JP2014151446A - モアレ模様装飾体、モアレ模様装飾体の製造方法及びモアレ模様装飾体を用いた偽造防止部材 - Google Patents

Abstract

【課題】より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を提供する
【解決手段】基板の同一面上に形成された２種以上の繰り返し構造１００を備え、それぞれの繰り返し構造１００は、異なる構造であり、一の繰り返し構造１００の少なくとも一部は、他の繰り返し構造１００の少なくとも一つと重なり合っており、繰り返し構造１００が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造１００の重なりに応じて、繰り返し構造１００の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
【選択図】図１

Description

本発明は、モアレ模様装飾体、モアレ模様装飾体の製造方法及びモアレ模様装飾体を用いた偽造防止部材に関する。

従来、テーブルカバーや印刷物、ラベルなどの装飾を目的として、モアレ模様（干渉縞）が用いられてきた。モアレ模様は、異なる繰り返し模様又は異なる繰り返し構造が重なり合うことにより発生する。
特許文献１には、透明シートの一方の面に第１の模様を、当該透明シートの他方の面に第２の模様を印刷することによりモアレ模様装飾体を製造することが記載されている。
特許文献２には、凹凸形状が形成された型を用いて透明シートに平圧熱プレスを行って、透明シートに凹凸形状を形成させることが記載されている。そして、異なる凹凸形状が形成された透明シートを積層させることにより、モアレ模様装飾体を製造することが記載されている。
特許文献３には、透明基板の一方の面に凸レンズを形成し、当該透明基板の他方の面に任意の形状の着色画素を印刷することにより、モアレ模様装飾体を製造することが記載されている。
特許文献４には、透明基板の一方の面に模様を印刷し、当該透明基板の他方の面を鏡面にすることにより、モアレ模様装飾体を製造することが記載されている。

これらのモアレ模様装飾体は、偽造防止などに利用される。また、レーザ光を利用して物体の形状情報を光の干渉縞として記録するホログラムも、偽造防止などに利用されている。

特許第３１３１７７１号公報 特許第３１６１８４１号公報 特許第３３３８８６０号公報 特開２０１０−１６２８０７号公報

しかしながら、特許文献１及び特許文献３に記載の技術では、透明シートまたは透明基板の両面に模様を付与する必要がある。そのため、モアレ模様装飾体の製造工程が複雑となってしまう。
また、特許文献２に記載の技術では、透明シートを積層する必要があるため、これもまた、モアレ模様装飾体の製造工程が複雑となる。
また、特許文献４に記載の技術でも、透明基板の裏面を鏡面とするために、当該裏面に塗料を塗布する等の工程が必要であり、モアレ模様装飾体の製造工程が複雑となる。
また、ホログラムにおいては、光の波長より小さい干渉縞を記録する必要があるため、モアレ模様装飾体の製造工程が複雑となってしまう。

本発明に係るモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に形成された２種以上の繰り返し構造を備える。また、それぞれの前記繰り返し構造は、異なる構造である。また、一の前記繰り返し構造の少なくとも一部は、他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている。そして、前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
本発明の第１の態様に係るモアレ模様装飾体によれば、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造が形成されるので、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

また、好ましくは、前記繰り返し構造は、繰り返し単位のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。そして、少なくとも一の前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐは、他の前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐとは異なる。
これにより、繰り返し間隔Ｐを調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、好ましくは、前記繰り返し構造は、繰り返し単位が複数配置された構造である。また、前記繰り返し単位は、複数の凹部又は複数の凸部が配置されたものである。また、前記凹部のそれぞれ又は前記凸部のそれぞれは、ｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙだけ離間して配置されている。そして、少なくとも一の前記繰り返し構造における前記ｘ軸方向の間隔Ｘ及び前記ｙ軸方向の間隔Ｙの少なくとも一方が、他の前記繰り返し構造における前記ｘ軸方向の間隔Ｘ及び前記ｙ軸方向の間隔Ｙとは異なる。
これにより、ｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙの少なくとも一方を調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、好ましくは、前記繰り返し構造は、繰り返し単位が複数配置された構造である。また、前記繰り返し単位は、複数の凹部又は複数の凸部が配置されたものである。そして、少なくとも一の前記繰り返し構造における前記凹部の形状又は前記凸部の形状は、他の繰り返し構造における前記凹部の形状又は前記凸部の形状とは異なる。
これにより、前記繰り返し構造における前記凹部の形状又は前記凸部の形状を調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、好ましくは、前記繰り返し構造は、繰り返し単位のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。また、それぞれの前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐの値が前記基板の面内で変化している。
これにより、モアレ模様装飾体において、より複雑なモアレ模様を現出することができる。

本発明に係るモアレ模様装飾体の製造方法は、塗布工程と、露光工程と、現像工程と、を備える。前記塗布工程では、基板の一方の面上にフォトレジストを塗布する。また、前記露光工程では、前記フォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する。また、前記現像工程では、露光された前記フォトレジストに対して現像処理を行って、２種以上の前記繰り返し構造に対応する潜像を現像する。そして、前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
これにより、塗布工程、露光工程、現像工程において、基板の一方の面のみに処理を行うだけでよいため、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

また、好ましくは、本発明に係るモアレ模様装飾体の製造方法は、電鋳工程と、成形工程と、を備える。また、前記電鋳工程では、前記現像工程により現像処理された前記フォトレジストの表面上に、電気鋳造法により、金属層を形成する。また、前記成形工程では、前記金属層を金型として使用して樹脂を成形する。
これにより、より簡易な製造工程で金型を製造することができ、当該金型を使用して、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

さらに、好ましくは、前記露光工程において、前記フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させつつ、前記フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いる。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造を成形することができる。

また、さらに、好ましくは、前記露光工程において、前記フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させつつ、前記フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いる。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造を成形することができる。

また、さらに、好ましくは、前記露光工程において、２種以上のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎に前記フォトレジストを露光する。また、前記フォトマスクには、前記繰り返し構造に対応する配列が形成されている。そして、前記フォトマスクに形成された前記配列は、前記フォトマスク毎に異なる。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造を成形することができる。

また、さらに、好ましくは、前記露光工程において、２種以上の前記繰り返し構造の全てに対応する配列が形成されたフォトマスクを用いて、前記フォトレジストを露光する。また、前記フォトマスクに形成された配列は、前記フォトレジスト上において一の前記繰り返し構造の少なくとも一部が他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている構造に対応している。
これにより、露光工程において、フォトレジスト上に２種以上の繰り返し構造を形成するために多重露光する必要がなく、一括露光で、フォトレジスト上に２種以上の繰り返し構造を形成することができる。そのため、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造を成形することができる。

さらに、また、好ましくは、前記露光工程において、前記繰り返し構造毎に露光条件を調節する。
これにより、潜像の形状を変えることができ、モアレ模様装飾体において、モアレ模様の立体感を調整することができる。

本発明に係るモアレ模様装飾体の製造方法は、１００ナノ秒以下の短パルスレーザによる微細加工技術を用いて、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造を形成する。また、一の前記繰り返し構造の少なくとも一部は、他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている。そして、前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
これにより、基板の同一面上に直接加工を行うことにより、モアレ模様を現出させることができ、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

本発明に係る偽造防止部材は、上述のモアレ模様装飾体を用いる。
これにより、より簡易な製造工程で偽造防止部材を得ることができる。

本発明に係る偽造防止部材は、上述の製造方法により製造されたモアレ模様装飾体を用いる。
これにより、より簡易な製造工程で偽造防止部材を得ることができる。

より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体における繰り返し構造の一例を説明する平面図である。 本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体における繰り返し構造の重なった部分を説明する図である。 実施例１にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真である。 実施例２にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真である。 実施例２にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真である。 実施例２にかかるモアレ模様装飾体の正面視の外観写真（図６（ａ））、実施例２にかかるモアレ模様装飾体の斜視の外観写真（図６（ｂ））である。 本発明の実施の形態にかかる露光工程における光量の変調について説明する図である。 本発明の実施の形態にかかる露光工程における照射時間の変調について説明する図である。 実施例３にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真である。 短パルスレーザを１パルス照射した場合に、ニッケル基板に形成される凹部を説明する図（図１０（ａ））、短パルスレーザを３５パルス照射した場合に、ニッケル基板に形成される凹部を説明する図（図１０（ｂ））である。 変形例１にかかるモアレ模様装飾体を説明する図である。 変形例２にかかる偽造防止部材を説明する図である。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明は、下記の実施の形態に限られるものではない。

本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に形成された２種以上の繰り返し構造を備えている。
また、基板の同一面上に形成される、それぞれの繰り返し構造は、異なる構造である。
また、一の繰り返し構造の少なくとも一部は、他の繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っており、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。

そして、それぞれの繰り返し構造は異なる構造であるため、繰り返し構造が重なり合った部分において、それぞれの繰り返し構造の周期（以下に詳述する、繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙ）の違いにより、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。

また、繰り返し構造は、繰り返し単位が複数配置された構造である。そして、少なくとも一の繰り返し構造における繰り返し単位の形状（以下に詳述する、凹部の形状又は凸部の形状等）が、他の繰り返し構造における繰り返し単位の形状と異なる。これにより、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。

図１に、本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体における繰り返し構造１００の一例を説明する平面図を示す。
図１に示す繰り返し構造１００は、繰り返し単位１０１が、繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。なお、図１においては、繰り返し間隔Ｐはｘ軸方向に平行な間隔となっているが、繰り返し間隔Ｐは、ｙ軸方向に平行な間隔であっても良く、その方向は特に限定されるものではない。
また、繰り返し単位１０１は、複数の凸部１０２が、ｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）だけ離間して、配置された構造である。
また、図１において、凸部１０２の形状は、半球状である。なお、基板上に形成される形状は、凸部に限られず、凹部であっても良い。
なお、図１において、ｘ軸方向とは、紙面左右方向であり、ｙ軸方向とは、紙面上下方向である。

図２に、モアレ模様装飾体における繰り返し構造の重なった部分を説明する図を示す。図２は、２つの繰り返し構造が重なった部分を拡大して示した側面図である。図２において、繰り返し構造を破線で示し、２つの繰り返し構造が重なってできた構造を実線で示す。図２に示すように、基板の同一面上において、２種以上の繰り返し構造１００が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
より具体的には、図２（ａ）では、２つの繰り返し構造が重なり合っている部分の高さは、重なりが生じていない部分よりも高くなっている。
また、図２（ｂ）では、２つの繰り返し構造が重なり合っている部分は、平坦になっている。重なりが生じていない部分は側面視円弧状に高さが低くなる。すなわち、２つの繰り返し構造が重なり合っている部分の構造は、重なりが生じていない部分の構造と異なっている。
なお、繰り返し単位が、複数の凹部を備える場合、２種以上の繰り返し構造が重なり合っている部分の深さが、重なりが生じていない部分よりも深くなる等により、２種以上の繰り返し構造が重なり合っている部分の構造は、重なりが生じていない部分の構造と異なっている。
また、一の繰り返し構造の繰り返し単位が複数の凹部を備え、他の繰り返し構造の繰り返し単位が複数の凸部を備える場合もある。この場合であっても、２種以上の繰り返し構造が重なり合っている部分の断面の高さが、重なりが生じていない部分の断面の高さが異なる等により、２種以上の繰り返し構造が重なり合っている部分の構造は、重なりが生じていない部分の構造と異なっている。

そして、繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、凸部又は凹部の形状の少なくとも一つが、繰り返し構造１００毎に異なることにより、各繰り返し構造１００の構造が異なる。
そして、異なる構造の繰り返し構造の少なくとも一部が重なり合うように、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造を形成することにより、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。このようにして、本発明にかかる実施の形態においては、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造を形成することにより、モアレ模様装飾体を容易に製造することができる。

次に、本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体の製造方法について説明する。
本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体の製造方法としては、大きく分けて２つの方法を用いることができる。
まず、１つ目の方法について説明する。
１つ目のモアレ模様装飾体の製造方法は、少なくとも、塗布工程、露光工程、現像工程を備える。

まず、塗布工程においては、基板の一方の面上にフォトレジストを塗布する。基板上に形成されるフォトレジスト層の膜厚は、繰り返し構造における凸部の高さ又は凹部の深さ以上の厚さであれば良い。本発明の実施の形態においては、フォトレジストとして、ポジ型の感光性樹脂を用いてもよいし、ネガ型の感光性樹脂を用いてもよい。ここでは、フォトレジストとして、ポジ型の感光性樹脂を用いた場合について説明する。また、基板上に塗布されたフォトレジスト層に対して、７０以上１１０℃以下の温度条件でベーキング処理を施すことが好ましい。

次に、露光工程においては、フォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する。
より具体的には、露光工程においては、フォトレジスト上にレーザ光を集光させる。そして、当該レーザ光によりフォトレジスト表面を走査することにより、露光を行う。

レーザ光の波長は、特に制限されるものではなく、例えば、用いられるフォトレジストの種類に応じて選定することができる。レーザ光の波長としては、例えば、アルゴンイオン（Ａｒ^＋）レーザの発振波長、クリプトンイオン（Ｋｒ^＋）レーザの発振波長、ヘリウムカドミウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザの発振波長、半導体励起固体レーザの発振波長、半導体レーザの発振波長等を選択することができる。より具体的には、アルゴンイオン（Ａｒ^＋）レーザの発振波長は、例えば、３５１ｎｍ、３６４ｎｍ、４５８ｎｍ、４８８ｎｍである。また、クリプトンイオン（Ｋｒ^＋）レーザの発振波長は、例えば、３５１ｎｍ、４０６ｎｍ、４１３ｎｍである。また、ヘリウムカドミウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザの発振波長は、例えば、３５２ｎｍ、４４２ｎｍである。また、半導体励起固体レーザの発振波長は、例えば、３５５ｎｍ、４７３ｎｍである。また、半導体レーザの発振波長は、例えば、３７５ｎｍ、４０５ｎｍ、４４５ｎｍ、４８８ｎｍである。

さらに具体的には、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させつつ、当該フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いてもよい。
また、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させつつ、当該フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いてもよい。
フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量及び照射時間のいずれか一方又は両方を走査位置に応じて変調させつつ、当該フォトレジスト上を走査することにより、走査位置に応じて、フォトレジストの感光度合い（露光度合い）が異なることとなる。これにより、フォトレジスト上に、上記繰り返し構造に応じた光像を露光することができる。

次に、現像工程においては、露光処理されたフォトレジストに対して現像処理を行って、２種以上の上記繰り返し構造に対応する潜像を現像する。
当該現像処理に使用される現像液は、特に制限されるものではなく、例えば、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）等のアルカリ現像液を用いることができる。
現像工程においては、露光工程におけるフォトレジストの感光度合い（露光度合い）に応じて、フォトレジストの現像液に対する反応度合いが異なることとなる。
本実施の形態では、フォトレジストとしてポジ型の感光性樹脂を用いているため、露光工程における感光度合い（露光度合い）が高い部分ほど、現像工程においてフォトレジストが除去される量が多くなる。
このようにして、フォトレジストの表面上に、２種以上の繰り返し構造に対応する構造（潜像）が形成される。具体的には、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。

上記塗布工程、露光工程、現像工程を経た基板のフォトレジスト上には、モアレ模様が現出している。そのため、当該基板をモアレ模様装飾体として用いることができる。
なお、上記では、フォトレジストとしてポジ型の感光性樹脂を用いているため、それぞれの繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の凹部を備えるものとなっている。

また、金型を使用して樹脂を成形することにより、本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体を製造する場合には、さらに、電鋳工程、成形工程を備える。
まず、電鋳工程においては、現像工程において現像処理されたフォトレジスト表面上に、電気鋳造法（電気めっき法）により、金属層を形成する。電気鋳造法（電気めっき法）は、原型（本実施の形態では、上記塗布工程、露光工程、現像工程を経た基板のフォトレジスト）の表面に、電気分解された金属イオンを必要な厚さで電着させる方法である。このため、原型の表面の凹凸などの形状を極めて忠実に再現することができる。
そして、当該金属層をフォトレジストから剥離して、下記に説明する成形工程で用いる金型を得る。当該金型の表面（金属層のフォトレジストに接していた面）には、フォトレジスト表面の構造が反転して転写されている。

より具体的には、当該金型の表面には、２種以上の繰り返し構造に対応する構造が形成されており、当該繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の凸部を備えるものとなっている。具体的には、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該金型をモアレ模様装飾体として用いることができる。

次に、成形工程においては、電鋳工程において得られた金属層を金型として使用して樹脂を成形する。
より具体的には、当該金型の表面に、例えば、光硬化樹脂を適量塗布する。
次に、光硬化樹脂の上に基材を被せる。具体的には、ハンドローラで押し付けつつ、余分な光硬化樹脂を掻き出しながら、当該基材を光硬化樹脂の上に被せていく。
次に、基材側からＵＶを照射し、光硬化樹脂を硬化させる。なお、基材は、ＵＶ等の光を透過可能な材質からなっている。
次に、基材を金型から剥離する。金型から剥離された基材上には、光硬化樹脂の層が形成されている。そして、当該光硬化樹脂の層には、金型の構造が反転して転写されている。

より具体的には、当該光硬化樹脂の表面には、２種以上の繰り返し構造に対応する構造が形成されており、当該繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の凹部を備えるものとなっている。具体的には、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該基材をモアレ模様装飾体及び偽造防止部材として用いることができる。

なお、露光工程において、レーザ描画装置の代わりに、フォトマスクを用いてもよい。使用できるレーザ光の波長は、上記と同様である。
具体的には、２種以上のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎にフォトレジストを露光する。
また、フォトマスクには、繰り返し構造に対応する配列が形成されている。また、フォトマスクに形成された当該配列は、フォトマスク毎に異なっている。なお、ここでの配列とは、フォトマスク上における光を透過する部分と光を透過しない部分との配置を意味する。
そして、フォトマスク毎に形成された配列の少なくとも一部が重なり合うように露光を行うことにより、フォトレジストの表面上に、２種以上の繰り返し構造に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する。

また、フォトマスクとして、２種以上の繰り返し構造の全てに対応する配列が形成されたフォトマスクを用いてもよい。
具体的には、当該フォトマスクに形成された配列は、フォトレジスト上において一の繰り返し構造の少なくとも一部が他の繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている構造に対応している。

次に、２つ目の方法について説明する。
２つ目のモアレ模様装飾体の製造方法は、１００ナノ秒以下の短パルスレーザを用いる微細加工技術を用いて、基板の同一面上に、２種以上の繰り返し構造を形成する方法である。また、基板の同一面上において、繰り返し構造の少なくとも一部は、他の繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている。また、繰り返し構造の重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該基板をモアレ模様装飾体として用いることができる。
短パルスレーザを用いる微細加工技術は、レーザアブレーション法と呼ばれるもので、例えば、Ｊ．Ｐｌａｓｍａ Ｆｕｓｉｏｎ Ｒｅｓ． Ｖｏｌ．８１， Ｓｕｐｐｌ．（２００５）１９５−２０１に記載の方法を用いることができる。
短パルスレーザを基板に照射する回数（パルス数）及びレーザスポットの形状及び大きさを制御することにより、基板上に所望する深さ及び形状及び大きさの凹部を形成することができる。これにより、基板上に、２種以上の繰り返し構造を、少なくとも一部が重なり合うように形成することができる。

以下、本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体、モアレ模様装飾体の製造方法、及び偽造防止部材について、実施例を参照しながら説明する。
［実施例１］
実施例１にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に２種の繰り返し構造を備えるものである。それぞれの繰り返し構造は、繰り返し単位が繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。また、それぞれの繰り返し構造の繰り返し単位は、半球状の凸部が複数配置されたものである。凸部の半径φは３０μｍ、高さは１５μｍである。
一方の繰り返し構造（以下、「第１の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、３２．５μｍ、３７．５μｍ、１２８μｍである。
また、他方の繰り返し構造（以下、「第２の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、３２．２５μｍ、３７．２５μｍ、１２９μｍである。

そして、基板の同一面上に、上述の２つの繰り返し構造が、当該２つの繰り返し構造の少なくとも一部が重なり合うように、形成されている。そして、２つの繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が現出している。

次に、実施例１にかかるモアレ模様装飾体の製造方法を説明する。
実施例１にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、塗布工程、露光工程、現像工程、電鋳工程、成形工程を備える。

まず、塗布工程においては、厚さ６ｍｍのガラス基板の一方の面上にフォトレジストを塗布する。次に、ホットプレートを用いて、温度９５度で９０分間、フォトレジスト層に対してベーキング処理を施した。ベーキング処理のクリアランスとして、熱源とフォトレジストとの間に９ｍｍの間隔を空けた。フォトレジストとしては、ポジ型のＡＺＰ４４００Ｐ（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ製）を用いた。

次に、露光工程においては、レーザ描画装置を用いて、フォトレジストを露光した。レーザ描画装置のレーザ光の波長は４１３ｎｍである。また、レーザ描画装置の対物レンズの開口数（ＮＡ）は０．７である。当該レーザ描画装置を用いて、フォトレジスト上に、第１の繰り返し構造に対応する光像と、第２の繰り返し構造に対応する光像と、を、少なくとも一部が重なり合うように露光した。フォトレジスト上において露光が行われた領域は、略正四角形の領域で、面積は、３０ｍｍ×３０ｍｍ（９００ｍｍ^２）である。

次に、現像工程においては、露光処理が行われたガラス基板を現像液中に浸して、現像処理を行った。当該現像処理に使用した現像液は、ＡＺ４００Ｋデベロッパー（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ製）を超純水で重量比で約４倍に希釈したものを使用した。具体的には、ガラス基板を完全に現像液に浸水した状態で、約１０分間搖動させた。
これにより、露光工程におけるフォトレジストの感光度合い（露光度合い）に応じて、フォトレジスト表面上に、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造に対応する潜像が形成された。より具体的には、フォトレジスト表面上に、複数の凹部が形成された。

次に、電鋳工程においては、現像工程において現像処理されたフォトレジスト表面上に、電気鋳造法（電気めっき法）により、金属層を形成した。
そして、当該金属層をフォトレジストから剥離して、下記に説明する成形工程で用いる金型を得る。当該金型の表面（金属層のフォトレジストに接していた面）には、フォトレジスト表面の構造が反転して転写されている。

次に、成形工程においては、電鋳工程において得られた金属層を金型として使用して樹脂を成形した。
図３に、実施例１にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真を示す。図３に示すように、実施例１にかかる金型の表面には、第１の繰り返し構造と第２の繰り返し構造に対応する構造が形成されている。また、当該金型において、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の半球状の凸部を備えている。また、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該金型をモアレ模様装飾体として用いることができる。

より具体的には、第１の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙは、第２の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙとは異なる。
そして、実施例１に示すように、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における凸部の形状が同じでも、繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙを調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

なお、実施例１にかかるモアレ模様装飾体の製造方法の露光工程においては、レーザ描画装置の代わりに、フォトマスクを用いてもよい。使用できるレーザ光の波長は、上記と同様である。
具体的には、２種のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎にフォトレジストを露光する。

より具体的には、基板上に、フォトレジストとして、ネガ型の感光性樹脂を塗布する。
次に、第１の繰り返し構造に対応する配列が形成されたフォトマスクを用いて露光を行う。
次に、第２の繰り返し構造に対応する配列が形成されたフォトマスクを用いて露光を行う。
なお、フォトマスク毎に形成された配列の少なくとも一部が重なり合うように露光を行うことにより、フォトレジストの表面上に、２種以上の繰り返し構造に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する。

次に、フォトレジストに対して、上述と同様の現像処理を行う。これにより、フォトレジスト上に第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造が形成される。
なお、この場合、フォトレジストとしてネガ型の感光性樹脂を用いているので、フォトレジスト上には、複数の凸部を備える繰り返し単位を備える繰り返し構造が形成される。
そのため、現像工程において現像処理されたフォトレジスト表面上に、上記と同様の電鋳工程を行って、第１の金型を得る。この第１の金型の表面（金属層のフォトレジストに接していた面）には、フォトレジスト表面の構造が反転して転写されている。そして、当該第１の金型に対して、同様に、電鋳工程を行って、第２の金型を得る。第２の金型には、フォトレジスト表面の構造が反転せずに転写されている。この様にして、フォトマスクを使用しない場合と同様の金型を得ることができる。

また、フォトマスクとして、第１の繰り返し構造と第２の繰り返し構造の両方に対応する配列が形成されたフォトマスクを用いてもよい。
具体的には、当該フォトマスクに形成された配列は、フォトレジスト上において第１の繰り返し構造の少なくとも一部が第２の繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている構造に対応している。

［実施例２］
実施例２にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に２種の繰り返し構造を備えるものである。それぞれの繰り返し構造は、繰り返し単位が繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。また、それぞれの繰り返し構造の繰り返し単位は、略正四角錐状の凸部が複数配置されたものである。当該正四角錐形状の一辺は４０μｍである。また、当該略正四角錐形状の凸部は、底面の頂点がｘ軸方向及びｙ軸方向に位置する向きに配置されている。
一方の繰り返し構造（以下、「第１の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、５２μｍ、６０μｍ、１２０．２５μｍである。
また、他方の繰り返し構造（以下、「第２の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、５３μｍ、６１μｍ、１２２．３４μｍである。

そして、基板の同一面上に、上述の２つの繰り返し構造が、当該２つの繰り返し構造の少なくとも一部が重なり合うように、形成されている。そして、２つの繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が現出している。

実施例２にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、実施例１と同様であるため、その説明を省略する。なお、露光工程において、フォトレジスト上において露光が行われた領域は、略正四角形の領域で、面積は、３０ｍｍ×３０ｍｍ（９００ｍｍ^２）である。

図４に、実施例２にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の正面視の外観写真を示す。図４に示すように、実施例２にかかる金型の表面には、第１の繰り返し構造と第２の繰り返し構造に対応する構造が形成されている。また、当該金型において、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の略正四角錐形状の凸部を備えている。また、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該金型をモアレ模様装飾体として用いることができる。

実施例１にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における凸部の形状と、実施例２にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における凸部の形状とは、異なっている。図３と図４の比較から分かるように、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における凸部の形状を異ならせることにより、異なるモアレ模様を発生させることができる。
また、実施例１にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙと、実施例２にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙとは、異なっている。すなわち、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐ、ｘ軸方向の間隔Ｘ、ｙ軸方向の間隔Ｙを異ならせることにより、異なるモアレ模様を発生させることができる。

図５に、実施例２にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の斜視の外観写真を示す。図５に示す外観写真は、実施例２にかかる金型の正面から右側に約２０度移動した位置から撮影したものである。図４と図５の比較から分かるように、実施例２にかかる金型は、見る角度によって、モアレ模様の光沢感が異なる。この特徴は、実施例２にかかる金型を使用して上記成形工程により光硬化樹脂を成形してなるモアレ模様装飾体においても同様である。
図６（ａ）に、実施例２にかかるモアレ模様装飾体の正面視の外観写真を示す。また、図６（ｂ）に、実施例２にかかるモアレ模様装飾体の斜視の外観写真を示す。図６に示すように、実施例２にかかる金型を使用して成形されてなるモアレ模様装飾体は、見る角度によって、モアレ模様の光沢感が異なる。

当該特徴は、金型及びモアレ模様装飾体の表面の構造が微細な凹凸形状であることに起因する。そのため、例えば、一般的なコピー機により当該モアレ模様装飾体の外観を印刷してなるものでは、見る角度によって光沢感が変化することはない。そのため、実施例２にかかるモアレ模様装飾体を物品に設けることにより、当該物品の真正品とコピー品とを、モアレ模様装飾体の当該特徴的な見え方（光沢感）から判別することができ、偽造防止の用途に用いることができる。

［実施例３］
実施例３にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に２種の繰り返し構造を備えるものである。それぞれの繰り返し構造は、繰り返し単位が繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。また、それぞれの繰り返し構造の繰り返し単位は、凸部が複数配置されたものである。
一方の繰り返し構造（以下、「第１の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、実施例１にかかる第１の繰り返し構造と同じである。また、第１の繰り返し構造における凸部の形状は、実施例１にかかる第１の繰り返し構造と同じ略半球状であり、凸部の半径φは３０μｍ、高さは１５μｍである。
また、他方の繰り返し構造（以下、「第２の繰り返し構造」と称する。）におけるｘ軸方向の間隔Ｘ（Ｘピッチ）、ｙ軸方向の間隔Ｙ（Ｙピッチ）、繰り返し間隔Ｐは、それぞれ、実施例１にかかる第２の繰り返し構造と同じである。また、第２の繰り返し構造における凸部の形状は略楕円形状のレンズ状であり、凸部の半径φは３０μｍ、高さは１７μｍである。

ここで、略半球状の凸部と、略楕円形状のレンズ状の凸部と形成方法の違い（露光条件の違い）について説明する。
例えば、前述の露光工程において、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させつつ、フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いることにより、所望形状の凸部を形成することができる。具体的には、図７に示すように、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させることにより、略半球状の凸部や略楕円形状のレンズ状の凸部を形成することができる。図７は、本発明の実施の形態にかかる露光工程における光量の変調の一例について説明する図である。

具体的には、図７の下図は、フォトレジストを上側から見た図を表している。図７の下図に示すフォトレジスト上の任意の走査線であるＡ線上をレーザ描画装置が走査する。これにより、レーザ描画装置は、当該フォトレジスト上に図７の下図の円で表される凸部を形成する。なお、略半球状の凸部も、略楕円形状のレンズ状の凸部も、上側から見ると、図７の下図の円で表されるような同じ円形となる。
図７の上図は、レーザ描画装置が図７の下図に示すＡ線上を走査する際の、レーザ描画装置が照射するレーザ光の光量の変化（露光量の変調）を示すグラフである。図７の上図において、横軸はレーザ描画装置の走査位置（図７の下図に示すＡ線上における位置）を示し、縦軸はレーザ描画装置が照射するレーザ光の光量（露光量）を示す。図７の上図に示すように、レーザ描画装置は、走査位置によって露光量を変調することにより、フォトレジスト上に所望の形状の凸部を形成することができる。具体的には、例えば、図７の上図の実線で示すように、レーザ描画装置が露光量を変調した場合、レーザ描画装置は、フォトレジスト上に略楕円形状のレンズ状の凸部（所望の潜像）を形成することができる。また、図７の上図の破線で示すように、レーザ描画装置が露光量を変調した場合、レーザ描画装置は、フォトレジスト上に略半球状の凸部を形成することができる。

また、前述の露光工程において、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させつつ、フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いることにより、所望形状の凸部を形成することもできる。具体的には、図８に示すように、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させることにより、略半球状の凸部や略楕円形状のレンズ状の凸部を形成することができる。図８は、本発明の実施の形態にかかる露光工程における照射時間の変調の一例について説明する図である。

具体的には、図８の下図は、図７の下図と同様に、フォトレジストを上側から見た図を表している。図８の下図に示すフォトレジスト上の任意の走査線であるＡ線上をレーザ描画装置が走査する。
図８の上図は、レーザ描画装置が図８の下図に示すＡ線上を走査する際の、レーザ描画装置が照射するレーザ光の光量の変化（露光量の変調）を示すグラフである。図８の上図において、横軸はレーザ描画装置の走査位置（図８の下図に示すＡ線上における位置）を示し、縦軸はレーザ描画装置が照射するレーザ光の光量（露光量）を示す。図８の上図に示すように、レーザ描画装置は、２回に分けて露光を行うことにより、フォトレジスト上に楕円形状のレンズ状の凸部を形成してもよい。２回に分けて露光を行うということは、走査位置に応じて照射時間を変化させていることに相当する。なお、レーザ描画装置は、２回以上に分けて露光を行ってもよい。このように、レーザ描画装置は、走査位置に応じて照射時間を変調することにより、フォトレジスト上に所望の形状の凸部（所望の潜像）を形成することができる。具体的には、例えば、レーザ描画装置は、図８の上図の実線で示すように露光を２回行うことにより、図８の上図の破線で示す露光量の露光を行う。これにより、レーザ描画装置は、フォトレジスト上に略楕円形状のレンズ状の凸部を形成することができる。
フォトレジスト上に形成する凸部の高さが高い場合、すなわち、凸部のアスペクト比（高さ／幅の比）が高い場合には、光量の変調だけでは十分な露光量を稼ぐことができないことがある。このような場合に、上述した照射回数を分ける方法は有効である。具体的には、レーザ描画装置は、複数回露光を行うことにより、照射時間を増やすことができ、積算露光量を増大させることができる。

なお、ある走査位置におけるレーザ描画装置の露光量は、露光量＝単位時間当たりの露光量（レーザ照射量）×照射時間、という式で近似的にあらわされる。従って、単位時間当たりのレーザ照射量と照射時間との少なくとも一方を変調することにより、所望の形状（所望の潜像）をフォトレジスト上に形成することができる。
また、レーザ描画装置が走査位置に応じてレーザの照射時間を変調することができる機能を有する場合には、照射回数を分ける方法ではなく、レーザ描画装置が直接走査位置に応じて照射時間を変調してもよい。

そして、実施例３においては、基板の同一面上に、上述の２つの繰り返し構造が、当該２つの繰り返し構造の少なくとも一部が重なり合うように、形成されている。そして、２つの繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が現出している。

実施例３にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、実施例１と同様であるため、その説明を省略する。なお、露光工程において、フォトレジスト上において露光が行われた領域は、略正四角形の領域で、面積は、３０ｍｍ×３０ｍｍ（９００ｍｍ^２）である。

図９に、実施例３にかかるモアレ模様装飾体を成形するための金型の外観写真を示す。図３に示すように、実施例３にかかる金型の表面には、第１の繰り返し構造と第２の繰り返し構造に対応する構造が形成されている。また、当該金型において、第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造における繰り返し単位は、複数の凸部を備えている。また、繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造の重なりに応じて、繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なっている。そして、繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が発生する。そのため、当該金型をモアレ模様装飾体として用いることができる。

実施例１にかかる第２の繰り返し構造における凸部の形状と、実施例３にかかる第２の繰り返し構造における凸部の形状とは、異なっている。図３と図９の比較から分かるように、第１の繰り返し構造における凸部の形状を異ならせることにより、異なるモアレ模様を発生させることができる。

［実施例４］
実施例１にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造を、短パルスレーザを用いて、基板の同一面上に形成した。基板としては、厚さ０．３ｍｍのニッケル平板を用いた。当該ニッケル平板は、ガラス鏡面を原型として、電気鋳造法（電気めっき法）により製造したものである。以下、この基板を、以下、単に、「ニッケル基板」と称する。また、実施例４においては、ピコ秒パルスレーザを用いた。レーザスポットの形状は略円形形状である。また、レーザ光の波長は５３２ｎｍ、パルス幅は６ｐｓ、平均出力は２Ｗ、繰り返し周波数は１００ｋＨｚ、レーザスポット径（最小径）は約２０μｍである。

図１０（ａ）に、当該ピコ秒パルスレーザを１パルス照射した場合に、ニッケル基板に形成される凹部を示す。また、図１０（ｂ）に、当該ピコ秒パルスレーザを３５パルス照射した場合に、ニッケル基板に形成される凹部を示す。図１０において、凹部を破線で示す。
図１０（ａ）に示すように、ニッケル基板上に当該ピコ秒パルスレーザを１パルス照射すると、ニッケル基板上に深さ約０．５μｍの凹部が形成された。さらに、当該ニッケル基板上にピコ秒パルスレーザを３４パルス追加照射（合計３５パルス照射）すると、図１０（ｂ）に示すように、深さ約１５μｍ、直径約３０μｍ、断面視略円弧形状の凹部が形成された。

ニッケル基板上に当該凹部を複数形成することにより、当該ニッケル基板上に、実施例１にかかる第１の繰り返し構造及び第２繰り返し構造を形成する。さらに、当該ニッケル基板に対して、強酸による化学研磨処理を行うことにより、表面平滑性を向上した。
この様にして加工されたニッケル基板上には、目視観察で、実施例１と同様のモアレ模様が発生した。

［変形例１］
実施例１〜実施例５では、各繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐは一定の間隔であったが、一の繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐの値が変化していても良い。図１１に、変形例１にかかるモアレ模様装飾体を説明する図を示す。変形例１にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に２種の繰り返し構造を備えるものである。

一方の繰り返し構造（以下、「第１の繰り返し構造」と称する。）は、略シリンドリカル形状（断面略半円の柱形状）の繰り返し単位を複数備えるものである。当該繰り返し単位は、ｙ軸方向に延在している。具体的には、第１の繰り返し構造において、Ｎ本（Ｎは正の整数）の繰り返し単位がｘ軸方向に並んでいる。また、ｎ本目（ｎは、１〜Ｎの整数）の繰り返し単位と、ｎ＋１本目の繰り返し単位との間隔を、繰り返し間隔ＰＡ（ｎ＋１）とすると、ＰＡ（ｎ＋１）＝ＰＡ（ｎ）＋ａ×ＰＡ（ｎ）＋ｂで表される。ここで、ａ、ｂは、任意の定数である。
つまり、第１の繰り返し構造において、繰り返し間隔ＰＡ（ｎ）は、ｘ軸方向における位置（図１１のＸ位置）によって、変化する値である。

他方の繰り返し構造（以下、「第２の繰り返し構造」と称する。）は、略シリンドリカル形状（断面略半円の柱形状）の繰り返し単位を複数備えるものである。当該繰り返し単位は、ｙ軸方向に延在している。具体的には、第２の繰り返し構造において、Ｍ本（Ｍは正の整数）の繰り返し単位がｘ軸方向に並んでいる。また、ｎ本目（ｎは、１〜Ｍの整数）の繰り返し単位と、ｎ＋１本目の繰り返し単位との間隔を、繰り返し間隔ＰＢ（ｎ＋１）とすると、ＰＢ（ｎ＋１）＝ＰＢ（ｎ）＋ａ×ＰＢ（ｎ）＋ｂ＋ｄＰで表される。ここで、ａ、ｂ、ｄＰは、任意の定数である。
つまり、第２の繰り返し構造において、繰り返し間隔ＰＢ（ｎ）は、ｘ軸方向における位置（図１１のＸ位置）によって、変化する値である。

より具体的には、変形例１にかかる第１の繰り返し構造の繰り返し単位は、断面が直径３０μｍの半円形状である柱形状である。つまり、当該繰り返し単位が基板面から突出する高さは１５μｍである。また、繰り返し間隔ＰＡ（ｎ）において、ａ＝０．００５、ｂ＝０．１、ＰＡ（０）＝０である。
また、変形例１にかかる第２の繰り返し構造の繰り返し単位は、断面が直径３０μｍの半円形状である柱形状である。つまり、当該繰り返し単位が基板面から突出する高さは１５μｍである。また、繰り返し間隔ＰＢ（ｎ）において、ａ＝０．００５、ｂ＝０．１、ｄＰ＝０．０１、ＰＡ（０）＝０である。

そして、基板の同一面上に、上述の２つの繰り返し構造が、当該２つの繰り返し構造の少なくとも一部が重なり合うように、形成されている。これにより、図１１に示すように、２つの繰り返し構造が重なり合った部分において、視覚的にモアレ模様（干渉縞）が現出している。
なお、変形例１にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、実施例１と同様であるため、その説明を省略する。

このように、それぞれの繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐの値が基板の面内で変化していても、２種以上の当該繰り返し構造を基板の同一面上に、少なくとも一部が重なり合うように形成することにより、モアレ模様装飾体を製造することができる。特に、それぞれの繰り返し構造における繰り返し間隔Ｐの値が基板の面内で変化しているので、モアレ模様装飾体において、より複雑なモアレ模様を現出することができる。

［変形例２］
図１２に、変形例２にかかる偽造防止部材を説明する図を示す。図１２において、文字「ｋｕｒａｒａｙ」の部分は、実施例２にかかるモアレ模様装飾体により形成されている。また、図１２において、文字以外の部分は、実施例１にかかるモアレ模様装飾体により形成されている。つまり、変形例２にかかる偽造防止部材は、基板の同一面上に、実施例１にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造並びに実施例２にかかる第１の繰り返し構造及び第２の繰り返し構造が形成されたものである。
変形例２に示すように、本発明によれば、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造を容易に形成することが可能である。これにより、基板の同一面上に２種以上のモアレ模様を現出させることができる。また、同一面上に多数のモアレ模様を現出させることにより、高い意匠性を有する偽造防止部材を容易に製造することができる。

以上に説明した本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体は、基板の同一面上に形成された２種以上の繰り返し構造１００を備える。また、それぞれの繰り返し構造１００は、異なる構造である。また、一の繰り返し構造１００の少なくとも一部は、他の繰り返し構造１００の少なくとも一つと重なり合っている。そして、繰り返し構造１００が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造１００の重なりに応じて、繰り返し構造１００の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体によれば、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造１００が形成されるので、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

また、繰り返し構造１００は、繰り返し単位１０１のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。そして、少なくとも一の繰り返し構造１００における繰り返し間隔Ｐは、他の繰り返し構造１００における繰り返し間隔Ｐとは異なっていても良い。
これにより、繰り返し間隔Ｐを調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、繰り返し構造１００は、繰り返し単位１０１が複数配置された構造である。また、繰り返し単位１０１は、複数の凹部又は複数の凸部１０２が配置されたものである。また、凹部のそれぞれ又は凸部１０２のそれぞれは、ｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙだけ離間して配置されている。そして、少なくとも一の繰り返し構造１００におけるｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙの少なくとも一方が、他の繰り返し構造１００におけるｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙとは異なっていても良い。
これにより、ｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙの少なくとも一方を調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、繰り返し構造１００は、繰り返し単位１０１が複数配置された構造である。また、繰り返し単位１０１は、複数の凹部又は複数の凸部１０２が配置されたものである。そして、少なくとも一の繰り返し構造１００における凹部の形状又は凸部１０２の形状は、他の繰り返し構造１００における凹部の形状又は凸部の形状とは異なっていても良い。
これにより、繰り返し構造１００における凹部の形状又は凸部１０２の形状を調整することにより、モアレ模様装飾体において、所望するモアレ模様を現出することができる。

また、繰り返し構造１００は、繰り返し単位１０１のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造である。また、それぞれの繰り返し構造１０１における繰り返し間隔Ｐの値が基板の面内で変化していても良い。
これにより、モアレ模様装飾体において、より複雑なモアレ模様を現出することができる。

本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、塗布工程と、露光工程と、現像工程と、を備える。塗布工程では、基板の一方の面上にフォトレジストを塗布する。また、露光工程では、フォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造１００に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する。また、現像工程では、露光されたフォトレジストに対して現像処理を行って、２種以上の繰り返し構造１００に対応する潜像を現像する。そして、繰り返し構造１００が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造１００の重なりに応じて、繰り返し構造１００の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
これにより、塗布工程、露光工程、現像工程において、基板の一方の面のみに処理を行うだけでよいため、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

また、本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、電鋳工程と、成形工程と、を備えていても良い。また、電位工程では、現像工程により現像処理されたフォトレジストの表面上に、電気鋳造法により、金属層を形成する。また、成形工程では、金属層を金型として使用して樹脂を成形する。
これにより、より簡易な製造工程で金型を製造することができ、当該金型を使用して、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

さらに、露光工程において、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させつつ、フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いても良い。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造１００を成形することができる。

また、露光工程において、フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させつつ、フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いても良い。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造１００を成形することができる。

また、露光工程において、２種以上のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎にフォトレジストを露光しても良い。また、フォトマスクには、繰り返し構造１００に対応する配列が形成されている。そして、フォトマスクに形成された配列は、フォトマスク毎に異なる。
これにより、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造１００を成形することができる。

また、露光工程において、２種以上の繰り返し構造１００の全てに対応する配列が形成されたフォトマスクを用いて、フォトレジストを露光しても良い。また、フォトマスクに形成された配列は、フォトレジスト上において一の繰り返し構造１００の少なくとも一部が他の繰り返し構造１００の少なくとも一つと重なり合っている構造に対応している。
これにより、露光工程において、フォトレジスト上に２種以上の繰り返し構造１００を形成するために多重露光する必要がなく、一括露光で、フォトレジスト上に２種以上の繰り返し構造１００を形成することができる。そのため、より容易に、基板の一方の面上に塗布されたフォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造１００を成形することができる。

さらに、露光工程において、繰り返し構造１００毎に露光条件を調節しても良い。
これにより、潜像の形状を変えることができ、モアレ模様装飾体において、モアレ模様の立体感を調整することができる。

本発明の実施の形態にかかるモアレ模様装飾体の製造方法は、１００ナノ秒以下の短パルスレーザによる微細加工技術を用いて、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造１００を形成する。また、一の繰り返し構造１００の少なくとも一部は、他の繰り返し構造１００の少なくとも一つと重なり合っている。そして、繰り返し構造１００が重なり合った部分の構造は、繰り返し構造１００の重なりに応じて、繰り返し構造１００の重なりが生じていない部分の構造とは異なる。
これにより、基板の同一面上に直接加工を行うことにより、モアレ模様を現出させることができ、より簡易な製造工程でモアレ模様装飾体を得ることができる。

本発明の実施の形態にかかる偽造防止部材は、上述のモアレ模様装飾体を用いる。
これにより、より簡易な製造工程で偽造防止部材を得ることができる。

本発明に係る偽造防止部材は、上述の製造方法により製造されたモアレ模様装飾体を用いる。
これにより、より簡易な製造工程で偽造防止部材を得ることができる。

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。例えば、基板の同一面上に形成される繰り返し構造の種類の数は偶数個に限られず、奇数個であってもよい。
また、一の繰り返し構造の繰り返し単位は複数の凹部で形成され、他の繰り返し構造の繰り返し単位は複数の凸部で形成されていても良い。
また、一の繰り返し構造の繰り返し単位が複数の凹部及び凸部で形成されていてもよい。
また、変形例１において、繰り返し単位は、複数の凸部又は凹部で形成されていてもよい。

１００ 繰り返し構造
１０１ 繰り返し単位
１０２ 凸部
Ｘ ｘ軸方向の間隔
Ｙ ｙ軸方向の間隔
Ｐ、ＰＡ（ｎ）、ＰＢ（ｎ） 繰り返し間隔

Claims (15)

1. 基板の同一面上に形成された２種以上の繰り返し構造を備え、
   それぞれの前記繰り返し構造は、異なる構造であり、
   一の前記繰り返し構造の少なくとも一部は、他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っており、
   前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なるモアレ模様装飾体。
2. 前記繰り返し構造は、繰り返し単位のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造であり、
   少なくとも一の前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐは、他の前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐとは異なる請求項１に記載のモアレ模様装飾体。
3. 前記繰り返し構造は、繰り返し単位が複数配置された構造であり、
   前記繰り返し単位は、複数の凹部又は複数の凸部が配置されたものであり、
   前記凹部のそれぞれ又は前記凸部のそれぞれは、ｘ軸方向の間隔Ｘ及びｙ軸方向の間隔Ｙだけ離間して配置されており、
   少なくとも一の前記繰り返し構造における前記ｘ軸方向の間隔Ｘ及び前記ｙ軸方向の間隔Ｙの少なくとも一方が、他の前記繰り返し構造における前記ｘ軸方向の間隔Ｘ及び前記ｙ軸方向の間隔Ｙとは異なる請求項１又は２に記載のモアレ模様装飾体。
4. 前記繰り返し構造は、繰り返し単位が複数配置された構造であり、
   前記繰り返し単位は、複数の凹部又は複数の凸部が配置されたものであり、
   少なくとも一の前記繰り返し構造における前記凹部の形状又は前記凸部の形状は、他の繰り返し構造における前記凹部の形状又は前記凸部の形状とは異なる請求項１乃至３の何れか一項に記載のモアレ模様装飾体。
5. 前記繰り返し構造は、繰り返し単位のそれぞれが繰り返し間隔Ｐだけ離間して配置された構造であり、
   それぞれの前記繰り返し構造における前記繰り返し間隔Ｐの値が前記基板の面内で変化している請求項１乃至４の何れか一項に記載のモアレ模様装飾体。
6. 基板の一方の面上にフォトレジストを塗布する塗布工程と、
   前記フォトレジスト上に、２種以上の繰り返し構造に対応する光像を、少なくとも一部が重なり合うように露光する露光工程と、
   露光された前記フォトレジストに対して現像処理を行って、２種以上の前記繰り返し構造に対応する潜像を現像する現像工程と、を備え、
   前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なるモアレ模様装飾体の製造方法。
7. 前記現像工程により現像処理された前記フォトレジストの表面上に、電気鋳造法により、金属層を形成する電鋳工程と、
   前記金属層を金型として使用して樹脂を成形する成形工程と、を備える請求項６に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
8. 前記露光工程において、前記フォトレジスト上に集光させたレーザ光の光量を走査位置に応じて変調させつつ、前記フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いる請求項６又は７に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
9. 前記露光工程において、前記フォトレジスト上に集光させたレーザ光の照射時間を走査位置に応じて変調させつつ、前記フォトレジスト上を走査するレーザ描画装置を用いる請求項６又は７に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
10. 前記露光工程において、２種以上のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎に前記フォトレジストを露光し、
    前記フォトマスクには、前記繰り返し構造に対応する配列が形成されており、
    前記フォトマスクに形成された前記配列は、前記フォトマスク毎に異なる請求項６又は７に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
11. 前記露光工程において、２種以上の前記繰り返し構造の全てに対応する配列が形成されたフォトマスクを用いて、前記フォトレジストを露光し、
    前記フォトマスクに形成された配列は、前記フォトレジスト上において一の前記繰り返し構造の少なくとも一部が他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っている構造に対応している請求項６又は７に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
12. 前記露光工程において、前記繰り返し構造毎に露光条件を調節する請求項６乃至１０の何れか一項に記載のモアレ模様装飾体の製造方法。
13. １００ナノ秒以下の短パルスレーザによる微細加工技術を用いて、基板の同一面上に２種以上の繰り返し構造を形成し、
    一の前記繰り返し構造の少なくとも一部は、他の前記繰り返し構造の少なくとも一つと重なり合っており、
    前記繰り返し構造が重なり合った部分の構造は、前記繰り返し構造の重なりに応じて、前記繰り返し構造の重なりが生じていない部分の構造とは異なるモアレ模様装飾体の製造方法。
14. 請求項１乃至５の何れか一項に記載のモアレ模様装飾体を用いた偽造防止部材。
15. 請求項６乃至１３の何れか一項に記載の製造方法により製造されたモアレ模様装飾体を用いた偽造防止部材。