JP2014168832A - Processing device, processing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure for removing materials adhering to a groove of a roller for making a wire travel.SOLUTION: The processing device for processing a workpiece by using a processing wire comprises: a roller having a groove to which the processing wire is wound and making the processing wire travel; a drive part rotating the roller; and a cleaning mechanism including a cleaning wire for cleaning the groove of the roller. The cleaning mechanism is disposed so that the cleaning wire fits to the groove of the roller and the roller is rotated by the drive part.

Description

本発明は、加工装置、加工方法に関し、加工用のワイヤを走行させるためのローラの溝を清掃する技術に関する。   The present invention relates to a processing apparatus and a processing method, and relates to a technique for cleaning a groove of a roller for running a processing wire.

近年、半導体材料や太陽電池材料、硬質材料等の被加工材料を、放電加工により、短時間で同時に複数切り出す方法が開発されている。   In recent years, a method has been developed in which a plurality of work materials such as semiconductor materials, solar cell materials, and hard materials are simultaneously cut out in a short time by electric discharge machining.

たとえば、ワイヤ放電加工装置は、当該被加工材料を薄板状に切り出すために、給電子を介してワイヤに電圧を印加しながら走行させ、そのワイヤに当該被加工材料を近づけることで放電現象を発生させ、当該被加工材料を放電加工するものである。   For example, in order to cut the workpiece material into a thin plate shape, the wire electrical discharge machining device is run while applying a voltage to the wire via a power supply, and an electric discharge phenomenon is generated by bringing the workpiece material close to the wire. The work material is subjected to electric discharge machining.

特許文献1には、走行する複数本のワイヤで被加工物を放電加工することにより、薄片に切断することが記載されている。   Patent Literature 1 describes that a workpiece is cut by electric discharge machining with a plurality of traveling wires to cut into thin pieces.

また、従来、ワークとしてのシリコンインゴットを多数の薄片にスライスする装置としてワイヤソーが知られている。このワイヤソーは遊離砥粒を含むスラリーを供給しながらガイドローラ(以下、メインローラとも言う)によって走行されるワイヤをワークに押しつけて切断するものである。   Conventionally, a wire saw is known as an apparatus for slicing a silicon ingot as a workpiece into a large number of thin pieces. This wire saw cuts a wire that is run by a guide roller (hereinafter also referred to as a main roller) against a workpiece while supplying slurry containing loose abrasive grains.

この時、供給された遊離砥粒とともに、加工されたワークの加工屑がワイヤに付着すると、その一部がワイヤ巻取り部を汚してしまう。そこで、特許文献2には、ワイヤに付着した加工屑の清掃方法が提案されている。   At this time, if the processing scrap of the processed workpiece adheres to the wire together with the supplied free abrasive grains, a part thereof contaminates the wire winding portion. Therefore, Patent Document 2 proposes a cleaning method for processing waste adhering to a wire.

特許文献2には、スラリー式ワイヤソーにおける清掃方法として、ワイヤの汚れをふき取る方法が提示されている。   Patent Document 2 proposes a method of wiping off dirt on a wire as a cleaning method in a slurry-type wire saw.

特開2010−260151号公報JP 2010-260151 A 特開2002−283208号公報JP 2002-283208 A

しかしながら、シリコンインゴット等のワークを切断してウエハを生成する装置において、近年、従来よりも薄型のウエハの作成が求められている。   However, in recent years, in an apparatus for producing a wafer by cutting a workpiece such as a silicon ingot, it has been demanded to make a wafer thinner than before.

これに応えるべく、ワイヤの直径の小径化、ワイヤ間のピッチの狭小化、メインローラのガイド溝の狭小化、ガイド溝のピッチの狭小化に関する研究、開発が行われている。   In order to meet this demand, research and development have been conducted on reducing the diameter of the wire, reducing the pitch between wires, reducing the guide groove of the main roller, and reducing the pitch of the guide groove.

このような、ワイヤの直径の小径化、ワイヤ間のピッチの狭小化、メインローラのガイド溝の狭小化、ガイド溝のピッチの狭小化に伴い、メインローラのガイド溝の汚れが、ワイヤの走行に及ぼす影響が高まってきている。   As the wire diameter is reduced, the pitch between the wires is reduced, the guide groove of the main roller is reduced, and the guide groove pitch is reduced, the dirt on the guide groove of the main roller is reduced. The impact on the environment is increasing.

例えば、ガイド溝のピッチの狭小化に伴い、メインローラのガイド溝の加工屑等の汚れにより、ガイド溝からワイヤが脱落し易くなってきている。   For example, with the narrowing of the pitch of the guide groove, the wire is likely to drop off from the guide groove due to dirt such as processing waste in the guide groove of the main roller.

このように、ガイド溝からワイヤが脱落した場合、メインローラの溝を手洗いしたり、ガイドローラを交換しなければならない等、ユーザに煩雑な操作を強いることとなる。   As described above, when the wire falls from the guide groove, the user is forced to perform complicated operations such as washing the groove of the main roller or replacing the guide roller.

また、この作業による加工処理の中断により、効率的にウエハを作成することが困難になるおそれがある。   Moreover, there is a possibility that it becomes difficult to efficiently produce a wafer due to the interruption of the processing process by this work.

また、一部の加工屑等がワイヤの走行につれてガイド溝を通過するが、その一部は必然的に溝の表面にめり込むか付着して残留する可能性が高く、特に、次回の加工までの時間間隔が長いと乾燥して固着してしまい、ガイド溝の形状が損なわれる。   In addition, some processing scraps pass through the guide groove as the wire travels, but it is highly likely that a part of the processing scrape will inevitably remain on the surface of the groove or remain, especially until the next processing. If the time interval is long, it dries and adheres, and the shape of the guide groove is impaired.

また、放電加工により溶解したワイヤの表面の物質や、ワークの物質などが、メインローラのガイド溝に付着して、ガイド溝の形状が損なわれる。   Further, the material on the surface of the wire melted by the electric discharge machining, the material of the workpiece, etc. adhere to the guide groove of the main roller, and the shape of the guide groove is impaired.

このように、放電加工による処理によりメインローラのガイド溝に付着する物質により、ガイド溝の形状が損なわれ、結果的に、ワイヤが溝から外れ、ワイヤの走行を正常に維持できなくなる可能性が高くなってしまう。   As described above, the material adhering to the guide groove of the main roller due to the processing by the electric discharge machining may damage the shape of the guide groove, and as a result, the wire may come off the groove and the running of the wire cannot be maintained normally. It will be high.

従来、特許文献2のように、ワイヤの汚れをふき取る方法については提案されているものの、ワイヤの走行を正常に維持するべく行うメインローラの溝の清掃方法については、開示されておりません。   Conventionally, a method for wiping off the dirt of the wire as in Patent Document 2 has been proposed, but a method for cleaning the groove of the main roller to maintain the wire normally is not disclosed.

そこで、本発明は、ワイヤを走行させるためのローラの溝に付着する物質を取り除くための仕組みを提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a mechanism for removing a substance adhering to a groove of a roller for running a wire.

本発明は、加工用ワイヤを用いて被加工物を加工する加工装置であって、前記加工用ワイヤが巻き付けるための溝を有する、前記加工用ワイヤを走行させるためのローラと、前記ローラを回転させる駆動部と、前記ローラの溝を清掃するための清掃用ワイヤを含む清掃機構と、を備え、前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させることを特徴とする。   The present invention is a processing apparatus for processing a workpiece using a processing wire, the roller having a groove for winding the processing wire, and a roller for running the processing wire, and rotating the roller And a cleaning mechanism including a cleaning wire for cleaning the groove of the roller, and the cleaning mechanism is arranged so that the cleaning wire meshes with the groove of the roller, and The roller is rotated by a driving unit.

また、本発明は、前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが前記ローラの溝にかみ合うように、前記溝の間隔と同じ間隔で清掃用ワイヤを設けていることを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the cleaning mechanism is provided with a cleaning wire at the same interval as the groove so that the cleaning wire engages with the groove of the roller.

また、本発明は、前記清掃機構は、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付ける受付手段と、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とがする清掃位置に前記清掃用ワイヤを移動させる送り機構と、を更に備え、前記送り機構は、前記受付手段で、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付け場合に、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触する清掃位置に、前記清掃用ワイヤを移動させることを特徴とする。   Further, according to the present invention, the cleaning mechanism includes a receiving unit that receives an instruction to start cleaning the groove of the roller, and a feed mechanism that moves the cleaning wire to a cleaning position defined by the cleaning wire and the groove of the roller. When the cleaning mechanism receives an instruction to start cleaning the groove of the roller, the feeding mechanism is disposed at a cleaning position where the cleaning wire and the groove of the roller are in contact with each other. The wire is moved.

また、本発明は、前記送り機構は、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触する清掃位置と、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触しない退避位置との間で、前記清掃用ワイヤを移動可能に動作し、前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理を終了するための終了条件を記憶する終了記憶手段と、前記送り機構により前記清掃用ワイヤを前記清掃位置に移動させた後に、前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理が、前記終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすかを判定する判定手段と、を更に備え、前記送り機構は、前記判定手段により、前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理が、前記終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすと判定されたことを条件に、前記退避位置に前記清掃用ワイヤを移動させることを特徴とする。   In the invention, it is preferable that the feeding mechanism includes the cleaning mechanism between a cleaning position where the cleaning wire and the groove of the roller are in contact with each other and a retreat position where the cleaning wire and the groove of the roller are not in contact. An end storage means for movably operating the wire for cleaning and storing an end condition for ending the cleaning process of the groove of the roller by the cleaning mechanism; and the cleaning wire is moved to the cleaning position by the feed mechanism. And a determination unit that determines whether the cleaning process of the groove of the roller by the cleaning mechanism satisfies the end condition stored in the end storage unit, and the feeding mechanism includes: The cleaning wire is moved to the retracted position on the condition that the cleaning process of the groove of the roller by the cleaning mechanism is determined to satisfy the end condition stored in the end storage unit. And wherein the door.

また、本発明は、前記清掃機構により、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを少なくとも1回転させた後に、前記送り機構は、さらに、前記ローラの溝の方向に対して左、及び/又は右方向に、当該溝の幅の範囲内で前記清掃用ワイヤを移動することを特徴とする。   Further, in the present invention, the cleaning mechanism is arranged so that the cleaning wire is engaged with the groove of the roller, and after the roller is rotated at least once by the driving unit, the feeding mechanism further includes: The cleaning wire is moved within the width of the groove to the left and / or to the right with respect to the groove direction of the roller.

また、本発明は、前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤに振動を加える加振機構を更に備え、前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させている間、前記加振機構により前記清掃用ワイヤを振動させることを特徴とする。   In the present invention, the cleaning mechanism further includes a vibration mechanism that applies vibration to the cleaning wire, and the cleaning mechanism is disposed so that the cleaning wire is engaged with a groove of the roller. The cleaning wire is vibrated by the vibration mechanism while the roller is rotated by the driving unit.

また、本発明は、前記受付手段は、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了した後に、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けることを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the receiving means receives an instruction to start cleaning the groove of the roller after the processing of the workpiece using the processing wire is completed.

また、本発明は、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けるための所定の条件を記憶する開始記憶手段と、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が、前記開始記憶手段に記憶された所定の条件を満たすかを判定する開始判定手段と、を更に備え、前記受付手段は、前記開始判定手段により、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が、前記開始記憶手段に記憶された所定の条件を満たすと判定されたことを条件に、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了していない場合であっても、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けることを特徴とする。   Further, according to the present invention, a start storage unit that stores a predetermined condition for receiving an instruction to start cleaning the groove of the roller, and a processing of a workpiece using the processing wire are stored in the start storage unit. Start determination means for determining whether or not the stored predetermined condition is satisfied, and the reception means is configured to perform processing for processing the workpiece using the processing wire by the start determination means. Cleaning of the groove of the roller is started even when the processing of the workpiece using the processing wire is not completed on the condition that it is determined that the predetermined condition stored in the means is satisfied. It is characterized by receiving the instruction.

また、本発明は、前記開始記憶手段に記憶された所定の条件は、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理の処理時間を含むことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the predetermined condition stored in the start storage means includes a processing time for processing the workpiece using the processing wire.

また、本発明は、前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とがかみ合う位置に洗浄液を供給する洗浄液供給口を更に備えることを特徴とする。   The cleaning mechanism may further include a cleaning liquid supply port that supplies a cleaning liquid to a position where the cleaning wire and the groove of the roller are engaged with each other.

また、本発明は、前記加工装置は、前記加工用ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置であることを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that the machining apparatus is a wire electric discharge machining apparatus for machining the workpiece by electric discharge between the machining wire and the workpiece.

また、本発明は、加工用ワイヤが巻き付けるための溝を有する、前記加工用ワイヤを走行させるためのローラと、前記ローラを回転させる駆動部と、前記加工用ワイヤを用いて被加工物を加工する加工装置における前記ローラの清掃方法であって、前記ローラの溝を清掃するための清掃用ワイヤを含む清掃機構が、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させることを特徴とする。   The present invention also provides a roller for running the processing wire, a drive unit for rotating the roller, and a workpiece for processing the workpiece using the processing wire. A cleaning method for the roller in a processing apparatus, wherein a cleaning mechanism including a cleaning wire for cleaning the groove of the roller is arranged so that the cleaning wire is engaged with the groove of the roller, and The roller is rotated by a driving unit.

本発明によれば、ワイヤを走行させるためのローラの溝に付着する物質を取り除くことができる。   According to the present invention, the substance adhering to the groove of the roller for running the wire can be removed.

マルチワイヤ放電加工システムを前方から見た外観図である。It is the external view which looked at the multi-wire electric discharge machining system from the front. 図1に示す点線16枠内の拡大図である。It is an enlarged view in the dotted-line 16 frame shown in FIG. 清掃機構12と、メインローラ8、9と、ワイヤ7(加工用ワイヤ)とを示す外観図である。It is an external view which shows the cleaning mechanism 12, the main rollers 8, 9, and the wire 7 (working wire). 清掃機構12の清掃機具305がメインローラ9の清掃位置303に移動して、清掃機具305の清掃用ワイヤ302と、メインローラ9のガイド溝とが接触している状態を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a state where the cleaning device 305 of the cleaning mechanism 12 has moved to the cleaning position 303 of the main roller 9 and the cleaning wire 302 of the cleaning device 305 and the guide groove of the main roller 9 are in contact with each other. 清掃機構12を横(左)側から見た図である。It is the figure which looked at the cleaning mechanism 12 from the side (left) side. メインローラ9のガイド溝と、ワイヤ7(加工用ワイヤ)とが接触した状態、及びメインローラ9のガイド溝と清掃用ワイヤ302とが接触した状態のそれぞれを示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows each of the state which the guide groove of the main roller 9 and the wire 7 (working wire) contacted, and the state which the guide groove of the main roller 9 and the wire 302 for cleaning contacted.

以下、添付図面を参照して、本発明を好適な実施形態に従って詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail according to preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の実施の形態に係るマルチワイヤ放電加工装置1を前方から見た外観図である。尚、図1に示す各機構の構成は一例であり、目的や用途に応じて様々な構成例があることは言うまでもない。   FIG. 1 is an external view of a multi-wire electric discharge machining apparatus 1 according to an embodiment of the present invention as viewed from the front. The configuration of each mechanism shown in FIG. 1 is an example, and it goes without saying that there are various configuration examples depending on the purpose and application.

マルチワイヤ放電加工装置1は、本発明の加工装置の適用例であって、ワイヤ7(加工用ワイヤ)を用いて被加工物(ワーク)を加工する。また、マルチワイヤ放電加工装置1は、加工用ワイヤと被加工物との間の放電により被加工物を加工するワイヤ放電加工装置の適用例である。   The multi-wire electric discharge machining apparatus 1 is an application example of the machining apparatus of the present invention, and works a workpiece (workpiece) using a wire 7 (machining wire). Further, the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 is an application example of a wire electric discharge machining apparatus for machining a workpiece by electric discharge between a machining wire and the workpiece.

本発明の実施の形態に係るマルチワイヤ放電加工システムは、マルチワイヤ放電加工装置1、電源ユニット15(電源装置)、加工液供給装置18から構成されている。   The multi-wire electric discharge machining system according to the embodiment of the present invention includes a multi-wire electric discharge machining apparatus 1, a power supply unit 15 (power supply apparatus), and a machining fluid supply apparatus 18.

マルチワイヤ放電加工システムは、放電により、並設された複数本のワイヤ7(ワイヤ電極)の間隔で被加工物(図1の例では、シリコンインゴット5)を薄片にスライスすることができる。   The multi-wire electric discharge machining system can slice a work piece (silicon ingot 5 in the example of FIG. 1) into thin pieces at intervals of a plurality of wires 7 (wire electrodes) arranged in parallel by electric discharge.

マルチワイヤ放電加工装置1は、電源ユニット15と電線(電圧印加線)を介して接続されており、電源ユニット15から供給される電力により作動する。   The multi-wire electric discharge machining apparatus 1 is connected to the power supply unit 15 via an electric wire (voltage application line), and is operated by electric power supplied from the power supply unit 15.

マルチワイヤ放電加工装置1は、不図示のサーボモータにより駆動されるワーク送り装置3が上下方向に移動することにより、ワーク送り装置3に接着剤(接着部4の接着剤)により接着されているワーク(ワークは、被加工物を示し、図1の例ではシリコンインゴット5である)を上下方向に移動することができる。   The multi-wire electric discharge machining apparatus 1 is bonded to the work feeding apparatus 3 with an adhesive (adhesive of the bonding portion 4) when the work feeding apparatus 3 driven by a servo motor (not shown) moves in the vertical direction. A workpiece (the workpiece indicates a workpiece, which is the silicon ingot 5 in the example of FIG. 1) can be moved in the vertical direction.

また、マルチワイヤ放電加工装置1は、本発明のワイヤ放電加工装置の適用例であり、ワイヤと被加工物との間で発生する放電により被加工物を加工する。   The multi-wire electric discharge machining apparatus 1 is an application example of the wire electric discharge machining apparatus of the present invention, and works a workpiece by electric discharge generated between the wire and the workpiece.

本発明の実施の形態では、シリコンインゴット5が下方向に移動することで、シリコンインゴット5とワイヤ7とが接近し、シリコンインゴット5とワイヤ7との間で放電が発生し、シリコンインゴット5の放電加工を行う。このとき、シリコンインゴット5とワイヤ7との間の空間(放電ギャップ(シリコンインゴット5とワイヤ7との間の隙間))には加工液が満たされており、この加工液が所定幅の電気抵抗値を有していることから、シリコンインゴット5とワイヤ7との間で放電が発生し、シリコンインゴット5の放電加工を行うことができる。   In the embodiment of the present invention, when the silicon ingot 5 moves downward, the silicon ingot 5 and the wire 7 approach each other, and a discharge occurs between the silicon ingot 5 and the wire 7. Perform electrical discharge machining. At this time, the space between the silicon ingot 5 and the wire 7 (discharge gap (gap between the silicon ingot 5 and the wire 7)) is filled with the processing liquid, and this processing liquid has an electrical resistance of a predetermined width. Since it has a value, electric discharge is generated between the silicon ingot 5 and the wire 7, and the electric discharge machining of the silicon ingot 5 can be performed.

また、ワーク送り装置3をワイヤ7よりも下部へ設け、シリコンインゴット5を上方向へ移動させることにより、シリコンインゴット5とワイヤ7との間で放電加工を行わせるようにすることも可能である。   It is also possible to cause electric discharge machining between the silicon ingot 5 and the wire 7 by providing the workpiece feeding device 3 below the wire 7 and moving the silicon ingot 5 upward. .

本実施の形態では、被加工物の一例としてシリコンインゴット5を用いて説明するが、SIC(炭化シリコン)などの、絶縁体ではない他の材料(導体又は半導体)を用いることもできる。   In this embodiment, the silicon ingot 5 is described as an example of a workpiece, but other materials (conductor or semiconductor) that are not insulators, such as SIC (silicon carbide), can also be used.

マルチワイヤ放電加工装置1は、図1に示すように、マルチワイヤ放電加工装置1の土台として機能するブロック19と、ブロック19の上部の装置内に設置されている、ブロック2と、ワーク送り装置3と、接着部4と、シリコンインゴット5と、加工液槽6と、メインローラ8と、ワイヤ7と、メインローラ9と、給電ユニット10と、給電子11と、加工液供給口701と、清掃機構12とを備えている。   As shown in FIG. 1, the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 includes a block 19 that functions as a base of the multi-wire electric discharge machining apparatus 1, a block 2 that is installed in an apparatus above the block 19, and a work feeding device 3, the bonding portion 4, the silicon ingot 5, the processing liquid tank 6, the main roller 8, the wire 7, the main roller 9, the power supply unit 10, the power supply 11, the processing liquid supply port 701, And a cleaning mechanism 12.

ここで、メインローラ8、又はメインローラ9は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)が巻き付けるための溝(ガイド溝)を有する、加工用ワイヤを走行させるためのローラであって、本発明のローラの適用例である。   Here, the main roller 8 or the main roller 9 is a roller for running a processing wire having a groove (guide groove) around which the wire 7 (processing wire) is wound. This is an application example.

また、マルチワイヤ放電加工装置1は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)を走行させるべく、メインローラ8、又はメインローラ9を回転させる駆動部を備えている。   In addition, the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 includes a drive unit that rotates the main roller 8 or the main roller 9 in order to run the wire 7 (working wire).

15は、電源ユニット(電源装置)であり、サーボモータを制御する放電サーボ制御回路が、放電の状態に応じて効率よく放電を発生させるために、放電ギャップを一定の隙間に保つように制御し、またワークの位置決めを行い、放電加工を進行させる。   Reference numeral 15 denotes a power supply unit (power supply device), which is controlled by a discharge servo control circuit that controls the servo motor so as to keep the discharge gap constant in order to efficiently generate discharge according to the state of discharge. Also, the workpiece is positioned and electric discharge machining is advanced.

18は、加工液供給装置であり、放電加工部の冷却、加工チップ(屑)の除去に必要な加工液をポンプによりシリコンインゴット5とワイヤ7へ送液すると共に、加工液中の加工チップの除去、イオン交換樹脂による比抵抗または電導度(1μS〜250μS)の管理、液温(20℃付近)の管理を行う。加工液には、主に水が使用されるが、放電加工油を用いることもできる。本実施の形態では、加工液の例として水を用いるが、放電加工油でもよい。   18 is a machining fluid supply device that feeds machining fluid necessary for cooling the electrical discharge machining section and removing machining chips (scraps) to the silicon ingot 5 and the wire 7 by a pump, and for machining chips in the machining fluid. Removal, management of specific resistance or conductivity (1 μS to 250 μS) by ion exchange resin, and management of liquid temperature (around 20 ° C.) are performed. Water is mainly used as the machining fluid, but electric discharge machining oil can also be used. In the present embodiment, water is used as an example of the machining fluid, but electric discharge machining oil may be used.

8、9はメインローラであり、メインローラには、所望する厚さで加工出来るようにあらかじめ決められたピッチ、数で溝(ガイド溝)が形成されている。ワイヤ供給ボビンからの張力制御されたワイヤが、2つのメインローラに必要数巻きつけられ、巻き取りボビンへ送られる。ワイヤ速度は100m/minから900m/min程度が用いられる。   Reference numerals 8 and 9 denote main rollers. Grooves (guide grooves) are formed on the main rollers at a predetermined pitch and number so as to be processed at a desired thickness. The wire whose tension is controlled from the wire supply bobbin is wound around the two main rollers as many times as necessary, and sent to the take-up bobbin. A wire speed of about 100 m / min to 900 m / min is used.

メインローラ9は、本発明のガイドローラの適用例であり、メインローラ9が回転することによりメインローラ9に巻きつけられたワイヤ7を走行させる。   The main roller 9 is an application example of the guide roller of the present invention, and the wire 7 wound around the main roller 9 is caused to travel as the main roller 9 rotates.

2つのメインローラが同じ方向でかつ同じ速度で連動して回転することにより、ワイヤ繰出し部から送られた1本のワイヤ7がメインローラ(2つ)の外周を周回し、並設されている複数本のワイヤ7を同一方向に走行させることができる。   As the two main rollers rotate in the same direction and at the same speed, one wire 7 sent from the wire feeding portion circulates around the outer periphery of the main rollers (two) and is arranged in parallel. A plurality of wires 7 can run in the same direction.

ワイヤ7は、1本の繋がったワイヤであり、図示しないボビンから繰り出され、メインローラ8、9の外周面のガイド溝に嵌め込まれながら、当該メインローラの外側に多数回(最大で2000回程度)螺旋状に巻回された後、図示しないボビンに巻き取られる。   The wire 7 is a single connected wire, and is fed out from a bobbin (not shown) and fitted into the guide groove on the outer peripheral surface of the main rollers 8 and 9, many times (about 2000 times at the maximum) outside the main roller. ) After being wound spirally, it is wound on a bobbin (not shown).

加工液槽6は、所定の範囲の比抵抗(電気伝導度)に管理されたイオン交換水を貯留し、当該イオン交換水を、並設されたワイヤ7(ワイヤ電極とも言う)とシリコンインゴット5とが近接する放電ギャップの位置(放電点)に、加工液として供給している。   The processing liquid tank 6 stores ion-exchanged water managed to have a specific resistance (electrical conductivity) within a predetermined range, and the ion-exchanged water is parallel to the wire 7 (also referred to as a wire electrode) and the silicon ingot 5. Is supplied as a working fluid to the position (discharge point) of the discharge gap close to each other.

加工液槽6は、被加工物とワイヤとの間で放電加工されるために用いられる加工液が貯留される。   The machining fluid tank 6 stores a machining fluid used for electric discharge machining between the workpiece and the wire.

加工液槽6内への加工液の供給は、加工液槽6の下部に備えられた加工液供給部(加工液供給口701を加工液供給部とも言う。)から行われる。   The machining liquid is supplied into the machining liquid tank 6 from a machining liquid supply section (the machining liquid supply port 701 is also referred to as a machining liquid supply section) provided in the lower part of the machining liquid tank 6.

清掃機構12は、メインローラ9のガイド溝に付着した物質(加工屑や汚れ等)を取り除き清掃する機構である。   The cleaning mechanism 12 is a mechanism that removes substances (processing waste, dirt, etc.) adhering to the guide groove of the main roller 9 and cleans them.

清掃機構12の詳細については、図3以降の図を用いて後で説明する。   Details of the cleaning mechanism 12 will be described later with reference to FIGS.

次に、図2について、説明する。   Next, FIG. 2 will be described.

図2は、図1に示す点線16枠内の拡大図である。   FIG. 2 is an enlarged view within a dotted line 16 frame shown in FIG.

ブロック2は、ワーク送り装置3と接合されている。また、ワーク送り装置3は、シリコンインゴット5(ワーク)と接着部4により接着(接合)されている。   The block 2 is joined to the work feeding device 3. The work feeding device 3 is bonded (bonded) to the silicon ingot 5 (work) and the bonding portion 4.

本実施例では、被加工材料(ワーク)として、シリコンインゴット5を例に説明する。   In the present embodiment, a silicon ingot 5 will be described as an example of a workpiece (workpiece).

接着部4は、ワーク送り装置3と、シリコンインゴット5(ワーク)とを接着(接合)する導電性接着剤が用いられる。   For the bonding portion 4, a conductive adhesive that bonds (bonds) the work feeding device 3 and the silicon ingot 5 (work) is used.

ワーク送り装置3は、接着部4により接着(接合)されているシリコンインゴット5を上下方向に移動する機構を備えた装置であり、ワーク送り装置3が下方向に移動することにより、シリコンインゴット5をワイヤ7に近づけることが可能となる。   The work feeding device 3 is a device having a mechanism for moving the silicon ingot 5 bonded (bonded) by the bonding portion 4 in the vertical direction, and the silicon ingot 5 is moved by moving the work feeding device 3 downward. Can be brought closer to the wire 7.

加工液槽6は、加工液を溜めるための容器である。加工液は、例えば、抵抗値が高い脱イオン水である。ワイヤ7と、シリコンインゴット5との間に、加工液が設けられることにより、ワイヤ7と、シリコンインゴット5との間で放電が発生し、シリコンインゴット5を削ることが可能となる。   The processing liquid tank 6 is a container for storing the processing liquid. The working fluid is, for example, deionized water having a high resistance value. By providing the machining liquid between the wire 7 and the silicon ingot 5, electric discharge is generated between the wire 7 and the silicon ingot 5, and the silicon ingot 5 can be shaved.

メインローラ8、9(ガイドローラとも言う)には、ワイヤ7を取り付けるための溝が複数列形成されており、その溝にワイヤ7が取り付けられている。そして、メインローラ8、9が右又は左回転することにより、ワイヤ7が走行する。   The main rollers 8 and 9 (also referred to as guide rollers) are formed with a plurality of rows of grooves for attaching the wires 7, and the wires 7 are attached to the grooves. And the main roller 8 and 9 rotates right or left, and the wire 7 travels.

メインローラにワイヤ7が複数回巻きつけられており、メインローラに刻まれた溝に従い、所定ピッチでワイヤ7が整列している。   The wire 7 is wound around the main roller a plurality of times, and the wires 7 are aligned at a predetermined pitch according to the grooves carved in the main roller.

メインローラ8、9は中心に金属を使用し、外側は樹脂で覆う構造である。   The main rollers 8 and 9 have a structure in which metal is used in the center and the outside is covered with resin.

給電子11は、機械的摩耗に強く、導電性があることが要求され超硬合金が使用されている。   The power supply 11 is resistant to mechanical wear and is required to have electrical conductivity, and a cemented carbide is used.

2つのメインローラの間の中央部の上部に、シリコンインゴット5が配置され、シリコンインゴット5はワーク送り装置3に取付けられており、ワーク送り装置3が上下方向に移動することにより、シリコンインゴット5が上下方向に移動し、シリコンインゴット5の加工を行う。   A silicon ingot 5 is arranged at the upper part of the central portion between the two main rollers. The silicon ingot 5 is attached to the work feeding device 3, and the silicon ingot 5 is moved by moving the work feeding device 3 in the vertical direction. Moves up and down to process the silicon ingot 5.

また、メインローラ間の中央部に加工液槽6を設け、ワイヤ7およびシリコンインゴット5を浸漬し、放電加工部の冷却、加工チップの除去を行う。   Further, a machining liquid tank 6 is provided in the central portion between the main rollers, the wire 7 and the silicon ingot 5 are immersed, and the electric discharge machining portion is cooled and the machining chip is removed.

ワイヤ7は、図2に示すように、メインローラ8、9に取り付けられ、メインローラ8、9の上側、及び下側にワイヤ列を形成している。   As shown in FIG. 2, the wire 7 is attached to the main rollers 8 and 9, and forms a wire row on the upper side and the lower side of the main rollers 8 and 9.

また、ワイヤ7は、伝導体であり、電源ユニット15から電圧が供給された給電ユニット10の給電子11と、ワイヤ7とが接触することにより、当該供給された電圧が給電子11からワイヤ7に印加される。(給電子11がワイヤ7に電圧を印加している。)   Further, the wire 7 is a conductor, and the supplied voltage of the power supply unit 10 to which the voltage is supplied from the power supply unit 15 and the wire 7 are brought into contact with the wire 7. To be applied. (The power supply 11 applies a voltage to the wire 7.)

そして、ワイヤ7と、シリコンインゴット5との間で放電が起き、シリコンインゴット5を削り(放電加工を行い)、薄板状のシリコン(シリコンウエハ)(加工物)を作成することが可能となる。   Then, an electric discharge occurs between the wire 7 and the silicon ingot 5, and the silicon ingot 5 is shaved (electric discharge machining is performed), so that a thin silicon (silicon wafer) (workpiece) can be formed.

図3は、清掃機構12と、メインローラ8、9と、ワイヤ7(加工用ワイヤ)とを示す外観図である。   FIG. 3 is an external view showing the cleaning mechanism 12, the main rollers 8 and 9, and the wire 7 (processing wire).

清掃機構12は、清掃用ワイヤ302を有する清掃機具305と、送り機構301とを備えている。   The cleaning mechanism 12 includes a cleaning machine 305 having a cleaning wire 302 and a feed mechanism 301.

清掃機構12は、図3に示すように、メインローラ8とメインローラ9との間の位置であって、メインローラ8、9に巻きつけられたワイヤ7の内側の位置に配置されている。   As shown in FIG. 3, the cleaning mechanism 12 is disposed at a position between the main roller 8 and the main roller 9 and inside the wire 7 wound around the main rollers 8 and 9.

清掃用ワイヤ302は、メインローラ8、又は9の溝を清掃するためのワイヤである。   The cleaning wire 302 is a wire for cleaning the groove of the main roller 8 or 9.

また、清掃機構12は、清掃用ワイヤ302が、メインローラ8、又は9の溝(ガイド溝)にかみ合うように配置すると共に、ローラを回転させる駆動部によりローラを回転させる。これにより、メインローラ8、又は9の溝(ガイド溝)の清掃を行う。   Further, the cleaning mechanism 12 is disposed so that the cleaning wire 302 is engaged with the groove (guide groove) of the main roller 8 or 9, and the roller is rotated by a driving unit that rotates the roller. Thereby, the groove | channel (guide groove | channel) of the main roller 8 or 9 is cleaned.

また、清掃機構12は、清掃用ワイヤ302がメインローラ8、又は9の溝(ガイド溝)にかみ合うように、当該溝の間隔と同じ間隔で清掃用ワイヤ302を設けている。   Further, the cleaning mechanism 12 is provided with the cleaning wire 302 at the same interval as the interval of the groove so that the cleaning wire 302 engages with the groove (guide groove) of the main roller 8 or 9.

また、清掃機構12は、ユーザからメインローラ8、又は9の溝(ガイド溝)の清掃開始の指示を受け付ける受付機構(受付手段)を備えている。また、この受付機構(受付手段)は、ユーザによる指示だけではなく、マルチワイヤ放電加工装置1からの清掃開始の信号をも清掃開始の指示として受け付ける。たとえば、受付手段(受付機構)は、加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了した後に、マルチワイヤ放電加工装置1から出力された清掃開始の信号を、メインローラのガイド溝の清掃開始の指示として受け付ける。   The cleaning mechanism 12 includes a receiving mechanism (receiving unit) that receives an instruction to start cleaning the groove (guide groove) of the main roller 8 or 9 from the user. In addition, the reception mechanism (reception unit) receives not only a user instruction but also a cleaning start signal from the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 as a cleaning start instruction. For example, the reception means (reception mechanism) cleans the guide groove of the main roller using a cleaning start signal output from the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 after the processing of the workpiece using the processing wire is completed. Accepted as a start instruction.

また、マルチワイヤ放電加工装置1は、メインローラのガイド溝の清掃開始の指示を受け付けるための所定の条件をメモリ(開始記憶手段)に記憶している。ここで、所定の条件は、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理の処理時間を含む。   Further, the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 stores a predetermined condition for receiving an instruction to start cleaning of the guide groove of the main roller in a memory (start storage means). Here, the predetermined condition includes a processing time for processing the workpiece using the processing wire.

マルチワイヤ放電加工装置1の制御部が、ワイヤ7(加工用ワイヤ)を用いた被加工物の加工処理が、開始記憶手段に記憶された所定の条件を満たすかを判定し(開始判定手段)、加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が、当該所定の条件を満たすと判定されたことを条件に、加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了していない場合であっても、メインローラの溝の清掃開始の指示を受付手段が受け付ける。   The control unit of the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 determines whether the processing of the workpiece using the wire 7 (machining wire) satisfies a predetermined condition stored in the start storage unit (start determination unit) The processing of the workpiece using the processing wire is not completed on the condition that the processing of the workpiece using the processing wire is determined to satisfy the predetermined condition. However, the reception unit receives an instruction to start cleaning the groove of the main roller.

送り機構104は、清掃機具305を、メインローラのガイド溝と接触する清掃位置303と、当該ガイド溝と接触しない退避位置304との間を移動させる機構である。   The feed mechanism 104 is a mechanism that moves the cleaning tool 305 between a cleaning position 303 that contacts the guide groove of the main roller and a retreat position 304 that does not contact the guide groove.

また、送り機構104は、加工中、加工休止中に関わらず、ガイド溝と接触する清掃位置303に、清掃機具305を移動させ、ガイド溝の清掃を行うように制御することが可能である。   In addition, the feed mechanism 104 can be controlled to move the cleaning tool 305 to the cleaning position 303 in contact with the guide groove to clean the guide groove, regardless of whether the machining is in progress or the processing is stopped.

また、送り機構104は、清掃用ワイヤ302とメインローラのガイド溝とが接触する清掃位置と、清掃用ワイヤ302とメインローラの溝とが接触しない退避位置との間で、清掃用ワイヤ302を移動可能に動作し、上述の受付機構(受付手段)で、メインローラのガイド溝の清掃開始の指示を受け付け場合に、清掃用ワイヤ302とメインローラのガイド溝とが接触する清掃位置に、清掃用ワイヤ302を移動させる。   Further, the feed mechanism 104 moves the cleaning wire 302 between a cleaning position where the cleaning wire 302 and the guide groove of the main roller contact each other and a retreat position where the cleaning wire 302 and the main roller groove do not contact each other. Cleaning is performed at a cleaning position where the cleaning wire 302 and the guide groove of the main roller come into contact with each other when the receiving mechanism (receiving means) receives an instruction to start cleaning the guide groove of the main roller. The wire 302 is moved.

また、マルチワイヤ放電加工装置1は、清掃機構12によるメインローラのガイド溝の清掃処理を終了するための終了条件(清掃処理の時間やメインローラの回転数等)をメモリ(終了記憶手段)に記憶している。   In addition, the multi-wire electric discharge machining apparatus 1 stores in the memory (end storage means) end conditions (such as the cleaning process time and the number of rotations of the main roller) for ending the cleaning process of the guide groove of the main roller by the cleaning mechanism 12. I remember it.

そして、マルチワイヤ放電加工装置1のCPU等の制御部により、送り機構301により清掃用ワイヤ302を清掃位置303に移動させた後に、清掃機構12によるメインローラのガイド溝の清掃処理が、終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすかを判定する(判定手段(判定機構))。   Then, after the cleaning wire 302 is moved to the cleaning position 303 by the feed mechanism 301 by the control unit such as the CPU of the multi-wire electric discharge machining apparatus 1, the cleaning process of the guide groove of the main roller by the cleaning mechanism 12 is completed. It is determined whether the end condition stored in the means is satisfied (determination means (determination mechanism)).

そして、送り機構301は、判定手段(判定機構)により、清掃機構12によるメインローラのガイド溝の清掃処理が、終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすと判定されたことを条件に、退避位置304に清掃用ワイヤ302を移動させる。   Then, the feeding mechanism 301 retreats on the condition that the determination unit (determination mechanism) determines that the cleaning process of the guide groove of the main roller by the cleaning mechanism 12 satisfies the end condition stored in the end storage unit. The cleaning wire 302 is moved to the position 304.

図4は、清掃機構12の清掃機具305がメインローラ9の清掃位置303に移動して、清掃機具305の清掃用ワイヤ302と、メインローラ9のガイド溝とが接触している状態を示す図である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a state in which the cleaning tool 305 of the cleaning mechanism 12 moves to the cleaning position 303 of the main roller 9 and the cleaning wire 302 of the cleaning tool 305 and the guide groove of the main roller 9 are in contact with each other. It is.

清掃機構12は、更に、清掃機具送り駆動部403と、保持部404を備えており、清掃機具305は、洗浄液供給口401、洗浄液供給口402を備えている。   The cleaning mechanism 12 further includes a cleaning tool feed driving unit 403 and a holding unit 404, and the cleaning tool 305 includes a cleaning liquid supply port 401 and a cleaning liquid supply port 402.

清掃機構12は、清掃用ワイヤ302とメインローラのガイド溝とがかみ合う位置に洗浄液を供給する洗浄液供給口401、402を備えている。   The cleaning mechanism 12 includes cleaning liquid supply ports 401 and 402 for supplying a cleaning liquid at a position where the cleaning wire 302 and the guide groove of the main roller are engaged with each other.

清掃機具送り駆動部403は、送り機構301による清掃機具の動作を駆動する機構である。   The cleaning tool feed driving unit 403 is a mechanism that drives the operation of the cleaning tool by the feed mechanism 301.

保持部404は、清掃機具305と送り機構301とを連結し、清掃機具305を保持する機構である。そのため、送り機構301による動作により保持部404を移動させることで、清掃機具305を移動させることが可能となる。   The holding unit 404 is a mechanism that connects the cleaning tool 305 and the feed mechanism 301 and holds the cleaning tool 305. Therefore, the cleaning tool 305 can be moved by moving the holding unit 404 by the operation of the feed mechanism 301.

洗浄液供給口401、洗浄液供給口402は、水、及び/又は薬液等の洗浄液を、メインローラ9のガイド溝と清掃用ワイヤ302との接触している部分に、噴射して供給する口である。なお、ここで用いられる水は、加工液として用いられる水と同じものであってもよい。   The cleaning liquid supply port 401 and the cleaning liquid supply port 402 are ports for spraying and supplying cleaning liquid such as water and / or chemical liquid to a portion where the guide groove of the main roller 9 and the cleaning wire 302 are in contact with each other. . The water used here may be the same as the water used as the processing liquid.

清掃機具305は、清掃器具送り駆動部403によって駆動された送り機構301によって清掃用ワイヤ302がメインローラ9のガイド溝に接する清掃位置303まで移動され、メインローラ9を回転させることにより清掃用ワイヤ302とメインローラ9のガイド溝との摩擦力によって、ガイド溝に付着、残留、固着した物質(加工屑や汚れ等)を除去する。   The cleaning tool 305 is moved to the cleaning position 303 where the cleaning wire 302 is in contact with the guide groove of the main roller 9 by the feed mechanism 301 driven by the cleaning tool feed driving unit 403, and the main roller 9 is rotated to rotate the cleaning wire. By the frictional force between 302 and the guide groove of the main roller 9, substances (working waste, dirt, etc.) adhering, remaining, and fixed to the guide groove are removed.

また、清掃機具305の上下には上述の洗浄液供給口401、402が設けられており、除去効果を向上するために水や薬液などの洗浄液を噴きかけながら清掃することが可能である。   Further, the above-described cleaning liquid supply ports 401 and 402 are provided above and below the cleaning device 305, so that cleaning can be performed while spraying cleaning liquid such as water or chemicals in order to improve the removal effect.

また、清掃機具305の保持部404に、清掃用ワイヤ302を含む清掃機具305に振動を与える加える加振機構を更に備えることができ、ガイド溝の幅と同程度の振幅の振動を清掃機具305に与えることで、ガイド溝の内側全体をより効果的に清掃することが可能である。   Further, the holding unit 404 of the cleaning tool 305 can further be provided with an excitation mechanism that applies vibration to the cleaning tool 305 including the cleaning wire 302, and the cleaning tool 305 has vibration having the same amplitude as the width of the guide groove. It is possible to more effectively clean the entire inside of the guide groove.

図5は、清掃機構12を横(左)側から見た図である。   FIG. 5 is a view of the cleaning mechanism 12 as viewed from the side (left side).

清掃機構12は、図5に示す通り、洗浄液供給部501を更に備えている。   As shown in FIG. 5, the cleaning mechanism 12 further includes a cleaning liquid supply unit 501.

洗浄液供給部501は、洗浄液を貯留して、洗浄液供給口402に洗浄液を供給する(洗浄液を送り出す)機構であって、清掃機構12の端部に設けられている。   The cleaning liquid supply unit 501 is a mechanism that stores the cleaning liquid and supplies the cleaning liquid to the cleaning liquid supply port 402 (feeds out the cleaning liquid), and is provided at the end of the cleaning mechanism 12.

図5に示すように、清掃機構12には、上下に設けられた棒状の支持体に、メインローラ9のガイド溝の数と同じ数の清掃用ワイヤ302が設けられている。   As shown in FIG. 5, the cleaning mechanism 12 is provided with the same number of cleaning wires 302 as the number of guide grooves of the main roller 9 on the upper and lower rod-shaped supports.

また、この清掃用ワイヤ302の直径は、ガイド溝の幅よりも小さく、清掃用ワイヤ302を、ガイド溝の間隔と同じ間隔で張られている。   Further, the diameter of the cleaning wire 302 is smaller than the width of the guide groove, and the cleaning wire 302 is stretched at the same interval as the interval of the guide groove.

清掃用ワイヤ302の材質は、その中心部はナイロン、鋼などを含む素材から構成されている。また、その清掃用ワイヤ302の表面にはダイヤモンドの固定砥粒が設けられている。   The central portion of the cleaning wire 302 is made of a material containing nylon, steel, or the like. In addition, diamond fixed abrasive grains are provided on the surface of the cleaning wire 302.

図6は、メインローラ9のガイド溝と、ワイヤ7(加工用ワイヤ)とが接触した状態、及びメインローラ9のガイド溝と清掃用ワイヤ302とが接触した状態のそれぞれを示す概念図である。   FIG. 6 is a conceptual diagram showing a state where the guide groove of the main roller 9 and the wire 7 (processing wire) are in contact with each other, and a state where the guide groove of the main roller 9 and the cleaning wire 302 are in contact with each other. .

図6に示す通り、601は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)がメインローラ9のガイド溝に撒き掛けられ、メインローラ9のガイド溝と、ワイヤ7(加工用ワイヤ)とが接触した状態を示している。   As shown in FIG. 6, reference numeral 601 denotes a state in which the wire 7 (processing wire) is strung over the guide groove of the main roller 9 and the guide groove of the main roller 9 and the wire 7 (processing wire) are in contact with each other. ing.

また、602は、清掃用ワイヤ302がメインローラ9のガイド溝に押し当てた状態であって、メインローラ9のガイド溝と清掃用ワイヤ302とが接触した状態を示している。   Reference numeral 602 denotes a state in which the cleaning wire 302 is pressed against the guide groove of the main roller 9 and the guide groove of the main roller 9 and the cleaning wire 302 are in contact with each other.

放電加工中に発生した加工屑110がガイド溝の斜面や底部に残留すると、加工屑110の残留位置が、ガイド溝の底部を基準として当該底部からメインローラ9の表面側に(h1−1/2×d1)以上の距離の位置である場合、加工屑110が、ワイヤ7(加工用ワイヤ)がメインローラ9のガイド溝にはまる障害となり、ワイヤ7(加工用ワイヤ)の走行中に、ワイヤ7(加工用ワイヤ)がメインローラ9のガイド溝から外れる等の不具合が発生し易くなる。   When the machining waste 110 generated during the electric discharge machining remains on the slope or bottom of the guide groove, the remaining position of the machining waste 110 moves from the bottom to the surface side of the main roller 9 with respect to the bottom of the guide groove (h1-1 / When the distance is 2 × d1) or more, the machining waste 110 becomes an obstacle that the wire 7 (working wire) fits into the guide groove of the main roller 9 and the wire 7 (working wire) travels while the wire is running. 7 (processing wire) is likely to be out of order from the guide groove of the main roller 9.

このような不具合を解消するべく、本発明では、ガイド溝に付着したこれらの加工屑110等の物質を取り除く機構を新たに設けた。   In order to solve such a problem, in the present invention, a mechanism for removing substances such as the processing waste 110 attached to the guide groove is newly provided.

ここで、h1は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)がメインローラ9に巻掛けられたときの、ガイド溝の底部からワイヤ7(加工用ワイヤ)の中心点までの距離を示している。   Here, h1 indicates the distance from the bottom of the guide groove to the center point of the wire 7 (processing wire) when the wire 7 (processing wire) is wound around the main roller 9.

また、d1は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)の直径である。   D1 is the diameter of the wire 7 (processing wire).

また、h1は、メインローラ9のガイド溝の加工角度θとワイヤ7(加工用ワイヤ)の直径d1とを、次の式に代入することにより求められる。ここで、メインローラ9のガイド溝の加工角度θとワイヤ7(加工用ワイヤ)の直径d1とはメモリに記憶されており、当該記憶された加工角度θと直径d1とを代入することにより、h1を求めることができる。   Further, h1 is obtained by substituting the processing angle θ of the guide groove of the main roller 9 and the diameter d1 of the wire 7 (processing wire) into the following equation. Here, the processing angle θ of the guide groove of the main roller 9 and the diameter d1 of the wire 7 (processing wire) are stored in the memory, and by substituting the stored processing angle θ and diameter d1, h1 can be obtained.

h1=d1/{2×sin(θ/2)}     h1 = d1 / {2 × sin (θ / 2)}

加工屑110は、加工材料(シリコンなど)、ワイヤ材料(黄銅、鉄など)、加工液(水道水)由来のカルキ(炭酸カルシウムなど)、ガイド溝材料(ウレタンなど)が含まれる。   The processing waste 110 includes processing materials (such as silicon), wire materials (such as brass and iron), chalk (such as calcium carbonate) derived from processing liquid (tap water), and guide groove materials (such as urethane).

これらの加工屑110を除去するための清掃用ワイヤ302のワイヤ直径d2は、ワイヤ7(加工用ワイヤ)の直径d1と等しい、又は小さい寸法とする。これにより、ワイヤ7(加工用ワイヤ)の走行の障害となる加工屑110を取り除くことが可能となり、ワイヤ7(加工用ワイヤ)の走行中に、ワイヤ7(加工用ワイヤ)がメインローラ9のガイド溝から外れる等の不具合が発生する可能性を低減可能にする。   The wire diameter d2 of the cleaning wire 302 for removing these processing wastes 110 is set to be equal to or smaller than the diameter d1 of the wire 7 (processing wire). As a result, it is possible to remove the processing waste 110 that becomes an obstacle to the traveling of the wire 7 (processing wire), and the wire 7 (processing wire) is connected to the main roller 9 while the wire 7 (processing wire) is traveling. It is possible to reduce the possibility of occurrence of problems such as detachment from the guide groove.

メインローラ9のガイド溝を清掃するために、清掃用ワイヤ302をガイド溝に押し当てる際、メインローラ9の表面からガイド溝の底部方向に移動する清掃用ワイヤ302の移動量Yを(D−h2)とすることで、清掃用ワイヤ302をガイド溝へ強く押し当てることが無いようにし、メインローラ9を回転させることにより、ガイド溝にダメージを与えることなくワイヤ7(加工用ワイヤ)の走行に影響する深さ以上の溝内部に残留する加工屑110を除去することができる。   When the cleaning wire 302 is pressed against the guide groove in order to clean the guide groove of the main roller 9, the movement amount Y of the cleaning wire 302 moving from the surface of the main roller 9 toward the bottom of the guide groove is expressed as (D− By setting h2), the cleaning wire 302 is not strongly pressed against the guide groove, and the main roller 9 is rotated to run the wire 7 (processing wire) without damaging the guide groove. It is possible to remove the machining waste 110 remaining in the groove having a depth greater than the depth that affects the process.

このように、移動量Y(D−h2の値)だけ、清掃用ワイヤ302をメインローラ9の表面から移動させることで、清掃用ワイヤ302をガイド溝に接する位置(清掃位置303)に移動させることが可能となる。ここで、Dは、ガイド溝の深さを示し、h2は、ガイド溝の底部から、ガイド溝に接した清掃用ワイヤの中心までの距離を示している。また、Dとh2は、予め設定されメモリに記憶されているため、メモリからDとh2の値を読み取り(D−h2)の値を算出することにより移動量Yが得られる。この移動量Yに、メインローラ9の表面から退避位置304までの距離を加算した値だけ、清掃機具送り駆動部403による駆動により送り機構301が清掃機具305と送り機構301とを退避位置304からガイド溝の底部方向に移動させることで、清掃用ワイヤ302をガイド溝の表面に接触させることが可能となる。   In this way, the cleaning wire 302 is moved from the surface of the main roller 9 by the movement amount Y (the value of D−h2), thereby moving the cleaning wire 302 to a position (cleaning position 303) in contact with the guide groove. It becomes possible. Here, D indicates the depth of the guide groove, and h2 indicates the distance from the bottom of the guide groove to the center of the cleaning wire in contact with the guide groove. Further, since D and h2 are preset and stored in the memory, the movement amount Y is obtained by reading the values of D and h2 from the memory and calculating the value of (D−h2). The feed mechanism 301 moves the cleaning tool 305 and the feed mechanism 301 from the retracted position 304 by driving the cleaning tool feed driving unit 403 by a value obtained by adding the distance from the surface of the main roller 9 to the retracted position 304 to the amount of movement Y. By moving toward the bottom of the guide groove, the cleaning wire 302 can be brought into contact with the surface of the guide groove.

このように、清掃用ワイヤ302を移動させてガイド溝の表面に清掃用ワイヤ302を接触させ、メインローラ9を少なくとも1回転させた後に、清掃用ワイヤ302を移動量Yの範囲で、ガイド溝に沿って清掃用ワイヤ302を送り機構301により移動させることが可能である。これにより、ガイド溝の表面の周りの加工屑を効果的に除去することができる。   Thus, after the cleaning wire 302 is moved to contact the surface of the guide groove with the cleaning wire 302 and the main roller 9 is rotated at least once, the cleaning wire 302 is moved within the range of the movement amount Y within the guide groove. The cleaning wire 302 can be moved by the feed mechanism 301 along the line. Thereby, the processing waste around the surface of the guide groove can be effectively removed.

すなわち、清掃機構12により、清掃用ワイヤ302が、メインローラのガイド溝にかみ合うように配置すると共に、メインローラを回転させる駆動部によりメインローラを少なくとも1回転させた後に、送り機構301は、さらに、メインローラのガイド溝の方向に対して左、及び/又は右方向に、当該ガイド溝の幅の範囲内で清掃用ワイヤ302を移動する。   That is, the cleaning mechanism 302 is arranged so that the cleaning wire 302 is engaged with the guide groove of the main roller, and after the main roller is rotated at least once by the drive unit that rotates the main roller, the feeding mechanism 301 further includes The cleaning wire 302 is moved within the range of the width of the guide groove to the left and / or right with respect to the direction of the guide groove of the main roller.

上述の通り、h2は、清掃用ワイヤ302がガイド溝に接したときのガイド溝の底部から清掃用ワイヤ302の中心までの距離であり、Dは、ガイド溝の深さであるため、h2は以下のように求められる。   As described above, h2 is the distance from the bottom of the guide groove when the cleaning wire 302 is in contact with the guide groove to the center of the cleaning wire 302, and D is the depth of the guide groove. It is calculated as follows.

h2=d2/{2×sin(θ/2)}     h2 = d2 / {2 × sin (θ / 2)}

以上の方法で、ガイド溝の底部の加工屑110を除去することができる他、ガイド溝の開口部に残留した加工屑110は、保持部404に設けられた加振機構により、ガイド溝の開口幅Pと同程度の振幅で清掃用ワイヤ302を振動させながら移動させることで除去することができる。   By the above method, the processing waste 110 at the bottom of the guide groove can be removed, and the processing waste 110 remaining in the opening of the guide groove can be opened by the vibration mechanism provided in the holding portion 404. It can be removed by moving the cleaning wire 302 while vibrating it with the same amplitude as the width P.

すなわち、清掃機構12は、清掃用ワイヤ302に振動を加える加振機構を備え、清掃機構12は、清掃用ワイヤ302が、メインローラのガイド溝にかみ合うように配置すると共に、メインローラを回転させる駆動部によりメインローラを回転させている間、加振機構により清掃用ワイヤ302を振動させる。   That is, the cleaning mechanism 12 includes a vibration mechanism that applies vibration to the cleaning wire 302. The cleaning mechanism 12 is disposed so that the cleaning wire 302 engages with the guide groove of the main roller and rotates the main roller. While the main roller is rotated by the driving unit, the cleaning wire 302 is vibrated by the vibration mechanism.

このとき、清掃用ワイヤ302を、ワイヤ直径d2を超えないピッチで移動した後に静止させて、静止中にガイドローラを少なくとも1回以上回転させることにより清掃残りを減らす効果を得ることができる。   At this time, the cleaning wire 302 can be stopped after moving at a pitch not exceeding the wire diameter d2, and the guide roller can be rotated at least once during the stationary state, thereby reducing the cleaning residue.

また、清掃用ワイヤ302を移動量Yの区間で往復運動させても同様の効果を得られる。   Further, the same effect can be obtained even if the cleaning wire 302 is reciprocated in the section of the movement amount Y.

加工屑110が清掃用ワイヤ302よりガイド溝の底部側に残留したとしても、ワイヤ7(加工用ワイヤ)に接することがないので、ワイヤ走行に不具合を生ずることはない。   Even if the processing waste 110 remains on the bottom side of the guide groove with respect to the cleaning wire 302, it does not come into contact with the wire 7 (processing wire).

上述のガイド溝の清掃方法は、加工屑が乾燥固着する前に実行することが除去効率上から望ましく、標準的には放電加工処理の完了直後に実行し、加工時間が所定時間よりも長い放電加工処理を行う場合には、加工中であっても実行するように制御する。   It is desirable from the viewpoint of removal efficiency that the above-described guide groove cleaning method is performed before the machining waste is dried and fixed, and is typically performed immediately after completion of the electric discharge machining process, and the discharge is performed for a longer time than the predetermined time. When processing is performed, control is performed so that it is executed even during processing.

以上、本発明によれば、ワイヤを走行させるためのローラの溝に付着する物質を取り除くことができる。   As mentioned above, according to this invention, the substance adhering to the groove | channel of the roller for running a wire can be removed.

1 マルチワイヤ放電加工装置
2 ブロック2
3 ワーク送り装置
4 接着部
5 シリコンインゴット
6 加工液槽
7 ワイヤ
8 メインローラ
9 メインローラ
10 給電ユニット
11 給電子
12 清掃機構
15 電源ユニット
18 加工液供給装置
19 ブロック
701 加工液供給口
1 Multi-wire EDM 2 Block 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Work feeding apparatus 4 Bonding part 5 Silicon ingot 6 Processing liquid tank 7 Wire 8 Main roller 9 Main roller 10 Feeding unit 11 Feeder 12 Cleaning mechanism 15 Power supply unit 18 Processing liquid supply apparatus 19 Block 701 Processing liquid supply port

Claims (12)

加工用ワイヤを用いて被加工物を加工する加工装置であって、
前記加工用ワイヤが巻き付けるための溝を有する、前記加工用ワイヤを走行させるためのローラと、
前記ローラを回転させる駆動部と、
前記ローラの溝を清掃するための清掃用ワイヤを含む清掃機構と、
を備え、
前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させることを特徴とする加工装置。
A processing apparatus for processing a workpiece using a processing wire,
A roller for running the processing wire, having a groove for winding the processing wire;
A drive unit for rotating the roller;
A cleaning mechanism including a cleaning wire for cleaning the groove of the roller;
With
The said cleaning mechanism arrange | positions so that the said wire for cleaning may engage with the groove | channel of the said roller, and rotates the said roller by the said drive part, The processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが前記ローラの溝にかみ合うように、前記溝の間隔と同じ間隔で清掃用ワイヤを設けていることを特徴とする請求項1に記載の加工装置。   2. The processing apparatus according to claim 1, wherein the cleaning mechanism is provided with a cleaning wire at the same interval as the groove so that the cleaning wire engages with the groove of the roller. 前記清掃機構は、
前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付ける受付手段と、
前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とがする清掃位置に前記清掃用ワイヤを移動させる送り機構と、
を更に備え、
前記送り機構は、前記受付手段で、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付け場合に、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触する清掃位置に、前記清掃用ワイヤを移動させることを特徴とする請求項1又は2に記載の加工装置。
The cleaning mechanism is
Receiving means for receiving an instruction to start cleaning the groove of the roller;
A feed mechanism for moving the cleaning wire to a cleaning position formed by the cleaning wire and the groove of the roller;
Further comprising
The feeding mechanism moves the cleaning wire to a cleaning position where the cleaning wire and the roller groove come into contact with each other when the receiving unit receives an instruction to start cleaning the groove of the roller. The processing apparatus according to claim 1, wherein the processing apparatus is characterized.
前記送り機構は、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触する清掃位置と、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とが接触しない退避位置との間で、前記清掃用ワイヤを移動可能に動作し、
前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理を終了するための終了条件を記憶する終了記憶手段と、
前記送り機構により前記清掃用ワイヤを前記清掃位置に移動させた後に、前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理が、前記終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすかを判定する判定手段と、
を更に備え、
前記送り機構は、前記判定手段により、前記清掃機構による前記ローラの溝の清掃処理が、前記終了記憶手段に記憶された終了条件を満たすと判定されたことを条件に、前記退避位置に前記清掃用ワイヤを移動させることを特徴とする請求項3項に記載の加工装置。
The feed mechanism can move the cleaning wire between a cleaning position where the cleaning wire and the groove of the roller are in contact and a retreat position where the cleaning wire and the roller groove are not in contact. Work,
End storage means for storing an end condition for ending the cleaning of the groove of the roller by the cleaning mechanism;
Determining means for determining whether the cleaning process of the groove of the roller by the cleaning mechanism satisfies the end condition stored in the end storage means after the cleaning wire is moved to the cleaning position by the feed mechanism; ,
Further comprising
The feeding mechanism is configured to clean the roller groove at the retracted position on the condition that the determination unit determines that the cleaning process of the groove of the roller by the cleaning mechanism satisfies the end condition stored in the end storage unit. The processing apparatus according to claim 3, wherein the working wire is moved.
前記清掃機構により、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを少なくとも1回転させた後に、前記送り機構は、さらに、前記ローラの溝の方向に対して左、及び/又は右方向に、当該溝の幅の範囲内で前記清掃用ワイヤを移動することを特徴とする請求項3又は4に記載の加工装置。   After the cleaning mechanism is arranged so that the cleaning wire engages with the groove of the roller, and after the roller has been rotated at least once by the driving unit, the feeding mechanism further includes a direction of the groove of the roller. 5. The processing apparatus according to claim 3, wherein the cleaning wire is moved in the range of the width of the groove in the left direction and / or the right direction. 前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤに振動を加える加振機構を更に備え、
前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させている間、前記加振機構により前記清掃用ワイヤを振動させることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の加工装置。
The cleaning mechanism further includes a vibration mechanism that applies vibration to the cleaning wire,
The cleaning mechanism is arranged such that the cleaning wire is engaged with the groove of the roller, and the cleaning wire is vibrated by the vibration mechanism while the roller is rotated by the driving unit. The processing apparatus according to any one of claims 1 to 5, characterized in that:
前記受付手段は、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了した後に、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けることを特徴とする請求項3乃至6の何れか1項に記載の加工装置。   The said receiving means receives the instruction | indication of the cleaning start of the groove | channel of the said roller, after the processing of the workpiece using the said wire for processing is completed, The any one of Claim 3 thru | or 6 characterized by the above-mentioned. The processing apparatus as described. 前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けるための所定の条件を記憶する開始記憶手段と、
前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が、前記開始記憶手段に記憶された所定の条件を満たすかを判定する開始判定手段と、
を更に備え、
前記受付手段は、前記開始判定手段により、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が、前記開始記憶手段に記憶された所定の条件を満たすと判定されたことを条件に、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理が完了していない場合であっても、前記ローラの溝の清掃開始の指示を受け付けることを特徴とする請求項3乃至5の何れか1項に記載の加工装置。
Start storage means for storing predetermined conditions for receiving an instruction to start cleaning the groove of the roller;
Start determination means for determining whether the processing of the workpiece using the processing wire satisfies a predetermined condition stored in the start storage means;
Further comprising
The accepting means is conditioned on the condition that the start determining means determines that the processing of the workpiece using the processing wire satisfies a predetermined condition stored in the start storage means. 6. The apparatus according to claim 3, wherein an instruction to start cleaning the groove of the roller is received even when the processing of the workpiece using the wire for processing is not completed. Processing equipment.
前記開始記憶手段に記憶された所定の条件は、前記加工用ワイヤを用いた被加工物の加工処理の処理時間を含むことを特徴とする請求項8に記載の加工装置。   The processing apparatus according to claim 8, wherein the predetermined condition stored in the start storage unit includes a processing time for processing the workpiece using the processing wire. 前記清掃機構は、前記清掃用ワイヤと前記ローラの溝とがかみ合う位置に洗浄液を供給する洗浄液供給口を更に備えることを特徴とする請求項1乃至9の何れか1項に記載の加工装置。   10. The processing apparatus according to claim 1, wherein the cleaning mechanism further includes a cleaning liquid supply port that supplies a cleaning liquid to a position where the cleaning wire and the groove of the roller are engaged with each other. 前記加工装置は、前記加工用ワイヤと被加工物との間の放電により前記被加工物を加工するワイヤ放電加工装置であることを特徴とする請求項1乃至10の何れか1項に記載の加工装置。   The said processing apparatus is a wire electric discharge machining apparatus which processes the said workpiece by the electrical discharge between the said wire for a process, and a workpiece, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Processing equipment. 加工用ワイヤが巻き付けるための溝を有する、前記加工用ワイヤを走行させるためのローラと、
前記ローラを回転させる駆動部と、
前記加工用ワイヤを用いて被加工物を加工する加工装置における前記ローラの清掃方法であって、
前記ローラの溝を清掃するための清掃用ワイヤを含む清掃機構が、前記清掃用ワイヤが、前記ローラの溝にかみ合うように配置すると共に、前記駆動部により前記ローラを回転させることを特徴とする清掃方法。
A roller for running the processing wire, having a groove for winding the processing wire;
A drive unit for rotating the roller;
A method of cleaning the roller in a processing apparatus for processing a workpiece using the processing wire,
The cleaning mechanism including a cleaning wire for cleaning the groove of the roller is arranged so that the cleaning wire is engaged with the groove of the roller, and the roller is rotated by the driving unit. Cleaning method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016172288A (en) * 2015-03-16 2016-09-29 株式会社ディスコ Multiple wire-edm device
CN106270841A (en) * 2016-09-05 2017-01-04 南京航空航天大学 Flexible metal thin plate micro-group groove continuous electrolysis system of processing and method
CN109333190A (en) * 2018-11-26 2019-02-15 宇晶机器(长沙)有限公司 Realize diamond wire high-precision regular mill line apparatus and method
JP7391282B1 (en) * 2023-05-23 2023-12-04 三菱電機株式会社 Wire electrical discharge machining equipment, wire electrical discharge machining method, and wafer manufacturing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016172288A (en) * 2015-03-16 2016-09-29 株式会社ディスコ Multiple wire-edm device
CN106270841A (en) * 2016-09-05 2017-01-04 南京航空航天大学 Flexible metal thin plate micro-group groove continuous electrolysis system of processing and method
CN109333190A (en) * 2018-11-26 2019-02-15 宇晶机器(长沙)有限公司 Realize diamond wire high-precision regular mill line apparatus and method
JP7391282B1 (en) * 2023-05-23 2023-12-04 三菱電機株式会社 Wire electrical discharge machining equipment, wire electrical discharge machining method, and wafer manufacturing method

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