JP2014091666A - Gas treatment method and gas treatment equipment - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently remove a volatile material from dust that is separated from effluent gas discharged from cement firing equipment, and supplied to firing equipment; and to maintain a content of a volatile material that circulates in cement production equipment to a desired value for long-term, and to use the same to cement production equipment in general-purpose.SOLUTION: A gas treatment method further includes a volatile material removing process in which a volatile material is removed from dust collected in a dust collection process, the dust collection process includes: a first dust collection process in which dust is collected from effluent gas using an electrical dust precipitator; and a second dust collection process in which dust is collected from effluent gas after the first dust collection process, and the volatile material removing process removes a volatile material from dust collected in the second dust collection process.

Description

本発明は、セメント焼成設備から排出される排ガスを処理するガス処理方法およびガス処理設備に関し、特に、排ガスから揮発性物質を除去するものに関する。   The present invention relates to a gas processing method and gas processing equipment for treating exhaust gas discharged from a cement firing facility, and more particularly, to removing volatile substances from exhaust gas.

セメント焼成設備(キルン、仮焼炉および予熱器等からなるもの)から排出される排ガス中には、ダスト(未反応のセメント原料や燃料等に由来する粉体)が含有されている。斯かるダストは、集塵工程で集塵されて排ガスから分離された後、その少なくとも一部がセメント原料として焼成設備へ返送されている。   Dust (powder derived from unreacted cement raw material, fuel, etc.) is contained in the exhaust gas discharged from the cement firing facility (consisting of a kiln, calciner, preheater, etc.). Such dust is collected in the dust collection process and separated from the exhaust gas, and then at least a part of the dust is returned as a cement raw material to the firing facility.

また、セメント焼成設備から排出される排ガス中には、比較的揮発性の高い揮発性物質(水銀やタリウム等の重金属、これらの重金属の塩化物、トルエンやベンゼン等の有機化合物等)が含有される場合がある。具体的には、近年、様々な廃棄物(焼却灰、各種の汚泥、廃プラスチック、廃油等)がセメント原料や焼成燃料として使用されている。このため、廃棄物に含有されていた揮発性物質がセメント原料や焼成燃料中にも含有される虞がある。そして、このようなセメント原料や焼成燃料を使用することで、焼成設備の熱によって揮発性物質が揮発するため、排ガス中に揮発性物質が含有されることになる。   In addition, the exhaust gas discharged from cement firing facilities contains relatively volatile substances (heavy metals such as mercury and thallium, chlorides of these heavy metals, and organic compounds such as toluene and benzene). There is a case. Specifically, in recent years, various wastes (incineration ash, various sludges, waste plastics, waste oil, etc.) have been used as cement raw materials and calcined fuels. For this reason, there exists a possibility that the volatile substance contained in the waste may also be contained in the cement raw material and the fired fuel. And by using such a cement raw material and a baking fuel, since a volatile substance volatilizes with the heat | fever of a baking equipment, a volatile substance will be contained in waste gas.

また、排ガス中の揮発性物質の一部は、排ガスから分離されるダスト中に含有される。具体的には、焼成設備から排出された排ガスは、大気中に排出される経路で温度低下することになる。この際、排ガス中の揮発性物質の一部は、排ガス中のダスト(特に、排ガス中のダストの粒度分布のうち、比較的細かい側の粒度のダスト)に付着(析出)することになる。これにより、集塵工程で排ガスから分離されるダスト(特に、排ガス中のダストの粒度分布のうち、比較的細かい側の粒度のダスト)中に揮発性物質が含有されることになる。   Moreover, a part of volatile substance in exhaust gas is contained in the dust separated from the exhaust gas. Specifically, the temperature of the exhaust gas discharged from the firing facility is lowered through a path discharged into the atmosphere. At this time, a part of the volatile substance in the exhaust gas adheres (precipitates) to dust in the exhaust gas (particularly, dust having a relatively fine particle size in the particle size distribution of the dust in the exhaust gas). Thereby, a volatile substance will be contained in the dust separated from the exhaust gas in the dust collection step (particularly, dust having a relatively fine particle size in the particle size distribution of the dust in the exhaust gas).

ところで、近年、大気中へ排出される揮発性物質の排出量を低減させるべく、排ガス中の揮発性物質の含有量を低減することが要求されている。排ガス中の揮発性物質の含有量を低減する方法としては、例えば、焼成設備から排出された排ガスが大気中へ排出されるまでの経路(排ガス経路)に電気集塵機を設置すると共に、該電気集塵機よりも排ガス経路の上流側に、セメント原料および排ガスが供給される竪型原料ミルを設置する方法が提案されている(特許文献1参照)。   By the way, in recent years, it has been required to reduce the content of volatile substances in exhaust gas in order to reduce the amount of volatile substances discharged into the atmosphere. As a method for reducing the content of volatile substances in the exhaust gas, for example, an electric dust collector is installed in a route (exhaust gas route) until the exhaust gas discharged from the firing facility is discharged into the atmosphere. A method has been proposed in which a vertical raw material mill to which cement raw material and exhaust gas are supplied is installed upstream of the exhaust gas path (see Patent Document 1).

斯かる方法では、大気中へ排出される排ガス中の揮発性物質の含有量が閾値以上となったときに、竪型原料ミルにおけるセパレーターの回転数を増加させて、排ガスと共に竪型原料ミルから排出されるセメント原料やダストの粒径を比較的細かくする。これにより、竪型原料ミルから排出されるセメント原料やダストに対する揮発性物質の付着(析出)量が増加し、排ガス中の揮発性物質の含有量が低減されることになる。   In such a method, when the content of volatile substances in the exhaust gas discharged to the atmosphere exceeds a threshold value, the number of revolutions of the separator in the vertical raw material mill is increased, and the vertical raw material mill is discharged together with the exhaust gas. The particle size of the discharged cement raw material and dust is made relatively fine. Thereby, the adhesion (precipitation) amount of the volatile substance to the cement raw material and dust discharged from the vertical raw material mill increases, and the content of the volatile substance in the exhaust gas is reduced.

更に、斯かる方法では、竪型原料ミルから排出されるセメント原料やダストが電気集塵機に供給される。これにより、セメント原料やダストが比較的粗いものと比較的細かいものとに分離される。そして、大気中へ排出される排ガス中の揮発性物質の含有量が閾値以上となったときに、比較的細かいセメント原料やダスト(揮発性物質の付着しやすいもの)の焼成設備への返送量を減少したり、返送を停止したりする。これにより、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の量が一次的に減少するため、排ガス中の揮発性物質が所望する含有量に維持されることになる。   Further, in such a method, cement raw material and dust discharged from the vertical raw material mill are supplied to the electric dust collector. Thereby, the cement raw material and dust are separated into a relatively coarse one and a relatively fine one. And when the content of volatile substances in the exhaust gas discharged into the atmosphere exceeds the threshold value, the amount of return of relatively fine cement raw materials and dust (which easily adheres to volatile substances) to the firing facility Decrease or stop returning. Thereby, since the quantity of the volatile substance circulated within the cement production facility is temporarily reduced, the volatile substance in the exhaust gas is maintained at a desired content.

特開2011−241112号公報JP 2011-241112 A

しかしながら、特許文献1に係る方法では、揮発性物質が付着(析出)したセメント原料やダストが焼成設備へ供給されるため、焼成設備の熱によって揮発性物質が再び揮発し、排ガス中に含有されることになる。つまり、セメント原料の焼成が継続的に行われると、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の量が経時的に増加することになる。このため排ガス中の揮発性物質の含有量を長期的に所望する値に維持することが困難となる。   However, in the method according to Patent Document 1, since the cement raw material and dust to which volatile substances are attached (deposited) are supplied to the firing facility, the volatile materials are volatilized again by the heat of the firing facility and are contained in the exhaust gas. Will be. In other words, when the cement raw material is continuously fired, the amount of volatile substances circulating in the cement manufacturing facility increases with time. For this reason, it becomes difficult to maintain the content of the volatile substance in the exhaust gas at a desired value in the long term.

また、特許文献1に係る方法では、セメント焼成設備からの排ガスを用いてセメント原料の乾燥と粉砕とを同時に行う竪型原料ミルを必要とするため、竪型原料ミルに代えてセメント原料の乾燥と粉砕とを個別に行う構成(例えば、ロータリードライヤーとチューブミルの組み合わせ)を採用することが困難であり、汎用性に欠ける。   Further, the method according to Patent Document 1 requires a vertical raw material mill that simultaneously performs drying and pulverization of the cement raw material using the exhaust gas from the cement firing facility, so that the drying of the cement raw material is performed instead of the vertical raw material mill. It is difficult to adopt a configuration (for example, a combination of a rotary dryer and a tube mill) that performs pulverization and pulverization separately, and lacks versatility.

そこで、本発明は、セメント焼成設備から排出される排ガスから分離されて焼成設備へ供給されるダストから揮発性物質を効率的に除去することができ、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の含有量を長期的に所望する値に維持することができると共に、セメント製造設備に汎用的に使用することができるガス処理方法およびガス処理設備を提供することを課題とする。   Therefore, the present invention can efficiently remove volatile substances from the dust separated from the exhaust gas discharged from the cement firing equipment and supplied to the firing equipment, and the volatile substances circulating in the cement production equipment. It is an object of the present invention to provide a gas processing method and a gas processing facility that can maintain the content at a desired value in the long term and can be used for a general purpose in a cement manufacturing facility.

本発明のガス処理方法は、セメント原料を焼成する焼成設備から排出される排ガス中のダストを集塵する集塵工程を備え、集塵工程で集塵されるダストの少なくとも一部をセメント原料として焼成設備へ供給するガス処理方法であって、前記集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去工程を更に備え、前記集塵工程は、電気集塵機を用いて排ガスからダストを集塵する第一集塵工程と、第一集塵工程後の排ガスからダストを集塵する第二集塵工程とを備えており、前記揮発性物質除去工程は、第二集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去するように構成されることを特徴とする。   The gas treatment method of the present invention includes a dust collection step for collecting dust in exhaust gas discharged from a firing facility for firing cement raw material, and at least a part of the dust collected in the dust collection step is used as cement raw material. A gas treatment method for supplying to a firing facility, further comprising a volatile substance removing step for removing a volatile substance from the dust collected in the dust collecting step, wherein the dust collecting step uses an electric dust collector. A first dust collecting step for collecting the dust from the first dust collecting step and a second dust collecting step for collecting the dust from the exhaust gas after the first dust collecting step. It is configured to remove volatile substances from dust collected in the process.

斯かる構成によれば、第二集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去するように構成されることで、第一集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去するよりも、焼成設備への揮発性物質の返送量をより低減することができる。   According to such a configuration, the volatile substance is removed from the dust collected in the first dust collection process by being configured to remove the volatile substance from the dust collected in the second dust collection process. It is possible to further reduce the amount of volatile substances returned to the firing facility.

具体的には、第二集塵工程では、第一集塵工程よりも細かい粒度のダストが集塵される。このため、第二集塵工程で集塵されるダスト中の揮発性物質の含有量の方が第一集塵工程で集塵されるダスト中の揮発性物質の含有量よりも多くなる。このため、第二集塵工程で集塵されるダストに対して揮発性物質除去工程を行うことで、より多くの揮発性物質がダストから除去されることになる。これにより、ダストと共に焼成設備へ供給される揮発性物質の量が減少し、排ガス中に再び含有される揮発性物質の量が減少する。このため、排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に低下させることができる。   Specifically, in the second dust collection step, dust having a finer particle size than that in the first dust collection step is collected. For this reason, the content of the volatile substance in the dust collected in the second dust collection process is larger than the content of the volatile substance in the dust collected in the first dust collection process. For this reason, more volatile substances will be removed from dust by performing a volatile substance removal process with respect to the dust collected by a 2nd dust collection process. Thereby, the quantity of the volatile substance supplied to the baking facility together with the dust is reduced, and the quantity of the volatile substance contained again in the exhaust gas is reduced. For this reason, the density | concentration of the volatile substance in waste gas can be reduced to the desired value.

以上のように、第二集塵工程で集塵されるダストに対して、揮発性物質除去工程を行うことで、ダストと共に焼成設備へ供給される揮発性物質の量が調節されるため、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の量が必要な範囲で調節される。これにより、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に維持することができる。   As described above, since the amount of the volatile substance supplied to the firing facility together with the dust is adjusted by performing the volatile substance removing process on the dust collected in the second dust collecting process, the cement The amount of volatile substances circulating in the production facility is adjusted as necessary. Thereby, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas after a dust collection process can be maintained at the desired value.

また、本願発明に係る方法は、電気集塵機を備えるセメント製造設備に対して、汎用的に適用することができる。このため、例えば、竪型原料ミルを備えるセメント製造設備や、ロータリードライヤーとチューブミルとの組み合わせを構成とするセメント製造設備等に対しても本願発明に係る方法を汎用的に適用することができる。   Moreover, the method according to the present invention can be applied universally to a cement manufacturing facility equipped with an electric dust collector. For this reason, for example, the method according to the present invention can be applied universally to a cement manufacturing facility including a vertical raw material mill, a cement manufacturing facility including a combination of a rotary dryer and a tube mill, and the like. .

また、本発明のガス処理方法は、前記集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定工程を更に備え、該濃度測定工程における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧を調節することで、第二集塵工程で集塵されるダストの集塵量を調整することが好ましい。   The gas treatment method of the present invention further includes a concentration measurement step for measuring the concentration of volatile substances in the exhaust gas after the dust collection step, and an applied voltage to the electric dust collector based on the measurement result in the concentration measurement step. It is preferable to adjust the dust collection amount of the dust collected in the second dust collection step by adjusting.

ここで、電気集塵機への印加電圧の調節とは、印加電圧を連続的又は断続的に変化させること、或いは、電気集塵機の荷電を一次的に停止したり、再開したりすること、又は、これらの組み合わせを意味する。   Here, adjustment of the applied voltage to the electrostatic precipitator means that the applied voltage is changed continuously or intermittently, or the charge of the electrostatic precipitator is temporarily stopped or restarted, or these Means a combination of

斯かる構成によれば、電気集塵機への印加電圧を調節することで、第一集塵工程で集塵されるダストの集塵量が調節される。具体的には、電気集塵機では、所定の印加電圧から電圧を低下させることで、電気集塵機で集塵されるダストうち、比較的細かい粒度のダストが集塵されなくなる。また、電気集塵機の荷電を停止することで、電気集塵機での集塵が停止する。つまり、電気集塵機への印加電圧を低下させたり、電気集塵機の荷電を停止したりすることで、電気集塵機での集塵量が減少することになる。   According to such a configuration, the amount of dust collected in the first dust collection step is adjusted by adjusting the voltage applied to the electric dust collector. Specifically, in the electrostatic precipitator, by reducing the voltage from a predetermined applied voltage, among the dust collected by the electrostatic precipitator, dust having a relatively fine particle size is not collected. In addition, by stopping charging of the electric dust collector, dust collection by the electric dust collector is stopped. That is, by reducing the voltage applied to the electrostatic precipitator or stopping the charging of the electrostatic precipitator, the amount of dust collected by the electrostatic precipitator is reduced.

逆に、印加電圧を低下させた状態から増加させることで、比較的細かい粒度のダストも集塵されるようになる。また、電気集塵機の荷電を再開することで、電気集塵機での集塵が再開される。つまり、電気集塵機への印加電圧を増加させたり、電気集塵機の荷電を再開したりすることで、電気集塵機での集塵量が増加することになる。   Conversely, by increasing the applied voltage from a lowered state, dust with a relatively fine particle size is also collected. Moreover, dust collection by the electric dust collector is resumed by resuming charging of the electric dust collector. That is, increasing the voltage applied to the electrostatic precipitator or restarting charging of the electrostatic precipitator increases the amount of dust collected by the electrostatic precipitator.

このように、電気集塵機への印加電圧を調節することで、第一集塵工程での集塵量が調節されるため、第二集塵工程へのダストの供給量が調節される。これにより、第二集塵工程を介して揮発性物質除去工程へ供給されるダストの供給量も調節される。   In this way, by adjusting the voltage applied to the electric dust collector, the amount of dust collected in the first dust collecting step is adjusted, and thus the amount of dust supplied to the second dust collecting step is adjusted. Thereby, the supply amount of the dust supplied to the volatile substance removal step through the second dust collection step is also adjusted.

そして、濃度測定工程における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧の調節を行うことで、第二集塵工程でのダストの集塵量が調節される。具体的には、濃度測定工程の測定結果が所望する値を超えた場合には、電気集塵機への印加電圧を低下させたり、電気集塵機の荷電を一次的に停止したりすることで、第二集塵工程へのダストの供給量を増加させて第二集塵工程での集塵量を増加させる。これにより、第二集塵工程を介して揮発性物質除去工程へのダストの供給量が増加する。   And the amount of dust collection in a 2nd dust collection process is adjusted by adjusting the voltage applied to an electric dust collector based on the measurement result in a density | concentration measurement process. Specifically, when the measurement result of the concentration measurement process exceeds a desired value, the voltage applied to the electrostatic precipitator is reduced or the charging of the electrostatic precipitator is temporarily stopped, Increase the amount of dust supplied to the dust collection process to increase the amount of dust collected in the second dust collection process. As a result, the amount of dust supplied to the volatile substance removing step through the second dust collecting step is increased.

特に、第一集塵工程で集塵されて揮発性物質除去工程に供給されていなかったダストのうち、比較的細かい粒度のダストには、揮発性物質が付着(析出)し易いため、斯かるダストが揮発性物質除去工程に供給されるようになることで、より多くの揮発性物質がダストから除去されることになる。このため、ダストと共に焼成設備へ供給される揮発性物質の量が減少し、排ガス中に再び含有される揮発性物質の量が減少する。これにより、排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に低下させることができる。   In particular, among dusts collected in the first dust collection process and not supplied to the volatile substance removal process, volatile substances are likely to adhere (precipitate) to dust having a relatively fine particle size. As the dust is supplied to the volatile substance removal step, more volatile substances are removed from the dust. For this reason, the quantity of the volatile substance supplied to a baking facility with dust reduces, and the quantity of the volatile substance contained again in waste gas reduces. Thereby, the density | concentration of the volatile substance in waste gas can be reduced to the desired value.

また、濃度測定工程における測定結果が所望する値未満に低下した場合には、電気集塵機への印加電圧を増加させたり、電気集塵機の荷電を再開したりすることで、第二集塵工程へ供給されるダストの量を減少させ、第一集塵工程から焼成設備へ供給されるダストの量を増加させる。   In addition, when the measurement result in the concentration measurement process falls below the desired value, supply to the second dust collection process by increasing the voltage applied to the electrostatic precipitator or restarting the electrostatic precipitator. The amount of dust that is generated is reduced, and the amount of dust that is supplied from the first dust collection process to the firing facility is increased.

以上のように、濃度測定工程における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧を調節することで、揮発性物質除去工程へのダスト(特に、比較的細かい粒度のダスト)の供給量が調節されるため、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の量が必要な範囲で調節される。これにより、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に維持することができる。   As described above, by adjusting the voltage applied to the electrostatic precipitator based on the measurement result in the concentration measurement process, the supply amount of dust (particularly, dust having a relatively fine particle size) to the volatile substance removal process is adjusted. Therefore, the amount of volatile substances circulating in the cement production facility is adjusted within a necessary range. Thereby, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas after a dust collection process can be maintained at the desired value.

また、本願発明に係る方法は、前記第二集塵工程で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定工程を更に備え、濃度測定工程における測定結果および粒度測定工程における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節することが好ましい。   The method according to the present invention further includes a particle size measurement step for measuring the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection step, based on the measurement result in the concentration measurement step and the measurement result in the particle size measurement step. The voltage applied to the electrostatic precipitator is preferably adjusted.

斯かる構成によれば、濃度測定工程における測定結果および粒度測定工程における測定結果に基づいて、電気集塵機への印加電圧を調節することで、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を容易に把握することができる。   According to such a configuration, the concentration of volatile substances in the exhaust gas after the dust collection process is adjusted by adjusting the voltage applied to the electric dust collector based on the measurement result in the concentration measurement process and the measurement result in the particle size measurement process. It can be easily grasped.

具体的には、上述したように、電気集塵機への印加電圧の調節によって、第二集塵工程へのダストの供給量が変化する。これに伴い、第二集塵工程で集塵されるダストの粒度分布が変化する。つまり、粒度測定工程において第二集塵工程で集塵されるダストの粒度分布を測定することで、揮発性物質除去工程へのダストの供給量の変化を把握することができる。   Specifically, as described above, the amount of dust supplied to the second dust collection process changes by adjusting the voltage applied to the electric dust collector. Accordingly, the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection process changes. That is, by measuring the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection step in the particle size measurement step, it is possible to grasp the change in the amount of dust supplied to the volatile substance removal step.

これにより、電気集塵機への印加電圧の調節(変化)に対して、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度変化にタイムラグが生じる場合であっても、粒度測定工程における測定結果に基づいて、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を把握することができる。このため、集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を容易に維持することができる。   As a result, even if there is a time lag in the concentration change of volatile substances in the exhaust gas after the dust collection process with respect to the adjustment (change) of the voltage applied to the electric dust collector, Thus, the concentration of volatile substances in the exhaust gas after the dust collection process can be grasped. For this reason, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas after a dust collection process can be maintained easily.

また、前記揮発性物質除去工程へ供給されるダストの供給量を濃度測定工程における測定結果に基づいて調節する供給量調節工程を更に備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable to further include a supply amount adjusting step of adjusting the amount of dust supplied to the volatile substance removing step based on the measurement result in the concentration measuring step.

斯かる構成によれば、供給量調節工程を更に備えることで、集塵工程後の排ガスの揮発性物質濃度が所定値となるように、必要量のダストを揮発性物質除去工程へ供給することができる。このため、揮発性物質除去工程が過剰に行われるのを防止することができる。   According to such a configuration, a necessary amount of dust is supplied to the volatile substance removing step so that the volatile substance concentration of the exhaust gas after the dust collecting step becomes a predetermined value by further including a supply amount adjusting step. Can do. For this reason, it can prevent that a volatile substance removal process is performed excessively.

本発明に係るガス処理装置は、セメント原料を焼成する焼成設備から排出される排ガス中のダストを集塵する集塵設備を備え、該集塵設備で集塵されるダストの少なくとも一部を焼成設備に供給可能に構成されるガス処理設備であって、前記集塵設備で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去設備を更に備え、前記集塵設備は、電気集塵機を用いて排ガスからダストを集塵する第一集塵設備と、第一集塵設備から排出される排ガスからダストを集塵する第二集塵設備とを備えており、前記揮発性物質除去設備は、第二集塵設備で集塵されるダストから揮発性物質を除去するように構成されることを特徴とする。   A gas treatment apparatus according to the present invention includes a dust collection facility for collecting dust in exhaust gas discharged from a firing facility for firing cement raw material, and fires at least a part of the dust collected by the dust collection facility. A gas treatment facility configured to be able to supply to the facility, further comprising a volatile substance removal facility for removing volatile substances from the dust collected by the dust collection facility, the dust collection facility comprising an electric dust collector Using a first dust collecting facility for collecting dust from exhaust gas and a second dust collecting facility for collecting dust from exhaust gas discharged from the first dust collecting facility, wherein the volatile substance removing facility is The second dust collection facility is configured to remove volatile substances from the dust collected.

また、前記集塵設備から排出される排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定設備を更に備え、該濃度測定設備における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧を調節することで、第二集塵設備で集塵されるダストの集塵量を調整可能に構成されることが好ましい。   Further, it further comprises a concentration measurement facility for measuring the concentration of volatile substances in the exhaust gas discharged from the dust collection facility, and by adjusting the voltage applied to the electric dust collector based on the measurement result in the concentration measurement facility, It is preferable that the dust collection amount of the dust collected by the second dust collection facility is adjustable.

また、前記第二集塵設備で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定設備を更に備え、濃度測定設備における測定結果および粒度測定設備における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節可能に構成されることが好ましい。   Further, the apparatus further comprises a particle size measurement facility for measuring the particle size distribution of dust collected by the second dust collection facility, and applied to the electric dust collector based on the measurement result in the concentration measurement facility and the measurement result in the particle size measurement facility. It is preferable that the voltage is adjustable.

また、前記揮発性物質除去設備へ供給されるダストの供給量を濃度測定設備における測定結果に基づいて調節する供給量調節設備を更に備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable to further include a supply amount adjusting facility for adjusting the amount of dust supplied to the volatile substance removing facility based on the measurement result in the concentration measuring facility.

以上のように、本発明によれば、セメント焼成設備から排出される排ガスから分離されて焼成設備へ供給されるダストから揮発性物質を効率的に除去することができ、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の含有量を長期的に所望する値に維持することができると共に、セメント製造設備に汎用的に使用することができる。   As described above, according to the present invention, volatile substances can be efficiently removed from the dust separated from the exhaust gas discharged from the cement firing facility and supplied to the firing facility, and circulated in the cement manufacturing facility. The content of the volatile substance to be maintained can be maintained at a desired value in the long term, and can be used for a general purpose in a cement manufacturing facility.

実施の形態におけるガス処理方法に使用されるセメントクリンカーの製造設備を概略的に示す模式図。The schematic diagram which shows roughly the manufacturing equipment of the cement clinker used for the gas processing method in embodiment.

以下、本発明の一実施形態について、図1を参照しつつ説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態に係るガス処理方法およびガス処理設備1は、セメントクリンカーの製造設備(以下、セメント製造設備とも記す)内で発生する排ガス(具体的には、後述する焼成設備Aから排出される排ガス)からダストを集塵可能に構成される。また、本実施形態に係るガス処理方法およびガス処理設備1は、揮発性物質を含有するセメント原料や焼成燃料を用いてセメントクリンカーを製造する際に用いられる。揮発性物質は、所定の温度で揮発し、斯かる温度未満になると析出するものであり、例えば、水銀、タリウム等の重金属や、これら重金属の塩化物、トルエン、ベンゼン等の有機化合物等が挙げられる。   The gas processing method and the gas processing facility 1 according to the present embodiment are exhaust gas generated in a cement clinker manufacturing facility (hereinafter also referred to as cement manufacturing facility) (specifically, exhaust gas discharged from a firing facility A described later). ) From which dust can be collected. In addition, the gas processing method and the gas processing facility 1 according to the present embodiment are used when a cement clinker is manufactured using a cement raw material or a calcinated fuel containing a volatile substance. Volatile substances are volatilized at a predetermined temperature and are deposited when the temperature falls below such temperature, and examples thereof include heavy metals such as mercury and thallium, chlorides of these heavy metals, and organic compounds such as toluene and benzene. It is done.

本実施形態に係るガス処理設備1は、セメントクリンカーの製造設備(以下、セメント製造設備とも記す)の一部を構成する。具体的には、セメント製造設備は、セメント原料を焼成する焼成設備A(具体的には、セメント原料を焼成してセメントクリンカーを形成するキルンA1と、該キルンA1に供給される前のセメント原料を予備加熱する予備加熱設備A2)と、該焼成設備A(具体的には、予備加熱設備A2)に供給されるセメント原料を貯蔵する貯蔵設備A3と、焼成設備A(具体的には、キルンA1および予備加熱設備A2)から排出される排ガスがガス処理設備1に供給される前に前処理される前処理設備A4(具体的には、粒径の比較的大きいダストを排ガスから分離する沈降室A4aと、排ガスの温度調整を行うと共に粒径の比較的大きいダストを排ガスから分離するスタビライザーA4b)と、比較的細かい粒径のダストを集塵可能に構成されるガス処理設備1と、セメント原料を供給する原料供給設備A5(例えば、原料ミル等)と、排ガスを大気へ排出する排気設備A6(煙突等)とを備えている。   The gas processing facility 1 according to the present embodiment constitutes a part of a cement clinker manufacturing facility (hereinafter also referred to as a cement manufacturing facility). Specifically, the cement manufacturing facility includes a firing facility A for firing the cement raw material (specifically, a kiln A1 for firing the cement raw material to form a cement clinker, and a cement raw material before being supplied to the kiln A1). Preheating equipment A2) for preheating, storage equipment A3 for storing cement raw material supplied to the firing equipment A (specifically, preheating equipment A2), and firing equipment A (specifically, kiln) Pretreatment facility A4 in which the exhaust gas discharged from A1 and the preheating facility A2) is pretreated before being supplied to the gas treatment facility 1 (specifically, sedimentation that separates dust having a relatively large particle size from the exhaust gas) Chamber A4a, a stabilizer A4b) for adjusting the temperature of the exhaust gas and separating dust having a relatively large particle size from the exhaust gas, and configured to collect dust having a relatively small particle size. A scan processing equipment 1 supplies a cement raw material supply equipment A5 (e.g., raw mill) and, and an exhaust system for discharging exhaust gas to the atmosphere A6 (chimney, etc.).

なお、ガス処理設備1に供給される排ガス中のダストは、焼成設備Aで発生するダスト(例えば、セメント原料や焼成燃料に由来するもの)に加え、原料供給設備A5を構成する竪型原料ミル等で発生したダストを含むものであってもよい。具体的には、沈降室A4aから排出される排ガスの少なくとも一部は、原料供給設備A5を構成する竪型原料ミルが稼動している場合、該竪型原料ミルへ供給される。このため、焼成設備Aから排出されるダストに加え、竪型原料ミルで発生するダストも排ガス中に含有される。このため、ガス処理設備1に供給される排ガス中には、セメント原料や焼成燃料に由来するダストと、原料供給設備A5を構成する竪型原料ミルで発生するダストとが含有される場合がある。   In addition, the dust in the exhaust gas supplied to the gas treatment facility 1 is a vertical raw material mill that constitutes the raw material supply facility A5 in addition to the dust generated in the firing facility A (for example, derived from cement raw material or calcined fuel). It may contain dust generated by the like. Specifically, at least a part of the exhaust gas discharged from the settling chamber A4a is supplied to the vertical raw material mill when the vertical raw material mill constituting the raw material supply facility A5 is operating. For this reason, in addition to the dust discharged from the firing facility A, the dust generated in the vertical raw material mill is also contained in the exhaust gas. For this reason, the exhaust gas supplied to the gas treatment facility 1 may contain dust derived from cement raw material or calcined fuel and dust generated in the vertical raw material mill constituting the raw material supply facility A5. .

ガス処理設備1は、焼成設備Aから排出される排ガス中のダストを集塵する集塵設備2を備える。そして、該集塵設備2で集塵されるダストの少なくとも一部を焼成設備Aに供給可能に構成される。具体的には、ガス処理設備1は、集塵設備2で集塵されたダストを貯蔵設備A3に供給可能に構成されており、該貯蔵設備A3を介してダストを焼成設備Aに供給可能に構成される。   The gas treatment facility 1 includes a dust collection facility 2 that collects dust in the exhaust gas discharged from the firing facility A. And it is comprised so that at least one part of the dust collected by this dust collection equipment 2 can be supplied to the baking equipment A. FIG. Specifically, the gas treatment facility 1 is configured to be able to supply dust collected by the dust collection facility 2 to the storage facility A3, and to be able to supply dust to the firing facility A through the storage facility A3. Composed.

集塵設備2は、前処理設備A4で排ガスから分離されるダストよりも細かい粒径のダストを集塵可能に構成される。また、集塵設備2は、集塵設備2に供給される排ガス中のダストのうち、比較的粗い粒径のものを集塵可能に構成される第一集塵設備(具体的には、電気集塵機)2aと、集塵設備2に供給される排ガス中のダストのうち比較的細かい粒径のものを集塵する第二集塵設備(具体的には、バグフィルター)2bとを備える。   The dust collection facility 2 is configured to be able to collect dust having a particle size finer than the dust separated from the exhaust gas in the pretreatment facility A4. In addition, the dust collection facility 2 is a first dust collection facility (specifically, an electric dust collection device) configured to collect dust having a relatively coarse particle size among the dust in the exhaust gas supplied to the dust collection facility 2. A dust collector 2a, and a second dust collector (specifically, a bag filter) 2b that collects dust in the exhaust gas supplied to the dust collector 2 with a relatively fine particle size.

また、ガス処理設備1は、集塵設備2で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去設備3と、集塵設備2(具体的には、第二集塵設備2b)から排出される排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定設備4とを更に備える。   In addition, the gas treatment facility 1 includes a volatile substance removal facility 3 that removes volatile substances from dust collected by the dust collection facility 2, and a dust collection facility 2 (specifically, a second dust collection facility 2b). And a concentration measurement facility 4 for measuring the concentration of volatile substances in the exhaust gas discharged from the exhaust gas.

また、ガス処理設備1は、第二集塵設備で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定設備2cと、揮発性物質除去設備3へのダストの供給量を調節する供給量調節設備2dと、揮発性物質除去設備3で除去された揮発性物質を回収する揮発性物質回収設備3aとを備える。   The gas treatment facility 1 includes a particle size measurement facility 2c that measures the particle size distribution of dust collected by the second dust collection facility, and a supply amount adjustment facility that adjusts the amount of dust supplied to the volatile substance removal facility 3. 2d and a volatile material recovery facility 3a that recovers the volatile material removed by the volatile material removal facility 3.

上記のような構成を有するセメント製造設備では、キルンA1でセメント原料が焼成されることによって排ガスが発生する。キルンA1としては、特に限定されるものではなく、例えば、乾式キルン、湿式キルン、レポール式キルン、SP式キルン、NSP式キルン、流動床キルン等を用いることができる。発生した排ガス中には、セメント原料や焼成燃料に含有されていた揮発性物質が揮発した状態で含有される。   In the cement manufacturing facility having the above-described configuration, exhaust gas is generated when the cement raw material is fired in the kiln A1. The kiln A1 is not particularly limited, and for example, a dry kiln, a wet kiln, a lepole kiln, an SP kiln, an NSP kiln, a fluidized bed kiln, or the like can be used. In the generated exhaust gas, the volatile substances contained in the cement raw material and the fired fuel are contained in a volatilized state.

斯かる排ガスは、キルンA1から排出された後、予備加熱設備A2(仮焼炉A2bおよびプレヒーターA2a)を通過する。この際、予備加熱設備A2(具体的には、プレヒーターA2aおよび仮焼炉A2b)に供給されたセメント原料と排ガスとが熱交換して排ガスの温度が低下する。焼成設備A(具体的には、予備加熱設備A2)から排出される排ガスの温度としては、特に限定されるものではなく、例えば、450℃以下であることが好ましく、400℃以下であることが好ましい。予備加熱設備A2としては、セメント原料を予備加熱するプレヒーターA2aと、予備加熱されたセメント原料の仮焼を行う仮焼炉A2bとを備えるものを用いることができる。プレヒーターA2aは、特に限定されるものではないが、複数のサイクロンを多段に接続したニューサスペンションプレヒータ等を用いることができる。   Such exhaust gas is discharged from the kiln A1, and then passes through the preheating facility A2 (the calcining furnace A2b and the preheater A2a). At this time, the cement raw material supplied to the preheating facility A2 (specifically, the preheater A2a and the calcining furnace A2b) exchanges heat with the exhaust gas, and the temperature of the exhaust gas decreases. The temperature of the exhaust gas discharged from the firing facility A (specifically, the preheating facility A2) is not particularly limited, and is preferably 450 ° C. or less, for example, 400 ° C. or less. preferable. As preheating equipment A2, what is equipped with preheater A2a which preheats a cement raw material, and calcining furnace A2b which calcines the preheated cement raw material can be used. The preheater A2a is not particularly limited, and a new suspension preheater in which a plurality of cyclones are connected in multiple stages can be used.

焼成設備A(具体的には、予備加熱設備A2、より詳しくは、プレヒーターA2a)から排出される排ガスは、前処理設備A4へ供給される。前処理設備A4(具体的には、沈降室A4a)に供給される直前の排ガスの温度としては、特に限定されるものではないが、400℃以下であることが好ましく、350℃以下であることがより好ましい。   The exhaust gas discharged from the firing facility A (specifically, the preheating facility A2, more specifically, the preheater A2a) is supplied to the pretreatment facility A4. The temperature of the exhaust gas immediately before being supplied to the pretreatment facility A4 (specifically, the settling chamber A4a) is not particularly limited, but is preferably 400 ° C or lower, and 350 ° C or lower. Is more preferable.

前処理設備A4に供給される排ガスは、初めに沈降室A4aに供給される。該沈降室A4aでは、前処理設備A4に供給される排ガス中のダストのうち、比較的粗い粒径のダストが集塵される。具体的には、沈降室A4aでは、例えば、レーザー回析式粒度分布計で測定される粒径が0.5mm以上のダストが集塵されることが好ましく、粒径が0.1mm以上のダストが集塵されることがより好ましい。   The exhaust gas supplied to the pretreatment facility A4 is first supplied to the settling chamber A4a. In the sedimentation chamber A4a, among the dust in the exhaust gas supplied to the pretreatment facility A4, dust having a relatively coarse particle diameter is collected. Specifically, in the sedimentation chamber A4a, for example, dust having a particle size of 0.5 mm or more as measured by a laser diffraction particle size distribution meter is preferably collected, and dust having a particle size of 0.1 mm or more is preferably collected. Is more preferably collected.

沈降室A4aから排出される排ガスは、原料供給設備A5の原料ミルが停止している場合には、スタビライザーA4bへ供給される。スタビライザーA4bでは、排ガスが通過することで排ガスの温度、水分量が調整されると共に、沈降室A4aで排ガスから分離されるダストよりも細かい粒径のダストが排ガスから分離される。   The exhaust gas discharged from the settling chamber A4a is supplied to the stabilizer A4b when the raw material mill of the raw material supply facility A5 is stopped. In the stabilizer A4b, the temperature and moisture content of the exhaust gas are adjusted by passing the exhaust gas, and dust having a particle size smaller than that of the dust separated from the exhaust gas in the settling chamber A4a is separated from the exhaust gas.

前処理設備A4(具体的には、沈降室A4aおよびスタビライザーA4b)で排ガスから分離されたダストは、貯蔵設備A3に供給されて貯蔵される。そして、該ダストは、原料供給設備A5から貯蔵設備A3に供給されるセメント原料と共に、セメント原料として焼成設備A(具体的には、予備加熱設備A2に供給された後でキルンA1)に供給される。つまり、排ガス中のダストの少なくとも一部は、焼成設備Aから排出された後、セメント原料として焼成設備Aへ返送される。   The dust separated from the exhaust gas in the pretreatment facility A4 (specifically, the settling chamber A4a and the stabilizer A4b) is supplied to the storage facility A3 and stored. The dust is supplied to the firing facility A (specifically, after being supplied to the preheating facility A2 and then to the kiln A1) as a cement material together with the cement material supplied from the material supply facility A5 to the storage facility A3. The That is, at least a part of the dust in the exhaust gas is discharged from the firing facility A and then returned to the firing facility A as a cement material.

前処理設備A4(具体的には、スタビライザーA4b)から排出される排ガスは、ガス処理設備1に供給される。ガス処理設備1に供給される直前の排ガスの温度としては、特に限定されるものではないが、200℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましい。また、50℃以上であることが好ましく、100℃以上であることがより好ましい。   The exhaust gas discharged from the pretreatment facility A4 (specifically, the stabilizer A4b) is supplied to the gas treatment facility 1. The temperature of the exhaust gas immediately before being supplied to the gas treatment facility 1 is not particularly limited, but is preferably 200 ° C. or less, and more preferably 150 ° C. or less. Moreover, it is preferable that it is 50 degreeC or more, and it is more preferable that it is 100 degreeC or more.

ガス処理設備1に供給される排ガスは、集塵設備2に供給される。これにより、排ガス中のダストが集塵される(集塵工程)。具体的には、ガス処理設備1に供給される排ガスは、初めに第一集塵設備(電気集塵機)2aに供給される。第一集塵設備(電気集塵機)2aでは、ガス処理設備1に供給される排ガス中のダストのうち、比較的粗い粒径のダストが集塵される(第一集塵工程)。第一集塵設備2aで集塵されるダストの粒度としては、例えば、レーザー回析式粒度分布計で測定される粒径が100μm以上のダストが集塵されることが好ましく、1μm以上のダストが集塵されることがより好ましい。   The exhaust gas supplied to the gas treatment facility 1 is supplied to the dust collection facility 2. Thereby, the dust in exhaust gas is collected (dust collection process). Specifically, the exhaust gas supplied to the gas treatment facility 1 is first supplied to the first dust collection facility (electric dust collector) 2a. In the first dust collection facility (electric dust collector) 2a, among the dust in the exhaust gas supplied to the gas treatment facility 1, dust having a relatively coarse particle size is collected (first dust collection step). As the particle size of the dust collected by the first dust collecting equipment 2a, for example, dust having a particle size of 100 μm or more as measured by a laser diffraction particle size distribution meter is preferably collected. Is more preferably collected.

第一集塵設備(電気集塵機)2aから排出された排ガスは、第二集塵設備(バグフィルター)2bに供給される。第二集塵設備(バグフィルター)2bに供給される直前の排ガスの温度としては、200℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましい。第二集塵設備(バグフィルター)2bでは、ガス処理設備1に供給される排ガス中のダストのうち、比較的細かい粒径のダストが集塵される(第二集塵工程)。第二集塵設備2bで集塵されるダストの粒度としては、例えば、レーザー回析式粒度分布計で測定される粒径が10μm以上のダストが集塵されることが好ましく、0.1μm以上のダストが集塵されることがより好ましい。   The exhaust gas discharged from the first dust collection facility (electric dust collector) 2a is supplied to the second dust collection facility (bag filter) 2b. The temperature of the exhaust gas immediately before being supplied to the second dust collection facility (bag filter) 2b is preferably 200 ° C. or less, and more preferably 150 ° C. or less. In the second dust collection facility (bag filter) 2b, dust having a relatively fine particle size is collected from the dust in the exhaust gas supplied to the gas processing facility 1 (second dust collection step). As the particle size of the dust collected by the second dust collecting equipment 2b, for example, dust having a particle size of 10 μm or more measured by a laser diffraction particle size distribution meter is preferably collected, and 0.1 μm or more. More preferably, the dust is collected.

ガス処理設備1(具体的には、電気集塵機2aおよびバグフィルター2b)で集塵されるダストは、貯蔵設備A3に供給されて貯蔵される。そして、該ダストは、原料供給設備A5から貯蔵設備A3に供給されるセメント原料と共に、セメント原料として焼成設備A(具体的には、予備加熱設備A2に供給された後でキルンA1)に供給される。つまり、排ガス中のダストの少なくとも一部は、焼成設備Aから排出された後、セメント原料として焼成設備Aへ返送されることになる。このように、本実施形態に係るセメント製造設備では、排ガス中のダストもセメント原料として使用される。   Dust collected by the gas treatment facility 1 (specifically, the electric dust collector 2a and the bag filter 2b) is supplied to the storage facility A3 and stored. The dust is supplied to the firing facility A (specifically, after being supplied to the preheating facility A2 and then to the kiln A1) as a cement material together with the cement material supplied from the material supply facility A5 to the storage facility A3. The That is, at least a part of the dust in the exhaust gas is discharged from the firing facility A and then returned to the firing facility A as a cement raw material. Thus, in the cement manufacturing facility according to the present embodiment, dust in the exhaust gas is also used as a cement raw material.

一方、集塵設備2(具体的には、第二集塵設備2b)から排出される排ガスは、排気設備A6を介して大気中に排出される前に、濃度測定設備4によって揮発性物質の含有量が測定される(濃度測定工程)。また、濃度測定設備4での測定は、連続的であってもよく、間欠的であってもよい。また、集塵設備2(具体的には、第二集塵設備2b)から排出される排ガスの一部は、原料供給設備A5に送られて、セメント原料を乾燥させるために利用されてもよい。   On the other hand, the exhaust gas discharged from the dust collection facility 2 (specifically, the second dust collection facility 2b) is evacuated by the concentration measurement facility 4 before being discharged into the atmosphere via the exhaust facility A6. The content is measured (concentration measurement step). Further, the measurement with the concentration measuring equipment 4 may be continuous or intermittent. Further, a part of the exhaust gas discharged from the dust collection facility 2 (specifically, the second dust collection facility 2b) may be sent to the raw material supply facility A5 and used to dry the cement raw material. .

ここで、焼成設備Aから排出された排ガスは、ガス処理設備1に到達するまでに温度低下する。この際、排ガス中に揮発した状態で含有されていた揮発性物質が排ガスの温度低下によって排ガス中のダストに付着(析出)する。特に、ガス処理設備1に供給されるダストのうち、比較的細かい粒径のダストには、揮発性物質が付着(析出)し易い。このため、集塵設備2(集塵工程)で集塵されるダストの少なくとも一部は、揮発性物質除去設備3(揮発性物質除去工程)に供給されて揮発性物質が除去された後、貯蔵設備A3に供給される。具体的には、ガス処理設備1に供給されるダストのうち、比較的細かい粒径のダストを集塵する第二集塵設備(バグフィルター)2b(第二集塵工程)で集塵されるダストが揮発性物質除去設備3(揮発性物質除去工程)に供給される。   Here, the temperature of the exhaust gas discharged from the firing facility A decreases before reaching the gas processing facility 1. At this time, volatile substances contained in the exhaust gas in a volatilized state adhere (deposit) to the dust in the exhaust gas due to the temperature decrease of the exhaust gas. In particular, among dusts supplied to the gas treatment facility 1, volatile substances are likely to adhere (precipitate) to dust having a relatively fine particle size. For this reason, after at least a part of the dust collected in the dust collection equipment 2 (dust collection process) is supplied to the volatile substance removal equipment 3 (volatile substance removal process) and volatile substances are removed, It is supplied to the storage facility A3. Specifically, among the dust supplied to the gas treatment facility 1, the dust is collected by the second dust collection facility (bag filter) 2b (second dust collection step) that collects dust having a relatively small particle diameter. Dust is supplied to the volatile substance removal equipment 3 (volatile substance removal process).

揮発性物質除去設備3へのダストの供給量は、供給量調節設備2dによって調節される(供給量調節工程)。該供給量調節設備2dは、第二集塵設備(バグフィルター)2bで集塵されるダストの一部を揮発性物質除去設備3へ供給し、他を貯蔵設備A3へ供給するように構成される。供給量調節設備2dは、第二集塵設備2bから排出される排ガス中の揮発性物質の濃度に基づいてダストの供給量を調節するように構成されている。集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガスの揮発性物質濃度が所定値となるように、必要量のダストを揮発性物質除去設備3(揮発性物質除去工程)へ供給することができるため、揮発性物質除去設備3での処理(揮発性物質除去工程)が過剰に行われるのを防止することができる。   The supply amount of dust to the volatile substance removal equipment 3 is adjusted by the supply quantity adjustment equipment 2d (supply quantity adjustment process). The supply amount adjusting equipment 2d is configured to supply a part of the dust collected by the second dust collecting equipment (bag filter) 2b to the volatile substance removing equipment 3 and supply the other to the storage equipment A3. The The supply amount adjusting facility 2d is configured to adjust the dust supply amount based on the concentration of volatile substances in the exhaust gas discharged from the second dust collecting facility 2b. A required amount of dust is supplied to the volatile substance removal equipment 3 (volatile substance removal process) so that the volatile substance concentration of the exhaust gas (discharged from the dust collection equipment 2) after the dust collection process becomes a predetermined value. Therefore, it is possible to prevent the process (volatile substance removing step) in the volatile substance removing equipment 3 from being performed excessively.

本実施形態では、揮発性物質除去設備3として加熱装置を用いることができる。該加熱装置では、供給されるダストを揮発性物質の揮発温度以上に加熱することで、ダストから揮発性物質を揮発させて除去する。揮発性物質除去設備3(揮発性物質除去工程)で除去された揮発性物質は、揮発性物質回収設備3aによって回収される。例えば、揮発性物質が水銀である場合には、活性炭塔による吸着や酸化溶液吸収等を用いた揮発性物質回収設備3aを使用することができる。   In the present embodiment, a heating device can be used as the volatile substance removal facility 3. In the heating device, the supplied dust is heated to a temperature equal to or higher than the volatilization temperature of the volatile substance, thereby volatilizing and removing the volatile substance from the dust. Volatile substances removed by the volatile substance removal equipment 3 (volatile substance removal process) are collected by the volatile substance collection equipment 3a. For example, when the volatile substance is mercury, a volatile substance recovery facility 3a that uses adsorption by an activated carbon tower or absorption of an oxidizing solution can be used.

一方、第一集塵設備(電気集塵機)2aで集塵されるダストは、第二集塵設備(バグフィルター)2bで集塵されるダストよりも粗い粒径であるため、揮発性物質の付着(析出)が少ない。このため、第一集塵設備(電気集塵機)2aで集塵されるダストは、揮発性物質除去設備3に供給されることなく、貯蔵設備A3に供給されてもよい。   On the other hand, the dust collected by the first dust collection equipment (electric dust collector) 2a has a coarser particle size than the dust collected by the second dust collection equipment (bag filter) 2b, so that volatile substances are attached. (Precipitation) is small. For this reason, the dust collected by the first dust collection facility (electric dust collector) 2a may be supplied to the storage facility A3 without being supplied to the volatile substance removal facility 3.

本発明に係るガス処理方法では、濃度測定設備4(濃度測定工程)における測定結果に基づいて、電気集塵機(第一集塵設備)2aへの印加電圧を調節する。ここで、電気集塵機2aへの印加電圧の調節とは、印加電圧を連続的又は断続的に変化させること、或いは、電気集塵機の荷電を一次的に停止したり、再開したりすること、又は、これらの組み合わせを意味する。   In the gas treatment method according to the present invention, the voltage applied to the electric dust collector (first dust collecting equipment) 2a is adjusted based on the measurement result in the concentration measuring equipment 4 (concentration measuring step). Here, adjustment of the applied voltage to the electrostatic precipitator 2a is to change the applied voltage continuously or intermittently, or to temporarily stop or restart charging of the electrostatic precipitator, or It means a combination of these.

電気集塵機2aへの印加電圧を調節することで、第一集塵工程(第一集塵設備2a)で集塵されるダストの集塵量が調節される。具体的には、電気集塵機2aでは、所定の印加電圧から電圧を低下させることで、電気集塵機2aで集塵されるダストのうち、比較的細かい粒度のダストが集塵されなくなる。また、電気集塵機2aの荷電を停止することで、電気集塵機2aでの集塵が停止する。つまり、電気集塵機2aへの印加電圧を低下させたり、電気集塵機2aの荷電を停止したりすることで、電気集塵機2aでの集塵量が減少することになる。   By adjusting the voltage applied to the electric dust collector 2a, the amount of dust collected in the first dust collecting step (first dust collecting equipment 2a) is adjusted. Specifically, in the electric dust collector 2a, by reducing the voltage from a predetermined applied voltage, among the dust collected by the electric dust collector 2a, dust having a relatively fine particle size is not collected. Further, by stopping charging of the electrostatic precipitator 2a, dust collection by the electrostatic precipitator 2a is stopped. That is, by reducing the voltage applied to the electrostatic precipitator 2a or stopping the charging of the electrostatic precipitator 2a, the amount of dust collected by the electrostatic precipitator 2a is reduced.

逆に、印加電圧を低下させた状態から増加させることで、比較的細かい粒度のダストも集塵されるようになる。また、電気集塵機2aの荷電を再開することで、電気集塵機2aでの集塵が再開される。つまり、電気集塵機2aへの印加電圧を増加させたり、電気集塵機2aの荷電を再開したりすることで、電気集塵機2aでの集塵量が増加することになる。   Conversely, by increasing the applied voltage from a lowered state, dust with a relatively fine particle size is also collected. Moreover, the dust collection in the electric dust collector 2a is restarted by restarting the charging of the electric dust collector 2a. That is, increasing the voltage applied to the electrostatic precipitator 2a or resuming the charging of the electrostatic precipitator 2a increases the amount of dust collected by the electrostatic precipitator 2a.

このように、電気集塵機2aへの印加電圧を調節することで、第一集塵工程(電気集塵機2a)での集塵量が調節されるため、第二集塵工程(第二集塵設備2b)へのダストの供給量が調節される。これにより、第二集塵工程(第二集塵設備2b)を介して揮発性物質除去工程(揮発性物質除去設備3)へ供給されるダストの供給量が調節される。   In this way, by adjusting the voltage applied to the electric dust collector 2a, the amount of dust collected in the first dust collecting step (electric dust collector 2a) is adjusted, so the second dust collecting step (second dust collecting equipment 2b). ) Is adjusted. Thereby, the supply amount of the dust supplied to the volatile substance removal process (volatile substance removal equipment 3) through the second dust collection process (second dust collection equipment 2b) is adjusted.

そして、濃度測定工程(濃度測定設備4)における測定結果に基づいて電気集塵機2aへの印加電圧の調節を行うことで、第二集塵工程(第二集塵設備2b)でのダストの集塵量が調節される。具体的には、濃度測定工程(濃度測定設備4)の測定結果が所望する値を超えた場合には、電気集塵機2aへの印加電圧を低下させたり、電気集塵機2aの荷電を一次的に停止したりすることで、第二集塵工程(第二集塵設備2b)へのダストの供給量を増加させて第二集塵工程(第二集塵設備2b)での集塵量を増加させる。これにより、第二集塵工程(第二集塵設備2b)を介して揮発性物質除去工程へのダストの供給量が増加する。   Then, by adjusting the voltage applied to the electrostatic precipitator 2a based on the measurement result in the concentration measurement step (concentration measurement facility 4), dust collection in the second dust collection step (second dust collection facility 2b) is performed. The amount is adjusted. Specifically, when the measurement result of the concentration measurement step (concentration measurement equipment 4) exceeds a desired value, the voltage applied to the electrostatic precipitator 2a is reduced, or the charging of the electrostatic precipitator 2a is temporarily stopped. By increasing the amount of dust supplied to the second dust collection step (second dust collection facility 2b), the amount of dust collected in the second dust collection step (second dust collection facility 2b) is increased. . This increases the amount of dust supplied to the volatile substance removal step through the second dust collection step (second dust collection facility 2b).

特に、第一集塵設備(電気集塵機)2aで集塵されて揮発性物質除去工程(揮発性物質除去設備3)に供給されていなかった比較的細かい粒径のダストには、揮発性物質が付着(析出)し易いため、斯かるダストが揮発性物質除去工程(揮発性物質除去設備3)に供給されるようになることで、より多くの揮発性物質がダストから除去されることになる。このため、ダストと共に焼成設備へ供給(返送)される揮発性物質の量が減少し、排ガス中に再び含有される揮発性物質の量が減少する。これにより、排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に低下させることができる。   In particular, volatile substances are contained in dust having a relatively fine particle diameter that has not been supplied to the volatile substance removing step (volatile substance removing equipment 3) after being collected by the first dust collecting equipment (electric dust collector) 2a. Since it tends to adhere (deposit), more volatile substances are removed from the dust by supplying such dust to the volatile substance removing step (volatile substance removing equipment 3). . For this reason, the amount of volatile substances supplied (returned) together with dust to the firing facility is reduced, and the amount of volatile substances contained again in the exhaust gas is reduced. Thereby, the density | concentration of the volatile substance in waste gas can be reduced to the desired value.

また、濃度測定工程(濃度測定設備4)における測定結果が所望する値未満に低下した場合には、電気集塵機2aへの印加電圧を増加させたり、電気集塵機2aの荷電を再開したりすることで、第二集塵工程(第二集塵設備2b)へ供給されるダストの量を減少させ、第一集塵設備(電気集塵機)2aから焼成設備Aへ供給されるダストの量を増加させる。   Moreover, when the measurement result in the concentration measurement process (concentration measurement equipment 4) falls below a desired value, the voltage applied to the electrostatic precipitator 2a is increased, or charging of the electrostatic precipitator 2a is resumed. The amount of dust supplied to the second dust collection step (second dust collection facility 2b) is decreased, and the amount of dust supplied from the first dust collection facility (electric dust collector) 2a to the firing facility A is increased.

以上のように、濃度測定工程(濃度測定設備4)における測定結果に基づいて電気集塵機2aへの印加電圧を調節することで、揮発性物質除去工程(揮発性物質除去設備3)へのダスト(特に、比較的細かい粒度のダスト)の供給量が調節されるため、セメント製造設備内で循環する揮発性物質の量が必要な範囲で調節される。これにより、集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガス中の揮発性物質の濃度を所望する値に維持することができる。   As described above, by adjusting the applied voltage to the electrostatic precipitator 2a based on the measurement result in the concentration measurement step (concentration measurement facility 4), dust (volatile material removal facility 3) dust ( In particular, since the supply amount of dust having a relatively fine particle size is adjusted, the amount of volatile substances circulating in the cement manufacturing facility is adjusted within a necessary range. Thereby, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas (discharged from the dust collection equipment 2) after a dust collection process is maintainable to the desired value.

また、本願発明に係る方法は、電気集塵機2aを備えるセメント製造設備に対して、汎用的に適用することができる。このため、例えば、竪型原料ミルを備えるセメント製造設備や、ロータリードライヤーとチューブミルとの組み合わせを構成とするセメント製造設備等に対しても本願発明に係る方法を汎用的に適用することができる。   In addition, the method according to the present invention can be applied universally to a cement manufacturing facility including the electric dust collector 2a. For this reason, for example, the method according to the present invention can be applied universally to a cement manufacturing facility including a vertical raw material mill, a cement manufacturing facility including a combination of a rotary dryer and a tube mill, and the like. .

本実施形態では、濃度測定工程(濃度測定設備4)における測定結果、および、粒度測定工程(粒度測定設備2c)における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節するようにしてもよい。   In this embodiment, the applied voltage to the electrostatic precipitator may be adjusted based on the measurement result in the concentration measurement step (concentration measurement facility 4) and the measurement result in the particle size measurement step (particle size measurement facility 2c). Good.

これにより、集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガス中の揮発性物質の濃度を容易に把握することができる。   Thereby, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas (discharged from the dust collection equipment 2) after a dust collection process can be grasped | ascertained easily.

具体的には、上述したように、電気集塵機2aへの印加電圧の調節によって、第二集塵工程(第二集塵設備2b)へのダストの供給量が変化する。このため、第二集塵工程(第二集塵設備2b)で集塵されるダストの粒度分布が変化することになる。つまり、粒度測定工程(粒度測定設備2c)において第二集塵工程(第二集塵設備2b)で集塵されるダストの粒度分布を測定することで、揮発性物質除去工程(揮発性物質除去設備3)へのダストの供給量の変化を把握することができる。   Specifically, as described above, the amount of dust supplied to the second dust collecting step (second dust collecting equipment 2b) is changed by adjusting the voltage applied to the electric dust collector 2a. For this reason, the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection step (second dust collection equipment 2b) changes. That is, by measuring the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection step (second dust collection facility 2b) in the particle size measurement step (particle size measurement facility 2c), the volatile substance removal step (volatile substance removal) Changes in the amount of dust supplied to the equipment 3) can be grasped.

これにより、電気集塵機2aへの印加電圧の調節(変化)に対して、集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガス中の揮発性物質の濃度変化にタイムラグが生じる場合であっても、粒度測定工程(粒度測定設備2c)における測定結果に基づいて、集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガス中の揮発性物質の濃度を把握することができる。このため、集塵工程後の(集塵設備2から排出される)排ガス中の揮発性物質の濃度を容易に維持することができる。   This is a case where a time lag occurs in the concentration change of the volatile substance in the exhaust gas (discharged from the dust collection facility 2) after the dust collection process with respect to the adjustment (change) of the applied voltage to the electric dust collector 2a. However, based on the measurement result in the particle size measurement step (particle size measurement facility 2c), the concentration of the volatile substance in the exhaust gas after being collected (discharged from the dust collection facility 2) can be grasped. For this reason, the density | concentration of the volatile substance in the waste gas (discharged from the dust collection equipment 2) after a dust collection process can be maintained easily.

なお、本発明に係るガス処理方法およびガス処理装置は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。また、上記した複数の実施形態の構成や方法等を任意に採用して組み合わせてもよい(1つの実施形態に係る構成や方法等を他の実施形態に係る構成や方法等に適用してもよい)ことは勿論である。   In addition, the gas processing method and gas processing apparatus which concern on this invention are not limited to the said embodiment, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention. Further, the configurations and methods of the plurality of embodiments described above may be arbitrarily adopted and combined (even if the configurations and methods according to one embodiment are applied to the configurations and methods according to other embodiments). Of course.

上記実施形態では、第二集塵工程および第二集塵設備2bにおいて、バグフィルターが使用されているが、これに限定されるものではなく、他の集塵設備、例えば、電気集塵機が使用されてもよい。具体的には、第二集塵設備2bとして電気集塵機が使用されてもよい。又は、上記実施形態で第一集塵設備2aとして使用される電気集塵機として、複数の荷電室を備えており、各荷電室が独立して印加電圧を調整可能に構成されたものを使用してもよい。この場合、電気集塵機の一の荷電室で第一集塵工程を行い、他の荷電室で第二集塵工程を行うようにしてもよい。   In the said embodiment, although a bag filter is used in the 2nd dust collection process and the 2nd dust collection equipment 2b, it is not limited to this, Other dust collection equipment, for example, an electric dust collector, is used. May be. Specifically, an electric dust collector may be used as the second dust collection facility 2b. Alternatively, as the electric dust collector used as the first dust collection equipment 2a in the above embodiment, a plurality of charging chambers are provided, and each charging chamber is configured such that the applied voltage can be adjusted independently. Also good. In this case, the first dust collection step may be performed in one charging chamber of the electric dust collector, and the second dust collection step may be performed in another charging chamber.

また、上記実施形態では、粒度測定設備2c(粒度測定工程)および供給量調節設備2d(供給量調節工程)を備えているが、これに限定されるものではなく、これらの何れか一方、又は、両方を備えない構成であってもよい。   Moreover, in the said embodiment, although equipped with the particle size measurement equipment 2c (particle size measurement process) and the supply amount adjustment equipment 2d (supply amount adjustment process), it is not limited to this, either of these, or The configuration may be such that both are not provided.

1…ガス処理設備、2…集塵設備、2a…第一集塵設備、2a…電気集塵機、2b…第二集塵設備、2b…バグフィルター、2c…粒度測定設備、2d…供給量調節設備、3…揮発性物質除去設備、3a…揮発性物質回収設備、4…濃度測定設備、A…焼成設備、A1…キルン、A2…予備加熱設備、A2a…プレヒーター、A2b…仮焼炉、A3…貯蔵設備、A4…前処理設備、A4a…沈降室、A4b…スタビライザー、A5…原料供給設備、A6…排気設備   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Gas processing equipment, 2 ... Dust collection equipment, 2a ... First dust collection equipment, 2a ... Electric dust collector, 2b ... Second dust collection equipment, 2b ... Bag filter, 2c ... Particle size measurement equipment, 2d ... Supply amount adjustment equipment DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Volatile substance removal equipment, 3a ... Volatile substance collection equipment, 4 ... Concentration measurement equipment, A ... Firing equipment, A1 ... Kiln, A2 ... Preheating equipment, A2a ... Preheater, A2b ... Calciner, A3 ... Storage equipment, A4 ... Pretreatment equipment, A4a ... Settling chamber, A4b ... Stabilizer, A5 ... Raw material supply equipment, A6 ... Exhaust equipment

Claims (8)

セメント原料を焼成する焼成設備から排出される排ガス中のダストを集塵する集塵工程を備え、集塵工程で集塵されるダストの少なくとも一部をセメント原料として焼成設備へ供給するガス処理方法であって、
前記集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去工程を更に備え、
前記集塵工程は、電気集塵機を用いて排ガスからダストを集塵する第一集塵工程と、第一集塵工程後の排ガスからダストを集塵する第二集塵工程とを備えており、
前記揮発性物質除去工程は、第二集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去するように構成されることを特徴とするガス処理方法。
A gas treatment method comprising a dust collection step for collecting dust in exhaust gas discharged from a firing facility for firing cement raw material, and supplying at least a part of the dust collected in the dust collection step to the firing facility as cement raw material Because
A volatile substance removing step of removing volatile substances from the dust collected in the dust collecting step;
The dust collection step includes a first dust collection step of collecting dust from exhaust gas using an electric dust collector, and a second dust collection step of collecting dust from exhaust gas after the first dust collection step,
The gas processing method, wherein the volatile substance removing step is configured to remove volatile substances from the dust collected in the second dust collecting step.
前記集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定工程を更に備え、該濃度測定工程における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧を調節することで、第二集塵工程で集塵されるダストの集塵量を調整することを特徴とする請求項1に記載のガス処理方法。   The method further comprises a concentration measurement step for measuring the concentration of volatile substances in the exhaust gas after the dust collection step, and adjusting the applied voltage to the electric dust collector based on the measurement result in the concentration measurement step, thereby providing the second dust collection The gas treatment method according to claim 1, wherein the amount of dust collected in the process is adjusted. 前記第二集塵工程で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定工程を更に備え、濃度測定工程における測定結果および粒度測定工程における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節することを特徴とする請求項2に記載のガス処理方法。   The method further comprises a particle size measurement step for measuring the particle size distribution of the dust collected in the second dust collection step, and based on the measurement result in the concentration measurement step and the measurement result in the particle size measurement step, the applied voltage to the electric dust collector is The gas treatment method according to claim 2, wherein the gas treatment method is adjusted. 前記揮発性物質除去工程へ供給されるダストの供給量を濃度測定工程における測定結果に基づいて調節する供給量調節工程を更に備えることを特徴とする請求項2又は3に記載のガス処理方法。   The gas processing method according to claim 2, further comprising a supply amount adjustment step of adjusting a supply amount of dust supplied to the volatile substance removal step based on a measurement result in the concentration measurement step. セメント原料を焼成する焼成設備から排出される排ガス中のダストを集塵する集塵設備を備え、該集塵設備で集塵されるダストの少なくとも一部を焼成設備に供給可能に構成されるガス処理設備であって、
前記集塵設備で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去設備を更に備え、
前記集塵設備は、電気集塵機を用いて排ガスからダストを集塵する第一集塵設備と、第一集塵設備から排出される排ガスからダストを集塵する第二集塵設備とを備えており、
前記揮発性物質除去設備は、第二集塵設備で集塵されるダストから揮発性物質を除去するように構成されることを特徴とするガス処理設備。
Gas configured to collect dust in exhaust gas discharged from a firing facility for firing cement raw material and configured to supply at least a part of the dust collected by the dust collection facility to the firing facility A processing facility,
A volatile substance removing facility for removing volatile substances from the dust collected by the dust collecting facility;
The dust collection facility includes a first dust collection facility that collects dust from exhaust gas using an electric dust collector, and a second dust collection facility that collects dust from exhaust gas discharged from the first dust collection facility. And
The volatile substance removing equipment is configured to remove volatile substances from dust collected by the second dust collecting equipment.
前記集塵設備から排出される排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定設備を更に備え、該濃度測定設備における測定結果に基づいて電気集塵機への印加電圧を調節することで、第二集塵設備で集塵されるダストの集塵量を調整可能に構成されることを特徴とする請求項5に記載のガス処理設備。   A concentration measuring facility for measuring a concentration of a volatile substance in the exhaust gas discharged from the dust collecting facility, and adjusting a voltage applied to the electric dust collector based on a measurement result in the concentration measuring facility; 6. The gas processing facility according to claim 5, wherein the dust collection amount of dust collected by the dust collection facility is configured to be adjustable. 前記第二集塵設備で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定設備を更に備え、濃度測定設備における測定結果および粒度測定設備における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節可能に構成されることを特徴とする請求項6に記載のガス処理設備。   The apparatus further comprises a particle size measuring facility for measuring the particle size distribution of dust collected by the second dust collecting facility, and the applied voltage to the electric dust collector is determined based on the measurement result in the concentration measuring facility and the measurement result in the particle size measuring facility. The gas processing facility according to claim 6, wherein the gas processing facility is adjustable. 前記揮発性物質除去設備へ供給されるダストの供給量を濃度測定設備における測定結果に基づいて調節する供給量調節設備を更に備えることを特徴とする請求項6又は7に記載のガス処理設備。   The gas processing facility according to claim 6 or 7, further comprising a supply amount adjustment facility for adjusting a supply amount of dust supplied to the volatile substance removal facility based on a measurement result in the concentration measurement facility.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101783179B1 (en) * 2015-06-29 2017-09-28 한국전력공사 Apparatus for Recovering of Fine Fly Ashes with High Rare Earth Element

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60174441A (en) * 1984-02-20 1985-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Air cleaner
JPS62213858A (en) * 1986-03-14 1987-09-19 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Electrostatic precipitator
US5169611A (en) * 1990-06-12 1992-12-08 Krupp Polysius Ag Method of purifying the exhaust gases from plants for the production of cement clinker
JP2005125234A (en) * 2003-10-23 2005-05-19 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Dust collecting apparatus and dust collecting method of cement production facility

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60174441A (en) * 1984-02-20 1985-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Air cleaner
JPS62213858A (en) * 1986-03-14 1987-09-19 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd Electrostatic precipitator
US5169611A (en) * 1990-06-12 1992-12-08 Krupp Polysius Ag Method of purifying the exhaust gases from plants for the production of cement clinker
JP2005125234A (en) * 2003-10-23 2005-05-19 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Dust collecting apparatus and dust collecting method of cement production facility

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101783179B1 (en) * 2015-06-29 2017-09-28 한국전력공사 Apparatus for Recovering of Fine Fly Ashes with High Rare Earth Element

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