JP2014184716A - Pattern formation device and pattern formation method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To butt a proof or a board on a blanket with the high precision of position.SOLUTION: While the peripheral part of a blanket being held in adsorptive manner by a frame-like lower stage 61, the central part of the blanket is locally held by a plurality of hands 625 which can rise and fall individually. By making a transfer roller unit 64 run along the undersurface of the blanket so as to push up the blanket partially, the blanket is abutted on the proof or board arranged above a blanket. Since the hand 625 descends in series with movement of the transfer roller unit 64 so as to evacuate downward, the interference with the transfer roller unit 64 is avoided.

Description

この発明は、ブランケットに担持されたパターン形成材料を版によりパターニングしたり、形成されたパターンを基板に転写することでパターンを形成するパターン形成装置およびパターン形成方法に関するものである。   The present invention relates to a pattern forming apparatus and a pattern forming method for forming a pattern by patterning a pattern forming material carried on a blanket with a plate or transferring the formed pattern onto a substrate.

ガラス基板や半導体基板などの基板にパターンを形成する技術として、パターンを担持するブランケットを基板に密着させてパターンを基板に転写するものがある。また、ブランケットにパターンを担持させる技術として、パターン形成材料によりブランケット表面に形成された一様な膜に版(ネガ版)を押し当て、該膜のうち不要な部分を版に付着させて除去することで、パターンとなる部分のみをブランケット上に残留させてパターン形成(パターニング)するものがある。   As a technique for forming a pattern on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor substrate, there is a technique in which a pattern is transferred to a substrate by bringing a blanket carrying the pattern into close contact with the substrate. Further, as a technique for supporting a pattern on the blanket, a plate (negative plate) is pressed against a uniform film formed on the blanket surface by a pattern forming material, and unnecessary portions of the film are adhered to the plate and removed. Thus, there is a pattern forming (patterning) by leaving only a portion to be a pattern on the blanket.

このような技術の1つとして、例えば特許文献1に記載されたような印刷技術をパターン転写に応用したものがある。例えば特許文献2に記載の技術では、一方向に張力を付与してフレームに張架した版を、基板に対して傾けた状態で基板の上方に配置し、プレスローラにより版をその一方端部から順に基板に押し付けてゆき、その後に版を剥離することで、版上のパターンを基板に転写する。   As one of such techniques, for example, a printing technique such as that described in Patent Document 1 is applied to pattern transfer. For example, in the technique described in Patent Document 2, a plate that is tensioned in one direction and stretched on a frame is disposed above the substrate in a state of being inclined with respect to the substrate, and the press roller is used to fix the plate to one end thereof. The pattern on the plate is transferred to the substrate by sequentially pressing the substrate on the substrate and then peeling the plate.

特開平07−125179号公報JP 07-125179 A 特開2002−036499号公報JP 2002-036499 A

上記従来技術には、版と基板との位置合わせ精度において改善の余地が残されている。すなわち、上記技術では、ローラ当接のため版の上面を開放した状態で版を保持する必要があり、自重による撓みで版が基板に接触することを防止するためには当初の版と基板とのギャップをある程度大きく取らなければならない。このため、その状態から両者を近接させ押し付ける過程での位置ずれが生じやすい。また、基板と版とが近接する一方端側では位置合わせを行うことができるが他方端側では位置合わせを行うことができず、また端から順に押し付けてゆく過程で位置ずれが次第に増大する可能性がある。   In the prior art, there remains room for improvement in the alignment accuracy between the plate and the substrate. That is, in the above technique, it is necessary to hold the plate in a state where the upper surface of the plate is opened due to the roller contact, and in order to prevent the plate from contacting the substrate due to its own weight, the original plate and the substrate The gap must be taken to some extent. For this reason, it is easy to produce the position shift in the process which makes both approach and press from the state. In addition, alignment can be performed on one end side where the substrate and the plate are close to each other, but alignment cannot be performed on the other end side, and positional displacement can gradually increase in the process of pressing in order from the end. There is sex.

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、版または基板をブランケットに当接させてパターン形成を行うパターン形成装置およびパターン形成方法において、版または基板とブランケットとを高い位置精度で当接させることが可能な技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a pattern forming apparatus and a pattern forming method for forming a pattern by bringing a plate or substrate into contact with a blanket, the plate or substrate and the blanket are brought into contact with high positional accuracy. The purpose is to provide a technology that can do this.

この発明にかかるパターン形成装置は、上記目的を達成するため、パターン形成材料を一方面に担持するブランケットの下面にそれぞれ局所的に当接して前記ブランケットを下面側から支持する複数の局所支持部を有し、前記ブランケットを前記パターン形成材料の担持面を上向きにした水平姿勢で支持する第1保持手段と、前記パターン形成材料をパターニングするための版、またはパターンが転写される基板を処理対象物として、該処理対象物を前記第1保持手段に保持された前記ブランケットの上面に近接対向させて保持する第2保持手段と、前記ブランケットの下面側から前記ブランケット中央部の有効領域を部分的に押し上げて前記第2保持手段に保持された前記処理対象物に当接させ、しかも前記ブランケットの下面に沿って移動して前記ブランケットの押し上げ位置を変化させる押し上げ部材と、前記複数の局所支持部を個別に昇降させる昇降手段とを備えている。   In order to achieve the above object, the pattern forming apparatus according to the present invention has a plurality of local support portions that locally abut on the lower surface of a blanket that supports the pattern forming material on one surface and support the blanket from the lower surface side. And a first holding means for supporting the blanket in a horizontal posture with the carrying surface of the pattern forming material facing upward, a plate for patterning the pattern forming material, or a substrate onto which a pattern is transferred. Second holding means for holding the object to be processed in close proximity to the upper surface of the blanket held by the first holding means, and an effective area of the central portion of the blanket partially from the lower surface side of the blanket. Pushed up and brought into contact with the object to be processed held by the second holding means, and moved along the lower surface of the blanket. To and includes a push-up member for changing the push-up position of the blanket, and a lifting means for individually lifting the plurality of local support.

このように構成された発明では、処理対象物(版または基板)の下方に対向配置されたブランケットの下面側からブランケットを部分的に押し上げることで、ブランケットを処理対象物に当接させる。このような構成では、上側に配置された処理対象物の保持については特に制約を受けないので、撓みを抑えた状態での保持が可能である。一方、下側に配置されたブランケットは中央部が開放された状態では自重で下方に撓む可能性がある。そこで、この発明では、ブランケットの中央部に対して下面から局所支持部を局所的に当接させる。これにより、ブランケットの撓みを防止して水平姿勢を維持することができる。   In the invention configured as described above, the blanket is brought into contact with the processing target by partially pushing up the blanket from the lower surface side of the blanket arranged oppositely below the processing target (plate or substrate). In such a configuration, since there is no particular restriction on the holding of the processing object arranged on the upper side, the holding in a state in which the bending is suppressed is possible. On the other hand, the blanket arranged on the lower side may be bent downward by its own weight in a state where the central portion is opened. Therefore, in the present invention, the local support portion is locally brought into contact with the central portion of the blanket from the lower surface. Thereby, it is possible to prevent the blanket from being bent and maintain the horizontal posture.

このため、処理対象物とブランケットとを従来技術よりも近接させて、両者の間のギャップを極めて小さな値に設定することができる。また処理対象物とブランケットとが互いに平行となるような配置が可能である。したがって、このように両者が近接した状態で位置合わせを行うことができるとともに、近接させた状態からブランケットを押し上げて処理対象物に当接させるまでの相対移動量が小さいので、その間の位置ずれについても小さく抑えることができる。   For this reason, the object to be processed and the blanket can be brought closer to each other than in the prior art, and the gap between them can be set to an extremely small value. Moreover, arrangement | positioning so that a process target object and a blanket may become mutually parallel is possible. Therefore, it is possible to perform alignment in a state where the two are close to each other in this way, and since the relative movement amount from the close state until the blanket is pushed up and brought into contact with the object to be processed is small. Can be kept small.

複数の局所支持部は個別に昇降可能となっているため、ブランケットに対して相互に独立して離当接可能である。したがって、押し上げ部材の移動に伴って、その移動の障害となり得る局所支持部についてはブランケットから離間させ退避させることが可能であり、局所支持部が押し上げ部材の移動に干渉することがない。   Since the plurality of local support portions can be raised and lowered individually, they can be separated from and abutted on the blanket independently of each other. Therefore, with the movement of the push-up member, the local support portion that can be an obstacle to the movement can be separated from the blanket and retracted, and the local support portion does not interfere with the movement of the push-up member.

これらのことから、本発明によれば、処理対象物としての版または基板とブランケットとを高い位置精度で当接させることが可能である。なお、ここでいう処理対象物とブランケットとの当接は、ブランケットの担持面に担持されたパターン材料を介して両者が当接することを包含する概念である。   From these things, according to this invention, it is possible to contact | abut the plate | board or board | substrate and blanket as a process target object with high positional accuracy. Note that the contact between the object to be processed and the blanket here is a concept including contact of both via the pattern material supported on the support surface of the blanket.

例えば、局所支持部のそれぞれがブランケットの下面に当接した状態から、押し上げ部材の移動に伴って局所支持部の各々を順番に下降させるようにすることができる。より具体的には例えば、押し上げ部材の移動方向に沿って複数の局所支持部が配列され、昇降手段は、押し上げ部材の移動方向に沿った順番で局所支持部を下降させるようにすることができる。このようにすると、押し上げ部材が到達していない位置では局所支持部によってブランケットを支持することができる一方、押し上げ部材が接近するのに伴って局所支持部を下降させることで、押し上げ部材と局所支持部との干渉を回避することができる。   For example, each of the local support portions can be sequentially lowered from the state where each of the local support portions is in contact with the lower surface of the blanket as the push-up member moves. More specifically, for example, a plurality of local support portions are arranged along the moving direction of the push-up member, and the elevating means can lower the local support portions in the order along the moving direction of the push-up member. . In this way, the blanket can be supported by the local support portion at the position where the push-up member has not reached, while the local support portion is lowered as the push-up member approaches, thereby supporting the push-up member and the local support. Interference with the part can be avoided.

また例えば、押し上げ部材は、ブランケットの下面のうち一の軸方向に沿った有効領域の長さよりも長い領域を一括して押し上げ、局所支持部の各々は、軸方向を長手方向として延設された当接面においてブランケットと当接するように構成されてもよい。有効領域の長さよりも長い領域を一括して押し上げることで、軸方向において一様な押圧力でブランケットを処理対象物に押圧することができる。このとき押し上げ部材の軸方向と一致する方向を長手方向とする当接面において局所支持部がブランケットに当接することで、軸方向に沿った方向でのブランケットの撓みを効果的に防止して、ブランケットの捩れを抑制することができる。   Further, for example, the push-up member pushes up a region longer than the length of the effective region along one axial direction on the lower surface of the blanket, and each of the local support portions is extended with the axial direction as the longitudinal direction. The contact surface may be configured to contact the blanket. By pushing up a region longer than the length of the effective region in a lump, the blanket can be pressed against the processing object with a uniform pressing force in the axial direction. At this time, the local support portion abuts on the blanket at the abutting surface whose longitudinal direction is the direction coincident with the axial direction of the push-up member, effectively preventing the blanket from being bent in the direction along the axial direction, Blanket twisting can be suppressed.

この場合、例えば、軸方向に押し上げ部材に沿って延設され両端部で押し上げ部材を回転自在に支持する支持部および軸方向における支持部の略中央部から下方へ延びた脚部を有する支持部材と、支持部材を軸方向と直交する方向に移動させる移動機構とをさらに備え、軸方向に並べてかつ互いに離間して1対の局所支持部が配置されるとともに、複数対の局所支持部が軸方向と直交する方向に並べて配置され、支持部材の脚部が、各対をなす局所支持部の間の空隙を通過するように構成されてもよい。このような構成では、支持部材によって押し上げ部材を回転自在に支持しつつ、その脚部を、下降した局所支持部と干渉することなく移動させることができる。   In this case, for example, a support member that extends in the axial direction along the push-up member and has a support portion that rotatably supports the push-up member at both ends and a leg portion that extends downward from a substantially central portion of the support portion in the axial direction. And a moving mechanism for moving the support member in a direction orthogonal to the axial direction, and a pair of local support portions are arranged side by side in the axial direction and spaced apart from each other. It arrange | positions along with the direction orthogonal to a direction, and it may be comprised so that the leg part of a supporting member may pass the space | gap between the local support parts which make each pair. In such a configuration, while the push-up member is rotatably supported by the support member, the leg portion can be moved without interfering with the lowered local support portion.

また例えば、第1保持手段は、ブランケットの有効領域の下方を開放した状態で、ブランケットの有効領域よりも外側の周縁部を保持する保持枠を有し、複数の局所支持部は、ブランケットのうち保持枠により保持された周縁部よりも内側でブランケットの下面に当接するように構成されてもよい。ブランケット周縁部を保持することで、ブランケットをより水平姿勢に近づけることができる。また保持枠によって周縁部を保持しておくことで、局所支持部が離間した際にもブランケットの水平方向への変位を抑えることができる。   Further, for example, the first holding means has a holding frame that holds a peripheral portion outside the effective area of the blanket in a state where the lower area of the effective area of the blanket is opened, and the plurality of local support portions are included in the blanket. You may comprise so that it may contact | abut to the lower surface of a blanket inside the peripheral part hold | maintained by the holding frame. By holding the blanket periphery, the blanket can be brought closer to a horizontal posture. Further, by holding the peripheral edge by the holding frame, it is possible to suppress the blanket from being displaced in the horizontal direction even when the local support portion is separated.

また、この発明にかかるパターン形成方法は、上記目的を達成するため、パターン形成材料を一方面に担持するブランケットの下面に対して、互いに独立して昇降可能な複数の局所支持部をそれぞれ局所的に当接させることで、前記パターン形成材料の担持面を上向きにした水平姿勢で前記ブランケットを支持する第1工程と、前記パターン形成材料をパターニングするための版、またはパターンが転写される基板を処理対象物として、該処理対象物の下面と前記ブランケットの前記担持面とを所定のギャップを隔てて近接対向配置する第2工程と、押し上げ部材を前記ブランケットの下面に当接させ該押し上げ部材により前記ブランケットを部分的に押し上げて前記処理対象物に当接させ、前記ブランケットの下面に沿って前記押し上げ部材を移動させる第3工程とを備え、前記第3工程では、前記押し上げ部材の移動に伴って前記局所支持部を順番に下降させて前記ブランケットから離間させる。   Further, in order to achieve the above object, the pattern forming method according to the present invention locally provides a plurality of local support portions that can be lifted and lowered independently from each other with respect to the lower surface of the blanket carrying the pattern forming material on one surface. A first step of supporting the blanket in a horizontal posture with the support surface of the pattern forming material facing upward, and a plate for patterning the pattern forming material or a substrate onto which the pattern is transferred As a processing object, a second step in which a lower surface of the processing object and the carrying surface of the blanket are disposed in close proximity to each other with a predetermined gap therebetween, and a push-up member is brought into contact with the lower surface of the blanket so that the push-up member The blanket is partly pushed up and brought into contact with the object to be processed, and the push-up part is formed along the lower surface of the blanket. And a third step of moving, in the third step, said along with the movement of the lifting member is lowered in order the local support portion is moved away from the blanket.

このように構成された発明では、上記したパターン形成装置と同様に、ブランケットと処理対象物とを平行かつ微小ギャップを隔てて対向させた状態から僅かな相対移動で互いに当接させることができるので、ブランケットと処理対象物とを高い位置精度で当接させることが可能である。   In the invention configured as described above, the blanket and the object to be processed can be brought into contact with each other with a slight relative movement from a state in which the blanket and the object to be processed are opposed to each other with a minute gap therebetween, as in the pattern forming apparatus described above. The blanket and the object to be processed can be brought into contact with high positional accuracy.

この発明において、例えば、第1工程では押し上げ部材の移動方向に沿って複数の局所支持部を配列し、第3工程では押し上げ部材の移動方向に沿った順番で局所支持部を下降させるようにしてもよい。また例えば、第1工程では押し上げ部材の移動方向に直交する方向に並べて1対の局所支持部を配置するとともに、複数対の局所支持部を移動方向に沿って並べてかつ互いに離間させて配置し、第3工程では押し上げ部材の移動に伴って、互いに対をなす局所支持部を一体的に下降させるようにしてもよい。これらの構成により奏される作用効果は、上記したパターン形成装置のものと同様である。   In this invention, for example, in the first step, a plurality of local support portions are arranged along the moving direction of the push-up member, and in the third step, the local support portions are lowered in the order along the moving direction of the push-up member. Also good. Further, for example, in the first step, a pair of local support portions are arranged in a direction orthogonal to the moving direction of the push-up member, and a plurality of pairs of local support portions are arranged along the moving direction and spaced apart from each other, In the third step, the local support portions paired with each other may be lowered integrally with the movement of the push-up member. The effects achieved by these configurations are the same as those of the pattern forming apparatus described above.

また例えば、第3工程では、押し上げ部材とブランケットとの当接位置と、一の局所支持部とブランケットとの当接位置との間の距離が所定値以下になると当該局所支持部を下降させるようにしてもよい。押し上げ部材との当接位置から離れた位置ではブランケットが自重により撓む可能性があるため、局所支持部による支持が姿勢維持のために有効である。一方、押し上げ部材との当接位置に近い位置では、押し上げ部材自体がブランケットを下方から支持する作用を有するため局所支持部による支持の必要性は低い。そこで、各局所支持部を下降させるタイミングを、当該局所支持部がブランケットに当接する当接位置と、押し上げ部材とブランケットとの当接位置との間の距離に応じて定めることができる。こうすれば、局所支持部と押し上げ部材との接触を確実に防止しつつ、ブランケットの撓みも抑制することが可能である。   For example, in the third step, when the distance between the contact position between the push-up member and the blanket and the contact position between the one local support portion and the blanket is equal to or less than a predetermined value, the local support portion is lowered. It may be. Since there is a possibility that the blanket is bent by its own weight at a position away from the contact position with the push-up member, support by the local support portion is effective for maintaining the posture. On the other hand, at a position close to the contact position with the push-up member, the push-up member itself has an action of supporting the blanket from below, so that the necessity for support by the local support portion is low. Therefore, the timing for lowering each local support portion can be determined according to the distance between the contact position where the local support portion contacts the blanket and the contact position between the push-up member and the blanket. If it carries out like this, it is possible to also suppress the bending of a blanket, preventing the contact with a local support part and a pushing-up member reliably.

また例えば、第1工程では、ブランケットの周縁部を保持枠により保持するとともに、ブランケットのうち保持枠により保持された周縁部よりも内側でブランケットの下面に複数の局所支持部を当接させ、第3工程では、保持枠によるブランケット周縁部の保持を維持しつつ局所支持部を下降させるようにしてもよい。ブランケット周縁部を保持することで、ブランケットをより水平姿勢に近づけることができる。また保持枠によって周縁部を保持しておくことで、局所支持部が離間した際にもブランケットの水平方向への変位を抑えることができる。   Further, for example, in the first step, the peripheral edge of the blanket is held by the holding frame, and a plurality of local support portions are brought into contact with the lower surface of the blanket inside the peripheral edge held by the holding frame of the blanket. In the three steps, the local support portion may be lowered while maintaining the blanket peripheral portion held by the holding frame. By holding the blanket periphery, the blanket can be brought closer to a horizontal posture. Further, by holding the peripheral edge by the holding frame, it is possible to suppress the blanket from being displaced in the horizontal direction even when the local support portion is separated.

この発明によれば、ブランケットの中央部を複数の局所支持部で局所的に支持することでブランケットを水平姿勢に維持することができるので、処理対象物としての版または基板とブランケットとを平行かつ近接させて対向配置することができる。このため、当接時の位置ずれを小さくして、処理対象物である版または基板とブランケットとを高い位置精度で当接させることが可能である。   According to this invention, since the blanket can be maintained in a horizontal posture by locally supporting the central portion of the blanket with the plurality of local support portions, the plate or substrate as the processing object and the blanket are parallel and They can be placed close to each other. For this reason, it is possible to make the positional deviation at the time of contact small, and to contact the plate or substrate which is a processing object, and the blanket with high position accuracy.

この発明にかかるパターン形成装置の第1実施形態を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a first embodiment of a pattern forming apparatus according to the present invention. このパターン形成装置の制御系を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control system of this pattern formation apparatus. 下ステージブロックの構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a lower stage block. 昇降ハンドユニットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a raising / lowering hand unit. 転写ローラユニットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a transfer roller unit. 上ステージアセンブリの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of an upper stage assembly. パターン形成処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a pattern formation process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第1の図である。It is a 1st figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第2の図である。It is a 2nd figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第3の図である。It is a 3rd figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第4の図である。It is a 4th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第5の図である。It is a 5th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第6の図である。It is a 6th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of processing. 版または基板とブランケットとの位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of a plate | board or a board | substrate, and a blanket. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第7の図である。It is a 7th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. ブランケット、転写ローラおよびハンドの位置関係を示す第1の図である。It is a 1st figure which shows the positional relationship of a blanket, a transfer roller, and a hand. ブランケット、転写ローラおよびハンドの位置関係を示す第2の図である。It is a 2nd figure which shows the positional relationship of a blanket, a transfer roller, and a hand. この発明にかかるパターン形成装置の第2実施形態の主要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of 2nd Embodiment of the pattern formation apparatus concerning this invention. 支持ハンド機構の詳細な構造およびその動きを示す図である。It is a figure which shows the detailed structure of a support hand mechanism, and its movement. ブランケット受け部材のより詳細な構造を示す図である。It is a figure which shows the more detailed structure of a blanket receiving member. ブランケット受け部材と基板およびブランケットとの位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of a blanket receiving member, a board | substrate, and a blanket. 第2実施形態のパターン形成処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第1の図である。It is a 1st figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of the pattern formation processing of a 2nd embodiment. 第2実施形態のパターン形成処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第2の図である。It is a 2nd figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of the pattern formation process of 2nd Embodiment.

<第1実施形態>
図1はこの発明にかかるパターン形成装置の第1実施形態を示す斜視図である。また、図2はこのパターン形成装置の制御系を示すブロック図である。なお、図1では、装置の内部構成を示すために外部カバーを除いた状態を示している。各図における方向を統一的に示すために、図1右下に示すようにXYZ直交座標軸を設定する。ここでXY平面が水平面、Z軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、(+Z)方向が鉛直上向き方向を表している。装置から見たときの正面方向は(−Y)方向であり、物品の搬入出を含む外部からの装置へのアクセスはY軸方向に沿ってなされる。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a pattern forming apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the pattern forming apparatus. FIG. 1 shows a state in which the external cover is removed to show the internal configuration of the apparatus. In order to uniformly indicate the direction in each figure, XYZ orthogonal coordinate axes are set as shown in the lower right of FIG. Here, the XY plane represents a horizontal plane and the Z axis represents a vertical axis. More specifically, the (+ Z) direction represents a vertically upward direction. The front direction when viewed from the apparatus is the (−Y) direction, and access to the apparatus from the outside, including loading and unloading of articles, is made along the Y-axis direction.

このパターン形成装置1は、メインフレーム2に上ステージブロック4および下ステージブロック6が取り付けられた構造を有している。図1では、各ブロックの区別を明示するために、上ステージブロック4には粗いピッチのドットを、また下ステージブロック6にはより細かいピッチのドットを付している。パターン形成装置1は上記以外に、予め記憶された処理プログラムに従い装置各部を制御して所定の動作を実行する制御ユニット7(図2)を有している。上ステージブロック4および下ステージブロック6の詳細な構成については後に説明することとし、まず装置1の全体構成を説明する。   The pattern forming apparatus 1 has a structure in which an upper stage block 4 and a lower stage block 6 are attached to a main frame 2. In FIG. 1, in order to clearly show the distinction between the blocks, the upper stage block 4 is provided with dots having a coarse pitch, and the lower stage block 6 is provided with dots having a finer pitch. In addition to the above, the pattern forming apparatus 1 has a control unit 7 (FIG. 2) that controls each part of the apparatus according to a processing program stored in advance and executes a predetermined operation. Detailed configurations of the upper stage block 4 and the lower stage block 6 will be described later. First, the overall configuration of the apparatus 1 will be described.

パターン形成装置1は、下ステージブロック6により保持されたブランケットBLと、上ステージブロック4により保持された版PPまたは基板SBとを互いに当接させることでパターン形成を行う装置である。この装置1によるパターン形成プロセスは、より具体的には以下の通りである。まず、パターン形成材料が一様に塗布されたブランケットBLに対して、形成すべきパターンに対応して作成された版PPを当接させることにより、ブランケットBLに担持された塗布層をパターニングする(パターニング処理)。そして、こうしてパターニングされたブランケットBLと基板SBとを当接させることで、ブランケットBLに担持されたパターンを基板SBに転写する(転写処理)。これにより、基板SBに所望のパターンが形成される。   The pattern forming apparatus 1 is an apparatus that forms a pattern by bringing the blanket BL held by the lower stage block 6 and the plate PP or the substrate SB held by the upper stage block 4 into contact with each other. More specifically, the pattern forming process by the apparatus 1 is as follows. First, the coated layer carried on the blanket BL is patterned by bringing a plate PP created corresponding to the pattern to be formed into contact with the blanket BL on which the pattern forming material is uniformly applied (see FIG. Patterning process). Then, by bringing the blanket BL thus patterned and the substrate SB into contact, the pattern carried on the blanket BL is transferred to the substrate SB (transfer process). As a result, a desired pattern is formed on the substrate SB.

このように、このパターン形成装置1は基板SBに所定のパターンを形成するパターン形成プロセスにおけるパターニング処理および転写処理の両方に使用することが可能であるが、これらの処理の一方のみを受け持つ態様で用いられてもよい。   As described above, the pattern forming apparatus 1 can be used for both the patterning process and the transfer process in the pattern forming process for forming a predetermined pattern on the substrate SB. However, the pattern forming apparatus 1 is responsible for only one of these processes. May be used.

パターン形成装置1の下ステージブロック6は、メインフレーム2のベースフレーム21により支持されている。一方、上ステージブロック4は、下ステージブロック6をX方向から挟むようにベースフレーム21から立設されY方向に延びる1対の上ステージ支持フレーム22,23に取り付けられている。   The lower stage block 6 of the pattern forming apparatus 1 is supported by the base frame 21 of the main frame 2. On the other hand, the upper stage block 4 is attached to a pair of upper stage support frames 22 and 23 that are erected from the base frame 21 and extend in the Y direction so as to sandwich the lower stage block 6 from the X direction.

また、メインフレーム2には、装置に搬入される基板SBとブランケットBLとの位置検出を行うためのプリアライメントカメラが取り付けられている。具体的には、Y軸方向に沿って装置に搬入される基板SBのエッジを異なる3か所で検出するための3基の基板用プリアライメントカメラ241,242,243が、上ステージ支持フレーム22,23から立設されたブームにそれぞれ取り付けられている。同様に、Y軸方向に沿って装置に搬入されるブランケットBLのエッジを異なる3か所で検出するための3基のブランケット用プリアライメントカメラ244,245,246が上ステージ支持フレーム22,23から立設されたブームにそれぞれ取り付けられている。なお図1では、上ステージブロック4の背後に位置する1基のブランケット用プリアライメントカメラ246が現れていない。また、図2では基板用プリアライメントカメラを「基板用PAカメラ」と、ブランケット用プリアライメントカメラを「ブランケット用PAカメラ」と、それぞれ略記している。   Further, a pre-alignment camera for detecting the positions of the substrate SB and the blanket BL carried into the apparatus is attached to the main frame 2. More specifically, three substrate pre-alignment cameras 241, 242, and 243 for detecting the edge of the substrate SB carried into the apparatus along the Y-axis direction at three different positions are provided on the upper stage support frame 22. , 23 are respectively attached to booms erected. Similarly, three blanket pre-alignment cameras 244, 245 and 246 for detecting the edge of the blanket BL carried into the apparatus along the Y-axis direction at three different positions are provided from the upper stage support frames 22 and 23. Each is attached to a standing boom. In FIG. 1, one blanket pre-alignment camera 246 located behind the upper stage block 4 does not appear. In FIG. 2, the substrate pre-alignment camera is abbreviated as “substrate PA camera”, and the blanket pre-alignment camera is abbreviated as “blanket PA camera”.

図3は下ステージブロックの構造を示す斜視図である。下ステージブロック6では、中央部が開口するプレート状のアライメントステージ601の四隅にそれぞれ支柱602が鉛直方向(Z方向)に立設されており、これらの支柱602により、ステージ支持プレート603が支持されている。図示を省略しているが、アライメントステージ601の下部には、鉛直方向Zに延びる回転軸を回転中心とする回転方向(以下、「θ方向」と称する)、X方向およびY方向の3自由度を有する例えばクロスローラベアリング等のアライメントステージ支持機構605(図2)が設けられており、該アライメントステージ支持機構605を介してアライメントステージ601はベースフレーム21に取り付けられている。したがって、アライメントステージ支持機構605の作動によって、アライメントステージ601はベースフレーム21に対してX方向、Y方向およびθ方向に所定の範囲で移動可能である。   FIG. 3 is a perspective view showing the structure of the lower stage block. In the lower stage block 6, pillars 602 are erected in the vertical direction (Z direction) at the four corners of a plate-shaped alignment stage 601 with an opening at the center, and the stage support plate 603 is supported by these pillars 602. ing. Although not shown, at the lower part of the alignment stage 601, there are three degrees of freedom in the rotational direction (hereinafter referred to as “θ direction”), the X direction and the Y direction with the rotational axis extending in the vertical direction Z as the rotational center. An alignment stage support mechanism 605 (FIG. 2) such as a cross roller bearing is provided, and the alignment stage 601 is attached to the base frame 21 via the alignment stage support mechanism 605. Therefore, the alignment stage 601 can move in a predetermined range in the X direction, the Y direction, and the θ direction with respect to the base frame 21 by the operation of the alignment stage support mechanism 605.

ステージ支持プレート603の上部に、上面が略水平面と一致する平面となり中央部に開口窓611が形成された環状矩形の下ステージ61が配置されている。下ステージ61の上面にブランケットBLが載置され、下ステージ61がこれを保持する。   An annular rectangular lower stage 61 having an upper surface substantially coincident with a horizontal plane and having an opening window 611 formed at the center is disposed above the stage support plate 603. A blanket BL is placed on the upper surface of the lower stage 61, and the lower stage 61 holds it.

開口窓611の開口サイズについては、ブランケットBLの表面領域のうち、パターン形成領域として有効に機能する中央部の有効領域(図示せず)の平面サイズよりは大きいことが必要である。つまり、ブランケットBLが下ステージ61に載置されたとき、ブランケットBL下面のうち有効領域に対応する領域の全体が開口窓611に臨み、有効領域の下方が完全に開放された状態である必要がある。またパターン形成材料による塗布層は、少なくとも有効領域の全体を覆うように形成される。   The opening size of the opening window 611 needs to be larger than the planar size of the effective area (not shown) in the central portion that effectively functions as the pattern formation area in the surface area of the blanket BL. That is, when the blanket BL is placed on the lower stage 61, the entire area corresponding to the effective area on the lower surface of the blanket BL faces the opening window 611, and the lower part of the effective area needs to be completely open. is there. The coating layer made of the pattern forming material is formed so as to cover at least the entire effective area.

下ステージ61の上面61aには、開口窓611の周縁各辺にそれぞれ沿うように複数の溝612が設けられており、各溝612は図示しない制御バルブを介して制御ユニット7の負圧供給部704に接続されている。各溝612は、ブランケットBLの平面サイズよりも小さい平面サイズの領域内に配置されている。そして、図において一点鎖線で示すように、ブランケットBLは、これらの溝612を全て覆うようにして下ステージ61に載置される。またこれを可能とするために、下ステージ上面61aにブランケットBLの位置規制用のストッパ部材613が適宜配置される。   The upper surface 61a of the lower stage 61 is provided with a plurality of grooves 612 along the peripheral edges of the opening window 611. Each groove 612 is a negative pressure supply section of the control unit 7 via a control valve (not shown). 704 is connected. Each groove 612 is disposed in a region having a planar size smaller than the planar size of the blanket BL. Then, as indicated by the alternate long and short dash line in the figure, the blanket BL is placed on the lower stage 61 so as to cover all the grooves 612. In order to enable this, a stopper member 613 for restricting the position of the blanket BL is appropriately disposed on the lower stage upper surface 61a.

各溝612に負圧が供給されることにより各溝612は真空吸着溝として機能し、こうしてブランケットBLの周縁部の四辺が下ステージ61の上面61aに吸着保持される。真空吸着溝を互いに独立した複数の溝612で構成することにより、何らかの原因で一部の溝において真空破壊が生じても他の溝によるブランケットBLの吸着が維持されるので、ブランケットBLを確実に保持することができる。また、単独の溝を設けた場合よりも強い吸着力でブランケットBLを吸着することができる。   By supplying negative pressure to each groove 612, each groove 612 functions as a vacuum suction groove, and thus the four sides of the peripheral portion of the blanket BL are sucked and held on the upper surface 61a of the lower stage 61. By configuring the vacuum suction groove with a plurality of independent grooves 612, even if a vacuum break occurs in some of the grooves for some reason, the suction of the blanket BL by other grooves is maintained, so that the blanket BL can be securely attached. Can be held. Further, the blanket BL can be adsorbed with a stronger adsorbing force than when a single groove is provided.

下ステージ61の開口窓611の下方には、ブランケットBLをZ軸方向に上下動させるための昇降ハンドユニット62,63と、ブランケットBLに下方から当接して押し上げる転写ローラユニット64とが設けられている。   Below the opening window 611 of the lower stage 61, there are provided lifting hand units 62 and 63 for moving the blanket BL up and down in the Z-axis direction, and a transfer roller unit 64 that abuts and pushes up the blanket BL from below. Yes.

図4は昇降ハンドユニットの構造を示す図である。2つの昇降ハンドユニット62,63の構造は同一であるので、ここでは一方の昇降ハンドユニット62の構造について説明する。昇降ハンドユニット62は、ベースフレーム21からZ方向に立設された2本の支柱621,622を有しており、これらの支柱621,622に対してプレート状のスライドベース623が上下動可能に取り付けられている。より具体的には、2本の支柱621,622にはそれぞれ鉛直方向(Z方向)に延びるガイドレール6211,6221が取り付けられており、スライドベース623の背面、つまり(+Y)側主面に取り付けられた図示しないスライダがガイドレール6211,6221に摺動自在に取り付けられる。そして、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備える昇降機構624が、制御ユニット7からの制御指令に応じてスライドベース623を上下動させる。   FIG. 4 is a diagram showing the structure of the lifting hand unit. Since the structures of the two lifting hand units 62 and 63 are the same, the structure of one lifting hand unit 62 will be described here. The elevating hand unit 62 has two support columns 621 and 622 erected in the Z direction from the base frame 21, and a plate-like slide base 623 can move up and down with respect to these support columns 621 and 622. It is attached. More specifically, guide rails 6211 and 6221 extending in the vertical direction (Z direction) are attached to the two support columns 621 and 622, respectively, and attached to the rear surface of the slide base 623, that is, the (+ Y) side main surface. The slider (not shown) is slidably attached to the guide rails 6211 and 6221. Then, for example, an elevating mechanism 624 having an appropriate drive mechanism such as a motor and a ball screw mechanism moves the slide base 623 up and down in accordance with a control command from the control unit 7.

スライドベース623には複数(この例では4本)のハンド625が上下動自在に取り付けられている。各ハンド625の構造は、配設位置に応じてベース部分の形状が異なる点を除いて基本的に同一である。各ハンド625は、スライドベース623の正面、つまり(−Y)側主面に鉛直方向(Z方向)に沿って取り付けられたガイドレール626に対して摺動自在に係合されたスライダ627に固定されている。スライダ627はスライドベース623の背面に取り付けられた例えばロッドレスシリンダなどの適宜の駆動機構を備える昇降機構628に連結されており、該昇降機構628の作動によりスライドベース623に対して上下方向に移動する。各ハンド625にはそれぞれ独立の昇降機構628が設けられており、各ハンド625を個別に上下動させることができる。   A plurality (four in this example) of hands 625 are attached to the slide base 623 so as to be movable up and down. The structure of each hand 625 is basically the same except that the shape of the base portion differs depending on the arrangement position. Each hand 625 is fixed to a slider 627 that is slidably engaged with a guide rail 626 that is attached to the front surface of the slide base 623, that is, the (−Y) side main surface along the vertical direction (Z direction). Has been. The slider 627 is connected to an elevating mechanism 628 having an appropriate drive mechanism such as a rodless cylinder attached to the back surface of the slide base 623, and moves up and down with respect to the slide base 623 by the operation of the elevating mechanism 628. To do. Each hand 625 is provided with an independent lifting mechanism 628, and each hand 625 can be moved up and down individually.

つまり、昇降ハンドユニット62では、昇降機構624がスライドベース623を上下動させることで各ハンド625を一体的に昇降させることができるとともに、各昇降機構628が独立して作動することで各ハンド625を個別に昇降させることが可能となっている。   That is, in the elevating hand unit 62, the elevating mechanism 624 moves the slide base 623 up and down to integrally move the hands 625 up and down, and the elevating mechanisms 628 operate independently to allow the hands 625 to move up and down. Can be raised and lowered individually.

ハンド625の上面625aはY方向を長手方向とする細長い平面状に仕上げられており、該上面625aをブランケットBLの下面に当接させてブランケットBLを支持することができる。また上面625aには、図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット7に設けられた負圧供給部704と連通する吸着孔625bが設けられている。これにより、吸着孔625bには必要に応じて負圧供給部704からの負圧が供給されて、ハンド625の上面625aにブランケットBLを吸着保持することができる。そのため、ハンド625でブランケットBLを支持する際の滑りを防止することができる。   The upper surface 625a of the hand 625 is finished in an elongated flat surface with the Y direction as the longitudinal direction, and the upper surface 625a can be brought into contact with the lower surface of the blanket BL to support the blanket BL. Further, the upper surface 625a is provided with an adsorption hole 625b communicating with a negative pressure supply unit 704 provided in the control unit 7 through a pipe and a control valve (not shown). As a result, negative pressure from the negative pressure supply unit 704 is supplied to the suction hole 625b as necessary, and the blanket BL can be sucked and held on the upper surface 625a of the hand 625. Therefore, it is possible to prevent slipping when the hand 625 supports the blanket BL.

また、吸着孔625bに対しては、図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット7のガス供給部706から適宜の気体、例えば乾燥空気や不活性ガスなどが必要に応じて供給される。すなわち、制御ユニット7により制御される各制御バルブの開閉によって、吸着孔625bには、負圧供給部704からの負圧およびガス供給部706からの気体が選択的に供給される。   In addition, an appropriate gas, for example, dry air or inert gas, is supplied to the adsorption hole 625b from a gas supply unit 706 of the control unit 7 via a pipe and a control valve (not shown) as necessary. That is, the negative pressure from the negative pressure supply unit 704 and the gas from the gas supply unit 706 are selectively supplied to the suction hole 625 b by opening and closing each control valve controlled by the control unit 7.

ガス供給部706からの気体が吸着孔625bに供給されるとき、吸着孔625bからは少量の気体が吐出される。これによりブランケットBLの下面とハンド上面625aとの間に微小な隙間が形成され、ハンド625はブランケットBLを下方から支持しつつ、ブランケットBL下面からは離間した状態となる。そのため、各ハンド625によりブランケットBLを支持しながら、ブランケットBLを各ハンド625に対して摺擦させることなく水平方向に移動させることができる。なお、気体吐出孔を吸着孔625bとは別にハンド上面625aに設けてもよい。   When the gas from the gas supply unit 706 is supplied to the adsorption hole 625b, a small amount of gas is discharged from the adsorption hole 625b. Thereby, a minute gap is formed between the lower surface of the blanket BL and the upper surface 625a of the hand, and the hand 625 is in a state of being separated from the lower surface of the blanket BL while supporting the blanket BL from below. Therefore, the blanket BL can be moved in the horizontal direction without being rubbed against each hand 625 while the blanket BL is supported by each hand 625. In addition, you may provide a gas discharge hole in the hand upper surface 625a separately from the adsorption hole 625b.

図3に戻って、下ステージブロック6では、上記のような構成を有する昇降ハンドユニット62,63がハンド625を内向きにしてY方向に向かい合うように対向配置されている。各ハンド625が最も下降した状態では、ハンド上面625aは下ステージ上面61aよりも下方、つまり(−Z)方向に大きく後退した位置にある。一方、各ハンド625が最も上昇した状態では、各ハンド625の先端は下ステージ61の開口窓611から上方へ突き出した状態となり、ハンド上面625aは下ステージ上面61aよりも上方、つまり(+Z)方向に突出した位置まで到達する。   Returning to FIG. 3, in the lower stage block 6, the lifting hand units 62, 63 having the above-described configuration are disposed facing each other so as to face the Y direction with the hand 625 facing inward. In the state where each hand 625 is lowered most, the upper surface 625a of the hand is located below the lower stage upper surface 61a, that is, a position that is largely retracted in the (−Z) direction. On the other hand, in the state where each hand 625 is raised most, the tip of each hand 625 protrudes upward from the opening window 611 of the lower stage 61, and the hand upper surface 625a is above the lower stage upper surface 61a, that is, in the (+ Z) direction. To the position protruding.

また、上方から見たとき、両昇降ハンドユニット62,63の互いに向かい合うハンド625の先端同士の間には一定の間隔が設けられており、これらが接触することはない。また次に述べるように、この隙間を利用して、転写ローラユニット64がX方向に移動する。   Further, when viewed from above, a certain distance is provided between the tips of the hands 625 facing each other of the elevating hand units 62 and 63 so that they do not come into contact with each other. Further, as will be described next, the transfer roller unit 64 moves in the X direction using this gap.

図5は転写ローラユニットの構造を示す図である。転写ローラユニット64は、Y方向に延びる円筒状のローラ部材である転写ローラ641と、該転写ローラ641の下方に沿ってY方向に延びその両端部で転写ローラ641を回転自在に支持する支持フレーム642と、適宜の駆動機構を有し支持フレーム642をZ方向に上下動させる昇降機構644とを有している。転写ローラ641は回転駆動機構と接続されておらず、自由回転する。また、支持フレーム642には、転写ローラ641の表面に下方から当接して転写ローラ641の撓みを防止するバックアップローラ643が設けられている。   FIG. 5 shows the structure of the transfer roller unit. The transfer roller unit 64 includes a transfer roller 641 that is a cylindrical roller member extending in the Y direction, and a support frame that extends in the Y direction along the lower side of the transfer roller 641 and rotatably supports the transfer roller 641 at both ends thereof. 642 and an elevating mechanism 644 that has an appropriate drive mechanism and moves the support frame 642 up and down in the Z direction. The transfer roller 641 is not connected to a rotation drive mechanism and rotates freely. Further, the support frame 642 is provided with a backup roller 643 that comes into contact with the surface of the transfer roller 641 from below to prevent the transfer roller 641 from bending.

Y方向における転写ローラ641の長さは、下ステージ61の開口窓611の四辺のうちY方向に沿った辺の長さ、つまり開口窓611のY方向における開口寸法よりは短く、かつ、後述する上ステージに保持されたときの版PPまたは基板SBのY方向に沿った長さよりは長い。ブランケットBLのうちパターン形成領域として有効な有効領域の長さは当然に版PPまたは基板SBの長さ以下であるから、Y方向において転写ローラ641は有効領域よりも長い。   The length of the transfer roller 641 in the Y direction is shorter than the length of the four sides of the opening window 611 of the lower stage 61 along the Y direction, that is, the opening dimension of the opening window 611 in the Y direction, and will be described later. It is longer than the length along the Y direction of the plate PP or the substrate SB when held on the upper stage. Since the effective area effective as a pattern formation area in the blanket BL is naturally equal to or shorter than the length of the plate PP or the substrate SB, the transfer roller 641 is longer than the effective area in the Y direction.

昇降機構644は、ベース部644aと、該ベース部644aから上方に延びて支持フレーム642のY方向における中央付近に連結された支持脚644bを有している。支持脚644bはモータまたはシリンダ等の適宜の駆動機構によりベース部644aに対して上下動可能となっている。ベース部644aは、X方向に延設されたガイドレール646に対して摺動自在に取り付けられており、さらに例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備える移動機構647に連結されている。ガイドレール646は、X方向に延設されてベースフレーム21に固定された下部フレーム645の上面に取り付けられている。移動機構647が作動することにより、転写ローラ641、支持フレーム642および昇降機構644が一体的にX方向に走行する。   The elevating mechanism 644 includes a base portion 644a and support legs 644b extending upward from the base portion 644a and connected to the vicinity of the center of the support frame 642 in the Y direction. The support leg 644b can move up and down with respect to the base portion 644a by an appropriate drive mechanism such as a motor or a cylinder. The base portion 644a is slidably attached to a guide rail 646 extending in the X direction, and is further coupled to a moving mechanism 647 having an appropriate driving mechanism such as a motor and a ball screw mechanism. . The guide rail 646 is attached to the upper surface of the lower frame 645 that extends in the X direction and is fixed to the base frame 21. By operating the moving mechanism 647, the transfer roller 641, the support frame 642, and the lifting mechanism 644 integrally travel in the X direction.

詳しくは後述するが、このパターン形成装置1では、下ステージ61に保持されたブランケットBLに転写ローラ641を当接させてブランケットBLを部分的に押し上げることにより、上ステージに保持されてブランケットBLに近接対向配置された版PPまたは基板SBにブランケットBLを当接させる。   As will be described in detail later, in this pattern forming apparatus 1, the blanket BL held on the lower stage 61 is brought into contact with the transfer roller 641 to partially lift the blanket BL, whereby the blanket BL is held on the upper stage. The blanket BL is brought into contact with the plate PP or the substrate SB arranged in close proximity to each other.

昇降機構644は、昇降ハンドユニット62,63の互いに向かい合うハンド625が作る隙間を通って走行する。また各ハンド625は、その上面625aが転写ローラユニット64の支持フレーム642の下面より下方まで(−Z)方向に後退可能となっている。したがってこの状態で昇降機構644が走行することで、転写ローラユニット64の支持フレーム642が各ハンド625の上面625aの上方を通過し、転写ローラユニット64とハンド625とが衝突することが回避される。   The elevating mechanism 644 travels through a gap formed by the hands 625 facing each other of the elevating hand units 62 and 63. Each hand 625 has an upper surface 625 a that can be retracted in the (−Z) direction from the lower surface of the support frame 642 of the transfer roller unit 64 to the lower side. Therefore, when the elevating mechanism 644 runs in this state, the support frame 642 of the transfer roller unit 64 passes over the upper surface 625a of each hand 625, and the transfer roller unit 64 and the hand 625 are prevented from colliding. .

次に上ステージブロック4の構造について説明する。図1に示すように、上ステージブロック4は、X方向に延びる構造体である上ステージアセンブリ40と、上ステージ支持フレーム22,23からそれぞれ立設されて上ステージアセンブリ40のX方向両端部をそれぞれ支持する1対の支持柱45,46と、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備え上ステージアセンブリ40全体をZ方向に昇降移動させる昇降機構47とを備えている。   Next, the structure of the upper stage block 4 will be described. As shown in FIG. 1, the upper stage block 4 is erected from an upper stage assembly 40 that is a structure extending in the X direction and upper stage support frames 22 and 23. A pair of support columns 45 and 46 for supporting each of them, and an elevating mechanism 47 that includes an appropriate drive mechanism such as a motor and a ball screw mechanism and moves the entire upper stage assembly 40 up and down in the Z direction.

図6は上ステージアセンブリの構造を示す図である。上ステージアセンブリ40は、下面に版PPまたは基板SBを保持する上ステージ41と、上ステージ41の上部に設けられた補強フレーム42と、補強フレーム42に結合されてX方向に沿って水平に延びる梁状構造体43と、上ステージ41に装着される上部吸着ユニット44とを備えている。図6に示すように、上ステージアセンブリ40はその外形上の中心を含むXZ平面およびYZ平面に対してそれぞれ概ね対称な形状を有している。   FIG. 6 shows the structure of the upper stage assembly. The upper stage assembly 40 is coupled to the upper stage 41 holding the plate PP or the substrate SB on the lower surface, a reinforcing frame 42 provided on the upper stage 41, and extends horizontally along the X direction. A beam-like structure 43 and an upper suction unit 44 mounted on the upper stage 41 are provided. As shown in FIG. 6, the upper stage assembly 40 has substantially symmetric shapes with respect to the XZ plane and the YZ plane including the center on the outer shape.

上ステージ41は、保持すべき版PPまたは基板SBの平面サイズより少し小さい平板状部材であり、水平姿勢に保持されたその下面41aが版PPまたは基板SBを当接させて保持する保持平面となっている。保持平面は高い平面度が要求されるので、その材料としては石英ガラスまたはステンレス板が好適である。また保持平面には後述する上部吸着ユニット44の吸着パッドを装着するための貫通孔が設けられている。   The upper stage 41 is a flat member slightly smaller than the plane size of the plate PP or the substrate SB to be held, and a lower surface 41a held in a horizontal posture holds the plate PP or the substrate SB in contact with the holding plane. It has become. Since the holding plane is required to have a high degree of flatness, quartz glass or a stainless steel plate is suitable as the material. The holding plane is provided with a through hole for mounting a suction pad of the upper suction unit 44 described later.

補強フレーム42は、上ステージ41の上面にZ方向に延設された補強リブの組み合わせからなっており、図に示すように、上ステージ41の撓みを防止してその下面(保持平面)41aの平面度を維持するために、YZ平面と平行な補強リブ421と、XZ平面と平行な補強リブ422とがそれぞれ複数適宜組み合わされている。補強リブ421,422は例えば金属板により構成することができる。   The reinforcing frame 42 is composed of a combination of reinforcing ribs extending in the Z direction on the upper surface of the upper stage 41. As shown in the drawing, the upper stage 41 is prevented from being bent and its lower surface (holding plane) 41a In order to maintain the flatness, a plurality of reinforcing ribs 421 parallel to the YZ plane and reinforcing ribs 422 parallel to the XZ plane are appropriately combined. The reinforcing ribs 421 and 422 can be made of, for example, a metal plate.

また、梁状構造体43は、複数の金属板を組み合わせて形成されたX方向を長手方向とする構造体であり、その両端部が支持柱45,46に支持されて上下動可能となっている。具体的には、支持柱45,46にはZ方向に延びるガイドレール451,461がそれぞれ設けられる一方、これと対向する梁状構造体43の(+Y)側主面に図示しないスライダが取り付けられており、これらが摺動自在に係合されている。そして、図1に示すように、梁状構造体43と支持柱46とは昇降機構47によって連結されており、昇降機構47が作動することにより、梁状構造体43が水平姿勢を維持したまま鉛直方向(Z方向)に移動する。上ステージ41は補強フレーム42を介して梁状構造体43と一体的に結合されているので、昇降機構47の作動により、上ステージ41が保持平面41aを水平に保ったまま上下動する。   Further, the beam-like structure 43 is a structure formed by combining a plurality of metal plates and having a longitudinal direction in the X direction, and both ends thereof are supported by the support columns 45 and 46 so as to be vertically movable. Yes. Specifically, guide rails 451 and 461 extending in the Z direction are provided on the support columns 45 and 46, respectively, and a slider (not shown) is attached to the (+ Y) side main surface of the beam-like structure 43 facing the support pillars 45 and 46, respectively. These are slidably engaged. As shown in FIG. 1, the beam-like structure 43 and the support column 46 are connected by an elevating mechanism 47, and the elevating mechanism 47 operates to keep the beam-like structure 43 in a horizontal posture. Move in the vertical direction (Z direction). Since the upper stage 41 is integrally coupled to the beam-like structure 43 via the reinforcing frame 42, the upper stage 41 moves up and down with the holding plane 41 a kept horizontal by the operation of the elevating mechanism 47.

なお、補強フレーム42および梁状構造体43の構造は図示したものに限定されない。ここではYZ平面と平行な板状部材とXZ平面と平行な板状部材とを組み合わせて必要な強度を得ているが、これ以外の形状に板金やアングル部材等を適宜組み合わせてもよい。このような構造とするのは上ステージアセンブリ40を軽量に構成するためである。各部の撓みを低減させるために、上ステージ41の厚みを増したり梁状構造体43を中実体とすることも考えられるが、そのようにすると上ステージアセンブリ40全体の質量が大きくなってしまう。   The structures of the reinforcing frame 42 and the beam-like structure 43 are not limited to those illustrated. Here, a necessary strength is obtained by combining a plate-like member parallel to the YZ plane and a plate-like member parallel to the XZ plane, but a sheet metal, an angle member, or the like may be appropriately combined with other shapes. The reason for this structure is to make the upper stage assembly 40 lightweight. In order to reduce the deflection of each part, it is conceivable to increase the thickness of the upper stage 41 or to use the beam-like structure 43 as a solid body, but if so, the mass of the entire upper stage assembly 40 will increase.

装置の上部に配置される構造物の重量が大きくなると、これを支持したり移動させたりするための機構にさらなる強度および耐久性が必要となり、装置全体も非常に大きく重くなってしまう。板材等の組み合わせにより必要な強度を得つつ、構造物全体の軽量化を図ることがより現実的である。   When the weight of the structure disposed on the upper part of the apparatus increases, a mechanism for supporting and moving the structure requires further strength and durability, and the entire apparatus becomes very large and heavy. It is more realistic to reduce the weight of the entire structure while obtaining the required strength by combining plate materials and the like.

また、補強フレーム42により囲まれた上ステージ41の上部には、1対の上部吸着ユニット44が装着される。一方の上部吸着ユニット44が上方へ取り出された状態が図6上部に示されている。上部吸着ユニット44では、支持フレーム441から下方へ延びる複数のパイプ442の下端に例えばゴム製の吸着パッド443がそれぞれ装着されている。各パイプ442の上端側は図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット7の負圧供給部704に接続されている。支持フレーム441は、補強フレーム42を構成するリブ421,422と干渉しない形状とされる。   A pair of upper suction units 44 are mounted on the upper stage 41 surrounded by the reinforcing frame 42. A state where one upper suction unit 44 is taken out upward is shown in the upper part of FIG. In the upper suction unit 44, for example, rubber suction pads 443 are attached to lower ends of a plurality of pipes 442 extending downward from the support frame 441, respectively. The upper end side of each pipe 442 is connected to a negative pressure supply unit 704 of the control unit 7 via a pipe and a control valve (not shown). The support frame 441 has a shape that does not interfere with the ribs 421 and 422 constituting the reinforcing frame 42.

支持フレーム441は、1対のスライダ444とこれに係合する1対のガイドレール445を介して、ベースプレート446に対し鉛直方向に移動自在に支持されている。また、ベースプレート446と支持フレーム441とは、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を有する昇降機構447により結合されている。昇降機構447の作動により、ベースプレート446に対して支持フレーム441が昇降し、これと一体的にパイプ442および吸着パッド443が昇降する。   The support frame 441 is supported movably in the vertical direction with respect to the base plate 446 through a pair of sliders 444 and a pair of guide rails 445 engaged therewith. Further, the base plate 446 and the support frame 441 are coupled by an elevating mechanism 447 having an appropriate driving mechanism such as a motor and a ball screw mechanism. By the operation of the lifting mechanism 447, the support frame 441 moves up and down with respect to the base plate 446, and the pipe 442 and the suction pad 443 move up and down integrally therewith.

ベースプレート446が梁状構造体43の側面に固定されることで、上部吸着ユニット44が上ステージ41と一体化される。この状態では、各パイプ442の下端および吸着パッド443は、上ステージ41に設けられた図示しない貫通孔に挿通されている。そして、昇降機構447の作動により、吸着パッド443は、その下面が上ステージ41の下面(保持平面)41aよりも下方まで吐出した吸着位置と、下面が上ステージ41の貫通孔の内部(上方)に退避した退避位置との間で昇降移動する。また吸着パッド443の下面が上ステージ41の保持平面41aとほぼ同一高さに位置決めされたとき、上ステージ41と吸着パッド443とが協働して、版PPまたは基板SBを保持平面41aに保持することができる。   The upper suction unit 44 is integrated with the upper stage 41 by fixing the base plate 446 to the side surface of the beam-like structure 43. In this state, the lower end of each pipe 442 and the suction pad 443 are inserted through through holes (not shown) provided in the upper stage 41. Then, by the operation of the elevating mechanism 447, the suction pad 443 has the lower surface discharged to the lower side of the lower surface (holding plane) 41a of the upper stage 41 and the lower surface inside the through hole of the upper stage 41 (upper). It moves up and down with the retracted position. When the lower surface of the suction pad 443 is positioned at substantially the same height as the holding plane 41a of the upper stage 41, the upper stage 41 and the suction pad 443 cooperate to hold the plate PP or the substrate SB on the holding plane 41a. can do.

図1に戻って、上記のように構成された上ステージアセンブリ40はベースプレート481上に設けられている。より詳しくは、支持柱45,46がそれぞれベースプレート481に立設されており、該支持柱45,46に対して上ステージアセンブリ40が昇降可能に取り付けられている。ベースプレート481は、上ステージ支持フレーム22,23に取り付けられ例えばクロスローラベアリング等の適宜の可動機構を備える上ステージブロック支持機構482により支持されている。   Returning to FIG. 1, the upper stage assembly 40 configured as described above is provided on a base plate 481. More specifically, the support columns 45 and 46 are respectively erected on the base plate 481, and the upper stage assembly 40 is attached to the support columns 45 and 46 so as to be movable up and down. The base plate 481 is attached to the upper stage support frames 22 and 23, and is supported by an upper stage block support mechanism 482 including an appropriate movable mechanism such as a cross roller bearing.

このため、上ステージアセンブリ40全体が、メインフレーム2に対して水平移動可能となっている。具体的には、ベースプレート481が上ステージブロック支持機構482の作動により水平面、すなわちXY平面内で水平移動する。支持柱45,46のそれぞれに対応して設けられた1対のベースプレート481は互いに独立して移動可能となっており、これらの移動に伴って、上ステージアセンブリ40はメインフレーム2に対してX方向、Y方向およびθ方向に所定の範囲で移動可能である。   Therefore, the entire upper stage assembly 40 can be moved horizontally with respect to the main frame 2. Specifically, the base plate 481 moves horizontally in the horizontal plane, that is, the XY plane by the operation of the upper stage block support mechanism 482. A pair of base plates 481 provided corresponding to the support pillars 45 and 46 can move independently of each other, and the upper stage assembly 40 moves with respect to the main frame 2 in accordance with these movements. It is possible to move in a predetermined range in the direction, the Y direction, and the θ direction.

上記のように構成されたパターン形成装置1の各部は、制御ユニット7により制御される。図2に示すように、制御ユニット7は、装置全体の動作を司るCPU701と、各部に設けられたモータを制御するモータ制御部702と、各部に設けられた制御バルブ類を制御するバルブ制御部703と、各部に供給する負圧を発生する負圧供給部704とを備えている。なお、外部から供給される負圧を利用可能である場合には制御ユニット7が負圧供給部を備えていなくてもよい。   Each part of the pattern forming apparatus 1 configured as described above is controlled by the control unit 7. As shown in FIG. 2, the control unit 7 includes a CPU 701 that controls the operation of the entire apparatus, a motor control unit 702 that controls a motor provided in each unit, and a valve control unit that controls control valves provided in each unit. 703 and a negative pressure supply unit 704 that generates a negative pressure to be supplied to each unit. In addition, when the negative pressure supplied from the outside can be utilized, the control unit 7 does not need to be provided with the negative pressure supply part.

モータ制御部702は、各機能ブロックに設けられたモータ群を制御することで、装置各部の位置決めや移動を司る。また、バルブ制御部703は、負圧供給部704から各機能ブロックに接続される負圧の配管経路上およびガス供給部706からハンド625に接続される配管経路上に設けられたバルブ群を制御することで、負圧供給による真空吸着の実行およびその解除と、ハンド上面625aからのガス吐出とを司る。   The motor control unit 702 controls the positioning and movement of each part of the apparatus by controlling a motor group provided in each functional block. Further, the valve control unit 703 controls a valve group provided on a negative pressure piping path connected from the negative pressure supply unit 704 to each functional block and on a piping path connected from the gas supply unit 706 to the hand 625. Thus, the vacuum suction by the negative pressure supply is executed and released, and the gas is discharged from the hand upper surface 625a.

また、この制御ユニット7は、カメラにより撮像された画像に対し画像処理を施す画像処理部705を備えている。画像処理部705は、メインフレーム2に取り付けられた基板用プリアライメントカメラ241〜243およびブランケット用プリアライメントカメラ244〜246により撮像された画像に対して所定の画像処理を行うことで、基板SBおよびブランケットBLの概略位置を検出する。また、後述する精密アライメント用のアライメントカメラ27により撮像された画像に対して所定の画像処理を行うことで、基板SBとブランケットBLとの位置関係をより精密に検出する。CPU701は、これらの位置検出結果に基づいて上ステージブロック支持機構482およびアライメント支持機構605を制御し、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと下ステージ61に保持されたブランケットBLとの位置合わせ(プリアライメント処理および精密アライメント処理)を行う。   The control unit 7 includes an image processing unit 705 that performs image processing on an image captured by the camera. The image processing unit 705 performs predetermined image processing on images captured by the substrate pre-alignment cameras 241 to 243 and the blanket pre-alignment cameras 244 to 246 attached to the main frame 2, so that the substrate SB and The approximate position of the blanket BL is detected. Further, the positional relationship between the substrate SB and the blanket BL is detected more precisely by performing predetermined image processing on an image picked up by an alignment camera 27 for precision alignment described later. The CPU 701 controls the upper stage block support mechanism 482 and the alignment support mechanism 605 based on these position detection results, and the plate PP or substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61. Alignment (pre-alignment processing and precision alignment processing) is performed.

次に、上記のように構成されたパターン形成装置1におけるパターン形成処理について説明する。このパターン形成処理では、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと、下ステージ61に保持されたブランケットBLとが微小なギャップを隔てて近接対向配置される。そして、転写ローラ641がブランケットBLの下面に当接してブランケットBLを局所的に上方へ押し上げながらブランケットBL下面に沿って移動する。押し上げられたブランケットBLは版PPまたは基板SBとまず局所的に当接し、ローラ移動に伴って当接部分が次第に拡大して最終的には版PPまたは基板SBの全体と当接する。これにより、版PPからブランケットBLへのパターニング、またはブランケットBLから基板SBへのパターン転写が行われる。   Next, a pattern forming process in the pattern forming apparatus 1 configured as described above will be described. In this pattern forming process, the plate PP or the substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61 are arranged close to each other with a minute gap therebetween. Then, the transfer roller 641 contacts the lower surface of the blanket BL and moves along the lower surface of the blanket BL while locally pushing up the blanket BL. The pushed blanket BL first locally contacts the plate PP or the substrate SB, and the contact portion gradually expands as the roller moves, and finally contacts the entire plate PP or the substrate SB. Thus, patterning from the plate PP to the blanket BL or pattern transfer from the blanket BL to the substrate SB is performed.

図7はパターン形成処理を示すフローチャートである。また、図8ないし図15は処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す図である。以下、パターン形成処理における各部の動作を図8ないし図15を参照しつつ説明する。なお、処理の各段階における各部の関係をわかりやすく示すために、当該段階の処理に直接に関係しない構成またはそれに付すべき符号の図示を省略することがある。また、上ステージ41に保持される処理対象物が版PPであるときと基板SBであるときとの間では一部を除いて動作が同じであるため、図を共通として版PPと基板SBとを適宜読み替えることとする。   FIG. 7 is a flowchart showing the pattern forming process. FIGS. 8 to 15 are diagrams schematically showing the positional relationship of each part of the apparatus at each stage of processing. The operation of each part in the pattern forming process will be described below with reference to FIGS. In addition, in order to show the relationship between the respective units at each stage of the process in an easy-to-understand manner, a configuration that is not directly related to the process at the stage or a reference numeral to be attached thereto may be omitted. In addition, since the operation is the same except when a processing object held on the upper stage 41 is a plate PP and a substrate SB, the plate PP and the substrate SB are shown in common in the figure. Will be read as appropriate.

このパターン形成処理では、初期化されたパターン形成装置1に対して、まず形成すべきパターンに対応する版PPを搬入して上ステージ41にセットし(ステップS101)、次いで、パターン形成材料による一様な塗布層が形成されたブランケットBLを搬入して下ステージ61にセットする(ステップS102)。版PPはパターンに対応する有効面を下向きにして、またブランケットBLは塗布層を上向きにして搬入される。   In this pattern forming process, the plate PP corresponding to the pattern to be formed is first loaded into the initialized pattern forming apparatus 1 and set on the upper stage 41 (step S101). A blanket BL on which such a coating layer is formed is carried and set on the lower stage 61 (step S102). The plate PP is loaded with the effective surface corresponding to the pattern facing downward, and the blanket BL is loaded with the coating layer facing upward.

図8は、版PPまたは基板SBが装置に搬入され上ステージ41にセットされるまでの過程を示している。図8(a)に示すように、初期状態では、上ステージ41が上方に退避して下ステージ61との間隔が大きくなっており、両ステージの間に広い処理空間SPが形成されている。また、各ハンド625は下ステージ61の上面よりも下方に退避している。転写ローラ641は下ステージ61の開口窓611に臨む位置のうち最も(−X)方向に寄った位置で、かつ鉛直方向(Z方向)には下ステージ61の上面よりも下方に退避した位置にある。負圧供給部704に接続される各制御バルブは閉じられている。   FIG. 8 shows a process until the plate PP or the substrate SB is carried into the apparatus and set on the upper stage 41. As shown in FIG. 8A, in the initial state, the upper stage 41 is retracted upward and the distance from the lower stage 61 is increased, and a wide processing space SP is formed between both stages. Each hand 625 is retracted below the upper surface of the lower stage 61. The transfer roller 641 is the position closest to the (−X) direction among the positions facing the opening window 611 of the lower stage 61, and the position retracted below the upper surface of the lower stage 61 in the vertical direction (Z direction). is there. Each control valve connected to the negative pressure supply unit 704 is closed.

この状態で、装置の正面側から、つまり(−Y)方向から(+Y)方向に向かって、外部の版用ハンドHPに載置された版PPが、予めその厚みが計測された上で処理空間SPに搬入される。版用ハンドHPは、オペレータにより手動操作される操作治具であってもよく、また外部の搬送ロボットのハンドであってもよい。このときハンド625および転写ローラ641が下方に退避していることで、搬入作業を容易にすることができる。版PPが所定の位置に位置決めされると、矢印で示すように上ステージ41が降下してくる。   In this state, from the front side of the apparatus, that is, from the (−Y) direction to the (+ Y) direction, the plate PP placed on the external plate hand HP is processed after its thickness is measured in advance. It is carried into the space SP. The plate hand HP may be an operation jig manually operated by an operator, or may be a hand of an external transfer robot. At this time, since the hand 625 and the transfer roller 641 are retracted downward, the carrying-in operation can be facilitated. When the plate PP is positioned at a predetermined position, the upper stage 41 is lowered as indicated by an arrow.

上ステージ41が版PPに近接した所定の位置まで降下すると、図8(b)に示すように、上ステージ41に設けられた吸着パッド443が上ステージ41の下面、つまり保持平面41aよりも下方までせり出してきて、版PPの上面に当接する。吸着パッド443につながる制御バルブが開かれることで、吸着パッド443により版PPの上面が吸着されて版PPが保持される。そして、吸着を継続したまま吸着パッド443を上昇させることで、版PPは版用ハンドHPから持ち上げられる。この時点で版用ハンドHPは装置外へ移動する。   When the upper stage 41 is lowered to a predetermined position close to the plate PP, the suction pad 443 provided on the upper stage 41 is below the lower surface of the upper stage 41, that is, the holding plane 41a, as shown in FIG. Until it touches the upper surface of the plate PP. When the control valve connected to the suction pad 443 is opened, the upper surface of the plate PP is sucked by the suction pad 443 and the plate PP is held. Then, the plate PP is lifted from the plate hand HP by raising the suction pad 443 while continuing the suction. At this point, the plate hand HP moves out of the apparatus.

最終的には、図8(c)に示すように、吸着パッド443の下面が保持平面41aと同一高さあるいはそれより僅かに高い位置まで上昇し、これにより版PPの上面が上ステージ41の保持平面41aに密着した状態で保持される。上ステージ41の下面に吸着溝もしくは吸着孔を設け、これらにより、吸着パッド443から受け渡される版PPを吸着保持する構成であってもよい。このようにして版PPの保持が完了する。同様の手順により、基板用ハンドHSにより基板SBを搬入することができる。   Finally, as shown in FIG. 8C, the lower surface of the suction pad 443 rises to a position that is the same height as or slightly higher than the holding plane 41a, so that the upper surface of the plate PP becomes higher than that of the upper stage 41. It is held in close contact with the holding plane 41a. A configuration may be adopted in which suction grooves or suction holes are provided on the lower surface of the upper stage 41 so that the plate PP delivered from the suction pad 443 is sucked and held. In this way, the holding of the plate PP is completed. By the same procedure, the substrate SB can be loaded by the substrate hand HS.

図9および図10は、版PPの搬入後、ブランケットBLが搬入されて下ステージ61に保持されるまでの過程を示している。上ステージ41による版PPの保持が完了すると、図9(a)に示すように、上ステージ41を上昇させて再び広い処理空間SPを形成するとともに、各ハンド625を下ステージ61の上面61aよりも上方まで上昇させる。このとき、各ハンド625の上面625aが全て同一高さとなるようにする。   9 and 10 show a process from the loading of the plate PP until the blanket BL is loaded and held on the lower stage 61. FIG. When the holding of the plate PP by the upper stage 41 is completed, as shown in FIG. 9A, the upper stage 41 is raised to form a wide processing space SP again, and each hand 625 is moved from the upper surface 61 a of the lower stage 61. Also raise to the top. At this time, the upper surfaces 625a of the hands 625 are all set to the same height.

この状態で、図9(b)に示すように、上面にパターニング形成材料による塗布層PTが形成されたブランケットBLが外部のブランケット用ハンドHBに載置されて処理空間SPに搬入されるのを受け付ける。ブランケットBLは搬入に先立ってその厚みが計測される。ブランケット用ハンドHBは、ハンド625と干渉することなくそれらの隙間を通って進入することができるように、Y方向に延びるフィンガーを有するフォーク型のものであることが望ましい。   In this state, as shown in FIG. 9B, the blanket BL having the coating layer PT made of the patterning material formed on the upper surface is placed on the external blanket hand HB and carried into the processing space SP. Accept. The thickness of the blanket BL is measured prior to loading. The blanket hand HB is preferably of the fork type having fingers extending in the Y direction so that the blanket hand HB can enter through the gap without interfering with the hand 625.

ブランケット用ハンドHBが進入後降下する、またはハンド625が上昇することによって、ハンド625の上面625aはブランケットBLの下面に当接し、図9(c)に示すように、それ以降ブランケットBLはハンド625により支持される。ハンド625に設けた吸着孔625b(図4)に負圧を供給することで、支持をより確実なものとすることができる。こうしてブランケットBLはブランケット用ハンドHBからハンド625に受け渡され、ブランケット用ハンドHBについては装置外へ排出することができる。   When the blanket hand HB descends after entering or the hand 625 rises, the upper surface 625a of the hand 625 comes into contact with the lower surface of the blanket BL. Thereafter, as shown in FIG. Is supported by By supplying a negative pressure to the suction hole 625b (FIG. 4) provided in the hand 625, the support can be made more reliable. Thus, the blanket BL is transferred from the blanket hand HB to the hand 625, and the blanket hand HB can be discharged out of the apparatus.

その後、図10(a)に示すように、各ハンド625の上面625aの高さを揃えたままハンド625を降下させ、最終的にはハンド上面625aを下ステージ61の上面61aと同じ高さとする。これにより、ブランケットBL四辺の周縁部が下ステージ61の上面61aに当接する。   Thereafter, as shown in FIG. 10A, the hand 625 is lowered with the height of the upper surface 625 a of each hand 625 aligned, and finally the hand upper surface 625 a is made to be the same height as the upper surface 61 a of the lower stage 61. . As a result, the peripheral portions of the four sides of the blanket BL abut against the upper surface 61 a of the lower stage 61.

このとき、図10(b)に示すように、下ステージ上面61aに設けた真空吸着溝612に負圧を供給して、ブランケットBLを吸着保持する。これに伴い、ハンド625での吸着は解除する。これにより、ブランケットBLは、その四辺の周縁部を下ステージ61により吸着保持された状態となる。図10(b)では、ハンド625による吸着保持を解除したことを明示するためにブランケットBLとハンド625とが離間しているが、実際にはブランケットBLの下面がハンド上面625aに当接した状態が維持される。   At this time, as shown in FIG. 10B, a negative pressure is supplied to the vacuum suction groove 612 provided on the lower stage upper surface 61a to suck and hold the blanket BL. Accordingly, the suction with the hand 625 is released. As a result, the blanket BL is in a state in which the peripheral portions of the four sides are sucked and held by the lower stage 61. In FIG. 10B, the blanket BL and the hand 625 are separated to clearly indicate that the suction holding by the hand 625 has been released, but in actuality, the lower surface of the blanket BL is in contact with the upper surface 625a of the hand. Is maintained.

仮にこの状態でハンド625を離間させたとすると、ブランケットBLは自重によって中央部が下方へ撓み、全体として下に凸の形状になると考えられる。ハンド625を下ステージ上面61aと同じ高さに維持することによって、このような撓みを抑えてブランケットBLを平面状態に維持することができる。こうして、ブランケットBLはその周縁部が下ステージ61により吸着保持されつつ、中央部についてはハンド625により補助的に支持された状態となって、ブランケットBLの保持が完了する。   If the hand 625 is separated in this state, it is considered that the blanket BL is bent downward at its center by its own weight, and has a convex shape as a whole. By maintaining the hand 625 at the same height as the lower stage upper surface 61a, it is possible to suppress the bending and maintain the blanket BL in a planar state. In this way, the blanket BL is held by the lower stage 61 by suction and the central portion is supplementarily supported by the hand 625, and the holding of the blanket BL is completed.

版PPとブランケットBLとの搬入順序は上記と逆であっても構わない。ただし、ブランケットBLを搬入した後に版PPを搬入する場合、版PPの搬入時にブランケットBL上に異物が落下してパターン形成材料による塗布層PTを汚染したり欠陥を発生させるおそれがある。上記のように版PPを上ステージ41にセットした後に下ステージ61にブランケットBLをセットすることで、そのような問題を未然に回避することが可能である。   The order of loading the plate PP and the blanket BL may be reversed. However, when the plate PP is loaded after the blanket BL is loaded, there is a risk that foreign matter may fall on the blanket BL when the plate PP is loaded, thereby contaminating the coating layer PT with the pattern forming material or causing defects. By setting the blanket BL on the lower stage 61 after setting the plate PP on the upper stage 41 as described above, such a problem can be avoided in advance.

図7に戻って、こうして上下ステージに版PPおよびブランケットBLがそれぞれセットされると、続いて版PPおよびブランケットBLのプリアライメント処理が行われる(ステップS103)。さらに、両者が予め設定されたギャップを隔てて対向するように、ギャップ調整が行われる(ステップS104)。   Returning to FIG. 7, when the plate PP and the blanket BL are set on the upper and lower stages in this way, the plate PP and the blanket BL are pre-aligned (step S103). Furthermore, gap adjustment is performed so that both face each other across a preset gap (step S104).

図11はギャップ調整処理およびアライメント処理の過程を示す図である。このうち図11(c)に示す精密アライメント処理は後述する転写処理のみにおいて必要な処理であるので、これについては後の転写処理の説明において述べる。上記のように版PP、基板SBまたはブランケットBLが外部から搬入されるが、その受け渡しの際に位置ずれが起こり得る。プリアライメント処理は、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと、下ステージ61に保持されたブランケットBLとのそれぞれを、以後の処理に適した位置に概略位置決めするための処理である。   FIG. 11 is a diagram illustrating a process of gap adjustment processing and alignment processing. Among them, the precision alignment process shown in FIG. 11C is a process necessary only for the transfer process described later, and will be described in the later description of the transfer process. As described above, the plate PP, the substrate SB, or the blanket BL is carried in from the outside, but a positional shift may occur during the delivery. The pre-alignment process is a process for roughly positioning the plate PP or substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61 at positions suitable for the subsequent processes.

図11(a)はプリアライメントを実行するための構成の配置を模式的に示す側面図である。前述したように、この実施形態では、装置上部に全部で6基のプリアライメントカメラ241〜246が設けられている。このうち3基のカメラ241〜243は、上ステージ41に保持された版PP(または基板SB)の外縁を検出するための基板用プリアライメントカメラである。また、他の3基のカメラ244〜246は、ブランケットBLの外縁を検出するためのブランケット用プリアライメントカメラである。なお、ここではプリアライメントカメラ241〜243を便宜的に「基板用プリアライメントカメラ」と称しているが、これらは版PPの位置合わせおよび基板SBの位置合わせのいずれにも使用可能なものであり、またその処理内容も同じである。   FIG. 11A is a side view schematically showing the arrangement of a configuration for executing pre-alignment. As described above, in this embodiment, a total of six pre-alignment cameras 241 to 246 are provided in the upper part of the apparatus. Among these, the three cameras 241 to 243 are substrate pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the plate PP (or the substrate SB) held on the upper stage 41. The other three cameras 244 to 246 are blanket pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the blanket BL. Here, the pre-alignment cameras 241 to 243 are referred to as “substrate pre-alignment cameras” for the sake of convenience, but these can be used for both the alignment of the plate PP and the alignment of the substrate SB. The processing contents are also the same.

図1および図11(a)に示すように、基板用プリアライメントカメラ241,242はX方向には略同位置でY方向に互いに位置を異ならせて設置されており、版PPまたは基板SBの(−X)側外縁部を上方からそれぞれ撮像する。上ステージ41は基板SBより少し小さい平面サイズに形成されているため、上ステージ41の端部よりも外側まで延びた版PP(または基板SB)の(−X)側外縁部を上方から撮像することができる。また、図には現れないが、図11(a)紙面の手前側にはもう1基の基板用プリアライメントカメラ243が設けられており、該カメラ243は版PP(または基板SB)の(−Y)側外縁部を上方から撮像する。   As shown in FIGS. 1 and 11 (a), the substrate pre-alignment cameras 241 and 242 are installed at substantially the same position in the X direction and different positions in the Y direction. The (-X) side outer edge is imaged from above. Since the upper stage 41 is formed in a plane size slightly smaller than the substrate SB, the (-X) side outer edge portion of the plate PP (or the substrate SB) extending outward from the end portion of the upper stage 41 is imaged from above. be able to. Further, although not shown in the figure, another substrate pre-alignment camera 243 is provided on the front side of the paper surface of FIG. 11A, and the camera 243 is (−) of the plate PP (or the substrate SB). Y) Take an image of the side outer edge from above.

一方、ブランケット用プリアライメントカメラ244,246はX方向には略同位置でY方向に互いに位置を異ならせて設置されており、下ステージ61に載置されるブランケットBLの(+X)側外縁部を上方からそれぞれ撮像する。また、図11(a)紙面の手前側にもう1基のブランケット用プリアライメントカメラ245が設けられており、該カメラ245はブランケットBLの(−Y)側外縁部を上方から撮像する。   On the other hand, the blanket pre-alignment cameras 244 and 246 are installed in substantially the same position in the X direction and different positions in the Y direction, and the (+ X) side outer edge portion of the blanket BL placed on the lower stage 61. Are imaged from above. Further, another blanket pre-alignment camera 245 is provided on the front side of FIG. 11A, and the camera 245 images the outer edge of the blanket BL on the (−Y) side from above.

これらのプリアライメントカメラ241〜246による撮像結果から版PP(または基板SB)およびブランケットBLの位置がそれぞれ把握される。そして、必要に応じて上ステージブロック支持機構482およびアライメントステージ支持機構605が作動することにより、版PP(または基板SB)およびブランケットBLがそれぞれ予め設定された目標位置に位置決めされる。   The positions of the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are grasped from the imaging results of these pre-alignment cameras 241 to 246, respectively. Then, when the upper stage block support mechanism 482 and the alignment stage support mechanism 605 operate as necessary, the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are respectively positioned at preset target positions.

なお、下ステージ61とともにブランケットBLを水平移動させるとき、図11(a)に示すように、各ハンド625の上面625aとブランケットBLの下面とは僅かに離間させておくことが好ましい。この目的のために、ガス供給部706から供給されるガスをハンド625の吸着孔625bから吐出させておくことができる。これは後述する精密アライメント処理においても同様である。   When the blanket BL is moved horizontally together with the lower stage 61, it is preferable that the upper surface 625a of each hand 625 and the lower surface of the blanket BL are slightly separated from each other as shown in FIG. For this purpose, the gas supplied from the gas supply unit 706 can be discharged from the suction hole 625 b of the hand 625. The same applies to the precision alignment process described later.

また、薄型あるいは大型で撓みが生じやすい基板SBについては、取り扱いを容易にするために例えば背面に板状の支持部材を当接させた状態で基板SBが処理に供する場合がある。このような場合、たとえ支持部材が基板SBよりも大型のものであっても、例えば支持部材を透明材料で構成したり、支持部材に部分的に透明な窓または貫通孔を設けるなど、基板SBの外縁部の位置を検出容易な構成としておけば、上記と同様のプリアライメント処理が可能である。   In addition, for a thin or large substrate SB that is likely to be bent, the substrate SB may be subjected to processing with a plate-like support member in contact with the back surface, for example, in order to facilitate handling. In such a case, even if the support member is larger than the substrate SB, for example, the support member is made of a transparent material, or a partially transparent window or through hole is provided in the support member. If the position of the outer edge portion is set to be easy to detect, pre-alignment processing similar to the above can be performed.

次いで、図11(b)に示すように、ブランケットBLを保持する下ステージ61に対して、版PPを保持する上ステージ41を降下させて、版PPとブランケットBLとの間隔Gを予め定められた設定値に合わせる。このとき、事前に計測された版PPおよびブランケットBLの厚みが考慮される。すなわち、版PPおよびブランケットBLの厚みを加味した上で両者のギャップが所定値になるように、上ステージ41と下ステージ61との間隔が調整される。ここでのギャップ値Gとしては、例えば300μm程度とすることができる。   Next, as shown in FIG. 11B, the upper stage 41 holding the plate PP is lowered with respect to the lower stage 61 holding the blanket BL, and a gap G between the plate PP and the blanket BL is determined in advance. To the set value. At this time, the thicknesses of the plate PP and the blanket BL measured in advance are taken into consideration. That is, the distance between the upper stage 41 and the lower stage 61 is adjusted so that the gap between the plates PP and the blanket BL takes a predetermined value in consideration of the thickness. The gap value G here can be set to about 300 μm, for example.

版PPおよびブランケットBLの厚みについては、製造上の寸法ばらつきによる個体差があるほか、同一部品であっても例えば膨潤による厚みの変化が考えられるので、使用の都度計測されることが望ましい。また、ギャップGについては、版PPの下面とブランケットBLの上面との間で定義されてもよく、また版PPの下面と、ブランケットBLに担持されたパターン形成材料の塗布層PTの上面との間で定義されてもよい。塗布層PTの厚みが塗布段階で厳密に管理されている限り、技術的には等価である。   Regarding the thicknesses of the plate PP and the blanket BL, there are individual differences due to dimensional variations in manufacturing, and even for the same part, for example, a change in thickness due to swelling is conceivable. Further, the gap G may be defined between the lower surface of the plate PP and the upper surface of the blanket BL, and between the lower surface of the plate PP and the upper surface of the coating layer PT of the pattern forming material carried on the blanket BL. May be defined between. As long as the thickness of the coating layer PT is strictly controlled in the coating stage, it is technically equivalent.

図7に戻って、こうして版PPとブランケットBLとがギャップGを隔てて対向配置されると、続いて転写ローラ641をブランケットBLの下面に当接させつつX方向に走行させることで、版PPとブランケットBLとを当接させる。これによりブランケットBL上のパターン形成材料の塗布層PTを版PPによりパターニングする(パターニング処理;ステップS105)。   Returning to FIG. 7, when the plate PP and the blanket BL are arranged to face each other with a gap G therebetween, the plate PP is moved by moving the transfer roller 641 in the X direction while contacting the lower surface of the blanket BL. And the blanket BL are brought into contact with each other. Thereby, the coating layer PT of the pattern forming material on the blanket BL is patterned by the plate PP (patterning process; step S105).

図12はパターニング処理の過程を示している。具体的には、図12(a)に示すように、転写ローラ641をブランケットBLの直下位置まで上昇させるとともに、X方向には転写ローラ641の中心線が版PPの端部と略同じ位置、またはこれよりも(−X)方向に僅かに外れた位置に、転写ローラ641を配置する。この状態で、図12(b)に示すように、転写ローラ641をさらに上昇させてブランケットBLの下面に当接させ、該当接された位置のブランケットBLを局所的に上方に押し上げる。これにより、ブランケットBL(より厳密にはブランケットBLに担持されたパターン形成材料の塗布層PT)が所定の押圧力で版PPの下面に押圧される。転写ローラ641はY方向において版PP(および有効領域)より長いので、版PPの下面のうちY方向における一方端から他方端に至るY方向に沿った細長い領域がブランケットBLと当接する。   FIG. 12 shows the patterning process. Specifically, as shown in FIG. 12A, the transfer roller 641 is raised to a position immediately below the blanket BL, and the center line of the transfer roller 641 is substantially the same as the end of the plate PP in the X direction. Alternatively, the transfer roller 641 is disposed at a position slightly deviated in the (−X) direction. In this state, as shown in FIG. 12B, the transfer roller 641 is further raised and brought into contact with the lower surface of the blanket BL, and the blanket BL at the contacted position is locally pushed upward. As a result, the blanket BL (more precisely, the coating layer PT of the pattern forming material carried on the blanket BL) is pressed against the lower surface of the plate PP with a predetermined pressing force. Since the transfer roller 641 is longer than the plate PP (and the effective region) in the Y direction, an elongated region along the Y direction from one end to the other end in the Y direction on the lower surface of the plate PP contacts the blanket BL.

こうして転写ローラ641がブランケットBLを押圧した状態のまま昇降機構644が(+X)方向に向けて走行することで、ブランケットBLの押し上げ位置を(+X)方向に移動させる。このときハンド625が転写ローラ641と接触するのを防止するため、図12(c)に示すように、転写ローラ641とのX方向距離が所定値以下となったハンド625については少なくとも当該ハンド625の上面625aが支持フレーム642の下面より低い位置となるまで下方に退避させる。   Thus, the lifting mechanism 644 travels in the (+ X) direction while the transfer roller 641 presses the blanket BL, thereby moving the push-up position of the blanket BL in the (+ X) direction. At this time, in order to prevent the hand 625 from coming into contact with the transfer roller 641, as shown in FIG. 12C, at least the hand 625 with respect to the hand 625 whose X-direction distance to the transfer roller 641 is equal to or smaller than a predetermined value. The upper surface 625a is retracted downward until it is positioned lower than the lower surface of the support frame 642.

ハンド625による吸着は既に解除されているので、ハンド625の降下とともにブランケットBLが下方へ引き下げられることはない。また、降下を開始するタイミングを転写ローラ641の走行に同期して適宜に管理することで、ハンド625による支持を失ったブランケットBLが自重で下方へ垂れ下がることも防止することが可能である。   Since the suction by the hand 625 has already been released, the blanket BL is not lowered downward as the hand 625 is lowered. Further, by appropriately managing the timing of starting the descent in synchronization with the travel of the transfer roller 641, it is possible to prevent the blanket BL that has lost support by the hand 625 from drooping downward due to its own weight.

図13は転写ローラ641の走行過程を示している。いったん当接した版PPとブランケットBLとはパターン形成材料の塗布層PTを介して密着した状態が維持されるので、図13(a)に示すように、転写ローラ641の走行に伴って版PPとブランケットBLとが密着した領域が次第に(+X)方向に拡大してゆく。この際、同図に示すように、転写ローラ641が接近するにつれてハンド625を順次降下させる。   FIG. 13 shows the running process of the transfer roller 641. Since the plate PP and the blanket BL that have been in contact with each other are maintained in close contact with each other through the coating layer PT of the pattern forming material, the plate PP is moved along with the travel of the transfer roller 641 as shown in FIG. And the area where the blanket BL is in close contact gradually expands in the (+ X) direction. At this time, as shown in the figure, the hand 625 is sequentially lowered as the transfer roller 641 approaches.

こうして最終的には、図13(b)に示すように、全てのハンド625が降下し、転写ローラ641が下ステージ61下方の(+X)側端部近傍まで到達する。この時点で転写ローラ641は版PPの(+X)側端部の略直下またはこれより僅かに(+X)側の位置に到達しており、版PPの下面全てがブランケットBL上の塗布層PTに当接される。   Finally, as shown in FIG. 13B, all the hands 625 are lowered, and the transfer roller 641 reaches the vicinity of the (+ X) side end below the lower stage 61. At this time, the transfer roller 641 has reached a position substantially directly below or slightly to the (+ X) side of the end of the (+ X) side of the plate PP, and the entire lower surface of the plate PP is applied to the coating layer PT on the blanket BL. Abutted.

転写ローラ641が一定の高さを維持して走行する間、ブランケットBL下面のうち転写ローラ641により押圧される領域の面積は一定である。したがって、昇降機構644が一定の荷重を与えながら転写ローラ641をブランケットBLに押し付けることによって、版PPとブランケットBLとは間にパターン形成材料の塗布層PTを挟みながら一定の押圧力で互いに押圧されることになる。これにより、版PPからブランケットBLへのパターニングを良好に行うことができる。   While the transfer roller 641 travels while maintaining a constant height, the area of the area pressed by the transfer roller 641 on the lower surface of the blanket BL is constant. Therefore, when the lifting mechanism 644 applies a constant load and presses the transfer roller 641 against the blanket BL, the plate PP and the blanket BL are pressed against each other with a constant pressing force with the coating layer PT of the pattern forming material interposed therebetween. Will be. Thereby, patterning from the plate PP to the blanket BL can be performed satisfactorily.

なお、パターニングに際しては、版PPの表面領域の全体が有効に利用できることが理想的であるが、版PPの周縁部には傷や搬送時のハンドとの接触等により有効利用できない領域が不可避的に生じる。図13(b)に示すように、版PPの端部領域を除外した中央部分を版として有効に機能する有効領域ARとしたとき、少なくとも有効領域AR内では転写ローラ641の押圧力および走行速度が一定であることが望ましい。このためには、転写ローラ641のY方向長さが同方向における有効領域ARの長さよりも長い必要がある。またX方向においては、(−X)方向における有効領域ARの端部よりも(−X)側位置から転写ローラ641の走行を開始し、少なくとも(+X)方向における有効領域ARの端部に到達するまでは一定速度を維持することが望ましい。版PPの有効領域ARと対向するブランケットBLの表面領域が、ブランケットBL側の有効領域となる。   In patterning, it is ideal that the entire surface area of the plate PP can be used effectively. However, an area that cannot be effectively used due to scratches, contact with the hand during transportation, or the like is unavoidable at the periphery of the plate PP. To occur. As shown in FIG. 13B, when the central area excluding the end area of the plate PP is an effective area AR that functions effectively as a plate, at least the effective area AR has a pressing force and a traveling speed of the transfer roller 641. It is desirable that is constant. For this purpose, the length of the transfer roller 641 in the Y direction needs to be longer than the length of the effective area AR in the same direction. In the X direction, the transfer roller 641 starts traveling from a position on the (−X) side of the end of the effective area AR in the (−X) direction, and reaches at least the end of the effective area AR in the (+ X) direction. Until then, it is desirable to maintain a constant speed. The surface area of the blanket BL facing the effective area AR of the plate PP is the effective area on the blanket BL side.

図14は版または基板とブランケットとの位置関係を示している。より具体的には、この図は版PPまたは基板SBがブランケットBLに当接するときの位置関係を上方から見た平面図である。図に示すように、ブランケットBLは版PPまたは基板SBよりも大きな平面サイズを有している。ブランケットBLのうち図においてドットを付した周縁部に近い領域R1は、下ステージ61に保持されるときに下ステージ上面61aに当接する領域である。これより内側の領域については下面が開放された状態で、ブランケットBLは下ステージ61に保持される。   FIG. 14 shows the positional relationship between the plate or substrate and the blanket. More specifically, this figure is a plan view of the positional relationship when the plate PP or the substrate SB contacts the blanket BL as viewed from above. As shown in the figure, the blanket BL has a larger planar size than the plate PP or the substrate SB. The region R1 near the peripheral edge with dots in the drawing in the blanket BL is a region that abuts the lower stage upper surface 61a when held by the lower stage 61. The blanket BL is held by the lower stage 61 in a state where the lower surface of the inner region is open.

版PPと基板SBとはほぼ同じサイズであり、これらは下ステージ61の開口窓サイズよりも小さい。また、実際のパターン形成に有効に使用される有効領域ARは、版PPまたは基板SBのサイズよりも小さい。したがって、ブランケットBLのうち有効領域ARに対応する領域は下面が開放されて下ステージ61の開口窓611に臨んだ状態である。   The plate PP and the substrate SB are substantially the same size, and these are smaller than the opening window size of the lower stage 61. The effective area AR that is effectively used for actual pattern formation is smaller than the size of the plate PP or the substrate SB. Therefore, the area corresponding to the effective area AR in the blanket BL is in a state where the lower surface is opened and faces the opening window 611 of the lower stage 61.

ハッチングを付した領域R2は、ブランケットBL下面のうち転写ローラ641によって同時に押圧を受ける領域(押圧領域)を示している。押圧領域R2は、ローラ延設方向、つまりY方向に延びる細長い領域であり、そのY方向における両端部は版PPまたは基板SBの端部よりも外側までそれぞれ延びている。したがって、ブランケットBL下面と平行な状態で転写ローラ641がブランケットBLを押圧するとき、その押圧力は、Y方向における有効領域ARの一方端部から他方端部までの間でY方向に一様である。   A hatched region R2 indicates a region (pressing region) that is simultaneously pressed by the transfer roller 641 on the lower surface of the blanket BL. The pressing region R2 is an elongated region extending in the roller extending direction, that is, the Y direction, and both end portions in the Y direction extend to the outside from the end portions of the plate PP or the substrate SB, respectively. Therefore, when the transfer roller 641 presses the blanket BL in a state parallel to the lower surface of the blanket BL, the pressing force is uniform in the Y direction from one end to the other end of the effective area AR in the Y direction. is there.

こうしてY方向に一様な押圧力を有効領域ARに与えながら転写ローラ641がX方向に移動することで、有効領域AR内の全体で、版PPまたは基板SBとブランケットBLとが一様な押圧力で互いに押圧されることになる。これにより、不均一な押圧に起因するパターン損傷を防止して良質なパターンを形成することが可能となる。   Thus, the transfer roller 641 moves in the X direction while applying a uniform pressing force in the Y direction to the effective area AR, so that the plate PP or the substrate SB and the blanket BL are uniformly pressed in the entire effective area AR. They are pressed against each other by pressure. Thereby, it is possible to prevent pattern damage due to non-uniform pressing and to form a high quality pattern.

こうして転写ローラ641が(+X)側端部まで到達すると、転写ローラ641の走行を停止するとともに、図13(c)に示すように転写ローラ641を下方へ退避させる。これにより、転写ローラ641はブランケットBL下面から離間してパターニング処理が終了する。   When the transfer roller 641 reaches the end on the (+ X) side in this way, the transfer roller 641 stops running, and the transfer roller 641 is retracted downward as shown in FIG. Thereby, the transfer roller 641 is separated from the lower surface of the blanket BL, and the patterning process is completed.

図7に戻って、こうしてパターニング処理が終了すると版PPおよびブランケットBLの搬出が行われる(ステップS106)。図15は版およびブランケットの搬出の過程を示している。まず、図15(a)に示すように、パターニング処理時に降下していた各ハンド625を再び上昇させて、上面625aが下ステージ61の上面61aと同一高さとなる位置に位置決めする。この状態で、上ステージ41の吸着パッド443による版PPの吸着(吸着溝または吸着孔による吸着保持の場合は、それらによる吸着)を解除する。これにより上ステージ41による版PPの保持が解除され、版PPとブランケットBLとがパターン形成材料の塗布層PTを介して一体化された積層体が下ステージ61上に残される。積層体の中央部についてはハンド625により支持される。   Returning to FIG. 7, when the patterning process is completed in this way, the plate PP and the blanket BL are carried out (step S106). FIG. 15 shows the process of carrying out the plate and blanket. First, as shown in FIG. 15A, each hand 625 that has been lowered during the patterning process is raised again to position the upper surface 625 a at the same height as the upper surface 61 a of the lower stage 61. In this state, the adsorption of the plate PP by the adsorption pad 443 of the upper stage 41 (in the case of adsorption holding by an adsorption groove or an adsorption hole, adsorption by them) is released. As a result, the holding of the plate PP by the upper stage 41 is released, and a laminated body in which the plate PP and the blanket BL are integrated via the coating layer PT of the pattern forming material is left on the lower stage 61. The center of the laminate is supported by the hand 625.

続いて、図15(b)に示すように、上ステージ41を上昇させて広い処理空間SPを形成し、下ステージ61の溝612による吸着を解除するとともに、ハンド625をさらに上昇させて下ステージ61よりも上方へ移動させる。このときハンド625により積層体を吸着保持することが好ましい。   Subsequently, as shown in FIG. 15B, the upper stage 41 is lifted to form a wide processing space SP, the suction by the groove 612 of the lower stage 61 is released, and the hand 625 is further lifted to lower the lower stage. Move upward from 61. At this time, it is preferable that the laminate is sucked and held by the hand 625.

こうすることで外部からのアクセスが可能となる。そこで、図15(c)に示すように、ブランケット用ハンドHBを外部から受け入れて、搬入時とは逆の動作をすることで、版PPを密着させた状態のブランケットBLが外部へ搬出される。こうして密着した版PPをブランケットBLから適宜の剥離手段によって剥離すれば、ブランケットBL上に所定のパターンが形成される。   This makes it possible to access from the outside. Therefore, as shown in FIG. 15C, the blanket BL with the plate PP in close contact is carried out by accepting the blanket hand HB from the outside and performing the reverse operation to that during loading. . If the plate PP thus adhered is peeled from the blanket BL by an appropriate peeling means, a predetermined pattern is formed on the blanket BL.

次に、ブランケットBLに形成されたパターンをその最終的な目的物である基板SBに転写する場合について説明する。その工程は基本的にパターニング処理の場合と同じである。すなわち、図7に示すように、まず基板SBを上ステージ41にセットし(ステップS107)、次いでパターン形成済みのブランケットBLを下ステージ61にセットする(ステップS108)。そして、基板SBとブランケットBLとのプリアライメント処理およびギャップ調整を行った後(ステップS109、S110)、ブランケットBL下部で転写ローラ641を走行させることで、ブランケットBL上のパターンを基板SBに転写する(転写処理;ステップS112)。転写終了後は、一体化されたブランケットBLと基板SBとを搬出して処理は終了する(ステップS113)。これら一連の動作も、図8ないし図15に示したものと同じである。なお、これらの図において版PPを基板SBと読み替えるとき、符号PTはパターニング処理後のパターンを意味するものとする。   Next, a case where the pattern formed on the blanket BL is transferred to the substrate SB that is the final object will be described. The process is basically the same as in the patterning process. That is, as shown in FIG. 7, first, the substrate SB is set on the upper stage 41 (step S107), and then the blanket BL after pattern formation is set on the lower stage 61 (step S108). Then, after pre-alignment processing and gap adjustment between the substrate SB and the blanket BL (steps S109 and S110), the pattern on the blanket BL is transferred to the substrate SB by running the transfer roller 641 below the blanket BL. (Transfer process; Step S112). After the transfer is completed, the integrated blanket BL and the substrate SB are carried out, and the process ends (step S113). These series of operations are also the same as those shown in FIGS. In these drawings, when the plate PP is read as the substrate SB, the symbol PT means a pattern after the patterning process.

ただし、転写処理においては、基板SBの所定位置にパターンを適正に転写するために、基板SBとブランケットBLとを当接させる前に両者のより精密な位置合わせ(精密アライメント処理)を実行する(ステップS111)。図11(c)がその過程を示している。   However, in the transfer process, in order to properly transfer the pattern to a predetermined position on the substrate SB, before the substrate SB and the blanket BL are brought into contact with each other, a more precise alignment (precise alignment process) between the two is performed ( Step S111). FIG. 11C shows the process.

図1では記載を省略したが、このパターン形成装置1には、ベースフレーム21から(+Z)方向に立設された支持柱に支持された精密アライメントカメラ27が設けられている。精密アライメントカメラ27は、下ステージ61の開口窓611を通して基板SBの四隅をそれぞれ撮像するように、その光軸を鉛直上向きにして計4基設けられている。   Although not shown in FIG. 1, the pattern forming apparatus 1 is provided with a precision alignment camera 27 supported by a support column erected in the (+ Z) direction from the base frame 21. A total of four precision alignment cameras 27 are provided with their optical axes oriented vertically upward so as to respectively image the four corners of the substrate SB through the opening window 611 of the lower stage 61.

基板SBの四隅には予め位置基準となるアライメントマーク(基板側アライメントマーク)が形成される一方、ブランケットBLのこれと対応する位置には、版PPによりパターニングされるパターンの一部としてブランケット側アライメントマークが形成されている。これらを精密アライメントカメラ27の同一視野で撮像し、それらの位置関係を検出することで両者の位置ずれ量を求め、これを補正するようなブランケットBLの移動量を求める。アライメントステージ支持機構605により、求められた移動量だけアライメントステージ601を移動させることで、下ステージ61が水平面内で移動し、基板SBとブランケットBLとの位置ずれが補正される。   On the four corners of the substrate SB, alignment marks (substrate-side alignment marks) serving as position references are formed in advance. On the corresponding positions of the blanket BL, blanket-side alignment is performed as a part of the pattern patterned by the plate PP. A mark is formed. These are imaged with the same visual field of the precision alignment camera 27, and the positional relationship between them is obtained by detecting the positional relationship between them, and the amount of movement of the blanket BL that corrects this is obtained. By moving the alignment stage 601 by the obtained movement amount by the alignment stage support mechanism 605, the lower stage 61 moves in the horizontal plane, and the positional deviation between the substrate SB and the blanket BL is corrected.

基板SBとブランケットBLとを微小なギャップGを隔てて対向させた状態で、かつそれぞれに形成されたアライメントマークを同一カメラで撮像することで、基板SBとブランケットBLとの高精度な位置合わせを行うことができる。この意味において、上記アライメント処理は、基板SBおよびブランケットBLを個別に撮像して位置調整を行う場合に比べてより高精度な精密アライメント処理ということができる。その状態から両者を当接させることで、この実施形態では、基板SBの所定位置に高精度に位置合わせされたパターンを形成することが可能である。そして、基板SBおよびブランケットBLのプリアライメント処理を予め行っておくことにより、基板SBおよびブランケットBLにそれぞれ形成されたアライメントマークを精密アライメントカメラ27の視野内に位置決めすることができる。   The substrate SB and the blanket BL are opposed to each other with a small gap G, and the alignment marks formed on the substrates SB and the blanket BL are imaged with the same camera, so that the substrate SB and the blanket BL can be aligned with high accuracy. It can be carried out. In this sense, the alignment process can be said to be a highly accurate precision alignment process compared to the case where the substrate SB and the blanket BL are individually imaged and the position is adjusted. By bringing them into contact with each other from this state, in this embodiment, it is possible to form a pattern that is accurately aligned with a predetermined position of the substrate SB. Then, by performing pre-alignment processing of the substrate SB and the blanket BL in advance, the alignment marks respectively formed on the substrate SB and the blanket BL can be positioned in the visual field of the precision alignment camera 27.

なお、版PPによるブランケットBLへのパターン形成の際には、必ずしもそのように精密なアライメント処理を要しない。というのは、ブランケット側アライメントマークがパターンと一緒に予め版PPに作り込まれることで、ブランケットBL上に形成されるパターンとブランケット側アライメントマークとの間での位置ずれが生じることはなく、ブランケット側アライメントマークと基板側アライメントマークとで精密アライメントがなされる限り、版PPとブランケットBLとの多少の位置ずれはパターン形成に影響しないからである。この点から、パターニング処理においてはプリアライメント処理のみが実行される。   It should be noted that such a precise alignment process is not necessarily required when forming a pattern on the blanket BL using the plate PP. This is because the blanket side alignment mark is preliminarily formed on the plate PP together with the pattern, so that there is no positional deviation between the pattern formed on the blanket BL and the blanket side alignment mark. This is because a slight misalignment between the plate PP and the blanket BL does not affect pattern formation as long as precise alignment is performed between the side alignment mark and the substrate side alignment mark. From this point, only the pre-alignment process is executed in the patterning process.

図16および図17はブランケットと転写ローラおよびハンドとの位置関係を示す図である。より具体的には、図16は転写ローラ641とブランケットBLとの当接位置、および、各ハンド625とブランケットBLとの当接位置が、転写ローラ641の移動に伴いそれぞれどのように変化するかを模式的に示す図である。なお、図16(a)は図12(b)のタイミングに対応しており、図16(b)は図13(a)のタイミングに対応している。また図17は、これらの位置関係を(+X)方向から見た図である。なお、図17および以下の説明において2つの昇降ハンドユニット62,63にそれぞれ設けられたハンド625を区別する必要がある場合には、(+Y)側に配置された昇降ハンドユニット62に設けられたハンドを符号6252により、(−Y)側に配置された昇降ハンドユニット63に設けられたハンドを符号6253によりそれぞれ表すものとする。   16 and 17 are views showing the positional relationship between the blanket, the transfer roller, and the hand. More specifically, FIG. 16 shows how the contact position between the transfer roller 641 and the blanket BL and the contact position between each hand 625 and the blanket BL change as the transfer roller 641 moves. FIG. Note that FIG. 16A corresponds to the timing of FIG. 12B, and FIG. 16B corresponds to the timing of FIG. 13A. FIG. 17 is a diagram of these positional relationships as viewed from the (+ X) direction. In FIG. 17 and the following description, when it is necessary to distinguish the hands 625 provided in the two lifting hand units 62 and 63, they are provided in the lifting hand unit 62 arranged on the (+ Y) side. A hand is represented by reference numeral 6252, and a hand provided in the lifting hand unit 63 disposed on the (−Y) side is represented by reference numeral 6253.

ブランケットBLと版PPまたは基板SBとの位置関係、ブランケットBLのうち下ステージ61に当接する領域R1および有効領域ARの位置については、先に説明した通りである。転写ローラ641がブランケットBLの押圧を開始した直後の図16(a)に示す状態では、ブランケットBLの四辺に近い周縁部R1が下ステージ61に載置され吸着保持されている。一方、これより内側の中央部分では、ハンド625の上面625aの形状に対応してY方向に沿った細長い当接領域R3において、ハンド625がブランケットBLの下面に当接してブランケットBLを支持している。   The positional relationship between the blanket BL and the plate PP or the substrate SB, and the positions of the area R1 and the effective area AR in contact with the lower stage 61 in the blanket BL are as described above. In the state shown in FIG. 16A immediately after the transfer roller 641 starts pressing the blanket BL, the peripheral edge R1 close to the four sides of the blanket BL is placed on the lower stage 61 and held by suction. On the other hand, in the central portion inside this, the hand 625 comes into contact with the lower surface of the blanket BL to support the blanket BL in the elongated contact region R3 along the Y direction corresponding to the shape of the upper surface 625a of the hand 625. Yes.

この実施形態では、2つの昇降ハンドユニット62,63が各ハンド625を内側に向けて対向配置されており、各ユニット62,63にそれぞれ4本ずつのハンド625が設けられている。昇降ハンドユニット62に設けられた一のハンド6252と昇降ハンドユニット63に設けられた一のハンド6253とはX方向における位置が揃えられて対をなしており、これらに対応する1対の当接領域R3もX方向位置が揃っている。また1対のハンド6252,6253の先端はY方向に互いに離隔配置されている。そして、このようなハンド対が、X方向に互いに離隔して4対配置される。したがって計8箇所の当接領域R3が存在する。   In this embodiment, two elevating hand units 62 and 63 are opposed to each other with the respective hands 625 facing inward, and each of the units 62 and 63 is provided with four hands 625. One hand 6252 provided in the elevating hand unit 62 and one hand 6253 provided in the elevating hand unit 63 are paired with their positions in the X direction aligned, and a pair of abutment corresponding thereto. The region R3 is also aligned in the X direction. The tips of the pair of hands 6252 and 6253 are spaced apart from each other in the Y direction. Then, four pairs of such hand pairs are arranged apart from each other in the X direction. Therefore, there are a total of eight contact regions R3.

このように適宜に分散配置された複数箇所でブランケットBLをそれぞれ支持することで、中央部分におけるブランケットBLの撓みを防止して、ブランケットBLを水平姿勢に維持することができる。図17においては、1対のハンド6252,6253が下降した状態を実線で示す一方、下ステージ61の上面61aと略同一高さまでハンド6252,6253が上昇した状態を点線により示している。点線で示す状態のとき、ハンド6252,6253の上面がブランケットBLの下面に当接してこれを支持する。   In this way, by supporting the blanket BL at a plurality of locations that are appropriately distributed and arranged, it is possible to prevent the blanket BL from being bent at the central portion and maintain the blanket BL in a horizontal posture. In FIG. 17, the state in which the pair of hands 6252 and 6253 is lowered is indicated by a solid line, while the state in which the hands 6252 and 6253 are raised to substantially the same height as the upper surface 61a of the lower stage 61 is indicated by a dotted line. In the state indicated by the dotted line, the upper surfaces of the hands 6252 and 6253 are in contact with and support the lower surface of the blanket BL.

転写ローラ641は、当接領域R3のうち最も(−X)方向に位置するものよりもさらに(−X)側でブランケットBLに当接開始する。図16(a)に符号R2で示す領域は、当接開始直後に転写ローラ641が当接するブランケットBLの領域(押圧領域)を示している。   The transfer roller 641 starts to contact the blanket BL further on the (−X) side than the one located in the most (−X) direction in the contact region R3. An area indicated by reference numeral R2 in FIG. 16A indicates an area (pressing area) of the blanket BL with which the transfer roller 641 comes into contact immediately after the start of contact.

転写ローラ641の移動が開始されると、これに対応する押圧領域R2が(+X)方向に移動してゆく。この過程において、転写ローラ641の押圧領域R2とハンド625の当接領域R3との距離が所定値以下になると、当該当接領域R3を形成しているハンド625が下方へ移動する。より詳しくは、図17に実線で示すように、1対のハンド6252,6253が連動して下降し、転写ローラ641を支持する支持フレーム642よりも下方まで退避する。このとき、支持脚644bがハンド6252,6253それぞれの先端の間の隙間を通過することで、支持脚644bとハンド6252,6253との干渉が回避されている。   When the movement of the transfer roller 641 is started, the corresponding pressing area R2 moves in the (+ X) direction. In this process, when the distance between the pressing area R2 of the transfer roller 641 and the contact area R3 of the hand 625 becomes a predetermined value or less, the hand 625 forming the contact area R3 moves downward. More specifically, as shown by a solid line in FIG. 17, the pair of hands 6252 and 6253 are lowered in conjunction with each other and retracted below the support frame 642 that supports the transfer roller 641. At this time, the support leg 644b passes through the gap between the tips of the hands 6252 and 6253, so that interference between the support leg 644b and the hands 6252 and 6253 is avoided.

図16(b)に示すように、転写ローラ641の押圧領域R2が(+X)方向に移動するにつれて、転写ローラ641の移動方向において該押圧領域R2よりも後方側、つまり(−X)側では、版PPまたは基板SBの下面とブランケットBLの上面とがパターン形成材料の層を介して互いに密着した密着領域R4が形成され、これが転写ローラ641の移動に伴い(+X)方向に広がってゆく。   As shown in FIG. 16B, as the pressing area R2 of the transfer roller 641 moves in the (+ X) direction, the rear side of the pressing area R2 in the moving direction of the transfer roller 641, that is, on the (−X) side. Then, a contact region R4 is formed in which the lower surface of the plate PP or substrate SB and the upper surface of the blanket BL are in close contact with each other via a layer of pattern forming material, and this expands in the (+ X) direction as the transfer roller 641 moves.

そして、転写ローラ641が接近するにつれて、ブランケットBL中央部を支持するハンド625が転写ローラ641の移動方向に沿った順番で順次ブランケットBLから離間して下降し、こうして空いたスペースを転写ローラ641が通過する。図16(b)は、図13(a)に示すように、転写ローラ641が(−X)方向から2番目のハンド625の近傍位置まで進行した状態を示している。こうして版PPまたは基板SBとブランケットBLとの当接が進行し、最終的には版PPまたは基板SBの全体がブランケットBLと密着した状態となる。   Then, as the transfer roller 641 approaches, the hand 625 that supports the central portion of the blanket BL descends sequentially away from the blanket BL in the order along the moving direction of the transfer roller 641, and the transfer roller 641 clears the empty space in this way. pass. FIG. 16B shows a state where the transfer roller 641 has advanced from the (−X) direction to a position near the second hand 625 as shown in FIG. In this way, the contact between the plate PP or the substrate SB and the blanket BL proceeds, and finally the entire plate PP or the substrate SB comes into close contact with the blanket BL.

転写ローラ641が所定距離まで近づくまではハンド625による支持を継続することにより、転写ローラ641が到達する直前までブランケットBLを水平姿勢に維持することができる。特に、転写ローラ641による押圧領域R2と同じ方向(Y方向)を長手方向とする当接領域R3においてハンド625をブランケットBLに当接させることにより、当接直前の版PPまたは基板SBとブランケットBLとのギャップをY方向において一定に保つことができ、捩れや歪みのない良好なパターン形成を行うことができる。   By continuing the support by the hand 625 until the transfer roller 641 approaches a predetermined distance, the blanket BL can be maintained in a horizontal posture until just before the transfer roller 641 arrives. In particular, by bringing the hand 625 into contact with the blanket BL in the contact area R3 whose longitudinal direction is the same direction (Y direction) as the pressing area R2 by the transfer roller 641, the plate PP or substrate SB immediately before contact and the blanket BL Can be kept constant in the Y direction, and good pattern formation without twisting or distortion can be performed.

以上説明したように、この実施形態では、下ステージ61および上ステージ41がそれぞれ本発明の「保持枠」および「第2保持手段」として機能している。また、各ハンド625および転写ローラ641がそれぞれ本発明の「局所支持部」および「押し上げ部材」として機能している。そして、各ハンド625の上面625aが本発明の「当接面」に相当している。また、昇降ハンドユニット62,63に設けられたスライドベース623、昇降機構624、昇降機構628等が一体として、本発明の「昇降手段」として機能している。また、下ステージ61および各ハンド625が一体として、本発明の「第1保持手段」として機能している。   As described above, in this embodiment, the lower stage 61 and the upper stage 41 function as the “holding frame” and the “second holding means” of the present invention, respectively. Each hand 625 and the transfer roller 641 function as a “local support portion” and a “push-up member” of the present invention, respectively. The upper surface 625a of each hand 625 corresponds to the “contact surface” of the present invention. Further, the slide base 623, the lifting mechanism 624, the lifting mechanism 628 and the like provided in the lifting hand units 62 and 63 function as “lifting means” of the present invention. Further, the lower stage 61 and the respective hands 625 function as a “first holding unit” of the present invention.

また、上記実施形態では、転写ローラユニット64の支持フレーム642が本発明の「支持部」として機能する一方、支持脚644bが本発明の「脚部」として機能し、これらが一体として本発明の「支持部材」として機能している。また、ベース部644aおよび移動機構647が一体として本発明の「移動機構」として機能している。さらにこの実施形態では、版PPおよび基板SBが本発明の「処理対象物」に相当している。   In the above embodiment, the support frame 642 of the transfer roller unit 64 functions as the “support portion” of the present invention, while the support leg 644b functions as the “leg portion” of the present invention. It functions as a “support member”. Further, the base portion 644a and the moving mechanism 647 function as a “moving mechanism” of the present invention. Furthermore, in this embodiment, the plate PP and the substrate SB correspond to the “processing object” of the present invention.

また、上記実施形態のパターン形成処理(図7)においては、ステップS102とステップS108とがそれぞれ本発明の「第1工程」に相当し、ステップS101、S103およびS104と、ステップS107、S109およびS110とが、それぞれ本発明の「第2工程」に相当している。また、ステップS105とステップS112とがそれぞれ本発明の「第3工程」に相当している。   In the pattern forming process (FIG. 7) of the above embodiment, step S102 and step S108 correspond to the “first process” of the present invention, respectively, and steps S101, S103 and S104, and steps S107, S109 and S110 are performed. And correspond to the “second step” of the present invention. Step S105 and step S112 each correspond to a “third step” of the present invention.

<第2実施形態>
次に、この発明にかかるパターン形成装置の第2実施形態について説明する。第2実施形態のパターン形成装置では、上記した第1実施形態のパターン形成装置1に対して下ステージブロックの構造が一部相違している。その一方、第1実施形態におけるその他の構成、すなわちメインフレーム2、上ステージブロック4および制御ユニット7等は、基本的にそのまま第2実施形態におけるメインフレーム、上ステージブロックおよび制御ユニット等として適用することが可能である。そこで、以下では第1実施形態と相違する箇所、特に下ステージブロックの構造およびその動作を中心に説明する。また、第1実施形態と同一の構成には同一符号を付して説明を省略する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the pattern forming apparatus according to the present invention will be described. In the pattern forming apparatus of the second embodiment, the structure of the lower stage block is partially different from the pattern forming apparatus 1 of the first embodiment described above. On the other hand, the other configurations in the first embodiment, that is, the main frame 2, the upper stage block 4, and the control unit 7 are basically applied as they are as the main frame, the upper stage block, the control unit, and the like in the second embodiment. It is possible. Therefore, the following description will focus on the differences from the first embodiment, particularly the structure and operation of the lower stage block. Moreover, the same code | symbol is attached | subjected to the structure same as 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

図18はこの発明にかかるパターン形成装置の第2実施形態の主要部を示す図である。より詳しくは、図18は、第2実施形態における下ステージブロック9の構造を示す図である。下ステージブロック9はアライメントステージ901を備えている。このアライメントステージ901は、第1実施形態におけるアライメントステージ601に相当するものであり、その構造および機能もほぼ同じである。すなわち、アライメントステージ901は中央部が開口したプレート形状を有しており、第1実施形態のアライメントステージ605と同等の機能を有するアライメントステージ支持機構905により、ベースフレーム21(図1)に対して所定範囲内で移動可能に支持されている。   FIG. 18 is a diagram showing a main part of a second embodiment of the pattern forming apparatus according to the present invention. More specifically, FIG. 18 is a diagram showing the structure of the lower stage block 9 in the second embodiment. The lower stage block 9 includes an alignment stage 901. This alignment stage 901 corresponds to the alignment stage 601 in the first embodiment, and its structure and function are substantially the same. That is, the alignment stage 901 has a plate shape with an opening at the center, and is aligned with the base frame 21 (FIG. 1) by the alignment stage support mechanism 905 having the same function as the alignment stage 605 of the first embodiment. It is supported so as to be movable within a predetermined range.

アライメントステージ901の上面に、複数の支持ハンド機構が設けられている。より具体的には、アライメントステージ901の中央開口部に対して(−Y)側に当たるアライメントステージ901の上面に、(−X)側から(+X)側に向けて順に5基の支持ハンド機構91a,91b,91c,91d,91eが設けられている。これらの5基の支持ハンド機構91a,91b,91c,91d,91eの構造は互いに同一である。   A plurality of support hand mechanisms are provided on the upper surface of the alignment stage 901. More specifically, five support hand mechanisms 91a are arranged in order from the (−X) side to the (+ X) side on the upper surface of the alignment stage 901 that contacts the (−Y) side with respect to the central opening of the alignment stage 901. , 91b, 91c, 91d, 91e are provided. These five support hand mechanisms 91a, 91b, 91c, 91d, 91e have the same structure.

一方、アライメントステージ901の中央開口部に対して(+Y)側に当たるアライメントステージ901の上面に、(−X)側から(+X)側に向けて順に5基の支持ハンド機構92a,92b,92c,92d,92eが設けられている。これらの5基の支持ハンド機構92a,92b,92c,92d,92eの構造は互いに同一である。そして、支持ハンド機構91aと支持ハンド機構92aとは、X軸に対して互いに対称な形状を有しているが、その機能は同じである。また、支持ハンド機構91a,91b,91c,91d,91eの各々は、X方向においてそれぞれ支持ハンド機構92a,92b,92c,92d,92eと同一位置に配置されている。詳しくは後述するが、この実施形態では、これらの支持ハンド機構91a,91b,91c,91d,91e,92a,92b,92c,92d,92eが協働してブランケットBLを水平姿勢に支持する。   On the other hand, five support hand mechanisms 92a, 92b, 92c, on the upper surface of the alignment stage 901 that contacts the (+ Y) side with respect to the central opening of the alignment stage 901, in order from the (−X) side to the (+ X) side. 92d and 92e are provided. These five support hand mechanisms 92a, 92b, 92c, 92d, and 92e have the same structure. The support hand mechanism 91a and the support hand mechanism 92a have shapes symmetrical to each other with respect to the X axis, but their functions are the same. In addition, each of the support hand mechanisms 91a, 91b, 91c, 91d, and 91e is disposed at the same position as the support hand mechanisms 92a, 92b, 92c, 92d, and 92e in the X direction. Although described later in detail, in this embodiment, these support hand mechanisms 91a, 91b, 91c, 91d, 91e, 92a, 92b, 92c, 92d, and 92e cooperate to support the blanket BL in a horizontal posture.

また、最も(−X)側に位置する支持ハンド機構91a,92aの(−X)側に隣接して、転写ローラユニット94が設けられている。この転写ローラユニット94の具体的構成は第1実施形態の転写ローラユニット64と同等である。すなわち、転写ローラユニット94はローラ状に形成されY方向を軸方向として回転自在に支持された転写ローラ941を有しており、転写ローラ941は鉛直方向(Z方向)に移動することでブランケットBL下面に対し近接・離間可能に構成されるとともに、ブランケットBL下面に当接しながらX方向に移動可能となっている。転写ローラ941は、第1実施形態の転写ローラ641と同様、ブランケットBLを部分的に押し上げることで基板SB(または版PP)に当接させて、ブランケットBLから基板SBへのパターン転写、またはブランケットBL上のパターン形成材料の版PPによるパターニングを実現する機能を有する。   In addition, a transfer roller unit 94 is provided adjacent to the (−X) side of the support hand mechanisms 91a and 92a located on the most (−X) side. The specific configuration of the transfer roller unit 94 is the same as that of the transfer roller unit 64 of the first embodiment. That is, the transfer roller unit 94 includes a transfer roller 941 that is formed in a roller shape and is rotatably supported with the Y direction as an axial direction, and the transfer roller 941 moves in the vertical direction (Z direction) to move the blanket BL. It is configured to be close to and away from the lower surface, and is movable in the X direction while contacting the lower surface of the blanket BL. Similar to the transfer roller 641 of the first embodiment, the transfer roller 941 partially pushes up the blanket BL to abut against the substrate SB (or plate PP) to transfer the pattern from the blanket BL to the substrate SB, or blanket. The pattern forming material on BL has a function of realizing patterning by the plate PP.

図19は支持ハンド機構の詳細な構造およびその動きを示す図である。ここではアライメントステージ901の(−Y)側に配置された一の支持ハンド91aと、アライメントステージ901の(+Y)側に配置された一の支持ハンド92aとを例として挙げるが、上記した通り、支持ハンド機構91b,91c,91d,91eは支持ハンド91aと同一構造であり、支持ハンド機構92b,92c,92d,92eは支持ハンド92aと同一構造である。また、支持ハンド機構92aは、X軸に対して支持ハンド機構91aと対称な構造を有している。   FIG. 19 is a diagram showing a detailed structure of the support hand mechanism and its movement. Here, one support hand 91a disposed on the (−Y) side of the alignment stage 901 and one support hand 92a disposed on the (+ Y) side of the alignment stage 901 are given as examples, but as described above, The support hand mechanisms 91b, 91c, 91d, 91e have the same structure as the support hand 91a, and the support hand mechanisms 92b, 92c, 92d, 92e have the same structure as the support hand 92a. The support hand mechanism 92a has a structure symmetrical to the support hand mechanism 91a with respect to the X axis.

図19(a)に示すように、支持ハンド機構91aは、アライメントステージ901の上面から(+Y)側に傾斜して斜め上方に延びるベース部911と、ベース部911からベース部911の延設方向と同方向に延びるアーム912と、アーム912の上端に連結されて上面がY方向に沿って水平方向に延びるブランケット受け部材913とを備えている。同様に、支持ハンド機構92aは、アライメントステージ901の上面から(−Y)側に傾斜して斜め上方に延びるベース部921と、ベース部921からベース部921の延設方向と同方向に延びるアーム922と、アーム922の上端に連結されて上面がY方向に沿って水平方向に延びるブランケット受け部材923とを備えている。   As shown in FIG. 19A, the support hand mechanism 91a includes a base portion 911 that is inclined from the upper surface of the alignment stage 901 to the (+ Y) side and extends obliquely upward, and an extending direction of the base portion 911 from the base portion 911. And a blanket receiving member 913 that is connected to the upper end of the arm 912 and whose upper surface extends in the horizontal direction along the Y direction. Similarly, the support hand mechanism 92a includes a base portion 921 that extends obliquely upward from the upper surface of the alignment stage 901 and extends in the same direction as the extending direction of the base portion 921 from the base portion 921. 922, and a blanket receiving member 923 connected to the upper end of the arm 922 and having an upper surface extending in the horizontal direction along the Y direction.

ブランケット受け部材913,923は、上面が略平坦に仕上げられ、その上面のZ方向における位置は互いに同一とされている。したがって、支持ハンド機構91a,92aは一体として、ブランケットBLを下方から支持してY軸と平行な姿勢に保持することができる。なお、以下において、支持ハンド機構91a〜91eのそれぞれに設けられたブランケット受け部材913を区別する必要がある場合には、各支持ハンド機構を区別するための添え字(a〜e)を符号に付加することとする。例えば、支持ハンド機構91aに設けられたブランケット受け部材には符号913aを付す。支持ハンド機構92a〜92eのそれぞれに設けられたブランケット受け部材923を区別する場合も同様とする。   The blanket receiving members 913 and 923 have upper surfaces that are substantially flat, and the positions of the upper surfaces in the Z direction are the same. Therefore, the support hand mechanisms 91a and 92a can integrally support the blanket BL from below and hold it in a posture parallel to the Y axis. In addition, in the following, when it is necessary to distinguish the blanket receiving member 913 provided in each of the support hand mechanisms 91a to 91e, subscripts (a to e) for distinguishing each support hand mechanism are denoted by reference numerals. It will be added. For example, a reference numeral 913a is assigned to a blanket receiving member provided in the support hand mechanism 91a. The same applies to the case where the blanket receiving member 923 provided in each of the support hand mechanisms 92a to 92e is distinguished.

支持ハンド機構91aのアーム912はハンド駆動機構906に連結されており、アーム912の延設方向に沿って、ベース部911に対して進退移動可能に構成されている。同様に、支持ハンド機構92aのアーム922もハンド駆動機構906に連結されており、アーム922の延設方向に沿って、ベース部921に対して進退移動可能に構成されている。ハンド駆動機構906は、制御ユニット7(図2)からの制御指令に応じて2つのアーム912,922を一体的に進退移動させる。これにより、ブランケット受け部材913,923はそれぞれ水平姿勢を維持したまま、また互いの高さを揃えたままZ方向およびY方向に移動する。   The arm 912 of the support hand mechanism 91a is connected to the hand drive mechanism 906, and is configured to be movable back and forth with respect to the base portion 911 along the extending direction of the arm 912. Similarly, the arm 922 of the support hand mechanism 92a is also connected to the hand drive mechanism 906, and is configured to be movable back and forth with respect to the base portion 921 along the extending direction of the arm 922. The hand drive mechanism 906 integrally moves the two arms 912 and 922 forward and backward in response to a control command from the control unit 7 (FIG. 2). As a result, the blanket receiving members 913 and 923 move in the Z direction and the Y direction while maintaining the horizontal posture and maintaining the same height.

このように、Y方向において同一位置にある1対の支持ハンド機構91a,92aでは、各々が有するブランケット受け部材913(913a),923(923a)が一体的に昇降する。同様に、Y方向位置が互いに同一である1対の支持ハンド機構91b,92bの間、支持ハンド機構91c,92cの間、支持ハンド機構91d,92dの間および支持ハンド機構91e,92eの間においても、各々に設けられたブランケット受け部材913,923が高さ方向(Z方向)において互いに同一位置を保ちながら昇降する。ただし、X方向に位置が互いに異なる支持ハンド機構91a,91b,91c,91d,91eの間(または支持ハンド機構92a,92b,92c,92d,92eの間)においては、アーム912(またはアーム922)の昇降を互いに独立して行うことができるように、ハンド昇降機構906は構成されている。   As described above, in the pair of support hand mechanisms 91a and 92a located at the same position in the Y direction, the blanket receiving members 913 (913a) and 923 (923a) included in each of them move up and down integrally. Similarly, between a pair of support hand mechanisms 91b and 92b whose positions in the Y direction are the same, between support hand mechanisms 91c and 92c, between support hand mechanisms 91d and 92d, and between support hand mechanisms 91e and 92e. In addition, the blanket receiving members 913 and 923 provided in each of them move up and down while maintaining the same position in the height direction (Z direction). However, between the support hand mechanisms 91a, 91b, 91c, 91d, 91e whose positions are different from each other in the X direction (or between the support hand mechanisms 92a, 92b, 92c, 92d, 92e), the arm 912 (or the arm 922). The hand lifting mechanism 906 is configured so that the lifting and lowering can be performed independently of each other.

ハンド昇降機構906によりブランケット受け部材913,923が図19(a)に示される上部位置に位置決めされた状態では、ブランケット受け部材913,923がブランケットBLの下面に当接することでブランケットBLを支持する。各支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eのブランケット受け部材913,923が同一高さに位置決めされることで、こられが一体としてブランケットBLを水平姿勢に維持することが可能である。   In a state where the blanket receiving members 913 and 923 are positioned at the upper position shown in FIG. 19A by the hand lifting mechanism 906, the blanket BL is supported by the blanket receiving members 913 and 923 coming into contact with the lower surface of the blanket BL. . Since the blanket receiving members 913 and 923 of the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e are positioned at the same height, it is possible to maintain the blanket BL in a horizontal posture as a unit.

一方、ハンド昇降機構906によりブランケット受け部材913,923が図19(b)に示される下部位置に位置決めされた状態について説明する。各支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eのブランケット受け部材913,923が全て下部位置に下降していれば、このときのブランケット受け部材913,923の上面位置でブランケットBLが水平姿勢に支持されることになるが、支持ハンド機構91a〜91e(または支持ハンド機構92a〜92e)の間ではブランケット受け部材913(またはブランケット受け部材923)が独立して昇降可能である。   On the other hand, a state in which the blanket receiving members 913 and 923 are positioned at the lower position shown in FIG. If the blanket receiving members 913 and 923 of the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e are all lowered to the lower position, the blanket BL is supported in a horizontal posture at the upper surface position of the blanket receiving members 913 and 923 at this time. However, the blanket receiving member 913 (or the blanket receiving member 923) can be moved up and down independently between the supporting hand mechanisms 91a to 91e (or the supporting hand mechanisms 92a to 92e).

一部の支持ハンド機構のブランケット受け部材913,923のみが下部位置にあり、他の支持ハンド機構のブランケット受け部材が上部位置にある状態を考える。ここでは、支持ハンド機構91a,92aのブランケット受け部材913a,923aのみが下部位置にあり、他の支持ハンド機構91b〜91e,92b〜92eが上部位置にある場合を例として考える。   Consider a state in which only the blanket receiving members 913 and 923 of some supporting hand mechanisms are in the lower position and the blanket receiving members of other supporting hand mechanisms are in the upper position. Here, the case where only the blanket receiving members 913a and 923a of the support hand mechanisms 91a and 92a are in the lower position and the other support hand mechanisms 91b to 91e and 92b to 92e are in the upper position will be considered as an example.

この場合、ブランケットBLは上部位置にあるブランケット受け部材913b〜913e,923b〜923eによって、図19(a)に示される位置と同じ位置に支持されている。したがって、下部位置にある支持ハンド機構91a,92aのブランケット受け部材913a,923aは、ブランケットBLからは離間して下方に退避した状態となっている。   In this case, the blanket BL is supported at the same position as the position shown in FIG. 19A by the blanket receiving members 913b to 913e and 923b to 923e in the upper position. Accordingly, the blanket receiving members 913a and 923a of the support hand mechanisms 91a and 92a in the lower position are in a state of being separated from the blanket BL and retracted downward.

支持ハンド機構91aのブランケット受け部材913aを支持するアーム912およびベース部911は斜め方向に延設されており、ブランケット受け部材913aは、上部位置から下部位置に移動する際(−Z)方向への移動に加えて(−Y)方向への移動を伴う。同様に、支持ハンド機構92aのブランケット受け部材923aは、上部位置から下部位置に移動する際(−Z)方向への移動に加えて(+Y)方向への移動を伴う。その結果、2つのブランケット受け部材913a,923aは、Z方向における位置を同一としつつ、Y方向には、上部位置にあるときよりも互いに離間した状態で下部位置に位置決めされる。   The arm 912 and the base portion 911 that support the blanket receiving member 913a of the support hand mechanism 91a extend in an oblique direction, and the blanket receiving member 913a moves in the (−Z) direction when moving from the upper position to the lower position. In addition to the movement, there is a movement in the (−Y) direction. Similarly, the blanket receiving member 923a of the support hand mechanism 92a is moved in the (+ Y) direction in addition to the movement in the (−Z) direction when moving from the upper position to the lower position. As a result, the two blanket receiving members 913a and 923a are positioned at the lower position in the Y direction while being spaced apart from each other in the Y direction, while maintaining the same position in the Z direction.

こうしてブランケットBL下面とブランケット受け部材913a,923aとの間に形成された空間に、転写ローラユニット94を進入させることができる。具体的には、下部位置に位置決めされたブランケット受け部材913a,923aの上面とブランケットBL下面との間に形成されたZ方向の隙間に、転写ローラ941およびこれを支持する支持フレーム942(第1実施形態における支持フレーム642に相当)を進入させることができる。また、ブランケット受け部材913a,923aが互いに離間することで形成されたY方向の隙間に、支持フレーム942を支持する支持脚944(第1実施形態における支持脚644bに相当)を進入させることができる。   Thus, the transfer roller unit 94 can enter the space formed between the lower surface of the blanket BL and the blanket receiving members 913a and 923a. Specifically, the transfer roller 941 and a support frame 942 (first frame) that supports the transfer roller 941 are formed in a gap in the Z direction formed between the upper surfaces of the blanket receiving members 913a and 923a positioned at the lower position and the lower surface of the blanket BL. Can correspond to the support frame 642 in the embodiment. Further, a support leg 944 (corresponding to the support leg 644b in the first embodiment) that supports the support frame 942 can be inserted into a gap in the Y direction formed by separating the blanket receiving members 913a and 923a from each other. .

このような構成では、転写ローラユニット94をX方向に移動させる際に、その進路に当たる位置にあるブランケット受け部材913,923を下部位置へ退避させることにより、転写ローラユニット94とブランケット受け部材913,923との干渉を避けることが可能である。そして、転写ローラユニット94とは干渉しない位置にあるブランケット受け部材913,923を上部位置に位置決めしておくことで、ブランケットBLを一定高さで水平姿勢に保持し続けることができる。したがって、この実施形態においても、第1実施形態と同様に、ブランケットBLを水平姿勢に維持しつつ、その下面に沿って転写ローラ941を水平移動させることが可能である。   In such a configuration, when the transfer roller unit 94 is moved in the X direction, the transfer roller unit 94 and the blanket receiver 913 are moved by retracting the blanket receivers 913 and 923 located at the position corresponding to the path to the lower position. Interference with 923 can be avoided. By positioning the blanket receiving members 913 and 923 at positions that do not interfere with the transfer roller unit 94 at the upper position, the blanket BL can be kept in a horizontal posture at a constant height. Therefore, in this embodiment, similarly to the first embodiment, it is possible to horizontally move the transfer roller 941 along the lower surface while maintaining the blanket BL in a horizontal posture.

図20はブランケット受け部材のより詳細な構造を示す図である。より詳しくは、図20(a)はブランケット受け部材913上部の構造を示す斜視図であり、図20(b)はその断面図である。ここでは一方のブランケット受け部材913を例として説明するが、これと対向する他方のブランケット受け部材923の構造も同じである。   FIG. 20 is a view showing a more detailed structure of the blanket receiving member. More specifically, FIG. 20A is a perspective view showing the structure of the upper part of the blanket receiving member 913, and FIG. 20B is a sectional view thereof. Here, one blanket receiving member 913 will be described as an example, but the structure of the other blanket receiving member 923 opposite thereto is also the same.

ブランケット受け部材913の上面は平坦に仕上げられており、ブランケットBLとの間での摩擦抵抗を低減するために、鏡面研磨仕上げまたは例えばフッ素樹脂などの適宜の材料によるライニング加工がなされている。また、ブランケット受け部材913の上面にはブランケットBL下面を吸着保持するための複数の吸着孔914が設けられている。図20(b)に示すように、各吸着孔914には、制御ユニット7の負圧供給部704から供給される負圧、またはこの実施形態において制御ユニット7に設けられる正圧供給部707から供給される正圧が、三方弁95により選択的に供給される。各吸着孔914に負圧供給部704から負圧が供給されると、各吸着孔914によりブランケットBLはブランケット受け部材913の上面に吸着保持される。一方、各吸着孔914に正圧供給部707から正圧が供給された場合には、各吸着孔914から噴き出される気体により、ブランケットBLはブランケット受け部材913の上面から僅かに浮上した状態で支持される。このとき、ブランケット受け部材913とブランケットBLとの間の摩擦は極めて小さくなる。なお、ブランケット受け部材913において、このように吸着孔914から気体を噴出させてブランケットBLを浮上させる機能は必須のものではない。   The upper surface of the blanket receiving member 913 is finished flat, and in order to reduce the frictional resistance with the blanket BL, a mirror polishing finish or a lining process using an appropriate material such as a fluorine resin is performed. In addition, a plurality of suction holes 914 for sucking and holding the lower surface of the blanket BL are provided on the upper surface of the blanket receiving member 913. As shown in FIG. 20B, each suction hole 914 has a negative pressure supplied from the negative pressure supply unit 704 of the control unit 7 or a positive pressure supply unit 707 provided in the control unit 7 in this embodiment. The supplied positive pressure is selectively supplied by the three-way valve 95. When negative pressure is supplied from the negative pressure supply unit 704 to each suction hole 914, the blanket BL is sucked and held on the upper surface of the blanket receiving member 913 by each suction hole 914. On the other hand, when positive pressure is supplied from the positive pressure supply unit 707 to each suction hole 914, the blanket BL is slightly lifted from the upper surface of the blanket receiving member 913 by the gas ejected from each suction hole 914. Supported. At this time, the friction between the blanket receiving member 913 and the blanket BL is extremely small. In addition, in the blanket receiving member 913, the function of ejecting the gas from the suction hole 914 and floating the blanket BL is not essential.

この他、この実施形態の下ステージブロック9は、第1実施形態の下ステージブロック6と同様に、吸着孔914への正圧および負圧の供給・停止を制御するバルブ群や各部を機械的に駆動するモータ群を備えており、これらは制御ユニット7により制御される。   In addition, the lower stage block 9 of this embodiment is similar to the lower stage block 6 of the first embodiment in that the valve group and each part for controlling the supply / stop of the positive pressure and the negative pressure to the suction holes 914 are mechanically arranged. And a motor group that is driven by the control unit 7.

図21はブランケット受け部材と基板およびブランケットとの位置関係を示す図である。図21(a)に示すように、複数のブランケット受け部材913,923は、ブランケットBL中央部の有効領域AR全体をカバーするように略均等に分散配置されており、ブランケットBLのうち特に有効領域ARの下面を支持する。これにより、有効領域ARが水平姿勢に保持される。   FIG. 21 is a diagram showing a positional relationship between the blanket receiving member, the substrate, and the blanket. As shown in FIG. 21 (a), the plurality of blanket receiving members 913, 923 are distributed substantially evenly so as to cover the entire effective area AR in the central portion of the blanket BL, and particularly the effective area of the blanket BL. Supports the bottom surface of the AR. Thereby, the effective area AR is held in a horizontal posture.

なお、有効領域ARの外部において各ブランケット受け部材913,923がブランケットBLをどのように支持するかは、ブランケットBLを水平姿勢に支持することができる限りにおいて任意である。例えば図21(b)に示すように、Y方向においてブランケットBLの端部よりも外側まで延びるブランケット受け部材963を設けてもよく、また有効領域ARの外側のみでブランケットBLに当接するブランケット受け部材973を設けてもよい。   Note that how the blanket receiving members 913 and 923 support the blanket BL outside the effective area AR is arbitrary as long as the blanket BL can be supported in a horizontal posture. For example, as shown in FIG. 21B, a blanket receiving member 963 that extends to the outside of the end of the blanket BL in the Y direction may be provided, and the blanket receiving member that contacts the blanket BL only outside the effective area AR. 973 may be provided.

転写ローラ941は、所定の初期位置に位置決めされるとき、ブランケット受け部材913,923のうち最も(−X)側に位置するブランケット受け部材913a,923aの(−X)側に隣接する。より具体的には、転写ローラ941は、ブランケット受け部材913a,923aの(−X)側に隣接する位置で、有効領域ARよりも外側つまり(−X)側、かつ第1実施形態と同様に上ステージ41に保持される基板SB(または版PP)の(−X)側端部よりは(+X)側の位置で、ブランケットBL下面の直下位置でブランケットBLから離間した位置を初期位置としている。このとき転写ローラ941は、有効領域ARの外側の基板SB(または版PP)の下方に位置していることになる。   When the transfer roller 941 is positioned at a predetermined initial position, the transfer roller 941 is adjacent to the (−X) side of the blanket receiving members 913 a and 923 a located closest to the (−X) side of the blanket receiving members 913 and 923. More specifically, the transfer roller 941 is positioned adjacent to the (−X) side of the blanket receiving members 913a and 923a, outside the effective area AR, that is, on the (−X) side, and similarly to the first embodiment. The initial position is a position on the (+ X) side of the (−X) side end of the substrate SB (or plate PP) held on the upper stage 41 and a position just below the lower surface of the blanket BL and away from the blanket BL. . At this time, the transfer roller 941 is positioned below the substrate SB (or plate PP) outside the effective area AR.

次に、この実施形態のパターン形成装置におけるパターン形成処理について説明する。この処理の目的や基本的な動作は、上記した第1実施形態における処理(図7)と同様である。ただし、下ステージブロックの構造の相違に起因して、下ステージブロックを構成する各部の動作が第1実施形態とは異なっている。具体的には、基板SBまたは版PPが装置に搬入されて上ステージ41により保持されるプロセスは、第1実施形態のものと同じである。一方、ブランケットBLが装置に搬入され、上ステージ41に保持された基板SBまたは版PPと密着されるまでのプロセスが、第1実施形態のものとは異なっている。以下、第1実施形態と相違するプロセスを中心に、図22および図23を参照しながら動作を説明する。   Next, a pattern forming process in the pattern forming apparatus of this embodiment will be described. The purpose and basic operation of this processing are the same as the processing (FIG. 7) in the first embodiment described above. However, due to the difference in the structure of the lower stage block, the operation of each part constituting the lower stage block is different from that of the first embodiment. Specifically, the process in which the substrate SB or the plate PP is carried into the apparatus and held by the upper stage 41 is the same as that in the first embodiment. On the other hand, the process from when the blanket BL is carried into the apparatus until it is brought into close contact with the substrate SB or the plate PP held on the upper stage 41 is different from that of the first embodiment. Hereinafter, the operation will be described with reference to FIG. 22 and FIG. 23 with a focus on processes different from the first embodiment.

図22および図23は第2実施形態のパターン形成処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す図である。なお、ここでは、上ステージ41に基板SBが保持され、下ステージブロック9にパターン形成済みのブランケットBLが搬入されて転写処理(図7のステップS107〜S112)が実行される際の各部の動作を説明する。しかしながら、第1実施形態において説明したように、版PPとブランケットBLとを用いてパターニング処理(図7のステップS101〜S105)を行うための動作は、精密アライメント処理を行わないことを除けば基本的に転写処理と同じである。したがって、以下の説明において「基板SB」を「版PP」に置き換え、精密アライメント処理を省くことにより、パターニング処理における動作も説明される。   FIG. 22 and FIG. 23 are diagrams schematically showing the positional relationship of each part of the apparatus at each stage of the pattern forming process of the second embodiment. Here, the operation of each part when the substrate SB is held on the upper stage 41 and the patterned blanket BL is carried into the lower stage block 9 and the transfer process (steps S107 to S112 in FIG. 7) is performed. Will be explained. However, as described in the first embodiment, the operation for performing the patterning process (steps S101 to S105 in FIG. 7) using the plate PP and the blanket BL is basically the same except that the precision alignment process is not performed. This is the same as the transfer process. Therefore, in the following description, the operation in the patterning process is also described by replacing “substrate SB” with “plate PP” and omitting the precision alignment process.

図22(a)に示すように、ブランケットBLが外部から搬入されるとき、全てのブランケット受け部材913a〜913e,923a〜923eが上部位置に位置決めされた状態となっている。したがって、外部の搬送ロボット等が有するブランケット用ハンド(図示せず)からブランケットBLを受け取ることができる。なおこのとき、転写ローラ941は図21に示した初期位置よりもさらに(−X)側に退避した退避位置に位置決めされており、外部から進入してくるブランケット用ハンドやブランケットBLとの干渉が回避されている。また、各ブランケット受け部材の上面に設けられた吸着孔914に負圧が供給されて、受け取ったブランケットBLを吸着保持する。   As shown in FIG. 22A, when the blanket BL is carried in from the outside, all the blanket receiving members 913a to 913e and 923a to 923e are positioned at the upper positions. Accordingly, the blanket BL can be received from a blanket hand (not shown) possessed by an external transfer robot or the like. At this time, the transfer roller 941 is positioned at the retracted position further retracted to the (−X) side than the initial position shown in FIG. 21, and interference with the blanket hand and the blanket BL entering from the outside occurs. It has been avoided. Further, a negative pressure is supplied to the suction hole 914 provided on the upper surface of each blanket receiving member, and the received blanket BL is sucked and held.

次にプリアライメント処理を行う。プリアライメント処理では、第1実施形態における同処理と同様に、ブランケット用プリアライメントカメラ244〜246によりブランケットBLの周縁部を撮像し、その撮像結果に応じてブランケットBLを水平面内で移動させることにより、ブランケットBLを目標位置に位置決めする。このとき、アライメントステージ支持機構905がアライメントステージ901とともに各支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eを一体的にXYθ方向に移動させることにより、ブランケットBLの位置決めを行う。   Next, pre-alignment processing is performed. In the pre-alignment process, similar to the process in the first embodiment, the blanket BL is imaged by the blanket pre-alignment cameras 244 to 246, and the blanket BL is moved in the horizontal plane according to the imaging result. Then, the blanket BL is positioned at the target position. At this time, the alignment stage support mechanism 905 moves the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e together with the alignment stage 901 in the XYθ direction, thereby positioning the blanket BL.

続いて、ギャップ調整を経て精密アライメント処理を行う。図22(b)に示すように、ブランケットBLの下方に配置したアライメントカメラ27により、ブランケット受け部材の隙間を通してブランケットBLと、上ステージ41に保持されてブランケットBLに対向配置された基板SBとを撮像する。撮像されたアライメントマークの位置関係に基づきアライメントステージ901が移動されることで精密アライメント処理が実現される点は、第1実施形態と同じである。   Subsequently, precision alignment processing is performed through gap adjustment. As shown in FIG. 22 (b), the alignment camera 27 disposed below the blanket BL causes the blanket BL to pass through the gap between the blanket receiving members and the substrate SB held on the upper stage 41 and opposed to the blanket BL. Take an image. The point that a precise alignment process is realized by moving the alignment stage 901 based on the positional relationship of the imaged alignment marks is the same as in the first embodiment.

こうして上ステージ41に保持された基板SBと、支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eにより支持されたブランケットBLとの位置合わせが完了すると、ブランケットBLを押し上げて基板SBに密着させることでパターン転写を行う。すなわち、図22(c)に示すように、転写ローラ941を基板SBの(−X)側端部直下の初期位置まで移動させた後、転写ローラ941を上方へ移動させることで、図23(a)に示すように、ブランケットBLを転写ローラ941により押し上げて、基板SBの下面に密着させる。これによりブランケットBL上のパターンの基板SBへの転写が開始される。   When the alignment between the substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL supported by the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e is completed, the blanket BL is pushed up and brought into close contact with the substrate SB. I do. That is, as shown in FIG. 22C, after the transfer roller 941 is moved to the initial position just below the (−X) side end of the substrate SB, the transfer roller 941 is moved upward, so that FIG. As shown in a), the blanket BL is pushed up by the transfer roller 941 and is brought into close contact with the lower surface of the substrate SB. Thereby, transfer of the pattern on the blanket BL to the substrate SB is started.

なお、ブランケットBLが搬入されてから精密アライメント処理が終了するまでの間は、ブランケットBLが支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eに対して変位するのを防止するために、ブランケット受け部材913,923の各吸着孔914に負圧を供給してブランケットBLを吸着保持する。一方、転写ローラ941によるブランケットBLの押し上げが開始されるのに先立って、各吸着孔914への負圧の供給は停止され、吸着保持は解除される。   In order to prevent the blanket BL from being displaced relative to the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e after the blanket BL is carried in and until the precision alignment process is completed, the blanket receiving member 913, A negative pressure is supplied to each suction hole 914 of 923 to suck and hold the blanket BL. On the other hand, before the blanket BL is pushed up by the transfer roller 941, the supply of the negative pressure to each suction hole 914 is stopped and the suction holding is released.

そして、転写ローラ941をブランケットBL下面に当接させたまま(+X)方向へ移動させる。このとき、図23(b)および図23(c)に示すように、転写ローラ941の移動に同期させて、転写ローラ941の進路に当たり転写ローラ941と干渉する位置にあるブランケット受け部材913,923を順次下部位置へ退避させる。こうすることで、転写ローラ941とブランケット受け部材913,923との干渉を回避する。このときの各ブランケット受け部材913,923の動きは、第1実施形態におけるハンド625の動きに類似している。   Then, the transfer roller 941 is moved in the (+ X) direction while being in contact with the lower surface of the blanket BL. At this time, as shown in FIGS. 23 (b) and 23 (c), in synchronization with the movement of the transfer roller 941, the blanket receiving members 913 and 923 which are in the position where they hit the path of the transfer roller 941 and interfere with the transfer roller 941. Are sequentially retracted to the lower position. By doing so, interference between the transfer roller 941 and the blanket receiving members 913 and 923 is avoided. The movement of each blanket receiving member 913, 923 at this time is similar to the movement of the hand 625 in the first embodiment.

転写ローラ941による押し上げを受ける直前までブランケット受け部材913,923をブランケットBL下面に当接させておくことで、ブランケットBLの姿勢を水平状態に維持することができる。これにより、ブランケットBL上のパターンを基板SB上の所定位置に転写することができる。一方、ブランケットBLのうち転写ローラ941による押し上げを受けた領域については、基板SBと密着した状態であるため、さらにブランケット受け部材913,923により支持する必要はない。したがって、下部位置へ退避したブランケット受け部材913,923を上部位置へ戻す必要はない。   By keeping the blanket receiving members 913 and 923 in contact with the lower surface of the blanket BL until immediately before being pushed up by the transfer roller 941, the posture of the blanket BL can be maintained in a horizontal state. Thereby, the pattern on the blanket BL can be transferred to a predetermined position on the substrate SB. On the other hand, the area of the blanket BL that has been pushed up by the transfer roller 941 is in close contact with the substrate SB, and therefore need not be supported by the blanket receiving members 913 and 923. Therefore, it is not necessary to return the blanket receiving members 913 and 923 retracted to the lower position to the upper position.

なお、転写ローラ941による押し上げに伴うブランケットBLの水平方向への位置ずれを防止するために、各ブランケット受け部材913,923については、下部位置への移動を開始する直前まで吸着孔914に負圧が供給される態様であってもよい。この場合、各ブランケット受け部材913,923ごとに負圧供給のタイミングが独立して制御可能な構成となっている必要がある。   In order to prevent the blanket BL from being displaced in the horizontal direction due to the pushing up by the transfer roller 941, the blanket receiving members 913 and 923 have a negative pressure in the suction hole 914 until just before the movement to the lower position is started. May be supplied. In this case, it is necessary for the blanket receiving members 913 and 923 to be configured so that the negative pressure supply timing can be controlled independently.

こうしてブランケット受け部材913,923を順次退避させながら、図23(d)に示すように、基板SBの全体がブランケットBLに密着し、ブランケットBL上のパターンが基板SBに転写される。その後、転写ローラ941を元の位置に戻し、各ブランケット受け部材913,914を上昇させて、基板SBとブランケットBLとが一体化された積層体を上ステージ41から受け取る。さらに外部のロボットハンド等に積層体が受け渡されて搬出されることで、パターン形成処理が終了する。   As shown in FIG. 23D, the blanket receiving members 913 and 923 are sequentially retracted as described above, and the entire substrate SB is in close contact with the blanket BL, and the pattern on the blanket BL is transferred to the substrate SB. Thereafter, the transfer roller 941 is returned to the original position, the blanket receiving members 913 and 914 are raised, and the laminated body in which the substrate SB and the blanket BL are integrated is received from the upper stage 41. Furthermore, the pattern forming process is completed when the stacked body is transferred to an external robot hand or the like and carried out.

以上説明したように、この実施形態においては、支持ハンド機構91a〜91e,92a〜92eが一体として本発明の「第1保持手段」として機能しており、特にブランケット受け部材913,923が本発明の「局所支持部」としての機能を有している。また、転写ローラユニット94が本発明の「押し上げ手段」として機能している。なお、他の各構成については、第1実施形態と共通である。   As described above, in this embodiment, the support hand mechanisms 91a to 91e and 92a to 92e function as the “first holding means” of the present invention, and in particular, the blanket receiving members 913 and 923 of the present invention. It has a function as a “local support”. Further, the transfer roller unit 94 functions as the “push-up unit” of the present invention. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

<その他>
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態におけるハンド625の形状および設置個数はその一例を示したものであり、これらに限定されるものではない。例えば、Y方向に3以上のハンドを並べて配置してもよい。
<Others>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, the shape and the number of installed hands 625 in the above embodiment are just examples, and are not limited thereto. For example, three or more hands may be arranged side by side in the Y direction.

なお下面からのブランケットBLの保持については、上記実施形態のような細長いハンド上面の平面部を当接させるもののほかに、上向きに立設されたピン状の支持部材を当接させるものが公知である。しかしながら、このような点接触あるいはそれに近い接触面積の小さな支持方法では、支持点の近傍でブランケットBL上のパターン形成材料に応力が集中してパターンが歪むおそれがある。その意味において、比較的広い面積で支持することが好ましく、特に上記実施形態のように、転写ローラ641による押圧領域R2の長手方向と同じ方向に延びる当接領域R3においてハンドがブランケットBLに当接することがより好ましい。   As for holding the blanket BL from the lower surface, in addition to the abutment of the flat portion of the upper surface of the elongated hand as in the above-described embodiment, a method of abutting a pin-like support member standing upward is known. is there. However, in such a support method having a point contact or a contact area having a small contact area, stress may concentrate on the pattern forming material on the blanket BL near the support point and the pattern may be distorted. In that sense, it is preferable to support with a relatively large area. In particular, as in the above-described embodiment, the hand contacts the blanket BL in the contact region R3 extending in the same direction as the longitudinal direction of the pressing region R2 by the transfer roller 641. It is more preferable.

また例えば、上記実施形態では、中央部が開放されたブランケットBL下面のうち、X方向において転写ローラ641と当接する範囲内にのみハンド625を配置してブランケットBLを支持しているが、X方向における転写ローラ641の移動範囲よりも外側にもブランケットBLを局所的に支持する部材を設けてもよい。これらの部材については昇降機能を有するものでなくてもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, the hand 625 is disposed and supported in the X direction in the range of the lower surface of the blanket BL with the central portion opened only within the range in contact with the transfer roller 641 in the X direction. A member for locally supporting the blanket BL may be provided outside the moving range of the transfer roller 641 in FIG. These members do not have to have a lifting function.

また例えば、上記実施形態では、Y方向に並べて配置された1対のハンド6252,6253をそれぞれ独立して昇降可能な構成とした上でこれらが連動して昇降するような動作制御が行われるが、これら1対のハンドの位置関係が固定されて常に一体的に昇降する構造であってもよい。   Further, for example, in the above-described embodiment, a pair of hands 6252 and 6253 arranged side by side in the Y direction are configured to be able to move up and down independently, and operation control is performed so that they move up and down in conjunction with each other. The positional relationship between the pair of hands may be fixed and the structure may be moved up and down all the time.

また例えば、上記実施形態では各ハンド625を下ステージ61よりも上方まで上昇可能とすることで、装置外部との間でのブランケットBLの受け渡しを本発明における「局所支持部」に相当するハンド625に担わせている。しかしながら、局所支持手段が外部とのブランケットの受け渡し機能を有することは必須の要件ではない。   Further, for example, in the above-described embodiment, each hand 625 can be raised above the lower stage 61, so that the hand 625 corresponding to the “local support portion” in the present invention can be transferred to and from the outside of the apparatus. It is carried by. However, it is not an essential requirement that the local support means has a function of transferring a blanket to the outside.

また例えば、上記実施形態では転写ローラ641の接近に伴ってブランケットBL直下位置から下方へ下降させたハンド625をその位置に維持しているが、転写ローラ641の通過後にブランケットBLの直下位置まで戻すようにしてもよい。   Further, for example, in the above embodiment, the hand 625 lowered downward from the position immediately below the blanket BL as the transfer roller 641 approaches is maintained at that position. However, after the transfer roller 641 passes, the hand 625 is returned to the position immediately below the blanket BL. You may do it.

また例えば、上記第1実施形態では、矩形のブランケットBLの四辺周縁部を環状の下ステージ61により保持しているが、ブランケットの姿勢が維持される限り、周縁部の一部が開放されていてもよい。ただし、ローラ走行に伴う位置ずれを防止するために、少なくともローラ走行方向(X方向)における両端部が保持されることが好ましい。   Further, for example, in the first embodiment, the four-side peripheral portion of the rectangular blanket BL is held by the annular lower stage 61. However, as long as the posture of the blanket is maintained, a part of the peripheral portion is opened. Also good. However, it is preferable to hold at least both end portions in the roller running direction (X direction) in order to prevent a positional shift associated with the roller running.

この発明は、ガラス基板や半導体基板などの各種基板にパターンを形成するパターン形成プロセスのうち、版によりブランケット上のパターン形成材料をパターニングする処理、およびブランケット上のパターンを基板に転写する処理の一方または両方に対して好適に適用可能である。   This invention is one of a pattern forming process for forming a pattern on various substrates such as a glass substrate and a semiconductor substrate, a process for patterning a pattern forming material on a blanket with a plate, and a process for transferring the pattern on the blanket to the substrate. Or it is applicable suitably with respect to both.

41 上ステージ(第2保持手段)
61 下ステージ(保持枠、第1保持手段)
623 スライドベース(昇降手段)
624,628 昇降機構(昇降手段)
625 ハンド(局所支持部、第1保持手段)
625a (ハンド625の)上面(当接面)
641 転写ローラ(押し上げ部材)
642 支持フレーム(支持部)
644a ベース部(移動機構)
644b 支持脚(脚部、支持部材)
647 移動機構(移動機構)
PP 版(処理対象物)
SB 基板(処理対象物)
S101,S103,S104 第2工程
S102,S108 第1工程
S105,S112 第3工程
S107,S109,S110 第2工程
41 Upper stage (second holding means)
61 Lower stage (holding frame, first holding means)
623 Slide base (lifting means)
624,628 Lifting mechanism (lifting means)
625 hand (local support, first holding means)
625a (hand 625) upper surface (contact surface)
641 Transfer roller (push-up member)
642 Support frame (support part)
644a Base part (movement mechanism)
644b Support legs (legs, support members)
647 Movement mechanism (movement mechanism)
PP version (object to be processed)
SB substrate (object to be processed)
S101, S103, S104 Second step S102, S108 First step S105, S112 Third step S107, S109, S110 Second step

Claims (11)

パターン形成材料を一方面に担持するブランケットの下面にそれぞれ局所的に当接して前記ブランケットを下面側から支持する複数の局所支持部を有し、前記ブランケットを前記パターン形成材料の担持面を上向きにした水平姿勢で支持する第1保持手段と、
前記パターン形成材料をパターニングするための版、またはパターンが転写される基板を処理対象物として、該処理対象物を前記第1保持手段に保持された前記ブランケットの上面に近接対向させて保持する第2保持手段と、
前記ブランケットの下面側から前記ブランケット中央部の有効領域を部分的に押し上げて前記第2保持手段に保持された前記処理対象物に当接させ、しかも前記ブランケットの下面に沿って移動して前記ブランケットの押し上げ位置を変化させる押し上げ部材と、
前記複数の局所支持部を個別に昇降させる昇降手段と
を備えるパターン形成装置。
A plurality of local support portions that locally abut on the lower surface of the blanket that supports the pattern forming material on one surface and support the blanket from the lower surface side, and the blanket faces the pattern forming material supporting surface upward First holding means for supporting in a horizontal posture,
A plate for patterning the pattern forming material or a substrate onto which a pattern is transferred is used as a processing target, and the processing target is held in close proximity to the upper surface of the blanket held by the first holding means. 2 holding means;
The blanket is partially pushed up from the lower surface side of the blanket to bring it into contact with the object to be processed held by the second holding means, and moves along the lower surface of the blanket to move the blanket A push-up member that changes the push-up position of
A pattern forming apparatus comprising elevating means for elevating and lowering the plurality of local support parts individually.
前記昇降手段は、前記局所支持部のそれぞれが前記ブランケットの下面に当接した状態から、前記押し上げ部材の移動に伴って前記局所支持部の各々を順番に下降させる請求項1に記載のパターン形成装置。   2. The pattern formation according to claim 1, wherein the elevating unit lowers each of the local support portions in order as the push-up member moves from a state where each of the local support portions is in contact with the lower surface of the blanket. apparatus. 前記押し上げ部材の移動方向に沿って複数の前記局所支持部が配列されており、前記昇降手段は、前記押し上げ部材の移動方向に沿った順番で前記局所支持部を下降させる請求項2に記載のパターン形成装置。   The said local support part is arranged along the moving direction of the said raising member, The said raising / lowering means descends the said local supporting part in the order along the moving direction of the said raising member. Pattern forming device. 前記押し上げ部材は、前記ブランケットの下面のうち一の軸方向に沿った前記有効領域の長さよりも長い領域を一括して押し上げ、
前記局所支持部の各々は、前記軸方向を長手方向として延設された当接面において前記ブランケットと当接する請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン形成装置。
The push-up member collectively pushes up an area longer than the length of the effective area along one axial direction of the lower surface of the blanket,
4. The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein each of the local support portions is in contact with the blanket at a contact surface extending with the axial direction as a longitudinal direction. 5.
前記軸方向に前記押し上げ部材に沿って延設され両端部で前記押し上げ部材を回転自在に支持する支持部および前記軸方向における前記支持部の略中央部から下方へ延びた脚部を有する支持部材と、前記支持部材を前記軸方向と直交する方向に移動させる移動機構とをさらに備え、
前記軸方向に並べてかつ互いに離間して1対の前記局所支持部が配置されるとともに、複数対の前記局所支持部が前記軸方向と直交する方向に並べて配置され、
前記支持部材の前記脚部が、各対をなす前記局所支持部の間の空隙を通過する請求項4に記載のパターン形成装置。
A support member having a support portion that extends in the axial direction along the push-up member and rotatably supports the push-up member at both ends, and a leg portion that extends downward from a substantially central portion of the support portion in the axial direction. And a moving mechanism for moving the support member in a direction orthogonal to the axial direction,
A pair of the local support parts are arranged in the axial direction and spaced apart from each other, and a plurality of pairs of the local support parts are arranged in a direction perpendicular to the axial direction,
The pattern forming apparatus according to claim 4, wherein the leg portion of the support member passes through a gap between the pair of local support portions.
前記第1保持手段は、前記ブランケットの前記有効領域の下方を開放した状態で、前記ブランケットの前記有効領域よりも外側の周縁部を保持する保持枠を有し、
前記複数の局所支持部は、前記ブランケットのうち前記保持枠により保持された周縁部よりも内側で前記ブランケットの下面に当接する請求項1ないし5のいずれかに記載のパターン形成装置。
The first holding means has a holding frame for holding a peripheral edge portion outside the effective area of the blanket in a state where the lower area of the effective area of the blanket is opened.
The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the plurality of local support portions are in contact with a lower surface of the blanket inside a peripheral edge portion held by the holding frame in the blanket.
パターン形成材料を一方面に担持するブランケットの下面に対して、互いに独立して昇降可能な複数の局所支持部をそれぞれ局所的に当接させることで、前記パターン形成材料の担持面を上向きにした水平姿勢で前記ブランケットを支持する第1工程と、
前記パターン形成材料をパターニングするための版、またはパターンが転写される基板を処理対象物として、該処理対象物の下面と前記ブランケットの前記担持面とを所定のギャップを隔てて近接対向配置する第2工程と、
押し上げ部材を前記ブランケットの下面に当接させ該押し上げ部材により前記ブランケットを部分的に押し上げて前記処理対象物に当接させ、前記ブランケットの下面に沿って前記押し上げ部材を移動させる第3工程と
を備え、
前記第3工程では、前記押し上げ部材の移動に伴って前記局所支持部を順番に下降させて前記ブランケットから離間させるパターン形成方法。
A plurality of local support portions that can be moved up and down independently from each other are locally brought into contact with the lower surface of the blanket that supports the pattern forming material on one side, so that the support surface of the pattern forming material faces upward. A first step of supporting the blanket in a horizontal posture;
A plate for patterning the pattern forming material or a substrate onto which a pattern is transferred is used as a processing target, and a lower surface of the processing target and the carrying surface of the blanket are arranged close to each other with a predetermined gap therebetween. Two steps,
A third step in which a push-up member is brought into contact with the lower surface of the blanket, the blanket is partially pushed up by the push-up member and brought into contact with the object to be processed, and the push-up member is moved along the lower surface of the blanket; Prepared,
In the third step, the pattern forming method in which the local support portion is sequentially lowered and separated from the blanket as the push-up member moves.
前記第1工程では、前記押し上げ部材の移動方向に沿って複数の前記局所支持部を配列し、前記第3工程では、前記押し上げ部材の移動方向に沿った順番で前記局所支持部を下降させる請求項7に記載のパターン形成方法。   In the first step, a plurality of the local support portions are arranged along the moving direction of the push-up member, and in the third step, the local support portions are lowered in an order along the moving direction of the push-up member. Item 8. The pattern forming method according to Item 7. 前記第3工程では、前記押し上げ部材と前記ブランケットとの当接位置と、一の前記局所支持部と前記ブランケットとの当接位置との間の距離が所定値以下になると当該局所支持部を下降させる請求項7または8に記載のパターン形成方法。   In the third step, when the distance between the abutting position of the push-up member and the blanket and the abutting position of the one local support portion and the blanket is equal to or less than a predetermined value, the local support portion is lowered. The pattern formation method of Claim 7 or 8 to be made. 前記第1工程では、前記押し上げ部材の移動方向に直交する方向に並べてかつ互いに離間させて1対の前記局所支持部を配置するとともに、複数対の前記局所支持部を前記移動方向に沿って並べて配置し、
前記第3工程では、前記押し上げ部材の移動に伴って、互いに対をなす前記局所支持部を一体的に下降させる請求項7ないし9のいずれかに記載のパターン形成方法。
In the first step, the pair of local support portions are arranged in a direction orthogonal to the moving direction of the push-up member and separated from each other, and a plurality of pairs of the local support portions are arranged in the moving direction. Place and
The pattern forming method according to claim 7, wherein, in the third step, the local support portions that are paired with each other are lowered integrally with the movement of the push-up member.
前記第1工程では、前記ブランケットの周縁部を保持枠により保持するとともに、前記ブランケットのうち前記保持枠により保持された周縁部よりも内側で前記ブランケットの下面に前記複数の局所支持部を当接させ、
前記第3工程では、前記保持枠による前記ブランケット周縁部の保持を維持しつつ前記局所支持部を下降させる請求項7ないし10のいずれかに記載のパターン形成方法。
In the first step, the peripheral portion of the blanket is held by a holding frame, and the plurality of local support portions are brought into contact with the lower surface of the blanket inside the peripheral portion of the blanket held by the holding frame. Let
The pattern forming method according to claim 7, wherein, in the third step, the local support portion is lowered while maintaining the blanket peripheral portion held by the holding frame.
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