JP2014077912A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、ガラス基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することを目的とする。
【解決手段】表示装置は、第1基板10と、第1基板10に形成されたシャッタ14及びシャッタ14と接続された駆動部40と、間隔をあけて第1基板10に対向するように配置された第2基板12と、第1基板10と第2基板12の間隔を保持してスペースを封止するシール材11と、スペースに充填されたオイル46と、第1基板10に配置された第1スペーサ13と、第1スペーサ13に対向するように第2基板12に配置された第2スペーサ15と、を有する。第1スペーサ13と第2スペーサ15の合計高さh1+h2は、シール材11の高さHよりも低い。
【選択図】図1
【解決手段】表示装置は、第1基板10と、第1基板10に形成されたシャッタ14及びシャッタ14と接続された駆動部40と、間隔をあけて第1基板10に対向するように配置された第2基板12と、第1基板10と第2基板12の間隔を保持してスペースを封止するシール材11と、スペースに充填されたオイル46と、第1基板10に配置された第1スペーサ13と、第1スペーサ13に対向するように第2基板12に配置された第2スペーサ15と、を有する。第1スペーサ13と第2スペーサ15の合計高さh1+h2は、シール材11の高さHよりも低い。
【選択図】図1
Description
本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。
MEMSディスプレイ(Micro Electro Mechanical System Display)は、液晶ディスプレイに取って代わると期待されているディスプレイである(特許文献1)。このディスプレイは、偏光を利用した液晶シャッタ方式とは異なり、機械シャッタ方式によって光の透過窓を開閉することで画像を表示する。シャッタは薄膜からなり、1画素を構成するシャッタの縦横サイズは数100μmオーダで厚みが数μmオーダである。1シャッタの開閉により、1画素のオンオフ動作が可能となる。シャッタは、静電引力によって動作するようになっている。
シャッタは一対のガラス基板の間にシールで囲まれたスペースに配置され、このスペースは液体(オイル)で満たされている。オイルは、シャッタの駆動のためのバネのくっつきを防止し、光透過性基板との光屈折率の差を小さくしている。また、オイルによって誘電率を上げることでシャッタを駆動するために必要な電圧を低下させている。
この構造によれば、環境温度が氷点下になると、オイルの収縮により、ガラス基板が内側に湾曲して内部の構造物に接触するおそれがある。あるいは、内部にスペーサを設けて一対のガラス基板の間隔を規制すればガラス基板の湾曲を防止することができるが、その場合、オイルに気泡が発生するという問題がある。
本発明は、ガラス基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することを目的とする。
(1)本発明に係る表示装置は、第1基板と、前記第1基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、間隔をあけて前記第1基板に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板と前記第2基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、前記スペースに充填された液体と、前記第1基板に配置された第1スペーサと、前記第1スペーサに対向するように前記第2基板に配置された第2スペーサと、を有し、前記第1スペーサと前記第2スペーサの合計高さは、前記シール材の高さよりも低いことを特徴とする。本発明によれば、第1基板と第2基板の間には、第1スペーサと第2スペーサの合計高さの間隔が維持されるので、第1基板又は第2基板が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材よりも第1スペーサと第2スペーサの合計高さが低いため、第1基板又は第2基板の多少の湾曲は許容され、内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することができる。
(2)(1)に記載された表示装置において、常温で、前記第1スペーサと前記第2スペーサの間に隙間が形成されることを特徴としてもよい。
(3)(1)又は(2)に記載された表示装置において、前記第1スペーサの高さは、前記シャッタの前記第1基板からの高さ以下であることを特徴としてもよい。
(4)(1)から(3)のいずれか1項に記載された表示装置において、前記第1スペーサの少なくとも表面層は、前記シャッタを構成する材料からなることを特徴としてもよい。
(5)(1)から(4)のいずれか1項に記載された表示装置において、前記シャッタの駆動方向に隣同士の一対の前記シャッタの間に、前記第1スペーサが配置されることを特徴としてもよい。
(6)本発明に係る表示装置の製造方法は、第1基板に、第1スペーサ、シャッタ及び前記シャッタを機械的に駆動するための駆動部を含む第1構造物を形成する工程と、第2基板に、第2スペーサを含む第2構造物を形成する工程と、前記第1スペーサと前記第2スペーサが対向するように、前記第1基板及び第2基板を、間隔をあけて配置する工程と、前記第1基板及び前記第2基板の間に、前記第1スペーサと前記第2スペーサの合計高さよりも長い高さのシール材によって前記間隔を保持して区画されたスペースに液体を充填する工程と、を含み、前記第1構造物を形成する工程では、前記第1スペーサ、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域に樹脂層を形成し、前記シャッタ及び前記駆動部を形成するための材料で膜を前記樹脂層上に形成し、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域で前記膜を残して前記樹脂層を除去し、前記スペーサの形成領域で前記膜及び前記樹脂層を残すことを特徴とする。本発明によれば、第1スペーサをシャッタ及び駆動部と同時に形成することができる。第1基板と第2基板の間には、第1スペーサと第2スペーサの合計高さの間隔が維持されるので、第1基板又は第2基板が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材よりも第1スペーサと第2スペーサの合計高さが低いため、第1基板又は第2基板の多少の湾曲は許容され、内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
[表示装置の概要]
図1は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。表示装置は、第1基板10及び第2基板12を有する。第2基板12は、間隔をあけて第1基板10に対向するように配置されている。第1基板10と第2基板12の間隔は、シール材11によって保持されている。シール材11は、比較的硬い樹脂などから形成され、変形しにくいため、シール材11の高さHは変動しにくい。第1基板10と第2基板12の間に、シール材11によってスペースが封止されている。スペースには、液体の例としてオイル46が充填されている。
図1は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。表示装置は、第1基板10及び第2基板12を有する。第2基板12は、間隔をあけて第1基板10に対向するように配置されている。第1基板10と第2基板12の間隔は、シール材11によって保持されている。シール材11は、比較的硬い樹脂などから形成され、変形しにくいため、シール材11の高さHは変動しにくい。第1基板10と第2基板12の間に、シール材11によってスペースが封止されている。スペースには、液体の例としてオイル46が充填されている。
図2は、第1基板10及びその上の構造物を示す概略図である。第1基板10には、シャッタ14が形成されている。シャッタ14には駆動部40が接続されている。第1基板10には、第1スペーサ13が配置されている。第1スペーサ13の形状は、円柱や角柱などの柱状であってもよいし、バンプ形状であってもよい。第1スペーサ13の高さh1は、シャッタ14の第1基板10からの高さと同じかそれよりも低い。第1スペーサ13の少なくとも表面層は、シャッタ14を構成する材料からなる。図2に示すように、シャッタ14の駆動方向(図2の矢印方向)に隣同士の一対のシャッタ14の間に、第1スペーサ13が配置される。
図1に示すように、第2基板12には、第2スペーサ15が配置されている。第2スペーサ15の形状は、円柱や角柱などの柱状であってもよいし、バンプ形状であってもよい。第2スペーサ15は、第1スペーサ13に対向するように配置されている。第1スペーサ13の高さh1と第2スペーサ15の高さh2の合計h1+h2は、シール材11の高さHよりも低い。常温で、第1スペーサ13と第2スペーサ15の間に、図1に示すように、隙間が形成される。なお、図1の例では、第1スペーサ13の高さh1は、第2スペーサ15の高さh2よりも高い。
図3は、低温時の表示装置の概略断面図である。環境温度が低温(例えば氷点下)になると、オイル46が収縮する。しかし、シール材11が収縮しにくいため、第1基板10及び第2基板12の少なくとも一方が内側に湾曲する。その結果、第1基板10及び第2基板12の間隔が狭くなる。ただし、第1スペーサ13及び第2スペーサ15が当たって、合計高さh1+h2よりも間隔が狭くなることを規制している。
本実施形態によれば、第1基板10と第2基板12の間には、第1スペーサ13と第2スペーサ15の合計高さh1+h2の間隔が維持されるので、第1基板10又は第2基板12が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材11の高さHよりも第1スペーサ13と第2スペーサ15の合計高さh1+h2が低いため、第1基板10又は第2基板12の多少の湾曲は許容され、内部に充填されたオイル46に気泡が発生することを防止することができる。また、第1基板10と第2基板12の間隔を維持するスペーサを第1スペーサ13と第2スペーサ15に分離したので、それぞれの高さを低くすることができ、倒れにくくすることができる。
[表示装置の詳細]
図4は、本発明の実施形態に係る表示装置の断面図である。表示装置は、光透過性の第1基板10(例えばガラス基板)と、光透過性の第2基板12(例えばガラス基板)と、を有する。第1基板10及び第2基板12は、間隔をあけて対向するように配置されている。第1基板10は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はTFT(Thin Film Transistor)基板である。第1基板10には、複数(多数)のシャッタ14が設けられている。シャッタ14は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上に設けられている。
図4は、本発明の実施形態に係る表示装置の断面図である。表示装置は、光透過性の第1基板10(例えばガラス基板)と、光透過性の第2基板12(例えばガラス基板)と、を有する。第1基板10及び第2基板12は、間隔をあけて対向するように配置されている。第1基板10は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はTFT(Thin Film Transistor)基板である。第1基板10には、複数(多数)のシャッタ14が設けられている。シャッタ14は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上に設けられている。
図5は、シャッタ14及びその駆動部40の斜視図である。シャッタ14は、無機材料からなる。図4に示すように、シャッタ14は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第1膜16と、アルミニウムなどの金属からなる第2膜18とを含む膜52から構成されている。シャッタ14は、駆動開口20を有するプレートである。また、シャッタ14には、強度を高めるために凹部22が形成されているが、この凹部22は貫通していない。駆動開口20を光が通過し、駆動開口20以外の部分で光を遮断する。駆動開口20は一方向に長い形状になっている。なお、光は、第1基板10に重ねられたバックライト24から供給される。
シャッタ14は、第1バネ26に支持されて第1基板10から浮くようになっている。複数(図5では4つ)の第1バネ26によってシャッタ14が支持されている。第1バネ26は、第1アンカー部28で第1基板10に固定されている。
第1バネ26は、弾性変形可能な材料からなる。第1バネ26は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向(第1基板10の板面に平行な方向)に向けて、幅方向を上下方向(第1基板10の板面に垂直な方向)に向けて配置されている。これにより、第1バネ26は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。
第1バネ26は、シャッタ14から離れる方向(駆動開口20の長さ方向に交差(例えば直交)する方向)に延びる第1部30と、駆動開口20の長さ方向に沿った方向であって駆動開口20の長さ方向の中央から外方向に向かって延びる第2部32と、さらにシャッタ14から離れる方向(駆動開口20の長さ方向に交差(例えば直交)する方向)に延びる第3部34と、を有する。そして、シャッタ14は、図5に矢印で示すように、駆動開口20の長さ方向に交差(例えば直交)する方向に移動できるように第1バネ26に支持されている。
第1基板10には、第2アンカー部36に支持された第2バネ38が設けられている。第2バネ38も、弾性変形可能な材料からなる。第2バネ38は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向(第1基板10の板面に平行な方向)に向けて、幅方向を上下方向(第1基板10の板面に垂直な方向)に向けて配置されている。これにより、第2バネ38は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。また、第2バネ38は、ループ状になっており、第2アンカー部36から延びた帯状部が、屈曲して折り返されて、同じ第2アンカー部36に戻るようになっている。
第2バネ38は、第1バネ26の第2部32よりもシャッタ14から離れた側で、この第2部32に対向するようになっている。第2アンカー部36に電圧を印加し、第1バネ26の第2部32との電位差によって生じる静電引力によって、第2部32が第2バネ38に引き寄せられるようになっている。第2部32が引き寄せられると、第2部32と一体的な第1部30を介して、シャッタ14も引き寄せられる。つまり、第1バネ26及び第2バネ38は、シャッタ14を機械的に駆動するための駆動部40を構成するためのものである。
駆動部40は、シャッタ14の少なくとも一部と同じ材料から形成されている。例えば、第1バネ26及び第2バネ38は、シャッタ14を構成する膜52の一部(例えばアモルファスシリコンなどの半導体からなる第1膜16)から構成されている。駆動部40のその他の部分は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第1膜16と、アルミニウムなどの金属からなる第2膜18とを含む膜から構成してもよい。
図4に示すように、第2基板12には遮光膜42が形成されている。遮光膜42には、固定開口44が形成されている。シャッタ14の上述した駆動開口20と遮光膜42の固定開口44は、対向する位置に配置されており、両者が連通すれば光が通過し、シャッタ14の移動によって遮光膜42の固定開口44が遮蔽されると光が遮断される。言い換えると、遮光膜42の固定開口44への光の通過及び遮断を制御するように、シャッタ14は機械的に駆動される。1つのシャッタ14が1画素に対応し、多数の画素によって画像が表示されるようになっている。そのため、複数(多数)のシャッタ14が設けられている。シャッタ14及び駆動部40は、駆動開口20及び固定開口44を通過する光の有無及び強弱によって画像を表示する表示領域に配置されている。
第1基板10及び第2基板12は、図1に示すシール材11によって間隔をあけて固定されている。シール材11は第1基板10及び第2基板12の対向面同士に密着している。第1基板10及び第2基板12の間(シール材11によって封止されたスペース)にはオイル46(例えばシリコーンオイル46)が満たされている。シャッタ14及び駆動部40は、オイル46内に配置されている。オイル46によってシャッタ14及び駆動部40の動きによる振動を抑えることができ、第1バネ26と第2バネ38の固着も防止することができる。第1基板10及び第2基板12がガラスからなる場合、ガラスと屈折率の近いオイル46を使用すれば、オイル46を満たすことで、第1基板10及び第2基板12との界面での光の反射を減らすことができる。
図4に示すように、表示装置は、第1基板10及び第2基板12間の間隔を規制するための、第1スペーサ13及び第2スペーサ15を有する。第1スペーサ13は、第1基板10に形成された樹脂層50を有する。樹脂層50の底面を除く全体は、膜52によって覆われている。膜52は、シャッタ14及び駆動部40を形成するための材料からなる。例えば、膜52は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第1膜16と、アルミニウムなどの金属からなる第2膜18と、を含む。第2スペーサ15は、第2基板12(例えば遮光膜42上)に形成されている。第2スペーサ15は、例えば樹脂から形成する。
第1スペーサ13及び第2スペーサ15はオイル46内に配置されている。第1スペーサ13及び第2スペーサ15は、対向するように形成され、常温では両者間に隙間が形成される高さで形成されている。したがって、第1スペーサ13と第2スペーサ15の間にオイル46が入るようになっている。
[表示装置の製造方法]
図6〜図15は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
図6〜図15は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
図6に示すように、第1基板10上に第1フォトレジスト層54を形成する。第1フォトレジスト層54は、感光性を有する樹脂である。第1フォトレジスト層54は、上述したシャッタ14の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第1フォトレジスト層54の厚みは、シャッタ14の浮く高さと同じかそれ以上である。また、第1フォトレジスト層54は、駆動部40の第1基板10から浮いた状態の部分(例えば第1バネ26及び第2バネ38)の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第1フォトレジスト層54の厚みは、第1バネ26及び第2バネ38の浮く高さと同じかそれ以上である。なお、図4に示すように、シャッタ14の下端(凹部22の反対面)と第1バネ26及び第2バネ38の下端とは、同じ高さにある。
図7に示すように、第1フォトレジスト層54をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィは露光と現像を含む。露光では、図示しないマスクを介して、第1フォトレジスト層54に部分的に光を照射する。これにより、第1フォトレジスト層54が、現像液に溶解する部分と溶解しにくい部分とを有するようになる。現像を行うことで、第1フォトレジスト層54はパターニングされる。パターニングされた第1フォトレジスト層54は、第1上面56を有する。第1上面56は、第1基板10から浮かせて配置する部材(例えばシャッタ14並びに第1バネ26及び第2バネ38)を形成するための面である。したがって、第1上面56の高さ位置(第1基板10の上面からの高さ位置。以下、同じ。)は、シャッタ14の下端(最も低い面)及び第1バネ26及び第2バネ38の下端の高さ位置になる。なお、第1フォトレジスト層54は硬化処理されることで収縮するので、第1上面56の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。また、第1フォトレジスト層54の一部は、第1スペーサ13の樹脂層50(図4参照)の一部となる。そのため、第1スペーサ13の形成領域を囲む第1切れ目58を第1フォトレジスト層54に形成する。
図8に示すように、パターニングされた第1フォトレジスト層54上に第2フォトレジスト層60を形成する。第2フォトレジスト層60も、感光性を有する樹脂前駆体である。第2フォトレジスト層60は、第1バネ26及び第2バネ38の高さ方向の幅に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第2フォトレジスト層60の厚みは、第1バネ26及び第2バネ38の高さ方向の幅と同じかそれ以上である。また、シャッタ14に凹部22を形成するときには、第2フォトレジスト層60は、凹部22の深さ(正確には、下に突出する凹部22の突出下面から凹部22の周囲の部分の下面までの高さの差)に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第2フォトレジスト層60の厚みは、凹部22の深さと同じかそれ以上である。
図9に示すように、第2フォトレジスト層60をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィの詳細は上述した通りである。第2フォトレジスト層60の一部は、第1スペーサ13の樹脂層50(図4参照)の一部となる。そのため、第1スペーサ13の形成領域を囲む第2切れ目64を第2フォトレジスト層60に形成する。
パターニングされた第2フォトレジスト層60は、第2上面62を有する。第2フォトレジスト層60は、その第2上面62が第1スペーサ13の樹脂層50の上面の高さ位置(第1基板10の上面からの高さ位置)に到達する厚みを少なくとも有する。第1基板10の上面から第2上面62までの高さは、第1スペーサ13の樹脂層50の高さである。なお、第2フォトレジスト層60も硬化処理されることで収縮するので、第2上面62の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。第1上面56から第2上面62までの高さは、第1バネ26及び第2バネ38の高さ方向に幅に相当する。また、第1上面56から第2上面62までの高さは、シャッタ14の凹部22の深さに相当する。
こうして、第1フォトレジスト層54及び第2フォトレジスト層60から樹脂層50を形成する。つまり、パターニングされた樹脂層50を第1基板10に形成する。樹脂層50は、第1スペーサ13、シャッタ14及び駆動部40の形成領域に形成する。樹脂層50は、最も低い第1上面56を有する。樹脂層50は、第1上面56よりも高い(最も高い)第2上面62を有する。樹脂層50は、第1上面56から底面に下がる第1側面72を有する。樹脂層50は、第1上面56から第2上面62に上がる第2側面74を有する。樹脂層50には、第2上面62を囲むように貫通する切れ目76が形成されている。切れ目76は、第1フォトレジスト層54及び第2フォトレジスト層60にそれぞれ形成された第1切れ目58及び第2切れ目64が連通して形成されている。
図10に示すように、膜52を、樹脂層50上及び第1基板10上に形成する。膜52は、シャッタ14及び駆動部40を形成するための材料から形成する。例えば、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第1膜16を形成し、その上にアルミニウムなどの金属からなる第2膜18を形成する。
図11に示すように、エッチングレジスト78を膜52上に形成する。エッチングレジスト78のパターニングにもリソグラフィを適用することができる。パターニングされたエッチングレジスト78は、シャッタ14及び駆動部40並びに第1スペーサ13を形成する領域を覆う。
図12に示すように、ウエットエッチングを適用して、金属からなる第2膜18をエッチングする。エッチングレジスト78から露出した第2膜18は、ウエットエッチングの等方性によって、横方向に露出していても除去される。
図13に示すように、ドライエッチングを適用して、半導体からなる第1膜16をエッチングする。ドライエッチングの異方性によって、樹脂層50の上面(第1上面56及び第2上面62)の第1膜16は除去されるが、樹脂層50の側面(第2側面74)の第1膜16は除去されずに残る。
図14に示すように、エッチングレジスト78を除去する。シャッタ14を形成する領域では、樹脂層50の第1上面56、第1側面72及び第2上面62の上に膜52(第1膜16及び第2膜18)が残されている。第1バネ26及び第2バネ38を形成する領域では、それぞれ、樹脂層50の第2側面74に膜52(第1膜16)が残されている。樹脂層50の切れ目76の内側では、樹脂層50の底面を除く全体を覆うように膜52(第1膜16及び第2膜18)が残されている。樹脂層50の切れ目76の外側では、樹脂層50の少なくとも一部が露出するように膜52が残る。
図15に示すように、膜52から露出した樹脂層50を除去する。除去には例えばアッシングを適用することができる。樹脂層50の除去は、上述したエッチングレジスト78の除去と同時に行ってもよい。これにより、シャッタ14及び駆動部40の形成領域で膜を残して樹脂層50を除去する。樹脂層50の切れ目76の内側(第1スペーサ13の形成領域)では、膜52に全体的に覆われた樹脂層50が残る。樹脂層50の切れ目76の外側では、膜52からの露出面から連続する樹脂層50の全体が除去される。
切れ目76の内側に、樹脂層50及び膜52から成る第1スペーサ13を形成する。切れ目76の外側に第1基板10から浮いた状態で、膜52から、シャッタ14と駆動部40の少なくとも一部とを形成する。こうして、第1基板10に、第1スペーサ13、シャッタ14及びシャッタ14を機械的に駆動するための駆動部40を含む第1構造物を形成する。本実施形態によれば、第1スペーサ13をシャッタ14及び駆動部40と同時に形成することができる。
次に、図1に示すように、第2基板12に、第2スペーサ15を含む第2構造物を形成する。そして、第1スペーサ13と第2スペーサ15が対向するように、第1基板10及び第2基板12を、間隔をあけて配置する。また、第1基板10及び第2基板12の間に、シール材11によって間隔を保持して、スペースを区画する。そして、スペースにオイル46を充填する。
本実施形態では、第1基板10と第2基板12の間隔を維持するスペーサを、第1スペーサ13と第2スペーサ15に分離して形成する。そのため、一体的なスペーサを形成するよりも、第1スペーサ13と第2スペーサ15をそれぞれ低く形成すれば足りる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
10 第1基板、11 シール材、12 第2基板、13 第1スペーサ、14 シャッタ、15 第2スペーサ、16 第1膜、18 第2膜、20 駆動開口、22 凹部、24 バックライト、26 第1バネ、28 第1アンカー部、30 第1部、32 第2部、34 第3部、36 第2アンカー部、38 第2バネ、40 駆動部、42 遮光膜、44 固定開口、46 オイル、50 樹脂層、52 膜、54 第1フォトレジスト層、56 第1上面、58 第1切れ目、60 第2フォトレジスト層、62 第2上面、64 第2切れ目、72 第1側面、74 第2側面、76 切れ目、78 エッチングレジスト。
Claims (6)
- 第1基板と、
前記第1基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、
間隔をあけて前記第1基板に対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、
前記スペースに充填された液体と、
前記第1基板に配置された第1スペーサと、
前記第1スペーサに対向するように前記第2基板に配置された第2スペーサと、
を有し、
前記第1スペーサと前記第2スペーサの合計高さは、前記シール材の高さよりも低いことを特徴とする表示装置。 - 請求項1に記載された表示装置において、
常温で、前記第1スペーサと前記第2スペーサの間に隙間が形成されることを特徴とする表示装置。 - 請求項1又は2に記載された表示装置において、
前記第1スペーサの高さは、前記シャッタの前記第1基板からの高さ以下であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載された表示装置において、
前記第1スペーサの少なくとも表面層は、前記シャッタを構成する材料からなることを特徴とする表示装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載された表示装置において、
前記シャッタの駆動方向に隣同士の一対の前記シャッタの間に、前記第1スペーサが配置されることを特徴とする表示装置。 - 第1基板に、第1スペーサ、シャッタ及び前記シャッタを機械的に駆動するための駆動部を含む第1構造物を形成する工程と、
第2基板に、第2スペーサを含む第2構造物を形成する工程と、
前記第1スペーサと前記第2スペーサが対向するように、前記第1基板及び第2基板を、間隔をあけて配置する工程と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に、前記第1スペーサと前記第2スペーサの合計高さよりも長い高さのシール材によって前記間隔を保持して区画されたスペースに液体を充填する工程と、
を含み、
前記第1構造物を形成する工程では、前記第1スペーサ、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域に樹脂層を形成し、前記シャッタ及び前記駆動部を形成するための材料で膜を前記樹脂層上に形成し、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域で前記膜を残して前記樹脂層を除去し、前記スペーサの形成領域で前記膜及び前記樹脂層を残すことを特徴とする表示装置の製造方法。
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CN106940487A (zh) * | 2016-01-05 | 2017-07-11 | 三星钻石工业股份有限公司 | 基板断开方法 |
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2012
- 2012-10-11 JP JP2012226011A patent/JP2014077912A/ja active Pending
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