JP2014071419A - Optical film, and manufacturing method therefor - Google Patents

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Hirokazu Koyama
博和 小山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which can be produced with high productivity and offers superior durability, and to provide a manufacturing method therefor.SOLUTION: An optical film which includes: an optical interference film comprising a high refractive index layer containing at least titanium oxide particles and a low refractive index layer containing at least silicon oxide particles laminated on a transparent substrate, and selectively reflects light in a predefined wavelength range. The high refractive index layer is formed by alternately spray-coating a coating liquid containing a first water-soluble polymer and cationic titanium oxide particles and another coating liquid containing a second water-soluble polymer and anionic titanium oxide particles, while the low refractive index layer is formed by alternately spray-coating a coating liquid containing a third water-soluble polymer and cationic silicon oxide particles and another coating liquid containing a fourth water-soluble polymer and anionic silicon oxide particles.

Description

本発明は、生産性、曲げ耐性に優れる特定の波長領域の光を選択的に反射する光学フィルム及びその製造方法に関し、特に、紫外光反射フィルム、遮熱フィルム、可視光反射フィルム等に好適に使用できる光学フィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical film that selectively reflects light in a specific wavelength region that is excellent in productivity and bending resistance, and a method for producing the same, and particularly suitable for an ultraviolet light reflection film, a heat shield film, a visible light reflection film, and the like. It is related with the optical film which can be used, and its manufacturing method.

従来、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互積層して作製される光学フィルムにおいて、屈折率層の光学膜厚を調整することで、特定の波長領域の光を反射させるように設計できることが知られている。   Conventionally, in an optical film produced by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate, light in a specific wavelength region is reflected by adjusting the optical film thickness of the refractive index layer. It is known that it can be designed as follows.

このような薄膜形成技術として、アニオン性有機層とカチオン性有機層をディップ法により塗布、乾燥して積層して膜を形成する方法が提供されているが(例えば、特許文献1参照)、当該ディップ法は処理工程が煩雑であり、生産性が低い。   As such a thin film forming technique, there is provided a method of forming a film by applying an anionic organic layer and a cationic organic layer by a dip method, drying and laminating (see, for example, Patent Document 1). In the dip method, the processing steps are complicated and the productivity is low.

また、スプレー塗布によりアニオン性有機層とカチオン性無機層とを交互積層して焼成し、薄膜を形成する方法も提供されているが(例えば、特許文献2参照)、膜厚が数nmから数十nmの範囲の超薄膜のみしか作製できない。   In addition, a method of forming a thin film by alternately laminating an anionic organic layer and a cationic inorganic layer by spray coating to form a thin film is also provided (for example, see Patent Document 2). Only ultra-thin films in the range of 10 nm can be produced.

そこで、所望の膜厚の薄膜を形成することが可能な方法として、ガラス基材上に有機物と酸化チタン粒子をスプレー塗布によって交互積層した後に焼成して有機物を除去し、更に、有機物とシリカ粒子をスプレー塗布によって交互積層した後に焼成して有機物を除去する一連の処理を繰り返して薄膜を形成する方法が提供されている(例えば、非特許文献1参照)。   Therefore, as a method capable of forming a thin film having a desired film thickness, organic substances and titanium oxide particles are alternately laminated on a glass substrate by spray coating and then baked to remove the organic substances, and further, organic substances and silica particles. There is provided a method for forming a thin film by repeating a series of treatments in which organic substances are removed by firing after alternately laminating layers by spray coating (see, for example, Non-Patent Document 1).

特開2003−203099号公報JP 2003-203099 A 米国特許第8234998号明細書US Pat. No. 8,234,998

Langmuir 2011,27,7860−7867Langmuir 2011, 27, 7860-7867

しかしながら、上記した非特許文献1に記載の従来技術にあっては、基材上に形成された薄膜の曲げ耐性が低い。また、有機物を除去すべく焼成処理を行う必要があるため、基材が樹脂フィルム等である場合には適用することができず、しかも、塗布処理及び焼成処理を繰り返す方法であるため生産性が低い。   However, in the prior art described in Non-Patent Document 1, the bending resistance of the thin film formed on the substrate is low. In addition, since it is necessary to perform a baking treatment to remove organic substances, it cannot be applied when the substrate is a resin film or the like, and the productivity is high because it is a method of repeating the coating treatment and the baking treatment. Low.

そこで、本発明は、曲げ耐性及び生産性に優れる光学フィルム及びその製造方法を提供することを目的としている。   Then, an object of this invention is to provide the optical film excellent in bending tolerance and productivity, and its manufacturing method.

本発明の上記目的を達成するため、本発明の一態様によれば、
透明基材上に、少なくとも酸化チタン粒子を含有する高屈折率層と、少なくとも酸化ケイ素粒子を含有する低屈折率層とが積層されてなる光学干渉膜を有し、所定の波長領域の光を選択的に反射する光学フィルムにおいて、
前記高屈折率層は、第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液とが交互にスプレー塗布されて形成され、
前記低屈折率層は、第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液とが交互にスプレー塗布されて形成されていることを特徴とする光学フィルムが提供される。
In order to achieve the above object of the present invention, according to one aspect of the present invention,
An optical interference film formed by laminating a high refractive index layer containing at least titanium oxide particles and a low refractive index layer containing at least silicon oxide particles on a transparent substrate, and In an optical film that selectively reflects,
The high refractive index layer includes a coating liquid containing a first water-soluble polymer and cationic titanium oxide particles, and a coating liquid containing a second water-soluble polymer and anionic titanium oxide particles. Formed by spraying,
The low refractive index layer includes a coating solution containing a third water-soluble polymer and cationic silicon oxide particles, and a coating solution containing a fourth water-soluble polymer and anionic silicon oxide particles. An optical film is provided that is formed by spray coating.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
前記アニオン性酸化チタン粒子が、含ケイ素水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子である。
In the optical film, preferably
The anionic titanium oxide particles are titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とが異なるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とが異なる。
In the optical film, preferably
At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are different, or the third water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer are different.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とが同種の水溶性高分子であって特性が異なるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とが同種の水溶性高分子であって特性が異なる。
In the optical film, preferably
At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are the same type of water-soluble polymer and have different characteristics, or the third water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer are different from each other. The water-soluble polymer is the same type of water-soluble polymer and has different characteristics.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とがケン化度及び/又は重合度が異なるポリビニルアルコールであるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とがケン化度及び/又は重合度が異なるポリビニルアルコールである。
In the optical film, preferably
At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are polyvinyl alcohols having different saponification degrees and / or polymerization degrees, or the third water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are the same. The four water-soluble polymers are polyvinyl alcohols having different saponification degrees and / or polymerization degrees.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
紫外光を反射する紫外光反射フィルムとして用いられる。
In the optical film, preferably
Used as an ultraviolet light reflecting film that reflects ultraviolet light.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
赤外光を反射する赤外光反射フィルムとして用いられる。
In the optical film, preferably
Used as an infrared light reflecting film that reflects infrared light.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
可視光を反射する可視光反射フィルムとして用いられる。
In the optical film, preferably
Used as a visible light reflecting film that reflects visible light.

上記光学フィルムにおいて、好ましくは、
反射防止フィルムとして用いられる。
In the optical film, preferably
Used as an antireflection film.

また、本発明の他の態様によれば、
透明基材上に、少なくとも酸化チタン粒子を含有する高屈折率層と、少なくとも酸化ケイ素粒子を含有する低屈折率層とが積層されてなる光学干渉膜を有し、所定の波長領域の光を選択的に反射する光学フィルムの製造方法において、
第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液とを交互にスプレー塗布して前記高屈折率層を形成する工程と、
第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液とを交互にスプレー塗布して前記低屈折率層を形成する工程と、を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法が提供される。
According to another aspect of the invention,
An optical interference film formed by laminating a high refractive index layer containing at least titanium oxide particles and a low refractive index layer containing at least silicon oxide particles on a transparent substrate, and In the method for producing a selectively reflecting optical film,
The coating solution containing the first water-soluble polymer and the cationic titanium oxide particles and the coating solution containing the second water-soluble polymer and the anionic titanium oxide particles are alternately spray-coated, and the high Forming a refractive index layer;
The coating solution containing the third water-soluble polymer and the cationic silicon oxide particles and the coating solution containing the fourth water-soluble polymer and the anionic silicon oxide particles are alternately spray-coated, and the low And a step of forming a refractive index layer. A method for producing an optical film is provided.

本発明によれば、曲げ耐性及び生産性の高い光学フィルム、及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an optical film having high bending resistance and high productivity, and a manufacturing method thereof.

本発明に係る光学フィルムを製造する製造装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the manufacturing apparatus which manufactures the optical film which concerns on this invention.

以下、本発明とその構成要素、および本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をするが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本発明において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用する。
Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to these.
In the present invention, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

本発明に係る光学フィルムは、透明基材上に、高屈折率層と低屈折率層とを積層して形成される光学干渉膜を有するものである。高屈折率層は、酸化チタンを含有するカチオン性微粒子と、酸化チタンを含有するアニオン性微粒子とを交互にスプレー塗布して形成され、低屈折率層は、酸化ケイ素を含有するカチオン性微粒子と、酸化ケイ素を含有するアニオン性微粒子とを交互にスプレー塗布して形成されている。   The optical film according to the present invention has an optical interference film formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer on a transparent substrate. The high refractive index layer is formed by alternately spraying cationic fine particles containing titanium oxide and anionic fine particles containing titanium oxide, and the low refractive index layer is made of cationic fine particles containing silicon oxide. The anionic fine particles containing silicon oxide are alternately spray-coated.

《膜設計》
本発明に係る光学フィルムおいては、隣接する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率差が、0.2以上が好ましく、より好ましくは0.3以上である。また、上限に特に制限はないが通常1.4以下である。ここで高屈折率層と低屈折率層の屈折率差は、実際には高屈折領域の最大屈折率点と低屈折率領域の最低屈折率点の差である。
<Membrane design>
In the optical film according to the present invention, the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.2 or more, more preferably 0.3 or more. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in an upper limit, Usually, it is 1.4 or less. Here, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is actually the difference between the maximum refractive index point in the high refractive index region and the minimum refractive index point in the low refractive index region.

隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、より少ない層数で反射率を高くすることができる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、n・d=波長/4、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御でき、反射率を上げることができる。ここで、nは屈折率、またdは層の物理膜厚、n・dは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御できる。反射中心波長を設定すると、この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率を向上させることができる。   Reflection at the interface between adjacent layers depends on the refractive index ratio between the layers, so that the larger the refractive index ratio, the higher the reflectance can be achieved with a smaller number of layers. In addition, when the optical path difference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the bottom of the layer is a relationship expressed by n · d = wavelength / 4 when viewed as a single layer film, the reflected light is controlled to be strengthened by the phase difference. The reflectance can be increased. Here, n is the refractive index, d is the physical film thickness of the layer, and n · d is the optical film thickness. By utilizing this optical path difference, reflection can be controlled. When the reflection center wavelength is set, this relationship is used to control the refractive index and film thickness of each layer to control the reflection of visible light and near infrared light. That is, the reflectance in a specific wavelength region can be improved by the refractive index of each layer, the film thickness of each layer, and the way of stacking each layer.

本発明に係る光学フィルムにおいては、例えば、可視光平均反射率が30%以上、100%以下の領域を設けるように設計することができる。そのような光学反射フィルムにおいては、高屈折率層の好ましい屈折率としては1.70〜2.50であり、より好ましくは1.80〜2.20である。また、低屈折率層の好ましい屈折率としては1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.55である。可視光反射の好ましい膜厚は、前記n・d=波長/4の式に従い、1層が30nm〜130nmであり、より好ましくは、50nm〜85nmである。
なお、可視光平均反射率とは、分光光度計(日立製作所社製 U−4000型)に5°反射ユニットを付け、光学反射層の面側を測定面にして、400〜700nmの領域で、2nm間隔で151点の反射率を測定し、得られた反射率を全て足し合わせた値を、151で除することで測定することができる。
In the optical film which concerns on this invention, it can design so that a visible light average reflectance may provide the area | region of 30% or more and 100% or less, for example. In such an optical reflection film, the preferable refractive index of the high refractive index layer is 1.70 to 2.50, more preferably 1.80 to 2.20. Moreover, as a preferable refractive index of a low refractive index layer, it is 1.10-1.60, More preferably, it is 1.30-1.55. The preferred film thickness for visible light reflection is 30 nm to 130 nm for one layer, more preferably 50 nm to 85 nm, according to the formula n · d = wavelength / 4.
The average visible light reflectance is a range of 400 to 700 nm with a spectrophotometer (U-4000 type manufactured by Hitachi, Ltd.) attached with a 5 ° reflection unit, with the surface side of the optical reflection layer as the measurement surface, The reflectivity at 151 points is measured at intervals of 2 nm, and the value obtained by adding all the obtained reflectivities can be measured by dividing by 151.

本発明における高屈折率層及び低屈折率層からなる交互積層ユニットにおいては、何れか一つの層に膜厚600nm〜1200nmの厚膜層を好ましく用いることができる。厚膜層とすることで、(1)反射する波長域をブロード化できる、(2)支持体との隣接層に用いた場合、支持体との密着性を向上できる、(3)厚膜が応力緩和の機能を発揮し積層膜付きフィルムの物性を向上できる、等の効果が得られる。より好ましくは、700nm以上〜1000nmである。   In the alternately laminated unit comprising the high refractive index layer and the low refractive index layer in the present invention, a thick film layer having a film thickness of 600 nm to 1200 nm can be preferably used for any one layer. By using a thick film layer, (1) the reflected wavelength range can be broadened, (2) when used in a layer adjacent to the support, the adhesion to the support can be improved, (3) the thick film is The effect of exhibiting the function of stress relaxation and improving the physical properties of the film with a laminated film can be obtained. More preferably, it is 700 nm to 1000 nm.

本発明においては複数の交互積層ユニットを用いることができる。各ユニットごとに光学膜厚を変更することにより、(1)反射する波長域をブロード化できる、(2)バンドのエッジを急峻化できる、(3)リップルを低減できる、(4)高次の反射を抑制できる、(5)入射角変化によりバンドシフトを低減できる、(6)偏光違いで光学反射特性が変化するのを抑制できる、等の効果があり有用である。特に(1)では、可視光反射ユニットと近赤外光反射ユニットを積層することにより、光吸収剤を用いることなく、全て反射モードで遮熱フィルムを形成でき、製造コストや熱吸収することがないので熱割れ防止のメリットが大きい。   In the present invention, a plurality of alternately laminated units can be used. By changing the optical film thickness for each unit, (1) the reflected wavelength range can be broadened, (2) the band edge can be sharpened, (3) ripple can be reduced, (4) higher order Reflection can be suppressed, (5) the band shift can be reduced by changing the incident angle, and (6) the optical reflection characteristics can be suppressed from being changed due to different polarizations. Especially in (1), by laminating the visible light reflection unit and the near infrared light reflection unit, it is possible to form a heat-shielding film in the reflection mode without using a light absorber, and to manufacture and absorb heat. There is no merit in preventing thermal cracking.

本発明においては、高屈折率層及び低屈折率の交互積層ユニットで構成され、該高屈折率層及び該低屈折率層の総層数をnとした場合、n/2の位置、即ち総層数の1/2の位置を基準として、それより透明基材側の構成層(下層部領域ともいう)の総膜厚をΣd1、基準位置から最表層までの構成層(上層部領域ともいう)の総膜厚をΣd2としたとき、膜厚比Σd1/Σd2が1.05以上、1.80以下であることが好ましい。   In the present invention, it is composed of alternating high-refractive index layers and low-refractive index alternating layer units, where n is the total number of the high-refractive index layers and the low-refractive index layers, that is, the total number of layers. The total film thickness of the constituent layer (also referred to as the lower layer region) on the transparent base material side is Σd1, and the constituent layer from the reference position to the outermost layer (also referred to as the upper layer region) with reference to the position of 1/2 the number of layers. ) Is the total film thickness Σd2, the film thickness ratio Σd1 / Σd2 is preferably 1.05 or more and 1.80 or less.

総層数nが偶数である場合には、層1〜層n/2までの下層部領域と、層n/2+1〜層nまでの上層部領域との境界領領域(n/2)は、層n/2と層n/2+1との界面となる。また、総層数nが奇数である場合には、境界領領域(n+1/2)に該当する層を基準として、境界領領域(n+1/2)に該当する層の下層側で、境界領領域(n+1/2)に該当する層を除いた透明基材までの構成層の総膜厚をΣd1とし、界領領域(n+1/2)に該当する層の上層側で、境界領領域(n+1/2)に該当する層を除いた最表層までの構成層の総膜厚をΣd2と定義する。   When the total number n of layers is an even number, the boundary region (n / 2) between the lower layer region from layer 1 to layer n / 2 and the upper layer region from layer n / 2 + 1 to layer n is It becomes an interface between the layer n / 2 and the layer n / 2 + 1. Further, when the total number n of layers is an odd number, the boundary area on the lower layer side of the layer corresponding to the boundary area (n + 1/2) with reference to the layer corresponding to the boundary area (n + 1/2). The total film thickness of the constituent layers up to the transparent substrate excluding the layer corresponding to (n + 1/2) is Σd1, and on the upper layer side of the layer corresponding to the boundary region (n + 1/2), the boundary region (n + 1 / The total film thickness of the constituent layers up to the outermost layer excluding the layer corresponding to 2) is defined as Σd2.

《光学干渉膜》
本発明に係る光学フィルムは、透明基材上に、高屈折率層と低屈折率層が積層して構成される光学干渉膜が設けられている。これらの高屈折率層と低屈折率層について、以下説明する。なお、高屈折率層及び低屈折率層に含有される金属酸化物微粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
<Optical interference film>
The optical film according to the present invention is provided with an optical interference film formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer on a transparent substrate. These high refractive index layer and low refractive index layer will be described below. The average particle diameter of the metal oxide fine particles contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer was determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the layer with an electron microscope and 1,000 arbitrary The particle diameter of each particle is measured and obtained as a simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

《高屈折率層》
本発明における高屈折率層は、第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、をスプレー塗布により交互に塗布して形成され、第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子が含有される層と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子が含有される層と、が交互に積層されて構成されている。
《High refractive index layer》
The high refractive index layer in the present invention comprises a coating liquid containing a first water-soluble polymer and cationic titanium oxide particles, a coating liquid containing a second water-soluble polymer and anionic titanium oxide particles, Are formed by alternately applying by spray coating, the layer containing the first water-soluble polymer and the cationic titanium oxide particles, and the second water-soluble polymer and the anionic titanium oxide particles are contained. Layers are alternately stacked.

高屈折率層には、カチオン性酸化チタン粒子、アニオン性酸化チタン粒子、第一の水溶性高分子、第二の水溶性高分子以外にも、必要に応じて、硬化剤、アミノ酸、各種添加剤等が選択されて含有されている。
また、高屈折率層の1層当たりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、用途により適宜決めることができる。
In addition to the cationic titanium oxide particles, anionic titanium oxide particles, the first water-soluble polymer, and the second water-soluble polymer, the high refractive index layer may contain a curing agent, amino acid, and various additives as necessary. An agent or the like is selected and contained.
Further, the thickness per layer of the high refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and can be appropriately determined depending on the application.

高屈折率層に含有される酸化チタンとしては、高屈折率層を構成する金属酸化物粒子含有組成物の安定性の観点からTiO(二酸化チタンゾル)が用いられることが好ましい。また、TiOの中でも特にアナターゼ型よりルチル型の方が、触媒活性が低いために高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。 As titanium oxide contained in the high refractive index layer, TiO 2 (titanium dioxide sol) is preferably used from the viewpoint of stability of the metal oxide particle-containing composition constituting the high refractive index layer. Of TiO 2 , rutile type is more preferable than anatase type because the high refractive index layer and the adjacent layer have high weather resistance due to low catalytic activity, and the refractive index is high.

(1)カチオン性酸化チタン粒子
本発明において、カチオン性酸化チタン粒子としては、例えば、ルチル型二酸化チタン粒子が用いられる。
ルチル型二酸化チタン粒子は、以下に説明する方法により調製することができる。
(1) Cationic titanium oxide particles In the present invention, for example, rutile titanium dioxide particles are used as the cationic titanium oxide particles.
Rutile-type titanium dioxide particles can be prepared by the method described below.

ルチル型二酸化チタンの調製方法は、工程(1)及び工程(2)からなる。
工程(1)は、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸化物及びアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物で処理する工程である。
The preparation method of rutile type titanium dioxide consists of a process (1) and a process (2).
Step (1) is a step of treating titanium dioxide hydrate with at least one basic compound selected from the group consisting of alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides.

二酸化チタン水和物は、硫酸チタン、塩化チタン等の水溶性チタン化合物の加水分解によって得ることができる。加水分解の方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。なかでも、硫酸チタンの熱加水分解によって得られたものであることが好ましい。   Titanium dioxide hydrate can be obtained by hydrolysis of a water-soluble titanium compound such as titanium sulfate or titanium chloride. The method of hydrolysis is not particularly limited, and a known method can be applied. Especially, it is preferable that it was obtained by thermal hydrolysis of titanium sulfate.

上記工程(1)は、例えば、上記二酸化チタン水和物の水性懸濁液に、上記塩基性化合物を添加し、所定温度の条件下において、所定時間処理する(反応させる)ことにより行うことができる。   The step (1) can be performed, for example, by adding the basic compound to an aqueous suspension of the titanium dioxide hydrate and treating (reacting) it under a predetermined temperature condition for a predetermined time. it can.

上記二酸化チタン水和物を水性懸濁液とする方法は特に限定されず、水に上記二酸化チタン水和物を添加して攪拌することによって行うことができる。懸濁液の濃度は特に限定されないが、例えば、TiO濃度が30〜150g/Lであることが好ましい。当該濃度範囲内とすることによって、反応(処理)を効率よく進行させることができる。 The method for preparing the titanium dioxide hydrate as an aqueous suspension is not particularly limited, and can be performed by adding the titanium dioxide hydrate to water and stirring. The concentration of the suspension is not particularly limited, but for example, the TiO 2 concentration is preferably 30 to 150 g / L. By setting the concentration within the range, the reaction (treatment) can proceed efficiently.

上記工程(1)において使用するアルカリ金属の水酸化物及びアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の塩基性化合物としては、特に限定されず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等を挙げることができる。上記工程(1)における上記塩基性化合物の添加量は、反応(処理)懸濁液中の塩基性化合物濃度で30〜300g/Lであることが好ましい。   The at least one basic compound selected from the group consisting of alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides used in the step (1) is not particularly limited, and sodium hydroxide, water Examples thereof include potassium oxide, magnesium hydroxide, and calcium hydroxide. The amount of the basic compound added in the step (1) is preferably 30 to 300 g / L in terms of the basic compound concentration in the reaction (treatment) suspension.

上記工程(1)は、60〜120℃の反応(処理)温度で行うことが好ましい。反応(処理)時間は、反応(処理)温度によって異なるが、2〜10時間であることが好ましい。反応(処理)は、二酸化チタン水和物の懸濁液に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムの水溶液を添加することによって行うことが好ましい。反応(処理)後、反応(処理)混合物を冷却し、必要に応じて塩酸等の無機酸で中和した後、濾過、水洗することによって微粒子二酸化チタン水和物を得ることができる。   The step (1) is preferably performed at a reaction (treatment) temperature of 60 to 120 ° C. The reaction (treatment) time varies depending on the reaction (treatment) temperature, but is preferably 2 to 10 hours. The reaction (treatment) is preferably performed by adding an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, or calcium hydroxide to a suspension of titanium dioxide hydrate. After the reaction (treatment), the reaction (treatment) mixture is cooled, neutralized with an inorganic acid such as hydrochloric acid as necessary, and then filtered and washed with water to obtain fine particle titanium dioxide hydrate.

また、工程(2)として、工程(1)で得られた化合物をカルボン酸基含有化合物及び無機酸で処理してもよい。ルチル型微粒子二酸化チタンの製造において、工程(1)で得られた化合物を無機酸で処理する方法は公知の方法であるが、無機酸に加えてカルボン酸基含有化合物を使用して、粒子径を調整することができる。   Moreover, as the step (2), the compound obtained in the step (1) may be treated with a carboxylic acid group-containing compound and an inorganic acid. In the production of rutile type fine particle titanium dioxide, a method of treating the compound obtained in the step (1) with an inorganic acid is a known method, but in addition to the inorganic acid, a carboxylic acid group-containing compound is used. Can be adjusted.

上記カルボン酸基含有化合物は、−COOH基を有する有機化合物である。上記カルボン酸基含有化合物としては、2以上、より好ましくは2以上4以下のカルボン酸基を有するポリカルボン酸であることが好ましい。上記ポリカルボン酸は、金属原子への配位能を有することから、配位によって微粒子間の凝集を抑制し、これによって好適にルチル型微粒子二酸化チタンを得ることができるものと推測される。   The carboxylic acid group-containing compound is an organic compound having a —COOH group. The carboxylic acid group-containing compound is preferably a polycarboxylic acid having 2 or more, more preferably 2 or more and 4 or less carboxylic acid groups. Since the polycarboxylic acid has a coordination ability to a metal atom, it is presumed that agglomeration between fine particles can be suppressed by coordination, whereby rutile type fine particle titanium dioxide can be suitably obtained.

上記カルボン酸基含有化合物としては特に限定されず、例えば、蓚酸、マロン酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、プロピルマロン酸、マレイン酸等のジカルボン酸;リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシ多価カルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、ヘミメリト酸、トリメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;エチレンジアミン四酢酸等を挙げることができる。これらのなかから、2種以上の化合物を同時に併用するものであってもよい。   The carboxylic acid group-containing compound is not particularly limited, and examples thereof include dicarboxylic acids such as succinic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, propylmalonic acid, and maleic acid; hydroxys such as malic acid, tartaric acid, and citric acid. Polycarboxylic acids; aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, hemimellitic acid and trimellitic acid; ethylenediaminetetraacetic acid and the like. Among these, two or more compounds may be used in combination.

なお、上記カルボン酸基含有化合物の全部又は一部は、−COOH基を有する有機化合物の中和物(例えば、−COONa基等を有する有機化合物)であってもよい。   In addition, all or part of the carboxylic acid group-containing compound may be a neutralized product of an organic compound having a —COOH group (for example, an organic compound having a —COONa group or the like).

上記無機酸としては特に限定されず、例えば、塩酸、硫酸、硝酸等を挙げることができる。上記無機酸は、反応(処理)用液中の濃度が0.5〜2.5mol/L、より好ましくは0.8〜1.4mol/Lになるように加えるとよい。   It does not specifically limit as said inorganic acid, For example, hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid etc. can be mentioned. The inorganic acid may be added so that the concentration in the reaction (treatment) solution is 0.5 to 2.5 mol / L, more preferably 0.8 to 1.4 mol / L.

工程(2)は、工程(1)によって得られた化合物を純水中に懸濁させ、攪拌下、必要に応じて加熱して行うことが好ましい。カルボン酸基含有化合物及び無機酸の添加は同時であっても順次添加するものであってもよいが、順次添加することが好ましい。
添加の順序としては、カルボン酸基含有化合物添加後に無機酸を添加するものであっても良いし、無機酸添加後にカルボン酸基含有化合物を添加するものであっても良い。
The step (2) is preferably performed by suspending the compound obtained in the step (1) in pure water and heating it with stirring as necessary. The carboxylic acid group-containing compound and the inorganic acid may be added simultaneously or sequentially, but it is preferable to add them sequentially.
As the order of addition, the inorganic acid may be added after the carboxylic acid group-containing compound is added, or the carboxylic acid group-containing compound may be added after the inorganic acid is added.

例えば、工程(1)で得られた化合物の懸濁液中にカルボキシル基含有化合物を添加し、加熱を開始し、液温が60℃以上、好ましくは90℃以上になったところで無機酸を添加し、液温を維持しつつ、好ましくは15分〜5時間、より好ましくは2〜3時間攪拌する方法(方法1)、工程(1)で得られた化合物の懸濁液を加熱し、液温が60℃以上、好ましくは90℃以上になったところで無機酸を添加し、無機酸添加から10〜15分後にカルボン酸基含有化合物を添加し、液温を維持しつつ、好ましくは15分〜5時間、より好ましくは2〜3時間攪拌する方法(方法2)等を挙げることができる。これらの方法によって行うことにより、好適な微粒子状のルチル型二酸化チタンを得ることができる。   For example, a carboxyl group-containing compound is added to the suspension of the compound obtained in step (1), heating is started, and an inorganic acid is added when the liquid temperature is 60 ° C. or higher, preferably 90 ° C. or higher. While maintaining the liquid temperature, the suspension of the compound obtained in the method (Method 1) and the step (1), which is preferably stirred for 15 minutes to 5 hours, more preferably 2-3 hours, When the temperature is 60 ° C. or higher, preferably 90 ° C. or higher, an inorganic acid is added, and a carboxylic acid group-containing compound is added 10 to 15 minutes after the addition of the inorganic acid, and the liquid temperature is maintained, preferably 15 minutes. The method (method 2) etc. which stir for -5 hours, More preferably 2-3 hours can be mentioned. By carrying out these methods, a suitable fine particle rutile type titanium dioxide can be obtained.

上記工程(2)を上記方法1によって行う場合、上記カルボン酸基含有化合物は、TiO100mol%に対し0.25〜1.5mol%使用するものであることが好ましく、0.4〜0.8mol%の割合で使用することがより好ましい。カルボン酸基含有化合物の添加量が0.25mol%より少ない場合は粒子成長が進んでしまい目的とする粒子サイズの粒子が得られないおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が1.5mol%より多い場合は粒子のルチル化が進まずアナタースの粒子ができてしまうおそれがある。 When performing the above step (2) by the above process 1, the carboxylic acid group-containing compound is preferably one that uses 0.25~1.5Mol% to TiO 2 100 mol%, 0.4 to 0. It is more preferable to use it at a rate of 8 mol%. When the addition amount of the carboxylic acid group-containing compound is less than 0.25 mol%, there is a possibility that the particle growth proceeds and particles having the target particle size may not be obtained, and the addition amount of the carboxylic acid group-containing compound is 1.5 mol. If it is more than%, rutile conversion of the particles may not proceed and anatase particles may be formed.

上記工程(2)を上記方法2によって行う場合、上記カルボン酸基含有化合物は、TiO100mol%に対し1.6〜4.0mol%使用するものであることが好ましく、2.0〜2.4mol%の割合で使用することがより好ましい。 When performing the above step (2) by the above method 2, the carboxylic acid group-containing compound is preferably one that uses 1.6~4.0Mol% to TiO 2 100 mol%, from 2.0 to 2. It is more preferable to use at a ratio of 4 mol%.

カルボン酸基含有化合物の添加量が1.6mol%より少ない場合は粒子成長が進んでしまい目的とする粒子サイズの粒子が得られないおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が4.0mol%より多い場合は粒子のルチル化が進まずアナタースの粒子ができてしまうおそれがあり、カルボン酸基含有化合物の添加量が4.0mol%を超えても効果は良好なものとならず、コスト的に不利である。また、上記カルボン酸基含有化合物の添加を無機酸添加から10分未満で行うと、ルチル化が進まず、アナタース型の粒子ができてしまうおそれがあり、無機酸添加から15分を超えて行うと、粒子成長が進みすぎ、目的とする粒子サイズの粒子が得られない場合がある。   When the addition amount of the carboxylic acid group-containing compound is less than 1.6 mol%, there is a possibility that particle growth proceeds and particles having the target particle size may not be obtained, and the addition amount of the carboxylic acid group-containing compound is 4.0 mol. If the amount of the carboxylic acid group-containing compound exceeds 4.0 mol%, the effect will not be good and the cost will not be improved. Disadvantageous. Further, if the addition of the carboxylic acid group-containing compound is performed in less than 10 minutes after the addition of the inorganic acid, there is a possibility that the rutileization will not proceed and anatase-type particles may be formed. In some cases, the particle growth proceeds excessively, and particles having a target particle size cannot be obtained.

上記工程(2)においては、反応(処理)終了後冷却し、更にpH5.0〜pH10.0になるように中和することが好ましい。上記中和は、水酸化ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ性化合物によって行うことができる。中和後に濾過、水洗することによって目的のルチル型微粒子二酸化チタンを分離することができる。   In the said process (2), it is preferable to cool after completion | finish of reaction (process), and also to neutralize so that it may become pH 5.0-pH 10.0. The neutralization can be performed with an alkaline compound such as an aqueous sodium hydroxide solution or aqueous ammonia. The target rutile type fine particle titanium dioxide can be separated by filtering and washing with water after neutralization.

また、二酸化チタン微粒子の製造方法としては、「酸化チタン−物性と応用技術」(清野学 pp255〜258(2000年)技報堂出版株式会社)等に記載の公知の方法を用いることができる。   Moreover, as a manufacturing method of titanium dioxide microparticles | fine-particles, the well-known method as described in "Titanium oxide-physical property and applied technology" (Seino Gaku pp255-258 (2000) Gihodo Publishing Co., Ltd.) etc. can be used.

二酸化チタン微粒子の好ましい一次粒子径は、粒径4〜50nm、より好ましくは4〜30nmである。   The primary particle diameter of the titanium dioxide fine particles is preferably 4 to 50 nm, more preferably 4 to 30 nm.

(2)アニオン性酸化チタン粒子
本発明において、アニオン性酸化チタン粒子としては、前述のカチオン性酸化チタン粒子をアニオン化剤で処理して得られたものが用いられる。例えば、アクリル酸等をアニオン性酸化チタン微粒子に吸着させることでアニオン化することができる。
(2) Anionic titanium oxide particles In the present invention, as the anionic titanium oxide particles, those obtained by treating the aforementioned cationic titanium oxide particles with an anionic agent are used. For example, it can be anionized by adsorbing acrylic acid or the like to the anionic titanium oxide fine particles.

本発明において、酸化チタン粒子をアニオン化する最も好ましい方法は、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法である。含ケイ素の水和化合物の被覆量は、3〜30質量%、好ましくは3〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%である。被覆量が30質量%以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が3%以上であると粒子を安定に形成することができるからである。   In the present invention, the most preferable method for anionizing titanium oxide particles is a method of coating titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide. The coating amount of the silicon-containing hydrated compound is 3 to 30% by mass, preferably 3 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. This is because when the coating amount is 30% by mass or less, the desired refractive index of the high refractive index layer can be obtained, and when the coating amount is 3% or more, particles can be stably formed.

酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法が挙げられ、例えば、特開平10−158015号公報(ルチル型酸化チタンへのSi/Al水和酸化物処理;チタン酸ケーキのアルカリ領域での解膠後酸化チタンの表面にケイ素及び/又はアルミニウムの含水酸化物を析出させて表面処理する酸化チタンゾルの製造方法)、特開2000−204301号公報(ルチル型酸化チタンにSiとZr及び/又はAlの酸化物との複合酸化物を被覆したゾル。水熱処理。)、特開2007−246351号公報(含水酸化チタンを解膠して得られる酸化チタンのヒドロゾルへ、安定剤として式R SiX4−n(式中RはC−Cアルキル基、グリシジルオキシ置換C−Cアルキル基またはC−Cアルケニル基、Xはアルコキシ基、nは1又は2である。)のオルガノアルコキシシランまたは酸化チタンに対して錯化作用を有する化合物を添加、アルカリ領域でケイ酸ナトリウムまたはシリカゾルの溶液へ添加・pH調整・熟成することにより、ケイ素の含水酸化物で被覆された酸化チタンヒドロゾルを製造する方法)等に記載された事項を参照することができる。 As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, a conventionally known method can be mentioned. For example, JP-A-10-158015 (Si / Al hydrated oxide treatment on rutile titanium oxide) A titanium oxide sol production method in which a hydrous oxide of silicon and / or aluminum is deposited on the surface of titanium oxide after peptization in the alkali region of the titanate cake, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-204301 (rutile type) A sol in which a composite oxide of Si and Zr and / or Al is coated on titanium oxide. Hydrothermal treatment.), JP 2007-246351 (Titanium oxide hydrosol obtained by peptizing hydrous titanium oxide) And R 1 n SiX 4-n as a stabilizer, wherein R 1 is a C 1 -C 8 alkyl group, a glycidyloxy-substituted C 1 -C 8 alkyl group or C 2- C 8 alkenyl group, X is an alkoxy group, and n is 1 or 2.) A compound having a complexing action with respect to organoalkoxysilane or titanium oxide is added, and a solution of sodium silicate or silica sol in an alkaline region It is possible to refer to the matters described in, for example, a method for producing a titanium oxide hydrosol coated with a hydrous oxide of silicon by adding to pH, adjusting pH, and aging.

上記例示の方法により調製されたアニオン性酸化チタン粒子の高屈折率層における含有量としては、高屈折率層の固形分100質量%に対して、15〜70質量%であることが好ましく、20〜65質量%であることがより好ましく、30〜60質量%であることがさらに好ましい。アニオン性酸化チタン粒子の含有量が15〜70質量%であると、低屈折率層との屈折率差を付与する点で好ましい。   The content of the anionic titanium oxide particles prepared by the above exemplified method in the high refractive index layer is preferably 15 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. More preferably, it is -65 mass%, and it is further more preferable that it is 30-60 mass%. It is preferable that the content of the anionic titanium oxide particles is 15 to 70% by mass in that a difference in refractive index from the low refractive index layer is imparted.

なお、高屈折率層にカチオン性酸化チタン粒子及びアニオン性酸化チタン粒子以外の金属酸化物粒子が含有される場合の含有量は、本発明の効果を奏することができる範囲であれば特に限定されるものではない。また、カチオン性及びアニオン性酸化チタン粒子以外の金属酸化物粒子を併用する場合には、当該酸化チタン粒子と電荷的に凝集しないよう、各種のイオン性分散剤や保護剤を用いることができる。併用することのできる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。
また、上記したアニオン性酸化チタン粒子は、コアである酸化チタン粒子の表面全体を含ケイ素水和酸化物で被覆したものであっても良いし、コアである酸化チタン粒子の表面の一部を含ケイ素水和酸化物で被覆したものであっても良い。
The content in the case where metal oxide particles other than cationic titanium oxide particles and anionic titanium oxide particles are contained in the high refractive index layer is particularly limited as long as the effect of the present invention can be achieved. It is not something. When metal oxide particles other than cationic and anionic titanium oxide particles are used in combination, various ionic dispersants and protective agents can be used so as not to aggregate with the titanium oxide particles. Examples of the metal oxide particles that can be used in combination include zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, Examples thereof include ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide.
The anionic titanium oxide particles described above may be those in which the entire surface of the titanium oxide particles as the core is coated with a silicon-containing hydrated oxide, or a part of the surface of the titanium oxide particles as the core may be covered. It may be coated with a silicon-containing hydrated oxide.

《低屈折率層》
本発明における低屈折率層は、第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素とを含有する塗布液と、がスプレー塗布により交互に塗布され、第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子が含有される層と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子が含有される層と、が交互に積層されて構成されている。
<Low refractive index layer>
The low refractive index layer in the present invention comprises a coating solution containing a third water-soluble polymer and cationic silicon oxide, and a coating solution containing a fourth water-soluble polymer and anionic silicon oxide. Layers containing the third water-soluble polymer and cationic silicon oxide particles are alternately applied by spray coating, and layers containing the fourth water-soluble polymer and anionic silicon oxide particles are alternately arranged. It is laminated and configured.

低屈折率層には、カチオン性酸化ケイ素粒子、アニオン性酸化ケイ素粒子、第三の水溶性高分子、第四の水溶性高分子以外にも、必要に応じて、硬化剤、アミノ酸、各種添加剤等が選択されて含有されている。
また、低屈折率層の1層当たりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、用途により適宜決めることができる。
In addition to the cationic silicon oxide particles, anionic silicon oxide particles, the third water-soluble polymer, and the fourth water-soluble polymer, the low refractive index layer may contain a curing agent, amino acid, and various additives as necessary. An agent or the like is selected and contained.
Further, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and can be appropriately determined depending on the application.

低屈折率層を構成する酸化ケイ素としては、二酸化ケイ素(シリカ)が用いられることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルが用いられることがより好ましい。低屈折率層に含まれる二酸化ケイ素としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。   As silicon oxide constituting the low refractive index layer, silicon dioxide (silica) is preferably used, and acidic colloidal silica sol is more preferably used. Examples of silicon dioxide contained in the low refractive index layer include synthetic amorphous silica and colloidal silica.

(1)アニオン性酸化ケイ素粒子
本発明において、アニオン性酸化ケイ素粒子としては、例えば、アニオン性のコロイダルシリカゾルを用いられる。
(1) Anionic silicon oxide particles In the present invention, for example, anionic colloidal silica sol is used as the anionic silicon oxide particles.

本発明で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、及び国際公開第94/26530号パンフレットなどに記載されているものである。   The colloidal silica used in the present invention is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis with an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284 No. 5, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142. , JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and WO94 / 26530 pamphlet. And those are.

この様なコロイダルシリカとしては合成品が用いられても良いし、市販品が用いられても良い。市販品としては、日産化学工業(株)から販売されているスノーテックスシリーズ(スノーテックスOS、OXS、OS、O等)が挙げられる。   As such colloidal silica, a synthetic product may be used, or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include the Snowtex series (Snowtex OS, OXS, OS, O, etc.) sold by Nissan Chemical Industries.

(2)カチオン性酸化ケイ素粒子
本発明において、カチオン性酸化ケイ素粒子としては、例えば、前述のアニオン性酸化ケイ素粒子をカチオン化剤で処理して得られたものが用いられる。
(2) Cationic silicon oxide particles In the present invention, as the cationic silicon oxide particles, for example, those obtained by treating the aforementioned anionic silicon oxide particles with a cationizing agent are used.

カチオン化剤としては、例えば、ポリ塩化アルミニウム、塩化アルミ、硫酸バンド、塩化第二鉄、ポリ硫酸第二鉄などのカチオン性を持つ金属塩を用いることができる。これらはカチオンに帯電した金属イオンがその凝集能を発現している。   As the cationizing agent, for example, metal salts having cationic properties such as polyaluminum chloride, aluminum chloride, sulfuric acid band, ferric chloride, and ferric sulfate can be used. In these, metal ions charged in a cation express their aggregation ability.

更に、カチオン化剤として、ポリアミン、例えば、DADMACといったカチオン系高分子を用いることも可能である。これらはアミノ基がその凝集能を担っている。また、アミノシランカップリング剤(N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−2−アミノエチル−3―アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩等を挙げることができる。   Furthermore, it is also possible to use a polyamine, for example, a cationic polymer such as DADMAC as the cationizing agent. In these, amino groups are responsible for their aggregation ability. Further, aminosilane coupling agents (N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl)- 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3- Examples thereof include aminopropyltriethoxysilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, and the like.

《透明基材》
本発明に用いられる透明基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
<Transparent substrate>
As the transparent substrate used in the present invention, various resin films can be used. Polyolefin film (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester film (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, etc. Can be used, and a polyester film is preferable. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components. The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

本発明に用いられる透明基材の厚みは10〜300μmであり、特に20〜150μmであることが好ましい。また、本発明の透明基材は、2枚重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。   The thickness of the transparent substrate used in the present invention is 10 to 300 μm, and preferably 20 to 150 μm. Moreover, the two transparent base materials of this invention may be piled up, In this case, the kind may be the same or different.

《水溶性高分子(バインダー)》
本発明において、高屈折率層には、第一の水溶性高分子及び第二の水溶性高分子が含有され、低屈折率層には、第三の水溶性高分子及び第四の水溶性高分子が含有される。これら第一〜第四の水溶性高分子としては、以下に説明する各種の水溶性高分子が適宜用いられるが、第一〜第四の水溶性高分子は互いに同一のものが用いられても良いし、互いに異なるものが用いられても良い。
《Water-soluble polymer (binder)》
In the present invention, the high refractive index layer contains the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer, and the low refractive index layer contains the third water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer. Contains polymer. As these first to fourth water-soluble polymers, various water-soluble polymers described below are used as appropriate, but the first to fourth water-soluble polymers may be the same as each other. Good or different ones may be used.

本発明において、「水溶性高分子が互いに異なる」とは、「高分子の基本骨格が異なる」、「高分子の構成成分が異なる」、「構成成分が同じでその比率が異なる」、「重合度又は分子量が異なる」、「ケン化度が異なる」のうちの少なくとも何れか一をさす。本発明においては、第一〜第四の水溶性高分子がポリビニルアルコールであり、その重合度又はケン化度が異なっていることが最も好ましい。
また、本発明において、「同種の水溶性化合物」とは、高分子の基本骨格が同一であることをさす。
In the present invention, “the water-soluble polymers are different from each other” means “the basic skeleton of the polymer is different”, “the constituent components of the polymer are different”, “the constituent components are the same and the ratio thereof is different”, “polymerization” At least one of “different in degree or molecular weight” and “different in saponification degree”. In the present invention, it is most preferable that the first to fourth water-soluble polymers are polyvinyl alcohols and have different degrees of polymerization or saponification.
In the present invention, the “same water-soluble compound” means that the basic skeleton of the polymer is the same.

本発明に適用可能な水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、若しくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、若しくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。
また、本発明に適用可能な水溶性高分子としては、例えば、後述するゼラチン、増粘多糖類などの天然高分子も好ましく利用できる。
Examples of the water-soluble polymer applicable to the present invention include polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic. Acrylic resin such as acid ester copolymer or acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, Styrene acrylic resin such as styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene-2 -Hydroxyethyl acrylate copolymer Styrene-2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer Examples thereof include vinyl acetate copolymers such as polymers, vinyl acetate-maleic acid ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers, and salts thereof. Among these, particularly preferable examples include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidones, and copolymers containing the same.
In addition, as the water-soluble polymer applicable to the present invention, for example, natural polymers such as gelatin and thickening polysaccharide described later can be preferably used.

水溶性高分子の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましい。更には、3,000以上40,000以下がより好ましい。   The weight average molecular weight of the water-soluble polymer is preferably 1,000 or more and 200,000 or less. Furthermore, 3,000 or more and 40,000 or less are more preferable.

(1)ポリビニルアルコール
本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
(1) Polyvinyl alcohol Polyvinyl alcohol preferably used in the present invention includes, in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol having a cation-modified terminal and anion-modified polyvinyl having an anionic group. Modified polyvinyl alcohol such as alcohol is also included.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol have primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-110483. Polyvinyl alcohol, which is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号および同63−307979号に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-2060888, as described in JP-A-61-237681 and JP-A-63-330779, Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol is, for example, a polyvinyl alcohol derivative obtained by adding a polyalkylene oxide group to a part of vinyl alcohol as described in JP-A-7-9758, and described in JP-A-8-25595. And a block copolymer of a vinyl compound having a hydrophobic group and vinyl alcohol. Polyvinyl alcohol can be used in combination of two or more, such as the degree of polymerization and the type of modification.

(1.1)ポリビニルアルコールの重合度
ここで、本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層に好ましく含有されるポリビニルアルコールの重合度について説明する。
(1.1) Degree of polymerization of polyvinyl alcohol Here, the degree of polymerization of polyvinyl alcohol preferably contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention will be described.

本発明において重合度とは、粘度平均重合度を指し、JIS−K6726(1994)に準じて測定され、PVAを完全に再鹸化し、精製した後、30℃の水中で測定した極限粘度[η](dl/g)から次式により求められるものである。
P=([η]×10/8.29)(1/0.62)
In the present invention, the degree of polymerization refers to the viscosity average degree of polymerization, which is measured according to JIS-K6726 (1994). After the PVA is completely re-saponified and purified, the intrinsic viscosity [η measured in water at 30 ° C. [η ] (Dl / g) from the following equation.
P = ([η] × 10 3 /8.29) (1 / 0.62)

本発明においては、各屈折率層の形成において、カチオン性粒子(カチオン性酸化チタン粒子、カチオン性酸化ケイ素粒子)が含有される塗布液(以下、カチオン性粒子塗布液)に含まれるポリビニルアルコール(第一の水溶性高分子、第三の水溶性高分子に相当)と、アニオン性粒子(アニオン性酸化チタン粒子、アニオン性酸化ケイ素粒子)が含有される塗布液(以下、アニオン性粒子塗布液)に含有されるポリビニルアルコール(第二の水溶性高分子、第四の水溶性高分子に相当)とは、重合度の差が1000以上であることが好ましい。また、重合度の差は2000以上であることがより好ましく、2500以上であることが更に好ましく、3000以上であることが特に好ましい。
なお、カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールと、アニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールとは、重合度の差が1000以上であれば良く、カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールの重合度の方が高くても良いし、アニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールの重合度の方が高くても良い。
In the present invention, in the formation of each refractive index layer, polyvinyl alcohol (hereinafter referred to as cationic particle coating liquid) contained in a coating liquid containing cationic particles (cationic titanium oxide particles, cationic silicon oxide particles). A coating solution containing the first water-soluble polymer and the third water-soluble polymer) and anionic particles (anionic titanium oxide particles, anionic silicon oxide particles) (hereinafter, anionic particle coating solution) The difference in the degree of polymerization is preferably 1000 or more with respect to the polyvinyl alcohol (corresponding to the second water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer) contained in. The difference in the degree of polymerization is more preferably 2000 or more, further preferably 2500 or more, and particularly preferably 3000 or more.
The difference in the degree of polymerization of the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution may be 1000 or more, and is contained in the cationic particle coating solution. The degree of polymerization of polyvinyl alcohol may be higher, or the degree of polymerization of polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution may be higher.

各層中で重合度の相違を比較する方法としては、各層が重合度の異なる複数のポリビニルアルコールを含む場合には、各層中に含まれるポリビニルアルコールの重合度を平均した値を、「重合度」として採用する。例えば、何れかの層に、重合度6000のポリビニルアルコール85%および重合度3500のポリビニルアルコール15%が含有されている場合、当該層に含まれるポリビニルアルコールの重合度としては、「(6000×0.85)+(3500×0.15)=5625」となる。なお、重合度が1000未満の低重合度ポリビニルアルコールは、当該重合度の計算から除外する。また、変性ポリビニルアルコールは、当該重合度の計算に含まれる。   As a method for comparing the difference in the degree of polymerization in each layer, when each layer contains a plurality of polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization, the average value of the degree of polymerization of the polyvinyl alcohol contained in each layer, "polymerization degree" Adopt as. For example, when any layer contains 85% polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 6000 and 15% polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 3500, the polymerization degree of the polyvinyl alcohol contained in the layer is “(6000 × 0 .85) + (3500 × 0.15) = 5625 ”. In addition, the low polymerization degree polyvinyl alcohol whose polymerization degree is less than 1000 is excluded from the calculation of the polymerization degree. Modified polyvinyl alcohol is included in the calculation of the degree of polymerization.

カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールとアニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールとの重合度の差を上記のようにすることで、各層における界面の乱れ(凹凸)が抑制され、反射特性を向上させることができる。   By making the difference in the degree of polymerization between the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution as described above, the disturbance (unevenness) of the interface in each layer is suppressed, The reflection characteristics can be improved.

なお、各層に含有されるポリビニルアルコールの重合度(平均重合度)は、5000超6500未満とすると折れ曲げ耐性が良好となるため好ましく、より好ましくは5500〜6400であり、更に好ましくは5600〜6300である。重合度が5000を超えると塗布膜の折り曲げ耐性が良く、6500未満であると塗布液が安定するためである。また、低屈折率層に含有されるポリビニルアルコールの重合度が当該範囲内であると、塗布膜のひび割れが抑制されて好ましい。   In addition, when the polymerization degree (average polymerization degree) of polyvinyl alcohol contained in each layer is more than 5000 and less than 6500, the bending resistance is preferably improved, more preferably 5500 to 6400, and further preferably 5600 to 6300. It is. This is because when the degree of polymerization exceeds 5000, the coating film has good bending resistance, and when it is less than 6500, the coating solution becomes stable. Moreover, it is preferable that the polymerization degree of the polyvinyl alcohol contained in the low refractive index layer is within the above range, since cracking of the coating film is suppressed.

また、高屈折率層及び低屈折率層には、更に、重合度の異なるポリビニアルアルコールを含有しても良い。そのようなポリビニルアルコールの重合度(平均重合度)としては、1500〜7000であるのが好ましく、より好ましくは2000〜6000であり、さらに好ましくは2300〜4500である。1500以上であると塗布膜のひび割れ耐性が良くなり、7000以下であると塗布液が安定する。   Further, the high refractive index layer and the low refractive index layer may further contain polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization. As a polymerization degree (average polymerization degree) of such polyvinyl alcohol, it is preferable that it is 1500-7000, More preferably, it is 2000-6000, More preferably, it is 2300-4500. When it is 1500 or more, the crack resistance of the coating film is improved, and when it is 7000 or less, the coating solution is stabilized.

(1.2)ポリビニルアルコールのケン化度
続いて、本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層に好ましく含有されるポリビニルアルコールのケン化度について説明する。
(1.2) Saponification degree of polyvinyl alcohol Next, the saponification degree of polyvinyl alcohol preferably contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention will be described.

本発明においてケン化度とは、ポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)と水酸基の合計数に対する水酸基の割合のことをいう。   In the present invention, the degree of saponification means the ratio of hydroxyl groups to the total number of acetyloxy groups (derived from the starting vinyl acetate) and hydroxyl groups in polyvinyl alcohol.

本発明においては、カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコール(第一の水溶性高分子、第三の水溶性高分子に相当)と、アニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコール(第二の水溶性高分子、第四の水溶性高分子に相当)とは、ケン化度が異なっていることが好ましい。
ケン化度の異なるポリビニルアルコールをそれぞれ含有させることにより、界面の混合が抑制され、赤外反射率(赤外遮蔽率)がより良好となり、ヘイズを低くすることができる。また、カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールとアニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールの何れのケン化度が高くても良い。
In the present invention, polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating liquid (corresponding to the first water-soluble polymer and the third water-soluble polymer) and polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating liquid (first The degree of saponification is preferably different from that of the second water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer.
By including polyvinyl alcohols having different saponification degrees, interfacial mixing is suppressed, infrared reflectance (infrared shielding rate) becomes better, and haze can be lowered. In addition, any degree of saponification of polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution may be high.

したがって、好ましい形態としては、カチオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールのケン化度と、アニオン性粒子塗布液に含有されるポリビニルアルコールのケン化度と、が異なる。   Therefore, as a preferred embodiment, the saponification degree of polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution is different from the saponification degree of polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution.

更に、カチオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールとアニオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールとのケン化度の絶対値の差は、3mol%以上であることが好ましい。より好ましくは5mol%以上である。ケン化度の絶対値の差を当該範囲とすることで、各層の層間混合状態を好ましいレベルにすることができる。カチオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールとアニオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールとのケン化度の差は大きければ大きいほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の観点から20mol%以下であることが好ましい。   Furthermore, the difference in the absolute value of the saponification degree between the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution is preferably 3 mol% or more. More preferably, it is 5 mol% or more. By setting the difference in the absolute value of the saponification degree within the range, the interlayer mixing state of each layer can be set to a preferable level. The larger the difference in the degree of saponification between the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution, the better. However, from the viewpoint of solubility of polyvinyl alcohol in water, it is 20 mol% or less. It is preferable that

高屈折率層と低屈折率層にそれぞれ含有される各ポリビニルアルコールのケン化度を比較する場合において、各層がケン化度の異なる複数種のポリビニルアルコールを含む場合には、その層中で最も含有量の高いポリビニルアルコール同士を比較する。また、各層中にケン化度の異なる複数種のポリビニルアルコールが含有される場合に、そのケン化度の差が3mol%以内であれば、それらは同一のポリビニルアルコールとしてケン化度を算出する。但し、重合度1000以下の低重合度ポリビニルアルコールはケン化度の差が3mol%以内であっても同一のポリビニルアルコールとしない。   When comparing the saponification degree of each polyvinyl alcohol contained in each of the high refractive index layer and the low refractive index layer, when each layer contains a plurality of types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees, High-content polyvinyl alcohols are compared. Further, when a plurality of types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees are contained in each layer, if the difference in the saponification degrees is within 3 mol%, they calculate the saponification degree as the same polyvinyl alcohol. However, a low polymerization degree polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1000 or less is not regarded as the same polyvinyl alcohol even if the difference in the saponification degree is within 3 mol%.

具体的には、ケン化度が90mol%、ケン化度が91mol%、ケン化度が93mol%のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ10質量%、40質量%、50質量%含まれる場合には、これら3つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら3つの混合物を、当該層に含まれるポリビニルアルコールとする。また、上記「ケン化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコール」とは、何れかのポリビニルアルコールに着目した場合に3mol%以内であれば足り、例えば、90、91、92、94mol%のビニルアルコールを含む場合には、91mol%のビニルアルコールに着目した場合に何れのポリビニルアルコールも3mol%以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。   Specifically, when polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol%, a saponification degree of 91 mol%, and a saponification degree of 93 mol% is contained in the same layer by 10 mass%, 40 mass%, and 50 mass%, respectively. These three polyvinyl alcohols are the same polyvinyl alcohol, and the mixture of these three is the polyvinyl alcohol contained in the layer. The “polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less” as long as it is within 3 mol% when focusing on any polyvinyl alcohol, for example, 90, 91, 92, 94 mol% vinyl. When alcohol is included, since any polyvinyl alcohol is within 3 mol% when focusing on 91 mol% vinyl alcohol, the same polyvinyl alcohol is obtained.

同一層内にケン化度が3mol%以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれにケン化度を算出する。
例えば、PVA203:5質量%、PVA117:25質量%、PVA217:10質量%、PVA220:10質量%、PVA224:10質量%、PVA235:20質量%、PVA245:20質量%が含まれる場合、最も含有量の多いPVAはPVA217〜245の混合物であり(PVA217〜245のケン化度の差は3mol%以内なので同一のポリビニルアルコールである)、この混合物が当該層に含まれるポリビニルアルコールとなる。そして、PVA217〜245の混合物(低屈折率層又は高屈折率層に含まれるポリビニルアルコール)においては、ケン化度は、88%となる。また、変性ポリビニルアルコールは、当該ケン化度の計算に含まれる。
When polyvinyl alcohol having a saponification degree different by 3 mol% or more is contained in the same layer, it is regarded as a mixture of different polyvinyl alcohols, and the saponification degree is calculated for each.
For example, PVA203: 5% by mass, PVA117: 25% by mass, PVA217: 10% by mass, PVA220: 10% by mass, PVA224: 10% by mass, PVA235: 20% by mass, PVA245: 20% by mass, most contained A large amount of PVA is a mixture of PVA 217 to 245 (the difference in the degree of saponification of PVA 217 to 245 is within 3 mol%, which is the same polyvinyl alcohol), and this mixture becomes the polyvinyl alcohol contained in the layer. And in the mixture of PVA217-245 (polyvinyl alcohol contained in a low refractive index layer or a high refractive index layer), a saponification degree will be 88%. Further, the modified polyvinyl alcohol is included in the calculation of the saponification degree.

また、各層に含まれるポリビニルアルコールのケン化度は水への溶解性の点で75mol%以上が好ましい。
更に、カチオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコール及びアニオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールのうち一方のケン化度が90mol%以上であり、他方が90mol%以下であることが各層の層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。
また、カチオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコール及びアニオン性粒子塗布液に含まれるポリビニルアルコールのうち一方がケン化度95mol%以上であり、他方が90mol%以下であることがより好ましい。
なお、ポリビニルアルコールのケン化度の上限は特に限定されるものではないが、通常100mol%未満であり、99.9mol%以下程度である。
In addition, the saponification degree of polyvinyl alcohol contained in each layer is preferably 75 mol% or more from the viewpoint of solubility in water.
Further, the interlayer mixing of each layer is such that one of the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution has a saponification degree of 90 mol% or more and the other is 90 mol% or less. It is preferable to bring the state to a desirable level.
Moreover, it is more preferable that one of the polyvinyl alcohol contained in the cationic particle coating solution and the polyvinyl alcohol contained in the anionic particle coating solution has a saponification degree of 95 mol% or more and the other is 90 mol% or less.
In addition, although the upper limit of the saponification degree of polyvinyl alcohol is not specifically limited, Usually, it is less than 100 mol% and is about 99.9 mol% or less.

(2)ゼラチン
本発明に係る光学フィルムにおいては、水溶性高分子としてゼラチンを用いることもできる。本発明に用いられるゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを使用してもよく、さらにゼラチンの加水分解物、ゼラチンの酵素分解物を用いることもできる。これらの水膨潤性高分子は、単独で用いても複数の種類を用いても良い。
本発明において、第一〜第四の水溶性高分子としてゼラチンが用いられる場合には、カチオン性粒子塗布液に含有されるゼラチン(第一の水溶性高分子、第三の水溶性高分子に相当)と、アニオン性粒子塗布液に含有されるゼラチン(第二の水溶性高分子、第四の水溶性高分子に相当)とが、特性が異なっていることが好ましく、その特性としては、例えば分子量や重合度等が挙げられる。
(2) Gelatin In the optical film according to the present invention, gelatin can also be used as the water-soluble polymer. As gelatin used in the present invention, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and further, a hydrolyzate of gelatin and an enzyme-decomposed product of gelatin can be used. These water-swellable polymers may be used alone or in a plurality of types.
In the present invention, when gelatin is used as the first to fourth water-soluble polymers, the gelatin contained in the cationic particle coating solution (the first water-soluble polymer and the third water-soluble polymer). Equivalent) and gelatin contained in the anionic particle coating solution (corresponding to the second water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer) preferably have different properties. For example, molecular weight, polymerization degree, etc. are mentioned.

(3)増粘多糖類
また、本発明に係る光学フィルムにおいては、水溶性高分子として増粘多糖類を用いることもできる。本発明に用いられる増粘多糖類としては、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。
(3) Thickening polysaccharide Moreover, in the optical film which concerns on this invention, a thickening polysaccharide can also be used as a water-soluble polymer. Examples of the thickening polysaccharide used in the present invention include generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides and synthetic complex polysaccharides. Details of these polysaccharides Can refer to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujin Publishing”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p. 21.

本発明において増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であって、金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものである。その粘度上昇幅としては、添加することにより40℃における粘度が1.0mPa・s以上の上昇を生じるものであり、好ましくは5.0mPa・s以上、更に好ましくは10.0mPa・s以上の粘度上昇能を備えている。   In the present invention, the thickening polysaccharide is a polymer of saccharides and has a large number of hydrogen bonding groups in the molecule, and due to the difference in hydrogen bonding strength between molecules due to temperature, the viscosity difference at low temperature and the viscosity at high temperature. Is a polysaccharide having a large characteristic, and when metal oxide fine particles are added, the viscosity is increased due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at low temperatures. As the viscosity increase range, the viscosity at 40 ° C. increases by 1.0 mPa · s or more when added, preferably 5.0 mPa · s or more, more preferably 10.0 mPa · s or more. Has a rising ability.

本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、β1−4グルカン(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等)、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ジェランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられ、塗布液中に共存する金属酸化微粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロースなどのペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖がキシロースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がガラクトースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。   Examples of the thickening polysaccharide applicable to the present invention include β1-4 glucan (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, etc.), galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust bean gum). , Guaran, etc.), xyloglucan (eg, tamarind gum, etc.), glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), arabino Galactoglycan (for example, soybean-derived glycan, microorganism-derived glycan, etc.), Glucarnoglycan (for example, gellan gum), glycosaminoglycan (for example, hyaluronic acid, keratan sulfate, etc.), alginic acid and alginate, agar, κ -Natural polymer polysaccharides derived from red algae such as carrageenan, λ-carrageenan, ι-carrageenan, fur celerane and the like, preferably from the viewpoint of not reducing the dispersion stability of the metal oxide fine particles coexisting in the coating solution The structural unit preferably has no carboxylic acid group or sulfonic acid group. Such polysaccharides include, for example, pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose only. It is preferable that it is a polysaccharide. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is xylose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is galactose, locust bean gum, Tara gum or arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used.

本発明においては、更には、二種類以上の増粘多糖類を併用することが好ましい。   In the present invention, it is further preferable to use two or more thickening polysaccharides in combination.

水溶性高分子としての増粘多糖類の各屈折率層中における含有量は、5質量%以上50質量%以下が好ましく、10質量%以上40質量%以下がより好ましい。但し、その他の水溶性高分子やエマルジョン樹脂等と併用する場合には、3質量%以上含有すればよい。増粘多糖類が少ないと塗膜乾燥時に膜面が乱れて透明性が劣化する傾向が大きくなる。一方、含有量が50質量%以下であれば、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   The content of the thickening polysaccharide as the water-soluble polymer in each refractive index layer is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less. However, when used in combination with other water-soluble polymers or emulsion resins, it may be contained in an amount of 3% by mass or more. When there are few thickening polysaccharides, the film surface will be disordered at the time of drying of a coating film, and the tendency for transparency to deteriorate will become large. On the other hand, if the content is 50% by mass or less, the relative content of the metal oxide becomes appropriate, and it becomes easy to increase the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

《硬化剤》
本発明に係る光学フィルムおいては、バインダーである水溶性高分子を硬化させるため、硬化剤を使用することが好ましい。
《Curing agent》
In the optical film according to the present invention, it is preferable to use a curing agent in order to cure the water-soluble polymer as a binder.

本発明に適用可能な硬化剤としては、水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。水溶性高分子がポリビニルアルコールの場合には、ホウ酸及びその塩が好ましいが、その他にも公知のものが使用でき、一般的には水溶性高分子と反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性高分子が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性高分子の種類に応じて適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリス−アクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬等が挙げられる。   The curing agent applicable to the present invention is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with a water-soluble polymer. When the water-soluble polymer is polyvinyl alcohol, boric acid and its salts are preferable, but other known ones can be used, and generally a compound having a group capable of reacting with the water-soluble polymer or a water-soluble polymer. It is a compound that promotes the reaction between different groups of the polymer, and it is appropriately selected according to the type of the water-soluble polymer. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde curing agents (formaldehyde, glioxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5) -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-tris-acryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.

水溶性高分子がゼラチンの場合には、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。   When the water-soluble polymer is gelatin, for example, organic hardeners such as vinyl sulfone compounds, urea-formalin condensates, melanin-formalin condensates, epoxy compounds, aziridine compounds, active olefins, isocyanate compounds, etc. Inorganic polyvalent metal salts such as chromium, aluminum and zirconium.

《アミノ酸》
本発明においては、金属酸化物の分散性を向上させる目的で、更にアミノ酸が添加されることが好ましい。
"amino acid"
In the present invention, an amino acid is preferably further added for the purpose of improving the dispersibility of the metal oxide.

本発明でいうアミノ酸とは、同一分子内にアミノ基とカルボキシル基を有する化合物であり、α−、β−、γ−などいずれのタイプのアミノ酸でもよいが、等電点が6.5以下のアミノ酸であることが好ましい。アミノ酸には光学異性体が存在するものもあるが、本発明においては光学異性体による効果の差はなく、等電点が6.5以下のいずれの異性体も単独であるいはラセミ体で使用することができる。   The amino acid referred to in the present invention is a compound having an amino group and a carboxyl group in the same molecule, and may be any type of amino acid such as α-, β-, and γ-, but has an isoelectric point of 6.5 or less. It is preferably an amino acid. Some amino acids have optical isomers, but in the present invention, there is no difference in effect due to optical isomers, and any isomer having an isoelectric point of 6.5 or less is used alone or in racemic form. be able to.

本発明に適用可能なアミノ酸に関する詳しい解説は、化学大辞典1 縮刷版(共立出版;昭和35年発行)268頁〜270頁の記載を参照することができる。   For a detailed explanation of amino acids applicable to the present invention, reference can be made to the descriptions of pages 268 to 270 of the Chemical Dictionary 1 (reprinted edition, published in 1960).

本発明において、好ましいアミノ酸として、グリシン、アラニン、バリン、α−アミノ酪酸、γ−アミノ酪酸、β−アラニン、セリン、ε−アミノ−n−カプロン酸、ロイシン、ノルロイシン、フェニルアラニン、トレオニン、アスパラギン、アスパラギン酸、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン等を挙げることができ、水溶液として使用するためには、等電点における溶解度が、水100gに対し、3g以上が好ましく、例えば、グリシン、アラニン、セリン、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリンなどが好ましく用いられ、金属酸化物粒子が、バインダーと緩やかな水素結合を有する観点から、水酸基を有する、セリン、ヒドロキシプロリンを用いることがさらに好ましい。   In the present invention, preferred amino acids include glycine, alanine, valine, α-aminobutyric acid, γ-aminobutyric acid, β-alanine, serine, ε-amino-n-caproic acid, leucine, norleucine, phenylalanine, threonine, asparagine, asparagine. Examples include acid, histidine, lysine, glutamine, cysteine, methionine, proline, hydroxyproline, etc. For use as an aqueous solution, the solubility at the isoelectric point is preferably 3 g or more with respect to 100 g of water. Glycine, alanine, serine, histidine, lysine, glutamine, cysteine, methionine, proline, hydroxyproline, etc. are preferably used, and from the viewpoint that the metal oxide particles have a gentle hydrogen bond with the binder, serine, hydride having a hydroxyl group. It is more preferable to use a Kishipurorin.

《高屈折率層及び低屈折率層に含有されるその他の添加剤》
本発明に係る高屈折率層と低屈折率層には、必要に応じて各種の添加剤を含有されていても良い。
<< Other Additives Contained in High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer >>
The high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention may contain various additives as necessary.

例えば、特開昭57−74193号公報、同57−87988号公報及び同62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報及び同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。   For example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988 and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, and JP-A-60-72785. No. 61-146591, JP-A-1-95091, JP-A-3-13376, etc., various surfactants of anion, cation or nonion, JP-A-59- 42993, 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A-4-219266, etc., whitening agents such as sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, PH adjusters such as citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, Antistatic agents, can also contain various known additives such as a matting agent.

《光学フィルムの製造方法》
図1を参照して本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明する。図1は、本発明に係る光学フィルムを製造する製造装置100を示す概略構成図である。
<< Optical film manufacturing method >>
With reference to FIG. 1, the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a manufacturing apparatus 100 for manufacturing an optical film according to the present invention.

製造装置100は、第1成膜部10と第2成膜部20とから構成されており、第1成膜部10により透明基材2上に高屈折率層を成膜し、第2成膜部20により透明基材2上に低屈折率層を成膜する。製造装置100は、透明基材2上に高屈折率層及び低屈折率層を交互に複数積層することで、光学フィルムを製造する。   The manufacturing apparatus 100 includes a first film forming unit 10 and a second film forming unit 20. The first film forming unit 10 forms a high refractive index layer on the transparent substrate 2 to form a second forming layer. A low refractive index layer is formed on the transparent substrate 2 by the film unit 20. The manufacturing apparatus 100 manufactures an optical film by alternately laminating a plurality of high refractive index layers and low refractive index layers on the transparent substrate 2.

第1成膜部10は、透明基材2上に、カチオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液と、アニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液とをスプレー塗布により交互に塗布することで、低屈折率層を形成する。   The first film forming unit 10 is formed on the transparent substrate 2 by alternately applying a coating liquid containing cationic titanium oxide particles and a coating liquid containing anionic titanium oxide particles by spray coating. A refractive index layer is formed.

第1成膜部10は、例えば図1に示すように、制御部11、カチオン性酸化チタン粒子供給部12、アニオン性酸化チタン粒子供給部13、ノズル14a,14b、支持部15等を備えて構成されている。   For example, as shown in FIG. 1, the first film forming unit 10 includes a control unit 11, a cationic titanium oxide particle supply unit 12, an anionic titanium oxide particle supply unit 13, nozzles 14a and 14b, a support unit 15 and the like. It is configured.

制御部11は、CPU、RAM、不揮発性メモリー等により構成され、不揮発メモリーに記憶されている制御プログラムを読み出して実行することにより、第1成膜部10の各部の動作を制御する。例えば、制御部11は、カチオン性酸化チタン粒子供給部12及びアニオン性酸化チタン粒子供給部13からノズル14a,14bに送液する液量等を制御する。   The control unit 11 includes a CPU, a RAM, a non-volatile memory, and the like, and controls the operation of each unit of the first film forming unit 10 by reading and executing a control program stored in the non-volatile memory. For example, the control unit 11 controls the amount of liquid fed from the cationic titanium oxide particle supply unit 12 and the anionic titanium oxide particle supply unit 13 to the nozzles 14a and 14b.

カチオン性酸化チタン粒子供給部12は、カチオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液を貯蔵し、貯蔵する塗布液を、窒素ガスの圧力によってノズル14aに送液し、ノズル14aから透明基材2に向けて噴霧する。カチオン性酸化チタン粒子供給部12から噴霧される塗布液量は、制御部11により適宜設定される。
カチオン性酸化チタン粒子供給部12に貯蔵されている塗布液は、上記したカチオン性酸化チタン粒子が、水、有機溶媒又はそれらの混合溶媒等に分散されたものである。この塗布液には水溶性高分子が含有されており、必要に応じて、硬化剤、アミノ酸、各種添加物等が選択されて含有されている。
The cationic titanium oxide particle supply unit 12 stores the coating liquid containing the cationic titanium oxide particles, and sends the stored coating liquid to the nozzle 14a by the pressure of nitrogen gas, from the nozzle 14a to the transparent substrate 2. Spray towards. The amount of the coating liquid sprayed from the cationic titanium oxide particle supply unit 12 is appropriately set by the control unit 11.
The coating liquid stored in the cationic titanium oxide particle supply unit 12 is obtained by dispersing the above-described cationic titanium oxide particles in water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof. This coating solution contains a water-soluble polymer, and a curing agent, an amino acid, various additives, and the like are selected and contained as necessary.

アニオン性酸化チタン粒子供給部13は、アニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液を貯蔵し、貯蔵する塗布液を窒素ガスの圧力によってノズル14bに送液し、ノズル14bから透明基材2に向けて噴霧する。アニオン性酸化チタン粒子供給部13から噴霧される塗布液量は、制御部11により適宜設定される。
アニオン性酸化チタン粒子供給部13に貯蔵されている塗布液は、上記したアニオン性酸化チタン粒子が、水、有機溶媒又はそれらの混合溶媒等に分散されたものである。この塗布液には水溶性高分子が含有されており、必要に応じて、硬化剤、アミノ酸、各種添加物等が選択されて含有されている。
The anionic titanium oxide particle supply unit 13 stores a coating liquid containing anionic titanium oxide particles, sends the stored coating liquid to the nozzle 14b by the pressure of nitrogen gas, and directs the coating liquid from the nozzle 14b toward the transparent substrate 2. Spray. The amount of coating liquid sprayed from the anionic titanium oxide particle supply unit 13 is appropriately set by the control unit 11.
The coating liquid stored in the anionic titanium oxide particle supply unit 13 is obtained by dispersing the above-described anionic titanium oxide particles in water, an organic solvent, a mixed solvent thereof or the like. This coating solution contains a water-soluble polymer, and a curing agent, an amino acid, various additives, and the like are selected and contained as necessary.

ノズル14a,14bは、カチオン性酸化チタン粒子供給部12及びアニオン性酸化チタン粒子供給部13から供給された塗布液を、噴霧口から噴霧する。
溶液の噴霧方法としては、公知の方法を用いることができ、特に限定されないが、例えば超音波振動子を用いて溶液を微粒子化する超音波方式、2流体方式、回転式等が挙げられる。
The nozzles 14a and 14b spray the coating liquid supplied from the cationic titanium oxide particle supply unit 12 and the anionic titanium oxide particle supply unit 13 from the spraying port.
As a method for spraying the solution, a known method can be used, and is not particularly limited, and examples thereof include an ultrasonic method, a two-fluid method, and a rotary method in which the solution is atomized using an ultrasonic vibrator.

ノズル14a,14bの噴霧口から透明基材2の被成膜面までの距離は、塗布液の送液量や固形分濃度等に応じて適宜設定するものである。ノズル14a,14bから噴霧された塗布液は、透明基材2上に到達するまでに、若干ではあるが溶媒が徐々に揮発し、固形分濃度が上昇して溶液の粘度が上昇する。噴霧口から透明基材2までの距離が大きいほど塗布液が広範囲に拡散し、生産性が向上するが、溶媒が揮発し易く固形分濃度が上昇し易いため、透明基材2上でのウェット性が低下し、均一な成膜が難しくなる場合がある。   The distance from the spray ports of the nozzles 14a and 14b to the film formation surface of the transparent substrate 2 is appropriately set according to the amount of coating liquid fed, the solid content concentration, and the like. The coating solution sprayed from the nozzles 14a and 14b gradually evaporates the solvent until it reaches the transparent substrate 2, and the solid content concentration increases to increase the viscosity of the solution. The longer the distance from the spray port to the transparent substrate 2, the more widely the coating solution diffuses and the productivity is improved. However, since the solvent easily evaporates and the solid concentration tends to increase, the wetness on the transparent substrate 2 is increased. In some cases, it may be difficult to form a uniform film.

このように構成される第1成膜部10は、更に駆動部(図示略)を備え、透明基材2とノズル14a,14bとの相対位置を変動させられるように構成されている。   The first film forming unit 10 configured as described above further includes a drive unit (not shown), and is configured to change the relative position between the transparent substrate 2 and the nozzles 14a and 14b.

第2成膜部20は、透明基材2上に、カチオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液と、アニオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液とをスプレー塗布により交互に塗布することで、高屈折率層を形成する。   The second film forming unit 20 is formed by alternately applying a coating solution containing cationic silicon oxide particles and a coating solution containing anionic silicon oxide particles on the transparent substrate 2 by spray coating. A refractive index layer is formed.

第2成膜部10は、例えば図1に示すように、制御部21、カチオン性酸化ケイ素粒子供給部22、アニオン性酸化ケイ素粒子供給部23、ノズル24a,24b、支持部25等を備えて構成されている。第2成膜部10を構成する各部は、上記した第1成膜部10と略同様に構成されており、カチオン性酸化ケイ素粒子供給部22、アニオン性酸化ケイ素粒子供給部23に貯蔵されている塗布液が、それぞれカチオン性酸化ケイ素粒子、アニオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液である点で異なる。   As shown in FIG. 1, for example, the second film forming unit 10 includes a control unit 21, a cationic silicon oxide particle supply unit 22, an anionic silicon oxide particle supply unit 23, nozzles 24a and 24b, a support unit 25, and the like. It is configured. Each part constituting the second film forming unit 10 is configured in substantially the same manner as the first film forming unit 10 described above, and is stored in the cationic silicon oxide particle supply unit 22 and the anionic silicon oxide particle supply unit 23. The coating solution is different in that the coating solution contains cationic silicon oxide particles and anionic silicon oxide particles.

以上のように構成された製造装置100により光学フィルムを製造する方法について以下説明する。   A method for manufacturing an optical film by the manufacturing apparatus 100 configured as described above will be described below.

まず、透明基材2を、第2成膜部20の支持部25上に設置する。
第2成膜部20は、カチオン性酸化ケイ素粒子供給部22から送液される塗布液をノズル24aから透明基材2に向けて噴霧し、透明基材2上にカチオン性酸化ケイ素粒子含有層を形成する。そして、第2成膜部20は、アニオン性酸化ケイ素粒子供給部23から送液される塗布液をノズル24bから透明基材2に向けて噴霧し、透明基材2上にアニオン性酸化ケイ素粒子含有層を形成する。第2成膜部20は、透明基材2上に所望の厚さの層が形成されるまで、カチオン性酸化ケイ素粒子含有層の形成工程とアニオン性酸化ケイ素粒子含有層の形成工程とを交互に繰り返す。これにより、透明基材2上に所望の厚さの低屈折率層が形成される。
なお、カチオン性酸化ケイ素粒子含有層の形成工程とアニオン性酸化ケイ素粒子含有層の形成工程との間に、透明基材2を所定時間放置して透明基材2表面を乾燥させるものとしても良い。
First, the transparent substrate 2 is installed on the support unit 25 of the second film forming unit 20.
The second film forming unit 20 sprays the coating liquid fed from the cationic silicon oxide particle supply unit 22 from the nozzle 24a toward the transparent substrate 2, and the cationic silicon oxide particle-containing layer is formed on the transparent substrate 2. Form. And the 2nd film-forming part 20 sprays the coating liquid sent from the anionic silicon oxide particle supply part 23 toward the transparent base material 2 from the nozzle 24b, and anionic silicon oxide particles on the transparent base material 2 A containing layer is formed. The second film forming unit 20 alternates the formation process of the cationic silicon oxide particle-containing layer and the formation process of the anionic silicon oxide particle-containing layer until a layer having a desired thickness is formed on the transparent substrate 2. Repeat. Thereby, a low refractive index layer having a desired thickness is formed on the transparent substrate 2.
In addition, the transparent base material 2 may be left for a predetermined time to dry the surface of the transparent base material 2 between the step of forming the cationic silicon oxide particle-containing layer and the step of forming the anionic silicon oxide particle-containing layer. .

続いて、低屈折率層が形成された透明基材2を、第1成膜部10の支持部15上に設置する。
第1成膜部10は、カチオン性酸化チタン粒子供給部12から送液される塗布液をノズル14aから透明基材2に向けて噴霧し、透明基材2上にカチオン性酸化チタン粒子含有層を形成する。そして、第1成膜部10は、アニオン性酸化チタン粒子供給部13から送液される塗布液をノズル14bから透明基材2に向けて噴霧し、透明基材2上にアニオン性酸化チタン粒子含有層を形成する。第1成膜部10は、透明基材2上に所望の厚さの層が形成されるまで、カチオン性酸化チタン粒子含有層の形成工程とアニオン性酸化チタン粒子含有層の形成工程とを交互に繰り返す。これにより、透明基材2上に所望の厚さの高屈折率層が形成される。
なお、カチオン性酸化チタン粒子含有層の形成工程とアニオン性酸化チタン粒子含有層の形成工程との間に、透明基材2を所定時間放置して透明基材2表面を乾燥させるものとしても良い。
Subsequently, the transparent substrate 2 on which the low refractive index layer is formed is placed on the support unit 15 of the first film forming unit 10.
The first film forming unit 10 sprays the coating liquid fed from the cationic titanium oxide particle supply unit 12 from the nozzle 14a toward the transparent substrate 2, and the cationic titanium oxide particle-containing layer is formed on the transparent substrate 2. Form. And the 1st film-forming part 10 sprays the coating liquid sent from the anionic titanium oxide particle supply part 13 toward the transparent base material 2 from the nozzle 14b, and anionic titanium oxide particles on the transparent base material 2 A containing layer is formed. The first film forming unit 10 alternates the formation process of the cationic titanium oxide particle-containing layer and the formation process of the anionic titanium oxide particle-containing layer until a layer having a desired thickness is formed on the transparent substrate 2. Repeat. Thereby, a high refractive index layer having a desired thickness is formed on the transparent substrate 2.
In addition, between the formation process of the cationic titanium oxide particle-containing layer and the formation process of the anionic titanium oxide particle-containing layer, the transparent substrate 2 may be left for a predetermined time to dry the surface of the transparent substrate 2. .

更に、製造装置100は、透明基材2に所望の厚さの光学干渉膜が形成されるまで、第2成膜部20による低屈折率層の形成工程と、第1成膜部10による高屈折率層の形成工程とを繰り返す。
このようにして、製造装置100により光学フィルムが製造される。
Furthermore, the manufacturing apparatus 100 performs a process of forming a low refractive index layer by the second film forming unit 20 and a process by the first film forming unit 10 until an optical interference film having a desired thickness is formed on the transparent substrate 2. The step of forming the refractive index layer is repeated.
In this way, the optical film is manufactured by the manufacturing apparatus 100.

なお、上記説明では、本発明に係る光学フィルムの製造方法を製造装置100を用いて行うものとしたが、第一の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、を交互にスプレー塗布して高屈折率層を形成し、第三の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液と、を交互にスプレー塗布して低屈折率層を形成するものであれば、図1に示す製造装置100を使用せずに行うものとしても良い。
また、上記説明では、透明基材上に、低屈折率層を先に形成してから高屈折率層を形成するものとしたが、高屈折率層を先に形成してから低屈折率層を形成するものとしても良い。
In the above description, the optical film manufacturing method according to the present invention is performed using the manufacturing apparatus 100. However, the coating liquid containing the first water-soluble polymer and the cationic silicon oxide particles, A coating solution containing two water-soluble polymers and anionic silicon oxide particles is alternately spray-coated to form a high refractive index layer, and a third water-soluble polymer and cationic titanium oxide particles are formed. If the low refractive index layer is formed by alternately spraying the coating liquid containing and the coating liquid containing the fourth water-soluble polymer and anionic titanium oxide particles, the production shown in FIG. It may be performed without using the device 100.
In the above description, the low refractive index layer is first formed on the transparent substrate and then the high refractive index layer is formed. However, after the high refractive index layer is formed first, the low refractive index layer is formed. It is good also as what forms.

《光学反射フィルム》
本発明の光学反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、高分子フィルムに互いに屈折率が異なる膜を同時重層塗布により積層させた多層膜を形成し、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上で、かつ、波長900nm〜1400nmの領域に反射率40%を超える領域を有する様に光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。
《Optical reflection film》
When the optical reflective film of the present invention is used as a heat-shielding film, a multilayer film is formed by laminating films having different refractive indexes on a polymer film by simultaneous multilayer coating, and in the visible light region shown in JIS R3106-1998. It is preferable to design the optical film thickness and unit so that the transmittance is 50% or more and the region having a wavelength of 900 nm to 1400 nm has a region exceeding the reflectance of 40%.

遮熱フィルムは、太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格JIS R3106に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長(760nm)から最長波長3200nmまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長760nmから最長波長3200nmまでの赤外全域の総エネルギーを100としたときの、760nmから各波長までの累積エネルギーをみると、760から1300nmのエネルギー合計が赤外域全体の約75%を占めている。従って、1300nmまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果がもっとも効率がよい。   In the thermal barrier film, the infrared region of the incident spectrum of the direct sunlight is related to the increase in the indoor temperature, and by blocking this, the increase in the indoor temperature can be suppressed. Looking at the cumulative energy ratio from the shortest infrared wavelength (760 nm) to the longest wavelength 3200 nm based on the weight coefficient described in Japanese Industrial Standards JIS R3106, the entire infrared region from the wavelength 760 nm to the longest wavelength 3200 nm Looking at the cumulative energy from 760 nm to each wavelength when the total energy is 100, the total energy from 760 to 1300 nm occupies about 75% of the entire infrared region. Therefore, shielding the wavelength region up to 1300 nm has the most efficient energy saving effect by heat ray shielding.

この近赤外域(760〜1300nm)の反射率を最大ピーク値で約80%以上にすると体感温度の低下が官能評価により得られる。たとえば8月の午前中の南東方法を向く窓際での体感温度が近赤外域の反射率を最大ピーク値で約80%にまで遮蔽したとき明確な差がでた。   When the reflectance in the near-infrared region (760 to 1300 nm) is about 80% or more at the maximum peak value, a decrease in body temperature can be obtained by sensory evaluation. For example, the temperature at the window facing southeast in the morning of August showed a clear difference when the reflectance in the near infrared region was shielded to about 80% at the maximum peak value.

このような機能を発現するのに必要となる多層膜構造を光学シミュレーション(FTG Software Associates Film DESIGN Version 2.23.3700)で求めた結果、1.9以上、望ましくは2.0以上の高屈折率層を利用し、6層以上積層した場合に優れた特性が得られることがわかっている。例えば、高屈折率層と低屈折率層(屈折率=1.35)を交互に8層積層したモデルのシミュレーション結果をみると、高屈折率層の屈折率が1.8では反射率が70%にも達しないが、1.9になると約80%の反射率が得られる。また、高屈折率層(屈折率=2.2)と低屈折率層(屈折率=1.35)を交互に積層したモデルでは、積層数が4では反射率が60%にも達していないが、6層になると約80%の反射率が得られる。   As a result of obtaining a multilayer film structure necessary for developing such a function by optical simulation (FTG Software Associates Film DESIGN Version 2.23.3700), a high refraction of 1.9 or more, desirably 2.0 or more. It has been found that excellent characteristics can be obtained when six or more layers are laminated using a rate layer. For example, looking at the simulation results of a model in which eight layers of high refractive index layers and low refractive index layers (refractive index = 1.35) are alternately stacked, the reflectance is 70 when the refractive index of the high refractive index layer is 1.8. However, the reflectance of about 80% can be obtained at 1.9. Further, in the model in which the high refractive index layer (refractive index = 2.2) and the low refractive index layer (refractive index = 1.35) are alternately stacked, the reflectance does not reach 60% when the number of stacked layers is 4. However, when there are 6 layers, a reflectance of about 80% can be obtained.

このように光学膜厚を変化させることで反射する光の波長をコントロールできるので、前記高屈折率層と低屈折率層を交互に積層させたユニットにおいて、高屈折率層と低屈折率層の光学膜厚が異なるユニットを複数セット積層した構成とすることで、反射する光の範囲を広げて、近赤外のみでなく、赤外又可視光領域の一部までを反射する遮熱フィルムとすることができる。   Since the wavelength of the reflected light can be controlled by changing the optical film thickness in this way, in the unit in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated, the high refractive index layer and the low refractive index layer With a configuration in which a plurality of units having different optical film thicknesses are stacked, the range of the reflected light is widened, and a thermal barrier film that reflects not only the near infrared but also part of the infrared or visible light region and can do.

同様に、本発明に係る光学フィルムは、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚を制御することによって反射率を変更し、紫外光をカットする紫外光反射フィルムとして構成されていても良いし、光学干渉により反射率を低減させる反射防止フィルムとして構成されていても良い。
反射防止膜として構成されている場合の例としては、
透明基材/低屈折(屈折率1.46、膜厚94nm)/中屈折(屈折率1.62、膜厚170nm)/高屈折(屈折率2.00、膜厚138nm)/低屈折(屈折率1.38、膜厚94nm)
透明基材/中屈折(屈折率1.70、膜厚76nm)/高屈折(屈折率2.00、膜厚130nm)/低屈折(屈折率1.38、膜厚94nm)
などの構成を挙げることが出来る。
Similarly, the optical film according to the present invention may be configured as an ultraviolet light reflecting film that changes the reflectance by controlling the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer and cuts ultraviolet light. Alternatively, it may be configured as an antireflection film that reduces the reflectance by optical interference.
As an example when it is configured as an antireflection film,
Transparent substrate / low refraction (refractive index 1.46, film thickness 94 nm) / medium refraction (refractive index 1.62, film thickness 170 nm) / high refraction (refractive index 2.00, film thickness 138 nm) / low refraction (refraction) (Rate 1.38, film thickness 94 nm)
Transparent substrate / medium refraction (refractive index 1.70, film thickness 76 nm) / high refraction (refractive index 2.00, film thickness 130 nm) / low refraction (refractive index 1.38, film thickness 94 nm)
And the like.

《光学反射フィルムの応用》
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備(基体)に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明に係る光学外反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材には好適である。
<Application of optical reflective film>
The optical reflective film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, film for window pasting such as heat ray reflecting film that gives heat ray reflection effect, film for agricultural greenhouses, etc. Etc., mainly for the purpose of improving the weather resistance. In particular, it is suitable for a member in which the optical external reflection film according to the present invention is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive.

接着剤は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、近赤外反射フィルムが日光(熱線)入射面側にあるように設置する。また近赤外反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の近赤外反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   The adhesive is placed so that the near-infrared reflective film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Moreover, when a near-infrared reflective film is pinched | interposed between a window glass and a base material, it can seal from surrounding gas, such as a water | moisture content, and is preferable for durability. Even if the near-infrared reflective film of the present invention is installed outdoors or outside the vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability.

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。   As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.

接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系及びエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, since the peel strength can be easily controlled, a solvent system is preferable among the solvent system and the emulsion system in the acrylic adhesive. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール〔積水化学工業社製、三菱モンサント社製等〕、エチレン−酢酸ビニル共重合体〔デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン〕、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体〔東ソー社製、メルセンG〕等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。   Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral [manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto, etc.], ethylene-vinyl acetate copolymer [manufactured by DuPont, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin], modified ethylene-vinyl acetate copolymer [Mersen G manufactured by Tosoh Corporation]. In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion regulator etc. suitably in an adhesion layer.

また、反射バンド以外の光を吸収する光吸収物質として金属酸化物を用いることができる。金属酸化物としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、フッ素ドープ酸化錫(FTO)、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)を好ましく用いることができ、特に好ましくは、ATO、ITOである。   Further, a metal oxide can be used as a light absorbing material that absorbs light other than the reflection band. Metal oxides include tin oxide, indium oxide, zinc oxide, cadmium oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), tin-doped indium oxide (ITO), and aluminum-doped zinc oxide (AZO). ATO and ITO are particularly preferable.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

まず、アニオン性酸化ケイ素を含有する低屈折率層用塗布液L1〜L5を以下のように調製した。   First, coating solutions L1 to L5 for a low refractive index layer containing anionic silicon oxide were prepared as follows.

(低屈折率層用塗布液L1の調製)
コロイダルシリカ(スノーテックスOXS、日産化学工業社製、固形分10質量%)5.5質量部に、ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液0.2質量部、3質量%ホウ酸水溶液1質量部をそれぞれ添加した後、45℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液2質量部、アニオン性界面活性剤(ラピゾールA30、日油製)の1質量%水溶液0.1質量部を添加し、純水91.2質量部を加えて低屈折率層用塗布液L1を調製した。
(Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer)
Colloidal silica (Snowtex OXS, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content: 10% by mass) and 5.5 parts by mass of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree: 1700, saponification degree: 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) After adding 0.2 parts by weight of a 3% by weight aqueous solution and 1 part by weight of a 3% by weight aqueous boric acid solution, while heating to 45 ° C. and stirring, polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol) 2 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution (made by Kuraray Co., Ltd.) and 0.1 parts by weight of a 1% by weight aqueous solution of an anionic surfactant (Rapidol A30, made by NOF Corporation). In addition, a coating solution L1 for a low refractive index layer was prepared.

(低屈折率層用塗布液L2の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液に代えて、ポリビニルアルコール(PVA―417、重合度1700、鹸化度79.5mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液を使用したほかは低屈折率層用塗布液L1と同様にして低屈折率層用塗布液L2を調製した。
(Preparation of coating liquid L2 for low refractive index layer)
Instead of a 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (PVA-417, polymerization degree 1700, saponification degree 79.5 mol%, Kuraray) A low-refractive-index layer coating solution L2 was prepared in the same manner as the low-refractive-index layer coating solution L1 except that a 5% by mass aqueous solution (manufactured by Komatsu) was used.

(低屈折率層用塗布液L3の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液に代えて、ポリビニルアルコール(PVA―245、重合度4500、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液を使用したほかは低屈折率層用塗布液L1と同様にして低屈折率層用塗布液L3を調製した。
(Preparation of coating liquid L3 for low refractive index layer)
Instead of a 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (PVA-245, polymerization degree 4500, saponification degree 88.0 mol%, Kuraray) A low-refractive-index layer coating solution L3 was prepared in the same manner as the low-refractive-index layer coating solution L1 except that a 5% by mass aqueous solution (manufactured by Komatsu) was used.

(低屈折率層用塗布液L4の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液に代えて、重量平均分子量が13万の酸処理ゼラチン(高分子量ゼラチン)の5質量%水溶液を使用したほかは低屈折率層用塗布液L1と同様にして低屈折率層用塗布液L4を調製した。
(Preparation of coating liquid L4 for low refractive index layer)
Instead of 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 5 mass% of acid-treated gelatin (high molecular weight gelatin) having a weight average molecular weight of 130,000 A low refractive index layer coating liquid L4 was prepared in the same manner as the low refractive index layer coating liquid L1 except that the aqueous solution was used.

(低屈折率層用塗布液L5の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液に代えて、アルカリ処理により加水分解を施した重量平均分子量が2万の低分子量ゼラチンの5質量%水溶液を使用したほかは低屈折率層用塗布液L1と同様にして低屈折率層用塗布液L5を調製した。
(Preparation of coating liquid L5 for low refractive index layer)
Instead of a 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), a low molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 20,000 hydrolyzed by alkali treatment A low refractive index layer coating liquid L5 was prepared in the same manner as the low refractive index layer coating liquid L1 except that a 5 mass% aqueous solution was used.

続いて、カチオン性酸化ケイ素を含有する低屈折率層用塗布液L6、L7を以下のように調製した。   Subsequently, coating solutions L6 and L7 for low refractive index layer containing cationic silicon oxide were prepared as follows.

(低屈折率層用塗布液L6の調製)
カチオン化剤としてポリ塩化アルミニウム(多木化学製;タキバイン#1500)の23.5質量%水溶液0.92部と、コロイダルシリカ(日産化学社製;スノーテックスOUP)の15質量%水溶液34部と、ホウ酸の5.5質量%水溶液10.34部と、水酸化リチウムの2.1質量%水溶液0.48部を混合した後、高圧ホモジナイザー分散機を用いて分散した。分散後、純水で1000部に仕上げて、酸化ケイ素分散液を調製した。
(Preparation of coating liquid L6 for low refractive index layer)
0.92 parts of a 23.5% by weight aqueous solution of polyaluminum chloride (manufactured by Taki Chemical; Takibine # 1500) as a cationizing agent, and 34 parts of a 15% by weight aqueous solution of colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .; Snowtex OUP) After mixing 10.34 parts of a 5.5% by weight aqueous solution of boric acid and 0.48 part of a 2.1% by weight aqueous solution of lithium hydroxide, the mixture was dispersed using a high-pressure homogenizer disperser. After dispersion, it was finished to 1000 parts with pure water to prepare a silicon oxide dispersion.

次いで、調製した酸化ケイ素分散液を45℃に加熱し、純水460部、ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4.0質量%水溶液40部を撹拌しながら添加した後、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤(日油製ニッサンカチオン−2−DB−500E)の5質量%水溶液を0.50部添加し、低屈折率層用塗布液L6を調製した。   Next, the prepared silicon oxide dispersion was heated to 45 ° C., and 460 parts of pure water, a 4.0 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 40 0.55 parts of a 5% by weight aqueous solution of a quaternary ammonium salt-based cationic surfactant (Nissan Cation-2-DB-500E manufactured by NOF Corporation) was added to the low refractive index layer. A coating liquid L6 was prepared.

(低屈折率層用塗布液L7の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4.0質量%水溶液に代えて、重量平均分子量が13万の酸処理ゼラチン(高分子量ゼラチン)の5質量%水溶液を使用したほかは低屈折率層用塗布液L6と同様にして低屈折率層用塗布液L7を調製した。
(Preparation of coating solution L7 for low refractive index layer)
Instead of a 4.0 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 5 of acid-treated gelatin (high molecular weight gelatin) having a weight average molecular weight of 130,000 A coating liquid L7 for a low refractive index layer was prepared in the same manner as the coating liquid L6 for a low refractive index layer except that a mass% aqueous solution was used.

続いて、アニオン性酸化チタンを含有する高屈折率層用塗布液H1〜H6を以下のように調製した。   Subsequently, coating solutions H1 to H6 for high refractive index layer containing anionic titanium oxide were prepared as follows.

(高屈折率層用塗布液H1の調製)
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製)を10.0質量%に希釈した酸化チタンゾル水系分散液0.5kgに純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加し、次いでオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮して、ルチル型構造を有する酸化チタンであって、被覆層がSiOである、20質量%の粒子を得た。
(Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer)
1 kg of titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) diluted to 10.0% by mass with 0.5 kg of titanium oxide sol aqueous dispersion and 2 kg of pure water And then heated to 90 ° C. Next, 1.3 kg of an aqueous silicic acid solution was gradually added, followed by heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, further concentrated to titanium oxide having a rutile structure, and the coating layer was made of SiO 2 . Some 20 mass% particles were obtained.

上記のようにして得られた20質量%の酸化チタン粒子ゾル水系分散液28.9部と、1.92質量%のクエン酸水溶液10.5部と、4質量%のポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)水溶液2.0部と、3質量%のホウ酸水溶液9.0部を混合して、酸化チタン粒子分散液を調製した。   28.9 parts of a 20% by weight titanium oxide particle sol aqueous dispersion obtained as described above, 10.5 parts of a 1.92% by weight aqueous citric acid solution, and 4% by weight polyvinyl alcohol (PVA-217). And a polymerization degree 1700, a saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 2.0 parts aqueous solution and 9.0 parts 3% by weight boric acid aqueous solution were mixed to prepare a titanium oxide particle dispersion.

次いで、酸化チタン粒子分散液を撹拌しながら、純水16.3部に、4質量%のポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)水溶液41.9部を添加した。更に、アニオン性界面活性剤(日油製ラピゾールA30)の1質量%水溶液を0.5部添加し、最後に純水で1500部に仕上げて、高屈折率層用塗布液H1を調製した。   Next, while stirring the titanium oxide particle dispersion, 41.9% by weight of 4% polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 41.9% in pure water 16.3 parts. Parts were added. Further, 0.5 part of a 1% by mass aqueous solution of an anionic surfactant (Nippon Rapisol A30) was added, and finally it was made up to 1500 parts with pure water to prepare a coating solution H1 for a high refractive index layer.

(高屈折率層用塗布液H2の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液に代えて、ポリビニルアルコール(PVA―417、重合度1700、鹸化度79.5mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液を使用したほかは高屈折率層用塗布液H1と同様にして高屈折率層用塗布液H2を調製した。
(Preparation of coating liquid H2 for high refractive index layer)
Instead of a 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (PVA-417, polymerization degree 1700, saponification degree 79.5 mol%, Kuraray) A high-refractive-index layer coating solution H2 was prepared in the same manner as the high-refractive-index layer coating solution H1 except that a 4% by mass aqueous solution (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was used.

(高屈折率層用塗布液H3の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液に代えて、ポリビニルアルコール(PVA―245、重合度4500、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液を使用したほかは高屈折率層用塗布液H1と同様にして高屈折率層用塗布液H3を調製した。
(Preparation of coating liquid H3 for high refractive index layer)
Instead of a 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl alcohol (PVA-245, polymerization degree 4500, saponification degree 88.0 mol%, Kuraray) A high-refractive-index layer coating solution H3 was prepared in the same manner as the high-refractive-index layer coating solution H1 except that a 4% by mass aqueous solution (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was used.

(高屈折率層用塗布液H4の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液に代えて、重量平均分子量が13万の酸処理ゼラチン(高分子量ゼラチン)の4質量%水溶液を使用したほかは高屈折率層用塗布液H1と同様にして高屈折率層用塗布液H4を調製した。
(Preparation of coating liquid H4 for high refractive index layer)
4% by mass of acid-treated gelatin (high molecular weight gelatin) having a weight average molecular weight of 130,000 instead of a 4% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) A high refractive index layer coating solution H4 was prepared in the same manner as the high refractive index layer coating solution H1 except that the aqueous solution was used.

(高屈折率層用塗布液H5の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の4質量%水溶液に代えて、アルカリ処理により加水分解を施した重量平均分子量が2万の低分子量ゼラチンの4質量%水溶液を使用したほかは高屈折率層用塗布液H1と同様にして高屈折率層用塗布液H5を調製した。
(Preparation of coating liquid H5 for high refractive index layer)
Instead of a 4% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), a low molecular weight gelatin having a weight average molecular weight of 20,000 hydrolyzed by alkali treatment A coating liquid H5 for a high refractive index layer was prepared in the same manner as the coating liquid H1 for a high refractive index layer, except that a 4% by mass aqueous solution was used.

(高屈折率層用塗布液H6の調製)
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製)100質量部に40質量%のポリアクリル酸(ジュリマーAC−10S、東亜合成社製)1.13質量部を加え、5時間撹拌して、ポリアクリル酸で被覆した酸化チタンゾルを得た。
被覆層がSiOである酸化チタンゾルに代えて、被覆層がポリアクリル酸である酸化チタンゾルを使用したほかは高屈折率層用塗布液H1と同様にして高屈折率層用塗布液H6を調製した。
(Preparation of coating liquid H6 for high refractive index layer)
15.0 mass% titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) 40 mass% polyacrylic acid (Julimer AC-10S, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1.13 parts by mass was added and stirred for 5 hours to obtain a titanium oxide sol coated with polyacrylic acid.
Coating layer instead of the titanium oxide sol is SiO 2, except that the coating layer is used titanium oxide sol is polyacrylic acid preparing high refractive index layer coating solution H6 in the same manner as the high-refractive index layer coating solution H1 did.

続いて、カチオン性酸化チタンを含有する高屈折率層用塗布液H7、H8を以下のように調製した。   Subsequently, coating liquids H7 and H8 for high refractive index layer containing cationic titanium oxide were prepared as follows.

(高屈折率層用塗布液H7の調製)
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製)80質量部と、ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液80質量部と、5.0質量%界面活性剤水溶液(コータミン24P、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤、花王社製)0.45質量部とを混合し、純水で2400質量部に仕上げ、更に、ホウ酸/硼砂を用いて塗布膜の膜面pHが5.0となるように調整し、高屈折率層用塗布液H7を作製した。
(Preparation of coating liquid H7 for high refractive index layer)
15.0 mass% titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, Sakai Chemical Co., Ltd.) 80 mass parts, polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol) 80% by mass of a 5% by mass aqueous solution of Kuraray Co., Ltd.) and 0.45 parts by mass of a 5.0% by mass aqueous surfactant solution (Cotamine 24P, quaternary ammonium salt cationic surfactant, manufactured by Kao Corporation) And finished to 2400 parts by mass with pure water, and further adjusted so that the film surface pH of the coating film becomes 5.0 using boric acid / borax to prepare a coating solution H7 for a high refractive index layer. .

(高屈折率層用塗布液H8の調製)
ポリビニルアルコール(PVA―217、重合度1700、鹸化度88.0mol%、クラレ社製)の5質量%水溶液に代えて、重量平均分子量が13万の酸処理ゼラチン(高分子量ゼラチン)の5質量%水溶液を使用したほかは高屈折率層用塗布液H7と同様にして高屈折率層用塗布液H8を調製した。
(Preparation of coating liquid H8 for high refractive index layer)
Instead of 5 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-217, polymerization degree 1700, saponification degree 88.0 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 5 mass% of acid-treated gelatin (high molecular weight gelatin) having a weight average molecular weight of 130,000 A high refractive index layer coating solution H8 was prepared in the same manner as the high refractive index layer coating solution H7 except that the aqueous solution was used.

以上のようにして調製した低屈折率層用塗布液L1〜L7及び高屈折率層用塗布液H1〜H8を用い、以下の光学フィルム(赤外反射フィルム)101〜108を作製した。   Using the coating solutions L1 to L7 for the low refractive index layer and the coating solutions H1 to H8 for the high refractive index layer prepared as described above, the following optical films (infrared reflective films) 101 to 108 were produced.

(赤外反射フィルム101の作製)
厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300、両面易接着層)上に、カチオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として低屈折率層用塗布液L6と、アニオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として低屈折率層用塗布液L1とをそれぞれ乾燥膜厚が21nm、計42nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布し、これを3回繰り返すことで126nmの低屈折率層を形成した。
(Preparation of infrared reflective film 101)
On a polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300, double-sided easy-adhesion layer) having a thickness of 50 μm, a coating solution containing a low refractive index layer as a coating solution containing cationic silicon oxide particles and a coating containing anionic silicon oxide particles The coating liquid L1 for the low refractive index layer as a liquid is spray-applied alternately with the coating amount adjusted so that the dry film thickness is 21 nm and a total of 42 nm, respectively, and this is repeated three times to reduce the low refractive index of 126 nm. A layer was formed.

形成された低屈折率層上に、カチオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として高屈折率層用塗布液H7と、アニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として高屈折率層用塗布液H1とをそれぞれ乾燥膜厚が21nm、計42nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布し、これを3回繰り返すことで126nmの高屈折率層を形成した。   On the formed low refractive index layer, a coating liquid H7 for a high refractive index layer as a coating liquid containing cationic titanium oxide particles, and a coating liquid H1 for a high refractive index layer as a coating liquid containing anionic titanium oxide particles. The coating thickness was adjusted so that the dry film thickness was 21 nm and the total thickness was 42 nm, respectively, and spray coating was alternately performed. This was repeated three times to form a 126 nm high refractive index layer.

これらの操作を繰り返し、低屈折率層5層、高屈折率層4層をそれぞれ交互に計9層からなる重層塗布品を作製し、赤外反射フィルム101とした。   By repeating these operations, a multi-layer coated product consisting of a total of 9 layers each consisting of 5 low refractive index layers and 4 high refractive index layers was produced.

(赤外反射フィルム102の作製)
低屈折率層用塗布液L1を低屈折率層用塗布液L2に変更し、高屈折率層用塗布液H1を高屈折率層用塗布液H2に変更した以外は赤外反射フィルム101と同様にして、赤外反射フィルム102を作製した。
(Preparation of infrared reflective film 102)
The same as the infrared reflective film 101 except that the coating liquid L1 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L2 for the low refractive index layer and the coating liquid H1 for the high refractive index layer is changed to the coating liquid H2 for the high refractive index layer. Thus, an infrared reflective film 102 was produced.

(赤外反射フィルム103の作製)
低屈折率層用塗布液L1を低屈折率層用塗布液L3に変更し、高屈折率層用塗布液H1を高屈折率層用塗布液H3に変更した以外は赤外反射フィルム101と同様にして、赤外反射フィルム103を作製した。
(Preparation of infrared reflective film 103)
The same as the infrared reflective film 101 except that the coating liquid L1 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L3 for the low refractive index layer and the coating liquid H1 for the high refractive index layer is changed to the coating liquid H3 for the high refractive index layer. Thus, an infrared reflective film 103 was produced.

(赤外反射フィルム104の作製)
低屈折率層用塗布液L6を低屈折率層用塗布液L7に変更し、低屈折率層用塗布液L1を低屈折率層用塗布液L4に変更し、高屈折率層用塗布液H7を高屈折率層用塗布液H8に変更し、高屈折率層用塗布液H1を高屈折率層用塗布液H4に変更した以外は赤外反射フィルム101と同様にして、赤外反射フィルム104を作製した。
(Preparation of infrared reflective film 104)
The coating liquid L6 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L7 for the low refractive index layer, the coating liquid L1 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L4 for the low refractive index layer, and the coating liquid H7 for the high refractive index layer. Is changed to the coating liquid H8 for the high refractive index layer, and the infrared reflecting film 104 is the same as the infrared reflecting film 101 except that the coating liquid H1 for the high refractive index layer is changed to the coating liquid H4 for the high refractive index layer. Was made.

(赤外反射フィルム105の作製)
低屈折率層用塗布液L4を低屈折率層用塗布液L5に変更し、高屈折率層用塗布液H4を高屈折率層用塗布液H5に変更した以外は赤外反射フィルム104と同様にして、赤外反射フィルム105を作製した。
(Preparation of infrared reflective film 105)
The same as the infrared reflective film 104 except that the coating liquid L4 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L5 for the low refractive index layer and the coating liquid H4 for the high refractive index layer is changed to the coating liquid H5 for the high refractive index layer. Thus, an infrared reflective film 105 was produced.

(赤外反射フィルム106の作製)
低屈折率層用塗布液L1を低屈折率層用塗布液L4に変更し、高屈折率層用塗布液H1を高屈折率層用塗布液H4に変更した以外は赤外反射フィルム101と同様にして、赤外反射フィルム106を作製した。
(Preparation of infrared reflective film 106)
The same as the infrared reflective film 101 except that the coating liquid L1 for the low refractive index layer is changed to the coating liquid L4 for the low refractive index layer and the coating liquid H1 for the high refractive index layer is changed to the coating liquid H4 for the high refractive index layer. Thus, an infrared reflective film 106 was produced.

(赤外反射フィルム107の作製)
高屈折率層用塗布液H1を高屈折率層用塗布液H6に変更した以外は赤外反射フィルム101と同様にして、赤外反射フィルム107を作製した。
(Preparation of infrared reflection film 107)
An infrared reflective film 107 was produced in the same manner as the infrared reflective film 101 except that the high refractive index layer coating liquid H1 was changed to the high refractive index layer coating liquid H6.

(赤外反射フィルム108(比較例)の作製)
100μmの薄膜ガラスを準備した。この薄膜ガラス上に、非特許文献1に記載の方法により、低屈折率層と高屈折率層を形成した。即ち、薄膜ガラス上に、PAH(Poly(allylamine hydrochloride))/SiOを20回積層して低屈折率層を形成し、TiO/PVS(poly(vinyl sulfonic acid sodium salt))を20回積層して高屈折率層を形成した。
なお、PAHはMw=70000,シグマーアルドリッチ社製を利用した。SiOは日産化学工業社製のコロイダルシリカ(スノーテックスOXS、固形分10質量%)を利用した。PVSはMw=170000,シグマーアルドリッチ社製(固形分25%水溶液)、TiOは堺化学社製の酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、固形分15%)を利用した。
(Preparation of infrared reflective film 108 (comparative example))
A 100 μm thin film glass was prepared. A low refractive index layer and a high refractive index layer were formed on the thin film glass by the method described in Non-Patent Document 1. That is, PAH (Poly (allylamine hydrochloride)) / SiO 2 is laminated 20 times on a thin film glass to form a low refractive index layer, and TiO 2 / PVS (poly (vinyl sulfonic acid sodium salt)) is laminated 20 times. Thus, a high refractive index layer was formed.
PAH used was Mw = 70000, manufactured by Sigma Aldrich. For SiO 2 , colloidal silica (Snowtex OXS, solid content 10 mass%) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. was used. PVS is Mw = 1700, made by Sigma Aldrich (solid content 25% aqueous solution), TiO 2 is a titanium oxide sol made by Sakai Chemical Co., Ltd. (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, solid content 15%) Was used.

この操作を繰り返し、低屈折率層5層、高屈折率層4層をそれぞれ交互に計9層からなる膜を形成した。積層後、このサンプルを550℃で2時間焼成し、ポリマー化合物を除去した。なお、焼成後の全体の膜厚が126nmとなるように各種条件を調整した。   This operation was repeated to form a film consisting of a total of 9 layers of 5 low refractive index layers and 4 high refractive index layers alternately. After lamination, this sample was baked at 550 ° C. for 2 hours to remove the polymer compound. Various conditions were adjusted so that the total film thickness after firing was 126 nm.

(赤外反射フィルム101〜108の評価)
以上のようにして作製された各赤外反射フィルムについて下記の評価を行った。評価結果を表1に示す。
(Evaluation of infrared reflective films 101-108)
The following evaluation was performed about each infrared reflective film produced as mentioned above. The evaluation results are shown in Table 1.

(1)曲げ耐性(クラック)
作製した赤外反射フィルムを、直径10cmの円筒に巻きつけて戻す作業を10回繰り返し、膜の状態を顕微鏡にて50倍の倍率で確認した。評価結果を以下の基準で示した。
×;1視野に6個以上のクラック
△;1視野に1から5個クラックあり
○;クラックなし
(1) Bending resistance (crack)
The process of winding the prepared infrared reflective film around a cylinder having a diameter of 10 cm and returning it was repeated 10 times, and the state of the film was confirmed with a microscope at a magnification of 50 times. The evaluation results are shown by the following criteria.
×: 6 or more cracks in 1 field of view Δ: 1 to 5 cracks in 1 field of view ○: No crack

(2)曲げ耐性(反射特性)
分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、上記した曲げ耐性(クラック)評価を行った赤外反射フィルム101〜107の700nm〜2000nmの領域における透過率を測定した。700〜2000nmの平均の透過率を求め、赤外反射フィルム107に対する比率を求めた。この比率が小さいほど、曲げ耐性後も比較よりも赤外反射が良好であることを示している。評価結果を以下の基準で示した。
×;1以上満
△;0.9以上 1未満
○△;0.7以上 0.8未満
○;0.6以上 0.7未満
◎;0.6未満
なお、赤外反射フィルム108は、上記した曲げ耐性(クラック)により多数のクラックが生じ、反射特性の評価を行うことができなかった。
(2) Bending resistance (reflection characteristics)
Using a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type), the transmittance in the region of 700 nm to 2000 nm of the infrared reflective films 101 to 107 subjected to the above bending resistance (crack) evaluation was measured. did. The average transmittance of 700 to 2000 nm was determined, and the ratio to the infrared reflective film 107 was determined. The smaller this ratio, the better the infrared reflection after the bending resistance than the comparison. The evaluation results are shown by the following criteria.
×: 1 or more △; 0.9 or more and less than 1
○: 0.7 or more and less than 0.8 ○; 0.6 or more and less than 0.7 ◎; less than 0.6 In addition, the infrared reflective film 108 has a large number of cracks due to the bending resistance (cracks) described above, The reflection characteristics could not be evaluated.

Figure 2014071419
Figure 2014071419

(3)まとめ
表1から明らかな通り、本発明に係る赤外反射フィルム101〜107は、比較例に係る赤外反射フィルム108と比較して、曲げられた後にもクラック等の発生がなく、反射特性を維持することができるもので、本発明によれば曲げ耐性に優れる光学フィルムを提供することができる。
また、本発明に係る赤外反射フィルム101〜107は、焼成工程を必要とすることなく作製されてもので工程が簡便であり、しかも、透明基材としての樹脂製フィルム上に曲げ耐性に優れる薄膜が形成されているものであるから、生産工程のロール搬送にも適しており、生産性に優れているということができる。
(3) Summary As is apparent from Table 1, the infrared reflective films 101 to 107 according to the present invention have no occurrence of cracks or the like even after being bent, compared to the infrared reflective film 108 according to the comparative example. The reflection characteristic can be maintained, and according to the present invention, an optical film excellent in bending resistance can be provided.
Moreover, since the infrared reflective films 101-107 which concern on this invention are produced without requiring a baking process, a process is simple and it is excellent in bending resistance on the resin-made films as a transparent base material. Since the thin film is formed, it is suitable for roll transport in the production process, and it can be said that the productivity is excellent.

(UV反射フィルム201の作製)
厚さ100μmのポリカーボネートフィルム(帝人化成S−5)上に、カチオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した低屈折率層用塗布液L6と、アニオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として実施例1で調製した低屈折率層用塗布液L3とをそれぞれ乾燥膜厚が25nm、計50nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布することで50nmの低屈折率層を形成した。
(Preparation of UV reflective film 201)
As a coating liquid containing cationic silicon oxide particles on a polycarbonate film (Teijin Chemicals S-5) having a thickness of 100 μm, the low refractive index layer coating liquid L6 prepared in Example 1 and anionic silicon oxide particles were used. The coating liquid L3 for low refractive index layer prepared in Example 1 as the coating liquid to be contained is spray-coated alternately by adjusting the coating amount so that the dry film thickness is 25 nm and the total thickness is 50 nm. A low refractive index layer was formed.

形成された低屈折率層上に、カチオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した高屈折率層用塗布液H7と、アニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した高屈折率層用塗布液H3とをそれぞれ乾燥膜厚が25nm、計50nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布することで50nmの高屈折率層を形成した。   As a coating liquid containing cationic titanium oxide particles on the formed low refractive index layer, a coating liquid H7 for high refractive index layer prepared in Example 1 and a coating liquid containing anionic titanium oxide particles, The coating liquid H3 for the high refractive index layer prepared in Example 1 was spray-coated alternately with the coating amount adjusted so that the dry film thickness was 25 nm and 50 nm in total, thereby forming the high refractive index layer of 50 nm. Formed.

これらの操作を繰り返し、低屈折率層5層、高屈折率層4層をそれぞれ交互に計9層からなる重層塗布品を作製し、UV反射フィルム201とした。
作製されたUV反射フィルム201に対し、分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)により、200−400nmのUV領域に反射のあることを確認した。
By repeating these operations, a multi-layer coated product consisting of a total of 9 layers each consisting of 5 low refractive index layers and 4 high refractive index layers was produced.
It confirmed that there existed reflection in 200-400 nm UV area | region with the spectrophotometer (The use of an integrating sphere, Hitachi Ltd. make, U-4000 type) with respect to the produced UV reflection film 201. FIG.

(可視光反射フィルム301の作製)
厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300、両面易接着層)上に、カチオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した低屈折率層用塗布液L6と、アニオン性酸化ケイ素粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した低屈折率層用塗布液L1とをそれぞれ乾燥膜厚が20nm、計40nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布し、これを2回繰り返すことで80nmの低屈折率層を形成した。
(Preparation of visible light reflecting film 301)
On a 50 μm thick polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300, double-sided easy-adhesion layer), as a coating solution containing cationic silicon oxide particles, a coating solution L6 for low refractive index layer prepared in Example 1 and anionic As a coating solution containing silicon oxide particles, the coating solution L1 for the low refractive index layer prepared in Example 1 is spray-coated alternately by adjusting the coating amount so that the dry film thickness is 20 nm and the total thickness is 40 nm. This was repeated twice to form an 80 nm low refractive index layer.

形成された低屈折率層上に、カチオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した高屈折率層用塗布液H7と、アニオン性酸化チタン粒子を含有する塗布液として、実施例1で調製した高屈折率層用塗布液H1とをそれぞれ乾燥膜厚が15nm、計30nmとなるように塗設量を調整して交互にスプレー塗布し、これを2回繰り返すことで60nmの高屈折率層を形成した。   As a coating liquid containing cationic titanium oxide particles on the formed low refractive index layer, a coating liquid H7 for high refractive index layer prepared in Example 1 and a coating liquid containing anionic titanium oxide particles, The coating liquid H1 for the high refractive index layer prepared in Example 1 was spray-coated alternately with the coating amount adjusted so that the dry film thickness was 15 nm and a total of 30 nm, respectively, and this was repeated twice to 60 nm. The high refractive index layer was formed.

これらの操作を繰り返し、低屈折率層5層、高屈折率層4層をそれぞれ交互に計9層からなる重層塗布品を作製し、可視光反射フィルム301とした。
作製された可視光反射フィルム301に対し、目視により可視光反射を確認した。
By repeating these operations, a multi-layer coated product consisting of a total of 9 layers each consisting of 5 low refractive index layers and 4 high refractive index layers was produced.
Visible light reflection was confirmed visually with respect to the produced visible light reflection film 301.

2 透明基材
10 第1成膜部
11 制御部
12 カチオン性酸化ケイ素粒子供給部
13 アニオン性酸化ケイ素粒子供給部
14a,14b ノズル
15 支持部
20 第2成膜部
21 制御部
22 カチオン性酸化ケイ素粒子供給部
23 アニオン性酸化ケイ素粒子供給部
24a,24b ノズル
25 支持部
100 製造装置
2 Transparent substrate 10 1st film-forming part 11 Control part 12 Cationic silicon oxide particle supply part 13 Anionic silicon oxide particle supply part 14a, 14b Nozzle 15 Support part 20 2nd film-forming part 21 Control part 22 Cationic silicon oxide Particle supply unit 23 Anionic silicon oxide particle supply unit 24a, 24b Nozzle 25 Support unit 100 Manufacturing apparatus

Claims (10)

透明基材上に、少なくとも酸化チタン粒子を含有する高屈折率層と、少なくとも酸化ケイ素粒子を含有する低屈折率層とが積層されてなる光学干渉膜を有し、所定の波長領域の光を選択的に反射する光学フィルムにおいて、
前記高屈折率層は、第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液とが交互にスプレー塗布されて形成され、
前記低屈折率層は、第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液とが交互にスプレー塗布されて形成されていることを特徴とする光学フィルム。
An optical interference film formed by laminating a high refractive index layer containing at least titanium oxide particles and a low refractive index layer containing at least silicon oxide particles on a transparent substrate, and In an optical film that selectively reflects,
The high refractive index layer includes a coating liquid containing a first water-soluble polymer and cationic titanium oxide particles, and a coating liquid containing a second water-soluble polymer and anionic titanium oxide particles. Formed by spraying,
The low refractive index layer includes a coating solution containing a third water-soluble polymer and cationic silicon oxide particles, and a coating solution containing a fourth water-soluble polymer and anionic silicon oxide particles. An optical film formed by being spray-coated on.
前記アニオン性酸化チタン粒子が、含ケイ素水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the anionic titanium oxide particles are titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. 少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とが異なるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とが異なることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルム。   At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are different from each other, or the third water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer are different from each other. The optical film according to claim 1 or 2. 少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とが同種の水溶性高分子であって特性が異なるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とが同種の水溶性高分子であって特性が異なることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の光学フィルム。   At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are the same type of water-soluble polymer and have different characteristics, or the third water-soluble polymer and the fourth water-soluble polymer are different from each other. The optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the water-soluble polymer is the same type of water-soluble polymer and has different characteristics. 少なくとも、前記第一の水溶性高分子と前記第二の水溶性高分子とがケン化度及び/又は重合度が異なるポリビニルアルコールであるか、又は、前記第三の水溶性高分子と前記第四の水溶性高分子とがケン化度及び/又は重合度が異なるポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の光学フィルム。   At least the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are polyvinyl alcohols having different saponification degrees and / or polymerization degrees, or the third water-soluble polymer and the second water-soluble polymer are the same. The optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the four water-soluble polymers are polyvinyl alcohols having different saponification degrees and / or polymerization degrees. 紫外光を反射する紫外光反射フィルムとして用いられることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の光学フィルム。   6. The optical film according to claim 1, wherein the optical film is used as an ultraviolet light reflecting film that reflects ultraviolet light. 赤外光を反射する赤外光反射フィルムとして用いられることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the optical film is used as an infrared light reflecting film that reflects infrared light. 可視光を反射する可視光反射フィルムとして用いられることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the optical film is used as a visible light reflecting film that reflects visible light. 反射防止フィルムとして用いられることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の光学フィルム。   6. The optical film according to claim 1, wherein the optical film is used as an antireflection film. 透明基材上に、少なくとも酸化チタン粒子を含有する高屈折率層と、少なくとも酸化ケイ素粒子を含有する低屈折率層とが積層されてなる光学干渉膜を有し、所定の波長領域の光を選択的に反射する光学フィルムの製造方法において、
第一の水溶性高分子とカチオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液と、第二の水溶性高分子とアニオン性酸化チタン粒子とを含有する塗布液とを交互にスプレー塗布して前記高屈折率層を形成する工程と、
第三の水溶性高分子とカチオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液と、第四の水溶性高分子とアニオン性酸化ケイ素粒子とを含有する塗布液とを交互にスプレー塗布して前記低屈折率層を形成する工程と、を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
An optical interference film formed by laminating a high refractive index layer containing at least titanium oxide particles and a low refractive index layer containing at least silicon oxide particles on a transparent substrate, and In the method for producing a selectively reflecting optical film,
The coating solution containing the first water-soluble polymer and the cationic titanium oxide particles and the coating solution containing the second water-soluble polymer and the anionic titanium oxide particles are alternately spray-coated, and the high Forming a refractive index layer;
The coating solution containing the third water-soluble polymer and the cationic silicon oxide particles and the coating solution containing the fourth water-soluble polymer and the anionic silicon oxide particles are alternately spray-coated, and the low And a step of forming a refractive index layer.
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JP2015215413A (en) * 2014-05-08 2015-12-03 コニカミノルタ株式会社 Ultraviolet ray-shielding film
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