JP2014074648A - Contact type shape measuring apparatus and method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a contact type shape measuring apparatus and method, in which variation of a contact force or floating of a probe, which is caused by the fact that an inertia force is acted in a direction in which the probe is separated from or approaches a surface to be measured, is reduced so as to perform high-precision measurement.SOLUTION: In a contact type shape measuring apparatus having a probe and a stage for supporting the probe, in which by applying, while conveying the stage in a first direction, a prescribed contact force to the probe in a second direction different from the first direction, the probe is scanned along the surface to be measured to thereby measure a surface shape of the surface to be measured, there are provided gradient variation quantity derivation means for deriving a gradient variation quantity of the surface to be measured in the second direction in accordance with the conveyance quantity in the first direction, and correction force calculation means for calculating a correction force in a direction identical to the direction of the gradient variation quantity, and measurement is performed by adding a correction force to the prescribed contact force.

Description

本発明は、光学素子や光学素子を製造するための成形用金型の形状を高精度に測定する接触式形状測定装置および方法に関する。   The present invention relates to an optical element and a contact-type shape measuring apparatus and method for measuring the shape of a molding die for manufacturing an optical element with high accuracy.

撮像カメラをはじめレーザビームプリンタ、複写機など各種光学装置の高機能化に伴い、これら光学装置に組み込まれる光学素子の形状は複雑化している。このような状況において、小さい曲率半径の表面形状、2面の境界付近の表面形状、小径の側面形状といった複雑な形状の測定ニーズが増している。複雑な形状を有する光学素子、あるいは光学素子を製造するための成形用金型の形状を測定するために、プローブを倣い走査して形状を測定する接触式形状測定装置が使用されている。   As the functions of various optical devices such as imaging cameras, laser beam printers, and copiers become higher, the shapes of optical elements incorporated in these optical devices are becoming more complex. Under such circumstances, there is an increasing need for measurement of complicated shapes such as a surface shape with a small radius of curvature, a surface shape near the boundary between two surfaces, and a side surface shape with a small diameter. In order to measure the shape of an optical element having a complicated shape or a molding die for manufacturing the optical element, a contact-type shape measuring apparatus that measures the shape by scanning the probe is used.

光学素子や成形用金型を被測定物として、被測定面の形状を測定する接触式形状測定装置の従来技術の一例として、特許文献1に開示された形状測定装置が挙げられる。プローブの一端を被測定面に接触させて、反対の一端の3次元位置を測定する。プローブとステージの間にはバネ機構が設けられており、つりあい位置からステージを押し込むことで接触力を得る。ステージをXY方向に駆動させると、プローブはXY方向に移動しながら被測定面のZ方向の形状に倣う。ステージは、所定の接触力に対応した押し込み量を保つようにZ方向に追従制御される。プローブを被測定面の全面に走査させることで、測定データを得る。続いて、測定データを解析して形状情報を求める。求めた形状情報は、光学素子の性能評価、あるいは成形用金型の修正加工量の計算などに用いられる。   As an example of the prior art of a contact-type shape measuring device that measures the shape of a surface to be measured using an optical element or a molding die as an object to be measured, there is a shape measuring device disclosed in Patent Document 1. One end of the probe is brought into contact with the surface to be measured, and the three-dimensional position of the opposite end is measured. A spring mechanism is provided between the probe and the stage, and a contact force is obtained by pushing the stage from the balanced position. When the stage is driven in the XY direction, the probe follows the shape of the surface to be measured in the Z direction while moving in the XY direction. The stage is controlled to follow in the Z direction so as to maintain a pressing amount corresponding to a predetermined contact force. Measurement data is obtained by scanning the entire surface of the surface to be measured. Subsequently, the measurement data is analyzed to obtain shape information. The obtained shape information is used for evaluating the performance of the optical element or calculating the correction processing amount of the molding die.

ここで、プローブを精度良く被測定面に倣い走査させるために、プローブと被測定面との接触力を小さくすると良いことが知られている。接触力を小さくする手段として、特許文献2に開示された接触式プローブが挙げられる。この接触式プローブには、ヨーク、永久磁石およびコイルからなる磁気回路が組み込まれている。磁気回路が発生する磁気力によって、プローブにかかる重力をキャンセルする一定の力とプローブの変位にしたがって変化するバネ要素としての力を働かせる。磁気力を利用するため、接触力を小さくすることができ、高精度な測定が可能になる。   Here, it is known that the contact force between the probe and the surface to be measured should be reduced in order to cause the probe to accurately scan the surface to be measured. As a means for reducing the contact force, a contact type probe disclosed in Patent Document 2 can be cited. This contact probe incorporates a magnetic circuit comprising a yoke, a permanent magnet and a coil. The magnetic force generated by the magnetic circuit exerts a constant force that cancels the gravity applied to the probe and a force as a spring element that changes according to the displacement of the probe. Since the magnetic force is used, the contact force can be reduced and high-precision measurement can be performed.

特開平10−19504号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-19504 特開2003−042742号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-047442

図8は、従来技術の課題を説明する図である。図8(a)は、小さい曲率半径の表面形状を測定する際の課題を説明する図である。このような表面形状を有する測定物として、マイクロレンズアレイ等が挙げられる。   FIG. 8 is a diagram for explaining a problem of the prior art. Fig.8 (a) is a figure explaining the subject at the time of measuring the surface shape of a small curvature radius. Examples of the measurement object having such a surface shape include a microlens array.

プローブ1が、凸面状の形状を有する被測定面w1上をX方向に一定速度vで走査しているとする。p1の位置における被測定面w1の勾配をgp1=Δzp1/Δxとする。記号Δを用いて、aの微小量をΔaと表記する。微小区間Δx走査後のp2の位置における被測定面w1の勾配をgp2=Δzp2/Δxとする。プローブ1が被測定面w1上を倣い走査している場合、p1の位置におけるプローブ1の速度はvp1=vp1である。同じくp2の位置におけるプローブ1の速度はvp2=vp2である。この時、被測定面w1が凸面状であるならば、プローブ1は被測定面w1に近づく方向に加速していることになる。p1からp2への被測定面w1の勾配変化量をhp12=(gp2−gp1)/Δx=((Δzp2−Δzp1)/Δx)/Δx=Δp12/Δxと定義すると、プローブ1の加速度は、
p12=v p12
と表すことができる。プローブ1が被測定面w1に近づく方向の加速度は、通常、接触力fcによって生じる。言い換えると、接触力fcがゼロである場合、被測定面w1に近づく方向の加速度が生じない。そのため、プローブ1は被測定面w1から遠ざかる方向に離れてしまう。このように、被測定面w1から見て、プローブ1が離れようとする力のことを、一般的に慣性力と言う。上記における慣性力fiは、加速度ap12にプローブ1の質量mを乗じた値として計算される。
fi=map12=mv p12
慣性力fiが働くため、プローブ1が実際に被測定面w1に加えている力は、所定の接触力fcより小さくなっている。ここで、慣性力fiが働くことで変動する実際の接触力を実接触力frと定義する。
Probe 1, and the surface to be measured above w1 having a convex surface shape in the X direction is scanned at a constant velocity v X. The gradient of the measured surface w1 at the position of p1 is set as g p1 = Δz p1 / Δx. Using the symbol Δ, the minute amount of a is expressed as Δa. The gradient of the measurement target surface w1 at the position of p2 after scanning the minute section Δx is set as g p2 = Δz p2 / Δx. When the probe 1 is scanning along the surface to be measured w1, the velocity of the probe 1 at the position of p1 is v p1 = v X g p1 . Similarly, the velocity of the probe 1 at the position of p2 is v p2 = v X g p2 . At this time, if the measured surface w1 is convex, the probe 1 is accelerated in a direction approaching the measured surface w1. The gradient change amount of the measured surface w1 from p1 to p2 is defined as h p12 = (g p2 −g p1 ) / Δx = ((Δz p2 −Δz p1 ) / Δx) / Δx = Δ 2 z p12 / Δx 2 Then, the acceleration of the probe 1 is
a p12 = v X 2 h p12
It can be expressed as. The acceleration in the direction in which the probe 1 approaches the surface to be measured w1 is normally generated by the contact force fc. In other words, when the contact force fc is zero, the acceleration in the direction approaching the measured surface w1 does not occur. Therefore, the probe 1 is separated in a direction away from the surface to be measured w1. In this way, the force that the probe 1 tries to move away from the surface to be measured w1 is generally called inertial force. The inertial force fi in the above is calculated as a value obtained by multiplying the acceleration ap12 by the mass m of the probe 1.
fi = ma p12 = mv X 2 h p12
Since the inertial force fi works, the force that the probe 1 actually applies to the measurement target surface w1 is smaller than the predetermined contact force fc. Here, an actual contact force that is fluctuated by the inertial force fi is defined as an actual contact force fr.

一般的な接触式形状測定装置において、プローブは、所定の接触力で被測定面に接触している。この際、プローブは被測定面から抗力を受ける。プローブ長手方句に直交する面に対して被測定面が傾斜している場合、プローブ長手方向に直交する方向に抗力の分力が加わる。この分力によってプローブに倒れが生じる。プローブの一端を被測定面に接触させて、反対の一端の3次元位置を測定する場合、プローブの倒れは測定誤差の要因になる。通常、プローブの倒れを含んだ状態でプローブの形状校正値を取得し、この形状校正値を用いて測定データの校正を行う。そのため、校正が正しくできていれば、プローブの倒れによる測定精度への影響は小さい。しかしながら、接触力が変動すると、形状校正値に含まれるプローブの倒れ量と実際のプローブの倒れ量と間に差が生じてしまう。これにより、プローブの倒れによる測定精度への影響が無視できなくなる。すなわち、前述した実接触力frの変動は、プローブ1の倒れ量の変動となるため、測定誤差の要因になる。   In a general contact-type shape measuring apparatus, the probe is in contact with the surface to be measured with a predetermined contact force. At this time, the probe receives a drag from the surface to be measured. When the surface to be measured is inclined with respect to the surface orthogonal to the probe longitudinal phrase, a component force of drag is applied in the direction orthogonal to the probe longitudinal direction. This component force causes the probe to fall. When one end of the probe is brought into contact with the surface to be measured and the three-dimensional position of the opposite end is measured, the probe tilt causes a measurement error. Usually, a probe shape calibration value is acquired in a state that includes probe tilting, and measurement data is calibrated using this shape calibration value. Therefore, if calibration is correctly performed, the influence on the measurement accuracy due to the tilting of the probe is small. However, when the contact force fluctuates, a difference occurs between the amount of probe collapse included in the shape calibration value and the actual amount of probe collapse. As a result, the influence on the measurement accuracy due to the tilting of the probe cannot be ignored. That is, the fluctuation of the actual contact force fr described above becomes a fluctuation of the tilting amount of the probe 1 and causes a measurement error.

また、慣性力fiが所定の接触力fcを超えると、実接触力frはゼロになる。これは、プローブ1が浮いてしまい、被測定面w1に倣わなくなることを示している。プローブ1が浮いてしまうと、被測定面w1の形状をプローブに写し取ることができなくなるため、明らかに測定誤差の要因になる。   When the inertial force fi exceeds a predetermined contact force fc, the actual contact force fr becomes zero. This indicates that the probe 1 floats and does not follow the surface to be measured w1. If the probe 1 floats, the shape of the surface to be measured w1 cannot be copied to the probe, which clearly causes a measurement error.

さらに、被測定面w1の勾配変化量hp12が大きいと、慣性力fiが大きくなる。つまり、被測定面w1の曲率半径が小さいほど、プローブの倒れ量の変動が大きくなり、測定誤差が大きくなる。 Further, when the gradient change amount h p12 of the surface to be measured w1 is large, the inertia force fi is increased. That is, the smaller the radius of curvature of the surface to be measured w1, the greater the variation in the amount of probe tilt, and the greater the measurement error.

走査速度vを大きくすると、慣性力fiが大きくなる。つまり、プローブを高速に走査するほど、プローブの倒れ量の変動が大きくなり、測定誤差が大きくなる。 Increasing the scanning speed v X, inertial force fi is increased. That is, as the probe is scanned at a higher speed, the variation in the amount of tilt of the probe increases and the measurement error increases.

接触力fcが小さいと、実接触力frがゼロになる閾値が下がる。つまり、接触力を小さくするほど、プローブが浮きやすくなり、測定誤差が大きくなる。   When the contact force fc is small, the threshold value at which the actual contact force fr becomes zero decreases. In other words, the smaller the contact force, the more easily the probe floats and the measurement error increases.

ここまでに、凸面状の形状について説明を行ったが、凹面状の形状の場合も同様である。凹面状の形状の場合は、慣性力fiによって、実接触力frが大きくなる。接触力frが大きくなるとプローブの倒れ量が変動する。また、被測定面からの抗力が大きくなることで、プローブが跳ね上げられ、浮いてしまうこともある。このように、プローブの倒れ量の変動や、プローブの浮きが発生して測定誤差の要因になる。   So far, the convex shape has been described, but the same applies to the concave shape. In the case of a concave shape, the actual contact force fr increases due to the inertial force fi. As the contact force fr increases, the amount of probe tilt varies. Further, the drag from the surface to be measured increases, and the probe may be flipped up and floated. As described above, fluctuations in the amount of tilt of the probe and floating of the probe occur, causing measurement errors.

図8(b)は、2面の境界付近の表面形状を測定する際の課題を説明する図である。このような表面形状を有する測定物として、プリズムやグレーティング等が挙げられる。 FIG. 8B is a diagram illustrating a problem when measuring the surface shape near the boundary between two surfaces. Examples of the measurement object having such a surface shape include a prism and a grating.

プローブ1が、2面が山型になるように境界を有する被測定面w2上をX方向に一定速度vで走査しているとする。この場合も、2面の境界付近において微小区間ΔXの間に被測定面w2の形状が急峻に変わっている。そのため、被測定面w2から見て、プローブ1が離れようとする慣性力fiが働く。すなわち、プローブの倒れ量の変動や、プローブの浮きが発生して測定誤差の要因になる。 Probe 1, and are scanned at a constant velocity v X on the measurement surface w2 in the X direction with a boundary so that two surfaces becomes a mountain type. Also in this case, the shape of the measured surface w2 changes sharply during the minute interval ΔX near the boundary between the two surfaces. Therefore, an inertial force fi that causes the probe 1 to leave as viewed from the surface to be measured w2 works. That is, fluctuations in the amount of probe tilt and probe floating occur, causing measurement errors.

図8(c)は、小径の側面形状を測定する際の課題を説明する図である。このような表面形状を有する測定物として、カメラレンズやピックアップレンズ等が挙げられる。
プローブ1が円筒状の被測定面wb上を一定の接線速度vで走査しているとする。円筒の曲率半径Rとすると、角速度ω=Δθ/Δtは、接線速度vを曲率半径Rで割って、ω=v/Rと表される。この時、プローブ1は、中心方向にap12=Rωだけ加速している。言い換えると、被測定面wbから見て、プローブ1が離れようとする慣性力が働いている。すなわち、プローブの倒れ量の変動や、プローブの浮きが発生して測定誤差の要因になる。
FIG. 8C is a diagram for explaining a problem in measuring a small-diameter side surface shape. Examples of the measurement object having such a surface shape include a camera lens and a pickup lens.
Probe 1 is to be scanned over the cylindrical surface to be measured wb at a constant tangential velocity v t. When the radius of curvature R of the cylinder is assumed, the angular velocity ω = Δθ / Δt is expressed as ω = v t / R by dividing the tangential velocity v t by the radius of curvature R. At this time, the probe 1 is accelerated by a p12 = Rω 2 in the center direction. In other words, when viewed from the measurement target surface wb, the inertial force that the probe 1 tries to leave is working. That is, fluctuations in the amount of probe tilt and probe floating occur, causing measurement errors.

上記で示したように、被測定面から見て、プローブが被測定面から離れる方向あるいは近づく方句に慣性力が働き、接触力が変動するという問題が生じている。特に接触力が小さい場合、プローブが浮いてしまうという問題が生じている。そこで、本発明は、被測定面の形状に起因するプローブ慣性力による接触力の変動やプローブの浮きを低減し、高精度な測定を行う接触式形状測定装置および方法を提供することを目的とする。   As described above, there is a problem that, as viewed from the surface to be measured, the inertial force acts in the direction in which the probe moves away from the surface to be measured or the phrase that approaches the surface, and the contact force varies. In particular, when the contact force is small, there is a problem that the probe floats. Accordingly, an object of the present invention is to provide a contact-type shape measuring apparatus and method for performing highly accurate measurement by reducing fluctuations in contact force due to the inertial force of the probe due to the shape of the surface to be measured and floating of the probe. To do.

上記目的を達成するために、本出願に係る発明は、プローブとプローブを支持するステージとを備え、第一の方向にステージを送りながら、プローブに対して第一の方向と異なる第二の方向に所定の接触力を加えることで、プローブを被測定面に倣い走査させて、被測定面の表面形状を測定する接触式形状測定装置において、第一の方向の送り量に応じて、第二の方向の被測定面の勾配変化量を導出する勾配変化量導出手段と、勾配変化量と同じ向きの補正力を算出する補正力演算手段とを備え、所定の接触力に補正力を加えて測定することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an invention according to the present application includes a probe and a stage that supports the probe, and a second direction different from the first direction with respect to the probe while feeding the stage in the first direction. In the contact-type shape measuring apparatus that measures the surface shape of the surface to be measured by applying a predetermined contact force to the surface to be scanned along the surface to be measured, according to the feed amount in the first direction, the second A gradient change amount deriving means for deriving the gradient change amount of the surface to be measured in the direction of and a correction force calculating means for calculating a correction force in the same direction as the gradient change amount, and applying the correction force to the predetermined contact force It is characterized by measuring.

また、ステージにプローブを支持し、第一の方向にステージを送りながら、プローブに対して第一の方向と異なる第二の方向に所定の接触力を加えることで、プローブを被測定面に倣い走査させて、被測定面の表面形状を測定する接触式形状測定方法において、第一の方向の送り量に応じて、第二の方向の被測定面の勾配変化量を導出し、勾配変化量と同じ向きに補正力を算出し、所定の接触力に補正力を加えて測定することを特徴とする。   In addition, while supporting the probe on the stage and feeding the stage in the first direction, a predetermined contact force is applied to the probe in a second direction different from the first direction, so that the probe follows the surface to be measured. In a contact-type shape measuring method that scans and measures the surface shape of the surface to be measured, the gradient change amount of the surface to be measured in the second direction is derived according to the feed amount in the first direction, and the gradient change amount The correction force is calculated in the same direction, and the measurement is performed by adding the correction force to a predetermined contact force.

本発明の形状測定装置および方法によれば、ステージの送り量に応じて、被測定面の勾配変化量を導出し、勾配変化量と同じ向きの補正力を加えることで、被測定面の形状に起因するプローブ慣性力を打ち消して、プローブが被測定面に実際に加える接触力の変動を低減することができる。よって、高精度な測定を行うことができる。   According to the shape measuring apparatus and method of the present invention, the gradient change amount of the surface to be measured is derived according to the feed amount of the stage, and the correction force in the same direction as the gradient change amount is applied, so that the shape of the surface to be measured is obtained. It is possible to cancel the probe inertia force caused by the above and reduce the fluctuation of the contact force that the probe actually applies to the surface to be measured. Therefore, highly accurate measurement can be performed.

さらに、勾配変化量に係数を乗じて補正力を算出することで、プローブが被測定面に実際に加える接触力の変動をより適切に低減できる効果がある。   Furthermore, by calculating the correction force by multiplying the gradient change amount by a coefficient, there is an effect that the fluctuation of the contact force that the probe actually applies to the measurement surface can be reduced more appropriately.

さらに、第一の方向を直交座標系のXY平面上とし、第二の方向をZ方向とすると、装置構成が比較的簡単でありながら、光学素子の表面形状を測定するのに好適な構成となる。   Furthermore, when the first direction is on the XY plane of the Cartesian coordinate system and the second direction is the Z direction, the apparatus configuration is relatively simple, and the configuration is suitable for measuring the surface shape of the optical element. Become.

さらに、第一の方向を被測定面の接面上とし、第二の方向を被測定面の法線方向とすると、プローブが被測定面の法線方向に倣うため、精度良く測定するのに好適な構成となる。   Furthermore, if the first direction is on the contact surface of the surface to be measured and the second direction is the normal direction of the surface to be measured, the probe follows the normal direction of the surface to be measured. It becomes a suitable structure.

本発明の第一実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the contact-type shape measuring apparatus concerning the 1st Example of this invention. 本発明の第一実施例に係わる補正力を算出する方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the method to calculate the correction force concerning 1st Example of this invention. 本発明の第一実施例に係わる補正力の向きを説明する図である。It is a figure explaining the direction of the correction force concerning the 1st example of the present invention. 本発明の第二実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the contact-type shape measuring apparatus concerning the 2nd Example of this invention. 小さい曲率半径の表面形状の測定におけるプローブ軌跡をコンピュータ演算した結果を表す図である。It is a figure showing the result of having computed the probe locus in the measurement of the surface shape of a small curvature radius. 2面の境界付近の表面形状の測定におけるプローブ軌跡をコンピュータ演算した結果を表す図である。It is a figure showing the result of having computed the probe locus | trajectory in the measurement of the surface shape of the boundary vicinity of 2 surfaces. 本発明の第三実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the contact-type shape measuring apparatus concerning the 3rd Example of this invention. 従来技術の課題を説明する図である。It is a figure explaining the subject of a prior art.

以下、本発明を実施するための各形態を添付図面に基づいて説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の第一実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。   FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a contact-type shape measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention.

ステージ6に支持されているプローブ1は、被測定物2の被測定面wを倣い走査する。プローブ1はリニアガイド3を介して、ハウジング4に支持されている。これにより、ハウジング4に対して1軸方向に移動することができる。つまり、リニアガイド3は、移動方向には摩擦抵抗や粘性抵抗を小さくして動き易く、移動方向に直交する方向には剛性を高くして動き難い構造としている。このような特性を得る手段として、空気軸受等が挙げられる。プローブ1とハウジング4の間には、バネ機構5が設けられている。また、ハウジング4はステージ6の被測定物2に対向した下面6aの先端部に取り付けられている。被測定物2は、台座14上に載置されている。   The probe 1 supported by the stage 6 scans the surface to be measured w of the object 2 to be measured. The probe 1 is supported by the housing 4 via the linear guide 3. Thereby, it is possible to move in one axial direction with respect to the housing 4. That is, the linear guide 3 has a structure in which the frictional resistance and the viscous resistance are reduced in the moving direction so as to move easily, and the rigidity is increased in the direction orthogonal to the moving direction so that the linear guide 3 is difficult to move. Examples of means for obtaining such characteristics include an air bearing. A spring mechanism 5 is provided between the probe 1 and the housing 4. The housing 4 is attached to the tip of the lower surface 6a of the stage 6 facing the object 2 to be measured. The DUT 2 is placed on the pedestal 14.

ハウジング4が取り付けられているステージ6の先端部には、貫通孔6bが設けられている。プローブ1の軸方向の端部1dに取り付けられたミラー1mの3次元位置データを測定する(後述)。3次元位置の測定データは、信号線20及び信号線21を介して測定データ演算手段13に送られる。また、測定された3次元位置の測定データは、信号線20及び信号線22を介してZ駆動制御手段12にも送信される。   A through hole 6b is provided at the tip of the stage 6 to which the housing 4 is attached. The three-dimensional position data of the mirror 1m attached to the end 1d in the axial direction of the probe 1 is measured (described later). The measurement data at the three-dimensional position is sent to the measurement data calculation means 13 via the signal line 20 and the signal line 21. The measured data of the measured three-dimensional position is also transmitted to the Z drive control means 12 via the signal line 20 and the signal line 22.

プローブ1は、プローブシャフト1a、プローブシャフト1aの軸方向の一端に取り付けられたプローブチップ1b、プローブチップ1bの先端に配置された球1cを備えている。プローブシャフト1aは、ハウジング4の壁から内方に延在するフランジ部4aの先端に配置されたリニアガイド3により軸方向に移動可能に支持されている。フランジ部4aは、ハウジング4の軸方向に所定間隔で2箇所に設けられている。   The probe 1 includes a probe shaft 1a, a probe tip 1b attached to one end of the probe shaft 1a in the axial direction, and a sphere 1c arranged at the tip of the probe tip 1b. The probe shaft 1 a is supported so as to be movable in the axial direction by a linear guide 3 disposed at the tip of a flange portion 4 a extending inward from the wall of the housing 4. The flange portion 4 a is provided at two locations at a predetermined interval in the axial direction of the housing 4.

図3及び図7に示すように、プローブチップ1bの先端に配置された球1cは、プローブシャフト1aに挿着され、外部に延伸自在のプローブロッド1dの先端に固定されている。従って、球1cは、プローブロッド1dの伸張に応じてプローブチップ1bの先端から突出する。   As shown in FIGS. 3 and 7, a sphere 1c arranged at the tip of the probe tip 1b is inserted into the probe shaft 1a and fixed to the tip of a probe rod 1d that can be extended to the outside. Accordingly, the sphere 1c protrudes from the tip of the probe tip 1b according to the extension of the probe rod 1d.

バネ機構5は、リニアガイド3の移動軸に沿った方向に対して、プローブ1とステージ6との相対位置に従った力を発生するバネ要素として働く。ここで、リニアガイド3の移動軸は重力方向(Z方向)とする。バネ機構5としては、材料剛性を利用した板バネや磁気力を利用した磁気バネが挙げられる。また、リニアガイド3とバネ機構5を別体の構成としたが、一体構成として2つの機能を得ることもできる。例えば、プローブ1の上下に板バネを2枚並列に取り付ける構成が挙げられる。   The spring mechanism 5 functions as a spring element that generates a force according to the relative position between the probe 1 and the stage 6 in the direction along the movement axis of the linear guide 3. Here, the movement axis of the linear guide 3 is the gravity direction (Z direction). Examples of the spring mechanism 5 include a plate spring using material rigidity and a magnetic spring using magnetic force. Further, although the linear guide 3 and the spring mechanism 5 are configured separately, two functions can be obtained as an integrated configuration. For example, the structure which attaches two leaf | plate springs on the probe 1 in parallel is mentioned.

プローブ1とステージ6とのZ方向の相対位置に関して、特にプローブ1にかかる重力とバネ機構5によって発生する力がつりあう状態の位置を、中立位置と定義する。プローブ1が被測定面wに接している状態で、ステージ6が中立位置から押し込まれると、押し込まれた量に従った力がプローブ1に加わる。このようにして、プローブ1に加わる力を接触力とする。静的な状態であれば、プローブ1に加わる接触力と同じ力が被測定面wのZ方向にも加わる。また、ステージ6を中立位置から押し込む量を押し込み量とする。   Regarding the relative position of the probe 1 and the stage 6 in the Z direction, a position where the gravity applied to the probe 1 and the force generated by the spring mechanism 5 are balanced is defined as a neutral position. When the stage 6 is pushed from the neutral position while the probe 1 is in contact with the surface to be measured w, a force according to the pushed amount is applied to the probe 1. In this way, the force applied to the probe 1 is defined as the contact force. In the static state, the same force as the contact force applied to the probe 1 is also applied in the Z direction of the surface to be measured w. Further, the amount of pushing the stage 6 from the neutral position is defined as the pushing amount.

プローブ1の軸方向の他の端部1dにはミラー1mが取り付けられており、レーザ測長等を利用してプローブ1の3次元位置を測定することができる。ステージ6の貫通孔6bより更に先端に位置する端部の上面6cにはミラー6mが取り付けられており、同様にステージ6の3次元位置を測定することができる。ミラー6mによって得られた3次元位置の測定データは、信号線23及び信号線22を介してZ駆動制御手段12に送られる。また、プローブ1とステージ6の3次元位置の測定データから、両者のZ方向の相対位置を得ることができる。   A mirror 1m is attached to the other end 1d in the axial direction of the probe 1, and the three-dimensional position of the probe 1 can be measured using laser measurement or the like. A mirror 6m is attached to the upper surface 6c of the end located further on the tip than the through hole 6b of the stage 6, and the three-dimensional position of the stage 6 can be measured similarly. The measurement data of the three-dimensional position obtained by the mirror 6m is sent to the Z drive control means 12 via the signal line 23 and the signal line 22. Also, the relative position in the Z direction can be obtained from the measurement data of the three-dimensional positions of the probe 1 and the stage 6.

ステージ6には、Z駆動手段7とXY駆動手段8が取り付けられている。Z駆動手段7は、ステージ6をZ軸並進方向に駆動することができる。XY駆動手段8は、ステージ6をXY軸並進方向に駆動することができる。ここで、ステージ6を駆動するための駆動手段の駆動軸は、並進方向や回転方向、あるいはそれらの組み合わせ等適宜変更しても良い。XY駆動手段8は、ベース部材15上に載置されている。   A Z driving means 7 and an XY driving means 8 are attached to the stage 6. The Z drive means 7 can drive the stage 6 in the Z-axis translation direction. The XY drive unit 8 can drive the stage 6 in the XY axis translation direction. Here, the drive shaft of the drive means for driving the stage 6 may be appropriately changed such as a translation direction, a rotation direction, or a combination thereof. The XY drive unit 8 is placed on the base member 15.

XY駆動手段8を駆動して、ステージ6を直交座標系のXY平面上(第一の方向)に移動させると、プローブ1はXY方向に移動しながら被測定面wのZ方向の形状に倣う。この時、同時にZ駆動手段7も後述する方法で駆動する。   When the XY driving unit 8 is driven to move the stage 6 on the XY plane (first direction) of the orthogonal coordinate system, the probe 1 follows the shape of the surface to be measured w in the Z direction while moving in the XY direction. . At this time, the Z driving means 7 is also driven by the method described later.

勾配変化量導出手段10は、予め保管しておいた被測定面wの勾配変化量hの情報を導出し、補正力演算手段11に送る。補正力演算手段11は、勾配変化量hの情報に基づいて補正力faを算出する。その後、補正力faの情報をZ駆動制御手段12に送る。プローブ1とステージ6のZ方向(第二の方向)の相対位置の情報も同じくZ駆動制御手段12に送られる。   The gradient change amount deriving unit 10 derives information on the gradient change amount h of the measured surface w stored in advance and sends the information to the correction force calculating unit 11. The correction force calculator 11 calculates the correction force fa based on the information on the gradient change amount h. Thereafter, information on the correction force fa is sent to the Z drive control means 12. Information on the relative position of the probe 1 and the stage 6 in the Z direction (second direction) is also sent to the Z drive control means 12.

Z駆動制御手段12には、予め所定の接触力fcを発生させるために必要な押し込み量Aが保存されている。さらに、補正力faを発生させるために必要なステージ6の押し込み量Bを求める。押し込み量Aと押し込み量Bを合計した量が目標とする押し込み量となる。Z駆動制御手段12は、現在の押し込み量と、目標とする押し込み量との差が小さくなるようなステージ6のZ方向の駆動量を求める。現在の押し込み量は、プローブ1とステージ6のZ方向の相対位置より求めることができる。求めた駆動量の情報をZ駆動手段7に送る。Z駆動手段7は、駆動量の情報に基づいてステージ6をZ方向に駆動する。ステージ6が目標とする押し込み量になっていれば、プローブ1に所定の接触力fcと補正力faとを合計した力が加わる。   The Z drive control means 12 stores in advance a push amount A necessary for generating a predetermined contact force fc. Further, the pushing amount B of the stage 6 necessary for generating the correction force fa is obtained. The total amount of the push amount A and the push amount B is the target push amount. The Z drive control means 12 obtains the drive amount in the Z direction of the stage 6 so that the difference between the current push amount and the target push amount becomes small. The current pushing amount can be obtained from the relative position of the probe 1 and the stage 6 in the Z direction. Information on the obtained drive amount is sent to the Z drive means 7. The Z drive means 7 drives the stage 6 in the Z direction based on the drive amount information. If the stage 6 has a target pushing amount, a force obtained by adding a predetermined contact force fc and a correction force fa is applied to the probe 1.

プローブ1の3次元位置の測定データは、測定データ演算手段13にも送られる。被測定面wの全面を走査して測定データを取得した後、測定データ演算手段13は、必要に応じて測定データを解析し、形状情報として出力する。形状情報は、光学素子の性能評価、あるいは成形用金型の修正加工量の計算などに用いられる。   The measurement data of the three-dimensional position of the probe 1 is also sent to the measurement data calculation means 13. After acquiring the measurement data by scanning the entire surface to be measured w, the measurement data calculation means 13 analyzes the measurement data as necessary and outputs it as shape information. The shape information is used for evaluating the performance of the optical element or calculating the correction processing amount of the molding die.

続けて、補正力faを算出する方法を、図2のフローチャートを参考に説明する。   Next, a method for calculating the correction force fa will be described with reference to the flowchart of FIG.

S101で演算を開始する。S102で補正力faを加える離散時間Δtを定める。S103でステージ送り方向に、ステージ送り座標点列{s}を定める。{ }は点列データであることを表す。ステージをXY方向に送る場合、{s}={(X、Y)}である。S104でステージ送り座標点列{s}に対応したステージ送り速度点列{v}={(vX、vY)}を定める。ステージ送り座標点列{s}とステージ送り速度点列{v}に基づいて、XY駆動手段8を駆動する。これにより、ステージ6をXY方向に指定の走査軌跡で動かすことができる。プローブ1のXY方向の動きも、ステージ6のXY方向の動きに従って決まる。   Calculation is started in S101. In S102, a discrete time Δt for applying the correction force fa is determined. In step S103, a stage feed coordinate point sequence {s} is determined in the stage feed direction. {} Represents point sequence data. When sending the stage in the XY direction, {s} = {(X, Y)}. In S104, a stage feed speed point sequence {v} = {(vX, vY)} corresponding to the stage feed coordinate point sequence {s} is determined. The XY driving means 8 is driven based on the stage feed coordinate point sequence {s} and the stage feed speed point sequence {v}. Thereby, the stage 6 can be moved in the X and Y directions along the designated scanning locus. The movement of the probe 1 in the XY direction is also determined according to the movement of the stage 6 in the XY direction.

次に、S105で、被測定面の勾配変化量hを表す勾配変化量点列{h}={ΔZ/Δs}を定める。ここで、{Δs}は、{Δs}={v}Δtである。S106で補正力点列{fa}=α{vh}=α{v(ΔZ/Δs)}を演算し、算出する。αは補正力係数である。補正力係数αをプローブ1の質量mと等しく設定すると、補正力faは、慣性力fiと等しくなる。実際には、質量mの測定誤差や測定ノイズ等を考慮して決める。補正力点列{fa}をステージ送り座標点列{s}と対応させて予め算出しておけば、ステージ6がステージ送り座標点列{s}上のある座標を通過するタイミングで、対応する補正力faをプローブ1に加えることができる。ここで、離散時間Δtを一律として説明しているが、勾配変化量hが急峻な場所では細かく設定し、勾配変化量hが緩やかな場所では粗く設定するように、場所に応じて可変としても良い。S107で演算を終了する。 Next, in S105, a gradient change point sequence {h} = {Δ 2 Z / Δs 2 } representing the gradient change amount h of the measured surface is determined. Here, {Δs} is {Δs} = {v} Δt. In S106, the correction force point sequence {fa} = α {v 2 h} = α {v 22 Z / Δs 2 )} is calculated and calculated. α is a correction force coefficient. When the correction force coefficient α is set equal to the mass m of the probe 1, the correction force fa becomes equal to the inertial force fi. Actually, it is determined in consideration of measurement error of mass m, measurement noise and the like. If the correction force point sequence {fa} is previously calculated in correspondence with the stage feed coordinate point sequence {s}, the corresponding correction is performed at the timing when the stage 6 passes a certain coordinate on the stage feed coordinate point sequence {s}. A force fa can be applied to the probe 1. Here, although the discrete time Δt is described as being uniform, it may be variable according to the location so that it is finely set at a place where the gradient change amount h is steep and coarsely set at a place where the gradient change amount h is gentle. good. In S107, the calculation ends.

図3は、本発明の第一実施例に係わる補正力の向きを説明する図である。図3(a)は、凸面状の被測定面である場合の補正力faの向きを表している。被測定面wがZ方向の下側にあるため、所定の接触力fcは下向きに加えられる。また、被測定面wが凸面状であれば、勾配変化量hは下向きになる。勾配変化量hが下向きである場合、慣性力fiは、勾配変化量hの反対方向の上向きに働く。ここで、補正力faは、前述したように慣性力fiが働くことによる実接触力frの変動を低減することが目的である。そのため、補正力faを、慣性力fiの反対方向の下向きに加える。   FIG. 3 is a diagram for explaining the direction of the correction force according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3A shows the direction of the correction force fa in the case of a convex measured surface. Since the measured surface w is on the lower side in the Z direction, the predetermined contact force fc is applied downward. Further, if the measured surface w is convex, the gradient change amount h is downward. When the gradient change amount h is downward, the inertial force fi works upward in the direction opposite to the gradient change amount h. Here, the purpose of the correction force fa is to reduce the fluctuation of the actual contact force fr due to the inertial force fi acting as described above. Therefore, the correction force fa is applied downward in the direction opposite to the inertia force fi.

図3(b)は、凹面状の被測定面である場合の補正力faの向きを表している。凹面状の被測定面であれば、勾配変化量hは上向きになる。勾配変化量hが上向きである場合、慣性力fiは、勾配変化量hの反対方向の下向きに働く。そのため、補正力faを上向きに加える。   FIG. 3B shows the direction of the correction force fa when the surface is a concave measurement surface. In the case of a concave surface to be measured, the gradient change amount h is upward. When the gradient change amount h is upward, the inertial force fi works downward in the direction opposite to the gradient change amount h. Therefore, the correction force fa is applied upward.

上記で示したように補正力faはいずれも勾配変化量hと同じ向きになる。勾配変化量hと同じ向きの補正力faを加えれば、補正力faと慣性力fiとが互いに打ち消し合い、実接触力frの変動を低減できる。実接触力frの変動を低減できれば、プローブの倒れ量の変動や、プローブの浮きの発生を抑えることができる。すなわち、高精度な測定を行うことができる。   As described above, the correction force fa is in the same direction as the gradient change amount h. If the correction force fa in the same direction as the gradient change amount h is applied, the correction force fa and the inertia force fi cancel each other, and the fluctuation of the actual contact force fr can be reduced. If fluctuations in the actual contact force fr can be reduced, fluctuations in the probe tilt amount and occurrence of probe floating can be suppressed. That is, highly accurate measurement can be performed.

図4は、本発明の第二実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。第二実施例では、第一実施例に対して補正力発生手段9が追加されている。従って、第一実施例と同じ部分の説明は省略している。補正力発生手段9は、ヨーク、永久磁石、コイル(それぞれ不図示)からなる磁気回路で構成されている。そして、補正力演算手段11から受け取った補正力の情報に基づいて、コイルに流れる電流を制御する。これにより、プローブ1に補正力を加える。このような構成にすれば、第一実施例のようにステージ6の押し込み量を制御することで補正力を加える構成に比べて、高速に補正力を制御することができる。   FIG. 4 is a diagram for explaining the configuration of the contact-type shape measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, correction force generating means 9 is added to the first embodiment. Therefore, the description of the same part as the first embodiment is omitted. The correction force generating means 9 is composed of a magnetic circuit composed of a yoke, a permanent magnet, and a coil (each not shown). Based on the correction force information received from the correction force calculation means 11, the current flowing in the coil is controlled. Thereby, a correction force is applied to the probe 1. With such a configuration, the correction force can be controlled at a higher speed than the configuration in which the correction force is applied by controlling the push amount of the stage 6 as in the first embodiment.

図5は、小さい曲率半径の表面形状の測定におけるプローブ軌跡をコンピュータ演算した結果を表す図である。ステージをX方向に送った場合のプローブ軌跡(XZ方向)を表している。横軸がX方向、縦軸がZ方向である。プローブ軌跡101は本発明の装置を用いた場合である。プローブ軌跡102は従来の装置を用いた場合である。被測定面は、曲率半径1mmの凸球面とする。プローブ質量を10gとする。ステージを図5の左側(傾斜角度が緩やかな側)から右側(傾斜角度が急な側)に傾斜を下る方向に送っている。ステージ送り速度を2mm/sとする。横軸は傾斜面が45°付近から90°付近を表している。2つのプローブ軌跡を比較すると、図5の右側において、両者の差が大きくなっている。これは、プローブ軌跡101が被測定面を倣い走査しているのに対して、プローブ軌跡102が被測定面から離れ、浮いている状態を示している。   FIG. 5 is a diagram showing the result of computer calculation of the probe trajectory in the measurement of the surface shape with a small radius of curvature. The probe locus (XZ direction) when the stage is sent in the X direction is shown. The horizontal axis is the X direction, and the vertical axis is the Z direction. The probe trajectory 101 is a case where the apparatus of the present invention is used. The probe trajectory 102 is a case where a conventional apparatus is used. The surface to be measured is a convex spherical surface having a curvature radius of 1 mm. The probe mass is 10 g. The stage is sent from the left side (the side where the tilt angle is gentle) to the right side (the side where the tilt angle is steep) in FIG. The stage feed speed is 2 mm / s. The horizontal axis represents the inclined surface from about 45 ° to about 90 °. When the two probe trajectories are compared, the difference between the two is large on the right side of FIG. This shows a state in which the probe trajectory 101 is scanning the surface to be measured while the probe trajectory 102 is away from the surface to be measured and is floating.

図6は、2面の境界付近の表面形状の測定におけるプローブ軌跡をコンピュータ演算した結果を表す図である。ステージをX方向に送った場合のプローブ軌跡(XZ方向)を表している。横軸がX方向、縦軸がZ方向である。プローブ軌跡201は本発明の装置を用いた場合である。プローブ軌跡202は従来の装置を用いた場合である。被測定面は、両開角150°の山型の形状を有する面である。対称に設置されているならば、15°の上り傾斜面と15°の下り傾斜面の境界を有する面とも言える。プローブ質量を10gとする。ステージを図6の左側(上り傾斜面側)から右側(下り傾斜面側)に送っている。ステージ送り速度を2mm/sとする。2つのプローブ軌跡を比較すると、山型の頂点を境界に、両者の差が大きくなっている。これは、プローブ軌跡201が被測定面を倣い走査しているのに対して、プローブ軌跡202は被測定面から離れ、浮いている状態を示している。   FIG. 6 is a diagram showing the result of computer calculation of the probe trajectory in the measurement of the surface shape near the boundary between the two surfaces. The probe locus (XZ direction) when the stage is sent in the X direction is shown. The horizontal axis is the X direction, and the vertical axis is the Z direction. The probe locus 201 is a case where the apparatus of the present invention is used. The probe trajectory 202 is a case where a conventional apparatus is used. The surface to be measured is a surface having a mountain shape with both opening angles of 150 °. If they are installed symmetrically, it can be said that the surface has a boundary between an upward inclined surface of 15 ° and a downward inclined surface of 15 °. The probe mass is 10 g. The stage is sent from the left side (upward inclined surface side) to the right side (downward inclined surface side) of FIG. The stage feed speed is 2 mm / s. When the two probe loci are compared, the difference between the two is large with the peak of the mountain shape as the boundary. This shows a state in which the probe trajectory 201 scans the surface to be measured while the probe trajectory 202 is separated from the surface to be measured and floats.

上記2つの結果から、勾配変化量と同じ向きに補正力を加えることにより、慣性力を打ち消すことができ、被測定面に実際に加わる接触力の変動やプローブの浮きを抑えることができることがわかる。よって、高精度な測定を行うことができる。   From the above two results, it can be seen that by applying a correction force in the same direction as the gradient change amount, the inertial force can be canceled out, and fluctuations in the contact force actually applied to the surface to be measured and probe floating can be suppressed. . Therefore, highly accurate measurement can be performed.

図7は、本発明の第三実施例に係わる接触式形状測定装置の構成を説明する図である。第三実施例では、Z方向に駆動するリニアガイド3の代わりに、X軸回りとY軸回りに回転する回転ガイド3bが取り付けられている。また、Z駆動手段12の代わりに、XY駆動制御手段12bが取り付けられている。XY駆動制御手段12bからの駆動量の情報は、XY駆動手段8に送られる。これにより、被測定物2の円筒状の側面wbを測定しやすくしている。   FIG. 7 is a diagram for explaining the configuration of a contact-type shape measuring apparatus according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, instead of the linear guide 3 driven in the Z direction, a rotation guide 3b rotating around the X axis and the Y axis is attached. Further, instead of the Z drive means 12, an XY drive control means 12b is attached. Information on the drive amount from the XY drive control means 12 b is sent to the XY drive means 8. This makes it easy to measure the cylindrical side surface wb of the DUT 2.

本実施例では、プローブ1は、プローブチップ1bから延伸するプローブロッド1dの先端に取り付けた球1cが、被測定物2の円筒状の側面wbに接触することで表面形状を測定している。   In the present embodiment, the probe 1 measures the surface shape by bringing a sphere 1c attached to the tip of a probe rod 1d extending from the probe tip 1b into contact with the cylindrical side surface wb of the object 2 to be measured.

具体的な駆動方法は、ステージ6を側面の接面上に送りながら、側面の法線方向に接触力を加える。または、ステージ6をXZ平面(もしくはYZ平面)に送りながら、Y方向(もしくはX方向)に接触力を加える。このような構成によれば、被測定物2の円筒状の側面のように垂直な面においても、所定の接触力に慣性力に応じた補正力を加えることで、測定面に実際に加わる接触力の変動やプローブの浮きを抑えることができる。   A specific driving method applies contact force in the normal direction of the side surface while feeding the stage 6 onto the contact surface of the side surface. Alternatively, a contact force is applied in the Y direction (or X direction) while feeding the stage 6 to the XZ plane (or YZ plane). According to such a configuration, even on a vertical surface such as the cylindrical side surface of the object 2 to be measured, the contact actually applied to the measurement surface by applying a correction force corresponding to the inertial force to the predetermined contact force. Force fluctuations and probe lift can be suppressed.

1 プローブ
2 被測定物
6 ステージ
9 補正力発生手段
10 勾配変化量導出手段
11 補正力演算手段
12 Z駆動制御手段
12b XY駆動制御手段
13 測定データ演算手段
fa 補正力
fc 所定の接触力
fi 慣性力
fr 実接触力
h 勾配変化量
w、wb 被測定面
101、201 本発明によるプローブ軌跡
102、202 従来技術によるプローブ軌跡
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Probe 2 Measured object 6 Stage 9 Correction force generation means 10 Gradient change amount derivation means 11 Correction force calculation means 12 Z drive control means 12b XY drive control means 13 Measurement data calculation means fa Correction force fc Predetermined contact force fi Inertial force fr actual contact force h gradient change amount w, wb surface to be measured 101, 201 probe trajectory 102, 202 according to the present invention probe trajectory according to the prior art

Claims (5)

プローブとプローブを支持するステージとを備え、第一の方向にステージを送りながら、プローブに対して第一の方向と異なる第二の方向に所定の接触力を加えることで、プローブを被測定面に倣い走査させて、被測定面の表面形状を測定する接触式形状測定装置において、第一の方向の送り量に応じて、第二の方向の被測定面の勾配変化量を導出する勾配変化量導出手段と、勾配変化量と同じ向きの補正力を算出する補正力演算手段とを備え、所定の接触力に補正力を加えて測定することを特徴とする接触式形状測定装置。   A probe and a stage for supporting the probe, and applying the predetermined contact force to the probe in a second direction different from the first direction while feeding the stage in the first direction, the probe to be measured In the contact-type shape measuring device that measures the surface shape of the surface to be measured by scanning the surface of the surface, the gradient change that derives the gradient change amount of the surface to be measured in the second direction according to the feed amount in the first direction A contact-type shape measuring apparatus comprising: a quantity derivation unit; and a correction force calculation unit that calculates a correction force in the same direction as the gradient change amount, and performs measurement by adding the correction force to a predetermined contact force. 勾配変化量に係数を乗じて補正力を算出することを特徴とする請求項1に記載の接触式形状測定装置。   The contact-type shape measuring apparatus according to claim 1, wherein the correction force is calculated by multiplying the gradient change amount by a coefficient. 第一の方向は直交座標系のXY平面上の方向であり、第二の方向はZ方向であることを特徴とする請求項1に記載の接触式形状測定装置。   The contact-type shape measuring apparatus according to claim 1, wherein the first direction is a direction on an XY plane of an orthogonal coordinate system, and the second direction is a Z direction. 第一の方向は被測定面の接面上の方向であり、第二の方向は被測定面の法線方向であることを特徴とする請求項1に記載の接触式形状測定装置。   The contact-type shape measuring apparatus according to claim 1, wherein the first direction is a direction on the contact surface of the surface to be measured, and the second direction is a normal direction of the surface to be measured. ステージにプローブを支持し、第一の方向にステージを送りながら、プローブに対して第一の方向と異なる第二の方向に所定の接触力を加えることで、プローブを被測定面に倣い走査させて、被測定面の表面形状を測定する接触式形状測定方法において、第一の方向の送り量に応じて、第二の方向の被測定面の勾配変化量を導出し、勾配変化量と同じ向きに補正力を算出し、所定の接触力に補正力を加えて測定することを特徴とする接触式形状測定方法。   By supporting the probe on the stage and feeding the stage in the first direction, applying a predetermined contact force to the probe in a second direction different from the first direction, the probe is scanned following the surface to be measured. In the contact-type shape measuring method for measuring the surface shape of the measured surface, the gradient change amount of the measured surface in the second direction is derived according to the feed amount in the first direction, and is the same as the gradient change amount. A contact-type shape measuring method, wherein a correction force is calculated for a direction, and the correction force is added to a predetermined contact force for measurement.
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