JP2014080652A - Plating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品を形成するフープ材等の帯状部材をめっき処理するめっき装置に関する。 The present invention relates to a plating apparatus for plating a strip-shaped member such as a hoop material that forms an electronic component.
従来、トランジスタ、IC、スイッチ等の電子部品、コネクタ、表面処理が必要な鋼板材料等を大量生産するには、フープ材と呼ばれる帯状部材にめっき処理を施すようにしている。このような帯状部材の表面にめっき処理を行うめっき装置のうち、帯状部材の表面に、めっき層を施す部分とめっき層を施さない部分とを形成するめっき装置の一例が、特許文献1に記載されている。
Conventionally, in order to mass-produce electronic parts such as transistors, ICs and switches, connectors, and steel plate materials that require surface treatment, a strip member called a hoop material is plated. An example of a plating apparatus that forms a portion on which the plating layer is applied and a portion on which the plating layer is not applied on the surface of the belt-like member among the plating apparatuses that perform plating on the surface of such a belt-like member is described in
この特許文献1に記載されためっき装置はめっき槽を有しており、めっき槽内に吹き出し装置が設けられている。めっき槽内には陽電極が設けられており、陽電極には隙間が形成されている。吹き出し装置は、めっき槽内のめっき液を取り入れて、陽電極の隙間に向けてめっき液を吹き出すようになっている。陽電極の上には遮蔽板が設けられており、遮蔽板には開口部が形成されている。
The plating apparatus described in
一方、めっき槽の上方には陰電極となるフープ材(帯状部材)が略水平に保持される。フープ材の下面はマスクにより覆われている。フープ材の下面のうち、マスクにより覆われていない部分は、第1露出部及び第2露出部となっている。フープ材の第1露出部は、遮蔽板の開口部の真上に位置しており、フープ材の第2露出部は、遮蔽板の真上に位置している。 On the other hand, a hoop material (strip-shaped member) serving as a negative electrode is held substantially horizontally above the plating tank. The lower surface of the hoop material is covered with a mask. Of the lower surface of the hoop material, portions not covered by the mask are first exposed portions and second exposed portions. The first exposed portion of the hoop material is located directly above the opening of the shielding plate, and the second exposed portion of the hoop material is located directly above the shielding plate.
そして、陽電極とフープ材との間に電圧を印加するとともに、吹き出し装置からめっき液が吹き出されると、そのめっき液は、陽電極の隙間及び遮蔽板の開口部を通り、真上に向けて吹き出される。すると、めっき液は、フープ材の下面のうち、マスクにより覆われていない第1露出部及び第2露出部に直接接触し、めっき層が形成される。一方、フープ材の下面のうち、マスクにより覆われている部分にはめっき層は形成されない。ここで、第1露出部は、遮蔽板の開口部の真上に位置し、第2露出部は、遮蔽板の真上に位置している。このため、第1露出部に到達するめっき液の流量は、第2露出部に到達するめっき液の流量よりも多くなり、第1露出部に形成されるめっき層の厚さは、第2露出部に形成されるめっき層の厚さよりも厚くなる。 When a voltage is applied between the positive electrode and the hoop material and the plating solution is blown out from the blowing device, the plating solution passes directly through the gap between the positive electrode and the opening of the shielding plate. And blown out. Then, the plating solution directly contacts the first exposed portion and the second exposed portion that are not covered with the mask on the lower surface of the hoop material, and a plated layer is formed. On the other hand, no plating layer is formed on the lower surface of the hoop material that is covered with the mask. Here, the first exposed portion is located immediately above the opening of the shielding plate, and the second exposed portion is located directly above the shielding plate. For this reason, the flow rate of the plating solution reaching the first exposed portion is larger than the flow rate of the plating solution reaching the second exposed portion, and the thickness of the plating layer formed on the first exposed portion is the second exposed portion. It becomes thicker than the thickness of the plating layer formed on the part.
上記特許文献1に記載されためっき装置は、フープ材を略水平方向に保持した状態、つまり、フープ材の厚さ方向が略上下方向に沿った状態でめっき処理を施す装置である。ところで、フープ材の厚さ方向が略水平方向に沿った状態となるようにフープ材を縦に支持し、そのフープ材を長手方向に搬送しながら両面にめっき処理を施すことも行われている。このように、フープ材の両面にめっき処理を施すめっき装置において、フープ材の両面のそれぞれに、めっき層を施さない部分とめっき層を施す部分とを形成する場合は、フープ材の両面のそれぞれに別個に接触する第1マスキング部材及び第2マスキング部材を設ける必要がある。
The plating apparatus described in
しかしながら、2つの部材を長手方向に接続して形成されたフープ材であると、2つの部材同士の接続部分に段差が存在する。この段差は、フープ材の厚さ方向の段差となって現れる。すると、フープ材に対する第1マスキング部材及び第2マスキング部材の接触状態が不適切となる問題があった。 However, in the case of a hoop material formed by connecting two members in the longitudinal direction, there is a step at the connection portion between the two members. This step appears as a step in the thickness direction of the hoop material. Then, there is a problem that the contact state of the first masking member and the second masking member with the hoop material becomes inappropriate.
本発明の目的は、帯状部材の両面にめっき層を施さない部分とめっき層を施す部分とを形成するにあたり、帯状部材に対する第1マスキング部材及び第2マスキング部材との接触状態を適切にすることの可能なめっき装置を提供することにある。 An object of the present invention is to make the contact state of the first masking member and the second masking member with respect to the belt-like member appropriate when forming a portion where the plating layer is not applied on both sides of the belt-like member and a portion where the plating layer is applied. An object of the present invention is to provide a plating apparatus capable of performing the following.
本発明は、長手方向に搬送される帯状部材の両面に、めっき層を施す部分とめっき層を施さない部分とを形成するめっき装置であって、前記めっき層を施さない部分を形成するために前記帯状部材の一方の表面に接触する第1マスキング部材と、前記めっき層を施さない部分を形成するために前記帯状部材の他方の表面に接触し、かつ、前記第1マスキング部材とともに前記帯状部材を厚さ方向の両側から挟むように配置される第2マスキング部材と、前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材を前記帯状部材の厚さ方向にそれぞれ単独で移動可能に支持する第1支持機構と、前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材を前記帯状部材に近づける向きの力を、前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材にそれそれ単独で加える第1弾性部材とを備えていることを特徴とする。 The present invention is a plating apparatus for forming a portion on which a plating layer is applied and a portion on which a plating layer is not applied on both surfaces of a belt-like member conveyed in the longitudinal direction, in order to form a portion on which the plating layer is not applied A first masking member that contacts one surface of the band-shaped member; and a second masking member that contacts the other surface of the band-shaped member to form a portion where the plating layer is not applied, and the first masking member. And a first support for movably supporting the first masking member and the second masking member independently in the thickness direction of the belt-shaped member. A mechanism and a force in a direction to bring the first masking member and the second masking member closer to the belt-like member are applied to the first masking member and the second masking member. Wherein the Re and a first elastic member for applying alone.
本発明の一態様は、前記帯状部材の厚さ方向が水平方向となる状態で前記帯状部材が搬送されているときに、前記帯状部材の両面に前記めっき層を施す部分とめっき層を施さない部分とを形成することを特徴とする。 According to one aspect of the present invention, when the strip member is transported in a state where the thickness direction of the strip member is a horizontal direction, a portion where the plating layer is applied to both surfaces of the strip member and a plating layer are not applied. And forming a portion.
本発明の他の態様は、前記帯状部材の幅方向の両縁に接触して、前記帯状部材を幅方向に位置決めする一対の位置決め部材と、前記一対の位置決め部材の一方を、前記帯状部材の幅方向に移動可能に支持する第2支持機構と、前記第2支持機構により移動可能に支持された前記位置決め部材に、前記帯状部材に近づける向きの力を加える第2弾性部材とを備えていることを特徴とする。 According to another aspect of the present invention, a pair of positioning members that contact both edges in the width direction of the band-shaped member to position the band-shaped member in the width direction, and one of the pair of positioning members is connected to the band-shaped member. A second support mechanism that is movably supported in the width direction; and a second elastic member that applies a force in a direction approaching the belt-shaped member to the positioning member that is movably supported by the second support mechanism. It is characterized by that.
本発明によれば、第1マスキング部材及び第2マスキング部材が、帯状部材の表面に別々に接触するとともに、第1弾性部材の力で第1マスキング部材及び第2マスキング部材が帯状部材に近づけられる。したがって、帯状部材に対する第1マスキング部材及び第2マスキング部材の接触状態を適切にすることができる。 According to the present invention, the first masking member and the second masking member are separately in contact with the surface of the strip member, and the first masking member and the second masking member are brought close to the strip member by the force of the first elastic member. . Therefore, the contact state of the 1st masking member and the 2nd masking member with respect to a strip | belt-shaped member can be made appropriate.
本発明の一態様によれば、帯状部材の厚さ方向を水平方向に沿った状態として、帯状部材を搬送し、帯状部材の両面にめっき層を形成できる。 According to one aspect of the present invention, the belt-shaped member can be conveyed and the plating layer can be formed on both surfaces of the belt-shaped member with the thickness direction of the belt-shaped member being in a state along the horizontal direction.
本発明の他の態様によれば、異なる幅の帯状部材が搬送されても、その帯状部材が幅方向に移動することを防止できる。 According to the other aspect of the present invention, even when the belt-like members having different widths are conveyed, the belt-like members can be prevented from moving in the width direction.
以下、本発明の一実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。図1、図2は、本発明の第1実施形態のめっき装置(電気めっき装置)10を示す。めっき装置10は、長手方向に搬送されるフープ材11の両面にめっき処理を施す装置である。フープ材11の搬送方向で、めっき装置10の上流には、脱脂処理部、水洗い処理部、化学研磨処理部等が、直列に設けられている。また、フープ材11の搬送方向で、めっき装置10の下流には、湯洗い処理部、乾燥処理部等が、直列に設けられている。なお、図1、図2では、これらの各処理部を省略してある。本実施形態において、フープ材11の搬送方向とは、主として水平方向の平面内における搬送方向、または水平方向に沿った搬送方向を意味する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 and 2 show a plating apparatus (electroplating apparatus) 10 according to a first embodiment of the present invention. The
フープ材11は、金属材料、例えば、ニッケル合金、銅合金、鉄系合金、ステンレス、チタン等の薄板により構成されている。対象となる部品がトランジスタであるときは、フープ材11には、プレス加工やエッチング加工によって、トランジスタの端子に相当するリード部(図示せず)が予め形成される。また、フープ材11には、トランジスタ(図示せず)が搭載される。また、対象となる部品によっては、表面に何も加工が施されていないフラットなフープ材11が用いられる。さらに、対象となる部品には、トランジスタの他、IC、スイッチ等の電子部品、コネクタ、機能材料等も含まれる。めっき装置10は、フープ材11の両面に、各種のめっき、例えば、銀めっき、ニッケルめっき、銅めっき、金めっき、錫めっき等を部分的に施す装置である。
The
めっき装置10はめっき槽12を備えている。めっき槽12は、図3のように、略水平方向に設けられた底板13を有する。底板13の平面形状は長方形であり、底板13の2つの長辺にそれぞれ大側板14a,14bが接続されている。2つの大側板14a,14bは相互に平行であり、かつ、2つの大側板14a,14bは略垂直方向に立てられている。また、底板13の2つの短辺にそれぞれ小側板15a,15bが接続されている。2つの小側板は相互に平行であり、かつ、2つの小側板15a,15bは略垂直に立てられている。2つの小側板15a,15bの端部は、2つの大側板14a,14bに接続されている。
The
2つの大側板14a,14b及び2つの小側板15a,15bにより取り囲まれた長方形の内部Aに、高仕切り板16及び低仕切り板17a,17b,17c,17dが設けられている。高仕切り板16は、2つの大側板14a,14bと平行に設けられており、高仕切り板16の長手方向の両端は、2つの小側板15a,15bに接続されている。また、高仕切り板16と一方の大側板14aとの間に、2つの低仕切り板17a,17bが設けられている。2つの低仕切り板17a,17bは、2つの大側板14a,14bと平行に設けられており、低仕切り板17a,17bの長手方向の両端は、2つの小側板15a,15bに接続されている。さらに、高仕切り板16と他方の大側板14bとの間に、2つの低仕切り板17c,17dが設けられている。
A
2つの低仕切り板17c,17dは、2つの大側板14a,14bと平行に設けられており、低仕切り板17c,17dの長手方向の両端は、2つの小側板15a,15bに接続されている。また、4個の低仕切り板17a,17b,17c,17dの高さはすべて同一であり、4個の低仕切り板17a,17b,17c,17dの高さは、高仕切り板16の高さよりも低い。2つの小側板15a,15bには、それぞれ複数個のスリット18が設けられている。図3では、2つの小側板15a,15bにそれぞれ4個のスリット18を設けた例が示されている。2つの小側板15a,15bに設けたスリット18は、いずれも小側板15a,15bの上端から下方に向けて直線状に切り欠かれている。
The two
そして、2つの大側板14a,14b及び2つの小側板15a,15bにより取り囲まれた長方形の空間Aが、4列の内部A1,A2,A3,A4に仕切られている。第1列目の内部A1は、大側板14aと低仕切り板17aとの間に形成され、第2列目の空間A2は、低仕切り板17bと高仕切り板16との間に形成されている。第3列目の空間A3は、高仕切り板16と低仕切り板17cとの間に形成され、第4列目の空間A4は、低仕切り板17dと大側板14bとの間に形成されている。水平方向の平面内で、各内部A1,A2,A3,A4は相互に平行に配置されている。また、フープ材11の搬送方向で、各内部A1,A2,A3,A4の両端に、スリット18がそれぞれ配置されている。そして、内部A1,A2,A3,A4に、2組のめっき液噴流部19a,19bがそれぞれ設けられている。一方のめっき液噴流部19bは、フープ材11の搬送方向で、他方のめっき液噴流部19aよりも下流に配置されている。いずれの内部A1,A2,A3,A4においても、めっき液噴流部19aの構成は、めっき液噴流部19bの構成と同じである。
A rectangular space A surrounded by the two
以下、めっき液噴流部19bを例として、その構造を説明する。図4、図5のように、めっき液噴流部19bは、ノズルベース20及び固定台21を備えている。ノズルベース20は、樹脂材料等により構成されており、ノズルベース20の上面には、めっき液を供給する供給路22が設けられている。また、ノズルベース20は、複数の脚部23、図1の例では2個の脚部23を介して底板13に固定されている。2個の脚部23はフープ材11の搬送方向で異なる位置に設けられている。これにより、ノズルベース20は略水平に支持されている。また、固定台21は、ノズルベース20の上面に固定されている。水平方向の平面内で、固定台21の外周形状はノズルベース20の外周形状と略同じであり、供給路22は固定台21により覆われている。
Hereinafter, the structure of the plating
固定台21上には、2本1組のフープガイド24が複数組設けられている。図1の例では、めっき液噴流部19aに3組のフープガイド24が設けられている。2本のフープガイド24は、搬送されるフープ材11をガイドする機構である。2本のフープガイド24は、マウント24aに対して垂直方向の軸線を中心として回転可能に取り付けられている。また、マウント24aがボルト24bにより固定台21へ固定されている。2本のフープガイド24は、フープ材11の搬送経路Bを挟むように設けられている。本実施形態におけるめっき装置10は、フープ材11の厚さ方向が略水平となる状態でフープ材11を支持し、そのフープ材11を長さ方向に搬送しながらフープ材11の両面にめっき処理を施す装置である。また、2本のフープガイド24の間には、フープ材11の厚さの2倍を超える隙間が設けられている。2本のフープガイド24の間に設けられている隙間の技術的意味は後述する。3組のフープガイド24は、フープ材11の搬送方向で異なる位置に配置されている。
A plurality of sets of two hoop guides 24 are provided on the fixed
また、固定台21の上面には図5、図6のように複数の噴射ノズル25が設けられている。複数の噴射ノズル25は、固定台21の上面から上方に向けて突出している。複数の噴射ノズル25は、フープ材11の搬送経路Bの両側にそれぞれ設けられている。また、複数の噴射ノズル25は、水平方向の平面内でフープ材11の搬送方向に沿って所定間隔をおいて設けられている。図6の例では、フープ材11の搬送方向に沿って4個の噴射ノズル25が、搬送経路Bを挟んで2列設けられている。具体的には、フープ材11の搬送方向で、最も上流に位置する2本のフープガイド24と、搬送方向で中間に位置する2本のフープガイド24との間に8個の噴射ノズル25が配置されている。また、フープ材11の搬送方向で中間に位置する2本のフープガイド24と、搬送方向で最も下流に位置する2本のフープガイド24との間に8個の噴射ノズル25が配置されている。各噴射ノズル25は、フープ材11の搬送経路Bに向けてめっき液を噴射する噴射口(図示せず)が設けられている。各噴射ノズル25には、噴射口と供給路22とをつなぐ通路(図示せず)が設けられている。
A plurality of
めっき液噴流部19aには、複数組、図1及び図2の例では、2組の部分めっき遮蔽部26が設けられている。2組の部分めっき遮蔽部26は、フープ材11の搬送方向で異なる位置に配置されている。2組の部分めっき遮蔽部26の構造は同じであるため、便宜上、一方の部分めっき遮蔽部26についてその構造を説明する。
In the plating
部分めっき遮蔽部26は、上側ベース及27び下側ベース28を有する。上側ベース27は、高さ方向(垂直方向)で下側ベース28よりも上に配置されている。また、上側ベース27及び下側ベース28は、略水平方向に沿って配置された平板状の部材である。上側ベース27及び下側ベース28を構成する材料としては、樹脂材料、例えば、PVC(ポリ塩化ビニール)を用いることができる。上側ベース27における長辺には、複数の切り欠き27aが設けられている。複数の切り欠き27aは、複数の噴射ノズル25を配置する空間を確保するための構造である。
The partial
一方、図7のように、下側ベース28の2つの長辺、つまり、フープ材11の搬送経路Bを挟む両側には、複数の切り欠き31がそれぞれ設けられている。複数の切り欠き31は、アジャストボルト29を挿入するための構造であり、アジャストボルト29の本数と同じ数の切り欠き31が設けられている。フープ材11の搬送方向で、切り欠き31の幅はアジャストボルト29の外径よりも大きく、かつ、ナット30の外径よりも小さい。そして、複数の切り欠き31にそれぞれアジャストボルト29が挿入されている。8本のアジャストボルト29に取り付けられたナット30に下側ベース28がそれぞれ接触して、下側ベース28が略水平な状態で8本のアジャストボルト29により支持されている。さらに、下側ベース28における長辺には、切り欠き31とは別の切り欠き32が複数設けられている。複数の切り欠き32は、複数の噴射ノズル25を配置する空間を確保するための構造である。下側ベース28の一方の長辺に4つの切り欠き32が設けられ、他方の長辺に4つの切り欠き32が設けられている。そして、8つの切り欠き32に、8本の噴射ノズル25がそれぞれ別々に挿入されている。
On the other hand, as shown in FIG. 7, a plurality of
フープ材11の搬送経路Bは、上側ベース27と下側ベース28との間であり、かつ、8本の噴射ノズル25同士の間に、直線状に、かつ、略水平に形成されている。フープ材11は、その厚さ方向が略水平方向を向いた状態となって搬送経路Bを搬送される過程で、フープ材11の両面にめっき処理が施される。また、めっき装置10は、フープ材11の両面にめっき処理を施すにあたり、フープ材11の両面に、めっき層を施す部分と、めっき層を施さない部分とを形成することができる。具体的には、フープ材11の両面に、めっき層を施す部分と、めっき層を施さない部分とを、フープ材11の幅方向に分けて形成することができる。このため、部分めっき遮蔽部26には、フープ材11の両面に別個に接触する遮蔽板33が設けられており、フープ材11の表面のうち遮蔽板33が接触した部分にはめっき層が形成されない。
The conveying path B of the
図7、図8、図9のように、遮蔽板33は2個設けられており、フープ材11の搬送方向に沿って長尺形状に構成されている。2個の遮蔽板33は、フープ材11の搬送方向に対して垂直な平面内での断面形状が略四角形となっている。2個の遮蔽板33は、高さ方向の厚さが同一であり、かつ、フープ材11の搬送方向で厚さが一定である。また、2個の遮蔽板33は、略水平方向の平面内で、フープ材11の搬送経路Bの両側に設けられている。2個の遮蔽板33のうち、フープ材11の搬送方向で上流端に位置し、かつ、搬送経路Bに近い方の角部には面取り加工が施されている。さらに、遮蔽板33を構成する材料としては、耐薬品性、耐摩耗性、滑り特性に優れた樹脂を用いることができる。
As shown in FIGS. 7, 8, and 9, two shielding
また、2本の遮蔽板33を支持する支持ユニット34が設けられている。支持ユニット34は、フープ材11の搬送方向に沿って複数個、図5、図6の例では5個設けられている。5個の支持ユニット34のうち、2個の支持ユニット34は、フープ材11の搬送方向で、噴射ノズル25同士の間に配置されている。残りの1個の支持ユニット34は、最も上流に位置する噴射ノズル25と、上側ベース27の上流端との間に設けられている。さらに残りの1個の支持ユニット34は、最も下流に位置する噴射ノズル25と、上側ベース27の下流端との間に設けられている。各支持ユニット34の構成は同じであるため、1個の支持ユニット34について構造を説明する。支持ユニット34は、図8のように、上側ベース27と下側ベース28との間に介在された2個の遮蔽バー受け35を有する。2個の遮蔽バー受け35は、フープ材11の搬送経路Bを挟んで両側に設けられている。2個の遮蔽バー受け35は、ボルト36によって下側ベース28にそれぞれ別個に固定されている。2個の遮蔽バー受け35を構成する材料としては、耐薬品性、耐摩耗性、滑り特性に優れた樹脂を用いることができる。
Further, a
また、2個の遮蔽バー受け35には、それそれシャフト37の先端が固定されている。2本のシャフト37は垂直方向の軸線に沿って取り付けられており、2本のシャフト37は頭部37aを有する。一方、上側ベース27には、垂直方向に貫通する軸孔27bが2個設けられており、2本のシャフト37が軸孔27bに挿入されている。軸孔27bの内径はシャフト37の外径よりも大きく、上側ベース27は2本のシャフト37に沿って移動可能である。つまり、上側ベース27は2個の遮蔽バー受け35に対して、上下方向に移動可能である。そして、2本のシャフト37にはバネ(圧縮バネ)38が取り付けられている。バネ38は、頭部37aと上側ベース27との間に介在されており、上側ベース27はバネ38の力で2個の遮蔽バー受け35に向けて押されている。
Further, the tip of the
上記のように、部分めっき遮蔽部26は、下側ベース28に遮蔽バー受け35が固定され、遮蔽バー受け35に上側ベース27が取り付けられている。そして、下側ベース28が、8本のアジャストボルト29により支持されている。つまり、部分めっき遮蔽部26は、水平方向の平面内で、固定台21に対して8本のアジャストボルト29により、搬送経路Bに沿った方向及び搬送経路Bと交差する方向に位置決めされている。
As described above, in the partial
また、2個の遮蔽バー受け35における搬送経路B側の側面には、フープ材11の搬送方向に沿って溝35aが設けられており、溝35aに遮蔽板33の幅方向の一部が挿入されている。すなわち、2個の遮蔽バー受け35は、遮蔽板33をそれぞれ単独で移動可能に支持している。さらに、2個の遮蔽バー受け35には、溝35aに開口する孔35bが設けられており、孔35bにはそれぞれバネ(圧縮バネ)39が設けられている。2個の遮蔽板33は、バネ39の力により搬送経路Bに向けて押されている。このため、搬送経路Bにフープ材11が存在しない場合は、2個の遮蔽板33同士が接触する。搬送経路Bにフープ材11が存在すると、2個の遮蔽板33はフープ材11の両面に別々に押し付けられる。
Further, a
さらに、下側ベース28の下面にはローラ受け40が固定されており、ローラ受け40と下側ベース28との間にローラ軸41が挟まれている。ローラ軸41は略水平方向の軸線を中心として設けられており、水平方向の平面内で、ローラ軸41の軸線は搬送経路Bに対して略直角である。このローラ軸41にローラ42が回転可能に取り付けられている。ローラ42は、搬送経路Bの下方に設けられている。さらにまた、上側ベース27の上面にはローラ受け43が固定されており、ローラ受け43と上側ベース27との間にローラ軸44が挟まれている。ローラ軸44は略水平方向の軸線を中心として設けられており、水平方向の平面内で、ローラ軸44の軸線は搬送経路に対して略直角である。このローラ軸44にローラ45が回転可能に取り付けられている。ローラ45は、搬送経路Bの上方に設けられている。下側ベース28に固定されたローラ42は上下方向に移動しないが、上側ベース27に固定されたローラ45は、上側ベース27が下側ベース28に対して上下方向に移動すると、上側ベース27と共に上下方向に移動する。つまり、ローラ42とローラ45との間に形成された上下方向の間隔は可変である。ローラ42,45を構成する材料としては、耐薬品性、耐摩耗性、滑り特性に優れた樹脂を用いることができる。
Further, a
さらに、フープ材11の搬送方向で、中央に配置されている支持ユニット34の上側ベース27と下側ベース28との間には、位置規制ピン(図示せず)が設けられている。位置規制ピンは、2個の遮蔽板33をフープ材11の搬送方向に沿った方向に位置決めするものである。位置規制ピンは、フープ材11の搬送方向で遮蔽バー受け35の両側に設けられている。フープ材11には、切り欠き、孔、溝などが設けられており、位置規制ピンがフープ材11に引っ掛かることにより、フープ材11は搬送経路Bに沿った方向に位置決めされる。
Further, a position restriction pin (not shown) is provided between the
一方、図5のように、上側ベース27の下面において、支持ユニット34同士の間には、ガイドプレート46がそれぞれ設けられている。各ガイドプレート46は、上側ベース27に固定されており、各ガイドプレート46は、搬送経路Bに沿った長尺形状を有している。また、図9のように、ガイドプレート46における搬送経路B側の面には、溝46aが設けられている。溝46aは、搬送経路Bと平行に設けられている。
On the other hand, as shown in FIG. 5, guide
一方、下側ベース28の上面において、支持ユニット34同士の間には、ガイドプレート47がそれぞれ設けられている。各ガイドプレート47は、下側ベース28に固定されており、各ガイドプレート47は、搬送経路Bに沿って長尺形状を有している。また、各ガイドプレート47における搬送経路B側の面には、溝47aが設けられている。溝47aは、搬送経路Bと平行に設けられている。そして、搬送経路Bは溝46aと溝47aとの間に配置されている。ガイドプレート46,47を構成する材料としては、耐薬品性、耐摩耗性、滑り特性に優れた樹脂を用いることができる。
On the other hand, a
さらに、フープ材11の搬送方向で、めっき液噴流部19aの両側にアノード48が、それぞれ設けられている。2個のアノード48は、フープ材11の搬送経路Bと平行に配置されている。アノード48に入れる金属は、めっきの種類により異なる。銀めっきでは銀または銀塊を入れ、ニッケルめっきではニッケルを入れ、銅めっきでは銅を入れ、錫/銀めっきでは錫及び銀を入れ、錫/ビスマスめっきでは錫を入れる。これらの種類のめっきでは、アノード48としてアノードバスケットを用いる。これに対して、金めっきではアノード48としてアノードバスケットを使用せず、不溶性のアノードを用いる。
Further,
2個のアノード48は、電源(図示せず)のプラス極にそれぞれ接続されている。なお、めっき装置10へフープ材11を搬入する搬送ローラ(図示せず)及びめっき装置10からフープ材11を搬出する搬送ローラ(図示せず)が設けられている。搬送ローラは、電源のマイナス極にそれぞれ接続されている。
The two
次に、めっき装置10によりフープ材11の両面にめっき処理を施す工程を説明する。フープ材11が、脱脂処理部、水洗い処理部、化学研磨処理部等を経由してめっき装置10へ搬入される。本実施形態では、物理的に別体である4本のフープ材11をめっき装置10へ並列に搬入し、かつ、4つのスリット18を通過させて、4本のフープ材11を4列の内部A1,A2,A3,A4に並列に搬入することができる。すると、フープ材11は、先ず、めっき液噴流部19aの2本のフープガイド24の間を通過し、上流側に配置されている部分めっき遮蔽部26へ、搬送経路Bに沿って搬入される。フープ材11の先端が遮蔽板33同士の間に進入する前の段階では、バネ39の力により遮蔽板33同士が接触している。そして、フープ材11の先端が遮蔽板33同士の間に食い込むと、フープ材11の移動力で2個の遮蔽板33同士がバネ39の力に抗して移動し、遮蔽板33同士の間へフープ材11が進入し、かつ、フープ材11が搬送方向で下流へ向けて搬送される。このため、図10(A)のように一方の遮蔽板33がフープ材11の一方の表面に接触し、他方の遮蔽板33がフープ材11の他方の面に接触する。
Next, a process of performing plating processing on both surfaces of the
上流に設けられた部分めっき遮蔽部を通過したフープ材11は、めっき液噴流部19aにおいて下流に設けられた部分めっき遮蔽部へ搬送され、前述と同様にして2個の遮蔽板33の間にフープ材11が進入する。そして、めっき液噴流部19aを通過したフープ材11は、フープ材11の搬送方向で中間に位置する2本のフープガイド24の間を通過し、めっき液噴流部19bに搬入される。めっき液噴流部19bにおいても、めっき液噴流部19bと同様の作用が生じ、めっき液噴流部19bを通過したフープ材11は、フープ材11の搬送方向で最も下流に位置する2本のフープガイド24同士の間を通り、めっき装置10から搬出されることとなる。
The
フープ材11がめっき液噴流部19a,19bを通過する際、めっき噴射ノズル25の噴射口からめっき液が噴射される。また、アノード48はプラス極に接続され、搬送ローラはマイナス極に接続されているので、フープ材11がめっき槽12を通過する際に、アノード48の金属は、めっき液中にイオンとなって入り込む。めっき液中の金属イオンは、フープ材11の表面に金属原子として析出し、フープ材11の表裏面にめっき層が形成される。
When the
また、フープ材11が搬送経路Bを搬送されるとき、2個の遮蔽板33がフープ材11の両面に別々に接触する。このため、フープ材11の表面のうち、図11のように遮蔽板33が接触しない部分11aにはめっき層が形成される。これに対して、遮蔽板33が接触する部分11bにはめっき層が形成されないか、または、めっき層が形成されても、その厚さは部分11aよりも薄い。すなわち、遮蔽板33は、フープ材11の表面の一部を覆うマスキングとして機能する。さらに、フープ材11の部分11aに形成するめっき層の厚さは、電源から供給される電力の電流値、フープ材11の搬送速度により決定される。フープ材11の搬送速度は、搬送ローラを回転させる電動モータの回転速度を制御することで調整できる。
Further, when the
さらに、ガイドプレート46,47がフープ材11の上方及び下方に設けられている。フープ材11に電流が流れて電界が形成されると、その電界をガイドプレート46,47が遮蔽する。したがって、フープ材11の縁に形成されるめっき層の膜厚が厚くなることを抑制できる。また、ガイドプレート46,47は、フープ材11が幅方向に移動することを規制する役割も果たす。
Further, guide
ところで、フープ材11は1本の金属部材であるとは限らない。つまり、フープ材11が、2本の部材の長手方向の端部同士を接続して構成されていることもある。例えば、図10(B)のように、2本の部材11c,11dを、はとめ、リベット、溶接、ホッチキス等により接続して1本のフープ材11とすることもある。つまり、部材11c,11d同士の一部が重ねられており、フープ材11の厚さが、他の部位よりも2倍の厚さとなっており、段差49が形成されている。
By the way, the
このように、段差49を有するフープ材11が、部分めっき遮蔽部26へ搬送され、部材11c,11dの接続部分が2個の遮蔽板33の間に進入すると、2個の遮蔽板33がバネ39の力に抗して離れる方向に移動する。つまり、2個の遮蔽板33同士の間隔が広げられる。なお、部材11c,11dの接続部分が2個の遮蔽板33の間を通り抜けると、バネ39の力により2個の遮蔽板33同士の間隔は元の状態に戻る。また、2個の遮蔽板33は位置規制ピンによりフープ材11の搬送方向に位置決めされているため、フープ材11と2個の遮蔽板33との摩擦力により、2個の遮蔽板33がフープ材11の搬送方向に移動することを防止できる。
In this way, when the
上記のように、部分めっき遮蔽部26では、フープ材11に段差49が存在していても、2個の遮蔽板33がフープ材11の厚さ方向にそれぞれ移動し、あるいは、2個の遮蔽板33が幅方向に撓む。つまり、水平方向の平面内で、フープ材11の表面形状に沿って2個の遮蔽板33の形状を追従させることができる。このため、フープ材11の表面に対する2個の遮蔽板33の接触状態、具体的には接触圧力が大幅に変化したり、フープ材11が2個の遮蔽板33に引っ掛かって搬送不良を起こすことを、未然に防止することができる。
As described above, in the partial
したがって、フープ材11の表面に形成するめっき層の厚さを目的の厚さとすることができるとともに、フープ材11の表面に傷が付いたり変形したりすることを抑制できる。また、2本のフープガイド24同士の隙間量はフープ材11の厚さの2倍を超える値となっているため、部材11c,11dの接続部分が、2本のフープガイド24の間を通過することが可能である。
Therefore, the thickness of the plating layer formed on the surface of the
さらに、フープ材11が搬送経路Bを搬送される間、図8のようにローラ42,45がフープ材11の両縁に別々に接触することで、フープ材11が高さ方向に移動することが規制される。また、上側ベース27は遮蔽バー受け35に対して上下方向に移動可能である。このため、幅が異なるフープ材11が搬入されると、ローラ45及び上側ベース27が一体的に上下動することができる。したがって、異なる幅のフープ材11の表裏面にめっき処理を施すときに、フープ材11を高さ方向に位置決めすることができる。
Further, while the
本発明の第1実施形態で説明した構成と、本発明の構成との対応関係を説明すると、フープ材11が、本発明の帯状部材に相当し、遮蔽板33が、本発明の第1マスキング部材及び第2マスキング部材に相当し、遮蔽バー受け35が、本発明の第1支持機構に相当し、バネ39が、本発明の第1弾性部材に相当し、ローラ42,45が、本発明の「一対の位置決め部材」に相当し、上側ベース27及びローラ受け43が、本発明の第2支持機構に相当し、バネ38が、本発明の第2弾性部材に相当し、部分11aが、本発明の「めっき層を施さない部分」に相当し、部分11bが、本発明の「めっき層を施す部分」に相当する。
The relationship between the configuration described in the first embodiment of the present invention and the configuration of the present invention will be described. The
次に、本発明のめっき装置の第2実施形態を、図12〜図17に基づいて説明する。フープ材11の搬送方向で、めっき装置50の上流には、脱脂処理部、水洗い処理部、化学研磨処理部等が、直列に設けられている。また、フープ材11の搬送方向で、めっき装置50の下流には、湯洗い処理部、乾燥処理部等が、直列に設けられている。なお、図12では、これらの各処理部を省略してある。めっき装置50はめっき槽51を有し、めっき槽51は、底板52を有する。底板52は平面形状が長方形であり、底板52の長辺には大側板53,54が連続して設けられている。また、底板52の短辺には小側板55,56が連続して設けられている。大側板53,54及び小側板55,56により取り囲まれた内部Dに支持板57が設けられている。支持板57と底板52との間に、めっき液を供給する供給路58aが形成されている。支持板57上には、複数の噴射ノズル58が設けられている。図12においては、フープ材11の搬送方向に沿って2列に噴射ノズル58が設けられている。噴射ノズル58は3個が1列に並べられている。
Next, 2nd Embodiment of the plating apparatus of this invention is described based on FIGS. In the conveyance direction of the
さらに、内部Dには部分めっき遮蔽部59が設けられている。部分めっき遮蔽部59は、フープ材11の表裏面にめっき処理を施すにあたり、めっき層を施す部分と、めっき層を施さない部分とを、フープ材11の両面にそれぞれ形成する。部分めっき遮蔽部59は、上側ベース60及び下側ベース61を有する。下側ベース61は、支持板57に固定されており、下側ベース61は、フープ材11の搬送方向に沿って長尺形状に延ばされた板部材である。上側ベース60は下側ベース61よりも上方に設けられており、上側ベース60と下側ベース61との間にフープ材11の搬送経路Bが形成される。
Furthermore, a partial
また、上側ベース60及び下側ベース61には、支持ユニット62が設けられている。支持ユニット62は、フープ材11の搬送方向に沿って複数、図12では4箇所に支持ユニット62が設けられている。支持ユニット62は、上側ベース60と下側ベース61との間に介在された2個の遮蔽バー受け63を有する。遮蔽バー受け63は、遮蔽バー受け35と同じ材料により構成されている。水平方向の平面内で、2個の遮蔽バー受け63は、フープ材11の搬送経路Bの両側に配置されている。2個の遮蔽バー受け63は、上側ベース60に対してボルト66により固定されている。また、2個の遮蔽バー受け63には挿入ピン67が固定されており、挿入ピン67が下側ベース61の軸孔61aに挿入されている。すなわち、2個の遮蔽バー受け63は、水平方向の平面内で挿入ピン67により位置決めされている。
A
また、2個の遮蔽バー受け63の対向面には、搬送方向に沿った溝64がそれぞれ設けられている。溝64は、遮蔽バー受け63の高さ方向に沿って複数、図15の例では4箇所設けられている。また、搬送経路Bの両側に4本ずつの遮蔽板65が2列設けられている。1列の遮蔽板65は、高さ方向に4個並べて配置されている。遮蔽板65は、前述した遮蔽板33と同じ材料により構成されている。遮蔽板65は、フープ材11の搬送方向に沿って長尺形状に構成されており、図16のように、厚肉部65aと薄肉部65bとを有する。薄肉部65bは、厚肉部65aよりも高さ方向の厚さが小さい。また、厚肉部65aと薄肉部65bとは交互に設けられている。そして、各溝64内に遮蔽板65の薄肉部65bが挿入されている。さらに、フープ材11の搬送方向における遮蔽バー受け63同士の間に、遮蔽板65の厚肉部65aが配置されている。つまり、一方の遮蔽バー受け63により4本の遮蔽板65が支持されており、他方の遮蔽バー受け63により4本の遮蔽板65が支持されている。
Further,
このように各遮蔽板65は、搬送方向に沿って設けられた4個の遮蔽バー受け63により水平に支持されている。各遮蔽板65は、遮蔽バー受け63により支持された状態で、図15で左右方向に移動可能である。すなわち、水平方向の平面内で、遮蔽板65は搬送経路Bと直角な方向に移動可能である。また、遮蔽バー受け63は、フープ材11の搬送方向で、厚肉部65aと薄肉部65bとの間の切り欠き部分に配置されている。遮蔽板65は、遮蔽バー受け63に引っ掛かり、搬送経路Bに沿った方向に位置決めされている。
As described above, each shielding
さらに遮蔽バー受け63には、4個の溝64に連続する孔68がそれぞれ設けられている。各孔68にはバネ69が設けられている。バネ69の力は遮蔽板65に加えられており、遮蔽板65は搬送経路Bに向けて押されている。
Further, the shielding
さらに、下側ベース61の下面にはローラ受け70が固定されており、ローラ受け70と下側ベース61との間にローラ軸71が挟まれている。ローラ軸71は略水平方向の軸線を中心として設けられており、水平方向の平面内で、ローラ軸71の軸線はフープ材11の搬送方向に対して略直角である。このローラ軸71にローラ72が回転可能に取り付けられている。ローラ72は、搬送経路Bの下方に設けられている。さらにまた、上側ベース60の上面にはローラ受け73が固定されており、ローラ受け73と上側ベース60との間にローラ軸74が挟まれている。ローラ軸74は略水平方向の軸線を中心として設けられており、水平方向の平面内で、ローラ軸74の軸線はフープ材11の搬送方向に対して略直角である。このローラ軸74にローラ75が回転可能に取り付けられている。ローラ75は、搬送経路Bの上方に設けられている。また、ローラ72,75の一部は、2個の遮蔽バー受け63同士の間に配置されている。ローラ75は、最も上に配置されている遮蔽板65の薄肉部65bの上方に配置されている。ローラ72は、最も下に配置されている遮蔽板65の薄肉部65bの下方に配置されている。ローラ72,75は、ローラ42,45と同じ材料により構成される。
Further, a
さらに、めっき槽51の内部の空間Dにはアノード76が2箇所に設けられている。アノード76に用いる金属は、第1実施形態と同じである。水平方向の平面内で、2箇所のアノード76の間に、部分めっき遮蔽部59が設けられている。さらに、めっき装置50へフープ材11を搬入する搬送ローラ(図示せず)及びめっき装置50からフープ材11を搬出する搬送ローラ(図示せず)が設けられている。各搬送ローラは、電源のマイナス極にそれぞれ接続されており、電源の電流が搬送ローラを経由してフープ材11へ流される。
Furthermore, the
次に、めっき装置50によりフープ材11の両面にめっき処理を施す工程を説明する。フープ材11の先端が、搬送経路Bの両側に設けた遮蔽板65同士の間に進入する前の段階では、バネ69の力により遮蔽板65同士が接触している。そして、フープ材11の先端が遮蔽板65同士の間に食い込むと、フープ材11の移動力で遮蔽板65がバネ69の力に抗して水平方向に移動し、遮蔽板65同士の間へフープ材11が進入し、かつ、フープ材11が搬送経路Bに沿って下流へ搬送される。そして、フープ材11の両面には、図10(A)のように、遮蔽板65が接触する。具体的に説明すると、搬送経路Bに沿った方向で、遮蔽バー受け63同士の間においては、図14のように遮蔽板65の厚肉部65aがフープ材11の両面に接触する。
Next, a process of performing plating treatment on both surfaces of the
これに対して、搬送経路Bに沿った方向で、遮蔽バー受け63が設けられている箇所では、図15のように遮蔽板65の薄肉部65bがフープ材11の両面に接触する。フープ材11が部分めっき遮蔽部59を通過する際、めっき噴射ノズル58の噴射口からめっき液が噴射される。また、アノード76はプラス極に接続され、搬送ローラはマイナス極に接続されており、フープ材11に電流が流される。このため、フープ材11がめっき槽51の内部Dを通過する際に、フープ材11の表裏面に電気化学的に金属が析出し、めっき層が形成される。
On the other hand, in the direction along the transport path B, the
また、フープ材11が搬送経路Bを搬送されるとき、2個の遮蔽板65がフープ材11の両面に別々に接触する。このため、フープ材11の表面のうち、図17のように遮蔽板65が接触しない部分11aにはめっき層が形成される。これに対して、遮蔽板65が接触する部分11bにはめっき層が形成されないか、または、めっき層が形成されても、その厚さは部分11aよりも薄い。すなわち、遮蔽板65は、フープ材11の表面の一部を覆うマスキングとして機能する。部分めっき遮蔽部59では、遮蔽板65が高さ方向に4個設けられている。このため、フープ材11の幅方向に沿ってめっき層が3本形成される。
Further, when the
さらに、第2実施形態のめっき装置50においても、図10(B)のように、2本の部材11c,11dを接続して1本のフープ材11とし、段差49が形成されているフープ材11が、部分めっき遮蔽部59へ搬送されると、2個の遮蔽板65がバネ69の力に抗して離れる方向に移動する。つまり、2個の遮蔽板65同士の間隔が広げられる。なお、部材11c,11dの接続部分が2個の遮蔽板65の間を通り抜けると、バネ69の力により2個の遮蔽板65同士の間隔は元の状態に戻る。したがって、第2実施形態のめっき装置50においても、第1実施形態のめっき装置10と同様の効果を得ることができる。
Furthermore, also in the
本発明の第2実施形態で説明した構成と、本発明の構成との対応関係を説明すると、フープ材11が、本発明の帯状部材に相当し、遮蔽板65が、本発明の第1マスキング部材及び第2マスキング部材に相当し、遮蔽バー受け63が、本発明の第1支持機構に相当し、バネ69が、本発明の第1弾性部材に相当し、ローラ72,75が、本発明の「一対の位置決め部材」に相当し、部分11aが、本発明の「めっき層を施さない部分」に相当し、部分11bが、本発明の「めっき層を施す部分」に相当する。
The relationship between the configuration described in the second embodiment of the present invention and the configuration of the present invention will be described. The
本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、図2のめっき装置10は、フープ材11が4列搬送される構成となっているが、3列以下または5列以上、フープ材が搬送されるように、並列に配置するめっき液処理部の数を増減することも可能である。さらに、図2のめっき装置10において、直列に配置するめっき液処理部の数、部分めっき遮蔽部の数も、任意に変更可能である。さらに、図12に示すめっき装置50において、めっき槽51の内部Dに、複数の部分めっき遮蔽部59を並列に配置することも可能である。また、めっき槽51の内部Dに、部分めっき遮蔽部59を直列に複数配置することも可能である。また、本発明のめっき装置は、単一種類のめっきを施すことに限らず、下地として銅めっきやニッケルめっきを施し、その上に銀めっきや金めっきを施す構成も含む。すなわち、同じ処理部において、複数種類の処理を施すことも含む。なお、第1弾性部材及び第2弾性部材は、バネに代えてゴム状弾性体を用いることも可能である。
It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, the
10,50 めっき装置
11 フープ材
11a,11b 部分
33,65 遮蔽板
35,63 遮蔽バー受け
39,69 バネ
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記めっき層を施さない部分を形成するために前記帯状部材の一方の表面に接触する第1マスキング部材と、
前記めっき層を施さない部分を形成するために前記帯状部材の他方の表面に接触し、かつ、前記第1マスキング部材とともに前記帯状部材を厚さ方向の両側から挟むように配置される第2マスキング部材と、
前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材を前記帯状部材の厚さ方向にそれぞれ単独で移動可能に支持する第1支持機構と、
前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材を前記帯状部材に近づける向きの力を、前記第1マスキング部材及び前記第2マスキング部材にそれそれ単独で加える第1弾性部材とを備えていることを特徴とするめっき装置。 A plating apparatus for forming a portion on which a plating layer is applied and a portion on which a plating layer is not applied on both surfaces of a belt-shaped member conveyed in the longitudinal direction,
A first masking member that is in contact with one surface of the belt-like member to form a portion that is not subjected to the plating layer;
Second masking arranged to be in contact with the other surface of the band-shaped member and to sandwich the band-shaped member from both sides in the thickness direction together with the first masking member in order to form a portion where the plating layer is not applied. Members,
A first support mechanism for supporting the first masking member and the second masking member movably independently in the thickness direction of the belt-shaped member;
A first elastic member that independently applies a force in a direction to bring the first masking member and the second masking member closer to the belt-like member to the first masking member and the second masking member, respectively. Features plating equipment.
前記帯状部材の厚さ方向が水平方向となる状態で前記帯状部材が搬送されているときに、前記帯状部材の両面に前記めっき層を施す部分とめっき層を施さない部分とを形成する
ことを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1,
When the belt-like member is being transported in a state where the thickness direction of the belt-like member is a horizontal direction, a portion where the plating layer is applied and a portion where the plating layer is not applied are formed on both surfaces of the belt-like member. Features plating equipment.
前記帯状部材の幅方向の両縁に接触して、前記帯状部材を幅方向に位置決めする一対の位置決め部材と、
前記一対の位置決め部材の一方を、前記帯状部材の幅方向に移動可能に支持する第2支持機構と、
前記第2支持機構により移動可能に支持された前記位置決め部材に、前記帯状部材に近づける向きの力を加える第2弾性部材とを備えていることを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1 or 2,
A pair of positioning members that contact both edges in the width direction of the band-shaped member and position the band-shaped member in the width direction;
A second support mechanism for supporting one of the pair of positioning members so as to be movable in the width direction of the belt-shaped member;
A plating apparatus comprising: a second elastic member that applies a force in a direction approaching the belt-like member to the positioning member that is movably supported by the second support mechanism.
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