JP2014133393A - Front substrate for touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、易滑性が良好なハードコート層を有するタッチパネル用前面基板に関する。 The present invention relates to a front substrate for a touch panel having a hard coat layer with good slipperiness.
今日、入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置、例えば、券売機、ATM装置、携帯電話、ゲーム機等に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルは表示装置の表示面に配置され、これにより、タッチパネルは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。 Today, touch panels are widely used as input means. In many cases, the touch panel is used together with the display device as an input means for various devices in which a display device such as a liquid crystal display or a plasma display is incorporated, for example, a ticket machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine or the like. . In such a device, the touch panel is arranged on the display surface of the display device, which allows the touch panel to make a very direct input to the display device.
一般的に、タッチパネルにおいては、表面保護のために最表面に前面基板が配置されている。従来、前面基板には強化ガラスが使用されてきたが、強化ガラスは重い、割れる等の問題を有する。そのため、強化ガラスから透明樹脂基板への変更が検討されている。一方、透明樹脂基板は軽い、割れにくいという利点を有するが、表面が傷つきやすいという欠点を有する。
また、タッチパネルは、指を前面基板に直接接触させて用いるものが多いため、前面基板は耐擦傷性、防汚性が良好であることが求められている。
Generally, in a touch panel, a front substrate is disposed on the outermost surface for surface protection. Conventionally, tempered glass has been used for the front substrate, but tempered glass has problems such as being heavy and breaking. Therefore, a change from tempered glass to a transparent resin substrate has been studied. On the other hand, the transparent resin substrate has the advantage of being light and difficult to break, but has the disadvantage that the surface is easily damaged.
In addition, since many touch panels are used by directly bringing a finger into contact with the front substrate, the front substrate is required to have good scratch resistance and antifouling properties.
ところで、表示装置に用いられる前面基板においては、透明樹脂基板の表面に硬化性樹脂組成物をコーティングし硬化してハードコート層を形成し、耐擦傷性を向上させる技術が提案されている。例えば、特許文献1では、前面基板に用いられる基板の構成を、ポリカーボネート樹脂層の少なくとも片面に耐熱アクリル樹脂層が形成された構成とすることにより、前面基板の耐擦傷性を向上させることができることが開示されている。また、特許文献2〜4には、反応性異形シリカ微粒子が添加された硬化性組成物が硬化してなるハードコート層を用いることにより、前面基板の耐擦傷性を向上させることができることが開示されている。また、特許文献5では、無機酸化物粒子、特定の化合物および特定の脂肪酸エステル系界面活性剤等を含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなるハードコート層を用いることにより、前面基板の指紋視認性、指紋拭き取り性、および耐摩耗性を良好なものとすることができることについて開示されている。
By the way, in the front substrate used for a display apparatus, the technique which coats and hardens | cures the curable resin composition on the surface of a transparent resin substrate, forms a hard-coat layer, and improves abrasion resistance is proposed. For example, in
ところで、タッチパネルのタッチ操作として、操作画面を軽くたたくタップ操作に加えて、最近では、操作画面を指でなぞるドラッグ、操作画面を指で軽くはらうフリック、操作画面に触れた2本の指の間の距離を短くするピンチイン、操作画面に触れた2本の指の間の距離を長くするピンチアウト等の操作画面に指を接触させた状態で動かす操作が多く用いられている。このようなタッチ操作においては、前面基板の表面で指の動きがつまることにより、円滑にタッチ操作を行えない、または誤作動が生じるという問題が懸念される。そのため、タッチパネルの前面基板には、その表面における指等の滑り易さ、すなわち易滑性が良好であることが求められている。 By the way, as a touch operation of the touch panel, in addition to tapping the operation screen lightly, recently, dragging the operation screen with a finger, flicking the operation screen lightly with a finger, and between two fingers touching the operation screen For example, a pinch-in operation that shortens the distance between the two fingers and a pinch-out operation that increases the distance between two fingers that touch the operation screen are used to move the finger while touching the operation screen. In such a touch operation, there is a concern that the touch operation cannot be smoothly performed or a malfunction occurs due to the movement of the finger on the surface of the front substrate. Therefore, the front substrate of the touch panel is required to have good slipperiness such as a finger on the surface, that is, easy slipperiness.
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、易滑性が良好なハードコート層を有するタッチパネル用前面基板を提供することを主目的とする。 This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the front substrate for touchscreens which has a hard-coat layer with favorable slidability.
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、ハードコート層にフッ素シリコン系界面活性剤を含有させることにより、良好な易滑性を示すハードコート層が得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention can obtain a hard coat layer exhibiting good slipperiness by containing a fluorosilicone surfactant in the hard coat layer. As a result, the present invention has been completed.
上記課題を解決するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成されたハードコート層と、を有するタッチパネル用前面基板であって、上記ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするタッチパネル用前面基板を提供する。 In order to solve the above-mentioned problem, the present invention is a front substrate for a touch panel having a substrate and a hard coat layer formed on the substrate, wherein the hard coat layer contains a fluorosilicone surfactant. Provided is a front substrate for a touch panel.
本発明によれば、上記ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することにより、易滑性が良好なハードコート層を有するタッチパネル用前面基板を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the said hard-coat layer can provide the front substrate for touchscreens which has a hard-coat layer with favorable slidability by containing a fluorine-silicon-type surfactant.
本発明のタッチパネル用前面基板は、ハードコート層の易滑性が良好であるといった作用効果を有する。 The front substrate for a touch panel of the present invention has an operational effect that the slidability of the hard coat layer is good.
以下、本発明のタッチパネル用前面基板について説明する。
本発明のタッチパネル用前面基板は、基板と、上記基板上に形成されたハードコート層と、を有するものであって、上記ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするものである。
Hereinafter, the front substrate for a touch panel of the present invention will be described.
The front substrate for a touch panel of the present invention comprises a substrate and a hard coat layer formed on the substrate, wherein the hard coat layer contains a fluorosilicone surfactant. Is.
図1は、本発明のタッチパネル用前面基板の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明のタッチパネル用前面基板10は、基板1と、基板1上に形成されたハードコート層2とを有するものである。また、ハードコート層2がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするものである。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a front substrate for a touch panel according to the present invention. As illustrated in FIG. 1, the touch
本発明によれば、ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することにより、易滑性が良好なハードコート層を有するタッチパネル用前面基板とすることができる。
また、本発明によれば、ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することで、ハードコート層に防汚性を付与することができる。
以下、本発明のタッチパネル用前面基板の詳細について説明する。
According to this invention, it can be set as the front substrate for touchscreens which has a hard-coat layer with favorable slipperiness, when a hard-coat layer contains a fluorosilicone surfactant.
Moreover, according to this invention, antifouling property can be provided to a hard-coat layer because a hard-coat layer contains a fluorine silicon type surfactant.
Hereinafter, the details of the front substrate for a touch panel of the present invention will be described.
1.ハードコート層
本発明におけるハードコート層は、フッ素シリコン系界面活性剤を含有するものである。
ハードコート層は、通常、フッ素シリコン系界面活性剤、無機酸化物微粒子、ポリマー、モノマー、および重合開始剤を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物で構成されるものである。以下、硬化性樹脂組成物について説明する。
1. Hard coat layer The hard coat layer in the present invention contains a fluorosilicone surfactant.
The hard coat layer is usually composed of a cured product of a curable resin composition containing a fluorosilicone surfactant, inorganic oxide fine particles, a polymer, a monomer, and a polymerization initiator. Hereinafter, the curable resin composition will be described.
(1)硬化性樹脂組成物
本発明に用いられる硬化性樹脂組成物は、フッ素シリコン系界面活性剤、無機酸化物微粒子、ポリマー、モノマー、および重合開始剤を含有するものである。
(1) Curable resin composition The curable resin composition used in the present invention contains a fluorosilicone surfactant, inorganic oxide fine particles, a polymer, a monomer, and a polymerization initiator.
(a)フッ素シリコン系界面活性剤
硬化性樹脂組成物に含有されるフッ素シリコン系界面活性剤は、ハードコート層に易滑性を付与する成分である。
また、フッ素シリコン系界面活性剤としては、例えばパーフルオロアルキル基およびシロキサン結合を有する化合物を挙げることができ、具体的にはパーフルオロアルキル基を有し、シロキサンとポリエーテルとが共重合した化合物が挙げられる。パーフルオロアルキル基の炭素数は例えば4〜10である。パーフルオロアルキル基は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ポリエーテル基としては、ポリエチレンオキシド鎖、ポリプロピレンオキシド鎖、それらの共重合体等が挙げられる。
(A) Fluorosilicon-based surfactant The fluorinated silicon-based surfactant contained in the curable resin composition is a component that imparts lubricity to the hard coat layer.
Examples of the fluorosilicone surfactant include a compound having a perfluoroalkyl group and a siloxane bond. Specifically, a compound having a perfluoroalkyl group and a copolymer of siloxane and polyether. Is mentioned. The carbon number of the perfluoroalkyl group is, for example, 4 to 10. The perfluoroalkyl group may be linear or branched. Examples of the polyether group include a polyethylene oxide chain, a polypropylene oxide chain, and a copolymer thereof.
このようなフッ素シリコン系界面活性剤としては、具体的には下記化学式(1)で表わされる化合物を挙げることができる。 Specific examples of such a fluorosilicone surfactant include compounds represented by the following chemical formula (1).
上記式(1)中、Rは炭素数4〜10のパーフルオロアルキル基、Qはポリエチレンオキシド鎖またはポリプロピレンオキシド鎖であり、kおよびmはそれぞれ0または1であり、nは1、2または3である。 In the above formula (1), R is a perfluoroalkyl group having 4 to 10 carbon atoms, Q is a polyethylene oxide chain or a polypropylene oxide chain, k and m are each 0 or 1, and n is 1, 2 or 3 It is.
また、フッ素シリコン系界面活性剤は反応性官能基を有していてもよい。反応性官能基としては、例えば重合性不飽和基が用いられ、具体的には光硬化性不飽和基を用いてもよく、より具体的には電離放射線硬化性不飽和基を用いてもよい。反応性官能基は、具体的には、(メタ)アクリロイル基を用いてもよい。 In addition, the fluorosilicone surfactant may have a reactive functional group. As the reactive functional group, for example, a polymerizable unsaturated group is used. Specifically, a photocurable unsaturated group may be used, and more specifically, an ionizing radiation curable unsaturated group may be used. . Specifically, a (meth) acryloyl group may be used as the reactive functional group.
フッ素シリコン系界面活性剤の具体例としては、信越化学工業社製のX−71−1203M、X−70−090、X−70−091、X−70−092、X−70−093、DIC社製のメガファックR−08、XRB−4等を挙げることができる。 Specific examples of the fluorosilicone surfactant include X-71-1203M, X-70-090, X-70-091, X-70-092, X-70-093, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., DIC Corporation. Examples thereof include Megafac R-08, XRB-4, and the like.
フッ素シリコン系界面活性剤の含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して1質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以下であることがより好ましく、0.08質量%〜0.1質量%の範囲内であることが特に好ましい。フッ素シリコン系界面活性剤の含有量が上記範囲であれば、ハードコート層に所望の易滑性を付与することができる。 The content of the fluorosilicone surfactant is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or less, and more preferably 0.08% by mass with respect to the total solid content of the curable resin composition. It is particularly preferable that the content be in the range of% to 0.1% by mass. When the content of the fluorosilicone surfactant is within the above range, desired slipperiness can be imparted to the hard coat layer.
(b)無機酸化物微粒子
本発明において、無機酸化物微粒子は、ハードコート層の硬度向上に寄与する成分である。
(B) Inorganic oxide fine particle In this invention, an inorganic oxide fine particle is a component which contributes to the hardness improvement of a hard-coat layer.
無機酸化物微粒子に用いられる無機酸化物としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、スズ含有酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化セリウム等を挙げることができ、中でも、シリカであることが好ましい。
また、シリカ微粒子としては、反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。
Examples of the inorganic oxide used for the inorganic oxide fine particles include silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, tin-containing indium oxide, antimony oxide, and cerium oxide. Among these, silica is preferable.
Further, as the silica fine particles, it is preferable to use reactive silica fine particles having a reactive functional group.
反応性シリカ微粒子は、通常、反応性官能基を有する。上記反応性官能基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合およびエポキシ基等が挙げられる。 The reactive silica fine particles usually have a reactive functional group. As the reactive functional group, a polymerizable unsaturated group is suitably used, preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group.
なお、本願明細書において、(メタ)アクリロイルはアクリロイルおよびメタクリロイルの少なくともいずれかを意味し、(メタ)アクリレートはアクリレートおよびメタクリレートの少なくともいずれかを意味し、(メタ)アクリルはアクリルおよびメタクリルの少なくともいずれかを意味する。 In the present specification, (meth) acryloyl means at least one of acryloyl and methacryloyl, (meth) acrylate means at least one of acrylate and methacrylate, and (meth) acryl is at least one of acrylic and methacrylic. Means.
また、反応性シリカ微粒子は、球状の反応性シリカ微粒子であっても良く、異形の反応性シリカ微粒子(以下、反応性異形シリカ微粒子と称して説明する場合がある。)であっても良いが、後者が好ましい。ハードコート層の硬度向上を図りやすいからである。 Further, the reactive silica fine particles may be spherical reactive silica fine particles, or irregular-shaped reactive silica fine particles (hereinafter sometimes referred to as reactive irregular-shaped silica fine particles). The latter is preferred. This is because it is easy to improve the hardness of the hard coat layer.
反応性異形シリカ微粒子としては、複数のシリカ微粒子が無機の化学結合により結合した反応性異形シリカ微粒子が挙げられる。中でも、反応性異形シリカ微粒子は、平均1次粒径1nm〜100nmのシリカ微粒子3個〜20個が無機の化学結合により結合し、表面に反応性官能基を有する反応性異形シリカ微粒子であることが好ましい。反応性異形シリカ微粒子は、反応性官能基を有することにより、反応性異形シリカ微粒子同士、およびモノマーと架橋する硬化反応が可能であり、ハードコート層に耐擦傷性および硬度を付与することができる。 Examples of the reactive irregularly shaped silica fine particles include reactive irregularly shaped silica fine particles in which a plurality of silica fine particles are bonded by an inorganic chemical bond. In particular, the reactive irregularly shaped silica fine particles are reactive irregularly shaped silica fine particles having 3 to 20 silica fine particles having an average primary particle diameter of 1 nm to 100 nm bonded by an inorganic chemical bond and having a reactive functional group on the surface. Is preferred. The reactive irregularly shaped silica fine particles have a reactive functional group, so that they can undergo a curing reaction that crosslinks with the reactive irregularly shaped silica fine particles and the monomer, and can impart scratch resistance and hardness to the hard coat layer. .
反応性異形シリカ微粒子を構成するシリカ微粒子の平均1次粒径は、1nm〜100nmの範囲内であることが好ましく、5nm〜80nmの範囲内であることがより好ましい。シリカ微粒子の平均1次粒径が小さいと、平均2次粒径が小さい反応性異形シリカ微粒子しか得られず、ハードコート層に十分な硬度を付与できない場合がある。また、シリカ微粒子の平均1次粒径が大きいと反応性異形シリカ微粒子の平均2次粒径が大きくなりやすく、平均2次粒径が大きいとハードコート層の透明性が低下し、透過率の悪化、ヘイズの上昇を招く場合がある。
反応性異形シリカ微粒子の平均2次粒径は、5nm〜300nmの範囲内であることが好ましく、10nm〜200nmの範囲内であることがより好ましい。反応性異形シリカ微粒子の平均2次粒径が上記範囲内であれば、ハードコート層に硬度を付与しやすく、かつハードコート層の透明性を維持しやすい。
The average primary particle size of the silica fine particles constituting the reactive irregularly shaped silica fine particles is preferably in the range of 1 nm to 100 nm, and more preferably in the range of 5 nm to 80 nm. If the average primary particle size of the silica fine particles is small, only reactive irregularly shaped silica fine particles having a small average secondary particle size can be obtained, and sufficient hardness may not be imparted to the hard coat layer. Further, if the average primary particle size of the silica fine particles is large, the average secondary particle size of the reactive irregularly shaped silica fine particles tends to be large, and if the average secondary particle size is large, the transparency of the hard coat layer is lowered and the transmittance is reduced. Deterioration and haze increase may occur.
The average secondary particle diameter of the reactive irregularly shaped silica fine particles is preferably in the range of 5 nm to 300 nm, and more preferably in the range of 10 nm to 200 nm. If the average secondary particle size of the reactive irregularly shaped silica fine particles is within the above range, it is easy to impart hardness to the hard coat layer and maintain the transparency of the hard coat layer.
ここで、シリカ微粒子の平均1次粒径は、硬化性樹脂組成物中のシリカ微粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を累積分布で表したときの50%粒子径(d50 メジアン径)を意味する。平均1次粒径は、日機装(株)製のMicrotrac粒度分析計またはNanotrac粒度分析計を用いて測定することができる。また、反応性異形シリカ微粒子の平均2次粒径は、硬化性樹脂組成物においては、平均1次粒径と同様の方法により求めることができる。一方、反応性異形シリカ微粒子の平均2次粒径は、ハードコート層においては、ハードコート層の断面をSEM写真またはTEM写真を用いて観察し、観察された硬化した反応性異形シリカ微粒子を100個選び、その平均値として求めることができる。 Here, the average primary particle size of the silica fine particles is determined by measuring the silica fine particles in the curable resin composition by a dynamic light scattering method, and the 50% particle size (d50 median) when the particle size distribution is expressed as a cumulative distribution. Diameter). The average primary particle size can be measured using a Microtrac particle size analyzer or a Nanotrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. In addition, the average secondary particle size of the reactive irregularly shaped silica fine particles can be determined by the same method as the average primary particle size in the curable resin composition. On the other hand, the average secondary particle size of the reactive irregularly shaped silica fine particles is such that, in the hard coat layer, the cross section of the hard coat layer is observed using an SEM photograph or a TEM photograph, and the observed cured reactive irregularly shaped silica fine particles are 100. It can be obtained as an average value of individual selection.
シリカ微粒子は、中空粒子のような粒子内部に空孔や多孔質組織を有する粒子の使用を排除するものではないが、粒子内部に空孔や多孔質組織を有しない中実粒子を用いることが硬度向上の点からより好ましい。 Silica fine particles do not exclude the use of particles having pores or porous structures inside the particles, such as hollow particles, but solid particles having no pores or porous structures inside the particles should be used. It is more preferable from the viewpoint of improving the hardness.
反応性異形シリカ微粒子は、上記シリカ微粒子が、好ましくは3個〜20個、より好ましくは3個〜10個、無機の化学結合によって結合してなる。無機の化学結合によって結合したシリカ微粒子数が少ないと、実質的に単分散粒子と変わらず、基板との密着性、耐擦傷性、鉛筆硬度に優れたハードコート層を得ることが困難である。また、無機の化学結合によって結合したシリカ微粒子数が多いと、ハードコート層の透明性が低下し、透過率の悪化、ヘイズの上昇を招く場合がある。 The reactive irregularly shaped silica fine particles are formed by bonding the above-mentioned silica fine particles, preferably 3 to 20, more preferably 3 to 10, by an inorganic chemical bond. When the number of silica fine particles bonded by inorganic chemical bonds is small, it is substantially the same as monodisperse particles, and it is difficult to obtain a hard coat layer excellent in adhesion to the substrate, scratch resistance, and pencil hardness. Moreover, when there are many silica fine particles couple | bonded by the inorganic chemical bond, the transparency of a hard-coat layer will fall, and the deterioration of the transmittance | permeability and the raise of a haze may be caused.
無機の化学結合としては、例えば、イオン結合、金属結合、配位結合、および共有結合が挙げられる。中でも、反応性異形シリカ微粒子を極性溶媒中に添加しても、結合したシリカ微粒子が分散しない結合、具体的には、金属結合、配位結合、および共有結合が好ましく、特に共有結合が好ましい。なお、極性溶媒としては、例えば、水、およびメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール等が挙げられる。 Examples of inorganic chemical bonds include ionic bonds, metal bonds, coordinate bonds, and covalent bonds. Among them, a bond in which the bonded silica fine particles are not dispersed even when the reactive deformed silica fine particles are added to the polar solvent, specifically, a metal bond, a coordination bond, and a covalent bond is preferable, and a covalent bond is particularly preferable. Examples of the polar solvent include water and lower alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol.
反応性異形シリカ微粒子の粒子状態としては、3個〜20個のシリカ微粒子が無機の化学結合により結合し、凝集した状態の粒子(凝集粒子)、および3個〜20個のシリカ微粒子が無機の化学結合により結合し、鎖状に結合した鎖状粒子が挙げられる。中でも、ハードコート層の硬度を高める観点から、反応性異形シリカ微粒子の粒子状態としては、鎖状粒子が好ましい。また、反応性異形シリカ微粒子の少なくとも一部に、上記鎖状粒子が含まれていることが好ましい。 As the particle state of the reactive deformed silica fine particles, 3 to 20 silica fine particles are bonded by an inorganic chemical bond and aggregated particles (aggregated particles), and 3 to 20 silica fine particles are inorganic. Examples thereof include chain particles bonded by chemical bonds and bonded in a chain. Among these, from the viewpoint of increasing the hardness of the hard coat layer, chain particles are preferable as the particle state of the reactive irregularly shaped silica fine particles. Further, it is preferable that the chain particles are contained in at least a part of the reactive irregular shaped silica fine particles.
ここで、反応性異形シリカ微粒子が鎖状粒子の場合、シリカ微粒子の平均結合数は、ハードコート層の断面をSEM写真またはTEM写真を用いて観察し、観察された硬化した反応性異形シリカ微粒子を100個選び、各反応性異形シリカ微粒子中に含まれるシリカ微粒子を数え、その平均値として求めることができる。 Here, when the reactive irregularly shaped silica fine particles are chain particles, the average number of bonds of the silica fine particles is determined by observing the cross section of the hard coat layer using an SEM photograph or a TEM photograph and observing the cured reactive irregularly shaped silica fine particles. 100 are selected, the silica fine particles contained in each reactive deformed silica fine particle are counted, and the average value can be obtained.
反応性異形シリカ微粒子の製造方法は、上記シリカ微粒子が無機の結合により結合したものが得られれば特に限定されず、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。例えば、単分散のシリカ微粒子分散液の濃度、あるいはpHを調節し、100℃以上の高温で水熱処理することによって得ることができる。このとき、必要に応じてバインダー成分を添加してシリカ微粒子の結合を促進することもできる。また、使用されるシリカ微粒子分散液をイオン交換樹脂に通液することで、イオンを除去してもよい。このようなイオン交換処理によってシリカ微粒子の結合を促進することができる。水熱処理後、再度イオン交換処理を行ってもよい。 The method for producing reactive irregularly shaped silica fine particles is not particularly limited as long as the silica fine particles bonded by inorganic bonds are obtained, and conventionally known methods can be appropriately selected and used. For example, it can be obtained by adjusting the concentration or pH of the monodispersed silica fine particle dispersion and performing hydrothermal treatment at a high temperature of 100 ° C. or higher. At this time, if necessary, a binder component can be added to promote the binding of the silica fine particles. Further, ions may be removed by passing the silica fine particle dispersion used through an ion exchange resin. Such ion exchange treatment can promote the binding of silica fine particles. After the hydrothermal treatment, the ion exchange treatment may be performed again.
反応性異形シリカ微粒子は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、この有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する。ここで、有機成分とは、炭素を含有する成分である。また、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆されている態様としては、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様、または、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基にイソシアネート基を有する有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様の他、例えば、シリカ微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、ポリマー粒子中にシリカ微粒子を含有する態様等が含まれる。 The reactive irregular shaped silica fine particles have at least a part of the surface coated with an organic component and have a reactive functional group introduced by the organic component on the surface. Here, the organic component is a component containing carbon. Moreover, as an aspect in which at least a part of the surface is coated with an organic component, for example, a compound containing an organic component such as a silane coupling agent reacts with a hydroxyl group present on the surface of the silica fine particles to cause a part of the surface In addition to the mode in which the organic component is bonded to the surface, or the mode in which the organic component having an isocyanate group is reacted with the hydroxyl group present on the surface of the silica fine particle and the organic component is bonded to a part of the surface, for example, silica Examples include an aspect in which an organic component is attached to a hydroxyl group present on the surface of the fine particles by an interaction such as hydrogen bonding, and an aspect in which silica fine particles are contained in the polymer particles.
少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する反応性異形シリカ微粒子を調製する方法としては、反応性異形シリカ微粒子に導入したい反応性官能基により、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。中でも、反応性異形シリカ微粒子同士の凝集を抑制し、ハードコート層の硬度を向上させる点から、以下の(i)(ii)の反応性異形シリカ微粒子のいずれかを適宜選択して用いることが好ましい。
(i)飽和または不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステルおよび酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、および官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水および有機溶媒の少なくともいずれかの中に異形シリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基を有する反応性異形シリカ微粒子。
(ii)被覆前の異形シリカ微粒子に導入する反応性官能基、下記化学式(2)に示す基、およびシラノール基または加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する反応性異形シリカ微粒子。
−Q1−C(=Q2)−Q3− (2)
(式(2)中、Q1はNH、OまたはSを示し、Q2はOまたはSを示し、Q3はNHまたは2価以上の有機基を示す。)
以下、好適に用いられる反応性異形シリカ微粒子について説明する。
At least a part of the surface is coated with an organic component, and a method for preparing reactive deformed silica fine particles having a reactive functional group introduced by the organic component on the surface is a reactive functional group to be introduced into the reactive deformed silica fine particles. Thus, a conventionally known method can be appropriately selected and used. Among these, from the viewpoint of suppressing aggregation of the reactive deformed silica fine particles and improving the hardness of the hard coat layer, any one of the following reactive deformed silica fine particles (i) and (ii) may be appropriately selected and used. preferable.
(I) saturated or unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, acid chloride, ester and acid amide corresponding to the carboxylic acid, amino acid, imine, nitrile, isonitrile, epoxy compound, amine, β-dicarbonyl compound, silane, And the modified silica fine particles are dispersed in at least one of water and an organic solvent as a dispersion medium in the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of metal compounds having functional groups. Reactive deformed silica fine particles having a reactive functional group on the surface, obtained by
(Ii) a compound containing a reactive functional group to be introduced into the deformed silica fine particle before coating, a group represented by the following chemical formula (2), and a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis, and metal oxide fine particles Reactive deformed silica fine particles having a reactive functional group on the surface, obtained by bonding.
−Q 1 −C (= Q 2 ) −Q 3 − (2)
(In formula (2), Q 1 represents NH, O or S, Q 2 represents O or S, and Q 3 represents NH or a divalent or higher organic group.)
Hereinafter, the reactive irregular-shaped silica fine particle used suitably is demonstrated.
(i)飽和または不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、および官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水および有機溶媒の少なくともいずれかの中に異形シリカ微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基を有する反応性異形シリカ微粒子。
上記(i)の反応性異形シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分含量が少なくてもハードコート層の強度を向上できるという利点がある。
(I) saturated or unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, acid chloride, ester and acid amide corresponding to the carboxylic acid, amino acid, imine, nitrile, isonitrile, epoxy compound, amine, β-dicarbonyl compound, silane, And the modified silica fine particles are dispersed in at least one of water and an organic solvent as a dispersion medium in the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of metal compounds having functional groups. Reactive deformed silica fine particles having a reactive functional group on the surface, obtained by
When the reactive irregularly shaped silica fine particles (i) are used, there is an advantage that the strength of the hard coat layer can be improved even if the organic component content is small.
上記(i)の反応性異形シリカ微粒子に用いられる表面修飾化合物は、カルボキシル基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級、第二級及び第三級アミノ基、Si−OH基、シランの加水分解性残基、またはβ−ジカルボニル化合物のようなC−H酸基等の、分散条件下において異形シリカ微粒子の表面に存在する基と化学結合可能な官能基を有する。ここでの化学結合は、好ましくは、共有結合、イオン結合または配位結合が含まれるが、水素結合も含まれる。配位結合は錯体形成であると考えられる。例えば、ブレンステッドまたはルイスに従う酸塩基反応、錯体形成またはエステル化が、上記表面修飾化合物の官能基と異形シリカ微粒子表面の基の間で生じる。上記(i)の反応性異形シリカ微粒子に用いられる表面修飾化合物は、1種または2種以上を混合して用いることができる。 The surface-modifying compound used for the reactive deformed silica fine particles (i) is a carboxyl group, acid anhydride group, acid chloride group, acid amide group, ester group, imino group, nitrile group, isonitrile group, hydroxyl group, thiol. Groups, epoxy groups, primary, secondary and tertiary amino groups, Si-OH groups, hydrolysable residues of silanes, or C-H acid groups such as β-dicarbonyl compounds It has a functional group capable of chemically bonding with a group present on the surface of the deformed silica fine particle under conditions. The chemical bond here preferably includes a covalent bond, an ionic bond or a coordination bond, but also includes a hydrogen bond. The coordination bond is considered to be complex formation. For example, an acid-base reaction, complex formation or esterification according to Bronsted or Lewis occurs between the functional group of the surface modifying compound and the group on the surface of the deformed silica fine particle. The surface modification compound used for the reactive irregular shaped silica fine particles (i) can be used alone or in combination of two or more.
上記表面修飾化合物は通常、異形シリカ微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも1つの官能基に加えて、この官能基を介して上記表面修飾化合物に結びついた後に、異形シリカ微粒子に新たな特性を付与する分子残基を有する。なお、以下、異形シリカ微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも1つの官能基を第1の官能基という。分子残基またはその一部は疎水性または親水性であり、例えば、異形シリカ微粒子を安定化、融和化、または活性化させる。例えば、疎水性分子残基としては、不活性化または反発作用をもたらす、アルキル、アリール、アルカリル、アラルキルまたはフッ素含有アルキル基等が挙げられる。親水性基としてはヒドロキシ基、アルコキシ基またはポリエステル基等が挙げられる。 The surface-modifying compound is usually added to at least one functional group capable of participating in chemical bonding with the surface group of the irregular-shaped silica fine particle, and after binding to the surface-modifying compound via this functional group, the irregular-shaped silica fine particle is newly added. It has molecular residues that give unique properties. Hereinafter, at least one functional group that can participate in chemical bonding with a group on the surface of the irregular shaped silica fine particle is referred to as a first functional group. The molecular residue or a part thereof is hydrophobic or hydrophilic and, for example, stabilizes, integrates, or activates irregular shaped silica fine particles. For example, the hydrophobic molecular residue includes an alkyl, aryl, alkaryl, aralkyl, or fluorine-containing alkyl group that causes inactivation or repulsion. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, an alkoxy group, and a polyester group.
反応性異形シリカ微粒子が後述するモノマーと反応できるように表面に導入される反応性官能基は、モノマーに応じて適宜選択される。反応性官能基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合およびエポキシ基等が挙げられる。 The reactive functional group introduced to the surface so that the reactive irregularly shaped silica fine particles can react with the monomer described later is appropriately selected according to the monomer. As the reactive functional group, a polymerizable unsaturated group is suitably used, preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group, and epoxy group.
上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、後述するモノマーと反応できる反応性官能基が含まれる場合には、上記表面修飾化合物中に含まれる第1の官能基を異形シリカ微粒子表面に反応させることによって、上記(i)の反応性異形シリカ微粒子の表面にモノマーと反応できる反応性官能基を導入することが可能である。例えば、第1の官能基の他に、さらに重合性不飽和基を有する表面修飾化合物が、好適なものとして挙げられる。 When a reactive functional group capable of reacting with a monomer described later is contained in the molecular residue of the surface modifying compound, the first functional group contained in the surface modifying compound is reacted with the surface of the deformed silica fine particle. By this, it is possible to introduce a reactive functional group capable of reacting with the monomer on the surface of the reactive deformed silica fine particles (i). For example, in addition to the first functional group, a surface modification compound further having a polymerizable unsaturated group is preferable.
一方で、上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、第2の反応性官能基を含有させ、当該第2の反応性官能基を足掛かりにして、上記(i)の反応性異形シリカ微粒子の表面にモノマーと反応できる反応性官能基が導入されてもよい。例えば、第2の反応性官能基として水酸基およびオキシ基のような水素結合が可能な水素結合形成基を導入し、この微粒子表面に導入された水素結合形成基に、さらに別の表面修飾化合物の水素結合形成基が反応することにより、モノマーと反応できる反応性官能基を導入することが好ましい。すなわち、表面修飾化合物として、水素結合形成基を有する化合物と、重合性不飽和基等のモノマーと反応できる反応性官能基と水素結合形成基を有する化合物とを併用して用いることが好適な例として挙げられる。水素結合形成基の具体例としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミド基といった官能基、もしくはアミド結合を示すものである。ここで、アミド結合とは、−NHC(O)や>NC(O)−を結合単位に含むものを示す旨である。表面修飾化合物に用いられる水素結合形成基としては、中でもカルボキシル基、水酸基、アミド基が好ましい。 On the other hand, in the molecular residue of the surface modification compound, a second reactive functional group is contained, and the second reactive functional group is used as a foothold for the reactive deformed silica fine particles of (i). A reactive functional group capable of reacting with the monomer may be introduced on the surface. For example, a hydrogen bond-forming group capable of hydrogen bonding such as a hydroxyl group and an oxy group is introduced as the second reactive functional group, and another surface modification compound is added to the hydrogen bond-forming group introduced on the surface of the fine particles. It is preferable to introduce a reactive functional group capable of reacting with the monomer by the reaction of the hydrogen bond forming group. That is, as a surface modification compound, it is preferable to use a compound having a hydrogen bond forming group and a compound having a reactive functional group capable of reacting with a monomer such as a polymerizable unsaturated group and a compound having a hydrogen bond forming group in combination. As mentioned. Specific examples of the hydrogen bond-forming group indicate a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, a glycidyl group, an amide group, or an amide bond. Here, the amide bond indicates that the bond unit contains —NHC (O) or> NC (O) —. Among the hydrogen bond forming groups used in the surface modification compound, a carboxyl group, a hydroxyl group, and an amide group are particularly preferable.
上記(i)の反応性異形シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は500以下、より好ましくは400、特に200を超えない分子量を有する。このような低分子量を有するため、シリカ微粒子表面を急速に占有し、反応性異形シリカ微粒子同士の凝集を妨げることが可能であると推定される。 The surface-modifying compound used in the reactive deformed silica fine particles of (i) above has a molecular weight of 500 or less, more preferably 400, particularly 200. Since it has such a low molecular weight, it is presumed that the surface of the silica fine particles can be rapidly occupied and aggregation of the reactive irregular shaped silica fine particles can be prevented.
上記(i)の反応性異形シリカ微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、表面修飾のための反応条件下で好ましくは液体であり、分散媒中で溶解性または少なくとも乳化可能であるのが好ましい。中でも分散媒中で溶解し、分散媒中で離散した分子または分子イオンとして一様に分布して存在することが好ましい。 The surface modifying compound used in the reactive deformed silica fine particles (i) is preferably a liquid under the reaction conditions for surface modification, and is preferably soluble or at least emulsifiable in a dispersion medium. Among these, it is preferable that the polymer is dissolved in the dispersion medium and uniformly distributed as discrete molecules or molecular ions in the dispersion medium.
飽和または不飽和カルボン酸としては、1〜24の炭素原子を有しており、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、琥珀酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびステアリン酸、ならびに対応する酸無水物、塩化物、エステルおよびアミド、例えば、カプロラクタム等が挙げられる。また、不飽和カルボン酸を用いると、重合性不飽和基を導入することができる。 Saturated or unsaturated carboxylic acids have 1 to 24 carbon atoms, such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citric acid, Examples include adipic acid, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and stearic acid, and the corresponding acid anhydrides, chlorides, esters and amides such as caprolactam. Further, when an unsaturated carboxylic acid is used, a polymerizable unsaturated group can be introduced.
好ましいアミンの例は、下記化学式を有するものである。
Q3−nNHn
上記式において、nは0,1または2である。残基Qは独立して、1〜12、中でも1〜6、特に好ましくは1〜4の炭素原子を有するアルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピルおよびブチル、ならびに6〜24の炭素原子を有するアリール、アルカリルまたはアラルキル、例えば、フェニル、ナフチル、トリルおよびベンジルを表す。また、好ましいアミンの例としては、ポリアルキレンアミンが挙げられ、具体例は、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、アニリン、N−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トルイジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンである。
Examples of preferred amines are those having the following chemical formula:
Q 3-n NH n
In the above formula, n is 0, 1 or 2. Residue Q is independently alkyl having 1 to 12, especially 1 to 6, particularly preferably 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl and butyl, and 6 to 24 Represents aryl, alkaryl or aralkyl having 5 carbon atoms such as phenyl, naphthyl, tolyl and benzyl. Examples of preferred amines include polyalkyleneamines, and specific examples are methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, aniline, N-methylaniline, diphenylamine, triphenylamine, toluidine, ethylenediamine, and diethylenetriamine. .
好ましいβ−ジカルボニル化合物は4〜12、特に5〜8の炭素原子を有するものであり、例えば、アセチルアセトン等のジケトン、2,3−ヘキサンジオン、3,5−ヘプタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸エチルエステル等のアセト酢酸−C1−C4−アルキルエステル、ジアセチルおよびアセトニルアセトンが挙げられる。
アミノ酸の例としては、β−アラニン、グリシン、バリン、アミノカプロン酸、ロイシンおよびイソロイシンが挙げられる。
Preferred β-dicarbonyl compounds are those having 4 to 12, particularly 5 to 8 carbon atoms, such as diketones such as acetylacetone, 2,3-hexanedione, 3,5-heptanedione, acetoacetic acid, acetoacetic acid. -C acetoacetate such as
Examples of amino acids include β-alanine, glycine, valine, aminocaproic acid, leucine and isoleucine.
好ましいシランは、少なくとも1つの加水分解性基またはヒドロキシ基と、少なくとも1つの非加水分解性残基を有する加水分解性オルガノシランである。ここで加水分解性基としては、例えば、ハロゲン、アルコキシ基およびアシルオキシ基が挙げられる。非加水分解性残基としては、反応性官能基を有するまたは反応性官能基を有しない非加水分解性残基が用いられる。また、フッ素で置換されている有機残基を少なくとも部分的に有するシランを使用してもよい。 Preferred silanes are hydrolyzable organosilanes having at least one hydrolyzable group or hydroxy group and at least one non-hydrolyzable residue. Here, examples of the hydrolyzable group include a halogen, an alkoxy group, and an acyloxy group. As the non-hydrolyzable residue, a non-hydrolyzable residue having a reactive functional group or not having a reactive functional group is used. Silanes having at least partially organic residues substituted with fluorine may also be used.
用いられるシランとしては特に限定されないが、例えば、CH2=CHSi(OOCCH3)3、CH2=CHSiCl3、CH2=CHSi(OC2H5)3、CH2=CH−Si(OC2H4OCH3)3、CH2=CH−CH2−Si(OC2H5)3、CH2=CH−CH2−Si(OOCCH3)3、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GPTS)、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APTS)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−[N’−(2’−アミノエチル)−2−アミノエチル]−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、2−[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、ビス−(ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシランおよび3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
As the silane used is not particularly limited, for example, CH 2 = CHSi (OOCCH 3 ) 3,
上記シランカップリング剤としては、特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、信越化学工業(株)製のKBM−502、KBM−503、KBE−502、KBE−503等を挙げることができる。 The silane coupling agent is not particularly limited and may include known ones, such as KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. be able to.
官能基を有する金属化合物としては、元素周期表の第1群III〜Vおよび第2群II〜IVの少なくともいずれかからの金属Mの金属化合物が挙げられる。具体的には、下記化学式で表されるジルコニウムおよびチタニウムのアルコキシドが挙げられる。
M(OR)4
上記式において、MはTi、Zrである。OR基の一部はβ−ジカルボニル化合物またはモノカルボン酸等の錯生成剤により置換される。メタクリル酸等の重合性不飽和基を有する化合物が錯生成剤として使用される場合には、重合性不飽和基を導入することができる。
Examples of the metal compound having a functional group include a metal compound of metal M from at least one of the first group III to V and the second group II to IV of the periodic table. Specific examples include zirconium and titanium alkoxides represented by the following chemical formula.
M (OR) 4
In the above formula, M is Ti or Zr. A part of the OR group is substituted with a complexing agent such as a β-dicarbonyl compound or a monocarboxylic acid. When a compound having a polymerizable unsaturated group such as methacrylic acid is used as a complexing agent, a polymerizable unsaturated group can be introduced.
分散媒として、水および有機溶媒の少なくともいずれかが好適に使用される。特に好ましい分散媒は、蒸留された純粋な水である。有機溶媒として、極性、非極性および非プロトン性溶媒が好ましい。それらの例として、メタノール、エタノール、n−およびi−プロパノールおよびブタノール等の炭素数1〜6の脂肪族アルコール等のアルコール、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンおよびブタノン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびテトラヒドロピラン等のエーテル類;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類;スルホランおよびジメチルスルホキシド等のスルホキシド類およびスルホン類;およびペンタン、ヘキサンおよびシクロヘキサン等の任意にハロゲン化されていてもよい脂肪族炭化水素類が挙げられる。これらの分散媒は混合物として使用することができる。
分散媒は、蒸留、任意には減圧下により容易に除去できる沸点を有することが好ましく、沸点が200℃以下、特に150℃以下の溶媒が好ましい。
As the dispersion medium, at least one of water and an organic solvent is preferably used. A particularly preferred dispersion medium is distilled pure water. As the organic solvent, polar, nonpolar and aprotic solvents are preferred. Examples thereof include alcohols such as aliphatic alcohols having 1 to 6 carbon atoms such as methanol, ethanol, n- and i-propanol and butanol, ketones such as methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone and butanone, acetic acid Esters such as ethyl; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and tetrahydropyran; amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide; sulfoxides and sulfones such as sulfolane and dimethyl sulfoxide; and optionally, such as pentane, hexane and cyclohexane Aliphatic hydrocarbons which may be halogenated are mentioned. These dispersion media can be used as a mixture.
The dispersion medium preferably has a boiling point that can be easily removed by distillation, optionally under reduced pressure, and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, particularly 150 ° C. or lower is preferable.
(i)の反応性異形シリカ微粒子の調製に際し、分散媒の濃度は、通常40質量%〜90質量%の範囲内、好ましくは50質量%〜80質量%の範囲内、特に55質量%〜75質量%の範囲内である。分散液の残りは、未処理のシリカ微粒子および上記表面修飾化合物から構成される。ここで、シリカ微粒子:表面修飾化合物の重量比は、100:1〜4:1とすることが好ましく、中でも50:1〜8:1、特に25:1〜10:1とすることが好ましい。 In the preparation of the reactive deformed silica fine particles (i), the concentration of the dispersion medium is usually within the range of 40% by mass to 90% by mass, preferably within the range of 50% by mass to 80% by mass, particularly 55% by mass to 75%. It is in the range of mass%. The rest of the dispersion is composed of untreated silica fine particles and the surface modifying compound. Here, the weight ratio of silica fine particles: surface modification compound is preferably 100: 1 to 4: 1, more preferably 50: 1 to 8: 1, and particularly preferably 25: 1 to 10: 1.
(i)の反応性異形シリカ微粒子の調製は、好ましくは20℃程度の室温から分散媒の沸点までの温度範囲で行われる。特に好ましくは、分散温度は50℃〜100℃である。分散時間は、特に使用される材料のタイプに依存するが、一般に数分から数時間、例えば、1時間〜24時間である。 The reactive irregularly shaped silica fine particles (i) are preferably prepared in a temperature range of about 20 ° C. to the boiling point of the dispersion medium. Particularly preferably, the dispersion temperature is 50 ° C to 100 ° C. The dispersion time depends in particular on the type of material used, but is generally from a few minutes to a few hours, for example from 1 to 24 hours.
(ii)被覆前の異形シリカ微粒子に導入する反応性官能基、下記化学式(2)に示す基、およびシラノール基または加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、コアとなるシリカ微粒子としての金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する反応性異形シリカ微粒子。
−Q1−C(=Q2)−Q3− (2)
(式(2)中、Q1はNH、OまたはSを示し、Q2はOまたはSを示し、Q3はNHまたは2価以上の有機基を示す。)
上記(ii)の反応性異形シリカ微粒子を用いる場合には、有機成分量が高まり、分散性、およびハードコート層の強度がより高まるという利点がある。
(Ii) a reactive functional group to be introduced into the deformed silica fine particle before coating, a group represented by the following chemical formula (2), and a compound containing a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis; Reactive deformed silica fine particles having a reactive functional group on the surface, obtained by bonding with metal oxide fine particles.
−Q 1 −C (= Q 2 ) −Q 3 − (2)
(In formula (2), Q 1 represents NH, O or S, Q 2 represents O or S, and Q 3 represents NH or a divalent or higher organic group.)
When the reactive irregularly shaped silica fine particles (ii) are used, there are advantages that the amount of organic components is increased, and the dispersibility and the strength of the hard coat layer are further increased.
まず、被覆前のシリカ微粒子に導入したい反応性官能基、上記化学式(2)に示す基、およびシラノール基または加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物について説明する。なお、以下、上記化合物を反応性官能基修飾加水分解性シランという場合がある。
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、シリカ微粒子に導入したい反応性官能基は、後述するモノマーと反応可能なように適宜選択すれば特に限定されない。上述したような重合性不飽和基を導入するのに適している。
First, a compound containing a reactive functional group to be introduced into the silica fine particles before coating, a group represented by the above chemical formula (2), and a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis will be described. Hereinafter, the compound may be referred to as a reactive functional group-modified hydrolyzable silane.
In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the reactive functional group to be introduced into the silica fine particles is not particularly limited as long as it is appropriately selected so as to be capable of reacting with a monomer described later. Suitable for introducing polymerizable unsaturated groups as described above.
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、上記化学式(2)に示す基の[−Q1−C(=Q2)−]部分は、具体的には、[−O−C(=O)−]、[−O−C(=S)−]、[−S−C(=O)−]、[−NH−C(=O)−]、[−NH−C(=S)−]、および[−S−C(=S)−]の6種である。これらの基は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−]基と、[−O−C(=S)−]基および[−S−C(=O)−]基の少なくとも1種を併用することが好ましい。上記式(2)に示す基[−Q1−C(=Q2)−Q3−]は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基板との密着性および耐熱性等の特性を付与することが可能になると考えられる。 In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the [—Q 1 —C (═Q 2 ) —] moiety of the group represented by the chemical formula (2) is specifically [—O—C (═O )-], [-OC (= S)-], [-SC (= O)-], [-NH-C (= O)-], [-NH-C (= S)- ] And [-S-C (= S)-]. These groups can be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of thermal stability, at least of a [—O—C (═O) —] group, a [—O—C (═S) —] group, and a [—S—C (═O) —] group It is preferable to use one type in combination. The group [—Q 1 —C (= Q 2 ) —Q 3 —] represented by the above formula (2) generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and has excellent mechanical properties when formed into a cured product. It is considered that properties such as strength, adhesion to the substrate, and heat resistance can be imparted.
また、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等を有する基を挙げることができ、アルコキシシリル基またはアリールオキシシリル基が好ましい。シラノール基または、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基は、縮合反応または加水分解に続いて生じる縮合反応によって、金属酸化物微粒子と結合することができる。 Examples of the group that generates a silanol group by hydrolysis include a group having an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom, etc. on the silicon atom. An oxysilyl group is preferred. A silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis can be combined with the metal oxide fine particles by a condensation reaction or a condensation reaction that occurs following hydrolysis.
上記反応性官能基修飾加水分解性シランの好ましい具体例としては、例えば、下記化学式(3)および(4)に示す化合物を挙げることができ、下記化学式(4)に示す化合物が硬度の点からより好ましく用いられる。 Preferable specific examples of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane include compounds represented by the following chemical formulas (3) and (4), and the compound represented by the following chemical formula (4) is from the point of hardness. More preferably used.
上記式(3)および(4)中、Ra、Rbは同一でも異なっていてもよいが、水素原子またはC1からC8のアルキル基もしくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここでmは1、2または3である。
[(RaO)mRb 3−mSi−]で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基またはトリエトキシシリル基等が好ましい。
In the above formulas (3) and (4), R a and R b may be the same or different, but are a hydrogen atom or a C 1 to C 8 alkyl group or aryl group, for example, methyl, ethyl, propyl , Butyl, octyl, phenyl, xylyl group and the like. Here, m is 1, 2 or 3.
Examples of the group represented by [(R a O) m R b 3-m Si—] include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a triphenoxysilyl group, a methyldimethoxysilyl group, and a dimethylmethoxysilyl group. Can be mentioned. Of these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferable.
式(3)および(4)中、RcはC1からC12の脂肪族または芳香族構造を有する2価の有機基であり、鎖状、分岐状または環状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シクロヘキシレン、フェニレン等である。 In formulas (3) and (4), R c is a divalent organic group having a C 1 to C 12 aliphatic or aromatic structure and may contain a chain, branched or cyclic structure. . Examples of such an organic group include methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, xylylene, and dodecamethylene. Among these, preferred examples are methylene, propylene, cyclohexylene, phenylene and the like.
式(3)中、Rdは2価の有機基であり、通常、分子量14〜10,000、好ましくは、分子量76〜500の2価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基;シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式または多環式の2価の有機基;フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の2価の芳香族基;およびこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら2価の有機基は炭素および水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合、さらには上記式(2)に示す基を含むこともできる。 In the formula (3), R d is a divalent organic group, and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500. For example, chain polyalkylene groups such as hexamethylene, octamethylene, dodecamethylene; alicyclic or polycyclic divalent organic groups such as cyclohexylene and norbornylene; divalent groups such as phenylene, naphthylene, biphenylene and polyphenylene An aromatic group; and these alkyl group-substituted and aryl group-substituted products. Further, these divalent organic groups may contain an atomic group containing an element other than carbon and hydrogen atoms, and include a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, a polycarbonate bond, and a group represented by the above formula (2). Can also be included.
式(3)および(4)中、Reは(n+1)価の有機基であり、好ましくは鎖状、分岐状または環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。 In the formulas (3) and (4), R e is an (n + 1) valent organic group, preferably selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group and unsaturated hydrocarbon group.
式(3)および(4)中、Y’は反応性官能基を有する1価の有機基を示す。上述のような反応性官能基そのものであってもよい。例えば、反応性官能基を重合性不飽和基から選択する場合、(メタ)アクリロイル(オキシ)基、ビニル(オキシ)基、プロペニル(オキシ)基、ブタジエニル(オキシ)基、スチリル(オキシ)基、エチニル(オキシ)基、シンナモイル(オキシ)基、マレエート基、(メタ)アクリルアミド基等を挙げることができる。また、nは好ましくは1〜20の正の整数であり、さらに好ましくは1〜10、特に好ましくは1〜5である。 In the formulas (3) and (4), Y ′ represents a monovalent organic group having a reactive functional group. The reactive functional group itself as described above may be used. For example, when the reactive functional group is selected from a polymerizable unsaturated group, (meth) acryloyl (oxy) group, vinyl (oxy) group, propenyl (oxy) group, butadienyl (oxy) group, styryl (oxy) group, Examples include ethynyl (oxy) group, cinnamoyl (oxy) group, maleate group, (meth) acrylamide group and the like. N is preferably a positive integer of 1 to 20, more preferably 1 to 10, particularly preferably 1 to 5.
反応性官能基修飾加水分解性シランの合成は、例えば、特開平9−100111号公報に記載された方法を用いることができる。すなわち、例えば、重合性不飽和基を導入したい場合、(A)メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応により行うことができる。また、(B)分子中にアルコキシシリル基およびイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行うことができる。さらに、(C)分子中に重合性不飽和基およびイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシランまたはアミノシランとの付加反応により直接合成することもできる。 For the synthesis of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, for example, the method described in JP-A-9-100111 can be used. That is, for example, when it is desired to introduce a polymerizable unsaturated group, (A) an addition reaction between a mercaptoalkoxysilane, a polyisocyanate compound, and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound capable of reacting with an isocyanate group is performed. it can. Moreover, it can carry out by (B) direct reaction with the compound which has an alkoxy silyl group and an isocyanate group in a molecule | numerator, and an active hydrogen group containing polymerizable unsaturated compound. Furthermore, it can also be directly synthesized by addition reaction of (C) a compound having a polymerizable unsaturated group and an isocyanate group in the molecule with mercaptoalkoxysilane or aminosilane.
(ii)の反応性異形シリカ微粒子の製造においては、反応性官能基修飾加水分解性シランを別途加水分解操作を行った後、これと異形シリカ微粒子を混合し、加熱、攪拌操作を行う方法、もしくは反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を異形シリカ微粒子の存在下に行う方法、また、他の成分、例えば、多価不飽和有機化合物、単価不飽和有機化合物、放射線重合開始剤等の存在下、異形シリカ微粒子の表面処理を行う方法を選ぶことができるが、反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を異形シリカ微粒子の存在下行う方法が好ましい。(ii)の反応性異形シリカ微粒子を製造する際、その温度は、通常20℃以上150℃以下であり、また処理時間は5分〜24時間の範囲である。 In the production of the reactive deformed silica fine particles of (ii), after separately hydrolyzing the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, this is mixed with the deformed silica fine particles, followed by heating and stirring operation, Alternatively, a method of hydrolyzing a reactive functional group-modified hydrolyzable silane in the presence of deformed silica fine particles, and other components such as polyunsaturated organic compounds, monounsaturated organic compounds, radiation polymerization initiators, etc. Although the method of performing the surface treatment of the deformed silica fine particles in the presence of can be selected, a method of hydrolyzing the reactive functional group-modified hydrolyzable silane in the presence of the deformed silica fine particles is preferable. When the reactive deformed silica fine particles (ii) are produced, the temperature is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and the treatment time is in the range of 5 minutes to 24 hours.
加水分解反応を促進するため、触媒として酸、塩もしくは塩基を添加してもよい。酸としては有機酸および不飽和有機酸;塩基としては3級アミンまたは4級アンモニウムヒドロキシドが好適な物として挙げられる。これら酸もしくは塩基触媒の添加量は反応性官能基修飾加水分解性シランに対して0.001質量%〜1.0質量%の範囲内、好ましくは0.01質量%〜0.1質量%の範囲内である。 In order to accelerate the hydrolysis reaction, an acid, salt or base may be added as a catalyst. Preferable examples of the acid include organic acids and unsaturated organic acids; examples of the base include tertiary amines or quaternary ammonium hydroxides. The addition amount of these acid or base catalysts is within the range of 0.001% by mass to 1.0% by mass, preferably 0.01% by mass to 0.1% by mass with respect to the reactive functional group-modified hydrolyzable silane. Within range.
反応性異形シリカ微粒子としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。 As the reactive irregularly shaped silica fine particles, powdery fine particles not containing a dispersion medium may be used. However, it is preferable to use a fine particle in a solvent dispersion sol because the dispersion step can be omitted and the productivity is high.
一方、反応性シリカ微粒子が、球状の反応性シリカ微粒子である場合は、平均一次粒径が1nm〜100nmの範囲内、より好ましくは5nm〜80nmの範囲内のシリカ微粒子表面に反応性官能基を有するものが好ましい。球状の反応性シリカ微粒子に用いられるシリカ微粒子、および反応性官能基の導入方法については、反応性異形シリカ微粒子と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 On the other hand, when the reactive silica fine particles are spherical reactive silica fine particles, a reactive functional group is formed on the surface of the silica fine particles having an average primary particle diameter in the range of 1 nm to 100 nm, more preferably in the range of 5 nm to 80 nm. What has is preferable. Since the silica fine particles used for the spherical reactive silica fine particles and the method for introducing the reactive functional group can be the same as those of the reactive deformed silica fine particles, description thereof is omitted here.
無機酸化物微粒子の含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して40質量%〜70質量%の範囲内であることが好ましく、50質量%〜60質量%の範囲内であることがより好ましい。含有量が少ないとハードコート層に十分な硬度を付与できないおそれがある。含有量が多いと、充填率が上がり過ぎ、無機酸化物微粒子とモノマーとの密着性が悪化し、かえってハードコート層の硬度を低下させてしまうおそれがある。
ここで、固形分とは、硬化性樹脂組成物中に含まれる成分のうち溶剤以外のものを意味する。
The content of the inorganic oxide fine particles is preferably in the range of 40% by mass to 70% by mass with respect to the total solid content of the curable resin composition, and is in the range of 50% by mass to 60% by mass. Is more preferable. When the content is small, there is a possibility that sufficient hardness cannot be imparted to the hard coat layer. When the content is large, the filling rate is excessively increased, the adhesion between the inorganic oxide fine particles and the monomer is deteriorated, and the hardness of the hard coat layer may be lowered.
Here, solid content means things other than a solvent among the components contained in curable resin composition.
(c)ポリマー
本発明において、ポリマーは、ハードコート層に柔軟性を付与する成分である。
ポリマーとしては、ウレタン系ポリマー、アクリル系ポリマー等を挙げることができる。
中でも、アクリル系ポリマーを用いることが好ましい。ハードコート層の硬度を維持しつつ、加工性を改善することができるからである。
(C) Polymer In the present invention, the polymer is a component that imparts flexibility to the hard coat layer.
Examples of the polymer include urethane polymers and acrylic polymers.
Among them, it is preferable to use an acrylic polymer. This is because processability can be improved while maintaining the hardness of the hard coat layer.
ウレタン系ポリマーとしては、一般的なハードコート層の成分として公知のものが用いられ、例えば、特開2010−120182号公報、特開2012−148484号広報に記載のものを挙げることができる。 As the urethane polymer, known components are used as components of a general hard coat layer, and examples thereof include those described in JP 2010-120182 and JP 2012-148484 PR.
アクリル系ポリマーとしては、ハードコート層に柔軟性を与え、加工時にクラックを防止する点から、その重量平均分子量が、30,000〜80,000の範囲内であり、60,000〜80,000の範囲内であることが好ましい。
ここで、重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量をいう。
The acrylic polymer has a weight average molecular weight in the range of 30,000 to 80,000 and 60,000 to 80,000 from the viewpoint of imparting flexibility to the hard coat layer and preventing cracks during processing. It is preferable to be within the range.
Here, the weight average molecular weight refers to a weight average molecular weight which is a polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography.
また、アクリル系ポリマーは、アクリル当量が200〜1,000の範囲内であり、200〜400の範囲内であることが好ましい。
ここで、アクリル当量とは、アクリル系ポリマーの重量平均分子量を1分子中の(メタ)アクリル基の数で除した値を示す。
The acrylic polymer has an acrylic equivalent in the range of 200 to 1,000, preferably in the range of 200 to 400.
Here, the acrylic equivalent indicates a value obtained by dividing the weight average molecular weight of the acrylic polymer by the number of (meth) acrylic groups in one molecule.
アクリル系ポリマーとしては、上記重量平均分子量およびアクリル当量を満たすものであれば特に限定されないが、グリセロール(メタ)アクリレートの重合体、またはメタクリル酸グリシジルに(メタ)アクリル酸を付加重合した化合物の重合体であることが好ましい。
具体的には、下記化学式(5)または(6)で表されるアクリルモノマーの重合体が好ましく用いられる。
The acrylic polymer is not particularly limited as long as it satisfies the above weight average molecular weight and acrylic equivalent, but it is a polymer of glycerol (meth) acrylate or a compound of a compound obtained by addition polymerization of (meth) acrylic acid to glycidyl methacrylate. It is preferably a coalescence.
Specifically, a polymer of an acrylic monomer represented by the following chemical formula (5) or (6) is preferably used.
上記式(5)において、R1〜R3はそれぞれ独立してアクリレート基、メタクリレート基または水素原子であり、R1〜R3のうち1つ以上はアクリレート基またはメタクリレート基である。すなわち、上記式(5)で表されるグリセロール(メタ)アクリレートは、単官能、2官能および3官能のいずれであってもよい。
また、上記式(6)において、Rはアクリル酸基またはメタクリル酸基である。
In the above formula (5), R 1 to R 3 are each independently an acrylate group, a methacrylate group or a hydrogen atom, and one or more of R 1 to R 3 are an acrylate group or a methacrylate group. That is, the glycerol (meth) acrylate represented by the above formula (5) may be monofunctional, bifunctional, or trifunctional.
In the above formula (6), R is an acrylic acid group or a methacrylic acid group.
このようなアクリル系ポリマーとしては、例えば、星光PMC(株)製のBL−2002が挙げられる。
また、アクリル系ポリマーとしては、1種単独で用いてもよく、2種以上を適宜混合して用いてもよい。
As such an acrylic polymer, for example, BL-2002 manufactured by Seiko PMC Co., Ltd. may be mentioned.
Moreover, as an acrylic polymer, you may use individually by 1 type, and may mix and
ポリマーの含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して3質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましく、5質量%〜10質量%であることがより好ましく、6質量%〜8質量%の範囲内であることがさらに好ましい。ポリマーの含有量が上記範囲内であれば、タッチパネル用前面基板の加工性を向上させることができる。
また、ポリマーの含有量は、後述のモノマー100重量部に対して5重量部〜80重量部の範囲内であることが好ましく、20重量部〜40重量部の範囲内であることがより好ましく、10重量部〜30重量部の範囲内であることがさらに好ましい。
The polymer content is preferably in the range of 3% by mass to 20% by mass, more preferably 5% by mass to 10% by mass, and more preferably 6% by mass with respect to the total solid content of the curable resin composition. More preferably, it is in the range of% to 8% by mass. If content of a polymer is in the said range, the workability of the front substrate for touchscreens can be improved.
The polymer content is preferably in the range of 5 to 80 parts by weight, more preferably in the range of 20 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer described below. More preferably, it is in the range of 10 to 30 parts by weight.
(d)モノマー
本発明において、モノマーは、ハードコート層のマトリクスとなる成分である。
モノマーは、通常、反応性官能基を有する。モノマーは、硬化した際にモノマー同士で架橋する。また、反応性異形シリカ微粒子を含有する場合、モノマーの反応性官能基は、反応性異形シリカ微粒子の反応性官能基と架橋反応性を有するため、モノマーは反応性異形シリカ微粒子と架橋し、網目構造が形成され、ハードコート層の硬度および耐擦傷性をさらに高める。反応性官能基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合およびエポキシ基等が挙げられる。モノマーの反応性官能基は、反応性異形シリカ微粒子の反応性官能基と同じであっても異なっていてもよい。
(D) Monomer In this invention, a monomer is a component used as the matrix of a hard-coat layer.
The monomer usually has a reactive functional group. Monomers crosslink between monomers when cured. In addition, when the reactive irregularly shaped silica fine particles are contained, the reactive functional group of the monomer has cross-linking reactivity with the reactive functional group of the reactive irregularly shaped silica fine particles, so that the monomer crosslinks with the reactive irregularly shaped silica fine particles, A structure is formed which further enhances the hardness and scratch resistance of the hard coat layer. As the reactive functional group, a polymerizable unsaturated group is suitably used, preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples include ethylenically unsaturated bonds such as (meth) acryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, and epoxy groups. The reactive functional group of the monomer may be the same as or different from the reactive functional group of the reactive deformed silica fine particle.
モノマーとしては、硬化性有機樹脂が好ましく、塗膜とした時に光が透過する透光性のものが好ましく、紫外線または電子線で代表される電離放射線により硬化する樹脂である電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂等を要求性能等に応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系等が挙げられる。モノマーとして、1種または2種以上のモノマーを用いることができる。 As the monomer, a curable organic resin is preferable, and a translucent material that transmits light when it is used as a coating film is preferable. An ionizing radiation curable resin that is a resin that is cured by ionizing radiation represented by ultraviolet rays or electron beams, Other known curable resins and the like may be appropriately employed according to required performance. Examples of the ionizing radiation curable resin include acrylate-based, oxetane-based, and silicone-based resins. As the monomer, one type or two or more types of monomers can be used.
モノマーは、反応性官能基を3つ以上有することが、架橋密度を高められる点から好ましい。反応性官能基を3つ以上有する多官能モノマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート、およびこれらの変性体が挙げられる。なお、変性体としては、エチレンオキサイド変性体、プロピレンオキサイド変性体、カプロラクトン変性体、およびイソシアヌル酸変性体等が挙げられる。
中でも、多官能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートが好ましく用いられ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートが特に好ましく用いられる。
The monomer preferably has three or more reactive functional groups from the viewpoint of increasing the crosslinking density. Examples of the polyfunctional monomer having three or more reactive functional groups include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate. , Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane hexa (meth) acrylate, and modified products thereof. In addition, as a modified body, an ethylene oxide modified body, a propylene oxide modified body, a caprolactone modified body, an isocyanuric acid modified body, etc. are mentioned.
Among them, as the polyfunctional monomer, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate are preferably used, and dipentaerythritol hexaacrylate, penta Erythritol tetraacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate are particularly preferably used.
モノマーの含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して25質量%〜44質量%の範囲内であることが好ましく、30質量%〜40質量%の範囲内であることがより好ましい。含有量が少ないとハードコート層に十分な硬度を付与できないおそれがある。また、含有量が多いと、ハードコート層の硬度が上がり過ぎ、またポリマーの含有量が相対的に少なくなり、タッチパネル用前面基板の加工性を低下させてしまうおそれがある。 The content of the monomer is preferably in the range of 25% by mass to 44% by mass and more preferably in the range of 30% by mass to 40% by mass with respect to the total solid content of the curable resin composition. . When the content is small, there is a possibility that sufficient hardness cannot be imparted to the hard coat layer. Moreover, when there is much content, the hardness of a hard-coat layer will go up too much, and content of a polymer may become relatively small, and there exists a possibility of reducing the workability of the front substrate for touchscreens.
(e)重合開始剤
重合開始剤は、光および熱の少なくともいずれかにより分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカルおよびカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いることができる。
(E) Polymerization initiator The polymerization initiator is decomposed by at least one of light and heat to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.
As the polymerization initiator, radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radicals and cationic polymerization initiators can be appropriately selected and used.
ラジカル重合開始剤は、光および熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、N−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられる。具体例としては、特開2010−102123号公報および特開2010−120182号公報に記載のものを挙げることができる。 The radical polymerization initiator only needs to be capable of releasing a substance that initiates radical polymerization by at least one of light and heat. For example, examples of the photo radical polymerization initiator include imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-aryl glycine derivatives, organic azide compounds, titanocenes, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives, and the like. It is done. Specific examples include those described in JP 2010-102123 A and JP 2010-120182 A.
また、カチオン重合開始剤は、光および熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−4−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−p−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)等が例示される。具体例としては、特開2010−102123号公報および特開2010−120182号公報に記載のものを挙げることができる。 Moreover, the cationic polymerization initiator should just be able to discharge | release the substance which starts cationic polymerization by at least any one of light and a heat | fever. Examples of the cationic polymerization initiator include sulfonic acid ester, imide sulfonate, dialkyl-4-hydroxysulfonium salt, arylsulfonic acid-p-nitrobenzyl ester, silanol-aluminum complex, (η 6 -benzene) (η 5 -cyclopentadidiene). Enil) iron (II) and the like. Specific examples include those described in JP 2010-102123 A and JP 2010-120182 A.
ラジカル重合開始剤としてもカチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示される。具体例としては、特開2010−102123号公報および特開2010−120182号公報に記載のものを挙げることができる。 Examples of radical polymerization initiators and cationic polymerization initiators that can be used include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, and iron arene complexes. Specific examples include those described in JP 2010-102123 A and JP 2010-120182 A.
中でも、重合開始剤は、可視光領域における吸収率が比較的低いことが好ましい。可視光領域における吸収率が高いと、タッチパネル用前面基板の光透過性が低下するおそれがあるからである。 Among them, the polymerization initiator preferably has a relatively low absorption rate in the visible light region. This is because if the absorptance in the visible light region is high, the light transmittance of the front substrate for touch panel may be lowered.
重合開始剤の含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して2質量%〜5質量%の範囲内であることが好ましく、2質量%〜2.5質量%の範囲内であることがより好ましい。含有量が少ないとモノマー等の重合反応が十分に進行せず、ハードコート層に十分な硬度を付与できないおそれがある。また、含有量が多いとモノマー等の重合反応が速く進行し、作業性が低下したり不均一な硬化物となったりするおそれがある。 The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 2% by mass to 5% by mass with respect to the total solid content of the curable resin composition, and preferably in the range of 2% by mass to 2.5% by mass. It is more preferable. If the content is small, the polymerization reaction of monomers or the like does not proceed sufficiently, and there is a possibility that sufficient hardness cannot be imparted to the hard coat layer. Moreover, when there is much content, polymerization reaction, such as a monomer, advances rapidly, and there exists a possibility that workability | operativity may fall or it may become a non-uniform hardened | cured material.
(f)溶剤
硬化性樹脂組成物は、通常、溶剤を含有する。溶剤の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール等が挙げられる。
(F) Solvent The curable resin composition usually contains a solvent. Although the kind of solvent is not specifically limited, For example, methyl isobutyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, normal propanol, isopropanol, normal butanol, sec-butanol, isobutanol, tert-butanol etc. are mentioned.
(g)その他の成分
本発明に用いられる硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、防眩剤、各種増感剤等を含有していてもよい。
(G) Other components The curable resin composition used for this invention may contain the antistatic agent, the glare-proof agent, various sensitizers, etc. as needed.
(h)硬化性樹脂組成物
硬化性樹脂組成物は、溶剤に反応性異形シリカ微粒子、アクリル系ポリマー、モノマー、重合開始剤等を一般的な調製方法に従って混合し分散処理することにより調製することができる。混合分散には、ペイントシェーカーまたはビーズミル等を用いることができる。
(H) Curable resin composition The curable resin composition is prepared by mixing and dispersing dispersion of reactive irregularly shaped silica fine particles, acrylic polymer, monomer, polymerization initiator and the like in a solvent according to a general preparation method. Can do. For mixing and dispersing, a paint shaker or a bead mill can be used.
(2)ハードコート層
本発明に用いられるハードコート層の表面の動摩擦係数としては、所望の易滑性を示すことができれば特に限定されない。上記動摩擦係数は、その値が小さいほど良好な易滑性を示すことができる。ハードコート層の表面の動摩擦係数としては、例えば、0.200以下であることが好ましく、0.100以下であることがより好ましい。動摩擦係数が大きすぎると、ハードコート層の表面でのタッチ操作を良好に行うことが困難となる可能性があるからである。
なお、動摩擦係数は、JIS K7125に準拠した方法により測定することができ、例えば、新東科学(株)社製の動摩擦試験機HEIDON Type HHS2000で、直径10mmのステンレス剛球を用い、荷重200g、速度5mm/secにて動摩擦係数を測定することができる。
(2) Hard Coat Layer The dynamic friction coefficient of the surface of the hard coat layer used in the present invention is not particularly limited as long as desired slipperiness can be exhibited. The said dynamic friction coefficient can show favorable slipperiness, so that the value is small. The coefficient of dynamic friction on the surface of the hard coat layer is, for example, preferably 0.200 or less, and more preferably 0.100 or less. This is because if the dynamic friction coefficient is too large, it may be difficult to perform a good touch operation on the surface of the hard coat layer.
The dynamic friction coefficient can be measured by a method according to JIS K7125. For example, a dynamic friction tester HEIDON Type HHS2000 manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. is used, a stainless hard ball having a diameter of 10 mm, a load of 200 g, and a speed. The dynamic friction coefficient can be measured at 5 mm / sec.
ハードコート層の濡れ性としては、硬化性樹脂組成物に用いられる成分に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されないが、ハードコート層の水滴の接触角が90°以上であることが好ましく、100°以上であることがより好ましく、110°以上であることがさらに好ましい。ハードコート層が良好な防汚性を発揮できるからである。一方、上記水滴の接触角は、通常120°以下である。
なお、水滴の接触角は、接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから水滴を滴下して30秒後)することで求めることができる。
The wettability of the hard coat layer is appropriately determined according to the components used in the curable resin composition, and is not particularly limited, but the contact angle of water droplets on the hard coat layer is 90 ° or more. Preferably, it is 100 ° or more, and more preferably 110 ° or more. This is because the hard coat layer can exhibit good antifouling properties. On the other hand, the contact angle of the water droplet is usually 120 ° or less.
In addition, the contact angle of a water droplet can be calculated | required by measuring using a contact angle measuring device (Kyowa Interface Science Co., Ltd. product CA-Z type | mold) 30 seconds after dripping a water droplet from a microsyringe.
ハードコート層は光透過性を有するものである。ハードコート層の可視光領域における透過率としては、具体的には、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲であることにより、光透過性に優れたハードコート層とすることができるからである。
ここで、ハードコート層の透過率は、JIS K 7105で規定する方法により測定した全光線透過率とする。
The hard coat layer is light transmissive. Specifically, the transmittance of the hard coat layer in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. It is because it can be set as the hard-coat layer excellent in the light transmittance because the said transmittance | permeability is the said range.
Here, the transmittance of the hard coat layer is the total light transmittance measured by the method defined in JIS K 7105.
ハードコート層のヘイズ値としては、無機酸化物微粒子の種類等に応じて適宜決定され、特に限定されないが、例えば、1.0以下、中でも0.8以下、特に0.5以下であることが好ましい。ヘイズ値が上記範囲であることにより、光透過性の良好なハードコート層とすることができるからである。
なお、ヘイズ値は、JIS−K−7136に準拠した方法で測定することができ、例えば準積分球を用いて、東洋精機製作所(株)製の直読ヘイズメーターにより測定することができる。
The haze value of the hard coat layer is appropriately determined according to the type of inorganic oxide fine particles and the like, and is not particularly limited. For example, it is 1.0 or less, particularly 0.8 or less, particularly 0.5 or less. preferable. It is because it can be set as the hard-coat layer with favorable light transmittance because haze value is the said range.
In addition, a haze value can be measured by the method based on JIS-K-7136, for example, can be measured with the direct reading haze meter by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. using a semi-integral sphere.
ハードコート層の硬度は、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験(4.9N荷重)で評価できる。ハードコート層の鉛筆硬度は6H以上であることが好ましく、中でも7H以上、特に9H以上であることが好ましい。 The hardness of the hard coat layer can be evaluated by a pencil hardness test (4.9 N load) defined by JIS K5600-5-4 (1999). The pencil hardness of the hard coat layer is preferably 6H or more, more preferably 7H or more, and particularly preferably 9H or more.
ハードコート層の厚みとしては、所望の易滑性、硬度、耐擦傷性等を有することができれば特に限定されるものではなく、例えば、5μm〜40μm程度にすることができ、中でも10μm〜30μmの範囲内、特に18μm〜22μmの範囲内であることが好ましい。ハードコート層が薄いと十分な硬度を発揮できず、厚いとクラックや反りが発生するおそれがあるからである。 The thickness of the hard coat layer is not particularly limited as long as it can have desired slipperiness, hardness, scratch resistance, and the like, and can be, for example, about 5 μm to 40 μm, and more preferably 10 μm to 30 μm. It is preferable to be in the range, particularly in the range of 18 to 22 μm. This is because if the hard coat layer is thin, sufficient hardness cannot be exhibited, and if it is thick, cracks and warpage may occur.
ハードコート層の形成方法は、上記硬化性樹脂組成物を用いてハードコート層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、基板上に硬化性樹脂組成物を塗布し、塗膜を硬化させる方法を用いることができる。
硬化性樹脂組成物の塗布方法は、基板上に硬化性樹脂組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。また、基板上への硬化性樹脂組成物の塗工量としては、所望の膜厚のハードコート層が得られるように調節することが好ましい。
塗膜の乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥、加熱乾燥、およびこれらの組み合わせ等が挙げられる。常圧で乾燥させる場合、基板が劣化しない温度範囲で乾燥させることが好ましく、例えば30℃〜110℃の範囲内で乾燥させることが好ましい。
The method for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as the hard coat layer can be formed using the curable resin composition, and the curable resin composition is applied onto the substrate, A method of curing the coating film can be used.
The coating method of the curable resin composition is not particularly limited as long as the curable resin composition can be uniformly coated on the substrate, and is not limited to spin coating, dipping, spraying, slide coating. Various methods such as a method, a bar coat method, a roll coater method, a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used. Moreover, it is preferable to adjust as the coating amount of the curable resin composition on a board | substrate so that the hard-coat layer of a desired film thickness may be obtained.
Examples of the method for drying the coating film include reduced-pressure drying, heat drying, and combinations thereof. When drying at normal pressure, it is preferable to dry in a temperature range in which the substrate does not deteriorate. For example, it is preferable to dry within a range of 30 ° C to 110 ° C.
塗膜の硬化方法としては、光照射および加熱の少なくともいずれかを用いることができる。
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用され、中でも紫外線が好ましく用いられる。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、例えば50mJ/cm2〜5000mJ/cm2の範囲内であることが好ましい。
また、加熱する場合、基板が劣化しない温度範囲で加熱することが好ましく、例えば40℃〜120℃の範囲内で加熱することが好ましい。また、25℃程度の室温で24時間以上放置することにより反応を行ってもよい。
As a method for curing the coating film, at least one of light irradiation and heating can be used.
For light irradiation, ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, etc. are mainly used, and among these, ultraviolet rays are preferably used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light such as an ultra high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp are used. The amount of irradiation with the energy radiation source of accumulative exposure at an ultraviolet wavelength of 365 nm, is preferably in the range of, for example, 50mJ / cm 2 ~5000mJ / cm 2 .
Moreover, when heating, it is preferable to heat in the temperature range in which a board | substrate does not deteriorate, for example, it is preferable to heat within the range of 40 to 120 degreeC. Moreover, you may react by leaving it to stand for 24 hours or more at room temperature of about 25 degreeC.
2.基板
本発明に用いられる基板は、光透過性を有するものであり、タッチパネル用前面基板の基板として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されない。通常、タッチパネル用前面基板に用いられる基板には、透明、半透明、無色または有色を問わないが、光透過性が要求される。
2. Substrate The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it has optical transparency and satisfies physical properties that can be used as a substrate for a front substrate for a touch panel. Usually, a substrate used for a front substrate for a touch panel may be transparent, translucent, colorless, or colored, but is required to have light transmittance.
基板の材料としては、例えばアクリレート系ポリマー、ポリカーボネート、ポリエステル、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。アクリレート系ポリマーの具体例としては、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。ポリカーボネートの具体例としては、ビスフェノールA等のビスフェノール類をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。セルロースアシレートの具体例としては、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。シクロオレフィンポリマーの具体例としては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が挙げられる。 Examples of the substrate material include acrylate polymers, polycarbonates, polyesters, cellulose acylates, and cycloolefin polymers. Specific examples of the acrylate polymer include methyl poly (meth) acrylate, poly (meth) ethyl acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate, and the like. Specific examples of the polycarbonate include aromatic polycarbonates based on bisphenols such as bisphenol A, and aliphatic polycarbonates such as diethylene glycol bisallyl carbonate. Specific examples of the polyester include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. Specific examples of cellulose acylate include cellulose triacetate, cellulose diacetate, and cellulose acetate butyrate. Specific examples of the cycloolefin polymer include norbornene polymers, monocyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resins, and the like.
基板は、単層であってもよく、複数層が積層されたものであってもよい。単層の場合、基板の材料はアクリレート系ポリマーであることが好ましく、ポリメタクリル酸メチルがより好ましい。透明性が高いからである。一方、複数層の場合、基板は複数の樹脂層を有することになる。樹脂層の積層数は、2層以上であればよく、3層〜5層の範囲内であることが好ましく、3層であることがより好ましい。 The substrate may be a single layer or a laminate of a plurality of layers. In the case of a single layer, the substrate material is preferably an acrylate polymer, more preferably polymethyl methacrylate. This is because the transparency is high. On the other hand, in the case of a plurality of layers, the substrate has a plurality of resin layers. The number of resin layers may be two or more, preferably in the range of 3 to 5 layers, and more preferably 3 layers.
基板が3層以上の樹脂層を有する場合、最も外に位置する2つの層を最外樹脂層とし、2つの最外樹脂層の内側に位置する層を内側樹脂層とする。図2に示すように、例えば基板1が3層の樹脂層1a〜1cを有する場合、最も外に位置する2つの樹脂層を最外樹脂層1b、1cとし、2つの最外樹脂層1b、1cの内側に位置する層を内側樹脂層1aとする。なお、内側樹脂層1aは単層であってもよく複数層であってもよい。
When the substrate has three or more resin layers, the two outermost layers are the outermost resin layers, and the layers positioned inside the two outermost resin layers are the inner resin layers. As shown in FIG. 2, for example, when the
基板が3層以上の樹脂層を有する場合、基板の両面にそれぞれ位置する2つの最外樹脂層の鉛筆硬度は、内側樹脂層の鉛筆硬度よりも高いことが好ましい。最外樹脂層の硬度を高くすることで、硬度の高いタッチパネル用前面基板を形成しやすくなり、内側樹脂層の硬度を低くすることで、熱膨張率等の違いにより生じる応力を緩和でき、すなわち内側樹脂層がクッション層となり、例えば耐落球試験性のような耐衝撃性が向上するからである。最外樹脂層と内側樹脂層との硬度の差は、鉛筆硬度の基準において、2段階以上離れていることが好ましく、3段階以上離れていることがより好ましい。最外樹脂層の鉛筆硬度は、例えばHB以上であることが好ましく、H以上5H以下であることがより好ましい。内側樹脂層の鉛筆硬度は、例えばH以下であることが好ましく、3B以上HB以下であることがより好ましい。 When the substrate has three or more resin layers, the pencil hardness of the two outermost resin layers located on both sides of the substrate is preferably higher than the pencil hardness of the inner resin layer. By increasing the hardness of the outermost resin layer, it becomes easier to form a front substrate for a touch panel with high hardness, and by reducing the hardness of the inner resin layer, the stress caused by the difference in coefficient of thermal expansion can be relieved, that is, This is because the inner resin layer becomes a cushion layer, and impact resistance such as falling ball test resistance is improved. The difference in hardness between the outermost resin layer and the inner resin layer is preferably two or more steps, more preferably three or more steps, on the basis of pencil hardness. For example, the pencil hardness of the outermost resin layer is preferably HB or higher, and more preferably H or higher and 5H or lower. The pencil hardness of the inner resin layer is preferably H or less, for example, and more preferably 3B or more and HB or less.
また、基板が複数層の樹脂層を有する場合、基板の鉛筆硬度は2H以上であることが好ましく、3H以上であることがより好ましい。タッチパネル用前面基板の硬度をさらに向上させることができるからである。なお、基板の鉛筆硬度は高いことが好ましいが、通常は4H以下である。
一方、基板が単層の場合でも、基板の鉛筆硬度は2H以上であることが好ましい。
When the substrate has a plurality of resin layers, the pencil hardness of the substrate is preferably 2H or more, and more preferably 3H or more. This is because the hardness of the front substrate for touch panel can be further improved. The pencil hardness of the substrate is preferably high, but is usually 4H or less.
On the other hand, even when the substrate is a single layer, the pencil hardness of the substrate is preferably 2H or more.
また、図2に例示するように、基板1が3層の樹脂層1a〜1cを有する場合、内側樹脂層1aがポリカーボネートであり、2つの最外樹脂層1b、1cがアクリレート系ポリマーであることが好ましい。耐衝撃性が向上するからである。この場合、1つの最外樹脂層の厚さは、60μm〜110μmの範囲内であることが好ましい。
Moreover, as illustrated in FIG. 2, when the
基板は、より多くの光を透過することが好ましい。可視光領域における全光線透過率としては、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。なお、全光線透過率は、JIS K 7105で規定する方法により測定した値とする。 The substrate preferably transmits more light. The total light transmittance in the visible light region is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. The total light transmittance is a value measured by a method defined in JIS K 7105.
基板の厚さは、特に限定されるものではないが、0.3mm以上であることが好ましく、0.3mm〜5mmの範囲内であることがより好ましい。上記範囲内であれば、十分な耐衝撃性を維持できるからである。
また、基板には、例えば、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理等の表面処理が施されていてもよい。
Although the thickness of a board | substrate is not specifically limited, It is preferable that it is 0.3 mm or more, and it is more preferable that it exists in the range of 0.3 mm-5 mm. It is because sufficient impact resistance can be maintained within the above range.
Further, the substrate may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet treatment, flame treatment and the like.
3.その他の構成
本発明のタッチパネル用前面基板は、基板およびハードコート層を有していればよいが、タッチパネル用前面基板の用途等に応じて他の層をさらに有していてもよい。他の層としては、例えばプライマー層、帯電防止層、防眩層、低屈折率層等が挙げられる。
3. Other Configurations The front substrate for a touch panel of the present invention may have a substrate and a hard coat layer, but may further have another layer depending on the use of the front substrate for touch panel. Examples of other layers include a primer layer, an antistatic layer, an antiglare layer, and a low refractive index layer.
また本発明においては、図3に例示するように、基板1のハードコート層2の形成面とは反対側の面に第2のハードコート層3が形成されていてもよい。第2のハードコート層が形成されていることにより、タッチパネル用前面基板の硬度をさらに向上させることができる。
第2のハードコート層に用いられる硬化性樹脂組成物は、上記ハードコート層に用いられる硬化性樹脂組成物と同じであってもよく異なっていてもよい。
In the present invention, as illustrated in FIG. 3, the second hard coat layer 3 may be formed on the surface of the
The curable resin composition used for the second hard coat layer may be the same as or different from the curable resin composition used for the hard coat layer.
4.タッチパネル用前面基板
本発明のタッチパネル用前面基板は、タッチパネルの最表面に配置されるものである。また、本発明のタッチパネル用前面基板は、指を直接接触させて操作させるタッチパネルに好適に用いることができる。
4). Front substrate for touch panel The front substrate for touch panel of the present invention is disposed on the outermost surface of the touch panel. Moreover, the front substrate for touch panels of this invention can be used suitably for the touch panel operated by making a finger | toe contact directly.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 The following examples illustrate the present invention in more detail.
[実施例1]
(準備)
基板として、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)およびポリメタクリル酸メチル(PMMA)をこの順に積層した積層体を用意した。積層体は全体の厚さ1.0mm、PMMAの厚さ100μm、鉛筆硬度3Hであった。
反応性異形シリカ微粒子として、平均1次粒径55nmのシリカ微粒子3〜10個が無機の化学結合により結合した平均2次粒径100nm〜300nm、反応性官能基として光硬化性不飽和基を有する反応性異形シリカ微粒子を用い、固形分濃度40.0質量%、プロピレングリコール-1-メチルエーテルアセテート(PGMEA)溶剤の分散液を用意した。
モノマーとして、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を用意した。重合開始剤として、チバ・ジャパン(株)製のイルガキュア184を用意した。
フッ素シリコン系界面活性剤として、信越化学工業社製のフッ素シリコン系界面活性剤X−71−1203Mを用意した。溶剤として、プロピレングリコール-1-メチルエーテルアセテート(PGMEA)を用意した。
ポリマーとして、重量平均分子量7万、アクリル当量265のアクリル系ポリマーである星光PMC(株)製のBL−2002を用いた。なお、星光PMC(株)製のBL−2002の組成は、アクリル樹脂30〜40重量部、メチルエチルケトン60〜70重量部、酢酸1重量部未満、2,6−ジ−tert−ブチル−4−クレゾール1重量部未満である。
[Example 1]
(Preparation)
As a substrate, a laminate in which polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), and polymethyl methacrylate (PMMA) were laminated in this order was prepared. The laminate had an overall thickness of 1.0 mm, a PMMA thickness of 100 μm, and a pencil hardness of 3H.
As reactive irregularly shaped silica fine particles, 3 to 10 silica fine particles having an average primary particle size of 55 nm are bonded by an inorganic chemical bond and have an average secondary particle size of 100 to 300 nm, and have a photocurable unsaturated group as a reactive functional group. Using reactive irregularly shaped silica fine particles, a dispersion of propylene glycol-1-methyl ether acetate (PGMEA) solvent having a solid content concentration of 40.0% by mass was prepared.
Pentaerythritol triacrylate (PETA) was prepared as a monomer. As a polymerization initiator, Irgacure 184 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. was prepared.
Fluorine silicon surfactant X-71-1203M manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was prepared as the fluorine silicon surfactant. Propylene glycol-1-methyl ether acetate (PGMEA) was prepared as a solvent.
As the polymer, BL-2002 manufactured by Seiko PMC Co., Ltd., which is an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 70,000 and an acrylic equivalent of 265, was used. The composition of BL-2002 manufactured by Seiko PMC Co., Ltd. is 30-40 parts by weight of acrylic resin, 60-70 parts by weight of methyl ethyl ketone, less than 1 part by weight of acetic acid, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol. Less than 1 part by weight.
(硬化性樹脂組成物の調製)
下記組成で、硬化性樹脂組成物を調製した。
反応性シリカ微粒子分散液:52.5重量部(固形分濃度40質量%)
モノマー:15.0重量部
ポリマー:8.60重量部
重合開始剤:0.905重量部
フッ素シリコン系界面活性剤:0.190重量部
溶剤:22.8重量部
(Preparation of curable resin composition)
A curable resin composition was prepared with the following composition.
Reactive silica fine particle dispersion: 52.5 parts by weight (solid content concentration 40% by mass)
Monomer: 15.0 parts by weight Polymer: 8.60 parts by weight Polymerization initiator: 0.905 parts by weight Fluorosilicone surfactant: 0.190 parts by weight Solvent: 22.8 parts by weight
(ハードコート層の形成)
基板の片面に、硬化性樹脂組成物をスピンコート法にて塗布し、温度80℃のホットプレートで180秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が3000mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚20μmのハードコート層を形成した。なお、積算露光量は365nmの波長を用いて計算した。
(Formation of hard coat layer)
A curable resin composition is applied to one side of the substrate by a spin coating method, dried on a hot plate at a temperature of 80 ° C. for 180 seconds, the solvent in the coating film is evaporated, and ultraviolet light is accumulated to 3000 mJ / cm 2 . The hard coat layer having a film thickness of 20 μm was formed by curing the coating film by irradiation. The integrated exposure amount was calculated using a wavelength of 365 nm.
[比較例1]
下記の物性評価の比較例として、名阪真空工業社製のRGW310を用意した。RGW310は、基材としてPMMA、PC、およびPMMAがこの順に積層した3層品(住友化学製 C101)を用いており、ハードコート層に用いられた硬化性樹脂組成物は、界面活性剤としてシリコン系界面活性剤、無機酸化物微粒子として平均一次粒子径15nmの球形シリカ(65質量%程度)、モノマーとしてペンタエリスリトール多官能アクリレート、ポリマーとしてジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)およびイソホロンジイソシアネート(IPDI)、光重合開始剤としてイルガキュア184、その他の成分としてε-カプロラクトンを含有するものであった。
[Comparative Example 1]
As a comparative example of the following physical property evaluation, RGW310 manufactured by Nasaka Vacuum Industry Co., Ltd. was prepared. RGW310 uses a three-layer product (C101 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) in which PMMA, PC, and PMMA are laminated in this order as the base material. The curable resin composition used for the hard coat layer is made of silicon as the surfactant. Surfactant, spherical silica having an average primary particle diameter of 15 nm as inorganic oxide fine particles (about 65% by mass), pentaerythritol polyfunctional acrylate as a monomer, dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) and isophorone diisocyanate (IPDI) as a polymer, It contained Irgacure 184 as a photopolymerization initiator and ε-caprolactone as another component.
[比較例2]
下記の物性評価の比較例として、名阪真空工業社製のRGW200を用意した。RGW200は、基材としてPMMA単層板を用いており、ハードコート層に用いられた硬化性樹脂組成物は、界面活性剤としてシリコン系界面活性剤、無機酸化物微粒子として平均一次粒径15nmの球形シリカ(65質量%程度)、モノマーとしてペンタエリスリトール多官能アクリレート、ポリマーとしてジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)およびイソホロンジイソシアネート(IPDI)、光重合開始剤としてイルガキュア184、その他の成分としてε-カプロラクトンを含有するものであった。
[Comparative Example 2]
As a comparative example for the following physical property evaluation, RGW200 manufactured by Nasaka Vacuum Industry Co., Ltd. was prepared. RGW200 uses a PMMA single layer plate as a base material, and the curable resin composition used for the hard coat layer has a silicon-based surfactant as a surfactant and an average primary particle size of 15 nm as inorganic oxide fine particles. Spherical silica (about 65% by mass), pentaerythritol polyfunctional acrylate as monomer, dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI) and isophorone diisocyanate (IPDI) as polymer, Irgacure 184 as photopolymerization initiator, and ε-caprolactone as other components Contained.
[比較例3]
下記の物性評価の比較例として、厚さ1.0mmのPMMA基板(旭化成テクノプラス社製のデラグラスA999)を用意した。
[Comparative Example 3]
As a comparative example for the following physical property evaluation, a PMMA substrate (Delaglass A999 manufactured by Asahi Kasei Technoplus Co., Ltd.) having a thickness of 1.0 mm was prepared.
[評価1]
(動摩擦係数)
タッチパネル用前面基板のハードコート層について、新東科学(株)社製の動摩擦試験機HEIDON Type HHS2000で、直径10mmのステンレス剛球を用い、荷重200g、速度5mm/secにて動摩擦係数を測定した。
[Evaluation 1]
(Dynamic friction coefficient)
About the hard coat layer of the front substrate for touch panels, the dynamic friction coefficient was measured with a dynamic friction tester HEIDON Type HHS2000 manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. using a stainless hard ball having a diameter of 10 mm at a load of 200 g and a speed of 5 mm / sec.
(フッ素含有率およびシリコン含有率)
X線光電子分析法(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)を用いて、ハードコート層の最表面から厚み方向に5nmまでの範囲に存在するフッ素(F)含有率(%)およびシリコン(Si)含有率(%)を以下のように測定した。
測定装置として、ESCALAB 220i−XL(サーモフィッシャーサイエンティフィック社製XPS装置)を使用した。入射X線としてMonochromated Al K α(単色化X線、hν=1486.6eV)を使用した。X線出力を10kV・18mA(180W)とした。レンズとしてLarge Area XL(磁場レンズ)を使用した。アパーチャ開度をF.O.V.=open、A.A.=openとし、測定領域を700μmφとし、光電子取込角度を90度(試料法線上にインプットレンズが存在)とした。また、中和補助マスクを使用して、電子中和銃で+4(V)・0.08(mA)で帯電中和を行った。
なお、フッ素含有率は、ハードコート層中に含まれる酸素、炭素、フッ素、およびシリコンの数(単位;atomic%)の総和に対するフッ素の数の割合である。また、シリコン含有率は、ハードコート層中に含まれる酸素、炭素、フッ素、およびシリコンの数(単位;atomic%)の総和に対するシリコンの数の割合である。
(Fluorine content and silicon content)
Using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), fluorine (F) content (%) and silicon (Si) content (in the range from the outermost surface of the hard coat layer to 5 nm in the thickness direction ( %) Was measured as follows.
As a measuring device, ESCALAB 220i-XL (XPS device manufactured by Thermo Fisher Scientific) was used. Monochromated Al Kα (monochromic X-ray, hν = 1486.6 eV) was used as incident X-ray. X-ray output was 10 kV · 18 mA (180 W). A Large Area XL (magnetic lens) was used as the lens. Set the aperture opening to F. O. V. = Open, A.I. A. = Open, the measurement region was 700 μmφ, and the photoelectron capture angle was 90 degrees (the input lens was present on the sample normal). Further, using a neutralization auxiliary mask, neutralization was performed with an electron neutralizing gun at +4 (V) · 0.08 (mA).
The fluorine content is the ratio of the number of fluorine to the total number of oxygen, carbon, fluorine, and silicon (unit: atomic%) contained in the hard coat layer. The silicon content is a ratio of the number of silicon to the total number of oxygen, carbon, fluorine, and silicon (unit: atomic%) contained in the hard coat layer.
(鉛筆硬度試験)
得られたタッチパネル用前面基板を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)を行い、傷がつかない最も高い鉛筆硬度を評価した。
(Pencil hardness test)
The obtained front substrate for a touch panel is conditioned for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using a test pencil specified by JIS-S-6006, JIS K5600-5-4 (1999). The pencil hardness test (4.9 N load) specified in
(マンドレル試験)
JIS−K5600−5−1に記載されているマンドレル試験(金属製円柱にサンプルを巻きつける試験)に準じ、円柱にハードコート層を外側にしてタッチパネル用前面基板の長さ方向で巻きつけ、クラックが発生しなかった棒の最小直径を評価した。例えば、直径150mmの円柱でクラックが発生し、直径160mmの円柱でクラックが発生しなかった場合は、160mmとした。
ここで、本発明者らがタッチパネル用前面基板の加工性について検討した結果、マンドレル試験と加工性には相関があり、マンドレル試験による屈曲性が良好である場合には打ち抜き加工、ルーター加工、切断加工等での加工性が良好であった。
(Mandrel test)
In accordance with the mandrel test described in JIS-K5600-5-1 (a test in which a sample is wound around a metal cylinder), the hard coat layer is wound around the cylinder in the length direction of the front substrate for the touch panel, and cracks occur. The minimum diameter of the bar where no occurred was evaluated. For example, when a crack was generated in a cylinder having a diameter of 150 mm and no crack was generated in a cylinder having a diameter of 160 mm, the thickness was set to 160 mm.
Here, as a result of examining the workability of the front substrate for touch panel by the present inventors, there is a correlation between the mandrel test and the workability, and when the bendability by the mandrel test is good, punching, router processing, cutting Workability in processing and the like was good.
[比較例4]
硬化性樹脂組成物に用いられる界面活性剤として、信越化学工業社製のフッ素シリコン系界面活性剤X−71−1203Mの代わりに、DIC(株)製のフッ素系界面活性剤メガファックMCF350−5を用いたこと以外は、実施例1と同様して、タッチパネル用全面基板を作成した。
[Comparative Example 4]
As a surfactant used in the curable resin composition, instead of the fluorine silicon surfactant X-71-1203M manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., the fluorine surfactant Megafac MCF350-5 manufactured by DIC Corporation. A full-surface substrate for a touch panel was prepared in the same manner as in Example 1 except that was used.
[比較例5]
硬化性樹脂組成物に用いられる界面活性剤として、信越化学工業社製のフッ素シリコン系界面活性剤X−71−1203Mの代わりに、信越化学工業社製のシリコン系界面活性剤X22−163Aを用いたこと以外は、実施例1と同様して、タッチパネル用全面基板を作成した。
[Comparative Example 5]
As a surfactant used in the curable resin composition, a silicon surfactant X22-163A manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is used in place of the fluorine silicon surfactant X-71-1203M manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. A touch panel full board was prepared in the same manner as in Example 1 except that.
[評価2]
実施例1と同様にして、比較例4および比較例5のタッチパネル用全面基板のハードコート層表面の動摩擦係数を測定した。
[Evaluation 2]
In the same manner as in Example 1, the dynamic friction coefficient on the surface of the hard coat layer of the entire touch panel substrate for Comparative Example 4 and Comparative Example 5 was measured.
表1および表2に示すように、フッ素シリコン系界面活性剤を添加することで、ハードコート層の易滑性が向上することが確認された。 As shown in Table 1 and Table 2, it was confirmed that the lubricity of the hard coat layer was improved by adding a fluorosilicone surfactant.
1 … 基板
2 … ハードコート層
10 … タッチパネル用前面基板
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記ハードコート層がフッ素シリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするタッチパネル用前面基板。 A front substrate for a touch panel having a substrate and a hard coat layer formed on the substrate,
The front substrate for a touch panel, wherein the hard coat layer contains a fluorosilicone surfactant.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP6089709B2 JP6089709B2 (en) | 2017-03-08 |
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JP (1) | JP6089709B2 (en) |
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