JP2014153430A - Integrated type light receiving element - Google Patents

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Masao Kurata
優生 倉田
Shinichi Aozasa
真一 青笹
Yusuke Nasu
悠介 那須
Munehisa Tamura
宗久 田村
Ryoichi Kasahara
亮一 笠原
Mikitaka Itou
幹隆 井藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small-sized integrated type light receiving element having a good crosstalk characteristic.SOLUTION: An integrated type light receiving element comprises: a substrate 12; optical waveguides 17 (each of which includes a core part 16 and a clad 14) formed on the substrate 12; mirrors 18 each of which is disposed at the end of the optical waveguide 17; and a plurality of PDs 22 (each including a PD receiving part 20) arranged on the optical waveguide 17 side by side. The mirror 18 flips up light for the PDs 22 propagating the core part 16 by reflection. The integrated type light receiving element is manufactured through the steps in which the plurality of mirrors 18 corresponding to the plurality of core parts 16 respectively are each formed with an oblique mirror groove by anisotropic etching, the mirrors are formed by metal deposition, superfluous mirrors are removed by laser ablation, and the like.

Description

本発明は、集積型受光素子に関し、詳細には、光通信や光情報処理の分野で用いられる、平面光波回路とフォトダイオード(本明細書では、「PD」ともいう)などの受光素子とから構成される集積型受光素子に関する。   The present invention relates to an integrated light receiving element, and in particular, from a light receiving element such as a planar lightwave circuit and a photodiode (also referred to as “PD” in this specification) used in the fields of optical communication and optical information processing. The present invention relates to an integrated light receiving element.

近年、光ファイバ伝送の普及に伴い、多数の光機能素子を高密度に集積する技術が求められている。その技術の一つとして、石英系平面光波回路(本明細書では、「PLC」(Planar Lightwave Circuit)ともいう)が知られている。PLCは低損失、高信頼性、および高い設計自由度といった優れた特徴を有し、複合機能一体集積のプラットフォームとして有望である。   In recent years, with the spread of optical fiber transmission, a technique for integrating a large number of optical functional elements at a high density is required. As one of such techniques, a quartz-based planar lightwave circuit (also referred to as “PLC” (Planar Lightwave Circuit) in this specification) is known. The PLC has excellent characteristics such as low loss, high reliability, and high design flexibility, and is promising as a platform for integrating multiple functions.

実際に伝送端局における光受信装置にはPDなどの受光素子からなる光モジュールや、レーザーダイオード(本明細書では、「LD」ともいう)などの発光素子と、合分波器、分岐・結合器、光変調器などの機能素子が形成されたPLCとが光結合により実装されている。   Actually, the optical receiver at the transmission terminal station includes an optical module including a light receiving element such as a PD, a light emitting element such as a laser diode (also referred to as “LD” in this specification), a multiplexer / demultiplexer, a branching / combining unit. And a PLC on which functional elements such as an optical modulator and an optical modulator are formed are mounted by optical coupling.

また、例えば、波長分割多重伝送方式におけるノード装置においては、PLC中の複数の光導波路についての光強度を監視するために、多数のPDが集積化されて実装されている。   Further, for example, in a node device in the wavelength division multiplex transmission system, a large number of PDs are integrated and mounted in order to monitor the light intensity of a plurality of optical waveguides in the PLC.

光導波路と受(発)光素子の光結合を可能とする構造として、図1および図2に示すような構造が提案されている。この構造は、異方性エッチングにより光導波路に斜めの溝(本明細書では、「ミラー溝」ともいう)を設け、この斜めの溝の側面に、金属や多層膜を堆積させることで作製することができる。堆積させた金属または多層膜を、基板面に対して垂直方向に光路を変換する反射面とすることで、ミラーを作製することができる。   Structures as shown in FIGS. 1 and 2 have been proposed as structures enabling optical coupling between an optical waveguide and a light receiving (emitting) light element. This structure is manufactured by providing an oblique groove (also referred to as “mirror groove” in this specification) in an optical waveguide by anisotropic etching, and depositing a metal or a multilayer film on the side surface of the oblique groove. be able to. A mirror can be manufactured by using the deposited metal or multilayer film as a reflecting surface that changes the optical path in a direction perpendicular to the substrate surface.

図1は、従来技術に係る、光を反射してPDに結合させるミラーを備えた構造の斜視図であり、図2は、同じ構造を説明する図であり、(a)は上面図であり、(b)は正面図であり、(c)は(a)の断面線A−A’における断面図である。   FIG. 1 is a perspective view of a structure including a mirror that reflects light and couples to a PD according to the prior art, FIG. 2 is a diagram illustrating the same structure, and FIG. 1A is a top view. (B) is a front view, (c) is a cross-sectional view taken along the cross-sectional line AA ′ of (a).

図1および図2に示す構造は、基板12と、基板12上の光導波路17(光導波路17は、コア部16およびクラッド部14から構成される)と、光導波路17端に設けられたミラー18と、光導波路17上に並べて設置された複数のPD22(PD22は、PD受光部20を備える)とから構成される。   The structure shown in FIGS. 1 and 2 includes a substrate 12, an optical waveguide 17 on the substrate 12 (the optical waveguide 17 is composed of a core portion 16 and a cladding portion 14), and a mirror provided at the end of the optical waveguide 17. 18 and a plurality of PDs 22 arranged side by side on the optical waveguide 17 (the PD 22 includes the PD light receiving unit 20).

なお、図1および図2では、コア部16が伸長する方向がx軸方向、光導波路17が積層される基板の面12の法線方向がz軸方向、x軸およびz軸に垂直な方向がy軸方向となるように座標軸を設定している。この座標軸は、以後の説明においても同様に設定されるものとする。   1 and 2, the direction in which the core portion 16 extends is the x-axis direction, the normal direction of the surface 12 of the substrate on which the optical waveguide 17 is laminated is the z-axis direction, and the direction perpendicular to the x-axis and the z-axis. The coordinate axes are set so that is in the y-axis direction. This coordinate axis is assumed to be set similarly in the following description.

基板12として、Si基板等を使用することができる。光導波路17は、複数のコア部16とクラッド部14とから構成されており、マルチチャネルを実現している。コア部16を伝搬する光は、ミラー18で反射されて光路を変換され、対応するPD22のPD受光部に結合する。   As the substrate 12, a Si substrate or the like can be used. The optical waveguide 17 is composed of a plurality of core parts 16 and a clad part 14, and realizes a multi-channel. The light propagating through the core portion 16 is reflected by the mirror 18 to change the optical path, and is coupled to the PD light receiving portion of the corresponding PD 22.

特許第3834024号公報Japanese Patent No. 3834024

従来の集積型受光素子(図1および図2に示した、斜めの溝において導波路端部の全面に亘って平面なミラーを取り付けるという構造)では、ミラー面の面荒れによる光散乱、または、コア部から漏れてクラッド部を伝搬する光(本明細書では、「迷光」ともいう)がミラーで反射されること等に起因して、チャネル間クロストーク特性が劣化するという問題があった。   In a conventional integrated light-receiving element (structure shown in FIGS. 1 and 2 in which a planar mirror is attached over the entire surface of the waveguide end in an oblique groove), light scattering due to surface roughness of the mirror surface, or There is a problem that the crosstalk characteristics between channels deteriorate due to the light that leaks from the core part and propagates through the cladding part (also referred to as “stray light” in this specification) reflected by the mirror.

本発明は、これらの問題を鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、小型かつ良好なクロストーク特性を持つ集積型受光素子を提供することである。   The present invention has been made in view of these problems, and an object of the present invention is to provide an integrated light-receiving element having a small size and good crosstalk characteristics.

本発明は、基板と、基板上のクラッド部および複数のコア部から構成された光導波路と、複数のコア部を伝搬する光を反射するための複数のコア部の各々に対応する複数のミラーと、光導波路上のミラーで反射された光が結合するための複数のミラーの各々に対応する複数のPDとを備えた集積型受光素子であって、光導波路には斜めの溝が形成されており、斜めの溝において光導波路端にミラーが形成されたことを特徴とする。   The present invention relates to a substrate, an optical waveguide composed of a clad portion on the substrate and a plurality of core portions, and a plurality of mirrors corresponding to each of the plurality of core portions for reflecting light propagating through the plurality of core portions. And a plurality of PDs corresponding to each of the plurality of mirrors for coupling the light reflected by the mirror on the optical waveguide, wherein the optical waveguide has an oblique groove formed therein. And a mirror is formed at the end of the optical waveguide in the oblique groove.

本発明の一実施形態において、複数のミラーの各々の幅は、コア部を伝搬する光の光強度分布の半値全幅より広いことを特徴とする。   In one embodiment of the present invention, the width of each of the plurality of mirrors is wider than the full width at half maximum of the light intensity distribution of the light propagating through the core portion.

本発明の一実施形態において、斜めの溝は、遮光剤で埋められたことを特徴とする。   In one embodiment of the present invention, the oblique grooves are filled with a light shielding agent.

本発明の一実施形態において、斜めの溝は、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂で埋められたことを特徴とする。   In one embodiment of the present invention, the oblique grooves are filled with an epoxy resin or a silicone resin.

本発明に係る構造を持つ集積型受光素子では、必要な信号光のみを反射させるために余分な反射膜(ミラー)は除去される。   In the integrated light receiving element having the structure according to the present invention, an extra reflection film (mirror) is removed in order to reflect only necessary signal light.

従って、迷光は反射されることなく透過または吸収され、ミラー面による散乱光も減少する。これは、クロストークの改善に資する。   Accordingly, stray light is transmitted or absorbed without being reflected, and scattered light from the mirror surface is also reduced. This contributes to the improvement of crosstalk.

以上より、小型かつ良好なクロストーク特性を持つ集積型受光素子を提供することができる。   As described above, it is possible to provide an integrated light receiving element having a small size and good crosstalk characteristics.

従来技術に係る、光を反射してPDに結合させるミラーを備えた構造を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the structure provided with the mirror which reflects light and couple | bonds with PD based on a prior art. 従来技術に係る、光を反射してPDに結合させるミラーを備えた構造を説明する図であり、(a)は上面図であり、(b)は正面図であり、(c)は(a)の断面線A−A’における断面図である。It is a figure explaining the structure provided with the mirror which reflects light and couple | bonds with PD based on a prior art, (a) is a top view, (b) is a front view, (c) is (a) Is a cross-sectional view taken along a cross-sectional line AA ′ of FIG. 本発明に係る、集積型受光素子の構造を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the structure of the integrated light receiving element based on this invention. 本発明に係る、集積型受光素子の構造を説明する図であり、(a)は上面図であり、(b)は正面図であり、(c)は(a)の断面線A−A’における断面図である。It is a figure explaining the structure of the integrated light receiving element based on this invention, (a) is a top view, (b) is a front view, (c) is sectional drawing AA 'of (a). FIG. 本発明に係る、集積型受光素子の作製フローを説明する図である。It is a figure explaining the manufacture flow of the integrated light receiving element based on this invention. 本発明に係る、集積型受光素子の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the integrated light receiving element based on this invention.

図3および図4に、本発明に係る集積型受光素子の構造を示す。   3 and 4 show the structure of the integrated light receiving element according to the present invention.

図3は、本発明に係る集積型受光素子の構造の斜視図であり、図4は、同じ構造を説明する図であり、(a)は上面図であり、(b)は正面図であり、(c)は(a)の断面線A−A’における断面図である。   FIG. 3 is a perspective view of the structure of the integrated light receiving element according to the present invention, FIG. 4 is a view for explaining the same structure, (a) is a top view, and (b) is a front view. (C) is sectional drawing in sectional line AA 'of (a).

図3および図4に示すように、本発明に係る集積型受光素子は、基板12と、基板12上の光導波路17(光導波路17は、コア部16およびクラッド部14から構成される)と、光導波路17端に設けられたミラー18と、光導波路17上に並べて設置された複数のPD22(PD22は、PD受光部20を備える)とから構成される。   As shown in FIGS. 3 and 4, the integrated light-receiving element according to the present invention includes a substrate 12 and an optical waveguide 17 on the substrate 12 (the optical waveguide 17 includes a core portion 16 and a cladding portion 14). The mirror 18 is provided at the end of the optical waveguide 17 and a plurality of PDs 22 arranged side by side on the optical waveguide 17 (the PD 22 includes the PD light receiving unit 20).

基板12として、Si基板等を使用することができる。   As the substrate 12, a Si substrate or the like can be used.

光導波路17は、クラッド部14と、コア部16とから構成される。   The optical waveguide 17 includes a clad part 14 and a core part 16.

ミラー18は、コア部16を伝搬するPD22用の光を反射により跳ね上げる。ミラー18は、コア部16の一端およびクラッド部14の一端が存在する光導波路17端部に形成される。   The mirror 18 jumps up the light for PD 22 propagating through the core portion 16 by reflection. The mirror 18 is formed at the end of the optical waveguide 17 where one end of the core portion 16 and one end of the clad portion 14 exist.

ここで、図1および図2に示した従来の構造と比較すると、ミラーが導波路端部の全面に亘る平面なミラーではなく、複数のコア部16の各々に対応する複数のミラーである点で、本発明に係る構造は相違する。個々のミラーの幅は、コア部16の各々を伝搬する光の光強度分布の半値全幅より広ければ良い。   Here, in comparison with the conventional structure shown in FIGS. 1 and 2, the mirror is not a flat mirror over the entire surface of the waveguide end, but a plurality of mirrors corresponding to each of the plurality of core portions 16. Thus, the structure according to the present invention is different. The width of each mirror may be wider than the full width at half maximum of the light intensity distribution of light propagating through each of the core portions 16.

このようなミラー18は、(1)異方性エッチングによりPD付近の光導波路に斜めの溝を形成すること、(2)溝形成により露出した光導波路端に金属(金属としてAu、Al等を使用することができる)または多層反射膜を堆積すること、(3)レーザーによるアブレーション等で余分なミラーを除去すること、により作製される。ミラーの作製方法は、後で詳しく説明する。   Such a mirror 18 has (1) forming an oblique groove in the optical waveguide near the PD by anisotropic etching, and (2) metal (Au, Al, etc. as a metal) at the end of the optical waveguide exposed by the groove formation. Or by depositing a multilayer reflective film, and (3) removing excess mirrors by laser ablation or the like. A method for manufacturing the mirror will be described in detail later.

図1および図2に示した「ミラーが導波路端部の全面に亘って形成される構造」では、迷光が反射し、反射された迷光がPDに結合することに起因するチャネル間クロストーク特性の劣化の問題があった。しかし、本発明に係る構造では、迷光はミラーで反射されずに導波路端部を透過して吸収される。   In the “structure in which the mirror is formed over the entire surface of the waveguide end portion” shown in FIG. 1 and FIG. 2, the crosstalk characteristic between channels caused by reflection of stray light and coupling of the reflected stray light to the PD. There was a problem of deterioration. However, in the structure according to the present invention, stray light is not reflected by the mirror but is transmitted through the end of the waveguide and absorbed.

また、図1および図2に示した「ミラーが導波路端部の全面に亘って形成される構造」では、平面ミラーでの光散乱に起因するチャネル間クロストーク特性の劣化の問題もあった。しかし、本発明に係る構造では、ミラーは余分な部分を除去して形成されるので、チャネル間クロストークを低減できる。   In addition, in the “structure in which the mirror is formed over the entire surface of the waveguide end portion” shown in FIGS. 1 and 2, there is a problem of deterioration in crosstalk characteristics between channels due to light scattering by the plane mirror. . However, in the structure according to the present invention, since the mirror is formed by removing an excess portion, crosstalk between channels can be reduced.

図4(c)に示すように、光の光路が基板主面法線方向(z軸方向)と平行となるように光をミラー18で反射させるので、基板12とミラー18とがなす角度が45度となるように斜めエッチングにより素子を作製した。しかし、基板12とミラー18とのなす角度は、鋭角であれば良い。   As shown in FIG. 4C, since the light is reflected by the mirror 18 so that the optical path of the light is parallel to the substrate main surface normal direction (z-axis direction), the angle formed between the substrate 12 and the mirror 18 is An element was fabricated by oblique etching so as to be 45 degrees. However, the angle formed between the substrate 12 and the mirror 18 may be an acute angle.

図5に、本発明に係る集積型受光素子を作製する方法の一例を示す。   FIG. 5 shows an example of a method for producing an integrated light receiving element according to the present invention.

最初に、Si基板等の基板12上に、クラッド部14と、コア部16とを成膜して、光導波路17を作製し、作製した光導波路17上にPD22を作製する(図5(a)を参照)。   First, a clad part 14 and a core part 16 are formed on a substrate 12 such as a Si substrate to produce an optical waveguide 17, and a PD 22 is produced on the produced optical waveguide 17 (FIG. 5A). )).

次いで、基板12全体(光導波路17及びPD22を含む)に対してフォトレジスト24を塗布する。露光後、現像を行い、ミラーを形成するためのミラー溝を形成する部分のフォトレジストを除去する。ミラー溝を形成するためにフォトレジストが除去された部分を、本明細書では、ミラー開口部という(ミラー開口部は、図5(b)中、符号26で示される)。   Next, a photoresist 24 is applied to the entire substrate 12 (including the optical waveguide 17 and the PD 22). After the exposure, development is performed, and the photoresist in the portion where the mirror groove for forming the mirror is formed is removed. In this specification, the portion where the photoresist is removed to form the mirror groove is referred to as a mirror opening (the mirror opening is indicated by reference numeral 26 in FIG. 5B).

ミラー開口部26以外にフォトレジスト24を成膜した後、異方性エッチングにより、光導波路伸長方向に対する角度が45度の斜めのミラー溝28を形成する(図5(c)を参照)。ここではレジストマスクを用いているが、メタルマスクを用いることも可能であり、マスク材料により本発明が限定されるものではない。   After the photoresist 24 is formed in a region other than the mirror opening 26, an oblique mirror groove 28 having an angle of 45 degrees with respect to the optical waveguide extension direction is formed by anisotropic etching (see FIG. 5C). Although a resist mask is used here, a metal mask can also be used, and the present invention is not limited by the mask material.

次いで、ミラー溝28において露出した導波路端部に金属を蒸着し、高反射率のミラーを形成する。蒸着する金属として、Au等を使用することができる(図5(d)を参照)。またはスパッタリング等で多層反射膜を堆積することでミラーを形成することもできる。   Next, a metal is vapor-deposited on the waveguide end exposed in the mirror groove 28 to form a highly reflective mirror. Au or the like can be used as the metal to be deposited (see FIG. 5D). Alternatively, a mirror can be formed by depositing a multilayer reflective film by sputtering or the like.

次いで、レーザーによるアブレーションにより余分なミラーを除去する。これにより、導波路端部の全面に亘って形成された1枚の平面ミラーより、コア部16の各々に対応する複数のミラーを作成する(図5(e)および図6を参照)。このとき、各ミラーの幅は、少なくともコア部を伝搬し反射する光の光強度分布の半値全幅よりは広くする。こうすることで、96%以上の光パワーを反射させることができる。また、コア部を伝搬し反射する光の光強度分布の半値全幅の2倍程度のミラーの幅があれば、99%以上の光パワーを反射させることができる。さらにミラー形状を光強度分布に対応するように形成することが望ましい。例えば、光強度分布が楕円形状であった場合、x軸方向から見たミラー形状も楕円形状にすることで、PDとの光結合効率を向上させることが可能である。アブレーションで使用するレーザーとして、近赤外〜赤外領域である1.00μm程度の波長を持つYAGレーザー等を使用することができる。   Then, the excess mirror is removed by laser ablation. As a result, a plurality of mirrors corresponding to each of the core portions 16 are created from one plane mirror formed over the entire surface of the waveguide end portion (see FIGS. 5E and 6). At this time, the width of each mirror is set to be wider than at least the full width at half maximum of the light intensity distribution of the light that propagates and reflects through the core portion. By doing so, it is possible to reflect an optical power of 96% or more. Further, if there is a mirror width that is about twice the full width at half maximum of the light intensity distribution of the light that propagates and reflects through the core, 99% or more of the optical power can be reflected. Further, it is desirable to form the mirror shape so as to correspond to the light intensity distribution. For example, when the light intensity distribution is elliptical, it is possible to improve the optical coupling efficiency with the PD by making the mirror shape seen from the x-axis direction also elliptical. As a laser used for ablation, a YAG laser having a wavelength of about 1.00 μm in the near infrared to infrared region can be used.

次いで、レジスト除去液によりフォトレジストを洗浄し、全てのレジストを一旦除去する(図示せず)。   Next, the photoresist is washed with a resist removing solution to remove all the resist once (not shown).

なお、ミラー形成時に異方性エッチングによってできたミラー溝28は、遮光剤で埋めても良い。遮光剤として、カーボンブラックまたは近赤外に吸収を持つ色素等をフィラーとして含む樹脂等を使用することができる。または、ミラー溝28は、PLCと近い屈折率を持つ樹脂(屈折率1.4以上のエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂等)で埋めても良い。   The mirror groove 28 formed by anisotropic etching at the time of mirror formation may be filled with a light shielding agent. As the light-shielding agent, carbon black or a resin containing a pigment having absorption in the near infrared as a filler can be used. Alternatively, the mirror groove 28 may be filled with a resin having a refractive index close to that of the PLC (an epoxy resin or a silicone resin having a refractive index of 1.4 or more).

上記の説明では、異方性エッチングによってできた斜めのミラー溝において、導波路端部の全面に亘って金属を蒸着し平面ミラーを形成した後、レーザーによるアブレーションにより余分なミラーを除去することで、複数のミラーから成る構造を得た。   In the above description, in the oblique mirror groove formed by anisotropic etching, metal is deposited over the entire surface of the waveguide end to form a plane mirror, and then the excess mirror is removed by laser ablation. A structure consisting of multiple mirrors was obtained.

しかし、異方性エッチングによってできた斜めのミラー溝において、導波路端部に反射膜を堆積する前に、複数のミラーを構成するためのミラーパターンのマスクを形成し、マスク上から反射膜を堆積することによって、図3および図4に示した構造を得ることも可能である。   However, in the oblique mirror groove formed by anisotropic etching, before depositing the reflective film on the waveguide end, a mirror pattern mask for forming a plurality of mirrors is formed, and the reflective film is formed on the mask. It is also possible to obtain the structure shown in FIGS. 3 and 4 by depositing.

12 基板
14 クラッド部
16 コア部
17 光導波路
18 ミラー
20 PD受光部
22 PD
24 フォトレジスト
26 ミラー開口部
28 ミラー溝
12 Substrate 14 Clad part 16 Core part 17 Optical waveguide 18 Mirror 20 PD light receiving part 22 PD
24 Photoresist 26 Mirror opening 28 Mirror groove

Claims (4)

基板と、
前記基板上の、クラッド部および複数のコア部から構成された光導波路と、
前記複数のコア部を伝搬する光を反射するための、前記複数のコア部の各々に対応する複数のミラーと、
前記光導波路上の、前記ミラーで反射された光が結合するための、前記複数のミラーの各々に対応する複数のPDと
を備えた集積型受光素子であって、
前記光導波路には斜めの溝が形成されており、
前記斜めの溝において、前記光導波路端にミラーが形成されたことを特徴とする集積型受光素子。
A substrate,
On the substrate, an optical waveguide composed of a clad part and a plurality of core parts,
A plurality of mirrors corresponding to each of the plurality of core parts for reflecting light propagating through the plurality of core parts;
An integrated light receiving element comprising a plurality of PDs corresponding to each of the plurality of mirrors, on the optical waveguide, for coupling light reflected by the mirrors,
An oblique groove is formed in the optical waveguide,
An integrated light receiving element, wherein a mirror is formed at an end of the optical waveguide in the oblique groove.
前記複数のミラーの各々の幅は、前記コア部を伝搬する光の光強度分布の半値全幅より広いことを特徴とする、請求項1に記載の集積型受光素子。   2. The integrated light receiving element according to claim 1, wherein the width of each of the plurality of mirrors is wider than the full width at half maximum of the light intensity distribution of the light propagating through the core portion. 前記斜めの溝は、遮光剤で埋められたことを特徴とする、請求項1に記載の集積型受光素子。   The integrated light receiving device according to claim 1, wherein the oblique grooves are filled with a light shielding agent. 前記斜めの溝は、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂で埋められたことを特徴とする、請求項1に記載の集積型受光素子。   The integrated light receiving device according to claim 1, wherein the oblique grooves are filled with an epoxy resin or a silicone resin.
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