JP2014191359A - Input device, display device, and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、入力装置、表示装置、および電子機器に関する。 The present invention relates to an input device, a display device, and an electronic device.
従来から、指と検出電極との間における静電容量の変化を捉えて入力位置を検出する入力装置が知られている。このような入力装置は、基体上に検出電極および遮光層が設けられている。また、遮光層上に検出用配線が設けられており、当該検出用配線と検出電極とが電気的に接続されている(例えば、特許文献1参照)。また、遮光層上には、例えば、電気的ノイズから検出用配線を保護する目的で、導電層が設けられている。当該導電層は、検出用配線とは離間して位置する。 2. Description of the Related Art Conventionally, an input device that detects an input position by detecting a change in capacitance between a finger and a detection electrode is known. In such an input device, a detection electrode and a light shielding layer are provided on a substrate. In addition, a detection wiring is provided on the light shielding layer, and the detection wiring and the detection electrode are electrically connected (for example, see Patent Document 1). On the light shielding layer, for example, a conductive layer is provided for the purpose of protecting the detection wiring from electrical noise. The conductive layer is located away from the detection wiring.
しかしながら、上記の入力装置では、遮光層上に検出用配線および導電層が設けられているため、検出精度が低下してしまう可能性があった。すなわち、遮光層は、例えば、導電性を有する着色材料を含んでおり、当該遮光層を介して、検出用配線と導電層との間にインピーダンスが生じる可能性があるからである。 However, in the above input device, since the detection wiring and the conductive layer are provided on the light shielding layer, there is a possibility that the detection accuracy is lowered. That is, the light shielding layer includes, for example, a conductive coloring material, and impedance may be generated between the detection wiring and the conductive layer through the light shielding layer.
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる入力装置、表示装置、および電子機器に関する。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is related to an input device, a display device, and an electronic apparatus that can reduce the possibility of a decrease in detection accuracy.
本発明の入力装置における一態様は、基体と、該基体上に設けられた検出電極と、前記基体上に設けられた第1遮光層と、該第1遮光層上に設けられており、前記検出電極と電気的に接続された検出用配線と、前記第1遮光層上に設けられており、前記検出用配線とは離間して位置する導電層と、を備え、前記第1遮光層は、平面視して前記検出用配線と前記導電層との間に位置する部位において、開口部が設けられている。 One aspect of the input device of the present invention is provided on a base, a detection electrode provided on the base, a first light shielding layer provided on the base, and the first light shielding layer, A detection wiring electrically connected to the detection electrode; and a conductive layer provided on the first light shielding layer and spaced apart from the detection wiring, wherein the first light shielding layer comprises: An opening is provided in a portion located between the detection wiring and the conductive layer in plan view.
本発明の表示装置における一態様は、本発明に係る入力装置と、該入力装置に対向して配置された表示パネルと、を備える。 One aspect of the display device of the present invention includes the input device according to the present invention and a display panel disposed to face the input device.
本発明の電子機器における一態様は、本発明に係る表示装置と、該表示装置が収容された筐体と、を備える。 One embodiment of the electronic device of the present invention includes the display device according to the present invention and a housing in which the display device is accommodated.
本発明の入力装置、表示装置、および電子機器は、検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる、という効果を奏する。 The input device, the display device, and the electronic apparatus according to the present invention have an effect that the possibility that the detection accuracy is lowered can be reduced.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
但し、以下で参照する各図は、説明の便宜上、本発明の一実施形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要部材を簡略化して示したものである。したがって、本発明に係る入力装置、表示装置、および電子機器は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。 However, for convenience of explanation, the drawings to be referred to below show simplified main members necessary for explaining the present invention, among the constituent members of one embodiment of the present invention. Therefore, the input device, the display device, and the electronic device according to the present invention can include arbitrary constituent members that are not shown in the drawings referred to in this specification.
図1〜図3に示すように、本実施形態に係る入力装置X1は、投影型の静電容量方式タッチパネルであって、入力領域E1および非入力領域E2を有している。入力領域E1は、使用者が入力操作を行うことができる領域である。非入力領域E2は、使用者が入力操作を行うことができない領域である。本実施形態に係る非入力領域E2は、入力領域E1を取り囲むように当該入力領域E1の外側に位置しているが、これに限らない。非入力領域E2は、例えば、入力領域E1に取り囲まれるように位置していてもよい。 As shown in FIGS. 1 to 3, the input device X <b> 1 according to the present embodiment is a projected capacitive touch panel, and has an input area E <b> 1 and a non-input area E <b> 2. The input area E1 is an area where the user can perform an input operation. The non-input area E2 is an area where the user cannot perform an input operation. The non-input area E2 according to the present embodiment is located outside the input area E1 so as to surround the input area E1, but is not limited thereto. The non-input area E2 may be located so as to be surrounded by the input area E1, for example.
なお、本実施形態に係る入力装置X1は、カバーガラス一体型の静電容量方式のタッチパネルであるが、これに限らず、積層型、オン・セル型、あるいはイン・セル型の静電容量方式のタッチパネルであってもよい。 The input device X1 according to the present embodiment is a cover glass-integrated capacitive touch panel, but is not limited thereto, and is not limited to this, and is a laminated, on-cell, or in-cell capacitive method. It may be a touch panel.
入力装置X1は、基体2、第1検出電極パターン3、第2検出電極パターン4、絶縁体5、第1遮光層6、第1被覆層7、検出用配線8、導電層9、第2被覆層10、第1保護層11、および第2保護層12を備える。 The input device X1 includes a base body 2, a first detection electrode pattern 3, a second detection electrode pattern 4, an insulator 5, a first light shielding layer 6, a first coating layer 7, a detection wiring 8, a conductive layer 9, and a second coating. A layer 10, a first protective layer 11, and a second protective layer 12 are provided.
まず、図1〜図3を参照しながら、基体2、第1検出電極パターン3、第2検出電極パターン4、および絶縁体5について説明する。なお、図1では、説明の便宜上、絶縁体5の図示は省略する。 First, the base | substrate 2, the 1st detection electrode pattern 3, the 2nd detection electrode pattern 4, and the insulator 5 are demonstrated, referring FIGS. 1-3. In FIG. 1, the insulator 5 is not shown for convenience of explanation.
基体2は、入力装置X1が備える全ての部材を支持する役割を有する。基体2は、第1主面2Aおよび第2主面2Bを有する。第1主面2Aは、第2主面2Bよりも使用者側に位置している。第2主面2Bは、第1主面2Aの反対側に位置している。なお、本実施形態では、基体2は、平面視して、略矩形状であるが、これに限らず、楕円形状あるいは多角形状であってもよい。 The base 2 has a role of supporting all members included in the input device X1. The base 2 has a first main surface 2A and a second main surface 2B. The first main surface 2A is located closer to the user than the second main surface 2B. The second main surface 2B is located on the opposite side of the first main surface 2A. In the present embodiment, the base body 2 has a substantially rectangular shape in plan view, but is not limited thereto, and may be an elliptical shape or a polygonal shape.
基体2は、絶縁性を有する。また、基体2は、基体2の第1主面2Aおよび第2主面2Bに交差する方向に入射する光に対して透光性を有する。ここで、本明細書において「透光性」とは、可視光の一部または全部を透過する性質を意味する。本実施形態では、基体
2の構成材料は、ガラスである。ガラスとしては、強度向上のため、イオン交換によって化学強化されたガラスを用いることが好ましい。なお、基体2を化学強化した場合、化学強化した層も基体2に含まれると解することができる。また、基体2の構成材料は、ガラスに限らず、例えば、プラスチック等であってもよい。
The base 2 has an insulating property. In addition, the base 2 is translucent to light incident in a direction intersecting the first main surface 2A and the second main surface 2B of the base 2. Here, “translucency” in this specification means a property of transmitting part or all of visible light. In the present embodiment, the constituent material of the base 2 is glass. As the glass, it is preferable to use glass chemically strengthened by ion exchange in order to improve strength. In addition, when the base 2 is chemically strengthened, it can be understood that the base 2 also includes a chemically strengthened layer. Further, the constituent material of the base 2 is not limited to glass, and may be plastic, for example.
第1検出電極パターン3は、入力領域E1に対応する基体2の第1主面2Aに接近した使用者の指F1との間において静電容量を発生し、Y方向における入力位置を検出する役割を有する。第1検出電極パターン3は、入力領域E1に対応する基体2の第2主面2B上に、Y方向に並んで複数設けられている。また、第1検出電極パターン3は、第1検出電極3aおよび第1電極間配線3bを有する。 The first detection electrode pattern 3 generates capacitance between the user's finger F1 approaching the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the input area E1, and detects the input position in the Y direction. Have A plurality of first detection electrode patterns 3 are provided side by side in the Y direction on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the input region E1. The first detection electrode pattern 3 includes a first detection electrode 3a and a first inter-electrode wiring 3b.
第1検出電極3aは、使用者の指F1との間において静電容量を発生する役割を有する。第1検出電極3aは、X方向に並んで複数設けられている。第1電極間配線3bは、第1検出電極3a同士を電気的に接続する役割を有する。第1電極間配線3bは、互いに隣り合う第1検出電極3aの間に設けられている。 The 1st detection electrode 3a has a role which generate | occur | produces an electrostatic capacitance between user's fingers F1. A plurality of first detection electrodes 3a are provided side by side in the X direction. The first inter-electrode wiring 3b has a role of electrically connecting the first detection electrodes 3a. The first inter-electrode wiring 3b is provided between the first detection electrodes 3a adjacent to each other.
第2検出電極パターン4は、入力領域E1に対応する基体2の第1主面2Aに接近した使用者の指F1との間において静電容量を発生し、X方向における入力位置を検出する役割を有する。第2検出電極パターン4は、入力領域E1に対応する基体2の第2主面2B上に、X方向に並んで複数設けられている。また、第2検出電極パターン4は、第2検出電極4aおよび第2電極間配線4bを有する。 The second detection electrode pattern 4 generates capacitance between the user's finger F1 approaching the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the input region E1, and detects the input position in the X direction. Have A plurality of second detection electrode patterns 4 are provided side by side in the X direction on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the input region E1. The second detection electrode pattern 4 includes a second detection electrode 4a and a second interelectrode wiring 4b.
第2検出電極4aは、使用者の指F1との間において静電容量を発生する役割を有する。第2検出電極4aは、Y方向に並んで複数設けられている。第2電極間配線4bは、第2検出電極4a同士を電気的に接続する役割を有する。第2電極間配線4bは、互いに隣り合う第2検出電極4aの間において、第1電極間配線3bと電気的に絶縁するように、絶縁体5を跨いで当該絶縁体5上に設けられている。ここで、絶縁体5は、第1電極間配線3bを覆うように基体2の第2主面2B上に設けられている。絶縁体5の構成材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、二酸化ケイ素、あるいは窒化珪素等の透明樹脂が挙げられる。 The 2nd detection electrode 4a has a role which generate | occur | produces an electrostatic capacitance between user's fingers F1. A plurality of second detection electrodes 4a are provided side by side in the Y direction. The second inter-electrode wiring 4b has a role of electrically connecting the second detection electrodes 4a. The second inter-electrode wiring 4b is provided on the insulator 5 across the insulator 5 so as to be electrically insulated from the first inter-electrode wiring 3b between the second detection electrodes 4a adjacent to each other. Yes. Here, the insulator 5 is provided on the second main surface 2B of the base 2 so as to cover the first inter-electrode wiring 3b. Examples of the constituent material of the insulator 5 include transparent resins such as acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, silicon dioxide, or silicon nitride.
上述の第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4の構成材料としては、透光性を有する導電性部材が挙げられる。透光性を有する導電性部材としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、AZO(Al-Doped Zinc Oxide)、酸化錫、酸化亜鉛、あるいは導電性高分子が挙げられる。 As a constituent material of the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 described above, a conductive member having translucency can be cited. Examples of the light-transmitting conductive member include ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), AZO (Al-Doped Zinc Oxide), tin oxide, zinc oxide, or a conductive polymer. .
第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4の形成方法としては、例えば、上述の材料をスパッタリング法、蒸着法、あるいはCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって基体2の第2主面2B上に成膜する。そして、この膜の表面に感光性樹脂を塗布し、露光、現像、エッチング工程を経て、膜がパターニングされることで、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4が形成される。 As a method for forming the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4, for example, the above-described materials are formed on the second main surface 2 </ b> B of the base 2 by sputtering, vapor deposition, or CVD (Chemical Vapor Deposition). Form a film. And the photosensitive resin is apply | coated to the surface of this film | membrane, the 1st detection electrode pattern 3 and the 2nd detection electrode pattern 4 are formed by patterning a film | membrane through an exposure, image development, and an etching process.
次に、図1〜図3に加えて、図4および図5を参照しながら、第1遮光層6、第1被覆層7、検出用配線8、導電層9、第2被覆層10、第1保護層11、および第2保護層12について説明する。 Next, referring to FIGS. 4 and 5 in addition to FIGS. 1 to 3, the first light shielding layer 6, the first coating layer 7, the detection wiring 8, the conductive layer 9, the second coating layer 10, The 1st protective layer 11 and the 2nd protective layer 12 are demonstrated.
第1遮光層6は、入力装置X1の非入力領域E2を遮光する役割を有する。このため、第1遮光層6は、遮光性を有する。なお、本明細書において「遮光性」とは、入射した光の一部または全部を遮蔽する性質を指す。第1遮光層6は、非入力領域E2に対応する基体2の第2主面2B上に設けられている。また、第1遮光層6は、開口部6aを有してい
る。本実施形態では、開口部6aは、導電層9に沿って設けられている。このため、開口部6aは、平面視して入力領域E1および検出用配線8を取り囲むように位置している。
The first light shielding layer 6 serves to shield the non-input area E2 of the input device X1. For this reason, the 1st light shielding layer 6 has light-shielding property. In this specification, “light shielding” refers to the property of shielding part or all of incident light. The first light shielding layer 6 is provided on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the non-input area E2. The first light shielding layer 6 has an opening 6a. In the present embodiment, the opening 6 a is provided along the conductive layer 9. Therefore, the opening 6a is positioned so as to surround the input region E1 and the detection wiring 8 in plan view.
第1遮光層6の構成材料としては、樹脂材料に着色材料を含んだものが挙げられる。樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、あるいはシリコーン系樹脂が挙げられる。着色材料としては、例えば、カーボン、チタン、あるいはクロムが挙げられる。遮光層6の形成方法としては、例えば、スクリーン印刷法、スパッタリング法、CVD法、あるいは蒸着法が挙げられる。 Examples of the constituent material of the first light shielding layer 6 include a resin material containing a coloring material. Examples of the resin material include acrylic resins, epoxy resins, and silicone resins. Examples of the coloring material include carbon, titanium, and chromium. Examples of the method for forming the light shielding layer 6 include a screen printing method, a sputtering method, a CVD method, and a vapor deposition method.
第1被覆層7は、第1遮光層6を保護する役割を有する。ここで、第1遮光層6を保護する役割としては、例えば、第1遮光層6を水分の吸湿による腐食から保護する役割、あるいは、第1遮光層6の材質が変質してしまう可能性を低減する役割が挙げられる。第1被覆層7は、非入力領域E2に対応する基体2の第2主面2B上に設けられている。また、第1被覆層7は、第1遮光層6を被覆している。 The first covering layer 7 has a role of protecting the first light shielding layer 6. Here, as a role of protecting the first light shielding layer 6, for example, a role of protecting the first light shielding layer 6 from corrosion due to moisture absorption, or a possibility that the material of the first light shielding layer 6 is altered. The role to reduce is mentioned. The first covering layer 7 is provided on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the non-input area E2. The first covering layer 7 covers the first light shielding layer 6.
第1被覆層7の構成材料としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂、あるいはウレタン系樹脂が挙げられる。第1被覆層7の形成方法としては、例えば、転写印刷法、スピンコート法、あるいはスリットコート法が挙げられる。 Examples of the constituent material of the first coating layer 7 include acrylic resins, silicone resins, rubber resins, and urethane resins. Examples of the method for forming the first coating layer 7 include a transfer printing method, a spin coating method, and a slit coating method.
検出用配線8は、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4と指F1との間において発生した静電容量の変化を検出する役割を有する。検出用配線8は、第1遮光層6上に設けられている。具体的には、検出用配線8は、被覆層7上に設けられている。検出用配線8は、複数設けられており、一方の群と他方の群とに分けられる。一方の群に含まれる検出用配線8は、一端が第1検出電極パターン3に接続され、他端が外部導通領域G1に位置している。また、他方の群に含まれる検出用配線8は、一端が第2検出電極パターン4に電気的に接続され、他端が外部導通領域G1に位置している。外部導通領域G1に位置する検出用配線8の他端は、例えば、図示しないフレキシブルプリント配線基板を介して、図示しない位置検出ドライバと電気的に接続される。 The detection wiring 8 has a role of detecting a change in capacitance generated between the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 and the finger F1. The detection wiring 8 is provided on the first light shielding layer 6. Specifically, the detection wiring 8 is provided on the coating layer 7. A plurality of detection wirings 8 are provided, and are divided into one group and the other group. One end of the detection wiring 8 included in one group is connected to the first detection electrode pattern 3, and the other end is located in the external conduction region G1. In addition, the detection wiring 8 included in the other group has one end electrically connected to the second detection electrode pattern 4 and the other end positioned in the external conduction region G1. The other end of the detection wiring 8 located in the external conduction region G1 is electrically connected to a position detection driver (not shown) via, for example, a flexible printed wiring board (not shown).
検出用配線8は、硬質で高い形状安定性を得るべく、金属薄膜で形成される。金属薄膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム膜、アルミニウム合金膜、クロム膜とアルミニウム膜との積層膜、クロム膜とアルミニウム合金膜との積層膜、銀膜、銀合金膜、あるいは金合金膜が挙げられる。金属薄膜の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、CVD法、あるいは蒸着法が挙げられる。 The detection wiring 8 is made of a metal thin film so as to be hard and have high shape stability. Examples of the constituent material of the metal thin film include an aluminum film, an aluminum alloy film, a laminated film of a chromium film and an aluminum film, a laminated film of a chromium film and an aluminum alloy film, a silver film, a silver alloy film, or a gold alloy film. Can be mentioned. Examples of the method for forming the metal thin film include a sputtering method, a CVD method, and a vapor deposition method.
導電層9は、例えば、静電気の影響によって入力装置X1に誤動作が生じる役割を有する。導電層9は、第1遮光層6上に設けられている。具体的には、導電層9は、第1被覆層7上に設けられている。また、導電層9は、検出用配線8とは離間して位置している。具体的には、本実施形態では、導電層9は、平面視して入力領域E1および検出用配線8を取り囲むように位置している。なお、導電層9の平面視形状および配置位置は、任意であり、入力装置X1の実施態様に合わせて適宜変更することができる。導電層9の構成材料および形成方法としては、検出用配線8と同様のものが挙げられる。 For example, the conductive layer 9 has a role of causing a malfunction in the input device X1 due to the influence of static electricity. The conductive layer 9 is provided on the first light shielding layer 6. Specifically, the conductive layer 9 is provided on the first coating layer 7. In addition, the conductive layer 9 is positioned away from the detection wiring 8. Specifically, in the present embodiment, the conductive layer 9 is positioned so as to surround the input region E1 and the detection wiring 8 in plan view. In addition, the planar view shape and arrangement | positioning position of the conductive layer 9 are arbitrary, and can be suitably changed according to the embodiment of the input device X1. As a constituent material and a forming method of the conductive layer 9, the same material as that of the detection wiring 8 can be used.
ここで、図4および図5に示すように、開口部6aは、第1遮光層6のうち平面視して検出用配線8と導電層9との間に位置する部位に設けられている。このため、入力装置X1の検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる。 Here, as shown in FIGS. 4 and 5, the opening 6 a is provided in a portion of the first light shielding layer 6 located between the detection wiring 8 and the conductive layer 9 in plan view. For this reason, possibility that the detection accuracy of input device X1 will fall can be reduced.
具体的には、第1遮光層は、非入力領域を遮光する目的で、着色材料を含んでいる。ここで、当該着色材料は、僅かであっても導電性を有する可能性がある。第1遮光層が導電性を有すると、当該第1遮光層上に位置する検出用配線と導電層との間には、第1遮光層
を介してインピーダンスが生じる可能性があった。ここで、入力装置では、例えば、第2検出電極パターンに所定の電圧を印加することで、第1検出電極パターンから出力された電流値を計測することによって、使用者における入力操作位置を検出する。このような場合に、検出用配線と導電層との間にインピーダンスが生じると、当該電流値を正確に計測することができず、検出精度が低下してしまう可能性があった。特に、検出用配線と導電層との間には、電位差が生じる可能性が高く、当該電位差によって、上記のインピーダンスは生じやすかった。
Specifically, the first light shielding layer includes a coloring material for the purpose of shielding the non-input area. Here, there is a possibility that the coloring material has conductivity even if it is slight. When the first light shielding layer has conductivity, there is a possibility that impedance is generated between the detection wiring located on the first light shielding layer and the conductive layer via the first light shielding layer. Here, in the input device, for example, by applying a predetermined voltage to the second detection electrode pattern, the input operation position in the user is detected by measuring the current value output from the first detection electrode pattern. . In such a case, if an impedance is generated between the detection wiring and the conductive layer, the current value cannot be accurately measured, and the detection accuracy may be reduced. In particular, there is a high possibility that a potential difference is generated between the detection wiring and the conductive layer, and the impedance is likely to be generated due to the potential difference.
そこで、入力装置X1では、第1遮光層6は、平面視して検出用配線8と導電層9との間に位置する部位において、開口部6aが設けられている。このため、第1遮光層6を介して検出用配線8と導電層9との間にインピーダンスが生じる可能性を低減することができる。そのため、第1遮光層6の影響によって入力装置X1の検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる。 Therefore, in the input device X1, the first light shielding layer 6 is provided with an opening 6a in a portion located between the detection wiring 8 and the conductive layer 9 in plan view. For this reason, it is possible to reduce the possibility that an impedance is generated between the detection wiring 8 and the conductive layer 9 via the first light shielding layer 6. Therefore, the possibility that the detection accuracy of the input device X1 is lowered due to the influence of the first light shielding layer 6 can be reduced.
なお、本実施形態のように、開口部6aは、平面視して導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との間の領域G2位置することが好ましい。ここで、複数の検出用配線8のうち導電層9に最も遠い側に位置する検出用配線8と、導電層9との間には、第1遮光層6を介してインピーダンスが生じやすい。本実施形態のように、開口部6aが領域G2に位置していると、検出用配線8と導電層9との間にインピーダンスが生じる可能性をより低減することができる。なお、本明細書において、領域G2とは、平面視して導電層9のうち検出用配線8から最も遠い側に位置する外縁と、導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8のうち導電層9から最も遠い側に位置する外縁との間の領域を指す。このため、開口部6aは、平面視して導電層9と重なっていてもよい。また、開口部6aは、平面視して導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8と重なっていてもよい。 As in the present embodiment, the opening 6a is preferably located in the region G2 between the conductive layer 9 and the detection wiring 8 located on the side closest to the conductive layer 9 in plan view. Here, impedance is easily generated between the detection wiring 8 located on the side farthest from the conductive layer 9 among the plurality of detection wirings 8 and the conductive layer 9 via the first light shielding layer 6. When the opening 6a is located in the region G2 as in the present embodiment, the possibility that an impedance is generated between the detection wiring 8 and the conductive layer 9 can be further reduced. In this specification, the region G2 refers to the outer edge of the conductive layer 9 that is farthest from the detection wiring 8 in plan view and the detection wiring 8 that is closest to the conductive layer 9 in plan view. Of these, the region between the outer edge located on the side farthest from the conductive layer 9 is indicated. For this reason, the opening 6a may overlap with the conductive layer 9 in plan view. Further, the opening 6 a may overlap with the detection wiring 8 positioned on the side closest to the conductive layer 9 in plan view.
また、本実施形態のように、導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との離間距離D1は、互いに隣り合う検出用配線8同士の離間距離D2よりも大きいことが好ましい。ここで、離間距離D1が相対的に小さいと、第1遮光層6を介して導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との間にインピーダンスが生じやすくなる。本実施形態のように、離間距離D1が離間距離D2よりも大きいと、検出用配線8と導電層9との間にインピーダンスが生じる可能性をより低減することができる。なお、本明細書において、離間距離D1とは、平面視における導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との最短距離を指す。また、本明細書において、離間距離D2とは、平面視における互いに隣り合う検出用配線8同士の最短距離を指す。 Further, as in this embodiment, the separation distance D1 between the conductive layer 9 and the detection wiring 8 located on the side closest to the conductive layer 9 is larger than the separation distance D2 between the detection wirings 8 adjacent to each other. It is preferable. Here, when the separation distance D <b> 1 is relatively small, an impedance is easily generated between the conductive layer 9 and the detection wiring 8 located on the side closest to the conductive layer 9 via the first light shielding layer 6. When the separation distance D1 is larger than the separation distance D2 as in the present embodiment, the possibility that an impedance is generated between the detection wiring 8 and the conductive layer 9 can be further reduced. In this specification, the separation distance D1 refers to the shortest distance between the conductive layer 9 and the detection wiring 8 located on the side closest to the conductive layer 9 in plan view. In this specification, the separation distance D2 indicates the shortest distance between the detection wirings 8 adjacent to each other in plan view.
また、本実施形態のように、導電層9は、検出用配線8を挟んで第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4の反対側に位置することが好ましい。換言すれば、導電層9は、検出用配線8よりも入力領域E1から遠い側に位置することが好ましい。このような構成によれば、入力装置X1が表示装置Y1に組み込まれた場合に(図6参照)、第1筺体100と入力装置X1との間を介して当該第1筺体100内に静電気が飛び込んだ場合に、当該静電気が検出用配線8に侵入する可能性を低減することができる。 Further, as in the present embodiment, the conductive layer 9 is preferably located on the opposite side of the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 with the detection wiring 8 interposed therebetween. In other words, the conductive layer 9 is preferably located on the side farther from the input region E1 than the detection wiring 8. According to such a configuration, when the input device X1 is incorporated in the display device Y1 (see FIG. 6), static electricity is generated in the first housing 100 via the first housing 100 and the input device X1. When jumping in, the possibility that the static electricity enters the detection wiring 8 can be reduced.
また、本実施形態のように、導電層9は、入力領域E1を取り囲むように位置することが好ましい。導電層9が入力領域E1を取り囲むように位置していると、当該入力領域E1に位置する第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4に静電気が侵入する可能性を低減することができる。なお、導電層9は、入力領域E1を完全に取り囲んでいなくともよい。本実施形態では、導電層9の一端および他端は、互いに離間しており、外部導通領域G1に位置している。すなわち、入力領域E1は、導電層9および外部導通領域G1によって取り囲まれている。このよう場合であっても、導電層9は、入力領域E1
を取り囲むように位置していることになる。
In addition, as in the present embodiment, the conductive layer 9 is preferably positioned so as to surround the input region E1. When the conductive layer 9 is positioned so as to surround the input region E1, the possibility of static electricity entering the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 positioned in the input region E1 can be reduced. . Note that the conductive layer 9 may not completely surround the input region E1. In the present embodiment, one end and the other end of the conductive layer 9 are separated from each other and are located in the external conduction region G1. That is, the input region E1 is surrounded by the conductive layer 9 and the external conduction region G1. Even in such a case, the conductive layer 9 is in the input region E1.
It will be located to surround.
また、導電層9は、基準電位に設定されることが好ましい。導電層9が基準電位に設定されていると、入力装置X1の外部から侵入した静電気が、当該導電層9に飛び込みやすくなる。このため、静電気の影響によって入力装置X1に誤動作が生じる可能性をより低減することができる。本実施形態では、導電層9の一端および他端は、外部導通領域G1に位置している。このため、導電層9の一端および他端は、例えば、検出用配線8の他端と接続されるフレキシブルプリント配線基板等を介して、基準電位に接続することができる。 The conductive layer 9 is preferably set to a reference potential. When the conductive layer 9 is set to the reference potential, static electricity that enters from the outside of the input device X1 is likely to jump into the conductive layer 9. For this reason, it is possible to further reduce the possibility of malfunction in the input device X1 due to the influence of static electricity. In the present embodiment, one end and the other end of the conductive layer 9 are located in the external conduction region G1. Therefore, one end and the other end of the conductive layer 9 can be connected to the reference potential via, for example, a flexible printed wiring board connected to the other end of the detection wiring 8.
第2被覆層10は、検出用配線8および導電層9を保護する役割を有する。検出用配線8および導電層9を保護する役割としては、例えば、水分の吸湿による腐食から保護する役割が挙げられる。第2被覆層10は、非入力領域E2に対応する基体2の第2主面2B上に設けられている。具体的には、第2被覆層10は、第1被覆層7上に位置している。また、第2被覆層10は、検出用配線8および導電層9を被覆している。なお、第2被覆層10は、検出用配線8を被覆するとともに、導電層9を被覆していなくともよい。第2被覆層10が導電層9を被覆していない場合、当該導電層9に静電気が飛び込みやすくなる。このため、静電気の影響によって入力装置X1に誤動作が生じる可能性をより低減することができる。また、第2被覆層10は、外部導通領域G1には設けられていない。第2被覆層10の構成材料および形成方法としては、第1被覆層7と同様のものが挙げられる。 The second coating layer 10 has a role of protecting the detection wiring 8 and the conductive layer 9. The role of protecting the detection wiring 8 and the conductive layer 9 includes, for example, the role of protecting from corrosion due to moisture absorption. The second coating layer 10 is provided on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the non-input area E2. Specifically, the second coating layer 10 is located on the first coating layer 7. The second coating layer 10 covers the detection wiring 8 and the conductive layer 9. The second coating layer 10 may cover the detection wiring 8 and may not cover the conductive layer 9. When the second coating layer 10 does not cover the conductive layer 9, static electricity easily enters the conductive layer 9. For this reason, it is possible to further reduce the possibility of malfunction in the input device X1 due to the influence of static electricity. Further, the second coating layer 10 is not provided in the external conduction region G1. As the constituent material and the forming method of the second coating layer 10, the same materials as those of the first coating layer 7 can be used.
第1保護層11は、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4を保護する役割を有する。ここで、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4を保護する役割としては、例えば、水分の吸湿による腐食から保護する役割、あるいは、静電気の混入による誤動作を防止する役割が挙げられる。第1保護層11は、入力領域E1および非入力領域E2の一部に対応する基体2の第2主面2B上に設けられている。第1保護層11は、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4を被覆している。第1保護層11の構成材料としては、例えば、透光性を有する無機材料が挙げられる。透光性を有する無機材料としては、例えば、二酸化ケイ素あるいは窒化ケイ素が挙げられる。第1保護層11を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、スクリーン印刷法、あるいはインクジェット印刷法が挙げられる。 The first protective layer 11 has a role of protecting the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4. Here, the role of protecting the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 includes, for example, the role of protecting from corrosion due to moisture absorption, or the role of preventing malfunction due to mixing of static electricity. The first protective layer 11 is provided on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to a part of the input area E1 and the non-input area E2. The first protective layer 11 covers the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4. Examples of the constituent material of the first protective layer 11 include an inorganic material having translucency. Examples of the light-transmitting inorganic material include silicon dioxide and silicon nitride. Examples of the method for forming the first protective layer 11 include a sputtering method, an ion plating method, a screen printing method, and an ink jet printing method.
第2保護層12は、使用者の指F1の接触によって基体2の第1主面2Aを傷付けないように保護する役割を有する。第2保護層12は、図示しない粘着材を介して、入力領域E1および非入力領域E2に対応する基体2の第1主面2A上の全面に亘って設けられている。なお、第2保護層12は、基体2の第1主面2A上の全面に亘って設けられていなくともよい。すなわち、第2保護層12は、入力領域E1に対応する基体2の第1主面2A上にのみ設けられていてもよい。第2保護層12は、透光性を有する。第2保護層12の構成材料としては、例えば、ガラスあるいはプラスチック等が挙げられる。 The second protective layer 12 has a role of protecting the first main surface 2A of the base 2 from being damaged by contact with the user's finger F1. The second protective layer 12 is provided over the entire surface on the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the input area E1 and the non-input area E2 via an adhesive material (not shown). Note that the second protective layer 12 may not be provided over the entire surface of the base 2 on the first main surface 2A. That is, the second protective layer 12 may be provided only on the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the input region E1. The second protective layer 12 has translucency. Examples of the constituent material of the second protective layer 12 include glass or plastic.
次に、入力装置X1の検出原理について説明する。 Next, the detection principle of the input device X1 will be described.
図示しない位置検出ドライバは、例えば、フレキシブルプリント配線基板を介して、検出用配線8に電気的に接続されている。また、位置検出ドライバは、電源装置を備えている。なお、電源装置は、位置検出ドライバと別体であってもよい。電源装置は、検出用配線8を介して、第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4に電圧を供給している。位置検出ドライバは、電源装置が供給する電圧に応じた電流値を常に検出している。ここで、入力領域E1に対応する基体2の第1主面2Aに、第2保護層12を介して導電体である指F1が近接、接触、または押圧すると、指F1と第1検出電極パターン3お
よび第2検出電極パターン4との間において静電容量が発生する。指F1と第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4との間において静電容量が発生すると、位置検出ドライバが検出する電流値が変化する。入力装置X1は、位置検出ドライバが検出する電流値が所定値に達した第1検出電極パターン3および第2検出電極パターン4の組合せによって、使用者が入力操作を行った入力位置を検出する。このようにして、入力装置X1は、入力位置を検出することができる。
A position detection driver (not shown) is electrically connected to the detection wiring 8 via, for example, a flexible printed wiring board. Further, the position detection driver includes a power supply device. The power supply device may be separate from the position detection driver. The power supply device supplies a voltage to the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 via the detection wiring 8. The position detection driver always detects a current value corresponding to the voltage supplied by the power supply device. Here, when the finger F1, which is a conductor, approaches, contacts, or presses the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the input region E1 via the second protective layer 12, the finger F1 and the first detection electrode pattern A capacitance is generated between the third detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4. When capacitance is generated between the finger F1 and the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4, the current value detected by the position detection driver changes. The input device X1 detects an input position where the user has performed an input operation by a combination of the first detection electrode pattern 3 and the second detection electrode pattern 4 in which the current value detected by the position detection driver has reached a predetermined value. In this way, the input device X1 can detect the input position.
以上のように、入力装置X1では、検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる。 As described above, the input device X1 can reduce the possibility that the detection accuracy is lowered.
次に、図6を参照しながら、入力装置X1を備えた表示装置Y1について説明する。 Next, a display device Y1 including the input device X1 will be described with reference to FIG.
図6に示すように、本実施形態に係る表示装置Y1は、入力装置X1、第1筐体100、表示パネル200、バックライト300、および回路基板400を備えている。 As illustrated in FIG. 6, the display device Y1 according to the present embodiment includes an input device X1, a first housing 100, a display panel 200, a backlight 300, and a circuit board 400.
第1筺体100は、入力装置X1を支持する役割を有する。また、第1筺体100は、表示パネル200、バックライト300、および回路基板400を収容する役割を有する。第1筺体100は、第1支持部101を有する。第1支持部101は、入力装置X1を基体2の第2主面2B側から支持する役割を有する。 The first housing 100 has a role of supporting the input device X1. The first casing 100 has a role of accommodating the display panel 200, the backlight 300, and the circuit board 400. The first housing 100 has a first support portion 101. The first support portion 101 has a role of supporting the input device X1 from the second main surface 2B side of the base 2.
第1筐体100の構成材料としては、例えば、ポリカーボネート等の樹脂、あるいは、ステンレス、アルミニウム等の金属が挙げられる。 Examples of the constituent material of the first housing 100 include a resin such as polycarbonate, or a metal such as stainless steel and aluminum.
表示パネル200は、画像を表示する役割を有する。表示パネル200は、上側基板201、下側基板202、液晶層203、および封止部材204を有する。 The display panel 200 has a role of displaying an image. The display panel 200 includes an upper substrate 201, a lower substrate 202, a liquid crystal layer 203, and a sealing member 204.
上側基板201は、入力装置X1の基体2の第2主面2Bに対向して、配置されている。なお、入力装置X1は、固定部材を介して上側基板201上に設けられていてもよい。固定部材としては、例えば、両面テープ、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、あるいはねじ等の止め具が挙げられる。下側基板202は、上側基板201に対向して配置されている。上側基板201および下側基板202の構成材料としては、例えば、ガラスあるいはプラスチック等の透明樹脂材料が挙げられる。 The upper substrate 201 is disposed to face the second main surface 2B of the base 2 of the input device X1. Note that the input device X1 may be provided on the upper substrate 201 via a fixing member. Examples of the fixing member include a double-sided tape, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, or a stopper such as a screw. The lower substrate 202 is disposed to face the upper substrate 201. Examples of the constituent material of the upper substrate 201 and the lower substrate 202 include a transparent resin material such as glass or plastic.
液晶層203は、画像を表示するための表示部材層であり、上側基板201と下側基板202との間に介在している。具体的には、液晶層203は、上側基板201、下側基板202、および封止部材204によって、上側基板201と下側基板202との間の領域に封止されている。なお、本実施形態に係る表示パネル200では、表示部材層として液晶層203を備えているが、これに限らない。液晶層203に変えて、プラズマ発生層あるいは有機EL層等を備えていてもよい。 The liquid crystal layer 203 is a display member layer for displaying an image, and is interposed between the upper substrate 201 and the lower substrate 202. Specifically, the liquid crystal layer 203 is sealed in a region between the upper substrate 201 and the lower substrate 202 by the upper substrate 201, the lower substrate 202, and the sealing member 204. The display panel 200 according to the present embodiment includes the liquid crystal layer 203 as a display member layer, but is not limited thereto. Instead of the liquid crystal layer 203, a plasma generation layer, an organic EL layer, or the like may be provided.
バックライト300は、表示パネル200の下面全体にわたって、光を入射する役割を有する。バックライト300は、表示パネル200の後方に配置されている。バックライト300は、光源301および導光板302を備えている。光源301は、導光板302に向けて光を出射する役割を担う部材であり、LED(Light Emitting Diode)から構成されている。なお、光源301はLEDから構成されていなくともよく、例えば、冷陰極蛍光ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプあるいはEL(Electro-Luminescence)から構成されてもよい。導光板302は、表示パネル200の下面全体にわたって、光源301からの光を略均一に導くための役割を担う部材である。なお、表示パネル200の代わりに自発光素子を用いた表示パネルを用いる場合は、バックライト300はなくともよい。 The backlight 300 has a role of entering light over the entire lower surface of the display panel 200. The backlight 300 is disposed behind the display panel 200. The backlight 300 includes a light source 301 and a light guide plate 302. The light source 301 is a member that plays a role of emitting light toward the light guide plate 302, and is composed of an LED (Light Emitting Diode). Note that the light source 301 does not need to be configured by an LED, and may be configured by, for example, a cold cathode fluorescent lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, or an EL (Electro-Luminescence). The light guide plate 302 is a member that plays a role of guiding light from the light source 301 substantially uniformly over the entire lower surface of the display panel 200. Note that in the case where a display panel using self-luminous elements is used instead of the display panel 200, the backlight 300 may not be provided.
回路基板400は、例えば、入力装置X1の位置検出ドライバ、表示パネル200およびバックライト300を制御する制御回路、抵抗器、あるいはコンデンサ等の電子部品を支持する役割を有する。回路基板400は、バックライト300の後方に配置されている。回路基板400上に配置された制御回路は、図示しないフレキシブルプリント配線基板によって、表示パネル200およびバックライト300と電気的に接続されている。 The circuit board 400 has a role of supporting electronic components such as a position detection driver of the input device X1, a control circuit that controls the display panel 200 and the backlight 300, a resistor, or a capacitor, for example. The circuit board 400 is disposed behind the backlight 300. The control circuit arranged on the circuit board 400 is electrically connected to the display panel 200 and the backlight 300 by a flexible printed wiring board (not shown).
このように、表示装置Y1は、入力装置X1を介して表示パネル200を透視しながら、入力装置X1の入力領域E1を入力操作することによって、各種の情報を入力することができる。 As described above, the display device Y1 can input various kinds of information by performing an input operation on the input region E1 of the input device X1 while seeing through the display panel 200 via the input device X1.
また、各種の情報を入力する際に、情報を入力した使用者に対して、押圧感、なぞり感、肌触り感等の様々な触感を呈示する機能を入力装置X1に付与してもよい。この場合、入力装置X1における基体2に、1または複数の振動体(例えば、圧電素子等)を備え、所定の入力操作あるいは所定の押圧荷重を検知した場合に、当該振動体を所定の周波数で振動させることで実現することができる。 Further, when inputting various types of information, the input device X1 may be provided with a function of presenting various tactile sensations such as a feeling of pressing, a feeling of tracing, and a feeling of touch to the user who has input the information. In this case, the base body 2 in the input device X1 includes one or more vibrating bodies (for example, piezoelectric elements), and when a predetermined input operation or a predetermined pressing load is detected, the vibrating body is detected at a predetermined frequency. It can be realized by vibrating.
以上のように、表示装置Y1では、入力装置X1を備えているため、検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる。 As described above, since the display device Y1 includes the input device X1, it is possible to reduce the possibility that the detection accuracy is lowered.
次に、図7を参照しながら、表示装置Y1を備えた携帯端末Z1について説明する。図7は、表示装置Y1を備えた携帯端末Z1の斜視図である。 Next, the mobile terminal Z1 including the display device Y1 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a perspective view of the portable terminal Z1 including the display device Y1.
図7に示すように、本実施形態に係る携帯端末Z1は、スマートフォン端末である。なお、携帯端末Z1は、スマートフォン端末に限らず、例えば、携帯電話、タブレット端末、あるいはPDA(Personal Digital Assistant)等の電子機器であってもよい。 As shown in FIG. 7, the mobile terminal Z1 according to the present embodiment is a smartphone terminal. The mobile terminal Z1 is not limited to a smartphone terminal, and may be an electronic device such as a mobile phone, a tablet terminal, or a PDA (Personal Digital Assistant).
携帯端末Z1は、表示装置Y1、音声入力部501、音声出力部502、キー入力部503、および第2筐体504を備えている。 The portable terminal Z1 includes a display device Y1, an audio input unit 501, an audio output unit 502, a key input unit 503, and a second housing 504.
音声入力部501は、使用者の音声等を入力する役割を有し、マイク等により構成されている。音声出力部502は、相手方からの音声等を出力する役割を有し、電磁スピーカあるいは圧電スピーカ等により構成されている。キー入力部503は、機械的なキーにより構成されている。キー入力部503は、表示画面に表示された操作キーであってもよい。第2筐体504は、表示装置Y1、音声入力部501、音声出力部502、およびキー入力部503を収容する役割を有する。第2筐体504の構成材料としては、第1筐体100と同様のものが挙げられる。なお、第2筐体504と表示装置Y1の第1筐体100とは、一体であってもよい。 The voice input unit 501 has a role of inputting a user's voice and the like, and includes a microphone or the like. The audio output unit 502 has a role of outputting audio from the other party, and is configured by an electromagnetic speaker or a piezoelectric speaker. The key input unit 503 is composed of mechanical keys. The key input unit 503 may be an operation key displayed on the display screen. The second housing 504 has a role of accommodating the display device Y1, the audio input unit 501, the audio output unit 502, and the key input unit 503. As a constituent material of the second housing 504, the same material as that of the first housing 100 may be used. Note that the second housing 504 and the first housing 100 of the display device Y1 may be integrated.
他にも、携帯端末Z1は、必要な機能に応じて、デジタルカメラ機能部、ワンセグ放送用チューナ、赤外線通信機能部等の近距離無線通信部、無線LANモジュール、および各種インタフェース等を備える場合もあるが、これらの詳細についての図示および説明は省略する。 In addition, the mobile terminal Z1 may include a digital camera function unit, a one-segment broadcasting tuner, a short-range wireless communication unit such as an infrared communication function unit, a wireless LAN module, various interfaces, and the like according to necessary functions. However, illustration and description of these details are omitted.
以上のように、携帯端末Z1は、表示装置Y1を備えているため、検出精度が低下してしまう可能性を低減することができる。 As described above, since the mobile terminal Z1 includes the display device Y1, it is possible to reduce the possibility that the detection accuracy is lowered.
ここで、表示装置Y1は、上記の携帯端末Z1の代わりに、電子手帳、パーソナルコンピュータ、複写機、ゲーム用の端末装置、テレビ、デジタルカメラ、あるいは産業用途で使用されるプログラマブル表示器等の様々な電子機器に備えられていてもよい。 Here, the display device Y1 is not limited to the portable terminal Z1 described above, but includes various devices such as an electronic notebook, a personal computer, a copying machine, a game terminal device, a television, a digital camera, or a programmable display used for industrial applications. The electronic device may be provided.
なお、上述した実施形態は、本発明の実施形態の一具体例を示したものであり、種々の変形が可能である。以下、いくつかの主な変形例を示す。 The above-described embodiment shows a specific example of the embodiment of the present invention, and various modifications are possible. Hereinafter, some main modifications will be described.
[変形例1]
図8は、変形例1に係る入力装置X2の概略構成を示す平面図である。図9は、図8中に示したIV−IV線断面図である。図10は、図8中に示した1点鎖線で囲んだ領域A2を拡大した平面図である。なお、図8〜図10において、図1、図4、および図5と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明は省略する。
[Modification 1]
FIG. 8 is a plan view illustrating a schematic configuration of the input device X2 according to the first modification. 9 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV shown in FIG. FIG. 10 is an enlarged plan view of a region A2 surrounded by a one-dot chain line shown in FIG. 8 to 10, components having the same functions as those in FIGS. 1, 4, and 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図8〜10に示すように、入力装置X2では、入力装置X1が備える第1遮光層6の代わりに、第1遮光層21を備えている。 As shown in FIGS. 8 to 10, the input device X <b> 2 includes a first light shielding layer 21 instead of the first light shielding layer 6 included in the input device X <b> 1.
第1遮光層21は、第1遮光層6と同様の役割を有する。第1遮光層21は、非入力領域E2に対応する基体2の第2主面2B上に設けられている。また、第1遮光層21は、開口部21aを複数有している。複数の開口部21aの一部は、平面視して導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との間に位置している。また、複数の開口部21aの残部は、互いに隣り合う検出用配線8同士の間に位置している。 The first light shielding layer 21 has the same role as the first light shielding layer 6. The first light shielding layer 21 is provided on the second main surface 2B of the base 2 corresponding to the non-input area E2. The first light shielding layer 21 has a plurality of openings 21a. A part of the plurality of openings 21a is located between the conductive layer 9 and the detection wiring 8 located on the side closest to the conductive layer 9 in plan view. The remaining portions of the plurality of openings 21a are located between the detection wirings 8 adjacent to each other.
ここで、互いに隣り合う検出用配線8同士の間においても、第1遮光層21を介してインピーダンスが生じる可能性がある。変形例1では、平面視して互いに隣り合う検出用配線8同士の間にも開口部21aが位置しているため、当該検出用配線8同士の間にインピーダンスが生じる可能性を低減することができる。 Here, there is a possibility that an impedance may be generated between the detection wirings 8 adjacent to each other via the first light shielding layer 21. In Modification 1, since the opening 21a is located between the detection wirings 8 adjacent to each other in plan view, the possibility that an impedance is generated between the detection wirings 8 may be reduced. it can.
なお、変形例1のように、互いに隣り合う検出用配線8同士の間に位置する開口部21aの平面視幅D3は、導電層9と当該導電層9に最も近い側に位置する検出用配線8との間に位置する開口部21aの平面視幅D4よりも、小さい。ここで、検出用配線8は、導電層9よりも入力領域E1に近い側に位置している。すなわち、互いに隣り合う検出用配線8同士の間に位置する開口部21aは、入力装置X1に代えて入力装置X2が表示装置Y1に組み込まれた場合に、バックライト300から入射する光の光量が相対的に大きくなる入力領域E1近傍に位置することになる。本実施形態では、平面視幅D3が平面視幅D4よりも小さいため、当該光が互いに隣り合う検出用配線8同士の間に位置する開口部21aを介して使用者に視認されてしまう可能性を低減することができる。 Note that, as in the first modification, the planar view width D3 of the opening 21a located between the detection wirings 8 adjacent to each other is the detection wiring located on the side closest to the conductive layer 9 and the conductive layer 9. 8 is smaller than the planar view width D4 of the opening 21a located between the two. Here, the detection wiring 8 is located closer to the input region E1 than the conductive layer 9. That is, the opening 21a located between the detection wirings 8 adjacent to each other has an amount of light incident from the backlight 300 when the input device X2 is incorporated in the display device Y1 instead of the input device X1. It will be located in the vicinity of the relatively large input area E1. In this embodiment, since the planar view width D3 is smaller than the planar view width D4, the light may be visually recognized by the user through the opening 21a located between the detection wirings 8 adjacent to each other. Can be reduced.
[変形例2]
図11は、変形例2に係る入力装置X3の概略構成を示す平面図である。図12は、図11中に示したV−V線断面図である。図13は、図11中に示した1点鎖線で囲んだ領域A3を拡大した平面図である。なお、図11〜図13において、図1、図4、および図5と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明は省略する。
[Modification 2]
FIG. 11 is a plan view illustrating a schematic configuration of the input device X3 according to the second modification. 12 is a cross-sectional view taken along line VV shown in FIG. FIG. 13 is an enlarged plan view of a region A3 surrounded by a one-dot chain line shown in FIG. 11 to 13, components having the same functions as those in FIGS. 1, 4, and 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図11〜図13に示すように、入力装置X3では、加飾層31をさらに備えている。 As shown in FIGS. 11 to 13, the input device X <b> 3 further includes a decoration layer 31.
加飾層31は、非入力領域E2を加飾する役割を有する。加飾層31は、非入力領域E2に対応する基体2の第1主面2A上に設けられている。加飾層31は、基体2の第2主面2Bと第2保護層12との間に位置している。なお、加飾層31は、基体2の第2主面2Bと第2保護層12との間に位置していなくともよく、例えば、第2保護層12に含まれていてもよい。加飾層31の構成材料としては、第1遮光層6と同様のものが挙げられる。なお、加飾層31は、第1遮光層と異なる色味を有していてもよい。 The decoration layer 31 has a role of decorating the non-input area E2. The decorative layer 31 is provided on the first main surface 2A of the base 2 corresponding to the non-input area E2. The decorative layer 31 is located between the second main surface 2 </ b> B of the base 2 and the second protective layer 12. In addition, the decoration layer 31 does not need to be located between the 2nd main surface 2B of the base | substrate 2, and the 2nd protective layer 12, and may be contained in the 2nd protective layer 12, for example. Examples of the constituent material of the decoration layer 31 include the same materials as those of the first light shielding layer 6. In addition, the decoration layer 31 may have a different color from the first light shielding layer.
ここで、加飾層31は、平面視して開口部6aと重なっている。このため、入力装置X1に代えて入力装置X3が表示装置Y1に組み込まれた場合に、開口部6aを介して表示装置Y1の内部が視認されてしまう可能性を低減することができる。 Here, the decoration layer 31 overlaps the opening 6a in plan view. For this reason, when the input device X3 is incorporated in the display device Y1 instead of the input device X1, the possibility that the inside of the display device Y1 is visually recognized through the opening 6a can be reduced.
[変形例3]
図14は、変形例3に係る入力装置X4の概略構成を示す平面図である。図15は、図14中に示したVI−VI線断面図である。図16は、図14中に示した1点鎖線で囲んだ領域A4を拡大した平面図である。なお、図14〜図16において、図1、図4、および図5と同様の機能を有する構成については、同じ参照符号を付記し、その詳細な説明は省略する。
[Modification 3]
FIG. 14 is a plan view illustrating a schematic configuration of the input device X4 according to the third modification. 15 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI shown in FIG. FIG. 16 is an enlarged plan view of a region A4 surrounded by a one-dot chain line shown in FIG. 14 to 16, the same reference numerals are given to the components having the same functions as those in FIGS.
図14〜図16に示すように、入力装置X4では、第2遮光層41をさらに備えている。 As shown in FIGS. 14 to 16, the input device X <b> 4 further includes a second light shielding layer 41.
第2遮光層41は、非入力領域E2に対応する第2被覆層10上に設けられている。具体的には、第2遮光層41は、検出用配線8および導電層9上に設けられている。第2遮光層41の構成材料は、第1遮光層6と同様のものが挙げられる。 The second light shielding layer 41 is provided on the second coating layer 10 corresponding to the non-input area E2. Specifically, the second light shielding layer 41 is provided on the detection wiring 8 and the conductive layer 9. The constituent material of the second light shielding layer 41 may be the same as that of the first light shielding layer 6.
ここで、第2遮光層41は、平面視して開口部6aと重なっている。このため、入力装置X1に代えて入力装置X4が表示装置Y1に組み込まれた場合に、開口部6aを介して表示装置Y1の内部が視認されてしまう可能性を低減することができる。 Here, the 2nd light shielding layer 41 has overlapped with the opening part 6a by planar view. For this reason, when the input device X4 is incorporated in the display device Y1 instead of the input device X1, the possibility that the inside of the display device Y1 is visually recognized through the opening 6a can be reduced.
なお、変形例3のように、第2遮光層41と検出用配線8との離間距離D5は、第1遮光層6と検出用配線8との離間距離D6よりも大きいことが好ましい。離間距離D5が離間距離D6よりも大きいと、第2遮光層41に含まれる着色材料が導電性を有していたとしても、当該第2遮光層41を介して検出用配線8と導電層9との間にインピーダンスが生じる可能性を低減することができる。 As in Modification 3, the distance D5 between the second light shielding layer 41 and the detection wiring 8 is preferably larger than the distance D6 between the first light shielding layer 6 and the detection wiring 8. When the separation distance D5 is larger than the separation distance D6, even if the coloring material contained in the second light shielding layer 41 has conductivity, the detection wiring 8 and the conductive layer 9 are interposed via the second light shielding layer 41. It is possible to reduce the possibility of impedance occurring between the two.
また、第2遮光層41は、第1遮光層6と略同一の色味を有することが好ましい。第2遮光層41が第1遮光層6と略同一の色味を有すると、平面視して第1遮光層6が位置する領域と開口部6aが位置する領域との境界が視認されてしまう可能性を低減することができる。このため、意匠性が向上する。なお、略同一の色味とは、例えば、マンセル表色系において、色相、明度、彩度の、色相記号が同一であって、色相、明度、彩度の各数値の違いが1以内であると定義することができる。 The second light shielding layer 41 preferably has substantially the same color as the first light shielding layer 6. If the second light shielding layer 41 has substantially the same color as the first light shielding layer 6, the boundary between the region where the first light shielding layer 6 is located and the region where the opening 6a is located is viewed in plan view. The possibility can be reduced. For this reason, the designability improves. For example, in the Munsell color system, the hue symbols of the hue, lightness, and saturation have the same hue symbol, and the numerical values of the hue, lightness, and saturation are within one. Can be defined as
[変形例4]
なお、本明細書は、上記の実施形態および変形例1〜3について個別具体的に説明したが、これに限らず、上記の実施形態および変形例1〜3に個別に記載された事項を適宜組み合わせた例についても記載されているものである。すなわち、本発明に係る入力装置は、入力装置X1〜4に限定されるものではなく、上記の実施形態および変形例1〜3に個別に記載された事項を適宜組み合わせた入力装置も含む。
[Modification 4]
In addition, although this specification specifically explained about said embodiment and the modifications 1-3, not only this but the matter separately described in said embodiment and the modifications 1-3 was suitably mentioned. Combination examples are also described. In other words, the input device according to the present invention is not limited to the input devices X1 to X4, and includes an input device that appropriately combines the matters individually described in the above embodiment and the first to third modifications.
また、本実施形態では、入力装置X1を備えた表示装置Y1について説明したが、これに限らず、入力装置X1に代えて、入力装置X2〜X4を採用してもよい。また、本実施形態では、入力装置X1を備えた携帯端末Z1について説明したが、これに限らず、入力装置X1に代えて、入力装置X2〜X4を採用してもよい。 Moreover, although this embodiment demonstrated the display apparatus Y1 provided with the input device X1, it may replace with the input device X1 and may employ | adopt input devices X2-X4. Moreover, although this embodiment demonstrated portable terminal Z1 provided with input device X1, it may replace with input device X1 and may employ input devices X2-X4.
X1〜X4 入力装置
Y1 表示装置
Z1 携帯端末(電子機器)
2 基体
2A 第1主面2A
2B 第2主面2B
3a 第1検出電極
4a 第2検出電極
6,21 第1遮光層
6a,21a 開口部
8 検出用配線
9 導電層
31 加飾層
41 第2遮光層
200 表示パネル
504 第2筐体(筺体)
X1 to X4 Input device Y1 Display device Z1 Portable terminal (electronic device)
2 Base body 2A First main surface 2A
2B 2nd main surface 2B
3a 1st detection electrode 4a 2nd detection electrode 6, 21 1st light shielding layer 6a, 21a Opening part 8 Detection wiring 9 Conductive layer 31 Decoration layer 41 2nd light shielding layer 200 Display panel 504 2nd housing | casing (housing)
Claims (13)
該基体上に設けられた検出電極と、
前記基体上に設けられた第1遮光層と、
該第1遮光層上に設けられており、前記検出電極と電気的に接続された検出用配線と、
前記第1遮光層上に設けられており、前記検出用配線とは離間して位置する導電層と、を備え、
前記第1遮光層は、平面視して前記検出用配線と前記導電層との間に位置する部位において、開口部が設けられている、入力装置。 A substrate;
A detection electrode provided on the substrate;
A first light shielding layer provided on the substrate;
A detection wiring provided on the first light shielding layer and electrically connected to the detection electrode;
A conductive layer provided on the first light shielding layer and positioned away from the detection wiring;
The first light shielding layer is an input device in which an opening is provided in a portion located between the detection wiring and the conductive layer in plan view.
前記開口部は、平面視して前記導電層と該導電層に最も近い側に位置する前記検出用配線との間に位置する、請求項1または2に記載の入力装置。 A plurality of the detection wirings are provided,
The input device according to claim 1, wherein the opening is located between the conductive layer and the detection wiring located on a side closest to the conductive layer in a plan view.
前記第1主面上に設けられた加飾層をさらに備え、
前記第1遮光層、前記検出電極、前記検出用配線、および前記導電層は、前記第2主面上に設けられており、
前記加飾層は、平面視して前記開口部と重なっている、請求項1〜5のいずれか一項に記載の入力装置。 The base has a first main surface and a second main surface located on the opposite side of the first main surface;
A decorative layer provided on the first main surface;
The first light shielding layer, the detection electrode, the detection wiring, and the conductive layer are provided on the second main surface,
The input device according to any one of claims 1 to 5, wherein the decoration layer overlaps the opening in a plan view.
前記第2遮光層と前記検出用配線との離間距離は、前記第1遮光層と前記検出用配線との離間距離よりも大きい、請求項1〜6のいずれか一項に記載の入力装置。 A second light-shielding layer located on the detection wiring and the conductive layer and overlapping the opening in plan view;
The input device according to claim 1, wherein a separation distance between the second light shielding layer and the detection wiring is larger than a separation distance between the first light shielding layer and the detection wiring.
前記遮光層、前記検出用配線、および前記導電層は、前記入力領域の外側に位置する非入力領域に位置しており、
前記導電層は、前記入力領域を取り囲むように位置している、請求項1〜9のいずれか一項に記載の入力装置。 The detection electrode is located in the input region;
The light shielding layer, the detection wiring, and the conductive layer are located in a non-input region located outside the input region,
The input device according to claim 1, wherein the conductive layer is positioned so as to surround the input region.
該入力装置に対向して配置された表示パネルと、を備えた表示装置。 An input device according to claims 1 to 11,
A display panel disposed opposite to the input device.
該表示装置が収容された筐体と、を備えた電子機器。 A display device according to claim 12,
An electronic device comprising a housing in which the display device is accommodated.
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JP2016206867A (en) * | 2015-04-21 | 2016-12-08 | 三菱電機株式会社 | Touch screen, touch panel, display and electronic apparatus |
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