JP2014179450A - Ejection inspection device and substrate processing device - Google Patents

Ejection inspection device and substrate processing device Download PDF

Info

Publication number
JP2014179450A
JP2014179450A JP2013052194A JP2013052194A JP2014179450A JP 2014179450 A JP2014179450 A JP 2014179450A JP 2013052194 A JP2013052194 A JP 2013052194A JP 2013052194 A JP2013052194 A JP 2013052194A JP 2014179450 A JP2014179450 A JP 2014179450A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
determination
frame
ejection
determination frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013052194A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Itaru Furukawa
至 古川
Hiroshi Sano
洋 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2013052194A priority Critical patent/JP2014179450A/en
Priority to KR1020140025988A priority patent/KR101567195B1/en
Priority to CN201410085538.7A priority patent/CN104051297B/en
Priority to US14/207,232 priority patent/US9887106B2/en
Priority to TW103109413A priority patent/TWI541927B/en
Publication of JP2014179450A publication Critical patent/JP2014179450A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To determine whether or not the ejection action at each of a plurality of ejection openings is favorable with a high degree of accuracy.SOLUTION: At an ejection inspection part 5 of a substrate processing device 1, a light emission part 51 emits the light along a predetermined light present surface, and process liquid ejected from a plurality of ejection openings of an ejection head 31 is irradiated with the light. An imaging part 52 images the process liquid through which the planar light 510 from the light emission part 51 passes, and acquires an inspection image including a plurality of bright points. At the ejection inspection part 5, a plurality of normal ejection determination frame corresponding to a plurality of ejection openings on the inspection image are set by a determination frame setting part. Subsequently, a size of the normal ejection determination frame is adjusted based on a distance from the imaging part 52. The determination part acquires a presence/absence information of the bright point in each of normal ejection determination frame, and determines whether or not the ejection action at ejection openings corresponding to each normal ejection determination frame is favorable on the basis of the presence/absence information. Thereby it is possible to determine whether or not the ejection action at each of a plurality of ejection openings is favorable with a high degree of accuracy.

Description

本発明は、複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置、および、当該吐出検査装置を備える基板処理装置に関する。   The present invention relates to a discharge inspection apparatus for inspecting a liquid discharge operation from a plurality of discharge ports, and a substrate processing apparatus including the discharge inspection apparatus.

従来より、半導体基板(以下、単に「基板」という。)の製造工程では、基板処理装置を用いて酸化膜等の絶縁膜を有する基板に対して様々な処理が施される。例えば、基板の表面に洗浄液を供給することにより、基板の表面上に付着したパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。   Conventionally, in a manufacturing process of a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”), various processes are performed on a substrate having an insulating film such as an oxide film using a substrate processing apparatus. For example, a cleaning process is performed to remove particles and the like attached on the surface of the substrate by supplying a cleaning liquid to the surface of the substrate.

特許文献1では、基板の上方に配置された1つの処理液供給ノズルから、基板上にフォトレジスト液を吐出する基板処理装置が開示されている。当該装置では、処理液供給ノズルと基板との間にCCDカメラが向けられており、処理液供給ノズルから吐出される処理液の液柱が撮像される。そして、撮像された処理液の液柱幅(すなわち、処理液供給ノズルからの吐出幅)が、所定の基準幅と比較され、基準幅よりも小さい場合、吐出異常として検出される。   Patent Document 1 discloses a substrate processing apparatus that discharges a photoresist liquid onto a substrate from one processing liquid supply nozzle disposed above the substrate. In this apparatus, the CCD camera is directed between the processing liquid supply nozzle and the substrate, and the liquid column of the processing liquid discharged from the processing liquid supply nozzle is imaged. Then, the liquid column width of the imaged processing liquid (that is, the discharge width from the processing liquid supply nozzle) is compared with a predetermined reference width, and when it is smaller than the reference width, it is detected as an abnormal discharge.

特許文献2では、現像液吐出ノズルのスリット状の吐出口から、静止状態で保持された基板上に現像液を付与する基板処理装置が開示されている。当該装置では、基板上に光を照射する照明と、基板上の処理液で反射された光を検知する光検知部とが設けられる。光検知部のCCDカメラにより基板の表面全体の画像が取得され、基板上において現像液が液盛りされていない現像液供給不良領域が、他の領域との明度値の違いに基づいて検出される。   Patent Document 2 discloses a substrate processing apparatus that applies developer to a substrate held in a stationary state from a slit-like discharge port of a developer discharge nozzle. In the apparatus, illumination for irradiating light on the substrate and a light detection unit for detecting light reflected by the processing liquid on the substrate are provided. An image of the entire surface of the substrate is acquired by the CCD camera of the light detection unit, and a developing solution supply failure region where the developing solution is not accumulated on the substrate is detected based on a difference in brightness value from other regions. .

特許文献3では、塗布液ノズルから基板上に塗布液を供給する液処理装置が開示されている。当該装置では、塗布液ノズルが、基板の上方と待機位置であるノズルバスとの間で搬送され、搬送中の塗布液ノズルの先端部が撮像される。そして、撮像結果に基づいて、塗布液ノズルの先端部からの液だれ、または、滴下の発生が検出される。   Patent Document 3 discloses a liquid processing apparatus that supplies a coating liquid from a coating liquid nozzle onto a substrate. In this apparatus, the coating liquid nozzle is transported between the upper part of the substrate and the nozzle bus that is the standby position, and the tip of the coating liquid nozzle being transported is imaged. Based on the imaging result, the occurrence of dripping or dripping from the tip of the coating liquid nozzle is detected.

特許文献4では、処理液ノズルから基板上に処理液を供給する液処理装置が開示されている。当該装置では、直線状に1列に配列された11本のノズルが、ノズルヘッド部により保持されている。また、これらのノズルの先端部から基板表面に至る領域にライン状のレーザ光が照射され、当該領域に向けられたカメラにより、各ノズルから吐出されるレジスト液の液柱が撮像される。そして、撮像結果を、ノズルから正常にレジスト液が吐出されている状態を予め撮像した基準情報と比較することにより、ノズルからのレジスト液の吐出の有無、および、吐出状態の変化の有無が判定される。   Patent Document 4 discloses a liquid processing apparatus that supplies a processing liquid onto a substrate from a processing liquid nozzle. In this apparatus, 11 nozzles arranged in a line in a straight line are held by the nozzle head portion. In addition, a line-shaped laser beam is irradiated to a region from the tip portion of these nozzles to the substrate surface, and a liquid column of the resist solution discharged from each nozzle is imaged by a camera directed to the region. Then, by comparing the imaging result with the reference information obtained by imaging the state in which the resist solution is normally ejected from the nozzle, it is determined whether the resist solution is ejected from the nozzle and whether the ejection state has changed. Is done.

一方、特許文献5では、複数の吐出口から処理液の微小液滴を基板に向けて吐出する基板処理装置が開示されている。当該装置では、複数の吐出口が1列に並べられた吐出口列が、複数列設けられる。   On the other hand, Patent Document 5 discloses a substrate processing apparatus that discharges fine droplets of a processing liquid toward a substrate from a plurality of discharge ports. In the apparatus, a plurality of discharge port arrays in which a plurality of discharge ports are arranged in one row are provided.

特開平11−329936号公報JP 11-329936 A 特開2003−272986号公報JP 2003-272986 A 特開2008−135679号公報JP 2008-135679 A 特開2012−9812号公報JP 2012-98812 A 特開2012−209513号公報JP 2012-209513 A

ところで、特許文献5のような装置において、複数の吐出口から処理液が吐出されているか否かを判定しようとしても、それぞれが多数の吐出口を有する複数の吐出口列が、吐出口の配列方向に交差する方向に配置されているため、各吐出口からの微小液滴が重なってしまい、どの微小液滴がどの吐出口に対応するか、容易に判断することができない。   By the way, in an apparatus such as Patent Document 5, even if it is determined whether or not the processing liquid is being discharged from a plurality of discharge ports, a plurality of discharge port arrays each having a large number of discharge ports are arranged in an array of discharge ports. Since the liquid droplets are arranged in a direction crossing the direction, the fine liquid droplets from the respective discharge ports overlap with each other, and it is not easy to determine which fine liquid droplet corresponds to which discharge port.

また、微小液滴の吐出異常の1つとして、所定の吐出方向からずれて吐出される斜め吐出がある。このような斜め吐出を検出する方法として、微小液滴の間隔を正常値と比較することが考えられる。しかしながら、微小液滴の間隔は、観察視点に近い吐出口では大きく見え、観察視点から遠い吐出口では小さく見えるため、正常吐出か斜め吐出かを判断することは容易ではない。また、各微小液滴の大きさも、観察視点からの距離により変化する。   Further, as one of abnormal discharges of micro droplets, there is an oblique discharge that is discharged out of a predetermined discharge direction. As a method for detecting such oblique ejection, it is conceivable to compare the interval between the minute droplets with a normal value. However, since the interval between the minute droplets appears large at the discharge port close to the observation viewpoint and appears small at the discharge port far from the observation viewpoint, it is not easy to determine whether the discharge is normal discharge or oblique discharge. In addition, the size of each minute droplet also changes depending on the distance from the observation viewpoint.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の吐出口のそれぞれにおける吐出動作の良否を精度良く判定することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to accurately determine the quality of a discharge operation at each of a plurality of discharge ports.

請求項1に記載の発明は、複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置であって、予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、前記検査画像上において前記複数の吐出口に対応する複数の正常吐出判定枠を設定する判定枠設定部と、各正常吐出判定枠内における輝点の存否情報を取得し、前記存否情報に基づいて前記各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作の良否を判定する判定部とを備え、前記判定枠設定部が、前記複数の飛翔体の設計上の吐出方向へと各吐出口から延びる吐出中心線が前記光存在面と交わる点である輝点基準位置を中心として、所定の大きさの正常吐出判定枠を前記各吐出口に対応させて前記検査画像上に仮設定する仮設定部と、前記仮設定部により仮設定された各正常吐出判定枠を、前記輝点基準位置と前記撮像部との間の距離である検査距離に基づいて調整する枠サイズ調整部とを備える。   The invention according to claim 1 is a discharge inspection device for inspecting the discharge operation of liquid from a plurality of discharge ports, and emits light along a predetermined light existence surface, whereby the plurality of discharge ports A plurality of projectiles that are liquids ejected from the light exiting unit that emits light to the plurality of projectiles when passing through the light-existing surface; and imaging the plurality of projectiles that pass through the light-existing surface An image capturing unit that acquires an inspection image including a plurality of bright spots appearing on the plurality of flying objects, and a determination for setting a plurality of normal ejection determination frames corresponding to the plurality of ejection ports on the inspection image. A frame setting unit, and a determination unit that acquires presence / absence information of a bright spot in each normal discharge determination frame, and determines whether the discharge operation at the discharge port corresponding to each normal discharge determination frame is good or not based on the presence / absence information The determination frame setting section includes A normal discharge determination frame of a predetermined size is centered on a bright spot reference position, which is a point where a discharge center line extending from each discharge port in the design discharge direction of the flying object intersects the light existence surface. The temporary setting unit temporarily set on the inspection image corresponding to the exit, and each normal ejection determination frame temporarily set by the temporary setting unit is a distance between the bright spot reference position and the imaging unit A frame size adjusting unit that adjusts based on the inspection distance.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の吐出検査装置であって、請求項1に記載の吐出検査装置であって、前記枠サイズ調整部が、前記各正常吐出判定枠の大きさを、前記検査距離が大きくなるに従って縮小する調整を行う。   Invention of Claim 2 is the discharge inspection apparatus of Claim 1, Comprising: It is the discharge inspection apparatus of Claim 1, Comprising: The said frame size adjustment part is a magnitude | size of each said normal discharge determination frame. An adjustment is performed to reduce the inspection distance as the inspection distance increases.

請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の吐出検査装置であって、前記枠サイズ調整部が、前記各正常吐出判定枠の大きさを、前記撮像部の合焦距離と前記検査距離との差が大きくなるに従って縮小する調整を行う。   Invention of Claim 3 is the discharge inspection apparatus of Claim 1 or 2, Comprising: The said frame size adjustment part makes the magnitude | size of each said normal discharge determination frame the focusing distance of the said imaging part, and Adjustment is made to reduce as the difference from the inspection distance increases.

請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記光出射部と前記輝点基準位置との間の光軸に平行な方向における前記光出射部と前記輝点基準位置との間の距離を照射距離として、前記枠サイズ調整部が、前記光出射部から出射される光の前記吐出方向の厚さが最も小さくなる光最薄位置と前記光出射部との間の距離と、前記照射距離との差が大きくなるに従って、前記各正常吐出判定枠を前記吐出方向に縮小する光厚さ調整部をさらに備える。   A fourth aspect of the present invention is the ejection inspection apparatus according to any one of the first to third aspects, wherein the light in a direction parallel to an optical axis between the light emitting portion and the bright spot reference position. With the distance between the emitting part and the bright spot reference position as an irradiation distance, the frame size adjusting part is a light thinnest position where the thickness of the light emitted from the light emitting part is the smallest in the ejection direction. A light thickness adjusting unit is further provided that reduces each normal ejection determination frame in the ejection direction as the difference between the distance from the light emitting unit and the irradiation distance increases.

請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記撮像部の撮像方向が、前記吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。   A fifth aspect of the present invention is the ejection inspection apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the imaging direction of the imaging unit is inclined with respect to a plane perpendicular to the ejection direction.

請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記光存在面が、前記吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。   A sixth aspect of the present invention is the discharge inspection apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the light existence surface is inclined with respect to a plane perpendicular to the discharge direction.

請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記複数の吐出口が直線状に配列されており、前記判定枠設定部が、前記検査画像に含まれる複数の輝点のうち両端に位置する輝点の位置に基づいて前記複数の正常吐出判定枠の位置を設定する。   A seventh aspect of the present invention is the discharge inspection apparatus according to any one of the first to sixth aspects, wherein the plurality of discharge ports are arranged in a straight line, and the determination frame setting unit includes the inspection frame setting unit. The positions of the plurality of normal ejection determination frames are set based on the positions of the bright spots located at both ends of the plurality of bright spots included in the image.

請求項8に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記判定枠設定部が、複数の斜め吐出判定枠を前記複数の正常吐出判定枠の周囲にそれぞれ設定し、前記判定部が、各斜め吐出判定枠内における輝点の存否に基づいて、前記各斜め吐出判定枠に対応する吐出口における斜め吐出の発生の有無を判定する。   The invention according to claim 8 is the discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the determination frame setting unit includes a plurality of oblique discharge determination frames around the plurality of normal discharge determination frames. And the determination unit determines whether or not an oblique discharge has occurred at the discharge port corresponding to each oblique discharge determination frame based on the presence or absence of a bright spot in each oblique discharge determination frame.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の吐出検査装置であって、前記判定枠設定部が、前記複数の斜め吐出判定枠の周囲に1つの外側吐出判定枠を設定し、前記判定部が、前記外側吐出判定枠内における輝点の存否情報に基づいて、より大きい斜め吐出の発生の有無を判定する。   The invention described in claim 9 is the discharge inspection apparatus according to claim 8, wherein the determination frame setting unit sets one outer discharge determination frame around the plurality of oblique discharge determination frames, The determination unit determines whether or not a larger oblique discharge has occurred based on the presence / absence information of a bright spot in the outer discharge determination frame.

請求項10に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記判定枠設定部が、前記複数の正常吐出判定枠の周囲に1つの斜め吐出判定枠を設定し、前記判定部が、前記斜め吐出判定枠内における輝点の存否に基づいて、斜め吐出の発生の有無を判定する。   A tenth aspect of the present invention is the discharge inspection apparatus according to any one of the first to seventh aspects, wherein the determination frame setting unit has one oblique discharge determination frame around the plurality of normal discharge determination frames. And the determination unit determines whether or not oblique discharge has occurred based on the presence or absence of a bright spot in the oblique discharge determination frame.

請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の吐出検査装置であって、前記判定枠設定部が、前記斜め吐出判定枠の周囲に1つの外側吐出判定枠を設定し、前記判定部が、前記外側吐出判定枠内における輝点の存否情報に基づいて、より大きい斜め吐出の発生の有無を判定する。   The invention according to claim 11 is the discharge inspection apparatus according to claim 10, wherein the determination frame setting unit sets one outer discharge determination frame around the oblique discharge determination frame, and the determination unit However, the presence / absence of a larger oblique discharge is determined based on the presence / absence information of the bright spot in the outer discharge determination frame.

請求項12に記載の発明は、請求項1ないし11のいずれかに記載の吐出検査装置であって、前記判定部が、前記検査画像上において前記複数の輝点のそれぞれの重心を求め、前記各正常吐出判定枠内における輝点の重心の存否を、前記各正常吐出判定枠内における輝点の前記存否情報として取得する。   The invention according to claim 12 is the ejection inspection apparatus according to any one of claims 1 to 11, wherein the determination unit obtains the center of gravity of each of the plurality of bright spots on the inspection image, and The presence / absence of the center of gravity of the bright spot in each normal discharge determination frame is acquired as the presence / absence information of the bright spot in each normal discharge determination frame.

請求項13に記載の発明は、基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する請求項1ないし12のいずれかに記載の吐出検査装置とを備える。   The invention according to claim 13 is a substrate processing apparatus, comprising: a substrate holding unit that holds a substrate; a discharge head that discharges liquid from a plurality of discharge ports toward the substrate and performs a predetermined process on the substrate; The discharge inspection apparatus according to claim 1, wherein the discharge operation of the liquid from the plurality of discharge ports of the discharge head is inspected.

本発明では、複数の吐出口のそれぞれにおける吐出動作の良否を精度良く判定することができる。   In the present invention, it is possible to accurately determine the quality of the ejection operation at each of the plurality of ejection ports.

一の実施の形態に係る基板処理装置の正面図である。It is a front view of the substrate processing apparatus concerning one embodiment. 基板処理装置の平面図である。It is a top view of a substrate processing apparatus. 吐出ヘッドおよび待機ポッドの側面図である。It is a side view of a discharge head and a standby pod. 吐出ヘッドの下面を示す底面図である。It is a bottom view which shows the lower surface of a discharge head. 制御ユニットの機能を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function of a control unit. 吐出ヘッド、光出射部および撮像部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an ejection head, a light emission part, and an imaging part. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 吐出ヘッド、面状光および保護液膜の一部を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows a part of discharge head, planar light, and a protective liquid film. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image. 検査画像を示す図である。It is a figure which shows a test | inspection image.

図1は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置1の正面図である。図2.Aは、基板処理装置1の平面図である。図2.Aでは、基板処理装置1の向きを図1から変更している。基板処理装置1は、半導体基板9(以下、単に「基板9」という。)を1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1では、基板9に対して液体が吐出されて所定の処理が行われる。本実施の形態では、基板9上に洗浄液の液滴を吐出することにより、基板9上からパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。基板処理装置1では、例えば、直径約20μmの液滴が、基板9に向けてスプレー状に吐出される。   FIG. 1 is a front view of a substrate processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. A is a plan view of the substrate processing apparatus 1. FIG. In A, the orientation of the substrate processing apparatus 1 is changed from FIG. The substrate processing apparatus 1 is a single-wafer type apparatus that processes semiconductor substrates 9 (hereinafter simply referred to as “substrates 9”) one by one. In the substrate processing apparatus 1, a liquid is discharged to the substrate 9 to perform a predetermined process. In the present embodiment, a cleaning process for removing particles and the like from the substrate 9 is performed by discharging droplets of the cleaning liquid onto the substrate 9. In the substrate processing apparatus 1, for example, droplets having a diameter of about 20 μm are ejected toward the substrate 9 in a spray form.

図1および図2.Aに示すように、基板処理装置1は、基板保持部21と、カップ部22と、基板回転機構23と、処理液供給部3と、供給部移動機構35と、保護液供給部36と、待機ポッド4と、吐出検査部5と、チャンバ6と、制御ユニットとを備える。チャンバ6は、基板保持部21、カップ部22、基板回転機構23、処理液供給部3、供給部移動機構35、保護液供給部36、待機ポッド4および吐出検査部5等の構成を内部空間60に収容する。チャンバ6は、外部から内部空間60への光の入射を遮る遮光チャンバである。図1および図2.Aでは、チャンバ6を破線にて示し、チャンバ6の内部を図示している。   1 and 2. As shown in A, the substrate processing apparatus 1 includes a substrate holding unit 21, a cup unit 22, a substrate rotating mechanism 23, a processing liquid supply unit 3, a supply unit moving mechanism 35, a protective liquid supply unit 36, A standby pod 4, a discharge inspection unit 5, a chamber 6, and a control unit are provided. The chamber 6 includes the substrate holding unit 21, the cup unit 22, the substrate rotating mechanism 23, the processing liquid supply unit 3, the supply unit moving mechanism 35, the protective liquid supply unit 36, the standby pod 4, and the discharge inspection unit 5. 60. The chamber 6 is a light shielding chamber that blocks light from entering the internal space 60 from the outside. 1 and 2. In A, the chamber 6 is indicated by a broken line, and the inside of the chamber 6 is illustrated.

基板保持部21は、チャンバ6内において基板9の一方の主面91(以下、「上面91」という。)を上側に向けた状態で基板9を保持する。基板9の上面91には、回路パターン等の微細パターンが形成されている。カップ部22は、基板9および基板保持部21の周囲を囲む略円筒状の部材である。基板回転機構23は、基板保持部21の下方に配置される。基板回転機構23は、基板9の中心を通るとともに基板9の上面91に垂直な回転軸を中心として、基板9を基板保持部21と共に水平面内にて回転する。   The substrate holding unit 21 holds the substrate 9 in a state where one main surface 91 (hereinafter referred to as “upper surface 91”) of the substrate 9 is directed upward in the chamber 6. A fine pattern such as a circuit pattern is formed on the upper surface 91 of the substrate 9. The cup portion 22 is a substantially cylindrical member surrounding the substrate 9 and the substrate holding portion 21. The substrate rotation mechanism 23 is disposed below the substrate holding unit 21. The substrate rotation mechanism 23 rotates the substrate 9 together with the substrate holder 21 in a horizontal plane around a rotation axis that passes through the center of the substrate 9 and is perpendicular to the upper surface 91 of the substrate 9.

処理液供給部3は、処理液を下方に向けて吐出する吐出ヘッド31と、吐出ヘッド31に処理液を供給する処理液配管32とを備える。吐出ヘッド31は、カップ部22の内側において基板保持部21の上方に配置される。換言すれば、吐出ヘッド31の下面は、カップ部22の上部開口220と、基板9の上面91との間に位置する。吐出ヘッド31は、後述する複数の吐出口から相互に分離した微小な液滴を連続的に吐出する装置である。吐出ヘッド31により、基板9の上面91に向けて処理液が吐出される。処理液としては、純水(好ましくは、脱イオン水(DIW:deionized water))、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。吐出ヘッド31からの処理液の設計上の吐出方向は、上下方向(すなわち、重力方向)におよそ平行である。   The processing liquid supply unit 3 includes a discharge head 31 that discharges the processing liquid downward, and a processing liquid pipe 32 that supplies the processing liquid to the discharge head 31. The discharge head 31 is disposed above the substrate holding part 21 inside the cup part 22. In other words, the lower surface of the ejection head 31 is located between the upper opening 220 of the cup portion 22 and the upper surface 91 of the substrate 9. The discharge head 31 is a device that continuously discharges minute droplets separated from each other from a plurality of discharge ports described later. The processing liquid is discharged toward the upper surface 91 of the substrate 9 by the discharge head 31. As the treatment liquid, a liquid such as pure water (preferably deionized water (DIW)), carbonated water, a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide water is used. The design discharge direction of the processing liquid from the discharge head 31 is approximately parallel to the vertical direction (that is, the direction of gravity).

図3は、吐出ヘッド31の下面311を示す底面図である。吐出ヘッド31の下面311には、4つの吐出口列313a〜313dを備える複数の吐出口が設けられる。吐出口列313a〜313dはそれぞれ、所定の配列ピッチにて図3中の左右方向に直線状に配列される複数の吐出口314a〜314dを有する。各吐出口314a〜314dの直径は、およそ5μm〜10μmである。図3では、各吐出口314a〜314dを実際よりも大きく、吐出口314a〜314dの個数を実際よりも少なく描いている。また、図3では、吐出ヘッド31の下面311において複数の吐出口314a〜314dが設けられる吐出口配置領域316を二点鎖線にて囲む。吐出口配置領域316は略矩形である。吐出ヘッド31では、複数の吐出口314a〜314dのそれぞれから、処理液の微小液滴が噴射される。   FIG. 3 is a bottom view showing the lower surface 311 of the ejection head 31. The lower surface 311 of the discharge head 31 is provided with a plurality of discharge ports including four discharge port arrays 313a to 313d. Each of the discharge port arrays 313a to 313d has a plurality of discharge ports 314a to 314d arranged linearly in the left-right direction in FIG. 3 at a predetermined arrangement pitch. The diameter of each discharge port 314a-314d is about 5 micrometers-10 micrometers. In FIG. 3, each of the discharge ports 314a to 314d is drawn larger than the actual size, and the number of the discharge ports 314a to 314d is drawn smaller than the actual size. In FIG. 3, a discharge port arrangement region 316 where a plurality of discharge ports 314 a to 314 d are provided on the lower surface 311 of the discharge head 31 is surrounded by a two-dot chain line. The discharge port arrangement region 316 is substantially rectangular. In the ejection head 31, minute droplets of the processing liquid are ejected from each of the plurality of ejection ports 314a to 314d.

以下の説明では、図3中の左右方向を「配列方向」という。また、図3中の上側から下側に向かって配列される吐出口列313a〜313dをそれぞれ、「第1吐出口列313a」、「第2吐出口列313b」、「第3吐出口列313c」および「第4吐出口列313d」という。さらに、第1吐出口列313aの複数の吐出口314aを「第1吐出口314a」といい、第2吐出口列313bの複数の吐出口314bを「第2吐出口314b」という。第3吐出口列313cの複数の吐出口314cを「第3吐出口314c」といい、第4吐出口列313dの複数の吐出口314dを「第4吐出口314d」という。   In the following description, the horizontal direction in FIG. Further, the discharge port arrays 313a to 313d arranged from the upper side to the lower side in FIG. 3 are respectively referred to as “first discharge port array 313a”, “second discharge port array 313b”, and “third discharge port array 313c”. And “fourth outlet row 313d”. Furthermore, the plurality of discharge ports 314a of the first discharge port row 313a are referred to as “first discharge ports 314a”, and the plurality of discharge ports 314b of the second discharge port row 313b are referred to as “second discharge ports 314b”. The plurality of discharge ports 314c of the third discharge port row 313c are referred to as “third discharge ports 314c”, and the plurality of discharge ports 314d of the fourth discharge port row 313d are referred to as “fourth discharge ports 314d”.

第1吐出口列313a、第2吐出口列313b、第3吐出口列313cおよび第4吐出口列313dは、上述の配列方向に延びる直線状であり、互いに平行に配置される。配列方向に垂直な方向(すなわち、図3中の上下方向)において、第1吐出口列313aと第2吐出口列313bとの間の距離は、第3吐出口列313cと第4吐出口列313dとの間の距離に等しく、第2吐出口列313bと第3吐出口列313cとの間の距離よりも小さい。第2吐出口列313bは、第1吐出口列313aから、配列方向の一方側である図3中の右側に所定のシフト距離だけずれて配置される。第4吐出口列313dは、第3吐出口列313cから、図3中の右側に上記シフト距離だけずれて配置される。当該シフト距離は、上述の配列ピッチよりも小さい距離であり、例えば、配列ピッチの半分の距離である。   The first discharge port row 313a, the second discharge port row 313b, the third discharge port row 313c, and the fourth discharge port row 313d are linear shapes extending in the above-described arrangement direction, and are arranged in parallel to each other. In the direction perpendicular to the arrangement direction (that is, the vertical direction in FIG. 3), the distance between the first discharge port array 313a and the second discharge port array 313b is the third discharge port array 313c and the fourth discharge port array. It is equal to the distance between 313d and smaller than the distance between the 2nd discharge port row | line | column 313b and the 3rd discharge port row | line | column 313c. The second discharge port array 313b is arranged so as to be shifted from the first discharge port array 313a by a predetermined shift distance on the right side in FIG. 3, which is one side in the arrangement direction. The fourth discharge port array 313d is arranged to be shifted from the third discharge port array 313c by the shift distance on the right side in FIG. The shift distance is a distance smaller than the above-described arrangement pitch, for example, a distance that is half of the arrangement pitch.

吐出ヘッド31では、配列方向に垂直、かつ、吐出ヘッド31の下面311に平行な方向から見た場合、複数の第1吐出口314aと複数の第2吐出口314bとが配列方向に交互に並び、複数の第3吐出口314cと複数の第4吐出口314dとが配列方向に交互に並ぶ。また、複数の第1吐出口314aと複数の第3吐出口314cとがそれぞれ重なり、複数の第2吐出口314bと複数の第4吐出口314dとがそれぞれ重なる。   In the ejection head 31, when viewed from a direction perpendicular to the arrangement direction and parallel to the lower surface 311 of the ejection head 31, the plurality of first ejection ports 314a and the plurality of second ejection ports 314b are alternately arranged in the arrangement direction. The plurality of third discharge ports 314c and the plurality of fourth discharge ports 314d are alternately arranged in the arrangement direction. In addition, the plurality of first discharge ports 314a and the plurality of third discharge ports 314c overlap each other, and the plurality of second discharge ports 314b and the plurality of fourth discharge ports 314d overlap each other.

図1および図2.Aに示すように、供給部移動機構35は、アーム351と、回転軸352と、ヘッド回転機構353と、ヘッド昇降機構354とを備える。アーム351は、回転軸352から水平方向に延びる。アーム351の先端部には、吐出ヘッド31が取り付けられる。ヘッド回転機構353は、吐出ヘッド31をアーム351と共に回転軸352を中心として水平方向に回転する。ヘッド昇降機構354は、吐出ヘッド31をアーム351と共に上下方向に移動する。ヘッド回転機構353は、例えば、電動モータを備える。ヘッド昇降機構354は、例えば、ボールねじ機構および電動モータを備える。   1 and 2. As shown to A, the supply part moving mechanism 35 is provided with the arm 351, the rotating shaft 352, the head rotating mechanism 353, and the head raising / lowering mechanism 354. The arm 351 extends in the horizontal direction from the rotation shaft 352. A discharge head 31 is attached to the tip of the arm 351. The head rotation mechanism 353 rotates the ejection head 31 in the horizontal direction around the rotation shaft 352 together with the arm 351. The head lifting mechanism 354 moves the ejection head 31 in the vertical direction together with the arm 351. The head rotation mechanism 353 includes, for example, an electric motor. The head lifting mechanism 354 includes, for example, a ball screw mechanism and an electric motor.

保護液供給部36は、吐出ヘッド31に直接的または間接的に固定され、保護液を斜め下方に向けて吐出する。保護液としては、上述の処理液と同様に、純水(好ましくは、脱イオン水)、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。保護液は処理液と同じ種類の液体でもよく、異なる種類の液体でもよい。基板処理装置1では、保護液供給部36から基板9の上面91に向けて液柱状に吐出された保護液が、吐出ヘッド31の下方において基板9上に広がることにより、吐出ヘッド31の真下に所定の厚さの保護液の膜(以下、「保護液膜」という。)が形成される。保護液供給部36は、ヘッド回転機構353およびヘッド昇降機構354により、吐出ヘッド31と共に移動する。   The protective liquid supply unit 36 is directly or indirectly fixed to the discharge head 31 and discharges the protective liquid obliquely downward. As the protective liquid, liquids such as pure water (preferably deionized water), carbonated water, a mixed solution of ammonia water and hydrogen peroxide water are used as in the case of the above-described treatment liquid. The protective liquid may be the same type of liquid as the treatment liquid or may be a different type of liquid. In the substrate processing apparatus 1, the protective liquid discharged in the form of a liquid column from the protective liquid supply unit 36 toward the upper surface 91 of the substrate 9 spreads on the substrate 9 below the discharge head 31, thereby directly below the discharge head 31. A protective liquid film (hereinafter referred to as “protective liquid film”) having a predetermined thickness is formed. The protective liquid supply unit 36 moves together with the ejection head 31 by the head rotation mechanism 353 and the head lifting mechanism 354.

図4は、制御ユニット7の機能を示すブロック図である。図4では、制御ユニット7以外の構成も併せて描いてる。制御ユニット7は、処理制御部71と、検査制御部72と、検査演算部73とを備える。処理制御部71により、基板回転機構23、処理液供給部3、供給部移動機構35および保護液供給部36等が制御されることにより、基板9の処理が行われる。検査制御部72により、処理液供給部3、供給部移動機構35および吐出検査部5等が制御されることにより、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314dからの処理液の吐出動作の検査が行われる。   FIG. 4 is a block diagram showing functions of the control unit 7. In FIG. 4, the configuration other than the control unit 7 is also drawn. The control unit 7 includes a process control unit 71, an inspection control unit 72, and an inspection calculation unit 73. The processing of the substrate 9 is performed by controlling the substrate rotation mechanism 23, the processing liquid supply unit 3, the supply unit moving mechanism 35, the protective liquid supply unit 36, and the like by the processing control unit 71. The inspection control unit 72 controls the processing liquid supply unit 3, the supply unit moving mechanism 35, the discharge inspection unit 5, and the like, thereby inspecting the discharge operation of the processing liquid from the plurality of discharge ports 314a to 314d of the discharge head 31. Is done.

検査演算部73は、吐出検査部5の一部であり、判定枠設定部74と、判定部75と、輝点補正部76とを備える。判定枠設定部74は、仮設定部77と、枠サイズ調整部78とを備える。枠サイズ調整部78は、見かけ枠サイズ調整部78aと、合焦ずれ枠サイズ調整部78bと、光厚さ調整部78cとを備える。輝点補正部76は、見かけ輝点サイズ補正部76aと、合焦ずれ輝点サイズ補正部76bと、光厚さ補正部76cとを備える。判定枠設定部74、判定部75および輝点補正部76は、上述の吐出動作の検査に利用される。   The inspection calculation unit 73 is a part of the ejection inspection unit 5, and includes a determination frame setting unit 74, a determination unit 75, and a bright spot correction unit 76. The determination frame setting unit 74 includes a temporary setting unit 77 and a frame size adjustment unit 78. The frame size adjustment unit 78 includes an apparent frame size adjustment unit 78a, an out-of-focus frame size adjustment unit 78b, and a light thickness adjustment unit 78c. The bright spot correcting unit 76 includes an apparent bright spot size correcting unit 76a, an out-of-focus bright spot size correcting unit 76b, and a light thickness correcting unit 76c. The determination frame setting unit 74, the determination unit 75, and the bright spot correction unit 76 are used for the above-described ejection operation inspection.

枠サイズ調整部78では、見かけ枠サイズ調整部78aと、合焦ずれ枠サイズ調整部78bと、光厚さ調整部78cとが、後述する第1ないし第4の調整方法に応じて適宜組み合わせて利用される。同様に、輝点補正部76では、見かけ輝点サイズ補正部76aと、合焦ずれ輝点サイズ補正部76bと、光厚さ補正部76cとが、後述する第1ないし第4の調整方法に応じて適宜組み合わせて利用される。   In the frame size adjustment unit 78, the apparent frame size adjustment unit 78a, the out-of-focus frame size adjustment unit 78b, and the light thickness adjustment unit 78c are appropriately combined according to first to fourth adjustment methods described later. Used. Similarly, in the bright spot correction unit 76, the apparent bright spot size correction unit 76a, the out-of-focus bright spot size correction unit 76b, and the light thickness correction unit 76c are used in first to fourth adjustment methods described later. It is used in combination accordingly.

図1および図2.Aに示す基板処理装置1において基板9の処理が行われる際には、まず、基板9がチャンバ6内に搬入されて基板保持部21により保持される。基板9の搬入時には、吐出ヘッド31は、図2.Aに二点鎖線にて示すように、カップ部22の外側に設けられた待機ポッド4上の待機位置にて待機している。図2.Bは、待機位置に位置する吐出ヘッド31を待機ポッド4と共に拡大して示す側面図である。待機ポッド4は、略直方体の容器であり、上部に開口が設けられる。待機位置では、吐出ヘッド31の一部が、上記開口を介して待機ポッド4内に挿入される。なお、図2.Bでは、保護液供給部36の図示を省略している。また、後述する検査位置に位置する吐出ヘッド31を二点鎖線にて示す。基板9が基板保持部21により保持されると、処理制御部71により基板回転機構23が駆動され、基板9の回転が開始される。   1 and 2. When the substrate 9 is processed in the substrate processing apparatus 1 shown in A, the substrate 9 is first carried into the chamber 6 and held by the substrate holder 21. When the substrate 9 is carried in, the ejection head 31 moves as shown in FIG. As indicated by a two-dot chain line in A, the apparatus waits at a standby position on the standby pod 4 provided outside the cup portion 22. FIG. B is a side view showing the ejection head 31 located at the standby position in an enlarged manner together with the standby pod 4. The standby pod 4 is a substantially rectangular parallelepiped container, and has an opening at the top. At the standby position, a part of the ejection head 31 is inserted into the standby pod 4 through the opening. Note that FIG. In B, the protective liquid supply part 36 is not shown. In addition, a discharge head 31 located at an inspection position described later is indicated by a two-dot chain line. When the substrate 9 is held by the substrate holding unit 21, the substrate rotation mechanism 23 is driven by the process control unit 71 and rotation of the substrate 9 is started.

続いて、処理制御部71によりヘッド回転機構353およびヘッド昇降機構354が駆動され、吐出ヘッド31および保護液供給部36が、待機位置から上昇し、カップ部22の上方へと移動した後に下降する。これにより、吐出ヘッド31および保護液供給部36が、カップ部22の上部開口220を介してカップ部22の内側かつ基板保持部21の上方へと移動する。次に、保護液供給部36から基板9上への保護液の供給が開始され、基板9の上面91の一部を覆う保護液膜が形成される。また、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314dから、保護液膜が形成された基板9の上面91に向けて処理液の吐出(すなわち、微小液滴の噴射)が開始される。保護液膜は、複数の吐出口314a〜314dからの処理液の基板9上における設計上の複数の着液点(すなわち、微小液滴の着弾点)を覆う。   Subsequently, the head rotation mechanism 353 and the head elevating mechanism 354 are driven by the processing control unit 71, and the ejection head 31 and the protective liquid supply unit 36 are lifted from the standby position, moved downward above the cup unit 22, and then lowered. . Accordingly, the ejection head 31 and the protective liquid supply unit 36 move to the inside of the cup unit 22 and above the substrate holding unit 21 through the upper opening 220 of the cup unit 22. Next, supply of the protective liquid from the protective liquid supply unit 36 onto the substrate 9 is started, and a protective liquid film covering a part of the upper surface 91 of the substrate 9 is formed. In addition, the processing liquid is started to be ejected (that is, the ejection of minute droplets) from the plurality of ejection ports 314a to 314d of the ejection head 31 toward the upper surface 91 of the substrate 9 on which the protective liquid film is formed. The protective liquid film covers a plurality of design landing points (that is, landing points of the micro droplets) on the substrate 9 of the processing liquid from the plurality of discharge ports 314a to 314d.

吐出ヘッド31から保護液膜に向けて噴射された多数の微小液滴は、基板9の上面91上の保護液膜に衝突し、保護液膜を介して基板9の上面91に間接的に衝突する。そして、基板9の上面91に付着しているパーティクル等の異物が、処理液の微小液滴の衝突による衝撃により基板9上から除去される。換言すれば、処理液の微小液滴により保護液膜を介して基板9に間接的に付与される運動エネルギーにより、基板9の上面91の洗浄処理が行われる。   A number of micro droplets ejected from the ejection head 31 toward the protective liquid film collide with the protective liquid film on the upper surface 91 of the substrate 9 and indirectly collide with the upper surface 91 of the substrate 9 through the protective liquid film. To do. Then, foreign matters such as particles adhering to the upper surface 91 of the substrate 9 are removed from the substrate 9 by the impact caused by the collision of the minute droplets of the processing liquid. In other words, the cleaning process of the upper surface 91 of the substrate 9 is performed by the kinetic energy indirectly applied to the substrate 9 through the protective liquid film by the fine droplets of the processing liquid.

このように、処理液の微小液滴が保護液膜を介して基板9に衝突することにより、微小液滴が直接的に基板に衝突する場合に比べて、基板9の上面91に形成されたパターン等にダメージを与えることを防止または抑制しつつ、基板9の洗浄処理を行うことができる。また、基板9上の洗浄処理が行われる部位が保護液により覆われているため、基板9上から除去されたパーティクル等が、基板9の上面91に再付着することを防止または抑制することができる。   In this way, the microdroplets of the processing liquid collide with the substrate 9 through the protective liquid film, so that the microdroplets are formed on the upper surface 91 of the substrate 9 as compared with the case where the microdroplets directly collide with the substrate. The substrate 9 can be cleaned while preventing or suppressing damage to the pattern or the like. In addition, since the portion of the substrate 9 on which the cleaning process is performed is covered with the protective liquid, it is possible to prevent or suppress particles and the like removed from the substrate 9 from reattaching to the upper surface 91 of the substrate 9. it can.

基板処理装置1では、保護液および処理液の吐出と並行して、ヘッド回転機構353による吐出ヘッド31および保護液供給部36の回動が行われる。吐出ヘッド31および保護液供給部36は、回転中の基板9の中央部の上方と基板9の外縁部の上方との間にて、水平に往復移動を繰り返す。これにより、基板9の上面91全体に対して洗浄処理が行われる。基板9の上面91に供給された保護液および処理液は、基板9の回転により、基板9のエッジから外側へと飛散する。基板9から飛散した保護液および処理液は、カップ部22により受けられて廃棄または回収される。   In the substrate processing apparatus 1, the ejection head 31 and the protection liquid supply unit 36 are rotated by the head rotation mechanism 353 in parallel with the discharge of the protection liquid and the processing liquid. The ejection head 31 and the protective liquid supply unit 36 repeat horizontal reciprocation between the upper part of the rotating substrate 9 and the upper part of the outer edge of the substrate 9. Thereby, the cleaning process is performed on the entire upper surface 91 of the substrate 9. The protective liquid and the processing liquid supplied to the upper surface 91 of the substrate 9 are scattered from the edge of the substrate 9 to the outside by the rotation of the substrate 9. The protective liquid and the processing liquid splashed from the substrate 9 are received by the cup portion 22 and discarded or collected.

吐出ヘッド31からの処理液による所定の処理(すなわち、基板9の洗浄処理)が終了すると、保護液および処理液の吐出が停止される。吐出ヘッド31および保護液供給部36は、ヘッド昇降機構354によりカップ部22の上部開口220よりも上側まで上昇し、ヘッド回転機構353により待機ポッド4の上方の検査位置(図2.B参照)へと移動する。検査位置は、上述の待機位置の上方の位置である。吐出ヘッド31の検査位置では、吐出検査部5により、定期的に、または、必要に応じて、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314dからの処理液の吐出動作の検査が行われる。   When the predetermined process (that is, the cleaning process of the substrate 9) with the processing liquid from the discharge head 31 is completed, the discharge of the protective liquid and the processing liquid is stopped. The discharge head 31 and the protective liquid supply unit 36 are raised above the upper opening 220 of the cup unit 22 by the head lifting mechanism 354, and the inspection position above the standby pod 4 by the head rotation mechanism 353 (see FIG. 2.B). Move to. The inspection position is a position above the standby position described above. At the inspection position of the ejection head 31, the ejection inspection unit 5 inspects the processing liquid ejection operation from the plurality of ejection ports 314 a to 314 d of the ejection head 31 periodically or as necessary.

図5は、検査位置における吐出ヘッド31、および、吐出ヘッド31の周囲に配置される吐出検査部5を示す斜視図である。吐出検査部5は、光出射部51と、撮像部52とを備える。光出射部51および撮像部52は、吐出ヘッド31の真下を避けて、吐出ヘッド31の斜め下方に配置される。光出射部51および撮像部52は、図4に示すように、制御ユニット7の検査制御部72により制御される。   FIG. 5 is a perspective view showing the ejection head 31 at the inspection position and the ejection inspection unit 5 arranged around the ejection head 31. The discharge inspection unit 5 includes a light emitting unit 51 and an imaging unit 52. The light emitting unit 51 and the imaging unit 52 are disposed obliquely below the ejection head 31, avoiding directly below the ejection head 31. The light emission part 51 and the imaging part 52 are controlled by the inspection control part 72 of the control unit 7, as shown in FIG.

図5に示す光出射部51は、光源と、当該光源からの光を略水平方向に延びる線状光に変換する光学系とを備える。光源としては、例えば、レーザダイオードやLED(light emitting diode)素子が利用される。光出射部51は、予め定められた仮想面である光存在面に沿って、吐出ヘッド31の下方に向けて光を出射する。図5では、光出射部51の光軸J1を一点鎖線にて描き、光出射部51から出射される面状の光の輪郭を、符号510を付す二点鎖線にて示す。   The light emitting unit 51 illustrated in FIG. 5 includes a light source and an optical system that converts light from the light source into linear light extending in a substantially horizontal direction. As the light source, for example, a laser diode or an LED (light emitting diode) element is used. The light emitting unit 51 emits light toward the lower side of the ejection head 31 along a light existence surface that is a predetermined virtual surface. In FIG. 5, the optical axis J <b> 1 of the light emitting part 51 is drawn with a one-dot chain line, and the outline of the planar light emitted from the light emitting part 51 is indicated with a two-dot chain line denoted by reference numeral 510.

光出射部51からの面状光510は、吐出ヘッド31の下面311近傍にて、吐出ヘッド31の真下を通過する。基板処理装置1では、検査制御部72から処理液供給部3に所定の駆動信号が送出され、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314d(図3参照)から待機ポッド4の内部に向けて処理液が吐出される。そして、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314dから吐出される処理液である複数の飛翔体が、上述の光存在面を通過する(すなわち、面状光510を通過する)際に、光出射部51から当該複数の飛翔体に光が照射される。面状光510は、吐出ヘッド31からの処理液の設計上の吐出方向(すなわち、複数の飛翔体の予め定められた所定の吐出方向)におよそ垂直である。厳密には、面状光510(すなわち、光存在面)は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して、僅かな角度(例えば、5°〜10°)だけ傾斜していることが好ましい。   The planar light 510 from the light emitting portion 51 passes directly under the ejection head 31 in the vicinity of the lower surface 311 of the ejection head 31. In the substrate processing apparatus 1, a predetermined drive signal is sent from the inspection control unit 72 to the processing liquid supply unit 3 and is directed from the plurality of discharge ports 314 a to 314 d (see FIG. 3) of the discharge head 31 toward the inside of the standby pod 4. The processing liquid is discharged. Then, when a plurality of flying bodies that are processing liquids discharged from the plurality of discharge ports 314 a to 314 d of the discharge head 31 pass through the above-described light existence surface (that is, pass through the planar light 510), Light is emitted from the emitting unit 51 to the plurality of flying objects. The planar light 510 is approximately perpendicular to the designed ejection direction of the processing liquid from the ejection head 31 (that is, a predetermined ejection direction determined in advance for a plurality of flying objects). Strictly speaking, the planar light 510 (that is, the light existing surface) is inclined by a slight angle (for example, 5 ° to 10 °) with respect to a plane perpendicular to the predetermined ejection direction of the plurality of flying objects. Preferably it is.

撮像部52は、上記光存在面よりも下方にて、撮像軸J2を吐出ヘッド31の下方に位置する面状光510に向けて配置される。撮像部52における撮像方向(すなわち、撮像軸J2が向く方向)は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。撮像部52としては、例えば、CCD(charge-coupled device)カメラが利用される。撮像部52は、面状光510を通過する処理液(すなわち、複数の飛翔体)を撮像することにより、当該複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する。吐出検査部5では、撮像部52による撮像結果から、1フレームの静止画が検査画像として抽出される。撮像部52は、図3中の4つの吐出口列313a〜313dのうち、第1吐出口列313aが最も手前側に見える位置に配置される。   The imaging unit 52 is disposed below the light existence surface with the imaging axis J2 facing the planar light 510 positioned below the ejection head 31. The imaging direction (that is, the direction in which the imaging axis J2 faces) in the imaging unit 52 is inclined with respect to a plane perpendicular to the predetermined ejection direction of the plurality of flying objects. As the imaging unit 52, for example, a charge-coupled device (CCD) camera is used. The imaging unit 52 acquires an inspection image including a plurality of bright spots appearing on the plurality of flying bodies by imaging the processing liquid (that is, a plurality of flying bodies) that passes through the planar light 510. In the ejection inspection unit 5, one frame of a still image is extracted as an inspection image from the imaging result obtained by the imaging unit 52. The imaging unit 52 is arranged at a position where the first discharge port array 313a is visible on the front side among the four discharge port arrays 313a to 313d in FIG.

図6は、検査画像8を示す図である。検査画像8では、吐出ヘッド31の複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する複数の輝点81が、吐出口314a〜314dの配列方向に対応する方向に配列される。吐出検査部5では、面状光510が僅かながら厚さを有しているため、各輝点81は、検査画像8において上下方向に対応する方向に長い略楕円形となる。後述するように、複数の輝点81のうち一部の輝点81は、撮像部52の合焦範囲の外側に位置しており、検査画像8上においてぼやけて(いわゆる、ピントがぼけて)他の輝点81に比べて大きく広がる。図6では、合焦範囲を符号80を付した二点鎖線にて囲んで示す。また、合焦範囲80の外側に位置する輝点81について、合焦範囲80の内側に位置していると仮定した場合の輝点の大きさを細線にて示す。図7、図10、図12ないし図16においても同様である。   FIG. 6 is a diagram showing the inspection image 8. In the inspection image 8, a plurality of bright spots 81 respectively corresponding to the plurality of ejection ports 314a to 314d of the ejection head 31 are arranged in a direction corresponding to the arrangement direction of the ejection ports 314a to 314d. In the ejection inspection unit 5, since the planar light 510 has a slight thickness, each bright spot 81 has a substantially elliptical shape that is long in the direction corresponding to the vertical direction in the inspection image 8. As will be described later, some of the plurality of bright spots 81 are located outside the in-focus range of the imaging unit 52 and are blurred on the inspection image 8 (so-called out of focus). Compared with the other bright spots 81, it spreads greatly. In FIG. 6, the focusing range is shown surrounded by a two-dot chain line denoted by reference numeral 80. Further, with respect to the bright spot 81 located outside the focusing range 80, the size of the bright spot when it is assumed that the bright spot 81 is located inside the focusing range 80 is indicated by a thin line. The same applies to FIGS. 7, 10, 12 to 16.

撮像部52からの出力は、制御ユニット7の検査演算部73(図4参照)に送られる。検査演算部73では、検査画像8に対して2値化処理が行われ、複数の輝点81が抽出されるとともに背景のノイズ等が除去される。   The output from the imaging unit 52 is sent to the inspection calculation unit 73 (see FIG. 4) of the control unit 7. In the inspection calculation unit 73, a binarization process is performed on the inspection image 8, and a plurality of bright spots 81 are extracted and background noise and the like are removed.

続いて、図7に示すように、検査画像8上において複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠85が、判定枠設定部74(図4参照)により検査画像8上に設定される。正常吐出判定枠85の個数は、吐出口314a〜314dの個数に等しい。各正常吐出判定枠85は所定の大きさの略矩形状であり、複数の正常吐出判定枠85の検査画像8上における大きさは互いに等しい。本実施の形態では、各正常吐出判定枠85は略正方形であり、その4辺は、検査画像8の上下方向または左右方向に平行である。各正常吐出判定枠85は、対応する吐出口から所定の吐出方向へと、あるいは、当該吐出方向から許容範囲内のずれ量で僅かにずれた方向へと、処理液が吐出された場合に通過する面状光510上の領域を示す。   Subsequently, as shown in FIG. 7, a plurality of normal ejection determination frames 85 respectively corresponding to the plurality of discharge ports 314 a to 314 d on the inspection image 8 are displayed on the inspection image 8 by the determination frame setting unit 74 (see FIG. 4). Set to The number of normal ejection determination frames 85 is equal to the number of ejection ports 314a to 314d. Each normal discharge determination frame 85 has a substantially rectangular shape with a predetermined size, and the sizes of the plurality of normal discharge determination frames 85 on the inspection image 8 are equal to each other. In the present embodiment, each normal ejection determination frame 85 is substantially square, and its four sides are parallel to the vertical direction or the horizontal direction of the inspection image 8. Each normal discharge determination frame 85 passes when the processing liquid is discharged from a corresponding discharge port in a predetermined discharge direction or in a direction slightly shifted from the discharge direction by a shift amount within an allowable range. An area on the planar light 510 is shown.

複数の正常吐出判定枠85は、検査画像8上における上述の配列方向に対応する方向に配列される。以下の説明では、第1吐出口列313a、第2吐出口列313b、第3吐出口列313cおよび第4吐出口列313dにそれぞれ対応する正常吐出判定枠85の列を、「第1正常吐出判定枠列86a」、「第2正常吐出判定枠列86b」、「第3正常吐出判定枠列86c」および「第4正常吐出判定枠列86d」という。   The plurality of normal ejection determination frames 85 are arranged in a direction corresponding to the above-described arrangement direction on the inspection image 8. In the following description, the normal discharge determination frame 85 corresponding to the first discharge port row 313a, the second discharge port row 313b, the third discharge port row 313c, and the fourth discharge port row 313d will be referred to as “first normal discharge”. These are referred to as “determination frame column 86a”, “second normal ejection determination frame column 86b”, “third normal ejection determination frame column 86c”, and “fourth normal ejection determination frame column 86d”.

検査画像8上における各正常吐出判定枠85の位置は、各正常吐出判定枠85に対応する吐出口からの処理液の輝点基準位置に基づいて決定される。輝点基準位置は、各吐出口から処理液の設計上の吐出方向へと延びる吐出中心線が、面状光510(すなわち、上述の光存在面)と交わる点である。各正常吐出判定枠85は、検査画像8上における輝点基準位置を中心として設定される。   The position of each normal discharge determination frame 85 on the inspection image 8 is determined based on the bright spot reference position of the processing liquid from the discharge port corresponding to each normal discharge determination frame 85. The bright spot reference position is a point at which the discharge center line extending from each discharge port in the design discharge direction of the processing liquid intersects with the planar light 510 (that is, the above-described light existence surface). Each normal ejection determination frame 85 is set around the bright spot reference position on the inspection image 8.

検査画像8上における輝点基準位置は、様々な方法により求められる。例えば、検査位置における吐出ヘッド31の設計位置および向き、吐出ヘッド31における各吐出口314a〜314dの位置、設計上の処理液の吐出方向、面状光510の位置、並びに、撮像部52の位置に基づいて、基板処理装置1において設定された3次元座標系における各輝点基準位置の座標が求められる。換言すれば、吐出ヘッド31、光出射部51および撮像部52の相対位置に基づいて、複数の輝点基準位置の座標が求められる。   The bright spot reference position on the inspection image 8 can be obtained by various methods. For example, the design position and orientation of the ejection head 31 at the inspection position, the positions of the ejection ports 314a to 314d in the ejection head 31, the design treatment liquid ejection direction, the position of the planar light 510, and the position of the imaging unit 52 Based on the above, the coordinates of each bright spot reference position in the three-dimensional coordinate system set in the substrate processing apparatus 1 are obtained. In other words, the coordinates of a plurality of bright spot reference positions are obtained based on the relative positions of the ejection head 31, the light emitting unit 51, and the imaging unit 52.

続いて、複数の輝点基準位置の座標を、ビュー変換行列を用いてビュー変換することにより、撮像部52を原点とした3次元座標系における複数の輝点基準位置の座標が求められる。次に、ビュー変換された複数の輝点基準位置の座標を、透視投影変換することにより、検査画像8上の2次元座標系における複数の輝点基準位置の座標が取得される。なお、基板処理装置1では、撮像部52に非テレセントリック光学系が利用されているため、上述のように、透視投影変換が行われるが、撮像部52にテレセントリック光学系が利用される場合、ビュー変換された複数の輝点基準位置の座標を正射影(平行射影または平行投影ともいう。)することにより、検査画像8上における複数の輝点基準位置の座標が取得される。   Subsequently, the coordinates of the plurality of bright spot reference positions in the three-dimensional coordinate system with the imaging unit 52 as the origin are obtained by performing view conversion on the coordinates of the plurality of bright spot reference positions using the view conversion matrix. Next, the coordinates of the plurality of bright spot reference positions in the two-dimensional coordinate system on the inspection image 8 are acquired by performing perspective projection conversion on the coordinates of the plurality of bright spot reference positions subjected to view conversion. In the substrate processing apparatus 1, since the non-telecentric optical system is used for the imaging unit 52, perspective projection conversion is performed as described above, but when the telecentric optical system is used for the imaging unit 52, By performing orthogonal projection (also referred to as parallel projection or parallel projection) on the converted coordinates of the plurality of bright spot reference positions, the coordinates of the plurality of bright spot reference positions on the inspection image 8 are acquired.

図7に示すように、複数の正常吐出判定枠85は、互いに重なることなく検査画像8上に配置される。なお、検査画像8上において正常吐出判定枠85同士が重なる場合は、複数の正常吐出判定枠85が互いに重複しなくなるまで、撮像部52の位置や向き、光出射部51からの面状光510の位置や向き等が変更され、正常吐出判定枠85の設定が繰り返される。   As shown in FIG. 7, the plurality of normal ejection determination frames 85 are arranged on the inspection image 8 without overlapping each other. When the normal ejection determination frames 85 overlap on the inspection image 8, the position and orientation of the imaging unit 52 and the planar light 510 from the light emitting unit 51 until the plurality of normal ejection determination frames 85 do not overlap each other. The position, orientation, etc. are changed, and the setting of the normal ejection determination frame 85 is repeated.

正常吐出判定枠85の設定が終了すると、判定枠設定部74により、複数の正常吐出判定枠85の周囲に複数の斜め吐出判定枠87がそれぞれ設定される。斜め吐出判定枠87は、正常吐出判定枠85よりも大きい略矩形状の輪郭を有する判定枠である。各斜め吐出判定枠87の内側には1つの正常吐出判定枠85が位置する。略正方形状の各斜め吐出判定枠87の位置は、対応する正常吐出判定枠85の位置に基づいて設定される。具体的には、各斜め吐出判定枠87は、対応する正常吐出判定枠85が略中心に位置するように、当該正常吐出判定枠85を囲んで配置される。正常吐出判定枠85の個数は、斜め吐出判定枠87の個数に等しい。各斜め吐出判定枠87は、所定の吐出方向からある程度ずれた方向に吐出された処理液が通過する面状光510上の領域を示す。   When the setting of the normal discharge determination frame 85 is completed, the determination frame setting unit 74 sets a plurality of oblique discharge determination frames 87 around the plurality of normal discharge determination frames 85, respectively. The oblique discharge determination frame 87 is a determination frame having a substantially rectangular outline larger than the normal discharge determination frame 85. One normal discharge determination frame 85 is positioned inside each oblique discharge determination frame 87. The positions of the substantially square oblique discharge determination frames 87 are set based on the positions of the corresponding normal discharge determination frames 85. Specifically, each oblique discharge determination frame 87 is arranged so as to surround the normal discharge determination frame 85 so that the corresponding normal discharge determination frame 85 is located at the approximate center. The number of normal ejection determination frames 85 is equal to the number of oblique ejection determination frames 87. Each oblique ejection determination frame 87 indicates an area on the planar light 510 through which the processing liquid ejected in a direction deviated to some extent from a predetermined ejection direction passes.

斜め吐出判定枠87の設定が終了すると、判定枠設定部74により、基板9上の保護液膜に対応する1つの保護液膜内吐出判定枠88が、検査画像8上において複数の斜め吐出判定枠87の周囲に設定される。保護液膜内吐出判定枠88は、吐出口配置領域316(図3参照)の外周部に配置される複数の吐出口(以下、「外周吐出口」という。)からの処理液が、基板9上の保護液膜上に着液する場合に通過する面状光510上の領域を示す。保護液膜内吐出判定枠88の設定は、複数の外周吐出口の位置と、基板9上における保護液膜の外周部の位置と、複数の外周吐出口と保護液膜との間に位置する光存在面の位置とに基づいて行われる。   When the setting of the oblique discharge determination frame 87 is completed, the determination frame setting unit 74 causes a single protective liquid film discharge determination frame 88 corresponding to the protective liquid film on the substrate 9 to have a plurality of oblique discharge determinations on the inspection image 8. It is set around the frame 87. In the protective liquid film discharge determination frame 88, the processing liquid from a plurality of discharge ports (hereinafter referred to as “peripheral discharge ports”) disposed on the outer peripheral portion of the discharge port arrangement region 316 (see FIG. 3) is transferred to the substrate 9. An area on the planar light 510 that passes when the liquid is deposited on the upper protective liquid film is shown. The setting of the protective liquid film discharge determination frame 88 is positioned between the plurality of outer peripheral discharge ports, the position of the outer peripheral portion of the protective liquid film on the substrate 9, and between the plurality of outer peripheral discharge ports and the protective liquid film. This is performed based on the position of the light existing surface.

具体的には、図8に示すように、一の外周吐出口314eから、基板9上の保護液膜93の外周部(より詳細には、保護液膜93の外周縁)上の当該外周吐出口314eに最も近い点に向かって仮想線94を引き、仮想線94と光存在面(すなわち、面状光510)との交点95を求める。そして、複数の外周吐出口314eのそれぞれについて、対応する交点95を面状光510上において求め、これらの交点95を検査画像8上に投影して順につなぐことにより、図7に示す保護液膜内吐出判定枠88が設定される。   Specifically, as shown in FIG. 8, the peripheral discharge on the outer peripheral portion of the protective liquid film 93 on the substrate 9 (more specifically, the outer peripheral edge of the protective liquid film 93) from one peripheral discharge port 314e. An imaginary line 94 is drawn toward the point closest to the exit 314e, and an intersection point 95 between the imaginary line 94 and the light existence surface (that is, the planar light 510) is obtained. Then, for each of the plurality of outer peripheral discharge ports 314e, a corresponding intersection point 95 is obtained on the planar light 510, and these intersection points 95 are projected on the inspection image 8 and connected in order, whereby the protective liquid film shown in FIG. An inner discharge determination frame 88 is set.

保護液膜内吐出判定枠88の設定が終了すると、判定枠設定部74により、保護液膜内吐出判定枠88を囲む1つの最大吐出判定枠89が検査画像8上に設定される。最大吐出判定枠89は、略矩形状であり、複数の吐出判定枠のうち最も外側に位置する外側吐出判定枠である。最大吐出判定枠89は、吐出ヘッド31から吐出された処理液が基板9上において着液する可能性がある最大範囲に対応する。最大吐出判定枠89は、保護液膜内吐出判定枠88と同様に、当該最大範囲の外周部の位置と、複数の外周吐出口314eの位置と、光存在面の位置とに基づいて設定される。なお、正常吐出判定枠85、斜め吐出判定枠87、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89の設定順序は適宜変更されてもよい。   When the setting of the in-protection liquid film discharge determination frame 88 is completed, the determination frame setting unit 74 sets one maximum discharge determination frame 89 surrounding the in-protection liquid film discharge determination frame 88 on the inspection image 8. The maximum discharge determination frame 89 is a substantially rectangular shape, and is an outer discharge determination frame located on the outermost side among the plurality of discharge determination frames. The maximum discharge determination frame 89 corresponds to the maximum range in which the processing liquid discharged from the discharge head 31 may be deposited on the substrate 9. The maximum discharge determination frame 89 is set based on the position of the outer peripheral portion of the maximum range, the positions of the plurality of outer peripheral discharge ports 314e, and the position of the light existing surface, similarly to the discharge determination frame 88 in the protective liquid film. The The setting order of the normal discharge determination frame 85, the oblique discharge determination frame 87, the in-protection liquid film discharge determination frame 88, and the maximum discharge determination frame 89 may be changed as appropriate.

各吐出判定枠(すなわち、正常吐出判定枠85、斜め吐出判定枠87、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89)の設定が終了すると、判定部75により、各吐出判定枠内における輝点81の存否情報、すなわち、各吐出判定枠内に輝点81が存在するか否かを示す情報が取得される。判定部75では、輝点81の少なくとも一部が吐出判定枠内に位置すれば、輝点81が当該吐出判定枠内に存在すると判定される。また、輝点81が、内側および外側の2つの吐出判定枠に跨って位置する場合、輝点81は、外側の吐出判定枠内には存在せず、内側の吐出判定枠に存在すると判定される。例えば、輝点81が正常吐出判定枠85と斜め吐出判定枠87とに跨って位置する場合、輝点81は、斜め吐出判定枠87内ではなく、正常吐出判定枠85内に存在すると判定される。一方、輝点81の少なくとも一部が、斜め吐出判定枠87内の正常吐出判定枠85を除く領域に存在し、かつ、輝点81の全体が正常吐出判定枠85の外側に位置する場合、輝点81が斜め吐出判定枠87内に存在すると判定される。保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89における輝点81の存否についても同様である。   When the setting of each discharge determination frame (that is, normal discharge determination frame 85, oblique discharge determination frame 87, protective liquid film discharge determination frame 88 and maximum discharge determination frame 89) is completed, the determination unit 75 causes each discharge determination frame to Information indicating whether or not the bright spot 81 is present, that is, information indicating whether or not the bright spot 81 is present in each ejection determination frame is acquired. The determination unit 75 determines that the bright spot 81 exists in the discharge determination frame if at least a part of the bright spot 81 is located in the discharge determination frame. Further, when the bright spot 81 is located across the two inner and outer discharge determination frames, it is determined that the bright spot 81 does not exist in the outer discharge determination frame but exists in the inner discharge determination frame. The For example, when the bright spot 81 is located across the normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87, it is determined that the bright spot 81 is not in the oblique discharge determination frame 87 but in the normal discharge determination frame 85. The On the other hand, when at least a part of the bright spot 81 exists in a region excluding the normal discharge determination frame 85 in the oblique discharge determination frame 87 and the entire bright spot 81 is located outside the normal discharge determination frame 85, It is determined that the bright spot 81 exists in the oblique discharge determination frame 87. The same applies to the presence / absence of the bright spot 81 in the protective liquid in-film discharge determination frame 88 and the maximum discharge determination frame 89.

判定部75における輝点81の存否情報の取得では、まず、各正常吐出判定枠85内における輝点81の存否情報が取得される。具体的には、検査画像8上において、一の輝点81が注目輝点として検出される。続いて、注目輝点に対応する正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87として、注目輝点に最も近接した位置に位置する正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87が抽出される。   In the acquisition of the presence / absence information of the bright spot 81 in the determination unit 75, first, the presence / absence information of the bright spot 81 in each normal ejection determination frame 85 is acquired. Specifically, one bright spot 81 is detected as the target bright spot on the inspection image 8. Subsequently, as the normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87 corresponding to the target bright spot, the normal discharge determination frame 85 and the diagonal discharge determination frame 87 that are located closest to the target bright spot are extracted.

そして、注目輝点の位置と抽出された正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87の位置とが比較され、注目輝点が、当該正常吐出判定枠85内に存在するか否か、および、当該斜め吐出判定枠87内に存在するか否かが判定される。判定部75では、上述のように、注目輝点の少なくとも一部が正常吐出判定枠85内に位置していれば、注目輝点は当該正常吐出判定枠85内に存在すると判定される。また、注目輝点全体が、正常吐出判定枠85の外に位置し、注目輝点の少なくとも一部が、斜め吐出判定枠87内に位置していれば、注目輝点は当該斜め吐出判定枠87内に存在すると判定される。   Then, the position of the noticeable luminescent spot is compared with the extracted positions of the normal ejection determination frame 85 and the oblique ejection judgment frame 87, whether or not the noticeable luminescent spot exists in the normal ejection judgment frame 85, and It is determined whether or not it exists in the oblique discharge determination frame 87. As described above, the determination unit 75 determines that the target bright spot exists in the normal discharge determination frame 85 if at least a part of the target bright spot is located in the normal discharge determination frame 85. Further, if the entire noticeable luminescent spot is located outside the normal discharge determination frame 85 and at least a part of the noticeable luminescent spot is located within the oblique discharge determination frame 87, the noticeable luminescent spot is determined to be in the oblique discharge determination frame 87. 87 is determined to exist.

一方、注目輝点が正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に存在しないと判定された場合、注目輝点の位置と保護液膜内吐出判定枠88の位置とが比較され、注目輝点が保護液膜内吐出判定枠88内に存在するか否かが判定される。注目輝点の少なくとも一部が保護液膜内吐出判定枠88内に位置していれば、注目輝点が保護液膜内吐出判定枠88内に存在すると判定される。注目輝点が保護液膜内吐出判定枠88内に存在しないと判定された場合、注目輝点の位置と最大吐出判定枠89の位置とが比較され、注目輝点が最大吐出判定枠89内に存在するか否かが判定される。注目輝点の少なくとも一部が最大吐出判定枠89内に位置していれば、注目輝点が最大吐出判定枠89内に存在すると判定される。   On the other hand, when it is determined that the target bright spot does not exist in the normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87, the position of the target bright spot and the position of the discharge determination frame 88 in the protective liquid film are compared, and the target bright spot is compared. It is determined whether or not a point exists in the protective liquid film discharge determination frame 88. If at least a part of the target bright spot is located in the protective liquid film discharge determination frame 88, it is determined that the target bright spot exists in the protective liquid film discharge determination frame 88. When it is determined that the target bright spot does not exist within the protective liquid film discharge determination frame 88, the position of the target bright spot and the position of the maximum discharge determination frame 89 are compared, and the target bright spot is within the maximum discharge determination frame 89. It is determined whether or not it exists. If at least a part of the target bright spot is located in the maximum discharge determination frame 89, it is determined that the target bright spot exists in the maximum discharge determination frame 89.

判定部75では、輝点81の存否を判定する際に、検査画像8における最大吐出判定枠89よりも外側の領域について、輝点検出の対象領域から除外される。このように、最大吐出判定枠89は、その外側の領域をマスクする輝点検出用マスクの役割を果たす。これにより、判定部75による輝点検出に要する時間が短縮され、吐出検査部5による吐出動作の良否判定に要する時間を短縮することができる。   When the determination unit 75 determines whether or not the bright spot 81 is present, an area outside the maximum ejection determination frame 89 in the inspection image 8 is excluded from the target area for the bright spot detection. Thus, the maximum ejection determination frame 89 serves as a bright spot detection mask that masks the outer region. As a result, the time required for the bright spot detection by the determination unit 75 can be shortened, and the time required for the quality determination of the ejection operation by the ejection inspection unit 5 can be shortened.

検査演算部73では、上述の各正常吐出判定枠85内、各斜め吐出判定枠87内、保護液膜内吐出判定枠88内および最大吐出判定枠89内における輝点81の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠85に対応する吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否が、判定部75により判定される。吐出動作の良否判定の具体例については、図9.Aないし図9.Eを参照しつつ以下に説明する。   The inspection calculation unit 73 is based on the presence / absence information of the bright spot 81 in each normal discharge determination frame 85, each oblique discharge determination frame 87, in the protective liquid film discharge determination frame 88 and in the maximum discharge determination frame 89. The determination unit 75 determines whether the discharge operation at the discharge ports 314a to 314d corresponding to each normal discharge determination frame 85 is good or bad. For a specific example of the quality determination of the discharge operation, see FIG. A through FIG. This will be described below with reference to E.

図9.Aないし図9.Eは、検査画像8の一部を概念的に示す図である。図9.Aないし図9.Eでは、第1正常吐出判定枠列86aの一部の複数の正常吐出判定枠85と、当該複数の正常吐出判定枠85に対応する複数の斜め吐出判定枠87と、保護液膜内吐出判定枠88の一部と、最大吐出判定枠89の一部と、輝点81とを示す。後述する図11.Aないし図11.Eにおいても同様である。   FIG. A through FIG. E is a diagram conceptually showing a part of the inspection image 8. FIG. A through FIG. In E, a plurality of normal discharge determination frames 85 in a part of the first normal discharge determination frame row 86a, a plurality of oblique discharge determination frames 87 corresponding to the plurality of normal discharge determination frames 85, and an in-protection liquid film discharge determination A part of the frame 88, a part of the maximum discharge determination frame 89, and a bright spot 81 are shown. FIG. A thru | or FIG. The same applies to E.

図9.Aの場合、5つの正常吐出判定枠85のそれぞれの内側に1つの輝点81が存在するという情報、および、各正常吐出判定枠85の外側の領域には輝点81は存在しないという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。そして、当該存否情報に基づいて、5つの正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する5つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好(すなわち、正常)であると判定される。   FIG. In the case of A, there is information that one bright spot 81 exists inside each of the five normal ejection determination frames 85, and information that no bright spot 81 exists in the area outside each normal ejection determination frame 85. The determination unit 75 acquires the presence / absence information of the bright spot 81. Then, based on the presence / absence information, it is determined that the discharge operation at the five first discharge ports 314a corresponding to the five normal discharge determination frames 85 is good (that is, normal).

図9.Bの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、および、左側から1番目の斜め吐出判定枠87内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。また、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89内には輝点81は存在しないという情報も、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。   FIG. In the case of B, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 from the left side in the drawing, and one bright spot 81 exists in each of the other four normal discharge determination frames 85. And the information that one bright spot 81 exists in the first oblique discharge determination frame 87 from the left side is acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81. Further, information indicating that the bright spot 81 does not exist in the protective liquid film discharge determination frame 88 and the maximum discharge determination frame 89 is also acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81.

判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aについては、当該第1吐出口314aに対応する輝点81が斜め吐出判定枠87内に存在することから、処理液が正常な吐出範囲からずれて吐出される吐出不良(いわゆる、斜め吐出)が生じていると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から吐出検査部5のモニタ等の報知部79(図4参照)を通じて作業者等に通知される。そして、以後に予定されている基板9に対する処理が行われる前に、吐出口314aのクリーニング等、吐出ヘッド31のメンテナンスが行われる。   Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good. Further, for the first discharge port 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 from the left side, since the bright spot 81 corresponding to the first discharge port 314a exists in the oblique discharge determination frame 87, the processing liquid However, it is determined that there is a discharge failure (so-called oblique discharge) in which the discharge is shifted from the normal discharge range. The occurrence of a discharge failure is notified from the determination unit 75 to an operator or the like through a notification unit 79 (see FIG. 4) such as a monitor of the discharge inspection unit 5. Then, maintenance of the discharge head 31 such as cleaning of the discharge port 314a is performed before processing for the substrate 9 scheduled thereafter.

図9.Cの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、および、保護液膜内吐出判定枠88内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。   FIG. In the case of C, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87 from the left side in the figure, and one in each of the other four normal discharge determination frames 85. Information that the bright spot 81 exists and information that one bright spot 81 exists in the discharge determination frame 88 within the protective liquid film are acquired by the determination unit 75 as presence / absence information of the bright spot 81. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good.

左側から1番目の正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87に対応する第1吐出口314aについては、当該正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に輝点81が存在せず、保護液膜内吐出判定枠88内において当該斜め吐出判定枠87の近傍に輝点81が存在することから、処理液が斜め吐出判定枠87に対応する斜め吐出の範囲からずれて、大きく斜め吐出する吐出不良が生じていると判定される。また、当該第1吐出口314aからの処理液は、基板9上に吐出される際に保護液膜93上に着液すると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から報知部79を通じて作業者等に通知され、吐出ヘッド31のメンテナンスが行われる。   For the first discharge ports 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 and the diagonal discharge determination frame 87 from the left side, the bright spot 81 does not exist in the normal discharge determination frame 85 and the diagonal discharge determination frame 87, and protection is performed. Since the bright spot 81 is present in the vicinity of the oblique discharge determination frame 87 in the in-liquid film discharge determination frame 88, the processing liquid deviates from the oblique discharge range corresponding to the oblique discharge determination frame 87 and is largely obliquely discharged. It is determined that a discharge failure has occurred. Further, it is determined that the processing liquid from the first discharge port 314 a is deposited on the protective liquid film 93 when being discharged onto the substrate 9. Occurrence of the ejection failure is notified from the determination unit 75 to the operator or the like through the notification unit 79, and maintenance of the ejection head 31 is performed.

なお、判定部75では、保護液膜内吐出判定枠88内の輝点81と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から1番目の第1吐出口314aについては、斜め吐出判定枠87に対応する範囲外への大きな斜め吐出、および、吐出口の詰まり等による不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、左側から1番目の第1吐出口314aおよび図示していない他の吐出口314a〜314dのうちのいずれかの吐出口から、斜め吐出判定枠87に対応する領域の外側で保護液膜93に着液する大きな斜め吐出が生じていると判定される。   In the determination unit 75, the discharge port corresponding to the bright spot 81 in the protective liquid film discharge determination frame 88 may not be specified. In this case, for the first discharge port 314a that is the first from the left side, either a large oblique discharge out of the range corresponding to the oblique discharge determination frame 87, or a non-discharge failure due to clogging of the discharge port or the like occurs. It is determined that Further, the protective liquid film 93 is formed outside the region corresponding to the oblique discharge determination frame 87 from the first discharge port 314a from the left side and any one of the other discharge ports 314a to 314d (not shown). It is determined that a large oblique discharge that has landed on the surface occurs.

図9.Dの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、保護液膜内吐出判定枠88内には輝点81は存在しないという情報、および、最大吐出判定枠89内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。   FIG. In the case of D, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87 from the left side in the figure, and one in each of the other four normal discharge determination frames 85. Information that the bright spot 81 exists, information that the bright spot 81 does not exist in the protective liquid film discharge determination frame 88, and information that one bright spot 81 exists in the maximum discharge determination frame 89, The determination unit 75 acquires the presence / absence information of the bright spot 81. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good.

左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aについては、当該第1吐出口314aに対応する正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に輝点81が存在せず、保護液膜内吐出判定枠88内にも輝点81が存在せず、最大吐出判定枠89内に輝点81が存在することから、処理液が吐出方向から非常に大きくずれて吐出され、基板9上に吐出される際に保護液膜93の外側に着液すると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から吐出検査部5のモニタ等の報知部79を通じて作業者等に通知される。基板9上において保護液膜93の外側に処理液が着液すると、基板9上のパターンにダメージを与える可能性があるため、吐出ヘッド31は、例えば、分解メンテナンスされたり、他の吐出ヘッド31に交換される。   For the first discharge port 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 from the left side, the bright spot 81 does not exist in the normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87 corresponding to the first discharge port 314a. In addition, since the bright spot 81 does not exist in the discharge determination frame 88 in the protective liquid film and the bright spot 81 exists in the maximum discharge determination frame 89, the processing liquid is discharged with a great deviation from the discharge direction. It is determined that the liquid is applied to the outside of the protective liquid film 93 when discharged onto the substrate 9. The occurrence of a discharge failure is notified from the determination unit 75 to an operator or the like through a notification unit 79 such as a monitor of the discharge inspection unit 5. If the processing liquid is deposited on the substrate 9 outside the protective liquid film 93, the pattern on the substrate 9 may be damaged. For example, the discharge head 31 is subjected to disassembly maintenance or other discharge heads 31. Will be replaced.

なお、判定部75では、最大吐出判定枠89内の輝点81と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から1番目の第1吐出口314aについては、保護液膜93の外側への非常に大きな斜め吐出、および、不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、左側から1番目の第1吐出口314aおよび図示していない他の吐出口314a〜314dのうちのいずれかの吐出口から、保護液膜93の外側への非常に大きな斜め吐出が生じていると判定される。   The determination unit 75 does not have to specify the discharge port corresponding to the bright spot 81 in the maximum discharge determination frame 89. In this case, for the first discharge port 314a from the left side, it is determined that either a very large oblique discharge to the outside of the protective liquid film 93 or a discharge failure of non-discharge has occurred. In addition, a very large oblique discharge is generated to the outside of the protective liquid film 93 from the first discharge port 314a from the left side and any one of the other discharge ports 314a to 314d (not shown). It is determined that

図9.Eの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、並びに、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89内には輝点81は存在しないという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aでは、処理液が吐出されない不吐出の吐出不良が生じていると判定される。   FIG. In the case of E, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frame 87 from the left side in the figure, and one in each of the other four normal discharge determination frames 85. Information indicating that the bright spot 81 exists and information indicating that the bright spot 81 does not exist in the protective liquid film discharge determination frame 88 and the maximum discharge determination frame 89 are acquired by the determination unit 75 as presence / absence information of the bright spot 81. Is done. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good. In addition, it is determined that a non-ejection failure in which the processing liquid is not ejected has occurred at the first ejection port 314a corresponding to the first normal ejection determination frame 85 from the left side.

ところで、複数の吐出口における吐出動作の良否を判定する吐出検査部として、上記と同様の検査画像を取得し、検査画像上の複数の輝点の配列方向の間隔を測定するものが考えられる。このような吐出検査部(以下、「比較例の吐出検査部」という。)では、複数の輝点の間隔が、所定の間隔におよそ等しければ各吐出口における吐出動作が良好と判定される。一方、隣接する2つの輝点の間隔が所定の間隔の2倍以上大きい場合、当該2つの輝点に対応する2つの吐出口の間に、不吐出の吐出口が存在すると判定される。   By the way, as a discharge inspection unit that determines the quality of the discharge operation at a plurality of discharge ports, it is possible to acquire an inspection image similar to the above and measure the interval in the arrangement direction of a plurality of bright spots on the inspection image. In such a discharge inspection unit (hereinafter referred to as “comparative example discharge inspection unit”), the discharge operation at each discharge port is determined to be good if the intervals between the plurality of bright spots are approximately equal to a predetermined interval. On the other hand, when the interval between two adjacent bright spots is at least twice as large as the predetermined interval, it is determined that a non-discharge outlet exists between the two outlets corresponding to the two bright spots.

比較例の吐出検査部では、間隔が所定の間隔からある程度以上大きい(または、小さい)隣接する2つの輝点が存在すると、当該2つの輝点に対応する2つの吐出口のうち、どちらか一方または双方に斜め吐出の吐出不良が生じていると判定される。しかしながら、2つの吐出口のうちどちらの吐出口に吐出不良が生じているかを判定することは容易ではない。また、一方の吐出口からの処理液が他方の吐出口から遠ざかるようにずれ、他方の吐出口からの処理液が一方の吐出口から遠ざかるようにずれた場合、各吐出口からの処理液のずれは許容範囲であったとしても、上述のように2つの吐出口の少なくとも一方が、誤って吐出不良と判断されてしまう。さらに、連続する複数の吐出口に吐出不良が生じ、当該複数の吐出口に対応する複数の輝点が、同じ方向におよそ同じ距離だけずれた場合、複数の輝点の間隔は所定の間隔におよそ等しいため、これらの吐出不良は検出されない。   In the discharge inspection unit of the comparative example, when there are two adjacent bright spots that are larger (or smaller) than the predetermined gap by a certain amount, either one of the two discharge openings corresponding to the two bright spots Alternatively, it is determined that an ejection failure of oblique ejection has occurred on both sides. However, it is not easy to determine which of the two discharge ports has a discharge failure. In addition, when the processing liquid from one discharge port is shifted away from the other discharge port and the processing liquid from the other discharge port is shifted away from one discharge port, the processing liquid from each discharge port Even if the deviation is within the allowable range, as described above, at least one of the two discharge ports is erroneously determined as a discharge failure. Further, when a discharge failure occurs in a plurality of continuous discharge ports, and the plurality of bright spots corresponding to the plurality of discharge ports are shifted by the same distance in the same direction, the interval between the plurality of bright spots is a predetermined interval. Since they are approximately equal, these ejection defects are not detected.

これに対し、基板処理装置1の吐出検査部5では、判定枠設定部74により、検査画像8上において複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠85が設定される。そして、判定部75により、各正常吐出判定枠85内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各正常吐出判定枠85に対応する吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否が判定される。これにより、複数の吐出口314a〜314dのそれぞれにおける吐出動作の良否を、個別に(すなわち、他の吐出口314a〜314dの吐出動作の良否から独立して)精度良く判定することができる。   On the other hand, in the discharge inspection unit 5 of the substrate processing apparatus 1, the determination frame setting unit 74 sets a plurality of normal discharge determination frames 85 respectively corresponding to the plurality of discharge ports 314 a to 314 d on the inspection image 8. Then, the presence / absence information of the bright spot 81 in each normal discharge determination frame 85 is acquired by the determination unit 75, and the quality of the discharge operation at the discharge ports 314a to 314d corresponding to each normal discharge determination frame 85 is determined based on the presence / absence information. Is determined. Thereby, the quality of the discharge operation in each of the plurality of discharge ports 314a to 314d can be accurately determined individually (that is, independently of the quality of the discharge operations of the other discharge ports 314a to 314d).

また、吐出検査部5では、判定枠設定部74により、検査画像8上に複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する複数の斜め吐出判定枠87が設定される。そして、判定部75により、各斜め吐出判定枠87内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各斜め吐出判定枠87に対応する吐出口314a〜314dにおける斜め吐出の発生の有無が判定される。これにより、複数の吐出口314a〜314dにおける斜め吐出、より詳細には、斜め吐出判定枠87に対応する領域内への軽度の斜め吐出を、個別に精度良く判定することができる。   In the discharge inspection unit 5, the determination frame setting unit 74 sets a plurality of oblique discharge determination frames 87 respectively corresponding to the plurality of discharge ports 314 a to 314 d on the inspection image 8. Then, the presence / absence information of the bright spot 81 in each oblique discharge determination frame 87 is acquired by the determination unit 75, and the occurrence of oblique discharge at the discharge ports 314a to 314d corresponding to each oblique discharge determination frame 87 based on the presence / absence information. The presence or absence of is determined. As a result, it is possible to individually and accurately determine the oblique discharge at the plurality of discharge ports 314a to 314d, more specifically, the light oblique discharge into the region corresponding to the oblique discharge determination frame 87.

さらに、吐出検査部5では、判定枠設定部74により、検査画像8上に保護液膜93に対応する保護液膜内吐出判定枠88が設定される。そして、判定部75により、保護液膜内吐出判定枠88内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて斜め吐出判定枠87に対応する領域外、かつ、保護液膜93が形成される領域内への、より大きい斜め吐出の発生の有無が検出される。これにより、より大きい斜め吐出の発生を、精度良く判定することができる。   Further, in the discharge inspection unit 5, the determination frame setting unit 74 sets a protective liquid film discharge determination frame 88 corresponding to the protective liquid film 93 on the inspection image 8. Then, the presence / absence information of the bright spot 81 in the protective liquid film discharge determination frame 88 is acquired by the determination unit 75, and the protective liquid film 93 is outside the region corresponding to the oblique discharge determination frame 87 based on the presence / absence information. Whether or not a larger oblique discharge has occurred in the region where is formed is detected. As a result, it is possible to accurately determine the occurrence of a larger oblique discharge.

なお、基板9上に形成される保護液膜93の外周部において、保護液膜93の膜厚が所定の厚さよりも薄い場合には、上述の保護液膜内吐出判定枠88の設定時に基準の1つとされる保護液膜93の外周部は、保護液膜93の所定の厚さを有する部位の外周縁とされてもよい。これにより、吐出方向から大きくずれて吐出された処理液が、保護液膜93の所定の厚さを有する部位に着液したか、当該部位よりも外側の領域に着液したかを判定することができる。   When the thickness of the protective liquid film 93 is smaller than a predetermined thickness on the outer periphery of the protective liquid film 93 formed on the substrate 9, the reference is set when the above-described protective liquid film discharge determination frame 88 is set. The outer peripheral portion of the protective liquid film 93 may be an outer peripheral edge of a portion of the protective liquid film 93 having a predetermined thickness. Thereby, it is determined whether the processing liquid ejected greatly deviating from the ejection direction has landed on the part having the predetermined thickness of the protective liquid film 93 or has landed on the area outside the part. Can do.

吐出検査部5では、判定枠設定部74により、検査画像8上に保護液膜内吐出判定枠88を囲む最大吐出判定枠89が設定される。そして、判定部75により、最大吐出判定枠89内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて保護液膜93が形成される領域外への、非常に大きい斜め吐出の発生の有無が検出される。これにより、保護液膜93の外側に着液する斜め吐出の発生を、精度良く判定することができる。   In the discharge inspection unit 5, the determination frame setting unit 74 sets the maximum discharge determination frame 89 surrounding the protective liquid film discharge determination frame 88 on the inspection image 8. Then, presence / absence information of the bright spot 81 in the maximum discharge determination frame 89 is acquired by the determination unit 75, and occurrence of a very large oblique discharge outside the region where the protective liquid film 93 is formed based on the presence / absence information. The presence or absence of is detected. As a result, it is possible to accurately determine the occurrence of the oblique discharge that reaches the outside of the protective liquid film 93.

吐出検査部5では、撮像部52における撮像方向が、吐出ヘッド31からの処理液の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。これにより、検査画像8上において複数の輝点81が互いに重なることを抑制することができる。また、検査画像8上において、複数の正常吐出判定枠85が互いに重なることを抑制し、複数の斜め吐出判定枠87が互いに重なることも抑制することができる。その結果、複数の吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定精度を向上することができる。このような吐出検査部5の構造は、互いに平行に配列される複数の吐出口列を有する吐出ヘッドにおける吐出動作の良否判定に特に適している。   In the ejection inspection unit 5, the imaging direction in the imaging unit 52 is inclined with respect to a plane perpendicular to the predetermined ejection direction of the processing liquid from the ejection head 31. Thereby, it is possible to suppress the plurality of bright spots 81 from overlapping each other on the inspection image 8. Further, it is possible to suppress the plurality of normal ejection determination frames 85 from overlapping each other on the inspection image 8 and to suppress the plurality of oblique ejection determination frames 87 from overlapping each other. As a result, it is possible to improve the pass / fail judgment accuracy of the discharge operation at the plurality of discharge ports 314a to 314d. Such a structure of the discharge inspection unit 5 is particularly suitable for determining whether the discharge operation is good or not in a discharge head having a plurality of discharge port arrays arranged in parallel to each other.

上述のように、吐出検査部5では、光存在面が処理液の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。これにより、検査画像8上において複数の輝点81、複数の正常吐出判定枠85、および、複数の斜め吐出判定枠87が互いに重なることを抑制することができる。その結果、複数の吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定精度をさらに向上することができる。このような吐出検査部5の構造も、互いに平行に配列される複数の吐出口列を有する吐出ヘッドにおける吐出動作の良否判定に特に適している。   As described above, in the discharge inspection unit 5, the light existence surface is inclined with respect to a plane perpendicular to the predetermined discharge direction of the processing liquid. Thereby, it is possible to suppress the plurality of bright spots 81, the plurality of normal ejection determination frames 85, and the plurality of oblique ejection determination frames 87 from overlapping each other on the inspection image 8. As a result, it is possible to further improve the pass / fail judgment accuracy of the discharge operation at the plurality of discharge ports 314a to 314d. Such a structure of the discharge inspection unit 5 is also particularly suitable for determining whether the discharge operation is good or not in a discharge head having a plurality of discharge port arrays arranged in parallel to each other.

上述の例では、正常吐出判定枠85と同数の斜め吐出判定枠87が設定される場合について説明しているが、図10に示すように、判定枠設定部74により、複数の正常吐出判定枠85が内側に位置する比較的大きな斜め吐出判定枠87aが、検査画像8上に設定されてもよい。図10に示す例では、第1吐出口列313aの全ての第1吐出口314a(図3参照)に対応する複数の正常吐出判定枠85(すなわち、第1正常吐出判定枠列86a)の周囲に、略矩形状の1つの斜め吐出判定枠87aが設定される。また、第2正常吐出判定枠列86b、第3正常吐出判定枠列86cおよび第4正常吐出判定枠列86dのそれぞれの周囲に、上記斜め吐出判定枠87aとおよそ同様の形状の斜め吐出判定枠87aが設定される。検査画像8上における各斜め吐出判定枠87aの位置は、対応する正常吐出判定枠列の位置に基づいて設定される。4つの斜め吐出判定枠87aの周囲には、上記と同様の保護液膜内吐出判定枠88が設定され、保護液膜内吐出判定枠88の周囲には外側吐出判定枠である最大吐出判定枠89が設定される。   In the above-described example, the case where the same number of the oblique discharge determination frames 87 as the normal discharge determination frames 85 is set is described. However, as illustrated in FIG. 10, a plurality of normal discharge determination frames are determined by the determination frame setting unit 74. A relatively large oblique ejection determination frame 87 a with 85 positioned inside may be set on the inspection image 8. In the example shown in FIG. 10, the periphery of a plurality of normal discharge determination frames 85 (that is, the first normal discharge determination frame row 86a) corresponding to all the first discharge ports 314a (see FIG. 3) of the first discharge port row 313a. In addition, one oblique ejection determination frame 87a having a substantially rectangular shape is set. In addition, an oblique discharge determination frame having a shape substantially similar to the oblique discharge determination frame 87a around each of the second normal discharge determination frame row 86b, the third normal discharge determination frame row 86c, and the fourth normal discharge determination frame row 86d. 87a is set. The position of each oblique discharge determination frame 87a on the inspection image 8 is set based on the position of the corresponding normal discharge determination frame row. A protective liquid film discharge determination frame 88 similar to the above is set around the four oblique discharge determination frames 87a, and a maximum discharge determination frame which is an outer discharge determination frame around the protective liquid film discharge determination frame 88. 89 is set.

検査演算部73では、上述の各正常吐出判定枠85内、斜め吐出判定枠87a内、保護液膜内吐出判定枠88内および最大吐出判定枠89内における輝点81の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠85に対応する吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否が、判定部75により判定される。吐出動作の良否判定の具体例については、図11.Aないし図11.Eを参照しつつ以下に説明する。   In the inspection calculation unit 73, based on the presence / absence information of the bright spot 81 in each normal discharge determination frame 85, the oblique discharge determination frame 87a, the protective liquid film discharge determination frame 88, and the maximum discharge determination frame 89, as described above. The determination unit 75 determines whether the discharge operation at the discharge ports 314a to 314d corresponding to each normal discharge determination frame 85 is good or bad. For a specific example of quality determination of the discharge operation, see FIG. A thru | or FIG. This will be described below with reference to E.

図11.Aの場合、図9.Aと同様に、5つの正常吐出判定枠85のそれぞれの内側に1つの輝点81が存在するという情報、および、各正常吐出判定枠85の外側の領域には輝点81は存在しないという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。そして、当該存否情報に基づいて、5つの正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する5つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好(すなわち、正常)であると判定される。   FIG. In the case of A, FIG. As in A, information that one bright spot 81 exists inside each of the five normal ejection determination frames 85, and information that no bright spot 81 exists in the area outside each normal ejection determination frame 85. Is acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81. Then, based on the presence / absence information, it is determined that the discharge operation at the five first discharge ports 314a corresponding to the five normal discharge determination frames 85 is good (that is, normal).

図11.Bの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、および、斜め吐出判定枠87a内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。また、斜め吐出判定枠87a内の輝点81は、左側から1番目の正常吐出判定枠85近傍に位置するという情報、並びに、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89内には輝点81は存在しないという情報も、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。   FIG. In the case of B, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 from the left side in the drawing, and one bright spot 81 exists in each of the other four normal discharge determination frames 85. And the information that one bright spot 81 exists in the oblique ejection determination frame 87a is acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81. In addition, the bright spot 81 in the oblique discharge determination frame 87a is located in the vicinity of the first normal discharge determination frame 85 from the left side, and in the protective liquid film discharge determination frame 88 and the maximum discharge determination frame 89. Information that the bright spot 81 does not exist is also acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81.

判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aについては、当該正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、かつ、当該正常吐出判定枠85近傍において斜め吐出判定枠87a内に1つの輝点81が存在することから、処理液が正常な吐出範囲からずれて吐出される吐出不良(いわゆる、斜め吐出)が生じていると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から吐出検査部5のモニタ等の報知部79を通じて作業者等に通知され、吐出ヘッド31のメンテナンスが行われる。   Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good. For the first discharge port 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 from the left side, the bright spot 81 does not exist in the normal discharge determination frame 85, and the vicinity of the normal discharge determination frame 85. Since there is one bright spot 81 in the oblique discharge determination frame 87a, it is determined that there is a discharge failure (so-called oblique discharge) in which the processing liquid is discharged out of the normal discharge range. Occurrence of a discharge failure is notified from the determination unit 75 to an operator or the like through a notification unit 79 such as a monitor of the discharge inspection unit 5, and maintenance of the discharge head 31 is performed.

なお、判定部75では、斜め吐出判定枠87a内の輝点81と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から1番目の第1吐出口314aについては、斜め吐出および不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、第1吐出口列313aのいずれかの第1吐出口314aから、斜め吐出判定枠87aに対応する領域への斜め吐出が生じていると判定される。   In the determination unit 75, the discharge port corresponding to the bright spot 81 in the oblique discharge determination frame 87a may not be specified. In this case, with respect to the first first discharge port 314a from the left side, it is determined that one of the ejection failures of oblique ejection and non-ejection has occurred. In addition, it is determined that oblique discharge is occurring from any one of the first discharge ports 313a to the region corresponding to the diagonal discharge determination frame 87a.

図11.Cの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、斜め吐出判定枠87aおよび最大吐出判定枠89内には輝点81は存在しないという情報、並びに、保護液膜内吐出判定枠88内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。   FIG. In the case of C, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 from the left side in the drawing, and one bright spot 81 exists in each of the other four normal discharge determination frames 85. Information that the bright spot 81 does not exist in the oblique discharge determination frame 87a and the maximum discharge determination frame 89, and information that one bright spot 81 exists in the protective liquid film discharge determination frame 88, The determination unit 75 acquires the presence / absence information of the bright spot 81. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good.

左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aについては、当該第1吐出口314aに対応する正常吐出判定枠85内に輝点81が存在せず、斜め吐出判定枠87a内にも輝点81が存在せず、保護液膜内吐出判定枠88内において当該正常吐出判定枠85の近傍に輝点81が存在することから、処理液が斜め吐出判定枠87aに対応する斜め吐出の範囲からずれて、大きく斜め吐出する吐出不良が生じていると判定される。また、当該第1吐出口314aからの処理液は、基板9上に吐出される際に保護液膜93上に着液すると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から吐出検査部5のモニタ等の報知部79を通じて作業者等に通知され、吐出ヘッド31のメンテナンスが行われる。   For the first discharge port 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 from the left side, the bright spot 81 does not exist in the normal discharge determination frame 85 corresponding to the first discharge port 314a, and the oblique discharge determination frame 87a. Since the bright spot 81 does not exist in the inside, and the bright spot 81 exists in the vicinity of the normal discharge determination frame 85 in the protective liquid film discharge determination frame 88, the processing liquid corresponds to the oblique discharge determination frame 87a. It is determined that there is an ejection failure that deviates largely from the range of oblique ejection and that is largely obliquely ejected. Further, it is determined that the processing liquid from the first discharge port 314 a is deposited on the protective liquid film 93 when being discharged onto the substrate 9. Occurrence of a discharge failure is notified from the determination unit 75 to an operator or the like through a notification unit 79 such as a monitor of the discharge inspection unit 5, and maintenance of the discharge head 31 is performed.

なお、判定部75では、保護液膜内吐出判定枠88内の輝点81と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から1番目の第1吐出口314aについては、斜め吐出判定枠87aに対応する範囲外への大きな斜め吐出、および、不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、当該第1吐出口314aおよび図示していない他の吐出口314a〜314dのうちいずれかの吐出口から、斜め吐出判定枠87aに対応する領域の外側で保護液膜93に着液する大きな斜め吐出が生じていると判定される。   In the determination unit 75, the discharge port corresponding to the bright spot 81 in the protective liquid film discharge determination frame 88 may not be specified. In this case, with respect to the first first discharge port 314a from the left side, it is determined that either a large oblique discharge out of the range corresponding to the oblique discharge determination frame 87a or a non-discharge failure occurs. . In addition, the first liquid discharge port 314a and any one of the other discharge ports 314a to 314d (not shown) are large and land on the protective liquid film 93 outside the region corresponding to the oblique discharge determination frame 87a. It is determined that oblique ejection has occurred.

図11.Dの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、斜め吐出判定枠87aおよび保護液膜内吐出判定枠88内には輝点81は存在しないという情報、並びに、最大吐出判定枠89内に1つの輝点81が存在するという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。   FIG. In the case of D, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 from the left side in the drawing, and one bright spot 81 exists in each of the other four normal discharge determination frames 85. Information that the bright spot 81 does not exist in the oblique discharge determination frame 87a and the protective liquid film discharge determination frame 88, and information that one bright spot 81 exists in the maximum discharge determination frame 89, The determination unit 75 acquires the presence / absence information of the bright spot 81. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good.

左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aについては、当該第1吐出口314aに対応する正常吐出判定枠85、斜め吐出判定枠87aおよび保護液膜内吐出判定枠88内に輝点81が存在せず、最大吐出判定枠89内に輝点81が存在することから、処理液が吐出方向から非常に大きくずれて吐出され、基板9上に吐出される際に保護液膜93の外側に着液すると判定される。吐出不良の発生は、判定部75から吐出検査部5のモニタ等の報知部79を通じて作業者等に通知され、吐出ヘッド31は、例えば、分解メンテナンスされたり、他の吐出ヘッド31に交換される。   For the first discharge port 314a corresponding to the first normal discharge determination frame 85 from the left side, the normal discharge determination frame 85, the oblique discharge determination frame 87a, and the protective liquid film discharge determination frame 88 corresponding to the first discharge port 314a. Since the bright spot 81 does not exist in the inside, and the bright spot 81 exists in the maximum discharge determination frame 89, the processing liquid is discharged with a great deviation from the discharge direction and is protected when discharged onto the substrate 9. It is determined that the liquid is deposited outside the liquid film 93. The occurrence of a discharge failure is notified from the determination unit 75 to an operator or the like through a notification unit 79 such as a monitor of the discharge inspection unit 5, and the discharge head 31 is, for example, disassembled and maintained or replaced with another discharge head 31. .

なお、判定部75では、最大吐出判定枠89内の輝点81と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から1番目の第1吐出口314aについては、保護液膜93の外側への非常に大きな斜め吐出、および、不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、当該第1吐出口314aおよび図示していない他の吐出口314a〜314dのうちいずれかの吐出口から、保護液膜93の外側への非常に大きな斜め吐出が生じていると判定される。   The determination unit 75 does not have to specify the discharge port corresponding to the bright spot 81 in the maximum discharge determination frame 89. In this case, for the first discharge port 314a from the left side, it is determined that either a very large oblique discharge to the outside of the protective liquid film 93 or a discharge failure of non-discharge has occurred. In addition, it is determined that a very large oblique discharge is generated from the first discharge port 314a and any one of the other discharge ports 314a to 314d (not shown) to the outside of the protective liquid film 93. .

図11.Eの場合、図中の左側から1番目の正常吐出判定枠85内に輝点81は存在しておらず、他の4つの正常吐出判定枠85内にはそれぞれ1つの輝点81が存在するという情報、並びに、斜め吐出判定枠87a、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89内には輝点81は存在しないという情報が、輝点81の存否情報として判定部75により取得される。判定部75では、これらの存否情報に基づいて、左側から2〜5番目の正常吐出判定枠85にそれぞれ対応する4つの第1吐出口314aにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から1番目の正常吐出判定枠85に対応する第1吐出口314aでは、処理液が吐出されない不吐出の吐出不良が生じていると判定される。   FIG. In the case of E, the bright spot 81 does not exist in the first normal discharge determination frame 85 from the left side in the drawing, and one bright spot 81 exists in each of the other four normal discharge determination frames 85. And the information that the bright spot 81 does not exist in the oblique discharge determination frame 87a, the protective liquid film discharge determination frame 88, and the maximum discharge determination frame 89 is acquired by the determination unit 75 as the presence / absence information of the bright spot 81. Is done. Based on the presence / absence information, the determination unit 75 determines that the discharge operations at the four first discharge ports 314a corresponding to the second to fifth normal discharge determination frames 85 from the left are good. In addition, it is determined that a non-ejection failure in which the processing liquid is not ejected has occurred at the first ejection port 314a corresponding to the first normal ejection determination frame 85 from the left side.

このように、複数の正常吐出判定枠85の周囲に1つの斜め吐出判定枠87aが設定される場合も、上記と同様に、判定部75により、各正常吐出判定枠85内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各正常吐出判定枠85に対応する吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否が判定される。これにより、複数の吐出口314a〜314dのそれぞれにおける吐出動作の良否を、個別に精度良く判定することができる。   Thus, even when one oblique discharge determination frame 87a is set around the plurality of normal discharge determination frames 85, the determination unit 75 causes the bright spot 81 in each normal discharge determination frame 85 to be similar to the above. Presence / absence information is acquired, and based on the presence / absence information, the quality of the discharge operation at the discharge ports 314a to 314d corresponding to each normal discharge determination frame 85 is determined. Thereby, the quality of the discharge operation in each of the plurality of discharge ports 314a to 314d can be individually and accurately determined.

また、吐出検査部5では、各斜め吐出判定枠87a内における輝点81の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各斜め吐出判定枠87aにそれぞれ対応する吐出口列313a〜313dにおける斜め吐出の発生の有無が判定される。これにより、複数の吐出口314a〜314dにおける斜め吐出を精度良く判定することができる。なお、斜め吐出判定枠87aは、2つ以上の吐出口列を囲んで設定されてもよい。   Further, the ejection inspection unit 5 acquires the presence / absence information of the bright spot 81 in each oblique ejection determination frame 87a, and based on the presence / absence information, the obliqueness in the ejection port arrays 313a to 313d respectively corresponding to each oblique ejection determination frame 87a. The presence or absence of occurrence of discharge is determined. Thereby, it is possible to accurately determine the oblique discharge at the plurality of discharge ports 314a to 314d. The oblique discharge determination frame 87a may be set so as to surround two or more discharge port arrays.

基板処理装置1では、吐出ヘッド31が検査位置へと移動した際に、設計上の検査位置から少しずれて配置される可能性がある。吐出ヘッド31の検査位置がずれると、吐出ヘッド31に対する光出射部51および撮像部52の相対位置もずれる。検査画像8上における正常吐出判定枠85、斜め吐出判定枠87、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89の位置は、吐出ヘッド31が設計上の検査位置に位置することを前提に設定されるため、吐出ヘッド31の検査位置がずれると、吐出ヘッド31から吐出された処理液の複数の輝点81と各吐出判定枠との検査画像8上における位置関係も変化する。その結果、処理液が所定の吐出方向に正常に吐出されているにも拘わらず、輝点81が正常吐出判定枠85外となり、吐出異常と判定される可能性がある。   In the substrate processing apparatus 1, when the ejection head 31 moves to the inspection position, there is a possibility that the substrate processing apparatus 1 is arranged slightly deviated from the designed inspection position. When the inspection position of the ejection head 31 is shifted, the relative positions of the light emitting unit 51 and the imaging unit 52 with respect to the ejection head 31 are also shifted. The positions of the normal discharge determination frame 85, the oblique discharge determination frame 87, the protective liquid film discharge determination frame 88, and the maximum discharge determination frame 89 on the inspection image 8 are based on the assumption that the discharge head 31 is positioned at the designed inspection position. Therefore, when the inspection position of the ejection head 31 is shifted, the positional relationship on the inspection image 8 between the plurality of bright spots 81 of the processing liquid ejected from the ejection head 31 and each ejection determination frame also changes. As a result, although the processing liquid is normally ejected in a predetermined ejection direction, the bright spot 81 is outside the normal ejection determination frame 85, and there is a possibility that the ejection abnormality is determined.

そこで、基板処理装置1では、吐出ヘッド31の検査位置のずれが懸念される場合等、判定枠設定部74による各吐出判定枠の設定の際に、検査画像8上の輝点81の実際の位置に基づいて、複数の正常吐出判定枠85の位置が設定されてもよい。具体的には、まず、検査画像8に含まれる第1吐出口列313aに対応する複数の輝点81のうち、両端に位置する2つの輝点81の検査画像8上における位置(すなわち、座標)が求められる。続いて、当該2つの輝点81がそれぞれ中心に位置するように、2つの正常吐出判定枠85の位置が設定される。   Therefore, in the substrate processing apparatus 1, when setting of each ejection determination frame by the determination frame setting unit 74 when there is a concern about the displacement of the inspection position of the ejection head 31, the actual bright spot 81 on the inspection image 8 is set. Based on the position, the positions of the plurality of normal ejection determination frames 85 may be set. Specifically, first, among the plurality of bright spots 81 corresponding to the first ejection port array 313a included in the inspection image 8, the positions (that is, the coordinates) of the two bright spots 81 located at both ends are located. ) Is required. Subsequently, the positions of the two normal ejection determination frames 85 are set so that the two bright spots 81 are respectively located at the centers.

第1吐出口列313aに対応する複数の輝点81は、設計通りの吐出が行われていれば直線上に並んでいるため、第1吐出口列313aに対応する複数の正常吐出判定枠85も直線上に配列される。そこで、上記2つの正常吐出判定枠85の間に、直線上に並ぶように複数の正常吐出判定枠85が配置される。隣接する第1吐出口314aから吐出される処理液の輝点81の検査画像8上における間隔は、観察視点である撮像部52から離れるに従って(すなわち、手前側から奥側へと向かうに従って)小さくなるため、上述の複数の正常吐出判定枠85の間隔も、同様に、撮像部52から離れるに従って小さくする必要がある。複数の正常吐出判定枠85の位置は、例えば、隣接する各2つの正常吐出判定枠85の間隔(例えば、正常吐出判定枠85の中心間の間隔)が、手前側から奥側に向かうに従って所定の距離ずつ短くなるように設定される。   Since the plurality of bright spots 81 corresponding to the first discharge port array 313a are arranged in a straight line if the designed discharge is performed, a plurality of normal discharge determination frames 85 corresponding to the first discharge port array 313a. Are also arranged on a straight line. Therefore, a plurality of normal discharge determination frames 85 are arranged between the two normal discharge determination frames 85 so as to be arranged in a straight line. The interval on the inspection image 8 of the bright spots 81 of the processing liquid discharged from the adjacent first discharge ports 314a decreases as the distance from the imaging unit 52 that is the observation viewpoint increases (that is, from the near side to the far side). Therefore, the interval between the plurality of normal ejection determination frames 85 also needs to be reduced as the distance from the imaging unit 52 increases. The positions of the plurality of normal discharge determination frames 85 are predetermined, for example, as an interval between two adjacent normal discharge determination frames 85 (for example, an interval between the centers of the normal discharge determination frames 85) moves from the near side to the back side. The distance is set to be shorter.

あるいは、基板処理装置1において設定された3次元座標系において、複数の第1吐出口314aに対応する複数の上記輝点基準位置(すなわち、設計通りに処理液が吐出された場合に輝点81が形成される位置)の座標が求められる。続いて、第1吐出口列313aの一方の端部に位置する第1吐出口314aに対応する輝点基準位置(以下、「第1端部位置」という。)を通るとともに撮像部52の撮像軸J2に垂直な仮想的な平面に対し、複数の輝点基準位置を投影した場合の位置である輝点投影位置の座標が求められる。   Alternatively, in the three-dimensional coordinate system set in the substrate processing apparatus 1, the plurality of bright spot reference positions corresponding to the plurality of first discharge ports 314a (that is, the bright spot 81 when the processing liquid is discharged as designed). The coordinates of the position at which are formed) are obtained. Subsequently, it passes through a bright spot reference position (hereinafter referred to as “first end position”) corresponding to the first discharge port 314 a located at one end of the first discharge port array 313 a and is imaged by the imaging unit 52. The coordinates of the bright spot projection position, which is the position when a plurality of bright spot reference positions are projected on a virtual plane perpendicular to the axis J2, is obtained.

各輝点基準位置の投影は、各輝点基準位置から撮像軸J2の始点(すなわち、撮像部52の光学系の対物側の端面の中心)に向かう方向に行われる。各輝点投影位置の座標の算出は、例えば、撮像軸J2の始点、第1端部位置、および、第1吐出口列313aの他方の端部に位置する第1吐出口314aに対応する輝点投影位置である第2端部位置を結ぶ三角形と、第1端部位置と第2端部位置とを結ぶ直線とに基づいて、メネラウスの定理を利用して行われる。そして、隣接する各2つの輝点投影位置間の間隔が、第1端部位置と第2端部位置との間の距離に対して占める割合に従って、検査画像8上において、上述の2つの正常吐出判定枠85(すなわち、両端の第1吐出口314aに対応する2つの正常吐出判定枠85)の間に複数の正常吐出判定枠85が配置される。   The projection of each bright spot reference position is performed in a direction from each bright spot reference position toward the start point of the imaging axis J2 (that is, the center of the end surface on the objective side of the optical system of the imaging unit 52). The calculation of the coordinates of each bright spot projection position is, for example, the brightness corresponding to the start point of the imaging axis J2, the first end position, and the first discharge port 314a located at the other end of the first discharge port array 313a. Based on the triangle connecting the second end position, which is the point projection position, and the straight line connecting the first end position and the second end position, this is performed using the Menelaus theorem. Then, according to the ratio of the interval between each two adjacent bright spot projection positions to the distance between the first end position and the second end position, on the inspection image 8, the above two normal A plurality of normal discharge determination frames 85 are arranged between the discharge determination frames 85 (that is, two normal discharge determination frames 85 corresponding to the first discharge ports 314a at both ends).

このように、判定枠設定部74では、第1吐出口列313aに対応する複数の正常吐出判定枠85の位置が、第1吐出口列313aの両端の第1吐出口314aに対応する輝点81の検査画像8上の位置に基づいて設定される。また、第2吐出口列313b、第3吐出口列313cおよび第4吐出口列313dにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠85の位置も、第1吐出口列313aに対応する複数の正常吐出判定枠85の位置設定と同様に設定される。これにより、吐出ヘッド31の検査位置が設計上の検査位置からずれた場合であっても、複数の吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定を高精度に行うことができる。   Thus, in the determination frame setting unit 74, the positions of the plurality of normal discharge determination frames 85 corresponding to the first discharge port array 313a are bright spots corresponding to the first discharge ports 314a at both ends of the first discharge port array 313a. It is set on the basis of 81 positions on the inspection image 8. The positions of the plurality of normal discharge determination frames 85 corresponding to the second discharge port row 313b, the third discharge port row 313c, and the fourth discharge port row 313d are also the plurality of normal discharges corresponding to the first discharge port row 313a. It is set similarly to the position setting of the determination frame 85. Thereby, even if the inspection position of the ejection head 31 is deviated from the designed inspection position, it is possible to determine the quality of the ejection operation at the plurality of ejection ports 314a to 314d with high accuracy.

上述のように、複数の正常吐出判定枠85の位置が、各吐出口列の両端の吐出口に対応する輝点の位置に基づいて設定される場合、各正常吐出判定枠85の周囲を囲む斜め吐出判定枠87(図7参照)の位置は、各正常吐出判定枠85の位置に基づいて設定される。一方、複数の正常吐出判定枠85の周囲を囲む斜め吐出判定枠87a(図10参照)の位置は、各正常吐出判定枠列の両端の正常吐出判定枠85の位置に基づいて設定される。また、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89の位置は、正常吐出判定枠85および斜め吐出判定枠87,87aの位置に基づいて設定される。   As described above, when the positions of the plurality of normal ejection determination frames 85 are set based on the positions of the bright spots corresponding to the ejection ports at both ends of each ejection port array, the periphery of each normal ejection determination frame 85 is surrounded. The position of the oblique discharge determination frame 87 (see FIG. 7) is set based on the position of each normal discharge determination frame 85. On the other hand, the positions of the oblique discharge determination frames 87a (see FIG. 10) surrounding the plurality of normal discharge determination frames 85 are set based on the positions of the normal discharge determination frames 85 at both ends of each normal discharge determination frame row. The positions of the in-protective-film discharge determination frame 88 and the maximum discharge determination frame 89 are set based on the positions of the normal discharge determination frame 85 and the oblique discharge determination frames 87 and 87a.

基板処理装置1では、撮像部52と処理液との間の距離が異なると、検査画像8上における輝点81の大きさ、すなわち、輝点81の見かけの大きさも変化する。例えば、撮像部52から遠い輝点81の見かけの大きさは、撮像部52に近い輝点81に比べて小さくなり、斜め吐出による輝点81の見かけの移動量も小さくなる。このため、正常吐出判定枠85等の吐出判定枠内における輝点81の存否判定において、撮像部52から遠い輝点81は、斜め吐出により輝点基準位置からずれた場合であっても、撮像部52から近い輝点81に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる。   In the substrate processing apparatus 1, when the distance between the imaging unit 52 and the processing liquid is different, the size of the bright spot 81 on the inspection image 8, that is, the apparent size of the bright spot 81 also changes. For example, the apparent size of the bright spot 81 far from the imaging unit 52 is smaller than that of the bright spot 81 close to the imaging unit 52, and the apparent movement amount of the bright spot 81 due to the oblique ejection is also reduced. Therefore, in the determination of the presence / absence of the bright spot 81 in the discharge determination frame such as the normal discharge determination frame 85, the bright spot 81 far from the imaging unit 52 is captured even if it is shifted from the bright spot reference position by the oblique discharge. Compared to the bright spot 81 close to the portion 52, it is easier to determine that the pixel exists within the ejection determination frame.

一方、撮像部52に近い輝点81の見かけの大きさは、撮像部52から遠い輝点81よりも大きいため、輝点81の重心が吐出判定枠の外側に位置する場合であっても、輝点81の一部が吐出判定枠内に位置する可能性が高くなる。その結果、撮像部52から近い輝点81は、重心が吐出判定枠外に位置する場合に、撮像部52から遠い輝点81に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる。   On the other hand, since the apparent size of the bright spot 81 close to the imaging unit 52 is larger than the bright spot 81 far from the imaging unit 52, even if the center of gravity of the bright spot 81 is located outside the ejection determination frame, There is a high possibility that a part of the bright spot 81 is located within the ejection determination frame. As a result, when the center of gravity is located outside the ejection determination frame, the bright spot 81 close to the imaging unit 52 is more easily determined to be present in the ejection determination frame than the bright spot 81 far from the imaging unit 52.

また、基板処理装置1では、吐出ヘッド31、光出射部51および撮像部52の配置によっては、複数の輝点81のうち一部の輝点81が、撮像部52の合焦範囲80の外側に位置する。この場合、当該一部の輝点81は、検査画像8上においてぼやけて(いわゆる、ピントがぼけて)、合焦範囲80内の輝点81に比べて大きく広がる。大きく広がった輝点81は、その一部が吐出判定枠内に位置する可能性が高くなるため、正常吐出判定枠85等の吐出判定枠内における輝点81の存否判定において、他の輝点81に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる。   Further, in the substrate processing apparatus 1, some of the bright spots 81 out of the focus range 80 of the imaging section 52 are outside the focusing range 80 depending on the arrangement of the ejection head 31, the light emitting section 51, and the imaging section 52. Located in. In this case, the part of the bright spots 81 are blurred (so-called out of focus) on the inspection image 8 and greatly spread compared to the bright spots 81 in the focusing range 80. Since there is a high possibility that part of the bright spots 81 that are greatly spread are located within the discharge determination frame, other bright spots are determined in the presence / absence determination of the bright spots 81 in the discharge determination frames such as the normal discharge determination frame 85. Compared to 81, it is easier to determine that it is within the discharge determination frame.

そこで、吐出検査部5では、撮像部52と輝点81との間の距離、および、合焦範囲80外の輝点81のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減するための調整が行われる。以下では、当該調整の2通りの方法について説明する。第1の調整方法では、判定枠設定部74による正常吐出判定枠85の設定の際に、正常吐出判定枠85の大きさが調整される。第2の調整方法では、判定部75による吐出動作の良否判定よりも前に、輝点81の検査画像8上における大きさが補正される。   Therefore, the discharge inspection unit 5 performs adjustment to reduce the influence on the quality determination of the discharge operation due to the distance between the imaging unit 52 and the bright spot 81 and the blur of the bright spot 81 outside the focusing range 80. Is called. Below, the two methods of the said adjustment are demonstrated. In the first adjustment method, the size of the normal discharge determination frame 85 is adjusted when the normal discharge determination frame 85 is set by the determination frame setting unit 74. In the second adjustment method, the size of the bright spot 81 on the inspection image 8 is corrected before the determination unit 75 determines the quality of the ejection operation.

第1の調整方法では、まず、判定枠設定部74の仮設定部77(図4参照)により、複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する同形状の複数の正常吐出判定枠が、図12に示すように、検査画像8上において上述の複数の輝点基準位置を中心として仮設定される。仮設定部77により仮設定された各正常吐出判定枠(以下、「仮設定枠850」という。)は、予め定められた所定の大きさの略矩形状である。図12では、後述する枠サイズ調整部78による調整後に第1正常吐出判定枠列86a、第2正常吐出判定枠列86b、第3正常吐出判定枠列86cおよび第4正常吐出判定枠列86dとなる4つの仮設定枠列860a〜860dにおいて、図中の左側に位置する仮設定枠850が撮像部52に近く、右側に位置する仮設定枠850が撮像部52から遠い。また、図12では、輝点81と仮設定された正常吐出判定枠のみを描いており、斜め吐出判定枠等の他の吐出判定枠は図示していない。後述する図13ないし図16においても同様である。   In the first adjustment method, first, a plurality of normal discharge determination frames of the same shape respectively corresponding to the plurality of discharge ports 314a to 314d are obtained by the temporary setting unit 77 (see FIG. 4) of the determination frame setting unit 74 as shown in FIG. As shown in FIG. 5, the inspection image 8 is temporarily set around the plurality of bright spot reference positions described above. Each normal discharge determination frame (hereinafter referred to as “temporary setting frame 850”) temporarily set by the temporary setting unit 77 is a substantially rectangular shape having a predetermined size. In FIG. 12, after adjustment by a frame size adjustment unit 78 described later, a first normal discharge determination frame row 86a, a second normal discharge determination frame row 86b, a third normal discharge determination frame row 86c, and a fourth normal discharge determination frame row 86d In the four temporary setting frame rows 860a to 860d, the temporary setting frame 850 located on the left side in the drawing is close to the imaging unit 52, and the temporary setting frame 850 located on the right side is far from the imaging unit 52. In FIG. 12, only the bright spot 81 and the temporarily set normal discharge determination frame are drawn, and other discharge determination frames such as an oblique discharge determination frame are not shown. The same applies to FIGS. 13 to 16 described later.

続いて、枠サイズ調整部78により、各仮設定枠850について、撮像部52の撮像軸J2の始点と各仮設定枠850に対応する輝点基準位置との間の距離である検査距離が求められる。そして、枠サイズ調整部78の見かけ枠サイズ調整部78aにより、仮設定枠850が、当該検査距離に基づいて調整される。具体的には、仮設定枠850が、検査距離が大きくなるに従って縮小するように調整される。さらに詳細には、注目される仮設定枠850の検査距離が大きくなるに従って小さくなる検査距離の所定の関数を枠縮小率とし、各仮設定枠850の中心位置(すなわち、輝点基準位置)を変更することなく、各仮設定枠850の4つの辺の長さにそれぞれ枠縮小率を乗算することにより、図13に示すように、各仮設定枠850が調整される。各仮設定枠列860a〜860dでは、仮設定枠850の各辺の長さが、図中の左側から右側に向かうに従って短くなる。上記関数は、例えば、検査距離が、撮像部52に最も近い輝点基準位置と撮像部52との間の距離に等しいときに「1」となり、検査距離が当該距離よりも大きくなると1未満となるように設定される。   Subsequently, for each temporary setting frame 850, the frame size adjustment unit 78 obtains an inspection distance that is a distance between the starting point of the imaging axis J2 of the imaging unit 52 and the bright spot reference position corresponding to each temporary setting frame 850. It is done. Then, the temporarily set frame 850 is adjusted based on the inspection distance by the apparent frame size adjusting unit 78a of the frame size adjusting unit 78. Specifically, the temporary setting frame 850 is adjusted so as to decrease as the inspection distance increases. More specifically, a predetermined function of the inspection distance that decreases as the inspection distance of the temporary setting frame 850 to be noticed increases as the frame reduction ratio, and the center position (that is, the bright spot reference position) of each temporary setting frame 850 is determined. Each temporary setting frame 850 is adjusted as shown in FIG. 13 by multiplying the lengths of the four sides of each temporary setting frame 850 by the frame reduction ratio without changing. In each temporary setting frame row 860a to 860d, the length of each side of the temporary setting frame 850 becomes shorter from the left side to the right side in the drawing. The function is “1” when the inspection distance is equal to the distance between the bright spot reference position closest to the imaging unit 52 and the imaging unit 52, for example, and is less than 1 when the inspection distance is larger than the distance. Is set to be

次に、枠サイズ調整部78の合焦ずれ枠サイズ調整部78bにより、図13にて説明した処理により調整された各仮設定枠850の大きさが、撮像部52の合焦距離と各仮設定枠850に対応する検査距離との差(以下、「焦点ずれ量」という。)が大きくなるに従って縮小するようにさらに調整され、正常吐出判定枠85が設定される。具体的には、焦点ずれ量が大きくなるに従って大きくなる焦点ずれ量の所定の関数をぼけ量とし、各仮設定枠850の中心位置を変更することなく、各仮設定枠850の4つの辺の長さから、ぼけ量をそれぞれ減算することにより、図14に示すように、各正常吐出判定枠85が設定される。   Next, the size of each temporary setting frame 850 adjusted by the process described with reference to FIG. 13 by the focus shift frame size adjusting unit 78b of the frame size adjusting unit 78 is the same as the in-focus distance and each temporary setting of the imaging unit 52. Further adjustment is made so that the difference from the inspection distance corresponding to the setting frame 850 (hereinafter referred to as “the amount of defocus”) increases, and the normal ejection determination frame 85 is set. Specifically, a predetermined function of the defocus amount that increases as the defocus amount increases is used as a blur amount, and the four positions of each temporary setting frame 850 are changed without changing the center position of each temporary setting frame 850. By subtracting the blur amount from the length, each normal ejection determination frame 85 is set as shown in FIG.

図12ないし図14に示す例では、図中の上下方向の中央部近傍に位置する輝点81が合焦範囲80に含まれる。したがって、図13中の上側(すなわち、3次元座標系における手前側)の仮設定枠列860a,860bのうち右側の一部の仮設定枠850は、大きさを変更されることなく正常吐出判定枠85とされる。また、仮設定枠列860a,860bの他の仮設定枠850は、各辺からぼけ量が減算されて縮小される。図14に示すように、仮設定枠列860a,860b(すなわち、第1正常吐出判定枠列86aおよび第2正常吐出判定枠列86b)では、各仮設定枠850から減算されるぼけ量は、図中の右側から左側に向かうに従って大きくなる。   In the example shown in FIGS. 12 to 14, a bright spot 81 located near the center in the vertical direction in the drawing is included in the focusing range 80. Therefore, the temporary setting frame 850 on the right side of the temporary setting frame rows 860a and 860b on the upper side (that is, the front side in the three-dimensional coordinate system) in FIG. 13 is normally ejected without being changed in size. A frame 85 is used. Further, the other temporarily set frames 850 of the temporarily set frame rows 860a and 860b are reduced by subtracting the blur amount from each side. As shown in FIG. 14, in the temporary setting frame rows 860a and 860b (that is, the first normal discharge determination frame row 86a and the second normal discharge determination frame row 86b), the amount of blur subtracted from each temporary setting frame 850 is The size increases from the right side to the left side in the figure.

一方、図13中の下側の仮設定枠列860c,860dでは、左側の一部の仮設定枠850は、大きさを変更されることなく正常吐出判定枠85とされる。また、仮設定枠列860c,860dの他の仮設定枠850は、各辺からぼけ量が減算されて縮小される。図14に示すように、仮設定枠列860c,860d(すなわち、第3正常吐出判定枠列86cおよび第4正常吐出判定枠列86d)では、各仮設定枠850から減算されるぼけ量は、図中の左側から右側に向かうに従って大きくなる。   On the other hand, in the lower temporary setting frame rows 860c and 860d in FIG. 13, the left temporary setting frames 850 are set as normal ejection determination frames 85 without changing their sizes. Further, the other temporarily set frames 850 of the temporarily set frame rows 860c and 860d are reduced by subtracting the blur amount from each side. As shown in FIG. 14, in the temporary setting frame rows 860c and 860d (that is, the third normal discharge determination frame row 86c and the fourth normal discharge determination frame row 86d), the blur amount subtracted from each temporary setting frame 850 is The size increases from the left side to the right side in the figure.

各輝点基準位置に対応する斜め吐出判定枠87も、上述の正常吐出判定枠85に係る調整と同様に、仮設定部77により検査画像8上に仮設定され、枠サイズ調整部78により大きさが調整される。   Similarly to the adjustment related to the normal discharge determination frame 85 described above, the oblique discharge determination frame 87 corresponding to each bright spot reference position is temporarily set on the inspection image 8 by the temporary setting unit 77 and larger by the frame size adjustment unit 78. Is adjusted.

基板処理装置1では、上述のように大きさが調整された正常吐出判定枠85内における輝点81の存否情報に基づいて、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定が行われる。正常吐出判定枠85の調整では、上述のように、各仮設定枠850に対応する検査距離が大きくなるに従って、各仮設定枠850を縮小する調整が行われる。これにより、撮像部52と輝点81との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the substrate processing apparatus 1, the quality determination of the discharge operation at each of the discharge ports 314 a to 314 d is performed based on the presence / absence information of the bright spot 81 in the normal discharge determination frame 85 whose size is adjusted as described above. In the adjustment of the normal ejection determination frame 85, as described above, the adjustment for reducing each temporary setting frame 850 is performed as the inspection distance corresponding to each temporary setting frame 850 increases. As a result, the influence of the distance between the imaging unit 52 and the bright spot 81 on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality determination of the ejection operation can be improved.

また、各仮設定枠850に対応する検査距離と撮像部52の合焦距離との差である焦点ずれ量が大きくなるに従って、各仮設定枠850を縮小する調整が行われる。これにより、合焦範囲80外の輝点81のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。   Further, as the amount of defocus, which is the difference between the inspection distance corresponding to each temporary setting frame 850 and the focusing distance of the imaging unit 52, increases, adjustments are performed to reduce each temporary setting frame 850. Thereby, the influence on the quality determination of the ejection operation due to the blurring of the bright spot 81 outside the focusing range 80 can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be further improved.

なお、上述の例では、枠サイズ調整部78において、各仮設定枠850に対して見かけ枠サイズ調整部78aによる調整、および、合焦ずれ枠サイズ調整部78bによる調整を行ったが、必ずしも両方の調整を行う必要はない。枠サイズ調整部78では、見かけ枠サイズ調整部78aおよび合焦ずれ枠サイズ調整部78bの少なくとも一方により各仮設定枠850が調整されることにより、正常吐出判定枠85が設定される。その結果、上述のように、撮像部52と輝点81との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the above example, the frame size adjustment unit 78 performs the adjustment by the apparent frame size adjustment unit 78a and the adjustment by the in-focus frame size adjustment unit 78b on each temporary setting frame 850. There is no need to make any adjustments. In the frame size adjustment unit 78, the normal ejection determination frame 85 is set by adjusting each temporary setting frame 850 by at least one of the apparent frame size adjustment unit 78a and the out-of-focus frame size adjustment unit 78b. As a result, as described above, the influence of the distance between the imaging unit 52 and the bright spot 81 on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be improved.

上述の例では、正常吐出判定枠85と同数の斜め吐出判定枠87が設定される場合における吐出判定枠の補正について説明したが、図10に示すように、1つの斜め吐出判定枠87aの内側に複数の正常吐出判定枠85が設定される場合においても、正常吐出判定枠85は同様に設定される。   In the above-described example, the correction of the discharge determination frames when the same number of the oblique discharge determination frames 87 as the normal discharge determination frames 85 is set has been described. However, as illustrated in FIG. 10, the inside of one oblique discharge determination frame 87 a. Even when a plurality of normal discharge determination frames 85 are set, the normal discharge determination frames 85 are similarly set.

次に、上述の第2の調整方法について説明する。第2の調整方法では、まず、判定枠設定部74により、複数の吐出口314a〜314dにそれぞれ対応する同形状の複数の正常吐出判定枠85が、図12に示すように、検査画像8上において上述の複数の輝点基準位置を中心として設定される。正常吐出判定枠85は、予め定められた所定の大きさの略矩形状である。   Next, the second adjustment method described above will be described. In the second adjustment method, first, the determination frame setting unit 74 causes the plurality of normal discharge determination frames 85 of the same shape respectively corresponding to the plurality of discharge ports 314a to 314d to appear on the inspection image 8 as shown in FIG. Is set around the plurality of bright spot reference positions described above. The normal discharge determination frame 85 has a substantially rectangular shape having a predetermined size.

続いて、輝点補正部76により、検査画像8の各輝点81に対応する輝点基準位置と撮像部52の撮像軸J2の始点との間の距離である検査距離が求められる。そして、見かけ輝点サイズ調整部76aにより、各輝点81の大きさが、当該検査距離が小さくなるに従って縮小するように、各輝点81の大きさの補正が行われる。具体的には、検査距離が小さくなるに従って小さくなる検査距離の所定の関数を輝点縮小率とし、各輝点81の重心位置を変更することなく、各輝点81を当該輝点縮小率にて縮小することにより、図15に示すように、各輝点81の大きさが補正される。   Subsequently, the bright spot correction unit 76 obtains an inspection distance that is a distance between the bright spot reference position corresponding to each bright spot 81 of the inspection image 8 and the start point of the imaging axis J2 of the imaging unit 52. Then, the apparent bright spot size adjusting unit 76a corrects the size of each bright spot 81 so that the size of each bright spot 81 decreases as the inspection distance decreases. Specifically, a predetermined function of the inspection distance that becomes smaller as the inspection distance becomes smaller is used as the bright spot reduction rate, and each bright spot 81 is set to the bright spot reduction rate without changing the center of gravity position of each bright spot 81. Thus, the size of each bright spot 81 is corrected as shown in FIG.

次に、輝点補正部76の合焦ずれ輝点サイズ調整部76bにより、各輝点81の大きさが、撮像部52の合焦距離と各輝点81に対応する検査距離との差である焦点ずれ量が大きくなるに従って縮小するように補正される。具体的には、焦点ずれ量が大きくなるに従って大きくなる焦点ずれ量の所定の関数を輝点ぼけ量とし、各輝点81の重心位置を変更することなく、各輝点81の縦横それぞれの長さから輝点ぼけ量を減算することにより、図16に示すように、各輝点81の大きさが補正される。   Next, the size of each luminescent spot 81 is determined by the difference between the in-focus distance of the imaging unit 52 and the inspection distance corresponding to each luminescent spot 81 by the out-of-focus luminescent spot size adjusting section 76b of the bright spot correcting section 76. Correction is made to reduce as the amount of defocus increases. Specifically, a predetermined function of the defocus amount that increases as the defocus amount increases becomes the bright spot blur amount, and the vertical and horizontal lengths of each bright spot 81 are changed without changing the barycentric position of each bright spot 81. By subtracting the bright spot blur amount from the above, the size of each bright spot 81 is corrected as shown in FIG.

基板処理装置1では、大きさが補正された輝点81の正常吐出判定枠85内における存否情報(すなわち、補正後の輝点81の少なくとも一部が存在するか否かを示す情報)に基づいて、判定部75により、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定が行われる。輝点81の補正では、上述のように、各輝点81に対応する検査距離が小さくなるに従って(すなわち、各輝点81に対応する輝点基準位置が撮像部52に近づくに従って)、各輝点81を縮小する補正が行われる。これにより、輝点81の大部分が正常吐出判定枠85の外側に位置するにもかかわらず、一部のみが正常吐出判定枠85内に位置することが抑制または防止される。その結果、撮像部52と輝点81との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the substrate processing apparatus 1, the presence / absence information of the bright spot 81 whose size is corrected in the normal ejection determination frame 85 (that is, information indicating whether or not at least a part of the corrected bright spot 81 exists) is based on. Thus, the determination unit 75 determines whether the discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is good or bad. In the correction of the bright spot 81, as described above, as the inspection distance corresponding to each bright spot 81 becomes smaller (that is, as the bright spot reference position corresponding to each bright spot 81 approaches the imaging unit 52), each bright spot 81 is corrected. Correction for reducing the point 81 is performed. Thereby, although most of the bright spots 81 are located outside the normal ejection determination frame 85, only a part of the bright spots 81 is suppressed or prevented from being located in the normal ejection determination frame 85. As a result, the influence of the distance between the imaging unit 52 and the bright spot 81 on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality determination of the ejection operation can be improved.

また、各輝点81に対応する検査距離と撮像部52の合焦距離との差である焦点ずれ量が大きくなるに従って、各輝点81を縮小する補正が行われる。これにより、合焦範囲80外の輝点81のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。   In addition, as the defocus amount, which is the difference between the inspection distance corresponding to each bright spot 81 and the focusing distance of the imaging unit 52, increases, the correction for reducing each bright spot 81 is performed. Thereby, the influence on the quality determination of the ejection operation due to the blurring of the bright spot 81 outside the focusing range 80 can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be further improved.

なお、上述の例では、輝点補正部76において、各輝点81に対して見かけ輝点サイズ補正部76aによる補正、および、合焦ずれ輝点サイズ補正部76bによる補正を行ったが、必ずしも両方の補正を行う必要はない。輝点補正部76では、見かけ輝点サイズ補正部76aおよび合焦ずれ輝点サイズ補正部78bの少なくとも一方により大きさが補正された各輝点81について、正常吐出判定枠85内の存否情報が判定部75により取得され、当該存否情報に基づいて各吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定が行われる。その結果、上述のように、撮像部52と輝点81との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the above-described example, the bright spot correction unit 76 performs correction by the apparent bright spot size correction unit 76a and correction by the out-of-focus bright spot size correction unit 76b on each bright spot 81. It is not necessary to perform both corrections. In the bright spot correction unit 76, presence / absence information in the normal ejection determination frame 85 is obtained for each bright spot 81 whose size is corrected by at least one of the apparent bright spot size correction unit 76a and the out-of-focus bright spot size correction unit 78b. Based on the presence / absence information acquired by the determination unit 75, the quality of the discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is determined. As a result, as described above, the influence of the distance between the imaging unit 52 and the bright spot 81 on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be improved.

上述の例では、正常吐出判定枠85と同数の斜め吐出判定枠87が設定される場合における輝点81の補正について説明したが、図10に示すように、1つの斜め吐出判定枠87aの内側に複数の正常吐出判定枠85が設定される場合においても、輝点81は同様に補正される。   In the above-described example, the correction of the bright spot 81 when the same number of the oblique discharge determination frames 87 as the normal discharge determination frames 85 is set has been described. However, as illustrated in FIG. 10, the inside of one oblique discharge determination frame 87a. Even when a plurality of normal ejection determination frames 85 are set, the bright spot 81 is similarly corrected.

基板処理装置1では、光出射部51から出射される面状光510の上下方向の厚さが厚くなると、撮像部52により取得される検査画像8において、各輝点81が上下方向(すなわち、処理液の設計上の吐出方向)に大きくなる。光出射部51からの面状光510の厚さは、吐出ヘッド31から吐出される処理液に照射される領域においておよそ一定であるが、当該領域内であっても、光出射部51から出射された面状光510の吐出方向の厚さが最も小さくなる位置(すなわち、面状光510が上下方向に最も絞り込まれた位置であり、以下、「光最薄位置」という。)からの距離が大きくなるに従って僅かずつ増大する。このため、光最薄位置から遠い輝点81は、光最薄位置に近い輝点81に比べて、上下方向に大きくなる。その結果、正常吐出判定枠85等の吐出判定枠内における輝点81の存否判定において、光最薄位置から遠い輝点81は、光最薄位置に近い輝点81に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる。   In the substrate processing apparatus 1, when the thickness of the planar light 510 emitted from the light emitting unit 51 increases in the vertical direction, each bright spot 81 in the inspection image 8 acquired by the imaging unit 52 extends in the vertical direction (that is, It increases in the discharge direction (designed treatment liquid). The thickness of the planar light 510 from the light emitting unit 51 is approximately constant in the region irradiated with the processing liquid discharged from the discharge head 31, but the light is emitted from the light emitting unit 51 even within the region. The distance from the position where the thickness of the planar light 510 in the ejection direction is the smallest (that is, the position where the planar light 510 is most narrowed in the vertical direction, hereinafter referred to as the “lightest thinned position”). As the value increases, it increases slightly. For this reason, the bright spot 81 far from the light thinnest position is larger in the vertical direction than the bright spot 81 near the light thinnest position. As a result, in the presence / absence determination of the bright spot 81 in the ejection judgment frame such as the normal ejection judgment frame 85, the bright spot 81 far from the light thinnest position is within the discharge judgment frame compared to the bright spot 81 near the light thinnest position. It becomes easy to determine that it exists.

そこで、吐出検査部5では、光最薄位置と輝点81との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減するための調整が行われる。以下では、当該調整の2通りの方法について説明する。上述の第1および第2の調整方法と区別するために、当該2通りの調整方法をそれぞれ、「第3の調整方法」および「第4の調整方法」という。第3の調整方法では、判定枠設定部74による正常吐出判定枠85の設定の際に、正常吐出判定枠85の大きさが調整される。第4の調整方法では、判定部75による吐出動作の良否判定よりも前に、輝点81の検査画像8上における大きさが補正される。   Therefore, the discharge inspection unit 5 performs adjustment to reduce the influence on the quality determination of the discharge operation due to the distance between the light thinnest position and the bright spot 81. Below, the two methods of the said adjustment are demonstrated. In order to distinguish from the first and second adjustment methods described above, the two adjustment methods are referred to as a “third adjustment method” and a “fourth adjustment method”, respectively. In the third adjustment method, the size of the normal discharge determination frame 85 is adjusted when the normal discharge determination frame 85 is set by the determination frame setting unit 74. In the fourth adjustment method, the size of the bright spot 81 on the inspection image 8 is corrected before the quality determination of the ejection operation by the determination unit 75.

第3の調整方法では、枠サイズ調整部78の光厚さ調整部78cにより、光出射部51の光軸J1の始点と各正常吐出判定枠85に対応する輝点基準位置との間の光軸J1に平行な方向における距離(以下、「照射距離」という。)と、光出射部51の光軸J1の始点と光最薄位置との間の光軸J1に平行な方向における距離(以下、「光最薄距離」という。)との差である判定枠照射距離誤差に基づいて、各正常吐出判定枠85の上下方向(すなわち、処理液の設計上の吐出方向)の高さが調整される。具体的には、各正常吐出判定枠85に係る判定枠照射距離誤差が大きくなるに従って、各正常吐出判定枠85が上下方向に縮小される。これにより、判定枠照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the third adjustment method, light between the start point of the optical axis J1 of the light emitting unit 51 and the bright spot reference position corresponding to each normal ejection determination frame 85 is obtained by the light thickness adjusting unit 78c of the frame size adjusting unit 78. The distance in the direction parallel to the axis J1 (hereinafter referred to as “irradiation distance”) and the distance in the direction parallel to the optical axis J1 between the starting point of the optical axis J1 of the light emitting portion 51 and the light thinnest position (hereinafter referred to as “lighting distance”). The height of each normal discharge determination frame 85 in the vertical direction (that is, the discharge direction in the design of the processing liquid) is adjusted based on a determination frame irradiation distance error that is a difference from the “thinnest light distance”). Is done. Specifically, as the determination frame irradiation distance error related to each normal discharge determination frame 85 increases, each normal discharge determination frame 85 is reduced in the vertical direction. As a result, the influence of the determination frame irradiation distance error on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality determination of the ejection operation can be improved.

第4の調整方法では、輝点補正部76の光厚さ補正部76cより、各輝点81の照射距離(すなわち、光出射部51の光軸J1の始点と各輝点81に対応する輝点基準位置との間の光軸J1に平行な方向における距離)と光最薄距離との差である輝点照射距離誤差に基づいて、各輝点81の上下方向の高さが調整される。具体的には、各輝点81に係る輝点照射距離誤差が大きくなるに従って、各輝点81が上下方向に縮小される。これにより、輝点照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the fourth adjustment method, the light thickness correcting unit 76c of the bright spot correcting unit 76 applies the irradiation distance of each bright spot 81 (that is, the start point of the optical axis J1 of the light emitting unit 51 and the bright spot corresponding to each bright spot 81). The vertical height of each bright spot 81 is adjusted based on the bright spot irradiation distance error, which is the difference between the distance from the point reference position in the direction parallel to the optical axis J1) and the thinnest distance. . Specifically, as the bright spot irradiation distance error related to each bright spot 81 becomes larger, each bright spot 81 is reduced in the vertical direction. As a result, the influence of the bright spot irradiation distance error on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be improved.

上述の4つの調整方法は、適宜組み合わされて実施されてよい。例えば、第1および第3の調整方法が実施されて、正常吐出判定枠85の大きさが調整されてもよい。あるいは、第2および第4の調整方法が実施されて、輝点81の大きさが調整されてもよい。また、第1ないし第4の調整方法のうち、2つ以上の調整方法のいずれの組み合わせが実施されてもよい。   The four adjustment methods described above may be implemented in combination as appropriate. For example, the size of the normal ejection determination frame 85 may be adjusted by implementing the first and third adjustment methods. Alternatively, the size of the bright spot 81 may be adjusted by performing the second and fourth adjustment methods. Further, any combination of two or more adjustment methods among the first to fourth adjustment methods may be implemented.

上記説明では、判定部75による正常吐出判定枠85等の吐出判定枠内における輝点81の存否判定において、輝点81の少なくとも一部が吐出判定枠内に位置すれば、輝点81が当該吐出判定枠内に存在すると判定されるが、輝点81の半分以上が吐出判定枠内に位置する場合に、輝点81が当該吐出判定枠内に存在すると判定されてもよい。あるいは、輝点81の全体が吐出判定枠内に位置する場合のみ、輝点81が当該吐出判定枠内に存在すると判定されてもよい。この場合、上述の合焦ずれ枠サイズ調整部78bによる仮設定枠850の調整では、焦点ずれ量が大きくなるに従って、仮設定枠850の各辺にぼけ量が加算されて仮設定枠850が拡大される。これにより、合焦範囲80外の輝点81のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。また、上述の光厚さ調整部78cによる正常吐出判定枠85の調整では、判定枠照射距離誤差が大きくなるに従って正常吐出判定枠85が上下方向に拡大される。これにより、判定枠照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。   In the above description, if at least a part of the bright spot 81 is located within the discharge determination frame in the determination of the presence or absence of the bright spot 81 in the discharge determination frame such as the normal discharge determination frame 85 by the determination unit 75, the bright spot 81 is Although it is determined that it exists in the discharge determination frame, it may be determined that the bright spot 81 exists in the discharge determination frame when more than half of the bright spot 81 is located in the discharge determination frame. Alternatively, it may be determined that the bright spot 81 exists within the discharge determination frame only when the entire bright spot 81 is located within the discharge determination frame. In this case, in the adjustment of the temporary setting frame 850 by the focus shift frame size adjusting unit 78b described above, the amount of blur is added to each side of the temporary setting frame 850 and the temporary setting frame 850 is enlarged as the defocus amount increases. Is done. Thereby, the influence on the quality determination of the ejection operation due to the blurring of the bright spot 81 outside the focusing range 80 can be reduced, and the accuracy of the quality judgment of the ejection operation can be further improved. In the adjustment of the normal discharge determination frame 85 by the above-described light thickness adjustment unit 78c, the normal discharge determination frame 85 is expanded in the vertical direction as the determination frame irradiation distance error increases. As a result, the influence of the determination frame irradiation distance error on the quality determination of the ejection operation can be reduced, and the accuracy of the quality determination of the ejection operation can be improved.

また、判定部75では、検査画像8上において複数の輝点81のそれぞれの重心が求められ、各正常吐出判定枠85内における輝点81の重心の存否が、各正常吐出判定枠85内における輝点81の存否情報として取得されてもよい。これにより、例えば、合焦範囲80の外側に位置する輝点81のぼやけて広がった部分のみが正常吐出判定枠85内に位置することにより、輝点81が正常吐出判定枠85内に存在すると判定されることが防止される。他の吐出判定枠内における輝点81の存否判定においても同様である。その結果、複数の吐出口314a〜314dにおける吐出動作の良否判定精度を、より向上することができる。当該重心の存否による輝点81の存否判定は、上述の第1の調整方法や第3の調整方法と共に行われてもよい。ただし、上述の第2の調整方法や第4の調整方法が行われる際には、重心の存否による輝点81の存否判定は行われない。   Further, the determination unit 75 obtains the center of gravity of each of the plurality of bright spots 81 on the inspection image 8, and the presence / absence of the center of gravity of the bright spot 81 in each normal discharge determination frame 85 is determined in each normal discharge determination frame 85. It may be acquired as the presence / absence information of the bright spot 81. Thereby, for example, when only the part of the bright spot 81 located outside the in-focus range 80 that is blurred and spread is located in the normal ejection determination frame 85, the bright spot 81 is present in the normal ejection determination frame 85. It is prevented from being determined. The same applies to the determination of the presence / absence of the bright spot 81 in other ejection determination frames. As a result, it is possible to further improve the pass / fail judgment accuracy of the discharge operation at the plurality of discharge ports 314a to 314d. The presence / absence determination of the bright spot 81 based on the presence / absence of the center of gravity may be performed together with the first adjustment method and the third adjustment method described above. However, when the above-described second adjustment method or fourth adjustment method is performed, the presence / absence determination of the bright spot 81 based on the presence / absence of the center of gravity is not performed.

上記基板処理装置1では、様々な変更が可能である。   Various changes can be made in the substrate processing apparatus 1.

上述の吐出検査部5では、判定枠設定部74により、正常吐出判定枠85、斜め吐出判定枠87,87a、保護液膜内吐出判定枠88および最大吐出判定枠89が設定されるが、必ずしも、これら吐出判定枠の全てが設定される必要はない。吐出検査部5では、判定枠設定部74により、1種類の吐出判定枠のみが設定されてもよく、2種類または3種類の吐出判定枠が組み合わされて設定されてもよい。   In the discharge inspection unit 5 described above, the determination frame setting unit 74 sets the normal discharge determination frame 85, the oblique discharge determination frames 87 and 87a, the protective liquid film discharge determination frame 88, and the maximum discharge determination frame 89. All of these discharge determination frames need not be set. In the discharge inspection unit 5, only one type of discharge determination frame may be set by the determination frame setting unit 74, or two or three types of discharge determination frames may be set in combination.

例えば、保護液膜93の外側の領域に対応する最大吐出判定枠89が省略されてもよい。この場合、保護液膜内吐出判定枠88が、複数の吐出判定枠のうち最も外側に位置する外側吐出判定枠となる。また、判定部75により、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作は、正常吐出、斜め吐出判定枠87,87aに対応する領域への斜め吐出、斜め吐出判定枠87,87aに対応する領域外であって保護液膜93上へのより大きな斜め吐出、および、それ以外の吐出不良のうちのいずれかとして判定される。それ以外の吐出不良とは、不吐出、または、保護液膜93外に着液するさらに大きな斜め吐出である。   For example, the maximum discharge determination frame 89 corresponding to the area outside the protective liquid film 93 may be omitted. In this case, the in-protection-film discharge determination frame 88 is an outer discharge determination frame located on the outermost side among the plurality of discharge determination frames. Further, the discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is performed by the determination unit 75 outside the region corresponding to the normal discharge, the oblique discharge to the region corresponding to the oblique discharge determination frames 87 and 87a, and the oblique discharge determination frames 87 and 87a. Therefore, it is determined as one of larger oblique discharge onto the protective liquid film 93 and other discharge failures. Other ejection failures are non-ejection or larger oblique ejection that deposits outside the protective liquid film 93.

吐出判定枠のうち保護液膜内吐出判定枠88が省略されてもよい。この場合、最大吐出判定枠89が、複数の斜め吐出判定枠87、または、複数の斜め吐出判定枠87aの周囲に設定される。そして、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作が、正常吐出、斜め吐出判定枠87,87aに対応する領域への斜め吐出、斜め吐出判定枠87,87aに対応する領域外へのより大きな斜め吐出、および、不吐出のうちのいずれかとして判定される。   Of the discharge determination frames, the in-protection liquid film discharge determination frame 88 may be omitted. In this case, the maximum discharge determination frame 89 is set around the plurality of oblique discharge determination frames 87 or the plurality of oblique discharge determination frames 87a. The discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is normal discharge, oblique discharge to the region corresponding to the oblique discharge determination frames 87 and 87a, and larger oblique discharge to the outside of the region corresponding to the oblique discharge determination frames 87 and 87a. And non-ejection.

吐出判定枠のうち斜め吐出判定枠87,87aが省略される場合、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作は、正常吐出、保護液膜93上への斜め吐出、保護液膜93外に着液するさらに大きな斜め吐出、および、不吐出のうちのいずれかとして判定される。斜め吐出判定枠87,87aおよび保護液膜内吐出判定枠88が省略される場合、各吐出口314a〜314dにおける吐出動作は、正常吐出、斜め吐出および不吐出のいずれかとして判定される。   When the oblique discharge determination frames 87 and 87a are omitted from the discharge determination frames, the discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is normal discharge, oblique discharge onto the protective liquid film 93, and liquid landing outside the protective liquid film 93. It is determined as one of larger oblique discharge and non-discharge. When the oblique discharge determination frames 87 and 87a and the protective liquid film discharge determination frame 88 are omitted, the discharge operation at each of the discharge ports 314a to 314d is determined as one of normal discharge, diagonal discharge, and non-discharge.

上記説明では、不吐出および斜め吐出を吐出口314aの吐出不良と判定したが、他の吐出動作も吐出不良と判定されてよい。例えば、吐出ヘッド31から吐出された液滴が飛翔中に分裂して複数の極小液滴になることがある。このような極小液滴は、基板9の上面91に十分な運動エネルギーを付与することができず、基板9を適切に洗浄できない可能性がある。したがって、このような極小液滴の吐出も、吐出口の吐出不良と判定してもよい。極小液滴の吐出を吐出不良と判定する場合は、例えば、正常吐出判定枠85内に1つの輝点81が検出されるケースを正常吐出と判定し、正常吐出判定枠85内に複数の輝点81が検出されるケースを吐出不良と判定する。   In the above description, the non-ejection and the oblique ejection are determined as the ejection failure of the ejection port 314a, but other ejection operations may also be determined as the ejection failure. For example, the droplets ejected from the ejection head 31 may break up during flight and become a plurality of extremely small droplets. Such a very small droplet cannot give sufficient kinetic energy to the upper surface 91 of the substrate 9, and the substrate 9 may not be cleaned properly. Therefore, the discharge of such a small droplet may also be determined as a discharge failure of the discharge port. When determining the discharge of a very small droplet as a discharge failure, for example, a case where one bright spot 81 is detected in the normal discharge determination frame 85 is determined as normal discharge, and a plurality of bright dots are detected in the normal discharge determination frame 85. The case where the point 81 is detected is determined as a discharge failure.

吐出検査部5では、吐出動作の良否判定が行われるよりも前に、輝点81の縦横の長さがおよそ等しくなるように、輝点81が、重心位置を中心として上下方向に縮小されてもよい。   In the discharge inspection unit 5, the bright spot 81 is reduced in the vertical direction around the center of gravity so that the vertical and horizontal lengths of the bright spot 81 are approximately equal before the quality determination of the discharge operation is performed. Also good.

光出射部51では、必ずしも面状に光が出射される必要はなく、光存在面に沿って光出射部51から前方に直線状に延びる光が出射され、当該光が光存在面に沿ってポリゴンミラー等の光走査手段により走査されてもよい。これにより、複数の吐出口314a〜314dから吐出された処理液である複数の飛翔体が光存在面を通過する際に、当該複数の飛翔体に光が照射される。また、光存在面は、吐出ヘッド31からの処理液の設計上の吐出方向に垂直であってもよく、撮像部52における撮像方向は、当該設計上の吐出方向に垂直な平面に平行であってもよい。   In the light emission part 51, it is not always necessary to emit light in a planar shape. Light extending linearly forward from the light emission part 51 is emitted along the light existence surface, and the light is emitted along the light existence surface. You may scan by optical scanning means, such as a polygon mirror. Accordingly, when the plurality of flying bodies that are the processing liquids discharged from the plurality of discharge ports 314a to 314d pass through the light existence surface, the plurality of flying bodies are irradiated with light. The light existence surface may be perpendicular to the designed ejection direction of the processing liquid from the ejection head 31, and the imaging direction in the imaging unit 52 is parallel to a plane perpendicular to the designed ejection direction. May be.

光出射部51および撮像部52は、吐出ヘッド31の斜め下方以外の位置、例えば、吐出ヘッド31の斜め上方に配置されてもよい。吐出検査部5は、吐出ヘッド31の待機位置近傍(すなわち、待機ポッド4の近傍)以外の位置に配置されてもよい。例えば、基板9上に位置する吐出ヘッド31の斜め上方に光出射部51および撮像部52が配置されてもよい。   The light emitting unit 51 and the imaging unit 52 may be disposed at a position other than the diagonally lower side of the ejection head 31, for example, the diagonally upper side of the ejection head 31. The discharge inspection unit 5 may be disposed at a position other than the vicinity of the standby position of the discharge head 31 (that is, the vicinity of the standby pod 4). For example, the light emitting unit 51 and the imaging unit 52 may be disposed obliquely above the ejection head 31 located on the substrate 9.

吐出ヘッド31から吐出される処理液は、必ずしも、液滴状には限定されず、液柱状に連続する処理液が吐出ヘッド31から吐出されてもよい。   The treatment liquid ejected from the ejection head 31 is not necessarily limited to a droplet shape, and a treatment liquid continuous in a liquid column shape may be ejected from the ejection head 31.

基板処理装置1は、基板9の洗浄以外の様々な処理に利用されてよい。また、基板処理装置1では、半導体基板以外に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、FED(field emission display)等の表示装置に使用されるガラス基板の処理に利用されてもよい。あるいは、基板処理装置1は、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理に利用されてもよい。   The substrate processing apparatus 1 may be used for various processes other than the cleaning of the substrate 9. Moreover, in the substrate processing apparatus 1, you may utilize for the process of the glass substrate used for display apparatuses other than a semiconductor substrate, such as a liquid crystal display device, a plasma display, and FED (field emission display). Alternatively, the substrate processing apparatus 1 may be used for processing of an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, a photomask substrate, a ceramic substrate, a solar cell substrate, and the like.

上述の光出射部51、撮像部52、判定枠設定部74および判定部75を備える装置は、基板処理装置1の他の構成から独立する吐出検査装置として使用されてもよい。上記吐出検査装置は、例えば、上述の様々な基板に対して複数の吐出口から液体を吐出する装置において、複数の吐出口からの液体の吐出動作の検査に利用される。   The apparatus including the light emitting unit 51, the imaging unit 52, the determination frame setting unit 74, and the determination unit 75 described above may be used as a discharge inspection apparatus that is independent from other configurations of the substrate processing apparatus 1. For example, in the apparatus for discharging liquid from a plurality of discharge ports to the above-described various substrates, the discharge inspection apparatus is used for inspecting a liquid discharge operation from the plurality of discharge ports.

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。   The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.

1 基板処理装置
5 吐出検査部
8 検査画像
9 基板
21 基板保持部
31 吐出ヘッド
51 光出射部
52 撮像部
74 判定枠設定部
75 判定部
77 仮設定部
78 枠サイズ調整部
81 輝点
85 正常吐出判定枠
87,87a 斜め吐出判定枠
88 保護液膜内吐出判定枠
89 最大吐出判定枠
314a〜314d 吐出口
510 面状光
850 仮設定枠
J1 光軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 5 Discharge inspection part 8 Inspection image 9 Substrate 21 Substrate holding part 31 Discharge head 51 Light emitting part 52 Imaging part 74 Judgment frame setting part 75 Judgment part 77 Temporary setting part 78 Frame size adjustment part 81 Bright spot 85 Normal discharge Determination frame 87, 87a Oblique discharge determination frame 88 Protection liquid film discharge determination frame 89 Maximum discharge determination frame 314a to 314d Discharge port 510 Planar light 850 Temporary setting frame J1 Optical axis

Claims (13)

複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置であって、
予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、
前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、
前記検査画像上において前記複数の吐出口に対応する複数の正常吐出判定枠を設定する判定枠設定部と、
各正常吐出判定枠内における輝点の存否情報を取得し、前記存否情報に基づいて前記各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作の良否を判定する判定部と、
を備え、
前記判定枠設定部が、
前記複数の飛翔体の設計上の吐出方向へと各吐出口から延びる吐出中心線が前記光存在面と交わる点である輝点基準位置を中心として、所定の大きさの正常吐出判定枠を前記各吐出口に対応させて前記検査画像上に仮設定する仮設定部と、
前記仮設定部により仮設定された各正常吐出判定枠を、前記輝点基準位置と前記撮像部との間の距離である検査距離に基づいて調整する枠サイズ調整部と、
を備えることを特徴とする吐出検査装置。
A discharge inspection device for inspecting the discharge operation of liquid from a plurality of discharge ports,
By emitting light along a predetermined light existence plane, when the plurality of flying bodies, which are liquids ejected from the plurality of ejection openings, pass through the light existence plane, light is emitted to the plurality of flying bodies. A light emitting portion to irradiate;
An imaging unit for acquiring an inspection image including a plurality of bright spots appearing on the plurality of flying objects by imaging the plurality of flying objects passing through the light existence surface;
A determination frame setting unit for setting a plurality of normal discharge determination frames corresponding to the plurality of discharge ports on the inspection image;
A determination unit for acquiring presence / absence information of a bright spot in each normal discharge determination frame, and determining the quality of the discharge operation at the discharge port corresponding to each normal discharge determination frame based on the presence / absence information;
With
The determination frame setting unit
A normal discharge determination frame of a predetermined size is centered on a bright spot reference position, which is a point where a discharge center line extending from each discharge port in the design discharge direction of the plurality of flying bodies intersects the light existence surface. A temporary setting unit that temporarily sets the inspection image corresponding to each discharge port;
A frame size adjustment unit that adjusts each normal ejection determination frame temporarily set by the temporary setting unit based on an inspection distance that is a distance between the bright spot reference position and the imaging unit;
A discharge inspection apparatus comprising:
請求項1に記載の吐出検査装置であって、
前記枠サイズ調整部が、前記各正常吐出判定枠の大きさを、前記検査距離が大きくなるに従って縮小する調整を行うことを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to claim 1,
The discharge inspection apparatus, wherein the frame size adjustment unit performs adjustment to reduce the size of each normal discharge determination frame as the inspection distance increases.
請求項1または2に記載の吐出検査装置であって、
前記枠サイズ調整部が、前記各正常吐出判定枠の大きさを、前記撮像部の合焦距離と前記検査距離との差が大きくなるに従って縮小する調整を行うことを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to claim 1 or 2,
The discharge inspection apparatus, wherein the frame size adjustment unit performs adjustment to reduce the size of each normal discharge determination frame as the difference between the focus distance of the imaging unit and the inspection distance increases.
請求項1ないし3のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記光出射部と前記輝点基準位置との間の光軸に平行な方向における前記光出射部と前記輝点基準位置との間の距離を照射距離として、
前記枠サイズ調整部が、前記光出射部から出射される光の前記吐出方向の厚さが最も小さくなる光最薄位置と前記光出射部との間の距離と、前記照射距離との差が大きくなるに従って、前記各正常吐出判定枠を前記吐出方向に縮小する光厚さ調整部をさらに備えることを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The distance between the light emitting part and the bright spot reference position in a direction parallel to the optical axis between the light emitting part and the bright spot reference position is an irradiation distance.
The frame size adjustment unit has a difference between the irradiation distance and the distance between the light thinnest position where the thickness of the light emitted from the light emitting unit is the smallest in the ejection direction and the light emitting unit. A discharge inspection apparatus further comprising a light thickness adjustment unit that reduces each normal discharge determination frame in the discharge direction as the size increases.
請求項1ないし4のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記撮像部の撮像方向が、前記吐出方向に垂直な平面に対して傾斜していることを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4,
An ejection inspection apparatus, wherein an imaging direction of the imaging unit is inclined with respect to a plane perpendicular to the ejection direction.
請求項1ないし5のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記光存在面が、前記吐出方向に垂直な平面に対して傾斜していることを特徴とする吐出検査装置。
A discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The discharge inspection apparatus, wherein the light existence surface is inclined with respect to a plane perpendicular to the discharge direction.
請求項1ないし6のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記複数の吐出口が直線状に配列されており、
前記判定枠設定部が、前記検査画像に含まれる複数の輝点のうち両端に位置する輝点の位置に基づいて前記複数の正常吐出判定枠の位置を設定することを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 6,
The plurality of discharge ports are arranged in a straight line,
The discharge inspection apparatus, wherein the determination frame setting unit sets the positions of the plurality of normal discharge determination frames based on the positions of bright spots located at both ends of the plurality of bright spots included in the inspection image. .
請求項1ないし7のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記判定枠設定部が、複数の斜め吐出判定枠を前記複数の正常吐出判定枠の周囲にそれぞれ設定し、
前記判定部が、各斜め吐出判定枠内における輝点の存否に基づいて、前記各斜め吐出判定枠に対応する吐出口における斜め吐出の発生の有無を判定することを特徴とする吐出検査装置。
A discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The determination frame setting unit sets a plurality of oblique discharge determination frames around the plurality of normal discharge determination frames,
The discharge inspection apparatus, wherein the determination unit determines whether or not an oblique discharge has occurred at a discharge port corresponding to each oblique discharge determination frame based on the presence or absence of a bright spot in each oblique discharge determination frame.
請求項8に記載の吐出検査装置であって、
前記判定枠設定部が、前記複数の斜め吐出判定枠の周囲に1つの外側吐出判定枠を設定し、
前記判定部が、前記外側吐出判定枠内における輝点の存否情報に基づいて、より大きい斜め吐出の発生の有無を判定することを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to claim 8,
The determination frame setting unit sets one outer discharge determination frame around the plurality of oblique discharge determination frames;
The discharge inspection apparatus, wherein the determination unit determines whether or not a larger oblique discharge has occurred based on presence / absence information of a bright spot in the outer discharge determination frame.
請求項1ないし7のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記判定枠設定部が、前記複数の正常吐出判定枠の周囲に1つの斜め吐出判定枠を設定し、
前記判定部が、前記斜め吐出判定枠内における輝点の存否に基づいて、斜め吐出の発生の有無を判定することを特徴とする吐出検査装置。
A discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The determination frame setting unit sets one oblique discharge determination frame around the plurality of normal discharge determination frames;
The discharge inspection apparatus, wherein the determination unit determines whether or not an oblique discharge has occurred based on the presence or absence of a bright spot in the oblique discharge determination frame.
請求項10に記載の吐出検査装置であって、
前記判定枠設定部が、前記斜め吐出判定枠の周囲に1つの外側吐出判定枠を設定し、
前記判定部が、前記外側吐出判定枠内における輝点の存否情報に基づいて、より大きい斜め吐出の発生の有無を判定することを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to claim 10,
The determination frame setting unit sets one outer discharge determination frame around the oblique discharge determination frame;
The discharge inspection apparatus, wherein the determination unit determines whether or not a larger oblique discharge has occurred based on presence / absence information of a bright spot in the outer discharge determination frame.
請求項1ないし11のいずれかに記載の吐出検査装置であって、
前記判定部が、前記検査画像上において前記複数の輝点のそれぞれの重心を求め、前記各正常吐出判定枠内における輝点の重心の存否を、前記各正常吐出判定枠内における輝点の前記存否情報として取得することを特徴とする吐出検査装置。
The discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 11,
The determination unit obtains the center of gravity of each of the plurality of bright spots on the inspection image, and determines whether or not the center of gravity of the bright spot in each normal ejection determination frame is present. A discharge inspection apparatus characterized by being acquired as presence / absence information.
基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する請求項1ないし12のいずれかに記載の吐出検査装置と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing apparatus,
A substrate holder for holding the substrate;
A discharge head for discharging a liquid from a plurality of discharge ports toward the substrate and performing a predetermined process on the substrate;
The discharge inspection apparatus according to any one of claims 1 to 12, wherein the discharge operation of the liquid from the plurality of discharge ports of the discharge head is inspected.
A substrate processing apparatus comprising:
JP2013052194A 2013-03-14 2013-03-14 Ejection inspection device and substrate processing device Pending JP2014179450A (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013052194A JP2014179450A (en) 2013-03-14 2013-03-14 Ejection inspection device and substrate processing device
KR1020140025988A KR101567195B1 (en) 2013-03-14 2014-03-05 Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus
CN201410085538.7A CN104051297B (en) 2013-03-14 2014-03-10 Spray check device and substrate board treatment
US14/207,232 US9887106B2 (en) 2013-03-14 2014-03-12 Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus
TW103109413A TWI541927B (en) 2013-03-14 2014-03-14 Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013052194A JP2014179450A (en) 2013-03-14 2013-03-14 Ejection inspection device and substrate processing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014179450A true JP2014179450A (en) 2014-09-25

Family

ID=51699120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013052194A Pending JP2014179450A (en) 2013-03-14 2013-03-14 Ejection inspection device and substrate processing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014179450A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016072282A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 株式会社Screenホールディングス Substrate processing apparatus and substrate processing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016072282A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 株式会社Screenホールディングス Substrate processing apparatus and substrate processing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101567195B1 (en) Ejection inspection apparatus and substrate processing apparatus
JP6161489B2 (en) Discharge inspection apparatus and substrate processing apparatus
JP6018528B2 (en) Substrate processing equipment
TWI550748B (en) Displacement detecting apparatus, substrate processing apparatus, displacement detecting method, and substrate processing method
US8473086B2 (en) Substrate reworking by liquid drop ejection means
JP7211751B2 (en) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
JP7179568B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
CN1940537A (en) Photological foreign body checkout gear and treatment fluid applying apparatus containing same
JP6105985B2 (en) Discharge inspection apparatus and substrate processing apparatus
TWI622093B (en) Substrate processing apparatus and ejection inspection apparatus
JP6207951B2 (en) Substrate processing equipment
JP2014179450A (en) Ejection inspection device and substrate processing device
JP2014176805A (en) Discharge tester and substrate treatment apparatus
JP2009072691A (en) Ink jet state inspection device, manufacturing apparatus for flat panel, and flat panel
JP6126505B2 (en) Substrate processing equipment
JP2017034017A (en) Discharge inspection device, substrate processing apparatus and discharge inspection method
JP2015070121A (en) Substrate processing device
JP2011002641A (en) Maintenance apparatus and discharge apparatus
JP6116312B2 (en) Discharge inspection apparatus and substrate processing apparatus
JP7165019B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
JP5347838B2 (en) Liquid discharge defect detection device
JP2023045854A (en) Substrate processing device and substrate processing method
KR20240077181A (en) Apparatus for monitoring inkjet droplet of multi nozzle using laser diffraction and the method thereof
JP2021151736A (en) Nozzle observation device, nozzle observation method, nozzle inspection device and nozzle inspection method
JP2009236669A (en) Inspection device, method of inspecting protruding body, and liquid droplet ejecting device