JP2014191844A - Substrate for suspension, suspension, suspension having element, and hard disk drive - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for suspension capable of reducing differential impedance while suppressing increase of a wiring area and maintaining a wide bandwidth of a high frequency signal, and in addition, suppressing transmission loss.SOLUTION: In a substrate for suspension, wiring ais electrically connected to wiring cby a via part V, wiring ais electrically connected to wiring cby a via part V, the wiring cand the wiring care electrically connected by jumper wiring J, and wiring bis electrically connected to wiring dby a via part Vformed on an opposite side to a connection terminal Tin planar view, with jumper wiring Jas a border.

Description

本発明は、主に、ハードディスクドライブ(HDD)に用いられ、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込み、および、読み取りを行う記録再生用素子(例えば磁気ヘッドスライダ)が実装されるサスペンション用基板に関するものである。   The present invention is mainly used in a hard disk drive (HDD), and is used for a suspension in which a recording / reproducing element (for example, a magnetic head slider) for writing and reading data on a disk on which data is stored is mounted. It relates to a substrate.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込み、および読み取りを行う記録再生用素子(例えば磁気ヘッドスライダ)が実装されるサスペンション用基板を備えている。
このサスペンション用基板は、一般に、バネ性を有する金属支持基板と、金属支持基板の上に形成された絶縁層と、絶縁層の上に形成された配線と、を有している。
Generally, a hard disk drive (HDD) includes a suspension substrate on which a recording / reproducing element (for example, a magnetic head slider) for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted.
The suspension substrate generally includes a metal support substrate having spring properties, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring formed on the insulating layer.

ここで、上記の各配線の幾つか(例えば、書込配線や読込配線)においては、差動伝送により電気信号の伝送が行われ、一対の配線間には、分布定数回路としての差動伝送路の特性インピーダンスである差動インピーダンスが存在する。この差動インピーダンスは、記録再生用素子(例えば磁気ヘッドスライダ)やプリアンプの低インピーダンス化に伴い、インピーダンスマッチングの観点から、低インピーダンス化することが要求されている。   Here, in some of the above-mentioned wirings (for example, write wiring and read wiring), electrical signals are transmitted by differential transmission, and differential transmission as a distributed constant circuit is performed between a pair of wirings. There is a differential impedance that is the characteristic impedance of the road. This differential impedance is required to be reduced from the viewpoint of impedance matching as the recording / reproducing element (for example, magnetic head slider) and preamplifier are reduced in impedance.

この差動インピーダンスを低減することが可能な配線構造として、第1の電気信号を伝送する配線と、第1の電気信号とは逆位相となる第2の電気信号を伝送する配線とからなる一対の差動配線を、2以上の配線に分岐させ、第1の電気信号を伝送する配線と、第1の電気信号とは逆位相となる第2の電気信号を伝送する配線とを、それぞれ平面的に交互配列させた配線構造(インターリーブ配線構造)が提案されている(例えば、特許文献1)。   As a wiring structure capable of reducing this differential impedance, a pair of wiring composed of a wiring for transmitting a first electrical signal and a wiring for transmitting a second electrical signal having a phase opposite to that of the first electrical signal. The differential wiring is branched into two or more wirings, and the wiring for transmitting the first electrical signal and the wiring for transmitting the second electrical signal having the opposite phase to the first electrical signal are respectively planar. A wiring structure (interleaved wiring structure) that is alternately arranged has been proposed (for example, Patent Document 1).

上述のようなインターリーブ配線構造をサスペンション用基板に形成する方法として、例えば、図21(a)に示すように、金属支持基板111Aの上に形成された第1の絶縁層112の上に、互いに電気的に接続された複数の第1信号配線(例えば113a、113c)と、第1信号配線とは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の第2信号配線(例えば113b、113d)と、を平面的に交互配列し、これらの配線(113a、113b、113c、113d)の上に第2の絶縁層114を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献2)。なお、第1信号配線と第2信号配線は一対の差動配線を構成し、第1信号配線に伝送される電気信号(第1の電気信号)と第2信号配線に伝送される電気信号(第2の電気信号)とは互いに逆位相の関係になる。   As a method of forming the interleaved wiring structure as described above on the suspension substrate, for example, as shown in FIG. 21A, the first insulating layer 112 formed on the metal supporting substrate 111A is mutually bonded. The plurality of first signal wirings (eg, 113a and 113c) that are electrically connected and the first signal wiring are electrically independent, and the plurality of second signal wirings (eg, 113b and 113d) that are electrically connected to each other. ), And the second insulating layer 114 is formed on these wirings (113a, 113b, 113c, 113d) (for example, Patent Document 2). The first signal wiring and the second signal wiring constitute a pair of differential wirings, and an electric signal (first electric signal) transmitted to the first signal wiring and an electric signal (first electric signal) transmitted to the second signal wiring ( The second electrical signal) has a phase relationship opposite to each other.

ただし、図21(a)に示す構成では、配線113a、113b、113c、113dと、その下の金属支持基板111Aとが、誘導もしくは容量性結合を形成してしまうため、配線113a、113b、113c、113dに電気信号(特に高周波信号)が伝送されると、導電性の低い金属支持基板111Aにも電流が発生して、伝送ロスが大きくなるという問題がある。そのため、図21(b)に示すように、平面視において配線113a、113b、113c、113dと重なる部分の金属支持基板を除去して開口部117を設け、上記の誘導もしくは容量性結合を低減させる方法も提案されている(例えば、特許文献3)。   However, in the configuration shown in FIG. 21A, the wirings 113a, 113b, 113c, and 113d and the underlying metal support substrate 111A form inductive or capacitive coupling, and thus the wirings 113a, 113b, and 113c are formed. , 113d, an electric signal (especially a high-frequency signal) is transmitted to the metal support substrate 111A with low conductivity, and a transmission loss increases. Therefore, as shown in FIG. 21 (b), the metal support substrate in the portion overlapping with the wirings 113a, 113b, 113c, and 113d in a plan view is removed to provide an opening 117 to reduce the inductive or capacitive coupling. A method has also been proposed (for example, Patent Document 3).

図22は、図21(a)または(b)に示すサスペンション用基板のインターリーブ配線の回路構成を示す説明図である。
図22に示すように、インターリーブ配線構造130は、接続端子131aと接続端子131cとを電気的に接続する第1信号配線、および、接続端子131bと接続端子131dとを電気的に接続する第2信号配線で構成される一対の差動配線からなり、第1信号配線は、分岐点132aで配線113aと配線113cとに分岐し、同様に、第2信号配線は、分岐点132bで配線113bと配線113dとに分岐し、分岐した各配線は互いに逆位相の電気信号が伝送される配線が隣になるように、図面の左端から113a、113b、113c、113dの順で並列配設されている。
そして、同位相の電気信号が伝送される配線113a、113cは、それぞれ、第2の絶縁層114に設けたビア部133a、133bを経由して接続線134aで電気的に接続されており、同様に、配線113b、113dは、ビア部133c、133dを経由して接続線134bで電気的に接続されている。
FIG. 22 is an explanatory diagram showing a circuit configuration of the interleave wiring of the suspension board shown in FIG. 21 (a) or (b).
As shown in FIG. 22, the interleaved wiring structure 130 includes a first signal wiring that electrically connects the connection terminal 131a and the connection terminal 131c, and a second signal that electrically connects the connection terminal 131b and the connection terminal 131d. The first signal wiring is branched into a wiring 113a and a wiring 113c at a branch point 132a, and similarly, the second signal wiring is connected to a wiring 113b at a branch point 132b. Branching to the wiring 113d, the branched wirings are arranged in parallel in the order of 113a, 113b, 113c, 113d from the left end of the drawing so that the wiring for transmitting electrical signals having opposite phases to each other is adjacent. .
The wirings 113a and 113c through which electrical signals having the same phase are transmitted are electrically connected by connection lines 134a via via portions 133a and 133b provided in the second insulating layer 114, respectively. In addition, the wirings 113b and 113d are electrically connected by the connection line 134b via the via portions 133c and 133d.

特開平10−124837号公報JP-A-10-124837 特開2010−114366号公報JP 2010-114366 A 特開2011−76645号公報JP 2011-76645 A

上述のような構成を有するサスペンション用基板において、さらなる低インピーダンス化に対応するためには、例えば、インターリーブ配線構造を構成する配線の本数を増やす方法や、インターリーブ配線構造を構成する配線の厚みを大きくする方法が挙げられる。
しかしながら、平面的に配線本数を増やす方法では、配線群が占める領域が大きくなることから好ましくない。例えば、配線群が占める領域が大きくなると、上述の伝送ロスを抑制するために配線群の下に設ける金属支持基板の開口部も大きくなることから、物理的強度の点でも問題が生じる。
一方、配線の厚みを大きくする方法では、配線間のスペース幅に対して配線の厚みが大きくなり、アスペクト比の高い加工が必要になることから、製造上困難性が増すという問題がある。
In order to cope with further reduction in impedance in the suspension substrate having the above-described configuration, for example, a method of increasing the number of wirings constituting the interleaved wiring structure or a thickness of the wiring constituting the interleaved wiring structure is increased. The method of doing is mentioned.
However, the method of increasing the number of wirings in a plane is not preferable because the area occupied by the wiring group becomes large. For example, if the area occupied by the wiring group becomes large, the opening of the metal support substrate provided under the wiring group in order to suppress the above-described transmission loss also becomes large, which causes a problem in terms of physical strength.
On the other hand, the method of increasing the thickness of the wiring has a problem that manufacturing difficulty increases because the thickness of the wiring increases with respect to the space width between the wirings and processing with a high aspect ratio is required.

ここで、上記のインターリーブ配線構造においては、例えば図21(a)または(b)に示す例のように、互いに逆位相となる配線の側面を対向させることで、配線間の容量性結合を形成している。それゆえ、低インピーダンス化には、例えば、上記のように配線の厚みを大きくすること、すなわち、配線の対向する面の面積を大きくすることが効果的になる。
そこで、例えば図23に示すように、第2の絶縁層214を介して互いに逆位相となる配線213aと配線213bを積層し、各配線の上下面(上層の配線の底面と下層の配線の上面)を対向させて容量性結合を形成し、差動インピーダンスを低減する方法も考えられる。
Here, in the interleaved wiring structure described above, for example, as shown in FIG. 21A or FIG. 21B, the capacitive coupling between the wirings is formed by making the side surfaces of the wirings in opposite phases face each other. doing. Therefore, for reducing the impedance, for example, it is effective to increase the thickness of the wiring as described above, that is, to increase the area of the facing surface of the wiring.
Therefore, for example, as shown in FIG. 23, wirings 213a and 213b having opposite phases to each other are stacked via the second insulating layer 214, and upper and lower surfaces of each wiring (the bottom surface of the upper wiring and the upper surface of the lower wiring). ) To form a capacitive coupling to reduce the differential impedance.

このような方法であれば、配線の側面で容量性結合を形成する場合よりも、対向する面の面積を大きくすること(すなわち、配線幅を大きくすること)も、対向する面の距離を小さくすること(すなわち、配線間の絶縁層の厚みを小さくすること)も、技術的に容易である。
しかしながら、上記のように互いに逆位相となる電気信号が伝送される配線を、絶縁層を介して積層した構成では、サスペンション用基板の全体の厚みを小さくするために配線間の絶縁層を薄膜にすると、上下の逆位相の配線の相互作用により高周波特性が劣化してしまうという問題(より詳しくは、伝送特性の帯域幅が狭くなってしまうという問題)が生じることが判明した。
With such a method, it is possible to increase the area of the facing surface (that is, to increase the wiring width) or to reduce the distance between the facing surfaces, compared to the case where capacitive coupling is formed on the side surface of the wiring. It is technically easy to do (that is, to reduce the thickness of the insulating layer between the wirings).
However, in the configuration in which wirings for transmitting electrical signals having opposite phases to each other as described above are laminated via an insulating layer, the insulating layer between the wirings is formed as a thin film in order to reduce the overall thickness of the suspension substrate. Then, it has been found that there is a problem that high-frequency characteristics deteriorate due to the interaction between upper and lower anti-phase wirings (more specifically, a problem that the bandwidth of transmission characteristics becomes narrower).

本発明者は、これまでの研究で、サスペンション用基板の構成を、金属支持基板の上に形成した第1の絶縁層の上に、インターリーブ配線構造を構成する第1の配線群を形成し、第1の配線群の上にインターリーブ配線構造を構成する第2の配線群を第2の絶縁層を介して積層し、第1の配線群の各配線の上には、同位相の電気信号が伝送される第2の配線群の各配線を配した構成にすることで、上記問題を解決できることを見出した。   The present inventor has formed the first wiring group constituting the interleaved wiring structure on the first insulating layer formed on the metal support substrate in the research so far, A second wiring group constituting an interleaved wiring structure is stacked on the first wiring group via a second insulating layer, and an electric signal of the same phase is placed on each wiring of the first wiring group. It has been found that the above problem can be solved by arranging each wiring of the second wiring group to be transmitted.

一方、この構成を採用する場合、新たな問題が生じた。ここで、インターリーブ配線構造を構成する各配線は、互いに電気的に接続されている必要がある。そのため、第1の配線群において、インターリーブ配線構造を構成する各配線は、互いに電気的に接続されている必要があり、第2の配線群においても、インターリーブ配線構造を構成する各配線は、互いに電気的に接続されている必要がある。さらに、第1の配線群の各配線の上に、同位相の電気信号が伝送される第2の配線群の各配線を配するため、第1の配線群および第2の配線群において、同位相の電気信号が伝送される配線同士も、電気的に接続されている必要がある。このように、上記構成を採用する場合、配線の接続方法が一気に高度化するという問題がある。   On the other hand, when this configuration is adopted, a new problem arises. Here, each wiring which comprises an interleave wiring structure needs to be electrically connected mutually. Therefore, in the first wiring group, the wirings constituting the interleaved wiring structure need to be electrically connected to each other, and in the second wiring group, the wirings constituting the interleaved wiring structure are mutually connected. Must be electrically connected. Furthermore, since each wiring of the second wiring group that transmits the same phase electric signal is arranged on each wiring of the first wiring group, the same wiring is used in the first wiring group and the second wiring group. Wirings through which phase electrical signals are transmitted must also be electrically connected. Thus, when adopting the above-described configuration, there is a problem that the wiring connection method is rapidly advanced.

ここで、インターリーブ配線構造を構成する各配線を、互いに電気的に接続するために、金属支持基板の一部をジャンパー配線として用いることが考えられる。具体的には、図24に示すように、インターリーブ配線構造を構成する配線113bおよび配線113dを、金属支持基板のジャンパー配線111aと、第1の絶縁層112を貫通するビア部5とを用いて、電気的に接続する方法が考えられる。しかしながら、金属支持基板は、通常、配線に比べて導電性が低いため、伝送ロスが大きくなるという問題がある。   Here, in order to electrically connect each wiring which comprises an interleave wiring structure, it is possible to use a part of metal supporting board as a jumper wiring. Specifically, as shown in FIG. 24, the wiring 113b and the wiring 113d constituting the interleaved wiring structure are formed using the jumper wiring 111a of the metal supporting board and the via portion 5 penetrating the first insulating layer 112. An electrical connection method can be considered. However, the metal support substrate usually has a problem that the transmission loss is large because the conductivity is lower than that of the wiring.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができ、さらに伝送ロスを抑制できるサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and can suppress the increase of the wiring area, reduce the differential impedance while maintaining a wide bandwidth of the high-frequency signal, and further transmit the signal. The main object is to provide a suspension substrate capable of suppressing loss.

上記課題を解決するために、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、上記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、上記第1の配線群および上記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、上記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、上記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、上記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、上記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、上記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、上記信号配線Aと上記信号配線Cとが上記第2の絶縁層を介して対向し、上記信号配線Bと上記信号配線Dとが上記第2の絶縁層を介して対向するように、上記第1の配線群および上記第2の配線群が配置され、上記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、上記配線aは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、上記配線cと電気的に接続され、上記配線aは、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、上記配線cと電気的に接続され、上記配線cおよび上記配線cは、上記信号配線Cに属するジャンパー配線JC12により電気的に接続され、上記配線bは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、上記ジャンパー配線Jc12を境として、平面視において上記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、上記配線dと電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。 In order to solve the above problems, in the present invention, a metal support substrate, a first insulating layer formed on the metal support substrate, and a first insulating layer formed on the first insulating layer. A wiring group; a second insulating layer formed on the first wiring group and the first insulating layer; and a second wiring group formed on the second insulating layer. The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings electrically connected to each other, and the signal wiring A is electrically independent and electrically connected to each other. Signal wiring B having a plurality of wirings arranged alternately in a plane, and the second wiring group includes a signal wiring C having a plurality of wirings electrically connected to each other and the signal wiring B A signal distribution having a plurality of wirings electrically independent from the wiring C and electrically connected to each other. D and the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are the first wiring. The first wiring group and the second wiring group are arranged so as to face each other via two insulating layers, and the signal wirings A to D are respectively connected to the wirings a 1 to d 1 and the wirings a 2 to d 2 , and the wiring a 1 is electrically connected to the connection terminal T α1, and is further formed by a via portion V ac11 formed on the wiring a 1 and penetrating the second insulating layer. The wiring a 1 is electrically connected to the wiring c 1, and the wiring a 2 is electrically connected to the wiring c 2 by the via portion V ac21 formed on the wiring a 2 and penetrating the second insulating layer. are connected, the wiring c 1 and the wiring c 2 are belong to the signal line C Electrically connected by jumper wires J C12 that, the wiring b 1, a connection terminal T .beta.1 and is electrically connected, further, are formed on the wiring b 1, as a boundary the jumper wiring J c12, plane The suspension is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 and is electrically connected to the wiring d 1 by a via portion V bd11 that penetrates the second insulating layer. A substrate is provided.

本発明によれば、配線およびビア部を特定の位置に配置することにより、金属支持基板のジャンパー配線を用いることなく、所望の配線構造とすることができる。これにより、伝送ロスを抑制したサスペンション用基板とすることができる。また、本発明によれば、信号配線Aと信号配線Cとが第2の絶縁層を介して対向し、信号配線Bと信号配線Dとが第2の絶縁層を介して対向するように、第1の配線群および第2の配線群を配置することにより、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the present invention, by arranging the wiring and the via portion at a specific position, a desired wiring structure can be obtained without using the jumper wiring of the metal supporting board. Thereby, it can be set as the board | substrate for suspensions which suppressed the transmission loss. Further, according to the present invention, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. By disposing the first wiring group and the second wiring group, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area.

上記発明において、上記配線bは、接続端子Tβ2と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、上記配線dと電気的に接続され、上記配線bは、上記配線b上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、上記配線dと電気的に接続され、上記配線dおよび上記配線dは、上記信号配線Dに属するジャンパー配線Jd12により電気的に接続され、上記配線aは、接続端子Tα2と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、上記ジャンパー配線Jd12を境として、平面視において上記接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、上記配線cと電気的に接続されていることが好ましい。 In the above invention, the wiring b 2 is electrically connected to the connection terminal T β2, and is further formed on the wiring b 2 and through the second insulating layer by the via portion V bd22 . wire d 2 and is electrically connected to the wiring b 1 is formed on the wiring b 1, and by the via V BD12 penetrating the second insulating layer, the wiring d 1 and electrically The wiring d 1 and the wiring d 2 are electrically connected by a jumper wiring J d12 belonging to the signal wiring D, the wiring a 2 is electrically connected to the connection terminal T α2, and A via portion V ac22 formed on the wiring a 2 and formed on the side opposite to the connection terminal T α2 in plan view with the jumper wiring J d12 as a boundary, and penetrates the second insulating layer. ,Up It is preferable that the wiring c 2 and are electrically connected.

また、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、上記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、上記第1の配線群および上記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、上記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、上記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、上記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、上記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、上記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、上記信号配線Aと上記信号配線Cとが上記第2の絶縁層を介して対向し、上記信号配線Bと上記信号配線Dとが上記第2の絶縁層を介して対向するように、上記第1の配線群および上記第2の配線群が配置され、上記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、上記配線cは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、上記配線aと電気的に接続され、上記配線cは、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、上記配線aと電気的に接続され、上記配線aおよび上記配線aは、上記信号配線Aに属するジャンパー配線Ja12により電気的に接続され、上記配線dは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、上記ジャンパー配線Ja12を境として、平面視において上記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、上記配線bと電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。 In the present invention, a metal support substrate, a first insulating layer formed on the metal support substrate, a first wiring group formed on the first insulating layer, and the first A suspension substrate having one wiring group and a second insulating layer formed on the first insulating layer, and a second wiring group formed on the second insulating layer. The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings electrically connected to each other and a plurality of wirings electrically connected to each other and electrically connected to the signal wiring A. The second wiring group includes signal wirings C having a plurality of wirings electrically connected to each other, and the signal wirings C are electrically connected to each other. And signal wiring D having a plurality of wirings electrically connected to each other in a plane. The signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. As described above, the first wiring group and the second wiring group are arranged, and the signal wirings A to D have wirings a 1 to d 1 and wirings a 2 to d 2 , respectively. c 1, a connection terminal T [alpha] 1 and is electrically connected, further, are formed on the wiring a 1, and by the via V AC11 penetrating the second insulating layer, the wiring a 1 electrically is connected to, the wiring c 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, is the wiring a 2 and electrically connected, the wiring a 1 and the wiring a 2 are jumper wirings J belonging to the signal wiring A a12 by being electrically connected, the wiring d 1, a connection terminal T .beta.1 and is electrically connected, further, are formed on the wiring b 1, as a boundary the jumper wiring J a12, the connection in a plan view Provided is a suspension substrate characterized in that it is formed on the side opposite to the terminal T β1 and is electrically connected to the wiring b 1 by a via portion V bd11 penetrating the second insulating layer. To do.

本発明によれば、配線およびビア部を特定の位置に配置することにより、金属支持基板のジャンパー配線を用いることなく、所望の配線構造とすることができる。これにより、伝送ロスを抑制したサスペンション用基板とすることができる。また、本発明によれば、信号配線Aと信号配線Cとが第2の絶縁層を介して対向し、信号配線Bと信号配線Dとが第2の絶縁層を介して対向するように、第1の配線群および第2の配線群を配置することにより、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the present invention, by arranging the wiring and the via portion at a specific position, a desired wiring structure can be obtained without using the jumper wiring of the metal supporting board. Thereby, it can be set as the board | substrate for suspensions which suppressed the transmission loss. Further, according to the present invention, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. By disposing the first wiring group and the second wiring group, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area.

上記発明において、上記配線dは、接続端子Tβ2と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、上記配線bと電気的に接続され、上記配線dは、上記配線b上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、上記配線bと電気的に接続され、上記配線bおよび上記配線bは、上記信号配線Bに属するジャンパー配線Jb12により電気的に接続され、上記配線cは、接続端子Tα2と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、上記ジャンパー配線Jb12を境として、平面視において上記接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、上記配線aと電気的に接続されていることが好ましい。 In the above invention, the wiring d 2 is electrically connected to the connection terminal T β2, and is further formed on the wiring b 2 and through the second insulating layer by the via portion V bd22 . wire b 2 and is electrically connected to the wiring d 1 is formed on the wiring b 1, and by the via V BD12 penetrating the second insulating layer, the wiring b 1 and electrically The wiring b 1 and the wiring b 2 are electrically connected by a jumper wiring J b12 belonging to the signal wiring B, the wiring c 2 is electrically connected to a connection terminal T α2, and is formed on the wiring a 2, a boundary the jumper wiring J b12, and the connection terminals T [alpha] 2 in a plan view are formed on the opposite side, and by the via V AC 22 penetrating the second insulating layer ,Up It is preferable that the wiring a 2 and are electrically connected.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension comprising the above-described suspension substrate and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、伝送ロスを抑制したサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, a suspension in which transmission loss is suppressed can be obtained.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された記録再生用素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   The present invention also provides an element-equipped suspension comprising the above-described suspension and a recording / reproducing element disposed on the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、伝送ロスを抑制した素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element in which transmission loss is suppressed.

また、本発明においては、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive having the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、伝送ロスを抑制したハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with reduced transmission loss can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明のサスペンション用基板は、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができ、さらに伝送ロスを抑制できるという効果を奏する。   The suspension substrate of the present invention has the effect that the differential impedance can be reduced and the transmission loss can be further suppressed while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing the increase of the wiring area. Play.

第一実施態様のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of a 1st embodiment. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 第1の配線群および第2の配線群の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of a 1st wiring group and a 2nd wiring group. 第一実施態様における配線およびビア部の配置の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 1st embodiment. 第一実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 1st embodiment. 第一実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 1st embodiment. 第一実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 1st embodiment. 第一実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 1st embodiment. 第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of a 1st embodiment. 第二実施態様における配線およびビア部の配置の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 2nd embodiment. 第二実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 2nd embodiment. 第二実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 2nd embodiment. 第二実施態様における配線およびビア部の配置の他の例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other example of arrangement | positioning of the wiring and via | veer part in a 2nd embodiment. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention. 実施例1におけるサスペンション用基板を説明する概略断面図である。3 is a schematic cross-sectional view illustrating a suspension substrate in Example 1. FIG. 比較例1におけるサスペンション用基板を説明する概略断面図である。6 is a schematic cross-sectional view illustrating a suspension substrate in Comparative Example 1. FIG. 実施例2におけるサスペンション用基板を説明する概略断面図である。5 is a schematic cross-sectional view illustrating a suspension substrate in Example 2. FIG. 比較例2におけるサスペンション用基板を説明する概略断面図である。10 is a schematic cross-sectional view illustrating a suspension substrate in Comparative Example 2. FIG. 従来のサスペンション用基板の構成例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the structural example of the conventional board | substrate for suspensions. 図21に示すサスペンション用基板のインターリーブ配線の回路構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the circuit structure of the interleave wiring of the board | substrate for suspensions shown in FIG. 一対の差動配線を積層した構成例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the structural example which laminated | stacked a pair of differential wiring. 金属支持基板のジャンパー配線を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the jumper wiring of a metal support substrate.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、素子付サスペンションおよびハードディスクドライブについて詳細に説明する。   The suspension substrate, suspension, suspension with element, and hard disk drive of the present invention will be described in detail below.

A.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、2つの実施態様に大別することができる。以下、本発明のサスペンション用基板について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
A. Suspension substrate The suspension substrate of the present invention can be roughly divided into two embodiments. Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described separately for the first embodiment and the second embodiment.

1.第一実施態様
第一実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、上記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、上記第1の配線群および上記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、上記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、上記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、上記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、上記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、上記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、上記信号配線Aと上記信号配線Cとが上記第2の絶縁層を介して対向し、上記信号配線Bと上記信号配線Dとが上記第2の絶縁層を介して対向するように、上記第1の配線群および上記第2の配線群が配置され、上記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、上記配線aは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、上記配線cと電気的に接続され、上記配線aは、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、上記配線cと電気的に接続され、上記配線cおよび上記配線cは、上記信号配線Cに属するジャンパー配線JC12により電気的に接続され、上記配線bは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、上記ジャンパー配線Jc12を境として、平面視において上記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、上記配線dと電気的に接続されていることを特徴とするものである。
1. First Embodiment A suspension substrate according to a first embodiment includes a metal supporting substrate, a first insulating layer formed on the metal supporting substrate, and a first insulating layer formed on the first insulating layer. A wiring group, a second wiring layer formed on the first wiring group and the first insulating layer, a second wiring group formed on the second insulating layer, The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings electrically connected to each other, and the signal wiring A is electrically independent and electrically connected to each other. The signal wirings B having a plurality of connected wirings are alternately arranged in a plane, and the second wiring group includes the signal wirings C having a plurality of wirings electrically connected to each other, The signal wiring C is electrically independent and has a plurality of wirings electrically connected to each other. The signal wirings D are alternately arranged in a plane, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are The first wiring group and the second wiring group are arranged so as to face each other through the second insulating layer, and the signal wirings A to D are respectively connected to the wirings a 1 to d 1 and the wiring a. 2 to d 2 , and the wiring a 1 is electrically connected to the connection terminal T α1, and is further formed on the wiring a 1 and further penetrates the second insulating layer. the AC11, the wiring c 1 and is electrically connected to the wiring a 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, the wiring c 2 The wiring c 1 and the wiring c 2 are electrically connected to the signal wiring. Electrically connected by a jumper wiring J C12 belonging to C, and the wiring b 1 is electrically connected to a connection terminal T β1 and further formed on the wiring b 1 with the jumper wiring J c12 as a boundary. In the plan view, it is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 and is electrically connected to the wiring d 1 by a via portion V bd11 penetrating the second insulating layer. To do.

図1は、第一実施態様のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。図1に示すように、第一実施態様のサスペンション用基板100は、ヘッド側端部に、記録再生用素子(例えば磁気ヘッドスライダ)を実装するための記録再生用素子実装領域101を有し、テール側端部に、外部の読取回路または書込回路と接続するための外部回路基板接続領域102を有する。また、第一実施態様のサスペンション用基板100は、記録再生用素子実装領域101および外部回路基板接続領域102の間に、書込配線を含む配線群103aと、読取配線を含む配線群103bとを有する。   FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the suspension substrate 100 of the first embodiment has a recording / reproducing element mounting region 101 for mounting a recording / reproducing element (for example, a magnetic head slider) at the head side end. An external circuit board connection region 102 for connecting to an external reading circuit or writing circuit is provided at the tail side end. Also, the suspension substrate 100 of the first embodiment includes a wiring group 103a including a write wiring and a wiring group 103b including a read wiring between the recording / reproducing element mounting region 101 and the external circuit board connection region 102. Have.

図2は、図1のA−A断面図である。図2に示すように、サスペンション用基板100は、金属支持基板1と、金属支持基板1の上に形成された第1の絶縁層2xと、第1の絶縁層2xの上に形成された第1の配線群3xと、第1の配線群3xおよび第1の絶縁層2xの上に形成された第2の絶縁層2yと、第2の絶縁層2yの上に形成された第2の配線群3yと、第2の配線群3yを覆うように形成されたカバー層4と、を有する。   FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. As shown in FIG. 2, the suspension substrate 100 includes a metal supporting substrate 1, a first insulating layer 2x formed on the metal supporting substrate 1, and a first insulating layer 2x formed on the first insulating layer 2x. A first wiring group 3x, a second wiring layer 2y formed on the first wiring group 3x and the first insulating layer 2x, and a second wiring formed on the second insulating layer 2y. A group 3y and a cover layer 4 formed to cover the second wiring group 3y.

図3は、第1の配線群および第2の配線群の一例を示す概略斜視図である。図3に示すように、第1の配線群3xは、互いに電気的に接続された複数の配線a、aを有する信号配線Aと、信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線b、bを有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有している。同様に、第2の配線群3yは、互いに電気的に接続された複数の配線c、cを有する信号配線Cと、信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線d、dを有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有する。さらに、信号配線Aおよび信号配線Cは、第2の絶縁層(図示せず)を介して対向し、信号配線Bおよび信号配線Dも第2の絶縁層(図示せず)を介して対向するように、第1の配線群3xおよび第2の配線群3yが配置される。 FIG. 3 is a schematic perspective view showing an example of the first wiring group and the second wiring group. As shown in FIG. 3, the first wiring group 3x includes a signal wiring A having a plurality of wirings a 1 and a 2 that are electrically connected to each other, and the signal wiring A is electrically independent and electrically connected to each other. Signal wiring B having a plurality of interconnected wirings b 1 and b 2 are arranged alternately in a plane. Similarly, in the second wiring group 3y, the signal wiring C having a plurality of wirings c 1 and c 2 electrically connected to each other and the signal wiring C are electrically independent and electrically connected to each other. The signal wirings D having a plurality of wirings d 1 and d 2 are alternately arranged in a plane. Further, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other via a second insulating layer (not shown), and the signal wiring B and the signal wiring D are also opposed to each other via a second insulating layer (not shown). As described above, the first wiring group 3x and the second wiring group 3y are arranged.

なお、図3では、第1の配線群および第2の配線群の位置関係を説明するために、便宜上、理想的な配置を示しているが、実際には、第1の配線群および第2の配線群が、平面的に完全に一致することはない。金属支持基板のジャンパー配線による伝送ロスを抑制するためには、配線およびビア部の位置を工夫する必要がある。   In FIG. 3, an ideal arrangement is shown for convenience in order to describe the positional relationship between the first wiring group and the second wiring group, but actually, the first wiring group and the second wiring group are shown. These wiring groups do not completely match in plan. In order to suppress transmission loss due to jumper wiring on the metal support substrate, it is necessary to devise the positions of the wiring and via portions.

図4は、第一実施態様における配線およびビア部の配置の一例を示す概略斜視図である。なお、図4において太線で示される配線は、第2の配線群の配線を示し、細線で示される配線は、第1の配線群の配線を示す(他の概略斜視図においても同様である)。図4において、信号配線Aは配線aおよび配線aを有し、信号配線Bは配線bおよび配線bを有し、信号配線Cは配線cおよび配線cを有し、信号配線Dは配線dおよび配線dを有する。配線aは、接続端子Tα1と電気的に接続されている。さらに、配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、配線cと電気的に接続されている。配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、配線cと電気的に接続されている。配線cおよび配線cは、信号配線Cに属するジャンパー配線JC12により電気的に接続されている。配線bは、接続端子Tβ1と電気的に接続されている。さらに、配線bは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Jc12を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側(サスペンション用基板の中央側)に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、配線dと電気的に接続されている。配線bは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd21により、配線dと電気的に接続されている。 FIG. 4 is a schematic perspective view showing an example of the arrangement of wirings and via portions in the first embodiment. In FIG. 4, the wiring indicated by the bold line indicates the wiring of the second wiring group, and the wiring indicated by the thin line indicates the wiring of the first wiring group (the same applies to other schematic perspective views). . In FIG. 4, signal wiring A has wiring a 1 and wiring a 2 , signal wiring B has wiring b 1 and wiring b 2 , signal wiring C has wiring c 1 and wiring c 2 , The wiring D includes a wiring d 1 and a wiring d 2 . Wire a 1 is electrically connected to the connecting terminal T [alpha] 1. Further, wiring a 1 is formed on the wiring a 1, and by the via V AC11 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 1. Wire a 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 2. The wiring c 1 and the wiring c 2 are electrically connected by a jumper wiring J C12 belonging to the signal wiring C. Wire b 1, a connection terminal T .beta.1 and are electrically connected. Furthermore, the wiring b 1 is formed on the wiring b 1 , is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 (in the center side of the suspension substrate) in plan view with the jumper wiring J c12 as a boundary, and the second of the via portion V BD 11 passing through the insulating layer and is electrically connected to the wiring d 1. Wire b 2 is formed on the wiring b 2, and by the via V BD21 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring d 2.

第一実施態様によれば、配線およびビア部を特定の位置に配置することにより、金属支持基板のジャンパー配線を用いることなく、所望の配線構造とすることができる。これにより、伝送ロスを抑制したサスペンション用基板とすることができる。また、金属支持基板のジャンパー配線を用いないことで、HDDの設計自由度の低下を抑制できる。ここで、ロードビームへの取り付けの際の平坦性確保の観点や、サスペンション用基板の薄型化の観点から、金属支持基板のジャンパー配線には、カバー層を設ける等のショート対策が行われない場合が多い。そのため、金属支持基板のジャンパー配線を有するサスペンション用基板を、ロードビームに取り付ける際には、ショート対策が別途必要となり、HDDの設計自由度を低下させてしまう場合がある。これに対して、第一実施態様においては、金属支持基板のジャンパー配線を用いることなく、所望の配線構造とすることができるため、HDDの設計自由度の低下を抑制できる。なお、第一実施態様のサスペンション用基板は、配線およびビア部を特定の位置に配置したものであれば良く、例えば他の部位で、金属支持基板のジャンパー配線を有するサスペンション用基板も包含する。   According to the first embodiment, by arranging the wiring and the via portion at a specific position, a desired wiring structure can be obtained without using the jumper wiring of the metal supporting board. Thereby, it can be set as the board | substrate for suspensions which suppressed the transmission loss. Further, by not using the jumper wiring of the metal support substrate, it is possible to suppress a decrease in the degree of freedom in designing the HDD. Here, from the viewpoint of ensuring flatness when mounting to the load beam and from the viewpoint of reducing the thickness of the suspension board, the jumper wiring of the metal support board is not provided with a short circuit measure such as providing a cover layer. There are many. For this reason, when the suspension substrate having the jumper wiring of the metal support substrate is attached to the load beam, a countermeasure against a short circuit is required separately, which may reduce the degree of freedom in designing the HDD. On the other hand, in the first embodiment, since a desired wiring structure can be obtained without using the jumper wiring of the metal support substrate, it is possible to suppress a decrease in the degree of freedom in designing the HDD. Note that the suspension substrate of the first embodiment is not limited as long as wiring and via portions are arranged at specific positions, and includes, for example, a suspension substrate having a jumper wiring of a metal support substrate in another part.

また、第一実施態様によれば、信号配線Aと信号配線Cとが第2の絶縁層を介して対向し、信号配線Bと信号配線Dとが第2の絶縁層を介して対向するように、第1の配線群および第2の配線群を配置することにより、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   Further, according to the first embodiment, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. In addition, by arranging the first wiring group and the second wiring group, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area. it can.

ここで、配線領域が増大化することを抑制できる点について説明する。第一実施態様においては、第2の配線群は第1の配線群の上に積層されているため、平面視において両配線群の占める領域は、第1の配線群のみが形成されている場合と同じである。すなわち、第2の配線群を形成することによって、インターリーブ配線構造を構成する配線の本数は2倍に増加されるが、配線群が占める領域は増大化せず、第1の配線群のみが形成されている場合と同じにできる。そして、両配線群の下に金属支持基板の開口部を設ける場合も、同様に、開口部の大きさは第1の配線群のみが形成されている場合と同じにできることから、サスペンション用基板の物理的強度を保持することができる。   Here, the point which can suppress that a wiring area | region increases is demonstrated. In the first embodiment, since the second wiring group is stacked on the first wiring group, the area occupied by both wiring groups in a plan view is the case where only the first wiring group is formed. Is the same. That is, by forming the second wiring group, the number of wirings constituting the interleaved wiring structure is doubled, but the area occupied by the wiring group is not increased, and only the first wiring group is formed. Can be the same as it is. When the openings of the metal supporting board are provided under both wiring groups, the size of the opening can be made the same as when only the first wiring group is formed. Physical strength can be maintained.

次に、高周波信号の帯域幅を広く保持できる点について説明する。上述のように、第1の配線群の各配線と、第2の配線群の各配線との配置関係は、同位相の電気信号が伝送される配線同士が第2の絶縁層を介して対向するようになっている。それゆえ、サスペンション用基板の全体の厚みを小さくするために両配線群の間の第2の絶縁層を薄膜にしても、上下の各配線の相互作用により高周波特性が劣化してしまうという問題(より詳しくは、伝送特性の帯域幅が狭くなってしまうという問題)は生じない。   Next, a description will be given of the fact that a wide bandwidth of the high-frequency signal can be maintained. As described above, the arrangement relationship between each wiring of the first wiring group and each wiring of the second wiring group is such that wirings that transmit the same phase electrical signals are opposed to each other through the second insulating layer. It is supposed to be. Therefore, even if the second insulating layer between the two wiring groups is made a thin film in order to reduce the overall thickness of the suspension substrate, the high frequency characteristics deteriorate due to the interaction between the upper and lower wirings ( More specifically, the problem that the bandwidth of the transmission characteristic becomes narrow does not occur.

次に、差動インピーダンスを低減できる点について説明する。第一実施態様においては、第2の配線群を形成することによって、インターリーブ配線構造を構成する配線の本数は、第1の配線群のみが形成されている場合に比べて2倍(配線総数は8本)に増加されている。それゆえ、第一実施態様においては、第1の配線群を平面的に2つ配置した形態(配線総数は8本)と同じ程度に、差動インピーダンスを低減することができる。
以下、第一実施態様のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
Next, the point that the differential impedance can be reduced will be described. In the first embodiment, by forming the second wiring group, the number of wirings constituting the interleaved wiring structure is doubled compared to the case where only the first wiring group is formed (the total number of wirings is 8). Therefore, in the first embodiment, the differential impedance can be reduced to the same extent as in the case where two first wiring groups are arranged in a plane (total number of wirings is 8).
Hereinafter, the suspension substrate of the first embodiment will be described separately for the suspension substrate member and the configuration of the suspension substrate.

(1)サスペンション用基板の部材
金属支持基板の材料としては、サスペンション用基板の支持体として機能し、所望のばね性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、例えばステンレス鋼を挙げることができる。金属支持基板の厚さは、例えば、10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。
(1) Suspension substrate member The material of the metal support substrate is not particularly limited as long as it functions as a support for the suspension substrate and has a desired spring property. For example, stainless steel is used. Can be mentioned. For example, the thickness of the metal supporting substrate is preferably in the range of 10 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

第1の絶縁層は、金属支持基板の表面上に形成されるものであり、第1の絶縁層の上に形成される第1の配線群の各配線と金属支持基板とを電気的に絶縁するものである。第1の絶縁層の材料としては、所望の絶縁性や誘電率を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド等を挙げることができる。また、第1の絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第1の絶縁層の厚さは、例えば、5μm〜30μmの範囲内である。   The first insulating layer is formed on the surface of the metal supporting board, and electrically insulates each wiring of the first wiring group formed on the first insulating layer from the metal supporting board. To do. The material for the first insulating layer is not particularly limited as long as it has a desired insulating property and dielectric constant, and examples thereof include polyimide. The material of the first insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the first insulating layer is, for example, in the range of 5 μm to 30 μm.

配線の材料としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。各配線は、露出する場合、その表面にニッケル(Ni)、金(Au)による保護めっき層が形成されていても良い。   The wiring material is not particularly limited as long as it has desired conductivity, and examples thereof include copper (Cu). When each wiring is exposed, a protective plating layer of nickel (Ni) or gold (Au) may be formed on the surface thereof.

配線の厚さとしては、例えば、3μm〜18μmの範囲内、中でも4μm〜15μmの範囲内であることが好ましい。配線の厚さが小さすぎると、充分な低インピーダンス化を図ることができない可能性があり、配線の厚さが大きすぎると、サスペンション用基板の剛性が高くなり過ぎる可能性があるからである。   For example, the thickness of the wiring is preferably in the range of 3 μm to 18 μm, and more preferably in the range of 4 μm to 15 μm. This is because if the wiring thickness is too small, it may not be possible to achieve a sufficiently low impedance, and if the wiring thickness is too large, the suspension substrate may become too rigid.

配線の線幅としては、例えば、10μm〜100μmの範囲内であることが好ましい。配線の線幅が小さすぎると、所望の導電性を得ることができない可能性があり、配線の線幅が大きすぎると、サスペンション用基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。   The line width of the wiring is preferably in the range of 10 μm to 100 μm, for example. If the wiring line width is too small, the desired conductivity may not be obtained. If the wiring line width is too large, the suspension substrate may not be sufficiently dense. Because.

また同一平面での配線間の距離は、例えば10μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。この距離が小さすぎると、高い加工精度を要求し、コストアップ等を招くことになるため好ましくなく、一方、この距離が大きすぎると、サスペンション用基板の充分な高密度化を図ることができない可能性があるからである。   Further, the distance between the wirings on the same plane is preferably in the range of 10 μm to 30 μm, for example. If this distance is too small, it is not preferable because it requires high processing accuracy and increases costs. On the other hand, if this distance is too large, the suspension substrate may not be sufficiently dense. Because there is sex.

第2の絶縁層は、第1の配線群および第1の絶縁層の上に形成されるものであり、第1の配線群を構成する各配線と第2の配線群を構成する各配線とを電気的に絶縁するものである。また、第1の配線群を構成する各配線の隙間を第2の絶縁層で埋めることにより、各配線間の容量性結合の容量をより大きくすることもできる。第2の絶縁層の材料としては、所望の絶縁性や誘電率を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えばポリイミド等を挙げることができる。また、第2の絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第2の絶縁層の厚さは、例えば、第1の配線群を構成する各配線と第2の配線群を構成する各配線との間で4μm〜30μmの範囲内である。   The second insulating layer is formed on the first wiring group and the first insulating layer, and includes each wiring configuring the first wiring group and each wiring configuring the second wiring group. Are electrically insulated. In addition, by filling the gaps between the wirings constituting the first wiring group with the second insulating layer, the capacity of capacitive coupling between the wirings can be further increased. The material for the second insulating layer is not particularly limited as long as it has a desired insulating property and dielectric constant, and examples thereof include polyimide. The material of the second insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the second insulating layer is, for example, in the range of 4 μm to 30 μm between each wiring configuring the first wiring group and each wiring configuring the second wiring group.

腐食等による劣化を防止するため、第2の配線群を構成する各配線は、カバー層で覆われていることが好ましい。また、第2の配線群を構成する各配線の隙間をカバー層で埋めることにより、各配線間の容量性結合の容量をより大きくすることもできる。カバー層の材料としては、例えばポリイミド等を挙げることができる。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。カバー層の厚さは、例えば、第2の配線群を構成する各配線の上で4μm〜30μmの範囲内である。   In order to prevent deterioration due to corrosion or the like, it is preferable that each wiring constituting the second wiring group is covered with a cover layer. Moreover, the capacity | capacitance of the capacitive coupling between each wiring can also be enlarged by filling the clearance gap between each wiring which comprises a 2nd wiring group with a cover layer. Examples of the material for the cover layer include polyimide. The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer is, for example, in the range of 4 μm to 30 μm on each wiring configuring the second wiring group.

(2)サスペンション用基板の構成
第一実施態様のサスペンション用基板は、配線およびビア部が特定の位置に配置されることを大きな特徴とする。図4に示すように、配線aは、接続端子Tα1と電気的に接続されている。図4では、接続端子Tα1から直線状の配線aが形成されているが、配線aの形状は、続端子Tα1と電気的に接続されていれば、任意の形状を採用することができる。また、配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、配線cと電気的に接続されている。
(2) Configuration of Suspension Substrate The suspension substrate according to the first embodiment is greatly characterized in that wiring and via portions are arranged at specific positions. As shown in FIG. 4, the wiring a 1 is electrically connected to the connection terminal T α1 . In FIG. 4, the linear wiring a 1 is formed from the connection terminal T α1, but the wiring a 1 may have any shape as long as it is electrically connected to the connection terminal T α1. Can do. The wiring a 1 is formed on the wiring a 1, and by the via V AC11 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 1.

配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、配線cと電気的に接続されている。配線aおよび配線cは、ビア部Vac21を介して電気的に接続されていれば良い。そのため、平面視において配線cと重複する位置にビア部Vac21が形成されることにより、配線aおよび配線cが電気的に接続されていても良く、平面視においてジャンパー配線Jc12が重複する位置にビア部Vac21が形成され、ジャンパー配線Jc12を介することにより、配線aおよび配線cが電気的に接続されていても良い。 Wire a 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 2. The wiring a 2 and the wiring c 2 may be electrically connected via the via portion V ac21 . Therefore, by the via V AC21 in a position overlapping with the wiring c 2 in a plan view are formed, wiring a 2 and the wiring c 2 is may be electrically connected, a jumper wire J c12 in a plan view the via V AC21 is formed in overlapping positions, by going through the jumper wiring J c12, wiring a 2 and the wiring c 2 may be electrically connected.

配線cおよび配線cは、信号配線Cに属するジャンパー配線JC12により電気的に接続されている。ジャンパー配線JC12は、平面視において、配線bと交差するように配置される。 The wiring c 1 and the wiring c 2 are electrically connected by a jumper wiring J C12 belonging to the signal wiring C. The jumper wiring J C12 is arranged so as to intersect with the wiring b 1 in plan view.

配線bは、接続端子Tβ1と電気的に接続されている。接続端子Tβ1は、配線bと電気的に接続していれば、第1の配線群に形成されていても良く、第2の配線群に形成されていても良いが、中でも、前者が好ましい。また、配線bは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Jc12を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、配線dと電気的に接続されている。 Wire b 1, a connection terminal T .beta.1 and are electrically connected. As long as the connection terminal T β1 is electrically connected to the wiring b 1 , the connection terminal T β1 may be formed in the first wiring group or the second wiring group. preferable. The wiring b 1 is formed on the wiring b 1 , is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 in plan view with the jumper wiring J c12 as a boundary, and a via portion that penetrates the second insulating layer V bd11 is electrically connected to the wiring d 1 .

第一実施態様において、インターリーブ配線構造の最外に位置する配線に用いられるビア部は、比較的自由に配置することができる。図5では、インターリーブ配線構造の最外に位置し、配線aおよび配線cを電気的に接続するビア部Vac11が、ジャンパー配線Jc12を境にして、平面視において接続端子Tα1側に形成されている。なお、図示しないが、ビア部Vac11は、ジャンパー配線Jc12を境にして、平面視において接続端子Tα1とは反対側に形成されていても良い。すなわち、ビア部Vac11は、配線a上の任意の位置に形成することができる。 In the first embodiment, the via portion used for the wiring located at the outermost part of the interleaved wiring structure can be arranged relatively freely. In FIG. 5, the via portion V ac11 that is located at the outermost part of the interleaved wiring structure and electrically connects the wiring a 1 and the wiring c 1 is connected to the connection terminal T α1 in plan view with the jumper wiring J c12 as a boundary. Is formed. Although not shown, the via portion V ac11 may be formed on the side opposite to the connection terminal T α1 in plan view with the jumper wiring J c12 as a boundary. That is, the via portion V ac11 can be formed at an arbitrary position on the wiring a 1 .

同様に、図5では、インターリーブ配線構造の最外に位置し、配線bおよび配線dを電気的に接続するビア部Vbd21が、ジャンパー配線Jc12を境にして、平面視において接続端子Tβ1側の配線b上に形成されている。なお、図示しないが、ビア部Vbd21は、ジャンパー配線Jb12上に形成されていても良く、配線b上に形成されていても良い。 Similarly, in FIG. 5, located on the outermost interleave wiring structure, the via V BD21 the wiring b 2 and the wiring d 2 electrically connecting, with jumper wires J c12 bordering, connected in a plan view terminal It is formed over the wiring b 1 of T .beta.1 side. Although not shown, the via V BD21 may be formed on the jumper wiring J b12, it may be formed on the wiring b 2.

第一実施態様において、信号配線A〜Dは、それぞれ、3以上の配線を有していても良い。図6において、配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac31により、配線cと電気的に接続されている。配線cおよび配線cは、信号配線Cに属するジャンパー配線JC23により電気的に接続されている。配線bは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Jc23を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd21により、配線dと電気的に接続されている。図6は、信号配線A〜Dが、それぞれ3つの配線を有する場合の例示であるが、信号配線A〜Dが、それぞれ4以上の配線を有する場合でも同様である。 In the first embodiment, each of the signal wirings A to D may have three or more wirings. 6, wiring a 3 is formed on the wiring a 3, and by the via V AC31 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 3. The wiring c 2 and the wiring c 3 are electrically connected by a jumper wiring J C23 belonging to the signal wiring C. The wiring b 2 is formed on the wiring b 2 , is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 in plan view with the jumper wiring J c23 as a boundary, and the via portion V bd21 that penetrates the second insulating layer. by being electrically connected to the wiring d 2. FIG. 6 is an example in which each of the signal wirings A to D has three wirings, but the same applies to the case where each of the signal wirings A to D has four or more wirings.

また、配線a〜dは、図6に示すように、配線a〜dを基準として、配線a〜dとは反対側に形成されていても良く、図7に示すように、配線a〜dを基準として、配線a〜dとは反対側に形成されていても良い。この場合、例えばインターリーブ配線構造の幅方向の中央付近に接続端子を設けることができ、配線の設計自由度が高いという利点がある。図7において、配線aは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac31により、配線cと電気的に接続されている。配線cおよび配線cは、信号配線Cに属するジャンパー配線JC13により電気的に接続されている。配線bは、ジャンパー配線Jc13を境として、平面視において接続端子Tβ1側に形成された、ビア部Vb1、第2の配線群に属するジャンパー配線Jb13およびビア部Vb3により、配線bと電気的に接続されている。配線bは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Jc13を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd31により、配線dと電気的に接続されている。 Further, as shown in FIG. 6, the wirings a 3 to d 3 may be formed on the side opposite to the wirings a 1 to d 1 with reference to the wirings a 2 to d 2 , as shown in FIG. In addition, the wirings a 1 to d 1 may be formed on the side opposite to the wirings a 2 to d 2 with reference to the wirings a 1 to d 1 . In this case, for example, the connection terminal can be provided near the center in the width direction of the interleaved wiring structure, and there is an advantage that the degree of freedom in wiring design is high. 7, wiring a 3 is formed on the wiring a 3, and by the via V AC31 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring c 3. The wiring c 1 and the wiring c 3 are electrically connected by a jumper wiring J C13 belonging to the signal wiring C. The wiring b 1 is formed by the via portion V b1 , the jumper wiring J b13 belonging to the second wiring group, and the via portion V b3 formed on the connection terminal T β1 side in a plan view with the jumper wiring J c13 as a boundary. b 3 and are electrically connected. Wire b 3 is formed on the wiring b 3, a boundary of the jumper wiring J c13, and the connection terminals T .beta.1 in plan view are formed on the opposite side, and the via V Bd31 penetrating the second insulating layer by being electrically connected to the wiring d 3.

第一実施態様では、ヘッド側およびテール側の少なくとも一方において、配線およびビア部が特定の位置に配置される。中でも、第一実施態様においては、ヘッド側およびテール側の両方において、配線およびビア部が特定の位置に配置されることが好ましい。金属支持基板のジャンパー配線による伝送ロスをさらに抑制できるからである。   In the first embodiment, the wiring and the via part are arranged at specific positions on at least one of the head side and the tail side. In particular, in the first embodiment, it is preferable that the wiring and the via portion are arranged at specific positions on both the head side and the tail side. This is because transmission loss due to jumper wiring on the metal supporting board can be further suppressed.

具体的には、図8に示すように、配線bは、接続端子Tβ2と電気的に接続されている。さらに、配線bは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、配線dと電気的に接続されている。配線bは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、配線dと電気的に接続されている。配線dおよび配線dは、信号配線Dに属するジャンパー配線Jd12により電気的に接続されている。配線aは、接続端子Tα2と電気的に接続されている。さらに、配線aは、配線a上に形成され、ジャンパー配線Jd12を境として、平面視において接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、配線cと電気的に接続されている。 Specifically, as shown in FIG. 8, the wiring b 2 are electrically connected to the connecting terminal T .beta.2. Furthermore, wiring b 2 is formed on the wiring b 2, and by the via V BD22 penetrating the second insulating layer and connected to the wiring d 2 electrically. Wire b 1 is formed on the wiring b 1, and by the via V BD12 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring d 1. The wiring d 1 and the wiring d 2 are electrically connected by a jumper wiring J d12 belonging to the signal wiring D. Wire a 2 is electrically connected to the connecting terminal T [alpha] 2. Furthermore, the wiring a 2 is formed on the wiring a 2 , is formed on the side opposite to the connection terminal T α2 in plan view with the jumper wiring J d12 as a boundary, and a via portion that penetrates the second insulating layer the V AC 22, and is electrically connected to the wiring c 2.

次に、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法について説明する。第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法は、上述した構成を有するサスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。   Next, the manufacturing method of the suspension substrate of the first embodiment will be described. The manufacturing method of the suspension substrate of the first embodiment is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the suspension substrate having the above-described configuration.

図9は、第一実施態様のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図であり、図4におけるA−A断面図に相当する。図9においては、まず、金属支持部材1A、絶縁部材2Aおよび導体部材3Aがこの順に積層された積層部材を準備する(図9(a))。次に、導体部材3Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、第1の配線群3xを形成する(図9(b))。次に、第1の配線群3xおよび絶縁部材2Aの上に、第2の絶縁層2yを形成する(図9(c))。次に、図示しないが、絶縁部材2Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、第1の絶縁層2xを形成する。次に、第2の絶縁層2y側の表面にスパッタリング法によりシード層(図示せず)を全面形成し、全面形成したシード層の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出した部分に、電解めっき法により、第2の配線群3yを形成する(図9(d))。なお、図9(d)では、第2の絶縁層2yを貫通するビア部と、第2の配線群3yとを連続的に形成しているが、第2の絶縁層2yを貫通するビア部を、第2の配線群3yとは異なる材料(例えばNiめっき等のめっき)を用いて形成しても良い。次に、第2の配線群3yを覆うようにカバー層4を形成する(図9(e))。最後に、金属支持部材1Aの外形加工を行い、金属支持基板1を形成する(図9(f))。これにより、サスペンション用基板が得られる。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the first embodiment, and corresponds to a cross-sectional view taken along line AA in FIG. In FIG. 9, first, a laminated member in which the metal supporting member 1A, the insulating member 2A, and the conductor member 3A are laminated in this order is prepared (FIG. 9A). Next, the conductive member 3A is patterned by wet etching to form a first wiring group 3x (FIG. 9B). Next, a second insulating layer 2y is formed on the first wiring group 3x and the insulating member 2A (FIG. 9C). Next, although not shown, the insulating member 2A is patterned by wet etching to form the first insulating layer 2x. Next, a seed layer (not shown) is formed on the entire surface of the second insulating layer 2y side by sputtering, a predetermined resist pattern is formed on the surface of the seed layer formed on the entire surface, and the resist pattern is exposed. A second wiring group 3y is formed in the portion by electrolytic plating (FIG. 9D). In FIG. 9D, the via portion penetrating the second insulating layer 2y and the second wiring group 3y are continuously formed, but the via portion penetrating the second insulating layer 2y. May be formed using a material (for example, plating such as Ni plating) different from that of the second wiring group 3y. Next, the cover layer 4 is formed so as to cover the second wiring group 3y (FIG. 9E). Finally, the outer shape of the metal support member 1A is processed to form the metal support substrate 1 (FIG. 9 (f)). Thereby, a suspension substrate is obtained.

2.第二実施態様
第二実施態様のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、上記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、上記第1の配線群および上記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、上記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、上記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、上記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、上記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、上記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、上記信号配線Aと上記信号配線Cとが上記第2の絶縁層を介して対向し、上記信号配線Bと上記信号配線Dとが上記第2の絶縁層を介して対向するように、上記第1の配線群および上記第2の配線群が配置され、上記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、上記配線cは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、上記配線aと電気的に接続され、上記配線cは、上記配線a上に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、上記配線aと電気的に接続され、上記配線aおよび上記配線aは、上記信号配線Aに属するジャンパー配線Ja12により電気的に接続され、上記配線dは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、上記配線b上に形成され、上記ジャンパー配線Ja12を境として、平面視において上記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、上記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、上記配線bと電気的に接続されていることを特徴とするものである。
2. Second Embodiment A suspension substrate according to the second embodiment includes a metal supporting substrate, a first insulating layer formed on the metal supporting substrate, and a first insulating layer formed on the first insulating layer. A wiring group, a second wiring layer formed on the first wiring group and the first insulating layer, a second wiring group formed on the second insulating layer, The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings electrically connected to each other, and the signal wiring A is electrically independent and electrically connected to each other. The signal wirings B having a plurality of connected wirings are alternately arranged in a plane, and the second wiring group includes the signal wirings C having a plurality of wirings electrically connected to each other, The signal wiring C is electrically independent and has a plurality of wirings electrically connected to each other. The signal wirings D are alternately arranged in a plane, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are The first wiring group and the second wiring group are arranged so as to face each other through the second insulating layer, and the signal wirings A to D are respectively connected to the wirings a 1 to d 1 and the wiring a. 2 to d 2 , the wiring c 1 is electrically connected to the connection terminal T α1, and is further formed on the wiring a 1 , and further passes through the second insulating layer. the AC11 is the wiring a 1 and electrically connected, the wiring c 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, the wiring a 2 The wiring a 1 and the wiring a 2 are electrically connected to the signal wiring. The wiring d 1 is electrically connected by a jumper wiring J a12 belonging to A, and the wiring d 1 is electrically connected to the connection terminal T β1 and further formed on the wiring b 1 , with the jumper wiring J a12 as a boundary. In the plan view, it is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 and is electrically connected to the wiring b 1 by a via portion V bd11 penetrating the second insulating layer. To do.

なお、第二実施態様のサスペンション用基板と、第一実施態様のサスペンション用基板とは、第1の配線群および第2の配線群を入れ替えた関係にある。   Note that the suspension substrate of the second embodiment and the suspension substrate of the first embodiment are in a relationship in which the first wiring group and the second wiring group are interchanged.

第二実施態様によれば、配線およびビア部を特定の位置に配置することにより、金属支持基板のジャンパー配線を用いることなく、所望の配線構造とすることができる。これにより、伝送ロスを抑制したサスペンション用基板とすることができる。また、第二実施態様によれば、信号配線Aと信号配線Cとが第2の絶縁層を介して対向し、信号配線Bと信号配線Dとが第2の絶縁層を介して対向するように、第1の配線群および第2の配線群を配置することにより、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the second embodiment, by arranging the wiring and the via portion at a specific position, a desired wiring structure can be obtained without using the jumper wiring of the metal supporting board. Thereby, it can be set as the board | substrate for suspensions which suppressed the transmission loss. Further, according to the second embodiment, the signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. In addition, by arranging the first wiring group and the second wiring group, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area. it can.

(1)サスペンション用基板の部材
第二実施態様のサスペンション用基板の部材は、上述した第一実施態様のサスペンション用基板の部材と同様であるので、ここでの記載は省略する。
(1) Suspension Substrate Member The suspension substrate member of the second embodiment is the same as the suspension substrate member of the first embodiment described above, and is not described here.

(2)サスペンション用基板の構成
第二実施態様のサスペンション用基板は、配線およびビア部が特定の位置に配置されることを大きな特徴する。第二実施態様のサスペンション用基板と、第一実施態様のサスペンション用基板とは、第1の配線群および第2の配線群を入れ替えた関係にあるため、基本的には、第一実施態様に記載した内容と同様であるが、典型例について、図10〜図13を用いて説明する。
(2) Configuration of Suspension Substrate The suspension substrate of the second embodiment is greatly characterized in that the wiring and via portions are arranged at specific positions. Since the suspension substrate of the second embodiment and the suspension substrate of the first embodiment are in a relationship in which the first wiring group and the second wiring group are interchanged, basically the first embodiment is the same as the first embodiment. Although it is the same as that of the content described, a typical example is demonstrated using FIGS.

図10において、配線cは、接続端子Tα1と電気的に接続されている。さらに、配線cは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、配線aと電気的に接続されている。配線cは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、配線aと電気的に接続されている。配線aおよび配線aは、信号配線Aに属するジャンパー配線Ja12により電気的に接続されている。配線dは、接続端子Tβ1と電気的に接続されている。さらに、配線dは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Ja12を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、配線bと電気的に接続されている。配線dは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd21により、配線bと電気的に接続されている。 10, the wiring c 1 is electrically connected to the connecting terminal T [alpha] 1. Further, the wiring c 1 is formed on the wiring a 1, and by the via V AC11 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring a 1. Wiring c 2 is formed on the wiring a 2, and, by the via V AC21 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring a 2. The wiring a 1 and the wiring a 2 are electrically connected by a jumper wiring J a12 belonging to the signal wiring A. Wire d 1, a connection terminal T .beta.1 is electrically connected to the. Further, the wiring d 1 is formed on the wiring b 1, as a border jumper wires J a12, and the connection terminals T .beta.1 in plan view are formed on the opposite side, and, via extending through the second insulating layer The wiring b 1 is electrically connected by V bd11 . Wire d 2 is formed on the wiring b 2, and by the via V BD21 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring b 2.

図11において、配線cは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac31により、配線aと電気的に接続されている。配線aおよび配線aは、信号配線Aに属するジャンパー配線Ja23により電気的に接続されている。配線dは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Ja23を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd21により、配線bと電気的に接続されている。 11, the wiring c 3 is formed on the wiring a 3, and by the via V AC31 penetrating the second insulating layer, are wired a 3 electrically connected. The wiring a 2 and the wiring a 3 are electrically connected by a jumper wiring J a23 belonging to the signal wiring A. The wiring d 2 is formed on the wiring b 2 , is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 in a plan view with the jumper wiring J a23 as a boundary, and the via portion V bd21 that penetrates the second insulating layer. by being electrically connected to the wiring b 2.

図12において、配線cは、配線a上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac31により、配線aと電気的に接続されている。また、配線aおよび配線aは、信号配線Cに属するジャンパー配線Ja13により電気的に接続されている。また、配線dは、ジャンパー配線Ja13を境として、平面視において接続端子Tβ1側に形成された、ビア部Vd1、第1の配線群に属するジャンパー配線Jd13およびビア部Vd3により、配線dと電気的に接続されている。配線dは、配線b上に形成され、ジャンパー配線Ja13を境として、平面視において接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd31により、配線bと電気的に接続されている。 12, the wiring c 3 is formed on the wiring a 3, and by the via V AC31 penetrating the second insulating layer, are wired a 3 electrically connected. In addition, the wiring a 1 and the wiring a 3 are electrically connected by a jumper wiring J a13 belonging to the signal wiring C. Further, the wiring d 1 is formed by the via portion V d1 , the jumper wiring J d13 belonging to the first wiring group, and the via portion V d3 formed on the connection terminal T β1 side in a plan view with the jumper wiring J a13 as a boundary. Are electrically connected to the wiring d 3 . The wiring d 3 is formed on the wiring b 3 , is formed on the side opposite to the connection terminal T β1 in plan view with the jumper wiring J a13 as a boundary, and the via portion V bd31 that penetrates the second insulating layer. by being electrically connected to the wiring b 3.

図13において、配線dは、接続端子Tβ2と電気的に接続されている。さらに、配線dは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、配線bと電気的に接続されている。配線dは、配線b上に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、配線bと電気的に接続されている。配線bおよび配線bは、信号配線Bに属するジャンパー配線Jb12により電気的に接続されている。配線cは、接続端子Tα2と電気的に接続されている。さらに、配線cは、配線a上に形成され、ジャンパー配線Jb12を境として、平面視において接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、配線aと電気的に接続されている。 13, the wiring d 2 is electrically connected to the connecting terminal T .beta.2. Further, the wiring d 2, the wiring b 2 is formed on, and the via portion V BD22 penetrating the second insulating layer, are wired b 2 and electrically connected. Wire d 1 is formed on the wiring b 1, and by the via V BD12 penetrating the second insulating layer, and is electrically connected to the wiring b 1. The wiring b 1 and the wiring b 2 are electrically connected by a jumper wiring J b12 belonging to the signal wiring B. Wiring c 2 is electrically connected to the connecting terminal T [alpha] 2. Furthermore, the wiring c 2 is formed on the wiring a 2 , is formed on the side opposite to the connection terminal T α2 in plan view with the jumper wiring J b12 as a boundary, and a via portion that penetrates the second insulating layer the V AC 22, and is electrically connected to the wiring a 2.

B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension according to the present invention includes the suspension substrate described above and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

図14は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図14に示されるサスペンション300は、上述したサスペンション用基板100と、サスペンション用基板100の金属支持基板側の表面に設けられたロードビーム200とを有するものである。   FIG. 14 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 300 shown in FIG. 14 includes the suspension substrate 100 described above and a load beam 200 provided on the surface of the suspension substrate 100 on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、伝送ロスを抑制したサスペンションとすることができる。さらに、上述したサスペンション用基板を用いることで、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension substrate, a suspension in which transmission loss is suppressed can be obtained. Furthermore, by using the above-described suspension substrate, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板およびロードビームを有する。本発明におけるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。一方、本発明におけるロードビームは、サスペンション用基板の金属支持基板側の表面に設けられるものである。ロードビームの材料は、特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、ステンレス鋼であることが好ましい。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate and a load beam. The suspension substrate in the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore description thereof is omitted here. On the other hand, the load beam in the present invention is provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. Although the material of the load beam is not particularly limited, for example, a metal can be used, and stainless steel is preferable.

C.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された記録再生用素子と、を有することを特徴とするものである。
C. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. A suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension and a recording / reproducing element disposed on the suspension.

図15は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図15に示される素子付サスペンション400は、上述したサスペンション300と、サスペンション300(サスペンション用基板100の記録再生用素子実装領域101)に実装された記録再生用素子301とを有するものである。   FIG. 15 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. 15 includes the suspension 300 described above and the recording / reproducing element 301 mounted on the suspension 300 (recording / reproducing element mounting region 101 of the suspension substrate 100).

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、伝送ロスを抑制した素子付サスペンションとすることができる。さらに、上述したサスペンションを用いることで、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the present invention, by using the above-described suspension, it is possible to provide a suspension with an element in which transmission loss is suppressed. Further, by using the suspension described above, it is possible to reduce the differential impedance while keeping the bandwidth of the high-frequency signal wide while suppressing an increase in the wiring area.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンションおよび記録再生用素子を有する。本発明におけるサスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、記録再生用素子は、特に限定されるものではないが、磁気発生素子を有するものが好ましい。具体的には、磁気ヘッドスライダを挙げることができる。さらに、本発明の素子付サスペンションは、熱アシスト用素子およびアクチュエータ素子の少なくとも一方をさらに有することが好ましい。   The suspension with an element of the present invention includes at least a suspension and a recording / reproducing element. The suspension according to the present invention is the same as the content described in “B. Suspension” above, and thus the description thereof is omitted here. The recording / reproducing element is not particularly limited, but preferably has a magnetic generating element. Specifically, a magnetic head slider can be mentioned. Furthermore, it is preferable that the suspension with an element of the present invention further includes at least one of a thermal assist element and an actuator element.

熱アシスト用素子は、記録再生用素子の記録を熱によりアシストできるものであれば特に限定されるものではない。中でも、本発明における熱アシスト用素子は、光を利用した素子であることが好ましい。光ドミナント記録方式による熱アシスト記録を行うことができるからである。光を利用した熱アシスト用素子としては、例えば半導体レーザーダイオード素子を挙げることができる。半導体レーザーダイオード素子は、pn型の素子であっても良く、pnp型またはnpn型の素子であっても良い。   The heat assisting element is not particularly limited as long as it can assist recording by the recording / reproducing element with heat. Among them, the heat assist element in the present invention is preferably an element using light. This is because heat-assisted recording by an optical dominant recording method can be performed. Examples of the heat assist element using light include a semiconductor laser diode element. The semiconductor laser diode element may be a pn-type element, or a pnp-type or npn-type element.

アクチュエータ素子は、通常、マイクロアクチュエータ、ミリアクチュエータが該当する。アクチュエータ素子としては、例えばピエゾ素子を挙げることができる。ピエゾ素子としては、例えばPZTからなるものを挙げることができる。ピエゾ素子の伸縮応答を利用することで、サブミクロン単位での位置決めを行うことができる。また、ピエゾ素子には、エネルギー効率が高い、耐荷重が大きい、応答性が速い、摩耗劣化がない、磁場が発生しないという利点がある。また、本発明においては、2極のピエゾ素子を1個用いても良い。1極のピエゾ素子を2個用いても良い。   The actuator element usually corresponds to a microactuator or a milliactuator. Examples of the actuator element include a piezo element. As the piezo element, for example, one made of PZT can be cited. By using the expansion / contraction response of the piezo element, positioning can be performed in submicron units. In addition, the piezoelectric element has advantages such as high energy efficiency, large load resistance, fast response, no wear deterioration, and no magnetic field. In the present invention, a single bipolar piezo element may be used. Two unipolar piezoelectric elements may be used.

D.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするものである。
D. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention has the above-described suspension with an element.

図16は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図16に示されるハードディスクドライブ500は、上述した素子付サスペンション400と、素子付サスペンション400がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク401と、ディスク401を回転させるスピンドルモータ402と、素子付サスペンション400の素子を移動させるアーム403およびボイスコイルモータ404と、上記の部材を密閉するケース405とを有するものである。   FIG. 16 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 500 shown in FIG. 16 includes the above-described suspension 400 with an element, a disk 401 on which data is written and read by the suspension 400 with an element, a spindle motor 402 that rotates the disk 401, and the elements of the suspension 400 with an element. Arm 403 and voice coil motor 404, and a case 405 for sealing the above members.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、伝送ロスを抑制したハードディスクドライブとすることができる。さらに、上述した素子付サスペンションを用いることで、配線領域が増大化することを抑制しつつ、高周波信号の帯域幅を広く保持しながら、差動インピーダンスを低減することができる。   According to the present invention, a hard disk drive with reduced transmission loss can be obtained by using the above-described suspension with an element. Further, by using the above-described suspension with an element, it is possible to reduce the differential impedance while keeping a wide bandwidth of the high-frequency signal while suppressing an increase in the wiring area.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付サスペンションについては、上記「C.素子付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with an element, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with an element is the same as the content described in “C. Suspension with an element”, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

インターリーブ配線構造が2層に積層された構成を有する本発明に係るサスペンション用基板と、インターリーブ配線構造を単層のみに有する従来のサスペンション用基板について、目標とする差動インピーダンスを30Ωと20Ωの2種に設定し、配線領域がほぼ同じになる条件で、シミュレーションにより、配線の厚み、配線の幅、隣接する各配線間の幅を最適化し、その最適化した構成における配線長40mmにおける−3dB帯域幅を算出した。
なお、実施例1、2および比較例1、2のいずれにおいても、各絶縁層には比誘電率3.0のポリイミドを用い、第1の絶縁層の厚さは10μmとした。また、各配線の材料にはいずれも銅を用いた。
結果は以下の通りである。
With respect to the suspension substrate according to the present invention having a configuration in which the interleaved wiring structure is laminated in two layers, and the conventional suspension substrate having the interleaved wiring structure only in a single layer, the target differential impedance is 2Ω of 30Ω and 20Ω. The thickness of the wiring, the width of the wiring, and the width between adjacent wirings are optimized by simulation under the condition that the wiring area is set to be approximately the same under the condition that the wiring area is approximately the same. The width was calculated.
In each of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, polyimide having a relative dielectric constant of 3.0 was used for each insulating layer, and the thickness of the first insulating layer was 10 μm. Also, copper was used as the material for each wiring.
The results are as follows.

[実施例1]
図17に示す構成の本発明に係るサスペンション用基板10において、目標とする差動インピーダンスを30Ωとしてシミュレーションした結果、以下の条件において得られた配線長40mmにおける−3dB帯域幅は8.2GHzであった。なお、得られた差動インピーダンスの値は31.0Ωであった。
<シミュレーション条件>
第1の配線群(配線13a〜13d、4本):
いずれも厚み5μm、幅(W1)25μm、各配線間の幅(S1)15μm
第2の配線群(配線15a〜15d、4本):
いずれも厚み5μm、幅(W1)25μm、各配線間の幅(S1)15μm
第2の絶縁層14:配線上の厚み(D11)5μm
第3の絶縁層16:配線上の厚み(D12)5μm
金属支持基板11の開口端部と第1の配線群との間隔:間隔(LS1)25μm
[Example 1]
In the suspension substrate 10 according to the present invention having the configuration shown in FIG. 17, the simulation was performed with a target differential impedance of 30Ω. As a result, the −3 dB bandwidth at a wiring length of 40 mm obtained under the following conditions was 8.2 GHz. It was. The obtained differential impedance value was 31.0Ω.
<Simulation conditions>
First wiring group (four wirings 13a to 13d):
In each case, the thickness is 5 μm, the width (W1) is 25 μm, and the width between each wiring (S1) is 15 μm.
Second wiring group (four wirings 15a to 15d):
In each case, the thickness is 5 μm, the width (W1) is 25 μm, and the width between each wiring (S1) is 15 μm.
Second insulating layer 14: thickness on wiring (D11) 5 μm
Third insulating layer 16: thickness on wiring (D12) 5 μm
Spacing between the opening end of the metal support substrate 11 and the first wiring group: Spacing (LS1) 25 μm

[比較例1]
図18に示す構成の従来のサスペンション用基板120において、目標とする差動インピーダンスを30Ωとしてシミュレーションした結果、以下の条件において得られた配線長40mmにおける−3dB帯域幅は6.7GHzであった。なお、得られた差動インピーダンスの値は31.3Ωであった。
<シミュレーション条件>
配線113a〜113d(4本):
いずれも厚み10μm、幅(W2)28μm、各配線間の幅(S2)12μm第2の絶縁層114:配線上の厚み(D2)5μm
金属支持基板111の開口端部と配線群との間隔:間隔(LS2)25μm
[Comparative Example 1]
In the conventional suspension substrate 120 having the configuration shown in FIG. 18, simulation was performed with a target differential impedance of 30Ω. As a result, the −3 dB bandwidth at a wiring length of 40 mm obtained under the following conditions was 6.7 GHz. The obtained differential impedance value was 31.3Ω.
<Simulation conditions>
Wirings 113a to 113d (four wires):
In any case, the thickness is 10 μm, the width (W2) is 28 μm, the width between each wiring (S2) is 12 μm, the second insulating layer 114: the thickness on the wiring (D2) is 5 μm
Spacing between opening end of metal support substrate 111 and wiring group: Spacing (LS2) 25 μm

[実施例2]
図19に示す構成の本発明に係るサスペンション用基板20において、目標とする差動インピーダンスを20Ωとしてシミュレーションした結果、以下の条件において得られた配線長40mmにおける−3dB帯域幅は7.2GHzであった。なお、得られた差動インピーダンスの値は19.7Ωであった。
<シミュレーション条件>
第1の配線群(配線23a〜23f、6本):
いずれも厚み5μm、幅(W3)25μm、各配線間の幅(S3)15μm
第2の配線群(配線25a〜25f、6本):
いずれも厚み5μm、幅(W3)25μm、各配線間の幅(S3)15μm
第2の絶縁層14:配線上の厚み(D31)5μm
第3の絶縁層16:配線上の厚み(D32)5μm
金属支持基板11の開口端部と第1の配線群との間隔:間隔(LS3)25μm
[Example 2]
In the suspension substrate 20 according to the present invention having the configuration shown in FIG. 19, the simulation was performed with a target differential impedance of 20Ω, and as a result, the −3 dB bandwidth at a wiring length of 40 mm obtained under the following conditions was 7.2 GHz. It was. The obtained differential impedance value was 19.7Ω.
<Simulation conditions>
First wiring group (six wirings 23a to 23f):
In any case, the thickness is 5 μm, the width (W3) is 25 μm, and the width between each wiring (S3) is 15 μm.
Second wiring group (6 wirings 25a to 25f):
In any case, the thickness is 5 μm, the width (W3) is 25 μm, and the width between each wiring (S3) is 15 μm.
Second insulating layer 14: thickness on wiring (D31) 5 μm
Third insulating layer 16: thickness on wiring (D32) 5 μm
Spacing between the opening end of the metal support substrate 11 and the first wiring group: Spacing (LS3) 25 μm

[比較例2]
図20に示す構成の従来のサスペンション用基板140において、目標とする差動インピーダンスを20Ωとしてシミュレーションした結果、以下の条件において得られた配線長40mmにおける−3dB帯域幅は5.6GHzであった。なお、得られた差動インピーダンスの値は19.5Ωであった。
<シミュレーション条件>
配線123a〜123f(6本):
いずれも厚み10μm、幅(W4)28μm、
各配線間の幅(S4)12μm
第2の絶縁層114:配線上の厚み(D4)5μm
金属支持基板111の開口端部と配線群との間隔:間隔(LS4)25μm
[Comparative Example 2]
In the conventional suspension substrate 140 having the configuration shown in FIG. 20, simulation was performed with a target differential impedance of 20Ω. As a result, the −3 dB bandwidth at a wiring length of 40 mm obtained under the following conditions was 5.6 GHz. The obtained differential impedance value was 19.5Ω.
<Simulation conditions>
Wirings 123a to 123f (six):
In any case, the thickness is 10 μm, the width (W4) is 28 μm,
Width between each wiring (S4) 12μm
Second insulating layer 114: thickness on wiring (D4) 5 μm
Interval between the opening end of the metal support substrate 111 and the wiring group: Interval (LS4) 25 μm

上記の結果について、説明する。
まず、要求される差動インピーダンスが30Ωの場合は、従来の4本の配線からなるインターリーブ配線構造を単層のみに有する構成でも達成可能であった。
しかしながら、例えば、比較例1に示すように、各配線間の幅(S2)が12μmであるのに対し配線の厚みは10μmと実施例1の2倍になり、アスペクト比の高い加工が必要になることから製造には困難性を伴い、得られる帯域幅も6.7GHzと実施例1より劣る結果になった。
一方、本発明のように、インターリーブ配線構造が2層に積層され、下層(第1の配線群)の各第1信号配線と上層(第2の配線群)の各第1信号配線とがそれぞれ絶縁層を介して対向し、下層(第1の配線群)の第2信号配線と上層(第2の配線群)の第2信号配線とがそれぞれ絶縁層を介して対向するように配置された構成であれば、実施例1に示すように、配線領域が比較例1とほぼ同じであっても、各配線間の幅(S1)が12μmであるのに対し配線の厚みは5μmと比較例1の1/2で済むため、製造上の困難性の問題を解消できる。さらに、得られる帯域幅も8.2GHzと広い値を保持でき、比較例1に優る結果であった。
The above result will be described.
First, when the required differential impedance is 30Ω, the conventional interleaved wiring structure composed of four wirings can be achieved with only a single layer.
However, for example, as shown in Comparative Example 1, the width (S2) between the wirings is 12 μm, whereas the wiring thickness is 10 μm, which is twice that of Example 1, and processing with a high aspect ratio is required. As a result, the manufacturing is difficult, and the obtained bandwidth is 6.7 GHz, which is inferior to that of Example 1.
On the other hand, as in the present invention, the interleaved wiring structure is laminated in two layers, and each first signal wiring in the lower layer (first wiring group) and each first signal wiring in the upper layer (second wiring group) are respectively The second signal wiring in the lower layer (first wiring group) and the second signal wiring in the upper layer (second wiring group) are arranged so as to face each other with the insulating layer interposed therebetween. In the configuration, as shown in Example 1, even when the wiring region is almost the same as that of Comparative Example 1, the width (S1) between the wirings is 12 μm, whereas the thickness of the wiring is 5 μm, which is a comparative example. Since 1/2 of 1 is sufficient, the problem of manufacturing difficulty can be solved. Furthermore, the obtained bandwidth could hold a wide value of 8.2 GHz, which was a result superior to that of Comparative Example 1.

次に、要求される差動インピーダンスが20Ωの場合は、従来の4本の配線からなるインターリーブ配線構造を単層のみに有する構成では達成困難であり、例えば、インターリーブ配線構造を単層のみに有する構成では6本の配線が必要であった。
しかしながら、従来のインターリーブ配線構造を単層のみに有する構成では、比較例2に示すように、各配線間の幅(S4)が12μmであるのに対し配線の厚みは10μmと実施例2の2倍の値になり、アスペクト比の高い加工が必要になることから製造には困難性を伴い、得られる帯域幅も5.6GHzと実施例2より劣る結果になった。
一方、本発明のように、インターリーブ配線構造が2層に積層され、下層(第1の配線群)の各第1信号配線と上層(第2の配線群)の各第1信号配線とがそれぞれ絶縁層を介して対向し、下層(第1の配線群)の第2信号配線と上層(第2の配線群)の第2信号配線とがそれぞれ絶縁層を介して対向するように配置された構成であれば、実施例2に示すように、配線領域が比較例2とほぼ同じであっても、各配線間の幅(S3)が15μmであるのに対し配線の厚みは5μmと比較例1の1/2で済むため、製造上の困難性の問題を解消できる。さらに、得られる帯域幅も7.2GHzと広い値を保持でき、比較例2に優る結果であった。
Next, when the required differential impedance is 20Ω, it is difficult to achieve with a conventional configuration having an interleaved wiring structure consisting of four wirings only in a single layer, for example, having an interleaved wiring structure only in a single layer. The configuration required 6 wires.
However, in the configuration having the conventional interleaved wiring structure only in a single layer, as shown in Comparative Example 2, the width (S4) between the wirings is 12 μm, whereas the wiring thickness is 10 μm, which is 2 of Example 2. The value is doubled, and processing with a high aspect ratio is required, which makes manufacturing difficult. The obtained bandwidth is 5.6 GHz, which is inferior to that of Example 2.
On the other hand, as in the present invention, the interleaved wiring structure is laminated in two layers, and each first signal wiring in the lower layer (first wiring group) and each first signal wiring in the upper layer (second wiring group) are respectively The second signal wiring in the lower layer (first wiring group) and the second signal wiring in the upper layer (second wiring group) are arranged so as to face each other with the insulating layer interposed therebetween. In the configuration, as shown in Example 2, even when the wiring area is almost the same as that of Comparative Example 2, the width (S3) between the wirings is 15 μm, whereas the thickness of the wiring is 5 μm. Since 1/2 of 1 is sufficient, the problem of manufacturing difficulty can be solved. Furthermore, the obtained bandwidth could hold a wide value of 7.2 GHz, which was a result superior to that of Comparative Example 2.

1…金属支持基板、 2x…第1の絶縁層、 2y…第2の絶縁層、 3x…第1の配線群、 3y…第2の配線群、 4…カバー層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal support substrate, 2x ... 1st insulating layer, 2y ... 2nd insulating layer, 3x ... 1st wiring group, 3y ... 2nd wiring group, 4 ... Cover layer

Claims (7)

金属支持基板と、前記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、前記第1の配線群および前記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、
前記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、前記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、
前記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、前記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、
前記信号配線Aと前記信号配線Cとが前記第2の絶縁層を介して対向し、前記信号配線Bと前記信号配線Dとが前記第2の絶縁層を介して対向するように、前記第1の配線群および前記第2の配線群が配置され、
前記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、
前記配線aは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、前記配線a上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、前記配線cと電気的に接続され、
前記配線aは、前記配線a上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、前記配線cと電気的に接続され、
前記配線cおよび前記配線cは、前記信号配線Cに属するジャンパー配線JC12により電気的に接続され、
前記配線bは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、前記配線b上に形成され、前記ジャンパー配線Jc12を境として、平面視において前記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、前記配線dと電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。
A metal support substrate; a first insulating layer formed on the metal support substrate; a first wiring group formed on the first insulating layer; the first wiring group; A suspension substrate having a second insulating layer formed on one insulating layer and a second wiring group formed on the second insulating layer,
The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings that are electrically connected to each other, and a signal having a plurality of wirings that are electrically independent from each other and electrically connected to each other. Wiring B is alternately arranged in a plane,
The second wiring group includes a signal wiring C having a plurality of wirings electrically connected to each other, and a signal having a plurality of wirings electrically independent from each other and electrically connected to each other. Wirings D are alternately arranged in a plane,
The signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. 1 wiring group and the second wiring group are arranged,
The signal wirings A to D have wirings a 1 to d 1 and wirings a 2 to d 2 , respectively.
The wiring a 1 is electrically connected to the connection terminal T α1, and is formed on the wiring a 1 , and is connected to the wiring c 1 by a via portion V ac11 penetrating the second insulating layer. Electrically connected,
The wiring a 2 is electrically connected to the wiring c 2 by a via portion V ac21 formed on the wiring a 2 and penetrating the second insulating layer.
The wiring c 1 and the wiring c 2 are electrically connected by a jumper wiring J C12 belonging to the signal wiring C,
The wiring b 1 is electrically connected to the connection terminal T β1 , further formed on the wiring b 1, and on the side opposite to the connection terminal T β1 in plan view with the jumper wiring J c12 as a boundary. It is formed, and the second by a via portion V BD 11 passing through the insulating layer, the substrate for suspension, characterized in that connected the wiring d 1 electrically.
前記配線bは、接続端子Tβ2と電気的に接続され、さらに、前記配線b上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、前記配線dと電気的に接続され、
前記配線bは、前記配線b上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、前記配線dと電気的に接続され、
前記配線dおよび前記配線dは、前記信号配線Dに属するジャンパー配線Jd12により電気的に接続され、
前記配線aは、接続端子Tα2と電気的に接続され、さらに、前記配線a上に形成され、前記ジャンパー配線Jd12を境として、平面視において前記接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、前記配線cと電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
The wiring b 2 is electrically connected to the connection terminal T β2, and is further formed on the wiring b 2 and is connected to the wiring d 2 by a via portion V bd22 that penetrates the second insulating layer. Electrically connected,
The wiring b 1 is electrically connected to the wiring d 1 by a via portion V bd12 formed on the wiring b 1 and penetrating the second insulating layer.
The wiring d 1 and the wiring d 2 are electrically connected by a jumper wiring J d12 belonging to the signal wiring D,
The wiring a 2 is electrically connected to the connection terminal T α2 , further formed on the wiring a 2, and on the side opposite to the connection terminal T α2 in plan view with the jumper wiring J d12 as a boundary. It is formed, and the second by a via portion V AC 22 passing through the insulating layer, suspension substrate according to claim 1, characterized in that connected the wiring c 2 and electrically.
金属支持基板と、前記金属支持基板の上に形成された第1の絶縁層と、前記第1の絶縁層の上に形成された第1の配線群と、前記第1の配線群および前記第1の絶縁層の上に形成された第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層の上に形成された第2の配線群と、を有するサスペンション用基板であって、
前記第1の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Aと、前記信号配線Aとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Bとを、平面的に交互配列させて有し、
前記第2の配線群は、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Cと、前記信号配線Cとは電気的に独立し、互いに電気的に接続された複数の配線を有する信号配線Dとを、平面的に交互配列させて有し、
前記信号配線Aと前記信号配線Cとが前記第2の絶縁層を介して対向し、前記信号配線Bと前記信号配線Dとが前記第2の絶縁層を介して対向するように、前記第1の配線群および前記第2の配線群が配置され、
前記信号配線A〜Dは、それぞれ、配線a〜dおよび配線a〜dを有し、
前記配線cは、接続端子Tα1と電気的に接続され、さらに、前記配線a上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac11により、前記配線aと電気的に接続され、
前記配線cは、前記配線a上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac21により、前記配線aと電気的に接続され、
前記配線aおよび前記配線aは、前記信号配線Aに属するジャンパー配線Ja12により電気的に接続され、
前記配線dは、接続端子Tβ1と電気的に接続され、さらに、前記配線b上に形成され、前記ジャンパー配線Ja12を境として、平面視において前記接続端子Tβ1とは反対側に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd11により、前記配線bと電気的に接続されていることを特徴とするサスペンション用基板。
A metal support substrate; a first insulating layer formed on the metal support substrate; a first wiring group formed on the first insulating layer; the first wiring group; A suspension substrate having a second insulating layer formed on one insulating layer and a second wiring group formed on the second insulating layer,
The first wiring group includes a signal wiring A having a plurality of wirings that are electrically connected to each other, and a signal having a plurality of wirings that are electrically independent from each other and electrically connected to each other. Wiring B is alternately arranged in a plane,
The second wiring group includes a signal wiring C having a plurality of wirings electrically connected to each other, and a signal having a plurality of wirings electrically independent from each other and electrically connected to each other. Wirings D are alternately arranged in a plane,
The signal wiring A and the signal wiring C are opposed to each other through the second insulating layer, and the signal wiring B and the signal wiring D are opposed to each other through the second insulating layer. 1 wiring group and the second wiring group are arranged,
The signal wirings A to D have wirings a 1 to d 1 and wirings a 2 to d 2 , respectively.
The wiring c 1 is connected to the connection terminals T [alpha] 1 and electrically, furthermore, is formed on the wiring a 1, and by the via V AC11 which penetrates the second insulating layer, and the wiring a 1 Electrically connected,
The wiring c 2 is electrically connected to the wiring a 2 by a via portion V ac21 formed on the wiring a 2 and penetrating the second insulating layer.
The wiring a 1 and the wiring a 2 are electrically connected by a jumper wiring J a12 belonging to the signal wiring A,
The wiring d 1 is electrically connected to the connection terminal T β1 , further formed on the wiring b 1, and on the side opposite to the connection terminal T β1 in plan view with the jumper wiring J a12 as a boundary. A suspension substrate, which is formed and is electrically connected to the wiring b 1 by a via portion V bd11 penetrating the second insulating layer.
前記配線dは、接続端子Tβ2と電気的に接続され、さらに、前記配線b上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd22により、前記配線bと電気的に接続され、
前記配線dは、前記配線b上に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vbd12により、前記配線bと電気的に接続され、
前記配線bおよび前記配線bは、前記信号配線Bに属するジャンパー配線Jb12により電気的に接続され、
前記配線cは、接続端子Tα2と電気的に接続され、さらに、前記配線a上に形成され、前記ジャンパー配線Jb12を境として、平面視において前記接続端子Tα2とは反対側に形成され、かつ、前記第2の絶縁層を貫通するビア部Vac22により、前記配線aと電気的に接続されていることを特徴とする請求項3に記載のサスペンション用基板。
The wiring d 2, a connection terminal T .beta.2 and is electrically connected, further, are formed on the wiring b 2, and by the via V BD22 which penetrates the second insulating layer, and the wiring b 2 Electrically connected,
The wiring d 1 is electrically connected to the wiring b 1 by a via portion V bd12 formed on the wiring b 1 and penetrating the second insulating layer.
The wiring b 1 and the wiring b 2 are electrically connected by a jumper wiring J b12 belonging to the signal wiring B,
The wiring c 2 is connected a connection terminal T [alpha] 2 and electrically, furthermore, is formed on the wiring a 2, a boundary the jumper wiring J b12, on the opposite side to the connection terminal T [alpha] 2 in a plan view is formed, and the second by a via portion V AC 22 passing through the insulating layer, suspension substrate according to claim 3, characterized in that it is the wiring a 2 electrically connected.
請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンション。   A suspension board comprising: the suspension board according to any one of claims 1 to 4; and a load beam provided on a surface of the suspension board on the metal support board side. . 請求項5に記載のサスペンションと、前記サスペンションに配置された記録再生用素子と、を有することを特徴とする素子付サスペンション。   6. A suspension with an element, comprising: the suspension according to claim 5; and a recording / reproducing element disposed on the suspension. 請求項6に記載の素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with an element according to claim 6.
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