JP2014231217A - Conductive member, injection molded article, film, fiber, tube, hollow molded product, and production method of conductive member - Google Patents

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前田 修一
Shuichi Maeda
修一 前田
昭博 松林
Akihiro Matsubayashi
昭博 松林
直靖 薮
Naoyasu Yabu
直靖 薮
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive member which includes: a layer including a conductive material having high adhesiveness to a base material of a conductive pattern formed by using a conductive ink, in particular an ink or a paste including metal nanoparticles and bringing about excellent conductivity; and a polyoxamide substrate, as well as production methods of them.SOLUTION: A conductive member includes a layer including a conductive material and a polyamide resin substrate.

Description

本発明は、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材、並びにそれらの製造方法等に関する。   The present invention relates to a conductive member having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate, a method for manufacturing the conductive member, and the like.

近年、金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いたプリンタブルエレクトロニクスが注目されている。   In recent years, printable electronics using ink or paste containing metal nanoparticles has attracted attention.

印刷による導電性パターンの製造に関し、従来は銀粉と樹脂バインダーおよび有機溶剤とを含む高粘度の導電性樹脂ペーストを、高粘度ペーストに適した印刷方法を用いパターン化していた。しかしながら、銀粉のサイズが大きいために細線の印刷が困難であること、樹脂バインダー成分による導電率の低下等の理由により、近年は金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストをパターン化する試みが盛んになされている。なお、金属ナノ粒子は分散剤により被覆されているため、塗布・乾燥するだけでは形成されたパターンは導電性を有さず、導電性を発現させるためには分散剤を揮散させ金属ナノ粒子同士を融合させるために150℃程度での焼結が必要とされる。また、これら金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストは高温で焼成すればするほど金属ナノ粒子同士の融合が進み、導電率が高くなるという特長を有している。   Regarding the production of a conductive pattern by printing, conventionally, a high-viscosity conductive resin paste containing silver powder, a resin binder, and an organic solvent has been patterned using a printing method suitable for the high-viscosity paste. However, in recent years, attempts to pattern inks or pastes containing metal nanoparticles have been actively conducted because of the difficulty in printing fine lines due to the large size of silver powder and the decrease in conductivity due to resin binder components. ing. In addition, since the metal nanoparticles are coated with a dispersant, the pattern formed by simply applying and drying does not have electrical conductivity. In order to fuse them, sintering at about 150 ° C. is required. Further, the ink or paste containing these metal nanoparticles has the feature that the higher the temperature, the more the metal nanoparticles are fused and the higher the electrical conductivity.

印刷に用いられる導電性パターン形成用基材としては従来、ガラス類やセラミック類のみならず、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム等の柔軟性および折り曲げ可能な各種フィルムが使用される。しかし、上述したように金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストの導電性を十分に発揮させるためには、フィルムに高温での焼成条件における耐熱性が要求される。さらに、金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストは焼結後の乾燥状態ではほぼ金属成分となるため、これらの有機フィルムと十分な密着性を確保することが難しいという問題があった。   Conventionally, not only glass and ceramics but also various flexible and foldable films such as polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyimide film, polycarbonate film, etc. have been used as substrates for forming conductive patterns used in printing. Is done. However, as described above, in order to sufficiently exhibit the conductivity of the ink or paste containing metal nanoparticles, the film is required to have heat resistance under baking conditions at a high temperature. Furthermore, since the ink or paste containing metal nanoparticles becomes almost a metal component in the dried state after sintering, there is a problem that it is difficult to ensure sufficient adhesion with these organic films.

そこで、このような問題を解決するために、上記基材に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを焼結した層との密着を確保するための接着層を形成した基材が開示されている(特許文献1〜3)。例えば特許文献1には、基材にAgの金属酸化物を含む塗布物を塗布してプライマー処理を施す方法が開示されている。また、特許文献2には、基板表面に金属と結合する基を持つ化合物(チオール基、アミノ基、カルボキシル基またはウレイド基を持つシランカップリング剤)層を形成する方法が開示されている。さらには、特許文献3には、熱可塑性樹脂で構成される接着層を形成する方法が開示されている。   Therefore, in order to solve such a problem, a base material is disclosed in which an adhesive layer for ensuring close contact with the layer obtained by sintering ink or paste containing metal nanoparticles on the base material is disclosed ( Patent Documents 1 to 3). For example, Patent Document 1 discloses a method of applying a primer treatment by applying a coating containing an Ag metal oxide to a base material. Patent Document 2 discloses a method of forming a compound (silane coupling agent having a thiol group, amino group, carboxyl group or ureido group) layer having a group capable of binding to a metal on the substrate surface. Furthermore, Patent Document 3 discloses a method for forming an adhesive layer made of a thermoplastic resin.

特開2012−231171JP2012-231171 特開2006−54214JP 2006-54214 A 特開2006−93297JP 2006-93297 A

しかしながら、基材の上にこれらの接着層を別途設けることは生産工程を増やすことになり、最終製品のコストアップに繋がる。さらには、金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストが高導電となる高温焼成では、接着層に用いる成分によっては、この層が劣化して密着性の低下を招く。   However, separately providing these adhesive layers on the base material increases the production process and leads to an increase in cost of the final product. Furthermore, in high-temperature firing in which an ink or paste containing metal nanoparticles becomes highly conductive, depending on the components used for the adhesive layer, this layer may deteriorate, leading to a decrease in adhesion.

本発明は、上記のような問題を鑑みてなされたものであって、導電性インク、その中でも特に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、かつ優れた導電性が得られるポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材、並びにそれらの製造方法を提供することを目的とする。さらに、優れた導電性を有した、射出成型品や、フィルム、繊維、チューブ、中空状成形物などの押出成形品を提供することができる。   The present invention has been made in view of the problems as described above, and has an adhesive property to a base material of a conductive pattern formed using a conductive ink, particularly an ink or paste containing metal nanoparticles. It is an object of the present invention to provide a conductive member characterized by having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate that is high and has excellent conductivity, and a method for producing the conductive member. Furthermore, it is possible to provide an injection-molded product having excellent conductivity and an extrusion-molded product such as a film, a fiber, a tube, and a hollow molded product.

以上の目的を達成するために、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材は、導電性インク、その中でも特に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、かつ優れた導電性が得られることを見出し、本発明に至った。さらに、本願発明を用いた、射出成型品や、フィルム、繊維、チューブ、中空状成形物などの押出成形品に優れた導電性を得られることを見出し、本発明に至った。   In order to achieve the above object, the present inventors have conducted intensive research, and as a result, a conductive member having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate is a conductive ink, In particular, the inventors have found that a conductive pattern formed using an ink or paste containing metal nanoparticles has high adhesion to a base material, and that excellent conductivity can be obtained, leading to the present invention. Furthermore, the inventors have found that excellent conductivity can be obtained for an injection-molded product or an extrusion-molded product such as a film, a fiber, a tube, or a hollow molded product using the present invention.

すなわち、本発明は、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材に関する。   That is, the present invention relates to a conductive member having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate.

また、本発明は、上記導電性材料は、金属ナノ粒子を含み、前記金属ナノ粒子の金属が銀又は銅であることを特徴とする導電部材に関する。   The present invention also relates to a conductive member, wherein the conductive material includes metal nanoparticles, and the metal of the metal nanoparticles is silver or copper.

さらに、本発明において、上記ポリアミド樹脂は、ジカルボン酸成分が蓚酸であり、ジアミン成分が1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、イソホロンジアミン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンからなる群より選択される2種以上のジアミン成分からなることを特徴とする導電部材に関する。   Furthermore, in the present invention, in the polyamide resin, the dicarboxylic acid component is oxalic acid, and the diamine component is 1,6-hexamethylenediamine, 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, isophoronediamine, and The present invention relates to a conductive member comprising two or more diamine components selected from the group consisting of 1,3-bisaminomethylcyclohexane.

また、本発明は、上記導電性材料を含む層が、導電性材料を印刷又は塗布することにより導電性パターンが形成されていることを特徴とする導電部材に関する。   The present invention also relates to a conductive member in which a conductive pattern is formed by printing or applying the conductive material on the layer containing the conductive material.

また、本発明は、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする射出成型品に関する。   The present invention also relates to an injection molded product having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate.

さらに、本発明は、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とするフィルム、繊維、チューブ、および中空状成形物に関する。   Furthermore, the present invention relates to a film, a fiber, a tube, and a hollow molded article having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate.

また、本発明は、ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材の製造方法にあって、ポリオキサミド基板に導電性材料を印刷又は塗布し、前記導電性材料を180℃以上で熱処理し、導電性材料を含む層を成形することを特徴とする、導電部材の製造方法に関する。   The present invention also provides a method for producing a conductive member comprising a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate, wherein the conductive material is printed or applied to a polyoxamide substrate, and the conductive material is formed. It is related with the manufacturing method of the electrically-conductive member characterized by heat-processing a conductive material above 180 degreeC, and shape | molding the layer containing an electroconductive material.

以上のように、本発明によれば、導電性インク、その中でも特に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、かつ優れた導電性が得られるポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材、並びにそれらの製造方法を提供することが出来る。さらに、当該ポリアミド樹脂の成形性を生かすことで、基材のみならず、優れた導電性を有した、射出成型品や、繊維、チューブ、中空状成形物などの押出成形品をも提供することができる。   As described above, according to the present invention, the conductive ink, in particular, the conductive pattern formed by using the ink or paste containing metal nanoparticles is highly adhesive to the base material, and has excellent conductivity. It is possible to provide a conductive member having a layer containing a conductive material directly laminated on the obtained polyamide resin substrate, and a method for manufacturing the conductive member. Furthermore, by utilizing the moldability of the polyamide resin, not only the base material but also an injection molded product having excellent conductivity and an extruded product such as a fiber, a tube, and a hollow molded product are provided. Can do.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(1)ポリアミド樹脂の構成成分
本発明に用いられるポリアミド樹脂は、ジカルボン酸(a)由来の単位とジアミン(b)由来の単位を含み、前記ジカルボン酸(a)が蓚酸化合物を含み、前記ジアミン(b)が、1,6−ヘキサンジアミン、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、イソホロンジアミン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンからなる群より選択される2種以上のジアミンを含む。
(1) Component of polyamide resin
The polyamide resin used in the present invention includes a unit derived from a dicarboxylic acid (a) and a unit derived from a diamine (b), the dicarboxylic acid (a) includes an oxalic acid compound, and the diamine (b) is 1,6. -Two or more diamines selected from the group consisting of hexanediamine, 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, isophoronediamine and 1,3-bisaminomethylcyclohexane are included.

(1−1)ジカルボン酸(a)
本発明に用いられるジカルボン酸(a)は、アミノ基との反応性を有し、本発明のポリアミド樹脂の構成単位に、ジカルボン酸由来の単位を提供するジカルボン酸化合物であり、ジカルボン酸化合物の1種である蓚酸由来の単位を提供する蓚酸化合物を含む。ジカルボン酸化合物は、ジカルボン酸に由来した化合物が挙げられ、ジカルボン酸に由来した化合物としては、ジカルボン酸由来のエステルなどが挙げられる。
(1-1) Dicarboxylic acid (a)
The dicarboxylic acid (a) used in the present invention is a dicarboxylic acid compound having reactivity with an amino group and providing a unit derived from a dicarboxylic acid as a constituent unit of the polyamide resin of the present invention. A oxalic acid compound that provides a unit derived from oxalic acid, which is one type, is included. Examples of the dicarboxylic acid compound include compounds derived from dicarboxylic acid, and examples of the compound derived from dicarboxylic acid include esters derived from dicarboxylic acid.

本発明に用いられる蓚酸化合物は、蓚酸由来の単位を提供する化合物であり、蓚酸及び/又は蓚酸エステル等の蓚酸に由来した化合物である。蓚酸化合物はアミノ基との反応性を有するものであればよい。重合温度を高くして、ポリアミドを製造する場合、蓚酸そのものを原料として使用すると、蓚酸が熱分解することもあることから、重合温度を高くして、製造する場合の蓚酸化合物は、蓚酸に由来した化合物が好ましい。   The oxalic acid compound used in the present invention is a compound that provides a unit derived from oxalic acid, and is a compound derived from oxalic acid such as oxalic acid and / or oxalic acid ester. The oxalic acid compound only needs to have reactivity with an amino group. When producing polyamide at a high polymerization temperature, if oxalic acid itself is used as a raw material, oxalic acid may be thermally decomposed. Therefore, the oxalic acid compound in the production at a high polymerization temperature is derived from oxalic acid. The compounds obtained are preferred.

脂環式アルコールの蓚酸ジエステルとしては、蓚酸ジシクロヘキシル等が挙げられる。   Examples of oxalic acid diesters of alicyclic alcohols include dicyclohexyl oxalate.

芳香族アルコールの蓚酸ジエステルとしては、蓚酸ジフェニル等が挙げられる。   Examples of oxalic acid diesters of aromatic alcohols include diphenyl oxalate.

蓚酸ジエステルとしては、炭素原子数が3を超える脂肪族1価アルコールの蓚酸ジエステル、脂環式アルコールの蓚酸ジエステル及び芳香族アルコールの蓚酸ジエステルよりなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、蓚酸ジn−ブチル、蓚酸ジi−ブチル及び/又は蓚酸ジt−ブチルがより好ましく、蓚酸ジn−ブチルがさらに好ましい。   The oxalic acid diester is preferably at least one selected from the group consisting of an oxalic acid diester of an aliphatic monohydric alcohol having more than 3 carbon atoms, an oxalic acid diester of an alicyclic alcohol, and an oxalic acid diester of an aromatic alcohol. n-Butyl, di-i-butyl oxalate and / or di-t-butyl oxalate are more preferred, and di-n-butyl oxalate is more preferred.

これらの蓚酸化合物は、単独で、あるいは2種以上で、ポリアミド樹脂の製造時に添加することができる。   These oxalic acid compounds can be added alone or in combination of two or more at the time of producing the polyamide resin.

蓚酸化合物以外のジカルボン酸化合物としては、脂肪族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン、芳香族ジカルボン酸およびそれに由来した化合物が挙げられる。   Examples of dicarboxylic acid compounds other than oxalic acid compounds include aliphatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids, and compounds derived therefrom.

脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2−ジメチルグルタル酸、3,3−ジエチルコハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、スベリン酸が挙げられる。   Aliphatic dicarboxylic acids include malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-diethylsuccinic acid. Examples include acids, azelaic acid, sebacic acid, and suberic acid.

脂環式ジカルボン酸としては、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。   Examples of the alicyclic dicarboxylic acid include 1,3-cyclopentane dicarboxylic acid and 1,4-cyclohexane dicarboxylic acid.

芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,4−フェニレンジオキシジ酢酸、1,3−フェニレンジオキシジ酢酸、ジ安息香酸、4,4’−オキシジ安息香酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸、ジフェニルスルホン−4,4’−ジカルボン酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸が挙げられる。   Aromatic dicarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-phenylenedioxydiacetic acid, 1,3 -Phenylenedioxydiacetic acid, dibenzoic acid, 4,4'-oxydibenzoic acid, diphenylmethane-4,4'-dicarboxylic acid, diphenylsulfone-4,4'-dicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid Can be mentioned.

これらの蓚酸化合物以外のジカルボン酸化合物は、単独で、あるいは2種以上で、ポリアミド樹脂の製造時に添加することができる。   These dicarboxylic acid compounds other than these oxalic acid compounds can be added alone or in combination of two or more when the polyamide resin is produced.

さらに、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの多価カルボン酸を蓚酸化合物以外のジカルボン酸の有無に関わらず、溶融成形が可能な範囲内で用いることもできる。   Furthermore, polyvalent carboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid can be used as long as melt molding is possible regardless of the presence or absence of dicarboxylic acids other than oxalic acid compounds.

ポリアミド樹脂に含まれる蓚酸化合物以外のジカルボン酸及び/又は多価カルボン酸由来の単位の含有量は、ポリアミド樹脂に含まれる全ジカルボン酸及び全多価カルボン酸由来の単位の総量中に、50モル%未満が好ましく、20モル%以下であることがより好ましく、10モル%以下がさらに好ましく、5モル%以下さらに好ましく、1モル%以下がさらに好ましい。   The content of units derived from dicarboxylic acids and / or polycarboxylic acids other than oxalic acid compounds contained in the polyamide resin is 50 mol in the total amount of units derived from all dicarboxylic acids and all polycarboxylic acids contained in the polyamide resin. %, More preferably 20 mol% or less, further preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and further preferably 1 mol% or less.

(1−2)ジアミン(b)
本発明に用いるジアミン(b)は、1,6−ヘキサンジアミン、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、イソホロンジアミン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンからなる群より選択される2種以上のジアミンを含む。
(1-2) Diamine (b)
The diamine (b) used in the present invention is selected from the group consisting of 1,6-hexanediamine, 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, isophoronediamine and 1,3-bisaminomethylcyclohexane. Containing two or more diamines.

ポリアミド樹脂の高分子量化の観点から、ジアミン(b)は、炭素原子数が9のジアミンである1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミン(C9ジアミンともいう)を含むことが好ましい。ポリアミド樹脂に含まれる1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミン由来の単位の含有量、即ち、C9ジアミン由来の単位の含有量は、ポリアミド樹脂に含まれる全ジアミン由来の単位の総量中に、1モル%以上であることが好ましく、20モル%以上であることがより好ましく、40モル%以上であることがさらに好ましく、60モル%以上であることがさらに好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましく、90モル%以上であることがさらに好ましい。   From the viewpoint of increasing the molecular weight of the polyamide resin, the diamine (b) contains 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine (also referred to as C9 diamine), which are diamines having 9 carbon atoms. Is preferred. The content of units derived from 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine contained in the polyamide resin, that is, the content of units derived from C9 diamine is a unit derived from all diamines contained in the polyamide resin. Is preferably 1 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, further preferably 40 mol% or more, further preferably 60 mol% or more, and more preferably 80 mol%. % Or more, more preferably 90 mol% or more.

ジアミン(b)は、1,6−ヘキサンジアミン、1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミンを含むことがより好ましく、ポリアミド樹脂の融点と熱分解温度(窒素中でのポリマーの1%重量減少温度)のバランスと他の特性とのバランスの観点から、ポリアミド樹脂に含まれる1,6−ヘキサンジアミン、1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミン由来の単位の合計の含有量は、ポリアミド樹脂に含まれる全ジアミン由来の単位の総量中に、10モル%以上であることが好ましく、20モル%以上であることがより好ましく、40モル%以上であることがさらに好ましく、60モル%以上であることがさらに好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましく、90モル%以上であることがさらに好ましい。   More preferably, the diamine (b) contains 1,6-hexanediamine, 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine. The melting point and thermal decomposition temperature of the polyamide resin (polymer in nitrogen) 1% weight loss temperature) of 1,6-hexanediamine, 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine contained in the polyamide resin from the viewpoint of the balance between the balance and other characteristics. The total content of units is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and more preferably 40 mol% or more in the total amount of units derived from all diamines contained in the polyamide resin. More preferably, it is 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more. Theft is more preferable.

1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミンの合計と1,6−ヘキサンジアミンのモル比、即ち、炭素原子数が9のジアミンと1,6−ヘキサンジアミンのモル比は、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン及び蓚酸化合物を重合してできるポリアミド(以下、PA92ということもある。)の優れた特性を維持し、特に溶融成形性、低吸水性を損なうことなく、ポリアミド樹脂(A)の融点を高く、特に力学物性を向上させる観点から、1:99〜99:1であることが好ましい。C9ジアミンと1,6−ヘキサンジアミンのモル比は、より好ましくは5.1:94.9〜99:1、さらに好ましくは10:90〜99:1であり、ポリアミド樹脂(A)の融点を300℃以下にし、重合及び成形加工(溶融成形性)をより容易にする観点から、さらに好ましくは20:80〜99:1、さらに好ましくは30:70〜98:2であり、ポリアミド樹脂(A)の融点を280℃以下にし、溶融成形性がより容易にする観点から、さらに好ましくは30:70〜90:10、さらに好ましくは30:70〜70:30である。   The molar ratio of the sum of 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine to 1,6-hexanediamine, that is, the molar ratio of diamine having 9 carbon atoms and 1,6-hexanediamine is: Maintains excellent properties of polyamide (hereinafter also referred to as PA92) obtained by polymerizing 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine and oxalic acid compound, and in particular, melt moldability and low water absorption From the viewpoint of increasing the melting point of the polyamide resin (A) without impairing the properties, and particularly improving the mechanical properties, it is preferably 1:99 to 99: 1. The molar ratio of C9 diamine to 1,6-hexanediamine is more preferably 5.1: 94.9 to 99: 1, still more preferably 10:90 to 99: 1, and the melting point of the polyamide resin (A) is reduced. From the viewpoint of making the polymerization and molding process (melt moldability) easier, the temperature is more preferably 20:80 to 99: 1, more preferably 30:70 to 98: 2, and the polyamide resin (A From the viewpoint of making the melting point of) less than 280 ° C. and making the melt moldability easier, it is more preferably 30:70 to 90:10, and further preferably 30:70 to 70:30.

炭素原子数が9のジアミンであるC9ジアミンの1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミンのモル比は、ポリアミド樹脂の高分子量化の観点から、1:99〜99:1であることが好ましく、5:95〜95:5であることがより好ましく、5:95〜40:60又は60:40〜95:5であることがさらに好ましく、5:95〜30:70又は70:30〜90:10であることがさらに好ましい。1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン及び、1,6−ヘキサンジアミン由来の単位を上記の含有量を含有することにより、結晶化速度を遅くすることが可能になり、押出成形等に優れたポリアミド樹脂が得られる。   The molar ratio of 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine of C9 diamine, which is a diamine having 9 carbon atoms, is 1:99 to 99: 1 from the viewpoint of increasing the molecular weight of the polyamide resin. It is preferably 5:95 to 95: 5, more preferably 5:95 to 40:60 or 60:40 to 95: 5, and even more preferably 5:95 to 30:70 or More preferably, it is 70:30 to 90:10. By including the above content of units derived from 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine and 1,6-hexanediamine, it becomes possible to slow the crystallization rate, A polyamide resin excellent in extrusion molding or the like is obtained.

ポリアミド樹脂のガラス転移温度を高くする観点から、ジアミン(b)はイソホロンジアミンまたは1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンを含むことが好ましく、1,6−ヘキサンジアミン、イソホロンジアミンまたは1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンを含むことがより好ましい。1,6−ヘキサンジアミンとイソホロンジアミンまたは1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンのモル比は、溶融成形性及び低吸水性を損なわない観点から、1:99〜99:1であることが好ましく、より好ましくは5:95〜95:5、さらに好ましくは10:90〜90:10である。   From the viewpoint of increasing the glass transition temperature of the polyamide resin, the diamine (b) preferably contains isophorone diamine or 1,3-bisaminomethylcyclohexane, and includes 1,6-hexanediamine, isophorone diamine or 1,3-bisamino. More preferably, it contains methylcyclohexane. The molar ratio of 1,6-hexanediamine and isophoronediamine or 1,3-bisaminomethylcyclohexane is preferably 1:99 to 99: 1 from the viewpoint of not impairing melt moldability and low water absorption. Preferably it is 5: 95-95: 5, More preferably, it is 10: 90-90: 10.

本発明の効果を損なわない範囲で、他のジアミンを含有することができる。具体的には、1,6−ヘキサンジアミン、1,9−ノナンジアミン及び2−メチル−1,8−オクタンジアミン、イソホロンジアミン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン以外の他のジアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、1,4−ブタンジアミン、1,5−ペンタンジアミン、1,8−オクタンジアミン、1,10−デカンジアミン、1,11−ウンデカンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、3−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、5−メチル−1,9−ノナンジアミン等の脂肪族ジアミン、シクロヘキサンジアミン等の脂環式ジアミン、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル等の芳香族ジアミン等が挙げられ、これらを単独で、あるいは二種以上で、製造時に添加することができる。   Other diamines can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired. Specifically, as other diamines other than 1,6-hexanediamine, 1,9-nonanediamine and 2-methyl-1,8-octanediamine, isophoronediamine and 1,3-bisaminomethylcyclohexane, ethylenediamine, Propylenediamine, 1,4-butanediamine, 1,5-pentanediamine, 1,8-octanediamine, 1,10-decanediamine, 1,11-undecanediamine, 1,12-dodecanediamine, 2-methyl-1 , 5-pentanediamine, 3-methyl-1,5-pentanediamine, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4,4-trimethyl-1,6-hexanediamine, 5-methyl Aliphatic diamines such as -1,9-nonanediamine, alicyclic diamines such as cyclohexanediamine, p-ph Examples include aromatic diamines such as nylenediamine, m-phenylenediamine, p-xylenediamine, m-xylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, and 4,4′-diaminodiphenyl ether. These can be added alone or in combination of two or more.

他のジアミン由来の単位の含有量としては、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、ポリアミド樹脂の全ジアミン由来の単位中に、好ましくは、50モル%未満であり、より好ましくは20モル%以下であり、さらに好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下、さらにこのましくは1モル%以下である。   The content of other diamine-derived units is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention, but is preferably less than 50 mol% in all diamine-derived units of the polyamide resin. Preferably it is 20 mol% or less, More preferably, it is 10 mol% or less, More preferably, it is 5 mol% or less, More preferably, it is 1 mol% or less.

(2)ポリアミド樹脂の製造
本発明に用いられるポリアミド樹脂は、ポリアミドを製造する方法として知られている任意の方法を用いて製造することができるが、高分子量化及び生産性の観点から、好ましくは、ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)をバッチ式又は連続式で重縮合反応させることにより製造することであり、より好ましくは、ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)を前重縮合工程と後重縮合工程からなる二段重合法もしくは、WO2008−072754公報記載の加圧重合法によって製造することである。
(2) Manufacture of polyamide resin The polyamide resin used in the present invention can be manufactured using any method known as a method of manufacturing polyamide, and is preferably used from the viewpoint of high molecular weight and productivity. Is to produce a diamine (b) and a dicarboxylic acid (a) by a polycondensation reaction in a batch or continuous manner, and more preferably a pre-polycondensation step of the diamine (b) and the dicarboxylic acid (a). And a post-polycondensation step, or a pressure polymerization method described in WO2008-072754.

二段重合法及び加圧重合法としては、具体的には、以下の操作で示される。   The two-stage polymerization method and the pressure polymerization method are specifically shown by the following operations.

(2−1)二段重合法
(i)前重縮合工程:まず反応器内を窒素置換した後、ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)を混合する。混合する場合にジアミン(b)及びジカルボン酸(a)が共に可溶な溶媒を用いても良い。ジアミン及び蓚酸化合物が共に可溶な溶媒としては、トルエン、キシレン、トリクロロベンゼン、フェノール、トリフルオロエタノールなどを用いることができ、特にトルエンを好ましく用いることができる。例えば、ジアミンを溶解したトルエン溶液を50℃に加熱した後、これに対して蓚酸ジエステルを加える。
(2-1) Two-stage polymerization method (i) Pre-polycondensation step: First, the inside of the reactor is purged with nitrogen, and then the diamine (b) and the dicarboxylic acid (a) are mixed. When mixing, a solvent in which both the diamine (b) and the dicarboxylic acid (a) are soluble may be used. As a solvent in which both the diamine and the oxalic acid compound are soluble, toluene, xylene, trichlorobenzene, phenol, trifluoroethanol and the like can be used, and particularly, toluene can be preferably used. For example, after heating the toluene solution which melt | dissolved diamine to 50 degreeC, oxalic acid diester is added with respect to this.

ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)の仕込み比は、高分子量化の観点から、ジカルボン酸(a)のモル量/ジアミン(b)のモル量で、0.8〜1.5(モル比)、好ましくは0.91〜1.1(モル比)、更に好ましくは0.99〜1.01(モル比)である。   The charging ratio of the diamine (b) and the dicarboxylic acid (a) is 0.8 to 1.5 (molar ratio), in terms of high molecular weight, in terms of the molar amount of the dicarboxylic acid (a) / the molar amount of the diamine (b). ), Preferably 0.91 to 1.1 (molar ratio), more preferably 0.99 to 1.01 (molar ratio).

このように仕込んだ反応器内を攪拌及び/又は窒素バブリングしながら、常圧下で昇温する。反応温度は、最終到達温度が80〜150℃、好ましくは100〜140℃の範囲になるように制御するのが好ましい。最終到達温度での反応時間は3時間〜6時間である。   The temperature in the reactor charged in this way is increased under normal pressure while stirring and / or nitrogen bubbling. The reaction temperature is preferably controlled so that the final temperature reaches 80 to 150 ° C., preferably 100 to 140 ° C. The reaction time at the final temperature reached is 3-6 hours.

(ii)後重縮合工程:更に高分子量化を図るために、前重縮合工程で生成した重合物を常圧下において反応器内で徐々に昇温する。昇温過程において前重縮合工程の最終到達温度、すなわち好ましくは80〜150℃から、最終的に、好ましくは220℃以上350℃以下、より好ましくは230℃以上330℃以下、更に好ましくは240℃以上300℃以下の温度範囲にまで到達させる。 (Ii) Post-polycondensation step: In order to further increase the molecular weight, the polymer produced in the pre-polycondensation step is gradually heated in the reactor under normal pressure. In the temperature rising process, the final ultimate temperature of the pre-polycondensation step, that is, preferably 80 to 150 ° C., is finally preferably 220 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, more preferably 230 ° C. or higher and 330 ° C. or lower, and further preferably 240 ° C. A temperature range of 300 ° C. or lower is reached.

昇温時間を含めて好ましくは1〜8時間、より好ましくは2〜6時間保持して反応を行うことが好ましい。さらに後重合工程において、必要に応じて減圧下での重合を行うこともできる。減圧重合を行う場合の好ましい最終到達圧力は13.3Pa以上0.1MPa未満である。   It is preferable to carry out the reaction while keeping the temperature rising time preferably 1 to 8 hours, more preferably 2 to 6 hours. Furthermore, in the post-polymerization step, polymerization can be performed under reduced pressure as necessary. The preferable final pressure in the case of carrying out the vacuum polymerization is 13.3 Pa or more and less than 0.1 MPa.

(2−2)加圧重合法
まずジアミン(b)を耐圧容器内に入れ窒素置換した後、封圧下において反応温度まで昇温する。その後、反応温度において封圧状態を保ったまま、ジカルボン酸(a)を耐圧容器内に注入し、重縮合反応を開始させる。反応温度は、ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)の反応によって生じるポリアミドが、スラリー状、もしくは溶液状態を維持でき、かつ熱分解しない温度であれば特に制限されない。ジアミン(b)及びジカルボン酸(a)の仕込み比は、ジカルボン酸(a)のモル量/ジアミン(b)のモル量で、0.8〜1.5(モル比)、好ましくは0.91〜1.1(モル比)、更に好ましくは0.99〜1.01(モル比)である。
(2-2) Pressure polymerization method First, the diamine (b) is placed in a pressure-resistant container and purged with nitrogen, and then heated to a reaction temperature under a sealing pressure. Thereafter, while maintaining the sealed pressure state at the reaction temperature, the dicarboxylic acid (a) is injected into the pressure resistant vessel to start the polycondensation reaction. The reaction temperature is not particularly limited as long as the polyamide produced by the reaction of diamine (b) and dicarboxylic acid (a) can maintain a slurry or solution state and does not thermally decompose. The charging ratio of the diamine (b) and the dicarboxylic acid (a) is 0.8 to 1.5 (molar ratio), preferably 0.91 in terms of the molar amount of the dicarboxylic acid (a) / the molar amount of the diamine (b). To 1.1 (molar ratio), more preferably 0.99 to 1.01 (molar ratio).

次に耐圧容器内を封圧状態に保ちながらポリアミド樹脂の融点以上かつ熱分解しない温度以下に昇温する。例えば、本発明で得られるポリアミド樹脂の場合、融点は245〜300℃であることから、250℃以上350℃以下、好ましくは255℃以上330℃以下、更に好ましくは260℃以上300℃以下に昇温する。所定温度に到達するまでの耐圧容器内の圧力は、およそ生成するアルコールの飽和蒸気圧から0.1MPaG、好ましくは1MPaGから0.2MPaGに調整する。所定温度に到達後は、生成したアルコールを留去しながら放圧し、必要に応じて常圧窒素気流下もしくは減圧下において継続して重縮合反応を行う。減圧重合を行う場合の好ましい最終到達圧力は13.3Pa以上0.1MPa未満である。   Next, while maintaining the inside of the pressure vessel in a sealed pressure state, the temperature is raised to a temperature not lower than the melting point of the polyamide resin and not pyrolyzed. For example, in the case of the polyamide resin obtained in the present invention, since the melting point is 245 to 300 ° C., it rises to 250 to 350 ° C., preferably 255 to 330 ° C., more preferably 260 to 300 ° C. Warm up. The pressure in the pressure-resistant container until reaching the predetermined temperature is adjusted to approximately 0.1 MPaG, preferably 1 MPaG to 0.2 MPaG, from the saturated vapor pressure of the alcohol to be generated. After reaching the predetermined temperature, the pressure is released while distilling off the produced alcohol, and the polycondensation reaction is continued under normal pressure nitrogen flow or reduced pressure as necessary. The preferable final pressure in the case of carrying out the vacuum polymerization is 13.3 Pa or more and less than 0.1 MPa.

(3)ポリアミド樹脂の特性
本発明に用いられるポリアミド樹脂の分子量は、1.0g/dlの96%濃硫酸溶液を用い、25℃で測定した相対粘度ηrが1.8〜6.0、より好ましくは2.0〜5.5、特に好ましくは2.5〜4.5の範囲にあるような分子量を有する。分子量が低くなると溶融粘度が下がり中空成形加工に適さなくなる傾向がある。一方、分子量が高くなると溶融粘度が高くなり、溶融成形性が悪くなる傾向がある。
(3) Properties of polyamide resin The polyamide resin used in the present invention has a molecular weight of 1.8 to 6.0, relative viscosity ηr measured at 25 ° C. using a 1.0 g / dl 96% concentrated sulfuric acid solution. The molecular weight is preferably in the range of 2.0 to 5.5, particularly preferably 2.5 to 4.5. If the molecular weight is low, the melt viscosity tends to be low and not suitable for hollow molding. On the other hand, when the molecular weight increases, the melt viscosity increases and the melt moldability tends to deteriorate.

(4)他のポリマーの添加
本発明の樹脂組成物には、本発明に用いられるポリアミド樹脂以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、他のポリマーを含んでよい。他のポリマーとしては、他のポリアミド類、例えば、ポリアミド樹脂以外のポリオキサミド、芳香族ポリアミド、脂肪族ポリアミド、脂環式ポリアミド等、並びにポリアミド及びポリプロピレン、ポリエチレンエーテル、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルホン酸などの熱可塑性ポリマーが挙げられる。
(4) Addition of other polymer In addition to the polyamide resin used in the present invention, the resin composition of the present invention may contain other polymers as long as the effects of the present invention are not impaired. Other polymers include other polyamides, such as polyoxamides other than polyamide resins, aromatic polyamides, aliphatic polyamides, alicyclic polyamides, etc., and heats such as polyamide and polypropylene, polyethylene ether, polyphenylene ether, polyphenylene sulfonic acid, etc. A plastic polymer is mentioned.

他のポリマーの含有量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、本発明の樹脂組成物中に、その合計が、50質量%未満が好ましく、30質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましい。   The content of the other polymer is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention, but in the resin composition of the present invention, the total is preferably less than 50% by mass, more preferably 30% by mass or less. Preferably, 10 mass% or less is more preferable.

(5)添加剤
本発明に用いられるポリアミド樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲において、他の添加剤を含有することができ、添加剤としては、例えば、顔料、染料、着色剤、耐熱剤、酸化防止剤、耐候剤、紫外線吸収剤、光安定剤、相溶化剤、滑材、結晶核材、結晶化促進剤、離型剤、帯電防止剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤、ガラス繊維、潤滑剤、フィラー、補強繊維等を挙げることができる。これらの添加剤は、1種又は2種以上、含有することができる。その含有量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、本発明の樹脂組成物中に、その合計が、50質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましい。
(5) Additives The polyamide resin used in the present invention can contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the additives include pigments, dyes, colorants, and heat resistance. Agent, antioxidant, weathering agent, ultraviolet absorber, light stabilizer, compatibilizer, lubricant, crystal nucleus material, crystallization accelerator, mold release agent, antistatic agent, plasticizer, antistatic agent, flame retardant , Glass fiber, lubricant, filler, reinforcing fiber and the like. These additives can be contained alone or in combination of two or more. The content is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention, but in the resin composition of the present invention, the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less. A mass% or less is more preferable.

耐熱剤としては、銅含有化合物が好ましく、その中でも、ヨウ化銅や臭化銅などのハロゲン化銅が好ましい。銅含有化合物の含有量としては、本発明の樹脂組成物中に、10〜1000ppmが好ましい。通常は、アルキルハロゲン化合物が、二次酸化防止剤としてさらに添加される。   As the heat-resistant agent, a copper-containing compound is preferable, and among them, copper halides such as copper iodide and copper bromide are preferable. As content of a copper containing compound, 10-1000 ppm is preferable in the resin composition of this invention. Usually, an alkyl halogen compound is further added as a secondary antioxidant.

系酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が挙げられ、1種又は2種以上、本発明の樹脂組成物中に含有することができる。   Examples of the system antioxidant include a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, and a sulfur-based antioxidant, and one or more of them can be contained in the resin composition of the present invention.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、トリエチレングリコール・ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール・ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、N,N‘−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス[2−{3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等を挙げることができ、中でも、特にペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N‘−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)が挙げられ、1種又は2種以上、本発明の樹脂組成物中に含有することができる。   Examples of phenolic antioxidants include triethylene glycol bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol bis [3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3 , 5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, N, N′-hexamethylenebis (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl) -4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis [2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] -2, 4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like, among which pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate N, N′-hexamethylene bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), or one or more thereof, contained in the resin composition of the present invention can do.

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエーテル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェビン6−イル]オキシ]−N,N−ビス[2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェビン6−イル]オキシ]−エチル]エタナミン,ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなどを挙げることができ、中でも特に2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサフォスフェビン6−イル]オキシ]−エチル]エタナミンが挙げられ、1種又は2種以上、本発明の樹脂組成物中に含有することができる。   Examples of phosphorus antioxidants include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylether) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin 6-yl] oxy] -N, N-bis [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [ d, f] [1,3,2] dioxaphosphenine 6-yl] oxy] -ethyl] ethanamine, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, etc. In particular, 2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin 6-yl ] Oxy] -ethyl] ethanamine, one or more It can be contained in the light of the resin composition.

イオウ系酸化防止剤としては、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、テトラキス[メチレン−3−(ドデシルチオ)プロピオネート]メタン等を挙げられ、1種又は2種以上、本発明の樹脂組成物中に含有することができる。   Sulfur-based antioxidants include 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tetrakis [methylene-3- (dodecylthio) propionate] methane 1 type, or 2 or more types can be contained in the resin composition of the present invention.

(6)ポリアミド樹脂の成形加工
本発明により得られるポリアミド樹脂の成形方法としては、射出、押出、中空、プレス、ロール、発泡、真空・圧空、延伸などポリアミドに適用できる公知の成形加工法はすべて可能であり、これらの成形法によってフィルム、シート、成形品、繊維、中空状成型物などに加工することができる。更には、これらの樹脂等を使用し、立体形状に成型された物体も支持体として使用可能である。
(6) Polyamide resin molding process The polyamide resin molding process obtained by the present invention includes all known molding process methods applicable to polyamide, such as injection, extrusion, hollow, press, roll, foaming, vacuum / pressure, and stretching. These can be processed into films, sheets, molded products, fibers, hollow molded products, and the like. Furthermore, an object molded into a three-dimensional shape using these resins or the like can also be used as a support.

基材としてフィルムを用いた場合、基材の厚さに特に制限はなく、用途に応じて適宜選択されるが、通常1〜300μm程度であり、好ましくは、2〜200μm、さらにより好ましくは、3〜150μmである。1μmより薄い場合は、操作性が悪くなる傾向があり、300μm以上では剛直となり操作性が低下し、重量が増しさらにコストアップになる傾向がある。   When a film is used as the substrate, the thickness of the substrate is not particularly limited and is appropriately selected depending on the application, but is usually about 1 to 300 μm, preferably 2 to 200 μm, and more preferably, 3 to 150 μm. If it is thinner than 1 μm, the operability tends to be poor, and if it is 300 μm or more, it becomes rigid and the operability is lowered, and the weight tends to increase and the cost is further increased.

(7)導電部材およびその製造方法
本発明に係る電子部品としての導電性部材に用いられる金属ナノ粒子を含む導電性材料には、公知あるいは市販の導電性パターンを形成するために供されている金属ナノ粒子が含まれるコロイド、インクあるいはペーストを広く用いることが出来る。例えば、三ツ星ベルト製銀ペーストMDot−SLP/H、ハリマ化成製NPS typeHP、大研化学製CA−2503−4が挙げられる。この中で、縮合物の膜(ゾルゲル膜)との密着性から、三ツ星ベルト製銀ペーストMDot−SLP/Hが好適に用いられる。金属ナノ粒子の金属は、銀又は銅が好適に用いられる。
(7) Conductive member and manufacturing method thereof The conductive material containing metal nanoparticles used for the conductive member as the electronic component according to the present invention is used for forming a known or commercially available conductive pattern. Colloids, inks or pastes containing metal nanoparticles can be widely used. For example, silver paste MDot-SLP / H made by Mitsuboshi Belting, NPS typeHP made by Harima Chemicals, CA-2503-4 made by Daiken Chemical. Among these, a silver paste MDot-SLP / H made by Mitsuboshi Belting is preferably used from the viewpoint of adhesiveness with a condensate film (sol-gel film). Silver or copper is preferably used as the metal of the metal nanoparticles.

金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストの焼成後の膜厚は、特に限定は無いが、通常0.1〜30μm、好ましくは0.3〜20μm、より好ましくは0.5〜15μmである。金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストの焼成後の膜厚が、0.1μmより薄い場合は、配線材料としての十分な性能が得られない場合がある。また、焼成後の膜厚が30μmより厚い場合はクラックが入ることがある。   The film thickness after firing of the ink or paste containing metal nanoparticles is not particularly limited, but is usually 0.1 to 30 μm, preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 15 μm. If the thickness of the ink or paste containing metal nanoparticles after baking is less than 0.1 μm, sufficient performance as a wiring material may not be obtained. Moreover, when the film thickness after baking is thicker than 30 micrometers, a crack may enter.

本発明において、金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストは、様々な印刷方法あるいは塗布方式によりパターンが形成される。例えば線状の塗布を行うことが出来るディスペンサー印刷方法を用いた任意の線状のパターン形成、サーマル、ピエゾ、マイクロポンプ、静電気等の各種方式のインクジェット印刷方法を用いた任意の線状あるいは面状のパターン形成、凸版印刷方法、フレキソ印刷方法、平版印刷方法、凹版印刷方法、グラビア印刷方法、反転オフセット印刷方法、枚葉スクリーン印刷方法、ロータリースクリーン印刷方法等の公知の各種印刷方法により任意のパターンを形成することが出来る。また、グラビアロール方式、スロットダイ方式、スピンコート方式等、公知の各種塗布方式を用い、積層基板の全面あるいは一部に連続した面としてパターンを形成すること、間欠塗工ダイコーター等を用い積層基板の全面あるいは一部に断続した面としてパターンを形成すること、あるいは浸漬塗布方法(ディップ方式ともいわれる)を用い、積層基板全体に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを付着させることも出来る。より好ましい印刷方法としては、インクジェット印刷方法、フレキソ印刷方法、グラビア印刷方法、反転オフセット印刷方法、枚葉スクリーン印刷方法、ロータリースクリーン印刷方法を挙げることが出来る。   In the present invention, the ink or paste containing metal nanoparticles is formed with a pattern by various printing methods or coating methods. For example, arbitrary linear pattern formation using a dispenser printing method capable of performing linear application, arbitrary linear or planar shape using various types of inkjet printing methods such as thermal, piezo, micro pump, static electricity, etc. Pattern formation, letterpress printing method, flexographic printing method, planographic printing method, intaglio printing method, gravure printing method, reverse offset printing method, sheet-fed screen printing method, rotary screen printing method, etc. Can be formed. Also, using various known coating methods such as gravure roll method, slot die method, spin coating method, etc., forming a pattern as a continuous surface on the entire surface or a part of the laminated substrate, lamination using an intermittent coating die coater, etc. A pattern can be formed as an intermittent surface on the entire surface or part of the substrate, or an ink or paste containing metal nanoparticles can be attached to the entire laminated substrate by using a dip coating method (also referred to as a dip method). More preferable printing methods include an inkjet printing method, a flexographic printing method, a gravure printing method, a reverse offset printing method, a sheet-fed screen printing method, and a rotary screen printing method.

これらの方法によりパターン化された金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストは、加熱により焼成し導電性パターンとすることができる。この時の焼成条件としては、使用する基材によってかなり限定されるものの、優れた導電性および焼結の進行によってパターンの強度が増すため、高温であればあるほどよい。特にポリアミド樹脂を基材として用いた場合には、150〜250℃で焼成することが好ましく、より優れた密着性と導電性の両立と生産性を鑑み、180〜200℃で焼成することがより好ましい。   The ink or paste containing metal nanoparticles patterned by these methods can be fired to form a conductive pattern. The firing conditions at this time are considerably limited depending on the base material used, but the higher the temperature, the better because the pattern strength increases with the progress of excellent conductivity and sintering. In particular, when a polyamide resin is used as a base material, it is preferable to fire at 150 to 250 ° C., and in view of better cohesion and conductivity and productivity, it is preferable to fire at 180 to 200 ° C. preferable.

ここでは、導電層として金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いる場合を示した。基材上に形成した導電パターンに対して、さらに湿式めっきプロセスによって金属めっきを行うことができる。これにより、導電性部材の導電率をさらに向上させることができる。この際、用いる金属は湿式めっき可能な金属であれば何ら制限されることは無く、例えば一般的に広く知られている無電解ニッケルめっきプロセスを用いることが出来る。さらに、無電解めっきだけでもよいし、電解めっきの電極層として無電解めっきで形成された金属とは異なる金属を電解めっきによりさらに形成してもよい。   Here, the case where an ink or paste containing metal nanoparticles is used as the conductive layer is shown. Metal plating can be further performed on the conductive pattern formed on the substrate by a wet plating process. Thereby, the electrical conductivity of an electroconductive member can further be improved. In this case, the metal to be used is not limited as long as it is a metal that can be wet-plated. For example, a generally well-known electroless nickel plating process can be used. Furthermore, only electroless plating may be used, or a metal different from the metal formed by electroless plating may be further formed by electrolytic plating as an electrode layer for electrolytic plating.

本発明に係る導電部材は、プラズマディスプレイパネル、航空機用液晶パネル、カーナビゲーション用液晶パネル等、各種のフラットディスプレイパネルに貼合して用いられる透明電磁波シールドとして用いられる。また、RFID、無線LAN、電磁誘導による給電、電磁波吸収等に用いられる種々のアンテナとしても用いることが出来る。さらには、各種フラットディスプレイパネルに用いられるバス電極やアドレス電極、あるいは半導体インクや抵抗インク、誘電体インクを併用し多数回の印刷を重ね作製される電子回路を製造するために用いることができる。   The conductive member according to the present invention is used as a transparent electromagnetic wave shield used by bonding to various flat display panels such as a plasma display panel, an aircraft liquid crystal panel, and a car navigation liquid crystal panel. It can also be used as various antennas used for RFID, wireless LAN, power feeding by electromagnetic induction, electromagnetic wave absorption, and the like. Furthermore, it can be used for manufacturing an electronic circuit which is produced by repeatedly printing many times using bus electrodes and address electrodes used in various flat display panels, or semiconductor ink, resistance ink, and dielectric ink in combination.

(8)射出成型品
本発明に係る電子部品としての導電性部材に用いられる金属ナノ粒子を含む導電性材料には、当該ポリアミド樹脂の成形性を生かすことで、導電性を有する基材のみならず、導電性を有する射出成型品が含まれる。得られる導電性を有する射出成型品は、携帯電話などのモバイルディスプレイの筐体、導電性隔壁、帯電防止材、電磁波シールド材、電極、コネクター、センサー、発熱体等の幅広い分野への適用が可能である。
(8) Injection-molded product For the conductive material containing metal nanoparticles used for the conductive member as the electronic component according to the present invention, only the base material having conductivity can be obtained by taking advantage of the moldability of the polyamide resin. In addition, an injection molded product having conductivity is included. The resulting injection-molded product can be applied to a wide range of fields such as mobile display cases such as mobile phones, conductive barriers, antistatic materials, electromagnetic shielding materials, electrodes, connectors, sensors, and heating elements. It is.

(9)押出成形品
さらに、本発明に係る電子部品としての導電性部材に用いられる金属ナノ粒子を含む導電性材料には、当該ポリアミド樹脂の成形性を生かすことで、導電性を有する繊維、チューブ、中空状成形物などの押出成形品が含まれる。得られる導電性を有する押出成形品は、電子写真用画像形成装置における帯電装置、現像装置、転写装置等に用いられる導電部材、半導電性ベルト、帯電部材や転写部材として用いられる導電ロール、静電気除去材料等を製造するために用いることができる。
(9) Extrusion product Further, the conductive material containing the metal nanoparticles used for the conductive member as the electronic component according to the present invention has a conductive fiber by utilizing the moldability of the polyamide resin, Extruded products such as tubes and hollow molded products are included. The obtained extrusion-molded product has a conductive member used for a charging device, a developing device, a transfer device, etc. in an electrophotographic image forming apparatus, a semiconductive belt, a conductive roll used as a charging member or a transfer member, It can be used to produce a removal material or the like.

(10)導電部材の特性
本発明は、銀ナノ粒子ペーストを高温条件で焼成した導電部材等においても、高密着および高導電性の特性を両立できる点で優位である。以下実施例にて詳細に説明するが、本発明で作製される銀ナノ粒子ペーストを高温条件で焼成した導電部材は、碁盤目剥離試験および導電性において以下の両方の性能を満たす。碁盤目剥離試験においては、剥離面積5%未満、好ましくは剥離面積0%の剥離強度を有する。また、導電性の評価方法においては、25μΩ・cm以下、好ましくは20μΩ・cm以下、さらに好ましくは15μΩ・cm以下の導電性を有する。さらに、熱変形しないことが好ましい。金属ナノ粒子ペーストの焼成温度によって実現できる導電性の制約、もしくは製造時のプロセス温度の観点から、180℃以上、条件等によっては200℃で、熱変形しないことが望まれる。
耐熱性の高いポリイミド基材においても、導電部材等で用いる場合は高密着および高導電性の特性を両立することが必要である。
(10) Characteristics of Conductive Member The present invention is advantageous in that both high adhesion and high conductivity characteristics can be achieved even in a conductive member obtained by firing a silver nanoparticle paste under high temperature conditions. Although described in detail below in Examples, the conductive member obtained by firing the silver nanoparticle paste produced in the present invention under high temperature conditions satisfies both the following performances in the cross-cut peel test and conductivity. In the cross peel test, the peel area has a peel strength of less than 5%, preferably 0%. Further, in the method for evaluating conductivity, the conductivity is 25 μΩ · cm or less, preferably 20 μΩ · cm or less, more preferably 15 μΩ · cm or less. Furthermore, it is preferable not to be thermally deformed. From the viewpoint of the conductivity limitation that can be realized by the firing temperature of the metal nanoparticle paste or the process temperature at the time of production, it is desired that the metal nanoparticle paste is not thermally deformed at 180 ° C. or higher and 200 ° C. depending on conditions.
Even when a polyimide base material having high heat resistance is used as a conductive member or the like, it is necessary to achieve both high adhesion and high conductivity characteristics.

以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, the content of this invention is not restricted to an Example.

[評価方法、成形方法]
<導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離>
銀ナノ粒子を含むインクを印刷・焼成した導電部材表面に、1mm間隔で縦横互いに直角に交わる各11本の切れ目を入れ、粘着性テープ(ニチバン株式会社製「セロテープ(登録商標)」)を貼った後に剥がし、升目の剥がれの程度で評価した。剥がれの表記方法としては、剥離面積0%=10点、5%未満=8点、5%〜15%未満=6点、15%〜35%未満=4点、35%〜65%未満=2点、65%以上=0点とした。
[Evaluation method, molding method]
<Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peeling>
The surface of the conductive member printed and baked with ink containing silver nanoparticles is cut into 11 cuts that intersect each other at 1 mm intervals vertically and horizontally, and adhesive tape (“Cello Tape (registered trademark)” manufactured by Nichiban Co., Ltd.) is applied. After peeling, the degree of peeling was measured. As a notation method of peeling, peeling area 0% = 10 points, less than 5% = 8 points, 5% to less than 15% = 6 points, 15% to less than 35% = 4 points, 35% to less than 65% = 2 Points, 65% or more = 0 points.

<導電部材の導電性の評価方法>
抵抗率計 ロレスタGP(三菱化学アナリテック社製)を用いて、四端子法により、測定電圧を10Vとして導電率を測定した。
<Method for evaluating conductivity of conductive member>
Using a resistivity meter Loresta GP (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.), the conductivity was measured by a four-terminal method with a measurement voltage of 10V.

<導電部材の熱変形>
射出成型した試験片に対して銀ナノ粒子を含むインクを印刷・焼成した導電部材については、加熱焼成後の外観を目視にて確認し、加熱前後で変形がないかを確認した。
<Thermal deformation of conductive member>
About the electrically-conductive member which printed and baked the ink containing a silver nanoparticle with respect to the injection-molded test piece, the external appearance after heat-firing was confirmed visually and it was confirmed whether there was no deformation | transformation before and after a heating.

<フィルム成形1>
Tダイを備えた単軸押出機にペレットを供給し、押出機設定温度260℃、スクリュー回転数40RPM、フィルムの引取速度5m/minの条件にて厚み100μmのフィルムを成形した。
<Film forming 1>
Pellets were supplied to a single screw extruder equipped with a T die, and a film having a thickness of 100 μm was formed under the conditions of an extruder set temperature of 260 ° C., a screw rotation speed of 40 RPM, and a film take-up speed of 5 m / min.

<フィルム成形2>
東邦マシナリー社製真空プレス機TMB−10を用いてフィルム成形を行った。500
〜700Paの減圧雰囲気下、300℃で5分間にわたりポリアミド樹脂を加熱溶融させ
た後、5MPaで1分間プレスを行いフィルム成形した次に減圧雰囲気を常圧まで戻した
のち室温5MPaで2分間冷却結晶化させてフィルムを得た。
<Film forming 2>
Film forming was performed using a vacuum press TMB-10 manufactured by Toho Machinery Co., Ltd. 500
A polyamide resin was heated and melted at 300 ° C. for 5 minutes in a reduced pressure atmosphere of ˜700 Pa, then pressed at 5 MPa for 1 minute to form a film, and then the reduced pressure atmosphere was returned to normal pressure and then cooled at room temperature at 5 MPa for 2 minutes. To obtain a film.

<射出成型>
ファナック社製FAS−T100Dの射出成形機を用いて、シリンダー温度260℃、金型温度95℃の設定で150mm×150mm×3mmtの試験片を作製した。
<Injection molding>
Using an FAS-T100D injection molding machine manufactured by FANUC, a test piece of 150 mm × 150 mm × 3 mmt was prepared at a cylinder temperature of 260 ° C. and a mold temperature of 95 ° C.

[ポリアミド樹脂(A−1)の製造]
(製造例1)
ポンプを直結した原料投入口、窒素ガス導入口、放圧口、攪拌機、温度計、トルクメーター、圧力計、圧力調整装置及びポリマー抜出口を備えた内容積が約150Lの圧力容器に、ジアミン(b)の1,9−ノナンジアミン20.1kg(127モル)と2−メチル−1,8−オクタンジアミン3.5kg(22モル)を仕込み、圧力容器を窒素ガスで0.5MPaGに加圧した後、次に常圧まで窒素ガスを放出する操作を繰り返し、窒素置換を行った後、封圧下、攪拌しながら系内を昇温した。約1時間かけて内温を150℃にした後、ジカルボン酸(a)の蓚酸ジブチル30.2kg(149モル)をポンプにより流速1.49L/分で反応容器内に供給すると同時に昇温した。供給直後の圧力容器内の内圧は、重縮合反応により生成したブタノールによって0.35MPaGまで上昇し、重縮合物の温度は約170℃まで上昇した。その後、温度を235℃まで昇温した。その間、生成したブタノールは放圧口より抜き出しながら、内圧を0.5MPaGに調節した。重縮合物の温度が235℃に達した直後から放圧口よりブタノールを抜き出し、内圧を常圧にした。常圧にしたところから、1.5L/分で窒素ガスを流しながら昇温を開始し、重縮合物の温度を260℃にし、260℃においてトルクの値が一定値になるまで反応させた。その後、攪拌を止めて系内を窒素で1MPaGに加圧して静置した後、内圧0.5MPaGまで放圧し、ポリアミド樹脂(A−1)(以下、PA92と呼ぶこともある。)を圧力容器下部抜出口より紐状に抜き出した。紐状のPA92を直ちに水冷し、それをペレタイザーによってペレット化した。
[Production of polyamide resin (A-1)]
(Production Example 1)
Into a pressure vessel with an internal volume of about 150 L equipped with a raw material inlet, a nitrogen gas inlet, a pressure outlet, a stirrer, a thermometer, a torque meter, a pressure gauge, a pressure regulator, and a polymer outlet directly connected to a pump, b) 1,9-nonanediamine 20.1 kg (127 mol) and 2-methyl-1,8-octanediamine 3.5 kg (22 mol) were charged, and the pressure vessel was pressurized to 0.5 MPaG with nitrogen gas. Then, after repeating the operation of releasing nitrogen gas to normal pressure and replacing with nitrogen, the system was heated while stirring under a sealing pressure. After the internal temperature was raised to 150 ° C. over about 1 hour, 30.2 kg (149 mol) of dibutyl oxalate dicarboxylic acid (a) was supplied into the reaction vessel at a flow rate of 1.49 L / min by a pump and the temperature was raised at the same time. The internal pressure in the pressure vessel immediately after the supply increased to 0.35 MPaG by butanol produced by the polycondensation reaction, and the temperature of the polycondensate increased to about 170 ° C. Thereafter, the temperature was raised to 235 ° C. Meanwhile, the internal pressure was adjusted to 0.5 MPaG while the generated butanol was extracted from the pressure release port. Immediately after the temperature of the polycondensate reached 235 ° C., butanol was extracted from the pressure relief port, and the internal pressure was brought to normal pressure. From the normal pressure, the temperature was raised while flowing nitrogen gas at 1.5 L / min, the temperature of the polycondensate was adjusted to 260 ° C., and the reaction was continued at 260 ° C. until the torque value reached a constant value. Thereafter, the stirring was stopped and the system was pressurized to 1 MPaG with nitrogen and allowed to stand. Then, the pressure was released to an internal pressure of 0.5 MPaG, and the polyamide resin (A-1) (hereinafter sometimes referred to as PA92) was used as a pressure vessel. A string was extracted from the lower outlet. The string-like PA92 was immediately cooled with water and pelletized by a pelletizer.

[ポリアミド樹脂(A−2)の製造]
(製造例2)
ポンプを直結した原料投入口、窒素ガス導入口、放圧口、攪拌機、温度計、トルクメーター、圧力計、圧力調整装置及びポリマー抜出口を備えた内容積が約150Lの圧力容器に、ジアミン(b)の1,6−ヘキサメチレンジアミン8.2kg(71モル)1,9−ノナンジアミン10.5kg(66モル)と2−メチル−1,8−オクタンジアミン1.9kg(12モル)を仕込み、圧力容器を窒素ガスで0.5MPaGに加圧した後、次に常圧まで窒素ガスを放出する操作を繰り返し、窒素置換を行った後、封圧下、攪拌しながら系内を昇温した。約1.5時間かけて内温を170℃にした後、ジカルボン酸(a)の蓚酸ジブチル30.2kg(149モル)をポンプにより流速1.49L/分で反応容器内に供給すると同時に昇温した。供給直後の圧力容器内の内圧は、重縮合反応により生成したブタノールによって0.45MPaGまで上昇し、重縮合物の温度は約200℃まで上昇した。その後、温度を250℃まで昇温した。その間、生成したブタノールは放圧口より抜き出しながら、内圧を0.5MPaGに調節した。重縮合物の温度が250℃に達した直後から放圧口よりブタノールを抜き出し、内圧を常圧にした。常圧にしたところから、1.5L/分で窒素ガスを流しながら昇温を開始し、重縮合物の温度を270℃にし、270℃においてトルクの値が一定値になるまで反応させた。その後、攪拌を止めて系内を窒素で1MPaGに加圧して静置した後、内圧0.5MPaGまで放圧し、ポリアミド樹脂(A−2)(以下、PA92/62と呼ぶこともある。)を圧力容器下部抜出口より紐状に抜き出した。紐状のPA92/62を直ちに水冷し、それをペレタイザーによってペレット化した。
[Production of polyamide resin (A-2)]
(Production Example 2)
Into a pressure vessel with an internal volume of about 150 L equipped with a raw material inlet, a nitrogen gas inlet, a pressure outlet, a stirrer, a thermometer, a torque meter, a pressure gauge, a pressure regulator, and a polymer outlet directly connected to a pump, a diamine ( b) 1,6-hexamethylenediamine 8.2 kg (71 mol) 1,9-nonanediamine 10.5 kg (66 mol) and 2-methyl-1,8-octanediamine 1.9 kg (12 mol) were charged, After pressurizing the pressure vessel with nitrogen gas to 0.5 MPaG, the operation of releasing the nitrogen gas to atmospheric pressure was repeated, and after replacing with nitrogen, the system was heated while stirring under a sealing pressure. After the internal temperature was raised to 170 ° C. over about 1.5 hours, 30.2 kg (149 mol) of dibutyl oxalate of dicarboxylic acid (a) was fed into the reaction vessel at a flow rate of 1.49 L / min with a pump and the temperature was raised at the same time. did. The internal pressure in the pressure vessel immediately after the supply increased to 0.45 MPaG by butanol produced by the polycondensation reaction, and the temperature of the polycondensate increased to about 200 ° C. Thereafter, the temperature was raised to 250 ° C. Meanwhile, the internal pressure was adjusted to 0.5 MPaG while the generated butanol was extracted from the pressure release port. Immediately after the temperature of the polycondensate reached 250 ° C., butanol was extracted from the pressure relief port, and the internal pressure was brought to normal pressure. From the normal pressure, the temperature was raised while flowing nitrogen gas at 1.5 L / min, the temperature of the polycondensate was changed to 270 ° C., and the reaction was continued at 270 ° C. until the torque value became a constant value. Thereafter, the stirring was stopped and the system was pressurized to 1 MPaG with nitrogen and allowed to stand. Then, the pressure was released to an internal pressure of 0.5 MPaG, and the polyamide resin (A-2) (hereinafter also referred to as PA92 / 62) was obtained. A string was extracted from the lower outlet of the pressure vessel. The string-like PA92 / 62 was immediately cooled with water and pelletized by a pelletizer.

[ポリアミド樹脂(A−3)の製造]
(製造例3)
上記のPA92を95重量%及びPA6T/6IであるEMS−CHEMIE AG社製グリボリーG21を5重量%の割合で、2軸押出機に供給し、シリンダー温度260℃の条件下で溶融混練し、ストランドとして押し出し、冷却固化させた後、ペレタイザーにて切断し、ペレット状のポリアミド樹脂組成物を得た。
[Production of polyamide resin (A-3)]
(Production Example 3)
The above-mentioned PA92 is supplied to a twin screw extruder at a ratio of 95% by weight and PA6T / 6I EMS-CHEMIE AG Grivory G21 at a ratio of 5% by weight, and melt kneaded under the condition of a cylinder temperature of 260 ° C. After being extruded and cooled and solidified, it was cut with a pelletizer to obtain a pellet-like polyamide resin composition.

[ポリアミド樹脂(A−4)の製造]
(製造例4)
上記のPA92を70重量%及び日本電気硝子社製のガラス繊維T−251Hを30重量%の割合で、2軸押出機に供給し、シリンダー温度260℃の条件下で溶融混練し、ストランドとして押し出し、冷却固化させた後、ペレタイザーにて切断し、ペレット状のポリアミド樹脂組成物を得た。
[Production of polyamide resin (A-4)]
(Production Example 4)
70% by weight of PA92 and 30% by weight of glass fiber T-251H manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. are supplied to a twin screw extruder, melt-kneaded at a cylinder temperature of 260 ° C., and extruded as a strand. After cooling and solidifying, it was cut with a pelletizer to obtain a polyamide resin composition in the form of a pellet.

[ポリアミド樹脂(A−5)の製造]
(製造例5)
(i)前重縮合工程:撹拌機、空冷管、窒素導入管、原料投入口を備え、内容積が5リットルであるセパラブルフラスコの内部を、純度が99.9999%の窒素ガスで置換し、蓚酸ジブチル1211g(5.9876モル)を仕込んだ。この容器を80℃に保ち、攪拌しながらイソホロンジアミン407.9g(2.3950モル)、及び1,6−ヘキサンジアミン417.5g(3.5926モル)を加え、重縮合反応を行った。なお、原料仕込みから反応終了までのすべての操作は200ml/分の窒素気流下で行った。
[Production of polyamide resin (A-5)]
(Production Example 5)
(I) Pre-polycondensation step: The inside of a separable flask having a stirrer, an air cooling tube, a nitrogen inlet tube, and a raw material inlet and having an internal volume of 5 liters is replaced with nitrogen gas having a purity of 99.9999%. , 1211 g (5.9876 mol) of dibutyl oxalate was charged. The container was kept at 80 ° C., and 407.9 g (2.3950 mol) of isophoronediamine and 417.5 g (3.5926 mol) of 1,6-hexanediamine were added with stirring to carry out a polycondensation reaction. Note that all operations from preparation of raw materials to completion of the reaction were performed under a nitrogen stream of 200 ml / min.

(ii)後重縮合工程:上記操作によって得られた前重合物を、攪拌機、温度計、トルクメーター、圧力計、窒素ガス導入口及びポリマー取り出し口を備えた5Lの圧力容器に仕込んだ。圧力容器内を3.0MPa以上の加圧下に保ち、次に常圧まで窒素ガスを放出する操作を5回繰り返した後、窒素気流及び常圧下、系内を昇温した。1.5時間かけて内部温度を120℃にした。このとき、ブタノールの留出を確認した。ブタノールを留出させながら5時間かけて290℃まで昇温し、2時間反応させた。その後、系内を285℃に降温し、攪拌を止め25分間静置した後に系内を窒素で3.5MPaに加圧し、重合物を圧力容器下部より紐状に抜き出した。紐状の重合物を直ちに水冷し、水冷した紐状の重合物をペレタイザーによってペレット化した。得られた重合物は白色の強靭なポリマーであった。 (Ii) Post-polycondensation step: The prepolymer obtained by the above operation was charged into a 5 L pressure vessel equipped with a stirrer, thermometer, torque meter, pressure gauge, nitrogen gas inlet and polymer outlet. The operation of keeping the inside of the pressure vessel under a pressure of 3.0 MPa or more and then releasing the nitrogen gas to normal pressure was repeated 5 times, and then the system was heated up under a nitrogen stream and normal pressure. The internal temperature was raised to 120 ° C. over 1.5 hours. At this time, butanol was confirmed to be distilled. While distilling butanol, the temperature was raised to 290 ° C. over 5 hours and allowed to react for 2 hours. Thereafter, the temperature in the system was lowered to 285 ° C., stirring was stopped, and the mixture was allowed to stand for 25 minutes. Then, the system was pressurized to 3.5 MPa with nitrogen, and the polymer was extracted from the lower part of the pressure vessel in a string shape. The string-like polymer was immediately cooled with water, and the water-cooled string-like polymer was pelletized with a pelletizer. The obtained polymer was a white tough polymer.

[ポリアミド樹脂(A−6)の製造]
(製造例6)
(i)前重縮合工程:撹拌機、空冷管、窒素導入管、原料投入口を備え、内容積が5リットルであるセパラブルフラスコの内部を、純度が99.9999%の窒素ガスで置換し、蓚酸ジブチル1211g(5.9876モル)を仕込んだ。この容器を80℃に保ち、攪拌しながら1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン511.0g(3.5926モル)、及び1,6−ヘキサンジアミン278.3g(2.3950モル)を加え、重縮合反応を行った。なお、原料仕込みから反応終了までのすべての操作は200ml/分の窒素気流下で行った。
[Production of polyamide resin (A-6)]
(Production Example 6)
(I) Pre-polycondensation step: The inside of a separable flask having a stirrer, an air cooling tube, a nitrogen inlet tube, and a raw material inlet and having an internal volume of 5 liters is replaced with nitrogen gas having a purity of 99.9999%. , 1211 g (5.9876 mol) of dibutyl oxalate was charged. While maintaining this container at 80 ° C., 511.0 g (3.5926 mol) of 1,3-bisaminomethylcyclohexane and 278.3 g (2.3950 mol) of 1,6-hexanediamine were added with stirring, and polycondensation was performed. Reaction was performed. Note that all operations from preparation of raw materials to completion of the reaction were performed under a nitrogen stream of 200 ml / min.

(ii)後重縮合工程:上記操作によって得られた前重合物を、攪拌機、温度計、トルクメーター、圧力計、窒素ガス導入口及びポリマー取り出し口を備えた5Lの圧力容器に仕込んだ。圧力容器内を3.0MPa以上の加圧下に保ち、次に常圧まで窒素ガスを放出する操作を5回繰り返した後、窒素気流及び常圧下、系内を昇温した。1.5時間かけて内部温度を120℃にした。このとき、ブタノールの留出を確認した。ブタノールを留出させながら5時間かけて285℃まで昇温し、2時間反応させた。その後、系内を280℃に降温し、攪拌を止め25分間静置した後に系内を窒素で3.5MPaに加圧し、重合物を圧力容器下部より紐状に抜き出した。紐状の重合物を直ちに水冷し、水冷した紐状の重合物をペレタイザーによってペレット化した。得られた重合物は白色の強靭なポリマーであった。 (Ii) Post-polycondensation step: The prepolymer obtained by the above operation was charged into a 5 L pressure vessel equipped with a stirrer, thermometer, torque meter, pressure gauge, nitrogen gas inlet and polymer outlet. The operation of keeping the inside of the pressure vessel under a pressure of 3.0 MPa or more and then releasing the nitrogen gas to normal pressure was repeated 5 times, and then the system was heated up under a nitrogen stream and normal pressure. The internal temperature was raised to 120 ° C. over 1.5 hours. At this time, butanol was confirmed to be distilled. While distilling butanol, the temperature was raised to 285 ° C. over 5 hours and reacted for 2 hours. Thereafter, the temperature in the system was lowered to 280 ° C., stirring was stopped, and the system was allowed to stand for 25 minutes, and then the system was pressurized to 3.5 MPa with nitrogen, and the polymer was extracted from the lower part of the pressure vessel in a string shape. The string-like polymer was immediately cooled with water, and the water-cooled string-like polymer was pelletized with a pelletizer. The obtained polymer was a white tough polymer.

<銀ペースト印刷方法および密着性と導電性の評価>
(実施例1)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
<Silver paste printing method and evaluation of adhesion and conductivity>
Example 1
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例2)
製造例2の方法で得られるポリアミド樹脂(A−2)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Example 2)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-2) obtained by the method of Production Example 2. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例3)
製造例3の方法で得られるポリアミド樹脂(A−3)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
Example 3
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-3) obtained by the method of Production Example 3. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例4)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
Example 4
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例5)
製造例2の方法で得られるポリアミド樹脂(A−2)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Example 5)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-2) obtained by the method of Production Example 2. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例6)
製造例3の方法で得られるポリアミド樹脂(A−3)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Example 6)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-3) obtained by the method of Production Example 3. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例7)
製造例5の方法で得られるポリアミド樹脂(A−5)を「フィルム成形2」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Example 7)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 2” from the polyamide resin (A-5) obtained by the method of Production Example 5. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例8)
製造例5の方法で得られるポリアミド樹脂(A−5)を「フィルム成形2」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Example 8)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 2” from the polyamide resin (A-5) obtained by the method of Production Example 5. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(実施例9)
製造例6の方法で得られるポリアミド樹脂(A−6)を「フィルム成形2」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
Example 9
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 2” from the polyamide resin (A-6) obtained by the method of Production Example 6. Then, the electrically conductive member by which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(比較例1)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1. Then, the electrically-conductive member in which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 150 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(比較例2)
製造例2の方法で得られるポリアミド樹脂(A−2)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-2) obtained by the method of Production Example 2. Then, the electrically-conductive member in which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 150 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(比較例3)
製造例3の方法で得られるポリアミド樹脂(A−3)を「フィルム成形1」の方法で成形したフィルムの片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
A silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. is printed on one side of a film formed by the method of “Film Molding 1” from the polyamide resin (A-3) obtained by the method of Production Example 3. Then, the electrically-conductive member in which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 150 degreeC for 30 minute (s) with ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

実施例1〜9および比較例1〜3の結果により、180℃以上の高温条件で銀ナノ粒子ペーストを焼成することによって高密着および高導電性の特性を両立できることが確認できる。   From the results of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3, it can be confirmed that both high adhesion and high conductivity characteristics can be achieved by baking the silver nanoparticle paste at a high temperature of 180 ° C. or higher.

(参考例1)
ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製 ユーピレックスSGA、厚さ25μm)を基材として、実施例4と同様な方法で銀ナノ粒子ペーストを印刷し、銀ナノ粒子ペーストペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。評価結果を表1に示す。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Reference Example 1)
Using a polyimide film (Upilex SGA, Ube Industries, Ltd., Upilex SGA, thickness 25 μm) as a base material, a silver nanoparticle paste was printed in the same manner as in Example 4 to produce a conductive member on which the silver nanoparticle paste paste was printed. . At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. The evaluation results are shown in Table 1. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

(参考例2)
ポリイミドフィルム(東レ・デュポン株式会社製 カプトン100EN、厚さ25μm)を基材として、実施例4と同様な方法で銀ナノ粒子ペーストを印刷し、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。評価結果を表1に示す。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果を表1に示す。
(Reference Example 2)
Using a polyimide film (Kapton 100EN manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., thickness 25 μm) as a base material, a silver nanoparticle paste was printed in the same manner as in Example 4 to produce a conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed. . At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. The evaluation results are shown in Table 1. Table 1 shows the evaluation results of the adhesion by "Method for evaluating the adhesion strength of the conductive member: grid peel" and the evaluation results of the conductivity by "Method for evaluating the conductivity of the conductive member".

参考例1および2の結果から明らかなように、耐熱性の高いポリイミド基材においては高密着および高導電性の特性を両立することが難しい。本発明で得られるポリアミド樹脂は特別な処理を施すことなく、銀ナノ粒子ペーストを高温条件で焼成した導電部材においても高密着および高導電性の特性を両立できる点で優位である。   As is clear from the results of Reference Examples 1 and 2, it is difficult to achieve both high adhesion and high conductivity characteristics in a polyimide substrate having high heat resistance. The polyamide resin obtained in the present invention is advantageous in that it can achieve both high adhesion and high conductivity even in a conductive member obtained by baking a silver nanoparticle paste under a high temperature condition without any special treatment.

(実施例10)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Example 10)
Silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1 into a plate shape by the method described above. After printing, the conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 ° C. for 30 minutes in a blowing oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

(実施例11)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Example 11)
Silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1 into a plate shape by the method described above. After printing, the conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 ° C. for 30 minutes in a blowing oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

(比較例4)
製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Comparative Example 4)
Silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the polyamide resin (A-1) obtained by the method of Production Example 1 into a plate shape by the method described above. After printing, the conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 150 ° C. for 30 minutes in a blowing oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

(実施例12)
製造例4の方法で得られるガラス繊維複合化ポリアミド樹脂(A−4)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Example 12)
Silver nanoparticle paste MDot manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the glass fiber composite polyamide resin (A-4) obtained by the method of Production Example 4 into a plate shape by the method described above. -After printing SLP / H, the electroconductive member in which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 200 degreeC for 30 minute (s) with a ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

(実施例13)
製造例4の方法で得られるガラス繊維複合化ポリアミド樹脂(A−4)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Example 13)
Silver nanoparticle paste MDot manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the glass fiber composite polyamide resin (A-4) obtained by the method of Production Example 4 into a plate shape by the method described above. -After printing SLP / H, the electroconductive member in which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 180 degreeC for 30 minute (s) with a ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

(比較例5)
製造例4の方法で得られるガラス繊維複合化ポリアミド樹脂(A−4)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
Silver nanoparticle paste MDot manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection-molding the glass fiber composite polyamide resin (A-4) obtained by the method of Production Example 4 into a plate shape by the method described above. -After printing SLP / H, the electroconductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking at 150 degreeC for 30 minute (s) with a ventilation oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

実施例10〜13および比較例4、5の結果により、フィルムだけでなく、射出成型品においても180℃以上の高温条件で銀ナノ粒子ペーストを焼成することによって高密着および高導電性の特性を両立できることが確認できる。   According to the results of Examples 10 to 13 and Comparative Examples 4 and 5, not only the film but also the injection molded product has high adhesion and high conductivity characteristics by firing the silver nanoparticle paste at a high temperature condition of 180 ° C. or higher. It can be confirmed that both are compatible.

(比較例6)
ABS樹脂(UMG−ABS社製EX190)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。加熱によって基材は大きく変形し、導電パターンがひび割れることで導電性が悪化していることが確認された。
(Comparative Example 6)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection molding ABS resin (EX190 manufactured by UMG-ABS Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 200 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2. It was confirmed that the base material was greatly deformed by heating, and the conductivity was deteriorated by cracking of the conductive pattern.

(比較例7)
ABS樹脂(UMG−ABS社製EX190)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。加熱によって基材は大きく変形し、導電パターンがひび割れることで導電性が悪化していることが確認された。
(Comparative Example 7)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection molding ABS resin (EX190 manufactured by UMG-ABS Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 180 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2. It was confirmed that the base material was greatly deformed by heating, and the conductivity was deteriorated by cracking of the conductive pattern.

(比較例8)
ABS樹脂(UMG−ABS社製EX190)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。加熱によって基材は大きく変形し、導電パターンがひび割れることで導電性が悪化していることが確認された。
(Comparative Example 8)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. by screen printing on one side of a test piece obtained by injection molding ABS resin (EX190 manufactured by UMG-ABS Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 150 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2. It was confirmed that the base material was greatly deformed by heating, and the conductivity was deteriorated by cracking of the conductive pattern.

(比較例9)
ポリカーボネート樹脂(出光興産社製タフロンA2200)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで200℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。加熱によって基材が変形していることが確認された。
(Comparative Example 9)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. on one side of a test piece obtained by injection-molding a polycarbonate resin (Taflon A2200 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 200 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2. It was confirmed that the substrate was deformed by heating.

(比較例10)
ポリカーボネート樹脂(出光興産社製タフロンA2200)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで180℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。加熱によって基材が変形していることが確認された。
(Comparative Example 10)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. on one side of a test piece obtained by injection-molding a polycarbonate resin (Taflon A2200 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 180 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2. It was confirmed that the substrate was deformed by heating.

(比較例11)
ポリカーボネート樹脂(出光興産社製タフロンA2200)を上記記載の方法で板状に射出成型した試験片の片面へスクリーン印刷により、三ツ星ベルト株式会社製銀ナノ粒子ペーストMDot−SLP/Hを印刷後、送風オーブンで150℃で30分間焼成することで、銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材を作製した。このとき、焼成後のペースト厚みは10μmであった。「導電部材の密着強度の評価方法:碁盤目剥離」による密着性の評価結果、「導電部材の導電性の評価方法」による導電性の評価結果、基材の「熱変形の有無」を目視で確認した結果を表2に示す。
(Comparative Example 11)
After printing the silver nanoparticle paste MDot-SLP / H manufactured by Mitsuboshi Belting Co., Ltd. on one side of a test piece obtained by injection-molding a polycarbonate resin (Taflon A2200 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.) into a plate shape by the method described above, air blowing The conductive member on which the silver nanoparticle paste was printed was produced by baking for 30 minutes at 150 ° C. in an oven. At this time, the paste thickness after firing was 10 μm. "Evaluation method of adhesion strength of conductive member: cross-cut peel" results of adhesion evaluation, conductivity evaluation result of "conductive member conductivity evaluation method", "presence of thermal deformation" of the substrate visually The confirmed results are shown in Table 2.

比較例6〜11の結果により、射出成型体として一般的に好適に用いられるABS樹脂やポリカーボネート樹脂と比較して、製造例1の方法で得られるポリアミド樹脂(A−1)の射出成型体を銀ナノ粒子ペーストが印刷された導電部材の基材として用いた場合には、高密着および高導電性、加熱時の基材の熱変形がないという諸特性を両立できることが確認できる。   According to the results of Comparative Examples 6 to 11, the polyamide resin (A-1) injection-molded body obtained by the method of Production Example 1 is compared with the ABS resin and polycarbonate resin which are generally suitably used as the injection-molded body. When used as a substrate of a conductive member on which a silver nanoparticle paste is printed, it can be confirmed that various properties such as high adhesion, high conductivity, and no thermal deformation of the substrate during heating can be achieved.

Figure 2014231217
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Figure 2014231217
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本発明の導電性材料を含む層とポリオキサミド基板とを含むことを特徴とする導電部材は、導電性インク、その中でも特に金属ナノ粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、かつ優れた導電性が得られる導電部材、並びにそれらの製造方法を提供することが出来る。   A conductive member comprising a layer containing a conductive material of the present invention and a polyoxamide substrate includes a conductive pattern base formed using a conductive ink, in particular, an ink or paste containing metal nanoparticles. It is possible to provide a conductive member having high adhesion to a material and having excellent conductivity, and a method for producing them.

Claims (7)

ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする導電部材。   A conductive member comprising a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate. 前記導電性材料は、金属ナノ粒子を含み、前記金属ナノ粒子の金属が銀又は銅であることを特徴とする請求項1に記載の導電部材。   The conductive member according to claim 1, wherein the conductive material includes metal nanoparticles, and the metal of the metal nanoparticles is silver or copper. 前記ポリアミド樹脂は、ジカルボン酸成分が蓚酸であり、ジアミン成分が1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,9−ノナンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、イソホロンジアミン及び1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサンからなる群より選択される2種以上のジアミンを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の導電部材。   In the polyamide resin, the dicarboxylic acid component is oxalic acid, and the diamine component is 1,6-hexamethylenediamine, 1,9-nonanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, isophoronediamine and 1,3-bisamino. The conductive member according to claim 1, comprising two or more diamines selected from the group consisting of methylcyclohexane. 前記導電性材料を含む層が、導電性材料を印刷又は塗布することにより導電性パターンが形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の導電部材。   The conductive member according to claim 1, wherein a conductive pattern is formed on the layer containing the conductive material by printing or applying a conductive material. ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とする射出成型品。   An injection molded product comprising a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate. ポリアミド樹脂基板に直接積層された導電性材料を含む層を有することを特徴とするフィルム、繊維、チューブ、又は中空状成形物。   A film, fiber, tube, or hollow molded article having a layer containing a conductive material directly laminated on a polyamide resin substrate. 導電性材料を含む層とポリアミド樹脂基板とを含む導電部材の製造方法にあって、
ポリアミド基板に導電性材料を印刷又は塗布し、
前記導電性材料を180℃以上で熱処理し、導電性材料を含む層を成形する
ことを特徴とする、導電部材の製造方法。
In a method for manufacturing a conductive member including a layer including a conductive material and a polyamide resin substrate,
Print or apply a conductive material to the polyamide substrate,
A method for producing a conductive member, wherein the conductive material is heat-treated at 180 ° C. or higher to form a layer containing the conductive material.
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