JP2014107287A - Image pickup element and image pickup device - Google Patents

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Fumiki Nakamura
文樹 中村
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Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of an image pickup element using a shared structure, in which the two-dimensional form of photodiodes is made as much symmetrical as possible to enable each of pixels sharing a transistor to receive light evenly, with the transistor being disposed in a shared region in which parts of each pixel region are put together, that extension of a photodiode region is limited even when such a shared structure is employed.SOLUTION: Provided is an image pickup element in which a first pixel having a first photodiode region for a unit pixel region and a second pixel having a second photodiode region smaller than the first photodiode region are included, and at least one transistor used for reading out a pixel signal of at least the first pixel is provided in a unit region for the second pixel.

Description

本発明は、撮像素子および撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging element and an imaging apparatus.

行列状に複数の画素が配置された撮像素子において、画素データ読み出し用トランジスタの一部などを複数の画素で共用するシェアード構造が知られている。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1]特開2001−298177号公報
A shared structure is known in which a plurality of pixels are shared by a plurality of pixels in an image sensor in which a plurality of pixels are arranged in a matrix.
[Prior art documents]
[Patent Literature]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-298177

シェアード構造を採用する撮像素子は、トランジスタを共有するそれぞれの画素が均一に受光できるようにフォトダイオードの二次元形状をなるべく対称にしつつ、各画素領域の一部を寄せ集めた共有領域に当該トランジスタを配置している。このようなシェアード構造を採用しても、フォトダイオード領域の拡張には限界があった。   An image sensor that employs a shared structure is configured so that the two-dimensional shape of the photodiode is as symmetric as possible so that each pixel sharing the transistor can receive light uniformly, and the transistor is arranged in a shared region where a part of each pixel region is gathered. Is arranged. Even if such a shared structure is adopted, there is a limit to the expansion of the photodiode region.

本発明の第1の態様における撮像素子は、単位画素領域に対して第1フォトダイオード領域を有する第1画素と、第1フォトダイオード領域よりも小さい第2フォトダイオード領域を有する第2画素とを含み、第2画素の単位領域に、少なくとも第1画素の画素信号読み出しに使用する少なくとも一つのトランジスタが設けられている。   The imaging device according to the first aspect of the present invention includes a first pixel having a first photodiode region with respect to a unit pixel region, and a second pixel having a second photodiode region smaller than the first photodiode region. In addition, at least one transistor used for reading out the pixel signal of at least the first pixel is provided in the unit region of the second pixel.

本発明の第2の態様における撮像装置は、上記の撮像素子と、撮像素子からの出力信号を処理する画像処理部とを備える。   An imaging device according to a second aspect of the present invention includes the above-described imaging device and an image processing unit that processes an output signal from the imaging device.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   It should be noted that the above summary of the invention does not enumerate all the necessary features of the present invention. In addition, a sub-combination of these feature groups can also be an invention.

本発明の実施形態に係るデジタルカメラの構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the digital camera which concerns on embodiment of this invention. 撮像素子の一部を拡大した様子を概念的に表す概念図である。It is a conceptual diagram which represents notably the mode that a part of imaging device was expanded. 一画素の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure of one pixel. シェアード構造を採用する場合の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure in the case of employ | adopting a shared structure. 基本格子のレイアウトを概念的に示す図である。It is a figure which shows the layout of a basic lattice notionally. 他のレイアウトの例を示す図である。It is a figure which shows the example of another layout. さらに他のレイアウトの例を示す図である。It is a figure which shows the example of another layout. 他の基本格子の例と画素ブロックを説明する図である。It is a figure explaining the example of another basic lattice, and a pixel block. さらに他の基本格子の例を説明する図である。It is a figure explaining the example of another basic lattice. さらに他の基本格子の例を説明する図である。It is a figure explaining the example of another basic lattice. さらに他の基本格子の例を説明する図である。It is a figure explaining the example of another basic lattice. 視差なし画素と視差画素の感度差とその調整を説明する図である。It is a figure explaining the sensitivity difference of a parallax pixel and a parallax pixel, and its adjustment. 増幅器を備えるシェアード構造の回路構成を示す図である。It is a figure which shows the circuit structure of a shared structure provided with an amplifier. 増幅器を備えるレイアウトの例を示す図である。It is a figure which shows the example of a layout provided with an amplifier.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.

撮像装置の一形態である本実施形態に係るデジタルカメラは、1つのシーンについて複数の視点数の画像を一度の撮影により生成できるように構成されている。互いに視点の異なるそれぞれの画像を視差画像と呼ぶ。本実施形態においては、特に、右目と左目に対応する2つの視点による右視差画像と左視差画像を生成する場合について説明する。本実施形態におけるデジタルカメラは、中央視点による視差のない視差なし画像も、視差画像と共に生成できる。   The digital camera according to the present embodiment, which is one form of the imaging device, is configured to generate images with a plurality of viewpoints for one scene by one shooting. Each image having a different viewpoint is called a parallax image. In the present embodiment, a case where a right parallax image and a left parallax image from two viewpoints corresponding to the right eye and the left eye are generated will be described. The digital camera in the present embodiment can generate a parallax-free image without parallax from the central viewpoint together with the parallax image.

図1は、本発明の実施形態に係るデジタルカメラ10の構成を説明する図である。デジタルカメラ10は、撮影光学系としての撮影レンズ20を備え、光軸21に沿って入射する被写体光束を撮像素子100へ導く。撮影レンズ20は、デジタルカメラ10に対して着脱できる交換式レンズであっても構わない。デジタルカメラ10は、撮像素子100、制御部201、A/D変換回路202、メモリ203、駆動部204、画像処理部205、メモリカードIF207、操作部208、表示部209およびLCD駆動回路210を備える。   FIG. 1 is a diagram illustrating the configuration of a digital camera 10 according to an embodiment of the present invention. The digital camera 10 includes a photographic lens 20 as a photographic optical system, and guides a subject light beam incident along the optical axis 21 to the image sensor 100. The photographing lens 20 may be an interchangeable lens that can be attached to and detached from the digital camera 10. The digital camera 10 includes an image sensor 100, a control unit 201, an A / D conversion circuit 202, a memory 203, a drive unit 204, an image processing unit 205, a memory card IF 207, an operation unit 208, a display unit 209, and an LCD drive circuit 210. .

なお、図示するように、撮像素子100へ向かう光軸21に平行な方向をZ軸プラス方向と定め、Z軸と直交する平面において紙面奥へ向かう方向をX軸プラス方向、紙面上方向をY軸プラス方向と定める。以降のいくつかの図においては、図1の座標軸を基準として、それぞれの図の向きがわかるように座標軸を表示する。   As shown in the figure, the direction parallel to the optical axis 21 toward the image sensor 100 is defined as the Z-axis plus direction, the direction toward the back of the paper surface on the plane orthogonal to the Z-axis is the X-axis plus direction, and the upward direction on the paper surface is Y. The axis is defined as the plus direction. In the following several figures, the coordinate axes are displayed so that the orientation of each figure can be understood with reference to the coordinate axes of FIG.

撮影レンズ20は、複数の光学レンズ群から構成され、シーンからの被写体光束をその焦点面近傍に結像させる。なお、図1では撮影レンズ20を説明の都合上、瞳近傍に配置された仮想的な1枚のレンズで代表して表している。撮像素子100は、撮影レンズ20の焦点面近傍に配置されている。撮像素子100は、二次元的に複数の光電変換素子が配列された、例えばCMOSセンサ等のイメージセンサである。撮像素子100は、駆動部204によりタイミング制御されて、受光面上に結像された被写体像を画素信号に変換してA/D変換回路202へ出力する。   The taking lens 20 is composed of a plurality of optical lens groups, and forms an image of a subject light flux from the scene in the vicinity of its focal plane. In FIG. 1, for convenience of explanation, the photographic lens 20 is represented by a single virtual lens arranged in the vicinity of the pupil. The image sensor 100 is disposed near the focal plane of the photographic lens 20. The image sensor 100 is an image sensor such as a CMOS sensor in which a plurality of photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged. The image sensor 100 is timing-controlled by the drive unit 204, converts the subject image formed on the light receiving surface into a pixel signal, and outputs the pixel signal to the A / D conversion circuit 202.

A/D変換回路202は、撮像素子100が出力する画素信号をデジタル画像信号に変換してメモリ203へ出力する。画像処理部205は、メモリ203をワークスペースとして種々の画像処理を施し、画像データを生成する。   The A / D conversion circuit 202 converts the pixel signal output from the image sensor 100 into a digital image signal and outputs the digital image signal to the memory 203. The image processing unit 205 performs various image processing using the memory 203 as a work space, and generates image data.

画像処理部205は、他にも、選択された画像フォーマットに従って画像データを調整するなどの画像処理一般の機能も担う。生成された画像データは、LCD駆動回路210により表示信号に変換され、表示部209に表示される。また、メモリカードIF207に装着されているメモリカード220に記録される。   In addition, the image processing unit 205 also has general image processing functions such as adjusting image data in accordance with the selected image format. The generated image data is converted into a display signal by the LCD drive circuit 210 and displayed on the display unit 209. The data is recorded on the memory card 220 attached to the memory card IF 207.

図2は、撮像素子の一部を拡大した様子を概念的に表す概念図である。画素領域には通常10万以上もの画素がマトリックス状に配列されている。本実施形態においては、隣接する2画素×2画素の4画素が一つの基本格子110を形成する。基本格子110は、4画素のうち左上画素と右下画素に緑フィルタ(Gフィルタ)、左下画素に赤フィルタ(Rフィルタ)、右上画素に青フィルタ(Bフィルタ)が配されたベイヤー配列を採用する。このうち、左下画素と右上画素は、視差なし画素であり、左上画素と右下画素は、視差画素である。   FIG. 2 is a conceptual diagram conceptually showing a state in which a part of the image sensor is enlarged. In the pixel area, usually 100,000 or more pixels are arranged in a matrix. In the present embodiment, four adjacent pixels of 2 pixels × 2 pixels form one basic lattice 110. The basic grid 110 adopts a Bayer array in which a green filter (G filter) is arranged for the upper left pixel and the lower right pixel among the four pixels, a red filter (R filter) is arranged for the lower left pixel, and a blue filter (B filter) is arranged for the upper right pixel. To do. Among these, the lower left pixel and the upper right pixel are non-parallax pixels, and the upper left pixel and the lower right pixel are parallax pixels.

視差画素は、撮影レンズ20を透過する入射光束のうち、光軸から偏位した部分光束を受光する画素である。視差画素には、当該部分光束のみを透過させるように、画素中心から偏位した偏位開口を有する開口マスクが設けられている。開口マスクは、例えば、カラーフィルタに重ねて設けられる。本実施形態においては、開口マスクにより、部分光束が画素中心に対して左側に到達するように規定された視差Lt画素と、部分光束が画素中心に対して右側に到達するように規定された視差Rt画素の2種類が存在する。基本格子110においては、左上画素が視差Lt画素であり、右下画素が視差Rt画素である。本実施形態においては、視差画素は、後述するように、部分光束の入射範囲に合わせてフォトダイオード領域が偏位して形成されている。一方、視差なし画素は、開口マスクが設けられていない画素であり、撮影レンズ20を透過する入射光束を特にある部分に限らず、全体を受光する画素である。   The parallax pixel is a pixel that receives a partial light beam that is deviated from the optical axis among incident light beams that pass through the photographing lens 20. The parallax pixel is provided with an aperture mask having a deviated opening that is deviated from the center of the pixel so as to transmit only the partial light flux. For example, the opening mask is provided so as to overlap the color filter. In the present embodiment, the parallax Lt pixel defined so that the partial light beam reaches the left side with respect to the pixel center and the parallax specified so that the partial light beam reaches the right side with respect to the pixel center by the aperture mask. There are two types of Rt pixels. In the basic grid 110, the upper left pixel is a parallax Lt pixel, and the lower right pixel is a parallax Rt pixel. In the present embodiment, as will be described later, the parallax pixels are formed by shifting the photodiode region in accordance with the incident range of the partial light flux. On the other hand, the non-parallax pixel is a pixel that is not provided with an aperture mask, and is a pixel that receives the entire incident light beam that passes through the photographing lens 20, not limited to a certain portion.

図3は、シェアード構造を採用しない場合の、一画素の回路構成を示す図である。ここでは、視差なし画素300として説明するが、視差画素の場合であっても、画素として機能するための回路構成は、視差画素も概ね同様である。相違する点については追って説明する。   FIG. 3 is a diagram illustrating a circuit configuration of one pixel when the shared structure is not employed. Here, although described as a pixel without parallax 300, even in the case of a parallax pixel, the circuit configuration for functioning as a pixel is substantially the same for a parallax pixel. Differences will be described later.

図3(a)は、視差なし画素300の回路構成を示す図である。本実施形態における視差なし画素300は、いわゆる4トランジスタ型画素構造をなす。   FIG. 3A is a diagram illustrating a circuit configuration of the non-parallax pixel 300. The non-parallax pixel 300 in the present embodiment has a so-called four-transistor pixel structure.

フォトダイオード301は、転送トランジスタ302に接続され、転送トランジスタ302のゲートは、転送パルスが供給されるTX配線307に接続される。転送トランジスタ302のドレインは、リセットトランジスタ303のソースに接続される。転送トランジスタ302のドレインとリセットトランジスタ303のソース間にはフローティングディフュージョン311が形成される。フローティングディフュージョン311は、増幅トランジスタ304のゲートに接続される。   The photodiode 301 is connected to a transfer transistor 302, and the gate of the transfer transistor 302 is connected to a TX wiring 307 to which a transfer pulse is supplied. The drain of the transfer transistor 302 is connected to the source of the reset transistor 303. A floating diffusion 311 is formed between the drain of the transfer transistor 302 and the source of the reset transistor 303. The floating diffusion 311 is connected to the gate of the amplification transistor 304.

リセットトランジスタ303のドレインは、電源電圧が供給されるVDD配線309に接続され、そのゲートはリセットパルスが供給されるリセット配線306に接続される。増幅トランジスタ304のドレインは電源電圧が供給されるVDD配線309に接続される。また、増幅トランジスタ304のソースは、選択トランジスタ305のドレインに接続される。選択トランジスタのゲートには、選択パルスが供給されるデコーダ配線308に接続される。そして、選択トランジスタ305のソースは、出力配線310に接続される。   The drain of the reset transistor 303 is connected to a VDD wiring 309 supplied with a power supply voltage, and the gate thereof is connected to a reset wiring 306 supplied with a reset pulse. The drain of the amplification transistor 304 is connected to a VDD wiring 309 to which a power supply voltage is supplied. The source of the amplification transistor 304 is connected to the drain of the selection transistor 305. The gate of the selection transistor is connected to a decoder wiring 308 to which a selection pulse is supplied. The source of the selection transistor 305 is connected to the output wiring 310.

負荷電流源312は、出力配線310に電流を供給する。すなわち、選択トランジスタ305がオンすると、増幅トランジスタのソースが負荷電流源312に接続されてソースフォロアとして動作する。なお、負荷電流源312は、出力配線310を共有する複数の画素に対して共通の要素として設けられる。   The load current source 312 supplies current to the output wiring 310. That is, when the selection transistor 305 is turned on, the source of the amplification transistor is connected to the load current source 312 and operates as a source follower. The load current source 312 is provided as a common element for a plurality of pixels sharing the output wiring 310.

ここで、電荷の蓄積開始から蓄積終了後の画素出力までの流れを説明する。リセット配線306を通じてリセットパルスがリセットトランジスタ303に印加され、同時にTX配線307を通じて転送パルスが転送トランジスタ302に印加されると、フォトダイオード301およびフローティングディフュージョン311の電位はリセットされる。   Here, the flow from the start of charge accumulation to pixel output after the end of accumulation will be described. When a reset pulse is applied to the reset transistor 303 through the reset wiring 306 and at the same time a transfer pulse is applied to the transfer transistor 302 through the TX wiring 307, the potentials of the photodiode 301 and the floating diffusion 311 are reset.

フォトダイオード301は、受光する入射光を電荷に変換して蓄積する。フォトダイオードの信号読み出しの前に、リセット配線306を通じてリセットパルスがリセットトランジスタ303に印加されフローティングディフュージョン311がリセットされる。そして、デコーダ配線308を通じて選択パルスが選択トランジスタ305に印加され、リセット電位が増幅トランジスタ304および選択トランジスタ305を介して出力配線に伝わり、図示していない後段の回路部でリセット信号として読みだされる。リセット後、リセットパルスは解除され、リセットトランジスタ303はオフになる。その後、転送パルスが転送トランジスタ302に印加されると、蓄積された電荷はフローティングディフュージョン311へ転送され、フローティングディフュージョン311の電位は、リセット電位から電荷蓄積後の信号電位になる。再び、デコーダ配線308を通じて選択パルスが選択トランジスタ305に印加されると、電荷蓄積後の信号電位が出力配線310に伝わる。図示していない後段の回路部で電荷蓄積後の信号電位が読み出され、すでに読み出してあるリセット電位との差を取ることで、画素に入射した光信号に対応する画素信号を得る。   The photodiode 301 converts incident light to be received into electric charges and accumulates them. Prior to the signal reading of the photodiode, a reset pulse is applied to the reset transistor 303 through the reset wiring 306 to reset the floating diffusion 311. Then, the selection pulse is applied to the selection transistor 305 through the decoder wiring 308, the reset potential is transmitted to the output wiring through the amplification transistor 304 and the selection transistor 305, and is read out as a reset signal by a subsequent circuit portion (not shown). . After reset, the reset pulse is released and the reset transistor 303 is turned off. Thereafter, when a transfer pulse is applied to the transfer transistor 302, the accumulated charge is transferred to the floating diffusion 311, and the potential of the floating diffusion 311 changes from the reset potential to the signal potential after charge accumulation. When a selection pulse is applied to the selection transistor 305 again through the decoder wiring 308, the signal potential after charge accumulation is transmitted to the output wiring 310. A signal potential after charge accumulation is read out by a circuit unit at a later stage (not shown), and a pixel signal corresponding to the optical signal incident on the pixel is obtained by taking a difference from the already read out reset potential.

図3(b)は、図3(a)の回路図を簡略化して模式的に示す図である。互いに同じ要素については、同符号を付して表す。この模式図を用いてシェアード構造の概念について説明する。   FIG. 3B is a diagram schematically showing the circuit diagram of FIG. The same elements are denoted by the same reference numerals. The concept of the shared structure will be described using this schematic diagram.

図4は、シェアード構造を採用する場合の回路構成を示す図である。図4(a)は、第1画素と第2画素の2画素をひとつの画素ブロックとする場合の回路構成を示す。画素ブロックとは、少なくとも一部のトランジスタを共有する複数画素のグループをいう。   FIG. 4 is a diagram illustrating a circuit configuration when a shared structure is employed. FIG. 4A shows a circuit configuration in the case where two pixels of the first pixel and the second pixel are made one pixel block. A pixel block refers to a group of a plurality of pixels sharing at least some of the transistors.

第1画素のフォトダイオード301aは、第1転送トランジスタ302aによって電荷蓄積が制御される。第2画素のフォトダイオード301bは、第2転送トランジスタ302bによって電荷蓄積が制御される。すなわち、転送トランジスタは、各画素に対応して個別に設けられる。一方、リセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305は、これら2画素に対してひとつ設けられる。すなわち、これらのトランジスタは、第1画素と第2画素が共有する共有配線に接続される。具体的には、第1転送トランジスタ302aのドレインと第2転送トランジスタ302bのドレインが共有配線に接続され、当該共有配線は、リセットトランジスタ303のソースと増幅トランジスタ304のゲートに接続される。他の接続は図3を用いて説明した接続と同様である。   Charge accumulation in the photodiode 301a of the first pixel is controlled by the first transfer transistor 302a. The charge accumulation of the photodiode 301b of the second pixel is controlled by the second transfer transistor 302b. That is, the transfer transistor is provided individually corresponding to each pixel. On the other hand, one reset transistor 303, amplification transistor 304, and selection transistor 305 are provided for these two pixels. That is, these transistors are connected to a shared wiring shared by the first pixel and the second pixel. Specifically, the drain of the first transfer transistor 302a and the drain of the second transfer transistor 302b are connected to a shared wiring, and the shared wiring is connected to the source of the reset transistor 303 and the gate of the amplification transistor 304. Other connections are the same as those described with reference to FIG.

図4(b)は、第1画素から第4画素の4画素をひとつの画素ブロックとする場合の回路構成を示す。第1画素のフォトダイオード301aは第1転送トランジスタ302aに、第2画素のフォトダイオード301bは第2転送トランジスタ302bに、第3画素のフォトダイオード301cは第1転送トランジスタ302cに、第4画素のフォトダイオード301dは第4転送トランジスタ302dによって電荷蓄積が制御される。すなわち、転送トランジスタは、各画素に対応して個別に設けられる。   FIG. 4B shows a circuit configuration when four pixels from the first pixel to the fourth pixel are used as one pixel block. The photodiode 301a of the first pixel is the first transfer transistor 302a, the photodiode 301b of the second pixel is the second transfer transistor 302b, the photodiode 301c of the third pixel is the first transfer transistor 302c, and the photodiode of the fourth pixel. Charge accumulation of the diode 301d is controlled by the fourth transfer transistor 302d. That is, the transfer transistor is provided individually corresponding to each pixel.

一方、リセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305は、これら4画素に対してひとつ設けられる。すなわち、これらのトランジスタは、第1画素から第4画素が共有する共有配線に接続される。具体的には、第1転送トランジスタ302a、第2転送トランジスタ302b、第3転送トランジスタ302c、第4転送トランジスタ302dの各ドレインが共有配線に接続され、当該共有配線は、リセットトランジスタ303のソースと増幅トランジスタ304のゲートに接続される。他の接続は図3を用いて説明した接続と同様である。   On the other hand, one reset transistor 303, amplification transistor 304, and selection transistor 305 are provided for these four pixels. That is, these transistors are connected to a shared wiring shared by the first pixel to the fourth pixel. Specifically, the drains of the first transfer transistor 302a, the second transfer transistor 302b, the third transfer transistor 302c, and the fourth transfer transistor 302d are connected to a shared wiring, and the shared wiring is amplified with the source of the reset transistor 303. Connected to the gate of transistor 304. Other connections are the same as those described with reference to FIG.

次に、各トランジスタとフォトダイオード301の受光領域との相対的な位置関係について説明する。図5は、基本格子110のレイアウトを概念的に示す図である。   Next, the relative positional relationship between each transistor and the light receiving region of the photodiode 301 will be described. FIG. 5 is a diagram conceptually showing the layout of the basic lattice 110.

基本格子110において視差なし画素300は、上述の通り、Bフィルタが配された右上画素と、Rフィルタが配された左下画素である。右上画素のフォトダイオード301bの受光領域は、撮像素子100の受光面において一画素が占める単位画素領域の中央部に設けられている。同様に、左下画素のフォトダイオード301dの受光領域も、単位画素領域の中央部に設けられている。図においては、実線で示す正方形が受光領域としてのフォトダイオード領域を表す。   As described above, the non-parallax pixel 300 in the basic grid 110 is the upper right pixel in which the B filter is arranged and the lower left pixel in which the R filter is arranged. The light receiving area of the photodiode 301b of the upper right pixel is provided at the center of the unit pixel area occupied by one pixel on the light receiving surface of the image sensor 100. Similarly, the light receiving area of the photodiode 301d of the lower left pixel is also provided at the center of the unit pixel area. In the figure, a square indicated by a solid line represents a photodiode region as a light receiving region.

視差Lt画素600は、単位画素領域の中央に対して左側に偏位した位置に、フォトダイオード301aの受光領域が設けられている。図においては、実線で示す長方形が受光領域としてのフォトダイオード領域を表す。例えば、単位画素領域に対して、フォトダイオード301b(301d)のフォトダイオード領域の左半分に相当する領域に、フォトダイオード301aのフォトダイオード領域が設けられている。なお、フォトダイオード301aの機能は、上述のフォトダイオード301の機能と同様である。   In the parallax Lt pixel 600, a light receiving region of the photodiode 301a is provided at a position displaced to the left with respect to the center of the unit pixel region. In the figure, a rectangle indicated by a solid line represents a photodiode region as a light receiving region. For example, the photodiode region of the photodiode 301a is provided in a region corresponding to the left half of the photodiode region of the photodiode 301b (301d) with respect to the unit pixel region. Note that the function of the photodiode 301a is the same as that of the photodiode 301 described above.

このようにフォトダイオード領域が設けられると、右半分の領域に余剰スペースが生じる。余剰スペースは、視差なし画素である右上画素に隣接するスペースでもある。そこで、左上画素と右上画素の2画素を画素ブロック111とするシェアード構造を採用し、この余剰スペースに、この2画素を駆動する各トランジスタをまとめて配置する。ここで、「画素を駆動する」は、「画素の画素信号読み出す」の意味を含む概念である。   When the photodiode region is provided in this way, an extra space is generated in the right half region. The surplus space is also a space adjacent to the upper right pixel that is a non-parallax pixel. Therefore, a shared structure is adopted in which the upper left pixel and the upper right pixel are the pixel blocks 111, and the transistors that drive the two pixels are collectively arranged in this surplus space. Here, “driving a pixel” is a concept including the meaning of “reading out a pixel signal of a pixel”.

具体的には、フォトダイオード301aに接続される第1転送トランジスタ302a、フォトダイオード301bに接続される第2転送トランジスタ302b、2画素が共有するリセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305が、この余剰領域に配置される。なお、フォトダイオード領域の周辺部は遮光膜で覆われており、被写体光束がこれらのトランジスタに直接入射することはない。   Specifically, a first transfer transistor 302a connected to the photodiode 301a, a second transfer transistor 302b connected to the photodiode 301b, a reset transistor 303 shared by two pixels, an amplification transistor 304, and a selection transistor 305 Arranged in the surplus area. Note that the periphery of the photodiode region is covered with a light-shielding film, so that the subject luminous flux does not directly enter these transistors.

視差Rt画素500は、単位画素領域の中央に対して右側に偏位した位置に、フォトダイオード301cの受光領域が設けられている。図においては、実線で示す長方形が受光領域としてのフォトダイオード領域を表す。例えば、単位画素領域に対して、フォトダイオード301b(301d)のフォトダイオード領域の右半分に相当する領域に、フォトダイオード301cのフォトダイオード領域が設けられている。なお、フォトダイオード301cの機能は、上述のフォトダイオード301の機能と同様である。   In the parallax Rt pixel 500, a light receiving region of the photodiode 301c is provided at a position shifted to the right side with respect to the center of the unit pixel region. In the figure, a rectangle indicated by a solid line represents a photodiode region as a light receiving region. For example, the photodiode region of the photodiode 301c is provided in a region corresponding to the right half of the photodiode region of the photodiode 301b (301d) with respect to the unit pixel region. Note that the function of the photodiode 301c is similar to the function of the photodiode 301 described above.

このようにフォトダイオード領域が設けられると、左半分の領域に余剰スペースが生じる。余剰スペースは、視差なし画素である左下画素に隣接するスペースでもある。そこで、左下画素と右下画素の2画素を画素ブロック112とするシェアード構造を採用し、この余剰スペースに、この2画素を駆動する各トランジスタをまとめて配置する。   When the photodiode region is provided in this way, an extra space is generated in the left half region. The surplus space is also a space adjacent to the lower left pixel that is a non-parallax pixel. In view of this, a shared structure in which two pixels, the lower left pixel and the lower right pixel, are used as the pixel block 112 is adopted, and the transistors that drive the two pixels are collectively arranged in the surplus space.

具体的には、フォトダイオード301cに接続される第1転送トランジスタ302c、フォトダイオード301dに接続される第2転送トランジスタ302d、2画素が共有するリセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305が、この余剰領域に配置される。なお、フォトダイオード領域の周辺部は遮光膜で覆われており、被写体光束がこれらのトランジスタに直接入射することはない。   Specifically, the first transfer transistor 302c connected to the photodiode 301c, the second transfer transistor 302d connected to the photodiode 301d, the reset transistor 303 shared by the two pixels, the amplification transistor 304, and the selection transistor 305 include this Arranged in the surplus area. Note that the periphery of the photodiode region is covered with a light-shielding film, so that the subject luminous flux does not directly enter these transistors.

このように、シェアード構造における各トランジスタをまとめて余剰スペースに配置することができるので、図5の例における視差なし画素300の単位画素領域内には、いずれのトランジスタも設けられていない。したがって、その分フォトダイオード301dの受光領域を拡張することができる。すなわち、開口率を高く設定することができる。開口率を高く設定できれば受光効率が上がるので、撮像素子100は、より暗い撮影環境下でも良好な画素信号を出力することができる。   As described above, since the transistors in the shared structure can be collectively arranged in the surplus space, none of the transistors is provided in the unit pixel region of the non-parallax pixel 300 in the example of FIG. Therefore, the light receiving area of the photodiode 301d can be expanded accordingly. That is, the aperture ratio can be set high. If the aperture ratio can be set high, the light receiving efficiency increases, so the image sensor 100 can output a good pixel signal even in a darker shooting environment.

なお、図5の例は、カラーフィルタの配列と、視差画素および視差なし画素の配列との組み合わせから形成される周期パターンである基本格子110が、2つの画素ブロック111、112を含む構成であった。基本格子と画素ブロックの関係は、このように基本格子が複数の画素ブロックを含んでも良いし、ひとつの基本格子がひとつの画素ブロックを形成しても良い。あるいは、複数の基本格子がひとつの画素ブロックを形成しても良い。また、隣接する基本格子の一部ずつを含んで画素ブロックを形成しても良い。   In the example of FIG. 5, the basic lattice 110 that is a periodic pattern formed by a combination of an array of color filters and an array of parallax pixels and non-parallax pixels includes two pixel blocks 111 and 112. It was. As for the relationship between the basic lattice and the pixel block, the basic lattice may include a plurality of pixel blocks as described above, or one basic lattice may form one pixel block. Alternatively, a plurality of basic lattices may form one pixel block. In addition, the pixel block may be formed including a part of each of the adjacent basic lattices.

図6は、他のレイアウトの例を示す図である。図は、ひとつの画素ブロック111を表す。画素ブロック111は、視差なし画素300として、Bフィルタが配された右上画素、Gフィルタが配された右下画素およびRフィルタが配された左下画素を含み、視差画素400としてGフィルタが配された左上画素を含む。すなわち、画素ブロック111は、4画素によるシェアード構造を有する。   FIG. 6 is a diagram illustrating another layout example. The figure shows one pixel block 111. The pixel block 111 includes, as the non-parallax pixel 300, an upper right pixel provided with a B filter, a lower right pixel provided with a G filter, and a lower left pixel provided with an R filter, and the G filter is provided as a parallax pixel 400. Including the upper left pixel. That is, the pixel block 111 has a shared structure with four pixels.

視差画素400は、視差Lt画素600であり、単位画素領域の中央に対して左側に偏位した位置に、フォトダイオード301aの受光領域が設けられている。したがって、図5の例と同様に、その単位画素領域の右半分の領域に余剰スペースが生じる。本例においては、フォトダイオード301aに接続される第1転送トランジスタ302aと、4画素が共有するリセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305とが、この余剰領域に配置される。   The parallax pixel 400 is the parallax Lt pixel 600, and the light receiving region of the photodiode 301a is provided at a position displaced to the left with respect to the center of the unit pixel region. Therefore, as in the example of FIG. 5, an extra space is generated in the right half region of the unit pixel region. In this example, the first transfer transistor 302a connected to the photodiode 301a, the reset transistor 303, the amplification transistor 304, and the selection transistor 305 shared by the four pixels are arranged in this surplus region.

一方、フォトダイオード301bに接続される第2転送トランジスタ302bは、フォトダイオード301bが配置される右上画素の単位画素領域内に配置される。同様に、フォトダイオード301cに接続される第3転送トランジスタ302cは、フォトダイオード301cが配置される右下画素の単位画素領域内に、フォトダイオード301dに接続される第4転送トランジスタ302dは、フォトダイオード301dが配置される左下画素の単位画素領域内に、それぞれ配置される。   On the other hand, the second transfer transistor 302b connected to the photodiode 301b is disposed in the unit pixel region of the upper right pixel where the photodiode 301b is disposed. Similarly, the third transfer transistor 302c connected to the photodiode 301c is within the unit pixel region of the lower right pixel where the photodiode 301c is disposed, and the fourth transfer transistor 302d connected to the photodiode 301d is the photodiode. Each pixel is arranged in the unit pixel area of the lower left pixel where 301d is arranged.

このように、転送トランジスタ302をそれぞれの単位画素領域内に配置すると、余剰スペースに配置すべきトランジスタの個数を抑制することができるので、画素ピッチを小さくしつつも、視差画素400において高い開口率を確保することができる。対応するフォトダイオード301b〜301dと転送トランジスタ302b〜302dの位置関係を、同一に配置しやすい利点がある。なお、それぞれの単位画素領域に転送トランジスタ302b〜302dを配置すべく、図示するように、フォトダイオード301b〜301dの受光領域の形状を正方形とは異なる異形形状としても良い。この場合であっても、フォトダイオード301aの受光領域は、図5の例における左上画素と同様に、長方形を維持することが好ましい。   As described above, when the transfer transistor 302 is arranged in each unit pixel region, the number of transistors to be arranged in the surplus space can be suppressed. Therefore, a high aperture ratio is achieved in the parallax pixel 400 while reducing the pixel pitch. Can be secured. There is an advantage that the positional relationship between the corresponding photodiodes 301b to 301d and the transfer transistors 302b to 302d can be easily arranged. In addition, in order to arrange the transfer transistors 302b to 302d in each unit pixel region, the shape of the light receiving region of the photodiodes 301b to 301d may be an irregular shape different from a square as shown in the figure. Even in this case, it is preferable that the light receiving region of the photodiode 301a is maintained in a rectangular shape as in the upper left pixel in the example of FIG.

なお、図6は視差Lt画素600を含む画素ブロック111を示すが、この画素ブロックと対となる、視差Rt画素500を含む画素ブロック112も撮像素子100上に配列されている。例えば、画素ブロック112は、視差なし画素300として、Gフィルタが配された左上画素、Bフィルタが配された右上画素およびRフィルタが配された左下画素を含み、視差Rt画素500としてGフィルタが配された右下画素を含む。この場合、右下画素の左半分の領域に余剰スペースが生じるので、4画素に共有されるリセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305等は、この余剰領域に配置される。   6 shows the pixel block 111 including the parallax Lt pixel 600, the pixel block 112 including the parallax Rt pixel 500, which is paired with the pixel block, is also arranged on the image sensor 100. For example, the pixel block 112 includes, as the non-parallax pixel 300, an upper left pixel in which a G filter is disposed, an upper right pixel in which a B filter is disposed, and a lower left pixel in which an R filter is disposed. Includes the lower right pixel. In this case, since a surplus space is generated in the left half region of the lower right pixel, the reset transistor 303, the amplification transistor 304, the selection transistor 305, and the like shared by the four pixels are arranged in this surplus region.

図7は、さらに他のレイアウトの例を示す図である。図6の例においては、フォトダイオード301b〜301dの受光領域の形状を異形形状として、それぞれに対応する転送トランジスタ302b〜302dを配置したが、図7の例においては、視差なし画素300の単位画素領域にトランジスタを配置しない。   FIG. 7 is a diagram showing still another layout example. In the example of FIG. 6, the shape of the light receiving region of the photodiodes 301 b to 301 d is an irregular shape, and the transfer transistors 302 b to 302 d corresponding to the respective shapes are arranged, but in the example of FIG. Transistors are not placed in the region.

すなわち、画素ブロック111は、図6の例と同様に4画素によるシェアード構造を有するが、それぞれの転送トランジスタ302a〜302d、および4画素に共有されるリセットトランジスタ303、増幅トランジスタ304、選択トランジスタ305は、すべて視差Lt画素600の余剰スペースに配置される。転送トランジスタ302b〜302dは、単位画素領域を跨いで、それぞれフォトダイオード301b〜301dに接続される。   That is, the pixel block 111 has a shared structure of four pixels as in the example of FIG. 6, but the transfer transistors 302a to 302d and the reset transistor 303, the amplification transistor 304, and the selection transistor 305 shared by the four pixels are , All are arranged in the surplus space of the parallax Lt pixel 600. The transfer transistors 302b to 302d are connected to the photodiodes 301b to 301d, respectively, across the unit pixel region.

このようにトランジスタを配置すれば、視差なし画素300のフォトダイオード301b〜301dの受光領域を正方形に保ちつつ開口率を高く設定することができるので、受光光束の対称性の観点からも、SN比の観点からも好ましい。なお、本例においても、図6の例と同様に、視差Rt画素500を含む対となる画素ブロック112も撮像素子100上に配列されている。   If the transistors are arranged in this way, the aperture ratio can be set high while keeping the light receiving areas of the photodiodes 301b to 301d of the non-parallax pixel 300 in a square shape. From the viewpoint of this, it is preferable. Also in this example, as in the example of FIG. 6, a pair of pixel blocks 112 including the parallax Rt pixels 500 are also arranged on the image sensor 100.

図8は、他の基本格子120の例と画素ブロック121を説明する図である。基本格子120は、4画素を基本単位とするベイヤー配列を、Y軸方向に4つ、X軸方向に4つ含み、64画素から構成される。基本格子120内の画素をPIJで表す。例えば、左上画素はP11であり、右上画素はP81である。図に示すように、視差画素は以下のように配列されている。
11…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
51…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
32…視差Lt画素+Bフィルタ(=B(Lt))
83…視差Rt画素+Rフィルタ(=R(Rt))
15…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
55…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
76…視差Rt画素+Bフィルタ(=B(Rt))
47…視差Lt画素+Rフィルタ(=R(Lt))
FIG. 8 is a diagram illustrating another example of the basic grid 120 and the pixel block 121. The basic grid 120 includes four Bayer arrays having four pixels as a basic unit, four in the Y-axis direction and four in the X-axis direction, and is composed of 64 pixels. Pixels in the basic grid 120 are denoted by PIJ . For example, the upper left pixel is P 11, the upper right pixel is P 81. As shown in the figure, the parallax pixels are arranged as follows.
P 11 : Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 51 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 32 ... Parallax Lt pixel + B filter (= B (Lt))
P 83 ... Parallax Rt pixel + R filter (= R (Rt))
P 15 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 55 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 76 ... Parallax Rt pixel + B filter (= B (Rt))
P 47 ... Parallax Lt pixel + R filter (= R (Lt))

他の画素は視差なし画素であり、視差無し画素+Rフィルタ、視差なし画素+Gフィルタ、視差無し画素+Bフィルタのいずれかである。撮像素子100の全体でみた場合に、視差画素は、Gフィルタを有する第1群と、Rフィルタを有する第2群と、Bフィルタを有する第3群のいずれかに区分され、基本格子120には、それぞれの群に属する視差Lt画素および視差Rt画素が少なくとも1つは含まれる。図の例のように、これらの視差画素および視差なし画素が、基本格子120内においてランダム性を有して配置されると良い。ランダム性を有して配置されることにより、色成分ごとの空間分解能に偏りを生じさせることなく、視差画素の出力としてRGBのカラー情報を取得することができるので、より高品質な視差画像データが得られる。   The other pixels are non-parallax pixels, and are any of the non-parallax pixel + R filter, the non-parallax pixel + G filter, and the non-parallax pixel + B filter. When viewed as a whole of the image sensor 100, the parallax pixels are divided into one of a first group having a G filter, a second group having an R filter, and a third group having a B filter. Includes at least one parallax Lt pixel and parallax Rt pixel belonging to each group. As in the example of the figure, these parallax pixels and non-parallax pixels may be arranged with randomness in the basic grid 120. By arranging with randomness, RGB color information can be acquired as the output of the parallax pixels without causing bias in the spatial resolution for each color component, so higher-quality parallax image data Is obtained.

ここで、基本格子120は、Y軸方向に4画素、X軸方向に2画素の8画素単位で画素ブロック121が形成されている。したがって、基本格子120は、Y軸方向に2つ、X軸方向に4つの8画素ブロックを含む。   Here, in the basic grid 120, pixel blocks 121 are formed in units of 8 pixels, which are 4 pixels in the Y-axis direction and 2 pixels in the X-axis direction. Therefore, the basic grid 120 includes two 8-pixel blocks in the Y-axis direction and four in the X-axis direction.

このように、8画素によるシェアード構造を採用する場合、各画素ブロック121は、8画素のうち少なくとも1つの画素を視差画素として含むようにレイアウトされている。ひとつの画素ブロックが、複数の視差なし画素と少なくとも1つの視差画素を含むようにレイアウトされると、当該視差画素の単位画素領域に余剰スペースが生じるので、画素ブロック121内の画素信号読み出しに用いるトランジスタを、当該余剰スペースにまとめて配置することができる。なお、図6の例のように、各転送トランジスタ302をそれぞれの視差なし画素の単位画素領域に配置しても良い。   As described above, when the shared structure of 8 pixels is adopted, each pixel block 121 is laid out so as to include at least one of the 8 pixels as a parallax pixel. When one pixel block is laid out so as to include a plurality of non-parallax pixels and at least one parallax pixel, an extra space is generated in the unit pixel area of the parallax pixel, and is used for pixel signal readout in the pixel block 121. Transistors can be placed together in the excess space. Note that each transfer transistor 302 may be arranged in a unit pixel area of each non-parallax pixel as in the example of FIG.

図9は、さらに他の基本格子120の例を説明する図である。基本格子120は、図8の例と同様に64画素から構成される。図に示すように、視差画素は以下のように配列されている。
32…視差Lt画素+Bフィルタ(=B(Lt))
13…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
53…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
83…視差Rt画素+Rフィルタ(=R(Rt))
76…視差Rt画素+Bフィルタ(=B(Rt))
17…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
47…視差Lt画素+Rフィルタ(=R(Lt))
57…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
FIG. 9 is a diagram for explaining another example of the basic lattice 120. The basic grid 120 is composed of 64 pixels as in the example of FIG. As shown in the figure, the parallax pixels are arranged as follows.
P 32 ... Parallax Lt pixel + B filter (= B (Lt))
P 13 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 53 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 83 ... Parallax Rt pixel + R filter (= R (Rt))
P 76 ... Parallax Rt pixel + B filter (= B (Rt))
P 17 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 47 ... Parallax Lt pixel + R filter (= R (Lt))
P 57 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))

他の画素は視差なし画素であり、視差無し画素+Rフィルタ、視差なし画素+Gフィルタ、視差無し画素+Bフィルタのいずれかである。この例においても、視差画素および視差なし画素が、基本格子120内においてランダム性を有して配置されている。   The other pixels are non-parallax pixels, and are any of the non-parallax pixel + R filter, the non-parallax pixel + G filter, and the non-parallax pixel + B filter. Also in this example, the parallax pixels and the non-parallax pixels are arranged with randomness in the basic lattice 120.

本例においても、図8の例と同様に、基本格子120は、Y軸方向に4画素、X軸方向に2画素の8画素単位で画素ブロック122が形成されている。したがって、基本格子120は、Y軸方向に2つ、X軸方向に4つの8画素ブロックを含む。   Also in this example, as in the example of FIG. 8, the basic lattice 120 includes pixel blocks 122 in units of 8 pixels of 4 pixels in the Y-axis direction and 2 pixels in the X-axis direction. Therefore, the basic grid 120 includes two 8-pixel blocks in the Y-axis direction and four in the X-axis direction.

本例においても、8画素によるシェアード構造を採用し、各画素ブロック122は、8画素のうち少なくとも1つの画素を視差画素として含むように調整されている。しかも、各画素ブロック122において、視差画素は、画素ブロック122の中心Cに隣接して配置されている。このように、視差画素が、画素ブロック122の中心Cに対して、少なくとも1つの視差なし画素よりも近くに配置されていると、視差画素の余剰スペースに配置される各トランジスタと各視差なし画素のフォトダイオード301との接続配線が短くて済む。接続配線を短くできれば、画素信号の伝送効率の向上が期待できる。なお、図6の例のように、各転送トランジスタ302をそれぞれの視差なし画素の単位画素領域に配置しても良い。   Also in this example, a shared structure with 8 pixels is adopted, and each pixel block 122 is adjusted to include at least one pixel among the 8 pixels as a parallax pixel. Moreover, in each pixel block 122, the parallax pixel is arranged adjacent to the center C of the pixel block 122. Thus, when the parallax pixel is arranged closer to the center C of the pixel block 122 than at least one non-parallax pixel, each transistor and each non-parallax pixel arranged in the extra space of the parallax pixel The connection wiring with the photodiode 301 can be short. If the connection wiring can be shortened, the transmission efficiency of the pixel signal can be expected. Note that each transfer transistor 302 may be arranged in a unit pixel area of each non-parallax pixel as in the example of FIG.

図10は、さらに他の基本格子120の例を説明する図である。基本格子120は、図8の例と同様に64画素から構成される。ただし、カラーフィルタの配列は、図8、図9の例のベイヤー配列とは異なり、視差画素の位置に応じて、上下左右の4画素の単位内で、2つのGフィルタ、一つずつのBフィルタおよびRフィルタが適宜入れ替えられて配置されている。図に示すように、視差画素は以下のように配列されている。
11…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
61…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
32…視差Lt画素+Bフィルタ(=B(Lt))
82…視差Rt画素+Bフィルタ(=B(Rt))
33…視差Lt画素+Rフィルタ(=R(Lt))
83…視差Rt画素+Rフィルタ(=R(Rt))
14…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
64…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
25…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
55…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
46…視差Rt画素+Bフィルタ(=B(Rt))
76…視差Lt画素+Bフィルタ(=B(Lt))
47…視差Rt画素+Rフィルタ(=R(Rt))
77…視差Lt画素+Rフィルタ(=R(Lt))
28…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
58…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
FIG. 10 is a diagram for explaining another example of the basic lattice 120. The basic grid 120 is composed of 64 pixels as in the example of FIG. However, the arrangement of the color filters is different from the Bayer arrangement in the examples of FIGS. 8 and 9, and in accordance with the position of the parallax pixels, two G filters, one B each in a unit of four pixels on the top, bottom, left and right. The filter and the R filter are appropriately replaced and arranged. As shown in the figure, the parallax pixels are arranged as follows.
P 11 : Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 61 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 32 ... Parallax Lt pixel + B filter (= B (Lt))
P 82 ... Parallax Rt pixel + B filter (= B (Rt))
P 33 ... Parallax Lt pixel + R filter (= R (Lt))
P 83 ... Parallax Rt pixel + R filter (= R (Rt))
P 14 Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 64 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 25 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 55 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 46 ... Parallax Rt pixel + B filter (= B (Rt))
P 76 ... Parallax Lt pixel + B filter (= B (Lt))
P 47 ... Parallax Rt pixel + R filter (= R (Rt))
P 77 ... Parallax Lt pixel + R filter (= R (Lt))
P 28 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 58 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))

他の画素は視差なし画素であり、視差無し画素+Rフィルタ、視差なし画素+Gフィルタ、視差無し画素+Bフィルタのいずれかである。この例においても、視差画素および視差なし画素が、基本格子120内においてランダム性を有して配置されている。   The other pixels are non-parallax pixels, and are any of the non-parallax pixel + R filter, the non-parallax pixel + G filter, and the non-parallax pixel + B filter. Also in this example, the parallax pixels and the non-parallax pixels are arranged with randomness in the basic lattice 120.

ここで、基本格子120は、Y軸方向に2画素、X軸方向に2画素の4画素単位で画素ブロック123が形成されている。したがって、基本格子120は、Y軸方向に4つ、X軸方向に4つの16画素ブロックを含む。   Here, in the basic lattice 120, the pixel block 123 is formed in units of four pixels of two pixels in the Y-axis direction and two pixels in the X-axis direction. Accordingly, the basic grid 120 includes four 16-pixel blocks in the Y-axis direction and four in the X-axis direction.

このように、4画素によるシェアード構造を採用する場合、各画素ブロック123は、4画素のうち少なくとも1つの画素を視差画素として含むように調整されている。しかも、各画素ブロック123において、視差画素のフォトダイオード301の受光領域は、画素ブロック123の中心Cと余剰スペースが隣接するように、中心Cよりも外側に偏位して配置されている。このような配置により、余剰スペースに配置される各トランジスタと各視差なし画素のフォトダイオード301との接続配線が短くて済む。接続配線を短くできれば、画素信号の伝送効率の向上が期待できる。なお、図6の例のように、各転送トランジスタ302をそれぞれの視差なし画素の単位画素領域に配置しても良い。   As described above, when the shared structure of four pixels is adopted, each pixel block 123 is adjusted to include at least one of the four pixels as a parallax pixel. In addition, in each pixel block 123, the light receiving region of the photodiode 301 of the parallax pixel is arranged so as to be shifted outward from the center C so that the center C of the pixel block 123 and the extra space are adjacent to each other. With such an arrangement, the connection wiring between each transistor arranged in the surplus space and the photodiode 301 of each non-parallax pixel can be shortened. If the connection wiring can be shortened, the transmission efficiency of the pixel signal can be expected. Note that each transfer transistor 302 may be arranged in a unit pixel area of each non-parallax pixel as in the example of FIG.

図11は、さらに他の基本格子130の例を説明する図である。基本格子130は、Y軸方向に6画素、X軸方向に6画素含み、36画素から構成される。カラーフィルタの配列は、図8、図9の例のベイヤー配列とは異なり、視差画素の位置に応じて、上下左右の4画素の単位内で、2つのGフィルタ、一つずつのBフィルタおよびRフィルタが適宜入れ替えられて配置されている。図に示すように、視差画素は以下のように配列されている。
11…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
12…視差Rt画素+Rフィルタ(=R(Rt))
42…視差Lt画素+Bフィルタ(=B(Lt))
63…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
34…視差Lt画素+Gフィルタ(=G(Lt))
15…視差Rt画素+Bフィルタ(=B(Rt))
45…視差Lt画素+Rフィルタ(=R(Lt))
46…視差Rt画素+Gフィルタ(=G(Rt))
FIG. 11 is a diagram for explaining another example of the basic lattice 130. The basic grid 130 includes 6 pixels in the Y-axis direction and 6 pixels in the X-axis direction, and is composed of 36 pixels. The arrangement of the color filters is different from the Bayer arrangement in the examples of FIGS. 8 and 9, and according to the position of the parallax pixels, two G filters, one B filter, The R filters are arranged with appropriate replacement. As shown in the figure, the parallax pixels are arranged as follows.
P 11 : Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 12 ... Parallax Rt pixel + R filter (= R (Rt))
P 42 ... Parallax Lt pixel + B filter (= B (Lt))
P 63 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))
P 34 ... Parallax Lt pixel + G filter (= G (Lt))
P 15 ... Parallax Rt pixel + B filter (= B (Rt))
P 45 ... Parallax Lt pixel + R filter (= R (Lt))
P 46 ... Parallax Rt pixel + G filter (= G (Rt))

他の画素は視差なし画素であり、視差無し画素+Rフィルタ、視差なし画素+Gフィルタ、視差無し画素+Bフィルタのいずれかである。この例においても、視差画素および視差なし画素が、基本格子130内においてランダム性を有して配置されている。   The other pixels are non-parallax pixels, and are any of the non-parallax pixel + R filter, the non-parallax pixel + G filter, and the non-parallax pixel + B filter. Also in this example, the parallax pixels and the non-parallax pixels are arranged in the basic lattice 130 with randomness.

ここで、基本格子130は、Y軸方向に2画素、X軸方向に3画素の6画素単位で画素ブロック124が形成されている。したがって、基本格子130は、Y軸方向に3つ、X軸方向に2つの6画素ブロックを含む。   Here, in the basic lattice 130, pixel blocks 124 are formed in units of 6 pixels of 2 pixels in the Y-axis direction and 3 pixels in the X-axis direction. Therefore, the basic grid 130 includes three 6-pixel blocks in the Y-axis direction and two in the X-axis direction.

このように、6画素によるシェアード構造を採用する場合、各画素ブロック124は、6画素のうち少なくとも1つの画素を視差画素として含むようにレイアウトされている。ひとつの画素ブロックが、複数の視差なし画素と少なくとも1つの視差画素を含むようにレイアウトされると、当該視差画素の単位画素領域に余剰スペースが生じるので、画素ブロック121内の画素信号を読み出すトランジスタを、当該余剰スペースにまとめて配置することができる。なお、図6の例のように、各転送トランジスタ302をそれぞれの視差なし画素の単位画素領域に配置しても良い。   As described above, when the 6-pixel shared structure is employed, each pixel block 124 is laid out so as to include at least one of the 6 pixels as a parallax pixel. When one pixel block is laid out so as to include a plurality of non-parallax pixels and at least one parallax pixel, an extra space is generated in the unit pixel area of the parallax pixel, so that a transistor that reads out a pixel signal in the pixel block 121 Can be arranged together in the surplus space. Note that each transfer transistor 302 may be arranged in a unit pixel area of each non-parallax pixel as in the example of FIG.

上述のように、視差画素400におけるフォトダイオード301は、部分光束の入射範囲に合わせて受光領域が形成されている。したがって、視差画素におけるフォトダイオード301は、視差なし画素300におけるフォトダイオード301に比べて受光領域が小さく、同一シーンに対する出力信号は、視差なし画素の出力信号に比べて小さくなる。そこで、視差画素400に対しては、視差なし画素300には設けない増幅器を加えて、出力信号の増幅率を高くしても良い。   As described above, the photodiode 301 in the parallax pixel 400 has a light receiving region formed in accordance with the incident range of the partial light flux. Therefore, the photodiode 301 in the parallax pixel has a smaller light receiving area than the photodiode 301 in the non-parallax pixel 300, and the output signal for the same scene is smaller than the output signal of the non-parallax pixel. Therefore, an amplifier not provided in the non-parallax pixel 300 may be added to the parallax pixel 400 to increase the amplification factor of the output signal.

図12は、視差なし画素300と視差画素400の感度差とその調整を説明する図である。横軸は、撮影レンズ20を透過する被写体光束全体に対応する単位時間当たりの光入力量を表し、縦軸は、その光入力量に対する信号出力を表す。   FIG. 12 is a diagram illustrating the sensitivity difference between the non-parallax pixel 300 and the parallax pixel 400 and the adjustment thereof. The horizontal axis represents the light input amount per unit time corresponding to the entire subject luminous flux that passes through the photographing lens 20, and the vertical axis represents the signal output with respect to the light input amount.

視差画素出力ライン901は、視差画素400に増幅器が設けられていない場合の出力信号の挙動を示し、視差なし画素出力ライン902は、視差なし画素300からの出力信号の挙動を示す。撮影レンズ20を通過する同一被写体からの光束を受光する場合、視差画素400は、制限された一部分の光束を受光するようにフォトダイオード301の受光領域が小さく形成されているので、その信号出力は、視差なし画素300の信号出力に比べて小さい。つまり、増幅器が設けられていない視差画素400は、視差なし画素300よりも感度が低いと言える。   The parallax pixel output line 901 shows the behavior of the output signal when the parallax pixel 400 is not provided with an amplifier, and the non-parallax pixel output line 902 shows the behavior of the output signal from the non-parallax pixel 300. When the light beam from the same subject passing through the photographing lens 20 is received, the parallax pixel 400 is formed with a small light receiving area of the photodiode 301 so as to receive a limited part of the light beam. This is smaller than the signal output of the non-parallax pixel 300. That is, it can be said that the parallax pixel 400 without the amplifier is less sensitive than the non-parallax pixel 300.

そこで、以下の実施例においては、視差画素400の単位画素領域に増幅器を設ける。増幅器は、フォトダイオード301の受光領域とフォトダイオード301の受光領域の大きさの差に起因する感度差を低減するように、信号出力を増幅する。増幅器の増幅率は、例えば、視差画素出力ライン901と視差なし画素出力ライン902とが一致するように設定される。   Therefore, in the following embodiment, an amplifier is provided in the unit pixel area of the parallax pixel 400. The amplifier amplifies the signal output so as to reduce the sensitivity difference caused by the difference in size between the light receiving region of the photodiode 301 and the light receiving region of the photodiode 301. The amplification factor of the amplifier is set so that, for example, the parallax pixel output line 901 and the non-parallax pixel output line 902 coincide.

また、視差なし画素300は、設けられているカラーフィルタの種類によっても、感度特性が若干異なる。そこで、例えば視差画素400に設けられたカラーフィルタがGフィルタであれば、Gフィルタが設けられた視差なし画素の出力特性に合わせて増幅器の増幅率を設定しても良い。すなわち、設けられたカラーフィルタの種類によって増幅器の増幅率を設定しても良い。   In addition, the non-parallax pixel 300 has slightly different sensitivity characteristics depending on the type of color filter provided. Therefore, for example, if the color filter provided in the parallax pixel 400 is a G filter, the amplification factor of the amplifier may be set in accordance with the output characteristics of the non-parallax pixel provided with the G filter. That is, the amplification factor of the amplifier may be set according to the type of the color filter provided.

図13は、増幅器802を備えるシェアード構造の回路構成を示す図である。具体的には、図4(a)を用いて説明した2画素のシェアード構造に、増幅器802を組み込んだ回路構成を示す。   FIG. 13 is a diagram illustrating a circuit configuration of a shared structure including the amplifier 802. Specifically, a circuit configuration in which an amplifier 802 is incorporated in the two-pixel shared structure described with reference to FIG.

増幅器802は、選択トランジスタ305と出力配線310の間に組み込まれる。ただし、本実施形態のシェアード構造においては、画素ブロック内に視差なし画素300と視差画素400とが混在するので、視差画素400からの信号出力のみを増幅するように、スイッチ801が設けられている。選択トランジスタ305からの出力信号が、視差なし画素300からの信号出力であれば、スイッチ801は増幅器802側をオフにして、出力配線310への短絡線803側をオンにする。   The amplifier 802 is incorporated between the selection transistor 305 and the output wiring 310. However, in the shared structure of this embodiment, since the non-parallax pixel 300 and the parallax pixel 400 are mixed in the pixel block, the switch 801 is provided so as to amplify only the signal output from the parallax pixel 400. . If the output signal from the selection transistor 305 is a signal output from the non-parallax pixel 300, the switch 801 turns off the amplifier 802 side and turns on the short-circuit line 803 side to the output wiring 310.

スイッチ801は、転送トランジスタ302に連動して動作する。すなわち、視差なし画素300に対する転送トランジスタ302が動作するときには、スイッチ801は、短絡線803側をオンにし、視差画素400に対する転送トランジスタ302が動作するときには、スイッチ801は、増幅器802側をオンにする。   The switch 801 operates in conjunction with the transfer transistor 302. That is, when the transfer transistor 302 for the non-parallax pixel 300 operates, the switch 801 turns on the short-circuit line 803 side, and when the transfer transistor 302 for the parallax pixel 400 operates, the switch 801 turns on the amplifier 802 side. .

図14は、増幅器802を備えるレイアウトの例を示す図である。図示するように、図6のレイアウト例に対して、余剰スペースにスイッチ801と増幅器802とが追加的に配置されている。もちろん余剰スペースとの兼ね合いにより、上述の他のレイアウト例にも適用できる。   FIG. 14 is a diagram illustrating an example of a layout including the amplifier 802. As shown in the figure, a switch 801 and an amplifier 802 are additionally arranged in the surplus space with respect to the layout example of FIG. Of course, it can be applied to the other layout examples described above in consideration of the surplus space.

なお、増幅器802は、視差画素400の信号出力を増幅するので、視差なし画素300の単位画素領域には配置されないことが好ましい。一方、図14の例によれば、増幅器802は、視差画素400の単位画素領域内に収まるように配置されたが、少なくともその一部が当該単位画素領域内に配置されれば良い。例えば、隣接する2つの視差画素400においてそれぞれの余剰スペースが隣接すれば、増幅器802を2つの単位画素領域に跨いで配置することができる。増幅器802の構成は任意であり、例えば前段の増幅トランジスタ304をソースフォロア動作させるための負荷電流源、増幅機能を担う増幅トランジスタ、増幅率を決める容量結合部等を有する構成が考えられる。   Note that since the amplifier 802 amplifies the signal output of the parallax pixel 400, it is preferably not arranged in the unit pixel region of the non-parallax pixel 300. On the other hand, according to the example of FIG. 14, the amplifier 802 is disposed so as to be within the unit pixel region of the parallax pixel 400, but at least a part thereof may be disposed within the unit pixel region. For example, if the two adjacent parallax pixels 400 are adjacent to each other, the amplifier 802 can be disposed across the two unit pixel regions. The configuration of the amplifier 802 is arbitrary. For example, a configuration including a load current source for causing the previous stage amplification transistor 304 to perform a source follower operation, an amplification transistor having an amplification function, and a capacitive coupling unit that determines an amplification factor can be considered.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。   The order of execution of each process such as operations, procedures, steps, and stages in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, the description, and the drawings is particularly “before” or “prior to”. It should be noted that the output can be realized in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Regarding the operation flow in the claims, the description, and the drawings, even if it is described using “first”, “next”, etc. for convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It is not a thing.

10 デジタルカメラ、20 撮影レンズ、21 光軸、100 撮像素子、110、120、130 基本格子、111、112、121、122、123、124 画素ブロック、201 制御部、202 A/D変換回路、203 メモリ、204 駆動部、205 画像処理部、207 メモリカードIF、208 操作部、209 表示部、210 LCD駆動回路、300 視差なし画素、301 フォトダイオード、302 転送トランジスタ、303 リセットトランジスタ、304 増幅トランジスタ、305 選択トランジスタ、306 リセット配線、307 TX配線、308 デコーダ配線、309 VDD配線、310 出力配線、311 フローティングディフュージョン、312 負荷電流源、400 視差画素、500 視差Rt画素、600 視差Lt画素、801 スイッチ、802 増幅器、803 短絡線、901 視差画素出力ライン、902 視差なし画素出力ライン 10 digital camera, 20 photographing lens, 21 optical axis, 100 image sensor, 110, 120, 130 basic lattice, 111, 112, 121, 122, 123, 124 pixel block, 201 control unit, 202 A / D conversion circuit, 203 Memory, 204 drive unit, 205 image processing unit, 207 memory card IF, 208 operation unit, 209 display unit, 210 LCD drive circuit, 300 non-parallax pixel, 301 photodiode, 302 transfer transistor, 303 reset transistor, 304 amplification transistor, 305 selection transistor, 306 reset wiring, 307 TX wiring, 308 decoder wiring, 309 VDD wiring, 310 output wiring, 311 floating diffusion, 312 load current source, 400 parallax pixel, 500 parallax t pixels, 600 parallax Lt pixels 801 switch, 802 amplifier, 803 short-circuit line, 901 disparity pixel output lines, 902 disparity no pixel output line

Claims (10)

単位画素領域に対して第1フォトダイオード領域を有する第1画素と、前記第1フォトダイオード領域よりも小さい第2フォトダイオード領域を有する第2画素とを含み、
前記第2画素の前記単位画素領域に、少なくとも前記第1画素の画素信号読み出しに使用する少なくとも一つのトランジスタが設けられた撮像素子。
A first pixel having a first photodiode region with respect to a unit pixel region, and a second pixel having a second photodiode region smaller than the first photodiode region;
An image sensor in which at least one transistor used for reading out a pixel signal of the first pixel is provided in the unit pixel region of the second pixel.
画素中心に対して第1方向に偏位した前記第2フォトダイオード領域を有する第1偏位画素と、前記第1方向とは反対の第2方向に偏位した前記第2フォトダイオード領域を有する第2偏位画素の、少なくとも2種類の前記第2画素を有する請求項1に記載の撮像素子。   A first displaced pixel having the second photodiode region displaced in a first direction with respect to a pixel center; and the second photodiode region displaced in a second direction opposite to the first direction. The imaging device according to claim 1, comprising at least two types of the second pixels of the second displacement pixels. 前記トランジスタは、前記第2画素の画素信号読み出しにも使用する共通トランジスタを含む請求項1または2に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein the transistor includes a common transistor that is also used for reading a pixel signal of the second pixel. 前記トランジスタは、複数の前記第1画素と一つの前記第2画素によって形成される画素ブロック内のすべての前記第1画素の画素信号読み出しに使用する請求項1から3のいずれか1項に記載の撮像素子。   4. The transistor according to claim 1, wherein the transistor is used for pixel signal readout of all the first pixels in a pixel block formed by a plurality of the first pixels and one second pixel. 5. Image sensor. 前記第2画素は、前記画素ブロックの中心に対して、少なくとも一つの前記第1画素よりも近くに配置されている請求項4に記載の撮像素子。   The image sensor according to claim 4, wherein the second pixel is disposed closer to at least one of the first pixels with respect to a center of the pixel block. 前記第1画素の前記単位画素領域にはトランジスタが設けられていない請求項1から5のいずれか1項に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein no transistor is provided in the unit pixel region of the first pixel. 前記第1画素の前記単位画素領域には、前記第1画素の画素信号読み出しに使用する転送トランジスタ以外のトランジスタが設けられていない請求項1から5のいずれか1項に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein a transistor other than a transfer transistor used for reading a pixel signal of the first pixel is not provided in the unit pixel region of the first pixel. 前記第2画素には、少なくとも一部が前記単位画素領域に含まれるように、前記第1画素には設けられない増幅器が設けられた請求項1から7のいずれか1項に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 1, wherein the second pixel is provided with an amplifier that is not provided in the first pixel so that at least a part of the second pixel is included in the unit pixel region. . 前記増幅器は、同一の前記単位画素領域に含まれる前記第2フォトダイオード領域の出力信号を増幅する請求項8に記載の撮像素子。   The imaging device according to claim 8, wherein the amplifier amplifies an output signal of the second photodiode region included in the same unit pixel region. 請求項1から9のいずれか1項に記載の撮像素子と、
前記撮像素子からの出力信号を処理する画像処理部と
を備える撮像装置。
The imaging device according to any one of claims 1 to 9,
An imaging apparatus comprising: an image processing unit that processes an output signal from the imaging element.
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