JP2014081769A - 印影イメージの二値化処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スキャナで読み取った印影イメージを二値化処理する印影イメージの二値化処理装置において、前記印影イメージに基づき、当該印影の外周における濃度分布から、当該外周の濃度の偏りを決定する濃度決定部と、前記外周の濃度の偏りから当該印影の濃度の偏りを示す濃度勾配Mを決定し、当該濃度勾配に基づいて前記印影の各領域の推定濃度を算出する推定濃度算出部と、前記推定濃度に基づき、前記印影の各領域に対する二値化のしきい値を設定するエリアしきい値設定部を備える。
【選択図】図18
Description
印影処理システム1は、スキャナ2、二値化処理装置4、印影DBサーバ6を有する。スキャナ2は、帳票等に押捺された印影を印影イメージに変換するものである。スキャナ2のタイプとしては、ラインスキャナあるいは2次元スキャナのいずれでもよい。スキャナ2は、読取った印影イメージをデジタルデータで二値化処理装置4に出力する。
画像読取部10は、外周抽出部12、外周濃度算出部14を有する。外周抽出部12は、印影イメージから、外周を特定する処理を行い、さらにハフ変換処理等により円の中心点O及び半径rを算出する。外周濃度算出部14は、特定された外周の各位置につき、外周を構成するドットの各濃度を算出する。
濃度決定部22は、印影イメージに基づき、印影の外周における濃度分布から、外周の濃度の偏りを決定するものである。詳しくは、まず、濃度決定部22は、外周に濃度を取得する検出点を所定間隔で設定し、設定された複数の検出点の濃度から、前記最大濃度点と最小濃度点を決定する。そして、濃度決定部22は、印影の外周において最大濃度を示す最大濃度点及び印影の外周において最小の濃度を示す最小濃度点から、外周の濃度の偏りを決定する。
推定濃度算出部26は、外周の濃度の偏りから印影の濃度の偏りを示す濃度勾配を決定し、濃度勾配に基づいて印影の各領域の推定濃度を算出するものである。詳しくは、推定濃度算出部26は、最大濃度点と最小濃度点を結んだ直線を濃度勾配線として、濃度勾配線に従って、印影の濃度が変化すると推定する。さらに、推定濃度算出部26は、前記印影の各領域において、前記濃度勾配線に直交する線に属する領域は前記推定濃度が同一であると算出する。
印影外周の濃度算出処理を行う(ステップS14)。外周濃度算出部14は、図5のサブルーチンで説明する濃度点決定処理のために、外周Kを構成する各ドットに対応する濃度を算出しておく。
取得したドット(例えば h1)の濃度が規定値を超えているかを判断する(ステップS40)。ここで、濃度が規定値以下かを判断するのは、外周の外側まで達したかを判断するためである。ドットの濃度により、外周の外側を越したかを判断できるからである。
印影領域の分割処理を行う(ステップS18)。エリア分割部24は、外周およびその内部を含めた印影領域の全体につき、縦横をそれぞれ所定間隔で分割して領域に分ける。
図4のフローチャートで、印影内の各領域の二値化しきい値設定処理を行う(ステップS22)。図7は、印影内の各領域の二値化しきい値設定処理の手順を説明するフローチャートである。エリアしきい値設定部28が、印影の各領域の推定濃度に基づき、印影の各領域に対する二値化のしきい値を設定する。
ステップS20で算出した対象の領域の推定濃度ATを基に二値化しきい値を算出する(ステップS92)。しきい値は、例えば、推定濃度に一定値をかけるか(AT×0.9)、あるいは一定値を引いた値(例えば8ビット最大255の場合に、AT−15)とする。
図19(A)に示す印影は、図3で示した濃度に偏りのある印影で、二値化処理を行う前の印影である。この二値化処理前の印影に、最小濃度の点R、最大濃度の点Q、及び点Rと点Qを結ぶ直線M、垂線Nを重ねて示す。
図20は、楕円形外周の印影に本実施形態を適用できることを説明するための図である。図20(A)は、縦方向に長い楕円状の印影の外周Kの例を示すものである。図9と同様に、外周K上に所定の間隔で検出点としてp1〜p9が設定される。検出点は、センタからの角度で等角度間隔、あるいは周長が等間隔、いずれで設定するようにしても良い。
1)濃度に偏りのある印影イメージであっても、濃度変化に応じた二値化しきい値を設定することによって、印影全体で鮮明な二値化データを得ることができる。
2)印影イメージとしてこの二値化されたデータを、登録される印影イメージに、あるいは登録された印影イメージと照合される帳票の印影イメージに用いることによって、目視による照合あるいは自動的な照合のいずれでも、印影照合の精度を向上させ、照合時の事故を軽減させることができる。
3)印影全体の濃度偏りとの相関性の高い外周の濃度偏りの分布を利用して、印影で段階的に二値化のしきい値を設定するようにしたので、高精度での二値化処理ができる。
4)外周は、その濃度検出が、印影の内部に比べて安定して、かつ容易であるため、外周濃度は、印影全体の推定濃度を決めるスケールに適している。
5)外周の最大濃度点と最小濃度点を結ぶ直線を濃度分布を規定する濃度勾配線としたので、各領域の濃度、つまりしきい値が簡単な計算によって算出できる。
6)外周の形状を特に問わないので、多様な印鑑のタイプに対応できる。
1)上記説明では、計算の簡易化のために直線Mに沿った濃度変化がリニアと仮定して、推定濃度を算出した。しかし、濃度変化がリニアではなく、曲線的な変化と仮定して推定濃度を算出するようにしてもよい。
2)最大・最小濃度点を決定するにあたり、検出点の濃度を、外周の線幅方向に向かって取得したドットの濃度の平均としたが、これに限るものではない。中心gの近傍の数点の濃度を取得してその平均を、検出点の濃度とするような、簡易的な方式にしてもよい。
2 スキャナ
6 印影DBサーバ
10 画像読取部
12 外周抽出部
14 外周濃度算出部
20 しきい値設定部
22 濃度決定部
24 エリア分割部
26 推定濃度算出部
28 エリアしきい値設定部
30 二値化処理部
A 濃度
g 中心
M 直線
N 垂線
Claims (9)
- スキャナで読み取った印影イメージを二値化処理する印影イメージの二値化処理装置において、
前記印影イメージに基づき、当該印影の外周における濃度分布から、当該外周の濃度の偏りを決定する濃度決定部と、
前記外周の濃度の偏りから当該印影の濃度の偏りを示す濃度勾配を決定し、当該濃度勾配に基づいて前記印影の各領域の推定濃度を算出する推定濃度算出部と、
前記推定濃度に基づき、前記印影の各領域に対する二値化のしきい値を設定するエリアしきい値設定部を備える
ことを特徴とする印影イメージの二値化処理装置。 - 前記濃度決定部は、当該印影の外周において最大濃度を示す最大濃度点及び当該印影の外周において最小の濃度を示す最小濃度点から、当該外周の濃度の偏りを決定する
ことを特徴とする請求項1に記載の印影イメージの二値化処理装置。 - 前記推定濃度算出部は、前記最大濃度点と最小濃度点を結ぶ直線を濃度勾配線として、当該濃度勾配線に従って、印影の濃度が変化すると推定する
ことを特徴とする請求項2に記載の印影イメージの二値化処理装置。 - 前記推定濃度算出部は、前記印影の各領域において、前記濃度勾配線に直交する線に属する領域は前記推定濃度が同一であると算出する
ことを特徴とする請求項3に記載の印影イメージの二値化処理装置。 - 前記濃度決定部は、前記外周に濃度を取得する検出点を所定間隔で設定し、設定された前記複数の検出点の濃度から、前記最大濃度点と最小濃度点を決定する
ことを特徴とする請求項2に記載の印影イメージの二値化処理装置。 - 前記濃度決定部は、前記検出点の濃度として、当該外周の線幅方向に向かって複数取得された濃度の平均値を用いる
ことを特徴とする請求項5に記載の印影イメージの二値化処理装置。 - 前記印影の各領域について、前記設定された二値化のしきい値によって二値化処理する二値化処理部を備える
ことを特徴とする請求項1に記載印影イメージの二値化処理装置。 - スキャナで読み取った印影イメージを二値化処理する印影イメージの二値化処理方法において、
前記印影イメージに基づき、当該印影の外周における濃度分布から、当該外周の濃度の偏りを決定するステップと、
前記決定した外周の濃度の偏りから当該印影の濃度の偏りを示す濃度勾配を決定し、当該濃度勾配に基づいて前記印影の各領域の推定濃度を算出するステップと、
前記算出した推定濃度に基づき、前記印影の各領域に対する二値化のしきい値を設定するステップを含む
ことを特徴とする印影イメージの二値化処理方法。 - スキャナで読み取った印影イメージを二値化処理する印影イメージの二値化処理方法をコンピュータに実行させるプログラムにおいて、
前記印影イメージに基づき、当該印影の外周における濃度分布から、当該外周の濃度の偏りを決定するステップと、
前記決定した外周の濃度の偏りから当該印影の濃度の偏りを示す濃度勾配を決定し、当該濃度勾配に基づいて前記印影の各領域の推定濃度を算出するステップと、
前記算出した推定濃度に基づき、前記印影の各領域に対する二値化のしきい値を設定するステップを含む
ことを特徴とするプログラム。
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Title |
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JPN6015039453; 柴山 純一: '印影照合における精密照合方式' 電子情報通信学会論文誌 Vol. J77-D-II No.10, 19941025, P.2027-2035, 社団法人電子情報通信学会 * |
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