JP2014072022A - Light guide board and surface illuminant device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶ディスプレイ等に用いられる面光源装置に具備される導光板、及び該導光板を用いた面光源装置に関する。 The present invention relates to a light guide plate provided in a surface light source device used for a liquid crystal display or the like, and a surface light source device using the light guide plate.
液晶テレビ等の液晶表示装置には、液晶パネルに対して背面側から照明する面光源装置が備えられている。面光源装置は大別すると、光学部材の背面側に光源を配置する直下型と、光学部材の側方に光源を配置するエッジライト型と、に分類される。エッジライト型の面光源装置は、直下型の面光源装置と比較して、面光源装置の厚さを薄くすることができるといった利点を有している。 A liquid crystal display device such as a liquid crystal television is provided with a surface light source device that illuminates a liquid crystal panel from the back side. The surface light source devices are roughly classified into a direct type in which a light source is arranged on the back side of the optical member and an edge light type in which a light source is arranged on the side of the optical member. The edge light type surface light source device has an advantage that the thickness of the surface light source device can be reduced as compared with the direct type surface light source device.
エッジライト型の面光源装置では、側方からの光源光を中央方向に導く導光板が設けられている。すなわち、光源からの光は、導光板の1つの端面である入光面から導光板内に入射する。導光板内へ入射した光は、導光板内で反射を繰り返し、入光面に対向する面の方向(導光方向)に向けて導光板内を進んでいく。導光板内を進む光は、導光板の光学的な作用により、導光板内を進むにつれて少しずつ出光面から出射する。この結果、導光板の出光面からの出射光量が、導光方向に沿って、均一化されるようになる。 The edge light type surface light source device is provided with a light guide plate that guides light from the side toward the center. That is, light from the light source enters the light guide plate from a light incident surface that is one end surface of the light guide plate. The light that has entered the light guide plate is repeatedly reflected in the light guide plate and travels in the direction of the surface facing the light incident surface (light guide direction). The light traveling through the light guide plate is gradually emitted from the light exit surface as it travels through the light guide plate due to the optical action of the light guide plate. As a result, the amount of light emitted from the light exit surface of the light guide plate is made uniform along the light guide direction.
例えば特許文献1には、出光面に所定の大きさの三角形断面を有する複数のプリズムが配列された層を具備する導光板が開示されている。このような要素により、面光源装置から出射される光の向きを制御して効率の良い光の利用を可能としている。
For example,
また、特許文献2には計算機ホログラムの形成方法が記載されている。 Patent Document 2 describes a method for forming a computer generated hologram.
特許文献1にも表れているように、エッジライト型の面光源装置では、導光板の入光面に対向して複数の光源が所定の間隔で配列されている形態が多い。ところが、このような光源の配列により、各光源の光軸に沿った部位と、光軸間に沿った部位との間に輝度のムラを生じてしまうことがあった。
As shown in
また、特許文献2にはホログラムの形成に関する事項について記載はあるが、導光板に関する検討はされていない。 In addition, Patent Document 2 describes matters relating to the formation of holograms, but does not discuss light guide plates.
そこで本発明は、上記の問題に鑑み、出光する光の均一性を高めることができる導光板を提供することを課題とする。また、当該導光板を備える面光源装置を提供する。 Then, this invention makes it a subject to provide the light-guide plate which can improve the uniformity of the light emitted in view of said problem. Moreover, a surface light source device provided with the said light-guide plate is provided.
以下、本発明について説明する。 The present invention will be described below.
請求項1に記載の発明は、光源からの光を入射させ導光方向に導きつつ出光面から光を出射させる導光板であって、出光面には、凹凸が形成されることによりなる回折構造パターンが具備された回折構造層を備え、回折構造パターンは、稜線が1次元及び/又は2次元に延びる凹凸形状により形成され、少なくとも1次光により拡散光を出射する構造を有する、導光板である。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の導光板において、回折構造パターンは、導光方向に稜線が延び、該導光方向とは異なる方向に凹凸が交互に配列され、入射した光を凹凸が配列された方向に平行な直線を投射するように拡散する構造である。 According to a second aspect of the present invention, in the light guide plate according to the first aspect, the diffractive structure pattern has a ridge line extending in the light guide direction, and irregularities are alternately arranged in a direction different from the light guide direction and incident. In this structure, light is diffused so as to project a straight line parallel to the direction in which the irregularities are arranged.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の導光板において、回折構造パターンの凹凸の形状は、均一の形状でない凹形状及び凸形状が複数が組み合わされている形成されている。 According to a third aspect of the present invention, in the light guide plate according to the first or second aspect, the concavo-convex shape of the diffractive structure pattern is formed by combining a plurality of concave and convex shapes that are not uniform. .
請求項4に記載の発明は、請求項1〜3のいずれかに記載の導光板と、導光板の導光方向の一端側に形成される入光面に対向して配置される光源と、導光板の回折構造層に対向するように配置され、回折構造層に対して凸となる複数の単位プリズムが配列された偏向光学シートと、を備える、面光源装置である。 Invention of Claim 4 is the light source plate arrange | positioned facing the light-incidence surface formed in the one end side of the light guide direction of the light guide plate in any one of Claims 1-3, and the light guide plate, A surface light source device comprising: a deflecting optical sheet that is arranged to face the diffractive structure layer of the light guide plate and in which a plurality of unit prisms that are convex with respect to the diffractive structure layer are arranged.
本発明によれば、出光する光の輝度ムラを低減することができ、より輝度の均一性の高い面光源を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to reduce luminance unevenness of emitted light, and to provide a surface light source with higher luminance uniformity.
上記に述べた作用及び特長を図面にて示す実施形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら実施形態に限定されるものではない。 The operations and features described above will be described based on the embodiments shown in the drawings. However, the present invention is not limited to these embodiments.
図1は1つの実施形態を説明する図であり、導光板10を具備する面光源装置1の分解斜視図である。図2には図1にII−IIで示した線(導光方向)に沿った面光源装置1の厚さ方向断面図のうち一部、図3には、図1にIII−IIIで示した線(光源配列方向)に沿った面光源装置1の厚さ方向(図1の紙面上下方向)断面図の一部を示した。なお、本図及び以下で示す図では、わかりやすさのため部材の厚さや形状等を誇張して示すことがあり、繰り返しとなる符号は一部を省略することもある。
図1〜図3からわかるように、面光源装置1は、エッジライト型の面光源装置として構成され、導光板10、光源29、偏向光学シート30、及び反射シート40を有している。
FIG. 1 is a diagram illustrating one embodiment, and is an exploded perspective view of a surface
As can be seen from FIGS. 1 to 3, the surface
導光板10は、基部11、及び回折構造層12を有している。導光板10は透光性を有する材料により形成された全体として板状の部材であり、一方の板面側に回折構造層12が配置され出光面として機能している。他方の板面側は裏面となる。
また、出光面と裏面との間で、導光板10の板厚を形成する端面は光源29に対向する入光面、該入光面とは反対側に配置される対向面、及び入光面と対向面とを渡すように2つの側面がそれぞれ形成されている。
The
Further, an end surface forming the plate thickness of the
基部11は、回折構造層12のベースとなる透光性を有する部位であり、所定の厚さを有する板状である。図1、図2からわかるように、基部11の裏面側(回折構造層12が配置される側とは反対側の板面)には、三角柱状であるプリズム11aが複数設けられている。プリズム11aは、導光方向とは直交する方向(光源配列方向)に延びる複数の柱状の部位であり、これが導光方向に所定の間隔で並べて配列されている。
本実施形態のプリズム11aは三角柱状であるがこれに限定されることはなく、四角以上の多角柱状であってもよい。
The
The
回折構造層12は、基部11のうち出光面側に形成される層であり、ここに稜線が2次元的に延びる凹凸形状、及び/又は稜線が1次元的に延びる凹凸形状からなる計算機ホログラムが形成され、これに基づいた凹凸形状が表面に形成されている。そしてこの計算機ホログラムにより、光を拡散して均一性の高い光を出射する。または、所望の視野角分布を得ることができる。
The
以下に1つの例にかかる回折構造層12について説明する。回折構造層12は、その表面にホログラム形状12aが形成されている。ホログラム形状12aは、基部11側からの入射光を所定の範囲に拡散させるように出射可能な形状とされている。具体的には、導光板10として出射光の均一性を高めるように光を拡散させる。従って所望の拡散性を有していればその形態は特に限定されることはない。以下、ホログラム形状12aについて、計算機ホログラムによるものを複数の例を挙げて説明する。
The
初めに第一の例にかかるホログラム形状12aによる光拡散特性を説明する。図4は当該第一の例にかかるホログラム形状12aによる光拡散特性を説明する図である。図4(a)〜図4(c)は、回折構造層12の拡散角と輝度との関係を示す図である。図4(a)は導光方向面内における拡散角と輝度との関係、図4(b)は光源配列方向面内における拡散角と輝度との関係、及び図4(c)は導光方向に対して斜め45°の面内における拡散角と輝度との関係である。当該第一の例のホログラム形状12aによれば、基部11側から入射した光を回折して拡散するに際して、導光板10の法線方向(図1のIで示した方向。正面方向。)において、高い輝度を有して光を出射することがわかる。それに加えて、導光方向面内及び光源配列方向面内では拡散角±30°〜±40°において輝度を有している。一方、導光方向に対して斜め45°の面内では、導光板法線方向以外ではこのような輝度を有していない。従って、第一の例によれば、正面方向、導光方向方向面内の±30°〜±40°、及び光源配列方向面内の±30°〜±40°において光を拡散し、輝度の均一化を図ることができる。
First, the light diffusion characteristics of the
このような光拡散特性を得るためには、正面付近の輝度は回折の0次光を利用し、導光方向面内の±30°〜±40°、及び光源配列方向面内の±30°〜±40°の輝度は回折の1次光を利用することができる。従って計算機ホログラムの形状を得るに際しては1次光が所望の角度に回折するように構成すればよい。図5は、上記した光拡散特性のうち、1次光に関するものを表したグラフである。横軸が導光方向面内拡散角、縦軸が光源配列方向面内拡散角である。図5に斜線で示した部分が1次光により輝度が得られるべき角度範囲である。従って、上記説明した光拡散特性は図5のように表すこともできる。そして図5に表した図に基づいてフーリエ変換により最終的にホログラム形状を得るための元となる図を得て、これに対してフーリエ変換等を施すことにより、最終的に上記した光拡散特性を具備する計算機ホログラムのホログラム形状を得ることができる。図5を用いてどのように具体的なホログラム形状12aを得るかについては後で説明する。
In order to obtain such light diffusion characteristics, the brightness near the front surface uses 0th-order diffraction light, ± 30 ° to ± 40 ° in the light guide direction plane, and ± 30 ° in the light source array direction plane. A brightness of ˜ ± 40 ° can utilize the diffracted primary light. Accordingly, when obtaining the shape of the computer generated hologram, it is sufficient to configure so that the primary light is diffracted to a desired angle. FIG. 5 is a graph showing the light diffusion characteristics related to the primary light. The horizontal axis represents the in-plane diffusion angle in the light guide direction, and the vertical axis represents the in-plane diffusion angle in the light source arrangement direction. A hatched portion in FIG. 5 is an angle range in which luminance should be obtained by the primary light. Therefore, the light diffusion characteristics described above can also be expressed as shown in FIG. Then, based on the diagram shown in FIG. 5, an original diagram for finally obtaining a hologram shape by Fourier transform is obtained, and by applying Fourier transform or the like to this, the above-mentioned light diffusion characteristics are finally obtained. Can be obtained. How to obtain a
ここで、0次光の輝度の大きさ(視野角0°における輝度)に対する1次光の輝度の大きさ(視野角±30°〜40°における輝度)の割合は特に限定されることはないが、1次光の輝度の大きさは0次光の輝度の大きさに対して0.1倍以上であることが好ましい。 Here, the ratio of the luminance magnitude of the primary light (luminance at a viewing angle of ± 30 ° to 40 °) to the luminance magnitude of the zero-order light (luminance at a viewing angle of 0 °) is not particularly limited. However, it is preferable that the brightness of the primary light is 0.1 times or more than the brightness of the 0th-order light.
また、第一の例では、導光方向面内拡散角±30°〜±40°における輝度と、光源配列方向面内拡散角±30°〜±40°における輝度と、は同じとなるように構成されているが(図4(a)、図4(b)参照)、いずれかを大きくしてもよく、所望の光拡散性能とすることができる。 In the first example, the luminance at the light guide direction in-plane diffusion angle ± 30 ° to ± 40 ° and the light source arrangement direction in-plane diffusion angle ± 30 ° to ± 40 ° are set to be the same. Although it is configured (see FIG. 4A and FIG. 4B), either of them may be enlarged to obtain a desired light diffusion performance.
次に、第二の例にかかるホログラム形状12aによる光拡散特性を説明する。図6、図7には当該第二の例にかかるホログラム形状12aを説明する図のうち、図5に相当する図を示した。図6、図7のうち、図6に示した例は、導光方向面内拡散角及び光源配列方向面内拡散角において複数の角度範囲で輝度が高くなる例である。より具体的には、0次光により正面で輝度が高いことに加え、1次光により導光方向面内及び光源配列方向面内の±30°〜±40°、±60°〜±70°の範囲で輝度が高くなる。
一方、図7に示した例では、導光方向面内拡散角及び光源配列方向面内拡散角において上記第一の例よりも広い角度範囲で輝度が高くなる例である。より具体的には、0次光により正面で輝度が高いことに加え、1次光により導光方向面内及び光源配列方向面内の±30°〜±70°の範囲で輝度が高くなる。
このように第二の例では、導光方向面内面内及び光源配列方向面内においてより広い範囲で光を拡散するホログラム形状が形成され均一性の高い拡散光及び所望の視野角分布を得ることが可能となる。
Next, the light diffusion characteristics of the
On the other hand, the example shown in FIG. 7 is an example in which the luminance increases in a wider angle range than the first example in the light guide direction in-plane diffusion angle and the light source array direction in-plane diffusion angle. More specifically, in addition to the high brightness in the front due to the 0th order light, the brightness becomes high in the range of ± 30 ° to ± 70 ° in the light guide direction plane and the light source array direction plane due to the primary light.
As described above, in the second example, a hologram shape for diffusing light in a wider range is formed in the light guide direction inner surface and the light source array direction surface, so that highly uniform diffused light and a desired viewing angle distribution can be obtained. Is possible.
次に第三の例にかかるホログラム形状12aによる光拡散特性を説明する。図8には当該第三の例にかかるホログラム形状12aを説明する図のうち、図5に相当する図を示した。図8に示した例では、第一の例で説明した拡散角に加え、−10°〜+10°の範囲も輝度が高くなる。すなわち正面から導光方向面内±45°、及び正面から光源配列方向面内の±45°まで連続的に光を拡散するようにホログラム形状12aが形成されている。
Next, the light diffusion characteristics of the
次に第四の例にかかるホログラム形状10aによる光拡散特性を説明する。図9に説明のための図を示した。図9の上段は、本例における導光方向面内輝度分布を示したものである。ここで、視野角0°に最大輝度を有する輝度分布が0次光によるもの、視野角0°でない角度に最大輝度を有する輝度分布は1次光によるものである。図9の下段は、このような輝度分布を実現するためのホログラム形状12aを得るための図で、図5に相当する図である。図9からわかるように、本例では、1次光の最大輝度となる視野角が、0次光の半値角(最大輝度に対して輝度が半分になる視野角の位置)よりも外側の拡散角となるように構成されている。
このような光拡散特性を有するホログラム形状によれば、0次光と1次光との連続性を向上させることができる。従って、所望の視野角分布のホログラムを配置することで、正面から導光方向面内、及び正面から光源配列方向面内に向けて連続的に光を拡散することができる。
図9及び上記説明では導光方向面内拡散角についてのみ説明したが、光源配列方向面内拡散角についても同様である。
Next, the light diffusion characteristics of the hologram shape 10a according to the fourth example will be described. FIG. 9 shows an explanatory diagram. The upper part of FIG. 9 shows the in-plane luminance distribution in the light guide direction in this example. Here, the luminance distribution having the maximum luminance at the viewing angle of 0 ° is due to the 0th order light, and the luminance distribution having the maximum luminance at the angle other than the viewing angle of 0 ° is due to the primary light. The lower part of FIG. 9 is a diagram for obtaining a
According to the hologram shape having such light diffusion characteristics, the continuity between the zero-order light and the first-order light can be improved. Therefore, by arranging a hologram having a desired viewing angle distribution, light can be continuously diffused from the front to the light guide direction plane and from the front to the light source array direction plane.
Although only the in-plane diffusion angle in the light guide direction has been described in FIG. 9 and the above description, the same applies to the in-plane diffusion angle in the light source arrangement direction.
以上説明した各例は例示であり、上記の他にも所望の光拡散特性を得るためのホログラム形状を形成することが可能である。本実施形態では回折における0次光と1次光のみを考慮したが、2次光以上の高次光が考慮されてもよい。 Each example described above is an exemplification, and in addition to the above, it is possible to form a hologram shape for obtaining desired light diffusion characteristics. In this embodiment, only the 0th-order light and the 1st-order light in diffraction are considered, but higher-order light higher than the 2nd-order light may be considered.
以上説明した計算機ホログラムは、上記した各光学的機能を有する複数の微小な単位計算機ホログラムが並べられて複合化されたもの、又は単位計算機ホログラムが複眼状に配列されたものである。例えば、単位計算機ホログラムを正方形で形成して、複数の該正方形の単位計算機ホログラムを縦横格子状に密に配列したものや、縦又は横を一列置きに半ピッチずらせていわゆる千鳥状に配列したものを挙げることができる。また、単位計算機ホログラムを隙間なく密に配置するのではなく、所定の間隙を有してまばらに配置したり、所定のパターンに基づいて配置する態様も考えられる。もちろん単位計算機ホログラムの形状は正方形に限られることもなく、長方形やその他の多角形を含めて任意の形状で形成してもよい。さらに、1つの計算機ホログラムに含まれる単位計算機ホログラムの形状や配列形態は必ずしも一定である必要はなく、場所により変えられてもよい。 The above-described computer generated holograms are obtained by arranging a plurality of minute unit computer holograms having the respective optical functions described above and combining them, or unit computer holograms arranged in a compound eye shape. For example, a unit computer hologram is formed in a square and a plurality of the unit computer holograms having a square shape are densely arranged in a vertical and horizontal lattice pattern, or a so-called zigzag pattern in which the vertical or horizontal lines are shifted by half a pitch every other row. Can be mentioned. In addition, it is also conceivable that the unit computer generated holograms are not densely arranged with no gap but are sparsely arranged with a predetermined gap or arranged based on a predetermined pattern. Of course, the shape of the unit computer hologram is not limited to a square, and may be formed in any shape including a rectangle and other polygons. Further, the shape and arrangement of unit computer holograms included in one computer hologram are not necessarily constant, and may be changed depending on the location.
次に、他の形態の回折構造層12’について説明する。これはいわゆる1次元計算機ホログラムにより回折構造が形成され、導光された光が偏向光学シート30に出光されるに際し、光源配列方向面内のみに拡散して線状の投射光を出射するように構成された回折構造パターンを備える。図10には導光板10を出光面方向から見た平面図を表した。従って図10には回折構造層12’が表れている。また、図10には向きも併せて示している。
Next, another form of the diffractive structure layer 12 'will be described. This is because a diffractive structure is formed by a so-called one-dimensional computer generated hologram so that when the guided light is emitted to the deflecting
図10からわかるように回折構造層12’は、導光方向に延びる1単位である単位回折構造13が基部11の面の光源配列方向に複数並べて配置されている。回折構造層12が光源配列方向に光を拡散させる機能を含むことから、単位回折構造13の形状のうち、光源配列方向の大きさ(図10にAで示した大きさ。)は、配列されている複数の光源29の1ピッチよりも小さいことが好ましい。
As can be seen from FIG. 10, in the
単位回折構造13内の回折構造パターンは図11に模式的に示したように、入光した光L51、L52、L53を出光する際に、光を光源配列方向に平行な直線状に投射できるように出射して拡散することができる構造とされている。そしてこれがB1、B2、B3のように導光方向に連続するように構成されている。
As schematically shown in FIG. 11, the diffraction structure pattern in the
図12は、図10に示したVI−VI線に沿った単位回折構造13の厚さ方向断面であり、単位回折構造13に含まれる回折構造パターン13aを模式的に表した例である。ただし、図12に表した断面形状自体は概念的であり、精密な形状を表現したものではない。
FIG. 12 is a cross section in the thickness direction of the
図12からわかるように、回折構造パターン13aは、断面形状が矩形で様々の大きさで不均一である複数の凸部が間隔を有して光源配列方向に並列され、凸部間に形成される凹部により、凹凸形状の回折構造となっている。そしてこのような断面形状を維持してその稜線が導光方向に延びている。
これにより凸部を透過する光の位相変調量と凹部を透過する光の位相変調量とが異なるようになり、結果として回折構造パターン13aとして光は上記説明したような凹凸が配列される方向に平行となるような直線状に投射されるようなパターンで回折する。従って、回折構造パターン13aを構成する凹凸は、回折現象を用いて光を拡散する凹凸であり、光の屈折を利用して光を偏向する凹凸とは異なる。これは具体的には、凸部及び凹部の光源配列方向の大きさ(例えばa1、b1)、及び凸部の高さ(凹部の深さ、例えばh1の大きさ)の程度が大きく異なることで区別することができる。例えば、a1、b1の大きさは、0.2μm〜10μm、h1の大きさは1μm〜10μm程度を挙げることができる。
As can be seen from FIG. 12, the
As a result, the phase modulation amount of the light transmitted through the convex portion and the phase modulation amount of the light transmitted through the concave portion are different, and as a result, the light in the
このような回折構造パターン13aは、計算機ホログラムによる構造である。従って、回折構造パターン13aは、後述するように、所望の光拡散パターンに基づいて、計算機ホログラムにより導かれる形状である。計算機ホログラムによれば、所望の光拡散パターンを実現するための回折構造パターンを直接導きだすことができる。なお、本発明における計算機ホログラムは、回折効果を利用した回折光学素子(DOE)も含まれる。
Such a
次に、さらなる他の例について説明する。当該他の例は、基部11に回折構造層12’’形成されたものである。図13に、回折構造層12’’を説明する図で図10に相当する図を示した。回折構造層12’’では、図13からわかるように、導光方向のうち光源側の所定の領域である光源側領域において、上記した回折構造パターン13aである1次元計算機ホログラムが形成され、他の領域は2次元計算機ホログラム12aが形成されている。
これは、導光方向に近い光源側領域では、光源からの光の放射状広がりが十分でなく、光源配列方向に明暗の輝度ムラが他に比べて大きいことから、この部位では回折構造パターン13aのような構造を適用することにより光源配列方向の光の拡散を大きくし、該光源配列方向の輝度ムラを低減するものである。
Next, still another example will be described. In the other example, a
This is because, in the light source side region close to the light guide direction, the radial spread of light from the light source is not sufficient, and the brightness unevenness of brightness in the light source arrangement direction is larger than the others. By applying such a structure, the diffusion of light in the light source array direction is increased, and luminance unevenness in the light source array direction is reduced.
光源側領域の大きさは特に限定されることはないが、定性的な観点からは隣り合う光源からの入射拡散光が重なる位置までの領域である。具体的には、光源の光拡散特性にもよるが、入光面から導光方向に0mm以上20mm以下の範囲を設定することができる。
また、LEDの存在する部分と存在しない部分で構造を変化させ、回折構造パターンのパラメータ(ピッチや深さ等)を設定し、回折効率を変更し、拡散角を変調することもできる。
Although the size of the light source side region is not particularly limited, it is a region up to a position where incident diffused light from adjacent light sources overlap from a qualitative viewpoint. Specifically, although it depends on the light diffusion characteristics of the light source, a range of 0 mm or more and 20 mm or less can be set in the light guide direction from the light incident surface.
It is also possible to change the structure between a portion where the LED exists and a portion where the LED does not exist, set parameters (pitch, depth, etc.) of the diffraction structure pattern, change the diffraction efficiency, and modulate the diffusion angle.
以上のような構成からなる導光板10は、基部11の一方の面に回折構造層12を直接形成してもよいし、基部11の一方の面に回折構造層12を貼り付けるようにしてもよい。具体的な製造方法の例は後で説明する。基部11、及び回折構造層12を構成する材料は、透明性が高いものが好ましく、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。その他、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート系化合物、不飽和ポリエステル系化合物、メラミン系化合物、エポキシ系化合物等からなるラジカル重合性プレポリマー、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のラジカル重合性不飽和単量体等の中から選択した1種乃至2種以上からなる組成物からなる電離放射線硬化性樹脂も挙げることができる。なお、ここで「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又メタクリレートを意味する。
In the
次に導光板10を製造する方法の一例を説明する。導光板10は、各回折構造パターン形状を得て、回折構造層の形態を得る工程、及び、得られた回折構造層の形態に基づいて型を作製してこれにより導光板を成形する工程を含んで製造される。以下各工程について説明する。
Next, an example of a method for manufacturing the
回折構造層の形態を得る工程では、計算機ホログラムによる回折構造パターン形状を得る方法について説明する。計算機ホログラム自体は公知であるので、当該計算機ホログラム形状を得るための方法についても公知の方法(例えば特許第4620220号(特許文献2))を適用することが可能である。ここではそのうちの一例を説明する。 In the step of obtaining the form of the diffractive structure layer, a method for obtaining a diffractive structure pattern shape by a computer generated hologram will be described. Since the computer generated hologram itself is known, a known method (for example, Japanese Patent No. 4620220 (Patent Document 2)) can be applied to a method for obtaining the computer generated hologram shape. Here, an example will be described.
一般に計算機ホログラムを求めるには次のようにする。すなわち、ある回折構造(ホログラム)を想定し、それからの再生距離がホログラムの大きさにくらべて十分大きく、ホログラム面の法線に平行な光を照明した場合、再生像面で得られる回折光は、ホログラム面での振幅分布、及び位相分布のフーリエ変換で表される(フラウンホーファー回折)。そこで、再生像面に所定の回折光を与えるために、ホログラム面と再生像面との間で束縛条件を加えながら、フーリエ変換と逆フーリエ変換を交互に繰り返し、ホログラム面に配置する計算機ホログラムを求める方法が知られている(Gerchberg−Saxton反復計算法)。 In general, a computer generated hologram is obtained as follows. That is, assuming a certain diffractive structure (hologram), when the reproduction distance from it is sufficiently large compared to the size of the hologram and illuminating light parallel to the normal of the hologram surface, the diffracted light obtained on the reproduced image surface is It is expressed by Fourier transform of amplitude distribution and phase distribution on the hologram surface (Fraunhofer diffraction). Therefore, in order to give a predetermined diffracted light to the reproduction image plane, a computer generated hologram arranged on the hologram plane is repeatedly repeated with Fourier transform and inverse Fourier transform while applying a constraint condition between the hologram plane and the reproduction image plane. The method to obtain | require is known (Gerchberg-Saxton iterative calculation method).
そこで、Gerchberg−Saxton反復計算法を利用して、背後からホログラム面の法線に平行な光を照明した場合に所定の観察域へのみ光を回折する計算機ホログラムを得ることを考える。ここではわかりやすさのため、ホログラム面での振幅分布をAHOLO、ホログラム面での位相分布をφHOLO 、再生像面での振幅分布をAIMG 、再生像面での位相分布をφIMGで表現する。図14に流れを示した。 Therefore, it is considered to obtain a computer generated hologram that diffracts light only to a predetermined observation area when light parallel to the normal line of the hologram surface is illuminated from behind by using the Gerchberg-Saxton iterative calculation method. Here, for easy understanding, the amplitude distribution on the hologram surface is represented by A HOLO , the phase distribution on the hologram surface is represented by φ HOLO , the amplitude distribution on the reproduction image surface is represented by A IMG , and the phase distribution on the reproduction image surface is represented by φ IMG . . FIG. 14 shows the flow.
過程S1で計算機ホログラムが形成される面領域(x0≦x≦x1、y0≦y≦y1)において、初期値としてAHOLDに1を、φHOLDにランダムな値を与える。
過程S2で、その初期化した値に所定のフーリエ変換を施し、AIMG、φIMGを得る。
過程S3で、AIMGが所定の領域内でほぼ一定値になり、その所定領域外でほぼ0になったと判断された場合は、過程S1で初期化したAHOLDとφHOLDが所望の計算機ホログラムとなる。
In the surface region (x0 ≦ x ≦ x1, y0 ≦ y ≦ y1) in which the computer generated hologram is formed in step S1, 1 is given to A HOLD as an initial value, and a random value is given to φ HOLD .
In step S2, a predetermined Fourier transform is applied to the initialized value to obtain A IMG and φ IMG .
In step S3, if it is determined that A IMG is substantially constant within a predetermined area and is substantially 0 outside the predetermined area, A HOLD and φ HOLD initialized in step S1 are the desired computer holograms. It becomes.
一方、過程S3でこのような条件が満足されないと判断された場合は、過程S4で束縛条件が付与される。具体的には、上記の所定領域内ではAIMGが例えば1にされ、その他では0にされ、φIMGはそのままに維持される。
次に過程S5で束縛条件が付与された後の条件で所定の逆フーリエ変換が施される。
逆フーリエ変換で得られたホログラム面での値は、過程S6で束縛条件が付与され、AHOLDは1に、φHOLDは多値化(元の関数をデジタルな階段状の関数に近似(量子化))される。ただし、φHOLDが連続的な値を持ってもよい場合は、この多値化は必ずしも必要ない。
On the other hand, if it is determined in step S3 that such a condition is not satisfied, a constraint condition is assigned in step S4. Specifically, A IMG is set to 1, for example, in the predetermined area, and is set to 0 in the other areas, and φ IMG is maintained as it is.
Next, a predetermined inverse Fourier transform is performed under the condition after the binding condition is given in step S5.
The value on the hologram surface obtained by the inverse Fourier transform is given a constraining condition in step S6, A HOLD is set to 1, and φ HOLD is multivalued (approximate the original function to a digital step-like function (quantum )). However, in the case where φ HOLD may have continuous values, this multi-value conversion is not necessarily required.
そして、過程S2に戻り、その値にフーリエ変換が施される。以降は上記と同様の処理がおこなわれ、過程S3の条件が満足されるまで(収束するまで)繰り返されて最終的な所望の計算機ホログラム(回折構造パターン)を得ることができる。 And it returns to process S2 and Fourier-transform is given to the value. Thereafter, the same processing as described above is performed, and the process can be repeated until the condition of step S3 is satisfied (until convergence) to obtain a final desired computer generated hologram (diffraction structure pattern).
このようにして各回折構造パターン13aを得て、単独、又は複数種類の回折構造パターンを上記のように組み合わせることにより単位回折構造13を得て、これが導光方向、及び光源配列方向に並べられることにより、回折構造層12の形態を得ることができる。
Thus, each
次に、得られた回折構造層の形態に基づいて型を作製してこれにより導光板10を成形する工程について説明する。
Next, a process of producing a mold based on the form of the obtained diffractive structure layer and thereby forming the
本例では導光板10の形態が連続してなる導光板用帯状シート10’(図17参照)を押し出し法により作製し、ここから所定の大きさで抜き打ちすることにより導光板10を得る方法を説明する。具体的には次の通りである。
本例では、押し出し法により導光板用帯状シート10’を製作するに先立ち、プリズム11aの形状を賦形できる金型ロール50、及び回折構造層12の形状を賦形できる賦型シート60を準備する。図15(a)に金型ロール50の形態を概念的な斜視図で示した。また、図15(b)には金型ロール50の表面に形成される溝51の長手方向に直交する断面形状を表した。一方、図16(a)に賦形シート60の形態を概念的な斜視図で示した。また、図16(b)には賦形シート60の表面に形成される溝61の長手方向に直交する断面形状を表した。なお、本例は図11に示した第1の例に係る回折構造層12により説明する。
In this example, a method of obtaining the
In this example, prior to manufacturing the light
金型ロール50は上記のようにプリズム11aの形状を賦形できるロール状の金型である。従って金型ロール50は、図15(b)に示したようにプリズム11aの凸部形状に対応する形状の溝51をその外周面に具備している。溝51は、図15(a)からわかるようにロール状である金型の回転軸に沿った方向に延び、周方向に複数の溝51が並べられている。複数の溝51の配列ピッチは導光板10のプリズム11aの配列ピッチに対応している。
The
賦形シート60は上記のように回折構造層12の形状を賦形できる帯状のシートである。従って賦形シート60には、図16(b)に示したように回折構造層12の形状に対応する複数の溝61が一方側のシート面に形成されている。溝61は、図16(a)からわかるように帯状であるシートの長手方向(賦形シートの送り方向)に沿った方向に延び、シートの幅方向に複数の溝61が並べられている。複数の溝61の配列ピッチは上記得られた回折構造パターンに対応している。賦形シートの形成は例えば次のような方法を用いることができる。
The shaped
まず、合成石英等の基板上に表面低反射クロム薄膜を積層したフォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング耐性のあるレジスト層を薄膜状に形成する。ドライエッチング用レジストとしては、一例として、日本ゼオン株式会社製のZEP7000等を使用することができ、レジストの積層は、スピンナー等を用いた回転塗付によって行なう。
このレジスト層に対し、パターン露光を行なうが、パターン露光は、板状のパターン、レーザー描画装置によるレーザービームの走査、又は電子線描画装置による電子線の走査によりおこなうことができる。
この露光によりレジスト樹脂が硬化した易溶化部分と、未露光部分と、が形成されるので、現像液を噴霧して行なうスプレー現像等によって、溶剤現像して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成する。
First, a resist layer having dry etching resistance is formed in a thin film shape on a chromium thin film of a photomask blank plate in which a surface low-reflection chromium thin film is laminated on a substrate such as synthetic quartz. As an example of the resist for dry etching, ZEP7000 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. can be used. The resist is laminated by spin coating using a spinner or the like.
The resist layer is subjected to pattern exposure. The pattern exposure can be performed by a plate-like pattern, laser beam scanning with a laser drawing apparatus, or electron beam scanning with an electron beam drawing apparatus.
This exposure forms a readily soluble part in which the resist resin is cured and an unexposed part. Therefore, the resist pattern is formed by removing the easily soluble part by solvent development by spray development performed by spraying a developer. Form.
形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングにより、レジストで被覆されていない部分のクロム薄膜を除去し、除去した部分において、下層の石英基板を露出させる。次いで、露出した石英基板に対して、同様にドライエッチングを施して、石英基板をエッチングし、エッチングの進行により生じた凹部と、クロム薄膜およびレジスト薄膜とが下から順に被覆している石英基板の元の部分からなる凸部とを形成する。この後、レジスト薄膜を溶解等により除去し、石英基板がエッチングされて生じた凹部と、頂部にクロム薄膜が積層した部分からなる凸部とを有する石英基板を得る。 Using the formed resist pattern, the portion of the chromium thin film not covered with the resist is removed by dry etching, and the underlying quartz substrate is exposed in the removed portion. Next, dry etching is similarly performed on the exposed quartz substrate, and the quartz substrate is etched. The quartz substrate in which the concave portion generated by the progress of etching, the chromium thin film, and the resist thin film are sequentially coated from the bottom. A convex portion made of the original portion is formed. Thereafter, the resist thin film is removed by dissolution or the like, and a quartz substrate having a concave portion formed by etching the quartz substrate and a convex portion composed of a portion where a chromium thin film is laminated on the top is obtained.
以上の方法のみでは、凸部と凹部の、2値的(高低の2段、深さとしては、元の石英基板の表面に加えて、もうひとつのレベルの面が生じる。)のものしか得られないが、上記で得られたものに対し、さらにレジストの形成→パターン露光→レジストの現像→クロム薄膜のドライエッチング→石英基板のドライエッチング→レジスト除去からなる、フォトエッチングの工程を繰り返すことにより、1回目のフォトエッチングにより生じた凹部、および凸部に対してさらにフォトエッチングを施すことができる。これを複数回繰り返すことにより、複数の高低差を有する凹凸を精度よく得ることが可能である。このようにして、所定の段数を得た後、クロム薄膜をウェットエッチングにより除去し、石英基板表面に所定の段数の深さの凹凸が形成された計算機ホログラムの型を得ることができる。
この凹凸型をもとに、フィルム表面塗布された樹脂などの表面に凹凸形状を形成し、賦型シートを得ることができる。
With only the above method, only a binary part of the convex part and the concave part (high and low two steps, and a depth of another level surface occurs in addition to the surface of the original quartz substrate) is obtained. However, by repeating the photo-etching process consisting of resist formation → pattern exposure → resist development → dry etching of chromium thin film → dry etching of quartz substrate → resist removal for those obtained above Photoetching can be further performed on the concave portions and the convex portions generated by the first photoetching. By repeating this a plurality of times, it is possible to accurately obtain a plurality of irregularities having a height difference. In this way, after obtaining the predetermined number of steps, the chromium thin film is removed by wet etching to obtain a computer generated hologram type in which irregularities with a predetermined number of steps are formed on the surface of the quartz substrate.
Based on this concavo-convex mold, a concavo-convex shape can be formed on the surface of a resin or the like coated on the film surface to obtain a shaped sheet.
また、図10のような一次元パターンを得る場合は、凹凸形状の全体、または、一部を加工した切削用バイトを準備し、メッキ加工したロールに、旋盤加工によりロール版を作成する。この版を用いて、フィルム表面塗布された樹脂などの表面に凹凸形状を形成し、賦型シートを得ることができる。 When a one-dimensional pattern as shown in FIG. 10 is obtained, a cutting tool in which the whole or a part of the concavo-convex shape is processed is prepared, and a roll plate is created by lathe processing on a plated roll. Using this plate, an uneven shape can be formed on the surface of a resin or the like coated on the film surface to obtain a shaped sheet.
以上のように準備された金型ロール50、及び賦形シート60等を次のように配置するとともに、材料を供給して押し出し法により導光板10が備えている凹凸形状を含む導光板用帯状シート10’を得る。図17に概念的な説明図を示した。すなわち、金型ロール50と、該金型ロール50に対して所定の間隙を有して配置される送りロール70と、の間に賦形シート60を順次送り出し、さらに賦形シート60と金型ロール50との間に溶融した熱可塑性樹脂をノズル74から流入する。ここで賦形シート60の送り方向は帯状である賦形シート60の長手方向である。また、流入される熱可塑性樹脂の形態は金型ロール50及び賦形シート60の幅方向大きさと同程度の大きさ(幅)を有する帯状であることが好ましい。これにより幅方向に均一な材料供給が可能である。
The
供給された熱可塑性樹脂は金型ロール50と賦形シート60との間に所定の圧力を具備しつつ流入する。これにより熱可塑性樹脂が金型ロール50及び賦形シート60の溝51、61にそれぞれ充填され、熱可塑性樹脂が溝51、61に沿った形状となる。そして最終的に熱可塑性樹脂が硬化して形状が固定されて導光板用帯状シート10’となる。より詳しくは、金型ロール50と賦形シート60との間から出た導光板用帯状シート10’は、賦形シート60を伴って金型ロール50側の外周に追随して移動し、ニップロール71、及び離型ロール72を経て離型される。そして、分離ロール73で、導光板用帯状シート10’と賦形シート60とを分離する。導光板用帯状シート10’は巻き取られてシートロールとされる。
そしてシートロールを巻き戻しつつ、所定の大きさに打ち抜くことにより導光板10を得る。
The supplied thermoplastic resin flows between the
And the
このような押し出し加工による製造は射出成型やプレス成型に比べて連続性が高く、効率よく薄い導光板を製造することができる。
本例で金型ロール50及び賦形シート60により概ね同時に表裏の凹凸を形成する例を挙げたが、これに限定されることなく、いずれか一方を先行させて他方をその後に形成する態様であってもよい。
Manufacturing by such an extrusion process has higher continuity than injection molding and press molding, and can efficiently manufacture a thin light guide plate.
Although the example which forms the unevenness | corrugation of front and back by the
図1〜図3に戻って、光源29について説明する。光源29は、導光板10の基部11の端面のうち入光面に対向して配置される。従って光源29は、導光板10の導光方向一端側に配置される。光源の種類は特に限定されるものではないが、線状の冷陰極管等の蛍光灯、点状のLED(発光ダイオード)、又は白熱電球等の種々の態様で構成され得る。本実施形態では光源29は複数のLEDが光源配列方向に並べて配置され、不図示の制御装置により各LEDの出力、すなわち、各LEDの点灯および消灯、および/又は、各LEDの点灯時の明るさを、他のLEDの出力から独立して調節し得るように構成されている。
Returning to FIGS. 1 to 3, the
次に偏向光学シート30について説明する。図1、図2からわかるように、偏向光学シート30は、シート状に形成された本体部31と、本体部31の面のうち、導光板10に対向する面、つまり入光側面に設けられた単位プリズム部32と、を有している。
Next, the deflection
この偏向光学シート30は、後述するように、入光側から入射した光の進行方向を変化(偏向)させて出光側から出射させ、正面方向(法線方向)の輝度を集中的に向上させる機能(集光機能)を有している。この集光機能は、主として、偏向光学シート30のうち、単位プリズム部32によって発揮される。
As will be described later, the deflection
図1〜図3に示すように、本体部31は、単位プリズム部32を支持する機能を有した平板状のシート状部材である。そして、本体部31の面のうち、導光板10に対面する側とは反対側の面が出光側面となる。本実施形態において、本体部31の出光側面は、平坦(平ら)で平滑な面として形成されている。ただし、出光側面は平滑面であることに限定されることはなく、微小な凹凸が付された面(いわゆるマット面)であってもよく、必要に応じた表面形態を適用することが可能である。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
単位プリズム部32は、図1〜図3によく表れているように、複数の単位プリズム32aが本体部31の入光側面に沿って並べられるように配置されている。より具体的には、単位プリズム32aは、当該並べられる方向に直交する方向に、図2に示した三角形断面形状を維持して延びるように形成された柱状の部材である。その延在する方向は、単位プリズム32aが並べられる方向に直交する方向である他、上記した導光板10の導光方向に対して90度ずれた方向である。
The
次に単位プリズム32aの並列方向の断面形状について説明する。図18は、図2のうち、偏向光学シート30の一部を拡大した図である。ここでndは本体部31のシート面の法線方向を表わしている。
Next, the sectional shape of the
図14からわかるように、本実施形態では、単位プリズム32aは本体部31の導光板10側の面が、突出した二等辺三角形の断面を有している。つまり、本体部31のシート面と平行な方向の単位プリズム32aの幅は、本体部31の法線方向ndに沿って本体部31から離れるにつれて小さくなる。
As can be seen from FIG. 14, in this embodiment, the
また、本実施形態では、単位プリズム32aの外輪郭は、本体部31の法線方向ndと平行な軸を対称軸として、線対称となっており、断面が二等辺三角形である。これにより、偏向光学シート30の出光面における輝度は、単位プリズム32aの並列方向に平行な面において、正面方向を中心として対称的な輝度の角度分布を有するようになる。
In the present embodiment, the outer contour of the
ここで、単位プリズム32aの寸法は特に限定されるものではないが、頂角θ1(図18参照)は60°〜70°、底辺幅Wは50μm程度とすることにより適切な集光特性を得ることができることが多い。
Here, the dimensions of the
以上のような構成を有する偏向光学シート30は、押し出し成型により、又は、本体部31上に単位プリズム32aを賦型することにより、製造することができる。偏向光学シート30をなす材料としては、種々の材料を使用することができる。ただし、表示装置に組み込まれる光学シート用の材料として広く使用され、優れた機械的特性、光学特性、安定性および加工性等を有するとともに安価に入手可能な材料、例えば、アクリル、スチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリロニトリル等の一以上を主成分とする透明樹脂や、エポキシアクリレートやウレタンアクリレート系の反応性樹脂(電離放射線硬化型樹脂等)が好適に使用され得る。
The deflecting
本実施形態では上記のように断面形状が三角形である単位プリズムについて説明したが、これに限定されるものでなく、当該三角形の頂点部が短い上底となる台形であってもよい。また斜辺の形状が折れ線状や曲線であってもよい。 In the present embodiment, the unit prism having a triangular cross section as described above has been described. However, the present invention is not limited to this, and a trapezoid having a short upper base at the apex of the triangle may be used. The shape of the hypotenuse may be a polygonal line or a curve.
図1〜図3に戻って、面光源装置1の反射シート40について説明する。反射シート40は、導光板10の裏面から出射した光を反射して、再び導光板10内に光を入射させるための部材である。反射シート40は、金属等の高い反射率を有する材料からなるシート、高い反射率を有する材料からなる薄膜(例えば金属薄膜)を表面層として含んだシート等のいわゆる鏡面反射を可能とするものを好ましく適用することができる。これにより、光の収束性を向上させることが可能となり、エネルギー利用効率を向上させることができる。
Returning to FIGS. 1 to 3, the
次に、以上のような構成を有する導光板10、及びこれを備える面光源装置1の作用について、光路例を示しつつ説明する。
Next, operations of the
まず、図2に示すように、光源29から出射された光は、導光板10の入光面を介して導光板10内に入射する。図2には、一例として、光源29から導光板10に入射した光L21、L22の光路例が示されている。ここで、光源29から出射された光が効率よく入光面から導光板10内に入るために、該入光面が平滑面であることが好ましい。
First, as shown in FIG. 2, the light emitted from the
図2に示すように、導光板10へ入射した光L21、L22は、導光板10の回折構造層12の面およびその反対側の裏面において、空気との屈折率差による全反射を繰り返して導光方向へ進んでいく。
As shown in FIG. 2, the light L21 and L22 incident on the
ただし、導光板10の基部11のうち裏面には、プリズム11aが設けられている。このため、図2に示すように、導光板10内を進む光L21、L22は、プリズム11aの斜め界面によって進行方向を変更され、全反射臨界角未満の入射角度で回折構造層12及び裏面に入射することもある。この場合、当該光は、導光板10の回折構造層12及び裏面から出射し得る。
However, a
回折構造層12出射した光L21、L22は、導光板10の出光側に配置された偏向光学シート30へと向かう。一方、裏面から出射した光は、導光板10の背面に配置された反射シート40で反射され、再び導光板10内に入射して導光板10内を進むことになる。
The lights L21 and L22 emitted from the
プリズム11aは所定の間隔を有して配置されているため、導光板10内を進んでいる光は、少しずつ、出光面から出射するようになる。これにより、導光板10の回折構造層12から出射する光の導光方向に沿った光量分布を均一化させることができる。
Since the
導光板10の回折構造層12は、例えば図3に光L31、L32、L33で示したように上記した各例に従い光を拡散して出射する。これにより出射光を均一性の高い光にすることができる。特に光源配列方向に拡散成分を有する回折構造層であれば、回折構造により透過回折した光と、反射回折光が導光板内部を繰り返し反射、回折しながら表面から出る光とが、複雑に合成され、光源が所定の間隔で配列されていることによる輝度ムラを解消することが可能となる。
The
図18を参照しつつ引き続き光路について説明する。導光板10を出射した光は、その後、偏向光学シート30に入射する。偏向光学シート30の単位プリズム32aは、単位プリズム32aの入光面での屈折及び全反射によって透過光に対して集光作用を及ぼす。偏向光学シート30では、偏向光学シート30のうち導光方向の成分を集光する。すなわち、図18にL111で示したように、単位プリズム32aに入射した光は、単位プリズム32aと空気との屈折率差に基づいてその界面で全反射する。そのとき、単位プリズム32aの斜辺はシート面法線ndに対してθ1/2傾いているので、界面における反射光は入射光よりも法線ndに近付けられる角度となる。
The optical path will be described with reference to FIG. The light emitted from the
以上説明した導光板10について、図19に示したように、面光源装置1の出光側に液晶パネル201及び光学シート202を備えることにより液晶表示装置を形成することが可能となる。これら液晶パネル201及び光学シート202は公知の構造を適用することができる。
With respect to the
1 面光源装置
10 導光板
11 基部
12 回折構造層
13 単位回折構造
13a 回折構造パターン
29 光源
30 偏向光学シート
31 本体部
32 単位プリズム部
40 反射シート
50 金型ロール
51、61 溝
60 賦型シート
70 送りロール
71 ニップロール
72 離型ロール
73 分離ロール
74 ノズル
200 液晶表示装置
201 液晶パネル
202 光学シート
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記出光面には、凹凸が形成されることによりなる回折構造パターンが具備された回折構造層を備え、
前記回折構造パターンは、稜線が1次元及び/又は2次元に延びる凹凸形状により形成され、少なくとも1次光により拡散光を出射する構造を有する、導光板。 A light guide plate that emits light from a light exit surface while allowing light from a light source to enter and guide the light in a light guide direction,
The light exit surface includes a diffractive structure layer provided with a diffractive structure pattern formed by forming irregularities,
The diffractive structure pattern is a light guide plate having a structure in which a ridge line is formed by an uneven shape extending in one dimension and / or two dimensions and emits diffused light by at least primary light.
前記導光板の前記導光方向の一端側に形成される入光面に対向して配置される光源と、
前記導光板の前記回折構造層に対向するように配置され、前記回折構造層に対して凸となる複数の単位プリズムが配列された偏向光学シートと、を備える、面光源装置。 The light guide plate according to any one of claims 1 to 3,
A light source disposed opposite to a light incident surface formed on one end side in the light guide direction of the light guide plate;
A surface light source device, comprising: a deflecting optical sheet that is disposed so as to face the diffractive structure layer of the light guide plate and in which a plurality of unit prisms that are convex with respect to the diffractive structure layer are arranged.
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