JP2014126761A - Laminate and manufacturing method therefor - Google Patents

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Takeshi Otani
剛 大谷
Yusuke Nakai
祐介 中井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate having an anti-reflection capability with a micro concavo-convex structure and offers superior scratch resistance and pencil hardness.SOLUTION: A laminate comprises at least a base material, an intermediate layer, and a micro concavo-convex structure layer laminated together. The intermediate layer and the micro concavo-convex structure layer are made of a cured active energy ray-curable composition. The micro concavo-convex structure layer has a concavo-convex structure in which a distance between each pair of adjacent protrusions is less than wavelengths of visible light. The intermediate layer is made of a hybrid of inorganic components and organic components.

Description

本発明は、積層体、およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate and a method for producing the same.

表面に微細凹凸構造を有する微細凹凸構造体は、連続的な屈折率の変化によって反射防止性能を発現することが知られている。また、微細凹凸構造体は、ロータス効果により超撥水性能を発現することも可能である。ただし、微細凹凸構造の表面は、ナノスケールの凸部が破壊され易く、同じ樹脂で形成された平滑表面に比べ耐擦傷性や耐久性は低い。   It is known that a fine concavo-convex structure having a fine concavo-convex structure on the surface exhibits antireflection performance due to a continuous change in refractive index. In addition, the fine concavo-convex structure can also exhibit super water-repellent performance due to the lotus effect. However, on the surface of the fine concavo-convex structure, the nanoscale convex portions are easily broken, and the scratch resistance and durability are low as compared to the smooth surface formed of the same resin.

微細凹凸構造を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパを用いて射出成形やプレス成形する方法、スタンパと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性組成物(以下「組成物」という場合がある。)を配し、活性エネルギー線の照射により組成物を硬化させて、スタンパの凹凸形状を転写した後にスタンパを剥離する方法、組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後に活性エネルギー線を照射して組成物を硬化させる方法が提案されている。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度を考慮すると、活性エネルギー線の照射により組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好適である。この方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。   Examples of a method for forming a fine concavo-convex structure include, for example, a method of injection molding or press molding using a stamper having an inverted structure of a fine concavo-convex structure, an active energy ray curable composition between a stamper and a transparent substrate. (Hereinafter sometimes referred to as “composition”), the composition is cured by irradiation with active energy rays, and the stamper is removed after transferring the uneven shape of the stamper. The uneven shape of the stamper in the composition A method has been proposed in which the stamper is peeled off after transferring the composition, and then the composition is cured by irradiation with active energy rays. Among these, considering the transferability of the fine concavo-convex structure and the degree of freedom of the surface composition, a method of curing the composition by irradiation with active energy rays and transferring the fine concavo-convex structure is preferable. This method is particularly suitable when a belt-shaped or roll-shaped stamper capable of continuous production is used, and is a method with excellent productivity.

微細凹凸構造が良好な反射防止性能を発現するためには、隣り合う凸部又は凹部の間隔が可視光の波長以下のサイズである必要がある。   In order for the fine concavo-convex structure to exhibit good antireflection performance, the distance between adjacent convex portions or concave portions needs to be a size equal to or smaller than the wavelength of visible light.

これまでにも、活性エネルギー線の照射により組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法により微細凹凸構造を形成した微細凹凸構造体や、微細凹凸構造を形成するための組成物が提案されている。   So far, we have proposed a fine concavo-convex structure in which a fine concavo-convex structure is formed by a method of curing the composition by irradiation of active energy rays and transferring the fine concavo-convex structure, and a composition for forming a fine concavo-convex structure. Has been.

例えば特許文献1には、最密充填されたシリカゾルを鋳型として可視光の波長以下の微細凹凸構造を作製することが記載されている。この微細凹凸構造を形成する組成物としては、トリメチロールプロパントリアクリレートのような分子量当たりの二重結合数が極めて高い多官能モノマーが用いられている。   For example, Patent Document 1 describes that a fine concavo-convex structure having a wavelength equal to or smaller than the wavelength of visible light is prepared using a silica sol that is packed in a close packing as a template. As a composition for forming this fine concavo-convex structure, a polyfunctional monomer having an extremely high number of double bonds per molecular weight such as trimethylolpropane triacrylate is used.

また特許文献2では、微細凹凸を有するハードコート層は、JIS K5600−5−4に準じた鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示す樹脂であることが望ましいと記載されている。そして、その実施例では、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなど、分子量当たりの二重結合数が極めて高い多官能モノマーが用いられている。   Patent Document 2 describes that the hard coat layer having fine irregularities is desirably a resin having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test according to JIS K5600-5-4. In the examples, polyfunctional monomers having an extremely high number of double bonds per molecular weight, such as dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate, are used.

また、特許文献2および3には、基材フィルムとナノ凹凸構造表層の密着性や接着性を高める中間層が開示されている。また、特許文献4には、反射防止効果を高めるためにナノ凹凸構造表面の下層に屈折率調節層を備える積層体が開示されている。また、特許文献5には、凹み傷を復元する機能(自己修復機能)を有する中間層と、その上に屈折率の異なるハードコート層を設けた反射防止フィルムが開示されている。   Patent Documents 2 and 3 disclose an intermediate layer that improves the adhesion and adhesion between the base film and the surface layer of the nano uneven structure. Further, Patent Document 4 discloses a laminate including a refractive index adjusting layer in the lower layer on the surface of the nano uneven structure in order to enhance the antireflection effect. Patent Document 5 discloses an antireflection film in which an intermediate layer having a function of restoring dents (self-healing function) and a hard coat layer having a different refractive index are provided thereon.

特開2000−71290号公報JP 2000-71290 A 特開2002−107501号公報JP 2002-107501 A 特許第3627304号公報Japanese Patent No. 3627304 特開2009−31764号公報JP 2009-31764 A 特許第3676260号公報Japanese Patent No. 3676260

しかしながら、特許文献1〜4に記載のナノ凹凸構造体は、必ずしも耐擦傷性を満足させるものではなかった。特に、ナノ凹凸構造体を形成する樹脂を硬くすると脆くなってしまい、スチールウール等で擦傷試験をした場合にナノ凹凸構造体が破壊され、反射防止性能が容易に失われてしまう。鉛筆硬度についても、鉛筆硬度試験においてナノ凹凸構造体が破壊されて反射防止性能が失われることを防ぐことが困難である。
また、特許文献2〜4に記載の中間層については、層同士の接着性や反射防止性能の改善を目的とするものである。
特許文献5に記載の反射防止フィルムは、押圧による凹みに対する自己修復機能を有する中間層を有するが、必ずしも鉛筆硬度を向上させる機能を有するものではない。
However, the nano uneven structures described in Patent Documents 1 to 4 do not always satisfy the scratch resistance. In particular, if the resin forming the nano uneven structure is hardened, it becomes brittle, and when the scratch test is performed with steel wool or the like, the nano uneven structure is destroyed and the antireflection performance is easily lost. Regarding the pencil hardness, it is difficult to prevent the anti-reflection performance from being lost due to the nano uneven structure being destroyed in the pencil hardness test.
Moreover, about the intermediate | middle layer of patent documents 2-4, it aims at the improvement of the adhesiveness of a layer, and antireflection performance.
The antireflection film described in Patent Document 5 has an intermediate layer having a self-repairing function against depression due to pressing, but does not necessarily have a function of improving pencil hardness.

本発明は上記背景技術に鑑みてなされたものであり、その課題は、表面に微細凹凸構造を有することにより低反射率を発現させることができる積層体において、耐擦傷性と鉛筆硬度とを両立させた積層体、およびその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned background art, and the problem is that in a laminate that can exhibit a low reflectance by having a fine concavo-convex structure on the surface, both scratch resistance and pencil hardness are compatible. It is in providing the laminated body made, and its manufacturing method.

本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の構成を有する積層体が、上記課題を解決できることを見出し本発明に到達した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a laminate having a specific configuration can solve the above problems, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は、少なくとも、基材、中間層および微細凹凸構造層を積層してなる積層体であって、前記中間層と前記微細凹凸構造層は活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であり、該微細凹凸構造層は隣り合う凸部同士の間隔が可視光の波長以下である凹凸構造を有し、該中間層は無機成分および有機成分のハイブリッドであることを特徴とする、積層体である。
前記中間層が、無機成分として平均粒子径が可視光の波長以下である粒子を含むことが好ましい。
前記中間層が、無機成分として平均粒子径が可視光の波長以下であるシリカを含むことが好ましい。
前記中間層の無機成分含有率が、50質量%以上70質量%以下であるこが好ましい。
前記中間層が、有機成分として多官能(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。
That is, the present invention is a laminate formed by laminating at least a base material, an intermediate layer, and a fine uneven structure layer, and the intermediate layer and the fine uneven structure layer are a cured product of an active energy ray-curable composition. The fine concavo-convex structure layer has a concavo-convex structure in which the interval between adjacent convex portions is equal to or less than the wavelength of visible light, and the intermediate layer is a hybrid of an inorganic component and an organic component. It is.
It is preferable that the said intermediate | middle layer contains the particle | grains whose average particle diameter is below the wavelength of visible light as an inorganic component.
It is preferable that the said intermediate | middle layer contains the silica whose average particle diameter is below the wavelength of visible light as an inorganic component.
It is preferable that the inorganic component content of the intermediate layer is 50% by mass or more and 70% by mass or less.
It is preferable that the said intermediate | middle layer contains polyfunctional (meth) acrylate as an organic component.

また、本発明は、下記の工程(I)〜(III)を含むことを特徴とする、積層体の製造方法である。
工程(I):溶剤を含む活性エネルギー線硬化性組成物を前記基材上に塗工後、乾燥させることで未硬化の中間層を形成する工程。
工程(II):前記中間層と微細凹凸転写用スタンパの間に微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を配設する工程。
工程(III):前記基材側から活性エネルギー線を照射し、中間層と前記微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた後、積層体をスタンパから離型する工程。
Moreover, this invention is a manufacturing method of a laminated body characterized by including the following process (I)-(III).
Step (I): A step of forming an uncured intermediate layer by applying an active energy ray-curable composition containing a solvent onto the substrate and then drying the composition.
Step (II): A step of disposing an active energy ray-curable composition for a fine uneven structure layer between the intermediate layer and the fine uneven transfer stamper.
Step (III): A step of irradiating active energy rays from the base material side to cure the active energy ray curable composition for the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer, and then releasing the laminate from the stamper.

前記工程(I)後の未硬化の前記中間層が、指触乾燥性を有することが好ましい。   It is preferable that the uncured intermediate layer after the step (I) has a touch-drying property.

また、本発明は、少なくとも、基材と、有機成分および無機成分のハイブリッド層とからなる積層体であって、前記ハイブリッド層が、未硬化の状態で指触乾燥性を有することを特徴とする積層体である。   The present invention is also a laminate comprising at least a substrate and a hybrid layer of an organic component and an inorganic component, wherein the hybrid layer has a touch-drying property in an uncured state. It is a laminate.

本発明によれば、光の反射防止性能、光の透過性能、機械特性等に優れた積層体を
提供することができる。機械特性のうち、耐傷性等を反映した「耐スチールウール性」、およびそれとは異なる「鉛筆硬度」は二律背反の関係にあるが、本発明によれば、両特性共に良好であり、十分実用に供することができる。それによって、具体的には、FPD等に対する反射防止、光透過性改良、表面保護等の用途に向けて、優れた機械特性を有する積層体を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body excellent in the light reflection preventing performance, the light transmission performance, a mechanical characteristic, etc. can be provided. Among the mechanical properties, “steel wool resistance” reflecting scratch resistance, etc. and “pencil hardness” different from it are in a trade-off relationship, but according to the present invention, both properties are good and sufficiently practical. Can be provided. Thereby, specifically, it is possible to provide a laminate having excellent mechanical properties for applications such as antireflection for FPD, light transmission improvement, surface protection, and the like.

本発明の積層体の実施形態を示す模式的断面図である。It is a typical sectional view showing an embodiment of a layered product of the present invention. 微細凹凸構造を形成する為に使用するスタンパの製造工程の一例を示す模式的断面図である。It is typical sectional drawing which shows an example of the manufacturing process of the stamper used in order to form a fine uneven structure.

[積層体]
本発明の積層体は、基材、中間層および微細凹凸構造(以下、ナノ凹凸構造も含む。)層から構成される。前記中間層と前記微細凹凸構造層は活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であり、該微細凹凸構造層は隣り合う凸部同士の間隔が可視光の波長以下である凹凸構造を有し、該中間層は有機成分および無機成分のハイブリッドであることを特徴とする。中間層は2層以上でもよいが、生産性とコストの点から1層であることが望ましい。
[Laminate]
The laminate of the present invention is composed of a substrate, an intermediate layer, and a fine relief structure (hereinafter also including a nano relief structure) layer. The intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer are a cured product of an active energy ray-curable composition, and the fine concavo-convex structure layer has a concavo-convex structure in which the interval between adjacent convex portions is equal to or less than the wavelength of visible light, The intermediate layer is characterized by being a hybrid of an organic component and an inorganic component. The intermediate layer may be two or more layers, but is preferably one layer from the viewpoint of productivity and cost.

[基材]
基材は、中間層を介して表層となる微細凹凸構造層を支持可能なものであれば、その材質はいずれであってもよい。ただし、後述するように、基材を介して表層を活性エネルギー線の照射により硬化可能とし、遮光性のスタンパの使用を可能とするため、活性エネルギー線に対して透光性を有する基材(以下「光透過性基材」という場合がある。)が好ましい。光透過性基材は、上記の活性エネルギー線を透過する成形体であれば特に限定されない。光透過性基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート(共)重合体、ポリカーボネート、スチレン(共)重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、ラクトン環含有(共)重合体、シクロオレフィン(共)重合体等の合成高分子;セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子;ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル;ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフオン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物(例えば、ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物);ガラスが挙げられる。
[Base material]
The base material may be any material as long as it can support the fine concavo-convex structure layer serving as the surface layer through the intermediate layer. However, as will be described later, the surface layer can be cured by irradiation with active energy rays through the base material, and a light-shielding stamper can be used. Hereinafter, it may be referred to as “light-transmitting substrate”). The light-transmitting substrate is not particularly limited as long as it is a molded body that transmits the active energy ray. Examples of the material constituting the light-transmitting substrate include methyl methacrylate (co) polymer, polycarbonate, styrene (co) polymer, methyl methacrylate-styrene copolymer, lactone ring-containing (co) polymer, and cycloolefin. Synthetic polymers such as (co) polymers; semisynthetic polymers such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, and cellulose acetate butyrate; polyesters such as polyethylene terephthalate and polylactic acid; polyamides, polyimides, polyethersulfones, polysulfones, polyethylenes Polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyurethane, composites of these polymers (for example, composites of polymethyl methacrylate and polylactic acid, polymethyl methacrylate) Composite of polyvinyl chloride); like glass.

基材の形状や製造方法は、特に限定されない。例えば、射出成形体、押し出し成形体、キャスト成形体を使用できる。また、形状は、シート状、フィルム状、その他の立体形状でもよい。特に、上層の成形を容易にする点から、形状は可撓性を有するフィルム状が好ましい。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、基材の表面にコーティングやコロナ処理が施されていてもよい。   The shape and manufacturing method of the substrate are not particularly limited. For example, an injection molded body, an extrusion molded body, and a cast molded body can be used. The shape may be a sheet shape, a film shape, or other three-dimensional shapes. In particular, from the viewpoint of facilitating the molding of the upper layer, the shape is preferably a flexible film. Furthermore, the surface of the substrate may be coated or corona treated for the purpose of improving properties such as adhesion, antistatic properties, scratch resistance, and weather resistance.

基材がフィルムの場合、その厚さは、500μm以下であることが好ましい。このようなフィルム基材を用いることで、ナノ凹凸表面を有する成形体を容易に製造することができる。   When the substrate is a film, the thickness is preferably 500 μm or less. By using such a film substrate, a molded article having a nano uneven surface can be easily produced.

[中間層]
本発明の中間層は、無機成分および有機成分のハイブリッド型の活性エネルギー線硬化性樹種組成物を硬化させた硬化物である。中間層用組成物は、無機成分(A)、有機成分(B)、活性エネルギー線重合開始剤(C)、溶剤成分(D)を含むものが好適に用いられる。
[Middle layer]
The intermediate layer of the present invention is a cured product obtained by curing a hybrid type active energy ray-curable tree species composition of an inorganic component and an organic component. As the intermediate layer composition, a composition containing an inorganic component (A), an organic component (B), an active energy ray polymerization initiator (C), and a solvent component (D) is suitably used.

(無機成分(A))
無機成分(A)は、中間層に鉛筆硬度向上効果と、未硬化の状態での指触乾燥性を付与するために用いられる。
(Inorganic component (A))
The inorganic component (A) is used for imparting an effect of improving pencil hardness to the intermediate layer and dryness to touch in an uncured state.

無機成分(A)の平均粒子径は、400nm以下が好ましく、150nm以下がより好ましく、50nm以下がさらに好ましい。平均粒子径が400nm以下であることで、可視光波長以下の粒子径になるため、中間層を透明にすることが可能になる。また、粒子径が小さいほど基材との密着性が良好となるため、無機成分(A)の粒子径はより小さいほうが望ましい。具体的には、10〜15nm程度の平均粒子径が最適である。平均粒子径が10nmよりも大きいことにより、中間層用組成物の粘度が大きくなり過ぎず、製造時の工程通過性が良好である。   The average particle size of the inorganic component (A) is preferably 400 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 50 nm or less. When the average particle size is 400 nm or less, the particle size is equal to or smaller than the visible light wavelength, and thus the intermediate layer can be made transparent. Moreover, since the adhesiveness with a base material becomes so favorable that a particle diameter is small, the one where the particle diameter of an inorganic component (A) is smaller is desirable. Specifically, an average particle diameter of about 10 to 15 nm is optimal. When the average particle size is larger than 10 nm, the viscosity of the intermediate layer composition does not become too large, and the process passability during production is good.

無機成分(A)としては、例えば、シリカ(二酸化ケイ素)、アルミナ(酸化アルミニウム)、ジルコニア(二酸化ジルコニウム)、チタニア(二酸化チタン)、酸化亜鉛、などの金属酸化物が挙げられる。これらの中でも、有機成分(B)や微細凹凸構造用組成物との屈折率差を小さくしやすいことからシリカが好ましい。   Examples of the inorganic component (A) include metal oxides such as silica (silicon dioxide), alumina (aluminum oxide), zirconia (zirconium dioxide), titania (titanium dioxide), and zinc oxide. Among these, silica is preferable because the difference in refractive index between the organic component (B) and the composition for fine concavo-convex structure can be easily reduced.

シリカの中でも、平均粒子径が小さく、溶液の取り扱いが比較的容易であるため、溶剤分散タイプのコロイダルシリカが好ましい。コロイダルシリカは粒子径が10〜15nm、40〜50nm、70〜100nm程度のものが市販されている。前述の基材との密着性の観点で、粒子径が10〜15nmのものが最も好ましい。   Among silicas, a solvent-dispersed colloidal silica is preferable because the average particle size is small and the solution is relatively easy to handle. Colloidal silica having a particle size of about 10 to 15 nm, 40 to 50 nm, or 70 to 100 nm is commercially available. From the viewpoint of adhesion to the above-mentioned substrate, those having a particle diameter of 10 to 15 nm are most preferable.

無機成分(A)は、中間層用組成物中での分散性向上と、中間層硬化後の有機無機界面での接着性向上のため、表面修飾されていることが好ましい。例えば、無機成分(A)としてシリカを使用した場合、シランカップリング剤を使用してシリカ表面のシラノール基と化学結合を形成させることで表面修飾が可能である。表面修飾によって無機成分(A)の表面に導入する官能基としては、(メタ)アクリロイル基やアルキル基などが挙げられる。好適に用いられるシランカップリング剤としては、信越化学工業社製;KBM−502,KBM−503,KBE−502,KBE−503,KBM−5103などが挙げられる。   The inorganic component (A) is preferably surface-modified in order to improve the dispersibility in the intermediate layer composition and to improve the adhesion at the organic / inorganic interface after the intermediate layer is cured. For example, when silica is used as the inorganic component (A), surface modification is possible by forming a chemical bond with a silanol group on the silica surface using a silane coupling agent. Examples of the functional group introduced onto the surface of the inorganic component (A) by surface modification include a (meth) acryloyl group and an alkyl group. Examples of the silane coupling agent preferably used include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; KBM-502, KBM-503, KBE-502, KBE-503, KBM-5103, and the like.

無機成分(A)として用いられる表面修飾タイプのコロイダルシリカとしては、例えば、
日産化学工業社製;MEK−AC−2101,MEK−AC−2202,MEK−AC−2140Z,MEK−AC−4101,MEK−AC−5101,MIBK−SD,MIBK−SD−L,MEK−ST−40,TOL−STなどが挙げられる。
As the surface modification type colloidal silica used as the inorganic component (A), for example,
Made by Nissan Chemical Industries; MEK-AC-2101, MEK-AC-2202, MEK-AC-2140Z, MEK-AC-4101, MEK-AC-5101, MIBK-SD, MIBK-SD-L, MEK-ST- 40, TOL-ST and the like.

中間層用組成物における無機成分(A)の比率(無機成分含有率)とは、塗工乾燥後の中間層における無機成分の比率である。無機成分(A)の比率は、50質量%以上75質量%以下の範囲であることが好ましく、55質量%以上70質量%以下の範囲がより好ましい。   The ratio (inorganic component content) of the inorganic component (A) in the intermediate layer composition is the ratio of the inorganic component in the intermediate layer after coating and drying. The ratio of the inorganic component (A) is preferably in the range of 50 to 75% by mass, and more preferably in the range of 55 to 70% by mass.

ここでいう無機成分含有率とは、無機成分(A)に占める純粋な無機成分の比率である。例えば、無機成分(A)が表面修飾タイプのコロイダルシリカの場合、表面修飾によって導入された有機基を除いたシリカ成分のみの固形分中の割合を無機成分含有率とする。   The inorganic component content referred to here is a ratio of a pure inorganic component to the inorganic component (A). For example, when the inorganic component (A) is a surface-modified colloidal silica, the ratio of the solid content of only the silica component excluding the organic group introduced by the surface modification is defined as the inorganic component content.

無機成分含有率を上記の範囲にすることによって、中間層が未硬化の状態のときに指触乾燥性を持たせることができる。ここで、指触乾燥性とは未硬化の中間層などの塗膜に触れた際に塗膜表面に跡が付かない特性のことをいう。中間層に指触乾燥性があると、中間層表面がべたつかないため、積層体を巻き取ったり、ロールに接触する工程を含んで搬送したりすることができる。無機成分含有率が低すぎると、十分な硬さが得られずに中間層の鉛筆硬度向上効果が弱まったり、中間層を塗工・乾燥後に未硬化の状態で表面がべたついてしまい、積層体を巻き取れなくなったりする。
逆に無機成分含有率が高すぎると中間層を塗工・乾燥後に表面が白化した状態となったり、微細凹凸構造形成用組成物との密着性が低下したりする。無機成分含有率が高すぎる場合、中間層を塗工・乾燥後の表面付近に有機成分がほとんど無い状態になるため、前述のような不具合が発生する。
By making the inorganic component content within the above range, it is possible to impart touch drying properties when the intermediate layer is in an uncured state. Here, finger-drying refers to a property that does not leave a mark on the surface of the coating film when the coating film such as an uncured intermediate layer is touched. If the intermediate layer is dry to the touch, the surface of the intermediate layer is not sticky, so that the laminate can be wound or transported including a step of contacting the roll. If the inorganic component content is too low, sufficient hardness cannot be obtained and the effect of improving the pencil hardness of the intermediate layer is weakened, or the intermediate layer is coated and dried, and the surface becomes sticky in an uncured state. May not be able to wind up.
On the other hand, if the inorganic component content is too high, the surface of the intermediate layer may be whitened after coating and drying, or the adhesion with the composition for forming a fine uneven structure may be reduced. When the inorganic component content is too high, the intermediate layer is almost free from organic components in the vicinity of the surface after coating and drying.

中間層用組成物を基材表面に塗工・乾燥する際、基材と中間層の界面では中間層用組成物中の有機成分(B)が優先して基材側に浸透していく。基材側に浸透する有機成分の量は溶剤処方や基材の種類によって変化するため、無機成分含有率は上記の範囲で適宜調整する必要がある。   When the intermediate layer composition is applied to the substrate surface and dried, the organic component (B) in the intermediate layer composition preferentially permeates the substrate side at the interface between the substrate and the intermediate layer. Since the amount of the organic component penetrating the substrate side varies depending on the solvent formulation and the type of the substrate, the inorganic component content needs to be appropriately adjusted within the above range.

中間層の形成と微細凹凸構造層の形成とが巻き取り工程を介さずに実施される場合は、中間層の塗工・乾燥後の指触乾燥性は重要な性能ではなくなるため、硬度を損なわない範囲で無機成分含有率を少なくすることが可能になる。   When the formation of the intermediate layer and the formation of the fine concavo-convex structure layer are carried out without a winding process, the touch-drying property after coating / drying of the intermediate layer is not an important performance, so the hardness is impaired. It becomes possible to reduce the inorganic component content within a range.

(有機成分(B))
有機成分(B)は、無機成分(A)が作る空隙を埋めるマトリックスとしての役割と、塗工・乾燥時に基材に浸透して密着性を確保する役割と、微細凹凸構造層形成用組成物と同時に硬化・架橋させることで微細凹凸構造層用組成物との界面で化学結合を形成して密着性を確保する役割を担っている。
(Organic component (B))
The organic component (B) has a role as a matrix that fills voids formed by the inorganic component (A), a role to penetrate the base material during coating / drying to ensure adhesion, and a composition for forming a fine concavo-convex structure layer At the same time, it cures and crosslinks to form a chemical bond at the interface with the composition for a fine concavo-convex structure layer, thereby ensuring adhesion.

有機成分(B)として使用できる化合物は、中間層に硬さを付与するため、重合性官能基を有することが好ましい。有機成分(B)として使用できる化合物としては、例えば、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物などが挙げられるが、重合速度が速く材料選択の幅が広いことからラジカル重合性化合物が好ましい。ラジカル重合性官能基としては、活性エネルギー線硬化性に優れ、材料の選択肢が豊富な(メタ)アクリロイル基が好ましい。   The compound that can be used as the organic component (B) preferably has a polymerizable functional group in order to impart hardness to the intermediate layer. Examples of the compound that can be used as the organic component (B) include a radical polymerizable compound, a cationic polymerizable compound, an anion polymerizable compound, etc., but the radical polymerizable compound has a wide polymerization rate and a wide range of material selection. Is preferred. As the radical polymerizable functional group, a (meth) acryloyl group having excellent active energy ray curability and abundant choice of materials is preferable.

有機成分(B)は、塗工・乾燥時に基材に浸透して密着性を向上させる役割を担っているため、基材への浸透性に優れた成分を含むことが好ましい。基材への浸透性を確保する為には有機成分(B)の分子量が小さい方が好ましい。しかし、中間層が塗工・乾燥後に未硬化の状態で指触乾燥性を持つためには有機成分(B)の粘度が高いほうが好ましい。一般的に分子量が小さいほど粘度は低下する傾向にあるため、有機成分(B)はこのトレードオフの関係にある特性をバランスさせる必要がある。そのため、有機成分(B)の主成分の分子量は100〜10000[g/mol]が好ましく、200〜5000[g/mol]がより好ましく、300〜2000[g/mol]がさらに好ましい。   Since the organic component (B) plays a role of permeating into the base material during coating / drying to improve adhesion, it is preferable that the organic component (B) contains a component excellent in permeation into the base material. In order to ensure the permeability to the substrate, it is preferable that the molecular weight of the organic component (B) is small. However, it is preferable that the viscosity of the organic component (B) is high so that the intermediate layer has a touch-drying property in an uncured state after coating and drying. In general, the smaller the molecular weight, the lower the viscosity. Therefore, the organic component (B) needs to balance the properties in this trade-off relationship. Therefore, the molecular weight of the main component of the organic component (B) is preferably 100 to 10000 [g / mol], more preferably 200 to 5000 [g / mol], and still more preferably 300 to 2000 [g / mol].

また、有機成分(B)の主成分は、中間層に鉛筆硬度向上効果を持たせるために、硬化後の硬度が高いことが求められる。具体的には、主成分の硬化物をガラス基板上で鉛筆硬度測定した結果が2H以上となることが好ましく、4H以上となることがより好ましい。   Further, the main component of the organic component (B) is required to have a high hardness after curing in order to give the intermediate layer an effect of improving pencil hardness. Specifically, the result of measuring the pencil hardness of the cured product of the main component on a glass substrate is preferably 2H or more, and more preferably 4H or more.

有機成分(B)は、中間層に含まれる無機成分(A)を層内で均一に分散させるため、無機成分(A)と分子間相互作用を有することが好ましい。例えば、無機成分(A)がシリカである場合、分子間水素結合を形成可能な官能基を有することが好ましい。分子間水素結合を形成可能な官能基としては、水酸基、ウレタン結合などが挙げられる。   The organic component (B) preferably has an intermolecular interaction with the inorganic component (A) in order to uniformly disperse the inorganic component (A) contained in the intermediate layer within the layer. For example, when the inorganic component (A) is silica, it preferably has a functional group capable of forming an intermolecular hydrogen bond. Examples of the functional group capable of forming an intermolecular hydrogen bond include a hydroxyl group and a urethane bond.

有機成分(B)の主成分として用いることができる化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール(トリ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトール(ペンタ)ヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールポリアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレート、ポリグリセリンポリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、などが挙げられる。
さらに上記の化合物のアルキレンオキサイド変性体、カプロラクトン変性体などが挙げられる。
さらに上記の化合物の中で水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートやジペンタエリスリトールペンタアクリレートなどを、ヘキサメチレンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートなどのイソシアネート化合物と反応させて合成したウレタンアクリレートなどが挙げられる。
Examples of the compound that can be used as the main component of the organic component (B) include pentaerythritol (tri) tetraacrylate, dipentaerythritol (penta) hexaacrylate, tripentaerythritol polyacrylate, polypentaerythritol polyacrylate, and glycerol tris. Examples include acrylate, diglycerin tetraacrylate, polyglycerin polyacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, sorbitol hexaacrylate, and isocyanuric acid EO-modified triacrylate.
Furthermore, the alkylene oxide modified body, caprolactone modified body, etc. of said compound are mentioned.
Furthermore, urethane acrylate synthesized by reacting pentaerythritol triacrylate having a hydroxyl group or dipentaerythritol pentaacrylate with an isocyanate compound such as hexamethylene diisocyanate or isophorone diisocyanate among the above-mentioned compounds.

有機成分(B)として用いることができる市販品としては、例えば、東亞合成社製アロニックスシリーズ:M−309、M−310、M−321、M−350、M−360、M−313、M−315、M−327、M−306、M−305、M−451、M−450、M−408、M−403、M−400、M−402、M−404、M−406、M−405、などが挙げられる。
他には新中村化学工業社製NKシリーズ:A−9300,A−9300−1CL、A−GLY−9E、A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMM−3LM−N、A−TMPT、AD−TMP、A−TMMT、A−9550、A−DPH、A−PG5009E、A−PG5027E、などが挙げられる。
他には大阪有機化学工業社製ビスコートシリーズ:V#295、V#300、V#400、V#360、V#3PA、V#3PMA、V#802、V#1000、V#1020、STAR−501、などが挙げられる。
他には日本化薬社製カヤラッドシリーズ:GPO−303、TMPTA、THE−330、TPA−330、PET−30、T−1420(T)、RP−1040、DPHA、DPEA−12、DPHA−2C、D−310、DPCA−20、DPCA−60、などが挙げられる。
他には共栄社化学社製:UA−306H、UA−306T、UA−306I、UA−510H、などが挙げられる。
他には根上工業株式会社製:UN−906,UN−3320HA,HUN−3320HC,UN−3320HS,UN−904,UN−901T,UN−905、UN−952、などが挙げられる。
As a commercial item which can be used as an organic component (B), for example, Toagosei Co., Ltd. Aronix series: M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M -315, M-327, M-306, M-305, M-451, M-450, M-408, M-403, M-400, M-402, M-404, M-406, M-405 , Etc.
Besides, NK series manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: A-9300, A-9300-1CL, A-GLY-9E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A- Examples include TMPT, AD-TMP, A-TMMT, A-9550, A-DPH, A-PG5009E, A-PG5027E, and the like.
Others are Biscoat series manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .: V # 295, V # 300, V # 400, V # 360, V # 3PA, V # 3PMA, V # 802, V # 1000, V # 1020, STAR -501, etc.
In addition, Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayalad series: GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30, T-1420 (T), RP-1040, DPHA, DPEA-12, DPHA-2C , D-310, DPCA-20, DPCA-60, and the like.
Other examples include Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, and the like.
Others include Negami Kogyo Co., Ltd .: UN-906, UN-3320HA, HUN-3320HC, UN-3320HS, UN-904, UN-901T, UN-905, UN-952, and the like.

有機成分(B)の主成分は、有機成分(B)の中で50質量%以上であることが好ましく、より好ましくは60質量%以上である。   The main component of the organic component (B) is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more in the organic component (B).

有機成分(B)は、中間層に靭性や耐屈曲性を付与してクラック等の発生を防ぐ目的で柔軟性付与成分を加えることができる。
有機成分(B)の柔軟性付与成分として用いることができる化合物としては、例えば、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエン末端ジアクリレート、水添ポリブタジエン末端ジアクリレート、アルコキシ化ビスフェノールAジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、などの2官能(メタ)アクリレート、
メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、(イソ)ステアリル(メタ)アクリレート、などの単官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
The organic component (B) can be added with a flexibility-imparting component for the purpose of imparting toughness and bending resistance to the intermediate layer and preventing the occurrence of cracks and the like.
Examples of the compound that can be used as the flexibility-imparting component of the organic component (B) include:
Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, polybutadiene-terminated diacrylate, hydrogenated polybutadiene-terminated diacrylate, alkoxylated bisphenol Bifunctional (meth) acrylates such as A diacrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate,
Monofunctional (meth) acrylates such as methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, (iso) stearyl (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylate and polyester (meth) acrylate.

有機成分(B)の柔軟性付与成分として用いることができる市販品としては、例えば、
新中村化学工業社製NKシリーズ;AM−90G,AM−130G,AMP−20GY,S−1800A,A−200,A−400,A−600,A−1000,A−B1206PE,ABE−300,APG−700,A−PTMG−65,M−90G,M−230G,S,S−1800M,4G,9G,14G,23G,BPE−100,BPE−200,BPE−500,BPE−900,BPE−1300N,DOD−N,HD−N,NOD−N、などが挙げられる。
他には、大阪有機化学工業社製ビスコートシリーズ;LA,ISTA,V#230,V#260、などが挙げられる。
他には、ダイセル・サイテック社製;EBECRYL 210,EBECRYL 230,EBECRYL 270,EBECRYL 9227EA,KRM 8296,EBECRYL 8402,EBECRYL 9270,EBECRYL 860,EBECRYL 3703,EBECRYL 3708、EBECRYL 812,EBECRYL 852,EBECRYL 853,EBECRYL 884,EBECRYL 885、などが挙げられる。
As a commercial item which can be used as a softness | flexibility provision component of an organic component (B), for example,
NK series manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; AM-90G, AM-130G, AMP-20GY, S-1800A, A-200, A-400, A-600, A-1000, A-B1206PE, ABE-300, APG -700, A-PTMG-65, M-90G, M-230G, S, S-1800M, 4G, 9G, 14G, 23G, BPE-100, BPE-200, BPE-500, BPE-900, BPE-1300N , DOD-N, HD-N, NOD-N, and the like.
Other examples include biscort series manufactured by Osaka Organic Chemical Industry; LA, ISTA, V # 230, V # 260, and the like.
Others are manufactured by Daicel Cytec; EBECRYL 210, EBECRYL 230, EBECRYL 270, EBECRYL 9227EA, KRM 8296, EBECRYL 8402, EBECRYL 9270, EBECRYL 860L, EBECRYL 860L, EBECRYL 830L 884, EBECRYL 885, and the like.

有機成分(B)の柔軟性付与成分は、有機成分(B)の中で0〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは5〜30質量%である。   It is preferable that the softness | flexibility provision component of an organic component (B) is 0-50 mass% in an organic component (B), More preferably, it is 5-30 mass%.

有機成分(B)は、重合性官能基を有するポリマーを使用することができる。重合性官能基を有するポリマーを使用することで、中間層を塗工・乾燥後に未硬化の状態で指触乾燥性を持たせやすくなると共に、中間層に靭性や耐屈曲性を付与してクラック等の発生を防ぐことができる。   As the organic component (B), a polymer having a polymerizable functional group can be used. By using a polymer having a polymerizable functional group, it is easy to impart touch-drying properties in an uncured state after coating and drying the intermediate layer, and toughness and bending resistance are imparted to the intermediate layer to crack. Etc. can be prevented.

有機成分(B)の重合性官能基を有するポリマーとして使用することができる化合物としては、グリシジル基を有する(メタ)アクリレート(共)重合体にアクリル酸を反応させたポリマー、水酸基を有する(メタ)アクリレート(共)重合体にイソシアネート基を有する(メタ)アクリレートを反応させたポリマー、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート(共)重合体に水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させたポリマー、ビニルエーテル基と(メタ)アクリロイル基を同時に有するモノマーのビニルエーテル基のみを選択的に重合させたポリマーなどが挙げられる。   As a compound that can be used as a polymer having a polymerizable functional group of the organic component (B), a polymer obtained by reacting a (meth) acrylate (co) polymer having a glycidyl group with acrylic acid, and a hydroxyl group (meta ) A polymer obtained by reacting an acrylate (co) polymer with an isocyanate group-containing (meth) acrylate, a polymer obtained by reacting an isocyanate group-containing (meth) acrylate (co) polymer with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, vinyl ether And a polymer obtained by selectively polymerizing only a vinyl ether group of a monomer having a group and a (meth) acryloyl group at the same time.

有機成分(B)の重合性官能基を有するポリマーとして使用することができる市販品としては、例えば、大成ファインケミカル社製8KXシリーズ;8KX−012C,8KX−014C,8KX−018C,8KX−052C,8KX−077,8KX−078、などが挙げられる。
他には、新中村化学工業社製;バナレジンGH−1203、日本触媒社製;AX4−HC−M08、などが挙げられる。
Commercially available products that can be used as the polymer having a polymerizable functional group of the organic component (B) include, for example, Taisei Fine Chemical 8KX series; 8KX-012C, 8KX-014C, 8KX-018C, 8KX-052C, 8KX -077, 8KX-078, and the like.
Other examples include Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; Vanare Resin GH-1203, Nippon Shokubai Co., Ltd .; AX4-HC-M08, and the like.

有機成分(B)の重合性官能基を有するポリマーは、有機成分(B)の中で0〜90質量%であることが好ましい。   The polymer having a polymerizable functional group of the organic component (B) is preferably 0 to 90% by mass in the organic component (B).

(活性エネルギー線重合開始剤(C))
活性エネルギー線重合開始剤(C)とは、活性エネルギー線を照射することで開裂し、重合反応を開始させる活性種を発生する化合物である。活性エネルギー線としては、装置コストや生産性の点から、紫外線が好ましい。発生させる活性種としては、反応速度の点でラジカルが好ましい。
(Active energy ray polymerization initiator (C))
The active energy ray polymerization initiator (C) is a compound that generates an active species that is cleaved by irradiation with active energy rays to initiate a polymerization reaction. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferable from the viewpoint of apparatus cost and productivity. The active species to be generated is preferably a radical in terms of reaction rate.

紫外線によってラジカルを発生する活性エネルギー線重合開始剤(C)としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、チオキサントン類(2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等)、アセトフェノン類(ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等)、ベンゾインエーテル類(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等)、アシルホスフィンオキシド類(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド等)、メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。   Examples of the active energy ray polymerization initiator (C) that generates radicals by ultraviolet rays include, for example, benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, and 4-phenylbenzophenone. , T-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, thioxanthones (2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, etc.), acetophenones (diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzene Dil-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone), benzoin ethers (benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc.), acylphosphine oxides (2,4 , 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, etc.), methylbenzoyl Formate, 1,7-bisacridinyl heptane, 9-phenylacridine and the like can be mentioned.

活性エネルギー線重合開始剤(C)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。併用する場合は、吸収波長の異なる2種以上を併用することが好ましい。
また、必要に応じて、過硫酸塩(過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等)、過酸化物(ベンゾイルパーオキシド等)、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
An active energy ray polymerization initiator (C) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using together, it is preferable to use together 2 or more types from which absorption wavelength differs.
Moreover, you may use together thermal polymerization initiators, such as persulfate (potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.), peroxides (benzoyl peroxide, etc.), an azo initiator, as needed.

活性エネルギー線重合開始剤(C)の割合は、有機成分(B)100質量%に対して、0.01〜10質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好ましく、0.2〜3質量%がさらに好ましい。活性エネルギー線重合開始剤(C)の割合が0.01質量%未満では、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化が完結せず、中間層に十分な弾性率を付与できず積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。活性エネルギー線重合開始剤(C)の割合が10質量%を超えると、硬化物内に未反応の活性エネルギー線重合開始剤(C)が残り、可塑剤として働いてしまい、硬化物の弾性率を低下させ、積層体の鉛筆硬度を損なう場合がある。また、着色の原因となる場合もある。   The proportion of the active energy ray polymerization initiator (C) is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the organic component (B), and 0.2 to 3% by mass is more preferable. When the ratio of the active energy ray polymerization initiator (C) is less than 0.01% by mass, the active energy ray curable composition is not completely cured, and the intermediate layer cannot have a sufficient elastic modulus, and the pencil hardness of the laminate. May decrease. When the ratio of the active energy ray polymerization initiator (C) exceeds 10% by mass, the unreacted active energy ray polymerization initiator (C) remains in the cured product, which acts as a plasticizer, and the elastic modulus of the cured product. And the pencil hardness of the laminate may be impaired. Moreover, it may cause coloring.

(溶剤(D))
溶剤は(D)は、中間層用組成物を塗工・乾燥する際の塗工性と、中間層と基材との密着性を確保するために使用する。
(Solvent (D))
The solvent (D) is used for ensuring the coating property when the intermediate layer composition is applied and dried and the adhesion between the intermediate layer and the substrate.

中間層の塗工性が良好となる中間層用組成物の粘度は、25℃で、3〜200[mPa・sec]が好ましく、5〜100mPa[mPa・sec]がより好ましい。粘度の測定にはE型粘度計もしくはB型粘度計が使用できる。粘度が低すぎると乾燥後の中間層の膜厚を厚くすることができず、目的の鉛筆硬度が出せない場合がある。粘度が高すぎると塗工時のレベリング性が悪化し、筋状の膜厚ムラを生じる場合がある。   The viscosity of the intermediate layer composition that provides good coatability of the intermediate layer is preferably 3 to 200 [mPa · sec], more preferably 5 to 100 mPa [mPa · sec] at 25 ° C. For measuring the viscosity, an E-type viscometer or a B-type viscometer can be used. If the viscosity is too low, the thickness of the intermediate layer after drying cannot be increased, and the target pencil hardness may not be achieved. If the viscosity is too high, the leveling property at the time of coating may deteriorate, and streaky film thickness unevenness may occur.

中間層用組成物の固形分濃度は30質量%以上80質量%以下が好ましく、35質量%以上60質量%以下が好ましい。固形分濃度が高すぎると溶剤(D)が少ないため基材への有機成分(B)の浸透が不十分となって基材への密着性が低下する場合がある。固形分濃度が少なすぎると乾燥後の中間層の膜厚を厚くすることができず、目的の鉛筆硬度を出せない場合がある。   The solid content concentration of the intermediate layer composition is preferably 30% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 35% by mass or more and 60% by mass or less. If the solid content concentration is too high, since the solvent (D) is small, the penetration of the organic component (B) into the substrate may be insufficient and the adhesion to the substrate may be reduced. If the solid content concentration is too low, the thickness of the intermediate layer after drying cannot be increased, and the target pencil hardness may not be achieved.

溶剤(D)は、基材への密着性確保のために基材を溶解する溶剤を含むことが好ましい。溶剤(D)が基材を溶解する溶剤を含むことで、基材と中間層の界面が相溶化している緩和層を形成させることができ、結果として密着性が向上する。このような状態にすると、基材と中間層の間での界面反射を減ずることもできるため、干渉縞等の発生を抑制できる効果もある。   It is preferable that a solvent (D) contains the solvent which melt | dissolves a base material in order to ensure the adhesiveness to a base material. When the solvent (D) contains a solvent that dissolves the base material, a relaxation layer in which the interface between the base material and the intermediate layer is compatible can be formed, and as a result, adhesion is improved. In such a state, since the interface reflection between the base material and the intermediate layer can be reduced, there is an effect that the generation of interference fringes and the like can be suppressed.

例えば、トリアセチルセルロースフィルムが基材の場合、トリアセチルセルロースを溶解する溶剤として、
炭素子数が3〜12のエーテル類:具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン
、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1
,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよび
フェネトール等、
炭素数が3〜12のケトン類:具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチル
ケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン
、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等、
炭素数が3〜12のエステル類:具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペ
ンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n−
ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等、
2種類以上の官能基を有する有機溶媒:具体的には、2−メトキシ酢酸メチル、2−エ
トキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メ
トキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−ジア
セトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、およ
びアセト酢酸エチル等が挙げられる。
ハロゲン炭化水素類にはトリアセチルセルロースを溶解するものがあるが、地球環境や作業環境の点で使用しないことが好ましい。
For example, when a triacetyl cellulose film is a base material, as a solvent for dissolving triacetyl cellulose,
Ethers having 3 to 12 carbon atoms: specifically, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1
, 3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole, etc.
Ketones having 3 to 12 carbon atoms: specifically, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, methylcyclohexanone, etc.
Esters having 3 to 12 carbon atoms: specifically, ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-acetate
Pentyl, γ-butyrolactone, etc.
Organic solvent having two or more kinds of functional groups: Specifically, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol 2-butoxyethanol, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate.
Some halogen hydrocarbons dissolve triacetyl cellulose, but it is preferable not to use them in terms of the global environment and working environment.

また、溶剤(D)は、蒸発速度が速い溶剤と蒸発速度が遅い溶剤を組み合わせることが好ましい。蒸発速度が速い溶剤と遅い溶剤を組み合わせることで、短い乾燥時間と優れた表面状態を両立できる。蒸発速度が速い溶剤のみの場合、溶剤の滞在時間が短すぎて基材に有機成分(B)が浸透する時間が確保できないため密着性が低下したり、表面が荒れて白濁してしまったりする場合がある。逆に蒸発速度が遅い溶剤のみの場合、乾燥時間が長くなってライン速度が遅くなり、生産性が低下する場合がある。   The solvent (D) is preferably a combination of a solvent having a high evaporation rate and a solvent having a low evaporation rate. By combining a solvent with a high evaporation rate and a slow solvent, it is possible to achieve both a short drying time and an excellent surface condition. In the case of only a solvent having a high evaporation rate, the residence time of the solvent is too short, and the time for the organic component (B) to penetrate into the base material cannot be secured, resulting in a decrease in adhesion or a rough surface and white turbidity. There is a case. On the other hand, in the case of only a solvent having a low evaporation rate, the drying time becomes long, the line speed becomes slow, and productivity may be lowered.

蒸発速度が速い溶剤と遅い溶剤の組成比は、40:60〜90:10程度の範囲で調整することが好ましい。組み合わせる溶剤の種類によって乾燥時間や基材への浸透性が異なるため、その組み合わせ毎に組成比の最適化が必要である。   The composition ratio of the solvent having a high evaporation rate and the solvent having a low evaporation rate is preferably adjusted in the range of about 40:60 to 90:10. Since the drying time and the permeability to the substrate differ depending on the type of solvent to be combined, it is necessary to optimize the composition ratio for each combination.

また、溶剤(D)は、基材を溶解する溶剤と基材を溶解しない溶剤を組み合わせることで有機成分(B)の基材への浸透量を制御できる。   Further, the solvent (D) can control the amount of the organic component (B) penetrating into the base material by combining a solvent that dissolves the base material and a solvent that does not dissolve the base material.

(紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(E))
中間層用組成物は、紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(E)等をさらに含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系、トリアジン系などが挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン400」や「チヌビン479」、共同薬品社製の「Viosorb110」等の紫外線吸収剤が挙げられる。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、ベンズイミダゾール系、リン系、イオウ系、ヒンダードアミン系の酸化防止剤などが挙げられる。市販品としては、BASF社製の「IRGANOX」シリーズや「TINUVIN」シリーズなどが挙げられる。
これら紫外線吸収剤および酸化防止剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(E)の割合は、有機成分(B)100質量%に対して、合計で0.01〜5質量%が好ましい。
(Ultraviolet absorber and / or antioxidant (E))
The intermediate layer composition may further contain an ultraviolet absorber and / or an antioxidant (E).
Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone, benzotriazole, hindered amine, benzoate, and triazine. Examples of commercially available products include UV absorbers such as “Tinuvin 400” and “Tinuvin 479” manufactured by Ciba Specialty Chemicals, and “Viosorb110” manufactured by Kyodo Pharmaceutical.
Examples of the antioxidant include hindered phenol-based, benzimidazole-based, phosphorus-based, sulfur-based and hindered amine-based antioxidants. Commercially available products include “IRGANOX” series and “TINUVIN” series manufactured by BASF.
These ultraviolet absorbers and antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
As for the ratio of a ultraviolet absorber and / or antioxidant (E), 0.01-5 mass% in total is preferable with respect to 100 mass% of organic components (B).

(離型剤(F))
本発明に用いる中間層用組成物は、離型剤(F)等をさらに含んでも良い。離型剤(F)は、微細凹凸構造層用組成物を硬化させて微細凹凸構造を転写する工程において、工程の開始時と終了時に、一時的に中間層用組成物と微細凹凸構造転写用金型が接触する場合に添加すると生産性を向上させることができる。離型剤(F)を添加することで中間層用組成物およびその硬化物が微細凹凸構造転写用金型の表面に残存することを抑えることができる。
(Release agent (F))
The intermediate layer composition used in the present invention may further contain a release agent (F) and the like. The mold release agent (F) is used to temporarily transfer the intermediate layer composition and the fine relief structure at the start and end of the process in the step of curing the fine relief structure layer composition and transferring the fine relief structure. Productivity can be improved by adding it when the mold comes into contact. By adding the release agent (F), it is possible to suppress the intermediate layer composition and the cured product thereof from remaining on the surface of the fine uneven structure transfer mold.

離型剤(F)としては、後述の微細凹凸構造層用組成物に添加する内部離型剤と同様の化合物を使用することが好ましい。   As the release agent (F), it is preferable to use the same compound as the internal release agent to be added to the composition for a fine uneven structure layer described later.

離型剤(F)としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、リン酸エステルが特に好ましい。リン酸エステルとしては、(ポリ)オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましく、市販品としては、城北化学社製JP−506H、アクセル社製モールドウイズINT−1856、日光ケミカルズ社製TDP−10、TDP−8、TDP−6、TDP−2、DDP−10、DDP−8、DDP−6、DDP−4、DDP−2、TLP−4、TCP−5、およびDLP−10、などが挙げられる。   Examples of the release agent (F) include silicone resins, fluororesins, fluorine compounds, and phosphate esters, and phosphate esters are particularly preferable. The phosphoric acid ester is preferably a (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound, and commercially available products include JP-506H manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd., Mold Width INT-1856 manufactured by Accel Corporation, TDP-10 manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., and TDP- 8, TDP-6, TDP-2, DDP-10, DDP-8, DDP-6, DDP-4, DDP-2, TLP-4, TCP-5, and DLP-10.

離型剤(F)の割合は、有機成分(B)100質量%に対して、0.01〜1質量%が好ましく、0.1〜0.5質量%がより好ましい。   The ratio of the release agent (F) is preferably 0.01 to 1% by mass and more preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to 100% by mass of the organic component (B).

(その他の成分(G))
本発明に用いる中間層用組成物は、必要に応じて、界面活性剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、pH調整剤、分散性助剤、レベリング剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、耐衝撃性改質剤、導電性付与剤等の公知の添加剤を含んでいても良い。特に、帯電防止剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等が表層に含有されると、微細凹凸構造の形状の維持が困難になる場合があることから、これらの添加剤は、表層には含有されず、中間層に含有されることが、積層体の耐擦傷性、反射抑制の点から、好ましい。
(Other ingredients (G))
The intermediate layer composition used in the present invention comprises a surfactant, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, a light stabilizer, a flame retardant, a flame retardant aid, a polymerization inhibitor, a pH adjuster, and a dispersion as necessary. Known additives such as a property aid, a leveling agent, a filler, a silane coupling agent, a coloring agent, a reinforcing agent, an impact modifier, and a conductivity imparting agent may be included. In particular, if an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a near infrared absorber, etc. are contained in the surface layer, it may be difficult to maintain the shape of the fine concavo-convex structure. Therefore, these additives are contained in the surface layer. It is preferable that it is contained in the intermediate layer from the viewpoint of scratch resistance of the laminate and suppression of reflection.

帯電防止剤は、積層体に埃等が付着するのを抑制する。帯電防止剤としては、例えば、ポリチオール系、ポリチオフェン系、ポリアニリン系などの導電性高分子や、カーボンナノチューブ、カーボンブラックなどの無機物微粒子、特開2007−70449号公報で例示されるようなリチウム塩、4級アンモニウム塩が挙げられる。また、これらは単独で用いてもよいし、複数を併用してもよい。これらの中でも、帯電防止剤として、積層体の透明性を損なわず、比較的安価で、安定した性能を発揮するパーフルオロアルキル酸リチウム塩が好ましい。   The antistatic agent suppresses dust and the like from adhering to the laminate. Examples of the antistatic agent include conductive polymers such as polythiol-based, polythiophene-based, and polyaniline-based materials, inorganic fine particles such as carbon nanotubes and carbon black, lithium salts as exemplified in JP-A-2007-70449, A quaternary ammonium salt is mentioned. These may be used alone or in combination. Among these, as the antistatic agent, lithium perfluoroalkyl acid salt that does not impair the transparency of the laminate, is relatively inexpensive, and exhibits stable performance is preferable.

帯電防止剤の添加量は、中間層原料中の重合性モノマー成分又は高分子100質量部(即ち中間層中の重合性成分100質量部)に対し、0.5〜20質量部が好ましく、1〜10質量部がより好ましい。0.5質量部以上であれば、積層体の表面抵抗値を低くすることができ、埃付着防止性能を発揮する。20質量部以下であれば、添加量当たりの性能の向上度合いが良好で、かつコストを抑えることができる。また、良好な帯電防止性能を発揮させるためには、中間層の上に積層する表層の厚みを100μm以下にすることが好ましく、50μm以下にすることがより好ましい。   The addition amount of the antistatic agent is preferably 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer component or polymer in the intermediate layer raw material (that is, 100 parts by mass of the polymerizable component in the intermediate layer). 10 mass parts is more preferable. If it is 0.5 mass part or more, the surface resistance value of a laminated body can be made low and dust adhesion prevention performance is exhibited. If it is 20 mass parts or less, the improvement degree of the performance per addition amount will be favorable, and cost can be suppressed. In order to exhibit good antistatic performance, the thickness of the surface layer laminated on the intermediate layer is preferably 100 μm or less, and more preferably 50 μm or less.

近赤外線吸収剤は、積層体に断熱効果を付与し、積層体をプラズマディスプレイ等に用いた場合、各種家電の赤外線リモコンの誤作動を抑制することができる。近赤外線吸収剤としては、例えばジイモニウム系色素、フタロシアニン系色素、ジチオール系金属錯体系色素、置換ベンゼンジチオール金属錯体系色素、シアニン系色素、スクアリウム系色素などの有機系のものや、導電性アンチモン含有錫酸化物微粒子、導電性錫含有インジウム酸化物微粒子、タングステン酸化物微粒子、複合タングステン酸化物微粒子などの無機系のものが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、複数を併用してもよい。   A near-infrared absorber can give a heat insulation effect to a laminated body, and can suppress malfunction of the infrared remote control of various household appliances, when a laminated body is used for a plasma display etc. Examples of near infrared absorbers include organic dyes such as diimonium dyes, phthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, substituted benzenedithiol metal complex dyes, cyanine dyes, squalium dyes, and conductive antimony Examples thereof include inorganic particles such as tin oxide fine particles, conductive tin-containing indium oxide fine particles, tungsten oxide fine particles, and composite tungsten oxide fine particles. These may be used alone or in combination.

これら添加剤は、積層体の表層に添加してもよい。ただし、表層には添加せずに中間層に添加することにより、微細凹凸表面形状の維持が阻害されるのを抑制すると共に、経時的にブリードアウトが生じることを抑制することができるので好ましい。   These additives may be added to the surface layer of the laminate. However, it is preferable to add it to the intermediate layer without adding it to the surface layer, since it is possible to suppress the maintenance of the fine uneven surface shape and to suppress the occurrence of bleed out over time.

[微細凹凸構造層]
本発明の積層体の微細凹凸構造層は、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であり、隣り合う凸部同士の間隔が可視光の波長以下である凹凸構造を有する。
微細凹凸構造層用組成物としては、重合性有機成分(XB)、活性エネルギー線重合開始剤(XC)、内部離型剤(XF)を含むものが好適に用いられる。
微細凹凸構造層用組成物は、微細凹凸構造層の耐擦傷性能を向上させるものが好ましい。
[Fine uneven structure layer]
The fine concavo-convex structure layer of the laminate of the present invention is a cured product of the active energy ray-curable composition, and has a concavo-convex structure in which the interval between adjacent convex portions is equal to or less than the wavelength of visible light.
As the composition for a fine concavo-convex structure layer, a composition containing a polymerizable organic component (XB), an active energy ray polymerization initiator (XC), and an internal release agent (XF) is preferably used.
The composition for a fine concavo-convex structure layer is preferably one that improves the scratch resistance performance of the fine concavo-convex structure layer.

重合性有機成分(XB)として使用できる化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物などが挙げられるが、重合速度が速く材料選択の幅が広いことからラジカル重合性化合物が好ましい。ラジカル重合性官能基としては、活性エネルギー線硬化性に優れ、材料の選択肢が豊富な(メタ)アクリロイル基が好ましい。   Examples of the compound that can be used as the polymerizable organic component (XB) include radically polymerizable compounds, cationically polymerizable compounds, and anionic polymerizable compounds. The radically polymerizable compound has a wide polymerization rate and a wide range of material selection. Is preferred. As the radical polymerizable functional group, a (meth) acryloyl group having excellent active energy ray curability and abundant choice of materials is preferable.

重合性有機成分(XB)として使用できる(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、微細凹凸構造の耐擦傷性を高くするために2官能以上の(メタ)アクリレートを主成分とすることが好ましく、3官能以上の(メタ)アクリレートを主成分とすることがさらに好ましい。   The compound having a (meth) acryloyl group that can be used as the polymerizable organic component (XB) preferably contains a bifunctional or higher functional (meth) acrylate as a main component in order to increase the scratch resistance of the fine relief structure. More preferably, the main component is a functional (meth) acrylate or higher.

また、微細凹凸構造層用組成物の硬化物を硬くしすぎると、弾性率は高くなるが脆くなり、微細凹凸構造が折れたり削れたりしやすくなるため高い耐擦傷性が得られない。そのため、例えば、オキシエチレン基を架橋構造中に導入して柔軟性を付与し、耐擦傷性を高めることが有効である。架橋構造中へのオキシエチレン基の導入のためには、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートを使用するか、3官能以上のエチレンオキサイド変性(以下EO変性と記す)(メタ)アクリレートを使用することができる。   On the other hand, if the cured product of the composition for fine concavo-convex structure layer is too hard, the elastic modulus becomes high but becomes brittle, and the fine concavo-convex structure is easily broken or scraped, so that high scratch resistance cannot be obtained. Therefore, for example, it is effective to introduce an oxyethylene group into the cross-linked structure to give flexibility and improve scratch resistance. In order to introduce an oxyethylene group into the crosslinked structure, polyethylene glycol di (meth) acrylate may be used, or tri- or higher functional ethylene oxide-modified (hereinafter referred to as EO modification) (meth) acrylate may be used. it can.

微細凹凸構造層用組成物としては、アクリル当量が小さいハード成分(XB1)とアクリル当量が大きいソフト成分(XB2)を組み合わせて硬さを調整することが好ましい。アクリル当量とは、(メタ)アクリロイル基1個当たりの分子量で表される数値である。   As the composition for a fine concavo-convex structure layer, it is preferable to adjust the hardness by combining a hard component (XB1) having a small acrylic equivalent and a soft component (XB2) having a large acrylic equivalent. The acrylic equivalent is a numerical value represented by the molecular weight per (meth) acryloyl group.

アクリル当量が150[g/eq]未満の(メタ)アクリレートをハード成分(XB1)、アクリル当量が150[g/eq]以上の(メタ)アクリレートをソフト成分(XB2)とした場合、ハード成分(XB1)としては、例えば、ペンタエリスリトール(トリ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトール(ペンタ)ヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールポリアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレート、ポリグリセリンポリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、などが挙げられる。
さらに、上記の化合物の中で水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートやジペンタエリスリトールペンタアクリレートなどを、ヘキサメチレンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートなどのイソシアネート化合物と反応させて合成したウレタンアクリレートなどが挙げられる。
When a (meth) acrylate having an acrylic equivalent of less than 150 [g / eq] is a hard component (XB1) and a (meth) acrylate having an acrylic equivalent of 150 [g / eq] or more is a soft component (XB2), XB1) includes, for example, pentaerythritol (tri) tetraacrylate, dipentaerythritol (penta) hexaacrylate, tripentaerythritol polyacrylate, polypentaerythritol polyacrylate, glycerin triacrylate, diglycerin tetraacrylate, polyglycerin polyacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, sorbitol hexaacrylate, and the like.
Furthermore, urethane acrylate synthesized by reacting pentaerythritol triacrylate or dipentaerythritol pentaacrylate having a hydroxyl group with an isocyanate compound such as hexamethylene diisocyanate or isophorone diisocyanate among the above-mentioned compounds.

ハード成分(XB1)の市販品としては、例えば、東亞合成社製アロニックスシリーズ:M−309、M−315、M−306、M−305、M−451、M−450、M−408、M−403、M−400、M−402、M−404、M−406、M−405、などが挙げられる。
他には新中村化学工業社製NKシリーズ:A−9300,A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMM−3LM−N、A−TMPT、AD−TMP、A−TMMT、A−9550、A−DPH、などが挙げられる。
他には日本化薬社製カヤラッドシリーズ:TMPTA、THE−330、PET−30、RP−1040、DPHA、などが挙げられる。
他には共栄社化学社製:UA−306H、UA−306T、UA−306I、UA−510H、などが挙げられる。
ハード成分(XB1)は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を併用しても良い。
As a commercial item of hard component (XB1), for example, Toagosei Co., Ltd. Aronix series: M-309, M-315, M-306, M-305, M-451, M-450, M-408, M -403, M-400, M-402, M-404, M-406, M-405, and the like.
In addition, NK series manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: A-9300, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A-TMPT, AD-TMP, A-TMMT, A- 9550, A-DPH, and the like.
Other examples include Kayrad series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: TMPTA, THE-330, PET-30, RP-1040, DPHA, and the like.
Other examples include Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, and the like.
As the hard component (XB1), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

微細凹凸構造に柔軟性を付与して耐擦傷性を向上させるソフト成分(XB2)としては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールEO変性テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールEO変性ヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールEO変性(メタ)アクリレート、(ポリ)グリセリンEO変性ポリ(メタ)アクリレート、ソルビトールEO変性ヘキサアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、などが挙げられる。   Examples of the soft component (XB2) that imparts flexibility to the fine concavo-convex structure and improves scratch resistance include polyethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol EO-modified tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol EO-modified hexa. Examples include acrylate, tripentaerythritol EO-modified (meth) acrylate, (poly) glycerin EO-modified poly (meth) acrylate, sorbitol EO-modified hexaacrylate, and trimethylolpropane EO-modified triacrylate.

ソフト成分(XB2)の市販品としては、例えば、新中村化学工業社製NKシリーズ;A−200、A−400、A−600、A−1000、4G、9G、14G、23G、A−PG5009E、A−PG5027E、A−PG−5054E、A−GLY−9E、A−GLY−20E、ATM−35E、などが挙げられる。
他には、東邦化学工業社製:T−200EA、S−130EAなどが挙げられる。
他には、日本化薬社製KAYARADシリーズ;DPEA−12などが挙げられる。
他には、第一工業製薬社製:DPHA−30EO、DPHA−36EO、DPHA−42EO、DPHA−48EO、DPHA−54EO、PETA−32EO、PETA−36EO、PETA−40EO、PETA−48EO、PETA−56EO、などが挙げられる。
ソフト成分(XB2)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用しても良い。
As a commercial item of soft component (XB2), for example, NK series manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; A-200, A-400, A-600, A-1000, 4G, 9G, 14G, 23G, A-PG5009E, A-PG5027E, A-PG-5054E, A-GLY-9E, A-GLY-20E, ATM-35E, etc. are mentioned.
Other examples include T-200EA and S-130EA manufactured by Toho Chemical Industries.
In addition, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD series; DPEA-12 etc. are mentioned.
In addition, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: DPHA-30EO, DPHA-36EO, DPHA-42EO, DPHA-48EO, DPHA-54EO, PETA-32EO, PETA-36EO, PETA-40EO, PETA-48EO, PETA-56EO , Etc.
A soft component (XB2) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

重合性有機成分(XB)中のハード成分(XB1)とソフト成分(XB2)の割合は、用いる化合物によって適宜調整できる。重合性有機成分(XB)のアクリル当量で示すと、微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔が100nm程度の場合は130〜160[g/eq]程度、微細凹凸構造の隣り合う凸部同士の間隔が80nm程度の場合は240〜300[g/eq]程度で調整することが好ましい。微細凹凸構造はその隣り合う凸部同士の間隔によって硬化物の最適な硬さが異なる。隣り合う凸部同士の間隔が小さいほど、微細凹凸の複数の突起が密着してしまう現象が起こりやすいため、アクリル当量を小さくして微細凹凸構造層用組成物の硬化物を硬くしておく必要がある。   The ratio of the hard component (XB1) and the soft component (XB2) in the polymerizable organic component (XB) can be appropriately adjusted depending on the compound used. In terms of the acrylic equivalent of the polymerizable organic component (XB), when the spacing between adjacent convex portions of the fine concavo-convex structure is about 100 nm, the adjacent convex portions of the fine concavo-convex structure are about 130 to 160 [g / eq]. When the interval is about 80 nm, it is preferably adjusted at about 240 to 300 [g / eq]. In the fine concavo-convex structure, the optimum hardness of the cured product varies depending on the interval between the adjacent convex portions. The smaller the spacing between adjacent convex portions, the more likely the phenomenon that a plurality of projections of fine irregularities are brought into close contact with each other. Therefore, it is necessary to reduce the acrylic equivalent and harden the cured product of the composition for fine irregular structures. There is.

その他に重合性有機成分(XB)として用いることができる化合物としては、例えば、上記以外の単官能(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、反応性ポリマーなどが挙げられる。   Other compounds that can be used as the polymerizable organic component (XB) include, for example, monofunctional (meth) acrylates other than those described above, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and reactivity. Examples thereof include polymers.

(活性エネルギー線重合開始剤(XC))
活性エネルギー線重合開始剤(XC)とは、活性エネルギー線を照射することで開裂し、重合反応を開始させる活性種を発生する化合物である。活性エネルギー線としては、装置コストや生産性の点から、紫外線が好ましい。発生させる活性種としては、反応速度の点でラジカルが好ましい。
(Active energy ray polymerization initiator (XC))
The active energy ray polymerization initiator (XC) is a compound that generates an active species that is cleaved by irradiating active energy rays to initiate a polymerization reaction. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferable from the viewpoint of apparatus cost and productivity. The active species to be generated is preferably a radical in terms of reaction rate.

紫外線によってラジカルを発生する活性エネルギー線重合開始剤(XC)としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、チオキサントン類(2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等)、アセトフェノン類(ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等)、ベンゾインエーテル類(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等)、アシルホスフィンオキシド類(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド等)、メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。   Examples of the active energy ray polymerization initiator (XC) that generates radicals by ultraviolet rays include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, and 4-phenylbenzophenone. , T-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, thioxanthones (2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, etc.), acetophenones (diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2- Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone), benzoin ethers (benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc.), acylphosphine oxides (2,4 , 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, etc.), methylbenzoyl Formate, 1,7-bisacridinyl heptane, 9-phenylacridine and the like can be mentioned.

活性エネルギー線重合開始剤(XC)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。併用する場合は、吸収波長の異なる2種以上を併用することが好ましい。
また、必要に応じて、過硫酸塩(過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等)、過酸化物(ベンゾイルパーオキシド等)、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
An active energy ray polymerization initiator (XC) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using together, it is preferable to use together 2 or more types from which absorption wavelength differs.
Moreover, you may use together thermal polymerization initiators, such as persulfate (potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.), peroxides (benzoyl peroxide, etc.), an azo initiator, as needed.

活性エネルギー線重合開始剤(XC)の割合は、重合性有機成分(XB)100質量%に対して、0.01〜10質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好ましく、0.2〜3質量%がさらに好ましい。活性エネルギー線重合開始剤(XC)の割合が0.01質量%未満では、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化が完結せず、中間層に十分な弾性率を付与できず積層体の鉛筆硬度が低下する場合がある。活性エネルギー線重合開始剤(XC)の割合が10質量%を超えると、硬化物内に未反応の活性エネルギー線重合開始剤(XC)が残り、可塑剤として働いてしまい、硬化物の弾性率を低下させ、積層体の鉛筆硬度を損なう場合もある。また、着色の原因となる場合もある。   The proportion of the active energy ray polymerization initiator (XC) is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to 100% by mass of the polymerizable organic component (XB). 2-3 mass% is more preferable. When the ratio of the active energy ray polymerization initiator (XC) is less than 0.01% by mass, the active energy ray curable composition is not completely cured, and the intermediate layer cannot be provided with a sufficient elastic modulus, and the pencil hardness of the laminate. May decrease. When the ratio of the active energy ray polymerization initiator (XC) exceeds 10% by mass, the unreacted active energy ray polymerization initiator (XC) remains in the cured product and acts as a plasticizer, and the elastic modulus of the cured product. And the pencil hardness of the laminate may be impaired. Moreover, it may cause coloring.

(紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(XE))
中間層用組成物は、紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(XE)等をさらに含んでもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系、トリアジン系などが挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の「チヌビン400」や「チヌビン479」、共同薬品社製の「Viosorb110」等の紫外線吸収剤が挙げられる。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、ベンズイミダゾール系、リン系、イオウ系、ヒンダードアミン系の酸化防止剤などが挙げられる。市販品としては、BASF社製の「IRGANOX」シリーズや「TINUVIN」シリーズなどが挙げられる。
これら紫外線吸収剤および酸化防止剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
紫外線吸収剤および/または酸化防止剤(XE)の割合は、重合性有機成分(XB)100質量%に対して、合計で0.01〜5質量%が好ましい。
(Ultraviolet absorber and / or antioxidant (XE))
The intermediate layer composition may further contain an ultraviolet absorber and / or an antioxidant (XE) and the like.
Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone, benzotriazole, hindered amine, benzoate, and triazine. Examples of commercially available products include UV absorbers such as “Tinuvin 400” and “Tinuvin 479” manufactured by Ciba Specialty Chemicals, and “Viosorb110” manufactured by Kyodo Pharmaceutical.
Examples of the antioxidant include hindered phenol-based, benzimidazole-based, phosphorus-based, sulfur-based and hindered amine-based antioxidants. Commercially available products include “IRGANOX” series and “TINUVIN” series manufactured by BASF.
These ultraviolet absorbers and antioxidants may be used alone or in combination of two or more.
As for the ratio of a ultraviolet absorber and / or antioxidant (XE), 0.01-5 mass% in total is preferable with respect to 100 mass% of polymerizable organic components (XB).

(離型剤(XF))
本発明の微細凹凸構造層用脂組成物は、離型剤(XF)を含んでいてもよい。離型剤(XF)は、微細凹凸構造層用組成物を硬化させて微細凹凸構造を転写する工程において、金型からの離型性を長期にわたって維持させるために添加する。
(Release agent (XF))
The fine concavo-convex structure layer fat composition of the present invention may contain a release agent (XF). The mold release agent (XF) is added in order to maintain the releasability from the mold for a long period in the step of curing the composition for a fine uneven structure layer and transferring the fine uneven structure.

離型剤(XF)としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、リン酸エステルが特に好ましい。リン酸エステルとしては、(ポリ)オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましく、市販品としては、城北化学社製JP−506H、アクセル社製モールドウイズINT−1856、日光ケミカルズ社製TDP−10、TDP−8、TDP−6、TDP−2、DDP−10、DDP−8、DDP−6、DDP−4、DDP−2、TLP−4、TCP−5、DLP−10、などが挙げられる。   Examples of the release agent (XF) include silicone resins, fluororesins, fluorine compounds, and phosphate esters, and phosphate esters are particularly preferable. The phosphoric acid ester is preferably a (poly) oxyalkylene alkyl phosphate compound, and commercially available products include JP-506H manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd., Mold Width INT-1856 manufactured by Accel Corporation, TDP-10 manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., and TDP- 8, TDP-6, TDP-2, DDP-10, DDP-8, DDP-6, DDP-4, DDP-2, TLP-4, TCP-5, DLP-10, and the like.

離型剤(XF)の割合は、重合性有機成分(XB)100質量%に対して、0.01〜1質量%が好ましく、0.1〜0.5質量%がより好ましい。   The ratio of the release agent (XF) is preferably 0.01 to 1% by mass and more preferably 0.1 to 0.5% by mass with respect to 100% by mass of the polymerizable organic component (XB).

(その他の成分(XG))
本発明の微細凹凸構造層用組成物は、必要に応じて、界面活性剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、pH調整剤、分散性助剤、レベリング剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、耐衝撃性改質剤、導電性付与剤、溶剤等の公知の添加剤を含んでいても良い。
(Other components (XG))
The composition for a fine concavo-convex structure layer of the present invention includes a surfactant, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, a light stabilizer, a flame retardant, a flame retardant aid, a polymerization inhibitor, a pH adjuster, if necessary. Dispersibility aids, leveling agents, fillers, silane coupling agents, colorants, reinforcing agents, impact modifiers, conductivity-imparting agents, solvents, and other known additives may be included.

[各層の屈折率]
本発明の積層体は、基材、中間層、および微細凹凸構造層の構成部材を含み構成される。本発明の積層体は、表面の微細凹凸構造による反射防止性能が主たる機能である。そのため、積層体の各層の界面で反射が生じることは好ましくない。界面での反射は反射防止性能の低下のみならず、干渉縞発生による外観悪化につながる場合がある。そのため、基材と中間層との屈折率差は、より小さいほうが好ましい。ただし、前述の通り、中間層用組成物として溶剤を使用しての塗工・乾燥によって基材と中間層の界面が互いに相溶している緩和層を生じさせることができる。一方、中間層と微細凹凸構造層の界面についても、微細凹凸構造層を溶剤系の組成物で形成した場合は同様に緩和層を生じさせることができる。しかし、微細凹凸構造層を無溶剤系の組成物で形成する場合は、中間層と微細凹凸構造層の間に界面が残りやすい。この場合は、微細凹凸構造層と中間層の屈折率差を小さくすることが好ましい。具体的には、微細凹凸構造層と中間層の屈折率差は0〜0.1が好ましく、0〜0.05がより好ましく、0〜0.01がさらに好ましい。微細凹凸構造による反射防止性能が高いほど、わずかな界面反射が干渉縞発生につながるため、各層間の屈折率差の制御は重要である。
[Refractive index of each layer]
The laminate of the present invention includes a constituent member of a base material, an intermediate layer, and a fine relief structure layer. The laminate of the present invention mainly has an antireflection performance due to the fine concavo-convex structure on the surface. Therefore, it is not preferable that reflection occurs at the interface of each layer of the laminate. Reflection at the interface may lead to deterioration in appearance due to generation of interference fringes as well as a decrease in antireflection performance. Therefore, it is preferable that the difference in refractive index between the base material and the intermediate layer is smaller. However, as described above, a relaxation layer in which the interface between the substrate and the intermediate layer is compatible with each other can be produced by coating and drying using a solvent as the intermediate layer composition. On the other hand, as for the interface between the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer, when the fine concavo-convex structure layer is formed of a solvent-based composition, a relaxation layer can be similarly formed. However, when the fine concavo-convex structure layer is formed of a solventless composition, an interface tends to remain between the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer. In this case, it is preferable to reduce the refractive index difference between the fine relief structure layer and the intermediate layer. Specifically, the refractive index difference between the fine relief structure layer and the intermediate layer is preferably 0 to 0.1, more preferably 0 to 0.05, and still more preferably 0 to 0.01. As the antireflection performance by the fine concavo-convex structure is higher, a slight interface reflection leads to generation of interference fringes, and therefore, the control of the refractive index difference between each layer is more important.

[積層体の製造方法]
本発明の積層体の製造方法は、以下の記載によって特に限定されるものではないが、下記の工程(I)〜(III)の工程を含む。
工程(I):溶剤を含む活性エネルギー線硬化性組成物を前記基材上に塗工後、乾燥させることで未硬化の中間層を形成する工程。
工程(II):前記中間層と微細凹凸転写用スタンパの間に前記微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を配設する工程。
工程(III):前記基材側から活性エネルギー線を照射し、前記中間層と前記微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた後、積層体をスタンパから離型する工程。
[Manufacturing method of laminate]
Although the manufacturing method of the laminated body of this invention is not specifically limited by the following description, The process of the following process (I)-(III) is included.
Step (I): A step of forming an uncured intermediate layer by applying an active energy ray-curable composition containing a solvent onto the substrate and then drying the composition.
Step (II): A step of disposing the active energy ray-curable composition for the fine uneven structure layer between the intermediate layer and the fine uneven transfer stamper.
Step (III): a step of irradiating active energy rays from the substrate side to cure the intermediate layer and the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure layer, and then releasing the laminate from the stamper.

[工程(I)]
工程(I)では、基材上に中間層用組成物を塗工した後に乾燥させる。塗工・乾燥後の中間層は未硬化の状態のまま工程(I)は終了する。
[Step (I)]
In the step (I), the intermediate layer composition is coated on the substrate and then dried. The step (I) ends with the intermediate layer after coating and drying remaining uncured.

中間層用組成物を塗工後または乾燥後に、中間層が硬化しない程度まで活性エネルギー線を照射してもよい。その場合、酸素による硬化阻害を利用し、中間層の表面近傍により多くの残存二重結合基を残すことで、微細凹凸構造層との密着性を確保することができる。   You may irradiate an active energy ray to such an extent that an intermediate | middle layer is not hardened after coating or drying an intermediate | middle layer composition. In that case, adhesion with the fine concavo-convex structure layer can be ensured by utilizing the inhibition of curing by oxygen and leaving more residual double bond groups near the surface of the intermediate layer.

工程(I)終了後に中間層上には保護フィルムを貼ることができる。保護フィルムは、中間層上に異物が付着することを防いだり、一度巻き取ったときに基材の裏面と中間層でブロッキングしたりしないようにする機能がある。保護フィルムとしては、公知のものを適宜選択可能であるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)などが挙げられる。保護フィルム表面には、離型処理、ブロッキング防止処理、帯電防止処理などの種々の表面処理が可能である。   A protective film can be stuck on the intermediate layer after completion of the step (I). The protective film has functions to prevent foreign matters from adhering to the intermediate layer and to prevent blocking between the back surface of the substrate and the intermediate layer once wound up. As the protective film, a known film can be appropriately selected. Examples thereof include polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene (PE). The surface of the protective film can be subjected to various surface treatments such as a mold release treatment, an antiblocking treatment, and an antistatic treatment.

中間層の塗工方式としては種々のコーティング方法から中間層用組成物の性状を勘案して適宜選択可能である。塗工方式としては、例えば、グラビヤコーター、バーコーター、スロットダイコーター、リップコーター、コンマコーター、などが挙げられる。   The coating method for the intermediate layer can be appropriately selected from various coating methods in consideration of the properties of the intermediate layer composition. Examples of the coating method include a gravure coater, a bar coater, a slot die coater, a lip coater, and a comma coater.

塗工・乾燥後の中間層の厚さは、5〜40μm程度が好ましく、10〜20μm程度がより好ましい。中間層の厚さが5μm以上であれば、鉛筆硬度試験において基材まで鉛筆による押し込み変形が及んで圧痕が生じる現象を抑えることができる。また、中間層の厚さが40μm以下であれば折り曲げ時の割れや、積層体の反りの問題を防ぐことができる。中間層の厚み精度は±2μm以内が好ましく、±1μm以内がより好ましい。   The thickness of the intermediate layer after coating and drying is preferably about 5 to 40 μm, more preferably about 10 to 20 μm. If the thickness of the intermediate layer is 5 μm or more, it is possible to suppress a phenomenon in which indentation occurs due to indentation deformation by the pencil to the base material in the pencil hardness test. Moreover, if the thickness of the intermediate layer is 40 μm or less, it is possible to prevent the problem of cracking during bending and warping of the laminate. The thickness accuracy of the intermediate layer is preferably within ± 2 μm, and more preferably within ± 1 μm.

工程(I)の後の中間層は、未硬化の状態で指触乾燥性を有することが好ましい。指触乾燥性を有していれば工程通過性が良好である。   It is preferable that the intermediate layer after the step (I) is dry to the touch in an uncured state. If it has touch dryness, the process passability is good.

[工程(II)]
工程(II)では、工程(I)で塗工・乾燥して未硬化の状態の中間層と微細凹凸転写用スタンパとの間に、微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物を配設する。微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物を配設する方法としては、公知の種々の方法が選択可能である。
[Step (II)]
In step (II), an active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is disposed between the intermediate layer coated and dried in step (I) and uncured and the fine concavo-convex transfer stamper. . As a method for disposing the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure, various known methods can be selected.

微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物が無溶剤の場合、種々のコーターを用いて未硬化の中間層上に硬化液を塗工した後に転写用スタンパに接触させる方法(II−1)と、ロール状の転写用スタンパと中間層の間に硬化液からなるバンクを形成させ、バンクにノズルから硬化液を供給する方法(II−2)がある。   When the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is solvent-free, a method (II-1) of contacting a transfer stamper after applying a curable liquid on an uncured intermediate layer using various coaters There is a method (II-2) in which a bank made of a curable liquid is formed between a roll-shaped transfer stamper and an intermediate layer, and the curable liquid is supplied to the bank from a nozzle.

方法(II−1)では、微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物の硬化液の塗工方式としては種々のコーティング方法から中間層用活性エネルギー線硬化性組成物の性状を勘案して適宜選択可能である。塗工方式としては、例えば、グラビヤコーター、バーコーター、スロットダイコーター、リップコーター、コンマコーター、などが挙げられる。   In the method (II-1), the coating method of the curing liquid of the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is appropriately determined in consideration of the properties of the active energy ray-curable composition for intermediate layer from various coating methods. Selectable. Examples of the coating method include a gravure coater, a bar coater, a slot die coater, a lip coater, and a comma coater.

方法(II−2)では、ノズルをスロットダイコーター等に置き換え、カーテン状の硬化液をバンクに対して供給する方法等が挙げられる。この方法(II−2)では、ロール状転写用スタンパに対するニップロールの硬さや材質とニップ圧、あるいはロール状転写用スタンパとニップロールとのギャップによって微細凹凸構造用組成物からなる層の膜厚を制御できる。   The method (II-2) includes a method in which the nozzle is replaced with a slot die coater and the like, and a curtain-like curable liquid is supplied to the bank. In this method (II-2), the film thickness of the layer made of the composition for fine concavo-convex structure is controlled by the hardness and material of the nip roll with respect to the roll-shaped transfer stamper and the nip pressure, or the gap between the roll-shaped transfer stamper and the nip roll. it can.

微細凹凸構造用組成物が溶剤を含む場合、方法(II−1)と同様の方法で中間層上に硬化液を塗工し、次いで乾燥させる。   When the composition for fine concavo-convex structure contains a solvent, the curable liquid is applied on the intermediate layer in the same manner as in the method (II-1) and then dried.

微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物からなる層の厚さは、5〜40μm程度が好ましく、10〜20μm程度がより好ましい。微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物からなる層の厚さが5μm以上であれば、微細凹凸構造に十分な耐擦傷性を付与できる。また、微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物からなる層の厚さが40μm以下であれば折り曲げ時の割れや、積層体の反りの問題を防ぐことができる。微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物からなる層の厚み精度は±2μm以内が好ましく、±1μm以内がより好ましい。   About 5-40 micrometers is preferable and, as for the thickness of the layer which consists of an active energy ray curable composition for fine concavo-convex structures, about 10-20 micrometers is more preferable. If the thickness of the layer made of the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is 5 μm or more, sufficient scratch resistance can be imparted to the fine concavo-convex structure. Moreover, if the thickness of the layer made of the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is 40 μm or less, it is possible to prevent the problems of cracking during bending and warping of the laminate. The thickness accuracy of the layer made of the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure is preferably within ± 2 μm, and more preferably within ± 1 μm.

[工程(III)]
工程(III)では、基材側から活性エネルギー線を照射し、中間層と微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を同時に硬化させる。活性エネルギー線としては、装置コストや生産性の観点から紫外線を使用することが好ましい。紫外線の照射量は、中間層用活性エネルギー線硬化性組成物および微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物が含有する開始剤の量と基材の透過率を勘案して適宜決定すればよい。紫外線を発生する光源は特に限定はなく、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、ハロゲンランプ、各種レーザー等公知のものが用いられる。積算光量の目安は200〜10000mJ/cm2である。
[Step (III)]
In the step (III), active energy rays are irradiated from the substrate side, and the intermediate layer and the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure layer are simultaneously cured. As the active energy ray, it is preferable to use ultraviolet rays from the viewpoint of apparatus cost and productivity. The irradiation amount of ultraviolet rays may be appropriately determined in consideration of the amount of initiator contained in the active energy ray-curable composition for intermediate layer and the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure and the transmittance of the substrate. . The light source that generates ultraviolet rays is not particularly limited, and known ones such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, and various lasers are used. The standard of the integrated light quantity is 200 to 10000 mJ / cm 2 .

また、基材が紫外線の一部を吸収するような場合、紫外線照射時に基材が紫外線を吸収して過熱状態となって熱変形等を生じる可能性がある。そういった場合、基材に吸収されて中間層及び微細凹凸構造層に達しない波長の紫外線をカットするフィルタを設置したり、積層体を冷却したりする等の対策が施されることが好ましい。   In addition, when the base material absorbs a part of the ultraviolet rays, the base material may absorb the ultraviolet rays during the ultraviolet irradiation and become overheated, which may cause thermal deformation or the like. In such a case, it is preferable to take measures such as installing a filter that cuts ultraviolet rays having a wavelength that is absorbed by the base material and does not reach the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer, and cooling the laminate.

工程(III)で中間層と微細凹凸構造層を同時に硬化した後、微細凹凸構造転写用スタンパから離型することで目的の積層体を得る。前述の微細凹凸構造用活性エネルギー線硬化性組成物に添加した離型剤(XF)の効果により、低い剥離力で且つ微細凹凸構造に欠けが無く離型できる。
また、離型時の温度が硬化時の温度より低くなるようにすると、熱収縮によって微細凹凸構造を形成する樹脂の硬化物が縮み、離型がより容易になる場合がある。
In step (III), the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer are cured simultaneously, and then the desired laminate is obtained by releasing from the stamper for fine concavo-convex structure transfer. Due to the effect of the release agent (XF) added to the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure described above, the mold can be released with a low peeling force and without a chip in the fine concavo-convex structure.
Further, if the temperature at the time of mold release is lower than the temperature at the time of curing, the cured product of the resin forming the fine concavo-convex structure may be shrunk by heat shrink, and the mold release may be easier.

工程(III)で硬化させる中間層と微細凹凸構造層との合計膜厚は10μm〜80μm程度が好ましく、20μm〜50μm程度がより好ましい。合計膜厚は薄いほうが本発明の積層体全体の厚さが薄くなるため好ましいが、積層体の鉛筆硬度を2H以上にするためにはある程度以上の膜厚が必要である。   The total film thickness of the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer cured in the step (III) is preferably about 10 μm to 80 μm, and more preferably about 20 μm to 50 μm. A thinner total film thickness is preferable because the thickness of the entire laminate of the present invention is reduced. However, in order to increase the pencil hardness of the laminate to 2H or higher, a film thickness of a certain level or more is required.

[その他の工程]
工程(I)〜(III)以外の工程としては、工程(I)〜(III)の間に異物や欠陥等の検査工程を設置可能である。他には、工程(III)の後に微細凹凸構造層側から再度活性エネルギー線を照射するポストキュアを行い、中間層及び微細凹凸構造層の硬化を完結させたり、未開列の残存開始剤を減少させたりする工程を設置する方法や、保護フィルムを貼り合わせる工程等が考えられる。
[Other processes]
As a process other than the processes (I) to (III), an inspection process such as a foreign substance or a defect can be installed between the processes (I) to (III). In addition, after the step (III), post-curing is performed by irradiating active energy rays again from the side of the fine relief structure layer to complete the curing of the intermediate layer and fine relief structure layer, or to reduce the remaining unopened initiator. The method of installing the process to let it be, the process of bonding a protective film, etc. can be considered.

[微細凹凸構造]
図1(a)及び(b)は、本発明の積層体の実施形態を示す模式的断面図である。図1においては、基材11上に中間層15と表層(微細凹凸構造層)12が順次積層されてなる積層体10を例示している。表層12の表面は、図1に示すように、表層12の表面が表面反射防止性を発現する微細凹凸構造を有する。具体的には、表層12の表面に凸部13及び凹部14がおおよそ等間隔で形成されていることが好ましい。図1(a)の凸部13の形状は円錐状又は角錐状であり、図1(b)の凸部13の形状は釣鐘状である。ただし、微細凹凸構造の凸部13の形状はこれらに限定されず、表層12膜面で切断した時の断面積の占有率が、凸部の中心点(頂点)13aから凹部14にかけて連続的に増大するような構造であればよい。また、より微細な凸部が合一して微細凹凸構造を形成していてもよい。すなわち、図1(a)及び(b)以外の形状であっても、空気から材料表面まで連続的に屈折率を増大し、低反射率と低波長依存性を両立させた反射防止性能を示すような形状であればよい。特に、円錐状、角錐状、釣鐘状など、凸部の高さ方向に垂直な面で切断した時の断面積が、凸部の頂部から底部に向かって連続的に増大するような形状が好ましい。また、より微細な突起が合一して上記の微細凹凸構造を形成していてもよい。
[Fine relief structure]
FIGS. 1A and 1B are schematic cross-sectional views showing an embodiment of a laminate of the present invention. In FIG. 1, the laminated body 10 by which the intermediate | middle layer 15 and the surface layer (fine concavo-convex structure layer) 12 are laminated | stacked in order on the base material 11 is illustrated. As shown in FIG. 1, the surface of the surface layer 12 has a fine uneven structure in which the surface of the surface layer 12 exhibits surface antireflection properties. Specifically, it is preferable that the convex portions 13 and the concave portions 14 are formed on the surface of the surface layer 12 at approximately equal intervals. The shape of the convex part 13 of Fig.1 (a) is a cone shape or a pyramid shape, and the shape of the convex part 13 of FIG.1 (b) is bell shape. However, the shape of the convex portion 13 of the fine concavo-convex structure is not limited to these, and the occupation ratio of the cross-sectional area when cut on the surface layer 12 film surface is continuously from the center point (vertex) 13 a of the convex portion to the concave portion 14. Any structure that increases is sufficient. Further, finer convex portions may be united to form a fine concavo-convex structure. That is, even in shapes other than those shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the refractive index is continuously increased from the air to the surface of the material, and the antireflection performance that achieves both low reflectance and low wavelength dependence is exhibited. Any shape can be used. In particular, a shape such as a conical shape, a pyramidal shape, a bell-shaped shape, etc. in which the cross-sectional area when cut by a plane perpendicular to the height direction of the convex portion continuously increases from the top to the bottom of the convex portion is preferable. . Further, finer protrusions may be combined to form the fine concavo-convex structure.

良好な反射防止性能を発現する為には、微細凹凸構造の隣り合う凸部13又は凹部14の間隔[図1(a)では、隣り合う凸部の中心点(頂点)13aの間隔w1]は、可視光の波長以下のサイズであることが望ましい。ここで「可視光」とは、波長が380〜780nmの光を指す。この間隔w1が400nm以下(より好ましくは380nm以下)であれば、可視光の散乱を抑制できる。この場合、本発明の積層体を反射防止膜などの光学用途に好適に使用できる。この間隔w1の下限値は、製造可能な範囲であればよく特に制限されない。鋳型を用いて転写する方法で微細凹凸形状を形成する場合、鋳型の製造容易性の点から間隔w1は20nm以上が好ましく、40nm以上がより好ましい。また、最低反射率や特定波長の反射率の上昇を抑制する点から、高さ/間隔w1で表されるアスペクト比は0.3以上が好ましく、0.5以上がより好ましく、0.8以上が特に好ましい。これらアスペクト比の下限値は、特に、光反射の低減及び入射角依存性の低減化の点で意義が有る。アスペクト比の上限は、製造可能な範囲であれば特に制限されない。鋳型を用いて転写する方法で微細凹凸形状を形成する場合、正確に転写を行うには、凸部のアスペクト比が5以下であることが好ましい。凸部の高さ又は凹部の深さ[図1(a)では、凹部の中心点(底点)14aから凸部の中心点(頂点)13aまでの垂直距離d1]は60nm以上が好ましく、90nm以上がより好ましい。良好な反射防止性能を発現する微細凹凸構造の形状や製造方法などは、特開2009−31764号公報などに記載されており、本発明においてもそれと同様の形状や製造方法を用いることができる。   In order to develop good antireflection performance, the interval between adjacent convex portions 13 or concave portions 14 of the fine concavo-convex structure [in FIG. 1A, the interval w1 between the central points (vertices) 13a of adjacent convex portions] is It is desirable that the size is equal to or smaller than the wavelength of visible light. Here, “visible light” refers to light having a wavelength of 380 to 780 nm. If this interval w1 is 400 nm or less (more preferably 380 nm or less), the scattering of visible light can be suppressed. In this case, the laminate of the present invention can be suitably used for optical applications such as an antireflection film. The lower limit value of the interval w1 is not particularly limited as long as it can be manufactured. In the case of forming a fine concavo-convex shape by a transfer method using a mold, the interval w1 is preferably 20 nm or more, and more preferably 40 nm or more from the viewpoint of ease of production of the mold. In addition, the aspect ratio represented by the height / interval w1 is preferably 0.3 or more, more preferably 0.5 or more, and 0.8 or more from the viewpoint of suppressing an increase in the minimum reflectance or the reflectance at a specific wavelength. Is particularly preferred. These lower limit values of the aspect ratio are particularly significant in terms of reducing light reflection and reducing incident angle dependency. The upper limit of the aspect ratio is not particularly limited as long as it can be manufactured. In the case of forming a fine concavo-convex shape by a transfer method using a mold, it is preferable that the aspect ratio of the convex portion is 5 or less for accurate transfer. The height of the convex portion or the depth of the concave portion [in FIG. 1A, the vertical distance d1 from the central point (bottom point) 14a of the concave portion to the central point (vertex) 13a of the convex portion] is preferably 60 nm or more, 90 nm The above is more preferable. The shape and manufacturing method of the fine concavo-convex structure that exhibits good antireflection performance are described in JP 2009-31764 A and the like, and the same shape and manufacturing method can be used in the present invention.

表面の微細凹凸構造の大きさは、微細凹凸構造の縦断面を10分間Pt蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(SM−7400F:日本電子社製)により加速電圧3.00kVで観察し、隣り合う細孔の間隔(周期)及び細孔の深さを測定し、それぞれ10点ずつ測定し、その平均値を採用することができる。   The size of the fine concavo-convex structure on the surface was determined by depositing a vertical cross section of the fine concavo-convex structure for 10 minutes and observing it with a field emission scanning electron microscope (SM-7400F: manufactured by JEOL Ltd.) at an acceleration voltage of 3.00 kV. It is possible to measure the interval (period) of the matching pores and the depth of the pores, measure 10 points each, and adopt the average value.

本発明の積層体は、表層に微細凹凸構造を有する機能性物品として最適である。そのような機能性物品としては、例えば、本発明の積層体を備えた反射防止物品や撥水性物品が挙げられる。特に、本発明の積層体を備えたディスプレイや自動車用部材が、機能性物品として好適である。   The laminate of the present invention is optimal as a functional article having a fine concavo-convex structure on the surface layer. Examples of such functional articles include antireflection articles and water-repellent articles provided with the laminate of the present invention. In particular, a display or an automobile member provided with the laminate of the present invention is suitable as a functional article.

[反射防止物品]
本発明の積層体を備えた反射防止物品は、微細凹凸構造を表層に有する積層体を備える。この反射防止物品は、高い耐擦傷性と良好な反射防止性能を発現する。例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のような画像表示装置、レンズ、ショーウィンドー、眼鏡レンズ等の対象物の表面に、微細凹凸構造を有する積層体を貼り付けて使用する。
[Anti-reflective article]
The antireflection article provided with the laminate of the present invention comprises a laminate having a fine concavo-convex structure as a surface layer. This antireflection article exhibits high scratch resistance and good antireflection performance. For example, a laminate having a fine concavo-convex structure is pasted on the surface of an object such as a liquid crystal display device, a plasma display panel, an electroluminescence display, a cathode ray tube display device, a lens, a show window, or a spectacle lens. Use with attachment.

[撥水性物品]
本発明の積層体を備えた撥水性物品は、本発明の微細凹凸構造を表層に有した積層体を備える。この機水性物品は、高い耐擦傷性と良好な撥水性を有すると共に、優れた反射防止性能を発現する。例えば、窓材、屋根瓦、屋外照明、カーブミラー、車両用窓、車両用ミラーの表面に、微細凹凸構造を有する積層体を貼り付けて使用する。
[Water repellent article]
The water-repellent article provided with the laminate of the present invention includes a laminate having the fine uneven structure of the present invention as a surface layer. This water-based article exhibits high anti-reflection performance as well as high scratch resistance and good water repellency. For example, a laminate having a fine concavo-convex structure is attached to the surfaces of window materials, roof tiles, outdoor lighting, curved mirrors, vehicle windows, and vehicle mirrors.

上記各対象物品の積層体を貼り付ける部分が立体形状である場合は、あらかじめそれに応じた形状の基材を使用し、その基材の上に中間層と表層を形成して積層体を得、この積層体を対象物品の所定部分に貼り付ければよい。   When the part to which the laminate of each target article is a three-dimensional shape, use a base material of a shape corresponding to it in advance, and form a laminate by forming an intermediate layer and a surface layer on the base material, What is necessary is just to affix this laminated body to the predetermined part of a target article.

また、対象物品が画像表示装置である場合は、その表面に限らず、その前面板に対して本発明の積層体を貼り付けてもよいし、前面板そのものを本発明の積層体から構成することもできる。   Further, when the target article is an image display device, the laminate of the present invention may be attached to the front plate, not limited to the surface thereof, or the front plate itself is configured from the laminate of the present invention. You can also.

また本発明の積層体は、上述した用途以外にも、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子などの光学用途や、細胞培養シート等の用途にも適用できる。   Moreover, the laminated body of this invention is applicable also to uses, such as optical uses, such as an optical waveguide, a relief hologram, a lens, and a polarization separation element, and a cell culture sheet other than the use mentioned above.

[微細凹凸構造転写用スタンパ]
微細凹凸構造転写用スタンパは、微細凹凸構造の反転構造を表面に有するものである。
スタンパの材料としては、金属(表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。)、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
スタンパの形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
[Stamper for fine relief structure transfer]
The fine concavo-convex structure transfer stamper has an inverted structure of the fine concavo-convex structure on the surface.
Examples of the material of the stamper include metals (including those having an oxide film formed on the surface), quartz, glass, resin, ceramics, and the like.
Examples of the shape of the stamper include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape.

スタンパの作製方法としては、例えば、下記の方法(I−1)、方法(I−2)が挙げられ、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法(I−1)が特に好ましい。
(I−1)アルミニウム基材の表面に、複数の細孔(凹部)を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
(I−2)スタンパ基材の表面に、電子ビームリソグラフィ法、レーザー光干渉法等によって微細凹凸構造の反転構造を形成する方法。
Examples of the method for producing the stamper include the following method (I-1) and method (I-2). From the viewpoint that the area can be increased and the production is simple, the method (I-1 Is particularly preferred.
(I-1) A method of forming anodized alumina having a plurality of pores (concave portions) on the surface of an aluminum substrate.
(I-2) A method of forming an inverted structure of a fine concavo-convex structure on the surface of a stamper substrate by an electron beam lithography method, a laser beam interference method, or the like.

方法(I−1)としては、下記の工程(a)〜(f)を有する方法が好ましい。
(a)アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)工程(b)の後、アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)工程(c)の後、細孔の径を拡大させる工程。
(e)工程(d)の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
(f)工程(d)と工程(e)を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたスタンパを得る工程。
As the method (I-1), a method having the following steps (a) to (f) is preferable.
(A) A step of forming an oxide film on the surface of an aluminum substrate by anodizing the aluminum substrate in an electrolytic solution under a constant voltage.
(B) A step of removing the oxide film and forming anodic oxidation pore generation points on the surface of the aluminum substrate.
(C) After the step (b), the step of anodizing the aluminum substrate again in the electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(D) A step of expanding the diameter of the pores after the step (c).
(E) A step of anodizing again in the electrolytic solution after the step (d).
(F) A step of repeatedly performing step (d) and step (e) to obtain a stamper in which anodized alumina having a plurality of pores is formed on the surface of an aluminum substrate.

工程(a):
図2に示すように、アルミニウム基材30を陽極酸化すると、細孔31を有する酸化皮膜が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、あらかじめ脱脂処理されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑にするために、電解研磨処理(エッチング処理)されることが好ましい。
Step (a):
As shown in FIG. 2, when the aluminum substrate 30 is anodized, an oxide film having pores 31 is formed.
Examples of the shape of the aluminum substrate include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape.
Since the oil used when processing the aluminum base material into a predetermined shape may be adhered, it is preferable to degrease the aluminum base material in advance. The aluminum substrate is preferably subjected to electrolytic polishing (etching) in order to smooth the surface state.

アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
The purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more. When the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.
Examples of the electrolytic solution include sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合:
シュウ酸の濃度は、0.8M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.8Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が30〜100Vの時、周期が100nm〜200nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using oxalic acid as electrolyte:
The concentration of oxalic acid is preferably 0.8 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.8M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.
When the formation voltage is 30 to 100 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 100 to 200 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using sulfuric acid as the electrolyte:
The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.
When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

工程(b):
図2に示すように、酸化皮膜32を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点33にすることで細孔の規則性を向上することができる。
Step (b):
As shown in FIG. 2, the regularity of the pores can be improved by removing the oxide film 32 once and using it as the pore generation point 33 for anodic oxidation.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。   Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

工程(c):
図2に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材30を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔35を有する酸化皮膜34が形成される。
陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
Step (c):
As shown in FIG. 2, when the aluminum substrate 30 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 34 having cylindrical pores 35 is formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

工程(d):
図2に示すように、細孔35の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
Step (d):
As shown in FIG. 2, a process of expanding the diameter of the pores 35 (hereinafter referred to as a pore diameter expansion process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass.
The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

工程(e):
図2に示すように、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔35の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔がさらに形成される。
陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
Step (e):
As shown in FIG. 2, when anodized again, cylindrical pores having a small diameter that extend downward from the bottom of the cylindrical pores 35 are further formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

工程(f):
図2に示すように、工程(d)の細孔径拡大処理と、工程(e)の陽極酸化を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔35を有する酸化皮膜34が形成され、アルミニウム基材30の表面に陽極酸化アルミナ(アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト))を有するスタンパ20が得られる。最後は工程(d)で終わることが好ましい。
Step (f):
As shown in FIG. 2, when the pore diameter enlargement process in the step (d) and the anodic oxidation in the step (e) are repeated, the pores 35 have a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening. The oxide film 34 is formed, and the stamper 20 having anodized alumina (aluminum porous oxide film (alumite)) on the surface of the aluminum base 30 is obtained. It is preferable that the last end is step (d).

繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成された微細凹凸構造の反射率低減効果は不十分である。   The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously, so the effect of reducing the reflectance of the fine concavo-convex structure formed using such anodized alumina having such pores is insufficient. .

細孔35の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔35間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔12間の平均間隔は、140〜260nm以下がより好ましく、160nm〜200nmが特に好ましい。
細孔35間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔35間の間隔(細孔35の中心から隣接する細孔35の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
Examples of the shape of the pore 35 include a substantially conical shape, a pyramid shape, a cylindrical shape, and the like, and a cross-sectional area of the pore in a direction orthogonal to the depth direction such as a conical shape and a pyramid shape has a depth from the outermost surface. A shape that continuously decreases in the direction is preferred.
The average interval between the pores 35 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. The average interval between the pores 12 is more preferably 140 to 260 nm or less, and particularly preferably 160 to 200 nm.
The average interval between the pores 35 is determined by measuring the interval between adjacent pores 35 (distance from the center of the pore 35 to the center of the adjacent pore 35) by electron microscope observation, and averaging these values. It is a thing.

細孔35の深さは、120〜250nmが好ましく、150〜220nmがより好ましく、160〜190nmが特に好ましい。
細孔35の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときにおける、細孔35の最底部と、細孔35間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔35のアスペクト比(細孔の深さ/細孔間の平均間隔)は、0.7〜1.4が好ましく、0.8〜1.2がより好ましい。
The depth of the pores 35 is preferably 120 to 250 nm, more preferably 150 to 220 nm, and particularly preferably 160 to 190 nm.
The depth of the pore 35 is a value obtained by measuring the distance between the bottom of the pore 35 and the top of the convex portion existing between the pores 35 when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times. It is.
The aspect ratio of the pores 35 (depth of pores / average interval between pores) is preferably 0.7 to 1.4, and more preferably 0.8 to 1.2.

スタンパの微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤で処理してもよい。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、リン酸エステルが特に好ましい。リン酸エステルとしては、(ポリ)オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましく、市販品としては、
城北化学社製:JP−506H、
アクセル社製:モールドウイズINT−1856
日光ケミカルズ社製:TDP−10、TDP−8、TDP−6、TDP−2、DDP−10、DDP−8、DDP−6、DDP−4、DDP−2、TLP−4、TCP−5、DLP−10
などが挙げられる。
The surface of the stamper on which the fine uneven structure is formed may be treated with a release agent.
Examples of the release agent include silicone resins, fluororesins, fluorine compounds, and phosphate esters, and phosphate esters are particularly preferable. As the phosphoric acid ester, a (poly) oxyalkylene alkyl phosphoric acid compound is preferable.
Johoku Chemical Co., Ltd .: JP-506H,
Accelerator: Mold with INT-1856
Nikko Chemicals: TDP-10, TDP-8, TDP-6, TDP-2, DDP-10, DDP-8, DDP-6, DDP-4, DDP-2, TLP-4, TCP-5, DLP -10
Etc.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

(耐擦傷性)
磨耗試験機(新東科学社製、「HEiDON TRIBOGEAR TYPE−30S」)を用い、物品の表面に置かれた2cmにカットしたスチールウール(日本スチールウール社製、ボンスター#0000)に1kg(250gf/cm)の荷重をかけ、往復距離:30mm、ヘッドスピード:平均100mm/秒にて10回往復させ、物品の表面の外観を評価した。外観評価に際しては、2.0mm厚の黒色アクリル板(三菱レイヨン社製、アクリライト)の片面に物品を貼り付け、屋内で蛍光灯にかざして目視で評価した。
A:確認できる傷が10本未満。
B:擦傷部分の中で反射防止性能が失われる面積が擦傷部分の50%未満。
C:擦傷部分の反射防止性能が50%以上失われる。
D:擦傷部分の反射防止性能がほぼ全て失われる。
(Abrasion resistance)
Using an abrasion tester (“HIDON TRIBOGEAR TYPE-30S” manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), 1 kg (250 gf) of steel wool (Nihon Steel Wool Co., Ltd., Bonstar # 0000) cut into 2 cm 2 placed on the surface of the article. / Cm 2 ), a reciprocating distance of 30 mm, a head speed of 10 mm at an average of 100 mm / second, and the appearance of the surface of the article was evaluated. In appearance evaluation, an article was attached to one side of a 2.0 mm thick black acrylic plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., acrylite), and it was visually evaluated by holding it over a fluorescent lamp indoors.
A: There are less than 10 scratches that can be confirmed.
B: The area where the antireflection performance is lost in the scratched part is less than 50% of the scratched part.
C: 50% or more of the antireflection performance at the scratched portion is lost.
D: Almost all the antireflection performance of the scratched part is lost.

(鉛筆硬度)
JIS K5600−5−4に準じて、荷重500gfで試験を行った。試験後外観を目視にて観察し、圧痕が付かない鉛筆の硬度を記した。2Hで傷が付かず、3Hで傷が付く場合は「2H」と表記した。
(Pencil hardness)
The test was performed with a load of 500 gf according to JIS K5600-5-4. After the test, the appearance was visually observed, and the hardness of the pencil with no indentation was noted. When 2H was not scratched and 3H was scratched, it was indicated as “2H”.

(密着性)
JIS K 5400に準拠し、碁盤目剥離試験を行い表層と中間層との密着性を評価した。基盤には厚さ2mmのアクリル板を用いた。碁盤目は10×10の100マスによって行い、100マス中で剥離が起こらなかった数を評価した。
○:全く剥離が無い。
△:1〜99マスの範囲で剥離あり。
×:100マス全てが剥離した。
(Adhesion)
Based on JIS K 5400, a cross-cut peel test was performed to evaluate the adhesion between the surface layer and the intermediate layer. An acrylic plate having a thickness of 2 mm was used as the base. The grid was made with 100 squares of 10 × 10, and the number where peeling did not occur in 100 squares was evaluated.
○: No peeling at all.
(Triangle | delta): There exists peeling in the range of 1-99 mass.
X: All 100 squares peeled.

(中間層の指触乾燥性)
基材に中間層を塗工・乾燥後、未硬化の状態で評価する。中間層の表面をニトリル製手袋(アズワン社製、クリーンノール)で250gf/cmの圧力で触れた際に跡が付くか、あるいは中間層用組成物が付着するかで評価した。
○:跡が残らない
△:跡が残るが手袋に中間層用組成物が付着しない。
×:手袋に中間層用組成物が付着する。
(Dry touch of intermediate layer)
After the intermediate layer is applied to the substrate and dried, it is evaluated in an uncured state. It was evaluated whether the surface of the intermediate layer was marked when touched with a nitrile glove (manufactured by AS ONE, Clean Knoll) at a pressure of 250 gf / cm 2 , or the intermediate layer composition adhered.
○: No trace remains Δ: Trace remains but the intermediate layer composition does not adhere to the glove.
X: The composition for intermediate | middle layers adheres to a glove.

(スタンパAの製造)
純度99.99質量%、電解研磨した厚さ2mmのφ65mmアルミニウム円盤をアルミニウム基材として用いた。
(Manufacture of stamper A)
A φ65 mm aluminum disk having a purity of 99.99% by mass and an electropolished thickness of 2 mm was used as the aluminum substrate.

0.3Mシュウ酸水溶液を15℃に調整し、アルミニウム基材を浸漬して、直流安定化装置の電源のON/OFFを繰り返すことでアルミニウム基材に間欠的に電流を流して陽極酸化した。30秒おきに80Vの定電圧を5秒間印加する操作を60回繰り返し、細孔を有する酸化皮膜を形成した。
続いて、酸化皮膜を形成したアルミニウム基材を、6質量%のリン酸と1.8質量%クロム酸を混合した70℃の水溶液中に6時間浸漬して、酸化皮膜を溶解除去した。
酸化皮膜を溶解除去したアルミニウム基材を、16℃に調整した0.05Mのシュウ酸水溶液に浸漬して80Vで7秒間陽極酸化を施した。続いて、32℃に調整した5質量%リン酸水溶液中に20分間浸漬して酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。このように陽極酸化と孔径拡大処理を交互に繰り返し、合計5回ずつ施してスタンパAを得た。
The 0.3 M oxalic acid aqueous solution was adjusted to 15 ° C., the aluminum base material was immersed, and the power source of the direct current stabilizing device was repeatedly turned on / off, so that an electric current was intermittently applied to the aluminum base material for anodization. The operation of applying a constant voltage of 80 V every 30 seconds for 5 seconds was repeated 60 times to form an oxide film having pores.
Subsequently, the aluminum substrate on which the oxide film was formed was immersed in a 70 ° C. aqueous solution in which 6% by mass of phosphoric acid and 1.8% by mass of chromic acid were mixed to dissolve and remove the oxide film.
The aluminum base material from which the oxide film was dissolved and removed was immersed in a 0.05 M oxalic acid aqueous solution adjusted to 16 ° C. and anodized at 80 V for 7 seconds. Then, the pore diameter expansion process which expands the pore of an oxide film by immersing in 5 mass% phosphoric acid aqueous solution adjusted to 32 degreeC for 20 minutes was performed. In this manner, the anodization and the pore diameter enlargement process were alternately repeated, and the stamper A was obtained by performing a total of 5 times.

(スタンパBの製造)
純度99.99質量%、電解研磨した厚さ2mmのφ65mmアルミニウム円盤をアルミニウム基材として用いた。
(Manufacture of stamper B)
A φ65 mm aluminum disk having a purity of 99.99% by mass and an electropolished thickness of 2 mm was used as the aluminum substrate.

0.3Mシュウ酸水溶液を15℃に調整し、アルミニウム基板を浸漬して直流40Vの定電圧で30分間陽極酸化を行って、細孔を有する酸化皮膜を形成した。
続いて、酸化皮膜を形成したアルミニウム基材を、6質量%のリン酸と1.8質量%クロム酸を混合した70℃の水溶液中に6時間浸漬して、酸化皮膜を溶解除去した。
酸化皮膜を溶解除去したアルミニウム基材を、16℃に調整した0.3Mのシュウ酸水溶液に浸漬して40Vで30秒間陽極酸化を施した。続いて、32℃に調整した5質量%リン酸水溶液中に8分間浸漬して酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。このように陽極酸化と孔径拡大処理を交互に繰り返し、合計5回ずつ施してスタンパBを得た。
A 0.3 M oxalic acid aqueous solution was adjusted to 15 ° C., an aluminum substrate was immersed, and anodization was performed at a constant voltage of DC 40 V for 30 minutes to form an oxide film having pores.
Subsequently, the aluminum substrate on which the oxide film was formed was immersed in a 70 ° C. aqueous solution in which 6% by mass of phosphoric acid and 1.8% by mass of chromic acid were mixed to dissolve and remove the oxide film.
The aluminum base material from which the oxide film was dissolved and removed was immersed in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution adjusted to 16 ° C. and anodized at 40 V for 30 seconds. Then, the pore diameter expansion process which expands the pore of an oxide film by immersing in 5 mass% phosphoric acid aqueous solution adjusted to 32 degreeC for 8 minutes was performed. In this manner, the anodization and the pore diameter enlargement process were alternately repeated, and the stamper B was obtained by performing a total of 5 times.

得られたスタンパAとスタンパBを、TDP−8(日光ケミカルズ社製)の0.1質量%水溶液に10分間浸漬し、引き上げて一晩風乾することにより離型処理を施した。   The obtained stamper A and stamper B were immersed in a 0.1% by mass aqueous solution of TDP-8 (manufactured by Nikko Chemicals) for 10 minutes, pulled up and air-dried overnight for release treatment.

(スタンパの細孔の測定)
陽極酸化ポーラスアルミナからなるスタンパの一部の縦断面を1分間Pt蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、商品名JSM−7400F)により加速電圧3.00kVで観察し、隣り合う細孔の間隔(周期)及び細孔の深さを測定した。具体的にはそれぞれ10点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。本実施例で用いたスタンパAの細孔の間隔(周期)は約180nm、細孔の深さは約180nmであった。スタンパBの細孔の間隔(周期)は約100nm、細孔の深さは約180nmであった。
(Measurement of stamper pores)
A vertical section of a part of a stamper made of anodized porous alumina is deposited by Pt for 1 minute, and observed with a field emission scanning electron microscope (trade name JSM-7400F, manufactured by JEOL Ltd.) at an acceleration voltage of 3.00 kV. The interval (period) of the pores and the depth of the pores were measured. Specifically, 10 points were measured for each, and the average value was taken as the measured value. The interval (period) between the pores of the stamper A used in this example was about 180 nm, and the depth of the pores was about 180 nm. The interval (period) between the pores of the stamper B was about 100 nm, and the depth of the pores was about 180 nm.

(中間層用組成物)
実施例および比較例で用いた無機成分(A)、有機成分(B)、溶剤(D)について表1に示した。
(Composition for intermediate layer)
Table 1 shows the inorganic component (A), organic component (B), and solvent (D) used in Examples and Comparative Examples.

実施例および比較例で用いた光重合開始剤(C)は、有機成分(B)100質量%に対して、IRGACURE184(BASF社製)を1.0質量%と、IRGACURE819(BASF社製)を0.5質量%添加した。
実施例及び比較例で用いた離型剤(F)は、TDP−2(日光ケミカル社製)を有機成分(B)に対して0.2質量%添加した。
The photopolymerization initiator (C) used in the examples and comparative examples was obtained by adding 1.0% by mass of IRGACURE 184 (BASF) and 100% by mass of IRGACURE 819 (manufactured by BASF) with respect to 100% by mass of the organic component (B). 0.5% by mass was added.
In the mold release agent (F) used in the examples and comparative examples, TDP-2 (manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd.) was added in an amount of 0.2% by mass relative to the organic component (B).

実施例及び比較例で用いた中間層用組成物について、組成(配合比)、固形分成分比、無機成分含有率、溶剤成分比、固形分濃度、を表2に示した。   About the composition for intermediate | middle layers used by the Example and the comparative example, the composition (blending ratio), solid content component ratio, inorganic component content rate, solvent component ratio, solid content concentration was shown in Table 2.

(微細凹凸構造用組成物)
実施例および比較例で用いた微細凹凸構造用組成物の重合性有機成分(XB)は、下記の表3の通りである。
(Composition for fine uneven structure)
The polymerizable organic components (XB) of the fine concavo-convex structure compositions used in Examples and Comparative Examples are as shown in Table 3 below.

実施例および比較例で用いた光重合開始剤(XC)は、重合性有機成分(XB)100質量%に対して、IRGACURE184(BASF社製)を1.0質量%と、IRGACURE819(BASF社製)を0.5質量%添加した。   The photopolymerization initiator (XC) used in the Examples and Comparative Examples was 1.0% by mass of IRGACURE 184 (manufactured by BASF) and IRGACURE 819 (manufactured by BASF) with respect to 100% by mass of the polymerizable organic component (XB). ) Was added by 0.5 mass%.

実施例及び比較例で用いた離型剤(XF)は、TDP−2(日光ケミカル社製)を重合性有機成分(XB)に対して0.2質量%添加した。   In the release agent (XF) used in Examples and Comparative Examples, TDP-2 (manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd.) was added in an amount of 0.2% by mass relative to the polymerizable organic component (XB).

実施例及び比較例で用いた微細凹凸構造用組成物について、組成(配合比)、アクリル当量、を表4に示した。   About the composition for fine concavo-convex structures used in the Examples and Comparative Examples, the composition (blending ratio) and acrylic equivalent are shown in Table 4.

(中間層の塗工・乾燥)
基材として光透過性のトリアセチルセルロースフィルム(富士フイルム社製、製品名T40UZ、厚さ40μm)を使用した。ガラス板上に置いた基材上にバーコーターを使用して中間層用組成物を塗工した。続いて、70℃に調整した乾燥機で3分間乾燥させ、基材上に未硬化の中間層が形成された積層体を得た。
(Intermediate layer coating / drying)
A light-transmitting triacetylcellulose film (manufactured by Fuji Film, product name T40UZ, thickness 40 μm) was used as the substrate. The intermediate layer composition was coated on a substrate placed on a glass plate using a bar coater. Subsequently, the laminate was dried for 3 minutes with a drier adjusted to 70 ° C. to obtain a laminate in which an uncured intermediate layer was formed on the substrate.

(微細凹凸構造層の形成)
スタンパ上に微細凹凸構造用組成物を適量滴下し、基材上に未硬化の中間層が形成された積層体で中間層と微細凹凸構造用組成物が接触するように被覆し、ローラーで均一に押し広げた。続いて基材側から高圧水銀灯を用いて1000mJ/cmの積算光量で紫外線を照射し、中間層および微細凹凸構造用組成物を硬化した。その後スタンパを剥離して、微細凹凸構造を表面に有する積層体を得た。
(Formation of fine uneven structure layer)
A suitable amount of the composition for fine concavo-convex structure is dropped on the stamper, and the intermediate layer and the composition for fine concavo-convex structure are coated with a laminate in which an uncured intermediate layer is formed on the substrate, and uniform with a roller. Squeezed out. Then, the intermediate layer and the composition for fine concavo-convex structure were cured by irradiating ultraviolet rays with a cumulative light quantity of 1000 mJ / cm 2 from the substrate side using a high pressure mercury lamp. Thereafter, the stamper was peeled off to obtain a laminate having a fine relief structure on the surface.

この積層体の表面には、スタンパの微細凹凸構造が転写されており、スタンパAを使用した場合は平均周期180nm、平均高さ180nmである略円錐状の微細凹凸構造が形成されていた。また、スタンパBを使用した場合は、平均周期100nm、平均高さ180nmである略円錐状の微細凹凸構造が形成されていた。この微細凹凸構造を有する積層体の評価結果を表5に示す。積層体の微細凹凸構造用組成物の硬化物からなる層の膜厚は全て10μmであった。   On the surface of this laminate, the fine uneven structure of the stamper was transferred, and when the stamper A was used, a substantially conical fine uneven structure having an average period of 180 nm and an average height of 180 nm was formed. When the stamper B was used, a substantially conical fine concavo-convex structure having an average period of 100 nm and an average height of 180 nm was formed. Table 5 shows the evaluation results of the laminate having this fine concavo-convex structure. The thicknesses of the layers made of the cured product of the composition for fine concavo-convex structure of the laminate were all 10 μm.

[実施例1]
実施例1では、中間層の無機成分含有率が50質量%と少ないため、中間層を塗工乾燥後に未硬化の状態で指触乾燥性の評価が×だったものの、良好な密着性を示し、鉛筆硬度はHであった。
[実施例2]
実施例2では、中間層の無機成分含有率が57質量%で実施例1より多いため、中間層を塗工乾燥後に指触乾燥性の評価が○であった。鉛筆硬度についても実施例1より良好であり2Hであった。
[実施例3]
実施例3では、中間層の塗工乾燥後の指触乾燥性が良好で、鉛筆硬度も2Hであった。 [実施例4]
実施例4では、中間層の塗工乾燥後の指触乾燥性が良好で、鉛筆硬度も2Hであった。 [実施例5]
実施例5では、実施例4と比較して、中間層の有機成分(B)に硬化物が高硬度なDPHAに変えて硬化物が比較的柔軟な2官能ウレタンアクリレートであるEBECRYL8402を使用した。その結果、鉛筆硬度がHBとなった。
[実施例6]
実施例6では、表2に示したように中間層の有機成分(B)をDPHAとEBECRYL8402の混合系とした。その結果、鉛筆硬度が2Hとなり、EBECRYL8402を添加しなかった実施例5と同等の鉛筆硬度が得られた。
[実施例7]
実施例7では、実施例6と比較して微細凹凸構造用組成物を組成物Bから組成物Cに変更した。その結果、耐擦傷性の評価結果がBからAに向上した。その他の評価結果は同じであった。
[実施例8]
実施例8では、実施例7と比較して中間層の膜厚を10μmから15μmに変更した。その結果、鉛筆硬度の評価結果が2Hから3Hに向上した。その他の評価結果は同じであった。
[実施例9]
実施例9では、スタンパをスタンパAからスタンパBに変更し、微細凹凸構造用組成物を組成物Bから組成物Aに変更した以外は実施例8と同様にした。その結果、鉛筆硬度試験の結果は3Hで変わらなかったが、耐擦傷性の試験結果がCになったが実用的には問題の無いものが得られた。
[Example 1]
In Example 1, since the content of the inorganic component in the intermediate layer was as low as 50% by mass, the evaluation of the touch drying property was x in an uncured state after coating and drying the intermediate layer, but showed good adhesion. The pencil hardness was H.
[Example 2]
In Example 2, since the content ratio of the inorganic component in the intermediate layer was 57% by mass, which was higher than that in Example 1, the evaluation of dryness to touch after the coating and drying of the intermediate layer was good. The pencil hardness was also better than Example 1 and 2H.
[Example 3]
In Example 3, the dryness to touch after coating and drying of the intermediate layer was good, and the pencil hardness was 2H. [Example 4]
In Example 4, the touch-drying property after coating and drying of the intermediate layer was good, and the pencil hardness was 2H. [Example 5]
In Example 5, as compared with Example 4, EBECRYL8402 which is a bifunctional urethane acrylate in which the cured product is a relatively soft DPHA instead of the hardened DPHA is used for the organic component (B) of the intermediate layer. As a result, the pencil hardness was HB.
[Example 6]
In Example 6, as shown in Table 2, the organic component (B) of the intermediate layer was a mixed system of DPHA and EBECRYL8402. As a result, the pencil hardness was 2H, and a pencil hardness equivalent to that of Example 5 in which EBECRYL8402 was not added was obtained.
[Example 7]
In Example 7, the composition for fine concavo-convex structure was changed from Composition B to Composition C as compared with Example 6. As a result, the scratch resistance evaluation result improved from B to A. Other evaluation results were the same.
[Example 8]
In Example 8, compared with Example 7, the film thickness of the intermediate layer was changed from 10 μm to 15 μm. As a result, the pencil hardness evaluation result improved from 2H to 3H. Other evaluation results were the same.
[Example 9]
Example 9 was the same as Example 8 except that the stamper was changed from stamper A to stamper B, and the fine concavo-convex structure composition was changed from composition B to composition A. As a result, the result of the pencil hardness test did not change at 3H, but the test result of the scratch resistance was C, but there was obtained a practically no problem.

[比較例1]
比較例1では、中間層が無機成分(A)を含まない組成物No.7を使用した。その結果、鉛筆硬度が低下し、2Bとなった。
[比較例2]
比較例2では、中間層を使用しなかった。その結果、基材と微細凹凸構造用組成物の密着性が悪く、密着性の評価結果が×であった。鉛筆硬度試験においても微細凹凸構造層と中間層の界面が剥がれてしまうため評価不能であった。
[比較例3]
比較例3では、微細凹凸構造用組成物を使用しなかった。中間層を塗工乾燥後に、スタンパを60℃程度まで加熱した状態で中間層をスタンパに接触させてローラーで空気を抜いた。続いて、紫外線を照射して中間層用組成物を硬化させることで、中間層の硬化物上に微細凹凸構造を転写した。スタンパからの離型は問題なく可能であり、微細凹凸構造も他の実施例比較例と同等の形状であった。しかし、耐擦傷性の評価結果がDで非常に悪く、鉛筆硬度試験でも鉛筆と接触した部分の反射防止性能が著しく失われてしまうため、鉛筆硬度の評価は6B未満であった。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, composition No. in which the intermediate layer does not contain the inorganic component (A). 7 was used. As a result, the pencil hardness was reduced to 2B.
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, no intermediate layer was used. As a result, the adhesion between the substrate and the composition for fine concavo-convex structure was poor, and the adhesion evaluation result was x. Even in the pencil hardness test, the interface between the fine concavo-convex structure layer and the intermediate layer was peeled off, so evaluation was impossible.
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, the composition for fine concavo-convex structure was not used. After the intermediate layer was applied and dried, the intermediate layer was brought into contact with the stamper while the stamper was heated to about 60 ° C., and the air was extracted with a roller. Then, the fine concavo-convex structure was transcribe | transferred on the hardened | cured material of an intermediate | middle layer by irradiating an ultraviolet-ray and hardening the composition for intermediate | middle layers. Release from the stamper was possible without any problem, and the fine concavo-convex structure had the same shape as other comparative examples. However, the evaluation result of scratch resistance was very poor at D, and the pencil hardness evaluation was less than 6B because the antireflection performance of the part in contact with the pencil was significantly lost in the pencil hardness test.

10 積層体
11 基材
12 微細凹凸構造層
13、13b 凸部
13a 凸部の頂点
14 凹部
14a 凹部の底点
15 中間層
W1 隣り合う凸部の間隔
d1 凹部の底点から凸部の頂点までの垂直距離
20 スタンパ
30 被加工面
31 細孔
32 第1の酸化皮膜
33 細孔発生点
34 第2の酸化皮膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Laminated body 11 Base material 12 Fine uneven | corrugated structure layer 13, 13b Convex part 13a Convex part 14 Concave part 14a Bottom point of concavity 15 Intermediate | middle layer W1 Space | interval of adjacent convex part d1 From bottom point of concavity to apex of convex part Vertical distance 20 Stamper 30 Work surface 31 Pore 32 First oxide film 33 Pore generation point 34 Second oxide film

Claims (8)

少なくとも、基材、中間層および微細凹凸構造層を積層してなる積層体であって、前記中間層と前記微細凹凸構造層は活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であり、該微細凹凸構造層は隣り合う凸部同士の間隔が可視光の波長以下である凹凸構造を有し、該中間層は無機成分および有機成分のハイブリッドであることを特徴とする、積層体。   A laminate comprising at least a base material, an intermediate layer, and a fine concavo-convex structure layer, wherein the intermediate layer and the fine concavo-convex structure layer are a cured product of an active energy ray-curable composition, and the fine concavo-convex structure The layer has a concavo-convex structure in which the interval between adjacent convex portions is equal to or less than the wavelength of visible light, and the intermediate layer is a hybrid of an inorganic component and an organic component. 前記中間層が、無機成分として平均粒子径が可視光の波長以下である粒子を含むことを特徴とする、請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the intermediate layer includes particles having an average particle diameter that is equal to or less than a wavelength of visible light as an inorganic component. 前記中間層が、無機成分として平均粒子径が可視光の波長以下であるシリカを含むことを特徴とする、請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the intermediate layer contains silica having an average particle diameter of not more than a wavelength of visible light as an inorganic component. 前記中間層の無機成分含有率が、50質量%以上75質量%以下であることを特徴とする、請求項1から3に記載の積層体。   4. The laminate according to claim 1, wherein the intermediate layer has an inorganic component content of 50% by mass or more and 75% by mass or less. 前記中間層が、有機成分として多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする、請求項1から4に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the intermediate layer contains polyfunctional (meth) acrylate as an organic component. 下記の工程(I)〜(III)を含むことを特徴とする、積層体の製造方法。
工程(I):溶剤を含む活性エネルギー線硬化性組成物を基材上に塗工後、乾燥させることで未硬化の中間層を形成する工程。
工程(II):前記中間層と微細凹凸転写用スタンパの間に微細凹凸構造層形成用活性エネルギー線硬化性組成物を配設する工程。
工程(III):前記基材側から活性エネルギー線を照射し、前記中間層と前記微細凹凸構造層用活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させた後、積層体をスタンパから離型する工程。
The manufacturing method of a laminated body characterized by including the following process (I)-(III).
Step (I): A step of forming an uncured intermediate layer by applying an active energy ray-curable composition containing a solvent onto a substrate and then drying it.
Step (II): A step of disposing an active energy ray-curable composition for forming a fine uneven structure layer between the intermediate layer and the fine uneven transfer stamper.
Step (III): a step of irradiating active energy rays from the substrate side to cure the intermediate layer and the active energy ray-curable composition for fine concavo-convex structure layer, and then releasing the laminate from the stamper.
前記工程(I)後の未硬化の前記中間層が、指触乾燥性を有することを特徴とする、請求項6に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 6, wherein the uncured intermediate layer after the step (I) has a touch-drying property. 少なくとも、基材と、無機成分および有機成分のハイブリッド層とからなる積層体であって、前記ハイブリッド層が、未硬化の状態で指触乾燥性を有することを特徴とする積層体。   A laminate comprising at least a substrate and a hybrid layer of an inorganic component and an organic component, wherein the hybrid layer has a touch-drying property in an uncured state.
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