JP2014179241A - Organic el element and translucent conductive substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機EL素子および透光性導電基板に関する。 The present invention relates to an organic EL element and a translucent conductive substrate.
従来、面状発光素子の代表的なものとして有機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)素子が挙げられる。
有機EL素子は、発光層を電極で挟んだ積層体を必要な大きさに切断して発光構造体を形成し、表示面を構成する透光性部材で覆った状態に組み立てた状態で最終的な検査が行われる。その際、検査情報を工程に反映するため、有機EL素子には、例えば、製造ロットや、積層体における位置情報などが分かるように、識別記号を設けることが知られている。
例えば、特許文献1には、「少なくとも発光層を有する有機層と、前記有機層を挟持する一対の電極と、前記有機層と前記一対の電極とからなる有機EL素子を配設する透光性の支持基板と、前記有機EL素子を気密的に覆うように前記支持基板に配設される封止部材と、前記封止部材に備えられる識別記号と、を備えてなることをとする有機ELパネル。」が記載されている。
特許文献1には、識別記号としては、「機種,製造番号,製造年月日,前記封止部材の配設方向、あるいは前記支持基板を複数含むベース基板に対する単位支持基板の配設位置の少なくともいずれか1つを示す」ことが記載されている。
Conventionally, an organic EL (electroluminescence) element is mentioned as a typical thing of a planar light emitting element.
The organic EL element is finally assembled in a state in which a light emitting structure is formed by cutting a laminated body sandwiching a light emitting layer between electrodes into a necessary size and covered with a translucent member constituting a display surface. Inspection is performed. At that time, in order to reflect the inspection information in the process, it is known that the organic EL element is provided with an identification symbol so that, for example, the manufacturing lot, the position information in the laminated body, and the like can be understood.
For example,
In
しかしながら、上記のような従来の有機EL素子には、以下のような問題があった。
特許文献1に記載の技術では、有機ELパネルの表面に識別記号が形成されているため、表示装置や照明装置に用いる場合に、外観が悪くなるという問題がある。
識別記号を覆って隠す部材を追加することも考えられるが、部品を取り付ける工程が増え、部品点数も増大することから、製造コストが増大してしまうという問題がある。
However, the conventional organic EL elements as described above have the following problems.
In the technique described in
Although it is conceivable to add a member that covers and hides the identification symbol, there is a problem in that the manufacturing cost increases because the number of parts attaching steps increases and the number of parts increases.
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、有機EL素子の識別情報を、有機EL素子の外観を損ねることなく簡素な構成により付与することができる有機EL素子および透光性導電基板を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an organic EL element and a translucent element that can provide identification information of the organic EL element with a simple configuration without impairing the appearance of the organic EL element. An object is to provide a conductive substrate.
上記の課題を解決するために、本発明の第1の態様の有機EL素子は、透光性基板と、該透光性基板に積層された透光性導電膜で形成された第1電極部と、導電性金属層をパターニングすることにより前記透光性導電膜と当接して設けられた金属配線と、前記第1電極部に積層された有機発光層と、該有機発光層を挟んで前記第1電極部と対向して配置された第2電極部と、前記第1電極部を挟んで前記有機発光層と反対側に配置され、可視光に対する光拡散性を有する光拡散体と、赤外光を反射する材料によって形成された情報読み取りパターンを有し、前記有機発光層と前記光拡散体との間に配置され、該光拡散体を通して赤外光が入出射可能な位置に設けられた情報表示部と、を備える構成とする。 In order to solve the above-described problems, the organic EL element according to the first aspect of the present invention includes a light-transmitting substrate and a first electrode portion formed of a light-transmitting conductive film laminated on the light-transmitting substrate. And metal wiring provided in contact with the translucent conductive film by patterning the conductive metal layer, an organic light emitting layer stacked on the first electrode portion, and the organic light emitting layer sandwiched between the organic light emitting layer and the organic light emitting layer A second electrode portion disposed opposite to the first electrode portion; a light diffuser disposed on the opposite side of the organic light emitting layer with the first electrode portion interposed therebetween; It has an information reading pattern formed of a material that reflects external light, is disposed between the organic light emitting layer and the light diffuser, and is provided at a position where infrared light can enter and exit through the light diffuser. And an information display unit.
上記有機EL素子において、前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、前記導電性金属層をパターニングして設けられたことが好ましい。 In the organic EL element, the information reading pattern of the information display unit is preferably provided by patterning the conductive metal layer.
上記有機EL素子において、前記金属配線は、矩形状の領域内で、一方向に延びる細線が平行に配列された細線パターンを有し、前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、少なくとも一部が、前記矩形状の領域に配置されたことが好ましい。 In the organic EL element, the metal wiring has a fine line pattern in which fine lines extending in one direction are arranged in parallel within a rectangular region, and at least a part of the information reading pattern of the information display unit is It is preferable to arrange in the rectangular area.
上記有機EL素子において、前記情報読み取りパターンは、文字、記号、および数字の少なくともいずれかで構成された製造固有番号、該製造固有番号を表す読取コード記号、およびロゴマークのうちから選ばれた1以上のパターンを備えることが好ましい。 In the organic EL element, the information reading pattern is selected from a manufacturing unique number composed of at least one of letters, symbols, and numerals, a reading code symbol representing the manufacturing unique number, and a logo mark. It is preferable to provide the above pattern.
本発明の第2の態様の透光性導電基板は、有機EL素子に用いる透光性導電基板であって、透光性基板と、該透光性基板に積層された透光性導電膜と、導電性金属層をパターニングすることにより前記透光性導電膜と当接して設けられた金属配線と、前記透光性導電膜と当接して設けられ、赤外光を反射する材料によって形成された情報読み取りパターンを有する情報表示部と、を備える構成とする。 The translucent conductive substrate according to the second aspect of the present invention is a translucent conductive substrate used for an organic EL element, the translucent substrate, a translucent conductive film laminated on the translucent substrate, and The conductive metal layer is formed by patterning a conductive metal layer and a metal wiring provided in contact with the translucent conductive film, and a material provided in contact with the translucent conductive film and reflecting infrared light. And an information display unit having an information reading pattern.
上記透光性導電基板において、前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、前記導電性金属層をパターニングして設けられたことが好ましい。 In the translucent conductive substrate, it is preferable that the information reading pattern of the information display unit is provided by patterning the conductive metal layer.
上記透光性導電基板において、前記金属配線は、矩形状の領域内で、一方向に延びる細線が平行に配列された細線パターンを有し、前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、少なくとも一部が、前記矩形状の領域に配置されたことが好ましい。 In the translucent conductive substrate, the metal wiring has a fine line pattern in which fine lines extending in one direction are arranged in parallel within a rectangular region, and the information reading pattern of the information display unit includes at least one information read pattern. It is preferable that the portion is disposed in the rectangular region.
上記透光性導電基板において、前記情報読み取りパターンは、文字、記号、および数字の少なくともいずれかで構成された製造固有番号、該製造固有番号を表す読取コード記号、およびロゴマークのうちから選ばれた1以上のパターンを備えることが好ましい。 In the above translucent conductive substrate, the information reading pattern is selected from a manufacturing unique number composed of at least one of letters, symbols, and numerals, a reading code symbol representing the manufacturing unique number, and a logo mark. It is preferable to provide one or more patterns.
本発明の有機EL素子および透光性導電基板によれば、赤外光を反射する材料で形成されるとともに光拡散体で覆われた情報表示部を設けるため、有機EL素子の識別情報を、有機EL素子の外観を損ねることなく簡素な構成により付与することができるという効果を奏する。 According to the organic EL element and the translucent conductive substrate of the present invention, in order to provide the information display unit that is formed of a material that reflects infrared light and is covered with a light diffuser, There exists an effect that it can provide with a simple structure, without impairing the external appearance of an organic EL element.
以下では、本発明の実施形態の有機EL素子および透光性導電基板について添付図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態の有機EL素子の模式的な平面図である。図2(a)は、図1におけるA部の模式的な部分拡大図である。図2(b)は、図1におけるB部の模式的な部分拡大図である。図3(a)は、図2(a)におけるC−C断面図である。図3(b)は、図2(b)におけるD−D断面図である。図4は、本発明の実施形態の有機EL素子の情報表示部の一例を示す模式的な部分拡大図である。
各図面は模式図であるため、寸法や形状は誇張されている(以下の図面も同様)。
Hereinafter, an organic EL element and a translucent conductive substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view of an organic EL element according to an embodiment of the present invention. FIG. 2A is a schematic partial enlarged view of part A in FIG. FIG. 2B is a schematic partial enlarged view of a portion B in FIG. Fig.3 (a) is CC sectional drawing in Fig.2 (a). FIG.3 (b) is DD sectional drawing in FIG.2 (b). FIG. 4 is a schematic partial enlarged view showing an example of the information display unit of the organic EL element according to the embodiment of the present invention.
Since each drawing is a schematic diagram, dimensions and shapes are exaggerated (the same applies to the following drawings).
図1に示す本実施形態の有機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)素子10は、例えば発光手段として図示しない照明装置に具備されたり、有機EL素子10が画素駆動されるようにディスプレイ装置に具備されたり、画像表示素子の背面に有機EL素子10を配置した液晶ディスプレイ装置等の各種の画像表示装置に光源として具備されることが可能である。
また、液晶ディスプレイ装置においては、有機EL素子10を発光手段として備えた照明装置を画像表示素子の背面に配設して構成することもできる。
The organic EL (electroluminescence)
Further, in the liquid crystal display device, an illuminating device including the
有機EL素子10の外形は、使用する装置の必要に応じた発光形状に合わせて適宜の形状を採用することができるが、以下は、一例として、平面視矩形状の形状を有する場合の例で説明する。
As the outer shape of the
有機EL素子10の表面は、外部に出射される可視光を拡散して、輝度ムラを低減する光拡散体6に覆われている。このため、光拡散体6は光透過性を有するものの、有機EL素子10の内部に入射する入射光と、この入射光が内部で反射されて外部に出射される反射光とは、いずれも光拡散体6によって拡散される。このため、内部構造を明確には視認することはできない状態になっている。
例えば、光拡散体6の下方には、有機EL素子10の外形に沿う矩形状に配置された枠部配線2bと、枠部配線2bの互いに対向する一対の辺と平行に複数配置された細線部配線2a(細線パターン)とからなる金属配線2と、細線部配線2a、枠部配線2bが交差する部位の近傍に形成された情報表示部12とが設けられている。
しかし、これらを光拡散体6側から見ると、図2(a)、(b)に模式的に示すように、細線部配線2a、枠部配線2b、情報表示部12は、それぞれ、エッジ部が不明瞭になり解像度が著しく低下したボケ画像2a’、2b’、12’として観察される。
The surface of the
For example, below the
However, when these are viewed from the
有機EL素子10の断面構成は、図1のA部では、図3(a)に示すように、光拡散体6、透光性基板1、第1電極部3(透光性導電膜)、細線部配線2a、有機発光層4、および第2電極部5を備える。また、図1のB部では、図3(b)に示すように、光拡散体6、透光性基板1、第1電極部3、枠部配線2b、情報表示部12、有機発光層4、および第2電極部5を備える。
ここで、透光性基板1、金属配線2、情報表示部12、および第1電極部3は、透光性導電基板7を構成している。また、第1電極部3、有機発光層4、および第2電極部5を発光構造体と称する場合がある。
As shown in FIG. 3A, the cross-sectional configuration of the
Here, the
光拡散体6は、光透過性のベース樹脂材料に光散乱性を付与する微粒子を添加して形成したフィルム材を採用している。
光拡散体6のベース樹脂材料としては、後述する有機発光層4から出射される光の波長に対して光透過性を有するものが使用され、例えば、光学用部材に使用可能なプラスチック材料を使用することができる。
この材料の例としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネ−ト樹脂、ポリスチレン樹脂、MS(アクリルとスチレンの共重合体)樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、シクロオレフィンポリマー等の熱可塑性樹脂、あるいはポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等のオリゴマー又はアクリレート系等からなる放射線硬化性樹脂などの透明樹脂が挙げられる。
The
As the base resin material of the
Examples of this material include polyester resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, MS (acrylic and styrene copolymer) resin, polymethylpentene resin, thermoplastic resin such as cycloolefin polymer, or polyester acrylate. And transparent resins such as radiation curable resins composed of oligomers such as urethane acrylate and epoxy acrylate, or acrylates.
光拡散体6に添加する微粒子としては、無機酸化物からなる粒子又は樹脂からなる粒子が使用できる。例えば、無機酸化物からなる透明粒子としてはシリカやアルミナ、酸化チタン等からなる粒子を挙げることができる。また、樹脂からなる透明粒子としては、アクリル粒子、スチレン粒子、スチレンアクリル粒子及びその架橋体、メラミン一ホルマリン縮合物の粒子、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PFA(ペルフルオロアルコキシ樹脂)、FEP(テトラフルオロエチレン一ヘキサフルオロプロピレン共重合体)、PVDF(ポリフルオロビニリデン)、及びETFE(エチレン一テトラフルオロエチレン共重合体)等の含フッ素ポリマー粒子、シリコン樹脂粒子等を挙げることができる。これら微粒子は、2種類以上を混合して使用してもよい。
As the fine particles added to the
光拡散体6の光散乱性としては、表示や照明に必要な可視光の光拡散性が得られる範囲内、かつ赤外光によって情報表示部12を撮像した際に情報表示部12が解像できる範囲内において、可視光による金属配線2や情報表示部12の視認性ができる限り低くくなるように設定する。
ここで、赤外光の波長は、情報表示部12によって反射され撮像可能な波長であれば、適宜の波長範囲に設定することができるが、近赤外波長が好ましく、例えば、800nm以上1000nm以下の波長範囲が特に好適である。
The light diffusing property of the
Here, the wavelength of infrared light can be set to an appropriate wavelength range as long as it is a wavelength that can be reflected and imaged by the
光拡散体6に好適な光散乱性は、金属配線2、情報表示部12の形状によっても異なるが、例えば、情報表示部12が後述するような製造固有番号を表すキャラクタパターンのような場合、ヘイズ値として、JIS−K7105に準拠して測定した際に、75%以上95%以下が好ましい。
ヘイズ値が75%より小さいとキャラクタパターンが目立ちすぎてしまい好ましくない。一方ヘイズ値が95%より大きいと、光の透過性が低くなりすぎるため、有機EL素子10の輝度低下を招いてしまい好ましくない。
The light scattering property suitable for the
If the haze value is less than 75%, the character pattern becomes too conspicuous, which is not preferable. On the other hand, if the haze value is larger than 95%, the light transmittance becomes too low, which causes a decrease in luminance of the
ベース樹脂材料に添加する微粒子は、平均粒径で、1μm以上3μm以下であることが好ましい。尚、上記微粒子は、単分散のものが下記の性能を満たすために好ましい。単分散でないもので、微小粒子が混入していると粒子の分散性が阻害されるため好ましくない。また、粗大粒子が混入していると、粒子が表面から突出するなどにより、ザラツキ等の外観不良が発生してしまうため好ましくない。また平均粒径はレーザー回折散乱方式等により計測できる。
粒子径が小さいほど、赤外波長での散乱断面積と、可視波長での散乱断面積との比を大きくすることができる。このため、可視波長では光散乱性が高まるため、金属配線2や情報表示部12がぼけて視認性が低下するが、赤外波長では光があまり散乱されないため、鮮明に撮像することが可能である。
微粒子の平均粒径が1μmより小さいと、可視波長での散乱断面積が小さくなりすぎ、金属配線2や情報表示部12の形状が光拡散体6越しに見えやすくなるおそれがある。
微粒子の平均粒径が3μmより大きいと、散乱断面積が粒子直径に比して大きくならないため、散乱性が頭打ちとなってしまう。また、近赤外波長での散乱断面積と、可視波長での散乱断面積の比が小さくなるため好ましくない。
The fine particles added to the base resin material preferably have an average particle size of 1 μm to 3 μm. The fine particles are preferably monodispersed in order to satisfy the following performance. It is not monodispersed, and if fine particles are mixed, it is not preferable because the dispersibility of the particles is inhibited. In addition, it is not preferable that coarse particles are mixed, because the appearance of defects such as roughness may occur due to the particles protruding from the surface. The average particle diameter can be measured by a laser diffraction scattering method or the like.
The smaller the particle diameter, the larger the ratio of the scattering cross section at the infrared wavelength and the scattering cross section at the visible wavelength. For this reason, light scattering is increased at visible wavelengths, and the
When the average particle size of the fine particles is smaller than 1 μm, the scattering cross section at the visible wavelength becomes too small, and the shapes of the
When the average particle size of the fine particles is larger than 3 μm, the scattering cross section does not become larger than the particle diameter, so that the scattering property reaches a peak. Further, the ratio of the scattering cross section at the near infrared wavelength to the scattering cross section at the visible wavelength is not preferable.
光拡散体6の好ましい厚さとしては、光拡散体6に入射した波長550nmの光の平均自由工程の10倍より大きく30倍より小さいことが好ましい。
すなわち、光拡散体6の厚さをDvとすると、Dvは次式を満足することが好ましい。
The preferred thickness of the
That is, when the thickness of the
10<Dv/Lp<30 ・・・(1)
Lp=1/(ρ・Sp/Vp) ・・・(2)
10 <Dv / Lp <30 (1)
Lp = 1 / (ρ · Sp / Vp) (2)
ここで、Lpは平均自由工程、Spは光拡散体6の微粒子の散乱断面積、Vpは微粒子体積、ρは光拡散体6に占める微粒子の体積密度である。
尚、光拡散体6の微粒子の散乱断面積Spは、上記の平均粒径と、微粒子の屈折率、ベース樹脂の屈折率からMieの散乱理論より算出できる。微粒子の屈折率、ベース樹脂の屈折率は、ベッケ線法を用いることができる。また、光拡散体6に占める微粒子の体積密度ρは、重量比率と、微粒子の真比重及び、ベース樹脂の比重から算出できる。すなわち、体積密度ρ=重量比率・(ベース樹脂の比重/微粒子の真比重)となる。
Dv/Lpが10以下の場合には、波長550nmの光での光散乱が起こりにくくなるため金属配線2や情報表示部12が見えやすくなるため好ましくない。
また、Dv/Lpが30以上の場合には、波長550nmの光での光散乱が起こりやすくなり、赤外波長でも情報表示部12の読み取りが難しくなるため好ましくない。
光拡散体6の最表面は、凹凸形状が形成されていてもよい。この際、光拡散体6の厚さDvは、その平均厚みとすることができる。この平均厚みは、レーザー顕微鏡による表面形状とその光拡散体6の断面を光学顕微鏡観察により計測したものから算出することができる。
Here, Lp is the mean free path, Sp is the scattering cross section of the fine particles of the
The scattering cross section Sp of the fine particles of the
When Dv / Lp is 10 or less, light scattering with light having a wavelength of 550 nm is less likely to occur, so that the
Moreover, when Dv / Lp is 30 or more, light scattering with light having a wavelength of 550 nm is likely to occur, and reading of the
The outermost surface of the
光拡散体6の一例としては、ベース樹脂材料であるアクリル樹脂に、平均粒径2μmのシリコーン粒子を、体積密度ρで20%だけ添加して、Dv=45(μm)とした拡散フィルムを挙げることができる。この光拡散体6におけるDv/Lpは、18.4であり、ヘイズ値は89%である。
An example of the
透光性基板1は、透光性導電基板7の基材となる板状部材であり、有機EL素子10の外部側に向く第1表面1aに光拡散体6が積層され、第1表面1aと反対側の第2表面1bに第1電極部3および金属配線2が積層して設けられている。
透光性基板1の材質は、有機発光層4からの光を良好に透過できる透光性材料であれば、特に限定されず、例えば、ガラス板、合成樹脂などを採用することができる。
The
The material of the
透光性基板1の材料としてガラス板を採用した場合には、合成樹脂を採用する場合に比べて、加工時の耐熱性が高くかつ加工しやすい。
特に、透光性基板1の材料としてサファイアガラスを採用すると、サファイアガラスは熱伝導率が15〜40W(/m・K)と高いので、有機発光層4における発光に伴って発生する熱を好適に拡散させることができる。さらに、サファイアガラスの屈折率は1.76程度であるため、後述する第1電極部3として、ITO(酸化インジウムスズ)を採用する場合には、ITOとの界面における反射を抑えることができ、ITOによる電極構造が目立たない構成とすることができる。
When a glass plate is adopted as the material of the
In particular, when sapphire glass is employed as the material of the light-transmitting
透光性基板1の材料の合成樹脂としては、例えば、PMMA、ポリカーボネート、ポリスチレン等のプラスチック材料を用いることができる。さらに、その他の様々な材料を用いることができるが、特に好ましい材料はシクロオレフィン系のポリマーであり、このポリマーは、加工性及び耐熱性、耐水性、光学透光性等の材料特性の全てにおいて優れたものである。
As a synthetic resin for the material of the
本実施形態では、一例として、無アルカリガラスからなり、厚さが1.2(mm)のガラス板を採用している。この例の場合、可視域における透過率と、近赤外域における透過率との差はほとんどなく、いずれも約90%である。 In this embodiment, as an example, a glass plate made of alkali-free glass and having a thickness of 1.2 (mm) is employed. In this example, there is almost no difference between the transmittance in the visible region and the transmittance in the near infrared region, and both are about 90%.
第1電極部3は、有機発光層4に電圧を印加し、有機発光層4から発光した光を外部に透過させるための透明電極であり、透光性基板1の第2表面1bを略覆う矩形状の領域に積層して設けられている。
第1電極部3の材質は、導電性を有する透光性材料であれば、特に限定されず、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)、IZO(酸化インジウム・酸化スズ)、ZnO(酸化亜鉛)などを成膜した透光性導電膜を採用することができる。
本実施形態では、第1電極部3は、発光構造体の陽極を構成するため、一例として、厚さt3=100(nm)のITOを採用している。このような第1電極部3の可視域(380nm〜780nm)から近赤外域(780〜1000nm)における透過率は約80%である。
The
The material of the
In the present embodiment, since the
有機EL素子10は、電流駆動型の素子であるため、第1電極部3の電気抵抗が大きいと、第1電極部3の中心付近では、十分な電流が得られないことにより、光量が低下し、暗くなってしまう。このため、有機EL素子10では、金属配線2を第1電極部3と当接させることにより、第1電極部3の中心部の電気抵抗が低下しすぎないようにしている。
このように、金属配線2は、第1電極部3の電気抵抗値を低減する部材であり、金属配線2の形状や厚さ等は、発光構造体として必要な電気抵抗値に応じて適宜に設定することができる。
本実施形態では、金属配線2は、一例として、銅で形成され、透光性基板1の第1表面1aと第1電極部3との間に積層されている厚さt2=15(nm)の層状部である。このため、金属配線2は、第2表面1bと接する部位を除く側面および裏面(第2表面1bと当接する面の反対側の表面)がすべて第1電極部3と当接している。
これにより、金属配線2は第1電極部3と電気的に接続されている。
金属配線2をこのような厚さとすることにより、可視光に対する反射率は約60%になっている。一方、800nm以上1000nm以下の波長範囲に対する反射率は約90%%になっている。
Since the
As described above, the
In the present embodiment, the
Thereby, the
By setting the
枠部配線2bは、図1に示すように、第1電極部3の外周から幅2mmの帯状に形成され、全体として矩形状に形成されている。
細線部配線2aは、枠部配線2bで囲まれた矩形状領域に形成され、図3(a)に示すように、幅w2a、配列ピッチp2aの平行格子状のパターンを形成している。
幅w2a、配列ピッチp2aは、第1電極部3に必要な電気抵抗に応じて、適宜設定すればよい。好ましい範囲の一例としては、幅w2aが、10μm以上2mm以下、配列ピッチp2aが、20μm以上4mm以下の例を挙げることができる。
幅w2aが、10μmより狭いとフォトリソグラフィーの解像度の要求が厳しく、加工が非常に難しくなるため好ましくない、2mmより広いと細線部配線2aが目立ってしまい好ましくない。
尚、幅w2aは、配列ピッチp2aの半分から1/10が好ましい。半分より広いと有機EL素子10の輝度が低下してしまい好ましくない。1/10より狭いと十分な導電性が得られないため好ましくない。
本実施形態では一例として、w2a=50(μm)、p2a=200(μm)としている。
As shown in FIG. 1, the
The fine
The width w 2a and the arrangement pitch p 2a may be appropriately set according to the electrical resistance required for the
If the width w 2a is narrower than 10 μm, it is not preferable because the resolution requirement of photolithography is severe and processing becomes very difficult. If the width w 2a is larger than 2 mm, the thin
The width w 2a is preferably half to 1/10 of the arrangement pitch p 2a . If it is wider than half, the luminance of the
In this embodiment, as an example, w 2a = 50 (μm) and p 2a = 200 (μm).
金属配線2の材質は、第1電極部3よりも抵抗の低い金属であれば、特に限定されず、例えば、アルミニウム、銅、金、銀のような単金属、MAM(Mo(モリブデン)/Al・Nd(アルミニウム−ネオジウム系合金)/Mo(モリブデン))のような合金等を採用することができる。
また、金属配線2は、一種類の金属または合金による単層構造であってもよいし、複数種類の金属または合金を積層させた多層構造を有していてもよい。
本実施形態では、一例として、アルミニウムを採用している。
The material of the
Further, the
In this embodiment, aluminum is adopted as an example.
このような、金属配線2は、例えば、金属配線2を構成する金属また合金によって、透光性基板1上に厚さt2の導電性金属層を形成し、この導電性金属層をフォトリソグラフィーによってパターニングすることにより製造することができる。パターニングに用いる露光マスクは、細線部配線2a、枠部配線2bのパターンに対応する微細パターンをレーザー露光の描画機等で形成したクロムマスクブランクス等を採用することができる。
For such a
情報表示部12は、有機発光層4と光拡散体6との間において、光拡散体6を通して赤外光が入出射可能な位置に設けられ、有機EL素子10に固有の情報を表示する部位である。
本実施形態では、一例として、金属配線2と同様に、透光性電極部3と透光性基板1との間の層状部として形成され、金属配線2の枠部配線2bと細線部配線2aとが交差する部位の近傍において、長手方向が枠部配線2bの延在方向に沿う矩形状の領域に形成されている。このため、情報表示部12の短手方向の一部は、細線部配線2aが形成された矩形状領域と重なるように設けられている。
情報表示部12は、赤外光を反射する材料によって形成された情報読み取りパターンを有している。
本実施形態では、情報表示部12の情報読み取りパターンは、一例として、有機EL素子10の個々の素子を識別するための、製造固有番号を表す読取コード記号である1次元バーコードで構成されており、図4に示すように、バーコードシンボル部12A(読取コード記号)、キャラクタ部12B、およびクワイエットゾーン12Cを備える。
The
In the present embodiment, as an example, similarly to the
The
In the present embodiment, the information reading pattern of the
バーコードシンボル部12Aは、情報を表示するため適宜の幅を有するバーパターン12aが表示する情報に応じて配列された部位である。
キャラクタ部12Bは、バーコードシンボル部12Aに隣接して配置され、バーコードシンボル部12Aが表す情報に対応する英数字または記号からなるキャラクタが複数配列された部位である。このため、製造固有番号は、数字以外の英字、記号などを適宜組み合わせて構成することが可能である。図4では、一例として、キャラクタ部12Bが「193465」という数字の並びからなる場合の例を示している。
クワイエットゾーン12Cは、バーコードの始端と終端とを示すためバーコードシンボル部12Aの配列方向の両端部に形成された一定幅以上の空白部である。
The bar
The character part 12B is a part arranged adjacent to the
The
情報表示部12の寸法は、光拡散体6を通して可視光により観察すると解像せず、赤外光により観察すると解像する寸法を、パターンに応じて設定することが好ましい。
例えば、バーコードシンボル部12Aのバーパターン12aの最小隙間は、0.1mm以上0.5mm以下であることが好ましい。
キャラクタパターン12bを構成するキャラクタは、0.3mm□以上3mm□以下の大きさを有することが好ましい。ここで、「Xmm□」は、一辺がXmmの正方形の大きさを意味する。
It is preferable that the dimension of the
For example, the minimum gap of the
The characters constituting the
情報表示部12の材質は、赤外光を反射する材料であれば、特に限定されず、例えば、金属配線2に用いることが可能な金属材料や合金のうちから選択された1以上の材料を採用することができる。
赤外光の波長範囲および反射率は、後述する情報の読取手段の波長感度に応じて適宜選択することができる。例えば、シリコンベースの撮像素子を用いたカメラ等の撮像装置を読取手段とする場合、800nm以上1000nm以下の波長範囲において、反射率が80%以上であることが好ましい。
The material of the
The wavelength range and reflectance of the infrared light can be appropriately selected according to the wavelength sensitivity of the information reading means described later. For example, when an image pickup apparatus such as a camera using a silicon-based image pickup device is used as the reading unit, the reflectance is preferably 80% or more in a wavelength range of 800 nm to 1000 nm.
また、情報表示部12は、金属配線2とは異なり、導電性を有することが必須ではないため、例えば、絶縁性材料や、第1電極部3より電気抵抗が高い導電性材料も使用することが可能である。例えば、ソルダーレジストなども好適に採用することができる。
In addition, unlike the
本実施形態における情報表示部12は、一例として、金属配線2を形成するのと同じ導電性金属層を、金属配線2をパターニングする際に同時にパターニングして形成されている。すなわち、金属配線2を形成するのと同様にして、バーコードシンボル部12A、キャラクタ部12Bに対応する部位に、導電性金属層が残るように、パターニングしている。
このため、図3(b)に示すように、情報表示部12は、金属配線2と同じ層に形成されて、同一の厚さt2を有しており、細線部配線2aおよび枠部配線2bと並列されている。
また、クワイエットゾーン12Cやバーパターン12a同士の隙間には、第1電極部3となるITOが充填されている。
As an example, the
For this reason, as shown in FIG. 3B, the
In addition, the gaps between the
有機発光層4は、蛍光有機化合物を含有し、この蛍光有機化合物中に注入された電子と正孔の再結合によって生じたエキシトンによって発光するフィルム状、シート状、若しくは板状の部材である。本実施形態では、有機発光層4は、第1電極部3の全体を覆うように第1電極部3に積層されている。
有機発光層4は、白色光を発する白色発光層であってもよいし、青色、赤色、黄色、緑色など特定の範囲の波長の光を発する発光層であってもよい。
例えば、白色光を発する発光層の例としては、第1電極部3と後述する第2電極部5との間に、第1電極部3から順に、CuPc(銅フタロシアニン)/α−NPDにルブレン1%ドープ/ジナクチルアントラセンにペリレン1%ドープ/Alq3/フッ化リチウムを積層させた構成とすればよい。
The organic
The organic
For example, as an example of a light emitting layer that emits white light, rubrene is added to CuPc (copper phthalocyanine) / α-NPD in order from the
また、有機発光層4として、有機発光層4から射出される光の波長をR(赤色)、G(緑色)、B(青色)とすることのできる公知の材料を適宜選択して採用することもできる。
また、有機発光層4は、光の三原色に対応したそれぞれの波長の光を発する画素が整列配置され、画素ごとに発光状態が制御される発光層であってもよい。この場合、有機EL素子10は、フルカラーディスプレイとして機能する。また、白色光を発する複数の画素が整列配置された有機発光層4にカラーフィルタを重ねることによっても有機EL素子10をフルカラーディスプレイとして機能させることができる。
Further, as the organic
Further, the organic
第2電極部5は、有機発光層4に電圧を印加するため、有機発光層4を挟んで第1電極部3と対向する位置に配置された電極部材である。
本実施形態では、第2電極部5は、例えば、アルミニウム、銀などの金属材料からなり、発光構造体の陰極を構成するとともに有機発光層4からの光を有機発光層4側に反射できるようになっている。
本実施形態では、第2電極部5は、一例として、厚さt5=100(nm)のアルミニウムを採用している。
The
In this embodiment, the
In the present embodiment, the
このような構成の第1電極部3および第2電極部5は、図示略の給電部に接続されており、給電部によって第1電極部3および第2電極部5に電圧がかけられることにより、それぞれ電子と正孔とを有機発光層4に注入することができる。
The
このような構成を主要部として有する有機EL素子10は、以下のようにして製造することができる。
図5(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明の実施形態の有機EL素子の製造工程の一例を示す模式的な工程説明図である。
The
5A, 5 </ b> B, 5 </ b> C, and 5 </ b> D are schematic process explanatory views illustrating an example of a manufacturing process of the organic EL element according to the embodiment of the present invention.
まず、図5(a)に示すように、透光性基板1の第2表面1bに厚さt3の導電性金属層Mを形成する。
次に、図5(b)に示すように、フォトリソグラフィーによって、導電性金属層Mをパターニングし、金属配線2と情報表示部12とを同時に形成する。
このために、まず、金属配線2と情報表示部12との形状に対応する開口パターンを有する露光用マスクを製造する。したがって、本実施形態の露光用マスクには、情報表示部12における情報読取パターンである製造固有番号を示すバーコードシンボル部12A、キャラクタ部12Bのパターンに対応する開口パターンが形成されている。
次に、導電性金属層M上に図示略のレジストを塗布し、紫外線露光機等により露光用マスクのパターンを投影することにより、露光を行う。そして、露光部を現像してから、エッチングを行うことにより、露光部に対応する導電性金属層Mを除去する。
これにより、図5(b)に示すように、金属配線2と情報表示部12とが形成される。
First, as shown in FIG. 5A, a conductive metal layer M having a thickness t3 is formed on the
Next, as shown in FIG. 5B, the conductive metal layer M is patterned by photolithography to form the
For this purpose, first, an exposure mask having an opening pattern corresponding to the shapes of the
Next, a resist (not shown) is applied onto the conductive metal layer M, and exposure is performed by projecting an exposure mask pattern using an ultraviolet exposure machine or the like. Then, after developing the exposed portion, etching is performed to remove the conductive metal layer M corresponding to the exposed portion.
Thereby, as shown in FIG.5 (b), the
次に、図5(c)に示すように、パターニングされた導電性金属層Mおよび第2表面1b上に、ITOの透明導電膜をスパッタ成膜することにより、第2表面1bから測った厚さが厚さt3となる第1電極部3の層膜を形成する。
このようにして、透光性導電基板7が形成される。
Next, as shown in FIG. 5C, the thickness measured from the
Thus, the translucent
次に、図5(d)に示すように、透光性導電基板7の第1電極部3上に、蒸着を用いて、有機発光層4を形成していく。例えば、CuPc(銅フタロシアニン)/α−NPDにルブレン1%ドープ/ジナクチルアントラセンにペリレン1%ドープ/Alq3/フッ化リチウムがこの順に積層された積層体を形成する。
有機発光層4が形成されたら、有機発光層4上に、厚さt5の第2電極部5を成膜する。
このようにして、図3(a)、(b)に示すような有機EL素子10が製造される。
Next, as shown in FIG. 5D, the organic
When the organic
In this way, the
次に、有機EL素子10の作用について、情報表示部12の作用を中心として説明する。
図6は、本発明の実施形態の有機EL素子の作用を説明する模式図である。
Next, the operation of the
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining the operation of the organic EL element according to the embodiment of the present invention.
有機EL素子10は、図示略の給電部を介して、第1電極部3、第2電極部5に電圧を印加すると、第1電極部3、第2電極部5から、それぞれ電子、正孔が、有機発光層4に注入される。これにより有機発光層4が発光する。
図3(a)に示すように、有機発光層4から第1電極部3に向かう光L3は、第1電極部3、金属配線2の透過率に応じてそれぞれ透過し、透光性基板1を透過してから光拡散体6に入射する。
一方、有機発光層4から第2電極部5に向かう光L5は、第2電極部5で反射された後、有機発光層4の内部を進んで、第1電極部3に入射し、光L3と同様に、第1電極部3、金属配線2の透過率に応じてそれぞれ透過し、透光性基板1を透過してから光拡散体6に入射する。
これら、光L3、L5が光拡散体6に入射すると、光拡散体6では、光拡散体6に添加された微粒子によって、光L3、L5が散乱され、光拡散体6から出射される際には、波長に応じて決まる一定の範囲に拡散する出射光L6として外部に出射される。ただし、本実施形態では、光拡散体6は赤外光の散乱が抑制されているため、赤外光は可視光に比べると拡散される度合いは格段に小さい。
When a voltage is applied to the
As shown in FIG. 3A, the light L3 directed from the organic
On the other hand, the light L5 traveling from the organic
When these lights L3 and L5 enter the
このため、外部の観察者は、出射光L6の可視光成分によって、有機発光層4の形状に応じた面発光領域を、出射光L6の拡散範囲の種々の方向から視認することができる。
その際、第1電極部3と金属配線2との間の透過率の差に基づく輝度ムラは、光拡散体6における散乱によって均されていく。
この結果、図2(a)に模式的に示すように、例えば、細線部配線2aの輪郭がぼけるとともに線幅も広がり、解像度が低下したボケ画像2a’しか観察できなくなるため、細線部配線2aの視認性が著しく低下する。
特に、本実施形態では、金属配線2を薄肉とすることで、金属配線2の透過率を上げているため、光拡散体6が存在しない状態でも、細線部配線2aのコントラストが低くなっている。これにより、さらに視認性が低下している。
For this reason, the external observer can visually recognize the surface light emitting region corresponding to the shape of the organic
At that time, the luminance unevenness based on the difference in transmittance between the
As a result, as schematically shown in FIG. 2A, for example, the outline of the thin
In particular, in this embodiment, since the
このような光拡散体6による視認性の低下は、金属配線2と同一材料、同一厚さで形成された、情報表示部12に対しても同様にして起こる。
このため、観察者は、図2(b)に模式的に示すように、情報表示部12のバーコードシンボル部12Aやキャラクタ部12Bが解像しないようなボケ画像12a’しか観察できなくなる。
このように、光拡散体6によって、有機EL素子10の内部構造が視認できなくなるため、有機EL素子10の内部構造が見えてしまう場合に比べて、有機EL素子10の外観が向上する。
また、情報表示部12が表すような識別情報を光拡散体6上に形成しないため、外観上このような識別情報を隠蔽するような部材を追加する必要もがない。このため、簡素な構成によって有機EL素子10の外観や意匠性を向上することができる。
Such a decrease in visibility due to the
For this reason, as schematically shown in FIG. 2B, the observer can observe only the
Thus, since the internal structure of the
Further, since identification information as represented by the
また、観察者は、バーコードシンボル部12A、キャラクタ部12Bが表す製造固有番号を光拡散体6越しに読み取ることができないため、有機EL素子10の製造固有番号を目視の観察者に対して隠蔽することができる。
有機EL素子10の識別情報を示す情報表示部12は、金属配線2と同様の製造プロセスで製造されるため、製造工程に対応して正確に対応して形成することができる。
また、本実施形態では、情報表示部12を金属配線2と同時に形成するため、情報表示部12のみを形成する製造プロセスを省略することができるため、製造工程を簡素化し、製造コストをさらに低減することができる。
In addition, since the observer cannot read the production unique number represented by the
Since the
Moreover, in this embodiment, since the
一方、本実施形態の有機EL素子10では、このように隠蔽された製造固有番号は、赤外光を用いた読取手段によって、正確に読み取ることができる。
図6に示すカメラ8、画像処理装置9は、このような読取手段の一例である。
カメラ8は、有機EL素子10からの光を撮像面に結像させる撮像光学系8aと、撮像光学系8aの撮像面に配置され、有機EL素子10の像を光電変換する撮像素子8bとを備える。
撮像素子8bとしては、例えば、シリコンベースの撮像素子であるCCDなどが特に好適である。CCDは、シリコンのバンドギャップに対応する光子の波長が近赤外にあるため、近赤外光に対する良好な感度を有しているため好ましい。
また、カメラ8は、可視光以下の短波長の光をカットして、撮像光学系8aに赤外光のみを入射させる可視光カットフィルター8cを備えている。可視光カットフィルター8cのカットオフ波長は、一例として、800nmである。
また、カメラ8には、撮像素子8bから画像信号を取得して、画像処理を行う画像処理装置9が接続されている。
On the other hand, in the
The
The
As the
In addition, the
The
画像処理装置9は、例えば、情報表示部12のバーコードシンボル部12Aやキャラクタ部12Bの画像パターンを画像処理して、それぞれが表す情報を解析する画像解析部9aと、取得した画像信号や画像処理した画像データを表示するモニタ9bを備えている。
画像処理装置9の装置構成は、本実施形態では、CPU、メモリ、入出力インターフェース、外部記憶装置などを備えるコンピュータを採用している。
For example, the
In this embodiment, the
図6に示すように、有機EL素子10の光拡散体6側の外部から、可視光LVと赤外光IRとを含む照明光Lが入射すると、金属配線2および情報表示部12によって可視光LVおよび赤外光IRが反射されて、透光性基板1を透過し、光拡散体6に入射する。
本実施形態においては、可視光LVは、光拡散体6によって散乱され、拡散光として光拡散体6から出射されるが、可視光LVよりも長波長の赤外光IRは、光拡散体6によってほとんど散乱されない。
一方、カメラ8は、可視光カットフィルター8cを透過する赤外光IRのみを撮像面に結像する。このため、カメラ8の撮像素子8bでは、赤外光IRによる情報表示部12の鮮明な画像が撮像される。撮像素子8bで光電変換された画像信号は、画像処理装置9に送出され、モニタ9bに表示される。
また、画像処理装置9は、画像解析部9aによって画像信号を画像処理して、画像情報を解析する。これにより、画像処理装置9は、例えば、バーコードシンボル部12Aの情報をデコードしたり、キャラクタ部12Bを画像認識してキャラクタ部12Bが表す情報を取得したりすることができる。これらの解析情報は、モニタ9bに表示される。
このようにして、観察者は、モニタ9bに表示された画像や解析情報から、情報表示部12が表す情報を読み取ることができる。
As shown in FIG. 6, visible from the outside of the
In the present embodiment, the visible light L V is scattered by the
On the other hand, the
Further, the
In this way, the observer can read the information represented by the
上記の照明光Lは、情報表示部12の情報を読み取る目的のみに用いる場合には、可視光Lvを除去し、赤外光LIRのみを含む光源を用いることも可能である。
また、照明光Lは、外部照明には限定されず、有機EL素子10を発光させ、有機発光層4で発生される赤外光成分を利用してもよい。この場合、金属配線2や情報表示部12が赤外光を反射することにより、金属配線2や情報表示部12の間の第1電極部3を透過する透過光がカメラ8によって撮像される。このため、金属配線2や情報表示部12のシルエット画像が画像処理装置9によって取得される。画像処理装置9は、画像解析部9aによって低輝度部の画像を解析することにより上記と同様の解析情報を取得したり、バーコードシンボル部12A、キャラクタ部12Bが低輝度部を構成する画像をモニタ9bに表示したりすることができる。
Illumination light L above, when used only for the purpose of reading information of the
Further, the illumination light L is not limited to external illumination, and an infrared light component generated by the organic
以上説明したように、赤外光を反射する材料で形成されるとともに光拡散体6で覆われた情報表示部12を設けるため、有機EL素子10の識別情報を、有機EL素子10の外観を損ねることなく簡素な構成により付与することができる。
As described above, in order to provide the
[第1変形例]
次に、本実施形態の第1変形例の有機EL素子について説明する。
図7は、本発明の実施形態の第1変形例の有機EL素子の情報表示部を示す模式的な部分拡大図である。
[First Modification]
Next, the organic EL element of the 1st modification of this embodiment is demonstrated.
FIG. 7 is a schematic partial enlarged view showing an information display unit of an organic EL element according to a first modification of the embodiment of the present invention.
図1に示すように、本変形例の有機EL素子20は、上記実施形態の有機EL素子10における情報表示部12に代えて、情報表示部22を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
As shown in FIG. 1, the
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.
情報表示部22は、図7に示すように、情報表示部12と同様の位置に、矩形状の余白部22bが形成され、余白部22bの範囲内にキャラクタパターン22a(情報読み取りパターン)が形成されたものである。
キャラクタパターン22aは、例えば、英数字や記号を始めとする1以上の文字情報を表すキャラクタが配列された部位である。
キャラクタパターン22aを構成するキャラクタの大きさは、上記実施形態のキャラクタパターン12bと同様にすることが好ましい。
キャラクタパターン22aが表す情報は、有機EL素子20を識別するための情報であれば、特に限定されない。例えば、上記実施形態と同様な製造固有番号を採用することができる。その他の識別情報としては、例えば、型式番号(記号)、製造年月日、製品名、ブランド名、ロゴマーク、真贋判定用の文字列またはマークなどを挙げることができる。
図7には、一例として、キャラクタパターン22aが「13A1934−3C」という数字、英文字、記号の並びからなる場合の例を示している。
As shown in FIG. 7, the
The
The size of the character constituting the
The information represented by the
FIG. 7 shows an example in which the
このような情報表示部22は、情報表示部12と同様の材質、製造方法によって製造することができる。例えば、上記実施形態と同様にして、金属配線2を形成するのと同一の製造プロセスにより、金属配線2と同時に製造することができる。
Such an
本変形例によれば、任意の文字列、記号列によって、情報読み取りパターンを形成するため、上記実施形態に比べて広範囲の情報表示を行うことができる。 According to this modification, an information reading pattern is formed by an arbitrary character string and symbol string, and thus a wider range of information display can be performed as compared to the above embodiment.
[第2変形例]
次に、本実施形態の第2変形例の有機EL素子について説明する。
図8は、本発明の実施形態の第2変形例の有機EL素子の情報表示部を示す模式的な部分拡大図である。
[Second Modification]
Next, the organic EL element of the 2nd modification of this embodiment is demonstrated.
FIG. 8 is a schematic partial enlarged view showing an information display unit of an organic EL element according to a second modification of the embodiment of the present invention.
図1に示すように、本変形例の有機EL素子30は、上記実施形態の有機EL素子10における情報表示部12に代えて、情報表示部32を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
As shown in FIG. 1, the
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.
情報表示部32は、図8に示すように、情報表示部12と同様の位置に、正方形状の余白部32bが形成され、余白部32bの範囲内に、読取コード記号である2次元バーコードの一例であるQRコード部32a(情報読み取りパターン、読取コード記号)が形成されたものである。
QRコード部32aは、QRコード(登録商標)の規格に基づいて、切り出しシンボル部32A、アライメントシンボル部32B、データセル部32Cが形成された部位である。
具体的なQRコード規格の例としては、例えば、Model2M1(21x21セル)誤り訂正Q(25%)等を挙げることができる。
As shown in FIG. 8, the
The
Specific examples of the QR code standard include Model 2M1 (21 × 21 cell) error correction Q (25%).
データセル部32Cが表す情報は、有機EL素子30を識別するための情報であれば、特に限定されない。例えば、上記実施形態と同様な製造固有番号や、上記第1変形例に例示した識別情報などはすべて採用することができる。
また、QRコード(登録商標)は、記録できる情報量が字数換算で1次元バーコードに比べて格段に多いため、例えば、有機EL素子10の仕様や製造履歴などを表すテキスト情報をコード化することが可能である。
The information represented by the
In addition, since the QR code (registered trademark) has a remarkably large amount of information that can be recorded in comparison with the one-dimensional barcode in terms of the number of characters, for example, the text information representing the specifications and manufacturing history of the
このような情報表示部32は、情報表示部12と同様の材質、製造方法によって製造することができる。例えば、上記実施形態と同様にして、金属配線2を形成するのと同一の製造プロセスにより、金属配線2と同時に製造することができる。
近年では、金属配線2を形成する技術が発達し、従来のプロキシミティ露光によるパターンニングでは、記録できなかったような線幅のものでも、投影露光機を用いることにより形成することができるようになっている。具体的には幅20μm程度のL/S(金属配線の幅と配線間の隙間の幅を足したもの)の記録が可能である。このため、幅10μmの線状パターンは容易に形成できる。
データセル部32Cは、ドット形状のセルの並びで情報を記録している。読み取り誤差を低減するためには、データセル部32Cは、20μm□のセルを用いることが好ましい。
この場合には、QRコード部32aは、一辺が0.42mm(=0.02mm×21セル)の大きさに形成される。
Such an
In recent years, a technique for forming the
The
In this case, the
光拡散体6を通して可視光により観察すると解像せず、赤外光により観察すると解像するQRコード部32aの大きさは、0.3mm□以上2mm□以下の大きさを有することが好ましい。
ここで、下限に近い大きさのQRコード部32aを解像するためには、近赤外光のうちでも長波長側の照明光LIRを用いることがより好ましい。
上記のように、QRコード部32aが0.42mm□の場合、900nm近傍の照明光LIRを用いて、カメラ8で撮像することによりQRコード部32aを良好に解像することができる。
The
Here, in order to resolve the
As described above, when the
本変形例によれば、QRコード部32aによって、情報読み取りパターンを形成するため、上記実施形態に比べてコンパクトなスペースで、より多くの情報を表示することができる。
According to this modification, since the information reading pattern is formed by the
[第3変形例]
次に、本実施形態の第3変形例の有機EL素子について説明する。
図9は、本発明の実施形態の第3変形例の有機EL素子の情報表示部を示す模式的な部分拡大図である。
[Third Modification]
Next, the organic EL element of the 3rd modification of this embodiment is demonstrated.
FIG. 9 is a schematic partial enlarged view showing an information display unit of an organic EL element according to a third modification of the embodiment of the present invention.
図1に示すように、本変形例の有機EL素子40は、上記第2変形例の有機EL素子30における情報表示部32に代えて、情報表示部42を備える。
以下、上記第2変形例と異なる点を中心に説明する。
As shown in FIG. 1, the organic EL element 40 of the present modification includes an
Hereinafter, a description will be given centering on differences from the second modification.
情報表示部42は、図9に示すように、上記第2変形例の情報表示部32のQRコード部32aの開口部と金属部分とを反転させるとともに余白部32bを金属部分で形成したものであり、QRコード部32a、余白部32bに代えて、反転QRコード部42a(情報読み取りパターン、読取コード記号)、反転余白部42bを備える。すなわち、情報表示部42は、情報表示部32のパターンにネガポジ反転変換を施したパターンに相当する。
このため、反転QRコード部42aは、切り出しシンボル部32A、アライメントシンボル部32B、データセル部32Cに代えて、それぞれのパターン金属部分で形成されたパターンを開口部で形成した切り出しシンボル部42A、アライメントシンボル部42B、データセル部42Cを備える。
As shown in FIG. 9, the
For this reason, the inverted
このような情報表示部42は、導電性金属層Mをパターニングする際に、パターンの露光部と非露光部とを反転させたパターンの露光用マスクを形成する点が異なるのみで、上記第2変形例の情報表示部32と同様にして製造することができる。
本変形例によれば、反転QRコード部42aによって、情報読み取りパターンを形成するため、上記第2変形例と同様にして、上記実施形態に比べてコンパクトなスペースで、より多くの情報を表示することができる。
The
According to the present modification, since the information reading pattern is formed by the inverted
[第4〜第8変形例]
次に、本実施形態の第4〜第8変形例について説明する。
図10(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は、本発明の実施形態の第4〜第8変形例の有機EL素子の主要部の構成を示す模式的な断面図である。
[Fourth to eighth modifications]
Next, fourth to eighth modifications of the present embodiment will be described.
10A, 10 </ b> B, 10 </ b> C, 10 </ b> D, and 10 </ b> E are schematic diagrams illustrating a configuration of main parts of organic EL elements according to fourth to eighth modifications of the embodiment of the present invention. It is sectional drawing.
第4〜第8変形例は、上記実施形態の有機EL素子10の層構成の変形例である。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。
4th-8th modification is a modification of the layer structure of the
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.
図10(a)に主要部を示すように、第4変形例の有機EL素子60は、上記実施形態の有機EL素子10の第1電極部3に代えて、第1電極部63を備える。
第1電極部63は、上記実施形態の第1電極部3と全く同様の材質からなるが、第2表面1bおよび金属配線2(情報表示部12)の表面から測った層厚が略一定(一定の場合も含む)となるように形成された点のみが異なる。
このため、第1電極部63は、金属配線2(情報表示部12)の側面2eと当接する並列部63aと、金属配線2(情報表示部12)の裏面2d(第2表面1bと当接する面の反対側の表面)と当接する裏面部63bとを備えており、並列部63aおよび裏面部63bの層厚は互いに略等しい(等しい場合を含む)。
As shown in FIG. 10A, the
The
For this reason, the
このような有機EL素子60は、透光性基板1上に金属配線2および情報表示部12を形成した後、略一定の層厚で第1電極部63を積層させる点以外は、上記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
Such an
図10(b)に主要部を示すように、第5変形例の有機EL素子70は、上記実施形態の有機EL素子10の第1電極部3に代えて、第1電極部73を備える。
第1電極部73は、上記実施形態の第1電極部3と全く同様の材質からなるが、第2表面1bから測った層厚が金属配線2(情報表示部12)と等しくなるように形成された点のみが異なる。
このため、第1電極部73は、金属配線2(情報表示部12)の側面2eと当接しており、図示略の有機発光層4は、第1電極部73と、金属配線2(情報表示部12)とにそれぞれ接触している。
As shown in FIG. 10 (b), the
The
Therefore, the
このような有機EL素子70は、透光性基板1上に金属配線2および情報表示部12を形成した後、第2表面1b上に、金属配線2および情報表示部12と同じ層厚で第1電極部73を形成する点以外は、上記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
In such an
図10(c)に主要部を示すように、第6変形例の有機EL素子80は、上記実施形態の有機EL素子10の第1電極部3に代えて、第1電極部83を備える。
第1電極部83は、上記実施形態の第1電極部3と全く同様の材質からなるが、第2表面1bの全面に当接して形成されている。
また本変形例の金属配線2(情報表示部12)は、第1電極部83上に形成されている。すなわち、金属配線2(情報表示部12)は、上記実施形態では第2表面1bと当接していた表面において第1電極部83と当接しており、側面2eおよび裏面2dは、図示略の有機発光層4と当接している。
As shown in FIG. 10C, the
The
Further, the metal wiring 2 (information display unit 12) of the present modification is formed on the
このような有機EL素子80は、透光性基板1の第2表面1bの全面に第1電極部83を形成した後、この第1電極部3上に、金属配線2および情報表示部12を形成する点以外は、上記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
In such an
図10(d)に主要部を示すように、第7変形例の有機EL素子90は、上記実施形態の有機EL素子10の第1電極部3に代えて、上記第7変形例の第1電極部73を備え、さらに絶縁膜13を追加したものである。
絶縁膜13は、金属配線2(情報表示部12)の裏面2d側において、金属配線2(情報表示部12)を被覆するものである。
絶縁膜13の材質は、絶縁性を有していれば特に限定されないが、好適な例としては、ポリイミド、ウレタン樹脂、アクリル樹脂などを挙げることができる。
As shown in FIG. 10 (d), the
The insulating
The material of the insulating
このような有機EL素子90は、上記第5変形例と同様にして、透光性基板1上に、金属配線2(情報表示部12)と第1電極部73とを積層した後、金属配線2(情報表示部12)上に絶縁膜13を成膜する点以外は、上記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
In such an
本変形例によれば、図示略の有機発光層4と金属配線2(情報表示部12)とが、絶縁膜13によって、絶縁される。このため、金属配線2(情報表示部12)からは有機発光層4に電子が供給されないため、金属配線2(情報表示部12)の裏面2d側では、有機発光層4の発光が抑制される。
金属配線2(情報表示部12)の裏面側で発光が起こっても、金属配線2(情報表示部12)を透過しないため、光量損失になるが、本変形例では、このような無駄な発光が抑制されるため、注入した電流が効率的に発光に使用される。
According to this modification, the organic light emitting layer 4 (not shown) and the metal wiring 2 (information display unit 12) are insulated by the insulating
Even if light emission occurs on the back side of the metal wiring 2 (information display unit 12), the light does not pass through the metal wiring 2 (information display unit 12), so that the light amount is lost. Therefore, the injected current is efficiently used for light emission.
図10(e)に主要部を示すように、第8変形例の有機EL素子100は、上記第6変形例の有機EL素子80に、絶縁膜14を追加したものである。
絶縁膜14は、金属配線2(情報表示部12)の裏面2dにおいて、金属配線2(情報表示部12)の平面視の形状の範囲に積層して設けられている。これにより、金属配線2(情報表示部12)の裏面2d全体が被覆されている。
絶縁膜14の材質は、絶縁性を有していれば特に限定されないが、好適な例としては、電気絶縁性を有するレジストを挙げることができる。
As shown in FIG. 10E, the
The insulating
The material of the insulating
このような有機EL素子100は、上記第6変形例と同様にして、透光性基板1の第2表面1bの全面に第1電極部83を形成した後、この第1電極部3上に、金属配線2(情報表示部12)および絶縁膜14を積層させる点以外は、上記第1の実施形態と同様にして製造することができる。
その際、本変形例では、絶縁膜14としてレジストを用いる場合には、金属配線2(情報表示部12)のパターニングを行う際に塗布するレジスト材料によって、絶縁膜14を形成することができる。
すなわち、導電性金属層Mに絶縁膜14となるレジストを塗布して、導電性金属層Mをフォトリソグラフィーによってパターニングした後、金属配線2(情報表示部12)上に残ったレジストを除去することなく有機発光層4を積層する。
このようにすれば、レジストで構成される絶縁膜14は、金属配線2(情報表示部12)の平面視の形状と一致するように形成される。
In such an
At this time, in the present modification, when a resist is used as the insulating
That is, a resist to be the insulating
In this way, the insulating
本変形例によれば、上記第7変形例と同様に、図示略の有機発光層4と金属配線2(情報表示部12)とが、絶縁膜14によって、絶縁される。このため、金属配線2(情報表示部12)の裏面2dからは有機発光層4に電子が供給されないため、金属配線2(情報表示部12)の裏面2d側では、有機発光層4の発光が抑制される。
このため、上記第7変形例と同様にして、無駄な発光が抑制されるため、注入した電流が効率的に発光に使用される。
ただし、本変形例では、上記第7変形例の製造工程に比べると、レジストの除去工程と、レジストを除去した後に新たに絶縁膜14を成膜する工程とを省略することができるため、製造コストをさらに低減することが可能である。
また、絶縁膜14は、透光性電極部3上にはみ出すおそれがないため、金属配線2(情報表示部12)の裏面2dのみを被覆しており、透光性電極部3からの電子の供給が妨げられることがなく、さらに効率的に発光させることができる。
According to this modification, the organic
For this reason, as in the seventh modified example, useless light emission is suppressed, so that the injected current is efficiently used for light emission.
However, in this modification, compared with the manufacturing process of the seventh modification, the resist removing process and the process of newly forming the insulating
Further, since the insulating
なお、上記の実施形態および各変形例の説明では、導電性金属層をフォトリソグラフィーによってパターンニングする場合の例で説明したが、金属配線および情報表示部がパターニングできれば、フォトリソグラフィー以外の手段によって、パターンニングすることも可能である。例えば、リフトオフ、さらにめっき処理との組合せなどを用いてもよい。 In the above description of the embodiment and each modification, the example in which the conductive metal layer is patterned by photolithography has been described. However, if the metal wiring and the information display unit can be patterned, by means other than photolithography, Patterning is also possible. For example, a combination of lift-off and plating treatment may be used.
上記の実施形態および各変形例の説明では、金属配線の細線パターンが平行格子状の場合の例で説明したが、細線パターンはこれには限定されない。例えば、平行線が2軸方向に延びて形成された2次元格子パターンなども可能である。
また、金属配線の配列ピッチは等ピッチには限定されない。例えば、第1電極部の中心部等の電気抵抗が大きくなりやすい部位の配列ピッチを狭くすることも可能である。
In the above description of the embodiment and each modification, the example in the case where the fine line pattern of the metal wiring has a parallel lattice shape has been described, but the fine line pattern is not limited to this. For example, a two-dimensional lattice pattern formed by extending parallel lines in two axial directions is also possible.
Further, the arrangement pitch of the metal wiring is not limited to an equal pitch. For example, it is possible to reduce the arrangement pitch of the portions where the electric resistance such as the central portion of the first electrode portion is likely to increase.
また、上記に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。 Moreover, all the components described above can be implemented by appropriately changing or deleting the combination within the scope of the technical idea of the present invention.
1 透光性基板
2 金属配線
2a 細線部配線
2b 枠部配線
3、63、73、83 第1電極部(透光性導電膜)
4 有機発光層
5 第2電極部
6 光拡散体
7 透光性導電基板
8 カメラ
8b 撮像素子
8c 可視光カットフィルター
9 画像処理装置
10、20、30、40、50、60、70、80、90、100 有機EL素子
12、22、32、42、52 情報表示部
12A バーコードシンボル部(情報読み取りパターン、読取コード記号)
22a キャラクタパターン(情報読み取りパターン)
12B キャラクタ部(情報読み取りパターン)
13、14 絶縁膜
22b 余白部
32a QRコード部(情報読み取りパターン、読取コード記号)
42a 反転QRコード部(情報読み取りパターン、読取コード記号)
52a ドット部(情報読み取りパターン)
LIR 赤外光
Lv 可視光
M 導電性金属層
DESCRIPTION OF
4 Organic Light-Emitting
22a Character pattern (information reading pattern)
12B Character part (information reading pattern)
13, 14 Insulating
42a Inverted QR code part (information reading pattern, reading code symbol)
52a Dot (information reading pattern)
L IR infrared light L v visible light M conductive metal layer
Claims (8)
該透光性基板に積層された透光性導電膜で形成された第1電極部と、
導電性金属層をパターニングすることにより前記透光性導電膜と当接して設けられた金属配線と、
前記第1電極部に積層された有機発光層と、
該有機発光層を挟んで前記第1電極部と対向して配置された第2電極部と、
前記第1電極部を挟んで前記有機発光層と反対側に配置され、可視光に対する光拡散性を有する光拡散体と、
赤外光を反射する材料によって形成された情報読み取りパターンを有し、前記有機発光層と前記光拡散体との間に配置され、該光拡散体を通して赤外光が入出射可能な位置に設けられた情報表示部と、
を備える、有機EL素子。 A translucent substrate;
A first electrode portion formed of a light-transmitting conductive film laminated on the light-transmitting substrate;
Metal wiring provided in contact with the translucent conductive film by patterning a conductive metal layer;
An organic light emitting layer laminated on the first electrode part;
A second electrode portion disposed opposite to the first electrode portion with the organic light emitting layer interposed therebetween;
A light diffuser disposed on the opposite side of the organic light emitting layer with the first electrode portion interposed therebetween, and having a light diffusibility with respect to visible light;
It has an information reading pattern formed of a material that reflects infrared light, is disposed between the organic light emitting layer and the light diffuser, and is provided at a position where infrared light can enter and exit through the light diffuser. Displayed information display part,
An organic EL device comprising:
前記導電性金属層をパターニングして設けられた
ことを特徴とする、請求項1に記載の有機EL素子。 The information reading pattern of the information display unit is:
The organic EL element according to claim 1, wherein the conductive metal layer is provided by patterning.
矩形状の領域内で、一方向に延びる細線が平行に配列された細線パターンを有し、
前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、
少なくとも一部が、前記矩形状の領域に配置された
ことを特徴とする、請求項1または2に記載の有機EL素子。 The metal wiring is
Within a rectangular region, it has a fine line pattern in which fine lines extending in one direction are arranged in parallel,
The information reading pattern of the information display unit is:
The organic EL element according to claim 1, wherein at least a part of the organic EL element is disposed in the rectangular region.
文字、記号、および数字の少なくともいずれかで構成された製造固有番号、該製造固有番号を表す読取コード記号、およびロゴマークのうちから選ばれた1以上のパターンを備える
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子。 The information reading pattern is:
One or more patterns selected from a manufacturing unique number composed of at least one of letters, symbols, and numerals, a reading code symbol representing the manufacturing unique number, and a logo mark are provided. Item 4. The organic EL device according to any one of Items 1 to 3.
透光性基板と、
該透光性基板に積層された透光性導電膜と、
導電性金属層をパターニングすることにより前記透光性導電膜と当接して設けられた金属配線と、
前記透光性導電膜と当接して設けられ、赤外光を反射する材料によって形成された情報読み取りパターンを有する情報表示部と、
を備える、透光性導電基板。 A translucent conductive substrate used for an organic EL element,
A translucent substrate;
A light-transmitting conductive film laminated on the light-transmitting substrate;
Metal wiring provided in contact with the translucent conductive film by patterning a conductive metal layer;
An information display unit having an information reading pattern that is provided in contact with the translucent conductive film and formed of a material that reflects infrared light;
A translucent conductive substrate comprising:
前記導電性金属層をパターニングして設けられた
ことを特徴とする、請求項5に記載の透光性導電基板。 The information reading pattern of the information display unit is:
The translucent conductive substrate according to claim 5, wherein the conductive metal layer is provided by patterning.
矩形状の領域内で、一方向に延びる細線が平行に配列された細線パターンを有し、
前記情報表示部の前記情報読み取りパターンは、
少なくとも一部が、前記矩形状の領域に配置された
ことを特徴とする、請求項5または6に記載の透光性導電基板。 The metal wiring is
Within a rectangular region, it has a fine line pattern in which fine lines extending in one direction are arranged in parallel,
The information reading pattern of the information display unit is:
The translucent conductive substrate according to claim 5, wherein at least a part is disposed in the rectangular region.
文字、記号、および数字の少なくともいずれかで構成された製造固有番号、該製造固有番号を表す読取コード記号、およびロゴマークのうちから選ばれた1以上のパターンを備える
ことを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の透光性導電基板。 The information reading pattern is:
One or more patterns selected from a manufacturing unique number composed of at least one of letters, symbols, and numerals, a reading code symbol representing the manufacturing unique number, and a logo mark are provided. Item 8. The translucent conductive substrate according to any one of Items 5 to 7.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013052410A JP2014179241A (en) | 2013-03-14 | 2013-03-14 | Organic el element and translucent conductive substrate |
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WO2016207222A1 (en) * | 2015-06-24 | 2016-12-29 | Osram Oled Gmbh | Organic light-emitting component and method for producing an organic light-emitting component |
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2013
- 2013-03-14 JP JP2013052410A patent/JP2014179241A/en active Pending
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WO2016207222A1 (en) * | 2015-06-24 | 2016-12-29 | Osram Oled Gmbh | Organic light-emitting component and method for producing an organic light-emitting component |
DE102015110143B4 (en) | 2015-06-24 | 2023-07-27 | Pictiva Displays International Limited | Organic light-emitting device and method for producing an organic light-emitting device |
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