JP2014178513A - Display device - Google Patents

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壮臣 森田
Hideki Nakagawa
英樹 中川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent stiction in a display device with MEMS shutters.SOLUTION: A display device includes a plurality of pixels arranged in a matrix form on a first substrate, each pixel having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element. The display device includes anti-stiction coating which is formed by mutually condensing compounds represented by a formula (I) and chemically binding the same with at least a portion of the MEMS shutter surface. (In the formula (I), Rrepresents a monovalent organic group, Xrepresents a hydrolyzable group, and Xrepresents a monovalent organic group or a hydrolyzable group).

Description

本発明は、表示装置に関する。特に、メカニカルシャッタを用いた表示装置に関する。   The present invention relates to a display device. In particular, the present invention relates to a display device using a mechanical shutter.

近年、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）技術を応用したメカニカルシャッタ（以下「ＭＥＭＳシャッタ」という。）を用いた表示装置が注目されてきている。   2. Description of the Related Art In recent years, a display device using a mechanical shutter (hereinafter referred to as “MEMS shutter”) to which MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology is applied has attracted attention.

ＭＥＭＳシャッタを用いた表示装置（以下「ＭＥＭＳ表示装置」という。）とは、画素ごとに設けたＭＥＭＳシャッタを、ＴＦＴを用いて高速で開閉することによってシャッタを透過する光の量を制御し、画像の明暗の調整を行う表示装置である（例えば、特許文献１）。   A display device using a MEMS shutter (hereinafter referred to as a “MEMS display device”) controls the amount of light transmitted through the shutter by opening and closing the MEMS shutter provided for each pixel at high speed using a TFT. A display device that adjusts the brightness of an image (for example, Patent Document 1).

ＭＥＭＳ表示装置においては時間階調方式が採用されており、赤色、緑色及び青色のＬＥＤバックライトからの光を順次切り替えることにより画像の表示を行う。   The MEMS display device employs a time gray scale method, and displays images by sequentially switching light from red, green, and blue LED backlights.

ＭＥＭＳ表示装置は、液晶表示装置に用いられる偏光フィルムやカラーフィルタなどを必要とせず、液晶表示装置と比較してバックライトの光の利用効率は約１０倍、消費電力は２／１以下になり、また、色再現性が優れている点に特徴がある。   The MEMS display device does not require a polarizing film or a color filter used for the liquid crystal display device, and the light use efficiency of the backlight is about 10 times that of the liquid crystal display device, and the power consumption is 2/1 or less. Also, it is characterized by excellent color reproducibility.

また、特許文献２には、アクチュエータと変調器とを備えるディスプレイ装置であって、前記アクチュエータは、第１のコンプライアント電極と、第２のコンプライアント電極と、を含み、前記第２のコンプライアント電極は、前記第１のコンプライアント電極に隣接して配置され、前記第１および第２のコンプライアント電極の間に印加される電圧に応じて、前記第１および第２のコンプライアント電極を相互に引き寄せ、前記変調器は、前記ディスプレイ装置上で画像を形成するために前記アクチュエータに結合される、ディスプレイ装置について開示がされている。   Patent Document 2 discloses a display device including an actuator and a modulator, and the actuator includes a first compliant electrode and a second compliant electrode, and the second compliant electrode. An electrode is disposed adjacent to the first compliant electrode, and the first and second compliant electrodes are connected to each other in response to a voltage applied between the first and second compliant electrodes. In particular, a display device is disclosed in which the modulator is coupled to the actuator to form an image on the display device.

さらに特許文献２には、シャッタ組立体の１つ以上の表面が絶縁されてもよく、絶縁された表面は、接触している表面間のスティクションなどの問題を防ぐために、絶縁された表面のフッ素化、シラン化、または水素化などの化学転化プロセスによって、化学的に保護されることが記載されている。   Further, in US Pat. No. 6,057,049, one or more surfaces of the shutter assembly may be insulated, and the insulated surfaces are not insulated surfaces to prevent problems such as stiction between the contacting surfaces. It is described that it is chemically protected by chemical conversion processes such as fluorination, silanization, or hydrogenation.

また、特許文献３には、コンプライアントビームによって支持されたシャッタを含む空間光変調器を形成する方法であって、下水平面と、上水平面と、壁とを含むモールドを、基板上に形成するステップと、前記モールドの前記下水平面および前記壁上にビーム材料を蒸着するステップと、前記モールドの前記下水平面上に蒸着された前記ビーム材料を除去し、前記モールドの前記壁上に蒸着された前記ビーム材料の大部分を、前記コンプライアントビームを形成するために、所定の位置に残すステップと、前記コンプライアントビームに結合された前記シャッタを形成するステップと、前記モールドを除去することにより、前記シャッタと残りのビーム材料とを解放するステップと、を含む方法について開示がされている。   Patent Document 3 discloses a method of forming a spatial light modulator including a shutter supported by a compliant beam, and a mold including a lower horizontal plane, an upper horizontal plane, and a wall is formed on a substrate. Depositing beam material on the lower horizontal surface and the wall of the mold; removing the beam material deposited on the lower horizontal surface of the mold; and depositing on the wall of the mold Leaving most of the beam material in place to form the compliant beam; forming the shutter coupled to the compliant beam; and removing the mold. Releasing the shutter and the remaining beam material.

さらに特許文献３には、アンチスティクションコーティング（ａｎｔｉ−ｓｔｉｃｔｉｏｎ ｃｏａｔｉｎｇ）について記載がされている。   Further, Patent Document 3 describes anti-stiction coating.

特開２００８−１９７６６８号公報JP 2008-197668 A 特開２０１１−３９５３４号公報JP 2011-39534 A 特表２００８−５３３５１０号公報Special table 2008-533510 gazette

ここで、ＭＥＭＳシャッタを用いた表示装置において、当該ＭＥＭＳシャッタの動作中に可動部が固着して動作不良を起こす、所謂スティクションが問題となる。そして、ＭＥＭＳシャッタの構造は多種多様であり、各々のＭＥＭＳ構造においてスティクションを回避する方法は、当該ＭＥＭＳ構造に基づいて、それぞれ決定される必要がある。   Here, in a display device using a MEMS shutter, so-called stiction, in which a movable part is fixed during the operation of the MEMS shutter and causes malfunction, becomes a problem. The structure of the MEMS shutter is various, and a method for avoiding stiction in each MEMS structure needs to be determined based on the MEMS structure.

たとえば、上記特許文献２にて開示がされているように、シャッタ組立体の１つ以上の表面をフッ素化、シラン化、または水素化などの化学転化プロセスによって、化学的に保護することによって、スティクションなどの問題を防ぐ方法をとったとしても、シャッタ組立体の構造がひとたび変わると、当該方法はスティクションを回避する方法とはなり得ない。なぜならば、スティクションの原因は様々であり、当該原因によっては既知のスティクションなどの問題を防ぐ方法は、逆にスティクションを増大させることも起こり得るからである。   For example, as disclosed in U.S. Pat. No. 6,057,086, by chemically protecting one or more surfaces of the shutter assembly by a chemical conversion process such as fluorination, silanization, or hydrogenation, Even if a method of preventing problems such as stiction is taken, once the structure of the shutter assembly is changed, the method cannot be a method of avoiding stiction. This is because there are various causes of stiction, and depending on the cause, a method for preventing a problem such as known stiction may increase the stiction.

発明者らは、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有している場合の、当該ＭＥＭＳシャッタにおけるスティクションの回避について鋭利検討を行った。   The inventors arrange a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, and the first substrate. A display device comprising: a plurality of terminals connected to external terminals; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, wherein the MEMS shutter has an opening A first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. Then, a sharp study was conducted on avoiding stiction in the MEMS shutter.

本発明の目的は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置に用いられるＭＥＭＳシャッタであって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有している場合の、当該ＭＥＭＳシャッタにおけるスティクションが回避された表示装置の提供にある。   An object of the present invention is to provide a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, and the first substrate. A MEMS shutter for use in a display device, comprising: a plurality of terminals arranged and connected to external terminals; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. The present invention provides a display device in which stiction in the MEMS shutter is avoided.

また、本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかにする。   The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

上記課題を解決するための本発明にかかる表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、下記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備える、ことを特徴とする。   In order to solve the above problems, a display device according to the present invention includes a first substrate and a plurality of MEMS shutters arranged in a matrix on the first substrate and driven by the switching element and the switching element. A display device comprising: a pixel; a plurality of terminals disposed on the first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter. The MEMS shutter is connected to a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and the second spring. The display device has a second anchor, and is formed by condensing compounds represented by the following formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter. An anti-stiction coating.

Figure 2014178513
Figure 2014178513

ここで、上記式（Ｉ）におけるＲ１は一価の有機基であり、Ｘ１は加水分解性基であり、Ｘ２は一価の有機基または加水分解性基である。 Here, R 1 in the above formula (I) is a monovalent organic group, X 1 is a hydrolyzable group, and X 2 is a monovalent organic group or a hydrolyzable group.

また、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、前記第１バネの前記第２バネと対向する面と、前記第２バネの前記第１バネと対向する面と、を含んで形成されることとしてもよい。   The anti-stiction coating includes a surface of the MEMS shutter surface facing the second spring of the first spring and a surface facing the first spring of the second spring. It may be formed.

また、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第２基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、前記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記第２基板の、前記第１基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。   The anti-stiction coating is formed so as to include a surface of the MEMS shutter surface, which has an opening, facing the second substrate, and the display device includes the formula (I). It is good also as providing the antistiction film | membrane formed by condensing the compound shown by and chemically combining with the surface facing the said 1st board | substrate of the said 2nd board | substrate.

また、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第１基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、前記式（Ｉ）にて示される化合物同志が縮合し、前記第１基板の、前記第２基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。   The anti-stiction coating is formed to include a surface of the MEMS shutter surface having the opening that faces the first substrate, and the display device includes the formula (I). It is good also as providing the antistiction film | membrane formed by condensing the compounds shown by these and being chemically couple | bonded with the surface facing the said 2nd board | substrate of the said 1st board | substrate.

本発明によって、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置に用いられるＭＥＭＳシャッタであって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有している場合の、当該ＭＥＭＳシャッタにおけるスティクションが回避された表示装置の提供がされる。   According to the present invention, a first substrate, a plurality of pixels disposed in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, and the first substrate are disposed on the first substrate. A MEMS shutter for use in a display device, comprising: a plurality of terminals connected to external terminals; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. In such a case, a display device in which stiction in the MEMS shutter is avoided is provided.

本発明の一実施形態に係る表示装置１００の斜視図である。1 is a perspective view of a display device 100 according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置１００の平面図である。It is a top view of the display apparatus 100 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置１００の回路ブロック図である。1 is a circuit block diagram of a display device 100 according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置１００に用いるＭＥＭＳシャッタ２０２の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the MEMS shutter 202 used for the display apparatus 100 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る表示装置１００に用いるＭＥＭＳシャッタ２０２の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the MEMS shutter 202 used for the display apparatus 100 which concerns on one Embodiment of this invention. 図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第一の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along a cutting line V-V ′ in FIG. 4 and is a diagram illustrating a configuration of a MEMS shutter according to the first embodiment of the present invention. 図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第二の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along a cutting line V-V ′ in FIG. 4 and is a diagram illustrating a configuration of a MEMS shutter according to a second embodiment of the present invention. 図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第三の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along a cutting line V-V ′ in FIG. 4, illustrating a configuration of a MEMS shutter according to a third embodiment of the present invention. 式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that the compounds shown by Formula (I) condense, and it couple | bonds with at least one part of the MEMS shutter 202 surface chemically.

図面を参照しながら、本発明の表示装置の実施形態について説明する。以下に、第一、第二、第三の実施形態について説明を行うが、それぞれの実施形態は、表示装置の回路構成や、ＭＥＭＳシャッタの基本構成は共通しており、アンチスティクション被膜が形成される場所や当該アンチスティクション被膜を形成するための材料が異なるものである。   An embodiment of a display device of the present invention will be described with reference to the drawings. The first, second, and third embodiments will be described below, but each embodiment has the same circuit configuration of the display device and the basic configuration of the MEMS shutter, and an anti-stiction film is formed. And the material for forming the anti-stiction coating is different.

したがって、はじめに、第一、第二、第三の実施形態、それぞれに共通する説明として、図１Ａ、図１Ｂ、図２、図３、図４、を参照して、本発明の表示装置について説明を行う。なお、本発明の表示装置は、以下の実施形態に限定されることはなく、種々の変形を行ない実施することが可能である。   Therefore, first, as a description common to the first, second, and third embodiments, the display device of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A, 1B, 2, 3, and 4. I do. The display device of the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with various modifications.

図１Ａ及び図１Ｂに本発明の一実施形態に係る表示装置１００を示す。図１Ａは、本発明の一実施形態に係る表示装置１００の斜視図である。図１Ｂは、本発明の一実施形態に係る表示装置１００の平面図である。本発明の一実施形態に係る表示装置１００は、第１基板１０２及び、第１基板１０２と対向する第２基板１０６を有している。なお、図１Ｂでは、第２基板１０６の記載を省略する。第１基板１０２は、表示部１０２ａ、駆動回路１０２ｂ、１０２ｃ及び１０２ｄ、並びに端子部１０２ｅを有している。   1A and 1B show a display device 100 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a perspective view of a display device 100 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a plan view of the display device 100 according to an embodiment of the present invention. The display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a first substrate 102 and a second substrate 106 facing the first substrate 102. In FIG. 1B, the description of the second substrate 106 is omitted. The first substrate 102 includes a display portion 102a, drive circuits 102b, 102c and 102d, and a terminal portion 102e.

第１基板１０２上には、複数のＭＥＭＳシャッタがマトリクス状に配置されており、第２基板１０６は、それぞれのＭＥＭＳシャッタと離間して備えられている。すなわち、複数のＭＥＭＳシャッタのそれぞれは、第１基板１０２と第２基板１０６との間に存在している。   A plurality of MEMS shutters are arranged in a matrix on the first substrate 102, and the second substrate 106 is provided separately from the respective MEMS shutters. In other words, each of the plurality of MEMS shutters exists between the first substrate 102 and the second substrate 106.

また、第１基板１０２と第２基板１０６とは、それぞれの外縁部にてシーリング材等を用いてシールされている。第１基板１０２と第２基板１０６とによって閉じられた空間は、オイル（例えば、低粘度のシリコーンオイルあるいは石油系オイル）が充填されていることとしてもよく、また、窒素ガス等の不活性ガスによって充填されていることとしてもよい。   In addition, the first substrate 102 and the second substrate 106 are sealed using a sealing material or the like at each outer edge portion. The space closed by the first substrate 102 and the second substrate 106 may be filled with oil (for example, low-viscosity silicone oil or petroleum oil), and an inert gas such as nitrogen gas. It is good also as being filled with.

図２は、本発明の一実施形態に係る表示装置１００の回路ブロック図である。図２に示す本発明の一実施形態に係る表示装置１００には、コントローラ１２０から画像信号及び制御信号が供給される。また、図２に示す本発明の一実施形態に係る表示装置１００には、コントローラ１２０によって制御されるバックライト１２２から光が供給される。なお、コントローラ１２０及びバックライト１２２を含んで本発明の表示装置１００を構成するようにしてもよい。   FIG. 2 is a circuit block diagram of the display device 100 according to an embodiment of the present invention. An image signal and a control signal are supplied from the controller 120 to the display device 100 according to the embodiment of the present invention illustrated in FIG. In addition, light is supplied from the backlight 122 controlled by the controller 120 to the display device 100 according to the embodiment of the present invention shown in FIG. Note that the display device 100 of the present invention may be configured to include the controller 120 and the backlight 122.

図２に示すとおり、表示部１０２ａは、マトリクス状に配置されたメカニカルシャッタ（ＭＥＭＳシャッタ）２０２、スイッチング素子２０４及び保持容量２０６を有する画素２００を有している。駆動回路１０２ｂ及び１０２ｃは、データドライバであり、スイッチング素子２０４へデータ線（Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄｍ）を介してデータ信号を供給する。スイッチング素子駆動回路１０２ｃは、ゲートドライバであり、スイッチング素子２０４へゲート線（Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｎ）を介してゲート信号を供給する。なお、本実施形態においては、データドライバである駆動回路１０２ｂ及び１０２ｄが、表示部１０２ａを挟むように配置されているが、これに限定されるわけではない。スイッチング素子２０４は、データ線（Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄｍ）から供給されるデータ信号に基づきＭＥＭＳシャッタ２０２を駆動する。   As shown in FIG. 2, the display unit 102 a includes pixels 200 having mechanical shutters (MEMS shutters) 202, switching elements 204, and storage capacitors 206 arranged in a matrix. The drive circuits 102b and 102c are data drivers, and supply data signals to the switching element 204 via data lines (D1, D2,..., Dm). The switching element driving circuit 102c is a gate driver, and supplies a gate signal to the switching element 204 through gate lines (G1, G2,..., Gn). In the present embodiment, the drive circuits 102b and 102d, which are data drivers, are arranged so as to sandwich the display unit 102a. However, the present invention is not limited to this. The switching element 204 drives the MEMS shutter 202 based on the data signal supplied from the data lines (D1, D2,..., Dm).

ここで、図３及び図４に本発明の一実施形態に係る表示装置１００に用いるＭＥＭＳシャッタ２０２の構成を示す。図３は本発明の一実施形態に係る表示装置１００に用いるＭＥＭＳシャッタ２０２の構成を示す図である。図４は、本発明の一実施形態に係る表示装置１００に用いるＭＥＭＳシャッタ２０２の構成を示す図である。   Here, FIGS. 3 and 4 show the configuration of the MEMS shutter 202 used in the display device 100 according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a diagram showing a configuration of the MEMS shutter 202 used in the display device 100 according to the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing a configuration of the MEMS shutter 202 used in the display device 100 according to the embodiment of the present invention.

説明の便宜上、図３には、一つのＭＥＭＳシャッタ２０２を示すが、本発明の一実施形態に係る表示装置１００には、図３に示すＭＥＭＳシャッタ２０２がマトリクス状に配置されている。   For convenience of explanation, FIG. 3 shows one MEMS shutter 202, but the MEMS shutter 202 shown in FIG. 3 is arranged in a matrix in the display device 100 according to an embodiment of the present invention.

なお、図３、図４に示されるＭＥＭＳシャッタ２０２の上方には、当該ＭＥＭＳシャッタ２０２と離間して備えられる第２基板１０６が存在するが、ここでは第２基板１０６の図示を省略することとする。また、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面の少なくとも一部には、化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０が備えられる。図３、図４においては、当該アンチスティクション被膜２５０については図示を省略し、当該アンチスティクション被膜２５０が形成される場所については、図５等を参照して各実施例ごとに後に詳細に説明を行うこととする。   3 and 4, the second substrate 106 that is provided apart from the MEMS shutter 202 exists above the MEMS shutter 202, but the illustration of the second substrate 106 is omitted here. To do. Further, at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 is provided with an anti-stiction coating 250 formed by chemical bonding. 3 and 4, illustration of the anti-stiction coating 250 is omitted, and the location where the anti-stiction coating 250 is formed will be described in detail later for each example with reference to FIG. I will explain.

ＭＥＭＳシャッタ２０２は、シャッタ２１０、第１バネ２１６、２１８、２２０及び２２２、第２バネ２２４、２２６、２２８及び２３０、並びにアンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２を有している。シャッタ２１０は、開口部２１１及び２１２を有しており、シャッタ２１０本体は遮光部となる。   The MEMS shutter 202 includes a shutter 210, first springs 216, 218, 220 and 222, second springs 224, 226, 228 and 230, and anchor portions 232, 234, 236, 238, 240 and 242. The shutter 210 has openings 211 and 212, and the main body of the shutter 210 serves as a light shielding portion.

また、第１基板１０２には、開口部が形成されている（図示せず）。シャッタ２１０の開口部２１１及び２１２と第１基板１０２の開口部とは平面方向に概略重なり合うように配置されており、第１基板１０２の背面から供給され、第１基板１０２の開口部を透過する光が、シャッタ２１０の開口部２１１及び２１２を透過するようになっている。   In addition, an opening is formed in the first substrate 102 (not shown). The openings 211 and 212 of the shutter 210 and the opening of the first substrate 102 are arranged so as to substantially overlap in the plane direction, and are supplied from the back surface of the first substrate 102 and pass through the opening of the first substrate 102. Light is transmitted through the openings 211 and 212 of the shutter 210.

なお、上記にて説明されたＭＥＭＳシャッタ２０２は、本発明の表示装置１００に用いることのできるＭＥＭＳシャッタの一例に過ぎず、スイッチング素子で駆動することができるＭＥＭＳシャッタであれば如何なる態様のものでも用いることができる。なお、バックライト１２２を用いず且つ第１基板１０２の開口部を設けず、シャッタ２１０の開口部２１１及び２１２の下部に反射部を設け、反射型の表示装置としてもよい。   Note that the MEMS shutter 202 described above is merely an example of a MEMS shutter that can be used in the display device 100 of the present invention, and can be of any form as long as it can be driven by a switching element. Can be used. Note that the backlight 122 may not be used and the opening of the first substrate 102 may not be provided, and a reflective portion may be provided below the openings 211 and 212 of the shutter 210 to provide a reflective display device.

シャッタ２１０の一方の側は、第１バネ２１６及び２１８を介してアンカー部２３２及
び２３４に接続されている。アンカー部２３２及び２３４は、第１バネ２１６及び２１８とともに、シャッタ２１０を第１基板１０２の表面から浮遊した状態に支持する機能を有する。 One side of the shutter 210 is connected to the anchor portions 232 and 234 via the first springs 216 and 218. The anchor portions 232 and 234 have a function of supporting the shutter 210 in a floating state from the surface of the first substrate 102 together with the first springs 216 and 218.

アンカー部２３２は第１バネ２１６と電気的に接続されており、且つ、アンカー部２３４は第１バネ２１８と電気的に接続されている。アンカー部２３２及び２３４には、スイッチング素子２０４からバイアス電位が供給され、第１バネ２１６及び２１８にバイアス電位が供給される。   The anchor part 232 is electrically connected to the first spring 216, and the anchor part 234 is electrically connected to the first spring 218. A bias potential is supplied from the switching element 204 to the anchor portions 232 and 234, and a bias potential is supplied to the first springs 216 and 218.

また、第２バネ２２４及び２２６は、アンカー部２３６に接続されている。アンカー部２３６は、第２バネ２２４及び２２６を支持する機能を有する。アンカー部２３６は第２バネ２２４及び２２６と電気的に接続されている。アンカー部２３６には、グランド電位が供給され、第２バネ２２４及び２２６にグランド電位が供給される。   Further, the second springs 224 and 226 are connected to the anchor portion 236. The anchor part 236 has a function of supporting the second springs 224 and 226. The anchor part 236 is electrically connected to the second springs 224 and 226. A ground potential is supplied to the anchor portion 236, and a ground potential is supplied to the second springs 224 and 226.

また、シャッタ２１０の他方の側は、第１バネ２２０及び２２２を介してアンカー部２３８及び２４０に接続されている。アンカー部２３８及び２４０は、第１バネ２２０及び２２２とともに、シャッタ２１０を第１基板１０２の表面から浮遊した状態に支持する機能を有する。   The other side of the shutter 210 is connected to the anchor portions 238 and 240 via the first springs 220 and 222. The anchor portions 238 and 240 have a function of supporting the shutter 210 in a state of floating from the surface of the first substrate 102 together with the first springs 220 and 222.

アンカー部２３８は第１バネ２２０と電気的に接続されており、且つ、アンカー部２４０は第１バネ２２２と電気的に接続されている。アンカー部２３８及び２４０には、スイッチング素子２０４からバイアス電位が供給され、第１バネ２２０及び２２２にバイアス電位が供給される。   The anchor portion 238 is electrically connected to the first spring 220, and the anchor portion 240 is electrically connected to the first spring 222. A bias potential is supplied from the switching element 204 to the anchor portions 238 and 240, and a bias potential is supplied to the first springs 220 and 222.

また、第２バネ２２８及び２３０は、アンカー部２４２に接続されている。アンカー部２４２は、第２バネ２２８及び２３０を支持する機能を有する。アンカー部２４２は第２バネ２２８及び２３０と電気的に接続されている。アンカー部２４２には、グランド電位が供給され、第２バネ２２８及び２３０にグランド電位が供給される。   Further, the second springs 228 and 230 are connected to the anchor portion 242. The anchor part 242 has a function of supporting the second springs 228 and 230. The anchor portion 242 is electrically connected to the second springs 228 and 230. A ground potential is supplied to the anchor portion 242, and a ground potential is supplied to the second springs 228 and 230.

上述したように、本実施形態においては、スイッチング素子２０４からアンカー部２３２及び２３４にバイアス電位が供給され、第１バネ２１６及び２１８にバイアス電位が供給され、且つ、アンカー部２３６には、グランド電位が供給され、第２バネ２２４及び２２６にグランド電位が供給される。第１バネ２１６及び２１８と第２バネ２２４及び２２６との間の電位差により、第１バネ２１６と第２バネ２２４とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動し、且つ、第１バネ２１８と第２バネ２３４とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動し、シャッタ２１０が移動する。   As described above, in the present embodiment, a bias potential is supplied from the switching element 204 to the anchor portions 232 and 234, a bias potential is supplied to the first springs 216 and 218, and the anchor portion 236 has a ground potential. And the ground potential is supplied to the second springs 224 and 226. Due to the potential difference between the first springs 216 and 218 and the second springs 224 and 226, the first spring 216 and the second spring 224 are electrostatically driven to move so as to pull each other, and the first spring 218 and the second spring 234 are electrostatically driven to move so as to pull each other, and the shutter 210 moves.

また、同様に、スイッチング素子２０４からアンカー部２３８及び２４０にバイアス電位が供給され、第１バネ２２０及び２２２にバイアス電位が供給され、且つ、アンカー部２４２には、グランド電位が供給され、第２バネ２２８及び２３０にグランド電位が供給される。第１バネ２２０及び２２２と第２バネ２２８及び２３０との間の電位差により、第１バネ２２０と第２バネ２２８とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動し、且つ、第１バネ２２２と第２バネ２３０とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動し、シャッタ２１０が移動する。   Similarly, a bias potential is supplied from the switching element 204 to the anchor portions 238 and 240, a bias potential is supplied to the first springs 220 and 222, and a ground potential is supplied to the anchor portion 242. A ground potential is supplied to the springs 228 and 230. Due to the potential difference between the first springs 220 and 222 and the second springs 228 and 230, the first spring 220 and the second spring 228 are electrostatically driven to move toward each other, and the first spring 222 and the second spring 230 are electrostatically driven to move so as to pull each other, and the shutter 210 moves.

なお、シャッタ２１０の両側に第１バネ、第２バネ及びアンカー部を接続し配置した例について説明したが、本発明の表示装置はこれに限定されるわけではない。例えば、シャッタ２１０の一方側に第１バネ、第２バネ及びアンカー部を接続し配置し、シャッタ部２１０の他方側には第１バネ及びアンカー部のみを接続し配置し、他方側の第１バネ及びアンカー部はシャッタを基板から浮遊した状態に支持する機能を持たせ、シャッタ２１０の一方側の第１バネ及び第２バネを静電駆動し、シャッタ２１０を動作させるようにしてもよい。   In addition, although the example which connected and arrange | positioned the 1st spring, the 2nd spring, and the anchor part on the both sides of the shutter 210 was demonstrated, the display apparatus of this invention is not necessarily limited to this. For example, a first spring, a second spring and an anchor part are connected and arranged on one side of the shutter 210, and only the first spring and anchor part are connected and arranged on the other side of the shutter part 210, and the first on the other side. The spring and the anchor portion may have a function of supporting the shutter in a floating state from the substrate, and the first spring and the second spring on one side of the shutter 210 may be electrostatically driven to operate the shutter 210.

以上のように、本発明に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーをするものである。   As described above, a display device according to the present invention includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element. A display device comprising: a plurality of terminals disposed on the first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and provided apart from the MEMS shutter. The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second spring connected to the second spring. It is an anchor.

［第一の実施形態］
以下、図５Ａを参照して本発明の第一の実施形態について説明を行う。図５Ａは、図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第一の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。 [First embodiment]
Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5A. FIG. 5A is a cross-sectional view taken along the cutting line VV ′ in FIG. 4 and is a diagram showing a configuration of the MEMS shutter according to the first embodiment of the present invention.

図５Ａに示すとおり、第一の実施形態に係る表示装置１００においては、シャッタ２１０は、ａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を有している。なお、本実施形態においては、シャッタ２１０にはａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料でも用いることとしてもよい。   As shown in FIG. 5A, in the display device 100 according to the first embodiment, the shutter 210 includes a stacked body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b). In the present embodiment, a laminated body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b) is used for the shutter 210. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. Good.

また、図５Ａに示すとおり、第一の実施形態に係る表示装置１００においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２は、それぞれ、ａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を有している。図５Ａに示すように、アンカー部２３４を例にとって説明すると、アンカー部２３４は、ａ−Ｓｉ（２３４ａ）及びＡｌＳｉ（２３４ｂ）の積層体を有している。アンカー部２３４は、第１基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００上に形成された絶縁膜３０２（パッシベーション膜）上に形成されている。   5A, in the display device 100 according to the first embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 each include a stack of a-Si and AlSi. Yes. As shown in FIG. 5A, the anchor portion 234 will be described as an example. The anchor portion 234 has a stacked body of a-Si (234a) and AlSi (234b). The anchor part 234 is formed on the insulating film 302 (passivation film) formed on the TFT substrate 300 constituting the first substrate 102.

なお、第一の実施形態においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２にはａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料を用いることとしてもよい。   In the first embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 are a-Si and AlSi laminates. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. It may be used.

また、図５Ａに示すとおり、第一の実施形態に係る本発明の表示装置１００においては、端子部１０２ｅの端子１０４は、ＭｏＷ（１０４ａ）、Ａｌ（１０４ｂ）、ＭｏＷ（１０４ｂ）及びＩＴＯ（１０４ｃ）によって構成されている。なお、端子１０４の構成及び材料はこれに限定されず、スイッチング素子（第一の実施形態においてはＴＦＴ）の構成に応じて適宜変更することとしてもよい、また、Ａｌ（１０４ｂ）は、スイッチング素子２０４のドレイン配線と同層の配線を用いることとしてもよい。   5A, in the display device 100 of the present invention according to the first embodiment, the terminals 104 of the terminal portion 102e are MoW (104a), Al (104b), MoW (104b), and ITO (104c). ). Note that the configuration and material of the terminal 104 are not limited to this, and may be appropriately changed according to the configuration of the switching element (TFT in the first embodiment). Also, Al (104b) A wiring in the same layer as the drain wiring 204 may be used.

端子部１０２ｅは、基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００の一部に形成されている。第一の実施形態においては、ＴＦＴ基板の表示部１０２ａ、データドライバ１０２ｂ及び１０２ｃ並びにゲートドライバ１０２ｄ上は絶縁膜（パッシベーション膜）３０２で覆われているが、端子１０４の表面には絶縁膜（パッシベーション膜）は存在せず、端子１０４は露出されている。   The terminal portion 102 e is formed on a part of the TFT substrate 300 that constitutes the substrate 102. In the first embodiment, the TFT substrate display unit 102a, data drivers 102b and 102c, and gate driver 102d are covered with an insulating film (passivation film) 302, but an insulating film (passivation) is formed on the surface of the terminal 104. There is no film), and the terminal 104 is exposed.

本発明の表示装置は、下記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０を備える。   The display device of the present invention includes an anti-stiction coating 250 formed by condensation of compounds represented by the following formula (I) and chemical bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202.

図５Ａに示されるように、第一の実施形態においては、アンチスティクション被膜２５０（２５０ａ、２５０ｂ）が、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面のうちの、第１バネ２２６の第２バネ２１８と対向する面と、第２バネ２１８の第１バネ２２６と対向する面と、を含んで形成されている。   As shown in FIG. 5A, in the first embodiment, the anti-stiction coating 250 (250a, 250b) is a surface of the MEMS shutter 202 that faces the second spring 218 of the first spring 226. The surface of the second spring 218 facing the first spring 226 is formed.

Figure 2014178513
Figure 2014178513

ここで、式（Ｉ）におけるＲ１は一価の有機基であり、Ｘ１は加水分解性基であり、Ｘ２は一価の有機基または加水分解性基である。 Here, R 1 in the formula (I) is a monovalent organic group, X 1 is a hydrolyzable group, and X 2 is a monovalent organic group or a hydrolyzable group.

すなわち、図５Ａに示すように、第一の実施形態の表示装置１００においては、第１バネ２１６、２１８、２２０及び２２２、並びに第２バネ２２４、２２６、２２８及び２３０は、それぞれ、ａ−Ｓｉの側部（第１基板１０２の表面の法線方向に対して側方となる面）にアンチスティクション被膜２５０が形成されている。   That is, as shown in FIG. 5A, in the display device 100 of the first embodiment, the first springs 216, 218, 220 and 222 and the second springs 224, 226, 228 and 230 are respectively a-Si. An anti-stiction coating 250 is formed on the side portion (surface that is lateral to the normal direction of the surface of the first substrate 102).

図５Ａに示すように、第１バネ２２６及び第２バネ２１８を例にとって説明すると、第１バネ２２６のａ−Ｓｉ（２２６ａ）の側部にはアンチスティクション被膜２５０ａが形成されており、第２バネ２１８のａ−Ｓｉ（２１８ａ）の側部にはアンチスティクション被膜２５０ｂが形成されている。   As shown in FIG. 5A, the first spring 226 and the second spring 218 will be described as an example. An anti-stiction coating 250a is formed on the side of the a-Si (226a) of the first spring 226, and An anti-stiction coating 250b is formed on the side of the a-Si (218a) of the two springs 218.

上述のように、第１バネ２２６と第２バネ２１８とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動し、且つ、第１バネ２２２と第２バネ２３０とが静電駆動され、互いが引き寄せあうように移動した場合、第１バネ２２６及び第２バネ２１８の表面には、電荷が溜まることとなる。第１バネ２２６及び第２バネ２１８の表面に電荷が溜まった場合、互いに接触して保持される状態となり易く、結果スティクションを引き起こすこととなる。   As described above, the first spring 226 and the second spring 218 are electrostatically driven to move so as to attract each other, and the first spring 222 and the second spring 230 are electrostatically driven to When moved so as to be attracted to each other, charges are accumulated on the surfaces of the first spring 226 and the second spring 218. When electric charges accumulate on the surfaces of the first spring 226 and the second spring 218, they tend to be held in contact with each other, resulting in stiction.

ここで、第１バネ２２２と第２バネ２３０とが接触する領域、すなわち、第１バネ２２６の第２バネ２１８と対向する面と、第２バネ２１８の第１バネ２２６と対向する面と、に、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０が存在することによって、第１バネ２２６及び第２バネ２１８の表面には、電荷が溜まることを抑制することとなり、スティクションを回避することとなる。   Here, a region where the first spring 222 and the second spring 230 are in contact with each other, that is, a surface of the first spring 226 facing the second spring 218, and a surface of the second spring 218 facing the first spring 226, In addition, the anti-stiction coating 250 formed by the condensation of the compounds represented by the above formula (I) and chemical bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 provides the first spring. Charges are prevented from accumulating on the surfaces of 226 and the second spring 218, and stiction is avoided.

ここで、第１バネ２１６、２１８、２２０及び２２２、並びに第２バネ２２４、２２６、２２８及び２３０等によって構成されるＭＥＭＳシャッタ２０２は、上述のようにａ−Ｓｉ等の無機材料によって形成されている。そして、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面には、水酸基（―ＯＨ）が存在している。上記式（Ｉ）における加水分解性基であるＸ１は、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等があげられるが、これらに限定されるものではない。 Here, the MEMS shutter 202 constituted by the first springs 216, 218, 220 and 222 and the second springs 224, 226, 228 and 230 is formed of an inorganic material such as a-Si as described above. Yes. A hydroxyl group (—OH) is present on the surface of the MEMS shutter 202. X 1 which is a hydrolyzable group in the above formula (I) is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surface of the MEMS shutter 202, and examples thereof include a halogen group such as a methoxy group, an ethoxy group, and chlorine. However, it is not limited to these.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が加水分解性基である場合、Ｘ２はＭＥＭＳシャッタ２０２表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等であることとしてもよい。また、Ｘ２もＸ１と同様、これらに限定されるものではない。 In addition, when X 2 in the above formula (I) is a hydrolyzable group, X 2 is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surface of the MEMS shutter 202, such as a methoxy group, an ethoxy group, and chlorine. It may be a halogen group or the like. Moreover, X 2 is also similar to X 1, but is not limited thereto.

次に、表面に水酸基を有するＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に、アンチスティクション被膜２５０を形成する方法について説明を行う。   Next, a method for forming the anti-stiction coating 250 on the surface of the MEMS shutter 202 having a hydroxyl group on the surface will be described.

はじめに、アンチスティクション被膜２５０が形成されるＭＥＭＳシャッタ２０２の表面は、アンチスティクション被膜２５０が形成される前に予めＵＶ洗浄をおこなうことが好ましい。ＵＶ洗浄を行うことによって、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に付着した有機物等を除去することができ、均一なアンチスティクション被膜２５０を形成することが容易となるからである。   First, the surface of the MEMS shutter 202 on which the anti-stiction coating 250 is formed is preferably subjected to UV cleaning in advance before the anti-stiction coating 250 is formed. This is because by performing UV cleaning, organic substances and the like attached to the surface of the MEMS shutter 202 can be removed, and it becomes easy to form a uniform anti-stiction coating 250.

そして、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に、上記式（Ｉ）にて示される化合物を付着させる。ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に、上記式（Ｉ）にて示される化合物を付着させるために、上記式（Ｉ）にて示される化合物を含有する溶液中にＭＥＭＳシャッタ２０２を浸漬させることによって行ってもよいし、スプレー塗布によって行うこととしてもよい。   Then, the compound represented by the above formula (I) is attached to the surface of the MEMS shutter 202. In order to adhere the compound represented by the formula (I) to the surface of the MEMS shutter 202, the MEMS shutter 202 may be immersed in a solution containing the compound represented by the formula (I). It is good also as performing by spray application.

あるいは、ＭＥＭＳシャッタ２０２を密閉した空間内に置き、当該空間の真空度を高めたのち、上記式（Ｉ）にて示される化合物を含有する溶液を投入し、上記式（Ｉ）にて示される化合物を揮散させることによって、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に、上記式（Ｉ）にて示される化合物を付着させることとしてもよい。また、ＭＥＭＳシャッタ２０２の表面に、上記式（Ｉ）にて示される化合物を付着させる方法は、上記方法に限られるものではない。   Alternatively, the MEMS shutter 202 is placed in a sealed space, and after the degree of vacuum in the space is increased, a solution containing a compound represented by the above formula (I) is added, and the above formula (I) is obtained. The compound represented by the above formula (I) may be attached to the surface of the MEMS shutter 202 by volatilizing the compound. Further, the method of attaching the compound represented by the formula (I) to the surface of the MEMS shutter 202 is not limited to the above method.

次に、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合する方法について説明を行う。   Next, a method in which the compounds represented by the above formula (I) are condensed and chemically bonded to at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 will be described.

図６は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合する様子を説明する図である。図６で示されるように、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面と化学的に結合し形成されるアンチスティクション被膜２５０は構造中に、上記式（Ｉ）にて示される化合物の構造に由来する酸化ケイ素骨格（−Ｓｉ−Ｏ−）と、有機基（Ｒ１）とを有するものである。 FIG. 6 is a diagram for explaining how the compounds represented by the above formula (I) are condensed and chemically bonded to at least a part of the surface of the MEMS shutter 202. As shown in FIG. 6, the anti-stiction coating 250 formed by chemically bonding to the surface of the MEMS shutter 202 has a silicon oxide skeleton derived from the structure of the compound represented by the above formula (I) in the structure ( a -Si-O-), are those having an organic group (R 1).

上記式（Ｉ）にて示される化合物の分子中に含まれる反応基（式（１）におけるＸ１）は、空気中の水と反応して水酸基（シラノール基）を形成する。上記式（Ｉ）にて示される化合物の分子中に形成された水酸基の一部は、他の上記式（Ｉ）にて示される化合物の分子中に形成された水酸基と部分的に縮合反応をする。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物の分子中に形成された水酸基の他の一部は、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面に存在する水酸基の位置に吸着および水素結合をし、脱水縮合を行い化学的に結合する。 The reactive group (X 1 in the formula (1)) contained in the molecule of the compound represented by the formula (I) reacts with water in the air to form a hydroxyl group (silanol group). Some of the hydroxyl groups formed in the molecule of the compound represented by the above formula (I) partially undergo a condensation reaction with the hydroxyl groups formed in the molecule of the other compound represented by the above formula (I). To do. In addition, the other part of the hydroxyl group formed in the molecule of the compound represented by the formula (I) is adsorbed and hydrogen-bonded at the position of the hydroxyl group present on the surface of the MEMS shutter 202 to perform dehydration condensation. Join.

アンチスティクション被膜２５０を形成する工程は、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面に上記式（Ｉ）にて示される化合物が付着した状態で風乾することによって行うこととしてもよい。この場合、風乾することによってＭＥＭＳシャッタ２０２表面と上記式（Ｉ）にて示される化合物とが化学的に結合する反応が進行する。   The step of forming the anti-stiction coating 250 may be performed by air-drying with the compound represented by the above formula (I) attached to the surface of the MEMS shutter 202. In this case, the reaction of chemically bonding the surface of the MEMS shutter 202 and the compound represented by the above formula (I) proceeds by air drying.

また、アンチスティクション被膜２５０を形成する工程は、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面に上記式（Ｉ）にて示される化合物が付着した状態で加熱処理を行うことによって行うこととしてもよい。加熱処理を行うことによってＭＥＭＳシャッタ２０２表面と上記式（Ｉ）にて示される化合物とが化学的に結合する反応を促進されることとなり好ましい。例えば当該加熱処理は、１４０℃〜５０℃／１分〜５分の条件で行われることとしてもよい。また、１１０℃〜６０℃／１分〜５分の条件で行われることは、反応が更に促進され好ましい。   Further, the step of forming the anti-stiction coating 250 may be performed by performing a heat treatment in a state where the compound represented by the above formula (I) is attached to the surface of the MEMS shutter 202. By performing the heat treatment, the reaction of chemically bonding the surface of the MEMS shutter 202 and the compound represented by the above formula (I) is preferably promoted. For example, the heat treatment may be performed under conditions of 140 ° C. to 50 ° C./1 minute to 5 minutes. Moreover, it is preferable that the reaction is further promoted under conditions of 110 ° C. to 60 ° C./1 minute to 5 minutes.

なお、上記では、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面にて、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合する反応と、上記式（Ｉ）にて示される化合物とＭＥＭＳシャッタ２０２表面とが化学的に結合する反応と、が同じタイミングで行われる。しかしながら、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面にて、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合する反応と、上記式（Ｉ）にて示される化合物とＭＥＭＳシャッタ２０２表面とが化学的に結合する反応と、が同じタイミングで行われることは必ずしも必要ではなく、予め上記式（Ｉ）にて示される化合物同士を縮合させた縮合体を準備して、当該縮合体とＭＥＭＳシャッタ２０２表面とが化学的に結合する反応させることとしてもよい。   In the above, the reaction in which the compounds represented by the above formula (I) condense with each other on the surface of the MEMS shutter 202 and the compound represented by the above formula (I) and the surface of the MEMS shutter 202 are chemically bonded. And the reaction to be performed at the same timing. However, a reaction in which the compounds represented by the above formula (I) condense on the surface of the MEMS shutter 202, and a reaction in which the compound represented by the above formula (I) and the surface of the MEMS shutter 202 are chemically bonded. Are not necessarily performed at the same timing. A condensate obtained by condensing the compounds represented by the above formula (I) is prepared in advance, and the condensate and the surface of the MEMS shutter 202 are chemically treated. It is good also as making it react to couple | bond together.

上記のように、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成された、アンチスティクション被膜２５０は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合していないものと比較して、被膜の耐久性が向上することとなる。   As described above, the anti-stiction coating 250 formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 includes the formula (I). ), The durability of the coating is improved as compared with the case where the compounds represented by (1) are not condensed.

すなわち、例えば、加水分解性基を一つしか持たないシラン化合物を用いてアンチスティクション被膜を形成した場合、化合物同士の縮合反応は行われないこととなる。このような、当該シラン化合物にて形成されたアンチスティクション被膜は、本発明に用いられる上記式（Ｉ）にて示される化合物を用いて形成されたアンチスティクション被膜２５０と比較して、被膜の耐久性が劣るものである。   That is, for example, when an antistiction film is formed using a silane compound having only one hydrolyzable group, the condensation reaction between the compounds is not performed. Such an anti-stiction film formed of the silane compound is a film compared to the anti-stiction film 250 formed using the compound represented by the above formula (I) used in the present invention. Is inferior in durability.

このような、化合物同士が縮合せずにＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成されたアンチスティクション被膜は、ＭＥＭＳシャッタの稼働とともに被膜が劣化し、スティクションを回避する機能を維持する期間は、本発明のアンチスティクション被膜のスティクションを回避する機能を維持する期間の１／５０以下程度であった。   Such an anti-stiction coating formed by chemically bonding to at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 without condensation between the compounds deteriorates with the operation of the MEMS shutter, and avoids stiction. The period for maintaining the function was about 1/50 or less of the period for maintaining the function for avoiding the stiction of the anti-stiction coating of the present invention.

次に、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１について説明を行う。ここで、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は加水分解反応性を有さない一価の有機基である。本実施形態において、スティクションを回避するためには、第１バネ、第２バネの表面に電荷を溜めないことが本来的に必要である。よって、たとえば、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中にπ電子を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に不飽和結合を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に芳香環を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に非共有電子対を有する官能基を有する一価の有機基であることとしてもよい。非共有電子対を有する官能基とは、たとえば、アミノ基、アミド基等が挙げられる。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中にＳ、Ｏ、Ｎ、Ｐを含有する一価の有機基であることとしてもよい。 Next, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) will be described. Here, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) is a monovalent organic group having no hydrolysis reactivity. In this embodiment, in order to avoid stiction, it is inherently necessary not to accumulate charges on the surfaces of the first spring and the second spring. Therefore, for example, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having π electrons in the structure. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an unsaturated bond in the structure. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an aromatic ring in the structure. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having a functional group having an unshared electron pair in the structure. Examples of the functional group having an unshared electron pair include an amino group and an amide group. Alternatively, R 1 that is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group containing S, O, N, and P in the structure.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が一価の有機基（Ｘ２が加水分解反応性を有さない一価の有機基）である場合、たとえば、構造中にπ電子を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２は、構造中に不飽和結合を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中に芳香環を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中に非共有電子対を有する官能基を有する一価の有機基であることとしてもよい。非共有電子対を有する官能基とは、たとえば、アミノ基、アミド基等が挙げられる。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中にＳ、Ｏ、Ｎ、Ｐを含有する一価の有機基であることとしてもよい。 Further, when X 2 in the above formula (I) is a monovalent organic group (X 2 is a monovalent organic group having no hydrolysis reactivity), for example, a monovalent having a π electron in the structure. It may be an organic group. Alternatively, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an unsaturated bond in the structure. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an aromatic ring in the structure. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group having a functional group having an unshared electron pair in the structure. Examples of the functional group having an unshared electron pair include an amino group and an amide group. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group containing S, O, N, and P in the structure.

［第二の実施形態］
第二の実施系形態に係る表示装置について、以下に説明を行う。第二の実施形態に係る表示装置は、第一の実施形態に係る表示装置とアンチスティクション被膜２５０が形成される場所等が異なるものである。すなわち、第二の実施形態に係る表示装置の、回路構成や、ＭＥＭＳシャッタの基本構成等は、第一の実施形態に係る表示装置のそれらと同じものである。したがって、本発明に係る第二の表示装置の説明においては、アンチスティクション被膜２５０に関する以外の説明は省略する。 [Second Embodiment]
The display device according to the second embodiment will be described below. The display device according to the second embodiment is different from the display device according to the first embodiment in the place where the anti-stiction coating 250 is formed. That is, the circuit configuration of the display device according to the second embodiment, the basic configuration of the MEMS shutter, and the like are the same as those of the display device according to the first embodiment. Therefore, in the description of the second display device according to the present invention, descriptions other than those relating to the anti-stiction coating 250 are omitted.

図５Ｂは、図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第二の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。   FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the cutting line V-V ′ in FIG. 4 and is a diagram showing a configuration of the MEMS shutter according to the second embodiment of the present invention.

図５Ｂに示すように、第二の実施形態の表示装置１００においては、第１バネ２１６、２１８、２２０及び２２２、並びに第２バネ２２４、２２６、２２８及び２３０は、それぞれ、ａ−Ｓｉによって形成されている。なお、第１、第２バネは、他の材料によって形成されることとしてもよいし、他の構造を有するものであることとしてもよい。   As shown in FIG. 5B, in the display device 100 of the second embodiment, the first springs 216, 218, 220, and 222 and the second springs 224, 226, 228, and 230 are each formed of a-Si. Has been. Note that the first and second springs may be formed of other materials or may have other structures.

また、図５Ｂに示すとおり、第二の実施形態に係る表示装置１００においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２は、それぞれ、ａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を有している。図５Ｂに示すように、アンカー部２３４を例にとって説明すると、アンカー部２３４は、ａ−Ｓｉ（２３４ａ）及びＡｌＳｉ（２３４ｂ）の積層体を有している。アンカー部２３４は、第１基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００上に形成された絶縁膜３０２（パッシベーション膜）上に形成されている。   Further, as shown in FIG. 5B, in the display device 100 according to the second embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 each include a laminate of a-Si and AlSi. Yes. As illustrated in FIG. 5B, the anchor portion 234 will be described as an example. The anchor portion 234 has a stacked body of a-Si (234a) and AlSi (234b). The anchor part 234 is formed on the insulating film 302 (passivation film) formed on the TFT substrate 300 constituting the first substrate 102.

なお、第二の実施形態においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２にはａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料を用いることとしてもよい。   In the second embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 are a-Si and AlSi laminates. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. It may be used.

また、図５Ｂに示すとおり、第二の実施形態に係る本発明の表示装置１００においては、端子部１０２ｅの端子１０４は、ＭｏＷ（１０４ａ）、Ａｌ（１０４ｂ）、ＭｏＷ（１０４ｂ）及びＩＴＯ（１０４ｃ）によって構成されている。なお、端子１０４の構成及び材料はこれに限定されず、スイッチング素子（第二の実施形態においてはＴＦＴ）の構成に応じて適宜変更することとしてもよい。また、Ａｌ（１０４ｂ）は、スイッチング素子２０４のドレイン配線と同層の配線を用いることとしてもよい。   5B, in the display device 100 of the present invention according to the second embodiment, the terminals 104 of the terminal portion 102e are MoW (104a), Al (104b), MoW (104b), and ITO (104c). ). Note that the configuration and material of the terminal 104 are not limited to this, and may be appropriately changed according to the configuration of the switching element (TFT in the second embodiment). Alternatively, Al (104b) may be a wiring in the same layer as the drain wiring of the switching element 204.

端子部１０２ｅは、基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００の一部に形成されている。第二の実施形態においては、ＴＦＴ基板の表示部１０２ａ、データドライバ１０２ｂ及び１０２ｃ並びにゲートドライバ１０２ｄ上は絶縁膜（パッシベーション膜）３０２で覆われているが、端子１０４の表面には絶縁膜（パッシベーション膜）は存在せず、端子１０４は露出されている。   The terminal portion 102 e is formed on a part of the TFT substrate 300 that constitutes the substrate 102. In the second embodiment, the display portion 102a of the TFT substrate, the data drivers 102b and 102c, and the gate driver 102d are covered with an insulating film (passivation film) 302, but an insulating film (passivation) is formed on the surface of the terminal 104. There is no film), and the terminal 104 is exposed.

図５Ｂに示すとおり、第二の実施形態に係る表示装置１００においては、シャッタ２１０は、ａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を有している。なお、本実施形態においては、シャッタ２１０にはａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料でも用いることとしてもよい。   As shown in FIG. 5B, in the display device 100 according to the second embodiment, the shutter 210 includes a stacked body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b). In the present embodiment, a laminated body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b) is used for the shutter 210. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. Good.

本発明の表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０を備える。   The display device of the present invention includes an anti-stiction coating 250 formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202.

図５Ｂに示されるように、第二の実施形態においては、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ）が、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面のうちの、開口部を有するシャッタ２１０の、第２基板１０６に対向する面を、含んで形成されている。そして、第二の実施形態に係る表示装置１００は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、第２基板１０６の、第１基板１０２と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｄ）を更に備えている。   As shown in FIG. 5B, in the second embodiment, the surface of the MEMS shutter 202 where the anti-stiction coating 250 (250c) faces the second substrate 106 of the shutter 210 having an opening. Is formed. In the display device 100 according to the second embodiment, the compounds represented by the formula (I) are condensed with each other and chemically bonded to the surface of the second substrate 106 facing the first substrate 102. An anti-stiction coating 250 (250d) is further formed.

本実施形態に係る表示装置においては、シャッタ２１０と第２基板１０６との間の間隔は、１μｍ〜５μｍ程度（本実施形態においては３．５μｍ）である。すなわち、シャッタ２１０と第２基板１０６とは、非常に狭い間隔が維持されながら離間して備えられている。ここで、シャッタ２１０と第２基板１０６との間隙に水分等が付着すると、表面張力によってシャッタ２１０と第２基板１０６とは互いに引き付け合い両者がスティクション（固着）を引き起こすことがある。   In the display device according to the present embodiment, the distance between the shutter 210 and the second substrate 106 is about 1 μm to 5 μm (3.5 μm in the present embodiment). That is, the shutter 210 and the second substrate 106 are spaced apart from each other while maintaining a very narrow distance. Here, when moisture or the like adheres to the gap between the shutter 210 and the second substrate 106, the shutter 210 and the second substrate 106 may be attracted to each other due to surface tension, and both may cause stiction.

ここで、シャッタ２１０と第２基板１０６とが接触し得る領域、すなわち、シャッタ２１０の、第２基板１０６に対向する面と、第２基板１０６の、第１基板１０２と対向する面と、に上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、それぞれの面に化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ、２５０ｄ）が形成されることによって、シャッタ２１０と第２基板１０６とが互いに引き付け合うことを抑制することとなり、スティクションを回避することとなる。   Here, the region where the shutter 210 and the second substrate 106 can come into contact, that is, the surface of the shutter 210 that faces the second substrate 106 and the surface of the second substrate 106 that faces the first substrate 102. The compounds represented by the above formula (I) are condensed with each other and chemically bonded to the respective surfaces to form anti-stiction coatings 250 (250c, 250d). The two substrates 106 are prevented from attracting each other, and stiction is avoided.

シャッタ２１０の表面及び第２基板１０６の表面には、水酸基（―ＯＨ）が存在している。上記式（Ｉ）における加水分解性基であるＸ１は、シャッタ２１０及び第２基板１０６の表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等があげられるが、これらに限定されるものではない。 Hydroxyl groups (—OH) exist on the surface of the shutter 210 and the surface of the second substrate 106. X 1 which is a hydrolyzable group in the above formula (I) is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surfaces of the shutter 210 and the second substrate 106, for example, a halogen such as a methoxy group, an ethoxy group, or chlorine. Examples include, but are not limited to, groups.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が加水分解性基である場合、Ｘ２はＭＥＭＳシャッタ２０２表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等であることとしてもよい。また、Ｘ２もＸ１と同様、これらに限定されるものではない。 In addition, when X 2 in the above formula (I) is a hydrolyzable group, X 2 is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surface of the MEMS shutter 202, such as a methoxy group, an ethoxy group, and chlorine. It may be a halogen group or the like. Moreover, X 2 is also similar to X 1, but is not limited thereto.

シャッタ２１０の表面及び第２基板１０６の表面に、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ、２５０ｄ）を形成する方法は、前述の第一の実施形態と同様の方法と同様である。   The method of forming the anti-stiction coating 250 (250c, 250d) on the surface of the shutter 210 and the surface of the second substrate 106 is the same as the method similar to the first embodiment described above.

上記のように、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部及び第２基板１０６と化学的に結合して形成された、アンチスティクション被膜２５０は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合していないものと比較して、被膜の耐久性が向上する。すなわち、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合せずに、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部及び第２基板１０６と化学的に結合して形成された被膜は、ＭＥＭＳシャッタの稼働とともに被膜が劣化し、スティクションを回避する機能が維持される期間は、本発明のアンチスティクション被膜のスティクションを回避する機能が維持される期間の１／５０以下であった。   As described above, the anti-stiction coating 250 formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 and the second substrate 106 is as follows. The durability of the coating is improved as compared with those in which the compounds represented by the formula (I) are not condensed. That is, the film formed by chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 and the second substrate 106 without condensing the compounds represented by the above formula (I) with the operation of the MEMS shutter. The period during which the coating deteriorates and the function of avoiding stiction is maintained was 1/50 or less of the period of maintaining the function of avoiding stiction of the anti-stiction coating of the present invention.

次に、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１について説明を行う。本実施形態において、スティクションを回避するためには、シャッタ２１０と第２基板１０６との間隙に水分等の付着を回避することが必要である。よって、アンチスティクション被膜２５０ｃ、２５０ｄは、撥水性を有することとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、炭素数８以上のアルキル基であることとしてもよい。上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上のアルキル基である場合、形成されるアンチスティクション被膜は、接触角（ＪＩＳ Ｒ３２５７に準拠）が１００°以上の被膜となり、良好な撥水性を有することとなる。すなわち、アンチスティクション被膜２５０ｃ、２５０ｄは、接触角が１００°以上の撥水性を有することとしてもよい。 Next, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) will be described. In the present embodiment, in order to avoid stiction, it is necessary to avoid adhesion of moisture or the like in the gap between the shutter 210 and the second substrate 106. Therefore, the anti-stiction coatings 250c and 250d may have water repellency. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 or more carbon atoms. When R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) is an alkyl group having 8 or more carbon atoms, the antistiction film formed is a film having a contact angle (conforming to JIS R3257) of 100 ° or more. Thus, it has good water repellency. That is, the anti-stiction coatings 250c and 250d may have water repellency with a contact angle of 100 ° or more.

また、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上、２０以下のアルキル基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上、１５以下のアルキル基であることとしてもよい。炭素数が２０を超えるものであると、ＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くなり好ましくなく、炭素数が１５以下であることはＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くならないという観点から特に好ましい。 Further, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 20, the operation of the MEMS shutter 202 is undesirably slow, and the number of carbon atoms is particularly preferably 15 or less from the viewpoint that the operation of the MEMS shutter 202 does not slow down.

また、シャッタ２１０と第２基板１０６とが接触し得る領域は広範囲なものである。本実施形態において、スティクションを回避するために、シャッタ２１０の表面と第２基板１０６の表面の、一方及び／又は両方が、凹凸を有する場合、両者がスティクション（固着）を引き起こすリスクを軽減することができる。   Further, the area where the shutter 210 and the second substrate 106 can contact is wide. In this embodiment, in order to avoid stiction, when one and / or both of the surface of the shutter 210 and the surface of the second substrate 106 have irregularities, the risk of both causing stiction (adhesion) is reduced. can do.

また、シャッタ２１０の表面と第２基板１０６の表面の、一方及び／又は両方と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ、２５０ｄ）の、一方及び／又は両方は、凹凸を有することとしてもよい。シャッタ２１０の表面と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０ｃと、第２基板１０６の表面と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０ｄの、一方及び／又は両方が、凹凸を有するようにするためには、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数の化合物同士を縮合し、シャッタ２１０と第２基板１０６との表面の一方及び／又は両方と化学的に結合してアンチスティクション被膜を形成することによって実現されることとなる。   Further, one and / or both of the anti-stiction coating 250 (250c, 250d) formed by being chemically bonded to one and / or both of the surface of the shutter 210 and the surface of the second substrate 106 are uneven. It is good also as having. One and / or both of an anti-stiction coating 250c formed by chemically bonding to the surface of the shutter 210 and an anti-stiction coating 250d formed by chemically bonding to the surface of the second substrate 106 are provided. In order to have irregularities, a plurality of compounds having different R1 of the compound represented by the above formula (I) are condensed with each other, and one and / or both of the surfaces of the shutter 210 and the second substrate 106 It will be realized by chemically bonding to form an anti-stiction coating.

したがって、本実施形態に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備えることとしてもよい。 Therefore, the display device according to the present embodiment includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, A display device comprising: a plurality of terminals disposed on a first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. a, wherein the display device includes a plurality of compounds each other R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I) is condensed, and at least a portion of the MEMS shutter surface Formed by histological bonded, it may be provided with anti-stiction coating.

また、上記の場合、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１は、炭素数１〜２０のアルキル基であることとしてもよい。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜７のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜２０のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜５のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。アルキル鎖の長さの差が大きい複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜の表面の凹凸は大きいものとなるため好ましい。 In the above case, R 1 of the compound represented by the formula (I) may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Further, plural kinds of compounds R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. The surface of the anti-stiction coating formed by condensing a plurality of types of compounds having a large difference in alkyl chain length and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter becomes large. Therefore, it is preferable.

また、本実施形態に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備え、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第２基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記第２基板の、前記第１基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。 The display device according to the embodiment includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, A display device comprising: a plurality of terminals disposed on a first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. And the display device is formed by condensation of the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter. The anti-stiction coating is formed to include the surface of the MEMS shutter surface that has an opening, the surface facing the second substrate, and the display device includes: A compound represented by formula (I), wherein a plurality of types of compounds having different R 1 are condensed and chemically bonded to the surface of the second substrate facing the first substrate, It is good also as providing an action film.

また、上記の場合、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１は、炭素数１〜２０のアルキル基であることとしてもよい。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜７のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜２０のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜５のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。アルキル鎖の長さの差が大きい複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜の表面の凹凸は大きいものとなるため好ましい。 In the above case, R 1 of the compound represented by the formula (I) may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Further, plural kinds of compounds R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. The surface of the anti-stiction coating formed by condensing a plurality of types of compounds having a large difference in alkyl chain length and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter becomes large. Therefore, it is preferable.

また、本実施形態に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備え備え、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第２基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記第２基板の、前記第１基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。 The display device according to the embodiment includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, A display device comprising: a plurality of terminals disposed on a first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. a, wherein the display device is engaged between compounds of more kinds of R 1 are different condensation of the compound represented by the above formula (I), the chemical and at least a portion of the MEMS shutter surface An anti-stiction coating formed by bonding, the anti-stiction coating including a surface of the MEMS shutter surface having an opening facing the second substrate; In the display device, a plurality of types of compounds having different R 1 of the compound represented by the formula (I) are condensed with each other, and the surface of the second substrate facing the first substrate is chemically bonded. It may be further provided with an anti-stiction coating formed by bonding.

また、上記の場合、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１は、炭素数１〜２０のアルキル基であることとしてもよい。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜７のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜２０のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜５のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。アルキル鎖の長さの差が大きい複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜の表面の凹凸は大きいものとなるため好ましい。 In the above case, R 1 of the compound represented by the formula (I) may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Further, plural kinds of compounds R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. The surface of the anti-stiction coating formed by condensing a plurality of types of compounds having a large difference in alkyl chain length and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter becomes large. Therefore, it is preferable.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が一価の有機基（Ｘ２が加水分解反応性を有さない一価の有機基）である場合についても、上記Ｒ１の説明と同様、炭素数８以上のアルキル基であることとしてもよい。上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上のアルキル基である場合、形成されるアンチスティクション被膜は、接触角（ＪＩＳ Ｒ３２５７に準拠）が１００°以上の被膜となり、良好な撥水性を有することとなる。 In the case where X 2 in the formula (I) is a monovalent organic group (X 2 is a monovalent organic group having no hydrolytic reactivity), the number of carbon atoms is the same as in the description of R 1 above. It may be 8 or more alkyl groups. When X 2 is a monovalent organic group in the formula (I) are alkyl group having 8 or more carbon atoms, anti-stiction coating formed, the contact angle (according to JIS R3257) is 100 ° or more coating Thus, it has good water repellency.

また、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上、２０以下のアルキル基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上、１５以下のアルキル基であることとしてもよい。炭素数が２０を超えるものであると、ＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くなり好ましくなく、炭素数が１５以下であることはＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くならないという観点から特に好ましい。 Further, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms. Alternatively, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 20, the operation of the MEMS shutter 202 is undesirably slow, and the number of carbon atoms is particularly preferably 15 or less from the viewpoint that the operation of the MEMS shutter 202 does not slow down.

［第三の実施形態］
第三の実施系形態に係る表示装置について、以下に説明を行う。第三の実施形態に係る表示装置は、第一の実施形態に係る表示装置とアンチスティクション被膜２５０が形成される場所等が異なるものである。すなわち、第三の実施形態に係る表示装置の、回路構成や、ＭＥＭＳシャッタの基本構成等は、第一の実施形態に係る表示装置のそれらと同じものである。したがって、本発明に係る第三の表示装置の説明においては、アンチスティクション被膜２５０に関する以外の説明は省略する。 [Third embodiment]
The display device according to the third embodiment will be described below. The display device according to the third embodiment is different from the display device according to the first embodiment in the place where the anti-stiction coating 250 is formed. That is, the circuit configuration and the basic configuration of the MEMS shutter of the display device according to the third embodiment are the same as those of the display device according to the first embodiment. Therefore, in the description of the third display device according to the present invention, descriptions other than those relating to the anti-stiction coating 250 are omitted.

図５Ｃは、図４の切断線Ｖ−Ｖ’における断面図であり、本発明の第三の実施形態に係るＭＥＭＳシャッタの構成を示す図である。   FIG. 5C is a cross-sectional view taken along a cutting line V-V ′ in FIG. 4 and is a diagram showing a configuration of the MEMS shutter according to the third embodiment of the present invention.

図５Ｃに示すように、第三の実施形態の表示装置１００においては、第１バネ２１６、２１８、２２０及び２２２、並びに第２バネ２２４、２２６、２２８及び２３０は、それぞれ、ａ−Ｓｉによって形成されている。なお、第１、第２バネは、他の材料によって形成されることとしてもよいし、他の構造を有するものであることとしてもよい。   As shown in FIG. 5C, in the display device 100 of the third embodiment, the first springs 216, 218, 220, and 222 and the second springs 224, 226, 228, and 230 are formed of a-Si, respectively. Has been. Note that the first and second springs may be formed of other materials or may have other structures.

また、図５Ｃに示すとおり、第三の実施形態に係る表示装置１００においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２は、それぞれ、ａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を有している。図５Ｃに示すように、アンカー部２３４を例にとって説明すると、アンカー部２３４は、ａ−Ｓｉ（２３４ａ）及びＡｌＳｉ（２３４ｂ）の積層体を有している。アンカー部２３４は、第１基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００上に形成された絶縁膜３０２（パッシベーション膜）上に形成されている。   As shown in FIG. 5C, in the display device 100 according to the third embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 each include a stack of a-Si and AlSi. Yes. As illustrated in FIG. 5C, the anchor portion 234 will be described as an example. The anchor portion 234 includes a stacked body of a-Si (234a) and AlSi (234b). The anchor part 234 is formed on the insulating film 302 (passivation film) formed on the TFT substrate 300 constituting the first substrate 102.

なお、第三の実施形態においては、アンカー部２３２、２３４、２３６、２３８、２４０及び２４２にはａ−Ｓｉ及びＡｌＳｉの積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料を用いることとしてもよい。   In the third embodiment, the anchor portions 232, 234, 236, 238, 240, and 242 are a-Si and AlSi laminates. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. It may be used.

また、図５Ｃに示すとおり、第三の実施形態に係る本発明の表示装置１００においては、端子部１０２ｅの端子１０４は、ＭｏＷ（１０４ａ）、Ａｌ（１０４ｂ）、ＭｏＷ（１０４ｂ）及びＩＴＯ（１０４ｃ）によって構成されている。なお、端子１０４の構成及び材料はこれに限定されず、スイッチング素子（第三の実施形態においてはＴＦＴ）の構成に応じて適宜変更することとしてもよく、また、Ａｌ（１０４ｂ）は、スイッチング素子２０４のドレイン配線と同層の配線を用いることとしてもよい。   Further, as shown in FIG. 5C, in the display device 100 of the present invention according to the third embodiment, the terminals 104 of the terminal portion 102e are MoW (104a), Al (104b), MoW (104b) and ITO (104c). ). Note that the configuration and material of the terminal 104 are not limited to this, and may be changed as appropriate according to the configuration of the switching element (TFT in the third embodiment), and Al (104b) is the switching element. A wiring in the same layer as the drain wiring 204 may be used.

端子部１０２ｅは、基板１０２を構成するＴＦＴ基板３００の一部に形成されている。第三の実施形態においては、ＴＦＴ基板の表示部１０２ａ、データドライバ１０２ｂ及び１０２ｃ並びにゲートドライバ１０２ｄ上は絶縁膜（パッシベーション膜）３０２で覆われているが、端子１０４の表面には絶縁膜（パッシベーション膜）は存在せず、端子１０４は露出されている。   The terminal portion 102 e is formed on a part of the TFT substrate 300 that constitutes the substrate 102. In the third embodiment, the display portion 102a, the data drivers 102b and 102c, and the gate driver 102d on the TFT substrate are covered with an insulating film (passivation film) 302, but an insulating film (passivation) is formed on the surface of the terminal 104. There is no film), and the terminal 104 is exposed.

図５Ｃに示すとおり、第三の実施形態に係る表示装置１００においては、シャッタ２１０は、ａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を有している。なお、本実施形態においては、シャッタ２１０にはａ−Ｓｉ（２１０ａ）及び遮光用のＡｌＳｉ（２１０ｂ）の積層体を用いたが、これに限定されず、他の構造及び材料でも用いることとしてもよい。   As shown in FIG. 5C, in the display device 100 according to the third embodiment, the shutter 210 has a stacked body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b). In the present embodiment, a laminated body of a-Si (210a) and light-shielding AlSi (210b) is used for the shutter 210. However, the present invention is not limited to this, and other structures and materials may be used. Good.

本発明の表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０を備える。   The display device of the present invention includes an anti-stiction coating 250 formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202.

図５Ｃに示されるように、第三の実施形態においては、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｅ）が、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面のうちの、開口部を有するシャッタ２１０の、第１基板１０２に対向する面を、含んで形成されている。そして、第三の実施形態に係る表示装置１００は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、第１基板１０２の、第２基板１０６と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｆ）を更に備えている。   As shown in FIG. 5C, in the third embodiment, the antistiction coating 250 (250e) is a surface of the MEMS shutter 202 that faces the first substrate 102 of the shutter 210 having an opening. Is formed. In the display device 100 according to the third embodiment, the compounds represented by the formula (I) are condensed with each other and chemically bonded to the surface of the first substrate 102 facing the second substrate 106. An anti-stiction coating 250 (250f) is further formed.

本実施形態に係る表示装置においては、シャッタ２１０と第１基板１０２との間の間隔は、５μｍ〜１５μｍ程度（本実施形態においては７．５μｍ）である。そして、前述のようにシャッタ２１０の一方の側は、第１バネ２１６及び２１８を介してアンカー部２３２及び２３４に接続されており、シャッタ２１０は、アンカー部２３２、アンカー部２３４、第１バネ２１６及び第１バネ２１８によって、第１基板１０２の表面から浮遊した状態に支持されているにすぎない。   In the display device according to the present embodiment, the distance between the shutter 210 and the first substrate 102 is about 5 μm to 15 μm (7.5 μm in the present embodiment). As described above, one side of the shutter 210 is connected to the anchor portions 232 and 234 via the first springs 216 and 218, and the shutter 210 includes the anchor portion 232, the anchor portion 234, and the first spring 216. The first spring 218 is only supported in a floating state from the surface of the first substrate 102.

たとえば、外部から何らかの衝撃が、表示装置１００に加えられた場合、シャッタ２１０は容易に第２基板１０６に接近し、スティクションを引き起こすことが考えられる。   For example, when some impact is applied to the display device 100 from the outside, the shutter 210 can easily approach the second substrate 106 and cause stiction.

このような場合において、シャッタ２１０と第１基板１０２とが接触し得る領域、すなわち、シャッタ２１０の、第１基板１０２に対向する面と、第１基板１０２の、第２基板１０６と対向する面と、に上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、それぞれの面に化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ、２５０ｄ）が形成されることによって、シャッタ２１０と第１基板１０２とのスティクションを回避することに有効なものとなる。   In such a case, the area where the shutter 210 and the first substrate 102 can come into contact, that is, the surface of the shutter 210 facing the first substrate 102 and the surface of the first substrate 102 facing the second substrate 106. And the compounds represented by the above formula (I) are condensed with each other and chemically bonded to the respective surfaces to form anti-stiction coatings 250 (250c, 250d). This is effective in avoiding stiction between 210 and the first substrate 102.

シャッタ２１０の表面及び第１基板１０２の表面には、水酸基（―ＯＨ）が存在している。上記式（Ｉ）における加水分解性基であるＸ１は、シャッタ２１０及び第１基板１０２の表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等があげられるが、これらに限定されるものではない。 Hydroxyl groups (—OH) exist on the surface of the shutter 210 and the surface of the first substrate 102. X 1 which is a hydrolyzable group in the above formula (I) is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surfaces of the shutter 210 and the first substrate 102, for example, a halogen such as a methoxy group, an ethoxy group, and chlorine. Examples include, but are not limited to, groups.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が加水分解性基である場合、Ｘ２はＭＥＭＳシャッタ２０２表面に存在する水酸基と化学結合する反応基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、塩素等のハロゲン基等であることとしてもよい。また、Ｘ２もＸ１と同様、これらに限定されるものではない。 In addition, when X 2 in the above formula (I) is a hydrolyzable group, X 2 is a reactive group that chemically bonds to a hydroxyl group present on the surface of the MEMS shutter 202, such as a methoxy group, an ethoxy group, and chlorine. It may be a halogen group or the like. Moreover, X 2 is also similar to X 1, but is not limited thereto.

シャッタ２１０の表面及び第２基板１０６の表面に、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｃ、２５０ｄ）を形成する方法は、前述の第一の実施形態と同様の方法と同様である。   The method of forming the anti-stiction coating 250 (250c, 250d) on the surface of the shutter 210 and the surface of the second substrate 106 is the same as the method similar to the first embodiment described above.

シャッタ２１０の表面及び第１基板１０２の表面に、アンチスティクション被膜２５０（２５０ｅ、２５０ｆ）を形成する方法は、前述の第一の実施形態と同様の方法と同様である。   The method of forming the anti-stiction coating 250 (250e, 250f) on the surface of the shutter 210 and the surface of the first substrate 102 is the same as the method similar to the first embodiment described above.

上記のように、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部及び第１基板１０２と化学的に結合して形成された、アンチスティクション被膜２５０は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合していないものと比較して、被膜の耐久性が向上する。すなわち、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合せずに、ＭＥＭＳシャッタ２０２表面の少なくとも一部及び第２基板１０６と化学的に結合して形成された被膜は、ＭＥＭＳシャッタの稼働とともに被膜が劣化し、スティクションを回避する機能が維持される期間は、本発明のアンチスティクション被膜のスティクションを回避する機能が維持される期間の１／５０以下であった。   As described above, the anti-stiction coating 250 formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 and the first substrate 102 is as follows. The durability of the coating is improved as compared with those in which the compounds represented by the formula (I) are not condensed. That is, the film formed by chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter 202 and the second substrate 106 without condensing the compounds represented by the above formula (I) with the operation of the MEMS shutter. The period during which the coating deteriorates and the function of avoiding stiction is maintained was 1/50 or less of the period of maintaining the function of avoiding stiction of the anti-stiction coating of the present invention.

次に、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１について説明を行う。本実施形態において、スティクションを回避するためには、シャッタ２１０と第１基板１０２との間隙に水分等の付着を回避すること、あるいは、シャッタ２１０と第１基板１０２との表面に何らかの外的要因によって電荷が溜まった状態に置かれないことが必要となる。 Next, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) will be described. In the present embodiment, in order to avoid stiction, the adhesion of moisture or the like to the gap between the shutter 210 and the first substrate 102 is avoided, or the surface of the shutter 210 and the first substrate 102 has some external surface. It is necessary not to be left in a state where electric charges have accumulated due to factors.

したがって、アンチスティクション被膜２５０ｅ、２５０ｆは、撥水性を有することとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、炭素数８以上のアルキル基であることとしてもよい。上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上のアルキル基である場合、形成されるアンチスティクション被膜は、接触角（ＪＩＳ Ｒ３２５７に準拠）が１００°以上の被膜となり、良好な撥水性を有することとなる。すなわち、アンチスティクション被膜２５０ｅ、２５０ｆは、接触角が１００°以上の撥水性を有することとしてもよい。 Therefore, the anti-stiction coatings 250e and 250f may have water repellency. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 or more carbon atoms. When R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) is an alkyl group having 8 or more carbon atoms, the antistiction film formed is a film having a contact angle (conforming to JIS R3257) of 100 ° or more. Thus, it has good water repellency. That is, the antistiction coatings 250e and 250f may have water repellency with a contact angle of 100 ° or more.

また、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上、２０以下のアルキル基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１が炭素数８以上、１５以下のアルキル基であることとしてもよい。炭素数が１５以下であることによって、形成されるアンチスティクション被膜の耐久性が向上するため、更に好ましい。 Further, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms. When the number of carbon atoms is 15 or less, durability of the formed anti-stiction coating is improved, which is more preferable.

また、シャッタ２１０と第１基板１０２とが接触し得る領域は広範囲なものである。本実施形態において、スティクションを回避するために、シャッタ２１０の表面と第１基板１０２の表面の、一方及び／又は両方が、凹凸を有する場合、両者がスティクション（固着）を引き起こすリスクを軽減することができる。   Further, the area where the shutter 210 and the first substrate 102 can come into contact with each other is wide. In the present embodiment, in order to avoid stiction, when one and / or both of the surface of the shutter 210 and the surface of the first substrate 102 have irregularities, the risk of both causing stiction (adhesion) is reduced. can do.

また、シャッタ２１０の表面と第１基板１０２の表面の、一方及び／又は両方と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０（２５０ｅ、２５０ｆ）の、一方及び／又は両方は、凹凸を有することとしてもよい。シャッタ２１０の表面と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０ｅと、第１基板１０２の表面と化学的に結合して形成されるアンチスティクション被膜２５０ｆの、一方及び／又は両方が、凹凸を有するようにするためには、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数の化合物同士を縮合し、シャッタ２１０と第１基板１０２との表面の一方及び／又は両方と化学的に結合してアンチスティクション被膜を形成することによって実現されることとなる。 Further, one and / or both of the anti-stiction coating 250 (250e, 250f) formed by chemically bonding to one and / or both of the surface of the shutter 210 and the surface of the first substrate 102 are uneven. It is good also as having. One and / or both of an anti-stiction coating 250e formed by being chemically bonded to the surface of the shutter 210 and an anti-stiction coating 250f formed by being chemically bonded to the surface of the first substrate 102 In order to have unevenness, a plurality of compounds having different R 1 of the compound represented by the above formula (I) are condensed together, and one and / or both of the surfaces of the shutter 210 and the first substrate 102 are condensed. It will be realized by chemically bonding to and forming an anti-stiction coating.

したがって、本実施形態に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備え、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第１基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記第１基板の、前記第２基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。 Therefore, the display device according to the present embodiment includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, A display device comprising: a plurality of terminals disposed on a first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. The display device is formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter. An anti-stiction coating, the anti-stiction coating is formed including a surface of the MEMS shutter surface having an opening facing the first substrate, and the display device includes: The compound represented by the above formula (I) is formed by condensing a plurality of types of compounds having different R 1, and chemically bonding to a surface of the first substrate facing the second substrate. A stiction film may be further provided.

また、上記の場合、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１は、炭素数１〜２０のアルキル基であることとしてもよい。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜７のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜２０のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜５のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。アルキル鎖の長さの差が大きい複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜の表面の凹凸は大きいものとなるため好ましい。 In the above case, R 1 of the compound represented by the formula (I) may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Further, plural kinds of compounds R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. The surface of the anti-stiction coating formed by condensing a plurality of types of compounds having a large difference in alkyl chain length and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter becomes large. Therefore, it is preferable.

また、本実施形態に係る表示装置は、第１の基板と、前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、を含む表示装置であって、前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備え備え、前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第１基板に対向する面を、含んで形成され、前記表示装置は、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物同士が縮合し、前記第１基板の、前記第２基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備えることとしてもよい。 The display device according to the embodiment includes a first substrate, a plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element, A display device comprising: a plurality of terminals disposed on a first substrate and connected to an external terminal; and a second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter, The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. a, wherein the display device is engaged between compounds of more kinds of R 1 are different condensation of the compound represented by the above formula (I), the chemical and at least a portion of the MEMS shutter surface An anti-stiction coating formed by bonding, the anti-stiction coating including a surface of the MEMS shutter surface having an opening facing the first substrate; The display device is formed by chemically condensing a plurality of types of compounds having different R 1 of the compound represented by the formula (I), and the surface of the first substrate facing the second substrate. It may be further provided with an anti-stiction coating formed by bonding.

また、上記の場合、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１は、炭素数１〜２０のアルキル基であることとしてもよい。また、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜７のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜２０のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜５のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）にて示される化合物のＲ１が異なる複数種の化合物は、Ｒ１が炭素数１〜３のアルキル基である化合物と、Ｒ１が炭素数８〜１５のアルキル基である化合物と、を含むこととしてもよい。アルキル鎖の長さの差が大きい複数種の化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜の表面の凹凸は大きいものとなるため好ましい。 In the above case, R 1 of the compound represented by the formula (I) may be an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Further, plural kinds of compounds R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. Alternatively, a plurality of compounds wherein R 1 is different from the compounds represented by the above formula (I), the compounds wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms It is good also as including the compound which is. The surface of the anti-stiction coating formed by condensing a plurality of types of compounds having a large difference in alkyl chain length and chemically bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter becomes large. Therefore, it is preferable.

また、本実施形態において、スティクションを回避するためには、たとえば、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中にπ電子を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に不飽和結合を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に芳香環を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中に非共有電子対を有する官能基を有する一価の有機基であることとしてもよい。非共有電子対を有する官能基とは、たとえば、アミノ基、アミド基等が挙げられる。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＲ１は、構造中にＳ、Ｏ、Ｎ、Ｐを含有する一価の有機基であることとしてもよい。 In this embodiment, in order to avoid stiction, for example, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) is a monovalent organic group having π electrons in the structure. It is good. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an unsaturated bond in the structure. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an aromatic ring in the structure. Alternatively, R 1 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having a functional group having an unshared electron pair in the structure. Examples of the functional group having an unshared electron pair include an amino group and an amide group. Alternatively, R 1 that is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group containing S, O, N, and P in the structure.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が一価の有機基（Ｘ２が加水分解反応性を有さない一価の有機基）である場合についても、上記Ｒ１の説明と同様、炭素数８以上のアルキル基であることとしてもよい。上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上のアルキル基である場合、形成されるアンチスティクション被膜は、接触角（ＪＩＳ Ｒ３２５７に準拠）が１００°以上の被膜となり、良好な撥水性を有することとなる。 In the case where X 2 in the formula (I) is a monovalent organic group (X 2 is a monovalent organic group having no hydrolytic reactivity), the number of carbon atoms is the same as in the description of R 1 above. It may be 8 or more alkyl groups. When X 2 is a monovalent organic group in the formula (I) are alkyl group having 8 or more carbon atoms, anti-stiction coating formed, the contact angle (according to JIS R3257) is 100 ° or more coating Thus, it has good water repellency.

また、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上、２０以下のアルキル基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２が炭素数８以上、１５以下のアルキル基であることとしてもよい。炭素数が２０を超えるものであると、ＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くなり好ましくなく、炭素数が１５以下であることはＭＥＭＳシャッタ２０２の動作が遅くならないという観点から特に好ましい。 Further, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms. Alternatively, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 20, the operation of the MEMS shutter 202 is undesirably slow, and the number of carbon atoms is particularly preferably 15 or less from the viewpoint that the operation of the MEMS shutter 202 does not slow down.

また、上記式（Ｉ）におけるＸ２が一価の有機基（Ｘ２が加水分解反応性を有さない一価の有機基）である場合、たとえば、構造中にπ電子を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）における一価の有機基であるＸ２は、構造中に不飽和結合を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中に芳香環を有する一価の有機基であることとしてもよい。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中に非共有電子対を有する官能基を有する一価の有機基であることとしてもよい。非共有電子対を有する官能基とは、たとえば、アミノ基、アミド基等が挙げられる。あるいは、上記式（Ｉ）におけるＸ２は、構造中にＳ、Ｏ、Ｎ、Ｐを含有する一価の有機基であることとしてもよい。 Further, when X 2 in the above formula (I) is a monovalent organic group (X 2 is a monovalent organic group having no hydrolysis reactivity), for example, a monovalent having a π electron in the structure. It may be an organic group. Alternatively, X 2 which is a monovalent organic group in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an unsaturated bond in the structure. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group having an aromatic ring in the structure. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group having a functional group having an unshared electron pair in the structure. Examples of the functional group having an unshared electron pair include an amino group and an amide group. Alternatively, X 2 in the above formula (I) may be a monovalent organic group containing S, O, N, and P in the structure.

以上、本発明に係る表示装置について、第一、第二、第三の実施形態を例示して説明を行った。また、本発明に係る表示装置は、第一、第二、第三の実施形態にて説明されたアンチスティクション被膜が形成される場所を、それぞれ組み合わせて構成することとしてもよい。   The display device according to the present invention has been described by exemplifying the first, second, and third embodiments. The display device according to the present invention may be configured by combining the locations where the anti-stiction coating described in the first, second, and third embodiments is formed.

１００ 表示装置、１０２ 第１基板、１０６ 第２基板、１０２ａ 表示部、１０２ｂ、１０２ａ 表示部、１０２ｂ データドライバ、１０２ｃ データドライバ、１０２ｅ 端子部、１２０ コントローラ、１２２ バックライト、２００ 画素、２０２ ＭＥＭＳシャッタ、２０４ スイッチング素子、２０６ 保持容量、２１０ シャッタ、２１１ 開口部、２１２ 開口部、２１６ 第１バネ、２１８ 第１バネ、２２０ 第１バネ、２２２ 第１バネ、２２４ 第２バネ、２２６ 第２バネ、２２８ 第２バネ、２３０ 第２バネ、２３２ アンカー部、２３４ アンカー部、２３６ アンカー部、２３８ アンカー部、２４０ アンカー部、２４２ アンカー部、２５０ アンチスティクション被膜。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Display apparatus, 102 1st board | substrate, 106 2nd board | substrate, 102a Display part, 102b, 102a Display part, 102b Data driver, 102c Data driver, 102e Terminal part, 120 Controller, 122 Backlight, 200 pixels, 202 MEMS shutter, 204 switching element, 206 holding capacity, 210 shutter, 211 opening, 212 opening, 216 first spring, 218 first spring, 220 first spring, 222 first spring, 224 second spring, 226 second spring, 228 2nd spring, 230 2nd spring, 232 anchor part, 234 anchor part, 236 anchor part, 238 anchor part, 240 anchor part, 242 anchor part, 250 Anti-stiction coating.

Claims (4)

第１の基板と、
前記第１基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及び前記スイッチング素子によって駆動されるＭＥＭＳシャッタをそれぞれ有する複数の画素と、
前記第１基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、
前記第1基板と対向し、前記ＭＥＭＳシャッタと離間して備えられる、第２基板と、
を含む表示装置であって、
前記ＭＥＭＳシャッタは、開口部を有するシャッタ、前記シャッタに接続された
第１バネ、前記第１バネに接続された第１アンカー、第２バネ、及び前記第２バネに接続された第２アンカーを有し、
前記表示装置は、下記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記ＭＥＭＳシャッタ表面の少なくとも一部と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を備える、
ことを特徴とする表示装置。
Figure 2014178513
 （ここで、上記式（Ｉ）におけるＲ１は一価の有機基であり、Ｘ１は加水分解性基であり、Ｘ２は一価の有機基または加水分解性基である。） A first substrate;
A plurality of pixels arranged in a matrix on the first substrate, each having a switching element and a MEMS shutter driven by the switching element;
A plurality of terminals disposed on the first substrate and connected to external terminals;
A second substrate facing the first substrate and spaced apart from the MEMS shutter;
A display device comprising:
The MEMS shutter includes a shutter having an opening, a first spring connected to the shutter, a first anchor connected to the first spring, a second spring, and a second anchor connected to the second spring. Have
The display device includes an anti-stiction coating formed by condensation of compounds represented by the following formula (I) and chemical bonding with at least a part of the surface of the MEMS shutter.
A display device characterized by that.
Figure 2014178513
 (Here, R 1 in the above formula (I) is a monovalent organic group, X 1 is a hydrolyzable group, and X 2 is a monovalent organic group or a hydrolyzable group.) 前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、前記第１バネの前記第２バネと対向する面と、前記第２バネの前記第１バネと対向する面と、を含んで形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。 The anti-stiction coating is formed including a surface of the MEMS shutter surface that faces the second spring of the first spring and a surface of the second spring that faces the first spring. The
The display device according to claim 1. 前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第２基板に対向する面を、含んで形成され、
前記表示装置は、前記式（Ｉ）にて示される化合物同士が縮合し、前記第２基板の、前記第１基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備える、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。 The anti-stiction film is formed to include a surface of the MEMS shutter surface that faces the second substrate of the shutter having an opening,
The display device includes an anti-stiction coating formed by condensing the compounds represented by the formula (I) and chemically bonding the surface of the second substrate facing the first substrate. In addition,
The display device according to claim 1 or 2. 前記アンチスティクション被膜は、前記ＭＥＭＳシャッタ表面のうちの、開口部を有する前記シャッタの、前記第１基板に対向する面を、含んで形成され、
前記表示装置は、前記式（Ｉ）にて示される化合物同志が縮合し、前記第１基板の、前記第２基板と対向する面と化学的に結合して形成される、アンチスティクション被膜を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の表示装置。 The anti-stiction coating is formed including a surface of the MEMS shutter surface that has an opening and that faces the first substrate.
The display device includes an anti-stiction coating formed by condensing compounds represented by the formula (I) and chemically bonding to a surface of the first substrate facing the second substrate. In addition,
The display device according to claim 1, wherein the display device is a display device.
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