JP2014127353A - El display device - Google Patents
El display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014127353A JP2014127353A JP2012283408A JP2012283408A JP2014127353A JP 2014127353 A JP2014127353 A JP 2014127353A JP 2012283408 A JP2012283408 A JP 2012283408A JP 2012283408 A JP2012283408 A JP 2012283408A JP 2014127353 A JP2014127353 A JP 2014127353A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- display device
- pixel
- array substrate
- sealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 72
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 51
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 99
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N oxotin;zinc Chemical compound [Zn].[Sn]=O KYKLWYKWCAYAJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明は、EL表示装置に関する。 The present invention relates to an EL display device.
現在、種々の形式のエレクトロルミネセンス(以降、「EL」と表記)表示装置が開発され実用に供されている。特に、フルカラーのEL表示装置を携帯機器等の小型の機器に搭載するなど高精細かつ小型であることが要求される場合には、個々の画素のサイズが小さくなり、発光層であるEL層を画素毎に異なる発色光をもつものに塗り分けることが困難となる。 Currently, various types of electroluminescence (hereinafter referred to as “EL”) display devices have been developed and put into practical use. In particular, when a high-definition and small size is required such as mounting a full-color EL display device on a small device such as a portable device, the size of each pixel is reduced, and an EL layer that is a light-emitting layer is provided. It becomes difficult to paint separately on the pixels having different colored light.
そこで、カラーフィルタ方式のEL表示装置が提案されている。これは、図1に示すように、トップエミッション形式のEL表示装置400のアレイ基板1上に形成された発光層であるEL層6を白色発光のものとして全画素に跨る共通の層とし、封止層8を隔てて配置される封止基板9上に色要素であるカラーフィルタ11R、11G、11Bを設けたものである。EL層6より生じた白色光は、図中矢印Aで示すように、ここでは緑色のカラーフィルタ11Gを透過することにより緑色光として出射し、認識される。
Accordingly, a color filter type EL display device has been proposed. As shown in FIG. 1, the
なお、図1に示す従来のカラーフィルタ方式のトップエミッション型EL表示装置400の画素部分を示す部分断面図には、アレイ基板1上に形成される回路層2、反射層3、
下部電極4、画素分離膜5、EL層6及び上部電極7が示され、また、封止基板9上に形成されるブラックマトリクス10、カラーフィルタ11R、11G、11B、オーバーコート層12及び柱状スペーサ13が示されている。
A partial cross-sectional view showing a pixel portion of the conventional color filter type top emission
A lower electrode 4, a pixel separation film 5, an
図1に示したEL表示装置400では、図中矢印Bに示すように、EL層6から斜め方向に出射する光線が隣接するカラーフィルタ11Bに入射することにより生じる混色が発生する。この混色は、個々の画素が微細となる高精細又は小型の表示装置では、隣接する画素間隔が狭くなるため、より顕著となり、場合によっては実用上の問題となる。混色の程度を低減するにはEL層6からカラーフィルタ11R、11G、11Bまでの距離を短くすればよいが、封止層8の厚さを決定する柱状スペーサ13の高さには製造上の制限があり、一定程度より低くすることができない。柱状スペーサ13を省略して封止層8を薄くすることも考えられるが、その場合には、アレイ基板1表面の凹凸の影響が強くなり、封止層8を形成する樹脂をアレイ基板1と封止基板9間に均等に充填することが難しい。
In the
上述の混色の問題を解決するため、例えば特許文献1では、各発光画素と他の発光画素の間にスペーサを兼ねる遮光部を設けることが提案されている。 In order to solve the above-mentioned problem of color mixing, for example, Patent Document 1 proposes to provide a light-shielding portion that also serves as a spacer between each light emitting pixel and another light emitting pixel.
特許文献1の技術では、遮光部材には黒色樹脂材料が用いられ、エッチング等の手法により所望のパターンに加工される。しかしながら、スペーサを兼ねる程度の厚膜の場合、膜のプロファイルがエッチング時にテーパ形状あるいはアンダーカット形状となりやすく、微細加工が困難である。また、黒色樹脂材料は紫外線透過率が低いため、厚膜の場合、黒色樹脂材料自体を感光性とすることによるフォトリソグラフィ加工も難しい。そのため、同文献記載の技術は個々の画素が微細となる高精細又は小型の表示装置に適用することはできない。 In the technique of Patent Document 1, a black resin material is used for the light shielding member and is processed into a desired pattern by a technique such as etching. However, in the case of a thick film that also serves as a spacer, the film profile tends to be tapered or undercut at the time of etching, and fine processing is difficult. Further, since the black resin material has a low ultraviolet transmittance, photolithography processing by making the black resin material itself photosensitive is difficult in the case of a thick film. For this reason, the technique described in this document cannot be applied to a high-definition or small-sized display device in which individual pixels are fine.
本発明はかかる観点に鑑みてなされたものであって、その目的は、カラーフィルタ方式のEL表示装置において、個々の画素が微細となる高精細又は小型の表示装置においても混色による画質の劣化を低減することである。 The present invention has been made in view of such a viewpoint, and an object of the present invention is to reduce image quality deterioration due to color mixing even in a high-definition or small-sized display device in which individual pixels are fine in a color filter type EL display device. It is to reduce.
本出願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。 Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
(1)前面に画素毎に形成された下部電極と、前記下部電極を隔てる画素分離膜と、前記下部電極及び前記画素分離膜の上層に形成された白色発光のEL層と、を備えたアレイ基板と、後面にブラックマトリクスと、カラーフィルタと、オーバーコート層を備えた封止基板と、前記アレイ基板と前記封止基板間に充填された封止層と、を有し、前記オーバーコート層に、厚さの異なる部分が設けられたEL表示装置。 (1) An array including a lower electrode formed for each pixel on the front surface, a pixel separation film separating the lower electrode, and a white light emitting EL layer formed on the lower electrode and the pixel separation film. A substrate, a black matrix on the rear surface, a color filter, a sealing substrate having an overcoat layer, and a sealing layer filled between the array substrate and the sealing substrate, and the overcoat layer And an EL display device provided with portions having different thicknesses.
(2)(1)において、前記厚さの異なる部分は、前記オーバーコート層の厚さが薄くなっている薄膜部分又は前記オーバーコート層が除去されている開口部分であり、前記薄膜部分又は前記開口部分に柱状スペーサが形成されているEL表示装置。 (2) In (1), the portion having a different thickness is a thin film portion where the thickness of the overcoat layer is thin or an opening portion where the overcoat layer is removed, and the thin film portion or the An EL display device in which a columnar spacer is formed in an opening portion.
(3)(2)において、前記柱状スペーサは、平面視において前記カラーフィルタと重ならない位置に形成されているEL表示装置。 (3) The EL display device according to (2), wherein the columnar spacer is formed at a position not overlapping the color filter in a plan view.
(4)(1)において、前記厚さの異なる部分は、平面視において前記ブラックマトリクスと重なる位置に形成された突起部分であるEL表示装置。 (4) The EL display device according to (1), wherein the portion having the different thickness is a protruding portion formed at a position overlapping the black matrix in a plan view.
(5)(1)において、前記厚さの異なる部分は、前記アレイ基板の前面の凹凸構造と相補的形状となるよう設けられているEL表示装置。 (5) The EL display device according to (1), wherein the portions having different thicknesses are provided in a shape complementary to the concavo-convex structure on the front surface of the array substrate.
上記(1)によれば、カラーフィルタ方式のEL表示装置において、個々の画素が微細となる高精細又は小型の表示装置においても混色による画質の劣化を低減することができる。 According to the above (1), in a color filter type EL display device, it is possible to reduce image quality degradation due to color mixing even in a high-definition or small-sized display device in which individual pixels are fine.
上記(2)によれば、柱状スペーサの高さを実質的に低くすることができる。 According to (2) above, the height of the columnar spacer can be substantially reduced.
上記(3)によれば、柱状スペーサの高さをさらに実質的に低くすることができる。 According to the above (3), the height of the columnar spacer can be further reduced substantially.
上記(4)によれば、オーバーコート層の形状により柱状スペーサを代替することができる。 According to the above (4), the columnar spacer can be replaced by the shape of the overcoat layer.
上記(5)によれば、封止層を形成する樹脂のアレイ基板と封止基板間への充填を円滑に行うことができる。 According to the above (5), filling of the resin forming the sealing layer between the array substrate and the sealing substrate can be performed smoothly.
以下、本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置100を図面を参照しつつ説明する。
Hereinafter, an
図2は、本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置100の概略分解斜視図である。EL表示装置100は、矩形のアレイ基板1の前面上に、画素20が配置されている領域である矩形の表示領域21が設けられている。表示領域21の左右いずれかの辺または両側の辺に隣接して、走査回路22が配置される。本実施形態では、走査回路22は表示領域21の左側のみに設けられている。走査回路22からは多数の走査信号線23が表示領域21に延びる。なお、走査回路22は、図示のように、回路自体をいわゆるSOG(System On Glass)等の手法によりアレイ基板1の表面に直接作成することにより設けてもよいし、半導体チップを実装することにより設けてもよい。また、表示領域21の手前側の辺に隣接して、駆動回路24が設けられる。駆動回路24からは多数の映像信号線25が表示領域21に延びており、走査信号線23と直交する。この走査信号線23と映像信号線25に接続して一つの画素20が配置される。なお、駆動回路24は、走査回路22と同様にアレイ基板1の表面に直接作成して設けてもよいが、本実施形態では、半導体チップを実装することにより設けている。駆動回路24にはFPC(Flexible Printed Circuit)26が接続されており、外部の機器から画像データが駆動回路24に供給されるようになっている。
FIG. 2 is a schematic exploded perspective view of the
さらに、アレイ基板1の前面側には、封止基板9が配置される。封止基板9の後面には、カラーフィルタ11R,11G,11Bが表示領域21の各画素20に対応する位置に形成されている(図中破線で示した)。また、封止基板9はアレイ基板1より寸法が小さく、駆動回路24及びFPC26が封止基板9に覆われることなく露出するようになっている。本実施形態では、封止基板9の図中奥行き方向(長辺)の寸法がアレイ基板1の奥行き方向の寸法より小さいものとなっており、封止基板9の図中幅方向(短辺)の寸法はアレイ基板1の幅方向の寸法と同じである。なお、本明細書では、「前面」を、EL表示装置100の観察者に向く側の面を、「後面」をその反対に向く面を指す用語として用いている。
Further, a sealing
外部の機器から供給された画像データは、駆動回路24により画素20毎の輝度を示す電圧信号に変換されて映像信号線25に出力され、走査回路22により選択された走査信号線23に対応する画素20に供給される。画素20は、それぞれの画素20に設けられた画素回路により、供給された電圧信号に応じた輝度で発光する。このようにして、表示領域21に格子状に設けられた多数の画素20が所与の画像データに対応した輝度で発光することにより、EL表示装置100は表示領域21に画像を形成する。
Image data supplied from an external device is converted into a voltage signal indicating the luminance of each
図3は、本発明の第1の実施形態に係るEL表示装置100の画素部分を示す部分断面図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a pixel portion of the
EL表示装置100は、絶縁性のアレイ基板1上に多数の画素を規則的に配置し、各画素に対応する位置におけるEL層6の発光量を制御することにより画像を形成する。そのため、アレイ基板1上には、各画素に流れる電流の量を制御するためのTFT(Thin Film Transistor)等からなる電気回路が規則的に(本実施形態の場合、格子状に)配置される回路層2が形成される。なお、アレイ基板1は本実施形態ではガラス基板であるが、絶縁性の基板であればその材質は特に限定されず、合成樹脂その他の材質であってもよい。また、その透明・不透明も問わない。
In the
回路層2は、適宜の絶縁層と、走査信号線、映像信号線、電源線及び接地線等からなる配線と、ゲート、ソース、ドレインそれぞれの電極と半導体層からなるTFTを含んでいる。回路層2を構成する電気回路及びその断面構造は周知のものであるので、ここではその詳細は省略し、これらを単純化して単に回路層2としてのみ示す。 The circuit layer 2 includes an appropriate insulating layer, wiring composed of scanning signal lines, video signal lines, power supply lines, ground lines, and the like, and TFTs composed of gate, source, and drain electrodes and semiconductor layers. Since the electric circuit constituting the circuit layer 2 and its cross-sectional structure are well known, the details thereof are omitted here, and these are simplified and shown only as the circuit layer 2.
回路層2上には、画素毎に独立して反射層3が設けられている。反射層3は、そのさらに上層に設けられるEL層6からの発光を反射する機能を有している。反射層3は適宜の金属膜により形成してよく、例えばアルミニウム、クロム、銀又はこれらの合金を用いてよい。なお、反射層3は、次に説明する下部電極4により兼ねるものとして省略してもよい。或いは、反射層3と下部電極4とが任意の絶縁層等により絶縁されている場合には、反射層3は必ずしも画素毎に独立して設けられずともよく、例えば表示領域21(図2参照)全面を覆うように設けられてもよい。
On the circuit layer 2, the
反射層3のさらに上層には、画素毎に下部電極4が設けられる。下部電極4は、画素分離膜5(バンクとも呼ばれる)により互いに隔てられ、絶縁される。下部電極4は透明導電膜であり、ITO(酸化インジウム錫)やInZnO(酸化亜鉛錫)等の導電性金属酸化物や、かかる導電性金属酸化物中に銀等の金属を混入したものが好適に用いられる。下部電極4が反射層3を兼ねるものである場合には、これを単なる金属薄膜としてもよい。また、画素分離膜5は絶縁性の材料であればどのようなものであってもよく、ポリイミドやアクリル樹脂等の有機絶縁材料や、シリコンナイトライドにより形成してよい。画素分離膜5は、各画素の境界に沿って配置され、各画素を互いに分離する。
A lower electrode 4 is provided for each pixel on the upper layer of the
下部電極4及び画素分離膜5の上層には、EL層6が設けられる。EL層6は、画素毎に独立しておらず、表示領域21(図2参照)全面を覆うように設けられる。また、EL層6の発光色は白色である。かかる白色の発光は、一般的には、複数色、例えば、赤、緑、青の各色や、黄色と青に発光するEL材料を積層することにより合成色として得られるが、本実施形態においてEL層6の具体的構成は特に限定されるものではなく、その単層/積層の別やその層構造については、結果として白色発光が得られるものであればどのようなものであってもよい。また、EL層6を構成する材料は、有機であっても無機であってもよいが、本実施形態では有機材料を使用している。
An
さらに、EL層6の上部には、上部電極7が設けられる。上部電極7もまた、画素毎に独立しておらず、表示領域21(図2参照)全面を覆うように設けられる。上部電極7も透明導電膜であり、ITO(酸化インジウム錫)やInZnO(酸化亜鉛錫)等の導電性金属酸化物に銀やマグネシウム等の金属を混入したもの、銀やマグネシウム等の金属薄膜と導電性金属酸化物を積層したもの、或いは単なる金属薄膜が好適に用いられる。
Further, an
かかる構造により、アレイ基板1の前面に位置する上部電極7は凹凸を有する構造となっている。図3では、画素分離膜5に対応する部分が凸となり、それ以外の部分では平坦な凹となるものとして示されているが、これにさらに回路層2に形成されたTFTやスルーホール等の各種の構造による凹凸が反映されたものとなる。なお、上部電極7のさらに上層に任意の材料による保護層を形成してもよいが、その場合には、かかる保護層が上部電極7と同様の凹凸構造を有することとなる。
With this structure, the
アレイ基板1の前面側には、封止層8が設けられ、EL層6をはじめとする各層への酸素や水分の侵入が防止され、保護される。封止層8は、保護性能に優れた有機材料で構成してよく、また、異種材料を複数積層することにより封止層8を構成してもよい。封止層8には透明の材料が選択される。
A sealing layer 8 is provided on the front side of the array substrate 1 to prevent and protect oxygen and moisture from entering each layer including the
封止層8を挟んで、アレイ基板1と向かい合うように設けられる封止基板9が配置されており、封止基板9の後面、すなわち、アレイ基板1と向き合う面には、画素の境界となる部分にブラックマトリクス10が形成され、さらにその上を覆うように、各画素に対応した位置に、各画素の発光色に対応した色のカラーフィルタ11R、11G、11Bが形成されている。封止基板9は、ガラスあるいは合成樹脂製であり、可視光に対して透明である。また、ブラックマトリクス10は、可視光に対して黒色、すなわち、吸光性を有する材料であればどのようなものであってもよく、例えば、ポリイミドやアクリル系合成樹脂にカーボンを混入したものを用いてよい。また、カラーフィルタ11R、11G及び11Bは任意の合成樹脂、例えばアクリル系合成樹脂に染料材料を混入することによりそれぞれ赤色、緑色及び青色に着色したものである。
A sealing
さらに、カラーフィルタ11R、11G及び11Bを覆うようにオーバーコート層12が形成され、カラーフィルタ11R、11G及び11Bの保護と表示領域21内での封止基板9の後面の平坦化がなされている。オーバーコート層12のブラックマトリクス10と平面視において重なる位置には、オーバーコート層12の厚さの異なる部分として、ここでは部分的にオーバーコート層12が除去された開口部分14が設けられており、カラーフィルタ11R、11G及び11Bがオーバーコート層12から露出している。さらに、開口部分14内に、柱状スペーサ13が形成されている。オーバーコート層12、柱状スペーサ13にはアクリル系、ポリイミド系等の適宜の合成樹脂を用いてよい。
Further, an
このような構造により、EL表示装置100の各画素に対応する位置にあるEL層6は、回路層2に配置された電気回路により制御された量の正孔及び電子が下部電極4及び上部電極7により注入されると、その電流量に応じた輝度で発光する。下部電極4及び上部電極7の極性は特に限定されないが、本実施形態では、下部電極4がアノードとして、また、上部電極7がカソードとして機能するようになっている。また、以上の説明及び図1より明らかなように、EL表示装置100はいわゆるトップエミッション形式であり、アレイ基板1の前側に発光を取り出す。
With such a structure, the
ここで、封止層8は、アレイ基板1と封止基板9間に封止樹脂を充填した後硬化させることにより作成されるが、その際にアレイ基板1と封止基板9を互いに押し付け合うよう加圧するので、封止層8の厚さは主として柱状スペーサ13の高さにより決定される。そして、本実施形態では、柱状スペーサ13が形成される位置において、オーバーコート層12に開口部分14が設けられているため、オーバーコート層12の厚みの分だけ柱状スペーサ13の高さが実質的に低くなっている。そのため、アレイ基板1と封止基板9間の距離がオーバーコート層12の厚みの分だけ短くなり、混色の程度が軽減される。
Here, the sealing layer 8 is formed by filling the sealing resin between the array substrate 1 and the sealing
なお、本実施形態では、柱状スペーサ13が形成される位置にオーバーコート層12を除去した開口部分14を設けたが、これに換え、オーバーコート層12を完全に除去することなく、その厚さを低減した薄膜部分を設けるようにしてもよい。開口部分14、薄膜部分はオーバーコート層12を形成する際に、フォトリソグラフィの手法を用い、エッチングを行ったり、いわゆるハーフ露光を行ったりすることにより形成される。
In this embodiment, the opening
なお、図3に示した例では柱状スペーサ13はカラーフィルタ11R、11G及び11Bの表面に形成したが、図4に示すように、カラーフィルタ11R、11G及び11Bと重ならない位置であって、ブラックマトリクス10の表面に直接形成するようにしてもよい。ブラックマトリクス10の幅が、カラーフィルタ11R、11G及び11Bとの重ね合わせしろを考慮してもなお、柱状スペーサ13を形成できる程度に太い場合には、かかる構造をとることにより、さらに柱状スペーサ13の高さが実質的に低くなる。
In the example shown in FIG. 3, the
なお、図3では柱状スペーサ13がアレイ基板1の表面(上部電極7)に接触しているように示されているが、必ずしも柱状スペーサ13はアレイ基板1の表面に突き当たる必要はない。
In FIG. 3, the
続いて、本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置200を図面を参照しつつ説明する。なお、EL表示装置200の外観は先の第1の実施形態に係るEL表示装置100のものとして図2に示したものと同一である。また、本実施形態に係るEL表示装置200を説明するにあたり、第1の実施形態と同一または同等の構成に対しては同符号を付し、重複する説明は省略する。
Next, an
図5は、本発明の第2の実施形態に係るEL表示装置200の画素部分を示す部分断面図である。EL表示装置200では、オーバーコート層12のブラックマトリクス10と平面視において重なる位置に、オーバーコート層12の厚さの異なる部分として、ここでは部分的にオーバーコート層12の厚さの厚い突起部分15が設けられている。この突起部分15は、先に説明した背景技術又は第1の実施形態における柱状スペーサの機能を代替するものであり、EL表示装置200の製造時に封止層8の厚さを決定する役割を担っている。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing a pixel portion of an
突起部分15はオーバーコート層12を形成する際に、フォトリソグラフィの手法を用い、エッチングを行ったり、いわゆるハーフ露光を行ったりすることにより形成することができる。すなわち、エッチングによる場合にはオーバーコート層12全体を突起部分15と同じ厚さで形成し、その後突起部分15以外の部分をエッチングにより除去し、その厚みを減じればよい。また、ハーフ露光による場合には、オーバーコート層12を形成する樹脂を封止基板9上に塗布した後、突起部分15以外の部分にはハーフトーンマスクによるハーフ露光を行い、その後現像すればよい。オーバーコート層12の厚さは比較的自由に定めることができるので、このようにしても柱状スペーサの高さを実質的に低くすることができる。
When the
続いて、本発明の第3の実施形態に係るEL表示装置300を図面を参照しつつ説明する。なお、EL表示装置300の外観もまた、先の第1の実施形態に係るEL表示装置100のものとして図2に示したものと同一である。また、本実施形態に係るEL表示装置300を説明するにあたり、第1の実施形態と同一または同等の構成に対しては同符号を付し、重複する説明は省略する。
Subsequently, an
図6は、本発明の第3の実施形態に係るEL表示装置300の画素部分を示す部分断面図である。本実施形態に係るEL表示装置300では、オーバーコート層12の厚さの異なる部分として、オーバーコート層12の後面にアレイ基板1の前面の凹凸構造と相補的形状となる凹凸形状が設けられている。すなわち、画素分離膜5の直上などアレイ基板1の前面が凸となる部分ではオーバーコート層12の後面に凹部が、それ以外の平坦で凹となる部分ではオーバーコート層12の後面に凸部が形成される。これにより、アレイ基板1の前面が凸となる部分におけるアレイ基板1の前面と封止基板9の後面間の距離(これは封止層8の厚さに等しい)d1と、アレイ基板1の前面が凹となる部分におけるアレイ基板1の前面と封止基板9の後面間の距離d2との差が小さくなるか、又は等しくなる。このことは、封止層8の面内の厚さの変化が小さくなるということでもある。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a pixel portion of an
このような構造によれば、封止層8を形成するべく、アレイ基板1と封止基板9間に封止樹脂を充填する際に、アレイ基板1の前面と封止基板9の後面間の距離が不均等であることに起因して、封止樹脂が充填されない領域が発生することが防止される。
According to such a structure, when the sealing resin is filled between the array substrate 1 and the sealing
なお、本実施形態におけるオーバーコート層12における凹凸形状もまた、オーバーコート層12を形成する際に、フォトリソグラフィの手法を用い、エッチングを行ったり、いわゆるハーフ露光を行ったりすることにより形成することができる。
The uneven shape in the
なお、以上説明した実施形態において示した各部材の具体的な形状や配置、数等は一例であり、本発明をこれらに限定するものではない。当業者は本発明を実施するにあたり、その実施の態様に応じてこれら各部材の形状等を任意に設計及び変更してよい。 In addition, the specific shape, arrangement, number, and the like of each member shown in the embodiment described above are examples, and the present invention is not limited to these. In carrying out the present invention, those skilled in the art may arbitrarily design and change the shape and the like of each member according to the embodiment.
1 アレイ基板、2 回路層、3 反射層、4 下部電極、5 画素分離膜、6 EL層、7 上部電極、8 封止層、9 封止基板、10 ブラックマトリクス、11R,11G,11B カラーフィルタ、12 オーバーコート層、13 柱状スペーサ、14 開口部分、15 突起部分、20 画素、21 表示領域、22 走査回路、23 走査信号線、24 駆動回路、25 映像信号線、26 FPC、100,200,300,400 EL表示装置。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Array substrate, 2 Circuit layer, 3 Reflective layer, 4 Lower electrode, 5 Pixel separation film, 6 EL layer, 7 Upper electrode, 8 Sealing layer, 9 Sealing substrate, 10 Black matrix, 11R, 11G, 11B Color filter , 12 Overcoat layer, 13 Columnar spacer, 14 Opening portion, 15 Protrusion portion, 20 Pixel, 21 Display area, 22 Scan circuit, 23 Scan signal line, 24 Drive circuit, 25 Video signal line, 26 FPC, 100, 200, 300,400 EL display device.
Claims (5)
後面にブラックマトリクスと、カラーフィルタと、オーバーコート層を備えた封止基板と、
前記アレイ基板と前記封止基板間に充填された封止層と、
を有し、
前記オーバーコート層に、厚さの異なる部分が設けられたEL表示装置。 An array substrate comprising a lower electrode formed for each pixel on the front surface, a pixel separation film separating the lower electrode, and a white light emitting EL layer formed on the lower electrode and the pixel separation film;
A black matrix on the back, a color filter, a sealing substrate with an overcoat layer,
A sealing layer filled between the array substrate and the sealing substrate;
Have
An EL display device in which portions having different thicknesses are provided on the overcoat layer.
前記薄膜部分又は前記開口部分に柱状スペーサが形成されている請求項1記載のEL表示装置。 The portion having a different thickness is a thin film portion where the thickness of the overcoat layer is reduced or an opening portion where the overcoat layer is removed,
The EL display device according to claim 1, wherein a columnar spacer is formed in the thin film portion or the opening portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012283408A JP2014127353A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | El display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012283408A JP2014127353A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | El display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014127353A true JP2014127353A (en) | 2014-07-07 |
Family
ID=51406686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012283408A Pending JP2014127353A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | El display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014127353A (en) |
-
2012
- 2012-12-26 JP JP2012283408A patent/JP2014127353A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI528546B (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
JP6093543B2 (en) | Electroluminescence display device | |
TWI630718B (en) | Organic el device and electronic apparatus | |
US9853095B2 (en) | Display device | |
JP6331276B2 (en) | Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus | |
JP2016173460A (en) | Display device | |
JP6329795B2 (en) | EL display device and method of manufacturing EL display device | |
JP6642604B2 (en) | Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic equipment | |
US9081141B2 (en) | Color filter substrate with light shield members of different thicknesses | |
JP2017143022A (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
JP2017147059A (en) | Electro-optic device and electronic device | |
TW201413941A (en) | Electroluminescence display device | |
KR20150125207A (en) | Organic light emitting display and method of manufacturing the same | |
JP6220171B2 (en) | Organic electroluminescence display device | |
JP2015149231A (en) | organic EL display device | |
JP6318478B2 (en) | ORGANIC EL DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
US20210135155A1 (en) | Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate | |
JP6492403B2 (en) | Organic EL device, method for manufacturing organic EL device, electronic device | |
WO2020100862A1 (en) | Display device and method for manufacturing same, electronic device, and illumination device | |
JP2015175924A (en) | display device | |
JP2015118150A (en) | Liquid crystal display device | |
JP6627955B2 (en) | Organic EL device and electronic equipment | |
JP2014127353A (en) | El display device | |
JP6443510B2 (en) | Organic EL device, method for manufacturing organic EL device, electronic device | |
JP2020061377A (en) | Electro-optical device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus |