JP2014194516A - Manufacturing method of optical transmission substrate, and optical transmission substrate - Google Patents

Manufacturing method of optical transmission substrate, and optical transmission substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2014194516A
JP2014194516A JP2013158606A JP2013158606A JP2014194516A JP 2014194516 A JP2014194516 A JP 2014194516A JP 2013158606 A JP2013158606 A JP 2013158606A JP 2013158606 A JP2013158606 A JP 2013158606A JP 2014194516 A JP2014194516 A JP 2014194516A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical transmission
groove
substrate
optical waveguide
waveguide layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013158606A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6140567B2 (en
Inventor
Maroaki Maetani
麿明 前谷
Satoshi Asai
覚詞 淺井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2013158606A priority Critical patent/JP6140567B2/en
Publication of JP2014194516A publication Critical patent/JP2014194516A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6140567B2 publication Critical patent/JP6140567B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method by which a through-hole substrate can be easily mounted on an optical transmission substrate, and an optical transmission substrate.SOLUTION: A manufacturing method of an optical transmission substrate of the present invention includes the steps of: arranging, on a substrate 2, an optical waveguide layer 3 having a core part 3b extending in a plane direction and clad layers 3a and 3c arranged around the core part 3b; arranging a resin member 6 on the optical waveguide layer 3; and exposing and developing the resin member 6 to form a positioning structure that is formed of a protrusion or has grooves in which a concave-convex structure 6a including recess parts is provided across one end to the other end.

Description

本発明は、光伝送基板の製造方法および光伝送基板に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical transmission board and an optical transmission board.

近年、情報処理能力の向上を図るために、電子デバイスの間の電気伝送を光伝送に変更することが検討されている。そこで、電子デバイスの間を光伝送する光伝送モジュールとして、光伝送基板、スルーホール基板および光素子から構成された構造が開示されている(例えば、特許文献1参照)。ここで光伝送基板は、平面方向に形成された光導波路を有しており、平面方向に光伝送することができるものである。また、光素子はスルーホール基板に実装することにより、出射する光が光導波路に光学的に接続されるように配置されている。   In recent years, in order to improve information processing capability, it has been studied to change electrical transmission between electronic devices to optical transmission. Therefore, a structure composed of an optical transmission board, a through-hole board, and an optical element is disclosed as an optical transmission module for optical transmission between electronic devices (see, for example, Patent Document 1). Here, the optical transmission board has an optical waveguide formed in a planar direction, and can transmit light in the planar direction. Further, the optical element is mounted on the through-hole substrate so that the emitted light is optically connected to the optical waveguide.

このような光伝送モジュールは、スルーホール基板を光伝送基板に実装する際に、両者に設けられた、例えば凹部または突起の組み合わせからなる嵌合構造を用いることが知られている。   It is known that such an optical transmission module uses a fitting structure made of a combination of, for example, a concave portion or a projection provided on both when a through-hole substrate is mounted on the optical transmission substrate.

特開2008-241956号公報JP 2008-241956

このような光伝送モジュールの研究開発において、スルーホール基板と光伝送基板を実装しやすくすることにより、光伝送モジュールの生産性を向上させることが求められている。   In the research and development of such an optical transmission module, it is required to improve the productivity of the optical transmission module by making it easy to mount the through-hole substrate and the optical transmission substrate.

本発明は、上述の事情のもとで考え出されたものであって、スルーホール基板を容易に搭載することが可能な光伝送基板の製造方法および光伝送基板を提供することを目的とする。   The present invention has been conceived under the above circumstances, and an object thereof is to provide an optical transmission board manufacturing method and an optical transmission board capable of easily mounting a through-hole board. .

本発明の光伝送基板の製造方法は、基板上に平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有する光導波路層を配置する工程と、該光導波路層上に樹脂部材を配置する工程と、該樹脂部材を露光・現像することにより、突起からなるか、凹部を有する凹凸構造が一端から他端にかけて設けられた溝を有する位置決め構造を形成する工程とを有する。   The method for manufacturing an optical transmission substrate of the present invention includes a step of disposing an optical waveguide layer having a core portion extending in a planar direction on the substrate and a clad layer disposed around the core portion, and on the optical waveguide layer A step of arranging a resin member, and a step of forming a positioning structure having a groove formed by a protrusion or an uneven structure having a recess from one end to the other end by exposing and developing the resin member. .

本発明の光伝送基板の製造方法は、基板上に平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有する光導波路層を配置する工程と、該光導波路層上に突起からなるか、凹部を有する凹凸構造を配置する工程と、前記凹凸構造と前記コア部とに重なる直線に沿って、前記凹凸構造の一部を切除するとともに前記コア部を切断する工程とを有する。   The method for manufacturing an optical transmission substrate of the present invention includes a step of disposing an optical waveguide layer having a core portion extending in a planar direction on the substrate and a clad layer disposed around the core portion, and on the optical waveguide layer A step of arranging a concavo-convex structure comprising a protrusion or having a concave portion, and a step of cutting a part of the concavo-convex structure and cutting the core portion along a straight line that overlaps the concavo-convex structure and the core portion. Have.

また本発明の光伝送基板は、基板と、該基板上に形成された、平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有し、前記コア部が延在する方向の途中で前記コア部を分断する第1溝部を有する光導波路層と、該光導波路層上に形成された、突起からなるか、凹部を有する位置決め構造と、を有し、該位置決め構造は、前記第1溝部
の分断方向に沿った第2溝部を有する。
The optical transmission substrate of the present invention includes a substrate, a core portion formed on the substrate and extending in a planar direction, and a clad layer disposed around the core portion, and the core portion extends. An optical waveguide layer having a first groove part that divides the core part in the middle of the direction, and a positioning structure that is formed on the optical waveguide layer and that includes a protrusion or a recess, and the positioning structure is And a second groove portion along the dividing direction of the first groove portion.

本発明の光伝送基板の製造方法によれば、凹凸構造に溝を形成する場合でも生産性が低下することを抑制することができる。   According to the method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, it is possible to suppress a decrease in productivity even when a groove is formed in an uneven structure.

また、本発明の光伝送基板によれば、突起に溝が形成されていることにより、スルーホール基板を光伝送基板に実装する際に、容易にスルーホール基板を実装することができる。   Further, according to the optical transmission board of the present invention, since the grooves are formed in the protrusions, the through-hole board can be easily mounted when the through-hole board is mounted on the optical transmission board.

本発明の実施形態に係る光伝送基板を含む光伝送モジュールの概略構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a schematic configuration of an optical transmission module including an optical transmission board according to an embodiment of the present invention. 図1の光配線基板の断面図であり、図1のA−A’線に沿って切断したときの断面に相当する。FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical wiring board of FIG. 1 and corresponds to a cross section taken along the line A-A ′ of FIG. 1. 本発明の光伝送基板の一実施形態を示すものであり、(a)は上方向からみた平面図に相当し、(b)は(a)のB−B’線で切断したときの断面図に相当し、(c)は(a)のC−C’線で切断したときの断面図に相当する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 illustrates an embodiment of an optical transmission board according to the present invention, where (a) corresponds to a plan view viewed from above, and (b) is a cross-sectional view taken along line BB ′ in (a). (C) is equivalent to sectional drawing when cut | disconnected by CC 'line | wire of (a). 図3に示す光伝送基板の一部を拡大する拡大断面図に相当する。This corresponds to an enlarged cross-sectional view of a part of the optical transmission board shown in FIG. 図3に示す光伝送基板の一実施形態の変形例を示すものであり、(a)は上方向からみた平面図に相当し、(b)は(a)のD−D’線で切断したときの断面図に相当する。FIG. 9 shows a modification of the embodiment of the optical transmission board shown in FIG. 3, where (a) corresponds to a plan view seen from above, and (b) is cut along the line DD ′ in (a). It corresponds to a cross-sectional view at that time. 図3に示す光伝送基板の一実施形態の変形例を示すものであり、(a)は上方向からみた平面図に相当し、(b)は(a)のE−E’線で切断したときの断面図に相当する。FIG. 9 shows a modification of the embodiment of the optical transmission board shown in FIG. 3, (a) corresponds to a plan view seen from above, and (b) is cut along line EE ′ of (a). It corresponds to a cross-sectional view at that time. 本発明の光伝送基板の製造方法の一実施形態の一工程を示すものであり、図3のC−C’線で切断したときの断面にそれぞれ相当する。4 shows one step of an embodiment of the method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, which corresponds to a cross section taken along line C-C ′ of FIG. 3. 本発明の光伝送基板の製造方法の一実施形態の一工程を示すものであり、図3のC−C’線で切断したときの断面に相当する。4 shows one step of an embodiment of the method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, which corresponds to a cross section taken along line C-C ′ of FIG. 3. 本発明の光伝送基板の製造方法の一実施形態(第1実施形態)の一工程を示すものであり、(a)は光伝送基板を上から平面視した平面図に相当し、(b)は(a)のF−F’線で切断したときの断面の一部に相当する。1 shows one step of an embodiment (first embodiment) of a method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, wherein (a) corresponds to a plan view of the optical transmission board viewed from above, and (b). Corresponds to part of the cross section when cut along the line FF ′ in FIG. 本発明の光伝送基板の製造方法の一実施形態(第2実施形態)の一工程を示すものであり、光伝送基板を上から平面視した平面図に相当する。1 shows one step of an embodiment (second embodiment) of the method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, and corresponds to a plan view of the optical transmission board viewed from above. 本発明の光伝送基板の製造方法の一実施形態の一工程を示すものであり、図3のC−C’線で切断したときの断面にそれぞれ相当する。4 shows one step of an embodiment of the method for manufacturing an optical transmission board of the present invention, which corresponds to a cross section taken along line C-C ′ of FIG. 3.

本発明の一実施形態に係る光配線基板について、以下説明する。本実施形態に係る光伝送基板1は、図1〜3に示すように、基板2、光導波路層3および突起4を有している。光伝送基板1は、図1に示すように、スルーホール基板100が実装されて、光伝送モジュ
ール200として用いられるものである。
An optical wiring board according to an embodiment of the present invention will be described below. As shown in FIGS. 1 to 3, the optical transmission substrate 1 according to the present embodiment includes a substrate 2, an optical waveguide layer 3, and protrusions 4. As shown in FIG. 1, the optical transmission board 1 is used as an optical transmission module 200 with a through-hole board 100 mounted thereon.

<光伝送モジュール>
スルーホール基板100は、上下方向(D1、D2方向)に貫通するスルーホール101を有している。スルーホール101の内部は、空洞でもよいし、コア120およびクラッド121から
なる光伝送構造が配置されていてもよい。スルーホール基板100上には光素子150が実装されている。光素子150としては、例えば面発光レーザなどの発光デバイスまたはフォトダ
イオードなどの受光デバイスなどを用いることができる。この光素子150と光導波路層3
が、スルーホール101によって光学的に接続される。本実施形態では、スルーホール101内
に光伝送構造が配置されている場合について説明する。
<Optical transmission module>
The through-hole substrate 100 has a through-hole 101 penetrating in the vertical direction (D1 and D2 directions). The inside of the through hole 101 may be a cavity, or an optical transmission structure including the core 120 and the clad 121 may be disposed. An optical element 150 is mounted on the through-hole substrate 100. As the optical element 150, for example, a light emitting device such as a surface emitting laser or a light receiving device such as a photodiode can be used. This optical element 150 and optical waveguide layer 3
Are optically connected by the through hole 101. In the present embodiment, a case where an optical transmission structure is arranged in the through hole 101 will be described.

クラッド121としては、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂または
アクリル樹脂などを用いることができる。クラッド121の内部には、厚み方向(D1、D
2方向)に貫通している光導波孔121aが設けられている。クラッド121の内部に光導波孔121aが複数形成されていてもよい。クラッド121に光導波孔121aが複数設けていること
によって、複数の信号を伝送することができるため、光伝送モジュール200を小型化する
ことができる。
As the clad 121, for example, an epoxy resin, a polyimide resin, a phenol resin, an acrylic resin, or the like can be used. The cladding 121 has a thickness direction (D1, D
An optical waveguide hole 121a penetrating in two directions) is provided. A plurality of optical waveguide holes 121 a may be formed inside the clad 121. Since a plurality of optical waveguide holes 121a are provided in the clad 121, a plurality of signals can be transmitted, so that the optical transmission module 200 can be reduced in size.

光導波孔121aの内には、コア120が設けられている。コア120は、クラッド121よりも屈折率が高い材料によって構成されている。コア120の径としては、例えば1μm以上300μm以下の範囲が挙げられる。なおコア120は、光導波孔121a内に充填されていることから、光導波孔121aの径とほぼ同じ径であり、光導波孔121aの形状、径の大きさによって設定される。   A core 120 is provided in the optical waveguide hole 121a. The core 120 is made of a material having a higher refractive index than that of the clad 121. Examples of the diameter of the core 120 include a range of 1 μm to 300 μm. Since the core 120 is filled in the optical waveguide hole 121a, the core 120 has substantially the same diameter as the optical waveguide hole 121a, and is set according to the shape and size of the optical waveguide hole 121a.

光素子150は、制御素子102によって駆動が制御される。光素子150と制御素子102は、スルーホール基板100上に形成された電気配線103により電気的に接続されている。なお、光素子150と制御素子102は、電気配線103に実装されている。また、スルーホール基板100は、内部に貫通導体104が設けられている。   The driving of the optical element 150 is controlled by the control element 102. The optical element 150 and the control element 102 are electrically connected by an electric wiring 103 formed on the through-hole substrate 100. The optical element 150 and the control element 102 are mounted on the electrical wiring 103. Further, the through-hole substrate 100 is provided with a through conductor 104 therein.

スルーホール基板100は、図2に示すように、基板2上に形成された配線導体5にバン
プ導体105を介して実装される。光導波路層3には孔33が設けられており、基板2上の配
線導体5が露出している。貫通導体104は電気的な導通が取れる材料であればよい。また
、バンプ導体105は、電気的な導通が取れ、且つスルーホール基板100と基板2を固定できる材料を用いることができ、例えばペースト状の半田からなる導体材料を用いることができる。
As shown in FIG. 2, the through-hole substrate 100 is mounted on the wiring conductor 5 formed on the substrate 2 via the bump conductor 105. A hole 33 is provided in the optical waveguide layer 3 so that the wiring conductor 5 on the substrate 2 is exposed. The through conductor 104 may be made of any material that can be electrically connected. The bump conductor 105 can be made of a material that can be electrically connected and can fix the through-hole substrate 100 and the substrate 2. For example, a conductor material made of paste solder can be used.

スルーホール基板100の下面には、嵌合構造が設けられている。嵌合構造は、例えば凹
部または突起を用いることができる。嵌合構造は、光伝送基板1に形成された嵌合構造(位置決め構造)によって、突起または凹部を選ぶことができる。本実施形態では、スルーホール基板100の下面に嵌合構造として凹部110が設けられている場合である。一方、光伝送基板1は、嵌合構造として突起が設けられている場合である。
A fitting structure is provided on the lower surface of the through-hole substrate 100. As the fitting structure, for example, a recess or a protrusion can be used. As the fitting structure, a projection or a recess can be selected depending on the fitting structure (positioning structure) formed on the optical transmission board 1. In the present embodiment, a recess 110 is provided on the lower surface of the through-hole substrate 100 as a fitting structure. On the other hand, the optical transmission board 1 is a case where a protrusion is provided as a fitting structure.

スルーホール基板100は、凹部110を突起4に嵌合させるようにして、光伝送基板1に載置される。このようにして光伝送モジュール200を形成することができる。光伝送モジュ
ール200は、光素子150が制御素子102によって制御され、制御素子102は、貫通導体104お
よびバンプ導体105によって基板2上の配線導体5と電気的に接続される。
The through-hole substrate 100 is placed on the optical transmission substrate 1 so that the recess 110 is fitted to the protrusion 4. In this way, the optical transmission module 200 can be formed. In the optical transmission module 200, the optical element 150 is controlled by the control element 102, and the control element 102 is electrically connected to the wiring conductor 5 on the substrate 2 by the through conductor 104 and the bump conductor 105.

<光伝送基板>
次に、光伝送基板1の各構成について説明する。
<Optical transmission board>
Next, each configuration of the optical transmission board 1 will be described.

基板2の厚みは、例えば0.01mm以上1cm以下の範囲となるように設けられている。基板2の一辺(図1におけるD3、D4方向またはD5、D6方向)は、例えば1cm以上10cm以下に設定することができる。   The thickness of the board | substrate 2 is provided so that it may become the range of 0.01 mm or more and 1 cm or less, for example. One side (D3, D4 direction or D5, D6 direction in FIG. 1) of the substrate 2 can be set to, for example, 1 cm or more and 10 cm or less.

基板2は、セラミック材料または有機材料などから形成されている。具体的なセラミック材料としては、例えばジルコニア、アルミナ、炭化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、低温焼成ガラスセラミック、ムライト、ガラスセラミックまたは窒化珪素などの材料を用いることができ、これらを混ぜて用いてもよい。一方、基板2の材料として、有機材料を用いる場合には、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、シアネート樹脂、
ポリフェニレンエーテル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂またはポリイミド樹脂などを用いることができる。
The substrate 2 is made of a ceramic material or an organic material. As a specific ceramic material, for example, materials such as zirconia, alumina, silicon carbide, boron nitride, beryllia, low-temperature fired glass ceramic, mullite, glass ceramic, or silicon nitride can be used, and these may be used in combination. . On the other hand, when an organic material is used as the material of the substrate 2, for example, an epoxy resin, a bismaleimide-triazine resin, a cyanate resin,
Polyphenylene ether resin, aromatic polyamide resin, polyimide resin, or the like can be used.

基板2は、単層の基板を用いてもよいし、複数の副基板を積層した積層体を用いてもよい。基板2の材料としては、例えば、セラミック材料、またはエポキシ樹脂などの有機材料などを用いることができる。本実施形態では、図3に示す通り、単層のセラミック材料からなる基板を採用している。基板2上には、電気回路等に接続される配線導体5が形成されている。配線導体5は、例えばメタライズ金属等によって形成されている。   The substrate 2 may be a single layer substrate or a laminate in which a plurality of sub-substrates are stacked. As a material of the substrate 2, for example, a ceramic material or an organic material such as an epoxy resin can be used. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, a substrate made of a single layer ceramic material is employed. A wiring conductor 5 connected to an electric circuit or the like is formed on the substrate 2. The wiring conductor 5 is made of, for example, metallized metal.

基板2上には、光導波路層3が形成されている。光導波路層3は、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂およびポリイミド樹脂を基材とする材料を用いることができる。光導波路層3の厚みは、例えば50μm以上1mm以下となるように設定することができる。   An optical waveguide layer 3 is formed on the substrate 2. For the optical waveguide layer 3, for example, a material based on an epoxy resin, an acrylic resin, and a polyimide resin can be used. The thickness of the optical waveguide layer 3 can be set to be, for example, 50 μm or more and 1 mm or less.

光導波路層3は、第1クラッド層3a、コア部3bを含む第2クラッド層3cを有している。具体的に、コア部3bの屈折率は、第1クラッド層3aおよび第2クラッド層3cの屈折率よりも0.8%以上4%以下の範囲で大きくなるように設定されている。第1クラ
ッド層3aおよび第2クラッド層3cが、コア部3bの周囲に配置されていることによって、コア部3b内に光を閉じ込めて光を伝送することができる。
The optical waveguide layer 3 has a first cladding layer 3a and a second cladding layer 3c including a core portion 3b. Specifically, the refractive index of the core portion 3b is set to be larger in the range of 0.8% to 4% than the refractive indexes of the first cladding layer 3a and the second cladding layer 3c. Since the first cladding layer 3a and the second cladding layer 3c are disposed around the core portion 3b, light can be confined in the core portion 3b and light can be transmitted.

光導波路層3は、コア部3bが延在する方向の途中でコア部3bを分断する第1溝部3’を有している。第1溝部3’は、例えばコア部3bの延在方向(D5、D6方向)に対して垂直な方向に形成されている。第1溝部3’は、第1クラッド層3aまで設けられて、コア部3bが分断されている。第1溝部3’は、延在方向の幅が、例えば10μm以上1mm以下となるように設けられている。   The optical waveguide layer 3 has a first groove 3 'that divides the core 3b in the middle of the direction in which the core 3b extends. The first groove 3 'is formed, for example, in a direction perpendicular to the extending direction (D5, D6 direction) of the core 3b. The first groove 3 'is provided up to the first cladding layer 3a, and the core 3b is divided. The first groove 3 ′ is provided so that the width in the extending direction is, for example, not less than 10 μm and not more than 1 mm.

第1溝部3’内で分断されたコア部3bは、図4に示すように、光導波路層3の厚み方向に平行な端面3baと、コア部3bの延在方向に対して傾斜した傾斜面3bbとが露出している。傾斜面3bbは、コア部3bの延在方向に対して、例えば45°傾斜している。コア部3bが端面3baおよび傾斜面3bbを有していることにより、コア部3bを通る光が端面3baから出射した後、傾斜面3bbで光導波路層3の厚み方向に反射して光路を変更することができる。延在方向に対する傾斜面3bbの傾斜角度は、例えば40°以上52°以下となるように設定することができる。   As shown in FIG. 4, the core portion 3b divided in the first groove portion 3 ′ has an end surface 3ba parallel to the thickness direction of the optical waveguide layer 3, and an inclined surface inclined with respect to the extending direction of the core portion 3b. 3bb is exposed. The inclined surface 3bb is inclined by 45 °, for example, with respect to the extending direction of the core portion 3b. Since the core portion 3b has the end surface 3ba and the inclined surface 3bb, the light passing through the core portion 3b is emitted from the end surface 3ba and then reflected by the inclined surface 3bb in the thickness direction of the optical waveguide layer 3 to change the optical path. can do. The inclination angle of the inclined surface 3bb with respect to the extending direction can be set to be 40 ° or more and 52 ° or less, for example.

傾斜面3bbは、コア部3bが露出していてもよいし、上面に反射膜を形成してもよい。反射膜の材料は、伝送する光の波長によって反射率を考慮して選択すればよく、例えば、アルミニウム、銀または金などを主成分とする材料を用いることができる。反射膜を形成することによって、光路変換される光を全反射されやすくすることができる。   The inclined surface 3bb may expose the core portion 3b, or may form a reflective film on the upper surface. The material of the reflective film may be selected in consideration of the reflectance depending on the wavelength of light to be transmitted. For example, a material mainly composed of aluminum, silver, gold, or the like can be used. By forming the reflective film, the light whose optical path is changed can be easily totally reflected.

また光導波路層3には孔33が形成されている。孔33は、平面視して、配線導体5よりも内側となるように形成されている。孔33を配線導体5よりも内側となるように形成することによって、バンプ導体105を孔33内に設けてリフローをした際に、不要な箇所にバンプ
導体105が流れることを抑制することができる。
A hole 33 is formed in the optical waveguide layer 3. The hole 33 is formed so as to be inside the wiring conductor 5 in plan view. By forming the hole 33 so as to be inside the wiring conductor 5, when the bump conductor 105 is provided in the hole 33 and reflowing is performed, the bump conductor 105 can be prevented from flowing to an unnecessary portion. .

光導波路層3上には、位置決め構造が形成される。位置決め構造は、突起または凹部を用いることができ、スルーホール基板100の下面に設けられた嵌合構造の形状によって選
択される。本実施形態では、位置決め構造として突起4を用いている場合である。突起4の厚みは、例えば100μm以上1mm以下に設定することができる。突起4の平面視にお
ける幅は、例えば10μm以上2mm以下となるように設定することができる。突起4の外形は、側面が傾斜するように、先端に向かうにつれて厚み方向に対する横断面積が小さくなっている。具体的に、突起4は、例えば四角錘形状などの多角錘形状、四角錘台形状な
どの多角錘台形状、円錐形状または円錐台形状などを用いることができる。本実施形態は、突起4が円柱状で形成されている場合について説明する。
A positioning structure is formed on the optical waveguide layer 3. The positioning structure can be a protrusion or a recess, and is selected according to the shape of the fitting structure provided on the lower surface of the through-hole substrate 100. In this embodiment, the projection 4 is used as the positioning structure. The thickness of the protrusion 4 can be set to 100 μm or more and 1 mm or less, for example. The width of the protrusion 4 in plan view can be set to be, for example, 10 μm or more and 2 mm or less. As for the external shape of the protrusion 4, the cross-sectional area with respect to the thickness direction becomes smaller toward the tip so that the side surface is inclined. Specifically, for example, the projection 4 can be formed in a polygonal pyramid shape such as a quadrangular pyramid shape, a polygonal frustum shape such as a quadrangular frustum shape, a conical shape, or a truncated cone shape. This embodiment demonstrates the case where the processus | protrusion 4 is formed in the column shape.

突起4には、第1溝部3’の分断方向に沿った第2溝部4’が設けられている。第2溝部4’の深さは、突起4の下部(光導波路層3と接する部分)まで設けられていてもよいし、突起4の厚み方向の途中まででもよい。第2溝部4’の幅は、例えば、第1溝部3’と同じ幅に設定することができる。   The protrusion 4 is provided with a second groove portion 4 ′ along the dividing direction of the first groove portion 3 ′. The depth of the second groove 4 ′ may be provided up to the lower part of the protrusion 4 (the part in contact with the optical waveguide layer 3), or may be up to the middle of the protrusion 4 in the thickness direction. The width of the second groove 4 'can be set to the same width as the first groove 3', for example.

第2溝部4’は、平面視において、図3(a)に示すように、第1溝部3’の分断方向に沿って、一端から他端まで設けられていてもよいし、図5(a)に示すように、一部のみに設けられていてもよい。   As shown in FIG. 3A, the second groove 4 ′ may be provided from one end to the other end along the dividing direction of the first groove 3 ′ in a plan view. ) As shown in FIG.

本実施形態の光伝送基板は、突起4に第2溝部4’を有していることから、凹部110と
突起4を嵌合させてスルーホール基板100を光伝送基板1に実装する際に、第2溝部4’
から空気を抜けやすくすることができる。これにより、スルーホール基板100を光伝送基
板1に容易に実装することができる。
Since the optical transmission board of the present embodiment has the second groove 4 ′ in the protrusion 4, when the through-hole substrate 100 is mounted on the optical transmission board 1 by fitting the recess 110 and the protrusion 4, Second groove 4 '
Air can be easily removed from the air. As a result, the through-hole substrate 100 can be easily mounted on the optical transmission substrate 1.

また、第2溝部4’が第1溝部3’に沿って設けられていることにより、スルーホール基板100を実装したときに、第2溝部4’から抜けた空気を、第1溝部3’の方向に流れ
やすくすることができる。そのため、リフローでバンプ導体105を溶解させて光伝送基板
1とスルーホール基板100を固定する際に、バンプ導体105を実装する前に塗布するフラックス材料が気化した場合でも、第1溝部3’付近には第2溝部4’から抜けた空気が流れるため、コア部3bの端面3baおよび傾斜面3bbの表面にフラックスが付着または堆積されにくくすることができる。
Further, since the second groove portion 4 ′ is provided along the first groove portion 3 ′, air that has escaped from the second groove portion 4 ′ when the through-hole substrate 100 is mounted is transferred to the first groove portion 3 ′. Easy to flow in the direction. Therefore, when the bump conductor 105 is melted by reflow and the optical transmission board 1 and the through-hole board 100 are fixed, even if the flux material to be applied before the bump conductor 105 is mounted is vaporized, the vicinity of the first groove 3 ' Since the air that has escaped from the second groove 4 ′ flows, the flux can hardly be attached or deposited on the surfaces of the end surface 3ba and the inclined surface 3bb of the core 3b.

また、第1溝部3’の方向に空気が流れることによって、第1溝部3’内に位置する端面3baおよび傾斜面3bbの表面に付いた微小な付着物(空気中のパーティクルなど)が除去されやすいという効果がある。さらに、図3に示すように、第1溝部3’が分断方向に沿って光導波路層3の一端から他端まで設けられている場合には、第2溝部4’から抜けた空気が光導波路層3の外へ排出されやすくなる。その結果、付着部を光導波路層3の外へ排出されやすくすることができる。   Further, when air flows in the direction of the first groove 3 ′, minute deposits (particles in the air, etc.) attached to the surfaces of the end surface 3ba and the inclined surface 3bb located in the first groove 3 ′ are removed. The effect is easy. Further, as shown in FIG. 3, when the first groove 3 ′ is provided from one end to the other end of the optical waveguide layer 3 along the dividing direction, the air escaped from the second groove 4 ′ is the optical waveguide. It becomes easy to be discharged out of the layer 3. As a result, the adhering portion can be easily discharged out of the optical waveguide layer 3.

(光伝送基板の変形例1)
第2溝部4’は、図5(b)に示すように、突起4の下端まで設けられており、光導波路層3は第2溝部4’と連続する第3溝部3’aを有していてもよい。このような第3溝部3’aは、第2溝部4’と同じ幅となるように形成されている。第3溝部3’aの深さは、光導波路層3内であればよく、特に限定されるものではない。第3溝部3’aは、第2溝部4’と連続しているだけでなく、第1溝部3’と連続するように配置されている。
(Modification 1 of optical transmission board)
As shown in FIG. 5B, the second groove portion 4 ′ is provided up to the lower end of the protrusion 4, and the optical waveguide layer 3 has a third groove portion 3′a continuous with the second groove portion 4 ′. May be. Such 3rd groove part 3'a is formed so that it may become the same width as 2nd groove part 4 '. The depth of the third groove 3′a is not particularly limited as long as it is within the optical waveguide layer 3. The third groove portion 3′a is not only continuous with the second groove portion 4 ′ but also arranged so as to be continuous with the first groove portion 3 ′.

第3溝部3’aを有することによって、スルーホール基板100を実装した際に、第2溝
部4’から抜けた空気が第1溝部3’側に流れやすくすることができる。これによって、コア部3bの端面3baおよび傾斜面3bbに付いた付着物を除去しやすくすることができる。その結果、付着物に起因した迷光の発生を抑制することができる。
By having the third groove portion 3′a, when the through-hole substrate 100 is mounted, the air that has escaped from the second groove portion 4 ′ can easily flow to the first groove portion 3 ′ side. Thereby, it is possible to easily remove deposits attached to the end surface 3ba and the inclined surface 3bb of the core portion 3b. As a result, the generation of stray light due to the deposit can be suppressed.

また、第3溝部3’aを有していることによって、第2溝部4’から抜けた空気が、第3溝部3’aに流れた後、第1溝部3’へ流れやすくすることができる。このように第1溝部3’へ空気が流れやすくなることから、付着物に起因した迷光の発生をさらに抑制することができる。   In addition, by having the third groove portion 3′a, the air that has escaped from the second groove portion 4 ′ can easily flow into the first groove portion 3 ′ after flowing into the third groove portion 3′a. . As described above, since air easily flows into the first groove portion 3 ′, the generation of stray light due to the deposit can be further suppressed.

(光伝送基板の変形例2)
突起4は、図6に示すように、コア部3bと重なるように配置されていてもよい。本変形例において突起4は、四角柱状の外形を有している場合である。なお、本変形例において、突起4として円柱状などを用いてもよい。突起4として四角柱状の形状を用いた場合には、突起4が一つだけであっても、スルーホール基板100を実装するときに、平面方向
(D3、D4方向およびD5、D6方向)に回転することを抑制することができる。
(Modification 2 of optical transmission board)
The protrusion 4 may be arrange | positioned so that it may overlap with the core part 3b, as shown in FIG. In this modification, the protrusion 4 has a quadrangular prism shape. In this modification, a cylindrical shape or the like may be used as the protrusion 4. When a quadrangular prism shape is used as the protrusion 4, even if there is only one protrusion 4, it rotates in the plane direction (D 3, D 4 direction and D 5, D 6 direction) when the through-hole substrate 100 is mounted. Can be suppressed.

突起4は、平面視において、複数のコア部3bのうち一部と重なるように配置してもよいし、複数のコア部3bの全てと重なるように配置してもよい。なお、図6の突起4は全てのコア部3bと重なるように一つだけ設けたものであるが、一部のコア部3bと重なるように複数設けてもよい。複数の突起4を設けた場合には、位置合わせの精度を向上できるとともに、平面方向にスルーホール基板100が回転することを抑制することができる。   The protrusion 4 may be disposed so as to overlap a part of the plurality of core portions 3b in plan view, or may be disposed so as to overlap all of the plurality of core portions 3b. Although only one protrusion 4 in FIG. 6 is provided so as to overlap all the core portions 3b, a plurality of protrusions 4 may be provided so as to overlap some core portions 3b. When the plurality of protrusions 4 are provided, the alignment accuracy can be improved and the through-hole substrate 100 can be prevented from rotating in the planar direction.

突起4の第2溝部4’は、光導波路層3の第1溝部3’と連続的に形成されている。これにより、第2溝部4’の空間が突起4に囲まれるととなり、スルーホール基板100が実
装されるときに、第2溝部4’から抜ける空気が下方に押される。そのため、第2溝部4’から抜ける空気を、第1溝部3’に流れやすくすることができる。その結果、付着物に起因する迷光の発生をさらに抑制することができる。
The second groove 4 ′ of the protrusion 4 is formed continuously with the first groove 3 ′ of the optical waveguide layer 3. As a result, the space of the second groove 4 ′ is surrounded by the protrusion 4, and when the through-hole substrate 100 is mounted, the air that escapes from the second groove 4 ′ is pushed downward. For this reason, it is possible to make it easier for the air that escapes from the second groove portion 4 ′ to flow into the first groove portion 3 ′. As a result, it is possible to further suppress the generation of stray light due to the attached matter.

また、突起4がコア部3bと重なるように配置されていることによって、平面視においてコア部3bと突起4との距離を短くすることができるので、スルーホール基板100を実
装したときの位置合わせ精度を向上させることができる。また、突起4をコア部3bと重なるように配置するため、平面方向(D3、D4方向およびD5、D6方向)に光伝送基板1を小型化することができる。
Further, since the protrusion 4 is arranged so as to overlap the core portion 3b, the distance between the core portion 3b and the protrusion 4 can be shortened in a plan view, so that the alignment when the through-hole substrate 100 is mounted is achieved. Accuracy can be improved. Moreover, since the protrusion 4 is disposed so as to overlap the core portion 3b, the optical transmission board 1 can be reduced in size in the plane direction (D3, D4 direction and D5, D6 direction).

さらに、このようにコア部3bと重なるように配置されていると、コア部3bの延在方向に突起4が存在することにより、スルーホール基板100を実装した後リフローした際に
、バンプ導体105が第1溝部3’に流入されにくくすることができる。
Further, when arranged so as to overlap with the core portion 3b in this way, the bump 4 is present when the through-hole substrate 100 is mounted and reflowed due to the presence of the protrusion 4 in the extending direction of the core portion 3b. Can be made difficult to flow into the first groove 3 '.

(光伝送基板の変形例3)
第2溝部4’の底辺4’aは、図6に示すように、コア部3b側が低くなるように傾斜していてもよい。
(Modification 3 of optical transmission board)
As shown in FIG. 6, the bottom side 4 ′ a of the second groove part 4 ′ may be inclined so that the core part 3 b side is lowered.

このように第2溝部4’が、コア部3b側が低くなるように傾斜した底辺4’aを有していることによって、スルーホール基板100を実装した際に、第2溝部4’から抜ける空
気がコア部3b側に流れやすくすることができる。その結果、迷光の発生をより抑制することができる。
As described above, the second groove portion 4 ′ has the bottom 4′a inclined so that the core portion 3b side is lowered, so that air that escapes from the second groove portion 4 ′ when the through-hole substrate 100 is mounted. Can easily flow toward the core portion 3b. As a result, the generation of stray light can be further suppressed.

<光伝送基板の製造方法>
本発明の一実施形態に係る光伝送基板1の製造方法について説明する。第1実施形態は位置決め構造をフォトリソグラフィで形成する製造方法であり、第2実施形態は位置決め構造を、凹凸構造の一部を切断することにより形成する製造方法である。第1実施形態では一つの工程で第2溝部を有する位置決め構造を形成できる点で有利であり、第2実施形態では一つの工程で第1溝部と第2溝部を形成できる点で有利である。
<Method for manufacturing optical transmission board>
A method for manufacturing the optical transmission board 1 according to an embodiment of the present invention will be described. The first embodiment is a manufacturing method for forming the positioning structure by photolithography, and the second embodiment is a manufacturing method for forming the positioning structure by cutting a part of the concavo-convex structure. The first embodiment is advantageous in that the positioning structure having the second groove portion can be formed in one step, and the second embodiment is advantageous in that the first groove portion and the second groove portion can be formed in one step.

(光伝送基板の製造方法の第1実施形態)
第1実施形態の光伝送基板の製造方法は、光導波路層3を基板2に配置する工程と、光導波路層3上に樹脂部材6を配置する工程と、位置決め構造を形成する工程を有している。以下、各工程に分けて説明する。
(First Embodiment of Manufacturing Method of Optical Transmission Board)
The manufacturing method of the optical transmission board according to the first embodiment includes a step of arranging the optical waveguide layer 3 on the substrate 2, a step of arranging the resin member 6 on the optical waveguide layer 3, and a step of forming a positioning structure. ing. In the following, each process will be described separately.

(光導波路層を基板に配置する工程)
基板2上に、光導波路層3を形成する。本実施形態ではまず、図7(a)に示すように、基板2上に第1クラッド層3aとなるクラッドフィルムをラミネートする。第1クラッド層3aとなるフィルムをラミネートする方法としては、例えば真空ラミネート方式またはロールラミネート方式等を用いることができる。第1クラッド層3aの膜厚は、フィルムの膜厚を調整することにより制御することができる。
(Process of placing the optical waveguide layer on the substrate)
An optical waveguide layer 3 is formed on the substrate 2. In the present embodiment, first, as shown in FIG. 7A, a clad film that becomes the first clad layer 3 a is laminated on the substrate 2. As a method for laminating the film to be the first cladding layer 3a, for example, a vacuum laminating method or a roll laminating method can be used. The film thickness of the first cladding layer 3a can be controlled by adjusting the film thickness of the film.

また、第1クラッド層3aをスピンコート法で成膜してもよい。スピンコート法で第1クラッド層3aを形成する場合、第1クラッド層3aとなる樹脂材料をスピンコートすることによって成膜する。スピンコート法の場合は、回転数または樹脂材料の粘度等を調整することによって制御することができる。その後、自然乾燥または加熱乾燥を経て、塗布された樹脂材料は第1クラッド層3aとなる。   Further, the first cladding layer 3a may be formed by spin coating. When the first clad layer 3a is formed by spin coating, the film is formed by spin coating a resin material to be the first clad layer 3a. In the case of the spin coating method, it can be controlled by adjusting the rotational speed or the viscosity of the resin material. Thereafter, the applied resin material becomes the first cladding layer 3a through natural drying or heat drying.

次に、第1クラッド層3a上に、コア部3bとなるフィルムをラミネートする。フィルムがネガ型の材料であれば、ラミネートした後、コア部3bの形状となる箇所を露光する。ここで露光は、特定の波長の光を用いておこなう。具体的に、例えば、コア部3bとなる箇所以外に遮光部を持つ透光板を用いてコア部3bとなる箇所に露光を行う。その後、露光されたフィルムを現像することによりコア部3bを特定の形状に形成することができる。   Next, a film to be the core portion 3b is laminated on the first cladding layer 3a. If the film is a negative type material, after laminating, the portion that becomes the shape of the core portion 3b is exposed. Here, exposure is performed using light of a specific wavelength. Specifically, for example, a portion that becomes the core portion 3b is exposed using a light-transmitting plate having a light shielding portion other than the portion that becomes the core portion 3b. Then, the core part 3b can be formed in a specific shape by developing the exposed film.

現像は、露光された部分と露光されなかった部分の溶解度の違いを利用してエッチングされる。これにより、図7(b)に示すように、コア部3bが形成される。なお、ポジ型のフィルムを用いてコア部3bを用いてもよく、その場合はコア部3bとなる部分以外を露光する。   The development is performed by using the difference in solubility between the exposed portion and the unexposed portion. Thereby, as shown in FIG.7 (b), the core part 3b is formed. In addition, you may use the core part 3b using a positive film, and in that case, it exposes except the part used as the core part 3b.

最後に、図7(c)に示すように、コア部3bを覆うように第2クラッド層3cを形成する。すなわち、第2クラッド層3cとなるフィルムを、コア部3bの膜厚よりも厚くなるように、且つコア部3bの周囲を第1クラッド層3aおよび第2クラッド層3cを覆うようにラミネートする。その後、露光と加熱を行なうことにより、第2クラッド層3cとなる。このようにして、基板2上に光導波路層3を形成することができる。   Finally, as shown in FIG. 7C, the second cladding layer 3c is formed so as to cover the core portion 3b. That is, the film to be the second cladding layer 3c is laminated so as to be thicker than the thickness of the core portion 3b and so as to cover the first cladding layer 3a and the second cladding layer 3c around the core portion 3b. Thereafter, exposure and heating are performed to form the second cladding layer 3c. In this way, the optical waveguide layer 3 can be formed on the substrate 2.

その後、ダイシングブレード等を用いてコア部3bの一部を切除することにより、光導波路層3に第1溝部3’を形成する。ダイシングブレードには、切削方向に対して45°程度傾斜した傾斜面を有する刃を用いることにより、光導波路層3内に傾斜面3bbが形成される。   Thereafter, a first groove 3 ′ is formed in the optical waveguide layer 3 by cutting a part of the core 3 b using a dicing blade or the like. As the dicing blade, an inclined surface 3bb is formed in the optical waveguide layer 3 by using a blade having an inclined surface inclined by about 45 ° with respect to the cutting direction.

(樹脂部材を配置する工程)
次に、光導波路層3上に位置決め構造を形成する工程について説明する。具体的には、図8に示すように、光導波路層3上に樹脂部材6を成膜する。成膜方法は、例えばスピンコート法などを用いることができる。樹脂部材6の膜厚を調整することによって、突起4の高さを調整することができる。
(Process of placing resin member)
Next, a process for forming a positioning structure on the optical waveguide layer 3 will be described. Specifically, as shown in FIG. 8, a resin member 6 is formed on the optical waveguide layer 3. As the film forming method, for example, a spin coating method or the like can be used. By adjusting the film thickness of the resin member 6, the height of the protrusion 4 can be adjusted.

その後、樹脂部材6をパターニングすることによって、図9に示すように、位置決め構造を光導波路層3上に形成することができる。樹脂部材6のパターニングには、マスクパターンを用いて例えばドライエッチング法またはウェットエッチング法等を用いることができる。また樹脂部材6として、エポキシ樹脂などの感光性材料を用いた場合には、露光による溶解度の違いを用いたエッチング法を用いることができる。   Thereafter, by patterning the resin member 6, a positioning structure can be formed on the optical waveguide layer 3 as shown in FIG. 9. For patterning the resin member 6, for example, a dry etching method or a wet etching method can be used using a mask pattern. When a photosensitive material such as an epoxy resin is used as the resin member 6, an etching method using a difference in solubility due to exposure can be used.

さらに樹脂部材6を成膜する方法として、光導波路層3と同じ材料・形成方法を用いてもよい。すなわち、フィルムをラミネートすることによって位置決め構造を形成してもよい。フィルムをラミネートして位置決め構造を形成する場合は、例えば20μm以上60μm
以下のフィルムを複数積層して設けることができる。光導波路層3と同じ材料を用いた場合、位置決め構造が光導波路層3から剥がれにくくすることができる。
Further, as a method for forming the resin member 6, the same material / formation method as that of the optical waveguide layer 3 may be used. That is, the positioning structure may be formed by laminating a film. When a positioning structure is formed by laminating films, for example, 20 μm or more and 60 μm
A plurality of the following films can be stacked. When the same material as the optical waveguide layer 3 is used, the positioning structure can be made difficult to peel off from the optical waveguide layer 3.

(位置決め構造を形成する工程)
次に、図9に示すように、樹脂部材6を露光・現像することにより位置決め構造を形成する。位置決め構造は、突起からなるか、凹部を有する凹凸構造が一端から他端にかけて設けられた第2溝部を有するようになっている。本実施形態は、凹凸構造として凹部8を有する構造の場合である。
(Process for forming positioning structure)
Next, as shown in FIG. 9, the resin member 6 is exposed and developed to form a positioning structure. The positioning structure is configured to have a second groove portion that is formed of a protrusion or a concave-convex structure having a concave portion provided from one end to the other end. This embodiment is a case of a structure having a concave portion 8 as the concave-convex structure.

凹部8は、平面視形状が、例えば、円形状または多角形状となるように設けられている。凹部8の横幅は、例えば100μm以上2mm以下となるように設けられる。凹部8は、樹脂部材6の一部分が存在することによって、形を成している。以下の説明において、この樹脂部材6の一部分を凹部構成部6’とする。   The recessed part 8 is provided so that the planar view shape may be, for example, a circular shape or a polygonal shape. The lateral width of the recess 8 is provided to be, for example, 100 μm or more and 2 mm or less. The recess 8 is shaped by the presence of a part of the resin member 6. In the following description, a part of the resin member 6 is referred to as a recess constituting portion 6 ′.

凹部8は、一端から他端にかけて設けられた第2溝部8’を有している。具体的には、凹部構成部6’に第2溝部8’が設けられている。第2溝部8’は、凹部構成部6’の凹部8を構成する一端から、凹部構成部6’の外周である他端まで設けられている。これにより、凹部構成部6’は、凹部8と凹部構成部6’の外が第2溝部8’により繋がっている。第2溝部8’の深さは、凹部構成部6’の途中まででもよいし、光導波路層3の上面が露出するように設定してもよい。   The recess 8 has a second groove 8 ′ provided from one end to the other end. Specifically, a second groove portion 8 'is provided in the concave portion forming portion 6'. The second groove 8 'is provided from one end constituting the recess 8 of the recess constituting part 6' to the other end which is the outer periphery of the recess constituting part 6 '. As a result, the recessed portion 6 'is connected to the outside of the recessed portion 8 and the recessed portion 6' by the second groove 8 '. The depth of the second groove portion 8 ′ may be up to the middle of the recess constituting portion 6 ′, or may be set so that the upper surface of the optical waveguide layer 3 is exposed.

このような位置決め構造は、第2溝部8’を有する凹部8のパターンに樹脂部材6を露光することにより形成することができる。露光は、光導波路層3を基板2に配置する工程のときと同様に、遮光部を有する透光板を用いて行なう。透光板は、遮光部の形状が、凹部構成部6’の平面視形状となるように設定される。これは、第2溝部8’を有する凹部8は凹部構成部6’の形状によって決定されるからである。樹脂部材6としてネガ型の材料を用いた場合には、凹部構成部6’となる部分を露光すればよい。   Such a positioning structure can be formed by exposing the resin member 6 to the pattern of the recess 8 having the second groove 8 '. The exposure is performed using a translucent plate having a light-shielding portion, as in the step of placing the optical waveguide layer 3 on the substrate 2. The translucent plate is set so that the shape of the light shielding portion is the shape of the concave portion constituting portion 6 ′ in plan view. This is because the concave portion 8 having the second groove portion 8 'is determined by the shape of the concave portion constituting portion 6'. In the case where a negative material is used as the resin member 6, it is only necessary to expose a portion that becomes the concave portion 6 ′.

露光した後、樹脂部材6を現像することにより、所定のパターンとなった凹部構成部6’を形成することができる。本実施形態では、凹部8が第2溝部8’を有していることから、樹脂部材6を現像するときに、現像液が凹部8内から第2溝部8’を通って凹部8(凹部構成部6’)外へ流れ出やすくすることができる。その結果、現像液が凹部8内に残りにくくすることができ、凹部8の形状を精度よく形成することができる。   After the exposure, the resin member 6 is developed to form the recess constituting portion 6 ′ having a predetermined pattern. In the present embodiment, since the concave portion 8 has the second groove portion 8 ′, when developing the resin member 6, the developer passes from the inside of the concave portion 8 through the second groove portion 8 ′ to the concave portion 8 (recess portion configuration). Part 6 ') can be easily flowed out. As a result, it is possible to make it difficult for the developer to remain in the recess 8, and the shape of the recess 8 can be formed with high accuracy.

また、図9に示すように、第1溝部3’が光導波路層3の一端から他端にわたって設けられており、第1溝部3’と沿うように第2溝部8’が設けられている場合には、現像液が光伝送基板1外に排出されやすくすることができる。なお、第1溝部3’と第2溝部8’は沿っていなくても、第1溝部3’と第2溝部8’が交差する交差箇所があればよい。これにより凹部8内に存在した現像液が、第2溝部8’および交差箇所を通って、第1溝部3’に流れ出るため、現像液を光伝送基板1外に排出されやすくすることができるためである。   In addition, as shown in FIG. 9, the first groove 3 ′ is provided from one end to the other end of the optical waveguide layer 3, and the second groove 8 ′ is provided along the first groove 3 ′. In this case, the developer can be easily discharged out of the optical transmission substrate 1. Note that the first groove 3 ′ and the second groove 8 ′ do not have to be along, but it is only necessary to have an intersection where the first groove 3 ′ and the second groove 8 ′ intersect. As a result, the developer present in the recess 8 flows out to the first groove 3 ′ through the second groove 8 ′ and the intersection, so that the developer can be easily discharged out of the optical transmission substrate 1. It is.

本実施形態では、第2溝部8’を第1溝部3’に沿って設けた場合を説明したが、第2溝部8’は、第1溝部3’に沿っていなくてもよい。第2溝部8’が第1溝部3’に沿っていなくても、現像液が凹部8内に残りにくくすることができるため、凹部8の形状を精度よく形成することができる。   In the present embodiment, the case where the second groove portion 8 ′ is provided along the first groove portion 3 ′ has been described, but the second groove portion 8 ′ may not be along the first groove portion 3 ′. Even if the second groove portion 8 ′ is not along the first groove portion 3 ′, it is possible to make it difficult for the developer to remain in the recess portion 8, so that the shape of the recess portion 8 can be formed with high accuracy.

(光伝送基板の製造方法の第2実施形態)
次に光伝送基板の製造方法の第2実施形態について説明する。以下、各工程に分けて説明する。第2実施形態では、位置決め構造として突起4を形成する場合について説明する
。また、光導波路層3を基板2に配置する工程までは第1実施形態と同じである。光導波路層3を基板2に配置する工程の後、樹脂部材6を光導波路層3上に成膜する工程を行なう。第1実施形態は樹脂部材6を成膜する工程の前に第1溝部3’を形成するのに対して、本実施形態では、樹脂部材6を成膜する工程の前に第1溝部3’を形成する必要はない。
(Second Embodiment of Manufacturing Method of Optical Transmission Board)
Next, a second embodiment of the method for manufacturing an optical transmission board will be described. In the following, each process will be described separately. 2nd Embodiment demonstrates the case where the processus | protrusion 4 is formed as a positioning structure. The process up to the step of arranging the optical waveguide layer 3 on the substrate 2 is the same as that of the first embodiment. After the step of disposing the optical waveguide layer 3 on the substrate 2, the step of forming the resin member 6 on the optical waveguide layer 3 is performed. In the first embodiment, the first groove 3 ′ is formed before the step of forming the resin member 6, whereas in the present embodiment, the first groove 3 ′ is formed before the step of forming the resin member 6. There is no need to form.

(凹凸を形成する工程)
樹脂部材6を配置する工程の後、樹脂部材6を、突起部(第2溝部を有していない突起4)からなるか、凹部体(第2溝部を有していない凹部)を有する凹凸構造6aに成形する。なお、以下の説明において、便宜上、突起部を突起部6aということがある。本実施形態では凹凸構造6aとして突起部6aを形成している場合について説明する。突起部6aは、上述と同様にフォトリソグラフィを用いて形成することができる。
(Process for forming irregularities)
After the step of disposing the resin member 6, the resin member 6 is formed of a protrusion (protrusion 4 that does not have the second groove), or has a concave-convex structure (a recess that does not have the second groove). 6a is formed. In the following description, the protrusion may be referred to as the protrusion 6a for convenience. In the present embodiment, a case where the protrusion 6a is formed as the concavo-convex structure 6a will be described. The protrusion 6a can be formed using photolithography in the same manner as described above.

(位置決め構造を形成する工程)
次に、突起部6aの一部を切除するとともにコア部3bを切断する位置決め構造を形成する工程について説明する。図10は、凹凸を形成する工程の後における、基板2、光導波路層3および突起部6aの平面図である。図10に示すように、突起部6aおよびコア部3bに重なる直線Li(図10中の一点鎖線)に沿って、突起部6aの一部が切除されるとともに、コア部3bが切断される。
(Process for forming positioning structure)
Next, a process of forming a positioning structure that cuts a part of the protrusion 6a and cuts the core 3b will be described. FIG. 10 is a plan view of the substrate 2, the optical waveguide layer 3, and the protrusion 6a after the step of forming the irregularities. As shown in FIG. 10, along the straight line Li (dotted line in FIG. 10) that overlaps the protrusion 6a and the core 3b, a part of the protrusion 6a is cut and the core 3b is cut.

突起部6aの一部の切除およびコア部3bの切断は、例えばダイシングブレードなどの回転刃またはワイヤーソーなどを用いることができる。本実施形態では、ダイシングブレードを用いた場合について説明する。   For example, a rotary blade such as a dicing blade or a wire saw can be used to cut off a part of the protrusion 6a and cut the core 3b. In this embodiment, a case where a dicing blade is used will be described.

ダイシングブレード7は、図11(a)に示すように、回転刃の先端が、切削方向Diに対して角度Ra傾斜している。この角度Raの傾斜が、コア部3bの傾斜面3bbの傾斜角となる。そのため角度Raは、例えば40°以上52°以下に設定されている。   As shown in FIG. 11A, the dicing blade 7 has the tip of the rotary blade inclined at an angle Ra with respect to the cutting direction Di. The inclination of this angle Ra becomes the inclination angle of the inclined surface 3bb of the core portion 3b. Therefore, the angle Ra is set to, for example, 40 ° or more and 52 ° or less.

ダイシングブレード7が回転しながら切削方向Diに移動されて、突起部6aの一部が切除された後、続けて光導波路層3を切除する。ダイシングブレード7は先端(下端)がコア部3bの下端に到達するまで切削方向Diに移動されることになる。このようにして、図11(b)に示すように、突起4の一部が切除されるとともにコア部3bが分断されることとなる。   The dicing blade 7 is moved in the cutting direction Di while rotating, and a part of the protrusion 6a is cut off, and then the optical waveguide layer 3 is cut off. The dicing blade 7 is moved in the cutting direction Di until the tip (lower end) reaches the lower end of the core portion 3b. In this way, as shown in FIG. 11B, a part of the protrusion 4 is cut off and the core portion 3b is divided.

本実施形態の光伝送基板の製造方法は、一部が切除された突起4を形成するとともに、光導波路層3のコア部3bを分断する工程を有している。そのため、突起4に第2溝部4’を形成する場合でも、工程の増加を抑制することができる。換言すると、コア部3bを分断する際に、突起4に第2溝部4’を形成することができることから、工程数を削減することができる。その結果、光伝送基板の製造において、生産性を向上させることができる。   The method for manufacturing an optical transmission board according to the present embodiment includes a step of forming a protrusion 4 with a part cut away, and a step of dividing the core portion 3 b of the optical waveguide layer 3. Therefore, even when the second groove portion 4 ′ is formed in the protrusion 4, an increase in the number of steps can be suppressed. In other words, since the second groove portion 4 ′ can be formed in the protrusion 4 when the core portion 3 b is divided, the number of steps can be reduced. As a result, productivity can be improved in the manufacture of the optical transmission board.

本発明は、以上の実施形態に限定されず、種々の態様で実施することができる。   This invention is not limited to the above embodiment, It can implement in a various aspect.

上述の実施形態においては、光伝送モジュール200を光伝送基板1に実装する際の構造
として、光伝送基板1に突起4が設けられ、スルーホール基板100に凹部110が設けられている場合について説明したがこれに限定されるものではない。すなわち、突起4および凹部110は、嵌合構造の組み合わせの一例であり、例えば、光伝送基板1に凹部8が設けら
れ、スルーホール基板100に突起が設けられていてもよい。
In the above-described embodiment, as a structure when the optical transmission module 200 is mounted on the optical transmission board 1, the case where the projection 4 is provided on the optical transmission board 1 and the recess 110 is provided on the through-hole board 100 is described. However, it is not limited to this. That is, the protrusion 4 and the recess 110 are an example of a combination of fitting structures. For example, the recess 8 may be provided on the optical transmission substrate 1 and the protrusion may be provided on the through-hole substrate 100.

1 光伝送基板
2 基板
3 光導波路層
3a 第1クラッド層
3b コア部
3ba 端面
3bb 傾斜面
3c 第2クラッド層
3’ 第1溝部
3’a 第3溝部
4 突起
4’ 第2溝部
4’a 底辺
5 配線導体
6 樹脂部材
6’ 凹部構成部
6a 突起部
7 ダイシングブレード
8 凹部
8’ 第2溝部
33 孔
100 スルーホール基板
101 スルーホール
102 制御素子
103 電気配線
104 貫通導体
105 バンプ導体
110 凹部
120 コア
121 クラッド
121a 光導波孔
150 光素子
200 光伝送モジュール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical transmission board | substrate 2 Board | substrate 3 Optical waveguide layer 3a 1st cladding layer 3b Core part 3ba End surface 3bb Inclined surface 3c 2nd cladding layer 3 '1st groove part 3'a 3rd groove part 4 Protrusion 4' 2nd groove part 4'a Bottom 5 Wiring conductor 6 Resin member 6 'Concave portion 6a Protrusion portion 7 Dicing blade 8 Concave portion 8' Second groove portion 33 Hole 100 Through hole substrate 101 Through hole 102 Control element 103 Electric wiring 104 Through conductor 105 Bump conductor 110 Concave portion 120 Core 121 Clad 121a Optical waveguide hole 150 Optical element 200 Optical transmission module

Claims (9)

基板上に平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有する光導波路層を配置する工程と、
該光導波路層上に樹脂部材を配置する工程と、
該樹脂部材を露光・現像することにより、突起からなるか、凹部を有する凹凸構造が一端から他端にかけて設けられた溝を有する位置決め構造を形成する工程とを有する光伝送基板の製造方法。
Disposing an optical waveguide layer having a core portion extending in a planar direction on the substrate and a clad layer disposed around the core portion;
Disposing a resin member on the optical waveguide layer;
And a step of forming a positioning structure having a groove formed of a protrusion or an uneven structure having a recess from one end to the other end by exposing and developing the resin member.
基板上に平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有する光導波路層を配置する工程と、
該光導波路層上に突起からなるか、凹部を有する凹凸構造を配置する工程と、
前記凹凸構造と前記コア部とに重なる直線に沿って、前記凹凸構造の一部を切除するとともに前記コア部を切断する工程とを有する光伝送基板の製造方法。
Disposing an optical waveguide layer having a core portion extending in a planar direction on the substrate and a clad layer disposed around the core portion;
A step of arranging a concavo-convex structure consisting of protrusions or having recesses on the optical waveguide layer;
A method for manufacturing an optical transmission board, comprising: cutting a part of the concavo-convex structure and cutting the core part along a straight line overlapping the concavo-convex structure and the core part.
前記凹凸構造の一部を切除するとともに前記コア部を切断する工程はブレードを用いて行なう請求項2に記載の光伝送基板の製造方法。   The method of manufacturing an optical transmission board according to claim 2, wherein the step of cutting out a part of the concavo-convex structure and cutting the core part is performed using a blade. 基板と、
該基板上に形成された、平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有し、前記コア部が延在する方向の途中で前記コア部を分断する第1溝部を有する光導波路層と、
該光導波路層上に形成された、突起からなるか、凹部を有する位置決め構造と、を有し、該位置決め構造は、前記第1溝部の分断方向に沿った第2溝部を有する光伝送基板。
A substrate,
A first portion that is formed on the substrate and has a core portion extending in a planar direction and a clad layer disposed around the core portion, and divides the core portion in the middle of the direction in which the core portion extends. An optical waveguide layer having a groove,
And a positioning structure made of a protrusion or having a recess formed on the optical waveguide layer, wherein the positioning structure has a second groove portion along a dividing direction of the first groove portion.
前記第2溝部は、平面視において、前記分断方向に沿って前記位置決め構造の一端から他端まで設けられている請求項4に記載の光伝送基板。   The optical transmission board according to claim 4, wherein the second groove portion is provided from one end to the other end of the positioning structure along the dividing direction in a plan view. 前記第1溝部は、平面視において、前記分断方向に沿って前記光導波路層の一端から他端まで設けられている請求項4または5に記載の光伝送基板。   6. The optical transmission board according to claim 4, wherein the first groove is provided from one end to the other end of the optical waveguide layer along the dividing direction in a plan view. 前記第2溝部は前記位置決め構造の下端まで設けられており、前記光導波路層は前記第2溝部と連続する前記第3溝部を有している請求項4〜6のいずれかに記載の光伝送基板。   The optical transmission according to claim 4, wherein the second groove portion is provided up to a lower end of the positioning structure, and the optical waveguide layer has the third groove portion that is continuous with the second groove portion. substrate. 前記突起は、前記コア部と重なるように配置されている請求項4〜7のいずれかに記載の光伝送基板。   The optical transmission board according to claim 4, wherein the protrusion is disposed so as to overlap the core portion. 前記位置決め構造は、前記コア部が重ならないように配置されており、
前記第2溝部の底辺は、前記コア部側が低くなるように傾斜している請求項4〜7のいずれかに記載の光伝送基板。
The positioning structure is arranged so that the core portion does not overlap,
The optical transmission board according to any one of claims 4 to 7, wherein a bottom side of the second groove part is inclined so that the core part side is lowered.
JP2013158606A 2013-02-27 2013-07-31 Optical transmission board manufacturing method and optical transmission board Active JP6140567B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158606A JP6140567B2 (en) 2013-02-27 2013-07-31 Optical transmission board manufacturing method and optical transmission board

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013036953 2013-02-27
JP2013036953 2013-02-27
JP2013158606A JP6140567B2 (en) 2013-02-27 2013-07-31 Optical transmission board manufacturing method and optical transmission board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014194516A true JP2014194516A (en) 2014-10-09
JP6140567B2 JP6140567B2 (en) 2017-05-31

Family

ID=51839794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013158606A Active JP6140567B2 (en) 2013-02-27 2013-07-31 Optical transmission board manufacturing method and optical transmission board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6140567B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015094845A (en) * 2013-11-12 2015-05-18 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, optoelectronic hybrid substrate and electronic apparatus

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172989A (en) * 2003-12-09 2005-06-30 Fujikura Ltd Optical connector and its manufacturing method
JP2009180861A (en) * 2008-01-30 2009-08-13 Kyocera Corp Optical transmission substrate, method of manufacturing the same, composite optical transmission substrate, and optical module
JP2009265359A (en) * 2008-04-25 2009-11-12 Kyocera Corp Optical transmission base, composite optical transmission base and optical module

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172989A (en) * 2003-12-09 2005-06-30 Fujikura Ltd Optical connector and its manufacturing method
JP2009180861A (en) * 2008-01-30 2009-08-13 Kyocera Corp Optical transmission substrate, method of manufacturing the same, composite optical transmission substrate, and optical module
JP2009265359A (en) * 2008-04-25 2009-11-12 Kyocera Corp Optical transmission base, composite optical transmission base and optical module

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015094845A (en) * 2013-11-12 2015-05-18 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide, optoelectronic hybrid substrate and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP6140567B2 (en) 2017-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4457545B2 (en) OPTICAL / ELECTRIC WIRING BOARD, MOUNTING BOARD, AND OPTOELECTRIC WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD
US9201203B2 (en) Photoelectric composite substrate and method of manufacturing the same
JP2007148087A (en) Optoelectrical integrated wiring board and optoelectrical integrated wiring system
JP6730801B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP5014855B2 (en) Opto-electric integrated wiring board, manufacturing method thereof, and opto-electric integrated wiring system
JP5395734B2 (en) Method for manufacturing photoelectric composite substrate
JP4969711B2 (en) OPTICAL TRANSMITTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND OPTICAL TRANSMISSION MODULE
JP2012118424A (en) Optical waveguide, method for manufacturing the same and optical waveguide device
JP5058006B2 (en) Manufacturing method of optical transmission board
US9244222B2 (en) Optical waveguide device
JP2006330697A (en) Optical coupling structure, substrate with built-in optical transmission function, and method for manufacturing such substrate
JP6140567B2 (en) Optical transmission board manufacturing method and optical transmission board
JP2008107781A (en) Optical transmission substrate, method for manufacturing the same, opto-electronic consolidated panel, and optical module
JP4767228B2 (en) OPTICAL TRANSMISSION SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, OPTICAL TRANSMISSION DEVICE, COMPOSITE OPTICAL TRANSMISSION BOARD
JP5225490B2 (en) Optical transmission board and manufacturing method thereof, composite optical transmission board and optical module
JP2008158388A (en) Opto-electrical circuit board, optical module, and opto-electrical circuit system
JP2003050328A (en) Optic/electric wiring board, method for manufacturing the board and package board
JP2015200785A (en) Optical waveguide device and method for manufacturing the same
JP2008134492A (en) Optical transmission system and optical module equipped with same
JP5409441B2 (en) Optical transmission board and optical module
JP6838528B2 (en) Substrate manufacturing method and light emitting device manufacturing method
JP2021018409A (en) Optical waveguide, optical waveguide device and method for manufacturing optical waveguide
JP5300700B2 (en) Optical wiring board
JP4698728B2 (en) Opto-electric integrated wiring board and opto-electric integrated wiring system
JP2015060134A (en) Manufacturing method of optical waveguide, optical waveguide, and reflection surface forming method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160219

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161020

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161206

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170501

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6140567

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150