JP2014229752A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014229752A5 JP2014229752A5 JP2013108286A JP2013108286A JP2014229752A5 JP 2014229752 A5 JP2014229752 A5 JP 2014229752A5 JP 2013108286 A JP2013108286 A JP 2013108286A JP 2013108286 A JP2013108286 A JP 2013108286A JP 2014229752 A5 JP2014229752 A5 JP 2014229752A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antenna
- rotating means
- rotated
- disposed
- periphery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
Claims (1)
- 請求項３又は４に記載の半導体製造装置において、
前記第一のアンテナは、中心部に配置される第三のアンテナとその周囲に配置される第四のアンテナを有し、前記第四のアンテナは回転手段により回転し、前記第三のアンテナは前記回転手段とは別の回転手段により回転するものであることを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013108286A JP6082655B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 半導体製造装置およびその使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013108286A JP6082655B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 半導体製造装置およびその使用方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014229752A JP2014229752A (ja) | 2014-12-08 |
| JP2014229752A5 true JP2014229752A5 (ja) | 2016-01-21 |
| JP6082655B2 JP6082655B2 (ja) | 2017-02-15 |
Family
ID=52129341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013108286A Expired - Fee Related JP6082655B2 (ja) | 2013-05-22 | 2013-05-22 | 半導体製造装置およびその使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6082655B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05343334A (ja) * | 1992-06-09 | 1993-12-24 | Hitachi Ltd | プラズマ発生装置 |
| JP4203028B2 (ja) * | 1996-07-08 | 2008-12-24 | 株式会社東芝 | プラズマ処理装置 |
| JP4107736B2 (ja) * | 1998-11-16 | 2008-06-25 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP4263338B2 (ja) * | 2000-05-10 | 2009-05-13 | 宏之 新井 | プラズマ処理装置 |
| JP3830814B2 (ja) * | 2001-12-21 | 2006-10-11 | シャープ株式会社 | プラズマプロセス装置およびプラズマ制御方法 |
| US7097782B2 (en) * | 2002-11-12 | 2006-08-29 | Micron Technology, Inc. | Method of exposing a substrate to a surface microwave plasma, etching method, deposition method, surface microwave plasma generating apparatus, semiconductor substrate etching apparatus, semiconductor substrate deposition apparatus, and microwave plasma generating antenna assembly |
| JP2011150943A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置およびこの装置を用いた基板の処理方法 |
-
2013
- 2013-05-22 JP JP2013108286A patent/JP6082655B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2017507747A5 (ja) | ||
| JP2015125255A5 (ja) | ||
| JP2013188229A5 (ja) | ||
| JP2017005051A5 (ja) | ||
| JP2014143409A5 (ja) | 金属酸化物膜 | |
| JP2012065100A5 (ja) | ||
| JP2012098988A5 (ja) | ||
| JP2013242517A5 (ja) | ||
| JP2014517802A5 (ja) | ||
| JP2012199341A5 (ja) | ||
| JP2013181136A5 (ja) | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミド成形体、及び画像形成装置 | |
| JP2011510317A5 (ja) | ||
| FR3023979B1 (fr) | Support electroconducteur pour oled, oled l'incorporant, et sa fabrication. | |
| JP2016540360A5 (ja) | 基板処理システム及び基板処理方法 | |
| JP2015537124A5 (ja) | ||
| JP2015214079A5 (ja) | ||
| JP2016023719A5 (ja) | ||
| JP2015062276A5 (ja) | ||
| JP2012209621A5 (ja) | ||
| JP2015080448A5 (ja) | ||
| JP2015005927A5 (ja) | ||
| JP2015529327A5 (ja) | ||
| JP2013017177A5 (ja) | ||
| JP2015003980A5 (ja) | ||
| JP2016046294A5 (ja) |