JP2015012428A - Acoustic wave device, electronic component module, and mobile terminal - Google Patents

Acoustic wave device, electronic component module, and mobile terminal Download PDF

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忠男 山迫
Tadao Yamasako
忠男 山迫
奥道 武宏
Takehiro Okumichi
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acoustic wave device capable of improving adhesion of a bump, and to provide an electronic component module and a mobile terminal.SOLUTION: An acoustic wave device 1 includes: a piezoelectric substrate 2; an excitation electrode 3 positioned on the piezoelectric substrate 2; an electrode pad positioned on the piezoelectric substrate 2 and electrically connected to the excitation electrode 3; a frame 5 which is positioned on the piezoelectric substrate 2 and surrounds the excitation electrode 3 inside and on the outside of which the electrode pad is positioned; a side surface conductor part 6 positioned on the outer surface of the frame 5 and made of a conductor material; a lid 7 mounted on the frame 5; and a bump 8 electrically connected to the electrode pad and being in contact with the side surface conductor part 6.

Description

本発明は、弾性波装置、電子部品モジュールおよび移動体端末に関するものである。   The present invention relates to an acoustic wave device, an electronic component module, and a mobile terminal.

従来から励振電極として、インタートランスデューサー(Inter Digital Transducer:以下、単にIDT電極という)が圧電基板上に形成されている弾性波装置が知られている。このIDT電極は、電気信号と弾性表面波とを相互に変換することができる特性を利用して、特定の周波数を得るフィルタとして用いられている。   2. Description of the Related Art Conventionally, an acoustic wave device is known in which an inter-transducer (hereinafter simply referred to as an IDT electrode) is formed on a piezoelectric substrate as an excitation electrode. This IDT electrode is used as a filter for obtaining a specific frequency by utilizing the characteristic that can convert an electric signal and a surface acoustic wave into each other.

携帯電話等の移動体端末に用いられるデュプレクサにおいて、従来では、主に誘電体フィルタが用いられてきていたが、近年では、高性能で小型軽量化が可能な弾性波装置を搭載されるようになってきた。移動体端末においては、アンテナ部から送受信された電気信号をデュプレクサで受信信号と発信信号にフィルタリングされる。   In a duplexer used for a mobile terminal such as a cellular phone, conventionally, a dielectric filter has been mainly used. However, in recent years, a high-performance elastic wave device that can be reduced in size and weight has been installed. It has become. In a mobile terminal, an electric signal transmitted / received from an antenna unit is filtered into a reception signal and a transmission signal by a duplexer.

近年、移動体端末の小型化が進むにつれて、デュプレクサの低背化が必要となっている。そのため、デュプレクサの低背化には弾性波装置の低背化が必須となっている。弾性波装置を低背化する構造として、例えばウェハーレベルパッケージ(Wafer Level Package:以下、単にWLPという)構造が知られている(例えば、特許文献1参照)。また、WLP構造の弾性波装置を、さらに低背化した弾性波装置として柱状電極を設けずにバンプのみで実装する弾性波装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。   In recent years, it is necessary to reduce the height of a duplexer as the mobile terminal is miniaturized. Therefore, it is essential to reduce the height of the elastic wave device to reduce the height of the duplexer. As a structure for reducing the height of an acoustic wave device, for example, a wafer level package (hereinafter simply referred to as WLP) structure is known (see, for example, Patent Document 1). Also, an elastic wave device is known in which an elastic wave device having a WLP structure is mounted only by bumps without providing columnar electrodes as an elastic wave device with a further reduced height (for example, see Patent Document 2).

特開2010−56671号公報JP 2010-56671 A 特開2009−105528号公報JP 2009-105528

ところで、WLP構造をさらに低背化した弾性波装置は、バンプを介して実装基板に実装されることから、弾性波装置が実装基板から剥がれにくくするために、バンプとの密着性を向上させることが課題の一つとなっている。   By the way, since the acoustic wave device having a further reduced WLP structure is mounted on the mounting substrate via the bump, the adhesion of the acoustic wave device to the bump is improved in order to prevent the acoustic wave device from being peeled off from the mounting substrate. Is one of the challenges.

本発明は、上述の事情のもとで考え出されたものであって、バンプとの密着性を向上させることが可能な弾性波装置および移動体端末を提供することを目的とする。   The present invention has been conceived under the above-described circumstances, and an object thereof is to provide an elastic wave device and a mobile terminal capable of improving adhesion to a bump.

本発明の弾性波装置は、圧電基板と、該圧電基板上に位置する励振電極と、前記圧電基板上に位置し、前記励振電極と電気的に接続された電極パッドと、前記圧電基板上に位置し、内側に前記励振電極を囲むとともに、外側に前記電極パッドが位置する枠体と、該枠体の外側面に位置し、導体材料からなる側面導体部と、該枠体に載置された蓋体と、前記電極パッドと電気的に接続されるとともに、前記側面導体部と接するバンプとを有する。   An acoustic wave device according to the present invention includes a piezoelectric substrate, an excitation electrode positioned on the piezoelectric substrate, an electrode pad positioned on the piezoelectric substrate and electrically connected to the excitation electrode, and the piezoelectric substrate. And a frame body that surrounds the excitation electrode on the inner side and the electrode pad is positioned on the outer side, a side conductor portion that is located on the outer surface of the frame body and is made of a conductive material, and is placed on the frame body And a bump that is electrically connected to the electrode pad and is in contact with the side conductor portion.

また、本発明の弾性波装置は、実装基板に対してバンプを介して実装される弾性波装置であって、圧電基板と、該圧電基板上に位置する励振電極と、前記圧電基板上に位置し、前記バンプと接する、前記励振電極と電気的に接続された電極パッドと、前記圧電基板上に位置し、内側に前記励振電極を囲むとともに、外側に前記電極パッドが位置する枠体と、該枠体の外側面に位置し、前記バンプと接する、導体材料からなる側面導体部と、該枠体に載置された蓋体とを有する。   The elastic wave device according to the present invention is an elastic wave device mounted on a mounting substrate via bumps, and includes a piezoelectric substrate, an excitation electrode positioned on the piezoelectric substrate, and a position on the piezoelectric substrate. An electrode pad that is in contact with the bump and electrically connected to the excitation electrode; a frame that is located on the piezoelectric substrate, surrounds the excitation electrode on the inside, and has the electrode pad on the outside; A side conductor portion made of a conductive material, which is located on the outer surface of the frame and is in contact with the bumps, and a lid placed on the frame.

また、本発明の電子部品モジュールは、上記の弾性波装置と、前記バンプが実装される実装パッドを有する実装基板とを有する。   The electronic component module of the present invention includes the above acoustic wave device and a mounting substrate having a mounting pad on which the bump is mounted.

さらに、本発明の移動体端末は、上記の電子部品モジュールと、前記弾性波装置に電気的に接続されたアンテナ部とを有している。   Furthermore, the mobile terminal of the present invention includes the electronic component module described above and an antenna unit that is electrically connected to the acoustic wave device.

本発明によれば、バンプとの密着性を向上させることができることが可能な弾性波装置、電子部品モジュールおよび移動体端末を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the elastic wave apparatus, electronic component module, and mobile terminal which can improve adhesiveness with a bump can be provided.

本発明の実施形態に係るSAW装置の外観平面図である。1 is an external plan view of a SAW device according to an embodiment of the present invention. 図1のSAW装置において、蓋体を取り外したときの平面図である。FIG. 2 is a plan view of the SAW device of FIG. 1 when a lid is removed. 図2のSAW装置の一部を拡大した平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of a part of the SAW device of FIG. 2. 図1のSAW装置をI−I線で切断したときの断面に相当する。This corresponds to a cross section when the SAW device of FIG. 1 is cut along line II. 図4のSAW装置の一部を拡大した断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a part of the SAW device of FIG. 4. 図1のSAW装置を実装基板に実装したときの断面図であり、図1のI−I線で切断したときの断面に相当する。FIG. 2 is a cross-sectional view when the SAW device of FIG. 1 is mounted on a mounting substrate, and corresponds to a cross-section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、上から見た平面透視図である。FIG. 9 is a plan perspective view showing a modification of the SAW device of FIG. 1 as viewed from above. 図1のSAW装置の変形例を示すものであり、図1のI−I線で切断したときの断面を拡大したものである。FIG. 9 shows a modification of the SAW device of FIG. 1, and shows an enlarged cross section when cut along line II in FIG. 1. 図1のSAW装置の変形例として、SAW装置のバンプを有さない構成である弾性波素子を示すものであり、図1のI−I線で切断した断面を拡大したものに相当する。As a modification of the SAW device of FIG. 1, an acoustic wave element having a configuration without a bump of the SAW device is shown, which corresponds to an enlarged cross section taken along line II in FIG.

以下、本発明の実施形態に係るSAW装置について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明で用いられる図は模式的なものであり、図面上の寸法比率等は現実のものとは必ずしも一致していない。   Hereinafter, a SAW device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description are schematic, and the dimensional ratios and the like on the drawings do not necessarily match the actual ones.

<SAW装置等の構成>
本発明の一実施形態に係るSAW装置について以下説明する。本実施形態に係るSAW装置1は、図1〜6に示すように、圧電基板2、励振電極3、電極パッド4、枠体5、側面導体部6、蓋体7およびバンプ8を有している。
<Configuration of SAW device, etc.>
A SAW device according to an embodiment of the present invention will be described below. As shown in FIGS. 1 to 6, the SAW device 1 according to this embodiment includes a piezoelectric substrate 2, excitation electrodes 3, electrode pads 4, a frame body 5, side conductor portions 6, a lid body 7, and bumps 8. Yes.

SAW装置1は、それぞれの構成をウェハーレベルで形成することができる。SAW装置1は、移動体端末において、アンテナ部と信号演算回路(例えば、IC)がやり取りする電気信号をフィルタリングする機能を有する。   The SAW device 1 can form each configuration at the wafer level. The SAW device 1 has a function of filtering an electric signal exchanged between an antenna unit and a signal arithmetic circuit (for example, IC) in a mobile terminal.

SAW装置1は、電極パッド4を複数有しており、そのうちのいずれかの電極パッド4を介して信号の入力がなされる。入力された信号は、励振電極3等によってフィルタリングされる。そして、SAW装置1は、フィルタリングした信号を、複数の電極パッド4のうち入力信号が入った電極パッド4以外の電極パッド4を介して出力する。   The SAW device 1 has a plurality of electrode pads 4, and signals are input via any one of the electrode pads 4. The input signal is filtered by the excitation electrode 3 or the like. Then, the SAW device 1 outputs the filtered signal through the electrode pads 4 other than the electrode pad 4 in which the input signal is entered among the plurality of electrode pads 4.

圧電基板2は、タンタル酸リチウム単結晶、二オブ酸リチウム単結晶、四ホウ酸リチウム単結晶など圧電性を有する単結晶の基板によって構成されている。圧電基板2は、例えば、直方体状に形成されており、矩形状で互いに平行かつ平坦な第1主面2Aおよび第2主面2Bを有している。圧電基板2は、大きさが適宜に設定すればよい。圧電基板2は、厚さが、例えば、0.2mm以上0.5mm以下に設定することができる。圧電基板2は、一辺の長さが、例えば、0.6mm以上3mm以下に設定することができる。   The piezoelectric substrate 2 is composed of a single crystal substrate having piezoelectricity, such as a lithium tantalate single crystal, a lithium diobate single crystal, or a lithium tetraborate single crystal. The piezoelectric substrate 2 is formed in a rectangular parallelepiped shape, for example, and has a first main surface 2A and a second main surface 2B which are rectangular and parallel to each other and are flat. The size of the piezoelectric substrate 2 may be set appropriately. The thickness of the piezoelectric substrate 2 can be set to, for example, 0.2 mm or more and 0.5 mm or less. The length of one side of the piezoelectric substrate 2 can be set to 0.6 mm or more and 3 mm or less, for example.

励振電極3は、図3に示すように、第1主面2A上に層状(平板状)に形成されている。励振電極3は、いわゆるIDTであり、2つの櫛歯状電極9から構成されている。各櫛歯状電極9は、圧電基板2における弾性表面波の伝搬方向に延びるバスバー9aと、バスバー9aから上記伝搬方向に直交する方向に延びる複数の電極指9bとを有している。2つの櫛歯状電極9同士は、それぞれの電極指9bが互いに噛み合うように設けられている。なお、図3に例示する励振電極3は、必須ではないが、反射器9cを有している場合である。   As shown in FIG. 3, the excitation electrode 3 is formed in a layer shape (flat plate shape) on the first main surface 2 </ b> A. The excitation electrode 3 is a so-called IDT and includes two comb-shaped electrodes 9. Each comb-like electrode 9 has a bus bar 9a extending in the propagation direction of the surface acoustic wave in the piezoelectric substrate 2, and a plurality of electrode fingers 9b extending from the bus bar 9a in a direction perpendicular to the propagation direction. The two comb-like electrodes 9 are provided such that the electrode fingers 9b are engaged with each other. In addition, although the excitation electrode 3 illustrated in FIG. 3 is not essential, it is a case where it has the reflector 9c.

図3は、模式図であり、数本の電極指9bを有する櫛歯状電極9を示している。実際には、これよりも多数の電極指9bを有する櫛歯状電極9が設けられていてよい。また、複数の励振電極3が、直接接続または並列接続などにより接続されたラダー型SAWフィルタを構成していてもよい。また、複数の励振電極3が、複数の励振電極3が一方向に配列された2重モードSAW共振器フィルタを構成していてもよい。   FIG. 3 is a schematic diagram showing a comb-like electrode 9 having several electrode fingers 9b. Actually, a comb-like electrode 9 having a larger number of electrode fingers 9b may be provided. A plurality of excitation electrodes 3 may constitute a ladder-type SAW filter connected by direct connection or parallel connection. Further, the plurality of excitation electrodes 3 may constitute a double mode SAW resonator filter in which the plurality of excitation electrodes 3 are arranged in one direction.

電極パッド4は、図2等に示すように、第1主面2A上に層状に形成されている。電極パッド4の平面視形状は適宜設定すればよい。本実施形態では、電極パッド4は円形状である。電極パッド4の数および配置位置は、励振電極3によって構成されるフィルタの構成に応じて適宜設定すればよい。   As shown in FIG. 2 and the like, the electrode pad 4 is formed in layers on the first main surface 2A. What is necessary is just to set the planar view shape of the electrode pad 4 suitably. In the present embodiment, the electrode pad 4 has a circular shape. What is necessary is just to set suitably the number and arrangement position of the electrode pad 4 according to the structure of the filter comprised by the excitation electrode 3. FIG.

励振電極3と電極パッド4は、図3に示すように、配線10によって電気的に接続されている。配線10は、第1主面2A上に層状に形成され、励振電極3のバスバー9aと電極パッド4を電気的に接続している。なお、配線10は第1主面2Aに形成されている必要はなく、例えば絶縁体を介して立体交差させる部分があってもよい。   The excitation electrode 3 and the electrode pad 4 are electrically connected by wiring 10 as shown in FIG. The wiring 10 is formed in a layered manner on the first main surface 2A, and electrically connects the bus bar 9a of the excitation electrode 3 and the electrode pad 4. Note that the wiring 10 does not need to be formed on the first main surface 2A, and for example, there may be a portion that three-dimensionally intersects via an insulator.

励振電極3、電極パッド4および配線10(第1主面2Aに形成された部分)は、同じ製造プロセスで形成することができる。そのため、励振電極3、電極パッド4および配線10は、例えば同じ導電材料によって構成されている。導電材料としては、例えばAl−Cu合金等のAl合金を用いることができる。また、励振電極3、電極パッド4および配線10は、例えば、同じ膜厚に設定される。これらの厚さとしては、例えば100nm以上500nm以下に設定することができる。   Excitation electrode 3, electrode pad 4, and wiring 10 (portion formed on first main surface 2A) can be formed by the same manufacturing process. Therefore, the excitation electrode 3, the electrode pad 4, and the wiring 10 are made of, for example, the same conductive material. As the conductive material, for example, an Al alloy such as an Al—Cu alloy can be used. Moreover, the excitation electrode 3, the electrode pad 4, and the wiring 10 are set to the same film thickness, for example. These thicknesses can be set to, for example, 100 nm or more and 500 nm or less.

電極パッド4に直接バンプ8を設けてもよいが、図4および図5に示すように、接続強化層11を形成してもよい。接続強化層11は、例えば、Al−Cu合金の層に重ねられたNiの層と、Niの層に重ねられたAuの層を有している。   Although the bumps 8 may be provided directly on the electrode pads 4, a connection reinforcing layer 11 may be formed as shown in FIGS. The connection reinforcing layer 11 has, for example, a Ni layer superimposed on an Al—Cu alloy layer and an Au layer superimposed on the Ni layer.

より具体的に、接続強化層11は、電極パッド4側から順にAl−Cu合金、Cr、NiおよびAuを積層した層を用いることができる。Cr層は例えば5nm以上15nm以下、Ni層は例えば950nm以上1100nm以下、Au層は例えば90nm以上110nm以下の厚みとなるようにそれぞれ構成される。接続強化層11を有していることにより、電極パッド4の厚みを厚くすることができるため、電極パッド4が圧電基板2から剥がれにくくすることができる。   More specifically, the connection reinforcing layer 11 may be a layer in which an Al—Cu alloy, Cr, Ni, and Au are laminated in order from the electrode pad 4 side. The Cr layer has a thickness of, for example, 5 nm to 15 nm, the Ni layer has a thickness of, for example, 950 nm to 1100 nm, and the Au layer has a thickness of, for example, 90 nm to 110 nm. By having the connection reinforcing layer 11, the thickness of the electrode pad 4 can be increased, so that the electrode pad 4 can be made difficult to peel off from the piezoelectric substrate 2.

接続強化層11は、図4および図5に示すように、電極パッド4の端部を覆うように設けてもよいし、覆わないように電極パッド4の上面だけに設けてもよい。電極パッド4の端部を覆うように設けた場合、バンプ8が電極パッド4の横側に回り込んだ場合でもバンプ8との密着性を維持することができる。   As shown in FIGS. 4 and 5, the connection reinforcing layer 11 may be provided so as to cover the end portion of the electrode pad 4, or may be provided only on the upper surface of the electrode pad 4 so as not to cover it. When it is provided so as to cover the end portion of the electrode pad 4, the adhesiveness with the bump 8 can be maintained even when the bump 8 wraps around the side of the electrode pad 4.

枠体5は、圧電基板2上に位置するよう形成されている。枠体5は、内側に励振電極3を囲むとともに、外側に電極パッド4が位置するように配置される。換言すると、枠体5に囲まれた励振電極3に対して枠体5の外側から電気的に接続するために、枠体5の外側に電極パッド4が配置されている。枠体5は、励振電極3の厚みよりも厚くなるように形成されている。この枠体5の厚さによって、励振空間Spの厚さが概略的に決定される。励振空間Spとは、圧電基板2、枠体5および蓋体7によって囲まれる空間を指す。枠体5の厚さは、例えば数μm以上30μm以下に設定される。   The frame 5 is formed so as to be positioned on the piezoelectric substrate 2. The frame 5 is disposed so that the excitation electrode 3 is surrounded on the inner side and the electrode pad 4 is positioned on the outer side. In other words, the electrode pad 4 is disposed outside the frame body 5 in order to be electrically connected to the excitation electrode 3 surrounded by the frame body 5 from the outside of the frame body 5. The frame 5 is formed so as to be thicker than the thickness of the excitation electrode 3. The thickness of the excitation space Sp is roughly determined by the thickness of the frame body 5. The excitation space Sp refers to a space surrounded by the piezoelectric substrate 2, the frame body 5, and the lid body 7. The thickness of the frame 5 is set to, for example, several μm or more and 30 μm or less.

蓋体7は、枠体5に載置されている。枠体5と蓋体7は、同一材料で一体的に形成されていてもよいし、異なる材料で別体として形成されていてもよい。本実施形態は、同じ材料で、別体として形成した場合である。蓋体7は、厚さが、例えば数μm以上30μm以下となるように設定することができる。蓋体7は、平面視形状が、枠体5の外周以下となるような形状で形成することができる。   The lid body 7 is placed on the frame body 5. The frame body 5 and the lid body 7 may be integrally formed with the same material, or may be formed as separate bodies with different materials. In the present embodiment, the same material is formed as a separate body. The lid 7 can be set so that the thickness is, for example, several μm or more and 30 μm or less. The lid body 7 can be formed in a shape such that the shape in plan view is equal to or less than the outer periphery of the frame body 5.

枠体5および蓋体7は、感光性の樹脂によって形成されている。感光性の樹脂は、例えば、アクリル基、メタクリル基などのラジカル重合により硬化する、ウレタンアクリレード系、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系の樹脂を用いることができる。その他の材料としては、例えばポリイミド系の樹脂を用いることができる。   The frame 5 and the lid 7 are made of a photosensitive resin. As the photosensitive resin, for example, urethane acrylate, polyester acrylate, and epoxy acrylate resins that are cured by radical polymerization of an acrylic group, a methacryl group, or the like can be used. As other materials, for example, a polyimide resin can be used.

側面導体部6は、図5に示すように、枠体5の外側面5Aに位置している。側面導体部6は、導体材料からなる。導体材料は、バンプ8との密着性を考慮して選択される。具体的に、導体材料としては、例えばCu−Niの合金を用いることができる。または、側面導体部6として、枠体5側からCu層、Ni層およびAu層を順次積層した積層体を用いることができる。この場合、Cu層は例えば8μm以上13μm以下、Ni層は例えば1μm以上3μm以下、Au層は例えば0.01μm以上0.03μm以下の厚みとなるようにそれぞれ設定することができる。   As shown in FIG. 5, the side conductor portion 6 is located on the outer surface 5 </ b> A of the frame body 5. The side conductor portion 6 is made of a conductor material. The conductor material is selected in consideration of the adhesion with the bumps 8. Specifically, for example, a Cu—Ni alloy can be used as the conductor material. Alternatively, a laminated body in which a Cu layer, a Ni layer, and an Au layer are sequentially laminated from the frame body 5 side can be used as the side conductor portion 6. In this case, the Cu layer can be set to have a thickness of 8 μm to 13 μm, the Ni layer can be set to 1 μm to 3 μm, and the Au layer can be set to 0.01 μm to 0.03 μm, for example.

バンプ8は、電極パッド4と電気的に接続されるとともに、側面導体部6と接している。バンプ8としては、例えば、はんだを用いることができる。はんだは、Pb−Sn合金はんだ等の鉛を用いたはんだでもよいし、Au−Sn合金はんだ、Au−Ge合金はんだ、Sn−Ag合金はんだ、Sn−Cu合金はんだ等の鉛フリーはんだであってもよい。   The bump 8 is electrically connected to the electrode pad 4 and is in contact with the side conductor portion 6. As the bump 8, for example, solder can be used. The solder may be solder using lead such as Pb—Sn alloy solder, or lead-free solder such as Au—Sn alloy solder, Au—Ge alloy solder, Sn—Ag alloy solder, Sn—Cu alloy solder, etc. Also good.

このようにして構成されたSAW装置1は、図6に示すように、実装基板12に実装される。実装基板12は、実装面12Aに設けられた実装パッド13を有している。バンプ8は、電極パッド4、側面導体部6および実装パッド13に接した状態で加熱される。この加熱でバンプ8が溶融することにより、電極パッド4、側面導体部6および実装パッド13が固定される。   The SAW device 1 configured in this way is mounted on a mounting board 12 as shown in FIG. The mounting substrate 12 has a mounting pad 13 provided on the mounting surface 12A. The bump 8 is heated while being in contact with the electrode pad 4, the side conductor portion 6, and the mounting pad 13. The bump 8 is melted by this heating, whereby the electrode pad 4, the side conductor portion 6, and the mounting pad 13 are fixed.

本実施形態のSAW装置は、バンプ8が電極パッド4および側面導体部6に接した状態で、実装基板12に固定される。このように電極パッド4と側面導体部6にバンプ8が接触した状態で固定されることによって、バンプ8との接触面積を大きくすることができるため、バンプ8との密着性を向上させることができる。また、側面導体部6が枠体5の外側面5Aに設けられていることから、電極パッド4と異なる平面でバンプ8と接触する。このようにバンプ8に対して、2つの面で接触させることができるため、複数の方向に係る力に対して剥がれにくくすることができる。これにより、SAW装置1が実装基板12から剥がれにくくすることができるため、例えばSAW装置1の長期信頼性を向上させることができる。   The SAW device of this embodiment is fixed to the mounting substrate 12 with the bumps 8 in contact with the electrode pads 4 and the side conductors 6. In this way, by fixing the bumps 8 in contact with the electrode pads 4 and the side conductor portions 6, the contact area with the bumps 8 can be increased, so that the adhesion with the bumps 8 can be improved. it can. Further, since the side conductor portion 6 is provided on the outer side surface 5 </ b> A of the frame body 5, it contacts the bump 8 on a plane different from the electrode pad 4. Thus, since it can be made to contact with bump 8 on two sides, it can be made hard to exfoliate to the force concerning a plurality of directions. Thereby, since the SAW device 1 can be made difficult to peel off from the mounting substrate 12, for example, the long-term reliability of the SAW device 1 can be improved.

(SAW装置の変形例1)
側面導体部6は、図7に示すように、電極パッド4の表面にわたって連続して設けられている。側面導体部6は、図7に示す断面図において、L字状となるように設けられている。電極パッド4の表面に位置する側面導体部6も枠体5の外側面5Aに設けられる側面導体部6の構成と同じものである。このように枠体5の外側面および電極パッド4の表面に連続して形成することによって、側面導体部6がバンプ8に対して2方向の面で接触することになるため、側面導体部6とバンプ8の密着性をさらに向上させることができる。
(Modification 1 of SAW device)
As shown in FIG. 7, the side conductor portion 6 is provided continuously over the surface of the electrode pad 4. The side conductor portion 6 is provided in an L shape in the cross-sectional view shown in FIG. The side conductor portion 6 positioned on the surface of the electrode pad 4 has the same configuration as the side conductor portion 6 provided on the outer side surface 5A of the frame 5. By continuously forming the outer surface of the frame 5 and the surface of the electrode pad 4 in this way, the side conductor portion 6 comes into contact with the bumps 8 in two directions. And the adhesion of the bumps 8 can be further improved.

また、側面導体部6が、電極パッド4および枠体5と接触することによって、接触面積を大きくすることができ、側面導体部6が剥離しにくくすることができる。   Further, when the side conductor portion 6 is in contact with the electrode pad 4 and the frame body 5, the contact area can be increased, and the side conductor portion 6 can be made difficult to peel off.

(SAW装置の変形例2)
枠体5の外側面5Aは、図8に示すように、第1主面2Aに対して傾斜していてもよい。外側面5Aと第1主面2Aとのなす角は、例えば90°よりも小さい角度となるように設定することができる。このような傾斜した外側面5Aに側面導体部6が形成される。側面導体部6を外側面5Aから電極パッド4にわたって連続して形成した場合には、外側面5Aと電極パッド4の上面のなす角度が鈍角(90°より大きく、且つ180°よりも小さい角度)となることから、側面導体部6が枠体5または電極パッド4から剥がれにくくすることができる。
(Modification 2 of the SAW device)
As shown in FIG. 8, the outer surface 5A of the frame 5 may be inclined with respect to the first main surface 2A. The angle formed by the outer side surface 5A and the first main surface 2A can be set to be an angle smaller than 90 °, for example. Side conductor portions 6 are formed on the inclined outer surface 5A. When the side conductor portion 6 is continuously formed from the outer surface 5A to the electrode pad 4, the angle formed by the outer surface 5A and the upper surface of the electrode pad 4 is an obtuse angle (an angle larger than 90 ° and smaller than 180 °). Therefore, the side conductor portion 6 can be made difficult to peel off from the frame 5 or the electrode pad 4.

また、このように側面導体部6が第1主面2Aに対して傾斜することにより、バンプ8と側面導体部6の間にクラックが発生しにくくすることができる。さらに、側面導体部6が電極パッド4の表面にわたって連続して形成されている場合には、鈍角となった角部(電極パッド4と枠体5の角)にもバンプ8が入りやすくすることができるため、クラックを発生しにくくすることができる。   In addition, since the side conductor portion 6 is inclined with respect to the first main surface 2A in this way, it is possible to make it difficult for cracks to occur between the bumps 8 and the side conductor portion 6. Furthermore, when the side conductor portion 6 is formed continuously over the surface of the electrode pad 4, the bump 8 can easily enter the corner portion (the corner of the electrode pad 4 and the frame body 5) that has become an obtuse angle. Therefore, cracks can be made difficult to occur.

(SAW装置の変形例3)
蓋体7は、図9に示すように、枠体5の外周よりも内側となるように配置してもよい。このように配置することにより、バンプ8を枠体5上にも配置したり、側面導体部6の一部を枠体5の上に配置したりすることができる。なお、図9のSAW装置1は、接続強化層11が電極パッド4の外周よりも内側に形成されている場合である。
(Modification 3 of the SAW device)
As shown in FIG. 9, the lid body 7 may be arranged so as to be inside the outer periphery of the frame body 5. By arranging in this way, the bumps 8 can also be arranged on the frame body 5, or a part of the side conductor portion 6 can be arranged on the frame body 5. Note that the SAW device 1 of FIG. 9 is a case where the connection reinforcing layer 11 is formed inside the outer periphery of the electrode pad 4.

図9のSAW装置1は、蓋体7を枠体5の外周よりも内側となるように配置し、蓋体7から露出した枠体5の上に側面導体部6の一部が設けられている。また、枠体5上に位置する側面導体部6にも接するようにバンプ8が設けられている。このように配置することによって、バンプ8との接触面積を大きくすることができるため、バンプ8と側面導体部6の密着性を向上させることができる。   In the SAW device 1 of FIG. 9, the lid body 7 is arranged so as to be inside the outer periphery of the frame body 5, and a part of the side conductor portion 6 is provided on the frame body 5 exposed from the lid body 7. Yes. In addition, bumps 8 are provided so as to be in contact with the side conductor portions 6 located on the frame 5. By arranging in this way, the contact area with the bumps 8 can be increased, so that the adhesion between the bumps 8 and the side conductor portions 6 can be improved.

(SAW装置の変形例4)
側面導体部6は、図10に示すように、蓋体7の側面7Bに位置し、側面導体部6と連続した第2側面導体部6aを有していてもよい。第2側面導体部6aは側面導体部6と連続して設けられている。第2側面導体部6aが蓋体7に設けられていることから、蓋体7が枠体5から剥がれにくくすることができる。また、バンプ8と側面導体部6および第2側面導体部6aが接することにより、接触面積を大きくすることができる。その結果、バンプ8が側面導体部6から剥がれにくくすることができる。
(Modification 4 of the SAW device)
As shown in FIG. 10, the side conductor portion 6 may have a second side conductor portion 6 a that is located on the side surface 7 </ b> B of the lid body 7 and that is continuous with the side conductor portion 6. The second side conductor portion 6 a is provided continuously with the side conductor portion 6. Since the second side conductor portion 6 a is provided on the lid body 7, the lid body 7 can be made difficult to peel off from the frame body 5. Further, the contact area can be increased by contacting the bump 8 with the side conductor portion 6 and the second side conductor portion 6a. As a result, the bumps 8 can be made difficult to peel off from the side conductor portions 6.

さらに、第2側面導体部6aは、図11に示すように、蓋体7の主面7Aにわたって位置してもよい。この場合、蓋体7の厚み方向に第2側面導体部6aが位置する結果、蓋体7の厚み方向に対する剥離が抑制されるため、蓋体7が枠体5から剥がれにくくすることができる。また、このように蓋体7の主面7Aに第2側面導体部6aが位置することにより、SAW装置1を実装基板12に実装した際の衝撃が蓋体7に伝わりにくくする補強材としても機能することになり、SAW装置1の耐衝撃特性を向上させることができる。   Furthermore, the second side conductor portion 6a may be located over the main surface 7A of the lid 7 as shown in FIG. In this case, since the second side conductor portion 6 a is positioned in the thickness direction of the lid body 7, peeling in the thickness direction of the lid body 7 is suppressed, so that the lid body 7 can be made difficult to peel off from the frame body 5. In addition, since the second side conductor portion 6a is positioned on the main surface 7A of the lid body 7 as described above, it can be used as a reinforcing material that makes it difficult for the impact when the SAW device 1 is mounted on the mounting board 12 to be transmitted to the lid body 7. Thus, the impact resistance characteristics of the SAW device 1 can be improved.

さらに、第2側面導体部6aの蓋体7の主面7Aに位置する部分が、図12に示すように、インダクタ成分を含む回路パターン15を有していてもよい。蓋体7の主面7Aであれば、電極パッド4の周辺などと比較して比較的広い面積を有しているため、回路パターン15を容易に設計することができる。   Further, the portion of the second side conductor portion 6a located on the main surface 7A of the lid body 7 may have a circuit pattern 15 including an inductor component as shown in FIG. Since the main surface 7A of the lid 7 has a relatively large area as compared with the periphery of the electrode pad 4 and the like, the circuit pattern 15 can be easily designed.

回路パターン15は、例えばコイル状に形成することによりインダクタとして機能させることができる。このようなインダクタは、SAW装置、SAW装置を含むデュプレクサの整合回路、または減衰極調整用のインダクタとして機能する。さらに、図13に示すように、蓋体7の主面7Aに位置する第2側面導体部6aの一部を覆うように絶縁膜14を設けてもよい。   The circuit pattern 15 can function as an inductor, for example, by forming it in a coil shape. Such an inductor functions as a SAW device, a duplexer matching circuit including the SAW device, or an inductor for adjusting the attenuation pole. Furthermore, as shown in FIG. 13, an insulating film 14 may be provided so as to cover a part of the second side conductor portion 6 a located on the main surface 7 </ b> A of the lid body 7.

(SAW装置の変形例5)
SAW装置1は、図14に示すように、圧電基板2の端側に第2枠体16を有していてもよい。このような第2枠体16は、枠体5と同じ厚み、材料に設定することができる。このような第2枠体16は、SAW装置1において、複数の電極パッド4を囲むように配置されている。このような第2枠体16を有することにより、バンプ8を溶融させたときに、SAW装置1よりも外側にバンプ8が流出しにくくすることができる。
(Modification 5 of the SAW device)
The SAW device 1 may have a second frame 16 on the end side of the piezoelectric substrate 2 as shown in FIG. Such a second frame 16 can be set to the same thickness and material as the frame 5. Such a second frame 16 is arranged in the SAW device 1 so as to surround the plurality of electrode pads 4. By having such a second frame 16, it is possible to make it difficult for the bump 8 to flow out of the SAW device 1 when the bump 8 is melted.

また第2枠体16は、図14に示すように、断面視において、枠体5側の内側面が第1主面2Aに対して傾斜していてもよい。このように傾斜させることによって、側面導体部6を、枠体5、電極パッド4および第2枠体16の表面にわたって連続して形成した場合、剥がれにくくすることができる。また、このように形成した側面導体部6は、バンプ8との接触面積を大きくすることができるので、密着性をさらに向上させることができる。なお、本実施形態では第2側面導体部6aを有していない場合だが、第2側面導体部を設けてさらに接触面積を大きくしてもよい。   As shown in FIG. 14, the second frame 16 may have an inner surface on the frame 5 side inclined with respect to the first main surface 2A in a cross-sectional view. By inclining in this way, when the side conductor portion 6 is continuously formed over the surfaces of the frame body 5, the electrode pad 4 and the second frame body 16, it can be made difficult to peel off. Further, since the side conductor portion 6 formed in this way can increase the contact area with the bump 8, the adhesion can be further improved. In the present embodiment, the second side conductor portion 6a is not provided, but a second side conductor portion may be provided to further increase the contact area.

SAW装置は、以上に例示した実施形態に限定されない。本実施形態では、弾性波装置にバンプがある場合について説明したが、図15に示すように、実装基板12側にバンプ8が配置されていてもよい。弾性波素子(弾性波装置のうちバンプを含まないもの)1’は、圧電基板2、電極パッド4’、枠体5、側面導体部6および蓋体7を有している。弾性波素子1’は、実装基板12に対して、実装方向Thに載置される。   The SAW device is not limited to the embodiment exemplified above. In this embodiment, the case where the elastic wave device has bumps has been described. However, as shown in FIG. 15, the bumps 8 may be arranged on the mounting substrate 12 side. An acoustic wave element (one that does not include a bump among acoustic wave devices) 1 ′ includes a piezoelectric substrate 2, an electrode pad 4 ′, a frame body 5, a side conductor portion 6, and a lid body 7. The acoustic wave element 1 ′ is placed in the mounting direction Th with respect to the mounting substrate 12.

(SAW装置の製造方法)
SAW装置1の製造方法について、各構成の形成方法を以下に説明する。
(Method for manufacturing SAW device)
Regarding the method for manufacturing the SAW device 1, a method for forming each component will be described below.

(励振電極、電極パッドおよび配線の形成)
圧電基板2上に励振電極3、電極パッド4および配線10を形成する。励振電極3、電極パッド4および配線10は、金属層を成膜した後、パターニングすることにより形成することができる。金属層は、スパッタリング法、蒸着法または化学気相成長法等の薄膜形成法により、圧電基板2の第1主面2Aに所定の材料からなる金属層を形成する。その後、金属層を縮小投影露光機およびRIE(Reactive Ion Etching)装置を用いたフォトリソグラフィー法でそれぞれの形状にパターニングする。
(Formation of excitation electrode, electrode pad and wiring)
Excitation electrodes 3, electrode pads 4 and wirings 10 are formed on the piezoelectric substrate 2. The excitation electrode 3, the electrode pad 4, and the wiring 10 can be formed by forming a metal layer and then patterning it. As the metal layer, a metal layer made of a predetermined material is formed on the first main surface 2A of the piezoelectric substrate 2 by a thin film forming method such as a sputtering method, a vapor deposition method or a chemical vapor deposition method. Thereafter, the metal layer is patterned into each shape by a photolithography method using a reduction projection exposure machine and an RIE (Reactive Ion Etching) apparatus.

励振電極3上に保護膜を形成してもよい。保護膜としてはSiOを用いることができる。保護膜は、化学気相成長法または蒸着法等の薄膜形成法を用いて、励振電極3を覆うように形成する。このように励振電極3を保護膜で覆うことにより、櫛歯状電極9の電極指9b同士の短絡を防止することができる。保護膜は、厚みが、例えば8nm以上20nm以下となるように設定することができる。なお、保護層を設ける場合、電極パッド4または配線10は露出するように形成する。 A protective film may be formed on the excitation electrode 3. SiO 2 can be used as the protective film. The protective film is formed so as to cover the excitation electrode 3 by using a thin film forming method such as chemical vapor deposition or vapor deposition. By covering the excitation electrode 3 with the protective film in this way, a short circuit between the electrode fingers 9b of the comb-like electrode 9 can be prevented. The protective film can be set to have a thickness of, for example, 8 nm or more and 20 nm or less. When the protective layer is provided, the electrode pad 4 or the wiring 10 is formed so as to be exposed.

接続強化層11は、リフトオフ法により形成することができる。具体的には、電極パッド4が露出するように、第1主面2A側にフォトレジストを形成する。その後、接続強化層11となる金属膜を成膜する。接続強化層11として複数の層を積層する場合には、異なる原料のスパッタリングを複数回行なって金属膜を成膜する。しかる後、フォトレジストを剥離することにより、所定の位置(電極パッド4)に接続強化層11を形成することができる。   The connection reinforcing layer 11 can be formed by a lift-off method. Specifically, a photoresist is formed on the first main surface 2A side so that the electrode pad 4 is exposed. Thereafter, a metal film to be the connection reinforcing layer 11 is formed. When a plurality of layers are stacked as the connection reinforcing layer 11, different raw materials are sputtered multiple times to form a metal film. Thereafter, the connection reinforcing layer 11 can be formed at a predetermined position (electrode pad 4) by removing the photoresist.

(枠体および蓋体の形成)
次に、励振電極3を覆い外部環境から保護するとともに励振空間Spを形成する保護カバーを形成する。保護カバーの形成は枠部5の形成と蓋部7の形成との2段階によって行われる。
(Formation of frame and lid)
Next, a protective cover that covers the excitation electrode 3 and protects it from the external environment and forms the excitation space Sp is formed. The protective cover is formed in two stages, that is, the formation of the frame portion 5 and the formation of the lid portion 7.

まず、保護膜及び接続パッド上に枠部となる第1の層が形成される。第1の層は例えば、ネガ型のフォトレジストにより形成されたフィルムが貼り付けられることにより形成される。次に、フォトマスクを介して紫外線等の光が第1の層に照射されることにより露光処理が行われる。   First, a first layer serving as a frame portion is formed on the protective film and the connection pad. The first layer is formed, for example, by attaching a film formed of a negative photoresist. Next, an exposure process is performed by irradiating the first layer with light such as ultraviolet rays through a photomask.

フォトマスクは、例えば、透明基板上に遮光層が形成されることにより構成されている。遮光層は第1の層を除去すべき位置に対応する位置に配置されている。なお、露光は、投影露光、プロキシミティ露光または密着露光を用いることができる。その後、現像処理を行い光が照射された部分を残し、光が照射されなかった部分を除去する。これにより枠部5が形成される。   The photomask is configured, for example, by forming a light shielding layer on a transparent substrate. The light shielding layer is disposed at a position corresponding to the position where the first layer is to be removed. In addition, projection exposure, proximity exposure, or contact | adherence exposure can be used for exposure. Thereafter, a development process is performed to leave a portion irradiated with light, and a portion not irradiated with light is removed. Thereby, the frame part 5 is formed.

次に蓋部7を形成する。まず、枠部5上に蓋部7を構成する第2の層が形成される。第2の層は、例えば、ネガ型のフォトレジストにより形成されたフィルムが貼り付けられることにより形成される。第2の層が形成されることにより枠部の開口部が塞がれて励振空間Spが形成される。第1の層と第2の層とは加熱されることによって接合される。次に、フォトマスクを介して紫外線等の光が第1の層に照射されることにより露光処理が行われる。フォトマスクは、例えば、透明基板上に遮光層が形成されることにより構成されている。   Next, the lid portion 7 is formed. First, the second layer constituting the lid portion 7 is formed on the frame portion 5. The second layer is formed, for example, by attaching a film formed of a negative photoresist. By forming the second layer, the opening of the frame is closed and the excitation space Sp is formed. The first layer and the second layer are joined by heating. Next, an exposure process is performed by irradiating the first layer with light such as ultraviolet rays through a photomask. The photomask is configured, for example, by forming a light shielding layer on a transparent substrate.

遮光層は第1の層を除去すべき位置に対応する位置に配置されている。なお、露光は、投影露光、プロキシミティ露光または密着露光を用いることができる。その後、現像処理を行い光が照射された部分を残し、光が照射されなかった部分を除去する。これにより蓋部7が形成される。蓋部7が形成されることにより枠部5と蓋部7からなる保護カバーが完成する。   The light shielding layer is disposed at a position corresponding to the position where the first layer is to be removed. In addition, projection exposure, proximity exposure, or contact | adherence exposure can be used for exposure. Thereafter, a development process is performed to leave a portion irradiated with light, and a portion not irradiated with light is removed. Thereby, the cover part 7 is formed. By forming the lid portion 7, a protective cover including the frame portion 5 and the lid portion 7 is completed.

(側面導体部の形成)
次に側面導体部6を形成する。側面導体部6は圧電基板2の第1主面2Aから保護カバー側面にかけて形成され、材質としては、例えばCu(厚み10μm)、Ni(厚み2μm)およびAu(0.02μm)の三層構造からなる。このような側面導体部6の形成方法としては、CuおよびNiをメッキした後、Auをフラッシュメッキすることによりにて形成することができる。
(Formation of side conductor)
Next, the side conductor portion 6 is formed. The side conductor portion 6 is formed from the first main surface 2A of the piezoelectric substrate 2 to the side surface of the protective cover, and is made of, for example, a three-layer structure of Cu (thickness 10 μm), Ni (thickness 2 μm), and Au (0.02 μm). . As a method for forming such a side conductor portion 6, it can be formed by plating Cu and Ni and then flash plating Au.

次に、側面導体部6の形成プロセスについて説明する。側面導体部6および保護カバー(枠体5および蓋体7)の側面を覆うメッキ用下地層を形成する。その後、メッキ法により側面導体部6を形成する。メッキ用下地層は、側面導体部6を電気的に析出させたり、化学的に析出させて形成したりするためのものである。   Next, a process for forming the side conductor portion 6 will be described. A plating base layer is formed to cover the side conductors 6 and the side surfaces of the protective cover (frame body 5 and lid body 7). Thereafter, the side conductor portion 6 is formed by a plating method. The plating underlayer is for forming the side conductor portion 6 by electrical deposition or chemical deposition.

蓋体7の主面7Aに形成されたメッキ用下地層は、整合回路または、減衰極調整用のインダクタを形成する導体層の一部とすることができる。なお、メッキ用下地層の材料として、一般的にはCuが利用されるが、CuとAl−Cu配線の密着性を考慮するとCrやTiの密着層を介在させてもよい。この場合、密着性を向上させることができる。また、メッキの厚さはメッキ処理時間で決定されるが、30μmを超える場合は電気メッキ処理を用いてもよい。これにより、処理速度を向上させることができ、生産性を向上させることができる。最後に、半田付けを良好に保つ為に、NiおよびAuの形成を行なう。   The plating base layer formed on the main surface 7A of the lid 7 can be a part of a conductor layer that forms a matching circuit or an inductor for adjusting the attenuation pole. In general, Cu is used as the material for the plating base layer, but an adhesive layer of Cr or Ti may be interposed in consideration of the adhesiveness between Cu and Al—Cu wiring. In this case, the adhesion can be improved. Moreover, although the thickness of plating is determined by the plating processing time, if it exceeds 30 μm, electroplating may be used. Thereby, a processing speed can be improved and productivity can be improved. Finally, Ni and Au are formed in order to maintain good soldering.

1 弾性波(SAW)装置
2 圧電基板
3 励振電極
4 電極パッド
5 枠体
5A 外側面
6 側面導体部
6a 第2側面導体部
7 蓋体
7A 主面
8 バンプ
9 櫛歯状電極
9a バスバー
9b 電極指
9c 反射器
10 配線
11 接続強化層
12 実装基板
12A 実装面
13 実装パッド
14 絶縁膜
15 回路パターン
16 第2枠体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Elastic wave (SAW) apparatus 2 Piezoelectric substrate 3 Excitation electrode 4 Electrode pad 5 Frame 5A Outer side surface 6 Side surface conductor part 6a 2nd side surface conductor part 7 Lid body 7A Main surface 8 Bump 9 Comb-like electrode 9a Bus bar 9b Electrode finger 9c Reflector 10 Wiring 11 Connection strengthening layer 12 Mounting substrate 12A Mounting surface 13 Mounting pad 14 Insulating film 15 Circuit pattern 16 Second frame

Claims (9)

圧電基板と、
該圧電基板上に位置する励振電極と、
前記圧電基板上に位置し、前記励振電極と電気的に接続された電極パッドと、
前記圧電基板上に位置し、内側に前記励振電極を囲むとともに、外側に前記電極パッドが位置する枠体と、
該枠体の外側面に位置し、導体材料からなる側面導体部と、
該枠体に載置された蓋体と、
前記電極パッドと電気的に接続されるとともに、前記側面導体部と接するバンプとを有する弾性波装置。
A piezoelectric substrate;
An excitation electrode located on the piezoelectric substrate;
An electrode pad located on the piezoelectric substrate and electrically connected to the excitation electrode;
A frame located on the piezoelectric substrate, enclosing the excitation electrode on the inside, and the electrode pad on the outside;
A side conductor portion made of a conductor material, located on the outer surface of the frame;
A lid placed on the frame;
An elastic wave device having a bump electrically connected to the electrode pad and in contact with the side conductor portion.
実装基板に対してバンプを介して実装される弾性波装置であって、
圧電基板と、
該圧電基板上に位置する励振電極と、
前記圧電基板上に位置し、前記バンプと接する、前記励振電極と電気的に接続された電極パッドと、
前記圧電基板上に位置し、内側に前記励振電極を囲むとともに、外側に前記電極パッドが位置する枠体と、
該枠体の外側面に位置し、前記バンプと接する、導体材料からなる側面導体部と、
該枠体に載置された蓋体とを有する弾性波装置。
An elastic wave device mounted on a mounting substrate via bumps,
A piezoelectric substrate;
An excitation electrode located on the piezoelectric substrate;
An electrode pad located on the piezoelectric substrate and in contact with the bump, electrically connected to the excitation electrode;
A frame located on the piezoelectric substrate, enclosing the excitation electrode on the inside, and the electrode pad on the outside;
A side conductor portion made of a conductor material, located on the outer surface of the frame, and in contact with the bump;
An elastic wave device having a lid placed on the frame.
前記側面導体部は、前記電極パッドの表面にわたって連続して設けられている請求項1または2に記載の弾性波装置。   The elastic wave device according to claim 1, wherein the side conductor portion is provided continuously over the surface of the electrode pad. 前記側面導体部は、前記蓋体の側面に位置し、前記側面導体部と連続した第2側面導体部を有している請求項1〜3のいずれかに記載の弾性波装置。   The said side conductor part is located in the side surface of the said cover body, The elastic wave apparatus in any one of Claims 1-3 which has the 2nd side conductor part which followed the said side conductor part. 前記第2側面導体部は、前記蓋体の側面から主面にわたって位置する請求項4に記載の弾性波装置。   The elastic wave device according to claim 4, wherein the second side conductor portion is located from a side surface to a main surface of the lid body. 前記第2側面導体部の前記蓋体の主面に位置する部分が、インダクタ成分を含む回路パターンを有する請求項5に記載の弾性波装置。   The acoustic wave device according to claim 5, wherein a portion of the second side conductor portion located on the main surface of the lid has a circuit pattern including an inductor component. 請求項1または請求項1に係る請求項3〜6のいずれかに記載の弾性波装置と、
該弾性波装置が前記バンプを介して実装される実装パッドを有する実装基板とを有する電子部品モジュール。
The elastic wave device according to any one of claims 3 to 6 according to claim 1 or claim 1,
An electronic component module comprising a mounting substrate having a mounting pad on which the acoustic wave device is mounted via the bump.
請求項2または請求項2に係る請求項3〜6のいずれかに記載の弾性波装置と、
前記電極パッドに電気的に接続されるバンプと、
前記弾性波装置が前記バンプを介して実装される実装パッドを有する実装基板とを有する電子部品モジュール。
The elastic wave device according to any one of claims 3 to 6 according to claim 2 or claim 2,
Bumps electrically connected to the electrode pads;
An electronic component module comprising: a mounting substrate having a mounting pad on which the acoustic wave device is mounted via the bump.
請求項7または8に記載の電子部品モジュールと、
前記弾性波装置に電気的に接続されたアンテナ部とを有する移動体端末。
The electronic component module according to claim 7 or 8,
A mobile terminal having an antenna portion electrically connected to the acoustic wave device.
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