JP2014519554A - 回転スパッタ・ターゲット・アセンブリ - Google Patents
回転スパッタ・ターゲット・アセンブリ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014519554A JP2014519554A JP2014514617A JP2014514617A JP2014519554A JP 2014519554 A JP2014519554 A JP 2014519554A JP 2014514617 A JP2014514617 A JP 2014514617A JP 2014514617 A JP2014514617 A JP 2014514617A JP 2014519554 A JP2014519554 A JP 2014519554A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- backing tube
- assembly
- groove
- tubular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D39/00—Application of procedures in order to connect objects or parts, e.g. coating with sheet metal otherwise than by plating; Tube expanders
- B21D39/04—Application of procedures in order to connect objects or parts, e.g. coating with sheet metal otherwise than by plating; Tube expanders of tubes with tubes; of tubes with rods
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C37/00—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape
- B21C37/06—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape of tubes or metal hoses; Combined procedures for making tubes, e.g. for making multi-wall tubes
- B21C37/15—Making tubes of special shape; Making tube fittings
- B21C37/154—Making multi-wall tubes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C1/00—Manufacture of metal sheets, metal wire, metal rods, metal tubes by drawing
- B21C1/16—Metal drawing by machines or apparatus in which the drawing action is effected by other means than drums, e.g. by a longitudinally-moved carriage pulling or pushing the work or stock for making metal sheets, bars, or tubes
- B21C1/22—Metal drawing by machines or apparatus in which the drawing action is effected by other means than drums, e.g. by a longitudinally-moved carriage pulling or pushing the work or stock for making metal sheets, bars, or tubes specially adapted for making tubular articles
- B21C1/24—Metal drawing by machines or apparatus in which the drawing action is effected by other means than drums, e.g. by a longitudinally-moved carriage pulling or pushing the work or stock for making metal sheets, bars, or tubes specially adapted for making tubular articles by means of mandrels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C23/00—Extruding metal; Impact extrusion
- B21C23/22—Making metal-coated products; Making products from two or more metals
- B21C23/24—Covering indefinite lengths of metal or non-metal material with a metal coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C37/00—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape
- B21C37/06—Manufacture of metal sheets, bars, wire, tubes or like semi-manufactured products, not otherwise provided for; Manufacture of tubes of special shape of tubes or metal hoses; Combined procedures for making tubes, e.g. for making multi-wall tubes
- B21C37/15—Making tubes of special shape; Making tube fittings
- B21C37/151—Making tubes with multiple passages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D41/00—Application of procedures in order to alter the diameter of tube ends
- B21D41/04—Reducing; Closing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/342—Hollow targets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
回転ターゲット・アセンブリが、本発明の原理に従って製作された。管状ターゲット素材は5N純アルミニウムから形成された。約50個の長方形形状溝がバッキングチューブの周囲に沿って機械加工された。次に、バッキングチューブは、管状ターゲット素材の内径(ID)内に同軸で位置づけられ、ダイの中を通して同時引き抜きされた。図1に示したような溝状界面が形成された。溝空間の約50%から100%がターゲット材料により充填された。溝間の間隔は約5mmであった。溝の高さは約0.7mmであった。溝の幅は5mmであった。次に、回転ターゲット・アセンブリは、スパッタリング状態をシミュレートするために回転試験装置に挿入された。試験で利用された回転試験装置は、26.03cm(10.25インチ)のID及び63.5cm(25インチ)の高さをもつ円筒状ステンレス鋼真空チャンバであった。回転ターゲット・アセンブリが真空チャンバに装着された後、チャンバは排気された。排気の後、チャンバはアルゴンで再充填され、DC電力がスパッタリングを開始させるためにターゲット・アセンブリに印加されるとともに、DCパワーがターゲット・アセンブリ及びマグネトロンを一定速度で回転させた。ターゲット・アセンブリ表面の温度測定が、様々な電力密度レベルで行われた。
回転管状ターゲット・アセンブリが、実施例1で説明したように形成された。曲げ試験のための必要なサイズのサンプルを得るために、アセンブリの一部分が切断された。サンプルは、173mmの外径、125mmの内径、及び長さ610mmを有していた。サンプルは、ペンシルベニア州、YoungstownのWestmoreland Mechanical Testing and Research, Inc.で曲げ試験が行われた。Westmorelandで利用された試験セットアップの概略図が図7に示されている。試験セットアップは、材料の強度及び剛性を評価するために産業界で慣例的に使用されている。サンプル・ターゲット・アセンブリ701が、2つの支持ピン702及び703上に置かれた。支持ピン702及び703の各々の直径は5.1cm(2インチ)であった。ピン702及び703は、互いに、ピン702及び703の中心間を測定したとき40.6cm(16インチ)の距離離間していた。荷重機構704は、図7に示すように、ピン702及び703の中間点の直上に位置づけられた。荷重機構704は、12.7cm(5インチ)の半径を有する半円柱形状部材で構成された。荷重部材704の初期位置はゼロにされ、開始位置と見なされた。開始位置から、荷重部材704はサンプル管701を押し付けるようにサンプル管701の方に下方へ進められた。荷重部材704の変位は、荷重部材704がサンプル管701に対して及ぼした荷重の関数として測定された。荷重部材704が開始位置からサンプル管701内に移動した全距離が、管701の変位を表す。極限荷重が達成された後、試験は終了した。対応する荷重及び荷重時間とともに荷重部材704の変位が測定された。データが収集され保存された。アセンブリの曲げ試験の結果が、Westmorelandによって測定され、図8で報告された。この試験のサンプル管701では、達成された極限荷重は33.13トン(73049ポンド)であった。この荷重において、荷重部材の変位は約6.1cm(2.4インチ)であった。
実施例2と同じ曲げ試験が、各々が一体型5N純アルミニウム押出し管である2つの従来のサンプルにより行われた。一体型押出し管は、実施例2の同時引抜き管と同じ内径、外径、及び長さを有していた。曲げ試験の結果が収集され、図9及び図10に示されている。達成された極限荷重は、図8に示した発明の同時引抜き管よりも著しく小さかった。具体的には、図9は、21.38トン(47153ポンド)の極限荷重が約13.5cm(5.3インチ)の変位で達成されたことを示している。図10は、21.29トン(46934ポンド)の極限荷重が約16.3cm(6.4インチ)の変位で達成されたことを示している。従来のサンプルは、図8の同時引抜き管状ターゲット・アセンブリと比較して、より低い荷重で著しく大きく変形された。図8の同時引抜きターゲット・アセンブリの向上した改善が、サンプルのすべてに対する曲げ試験結果をグラフで示す図11で視覚的に見ることができる。
Claims (16)
- 回転可能スパッタ・ターゲット・アセンブリであって、
外側表面を有するバッキングチューブと、
内側表面を有するスパッタリング管状ターゲットであって、前記内側表面が前記バッキングチューブの前記外側表面に直接接触し、前記バッキングチューブが前記管状ターゲットの内部容積部内に同軸で構成される、スパッタリング管状ターゲットと、
前記ターゲットの前記内側表面と前記バッキングチューブの前記外側表面との間に配置された複数の離間した溝であって、それによって、前記複数の溝の各々が、前記アセンブリの周囲に沿って延在し、前記溝が、溝状界面を作り出すために前記溝内に突き出る前記スパッタ・ターゲットの部分とインターロックするように構成される、複数の離間した溝と
を備える、回転可能スパッタ・ターゲット・アセンブリ。 - 前記バッキングチューブが第1の材料を含み、前記ターゲットが第2の材料を含み、前記複数の離間した溝が前記第1の材料に沿って配置される、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記複数の離間した溝が前記バッキングチューブの前記外側表面に沿って延在し、さらに、前記管状ターゲットの内側表面の部分が前記複数の溝の各々の少なくとも一部分に突き出る、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記アセンブリが、スパッタリング中の前記アセンブリの反りを除去するのに十分な接合強度を有する、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記複数の離間した溝の各々が、所定の形状、高さ、深さ、及び幅によって特徴づけられる、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記溝が、正方形、長方形、のこぎり歯、及び円形の形状からなる群から選択される、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記スパッタリング管状ターゲットが、剥離することなく、約20kW/mまでの電力密度レベルでスパッタされるように構成される、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記回転可能スパッタ・ターゲット・アセンブリが、約33.11トン(73000ポンド)の極限荷重によって特徴づけられる、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記ターゲット素材及び前記バッキングチューブが、純アルミニウム、純タンタル、純銅、純チタン、並びに高純度及び中純度アルミニウム合金からなる群から選択される材料から形成される、請求項1に記載のアセンブリ。
- 管状スパッタ・ターゲット・アセンブリを形成する方法であって、
非平面外側表面及び前記非平面外側表面に沿って位置する複数の分離した別個の溝を有する円筒状バッキングチューブを用意するステップであって、それによって、前記溝が前記バッキングチューブの端部部分に沿って延在する、ステップと、
非平面内側表面を有する管状ターゲット素材を用意するステップと、
前記バッキングチューブの上に前記ターゲット素材を位置づけるステップと、
前記ターゲット素材及び前記バッキングチューブをダイの中を通して送り込むステップと、
前記ターゲット素材の外径を減少させ、それによって、前記ターゲットの内径の一部分が前記バッキングチューブの前記溝中に部分的に少なくとも突き出して、前記溝内に前記ターゲット素材をロックするステップと
を含む、方法。 - 前記ターゲット素材の前記一部分が前記溝中に機械的に変形される、請求項10に記載の方法。
- 前記複数の溝の各々が、前記変形したターゲット素材材料で少なくとも15%充填される、請求項10に記載の方法。
- 前記ターゲット素材及び前記バッキングチューブが、純アルミニウム、純タンタル、純銅、純チタン、並びに高純度及び中純度アルミニウム合金からなる群から選択される材料から形成される、請求項10に記載の方法。
- 前記ターゲット素材及び前記バッキングチューブの前記材料の純度が、3N、4N、又は5Nである、請求項13に記載の方法。
- 前記ターゲット素材が、前記バッキングチューブとともに同時引き抜きされる、請求項10に記載の方法。
- 前記ターゲット素材が、前記バッキングチューブとともに同時押し出しされる、請求項10に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161495509P | 2011-06-10 | 2011-06-10 | |
US61/495,509 | 2011-06-10 | ||
US13/489,583 | 2012-06-06 | ||
US13/489,583 US20130140173A1 (en) | 2011-06-10 | 2012-06-06 | Rotary sputter target assembly |
PCT/US2012/041242 WO2012170622A1 (en) | 2011-06-10 | 2012-06-07 | Rotary sputter target assembly |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014519554A true JP2014519554A (ja) | 2014-08-14 |
Family
ID=46246308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014514617A Pending JP2014519554A (ja) | 2011-06-10 | 2012-06-07 | 回転スパッタ・ターゲット・アセンブリ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130140173A1 (ja) |
EP (1) | EP2718477A1 (ja) |
JP (1) | JP2014519554A (ja) |
KR (1) | KR20140041693A (ja) |
CN (1) | CN103781936A (ja) |
TW (1) | TW201313350A (ja) |
WO (1) | WO2012170622A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017190523A (ja) * | 2016-04-12 | 2017-10-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 円筒型スパッタリングターゲット |
JP2020193392A (ja) * | 2020-09-07 | 2020-12-03 | 京浜ラムテック株式会社 | バッキングプレートおよびその製造方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140110245A1 (en) * | 2012-10-18 | 2014-04-24 | Primestar Solar, Inc. | Non-bonded rotatable targets and their methods of sputtering |
CN105220092A (zh) * | 2015-11-03 | 2016-01-06 | 基迈克材料科技(苏州)有限公司 | 用于液晶平板显示器镀膜的高纯铝靶材挤压处理方法 |
JP6202131B1 (ja) * | 2016-04-12 | 2017-09-27 | 三菱マテリアル株式会社 | 銅合金製バッキングチューブ及び銅合金製バッキングチューブの製造方法 |
IT201700027045A1 (it) * | 2017-03-10 | 2018-09-10 | Em Moulds S P A A Socio Unico | Cristallizzatore per colata continua e metodo per ottenere lo stesso |
KR102376281B1 (ko) * | 2019-06-10 | 2022-03-17 | 가부시키가이샤 아루박 | 스퍼터링 타깃 및 스퍼터링 타깃의 제조방법 |
CN113798430B (zh) * | 2021-08-11 | 2024-06-14 | 广东华昌集团有限公司 | 基于共挤压的钢铝导电轨的制备方法及导电轨 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63140723A (ja) * | 1986-12-01 | 1988-06-13 | Nippon Denso Co Ltd | 非晶質合金被覆体及びその製造方法 |
JPH0665733A (ja) * | 1992-06-16 | 1994-03-08 | Johnson Matthey Electron Inc | スパッタリング用ターゲット合材およびその製造方法 |
JPH07504945A (ja) * | 1992-03-18 | 1995-06-01 | トーソー エスエムディー,インク. | スパッタ・ターゲット受け板組立体を結合する方法とそれにより製造される組立体 |
JPH07173622A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Kobe Steel Ltd | Pvd法用円筒状ターゲット |
JP2003535212A (ja) * | 1998-09-11 | 2003-11-25 | トーソー エスエムディー,インク. | スパッターターゲット低温接合法とそれによって製造されるターゲットアセンブリ |
JP2008007824A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Nippon Piston Ring Co Ltd | Pvd用筒状ターゲット |
JP2008506852A (ja) * | 2005-10-14 | 2008-03-06 | プランゼー エスエー | 管状ターゲット |
JP2011068946A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Solar Applied Materials Technology Corp | 回転ターゲット組立体及び回転ターゲット |
JP2011073059A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 金属二重管の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002049785A1 (en) * | 2000-12-18 | 2002-06-27 | Tosoh Smd, Inc. | Low temperature sputter target/backing plate joining technique and assemblies made thereby |
EP1813695B8 (en) * | 2006-01-31 | 2011-09-28 | Materion Advanced Materials Technologies and Services Inc. | Tubular sputtering target with improved stiffness |
DE102007044651B4 (de) * | 2007-09-18 | 2011-07-21 | W.C. Heraeus GmbH, 63450 | Rohrsputtertarget mit grabenförmig strukturierter Außenfläche des Trägerrohres sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
EP2365515A1 (en) * | 2010-03-09 | 2011-09-14 | Applied Materials, Inc. | Rotatable target, backing tube, sputtering installation and method for producing a rotatable target |
-
2012
- 2012-06-06 US US13/489,583 patent/US20130140173A1/en not_active Abandoned
- 2012-06-07 KR KR1020147000380A patent/KR20140041693A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-06-07 JP JP2014514617A patent/JP2014519554A/ja active Pending
- 2012-06-07 CN CN201280039025.1A patent/CN103781936A/zh active Pending
- 2012-06-07 WO PCT/US2012/041242 patent/WO2012170622A1/en active Application Filing
- 2012-06-07 EP EP12727075.9A patent/EP2718477A1/en not_active Withdrawn
- 2012-06-08 TW TW101120725A patent/TW201313350A/zh unknown
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63140723A (ja) * | 1986-12-01 | 1988-06-13 | Nippon Denso Co Ltd | 非晶質合金被覆体及びその製造方法 |
JPH07504945A (ja) * | 1992-03-18 | 1995-06-01 | トーソー エスエムディー,インク. | スパッタ・ターゲット受け板組立体を結合する方法とそれにより製造される組立体 |
JPH0665733A (ja) * | 1992-06-16 | 1994-03-08 | Johnson Matthey Electron Inc | スパッタリング用ターゲット合材およびその製造方法 |
JPH07173622A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-11 | Kobe Steel Ltd | Pvd法用円筒状ターゲット |
JP2003535212A (ja) * | 1998-09-11 | 2003-11-25 | トーソー エスエムディー,インク. | スパッターターゲット低温接合法とそれによって製造されるターゲットアセンブリ |
JP2008506852A (ja) * | 2005-10-14 | 2008-03-06 | プランゼー エスエー | 管状ターゲット |
JP2008007824A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Nippon Piston Ring Co Ltd | Pvd用筒状ターゲット |
JP2011073059A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 金属二重管の製造方法 |
JP2011068946A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Solar Applied Materials Technology Corp | 回転ターゲット組立体及び回転ターゲット |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017190523A (ja) * | 2016-04-12 | 2017-10-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 円筒型スパッタリングターゲット |
JP2020193392A (ja) * | 2020-09-07 | 2020-12-03 | 京浜ラムテック株式会社 | バッキングプレートおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103781936A (zh) | 2014-05-07 |
WO2012170622A1 (en) | 2012-12-13 |
TW201313350A (zh) | 2013-04-01 |
EP2718477A1 (en) | 2014-04-16 |
KR20140041693A (ko) | 2014-04-04 |
US20130140173A1 (en) | 2013-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014519554A (ja) | 回転スパッタ・ターゲット・アセンブリ | |
JP4927102B2 (ja) | 高融点金属合金、高融点金属珪化物、高融点金属炭化物、高融点金属窒化物あるいは高融点金属ホウ化物の難焼結体からなるターゲット及びその製造方法並びに同スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体及びその製造方法 | |
US6992261B2 (en) | Sputtering target assemblies using resistance welding | |
US8702919B2 (en) | Target designs and related methods for coupled target assemblies, methods of production and uses thereof | |
US7467741B2 (en) | Method of forming a sputtering target assembly and assembly made therefrom | |
US20110132973A1 (en) | Method of manufacturing high-heat-load equipment by metallurgically joining carbon material with copper-alloy material | |
TWI404815B (zh) | Sputtering target structure | |
BRPI0617249A2 (pt) | alvo tubular | |
WO2011062002A1 (ja) | スパッタリングターゲット-バッキングプレート接合体及びその製造方法 | |
KR20060029622A (ko) | 백킹 플레이트에 스퍼터 타겟 부착을 위한 방법 및 디자인 | |
JP5694360B2 (ja) | スパッタリングターゲット−バッキングプレート接合体及びその製造方法 | |
JP2007291524A (ja) | スパッター源用ターゲット | |
US20110220489A1 (en) | Rotatable target, backing tube, sputtering installation and method for producing a rotatable target | |
CN104246417A (zh) | 内面带有沟槽的铝合金制导热管 | |
KR19980040098A (ko) | 스퍼터링용 티타늄 타켓 조립체의 제조방법 및 스퍼터링용 티타늄 타켓 조립체 | |
US11830712B2 (en) | High efficiency rotatable sputter target | |
JP4338353B2 (ja) | 高温材料の複合部材製造方法 | |
EP3205441A1 (en) | Welding electrodes and methods of manufacturing same | |
JP4916646B2 (ja) | 固体高分子型燃料電池セパレータ用クラッド板およびその製造方法 | |
JP4803716B2 (ja) | バッキングプレート及びその製造方法 | |
JP5019200B2 (ja) | イオン源電極 | |
KR101137912B1 (ko) | 원통형 스퍼터링 타겟 | |
US20140238850A1 (en) | Tubular target and method of producing a tubular target | |
JP2013019031A (ja) | 円筒形ターゲットおよびその製造方法 | |
US20210193426A1 (en) | Aligned grain structure targets, systems, and methods of forming |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140616 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150311 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150611 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150713 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150811 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151211 |