JP2014115739A - Display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device including a capacitance coupling system touch panel for achieving the detection of a capacitance with high fidelity as an input device by using a conductive film containing metal nano-wire in which the fluctuation of conductive characteristics is suppressed.SOLUTION: The display device includes: a display circuit board 11 and a transparent substrate 15 disposed so as to face each other; and a display circuit layer 12 at the display circuit substrate 11 side. The display device includes a capacitance coupling system touch panel including a capacitance detection touch panel circuit layer 14 disposed on the transparent substrate 15 for detecting a position where a transparent electrode for detecting XY position coordinates is touched as an input device. In the capacitance coupling system touch panel, the transparent electrode is constituted of the conductive film of metal nano-wire contained in transparent resin, and the metal nano-wire is exposed from the surface layer of transparent resin, and the exposed metal nano-wire is connected to a connection electrode leading to lead-out wiring.

Description

本発明は、表示装置に関し、特に、金属ナノワイヤを含有する導電膜を透明電極として用いる静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置に適用して有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a display device, and more particularly to a technique effective when applied to a display device including a capacitively coupled touch panel using a conductive film containing metal nanowires as a transparent electrode as an input device.

例えば、表示装置の一例として、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリックス方式の表示装置は、薄型、軽量といった利点を有し、テレビ、コンピュータ、携帯電話や小型携帯機器、車載機器他の様々な電子機器の表示装置として一般的に用いられている。   For example, as an example of a display device, an active matrix display device using a thin film transistor has advantages such as thinness and light weight, and displays various electronic devices such as a television, a computer, a mobile phone, a small portable device, an in-vehicle device, and the like. Generally used as a device.

これらの表示装置の多くは、液晶表示装置、あるいは、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である。液晶表示装置は、1対の透明基板で液晶を挟持した液晶セルと、液晶セルの両外側に貼り合わせた光学異方性フィルムと、表示光源となるバックライトとの組み合わせからなる表示装置である。有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス材料を電極間に挟み込んで、電極への印加電力を発光に変えて自発光する表示装置である。   Many of these display devices are liquid crystal display devices or organic electroluminescence display devices. The liquid crystal display device is a display device comprising a combination of a liquid crystal cell in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of transparent substrates, an optically anisotropic film bonded to both outer sides of the liquid crystal cell, and a backlight serving as a display light source. . An organic electroluminescent display device is a display device that emits light by sandwiching an organic electroluminescent material between electrodes and changing the power applied to the electrodes to light emission.

一方、タッチパネルは、表示装置の表示領域に対応する画面を指やペンでタッチすることで位置を検知して、位置座標などを、表示装置と組み合わせることで表示装置に入力する機能を有する機器である。このタッチパネルは、その動作原理において様々は方式が存在するが、最近では、小型携帯機器用途において静電容量結合方式のタッチパネルが主体となっている。   On the other hand, a touch panel is a device having a function of detecting a position by touching a screen corresponding to a display area of a display device with a finger or a pen and inputting position coordinates or the like to the display device by combining with the display device. is there. There are various types of touch panels in terms of their operating principles, but recently, capacitive touch panels are mainly used for small portable devices.

静電容量結合方式のタッチパネルは、表示装置の表示領域に対応するタッチパネル基板上のタッチパネル画面に、タッチされた位置を検出するパターン化させた透明電極が形成されている。このタッチパネル画面の周辺には、透明電極からの位置検出信号を取り出す配線が形成され、位置検出信号を外部の検出回路に出力するための配線回路などを備えている。   In the capacitive coupling type touch panel, a patterned transparent electrode for detecting a touched position is formed on a touch panel screen on a touch panel substrate corresponding to a display area of the display device. Wiring for extracting a position detection signal from the transparent electrode is formed around the touch panel screen, and includes a wiring circuit for outputting the position detection signal to an external detection circuit.

この静電容量結合方式のタッチパネルでは、高速にタッチされた位置を検出できる利点があり、指タッチを基本として、指先と位置検出電極との間での静電容量の変化を捉えて位置を検出する。例えば、XY位置を検出する場合に、XY位置検出電極間は絶縁された構造を有している。   This capacitively coupled touch panel has the advantage of being able to detect the touched position at high speed, and based on the finger touch, it detects the change in the capacitance between the fingertip and the position detection electrode. To do. For example, when detecting the XY position, the XY position detection electrodes are insulated from each other.

このようなタッチパネルでは、インジウムスズ酸化物などの金属酸化物導電体が、導電性と光透過性の点で、上述の透明電極に標準的に用いられている。しかし、金属酸化物膜は、通常、スパッタ法を用いて真空成膜しているので形成コストを要する課題がある。また、特にインジウムスズ酸化物では導電性と光透過性に優れた膜を形成するに200℃近い高温条件を要し、形成された膜の内部応力が大きく成膜した基板に応力負荷がかかるなどの課題がある。   In such a touch panel, a metal oxide conductor such as indium tin oxide is typically used for the above-described transparent electrode in terms of conductivity and light transmittance. However, since the metal oxide film is usually formed in a vacuum using a sputtering method, there is a problem that requires a formation cost. In particular, indium tin oxide requires a high temperature condition near 200 ° C. to form a film excellent in conductivity and light transmittance, and the internal stress of the formed film is large. There is a problem.

このような課題がある金属酸化物膜に替わり、近年、金属ナノワイヤを含有する導電膜が知られている。特に、金属ナノワイヤを塗膜溶液に含有させて、基板上にインクジェット法やディスペンス法、スクリーン印刷法を用いて塗工、乾燥して、透明導電膜を形成することが知られている。   Instead of the metal oxide film having such a problem, a conductive film containing metal nanowires is known in recent years. In particular, it is known that metal nanowires are contained in a coating solution, and a transparent conductive film is formed on a substrate by coating and drying using an inkjet method, a dispensing method, or a screen printing method.

例えば、静電容量結合方式のタッチパネルと表示装置とを組み合わせた例としては、特許文献1が知られている。特許文献1には、有機エレクトロルミネッセンスの構成に静電容量結合方式のタッチパネルを組み合わせた入力機能付き有機エレクトロルミネッセンス装置が記載されている。   For example, Patent Document 1 is known as an example of combining a capacitively coupled touch panel and a display device. Patent Document 1 describes an organic electroluminescence device with an input function in which a capacitively coupled touch panel is combined with an organic electroluminescence configuration.

特開2008-216543号公報JP 2008-216543 A

ところで、上記特許文献1を含む従来の静電容量結合方式のタッチパネルと表示装置とを組み合わせた技術に関して、本発明者が検討した結果、以下のようなことが明らかとなった。   By the way, as a result of the study of the present inventor regarding a technique in which a conventional capacitive coupling type touch panel including the above-mentioned Patent Document 1 and a display device are combined, the following has been clarified.

例えば、金属ナノワイヤを含有する導電膜では、金属ナノワイヤ同士が接触することで電気的に接続導通し、導電特性を発現していることになる。このとき、金属ナノワイヤを塗膜溶液に含有させて、塗布膜を形成、加熱乾燥して、透明導電膜とする場合は、塗布時から乾燥膜の形成時に膜としては乾燥、収縮することになる。このとき、形成される膜ごとには金属ナノワイヤの形状や相対位置関係が同一になることは皆無であるために個体差が生じる。このため、膜中の金属ナノワイヤ同士の相対位置関係は変動し、接触接合状態が膜により変動することになる。これゆえに、膜形成ごとに導電特性も変動する問題が生じることが考えられる。   For example, in a conductive film containing metal nanowires, the metal nanowires come into contact with each other to be electrically connected and conductive, thereby expressing conductive characteristics. At this time, when the metal nanowire is contained in the coating solution to form a coating film and heat-dried to form a transparent conductive film, the film is dried and contracted from the time of coating to the time of forming the dried film. . At this time, there is no individual difference because the shape and relative positional relationship of the metal nanowires are not the same for each formed film. For this reason, the relative positional relationship between the metal nanowires in the film varies, and the contact bonding state varies depending on the film. For this reason, it is considered that there is a problem that the conductive characteristics fluctuate every time the film is formed.

そこで、本発明は上記のような問題に鑑みてなされたものであり、その代表的な目的は、導電特性の変動を抑えた金属ナノワイヤを含有する導電膜を用いて、高品位の静電容量検出を実現する静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-described problems, and a typical object thereof is to use a conductive film containing metal nanowires with suppressed variation in conductive characteristics, and to provide a high-quality capacitance. An object of the present invention is to provide a display device including a capacitively coupled touch panel that realizes detection as an input device.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、代表的な表示装置は、対向配置される第1基板と第2基板とを有し、前記第1基板側にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示領域を有する表示装置であって、以下の特徴を有するものである。前記表示装置は、前記第2基板は透明基板からなり、前記第2基板上にXY位置座標を検出する透明電極が設けられ、前記透明電極に対してタッチされた位置を静電容量結合により検出する静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備えている。   In other words, a typical display device includes a display region that includes a first substrate and a second substrate that are opposed to each other and a pixel region of thin film transistor circuits that are arranged in a matrix on the first substrate side. The apparatus has the following characteristics. In the display device, the second substrate is a transparent substrate, a transparent electrode for detecting XY position coordinates is provided on the second substrate, and a position touched to the transparent electrode is detected by capacitive coupling. A capacitively coupled touch panel is provided as an input device.

そして、前記タッチパネルは、前記透明電極が透明樹脂中に含有された金属ナノワイヤの導電膜からなり、前記導電膜の一部表面に積層する、前記タッチパネルの外部回路と接続するための引き出し電極を備え、前記透明樹脂の表面層から前記金属ナノワイヤが露出し、前記露出した金属ナノワイヤと前記引き出し電極とが接合する構造であることを特徴とする。   The touch panel includes a lead electrode for connecting to an external circuit of the touch panel, the transparent electrode being made of a conductive film of metal nanowires contained in a transparent resin, laminated on a part of the surface of the conductive film. The metal nanowire is exposed from the surface layer of the transparent resin, and the exposed metal nanowire and the extraction electrode are joined.

特に、前記表示装置としては、前記第1基板と前記第2基板とにより液晶層を挟持し、表示光源となるバックライトを備えた液晶表示装置、または、前記第1基板上に、前記薄膜トランジスタ回路につながる電極層間に有機エレクトロルミネッセンス層を形成した発光素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする。   In particular, as the display device, a liquid crystal display device including a backlight serving as a display light source with a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, or the thin film transistor circuit on the first substrate. An organic electroluminescence display device including a light emitting element in which an organic electroluminescence layer is formed between electrode layers connected to each other.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、代表的な効果は、導電特性の変動を抑えた金属ナノワイヤを含有する導電膜を用いて、高品位の静電容量検出を実現する静電容量方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置を実現することができる。   In other words, a typical effect is to realize a display device that has a capacitive touch panel that realizes high-quality capacitance detection as an input device, using a conductive film containing metal nanowires that suppresses fluctuations in conductive properties. can do.

本発明の実施の形態1である表示装置の一例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating an example of the display apparatus which is Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1である表示装置に含まれる静電容量結合方式タッチパネルの一例を説明するための基板平面図である。It is a board | substrate top view for demonstrating an example of the capacitive coupling system touchscreen contained in the display apparatus which is Embodiment 1 of this invention. 図2において、透明電極と引き出し配線の接続部を説明するためのタッチパネル断面図(図2のc部切断面)である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the touch panel for explaining a connection portion between the transparent electrode and the lead-out wiring (section c cut in FIG. 2). 図2において、XY位置座標の透明電極の交差部を説明するためのタッチパネル断面図(図2のa−a’切断面)である。2 is a cross-sectional view of the touch panel (a-a ′ cut surface in FIG. 2) for explaining an intersection of transparent electrodes at XY position coordinates in FIG. 2. 図2において、XY位置座標の透明電極の交差部を説明するためのタッチパネル断面図(図2のb−b’切断面)である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the touch panel (b-b ′ cut surface in FIG. 2) for explaining an intersection of transparent electrodes at XY position coordinates in FIG. 2. 図2に示す静電容量結合方式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the capacitive coupling system touchscreen shown in FIG. 図6に続く、図2に示す静電容量結合方式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための工程断面図である。FIG. 7 is a process cross-sectional view for explaining an example of the manufacturing method of the capacitive coupling touch panel shown in FIG. 2 following FIG. 6. 本発明の実施の形態2である液晶表示装置の一例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating an example of the liquid crystal display device which is Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3である有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating an example of the organic electroluminescent display apparatus which is Embodiment 3 of this invention.

以下の実施の形態においては、便宜上その必要があるときは、複数の実施の形態またはセクションに分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらは互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。   In the following embodiments, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of embodiments or sections. However, unless otherwise specified, they are not irrelevant and one is the other. There are some or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like. Further, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), especially when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number.

さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。   Further, in the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not necessarily indispensable unless otherwise specified and apparently essential in principle. Needless to say. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges.

[本発明の実施の形態の概要]
本発明の実施の形態の表示装置は、以下の特徴を有している(一例として、()内に対応する構成要素、符号などを付記)。
[Outline of Embodiment of the Present Invention]
The display device according to the embodiment of the present invention has the following characteristics (for example, the corresponding components, reference numerals, etc. are added in parentheses).

本実施の形態の表示装置は、対向配置される第1基板(表示回路基板11)と第2基板(透明基板15)とを有し、前記第1基板側にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示領域(表示回路層12)を有する表示装置であって、以下の特徴を有するものである。前記表示装置は、前記第2基板は透明基板からなり、前記第2基板上にXY位置座標を検出する透明電極(透明電極142,143)が設けられ、前記透明電極に対してタッチされた位置を静電容量結合により検出する静電容量結合方式タッチパネル(静電容量検出タッチパネル回路層14)を入力装置として備えている。   The display device according to the present embodiment includes a first substrate (display circuit substrate 11) and a second substrate (transparent substrate 15) that are arranged to face each other, and a thin film transistor circuit that is arranged in a matrix on the first substrate side. A display device having a display area (display circuit layer 12) which is a pixel assembly of the above, and has the following characteristics. In the display device, the second substrate is a transparent substrate, a transparent electrode (transparent electrodes 142 and 143) for detecting XY position coordinates is provided on the second substrate, and a position touched with respect to the transparent electrode A capacitive coupling type touch panel (capacitance detection touch panel circuit layer 14) is detected as an input device.

そして、前記タッチパネルは、前記透明電極が透明樹脂中に含有された金属ナノワイヤの導電膜からなり、前記導電膜の一部表面に積層する、前記タッチパネルの外部回路と接続するための引き出し電極(引き出し配線144、接続電極145)を備え、前記透明樹脂の表面層から前記金属ナノワイヤが露出し、前記露出した金属ナノワイヤと前記引き出し電極とが接合する構造であることを特徴とする。   The touch panel is made of a conductive film of metal nanowires in which the transparent electrode is contained in a transparent resin, and is laminated on a partial surface of the conductive film, and is connected to an external circuit of the touch panel (drawer) A wiring 144 and a connection electrode 145), wherein the metal nanowire is exposed from the surface layer of the transparent resin, and the exposed metal nanowire and the extraction electrode are joined.

特に、前記表示装置としては、前記第1基板と前記第2基板とにより液晶層(挟持液晶層23)を挟持し、表示光源となるバックライト(バックライト26)を備えた液晶表示装置、または、前記第1基板上に、前記薄膜トランジスタ回路につながる電極層間に有機エレクトロルミネッセンス層(有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36)を形成した発光素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする。   In particular, as the display device, a liquid crystal display device including a backlight (backlight 26) serving as a display light source in which a liquid crystal layer (a sandwich liquid crystal layer 23) is sandwiched between the first substrate and the second substrate, or The organic electroluminescence display device includes a light emitting element in which an organic electroluminescence layer (organic electroluminescence light emitting circuit layer 36) is formed between electrode layers connected to the thin film transistor circuit on the first substrate.

さらに好ましくは、上記表示装置において、以下の特徴を有している。前記金属ナノワイヤは、断面直径が10〜100nmの範囲であり、かつ、長さが1〜100μmの範囲である。前記金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤである。前記タッチパネルは、前記透明基板の表面に対して前記導電膜の透明樹脂が接合する構造であり、前記導電膜の表面層の10〜200nmの範囲の厚さに前記金属ナノワイヤが含有されている。前記導電膜の透明樹脂は、感光性樹脂絶縁物からなる。前記導電膜は、可視光領域で光透過率が80%以上である。   More preferably, the display device has the following characteristics. The metal nanowire has a cross-sectional diameter of 10 to 100 nm and a length of 1 to 100 μm. The metal nanowire is a silver nanowire. The touch panel has a structure in which the transparent resin of the conductive film is bonded to the surface of the transparent substrate, and the metal nanowire is contained in a thickness in the range of 10 to 200 nm of the surface layer of the conductive film. The transparent resin of the conductive film is made of a photosensitive resin insulator. The conductive film has a light transmittance of 80% or more in the visible light region.

また、本実施の形態の表示装置において、入力装置として備えている静電容量結合方式タッチパネルは、以下の工程により製造される特徴を有している(一例として、()内に対応する構成要素、符号、図面などを付記)。すなわち、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された感光性樹脂組成物フィルム(感光性樹脂組成物フィルム51,53)を備えた支持体フィルム(支持体フィルム52)から、転写により前記感光性樹脂組成物フィルムを前記透明基板に貼り合わせる工程(図6−(2)、図6−(4))と、前記感光性樹脂組成物フィルムを所望の形状に遮光マスクを介して露光し、アルカリ性現像液を用いて前記露光での未露光部分を現像により除去することで、前記透明基板上に所望の形状で形成された透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなる前記透明電極を形成する工程(図6−(3)、図7−(5))と、前記導電膜の一部表面に積層して、前記透明樹脂の表面層から露出された前記金属ナノワイヤと接合され、前記タッチパネルの外部回路と接続するための引き出し電極を形成する工程(図7−(6))とから実現される。   Further, in the display device of the present embodiment, the capacitive coupling touch panel provided as an input device has a feature manufactured by the following steps (for example, components corresponding to ()) , Symbols, drawings, etc.) That is, the photosensitive resin composition is transferred from a support film (support film 52) provided with a photosensitive resin composition film (photosensitive resin composition films 51 and 53) containing metal nanowires in a transparent resin. A step of attaching a product film to the transparent substrate (FIGS. 6- (2) and 6- (4)), exposing the photosensitive resin composition film to a desired shape through a light-shielding mask, and an alkaline developer The transparent electrode made of a conductive film containing metal nanowires in a transparent resin formed in a desired shape on the transparent substrate is formed by removing the unexposed portion in the exposure by development using A step (FIGS. 6- (3), 7- (5)), a layer on the surface of the conductive film, and bonding to the metal nanowire exposed from the surface layer of the transparent resin; Forming a lead electrode for connecting with an external circuit is realized from a (FIG. 7 (6)).

上述した透明樹脂はフィルム状で、金属ナノワイヤは固体物中に固定されていて、金属ナノワイヤ同士の相対位置関係は、フィルム転写や露光、現像により導電膜を形成した後も変動はない。このため、フィルム初期に設計された導電特性は、導電膜を形成した後も変動することはないので、これを導電膜として用いることで高品位の静電容量検出を実現する静電容量結合方式タッチパネルを実現することが可能となる。   The transparent resin described above is in the form of a film, and the metal nanowires are fixed in a solid material, and the relative positional relationship between the metal nanowires does not change even after the conductive film is formed by film transfer, exposure, or development. For this reason, the conductive characteristics designed in the initial stage of the film do not change even after the conductive film is formed. The capacitive coupling method that realizes high-quality electrostatic capacity detection by using this as a conductive film. A touch panel can be realized.

この静電容量結合方式タッチパネルを備えた第2基板と、マトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示領域を有する第1基板とを対向させることで、静電容量結合方式タッチパネルを備えた表示装置を実現する。例えば、液晶表示装置の場合は、第1基板と第2基板とを基板外周部において接着封止材料で密封して、第1基板と第2基板との間に液晶層を挟持させることで、液晶セルを実現し、表示光源となるバックライトを備えて液晶表示装置となる。また、有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、第1基板である薄膜トランジスタ回路基板上に、電極層間に有機エレクトロルミネッセンス層を発光素子として形成することで、自発光の有機エレクトロルミネッセンス表示装置となる。   The second substrate having the capacitive coupling touch panel and the first substrate having a display area which is a pixel assembly of thin film transistor circuits arranged in a matrix are opposed to each other. The provided display device is realized. For example, in the case of a liquid crystal display device, the first substrate and the second substrate are sealed with an adhesive sealing material at the outer periphery of the substrate, and a liquid crystal layer is sandwiched between the first substrate and the second substrate, A liquid crystal cell is realized, and a liquid crystal display device is provided with a backlight serving as a display light source. In addition, the organic electroluminescence display device is a self-luminous organic electroluminescence display device by forming an organic electroluminescence layer as a light emitting element between electrode layers on a thin film transistor circuit substrate which is a first substrate.

以上説明した本発明の実施の形態の概要に基づいた各実施の形態を、以下において図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Each embodiment based on the outline of the embodiment of the present invention described above will be described in detail below based on the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiment, and the repetitive description thereof will be omitted.

[実施の形態1]
本実施の形態の表示装置を、図1〜図7を用いて説明する。
[Embodiment 1]
The display device of this embodiment will be described with reference to FIGS.

<表示装置>
図1を用いて、本実施の形態の表示装置について説明する。図1は、この表示装置の一例を説明するための概略断面図である。
<Display device>
The display device of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the display device.

本実施の形態の表示装置は、静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置であり、表示回路基板11、表示回路層12、挟持層13、静電容量検出タッチパネル回路層14、透明基板15などから構成される。   The display device of this embodiment is a display device including a capacitively coupled touch panel as an input device, and includes a display circuit board 11, a display circuit layer 12, a sandwiching layer 13, a capacitance detection touch panel circuit layer 14, and a transparent substrate. 15 or the like.

本実施の形態の表示装置では、表示回路基板11上にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示回路層12を備える。この表示回路層12の対向面に、静電容量検出タッチパネル回路層14を備える透明基板15があり、この対向する表示回路基板11と透明基板15により挟持層13が形成されている。   The display device of this embodiment includes a display circuit layer 12 that is a pixel aggregate of thin film transistor circuits arranged in a matrix on a display circuit substrate 11. A transparent substrate 15 having a capacitance detection touch panel circuit layer 14 is provided on the opposing surface of the display circuit layer 12, and a sandwiching layer 13 is formed by the display circuit substrate 11 and the transparent substrate 15 facing each other.

この表示装置では、背面側の表示回路基板11上に備える表示回路層12からの発光が、挟持層13、静電容量検出タッチパネル回路層14、前面側の透明基板15を透過して表示光となり、静電容量結合方式タッチパネルを備えた表示装置を実現することができる。   In this display device, light emitted from the display circuit layer 12 provided on the display circuit substrate 11 on the back side passes through the sandwiching layer 13, the capacitance detection touch panel circuit layer 14, and the transparent substrate 15 on the front side to become display light. A display device provided with a capacitively coupled touch panel can be realized.

<静電容量結合方式タッチパネル>
図2を用いて、図1に示した表示装置において、この表示装置に含まれる静電容量結合方式タッチパネルについて説明する。図2は、この静電容量結合方式タッチパネルの一例を説明するための基板平面図である。図2に示す静電容量結合方式タッチパネルは、図1に示した静電容量検出タッチパネル回路層14を備える透明基板15の部分である。
<Capacitive coupling type touch panel>
With reference to FIG. 2, the capacitive coupling touch panel included in the display device shown in FIG. 1 will be described. FIG. 2 is a substrate plan view for explaining an example of the capacitive coupling touch panel. 2 is a portion of the transparent substrate 15 including the capacitance detection touch panel circuit layer 14 shown in FIG.

本実施の形態の静電容量結合方式タッチパネルは、透明基板15、タッチ画面141、透明電極(X位置座標)142、透明電極(Y位置座標)143、引き出し配線144、接続電極145、接続端子146などから構成される。   The capacitive coupling touch panel of this embodiment includes a transparent substrate 15, a touch screen 141, a transparent electrode (X position coordinate) 142, a transparent electrode (Y position coordinate) 143, a lead wire 144, a connection electrode 145, and a connection terminal 146. Etc.

本実施の形態の静電容量結合方式タッチパネルでは、透明基板15の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面141があり、この領域に静電容量変化を検出して、X位置座標とする透明電極142と、Y位置座標とする透明電極143を備えている。なお、図2においては、区別して分かり易くするため、X位置座標とする透明電極142は横線で図示し、Y位置座標とする透明電極143は縦線で図示している。   In the capacitive coupling type touch panel of the present embodiment, there is a touch screen 141 for detecting a touch position coordinate on one side of the transparent substrate 15, and a change in the capacitance is detected in this region to obtain an X position coordinate. A transparent electrode 142 and a transparent electrode 143 having Y position coordinates are provided. In FIG. 2, for the sake of distinction and easy understanding, the transparent electrode 142 with the X position coordinate is illustrated with a horizontal line, and the transparent electrode 143 with the Y position coordinate is illustrated with a vertical line.

これらのX、Y位置座標とするそれぞれの透明電極142,143には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバー素子回路と接続するための引き出し配線144と、その引き出し配線144と透明電極142,143を接続する接続電極145が配置されている。さらに、引き出し配線144の接続電極145と反対側の端部には、ドライバー素子回路と接続する接続端子146が配置されている。   Each of the transparent electrodes 142 and 143 having the X and Y position coordinates includes a lead wire 144 for connecting to a driver element circuit for controlling an electric signal as a touch panel, and the lead wire 144 and the transparent electrodes 142 and 143. A connection electrode 145 for connecting the two is disposed. Furthermore, a connection terminal 146 connected to the driver element circuit is disposed at the end of the lead-out wiring 144 opposite to the connection electrode 145.

透明基板15としては、ソーダガラスや、ホウケイ酸ガラスなどのアルカリガラスや、無アルカリガラス、化学強化ガラスなどのガラス基板が適している。また、透明性を有するポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、耐熱性と透明性の高いポリイミドフィルムも知られており、透明性を有するこのような樹脂系基板を用いることも可能である。   As the transparent substrate 15, a glass substrate such as alkali glass such as soda glass or borosilicate glass, non-alkali glass, or chemically strengthened glass is suitable. Further, polyester films such as polyethylene terephthalate having transparency and polyethylene naphthalate, polyimide films having high heat resistance and transparency are also known, and such resin-based substrates having transparency can also be used.

透明電極142,143は、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなる。金属ナノワイヤは、断面直径が10〜100nm、長さが1〜100μmの範囲である。この金属ナノワイヤは、透明樹脂の表面層から露出し、この露出した金属ナノワイヤと引き出し配線144に繋がる接続電極145とが接合する構造である。   The transparent electrodes 142 and 143 are made of a conductive film in which metal nanowires are contained in a transparent resin. The metal nanowire has a cross-sectional diameter of 10 to 100 nm and a length of 1 to 100 μm. The metal nanowire is exposed from the surface layer of the transparent resin, and the exposed metal nanowire and the connection electrode 145 connected to the lead-out wiring 144 are joined.

金属ナノワイヤとしては、Au、Ag、Pt、Cu、Co、C、Pdなどのナノワイヤを用いることができる。この中でも、導電膜としての導電性と光透過性の観点からAgナノワイヤが好適な構成材料であり、本実施の形態ではAgナノワイヤを用いた例を説明する。   As the metal nanowire, nanowires such as Au, Ag, Pt, Cu, Co, C, and Pd can be used. Among these, Ag nanowire is a suitable constituent material from the viewpoint of conductivity and light transmittance as a conductive film, and in this embodiment, an example using Ag nanowire will be described.

また、透明電極142,143は、透明基板15の表面に対して導電膜の透明樹脂が接合する構造であり、導電膜の表面層の10〜200nmの範囲の厚さに金属ナノワイヤが含有されている。この導電膜の透明樹脂は感光性樹脂絶縁物からなり、導電膜の光透過率は可視光領域で80%以上である。   The transparent electrodes 142 and 143 have a structure in which the transparent resin of the conductive film is bonded to the surface of the transparent substrate 15, and the metal nanowire is contained in a thickness in the range of 10 to 200 nm of the surface layer of the conductive film. Yes. The transparent resin of the conductive film is made of a photosensitive resin insulator, and the light transmittance of the conductive film is 80% or more in the visible light region.

引き出し配線144は、スパッタ法や蒸着法で成膜される金属電極が適している。具体的には、Ag−Pd−Cu、Al−Cu、Ni−Cu、Al、Cu,Niなどの合金、積層、単独構成の電極が挙げられる。また、Ag導電ペーストを用いて形成することも可能である。   The lead wiring 144 is preferably a metal electrode formed by sputtering or vapor deposition. Specific examples include alloys such as Ag—Pd—Cu, Al—Cu, Ni—Cu, Al, Cu, and Ni, stacked electrodes, and single electrodes. It is also possible to form using an Ag conductive paste.

<透明電極と引き出し配線の接続部>
図3を用いて、図2に示した静電容量結合方式タッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線の接続部の断面構造について説明する。図3は、この透明電極と引き出し配線の接続部を説明するためのタッチパネル断面図であり、図2のc部切断面を示す。図3においては、Y位置座標の透明電極143と引き出し配線144の接続部について示すが、X位置座標の透明電極142と引き出し配線144の接続部についても同様である。
<Connection between transparent electrode and lead wire>
With reference to FIG. 3, the cross-sectional structure of the connection portion between the transparent electrode and the lead-out wiring in the capacitively coupled touch panel shown in FIG. 2 will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view of the touch panel for explaining the connection portion between the transparent electrode and the lead-out wiring, and shows a section c cut in FIG. In FIG. 3, the connection portion between the transparent electrode 143 at the Y position coordinate and the lead wire 144 is shown, but the same applies to the connection portion between the transparent electrode 142 at the X position coordinate and the lead wire 144.

透明電極143と引き出し配線144を接続する接続電極145は、引き出し配線144を形成する際に、透明電極143の端部に積層する構造で形成されるものであり、特に引き出し配線144と個別の工程が必要とされるものではない。   The connection electrode 145 that connects the transparent electrode 143 and the lead-out wiring 144 is formed in a structure that is laminated at the end of the transparent electrode 143 when the lead-out wiring 144 is formed. Is not required.

透明電極143は、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなり、透明基板15の表面に積層された透明樹脂層143aと、この透明樹脂層143aの表面に積層された金属ナノワイヤ含有層143bから構成されている。金属ナノワイヤ含有層143bの金属ナノワイヤは表面層から露出しており、この露出した金属ナノワイヤと引き出し配線144に繋がる接続電極145が接合されている。例えば、金属ナノワイヤ含有層143bでは、金属ナノワイヤの端部などが表面から突出したりして、部分的に露出した構造となる。   The transparent electrode 143 is made of a conductive film in which metal nanowires are contained in a transparent resin. The transparent resin layer 143a is laminated on the surface of the transparent substrate 15, and the metal nanowire-containing layer is laminated on the surface of the transparent resin layer 143a. 143b. The metal nanowire of the metal nanowire-containing layer 143b is exposed from the surface layer, and the exposed metal nanowire and the connection electrode 145 connected to the lead-out wiring 144 are joined. For example, in the metal nanowire-containing layer 143b, the end of the metal nanowire or the like protrudes from the surface, resulting in a partially exposed structure.

このような構造により、Y位置座標の透明電極143と接続電極145と引き出し配線144とは電気的に接続された構造となる。同様に、X位置座標の透明電極142と接続電極145と引き出し配線144とは電気的に接続された構造となる。透明電極としては、X、Y位置座標とするそれぞれの透明電極142,143を備えている。   With such a structure, the transparent electrode 143 at the Y position coordinate, the connection electrode 145, and the lead-out wiring 144 are electrically connected. Similarly, the transparent electrode 142 at the X position coordinate, the connection electrode 145, and the lead-out wiring 144 are electrically connected. As transparent electrodes, transparent electrodes 142 and 143 having X and Y position coordinates are provided.

<XY位置座標の透明電極の交差部>
図4および図5を用いて、図2に示した静電容量結合方式タッチパネルにおいて、XY位置座標の透明電極の交差部の断面構造について説明する。図4および図5は、このXY位置座標の透明電極の交差部を説明するためのタッチパネル断面図であり、それぞれ、図4は図2のa−a’切断面を示し、図5は図2のb−b’切断面を示す。
<Intersection of transparent electrodes at XY position coordinates>
The cross-sectional structure of the intersection of the transparent electrodes at the XY position coordinates in the capacitive coupling type touch panel shown in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. 4 and 5 are cross-sectional views of the touch panel for explaining the intersections of the transparent electrodes at the XY position coordinates. FIG. 4 shows the aa ′ cut surface of FIG. 2, and FIG. The bb 'cut surface of this is shown.

X位置座標の透明電極142は、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなり、絶縁樹脂からなる透明樹脂層142aと、この透明樹脂層142aに積層された金属ナノワイヤ含有層142bから構成されている。また、Y位置座標の透明電極143も同様に、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなり、絶縁樹脂からなる透明樹脂層143aと、この透明樹脂層143aに積層された金属ナノワイヤ含有層143bから構成されている。   The transparent electrode 142 at the X position coordinate is made of a conductive film in which metal nanowires are contained in a transparent resin, and includes a transparent resin layer 142a made of an insulating resin and a metal nanowire-containing layer 142b laminated on the transparent resin layer 142a. Has been. Similarly, the transparent electrode 143 at the Y position coordinate is made of a conductive film in which metal nanowires are contained in a transparent resin, and includes a transparent resin layer 143a made of an insulating resin, and metal nanowires laminated on the transparent resin layer 143a. The layer 143b is configured.

このような構成からなるXY位置座標の透明電極142,143の交差部において、X位置座標の透明電極142に対して、Y位置座標の透明電極143の交差部は、図4に示すように、絶縁樹脂からなる透明樹脂層143aにより、絶縁された交差構造となっている。また、Y位置座標の透明電極143に対して、X位置座標の透明電極142の交差部は、図5に示すように、絶縁樹脂からなる透明樹脂層143aにより、絶縁された交差構造となっている。これにより、X位置座標の透明電極142とY位置座標の透明電極143とは絶縁された構造からなる。   In the intersection of the transparent electrodes 142 and 143 at the XY position coordinates having such a configuration, the intersection of the transparent electrode 143 at the Y position coordinates with respect to the transparent electrode 142 at the X position coordinates is as shown in FIG. The transparent resin layer 143a made of an insulating resin forms an insulated cross structure. Further, as shown in FIG. 5, the intersection of the transparent electrode 142 at the X position coordinate and the transparent electrode 143 at the Y position coordinate has an intersecting structure insulated by a transparent resin layer 143a made of an insulating resin. Yes. As a result, the transparent electrode 142 at the X position coordinate and the transparent electrode 143 at the Y position coordinate are insulated from each other.

これらのXY位置座標の透明電極142,143では、前述したように、Au、Ag、Pt、Cu、Co、C、Pdなどの金属ナノワイヤの中でも、導電膜としての導電性と光透過性の観点からAgナノワイヤが最も適している。   In the transparent electrodes 142 and 143 of these XY position coordinates, as described above, among metal nanowires such as Au, Ag, Pt, Cu, Co, C, and Pd, the viewpoint of conductivity and light transmission as a conductive film. To Ag nanowires are most suitable.

また、透明電極142,143では、透明基板15の表面に対して透明樹脂層142a,143aが接合され、金属ナノワイヤ含有層142b,143bの表面層の10〜200nmの厚さに金属ナノワイヤが含有されている。この導電膜の透明樹脂は感光性樹脂絶縁物からなり、導電膜の光透過率は可視光領域で80%以上となっている。   Further, in the transparent electrodes 142 and 143, the transparent resin layers 142a and 143a are bonded to the surface of the transparent substrate 15, and the metal nanowires are contained in a thickness of 10 to 200 nm of the surface layers of the metal nanowire-containing layers 142b and 143b. ing. The transparent resin of the conductive film is made of a photosensitive resin insulator, and the light transmittance of the conductive film is 80% or more in the visible light region.

<静電容量結合方式タッチパネルの製造方法>
図6および図7を用いて、図2に示した静電容量結合方式タッチパネルの製造方法について説明する。図6および図7は、この静電容量結合方式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための工程断面図であり、図6の後に図7が続く断面図となっている。図6および図7において、(1)〜(3)は図4と同様の切断面の断面図を示し、(4)〜(5)は図5と同様の切断面の断面図を示し、(6)は図3と同様の切断面の断面図を示す。
<Method of manufacturing capacitively coupled touch panel>
A method for manufacturing the capacitively coupled touch panel shown in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 6 and 7 are process cross-sectional views for explaining an example of the manufacturing method of this capacitively coupled touch panel, and are cross-sectional views subsequent to FIG. 6 followed by FIG. 6 and 7, (1) to (3) are cross-sectional views of the cut surface similar to FIG. 4, (4) to (5) are cross-sectional views of the cut surface similar to FIG. 6) shows a cross-sectional view of the cut surface similar to FIG.

図2に示したタッチパネルを、以下の条件で作製した。   The touch panel shown in FIG. 2 was produced under the following conditions.

まず、(1)に示すように、透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された感光性樹脂組成物フィルム51を備えた支持体フィルム52を用意する。これは、感光性樹脂組成物フィルム51を支持するための支持体フィルム52に、感光性樹脂組成物フィルム51が積層されたフィルム構造の部材である。この感光性樹脂組成物フィルム51では、金属ナノワイヤが透明樹脂による固体物中に固定されている。このフィルム構造の部材としては、感光性樹脂組成物フィルム51の支持体フィルム52とは反対側に、ベースフィルムが積層された構造の部材を用いることも可能である。   First, as shown to (1), the support body film 52 provided with the photosensitive resin composition film 51 in which the metal nanowire contained in transparent resin is prepared. This is a member having a film structure in which a photosensitive resin composition film 51 is laminated on a support film 52 for supporting the photosensitive resin composition film 51. In this photosensitive resin composition film 51, metal nanowires are fixed in a solid material made of a transparent resin. As a member having this film structure, a member having a structure in which a base film is laminated on the side opposite to the support film 52 of the photosensitive resin composition film 51 can also be used.

次に、(2)に示すように、感光性樹脂組成物フィルム51を備えた支持体フィルム52から、フィルム転写により感光性樹脂組成物フィルム51を透明基板15に貼り合わせる。このフィルム転写により、透明基板15には、支持体フィルム52から剥離された感光性樹脂組成物フィルム51の部分が貼り合わされた構造となる。   Next, as shown in (2), the photosensitive resin composition film 51 is bonded to the transparent substrate 15 by film transfer from the support film 52 provided with the photosensitive resin composition film 51. By this film transfer, the transparent substrate 15 has a structure in which a portion of the photosensitive resin composition film 51 peeled from the support film 52 is bonded.

そして、(3)に示すように、感光性樹脂組成物フィルム51を所望の形状に遮光マスクを介して露光し、アルカリ性現像液を用いて露光工程での未露光部分を除去し、透明基板15上に所望の形状で形成された透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなるX位置座標となる透明電極142を形成する。   Then, as shown in (3), the photosensitive resin composition film 51 is exposed to a desired shape through a light shielding mask, an unexposed portion in the exposure step is removed using an alkaline developer, and the transparent substrate 15 is removed. A transparent electrode 142 having an X position coordinate formed of a conductive film containing metal nanowires in a transparent resin formed in a desired shape is formed.

次に、X位置座標となる透明電極142の形成後は、Y位置座標となる透明電極143を形成するために、(4)に示すように、上記(2)と同様に、再度、フィルム転写により感光性樹脂組成物フィルム53を透明基板15に貼り合わせる。   Next, after the formation of the transparent electrode 142 serving as the X position coordinates, as shown in (4), the film transfer is again performed in the same manner as (2) above in order to form the transparent electrode 143 serving as the Y position coordinates. Then, the photosensitive resin composition film 53 is bonded to the transparent substrate 15.

そして、(5)に示すように、上記(3)と同様に、所望の形状に遮光マスクを介して露光し、アルカリ性現像液を用いて露光工程での未露光部分を除去し、透明基板15上に所望の形状で形成された透明樹脂中に金属ナノワイヤが含有された導電膜からなるY位置座標となる透明電極143を形成する。   Then, as shown in (5), similarly to the above (3), it is exposed to a desired shape through a light shielding mask, an unexposed portion in the exposure process is removed using an alkaline developer, and the transparent substrate 15 is removed. A transparent electrode 143 having a Y position coordinate formed of a conductive film containing metal nanowires in a transparent resin formed in a desired shape is formed.

次に、(6)に示すように、透明基板15の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線144と、この引き出し配線144と透明電極143(142)を接続する接続電極145を形成する。ここでは、フレーク形状のAgを含有する導電ペースト材料を使ってスクリーン印刷法を用いて、引き出し配線144、接続電極145を同時に形成している。   Next, as shown in (6), on the surface of the transparent substrate 15, a lead wire 144 for connecting to an external circuit and a connection electrode 145 for connecting the lead wire 144 and the transparent electrode 143 (142) are formed. . Here, the lead-out wiring 144 and the connection electrode 145 are formed at the same time by using a screen printing method using a conductive paste material containing flake-shaped Ag.

上述した(1)〜(6)の工程により、金属ナノワイヤが透明樹脂による固体物中に固定されている感光性樹脂組成物フィルム51,53を用いて、金属ナノワイヤ同士の相対位置関係はフィルム転写や露光、現像により導電膜を形成した後も変動はないので、高品位のXY位置座標の透明電極142,143を有する静電容量結合方式タッチパネルを作製することが可能となる。   By using the photosensitive resin composition films 51 and 53 in which the metal nanowires are fixed in a solid material made of a transparent resin by the steps (1) to (6) described above, the relative positional relationship between the metal nanowires is film transfer. Since the conductive film is not changed after the conductive film is formed by exposure or development, a capacitively coupled touch panel having transparent electrodes 142 and 143 having high-quality XY position coordinates can be manufactured.

このようにして、高品位の静電容量検出を実現する静電容量結合方式タッチパネルを得ることが可能となり、これにより、静電容量結合方式タッチパネルを備えた透明基板を対向基板とする表示装置を実現することができる。   In this way, it is possible to obtain a capacitive coupling type touch panel that realizes high-quality electrostatic capacitance detection, whereby a display device using a transparent substrate having a capacitive coupling type touch panel as a counter substrate is provided. Can be realized.

<本実施の形態の効果>
以上説明した本実施の形態の表示装置によれば、対向配置される表示回路基板11と透明基板15とを有し、表示回路基板11側にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示回路層12を有する表示装置において、透明基板15上にXY位置座標を検出する透明電極142,143が設けられ、これらの透明電極142,143に対してタッチされた位置を静電容量結合により検出する静電容量検出タッチパネル回路層14を含む静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える構成によれば、以下のような効果を得ることができる。
<Effects of the present embodiment>
According to the display device of the present embodiment described above, the pixel assembly of the thin film transistor circuit having the display circuit substrate 11 and the transparent substrate 15 which are opposed to each other and arranged in a matrix on the display circuit substrate 11 side. In a display device having a certain display circuit layer 12, transparent electrodes 142 and 143 for detecting XY position coordinates are provided on a transparent substrate 15, and the positions touched with respect to these transparent electrodes 142 and 143 are capacitively coupled. According to the configuration including the capacitive coupling touch panel including the capacitive detection touch panel circuit layer 14 detected by the above as an input device, the following effects can be obtained.

(1)静電容量結合方式タッチパネルにおいて、透明電極142,143が透明樹脂中に含有された金属ナノワイヤの導電膜からなり、この導電膜の一部表面に積層する、引き出し配線144に繋がる接続電極145を備え、透明樹脂の表面層から金属ナノワイヤが露出し、この露出した金属ナノワイヤと、引き出し配線144に繋がる接続電極145とが接合する構造であることにより、導電特性の変動を抑えた金属ナノワイヤを含有する導電膜を用いて、高品位の静電容量検出を実現する静電容量方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置を実現することができる。   (1) In the capacitively coupled touch panel, the transparent electrodes 142 and 143 are made of a metal nanowire conductive film contained in a transparent resin, and are connected to the lead-out wiring 144 laminated on a part of the surface of the conductive film. 145, the metal nanowire is exposed from the surface layer of the transparent resin, and the exposed metal nanowire and the connection electrode 145 connected to the lead-out wiring 144 are joined to each other, so that the fluctuation of the conductive property is suppressed. A display device including a capacitive touch panel that realizes high-quality capacitance detection as an input device can be realized by using a conductive film that contains.

すなわち、透明電極142,143を形成するための部材は感光性樹脂組成物フィルム51からなるフィルム状で、金属ナノワイヤは固体物中に固定されていて、金属ナノワイヤ同士の相対位置関係は、フィルム転写や露光、現像により導電膜を形成した後も変動はない。このため、フィルム初期に設計された導電特性は、導電膜を形成した後も変動することはないので、これを導電膜として用いることで、高品位の静電容量結合による検出を実現する静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置を実現することが可能となる。   That is, the member for forming the transparent electrodes 142 and 143 is a film made of the photosensitive resin composition film 51, the metal nanowires are fixed in a solid material, and the relative positional relationship between the metal nanowires is film transfer. There is no change even after the conductive film is formed by exposure or development. For this reason, the conductive characteristics designed in the initial stage of the film do not change even after the conductive film is formed. Therefore, by using this as the conductive film, the electrostatic property that realizes detection by high-quality capacitive coupling is realized. A display device including a capacitively coupled touch panel as an input device can be realized.

(2)上記(1)において、特に、以下の条件により、透明電極142,143の導電膜として、導電性と光透過性の観点から最適にすることができる。(2−1)金属ナノワイヤ含有層142b,143bの金属ナノワイヤは、断面直径が10〜100nmの範囲であり、かつ、長さが1〜100μmの範囲である。(2−2)金属ナノワイヤ含有層142b,143bの金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤである。(2−3)透明基板15の表面に対して接合された透明電極142,143の導電膜は、導電膜の表面層の10〜200nmの範囲の厚さに、金属ナノワイヤが含有された金属ナノワイヤ含有層142b,143bを有している。(2−4)透明電極142,143の導電膜の透明樹脂層142a,143aおよび金属ナノワイヤ含有層142b,143b中の透明樹脂は、感光性樹脂絶縁物からなる。(2−5)透明電極142,143の導電膜の透明樹脂層142a,143aおよび金属ナノワイヤ含有層142b,143b中の透明樹脂は、可視光領域で光透過率が80%以上である。上記(2−1),(2−2)の条件は導電性の観点で適し、上記(2−3),(2−4),(2−5)の条件は光透過性の観点で適している。   (2) In the above (1), the conductive films of the transparent electrodes 142 and 143 can be optimized from the viewpoints of conductivity and light transmittance, particularly under the following conditions. (2-1) The metal nanowires of the metal nanowire-containing layers 142b and 143b have a cross-sectional diameter in the range of 10 to 100 nm and a length in the range of 1 to 100 μm. (2-2) The metal nanowires of the metal nanowire-containing layers 142b and 143b are silver nanowires. (2-3) The conductive films of the transparent electrodes 142 and 143 bonded to the surface of the transparent substrate 15 are metal nanowires containing metal nanowires in a thickness in the range of 10 to 200 nm of the surface layer of the conductive film. It has inclusion layers 142b and 143b. (2-4) The transparent resin in the transparent resin layers 142a and 143a of the conductive film of the transparent electrodes 142 and 143 and the metal nanowire-containing layers 142b and 143b are made of a photosensitive resin insulator. (2-5) The transparent resin in the transparent resin layers 142a and 143a of the conductive film of the transparent electrodes 142 and 143 and the metal nanowire-containing layers 142b and 143b has a light transmittance of 80% or more in the visible light region. The above conditions (2-1) and (2-2) are suitable from the viewpoint of conductivity, and the above conditions (2-3), (2-4) and (2-5) are suitable from the viewpoint of light transmission. ing.

[実施の形態2]
本実施の形態の表示装置を、図8を用いて説明する。本実施の形態は、液晶表示装置に適用した例である。
[Embodiment 2]
The display device of this embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment is an example applied to a liquid crystal display device.

図8を用いて、本実施の形態の液晶表示装置について説明する。図8は、この液晶表示装置の一例を説明するための概略断面図である。   The liquid crystal display device of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the liquid crystal display device.

本実施の形態の液晶表示装置は、静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置であり、表示回路透明基板21、表示回路層22、挟持液晶層23、静電容量検出タッチパネル回路層24、透明基板25、バックライト26、偏光板27、偏光板28、基板周辺液晶シール材29などから構成される。   The liquid crystal display device of the present embodiment is a display device that includes a capacitively coupled touch panel as an input device, and includes a display circuit transparent substrate 21, a display circuit layer 22, a sandwiched liquid crystal layer 23, and a capacitance detection touch panel circuit layer 24. , Transparent substrate 25, backlight 26, polarizing plate 27, polarizing plate 28, substrate peripheral liquid crystal sealing material 29, and the like.

本実施の形態の液晶表示装置では、表示光源となるバックライト26を備え、液晶による光透過、遮閉のためにバックライト26からの光を偏光とする偏光板27と、偏光を透過させる表示回路透明基板21上にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示回路層22を備える。この表示回路層22の対向面には、静電容量検出タッチパネル回路層24を備える透明基板25があり、偏光板27と対をなす偏光板28を備えている。対向する表示回路透明基板21と透明基板25を基板周辺で接合させる基板周辺液晶シール材29により、基板間の空間に挟持液晶層23を挟持する。この挟持液晶層23によりバックライト26からの光が対向する偏光板28を透過して表示光となり、静電容量結合方式タッチパネルを備えた液晶表示装置を実現することができる。   The liquid crystal display device of the present embodiment includes a backlight 26 serving as a display light source, a polarizing plate 27 that polarizes light from the backlight 26 for light transmission and blocking by the liquid crystal, and a display that transmits the polarized light. A display circuit layer 22 which is a pixel aggregate of thin film transistor circuits arranged in a matrix on a circuit transparent substrate 21 is provided. On the opposite surface of the display circuit layer 22, there is a transparent substrate 25 having a capacitance detection touch panel circuit layer 24, and a polarizing plate 28 that is paired with a polarizing plate 27. The sandwiched liquid crystal layer 23 is sandwiched between the substrates by a substrate peripheral liquid crystal sealing material 29 that joins the display substrate transparent substrate 21 and the transparent substrate 25 facing each other around the substrate. The sandwiched liquid crystal layer 23 allows the light from the backlight 26 to pass through the opposing polarizing plate 28 to become display light, thereby realizing a liquid crystal display device including a capacitively coupled touch panel.

以上説明した本実施の形態の液晶表示装置によれば、表示回路透明基板21と透明基板25とにより挟持液晶層23を挟持し、表示光源となるバックライト26を備えた構成において、静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備えることで、前記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。   According to the liquid crystal display device of the present embodiment described above, in the configuration in which the sandwiched liquid crystal layer 23 is sandwiched between the display circuit transparent substrate 21 and the transparent substrate 25 and the backlight 26 serving as a display light source is provided, the capacitance By providing the coupling method touch panel as an input device, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

[実施の形態3]
本実施の形態の表示装置を、図9を用いて説明する。本実施の形態は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用した例である。
[Embodiment 3]
The display device of this embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment is an example applied to an organic electroluminescence display device.

図9を用いて、本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置について説明する。図9は、この有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一例を説明するための概略断面図である。   The organic electroluminescence display device of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the organic electroluminescence display device.

本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備える表示装置であり、表示回路基板31、表示回路層32、挟持透明接着層33、静電容量検出タッチパネル回路層34、透明基板35、有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36などから構成される。   The organic electroluminescence display device according to the present embodiment is a display device including a capacitively coupled touch panel as an input device, and includes a display circuit board 31, a display circuit layer 32, a sandwiched transparent adhesive layer 33, and a capacitance detection touch panel circuit. The layer 34, the transparent substrate 35, the organic electroluminescence light emitting circuit layer 36, and the like.

本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置では、表示回路基板31上にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示回路層32を備え、その上層に薄膜トランジスタ回路とつながる電極層間に有機エレクトロルミネッセンス材料の極薄膜を形成して、電極へ電流印加により有機エレクトロルミネッセンス材料が発光する有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36を備えている。この有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36の対向面には、静電容量検出タッチパネル回路層34を備える透明基板35がある。対向する表示回路基板31と透明基板35は、光透過のために透明な挟持透明接着層33で接合されている。有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36からの発光が、挟持透明接着層33、静電容量検出タッチパネル回路層34、透明基板35を透過して表示光となり、静電容量結合方式タッチパネルを備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を実現することができる。   The organic electroluminescence display device of the present embodiment includes a display circuit layer 32 which is a pixel assembly of thin film transistor circuits arranged in a matrix on a display circuit substrate 31, and an organic layer between electrode layers connected to the thin film transistor circuit is provided on the display circuit layer 32. An ultra-thin film of electroluminescent material is formed, and an organic electroluminescent light emitting circuit layer 36 is provided that emits light from the organic electroluminescent material by applying current to the electrodes. On the opposite surface of the organic electroluminescence light emitting circuit layer 36, there is a transparent substrate 35 including a capacitance detection touch panel circuit layer 34. The display circuit substrate 31 and the transparent substrate 35 facing each other are bonded by a transparent sandwich transparent adhesive layer 33 for light transmission. Light emitted from the organic electroluminescence light emitting circuit layer 36 passes through the sandwich transparent adhesive layer 33, the capacitance detection touch panel circuit layer 34, and the transparent substrate 35 to become display light, and the organic electroluminescence having the capacitive coupling type touch panel A display device can be realized.

以上説明した本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置によれば、表示回路基板31上に、薄膜トランジスタ回路につながる電極層間に有機エレクトロルミネッセンス発光回路層36を形成した発光素子を備えた構成において、静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備えることで、前記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。   According to the organic electroluminescence display device of the present embodiment described above, in the configuration provided with the light emitting element in which the organic electroluminescence light emitting circuit layer 36 is formed between the electrode layers connected to the thin film transistor circuit on the display circuit substrate 31, By providing a capacitively coupled touch panel as an input device, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上記した実施の形態は、本発明を分かり易く説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施の形態の構成の一部を他の実施の形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施の形態の構成に他の実施の形態の構成を加えることも可能である。また、各実施の形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, the above-described embodiment has been described in detail for easy understanding of the present invention, and is not necessarily limited to one having all the configurations described. Further, a part of the configuration of one embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of another embodiment can be added to the configuration of one embodiment. . Further, it is possible to add, delete, and replace other configurations for a part of the configuration of each embodiment.

11・・・表示回路基板
12・・・表示回路層
13・・・挟持層
14・・・静電容量検出タッチパネル回路層
141・・・タッチ画面
142・・・透明電極(X位置座標)
142a・・透明樹脂層
142b・・金属ナノワイヤ含有層
143・・・透明電極(Y位置座標)
143a・・透明樹脂層
143b・・金属ナノワイヤ含有層
144・・・引き出し配線
145・・・接続電極
146・・・接続端子
15・・・透明基板
21・・・表示回路透明基板
22・・・表示回路層
23・・・挟持液晶層
24・・・静電容量検出タッチパネル回路層
25・・・透明基板
26・・・バックライト
27・・・偏光板
28・・・偏光板
29・・・基板周辺液晶シール材
31・・・表示回路基板
32・・・表示回路層
33・・・挟持透明接着層
34・・・静電容量検出タッチパネル回路層
35・・・透明基板
36・・・有機エレクトロルミネッセンス発光回路層
51・・・感光性樹脂組成物フィルム
52・・・支持体フィルム
53・・・感光性樹脂組成物フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Display circuit board 12 ... Display circuit layer 13 ... Holding layer 14 ... Capacitance detection touch panel circuit layer 141 ... Touch screen 142 ... Transparent electrode (X position coordinate)
142a ... Transparent resin layer 142b ... Metal nanowire-containing layer 143 ... Transparent electrode (Y position coordinate)
143a ... Transparent resin layer 143b ... Metal nanowire-containing layer 144 ... Lead-out wiring 145 ... Connection electrode 146 ... Connection terminal 15 ... Transparent substrate 21 ... Display circuit transparent substrate 22 ... Display Circuit layer 23 ... sandwiched liquid crystal layer 24 ... capacitance detection touch panel circuit layer 25 ... transparent substrate 26 ... backlight 27 ... polarizing plate 28 ... polarizing plate 29 ... peripheral of substrate Liquid crystal sealing material 31 ... display circuit board 32 ... display circuit layer 33 ... sandwich transparent adhesive layer 34 ... capacitance detection touch panel circuit layer 35 ... transparent substrate 36 ... organic electroluminescence light emission Circuit layer 51 ... photosensitive resin composition film 52 ... support film 53 ... photosensitive resin composition film

Claims (8)

対向配置される第1基板と第2基板とを有し、前記第1基板側にマトリクス状に配置される薄膜トランジスタ回路の画素集合体である表示領域を有する表示装置であって、
前記第2基板は透明基板からなり、
前記第2基板上にXY位置座標を検出する透明電極が設けられ、前記透明電極に対してタッチされた位置を静電容量結合により検出する静電容量結合方式タッチパネルを入力装置として備え、
前記タッチパネルは、
前記透明電極が透明樹脂中に含有された金属ナノワイヤの導電膜からなり、
前記導電膜の一部表面に積層する、前記タッチパネルの外部回路と接続するための引き出し電極を備え、
前記透明樹脂の表面層から前記金属ナノワイヤが露出し、前記露出した金属ナノワイヤと前記引き出し電極とが接合する構造であることを特徴とする表示装置。
A display device having a display region that is a pixel assembly of thin film transistor circuits that are arranged in a matrix on the first substrate side, the display device having a first substrate and a second substrate that are opposed to each other.
The second substrate comprises a transparent substrate;
A transparent electrode for detecting XY position coordinates is provided on the second substrate, and a capacitive coupling type touch panel for detecting a position touched to the transparent electrode by capacitive coupling is provided as an input device.
The touch panel
The transparent electrode consists of a conductive film of metal nanowires contained in a transparent resin,
A lead electrode for connecting to an external circuit of the touch panel, laminated on a part of the surface of the conductive film,
The display device, wherein the metal nanowire is exposed from a surface layer of the transparent resin, and the exposed metal nanowire and the extraction electrode are joined.
請求項1記載の表示装置において、
前記表示装置は、前記第1基板と前記第2基板とにより液晶層を挟持し、表示光源となるバックライトを備えた液晶表示装置であることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device is a liquid crystal display device including a backlight serving as a display light source, with a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate.
請求項1記載の表示装置において、
前記表示装置は、前記第1基板上に、前記薄膜トランジスタ回路につながる電極層間に有機エレクトロルミネッセンス層を形成した発光素子を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device is an organic electroluminescence display device including a light emitting element in which an organic electroluminescence layer is formed between electrode layers connected to the thin film transistor circuit on the first substrate.
請求項1記載の表示装置において、
前記金属ナノワイヤは、断面直径が10〜100nmの範囲であり、かつ、長さが1〜100μmの範囲であることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The metal nanowire has a cross-sectional diameter of 10 to 100 nm and a length of 1 to 100 μm.
請求項1記載の表示装置において、
前記金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤであることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device, wherein the metal nanowire is a silver nanowire.
請求項1記載の表示装置において、
前記タッチパネルは、前記透明基板の表面に対して前記導電膜の透明樹脂が接合する構造であり、前記導電膜の表面層の10〜200nmの範囲の厚さに前記金属ナノワイヤが含有されていることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The touch panel has a structure in which the transparent resin of the conductive film is bonded to the surface of the transparent substrate, and the metal nanowire is contained in a thickness in the range of 10 to 200 nm of the surface layer of the conductive film. A display device.
請求項1記載の表示装置において、
前記導電膜の透明樹脂は、感光性樹脂絶縁物からなることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device, wherein the transparent resin of the conductive film is made of a photosensitive resin insulator.
請求項1記載の表示装置において、
前記導電膜は、可視光領域で光透過率が80%以上であることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The display device, wherein the conductive film has a light transmittance of 80% or more in a visible light region.
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