先だってなされる。当該制御信号が走査線ドライバ17に入力されると、走査線ドライバ17から全ての走査線Y1ないしYmにTFT163のON状態に対応するON電位が印加され、複数のゲート電極164の全てが、ON電位の状態に切り替えられる(TFT−ON先行工程)。TFT先行準備時間TONは、走査線Y1ないしYmの抵抗に起因する信号遅延や走査線ドライバ17の応答遅延等を考慮して画像消去工程が開始される時に複数のゲート電極164の全てがON電位の状態となっているのに十分な時間長であり、本実施の形態では、0.1〜10msecである。 First, when a signal for starting the image rewriting process is input to the controller 19, a control signal corresponding to the input signal is input from the controller 19 to the scanning line driver 17. Input of the control signal is performed only prior TFT preceding preparation time T ON than the start of the image erasing step which will be described later. When the control signal is input to the scanning line driver 17, an ON potential corresponding to the ON state of the TFT 163 is applied from the scanning line driver 17 to all the scanning lines Y1 to Ym, and all of the plurality of gate electrodes 164 are turned on. It is switched to a potential state (TFT-ON preceding process). The TFT advance preparation time T ON is set so that all of the plurality of gate electrodes 164 are turned on when the image erasing process is started in consideration of a signal delay due to the resistance of the scanning lines Y1 to Ym, a response delay of the scanning line driver 17, and the like. It is a sufficient length of time to be in a potential state, and is 0.1 to 10 msec in this embodiment.

次に、画像消去工程において、複数の画素電極161の複数のゲート電極164の全てがON電位の状態に維持されたまま、コントローラ19からの制御信号に基づいて、信号線ドライバ18から全ての信号線X1ないしXnに、GND電位よりも低い第1電位が、所定の第1時間Tだけ印加される。これにより、複数のソース電極165の全てが、GND電位よりも低い第1電位の状態に切り替えられ、画素電極161が、共通電極111よりも相対的に低電位にされる。この結果、表示媒体13中の負に帯電した白の電気応答性材料が、共通電極111の側に引き寄せられ、表示媒体13中の正に帯電した黒の電気応答性材料が、画素電極161の側に引き寄せられる。 Next, in the image erasing process, all signals from the signal line driver 18 are generated based on the control signal from the controller 19 while all the plurality of gate electrodes 164 of the plurality of pixel electrodes 161 are maintained in the ON potential state. to to no line X1 Xn, the first potential is lower than the GND potential is applied for a predetermined first time T 1. Accordingly, all of the plurality of source electrodes 165 are switched to the first potential state lower than the GND potential, and the pixel electrode 161 is set to a relatively lower potential than the common electrode 111. As a result, the negatively charged white electrically responsive material in the display medium 13 is drawn toward the common electrode 111, and the positively charged black electrically responsive material in the display medium 13 becomes the pixel electrode 161. Drawn to the side.

その後、複数の画素電極161の複数のゲート電極164の全てがON電位の状態に維持されたまま、コントローラ19からの制御信号に基づいて、信号線ドライバ18から全ての信号線X1ないしXnに、GND電位よりも高い第2電位が、所定の第2時間Tだけ印加される。これにより、複数のソース電極165の全てが、第1電位の状態から第2電位の状態に切り替えられ、画素電極161が、共通電極111よりも相対的に高電位にされる。この結果、表示媒体13中の負に帯電した白の電気応答性材料が、画素電極161の側に引き寄せられ、表示媒体13中の正に帯電した黒の電気応答性材料が、共通電極111の側に引き寄せられる。このようにして、白及び黒の電気応答性材料が撹拌され、表示領域に表示されていた画像が消去される。画像消去工程は、本実施の形態では1回だけ行われるが、TFT−ON先行工程と後述するTFT−OFF先行工程との間に複数回繰り返されてよく、好ましくは2回以上、さらに好ましくは3回以上が繰り返される。 After that, all of the plurality of gate electrodes 164 of the plurality of pixel electrodes 161 are maintained in the ON potential state, and from the signal line driver 18 to all the signal lines X1 to Xn based on the control signal from the controller 19. second potential higher than the GND potential is applied for a predetermined second time T 2. Accordingly, all of the plurality of source electrodes 165 are switched from the first potential state to the second potential state, and the pixel electrode 161 is set to a relatively higher potential than the common electrode 111. As a result, the negatively charged white electroresponsive material in the display medium 13 is attracted to the pixel electrode 161 side, and the positively charged black electroresponsive material in the display medium 13 is Drawn to the side. In this way, the white and black electroresponsive materials are agitated, and the image displayed in the display area is erased. The image erasing process is performed only once in the present embodiment, but may be repeated a plurality of times between the TFT-ON preceding process and the TFT-OFF preceding process described later, preferably two or more times, more preferably Repeated 3 times or more.

画像消去工程の後、複数のゲート電極164の全てがON電位の状態に維持されたまま、コントローラ19からの制御信号に基づいて、信号線ドライバ18から全ての信号線に、GND電位よりも低い第1電位が印加される。これにより、複数のソース電極165の全てが、第1電位に切り替えられ、画素電極161が、共通電極111よりも相対的に低電位にされる。この結果、表示媒体13中の負に帯電した白の電気応答性材料が、共通電極111の側に引き寄せられ、表示媒体13中の正に帯電した黒の電気応答性材料が、画素電極161の側に引き寄せられる。   After the image erasing step, all of the plurality of gate electrodes 164 are maintained at the ON potential, and are lower than the GND potential from the signal line driver 18 to all the signal lines based on the control signal from the controller 19. A first potential is applied. Accordingly, all of the plurality of source electrodes 165 are switched to the first potential, and the pixel electrode 161 is set to a relatively lower potential than the common electrode 111. As a result, the negatively charged white electrically responsive material in the display medium 13 is drawn toward the common electrode 111, and the positively charged black electrically responsive material in the display medium 13 becomes the pixel electrode 161. Drawn to the side.

画像消去工程後に信号線ドライバ18から全ての信号線に第1電位が印加されてから所定の第3時間T後、複数のソース電極165の全てが第1電位の状態に維持されたまま、コントローラ19からの制御信号に基づいて、走査線ドライバ17から全ての走査線Y1ないしYmにTFT163のOFF状態に対応するOFF電位が印加され、複数のゲート電極164の全てが、OFF電位の状態とされる。走査線ドライバ17から全ての走査線Y1ないしYmにOFF電位が印加されてからTFT−OFF先行時間TOFF後、複数のゲート電極164の全てがOFF電位の状態に維持されたまま、複数のソース電極165の全てが、GND電位の状態に切り換えられる(TFT−OFF先行工程)。TFT−OFF時間TOFFは、全てのTFT163をOFF状態とするのに十分な時間長であり、本実施の形態では、1〜500msecである。 All signal lines to the third time T after 3 from the first potential is applied to predetermined from the signal line driver 18 after the image erasing step, while all of the plurality of source electrodes 165 is maintained at the state of the first potential, Based on the control signal from the controller 19, an OFF potential corresponding to the OFF state of the TFT 163 is applied from the scanning line driver 17 to all the scanning lines Y1 to Ym, and all of the plurality of gate electrodes 164 are in the OFF potential state. Is done. After the OFF potential is applied from the scanning line driver 17 to all the scanning lines Y1 to Ym, after the TFT-OFF preceding time TOFF , the plurality of gate electrodes 164 are maintained at the OFF potential state, and the plurality of sources are maintained. All of the electrodes 165 are switched to the GND potential state (TFT-OFF preceding step). The TFT-OFF time T OFF is a time length sufficient to turn off all the TFTs 163 and is 1 to 500 msec in the present embodiment.

次に、画像書き込み工程において、コントローラ19に画像データが入力され、当該画像データに基づいて、コントローラ19から走査線ドライバ17及び信号線ドライバ18に制御信号が入力される。当該制御信号に基づいて走査線ドライバ17からm本の走査線Y1ないしYmに、TFTのON状態に切り替えるON電位またはTFTのOFF状態に対応するOFF電位が印加される。ON電位は、走査線Y1ないしYmに順次排他的に印加され、ON電位が印加されていない走査線には、OFF電位が印加される。また、各走査線Y1ないしYmにON電位が印加されている間に、信号線ドライバ18からは、コントローラ19に入力された画像データに対応して、各信号線X1ないしXnに第1電位または第2電位が印加される。これにより、当該画像データに対応する所望の画素電極161が第1電位または第2電位の状態とされ、当該画素電極161の電圧状態に対応して、表示媒体13中の白及び黒の電気応答性材料が、画素電極161の側または共通電極111の側に移動される。本実施の形態では、このような走査がS回行われることにより、コントローラ19に入力された画像データに対応するように表示媒体13中の白及び黒の電気応答性材料の移動状態が制御され、当該画像データに対応する画像が、反射型表示装置の表示領域に表示される。   Next, in the image writing process, image data is input to the controller 19, and control signals are input from the controller 19 to the scanning line driver 17 and the signal line driver 18 based on the image data. Based on the control signal, an ON potential for switching the TFT to an ON state or an OFF potential corresponding to the OFF state of the TFT is applied from the scanning line driver 17 to the m scanning lines Y1 to Ym. The ON potential is sequentially applied exclusively to the scanning lines Y1 to Ym, and the OFF potential is applied to the scanning lines to which no ON potential is applied. Further, while the ON potential is applied to each of the scanning lines Y1 to Ym, the signal line driver 18 applies a first potential or a potential to each of the signal lines X1 to Xn corresponding to the image data input to the controller 19. A second potential is applied. As a result, the desired pixel electrode 161 corresponding to the image data is set to the first potential or the second potential, and the white and black electric responses in the display medium 13 correspond to the voltage state of the pixel electrode 161. The active material is moved to the pixel electrode 161 side or the common electrode 111 side. In the present embodiment, by performing such scanning S times, the movement state of the white and black electroresponsive materials in the display medium 13 is controlled so as to correspond to the image data input to the controller 19. The image corresponding to the image data is displayed in the display area of the reflective display device.

その後、駆動休止工程において、複数のゲート電極164の全てがGND電位の状態に切り替えられると共に、複数のソース電極165の全てが、GND電位の状態に切り替えられる。この結果、駆動休止工程中、反射型表示装置の表示領域に表示された画像の表示状態が維持される。なお、共通電極111がGNDに接続されていない場合は、共通電極111は、駆動休止工程においてGNDに接続されてもよい。   Thereafter, in the driving suspension process, all of the plurality of gate electrodes 164 are switched to the GND potential state, and all of the plurality of source electrodes 165 are switched to the GND potential state. As a result, the display state of the image displayed in the display area of the reflective display device is maintained during the drive suspension process. When the common electrode 111 is not connected to GND, the common electrode 111 may be connected to GND in the drive suspension process.

本実施の形態によれば、画像書き込み工程後の画像の書き換えに関与しない時間において、全てのゲート電極164と全てのソース電極165とがGND電位の状態に切り替えられ、同電位とされる。このため、TFTへの電圧負荷が抑制され、TFTの長寿命化を実現し得る。   According to the present embodiment, all the gate electrodes 164 and all the source electrodes 165 are switched to the GND potential state and set to the same potential in a time not involved in image rewriting after the image writing process. For this reason, the voltage load on the TFT is suppressed, and the life of the TFT can be extended.

また、駆動休止工程において、共通電極111もGNDに接続されている。この場合、TFTへの電圧負荷がさらに抑制され得る。   In the drive suspension process, the common electrode 111 is also connected to the GND. In this case, the voltage load on the TFT can be further suppressed.

また、画像消去工程の前に、所定のTFT先行準備時間TONだけ、複数のゲート電極164の全てをON電位の状態に切り替えるTFT−ON先行工程を備えている。この場合、反射型表示装置に表示された画像を消去するために信号線X1ないしXnに電位が印加されるのに先だって、複数のゲート電極164に接続された走査線Y1ないしYmに、TFTをON状態に切り替えるON電位が印加される。したがって、走査線Y1ないしYmの抵抗に起因する信号遅延や走査線ドライバ17の応答遅延等により当該走査線Y1ないしYmに印加された電位のゲート電極164への伝達に遅延が生じても、この間に信号線X1ないしXnに電位が印加されることにより消費される電力量が低減される。なお、走査線Y1ないしYmに印加された電位のゲート電極164への伝達に遅延が生じると、表示領域内の複数のゲート電極164がON電位の状態になるタイミングにばらつきが生じてしまう。画像消去工程において一部のゲート電極164がON電位の状態になっていないまま全ての信号線X1ないしXnに第1電位または第2電位を印加しても、当該一部のゲート電極164に対応するソース電極165を、第1電位の状態または第2電位の状態にすることができない。したがって、ON電位の状態になっていない一部のゲート電極164に対応する画素電極161によって、表示媒体13に電圧を印加することはできない。この結果、表示媒体層15内の電気応答性材料が十分に撹拌されず、画像消去工程前に表示領域に表示されていた画像の一部が残ってしまい得る。 Further, prior to the image erasing step, a predetermined TFT preceding preparation time T ON only, and a TFT-ON prior step of switching all of the plurality of gate electrodes 164 into the ON state voltage. In this case, before the potential is applied to the signal lines X1 to Xn in order to erase the image displayed on the reflective display device, the TFT is applied to the scanning lines Y1 to Ym connected to the plurality of gate electrodes 164. An ON potential for switching to the ON state is applied. Therefore, even if there is a delay in the transmission of the potential applied to the scanning lines Y1 to Ym to the gate electrode 164 due to the signal delay due to the resistance of the scanning lines Y1 to Ym, the response delay of the scanning line driver 17, etc. In addition, the amount of power consumed by applying potentials to the signal lines X1 to Xn is reduced. Note that when a delay occurs in the transmission of the potential applied to the scanning lines Y1 to Ym to the gate electrode 164, the timing at which the plurality of gate electrodes 164 in the display region are in the ON potential state varies. Even if the first potential or the second potential is applied to all the signal lines X1 to Xn while a part of the gate electrodes 164 is not in the ON potential state in the image erasing process, it corresponds to the part of the gate electrodes 164. The source electrode 165 to be set cannot be in the first potential state or the second potential state. Therefore, a voltage cannot be applied to the display medium 13 by the pixel electrodes 161 corresponding to some of the gate electrodes 164 that are not in the ON potential state. As a result, the electroresponsive material in the display medium layer 15 is not sufficiently stirred, and a part of the image displayed in the display area before the image erasing process may remain.

また、本実施の形態によれば、画像消去工程と前記画像書き込み工程との間に、所定の第3時間だけ、複数のゲート電極164の全てをON電位の状態に維持したままで複数のソース電極165の全てを第1電位の状態とし、その後、所定のTFT−OFF先行時間TOFFだけ、複数のソース電極165の全てを第1電位の状態に維持したままで複数のゲート電極164の全てをOFF電位の状態とし、その後、複数のゲート電極164の全てをOFF電位の状態に維持したままで複数のソース電極165の全てがGND電位の状態に切り換えられるTFT−OFF先行工程を備えている。これにより、画像消去工程後、複数のソース電極165がGND電位の状態に切り換えられるのに先立って、全走査線Y1ないしYmにOFF電位が印加され、TFT163がOFF状態にされる。この結果、複数のソース電極165がGND電位の状態に切り換えられる時に画素電極161の電位が急激に変動する、ということが抑制される。 In addition, according to the present embodiment, a plurality of sources are maintained while maintaining all of the plurality of gate electrodes 164 at the ON potential for a predetermined third time between the image erasing process and the image writing process. All of the electrodes 165 are set to the first potential state, and then all of the plurality of gate electrodes 164 are maintained while maintaining all of the plurality of source electrodes 165 at the first potential state for a predetermined TFT-OFF preceding time T OFF. Is provided with a TFT-OFF preceding step in which all of the plurality of source electrodes 165 are switched to the GND potential state while all of the plurality of gate electrodes 164 are maintained in the OFF potential state. . Thus, after the image erasing process, before the plurality of source electrodes 165 are switched to the GND potential state, the OFF potential is applied to all the scanning lines Y1 to Ym, and the TFT 163 is turned off. As a result, when the plurality of source electrodes 165 are switched to the GND potential state, the potential of the pixel electrode 161 is prevented from changing rapidly.

11 一方の基板
111 共通電極
12 隔壁
13 インキ(表示媒体)
16 他方の基板
161 画素電極
163 TFT
164 ゲート電極
165 ソース電極
17 走査線ドライバ
18 信号線ドライバ
19 コントローラ
11 One substrate 111 Common electrode 12 Partition 13 Ink (display medium)
16 Other substrate 161 Pixel electrode 163 TFT
164 Gate electrode 165 Source electrode 17 Scan line driver 18 Signal line driver 19 Controller

Claims (7)

少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する2枚の基板間に少なくとも1種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記2枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、
一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通電極と、前記表示媒体が配置された表示媒体層と、マトリクス状に配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
前記画素電極の各々は、ゲート電極とソース電極とドレイン電極とを有するTFTと、当該ドレイン電極を介して電気的に接続されており、
前記複数のゲート電極は、マトリクス状に配列されており、当該複数のゲート電極の配列の行又は列方向に延びる複数の平行な走査線によって行又は列毎に接続され、当該行又は列毎に前記TFTのON状態に対応するON電位、前記TFTのOFF状態に対応するOFF電位、またはGND電位のいずれかの状態に選択的に切り替えられるようになっており、
前記複数のソース電極は、マトリクス状に配列されており、当該複数のソース電極の配列の列又は行方向に延びる複数の平行な信号線によって列又は行毎に接続され、当該列又は行毎にGND電位、相対的にGND電位より低い電位である第1電位、相対的にGND電位より高い電位である第2電位のいずれかの状態に選択的に切り替えられるようになっており、
前記ゲート電極がON電位の状態であって前記ソース電極が第1電位又は第2電位の状態の場合に、前記表示媒体層内の前記表示媒体に電圧を印加するようになっている
ことを特徴とする反射型表示装置を駆動する方法であって、
各走査線をON電位の状態としている間に各信号線を第1電位または第2電位とすることで、各画素電極毎に前記セル内の表示媒体へ画像情報に応じた電圧を印加する画像書き込み工程と、
前記画像書き込み工程の終了後に、前記複数の画素電極の複数のゲート電極の全てをGND電位の状態に切り替えると共に、前記複数の画素電極の複数のソース電極の全てをもGND電位の状態に切り替える駆動休止工程と、
を備えたことを特徴とする方法。
A display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates, at least one of which has a light-transmitting property and on which electrodes are respectively formed, and the two substrates A reflective display device that performs a desired display when a predetermined electric field is applied therebetween,
A common electrode that covers at least the display region between one substrate and the other substrate, a display medium layer in which the display medium is disposed, and a plurality of pixel electrodes arranged in a matrix are the one substrate Are provided in this order when viewed in the direction from the other side toward the other substrate side,
Each of the pixel electrodes is electrically connected to a TFT having a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode via the drain electrode,
The plurality of gate electrodes are arranged in a matrix, and are connected for each row or column by a plurality of parallel scanning lines extending in the row or column direction of the arrangement of the plurality of gate electrodes, and for each row or column. An ON potential corresponding to the ON state of the TFT, an OFF potential corresponding to the OFF state of the TFT, or a GND potential can be selectively switched,
The plurality of source electrodes are arranged in a matrix, and are connected to each column or row by a plurality of parallel signal lines extending in the column or row direction of the plurality of source electrodes. The potential can be selectively switched between a GND potential, a first potential that is relatively lower than the GND potential, and a second potential that is relatively higher than the GND potential.
A voltage is applied to the display medium in the display medium layer when the gate electrode is in an ON potential state and the source electrode is in a first or second potential state. A method of driving a reflective display device,
An image in which a voltage corresponding to image information is applied to the display medium in the cell for each pixel electrode by setting each signal line to the first potential or the second potential while each scanning line is in the ON potential state. Writing process;
After completion of the image writing step, all of the plurality of gate electrodes of the plurality of pixel electrodes are switched to the GND potential state, and all of the plurality of source electrodes of the plurality of pixel electrodes are also switched to the GND potential state. A pause process;
A method characterized by comprising:
前記駆動休止工程において、前記共通電極もGNDに接続される
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
The method according to claim 1, wherein the common electrode is also connected to GND in the driving suspension step.
前記画像書き込み工程の前に、
所定のTFT先行準備時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に切り替えるTFT−ON先行工程と、
前記TFT−ON先行工程の後に、所定の第1時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態に切り替え、その後、所定の第2時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態から第2電位または第1電位の状態に切り替える画像消去工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
Before the image writing process,
A TFT-ON preceding process for switching all of the plurality of gate electrodes to an ON potential state for a predetermined TFT preceding preparation time;
After the TFT-ON preceding step, all of the plurality of source electrodes are kept in the first potential or second potential state while maintaining all of the plurality of gate electrodes in the ON potential state for a predetermined first time. After that, all of the plurality of source electrodes are kept from the first potential or the second potential state to the second potential while maintaining all the plurality of gate electrodes at the ON potential state for a predetermined second time. Or an image erasing step for switching to the first potential state;
The method according to claim 1, further comprising:
前記TFT先行準備時間は、0.1〜10msecである
ことを特徴とする請求項3に記載の方法。
4. The method according to claim 3, wherein the TFT advance preparation time is 0.1 to 10 msec.
前記画像消去工程は、前記TFT−ON先行工程と前記画像書き込み工程との間に、2回以上が繰り返される
ことを特徴とする請求項3または4に記載の方法。
5. The method according to claim 3, wherein the image erasing step is repeated twice or more between the TFT-ON preceding step and the image writing step.
前記画像消去工程と前記画像書き込み工程との間に、
所定の第3時間だけ、前記複数のゲート電極の全てをON電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態とし、その後、所定のTFT−OFF先行時間だけ、前記複数のソース電極の全てを第1電位または第2電位の状態に維持したままで前記複数のゲート電極の全てをOFF電位の状態とし、その後、前記複数のゲート電極の全てをOFF電位の状態に維持したままで前記複数のソース電極の全てがGND電位の状態に切り換えられるTFT−OFF先行工程
を更に備えたことを特徴とする請求項3乃至5のいずれかに記載の方法。
Between the image erasing step and the image writing step,
All of the plurality of source electrodes are set to the first potential or the second potential state while maintaining all of the plurality of gate electrodes at the ON potential state for a predetermined third time, and then the predetermined TFT-OFF Only for the preceding time, all of the plurality of gate electrodes are kept in the state of the first potential or the second potential while keeping all of the plurality of gate electrodes in the OFF potential state, and then all of the plurality of gate electrodes are turned on. 6. The method according to claim 3, further comprising a TFT-OFF preceding step in which all of the plurality of source electrodes are switched to the GND potential state while maintaining the OFF potential state. .
前記TFT−OFF先行時間は、1〜500msecである
ことを特徴とする請求項6に記載の方法。
The method according to claim 6, wherein the TFT-OFF lead time is 1 to 500 msec.
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