JP2014170878A - Drawing pattern forming method - Google Patents

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Toshihiro Kanematsu
俊宏 金松
Tetsuya Yohira
哲也 余平
Hiroyuki Miyata
弘幸 宮田
Shumpei Kamono
俊平 鴨野
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the evaporation time of ink dispersion fluid, improve production efficiency, and reduce cost.SOLUTION: As shown in Figure 1a), ink 14 made of nano-metal particles 12 and tetradecane dispersion fluid 13 is drawn on a polyimide film substrate 11 by an ink jet head. Then, as shown in Figures 1b) and c), an absorption member 15 made of silicone rubber is moved toward the substrate 11, and the absorption member 15 is made to come in contact with the ink 14. At this time, at the moment of contact, the dispersion fluid 13 of the ink 14 is absorbed in and dispersed to the absorption member 15 (part indicated by a code 10 in the figure). Because the silicone rubber forms a molecular structure, the nano-metal particles cannot penetrate between molecules. In addition, because the silicone rubber has large surface tension, it has low wettability, and when the absorption member 15 is broken away from the substrate, the nano-metal particles 12 can be kept behind on the substrate 11.

Description

本発明は、微細粒子と分散液とを含む描画材料を吐出手段から吐出させて描画し、パターン形成する描画パターン形成方法に関する。   The present invention relates to a drawing pattern forming method in which a drawing material containing fine particles and a dispersion liquid is drawn from a discharge means to draw a pattern.

従来、電気回路の配線はマスクを用いためっき及びエッチング工程を含む複製技術にて形成されてきた。これらの工程は、少なくとも、めっき工程、マスクの作製、フォトリソグラフィ、エッチング、洗浄、及び乾燥の工程が必要であり、工程数が多いために昨今の少量多品種な顧客ニーズに合わせることが困難になってきた。これらの従来技術に代わる技術として、金属ナノ粒子材料を用いインクジェット方式等による随時描画可能な技術が期待され開発が行われている。しかしながら、インクジェット方式では、金属ナノ粒子を分散液にて薄く希釈した低粘度のインクを使用する必要があるため、濡れ広がり、コーヒーステイン現象(=膜厚の不均一性)、バルジ効果(=液滴の不均一な濡れ広がり)、あるいはクラック等が発生し電気特性が低下するという問題がある。また、分散液を乾燥させる必要があり、その乾燥時間が生産性向上、またはコスト低減を阻害する要因となっている。通常、金属ナノ粒子にて配線基板を製作する場合、基板上にインクを描画後、分散液を蒸発させ、残りの粒子を焼成して配線を形成する。   Conventionally, wiring of an electric circuit has been formed by a replication technique including a plating and etching process using a mask. These processes require at least a plating process, mask production, photolithography, etching, cleaning, and drying processes. Because of the large number of processes, it is difficult to meet the needs of today's small variety of customers. It has become. As a technique replacing these conventional techniques, a technique capable of drawing at any time by an ink jet method using a metal nanoparticle material is expected and developed. However, in the ink jet method, it is necessary to use a low-viscosity ink in which metal nanoparticles are diluted thinly with a dispersion liquid, so that wetting and spreading, coffee stain phenomenon (= film thickness non-uniformity), bulge effect (= liquid There is a problem that electrical characteristics deteriorate due to occurrence of cracks or the like in which droplets spread unevenly). Further, it is necessary to dry the dispersion, and the drying time is a factor that hinders productivity improvement or cost reduction. Usually, when manufacturing a wiring board with metal nanoparticles, after drawing ink on the board, the dispersion is evaporated and the remaining particles are baked to form the wiring.

ここで、比較のため画像形成の用途について簡単に説明する。画像形成の用途の場合、通常、記録媒体は液が浸透する紙等の材料であって、インクの溶媒または分散液は紙に吸収され、色素成分が紙表面に残る。その後インク表面または記録用紙裏面から分散液を乾燥させる。OHP用紙等の非浸透基板の使用においても、OHP用紙の表面には受容層と呼ばれる分散液を浸透するような表面処理が施されており、それを介して分散液を乾燥させる。   Here, the application of image formation will be briefly described for comparison. In the image forming application, the recording medium is usually a material such as paper into which the liquid permeates, and the ink solvent or dispersion is absorbed by the paper, and the dye component remains on the paper surface. Thereafter, the dispersion liquid is dried from the ink surface or the recording paper back surface. Even in the use of a non-penetrating substrate such as OHP paper, the surface of the OHP paper is subjected to a surface treatment so as to penetrate a dispersion called a receiving layer, and the dispersion is dried through the surface treatment.

しかしながら、金属ナノ粒子をインクジェット等の方式で描画する配線基板等の製作においては、その基板がインクの非浸透材料で構成される。よって、描画直後のインクは未乾燥状態であり、その乾燥には分散液を蒸発させる必要がある。より早く分散液を蒸発させて乾燥させるには、加熱乾燥させるのが一般的である。但し、分散液の沸点以上に温度を上げると、乾燥後の粒子間にボイドやクラックが生じ、電気特性が低下するので、沸点以下での加熱乾燥を余儀なくされる。なお、沸点が低い分散液を使用した場合は、インクジェットノズル側が直ぐに乾燥してしまい、ノズルに金属ナノ粒子が析出し描画に影響を与えるので、使用されることは少ない。加熱温度が高い場合は、液滴が着弾する前に乾燥するためにミストが発生してしまう不具合が生じる。また、相対的にノズル部の温度が低いため、気化した分散液がノズルに結露してしまうため飛翔速度や方向に悪影響を与える。よって、インクの吐出に影響を与えない適度な温度が必要となり、結果として、乾燥時間が5〜10分の長時間となる問題がある。乾燥時間が長くなることを生産効率が上がらず、コスト削減を実現することが難しい。   However, in the production of a wiring board or the like on which metal nanoparticles are drawn by a method such as inkjet, the board is made of an ink non-penetrating material. Therefore, the ink immediately after drawing is in an undried state, and it is necessary to evaporate the dispersion for drying. In order to evaporate and dry the dispersion earlier, it is common to heat dry. However, if the temperature is raised above the boiling point of the dispersion, voids and cracks are generated between the dried particles, and the electrical characteristics are lowered, so that heating and drying at the boiling point or less are unavoidable. When a dispersion having a low boiling point is used, it is rarely used because the ink jet nozzle side is dried immediately and metal nanoparticles are deposited on the nozzle and affect drawing. When the heating temperature is high, there is a problem that mist is generated because the droplets are dried before landing. In addition, since the temperature of the nozzle portion is relatively low, the vaporized dispersion liquid is condensed on the nozzle, which adversely affects the flight speed and direction. Therefore, an appropriate temperature that does not affect the ink ejection is required, and as a result, there is a problem that the drying time becomes a long time of 5 to 10 minutes. Prolonged drying time does not increase production efficiency, and it is difficult to realize cost reduction.

特許文献1においては、反復して金属インク組成物を積層して金属配線を形成する場合に、インクに乾燥剤を添加したインク組成物が開示されている。これにより、乾燥速度を調整して、金属配線にクラックが発生するのを防止し、線幅の均一化を向上させることができることが記載されている。しかし、乾燥速度を短縮して生産効率を上げるものではない。   Patent Document 1 discloses an ink composition in which a desiccant is added to ink when a metal wiring is repeatedly formed to form a metal wiring. Thus, it is described that the drying rate can be adjusted to prevent cracks in the metal wiring and to improve the uniformity of the line width. However, it does not shorten the drying rate and increase the production efficiency.

また、特許文献2においては、形状の異なる金属ナノ粒子及び/又は金属酸化物ナノ粒子を含むインクを着弾させた直後にレーザー光を照射することが微小径の粒子と肥大化した粒子を混在させる回路基板の製造方法が開示されている。これにより、低抵抗かつ微細な配線パターンを得ることが記載されている。しかし、この方法は分散液を極力乾燥させないようにしているため、乾燥時間短縮の解決策にはならない。   In Patent Document 2, irradiation with laser light immediately after landing of ink containing metal nanoparticles and / or metal oxide nanoparticles having different shapes causes a mixture of fine particles and enlarged particles. A circuit board manufacturing method is disclosed. Thus, it is described that a low resistance and fine wiring pattern is obtained. However, this method is not a solution for shortening the drying time because the dispersion is prevented from being dried as much as possible.

また、特許文献3においては、基板上にインクの受容層を備えて導電パターンを形成する場合の受容層の塗工液の組成について開示されている。これにより、導電パターンと基板の密着を向上させることが可能であることが記載されている。しかし、毎回、基板上に受容層を作製する時間が必要であり、乾燥時間の短縮には至らない。
なお、あらかじめ、受溶層がある基板にて分散液を吸収させる方法があるが、この方法では、配線パターンを一層のみ形成するには有効であるが、配線パターンの多層化には適さない。
Patent Document 3 discloses the composition of the coating liquid for the receiving layer in the case where an ink receiving layer is provided on the substrate to form a conductive pattern. Thus, it is described that the adhesion between the conductive pattern and the substrate can be improved. However, it takes time to produce the receiving layer on the substrate each time, and the drying time is not shortened.
Although there is a method of absorbing the dispersion liquid in advance on a substrate having a receiving layer, this method is effective for forming only one layer of wiring pattern, but is not suitable for multilayering of wiring patterns.

また、描画によるパターン形成方法ではないが、特許文献4においては、シリコーン組成物の架橋状態を調整して、分散液および微細粒子の透過状態を制御する方法を用いて、パターンが表出されたシリコーン組成物からなる透過膜を作製し、該透過膜から金属ナノ粒子溶液をにじみ出させて基板上にパターンを転写する方法が開示されている。しかし、この方法においても、乾燥時間の短縮についての提案がされていない。   Moreover, although it is not a pattern formation method by drawing, in patent document 4, the pattern was expressed using the method of adjusting the bridge | crosslinking state of a silicone composition and controlling the permeation | transmission state of a dispersion liquid and a fine particle. A method is disclosed in which a permeable membrane made of a silicone composition is prepared, a metal nanoparticle solution is oozed from the permeable membrane, and a pattern is transferred onto a substrate. However, even in this method, no proposal for shortening the drying time has been made.

前述のように、金属ナノ粒子等の微細粒子を分散液に分散させたインクを基板上に描画して、分散液を蒸発させてパターンを形成する描画パターン形成方法において、クラックを防止するため、または線幅を均一化するために、改良されたインク、あるいは基板側に受容層を設けた場合の配線パターンの密着性向上のための提案がされているが、分散液の乾燥時間を効果的に短縮する方法は提示されていない。
本発明が解決しようとする課題は、微細粒子と分散液とを含む描画材料をインクジェットヘッド等の吐出手段から吐出させて描画し、パターンを形成する描画パターン形成方法であって、吐出特性に悪影響を与えること無く、分散液の乾燥時間を短縮し、コスト削減が可能な描画パターン形成方法を提供することを目的とする。
As described above, in order to prevent cracks in the drawing pattern forming method in which ink in which fine particles such as metal nanoparticles are dispersed in a dispersion is drawn on a substrate and the dispersion is evaporated to form a pattern, In order to make the line width uniform, proposals have been made to improve the adhesion of the wiring pattern when improved ink or a receiving layer is provided on the substrate side. There is no suggestion of how to shorten it.
A problem to be solved by the present invention is a drawing pattern forming method in which a drawing material containing fine particles and a dispersion liquid is drawn from a discharge means such as an ink jet head to form a pattern, and the discharge characteristics are adversely affected. An object of the present invention is to provide a drawing pattern forming method capable of shortening the drying time of the dispersion liquid and reducing the cost without giving any.

上記課題を解決するために、本発明は、基板上に微細粒子と分散液とを含む描画材料を描画する工程と、分散液を吸収する吸収部材を描画材料に接触させて分散液を吸収して、基板上に微細粒子を残留させる工程と、を有することを特徴とする描画パターン形成方法である。   In order to solve the above-described problems, the present invention absorbs a dispersion by drawing a drawing material containing fine particles and a dispersion on a substrate and bringing an absorbing member that absorbs the dispersion into contact with the drawing material. And a step of leaving fine particles on the substrate.

本発明の描画パターン形成方法によれば、分散液を吸収する吸収部材を基板上の描画材料に接触させて分散液を吸収するので、分散液を蒸発させるための乾燥時間を大幅に短縮することができ、生産効率を向上させることができる。   According to the drawing pattern forming method of the present invention, since the absorbing member that absorbs the dispersion is brought into contact with the drawing material on the substrate to absorb the dispersion, the drying time for evaporating the dispersion can be greatly shortened. Production efficiency can be improved.

本発明の第1の実施形態の描画パターン形成方法を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the drawing pattern formation method of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の描画パターン形成方法を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the drawing pattern formation method of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の描画パターン形成方法を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the drawing pattern formation method of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態の描画パターン形成方法における分散液吸収工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the dispersion liquid absorption process in the drawing pattern formation method of the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態の描画パターン形成方法における分散液吸収工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the dispersion liquid absorption process in the drawing pattern formation method of the 5th Embodiment of this invention.

本発明の描画パターン形成方法は、基板上に微細粒子と分散液とを含む描画材料を描画する工程と、分散液を吸収する吸収部材を描画材料に接触させて分散液を吸収して、基板上に微細粒子を残留させる工程とを有するものである。   The drawing pattern forming method of the present invention comprises a step of drawing a drawing material containing fine particles and a dispersion liquid on a substrate, and an absorbing member that absorbs the dispersion liquid is brought into contact with the drawing material to absorb the dispersion liquid. And a step of leaving fine particles on the top.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。なお、本発明は以下に示す実施例の実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態、追加、修正、削除など、当業者が想到することができる範囲内で変更することができ、いずれの態様においても本発明の作用、効果を奏する限り、本発明の範囲に含まれるものである。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the present invention is not limited to the embodiments of the examples shown below, and other embodiments, additions, modifications, deletions, and the like can be changed within a range that can be conceived by those skilled in the art. Any aspect is included in the scope of the present invention as long as the operations and effects of the present invention are exhibited.

(第1の実施形態)
本発明の描画パターン形成方法の第1の実施形態について図1を参照して説明する。図1に、本実施形態の描画パターン形成方法の概略断面図を示す。
本実施の形態は、微細粒子として導電性のナノメタル粒子12を用い、該ナノメタル粒子12と分散液13とを含む描画材料(インク14)をインクジェットヘッドから吐出させて基板11上に描画し、次いで、吸収部材15を該描画部に接触させて分散液13のみを吸収部材15に吸収させ、その後、吸収部材15を剥離し、基板11には微細粒子のみを残留させる方法である。なお、吸収部材15は、分散液13を吸収し、ナノメタル粒子12は吸収しないものを使用する。
(First embodiment)
A first embodiment of a drawing pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the drawing pattern forming method of this embodiment.
In the present embodiment, conductive nanometal particles 12 are used as fine particles, and a drawing material (ink 14) containing the nanometal particles 12 and the dispersion 13 is drawn from an inkjet head to draw on the substrate 11, and then In this method, the absorbent member 15 is brought into contact with the drawing portion so that only the dispersion liquid 13 is absorbed by the absorbent member 15, and then the absorbent member 15 is peeled off and only the fine particles remain on the substrate 11. In addition, the absorbing member 15 uses a material that absorbs the dispersion liquid 13 and does not absorb the nanometal particles 12.

まず、図1a)に示すように、基板11(100mm角)上に、インク14をインクジェットヘッド(図示せず)にて描画する。着弾時のインク粒径はφ50μm、高さ10μm程度である。
基板11にはポリイミドフィルム(宇部興産製)を使用する。
インク14は、ナノメタル粒子12と分散液13とからなるものである。ここではハリマ化成製のNSP−Jを使用する。これは、ナノメタル粒子12としてナノ銀粒子(平均粒径12nm)65wt%と、分散液13としてテトラデカン(沸点254℃、融点5.9℃、SP値7.7)とを主成分とするものである。
First, as shown in FIG. 1a), the ink 14 is drawn on the substrate 11 (100 mm square) with an inkjet head (not shown). The ink particle size upon landing is about 50 μm and the height is about 10 μm.
A polyimide film (manufactured by Ube Industries) is used for the substrate 11.
The ink 14 is composed of nanometal particles 12 and a dispersion 13. Here, NSP-J made by Harima Chemicals is used. This is mainly composed of 65 wt% of nano silver particles (average particle size 12 nm) as nano metal particles 12 and tetradecane (boiling point 254 ° C., melting point 5.9 ° C., SP value 7.7) as dispersion 13. is there.

次に、図1b)およびc)に示すように、吸収部材15を基板11方向へ移動させて、吸収部材15をインク14に接触させる。この時、接触した瞬間にインク14の分散液13は吸収部材15へと吸収拡散していく(図中符号10で示す部分)。吸収部材15には、シリコーンゴム(信越シリコーン製シリコーンゴム、SP最大値8、厚さ1mm)を用いる。なお、シリコーンゴムを用いた理由は、テトラデカンのSP値(溶解パラメーター、Solubility Parameter)と値が近い為である。SP値が近いとシリコーンゴムへの膨潤速度や量が大きくなることが判っている。また、シリコーンゴムは分子構造を成しているために、分散液は透過させるが、ナノメタル粒子12は分子間に進入することはできない。また、シリコーンゴムは表面張力が大きいために、ナノメタル粒子12との濡れ性が低いために、基板から吸収部材15を剥離させる際に、ナノメタル粒子12を基板11上に残留させることができる。   Next, as shown in FIGS. 1 b) and c), the absorbing member 15 is moved toward the substrate 11 to bring the absorbing member 15 into contact with the ink 14. At this time, the dispersion 13 of the ink 14 is absorbed and diffused into the absorbing member 15 at the moment of contact (portion indicated by reference numeral 10 in the figure). Silicone rubber (Shin-Etsu silicone silicone rubber, SP maximum value 8, thickness 1 mm) is used for the absorbing member 15. The reason for using silicone rubber is that the SP value (solubility parameter) of tetradecane is close to the value. It is known that when the SP value is close, the swelling speed and amount of the silicone rubber increase. Further, since the silicone rubber has a molecular structure, the dispersion liquid is allowed to pass therethrough, but the nanometal particles 12 cannot enter between the molecules. Further, since the silicone rubber has a high surface tension, the wettability with the nanometal particles 12 is low, so that the nanometal particles 12 can remain on the substrate 11 when the absorbing member 15 is peeled from the substrate.

吸収部材15は任意の速度にて基板11へ近づけて行くが、その速度は、吸収部材15が分散液13を吸収する速度以下である。吸収部材15が分散液13を吸収する速度は、分散液13の拡散速度でもあるため、この速度よりも速く基板11へ近づけるとインク14は横へ広がる。横への広がりを避けるには、分散液13の拡散速度よりも遅い移動速度にて吸収部材15を基板11に近づける必要がある。つまり、シリコーンゴムが分散液13であるテトラデカンを吸収する速度より遅い速度とする必要がある。本実施形態では、吸収部材15の基板への移動速度は、10μm/secとする。この速度では、インク14が広がらずに分散液13を吸収することができる。
なお、吸収部材15がインク14を吸収する速度は、定量のインク14を吸収部材15に滴下し、インクが浸み込んだ距離と、分散液13が滴下されてから吸収が完了するまでの時間とから算出される。
The absorbing member 15 approaches the substrate 11 at an arbitrary speed, but the speed is lower than the speed at which the absorbing member 15 absorbs the dispersion liquid 13. Since the speed at which the absorbing member 15 absorbs the dispersion liquid 13 is also the diffusion speed of the dispersion liquid 13, the ink 14 spreads sideways when approaching the substrate 11 faster than this speed. In order to avoid lateral spread, it is necessary to bring the absorbing member 15 closer to the substrate 11 at a moving speed slower than the diffusion speed of the dispersion liquid 13. That is, it is necessary that the speed is lower than the speed at which the silicone rubber absorbs the tetradecane that is the dispersion 13. In this embodiment, the moving speed of the absorbing member 15 to the substrate is 10 μm / sec. At this speed, the dispersion liquid 13 can be absorbed without spreading the ink 14.
The speed at which the absorbing member 15 absorbs the ink 14 depends on the distance that the fixed amount of ink 14 is dripped into the absorbing member 15 and the time that the ink 13 is immersed and the time from when the dispersion 13 is dripped until the absorption is completed. And calculated from

次に、図1d)に示すように、吸収部材15をインク14に加圧させる。加圧させながら分散液13を吸収する。ナノメタル粒子12からなるパターンの密度を大きくすることができ、パターンのボイドやクラックの発生を抑制することができる。   Next, as shown in FIG. 1 d), the absorbing member 15 is pressed against the ink 14. The dispersion 13 is absorbed while being pressurized. The density of the pattern made of the nanometal particles 12 can be increased, and generation of pattern voids and cracks can be suppressed.

次に、図1e)に示すように、吸収部材15に分散液13を吸収させた後、基板11から吸収部材を剥離させて、ナノメタル粒子12のみを基板11上に残留させる。吸収部材15をインク14に接触させてから剥離するまでの時間は2秒から10秒程度である。   Next, as shown in FIG. 1 e), after the dispersion member 13 is absorbed by the absorbing member 15, the absorbing member is peeled off from the substrate 11, and only the nanometal particles 12 remain on the substrate 11. The time from when the absorbing member 15 is brought into contact with the ink 14 until it is peeled off is about 2 to 10 seconds.

基板11として、ポリイミドフィルムを使用しているが、分散液が浸透しない材料からなるものであればよく、高分子樹脂基板、セラミックス基板、半導体シリコン基板、金属基板、ガラス基板等を挙げることができる。高分子樹脂基板としては、例えばポリイミド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、セルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等を挙げることができる。
また、セラミックス基板としては、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ホウ化ジルコニウム、チタン酸アルミニウム、シリカ、アルミナ等を挙げることができる。
As the substrate 11, a polyimide film is used, but any material that does not allow the dispersion liquid to permeate may be used. Examples thereof include a polymer resin substrate, a ceramic substrate, a semiconductor silicon substrate, a metal substrate, and a glass substrate. . Examples of the polymer resin substrate include polyimide resin, phenol resin, melamine resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyester resin, acrylic resin, acetal resin, polyether sulfone resin, cellulose resin, polyethylene terephthalate resin, polycarbonate resin, and the like. Can do.
Examples of the ceramic substrate include silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, zirconium boride, aluminum titanate, silica, and alumina.

なお、分散液13として、テトラデカンを用いているが、ナノメタル粒子12が分散されればよく、分散液13のSP値は吸収部材のSP値に近い値とすることが望ましい。分散液13としては、有機溶剤系であればテトラデカン以外にも、シキロヘキサン、四塩化炭素、トルエン、ベンゼン、メチルエチルケトン、エタノール、アセトン、アセトニトリル、アニリン、ベンゾニトリル、ブタノール、クロロベンゼン、クロロホルム、シクロヘキサン、ジメチルホルムアミド、エーテル、イソプロパノール、メタノール、ニトロベンゼン、ペンタン、フェノール、プロパノール、α−ターピネオール、トルエン、ベンゼン、ヘプタン、ヘキサン、オクタンが挙げることができる。好ましくは、トルエン、ヘキサン、オクタン、α−ターピネオール等である。また、分散液は水であってもよい。分散液は水系や有機溶媒系およびアルコール系が主であり、その大きさはオングストローム(0.1ナノメートル)オーダーである。   Although tetradecane is used as the dispersion 13, it is sufficient that the nanometal particles 12 are dispersed, and the SP value of the dispersion 13 is desirably a value close to the SP value of the absorbing member. As the dispersion 13, in addition to tetradecane, as long as it is an organic solvent system, cyclohexane, carbon tetrachloride, toluene, benzene, methyl ethyl ketone, ethanol, acetone, acetonitrile, aniline, benzonitrile, butanol, chlorobenzene, chloroform, cyclohexane, dimethylformamide , Ether, isopropanol, methanol, nitrobenzene, pentane, phenol, propanol, α-terpineol, toluene, benzene, heptane, hexane, and octane. Preferred are toluene, hexane, octane, α-terpineol and the like. The dispersion may be water. Dispersions are mainly water-based, organic solvent-based, and alcohol-based, and their sizes are on the order of angstroms (0.1 nanometers).

微細粒子とは、微細粒子はナノメートルオーダーの粒子を示す。例えば、平均粒径100nm以下の粒子を示す。微細粒子の低温焼成やインクジェットによる吐出のしやすさを考慮すると、実用的には5〜20nmの範囲である。本実施形態では、平均粒径12nmのナノ銀粒子を用いているが、導電性パターンを形成するためのナノメタル粒子12としては、ナノ銀粒子のみならず、ナノ金粒子、ナノ白金粒子、ナノアルミニウム粒子、ナノタングステン粒子、ナノ銅粒子等を用いることができる。
また、導電性微細粒子に限らず、非導電性の微細粒子も本発明に用いることが可能である。例えば、無機顔料、有機顔料、あるいはセラミックス等の微細粒子を挙げることができる。無機顔料としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、鉄黒、コバルトブルー等を挙げることができる。また、有機顔料としては、アゾ系顔料、フタロシアニン顔料等を挙げることができる。また、セラミックスとしては、アルミナ、ジルコニア等を挙げることができる。
With a fine particle, a fine particle shows a particle | grain of nanometer order. For example, particles having an average particle size of 100 nm or less are shown. Considering ease of low-temperature firing of fine particles and ink jetting, the practical range is 5 to 20 nm. In this embodiment, nano silver particles having an average particle diameter of 12 nm are used. However, as the nano metal particles 12 for forming a conductive pattern, not only nano silver particles but also nano gold particles, nano platinum particles, and nano aluminum. Particles, nano tungsten particles, nano copper particles, and the like can be used.
Further, not only conductive fine particles but also nonconductive fine particles can be used in the present invention. Examples thereof include fine particles such as inorganic pigments, organic pigments, and ceramics. Examples of inorganic pigments include titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide, chromium oxide, iron black, and cobalt blue. Examples of organic pigments include azo pigments and phthalocyanine pigments. Examples of ceramics include alumina and zirconia.

吸収部材15は、分散液13を吸収する材料からなるものであり、材料として、本実施形態では、シリコーンゴムを用いた。膨潤度が高いゴム系が望ましく、天然ゴム、他のポリマー、有機高分子多孔質体等も用いることもできる。有機高分子多孔質体としては、例えば、ポリエステル多孔質体、ポリカーボネート多孔質体、ポリウレタン多孔質体等を挙げることができる。
水系の溶剤であれば、吸収部材としては、紙おむつ等に使用されるような水分吸収率の高い高分子吸収ポリマー、例えば、ポリアクリル酸ナトリウム等のポリアクリル酸塩、デンプン−ポリアクリロニトリル加水分解物、デンプン−ポリアクリロニトリル酢酸架橋物、架橋カルボキシメチルセルロース、酢酸ビニル−アクリル酸メチル共重合体ケン化物等が望ましい。
吸収部材15の厚さは、本実施形態の厚さに限らず、吸収部材15の種類、分散液13の種類、及びパターニング形状等によって適宜選択可能である。
The absorbing member 15 is made of a material that absorbs the dispersion liquid 13. In this embodiment, silicone rubber is used as the material. A rubber system having a high degree of swelling is desirable, and natural rubber, other polymers, organic polymer porous bodies, and the like can also be used. Examples of the organic polymer porous material include a polyester porous material, a polycarbonate porous material, and a polyurethane porous material.
If it is a water-based solvent, the absorbent member may be a polymer absorbent polymer having a high water absorption rate such as used in paper diapers, for example, polyacrylates such as sodium polyacrylate, starch-polyacrylonitrile hydrolysate Starch-polyacrylonitrile acetic acid cross-linked product, cross-linked carboxymethyl cellulose, vinyl acetate-methyl acrylate copolymer saponified product and the like are desirable.
The thickness of the absorbing member 15 is not limited to the thickness of the present embodiment, and can be appropriately selected depending on the type of the absorbing member 15, the type of the dispersion liquid 13, the patterning shape, and the like.

吸収部材15は、分散液13の溶解パラメーターと近い溶解パラメーター(SP値)を有することが望ましい。分散液13の溶解パラメーターと±2以内、さらには、±1以内の範囲で近似していることが望ましい。吸収部材15のSP値が、分散液13のSP値と近いと、分散液13の吸収部材15への膨潤速度や量が大きくなる。シリコーンゴム(SP値8近傍)の場合は、分散液13としてn−オクタン、シクロヘキサン、四塩化炭素、トルエン、ベンゼン等はSP値が近似しており、望ましい。   The absorbent member 15 desirably has a solubility parameter (SP value) close to that of the dispersion 13. It is desirable to approximate the solubility parameter of the dispersion 13 within a range of ± 2 or even within a range of ± 1. When the SP value of the absorbent member 15 is close to the SP value of the dispersion 13, the swelling speed and amount of the dispersion 13 into the absorbent member 15 increase. In the case of silicone rubber (near SP value 8), n-octane, cyclohexane, carbon tetrachloride, toluene, benzene and the like as dispersion 13 are desirable because of their approximate SP values.

吸収部材15の空隙は、分散液は透過させるが、微細粒子を透過させない大きさである。本実施形態で用いたシリコーンゴムの空隙の大きさは、統計的に2nm以下である。吸収部材の空隙の大きさとして、微細粒子の大きさから例えば、有機高分子では100nm以下の範囲が望ましく、さらには5nm以下の範囲がさらに望ましい。有機高分子の場合、この大きさは、架橋構造の網目の大きさによって決まる。この網目の大きさは、モノマーの分子量あるいは構造、架橋構造、または重合度を調節することによって制御することができる。またさらには、上記のような架橋構造等による制御を行うことによって、所望の溶解パラメーターや膨潤度を得ることも可能である。微細粒子はナノメートルオーダーであるが、分散液13は、その大きさはオングストローム(0.1ナノメートル)オーダーであるので、その大きさの違いを利用して、分散液13を分離することが可能である。   The voids of the absorbing member 15 are sized so as to allow the dispersion liquid to pass therethrough but not allow fine particles to pass therethrough. The size of the gap of the silicone rubber used in this embodiment is statistically 2 nm or less. As the size of the gap of the absorbing member, for example, in the case of an organic polymer, a range of 100 nm or less is desirable and a range of 5 nm or less is more desirable because of the size of the fine particles. In the case of organic polymers, this size is determined by the size of the network of the crosslinked structure. The size of the network can be controlled by adjusting the molecular weight or structure of the monomer, the crosslinked structure, or the degree of polymerization. Furthermore, it is also possible to obtain a desired solubility parameter and swelling degree by performing control based on the crosslinked structure as described above. Although the fine particles are on the order of nanometers, the size of the dispersion liquid 13 is on the order of angstroms (0.1 nanometers). Therefore, the dispersion liquid 13 can be separated using the difference in size. Is possible.

吸収部材15は、微細粒子との濡れ性を低くして、基板11から吸収部材15を剥離することを容易にし、微細粒子のみを良好に残留させるために、高い表面張力を有することが望ましい。吸収部材15の表面張力は基板より大きいことが望ましい。   The absorbent member 15 desirably has a high surface tension in order to reduce the wettability with the fine particles to facilitate the peeling of the absorbent member 15 from the substrate 11 and to leave only the fine particles satisfactorily. The surface tension of the absorbing member 15 is preferably larger than the substrate.

本実施形態によれば、従来のように、加熱機構等を用いてインク14から直接分散液を蒸発させて乾燥させる方法ではなく、吸収部材15をインク14に接触させて吸収しているので、分散液13を蒸発させる時間分、製造時間を短縮させることができ、生産効率を上げることができ、コスト低減を図ることが可能である。   According to the present embodiment, unlike the conventional method, the absorbing member 15 is brought into contact with the ink 14 and absorbed, instead of the method of evaporating and drying the dispersion directly from the ink 14 using a heating mechanism or the like. The manufacturing time can be shortened by the time for evaporating the dispersion 13, the production efficiency can be increased, and the cost can be reduced.

分散液13の沸点以上に基板11を長時間加熱することが無いので、乾燥後の粒子間にボイドやクラックが生じて電気特性が低下するという問題が生じず、パターンの膜質を均一なものとすることができ、さらにはパターンの精細度を高めることができる。
また、従来、長時間の加熱を避けるために低沸点の分散液13を使用すると、インクジェットノズル側が直ぐに乾燥してしまい、ノズルに金属ナノ粒子が析出し描画に悪影響を与えるという問題があるが、本発明によれば、このような問題も生じないため、低沸点の分散液を使用することも可能である。
Since the substrate 11 is not heated for a long time above the boiling point of the dispersion 13, there is no problem that voids and cracks occur between the particles after drying and the electrical characteristics are deteriorated, and the film quality of the pattern is uniform. In addition, the definition of the pattern can be increased.
In addition, conventionally, when the low boiling point dispersion 13 is used in order to avoid heating for a long time, there is a problem in that the ink jet nozzle side is dried immediately, and metal nanoparticles are deposited on the nozzle, thereby adversely affecting drawing. According to the present invention, since such a problem does not occur, it is also possible to use a low boiling point dispersion.

また、基板11の加熱温度が高い場合は、液滴が着弾する前に乾燥するためにミストが発生し、気化した分散液13がノズルに結露してしまうため飛翔速度や方向に悪影響を与えるという問題があったが、本発明によれば、基板11の加熱温度を沸点まで高くする必要がないので、良好なインク吐出特性を得ることができる。   Further, when the heating temperature of the substrate 11 is high, mist is generated because the droplets are dried before landing, and the vaporized dispersion liquid 13 is condensed on the nozzles, which adversely affects the flight speed and direction. Although there was a problem, according to the present invention, since it is not necessary to raise the heating temperature of the substrate 11 to the boiling point, good ink ejection characteristics can be obtained.

(第2の実施形態)
次に、本発明の描画パターン形成方法の第2の実施形態について図2を参照して説明する。図2に、本実施形態の描画パターン形成方法の概略断面図を示す。
本実施形態の描画パターン形成方法は、上記第1の実施形態の方法に加え、形状の異なる吸収部材25を用い、基板11を加熱する工程と、吸収部材25の上部設けられた加熱器28で吸収部材25を加熱する工程を含むものである。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the drawing pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of the drawing pattern forming method of the present embodiment.
In addition to the method of the first embodiment, the drawing pattern forming method of the present embodiment uses the absorbing member 25 having a different shape, and the step of heating the substrate 11 and the heater 28 provided above the absorbing member 25. This includes a step of heating the absorbing member 25.

本実施形態に用いる装置は、温度調節機能を備える固定台30と、吸収部材25と、吸収部材を加熱する加熱器28とにより構成される。第1の実施形態と同要素については同符号を付して説明する。
基板11は、図2a)に示すように、温度調節機能を備える固定台30上に設けられている。固定台30の内部には配管29が設けられており、その配管29の内部を温度調節された液媒体が循環することにより、基板11の温度調節が行われる。
The apparatus used in the present embodiment includes a fixed base 30 having a temperature adjustment function, an absorption member 25, and a heater 28 that heats the absorption member. The same elements as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals.
As shown in FIG. 2a), the substrate 11 is provided on a fixed base 30 having a temperature adjustment function. A pipe 29 is provided inside the fixed base 30, and the temperature of the substrate 11 is adjusted by circulating a temperature-controlled liquid medium inside the pipe 29.

吸収部材25の材料は、上記第1の実施の形態と同じ、シリコーンゴム(信越シリコーン製シリコーンゴム、SP最大値8)を用いることができる。そして、インク14と接触する側と反対側の表面に、円柱状の突起26が形成されている。吸収部材25の厚みは2mm、円柱の直径は0.3mm、高さは1mm、ピッチは0.5mmである。インク14と接触する側と反対側の表面積が、インク14と接触する側の表面積より大きい形状となっている。
吸収部材25は支持体27に支持されている。支持体27は位置制御手段(図示せず)により、吸収部材25と基板11との位置制御を行う機能を有する。
As the material of the absorbing member 25, the same silicone rubber (Shin-Etsu silicone silicone rubber, SP maximum value 8) as in the first embodiment can be used. A cylindrical protrusion 26 is formed on the surface opposite to the side in contact with the ink 14. The thickness of the absorbing member 25 is 2 mm, the diameter of the cylinder is 0.3 mm, the height is 1 mm, and the pitch is 0.5 mm. The surface area on the side opposite to the side in contact with the ink 14 is larger than the surface area on the side in contact with the ink 14.
The absorbing member 25 is supported by the support body 27. The support 27 has a function of performing position control between the absorbing member 25 and the substrate 11 by position control means (not shown).

加熱器28は、吸収部材25の上部に吸収部材25に対向して設置されている。また、加熱器28の大きさは150mm角であり、電気ヒーター加熱にて温風が発生する機構のものを用いている。加熱器28は、吸収部材25を、該吸収部材25のインク14と接触する側と反対側の表面を加熱して吸収部材25が吸収した分散液13の蒸発を促す。   The heater 28 is installed above the absorption member 25 so as to face the absorption member 25. The heater 28 has a size of 150 mm square and uses a mechanism that generates warm air by heating an electric heater. The heater 28 heats the surface of the absorbing member 25 opposite to the side in contact with the ink 14 to promote the evaporation of the dispersion 13 absorbed by the absorbing member 25.

次に、本実施形態の描画パターンの形成方法について説明する。
図2a)に示すように、固定台30の温度を分散液(テトラデカン)13の沸点より低い温度に設定する。インクジェット等での描画に影響を与えない程度の高温が望ましく、この場合は50℃に設定する。これは、分散液13を蒸発させて多少インクの濃度を上げ、粘度を低下させる目的がある。また、加熱器28からは200℃の温風が発生しており、吸収部材25を加熱して分散液13の蒸発を促す。基板11上にインクジェットヘッド等(図示せず)によって、配線パターンを描画後、固定台30を吸収部材25の下部に移動させる。
Next, a method for forming a drawing pattern according to this embodiment will be described.
As shown in FIG. 2 a), the temperature of the fixing base 30 is set to a temperature lower than the boiling point of the dispersion liquid (tetradecane) 13. A high temperature that does not affect drawing with an ink jet or the like is desirable. In this case, the temperature is set to 50 ° C. The purpose of this is to evaporate the dispersion 13 to slightly increase the ink concentration and to reduce the viscosity. Further, warm air of 200 ° C. is generated from the heater 28, and the absorbing member 25 is heated to promote evaporation of the dispersion liquid 13. After drawing a wiring pattern on the substrate 11 by an inkjet head or the like (not shown), the fixing base 30 is moved to the lower part of the absorbing member 25.

次に、図2b)に示すように、支持体27により吸収部材25を降下させ、吸収部材25をインク14に接触させる。さらにインク14が横に広がらない程度の速度(10μm/sec)にて降下させる。この間、加熱器28からは温風が発生している。   Next, as shown in FIG. 2 b), the absorbing member 25 is lowered by the support 27 to bring the absorbing member 25 into contact with the ink 14. Further, the ink 14 is lowered at a speed (10 μm / sec) that does not spread horizontally. During this time, warm air is generated from the heater 28.

次に、図3c)に示すように、分散液13のみ吸収部材25に吸収させた後、吸収部材25を上昇させ、ナノメタル粒子12のみを基板11上に残留させる。吸収部材25は加熱器28により、さらに分散液13が蒸発させられる。分散液13を蒸発させた吸収部材25は再度用いることが可能である。   Next, as shown in FIG. 3 c), only the dispersion liquid 13 is absorbed by the absorbing member 25, and then the absorbing member 25 is raised to leave only the nanometal particles 12 on the substrate 11. The dispersion member 13 is further evaporated by the heater 28 in the absorbing member 25. The absorbing member 25 obtained by evaporating the dispersion 13 can be used again.

本実施形態の吸収部材25は、インク14と接触する側と反対側の表面に、円柱状の突起26を設けて、インク14と接触する側と反対側の表面積が、インク14と接触する側の表面積より大きい形状となっている。表面積を上げることで、吸収部材25が吸収した分散液13を蒸発し乾燥する速度を速めるという効果を得ることができる。   The absorbing member 25 of this embodiment is provided with a columnar protrusion 26 on the surface opposite to the side in contact with the ink 14, and the surface area opposite to the side in contact with the ink 14 is on the side in contact with the ink 14. It has a shape larger than the surface area. By increasing the surface area, the effect of evaporating and drying the dispersion 13 absorbed by the absorbing member 25 can be obtained.

さらには、基板11の温度は、分散液13であるテトラデカンの融点以上沸点未満である50℃に温度調節された状態でインク14の描画を行う。したがって、基板11の温度が沸点以上にした場合に発生する、インク14が着弾する前にミストが発生し、気化した分散液13がノズルに結露してしまうという問題がなく、良好なインク吐出特性を得ることができる。   Further, the ink 14 is drawn in a state in which the temperature of the substrate 11 is adjusted to 50 ° C., which is equal to or higher than the melting point of tetradecane as the dispersion 13 and lower than the boiling point. Therefore, there is no problem that mist is generated before the ink 14 is landed, which occurs when the temperature of the substrate 11 is higher than the boiling point, and the vaporized dispersion liquid 13 is condensed on the nozzles. Can be obtained.

また、吸収部材25の温度は、分散液13であるテトラデカンの融点以上沸点未満である200℃に保持されて、基板11上のインク14に接触させるので、乾燥後の粒子間にボイドやクラックが生じるのを防ぎ、良質な膜質を得ることができ、良好な電気特性を得ることが可能である。   Further, the temperature of the absorbing member 25 is maintained at 200 ° C., which is higher than the melting point of tetradecane as the dispersion 13 and lower than the boiling point, and is brought into contact with the ink 14 on the substrate 11. It is possible to prevent occurrence, obtain a good film quality, and obtain good electrical characteristics.

また、さらには、分散液13を吸収した吸収部材25を加熱する工程を備えているため、分散液13の蒸発を促し、乾燥時間を短縮することが可能である。   Furthermore, since the absorption member 25 that has absorbed the dispersion 13 is heated, the evaporation of the dispersion 13 can be promoted, and the drying time can be shortened.

(第3の実施形態)
次に、本発明の描画パターン形成方法の第3の実施形態について、図3を参照して説明する。図3に、本実施形態の描画パターン形成方法の概略断面図を示す。
本実施形態の描画パターン形成方法は、上記第2の実施形態と、基板11を加熱する工程と、突起を有する吸収部材25を用いたことと、加熱器28で吸収部材25を加熱する工程を含むことは同様である。本実施形態は、さらに、吸収部材を加圧機31により加圧する工程を含み、分散液を吸収する2つの吸収部材25及び吸収部材35を用いて分散液の乾燥時間をさらに短縮した態様である。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the drawing pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the drawing pattern forming method of the present embodiment.
The drawing pattern forming method of the present embodiment includes the step of heating the substrate 11, the step of heating the substrate 11, the use of the absorbing member 25 having protrusions, and the step of heating the absorbing member 25 with the heater 28. The inclusion is similar. This embodiment further includes a step of pressurizing the absorbing member with the pressurizing machine 31, and is a mode in which the drying time of the dispersion is further shortened by using the two absorbing members 25 and the absorbing member 35 that absorb the dispersion.

本実施形態に用いる装置は、温度調節機能を備える固定台30と、吸収部材25および35と、加圧機31と、吸収部材25および35を加熱する加熱装置と、固定台30上と加熱装置との間を吸収部材が移動可能なようにする搬送手段とにより構成される。なお、加熱装置は、図3(f)に示すように、対向する2つの加熱器28を備えてなるものである。   The apparatus used in the present embodiment includes a fixing base 30 having a temperature adjusting function, absorbing members 25 and 35, a pressurizer 31, a heating device that heats the absorbing members 25 and 35, a fixing table 30, and a heating device. It is comprised with the conveyance means which enables an absorption member to move between. In addition, a heating apparatus is provided with the two heaters 28 which oppose, as shown in FIG.3 (f).

第2の実施形態同様、固定台30の内部には配管29が設けられており、その配管29の内部を温度調節された液媒体が循環することにより、基板11の温度調節が行われる。   As in the second embodiment, a pipe 29 is provided inside the fixed base 30, and the temperature of the substrate 11 is adjusted by circulating a temperature-controlled liquid medium inside the pipe 29.

吸収部材25及び35は、第2の実施形態同様、インク14と接触する側と反対側の表面に、それぞれ円柱状の突起26および36が形成されている。吸収部材25および35の厚みは2mm、円柱の直径は0.3mm、高さは1mm、ピッチは0.5mmである。インク14と接触する側と反対側の表面積が、インク14と接触する側の表面積より大きい形状となっている。
支持体27は、図3a)およびb)に示すように、位置制御手段(図示せず)により、吸収部材25と基板11との位置制御を行うと共に、加熱装置との間を移動可能なように、搬送手段(図示せず)をも備えるものである。また、支持体37も、同様に、図3d)およびe)に示すように、吸収部材35と基板11との位置制御を行うと共に、加熱装置との間を移動可能なように、搬送手段(図示せず)をも備えるものである。
As in the second embodiment, the absorbing members 25 and 35 are formed with cylindrical protrusions 26 and 36 on the surface opposite to the side in contact with the ink 14, respectively. The thickness of the absorbing members 25 and 35 is 2 mm, the diameter of the cylinder is 0.3 mm, the height is 1 mm, and the pitch is 0.5 mm. The surface area on the side opposite to the side in contact with the ink 14 is larger than the surface area on the side in contact with the ink 14.
As shown in FIGS. 3 a) and b), the support 27 controls the position of the absorbing member 25 and the substrate 11 by a position control means (not shown) and can move between the heating devices. In addition, a conveying means (not shown) is also provided. Similarly, as shown in FIGS. 3d) and e), the support 37 also controls the position of the absorbing member 35 and the substrate 11 and can move between the heating device and the transporting means ( (Not shown).

加熱装置は、図3f)に示すように、固定台30上とは別に設置され、対向する2つの加熱器28を備え、搬送されてきた分散液13を吸収した吸収部材25あるいは35の上部及び下部の両方向から加熱することを可能とする。加熱器28の大きさは150mm角であり、電気ヒーターによる加熱にて温風が発生する機構のものを用いている。   As shown in FIG. 3f), the heating device is installed separately from the fixed base 30, and includes two heaters 28 facing each other, and the upper part of the absorbing member 25 or 35 that has absorbed the conveyed dispersion 13 and It is possible to heat from both directions of the lower part. The heater 28 has a size of 150 mm square, and uses a mechanism that generates warm air by heating with an electric heater.

加圧機31は、吸収部材25の上部に設けられている。加圧機31は、位置制御手段(図示せず)を備え、吸収部材25を介して基板11との位置制御を行うと共に、基板11への圧力制御を行う機能を備えるものである。   The pressurizer 31 is provided on the upper portion of the absorbing member 25. The pressurizer 31 includes a position control means (not shown), and has a function of controlling the position with the substrate 11 via the absorbing member 25 and controlling the pressure on the substrate 11.

次に、本実施形態の描画パターンの形成方法について説明する。
図3a)に示すように、固定台30の温度を分散液(テトラデカン)13の沸点より低い温度に設定する。描画部(図示ぜず)において、基板11上にインクジェットヘッド等によって、配線パターンを描画後、固定台30を吸収部材25の下部に移動させる。インクジェット等での描画に影響を与えない程度の高温が望ましく、この場合は50℃に設定する。これは、多少、分散液13を蒸発させてインク14の濃度を上げ、粘度を低下させる目的がある。
Next, a method for forming a drawing pattern according to this embodiment will be described.
As shown in FIG. 3 a), the temperature of the fixing base 30 is set to a temperature lower than the boiling point of the dispersion liquid (tetradecane) 13. In the drawing section (not shown), after the wiring pattern is drawn on the substrate 11 by an inkjet head or the like, the fixed base 30 is moved to the lower part of the absorbing member 25. A high temperature that does not affect drawing with an ink jet or the like is desirable. In this case, the temperature is set to 50 ° C. This has the purpose of evaporating the dispersion 13 to increase the concentration of the ink 14 and lowering the viscosity.

次に、図3b)に示すように、加圧機31を降下させる。同時に吸収部材25が加圧機31に加圧され、インク14に接触する。インク14に接触させた時点から、10μm/secの速度にて降下させ、0.1MPa〜1MPaの範囲で2秒間加圧する。なお、吸収部材25収縮性があるシリコーンゴムのため、支持体27は移動させる必要はない。   Next, as shown in FIG. 3b), the pressurizer 31 is lowered. At the same time, the absorbing member 25 is pressurized by the pressurizer 31 and comes into contact with the ink 14. From the point of contact with the ink 14, the ink is lowered at a speed of 10 μm / sec and pressurized in the range of 0.1 MPa to 1 MPa for 2 seconds. Note that the support member 27 does not need to be moved because the absorbing member 25 is a silicone rubber having contractibility.

次に、図3c)に示すように、分散液13のみ吸収部材25に吸収させた後、加圧機31を上昇させると同時に吸収部材25を上昇させ、ナノメタル粒子12のみを基板11上に残留させる。   Next, as shown in FIG. 3c), only the dispersion liquid 13 is absorbed by the absorption member 25, and then the pressurizer 31 is raised and the absorption member 25 is raised simultaneously, leaving only the nanometal particles 12 on the substrate 11. .

次に、描画装置に固定台30を移動させ、描画装置により、基板11上に残留したナノメタル粒子12上にインク14を重ね描画する。その後、図3d)に示すように、固定台30を本実施形態に用いる装置に戻し、基板11上のインク14の上部には新たな吸収部材35を配置する。この間、図3f)に示すように、吸収部材25は支持体27の備える搬送手段により加熱装置の2つの加熱器28の間に搬送され、加熱器28から200℃の温風を発生させ分散液13を蒸発させる。   Next, the fixed base 30 is moved to the drawing apparatus, and the ink 14 is drawn over the nanometal particles 12 remaining on the substrate 11 by the drawing apparatus. Thereafter, as shown in FIG. 3D), the fixing base 30 is returned to the apparatus used in this embodiment, and a new absorbing member 35 is disposed on the ink 14 on the substrate 11. During this time, as shown in FIG. 3f), the absorbing member 25 is conveyed between the two heaters 28 of the heating device by the conveying means provided in the support 27, and generates 200 ° C. warm air from the heater 28 to produce the dispersion liquid. 13 is evaporated.

次に、図3e)に示すように、一度目の吸収部材25を接触させた場合と同じ条件で、加圧機31を降下させて、吸収部材35とインク14とを接触させる。加圧機31の降下と同時に、吸収部材35も降下する。吸収部材35はインク14に接触し、分散液13を吸収する。その後、加圧機31を上昇させる。基板11上には、1回目の描画によるナノメタル粒子12の上に2回目の描画によるナノメタル粒子12が残留し、1回目の描画によるナノメタル粒子12と2回目の描画によるナノメタル粒子12からなるパターンが残留する。   Next, as shown in FIG. 3e), the pressurizer 31 is lowered under the same conditions as when the first absorbing member 25 is brought into contact, and the absorbing member 35 and the ink 14 are brought into contact with each other. At the same time when the pressurizer 31 is lowered, the absorbing member 35 is also lowered. The absorbing member 35 contacts the ink 14 and absorbs the dispersion liquid 13. Thereafter, the pressurizer 31 is raised. On the substrate 11, the nanometal particles 12 by the second drawing remain on the nanometal particles 12 by the first drawing, and a pattern comprising the nanometal particles 12 by the first drawing and the nanometal particles 12 by the second drawing is formed. Remains.

次に、図3g)に示すように、吸収部材35は、支持体37の備える搬送手段により加熱装置に搬送され、加熱器28により加熱されて分散液13を蒸発させる。この時、1回目の吸収部材25は、再度基板11上に搬送されて、新たに描画されたインク14の分散液13を吸収する。   Next, as shown in FIG. 3g), the absorbing member 35 is conveyed to the heating device by the conveying means provided in the support 37 and heated by the heater 28 to evaporate the dispersion liquid 13. At this time, the first absorbing member 25 is transported again onto the substrate 11 and absorbs the newly drawn dispersion liquid 13 of the ink 14.

本実施形態では、2回目の描画は、1回目に残留させたナノメタル粒子12の上に重ね描画した場合について記載した。これにより、従来技術で提案されているような基板に分散液受容層を設ける方法は、重ね塗りには適用できないが、本発明の描画パターンの形成方法によれば、分散液13を吸収する部材を基板11に設けていないため、配線パターンのように厚膜化が必要な場合には、効果的な方法である。
本実施形態では、2つの吸収部材25および35を交替で用い、一方が加熱装置で分散液13が蒸発されているときは、他方を分散液13の吸収に用いることとしているので、分散液13の乾燥時間をさらに短縮することが可能である。さらに複数回重ね描画を行う場合には、吸収部材を2つ用いる場合に限らず、3つ以上用いてもよい。
In the present embodiment, the second drawing is described on the case where the drawing is performed on the nanometal particles 12 left in the first time. As a result, the method of providing the dispersion-receiving layer on the substrate as proposed in the prior art cannot be applied to overcoating, but according to the drawing pattern forming method of the present invention, the member that absorbs the dispersion 13 Is not provided on the substrate 11, which is an effective method when a thick film is required as in a wiring pattern.
In the present embodiment, the two absorbing members 25 and 35 are used alternately, and when one of them is a heating device and the dispersion 13 is evaporated, the other is used for absorption of the dispersion 13. It is possible to further shorten the drying time. Furthermore, in the case where the drawing is performed a plurality of times, the number of absorbing members is not limited to two, and three or more absorbing members may be used.

(第4の実施の形態)
次に、本発明の描画パターン形成方法の第4の実施形態について、図4を参照して説明する。図4に、本実施形態の描画パターン形成方法における分散液吸収工程の概略断面図を示す。
本実施形態の描画パターン形成方法は、吸収部材45上で加圧ローラーを回転させることにより加圧しながら、分散液13を吸収させる方法である。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the drawing pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view of the dispersion absorbing step in the drawing pattern forming method of the present embodiment.
The drawing pattern forming method of the present embodiment is a method of absorbing the dispersion 13 while applying pressure by rotating a pressure roller on the absorbing member 45.

本実施形態に用いる装置は、温度調節機能を備える固定台30と、支持体47に支持された吸収部材45と、加圧ローラー41と、吸収部材45を加熱する加熱器48とを備えるものである。   The apparatus used in this embodiment includes a fixed base 30 having a temperature adjustment function, an absorption member 45 supported by a support body 47, a pressure roller 41, and a heater 48 for heating the absorption member 45. is there.

固定台30の内部には、第2の実施形態同様、配管29が設けられており、その配管29の内部を温度調節された液媒体が循環することにより、基板11の温度調節が行われる。基板11は50℃に設定されている。   As in the second embodiment, a pipe 29 is provided inside the fixed base 30, and the temperature of the substrate 11 is adjusted by circulating a temperature-controlled liquid medium inside the pipe 29. The substrate 11 is set to 50 ° C.

吸収部材45は、上記第1の実施の形態と同じ、シリコーンゴム(信越シリコーン製シリコーンゴム、SP最大値8、厚さ1mm)を用いることができる。吸収部材45は支持体47により支持されている。支持体47は位置制御手段(図示せず)により、吸収部材45と基板11との位置制御を行い、さらに吸収部材45との接触可能となるように上下移動可能に制御される。インク14には第1の実施形態と同じインクを用いる。   As the absorbing member 45, the same silicone rubber (Shin-Etsu silicone silicone rubber, SP maximum value 8, thickness 1 mm) as in the first embodiment can be used. The absorbing member 45 is supported by a support body 47. The support 47 is controlled by a position control means (not shown) such that the position of the absorbing member 45 and the substrate 11 is controlled, and that the supporting body 47 can be moved up and down so as to be in contact with the absorbing member 45. As the ink 14, the same ink as in the first embodiment is used.

加圧ローラー41は、吸収部材45の上部に配置され、紙面右側から左側へ回転しながら移動すると共に、吸収部材45を加圧する。   The pressure roller 41 is disposed above the absorption member 45, moves while rotating from the right side to the left side of the paper, and pressurizes the absorption member 45.

加熱器48は、加熱器48は電気ヒーター加熱にて温風が発生する機構を有する。例えば、加熱器の大きさは、幅50mm、奥行き150mmとすることができる。   The heater 48 has a mechanism for generating warm air by heating the electric heater 48. For example, the size of the heater can be 50 mm wide and 150 mm deep.

本実施形態の描画パターン形成方法について以下に説明する。
温度調節された固定台30の上部に基板11を設置し、描画部(図示せず)において、インク14をインクジェットヘッド等により描画パターンを描画する。その後、図4に示すように、固定台30を、支持体47により支持された吸収部材45の下部に移動させる。支持体47は位置制御手段(図示せず)により、吸収部材45と基板11との位置制御を行い、吸収部材45をインク14との接触手前まで移動させる。加圧ローラー41は、吸収部材45上部を0.05MPaの圧力で押しつけながら紙面右側から左側へ回転して移動していく。加圧ローラーの圧力は0.01MPaから1MPaの範囲であることが好ましい。吸収部材45はインク14に加圧されながら接触し、分散液13を吸収する。基板11上にはナノメタル粒子12が残留する。
The drawing pattern forming method of this embodiment will be described below.
The substrate 11 is placed on the temperature-adjusted fixed base 30, and a drawing pattern is drawn on the ink 14 by an inkjet head or the like in a drawing unit (not shown). Thereafter, as shown in FIG. 4, the fixing base 30 is moved to the lower part of the absorbing member 45 supported by the support body 47. The support 47 controls the position of the absorbing member 45 and the substrate 11 by position control means (not shown), and moves the absorbing member 45 to a position just before contact with the ink 14. The pressure roller 41 rotates and moves from the right side to the left side while pressing the upper part of the absorbing member 45 with a pressure of 0.05 MPa. The pressure of the pressure roller is preferably in the range of 0.01 MPa to 1 MPa. The absorbing member 45 contacts the ink 14 while being pressurized, and absorbs the dispersion liquid 13. The nanometal particles 12 remain on the substrate 11.

同時に、加熱器48は、200℃の温風を出しながら、加圧ローラー41が移動した跡を吸収部材45の上部を紙面右側から左側へ移動し、吸収部材45が吸収した分散液13を蒸発させる。加熱器48の温度及び移動速度は、分散液13の種類によって設定することが可能である。   At the same time, the heater 48 moves the upper part of the absorbing member 45 from the right side to the left side of the paper, while evaporating the dispersion 13 absorbed by the absorbing member 45, while emitting hot air of 200 ° C. Let The temperature and moving speed of the heater 48 can be set according to the type of the dispersion liquid 13.

本実施形態の場合、加熱器48の大きさは、基板11と同等の大きさである必要が無く、小型化が可能であるのでコスト削減が可能である。また、支持体47の高精度な位置決め機構を必要としないので、装置の簡略化が可能である。   In the case of the present embodiment, the size of the heater 48 does not have to be the same size as the substrate 11 and can be reduced in size, so that the cost can be reduced. In addition, since a highly accurate positioning mechanism for the support 47 is not required, the apparatus can be simplified.

(第5の実施の形態)
次に、本発明の描画パターン形成方法の第5の実施形態について、図5を参照して説明する。図5に、本実施形態の描画パターン形成方法における分散液吸収工程の概略断面図を示す。
本実施形態の描画パターン形成方法は、加圧ローラーと一体化した吸収部材55を用いて分散液13を吸収する工程、及び加熱器58で吸収部材55を加熱する工程を含むものである
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the drawing pattern forming method of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows a schematic sectional view of the dispersion absorbing step in the drawing pattern forming method of the present embodiment.
The drawing pattern forming method of the present embodiment includes a step of absorbing the dispersion 13 using the absorbing member 55 integrated with the pressure roller, and a step of heating the absorbing member 55 with the heater 58.

本実施形態に用いる装置は、図5に示すように、温度調節機能を備える固定台30と、加圧ローラーと一体化した吸収部材55と、吸収部材55を加熱する加熱器58とにより構成される。
固定台30の内部には、第2の実施形態同様、配管29が設けられており、その配管29の内部を温度調節された液媒体が循環することにより、基板11の温度調節が行われる。基板11は50℃に設定されている。インク14には第1の実施形態と同じインクを用いる。
As shown in FIG. 5, the apparatus used in this embodiment includes a fixed base 30 having a temperature adjustment function, an absorption member 55 integrated with a pressure roller, and a heater 58 that heats the absorption member 55. The
As in the second embodiment, a pipe 29 is provided inside the fixed base 30, and the temperature of the substrate 11 is adjusted by circulating a temperature-controlled liquid medium inside the pipe 29. The substrate 11 is set to 50 ° C. As the ink 14, the same ink as in the first embodiment is used.

吸収部材55は、円柱形あるいは円筒形の支持体にシリコーンゴムが貼り付けられた構造となっている。吸収部材55は、基板11上を回転しながら移動して、インク14の分散液13を吸収する。吸収部材55は分散液13を吸収すると共に、加圧機能も備えており、基板11に描画されたインク14上を加圧しながら回転移動する。   The absorbing member 55 has a structure in which silicone rubber is bonded to a columnar or cylindrical support. The absorbing member 55 moves while rotating on the substrate 11 and absorbs the dispersion 13 of the ink 14. The absorbing member 55 absorbs the dispersion liquid 13 and also has a pressurizing function, and rotates and moves while pressurizing the ink 14 drawn on the substrate 11.

加熱器58は、電気ヒーター加熱にて温風が発生する機構を有する。例えば、加熱器58の大きさは、幅50mm、奥行き150mmとすることができる。加熱器58は、回転移動する吸収部材55の後方に配置され、吸収部材55の移動と連動して移動する。   The heater 58 has a mechanism that generates warm air by heating the electric heater. For example, the heater 58 can have a width of 50 mm and a depth of 150 mm. The heater 58 is disposed behind the rotating absorption member 55 and moves in conjunction with the movement of the absorption member 55.

本実施形態の描画パターン形成方法について説明する。図5に示すように、温度調節された固定台30の上部に基板11を設置し、インク14をインクジェットヘッド等により吐出させて描画パターンを描画する。その後、吸収部材55が基板11上を回転しながら移動し、分散液13を吸収する。吸収部材55の移動速度は10mm/sec、圧力は0.01MPaから1MPaの範囲であることが好ましい。基板11上にはナノメタル粒子12が残留する。   A drawing pattern forming method of this embodiment will be described. As shown in FIG. 5, the substrate 11 is placed on the temperature-adjusted fixing base 30 and ink 14 is ejected by an ink jet head or the like to draw a drawing pattern. Thereafter, the absorbing member 55 moves while rotating on the substrate 11 and absorbs the dispersion liquid 13. The moving speed of the absorbing member 55 is preferably 10 mm / sec, and the pressure is preferably in the range of 0.01 MPa to 1 MPa. The nanometal particles 12 remain on the substrate 11.

同時に、加熱器58は、吸収部材55の移動と連動して移動する。吸収部材55の分散液を吸収した部分は、回転により紙面右側側面から右上方に移動する。この間、吸収部材55は加熱器58からの200℃の温風により加熱され、分散液13が蒸発される。加熱器58により分散液が蒸発させられた部分は、回転により、再度、移動方向前方に描画されたインク14の分散液13を吸収する。加熱器58の温度および設置位置等は、分散液13の種類によって設定することが可能である。   At the same time, the heater 58 moves in conjunction with the movement of the absorbing member 55. The portion of the absorbing member 55 that has absorbed the dispersion liquid moves from the right side surface to the upper right side by rotation. During this time, the absorbing member 55 is heated by hot air of 200 ° C. from the heater 58, and the dispersion 13 is evaporated. The portion where the dispersion liquid is evaporated by the heater 58 absorbs the dispersion liquid 13 of the ink 14 drawn forward in the moving direction again by rotation. The temperature and installation position of the heater 58 can be set according to the type of the dispersion liquid 13.

吸収部材55は、ベルト状構造とし、搬送手段により、描画材料の上部に未使用の領域が順次配置されるようにする。
本実施形態は、吸収部材55が回転移動する時間が必要であるが、搬送手段等大型の機構を必要しないため、安価に描画パターンを形成することができるという利点がある。
The absorbing member 55 has a belt-like structure, and unused areas are sequentially arranged on the upper part of the drawing material by the conveying means.
Although this embodiment requires time for the absorbing member 55 to rotate, there is an advantage that a drawing pattern can be formed at a low cost because a large-scale mechanism such as a conveying means is not required.

10 分散液が吸収された部分
11 基板
12 ナノメタル粒子
13 分散液
14 描画材料
15,25,35,45,55 吸収部材
26 突起
27,37,47 支持体
28,48,58 加熱器
29 配管
30 固定台
31,41 加圧器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Part where dispersion liquid was absorbed 11 Substrate 12 Nano metal particle 13 Dispersion liquid 14 Drawing material 15, 25, 35, 45, 55 Absorbing member 26 Protrusion 27, 37, 47 Support body 28, 48, 58 Heater 29 Piping 30 Fixed Stand 31, 41 Pressurizer

特開2012−007140号公報JP 2012-007140 A 特開2011−198826号公報JP 2011-198826 A 特開2010−284801号公報JP 2010-284801 A 特開2007−62302号公報JP 2007-62302 A

Claims (10)

基板上に微細粒子と分散液とを含む描画材料を描画する工程と、
前記分散液を吸収する吸収部材を前記描画材料に接触させて前記分散液を吸収して、前記基板上に前記微細粒子を残留させる工程と、を有することを特徴とする描画パターン形成方法。
Drawing a drawing material containing fine particles and a dispersion on a substrate;
A drawing pattern forming method comprising: bringing an absorbing member that absorbs the dispersion into contact with the drawing material to absorb the dispersion and leaving the fine particles on the substrate.
前記吸収部材は、微細な空隙を有する材料からなり、前記分散液は透過させるが、前記微細粒子は透過させないことを特徴とする請求項1に記載の描画パターン形成方法。
The drawing pattern forming method according to claim 1, wherein the absorbing member is made of a material having fine voids, and allows the dispersion liquid to pass therethrough but does not allow the fine particles to pass therethrough.
Ru
前記吸収部材は、前記描画材料を加圧しながら前記分散液を吸収することを特徴とする請求項1または2に記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 1, wherein the absorbing member absorbs the dispersion while pressurizing the drawing material. 前記吸収部材は、前記吸収部材が前記分散液を吸収する速度以下で、描画面から基板側へ移動させて前記分散液を吸収することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の描画パターン形成方法。   4. The absorption member according to claim 1, wherein the absorption member absorbs the dispersion liquid by moving from the drawing surface to the substrate side at a speed equal to or less than a speed at which the absorption member absorbs the dispersion liquid. 5. Drawing pattern forming method. 前記吸収部材は、前記描画材料と接触する側と反対側の表面積が、前記描画材料と接触する側の表面積より大きいことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 1, wherein the absorbing member has a surface area opposite to a side in contact with the drawing material larger than a surface area on the side in contact with the drawing material. . 前記吸収部材の前記基板と反対側の表面は、複数の突起を有する形状であることを特徴とする請求項5に記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 5, wherein the surface of the absorbing member opposite to the substrate has a shape having a plurality of protrusions. 前記吸収部材が吸収した前記分散液を蒸発させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 1, further comprising a step of evaporating the dispersion liquid absorbed by the absorbing member. 前記分散液を吸収した前記吸収部材を加熱することを特徴とする請求項7に記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 7, wherein the absorbing member that has absorbed the dispersion is heated. 前記基板の温度は、前記分散液の融点以上沸点未満であることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 1, wherein the temperature of the substrate is not lower than the melting point of the dispersion and lower than the boiling point. 前記吸収部材の温度は、前記分散液の融点以上沸点未満に保持されて、前記基板上の前記描画材料に接触させることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の描画パターン形成方法。   The drawing pattern forming method according to claim 1, wherein a temperature of the absorbing member is maintained at a temperature equal to or higher than a melting point of the dispersion and lower than a boiling point, and is brought into contact with the drawing material on the substrate. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015016444A (en) * 2013-07-12 2015-01-29 株式会社リコー Drawing pattern formation method

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