JP2014073598A - Gas barrier film - Google Patents

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Masashi Mogi
昌司 茂木
Hiroyuki Kamibayashi
浩行 上林
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas barrier film having a high gas barriering capacity and an excellent repeated reproducibility of the gas barriering capacity.SOLUTION: The provided gas barrier film is obtained by laminating, in proper order, the following [A] layer 2 and [B] layer 3 on at least one surface of a biaxially oriented polyester film 1 satisfying specified requisites: [A] layer: a cross-linked resin layer having a pencil hardness of H or higher and a surface free energy of 45 mN/m or below; [B] layer: a silicon-containing inorganic layer having a thickness of 10-1000 nm.

Description

本発明は、高いガスバリア性が必要とされる食品、医薬品の包装用途や太陽電池、電子ペーパー、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイなどの電子部材用途に使用されるガスバリア性フィルムに関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas barrier film used for food and pharmaceutical packaging applications requiring high gas barrier properties, and for electronic member applications such as solar cells, electronic paper, and organic electroluminescence (EL) displays.

二軸配向ポリエステルフィルムの表面に、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の無機物(無機酸化物を含む)を使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法(PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(CVD法)等を利用して、その無機物の蒸着膜を形成してなるガスバリア性フィルムは、水蒸気や酸素などの各種ガスの遮断を必要とする食品や医薬品などの包装材および薄型テレビ、太陽電池などの電子デバイス部材として用いられている。   Physical vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, ion plating, etc. using inorganic materials (including inorganic oxides) such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide on the surface of the biaxially oriented polyester film ( PVD method) or chemical vapor deposition method (CVD method) such as plasma chemical vapor deposition method, thermal chemical vapor deposition method, photochemical vapor deposition method, etc. The gas barrier film thus formed is used as a packaging material for foods and pharmaceuticals and the like for electronic devices such as flat-screen TVs and solar cells that require blocking of various gases such as water vapor and oxygen.

ガスバリア性向上技術としては、例えば、有機ケイ素化合物の蒸気と酸素を含有するガスを用いてプラズマCVD法により基材上に、ケイ素酸化物を主体とし、炭素、水素、ケイ素及び酸素を少なくとも1種類含有した化合物とすることによって、透明性を維持しつつガスバリア性を向上させる方法が用いられている(特許文献1)。また、プラズマCVD法などの成膜方法以外のガスバリア性向上技術としては、ガスバリア性を悪化させるピンホールやクラックの発生原因となる突起や凹凸を減少させた平滑基材や表面平滑化を目的としたアンカーコート層を設けた基材が用いられている(特許文献2)。   As a gas barrier property improving technique, for example, a gas containing an organic silicon compound vapor and oxygen is used to form a silicon oxide as a main component on a substrate by a plasma CVD method, and at least one kind of carbon, hydrogen, silicon and oxygen. A method of improving gas barrier properties while maintaining transparency by using a compound that has been contained is used (Patent Document 1). In addition, as a gas barrier property improving technique other than a film forming method such as a plasma CVD method, the purpose is a smooth base material or a surface smoothing with reduced protrusions and irregularities that cause generation of pinholes and cracks that deteriorate the gas barrier property. A base material provided with an anchor coat layer is used (Patent Document 2).

特開平8−142252号公報(特許請求の範囲)JP-A-8-142252 (Claims) 特開2002−113826号公報(特許請求の範囲)JP 2002-113826 A (Claims)

しかしながら、プラズマCVD法によりケイ素酸化物を主成分としたガスバリア性の層を形成する方法では、基材表面がプラズマの発光熱やイオン、ラジカルの衝突などの影響を受けるため、基材の種類によって、形成されるガスバリア層の膜質は異なり、安定したガスバリア性が得られないなどの問題があった。   However, in the method of forming a gas barrier layer mainly composed of silicon oxide by the plasma CVD method, the surface of the substrate is affected by plasma emission heat, ion, radical collision, etc. The film quality of the formed gas barrier layer is different, and there is a problem that a stable gas barrier property cannot be obtained.

一方、ガスバリア層を形成する基材に平滑基材や表面平滑化を目的としたアンカーコート付き基材を用いた方法は、ピンホールやクラックの発生を防止することでガスバリア性の再現性は向上するものの、形成されるガスバリア層の膜質は改善されないため、飛躍的な性能の向上はできていなかった。   On the other hand, the method using a smooth substrate or a substrate with an anchor coat for the purpose of smoothing the surface of the substrate that forms the gas barrier layer improves the reproducibility of gas barrier properties by preventing the occurrence of pinholes and cracks. However, since the film quality of the formed gas barrier layer is not improved, the performance has not been dramatically improved.

本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、基材の種類を選ぶことなく、飛躍的なガスバリア性の向上並びに安定したガスバリア性の発現を可能にしたガスバリア性フィルムを提供せんとするものである。   In view of the background of such conventional technology, the present invention is intended to provide a gas barrier film that can dramatically improve gas barrier properties and develop stable gas barrier properties without selecting the type of base material. .

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用する。すなわち、
(1)以下の[1]から[7]のいずれかを満たす二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、以下の[A]層と[B]層がこの順で積層されたガスバリア性フィルム。
[A]層:鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下の架橋樹脂層
[B]層:厚みが10〜1000nmの含ケイ素無機層
[1]紫外線吸収剤を含有し、かつ波長380nmでの透過率が5%以下
[2]180℃において30分間加熱処理した後の[A]層を積層する側の面におけるオリゴマー析出量が3.0mg/m以下
[3]長さ5mm以上かつ最大深さ0.5μm以上の傷が70個/m以下
[4]少なくとも片面に易接着層([C]層)を有するポリエステルフィルムであって、[C]層の層厚みが50〜150nmであって、[C]層と[A]層がこの順で積層された状態で[A]層側の測定波長400〜600nmにおける分光反射率のうねり振幅が2.0%以下
[5]190℃におけるフィルム長手方向および幅方向の伸度が180%以上であり、かつ該ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下
[6]温度120℃、湿度100%の環境下において36時間エージング後の伸度保持率が40〜100%
[7]50℃から150℃までのMDの線膨張係数(α−MD)とTDの線膨張係数(α−TD)の平均である線膨張係数αが22ppm/℃以下
(2)前記[B]層が、亜鉛化合物とケイ素酸化物とを含む組成により構成されたものであること
(3)前記[B]層が、以下の[B1]層または[B2]層のいずれかであること
[B1]層:酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの共存相からなる層
[B2]層:硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層
(4)前記[B]層が[B1]層であり、該[B1]層が、ICP発光分光分析法により測定される亜鉛(Zn)原子濃度が20〜40atom%、ケイ素(Si)原子濃度が5〜20atom%、アルミニウム(Al)原子濃度が0.5〜5atom%、酸素(O)原子濃度が35〜70atom%である組成により構成されたものであること
(5)前記[B]層が[B2]層であり、該[B2]層が、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が0.7〜0.9である組成により構成されたものであること
(6)前記[A]層の平均表面粗さRaが1nm以下であること
(7)前記[B]層の平均表面粗さRaが1.5nm以下であること
(8)前記[B]層表面または前記二軸配向ポリエステルフィルムと[A]層との間に、透明導電層を有すること
(9)前記透明導電層がインジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、アルミニウム含有酸化亜鉛(Al/ZnO)、ガリウム含有酸化亜鉛(Ga/ZnO)、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブのいずれかを含むこと
(10)(1)〜(9)のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを有する太陽電池
(11)(1)〜(9)のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを有する表示体素子
を好ましい態様とする。
The present invention employs the following means in order to solve such problems. That is,
(1) A gas barrier film in which the following [A] layer and [B] layer are laminated in this order on at least one surface of a biaxially oriented polyester film satisfying any of the following [1] to [7].
[A] layer: a crosslinked resin layer having a pencil hardness of H or more and a surface free energy of 45 mN / m or less [B] layer: a silicon-containing inorganic layer having a thickness of 10 to 1000 nm [1] containing an ultraviolet absorber and having a wavelength The transmittance at 380 nm is 5% or less. [2] The amount of oligomer deposited on the surface on which the [A] layer is laminated after heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes is 3.0 mg / m 2 or less. [3] Length 5 mm The number of scratches with a maximum depth of 0.5 μm or more is 70 / m 2 or less. [4] A polyester film having an easy-adhesion layer ([C] layer) on at least one surface, and the layer thickness of the [C] layer is 50. In the state where the [C] layer and the [A] layer are laminated in this order, the undulation amplitude of the spectral reflectance at the measurement wavelength of 400 to 600 nm on the [A] layer side is 2.0% or less [5] ] Film longitudinal direction at 190 ° C The elongation in the width direction is 180% or more, and the surface orientation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film is 0.14 or less. [6] Aging for 36 hours in an environment of temperature 120 ° C. and humidity 100%. Later elongation retention is 40-100%
[7] The linear expansion coefficient α, which is the average of the linear expansion coefficient (α-MD) of MD from 50 ° C. to 150 ° C. and the linear expansion coefficient (α-TD) of TD, is 22 ppm / ° C. or less. The layer is composed of a composition containing a zinc compound and a silicon oxide. (3) The [B] layer is one of the following [B1] layer or [B2] layer: B1] layer: a layer composed of a coexisting phase of zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide [B2] layer: a layer composed of a coexisting phase of zinc sulfide and silicon dioxide (4) The [B] layer is a [B1] layer, The [B1] layer has a zinc (Zn) atom concentration of 20 to 40 atom%, a silicon (Si) atom concentration of 5 to 20 atom%, and an aluminum (Al) atom concentration of 0.5 as measured by ICP emission spectroscopy. ˜5 atom%, oxygen (O) atom concentration is 35 to 70 atom% (5) The [B] layer is a [B2] layer, and the [B2] layer has a molar fraction of zinc sulfide to the total of zinc sulfide and silicon dioxide of 0.7 to (6) The average surface roughness Ra of the [A] layer is 1 nm or less. (7) The average surface roughness Ra of the [B] layer is 1. (8) a transparent conductive layer is provided between the surface of the [B] layer or the biaxially oriented polyester film and the [A] layer. (9) the transparent conductive layer is indium tin oxide. Including (ITO), zinc oxide (ZnO), aluminum-containing zinc oxide (Al / ZnO), gallium-containing zinc oxide (Ga / ZnO), metal nanowires, or carbon nanotubes (10) (1) to (1) 9) And a preferred embodiment the display element with a gas-barrier film of any of the solar cell (11) (1) to (9) having a gas barrier film.

酸素ガス、水蒸気等に対する高いガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供することができる。   A gas barrier film having a high gas barrier property against oxygen gas, water vapor and the like can be provided.

本発明のガスバリア性フィルムの一例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed an example of the gas barrier film of this invention. 本発明のガスバリア性フィルムを製造するための巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略図である。It is the schematic which shows typically the winding-type sputtering apparatus for manufacturing the gas barrier film of this invention. 本発明の一実施態様に係るロール延伸装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the roll extending | stretching apparatus which concerns on one embodiment of this invention. 図3におけるロール間延伸部の拡大概略断面図である。It is an expansion schematic sectional drawing of the extending part between rolls in FIG. ハードコートフィルムの反射率のうねり振幅を示した波長/反射率グラフである。It is the wavelength / reflectance graph which showed the waviness amplitude of the reflectance of the hard coat film.

発明者らは、ガスバリア性が良好なガスバリア性フィルムを得ることを目的として鋭意検討を重ね、二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、特定の鉛筆硬度と表面自由エネルギーを有する架橋樹脂層と特定の厚みの含ケイ素無機層とをこの順で配置したところ、前記課題を一挙に解決することを究明したものである。   The inventors have made extensive studies for the purpose of obtaining a gas barrier film having a good gas barrier property, and on at least one surface of the biaxially oriented polyester film, a crosslinked resin layer having a specific pencil hardness and surface free energy and a specific When the silicon-containing inorganic layer having a thickness is arranged in this order, it has been found that the above-mentioned problems can be solved all at once.

図1は、本発明のガスバリア性フィルムの一例を示す断面図である。本発明のガスバリア性フィルムは、図1に示すように、二軸配向ポリエステルフィルムの表面に、[A]層として鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下の架橋樹脂層と[B]層として厚み10〜1000nmの含ケイ素無機層をこの順で積層したものである。
[二軸配向ポリエステルフィルム]
本発明のポリエステルフィルムとはポリエステル樹脂を用いてフィルムに成形したものである。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the gas barrier film of the present invention. As shown in FIG. 1, the gas barrier film of the present invention has a cross-linked resin layer having a pencil hardness of H or more and a surface free energy of 45 mN / m or less as a [A] layer on the surface of a biaxially oriented polyester film. ] As a layer, a silicon-containing inorganic layer having a thickness of 10 to 1000 nm is laminated in this order.
[Biaxially oriented polyester film]
The polyester film of the present invention is formed into a film using a polyester resin.

ここで、ポリエステル樹脂は、主鎖中の主要な結合をエステル結合とする高分子化合物の総称であって、通常、ジカルボン酸成分とグリコール成分を重縮合反応させることによって得ることができる。   Here, the polyester resin is a general term for polymer compounds in which the main bond in the main chain is an ester bond, and can usually be obtained by polycondensation reaction of a dicarboxylic acid component and a glycol component.

ここで使用されるジカルボン酸成分は、主としてテレフタル酸であることが好ましい。本発明の効果を阻害しない限りにおいて、他のジカルボン酸成分、例えば、ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキシンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、p−オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸等を併用することができる。   The dicarboxylic acid component used here is preferably mainly terephthalic acid. As long as the effects of the present invention are not impaired, other dicarboxylic acid components such as naphthalenedicarboxylic acid, isophthalic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, 5-sodiumsulfoisophthalic acid, phthalic acid and the like Aromatic dicarboxylic acid, oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, maleic acid, fumaric acid and other aliphatic dicarboxylic acids, cyclohexyne dicarboxylic acid and other alicyclic dicarboxylic acids, p-oxybenzoic acid An oxycarboxylic acid such as can be used in combination.

一方、グリコール成分は、主としてエタンジオールであることが好ましい。本発明の効果を阻害しない限りにおいて、他のグリコール成分、例えば、プロパンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族グリコール、シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール、ビスフェノールA、ビスフェノールS等の芳香族グリコール等を併用することができる。   On the other hand, the glycol component is preferably mainly ethanediol. As long as the effects of the present invention are not inhibited, other glycol components, for example, glycerides such as propanediol, pentanediol, hexanediol and neopentylglycol, alicyclic glycols such as cyclohexanedimethanol, bisphenol A and bisphenol S Aromatic glycols such as can be used in combination.

さらに、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルを共重合してもよい。なお、これらのジカルボン酸成分、グリコール成分は2種類以上を併用してもよく、2種類以上のポリエステルをブレンドして使用しても良い。さらに2層以上に共押出し積層フィルムとして使用しても良い。   Furthermore, polyethers such as polyethylene glycol and polytetramethylene glycol may be copolymerized. These dicarboxylic acid components and glycol components may be used in combination of two or more, or two or more polyesters may be blended and used. Further, two or more layers may be used as a co-extruded laminated film.

ポリエステルの重合触媒としては、例えば、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、亜鉛化合物、鉛化合物、マンガン化合物、コバルト化合物、アルミニウム化合物、アンチモン化合物およびチタン化合物等が挙げられ、中でもゲルマニウム化合物、アンチモン化合物およびチタン化合物が特に好ましく用いられる。また、ポリエステルを製造する際にリン化合物等の着色防止剤を使用することができる。   Examples of polyester polymerization catalysts include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, zinc compounds, lead compounds, manganese compounds, cobalt compounds, aluminum compounds, antimony compounds, and titanium compounds, among which germanium compounds and antimony compounds. And titanium compounds are particularly preferably used. Moreover, when manufacturing polyester, coloring inhibitors, such as a phosphorus compound, can be used.

高温、減圧下で重縮合反応せしめたポリエステルは、さらに、その融点以下の温度で減圧下または不活性ガス雰囲気下で固相重合反応せしめ、アセトアルデヒドの含有量を減少させたり、所定の固有粘度、カルボキシル末端基量に調製したりすることができる。   The polyester subjected to the polycondensation reaction under high temperature and reduced pressure is further subjected to a solid phase polymerization reaction under reduced pressure or in an inert gas atmosphere at a temperature lower than its melting point to reduce the acetaldehyde content, The amount of carboxyl end groups can be adjusted.

本発明において、蒸着後のバリア性、取扱い性、およびラミネート、印刷などの加工性の観点からの平均粒子径0.01〜5μmの粒子を含有することが好ましい。粒子はフィルム添加用の公知の粒子であればよく、たとえば、内部粒子、無機粒子、有機粒子が好ましい。   In this invention, it is preferable to contain a particle | grain with an average particle diameter of 0.01-5 micrometers from a viewpoint of workability, such as barrier property after vapor deposition, handleability, and a lamination and printing. The particles may be known particles for film addition, and for example, internal particles, inorganic particles, and organic particles are preferable.

無機粒子としては、例えば、湿式および乾式シリカ、コロイダルシリカ、ケイ酸アルミ、酸化チタン、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミ、マイカ、カオリン、クレーなど、有機粒子としては、スチレン、シリコーン、アクリル酸類、メタクリル酸類、ポリエステル類、ジビニル化合物などを構成成分とする粒子を使用することができる。なかでも、湿式および乾式シリカ、アルミナなどの無機粒子およびスチレン、シリコーン、アクリル酸、メタクリル酸、ポリエステル、ジビニルベンゼンなどを構成成分とする粒子を使用することが好ましい。さらに、これらの内部粒子、無機粒子および有機粒子は二種以上を併用してもよい。   Examples of inorganic particles include wet and dry silica, colloidal silica, aluminum silicate, titanium oxide, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, aluminum oxide, mica, kaolin, clay, and organic particles include styrene, silicone, acrylic Particles containing as constituents acids, methacrylic acids, polyesters, divinyl compounds and the like can be used. Among them, it is preferable to use inorganic particles such as wet and dry silica and alumina, and particles containing styrene, silicone, acrylic acid, methacrylic acid, polyester, divinylbenzene and the like as constituent components. Furthermore, these internal particles, inorganic particles, and organic particles may be used in combination of two or more.

また、本発明の効果を妨げない範囲において、基材フィルムには、例えば、帯電防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、結晶核剤、耐候剤、紫外線吸収剤、顔料および染料などを含有することが可能である。   In addition, the base film contains, for example, an antistatic agent, a heat stabilizer, an antioxidant, a crystal nucleating agent, a weathering agent, an ultraviolet absorber, a pigment, and a dye as long as the effects of the present invention are not hindered. It is possible.

二軸配向ポリエステルフィルムの形態としてはとして、単層フィルム、あるいは、2層以上の、例えば、共押し出し法で製膜したフィルムであっても良い。架橋樹脂層及び含ケイ素無機層を形成する側の二軸配向ポリエステルフィルム表面には、密着性を良くするために、コロナ処理、イオンボンバード処理、溶剤処理、粗面化処理、および、有機物または無機物あるいはそれらの混合物で構成されるアンカーコート層の形成処理、といった前処理が施されていても構わない。また、架橋樹脂層及びガスバリア層を形成する側の反対面には、フィルムの巻き取り時の滑り性の向上を目的として、有機物や無機物あるいはこれらの混合物のコーティング層が施されていても構わない。   As a form of the biaxially oriented polyester film, a single layer film or a film formed by two or more layers, for example, a co-extrusion method may be used. The surface of the biaxially oriented polyester film on the side where the cross-linked resin layer and the silicon-containing inorganic layer are formed has a corona treatment, an ion bombardment treatment, a solvent treatment, a roughening treatment, and an organic or inorganic material to improve adhesion. Alternatively, a pretreatment such as an anchor coat layer forming treatment composed of a mixture thereof may be performed. In addition, a coating layer of an organic material, an inorganic material, or a mixture thereof may be applied to the opposite surface on the side on which the cross-linked resin layer and the gas barrier layer are formed for the purpose of improving the slipping property when winding the film. .

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムの厚さは特に限定されないが、柔軟性を確保する観点から500μm以下が好ましく、引張りや衝撃に対する強度を確保する観点から5μm以上が好ましい。さらに、フィルムの加工やハンドリングの容易性から下限は10μm以上が、上限は200μm以下がより好ましい。   The thickness of the biaxially oriented polyester film used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 500 μm or less from the viewpoint of ensuring flexibility, and is preferably 5 μm or more from the viewpoint of securing strength against tension and impact. Furthermore, the lower limit is more preferably 10 μm or more and the upper limit is more preferably 200 μm or less because of the ease of film processing and handling.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは以下の[1]から[7]のいずれかを満たす必要がある。本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムが以下の[1]から[7]のいずれかを満たすことにより、各種ディスプレイ用途、太陽電池用途、フレキシブルディバイス基板用途などに好適なフィルムが得られる。
[1]紫外線吸収剤を含有し、かつ波長380nmでの透過率が5%以下
[2]180℃において30分間加熱処理した後の[A]層を積層する側の面におけるオリゴマー析出量が3.0mg/m2以下
[3]長さ5mm以上かつ最大深さ0.5μm以上の傷が70個/m2以下
[4]少なくとも片面に易接着層([C]層)を有するポリエステルフィルムであって、[C]層の層厚みが50〜150nmであって、[C]層と[A]層がこの順で積層された状態で[A]層側の測定波長400〜600nmにおける分光反射率のうねり振幅が2.0%以下
[5]190℃におけるフィルム長手方向および幅方向の伸度が180%以上であり、かつ該ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下
[6]温度120℃、湿度100%の環境下において36時間エージング処理を行った後の伸度保持率が40〜100%
[7]50℃から150℃までのMDの線膨張係数(α−MD)とTDの線膨張係数(α−TD)の平均である線膨張係数αが22ppm/℃以下
以下詳細に説明する。
The biaxially oriented polyester film used in the present invention needs to satisfy one of the following [1] to [7]. When the biaxially oriented polyester film used in the present invention satisfies any of the following [1] to [7], a film suitable for various display applications, solar cell applications, flexible device substrate applications, and the like is obtained.
[1] Contains an ultraviolet absorber and has a transmittance of 5% or less at a wavelength of 380 nm. [2] The amount of oligomer deposited on the surface on which the [A] layer is laminated after heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes is 3 0.03 mg / m2 or less [3] 70 / m2 or less scratches having a length of 5 mm or more and a maximum depth of 0.5 μm or more [4] A polyester film having an easy-adhesion layer ([C] layer) on at least one side. The thickness of the [C] layer is 50 to 150 nm, and the [C] layer and the [A] layer are laminated in this order, and the spectral reflectance at the measurement wavelength of 400 to 600 nm on the [A] layer side is Waviness amplitude is 2.0% or less [5] The elongation in the film longitudinal direction and the width direction at 190 ° C. is 180% or more, and the plane orientation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film is 0.14 or less. [6] Warm 120 ° C., elongation retention ratio after the 36 hour aging treatment at 100% of the environment humidity is 40 to 100%
[7] The linear expansion coefficient α, which is the average of the linear expansion coefficient (α-MD) of MD from 50 ° C. to 150 ° C. and the linear expansion coefficient (α-TD) of TD, is 22 ppm / ° C. or less.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[1]紫外線吸収剤を含有し、かつ波長380nmでの透過率が5%以下であると各種ディスプレイに好適に使用できるため好ましい。より好ましくは波長380nmでの透過率が3%以下であり、最も好ましくは波長380nmでの透過率が1%以下である。これはディスプレイ部材用、特に電子ペーパー用部材に適用するにおいて、他素材、他化合物の紫外線保護機能の点から380nmでの透過率を上記範囲規定するものであり、該範囲に制御しながら、ガスバリア性をも制御することによって液晶ディスプレイ、電子ペーパー、有機ELディスプレイ、プロジェクションテレビ用部材などの各種ディスプレイ部材、特にプラズマディスプレイ部材として好適に使用できるものとなる。   The biaxially oriented polyester film used in the present invention preferably contains [1] a UV absorber and has a transmittance of 5% or less at a wavelength of 380 nm because it can be suitably used for various displays. More preferably, the transmittance at a wavelength of 380 nm is 3% or less, and most preferably, the transmittance at a wavelength of 380 nm is 1% or less. This applies to a display member, particularly an electronic paper member, and the transmittance at 380 nm is defined in the above range from the viewpoint of the ultraviolet protection function of other materials and other compounds. By controlling the properties, it can be suitably used as various display members such as liquid crystal displays, electronic paper, organic EL displays, and projection television members, particularly as plasma display members.

波長380nmでの透過率を上記好ましい範囲とするためには二軸配向ポリエステルフィルムに含有せしめる紫外線吸収剤の種類や含有量を適宜調整する事で達成できる。紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく例示することができる。これらの化合物は1 種単独であるいは2 種以上一緒に併用することができる。またHALSや酸化防止剤等の安定剤を併用することもでき、特にリン系の酸化防止剤を併用することが好ましい。ここでベンゾトリアゾール系の化合物としては、例えば2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−ブチルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−t−アミルフェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−t−ブチルフェノール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等を例示することができる。   In order to make the transmittance at a wavelength of 380 nm within the above-mentioned preferable range, it can be achieved by appropriately adjusting the type and content of the ultraviolet absorber contained in the biaxially oriented polyester film. Preferred examples of the ultraviolet absorber include salicylic acid compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, cyanoacrylate compounds, benzoxazinone compounds, and cyclic imino ester compounds. These compounds can be used alone or in combination of two or more. In addition, stabilizers such as HALS and antioxidants can be used in combination, and it is particularly preferable to use a phosphorus-based antioxidant in combination. Examples of the benzotriazole-based compound include 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol and 2- (2H-benzotriazole-2). -Yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4-methylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) ) -4,6-di-t-butylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di-t-amylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4 -T-butylphenol, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ' It can be exemplified 5'-di -t- butyl-phenyl) -5-chloro-benzotriazole, or the like.

ベンゾフェノン系化合物としては、例えば2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸等をあげることができる。   Examples of the benzophenone compounds include 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4 ′. -Tetrahydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid and the like can be mentioned.

ベンゾオキサジノン系化合物としては、例えば2−p−ニトロフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−(p−ベンゾイルフェニル)−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−(2−ナフチル)−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2,2′−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2′−(2,6−ナフチレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)等を例示することができる。   Examples of the benzoxazinone compounds include 2-p-nitrophenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2- (p-benzoylphenyl) -3,1-benzoxazin-4-one, 2- ( 2-naphthyl) -3,1-benzoxazin-4-one, 2,2'-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 '-(2,6-naphthylene) Bis (3,1-benzoxazin-4-one) and the like can be exemplified.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[2]180℃において30分間加熱処理した後の[A]層を積層する側の面におけるオリゴマー析出量が3.0mg/m2以下を満たすと、ガスバリア性が良好となるため好ましい。より好ましくは2.0mg/m2以下であり、最も好ましくは1.0mg/m2以下である。オリゴマー析出量が3.0mg/m2を越えると、ガスバリア性が悪化する。ガスバリア層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムにオリゴマーが析出していると、表面平滑性が損なわれガスバリア層に欠陥が出来るためガスバリア性が悪化する。またガスバリア層積層後にオリゴマーが析出すると、ガスバリア層を押し上げて凸状となり、ガスバリア層に応力が掛かりクラックが発生しガスバリア性が悪化する。オリゴマー析出量を上記好ましい範囲とするための方法は特には限定されないが、二軸配向ポリエステルフィルムを製造するために使用するポリエステル樹脂に含有されるオリゴマーを0.6wt%以下にすること、もしくは二軸配向ポリエステルフィルムにオリゴマー析出防止層を設けることが好ましい。   When the biaxially oriented polyester film used in the present invention satisfies [2] the amount of oligomer deposited on the surface on which the [A] layer is laminated after heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes, the gas barrier is 3.0 mg / m 2 or less. This is preferable because the property is improved. More preferably, it is 2.0 mg / m 2 or less, and most preferably 1.0 mg / m 2 or less. When the oligomer precipitation amount exceeds 3.0 mg / m 2, the gas barrier property is deteriorated. If oligomers are deposited on the biaxially oriented polyester film before laminating the gas barrier layer, the surface smoothness is impaired and the gas barrier layer is defective, so that the gas barrier property is deteriorated. Further, when the oligomer is deposited after the gas barrier layer is laminated, the gas barrier layer is pushed up to become a convex shape, stress is applied to the gas barrier layer, cracks are generated, and the gas barrier property is deteriorated. The method for bringing the oligomer precipitation amount into the above preferred range is not particularly limited, but the oligomer contained in the polyester resin used for producing the biaxially oriented polyester film should be 0.6 wt% or less, or It is preferable to provide an oligomer precipitation preventing layer on the axially oriented polyester film.

ポリエステル樹脂に含有されるオリゴマー量を0.6wt%以下にする方法としては、重縮合反応によって得られたポリエステルを以下具体的に説明する加熱処理方法があげられる。   Examples of the method for setting the amount of oligomer contained in the polyester resin to 0.6 wt% or less include a heat treatment method for specifically explaining the polyester obtained by the polycondensation reaction.

加熱処理を行う装置としては、回転式の乾燥機、攪拌機を有する固定槽式の乾燥機など特に限定されないが、設備の信頼性の面で回転式の乾燥機が適当である。   The apparatus for performing the heat treatment is not particularly limited, such as a rotary drier or a fixed tank drier having a stirrer, but a rotary drier is suitable in terms of equipment reliability.

また、加熱処理前の固有粘度から加熱処理後の固有粘度を引いた差分は、−0.10〜0.10dl/gの範囲とすることが好ましい。固有粘度の差が−0.10dl/g以上とすることで、固有粘度が成形に適切で、特に、フィルムの強度を維持する面で好適である。一方、固有粘度の差を0.10dl/gより小さくすることで押出成形時の濾圧上昇を抑えられ、成形品に対するより高性能な濾過が可能となり、異物による欠点を減少することができる。さらに、加熱処理前後の固有粘度差を上記範囲とすることは、加熱処理に用いるポリエステルとして特別なグレードを設けることなく、従来の一般的なグレードで加熱処理の実施を必要としない用途として利用される品種の一部分をそのまま活用できるため、新たな備蓄設備や移送設備などを設置する必要性を省く、または品種の切り替え時に発生するロスを抑えるなど、経済的な効果が大きい。   The difference obtained by subtracting the intrinsic viscosity after the heat treatment from the intrinsic viscosity before the heat treatment is preferably in the range of -0.10 to 0.10 dl / g. By setting the difference in intrinsic viscosity to be −0.10 dl / g or more, the intrinsic viscosity is suitable for molding, and particularly suitable for maintaining the strength of the film. On the other hand, by making the difference in intrinsic viscosity smaller than 0.10 dl / g, it is possible to suppress an increase in the filtration pressure during extrusion molding, and it is possible to perform higher-performance filtration on the molded product, and to reduce defects due to foreign matters. Furthermore, setting the difference in intrinsic viscosity before and after heat treatment within the above range is used as an application that does not require heat treatment with a conventional general grade without providing a special grade as a polyester used for heat treatment. Since a part of the varieties can be used as they are, the economic effect is great, such as eliminating the need to install new stockpiling facilities and transfer facilities, or reducing losses that occur when changing varieties.

本発明の加熱処理の条件は、前記の従来公知の方法で得られたポリエステルを、温度が190〜240℃、好ましくは210〜235℃、さらに好ましくは220〜230℃の範囲で加熱する。温度を190℃以上とすることで効率よく環状3量体主体のオリゴマーを減少させることが出来、温度を240℃以下とすることでポリエステルの一部が溶融して、融着するのを避けられる点で好ましい。   As the conditions for the heat treatment of the present invention, the polyester obtained by the above-mentioned conventionally known method is heated at a temperature of 190 to 240 ° C, preferably 210 to 235 ° C, more preferably 220 to 230 ° C. By setting the temperature to 190 ° C. or higher, the cyclic trimer-based oligomer can be efficiently reduced, and by setting the temperature to 240 ° C. or lower, it is possible to avoid melting and fusing part of the polyester. This is preferable.

この時の圧力は960〜1160hPaの範囲で、好ましくは980〜1130hPa、更に好ましくは990〜1100hPaが良い。圧力を960hPa以上とすることでポリエステル中からエチレングリコールが離脱して固有粘度が上昇し、成型時の押出工程内の濾圧上昇を抑える事が出来、一方、圧力を1160hPa以下とする事で、内部で発生したアセトアルデヒド等の滞留を防ぎ、ポリエステルの熱分解による固有粘度の低下を抑え、成形品の強度を保てる点で好ましい。   The pressure at this time is in the range of 960 to 1160 hPa, preferably 980 to 1130 hPa, and more preferably 990 to 1100 hPa. By setting the pressure to 960 hPa or more, ethylene glycol is released from the polyester to increase the intrinsic viscosity, and it is possible to suppress an increase in the filtration pressure in the extrusion process at the time of molding. On the other hand, by setting the pressure to 1160 hPa or less, This is preferable in that it prevents retention of acetaldehyde and the like generated inside, suppresses a decrease in intrinsic viscosity due to thermal decomposition of polyester, and maintains the strength of the molded product.

加熱処理の時間は0.5〜60時間の範囲で、好ましくは10〜50時間、更に好ましくは15〜40時間が良い。処理時間を0.5時間以上にすることで、環状3量体を主体とするオリゴマーを安定的に減少させることが出来る。一方、処理時間を60時間以下にすることで色調などの品質が悪化することを抑制し、生産性を向上させられる点で好ましい。   The heat treatment time is in the range of 0.5 to 60 hours, preferably 10 to 50 hours, and more preferably 15 to 40 hours. By setting the treatment time to 0.5 hours or longer, oligomers mainly composed of cyclic trimers can be stably reduced. On the other hand, it is preferable that the processing time is 60 hours or less to suppress deterioration of quality such as color tone and improve productivity.

さらに、上記の加熱処理で得られたポリエステル組成物を用いて、水酸基を有しないリン酸エステル化合物を混練することは、押出成形時のオリゴマーの再生を抑制し、成形体として好適な固有粘度のポリエステル組成物を経済的に得ることができる。   Furthermore, kneading a phosphate ester compound having no hydroxyl group using the polyester composition obtained by the above heat treatment suppresses the regeneration of the oligomer during extrusion molding, and has an intrinsic viscosity suitable as a molded body. A polyester composition can be obtained economically.

本発明のポリエステルに混練されるリン化合物は、水酸基を含有しないリン酸エステル化合物であることが好ましい。例えば、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリフェニル等のリン酸系、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸系、トリメチルホスフィンオキサイド、トリエチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系、トリエチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系が挙げられ、これらのいずれか1種または2種であることが好ましい。更に好ましくは、触媒及び熱に対する安定性に優れ、また装置腐食等が少なく、揮発性が低くて添加量が安定している利点から、トリエチルホスホノアセテートが良い。添加するリン酸エステル化合物に水酸基を有する場合、混練装置内のバレルの汚れの剥離による異物や、ポリエステル組成物に含有される金属化合物との結合物と推察される異物が多く発生し問題となる。   It is preferable that the phosphorus compound kneaded with the polyester of the present invention is a phosphate ester compound that does not contain a hydroxyl group. For example, phosphoric acid system such as trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triphenyl phosphate, phosphorous acid system such as trimethyl phosphite, triethyl phosphite, triphenyl phosphite, trimethylphosphine oxide, triethylphosphine oxide, Examples include phosphine oxides such as triphenylphosphine oxide, and phosphines such as triethylphosphine, phenylphosphine, diphenylphosphine, and triphenylphosphine, and any one or two of these are preferable. More preferably, triethylphosphonoacetate is preferable because it has excellent stability to the catalyst and heat, less corrosion of the apparatus, etc., low volatility and stable addition amount. When the phosphate compound to be added has a hydroxyl group, a large amount of foreign matter due to peeling of dirt from the barrel in the kneading apparatus or a foreign matter presumed to be a combination with the metal compound contained in the polyester composition is a problem. .

本発明のポリエステルと水酸基を有しないリン酸エステル化合物を混練する具体的な方法としては、特に限定はなく公知の方法を用いることができるが、ベント式押出し機で混練して添加するのが好ましい。ベント式押出し機で混練して製造する方法は特に限定されるものではないが、通常のベント式一軸、二軸押出し機を使用することが好ましい。   A specific method for kneading the polyester of the present invention and a phosphate ester compound having no hydroxyl group is not particularly limited, and a known method can be used. However, it is preferable to knead and add them using a vent type extruder. . The method of kneading with a vent-type extruder is not particularly limited, but it is preferable to use a normal vent-type single-screw or twin-screw extruder.

混練時の温度はポリエステルの融点以上、滞留時間は2時間以内、好ましくは1分〜1時間であり、ベントは分解ガス成分、低揮発成分の除去およびポリエステルの分解抑制のため真空度を13330Pa以下、好ましくは1333Pa以下、さらには266Pa以下とすることが好ましい。また、押出し機へのリン酸エステル化合物およびポリエステルの供給方法は特に限定されるものではないが、予め水酸基を含まないリン酸エステル化合物とポリエステルを混合して供給してもよく、さらには水酸基を含まないリン酸エステル化合物およびポリエステルをそれぞれ別々に供給してもよい。その際に水酸基を含まないリン酸エステル化合物は水あるいはアルコール類等の溶媒に適宜混合した溶液あるいはスラリー状で供給することが好ましい。   The kneading temperature is not less than the melting point of the polyester, the residence time is within 2 hours, preferably 1 minute to 1 hour, and the vent has a vacuum of 13330 Pa or less to remove decomposition gas components and low-volatile components and to suppress polyester degradation. , Preferably 1333 Pa or less, more preferably 266 Pa or less. Further, the method for supplying the phosphate ester compound and the polyester to the extruder is not particularly limited, but the phosphate ester compound not containing a hydroxyl group and the polyester may be mixed and supplied in advance. You may supply separately the phosphate ester compound and polyester which do not contain. In that case, it is preferable to supply the phosphoric acid ester compound which does not contain a hydroxyl group in the form of a solution or slurry appropriately mixed with water or a solvent such as alcohols.

本発明のリン酸エステル化合物の配合量は、特に限定されるものではないが、リン元素としてポリエステル組成物に対して30〜10000ppm、好ましくは50〜8000ppmである。リン元素量が30ppm以上だとオリゴマーの生成の抑制に効果があり、10000ppm以下にすると、ポリエステル組成物の高温滞留時の異物発生あるいは発泡抑制に対する効果が顕著である。   Although the compounding quantity of the phosphate ester compound of this invention is not specifically limited, It is 30-10000 ppm with respect to a polyester composition as a phosphorus element, Preferably it is 50-8000 ppm. If the amount of phosphorus element is 30 ppm or more, it is effective in suppressing the formation of oligomers. If it is 10000 ppm or less, the effect on the generation of foreign matters or the suppression of foaming during high temperature residence of the polyester composition is remarkable.

オリゴマー析出防止層を設ける方法としては特に限定されないが、水分散性アクリル樹脂を含む塗膜層を有することが好ましい。アクリル樹脂塗膜層とフィルムとの表面エネルギー差により、オリゴマーの析出がブロックされやすいためである。水分散性アクリル樹脂は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ブトキシアクリルアミド、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、炭素数が12〜25個のアルキル基を側鎖に持つアルキルアクリレートなどのモノマーの共重合体などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの水分散系アクリル樹脂においては、平均エマルジョン粒径が50〜200nmであることが好ましく、分布がなるべく均一のものを用いることが好ましい。さらに高いオリゴマー析出防止性を付与するためには、塗膜層にオリゴマー析出防止機能を有する成分を添加することが好ましい。オリゴマー析出防止機能を有する成分としては、例えば、長鎖アルキルアクリレート、フッ素アクリレート、シリコーン化合物、ポリオレフィン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの成分は水分散系アクリル樹脂よりフィルムとの表面エネルギー差が大きいため、より高いオリゴマー析出防止性が得られる。   Although it does not specifically limit as a method of providing an oligomer precipitation prevention layer, It is preferable to have a coating film layer containing a water-dispersible acrylic resin. This is because oligomer precipitation is easily blocked by the difference in surface energy between the acrylic resin coating layer and the film. Examples of the water-dispersible acrylic resin include acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-butoxyacrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 12 to 25 carbon atoms. Examples include, but are not limited to, copolymers of monomers such as alkyl acrylate having an alkyl group in the side chain. In these water-dispersed acrylic resins, the average emulsion particle size is preferably 50 to 200 nm, and it is preferable to use one having a distribution as uniform as possible. In order to impart higher oligomer precipitation preventing properties, it is preferable to add a component having an oligomer precipitation preventing function to the coating layer. Examples of the component having an oligomer precipitation preventing function include, but are not limited to, a long-chain alkyl acrylate, a fluorine acrylate, a silicone compound, and a polyolefin compound. Since these components have a larger surface energy difference from the film than the water-dispersed acrylic resin, higher oligomer precipitation preventing properties can be obtained.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[3]長さ5mm以上かつ最大深さ0.5μm以上の傷が70個/m以下を満たすと、ディスプレイ用部材として好ましく用いることが出来る。より好ましくは、50個以下/m、最も好ましくは30個/m以下である。長さ5mm以上かつ最大深さ0.5μm以上の傷が70個/m2を越えると、ディスプレイ用部材としての品質が不十分となり、ディスプレイ用部材として使用することが出来ない。傷の個数を上記好ましい範囲にするためには、ロール上でフィルムが滑らないこと、およびロールに粘着しないことが重要である。キズ個数を上記好ましい範囲とすることで液晶ディスプレイ、電子ペーパー、有機ELディスプレイなどのディスプレイ用表面部材として好適に用いることが出来る。 The biaxially oriented polyester film used in the present invention can be preferably used as a display member when [3] scratches having a length of 5 mm or more and a maximum depth of 0.5 μm or more satisfy 70 / m 2 or less. More preferably, it is 50 or less / m 2 , most preferably 30 / m 2 or less. If the number of scratches having a length of 5 mm or more and a maximum depth of 0.5 μm or more exceeds 70 / m 2, the quality as a display member becomes insufficient and cannot be used as a display member. In order to make the number of scratches within the above preferable range, it is important that the film does not slip on the roll and does not stick to the roll. By setting the number of scratches within the above preferred range, it can be suitably used as a surface member for a display such as a liquid crystal display, electronic paper, or organic EL display.

ロール上でフィルムが滑らない方法としては特には限定されないが、図3に示すよう低速ロール19と高速ロール19’に対してニップロール20、20’をニップする等してテンションカットを行うことが好ましい。   The method for preventing the film from slipping on the roll is not particularly limited, but it is preferable to perform a tension cut by niping the nip rolls 20 and 20 'between the low speed roll 19 and the high speed roll 19' as shown in FIG. .

また、実際の延伸過程が生じているときにロールに接触しているとフィルム表面にキズを発生させてしまうため、実際の延伸過程が非接触のロール間でガラス転移温度以上に加熱され延伸を生じるようにすることが好ましい。そのため、予備加熱温度はフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度以下とすることが好ましい。ただし、あまり低い温度では効率的な予備加熱ができないことから、ある程度は高い温度とすべきである。また、ガラス転移温度以下であっても、フィルム表面が低速ロールに粘着し、フィルムがロールから剥離された際に微小なキズを発生させる場合がある。このため、予備加熱温度は、好ましくは[フィルムのガラス転移温度−20]℃以上[フィルムのガラス転移温度]℃以下の範囲であり、さらに好ましくは[フィルムのガラス転移温度−15]℃以上[フィルムのガラス転移温度−5]℃以下の範囲である。   In addition, if the roll is in contact with the roll when the actual drawing process occurs, the film surface will be scratched, so the actual drawing process will be heated between the non-contact rolls above the glass transition temperature and stretched. It is preferable to make it occur. Therefore, it is preferable that preheating temperature shall be below the glass transition temperature of the thermoplastic resin which comprises a film. However, since efficient preheating cannot be performed at a very low temperature, the temperature should be high to some extent. Moreover, even if it is below a glass transition temperature, when the film surface adheres to a low-speed roll and a film peels from a roll, a fine crack may be generated. For this reason, the preheating temperature is preferably in the range of [film glass transition temperature −20] ° C. to [glass transition temperature of film] ° C., and more preferably [film glass transition temperature −15] ° C. The glass transition temperature of the film is in the range of −5] ° C. or lower.

さらに実際の延伸過程でフィルムをガラス転移温度以上に加熱するためにはフィルム上側及び下側から集光式ヒータによる赤外線を照射されることが好ましい。集光式ヒータについて図3および図4を用いて説明する。図3はフィルムの縦延伸方法におけるロール延伸装置17の概略断面図である。ロール延伸装置17は、フィルム18の進行方向(長手方向)の上流側から順に低速ロール19と高速ロール19’を配置し、それぞれのロール19、19’にはフィルム18をニップするためのニップロール20、20’を有し、ロール19、19’間かつフィルム18の上側及び下側に集光式ヒータおよびその筐体21、21’が配置される。図4はロール間延伸部の拡大概略断面図である。ロール間延伸部におけるフィルム18上側の集光式ヒータから照射される赤外線の集束光によるフィルム面での長手方向の照射長さ22は、上側集光式ヒータの焦点23、および上側集光式ヒータの筐体21の下端からフィルム18の延伸開始前の上側表面までの距離24によって決まる。これらは焦点23を頂点、照射長さ22および筐体下端部の照射幅25を底辺とした2つの三角形の相似関係にあるため、照射長さ22は、[照射長さ22]=[照射幅25]×(1−[距離24]/[筐体21下端からの焦点23までの距離])の関係によって求まる。同様に、フィルム18下側の集光式ヒータから照射される赤外線の集束光によるフィルム面での長手方向の照射長さ22’は、下側集光式ヒータの焦点23’、および下側集光式ヒータの筐体21’の上端からフィルム18の延伸開始前の下側表面までの距離24’によって決まる。これらは焦点23’を頂点、照射長さ22’および筐体上端部の照射幅25’を底辺とした2つの三角形の相似関係にあるため、照射長さ21’は、[照射長さ21’]=[照射幅25’]×(1−[距離24’]/[筐体21’上端からの焦点23’までの距離])の関係によって求まる。また、照射長さ22、22’ の部分はフィルム上で重なり合う部分がある。この場合の「重なり合う部分」は、上側集光式ヒータによるフィルムの一方の面への照射光をそのまま他方の面へ投影したときに、下側集光式ヒータによる照射光と重なる部分をいう。   Furthermore, in order to heat the film to the glass transition temperature or higher in the actual stretching process, it is preferable to irradiate infrared rays from the upper and lower sides of the film with a condensing heater. A concentrating heater will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the roll stretching apparatus 17 in the film longitudinal stretching method. The roll stretching device 17 arranges a low-speed roll 19 and a high-speed roll 19 ′ in order from the upstream side in the traveling direction (longitudinal direction) of the film 18, and a nip roll 20 for nipping the film 18 in each of the rolls 19 and 19 ′. , 20 ′, and a condensing heater and its casings 21, 21 ′ are disposed between the rolls 19, 19 ′ and above and below the film 18. FIG. 4 is an enlarged schematic cross-sectional view of a stretched portion between rolls. The irradiation length 22 in the longitudinal direction on the film surface by the infrared converging light irradiated from the condensing heater on the upper side of the film 18 in the inter-roll stretching section is the focal point 23 of the upper condensing heater, and the upper condensing heater. This is determined by the distance 24 from the lower end of the casing 21 to the upper surface of the film 18 before starting to stretch. Since these are in a similar relationship between two triangles with the focal point 23 as the apex, the irradiation length 22 and the irradiation width 25 at the lower end of the housing as the base, the irradiation length 22 is [irradiation length 22] = [irradiation width]. 25] × (1- [distance 24] / [distance from the lower end of the casing 21 to the focal point 23]). Similarly, the irradiation length 22 ′ in the longitudinal direction on the film surface by the infrared focused light irradiated from the condensing heater below the film 18 is the focal point 23 ′ of the lower condensing heater and the lower collecting light. It is determined by the distance 24 ′ from the upper end of the optical heater casing 21 ′ to the lower surface of the film 18 before starting to stretch. Since these are similar to two triangles with the focal point 23 ′ as the apex, the irradiation length 22 ′, and the irradiation width 25 ′ at the upper end of the housing as the base, the irradiation length 21 ′ is expressed as [irradiation length 21 ′. ] = [Irradiation width 25 ′] × (1- [distance 24 ′] / [distance from the upper end of the casing 21 ′ to the focal point 23 ′]). Further, there are portions where the irradiation lengths 22 and 22 'overlap on the film. In this case, the “overlapping portion” refers to a portion that overlaps with the light irradiated by the lower light collecting heater when the light irradiated on one surface of the film by the upper light collecting heater is projected onto the other surface as it is.

本発明の延伸方法で使用する集光式ヒータは、集光や断熱を目的とした金属などからなる筐体の内部に赤外線ヒータを有し、該赤外線ヒータの波長は短波長〜中波長(0.8μm以上3.0μm以下)の範囲からフィルムを構成する熱可塑性樹脂の吸収効率や必要熱量に応じて適宜選択される。光はその振動数(波長の逆数)に応じたエネルギーを有しているため、波長が短いほどより高いエネルギーを有する。そのため、熱可塑性樹脂の吸収効率が上記波長0.8μm以上3.0μm以下の範囲で大きく変わらないのであれば、短波長(0.8μm以上2.0μm以下)を選択することで、より高いエネルギー密度を得ることができる。   The condensing heater used in the stretching method of the present invention has an infrared heater inside a casing made of metal or the like for the purpose of condensing or insulating, and the wavelength of the infrared heater ranges from a short wavelength to a medium wavelength (0 .8 μm or more and 3.0 μm or less) depending on the absorption efficiency and the required heat quantity of the thermoplastic resin constituting the film. Since light has energy corresponding to its frequency (reciprocal of wavelength), the shorter the wavelength, the higher the energy. Therefore, if the absorption efficiency of the thermoplastic resin does not change significantly in the range of the wavelength of 0.8 μm or more and 3.0 μm or less, it is possible to select a short wavelength (0.8 μm or more and 2.0 μm or less) to obtain higher energy Density can be obtained.

赤外線ヒータの総出力は、フィルムを構成する熱可塑性樹脂の赤外線波長の吸収効率や予備加熱温度、延伸倍率などの延伸条件によって適宜選択される。例えば、波長1.1μmの赤外線ヒータ(ハイベック社製)をフィルム上側及び下側の集光式ヒータ筐体内に設置し、熱可塑性樹脂を延伸するために必要な赤外線ヒータの総電力量は、熱可塑性樹脂の単位重量(1kg)当たり10W・h/kg以上23W・h/kg以下の範囲で選択されることが好ましく、さらに好ましくは12W・h/kg以上21W・h/kg以下である。赤外線ヒータの総電力量が10W・h/kg未満の場合、予備加熱温度を熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上に設定しなければ、延伸に必要な熱量が不足するため、ロールによる粘着キズや転写キズといったキズ欠点が発生する。23W・h/kgより高い場合、延伸はできても実質的に分子配向への変化を伴わない、いわゆるスーパードローの状態に近付くため、必要とする物性を得ることができない。   The total output of the infrared heater is appropriately selected depending on the stretching conditions such as the infrared wavelength absorption efficiency of the thermoplastic resin constituting the film, the preheating temperature, and the stretching ratio. For example, an infrared heater having a wavelength of 1.1 μm (manufactured by Hibeck Co., Ltd.) is installed in the condensing heater housings on the upper and lower sides of the film, and the total electric energy of the infrared heater necessary for stretching the thermoplastic resin is as follows: It is preferably selected in the range of 10 W · h / kg to 23 W · h / kg, more preferably 12 W · h / kg to 21 W · h / kg, per unit weight (1 kg) of the plastic resin. If the total power of the infrared heater is less than 10 W · h / kg, the heat required for stretching will be insufficient unless the preheating temperature is set to the glass transition temperature or higher of the thermoplastic resin. Scratches such as scratches occur. If it is higher than 23 W · h / kg, even if it can be stretched, it will approach a so-called super-draw state that is substantially not accompanied by a change in molecular orientation, so that the required physical properties cannot be obtained.

フィルム上側及び下側の赤外線ヒータの各出力は、ロール延伸装置の構成や製膜条件などによって適宜選択される。例えば、図3および図4に記載されるような、シリコーンゴムを被覆したニップロールを備えた一対の金属製ロールからなるロール延伸装置を用いた場合、フィルム下側のフィルム面はロール間延伸部直前の低速ロールによって加熱されているため、フィルム上側の赤外線ヒータの出力がフィルム下側の赤外線ヒータの出力よりも高いことが好ましい。フィルム両面からの受ける熱量がより等しくなることで、均一な延伸ができ、厚みムラをより小さくすることができる。さらに、ロールによる表面形状の転写キズは特にニップロールによって発生し易いため、フィルム下側の赤外線ヒータからのフィルム透過光によるニップロールの加熱を抑えるべく、フィルム上側及び下側の赤外線ヒータの各出力は、ニップロールがあるフィルム上側の赤外線ヒータの出力がフィルム下側の赤外線ヒータの出力の1.2倍以上3.0倍以下であることが好ましい。フィルム上側及び下側の赤外線ヒータの出力比が3.0倍より大きい場合は、フィルム両面から受ける熱量の差が大きくなり、延伸による厚みムラが発生し易くなる。   Each output of the upper and lower infrared heaters of the film is appropriately selected depending on the configuration of the roll stretching device, the film forming conditions, and the like. For example, when using a roll stretching apparatus composed of a pair of metal rolls provided with a nip roll coated with silicone rubber, as shown in FIGS. 3 and 4, the film surface on the lower side of the film is immediately before the stretch portion between the rolls. Therefore, the output of the infrared heater on the upper side of the film is preferably higher than the output of the infrared heater on the lower side of the film. Since the amount of heat received from both sides of the film becomes equal, uniform stretching can be achieved and thickness unevenness can be further reduced. Furthermore, since the transfer scratches of the surface shape by the roll are particularly likely to occur by the nip roll, in order to suppress the heating of the nip roll by the film transmitted light from the infrared heater on the lower side of the film, each output of the infrared heater on the upper side and the lower side of the film, It is preferable that the output of the infrared heater on the upper side of the film having the nip roll is 1.2 times to 3.0 times the output of the infrared heater on the lower side of the film. When the output ratio of the upper and lower infrared heaters of the film is larger than 3.0 times, the difference in the amount of heat received from both sides of the film becomes large, and thickness unevenness due to stretching tends to occur.

集光式ヒータは、ロール間かつフィルムの上側及び下側のフィルム幅方向に配置され、フィルム長手方向の設置位置は縦延伸工程に応じて適宜選択されるが、実際の延伸開始位置をロール間とするために、集光式ヒータはロール間の中心近傍の位置が好ましい。また、延伸開始位置を安定させるために、フィルム上側及び下側の集光式ヒータのフィルム長手方向の中心位置を揃えた方が好ましい。   The concentrating heater is arranged between the rolls and in the film width direction on the upper side and the lower side of the film, and the installation position in the film longitudinal direction is appropriately selected according to the longitudinal stretching process, but the actual stretching start position is set between the rolls. Therefore, the concentrating heater is preferably located near the center between the rolls. In order to stabilize the stretching start position, it is preferable to align the center positions in the film longitudinal direction of the condensing heaters on the upper and lower sides of the film.

また、フィルム上側の集光式ヒータの筐体下端からフィルム面までの距離をA、フィルム下側の集光式ヒータの筐体上端からフィルム面までの距離をBとした際に、A及びBがそれぞれ10mm以上30mm以下であることが好ましく、さらに好ましくは、AとBが10mm以上30mm以下かつ等しいことである。距離A及びBが10mmよりも狭い場合は、フィルム長手方向にシワやうねりが発生した際に筐体とフィルムが接触し易くなってフィルムキズを生じたり、接触が大きい場合はフィルムを破断させたりしてしまう。逆に、距離A及びBが30mmよりも離れている場合は、周囲への赤外線の漏れによる周辺ロールや部材の加熱によって、ロールにフィルムが粘着したり熱転写したりすることでフィルムキズを生じてしまう。また、距離AとBが等しいことによって、フィルム上側と下側からの赤外線によるフィルム加熱が均一となり、延伸開始位置をより安定させることができる。   Further, when A is the distance from the lower end of the casing of the condensing heater on the upper side of the film to the film surface, and B is the distance from the upper end of the casing of the condensing heater on the lower side of the film to the film surface. Are preferably 10 mm or more and 30 mm or less, more preferably A and B are 10 mm or more and 30 mm or less and equal. When the distances A and B are narrower than 10 mm, the wrinkles and undulations occur in the longitudinal direction of the film, and the case and the film are easily brought into contact with each other. Resulting in. On the contrary, when the distances A and B are more than 30 mm, film scratches are caused by the film being adhered to the roll or thermally transferred due to heating of the peripheral roll or member due to leakage of infrared rays to the surroundings. End up. Moreover, when the distances A and B are equal, film heating by infrared rays from the upper side and the lower side of the film becomes uniform, and the stretching start position can be made more stable.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[4]少なくとも片面に易接着層([C]層)を有するポリエステルフィルムであって、[C]層の層厚みが50〜150nmであって、[C]層と[A]層がこの順で積層された状態で[A]層側の測定波長400〜600nmにおける分光反射率のうねり振幅が2.0%以下であると、色むらの差が小さくなるためディスプレイ部材として好ましく用いられる。さらに好ましくは1.5%以上である。この範囲であれば、色むらの差が小さく目立たなくなり、ディスプレイ上で人間の目で検知されないレベルとなる。   The biaxially oriented polyester film used in the present invention is [4] a polyester film having an easy-adhesion layer ([C] layer) on at least one surface, and the [C] layer has a layer thickness of 50 to 150 nm, When the undulation amplitude of the spectral reflectance at the measurement wavelength of 400 to 600 nm on the [A] layer side is 2.0% or less with the [C] layer and the [A] layer laminated in this order, there is a difference in color unevenness. Since it becomes small, it is preferably used as a display member. More preferably, it is 1.5% or more. Within this range, the difference in color unevenness is small and inconspicuous, and the level is not detected by human eyes on the display.

二軸配向ポリエステルフィルム上に[A]層を設けた場合、[A]層表面の分光反射率にうねりが生じる。二軸配向ポリエステルフィルムの面方向平均屈折率は1.66程度であり、[A]層の屈折率は1.50程度であるため、両者の屈折率差は0.16程度と大きく、うねりの振幅が大きく、結果、反射率のムラすなわち色斑が顕著になる。特に、ある特定の狭い波長範囲で発光する三波長蛍光灯の場合、かかる狭い発光波長範囲では、[A]層の膜厚変動により生じるうねりの変動と発光波長領域のズレが大きくなり、色斑が助長される。そこで、かかる二軸配向ポリエステルフィルムと[A]層の間に、両者の屈折率の中間程度の屈折率を有する積層膜、つまり[C]層を設けることでうねりの振幅を軽減することを可能とするものである。すなわち、[C]層の屈折率は1.55〜1.62が好ましく、より好ましくは、1.57〜1.61である。1.55より小さい場合は、[A]層の屈折率に近くなり、二軸配向ポリエステルフィルムとの屈折率差が大きくなるため、うねりの振幅は大きくなり色斑は顕著になる。逆に、1.62より大きい場合は、二軸配向ポリエステルフィルムの屈折率に近くなり、[A]層との屈折率差が大きくなるため、うねりの振幅は大きくなり色斑は顕著になる。また、かかる[C]層の厚みは、うねりの大きな節を可視光領域(380〜780nm)に存在せしめるために、50nm〜150nmが好ましく、より好ましくは、70〜120nmである。50nmより小さい場合は、うねりの大きな節が紫外領域にシフトするため、可視光領域でのうねりの振幅が大きくなり、150nmより大きい場合は、うねりの大きな節が赤外領域にシフトするため可視光領域でのうねりの振幅が大きくなり、好ましくない。なお、うねりの大きな節とは、[C]層の存在により二軸配向ポリエステルフィルムと[A]層のうねりの振幅が波長依存性を持ち、うねりの振幅が極小となる節のことを言う。   When the [A] layer is provided on the biaxially oriented polyester film, the spectral reflectance on the surface of the [A] layer is swelled. The average refractive index in the plane direction of the biaxially oriented polyester film is about 1.66, and the refractive index of the [A] layer is about 1.50. Therefore, the difference in refractive index between them is as large as about 0.16. The amplitude is large, and as a result, unevenness of reflectance, that is, color spots becomes remarkable. In particular, in the case of a three-wavelength fluorescent lamp that emits light in a specific narrow wavelength range, in such a narrow emission wavelength range, fluctuations in undulation caused by film thickness fluctuations in the [A] layer and deviations in the emission wavelength region increase, resulting in color spots. Is encouraged. Therefore, it is possible to reduce the amplitude of waviness by providing a laminated film having a refractive index intermediate between the refractive indexes of the biaxially oriented polyester film and the [A] layer, that is, the [C] layer. It is what. That is, the refractive index of the [C] layer is preferably 1.55 to 1.62, and more preferably 1.57 to 1.61. When it is smaller than 1.55, it becomes close to the refractive index of the [A] layer, and the refractive index difference from the biaxially oriented polyester film becomes large, so that the amplitude of waviness becomes large and the color spots become remarkable. On the contrary, when it is larger than 1.62, it becomes close to the refractive index of the biaxially oriented polyester film, and the difference in refractive index with the [A] layer becomes large, so that the amplitude of waviness becomes large and the color spots become remarkable. In addition, the thickness of the [C] layer is preferably 50 nm to 150 nm, more preferably 70 to 120 nm in order to allow a node with a large swell to exist in the visible light region (380 to 780 nm). If it is smaller than 50 nm, the node with a large swell shifts to the ultraviolet region, so the amplitude of the swell in the visible light region increases. If it is larger than 150 nm, the node with a large swell shifts to the infrared region. The amplitude of the undulation in the region becomes large, which is not preferable. In addition, a node with large undulation refers to a node in which the amplitude of undulation between the biaxially oriented polyester film and the [A] layer has wavelength dependency due to the presence of the [C] layer, and the amplitude of undulation is minimized.

干渉色むら対策として、[C]層の屈折率を1.55〜1.62にするためには、[C]層の主剤の樹脂をポリエステルにすることが好ましい。補助的にアクリル樹脂やウレタン樹脂を併用しても良い。ポリエステル樹脂の割合は[C]層構成要素全体に対して50重量%以上であることが好ましい。高屈折率を実現するためのポリエステル樹脂(a)はガラス転移点の高い樹脂が好ましい。ガラス転移点Tg(a)は105℃以上135℃未満が好ましく、更に好ましくは110℃以上130℃未満である。ガラス転移点Tg(a)が105℃未満では屈折率を高くすることができず、また135℃以上では横延伸時の熱量がそれに比べ低いため塗膜亀裂が発生することになり好ましくない。例としては酸性分に2,6−ナフタレンジカルボン酸を用いたものが好ましい。   As a countermeasure against interference color unevenness, in order to set the refractive index of the [C] layer to 1.55 to 1.62, it is preferable to use polyester as the main resin of the [C] layer. Auxiliary acrylic resin or urethane resin may be used in combination. It is preferable that the ratio of a polyester resin is 50 weight% or more with respect to the whole [C] layer component. The polyester resin (a) for realizing a high refractive index is preferably a resin having a high glass transition point. The glass transition point Tg (a) is preferably 105 ° C. or higher and lower than 135 ° C., more preferably 110 ° C. or higher and lower than 130 ° C. If the glass transition point Tg (a) is less than 105 ° C., the refractive index cannot be increased, and if it is 135 ° C. or more, the amount of heat at the time of transverse stretching is lower than that, so that a coating film crack occurs, which is not preferable. As an example, an acid component using 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferable.

また、水分散性、接着性、耐湿性などを目的として別種のポリエステル樹脂(b)を併用する事も可能である。このポリエステル樹脂(b)のガラス転移点Tg(b)は65℃以上95℃未満が好ましく、更に好ましくは70℃以上90℃未満である。例としてはこのポリエステル樹脂(b)には酸性分としてテレフタル酸を使用することが好ましい。[C]層の屈折率はポリエステル(a)の(b)に対する混合重量比率によって左右されるが、屈折率、接着性、耐湿性を考慮した場合2:8〜5:5が好ましい。   Moreover, it is also possible to use another kind of polyester resin (b) together for the purpose of water dispersibility, adhesiveness, moisture resistance and the like. The glass transition point Tg (b) of this polyester resin (b) is preferably 65 ° C. or higher and lower than 95 ° C., more preferably 70 ° C. or higher and lower than 90 ° C. As an example, it is preferable to use terephthalic acid as an acidic component in the polyester resin (b). The refractive index of the [C] layer depends on the mixing weight ratio of the polyester (a) to (b), but is preferably 2: 8 to 5: 5 in consideration of the refractive index, adhesiveness, and moisture resistance.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[5]190℃におけるフィルム長手方向および幅方向の伸度が180%以上であり、かつ該ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下であると、成形性が良好となるため好ましい。ポリエステルフィルムの伸度が180%以下であると、成型時に破れが発生したり形状追従性が悪化すると同時にフィルムが吸収しきれなかった応力がガスバリア層である[B]層に掛かりガスバリア層にクラックが発生し、成型後のガスバリア性が低下するため好ましくない。   The biaxially oriented polyester film used in the present invention has [5] elongation in the film longitudinal direction and width direction at 190 ° C. of 180% or more, and the plane orientation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film is 0. .14 or less is preferable because the moldability is improved. If the elongation of the polyester film is 180% or less, the gas barrier layer [B] is cracked by the stress that the film did not absorb at the same time as the tearing occurred during molding or the shape followability deteriorated, and the gas barrier layer cracked. Occurs, and the gas barrier property after molding is lowered, which is not preferable.

ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下であると190℃におけるフィルム長手方向および幅方向の伸度を180%以下とすることができる。ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下とするためには、使用するポリエステル樹脂を後述する組成にすることに加え、製膜条件によって調整することができる。好ましい延伸倍率としては、長手方向、幅方向ともに、3〜4.2倍、さらに好ましくは3〜4倍、最も好ましくは3〜3.8倍である。また、延伸速度は1,000%/分以上200,000%/分以下であることが望ましい。また、長手方向の好ましい延伸温度としては、70℃以上110℃以下であれば好ましく、75℃以上100℃以下であればさらに好ましく、80℃以上90℃以下であれば最も好ましい。また、幅方向の延伸温度の好ましい範囲としては、80℃以上120℃以下であり、さらに好ましくは85℃以上110℃以下であり、90℃以上105℃以下であれば最も好ましい。また、延伸方法は特に限定されないが、長手方向に延伸した後、幅方向に延伸する、あるいは、幅方向に延伸した後、長手方向に延伸する逐次二軸延伸方法、または、フィルムの長手方向、幅方向をほぼ同時に延伸していく同時二軸延伸方法などが挙げられる。また、二軸延伸の後にフィルムの熱処理条件も重要である。熱処理はオーブン中、加熱したロール上などの方法により行うことができるが、熱処理温度としては、高温で行うことで、配向が緩和され、面配向係数を低くすることができる。   When the plane orientation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film is 0.14 or less, the elongation in the film longitudinal direction and the width direction at 190 ° C. can be 180% or less. In order to make the plane orientation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film 0.14 or less, the polyester resin used can be adjusted according to the film forming conditions in addition to the composition described later. The preferred draw ratio is 3 to 4.2 times, more preferably 3 to 4 times, and most preferably 3 to 3.8 times in both the longitudinal direction and the width direction. The stretching speed is desirably 1,000% / min or more and 200,000% / min or less. Further, the preferred stretching temperature in the longitudinal direction is preferably 70 ° C. or higher and 110 ° C. or lower, more preferably 75 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and most preferably 80 ° C. or higher and 90 ° C. or lower. Moreover, as a preferable range of the extending | stretching temperature of the width direction, they are 80 degreeC or more and 120 degrees C or less, More preferably, they are 85 degreeC or more and 110 degrees C or less, Most preferably, they are 90 degreeC or more and 105 degrees C or less. The stretching method is not particularly limited, but after stretching in the longitudinal direction, stretching in the width direction, or stretching in the width direction and then stretching in the longitudinal direction, or the longitudinal direction of the film, Examples thereof include a simultaneous biaxial stretching method in which the width direction is stretched almost simultaneously. Also, the heat treatment conditions of the film after biaxial stretching are important. The heat treatment can be performed by a method such as heating on a heated roll in an oven. However, the heat treatment can be performed at a high temperature to relax the orientation and reduce the plane orientation coefficient.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは、成形性の観点からフィルムを構成するポリエステル樹脂を構成するグリコール残基成分の50〜90モル%がエチレングリコール残基、10〜30モル%が1,4−ブタンジオール残基、0.1〜10モル%がその他のグリコール残基成分であることが好ましい。1,4−ブタンジオール残基の含有量は15〜25モル%であればより好ましく、また、その他のグリコール残基成分は1〜5モル%であればより好ましい。ここで、各グリコール残基成分は、ポリエステルの中で共重合されて存在させても良いが、共重合を行うと融点が低下し、耐熱性が劣化するなど好ましくない場合があるので、それぞれのグリコール残基成分を単独で有する数種のポリエステル樹脂をブレンドしてフィルム中に含有させても良いし、ブレンドと共重合を併用しても良い。また、その他のグリコール残基成分としては特に限定されるものではないが、ジエチレングリコール残基、1,4−シクロへキサンジメタノール残基、ネオペンチルグリコール残基、1,3−プロパンジオール残基などを好ましく挙げることができる。また、その他のグリコール残基成分として複数のグリコール残基成分を含んでも良い。   In the biaxially oriented polyester film used in the present invention, from the viewpoint of moldability, 50 to 90 mol% of the glycol residue component constituting the polyester resin constituting the film is ethylene glycol residue, 10 to 30 mol% is 1, It is preferable that 4-butanediol residue, 0.1-10 mol% is another glycol residue component. The content of 1,4-butanediol residue is more preferably 15 to 25 mol%, and the other glycol residue components are more preferably 1 to 5 mol%. Here, each glycol residue component may be present by being copolymerized in the polyester, but if copolymerization is performed, the melting point may be lowered and the heat resistance may be deteriorated. Several polyester resins each having a glycol residue component alone may be blended and contained in the film, or blending and copolymerization may be used in combination. Other glycol residue components are not particularly limited, but include diethylene glycol residues, 1,4-cyclohexanedimethanol residues, neopentyl glycol residues, 1,3-propanediol residues, etc. Can be preferably mentioned. In addition, a plurality of glycol residue components may be included as other glycol residue components.

さらに、成形性の観点から本発明のポリエステフィルムには、フィルムを構成するポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸残基成分の95〜99モル%がテレフタル酸残基であり、1〜5モル%がその他のジカルボン酸残基成分であることが好ましい。その他のジカルボン酸残基成分が1〜3モル%であればより好ましい。なお、ジカルボン酸残基成分はジカルボン酸を出発成分としても、ジカルボン酸エステル誘導体を出発成分としても良い。ここで、テレフタル酸残基とその他のジカルボン酸残基はポリエステル中に共重合されて存在しても良いが、共重合を行うと融点低下が起こることから、耐熱性の観点からは別々のポリエステル樹脂中に存在し、そのポリエステル樹脂をブレンドすることでフィルム中に含有させる方法が好ましい。また、共重合とブレンドを併用しても良い。その他のジカルボン酸残基成分としては特に限定されるものではないが、2,6−ナフタレンジカルボン酸残基、イソフタル酸残基、5−ナトリウムスルホイソフタル酸残基、アジピン酸残基、セバシン酸残基、ダイマー酸残基、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸残基などを好ましく挙げることができる。   Furthermore, from the viewpoint of moldability, the polyester film of the present invention has 95 to 99 mol% of the dicarboxylic acid residue component constituting the polyester resin constituting the film, and 1 to 5 mol% of the other is 1 to 5 mol%. The dicarboxylic acid residue component is preferred. The other dicarboxylic acid residue component is more preferably 1 to 3 mol%. The dicarboxylic acid residue component may be a dicarboxylic acid as a starting component or a dicarboxylic acid ester derivative as a starting component. Here, the terephthalic acid residue and the other dicarboxylic acid residue may be present by being copolymerized in the polyester, but if the copolymerization is performed, the melting point is lowered. A method of existing in the resin and blending the polyester resin in the film is preferable. Moreover, you may use copolymerization and a blend together. Other dicarboxylic acid residue components are not particularly limited, but 2,6-naphthalenedicarboxylic acid residue, isophthalic acid residue, 5-sodium sulfoisophthalic acid residue, adipic acid residue, sebacic acid residue Preferred examples include groups, dimer acid residues, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid residues and the like.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[6]温度120℃、湿度100%の環境下において36時間エージング処理を行った後の伸度保持率が40〜100%であると、耐加水分解性が良好であり、太陽電池用熱可塑性樹脂シートとして好適に用いることが出来るため好ましい。温度120℃、湿度100%の環境下における36時間のエージング処理は、太陽電池用熱可塑性樹脂シートとして、屋外暴露状態で20年間相当の加水分解性を検査する試験の一つである。上記伸度保持率を満たすためには、数平均分子量18500〜40000の範囲であるポリエステル樹脂層を有し、この層を最外層に配置し、層厚みをシート全体の厚みの7%以上構成することが好ましい。該フィルム層が7%未満では、最外層から劣化が進み伸度保持率は40%未満となってしまうことがある。   The biaxially oriented polyester film used in the present invention is [6] hydrolysis resistant when the elongation retention is 40 to 100% after aging treatment for 36 hours in an environment of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 100%. It is preferable because it can be suitably used as a thermoplastic resin sheet for solar cells. The aging treatment for 36 hours in an environment of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 100% is one of the tests for examining hydrolytic properties corresponding to 20 years in an outdoor exposure state as a thermoplastic resin sheet for solar cells. In order to satisfy the above elongation retention, the polyester resin layer having a number average molecular weight of 18500 to 40,000 is provided, this layer is disposed as the outermost layer, and the layer thickness is 7% or more of the total thickness of the sheet. It is preferable. When the film layer is less than 7%, deterioration proceeds from the outermost layer, and the elongation retention may be less than 40%.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムにおいては、耐加水分解性を満たすために、該ポリエステル樹脂シートが数平均分子量18500以上であるポリエステル樹脂層を有することが好ましい。上限については、高いほどよいが該数平均分子量が40000を越える場合は、実質上押出しが出来ず、溶融成形性、2軸延伸性から考えて、35000以下の分子量であるものがより好ましい。つまり数平均分子量18500〜40000であり、より好ましくは19000〜35000であり、さらに好ましくは、20000〜30000である。ここで、本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムでいう数平均分子量とは、後述するゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)で測定したもので、数平均分子量は、重合度の指標である。数平均分子量が本発明の範囲にあるとポリエステル樹脂の加水分解反応が進行しても、反応スタート地点の重合度が高いため、18500よりも低数平均分子量に比べて経時での劣化を優位に低減することができる。   In the biaxially oriented polyester film used in the present invention, the polyester resin sheet preferably has a polyester resin layer having a number average molecular weight of 18500 or more in order to satisfy hydrolysis resistance. The upper limit is preferably as high as possible. However, when the number average molecular weight exceeds 40,000, extrusion is practically impossible, and in view of melt moldability and biaxial stretchability, a molecular weight of 35,000 or less is more preferable. That is, the number average molecular weight is 18500 to 40000, more preferably 19000 to 35000, and still more preferably 20000 to 30000. Here, the number average molecular weight in the biaxially oriented polyester film used in the present invention is measured by gel permeation chromatography (GPC) described later, and the number average molecular weight is an index of the degree of polymerization. When the number average molecular weight is within the range of the present invention, even when the hydrolysis reaction of the polyester resin proceeds, the degree of polymerization at the reaction start point is high, so that deterioration over time is superior to the number average molecular weight lower than 18500. Can be reduced.

本発明の範囲に数平均分子量を調整するためには、熱可塑性樹脂の重合において、高重合化する温度を例えば、190〜230℃、重合時間を10〜23時間変化させ、異なる数平均分子量のポリマーを得ることが出来る。   In order to adjust the number average molecular weight within the scope of the present invention, in the polymerization of the thermoplastic resin, the temperature for high polymerization is changed, for example, 190 to 230 ° C., the polymerization time is changed for 10 to 23 hours, and different number average molecular weights are obtained. A polymer can be obtained.

本発明は数平均分子量が18500以上であるポリエステル樹脂層の厚みがポリエステル樹脂シート全体の厚みの7〜100%であることが好ましい。好ましくは、10%以上である。更に好ましくは、15%以上である。つまり、シート全体が数平均分子量18500〜40000である必要はなく、フィルムの厚さ方向の7%以上の厚みが数平均分子量18500〜40000の高分子量ポリエステル樹脂が構成されていればよい。全層の厚みの7%以上、より好ましくは10%以上の厚さの層として有し、かつ、数平均分子量18500〜40000の範囲であるポリエステル樹脂層で太陽電池用ポリエステル樹脂シートとしての外側の最も表層を構成することが、耐加水分解性を付与する為に好ましい。層厚さ方向の7%未満の厚みが数平均分子量18500〜40000の高分子量ポリエステル樹脂層であっても、耐加水分解性に劣り強伸度保持率が低下し劣化が早く好ましくない。7%以上の厚みで積層されていれば積層界面からの層間剥離にも優位である。   In the present invention, the thickness of the polyester resin layer having a number average molecular weight of 18500 or more is preferably 7 to 100% of the thickness of the entire polyester resin sheet. Preferably, it is 10% or more. More preferably, it is 15% or more. That is, the entire sheet need not have a number average molecular weight of 18500 to 40,000, and a high molecular weight polyester resin having a thickness of 7% or more in the thickness direction of the film and having a number average molecular weight of 18500 to 40,000 may be formed. It is a polyester resin layer having a thickness of 7% or more, more preferably 10% or more of the thickness of all layers, and having a number average molecular weight in the range of 18500 to 40,000. It is preferable to form the surface layer most in order to impart hydrolysis resistance. Even if it is a high molecular weight polyester resin layer having a number average molecular weight of 18500-40000 with a thickness of less than 7% in the layer thickness direction, it is inferior in hydrolysis resistance, resulting in a decrease in strong elongation retention and rapid deterioration. If it is laminated with a thickness of 7% or more, it is advantageous for delamination from the lamination interface.

また、本発明の太陽電池用ポリエステル樹脂シートの加水分解劣化防止を効果的に発現させるには、両面に18500〜40000の該平均分子量のポリエステル樹脂層が積層されている方がより好ましい。   Moreover, in order to effectively express the hydrolysis degradation prevention of the polyester resin sheet for solar cells of the present invention, it is more preferable that the polyester resin layers having an average molecular weight of 18500 to 40,000 are laminated on both sides.

本発明のポリエステル樹脂の数平均分子量を18500〜40000にコントロールする方法は、上記の方法で、数平均分子量が18000レベルの通常のポリエステル樹脂を重合した後、190℃〜ポリエステル樹脂の融点未満の温度で、減圧または窒素ガスのような不活性気体の流通下で加熱する、いわゆる固相重合する方法が好ましい。該方法はポリエステル樹脂の末端カルボキシル基量を増加させることなく数平均分子量を高めることができる。   The method for controlling the number average molecular weight of the polyester resin of the present invention to 18500 to 40,000 is the above method, after polymerizing a normal polyester resin having a number average molecular weight of 18000 level, a temperature of 190 ° C. to less than the melting point of the polyester resin. Thus, a so-called solid-phase polymerization method in which heating is performed under reduced pressure or a flow of an inert gas such as nitrogen gas is preferable. This method can increase the number average molecular weight without increasing the terminal carboxyl group amount of the polyester resin.

本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムは[7]50℃から150℃までのMDの線膨張係数(α−MD)とTDの線膨張係数(α−TD)の平均線膨張係数αが22ppm/℃以下であると、熱寸法安定性が良好であり、高温で加工されるフレキシブルディバイス基板用途や線膨張係数の低い金属などの他素材と張り合わせて使用される、例えばリチウムイオンバッテリー外装材などの用途で好適に使用される。線膨張係数が22ppm/℃を超えると、フィルムの熱寸法安定性が悪くなり、加工性が悪化するため好ましくない。   The biaxially oriented polyester film used in the present invention has an average linear expansion coefficient α of [7] MD linear expansion coefficient (α-MD) and TD linear expansion coefficient (α-TD) from 50 ° C. to 150 ° C. of 22 ppm. When the temperature is below / ° C., the thermal dimensional stability is good, and it is used in combination with other materials such as flexible device substrates processed at high temperatures and metals with low coefficient of linear expansion, such as lithium ion battery exterior materials It is preferably used in the following applications. When the linear expansion coefficient exceeds 22 ppm / ° C., the thermal dimensional stability of the film deteriorates and the workability deteriorates, which is not preferable.

線膨張係数を上記好ましい範囲とするためには、下記工程(1)から(3)をこの順で含む方法で製膜することが好ましい。   In order to make a linear expansion coefficient into the said preferable range, it is preferable to form into a film by the method of including following process (1) to (3) in this order.

(1)下記式(a)を満たす温度T1n(nは、本工程におけるn段目の温度を表す)で、フィルムの長手方向(MD)とフィルムの幅方向(TD)に面積倍率13.5倍以上に二軸延伸する工程
Tg≦T1n≦Tg+40℃(a)
Tg:示差走査熱量測定により得られるポリエステルフィルムのガラス転移温度(℃)
(2)フィルムの幅方向の両端部を結ぶ直線に対して、フィルム中央部の重力方向へのずれが1mm以上50mm以下となる状態にフィルムの幅方向の両端を把持し、下記式(b)を満たす熱処理温度Th1で熱処理を実施する第1の熱処理工程
Tm−90℃≦Th1≦Tm−45℃(b)
Tm:示差走査熱量測定により得られるポリエステルフィルムの融点(℃)
(3)下記式(c)を満たす熱処理温度Th2の条件下、次の(3−1)または(3−2)の処理方法により、MD、TDともに1%から10%収縮させる、第2の熱処理工程
150℃≦Th2≦Th1 (c)
(3−1)フィルムを枚葉に切り出し、矩形の金枠にMD、TDともに弛ませた状態で貼り付けバッチ処理
(3−2)巻だしロールと巻き取りロールとの間に設置されたフィルムの入り口と出口を有するオーブンを用いて、巻だしと巻き取りのロールの速度差によりフィルムのMDの収縮の寸法変化による張力を緩和した状態で連続処理。
(1) At a temperature T1n that satisfies the following formula (a) (n represents the n-th stage temperature in this step), the area magnification is 13.5 in the film longitudinal direction (MD) and the film width direction (TD). Step of biaxial stretching more than double Tg ≦ T1n ≦ Tg + 40 ° C. (a)
Tg: Glass transition temperature (° C.) of a polyester film obtained by differential scanning calorimetry
(2) Gripping both ends of the film in the width direction with respect to a straight line connecting both ends of the film in the width direction so that the shift in the center of the film in the gravitational direction is 1 mm or more and 50 mm or less. First heat treatment step of performing heat treatment at a heat treatment temperature Th1 satisfying Tm−90 ° C. ≦ Th1 ≦ Tm−45 ° C. (b)
Tm: Melting point (° C.) of a polyester film obtained by differential scanning calorimetry
(3) Under the condition of the heat treatment temperature Th2 satisfying the following formula (c), both MD and TD contract by 1% to 10% by the following processing method (3-1) or (3-2), Heat treatment step 150 ° C. ≦ Th 2 ≦ Th 1 (c)
(3-1) A film is cut into a sheet, and a batch process is applied in a state where both MD and TD are loosened in a rectangular metal frame. (3-2) A film installed between a winding roll and a winding roll Using an oven having an inlet and an outlet, continuous treatment is performed in a state in which the tension due to the dimensional change of the shrinkage of the MD of the film is relaxed due to the difference in speed between the winding roll and the winding roll.

以上の製造方法により得られたポリエステルフィルムは、高い耐湿熱性を持つと同時に、良好な熱寸法安定性を併せ持つことができるが、メカニズムについては、次のように考えている。一般に二軸延伸して得られるポリエステルフィルム中には分子鎖が延伸方向に配向することによりポリエステルが結晶化した部分(以下、配向結晶部とする)と、かかる配向を経ずに結晶化した部分(以下、単に結晶部とする)と、非晶部が存在する。そして、非晶部は、結晶部、配向結晶部に比べて密度が低く、平均の分子間距離が大きい状態にあると考えられる。   Although the polyester film obtained by the above manufacturing method has high heat-and-moisture resistance, it can also have favorable thermal dimensional stability, but the mechanism is considered as follows. In general, a polyester film obtained by biaxial stretching has a portion where the polyester is crystallized by orientation of molecular chains in the stretching direction (hereinafter referred to as an oriented crystal portion) and a portion crystallized without undergoing such orientation. (Hereinafter simply referred to as a crystal part) and an amorphous part exist. The amorphous part is considered to be in a state where the density is lower than that of the crystal part and the oriented crystal part and the average intermolecular distance is large.

ポリエステルフィルムが湿熱雰囲気下に曝された場合、水分(水蒸気)は密度の低いこの非晶部の分子鎖間を通って内部に進入し、非晶部を可塑化させ分子鎖の運動性を高める。また、ポリエステルはその原料に由来してカルボキシル基末端を有するが、内部に進入した水分は、カルボキシル基末端のプロトンを反応触媒として、相対的に分子鎖の運動性の高い非晶部を加水分解する。このようにして、加水分解されることにより、非晶部において低分子量化が進行することに伴い分子鎖の運動性が更に高まり、非晶部において低分子量化したポリエステルの結晶化が進行する。このようにして本来靱性の高い非晶部が低分子量化し、結晶部に変化した結果、フィルムの脆化が進行し、最終的には僅かな衝撃でも破断に至る状態となるものと考えられる。   When the polyester film is exposed to a moist heat atmosphere, moisture (water vapor) enters the interior through the molecular chains of the amorphous part having a low density, and plasticizes the amorphous part to increase the mobility of the molecular chain. . Polyester has a carboxyl group terminal derived from its raw material, but moisture that has entered the inside hydrolyzes the amorphous part with relatively high molecular chain mobility using the proton at the carboxyl group terminal as a reaction catalyst. To do. By hydrolyzing in this way, the mobility of the molecular chain is further increased as the molecular weight is lowered in the amorphous part, and the crystallization of the polyester having the lowered molecular weight is advanced in the amorphous part. Thus, it is considered that the amorphous part having high toughness has a low molecular weight and is changed to the crystalline part. As a result, the embrittlement of the film progresses, and finally, even a slight impact results in a state of breaking.

本発明では、工程(1)、工程(2)で二軸延伸し、熱処理することにより、非晶部に比べて密度の高い配向結晶部の割合を多くすることができ、フィルム中に水分が侵入するのを防ぐことができる。また、配向結晶部の割合が多くなることで、フィルムの剛直性が増し、フィルムが熱膨張しにくくなる。一方、配向結晶部が多くなると、非晶部の歪みが配向結晶部の配向方向へ大きくなる。この歪みはフィルムに熱を加えたときに解放され、フィルムが不可逆に収縮する。この歪みを取り除き、フィルムの熱収縮を抑制するため、工程(3)にて処理を行う。   In the present invention, the ratio of the oriented crystal part having a higher density than that of the amorphous part can be increased by biaxial stretching and heat treatment in the steps (1) and (2), and moisture is contained in the film. Intrusion can be prevented. Moreover, when the ratio of the oriented crystal part is increased, the rigidity of the film is increased and the film is hardly thermally expanded. On the other hand, when the number of oriented crystal parts increases, the distortion of the amorphous part increases in the orientation direction of the oriented crystal parts. This strain is released when heat is applied to the film and the film shrinks irreversibly. In order to remove this distortion and suppress thermal shrinkage of the film, the treatment is performed in the step (3).

工程(1)から(3)をこの順で含む方法で製膜することにより、耐湿熱性に優れ、熱寸法安定性も良好なポリエステルフィルムを得ることができる。   By forming the film by the method including the steps (1) to (3) in this order, a polyester film having excellent heat and moisture resistance and good thermal dimensional stability can be obtained.

本発明に使用するポリエステル樹脂はリン酸とリン酸アルカリ金属塩を含有し、リン酸アルカリ金属塩の含有量が0.5モル/t以上、リン酸の含有量がリン酸アルカリ金属塩に対して0.25倍以上1.5倍以下のモル比であることが好ましい。本発明に使用するポリエステル樹脂にリン酸とリン酸アルカリ金属塩を含ませることによって、初期のカルボキシル基末端数をより低減させることが出来るため湿熱環境下における加水分解反応を抑制できる。また加水分解反応により新たに発生したカルボキシル基末端の、加水分解反応の触媒として作用するプロトンを中和させることにより、加水分解反応をより抑えることが出来る結果、ポリエステルフィルムの湿熱劣化をより抑制することが可能となる。   The polyester resin used in the present invention contains phosphoric acid and an alkali metal phosphate, the alkali metal phosphate content is 0.5 mol / t or more, and the phosphoric acid content is relative to the alkali metal phosphate. The molar ratio is preferably 0.25 to 1.5 times. By including phosphoric acid and an alkali metal phosphate in the polyester resin used in the present invention, the initial number of carboxyl group terminals can be further reduced, so that hydrolysis reaction in a humid heat environment can be suppressed. Moreover, the neutralization of protons acting as a catalyst for the hydrolysis reaction at the end of the carboxyl group newly generated by the hydrolysis reaction can further suppress the hydrolysis reaction, thereby further suppressing the wet heat degradation of the polyester film. It becomes possible.

本発明において用いられるリン酸アルカリ金属塩は、下記式で示されるものであることがポリエステル樹脂の重合反応性や、溶融成形時の耐熱性の点で好ましく、さらにはアルカリ金属がナトリウム、および/またはカリウムであることが重合反応性、耐熱性、耐湿熱性の点で好ましく、特にリン酸とナトリウムおよび/またはカリウムの金属塩であることが重合反応性、耐湿熱性の点で好ましい。   The alkali metal phosphate used in the present invention is preferably represented by the following formula from the viewpoint of polymerization reactivity of the polyester resin and heat resistance during melt molding, and the alkali metal is sodium, and / or Alternatively, potassium is preferable from the viewpoint of polymerization reactivity, heat resistance, and heat and humidity resistance, and phosphoric acid and sodium and / or potassium metal salts are particularly preferable from the viewpoint of polymerization reactivity and heat and heat resistance.

PO・・・(I)
(ここで、xは2〜4の整数、yは1または2、zは1または2であり、Mはアルカリ金属である。)
リン酸アルカリ金属塩の具体例としては、例えば、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸などの化合物とのアルカリ金属塩を挙げることができる。アルカリ金属元素としては、カリウム、ナトリウムであることが触媒残渣による析出物を生成しにくい点から好ましく、具体的には、フタル酸水素カリウム、クエン酸二水素ナトリウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸二水素カリウム、クエン酸水素二カリウム、炭酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウム、乳酸ナトリウム、乳酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウム、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム、ポリアクリル酸ナトリウムなどを挙げることができる。
PO x H y M z (I)
(Here, x is an integer of 2 to 4, y is 1 or 2, z is 1 or 2, and M is an alkali metal.)
Specific examples of the alkali metal phosphate include alkali metal salts with compounds such as phosphoric acid, phosphorous acid, and hypophosphorous acid. As the alkali metal element, potassium and sodium are preferable from the point that precipitates due to catalyst residues are difficult to be generated. Specifically, potassium hydrogen phthalate, sodium dihydrogen citrate, disodium hydrogen citrate, citric acid Potassium dihydrogen, dipotassium citrate, sodium carbonate, sodium tartrate, potassium tartrate, sodium lactate, potassium lactate, sodium bicarbonate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, diphosphate phosphate Examples thereof include sodium hydrogen, sodium hydrogen phosphite, potassium hydrogen phosphite, sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, and sodium polyacrylate.

本発明に使用するポリエステル樹脂は、リン酸アルカリ金属塩を0.5モル/t以上含有するのが好ましい。より好ましくは1モル/t以上である。リン酸アルカリ金属の含有量が0.5モル/tに満たないと、耐加水分解効果が低減し、得られたポリエステルフィルムが十分な耐湿熱性が得られない場合がある。本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムのリン酸アルカリ金属塩を0.5モル/t以上とすることでフィルムの品位を低下させることなく、高い耐湿熱性を発現させることが可能となる。なお、リン酸アルカリ金属塩の含有量の上限は、過剰なリン酸アルカリ金属塩が析出して異物化しやすくなることがあるという点から3モル/t以下が好ましく、より好ましくは2.5モル/t以下である。   The polyester resin used in the present invention preferably contains 0.5 mol / t or more of an alkali metal phosphate. More preferably, it is 1 mol / t or more. If the content of the alkali metal phosphate is less than 0.5 mol / t, the hydrolysis resistance is reduced, and the obtained polyester film may not have sufficient wet heat resistance. By setting the alkali metal phosphate of the biaxially oriented polyester film used in the present invention to 0.5 mol / t or more, it becomes possible to develop high moisture and heat resistance without deteriorating the quality of the film. In addition, the upper limit of the content of alkali metal phosphate is preferably 3 mol / t or less, more preferably 2.5 mol, from the viewpoint that excessive alkali metal phosphate may precipitate and become foreign matters. / T or less.

本発明に使用するポリエステル樹脂はリン酸をリン酸アルカリ金属塩に対して0.25倍以上1.5倍以下のモル比で含有するのが好ましい。より好ましくは0.3倍以上1.25倍以下である。0.25倍に満たないと緩衝作用が発現しにくくなり、耐加水分解効果が低減し、得られたポリエステルフィルムが十分な耐湿熱性が得られない場合がある。また1.5倍を越えると、過剰なリン酸が重合反応中にポリエステルと反応し、リン酸エステル骨格が分子鎖に形成されその部分が加水分解反応を促進してしまうため、耐加水分解性が低下することがある。本発明に使用するポリエステル樹脂にリン酸をリン酸アルカリ金属塩に対して0.25倍以上1.5倍以下のモル比で含有することによって、得られたポリエステルフィルムに高い耐湿熱性を発現させることが可能となる。   The polyester resin used in the present invention preferably contains phosphoric acid in a molar ratio of 0.25 to 1.5 times with respect to the alkali metal phosphate. More preferably, it is 0.3 times or more and 1.25 times or less. If it is less than 0.25 times, the buffering action is difficult to be exhibited, the hydrolysis resistance is reduced, and the obtained polyester film may not have sufficient wet heat resistance. If the ratio exceeds 1.5 times, excess phosphoric acid reacts with the polyester during the polymerization reaction, and the phosphate ester skeleton is formed in the molecular chain, which accelerates the hydrolysis reaction. May decrease. By containing phosphoric acid in the polyester resin used in the present invention in a molar ratio of 0.25 times or more and 1.5 times or less with respect to the alkali metal phosphate, the obtained polyester film is made to exhibit high moisture and heat resistance. It becomes possible.

リン酸およびリン酸アルカリ金属塩はポリエステル樹脂の重合時に添加しても、溶融成形時に添加してもいずれも構わないが、リン酸およびリン酸アルカリ金属塩のフィルム中への均一分散の点から、重合時に添加することが好ましい。重合時に添加する場合、添加時期は、ポリエステル樹脂の重合時のエステル化反応、またはエステル交換反応終了後から、重縮合反応初期(固有粘度が0.3未満)までの間であれば任意の時期に添加することができる。リン酸およびリン酸アルカリ金属塩の添加方法としては、粉体を直接添加する、エチレングリコール等のジオール構成成分へ溶解させた溶液を調整して添加する、いずれも構わないが、エチレングリコール等のジオール構成成分へ溶解させた溶液として添加することが好ましい。その場合の溶液濃度は場合も10質量%以下に希釈して添加すると、添加口付近へのリン酸およびリン酸アルカリ金属塩の付着が少なく、添加量の誤差が小さくなる点、及び反応性の点で好ましい。   Phosphoric acid and alkali metal phosphate may be added at the time of polymerization of the polyester resin or at the time of melt molding, but from the viewpoint of uniform dispersion of phosphoric acid and alkali metal phosphate in the film. It is preferable to add at the time of polymerization. In the case of adding at the time of polymerization, the addition time can be any time as long as it is from the end of the esterification reaction or transesterification reaction of the polyester resin to the beginning of the polycondensation reaction (inherent viscosity is less than 0.3). Can be added. As a method for adding phosphoric acid and alkali metal phosphate, either adding powder directly or adjusting and adding a solution dissolved in a diol component such as ethylene glycol may be used. It is preferably added as a solution dissolved in the diol component. In this case, when the solution concentration is diluted to 10% by mass or less and added, there is little adhesion of phosphoric acid and alkali metal phosphate to the vicinity of the addition port, and the error of the addition amount becomes small, and the reactivity This is preferable.

本発明においては、ポリエステル樹脂が共重合成分としてカルボン酸基および/または水酸基を3つ以上有する構成成分を全構成成分に対して0.005モル%以上1.5モル%以下含むことが好ましい。ここで、カルボン酸基および/または水酸基を3以上有する構成成分とは、次に占めるものをいう。   In this invention, it is preferable that the polyester resin contains 0.005 mol% or more and 1.5 mol% or less of a component having three or more carboxylic acid groups and / or hydroxyl groups as copolymerization components with respect to all components. Here, the structural component having 3 or more carboxylic acid groups and / or hydroxyl groups refers to the following components.

カルボン酸基を3以上有するカルボン酸構成成分としては、三官能の芳香族カルボン酸構成成分として、トリメシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレントリカルボン酸、アントラセントリカルボン酸等が、三官能の脂肪族カルボン酸構成成分として、メタントリカルボン酸、エタントリカルボン酸、プロパントリカルボン酸、ブタントリカルボン酸等が、四官能の芳香族カルボン酸構成成分としてベンゼンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、アントラセンテトラカルボン酸、ベリレンテトラカルボン酸等が、四官能の脂肪族カルボン酸構成成分として、エタンテトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、アダマンタンテトラカルボン酸等が、五官能以上の芳香族カルボン酸構成成分として、ベンゼンペンタカルボン酸、ベンゼンヘキサカルボン酸、ナフタレンペンタカルボン酸、ナフタレンヘキサカルボン酸、ナフタレンヘプタカルボン酸、ナフタレンオクタカルボン酸、アントラセンペンタカルボン酸、アントラセンヘキサカルボン酸、アントラセンヘプタカルボン酸、アントラセンオクタカルボン酸等が、五官能以上の脂肪族カルボン酸構成成分として、エタンペンタカルボン酸、エタンヘプタカルボン酸、ブタンペンタカルボン酸、ブタンヘプタカルボン酸、シクロペンタンペンタカルボン酸、シクロヘキサンペンタカルボン酸、シクロヘキサンヘキサカルボン酸、アダマンタンペンタカルボン酸、アダマンタンヘキサカルボン酸等が、およびこれらエステル誘導体や酸無水物等が例として挙げられるがこれらに限定されない。また上述のカルボン酸構成成分のカルボキシ末端に、l-ラクチド、d−ラクチド、ヒドロキシ安息香酸などのオキシ酸類、およびその誘導体、そのオキシ酸類が複数個連なったもの等を付加させたものも好適に用いられる。また、これらは単独で用いても、必要に応じて、複数種類用いても構わない。   Examples of carboxylic acid components having three or more carboxylic acid groups include trifunctional aromatic carboxylic acid components such as trimesic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenetricarboxylic acid, and anthracentricarboxylic acid. Examples of aromatic carboxylic acid constituents include methanetricarboxylic acid, ethanetricarboxylic acid, propanetricarboxylic acid, butanetricarboxylic acid, and tetrafunctional aromatic carboxylic acid constituents such as benzenetetracarboxylic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, Anthracene tetracarboxylic acid, berylene tetracarboxylic acid, etc. are tetrafunctional aliphatic carboxylic acid constituents such as ethanetetracarboxylic acid, ethylenetetracarboxylic acid, butanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, Hexanetetracarboxylic acid, adamantanetetracarboxylic acid, etc. are pentafunctional or higher functional aromatic carboxylic acid constituents such as benzenepentacarboxylic acid, benzenehexacarboxylic acid, naphthalenepentacarboxylic acid, naphthalenehexacarboxylic acid, naphthaleneheptacarboxylic acid, naphthalene. Octacarboxylic acid, anthracenepentacarboxylic acid, anthracenehexacarboxylic acid, anthraceneheptacarboxylic acid, anthraceneoctacarboxylic acid, etc. are penta- or higher functional aliphatic carboxylic acid constituents such as ethanepentacarboxylic acid, ethaneheptacarboxylic acid, butanepentapentane. Carboxylic acid, butaneheptacarboxylic acid, cyclopentanepentacarboxylic acid, cyclohexanepentacarboxylic acid, cyclohexanehexacarboxylic acid, adamantanepentacarboxylic acid, adama Tan hexacarboxylic acid and the, and the like These ester derivatives and acid anhydrides thereof as examples without limitation. Also preferred are those obtained by adding oxyacids such as l-lactide, d-lactide, hydroxybenzoic acid and the like, or a combination of a plurality of the oxyacids to the carboxy terminal of the carboxylic acid component. Used. Moreover, these may be used independently or may be used in multiple types as needed.

酸基数を3以上有する構成成分の例としては、三官能の芳香族構成成分として、トリヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシナフタレン、トリヒドロキシアントラセン、トリヒドロキシカルコン、トリヒドロキシフラボン、トリヒドロキシクマリン、三官能の脂肪族アルコール構成成分として、グリセリン、トリメチロールプロパン、プロパントリオール、四官能の脂肪族アルコール構成成分として、ペンタエリスリトール等の化合物、また、上述の化合物の水酸基末端にジオール類を付加させた構成成分も好ましく用いられる。また、これらは単独で用いても、必要に応じて、複数種類用いても構わない。   Examples of components having 3 or more acid groups include trifunctional aromatic components such as trihydroxybenzene, trihydroxynaphthalene, trihydroxyanthracene, trihydroxychalcone, trihydroxyflavone, trihydroxycoumarin, and trifunctional fat. As an aliphatic alcohol constituent, glycerin, trimethylolpropane, propanetriol, a tetrafunctional aliphatic alcohol constituent, a compound such as pentaerythritol, and a constituent obtained by adding a diol to the hydroxyl terminal of the above compound are also preferable. Used. Moreover, these may be used independently or may be used in multiple types as needed.

カルボン酸基および水酸基を3つ以上有する構成成分とは、一分子中に水酸基とカルボン酸基の両方を有するオキシ酸類のうち、かつカルボン酸基数と水酸基数との合計が3以上であるものであり、具体例として、ヒドロキシイソフタル酸、ヒドロキシテレフタル酸、ジヒドロキシテレフタル酸、ジヒドロキシテレフタル酸などが挙げられる。   The component having three or more carboxylic acid groups and hydroxyl groups is an oxyacid having both a hydroxyl group and a carboxylic acid group in one molecule, and the total of the number of carboxylic acid groups and the number of hydroxyl groups is 3 or more. Specific examples include hydroxyisophthalic acid, hydroxyterephthalic acid, dihydroxyterephthalic acid, dihydroxyterephthalic acid, and the like.

また上述の構成成分は単独で用いても、必要に応じて、複数種類用いても構わない。   In addition, the above-described constituent components may be used alone, or a plurality of types may be used as necessary.

本発明において、該構成成分の含有量が0.005モル%以上1.5モル%以下であることが好ましい。より好ましくは0.020モル%以上1.0モル%以下、更好ましくは0.025モル%以上1.0モル%以下、更に好ましくは0.035モル%以上0.5モル%以下である。含有量が0.005モル%以下であると本発明の製造方法により得られるポリエステルフィルムの耐湿熱性の向上効果が不十分となる場合があり、また1.5モル%を越えると、樹脂がゲル化して溶融押出が困難となる場合があり、かかる場合にはゲルが異物として存在し、フィルムにした場合の二軸延伸性が低下したり、延伸して得たフィルムが異物欠点を多数有する場合がある。
[架橋樹脂層]
次に、鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下の架橋樹脂層である[A]層について詳細を説明する。
In this invention, it is preferable that content of this structural component is 0.005 mol% or more and 1.5 mol% or less. More preferably, they are 0.020 mol% or more and 1.0 mol% or less, More preferably, they are 0.025 mol% or more and 1.0 mol% or less, More preferably, they are 0.035 mol% or more and 0.5 mol% or less. If the content is 0.005 mol% or less, the effect of improving the moisture and heat resistance of the polyester film obtained by the production method of the present invention may be insufficient, and if it exceeds 1.5 mol%, the resin is gelled. In such a case, the gel exists as a foreign substance, and the biaxial stretchability when it is made into a film decreases or the film obtained by stretching has many foreign substance defects There is.
[Crosslinked resin layer]
Next, the [A] layer, which is a cross-linked resin layer having a pencil hardness of H or more and a surface free energy of 45 mN / m or less, will be described in detail.

本発明に用いる[A]層の厚みは、0.5μm以上、10μm以下が好ましい。[A]層の厚みが0.5μmより薄くなると、二軸配向ポリエステルフィルムの凹凸の影響を受けて、[B]層の膜質が均一にならないため、ガスバリア性が悪化する場合がある。[A]層の厚みが10μmより厚くなると、[A]層内に残留する応力が大きくなることによって二軸配向ポリエステルフィルムが反り、[B]層にクラックが発生するため、ガスバリア性が低下する場合がある。従って、[A]層の厚みは0.5μm以上、10μm以下が好ましく、フレキシブル性を確保する観点から1μm以上、5μm以下がより好ましい。[A]層の厚みは、透過型電子顕微鏡(TEM)による断面観察画像から、測定することが可能である。   The thickness of the [A] layer used in the present invention is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less. If the thickness of the [A] layer is less than 0.5 μm, the film quality of the [B] layer is not uniform due to the unevenness of the biaxially oriented polyester film, and the gas barrier property may be deteriorated. When the thickness of the [A] layer is larger than 10 μm, the stress remaining in the [A] layer is increased, the biaxially oriented polyester film is warped, and cracks are generated in the [B] layer, so that the gas barrier property is lowered. There is a case. Therefore, the thickness of the [A] layer is preferably 0.5 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 5 μm or less from the viewpoint of ensuring flexibility. The thickness of the [A] layer can be measured from a cross-sectional observation image by a transmission electron microscope (TEM).

本発明において、安定したガスバリア性の発現が可能となる効果に対する[A]層の鉛筆硬度の寄与は、[A]層の鉛筆硬度をH以上とすることにより、二軸配向ポリエステルフィルムに耐熱性及び寸法安定性を付与することができるため、含ケイ素無機層を形成する際、プラズマの発光熱やイオン、ラジカルの衝突による損傷を防止することができ、結果としてガスバリア性の再現性が安定することにあると推測している。従って、かかる[A]層の鉛筆硬度はH以上が好ましく、さらに好ましくは2H以上である。一方、[A]層の鉛筆硬度の上限は、5Hを超えると、柔軟性が低下するため、含ケイ素無機層形成後のハンドリングや後加工において、クラックによるガスバリア性の悪化の原因となるとなる場合があるので、5H以下であることが好ましい。(鉛筆硬度は、(軟)10B〜B、HB、F、H〜9H(硬))
本発明における[A]層の鉛筆硬度試験は、JIS K5600(1999)に準じて実施する。異なる硬度の鉛筆を用い、0.5kg荷重下で試験を実施し、傷の有無によって判定する。なお、[A]層表面に無機層や樹脂層が積層されている場合、必要に応じてイオンエッチングや薬液処理により層を除去した後、鉛筆硬度試験を行うことで鉛筆硬度を評価することができる。
In the present invention, the pencil hardness of the [A] layer contributes to the effect that enables stable gas barrier properties to be exhibited. In addition, when forming a silicon-containing inorganic layer, it is possible to prevent damage caused by collision of plasma emission heat, ions, and radicals, resulting in stable gas barrier reproducibility. I guess it is. Therefore, the pencil hardness of the [A] layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher. On the other hand, when the upper limit of the pencil hardness of the [A] layer exceeds 5H, the flexibility is lowered, which may cause deterioration of gas barrier properties due to cracks in handling and post-processing after formation of the silicon-containing inorganic layer. Therefore, it is preferably 5H or less. (Pencil hardness is (soft) 10B-B, HB, F, H-9H (hard))
The pencil hardness test of the [A] layer in the present invention is carried out according to JIS K5600 (1999). The test is performed under a load of 0.5 kg using pencils having different hardnesses, and the determination is made based on the presence or absence of scratches. [A] When an inorganic layer or a resin layer is laminated on the surface of the layer [A], it is possible to evaluate the pencil hardness by performing a pencil hardness test after removing the layer by ion etching or chemical treatment as necessary. it can.

また、本発明において、飛躍的にガスバリア性が良好となる効果に対する[A]層の表面自由エネルギーの寄与は、表面自由エネルギーを45mN/m以下とすることによって、[B]層を形成する際の、が含ケイ素無機化合物の初期成長過程において、膜の成長核となる原子や粒子は表面移動、拡散し易くなるため、[B]層付近の膜質か緻密化し、結果として、層全体が緻密な構造に改善され、酸素および水蒸気の透過が抑制されることにあると推測している。従って、かかる[A]層の表面自由エネルギーは、45mN/m以下であることが好ましく、さらに好ましくは40mN/m以下である。   Further, in the present invention, the contribution of the surface free energy of the [A] layer to the effect of dramatically improving the gas barrier property is that when the [B] layer is formed by setting the surface free energy to 45 mN / m or less. However, in the initial growth process of the silicon-containing inorganic compound, the atoms and particles that become the growth nuclei of the film are likely to move and diffuse, so the film quality near the [B] layer is densified. As a result, the entire layer is dense. It is estimated that the structure is improved and the permeation of oxygen and water vapor is suppressed. Therefore, the surface free energy of the [A] layer is preferably 45 mN / m or less, more preferably 40 mN / m or less.

本発明における[A]層の表面自由エネルギーは、各成分(分散力、極性力、水素結合力)が既知の4種類の測定液(水、ホルムアミド、エチレングリコール、ヨウ化メチレン)を用いて、各測定液の接触角を測定し、拡張Fowkes式とYoungの式より導入される下記式(1)を用いて各成分を計算できる。   The surface free energy of the [A] layer in the present invention is obtained by using four types of measurement liquids (water, formamide, ethylene glycol, methylene iodide) with known components (dispersion force, polar force, hydrogen bonding force), The contact angle of each measurement solution is measured, and each component can be calculated using the following formula (1) introduced from the extended Fowkes formula and Young's formula.

Figure 2014073598
Figure 2014073598

なお、[A]層表面に無機層や樹脂層が積層されている場合、本発明のガスバリア性フィルムにおいては上記4種類の測定液の接触角は、[A]層を[A]層の厚みの30〜70%の範囲でイオンエッチングや薬液処理で研磨した後に測定する。[A]層は含ケイ素無機層と二軸配向ポリエステルフィルム層との間に位置しているが、必要に応じてイオンエッチングや薬液処理によりいずれかの層を除去した後、上述した測定方法を行うことで鉛筆硬度や表面自由エネルギーを評価することができる。   In addition, when the inorganic layer and the resin layer are laminated | stacked on the [A] layer surface, in the gas barrier film of this invention, the contact angle of said 4 types of measurement liquids is [A] layer thickness of [A] layer. It measures after grind | polishing by ion etching or a chemical | medical solution process in 30 to 70% of range. [A] The layer is located between the silicon-containing inorganic layer and the biaxially oriented polyester film layer. After removing one of the layers by ion etching or chemical treatment as necessary, the measurement method described above is used. By doing so, pencil hardness and surface free energy can be evaluated.

本発明における[A]層の表面(ガスバリア性フィルムにおいては[B]層との境界面)の平均表面粗さRaを1nm以下にすると積層する[B]層のピンホールやクラックの発生をより、低減できるので、ガスバリア性の繰り返し再現性が向上するため好ましい。[A]層の表面の平均表面粗さRaが1nmより大きくなると、凸部においては、[B]層の積層後にピンホールが発生し易くなり、さらに凹凸が多い部分ではクラックが発生するため、ガスバリア性の繰り返し再現性が悪化する原因となる場合がある。従って、本発明は、[A]層の表面の平均表面粗さRaを1nm以下にすることが好ましく、折り曲げ時のマイクロクラックなどの微細な欠陥の発生を抑制し、柔軟性を向上させる観点から0.6nm以下にすることがさらに好ましい。   When the average surface roughness Ra of the surface of the [A] layer in the present invention (the boundary surface with the [B] layer in the gas barrier film) is 1 nm or less, the occurrence of pinholes and cracks in the [B] layer to be laminated is further increased. Therefore, it is preferable because the reproducibility of gas barrier properties is improved. When the average surface roughness Ra of the surface of the [A] layer is larger than 1 nm, in the convex portion, pinholes are likely to occur after the lamination of the [B] layer, and cracks are generated in a portion with more unevenness. In some cases, the repetitive reproducibility of gas barrier properties may be deteriorated. Therefore, in the present invention, the average surface roughness Ra of the surface of the [A] layer is preferably 1 nm or less, from the viewpoint of suppressing the occurrence of fine defects such as microcracks during bending and improving flexibility. More preferably, it is 0.6 nm or less.

本発明における[A]層の平均表面粗さRaは、原子間力顕微鏡を用いて測定することができる。なお、[A]層表面に無機層や樹脂層が積層されている場合、X線反射率法(「X線反射率入門」(桜井健次編集)講談社p.51〜78、2009年)を使用して得られた値を[A]層の平均表面粗さRaとする。   The average surface roughness Ra of the [A] layer in the present invention can be measured using an atomic force microscope. In addition, when an inorganic layer or a resin layer is laminated on the surface of the [A] layer, the X-ray reflectivity method (“X-ray reflectivity introduction” (edited by Kenji Sakurai) Kodansha p.51-78, 2009) is used. The value obtained in this manner is defined as the average surface roughness Ra of the [A] layer.

本発明に用いられる[A]層の材料としては、鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下となるものであれば、特に限定されず種々の架橋樹脂を使用することができる。ここでいう架橋樹脂とは、架橋点を数平均分子量20000あたりに1点以上有するものと定義する。本発明における架橋樹脂層に適用できる架橋樹脂の例としては、アクリル系、ウレタン系、有機シリケート化合物、シリコーン系などの架橋樹脂があげられる。これらの中でも、プラズマ熱の耐久性および鉛筆硬度の観点から、熱硬化型のアクリル系樹脂および活性線硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。   The material of the [A] layer used in the present invention is not particularly limited as long as the pencil hardness is H or more and the surface free energy is 45 mN / m or less, and various cross-linked resins can be used. The cross-linked resin here is defined as having one or more cross-linking points per 20000 number average molecular weight. Examples of the crosslinked resin that can be applied to the crosslinked resin layer in the present invention include acrylic, urethane, organic silicate compounds, silicone-based crosslinked resins, and the like. Among these, a thermosetting acrylic resin and an actinic ray curable acrylic resin are preferable from the viewpoint of durability of plasma heat and pencil hardness.

熱硬化型のアクリル系樹脂および活性線硬化型のアクリル系樹脂としては、多官能アクリレートとアクリルオリゴマー、反応性希釈剤を含むものが好ましく例示され、その他必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤などが添加されていても良い。   Preferred examples of the thermosetting acrylic resin and the actinic ray curable acrylic resin include those containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, and a reactive diluent, and other photoinitiators and photosensitizers as necessary. An agent, a thermal polymerization initiator or a modifier may be added.

上述したアクリル系樹脂に好適に用いられる多官能アクリレートは1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物が挙げられる。かかる化合物の例としては、ペンタエリスリトールトリ( メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ( メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ( メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ( メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ( メタ) アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ( メタ) アクリレート、トリメチロールプロパントリ( メタ) アクリレートなどが挙げられる。これらの多官能アクリレートは、1種または2種以上を混合して使用することができる。また、本発明において、多官能アクリレートには、多官能アクリレートの変性ポリマーを含んでもよい。   Examples of the polyfunctional acrylate suitably used for the acrylic resin described above include compounds having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule. Examples of such compounds include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Examples include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and trimethylolpropane tri (meth) acrylate. These polyfunctional acrylates can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the polyfunctional acrylate may include a modified polymer of polyfunctional acrylate.

アクリルオリゴマーは、数平均分子量が、100〜5000であって、分子内に少なくとも1つの反応性のアクリル基が結合されたものである。骨格としてはポリアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂などが挙げられる。また、前記の骨格にはメラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格のものであっても良い。   The acrylic oligomer has a number average molecular weight of 100 to 5000 and has at least one reactive acrylic group bonded in the molecule. Examples of the skeleton include polyacrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, polyepoxy resins, and polyether resins. The skeleton may be a rigid skeleton such as melamine or isocyanuric acid.

反応性希釈剤は、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。   The reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a coating medium, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It will be.

また、特に、紫外線による架橋の場合には、光エネルギーが小さいため、光エネルギーの変換や反応の促進のため、詳細は後述するが、光重合開始剤および、 または光増感剤を添加することが好ましい。   In particular, in the case of cross-linking with ultraviolet rays, since light energy is small, a photopolymerization initiator and / or a photosensitizer should be added in order to convert the light energy and promote the reaction. Is preferred.

本発明に用いられる[A]層の材料の配合における多官能アクリレートの使用割合は、鉛筆硬度をH以上とする観点から、[A]層の総量に対して20〜90質量%が好ましく、より好ましくは40〜70質量%である。かかる割合が90質量%より大きくなると、硬化収縮が大きく二軸配向ポリエステルフィルムが反る場合があり、そのような場合には含ケイ素無機層にクラックが発生し、ガスバリア性が悪化するなどの問題が生じる場合がある。また、単量体の割合が20質量%より小さくなると、基材と[A]層との密着強度が低下し、剥離するなどの問題が発生する場合がある。   The use ratio of the polyfunctional acrylate in the blending of the material of the [A] layer used in the present invention is preferably 20 to 90% by mass with respect to the total amount of the [A] layer, from the viewpoint of making the pencil hardness H or more. Preferably it is 40-70 mass%. When this ratio is greater than 90% by mass, the shrinkage of curing is large and the biaxially oriented polyester film may be warped. In such a case, cracks are generated in the silicon-containing inorganic layer, and the gas barrier property is deteriorated. May occur. Moreover, when the ratio of a monomer becomes smaller than 20 mass%, the adhesive strength of a base material and an [A] layer falls, and problems, such as peeling, may generate | occur | produce.

本発明における[A]層を架橋させる方法として、光による硬化を適用する場合、光重合開始剤を加えることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、2 , 2 −ジエトキシアセトフェノン、p − ジメチルアセトフェノン、p − ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2 − クロロベンゾフェノン、4 , 4 ’ − ジクロロベンゾフェノン、4 , 4 ’ − ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、p − イソプロピル− α − ヒドロキシイソブチルフェノン、α − ヒドロキシイソブチルフェノン、2 , 2 − ジメトキシ− 2 − フェニルアセトフェノン、1 − ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2 − クロロチオキサントン、2 − メチルチオキサントンなどの硫黄化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ジ− t − ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などがあげられる。   As a method of crosslinking the [A] layer in the present invention, it is preferable to add a photopolymerization initiator when applying curing by light. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4. '-Bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methylbenzoylfomate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy -2-phenylacetophenone, carbonyl compounds such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfate De, tetramethyl thiuram disulfide, thioxanthone, 2 - chloro thioxanthone, 2 - sulfur compounds such as methyl thioxanthone, benzoyl peroxide, di - t - peroxide compounds such as butyl peroxide, and the like.

光重合開始剤の使用量は、重合性組成物100重量部に対して、0.01〜10重量部が好ましく、重合時の未反応物として残存し、ガスバリア性に影響しない範囲として、0.05〜5重量部が好ましい。   The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable composition, and remains as an unreacted product during polymerization and does not affect the gas barrier property. 05 to 5 parts by weight are preferred.

本発明に用いられる[A]層の架橋樹脂層を形成する樹脂を含有する塗液には、塗工時の作業性の向上、塗工膜厚の制御を目的として、本発明の効果が損なわれない範囲において、有機溶剤を配合することが好ましい。有機溶剤を配合する好ましい範囲としては10質量%以上、90質量%以下、より好ましくは20質量%以上、80質量%以下である。   The coating liquid containing the resin forming the [A] cross-linked resin layer used in the present invention loses the effect of the present invention for the purpose of improving workability during coating and controlling the coating film thickness. In such a range, it is preferable to add an organic solvent. A preferred range for blending the organic solvent is 10% by mass or more and 90% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less.

有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、トルエンなどの芳香族系溶剤などを用いることができる。これらの溶剤は、単独あるいは2種以上を混合して用いても良い。   Examples of the organic solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, acetate solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, and aromatic solvents such as toluene. Etc. can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明に用いられる[A]層の架橋樹脂層を形成する樹脂を含有する塗液には、[B]層との密着性の向上を目的として、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛等の無機粒子を配合することが好ましい。これらの中でも含ケイ素無機層と強く密着するシリカ系無機粒子が好ましく、シラン化合物などで加水分解して得られるシリカ系無機粒子がさらに好ましい。無機粒子を配合する好ましい範囲としては、0.1質量%以上30質量%以下、より好ましくは、0.5質量%以上、10質量%以下である。   In addition, the coating liquid containing a resin that forms the crosslinked resin layer of the [A] layer used in the present invention includes inorganic substances such as silica, alumina, and zinc oxide for the purpose of improving adhesion with the [B] layer. It is preferable to blend particles. Among these, silica-based inorganic particles that strongly adhere to the silicon-containing inorganic layer are preferable, and silica-based inorganic particles obtained by hydrolysis with a silane compound or the like are more preferable. A preferred range for blending the inorganic particles is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less.

本発明には、本発明の効果が損なわれない範囲で、各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤などを用いることができる。   In the present invention, various additives can be blended as necessary within the range where the effects of the present invention are not impaired. For example, stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.

本発明に用いられる[A]層の表面自由エネルギーを45mN/m以下とする方法としては、[A]層と[B]層との密着性やガスバリア性が悪化しない範囲で、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンなどの表面張力が低いシリコーンを添加したり、親油性であるn―ステアリルアクリレートなどの長鎖のアルキル基をもつモノマーを添加したりする方法が挙げられる。   As a method of setting the surface free energy of the [A] layer used in the present invention to 45 mN / m or less, dimethylpolysiloxane, as long as the adhesion and gas barrier properties between the [A] layer and the [B] layer are not deteriorated, Examples thereof include a method of adding a silicone having a low surface tension such as methylphenylpolysiloxane, or a monomer having a long chain alkyl group such as n-stearyl acrylate which is lipophilic.

[A]層を形成する樹脂からなる塗液の塗布手段としては、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法などを用いることができる。中でも、本発明における[A]層の厚みである0.5μm以上、10μm以下の塗工に好適な手法として、グラビアコート法が好ましい。   [A] As a means for applying a coating liquid comprising a resin forming the layer, for example, a reverse coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a bar coating method, a die coating method, a spray coating method, or the like can be used. Among these, a gravure coating method is preferable as a method suitable for coating of 0.5 μm or more and 10 μm or less, which is the thickness of the [A] layer in the present invention.

[A]層を架橋させる際に用いられる活性線としては、紫外線、電子線、放射線(α線、β線、γ線)などがあり、実用上簡便な方法として、紫外線が好ましい。また、熱による架橋させる場合に用いられる熱源としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターなどがあり、温度制御の安定性の観点から赤外線ヒーターが好ましい。
[含ケイ素無機層]
次に、[B]層である厚みが10〜1000nmの含ケイ素無機層について詳細を説明する。本発明において含ケイ素無機層は、[B]厚みが10〜1000nmであり、[A]層である鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下の架橋樹脂層の上に配置される。
The active rays used when the [A] layer is crosslinked include ultraviolet rays, electron beams, radiation (α rays, β rays, γ rays), and ultraviolet rays are preferred as a practically simple method. The heat source used for crosslinking by heat includes a steam heater, an electric heater, an infrared heater and the like, and an infrared heater is preferable from the viewpoint of temperature control stability.
[Silicon-containing inorganic layer]
Next, the silicon-containing inorganic layer having a thickness of 10 to 1000 nm which is the [B] layer will be described in detail. In the present invention, the silicon-containing inorganic layer [B] has a thickness of 10 to 1000 nm, and is disposed on the cross-linked resin layer having a pencil hardness of H or more and a surface free energy of 45 mN / m or less as the [A] layer. .

発明者らの検討の結果、[A]層の上に[B]層を積層することにより、飛躍的にガスバリア性を向上させることが可能であることを見出した。   As a result of the study by the inventors, it was found that the gas barrier property can be dramatically improved by laminating the [B] layer on the [A] layer.

本発明における[B]層に好適に用いられる材料としては、膜質が非晶質かつ緻密に形成でき、優れたガスバリア性を有する二酸化ケイ素が好ましい。なお、「二酸化ケイ素」を「SiO」と略記することもある。また、二酸化ケイ素(SiO)は、生成時の条件によって、左記組成式のケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの(SiO〜SiO)が生成することがあるが、二酸化ケイ素あるいはSiOと表記することとする。 As a material suitably used for the [B] layer in the present invention, silicon dioxide having an amorphous and dense film quality and excellent gas barrier properties is preferable. “Silicon dioxide” may be abbreviated as “SiO 2 ”. Also, silicon (SiO 2) dioxide, the generation time of the condition, those slightly deviated from the composition ratio of silicon and oxygen on the left formula (SiO~SiO 2) although it is possible to produce silicon dioxide or SiO 2 It shall be written as

前記[A]層の上に[B]層を積層することにより、[A]層は鉛筆硬度がH以上の架橋樹脂層であるため、二軸配向ポリエステルフィルムの耐熱性および熱寸法性が向上する。そして、かかる[A]層の上に二酸化ケイ素の層を形成することにより、二軸配向ポリエステルフィルムの上に直接二酸化ケイ素の層を形成するのに比較して、二酸化ケイ素の層を形成する際のプラズマのイオンおよびラジカルによる二軸配向ポリエステルフィルムの損傷を防止できるので、安定して緻密な二酸化ケイ素層を形成できる。さらに、[A]層の表面自由エネルギーが45mN/m以下の範囲であるため、二軸配向ポリエステルフィルム表面における二酸化ケイ素層のスパッタ粒子が表面拡散し易くなり、従来よりも二軸配向ポリエステルフィルム表面付近の膜質は微細化し緻密になるため、ガスバリア性を向上できるものと推測している。   By laminating the [B] layer on the [A] layer, the [A] layer is a cross-linked resin layer having a pencil hardness of H or more, so the heat resistance and thermal dimensionality of the biaxially oriented polyester film are improved. To do. Then, by forming a silicon dioxide layer on the [A] layer, when forming the silicon dioxide layer, compared to forming the silicon dioxide layer directly on the biaxially oriented polyester film, Since the biaxially oriented polyester film can be prevented from being damaged by the plasma ions and radicals, a stable and dense silicon dioxide layer can be formed. Furthermore, since the surface free energy of the [A] layer is in the range of 45 mN / m or less, the sputtered particles of the silicon dioxide layer on the surface of the biaxially oriented polyester film are more likely to diffuse, and the surface of the biaxially oriented polyester film is more than conventional. It is speculated that the gas barrier properties can be improved because the film quality in the vicinity becomes finer and denser.

[B]層は、ケイ素酸化物を含んでいれば、Zn、Al、Ti、Zr、Sn、In、Nb、Mo、Ta等の元素の酸化物、窒化物、硫化物、または、それらの混合物を含んでいても良い。例えば、高いガスバリア性が得られるものとして、[B1]酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層(以降[B1]層と略記する)または[B2]硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層(以降[B2]層と略記する)が好適に用いられる。[B1]層と[B2]層のそれぞれの詳細は後述する。   [B] If the layer contains silicon oxide, oxide, nitride, sulfide, or a mixture of elements such as Zn, Al, Ti, Zr, Sn, In, Nb, Mo, Ta, etc. May be included. For example, a layer comprising a coexisting phase of [B1] zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide (hereinafter abbreviated as [B1] layer) or [B2] a coexisting phase of zinc sulfide and silicon dioxide is obtained as a high gas barrier property. A layer consisting of (hereinafter abbreviated as [B2] layer) is preferably used. Details of the [B1] layer and the [B2] layer will be described later.

また、本発明における[B]層の上には、ガスバリア性が悪化しない範囲で耐擦傷性の向上を目的としたハードコート層を形成しても良いし、有機高分子化合物からなるフィルムをラミネートした積層構成としても良い。   Further, on the [B] layer in the present invention, a hard coat layer for the purpose of improving scratch resistance may be formed within a range in which the gas barrier property is not deteriorated, or a film made of an organic polymer compound is laminated. It is good also as a laminated structure.

本発明に使用する[B]層の厚みは、ガスバリア性を発現する層の厚みとして10nm以上、1000nm以下が好ましい。層の厚みが10nmより薄くなると、十分にガスバリア性が確保できない箇所が発生し、二軸配向ポリエステルフィルム面内でガスバリア性がばらつくなどの問題が生じる場合がある。また、層の厚みが1000nmより厚くなると、層内に残留する応力が大きくなるため、曲げや外部からの衝撃によって[B]層にクラックが発生しやすくなり、使用に伴いガスバリア性が低下する場合がある。従って、[B]層の厚みは10nm以上、1000nm以下が好ましく、柔軟性を確保する観点から100nm以上、500nm以下がより好ましい。[B]層の厚みは、通常は透過型電子顕微鏡(TEM)による断面観察により測定することが可能である。   The thickness of the [B] layer used in the present invention is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less as the thickness of the layer exhibiting gas barrier properties. When the thickness of the layer is less than 10 nm, there may be a portion where the gas barrier property cannot be sufficiently secured, and there may be a problem that the gas barrier property varies in the biaxially oriented polyester film surface. In addition, when the thickness of the layer is greater than 1000 nm, the stress remaining in the layer increases, so that the [B] layer is liable to be cracked by bending or external impact, and the gas barrier property decreases with use. There is. Therefore, the thickness of the [B] layer is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less, and more preferably 100 nm or more and 500 nm or less from the viewpoint of ensuring flexibility. [B] The thickness of the layer can usually be measured by cross-sectional observation with a transmission electron microscope (TEM).

本発明に使用する[B]層の平均表面粗さRaは、ガスバリア性が発現する表面粗さとして1.5nm以下であることが好ましい。平均表面粗さが1.5nmより大きくなると、[B]層表面の凹凸形状が大きくなり、積層されるスパッタ粒子間に隙間ができるため、膜質が緻密になりにくく、膜厚を厚く形成してもガスバリア性の向上効果は得られにくくなる。従って、[B]層の平均表面粗さRaは、1.5nm以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.8nm以下である。   The average surface roughness Ra of the [B] layer used in the present invention is preferably 1.5 nm or less as the surface roughness that exhibits gas barrier properties. When the average surface roughness is larger than 1.5 nm, the uneven shape on the surface of the [B] layer becomes large, and a gap is formed between the sputtered particles to be laminated, so that the film quality is difficult to be dense and the film thickness is increased. However, the effect of improving the gas barrier property is difficult to obtain. Therefore, the average surface roughness Ra of the [B] layer is preferably 1.5 nm or less, and more preferably 0.8 nm or less.

本発明における[B]層の平均表面粗さRaは、原子間力顕微鏡を用いて測定することができる。なお、[B]層表面に無機層や樹脂層が積層されている場合、X線反射率法(前出)を使用して得られた値を[B]層の平均表面粗さRaとする。   The average surface roughness Ra of the [B] layer in the present invention can be measured using an atomic force microscope. In addition, when the inorganic layer and the resin layer are laminated | stacked on the [B] layer surface, the value obtained using the X-ray reflectivity method (above) is made into the average surface roughness Ra of a [B] layer. .

[B]層を形成する方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法等によって形成することができる。これらの方法の中でも、簡便かつ安価に[B]層を形成可能な方法として、スパッタリング法が好ましい。   The method for forming the [B] layer is not particularly limited, and can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, or the like. Among these methods, the sputtering method is preferable as a method for forming the [B] layer easily and inexpensively.

[酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層]
次に、本発明における含ケイ素無機層として好適に用いられる[B1]層として、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層について詳細を説明する。なお、「酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相」を「ZnO−SiO−Al」と略記することもある。また、二酸化ケイ素(SiO)は、生成時の条件によって、左記組成式のケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの(SiO〜SiO)が生成することがあるが、二酸化ケイ素あるいはSiOと表記することとする。かかる組成比の化学式からのずれに関しては、酸化亜鉛、酸化アルミニウムについても同様の扱いとし、それぞれ、生成時の条件に依存する組成比のずれに関わらず、酸化亜鉛またはZnO、酸化アルミニウムまたはAlと表記することとする。
[Layer consisting of a coexisting phase of zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide]
Next, as the [B1] layer suitably used as the silicon-containing inorganic layer in the present invention, a layer composed of a coexisting phase of zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide will be described in detail. The “coexisting phase of zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide” may be abbreviated as “ZnO—SiO 2 —Al 2 O 3 ”. Also, silicon (SiO 2) dioxide, the generation time of the condition, those slightly deviated from the composition ratio of silicon and oxygen on the left formula (SiO~SiO 2) although it is possible to produce silicon dioxide or SiO 2 It shall be written as Regarding the deviation of the composition ratio from the chemical formula, the same applies to zinc oxide and aluminum oxide, and zinc oxide or ZnO, aluminum oxide or Al 2 , regardless of the composition ratio deviation depending on the conditions at the time of formation. It shall be written as O 3 .

本発明のガスバリア性フィルムにおいて[B1]層を適用することによりガスバリア性が良好となる理由は、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相においては酸化亜鉛に含まれる結晶質成分と二酸化ケイ素の非晶質成分とを共存させることによって、微結晶を生成しやすい酸化亜鉛の結晶成長が抑制され粒子径が小さくなるため層が緻密化し、酸素および水蒸気の透過が抑制されるためと推測している。   The reason why the gas barrier property is improved by applying the [B1] layer in the gas barrier film of the present invention is that, in the coexisting phase of zinc oxide-silicon dioxide-aluminum oxide, the crystalline component contained in zinc oxide and silicon dioxide Presuming that by coexisting with the amorphous component, crystal growth of zinc oxide, which tends to generate microcrystals, is suppressed and the particle size is reduced, so that the layer is densified and the permeation of oxygen and water vapor is suppressed. Yes.

また、酸化アルミニウムを共存させることによって、酸化亜鉛と二酸化ケイ素を共存させる場合に比べて、より結晶成長を抑制することができるため、クラックの生成に起因するガスバリア性低下が抑制できたものと考えられる。   In addition, the coexistence of aluminum oxide can suppress the crystal growth more than the coexistence of zinc oxide and silicon dioxide, so it is considered that the gas barrier property deterioration due to the generation of cracks can be suppressed. It is done.

[B1]層の組成は、後述するようにICP発光分光分析法により測定することができる。ICP発光分光分析法により測定されるZn原子濃度は20〜40atom%、Si原子濃度は5〜20atom%、Al原子濃度は0.5〜5atom%、O原子濃度は35〜70atom%であることが、好ましい。Zn原子濃度が40atom%より大きくなる、またはSi原子濃度が5atom%より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。Zn原子濃度が20atom%より小さくなる、またはSi原子濃度が20atom%より大きくなると、層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下する場合がある。また、Al原子濃度が5atom%より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため膜の鉛筆硬度が上昇し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。Al原子濃度が0.5atom%より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、層を形成する粒子間の結合力が向上できないため、柔軟性が低下する場合がある。また、O原子濃度が70atom%より大きくなると、[A]層内の欠陥量が増加するため、所定のガスバリア性が得られない場合がある。O原子濃度が35atom%より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。かかる観点から、Zn原子濃度が25〜35atom%、Si原子濃度が10〜15atom%、Al原子濃度が1〜3atom%、O原子濃度が50〜64atom%であることがより好ましい。   The composition of the [B1] layer can be measured by ICP emission spectroscopy as described later. The Zn atom concentration measured by ICP emission spectroscopy is 20 to 40 atom%, the Si atom concentration is 5 to 20 atom%, the Al atom concentration is 0.5 to 5 atom%, and the O atom concentration is 35 to 70 atom%. ,preferable. When the Zn atom concentration is higher than 40 atom% or the Si atom concentration is lower than 5 atom%, the oxide that suppresses the crystal growth of zinc oxide is insufficient, resulting in an increase in voids and defects, and sufficient gas barrier properties. It may not be obtained. When the Zn atom concentration is lower than 20 atom% or the Si atom concentration is higher than 20 atom%, the amorphous component of silicon dioxide inside the layer may increase and the flexibility of the layer may be lowered. Also, when the Al atom concentration is higher than 5 atom%, the affinity between zinc oxide and silicon dioxide becomes excessively high, and the pencil hardness of the film increases, and cracks are likely to occur due to heat and external stress. is there. When the Al atom concentration is less than 0.5 atom%, the affinity between zinc oxide and silicon dioxide becomes insufficient, and the bonding force between the particles forming the layer cannot be improved, so that the flexibility may be lowered. Further, when the O atom concentration is higher than 70 atom%, the amount of defects in the [A] layer increases, so that a predetermined gas barrier property may not be obtained. When the O atom concentration is less than 35 atom%, the oxidation state of zinc, silicon, and aluminum becomes insufficient, the crystal growth cannot be suppressed, and the particle diameter increases, so that the gas barrier property may be deteriorated. From this viewpoint, it is more preferable that the Zn atom concentration is 25 to 35 atom%, the Si atom concentration is 10 to 15 atom%, the Al atom concentration is 1 to 3 atom%, and the O atom concentration is 50 to 64 atom%.

[B1]層に含まれる成分は酸化亜鉛および二酸化ケイ素および酸化アルミニウムが上記組成の範囲でかつ主成分であれば特に限定されず、例えば、Al、Ti、Zr、Sn、In、Nb、Mo、Ta、Pd等から形成された金属酸化物を含んでも構わない。ここで主成分とは、通常[B1]層の組成の60質量%以上であることを意味し、80質量%以上であれば好ましい。   The component contained in the [B1] layer is not particularly limited as long as zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide are in the above composition and are the main components. For example, Al, Ti, Zr, Sn, In, Nb, Mo, A metal oxide formed of Ta, Pd, or the like may be included. Here, the main component usually means 60% by mass or more of the composition of the [B1] layer, and preferably 80% by mass or more.

[B1]層の組成は、層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的とする層の組成に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで[B1]層の組成を調整することが可能である。   The composition of the [B1] layer is formed with the same composition as the mixed sintered material used at the time of forming the layer. Therefore, by using a mixed sintered material having a composition that matches the composition of the target layer [B1 It is possible to adjust the composition of the layer.

[B1]層の組成分析は、ICP発光分光分析法を使用して、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの各元素を定量分析し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび含有する無機酸化物の組成比を知ることができる。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛(ZnO)、二酸化ケイ素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)として存在すると仮定して算出する。ICP発光分光分析は、試料をアルゴンガスとともにプラズマ光源部に導入した際に発生する発光スペクトルから、多元素の同時計測が可能な分析手法であり、組成分析に適用することができる。[B]層上に無機層や樹脂層が積層されている場合、必要に応じてイオンエッチングや薬液処理により層を除去した後、ICP発光分光分析することができる。 The composition analysis of the [B1] layer uses ICP emission spectroscopy to quantitatively analyze each element of zinc, silicon, and aluminum, and determine the composition ratio of zinc oxide, silicon dioxide, aluminum oxide, and the inorganic oxide contained. I can know. The oxygen atoms are calculated on the assumption that zinc atoms, silicon atoms, and aluminum atoms exist as zinc oxide (ZnO), silicon dioxide (SiO 2 ), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ), respectively. The ICP emission spectroscopic analysis is an analysis method capable of simultaneously measuring multiple elements from an emission spectrum generated when a sample is introduced into a plasma light source unit together with argon gas, and can be applied to composition analysis. When an inorganic layer or a resin layer is laminated on the [B] layer, ICP emission spectroscopic analysis can be performed after removing the layer by ion etching or chemical treatment as necessary.

二軸配向ポリエステルフィルム上に[B1]層を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの単体材料を使用する場合は、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムをそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、本発明に使用する[B1]層の形成方法は、ガスバリア性と形成した層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。   The method for forming the [B1] layer on the biaxially oriented polyester film is not particularly limited, and uses a mixed sintered material of zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide, vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method. Etc. can be formed. When using a single material of zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide, form a film of zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide simultaneously from separate vapor deposition sources or sputter electrodes, and mix them to the desired composition. Can be formed. Among these methods, the [B1] layer forming method used in the present invention is more preferably a sputtering method using a mixed sintered material from the viewpoint of gas barrier properties and composition reproducibility of the formed layer.

[硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層]
次に、[B2]層として、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層について詳細を説明する。なお、「硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相」を、「ZnS−SiO」と略記することもある。また、二酸化ケイ素(SiO)は、その生成時の条件によって、左記組成式のケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの(SiO〜SiO)が生成することがあるが、二酸化ケイ素あるいはSiOと表記する。
[Layer consisting of a coexisting phase of zinc sulfide and silicon dioxide]
Next, the details of the layer made of a coexisting phase of zinc sulfide and silicon dioxide will be described as the [B2] layer. The “zinc sulfide-silicon dioxide coexisting phase” is sometimes abbreviated as “ZnS—SiO 2 ”. Further, silicon dioxide (SiO 2), depending on the conditions at the time of generation, those slightly deviated from the composition ratio of silicon and oxygen on the left formula (SiO~SiO 2) although it is possible to produce silicon dioxide or SiO Indicated as 2 .

本発明のガスバリア性フィルムにおいて[B2]層を適用することによりガスバリア性が良好となる理由は、硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相においては硫化亜鉛に含まれる結晶質成分と二酸化ケイ素の非晶質成分とを共存させることによって、微結晶を生成しやすい硫化亜鉛の結晶成長が抑制され粒子径が小さくなるため層が緻密化し、酸素および水蒸気の透過が抑制されるためと推測している。また、結晶成長が抑制された硫化亜鉛を含む硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相は、無機酸化物または金属酸化物だけで形成された層よりも柔軟性が優れるため、熱や外部からの応力に対してクラックが生じにくいため、かかる[B2]層を適用することによりクラックの生成に起因するガスバリア性低下が抑制できたものと考えられる。   The reason why the gas barrier property is improved by applying the [B2] layer in the gas barrier film of the present invention is that the crystalline component contained in the zinc sulfide and the amorphous component of silicon dioxide in the zinc sulfide-silicon dioxide coexisting phase. It is presumed that the crystal growth of zinc sulfide, which tends to generate microcrystals, is suppressed and the particle size is reduced, so that the layer is densified and the permeation of oxygen and water vapor is suppressed. In addition, the zinc sulfide-silicon dioxide coexisting phase containing zinc sulfide with suppressed crystal growth is more flexible than a layer formed only of inorganic oxides or metal oxides. Therefore, it is considered that the deterioration of the gas barrier property due to the generation of cracks could be suppressed by applying such a [B2] layer.

[B2]層の組成は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が0.7〜0.9であることが好ましい。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が0.9より大きくなると、硫化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、所定のガスバリア性が得られない場合がある。また、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が0.7より小さくなると、[B2]層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下するため、機械的な曲げに対するガスバリア性フィルムの柔軟性が低下する場合がある。さらに好ましくは0.75〜0.85の範囲である。   The composition of the [B2] layer is preferably such that the molar fraction of zinc sulfide relative to the total of zinc sulfide and silicon dioxide is 0.7 to 0.9. If the molar fraction of zinc sulfide with respect to the total of zinc sulfide and silicon dioxide is greater than 0.9, there will be insufficient oxide that suppresses crystal growth of zinc sulfide, resulting in an increase in voids and defects, resulting in a predetermined gas barrier property. May not be obtained. Further, when the molar fraction of zinc sulfide with respect to the total of zinc sulfide and silicon dioxide is less than 0.7, the amorphous component of silicon dioxide inside the [B2] layer increases and the flexibility of the layer decreases, The flexibility of the gas barrier film with respect to mechanical bending may be reduced. More preferably, it is the range of 0.75-0.85.

[B2]層に含まれる成分は硫化亜鉛および二酸化ケイ素が上記組成の範囲でかつ主成分であれば特に限定されず、例えば、Al、Ti、Zr、Sn、In、Nb、Mo、Ta、Pd等の金属酸化物を含んでも構わない。ここで主成分とは、通常[B2]層の組成の60質量%以上であることを意味し、80質量%以上であれば好ましい。   The components contained in the [B2] layer are not particularly limited as long as zinc sulfide and silicon dioxide are in the above composition and are the main components. For example, Al, Ti, Zr, Sn, In, Nb, Mo, Ta, Pd Or a metal oxide such as Here, the main component usually means 60% by mass or more of the composition of the [B2] layer, and preferably 80% by mass or more.

[B2]層の組成は、層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで[B2]層の組成を調整することが可能である。   Since the composition of the [B2] layer is formed with the same composition as the mixed sintered material used at the time of forming the layer, the composition of the [B2] layer can be changed by using a mixed sintered material having a composition suitable for the purpose. It is possible to adjust.

[B2]層の組成分析は、ICP発光分光分析によりまず亜鉛及びケイ素の組成比を求め、この値を基にラザフォード後方散乱法を使用して、各元素を定量分析し硫化亜鉛と二酸化ケイ素および含有する他の無機酸化物の組成比を知ることができる。ICP発光分光分析は、試料をアルゴンガスとともにプラズマ光源部に導入した際に発生する発光スペクトルから、多元素の同時計測が可能な分析手法であり、組成分析に適用することができる。また、ラザフォード後方散乱法は高電圧で加速させた荷電粒子を試料に照射し、そこから跳ね返る荷電粒子の数、エネルギーから元素の特定、定量を行い、各元素の組成比を知ることができる。なお、[B2]層は硫化物と酸化物の複合層であるため、硫黄と酸素の組成比分析が可能なラザフォード後方散乱法による分析を実施する。[B2]層上に無機層や樹脂層が積層されている場合、必要に応じてイオンエッチングや薬液処理により層を除去した後、ICP発光分光分析及び、ラザフォード後方散乱法にて分析することができる。   In the composition analysis of the [B2] layer, first, the composition ratio of zinc and silicon is obtained by ICP emission spectroscopic analysis. Based on this value, each element is quantitatively analyzed by using Rutherford backscattering method, and zinc sulfide, silicon dioxide and The composition ratio of other inorganic oxides contained can be known. The ICP emission spectroscopic analysis is an analysis method capable of simultaneously measuring multiple elements from an emission spectrum generated when a sample is introduced into a plasma light source unit together with argon gas, and can be applied to composition analysis. In Rutherford backscattering method, a charged particle accelerated by a high voltage is irradiated on a sample, and the number of charged particles bounced from the sample and the element are identified and quantified from the energy, and the composition ratio of each element can be known. Since the [B2] layer is a composite layer of sulfide and oxide, analysis by Rutherford backscattering method capable of analyzing the composition ratio of sulfur and oxygen is performed. [B2] When an inorganic layer or a resin layer is laminated on the layer, the layer may be removed by ion etching or chemical treatment as necessary, and then analyzed by ICP emission spectroscopic analysis or Rutherford backscattering method. it can.

透明二軸配向ポリエステルフィルム上に[B2]層を形成する方法は特に限定されず、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の単体材料を使用する場合は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素をそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、本発明に使用する[B2]層の形成方法は、ガスバリア性と形成した層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。   The method for forming the [B2] layer on the transparent biaxially oriented polyester film is not particularly limited. By using a mixed sintered material of zinc sulfide and silicon dioxide, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, etc. Can be formed. When a single material of zinc sulfide and silicon dioxide is used, it can be formed by simultaneously forming films of zinc sulfide and silicon dioxide from different vapor deposition sources or sputtering electrodes, and mixing them to obtain a desired composition. Among these methods, the [B2] layer forming method used in the present invention is more preferably a sputtering method using a mixed sintered material from the viewpoint of gas barrier properties and composition reproducibility of the formed layer.

[透明導電層]
本発明のガスバリア性フィルムは、酸素、水蒸気等のガスバリア性に優れているため、主に、食品、医薬品などの包装材や電子ペーパーや有機ELテレビなどの表示体素子、太陽電池などの電子デバイス部材として用いることができる。すなわち、前記[B]層表面または前記二軸配向ポリエステルフィルムと[A]層との間に、透明導電層を設け、表示体素子や電子デバイスを封止することによって、外部からの酸素、水蒸気による電気抵抗変化が少ない、高い耐久性を付与することができる。
[Transparent conductive layer]
Since the gas barrier film of the present invention has excellent gas barrier properties such as oxygen and water vapor, it is mainly used for packaging materials such as foods and pharmaceuticals, display elements such as electronic paper and organic EL television, and electronic devices such as solar cells. It can be used as a member. That is, by providing a transparent conductive layer between the surface of the [B] layer or between the biaxially oriented polyester film and the [A] layer and sealing the display element and the electronic device, oxygen, water vapor from the outside High durability can be imparted with little change in electrical resistance due to.

本発明に用いる透明導電層としては、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、アルミニウム含有酸化亜鉛(Al/ZnO)、ガリウム含有酸化亜鉛(Ga/ZnO)、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブのいずれかを含むことが好ましい。透明導電層の厚みとしては、0.1〜500nmの範囲が好ましく、透明性が良い範囲として、5〜300nmがより好ましい。   Examples of the transparent conductive layer used in the present invention include indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), aluminum-containing zinc oxide (Al / ZnO), gallium-containing zinc oxide (Ga / ZnO), metal nanowires, It is preferable to include any of carbon nanotubes. As a thickness of a transparent conductive layer, the range of 0.1-500 nm is preferable, and 5-300 nm is more preferable as a range with favorable transparency.

透明導電層を形成する方法としては、真空蒸着、EB蒸着、スパッタ蒸着などのドライコート法、キャスト、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレー、ブレードコート、スリットダイコート、グラビアコート、リバースコート、スクリーン印刷、鋳型塗布、印刷転写、インクジェットなどのウエットコート法等、一般的な方法を挙げることができる。   The methods for forming the transparent conductive layer include dry coating methods such as vacuum deposition, EB deposition, and sputtering deposition, casting, spin coating, dip coating, bar coating, spraying, blade coating, slit die coating, gravure coating, reverse coating, and screen. General methods such as wet coating methods such as printing, mold coating, printing transfer, and ink jet can be listed.

以下に、本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法を具体的に説明するが、本発明は以下の製造方法に限られるものではない。まず、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムで使用するポリエステル樹脂は、市販されているポリエチレンテレフタレート樹脂をそのまま用いることができるが、以下のように重縮合反応を経て製造し、使用してもよい。   Although the manufacturing method of the biaxially-oriented polyester film used for this invention is demonstrated concretely below, this invention is not restricted to the following manufacturing methods. First, as the polyester resin used in the biaxially oriented polyester film of the present invention, a commercially available polyethylene terephthalate resin can be used as it is, but it may be produced and used through a polycondensation reaction as follows.

テレフタル酸ジメチル100重量部とエチレングリコール70重量部の混合物に0.09重量部の酢酸マグネシウムと0.03重量部の三酸化アンチモンとを添加して、徐々に加熱し、最終的に220℃でメタノールを留出させながらエステル交換反応を行い、ポリエチレンテレフタレートの前駆体を合成する。ついで、該前駆体に0.02重量部のリン酸85%水溶液を添加し、重縮合反応釜に移行する。重縮合反応釜で加熱昇温しながら反応系を徐々に減圧して1hPaの減圧下、290℃で重縮合反応を行い、所望の分子量であるポリエチレンテレフタレート樹脂を得ることができる。なお、粒子を添加する場合には、エチレングリコールに粒子を分散させたスラリーを所定の粒子濃度となるように重縮合反応釜に添加して、重縮合反応を行うことが好ましい。   To a mixture of 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 70 parts by weight of ethylene glycol, 0.09 parts by weight of magnesium acetate and 0.03 parts by weight of antimony trioxide are added and gradually heated, finally at 220 ° C. Transesterification is performed while distilling methanol to synthesize a polyethylene terephthalate precursor. Next, 0.02 part by weight of an 85% aqueous solution of phosphoric acid is added to the precursor, and the mixture is transferred to a polycondensation reaction kettle. The reaction system is gradually depressurized while being heated and heated in a polycondensation reaction kettle, and a polycondensation reaction is performed at 290 ° C. under a reduced pressure of 1 hPa to obtain a polyethylene terephthalate resin having a desired molecular weight. In addition, when adding particles, it is preferable to add a slurry in which particles are dispersed in ethylene glycol to a polycondensation reaction kettle so as to have a predetermined particle concentration to perform a polycondensation reaction.

次に本発明に係るポリエステルフィルムの製造方法について説明するが、かかる例に限定されるものではない。乾燥したポリエステル樹脂チップを押出機に供給し、該ポリエステル樹脂の融点以上の温度に加熱し溶融する。次いで、溶融したポリエステル樹脂をスリット状の吐出口を有するTダイから溶融シートとして押し出し、冷却ロールに密着固化してキャストフィルム(未配向フィルム(未延伸フィルム))を得る。溶融シートと冷却ロールの密着性を向上させるには、通常、静電印加密着法および/または液面塗布密着法を採用することが好ましい。   Next, although the manufacturing method of the polyester film which concerns on this invention is demonstrated, it is not limited to this example. The dried polyester resin chip is supplied to an extruder, heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the polyester resin, and melted. Next, the molten polyester resin is extruded as a molten sheet from a T-die having slit-like discharge ports, and is tightly solidified on a cooling roll to obtain a cast film (unoriented film (unstretched film)). In order to improve the adhesion between the molten sheet and the cooling roll, it is usually preferable to employ an electrostatic application adhesion method and / or a liquid surface application adhesion method.

該キャストフィルムは更に二軸に延伸される。   The cast film is further stretched biaxially.

まず、好ましくは、ポリエステル樹脂のガラス転移温度以上、例えば70〜130℃に加熱したロール群でMD(フィルム長手)方向に3〜7倍延伸し、一軸配向フィルム(一軸延伸フィルム)を得る。次いでTD(フィルム幅)方向に好ましくは70〜130℃で3〜7倍に延伸する。なお、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を用いることができるが、その場合も最終的な延伸倍率が上記範囲に入ることが好ましい。また、前記キャストフィルムを、面積倍率が6〜30倍になるように同時二軸延伸することも可能である。ここで、面積倍率とはMD延伸倍率にTD延伸倍率を乗じたものを意味する。この場合、易接着層を形成する塗液の塗布は同時二軸延伸前に行なう(すなわち、キャストフィルムに塗布する)ことが好ましい。   First, it is preferably stretched 3 to 7 times in the MD (film longitudinal) direction with a group of rolls heated to a glass transition temperature of the polyester resin or higher, for example, 70 to 130 ° C., to obtain a uniaxially oriented film (uniaxially stretched film). Next, the film is stretched 3 to 7 times at 70 to 130 ° C. in the TD (film width) direction. In addition, although the method of extending | stretching one direction in two steps or more can be used, it is preferable that the final draw ratio also falls in the said range also in that case. The cast film can be simultaneously biaxially stretched so that the area magnification is 6 to 30 times. Here, the area ratio means a value obtained by multiplying the MD stretch ratio by the TD stretch ratio. In this case, it is preferable to apply the coating liquid for forming the easy-adhesion layer before simultaneous biaxial stretching (that is, to apply to a cast film).

これにより本発明に使用する二軸配向ポリエステルフィルムが得られる。   Thereby, the biaxially oriented polyester film used for this invention is obtained.

また、かくして得られたフィルムを引き続きインラインおよび/またはオフラインで熱固定することが好ましい。さらに、必要に応じ熱固定を行う前または後に再度MDおよび/またはTD方向に延伸してもよい。熱固定温度は180〜250℃、好ましくは190〜240℃であり、熱処理時間は通常1秒〜5分である。   Further, it is preferable that the film thus obtained is subsequently heat-set in-line and / or off-line. Furthermore, you may extend | stretch in MD and / or TD direction again before or after performing heat setting as needed. The heat setting temperature is 180 to 250 ° C., preferably 190 to 240 ° C., and the heat treatment time is usually 1 second to 5 minutes.

また、この熱固定工程において、熱収縮特性を調整することができる。また、熱固定後のフィルムの冷却速度も熱収縮特性に影響する。例えば、熱固定後、フィルムを急冷あるいは徐冷、あるいは中間冷却ゾーンを設けることで熱収縮応力を調整することができる。また、特に特定の熱収縮特性を付与するために、熱固定時あるいはその後の徐冷ゾーンにおいてMD方向および/またはTD方向に、上述した条件で弛緩することが好ましい。   Further, in this heat setting step, the heat shrinkage characteristics can be adjusted. The cooling rate of the film after heat setting also affects the heat shrinkage characteristics. For example, the heat shrinkage stress can be adjusted by rapidly or slowly cooling the film after heat setting or by providing an intermediate cooling zone. In particular, in order to give specific heat shrinkage characteristics, it is preferable to relax in the MD direction and / or the TD direction at the time of heat setting or in the subsequent cooling zone under the above-described conditions.

フィルムには必要に応じコーティングを施すこともできる。本発明の場合、フィルムに塗布層を設けることにより、特に[A]層との接着性を向上できる。塗液には防爆性や環境汚染の点で水溶解、乳化または懸濁したものが用いられる。塗布層は結晶配向完了後の二軸延伸フィルムに塗布する方法あるいは結晶配向完了前のフィルムに塗布した後延伸する方法があるが、本発明の効果をより顕著に発現させるためには後者の方法が特に好ましい。塗布する方法は特に限定されないが、ロールコーター、グラビアコーター、リバースコーター、キスコーター、バーコーター等を用いて塗布するのが好ましい。また、塗布する前に必要に応じて塗布面に空気中その他種々の雰囲気中でコロナ放電処理を施しておいてもよい。   The film can be coated as necessary. In the case of the present invention, the adhesiveness with the [A] layer can be improved by providing a coating layer on the film. As the coating solution, a solution which is dissolved in water, emulsified or suspended in view of explosion proof and environmental pollution is used. The coating layer may be applied to a biaxially stretched film after completion of crystal orientation, or may be stretched after being applied to a film before completion of crystal orientation, but the latter method is used in order to exhibit the effects of the present invention more remarkably. Is particularly preferred. The method of applying is not particularly limited, but it is preferable to apply using a roll coater, gravure coater, reverse coater, kiss coater, bar coater or the like. Moreover, you may corona-discharge-process in the air | atmosphere other various atmosphere before application | coating as needed before apply | coating.

また、本発明における塗布層には、必要に応じて消泡剤、塗布性架橋剤、増粘剤、有機系潤滑剤、無機系粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、染料、顔料等を含有せしめてもよい。   In the coating layer in the present invention, an antifoaming agent, a coating crosslinker, a thickener, an organic lubricant, inorganic particles, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a foaming agent, a dye, and a pigment are used as necessary. Etc. may be included.

以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。実施例中で「部」とは、特に注釈のない限り「重量部」であることを意味する。
[評価方法]
まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価n数は、特に断らない限り、n=5とし平均値を求めた。
Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the examples, “parts” means “parts by weight” unless otherwise noted.
[Evaluation method]
First, an evaluation method in each example and comparative example will be described. The number of evaluation n was n = 5 and the average value was obtained unless otherwise specified.

(1)層の厚み
断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム(日立製FB−2000A)を使用してFIB法により(具体的には「高分子表面加工学」(岩森暁著)p.118〜119に記載の方法に基づいて)作製した。透過型電子顕微鏡(日立製H−9000UHRII)により、加速電圧300kVとして、観察用サンプルの断面を観察し、[A]層及び[B]層の厚みを測定した。基材および[B]層、[A]層および[B]層の界面は、透過型電子顕微鏡による断面観察写真によって判断した。
(1) Layer thickness Samples for cross-sectional observation were obtained by the FIB method using a microsampling system (Hitachi FB-2000A) (specifically, “Polymer Surface Processing” (by Satoshi Iwamori) p. 118-119). (Based on the method described in 1). Using a transmission electron microscope (H-9000UHRII manufactured by Hitachi), the cross section of the observation sample was observed at an acceleration voltage of 300 kV, and the thicknesses of the [A] layer and the [B] layer were measured. The interface of the substrate and the [B] layer, [A] layer and [B] layer was judged by a cross-sectional observation photograph using a transmission electron microscope.

(2)鉛筆硬度試験
[A]層表面の鉛筆硬度を、鉛筆硬度試験機HEIDON−14(新東科学(株))を用いて、JIS K5600−5−4(1999)に従い、n=1にて、鉛筆硬度を測定した。
(2) Pencil hardness test [A] The pencil hardness of the layer surface is set to n = 1 according to JIS K5600-5-4 (1999) using a pencil hardness tester HEIDON-14 (Shinto Kagaku Co., Ltd.). The pencil hardness was measured.

(3)表面自由エネルギー
[A]層表面について、表面自由エネルギーおよびその各成分(分散力、極性力、水素結合力)が既知の4種類の測定液(水、ホルムアミド、エチレングリコール、ヨウ化メチレン)を用い、23℃の温度、相対湿度65%の条件下で接触角計CA−D型(協和界面科学(株)製)にて、各液体の積層膜上での接触角を測定した。測定には、5個の平均値を用いた。この値を、拡張Fowkes式とYoungの式より導入される下記式(1)を用いて各成分を計算した。
(3) Surface Free Energy [A] Four types of measurement liquids (water, formamide, ethylene glycol, methylene iodide) whose surface free energy and its components (dispersion force, polarity force, hydrogen bonding force) are known on the surface of the layer [A] The contact angle of each liquid on the laminated film was measured with a contact angle meter CA-D type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 65%. The average value of 5 pieces was used for the measurement. Each component was calculated from this value using the following formula (1) introduced from the extended Fowkes formula and Young's formula.

Figure 2014073598
Figure 2014073598

(4)平均表面粗さRa
原子間力顕微鏡を用いて、以下の条件で[A]層である架橋樹脂層表面について測定した。
システム:NanoScopeIII/MMAFM(デジタルインスツルメンツ社製)
スキャナ:AS−130(J−Scanner)
プローブ:NCH−W型、単結晶シリコン(ナノワールド社製)
走査モ−ド:タッピングモ−ド
走査範囲:10μm×10μm
走査速度:0.5Hz
測定環境:温度23℃、相対湿度65%、大気中。
(4) Average surface roughness Ra
Using an atomic force microscope, the surface of the crosslinked resin layer as the [A] layer was measured under the following conditions.
System: NanoScopeIII / MMAFM (manufactured by Digital Instruments)
Scanner: AS-130 (J-Scanner)
Probe: NCH-W type, single crystal silicon (manufactured by Nanoworld)
Scanning mode: Tapping mode Scanning range: 10 μm × 10 μm
Scanning speed: 0.5Hz
Measurement environment: temperature 23 ° C., relative humidity 65%, in air.

(5)水蒸気透過率(g/(m・d))
温度40℃、湿度90%RH、測定面積50cmの条件で、英国、テクノロックス(Technolox)社製の水蒸気透過率透過率測定装置(機種名:DELTAPERM(登録商標) )を使用して測定した。サンプル数は水準当たり2検体とし、測定回数は各検体について5回とし、得られた10点の平均値を水蒸気透過率(g/(m・d))とした。
(5) Water vapor transmission rate (g / (m 2 · d))
Measurement was performed using a water vapor transmission rate measuring device (model name: DELTAPERRM (registered trademark)) manufactured by Technolox, UK, under conditions of a temperature of 40 ° C., a humidity of 90% RH, and a measurement area of 50 cm 2 . . The number of samples was 2 samples per level, the number of measurements was 5 times for each sample, and the average value of 10 points obtained was the water vapor transmission rate (g / (m 2 · d)).

(6)[B1]層の組成
[B1]層の組成分析はICP発光分光分析(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、SPS4000)により行った。試料を、硝酸および硫酸で加熱分解し、希硝酸で加温溶解してろ別した。不溶解分は加熱灰化したのち、炭酸ナトリウムで融解し、希硝酸で溶解して、先のろ液とあわせて定容とした。この溶液について、亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子の含有量を測定し、原子数比に換算した。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛(ZnO)、二酸化ケイ素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)として存在すると仮定して求めた計算値とした。
(6) Composition of [B1] layer The composition analysis of the [B1] layer was performed by ICP emission spectroscopic analysis (manufactured by SII Nanotechnology Inc., SPS4000). The sample was thermally decomposed with nitric acid and sulfuric acid, heated and dissolved with dilute nitric acid, and filtered. The insoluble matter was ashed by heating, melted with sodium carbonate, dissolved with dilute nitric acid, and made up to a constant volume with the previous filtrate. About this solution, content of a zinc atom, a silicon atom, and an aluminum atom was measured, and it converted into atomic ratio. The oxygen atoms were calculated values assuming that zinc atoms, silicon atoms, and aluminum atoms exist as zinc oxide (ZnO), silicon dioxide (SiO 2 ), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ), respectively.

(7)[B2]層の組成
[B2]層の組成分析はICP発光分光分析(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、SPS4000)により行った。試料を、硝酸および硫酸で加熱分解し、希硝酸で加温溶解してろ別した。不溶解分は加熱灰化したのち、炭酸ナトリウムで融解し、希硝酸で溶解して、先のろ液とあわせて定容とした。この溶液について、亜鉛原子、ケイ素原子の含有量を測定した。次に、この値をもとにさらにラザフォード後方散乱法(日新ハイボルテージ(株)製AN−2500)を使用して、亜鉛原子、ケイ素原子、硫黄原子、酸素原子を定量分析し硫化亜鉛と二酸化ケイ素の組成比を求めた。
(7) Composition of [B2] layer The composition analysis of the [B2] layer was performed by ICP emission spectroscopic analysis (manufactured by SII Nanotechnology Inc., SPS4000). The sample was thermally decomposed with nitric acid and sulfuric acid, heated and dissolved with dilute nitric acid, and filtered. The insoluble matter was ashed by heating, melted with sodium carbonate, dissolved with dilute nitric acid, and made up to a constant volume with the previous filtrate. About this solution, content of a zinc atom and a silicon atom was measured. Next, based on this value, further using Rutherford backscattering method (AN-2500 manufactured by Nissin High Voltage Co., Ltd.), quantitative analysis of zinc atom, silicon atom, sulfur atom, oxygen atom and zinc sulfide The composition ratio of silicon dioxide was determined.

(8)[B3]層の組成
X線光電子分光法(XPS法)を用いることにより、アルミニウム原子に対する酸素原子の原子数比(O/Al比率)を測定した。測定条件は下記の通りとした。
・装置:Quantera SXM (PHI社製)
・励起X線:monochromatic AlKα1,2
・X線径100μm ・光電子脱出角度:10°。
(8) Composition X-ray photoelectron spectroscopy (XPS method) of the [B3] layer was used to measure the atomic ratio (O / Al ratio) of oxygen atoms to aluminum atoms. The measurement conditions were as follows.
・ Device: Quantera SXM (manufactured by PHI)
Excitation X-ray: monochromic AlKα1,2
X-ray diameter 100 μm Photoelectron escape angle: 10 °

(9)波長380nmでの透過率
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムを分光光度計U−3410((株)日立製作所)にφ60積分球130−063((株)日立製作所)および10°傾斜スペーサーを取りつけた状態で380nmの透過率を計測した。
(9) Transmittance at a wavelength of 380 nm
The biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer was placed on a spectrophotometer U-3410 (Hitachi Ltd.) with a φ60 integrating sphere 130-063 (Hitachi Ltd.) and 10 °. The transmittance at 380 nm was measured with the inclined spacer attached.

(10)オリゴマー析出量の定量
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムを180℃のオーブン中で30分間熱処理を行った。その後[A]層を積層する面を外側にして、50mm×50mm×30mmの直方体アルミ製治具の50mm×50mm面にフィルムを貼り付け、端を治具に沿って折り曲げ固定した。この治具をフィルム面を下にして深さ5mmの位置までジメチルホルムアミド溶媒に3分間浸し、表面析出オリゴマーを抽出した。
次に標準溶液として、ポリエチレンテレフタレートの環状オリゴマー(三量体純度89%)11.2mgを100mLメスフラスコに取り1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール/クロロホルム混合溶媒(=1/1)2mLに溶解後、クロロホルムで100mLに希釈したものを標準原液(三量体濃度100μg/mL)とした。この溶液をジメチルホルムアミドで順次希釈し、三量体濃度10μg/mL、1μg/mL、0.1μg/mLの標準溶液を調整した。
上記表面オリゴマー抽出溶媒と標準溶液を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)にて以下の条件で分析し、環状三量体量を測定し、オリゴマー析出量とした。
装置:島津LC−10A
カラム:Inertsil ODS−3
移動相:アセトニトリル/水=70/30
流速:1.5mL/分
検出器:UV242nm
注入量:10μL
(11)フィルムのキズの測定
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムを暗室の中で、強力な光源であるビデオライト(LPL社製“VL−G301”)を用いて長手方向に10m目視観察してキズを検出する。検出したキズを非接触式光干渉型3次元表面粗さ計(ZYGO社製、New View200)を用い、以下の条件で長さと深さを測定した。
・画素数:320×240画素
・走査速度:2μm/秒
・倍率:20倍
・測定面積:0.352mm×0.264mm
・補正:円柱補正
・カットオフ波長:0.44mm、4.4μm
・フィルタートリミング:ON
・フィルタータイプ:FFT FIXED
・フィルター:Band Reject
・FDARes:High
(12)屈折率
二軸配向ポリエステルフィルムの片面もしくは両面に塗布される水系塗剤に用いる樹脂の乾燥固化させた膜、あるいは[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムについて、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製アッベ屈折計)で光源をナトリウムランプ(Na−D線)として、マウント液はヨウ化メチレンを用い、23℃、相対湿度65%下で、該膜の屈折率(直交する2つの方向、もしくは長手方向と幅方向を測定し、該値の平均値)を測定した。
(10) Determination of oligomer precipitation amount The biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer was heat-treated in an oven at 180 ° C. for 30 minutes. Thereafter, with the surface on which the [A] layer was laminated facing outward, a film was attached to a 50 mm × 50 mm surface of a 50 mm × 50 mm × 30 mm cuboid aluminum jig, and the end was bent and fixed along the jig. The jig was immersed in a dimethylformamide solvent for 3 minutes with the film side down to a depth of 5 mm to extract surface precipitated oligomers.
Next, as a standard solution, 11.2 mg of a polyethylene terephthalate cyclic oligomer (trimer purity 89%) was placed in a 100 mL volumetric flask and mixed with 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol / chloroform solvent. (= 1/1) After dissolving in 2 mL, the standard stock solution (trimer concentration 100 μg / mL) was diluted to 100 mL with chloroform. This solution was sequentially diluted with dimethylformamide to prepare standard solutions having trimer concentrations of 10 μg / mL, 1 μg / mL, and 0.1 μg / mL.
The surface oligomer extraction solvent and the standard solution were analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC) under the following conditions, the amount of cyclic trimer was measured, and the amount of oligomer precipitation was determined.
Equipment: Shimadzu LC-10A
Column: Inertsil ODS-3
Mobile phase: acetonitrile / water = 70/30
Flow rate: 1.5 mL / min
Detector: UV242nm
Injection volume: 10 μL
(11) Measurement of film scratches Video light ("VL-G301" manufactured by LPL), which is a powerful light source, in a dark room with a biaxially oriented polyester film before laminating the [A] and [B] layers The scratches are detected by visually observing 10 m in the longitudinal direction using. The detected scratches were measured for length and depth under the following conditions using a non-contact optical interference type three-dimensional surface roughness meter (manufactured by ZYGO, New View 200).
・ Number of pixels: 320 × 240 pixels ・ Scanning speed: 2 μm / second ・ Magnification: 20 times ・ Measurement area: 0.352 mm × 0.264 mm
・ Correction: cylinder correction ・ Cutoff wavelength: 0.44 mm, 4.4 μm
-Filter trimming: ON
-Filter type: FFT FIXED
・ Filter: Band Reject
・ FDARes: High
(12) Biaxially oriented polyester before laminating the dried and solidified film of the resin used for the water-based coating applied to one or both sides of the refractive index biaxially oriented polyester film, or the [A] layer and the [B] layer For the film, the Abbe refractometer (Atago Co., Ltd. Abbe refractometer) was used as the light source sodium lamp (Na-D line), the mount solution was methylene iodide, 23 ° C., 65% relative humidity, The refractive index of the film (two directions orthogonal to each other, or the longitudinal direction and the width direction were measured, and the average value of the values) was measured.

(13)[A]層積層後の400〜600nmにおける分光反射率のうねりの振幅
[B]層積層前の[A]層積層二軸配向ポリエステルフィルムを使用して、[A]層とは反対の面に、50mm幅の黒色光沢テープ(ヤマト(株)製 ビニ−ルテープNo.200−50−21:黒)を気泡を噛みこまないように貼り合わせた後、約4cm角のサンプル片に切り出し、分光光度計(日立製作所(株)製 U3410)にφ60積分球(日立製作所(株)製 130−0632)および10°傾斜スペーサーを取り付け、波長400〜600nmにおける入射角10°での[A]層側の分光反射率を測定した。そのうねりの山頂部分結んだ線(山頂線)とうねりの谷底部分を結んだ線(谷底線)について、20nm間隔のサンプル点において各波長(11箇所、波長が(400+20×i(i=0〜10の整数))nmとなる箇所)における差(山頂線−谷底線)を求め、その平均をうねり振幅とした。図5にうねり振幅の測定概略図を示す。
なお反射率を基準化するため、標準反射板として付属のAl板を用いた。
(13) Amplitude of waviness of spectral reflectance at 400 to 600 nm after lamination of [A] layer [B] Using [A] layer laminated biaxially oriented polyester film before layer lamination, opposite to [A] layer A black glossy tape with a width of 50 mm (vinyl tape No. 200-50-21: black, manufactured by Yamato Co., Ltd.) was bonded to the surface of the surface so as not to bite the air bubbles, and then cut into about 4 cm square sample pieces. , A spectrophotometer (U3410, manufactured by Hitachi, Ltd.) with a φ60 integrating sphere (130-0632, manufactured by Hitachi, Ltd.) and a 10 ° tilt spacer, and [A] at an incident angle of 10 ° at a wavelength of 400 to 600 nm. The spectral reflectance on the layer side was measured. With respect to the line connecting the peaks of the undulations (mountain line) and the lines connecting the valleys of the undulations (valley line), each wavelength (11 locations, wavelengths are (400 + 20 × i (i = 0 to 0)) The difference (mountain line-valley line) in the place where the integer is 10) nm) was determined, and the average was taken as the undulation amplitude. FIG. 5 shows a measurement schematic diagram of the undulation amplitude.
In order to standardize the reflectance, an attached Al 2 O 3 plate was used as a standard reflecting plate.

(14)干渉縞の評価
[B]層積層前の[A]層を積層した二軸配向ポリエステルフィルムを使用して、10cm×10cmの大きさのサンプルを切り出し、[A]層の反対面に黒色光沢テープ(ヤマト(株)製 ビニ−ルテープNo.200−50−21:黒)を気泡を噛み込まないように貼り合わせた。このサンプルを暗室にて3波長蛍光灯(松下電器産業(株)製 3波長形昼白色(F・L15EX−N15W))の直下30cmに置き、視角を変えながら目視により干渉縞の程度を観察し、以下の評価を行った。実用レベルのものは△とし、○以上のものは良好とした。
◎:干渉縞がほぼ見えない
○:干渉縞がわずかに見える
×:干渉縞が強い
(15)面配向係数(fn)
ナトリウムD線(波長589nm)を光源とし、マウント液としてヨウ化メチレンを用い、25℃にてアッベ屈折計を用いて[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムのMD、TDおよび厚み方向の屈折率(各々、nMD、nTD、nZD)を求めた。求めた屈折率から下記の式により、面配向係数(fn)を算出した。なお、測定は任意の3ヶ所での測定値の平均で評価した。
fn=(nMD+nTD)/2−nZD
(16)190℃時の破断伸度
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムを長手方向および幅方向に長さ150mm×幅10mmの短形に切り出し、サンプルとした。引張試験機(オリエンテック製テンシロンUCT−100)を用いて、初期引張チャック間距離50mmとし、引張速度を300mm/分として引張試験を行った。測定は予め190℃の温度に設定した恒温層中にフィルムサンプルをセットし、90秒間の予熱の後で引張試験を行った。得られた荷重−歪曲線から各方向の破断伸度を求めた。なお、測定は各サンプル、各方向に5ずつ行い、算出最大値、最小値を除く3点の平均値で評価を行った。
(14) Evaluation of interference fringes Using a biaxially oriented polyester film obtained by laminating the [A] layer before laminating the [B] layer, a sample having a size of 10 cm × 10 cm was cut out, and on the opposite side of the [A] layer A black glossy tape (Yamato Co., Ltd., vinyl tape No. 200-50-21: black) was bonded so as not to bite the bubbles. Place this sample in a dark room 30 cm directly under a 3-wavelength fluorescent lamp (3-wave daylight white (F · L15EX-N15W) manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.), and visually observe the degree of interference fringes while changing the viewing angle. The following evaluation was performed. A practical level was marked as △, and a grade above ○ was marked as good.
◎: Interference fringes are almost invisible ○: Interference fringes are slightly visible ×: Interference fringes are strong (15) Plane orientation coefficient (fn)
The biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer using sodium D-line (wavelength 589 nm) as a light source, methylene iodide as a mounting liquid, and using an Abbe refractometer at 25 ° C. MD, TD, and refractive indexes in the thickness direction (nMD, nTD, and nZD, respectively) were determined. The plane orientation coefficient (fn) was calculated from the obtained refractive index according to the following formula. In addition, the measurement evaluated by the average of the measured value in three arbitrary places.
fn = (nMD + nTD) / 2−nZD
(16) Breaking elongation at 190 ° C. The biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer was cut into a short shape having a length of 150 mm × width of 10 mm in the longitudinal direction and the width direction, did. Using a tensile tester (Orientec Tensilon UCT-100), an initial tensile chuck distance was set to 50 mm, and a tensile speed was set to 300 mm / min. In the measurement, a film sample was set in a constant temperature layer set in advance to a temperature of 190 ° C., and a tensile test was performed after 90 seconds of preheating. The elongation at break in each direction was determined from the obtained load-strain curve. In addition, the measurement was performed 5 for each sample and each direction, and the evaluation was performed with an average value of 3 points excluding the calculated maximum value and the minimum value.

(17)成型後水蒸気透過率
[A]層および[B]層を積層後のガスバリアフィルムを、450℃の遠赤外線ヒーターを用いて、表面温度が150℃の温度になるように加熱し、金型温度70℃の円筒形金型(底面直径50mm、高さ20mm)に沿って真空圧空成型(圧力:0.2MPa)を行った。円筒形金型は、エッジ部分のRを2mmとして真空成型を行った。次いで成型後の底面の中心点を中心としてサンプリングし、(5)水蒸気透過率に記載の方法で成型後水蒸気透過率を測定した。
(17) Water vapor permeability after molding The gas barrier film after laminating the layers [A] and [B] is heated using a far infrared heater at 450 ° C. so that the surface temperature becomes 150 ° C. Vacuum / pressure forming (pressure: 0.2 MPa) was performed along a cylindrical mold (bottom diameter: 50 mm, height: 20 mm) at a mold temperature of 70 ° C. The cylindrical mold was vacuum-formed with the edge portion R being 2 mm. Next, sampling was performed with the center point of the bottom surface after molding as the center, and the water vapor transmission rate after molding was measured by the method described in (5) Water vapor transmission rate.

(18)伸度保持率
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの破断伸度は、ASTM−D882(1999)に基づいて、サンプルを1cm×20cmの大きさに切り出し、チャック間5cm、引っ張り速度300mm/minにて引っ張ったときの破断伸度を測定した。測定は、5サンプルについて測定を実施しその平均値でもって破断伸度E0とした。また、伸度保持率は、試料を測定片の形状(1cm×20cm)に切り出した後、タバイエスペック(株)製プレッシャークッカーにて、温度120℃、湿度100%RHの条件下で36時間処理を行った後、処理後のサンプルの破断伸度をASTM−D882(1999)に基づいて、チャック間5cm、引っ張り速度300mm/minで引っ張ったときの破断伸度を測定した。測定は、5サンプルについて測定を実施しその平均値でもって破断伸度E1とした。得られた破断伸度E0とE1を用いて、下記式により破断伸度保持率を算出した。
・破断伸度保持率(%)=E1/E0×100
(19)線膨張係数(α)
[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの熱機械測定装置TMA/SS6100(セイコーインスツルメンツ社製)を用い、試料幅4mm、試料長さ(チャック間距離)20mmのサンプルに対し、荷重3gを負荷した。室温から170℃まで昇温速度10℃/分で昇温させ、10分間保持した。その後、20℃まで10℃/分で降温させた。そのとき降温部分の150℃から50℃までの寸法変化量から、下記式により熱膨張係数を求めた。なお、熱膨張係数は、フィルム長手方向の熱膨張係数および幅方向の熱膨張係数の平均値とし、n数は3で評価を行った。
熱膨張係数α(ppm/℃)={(L150−L50)/L0}/ΔT×1000000
L0:23℃におけるフィルムの長さ(mm)
L150:降温時150℃におけるフィルムの長さ(mm)
L50:降温時50℃におけるフィルムの長さ(mm)
ΔT:温度変化量(150−50=100)
[ポリエステルの製造]
二軸配向ポリエステルフィルムを構成する熱可塑性樹脂たるポリエステル樹脂は以下のように準備した。
(18) Elongation retention rate The elongation at break of the biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer is 1 cm × 20 cm based on ASTM-D882 (1999). And the elongation at break was measured when pulled at 5 cm between chucks and at a pulling speed of 300 mm / min. The measurement was performed on five samples, and the elongation at break was defined as the average value. In addition, the elongation retention is obtained by cutting a sample into the shape of a measurement piece (1 cm × 20 cm) and then treating with a pressure cooker manufactured by Tabai Espec Co., Ltd. for 36 hours under conditions of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 100% RH. After the treatment, the breaking elongation of the treated sample was measured based on ASTM-D882 (1999), when the breaking elongation was 5 cm between chucks and pulled at a pulling speed of 300 mm / min. The measurement was performed on five samples, and the elongation at break was defined as the average value. Using the obtained breaking elongations E0 and E1, the breaking elongation retention was calculated according to the following formula.
・ Elongation at break (%) = E1 / E0 × 100
(19) Linear expansion coefficient (α)
Using a thermomechanical measuring device TMA / SS6100 (manufactured by Seiko Instruments Inc.) for a biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer, a sample width of 4 mm and a sample length (distance between chucks) of 20 mm A load of 3 g was applied to the sample. The temperature was raised from room temperature to 170 ° C. at a rate of temperature rise of 10 ° C./min and held for 10 minutes. Thereafter, the temperature was lowered to 20 ° C. at 10 ° C./min. At that time, the coefficient of thermal expansion was determined from the following equation from the dimensional change from 150 ° C. to 50 ° C. in the temperature-decreasing portion. The thermal expansion coefficient was an average value of the thermal expansion coefficient in the film longitudinal direction and the thermal expansion coefficient in the width direction, and the n number was evaluated as 3.
Thermal expansion coefficient α (ppm / ° C.) = {(L150−L50) / L0} / ΔT × 1000000
L0: Length of film at 23 ° C. (mm)
L150: length of the film at 150 ° C. when the temperature is lowered (mm)
L50: Length of film (mm) at 50 ° C. when the temperature is lowered
ΔT: temperature change (150−50 = 100)
[Production of polyester]
A polyester resin as a thermoplastic resin constituting the biaxially oriented polyester film was prepared as follows.

(1)ポリエステル樹脂A
テレフタル酸ジメチル100重量部、およびエチレングリコール61重量部の混合物に、0.04重量部の酢酸マグネシウム、0.02重量部の三酸化アンチモンを添加して、徐々に昇温し、最終的には220℃でメタノールを留出させながらエステル交換反応を行う。ついで、該エステル交換反応生成物に、0.020重量部のリン酸85%水溶液を添加した後、重縮合反応釜に移行する。さらに、加熱昇温しながら反応系を徐々に減圧して1hPaの減圧下、290℃で常法により重縮合反応を行い、カルボキシル基濃度は34eq/t、固有粘度は0.65dl/g、オリゴマー含有量は1.1wt%、ジエチレングリコール含有量は2.0wt%であるポリエステル樹脂Aを得た。
(1) Polyester resin A
To a mixture of 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 61 parts by weight of ethylene glycol, 0.04 part by weight of magnesium acetate and 0.02 part by weight of antimony trioxide are added, and the temperature is gradually raised. Transesterification is carried out while distilling methanol at 220 ° C. Next, 0.020 part by weight of an 85% aqueous solution of phosphoric acid is added to the transesterification reaction product, and then transferred to a polycondensation reaction kettle. Further, the reaction system was gradually depressurized while being heated and heated, and a polycondensation reaction was performed at 290 ° C. under a reduced pressure of 1 hPa. The carboxyl group concentration was 34 eq / t, the intrinsic viscosity was 0.65 dl / g, oligomer A polyester resin A having a content of 1.1 wt% and a diethylene glycol content of 2.0 wt% was obtained.

(2)ポリエステル樹脂B
ポリエステル樹脂Aと紫外線吸収剤として2,2′−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)をベント付き2軸押出機にて2,2′−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)が10重量%となる様にコンパウンドした。これをポリエステル樹脂Bとした。
(2) Polyester resin B
Polyester resin A and 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one) as an ultraviolet absorber were added to a 2,2′-p-phenylenebis (3 1-benzoxazin-4-one) was compounded to 10% by weight. This was designated as polyester resin B.

(3)ポリエステル樹脂C
ポリエステル樹脂Aを7.5mのコニカル型タンブラー乾燥機に、3t投入し、150℃で3時間乾燥後、窒素を101×10Paで導入、101×10Paを保ったまま、0.05リットル/hr・kgの流量で流し、225℃で25時間加熱し、カルボキシル基濃度は36eq/t、固有粘度は0.64、オリゴマー含有量は、0.30重量%であるポリエステル樹脂Cを得た。
(3) Polyester resin C
The polyester resin A was put into a 7.5 m 3 conical tumbler dryer for 3 tons, dried at 150 ° C. for 3 hours, introduced with nitrogen at 101 × 10 3 Pa, and maintained at 101 × 10 3 Pa. Flowing at a flow rate of 05 liters / hr · kg, heating at 225 ° C. for 25 hours, polyester resin C having a carboxyl group concentration of 36 eq / t, an intrinsic viscosity of 0.64, and an oligomer content of 0.30% by weight Obtained.

(4)ポリエステル樹脂D
テレフタル酸100重量部、および1,4−ブタンジオール110重量部の混合物を、窒素雰囲気下で140℃まで昇温して均一溶液とした後、オルトチタン酸テトラ−n−ブチル0.054重量部、モノヒドロキシブチルスズオキサイド0.054重量部を添加し、常法によりエステル化反応を行った。次いで、オルトチタン酸テトラ−n−ブチル0.066重量部を添加して、減圧下で重縮合反応を行い、固有粘度0.84のポリブチレンテレフタレート樹脂を作製した。その後、140℃、窒素雰囲気下で結晶化を行い、ついで窒素雰囲気下で200℃、6時間の固相重合を行い、固有粘度1.20のポリエステル樹脂Dを得た。
(4) Polyester resin D
A mixture of 100 parts by weight of terephthalic acid and 110 parts by weight of 1,4-butanediol was heated to 140 ° C. under a nitrogen atmosphere to obtain a homogeneous solution, and then 0.054 parts by weight of tetra-n-butyl orthotitanate. Then, 0.054 part by weight of monohydroxybutyltin oxide was added, and esterification reaction was performed by a conventional method. Next, 0.066 part by weight of tetra-n-butyl orthotitanate was added, and a polycondensation reaction was performed under reduced pressure to produce a polybutylene terephthalate resin having an intrinsic viscosity of 0.84. Thereafter, crystallization was performed at 140 ° C. in a nitrogen atmosphere, followed by solid state polymerization at 200 ° C. for 6 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a polyester resin D having an intrinsic viscosity of 1.20.

(5)ポリエステル樹脂E
テレフタル酸ジメチルを100重量部、エチレングリコール70重量部、1,4−シクロヘキサンジメタノール7重量部の混合物に、酢酸マンガン0.04重量部を加え、徐々に昇温し、最終的には220℃メタノールを留出させながらエステル交換反応を行った。次いで、リン酸85%水溶液0.045重量部、二酸化ゲルマニウム0.01重量部を添加して、徐々に昇温、減圧し、最終的に275℃、1hPaまで昇温、減圧し、極限粘度が0.67となるまで重縮合反応を行い、その後ストランド状に吐出、冷却し、カッティングして1,4−シクロヘキサンジメタノールを4モル%共重合したポリエチレンテレフタレート樹脂を得た。該ポリマーを3mm径の立方体に切断し、回転型真空重合装置を用いて、1hPaの減圧下、225℃で極限粘度が0.8になるまで固相重合を行い、ポリエステル樹脂Eを得た。
(5) Polyester resin E
To a mixture of 100 parts by weight of dimethyl terephthalate, 70 parts by weight of ethylene glycol, and 7 parts by weight of 1,4-cyclohexanedimethanol, 0.04 part by weight of manganese acetate is added, and the temperature is gradually raised. The transesterification was performed while distilling methanol. Next, 0.045 parts by weight of 85% aqueous phosphoric acid solution and 0.01 parts by weight of germanium dioxide are added, and the temperature is gradually raised and reduced. Finally, the temperature is raised to 275 ° C. and 1 hPa, and the intrinsic viscosity is reduced. The polycondensation reaction was carried out until 0.67, and then discharged into a strand, cooled, and cut to obtain a polyethylene terephthalate resin copolymerized with 4 mol% of 1,4-cyclohexanedimethanol. The polymer was cut into cubes having a diameter of 3 mm, and solid phase polymerization was performed using a rotary vacuum polymerization apparatus under a reduced pressure of 1 hPa at 225 ° C. until the intrinsic viscosity was 0.8, whereby polyester resin E was obtained.

(6)ポリエステル樹脂F
ポリエステル樹脂Aを高重合化温度190〜230℃、真空度0.5mmHgの条件の回転式の真空装置(ロータリーバキュームドライヤー)に入れ、12時間撹拌しながら加熱し、固有粘度が0.66、数平均分子量が19800のポリエステル樹脂Fを得た。
(6) Polyester resin F
Polyester resin A is placed in a rotary vacuum device (rotary vacuum dryer) having a high polymerization temperature of 190 to 230 ° C. and a vacuum degree of 0.5 mmHg, heated with stirring for 12 hours, and has an intrinsic viscosity of 0.66. A polyester resin F having an average molecular weight of 19,800 was obtained.

(7)ポリエステル樹脂G
ポリエステル樹脂Aを高重合化温度190〜230℃、真空度0.5mmHgの条件の回転式の真空装置(ロータリーバキュームドライヤー)に入れ、16時間撹拌しながら加熱し、固有粘度が0.73、数平均分子量が27000のポリエステル樹脂Gを得た。
(7) Polyester resin G
Polyester resin A is placed in a rotary vacuum device (rotary vacuum dryer) having a high polymerization temperature of 190 to 230 ° C. and a vacuum degree of 0.5 mmHg, and heated with stirring for 16 hours. A polyester resin G having an average molecular weight of 27000 was obtained.

(8)ポリエステル樹脂H
ポリエステル樹脂Aを高重合化温度190〜230℃、真空度0.5mmHgの条件の回転式の真空装置(ロータリーバキュームドライヤー)に入れ、20時間撹拌しながら加熱し、固有粘度が0.81、数平均分子量が35000のポリエステル樹脂Hを得た。
(8) Polyester resin H
Polyester resin A is placed in a rotary vacuum device (rotary vacuum dryer) having a high polymerization temperature of 190 to 230 ° C. and a vacuum degree of 0.5 mmHg, and heated with stirring for 20 hours. A polyester resin H having an average molecular weight of 35,000 was obtained.

(9)ポリエステル樹脂I
テレフタル酸ジメチル100重量部、エチレングリコール57.5重量部、酢酸マグネシウム0.06重量部、三酸化アンチモン0.03重量部を150℃、窒素雰囲気下で溶融後、攪拌しながら230℃まで3時間かけて昇温し、メタノールを留出させ、エステル交換反応を行う。ついで、重合反応を最終到達温度285℃、真空度0.1Torrで行い、固有粘度が0.54、カルボキシル基濃度が13eq/tのポリエステル樹脂を得た。ついで、得られたポリエステル樹脂を160℃で6時間乾燥、結晶化させたのち、220℃、真空度0.3Torr、9時間の固相重合を行い、固有粘度が0.90、カルボキシル基濃度が15eq/t、融点が255℃、ガラス転移温度(Tg)が83℃のポリエステル樹脂Iを得た。
(9) Polyester resin I
After melting 100 parts by weight of dimethyl terephthalate, 57.5 parts by weight of ethylene glycol, 0.06 parts by weight of magnesium acetate and 0.03 parts by weight of antimony trioxide in a nitrogen atmosphere at 150 ° C., the mixture is stirred for 3 hours up to 230 ° C. for 3 hours. The methanol is distilled off and the ester exchange reaction is carried out. Subsequently, the polymerization reaction was performed at a final temperature of 285 ° C. and a degree of vacuum of 0.1 Torr to obtain a polyester resin having an intrinsic viscosity of 0.54 and a carboxyl group concentration of 13 eq / t. Next, the obtained polyester resin was dried and crystallized at 160 ° C. for 6 hours, followed by solid phase polymerization at 220 ° C. and a vacuum degree of 0.3 Torr for 9 hours. The intrinsic viscosity was 0.90 and the carboxyl group concentration was A polyester resin I having 15 eq / t, a melting point of 255 ° C., and a glass transition temperature (Tg) of 83 ° C. was obtained.

(10)ポリエステル樹脂J
テレフタル酸ジメチル100重量部、トリメリット酸トリメチル(テレフタル酸ジメチル/トリメリット酸トリメチル=99.9/0.1のモル比となるように添加)、エチレングリコール57.5重量部、酢酸マグネシウム0.06重量部、三酸化アンチモン0.03重量部を150℃、窒素雰囲気下で溶融後、攪拌しながら230℃まで3時間かけて昇温し、メタノールを留出させ、エステル交換反応を行う。エステル交換反応終了後、リン酸0.015質量部(1.4モル/t相当)とリン酸二水素ナトリウム2水和物0.031質量部(1.7モル/t相当)をエチレングリコール0.5質量部に溶解したエチレングリコール溶液(pH5.0)を添加して重縮合反応釜に移行する。その後重合、固相重合はポリエステル樹脂Iと同様に実施して、固有粘度が0.90、カルボキシル基濃度が15eq/t、融点が255℃、ガラス転移温度(Tg)が83℃のポリエステル樹脂Jを得た。
(10) Polyester resin J
100 parts by weight of dimethyl terephthalate, trimethyl trimellitic acid (added so as to have a molar ratio of dimethyl terephthalate / trimethyl trimellitic acid = 99.9 / 0.1), 57.5 parts by weight of ethylene glycol, 0. After melting 06 parts by weight and 0.03 parts by weight of antimony trioxide at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere, the temperature is raised to 230 ° C. over 3 hours with stirring, methanol is distilled off, and a transesterification reaction is performed. After the transesterification reaction, 0.015 parts by mass of phosphoric acid (equivalent to 1.4 mol / t) and 0.031 parts by mass of sodium dihydrogen phosphate dihydrate (equivalent to 1.7 mol / t) were added to ethylene glycol 0 Add ethylene glycol solution (pH 5.0) dissolved in 5 parts by mass and transfer to polycondensation reaction kettle. Thereafter, polymerization and solid phase polymerization were carried out in the same manner as for polyester resin I. Polyester resin J having an intrinsic viscosity of 0.90, a carboxyl group concentration of 15 eq / t, a melting point of 255 ° C., and a glass transition temperature (Tg) of 83 ° C. Got.

(11)ポリエステル樹脂K
ポリエステル樹脂Aを製造する際、エステル交換反応後にレーザー回折/散乱式粒度分布測定装置LA−700(株式会社堀場製作所製)によって測定されるメジアン径(平均粒子径)2.1μmの凝集シリカ粒子のエチレングリコールスラリーを添加してから重縮合反応を行い、粒子濃度2.0重量%の粒子マスターを得た。
[水系塗剤の組成と調合]
縦延伸後の一軸配向フィルムに塗布して[C]層を形成するための水系塗剤は以下のようにして準備した。
(11) Polyester resin K
When the polyester resin A is produced, the aggregated silica particles having a median diameter (average particle diameter) of 2.1 μm measured by a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus LA-700 (manufactured by Horiba, Ltd.) after the transesterification reaction. After adding the ethylene glycol slurry, a polycondensation reaction was performed to obtain a particle master having a particle concentration of 2.0% by weight.
[Composition and formulation of water-based coatings]
An aqueous coating material for forming a [C] layer by coating on a uniaxially oriented film after longitudinal stretching was prepared as follows.

(1)塗剤A
1.原料
<1>ポリエステル樹脂の水分散体
・酸成分として、
テレフタル酸:25モル%
イソフタル酸:24モル%
セバシン酸:1モル%
・グリコール成分として、
エチレングリコール:27モル%
ネオペンチルグリコール:22モル%
1,4−ブタンジオール:1モル%
からなる水分散性樹脂であるポリエステル樹脂の水分散体を用いた。ここで、該水分散体の固形分濃度(ポリエステル樹脂濃度)は25重量%であり、残りの75重量%は水である。また、ポリエステル樹脂の酸価は41KOHmg/g、ガラス転移温度(Tg)は20℃、屈折率は1.52である。
なお、上記「モル%」とは易接着層を構成するポリエステル樹脂の酸成分とグリコール成分を合計して100モル%とした場合のモル100分率を意味する。
(1) Coating agent A
1. Raw material <1> As an aqueous dispersion / acid component of polyester resin,
Terephthalic acid: 25 mol%
Isophthalic acid: 24 mol%
Sebacic acid: 1 mol%
・ As glycol component,
Ethylene glycol: 27 mol%
Neopentyl glycol: 22 mol%
1,4-butanediol: 1 mol%
A water dispersion of a polyester resin, which is a water-dispersible resin comprising: Here, the solid content concentration (polyester resin concentration) of the aqueous dispersion is 25% by weight, and the remaining 75% by weight is water. The polyester resin has an acid value of 41 KOHmg / g, a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C., and a refractive index of 1.52.
In addition, said "mol%" means the mol 100 fraction when the acid component and glycol component of the polyester resin which comprise an easily bonding layer are made into 100 mol% in total.

<2>メラミン化合物の水分散体
・メラミン化合物として、
水分散性樹脂であるN−メチロール化メラミン化合物(ニカラックMW−12LF(三和ケミカル(株)製))の水分散体を用いた。また、該水分散体の固形分濃度(メラミン化合物濃度)は70重量%であり、残りの30重量%は水である。
<2> As an aqueous dispersion of melamine compound / melamine compound,
An aqueous dispersion of an N-methylolated melamine compound (Nicalac MW-12LF (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), which is a water dispersible resin, was used. The solid content concentration (melamine compound concentration) of the aqueous dispersion is 70% by weight, and the remaining 30% by weight is water.

2.塗液の調合方法
上記のポリエステル樹脂の水分散体とメラミン化合物の水分散体と純水を用いて下記の方法で調合した。
2. Preparation method of coating liquid It prepared with the following method using the aqueous dispersion of said polyester resin, the aqueous dispersion of a melamine compound, and pure water.

<1>ポリエステル樹脂(固形分)95重量部に対し、メラミン化合物(固形分)が5重量部添加されるよう配合した。すなわち、ポリエステル樹脂の水分散体380重量部(うち固形分:95重量部、水:285部)にメラミン化合物の水分散体7.14重量部(うち固形分:5重量部、水:2.14重量部)を配合し、原液を得た。   <1> It mixed so that 5 weight part of melamine compounds (solid content) might be added with respect to 95 weight part of polyester resins (solid content). That is, 380 parts by weight of an aqueous dispersion of polyester resin (of which solid content: 95 parts by weight, water: 285 parts) and 7.14 parts by weight of an aqueous dispersion of melamine compound (of which solid content: 5 parts by weight, water: 2. 14 parts by weight) was blended to obtain a stock solution.

<2>上記原液の固形分量(ポリエステル樹脂の固形分とメラミン化合物の固形分を合計した固形分量)が1.5重量%となるよう純水を配合し、これを塗剤Aとした。   <2> Pure water was blended so that the solid content of the stock solution (the total solid content of the polyester resin and the melamine compound) was 1.5% by weight.

(2)塗液B
1.原料
<1>ポリエステル樹脂の水分散体
・酸成分として、
テレフタル酸 :28モル%
イソフタル酸 : 9モル%
トリメリット酸:10モル%
セバシン酸 : 3モル%
・グリコール成分として、
エチレングリコール :15モル%
ネオペンチルグリコール:18モル%
1,4−ブタンジオール:17モル%
からなる水分散性樹脂であるポリエステル樹脂の水分散体を用いた。ここで、該水分散体の固形分濃度(ポリエステル樹脂濃度)は25重量%であり、残りの75重量%は水である。また、ポリエステル樹脂の酸価は41KOHmg/g、ガラス転移温度(Tg)は20℃、屈折率は1.58である。
(2) Coating liquid B
1. Raw material <1> As an aqueous dispersion / acid component of polyester resin,
Terephthalic acid: 28 mol%
Isophthalic acid: 9 mol%
Trimellitic acid: 10 mol%
Sebacic acid: 3 mol%
・ As glycol component,
Ethylene glycol: 15 mol%
Neopentyl glycol: 18 mol%
1,4-butanediol: 17 mol%
A water dispersion of a polyester resin, which is a water-dispersible resin comprising: Here, the solid content concentration (polyester resin concentration) of the aqueous dispersion is 25% by weight, and the remaining 75% by weight is water. The polyester resin has an acid value of 41 KOH mg / g, a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C., and a refractive index of 1.58.

<2>メラミン化合物の水分散体
・メラミン化合物として、
水分散性樹脂であるN−メチロール化メラミン化合物(ニカラックMW−12LF(三和ケミカル(株)製))の水分散体を用いた。また、該水分散体の固形分濃度(メラミン化合物濃度)は70重量%であり、残りの30重量%は水である。
<2> As an aqueous dispersion of melamine compound / melamine compound,
An aqueous dispersion of an N-methylolated melamine compound (Nicalac MW-12LF (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.)), which is a water dispersible resin, was used. The solid content concentration (melamine compound concentration) of the aqueous dispersion is 70% by weight, and the remaining 30% by weight is water.

<3>オキサゾリン化合物の水分散体
・オキサゾリン化合物として
オキサゾリン化合物としてオキサゾリン系反応性ポリマー(エポクロスWS−500(日本触媒(株)製))の水分散体を用いた。また、該水分散体の固形分濃度(オキサゾリン化合物濃度)は39重量%であり、残りの61重量%は水である。
<3> Aqueous dispersion of oxazoline compound An aqueous dispersion of an oxazoline-based reactive polymer (Epocross WS-500 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)) was used as the oxazoline compound as the oxazoline compound. Further, the solid content concentration (oxazoline compound concentration) of the aqueous dispersion is 39% by weight, and the remaining 61% by weight is water.

2.塗液の調合方法
上記のポリエステル樹脂の水分散体とメラミン化合物の水分散体とオキサゾリン化合物の水分散体と純水を用いて下記の方法で調合した。
2. Preparation method of coating liquid The following method was prepared using an aqueous dispersion of the above polyester resin, an aqueous dispersion of a melamine compound, an aqueous dispersion of an oxazoline compound, and pure water.

<1>ポリエステル樹脂(固形分)100重量部に対し、メラミン化合物(固形分)が25重量部、オキサゾリン化合物(固形分)が20重量部添加されるよう配合した。すなわち、ポリエステル樹脂の水分散体400重量部(うち固形分:100重量部、水:300部)にメラミン化合物の水分散体35.7重量部(うち固形分:25重量部、水:10.7重量部)とオキサゾリン化合物の水分散体66.6重量部(うち固形分:20重量部、水46.6重量部)を配合し、原液を得た。   <1> To 100 parts by weight of the polyester resin (solid content), 25 parts by weight of the melamine compound (solid content) and 20 parts by weight of the oxazoline compound (solid content) were added. That is, 400 parts by weight of an aqueous dispersion of polyester resin (of which solid content: 100 parts by weight, water: 300 parts) and 35.7 parts by weight of an aqueous dispersion of melamine compound (of which solid content: 25 parts by weight, water: 10. 7 parts by weight) and 66.6 parts by weight of an aqueous dispersion of an oxazoline compound (solid content: 20 parts by weight, 46.6 parts by weight of water) were blended to obtain a stock solution.

<2>上記原液の固形分量(ポリエステル樹脂の固形分とメラミン化合物の固形分とオキサゾリン化合物を合計した固形分量)が3.0重量%となるよう純水を配合し、これを塗剤Bとした。
[[B]層の形成]
([B1]層)
図2に示す構造の巻き取り式のスパッタリング装置を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極12に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、二軸配向ポリエステルフィルム4のスパッタ電極12側の面上([A]層が形成されている場合は[A]層上、または、[A]層を形成していない場合には二軸配向ポリエステルフィルム上)に[B1]層を設けた。
<2> Pure water is blended so that the solid content of the stock solution (the solid content of the polyester resin, the solid content of the melamine compound, and the oxazoline compound) is 3.0% by weight. did.
[Formation of [B] layer]
([B1] layer)
A sputter target, which is a mixed sintered material formed of zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide, is placed on the sputter electrode 12 using a winding type sputtering apparatus having the structure shown in FIG. Sputtering is performed on the surface of the biaxially oriented polyester film 4 on the sputter electrode 12 side (when the [A] layer is formed, on the [A] layer or when the [A] layer is not formed) [B1] layer was provided on the biaxially oriented polyester film).

具体的な操作は以下のとおりである。まず、スパッタ電極12に酸化亜鉛/二酸化ケイ素/酸化アルミニウムの組成質量比が77/20/3で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタ装置5の巻き取り室6の中で、巻き出しロール7に前記二軸配向ポリエステルフィルム4を[B1]層を設ける側の面がスパッタ電極12に対向するようにセットし、巻き出し、ガイドロール8,9,10を介して、クーリングドラム11に通した。減圧度2×10−1Paとなるように酸素ガス分圧10%としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力4000Wを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記二軸配向ポリエステルフィルム4の表面上に[B1]層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、ガイドロール13,14,15を介して巻き取りロール16に巻き取った。 The specific operation is as follows. First, in a winding chamber 6 of a winding type sputtering apparatus 5 in which a sputtering target sintered with a composition ratio of zinc oxide / silicon dioxide / aluminum oxide of 77/20/3 is installed on the sputtering electrode 12, The biaxially oriented polyester film 4 is set on the take-out roll 7 so that the surface on which the [B1] layer is provided faces the sputter electrode 12, unwinds, and passes through the guide rolls 8, 9, 10, and the cooling drum 11. Passed through. Argon gas and oxygen gas are introduced at a partial pressure of oxygen of 10% so that the degree of decompression is 2 × 10 −1 Pa, and an argon / oxygen gas plasma is generated by applying an input power of 4000 W from a DC power source, and sputtering is performed. Thus, a [B1] layer was formed on the surface of the biaxially oriented polyester film 4. The thickness was adjusted by the film transport speed. Then, it wound up on the winding roll 16 through the guide rolls 13, 14, and 15.

([B2]層)
図2に示す構造の巻き取り式のスパッタリング装置を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極12に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、二軸配向ポリエステルフィルム4のスパッタ電極12側の面上([A]層が形成されている場合は[A]層上、または、[A]層を形成していない場合には二軸配向ポリエステルフィルム上)に[B2]層を設けた。
([B2] layer)
A sputter target, which is a mixed sintered material formed of zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide, is placed on the sputter electrode 12 using a winding type sputtering apparatus having the structure shown in FIG. Sputtering is performed on the surface of the biaxially oriented polyester film 4 on the sputter electrode 12 side (when the [A] layer is formed, on the [A] layer or when the [A] layer is not formed) [B2] layer was provided on the biaxially oriented polyester film).

具体的な操作は以下のとおりである。まず、スパッタ電極12に硫化亜鉛/二酸化ケイ素のモル組成比が80/20で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタ装置5の巻き取り室6の中で、巻き出しロール7に前記二軸配向ポリエステルフィルム4をセットし、巻き出し、ガイドロール8,9,10を介して、クーリングドラム11に通した。減圧度2×10−1Paとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力500Wを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記二軸配向ポリエステルフィルム4の表面上に[B2]層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、ガイドロール13,14,15を介して巻き取りロール16に巻き取った。 The specific operation is as follows. First, in the take-up roll 6 of the take-up type sputtering apparatus 5 in which the sputter target 12 having the zinc sulfide / silicon dioxide molar composition ratio sintered at 80/20 is installed on the sputter electrode 12, The biaxially oriented polyester film 4 was set, unwound, and passed through the cooling drum 11 through the guide rolls 8, 9 and 10. Argon gas was introduced so that the degree of decompression was 2 × 10 −1 Pa, and by applying an input power of 500 W from a high frequency power source, argon gas plasma was generated, and on the surface of the biaxially oriented polyester film 4 by sputtering. A [B2] layer was formed. The thickness was adjusted by the film transport speed. Then, it wound up on the winding roll 16 through the guide rolls 13, 14, and 15.

([B3]層)
図2に示す構造の巻き取り式のスパッタリング装置を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極12に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、二軸配向ポリエステルフィルム4のスパッタ電極12側の面上([A]層が形成されている場合は[A]層上、または、[A]層を形成していない場合には二軸配向ポリエステルフィルム上)に[B3]層を設けた。
([B3] layer)
A sputter target, which is a mixed sintered material formed of zinc oxide, silicon dioxide, and aluminum oxide, is placed on the sputter electrode 12 using a winding type sputtering apparatus having the structure shown in FIG. Sputtering is performed on the surface of the biaxially oriented polyester film 4 on the sputter electrode 12 side (when the [A] layer is formed, on the [A] layer or when the [A] layer is not formed) Provided a [B3] layer on the biaxially oriented polyester film).

具体的な操作は以下のとおりである。まず、スパッタ電極12にアルミニウム原子に対する酸素原子の原子数比(O/Al比率)が、1.5で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタ装置5の巻き取り室6の中で、巻き出しロール7に前記二軸配向ポリエステルフィルム4をセットし、巻き出し、ガイドロール8,9,10を介して、クーリングドラム11に通した。減圧度2×10−1Paとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力500Wを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記二軸配向ポリエステルフィルム4の表面上に[B3]層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、ガイドロール13,14,15を介して巻き取りロール16に巻き取った。
(比較例1)
ポリエステル樹脂Aを充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融後、3μmカットフィルターで濾過、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを85℃で予熱し、ついで90℃に加熱して長手方向に3.4倍延伸し、一軸配向(一軸延伸)フィルムとした。このフィルムに空気中で両面にコロナ放電処理を施した。ついで[C]層形成するために易滑剤(粒径150nmのコロイダルシリカ)を固形分比2.0wt%で添加した塗剤Aを上記のフィルム両面に塗布した。塗布厚みはポリエステルフィルムの配向結晶完了後、つまり熱処理後において150nmとなるようにした。
The specific operation is as follows. First, in the take-up chamber 6 of the take-up type sputtering apparatus 5 in which a sputter target sintered with a sputter electrode 12 having an oxygen atom to oxygen atom ratio (O / Al ratio) of 1.5 is installed. The biaxially oriented polyester film 4 was set on the unwinding roll 7, unwound and passed through the cooling drum 11 through the guide rolls 8, 9 and 10. Argon gas was introduced so that the degree of decompression was 2 × 10 −1 Pa, and by applying an input power of 500 W from a high frequency power source, argon gas plasma was generated, and on the surface of the biaxially oriented polyester film 4 by sputtering. A [B3] layer was formed. The thickness was adjusted by the film transport speed. Then, it wound up on the winding roll 16 through the guide rolls 13, 14, and 15.
(Comparative Example 1)
After sufficiently drying polyester resin A in a vacuum, it is supplied to an extruder, melted at 285 ° C., filtered through a 3 μm cut filter, extruded into a sheet from a T-shaped base, and a surface temperature of 25 ° C. using an electrostatic application casting method. It was wound around a mirror casting drum and allowed to cool and solidify. This unstretched film was preheated at 85 ° C., then heated to 90 ° C. and stretched 3.4 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially oriented (uniaxially stretched) film. This film was subjected to corona discharge treatment on both sides in air. Subsequently, in order to form [C] layer, the coating agent A which added the easy-lubricant (colloidal silica with a particle size of 150 nm) by the solid content ratio of 2.0 wt% was apply | coated to both said film both surfaces. The coating thickness was set to 150 nm after completion of oriented crystal of the polyester film, that is, after heat treatment.

ついで塗剤を塗布した1軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度120℃にて乾燥および予熱を実施後、引き続き連続的に120℃の延伸ゾーンで幅方向に3.5倍延伸し、続いて230℃の加熱ゾーンで10秒間7%の弛緩処理を施し、160℃の冷却ゾーンで10秒間再度0.5%の微延伸を施した。上記方法により厚み150nmの[C]層を積層した二軸配向ポリエステルフィルムを得た。   Next, the uniaxially stretched film coated with the coating is held by a clip and guided to a preheating zone, dried and preheated at an atmospheric temperature of 120 ° C., and then continuously stretched at a stretching zone of 120 ° C. in the width direction of 3.5. The film was stretched twice, subsequently subjected to a relaxation treatment of 7% for 10 seconds in a heating zone at 230 ° C., and finely stretched again for 0.5% for 10 seconds in a cooling zone at 160 ° C. A biaxially oriented polyester film in which a [C] layer having a thickness of 150 nm was laminated by the above method was obtained.

この二軸配向ポリエステルフィルムの150℃30分におけるTD方向熱収縮率は0.3%であり、190℃30分におけるTD方向熱収縮率が0.1%であった。また、この積層ポリエステルフィルムの厚みは100μmであった。   The biaxially oriented polyester film had a TD heat shrinkage of 0.3% at 150 ° C. for 30 minutes and a TD heat shrinkage of 0.1% at 190 ° C. for 30 minutes. The laminated polyester film had a thickness of 100 μm.

[A]層形成用の塗工液として、ウレタンアクリレート(中国塗料(株)製フォルシード420C)100重量部をトルエン70重量部で希釈した塗工液1を調製した。次いで、塗工液1を前記二軸配向ポリエステルフィルムの片面にマイクログラビアコーター(グラビア線番200UR、グラビア回転比100%)で塗布、60℃で1分間乾燥後、紫外線を1J/cm照射、硬化させ、厚み3μmの[A]層(A1と記す)を設けた。 [A] A coating solution 1 was prepared by diluting 100 parts by weight of urethane acrylate (Forseed 420C manufactured by China Paint Co., Ltd.) with 70 parts by weight of toluene. Next, coating liquid 1 was applied to one side of the biaxially oriented polyester film with a micro gravure coater (gravure wire number 200UR, gravure rotation ratio 100%), dried at 60 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays at 1 J / cm 2 . After curing, an [A] layer (denoted as A1) having a thickness of 3 μm was provided.

[A]層を形成したフィルムから縦100mm、横100mmの試験片を切り出し、[A]層の鉛筆硬度試験、表面自由エネルギー、平均表面粗さの評価を実施した。結果を表1に示す。   A test piece having a length of 100 mm and a width of 100 mm was cut out from the film on which the [A] layer was formed, and the pencil hardness test, surface free energy, and average surface roughness of the [A] layer were evaluated. The results are shown in Table 1.

次に、[A]層上に[B1]層を厚み200nm形成し、ガスバリア性フィルムを得た。[B1]層の組成は、Zn原子濃度が27.5atom%、Si原子濃度が13.1atom%、Al原子濃度が2.3atom%、O原子濃度が57.1atom%であった。   Next, a [B1] layer having a thickness of 200 nm was formed on the [A] layer to obtain a gas barrier film. The composition of the [B1] layer was such that the Zn atom concentration was 27.5 atom%, the Si atom concentration was 13.1 atom%, the Al atom concentration was 2.3 atom%, and the O atom concentration was 57.1 atom%.

得られたガスバリア性フィルムを縦100mm、横140mmの試験片を切り出し、水蒸気透過率の評価を実施した。結果を表1に示す。
(比較例2)
[A]層形成用の塗工液として、ウレタンアクリレートに代えて、ポリエステルアクリレート(日本化薬(株)製FOP−1740)100重量部にシリコーンオイル(東レ・ダウコーニング(株)製SH190)0.2重量部を添加し、トルエン50重量部、MEK50重量部で希釈した塗工液2を調製し、塗工液2をマイクログラビアコーター(グラビア線番200UR、グラビア回転比100%)で塗布、60℃で1分間乾燥後、紫外線を1J/cm照射、硬化させ、厚み5μmの[A]層(A2と記す)を設けた以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例3)
[B1]層に代えて[B2]層を厚み200nmとなるよう設けた以外は、比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
A test piece having a length of 100 mm and a width of 140 mm was cut out from the obtained gas barrier film, and the water vapor transmission rate was evaluated. The results are shown in Table 1.
(Comparative Example 2)
[A] As a coating liquid for layer formation, instead of urethane acrylate, 100 parts by weight of polyester acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd. FOP-1740) and silicone oil (Toray Dow Corning Co., Ltd. SH190) 0 Add 2 parts by weight, prepare coating liquid 2 diluted with 50 parts by weight of toluene and 50 parts by weight of MEK, and apply coating liquid 2 with a micro gravure coater (gravure wire number 200UR, gravure rotation ratio 100%), After drying at 60 ° C. for 1 minute, a gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that an ultraviolet ray was irradiated and cured at 1 J / cm 2 and a [A] layer (referred to as A2) having a thickness of 5 μm was provided.
(Comparative Example 3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the [B2] layer was provided to a thickness of 200 nm in place of the [B1] layer.

[B2]層の組成は、硫化亜鉛のモル分率が0.80であった。
(比較例4)
[B1]層に代えて[B2]層を厚み200nmとなるよう設けた以外は、比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
The composition of the [B2] layer had a zinc sulfide molar fraction of 0.80.
(Comparative Example 4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the [B2] layer was provided to a thickness of 200 nm instead of the [B1] layer.

[B2]層の組成は、硫化亜鉛のモル分率が0.80であった。
(比較例5)
[B1]層を厚み850nmとなるよう設けた以外は、比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例6)
[B1]層を厚み950nmとなるよう設けた以外は、比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例7)
縦延伸後に一軸配向フィルムとした後に、片面にコロナ処理を施し、そのコロナ処理面にのみ[C]層を積層した以外は比較例1と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得た。その後、[A]層を形成しないで、二軸配向ポリエステルフィルムの[C]層非積層面に直接、[B1]層を厚み100nmとなるよう形成した以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例8)
[B2]層を厚み100nmとなるよう形成した以外は比較例7と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例9)
[B1]層の厚みを1200nmとした以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例10)
[B2]層の厚みを1200nmとする以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例11)
[A]層形成用の塗工液として、ウレタンアクリレートに代えて、EVOH系樹脂を水に分散させたコート剤である住友精化株式会社製“セポルジョン”(登録商標)VH100を10重量部(固形分濃度:15質量%)量り取り、希釈溶剤として水1.9重量部およびイソプロパノール0.6重量部を添加し、30分間攪拌することにより固形分濃度12%の塗工液3を調製した。次に、ワイヤーバーを用いて塗布し、120℃の温度で40秒間乾燥させ、厚み1μmの[A]層(A3と記す)を設けた以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例12)
[B1]層に代えて[B2]層を厚み200nmとなるよう設けた以外は、比較例11と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例13)
[A]層形成用の塗工液にシリコーンオイル(東レ・ダウコーニング(株)製SH190)0.2重量部を添加しない以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(比較例14)
[B2]層に代えて[B3]層を厚み200nmとなるよう設けた以外は、比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
The composition of the [B2] layer had a zinc sulfide molar fraction of 0.80.
(Comparative Example 5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the [B1] layer was provided to have a thickness of 850 nm.
(Comparative Example 6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the [B1] layer was provided to have a thickness of 950 nm.
(Comparative Example 7)
A biaxially oriented polyester film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that a uniaxially oriented film was formed after longitudinal stretching, and then one side was subjected to corona treatment and the [C] layer was laminated only on the corona-treated surface. Thereafter, the gas barrier properties were the same as in Comparative Example 1 except that the [B1] layer was formed to a thickness of 100 nm directly on the non-laminated surface of the [C] layer of the biaxially oriented polyester film without forming the [A] layer. A film was obtained.
(Comparative Example 8)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 7 except that the [B2] layer was formed to a thickness of 100 nm.
(Comparative Example 9)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thickness of the [B1] layer was 1200 nm.
(Comparative Example 10)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the thickness of the [B2] layer was 1200 nm.
(Comparative Example 11)
[A] 10 parts by weight of “Separjon” (registered trademark) VH100 manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd., which is a coating agent in which an EVOH resin is dispersed in water, instead of urethane acrylate, is used as a coating liquid for layer formation. (Solid content concentration: 15% by mass) Weighed out, added 1.9 parts by weight of water and 0.6 parts by weight of isopropanol as a diluent solvent, and stirred for 30 minutes to prepare a coating liquid 3 having a solid content concentration of 12%. . Next, a gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that coating was performed using a wire bar, drying was performed at a temperature of 120 ° C. for 40 seconds, and an [A] layer having a thickness of 1 μm (referred to as A3) was provided. It was.
(Comparative Example 12)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 11 except that the [B2] layer was provided to a thickness of 200 nm instead of the [B1] layer.
(Comparative Example 13)
[A] A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that 0.2 parts by weight of silicone oil (SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was not added to the coating liquid for layer formation.
(Comparative Example 14)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the [B3] layer was provided to a thickness of 200 nm instead of the [B2] layer.

Al層の組成は、アルミニウム原子に対する酸素原子の原子数比(O/Al比率)が、1.65であった。
(実施例1−1)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−2)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−3)
ポリエステル樹脂Aを96重量部、ポリエステル樹脂Bを4重量部の割合で混合して使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−4)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−5)
ポリエステル樹脂Aを92重量部、ポリエステル樹脂Bを8重量部の割合で混合して使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−6)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−7)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例1−8)
ポリエステル樹脂Aを94重量部、ポリエステル樹脂Bを6重量部の割合で混合して使用した以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
Regarding the composition of the Al 2 O 3 layer, the atomic ratio of oxygen atoms to aluminum atoms (O / Al ratio) was 1.65.
(Example 1-1)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that 96 parts by weight of polyester resin A and 4 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that 92 parts by weight of polyester resin A and 8 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-7)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.
(Example 1-8)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that 94 parts by weight of polyester resin A and 6 parts by weight of polyester resin B were mixed and used.

実施例1−1〜1−8および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率と[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの波長380nmでの透過率を評価した。結果を表1にしめす。
(実施例2−1)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例2−2)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例2−3)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例2−4)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例2−5)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例2−6)
ポリエステル樹脂Cを使用した以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
In Examples 1-1 to 1-8 and Comparative Examples 1 to 14, the water vapor permeability of the gas barrier film and the transmittance of the biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer at a wavelength of 380 nm Evaluated. The results are shown in Table 1.
(Example 2-1)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the polyester resin C was used.
(Example 2-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the polyester resin C was used.
(Example 2-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyester resin C was used.
(Example 2-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that the polyester resin C was used.
(Example 2-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that the polyester resin C was used.
(Example 2-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that the polyester resin C was used.

実施例2−1〜2−6および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率と[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムのオリゴマー析出量を評価した。結果を表2に示す。
(実施例3−1)
比較例1と同様にして未延伸フィルムを得た。次いで図3および図4に記載されるような、φ250mmのシリコーンゴム(ゴム硬度60度)を被覆したニップロールを備えたφ250mmの金属製ロールからなる一対のロール間に、波長1.1μmの赤外線ヒータ(600V、24kW/m)および赤外線の反射板を備えた集光式ヒータ(ハイベック社製“近赤外線ラインヒーター:HYL−1000”)を、フィルムの上側及び下側にフィルム長手方向の中心位置を揃えて配置し、赤外線の集束光によるフィルム面での長手方向照射長さaおよびbがともに30mm、かつ、30mm重なり、集光式ヒータ筐体とフィルム面までの距離AおよびBが20mmになるように調整したロール延伸装置を用いた。上記フィルムを延伸前の搬送速度10m/minで、φ250mmの金属製ロール10本からなるロール群においてロール温度70℃で予備加熱した後に、本発明に係るフィルムの上側及び下側の集光式ヒータに総電力20kW(上側13kW、下側7kW)をかけながら長手方向に3.0倍に縦延伸して一軸配向フィルムを得た以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−2)
実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−3)
実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−4)
予熱を78℃とした以外は実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−5)
実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−6)
実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例3−7)
実施例3−1と同様にして一軸配向フィルムを得た以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
Examples 2-1 to 2-6 and Comparative Examples 1 to 14 evaluated the water vapor transmission rate of the gas barrier film and the oligomer precipitation amount of the biaxially oriented polyester film before the [A] layer and [B] layer were laminated. . The results are shown in Table 2.
(Example 3-1)
An unstretched film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1. Next, an infrared heater having a wavelength of 1.1 μm between a pair of rolls made of a metal roll of φ250 mm provided with a nip roll coated with silicone rubber of φ250 mm (rubber hardness 60 degrees) as shown in FIGS. 3 and 4 (600V, 24kW / m) and a condensing heater (“Near-Infrared Line Heater: HYL-1000” manufactured by Hibeck Co., Ltd.) equipped with an infrared reflector, the center position in the longitudinal direction of the film on the upper and lower sides of the film The lengths a and b in the longitudinal direction on the film surface by the infrared focused light are both 30 mm and 30 mm, and the distances A and B between the condensing heater housing and the film surface are 20 mm. A roll stretching apparatus adjusted as described above was used. After the film is preheated at a roll temperature of 70 ° C. in a roll group consisting of 10 φ250 mm metal rolls at a conveyance speed of 10 m / min before stretching, the upper and lower condenser heaters of the film according to the present invention A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that a uniaxially oriented film was obtained by longitudinally stretching 3.0 times in the longitudinal direction while applying a total power of 20 kW (upper side 13 kW, lower side 7 kW).
(Example 3-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1.
(Example 3-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1.
(Example 3-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that the preheating was set at 78 ° C.
(Example 3-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1.
(Example 3-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1.
(Example 3-7)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that a uniaxially oriented film was obtained in the same manner as in Example 3-1.

実施例3−1〜3−7および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率と[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムのキズ個数を評価した。結果を表3に示す。
(実施例4−1)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−2)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−3)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−4)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが150nmとなるようにした以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−5)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−6)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例4−7)
[C]層形成用に塗剤Bを使用し、[C]層厚みが70nmとなるようにした以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
Examples 3-1 to 3-7 and Comparative Examples 1 to 14 evaluated the water vapor permeability of the gas barrier film and the number of scratches on the biaxially oriented polyester film before the [A] layer and [B] layer were laminated. The results are shown in Table 3.
(Example 4-1)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 70 nm.
(Example 4-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 70 nm.
(Example 4-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was set to 70 nm.
(Example 4-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 150 nm.
(Example 4-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 70 nm.
(Example 4-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 70 nm.
(Example 4-7)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that the coating agent B was used for forming the [C] layer and the thickness of the [C] layer was 70 nm.

実施例4−1〜4−7および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率、[B]層積層前の[A]層積層二軸配向ポリエステルフィルムのうねり振幅と干渉縞を評価した。結果を表4に示す。
(実施例5−1)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例5−2)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例5−3)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例5−4)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例5−5)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例5−6)
ポリエステル樹脂Aを65重量部、ポリエステル樹脂Dを10重量部、ポリエステル樹脂Eを25重量部の割合で混合して使用した以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
Examples 4-1 to 4-7 and Comparative Examples 1 to 14 evaluated the water vapor permeability of the gas barrier film, the waviness amplitude and interference fringes of the [A] layer-laminated biaxially oriented polyester film before the [B] layer was laminated. . The results are shown in Table 4.
(Example 5-1)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.
(Example 5-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.
(Example 5-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.
(Example 5-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.
(Example 5-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5, except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.
(Example 5-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that 65 parts by weight of polyester resin A, 10 parts by weight of polyester resin D, and 25 parts by weight of polyester resin E were mixed and used.

実施例5−1〜5−6および比較例1〜14は成形前/成形後水蒸気透過率、[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの面配向度、190℃破断伸度を評価した。結果を表5に示す。
(実施例6−1)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−2)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例2と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−3)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−4)
ポリエステル樹脂Fを使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−5)
ポリエステル樹脂Hを使用した以外は比較例3と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−6)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例4と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−7)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例5と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
(実施例6−8)
ポリエステル樹脂Gを使用した以外は比較例6と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。
Examples 5-1 to 5-6 and Comparative Examples 1 to 14 are the pre-molding / post-molding water vapor transmission rate, the degree of plane orientation of the biaxially oriented polyester film before laminating the [A] layer and the [B] layer, 190 The elongation at break at 0 ° C. was evaluated. The results are shown in Table 5.
(Example 6-1)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the polyester resin G was used.
(Example 6-2)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the polyester resin G was used.
(Example 6-3)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyester resin G was used.
(Example 6-4)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyester resin F was used.
(Example 6-5)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyester resin H was used.
(Example 6-6)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that the polyester resin G was used.
(Example 6-7)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 5 except that the polyester resin G was used.
(Example 6-8)
A gas barrier film was obtained in the same manner as in Comparative Example 6 except that the polyester resin G was used.

実施例6−1〜6−8および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率と[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの伸度保持率を評価した。結果を表6に示す。
(実施例7−1)
ポリエステル樹脂Iを充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し285℃で溶融後、3μmカットフィルターで濾過、T字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを80℃で予熱し、ついで85℃に加熱して長手方向に3.8倍延伸し、一軸配向(一軸延伸)フィルムとした。このフィルムに空気中で両面にコロナ放電処理を施した。ついで[C]層形成用するために易滑剤(粒径150nmのコロイダルシリカ、)を固形分比2.0wt%で添加した塗剤Aを上記のフィルム両面に塗布した。塗布厚みはポリエステルフィルムの配向結晶完了後、つまり熱処理後において150nmとなるようにした。
Examples 6-1 to 6-8 and Comparative Examples 1 to 14 evaluate the water vapor permeability of the gas barrier film and the elongation retention of the biaxially oriented polyester film before the [A] layer and [B] layer are laminated. did. The results are shown in Table 6.
(Example 7-1)
After sufficiently drying polyester resin I in a vacuum, it is supplied to an extruder, melted at 285 ° C., filtered through a 3 μm cut filter, extruded into a sheet from a T-shaped base, and a surface temperature of 25 ° C. using an electrostatic application casting method. It was wound around a mirror casting drum and allowed to cool and solidify. This unstretched film was preheated at 80 ° C., then heated to 85 ° C. and stretched 3.8 times in the longitudinal direction to obtain a uniaxially oriented (uniaxially stretched) film. This film was subjected to corona discharge treatment on both sides in air. Next, a coating agent A to which a lubricant (colloidal silica having a particle size of 150 nm) was added at a solid content ratio of 2.0 wt% was applied to both sides of the above film for forming the [C] layer. The coating thickness was set to 150 nm after completion of oriented crystal of the polyester film, that is, after heat treatment.

ついで塗剤を塗布した1軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度120℃にて乾燥および予熱を実施後、引き続き連続的に120℃の延伸ゾーンで幅方向に4.5倍延伸し、続いて170℃の加熱ゾーンで20秒間7%の弛緩処理を施し、160℃の冷却ゾーンで10秒間再度0.5%の微延伸を施した。上記方法により厚み150nmの[C]層を積層した二軸配向ポリエステルフィルムを得た。続いて、フィルムロールから巻出したフィルムを160℃に熱した入り口と出口のあるオーブンを用い、フィルムにかかる張力が50N/mとなるようにオーブン出口で巻き取りながら、フィルムの収縮量がMDに5%、TDに8%となるように連続的に熱処理した。次いで比較例1と同様に[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−2)
実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例2と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−3)
実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例3と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−4)
ポリエステル樹脂Jを使用した以外は実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例3と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−5)
横方向に延伸後の加熱ゾーンを210℃に設定した以外は実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例3と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−6)
実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例4と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−7)
実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例5と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
(実施例7−8)
実施例7−1と同様にしてオーブンで熱処理したフィルムロールを得た。次いで比較例6と同様にして[A]層および[B]層を積層してガスバリア性フィルムを得た。
Next, the uniaxially stretched film coated with the coating is held by a clip and guided to a preheating zone, dried and preheated at an atmospheric temperature of 120 ° C., and then continuously stretched in the width direction by 4.5 at a stretching zone of 120 ° C. The film was stretched twice, subsequently subjected to a relaxation treatment of 7% for 20 seconds in a heating zone at 170 ° C., and subjected to 0.5% fine stretching again for 10 seconds in a cooling zone at 160 ° C. A biaxially oriented polyester film in which a [C] layer having a thickness of 150 nm was laminated by the above method was obtained. Subsequently, the film unwound from the film roll was heated at 160 ° C., and an oven having an inlet and an outlet was used. The film was wound at the outlet of the oven so that the tension applied to the film was 50 N / m. And 5% for TD and 8% for TD. Subsequently, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-2)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 2 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-3)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 3 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-4)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1 except that the polyester resin J was used. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 3 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-5)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1 except that the heating zone after stretching in the transverse direction was set to 210 ° C. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 3 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-6)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 4 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-7)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 5 to obtain a gas barrier film.
(Example 7-8)
A film roll heat-treated in an oven was obtained in the same manner as in Example 7-1. Next, the [A] layer and the [B] layer were laminated in the same manner as in Comparative Example 6 to obtain a gas barrier film.

実施例7−1〜7−8および比較例1〜14はガスバリア性フィルムの水蒸気透過率、[A]層および[B]層を積層する前の二軸配向ポリエステルフィルムの線膨張係数と伸度保持率を評価した。結果を表7に示す。   Examples 7-1 to 7-8 and Comparative Examples 1 to 14 are the water vapor permeability of the gas barrier film, the linear expansion coefficient and the elongation of the biaxially oriented polyester film before the [A] layer and [B] layer are laminated. Retention was evaluated. The results are shown in Table 7.

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本発明のガスバリア性フィルムは、酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れているので、例えば、食品、医薬品などの包装材および薄型テレビ、太陽電池などの電子デバイス部材として有用に用いることができるが、用途がこれらに限定されるものではない。   Since the gas barrier film of the present invention is excellent in gas barrier properties against oxygen gas, water vapor and the like, it can be usefully used, for example, as a packaging material for foods, pharmaceuticals, etc., and as an electronic device member for thin televisions, solar cells, etc. The application is not limited to these.

1:二軸配向ポリエステルフィルム
2:[A]層
3:[B]層
4:二軸配向ポリエステルフィルム
5:巻き取り式スパッタリング装置
6:巻き取り室
7:巻き出しロール
8、9、10:巻き出し側ガイドロール
11:クーリングドラム
12:スパッタ電極
13、14、15:巻き取り側ガイドロール
16:巻き取りロール
17:ロール延伸装置
18:フィルム
19:低速ロール
19’ :高速ロール
20:ニップロール
20’ :ニップロール
21:フィルム上側の集光式ヒータおよびその筐体
21’ :フィルム下側の集光式ヒータおよびその筐体
22:上側集光式ヒータによるフィルム面での照射長さaの部分
22’ :下側集光式ヒータによるフィルム面での照射長さbの部分
23:上側集光式ヒータの焦点
23’:下側集光式ヒータの焦点
24:上側集光式ヒータの筐体下端からフィルム面までの距離A
24’:下側集光式ヒータの筐体上端からフィルム面までの距離B
25:上側集光式ヒータの筐体下端部の照射幅
25’:下側集光式ヒータの筐体上端部の照射幅
1: Biaxially oriented polyester film 2: [A] layer 3: [B] layer 4: Biaxially oriented polyester film 5: Winding type sputtering device 6: Winding chamber 7: Winding rolls 8, 9, 10: Winding Delivery side guide roll 11: Cooling drum 12: Sputtering electrodes 13, 14, 15: Winding side guide roll 16: Winding roll 17: Roll stretching device 18: Film 19: Low speed roll 19 ': High speed roll 20: Nip roll 20' : Nip roll 21: Condensing heater on the upper side of the film and its housing 21 ′: Condensing heater on the lower side of the film and its housing 22: A portion 22 ′ of the irradiation length a on the film surface by the upper condensing heater : The portion 23 of the irradiation length b on the film surface by the lower light collecting heater 23: The focal point 23 'of the upper light collecting heater 23: The focus 24 of the lower light collecting heater 24: Distance A from the housing bottom side and condensing heater to the film plane
24 ': Distance B from the upper end of the casing of the lower condenser heater to the film surface
25: Irradiation width at the lower end of the casing of the upper condensing heater 25 ': Irradiation width of the upper end of the casing of the lower condensing heater

Claims (11)

以下の[1]から[7]のいずれかを満たす二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、以下の[A]層と[B]層がこの順で積層されたガスバリア性フィルム。
[A]層:鉛筆硬度がH以上かつ表面自由エネルギーが45mN/m以下の架橋樹脂層
[B]層:厚みが10〜1000nmの含ケイ素無機層
[1]紫外線吸収剤を含有し、かつ波長380nmでの透過率が5%以下
[2]180℃において30分間加熱処理した後の[A]層積層面におけるオリゴマー析出量が3.0mg/m以下
[3]長さ5mm以上かつ最大深さ0.5μm以上の傷が70個/m以下
[4]少なくとも片面に易接着層([C]層)を有するポリエステルフィルムであって、[C]層の層厚みが50〜150nmであって、[C]層と[A]層がこの順で積層された状態で[A]層側の測定波長400〜600nmにおける分光反射率のうねり振幅が2.0%以下
[5]190℃におけるフィルム長手方向および幅方向の伸度が180%以上であり、かつ該ポリエステルフィルム両表面における面配向係数(fn)がいずれも0.14以下
[6]温度120℃、湿度100%の環境下において36時間エージング処理を行った後の伸度保持率が40〜100%
[7]50℃から150℃までのMDの線膨張係数(α−MD)とTDの線膨張係数(α−TD)の平均である線膨張係数αが22ppm/℃以下
A gas barrier film in which the following [A] layer and [B] layer are laminated in this order on at least one surface of a biaxially oriented polyester film satisfying any of the following [1] to [7].
[A] layer: a crosslinked resin layer having a pencil hardness of H or more and a surface free energy of 45 mN / m or less [B] layer: a silicon-containing inorganic layer having a thickness of 10 to 1000 nm [1] containing an ultraviolet absorber and having a wavelength The transmittance at 380 nm is 5% or less. [2] The amount of oligomer precipitation on the [A] layer lamination surface after heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes is 3.0 mg / m 2 or less. [3] The length is 5 mm or more and the maximum depth. a polyester film having an easy adhesion layer ([C] layer) on at least one surface is 0.5μm or more flaws 70 / m 2 or less [4], met 50~150nm a layer thickness of [C] layer In the state where the [C] layer and the [A] layer are laminated in this order, the undulation amplitude of the spectral reflectance at the measurement wavelength of 400 to 600 nm on the [A] layer side is 2.0% or less [5] at 190 ° C. Film length direction and width direction The direction elongation coefficient (fn) on both surfaces of the polyester film is 0.14 or less. [6] Aging treatment is performed for 36 hours in an environment of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 100%. 40-100% elongation retention after performing
[7] The linear expansion coefficient α which is the average of the linear expansion coefficient (α-MD) of MD from 50 ° C. to 150 ° C. and the linear expansion coefficient (α-TD) of TD is 22 ppm / ° C. or less.
前記[B]層が、亜鉛化合物とケイ素酸化物とを含む組成により構成されたものである請求項1に記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1, wherein the [B] layer is composed of a composition containing a zinc compound and a silicon oxide. 前記[B]層が、以下の[B1]層または[B2]層のいずれかである請求項2に記載のガスバリア性フィルム。
[B1]層:酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの共存相からなる層
[B2]層:硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層
The gas barrier film according to claim 2, wherein the [B] layer is any of the following [B1] layer or [B2] layer.
[B1] layer: a layer composed of a coexisting phase of zinc oxide, silicon dioxide and aluminum oxide [B2] layer: a layer composed of a coexisting phase of zinc sulfide and silicon dioxide
前記[B]層が[B1]層であり、該[B1]層が、ICP発光分光分析法により測定される亜鉛(Zn)原子濃度が20〜40atom%、ケイ素(Si)原子濃度が5〜20atom%、アルミニウム(Al)原子濃度が0.5〜5atom%、酸素(O)原子濃度が35〜70atom%である組成により構成されたものである請求項3に記載のガスバリア性フィルム。 The [B] layer is a [B1] layer, and the [B1] layer has a zinc (Zn) atom concentration of 20 to 40 atom% and a silicon (Si) atom concentration of 5 to 5 as measured by ICP emission spectroscopy. 4. The gas barrier film according to claim 3, wherein the gas barrier film has a composition of 20 atom%, aluminum (Al) atom concentration of 0.5 to 5 atom%, and oxygen (O) atom concentration of 35 to 70 atom%. 前記[B]層が[B2]層であり、該[B2]層は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が0.7〜0.9である組成により構成されたものである請求項3に記載のガスバリア性フィルム。 The [B] layer is a [B2] layer, and the [B2] layer has a composition in which the molar fraction of zinc sulfide with respect to the total of zinc sulfide and silicon dioxide is 0.7 to 0.9. The gas barrier film according to claim 3. 前記[A]層の平均表面粗さRaが1nm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。 6. The gas barrier film according to claim 1, wherein the [A] layer has an average surface roughness Ra of 1 nm or less. 前記[B]層の平均表面粗さRaが1.5nm以下である請求項1〜6のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 1, wherein the [B] layer has an average surface roughness Ra of 1.5 nm or less. 前記[B]層表面または前記二軸配向ポリエステルフィルムと[A]層との間に、透明導電層を有する請求項1〜7のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to any one of claims 1 to 7, further comprising a transparent conductive layer between the surface of the [B] layer or the biaxially oriented polyester film and the [A] layer. 前記透明導電層がインジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、アルミニウム含有酸化亜鉛(Al/ZnO)、ガリウム含有酸化亜鉛(Ga/ZnO)、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブのいずれかを含む請求項1〜8のいずれかに記載のガスバリア性フィルム。 The transparent conductive layer includes any of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), aluminum-containing zinc oxide (Al / ZnO), gallium-containing zinc oxide (Ga / ZnO), metal nanowires, and carbon nanotubes. The gas-barrier film in any one of Claims 1-8. 請求項1〜9のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを有する太陽電池。 The solar cell which has a gas-barrier film in any one of Claims 1-9. 請求項1〜9のいずれかに記載のガスバリア性フィルムを有する表示体素子。 A display element having the gas barrier film according to claim 1.
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