JP2014122861A - 放射線飛来方向検出システム - Google Patents

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隆 平賀
Ichiro Ueno
一郎 上野
Norio Tanaka
教雄 田中
Shigeru Takarada
茂 宝田
Hirofumi Watanabe
浩文 渡邊
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Abstract

【課題】より安価かつシンプルな構成で、さらに、安定した動作で放射線の飛来方向を検出することができるシステムを提供する。
【解決手段】一定間隔を隔ててアレイ状に並置されたプラスチックシンチレーションファイバ12と、これらのプラスチックシンチレーションファイバの放射線飛来方向前面側に一定の間隔を隔ててアレイ状に並置され、複数のスリットを形成するマスク部材とからなるセンサーを2組、各プラスチックシンチレーションファイバからのシンチレーション光を切り換える光制御型光スイッチ13,14と、該光制御型光スイッチらのシンチレーション光を検出する光電子倍増管16と、該光電子倍増管で検出したシンチレーション光の光強度解析を行う波高分析器18を備える放射線飛来方向検出システム。
【選択図】図3

Description

本発明は、放射線の飛来方向を検出するシステムに関するものである。
ガンマ線を放出する放射性物質の分布を可視化する装置として、コンプトンカメラが提案されている(非特許文献1等;特許文献1)。このコンプトンカメラは、敷地や家屋に広く分布したセシウム137(Cs−137)やセシウム134(Cs−134)について画像化ができる。
しかしながら、コンプトンカメラを用いた装置は、1台数千万円程度とコスト的に高価なものとなり、装置も複雑化している。また、電子部品から構成される機器であるため、高強度ガンマ線環境下での動作には、誤動作や電子部品損傷など可能性がある。
そこで、安価で容易に高強度放射線の飛来方向を検出できる設置型システムの実現が望まれていた。
一方、プラスチックシンチレーションファイバを用いて放射性物質を検出する技術も提案されている(非特許文献2;特許文献2)が、低強度ガンマ線の検出に限られること、測定されたデータの画像化は可能であるが、土壌などの平面上の分布測定に限定されてしまう。
特許文献1:特開平7−225278号公報
特許文献2:特開平8−297167号広報
特許文献3:特許第4730257号掲載公報
非特許文献1:http://www.jaxa.jp/press/2012/03/20120329_compton_j.html
非特許文献2:「15m長シンチレーションファイバーを用いた線量分布のオンライン評価」、近畿大学原子力研究所年報、Vol. 46 (2009)
本発明のこのような実情に鑑み、より安価かつシンプルな構成で、さらに、安定した動作で放射線の飛来方向を検出することができるシステムを提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明によれば、第1に、一定間隔を隔ててアレイ状に並置されたプラスチックシンチレーションファイバと、これらのプラスチックシンチレーションファイバの放射線飛来方向前面側に一定の間隔を隔ててアレイ状に並置され、複数のスリットを形成するマスク部材とからなるセンサーを2組、プラスチックシンチレーションファイバ及びマスク部材の軸が、それぞれX軸方向とY軸方向となるように各センサーを水平に離れた位置に並べて構成される2次元センサーと、プラスチックシンチレーションファイバに接続され、各プラスチックシンチレーションファイバからのシンチレーション光を切り換える光制御型光スイッチと、該光制御型光スイッチからのシンチレーション光を検出する光電子倍増管と、該光電子倍増管で検出したシンチレーション光の光強度解析を行う波高分析器を備えることを特徴とする放射線飛来方向検出システムが提供される。
また、第2に、上記第1の発明において、マスク部材の間隔がプラスチックシンチレーションファイバの間隔と異なることを特徴とする放射線飛来方向検出システムが提供される。
また、第3に、上記第1の発明において、マスク部材の間隔がプラスチックシンチレーションファイバの間隔と等しいことを特徴とする放射線飛来方向検出システムが提供される。
なお、以下プラスチックシンチレーションファイバをPSFとも称する。
本発明によれば、より安価かつ容易に、さらに安定した動作で放射線の飛来方向を検出することができるシステムを提供することが可能となる。
本発明による実施形態の放射線飛来方向検出システムで用いるマスク部材とプラスチックシンチレーションファイバを示す正面図である。 同上斜視図である。 プラスチックシンチレーションファイバに接続される光制御型光スイッチ、光電子倍増管、波高分析器を示す図である。 マスク部材がPSFと等間隔であり、マスク部材1が形成するスリットがPSF12の上にある場合を示す図である。 マスク部材がPSFと等間隔であり、マスク部材が形成するスリットがPSF12の間にある場合を示す図である。 マスク部材の間隔とPSFの間隔がずれていて、マスク部材の間隔の方が小さい場合を示す図である。 マスク部材の間隔とPSFの間隔がずれていて、マスク部材の間隔の方が更に小さい場合を示す図である。 マスク部材の間隔とPSFの間隔がずれていて、マスク部材の間隔の方が広い場合を示す図である。 マスク部材の間隔とPSFの間隔がずれていて、マスク部材の間隔の方が更に広い場合を示す図である。 光制御型光スイッチの説明図である。 光制御型光スイッチに用いる色素の波長と吸光度の関係例を示す図である。
以下、本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
本発明の放射性飛来方向検出システムは、一定間隔を隔ててアレイ状に並置されたプラスチックシンチレーションファイバと、これらのプラスチックシンチレーションファイバの放射線飛来方向前面側に一定の間隔を隔ててアレイ状に並置され、複数のスリットを形成するマスク部材とからなるセンサーを2組、プラスチックシンチレーションファイバ及びマスク部材の軸が、それぞれX軸方向とY軸方向となるように各センサーを水平に離れた位置に並べて構成される2次元センサーと、プラスチックシンチレーションファイバに接続され、各プラスチックシンチレーションファイバからのシンチレーション光を切り換える光制御型光スイッチと、該光制御型光スイッチからのシンチレーション光を検出する光電子倍増管と、該光電子倍増管で検出したシンチレーション光の光強度解析を行う波高分析器を備えることを特徴とする。
図1は、本実施形態の放射線飛来方向検出システムで用いるマスク部材とプラスチックシンチレーションファイバを示す正面図、図2は同斜視図、図3はPSFに接続される光制御型光スイッチ、光電子倍増管、波高分析器を示す図である。
図1においてP、Qは放射線源、R、Sは放射線、11はマスク部材、12はPSFである。また、図3において、13、14は光制御型光スイッチ、15はマルチモード光ファイバ(MMF)、16は光電子倍増管(PMT)、17は光ファイバ、18は波高分析器である。
マスク部材11は、図1、2に示すごとくPSF12より狭い間隔で互いに平行に並置される。また、図示の例では説明の便宜上、マスク部材11を6つ、PSF12を4つの場合を示したが、これも必要な数だけ設けることができる。PSF12は放射線を受けると、シンチレーション光に変換し、それを伝送する。
マスク部材11は、例えば(ステンレス合金)等からなる金属製のものを使用することができ、PSF12は、例えば非特許文献2に記載されたようなコア材にポリスチレン、クラッド材にポリメチルメタクリレートを用いた光ファイバを使用することができるが、これらの材料についても適切な材料を適宜選択して使用することができる。マスク部材11は放射線源P、Qからの放射線R、Sを遮断し、マスク部材11間のスリットは、放射線R、Sを透過させる。
なお、ここでは、マスク部材11の間隔がPSF12の間隔より小さい場合を例示しているが、マスク部材11の間隔がPSF12の間隔より大きくてもよく、また同じであってもよい。ここで、マスク部材1がPSF12と等間隔であり、マスク部材11が形成するスリットがPSF12の上にある場合を図4−a、マスク部材11がPSF12と等間隔であり、マスク部材11が形成するスリットがPSF12の間にある場合を図4−b、マスク部材11の間隔とPSF12の間隔がずれていて、マスク部材11の間隔の方が小さい場合を図4−c、マスク部材11の間隔とPSF12の間隔がずれていて、マスク部材11の間隔の方が更に小さい場合を図4−d、マスク部材11の間隔とPSF12の間隔がずれていて、マスク部材11の間隔の方が広い場合を図4−e、マスク部材11の間隔とPSF12の間隔がずれていて、マスク部材11の間隔の方が更に広い場合を図4−fにそれぞれ示す。
図1、図2においてマスク部材11、PSF12の組合せからセンサーが構成されるが、本実施形態では、マスク部材11、PSF12の軸方向がそれぞれ直交する方向(X方向とY方向となるように、2組のセンサーを水平に離れた位置に並べることにより、2次元センサーが構成される。このようにすると、遠方からの放射線の位置検出分解能を上げることができる。これが本実施形態の合成開口の原理である。
図1、図2においてマスク部材11、PSF12は一方向(X方向)のみの場合について記載されているが、実際には、その方向と直交する方向(Y方向)にも平行に並置される。
光制御型光スイッチ13、14としては、特許第4730257号掲載公報(特許文献1)に記載されているような熱レンズ形成素子を利用した光スイッチを用いることができる。図5は、同公報に記載されているものと同様な熱レンズ形成素子を利用した光スイッチを用いた本実施形態の構成図である。2つのセンサーからのX方向及びY方向のPSF12から得られたシンチレーション光を光制御型スイッチ14で2次元的に合成する。この光スイッチは制御光と信号光(本実施形態ではシンチレーション光)を用い、制御光が照射されたときに、熱レンズが形成され、信号光を透過し、制御光が照射されないときには、信号光を遮断するようになっている。
マルチモード光ファイバ15、光ファイバ17には市販の光ファイバを用いることができる。また、光電子倍増管16はシンチレーション光を検出し、波高分析器18は光電子倍増管16により検出されたシンチレーション光の波高を求め、光強度解析を行う。
次に、上記構成の放射性飛来方向検出システムを用いた検出動作について説明する。
まず、検出対象となる場所に上記システムを設置する。例えば、図1に示すように、放射線源Pからの放射線Rを検出する場合、放射線Rがマスク部材11間のスリットを通過して、PSF12がこれを受取る。PSF12は放射線を受け取るとこれをシンチレーション光に変換し、変換されたシンチレーション光はPSF12内を伝送する。ここで、光制御型光スイッチ13を順次切換えて、オンとなった光制御型スイッチ13に接続されているPSF12からのシンチレーション光が光制御型光スイッチ13により導かれる。ここで光制御型光スイッチ13をX、Y方向で同時にそれぞれ順次切換えることにより、2次元アレイ状に配置されたPSF12から各スリット位置における放射線によるシンチレーション光が得られる。シンチレーション光は、マルチモード光ファイバ15、光制御型光スイッチ14、光ファイバ17を介して光電子倍増管16に送られ、ここでシンチレーション光が検出される。光電子倍増管16で検出されたシンチレーション光は波高分析器18により波高が求められ、光強度解析が行われる。波高強度の2次元分布を得ることにより放射線の飛来方向を検出することが可能となる。
以上の動作を繰り返すことにより、電気・電子部品を用いないで、かつシンプル、低コストの構成で、安定した放射線飛来方向の検出が可能となる。
次に、実験例について述べる。マスク部材11としてはステンレス板からなる幅0.5mm、厚さ0.1mm、長さ50mmの部材を0.2mmのピッチで6つ配置し、5つのスリットを形成した。マスク部材11の下方に外径0.1mmの(株)クラレ製のプラスチックシンチレーションファイバ(商品名PSF)を0.25mmのピッチで4つ配置した。この構成のものをX方向とY方向に2次元的に配置した。光制御型光スイッチ13、14としては、波長403nmの光を吸収し、450〜800nmの光を透過する色素(例、ペリレン)を高沸点溶媒(例、拡散ポンプ用油、商品名ライオンS)に例えば0.5重量%の配合量で溶解し、高純度環境下で石英キャピラリーに封入したマイクロ色素溶液セルとしたものを用いた。レンズ、穴付きミラー、ダイクロイックミラー等の光学素子により3cm立方程度のパッケージ型光スイッチとして組み立てた。ここで用いた色素の波長と吸光度の関係を図6に示す。各PSF12からのシンチレーション光を光スイッチ13で切換えて順次導き、そのシンチレーション光を光電子倍増管16で検出し、検出したシンチレーション光の波高を波高分析器18で求め、光強度解析を行った。
以上により、放射線飛来方向を検出できることを確認した。
11 マスク部材
12 プラスチックシンチレーションファイバ(PSF)
13、14 光制御型光スイッチ
15 マルチモード光ファイバ(MMF)
16 光電子倍増管(PMT)
17 光ファイバ
18 波高分析器

Claims (3)

  1. 一定間隔を隔ててアレイ状に並置されたプラスチックシンチレーションファイバと、これらのプラスチックシンチレーションファイバの放射線飛来方向前面側に一定の間隔を隔ててアレイ状に並置され、複数のスリットを形成するマスク部材とからなるセンサーを2組、プラスチックシンチレーションファイバ及びマスク部材の軸が、それぞれX軸方向とY軸方向となるように各センサーを水平に離れた位置に並べて構成される2次元センサーと、
    プラスチックシンチレーションファイバに接続され、各プラスチックシンチレーションファイバからのシンチレーション光を切り換える光制御型光スイッチと、
    該光制御型光スイッチからのシンチレーション光を検出する光電子倍増管と、
    該光電子倍増管で検出したシンチレーション光の光強度解析を行う波高分析器を備えることを特徴とする放射線飛来方向検出システム。
  2. マスク部材の間隔がプラスチックシンチレーションファイバの間隔と異なることを特徴とする請求項1に記載の放射線飛来方向検出システム。
  3. マスク部材の間隔がプラスチックシンチレーションファイバの間隔と等しいことを特徴とする請求項1に記載の放射線飛来方向検出システム。
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