JP2015009431A - Image formation device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image formation device of a low cost which has a stable graduation expression.SOLUTION: An exposure part 30 comprises a lens group 310 having plural lenses which are arranged in a first direction, and a device array 301 which is so disposed as to face the lens group 310 and has plural organic EL elements 302 which are arranged on a substrate 305 parallel to the first direction. A drive circuit 303, which has plural TFT circuits 306 for controlling a brightness of the organic EL elements 302 per a unit time, is disposed on the substrate 305, and the TFT circuit 306 controls the brightness of the organic EL elements 302 on the basis of a signal created by an area graduation method.

Description

本発明は画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to an image forming apparatus.

電子写真プロセスなどを用いたプリンタ等の画像形成装置に用いられる、感光体を選択的に露光するための露光ヘッドとしては、特許文献1のように、発光素子アレイとマイクロレンズアレイとを備えた構成が提案されている。発光素子は、Light Emitting Diode(LED)素子や有機Electro Luminescence(EL)素子などが用いられる。特に、有機EL素子アレイを露光ヘッドに用いる場合には、LED素子アレイのように高精度に発光素子を並べる必要が無く、モノリシックに基板上に形成できるため、コストを低減することができる。   As an exposure head for selectively exposing a photoconductor used in an image forming apparatus such as a printer using an electrophotographic process, a light emitting element array and a microlens array are provided as in Patent Document 1. A configuration is proposed. As the light emitting element, a Light Emitting Diode (LED) element, an organic Electro Luminescence (EL) element, or the like is used. In particular, when the organic EL element array is used for the exposure head, it is not necessary to arrange the light emitting elements with high precision unlike the LED element array, and the cost can be reduced because it can be formed monolithically on the substrate.

一方、発光素子アレイの各画素の画像信号は、ハーフトーン画像の階調表現において、ディザ法や誤差拡散法といった面積階調法によって決定される。特許文献2では、多値の面積階調法で画像信号を作成することについて提案されている。   On the other hand, the image signal of each pixel of the light emitting element array is determined by an area gradation method such as a dither method or an error diffusion method in gradation expression of a halftone image. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228561 proposes creating an image signal by a multi-value area gradation method.

各発光素子の階調制御の代表的な方法として、露光時間を制御するパルス幅変調が挙げられる。   As a typical method of gradation control of each light emitting element, there is pulse width modulation for controlling the exposure time.

特開2011−110762号公報JP 2011-110762 A 特開2002−16802号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-16802

パルス幅変調を行うためには、周辺回路あるいは画素回路の要素の一つである薄膜トランジスタ(TFT)の数が向上し、歩留まりの低下やTFTの作製される全領域の面積の増加に伴う基板面積の増加が生じ、コストが高くなるという問題がある。   In order to perform pulse width modulation, the number of thin film transistors (TFTs), which are one of the elements of the peripheral circuit or pixel circuit, is improved, and the substrate area is accompanied by a decrease in yield and an increase in the total area of the TFT manufactured. There is a problem that the increase in cost occurs and the cost increases.

そこで、本発明の目的は、低コストであり、階調表現が安定した画像形成装置を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an image forming apparatus that is low in cost and has stable gradation expression.

本発明の画像形成装置は、感光体と、前記感光体を帯電する帯電部と、前記感光体の表面に静電潜像を形成する露光部と、前記静電潜像をトナー像として現像する現像部と、前記トナー像を被転写材に転写する転写部と、前記転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着部と、を備えた画像形成装置であって、前記露光部は、第1の方向に配列された複数のレンズを有するレンズ群と、前記レンズ群と対向して配置され、基板の上に前記第1の方向と平行に配列された複数の有機EL素子を有する素子アレイと、を備え、前記素子アレイの基板には、前記複数の有機EL素子の単位時間当たりの輝度をそれぞれ制御するための複数のトランジスタ回路を有する駆動回路が配置され、面積階調法によって作成された信号に基づき、前記トランジスタ回路は前記有機EL素子の前記輝度を制御することを特徴とする。   The image forming apparatus of the present invention develops the electrostatic latent image as a toner image, a charging unit that charges the photosensitive member, an exposure unit that forms an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive member, and the electrostatic latent image. An image forming apparatus comprising: a developing unit; a transfer unit that transfers the toner image onto a transfer material; and a fixing unit that fixes the transferred toner image onto the transfer material. A lens group having a plurality of lenses arranged in a first direction, and an element having a plurality of organic EL elements arranged opposite to the lens group and arranged in parallel with the first direction on a substrate And a drive circuit having a plurality of transistor circuits for controlling the luminance per unit time of the plurality of organic EL elements is arranged on the substrate of the element array, and is created by an area gradation method Based on the received signal. Register circuit and controls the luminance of the organic EL element.

本発明によれば、低コストであり、階調表現が安定した画像形成装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an image forming apparatus that is low in cost and has stable gradation expression.

本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略図Schematic showing an example of an image forming apparatus according to the present embodiment 本実施形態に係る画像形成装置に用いる露光ヘッドの概略図Schematic of an exposure head used in the image forming apparatus according to the present embodiment 本実施形態に係る露光ヘッドの素子アレイの一例を示す概略図Schematic showing an example of an element array of an exposure head according to the present embodiment 振幅変調を行う場合の有機EL素子を駆動するための回路の概略図Schematic diagram of a circuit for driving an organic EL element when amplitude modulation is performed パルス幅変調を行う場合の有機EL素子を駆動するための回路の概略図Schematic diagram of a circuit for driving an organic EL element when performing pulse width modulation 本実施形態に係る画像形成装置の画像処理を説明するための概略図Schematic for explaining image processing of the image forming apparatus according to the present embodiment パルス幅変調を行う場合の面積階調法を説明する図The figure explaining the area gradation method in the case of performing pulse width modulation パルス幅変調を行う場合の階調変化を説明する図Diagram explaining gradation change when pulse width modulation is performed 振幅変調を行う場合の面積階調法を説明する図The figure explaining the area gradation method in the case of amplitude modulation 振幅変調を行う場合の階調変化を説明する図The figure explaining the gradation change in the case of amplitude modulation パルス幅変調による階調別露光分布断面図Cross-sectional view of exposure distribution by gradation using pulse width modulation 輝度変調による階調別露光分布断面図Cross-sectional view of exposure distribution by gradation by luminance modulation パルス幅変調と輝度変調における階調と線幅変化量との関係図Relationship diagram between gradation and line width variation in pulse width modulation and luminance modulation 本実施形態の露光ヘッドのレンズ群の一例を示す図FIG. 5 is a view showing an example of a lens group of the exposure head of the present embodiment. 本実施形態のレンズ群の結像系を説明する図The figure explaining the image formation system of the lens group of this embodiment 本実施形態に係るレンズ群の主配列断面図及び副配列断面図Main array sectional view and sub-array sectional view of the lens group according to this embodiment 比較例のレンズ群の各発光点位置からの結像光束を示す主配列断面図Main array sectional view showing imaging light flux from each light emitting point position of lens group of comparative example 本実施形態に係るレンズ群の各発光点位置からの結像光束を示す主配列断面図Main array sectional view showing imaging light flux from each light emitting point position of the lens group according to the present embodiment 比較例に係るレンズ群を用いた場合の発光点位置と結像光量比との関係図Relationship diagram between light emitting point position and imaging light quantity ratio when using lens group according to comparative example 本実施形態のレンズ群を用いた場合の発光点位置と結像光量比との関係図Relationship diagram between light emitting point position and imaging light quantity ratio when the lens group of this embodiment is used

以下、本発明における実施形態について図面に則して詳しく説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[電子写真画像形成装置]
本実施形態の画像形成装置について図1を用いて説明する。図1は、本実施形態の画像形成装置1の概略断面図である。本実施形態の画像形成装置1は、インライン方式、中間転写方式を採用したフルカラーレーザープリンタである。
[Electrophotographic image forming apparatus]
The image forming apparatus of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an image forming apparatus 1 of the present embodiment. The image forming apparatus 1 of this embodiment is a full-color laser printer that employs an inline method and an intermediate transfer method.

画像形成装置1は、画像情報にしたがって、記録紙100(例えば、記録用紙、プラスチックシート、布など)にフルカラー画像を形成することができる。画像情報は、画像形成装置1に接続された不図示の画像読み取り装置、或いは画像形成装置1に通信可能に接続されたパーンナルコンピュータ等のホスト機器から、画像形成装置1に入力される。画像形成装置1は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)の各色の画像を形成するための第1、第2、第3、第4の画像形成部SY、SM、SC、SKを有する。本実施形態では、第1〜第4の画像形成部SY、SM、SC、SKは、水平方向に一列に配置されている。なお、本実施形態では、第1〜第4の画像形成部SY、SM、SC、SKの構成及び動作は、形成する画像の色が異なることを除いて実質的に同じである。以下、特に区別を要しない場合は、図1においていずれかの色用に設けられた要素であることを表すために符号に与えた添え字であるY、M、C、Kは省略して、総括的に説明する。   The image forming apparatus 1 can form a full-color image on a recording paper 100 (for example, a recording paper, a plastic sheet, a cloth, etc.) according to the image information. The image information is input to the image forming apparatus 1 from an image reading apparatus (not shown) connected to the image forming apparatus 1 or a host device such as a personal computer connected to the image forming apparatus 1 so as to be communicable. The image forming apparatus 1 includes first, second, third, and fourth image forming units SY for forming yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (K) images. , SM, SC, SK. In the present embodiment, the first to fourth image forming units SY, SM, SC, and SK are arranged in a line in the horizontal direction. In the present embodiment, the configurations and operations of the first to fourth image forming units SY, SM, SC, and SK are substantially the same except that the colors of images to be formed are different. In the following, unless there is a particular distinction, the subscripts Y, M, C, and K given to the reference numerals to represent the elements provided for any color in FIG. 1 are omitted, A general description.

本実施形態では、画像形成装置1は複数の像担持体として、水平方向に並設された4個のドラム型の電子写真感光体、すなわち、感光体ドラム10を有する。感光体ドラム10は、図示矢印方向(時計回り方向)に図示しない駆動部(駆動源)により回転駆動される。   In the present embodiment, the image forming apparatus 1 includes four drum-type electrophotographic photosensitive members, that is, the photosensitive drums 10 arranged in parallel in the horizontal direction as a plurality of image carriers. The photosensitive drum 10 is rotationally driven by a drive unit (drive source) (not shown) in an arrow direction (clockwise direction) shown in the drawing.

まず、感光体ドラム10の周囲には、帯電部としての帯電ローラ40が配置されている。この帯電ローラ40により、感光体ドラム10の表面を均―に負極性に帯電する。   First, a charging roller 40 as a charging unit is disposed around the photosensitive drum 10. By this charging roller 40, the surface of the photosensitive drum 10 is uniformly charged to a negative polarity.

次に、画像信号に基づき光を照射して感光体ドラム10上に静電潜像を形成する露光部としての露光ヘッド30が配置されている。露光ヘッド30により感光体ドラム10上の所定の箇所が露光され、感光体ドラム10の所定の箇所の帯電が減衰する。   Next, an exposure head 30 is disposed as an exposure unit that irradiates light based on an image signal to form an electrostatic latent image on the photosensitive drum 10. A predetermined portion on the photosensitive drum 10 is exposed by the exposure head 30, and charging of the predetermined portion of the photosensitive drum 10 is attenuated.

更に、感光体ドラム10の周囲には、静電像をトナー像として現像する現像部としての現像ユニット20が配置される。なお、本実施形態では、現像ユニット20は、現像剤として非磁性一成分現像剤、すなわち、トナーを用いる。又、本実施形態では、現像ユニット20は、現像剤担持体としての現像ローラ21を感光体ドラム10に対して接触させて現像を行うものである。すなわち、本実施形態では、現像ユニット20内の現像ローラ21に感光体ドラム10の帯電極性と同極性(本実施形態では負極性)の電圧を印可する。このため、現像ローラ21とアースに繋がれた感光体ドラム10との間に電界を発生させて、負極性に帯電したトナーを感光体ドラム10上の露光により電荷が減衰した部分(画像部、露光部)に付着させることで静電像を現像する。   Further, a developing unit 20 as a developing unit that develops an electrostatic image as a toner image is disposed around the photosensitive drum 10. In the present embodiment, the developing unit 20 uses a non-magnetic one-component developer, that is, toner, as the developer. In the present embodiment, the developing unit 20 performs development by bringing a developing roller 21 as a developer carrying member into contact with the photosensitive drum 10. That is, in the present embodiment, a voltage having the same polarity as the charging polarity of the photosensitive drum 10 (negative polarity in the present embodiment) is applied to the developing roller 21 in the developing unit 20. For this reason, an electric field is generated between the developing roller 21 and the photosensitive drum 10 connected to the ground, and the negatively charged toner is a portion where the charge is attenuated by exposure on the photosensitive drum 10 (image portion, The electrostatic image is developed by adhering to the exposed portion.

更に、4個の感光体ドラム10に対向して、感光体ドラム10上のトナー像を記録紙100に転写するための中間転写体(被転写材)としての中間転写ベルト50が配置されている。ここで、中間転写体としての無端状のベルトで形成された中間転写ベルト50は、全ての感光体ドラム10に当接し、図示矢印方向(反時計方向)に循環移動(回転)する。中間転写ベルト50は、複数の支持部材、一次転写ローラ51、二次転写対向ローラ55、従動ローラ53、駆動ローラ54に掛け渡されている。中間転写ベルト50の内周面側には、各感光体ドラム10に対向するように、一次転写部としての、4個の一次転写ローラ51が並設されている。一次転写ローラ51は、中間転写ベルト50を感光体ドラム10に向けて押圧し、中間転写ベルト50と感光体ドラム10とが当接する一次転写部を形成する。そして、一次転写ローラ51に、図示しない一次転写バイアス印加部としての一次転写バイアス電源(高圧電源)から、トナーの帯電極性とは逆極性のバイアスが印加される。これによって、感光体ドラム10上のトナー像が中間転写ベルト50上に転写(一次転写)される。   Further, an intermediate transfer belt 50 as an intermediate transfer body (transfer material) for transferring the toner image on the photosensitive drum 10 to the recording paper 100 is disposed so as to face the four photosensitive drums 10. . Here, the intermediate transfer belt 50 formed of an endless belt as an intermediate transfer member abuts on all the photosensitive drums 10 and circulates (rotates) in the direction indicated by the arrow (counterclockwise). The intermediate transfer belt 50 is stretched around a plurality of support members, a primary transfer roller 51, a secondary transfer counter roller 55, a driven roller 53, and a driving roller 54. On the inner peripheral surface side of the intermediate transfer belt 50, four primary transfer rollers 51 as primary transfer portions are arranged in parallel so as to face the respective photosensitive drums 10. The primary transfer roller 51 presses the intermediate transfer belt 50 toward the photosensitive drum 10 to form a primary transfer portion where the intermediate transfer belt 50 and the photosensitive drum 10 come into contact with each other. A bias having a polarity opposite to the charging polarity of the toner is applied to the primary transfer roller 51 from a primary transfer bias power source (high voltage power source) as a primary transfer bias application unit (not shown). As a result, the toner image on the photosensitive drum 10 is transferred (primary transfer) onto the intermediate transfer belt 50.

また、中間転写ベルト50の外周面側において二次転写対向ローラ55に対向する位置には、二次転写部としての二次転写ローラ52が配置されている。二次転写ローラ52は中間転写ベルト50を介して二次転写対向ローラ55に圧接し、中間転写ベルト50と二次転写ローラ52とが当接する二次転写部を形成する。そして、二次転写ローラ52に、図示しない二次転写バイアス印加部としての二次転写バイアス電源(高圧電源)から、トナーの正規の帯電極性とは逆極性のバイアスが印加される。これによって、中間転写ベルト50上のトナー像が給紙ユニットから給送された記録紙100に転写(二次転写)される。   Further, a secondary transfer roller 52 as a secondary transfer portion is disposed at a position facing the secondary transfer counter roller 55 on the outer peripheral surface side of the intermediate transfer belt 50. The secondary transfer roller 52 is pressed against the secondary transfer counter roller 55 via the intermediate transfer belt 50 to form a secondary transfer portion where the intermediate transfer belt 50 and the secondary transfer roller 52 come into contact with each other. Then, a bias having a polarity opposite to the normal charging polarity of the toner is applied to the secondary transfer roller 52 from a secondary transfer bias power source (high voltage power source) as a secondary transfer bias application unit (not shown). As a result, the toner image on the intermediate transfer belt 50 is transferred (secondary transfer) to the recording paper 100 fed from the paper feeding unit.

更に、転写後の感光体ドラム10の表面に残ったトナー(転写残トナー)をクリーニングするクリーニング部90が配置されている。   Further, a cleaning unit 90 for cleaning toner remaining on the surface of the photosensitive drum 10 after transfer (transfer residual toner) is disposed.

このように感光体ドラム10の回転方向において、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの順に行われる。   In this way, charging, exposure, development, transfer, and cleaning are performed in the order of rotation of the photosensitive drum 10.

最後に、トナー像が転写された記録紙100は、定着部としての定着装置80に搬送される。定着装置80において記録紙100に熱及び圧力を加えられることで、記録紙100にトナー像が定着される。   Finally, the recording paper 100 onto which the toner image has been transferred is conveyed to a fixing device 80 as a fixing unit. The toner image is fixed on the recording paper 100 by applying heat and pressure to the recording paper 100 in the fixing device 80.

また、二次転写工程後に中間転写ベルト50上に残留した二次転写残トナーは、中間転写ベルトクリーニング装置56によって清掃される。   The secondary transfer residual toner remaining on the intermediate transfer belt 50 after the secondary transfer process is cleaned by the intermediate transfer belt cleaning device 56.

なお、画像形成装置1は、所望の単独又はいくつか(全てではない)の画像形成部のみを用いて、単色又はマルチカラーの画像を形成することもできるようになっている。   The image forming apparatus 1 can also form a single-color or multi-color image using only a desired single or some (not all) image forming units.

ここまで説明した画像形成装置構成については、本実施形態を説明するために一例を示したものであり、本発明の主旨からして限定されるものではない。   The image forming apparatus configuration described so far is merely an example for explaining the present embodiment, and is not limited to the gist of the present invention.

次に、露光ヘッド30について説明する。図2(a)は、露光ヘッド30の組図を示し、図2(b)には露光ヘッド30の分解図を示している。図2(b)に示すように、露光ヘッド30は、有機EL素子を複数配置された素子アレイ301、枠体360、レンズ群310から構成される。素子アレイ301とレンズ群310は、レンズ群310の焦点位置で定められる適正な位置にアライメントされ、枠体360に位置決め固定される。   Next, the exposure head 30 will be described. FIG. 2A shows an assembly diagram of the exposure head 30, and FIG. 2B shows an exploded view of the exposure head 30. As shown in FIG. 2B, the exposure head 30 includes an element array 301 in which a plurality of organic EL elements are arranged, a frame 360, and a lens group 310. The element array 301 and the lens group 310 are aligned at an appropriate position determined by the focal position of the lens group 310, and are positioned and fixed to the frame 360.

素子アレイ301の詳細図を図3に示す。図3において、素子アレイ301は、基板305と、基板305に配置された複数の有機EL素子302と、複数の有機EL素子302を駆動するための駆動回路303と、コネクタ304とを備えている。具体的には、駆動回路303と複数の有機EL素子302が基板305上にモノリシックに形成されている。   A detailed view of the element array 301 is shown in FIG. 3, the element array 301 includes a substrate 305, a plurality of organic EL elements 302 arranged on the substrate 305, a drive circuit 303 for driving the plurality of organic EL elements 302, and a connector 304. . Specifically, the drive circuit 303 and the plurality of organic EL elements 302 are monolithically formed on the substrate 305.

本実施形態では、有機EL素子302はボトムエミッション型であり、基板305を介して光が射出される。また、複数の有機EL素子302は、封止部材(不図示)により封止されている。図3に示すように、複数の有機EL素子302は基板305上でY方向に千鳥状に配置されている。駆動回路303により各有機EL素子302の発光タイミングを制御することによって、各有機EL素子302により露光されるスポットが、感光体ドラム10上で直線上に並ぶようにしている。このとき、感光体ドラム10上の各スポットがわずかに重なり合うように、有機EL素子302の配置位置、レンズ群310の位置、形状などが設計されている。なお、有機EL素子302は千鳥状に配列されずに一列で配置されていてもよい。   In this embodiment, the organic EL element 302 is a bottom emission type, and light is emitted through the substrate 305. The plurality of organic EL elements 302 are sealed with a sealing member (not shown). As shown in FIG. 3, the plurality of organic EL elements 302 are arranged on the substrate 305 in a staggered pattern in the Y direction. By controlling the light emission timing of each organic EL element 302 by the drive circuit 303, the spots exposed by each organic EL element 302 are arranged in a straight line on the photosensitive drum 10. At this time, the arrangement position of the organic EL element 302 and the position and shape of the lens group 310 are designed so that the spots on the photosensitive drum 10 slightly overlap each other. The organic EL elements 302 may be arranged in a line without being arranged in a staggered pattern.

コネクタ304は、配線によって駆動回路303と電気的に接続されており、不図示の画像形成装置の本体側の制御基板(不図示)とケーブルにより接続される。本体側の制御基板からコネクタ304を介して入力されるデータ信号に応じて、有機EL素子302が発光する。具体的には、画像信号に応じて、駆動回路303にて各有機EL素子302に流れる電流値を制御することで、所望の輝度で選択的に有機EL素子302を発光させる。   The connector 304 is electrically connected to the drive circuit 303 by wiring, and is connected to a control board (not shown) on the main body side of the image forming apparatus (not shown) by a cable. The organic EL element 302 emits light according to a data signal input from the control board on the main body side via the connector 304. Specifically, the current value flowing through each organic EL element 302 is controlled by the drive circuit 303 in accordance with the image signal, thereby causing the organic EL element 302 to selectively emit light with a desired luminance.

図4に、図3に示した駆動回路303を構成するTFT回路(トランジスタ回路)306を示す。複数ここでいうTFT回路306とは、1つの有機EL素子302を駆動し、その発光を制御するための回路である。駆動回路303は、TFT回路306を有機EL素子の個数有している。なお、信号線、参照電圧線、電源線は、各TFT回路306に共通で接続されている。   FIG. 4 shows a TFT circuit (transistor circuit) 306 constituting the drive circuit 303 shown in FIG. A plurality of TFT circuits 306 here are circuits for driving one organic EL element 302 and controlling the light emission. The drive circuit 303 has the number of TFT circuits 306 of organic EL elements. Note that the signal line, the reference voltage line, and the power supply line are commonly connected to the TFT circuits 306.

TFT回路306はTFT素子を5個有している。そして、5個のTFT素子が図4の如く接続されることにより、信号線で送られるデータ信号に応じて有機EL素子302に流れる電流値を制御している。そして、有機EL素子302はTFT回路から供給される電流値に応じた輝度で発光する。このような構成により、この有機EL素子302は、画像信号に対応した輝度で発光する。図4で示すように、本実施形態のTFT回路306は、階調表現のために、有機EL素子302の単位時間あたりの輝度(以下、振幅という)、具体的には有機EL素子302に流れる電流値を制御する構成である。この構成を振幅変調という。   The TFT circuit 306 has five TFT elements. Then, by connecting the five TFT elements as shown in FIG. 4, the value of the current flowing through the organic EL element 302 is controlled in accordance with the data signal sent through the signal line. The organic EL element 302 emits light with a luminance corresponding to the current value supplied from the TFT circuit. With such a configuration, the organic EL element 302 emits light with luminance corresponding to the image signal. As shown in FIG. 4, the TFT circuit 306 of the present embodiment flows in luminance (hereinafter referred to as amplitude) per unit time of the organic EL element 302, specifically, the organic EL element 302 for gradation expression. In this configuration, the current value is controlled. This configuration is called amplitude modulation.

一方、図5で示すTFT回路316(太線で囲まれた部分)は、一般的なレーザースキャナと同じく、有機EL素子302の発光時間を制御する構成である。この構成をパルス幅変調という。図5で示すように、TFT回路316は、図4で示したTFT回路306の構成と同様の定電流源回路が必要である。その上、TFT回路316は、定電流源回路を時分割で駆動するために、EV−PWM回路及びOD−PWM回路が必要となる。このため、パルス幅変調を行うためのTFT回路316は、回路規模が大きくなる。具体的には、TFT回路316のTFT素子の数は、図4で示したTFT回路306と比して約4倍の21個必要となる。   On the other hand, a TFT circuit 316 (a portion surrounded by a thick line) shown in FIG. 5 has a configuration for controlling the light emission time of the organic EL element 302 as in a general laser scanner. This configuration is called pulse width modulation. As shown in FIG. 5, the TFT circuit 316 requires a constant current source circuit similar to the configuration of the TFT circuit 306 shown in FIG. In addition, the TFT circuit 316 needs an EV-PWM circuit and an OD-PWM circuit in order to drive the constant current source circuit in a time division manner. For this reason, the circuit scale of the TFT circuit 316 for performing pulse width modulation increases. Specifically, the number of TFT elements in the TFT circuit 316 is 21 times, which is about four times that of the TFT circuit 306 shown in FIG.

つまり、本実施形態のような振幅変調を行うTFT回路306であれば、パルス幅変調を行うTFT回路316よりも、TFT素子の数を減らすことができる。このため、本実施形態であれば、駆動回路303が形成される面積を小さくすることができ、基板305の面積を小さくすることができる。この基板305の面積が小さくなると、1つの大盤の基板から取れる、素子アレイ301の取り個数を増やすことができ、コストを低減させることができる。   That is, the TFT circuit 306 that performs amplitude modulation as in the present embodiment can reduce the number of TFT elements compared to the TFT circuit 316 that performs pulse width modulation. Therefore, according to this embodiment, the area where the drive circuit 303 is formed can be reduced, and the area of the substrate 305 can be reduced. If the area of the substrate 305 is reduced, the number of element arrays 301 that can be taken from one large substrate can be increased, and the cost can be reduced.

また、LED素子を発光素子で用いる場合には、本実施形態のように、複数の発光素子が配置された素子アレイと同一の基板の上に、有機EL素子302の単位時間あたりの輝度を制御するトランジスタ回路を形成することは困難である。これは、LED素子が形成される基板が一般的にGaAs基板やGaN基板であるため、トランジスタ回路を構成しにくいためである。このため、LED素子を発光素子とする場合には、後述するメインコントローラやヘッドコントローラなどの外部回路が大きくなってしまう。これに対して、本実施形態のように、有機EL素子302と駆動回路303(TFT回路306)を同一のガラス基板やSi基板に形成すると、外部回路を小さくすることができ、コストを低減させることができる。   Further, when the LED element is used as a light emitting element, the luminance per unit time of the organic EL element 302 is controlled on the same substrate as the element array in which a plurality of light emitting elements are arranged as in this embodiment. It is difficult to form a transistor circuit. This is because the substrate on which the LED element is formed is generally a GaAs substrate or a GaN substrate, so that it is difficult to configure a transistor circuit. For this reason, when an LED element is used as a light emitting element, an external circuit such as a main controller or a head controller described later becomes large. On the other hand, when the organic EL element 302 and the drive circuit 303 (TFT circuit 306) are formed on the same glass substrate or Si substrate as in the present embodiment, the external circuit can be reduced and the cost can be reduced. be able to.

次に、有機EL素子302を発光する際に入力されるデータ信号について説明するために、外部から入力される画像信号の処理経路を図6に示す。ホストコンピュータなどの外部機器から入力された画像信号350は、CPUやメモリを有するメインコントローラ351に保持される。その後、メインコントローラ351は、画像形成装置1を動かす制御信号を送るとともに、画像信号350をヘッドコントローラ352に与える。ヘッドコントローラ352では、補正メモリ353内の光量補正データを参照しつつ、面積階調法により画像信号350を各色用の露光ヘッド30K,30C,30M,30Yに対応した多値の面積階調信号へと変換・作成する。このあと、有機EL素子302が千鳥配置であることを考慮して、感光体ドラム10上で直線上に露光されるように信号の書き込み順を調整する処理が行われ、各色に配置されている露光ヘッド30K,30C,30M,30Yへと面積階調信号を送信する。この面積階調信号に基づき、駆動回路303は各TFT回路306に接続された信号線に各有機EL素子に対応するデータ信号を送り、そのデータ信号に基づいて各有機EL素子の単位時間当たりの輝度を制御する。   Next, in order to describe a data signal input when the organic EL element 302 emits light, a processing path of an image signal input from the outside is shown in FIG. An image signal 350 input from an external device such as a host computer is held in a main controller 351 having a CPU and a memory. Thereafter, the main controller 351 sends a control signal for moving the image forming apparatus 1 and gives an image signal 350 to the head controller 352. The head controller 352 refers to the light amount correction data in the correction memory 353 and converts the image signal 350 into a multi-value area gradation signal corresponding to the exposure heads 30K, 30C, 30M, and 30Y for each color by the area gradation method. Convert and create. Thereafter, taking into account that the organic EL elements 302 are in a staggered arrangement, a process for adjusting the signal writing order is performed so as to be exposed on a straight line on the photosensitive drum 10 and arranged for each color. An area gradation signal is transmitted to the exposure heads 30K, 30C, 30M, and 30Y. Based on the area gradation signal, the drive circuit 303 sends a data signal corresponding to each organic EL element to the signal line connected to each TFT circuit 306, and based on the data signal, the unit circuit per unit time of each organic EL element. Control brightness.

次に、本実施形態の画像形成装置は、多値の面積階調法として2値の面積階調法と振幅変調法とを組み合わせてハーフトーン画像の階調表現を行っている。以下に、本実施形態の階調表現について説明する。なお、多値の面積階調法として2値の面積階調法とパルス幅変調法とを組み合わせた階調表現との比較を行うことで、2値の面積階調法と振幅変調法とを組み合わせる効果についても説明する。   Next, the image forming apparatus of the present embodiment performs halftone image gradation expression by combining a binary area gradation method and an amplitude modulation method as a multi-value area gradation method. Hereinafter, the gradation expression of the present embodiment will be described. Note that the binary area gray scale method and the amplitude modulation method are obtained by comparing the gray scale expression combining the binary area gray scale method and the pulse width modulation method as the multi-value area gray scale method. The effect of the combination is also explained.

まず、図7を用いて、2値の面積階調法とパルス幅変調法とを組み合わせた階調表現を説明する。図7(b)において、露光ヘッドが形成する静電潜像の単位セル600内に存在する9個のブロック要素を画素(601〜609)と称する。このように、3×3(200線の600dpi相当)の単位セル600を1つの単位として用いて、この単位セル600の複数の集まりで図7(a)のようなハーフトーン画像を形成する。なお、単位セル600内の列方向に並んだ3つの画素は同じ有機EL素子302の露光位置に対応するもので、感光体ドラム10の回転に合わせ感光体ドラム10上で露光する位置が異なっている。さらに、図7(a)の同じ列に並んだ12個の画素も同様に同じ有機EL素子302の露光位置に対応するものである。   First, with reference to FIG. 7, description will be given of a gradation expression that combines a binary area gradation method and a pulse width modulation method. In FIG. 7B, nine block elements existing in the unit cell 600 of the electrostatic latent image formed by the exposure head are referred to as pixels (601 to 609). In this way, using a unit cell 600 of 3 × 3 (corresponding to 600 dpi of 200 lines) as one unit, a halftone image as shown in FIG. Note that the three pixels arranged in the column direction in the unit cell 600 correspond to the exposure position of the same organic EL element 302, and the positions of exposure on the photosensitive drum 10 differ according to the rotation of the photosensitive drum 10. Yes. Further, twelve pixels arranged in the same column in FIG. 7A also correspond to the exposure position of the same organic EL element 302.

また、単位セル600内のうち画素605は、パルス幅変調を行う画素であり、階調制御画素と称する。ただし、階調制御画素は単位セル600内の画素のうちから選ばれた少なくとも一つの画素であり、面積階調法であるディザ法や誤差拡散法によって適宜決定される。   In addition, the pixel 605 in the unit cell 600 is a pixel that performs pulse width modulation, and is referred to as a gradation control pixel. However, the gradation control pixel is at least one pixel selected from the pixels in the unit cell 600, and is appropriately determined by a dither method or an error diffusion method that is an area gradation method.

図7(b)の黒色部が露光箇所であり、白色部は非露光箇所である。つまり、図7(b)の単位セル600では、画素601,602,604が露光状態にあり、画素603,606,607,608,609は露光状態ではない。また、画素605は、画素の一部、具体的には、その中央から紙面の上下方向に広がるような露光状態にあり、その他の部分は露光されていない状態である。   The black part in FIG. 7B is an exposed part, and the white part is a non-exposed part. That is, in the unit cell 600 of FIG. 7B, the pixels 601, 602, and 604 are in an exposed state, and the pixels 603, 606, 607, 608, and 609 are not in an exposed state. Further, the pixel 605 is in an exposure state in which a part of the pixel, specifically, the center of the pixel 605 spreads in the vertical direction of the paper surface, and the other part is not exposed.

階調制御画素を有さない構成の場合、つまり2値の面積階調法のみで階調を表現する場合には、画素一つは、露光状態、非露光状態である2値のパターンしかもたず、単位セルにおいて、3×3=9階調しか表現できない。   In the case of a configuration that does not have a gradation control pixel, that is, when a gradation is expressed only by a binary area gradation method, one pixel has a binary pattern in an exposed state and a non-exposed state. In the unit cell, only 3 × 3 = 9 gradations can be expressed.

しかし、上記のように単位セル600内に階調制御画素605を有する構成とした場合には、以下の発光制御が可能となる。すなわち、各画素に、露光状態、非露光状態の他に、一部が露光された状態でかつその他の部分が露光されていない状態である中間状態を作ることができる。この結果、例えば、各画素に対応する有機EL素子302に4bitのデータ信号を割り当てることができ、露光時間を制御することによって、3×3×2=144階調の階調表現を得ることができる。 However, when the unit cell 600 has the gradation control pixel 605 as described above, the following light emission control is possible. That is, in addition to the exposure state and the non-exposure state, an intermediate state in which a part is exposed and the other part is not exposed can be created for each pixel. As a result, for example, a 4-bit data signal can be assigned to the organic EL element 302 corresponding to each pixel, and a gradation expression of 3 × 3 × 2 4 = 144 gradations can be obtained by controlling the exposure time. Can do.

階調制御画素605について、図8を用いてより詳しく説明する。図8(a)は、144階調のうち階調48のときの単位セル600の面積階調信号に対応した露光状態を表している。図8(a)の面積階調信号から階調を二つ上げると、図8(b)の状態になる。具体的には、図8(b)は、その画素だけで表現できる最大階調値に対応する露光時間を1(=16/16)としたときに、階調制御画素605の露光時間が、図8(a)に比べ2/16だけ増加した場合である。そして、図8(b)は、単位セル600が50の階調に対応する露光状態を表している。同様に、図8(c)〜(i)の順に2階調ずつ増やした状態を表している。つまり、図8(a)〜(i)は、順に階調48、50、52、54、56、58、60、62、64のときのハーフトーン画像パターンを示している。   The gradation control pixel 605 will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 8A shows an exposure state corresponding to the area gradation signal of the unit cell 600 at gradation 48 out of 144 gradations. When the gradation is increased by two from the area gradation signal shown in FIG. 8A, the state shown in FIG. 8B is obtained. Specifically, FIG. 8B shows the exposure time of the gradation control pixel 605 when the exposure time corresponding to the maximum gradation value that can be expressed only by that pixel is 1 (= 16/16). This is a case where it is increased by 2/16 compared to FIG. FIG. 8B shows an exposure state in which the unit cell 600 corresponds to 50 gradations. Similarly, a state in which the gradation is increased by two gradations in the order of FIGS. That is, FIGS. 8A to 8I show halftone image patterns for gradations 48, 50, 52, 54, 56, 58, 60, 62, and 64 in order.

そして、階調65から80までは、図8(i)において、画素603を階調制御画素として、その露光時間を制御することで表現することができる。このようにして1から144までの階調を表現することができる。   The gradations 65 to 80 can be expressed by controlling the exposure time using the pixel 603 as a gradation control pixel in FIG. In this way, gradations from 1 to 144 can be expressed.

なお、図8では、階調制御画素605の中央から両端に向かって広がるように露光時間を制御した中央成長型のパルス幅変調法を示した。この他に、階調制御画素605の一方の端から他方の端に向かって広がるように露光時間を制御した端部成長型のパルス幅変調法がある。   FIG. 8 shows a center growth type pulse width modulation method in which the exposure time is controlled so as to spread from the center of the gradation control pixel 605 toward both ends. In addition, there is an edge growth type pulse width modulation method in which the exposure time is controlled so as to spread from one end of the gradation control pixel 605 toward the other end.

次に、図9を用いて、2値の面積階調法と振幅変調法とを組み合わせた階調表現を説明する。上述したパルス幅変調法を用いる方法と同じく、図9(b)において、露光ヘッド30が形成する静電潜像の単位セル700内に存在する9個のブロック要素を画素(701〜709)で、1つの単位セル700の階調を表現する。そして、単位セル700の複数の集まりで図9(a)のようなハーフトーン画像を形成する。なお、単位セル700内の列方向に並んだ3つの画素は同じ有機EL素子302の露光位置に対応するもので、感光体ドラム10の回転に合わせ感光体ドラム10上で露光する位置が異なっている。さらに、図9(a)の同じ列に並んだ12個の画素も同様に同じ有機EL素子302の露光位置に対応するものである。   Next, with reference to FIG. 9, description will be given of gradation expression combining the binary area gradation method and the amplitude modulation method. Similarly to the method using the pulse width modulation method described above, in FIG. 9B, nine block elements existing in the unit cell 700 of the electrostatic latent image formed by the exposure head 30 are pixels (701 to 709). The gradation of one unit cell 700 is expressed. Then, a halftone image as shown in FIG. 9A is formed by a plurality of groups of unit cells 700. The three pixels arranged in the column direction in the unit cell 700 correspond to the exposure position of the same organic EL element 302, and the exposure position on the photosensitive drum 10 is different in accordance with the rotation of the photosensitive drum 10. Yes. Further, twelve pixels arranged in the same column in FIG. 9A also correspond to the exposure position of the same organic EL element 302.

また、単位セル700内に階調制御画素705を設けることにより、表現できる階調数を増やしている。具体的には、階調制御画素705は、その単位時間当たりの発光輝度値が複数の値を採りうるように、階調制御画素705に対応する有機EL素子302の電流量が制御されている。この構成により、階調制御画素705は、単位時間当たりの輝度が複数の値を採ることになる。この構成でも、各画素に対応する有機EL素子302に4bitのデータ信号を割り当てることができ、露光時間を制御することによって、200線の600dpi相当で、3×3×2=144階調の階調表現を得ることができる。 Further, by providing the gradation control pixel 705 in the unit cell 700, the number of gradations that can be expressed is increased. Specifically, in the gradation control pixel 705, the current amount of the organic EL element 302 corresponding to the gradation control pixel 705 is controlled so that the light emission luminance value per unit time can take a plurality of values. . With this configuration, the gradation control pixel 705 takes a plurality of values for luminance per unit time. Even in this configuration, a 4-bit data signal can be assigned to the organic EL element 302 corresponding to each pixel, and by controlling the exposure time, 3 × 3 × 2 4 = 144 gradations corresponding to 600 dpi of 200 lines. A gradation expression can be obtained.

図9(b)は、階調144のうち56の面積階調信号に対応する露光状態について表している。図9(b)の黒色の箇所は、最大輝度値で露光された箇所であり、灰色の箇所は最大輝度値の半分で露光された箇所である。このようにパルス幅変調法とは異なり、階調制御画素705は、露光状態、非露光状態が混合した状態ではなく、階調制御画素705は全体が露光状態であるが、露光量が画素701に比べて小さくなっている。単位セル700のうち階調制御画素705に対応する機EL素子302の単位時間当たりの輝度が最大輝度あるいは最低輝度以外の値に駆動回路303によって設定される。その一方で、階調制御画素705ではない画素(例えば701や709など)に対応する有機EL素子302の単位時間当たりの輝度が最大輝度あるいは最低輝度の値に駆動回路303によって設定される。   FIG. 9B shows an exposure state corresponding to 56 area gradation signals of the gradation 144. In FIG. 9B, the black portions are portions exposed at the maximum luminance value, and the gray portions are portions exposed at half the maximum luminance value. Thus, unlike the pulse width modulation method, the gradation control pixel 705 is not in a state where the exposure state and the non-exposure state are mixed, and the entire gradation control pixel 705 is in the exposure state, but the exposure amount is the pixel 701. It is smaller than The luminance per unit time of the device EL element 302 corresponding to the gradation control pixel 705 in the unit cell 700 is set to a value other than the maximum luminance or the minimum luminance by the driving circuit 303. On the other hand, the luminance per unit time of the organic EL element 302 corresponding to a pixel (for example, 701 or 709) that is not the gradation control pixel 705 is set by the drive circuit 303 to a maximum luminance value or a minimum luminance value.

ただし、パルス幅変調法と同様に、階調制御画素705は単位セル700内の画素のうちから選ばれた少なくとも一つの画素であり、面積階調法であるディザ法や誤差拡散法によって決定される。   However, like the pulse width modulation method, the gradation control pixel 705 is at least one pixel selected from the pixels in the unit cell 700, and is determined by a dither method or an error diffusion method that is an area gradation method. The

階調制御画素705について、図10を用いて詳しく説明する。図10(a)は階調48のときの単位セル700の面積階調信号に対応した露光状態を表している。図10(a)の面積階調信号から階調を二つ上げると、図10(b)の状態になる。具体的には、図10(b)は、その画素だけで表現できる最大階調値に対応する最大振幅値を1(=16/16)としたときに、階調制御画素705の振幅値が、図10(a)に比べ2/16だけ増加した場合である。そして、単位セル700の階調が50の階調になる。同様に、図10(c)〜(i)の順に2階調ずつ増やした状態を表している。つまり、図10(a)〜(i)は、順番に階調48、50、52、54、56、58、60、62、64のときのハーフトーン画像パターンを示している。   The gradation control pixel 705 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 10A shows an exposure state corresponding to the area gradation signal of the unit cell 700 at the gradation 48. When the gradation is increased by two from the area gradation signal shown in FIG. 10A, the state shown in FIG. Specifically, FIG. 10B shows the amplitude value of the gradation control pixel 705 when the maximum amplitude value corresponding to the maximum gradation value that can be expressed only by that pixel is 1 (= 16/16). This is a case where it is increased by 2/16 compared to FIG. Then, the gradation of the unit cell 700 becomes 50 gradations. Similarly, it represents a state in which two gradations are increased in the order of FIGS. That is, FIGS. 10A to 10I show halftone image patterns for gradations 48, 50, 52, 54, 56, 58, 60, 62, and 64 in order.

そして、階調65から80までは、図10(i)において、画素703を階調制御画素として、その露光量(振幅値)を制御することで表現することができる。このようにして1から144までの階調を表現することができる。   The gradations 65 to 80 can be expressed by controlling the exposure amount (amplitude value) of the pixel 703 as a gradation control pixel in FIG. In this way, gradations from 1 to 144 can be expressed.

多値面積階調法として、2値の面積階調法に、中央成長型のパルス幅変調法または振幅変調法をそれぞれ組み合わせた場合の露光シミュレーション結果を比較する。   As a multi-value area gradation method, exposure simulation results in the case of combining a binary area gradation method with a center growth type pulse width modulation method or an amplitude modulation method are compared.

図11は、図7で示した方法を用いた階調パターンに従って露光した際の図8の単位セル600のB−B断面における露光分布断面のシミュレーション結果を示している。図11の横軸は位置、縦軸は輝度を示している。図11の線630〜638は、順番に図8(a)〜(i)の露光分布断面に対応している。   FIG. 11 shows a simulation result of the exposure distribution cross section in the BB cross section of the unit cell 600 of FIG. 8 when the exposure is performed according to the gradation pattern using the method shown in FIG. In FIG. 11, the horizontal axis represents position, and the vertical axis represents luminance. Lines 630 to 638 in FIG. 11 correspond to the exposure distribution cross sections in FIGS. 8A to 8I in order.

一方、図12は、図9で示した本実施形態の方法を用いた階調パターンに従って露光した際の図10の単位セル700のC−C断面における露光分布断面のシミュレーション結果を示している。図12の線730〜738は、順番に図10(a)〜(i)の露光分布断面に対応している。   On the other hand, FIG. 12 shows the simulation result of the exposure distribution section in the CC section of the unit cell 700 of FIG. 10 when the exposure is performed according to the gradation pattern using the method of the present embodiment shown in FIG. Lines 730 to 738 in FIG. 12 correspond to the exposure distribution cross sections in FIGS. 10A to 10I in order.

上記の露光シミュレーションは、後述するレンズ群310透過後のスポット形状を、任意の面積階調信号に対応して入力させたときの出力としての露光分布を計算したものである。具体的には、入力のスポット形状と面積階調信号による露光画像パターンを高速フーリエ変換し、コンボリューションしたものである。入力時のスポット形状はベタ露光時の単位画素あたりの積算光量で規格化している。有機EL素子302の発光領域を42μm×42μmにしてシミュレーションを行った。   The above exposure simulation is a calculation of an exposure distribution as an output when a spot shape after passing through a lens group 310 described later is input corresponding to an arbitrary area gradation signal. Specifically, the exposure image pattern based on the input spot shape and the area gradation signal is subjected to fast Fourier transform and convolution. The spot shape at the time of input is standardized by the integrated light quantity per unit pixel at the time of solid exposure. The simulation was performed by setting the light emitting region of the organic EL element 302 to 42 μm × 42 μm.

図11と図12を比較することで、本実施形態の振幅変調法を用いる多値の面積階調法の方が中央成長型のパルス幅変調法を用いる多値の面積階調法よりも、環境変動に対して安定した画像を形成することが分かる。以下にその理由を述べる。   By comparing FIG. 11 and FIG. 12, the multi-value area gradation method using the amplitude modulation method of the present embodiment is more effective than the multi-value area gradation method using the center growth type pulse width modulation method. It can be seen that an image that is stable against environmental fluctuations is formed. The reason is described below.

図11、図12において、閾値となる所定の輝度値における露光分布の変化について説明する。星印(☆)は輝度値0.25、0.5、0.75における図11の曲線630、図12の曲線730との交点を示している。同様に、図11の曲線631〜曲線638、図12の曲線731〜738と、各輝度値0.5、0.25、0.75とのそれぞれの交点を丸印(○)、四角印(□)、三角印(△)で示している。各印(○、□、△)と、☆印と間の距離を線幅の変化量として、各階調別に線幅の変化量を評価する。以下に、図11、図12における☆印と各印(○、□、△)間の距離を線幅の変化量と規定した理由について述べる。   In FIG. 11 and FIG. 12, a change in exposure distribution at a predetermined luminance value serving as a threshold will be described. An asterisk (*) indicates an intersection of the curve 630 in FIG. 11 and the curve 730 in FIG. 12 at luminance values of 0.25, 0.5, and 0.75. Similarly, the intersections of the curves 631 to 638 in FIG. 11 and the curves 731 to 738 in FIG. 12 and the luminance values 0.5, 0.25, and 0.75 are indicated by circles (◯) and squares ( □), indicated by a triangle (Δ). Using the distance between each mark (◯, □, Δ) and the ☆ mark as the amount of change in line width, the amount of change in line width is evaluated for each gradation. The reason why the distance between the mark ☆ and the marks (◯, □, Δ) in FIGS. 11 and 12 is defined as the amount of change in line width will be described below.

電子写真画像形成装置では、画像信号に基づき光を照射して感光体ドラム10上に静電潜像を形成している。そのため、照射された感光体ドラム10上の露光分布が変われば、感光体ドラム10上の潜像電位も変化する。そこで、露光分布の変化を考えれば、感光体ドラム10上の潜像電位の変化について予測することができる。ここで示した露光分布の輝度値0.5は上述した現像ローラ21に印可する電圧値に対応する。そして、輝度値0.5よりも大きい部分、つまり、図11、図12の一点鎖線よりも露光分布断面に対応する曲線が上にある場合、その露光位置にトナーが付着し、現像部分となる。輝度値0.5よりも小さい部分、つまり、図11、図12の一点鎖線よりも露光分布断面に対応した曲線が下にある場合、その露光位置にはトナーが付着されず、非現像部分となる。すなわち、輝度値が現像部分と非現像部分の閾値となっている。そのため、閾値である輝度値と露光分布断面に対応する曲線の交点の線幅変化量(図11、図12の☆と○印間の距離)を画像の変化量として評価することができる。その変化量の変化率により階調表現の安定性を知ることができる。   In the electrophotographic image forming apparatus, an electrostatic latent image is formed on the photosensitive drum 10 by irradiating light based on an image signal. For this reason, if the exposure distribution on the irradiated photosensitive drum 10 changes, the latent image potential on the photosensitive drum 10 also changes. In view of the change in the exposure distribution, the change in the latent image potential on the photosensitive drum 10 can be predicted. The luminance value 0.5 of the exposure distribution shown here corresponds to the voltage value applied to the developing roller 21 described above. When a portion having a luminance value greater than 0.5, that is, a curve corresponding to the exposure distribution cross section is above the one-dot chain line in FIGS. 11 and 12, the toner adheres to the exposure position and becomes a development portion. . When a portion having a luminance value smaller than 0.5, that is, a curve corresponding to the exposure distribution cross section is below the one-dot chain line in FIGS. 11 and 12, no toner is attached to the exposure position, Become. That is, the luminance value is a threshold value for the development portion and the non-development portion. Therefore, it is possible to evaluate the change in line width (the distance between ☆ and ○ in FIGS. 11 and 12) at the intersection of the luminance value as a threshold and the curve corresponding to the exposure distribution section as the change in image. The stability of gradation expression can be known from the change rate of the change amount.

また、輝度値0.75や輝度値0.25は、高温高湿環境下や低温低湿環境下における現像バイアスの変動を表現している。この輝度値0.75や0.25における線幅変化量(図11、図12の☆と□印または△印との間の距離)の変動を比較することによって、環境変動下における階調表現の安定性を評価することができる。   Also, the luminance value 0.75 and the luminance value 0.25 represent the development bias fluctuation in a high temperature and high humidity environment or a low temperature and low humidity environment. By comparing the variation of the line width change amount (distance between ☆ and □ or Δ in FIGS. 11 and 12) at the luminance value 0.75 or 0.25, the gradation expression under the environmental variation Can be evaluated.

図13は、振幅変調を用いた階調又は中央成長型のパルス幅変調の階調と線幅変化量とのを示している。点線は、図11で示した中央成長型のパルス幅変調における線幅変化量と階調の関係を示したものである。より具体的には、輝度値が0.5のときの線幅変化量と階調の関係を点線650、輝度値が0.75のときの線幅変化量と階調の関係を点線651、輝度値が0.25のときの線幅変化量と階調の関係を点線652で示している。一方、実線は、図12で示した振幅変調における線幅変化量と階調の関係を示したものである。より具体的には、輝度値0.5のときの線幅変化量と階調の関係を実線750、輝度値が0.75のときの線幅変化量と階調の関係を実線751、輝度値が0.25のときの線幅変化量と階調の関係を実線752で示している。   FIG. 13 shows a gradation using amplitude modulation or a gradation of pulse width modulation of the center growth type and a line width change amount. The dotted line shows the relationship between the line width change amount and the gradation in the center growth type pulse width modulation shown in FIG. More specifically, the relationship between the line width change amount and the gradation when the luminance value is 0.5 is a dotted line 650, and the relationship between the line width change amount and the gradation when the luminance value is 0.75 is a dotted line 651. The relationship between the line width change amount and the gradation when the luminance value is 0.25 is indicated by a dotted line 652. On the other hand, the solid line shows the relationship between the line width change amount and the gradation in the amplitude modulation shown in FIG. More specifically, the relationship between the line width change amount and the gradation when the luminance value is 0.5 is a solid line 750, and the relationship between the line width change amount and the gradation when the luminance value is 0.75 is a solid line 751. A solid line 752 indicates the relationship between the line width change amount and the gradation when the value is 0.25.

図13で示されているように、点線650と実線750では、実線750の方が傾きの変化(線幅変化量の変化)が小さく、相対的に一定の傾きに近い。このため、輝度値0.5において、振幅変調法を用いた場合の方がパルス幅変調法を用いた場合よりも、安定した階調表現を行うことができる。   As shown in FIG. 13, between the dotted line 650 and the solid line 750, the solid line 750 has a smaller change in inclination (change in line width change amount) and is relatively close to a constant inclination. For this reason, when the amplitude modulation method is used at a luminance value of 0.5, more stable gradation expression can be performed than when the pulse width modulation method is used.

また、環境変動に伴い、輝度値が0.25あるいは0.75になった場合には、その階調表現の違いによる差が生じる。中央成長型のパルス幅変調では、輝度値が0.25,0.75での線幅変化量の差分が最も大きくなるのは、階調54のときで、その差分の値は29μmである。一方、振幅変調のそれは、階調56のときで21μmである。この結果は、中央成長型のパルス幅変調より振幅変調の方が、閾値の輝度値の変動に対して線幅変化量が少ないことを意味している。つまり、環境変動に対して、振幅変調の方がパルス幅変調よりも安定的に階調表現が可能な方法と言える。   Further, when the luminance value becomes 0.25 or 0.75 due to the environmental change, a difference due to the difference in gradation expression occurs. In the center-growth type pulse width modulation, the difference in the line width change amount at the luminance values of 0.25 and 0.75 is the largest at the gradation 54, and the difference value is 29 μm. On the other hand, the amplitude modulation is 21 μm at the gradation 56. This result means that the amplitude modulation has a smaller amount of change in the line width with respect to the variation of the threshold luminance value than the center growth type pulse width modulation. That is, it can be said that amplitude modulation is a method capable of expressing gradation more stably than pulse width modulation with respect to environmental changes.

また、図13の点線651は、階調48から54まで線幅変化量がゼロである。そして、階調56から線幅変化量でゼロでない値をとっている。このため、環境変動に伴い、閾値の輝度値が0.75となった場合、階調48から54までの階調は階調48で現像されることになり、階調が抜ける、つまり、トーンジャンプが発生してしまい、形成された画像に不良が生じてしまう。これに対して、実線751は階調48から54間でも線幅変化量があり、階調が抜けることがない。この点でも、環境変動に対して中央成長型のパルス幅変調を用いた場合に比べて、振幅変調を用いた場合は安定的に画像を形成することができる。   Also, the dotted line 651 in FIG. 13 has no change in the line width from the gradation 48 to 54. Then, a non-zero value of the line width change amount from the gradation 56 is taken. For this reason, when the luminance value of the threshold value becomes 0.75 due to the environmental change, the gradations from gradations 48 to 54 are developed with gradation 48, and the gradation is lost. A jump occurs and a defect occurs in the formed image. On the other hand, the solid line 751 has a change in the line width even between the gradations 48 and 54, and the gradation is not lost. Also in this respect, an image can be stably formed when amplitude modulation is used as compared with the case where center growth type pulse width modulation is used with respect to environmental fluctuations.

これは、図11で示した中央成長型のパルス幅変調による階調別の静電潜像の露光分布断面に対応する曲線が段状部分を有しているためである。この段状部分で線幅が急激に変化する。図11の曲線632(階調52の曲線)上の四角印を見るとわかるように、曲線631(階調50の曲線)上の四角印よりも大きく離れている。これは、曲線632(階調52の曲線)の段状部分639の位置で曲線が大きく変化し、図11の右側に大きく広がるためである。図11において、曲線631から曲線636で、輝度が0より大きい1未満の範囲で、段状部分を有するため、閾値が変わると線幅変化量が大きく変化する箇所がある。このため、閾値の設定、あるいは環境変動によってトーンジャンプが生じてしまう。一方で、図12に示すように、振幅変調においては、露光分布断面に対応する曲線はいずれも、段状部分を有しておらず、トーンジャンプは生じにくくなる。   This is because the curve corresponding to the exposure distribution section of the electrostatic latent image for each gradation by the center growth type pulse width modulation shown in FIG. 11 has a stepped portion. The line width changes abruptly at this stepped portion. As can be seen from the square mark on the curve 632 (tone 52 curve) in FIG. 11, the distance is larger than the square mark on the curve 631 (tone 50 curve). This is because the curve changes greatly at the position of the stepped portion 639 of the curve 632 (curve of gradation 52) and spreads to the right in FIG. In FIG. 11, the curve 631 to the curve 636 have a stepped portion in a range where the luminance is less than 1 greater than 0, and thus there is a portion where the line width change amount changes greatly when the threshold value changes. For this reason, the tone jump occurs due to the setting of the threshold value or the environmental change. On the other hand, as shown in FIG. 12, in amplitude modulation, none of the curves corresponding to the exposure distribution cross section has a stepped portion, so that a tone jump hardly occurs.

ここでは、1例として48から64までの階調について示したが、これ以外の全ての階調においても、振幅変調の方がパルス幅変調よりも安定性が高くなっていることは確認済みである。   Here, as an example, gradations from 48 to 64 are shown, but it has been confirmed that amplitude modulation is more stable than pulse width modulation in all other gradations. is there.

このように、露光ヘッド30の階調表現として、2値の面積階調に振幅変調を組み合わせることで、低コストで環境変動に対する安定性が高い画像形成装置を実現することができる。   As described above, by combining amplitude modulation with binary area gradation as the gradation expression of the exposure head 30, it is possible to realize an image forming apparatus with low cost and high stability against environmental fluctuations.

次に、本実施形態に係るレンズ群310について説明する。図14は、本実施形態に係るレンズ群310の構成を示している。レンズ群310は、X方向に配列された第1のレンズアレイ320と第2のレンズアレイ340とを有している。また第2のレンズアレイ340は、Z方向に配列された第1のレンズ列343と第2のレンズ列344とを有している。なお、第1のレンズアレイ320も同様の構成である。第1のレンズ列343、第2のレンズ列344はそれぞれ、Y方向に配列された複数のレンズを有している。   Next, the lens group 310 according to the present embodiment will be described. FIG. 14 shows the configuration of the lens group 310 according to this embodiment. The lens group 310 includes a first lens array 320 and a second lens array 340 arranged in the X direction. The second lens array 340 includes a first lens row 343 and a second lens row 344 arranged in the Z direction. The first lens array 320 has the same configuration. Each of the first lens array 343 and the second lens array 344 has a plurality of lenses arranged in the Y direction.

本実施形態では、X方向を光軸方向、Y方向を主配列方向、Z方向を副配列方向という。主配列方向は、素子アレイ301において有機EL素子302が1次元的に配列された長手方向と平行である。また、副配列方向は、感光体ドラム10の回転方向に対応する方向である。   In the present embodiment, the X direction is referred to as an optical axis direction, the Y direction is referred to as a main arrangement direction, and the Z direction is referred to as a sub arrangement direction. The main arrangement direction is parallel to the longitudinal direction in which the organic EL elements 302 are arranged one-dimensionally in the element array 301. The sub array direction is a direction corresponding to the rotation direction of the photosensitive drum 10.

また、第1のレンズアレイ320と第2のレンズアレイ340との間には、複数の遮光部材330が配置されている。遮光部材330は、主配列断面内において、第1のレンズアレイ320内のレンズを通過して、第2のレンズアレイ340内のレンズに入射する光束の一部(結像に寄与しない迷光)を遮光する役割を果たしている。   In addition, a plurality of light shielding members 330 are arranged between the first lens array 320 and the second lens array 340. The light blocking member 330 passes a part of the light beam that passes through the lenses in the first lens array 320 and enters the lenses in the second lens array 340 (stray light that does not contribute to image formation) in the main array section. Plays the role of shading.

第2のレンズアレイ340に含まれる複数のレンズそれぞれの光軸が成す列(光軸列)は、第2のレンズアレイ340内の第1のレンズ列343と第2のレンズ列344と間にある面内に含まれる同一ライン上に位置している。また、第1のレンズアレイ320も同様の構成である。さらに、第1のレンズアレイ320に含まれる複数のレンズそれぞれの光軸が成す列(光軸列)は、第2のレンズアレイ340内の第1のレンズ列343と第2のレンズ列344との間にある面内に含まれる同一ライン上にも位置している。これにより、主配列方向に垂直な断面(以下では、主配列断面、という)であるZX断面内において物体を倒立結像する系とした上で、段ずらし配列(千鳥配列)を実現している。以下、物体を正立等倍結像する系を正立等倍結像系とし、物体を倒立結像する系を倒立結像系とする。   An array (optical axis array) formed by optical axes of a plurality of lenses included in the second lens array 340 is between the first lens array 343 and the second lens array 344 in the second lens array 340. It is located on the same line included in a certain plane. The first lens array 320 has the same configuration. Furthermore, the rows (optical axis rows) formed by the optical axes of the plurality of lenses included in the first lens array 320 are the first lens row 343 and the second lens row 344 in the second lens array 340. It is also located on the same line included in the plane between. As a result, a staggered array (staggered array) is realized with a system that forms an inverted image of an object in a ZX section that is a section perpendicular to the main array direction (hereinafter referred to as a main array section). . Hereinafter, an erecting equal magnification imaging system is an erecting equal magnification imaging system, and an inverted imaging system is an inverted imaging system.

なお、本実施形態における「段ずらし配列(千鳥配列)」とは、以下のように定義する。すなわち、1つのレンズアレイが複数のレンズ列を有する構成において、複数のレンズ列それぞれに含まれる複数のレンズそれぞれの光軸が、副配列方向で隣り合うレンズどうしで一致せずに、主配列方向に離間し、同一ライン上に位置している構成のことである。ここで、副配列方向で隣り合うレンズどうしとは、副配列方向において最も近いレンズどうしのことを指している。すなわち、隣り合うとは、副配列方向に配列されたレンズどうしが接する構成も、中間物を介して配列された構成も含む。   The “stage shift arrangement (staggered arrangement)” in this embodiment is defined as follows. That is, in a configuration in which one lens array has a plurality of lens rows, the optical axes of the plurality of lenses included in each of the plurality of lens rows do not coincide with each other in the sub-array direction, and the main array direction It is the structure which is spaced apart and is located on the same line. Here, the lenses adjacent to each other in the sub-array direction refer to the lenses closest to each other in the sub-array direction. That is, the term “adjacent” includes a configuration in which lenses arranged in the sub-array direction are in contact with each other and a configuration in which the lenses are arranged via an intermediate.

次に、本発明で用いたレンズ群310について、図15、図16を用いて、具体的な数値を示して詳細に説明する。図15(a)〜(c)は、本実施形態に係るレンズ群310の要部概略図である。図15(a)〜(c)はそれぞれ、レンズ群310のXY断面、ZX断面(主配列断面)、YZ断面(以下、副配列断面という)を表している。   Next, the lens group 310 used in the present invention will be described in detail with reference to specific numerical values with reference to FIGS. FIGS. 15A to 15C are schematic views of main parts of the lens group 310 according to the present embodiment. 15A to 15C respectively show an XY cross section, a ZX cross section (main array cross section), and a YZ cross section (hereinafter referred to as a sub array cross section) of the lens group 310.

図15(a)に示すように、素子アレイ301上の1つの発光点から出射して各レンズを通過した光束は、感光体ドラム10上の一点に集光される。例えば、素子アレイ301上の発光点P1からの光束はP1’に集光し、発光点P2からの光束はP2’に集光しており、この構成により、素子アレイ301上の発光点の発光状態に対応した露光が可能となる。なお、素子アレイ301上の発光点は、主配列方向に等間隔に配列された複数の発光点を有しており、隣接する発光点どうしの間隔は数十μmであるとしている。すなわち、隣り合う発光点どうしの間隔は主配列方向に隣り合うレンズどうしの間隔(数百μm以上)に比べて十分小さいため、以下、各発光点は略連続的に存在するとみなせる。   As shown in FIG. 15A, the light beam emitted from one light emitting point on the element array 301 and passing through each lens is condensed on one point on the photosensitive drum 10. For example, the light beam from the light emitting point P1 on the element array 301 is focused on P1 ′, and the light beam from the light emitting point P2 is focused on P2 ′. With this configuration, the light emitting point on the element array 301 emits light. Exposure corresponding to the state becomes possible. Note that the light emitting points on the element array 301 have a plurality of light emitting points arranged at equal intervals in the main array direction, and the interval between adjacent light emitting points is several tens of μm. That is, since the distance between adjacent light emitting points is sufficiently smaller than the distance between adjacent lenses (several hundreds μm or more) in the main array direction, it can be considered that each light emitting point exists substantially continuously hereinafter.

素子アレイ301上の各発光点は、図15(a)に示す主配列断面内においては正立等倍結像し、図15(b)に示す副配列断面内においては倒立結像している。また、図15(c)に示すように、各レンズアレイ(例えば、第2のレンズアレイ320)は副配列方向に、上段列(第1のレンズ列343)及び下段列(第2のレンズ列344)の2列のレンズ列を有している。上段列に含まれるレンズのそれぞれの光軸を黒丸(●)で示し、下段列に含まれるレンズのそれぞれの光軸を逆三角印(▽)で示している。なお、レンズ列内の各レンズの主配列方向の配列ピッチpは、上段列、下段列ともに0.76mmである。   Each light emitting point on the element array 301 forms an erecting equal-magnification image in the main array section shown in FIG. 15A, and an inverted image in the sub-array section shown in FIG. 15B. . Further, as shown in FIG. 15C, each lens array (for example, the second lens array 320) has an upper row (first lens row 343) and a lower row (second lens row) in the sub-array direction. 344) has two lens rows. The optical axes of the lenses included in the upper row are indicated by black circles (●), and the optical axes of the lenses included in the lower row are indicated by inverted triangle marks (▽). The arrangement pitch p in the main arrangement direction of each lens in the lens row is 0.76 mm for both the upper row and the lower row.

ここで、図15(c)に示すように、上段列の各光軸と下段列の各光軸とは同一ライン345(光軸列)上に位置している。この同一ラインをZ=0とすると、Z=−1.22mm〜0mmの範囲に下段列のレンズ面が、Z=0mm〜1.22mmの範囲に上段列のレンズ面がある。さらに、上段列及び下段列を互いに主配列方向にΔYだけずらすことにより、それぞれの光軸どうしを主配列方向に離間させて千鳥状に配置している。ここで、上段列の光軸と下段列の光軸との最短距離ΔYは、主配列方向において下段列の1つのレンズの光軸を基準と、その光軸に最も近い上段列のレンズの光軸までの最短距離である。本実施形態では、最短距離ΔYをレンズの主配列方向の配列ピッチpの半分であり、ΔY=p/2=0.38mmとなる。   Here, as shown in FIG. 15C, each optical axis in the upper row and each optical axis in the lower row are located on the same line 345 (optical axis row). If this same line is Z = 0, there is a lens surface in the lower row in the range of Z = −1.22 mm to 0 mm, and a lens surface in the upper row in the range of Z = 0 mm to 1.22 mm. Further, by shifting the upper row and the lower row from each other by ΔY in the main arrangement direction, the respective optical axes are spaced apart in the main arrangement direction and arranged in a staggered manner. Here, the shortest distance ΔY between the optical axis of the upper row and the optical axis of the lower row is based on the optical axis of one lens of the lower row in the main arrangement direction, and the light of the upper row lens closest to the optical axis. The shortest distance to the axis. In the present embodiment, the shortest distance ΔY is half of the arrangement pitch p in the main arrangement direction of the lenses, and ΔY = p / 2 = 0.38 mm.

また、図15に示す第1のレンズアレイ320及び第2のレンズアレイ340の各レンズの入射面及び射出面のそれぞれ(321、322、341、342)はアナモフィック非球面で構成されている。ここで、レンズアレイの各レンズ面と光軸(X軸)との交点を原点とし、主配列方向において光軸と直交する軸をY軸、副配列方向において光軸と直交する軸をZ軸とすると、そのアナモフィック非球面の形状SHは以下に示す式(1)で表わされる。ここで、Ci,j(iは0以上の整数,jは0以上の整数)は非球面係数である。 In addition, each of the entrance surface and exit surface (321, 322, 341, 342) of each lens of the first lens array 320 and the second lens array 340 shown in FIG. 15 is formed of an anamorphic aspheric surface. Here, the intersection of each lens surface of the lens array and the optical axis (X axis) is the origin, the axis orthogonal to the optical axis in the main array direction is the Y axis, and the axis orthogonal to the optical axis in the sub array direction is the Z axis. Then, the shape SH of the anamorphic aspheric surface is represented by the following expression (1). Here, C i, j (i is an integer of 0 or more, j is an integer of 0 or more) is an aspheric coefficient.

SH=ΣCi,j ・・・(1)
各レンズの光学設計値を表1に示す。表1で、G1とは、第1のレンズアレイ320に含まれるレンズを指し、R1はレンズの光入射面とそのレンズの光軸とが交わる点を指す。R2はレンズの光射出面とそのレンズの光軸とが交わる点を指す。つまり、G1R1とは、第1のレンズアレイ320に含まれるレンズの光入射面321とそのレンズの光軸とが交わる点を表している。また、G1R2とは、第1のレンズアレイ320に含まれるレンズの光射出面322とそのレンズの光軸とが交わる点を表している。G2R1,G2R2も同様である。
SH = ΣC i, j Y i Z j (1)
Table 1 shows optical design values of the respective lenses. In Table 1, G1 indicates a lens included in the first lens array 320, and R1 indicates a point where the light incident surface of the lens intersects with the optical axis of the lens. R2 indicates the point where the light exit surface of the lens and the optical axis of the lens intersect. That is, G1R1 represents a point where the light incident surface 321 of the lens included in the first lens array 320 and the optical axis of the lens intersect. G1R2 represents a point where the light exit surface 322 of the lens included in the first lens array 320 and the optical axis of the lens intersect. The same applies to G2R1 and G2R2.

表1に示したように、本実施形態では、各レンズの主配列断面内での中間結像倍率β(詳細は後述)を−0.45と設定しているが、主配列方向において正立等倍光学系となる範囲であれば、βは如何なる値も取り得る。   As shown in Table 1, in this embodiment, the intermediate imaging magnification β (details will be described later) in the main array section of each lens is set to −0.45, but it is upright in the main array direction. As long as the optical system is in the same magnification range, β can take any value.

図16(a)は第1のレンズアレイ320の上段列323、第2のレンズアレイの上段列(第1のレンズ列343)とで構成される上段列のレンズ光学系の主配列断面図及び副配列断面図を示している。一方、図16(b)は、第1のレンズアレイ320の下段列324、第2のレンズアレイの上段列(第2のレンズ列344)とで構成される下段列のレンズ光学系の主配列断面図及び副配列断面図を示している。   FIG. 16A is a main array cross-sectional view of an upper-row lens optical system including an upper row 323 of the first lens array 320 and an upper row (first lens row 343) of the second lens array; A sub-array sectional view is shown. On the other hand, FIG. 16B shows a main array of lens optical systems in the lower row composed of the lower row 324 of the first lens array 320 and the upper row (second lens row 344) of the second lens array. Sectional drawing and subarray sectional drawing are shown.

図16(a)、(b)を比較するとわかるように、上段列のレンズ光学系と下段列のレンズ光学系は、主配列断面内においては同じ構成であり、光線経路も同じである。一方、副配列断面内においては、それらのレンズ光学系は、光軸に対して対称な構成となっている。上段列及び下段列を構成するレンズ光学系それぞれは、同一の光軸上に配置された、第1光学系(第1のレンズアレイ320のレンズ)及び第2光学系(第2のレンズアレイ340のレンズ)を有している。ここで、素子アレイ301上の各発光点の中間像を形成する光学系を第1光学系とし、第1光学系が中間像を形成する面を中間結像面17とする。また、中間結像面17に形成された中間像を感光体ドラム10上に結像する光学系を第2光学系とする。本実施形態では、第1光学系は第1のレンズアレイ320内のレンズのみで構成され、第2光学系は第2のレンズアレイ340内のレンズのみで構成されている。   As can be seen by comparing FIGS. 16A and 16B, the lens optical system in the upper row and the lens optical system in the lower row have the same configuration in the main array section, and the light beam paths are also the same. On the other hand, in the sub-array cross section, these lens optical systems have a symmetric configuration with respect to the optical axis. The lens optical systems constituting the upper row and the lower row are respectively arranged on the same optical axis, the first optical system (lens of the first lens array 320) and the second optical system (second lens array 340). Lens). Here, an optical system that forms an intermediate image of each light emitting point on the element array 301 is a first optical system, and a surface on which the first optical system forms an intermediate image is an intermediate imaging surface 17. In addition, an optical system that forms an intermediate image formed on the intermediate imaging surface 17 on the photosensitive drum 10 is a second optical system. In the present embodiment, the first optical system is configured by only the lenses in the first lens array 320, and the second optical system is configured by only the lenses in the second lens array 340.

次に、レンズに付随する効果について以下に追記する。まず本実施形態のレンズアレイの構成である段ずらし配列(千鳥配列)の効果について説明する。比較するために、レンズアレイが副配列方向に複数の列を有さない、一列のみ配列されたレンズアレイ光学系を考える。なお、比較例において、上記以外の構成(光学設計値等)は本実施形態に係るレンズ群と同一であるものとする。   Next, the effect accompanying the lens will be added below. First, the effect of the staggered arrangement (staggered arrangement) that is the configuration of the lens array of the present embodiment will be described. For comparison, consider a lens array optical system in which a lens array does not have a plurality of columns in the sub-array direction and is arranged in only one column. In the comparative example, the configuration (optical design values, etc.) other than the above is the same as that of the lens group according to the present embodiment.

図17は、比較例のレンズ群の副配列断面を示す図であり、図17(a)〜(c)は異なる発光位置から出射する光束によりなる結像光束の様子を示している。図17(a)で示すように、発光位置Aからの結像光束は、一つのレンズ光学系の物体高0のレンズ光束のみで構成されている。図17(b)で示すように、発光点位置Bからの結像光束は、一つのレンズ光学系の物体高p/4のレンズ光束と、それに隣り合うレンズ光学系の物体高3p/4のレンズ光束とにより構成されている。図17(c)で示すように、発光点位置Cからの結像光束は、隣り合う2つのレンズ光学系のそれぞれの物体高p/2のレンズ光束2つで構成されている。このように、比較例では、発光点位置毎の結像光束を構成するレンズ光束が少ないため、1つのレンズ光束の発光点位置どうしにおける光量差が、結像光量の差に大きく影響してしまう。   FIG. 17 is a diagram showing a sub-array cross section of the lens group of the comparative example, and FIGS. 17A to 17C show the state of an imaging light beam made up of light beams emitted from different light emission positions. As shown in FIG. 17A, the imaging light beam from the light emission position A is composed only of a lens light beam having an object height of 0 in one lens optical system. As shown in FIG. 17B, the imaging light beam from the light emitting point position B has a lens light beam having an object height p / 4 of one lens optical system and an object height 3p / 4 of the lens optical system adjacent thereto. It consists of a lens beam. As shown in FIG. 17C, the imaging light beam from the light emission point position C is composed of two lens light beams having an object height p / 2 of two adjacent lens optical systems. As described above, in the comparative example, since the lens light beam constituting the imaging light beam at each light emitting point position is small, the light amount difference between the light emitting point positions of one lens light beam greatly affects the difference in the imaging light amount. .

図18は、本実施形態のレンズ群の副配列断面を示す図であり、図18(a)〜(c)それぞれは、図17(a)〜(c)と同じ発光位置から出射する光束によりなる結像光束の様子を示している。本実施形態に係るレンズ群によれば、第1のレンズアレイ320、第2のレンズアレイ340ともに段ずらし配列を適用したことにより、結像光束を構成するレンズ光束の数及び種類(物体高の違い)を増やすことができる。これにより、発光点位置毎の結像光束を平均化することが可能となり、結像光量ムラ及び結像性能のムラを低減するという効果が得られる。特に、本実施形態では、ΔY=p/2としているため、発光点位置Aと発光点位置Cとにおける結像光束を等しくすることができる。   FIG. 18 is a diagram illustrating a sub-array cross section of the lens group of the present embodiment, and FIGS. 18A to 18C are respectively obtained by light beams emitted from the same light emitting positions as those in FIGS. 17A to 17C. The state of the imaging light flux is shown. According to the lens group according to the present embodiment, the first lens array 320 and the second lens array 340 are applied with a staggered arrangement, so that the number and types of lens light beams constituting the imaging light beam (the object height) Difference) can be increased. As a result, it is possible to average the imaging light flux at each light emitting point position, and an effect of reducing imaging light amount unevenness and imaging performance unevenness can be obtained. In particular, in the present embodiment, ΔY = p / 2, so that the imaging light fluxes at the light emission point position A and the light emission point position C can be made equal.

次に、結像光量ムラを評価するために、各発光点位置に対応した結像光量の比を図19、20に示す。図19は、比較例のレンズ群を用いた場合の結像光量の比を示し、図20は、本実施形態のレンズ群を用いた場合の結像光量の比を示している。なお、各発光点位置の結像光量は、結像光束を構成するレンズ光束の光利用効率の積算に比例するものとし、あるレンズ光学系の光軸上の発光点位置の結像光量を100%として正規化している。   Next, in order to evaluate the imaging light amount unevenness, the ratio of the imaging light amount corresponding to each light emitting point position is shown in FIGS. FIG. 19 shows the ratio of the imaged light quantity when the lens group of the comparative example is used, and FIG. 20 shows the ratio of the imaged light quantity when the lens group of the present embodiment is used. The imaging light quantity at each light emitting point position is proportional to the integration of the light utilization efficiency of the lens light beam constituting the imaging light beam, and the imaging light quantity at the light emitting point position on the optical axis of a certain lens optical system is set to 100. Normalized as%.

図19に示すように、比較例では、結像光量比の最大値と最小値との差が6.2%生じている。一方、図20より、本実施形態では、結像光量比の最大値と最小値との差が1.0%に収まっている。つまり、本実施形態に係るレンズ群の方が比較例のレンズ群よりも結像光量ムラが小さいできることがわかる。   As shown in FIG. 19, in the comparative example, a difference between the maximum value and the minimum value of the imaging light amount ratio is 6.2%. On the other hand, as shown in FIG. 20, in this embodiment, the difference between the maximum value and the minimum value of the imaging light quantity ratio is within 1.0%. In other words, it can be seen that the lens group according to the present embodiment can reduce the unevenness of the imaged light quantity more than the lens group of the comparative example.

図15に示しているように、主配列断面内において、素子アレイ301上の発光点から出射した光束は、第1のレンズアレイ320を通過した後、中間結像面17において中間像を形成し、第2のレンズアレイ340を通過して感光体ドラム10上に正立等倍像を形成する。この時、第1のレンズアレイ320の中間結像面17での近軸結像倍率を中間結像倍率βとする。一方、副配列断面内においては、素子アレイ301上の発光点から出射した光束は、第1のレンズアレイ320を通過した後に、中間結像せずに第2のレンズアレイ340を通過して感光体ドラム10上に倒立結像する。このように、本実施形態に係るレンズ群310は、副配列方向において倒立結像系としたことにより、結像性能を保ったまま光の取込み角度を大きくすることができ、結像光量及び結像性能の両立を達成している。   As shown in FIG. 15, the light beam emitted from the light emitting point on the element array 301 in the main array cross section passes through the first lens array 320 and then forms an intermediate image on the intermediate imaging surface 17. Then, an erecting equal-magnification image is formed on the photosensitive drum 10 through the second lens array 340. At this time, the paraxial imaging magnification at the intermediate imaging surface 17 of the first lens array 320 is defined as an intermediate imaging magnification β. On the other hand, in the sub-array section, the light beam emitted from the light emitting point on the element array 301 passes through the first lens array 320 and then passes through the second lens array 340 without being subjected to intermediate imaging. An inverted image is formed on the body drum 10. As described above, the lens group 310 according to the present embodiment is an inverted imaging system in the sub-array direction, so that the light capture angle can be increased while maintaining the imaging performance, and the imaging light amount and the coupling amount can be increased. Both image performance is achieved.

なお、レンズ群310は、第1のレンズアレイ320と第2のレンズアレイ340の2つのレンズアレイで構成される例を示したが、これに限られない。つまり、レンズ群310はX方向に配列された3つ以上のレンズアレイを有する構成でもよい。その場合、上述したように、第1光学系及び第2光学系の少なくとも一方を2つのレンズで構成してもよい。ただし、各レンズアレイを3つ以上で構成すると部品点数が増加してしまうため、レンズ群310は2つのレンズアレイで構成する方が好ましい。   In addition, although the lens group 310 showed the example comprised by two lens arrays of the 1st lens array 320 and the 2nd lens array 340, it is not restricted to this. That is, the lens group 310 may have a configuration including three or more lens arrays arranged in the X direction. In this case, as described above, at least one of the first optical system and the second optical system may be configured by two lenses. However, since the number of parts increases when each lens array is composed of three or more, it is preferable that the lens group 310 is composed of two lens arrays.

また、レンズ群310を構成するレンズ光学系のそれぞれを、第1光学系と第2光学系とに分割せずに1つのレンズアレイにより構成してもよい。その場合にも、1枚のレンズアレイを主配列断面内においては正立等倍結像系、副配列断面内においては倒立結像系となるように構成することで、上述したような効果を奏すると考える。   Further, each of the lens optical systems constituting the lens group 310 may be configured by one lens array without being divided into the first optical system and the second optical system. Even in such a case, the above-described effects can be obtained by configuring one lens array to be an erecting equal magnification imaging system in the main array section and an inverted imaging system in the sub array section. Think to play.

また、本実施形態では、上段列を構成するレンズ、下段列を構成するレンズのそれぞれの形状が、1つのレンズ光学系を光軸を含む主配列断面で切断して分割したそれぞれの形状に対応した構成となっている。すなわち、主配列方向において、下段列のレンズの光軸を基準とした時のその光軸に最も近い上段列のレンズの光軸までの最短距離ΔYを、仮に0とした時(千鳥状に配列しない時)、隣り合う上段列のレンズ及び下段列のレンズのレンズ面どうしが同一の式で表現できる形状となるように構成されている。なお、上段列と下段列とが中間物を介して配列されている場合においても、そのレンズ面どうしを同一の式で表現できる形状とすれば、成形を容易にすることができる。   In the present embodiment, the shape of the lens constituting the upper row and the shape of the lens constituting the lower row correspond to the respective shapes obtained by cutting and dividing one lens optical system along the main array section including the optical axis. It has become the composition. That is, in the main arrangement direction, when the shortest distance ΔY to the optical axis of the upper stage lens closest to the optical axis when the optical axis of the lower stage lens is used as a reference is assumed to be 0 (arranged in a staggered manner) The lens surfaces of the adjacent upper row lenses and lower row lenses are configured to have a shape that can be expressed by the same expression. Even when the upper row and the lower row are arranged via an intermediate, molding can be facilitated if the lens surfaces have shapes that can be expressed by the same expression.

また図15に示すように、上段列のレンズ光学系、下段列のレンズ光学系について、第1光学系(第1のレンズアレイ320のレンズ)と第2光学系(第2のレンズアレイ340のレンズ)とが、中間結像面17に対して対称となるように構成されている。このような構成にすることにより、両光学系に同一部材を用いることが可能となる。また、レンズ群310を構成するレンズ全てのレンズ面の開口は矩形形状とすることが望ましい。すなわち、第1光学系及び第2光学系の軸上物体高光束の開口面を矩形とすることで、各レンズ面をできるだけ隙間無く配置することができ、光利用効率を向上させることができる。なお、ここでの矩形形状とは、矩形を構成する各辺のうちの少なくとも1辺を曲線にしたものや、各頂点をなくして略円形状又は略楕円形状にしたようなもの等を含んでいる。   As shown in FIG. 15, the first optical system (the lenses of the first lens array 320) and the second optical system (of the second lens array 340) for the upper and lower lens optical systems. Lens) is symmetrical with respect to the intermediate image plane 17. With this configuration, the same member can be used for both optical systems. Moreover, it is desirable that the apertures of all the lens surfaces constituting the lens group 310 have a rectangular shape. That is, by making the aperture surfaces of the on-axis object high light fluxes of the first optical system and the second optical system rectangular, the lens surfaces can be arranged with no gap as much as possible, and the light utilization efficiency can be improved. In addition, the rectangular shape here includes a shape in which at least one of the sides constituting the rectangle is curved, a shape in which each vertex is eliminated, and a substantially circular shape or a substantially elliptical shape. Yes.

なお、本実施形態においては、各レンズ列のレンズ全ての光軸が同一ライン上に位置する構成について説明した。ここで、画像形成装置における発光部の各発光点の副配列方向のサイズをH、各レンズ列の光軸列どうしの副配列方向における最大離間量をΔとするとき、下記の条件式(2)を満たす場合に、各光軸が同一ライン上に位置していると定義する。   In the present embodiment, the configuration in which the optical axes of all the lenses in each lens row are located on the same line has been described. Here, when the size of each light emitting point of the light emitting unit in the image forming apparatus in the sub array direction is H, and the maximum distance in the sub array direction between the optical axis arrays of each lens array is Δ, the following conditional expression (2 ), It is defined that each optical axis is located on the same line.

Δ<(1/2)H ・・・(2)
各光軸どうしの副配列方向における離間量がこの条件式(2)の範囲内であれば、各レンズ列の像どうしが離間しないため、本発明の効果を十分に得ることができる。なお、発光部の各発光点の副配列方向のサイズHが25.3μmである。よって、全てのレンズにおいて、互いの光軸どうしの副配列方向についての最大離間量Δが、(1/2)H=(1/2)×42.3μm=21.7μmよりも小さければ、本発明の効果を十分に得ることができる。
Δ <(1/2) H (2)
If the distance between the optical axes in the sub-array direction is within the range of the conditional expression (2), the images of the lens rows are not separated from each other, so that the effects of the present invention can be sufficiently obtained. The size H in the sub-array direction of each light emitting point of the light emitting part is 25.3 μm. Therefore, in all the lenses, if the maximum separation amount Δ in the sub-array direction between the optical axes is smaller than (1/2) H = (1/2) × 42.3 μm = 21.7 μm, The effects of the invention can be sufficiently obtained.

10 感光体
20 現像部
30 露光部
40 帯電部
80 定着部
301 素子アレイ
302 有機EL素子
303 駆動回路
306 TFT回路
310 レンズ群
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Photoconductor 20 Developing part 30 Exposure part 40 Charging part 80 Fixing part 301 Element array 302 Organic EL element 303 Drive circuit 306 TFT circuit 310 Lens group

Claims (8)

感光体と、前記感光体を帯電する帯電部と、前記感光体の表面に静電潜像を形成する露光部と、前記静電潜像をトナー像として現像する現像部と、前記トナー像を被転写材に転写する転写部と、前記転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着部と、を備えた画像形成装置であって、
前記露光部は、第1の方向に配列された複数のレンズを有するレンズ群と、前記レンズ群と対向して配置され、基板の上に前記第1の方向と平行に配列された複数の有機EL素子を有する素子アレイと、を備え、
前記素子アレイの基板には、前記複数の有機EL素子の単位時間当たりの輝度をそれぞれ制御するための複数のトランジスタ回路を有する駆動回路が配置され、
面積階調法によって作成された信号に基づき、前記トランジスタ回路は前記有機EL素子の前記輝度を制御することを特徴とする画像形成装置。
A photosensitive member, a charging unit that charges the photosensitive member, an exposure unit that forms an electrostatic latent image on the surface of the photosensitive member, a developing unit that develops the electrostatic latent image as a toner image, and the toner image An image forming apparatus comprising: a transfer unit that transfers to a transfer material; and a fixing unit that fixes the transferred toner image to the transfer material;
The exposure unit includes a lens group having a plurality of lenses arranged in a first direction, and a plurality of organic elements arranged opposite to the lens group and arranged in parallel with the first direction on a substrate. An element array having an EL element,
A drive circuit having a plurality of transistor circuits for controlling the luminance per unit time of the plurality of organic EL elements is disposed on the substrate of the element array,
An image forming apparatus, wherein the transistor circuit controls the luminance of the organic EL element based on a signal created by an area gradation method.
前記駆動回路によって、前記露光部が形成する前記静電潜像の単位セルのうち、階調制御画素に対応する機EL素子の単位時間当たりの輝度が最大輝度あるいは最低輝度以外の値に設定され、前記階調制御画素ではない画素に対応する有機EL素子の単位時間当たりの輝度が最大輝度あるいは最低輝度の値に設定されることを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。   The drive circuit sets the luminance per unit time of the device EL element corresponding to the gradation control pixel to a value other than the maximum luminance or the minimum luminance among the unit cells of the electrostatic latent image formed by the exposure unit. 2. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the luminance per unit time of the organic EL element corresponding to a pixel that is not the gradation control pixel is set to a maximum luminance value or a minimum luminance value. 前記トランジスタ回路は前記有機EL素子に流れる電流値を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the transistor circuit controls a value of a current flowing through the organic EL element. 前記レンズ群は、前記第1の方向に垂直な断面内においては倒立結像系であり、かつ前記第1の方向と各レンズの光軸方向とに対して垂直な第2の方向に垂直な断面内においては正立等倍結像系であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の画像形成装置。   The lens group is an inverted imaging system in a cross section perpendicular to the first direction, and is perpendicular to a second direction perpendicular to the first direction and the optical axis direction of each lens. 4. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the image forming apparatus is an erecting equal-magnification imaging system in a cross section. 前記レンズ群は、前記第1の方向と各レンズの光軸方向とに対して垂直な第2の方向に配列された複数のレンズ列を有し、
前記複数のレンズ列を構成する複数のレンズそれぞれの光軸は、隣り合うレンズどうしにおいて、前記第1の方向に離間し、かつ同一ライン上に位置していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の画像形成装置。
The lens group includes a plurality of lens rows arranged in a second direction perpendicular to the first direction and the optical axis direction of each lens;
2. The optical axis of each of a plurality of lenses constituting the plurality of lens rows is spaced apart in the first direction and located on the same line between adjacent lenses. 5. The image forming apparatus according to any one of 4 above.
前記レンズ群は、各レンズの光軸方向に離間された第1光学系と第2光学系を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 1, wherein the lens group includes a first optical system and a second optical system that are separated from each other in the optical axis direction of each lens. 前記第1光学系と前記第2光学系とは、前記レンズが有する中間結像面に対して対称な形状であることを特徴とする請求項6に記載の画像形成装置。   The image forming apparatus according to claim 6, wherein the first optical system and the second optical system have a symmetrical shape with respect to an intermediate imaging plane of the lens. 前記レンズ群は、前記第1の方向と各レンズの光軸方向とに対して垂直な第2の方向に垂直な断面内において、前記第1光学系を通過して前記第2光学系に入射する光束の一部を遮光する遮光部材を有することを特徴とする請求項6又は7に記載の画像形成装置。
The lens group passes through the first optical system and enters the second optical system in a cross section perpendicular to the second direction perpendicular to the first direction and the optical axis direction of each lens. The image forming apparatus according to claim 6, further comprising a light shielding member that shields part of the luminous flux to be shielded.
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