JP2014102335A - Liquid crystal aligning agent - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal aligning agent that can reproduce a relatively low pretilt angle stably by photo-aligning method and is excellent in coating property (printability) even when a general-purpose solvent is used.SOLUTION: The liquid crystal aligning agent contains at least one kind of polymer selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamide, poly(thio)ester and (meth)acrylic acid copolymer, the polymer containing a divalent group represented by the following formula (1). In the formula (1), Rto Reach independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, C1-C12 alkyl group, or C2-C12 alkenyl group, Yand Yeach independently represent divalent organic group, and each "*" represents a bond.

Description

本発明は液晶配向剤に関する。
詳しくは、光配向法により良好な液晶配向性を付与することができるとともに、使用基板選択の自由度が高い液晶配向剤に関する。
The present invention relates to a liquid crystal aligning agent.
Specifically, the present invention relates to a liquid crystal aligning agent that can impart good liquid crystal alignment by a photo-alignment method and has a high degree of freedom in selecting a substrate to be used.

液晶表示素子、液晶層を具備する位相差フィルムなどにおいては、液晶分子を基板面に対して所定の方向に配向するために、基板表面に液晶配向膜が設けられている。この液晶配向膜は、通常、基板表面に形成された有機膜表面をレーヨンなどの布材で一方向にこする方法(ラビング法)により形成される。しかし、液晶配向膜の形成をラビング処理により行うと、ラビング工程中にほこりや静電気が発生し易いため、配向膜表面にほこりが付着して表示不良発生の原因となるという問題があるほか、TFT素子を有する基板の場合には、発生した静電気によってTFT素子の回路破壊が起こって製品歩留まり低下の原因となるという問題もある。そこで、液晶表示素子において液晶を配向する別の手段として、基板表面に形成した感放射線性の有機薄膜に偏光または非偏光の放射線を照射することによって液晶配向能を付与する光配向法が提案されている(特許文献1〜4参照)。この光配向法は、液晶表示素子のほか、液晶層を具備する位相差フィルムへの適用も期待される。
液晶表示素子としては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型などの縦電界方式の液晶セルを有する液晶表示素子のほか、IPS(In−Plane Switching)型やFFS(Fringe Field Switching)型などの、対向配置された一対の基板の方側のみに電極を形成し、基板と平行方向に電界を発生する横電界方式の液晶表示素子が知られている(特許文献5〜7)。この横電界方式の液晶表示素子は、縦電界方式の液晶表示素子と比べてより広い視野角特性を有し、また高品位な表示が可能である。横電界方式の液晶表示素子は、液晶分子が基板と平行な方向にのみ電界応答するため、液晶分子の長軸方向の屈折率変化が問題とならず、視角を変えた場合でも、観察者に視認されるコントラストおよび表示色の濃淡の変化が少なく、従って視角によらず高品位な表示が可能となる。このような有利な効果を得るためには、入射偏光の入射角依存性が少ないことが有利であることから、横電界方式の液晶表示素子にあっては、電界無印加時の初期配向特性におけるプレチルト角が低いことが望ましい。
In a liquid crystal display element, a retardation film having a liquid crystal layer, and the like, a liquid crystal alignment film is provided on the substrate surface in order to align liquid crystal molecules in a predetermined direction with respect to the substrate surface. This liquid crystal alignment film is usually formed by a method (rubbing method) in which the surface of the organic film formed on the substrate surface is rubbed in one direction with a cloth material such as rayon. However, if the liquid crystal alignment film is formed by rubbing treatment, dust and static electricity are likely to be generated during the rubbing process, so that dust adheres to the alignment film surface and causes display defects. In the case of a substrate having elements, there is also a problem that circuit yield of the TFT elements occurs due to the generated static electricity and causes a reduction in product yield. Therefore, as another means of aligning the liquid crystal in the liquid crystal display element, a photo-alignment method has been proposed which imparts liquid crystal alignment ability by irradiating a radiation-sensitive organic thin film formed on the substrate surface with polarized or non-polarized radiation. (See Patent Documents 1 to 4). This photo-alignment method is expected to be applied to a retardation film having a liquid crystal layer in addition to a liquid crystal display element.
Liquid crystal display elements include TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Twisted Nematic) type, VA (Vertical Alignment) type and other liquid crystal display elements having vertical electric field type liquid crystal cells, and IPS (In-Plane Switching). 2. Description of the Related Art A lateral electric field type liquid crystal display element that generates an electric field in a direction parallel to a substrate by forming an electrode only on the side of a pair of opposed substrates such as an FFS (Fringe Field Switching) type is known. (Patent Documents 5 to 7). This horizontal electric field type liquid crystal display element has wider viewing angle characteristics than a vertical electric field type liquid crystal display element, and can display a high quality. Since the horizontal electric field type liquid crystal display element responds to the electric field only in the direction in which the liquid crystal molecules are parallel to the substrate, the change in the refractive index in the major axis direction of the liquid crystal molecules is not a problem. There is little change in the contrast and the contrast of the displayed color, so that high-quality display is possible regardless of the viewing angle. In order to obtain such an advantageous effect, since it is advantageous that the incident angle dependency of incident polarized light is small, in the horizontal electric field type liquid crystal display element, in the initial alignment characteristics when no electric field is applied. A low pretilt angle is desirable.

横電界方式の液晶表示素子においても、液晶配向膜に液晶配向性を付与するに際して上記したラビング法の欠点を回避するため、光配向法によることが望まれる。しかしながら上記の光配向法に適用可能な液晶配向剤は、これに含有される重合体に感光性を付与するために芳香族構造を大きな割合で含むこととなる。しかし、芳香族構造を大きな割合で含む液晶配向膜を用いると、不可避的にプレチルト角が増大することとなり、横電界方式の液晶表示素子における上記の如き有利な効果が減殺されることとなる。
光配向法によって比較的低いプレチルト角を安定して発現する液晶配向膜材料として、ポリイミドの主鎖にシクロブタン環を導入する技術が提案されている(特許文献8)。この技術は、剛直なポリイミド中に存在するシクロブタン環を光照射によって分解して重合体膜に凹凸形状を形成し、該凹凸形状によって液晶配向能を発現しようとの発想に基づく。この技術は、平成9年出願の古い技術であるが、いまだ実用には至っていない。その理由は、以下の2点にあると思われる。
(1)上記ポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸を含有する溶液から形成された塗膜を熱イミド化処理して形成されるが、該熱イミド化は完全には進行しない。そのため、重合体の一部に柔軟なアミック酸構造が残存するから、光照射によるシクロブタン環の分解が不十分となり、従って所期の液晶配向能が得られがたいこと、および
(2)ポリアミック酸ないしポリイミドは、汎用の有機溶媒に対する溶解性に乏しいから、溶媒としては、塗布性を確保するため溶解性が極めて高い特定の非プロトン性極性溶媒しか使用することができない。このような溶媒は、汎用のプラスチック類の多くを浸食するから、該溶媒を含有する液晶配向剤は樹脂基板に適用することができず、液晶表示素子の軽量化の要請に適合しないほか、基板としてトリアセチルセルロース(TAC)が多用されている位相差フィルムへの適用が大幅に制限される。
Also in a horizontal electric field type liquid crystal display element, in order to avoid the drawbacks of the rubbing method described above when providing liquid crystal alignment properties to the liquid crystal alignment film, it is desirable to use a photo alignment method. However, the liquid crystal aligning agent applicable to said photo-alignment method will contain an aromatic structure in a large ratio in order to provide photosensitivity to the polymer contained therein. However, when a liquid crystal alignment film containing an aromatic structure in a large proportion is used, the pretilt angle inevitably increases, and the advantageous effects as described above in the lateral electric field type liquid crystal display element are diminished.
As a liquid crystal alignment film material that stably expresses a relatively low pretilt angle by a photo-alignment method, a technique for introducing a cyclobutane ring into the main chain of polyimide has been proposed (Patent Document 8). This technique is based on the idea that the cyclobutane ring present in rigid polyimide is decomposed by light irradiation to form a concavo-convex shape in the polymer film, and the liquid crystal alignment ability is expressed by the concavo-convex shape. This technology is an old technology filed in 1997, but has not yet been put into practical use. The reason seems to be in the following two points.
(1) Although the said polyimide is formed by carrying out the thermal imidation process of the coating film formed from the solution containing the polyamic acid which is the precursor, this thermal imidation does not advance completely. Therefore, since a flexible amic acid structure remains in a part of the polymer, the cyclobutane ring is not sufficiently decomposed by light irradiation, so that the desired liquid crystal alignment ability cannot be obtained, and (2) polyamic acid In addition, since polyimide has poor solubility in a general-purpose organic solvent, only a specific aprotic polar solvent having extremely high solubility can be used as the solvent to ensure applicability. Since such a solvent erodes many general-purpose plastics, a liquid crystal aligning agent containing the solvent cannot be applied to a resin substrate, and does not meet the demand for weight reduction of a liquid crystal display element. As a result, application to a retardation film in which triacetyl cellulose (TAC) is frequently used is greatly limited.

特開2003−307736号公報JP 2003-307736 A 特開2004−163646号公報JP 2004-163646 A 特開2002−250924号公報JP 2002-250924 A 特開2004−83810号公報JP 2004-83810 A 米国特許第5928733号明細書U.S. Pat. No. 5,928,733 特開昭56−91277号公報JP 56-91277 A 特開2008−46184号公報JP 2008-46184 A 特開平9−297313号公報JP-A-9-297313

「UVキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第3巻第1号(1999年)、pp34〜42"UV curable liquid crystal and its application", Liquid Crystal, Vol. 3 No. 1 (1999), pp34-42

本発明は、上記のような現状を打開しようとしてなされたものである。
本発明の目的は、光配向法によって比較的低いプレチルト角を安定して発現することができ、汎用の溶媒を使用した場合でも塗布性(印刷性)に優れる液晶配向剤を提供することにある。
The present invention has been made to overcome the above-described current situation.
An object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent that can stably develop a relatively low pretilt angle by a photo-alignment method, and is excellent in coatability (printability) even when a general-purpose solvent is used. .

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、
ポリオルガノシロキサン、ポリアミド、ポリ(チオ)エステルおよび(メタ)アクリル酸共重合体よりなる群から選択される少なくとも1種の重合体、ただしこの重合体は、下記式(1)で表される2価の基を有する、を含有することを特徴とする、液晶配向剤によって達成される。
According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are:
At least one polymer selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamide, poly (thio) ester and (meth) acrylic acid copolymer, provided that this polymer is represented by the following formula (1) 2 It is achieved by a liquid crystal aligning agent characterized by containing a valent group.

(式(1)中、R〜RIV、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数2〜12のアルケニル基であり;
およびYは、それぞれ独立に、2価の有機基であり、「*」は、それぞれ、重合体鎖に結合している結合手であることを示す。)
(In Formula (1), R I to R IV are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms;
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group, and “*” indicates a bond that is bonded to the polymer chain. )

本発明の液晶配向剤は、光配向法によって比較的低いプレチルト角を安定して発現することができるから、特に横電界方式の液晶表示素子に用いられる液晶配向膜の形成に好適に適用することができる。
また、本発明の液晶配向剤に含有される重合体は溶解性に優れるから、汎用の有機溶媒を使用した場合であっても塗布性に優れ、均一性の高い液晶配向膜を形成することができる。
本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜は、液晶表示素子(特に横電界方式の液晶表示素子)、液晶層を具備する位相差フィルムなどに好適に適用することができる。
Since the liquid crystal aligning agent of the present invention can stably develop a relatively low pretilt angle by a photo-alignment method, the liquid crystal aligning agent is particularly preferably applied to the formation of a liquid crystal alignment film used for a liquid crystal display element of a horizontal electric field type. Can do.
In addition, since the polymer contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is excellent in solubility, even when a general-purpose organic solvent is used, it is excellent in coatability and can form a highly uniform liquid crystal alignment film. it can.
The liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent of the present invention can be suitably applied to a liquid crystal display element (particularly a horizontal electric field type liquid crystal display element), a retardation film having a liquid crystal layer, and the like.

実施例で製造した液晶表示素子の有する電極対の構造を説明するための断面概略図。The cross-sectional schematic for demonstrating the structure of the electrode pair which the liquid crystal display element manufactured in the Example has. 実施例で製造した液晶表示素子の有するトップ電極の櫛歯構造を説明するための平面概略図。FIG. 3 is a schematic plan view for explaining a comb structure of a top electrode included in a liquid crystal display element manufactured in an example.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の液晶配向剤は、上記式(1)で表される2価の基を有する重合体(以下、「特定重合体」という。)を含有する。
<特定重合体>
本発明における特定重合体は、ポリオルガノシロキサン、ポリアミド、ポリ(チオ)エステルおよび(メタ)アクリル酸共重合体よりなる群から選択される少なくとも1種の重合体であって、上記式(1)で表される2価の基を有する。
上記式(1)で表される2価の基において「*」を付された結合手が重合体鎖に結合している」とは、この2価の基が、重合体の主鎖中に存在するか、あるいは重合体鎖同士を2次元的または3次元的に結合する架橋結合の一部として存在することを意味する。つまり、この2価の基は、重合体の側鎖もしくはその一部、または架橋構造の側鎖もしくはその一部として存在するものではない。ただし、特定重合体は、上記式(1)で表される2価の基が重合体の主鎖または架橋構造中に存在すればよく、重合体の側鎖もしくはその一部または架橋構造の側鎖もしくはその一部として同種の構造を有することが禁止されるものではない。
特定重合体における上記式(1)で表される2価の基の含有割合は、1.0×10−4モル/g以上であることが好ましく、3.0×10−4〜2.0×10−3モル/gであることがより好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the polymer (henceforth "specific polymer") which has a bivalent group represented by the said Formula (1).
<Specific polymer>
The specific polymer in the present invention is at least one polymer selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamide, poly (thio) ester, and (meth) acrylic acid copolymer, which has the formula (1) It has a bivalent group represented by these.
In the divalent group represented by the above formula (1), a bond marked with “*” is bonded to the polymer chain ”means that the divalent group is in the main chain of the polymer. It means that it exists, or exists as part of a cross-linking bond that couples polymer chains two-dimensionally or three-dimensionally. That is, the divalent group does not exist as a side chain of the polymer or a part thereof, or as a side chain of the crosslinked structure or a part thereof. However, in the specific polymer, the divalent group represented by the above formula (1) may be present in the main chain or the crosslinked structure of the polymer, and the side chain of the polymer or a part thereof or the side of the crosslinked structure. It is not prohibited to have the same type of structure as a chain or part thereof.
The content ratio of the divalent group represented by the above formula (1) in the specific polymer is preferably 1.0 × 10 −4 mol / g or more, and 3.0 × 10 −4 to 2.0. It is more preferable that it is * 10 < -3 > mol / g.

特定重合体は、例えば
ジアミンと
下記式(C)で表される化合物(以下、「化合物(C)」という。)を含む多価カルボン酸と
を反応させて得られたポリアミド;
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物と、
下記式(C)で表される化合物を含む多価カルボン酸と、
を反応させて得られたポリ(チオ)エステル;
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、ただしこの化合物の少なくとも一部は下記式(E)で表される化合物(以下、「化合物(E)」という。)である、と、
多価カルボン酸と、
を反応させて得られたポリ(チオ)エステル;
(メタ)アクリル酸および下記式(A)で表される化合物(以下、「化合物(A)」という。)を含む重合性不飽和化合物の混合物を付加重合して得られた(メタ)アクリル酸共重合体;
下記式(S)で表される化合物(以下、「化合物(S)」という。)を含むシラン化合物を加水分解・縮合して得られたポリオルガノシロキサンなどであることができる。
The specific polymer is a polyamide obtained by reacting, for example, a diamine and a polyvalent carboxylic acid containing a compound represented by the following formula (C) (hereinafter referred to as “compound (C)”);
At least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound;
A polyvalent carboxylic acid containing a compound represented by the following formula (C);
A poly (thio) ester obtained by reacting with
At least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound, and a diepoxy compound, provided that at least a part of this compound is a compound represented by the following formula (E) (hereinafter referred to as “compound (E)”). )
A polyvalent carboxylic acid;
A poly (thio) ester obtained by reacting with
(Meth) acrylic acid obtained by addition polymerization of a mixture of a polymerizable unsaturated compound containing (meth) acrylic acid and a compound represented by the following formula (A) (hereinafter referred to as “compound (A)”) Copolymer;
It may be a polyorganosiloxane obtained by hydrolysis / condensation of a silane compound containing a compound represented by the following formula (S) (hereinafter referred to as “compound (S)”).

(式(C)中、R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味である。) (In the formula (C), R I to R IV , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in the above formula (1).)

(式(E)中、R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味であり;
およびZは、それぞれ独立に、水酸基、チオール基またはエポキシ基である。)
(In the formula (E), R I to R IV , Y 1 and Y 2 each have the same meaning as in the above formula (1);
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxyl group, a thiol group, or an epoxy group. )

(式(S)中R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味であり;
およびRは、それぞれ独立に、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基であり;
およびXは、それぞれ独立に、炭素数1〜12のアルコキシ基またはハロゲン原子であり;
n1およびn2は、それぞれ独立に、1〜3の整数である。)
(In formula (S), R I to R IV , Y 1 and Y 2 each have the same meaning as in formula (1) above;
R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms;
X 1 and X 2 are each independently an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom;
n1 and n2 are each independently an integer of 1 to 3. )

(式(A)中R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味であり;
およびRは、それぞれ独立に、水鎖原子またはメチル基である。)
上記の化学式から明らかなように、上記式(1)で表される2価の基は、化合物(C)、(E)、(A)または(S)に由来する。これらの化合物は、下記式(T)で表されるテトラカルボン酸二無水物と1級アミン化合物との反応によって得ることができる。
(In the formula (A), R I to R IV , Y 1 and Y 2 each have the same meaning as in the above formula (1);
R 3 and R 4 are each independently a water chain atom or a methyl group. )
As is clear from the above chemical formula, the divalent group represented by the formula (1) is derived from the compound (C), (E), (A) or (S). These compounds can be obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (T) with a primary amine compound.

(式(T)中、R〜RIVは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味である。)
上記式(T)で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
上記のようなテトラカルボン酸二無水物と反応させるべき1級アミン化合物については、化合物(C)、(E)、(A)または(S)についての説明中で述べる。
(In formula (T), R I to R IV each have the same meaning as in formula (1) above.)
Examples of the tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (T) include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2, 3, 4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride etc. can be mentioned, One or more sorts chosen from these can be used.
The primary amine compound to be reacted with the tetracarboxylic dianhydride as described above will be described in the description of the compound (C), (E), (A) or (S).

[化合物(C)の合成]
化合物(C)は、例えば上記式(T)で表されるテトラカルボン酸二無水物とアミノ酸との反応によって得ることができる。このアミノ酸は、1個の1級アミノ基と、1個のカルボキシ基と、を分子内に有する化合物である。この場合、上記式(C)における基Y(従って上記式(1)における基Y)は、上記アミノ酸からアミノ基およびカルボキシ基を除去して得られる2価の基であることとなる。
上記アミノ酸としては、例えばグリシン、アラニン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、バリン、4−アミノ酪酸などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
上記式(T)で表されるテトラカルボン酸二無水物とアミノ酸との反応は、これらの化合物の混合物を、好ましくは適当な溶媒中で加熱することにより、行うことができる。
この反応における両化合物の割合は、テトラカルボン酸二無水物の1モルに対するアミノ酸の使用割合として、1.0〜4.0モルとすることが好ましく、1.5〜3.0モルとすることがより好ましく、1.8〜2.5モルとすることがさらに好ましい。
この反応において使用される溶媒としては、有機溶媒であることが好ましく、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノールおよびその誘導体、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素などを使用することができる。
[Synthesis of Compound (C)]
Compound (C) can be obtained, for example, by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (T) with an amino acid. This amino acid is a compound having one primary amino group and one carboxy group in the molecule. In this case, the above formula (C) group Y 1 in (hence the above equation (1) group in Y 1) becomes a divalent group obtained by removing the amino and carboxy groups from the amino acids.
Examples of the amino acid include glycine, alanine, leucine, isoleucine, phenylalanine, valine, 4-aminobutyric acid, and the like, and one or more selected from these can be used.
The reaction of the tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (T) with an amino acid can be carried out by heating a mixture of these compounds, preferably in an appropriate solvent.
The ratio of both compounds in this reaction is preferably 1.0 to 4.0 moles, and preferably 1.5 to 3.0 moles, as the ratio of amino acid to 1 mole of tetracarboxylic dianhydride. Is more preferably 1.8 to 2.5 mol.
The solvent used in this reaction is preferably an organic solvent, and for example, an aprotic polar solvent, phenol and derivatives thereof, alcohol, ketone, ester, ether, halogenated hydrocarbon, hydrocarbon, etc. are used. Can do.

これら有機溶媒の具体例としては、上記非プロトン性極性溶媒として、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ピリジン、2−ピコリン、3−ピコリン、4−ピコリンなどを;
上記フェノール誘導体として、例えばm−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノールなどを;
上記アルコールとして、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどを;
上記ケトンとして、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを;
上記エステルとして、例えば乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチルなどを;
上記エーテルとして、例えばジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフランなどを;
上記ハロゲン化炭化水素として、例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼンなどを;
上記炭化水素として、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテルなどを、それぞれ挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することが好ましい。
Specific examples of these organic solvents include, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea as the aprotic polar solvent. Hexamethylphosphotriamide, pyridine, 2-picoline, 3-picoline, 4-picoline and the like;
Examples of the phenol derivative include m-cresol, xylenol, halogenated phenol and the like;
Examples of the alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, and ethylene glycol monomethyl ether;
Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone;
Examples of the ester include ethyl lactate, butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, diethyl oxalate, and diethyl malonate;
Examples of the ether include diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate. Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, tetrahydrofuran and the like;
Examples of the halogenated hydrocarbon include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like;
Examples of the hydrocarbon include hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene, isoamylpropionate, isoamylisobutyrate, diisopentyl ether, and the like, and one selected from these It is preferable to use the above.

溶媒の使用割合としては、テトラカルボン酸二無水物およびアミノ酸の合計100重量部に対して、50〜5,000重量部とすることが好ましく、100〜3,000重量部とすることがより好ましく、100〜2,000重量部とすることがさらに好ましい。
上記テトラカルボン酸二無水物とアミノ酸との反応は、好ましくは50〜300℃、より好ましくは80〜200℃の温度において、好ましくは0.1〜20時間、より好ましくは0.1〜10時間行われる。所望により、上記温度および反応時間の範囲内で、反応温度を段階的または連続的に上昇しながら反応を行ってもよい。
The use ratio of the solvent is preferably 50 to 5,000 parts by weight, more preferably 100 to 3,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of tetracarboxylic dianhydride and amino acid. 100 to 2,000 parts by weight is more preferable.
The reaction between the tetracarboxylic dianhydride and the amino acid is preferably 50 to 300 ° C, more preferably 80 to 200 ° C, preferably 0.1 to 20 hours, more preferably 0.1 to 10 hours. Done. If desired, the reaction may be carried out while raising the reaction temperature stepwise or continuously within the above temperature and reaction time range.

[化合物(E)の合成]
化合物(E)のうちの、ZおよびZがヒドロキシ基またはチオール基である化合物は、ZおよびZの種類に応じて、例えば上記式(T)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、アミノアルコールまたはアミノチオールとの反応により、得ることができる。この場合、上記式(E)における基Y(従って上記式(1)における基Y)は、上記アミノアルコールまたはアミノチオールからアミノ基と、水酸基またはチオール基と、を除去して得られる2価の基であることとなる。
上記アミノアルコールとしては、例えば2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、4−アミノフェノール、4−アミノベンジルアルコール、2−(4−アミノフェニル)エタノールなどを;
上記アミノチオールとしては、例えば3−チオールアニリン、4−チオールアニリン、1−チオール−3−アミノプロパンなどを、それぞれ挙げることができる。
テトラカルボン酸二無水物と、アミノアルコールまたはアミノチオールとの反応は、これらの化合物の混合物を、好ましくは適当な溶媒中で加熱することにより、行うことができる。
[Synthesis of Compound (E)]
Among the compounds (E), a compound in which Z 1 and Z 2 are a hydroxy group or a thiol group is, for example, a tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (T), depending on the type of Z 1 and Z 2 Can be obtained by reaction of the product with aminoalcohol or aminothiol. In this case, the above formula (E) group in Y 1 (hence the above equation (1) group in Y 1) is 2 obtained by removing the amino group from the amino alcohol or amino thiol, and hydroxyl or a thiol group, a It is a valent group.
Examples of the amino alcohol include 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 4-aminophenol, 4-aminobenzyl alcohol, 2- (4-aminophenyl) ethanol and the like;
Examples of the aminothiol include 3-thiolaniline, 4-thiolaniline, 1-thiol-3-aminopropane, and the like.
The reaction of tetracarboxylic dianhydride with amino alcohol or amino thiol can be carried out by heating a mixture of these compounds, preferably in a suitable solvent.

この反応における両化合物の使用割合は、テトラカルボン酸二無水物の1モルに対するアミノアルコールまたはアミノチオールの使用割合として、1.0〜4.0モルとすることが好ましく、1.5〜3.0モルとすることがより好ましく、特に1.8〜2.5モルとすることが好ましい。
この反応において使用される溶媒としては、化合物(C)の合成において使用することのできる溶媒として上記に例示したものと同じものを使用することができる。溶媒の使用割合としては、テトラカルボン酸二無水物と、アミノアルコールまたはアミノチオールと、の合計100重量部に対して、50〜5,000重量部とすることが好ましく、100〜3,000重量部とすることがより好ましく、100〜2,000重量部とすることがさらに好ましい。
この反応は、好ましくは50〜300℃、より好ましくは80〜200℃の温度において、好ましくは0.1〜10時間、より好ましくは0.1〜20時間行われる。所望により、上記温度および反応時間の範囲内で、反応温度を段階的または連続的に上昇しながら反応を行ってもよい。
このようにして、上記式(E)において、基ZおよびZがそれぞれ水酸基であるジオール化合物、または基ZおよびZがそれぞれチオール基であるジチオール化合物が得られる。
The use ratio of both compounds in this reaction is preferably 1.0 to 4.0 mol as the use ratio of amino alcohol or aminothiol to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride, and 1.5 to 3. It is more preferably 0 mol, and particularly preferably 1.8 to 2.5 mol.
As the solvent used in this reaction, the same solvents as those exemplified above can be used as the solvent that can be used in the synthesis of compound (C). The proportion of the solvent used is preferably 50 to 5,000 parts by weight and 100 to 3,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of tetracarboxylic dianhydride and amino alcohol or aminothiol. More preferably, it is more preferably 100 to 2,000 parts by weight.
This reaction is preferably performed at a temperature of 50 to 300 ° C, more preferably 80 to 200 ° C, preferably for 0.1 to 10 hours, more preferably for 0.1 to 20 hours. If desired, the reaction may be carried out while raising the reaction temperature stepwise or continuously within the above temperature and reaction time range.
Thus, a diol compound in which the groups Z 1 and Z 2 are each a hydroxyl group in the above formula (E) or a dithiol compound in which the groups Z 1 and Z 2 are each a thiol group is obtained.

化合物(E)のうちのZおよびZが、それぞれ、エポキシ基である化合物は、例えば上記のようにして得られたジオール化合物またはジチオール化合物と、エポキシ基およびハロゲン原子を有する化合物との反応により、得ることができる。この場合、上記式(E)における基Y(従って上記式(1)における基Y)は、上記のようにして得られたジオール化合物またはジチオール化合物における2価の基Yと、エポキシ基およびハロゲン原子を有する化合物からエポキシ基およびハロゲン原子を除去して得られる2価の基とが、エーテル結合によって結合してなる2価の基であることとなる。
ここで、エポキシ基としては、オキシラニル基およびオキセタニル基のいずれであってもよい。オキシラニル基とハロゲン原子とを有する化合物として、例えばエピクロロヒドリン、2−(クロロメチル)−1,2−エポキシプロパン、2−(クロロメチル)−1,2−エポキシブタン、2−(ブロモメチル)−1,2−エポキシプロパン、2−(ブロモメチル)−1,2−エポキシブタンなどを;
オキセタニル基とハロゲン原子とを有する化合物として、例えば3−(クロロメチル)オキセタン、3−(クロロメチル)−3−メチルオキセタン、3−(ブロモメチル)オキセタン、3−(ブロモメチル)−3−メチルオキセタンなどを;
(メタ)アクリル基とハロゲン原子とを有する化合物として、例えば(メタ)アクリルクロリドなどを、それぞれ挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
The compound in which Z 1 and Z 2 in the compound (E) are each an epoxy group is, for example, a reaction between a diol compound or a dithiol compound obtained as described above, and a compound having an epoxy group and a halogen atom. Can be obtained. In this case, the radicals Y 1 in (E) (hence the above equation (1) group in Y 1) includes a divalent group Y 1 in the diol compound obtained as above or dithiol compound, an epoxy group And a divalent group obtained by removing an epoxy group and a halogen atom from a compound having a halogen atom is a divalent group formed by an ether bond.
Here, the epoxy group may be either an oxiranyl group or an oxetanyl group. Examples of the compound having an oxiranyl group and a halogen atom include epichlorohydrin, 2- (chloromethyl) -1,2-epoxypropane, 2- (chloromethyl) -1,2-epoxybutane, and 2- (bromomethyl). -1,2-epoxypropane, 2- (bromomethyl) -1,2-epoxybutane and the like;
Examples of the compound having an oxetanyl group and a halogen atom include 3- (chloromethyl) oxetane, 3- (chloromethyl) -3-methyloxetane, 3- (bromomethyl) oxetane, 3- (bromomethyl) -3-methyloxetane, and the like. ;
Examples of the compound having a (meth) acryl group and a halogen atom include (meth) acryl chloride, and one or more selected from these compounds can be used.

この反応は、上記のようにして得られたジオール化合物またはジチオール化合物と、エポキシ基およびハロゲン原子を有する化合物との混合物を、好ましくは適当な触媒の存在下、好ましくは適当な溶媒中で、加熱することにより行うことができる。
ジオール化合物またはジチオール化合物と、エポキシ基およびハロゲン原子を有する化合物との使用割合は、前者の1モルに対して、後者を0.5〜10モル使用することが好ましく、1.0〜3.0モル使用することがより好ましく、特に1.8〜2.5モル使用することが好ましい。
この反応に使用され得る触媒としては、例えば第4級アミン塩などを挙げることができ、その具体例としては例えばテトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミドなどを挙げることができる。触媒の使用割合は、ジオール化合物またはジチオール化合物の100重量部に対して、20重量部以下とすることが好ましく、0.001〜10重量部とすることがより好ましい。
ここで使用される溶媒は、有機溶媒であることが好ましく、化合物(C)の合成に使用される溶媒として上記に例示したのと同じものを使用することができる。
溶媒の使用割合としてはジオール化合物またはジチオール化合物およびエポキシ基およびハロゲン原子を有する化合物の合計100重量部に対して、10〜3,000重量部とすることが好ましく、50〜2,000重量部とすることがより好ましく、50〜1,000重量部とすることがさらに好ましい。
この反応は、好ましくは−100〜60℃、より好ましくは−80〜40℃の温度において、好ましくは0.5〜30時間、より好ましくは2〜15時間行われる。所望により、上記温度および反応時間の範囲内で、反応温度を段階的または連続的に上昇しながら反応を行ってもよい。
This reaction is performed by heating a mixture of the diol compound or dithiol compound obtained as described above and a compound having an epoxy group and a halogen atom, preferably in the presence of an appropriate catalyst, preferably in an appropriate solvent. This can be done.
The use ratio of the diol compound or dithiol compound and the compound having an epoxy group and a halogen atom is preferably 0.5 to 10 mol of the latter with respect to 1 mol of the former, 1.0 to 3.0 It is more preferable to use mol, and it is particularly preferable to use 1.8 to 2.5 mol.
Examples of the catalyst that can be used in this reaction include quaternary amine salts. Specific examples thereof include tetrabutylammonium chloride and tetrabutylammonium bromide. The ratio of the catalyst to be used is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 0.001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the diol compound or dithiol compound.
The solvent used here is preferably an organic solvent, and the same solvents as exemplified above can be used as the solvent used in the synthesis of the compound (C).
The proportion of the solvent used is preferably 10 to 3,000 parts by weight, and 50 to 2,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the diol compound or dithiol compound and the compound having an epoxy group and a halogen atom. More preferably, it is more preferably 50 to 1,000 parts by weight.
This reaction is preferably performed at a temperature of -100 to 60 ° C, more preferably -80 to 40 ° C, preferably 0.5 to 30 hours, more preferably 2 to 15 hours. If desired, the reaction may be carried out while raising the reaction temperature stepwise or continuously within the above temperature and reaction time range.

[化合物(A)の合成]
化合物(A)は、例えば上記式(E)において基ZおよびZがそれぞれ水酸基であるジオール化合物と(メタ)アクリル酸との反応によって得ることができる。この場合、上記式(A)における基Y(従って上記式(1)における基Y)は、原料として使用した化合物(E)における基Yと同じになる。ここで、(メタ)アクリル酸は、公知の方法によって酸クロリド化した後に反応に供することが好ましい。
ジオール化合物である化合物(E)と、好ましくは酸クロリド化した(メタ)アクリル酸との使用割合は、化合物(E)1モルに対する(メタ)アクリル酸の使用割合を、0.5〜10モルとすることが好ましく、1.0〜3.0モルとすることがより好ましく、特に1.8〜2.5モルとすることが好ましい。
反応は、ジオール化合物である化合物(E)を適当な溶媒中に溶解しておき、好ましくは酸クロリド化した(メタ)アクリル酸を、必要に応じて適当な溶媒に溶解した状態で、滴下する方法によることができる。
ここで使用することのできる溶媒としては、化合物(C)の合成において使用することのできる溶媒として上記に例示したものと同じものを使用することができる。溶媒の使用割合は、反応溶液中にジオール化合物である化合物(E)および(メタ)アクリル酸の合計重量が占める割合が、0.5〜50重量%となる割合とすることが好ましく、1〜30重量%となる割合とすることがより好ましい。
反応は、好ましくは−100〜100℃、より好ましくは−20〜40℃の温度において行われる。ここで、(メタ)アクリル酸をそのまま反応させる場合には、反応温度を室温(25℃)以上の温度とすることが好ましく;
(メタ)アクリル酸を酸クロリド化したうえで反応させる場合には、反応温度を室温よりも低い温度とすることが好ましい。反応時間は、好ましくは0.1〜40時間、より好ましくは0.5〜20時間である。反応を(好ましくは酸クロリド化した)(メタ)アクリル酸の滴下による場合、この反応時間は、滴下終了後から計測が開始される。
[Synthesis of Compound (A)]
The compound (A) can be obtained, for example, by a reaction between a diol compound in which the groups Z 1 and Z 2 are hydroxyl groups in the above formula (E) and (meth) acrylic acid. In this case, the radicals Y 1 in (A) (hence the above equation (1) group in Y 1) is the same as group Y 1 in the compound used as a raw material (E). Here, (meth) acrylic acid is preferably subjected to a reaction after being converted to acid chloride by a known method.
The use ratio of the compound (E) which is a diol compound, and preferably (meth) acrylic acid acidified, is 0.5 to 10 mol of the use ratio of (meth) acrylic acid to 1 mol of compound (E). It is preferable to set it as 1.0-3.0 mol, and it is especially preferable to set it as 1.8-2.5 mol.
In the reaction, compound (E), which is a diol compound, is dissolved in an appropriate solvent, and acid chloride (meth) acrylic acid is preferably added dropwise in a state of being dissolved in an appropriate solvent as necessary. Can depend on the method.
As the solvent that can be used here, the same solvents as those exemplified above can be used as the solvent that can be used in the synthesis of the compound (C). The proportion of the solvent used is preferably such that the proportion of the total weight of the diol compound (E) and (meth) acrylic acid in the reaction solution is 0.5 to 50% by weight. More preferably, the ratio is 30% by weight.
The reaction is preferably performed at a temperature of −100 to 100 ° C., more preferably −20 to 40 ° C. Here, when (meth) acrylic acid is reacted as it is, the reaction temperature is preferably set to room temperature (25 ° C.) or higher;
When the reaction is performed after acidifying (meth) acrylic acid, the reaction temperature is preferably lower than room temperature. The reaction time is preferably 0.1 to 40 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. When the reaction is by dropping (preferably acid chloride) (meth) acrylic acid, the reaction time is measured after the end of dropping.

[化合物(S)の合成]
化合物(S)は、例えば上記式(E)において基ZおよびZがそれぞれ水酸基であるジオール化合物を脱水して末端に二重結合を生成した後に、該二重結合にヒドロシレーション反応によってアルコキシシラン化合物を付加することにより、得ることができる。この場合、上記式(S)における基Y(従って上記式(1)における基Y)は、原料として使用した化合物(E)における基Yと同じになる。
上記ジオール化合物の脱水反応は、好ましくは適当な有機溶媒中において、該ジオール化合物を硫酸と接触させることにより、行うことができる。
ここで使用することのできる有機溶媒としては、例えば酢酸、無水酢酸、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサン、1,4−ジオキサンなどを挙げることができる。有機溶媒の使用割合は、ジオール化合物である化合物(E)100重量部に対して、好ましくは50〜2,000重量部であり、より好ましくは100〜1,000重量部である。
硫酸の使用割合は、ジオール化合物である化合物(E)100重量部に対して、好ましくは0.0001〜100重量部であり、より好ましくは0.001〜10重量部である。硫酸は、反応系に徐々に加えることが好ましい。
上記ジオール化合物の脱水反応は、好ましくは0〜300℃、より好ましくは25〜150℃の温度において、好ましくは0.1〜40時間、より好ましくは0.5〜20時間行われる。反応を硫酸の滴下によって行う場合、上記の反応時間は、滴下終了後から計測が開始される。
上記のようにして得た脱水生成物にアルコキシシラン化合物を付加する反応は、公知のヒドロシレーション反応に準じて行うことができる。
[Synthesis of Compound (S)]
For example, the compound (S) is obtained by dehydrating a diol compound in which the groups Z 1 and Z 2 are each a hydroxyl group in the above formula (E) to form a double bond at the terminal, and then hydrolyzing the double bond by a hydrosilation reaction. It can be obtained by adding an alkoxysilane compound. In this case, the radicals Y 1 in (S) (hence the above equation (1) group in Y 1) is the same as group Y 1 in the compound used as a raw material (E).
The dehydration reaction of the diol compound can be performed by bringing the diol compound into contact with sulfuric acid, preferably in a suitable organic solvent.
Examples of organic solvents that can be used here include acetic acid, acetic anhydride, tetrahydrofuran, acetonitrile, chloroform, dichloromethane, diethyl ether, benzene, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, hexane, and 1,4. -Dioxane etc. can be mentioned. The use ratio of the organic solvent is preferably 50 to 2,000 parts by weight, more preferably 100 to 1,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (E) which is a diol compound.
The use ratio of sulfuric acid is preferably 0.0001 to 100 parts by weight, and more preferably 0.001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (E) which is a diol compound. Sulfuric acid is preferably added gradually to the reaction system.
The dehydration reaction of the diol compound is preferably performed at a temperature of 0 to 300 ° C, more preferably 25 to 150 ° C, and preferably 0.1 to 40 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. When the reaction is performed by dropwise addition of sulfuric acid, the above reaction time starts to be measured after the completion of the dropwise addition.
The reaction of adding an alkoxysilane compound to the dehydrated product obtained as described above can be performed according to a known hydrosilation reaction.

ここで使用されるアルコキシシラン化合物は、少なくとも1個のH−Si結合と、少なくとも1個のアルコキシ−Si結合と、を有する化合物であり、具体的には、例えばジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジフェニルメトキシのようなオルガノハイドロジェンシランなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
アルコキシシラン化合物の使用割合は、脱水生成物1モルに対するアルコキシシラン化合物の割合として、0.5〜5.0モルとすることが好ましく、1.0〜3.0モルとすることがより好ましく、特に1.8〜2.5モルとすることが好ましい。
このヒドロシレーション反応は、好ましくは適当な触媒の存在下において、好ましくは適当な有機溶媒中で行われる。
ここで使用することのできる触媒は、例えば塩化白金酸、ウィルキンソン錯体(RhCl(P(C)、カルステッド触媒(塩化白金酸のビニルシロキサン錯体)、スパイアー触媒(塩化白金酸のアルコール溶液)などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。触媒の使用割合は、1モルに対して、好ましくは0.01〜200マイクロモル(μmol)であり、より好ましくは0.05〜50マイクロモルである。
ここで使用することのできる有機溶媒としては、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、エステルなどを挙げることができる。これらのうち、炭化水素を使用することが好ましく、特にトルエン、ヘプタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどのうちから選択される少なくとも1種を使用することが好ましい。有機溶媒の使用割合は、脱水生成物100重量部に対して、10〜2,000重量部とすることが好ましく、50〜1,000重量部とすることがより好ましい。
ヒドロシレーション反応は、好ましくは30〜200℃、より好ましくは50〜120℃の温度において、好ましくは0.1〜60時間、より好ましくは0.5〜40時間行われる。
The alkoxysilane compound used here is a compound having at least one H-Si bond and at least one alkoxy-Si bond. Specifically, for example, dimethylmethoxysilane, dimethylethoxysilane, Examples thereof include organohydrogensilanes such as methyldimethoxysilane, diethylmethoxysilane, and diphenylmethoxy, and one or more selected from these can be used.
The proportion of the alkoxysilane compound used is preferably 0.5 to 5.0 mol, more preferably 1.0 to 3.0 mol, as the proportion of the alkoxysilane compound relative to 1 mol of the dehydrated product. In particular, the amount is preferably 1.8 to 2.5 mol.
This hydrosilation reaction is preferably carried out in the presence of a suitable catalyst, preferably in a suitable organic solvent.
Examples of the catalyst that can be used here include chloroplatinic acid, Wilkinson complex (RhCl (P (C 6 H 5 ) 3 ) 3 ), karsted catalyst (vinyl siloxane complex of chloroplatinic acid), spire catalyst (chloroplatinic acid). Alcohol solution) and the like, and one or more selected from these can be used. The use ratio of the catalyst is preferably 0.01 to 200 micromol (μmol), more preferably 0.05 to 50 micromol, with respect to 1 mol.
Examples of the organic solvent that can be used here include hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, esters, and the like. Among these, it is preferable to use hydrocarbons, and it is particularly preferable to use at least one selected from toluene, heptane, hexane, benzene, toluene, xylene and the like. The use ratio of the organic solvent is preferably 10 to 2,000 parts by weight, and more preferably 50 to 1,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dehydrated product.
The hydrosilation reaction is preferably performed at a temperature of 30 to 200 ° C., more preferably 50 to 120 ° C., preferably for 0.1 to 60 hours, more preferably for 0.5 to 40 hours.

[特定重合体の製造]
次に、本発明における特定重合体の製造方法について説明する。
(1)ポリアミドの製造
本発明における特定重合体の一例であるポリアミドは、ジアミンと、上記のようにして得られる化合物(C)を含む多価カルボン酸とを反応させることにより、得ることができる。ここで、多価カルボン酸は、公知の方法によって酸クロリド化した後に反応に供することが好ましい。
上記ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2−(2,4−ジアミノフェノキシ)メタクリル酸エチル、ドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェノキシ)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサンなどを、挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
[Production of specific polymer]
Next, the manufacturing method of the specific polymer in this invention is demonstrated.
(1) Manufacture of polyamide The polyamide which is an example of the specific polymer in the present invention can be obtained by reacting a diamine and a polyvalent carboxylic acid containing the compound (C) obtained as described above. . Here, it is preferable that the polyvalent carboxylic acid is subjected to a reaction after being acidified by a known method.
Examples of the diamine include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoro Methyl) biphenyl, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4- Aminophenyl) hexafluoropropane, 2- (2,4-diaminophenoxy) ethyl methacrylate, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy- 2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, co Stenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, 1 , 1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenoxy) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, and the like. One or more selected from these can be used.

多価カルボン酸としては、化合物(C)のみを使用してもよく、あるいは化合物(C)とその他の多価カルボン酸とを併用してもよい。ここで使用されるその他の多価カルボン酸としては、ジカルボン酸であることが好ましく、例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、5−デカノキシイソフタル酸などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
化合物(C)とその他の多価カルボン酸とを併用する場合、化合物(C)の使用割合は、化合物(C)とその他の多価カルボン酸との合計に対して、5モル%以上とすることが好ましく、10モル%以上とすることがより好ましい。
ポリアミドの製造に際して化合物(C)とともにその他の多価カルボン酸を使用する場合、該その他の多価カルボン酸の一部を、テトラカルボン酸二無水物に置き換えることができる。ここで使用できるテトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。
多価カルボン酸とジアミンとの使用割合は、多価カルボン酸の有するカルボキシ基(および存在する場合には酸無水物基)の合計1モルに対するジアミンの使用割合を、0.7〜1.2モルとすることが好ましく、0.9〜1.1モルとすることがより好ましい。
As the polyvalent carboxylic acid, only the compound (C) may be used, or the compound (C) and another polyvalent carboxylic acid may be used in combination. Other polyvalent carboxylic acids used here are preferably dicarboxylic acids, such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 5-Decanoxyisophthalic acid can be mentioned, and one or more selected from these can be used.
When the compound (C) and other polyvalent carboxylic acid are used in combination, the proportion of the compound (C) used is 5 mol% or more with respect to the total of the compound (C) and the other polyvalent carboxylic acid. It is preferably 10 mol% or more.
When other polycarboxylic acid is used together with compound (C) in the production of polyamide, a part of the other polycarboxylic acid can be replaced with tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides that can be used here include pyromellitic dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl). Naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) Naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3 ′-(tetrahydrofuran-2 ′, 5 '-Dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxy Norbornane-2: 3,5 6 dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2, 6] undecane -3,5,8,10- tetraone, bicyclo [3.3.0] octane -2, Examples include 4,6,8-tetracarboxylic dianhydride.
The ratio of the polyvalent carboxylic acid and the diamine is such that the ratio of the diamine is 0.7 to 1.2 with respect to a total of 1 mol of carboxy groups (and acid anhydride groups, if any) of the polyvalent carboxylic acid. It is preferable to set it as a mol, and it is more preferable to set it as 0.9-1.1 mol.

反応は、ジアミンを適当な溶媒中に溶解しておき、多価カルボン酸を、好ましくは酸クロリド化したうえで、必要に応じて適当な溶媒(例えばテトラヒドロフラン)に溶解した状態で、滴下する方法によることができる。
ここで使用することのできる溶媒としては、化合物(C)の合成において使用することのできる溶媒として上記に例示したものと同じものを使用することができる。溶媒の使用割合は、反応溶液中に多価カルボン酸類およびジアミンの合計重量が占める割合が、3〜50重量%となる割合とすることが好ましい。
反応は、好ましくは−100〜200℃、より好ましくは−20〜150℃の温度において行われる。ここで、多価カルボン酸類をそのまま反応させる場合には、反応温度を室温(25℃)以上の温度とすることが好ましく;
多価カルボン酸類を酸クロリド化したうえで反応させる場合には、反応温度を室温よりも低い温度とすることが好ましい。反応時間は、好ましくは0.1〜40時間、より好ましくは0.5〜20時間である。反応を(好ましくは酸クロリド化した)多価カルボン酸類の滴下による場合、この反応時間は、滴下終了後から計測が開始される。
本発明における特定重合体としてのポリアミドのMw(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量を意味する。以下同じ。)は、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは5,000〜300,000である。
In the reaction, the diamine is dissolved in a suitable solvent, the polyvalent carboxylic acid is preferably converted into an acid chloride, and then dropped in a suitable solvent (for example, tetrahydrofuran) as necessary. Can be.
As the solvent that can be used here, the same solvents as those exemplified above can be used as the solvent that can be used in the synthesis of the compound (C). The proportion of the solvent used is preferably such that the proportion of the total weight of polyvalent carboxylic acids and diamine in the reaction solution is 3 to 50% by weight.
The reaction is preferably performed at a temperature of −100 to 200 ° C., more preferably −20 to 150 ° C. Here, when the polyvalent carboxylic acids are reacted as they are, the reaction temperature is preferably a room temperature (25 ° C.) or higher;
When the polycarboxylic acid is reacted after acid chloride, the reaction temperature is preferably lower than room temperature. The reaction time is preferably 0.1 to 40 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. When the reaction is by dropping polyvalent carboxylic acids (preferably acid chloride), the reaction time is measured after completion of the dropping.
Mw of the polyamide as the specific polymer in the present invention (meaning a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, the same shall apply hereinafter) is preferably 1,000 to 500,000, more preferably. Is 5,000 to 300,000.

(2)ポリ(チオ)エステルの製造
本発明における特定重合体の一例であるポリ(チオ)エステルは、ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種と、化合物(C)を含む多価カルボン酸と、を反応させる方法;または
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、ただしこの化合物の少なくとも一部は下記式(E)で表される化合物である、と、多価カルボン酸と、を反応させる方法により、得ることができる。
上記ジオール化合物としては、例えば3,6−ジヒドロキシコレスタン、3,5−ジヒドロキシ安息香酸−3−コレスタニル、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、フェニル−1,2−エタンジオール、ジメチル−2,3−ブタンジオール、α,α’−p−キシリレンジオール、α,α’−m−キシリレンジオール、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、t−ブチルヒドロキノン、クロロヒドロキノン、2−メトキシヒドロキノン、フェニルヒドロキノン、2,3−ジメチルヒドロキノン、2,3,5,6−テトラメチルヒドロキノン、2,3,5,6−テトラクロロヒドロキノン、レゾルシン、2−メチルレゾルシン、4−へキシルレゾルシン、5−フェニルレゾルシン、1,4−ジヒドロキシナフタレンなどを;
上記ジチオール化合物としては、例えばベンゼン−1,4−ジチオール、2−メチルプロパン−1,1−ジチオール、ブタン−1,1−ジチオール、2−メチルブタン−1,1−ジチオール、3−メチルブタン−1,1−ジチオール、ペンタン−1,1−ジチオール、2−メチルペンタン−1,1−ジチオール、3−メチルペンタン−1,1−ジチオール、ヘキサン−1,1−ジチオール、2−メチルヘキサン−1,1−ジチオール、3−メチルヘキサン−1,1−ジチオールなどを;
上記ジエポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルなどを、それぞれ挙げることができ、それぞれ、上記のうちから選択される1種以上を使用することができる。
(2) Production of poly (thio) ester Poly (thio) ester which is an example of the specific polymer in the present invention includes at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound, and a compound (C Or at least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound, provided that at least a part of the compound is represented by the following formula (E): It can be obtained by a method of reacting a polyvalent carboxylic acid with the compound represented.
Examples of the diol compound include 3,6-dihydroxycholestane, 3,5-dihydroxybenzoic acid-3-cholestanyl, 3,5-dihydroxybenzoic acid, ethylene glycol, 1,3-propanediol, and 1,4-butane. Diol, 1,3-butanediol, 1,4-cyclohexanediol, phenyl-1,2-ethanediol, dimethyl-2,3-butanediol, α, α′-p-xylylenediol, α, α′- m-xylylenediol, hydroquinone, methylhydroquinone, t-butylhydroquinone, chlorohydroquinone, 2-methoxyhydroquinone, phenylhydroquinone, 2,3-dimethylhydroquinone, 2,3,5,6-tetramethylhydroquinone, 2,3, 5,6-tetrachlorohydroquinone, resorcin, 2-methylreso Lucine, 4-hexylresorcin, 5-phenylresorcin, 1,4-dihydroxynaphthalene and the like;
Examples of the dithiol compound include benzene-1,4-dithiol, 2-methylpropane-1,1-dithiol, butane-1,1-dithiol, 2-methylbutane-1,1-dithiol, 3-methylbutane-1, 1-dithiol, pentane-1,1-dithiol, 2-methylpentane-1,1-dithiol, 3-methylpentane-1,1-dithiol, hexane-1,1-dithiol, 2-methylhexane-1,1 -Dithiol, 3-methylhexane-1,1-dithiol and the like;
Examples of the diepoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexane. Diol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, and the like can be exemplified, and one or more selected from the above can be used.

ポリ(チオ)エステルを、ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種と、化合物(C)を含む多価カルボン酸と、の反応によって合成する場合、多価カルボン酸としては、化合物(C)のみを使用してもよく、化合物(C)とその他の多価カルボン酸とを併用してもよい。ここで使用されるその他の多価カルボン酸としては、ポリアミドの合成の際に化合物(C)とともに使用することのできる多価カルボン酸として上記に例示したものと同じものを使用することができる。さらに、この多価カルボン酸の一部または全部をテトラカルボン酸二無水物で置き換えて使用してもよい。ここで使用することのできるテトラカルボン酸二無水物は、ポリアミドの製造の際に使用できるテトラカルボン酸二無水物として上記に例示したところと同じである。
化合物(C)とその他の多価カルボン酸とを併用する場合、化合物(C)の使用割合は、化合物(C)とその他の多価カルボン酸との合計に対して、5モル%以上とすることが好ましく、10モル%以上とすることがより好ましい。
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種と、化合物(C)を含む多価カルボン酸と、の使用割合は、多価カルボン酸の有するカルボキシ基の量および存在する場合には酸無水物基の2倍量の合計1モルに対する、ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の使用割合として、0.7〜1.2モルとすることが好ましく、0.9〜1.1モルとすることがより好ましい。
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種と、化合物(C)を含む多価カルボン酸と、を反応させることによるポリ(チオ)エステルの合成反応は、ジアミンの代わりにジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種を用いるほかは、上記ポリアミドの合成と略同様にして行うことができる。
When synthesizing a poly (thio) ester by reaction of at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound and a polyvalent carboxylic acid containing the compound (C), a polyvalent carboxylic acid As for, only a compound (C) may be used and a compound (C) and other polyvalent carboxylic acid may be used together. As other polyvalent carboxylic acids used here, the same polyvalent carboxylic acids as those exemplified above can be used as polyvalent carboxylic acids that can be used together with the compound (C) in the synthesis of polyamide. Further, a part or all of the polyvalent carboxylic acid may be replaced with tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic dianhydrides that can be used here are the same as those exemplified above as tetracarboxylic dianhydrides that can be used in the production of polyamide.
When the compound (C) and other polyvalent carboxylic acid are used in combination, the proportion of the compound (C) used is 5 mol% or more with respect to the total of the compound (C) and the other polyvalent carboxylic acid. It is preferably 10 mol% or more.
The use ratio of at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound, and a diepoxy compound and the polyvalent carboxylic acid containing the compound (C) depends on the amount and amount of the carboxy group of the polyvalent carboxylic acid. In this case, the usage ratio of at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound is 0.7 to 1.2 mol with respect to a total of 1 mol of twice the amount of the acid anhydride group. It is preferable that the amount be 0.9 to 1.1 mol.
The synthesis reaction of poly (thio) ester by reacting at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound and a polyvalent carboxylic acid containing compound (C) is performed in place of diamine. In addition, at least one selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound, and a diepoxy compound is used in the same manner as the synthesis of the polyamide.

ポリ(チオ)エステルの合成を、ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、ただしこの化合物の少なくとも一部は下記式(E)で表される化合物である、と、多価カルボン酸と、を反応させる方法による場合に使用する化合物(E)としては、上記式(E)におけるZおよびZのいずれもがエポキシ基であるジエポキシ化合物が好ましい。ジエポキシ化合物である化合物(E)は、これを単独で使用してもよく、化合物(E)とその他のジエポキシ化合物とを併用してもよい。ここで使用されるその他のジエポキシ化合物としては、ポリ(チオ)エステルを合成するための前者の方法において使用することのできるジエポキシ化合物として上記に例示したものと同じものを使用することができる。化合物(E)とその他のジエポキシ化合物とを併用する場合、化合物(E)の使用割合は、化合物(E)とその他のジエポキシ化合物との合計に対して、5モル%以上とすることが好ましく、10モル%以上とすることがより好ましい。
上記ジエポキシ化合物である化合物(E)およびその他のジエポキシ化合物は、それぞれ、ジオキシラニル化合物であることが好ましい。
本反応における多価カルボン酸としては、ポリアミドの合成の際に化合物(C)とともに使用することのできる多価カルボン酸として上記に例示したものを使用することができる。さらに、この多価カルボン酸の一部または全部をテトラカルボン酸二無水物で置き換えて使用してもよい。ここで使用することのできるテトラカルボン酸二無水物は、ポリアミドの製造の際に使用できるテトラカルボン酸二無水物として上記に例示したところと同じである。
化合物(E)と多価カルボン酸との使用割合は、多価カルボン酸の有するカルボキシ基の量および存在する場合には酸無水物基の2倍量の合計1モルに対する化合物(E)の使用割合として、0.7〜1.2モルとすることが好ましく、0.9〜1.1モルとすることがより好ましい。
化合物(E)と多価カルボン酸とを反応させることによるポリ(チオ)エステルの合成反応は、ジアミンの代わりに化合物(E)(または化合物(E)と他のジエポキシ化合物との混合物)を用いるほかは、上記ポリアミドの合成と略同様にして行うことができる。
本発明における特定重合体としてのポリ(チオ)エステルのMwは、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは5,000〜300,000である。
The synthesis of the poly (thio) ester is at least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound, provided that at least a part of this compound is a compound represented by the following formula (E) As the compound (E) used in the case of reacting with a polycarboxylic acid, a diepoxy compound in which both Z 1 and Z 2 in the above formula (E) are epoxy groups is preferable. The compound (E) which is a diepoxy compound may be used alone, or the compound (E) and other diepoxy compounds may be used in combination. As other diepoxy compounds used here, the same compounds as those exemplified above as diepoxy compounds that can be used in the former method for synthesizing poly (thio) esters can be used. When the compound (E) and other diepoxy compounds are used in combination, the use ratio of the compound (E) is preferably 5 mol% or more based on the total of the compound (E) and other diepoxy compounds, More preferably, it is 10 mol% or more.
The compound (E) which is the diepoxy compound and the other diepoxy compounds are each preferably a dioxiranyl compound.
As the polyvalent carboxylic acid in this reaction, those exemplified above as the polyvalent carboxylic acid that can be used together with the compound (C) in the synthesis of polyamide can be used. Further, a part or all of the polyvalent carboxylic acid may be replaced with tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic dianhydrides that can be used here are the same as those exemplified above as tetracarboxylic dianhydrides that can be used in the production of polyamide.
The use ratio of the compound (E) to the polyvalent carboxylic acid is such that the amount of the carboxy group possessed by the polyvalent carboxylic acid and, if present, the amount of the compound (E) based on a total of 1 mol of the double amount of the acid anhydride group. As a ratio, it is preferable to set it as 0.7-1.2 mol, and it is more preferable to set it as 0.9-1.1 mol.
In the synthesis reaction of poly (thio) ester by reacting compound (E) with polyvalent carboxylic acid, compound (E) (or a mixture of compound (E) and another diepoxy compound) is used instead of diamine. Others can be performed in substantially the same manner as the synthesis of the polyamide.
The Mw of the poly (thio) ester as the specific polymer in the present invention is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000.

(3)(メタ)アクリル酸共重合体の製造
本発明における特定重合体の一例である(メタ)アクリル酸共重合体は、(メタ)アクリル酸および化合物(A)を含む重合性不飽和化合物の混合物を付加重合することにより、得ることができる。
この場合、不飽和化合物としては、(メタ)アクリル酸および化合物(A)のみを使用してもよく、(メタ)アクリル酸および化合物(A)のほかに、その他の重合性不飽和化合物を併用してもよい。ここで使用することのできるその他の重合性不飽和化合物としては、例えば共役ジエン、芳香族ビニル化合物、(メタ)アクリル酸エステル、α,β−不飽和ニトリル化合物、マレイミド化合物などを挙げることができる。これらの具体例としては、上記共役ジエンとして、例えば1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、2−クロル−1,3−ブタジエンなどを;
上記芳香族ビニル化合物として、例えばスチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、クロルスチレン、ジビニルベンゼンなどを;
上記(メタ)アクリル酸エステルとして、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(メタ)アクリル酸4−(4−n−プロピルシクロヘキシル)フェニルなどを;
上記α,β−不飽和ニトリル化合物として、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリル、α−エチルアクリロニトリル、シアン化ビニリデンなどを:
マレイミド化合物として、例えばN−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミドなどを、それぞれ挙げることができ、それぞれ、上記のうちから選択される1種以上を使用することができる。
(メタ)アクリル酸共重合体において、
(メタ)アクリル酸に由来する繰り返し単位の含有割合は、好ましくは0.1〜80重量%であり、より好ましくは5〜60重量%であり;
化合物(A)に由来する繰り返し単位の含有割合は、好ましくは0.1〜15重量%であり、より好ましくは0.5〜10重量%である。
(3) Production of (meth) acrylic acid copolymer The (meth) acrylic acid copolymer which is an example of the specific polymer in the present invention is a polymerizable unsaturated compound containing (meth) acrylic acid and the compound (A). Can be obtained by addition polymerization.
In this case, only the (meth) acrylic acid and the compound (A) may be used as the unsaturated compound, and in addition to the (meth) acrylic acid and the compound (A), other polymerizable unsaturated compounds are used in combination. May be. Examples of other polymerizable unsaturated compounds that can be used here include conjugated dienes, aromatic vinyl compounds, (meth) acrylic acid esters, α, β-unsaturated nitrile compounds, maleimide compounds, and the like. . Specific examples thereof include, for example, 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, and 2-chloro-1,3-butadiene as the conjugated diene. Etc .;
Examples of the aromatic vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, chlorostyrene, divinylbenzene and the like;
Examples of the (meth) acrylic acid ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate (meth) acrylic acid 4- (4-n-propylcyclohexyl) phenyl and the like;
Examples of the α, β-unsaturated nitrile compound include acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, α-ethylacrylonitrile, vinylidene cyanide and the like:
Examples of the maleimide compound include N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide, and one or more selected from the above can be used.
In the (meth) acrylic acid copolymer,
The content ratio of the repeating unit derived from (meth) acrylic acid is preferably 0.1 to 80% by weight, more preferably 5 to 60% by weight;
The content ratio of the repeating unit derived from the compound (A) is preferably 0.1 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight.

(メタ)アクリル酸共重合体は、上記のような重合性不飽和化合物を用いて、例えば公知の溶液重合によって合成することができる。この溶液重合は、有機溶媒中、適当な重合開始剤の存在下、好ましくはさらに適当な連鎖移動剤の存在下で行うことができる。
上記有機溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素、ケトン、エステルなどを使用することができる。有機溶媒の使用割合は、重合性不飽和化合物の合計100重量部に対して、好ましくは120〜600重量部であり、より好ましくは150〜400重量部である。
上記重合開始剤としては、例えばクメンハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、t−ブチルハイドロパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)などを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。重合開始剤の使用割合は、重合性不飽和化合物の合計100重量部に対して、好ましくは2〜10重量部であり、より好ましくは3〜8重量部である。
上記連鎖移動剤としては、例えばキサントゲン化合物、チウラム化合物、フェノール誘導体、アリル化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、ビニルエーテル化合物、トリフェニルエタン、ペンタフェニルエタン、アクロレイン、メタアクロレイン、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、2−エチルヘキシルチオグリコレート、α−メチルスチレンダイマーなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。連鎖移動剤の使用割合は、重合性不飽和化合物の合計100重量部に対して、好ましくは3重量部以下であり、より好ましくは0.1〜1.5重量部である。
(メタ)アクリル酸共重合体を合成するための溶液重合は、好ましくは50〜100℃、より好ましくは60〜90℃の温度において、好ましくは30〜500分、より好ましくは60〜300分の反応時間で行われる。
本発明における特定重合体としての(メタ)アクリル酸共重合体のMwは、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは5,000〜300,000である。
The (meth) acrylic acid copolymer can be synthesized, for example, by known solution polymerization using the polymerizable unsaturated compound as described above. This solution polymerization can be carried out in an organic solvent in the presence of a suitable polymerization initiator, preferably in the presence of a suitable chain transfer agent.
Examples of the organic solvent include alcohol, ether, glycol ether, ethylene glycol alkyl ether acetate, diethylene glycol alkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol alkyl ether acetate, propylene glycol alkyl ether propionate, aromatic hydrocarbon, and ketone. Esters can be used. The use ratio of the organic solvent is preferably 120 to 600 parts by weight, and more preferably 150 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the polymerizable unsaturated compounds.
Examples of the polymerization initiator include cumene hydroperoxide, benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, acetyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, azo Bisisobutyronitrile, 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and the like can be mentioned, and one or more selected from these Can be used. The use ratio of the polymerization initiator is preferably 2 to 10 parts by weight, and more preferably 3 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the polymerizable unsaturated compounds.
Examples of the chain transfer agent include xanthogen compounds, thiuram compounds, phenol derivatives, allyl compounds, halogenated hydrocarbon compounds, vinyl ether compounds, triphenylethane, pentaphenylethane, acrolein, metaacrolein, thioglycolic acid, thiomalic acid, 2 -Ethylhexyl thioglycolate, (alpha) -methyl styrene dimer etc. can be mentioned, 1 or more types selected from these can be used. The ratio of the chain transfer agent to be used is preferably 3 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 1.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the polymerizable unsaturated compounds.
The solution polymerization for synthesizing the (meth) acrylic acid copolymer is preferably 50 to 100 ° C., more preferably 60 to 90 ° C., preferably 30 to 500 minutes, more preferably 60 to 300 minutes. Performed in reaction time.
The Mw of the (meth) acrylic acid copolymer as the specific polymer in the present invention is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000.

(4)ポリオルガノシロキサンの製造
本発明における特定重合体の一例であるポリオルガノシロキサンは、化合物(S)を含むシラン化合物を、好ましくは適当な有機溶媒および触媒の存在下において、加水分解・縮合することにより、得ることができる。
シラン化合物としては、化合物(S)のみを使用してもよく、化合物(S)とその他のシラン化合物とを併用してもよい。ここで使用することのできるその他のシラン化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
(4) Production of polyorganosiloxane The polyorganosiloxane which is an example of the specific polymer in the present invention is a hydrolysis / condensation of a silane compound containing the compound (S), preferably in the presence of an appropriate organic solvent and a catalyst. By doing so, it can be obtained.
As the silane compound, only the compound (S) may be used, or the compound (S) and another silane compound may be used in combination. Examples of other silane compounds that can be used here include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3- (meth). Acryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-mercapto Propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane Dimethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyl Examples include loxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane. One or more selected from these can be used.

化合物(S)とその他のシラン化合物とを併用する場合、化合物(S)の使用割合は、化合物(S)とその他のシラン化合物との合計に対して、5モル%以上とすることが好ましく、10モル%以上とすることがより好ましい。
ポリオルガノシロキサンを合成するにあたって使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。これらの有機溶媒の具体例としては、化合物(C)の合成において使用することのできる溶媒のうちの炭化水素、ケトン、エステル、エーテルまたはアルコールとして上記に例示したものと同じものを使用することができる。有機溶媒としては、非水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の使用割合は、全シラン化合物の100重量部に対して、好ましくは10〜10,000重量部であり、より好ましくは50〜1,000重量部である。
上記触媒としては例えば酸、塩基、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを用いることができる。これらのうち、塩基を使用することが好ましい。
上記塩基としては、有機塩基、塩基性のアルカリ金属化合物などを挙げることができる。これらの具体例としては、有機塩基として、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールなどの1〜2級有機アミン;
トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンなどの3級有機アミン;
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの4級の有機アミンなどを挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンまたはテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを使用することが好ましい。上記塩基性のアルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドなどを挙げることができる。
When the compound (S) and other silane compounds are used in combination, the use ratio of the compound (S) is preferably 5 mol% or more based on the total of the compound (S) and other silane compounds, More preferably, it is 10 mol% or more.
Examples of the organic solvent that can be used for synthesizing the polyorganosiloxane include hydrocarbons, ketones, esters, ethers, alcohols, and the like, and one or more selected from these can be used. it can. As specific examples of these organic solvents, it is possible to use the same hydrocarbons, ketones, esters, ethers or alcohols as those exemplified above among the solvents that can be used in the synthesis of the compound (C). it can. As the organic solvent, it is preferable to use a water-insoluble organic solvent. The use ratio of the organic solvent is preferably 10 to 10,000 parts by weight, more preferably 50 to 1,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total silane compound.
Examples of the catalyst that can be used include acids, bases, organic bases, titanium compounds, and zirconium compounds. Of these, it is preferable to use a base.
Examples of the base include organic bases and basic alkali metal compounds. Specific examples thereof include organic bases such as primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole;
Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene;
A quaternary organic amine such as tetramethylammonium hydroxide can be used. Of these organic bases, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine or tetramethylammonium hydroxide is preferably used. Examples of the basic alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like.

触媒の使用割合は、原料として使用するシラン化合物の全量1モルに対して好ましくは0.01〜3モルとすることができ、より好ましくは0.05〜1モルである。
ポリオルガノシロキサンを合成する際の水の使用割合は、原料として使用するシラン化合物の全量1モルに対して、好ましくは0.5〜100モルであり、より好ましくは1〜30モルである。
ポリオルガノシロキサンの合成反応は、好ましくは0〜200℃、より好ましくは10〜150℃の温度において、好ましくは0.1〜40時間、より好ましくは0.5〜20時間の反応時間で行われる。
本発明における特定重合体としてのポリオルガノシロキサンのMwは、好ましくは1,000〜500,000であり、より好ましくは5,000〜300,000である。
The use ratio of the catalyst can be preferably 0.01 to 3 mol, and more preferably 0.05 to 1 mol, with respect to 1 mol of the total amount of the silane compound used as a raw material.
The proportion of water used in the synthesis of the polyorganosiloxane is preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 30 mol, with respect to 1 mol of the total amount of silane compounds used as raw materials.
The polyorganosiloxane synthesis reaction is preferably carried out at a temperature of 0 to 200 ° C., more preferably 10 to 150 ° C., preferably for a reaction time of 0.1 to 40 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. .
The Mw of the polyorganosiloxane as the specific polymer in the present invention is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000.

本発明における特定重合体としては、上記のうちのポリアミド、ポリエステルおよびポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される1種以上を使用することが、単量体合成の容易性などの点から好ましい。   As the specific polymer in the present invention, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of polyamide, polyester and polyorganosiloxane, from the viewpoint of ease of monomer synthesis.

<その他の成分>
本発明の液晶配向剤は、上記のような特定重合体を必須の成分として含有する。本発明の液晶配向剤は、特定重合体のほかに、任意的に使用されるその他の成分を含有していてもよい。
ここで使用することのできるその他の成分としては、例えば特定重合体以外の重合体、分子内に少なくとも1つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ化合物」ともいう)、官能性シラン化合物などを挙げることができる。
<Other ingredients>
The liquid crystal aligning agent of this invention contains the above specific polymers as an essential component. The liquid crystal aligning agent of this invention may contain the other component used arbitrarily besides a specific polymer.
Examples of other components that can be used here include polymers other than specific polymers, compounds having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter also referred to as “epoxy compounds”), functional silane compounds, and the like. Can be mentioned.

[特定重合体以外の重合体]
上記特定重合体以外の重合体は、溶液特性および電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体は、上記式(1)で表される2価の基を有さない重合体であり、例えばポリアミック酸、ポリアミック酸のイミド化重合体、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレンおよびその誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)およびその誘導体ならびにポリ(メタ)アクリレートよりなる群から選択される1種以上であって、上記式(1)で表される2価の基を有さない重合体であることができる。
特定重合体以外の重合体の使用割合としては、重合体の合計(特定重合体および特定重合体以外の重合体の合計をいう。以下同じ。)に対して、50重量%以下とすることが好ましく、20重量%以下とすることがより好ましく、10重量%以下とすることがさらに好ましい。特に好ましくは、特定重合体以外の重合体を含有しないことである。
[Polymers other than specific polymers]
Polymers other than the specific polymer can be used for improving solution properties and electrical properties. Such other polymer is a polymer having no divalent group represented by the above formula (1). For example, polyamic acid, imidized polymer of polyamic acid, polyamic acid ester, polyester, polyamide, poly One or more selected from the group consisting of siloxane, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene and derivatives thereof, poly (styrene-phenylmaleimide) and derivatives thereof, and poly (meth) acrylate, represented by the above formula (1) The polymer does not have a divalent group.
The proportion of the polymer other than the specific polymer used may be 50% by weight or less with respect to the total of the polymers (the total of the polymers other than the specific polymer and the specific polymer; the same shall apply hereinafter). It is preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. Particularly preferably, no polymer other than the specific polymer is contained.

[エポキシ化合物]
上記エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミンなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
これらエポキシ化合物の使用割合としては、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは40重量部以下であり、より好ましくは0.1〜30重量部である。
[Epoxy compound]
Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexane. Diol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3 -Bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylme N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N-diglycidyl-cyclohexylamine, etc., and using one or more selected from these Can do.
The use ratio of these epoxy compounds is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymer.

[官能性シラン化合物]
上記官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができ、これらのうちから選択される1種以上を使用することができる。
これら官能性シラン化合物の使用割合は、重合体の合計100重量部に対して、好ましくは2重量部以下であり、より好ましくは0.02〜0.2重量部である。
[Functional silane compounds]
Examples of the functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl)- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyl Trimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4 7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9- Triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, methyl 9-trimethoxysilyl-3,6-diazananoate, methyl 9-triethoxysilyl-3,6-diazananoate, N-benzyl-3-aminopropyltri Methoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxy Methyltriethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimeth Sisilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, etc. can be used, and one or more selected from these can be used can do.
The use ratio of these functional silane compounds is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.02 to 0.2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymer.

<液晶配向剤の調製>
本発明の液晶配向剤は、特定重合体および必要に応じて任意的に使用されるその他の成分を、好ましくは有機溶媒中に溶解含有してなる溶液状の組成物として構成される。
本発明の液晶配向剤に使用される有機溶媒としては、例えばベンジルアルコール、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテ、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、メチルイソアミルケトン、
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
The liquid crystal aligning agent of this invention is comprised as a solution-like composition formed by melt | dissolving and containing the specific polymer and the other component arbitrarily used as needed, Preferably in an organic solvent.
Examples of the organic solvent used in the liquid crystal aligning agent of the present invention include benzyl alcohol, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether. Acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol propyl ether, propylene glycol butyl ether, Lopylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, propylene glycol butyl ether acetate, propylene glycol methyl ether propionate, propylene glycol ethyl ether propionate, propylene glycol propyl ether propionate, propylene glycol butyl ether Propionate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl isoamyl ketone,

酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸ブチル、2−ブトキシプロピオン酸メチル、2−ブトキシプロピオン酸エチル、2−ブトキシプロピオン酸プロピル、2−ブトキシプロピオン酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸プロピル、3−エトキシプロピオン酸ブチル、3−プロポキシプロピオン酸メチル、3−プロポキシプロピオン酸エチル、3−プロポキシプロピオン酸プロピル、3−プロポキシプロピオン酸ブチル、3−ブトキシプロピオン酸メチル、3−ブトキシプロピオン酸エチル、3−ブトキシプロピオン酸プロピル、3−ブトキシプロピオン酸ブチル、 Methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl hydroxyacetate, hydroxyethyl acetate, hydroxy Butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, methyl 3-hydroxypropionate, ethyl 3-hydroxypropionate, propyl 3-hydroxypropionate, butyl 3-hydroxypropionate, 2-hydroxy-3-methylbutane Methyl acetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, propyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxy acetate, ethyl ethoxy acetate, propyl ethoxy acetate, butyl ethoxy acetate, methyl propoxyacetate, propoxy Ethyl acetate, propyl propoxyacetate, butyl propoxyacetate, methyl butoxyacetate, ethyl butoxyacetate, propyl butoxyacetate, butyl butoxyacetate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, 2- Butyl methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, propyl 2-ethoxypropionate, butyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-butoxypropionate, ethyl 2-butoxypropionate, 2-butoxy Propyl propionate, butyl 2-butoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, 3- Methyl toxipropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, propyl 3-ethoxypropionate, butyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-propoxypropionate, ethyl 3-propoxypropionate, propyl 3-propoxypropionate, 3-propoxy Butyl propionate, methyl 3-butoxypropionate, ethyl 3-butoxypropionate, propyl 3-butoxypropionate, butyl 3-butoxypropionate,

N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどを例示することができ、使用する特定重合体および本発明の液晶配向剤を適用する基板の種類に応じて、上記のうちから選択される1種以上を使用することができる。 N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, Butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether ( Butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethyl Examples include lenglycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc. One or more selected from the above can be used according to the specific polymer used and the type of substrate to which the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied.

本発明における特定重合体は、汎用の有機溶媒に対する溶解性が高いから、軽量の樹脂基板を浸食しない溶媒を選択して使用した場合でも、優れた塗布性を発揮する。従って、本発明の液晶配向剤は、基板選択の自由度が高い利点を有する。本発明の液晶配向剤は、基板選択の自由度が高いことにより、位相差フィルムに適用する場合に汎用のTACフィルムを基板として使用し得る点で、特に有利である。
本発明の液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤中の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。この範囲の固形分濃度とすることによって、良好な塗布性で適当な膜厚の液晶配向膜を形成することができ、好ましい。
本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10〜50℃であり、より好ましくは20〜30℃である。
Since the specific polymer in the present invention has high solubility in a general-purpose organic solvent, even when a solvent that does not erode a lightweight resin substrate is selected and used, it exhibits excellent coating properties. Therefore, the liquid crystal aligning agent of the present invention has an advantage that the degree of freedom of substrate selection is high. The liquid crystal aligning agent of this invention is especially advantageous at the point which can use a general purpose TAC film as a board | substrate, when applying to a phase difference film, because the freedom degree of board | substrate selection is high.
The solid content concentration in the liquid crystal aligning agent of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, and the like. However, it is preferably in the range of 1 to 10% by weight. By setting the solid content concentration in this range, it is possible to form a liquid crystal alignment film having an appropriate film thickness with good coating properties, which is preferable.
The temperature at the time of preparing the liquid crystal aligning agent of this invention becomes like this. Preferably it is 10-50 degreeC, More preferably, it is 20-30 degreeC.

<本発明の液晶配向剤の用途>
上記に説明したような本発明の液晶配向剤を用いて、液晶配向膜を形成することができる。本発明の液晶配向剤から形成された液晶配向膜は、TN型、STN型、IPS型、FFS型などの液晶セルを有する液晶表示素子;位相差フィルム用の液晶配向膜として好適である。
本発明の液晶配向剤を用いて、液晶配向膜を形成するには、例えば、基板上に、本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する工程(塗膜形成工程)、および該塗膜に液晶配向性を付与する工程(液晶配向性付与工程)を経る方法によることができる。ここで、液晶配向性を付与する工程としては、ラビング処理または光照射処理を挙げることができる。
以下、本発明の液晶配向剤を、液晶表示素子に適用する場合および位相差フィルムに適用する場合について、順に説明する。
<Use of liquid crystal aligning agent of this invention>
A liquid crystal aligning film can be formed using the liquid crystal aligning agent of the present invention as described above. The liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent of the present invention is suitable as a liquid crystal display element having a liquid crystal cell of TN type, STN type, IPS type, FFS type, etc .;
In order to form a liquid crystal alignment film using the liquid crystal aligning agent of the present invention, for example, a step of coating the liquid crystal aligning agent of the present invention on a substrate to form a coating film (coating film forming step), and It can depend on the method of passing through the process (liquid crystal orientation provision process) which provides liquid crystal orientation to a coating film. Here, examples of the step of imparting liquid crystal alignment include rubbing treatment or light irradiation treatment.
Hereinafter, the case where the liquid crystal aligning agent of this invention is applied to a liquid crystal display element and the case where it applies to a phase difference film are demonstrated in order.

<液晶表示素子への適用>
(1)塗膜形成工程
本発明の液晶配向剤を、TN型、STN型などの、縦電界方式の液晶セルを有する液晶表示素子に適用する場合、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板2枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。本発明の液晶配向剤を、IPS型、FFS型などの、横電界方式の液晶セルを有する液晶表示素子に適用する場合には、片面に透明導電膜または金属膜が櫛歯状にパターニングされた電極の一対を有する基板と、電極が設けられていない対向基板とを一対とし、櫛歯状電極の形成面と、対向基板の片面とに、それぞれ本発明の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成する。
上記いずれの場合も、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;
ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチック
からなる透明基板などを用いることができる。上記透明導電膜としては、例えばIn−SnOからなるITO膜、SnOからなるNESA(登録商標)膜などを用いることができる。上記金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。透明導電膜および金属膜のパターニングには、例えばパターンなしの透明導電膜を形成した後にフォト・エッチング法、スパッタ法などによりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法などによることができる。
基板上への液晶配向剤の塗布に際して、基板および電極と、塗膜との接着性をさらに良好なものにするために、基板および電極上に、予め官能性シラン化合物、チタネートなどを塗布した後に加熱する前処理を施しておいてもよい。
基板上への液晶配向剤の塗布は、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法、インクジェット印刷法などの適宜の塗布方法により行うことができる。塗布後、塗布面を予備加熱(プレベーク)し、次いで焼成(ポストベーク)することにより塗膜を形成することができる。プレベークの条件は、例えば40〜120℃の加熱温度において0.1〜5分の加熱時間であり、ポストベークの条件は、例えば120〜300℃、好ましくは150〜250℃の加熱温度において、例えば5〜200分、好ましくは10〜100分の加熱時間である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、0.001〜1μmとすることが好ましく、0.005〜0.5μmとすることがより好ましい。
<Application to liquid crystal display elements>
(1) Coating film formation process When applying the liquid crystal aligning agent of this invention to the liquid crystal display element which has a liquid crystal cell of a vertical electric field system, such as TN type and STN type, the patterned transparent conductive film is provided. Two substrates are used as a pair, and the liquid crystal aligning agent of this invention is apply | coated on each transparent conductive film formation surface, and a coating film is formed. When the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to a liquid crystal display element having a transverse electric field type liquid crystal cell such as an IPS type or an FFS type, a transparent conductive film or a metal film is patterned in a comb shape on one side. A pair of a substrate having a pair of electrodes and a counter substrate on which no electrode is provided, and a coating film obtained by applying the liquid crystal aligning agent of the present invention to the comb-shaped electrode forming surface and one surface of the counter substrate, respectively. Form.
In any of the above cases, examples of the substrate include glass such as float glass and soda glass;
A transparent substrate made of a plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, or polycarbonate can be used. As the transparent conductive film, for example, an ITO film made of In 2 O 3 —SnO 2 or a NESA (registered trademark) film made of SnO 2 can be used. As the metal film, for example, a film made of a metal such as chromium can be used. For patterning the transparent conductive film and the metal film, for example, a method of forming a pattern by a photo-etching method or a sputtering method after forming a transparent conductive film without a pattern, or having a desired pattern when forming the transparent conductive film For example, a method using a mask can be used.
After applying a functional silane compound, titanate, etc. on the substrate and the electrode in advance in order to further improve the adhesion between the substrate and the electrode and the coating film when applying the liquid crystal aligning agent on the substrate. A pretreatment for heating may be performed.
The liquid crystal aligning agent can be applied onto the substrate by an appropriate application method such as an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method, or an ink jet printing method. After coating, the coated surface can be preheated (prebaked) and then baked (postbaked) to form a coating film. The prebaking condition is, for example, a heating time of 0.1 to 5 minutes at a heating temperature of 40 to 120 ° C., and the postbaking condition is, for example, a heating temperature of 120 to 300 ° C., preferably 150 to 250 ° C. The heating time is 5 to 200 minutes, preferably 10 to 100 minutes. The film thickness of the coating film after post-baking is preferably 0.001 to 1 μm, and more preferably 0.005 to 0.5 μm.

(2)液晶配向性付与工程
[ラビング処理工程]
上記(1)塗膜形成工程によって形成された塗膜は、これに対してラビング処理を行うことにより、塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜とすることができる。
ラビング処理は、上記(1)塗膜形成工程によって形成された塗膜に、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの長い繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理を施す。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与され、液晶配向膜とすることができる。
(2) Liquid crystal alignment imparting step [rubbing treatment step]
The coating film formed by the above (1) coating film forming step can be subjected to a rubbing treatment to impart a liquid crystal alignment ability to the coating film to form a liquid crystal alignment film.
The rubbing treatment is performed by rubbing the coating film formed in the above (1) coating film forming step with a roll in which a cloth made of long fibers such as nylon, rayon, and cotton is wound in a certain direction. Thereby, the orientation ability of a liquid crystal molecule is provided to a coating film, and it can be set as a liquid crystal aligning film.

[光照射処理工程]
上記(1)塗膜形成工程によって形成された塗膜は、これに対して偏光した光を照射することにより、塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜とすることができる。
ここで照射する光としては、例えば150〜800nmの波長の光を含む紫外線、可視光線などを用いることができる。200〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、Hg−Xeランプ、エキシマーレーザーなどを使用することができる。上記の好ましい波長領域の紫外線は、上記光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。
光照射の際に使用する光が偏光(直線偏光または部分偏光)している場合には、塗膜面に対して垂直方向から照射してもプレチルト角付与のために斜め方向から照射してもよい。一方、非偏光の光を照射する場合には、照射は塗膜面に対して斜め方向から行うことが好ましい。
光の照射量としては、好ましくは1,000〜10,000J/mであり、より好ましくは1,500〜7,000J/mである。シクロブタン環の光分解を利用して液晶配向性を付与する公知の液晶配向膜材料においては、この光照射量として10,000J/mを超える大きな照射量が必要であった。本発明の液晶配向剤は、この光照射量を、例えば5,000J/m以下としても良好な液晶配向性を付与することでき、特に3,000J/m以下としても良好な液晶配向性が得られる。
[Light irradiation treatment process]
The coating film formed by the above-mentioned (1) coating film forming step can impart a liquid crystal alignment ability to the liquid crystal alignment film by irradiating polarized light thereto.
As light to be irradiated here, for example, ultraviolet rays or visible rays including light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used. Ultraviolet light containing light having a wavelength of 200 to 400 nm is preferable. As a light source to be used, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, a Hg-Xe lamp, an excimer laser, or the like can be used. The ultraviolet rays in the preferable wavelength region can be obtained by means of using the light source in combination with, for example, a filter, a diffraction grating, or the like.
When the light used for light irradiation is polarized (linearly polarized or partially polarized), it can be irradiated from a direction perpendicular to the coating surface or from an oblique direction to give a pretilt angle. Good. On the other hand, when irradiating non-polarized light, the irradiation is preferably performed from an oblique direction with respect to the coating surface.
The irradiation dose of light, preferably 1,000~10,000J / m 2, more preferably from 1,500~7,000J / m 2. In a known liquid crystal alignment film material that imparts liquid crystal alignment by utilizing photodecomposition of a cyclobutane ring, a large irradiation amount exceeding 10,000 J / m 2 is required as the light irradiation amount. The liquid crystal aligning agent of the present invention can impart good liquid crystal alignment even when the light irradiation amount is, for example, 5,000 J / m 2 or less, and particularly good liquid crystal alignment even when it is 3,000 J / m 2 or less. Is obtained.

(3)液晶表示素子の製造
上記のようにして液晶配向膜が形成された一対の基板を用いて、以下のようにして液晶表示素子を製造することができる。
先ず、液晶配向膜が形成された一対の基板を対向配置した間隙(セルギャップ)に液晶を挟持した構造の液晶セルを構成する。
液晶セルを構成するには、
液晶配向膜を形成した2枚の基板を、その周辺部に配置したシール剤によって液晶配向膜面が相対するように貼り合わせ、液晶配向膜面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填し、注入孔を封止する方法;
液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外線硬化性のシール材を配置し、さらに液晶配向膜面上の所定の数カ所に液晶を配置した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせて圧着することにより液晶を液晶配向膜前面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外線を照射してシール剤を硬化する方法
などによることができる。
上記いずれの場合も、液晶配向膜の形成時にラビング処理を行った場合には、2枚の基板の液晶配向膜のラビング方向が直交または逆平行となるように;
液晶配向膜の形成時に偏光を照射した場合には、2枚の基板面に照射光の偏光面を投影した方向が直交または逆平行となるように、
それぞれ配置することが好ましい。
そして、液晶セルの外表面に、偏光板を所定の方向で貼り合わせることにより、液晶表示素子を製造することができる。
シール剤としては、例えば硬化剤とスペーサーとしての酸化アルミニウム球とを含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
(3) Manufacture of a liquid crystal display element A liquid crystal display element can be manufactured as follows using a pair of board | substrate with which the liquid crystal aligning film was formed as mentioned above.
First, a liquid crystal cell having a structure in which a liquid crystal is sandwiched in a gap (cell gap) in which a pair of substrates on which a liquid crystal alignment film is formed is opposed to each other is configured.
To configure the liquid crystal cell,
The two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed are bonded so that the liquid crystal alignment film surface faces each other by the sealant disposed on the periphery thereof, and the liquid crystal is placed in the cell gap defined by the liquid crystal alignment film surface and the sealant. Filling and filling the injection hole;
For example, an ultraviolet curable sealant is disposed at a predetermined position on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and liquid crystal is disposed at predetermined positions on the liquid crystal alignment film surface. The other substrate can be bonded and pressure-bonded so that the liquid crystal alignment film faces, and the liquid crystal is spread on the front surface of the liquid crystal alignment film, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays to cure the sealant. .
In any of the above cases, when the rubbing treatment is performed at the time of forming the liquid crystal alignment film, the rubbing directions of the liquid crystal alignment films on the two substrates are orthogonal or anti-parallel;
When the polarized light is irradiated during the formation of the liquid crystal alignment film, the direction in which the polarization plane of the irradiated light is projected on the two substrate surfaces is orthogonal or antiparallel.
Each is preferably arranged.
And a liquid crystal display element can be manufactured by bonding a polarizing plate on the outer surface of a liquid crystal cell in a predetermined direction.
As the sealant, for example, an epoxy resin containing a curing agent and aluminum oxide spheres as a spacer can be used.

液晶としては、ネマチック型液晶またはスメクチック型液晶を使用することができる。これらのうち、ネマチック型液晶が好ましい。その具体例としては、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを挙げることができる。これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック型液晶;
品名「C−15」、「CB−15」(メルク社製)として販売されているようなカイラル剤;
p−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶などを添加して使用してもよい。
液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、例えばポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、あるいはH膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
As the liquid crystal, nematic liquid crystal or smectic liquid crystal can be used. Of these, nematic liquid crystal is preferable. Specific examples include Schiff-based liquid crystals, azoxy liquid crystals, biphenyl liquid crystals, phenyl cyclohexane liquid crystals, ester liquid crystals, terphenyl liquid crystals, biphenyl cyclohexane liquid crystals, pyrimidine liquid crystals, dioxane liquid crystals, and bicyclooctane liquid crystals. And Cuban liquid crystal. For example, cholesteric liquid crystals such as cholestyl chloride, cholesteryl nonate, and cholesteryl carbonate;
Chiral agents such as those sold under the product names “C-15” and “CB-15” (Merck);
Ferroelectric liquid crystals such as p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutylcinnamate may be added and used.
As a polarizing plate to be bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, for example, a polarizing plate in which a polarizing film called “H film” in which iodine is absorbed while stretching and aligning polyvinyl alcohol is sandwiched between cellulose acetate protective films, or H Examples thereof include a polarizing plate made of the film itself.

<位相差フィルムへの適用>
(1)塗膜形成工程
本発明の液晶配向剤を位相差フィルムへ適用する場合に使用される基板としては、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートなどの合成樹脂からなる透明基板を好適に例示することができる。これらのうち、TACは、液晶表示素子における偏光フィルムの保護層として一般的に使用されている。
位相差フィルムは、多くの場合、偏光フィルムと組み合わせて使用される。このとき、その所期する光学特性を発揮できるように、偏光フィルムの偏光軸に対する角度を特定の方向に精密に制御して位相差フィルムを貼り合わせる必要がある。従って、ここで、所定角度の方向に液晶配向能を有する液晶配向膜をTACフィルム上に形成すれば、位相差フィルムを偏光フィルム上にその角度を制御しつつ行う貼り合わせる工程を省略することができ、液晶表示素子の生産性の向上に寄与することができる。所定角度の方向に液晶配向能を有する液晶配向膜の形成は、本発明の液晶配向剤を用いて、光配向法によって行うことができる。
従って、基板としてTACフィルムを使用することにより、上記の利点を享受することができるほか、液晶表示素子の小型化・軽量化にも寄与し、さらにフレキシブルディスプレイへの適用も可能となる点で好ましい。
基板上への液晶配向剤の塗布は、液晶表示素子への適用の場合と同様にして行うことができる。
なお、ここで形成される塗膜の膜厚は、好ましくは1〜1,000nmであり、より好ましくは5〜500nmである。
<Application to retardation film>
(1) Coating film forming step As a substrate used when the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to a retardation film, triacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polyamide, polyimide A transparent substrate made of a synthetic resin such as polymethyl methacrylate or polycarbonate can be suitably exemplified. Of these, TAC is generally used as a protective layer for a polarizing film in a liquid crystal display device.
In many cases, the retardation film is used in combination with a polarizing film. At this time, it is necessary to attach the retardation film by precisely controlling the angle with respect to the polarization axis of the polarizing film in a specific direction so that the desired optical characteristics can be exhibited. Accordingly, here, if a liquid crystal alignment film having liquid crystal alignment ability in the direction of a predetermined angle is formed on the TAC film, the step of bonding the retardation film on the polarizing film while controlling the angle can be omitted. This can contribute to the improvement of the productivity of the liquid crystal display element. Formation of a liquid crystal alignment film having a liquid crystal alignment ability in a predetermined angle direction can be performed by a photo-alignment method using the liquid crystal aligning agent of the present invention.
Therefore, by using a TAC film as a substrate, it is possible to enjoy the above-mentioned advantages, contribute to the reduction in size and weight of the liquid crystal display element, and is preferable in that it can be applied to a flexible display. .
The liquid crystal aligning agent can be applied onto the substrate in the same manner as in the case of application to a liquid crystal display element.
In addition, the film thickness of the coating film formed here becomes like this. Preferably it is 1-1000 nm, More preferably, it is 5-500 nm.

(2)液晶配向性付与工程
上記(1)塗膜形成工程によって形成された塗膜に対して、液晶表示素子への適用の場合と同様にして、ラビング処理工程または光照射処理工程を施すことにより、前記塗膜に液晶配向性が付与され、液晶配向膜となる。
(2) Liquid crystal orientation imparting step The rubbing treatment step or the light irradiation treatment step is performed on the coating film formed in the above (1) coating film forming step in the same manner as in the case of application to a liquid crystal display element. As a result, liquid crystal alignment is imparted to the coating film to form a liquid crystal alignment film.

(3)位相差フィルムの製造
上記のようにして基板上に形成された液晶配向膜上に、次いで重合性液晶の塗膜を形成し、次いで該重合性液晶の塗膜に対して、加熱および光照射から選択される1種以上の処理を施すことにより、液晶層が形成されて位相差フィルムとなる。
液晶配向膜上に塗布する重合性液晶は、加熱および光照射のうちの少なくとも1種の処理によって重合する液晶化合物または液晶組成物である。このような重合性液晶としては、例えば非特許文献1(「UVキュアラブル液晶とその応用」、液晶、第3巻第1号(1999年)、pp34〜42)に記載されているネマティック液晶化合物を挙げることができるほか、コレステリック液晶;ディスコティック液晶;カイラル剤を添加されたツイストネマティック配向型液晶などであってもよい。重合性液晶は、複数の液晶化合物の混合物であってもよい。重合性液晶は、さらに、公知の重合開始剤、適当な溶媒などを含有する組成物であってもよい。
液晶配向膜上に上記のような重合性液晶を塗布するには、例えばバーコーター法、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法を採用することができる。
(3) Production of Retardation Film A polymerizable liquid crystal coating film is then formed on the liquid crystal alignment film formed on the substrate as described above, and then the polymerizable liquid crystal coating film is heated and By performing one or more treatments selected from light irradiation, a liquid crystal layer is formed to form a retardation film.
The polymerizable liquid crystal applied on the liquid crystal alignment film is a liquid crystal compound or liquid crystal composition that is polymerized by at least one treatment of heating and light irradiation. As such a polymerizable liquid crystal, for example, a nematic liquid crystal compound described in Non-Patent Document 1 (“UV curable liquid crystal and its application”, liquid crystal, Vol. 3, No. 1 (1999), pp 34 to 42) is used. In addition, a cholesteric liquid crystal; a discotic liquid crystal; a twisted nematic alignment type liquid crystal to which a chiral agent is added may be used. The polymerizable liquid crystal may be a mixture of a plurality of liquid crystal compounds. The polymerizable liquid crystal may further be a composition containing a known polymerization initiator, an appropriate solvent, and the like.
In order to apply the polymerizable liquid crystal as described above on the liquid crystal alignment film, an appropriate application method such as a bar coater method, a roll coater method, a spinner method, a printing method, or an ink jet method can be employed.

上記のように形成された重合性液晶の塗膜に対して、加熱および光照射から選択される1種以上の処理を施すことにより、該塗膜を硬化して、液晶層を形成する。これらの処理を重畳的に行うことが、良好な配向が得られることから好ましい。
塗膜の加熱温度は、使用する重合性液晶の種類によって適宜に選択されるべきである。例えばメルク社製のRMS03−013Cを使用する場合、40〜80℃の範囲の温度で加熱することが好ましい。加熱時間は、好ましくは0.5〜5分である。
照射光としては、200〜500nmの範囲の波長を有する非偏光の紫外線を好ましく使用することができる。光の照射量としては、50〜10,000mJ/cmとすることが好ましく、100〜5,000mJ/cmとすることがより好ましい。
形成される液晶層の厚さとしては、所望の光学特性によって適宜に設定される。例えば波長540nmの可視光における1/2波長板を製造する場合は、形成した位相差フィルムの位相差が240〜300nmとなるような厚さが選択され、1/4波長板であれば、位相差が120〜150nmとなるような厚さが選択される。目的の位相差が得られる液晶層の厚さは、使用する重合性液晶の光学特性によって異なる。例えばメルク製のRMS03−013Cを使用する場合、1/4波長板を製造するための厚さは、0.6〜1.5μmの範囲である。
The coating film of the polymerizable liquid crystal formed as described above is subjected to at least one treatment selected from heating and light irradiation to cure the coating film and form a liquid crystal layer. It is preferable to perform these treatments in a superimposed manner because good alignment can be obtained.
The heating temperature of the coating film should be appropriately selected depending on the type of polymerizable liquid crystal used. For example, when using RMS03-013C manufactured by Merck, it is preferable to heat at a temperature in the range of 40 to 80 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 5 minutes.
As irradiation light, non-polarized ultraviolet rays having a wavelength in the range of 200 to 500 nm can be preferably used. The irradiation dose of light, preferably in the 50~10,000mJ / cm 2, and more preferably a 100~5,000mJ / cm 2.
The thickness of the liquid crystal layer to be formed is appropriately set depending on desired optical characteristics. For example, when manufacturing a half-wave plate for visible light having a wavelength of 540 nm, a thickness is selected such that the retardation of the formed retardation film is 240 to 300 nm. The thickness is selected such that the phase difference is 120 to 150 nm. The thickness of the liquid crystal layer from which the desired retardation is obtained varies depending on the optical characteristics of the polymerizable liquid crystal used. For example, when RMS03-013C manufactured by Merck is used, the thickness for manufacturing a quarter-wave plate is in the range of 0.6 to 1.5 μm.

以上のようにして、位相差フィルムを製造することができる。
本発明の液晶配向剤を用いて製造された位相差フィルムは、液晶表示素子の位相差フィルムとして好適に適用することができる。
A retardation film can be produced as described above.
The retardation film manufactured using the liquid crystal aligning agent of this invention can be applied suitably as a retardation film of a liquid crystal display element.

以下の合成例においては、必要に応じて下記に記載のスケールで合成を繰り返すことにより、以降の合成例および実施例で使用する必要量の化合物を確保した。
<式(1)で表される2価の基を有する単量体の合成>
[化合物(E)の合成]
合成例E−1
下記スキームE−1に従って化合物(E−1)を合成した。
In the following synthesis examples, the necessary amounts of compounds used in the following synthesis examples and examples were secured by repeating the synthesis on the scale described below as necessary.
<Synthesis of Monomer Having Divalent Group Represented by Formula (1)>
[Synthesis of Compound (E)]
Synthesis Example E-1
Compound (E-1) was synthesized according to the following scheme E-1.

還流管を備えた2L三口フラスコ中で、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物196.11g、3−アミノプロパノール152gおよびジメチルホルムアミド1,000mLを混合した後、40℃において2時間撹拌し、次いで4時間還流して反応を行った。反応後、反応混合物に蒸留水を添加して晶析を行ったうえで、固体をろ取して回収した。回収した固体をエタノールで洗浄した後、減圧下、60℃に加熱して乾燥することにより、化合物(E−1)を301g得た。   In a 2 L three-necked flask equipped with a reflux tube, 196.11 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 152 g of 3-aminopropanol and 1,000 mL of dimethylformamide were mixed, and then 2 ° C. at 40 ° C. The reaction was stirred for 4 hours and then refluxed for 4 hours. After the reaction, distilled water was added to the reaction mixture for crystallization, and the solid was collected by filtration. The recovered solid was washed with ethanol, and then heated to 60 ° C. under reduced pressure and dried to obtain 301 g of compound (E-1).

合成例E−2
下記スキームE−2に従って化合物(E−2)を合成した。
Synthesis Example E-2
Compound (E-2) was synthesized according to the following scheme E-2.

還流管を備えた2L三口フラスコ中で、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物196.11g、4−アミノフェノール220gおよびピリジン1,000mLを混合した後、40℃において2時間撹拌し、次いで4時間還流して反応を行った。反応後、反応混合物に蒸留水を添加して晶析を行ったうえで、固体をろ取して回収した。回収した固体をエタノールで洗浄した後、減圧下、60℃に加熱して乾燥することにより、化合物(E−2)を359g得た。   In a 2 L three-necked flask equipped with a reflux tube, 196.11 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 220 g of 4-aminophenol and 1,000 mL of pyridine were mixed, and then at 40 ° C. for 2 hours. The reaction was stirred and then refluxed for 4 hours. After the reaction, distilled water was added to the reaction mixture for crystallization, and the solid was collected by filtration. The recovered solid was washed with ethanol, and then heated to 60 ° C. under reduced pressure and dried to obtain 359 g of compound (E-2).

合成例C−1
下記スキームC−1に従って化合物(C−1)を合成した。
Synthesis Example C-1
Compound (C-1) was synthesized according to the following scheme C-1.

還流管を備えた2L三口フラスコ中で、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物196.11g、β−アラニン180gおよびジメチルホルムアミド1,000mLを混合した後、40℃において2時間撹拌し、次いで4時間還流して反応を行った。反応後、反応混合物に蒸留水を添加して晶析を行ったうえで、固体をろ取して回収した。回収した固体をエタノールで洗浄した後、減圧下、60℃に加熱して乾燥することにより、化合物(C−1)を311g得た。   In a 2 L three-necked flask equipped with a reflux tube, 196.11 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 180 g of β-alanine and 1,000 mL of dimethylformamide were mixed, and then at 40 ° C. for 2 hours. The reaction was stirred and then refluxed for 4 hours. After the reaction, distilled water was added to the reaction mixture for crystallization, and the solid was collected by filtration. The recovered solid was washed with ethanol, and then heated to 60 ° C. under reduced pressure and dried to obtain 311 g of compound (C-1).

合成例S−1
下記スキームS−1に従って化合物(S−1)を合成した。
Synthesis Example S-1
Compound (S-1) was synthesized according to the following scheme S-1.

滴下ロートを備えた2L三口フラスコ中に、上記合成例E−1と同様にして合成した化合物(E−1)310.3gおよび酢酸800mLを仕込んだ。ここに、硫酸200mLを滴下ロートからゆっくりと滴下した。滴下中は、フラスコを氷浴にて冷却し、内温が10℃を越えないように保った。滴下終了後、室温にて6時間反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチル2,000mLを加えた。ここに蒸留水500mLを加え、分液洗浄して水層を廃棄する分液洗浄操作を行った。この分液洗浄操作を繰り返し、合計4回の分液洗浄操作を行った。次いで、減圧蒸留にて溶媒を除去し、液体状の粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチルに溶解してシリカカラムで精製を行った後、減圧にて溶媒を除去することにより、化合物(S−1a)を155g得た。
還流管および窒素導入管を備えた1,000mLの三口フラスコに、上記で得た化合物(S−1a)のうちの27.4g、トルエン50mLおよび濃度0.2モル/Lの塩化白金酸六水和物のイソプロパノール溶液5μLを仕込み、これを窒素気流で約10分間バブリングして系内の窒素置換を行った後、ジメチルモノメトキシシラン18.1gを加え、窒素下において10時間、還流下に反応を行った。反応終了後、反応混合物をシリカゲルのショートカラムに通し、さらにシリカカラムで精製を行った後、減圧にて溶媒を除去することにより、化合物(S−1)を8.2g得た。
In a 2 L three-necked flask equipped with a dropping funnel, 310.3 g of the compound (E-1) synthesized in the same manner as in Synthesis Example E-1 and 800 mL of acetic acid were charged. Here, 200 mL of sulfuric acid was slowly dropped from the dropping funnel. During the dropping, the flask was cooled in an ice bath, and the internal temperature was kept so as not to exceed 10 ° C. After completion of the dropping, the reaction was performed at room temperature for 6 hours. After completion of the reaction, 2,000 mL of ethyl acetate was added to the reaction mixture. Distilled water 500mL was added here, and liquid separation washing operation which carries out liquid separation washing and discards an aqueous layer was performed. This separation washing operation was repeated, and a total of four separation washing operations were performed. Subsequently, the solvent was removed by distillation under reduced pressure to obtain a liquid crude product. This crude product was dissolved in ethyl acetate and purified with a silica column, and then the solvent was removed under reduced pressure to obtain 155 g of compound (S-1a).
In a 1,000 mL three-necked flask equipped with a reflux tube and a nitrogen introduction tube, 27.4 g of the compound (S-1a) obtained above, 50 mL of toluene and chloroplatinic acid hexahydrate at a concentration of 0.2 mol / L Charge 5 μL of a Japanese isopropanol solution, bubbling it with a nitrogen stream for about 10 minutes to replace the nitrogen in the system, add 18.1 g of dimethylmonomethoxysilane, and react under reflux for 10 hours under nitrogen. Went. After completion of the reaction, the reaction mixture was passed through a silica gel short column, further purified with a silica column, and then the solvent was removed under reduced pressure to obtain 8.2 g of compound (S-1).

<特定重合体の合成>
[ポリアミドの合成]
合成例PA−1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、1,4−ジアミノベンゼン100モル%を仕込み、この化合物の合計濃度が20重量%になるようにテトラヒドロフランを加えて溶解した。ここにさらに、トリエチルアミンを上記1,4−ジアミノベンゼンのモル数に対して300モル%に相当する量だけ仕込み、室温で混合した。ここに、上記合成例C−1で得た化合物(C−1)100モル%を塩化チオニルにて酸クロリド化したものを濃度20重量%にてテトラヒドロフランに溶解した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下して、室温で4時間、重合反応を行った。反応終了後、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、減圧下、40℃において15時間乾燥することにより、ポリアミド(PA−1)を得た。
<Synthesis of specific polymer>
[Polyamide synthesis]
Synthesis example PA-1
A reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser was charged with 100 mol% of 1,4-diaminobenzene, and tetrahydrofuran was added and dissolved so that the total concentration of this compound was 20 wt%. . Further, triethylamine was charged in an amount corresponding to 300 mol% with respect to the number of moles of 1,4-diaminobenzene, and mixed at room temperature. A solution prepared by dissolving 100 mol% of the compound (C-1) obtained in Synthesis Example C-1 above in acid chloride with thionyl chloride in tetrahydrofuran at a concentration of 20 wt% was slowly dropped from the dropping funnel. The polymerization reaction was carried out at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol, and then dried at 40 ° C. under reduced pressure for 15 hours to obtain polyamide (PA-1).

[ポリエステルの合成]
合成例PE−1〜PE−4
上記合成例PA−1において、1,4−ジアミノベンゼンの代わりに表1に記載した種類およびモル比のジヒドロキシ化合物またはジエポキシ化合物を、多価カルボン酸として表1に記載した種類およびモル比の化合物を、それぞれ用いたほかは上記合成例PA−1と同様に実施して、ポリエステル(PE−1)〜(PE−4)をそれぞれ得た。
[Synthesis of polyester]
Synthesis Examples PE-1 to PE-4
In the above synthesis example PA-1, in place of 1,4-diaminobenzene, the types and molar ratios of the dihydroxy compounds or diepoxy compounds described in Table 1 are used as the polyvalent carboxylic acids and the compounds of the types and molar ratios described in Table 1 Were used in the same manner as in Synthesis Example PA-1 except that polyesters (PE-1) to (PE-4) were obtained.

合成例PE−5
撹拌機、温度計および還流冷却管を備えた反応容器中で、上記合成例E−1で得た化合物(E−1)31gをN−メチルピロリドン211.2gに溶解した。ここにピロメリット酸二無水物21.8gを加え、40℃において12時間反応を行うことにより、ポリエステル(PE−5)を20重量%含有する溶液を得た。
Synthesis example PE-5
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser, 31 g of the compound (E-1) obtained in Synthesis Example E-1 was dissolved in 211.2 g of N-methylpyrrolidone. Pyromellitic dianhydride (21.8 g) was added thereto, and a reaction was carried out at 40 ° C. for 12 hours to obtain a solution containing 20% by weight of polyester (PE-5).

表1中の化合物名の略称は、それぞれ、以下の意味である。
DA−1:1,4−ジアミノベンゼン
EP−1:1,4−ジグリシジルオキシベンゼン
CA−1:テレフタル酸
CA−2:2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキ)フェニル)プロパン
PYA:ピロメリット酸二無水物
Abbreviations of compound names in Table 1 have the following meanings, respectively.
DA-1: 1,4-diaminobenzene EP-1: 1,4-diglycidyloxybenzene CA-1: terephthalic acid CA-2: 2,2-bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) propane PYA : Pyromellitic dianhydride

[ポリオルガノシロキサンの合成]
合成例PS−1
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、上記合成例S−1で得た化合物(S−1)45.47gを仕込み、メチルイソブチルケトン181.88gを加えて溶解した。ここにトリエチルアミン1.01gを加えて室温で混合した。次いで、脱イオン水36gを滴下漏斗から滴下した後、80℃において6時間反応を行った。
反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液を用いて洗浄後の廃水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、ポリシロキサン(PS−1)40gを得た。
[Synthesis of polyorganosiloxane]
Synthesis example PS-1
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel, and a reflux condenser, 45.47 g of the compound (S-1) obtained in Synthesis Example S-1 was charged, and 181.88 g of methyl isobutyl ketone was added and dissolved. did. To this, 1.01 g of triethylamine was added and mixed at room temperature. Next, 36 g of deionized water was dropped from the dropping funnel, and the reaction was performed at 80 ° C. for 6 hours.
After completion of the reaction, the organic layer was taken out, washed with 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the washed waste water became neutral, and then the solvent and water were distilled off under reduced pressure to remove polysiloxane (PS -1) 40 g was obtained.

[ポリアミック酸の合成]
比較合成例p−1
撹拌機および温度計を備えた反応容器中で、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン41.0gおよび1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物19.2gをN−メチルピロリドン343.5g中に溶解し、室温において10時間反応を行って、ポリアミック酸(p−1)を含有する溶液を得た。
[Synthesis of polyamic acid]
Comparative Synthesis Example p-1
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 41.0 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 19 .2 g was dissolved in 343.5 g of N-methylpyrrolidone and reacted at room temperature for 10 hours to obtain a solution containing polyamic acid (p-1).

<液晶配向剤の調製および評価>
[液晶表示素子への適用]
実施例1
(1)液晶配向剤の調製
重合体として上記合成例PA−1で得た重合体(ポリアミド(PA−1))100重量部をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)およびブチルセロソルブ(BC)の混合溶媒(NMP:BC=50:50(質量比))に溶解し、固形分濃度6.5重量%の溶液とした。この溶液を十分に撹拌した後、孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
(2)印刷性の評価
上記で調製した液晶配向剤を、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いてITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、200℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。この塗膜を倍率20倍の顕微鏡で観察して印刷ムラおよびピンホールの有無を調べたところ、印刷ムラおよびピンホールの双方とも観察されず、印刷性は「良好」であった。
<Preparation and evaluation of liquid crystal aligning agent>
[Application to liquid crystal display elements]
Example 1
(1) Preparation of liquid crystal aligning agent As a polymer, 100 parts by weight of the polymer (polyamide (PA-1)) obtained in Synthesis Example PA-1 was added to N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC). It melt | dissolved in the mixed solvent (NMP: BC = 50: 50 (mass ratio)), and was set as the solution of solid content concentration 6.5 weight%. After sufficiently stirring this solution, a liquid crystal aligning agent was prepared by filtering through a filter having a pore size of 0.2 μm.
(2) Evaluation of printability The liquid crystal aligning agent prepared above was applied to the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film using a liquid crystal alignment film printer (Nissha Printing Co., Ltd.). After removing the solvent by heating (pre-baking) for 1 minute on an 80 ° C. hot plate, heating (post-baking) for 10 minutes on a 200 ° C. hot plate to form a coating film having an average film thickness of 600 mm. When this coating film was observed with a microscope with a magnification of 20 times to check for the presence of printing unevenness and pinholes, neither printing unevenness nor pinholes were observed, and the printability was “good”.

(3)液晶表示素子の製造
パターンを有さないボトム電極、窒化ケイ素膜および櫛歯状にパターニングされたトップ電極がこの順に積層された電極対の2系統を片面に有するガラス基板と、電極が設けられていない対向ガラス基板とを一対とし、ガラス基板の電極を有する面と対向ガラス基板の一面とに、それぞれ上記で調製した液晶配向剤を、スピンナーを用いて塗布し、80℃のホットプレートで1分間プレベークを行った後、庫内を窒素置換したオーブン中で200℃1時間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚1,000Åの塗膜を形成した。
上記2系統の電極対における各系統を、以下、それぞれ、「電極A」および「電極B」という。これらの電極対の断面模式図およびトップ電極の平面模式図を、それぞれ、図1および図2に示した。図2(b)は、図2(a)の破線で囲った部分の拡大図である。
上記で形成した塗膜の各表面に、それぞれ、高圧水銀ランプおよびグランテーラープリズムを用いて254nmの輝線を含む偏光紫外線2,500J/mを、基板法線方向から照射して、液晶配向膜を有する一対の基板を得た。
上記基板のうちの1枚の液晶配向膜を有する面の外周に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した後、1対の基板の液晶配向膜面を対向させ、偏光紫外線の偏光面を基板へ投影した方向が平行となるように重ね合わせて圧着し、150℃で1時間かけて接着剤を熱硬化した。次いで、液晶注入口から基板間隙に、メルク社製液晶「MLC−6221」を充填した後、エポキシ樹脂接着剤で液晶注入口を封止した。その後、液晶注入時の流動配向を除くために、これを150℃まで加熱してから室温まで徐冷した。
次に、基板の外側両面に偏光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子を製造した。このとき、偏光板のうちの1枚は、その偏光方向が液晶配向膜の偏光紫外線の偏光面の基板面への射影方向と平行となるように貼付し、もう1枚はその偏光方向が先の偏光板の偏光方向と直行するように貼付した。
(3) Manufacture of liquid crystal display element A glass substrate having two systems of electrode pairs in which a bottom electrode having no pattern, a silicon nitride film, and a top electrode patterned in a comb-like shape are laminated in this order on one side, and an electrode A counter glass substrate not provided is paired, and the liquid crystal aligning agent prepared above is applied to each of the surface having the electrode of the glass substrate and one surface of the counter glass substrate using a spinner, and a hot plate at 80 ° C. Then, after prebaking for 1 minute, it was heated (postbaked) at 200 ° C. for 1 hour in an oven in which the inside of the chamber was replaced with nitrogen to form a coating film having an average film thickness of 1,000 mm.
Hereinafter, each of the two electrode pairs is referred to as “electrode A” and “electrode B”, respectively. A schematic cross-sectional view of these electrode pairs and a schematic plan view of the top electrode are shown in FIGS. 1 and 2, respectively. FIG. 2B is an enlarged view of a portion surrounded by a broken line in FIG.
Each surface of the coating film formed above is irradiated with polarized ultraviolet rays 2,500 J / m 2 containing a 254 nm emission line from the normal direction of the substrate using a high-pressure mercury lamp and a Grand Taylor prism, respectively, and a liquid crystal alignment film A pair of substrates were obtained.
An epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to the outer periphery of the surface of the substrate having the liquid crystal alignment film by screen printing, and the liquid crystal alignment film surfaces of the pair of substrates are made to face each other. Then, the polarizing plane of polarized ultraviolet light was superposed and pressure-bonded so that the directions projected onto the substrate were parallel, and the adhesive was thermally cured at 150 ° C. for 1 hour. Next, liquid crystal “MLC-6221” manufactured by Merck Co., Ltd. was filled into the substrate gap from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an epoxy resin adhesive. Then, in order to remove the flow alignment at the time of liquid crystal injection, this was heated to 150 ° C. and then gradually cooled to room temperature.
Next, the liquid crystal display element was manufactured by bonding a polarizing plate on both outer surfaces of the substrate. At this time, one of the polarizing plates is stuck so that the polarization direction thereof is parallel to the direction of projection of the polarization plane of the polarized ultraviolet light of the liquid crystal alignment film onto the substrate surface, and the other one has the polarization direction first. The polarizing plate was attached so as to be orthogonal to the polarization direction of the polarizing plate.

(4)液晶配向性の評価
上記で製造した液晶表示素子につき、5Vの電圧をON・OFF(印加・解除)したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を、倍率50倍の顕微鏡により観察した。異常ドメインが観察されなかった場合を液晶配向性「良好」、異常ドメインが観察された場合を液晶配向性「不良」として評価したところ、この液晶表示素子の液晶配向性は「良好」であった。
(4) Evaluation of liquid crystal alignment The presence or absence of an abnormal domain in the change in brightness when a voltage of 5 V was turned ON / OFF (applied / released) was observed with a microscope with a magnification of 50 times for the liquid crystal display element manufactured above. . When the abnormal domain was not observed, the liquid crystal alignment was “good”, and when the abnormal domain was observed, the liquid crystal alignment was “bad”. The liquid crystal alignment of the liquid crystal display element was “good”. .

実施例2〜5および7
上記実施例1において、液晶配向剤の調製に使用した重合体の種類をそれぞれ表2に記載のとおりとしたほかは実施例1と同様にして液晶配向剤を調製し、評価した。
評価結果は表2に示した。
Examples 2-5 and 7
In Example 1 above, a liquid crystal aligning agent was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the types of polymers used for preparing the liquid crystal aligning agent were as shown in Table 2.
The evaluation results are shown in Table 2.

実施例6
上記実施例1において、以下のように液晶配向剤を調製し、該液晶配向剤を使用したほかは、実施例1と同様にして各種の評価を行った。
(1)液晶配向剤の調製
上記合成例PE−5で調製したポリエステル(PE−5)を含有する溶液に、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)およびブチルセロソルブ(BC)を加え、溶媒組成比がNMP:BC=50:50(質量比)、固形分濃度が6.5重量%の溶液とした。この溶液を十分に撹拌した後、孔径0.2μmのフィルターで濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
評価結果は表2に示した。
Example 6
In Example 1, the liquid crystal aligning agent was prepared as follows, and various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 except that the liquid crystal aligning agent was used.
(1) Preparation of liquid crystal aligning agent N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC) are added to the solution containing the polyester (PE-5) prepared in Synthesis Example PE-5, and the solvent composition ratio Was a solution having NMP: BC = 50: 50 (mass ratio) and a solid concentration of 6.5% by weight. After sufficiently stirring this solution, a liquid crystal aligning agent was prepared by filtering through a filter having a pore size of 0.2 μm.
The evaluation results are shown in Table 2.

比較例1
上記実施例6において、ポリエステル(PE−5)を含有する溶液の代わりに上記比較合成例p−1で得たポリアミック酸(p−1)を含有する溶液を使用したほかは、実施例6と同様にして液晶配向剤を調製し、評価した。
評価結果は表2に示した。
この比較例1では、液晶配向性の評価において、若干の明暗は生じるものの、多数の異常ドメインが観察され、液晶が均一に配向してないと考えられたため、液晶配向性を「不良」とした。
Comparative Example 1
In Example 6 above, Example 6 was used except that the solution containing polyamic acid (p-1) obtained in Comparative Synthesis Example p-1 was used instead of the solution containing polyester (PE-5). Similarly, a liquid crystal aligning agent was prepared and evaluated.
The evaluation results are shown in Table 2.
In Comparative Example 1, although evaluation of the liquid crystal alignment was slightly bright and dark, many abnormal domains were observed and the liquid crystal was considered not to be uniformly aligned. .

[位相差フィルムへの適用]
実施例8
基板としてのTACフィルムの一面に、上記実施例1で調製した液晶配向剤を、バーコーターを用いて塗布し、オーブン内にて120℃で2分間ベークして膜厚100nmの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に高圧水銀ランプおよびグランテーラープリズムを用いて254nmの輝線を含む偏光紫外線2,500J/mを、基板法線から垂直に照射して液晶配向膜を形成した。
次いで、重合性液晶(RMS03−013C、メルク製)を孔径0.2μmのフィルターでろ過した後、バーコーターを用いて上記液晶配向膜上に塗布した後、庫内温度を50℃に設定したオーブンで1分間ベークを行い、重合性液晶の膜を形成した。この重合性液晶の膜に対して、Hg−Xeランプを用いて365nmの輝線を含む非偏光の紫外線1,000mJ/cmを照射して、重合性液晶を重合・硬化することにより、位相差フィルムを製造した。
[Application to retardation film]
Example 8
The liquid crystal aligning agent prepared in Example 1 was applied to one surface of a TAC film as a substrate using a bar coater, and baked in an oven at 120 ° C. for 2 minutes to form a coating film having a thickness of 100 nm. . Next, the surface of the coating film was irradiated with polarized ultraviolet rays 2,500 J / m 2 containing a 254 nm emission line perpendicularly from the substrate normal line using a high-pressure mercury lamp and a Grand Taylor prism to form a liquid crystal alignment film.
Next, the polymerizable liquid crystal (RMS03-013C, manufactured by Merck) was filtered through a filter having a pore diameter of 0.2 μm, and then applied onto the liquid crystal alignment film using a bar coater, and then the oven temperature was set to 50 ° C. Was baked for 1 minute to form a polymerizable liquid crystal film. By irradiating this polymerizable liquid crystal film with non-polarized ultraviolet rays of 1,000 mJ / cm 2 including a 365 nm emission line using a Hg-Xe lamp, the polymerizable liquid crystal is polymerized and cured, thereby causing a phase difference. A film was produced.

(2)位相差フィルムの評価
i)液晶配向性
上記で製造した位相差フィルムにつき、クロスニコル下での目視および偏光顕微鏡(倍率50倍)観察により、配向性を観察した。目視観察および偏光顕微鏡観察の双方で異常ドメインが観察されなかった場合、液晶配向性は優良「A」;
目視観察では液晶配向性が良好だが、偏光顕微鏡観察では異常ドメインが観察された場合、液晶配向性は良好「B」;
目視観察で液晶配向性の異常が観察された場合、液晶配向性は不良「C」
として評価した。その結果、この位相差フィルムの液晶配向性は優良「A」と評価された。
ii)密着性
上記で製造した位相差フィルムにつき、ガイド付きの等間隔スペーサーを用いてカッターナイフで1mm間隔に切り込みを入れ、10×10の格子パターンを形成した。次いで、上記格子パターン上にセロハンテープを密着した後、このセロハンテープを上記格子パターンから引き剥がした。
ここで、セロハンテープを引き剥がした後の格子パターンの切り込み部を観察し、切り込み線に沿って、または格子パターンの交差部において、剥離箇所が観察されなかった場合、密着性は優良「A」:
剥離箇所が観察された格子の目の個数が14個以下であった場合、密着性は良好「B」;
剥離箇所が観察された格子の目の個数が15個以上であった場合、密着性は不良「C」
として評価した。その結果、この位相差フィルムの密着性は優良「A」と評価された。
(2) Evaluation of retardation film i) Liquid crystal orientation The orientation of the retardation film produced above was observed by visual observation under a crossed Nicol and observation with a polarizing microscope (magnification 50 times). When no abnormal domain is observed by both visual observation and polarization microscope observation, the liquid crystal orientation is excellent “A”;
The liquid crystal orientation is good by visual observation, but when the abnormal domain is observed by polarizing microscope observation, the liquid crystal orientation is good “B”;
When an abnormality in the liquid crystal alignment is observed by visual observation, the liquid crystal alignment is poor "C"
As evaluated. As a result, the liquid crystal orientation of this retardation film was evaluated as excellent “A”.
ii) Adhesiveness About the retardation film manufactured above, it cut | incised at 1 mm space | interval with the cutter knife using the equal interval spacer with a guide, and formed the 10 * 10 lattice pattern. Next, after the cellophane tape was adhered to the lattice pattern, the cellophane tape was peeled off from the lattice pattern.
Here, when the cut portion of the lattice pattern after the cellophane tape is peeled off is observed, and no peeled portion is observed along the cut line or at the intersection portion of the lattice pattern, the adhesion is excellent “A”. :
When the number of grids in which peeling points are observed is 14 or less, the adhesion is good “B”;
When the number of grids in which peeling points were observed was 15 or more, the adhesion was poor “C”.
As evaluated. As a result, the adhesiveness of this retardation film was evaluated as excellent “A”.

a:ガラス基板
b:液晶配向膜
c:トップ電極(櫛歯構造)
d:窒化ケイ素膜
e:ボトム電極(パターンなし)
f:偏光紫外線の偏光面の方向
a: Glass substrate b: Liquid crystal alignment film c: Top electrode (comb structure)
d: Silicon nitride film e: Bottom electrode (no pattern)
f: Direction of polarization plane of polarized ultraviolet light

Claims (11)

ポリオルガノシロキサン、ポリアミド、ポリ(チオ)エステルおよび(メタ)アクリル酸共重合体よりなる群から選択される少なくとも1種の重合体、ただしこの重合体は、下記式(1)で表される2価の基を有する、を含有することを特徴とする、液晶配向剤。
(式(1)中、R〜RIV、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数2〜12のアルケニル基であり;
およびYは、それぞれ独立に、2価の有機基であり、「*」は、それぞれ、重合体鎖に結合している結合手であることを示す。)
At least one polymer selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamide, poly (thio) ester and (meth) acrylic acid copolymer, provided that this polymer is represented by the following formula (1) 2 A liquid crystal aligning agent comprising a valent group.
(In Formula (1), R I to R IV are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms;
Y 1 and Y 2 are each independently a divalent organic group, and “*” indicates a bond that is bonded to the polymer chain. )
上記重合体が、下記式(S)で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解・縮合して得られたポリオルガノシロキサンである、請求項1に記載の液晶配向剤。
(式(S)中R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味であり;
およびRは、それぞれ独立に、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数6〜12のアリール基であり;
およびXは、それぞれ独立に、炭素数1〜12のアルコキシ基またはハロゲン原子であり;
n1およびn2は、それぞれ独立に、1〜3の整数である。)
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 whose said polymer is the polyorganosiloxane obtained by hydrolyzing and condensing the silane compound containing the compound represented by a following formula (S).
(In formula (S), R I to R IV , Y 1 and Y 2 each have the same meaning as in formula (1) above;
R 1 and R 2 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms;
X 1 and X 2 are each independently an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or a halogen atom;
n1 and n2 are each independently an integer of 1 to 3. )
上記重合体が、
ジアミンと、
下記式(C)で表される化合物を含む多価カルボン酸と、
を反応させて得られたポリアミドである、請求項1に記載の液晶配向剤。
(式(C)中、R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味である。)
The polymer is
Diamine,
A polyvalent carboxylic acid containing a compound represented by the following formula (C);
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 which is the polyamide obtained by making this react.
(In the formula (C), R I to R IV , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in the above formula (1).)
上記重合体が、
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物と、
下記式(C)で表される化合物を含む多価カルボン酸と、
を反応させて得られたポリ(チオ)エステルである、請求項1に記載の液晶配向剤。
(式(C)中、R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味である。)
The polymer is
At least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound;
A polyvalent carboxylic acid containing a compound represented by the following formula (C);
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 which is the poly (thio) ester obtained by making this react.
(In the formula (C), R I to R IV , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in the above formula (1).)
上記重合体が、
ジオール化合物、ジチオール化合物およびジエポキシ化合物よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物、ただしこの化合物の少なくとも一部は下記式(E)で表される化合物である、と、
多価カルボン酸と、
を反応させて得られたポリ(チオ)エステルである、請求項1に記載の液晶配向剤。
(式(E)中、R〜RIV、YおよびYは、それぞれ、上記式(1)におけるのと同じ意味であり;
およびZは、それぞれ独立に、水酸基、チオール基またはエポキシ基である。)
The polymer is
At least one compound selected from the group consisting of a diol compound, a dithiol compound and a diepoxy compound, provided that at least a part of this compound is a compound represented by the following formula (E):
A polyvalent carboxylic acid;
The liquid crystal aligning agent of Claim 1 which is the poly (thio) ester obtained by making this react.
(In the formula (E), R I to R IV , Y 1 and Y 2 each have the same meaning as in the above formula (1);
Z 1 and Z 2 are each independently a hydroxyl group, a thiol group, or an epoxy group. )
液晶表示素子の位相差フィルムにおける液晶配向膜を形成するために用いられる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶配向剤。   The liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-5 used in order to form the liquid crystal aligning film in the phase difference film of a liquid crystal display element. 液晶表示素子の液晶セルにおける液晶配向膜を形成するために用いられる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶配向剤。   The liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-5 used in order to form the liquid crystal aligning film in the liquid crystal cell of a liquid crystal display element. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の液晶配向剤から形成されたことを特徴とする、液晶配向膜。   A liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent according to claim 1. 請求項6に記載の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子の位相差フィルム。   A retardation film for a liquid crystal display device, comprising a liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent according to claim 6. 請求項7に記載の液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子の液晶セル。   A liquid crystal cell of a liquid crystal display device comprising a liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent according to claim 7. 基板上に、請求項1〜7のいずれか一項に記載の液晶配向剤を塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜に光照射する工程を経ることを特徴とする、液晶配向膜の形成方法。   A liquid crystal alignment film comprising a step of applying a liquid crystal aligning agent according to any one of claims 1 to 7 on a substrate to form a coating film, and then irradiating the coating film with light. Forming method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020171128A1 (en) * 2019-02-21 2020-08-27 日産化学株式会社 Liquid crystal alignment agent and liquid crystal display element using same

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102278227B1 (en) * 2015-03-10 2021-07-16 동우 화인켐 주식회사 Photodegradable polyimide alignment film for cleaning composition
CN105669738A (en) * 2016-01-19 2016-06-15 南昌大学 Preparation method of modified silane coupling agent
KR102554524B1 (en) * 2016-12-21 2023-07-11 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 The manufacturing method of a liquid crystal aligning film, a liquid crystal aligning film, and a liquid crystal display element
CN110610664B (en) * 2019-09-25 2021-11-30 云谷(固安)科技有限公司 Cover plate with polarization function, flexible display panel and rollable display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1045909A (en) * 1996-07-31 1998-02-17 Canon Inc Liquid crystal element and display
WO2008065944A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Toray Industries, Inc. Photosensitive siloxane composition, hardened film formed therefrom and device having the hardened film

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5691277A (en) 1979-12-25 1981-07-24 Citizen Watch Co Ltd Liquiddcrystal display panel
JP3893659B2 (en) 1996-03-05 2007-03-14 日産化学工業株式会社 Liquid crystal alignment treatment method
EP0806698B1 (en) 1996-05-08 2005-01-12 Hitachi, Ltd. In-plane switching-mode active-matrix liquid crystal display
JP3883848B2 (en) 2000-11-24 2007-02-21 香港科技大学 Method for producing photo-alignment film
JP3849138B2 (en) 2002-02-18 2006-11-22 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, method for forming liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element
JP4104938B2 (en) 2002-08-28 2008-06-18 Dic株式会社 Composition for vertical alignment film and method for producing vertical alignment film
JP3885714B2 (en) 2002-11-13 2007-02-28 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
KR100750451B1 (en) * 2002-12-09 2007-08-22 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 Liquid crystal display and method for manufacturing same
CN100437301C (en) * 2004-02-26 2008-11-26 日产化学工业株式会社 Liquid crystal aligning agent for photoalignment and liquid crystal display device utilizing the same
KR100782437B1 (en) * 2005-12-30 2007-12-05 제일모직주식회사 Alignment Agent of Liquid Crystal
JP4844728B2 (en) * 2006-05-15 2011-12-28 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
JP4407677B2 (en) 2006-08-11 2010-02-03 エプソンイメージングデバイス株式会社 Horizontal electric field LCD panel
JP5019050B2 (en) * 2007-12-13 2012-09-05 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
JP5158356B2 (en) * 2008-06-03 2013-03-06 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
US8730437B2 (en) * 2010-04-14 2014-05-20 Chi Mei Corporation Method for making a treated polymer for a liquid crystal alignment agent, the treated polymer made thereby, and liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element containing the treated polymer
JP5477182B2 (en) * 2010-06-11 2014-04-23 日産化学工業株式会社 Method for producing polyamic acid ester having alicyclic structure
JP5789945B2 (en) * 2010-09-24 2015-10-07 Jsr株式会社 LIQUID CRYSTAL ALIGNING FILM AND METHOD FOR PRODUCING PHASE DIFFERENTIAL FILM, LIQUID CRYSTAL ALIGNING AGENT, LIQUID CRYSTAL ALIGNING FILM, AND RELATING FILM
TWI465483B (en) * 2010-12-28 2014-12-21 Chi Mei Corp Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and a liquid crystal display comprising said liquid crystal alignment film
JP2012155311A (en) * 2011-01-05 2012-08-16 Jnc Corp Liquid crystal aligning agent for forming photo-aligning liquid crystal alignment layer, liquid crystal alignment layer and liquid crystal display element using the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1045909A (en) * 1996-07-31 1998-02-17 Canon Inc Liquid crystal element and display
WO2008065944A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Toray Industries, Inc. Photosensitive siloxane composition, hardened film formed therefrom and device having the hardened film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020171128A1 (en) * 2019-02-21 2020-08-27 日産化学株式会社 Liquid crystal alignment agent and liquid crystal display element using same
JPWO2020171128A1 (en) * 2019-02-21 2021-12-16 日産化学株式会社 Liquid crystal alignment agent and liquid crystal display element using it
JP7428978B2 (en) 2019-02-21 2024-02-07 日産化学株式会社 Liquid crystal alignment agent and liquid crystal display element using the same

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